CN100474110C - 选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用 - Google Patents

选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用 Download PDF

Info

Publication number
CN100474110C
CN100474110C CNB038118769A CN03811876A CN100474110C CN 100474110 C CN100474110 C CN 100474110C CN B038118769 A CNB038118769 A CN B038118769A CN 03811876 A CN03811876 A CN 03811876A CN 100474110 C CN100474110 C CN 100474110C
Authority
CN
China
Prior art keywords
phenyl
acid
methoxyl
infrared radiation
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB038118769A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1656426A (zh
Inventor
陶烃
黄建兵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of CN1656426A publication Critical patent/CN1656426A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100474110C publication Critical patent/CN100474110C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C245/00—Compounds containing chains of at least two nitrogen atoms with at least one nitrogen-to-nitrogen multiple bond
    • C07C245/20—Diazonium compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C305/00—Esters of sulfuric acids
    • C07C305/02—Esters of sulfuric acids having oxygen atoms of sulfate groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton
    • C07C305/04—Esters of sulfuric acids having oxygen atoms of sulfate groups bound to acyclic carbon atoms of a carbon skeleton being acyclic and saturated
    • C07C305/06—Hydrogenosulfates
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
    • B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • B41C2210/266—Polyurethanes; Polyureas

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

一种用于成像光敏元件的产酸剂，所述产酸剂具有结构式(I)，(II)或(III)，式中：R1为取代或未取代的烃基或芳基；X是O，S或Se；Y是S，Se或Te；Ar1是取代或未取代的芳基；R2、R3和R4各自独立地为取代或未取代的烃基或芳基，或者R2，R3和R4中任意两个连接在一起形成环结构；并且R5和R6各自独立地选自取代或未取代的烃基或芳基，或者R5和R6彼此连接形成环结构。

