JP2000008095A - 洗浄方法及び装置 - Google Patents

洗浄方法及び装置

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JP2000008095A
JP2000008095A JP10179416A JP17941698A JP2000008095A JP 2000008095 A JP2000008095 A JP 2000008095A JP 10179416 A JP10179416 A JP 10179416A JP 17941698 A JP17941698 A JP 17941698A JP 2000008095 A JP2000008095 A JP 2000008095A
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秀明 菊地
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子部品、プリント基板等の、溶剤による洗
浄作業に際して、汚れ成分を効率的に除去でき、溶剤の
ロスが少なく、また引火性の危険のない安全な洗浄方法
の提供。 【解決手段】洗浄槽1、すすぎ槽2、汚れ除去槽3から
なる洗浄装置を用い、被洗浄物品を、ハイドロフルオロ
カーボン或はハイドロフルオロエーテルもしくはその両
者の混合物(第1溶剤)と、沸点がそれらより50℃以
上高い有機液体(第2溶剤)とからなる洗浄剤を入れた
洗浄槽中で洗浄して汚れを除去し、次いで第1溶剤を入
れたすすぎ槽で被洗浄物品に付着した第2溶剤をすすい
で除去するとともに、洗浄槽及びすすぎ槽中の内容液を
連続的に汚れ除去槽に送り、汚れ除去槽内の洗浄剤中か
ら汚れ成分を不溶化して除去し、清浄化された洗浄剤を
洗浄槽に戻すことからなる物品の洗浄方法、及び上記洗
浄方法を実施するための上記3つの槽からなる洗浄装
置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、再汚染を防止でき
る物品の洗浄方法及び装置に関するものである。さらに
詳しくは、ハイドロフルオロカーボン或はハイドロフル
オロエーテルを用いて機械部品、電子部品、プリント基
板等の洗浄作業に際して被洗浄物に付着した汚れ成分を
素早く有効に除去すると共に、被洗浄物に洗浄液の汚れ
成分を再付着させない洗浄方法及び装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、機械部品、電子部品、プリント基
板等の被洗浄物に付着した汚れの洗浄方法においては、
トリクロロエタンや1,1,2−トリクロロトリフルオ
ロエタンが広く賞用されていたが、オゾン層保護の観点
から我が国でも生産が中止されている。これらの代替品
として、水洗浄や炭化水素系での洗浄、ジクロロメタン
などの塩素系の洗浄剤が使用されている。しかしながら
水洗浄は排水処理や乾燥に問題を抱え、炭化水素系洗浄
剤は可燃性、又塩素系洗浄剤は毒性等の問題があり、必
ずしも満足がいくものではなかった。
【0003】これらの問題を解決する方法として、本発
明の出願人は先に、不燃性であり、かつオゾン層破壊の
おそれの少ないハイドロフルオロカーボン(以下HFC
という)やハイドロフルオロエーテル(以下HFEとい
う)と高沸点の有機溶剤とを混合することにより有機溶
剤の引火性を抑え、なおかつ洗浄後の物品表面に付着し
た有機溶剤を、これらHFCあるいはHFEですすぐこ
とにより、安全且つ効率的に洗浄する方法を提案した
(特開平10−36894号公報)。
【0004】この方法では、図2に示すように洗浄槽1
とすすぎ槽2a、2bを設け、物品は洗浄槽でHFC或
はHFE(以下HFC及びHFEを総称し、「HFC/
