本申请要求于2007年2月7日提交的第2007-0012621号韩国专利申请的优先权以及根据U.S.C第119条35款而发生的所有权益,并且其公开内容整体结合于此作为参考。
具体实施方式
在下文中将参照示出了本发明实施例的附图更全面地描述本发明。然而,本发明可以多种不同的方式来实现而不应认为其局限于在此描述的实施例。相反地,提供这些实施例是为了使得公开更为彻底和完整,并且将本发明的范围完全传达给本领域的技术人员。在附图中,为清楚起见,可能扩大了层和区域的尺寸和相对尺寸。
应当理解,当元件或层被指出“位于”、“连接至”、“耦合至”另一个元件或层上时,该元件可直接位于、直接连接至、或直接耦合至另一个元件或层上,或者也可在其间存在插入元件或层。相反地,当元件或层被指出“直接位于”、“直接连接至”、“直接耦合至”另一个元件或层上时,是指不存在插入元件或层。通篇中相同的标号表示相同的元件。用在文中时,术语“和/或”包括相关所列条目的任何一个以及其中一个或多个相关所列条目的所有组合。
还应当理解,尽管在文中可能使用术语第一、第二、第三等来描述各种元件、部件、区域、层、和/或部分,但是这些元件、部件、区域、层、和/或部分并不局限于这些术语。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层、或部分与另一个元件、部件、区域、层、或部分相区分。因此,在不背离本发明宗旨的情况下,下文所述的第一元件、部件、区域、层、或部分也可以被称为第二元件、部件、区域、层、或部分。
为了便于描述如附图中所示的一个元件或特征相对于其它元件或特征的关系,文中可能使用诸如“在...之下”、“在...下方”、“下部的”、“在...上方”、以及“上部的”等空间关系术语。应当理解,除图中所示的方位之外,空间关系术语还将包括使用或操作中的装置的各种不同的方位。例如,当翻转图中所示的装置时,则被描述为在其它元件或机构“下方”或“下部”的元件将被定位为在其它元件或机构的“上方”或“上部”。因此,示例性术语“在...下方”包括在上方和在下方的方位。装置可以以其它方式定位(旋转90度或在其它方位),并且通过在此使用的空间关系描述符进行相应地解释。
文中使用的术语仅用于描述特定实施例的目的而不是限制本发明。当用在文中时,除非文中有其它明确指示,否则单数形式的“一个”、“这个”也旨在包括复数形式。应当进一步理解,当用在说明书中时,术语“包括”和/或“包含”是指存在所描述的特征、整体、步骤、操作、元件、和/或部件,但是并不排除还存在或附加有一个或多个其它的特征、整体、步骤、操作、元件、部件、和/或其组合。
除非另外限定,文中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常所理解的意思相同的解释。应进一步理解的是,诸如通用字典中所定义的那些术语应该被解释为具有与相关技术范围中相一致的意思,并且除非在文中特别限定,否则不应将其解释为理想的或者过于正式的解释。
这里,将参照平面图和横截面图描述本发明的实施例,这些视图是本发明的理想化实施例的示意图。同样地,可以预期由于例如制造技术和/或公差所导致的图中形状的改变。由此,本发明的实施例不应该被认为局限于文中所示区域的特定形状,而应包括由于例如制造所导致的形状的偏差。例如,被示出或描述为平坦的区域通常具有倒圆和/或非线形特征。而且,所示的尖角可被倒圆。因此,附图中所述的区域实质上是示意性的,并且它们的形状并非为了描述区域的精确形状,也不是为了限定本发明的范围。
在具有一体式触摸屏面板的传统液晶显示(“LCD”)面板中,由于第一和第二接触导线形成在不同高度下,因此确定存在接触灵敏度低的问题。另外,由于薄膜晶体管(“TFT”)阵列基板和滤色片阵列基板在附着于彼此时可能不对准,因此第一和第二接触导线以及接触隔板可能从其各自的正常位置偏移少许距离。而且,接触隔板可能从其制造时所设计的正常位置偏移预定距离。在这些情况下,接触隔板可仅接触第一和第二接触导线中之一,因此在检测接触点的坐标值时可能出现误差。
在下文中,将参照附图详细描述本发明。
图1是示出了根据本发明示例性实施例的示例性LCD面板的平面图,图2是沿图1的线I-I′截取的截面图,并且图3是沿图1的线II-II′截取的截面图。
