CN101068630B - 基于双溶剂的精密组件清洗方法、设备及系统 - Google Patents

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Abstract

本发明揭示一种如在所示的双溶剂清洗系统(100)，其用于清洗精密组件且不使用VOC溶剂。清洗系统包括清洗部分(104)、漂洗部分(106)及溶剂回收部分(108)。双溶剂清洗系统提供一种使用不含VOC的溶剂来清洗及漂洗精密组件的双模式作业，该不含VOC的与现有技术的基于VOC溶剂的系统一样有效、同时随后允许该不含VOC的溶剂的回收及重新利用。

Description

基于双溶剂的精密组件清洗方法、设备及系统
主张优先权
本申请案主张基于2004年10月29日提出申请且名称为“基于双溶剂的精密部件清洗方法、设备及系统(METHOD，APPARATUS，AND SYSTEM FOR NON-VOC BASEDCLEANING OF PRECISION COMPONENTS)”的第60/623,847号美国临时申请案的优先权，其在不与本揭示内容相互矛盾的条件下以引用方式并入本文中。
技术领域
本发明总的涉及一种用于对部件进行精密清洗的基于溶剂的清洗系统。具体而言，本发明涉及一种用于精密部件的双溶剂清洗系统，其利用一种溶剂再生工艺来减少总体溶剂排放量。
背景技术
精密的清洗及干燥系统通常利用包含各种溶剂、清洁剂或其他水性混合物的各种各样的清洗溶液。这些系统用于清洗及干燥各种器件或部件，例如医疗器件、光学仪器、晶片、PC板、混合电路、磁盘驱动组件、精密的机械或机电组件等等。
许多现有技术系统利用被归类为VOC或挥发性有机化合物(Volatile OrganicCompound)的溶剂。VOC是有机化学品，其具有高的蒸气压力，因而VOC在环境温度及压力条件下可很容易形成蒸气。尽管VOC可成功地用于精密清洗系统中，然而由于人们对于暴露及/或排放VOC会造成有害的环境及健康影响的关切，因此严格地规定VOC的使用及处理。
发明内容
本发明的一目的是设计一种适当的清洗系统及适当的清洗方法，以用于清洗精密组件、同时利用溶剂再生工艺来减少溶剂排放量，并同时回收溶剂以便重新利用及/或加以处理。本发明包括一种使用两种溶剂来清洗精密组件以便去除灰土及其他污染物的双溶剂设计。在一个代表性实施例中，这两种溶剂可包括第一不含VOC的溶剂及第二不含VOC的溶剂，其中这些不含VOC的溶剂通常与VOC溶剂一样有效。一种工作模式包括：在第一不含VOC的溶剂内清洗精密组件，以去除精密组件上的任何灰土、微粒物、油脂或其他污染物，随后在盛纳第二不含VOC的溶剂的第二槽内对精密组件进行漂洗，以去除由第一不含VOC的溶剂在精密组件上留下的任何膜。在该工作模式中，清洗步骤及漂洗步骤可分别包括在对应溶剂内使精密组件发生振动并通过超声波引起空化作用，以进一步帮助进行清洗及漂洗。一种溶剂回收模式包括：从第二不含VOC的溶剂中分离出作为漂洗步骤的一部分而被去除的第一不含VOC的溶剂。在一个代表性实施例中，第二不含VOC的溶剂可能比第一不含VOC的溶剂更为昂贵，因此对第二不含VOC的溶剂进行回收及再生以便重新利用，而第一不含VOC的溶剂、以及第一不含VOC的溶剂内的任何污染物则可妥当地加以处理。
在某些代表性实施例中，本发明说明一种使用具有溶剂再生系统的双溶剂清洗系统来清洗精密组件的方法。
在某些代表性实施例中，本发明说明一种用于清洗精密组件、同时提供对两种溶剂的回收及/或处理的双溶剂清洗系统。
在某些代表性实施例中，本发明说明一种清洗设备，其包含多个槽及相关联的管道系统，以利于使用具有溶剂回收系统的双溶剂清洗系统来清洗精密组件。
在某些代表性实施例中，本发明说明一种用于使用双溶剂清洗系统来处理第一不含VOC的溶剂及回收第二不含VOC的溶剂的方法。
在本揭示内容通篇中所用的术语“不含VOC的溶剂”的定义是包含由美国环保署(United States Environmental Protection Agency)确定为光化反应性可忽略不计且在美国联邦法规(United States Code of Federal Regulations)的40C.F.R.51.100(s)部分中所规定的有机化合物，该部分以引用方式并入本文中。