Eと呼ぶ)と高沸点の有機溶剤との混合洗浄液で洗浄さ
れ、次いですすぎ槽内でHFC/Eによりすすぎ、有機
溶剤を除去する。洗浄槽は加熱して、HFC/Eの蒸気
を発生させ、洗浄槽およびすすぎ槽に満たされた引火性
の有機液体を含有する洗浄剤を、HFC/Eの飽和蒸気
層9で覆う事により引火の危険性を防ぐことができる。
洗浄槽及びすすぎ槽で発生したHFC/E及び有機液体
蒸気は凝縮させ、オーバーフローさせて、すすぎ槽を経
て洗浄槽に戻すことにより洗浄剤の組成が一定に保たれ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この方法はHFC/E
のみを用いる方法に比して洗浄力にすぐれているが、従
来のトリクロロエタンや1,1,2−トリクロロトリフ
ルオロエタンを使用した洗浄方法と同じ様に長期間運転
すると、洗浄槽内に汚れが蓄積し、洗浄力が劣化するの
で、連続的に油やフラックス等の汚れを除去し、なおか
つ洗浄剤の組成を一定に保つことが不可能となるため、
洗浄液の再生が必要であった。洗浄剤の再生方法として
は蒸留が一般的であるが、蒸留のためには大きなエネル
ギーが必要であり、又蒸留後排出される汚れ成分廃液に
およそ50%前後のHFC/E洗浄剤が含まれ、これが
廃棄されてロスとなることが避けられないため、コスト
面及び環境面から見ても大きな問題があった。
【0006】発明者らは、HFC/Eと高沸点の有機溶
剤との混合溶剤系による洗浄方法における上記のごとき
問題点を解決し、洗浄液再生のためのエネルギ−を節約
し、排出される汚れ成分廃液中に同伴して失われるHF
C/E洗浄剤の量を減少するための手段について検討し
た結果、洗浄槽及びすすぎ槽の他に汚れ除去槽を設けた
洗浄装置を用い、洗浄槽及びすすぎ槽中の内容液を連続
的に汚れ除去槽に送り、ここで両者を混合して、洗浄槽
から送られて来た洗浄剤中の油やフラックス等の汚れ成
分を洗浄剤から分離除去し廃棄し、一方、これにより汚
れ成分が除去された清浄な洗浄液を洗浄槽に戻すことに
より、上記問題点を解決し、高い洗浄力を維持し、洗浄
槽内の洗浄液の組成も一定に保たれ、安定な運転が可能
となることを見いだした。
【0007】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、少な
くとも3つの槽を設けた洗浄装置を用い、被洗浄物品
を、ハイドロフルオロカーボン或はハイドロフルオロエ
ーテルもしくはその両者の混合物(第1溶剤)と、沸点
がそれらより50℃以上高い有機液体(第2溶剤)とか
らなる洗浄剤を満たした洗浄槽中で洗浄して汚れを除去
し、次いで第1溶剤を満たしたすすぎ槽で被洗浄物品に
付着した第2溶剤をすすいで除去するとともに、洗浄槽
及びすすぎ槽中の内容液を連続的に汚れ除去槽に送り、
汚れ除去槽内の洗浄剤中から汚れ成分を不溶化して除去
し、清浄化された洗浄剤を洗浄槽に戻すことを特徴とす
る物品の洗浄方法である。
【0008】また本発明は上記洗浄方法を実施するため
の装置であって、物品の汚れ成分を溶解除去する有機洗
浄液と、該洗浄液を溶解するすすぎ液との混合溶剤によ
り物品を洗浄する洗浄槽、上記すすぎ液により有機洗浄
液をすすいで除去するすすぎ槽、汚れ成分を溶解した洗
浄槽中の洗浄液を、すすぎ槽から送られるすすぎ液と混
合して、洗浄液中から汚れ成分を不溶化分離する汚れ除
去槽、洗浄槽及びすすぎ槽から汚れ除去槽への送液管、
及び汚れ除去槽から洗浄槽への清浄洗浄液送液管とを有
する物品の洗浄装置である。
【0009】
【発明の実施の形態】ここでハイドロフルオロカーボン
(HFC)とは、炭化水素の水素原子の一部が弗素原子
のみで置換され、塩素原子を含まない弗素化炭化水素で
あり、ハイドロフルオロエーテル(以下、HFEとい