Description

选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用
技术领域
本发明涉及可应用于辐射敏感构图组合物的选择的产酸剂。本发明涉及所述辐射-敏感构图组合物以及包含所述辐射-敏感构图组合物的辐射敏感元件的成像方法。
背景技术
热敏、负像加工印刷板通常由在基材上成像的辐射-敏感构图组合物制成。这些构图组合物通常包含辐射-敏感材料，所述材料是产酸剂、交联树脂或化合物、粘结剂树脂和红外(IR)吸收剂的混合物。先前用于这些构图组合物中的许多产酸剂或者含有臭氧耗竭元素，如氟；或者含有重金属，如锑(Sb)或砷(As)，所含物质可能会引起严重的环境污染问题。另外，这些先前使用的产酸剂中有一些将产生容易挥发且在热成像和后续的可有可无的烘烤的条件下损失的挥发性酸(例如HF、HCl、HBr、HI)，由此降低了固化速率。所述挥发性酸的损失将降低印刷板的效率。这些产酸剂的例子报道于下列文献中：
US4,708,925(Newman)描述了一种包含碱溶性酚醛树脂和鎓盐的光可溶组合物。鎓盐赋予酚醛树脂以耐溶剂性，所述酚醛树脂在暴露至辐射的情况下将被除去，由此，在组合物的暴露区域和未暴露区域之间提供了溶解度差。合适的碘鎓盐包括：碘鎓，锍，溴鎓，氯鎓，氧锍(oxysulphonium)，氧化锍，硒鎓，碲鎓，磷鎓和砷鎓的盐。优选的是，由其衍生得到阴离子的酸的pKa<5。合适的无机阴离子包括卤素阴离子，硫酸氢根，四氟硼酸根，六氟磷酸根，六氟砷酸根和六氟锑酸根。合适的有机阴离子包括如下结构式的那些阴离子：R1COO-和R1SO3 -，式中，R1为烷基或芳基。另外，该参考文献没有教导或建议本发明的特定的产酸剂。
US5,372,907(Haley等人)描述了一种包含(1)可溶酚醛树酯、(2)酚醛清漆树脂、(3)潜在布朗斯台德酸(即产酸剂)和(4)红外吸收剂的辐射-敏感构图组合物。在说明书中，该发明中的潜在质子酸包括鎓盐，特别是碘鎓，锍，磷鎓，硒鎓，重氮和砷鎓，以及阴离子，如六氟磷酸根，六氟锑酸根和三氟甲烷磺酸盐。然而，该参考文献没有披露或建议本发明的任何潜在质子酸。
US5,919,601(Nguyen)描述了一种包含热-活化产酸剂；交联树脂；含聚合物的粘结剂树脂，所述聚合物包含选自羟基，羧酸基，磺酰胺和烷氧基甲酰胺的活性侧基；和红外吸收剂的印刷板组合物。该组合物要求：产酸剂选自卤代烷基取代的S-三嗪和包含鎓阳离子和非-亲核阴离子的盐，其中，所述鎓阳离子选自碘鎓，锍，磷鎓，氧代氧化锍(oxysulphoxonium)，氧锍，氧化锍，铵和重氮；非-亲核阴离子选自四氟硼酸根，六氟磷酸根，六氟锑酸根，六氟砷酸根，triflate，四(五氟苯基)硼酸根，五氟乙基磺酸根，对-甲基苯磺酸根，乙基磺酸根，三氟-甲基乙酸根和五氟乙基乙酸根。另外，该参考文献没有披露或建议本发明的特定的产酸剂。
US5,965,319(Kobayashi)描述了具有磺酸作为抗衡离子的某些鎓盐化合物，以便产生通过光或热分解的磺酸。这些鎓盐包括如下结构式表示的重氮磺酸盐：
Ar1-N2 +R1-SO3 -
式中R1表示可以被取代的、具有20个或更少碳原子的烃基；而Ar1表示可以被取代的、具有20或更少碳原子的芳基。该参考文献没有教导或建议本发明的任一种产酸剂。
US6,042,987(Kobayashi)描述了一种用于印刷板的光敏负像记录材料，其具有图像记录层，所述记录层包含在光或热的作用下降解从而产生酸的化合物，包括以卤素、ClO4 -、PF6 -、BF4 -或磺酸根作为抗衡离子的鎓盐。其中，没有任何利用本发明中结构式(I)-(III)化合物的启示。
WO00/17711(IBF Industria Brasileira De Filmes S/A)描述了一种包含双重聚合物体系、红外吸收剂、产酸化合物以及酸稳定化合物的组合物。其中所述的产酸化合物包括作为阴离子的氯化物，硫酸氢盐，六氟锑酸盐，六氟磷酸盐，四氟硼酸盐，甲磺酸盐和三甲基苯磺酸盐。然而，该参考文献没有教导或建议本发明中的产酸化合物。
Huo，H.；Yang，Y.；Yang，L.；Cao，W.在重氮树脂与十二烷基硫酸钠在水溶液中的相互作用(Macromol.Rapid Commun.19，291-294(1998))中，详述了重氮树脂与十二烷基硫酸钠(SDS)在水溶液中和在薄膜中的特性。其中没有提及使用所述树脂来产生用于催化酸-活性组合物的酸。
Yang，B.；Cao，W.在二苯胺重氮盐与十二烷基硫酸钠在水溶液中的相互作用(J Colloid and Interface Science 212，190-192(1999))中报道了二苯胺重氮盐与十二烷基硫酸钠在溶液水中的光化学特性。其中没有提及使用所述树脂来产生用于催化酸活性组合物的酸。
Cao，W.；Meng，Z.；Yie，T.；Zhang，D.；Yang，B.在十二烷基硫酸钠与由重氮树脂和含磺酸盐聚合物衍生得到的聚合电解质配合物的相互作用(J Polymer Science：Part A：Polymer Chemistry.37，2601-2606(1999))中报道了对十二烷基硫酸钠与由重氮树脂和含磺酸盐聚合物衍生得到的聚合电解质配合物就所述配合物的水溶性和热稳定性而言其相互作用的研究结果。其中没有提及使用所述树脂来产生用于催化酸活性组合物的酸。
Yang，B.；Luo，H.；Cao，W.在重氮树脂-SDS在水溶液中或固态薄膜中的热分解(J.Polym.Sco.，PartA：Polym.Chem.36，3193-3195(1998)中报导了重氮树脂-SDS在水溶液或在固态薄膜中的热稳定性。其中没有提及使用所述树脂来产生用于催化酸活性组合物的酸。
因此，需要更好的产酸剂，其能够用于不含对环境有问题的元素或不产生不希望的挥发性酸的辐射-敏感构图组合物中，而且具有高的光分解效率和良好的光敏性。本发明提供了所述需求的解决办法。特别是，本发明提供了改善的固化速率、处理幅度、加工稳定性和长储存期，同时保持产酸步骤的中等能量需求。
发明内容
在一方面，本发明涉及可用于成像光敏元件的产酸剂，所述产酸剂具有结构式(I)，(II)或(III)：
R5-I+-R6
Figure C03811876D00071
Figure C03811876D00072
Ar1-N2 +
Figure C03811876D00073
其中：
R1是取代或未取代的烃基或芳基；
X是O，S或Se；
Y是S，Se或Te；
Ar1是取代或未取代的芳基；
R2，R3和R4各自独立地为取代或未取代的烃基或芳基，或者R2，R3和R4任意两个连接在一起形成环结构；并且
R5和R6各自独立地选自取代或未取代的烃基或芳基，或者R5和R6彼此连接形成环结构。
另一方面，本发明涉及辐射-敏感构图组合物，其包含：
(1)至少一种上述的产酸剂；
(2)至少一种通过酸可交联的交联剂；
(3)至少一种聚合物化合物，其具有至少一个能够与所述交联剂反应的官能团；和
(4)至少一种红外吸收化合物。
另一方面，本发明涉及包含平版印刷基材的辐射-敏感成像元件，所述基材具有涂布至其上的一层辐射-敏感构图组合物层。
另一方面，本发明涉及光敏元件的成像方法，包括如下步骤：
(1)提供包含平版印刷基材的辐射-敏感成像元件，所述基材具有在其上的辐射-敏感构图组合物；
(2)使辐射-敏感成像元件进行成像曝光；和
(3)从平版印刷基材上除去辐射-敏感构图组合物层的未曝光区域。
另外可有可无的是，在步骤(2)之后和步骤(3)之前，在足以形成固化元件的温度和时间范围内，对成像的辐射-敏感成像元件进行烘烤。
本发明的优点在于：产酸剂不含臭氧耗竭元素，如氟，或重金属，如锑(Sb)或砷(As)，如果不适当使用的话，这些元素可能会产生环境污染问题。
另一个优点是，所产生的酸在高操作温度下是非挥发性的，因此使蒸发所致的酸损失最小化。另外，所述光敏组合物提供了优异的照相光敏度和光分解效率。特别是，本发明能够获得预热负像加工构图组合物尤其是印刷板的改善的固化速率、加工幅度和稳定性，同时保持足够的储存期。
所述辐射-敏感组合物可用于各种平版印刷，包括光掩膜平版印刷，压印平版印刷，微电子装置和微型光学装置，印刷电路板，并且尤其是辐射-敏感的平版印刷板。
具体实施方式
本发明的辐射-敏感构图组合物包含至少四种组分加上可有可无的其它化合物的混合物。这些组分优选如下：
产酸化合物
在上述通式(I)，(II)和(III)中，R1优选表示具有50或更少碳原子的烃基或芳基，其可以是取代的。由R1表示的烃基和芳基的例子包括：烷基，如甲基，乙基，正丙基，异丙基，烯丙基，正丁基，仲-丁基，叔-丁基，已基，环己基，庚基，辛基，2-乙基己基，壬基，癸基，十二烷基，十六基和十八烷基；烯基，如乙烯基，1-甲基乙烯基和2-苯基乙烯基；芳烷基，如苄基，乙烯基苄基和苯乙基；和芳基，如苯基，甲苯基，二甲苯基，异丙苯基，2，4，6-三甲苯基，十二烷基苯基，苯基苯基，萘基和蒽基。这些烃基或芳基可以有取代基，如卤原子，氢氧盐，烷氧基，芳氧基，硝基，氰基，羰基，羧基，烷氧羰基，苯胺基，或乙酰氨基。具有取代基的烃的例子包括：三氟甲基，2-甲氧基乙基，10-樟脑基，氟代苯基，氯代苯基，溴代苯基，碘代苯基，甲氧苯基，羟苯基，苯氧基苯基，硝基苯基，氰基苯基，羧基苯基，甲氧基萘基，二甲氧基蒽基，二乙氧基蒽基和蒽醌基。
Ar1、R2、R3、R4、R5和R6各自可以优选表示具有50或更少碳原子的芳基，其可以是取代的。由Ar1，R5或R6表示的芳基的例子包括苯基，甲苯基，二甲苯基，异丙苯基，2，4，6-三甲苯基，十二烷基苯基，苯基苯基，萘基，蒽基，氟代苯基，氟代苯基，溴代苯基，碘代苯基，甲氧苯基，羟苯基，苯氧基苯基，硝基苯基，氰基苯基，羧基苯基，苯胺基苯基，苯胺基羰基苯基，吗啉代苯基，苯基偶氮苯基，甲氧基萘基，羟基萘基，硝基萘基和蒽醌基。
R2、R3、R4、R5和R6各自可以是具有50或更少碳原子的烃基，其可以是取代的。所述烃基的例子是：甲基，乙基，正丙基，异丙基，烯丙基，正丁基，仲-丁基，叔-丁基，已基，环已基，苄基，苯基，甲苯基，叔丁基苯基，萘基和蒽基；和具有取代基的烃基，如2-甲氧基乙基，氟代苯基，氯代苯基，溴代苯基，碘代苯基，甲氧苯基，羟苯基，苯基硫代苯基，羟基萘基，甲氧基萘基，苯甲酰基甲基和萘甲酰基甲基。做为选择，R2和R3，或R2和R4，或R3和R4，或R5和R6可以彼此连接形成环。