以上对本发明各种实施例的概述并非旨在说明本发明的每一所示实施例或每一种实施方案。下文具体实施方式中的各附图将更具体地举例说明这些实施例。
附图说明
结合附图阅读下文对本发明各种实施例的详细说明，可更透彻地理解本发明，附图中：
图1为本发明的一种清洗系统的示意图，其代表一种清洗及漂洗模式；
图2为图1所示清洗系统的示意图，其代表一种溶剂回收及废料处理模式；
图3为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在启动模式中的示意图；
图4为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在连续清洗模式中的示意图；
图5为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在溶剂回收模式的第一步骤中的示意图；
图6为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在溶剂回收模式的第二步骤中的示意图；
图7为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在溶剂回收模式的第三步骤中的示意图；
图8为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在溶剂回收模式的第四步骤中的示意图；
图9为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在溶剂回收模式的第五步骤中的示意图；以及
图10为图1所示清洗系统中的漂洗槽及回收槽在返回至工作模式中的示意图。
尽管本发明可存在各种修改及替代形式，然而在附图中是以举例方式显示并在下文说明中详细说明其具体细节。然而，应了解，并非打算将本发明限定为所述的特定实施例。相反，打算涵盖仍归属于由随附权利要求书所界定的本发明精神及范围内的所有修改、等效及替代形式。
主要元件标记说明
100：双溶剂清洗系统            102：系统外壳
104：清洗部分                  106：漂洗部分
108：溶剂回收部分              110：清洗槽
112：第一溶剂                  114：第一再循环回路
116：超声波换能器              118：第一过滤器系统
119：阀门                120：第一再循环泵
122：第一热交换器        124：漂洗槽
126：第二溶剂            128：回收回路
130：第二过滤器系统      131a：阀门
131b：阀门               131c：阀门
131d：阀门               132：第二再循环泵
134：第二热交换器        136：回收槽
138：回收加热器          139：冷凝盘管
140：废料槽              142：溢流堰
143：篮子                144：蒸气毯
146：溶剂混合物          148：第一溶剂部分
150：第二溶剂部分        152：回收溢流堰
154：观察孔
具体实施方式
本发明的一种双溶剂清洗系统100显示于图1及2中。双溶剂清洗系统100设计用于并适于清洗各种精密组件，例如(举例而言)医疗器件、光学仪器、晶片、PC板、混合电路、磁盘驱动组件、精密的机械或机电组件等等。在某些当前较佳的实施例中，双溶剂清洗系统100包括一单独的集成系统，因而在该双溶剂清洗系统的各组件之间不需要进行大量的互连。例如，该双溶剂清洗系统可安装于单个平台或框架上及/或容纳于单个外壳、容器或隔室内。