う。)とはエーテル類の水素原子の一部が弗素原子のみ
で置換され、塩素原子を含まない弗素化エーテルであ
る。
【0010】本発明で第1溶剤として用いられるHFC
またはHFE液体としては、沸点が30〜150℃のも
のが好ましい。HFC/E液体の沸点が30℃未満で
は、蒸発ロスが大きく、水の結露の問題もある。また、
HFC液体の沸点が150℃を越えるとその蒸発エネル
ギーが大きくなり、被洗浄物品を損傷するおそれが生ず
る。
【0011】また、引火性等、安全面を考慮すると高度
に弗素置換したHFCまたはHFEが好ましい。より具
体的には炭素と結合した原子の過半数が弗素であるも
の、すなわち分子中のF/(H+F)原子比が0.5を
超えるものが好ましい。
【0012】このようなHFC/Eのうち、本発明に好
適に使用できるものとして、HFCとしては具体的には
1,1,1,2,3,4,4,5,5,5,- デカフルオロペンタン(以下、
HFC43−10meeという。沸点55℃)、1,1,2,
2,3,3,4,4-オクタフルオロブタン(以下、338pcc
という。沸点44℃)などがあり、HFEとしては1,2,
2,2-テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピルエ
ーテル(沸点40℃)、1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロ−
2−ヘプタフルオロプロピロキシ−3−(1,2,2,2-テト
ラフルオロエトキシ)−プロパン(沸点104℃)、ノ
ナフルオロブチル−メチルエーテル(沸点60℃)、ノ
ナフルオロブチル−エチルエーテル(沸点78℃)など
を挙げることができる。
【0013】第1溶剤と混合して用いる有機液体(第2
溶剤)は、その沸点が第1溶剤の沸点よりも50℃以
上、好ましくは100℃以上高く、且つ第1溶剤と適度
の相溶性を有するものが好ましい。これよりも沸点が低
い有機液体を使用すると、第1溶剤とともに蒸発し、蒸
気層中に含有され、凝縮管で液化された後、すすぎ槽に
戻るため、第1溶剤でのすすぎ不足を起こし、なおかつ
蒸気層中で被洗浄物に再付着し、シミの原因となる。ま
た引火性の低減という効果が期待できない。
【0014】第1溶剤と相溶性の小さい有機液体で洗浄
すると、被洗浄物品の表面に付着した有機液体を第1溶
剤ですすぎ落とすことが困難である。適度の相溶性を有
する有機液体を使用することにより、すすぎ槽内では物
品に付着した有機液体をすすぎ落とすことができ、しか
も洗浄槽から送られて来た洗浄液中の油やフラックスを
溶解していた溶液を、汚れ除去槽で第1溶剤と混合した
場合、第1溶剤の比率を増加させることにより油やフラ
ックスが不溶化し分離させることができる。
【0015】このような有機液体として、沸点が第1溶
剤の沸点よりも50℃以上高いグリコールエーテル或い
はエステル系化合物が好適であり、また両者の混合物を
用いることもできる。具体的には、グリコールエーテル
としてトリエチレングリコールジメチルエーテル等、エ
ステル系化合物としてコハク酸ジメチル、グルタル酸ジ
メチル、アジピン酸ジメチル、或いはそれらの混合物等
を例示することが出来る。
【0016】洗浄槽内における第1溶剤と第2溶剤との
混合比率は、両成分の種類、両者の沸点差や、被洗浄物
品の汚れの程度等にもよるが、第1溶剤/第2溶剤(重
量比)=10/90〜70/30の範囲で混合するのが
好ましい。第1溶剤に対し第2溶剤の量が少ないと洗浄
力が低下し、また多すぎると引火性が高くなったり、次
工程の第1溶剤による第2溶剤のすすぎ不良となるので
好ましくない。
【0017】本発明の洗浄方法は、フラックス等の汚れ
の洗浄に好適に使用される。本発明においては、先ず被
