CN100387757C - 一种镁及镁合金电镀方法 - Google Patents

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CN100387757C CNB2005100462355A CN200510046235A CN100387757C CN 100387757 C CN100387757 C CN 100387757C CN B2005100462355 A CNB2005100462355 A CN B2005100462355A CN 200510046235 A CN200510046235 A CN 200510046235A CN 100387757 C CN100387757 C CN 100387757C
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Abstract

一种镁及镁合金电镀方法，该方法包括去氢、化学除油、出光、中和、活化、预镀、功能镀层、装饰镀层和后处理工序，每两道工序之间均需对铸件进行水洗。预镀的电流密度为5～15A/dm2，槽电压4～12V，预镀液的pH值为1.0～1.2，室温的波美度为30～35，预镀液配方中包含：氟硼酸铜、氟硼酸、氨基丙酸、聚乙二醇和茜素染料、甲叉丁二酸与MBT的混合体、3-S异硫脲嗡盐丙烷磺酸盐、R-S-S(CH2)SO3Na、去离子水。本发明的预镀液无氰、无毒、无害；预镀层与基体结合力好，同时对续镀的功能镀层及装饰镀层结合良好；镀层耐蚀性、耐磨性好。镀层光亮，具有很好的装饰效果。

Description

一种镁及镁合金电镀方法
技术领域
本发明涉及金属的表面处理技术领域，特别涉及镁及镁合金的电镀方法。
背景技术
镁及镁合金作为一种轻质工程结构材料，其应用越来越广泛，因为镁及镁合金具有减震性好、密度小及高比强度、高比刚度等优点。但是镁及镁合金也具有耐热性差、耐蚀性差、耐磨性差及装饰性差等缺点，限制了其应用领域。目前，国内外镁及镁合金表面处理主要有以下几种：
1、化学氧化及电化学氧化法。此法处理后表面硬度低、装饰性差，耐蚀性虽有提高，但不能单独使用，只能作为涂装的底层。(参见资料[1]Kaymond F Decker.Adv Mate.pro，1998，154(3)：31[2]Palmer，H.Langdon等编.Metal Finishing Guidebook.Metal andplastics publications[3]高桥英明.最近的阳极氧化膜的制备及膜的耐蚀性能研究[J]表面技术(日)1996，46(5)：390～395)
2、化学镀法。利用碱式碳酸镍为主盐处理，周期短，镀层与基体结合不牢固；利用次磷酸镍为主盐处理，周期短，成本高，可操作性差。(参见资料[4]周荣廷.化学镀镍的原理与工艺.北京；国防工业出版社[5]姜晓霞、沈伟.化学镀镍的原理.北京；国防工业出版社[6]Mallory G O，Haidu J B.Electroless Plating Fundamentals and Applications.Sponsored and Published by AESF.Orlando Florida  [7]Wolfgang Riedel.ElectrolessNickel.Finishing.Publication Ltd.1991)
3、电镀法。现有镁及镁合金电镀工艺都为氰化镀，此种方法(Dow和N-H法)工艺操作复杂，镀液有毒、有害，前处理复杂，重现性差，并且镀层的光亮性及镀液的稳定性都有待提高。(参见资料[8]电镀工艺手册.北京：国防工业出版社2000[9][美]A.弗里德克里，主编.现代电镀.北京：机械工业出版社[10]严钦元编著.现代电镀与表面精饰添加剂.北京：科学技术文献出版社)
镁及镁合金的电镀是很困难的，其原因包括：(1)镁及镁合金化学性质活泼，氧化镁会在合金表面迅速形成，妨碍金属沉积；(2)镁及镁合金在普通的镀液中与其它金属离子置换反应强烈，造成镀层结合力松散；(3)铸件质量差，造成镀层孔隙率增大，耐蚀性降低；(4)由于镀层的标准电位远大于镁合金基体，所以镀层必须保证无孔，否则电化学腐蚀更快。
发明内容
针对镁及镁合金表面处理技术尤其是电镀法的上述问题，本发明提供一种镁及镁合金电镀方法，提高镀层的耐蚀性、耐磨性，增强预镀层与功能镀层的结合力，并使镀层有光亮装饰作用，进一步达到拓展镁及镁合金应用领域的目的。
本发明的电镀方法工艺步骤为：去氢、化学除油、热水洗、冷水洗、出光、冷水洗、中和、冷水洗、活化、冷水洗、预镀、冷水洗、功能镀层、冷水洗、装饰镀层、冷水洗、后处理。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为160～200℃，保温1～2h，进行去氢处理，防止氢脆。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500051
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合制得化学除油溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁或镁合金铸件浸泡于上述化学除油溶液中，保持溶液温度55～60℃，浸泡处理8～10分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入55～65℃的热水(去离子水)中，浸泡处理3～5分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗1～6分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得出光液，装入槽中待用。将经过步骤4冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理1～3分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于弱碱液(pH＝8～10)中在室温下浸泡处理1～3分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500053
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得活化液。将经步骤8处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度35～45℃，浸泡处理1～1.5分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，本发明的镁及镁合金预镀液的配方如下：
Figure C20051004623500061
以上配方中，氟硼酸铜为预镀液的主盐，氟硼酸作为活化剂，氨基丙酸作为缓蚀剂：聚乙二醇和茜素染料为整平剂，甲叉丁二酸与MBT的混合体为稳定剂，3-S异硫脲嗡盐丙烷磺酸盐为光亮剂，R-S-S(CH2)SO3Na为消孔剂。
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合即可得本发明的预镀液。
将配制好的预镀液装入电镀槽中，调节预镀液的pH值为1.0～1.2，调节预镀液室温下的波美度为30～35，控制槽电压4～12V、电流密度5～15A/dm2，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，进行预镀处理。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀。可以是镀锌、镀镍、镀铜，与现有黑色金属电镀处理方法相同。
(1)镀锌。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500062
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为20～48℃，阴极电流密度0.5～6A/dm2。
(2)镀中性镍。首先配制电镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为59～62℃，阴极电流密度3～4A/dm2，pH为4～6。
(3)镀光亮镍。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500072
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为25～35℃，电流密度0.5～1A/dm2，pH为4～4.8。