参照图1至图3,根据本发明示例性实施例的示例性LCD面板包括第一基板100和第二基板200,液晶层介于它们之间。
第一基板100包括:用于防止光线泄漏的黑色矩阵110、用于实现彩色图像的滤色片层120、用于缓和黑色矩阵110与滤色片层120之间的阶差的涂层130、以及用于向液晶层施加共用电压的共用电极150,并且这些元件顺序地形成在上部基板101上。
上部基板101由透明的绝缘材料(诸如塑料)制成以使得当用户接触其表面时可被平稳地推动。
黑色矩阵110被形成得用于与形成在第二基板200中的TFT247、栅极线210、数据线240、以及第一和第二接触导线215和245交迭,以防止光线通过液晶分子不能被控制的区域而发射出。为此,黑色矩阵110由不透明的有机材料或不透明金属制成。
滤色片层120包括红R、绿G和蓝B色滤色片以显现各种颜色。红R、绿G和蓝B色滤色片分别通过包含在其中的红、绿和蓝色颜料吸收和传输特定波长的光而显现红、绿和蓝色。此时,通过红R、绿G和蓝B色光线的加色混合可显现各种颜色,其中红R、绿G和蓝B色光线穿过红R、绿G和蓝B色滤色片。滤色片层120可部分地与黑色矩阵110交迭。
涂层130由透明有机材料制成,以实现共用电极150的良好的阶梯覆盖(step coverage)和绝缘。涂层130还用于保护滤色片层120和黑色矩阵110。
共用电极150形成在涂层130上。共用电极150由诸如氧化铟锡(“ITO”)或氧化铟锌(“IZO”)的透明导电金属形成。当像素电极260向液晶层施加像素电压时,共用电极150通过向液晶层施加共用电压而与像素电极260一起形成用于驱动液晶层的电场。共用电极150、液晶层、以及像素电极260形成LCD面板的液晶电容器。
第一基板100还包括形成在涂层130与共用电极150之间的接触隔板141。也就是说,接触隔板141形成在涂层130上并被共用电极150覆盖。接触隔板141具有预定高度,即,具有凸起形状,从而当用户手指或触控笔触碰上部基板101的表面时,使得共用电极150接触第二基板200的第一和第二接触电极270和280。在用户触碰上部基板101的表面之前,在接触隔板141与第一和第二接触电极270和280之间保持有预定间隙。另外,当用户触碰上部基板101的表面时,接触隔板141上的共用电极150接触第一和第二接触电极270和280从而可检测出接触点。
在示例性实施例中,接触隔板141可由导电材料制成,以使得当共用电极150损坏时,电压或电流可被施加于共用电极150与第一和第二接触电极270和280之间。
第二基板200包括形成在下部基板201上的栅极线210、第一接触导线215、数据线240、第二接触导线245、TFT 247、像素电极260、以及第一和第二接触电极270和280。
栅极线210沿第一方向(例如,横向)形成在下部基板201上。栅极线210可具有由钼(Mo)、铌(Nb)、铜(Cu)、铝(Al)、铬(Cr)、银(Ag)、钨(W)、或它们的合金、和/或其组合制成的单层结构或多层结构。栅电极211在邻近于栅极线210与数据线240的交叉点处从栅极线210中伸出。
第一接触导线215平行于栅极线210沿第一方向形成在下部基板201上并与栅极线210隔开。第一接触导线215可由与栅极线210相同的材料制成,并位于第二基板200中的与栅极线210相同的层之中。
数据线240沿垂直于或基本垂直于第一方向的第二方向(例如,竖直方向)形成在下部基板201上。数据线240与栅极线210交叉。数据线240可具有由Mo、Nb、Cu、Al、Cr、Ag、钛(Ti)、或它们的合金、和/或其组合制成的单层结构或多层结构。
第二接触导线245平行于数据线240沿第二方向形成并与数据线240隔开。第二接触导线245可由与数据线240相同的材料制成,并可形成在第二基板200中的与数据线240相同的层之中。
TFT 247响应于从栅极线210传输的栅极信号执行切换操作,以使得数据线240的像素电压信号可被充电并保持在像素电极260中。因此,TFT 247包括:从栅极线210中伸出的栅电极211、从数据线240中伸出的源电极241、以及与源电极241相隔开且电连接至像素电极260的漏电极243。