洗浄物品を、洗浄槽において第1溶剤と第2溶剤とから
なる洗浄剤を用いて汚れを除去し、次いですすぎ槽にお
いて被洗浄物品に付着した第2溶剤成分を該第1溶剤単
体にてすすぐ。本発明において洗浄槽で用いる洗浄剤
は、強く油やフラックス等の汚れをよく溶解する第2溶
剤と、油やフラックス等の汚れを殆ど溶解しない第1溶
剤とからなるので、このまま長期間運転していると、洗
浄槽内に汚れが蓄積し洗浄力が落ちてくる。
【0018】そこで本発明においては、洗浄槽内で油や
フラックスを溶解した洗浄剤を汚れ除去槽に送る。ここ
にはすすぎ槽から第1溶剤とが送られてくるので、洗浄
槽内よりも貧溶媒である第1溶剤の比率が高くなり、油
やフラックスは析出分離してくる。汚れ除去槽ではこれ
らの油は液状で、かつ比重が洗浄剤よりも軽いので、洗
浄剤の上部に浮いてくる。その結果洗浄剤は油が除去さ
れ清浄度が高まり、再び洗浄槽に戻せば、洗浄力の回復
した洗浄剤として、部品に付着した油の除去が可能とな
る。一方上に浮いた油は洗浄剤をほとんど含んでいない
ので、蒸留等の操作を行うことなく、そのまま廃棄する
ことができる。従来の方法では廃棄物は50%程度の洗
浄剤を含んでいたが、本方法では廃棄物はほとんどが汚
れ成分の油である。またフラックスの場合は、固形状で
析出させフィルタ−等で除去することが可能となる。こ
のようにして油やフラックス等の汚れのみを効果的に低
エネルギ−で連続的に排出し、常時洗浄剤を清浄に保つ
ことが可能である。
【0019】以下本発明に用いる洗浄装置を添付図面に
基づいて具体的に説明する。図1は本発明の洗浄方法に
用いる洗浄装置の一例である。図1において1は洗浄
槽、2はすすぎ槽であり、本発明ではこの他に汚れ除去
槽3を設けている。洗浄槽には第1溶剤と沸点がそれら
より50℃以上高い第2溶剤との混合物を、またすすぎ
槽には第1溶剤を満たす。洗浄槽及びすすぎ槽は、それ
ぞれ複数個の槽から構成されていても良い。
【0020】洗浄槽の温度は高い温度であることが洗浄
効果を高める意味で好ましいが、一方、温度が高すぎる
と、被洗浄物が熱による損傷を受ける場合もあるので、
洗浄槽の温度は通常ヒーター4で加熱して、第1溶剤の
沸点と第1、第2溶剤混合物の沸点との間で、且つ被洗
浄物品が熱による損傷を受けない温度で運転する。
【0021】洗浄槽及びすすぎ槽はいずれも上部が開口
し、その開口部を通じて被洗浄物の出し入れを行えるタ
イプのものであることは、従来の多槽式洗浄装置と同様
である。洗浄槽及びすすぎ槽内の洗浄液はヒーターで加
熱されて蒸気を発生し、両槽の上部側面に取りつけた冷
却部8により凝縮還流する。洗浄槽とすすぎ槽は1つの
構造物内に収容され、第1層とすすぎ槽の上部の空間が
蒸気層9として共有される構造にすることが好ましい。
これにより洗浄槽、すすぎ槽からなる槽群と冷却部8と
の間に第1溶剤の飽和蒸気層9が形成され、有機液体を
含有した洗浄剤の上部を覆う事により引火の危険性を防
いでいる。
【0022】被洗浄物品はまず洗浄槽の上部開口部より
装置内に導入され、一定時間洗浄槽に浸漬されて第1溶
剤と第2溶剤からなる洗浄液により洗浄され、表面に付
着した油やフラックス等を除去する。洗浄槽には洗浄液
を加熱し、温浴とするためのヒーター4を備え、また洗
浄効率を高めるために、必要に応じて超音波発生器5を
取りつけてもよい。
【0023】ついで被洗浄物を洗浄槽から取り出してす
すぎ槽に移し、ここでその表面に付着した第2溶剤を第
1溶剤ですすいで除去する。第1溶剤によるすすぎ方法
は如何なる方法でも良く、第1溶剤の沸騰浴または冷浴
のいづれか一方、もしくは双方のすすぎ槽を用い、被洗
浄物品表面の混合液をすすぎ落とせば良いが、図1のよ
うに第1すすぎ槽2aと第2すすぎ槽2bとを設け、第