(4)镀铜。首先配制电镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为22～55℃，电流密度1～6A/dm2。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、装饰镀。
(1)镀铬。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500074
Figure C20051004623500081
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为50～65℃，电流密度25～35A/dm2。
(2)仿金镀。首先配制电镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别溶于去离子水中，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为25～36℃，电流密度0.4～1.2A/dm2，pH为8～9。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本发明的镀液无氰、无毒、无害，可操作性强，本领域的普通技术人员容易实现。预镀液重现性好，寿命可达8个月。预镀层与基体结合力好，热震95～273小时，表面无明显变化。同时，对续镀的功能镀层及装饰镀层结合良好，热震78～273小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率小于或等于0.253mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率小于或等于3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，颜色多样，具有很好的装饰效果。本发明拓展了镁及镁合金的应用领域，经本发明方法处理的镁及镁合金，除了可用于航空航天领域外，还可用于电子、通讯、汽车、建筑等行业。
具体实施方式
实施例1
取100×100×5mm的镁合金铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为180℃，保温1.5h，进行去氢处理，防止氢脆。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500083
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁合金铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度57℃，浸泡处理9分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入60℃的热水(去离子水)中，浸泡处理4分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗3分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500091
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理2分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于碱液(pH＝10)中在室温下浸泡处理2分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500092
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度40℃，浸泡处理1.2分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
Figure C20051004623500093
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.0，调节预镀液的波美度(室温)为32，控制槽电压8V、电流密度10A/dm2，进行预镀处理。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀锌。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500102
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为35℃，阴极电流密度2.0A/dm2。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，镀层与基体结合力好，热震95小时，表面无明显变化。同时，对续镀的镀锌层结合良好，热震78小时，镀层无变化。镀层腐蚀速率为：0.253mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，具有很好装饰效果。
实施例2
取100×100×5mm的镁合金铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为200℃，保温2h，进行去氢处理。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500103
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁合金铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度55℃，浸泡处理8分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入65℃的热水(去离子水)中，浸泡处理3分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗4分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500111
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理3分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于弱碱液(pH＝9)中在室温下浸泡处理3分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500112
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度38℃，浸泡处理1.5分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
Figure C20051004623500113
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.2，调节预镀液的波美度(室温)为35，控制槽电压6V、电流密度8A/dm2，进行预镀处理。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀光亮镍。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500121
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为30℃，电流密度0.6A/dm2，pH为4。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、装饰镀——镀铬。首先配制电镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为55℃，电流密度30A/dm2。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，镀层与基体结合力好，热震95小时，表面无明显变化。同时，对续镀的光亮镍镀层及铬镀层结合良好，热震85小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率为：0.252mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，具有很好装饰效果。
实施例3