TFT 247还包括栅极绝缘层220和半导体层230。栅极绝缘层220被形成在下部基板201的整个表面上方以便于覆盖栅电极211以及覆盖栅极线210、第一接触导线215、以及下部基板201的其它露出表面。半导体层230形成在栅极绝缘层220的位于栅电极211上方并与之交迭的一部分上以便于在源电极241与漏电极243之间形成沟道(channel)。
半导体层230包括有源层231和欧姆接触层233。有源层231形成在栅极绝缘层220上以便于在源电极241与漏电极243之间具有沟道,与栅电极211交迭。欧姆接触层233形成在有源层231上以便与数据线240以及源电极和漏电极241和243进行欧姆接触。
第二基板200还包括形成在下部基板201整个表面上方同时覆盖TFT 247的钝化膜250。钝化膜250由诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料制成,或是由诸如丙烯酸、聚酰亚胺或苯并环丁烯(“BCB”)的有机绝缘材料制成。钝化膜250可具有由有机绝缘材料和/或无机绝缘材料制成的单层结构或多层结构。钝化膜250被形成为用于覆盖TFT 247、数据线240、第二接触导线245、以及栅极绝缘层220的露出部分。钝化膜250使得TFT 247与像素电极260绝缘。
钝化膜250具有分别露出漏电极243的部分以及第一和第二接触导线215和245的部分的第一至第三接触孔251至253。第一至第三接触孔251至253可通过借助掩模工艺蚀刻钝化膜250的相应部分而形成。
像素电极260形成在钝化膜250上。像素电极260经由第一接触孔251电连接至TFT 247的漏电极243。像素电极260由诸如ITO、IZO、氧化铟锡锌(“ITZO”)、或氧化锡(“TO”)的透明导电材料制成。
第一接触电极270和第二接触电极280也形成在钝化膜250上。第一接触电极270包括与第一接触导线215电接触的第一电极接触部分271以及从第一电极接触部分271中伸出的第一电极延伸部分272。第二接触电极280包括与第二接触导线245电接触的第二电极接触部分281以及从第二电极接触部分281中伸出的第二电极延伸部分282。第一和第二电极延伸部分272、282可具有各种形状,图4、图5和图6中示出了其实例。第一和第二电极延伸部分272、282可交替地形成或对称地形成,好像它们彼此接合一样。
第一接触电极270的第一电极接触部分271经由第二接触孔252电连接至第一接触导线215,该第二接触孔穿透钝化膜250和栅极绝缘层220。第一接触电极270的第一电极延伸部分272以预定图案形式形成在钝化膜250上以便于面对第二接触电极280。
第二接触电极280的第二电极接触部分281经由第三接触孔253电连接至第二接触导线245,该第三接触孔穿透钝化膜250。第二接触电极280的第二电极延伸部分282以预定图案形式形成在钝化膜250上以便于面对第一接触电极270。这里,第二电极延伸部分282在与第一接触电极270的第一电极延伸部分272相同的高度处形成在钝化膜250上。换句话说,第一电极延伸部分272和第二电极延伸部分282距离下部基板201基本上是等距的。也就是说,第一电极延伸部分272和第二电极延伸部分282的由接触隔板141交迭的部分相对于彼此基本上是共面的。因此,当LCD面板被触碰时,接触隔板141同等地接触第一和第二接触电极270、280,从而提高了用户触碰的位置的输入灵敏度。
在根据本发明示例性实施例的LCD面板中,当用户的手指或触控笔触碰上部基板101时,第一和第二接触电极270、280通过接触隔板141接触,以使得电阻值根据接触位置而改变。由于电流或电压取决于改变的电阻值,因此所检测的电流或电压作为水平坐标信号通过第一接触导线215被输出以及作为竖直坐标信号通过第二接触导线245被输出。输出的坐标信号通过驱动电路被转换为坐标值,因此执行与测得的坐标值相对应的指令或应用程序。
为了防止接触隔板141的位置偏移(该位置偏移可能由于制造或长时期使用而引起)导致的坐标值检测误差,第一和第二接触电极270、280可以各种形式形成图案。当由于接触隔板141与第一和第二接触电极270、280之间的未对准导致接触隔板141没有接触第一和第二接触电极270、280两者时可出现这样的坐标值检测误差。坐标值检测误差意味着仅检测到水平坐标值和竖直坐标值中之一。根据本发明,第一和第二接触电极270、280的结构防止了坐标值检测误差。在下文中,将参照图4至图6描述第一和第二接触电极270、280的示例性图案形式。
