CN108081036A - 一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺 - Google Patents
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Abstract
一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,本发明涉及光学镜片加工技术领域;其采用的设备包含:光学玻璃整形设备、多线切割设备、CNC精雕设备、研磨设备、粗抛设备、精抛设备、超声波清洗设备、检验设备;所述的光学玻璃整形设备、多线切割设备、CNC精雕设备、研磨设备、粗抛设备、精抛设备、超声波清洗设备以及检验设备之间构成一个生产流水线。能够大大提高加工精密度以及平整度,改善光学镜片的整体性能,提高其实用性。
Description
技术领域
本发明涉及光学镜片加工技术领域,具体涉及一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺。
背景技术
光学玻璃是用高纯度硅、硼、钠、钾、锌、铅、镁、钙、钡等的氧化物按特定配方混合,在白金坩埚中高温融化,用超声波搅拌均匀,去气泡;然后经长时间缓慢地降温,以免玻璃块产生内应力。冷却后的玻璃块,必须经过光学仪器测量,检验纯度、透明度、均匀度、折射率和色散率是否合规格。合格的玻璃块经过加热锻压,成光学透镜毛胚。
目前,对于光学镜片的精度以及平整度的加工制作任然达不到较高的标准,亟待改进。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供一种结构简单,设计合理、使用方便的高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,能够大大提高加工精密度以及平整度,改善光学镜片的整体性能,提高其实用性。
为实现上述目的,本发明中所述的高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其采用的设备包含:光学玻璃整形设备、多线切割设备、CNC精雕设备、一次研磨设备、粗抛设备、精抛设备、超声波清洗设备、检验设备;所述的光学玻璃整形设备、多线切割设备、CNC精雕设备、研磨设备、粗抛设备、精抛设备、超声波清洗设备以及检验设备之间构成一个生产流水线。
本发明中所述的高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其采用的加工步骤如下:
1、将来料投入至光学玻璃整形设备中,进行光学玻璃的整形操作,整形至规定要求;
2、将整形后的光学玻璃送入多线切割设备,按照规定要求进行切割处理,切割出符合条件的光学玻璃片;
3、将切割成的光学玻璃片摆放入CNC精雕设备进行精雕处理;
4、将精雕处理后的光学玻璃片送入研磨设备,通过调试和设定设备的压力、转速、研磨砂粒度、时间来控制产品的研磨;
5、将研磨后的光学玻璃送入粗抛设备中,通过调试和设定设备的压力,转速、抛光粉的粒度、时间来控制产品的抛光;
6、将进行粗抛处理过后的光学玻璃送入精抛设备中,通过调试和设定设备的压力,转速、抛光粉的粒度、时间来控制产品的抛光;
7、将进行精抛处理后的光学玻璃送入超声波清洗设备中进行超声波清洗,洗净表面的微尘颗粒;
8、将超声波清洗后的光学玻璃送入检验设备中进行产品质量检验,将检验合格的产品送入包装生产线中进行包装,将检验不合格的产品人工收集,分为两类,第一类根据产品厚度要求再次抛光实用;第二类对于厚度公差相差太大的无法再次抛光的产品可以重新再次开料,投入多线切割设备中,继续进行切割、精雕、粗抛、精抛、清洗以及检验操作,加工制作成不同规格的光学镜片;
9、将检验合格的光学镜片装箱打包。
进一步地,所述的步骤4中的研磨时间为0.5-1h,研磨切削厚度为0.2-0.3mm,研磨压力为34-45kg,研磨砂粒度为1200#。
进一步地,所述的步骤5中的抛光时间为1.5-2.0h,抛光切削厚度为0.01-0.1mm,抛光压力为55-65kg,研磨砂粒度为1.2μm,抛光皮为开槽的抛光皮。
进一步地,所述的步骤6中的抛光时间为10-20min,抛光切削厚度为0.001-0.01mm,抛光压力为90-110kg,研磨砂粒度为0.8μm。
进一步地,所述的步骤7中将超声波清洗后的光学玻璃采用烘干设备进行烘干处理。
采用上述工艺后,本发明有益效果为:本发明所述的一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,能够大大提高加工精密度以及平整度,改善光学镜片的整体性能,提高其实用性,本发明具有结构简单,设置合理,制作成本低等优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明的工艺流程图。
附图标记说明:
光学玻璃整形设备1、多线切割设备2、CNC精雕设备3、研磨设备4、粗抛设备5、精抛设备6、超声波清洗设备7、检验设备8。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
参看如图1所示,本具体实施方式采用的技术方案是:其采用的设备包含:光学玻璃整形设备1、多线切割设备2、CNC精雕设备3、研磨设备4、粗抛设备5、精抛设备6、超声波清洗设备7、检验设备8;所述的光学玻璃整形设备1、多线切割设备2、CNC精雕设备3、研磨设备4、粗抛设备5、精抛设备6、超声波清洗设备7以及检验设备8之间构成一个生产流水线。
本发明中所述的高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其采用的加工步骤如下:
1、将来料投入至光学玻璃整形设备1中,进行光学玻璃的整形操作,整形至规定要求;