由通式(1)-(III)表示的鎓盐的阳离子部分的优选例子包括：碘鎓离子、锍离子和重氮离子。这些鎓盐的阳离子部分的优选结构的例子描述于US5,965,319(参见第3-10栏)和6,162,574中。
抗衡离子优选是有机硫酸盐(X＝氧且Y＝硫)或有机硫代硫酸盐(X＝Y＝硫)。有机硫酸盐的例子包括：甲基硫酸盐，乙基硫酸酸，1-丙基硫酸盐，2-丙基硫酸盐，N-丁基硫酸盐，烯丙基硫酸盐，10-樟脑基硫酸盐，三氟甲基硫酸盐，五氟乙基硫酸盐，苄基硫酸盐，对-甲苯基硫酸盐，3-甲氧苄基硫酸盐，4-甲氧苄基硫酸盐，4-羟基苄基硫酸盐，4-氯苄基硫酸盐，3-硝基苄基硫酸盐，4-硝基苄基硫酸盐，4-乙酰苄基硫酸盐，五氟苄基硫酸盐，4-十二烷基苄基硫酸盐，均三甲基苯硫酸盐，2，4，6-三异丙基苄基硫酸盐，2-羟基-4-甲氧基苯并苯酮-5-硫酸盐，间苯二甲酸二甲酯-5-硫酸盐，联苯基胺-4-硫酸盐，1-萘基硫酸盐，2-萘基硫酸盐，2-萘酚-6-硫酸盐，2-萘酚-7-硫酸盐，蒽醌-1-硫酸盐，蒽醌-2-硫酸盐，9，10-二甲氧基蒽-2-硫酸盐，9，10-二乙氧基蒽-2-硫酸盐，喹啉-8-硫酸盐，8-羟基喹啉-5-硫酸盐，8-苯胺基-萘-1-硫酸盐，二十烷基硫酸盐，十六烷基硫酸盐和乙烯基苄基硫酸盐。有机硫代硫酸盐阴离子的例子包括：其中硫代硫酸盐取代硫酸盐部分的那些阴离子。
优选用于本发明的鎓烷基或芳基硫酸盐可借助将相应的鎓Cl-、Br-、F-、I-或HSO4 -盐与烷基或芳基硫酸钠或烷基或芳基硫酸钾在水中或包括有水和亲水溶剂如醇的溶剂中混合，通过盐交换而获得。优选用于本发明的鎓烷基或芳基硫代硫酸盐可借助将相应的鎓Cl-、Br-、F-、I-或HSO4 -盐与烷基或芳基硫代硫酸钠或烷基或芳基硫代硫酸钾在水中或包括有水和亲水溶剂如醇的溶剂中混合而获得。
这些产酸化合物存在于本发明的辐射敏感构图组合物中，其含量以构图组合物固体组分的总量计为0.01-50重量％，优选0.1-25重量％，更优选0.5-20重量％。当添加量低于0.01重量％时，将不能获得图像，而当添加量大于50重量％时，在印刷时非-成像部分将被污染，因此，这两种情况均不是优选的。
通过酸可交联的交联剂
优选用于本发明的、通过酸可交联的交联剂(下文称之为交联剂)是：在分子中具有至少两个连接至苯环上的基团，如羟甲基，烷氧基甲基，环氧和乙烯基醚基团的化合物。其例子包括羟甲基蜜胺，可熔酚醛树脂，环氧化的酚醛清漆树脂和尿素树脂。其他例子包括具有至少两个烷氧基甲基基团的氨基树脂(例如，烷氧基甲基化的三聚氰胺树脂，烷氧基甲基化的甘脲和烷氧基甲基化的苯并胍胺)。另外也优选的是披露于＂Kakyozai Handbook(交联剂手册)＂(Shinzo Yamashita andTosuke Kaneko，Taiseisha，Co.，Ltd.出版)中的化合物。特别是，当形成图像时，在分子中具有至少两个连接至苯环上的基团如羟甲基和烷氧基甲基的苯酚衍生物将在图像部分提供良好的色牢度。苯酚衍生物的例子包括可熔酚醛树脂。优选的可溶酚醛树酯可以是得自GeorgiaPacific的GP649D99可溶酚醛树酯和得自联合碳化物公司的BKS-5928可溶酚醛树酯。
然而，这些交联剂是热不稳定的，因此在图像记录材料生产之后就可存储性而言，它们并不是十分有利的。另一方面，具有至少两个连接至苯环上的基团如羟甲基或烷氧基甲基、并且有3-5个苯环的分子量为1200或更低的苯酚衍生物具有良好的可存储性，因此是最为优选的。
作为烷氧基甲基基团，优选具有6个或更少碳原子的那些基团。其例子包括甲氧基甲基，乙氧基甲基，正丙氧基甲基，异丙氧基甲基，正丁氧基甲基，异丁氧基甲基，仲丁氧基甲基和叔丁氧基甲基。此外，具有一个或多个烷氧基取代基的烷氧基基团如2-甲氧基乙氧基和2-甲氧基-1-丙基也是优选的。
在这些苯酚衍生物中，特别优选的是披露于US5,965,319(第31-38栏)中的那些。具有羟甲基的苯酚衍生物可通过没有羟甲基的相应的苯酚化合物和甲醛在碱催化剂存在下的反应而获得。此时优选的是，反应温度在60℃或更低，以便防止苯酚衍生物的树脂化或凝胶化。具体地说，具有羟甲基的苯酚衍生物可通过披露于JP-A-6-282067和7-64285中的方法来合成。
具有烷氧基甲基的苯酚衍生物可通过具有羟甲基的相应的苯酚化合物和醇在酸催化剂存在下的反应而获得。此时优选的是，反应温度在100℃或更低，以便防止苯酚衍生物的树脂化或凝胶化。具体地说，具有烷氧基的苯酚衍生物可通过披露于EP632,003A1中的方法来合成。
就可存储性而言，如上所述合成的、具有羟甲基或烷氧基甲基的苯酚衍生物是优选的。具有烷氧基甲基的苯酚衍生物就可存储性而言是特别优选的。
一种特别优选的交联剂是对苯二甲醛(terephthaldicarboxaldehyde)。
所述交联剂以辐射敏感材料的固体总量计的含量为5-70重量％，优选10-65重量％。当交联剂量低于5重量％时，图像记录时图像部分的薄膜强度将变差。另一方面，就可存储性而言所述量大于70重量％不是优选的。
这些交联剂可以单独使用或两种或更多种结合使用。
能够与所述交联剂反应的聚合物化合物
能够与所述交联剂反应制备合适的辐射-敏感构图组合物的任何聚合物均可用于本发明。这些聚合物中一类优选的聚合物是在分子中具有碱溶性基团的聚合物化合物。用于本发明的、具有碱溶性基团的这些聚合物化合物(下文称为碱溶性聚合物化合物)指的是：在分子中具有碱溶性基团的树脂，如酚醛清漆树脂，丙酮-焦酚树脂，多羟基苯乙烯，羟基苯乙烯N-取代的顺丁烯二酰亚胺共聚物，羟基苯乙烯-马来酐共聚物，和如下的聚合物化合物，如具有碱溶性基团的丙烯酸系共聚物或氨基甲酸酯型聚合物，其单体包含1摩尔％或更多的具有酸性基团的组分单元，如丙烯酸。碱溶性基团的例子包括羧基，酚羟基，磺酸，膦酸，酰亚胺，氨基甲酸酯和氨磺酰。
酚醛清漆树脂是通过酚和醛在酸性条件进行缩合而获得的树脂。优选的酚醛清漆树脂的例子包括：由苯酚和甲醛获得的酚醛清漆树脂，由间-甲酚和甲醛获得的酚醛清漆树脂，由邻-甲酚和甲醛获得的酚醛清漆树脂，由辛基苯酚和甲醛获得的酚醛清漆树脂，由间-/对-混合甲酚和甲醛获得的酚醛清漆树脂，由苯酚/甲酚(间-，对-，邻-之一，或间-/对-，间-/邻-，邻-/对-混合的)和甲醛的混合物获得的酚醛清漆树脂，由间甲酚和甲醛获得的酚醛清漆树脂和由苯酚/间甲酚和甲醛获得的酚醛清漆树脂。优选的是，这些酚醛清漆树脂的重均分子量从800-200000，数均分子量从400-60000。
当使用其至少一个单体为羟基苯乙烯的聚合物如聚对羟基苯乙烯，聚间羟基苯乙烯，对羟基苯乙烯-N-取代的顺丁烯二酰亚胺共聚物和对羟基苯乙烯-马来酐共聚物时，优选的是，其重均分子量从2000-500000，优选从4000-300000。
具有碱溶性基团的丙烯酸类共聚物的例子包括：甲基丙烯酸-甲基丙烯酸烯丙酯共聚物，甲基丙烯酸-甲基丙烯酸苄酯共聚物，甲基丙烯酸-甲基丙烯酸羟乙基酯共聚物，聚(羟苯基甲基丙烯酰胺)，聚(丙烯酸羟苯基羰氧基乙基酯)和聚(丙烯酸2，4-二羟苯基羰氧基乙基酯)。这些丙烯酸树脂是这样的树脂，其单体包括：在分子中具有酸性基团如羧基和羟苯基基团的组分单元。其组分单元包括以总组分单元计1摩尔％或更多的(甲基)丙烯酸，羟基苯乙烯和羟苯基(甲基)丙烯酰胺，并且其重均分子量从2000-500000，优选从4000-300000的树脂是优选的。
具有碱溶性基团的氨基甲酸酯型聚合物的例子包括：通过二苯甲烷二异氰酸酯，六亚甲基二异氰酸酯，四甘醇和2，2-二(羟甲基)丙酸的反应获得的树脂。优选的是，氨基甲酸酯-型聚合物是这样的树脂，其单体包括含量在1摩尔％或更多的在分子中具有酸性基团如羧酸和羟苯基基团的组分单元。
在碱溶性聚合物化合物的这些例子中，就形成板的耐久性而言酚醛清漆树脂是优选的。另一方面，就显影性能而言，优选的是，其单体包括羟基苯乙烯的聚合物和具有碱溶性基团的丙烯酸类共聚物。
在本发明中，以辐射-敏感构图组合物的总固体计，所述碱溶性聚合物化合物的含量为10-90重量％，优选为20-85重量％，更优选为30-80重量％。如果碱溶性聚合物化合物的含量低于10重量％，那么辐射-敏感层的耐久性将变差。另一方面，就敏感性或耐久性而言，所述含量大于90重量％不是优选的。这些碱溶性聚合物化合物可以单独使用或两种或更多种结合使用。
尽管不希望被理论束服，但据信，交联树脂和粘结剂树脂是共反应性的树脂。因此，“交联树脂”和“粘结剂树脂”可互换地使用，并且在某些情况下，一种树脂不仅可以起“交联树脂”的作用，而且可以起“粘结剂树脂”的作用。
红外吸收化合物
所用的红外线吸收化合物是有效吸收760nm-1200nm波长红外线的染料或颜料。优选的是，染料或颜料在760-1200nm波长之间具有最大吸收。
作为染料，可以使用从市场得到的已知染料，或在文献中披露的那些染料(如由Yuki Gosei Kagaku Kyokai所编的“Senryo Binran(染料手册)”(Organic Synthetic Chemistry Association)，1970年出版)。具体地说，其例子包括偶氮染料，金属络合物偶氮染料，吡唑啉酮偶氮染料，蒽醌染料，酞菁染料，碳翁染料，醌亚胺染料，次甲基染料，花青染料和金属硫羟酸盐络合物。优选染料的例子包括披露于JP-A-58-125246，59-84356，59-202829和60-78787中的花青染料；披露于JP-A-58-173696，58-181690和58-194595中的次甲基染料；披露于JP-A-58-112793，58-224793，59-48187，59-73996，60-52940和60-63744中的萘醌染料；披露于JP-A-58-112792中的squalilium染料；以及披露于UK434,875中的花青染料。优选使用披露于US5,156,938中的近红外吸收光敏剂。另外也可以优选使用披露于US3,881,924中的取代的芳基苯并(硫代)吡喃鎓盐；披露于JP-A-57-142645(US4,327,169)中的三次甲基噻喃鎓盐；披露于JP-A-58-181051，58-220143，59-41363，59-84248，59-84249，59-146063和146061中的含吡喃鎓化合物；披露于JP-A-59-216146中的花青染料；披露于US4,283,475中的五次甲基硫代吡喃鎓盐；以及披露于JP-5-13514和5-19702中的吡喃鎓化合物。优选染料的其它例子包括由US4,756,993中结构(I)和(II)表示的近红外吸收染料。在这些染料中，特别优选的是花青染料，squarylium染料，吡喃鎓盐和硫羟酸镍络合物。这些IR染料优选包含在其它强酸存在下不形成挥发性酸的阴离子。