图4是示出了根据本发明第一示例性实施例的示例性第一和第二接触电极的一个实例的平面图。
如图4所示,第一接触电极270包括第一电极接触部分271以及以拐杖(stick)形式从第一电极接触部分271中突出的至少一个第一电极延伸部分272,并且第二接触电极280包括第二电极接触部分281以及以拐杖形式从第二电极接触部分281中突出的至少一个第二电极延伸部分282。这里,第一和第二电极延伸部分272、282交替地布置,好像它们相互接合一样。换句话说,第一和第二接触电极270、280包括具有啮合在一起的齿的梳形,其中第一接触电极270的齿与第二接触电极280的齿相隔开。在这样的实例中,第一和第二电极延伸部分272、282限定出啮合梳形的第一和第二接触电极270、280的齿。
更详细地说,第一接触电极270包括经由第二接触孔252电连接至第一接触导线215的第一电极接触部分271以及从第一电极接触部分271朝向第二接触电极280伸出的至少一个第一电极延伸部分272。在形成有两个或多个第一电极延伸部分272的情况中,两个相邻的第一电极延伸部分272彼此相隔,并且第一接触电极270的第一电极延伸部分272以凹-凸的形式形成。
第二接触电极280包括经由第三接触孔253电连接至第二接触导线245的第二电极接触部分281以及从第二电极接触部分281朝向第一接触电极270伸出的至少一个第二电极延伸部分282。在形成有两个或多个第二电极延伸部分282的情况中,两个相邻的第二电极延伸部分282彼此相隔,并且第二接触电极280的第二电极延伸部分282以凹-凸的形式形成。
第一和第二电极延伸部分272、282交替地布置在第一和第二接触电极270、280之间。例如,第一和第二电极延伸部分272、282可形成为,使得n-1个第二电极延伸部分282装配于n个第一电极延伸部分272中并交替地布置在这n个第一电极延伸部分272之间。这里,n为大于1的自然数。对于具有这种结构的第一和第二接触电极270、280来说,即使接触隔板141偏离其正常位置,第一和第二接触电极270、280也可同等地与接触隔板141接触。
第一和第二接触电极270、280的图案形式不局限于图4所示的或以上所述的示例性实施例。例如,第一和第二接触电极270、280可分别具有n个第一电极延伸部分272和n个第二电极延伸部分282,或分别具有n个第一电极延伸部分272和n+1个第二电极延伸部分282。这里,n为自然数。也就是说,第一接触电极270具有的第一电极延伸部分272可比第二接触电极280具有的第二电极延伸部分282多,或者反之亦然。另外,第一和第二电极延伸部分272、282的数量可彼此相等。
图5是示出了根据本发明第二示例性实施例的示例性第一和第二接触电极的另一个实例的平面图。
如图5所示,第一接触电极270可形成为沿逆时针方向旋转90。的黑体字母“C”形状,并且第二接触电极280可形成为沿顺时针方向旋转90。的黑体字母“C”形状。换句话说,可以以相反形式形成这些形状。黑体字母“C”形状可基本上具有一个侧边被去除的矩形的形状,并且在这种情况下剩余的平行或基本平行的侧边可具有不同的长度。在示例性实施例中,第一接触电极270可形成为沿逆时针方向旋转90°的
形状,并且第二接触电极280可形成为沿顺时针方向旋转90°的
形状。
更详细地说,第一接触电极270包括经由第二接触孔252电连接至第一接触导线215的第一电极接触部分271以及以沿逆时针方向旋转90°的“L”形状从第一电极接触部分271的一个侧部边缘朝向第二接触电极280伸出的第一电极延伸部分272。因此,第一接触电极270具有沿逆时针方向旋转90°的黑体字母“C”形状。也就是说,第一接触电极270具有:第一电极接触部分271、从第一电极接触部分271的第一端部有角度(诸如基本垂直)地伸出的第一电极延伸部分272的第一部分、以及从第一电极延伸部分272的第一部分有角度(诸如基本垂直)地伸出的第一电极延伸部分272的第二部分,以使得第一电极延伸部分272的第二部分可基本上平行于第一电极接触部分271延伸。另外,第一电极延伸部分272的第二部分的长度可比第一电极接触部分271的长度短。