如在图1及2中所示，双溶剂清洗系统100可包括一系统外壳102、一清洗部分104、一漂洗部分106及一溶剂回收部分108。包括清洗部分104、漂洗部分106及溶剂回收部分108在内的各该组件可在系统外壳102内以操作方式互连，从而可对单个一体化结构进行测试、运输及安装。
清洗部分104通常包括一清洗槽110、一第一溶剂112及一第一再循环回路114。清洗槽110可包括一开口槽，其由例如不锈钢、钽、钛、石英或聚合物(例如聚醚醚酮(PEEK))等适当材料及其他适当材料制成。清洗槽110可进一步包括至少一个超声波换能器116，以用于促进清洗过程。超声波能量会在第一溶剂112内引起交替的低压相态及高压相态图案。在低压相态中，会形成气泡或真空空穴。而在高压相态中，气泡则剧烈地爆聚。此种形成气泡并使气泡爆聚的过程通常称作空化作用。空化作用会沿精密组件的表面形成强烈的擦洗过程，从而去除部件上的任何微粒物。在空化过程中所形成的气泡非常微小，因此能够渗入微裂缝内，从而与简单的浸没或搅动清洗过程相比能够提供增强的清洗效果。在一代表性实施例中，超声波换能器116为由Crest Ultrasonic公司制造的陶瓷增强型换能器，其能够在介于28KHz与2.5MHz之间的适宜频率下提供超声波能量。超声波换能器116可使用例如环氧树脂等粘合剂直接粘至清洗槽110的外侧上。
第一再循环回路114包括一流动系统，第一溶剂112通过第一过滤器系统118进行再循环，以移除在清洗精密组件时所引入的微粒物。过滤器系统118可包括一个或多个适宜的过滤器安置，用于去除这些微粒物。过滤器系统118可包括预充填式过滤器，其包含例如聚醚砜、特富
Figure GA20178238200580036870301D00051
聚偏氟乙烯(PVDF)、聚酯、或聚丙烯等过滤媒介，这些过滤媒介能够去除尺寸小至0.03微米的微粒物。第一再循环回路114进一步包括一阀门119及一第一再循环泵120。阀门119可包括自动阀门，例如(举例而言)电磁阀，或者用手致动的手动阀门。第一再循环泵120用于使第一溶剂112持续地经过第一过滤器系统118进行再循环。第一再循环回路114可进一步包括一第一热交换器122，以用于在将第一溶剂112重新引入清洗槽110中时持续地加热第一溶剂112。借助第一热交换器122，由于通过传导、对流及辐射所散失的热量得到补充，因而可使清洗槽110保持处于连续的温度。
在一个当前较佳的实施例中，第一溶剂112可包含适宜的不含VOC的溶剂，其具有能促进去除例如灰土、微粒物、油及油脂等污染物的溶剂特性。例如，第一溶剂112的贝壳松脂-丁醇(kari-butanol)值约为60。在一个代表性实施例中，第一溶剂112包含基于大豆的不含VOC的溶剂，例如(举例而言)可自位于内布拉斯加州奥马哈市的Ag Environmental Products公司购得的Soyclear 1500，其沸点为333℃。较佳地，第一溶剂112是可生物降解的及/或不具危害性的。基于大豆的溶剂的一个优点在于，由于大豆具有可容易得到的性质，因而这些类型的溶剂一般比较廉价。而且，通常不需要使用专门的及/或昂贵的处理设备及/或方法来处理基于大豆的溶剂，例如当清洗槽110内的油渍及/或油脂的水平达到足够高的水平时，便可倾倒掉第一溶剂112并用未经处理过的溶剂进行补充。基于大豆的溶剂可使用传统的方法进行处理，例如(举例而言)在焚烧炉中燃烧掉或者在锅炉内作为燃料流来源与燃料油一起使用。
漂洗部分106大体包括一漂洗槽124、一第二溶剂126及一回收回路128。除第二溶剂126以外，漂洗槽124还可包含在精密组件上以膜的形式引入漂洗槽124内的第一溶剂112的残留量。漂洗槽124可包括一开口槽，其由与第一清洗槽100相同或相似的材料制成，举例而言，由例如不锈钢、钽、钛、石英或聚合物(例如PEEK)等适当材料及其他适当材料制成。漂洗槽124可进一步包括至少一个超声波换能器116，以用于在漂洗槽124内引起空化作用，从而进一步有助于所述清洗工艺。