可用于本发明的颜料包括市售的颜料，以及披露于the ColorIndex(C.I.)手册，＂Saishin Ganryo Binran(Modern Pigment Manual)＂(Nippon Ganryo Gijutsu Kyokai(Japan Pigment Technology Association)编辑，1977处出版；＂Ganryo Oyo Gijutsu(Modern Pigment ApplicationTechnology)＂(CMC出版社于1986年出版)；和＂Insatsu Ink Gijutsu(Printing Ink Technology)＂(CMC出版社于1984年出版)中的那些颜料。颜料的例子包括黑色颜料，黄色颜料，橙色颜料，棕色颜料，红色颜料，紫色颜料，蓝色颜料，绿色颜料，荧光颜料，金属粉末颜料和聚合物胶结颜料。具体地说，可使用不溶的偶氮颜料，偶氮色淀颜料，缩合偶氮颜料，螯合偶氮颜料，酞花青颜料，蒽醌颜料，邶和邶酮颜料，硫靛蓝颜料，巴黎蓝颜料，普鲁士蓝颜料，喹吖啶酮颜料，二恶嗪颜料，异吲哚啉酮颜料，喹啉并邻苯二甲酮颜料，着色色淀颜料，吖嗪颜料，亚硝基颜料，硝基颜料，天然颜料，荧光颜料，无机颜料和炭黑。在这些例子中，优选炭黑。
这些颜料可在没有表面处理的情况下使用，或可在进行表面处理之后使用。表面处理方法的例子包括：利用树脂或蜡的表面涂布法，粘附表面活性剂的方法，以及使反应性物质(反应性物质如硅烷偶联剂，环氧化合物和聚异氰酸酯)与颜料表面连接的方法。上述表面处理方法披露于＂Kinzokusekken no Seishitsu to Oyo(Natures andApplications of Metal Soaps)＂(Sachi Press)；＂Insatsu Ink Gijutsu(Printing Ink Technology)＂(CMC Press；1984出版)；和＂Saishin GanryoOyo Gijutsu(Modern Pigment Application Technology)＂(CMC Press，1986出版)中。0.01-10微米的颜料粒度是优选的，更优选的是0.05-1微米，最优选的是0.1-1微米。就颜料分散体于光敏层涂布液中的稳定性而言，小于0.01微米的颜料粒度不是优选的。另一方面，就图像记录层的均匀性而言，大于10微米的颜料粒度也不是优选的。
作为颜料的分散方法，可使用在油墨生产或色调剂生产中使用的已知分散方法。分散机器的例子包括：超声分散机，砂磨机，超微磨碎机，珠磨机，超细研磨机，球磨机，抛砂器，分散器，KD研磨机，胶体研磨机，回射电子管，三辊磨，以及加压搓揉机。其详细内容描述于＂Saishin Ganryo Oyo Gijutsu(Modern Pigment ApplicationTechnology)＂(CMC Press，1986出版)中。
以辐射敏感构图材料的总固体量计，这些染料或颜料的添加量为0.01-50重量％，优选为0.1-10重量％，在染料的情况下更优选为0.5-10重量％，在颜料的情况下更优选为0.1-10重量％。低于0.01重量％的颜料或染料量将造成低灵敏度。另一方面，大于50重量％的用量在印刷时将在非图像部分产生染色。这些染料或颜料可与其它组分一起添加至层中，或者当图像记录材料包含多层时，可添加至这样的层中，所述层不同于包含其它组分的层。
尽管对于最优选的应用通常要求IR吸收剂，但利用动态反光镜和紫外激光器的新近的研发却可以使本发明的辐射-敏感组合物不需要IR吸收剂，而只需要上述的前三个组分。因此，本发明的一实施方案包括这种可供选择的组合物，及其利用这些新成像技术的应用。
其他组分
尽管上述四个组分(A)-(D)是必需的，但根据需要可将各种化合物添加至辐射-敏感构图材料中。
例如，可将在可见光区域中具有高吸收的染料用作着色剂。具体地说，其例子包括：油黄#101，油黄#103，油粉#312，油绿BG，油蓝BOS，油蓝#603，石油炭黑BY，石油炭黑BS，石油炭黑T-505(由Orient Chemical Industry，Co.，Ltd.制造)，维多利亚纯蓝，结晶紫(CI42555)，甲基紫(CI42535)，乙基紫，若丹明B(CI145170B)，孔雀绿(CI42000)，亚甲基蓝(CI52015)和披露于JP-A-62-293247中的染料。为了在图像形成之后容易区别图像部分和非-图像部分，优选添加这些染料。这些可见染料和着色剂优选包含在其它强酸存在下不形成挥发性酸的阴离子。以图像记录材料的总固体组分计，添加量为0.01-10重量％。
为了能够在显像条件波动的情况下进行稳定的处理，可以将披露于JP-A-62-251740和3-208514中的非离子表面活性剂和披露于JP-A-59-121044和4-13149中的两性表面活性剂添加至本发明的图像记录材料中。非离子型表面活性剂的例子包括脱水山梨糖醇三硬脂酸酯，脱水山梨糖醇甘油一棕榈酸酯，脱水山梨糖醇三油酸酯，硬酯酸一甘油酯和聚氧乙烯壬基苯基醚。两性表面活性剂的例子包括：二(氨乙基)甘氨酸，烷基聚氨基乙基甘氨酸氢氯化物，2-烷基-n-羧乙基-N-羟乙基咪唑啉鎓甜菜碱和N-十四基-N，N-取代的甜菜碱(例如，由Dai-Ichi Kogyo Co.，Ltd.制造)。在辐射敏感构图材料中，非离子型表面活性剂和两性表面活性剂的用量优选为0.05-15重量％，更优选为0.1-5重量％。
为了给薄膜提供柔韧性等等，根据需要可以将增塑剂添加至本发明的图像记录材料中。增塑剂的例子包括：丁基邻苯二酰，聚乙二醇，柠檬酸三丁酯，邻苯二甲酸二乙酯，邻苯二甲酸二丁酯，邻苯二甲酸二已基酯，邻苯二甲酸二辛酯，磷酸三甲苯酯，磷酸三丁酯，磷酸三辛酯，油酸四氢糠醌，丙烯酸或甲基丙烯酸的低聚物和聚合物。
除这些例子之外，另外还可以添加上述鎓盐，卤代烷基化的s-三嗪，环氧化合物，乙烯基醚，披露于日本专利申请7-18120中的具有烷氧基甲基基团的苯酚化合物和具有羟甲基基团的苯酚化合物。
基材
通常，通过将上述组分溶解于溶剂中并将得到的溶液施加至合适的支持体上，可生产出本发明的图像记录材料。在此使用的溶剂包括但不局限于：二氯乙烷，环巳酮，甲基乙基酮，甲醇，乙醇，丙醇，乙二醇甲醚，1-甲氧基-2-丙醇，2-甲氧基乙酸乙酯，1-甲氧基-2-乙酸丙酯，二甲氧基乙烷，乳酸甲酯，乳酸乙酯，N，N-二甲基乙酰胺，N，N-二甲基甲酰胺，四甲基脲，N-甲基吡咯烷酮，二甲亚砜，环丁砜，γ-丁内酯，甲苯，丙酮和水。这些溶剂可以单独使用或以混合物的形式使用。
上述组分的浓度(包括添加剂在内的总固体组分)优选为溶液重量的1-50％。在施加并干燥之后在支持体获得的施加量(固体组分)根据应用的目的来确定。然而，对于平版印刷板，通常0.5-5.0克/平方米是优选的，且1-2.5克/平方米是更为优选的。作为施加的方法，可使用各种各样的方法，如刮棒涂布机涂布，旋涂，喷涂，幕帘式涂布，浸涂，气刀涂布，刮板涂布和辊涂。当涂布量减少时，表观灵敏度将增加，但图像记录薄膜的薄膜特性将下降。
可以将用于改善适用性的表面活性剂，如披露于JP-A-62-170950中的含氟表面活性剂添加至本发明的图像记录层中。以辐射敏感构图组合物的总固体组分计，其添加量优选为0.01-1重量％，更优选从0.05-0.5重量％。
用于本发明支持体的例子包括：二维稳定的片状物质，如纸，与塑料(如聚乙烯，聚丙烯和聚苯乙烯)层叠的纸，金属板(如铝，锌和铜)，塑料薄膜(如醋酸纤维素，三乙酸纤维素，丙酸纤维素，丁酸纤维素，醋酸纤维素/丁酸酯，硝酸纤维素，聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚乙烯，聚苯乙烯，聚丙烯，聚碳酸酯和聚乙烯醇缩醛)，以及用上述金属层叠或沉积的纸或塑料薄膜。
聚酯薄膜或铝板作为本发明中的支持体是优选的。特别是，由于铝板具有良好的尺寸稳定性并且能够以相对低成本提供，因此它是优选的。优选铝板的例子包括：纯铝板和包含作为主要成分的铝和微量各种不同元素的铝合金板。此外，也可以使用将铝层叠或沉积至其上的塑料薄膜。在铝合金中不同元素的例子包括：硅，铁，锰，铜，镁，铬，锌，铋，镍和钛。在合金中不同元素的量优选为10重量％或更少。在本发明中，纯铝是特别优选的。然而，就炼制技术而言，由于完成纯铝的生产是相当困难的，因此可使用包含微量不同元素的铝合金。对如上所述在本发明中应用的铝板的组分没有特别的限定，并且也可以使用已知的铝板。用于本发明的铝板的厚度约为0.1-0.6毫米，优选为0.15-0.4毫米，更优选为0.2-0.3毫米。
当将铝板用作支持体时，在涂布聚合物第一层之前，希望进行打磨处理。另外，根据需要，在铝板打磨之前，利用表面活性剂、有机溶剂或碱水溶液进行脱脂处理，以便除去表面上的滚轧油。
铝板的表面打磨处理可利用各种方法来完成，如机械打磨法，其中使板表面溶解的电化学打磨法，以及其中使板表面选择性溶解的化学打磨法。作为机械法，可使用已知的方法，如球磨法，刷磨法，砂磨法，以及擦磨法。作为电化学打磨法，可以使用其中交流电或直流电施加至处于含盐酸或硝酸的电解液中的板上的方法。此外，还可以使用如披露于JP-A-54-63902中所述的上述两种方法结合的方法。
如果需要的话，可以使进行表面打磨处理的铝板经受碱腐蚀处理或中和处理，然后，如果希望的话，进行阳极化处理，以便改善表面的保水性和抗磨性。作为用于铝板阳极化处理的电解质，可以使用形成多孔氧化物薄膜的各种电解质。通常，可以使用硫酸，磷酸，草酸，铬酸，或其混合物。电解质的浓度根据电解质的种类适当地确定。