第二接触电极280包括经由第三接触孔253电连接至第二接触导线245的第二电极接触部分281以及以沿顺时针方向旋转90°的“L”形状从第二电极接触部分281的一个侧部边缘朝向第一接触电极270伸出的第二电极延伸部分282。因此,第二接触电极280具有沿顺时针方向旋转90°的黑体字母“C”形状。在示例性实施例中,第二接触电极280可具有沿顺时针方向旋转90°的颠倒的字母“U”形或颠倒的韩国字母
形状。也就是说,第二接触电极280具有:第二电极接触部分281、从第二电极接触部分281的第一端部有角度(诸如基本垂直)地伸出的第二电极延伸部分282的第一部分、以及从第二电极延伸部分282的第一部分有角度(诸如基本垂直)地伸出的第二电极延伸部分282的第二部分,以使得第二电极延伸部分282的第二部分可基本上平行于第二电极接触部分281延伸。另外,第二电极延伸部分282的第二部分的长度可比第二电极接触部分281的长度短。
第一和第二接触电极270、280对称地形成,好像第一和第二电极延伸部分272、282彼此接合一样。换句话说,第一电极延伸部分272的第二部分套(nest)在第二接触电极280中或由第二接触电极280包围,并且第二电极延伸部分282的第二部分套(nest)在第一接触电极270中或由第一接触电极270包围。第一和第二电极延伸部分272、282的相应部分可彼此平行且彼此对称地布置。因此,即使接触隔板141偏移或偏离其正常位置,第一和第二接触电极270、280也可同等地与接触隔板141接触。
图6是示出了根据本发明第三示例性实施例的示例性第一和第二接触电极的第三实例的平面图。
如图6所示,第一接触电极270包括经由第二接触孔252电连接至第一接触导线215的第一电极接触部分271以及基本以平放的“T”形从第一电极接触部分271的中央部分朝向第二接触电极280伸出的第一电极延伸部分272。换句话说,第一电极延伸部分272包括:从第一电极接触部分271的中央部分有角度(诸如基本垂直)地伸出的第一部分、以及相对于第一电极延伸部分272的第一部分的端部有角度(诸如基本垂直)地布置的第二部分,以使得第一电极延伸部分272的第一部分与第一电极延伸部分272的第二部分的中央部分邻接。
第二接触电极280包括经由第三接触孔253电连接至第二接触导线245的第二电极接触部分281以及两个第二电极延伸部分282。这两个第二电极延伸部分282中的一个基本上以沿顺时针方向旋转90°的“L”形状从第二电极接触部分281的一个侧部边缘朝向第一接触电极270伸出,而这两个第二电极延伸部分282中的另一个基本上以沿顺时针方向旋转90°的“L”形状的镜像从第二电极接触部分281的另一个侧部边缘朝向第一接触电极270伸出。换句话说,第二电极延伸部分282的“L”形形状可为彼此颠倒的形式的。也就是说,第二接触电极280包括:具有第一端部和第二端部的第二电极接触部分281、从第二电极接触部分281的第一端部伸出的第一个第二电极延伸部分282、以及从第二电极接触部分281的第二端部伸出的第二个第二电极延伸部分282。第一个第二电极延伸部分282包括:从第二电极接触部分281的第一端部有角度(诸如垂直)地伸出的第一部分、以及从第一个第二电极延伸部分282的第一部分有角度(诸如垂直)地伸出的第二部分。第二个第二电极延伸部分282包括:从第二电极接触部分281的第二端部有角度(诸如垂直)地伸出的第一部分、以及从第二个第二电极延伸部分282的第一部分有角度(诸如垂直)地伸出的第二部分。第一个第二电极延伸部分282的第二部分和第二个第二电极延伸部分282的第二部分中的每个均可朝向第一电极延伸部分272的第一部分伸出,并且每个均可基本平行于第一电极延伸部分272的第二部分延伸。因此,第二电极延伸部分282以用于围住和包围第一电极延伸部分272的形式对称地形成。
如上所述,第一和第二接触电极270、280被形成为在接触区域中彼此接合,从而,即使接触隔板141偏离其正常位置,第一和第二接触电极270、280也可与接触隔板141同等地接触。在接触区域中,第一和第二电极延伸部分272、282可相互啮合并且至少一个可部分地围绕另一个,同时在它们之间保持有间隙。虽然已描述了具体的示例性实施例,但是应该理解的是,第一和第二电极延伸部分272、282的替换示例性实施例也应在这些发明的范围内。例如,第一和第二电极延伸部分272、282可具有彼此相对的形式。也就是说,第二电极延伸部分282的图案形式可适用于第一接触电极270并且第一电极延伸部分272的图案形式可适用于第二接触电极280。