回收回路128包括一流动系统，第二溶剂126以及残留的第一溶剂112在其中通过第二过滤器系统130进行再循环，以移除漂洗槽124中的微粒物。第二过滤器系统130可包括一个或多个适宜的过滤器安置，用于去除这些微粒物。回收回路128进一步包括多个阀门131a、131b、131c、131d及一第二再循环泵132。阀门131a、131b、131c、131d可包括自动阀门，例如(举例而言)电磁阀，或者用手致动的手动阀门。第二再循环泵132用于根据阀门131a、131b、131c、131d的工作模式及工作状态来选择性地通过回收回路128泵送适当的液体。回收回路128可进一步包括一第二热交换器134，以用于冷却第二溶剂126及残留的第一溶剂112。
在一个当前较佳的实施例中，第二溶剂126可包含适宜的不含VOC的溶剂，其具有能促进去除由第一溶剂112留在精密组件上的任何膜的溶剂特性。例如，第二溶剂126的kari-butanol值可介于约10至约150之间。在一个代表性实施例中，第二溶剂126包含工程溶剂，例如(举例而言)可自位于明尼苏达州圣保罗市的3M公司购得的NovecTM工程流体HFE-7200。HFE-7200的沸点为61℃，且具有从-135℃至61℃的宽广的液体范围，从而使其成为用于蒸气脱脂应用的优异的溶剂。此外，HFE-7200为非臭氧损耗性材料，造成全球变暖的潜力极低，能减少温室气体排放量，HFE-7200不是VOC，并得到认可而不受美国环保署Significant NewAlternatives Program的限制。
溶剂回收部分108可包括一回收槽136、一回收加热器138、一冷凝盘管139及一废料槽140。回收槽136可包括一开口槽，其由与第一清洗槽100及漂洗槽124相同或相似的材料制成，举例而言，由例如不锈钢、钽、钛、石英或聚合物(例如PEEK)等适当材料及其他适当材料制成。回收槽136在一溢洪堰142处在实体上固定至漂洗槽124上并与漂洗槽124分离。因此，回收槽136与漂洗槽124共享一共用的蒸气毯144。
当完全组装好并形成整体后，可对双溶剂清洗系统100进行配置，以进行自动化、半自动化或手动操作。除上文所提到及所述的组件之外，双溶剂清洗系统进一步包括一精密组件运送系统，以用于通过将部件放置于一载具或篮子143中而在清洗槽110与漂洗槽124之间移动精密部件。该精密组件运送系统可包括一手动系统，其中操作员只需将精密组件放置于正确的槽中，或者其可包括一用于将篮子143从清洗槽110移动至漂洗槽124的自动化部件运送系统。另外，双溶剂清洗系统100可包括适当的灯、按钮及开关，以用于对双溶剂清洗系统100进行手动操作。或者，双溶剂清洗系统100能够进行自动化操作，例如(举例而言)由微处理器、个人计算机、可编程逻辑控制器(PLC)及类似装置来控制及启动操作。
在一较佳实施例中，双溶剂清洗系统100完全容纳于系统外壳102内，例如(举例而言)一橱柜化外壳中，以提供悦目、美观的外观。在此种橱柜化系统中，用户只需要提供第一溶剂112、第二溶剂126、所要清洗的精密组件以及电源。
在运行过程中，双溶剂清洗系统100可按两种模式中的一种来运行，第一种模式是正常运行模式，其中如在图1中所示对精密组件进行清洗及漂洗，而第二种模式包括一多步骤工艺：其用于分离第一溶剂112与第二溶剂126，随后去除并可能处理第一溶剂112，并对第二溶剂126进行再生以便在双溶剂清洗系统100内重新利用，如在图2中所示。关于第二漂洗组件106及回收组件108在第一模式及第二模式期间的运行，具体地参见图3-10，在下文中将对其予以进一步说明。
正常作业
如在图1、3及4中所示，通过开始双溶剂清洗系统的再循环及加热部分以达到所需运行参数来启动双溶剂清洗系统100的运行。在清洗部分104内，通过第一再循环回路114泵送第一溶剂112，以便第一热交换器122可对第一溶剂112进行加热并因此加热清洗槽110。在作业期间，使清洗槽110保持在大体恒定的温度，例如(举例而言)对于Soyclear 1500而言约为70℃。所属领域的技术人员应了解，清洗槽110及第一再循环回路114可包含适宜的传感器、仪表及报警装置，以便可在清洗期间监控及保持正确的温度、流速、压力及其他工艺变量。