对阳极化的处理条件没有特别的限定，这是因为其将根据所用电解液的种类而明显地改变。通常，如下条件将是合适的：电解质溶液的浓度从1-80重量％，电解质溶液温度为5-70℃，电流密度为5-60A/dm2，电压为1-100V，且电解时间从10秒至5分钟。
如果通过阳极化生产的薄膜量低于1.0克/平方米的话，那么铝板的耐久性将不够，且在平版印刷版的非图像部分中易于产生划痕，并因此产生所谓的“划痕着色(scratch toning)”，即在印刷中油墨将附着至所述的划痕中。
在阳极化处理之后，如果必要的话对铝表面进行亲水处理。在本发明中使用的亲水处理的例子包括：如披露于US2,714,066；3,181,461；3,280,734；和3,902,734中的碱金属硅酸盐(如硅酸钠水溶液)法。在该方法中，通过利用硅酸钠水溶液的浸渍或电解而对支持体(铝板)进行处理。其他例子包括：利用披露于JP-B-36-22063中的氟锆酸钾进行处理的方法和利用披露于US3,276,868,4,153,461和4,689,272中的聚磷酸乙烯酯进行处理的方法。
成像和处理
通过任何已知的涂布技术将构图组合物涂布至基材上。所述涂布技术的例子包括：旋涂，槽涂，绕线棒涂布，浸涂，气刀涂布，辊式涂布，刮涂，幕帘式涂布等等。优选的方法是槽涂(slot coating)。
优选将构图组合物干燥至合适的温度以除去多余的溶剂。所述干燥可以在热风干燥炉或红外线干燥机等中进行，优选于约40-150℃的温度干燥30秒至10分钟。
干燥后在支持体上所得层的厚度可在大范围内改变，但其厚度通常在约0.5-3微米，更优选从约1-2微米。
在基材上没有提供任何其它的必要层。特别是，在构图层上方不需要任何保护层或其它种类的层。任选的、但不是优选的是，在成像层下方设置防光晕层，或者在支持体的背侧提供防光晕层(如当支持体为透明聚合物薄膜时)。
使构图组合物层经受足够的光化辐射(例如180-1200nm)，从而使所述层进行成像曝光。光化辐射可以是使所述层成像的任何辐射，包括红外(IR)，紫外(UV)和可见光。优选的是，通过图像信号调制的激光束的扫描而使感光材料暴露至IR中。所述IR成像可以通过熟知的方法来完成。例如，可以利用一激光器或一系列激光器使构图组合物层成像，所述激光器在被吸收剂吸收的波长范围内发射调制的近红外或红外辐射。IR辐射，尤其是在750-1200nm范围内的IR辐射，优选约800-1125nm的IR辐射，通常用于使热可成像的元件进行成像。利用在约830或1056nm发射的激光器可方便地进行成像处理。IR曝光能量优选从30-500mJ/cm2；更优选从约30mJ/cm2，且最优选从约50-175mJ/cm2。合适的市售成像装置包括：成像装置(imagesetters)，如Creo Trendsetter(CREO，British Columbia，Canada)，Gerber Crescent42T(GERBER，Brussels，Belgium)和Platerite 8000(SCREEN，RollingMeadows，Illinois)。尽管IR曝光是优选的光化辐射源，但常规的UV光源或可见光源也可以使用。这些光源包括：在250nm和700nm之间的紫外可见光谱中操作的碳弧灯，汞蒸汽灯，荧光灯，钨灯和溢光灯。
做为选择，可以利用包含加热触头的装置或热敏打印热使构图组合物层成像。合适的市售热记录笔成像装置是GS 618-400热绘图器(OYO Instruments，Houston，Texas)。当利用加热头进行曝光时，无需使该元件包含IR吸收剂。然而，含有IR吸收剂的元件也可以利用加热头进行成像。
在成像辐射或曝光之后，可非强制地对构图组合物进行加热。该可有可无的加热操作，可通过辐射，对流加热，与加热表面例如辊子接触来进行，或者可通过浸渍于例如包含惰性液体例如水的加热浴中来进行。温度范围将设定在含有构图组合物的板的雾化点附近。雾化点被定义为：使热板不可处理所需的热能的最低量。优选的是，所施加的热能为雾点的±50℉，更优选为雾点的±30℉，最优选的是雾点的±15℉。取决于加热所选的方法以及在该过程中的其它步骤，加热时间可大范围改变。如果使用传热介质的话，加热时间优选从约30秒至30分钟，更优选从约1分钟至约5分钟。
下一步是利用含水显影液使曝光的构图组合物层进行显影。用于显影处理的显影液可以是能够渗透并除去未曝光区而对曝光区没有实质性影响的任何液体或溶液。尽管不希望被理论或解释所束服，但据信，图像分辨率基于动力学效应。与曝光区相比，未曝光区在显影剂中将被更迅速地除去。使显影进行足够长的时间以便除去在显影剂中的未曝光区，但却不足以除去曝光区。在显影剂中优选的显影时间从约10-120秒。因此，未曝光区域被称为在显影剂中“可溶的”或“可除去的”，这是因为与曝光区域相比，它们在显影剂中被更迅速地除去和溶解和/或分散。
通常已知的碱性水溶液可用作用于本发明图像记录材料的显影剂或显影液补充剂。其例子包括：无机碱性盐，如硅酸钠，硅酸钾，三代磷酸钠，三代磷酸钾，三代磷酸铵，二代磷酸钠，二代磷酸钾，磷酸氢二铵，碳酸钠，碳酸钾，碳酸铵，碳酸氢钠，碳酸氢钾，碳酸氢铵，硼酸钠，硼酸钾，硼酸铵，氢氧化钠，氢氧化铵，氢氧化钾和氢氧化锂。此外还可以使用的是：有机碱性试剂，如一甲胺，二甲胺，三甲胺，一乙胺，二乙胺，三乙胺，单异丙胺，二异丙胺，三异丙胺，正丁胺，一乙醇胺，二乙醇胺，三乙醇胺，单异丙醇胺，二异丙醇胺，乙撑亚胺，乙二胺和吡啶。这些碱性试剂可以单独使用或两种或更多种结合使用。
此外，众所周知的是，当借助将其碱性强于显影剂的水溶液(补充剂)添加至显影剂中，用自动显影机来显影时，在不改变显影容器中的显影剂的情况下，可以长时间的使大量平版印刷板进行显影。在本发明中另外还优选的是采用补充法。
可以将各种表面活性剂和有机溶剂添加至显影剂或补充剂中，以促进或扼制显影性能，改善显影浮色的分散或印刷板图像部分与所需要油墨的一致性。优选的表面活性剂的例子包括：阴离子表面活性剂，阳离子表面活性剂，非离子表面活性剂和两性表面活性剂。此外，根据需要，可以向显影剂或补充剂中添加还原剂，如无机酸，包括氢醌、间甲酚、亚硫酸和氢亚硫酸的钠盐或钾盐，有机羧酸，消泡剂和水软化剂。
有用的显影剂是pH约7或更高的水溶液。优选的碱性含水显影剂是pH在8-13.5之间、通常至少约11，优选至少约12的那些。有用的显影剂包括：市售的显影剂，如PC9000，PC3000，PC955，PC592，GoldstarTM，GreenstarTM，ThermalProTM，PROTHERM，MX1710和得自Kodak Polychrome Graphics LLC的956碱性含水显影剂。显影剂例如描述于：Yamasue的US4,259,434；Seino的US4,452,880；Miller的US5,851,735；Eckler的US5,998,102；Miro的EP-A-0732628；Toyama的GB-A-2,276,729；和Fiebag的US6,143,479中。
显影通常在装备有浸渍型显影浴、用于水清洗的部分、涂胶部分、干燥部分和导热测量单元的处理器中进行。通常，通过用包含显影剂的施料器对元件进行摩擦或擦试而将显影剂施加至成像前体上。做为选择，成像前体可以用显影剂进行涂刷，或者可以通过对元件进行喷淋将显影剂施加至前体上，其中需要有足够的喷淋力量以除去未曝光区域。在两者任一的例子中，生产出了印刷板。可以在市售处理器中，如Mercury V处理器(得自Kodak Polychrome Graphics)和Quartz K85处理器(得自Glunz and Jensen，Norfolk，UK)中进行显影。优选的是，显影温度从约10-50℃，更优选从15-35℃。在显影之后，用水对印刷板进行清洗并干燥。干燥可通过IR加热器或利用热风方便地进行。干燥之后，用涂胶溶液对印刷板进行处理。涂胶溶液包含一种或更多种水溶性的聚合物，例如聚乙烯醇，聚甲基丙烯酸，聚甲基丙烯酰胺，聚甲基丙烯酸羟乙基酯，聚甲基丙烯酸乙烯酯，明胶和多糖类如糊精、茁霉多糖、纤维素、阿拉伯胶和藻酸。优选的材料是阿拉伯胶。
尽管显影后的加热或其它操作对于本发明通常是不需要的，但对于某些应用所述操作可能是优选的。
通过上述处理获得的图像适用于许多用途。例如，当单一的铝板为基材时，在显影之后，通过将其施加至印刷机上获得了良好的印刷器。此外，通过在透明塑料薄膜如聚酯薄膜上提供含染料的感光层制得的材料可用于印刷品的纠错。另外，可以使用光掩膜，计算机输出信号的激光记录以及传真记录材料。
此外，根据用途，可以使显影的感光材料的基材经受各种处理。例如，在利用具有铬真空淀积层作为基材的玻璃板的情况下，在感光层显影从而形成抗蚀刻层之后，利用已知的含铈离子的蚀刻液对铬淀积层进行蚀刻，然后除去抗蚀层，由此，基材可用作硬掩模。在将硅钢薄板用作基材的情况下，有可能制做二氧化硅层的抗蚀刻层，或者有可能用于lift-off步骤。在利用用于制做印制电路板的铜箔板的情况下，在显影之后，有可能用作抗蚀刻层或电镀抗蚀剂。
本发明将通过下列实施例和对比例进行更详细的描述。除非另有说明，所有份数和百分数均以重量计，并且所有温度均为摄氏温度。
实施例
合成例1
十二烷基硫酸2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(MSDS)产酸剂的合成。在搅拌的同时，将于300ml水中的16.0g十二烷基硫酸钠(Aldrich，Milwaukee，MI)慢慢地加入于300ml水中的18.0g硫酸氢2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(Diverstec，Fort Collins，CO)中。将混合物在0-5℃，于黑暗中储存5小时。在滗去水之后，将得到的油料溶解于100ml乙酸乙酯中。用50ml 5％的NaHCO3对溶液进行洗涤，然后用50ml水进行洗涤。在无水硫酸镁上对有机层干燥6小时，并通过抽真空除去溶剂。结果获得12.8克油料。
质子NMR(在丙酮中-d6)：δ 0.88(3H，t)，1.32(18H，m)，1.58(2H，m)，3.91(2H，t)，4.15(3H，s)，6.90-7.55(7H，m)，8.18(1H，d)和11.12(1H，s)。