1すすぎ槽にはヒーター6を備え、加熱して沸騰浴です
すいだ後、超音波発振子が設置されている第2すすぎ槽
2b(冷浴)ですすぎを行うのが最も有効である。また
すすぎ効果を高めるために撹拌機または超音波発生機を
取りつけることもできる。図1では第2すすぎ槽は第1
溶剤の沸点以下の温度に保持され、超音波発振器7を設
置している。
【0024】すすぎ槽での浸漬によるすすぎが終わった
後、更に第1層とすすぎ槽の上部の第1溶剤飽和蒸気層
9に静置して蒸気洗浄を行った後、被洗浄物品を洗浄装
置の上部開口部より取り出す。最後に被洗浄物品の表面
に付着した第1溶剤単体を気化蒸散させ、洗浄された染
みの無い物品が得られる。
【0025】一方洗浄液は、洗浄槽からポンプ10によ
り洗浄液送液管11を通って、汚れ除去槽3に送液さ
れ、またすすぎ槽からは第1溶剤がオーバーフローによ
りすすぎ液送液管12を通って汚れ除去槽に洗浄液が送
液される。ここで両者が混合し、相対的に第1溶剤の比
率が多くなるので、油やフラックス等の汚れ成分は析出
し、洗浄剤の上部に浮いてくるので、そのまま廃棄す
る。これにより清浄化された洗浄液は清浄洗浄液送液管
13により洗浄槽に戻され、循環使用することができ
る。
【0026】汚れ除去槽における汚れ成分の分離は任意
の方法で行うことができるが、例えば、図1のように、
汚れ除去槽中に、下部が開放されている仕切り板14を
設け、洗浄槽及びすすぎ槽からの送液管11及び12が
仕切り板の一方の側に注入され、一方清浄洗浄液送液管
13は仕切り板の反対側からオーバーフローにより清浄
洗浄液を戻すように配管すれば、送液管11及び12の
注入口付近で、油やフラックス等の汚れ成分15が浮か
び上って分離され、排出管17より排出される。また底
部の洗浄液16は清浄化され、清浄洗浄液送液管13か
らは常に清浄な洗浄液のみが洗浄槽に戻される。
【0027】また本発明の第2の発明は、上記洗浄方法
を実施するための、洗浄槽、すすぎ槽、汚れ除去槽の少
なくとも3つの槽と、洗浄槽及びすすぎ槽から汚れ除去
槽への送液管、及び汚れ除去槽から洗浄槽への清浄洗浄
液送液管とを有する物品の洗浄装置である。本発明の装
置は、物品の汚れ成分を溶解除去する有機洗浄液と、該
洗浄液を溶解するすすすぎ液とを用いて洗浄する方法に
広く応用できるが、特に第1の発明のように、すすぎ液
がハイドロフルオロカーボン或はハイドロフルオロエー
テルもしくはその両者の混合物であり、有機洗浄液が該
ハイドロフルオロカーボン或はハイドロフルオロエーテ
ルよりも50℃以上高い沸点を有する有機液体を用いる
洗浄法に適した装置である。
【0028】
【実施例】[実施例1]第1溶剤のHFCとして1,1,1,
2,3,4,4,5,5,5,- デカフルオロペンタン(HFC43−
10mee)、第2溶剤としてジプロピレングリコ−ル
モノメチルエ−テルを用い、各々60重量%、40重量
%で混合した混合溶剤を洗浄液として図1の洗浄槽に入
れた。またすすぎ槽には上記HFC43−10meeを
入れた。次に洗浄槽及び第1すすぎ槽を沸騰させ空運転
を行った。洗浄槽は69℃、第1すすぎ槽は55℃で安
定した。次に汚れ成分として、冷凍機油(松村石油製5
6S)を洗浄槽へ5重量%分加えたところ、洗浄液に溶
解した冷凍機油が配管12を通って汚れ分離槽に送ら
れ、その上部に冷凍機油が浮き排出された。一方汚れ分
離機から洗浄槽への戻りライン中の冷凍機油分を調べた
ところ0.5重量%であった。更に冷凍機油を洗浄液に
対して5重量%分連続的に加えていったところ、汚れ分
離槽から洗浄槽への戻りライン中の冷凍機油分は0.5
重量%で変わらず、また洗浄層中の冷凍機油分も5重量
%で一定のままであった。次に排出された冷凍機油中の
洗浄剤量を調べたところ10重量%であった。即ち産業