在初始起动双溶剂清洗系统100的运行时，如在图3中所示，漂洗槽124及回收槽136分别含有第二溶剂126。启用回收加热器138来将回收槽136加热至第二溶剂126的沸点，或者在为HFE-7200的情况下为61℃。同时，使冷凝盘管139以约5℃的温度运行，以便在漂洗槽124及回收槽136正上方形成包含第二溶剂126的蒸气的蒸气毯144。冷凝盘管139使第二溶剂126的蒸气冷凝，从而使第二溶剂126的纯净蒸馏液持续地沿着壁向下流至漂洗槽124内。随着第二溶剂126的纯净蒸馏液流入漂洗槽124内，漂洗槽124内第二溶剂126的液位上升，直至其达到溢流堰142的液位为止。在溢流堰142处，第二溶剂126以瀑布形式流入回收槽136内。在正常运行期间，阀门131a、131c开启，而阀门131b、131d关闭，从而使第二再循环泵132通过第二过滤器系统130泵送漂洗槽124的内含物，以滤除及去除漂洗槽124内的任何微粒物。通过持续地增加第二溶剂126的蒸馏液及增加来自再循环泵132的泵能量，使漂洗槽124的温度保持在大约51℃。
在如图1所示的正常清洗及漂洗模式中，将精密组件放置于清洗槽110中，例如通过将精密组件放置于篮子143中。将篮子143浸没于第一溶剂112内，以便可去除精密组件上的任何微粒物、灰土、油、油脂及其他污染物，并使这些污染物悬浮在第一溶剂112内。当将篮子143及因此将精密组件浸没于第一溶剂112内时，超声波换能器116可在第一溶剂112内形成空化作用，以进一步促进去除精密组件上的污染物。当使用篮子143作为自动运送系统的一部分时，可使篮子143以上/下及/或侧向方式持续振动，从而进一步帮助去除精密组件上的污染物。使第一溶剂112持续地通过第一再循环回路114进行再循环，以便可在第一再循环回路114中使用第一过滤器系统118去除第一溶剂112中由精密组件所引入的任何悬浮微粒物。
在清洗槽110中清除掉精密组件上的微粒物之后，使用篮子143将精密组件传送至漂洗槽124。当放置于漂洗槽124中时，在精密组件上可能会留有少量的第一溶剂112。第二溶剂126会从精密组件上漂洗掉任何残余微粒物并溶解掉第一溶剂112。可通过使用超声波换能器116在漂洗槽124内形成空化作用而在漂洗槽124内进一步促进此种漂洗。此外，可使篮子143以上/下及/或侧向方式振动，以进一步促进去除精密组件上的污染物。在清洗完之后，从漂洗槽124中移开篮子143，其中蒸气毯144会使精密组件变干燥，从而使其不含有任何膜或残留物。然后，精密组件便准备好进行进一步处理或使用。
在漂洗槽124内，第二溶剂126的液位保持处于稳态液位，因此恒定的溢流流过溢流堰142，并流入回收槽136内。当在漂洗槽124中漂洗精密组件时，第一溶剂112的被溶解的量以及存在于精密组件上的任何其他污染物会持续地污染第二溶剂126。因此，如在图4中所示，流入回收槽136内的溢流会在回收槽136内引入第一溶剂112、第二溶剂126及任何其他污染物的混合物。由于将第一溶剂112选择成具有比第二溶剂126高的沸点(较佳为高得多的沸点)，因而第二溶剂126持续地自溶剂混合物146中汽化分离，随着时间的进行，此会使回收槽136内第一溶剂112的量积聚并增多。最终，回收槽136内第一溶剂112的浓度会升高至使溶剂混合物146的沸点升高的程度，从而最终达到需要分离溶剂混合物146的程度。
分离及处理作业
双溶剂清洗系统100的溶剂处理及回收模式显示于图2及图5-10中。如在图4中所示，双溶剂清洗系统100的持续运行最终导致回收槽136内第一溶剂112的浓度达到不可接受的水平，如由溶剂混合物146沸点的升高所证实(例如(举例而言)升高10℃或更高)。溶剂混合物146(包含任何所溶解的污染物)的分离是通过如下方式来实现：将回收槽136内溶剂混合物146的温度冷却至50℃，从而形成两个明显不同的液位，包含第一溶剂112(包含任何灰土污染物)的第一溶剂部分148及包含第二溶剂126的第二溶剂部分150。第一溶剂部分148与第二溶剂部分150通常可用裸眼进行目视区分。