合成例2
十六烷基硫酸2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(MSHDS)产酸剂的合成。利用于25ml水中的0.8g NaHCO3中和于50ml水中的3.25克硫酸氢2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(Diverstec，Fort Collins，CO)，并将该容器标记为A。将3.45g十六烷基硫酸钠(TCI America，Portland，OR)溶解于150ml水中(50℃)，并将该容器标记为B。搅拌下，将溶液A慢慢地加入溶液B中，并在混合完成之后形成沉淀物。将反应混合物在0-5℃，于黑暗中储存12小时。通过过滤收集固体，然后进行真空干燥。得率为5.4克。
质子NMR(在丙酮中-d6)：δ0.87(3H，t)，1.31(26H，m)，1.58(2H，m)，3.90(2H，t)，4.15(3H，s)，6.90-7.60(7H，m)，8.19(1H，d)和11.10(1H，s)。
合成例3
乙烯基苄基硫代硫酸2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(MSVBTS)产酸剂的合成。在搅拌的同时，将于100ml水中的0.50g乙烯基苄基硫代硫酸钠(Eastman Kodak Company，Rochester，NY，US 5,985,514)慢慢地加入25ml 5％的硫酸氢2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(Diverstec，Fort Collins，CO)中。将混合物在0-5℃，于黑暗中储存24小时。在滗去水之后，将得到的油料用10ml水洗涤三次。结果得到了1.13克油料，然后将其溶解于99克1-甲氧基-2-丙醇中备用。
实施例4
辛基硫酸2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(MSOS)产酸剂的合成。在搅拌的同时，将于水中的64.0g 35％的辛基硫酸钠(Aldrich，Milwaukee，MI)慢慢地加入于500ml水中的31.0g硫酸氢2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯(Diverstec，Fort Collins，CO)中。将混合物在0-5℃，于黑暗中储存5小时。在滗去水之后，将得到的油料溶解于200ml乙酸乙酯中。用50ml 5％的NaHCO3对溶液进行洗涤，然后用50ml水进行洗涤。在无水硫酸镁上对有机层干燥6小时，并通过抽真空除去溶剂。结果获得35.1克油料。
质子NMR(在丙酮中-d6)：δ 0.84(3H，t)，1.22(1OH，m)，1.53(2H，p)，3.88(2H，t)，4.10(3H，s)，6.50-7.60(7H，m)，8.17(1H，d)和10.9(1H，s)。
实施例5(平版印刷板的制备)
通过将6.8g 25％的可溶酚醛树酯(GP649D99可溶酚醛树酯，得自Georgia-Pacific，Atlanta，GA)，8.4g 34％的N-13酚醛清漆(EastmanKodak Company，Rochester，NY)，0.75g如上制备的MSHDS，0.47gTrump IR染料(2-[2-[2-氯-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-苯并亚吲哚-2-基)亚乙基]-1-环已-1-基]乙烯基]-1，3，3-三甲基-1H-苯并吲哚鎓-4-甲基苯磺酸盐)(Eastman Kodak Company，Rochester，NY)，0.39g对苯二甲醛(Aldrich，Milwaukee，WI)，0.02g D11着色染料(PCAS，Longjumeau，France)，和0.2g 10％的Byk-307(Byk-Chemie，Wallingford，CT)溶解于80g的1-甲氧基-2-丙醇和3g丙酮中而制备涂布液。用上述溶液涂布用聚乙烯基磷酸(PVPA)后处理过的、电化学表面粗糙化并阳极化的铝基材，干燥涂布量约为130毫克/平方英尺。当在滚筒上于190℉适当地干燥约2分钟时，将得到的板置于CREO Trendsetter 3244x imagesetter(CreoScitex，Burnaby，British Columbia，Canada)中并以165rpm的滚筒转速和从3-14W的一系列激光功率(在40-180mJ/cm2的范围)暴露至830nm的IR激光中。能取得最大处理密度的最小曝光能量约为65mJ/cm2。在SPC Mini-HD炉(Wisconsin Oven Corp.，East Troy，WI)中，于260℉对板预热约2分钟，然后通过装有ThermalProTM显影剂(由Kodak Polychrome Graphics制造，Norwalk，CT)的UnigraphQuartz K85处理器(Glunz & Jensen，Norfolk，England)于25℃进行显影。将显影的板安装在Miehle sheet-fed印刷机上，以便利用含有1.5％碳酸钙的黑色油墨生产出约20000个良好的印刷品。
做为选择，可以通过紫外辐射使板成像。通过将板暴露至有25个单位的Olec Light Integrator(OLEC，Irvine，CA)上而完成UV曝光，并且以T-14灰度级取得了8-12的灵敏度。
实施例6
通过将13.7g 25％的可溶酚醛树酯(GP649D99可溶酚醛树酯，得自Georgia-Pacific)，16.8g 34％的N-13酚醛清漆(Eastman KodakCompany)，76.7g如上制备的1.1％的MSVBTS，0.94g Trump IR染料(上面定义的)，0.78g对苯二甲醛(Aldrich)，0.08g D11着色染料(PCAS)和0.4g 10％的Byk-307(BykChemie)溶解于60g 1-甲氧基-2-丙醇和6g丙酮中而制备涂布液。用上述溶液涂布电化学表面粗糙化并阳极化的铝基材，干燥涂布量约为130毫克/平方英尺。如实施例5所述使板进行数字成像。取得最大图象密度的最小曝光能量约为65mJ/cm2。做为选择，可以通过紫外辐射使板成像。通过将上面制备的板暴露至有25个单位的Olec Light Integrator(OLEC，Irvine，CA)上而完成UV曝光，并且以T-14灰度级取得了8-12的灵敏度。
实施例7
通过将6.8g 25％的可溶酚醛树酯(GP649D99可溶酚醛树酯，得自Georgia-Pacific，Atlanta，GA)，8.4g 34％的N-13酚醛清漆(EastmanKodak Company，Rochester，NY)，0.65g合成例1中制备的MSDS，0.47g TRUMP IR染料(上面定义的)，0.39g对苯二甲醛(Aldrich，Milwaukee，WI)，0.02g D11着色染料(PCAS，Longjumeau，France)和0.2g 10％的Byk-307(Byk-Chemie，Wallingford，CT)溶解于80g 1-甲氧基-2-丙醇和3g丙酮中而制备涂布液。用上述溶液涂布用聚乙烯基磷酸(PVPA)后处理过的、电化学表面粗糙化并阳极化的铝基材，干燥涂布量约为130毫克/平方英尺。如实施例5所述使板进行数字成像。取得最大图象密度的最小曝光能量约为65mJ/cm2。做为选择，可以通过紫外辐射使板成像。通过将板暴露至有25个单位的Olec LightIntegrator(OLEC，Irvine，CA)上而完成UV曝光，并且以T-14灰度级取得了8-12的灵敏度。
实施例8
通过将6.8g 25％的可溶酚醛树酯(GP649D99可溶酚醛树酯，得自Georgia-Pacific，Atlanta，GA)，8.4g 34％的N-13酚醛清漆(EastmanKodak Company，Rochester，NY)，0.52g合成例4中制备的MSOS，0.47gTrump IR染料(上面定义的)，0.39g对苯二甲醛(Aldrich，Milwaukee，WI)，0.02g D11着色染料(PCAS，Longjumeau，France)和0.2g 10％的Byk-307(Byk-Chemie，Wallingford，CT)溶解于80g 1-甲氧基-2-丙醇和3g丙酮中而制备涂布液。用上述溶液涂布用聚乙烯基磷酸(PVPA)后处理过的、电化学表面粗糙化并阳极化的铝基材，干燥涂布量约为130毫克/平方英尺。如实施例5所述使板进行数字成像。取得最大图象密度的最小曝光能量约为65mJ/cm2。做为选择，可以通过紫外辐射使板成像。通过将板暴露至有25个单位的Olec LightIntegrator(OLEC Corp，Irvine，CA)上而完成UV曝光，并且以T-14灰度级取得了8-12的灵敏度。
当实施例5-8利用UV成像时，所用的IR染料并不是至关重要的。
实施例9
通过将6.8g 25％的可溶酚醛树酯(GP649D99可溶酚醛树酯，得自Georgia-Pacific，Atlanta，GA)，8.4g 34％的N-13酚醛清漆(EastmanKodak Company，Rochester，NY)，0.52g上面制备的MSHDS，0.39g对苯二甲醛(Aldrich，Milwaukee，WI)，0.02g D11着色染料(PCAS，Longjumeau，France)和0.2g 10％的Byk-307(Byk-Chemie，Wallingford，CT)溶解于80g 1-甲氧基-2-丙醇和3g丙酮中而制备涂布液。用上述溶液涂布用聚乙烯基磷酸(PVPA)后处理过的、电化学表面粗糙化并阳极化的铝基材，干燥涂布量约为130毫克/平方英尺。通过将板暴露至有25个单位的Olec Light Integrator(OLEC Corp，Irvine，CA)上而完成UV曝光，并且以T-14灰度级为基准取得了8-13的灵敏度。