取100×100×5mm的镁合金铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为180℃，保温2h，进行去氢处理。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500123
Figure C20051004623500131
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁合金铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度56℃，浸泡处理8分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入65℃的热水(去离子水)中，浸泡处理5分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗4.5分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500132
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理2.5分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于碱液(pH＝8)中在室温下浸泡处理3分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500133
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度39℃，浸泡处理1.5分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
Figure C20051004623500141
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.2，调节预镀液的波美度(室温)为35，控制槽电压11V、电流密度9A/dm2。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀中性镍。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500142
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为62℃，阴极电流密度4A/dm2，pH为5。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、镀光亮镍。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500143
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为30℃，电流密度0.6A/dm2，pH为4.5。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，镀层与基体结合力好，热震98小时，表面无明显变化。同时，对续镀的中性镍镀层及光亮镍镀层结合良好，热震80小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率为：0.252mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，颜色多样，具有很好装饰效果。
实施例4
取100×100×5mm的镁铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为200℃，保温1.5h，进行去氢处理。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500151
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度58℃，浸泡处理8.5分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入62℃的热水(去离子水)中，浸泡处理5分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗4分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500152
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理2分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于碱液(pH＝9)中在室温下浸泡处理2.5分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500153
Figure C20051004623500161
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度39℃，浸泡处理1.5分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
Figure C20051004623500162
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.1，调节预镀液的波美度(室温)为35，控制槽电压8V、电流密度10A/dm2。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀中性镍。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500163
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为60℃，阴极电流密度3.5A/dm2，pH为4。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、装饰镀——仿金镀。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500164
Figure C20051004623500171
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为28℃，电流密度0.8A/dm2，pH为9。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，镀层与基体结合力好，热震95小时，表面无明显变化。同时，对续镀的中性镍镀层及仿金镀层结合良好，热震80小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率为：0.253mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，具有很好装饰效果。
实施例5
取100×100×5mm的镁合金铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为200℃，保温2h，进行去氢处理。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500172
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁合金铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度56℃，浸泡处理8.5分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入62℃的热水(去离子水)中，浸泡处理5分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗3分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500173
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理3分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于碱液(pH＝9.5)中在室温下浸泡处理2分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500181
