CN1005943B - 在半导体圆片的边缘制造斜面的方法 - Google Patents
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Abstract
一种用于让半导体圆片(1)的边缘成形为斜边的方法,这边缘由一个倾斜安放的砂轮圆盘磨削而成。处在由压紧机构(3,6)组成的压紧装置中的半导体圆片(1)的对中可藉助于一与之成合金接触的钼质圆片(2)完成,钼质圆片紧贴着仿形圆盘(9)转动。采用具有适当颗粒度和粘结剂的金钢石砂轮圆盘是特别有利的。
Description
本发明涉及大功率半导体器件的技术领域。它专门讨论一种在半导体圆片、特别是用于中、高压二极管的半导体圆片的边缘制造斜面的方法。
人们早已知道,对高阻挡层的功率半导体器件,特别是对中、高压合金结二极管,通过使其基础构件的半导体圆片具有适当倾斜的边缘(即所谓的“正斜角”),以降低表面的电场强度并近似地达到由体特性所决定的耐压特性。
目前的技术可使这样的斜边形状由各种方式形成。例如,在DE-PS1589421中建议的用一种超声工具,例如一种超声钻床,在半导体圆片上形成斜边。
另一种在US-PS3,262,234中介绍的方法是使用喷砂法成型。
最后如在DE-AS1539101中顺便提及的,可用一种喷砂过程或磨削过程来使半导体器件的边缘变成斜边,但是该文没有详细地给出实际可用的方法。
在半导体加工方法中,上述的超声钻床方法是比较陈旧的一种并由喷砂方法所取代,因为这种方法经常引起半导体圆片的晶格的破坏以及边缘的破裂。
但在成批生产中使用喷砂方法具有下述缺点:
1.喷砂过程中的容差是难以重复的。
2.喷砂设备,特别是喷嘴极易磨损,而维修又特别费钱。
3.加工时间与圆片厚度成正比,因而生产线的生产能力强烈地依赖于半导体圆片的厚度。
尽管有上述这些缺点,喷砂加工法迄今仍在广泛使用,这是因为尚无较好的,经过实际考验的成型方法。
本发明的目的是提供一种产生斜边形状的方法,它简单易行,提供可重复的结果,并且只要求比较低的技术条件。
本发明的目的可由下述方式实现,即把半导体圆片紧压在垫片上,圆片可转动,其边缘用一旋转砂轮的正面磨制,砂轮的转轴与压紧的半导体圆片的转轴相交成一适当的角度。
本发明的核心在于用砂轮来磨削半导体圆片,斜边纯粹由机械加工的方法形成,这样就保持了磨削设备的完全确定的几何形状。
在一个较佳实施例中,圆片压紧之前先与一个钼片合金化地连在一起,然后再让这半导体圆片和钼片组合一起压紧后去研磨。这样在研磨时半导体圆片所受的机械负载可显著地降低。
在又一个较佳实施例中,选用金钢石砂轮,其规格为:金钢石颗粒的平均直径为25微米,密度约为3.3克拉/厘米3,包埋在金属粘结剂中。采用这样的砂轮可达到非常均匀和精确的斜边形状,同时又具有足够的寿命。
本发明藉助于附图并结合实施例在下面进一步阐明。
本文唯一的附图示出了一种磨削设备的几何布局,这样的布局可实现根据本发明的一个较佳实施例所确定的加工方法。
附图简要地示出了一种磨削设备,由此可将半导体圆片的边缘磨成斜边。
为此最好先把半导体圆片1合金化地联在钼质圆片2上,同时该钼片以后可用作成品器件的合金接触。
这个由半导体圆片1和钼质圆片2组成的片状结构然后在两个压紧机构3和6间以相应的卡盘瓜4和5压紧。压紧机构3和6是可旋转的,因此被压紧的半导体圆片在磨削过程中也可旋转。
由压紧机构3和6组成的压紧装置有一转轴,砂轮7则安装在砂轮轴8上,两轴相交成一定角度适当安置,以便能用砂轮的正面在半导体圆片1上魔出所需要的斜边。因此斜边的角度即由压紧装置的转轴和砂轮的转轴8之间的夹角决定。
为了让半导体圆片整个片子的周围均能获得同样的边缘形状,使用一个带有固定转轴的压紧装置是必要的。在压紧时把半导体圆片需要仔细对中,但如采用一个垂直于转轴可动(如图中以双箭头表示的方向)的压紧装置,就可以避开这一费时而仍难免有误差的对中过程。