Claims (5)

1.一种红外辐射-敏感构图组合物，包括：(1)至少一种产酸剂；(2)至少一种通过酸可交联的交联剂；(3)至少一种具有能够与所述交联剂反应的至少一个官能团的聚合物化合物；和(4)至少一种红外吸收化合物；
所述产酸剂具有结构式(I)，(II)或(III)：
Figure C03811876C00021
结构式中的R1为己基、庚基、辛基、2-乙基己基、壬基、十二烷基、十六烷基、十八烷基；
X是O；Y是S；
结构式中的Ar1选自苯基、甲苯基、二甲苯基、异丙苯基、2，4，6-三甲苯基、十二烷基苯基、苯基苯基、萘基、蒽基、氟代苯基、溴代苯基、碘代苯基、甲氧苯基、羟苯基、苯氧基苯基、硝基苯基、氰基苯基、羧基苯基、苯胺基苯基、苯胺基羰基苯基、吗啉代苯基、苯基偶氮苯基、甲氧基萘基、羟基萘基、硝基萘基、蒽醌基和2-甲氧基-4-(苯氨基)-苯基；
结构式中的R2、R3和R4各自选自：甲基、乙基、正丙基、异丙基、烯丙基、正丁基、仲-丁基、叔-丁基、己基、环已基、苄基、苯基、甲苯基、叔丁基苯基、萘基、蒽基、2-甲氧基乙基、氯代苯基、溴代苯基、碘代苯基、甲氧苯基、羟苯基、苯基硫代苯基、羟基萘基、甲氧基萘基、苯甲酰基甲基和萘甲酰基甲基；或者，R2和R3、或R2和R4、或R3和R4彼此连接形成环；
结构式中的R5或R6选自Ar1以及R2、R3和R4所代表基团的范围，或R5和R6彼此连接形成环。
2.如权利要求1所述的红外辐射-敏感构图组合物，其中所述产酸剂的阳离子是2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯。
3.如权利要求1所述的红外辐射-敏感构图组合物，其中，所述产酸剂选自十二烷基硫酸2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯；十六烷基硫酸2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯；和辛基硫酸2-甲氧基-4-(苯氨基)-重氮苯。
4.一种红外辐射-敏感成像元件，包括一个平版印刷基材，在该平版印刷基材上具有如权利要求1-3任一项所述的红外辐射-敏感构图组合物的层。
5.一种红外辐射-敏感元件的成像方法，包括如下步骤：(1)提供如权利要求4所述的红外辐射-敏感成像元件；(2)使该红外辐射-敏感成像元件进行成像曝光；和(3)从平版印刷基材上除去所述红外辐射-敏感构图组合物层的未曝光区域。
CNB038118769A 2002-05-24 2003-05-22 选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用 Expired - Fee Related CN100474110C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/155,696 US6787281B2 (en) 2002-05-24 2002-05-24 Selected acid generating agents and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements
US10/155,696 2002-05-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1656426A CN1656426A (zh) 2005-08-17
CN100474110C true CN100474110C (zh) 2009-04-01