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度39℃，浸泡处理1.5分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
Figure C20051004623500182
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.2，调节预镀液的波美度(室温)为30，控制槽电压9V、电流密度13A/dm2。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀锌。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500183
Figure C20051004623500191
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为45℃，阴极电流密度2.8A/dm2。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、镀光亮镍。首先配制电镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为35℃，电流密度0.8A/dm2，pH为4。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，预镀液重现性好，寿命高达7.5月；镀层与基体结合力好，热震95小时，表面无明显变化。同时，对续镀的镀锌层及光亮镍镀层结合良好，热震80小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率为：0.253mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，具有很好装饰效果。
实施例6
取100×100×5mm的镁合金铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为200℃，保温2h，进行去氢处理。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500193
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁合金铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度60℃，浸泡处理10分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入56℃的热水(去离子水)中，浸泡处理5分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗4分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500201
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理1.5分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于碱液(pH＝10)中在室温下浸泡处理1.5分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500202
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度42℃，浸泡处理1.5分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
Figure C20051004623500203
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.2，调节预镀液的波美度(室温)为30，控制槽电压5V、电流密度8A/dm2。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀厚铜。首先配制电镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为50℃，电流密度5A/dm2。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、装饰镀——仿金镀。首先配制电镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为33℃，电流密度0.9A/dm2，pH为9。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，预镀液重现性好，寿命高达8个月；镀层与基体结合力好，热震100小时，表面无明显变化。同时，对续镀的厚铜镀层及仿金镀层结合良好，热震78小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率为：0.253mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，装饰效果好。
实施例7
取100×100×5mm的镁铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为200℃，保温2h，进行去氢处理。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500213
Figure C20051004623500221
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度60℃，浸泡处理10分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入55℃的热水(去离子水)中，浸泡处理5分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗6分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500222
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理2分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于弱碱液(pH＝10)中在室温下浸泡处理3分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500223
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度35℃，浸泡处理1.5分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
Figure C20051004623500224
Figure C20051004623500231
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.2，调节预镀液的波美度(室温)为30，控制槽电压5V、电流密度5A/dm2，进行预镀处理。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀光亮镍。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500232
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为25℃，电流密度0.5A/dm2，pH为4。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、装饰镀——仿金镀。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500233
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为25℃，电流密度0.4A/dm2，pH为8。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，镀层与基体结合力好，热震95小时，表面无明显变化。同时，对续镀的光亮镍镀层及仿金镀层结合良好，热震90小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率为：0.253mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，具有很好装饰效果。