下面将参照图7A至图17B描述根据本发明示例性实施例的用于制造示例性LCD面板的示例性方法。
图7A至图17B是示出了根据本发明示例性实施例的制造示例性LCD面板的示例性方法的截面图。在图7A至图17B中,线I-I′和II-II′是指图1的线I-I′和II-II′。
参照图7A至图17B,根据本发明示例性实施例的制造示例性LCD面板的示例性方法包括:形成第一基板100(即,滤色片阵列基板)和形成第二基板200(即,TFT阵列基板)。
下面参照图7A至图11B详细描述形成第一基板100。
首先,如图7A和图7B所示,在上部基板101上形成黑色矩阵110。
如此形成黑色矩阵110,即,将不透明有机材料层或不透明金属层放在上部基板101上并且诸如通过光刻处理和蚀刻处理形成图案。以预定宽度形成黑色矩阵110从而防止第二基板200的不透明金属图案可见。换句话说,如此形成黑色矩阵110,即,在组装的LCD面板中,黑色矩阵110将与第二基板200的不透明金属图案交迭。上部基板101由诸如塑料的透明绝缘材料制成,因此当其表面被触碰时可平稳地推动上部基板。
如图8所示,滤色片层120形成在具有黑色矩阵110的上部基板101上。滤色片层120可如此形成,即,通过光刻法顺序地形成红R、绿G和蓝B滤色片。也可通过喷墨法形成滤色片。滤色片层120可与黑色矩阵110部分地交迭。
接着,如图9A和图9B所示,在上部基板101的整个表面上形成涂层130以覆盖黑色矩阵110和滤色片层120。
涂层130以预定厚度形成以便于保护滤色片层120以及当形成共用电极150时获得良好的阶梯覆盖。可通过使用例如旋转涂布技术沉积丙烯酸树脂而形成涂层130。
之后,如图10所示,诸如使用导电聚合物在涂层130上形成接触隔板141。
为了形成接触隔板141,可将导电聚合物层沉积在上部基板101的整个表面上。在导电聚合物层上涂覆光刻胶并经过光刻法的曝光处理和显影处理。之后可使用光刻胶图案作为掩模通过蚀刻处理使得导电聚合物层形成图案,从而形成接触隔板141。可替换地,可使用喷墨打印技术形成导电聚合物层。
随后,如图11A和11B所示,共用电极150被形成在上部基板101的整个表面上以覆盖涂层130和接触隔板141。
更详细地说,通过使用例如溅射技术将透明导电材料层沉积在上部基板101的整个表面上以覆盖涂层130和接触隔板141。透明导电材料层由诸如ITO或IZO的透明导电材料制成。可使用掩模通过光刻处理和蚀刻处理将透明导电材料层图案化为共用电极150。
下面参照图12A至图17B详细描述第二基板200。
首先,如图12A和12B所示,在下部基板201上形成具有栅极线210、栅电极211和第一接触导线215的栅极金属图案。可通过以下步骤形成栅极金属图案:通过诸如溅射技术的沉积技术沉积栅极金属层,以及之后通过光刻处理和蚀刻处理将栅极金属层图案化。下部基板201由诸如玻璃或塑料的透明绝缘材料制成。
栅极线210沿第一方向形成,并且栅电极211从栅极线210中伸出。第一接触导线215平行于栅极线210沿第一方向形成。第一接触导线215与栅极线210隔开。例如,第一接触导线215位于离栅极线210约5μm的距离处。
之后,如图13A和13B所示的,诸如通过使用等离子增强化学汽相沉积(“PECVD”)技术,在具有栅极金属图案的下部基板201的整个表面上形成栅极绝缘层220。通过将诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的绝缘材料沉积在下部基板201的整个表面上而形成栅极绝缘层220。栅极绝缘层220被形成为用于覆盖形成在下部基板201上的栅极金属图案,从而使得栅极金属图案电绝缘。
如图14所示,半导体层230包括形成在栅极绝缘层220的位于栅电极211上方的部分上的有源层231和欧姆接触层233,以便于与栅电极211交迭。有源层231如此形成,即,沉积多晶硅层或非晶硅(“a-Si”)层并且通过诸如光刻处理和蚀刻处理使之图案化,并且欧姆接触层233如此形成,即,沉积掺杂多晶硅层或掺杂a-Si层并且通过诸如光刻处理和蚀刻处理使之图案化。