廃棄物中に占める洗浄剤の割合は10重量%であり、従
来の蒸留によって排出された場合の50重量%に比べ、
大幅に低減が可能となった。廃棄物量としては45%の
減少となった。
【0029】次にこの状態で、表面に該冷凍機油が付着
したステンレス製のソケットを、下記の洗浄サイクルに
より洗浄したところ、油の除去率は99.5%であっ
た。 (1)洗浄槽(混合洗浄液温浴)2分浸漬 (2)第1すすぎ槽(第1溶剤沸騰浴)2分浸漬 (3)第2すすぎ槽(第1溶剤冷浴)1分浸漬 (4)蒸気層中1分静置。
【0030】[比較例1]図2に示す装置を用いて実施
例と同等の操作をおこなった。即ち、洗浄槽に最初5重
量%分の冷凍機油を入れ、引き続き5重量%分の冷凍機
油を入れた。その結果洗浄槽内の液は2層に分離し、上
部に油が浮遊した状態であった。この状態で実施例と同
様の洗浄試験を行ったところ、油の除去率は54%であ
った。
【0031】
【発明の効果】本発明の洗浄液洗浄システムを用いるこ
とにより、汚れを連続的に排出することが可能のため、
蒸留再生を行う必要がなく従ってそれにかかるエネルギ
−を節約することが可能である。又汚れ成分とともに廃
棄される第1溶剤の量も半分近くに減らすことができ、
更に引火性の危険もないので、安全で環境保護の面でも
優れた方法であり、精密部品や光学部品、電子部品等の
金属製プラスチック製の部品等に付着した、油やフラッ
クス除去用洗浄機に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の洗浄方法を実施するための装置の1例
である。
【図2】従来の洗浄方法に用いられた装置の1例であ
る。
【符号の説明】
1 洗浄槽 2 すすぎ槽 3 汚れ除去槽 4 ヒーター 5 超音波発生器 6 ヒーター 7 超音波発生器 8 冷却部 9 飽和蒸気層 10 ポンプ 11 洗浄液送液管 12 すすぎ液送液管 13 清浄洗浄液送液管 14 仕切り板 15 汚れ成分 16 清浄洗浄液 17 排出管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // H01L 21/304 647 H01L 21/304 647A Fターム(参考) 3B201 AA02 AA03 AA46 BB02 BB03 BB85 BB92 BB95 CC01 CD22 4H003 BA12 DA14 DA15 DB03 DC02 ED19 ED26 ED29 ED32 FA06 FA23 4H006 AA03 AB70 EA02

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】被洗浄物品を、ハイドロフルオロカーボン
    或はハイドロフルオロエーテルもしくはその両者の混合
    物(第1溶剤)と、沸点がそれらより50℃以上高い有
    機液体(第2溶剤)とからなる洗浄剤を満たした洗浄槽
    中で洗浄して汚れを除去し、次いで第1溶剤を満たした
    すすぎ槽で被洗浄物品に付着した第2溶剤をすすいで除
    去するとともに、洗浄槽及びすすぎ槽中の内容液を連続
    的に汚れ除去槽に送り、汚れ除去槽内の洗浄剤中から汚
    れ成分を不溶化して除去し、清浄化された洗浄剤を洗浄
    槽に戻すことを特徴とする物品の洗浄方法。
  2. 【請求項2】ハイドロフルオロカーボン或はハイドロフ
    ルオロエーテルが30〜150℃の沸点を有するもので
    あることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
  3. 【請求項3】ハイドロフルオロカーボン或はハイドロフ
    ルオロエーテルの分子中のF/(H+F)原子比が0.