回收槽136内的冷却是通过如下方式来实现：关闭回收加热器138，关闭冷凝盘管139，从而使蒸气毯144萎缩，并通过开启阀门131b、131d、同时关闭阀门131a、131c来使回收槽136内的液体通过回收回路128再循环，从而可通过第二热交换器134对液体进行冷却。随着溶剂混合物146的冷却，第二溶剂126不再从溶剂混合物146中汽化分离，因而第二溶剂126的纯净蒸馏液停止在冷凝盘管139处冷凝且不再填充漂洗槽124，从而使漂洗槽124内第二溶剂126的液位降至溢流堰142的高度且不再以瀑布形式流入回收槽136内，如在图4、5及6中所示。所属领域的技术人员应了解，漂洗槽124、回收槽136及回收回路128可包含适宜的传感器、仪表及报警装置，以便可在清洗期间监控及保持正确的温度、流速、压力及其他工艺变量。当回收槽冷却至50℃时，溶剂混合物146便如在图7中所示分离成第一溶剂部分148及第二溶剂部分150。
一旦已形成第一溶剂部分148及第二溶剂部分150，便可开启阀门131b、131c、同时关闭阀门131a、131d，以便可将漂洗槽124内的第二溶剂126泵送至回收槽136内，从而使第二溶剂部分150的量增多。随着第二溶剂部分150的增多，第一溶剂部分148升高，直至其达到一回收溢流堰152为止，包含第一溶剂112及任何灰土污染物的第一溶剂部分148溢流至废料槽140内，如在图8中所示。较佳地，回收槽136包含一观察孔154，其相对于回收溢流堰152定位成使操作员可在第一溶剂部分148溢出回收溢流堰152时观察第一溶剂部分148。随着回收槽136内第二溶剂126的液位的升高，第二溶剂部分150最终接近回收溢流堰152的高度，如在图9中所示。此时，大多数第一溶剂部分148已被导入废料槽140内，因而将阀门131a、131b、131c及131d置于正常作业位置，且其余组件可恢复正常作业状态，如在图10中所示。或者，可通过安装适宜的光学传感器(例如(举例而言)光电监测器或照相机)对第一溶剂部分148与第二溶剂部分150之间进行目视区分来自动进行第一溶剂部分148的溢流。
为使双溶剂清洗系统100成功地运行，不必将所有第一溶剂112从回收槽136中去除，而是仅使溶剂混合物146的沸点得到降低从而接近第二溶剂126的沸点即可。然后，可根据需要对废料槽140内的第一溶剂112(包含任何所溶解的微粒物及污染物)进行循环利用、回收或加以处理。较佳地，第一溶剂112是不含VOC的溶剂，从而使其可进行焚烧或用作燃料流来源。如上文所述，当第二溶剂126的单价高于第一溶剂112的单价时，双溶剂清洗系统100在经济性方面可能特别有利。
应了解，本发明并不打算过度地受限于本文所提及的例示性实施例及实例，且这些实例及实施例只是以举例方式来提供。

Claims (20)

1.一种用于清洗精密组件的方法，其特征是包括：
通过将精密组件置于装有第一溶剂的清洗槽内来清洗所述精密组件，以去除所述精密组件上的污染物；
在装有第二溶剂的漂洗槽中漂洗所述精密组件，其中通过所述第二溶剂以去除所述精密组件上所述第一溶剂的任何残余量，从而形成溶剂混合物，所述溶剂混合物溢流至回收槽内；及
通过冷却所述溶剂混合物以使第一溶剂部分位于第二溶剂部分顶上，来将所述回收槽中所述溶剂混合物分离成所述第一溶剂部分及所述第二溶剂部分，所述第一溶剂部分与所述第二溶剂部分可由裸眼进行目视区分，且其中可从所述回收槽中去除所述第一溶剂部分。
2.如权利要求1所述的方法，其特征是从所述回收槽中去除所述第一溶剂部分包括：将第二溶剂从所述漂洗槽泵送至所述回收槽内，以使所述第一溶剂部分达到回收溢流堰并溢流至处理槽内。
3.如权利要求2所述的方法，其特征是从所述漂洗槽泵送所述溶剂混合物是在所述第二溶剂部分接近所述回收溢流堰时完成。
4.如权利要求2所述的方法，其特征是进一步包括：
在所述处理槽中处理所述第一溶剂部分。
5.如权利要求1所述的方法，其特征是当所述回收槽中所述溶剂混合物的沸点超过所述第二溶剂的沸点至少10℃时，分离所述回收槽中的所述溶剂混合物变得有必要。
6.如权利要求1所述的方法，其特征是清洗所述精密组件包括在所述第一溶剂内引起空化作用。