Family

ID=29549144

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB038118769A Expired - Fee Related CN100474110C (zh) 2002-05-24 2003-05-22 选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6787281B2 (zh)
EP (1) EP1508072A2 (zh)
JP (1) JP2005536781A (zh)
CN (1) CN100474110C (zh)
BR (1) BR0311284A (zh)
WO (1) WO2004036314A2 (zh)

Families Citing this family (70)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6824879B2 (en) 1999-06-10 2004-11-30 Honeywell International Inc. Spin-on-glass anti-reflective coatings for photolithography
KR100804873B1 (ko) 1999-06-10 2008-02-20 얼라이드시그날 인코퍼레이티드 포토리소그래피용 ｓｏｇ 반사방지 코팅
CN1606713B (zh) 2001-11-15 2011-07-06 霍尼韦尔国际公司 用于照相平版印刷术的旋涂抗反射涂料
US20040137370A1 (en) * 2003-01-09 2004-07-15 Collins Jeffrey J. Method and apparatus for processing of radiation-sensitive patterning compositions
US7045269B2 (en) 2003-03-10 2006-05-16 Eastman Kodak Company Method for forming images using negative working imageable elements
US6908726B2 (en) * 2003-04-07 2005-06-21 Kodak Polychrome Graphics Llc Thermally imageable elements imageable at several wavelengths
US8053159B2 (en) 2003-11-18 2011-11-08 Honeywell International Inc. Antireflective coatings for via fill and photolithography applications and methods of preparation thereof
US7306897B2 (en) * 2004-02-12 2007-12-11 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Preparation method of printing plate material and printing plate material
US7685738B2 (en) * 2005-02-04 2010-03-30 Printing Research, Inc. Computer to plate color sensor and drying/curing system and method
US7225560B2 (en) * 2005-02-04 2007-06-05 Printing Research, Inc. Computer to plate curing system
US7541131B2 (en) * 2005-02-18 2009-06-02 Fujifilm Corporation Resist composition, compound for use in the resist composition and pattern forming method using the resist composition
US7790814B2 (en) * 2005-04-05 2010-09-07 Delphi Technologies, Inc. Radiopaque polymers for circuit board assembly
US7279255B2 (en) * 2006-02-07 2007-10-09 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7524614B2 (en) * 2006-05-26 2009-04-28 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7226709B1 (en) 2006-06-20 2007-06-05 Eastman Kodak Company Digital mask-forming film and method of use
US7704670B2 (en) 2006-06-22 2010-04-27 Az Electronic Materials Usa Corp. High silicon-content thin film thermosets
US7300726B1 (en) 2006-10-20 2007-11-27 Eastman Kodak Company Multi-layer imageable element with improved properties
US8642246B2 (en) 2007-02-26 2014-02-04 Honeywell International Inc. Compositions, coatings and films for tri-layer patterning applications and methods of preparation thereof
KR101523393B1 (ko) 2007-02-27 2015-05-27 이엠디 퍼포먼스 머티리얼스 코프. 규소를 주성분으로 하는 반사 방지 코팅 조성물
US7862984B2 (en) 2007-03-28 2011-01-04 Eastman Kodak Company Polyonium borates and radiation-sensitive composition and imageable elements containing same
US7781143B2 (en) 2007-05-31 2010-08-24 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
US7799504B2 (en) 2007-06-05 2010-09-21 Eastman Kodak Company Mask film to form relief images and method of use
US20080311520A1 (en) * 2007-06-13 2008-12-18 Jianfei Yu On-press developable negative-working imageable elements and methods of use
EP2098367A1 (en) 2008-03-05 2009-09-09 Eastman Kodak Company Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates
US8084182B2 (en) 2008-04-29 2011-12-27 Eastman Kodak Company On-press developable elements and methods of use
US20100151385A1 (en) 2008-12-17 2010-06-17 Ray Kevin B Stack of negative-working imageable elements
US8034538B2 (en) 2009-02-13 2011-10-11 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US20100215919A1 (en) 2009-02-20 2010-08-26 Ting Tao On-press developable imageable elements
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
US8318405B2 (en) 2009-03-13 2012-11-27 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements with overcoat
US8557877B2 (en) 2009-06-10 2013-10-15 Honeywell International Inc. Anti-reflective coatings for optically transparent substrates
US8257907B2 (en) 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US8247163B2 (en) 2009-06-12 2012-08-21 Eastman Kodak Company Preparing lithographic printing plates with enhanced contrast
US8293451B2 (en) * 2009-08-18 2012-10-23 International Business Machines Corporation Near-infrared absorbing film compositions
US8383319B2 (en) 2009-08-25 2013-02-26 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and stacks
US8426104B2 (en) 2009-10-08 2013-04-23 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US20110097666A1 (en) 2009-10-27 2011-04-28 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors
US8936899B2 (en) 2012-09-04 2015-01-20 Eastman Kodak Company Positive-working lithographic printing plate precursors and use
CN102482310B (zh) 2009-10-29 2015-08-19 米兰集团 用于平版印刷版涂料组合物的棓单宁类化合物
US8329383B2 (en) 2009-11-05 2012-12-11 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US20110236832A1 (en) 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US20120090486A1 (en) 2010-10-18 2012-04-19 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors and methods of use
US8900798B2 (en) 2010-10-18 2014-12-02 Eastman Kodak Company On-press developable lithographic printing plate precursors
US20120141935A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Bernd Strehmel Developer and its use to prepare lithographic printing plates
US20120141942A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Domenico Balbinot Method of preparing lithographic printing plates
US20120141941A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Mathias Jarek Developing lithographic printing plate precursors in simple manner
US20120199028A1 (en) 2011-02-08 2012-08-09 Mathias Jarek Preparing lithographic printing plates
EP2678311A1 (en) * 2011-02-23 2014-01-01 Basf Se Sulfonium sulfates, their preparation and use
US8530142B2 (en) 2011-03-15 2013-09-10 Eastman Kodak Company Flexographic printing plate precursor, imaging assembly, and use
US8632940B2 (en) 2011-04-19 2014-01-21 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US8864898B2 (en) 2011-05-31 2014-10-21 Honeywell International Inc. Coating formulations for optical elements
US8703381B2 (en) 2011-08-31 2014-04-22 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors for on-press development
US8722308B2 (en) 2011-08-31 2014-05-13 Eastman Kodak Company Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors
US20130255515A1 (en) 2012-03-27 2013-10-03 Celin Savariar-Hauck Positive-working lithographic printing plate precursors
CN104379628B (zh) * 2012-04-19 2016-11-16 巴斯夫欧洲公司 锍化合物、其制备及其用途
US8679726B2 (en) 2012-05-29 2014-03-25 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US8889341B2 (en) 2012-08-22 2014-11-18 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors and use
US9063423B2 (en) 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
US8945813B2 (en) 2013-04-18 2015-02-03 Eastman Kodak Company Mask forming imageable material and use
US9201302B2 (en) 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor
JP6803842B2 (ja) 2015-04-13 2020-12-23 ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドＨｏｎｅｙｗｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｉｎｃ． オプトエレクトロニクス用途のためのポリシロキサン製剤及びコーティング
US20170021656A1 (en) 2015-07-24 2017-01-26 Kevin Ray Lithographic imaging and printing with negative-working photoresponsive printing members
US20170217149A1 (en) 2016-01-28 2017-08-03 Eastman Kodak Company Negatively-working lithographic printing plate precursor and method
CN106313870B (zh) 2016-08-19 2018-06-15 浙江康尔达新材料股份有限公司 一种可成像涂层、热敏阴图平版印刷版及其制版方法
CN115079517A (zh) 2017-11-30 2022-09-20 罗门哈斯电子材料有限责任公司 盐和包含其的光致抗蚀剂
CN109856911B (zh) * 2017-11-30 2023-10-27 罗门哈斯电子材料有限责任公司 盐和包含其的光致抗蚀剂
TWI733069B (zh) 2017-12-31 2021-07-11 美商羅門哈斯電子材料有限公司 單體、聚合物及包含其的微影組合物
EP3752885A1 (en) 2018-02-16 2020-12-23 Miraclon Corporation Mask element precursor and relief image - forming system
US11633948B2 (en) 2020-01-22 2023-04-25 Eastman Kodak Company Method for making lithographic printing plates
EP4101830A1 (en) 2021-06-10 2022-12-14 FEW Chemicals GmbH Novel diaryliodonium salt mixtures as low molecular weight photoinitiators with minimized crystallization behavior and elevated solubility

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4708925A (en) 1984-12-11 1987-11-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photosolubilizable compositions containing novolac phenolic resin
US5085972A (en) 1990-11-26 1992-02-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkoxyalkyl ester solubility inhibitors for phenolic resins
US5550004A (en) * 1992-05-06 1996-08-27 Ocg Microelectronic Materials, Inc. Chemically amplified radiation-sensitive composition
JPH0641215A (ja) * 1992-07-23 1994-02-15 Nippon Kayaku Co Ltd カチオン発生剤溶液
JPH06199770A (ja) * 1992-12-28 1994-07-19 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
US5314747A (en) * 1993-03-19 1994-05-24 Xerox Corporation Recording sheets containing cationic sulfur compounds
US5372915A (en) 1993-05-19 1994-12-13 Eastman Kodak Company Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer
US5814431A (en) 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
JP3613491B2 (ja) 1996-06-04 2005-01-26 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP3645362B2 (ja) 1996-07-22 2005-05-11 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JPH10171108A (ja) 1996-10-07 1998-06-26 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
US6042987A (en) 1996-10-16 2000-03-28 Fuji Photo Film Co., Ltd Negative type image recording material
US5919601A (en) 1996-11-12 1999-07-06 Kodak Polychrome Graphics, Llc Radiation-sensitive compositions and printing plates
US6077641A (en) 1997-01-17 2000-06-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Lithographic plates
JP3798504B2 (ja) 1997-04-21 2006-07-19 富士写真フイルム株式会社 ネガ型画像記録材料
JP3805519B2 (ja) 1997-08-29 2006-08-02 富士写真フイルム株式会社 画像記録材料
US6291129B1 (en) * 1997-08-29 2001-09-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Monomer, high molecular compound and photosensitive composition
BR9901906B1 (pt) 1998-09-21 2008-11-18 composiÇço para revestimento sensÍvel a radiaÇço étil para chapas de impressço litogrÁfica e similares.
US6096124A (en) * 1999-04-27 2000-08-01 Xerox Corporation Ink compositions
WO2001040167A1 (fr) * 1999-12-03 2001-06-07 Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. Procede de production de derive de sel d'onium et nouveau derive de sel d'onium
DE60133929D1 (de) 2000-12-04 2008-06-19 Ciba Holding Inc Oniumsalze und ihre verwendung als latente säuren

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
二苯胺重氮盐与十二烷基硫酸钠在水溶液中的相互作用. 杨伯暄，曹维孝.高等学校化学学报，第20卷第7期. 1999
二苯胺重氮盐与十二烷基硫酸钠在水溶液中的相互作用. 杨伯暄，曹维孝.高等学校化学学报，第20卷第7期. 1999 *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2004036314A3 (en) 2004-10-07
US20030219673A1 (en) 2003-11-27
CN1656426A (zh) 2005-08-17
JP2005536781A (ja) 2005-12-02
WO2004036314A2 (en) 2004-04-29
EP1508072A2 (en) 2005-02-23
US6787281B2 (en) 2004-09-07
BR0311284A (pt) 2007-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100474110C (zh) 选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用
US5965319A (en) Negative type image recording material
JP3810538B2 (ja) ポジ型画像形成材料
CN102673096B (zh) 热阳图型平版印刷版原版和制备平版印刷版的方法
EP0854388B1 (en) Negative-type image recording materials
CN101467101A (zh) 平版印刷版材料
JP2006520485A (ja) 放射線感受性素子の現像性促進
EP1917299A1 (en) Dual-wavelength positive-working radiation-sensitive elements
JPH10293401A (ja) ネガ型画像記録材料
US6977131B2 (en) Selected polymeric sulfonate acid generators and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements
CN1591183B (zh) 图像记录材料和平版印刷版
US6214518B1 (en) Negative type image recording material and method of plate-making using the same
JP2001281856A (ja) 赤外線感応性画像形成材料
JP4099012B2 (ja) 画像形成材料
JPH11254850A (ja) ネガ型画像記録材料
JPH0943845A (ja) ネガ型画像記録材料
JP3839541B2 (ja) 発色画像形成材料
JP2002303983A (ja) ポジ型画像形成材料
JP4408424B2 (ja) 平版印刷版原版
JPH10268517A (ja) ネガ型画像記録材料
JP3842363B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JP2002148785A (ja) 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2003162053A (ja) 感熱性平版印刷版前駆体
JP2000352817A (ja) 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP2003012643A (ja) 画像形成材料及びそれに用いるオリゴマー

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: EASTMAN KODAK CO.

Free format text: FORMER OWNER: KPG HOLDING CO.,LTD.

Effective date: 20071130

Owner name: KPG HOLDING CO.,LTD.

Free format text: FORMER OWNER: KODAK COLOURED DRAWING CO., LTD.

Effective date: 20071130

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20071130

Address after: American New York

Applicant after: Eastman Kodak Co.

Address before: American New York

Applicant before: KPG Holdings

Effective date of registration: 20071130

Address after: American New York

Applicant after: KPG Holdings

Address before: Connecticut, USA

Applicant before: Kodak Polychrome Graphics LLC

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20090401

Termination date: 20140522