    5を超えるものであることを特徴とする請求項1または
    2に記載の洗浄方法。
  4. 【請求項4】有機液体がグリコールエーテルまたは有機
    酸エステルであることを特徴とする請求項1〜3のいず
    れかに記載の洗浄方法。
  5. 【請求項5】物品の汚れ成分を溶解除去する有機液体洗
    浄液と、該有機液体を溶解するすすぎ液との混合溶剤に
    より物品を洗浄する洗浄槽、上記すすぎ液により有機液
    体をすすいで除去するすすぎ槽、汚れ成分を溶解した洗
    浄槽中の洗浄液を、すすぎ槽から送られるすすぎ液と混
    合して、洗浄液中から汚れ成分を不溶化分離する汚れ除
    去槽、洗浄槽及びすすぎ槽から汚れ除去槽への送液管、
    及び汚れ除去槽から洗浄槽への清浄洗浄液送液管とを有
    する物品の洗浄装置。
  6. 【請求項6】すすぎ液がハイドロフルオロカーボン或は
    ハイドロフルオロエーテルもしくはその両者の混合物で
    あり、有機液体が該ハイドロフルオロカーボン或はハイ
    ドロフルオロエーテルよりも50℃以上高い沸点を有す
    る有機液体であることを特徴とする請求項5記載の洗浄
    装置。
  7. 【請求項7】洗浄槽の蒸気層とすすぎ槽の蒸気層が占め
    る空間が共有されていることを特徴とする請求項5また
    は6に記載の洗浄装置。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092456A1 (fr) * 2000-06-01 2001-12-06 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Agent, procede et appareil de nettoyage
JP2003033730A (ja) * 2001-07-24 2003-02-04 Asahi Kasei Corp 循環式洗浄方法および洗浄装置
JP2003080180A (ja) * 2001-09-10 2003-03-18 Asahi Kasei Corp 洗浄方法及び洗浄装置
JPWO2005001015A1 (ja) * 2003-06-27 2006-08-10 旭硝子株式会社 洗浄すすぎ方法
EP1809427A2 (en) * 2004-10-29 2007-07-25 Forward Technology a Crest Group Company Method, apparatus, and system for bi-solvent based cleaning of precision components
TWI643655B (zh) * 2017-10-25 2018-12-11 蔡若鵬 食品純化分離器
WO2019093251A1 (ja) * 2017-11-10 2019-05-16 日本ゼオン株式会社 洗浄溶剤組成物の再生方法および再生装置、並びに、被洗浄物の洗浄方法および洗浄システム
WO2023248747A1 (ja) * 2022-06-21 2023-12-28 日本電気硝子株式会社 ガラス物品の製造方法、及びガラス物品の製造装置

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092456A1 (fr) * 2000-06-01 2001-12-06 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Agent, procede et appareil de nettoyage
US8529703B2 (en) 2000-06-01 2013-09-10 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus
US7531495B2 (en) 2000-06-01 2009-05-12 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus
JP2003033730A (ja) * 2001-07-24 2003-02-04 Asahi Kasei Corp 循環式洗浄方法および洗浄装置
JP4721579B2 (ja) * 2001-09-10 2011-07-13 旭化成ケミカルズ株式会社 洗浄方法及び洗浄装置
JP2003080180A (ja) * 2001-09-10 2003-03-18 Asahi Kasei Corp 洗浄方法及び洗浄装置
JPWO2005001015A1 (ja) * 2003-06-27 2006-08-10 旭硝子株式会社 洗浄すすぎ方法
JP4655931B2 (ja) * 2003-06-27 2011-03-23 旭硝子株式会社 洗浄すすぎ方法
EP1809427A4 (en) * 2004-10-29 2013-09-04 Forward Technology A Crest Group Company METHOD, DEVICE AND SYSTEM FOR CLEANING PRECISION COMPONENTS BASED ON TWO SOLVENTS
EP1809427A2 (en) * 2004-10-29 2007-07-25 Forward Technology a Crest Group Company Method, apparatus, and system for bi-solvent based cleaning of precision components
TWI643655B (zh) * 2017-10-25 2018-12-11 蔡若鵬 食品純化分離器
WO2019093251A1 (ja) * 2017-11-10 2019-05-16 日本ゼオン株式会社 洗浄溶剤組成物の再生方法および再生装置、並びに、被洗浄物の洗浄方法および洗浄システム
WO2023248747A1 (ja) * 2022-06-21 2023-12-28 日本電気硝子株式会社 ガラス物品の製造方法、及びガラス物品の製造装置

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