2、将整形后的光学玻璃送入多线切割设备2,按照规定要求进行切割处理,切割出符合条件的光学玻璃片;
3、将切割成的光学玻璃片摆放入CNC精雕设备3进行精雕处理;
4、将精雕处理后的光学玻璃片送入研磨设备4,通过调试和设定设备的压力、转速、研磨砂粒度、时间来控制产品的研磨;
5、将研磨后的光学玻璃送入粗抛设备5中,通过调试和设定设备的压力,转速、抛光粉的粒度、时间来控制产品的抛光;
6、将进行粗抛处理过后的光学玻璃送入精抛设备6中,过调试和设定设备的压力,转速、抛光粉的粒度、时间来控制产品的抛光;
7、将进行精抛处理后的光学玻璃送入超声波清洗设备7中进行超声波清洗,洗净表面的微尘颗粒;
8、将超声波清洗后的光学玻璃送入检验设备8中进行产品质量检验,该检验设备8处于超净无尘车间内,将检验合格的产品送入包装生产线中进行包装,将检验不合格的产品人工收集,分为两类,第一类根据产品厚度要求再次抛光实用;第二类对于厚度公差相差太大的无法再次抛光的产品可以重新再次开料,投入多线切割设备中,继续进行切割、精雕、粗抛、精抛、清洗以及检验操作,加工制作成不同规格的光学镜片;
9、将检验合格的光学镜片装箱打包。
进一步地,所述的步骤4中采用的研磨设备为16B,研磨的光学镜片为1001x100x2的青板材料,其所需要的厚度在2.3-2.5cm之间,该设备的研磨时间为0.5h,研磨切削厚度为0.25mm,研磨压力为40kg,研磨砂粒度为1200#。
进一步地,所述的步骤5中粗抛设备为16B,其抛光时间为2h,抛光切削厚度为0.05mm,抛光压力为60kg,研磨砂粒度为1.2μm,抛光皮为开槽的抛光皮。
进一步地,所述的步骤6中精抛设备为16B,的抛光时间为15min,抛光切削厚度为0.005mm,抛光压力为100kg,研磨砂粒度为0.8μm。
进一步地,所述的步骤7中将超声波清洗后的光学玻璃采用烘干设备进行烘干处理。
采用上述工艺后,本具体实施方式有益效果为:本具体实施方式所述的一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,能够大大提高加工精密度以及平整度,改善光学镜片的整体性能,提高其实用性,本发明具有结构简单,设置合理,制作成本低等优点。
以上所述,仅用以说明本发明的技术方案而非限制,本领域普通技术人员对本发明的技术方案所做的其它修改或者等同替换,只要不脱离本发明技术方案的精神和范围,均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
Claims (6)
1.一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其特征在于:其采用的设备包含:光学玻璃整形设备、多线切割设备、CNC精雕设备、一次研磨设备、粗抛设备、精抛设备、超声波清洗设备、检验设备;所述的光学玻璃整形设备、多线切割设备、CNC精雕设备、研磨设备、粗抛设备、精抛设备、超声波清洗设备以及检验设备之间构成一个生产流水线。
2.一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其特征在于:其采用的加工步骤如下:
(1)、将来料投入至光学玻璃整形设备中,进行光学玻璃的整形操作,整形至规定要求;
(2)、将整形后的光学玻璃送入多线切割设备,按照预定要求进行切割处理,切割出符合条件的光学玻璃片;
(3)、将切割成的光学玻璃片摆放入CNC精雕设备进行精雕处理;
(4)、将精雕处理后的光学玻璃片送入研磨设备,通过调试和设定设备的压力、转速、研磨砂粒度、时间来控制产品的研磨;
(5)、将研磨后的光学玻璃送入粗抛设备中,通过调试和设定设备的压力,转速、抛光粉的粒度、时间来控制产品的抛光;
(6)、将进行粗抛处理过后的光学玻璃送入精抛设备中,过调试和设定设备的压力,转速、抛光粉的粒度、时间来控制产品的抛光;
(7)、将进行精抛处理后的光学玻璃送入超声波清洗设备中进行超声波清洗,洗净表面的微尘颗粒;
(8)、将超声波清洗后的光学玻璃送入检验设备中进行产品质量检验,将检验合格的产品送入包装生产线中进行包装,将检验不合格的产品人工收集,分为两类,第一类根据产品厚度要求再次抛光实用;第二类对于厚度公差相差太大的无法再次抛光的产品可以重新再次开料,投入多线切割设备中,继续进行切割、精雕、粗抛、精抛、清洗以及检验操作,加工制作成不同规格的光学镜片;
(9)、将检验合格的光学镜片装箱打包。
3.根据权利要求2所述的一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其特征在于:所述的步骤(4)中的研磨时间为0.5-1h,研磨切削厚度为0.2-0.3mm,研磨压力为34-45kg,研磨砂粒度为1200#。
4.根据权利要求2所述的一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其特征在于:所述的步骤(5)中的抛光时间为1.5-2.0h,抛光切削厚度为0.01-0.1mm,抛光压力为55-65kg,研磨砂粒度为1.2μm,抛光皮为开槽的抛光皮。
5.根据权利要求2所述的一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其特征在于:所述的步骤(6)中的抛光时间为10-20min,抛光切削厚度为0.001-0.01mm,抛光压力为90-110kg,研磨砂粒度为0.8μm。
6.根据权利要求2所述的一种高精度超薄超平整度光学镜片表面制备工艺,其特征在于:所述的步骤(7)中将超声波清洗后的光学玻璃采用烘干设备进行烘干处理。
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