这样让压紧的钼质圆片2的边缘与一可旋转的仿形圆盘9接触,仿形圆盘的转轴10是固定的。
在磨削过程中,当钼质圆片2沿仿形圆盘9滚动时,既便是半导体圆片在压紧装置中对中不良,钼质圆片2以及半导体圆片仍一起与砂轮7相切而轴向转动。压紧时不准确的对中将表现为压紧机构3和6在双箭头方向的振荡式运动。
在磨削过程中砂轮7将以进刀量V向半导体圆片1运动(沿图中单箭头方向)。对于下面将更详细地描述的金钢石砂轮而言,进刀量V最好选取4毫米/每分钟,以便缩短加工时间而同时又能得到良好的表面结构。
对于截止电压在300伏到6000伏之间的硅二极管,其硅片厚度在200微米到1000微米之间,成批生产时最好选用下列规格的金刚石砂轮:
1.砂轮直径大约为150毫米左右。
2.砂轮含有平均直径为25微米的金钢石颗粒。
3.金钢石颗粒的密度约为3.3克拉/厘米3(C75)。
4.金钢石颗粒在砂轮中包埋在金属粘结剂中。
使用这种砂轮工作时最好以每秒22米的切削速度磨削,如果在磨削时让半导体圆片1逆着砂轮7以每分钟30转的速度旋转,已经证明效果会更好。
作为冷却液体最好选用简单的水,为了保护磨削设备可添加一些防锈剂。
总之,本发明提供了一种加工方法,它可以做到:
1.确保斜边(“正斜角”)的严格可重复的形状与公差。
2.设备的生产能力与半导体片的厚度无关。
3.设备的故障率较小,维修费用较低。
图注:
1.半导体圆片
2.钼质圆片
3.6压紧机构
4.5.卡盘爪
7.砂轮
8.砂轮轴
9.仿形圆盘
10.仿形圆盘轴
11.圆片边缘
V 进刀方向
Claims (11)
1、一种使半导体器件,特别是中、高压二极管的圆片(1)的边缘成形为斜面(11)的方法,其中,半导体圆片(1)在压紧之前,被固定在钼质圆片(2)上,然后,将由半导体圆片(1)和钼质圆片(2)形成的整体压紧,半导体圆片(1)在压紧后仍可在磨削平面内旋转,圆片边缘轮廓(11)由旋转砂轮(7)的工作面磨削半导体圆片(1)而形成,砂轮的转轴(8)与压紧的半导体圆片(1)的转轴之间相交成一适当的角度,其特征在于:为了对中由半导体圆片(1)和钼质圆片(2)构成的组合件,使用一个磨削时可垂直于转轴而运动的压紧装置,在磨削时钼质圆片(2)以它的边缘与旋转仿形圆盘(9)接触而旋转,仿形圆盘的转轴(10)是固定的。
2、根据权利要求1的方法,其特征在于,砂轮(7)在磨削时以平行于磨削平面向着半导体圆片(1)的方向进刀,进刀量(V)最好选取为约每分钟4毫米。
3、根据权利要求1的方法,其特征在于,砂轮(7)选用金钢石砂轮。
4、根据权利要求3的方法,其特征在于,磨削时的切削速度约为22米/秒。
5、根据权利要求1的方法,其特征在于,在磨削过程中半导体圆片(1)逆着砂轮(7)旋转,其旋转速度约为每分钟30转。
6、根据权利要求3的方法,其特征在于,在磨削过程中采用水作为冷却液体。
7、一种用于实现根据权利要求1的方法的设备,其特征在于该设备包括:
a)用于在磨削平面内可旋转地压紧半导体圆片(1)的装置,该装置可垂直于旋转轴而移动。
b)用于使半导体圆片组合件对中的可旋转的仿形圆盘(9),其中所述仿形圆盘(9)的轴(10)具有一个固定的位置,
c)用于使半导体圆片(1)的边缘轮廓成形为斜面(11)的旋转金钢石砂轮(7),其中所述砂轮(7)和轴(8)相应于压紧装置的旋转轴的角度而设置,并且其中砂轮(7)含有平均直径为25微米的金钢石颗粒,金钢石的密度约为3.3克拉/厘米3,在砂轮中金钢石颗粒包埋在金属粘结剂中。
8、根据权利要求7的设备,其特征在于,砂轮(7)的直径约为150毫米。
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