7.如权利要求1所述的方法，其特征是清洗所述精密组件包括在所述第一溶剂内振动所述精密组件。
8.如权利要求1所述的方法，其特征是漂洗所述精密组件包括在所述溶剂混合物内引起空化作用。
9.如权利要求1所述的方法，其特征是漂洗所述精密组件包括在所述溶剂混合物内振动所述精密组件。
10.一种用于去除精密组件上的污染物的双溶剂清洗系统，其特征是包括：
清洗部分，其具有用于容纳第一溶剂的清洗槽；
漂洗部分，其具有用于容纳第二溶剂的漂洗槽，所述第二溶剂具有低于所述第一溶剂至少10℃的第二溶剂沸点，所述第二溶剂溶解来自所述清洗槽的精密组件上所残余的任何第一溶剂，所述漂洗槽进一步包括位于所述第二溶剂上方的冷凝盘管；及
溶剂回收部分，其具有用于容纳所述第一溶剂与所述第二溶剂的溶剂混合物的回收槽，所述回收槽通过溢流堰以与所述漂洗槽分离，所述回收槽进一步包括加热源及冷却源；
其中，所述加热源在所述漂洗槽与所述回收槽上方形成共享的第二溶剂蒸气毯，以使所述第二溶剂的纯净蒸馏液在所述冷凝盘管上冷凝并流入所述漂洗槽内，从而使所述第二溶剂的液位升高，直至其以瀑布形式流过所述溢流堰并流入所述回收槽内为止；
其中，所述回收槽中的所述第一溶剂的浓度随时间增大，致使溶剂混合物沸点超过所述第二溶剂沸点至少10℃，从而使所述溶剂混合物需要分离，及
其中，所述冷却源冷却所述回收槽中的所述溶剂混合物，以形成可通过裸眼进行目视区分的第一溶剂部分与第二溶剂部分，从而由所述回收槽中去除所述第一溶剂部分。
11.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述溶剂回收部分包括通过回收溢流堰以与所述回收槽分离的处理槽，所述第一溶剂部分流过所述回收溢流堰并流入所述处理槽内。
12.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述第一溶剂与所述第二溶剂中的至少之一包括不含VOC的溶剂。
13.如权利要求12所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述第一溶剂包括基于大豆的溶剂。
14.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是进一步包括用于将所述精密组件从所述清洗槽传送至所述漂洗槽的篮子。
15.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述清洗槽包括至少一个超声波换能器，以用于在所述第一溶剂内产生空化作用。
16.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述漂洗槽包括至少一个超声波换能器，以用于在所述溶剂混合物内产生空化作用。
17.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述清洗部分包括具有清洗泵、清洗过滤器及清洗加热器的清洗再循环回路，所述清洗泵使所述第一溶剂通过所述清洗过滤器再循环以去除微粒物质，且所述清洗泵使所述第一溶剂通过所述清洗加热器再循环以加热所述第一溶剂。
18.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述漂洗部分包括具有漂洗泵及漂洗过滤器的漂洗再循环回路，所述漂洗泵使所述溶剂混合物通过所述漂洗过滤器再循环以去除微粒物质。
19.如权利要求18所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述漂洗再循环回路流体连接至所述回收槽，且其中所述漂洗泵泵送所述溶剂混合物，使其通过所述冷却源以将所述溶剂混合物分离成所述第一溶剂部分及所述第二溶剂部分。
20.如权利要求10所述的双溶剂清洗系统，其特征是所述回收槽包括观察窗，以允许在从所述回收槽中去除所述第一溶剂部分时裸眼观察所述第一溶剂部分。
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