之后,如图15A和图15B所示的,在具有半导体层230的下部基板201上形成具有数据线240、源电极241、漏电极243、和第二接触导线245的数据金属图案。
更详细地说,如此形成数据金属图案,即,将金属层沉积在具有半导体层230和栅极绝缘层220的下部基板201上并且通过诸如光刻处理和蚀刻处理使之图案化。
数据线240形成得与栅极线210交叉。源电极241可形成为具有“U”形形状,其围绕漏电极243,并与漏电极243相隔开。漏电极243的一侧面对源电极241,并且另一侧电连接至像素电极260。如图1所示,漏电极243的连接至像素电极260的侧部可具有比漏电极243的面对源电极241的侧部更宽的区域尺寸。
如图16A和图16B所示,在下部基板201的整个表面上形成钝化膜250。在钝化膜250中形成第一至第三接触孔251至253。
例如通过使用诸如PECVD技术或旋转涂布技术的沉积技术在下部基板201的整个表面上形成钝化膜250。可使用掩模通过光刻处理和蚀刻处理将第一和第三接触孔251、253形成得穿透钝化膜250。同时,将第二接触孔形成得穿透钝化膜250和栅极绝缘层220。第一接触孔251露出漏电极243的一部分、第三接触孔253露出第二接触导线245的一部分、以及第二接触孔252露出第一接触导线215的一部分。第二接触孔252可进一步露出下部基板201的与第一接触导线215邻接的一部分。钝化膜250可由诸如氮化硅(SiNx)或氧化硅(SiOx)的无机绝缘材料制成,或是由诸如丙烯酸、聚酰亚胺或苯并环丁烯(“BCB”)的有机绝缘材料制成。
之后,如图17A和图17B所示,在钝化膜250上形成像素电极260和第一及第二接触电极270、280。
更具体地,通过使用诸如溅射技术的沉积技术将透明导电材料层(诸如ITO、IZO或TO)沉积在钝化膜250上,之后使用掩模通过光刻处理和蚀刻处理使之图案化,从而在像素区域中形成像素电极260。
至少在第二基板200的接触区域中,第一和第二接触电极270、280在相同高度下被形成在钝化膜250上。换句话说,第一和第二接触电极270、280在接触区域中基本是共面的。第一和第二接触电极270、280分别经由第二和第三接触孔252、253电连接至第一和第二接触导线215、245。第一接触电极270包括经由第二接触孔252电连接至第一接触导线215的第一电极接触部分271以及朝向第二接触电极280伸出的第一电极延伸部分272。第二接触电极280包括经由第三接触孔253电连接至第二接触导线245的第二电极接触部分281以及朝向第一接触电极270伸出的第二电极延伸部分282。第一和第二电极延伸部分272、282可具有许多彼此相对的表面。可以形成多个第一和第二电极延伸部分272、282。在示例性实施例中,第一和第二电极延伸部分272、282被交替地或对称地形成,好像它们相互接合一样。第一和第二接触电极270、280可被形成为使得第一电极延伸部分272的数量多于第二电极延伸部分282的数量,或者反之亦然。可替换地,第一和第二接触电极270、280可被形成为使得第一电极延伸部分272的数量等于第二电极延伸部分282的数量。第一和第二电极延伸部分272、282相对于下部基板201的表面而在相同高度下形成在钝化膜250上,并且相对于彼此基本共面。换句话说,在接触区域内,从下部基板201至第一电极延伸部分272测得的第二基板200的厚度基本上与从下部基板201至第二电极延伸部分222测得的第二基板200的厚度相同。
第一和第二接触电极270、280可以以预定图案形式形成,如先前参照图4至图6所示和所描述的。
如上所述的,根据本发明,由于第一和第二接触电极在相同高度下形成,因此提高了接触位置的输入灵敏度,从而可精确地检测水平和竖直坐标值。另外,由于第一和第二接触电极的有效结构,即使接触隔板偏移或偏离其正常位置,接触隔板也可同等地接触第一和第二接触电极,从而防止坐标值检测误差。
尽管已经结合一些示例性实施例描述了本发明,但本领域的技术人员应该理解,在不背离所附权利要求及其等同物限定的本发明精神或范围的前提下,可对本发明作出多种改进和变化。