实施例8
取100×100×5mm的镁铸件。
1、去氢。将铸件放入电阻炉中，控制温度为160℃，保温2h，进行去氢处理。
2、化学除油。首先配制化学除油溶液——化学除油溶液，配方如下：
Figure C20051004623500241
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别溶于去离子水中，混合制得水溶液，装入槽中待用。
将待处理的镁铸件浸泡于上述水溶液中，保持溶液温度58℃，浸泡处理8分钟。
3、热水洗。将上述经化学除油的铸件浸入65℃的热水(去离子水)中，浸泡处理3分钟。
4、冷水洗。将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗1分钟。
5、出光。首先配制出光液，配方如下：
Figure C20051004623500242
将上述去离子水以外的组分按配方比例分别以去离子水溶解，混合得出光液，装入槽中待用。将上述经冷水冲洗的铸件浸入出光液中，在室温下浸泡处理1分钟。
6、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
7、中和。将铸件置于弱碱液(pH＝8)中在室温下浸泡处理2分钟，中和表面残余的酸。
8、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
9、活化。首先配制活化液，配方如下：
Figure C20051004623500243
Figure C20051004623500251
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得活化液。将上述步骤处理的铸件置于活化液中，保持活化液的温度45℃，浸泡处理1分钟。
10、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
11、预镀。首先配制预镀液，配方如下：
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得预镀液。将配制好的预镀液装入电镀槽中，将经过步骤10处理的铸件浸入预镀液中，调节预镀液的pH值为1.0，调节预镀液的波美度(室温)为35，控制槽电压12V、电流密度15A/dm2，进行预镀处理。
12、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
13、功能镀——镀锌。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500253
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为25℃，电流密度0.5A/dm2，pH为4。
14、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
15、装饰镀——仿金镀。首先配制电镀液，配方如下：
Figure C20051004623500261
将去离子水以外的组分分别用去离子水溶解，混合得电镀液。电镀过程中控制温度为36℃，电流密度1.2A/dm2，pH为8。
16、冷水洗。工艺条件及操作方法同步骤4。
17、后处理。包括钝化处理、光亮封孔处理，与现有黑色金属处理方法相同。
本实施例中，镀层与基体结合力好，热震95小时，表面无明显变化。同时，对续镀的镀锌层及仿金镀层结合良好，热震90小时，镀层无变化。镀层的耐蚀性可与不锈钢相媲美，其腐蚀速率为：0.253mm/a。镀层的耐磨性高，其磨损率为3TWL/mg.1000r-1。镀层光亮，具有很好装饰效果。

Claims (10)

1.一种镁及镁合金电镀方法，其特征是包括以下步骤：
(1)去氢步骤，将铸件放入电阻炉中，控制炉温160～200℃，保温1～2小时，进行去氢处理；
(2)化学除油步骤，配制除油溶液，将铸件浸泡除油溶液中，保持溶液温度55～60℃，浸泡时间为8～10分钟；
(3)热水洗步骤，将上述经化学除油的铸件浸入55～65℃的热水中，浸泡处理3～5分钟；
(4)、冷水洗步骤，将上述经热水洗的铸件在室温下，以流动的去离子水清洗1～6分钟；
(5)、出光步骤，配制出光液，将经步骤(4)处理后的铸件浸入在出光液中，室温下处理1～3分钟；
(6)、冷水洗步骤，工艺条件及操作方法同步骤(4)；
(7)、中和步骤，将铸件置于pH＝8～10弱碱液中，浸泡1～3分钟；
(8)、冷水洗步骤，工艺条件及操作方法同步骤(4)；
(9)、活化步骤，配制活化液，将经步骤(8)处理后的铸件置于活化液中，保持活化液温度35～45℃，浸泡时间为1～15分钟；
(10)、冷水洗步骤，工艺条件及操作方法同步骤(4)；
(11)、预镀步骤，配制预镀液，调节pH值为1.0～1.2，调节预镀液室温下的波美度为30～35，控制槽电压4～12V、电流密度5～15A/dm2，将经过步骤(10)处理的铸件浸入预镀液中，进行预镀处理；
(12)冷水洗步骤，工艺条件及操作方法同步骤(4)。
(13)功能镀步骤，配制镀锌电镀液镀锌，阴极电流密度为0.5～6A/dm2，镀液温度为20～48℃，或配制镀中性镍镀液镀镍，阴极电流密度3～4A/dm2，pH为4～6，镀液温度为59～62℃，或配制镀光亮镍镀液镀镍，电流密度0.5～1A/dm2，pH为4～4.8，镀液温度为25～35℃，或配制镀铜镀液镀铜，电流密度1～6A/dm2，镀液温度为22～55℃；
(14)冷水洗步骤，工艺条件及操作方法同步骤(4)；
(15)装饰镀步骤，配制镀铬镀液镀铬，阴极电流密度25～35A/dm2，镀液温度为50～65℃，或配制仿金镀液镀仿金层，阴极电流密度0.4～1.2A/dm2，pH为8～9，镀液温度为25～36℃；
(16)冷水洗步骤，工艺条件及操作方法同步骤(4)；
(17)后处理步骤。
2.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的除油溶液，每升中含有16g～23g的焦磷酸钠，13g～16g的磷酸钠，6g～8g的三聚磷酸钠，1g～3g的乳化剂聚醚2070，余量为去离子水；所说的出光液，每升中含有80ml～90ml的磷酸，35ml～40ml的醋酸，10ml～12ml的铬酐，2ml～5ml的缓蚀剂，余量为去离子水。
3.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的活化液，每升中含有27g～35g的氟硼酸盐，18ml～23ml的富马酸，3g～4g的氟化物，余量为去离子水。
4.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的预镀液，每升中含有96g～104g的氟硼酸铜，17g～24g的氟硼酸，3.5g～5.5g的氨基丙酸，2g～4g的聚乙二醇，0.1g～0.4g的茜素染料，13ml～18ml的甲叉丁二酸与MBT的混合体，0.01g～0.03g的3-S异硫脲嗡盐丙烷磺酸盐，0.012g～0.016g的R-S-S(CH2)SO3Na，余量为去离子水。
5.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的镀锌电镀液，每升中含有45g～58g的氧化锌，125g～158g的氯化钾，35g～50g的硼酸，0.45g～0.58g的乙醇胺，0.5g～0.8g的茴香醛，0.9g～1.0g的三乙醇胺，余量为去离子水。
6.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的镀中性镍镀液，每升中含有150g～189g的氯化镍，30g～50g的醋酸铵，0.1g～0.45g的糖精酸，0.05g～0.1g的聚乙二醇，余量为去离子水。
7.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的镀光亮镍镀液，每升中含有180g～220g的硫酸镍，30g～43g的硼酸，10g～16g的氯化钠，20g～34g的硫酸镁，0.12g～0.34g的氯化镉，0.1g～0.15g的苯酚，余量为去离子水。
8.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的镀铜镀液，每升中含有120g～180g的硫酸铜，40g～76g的硫酸，28g～56g的葡萄糖，余量为去离子水。
9.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的镀铬镀液，每升中含有126g～168g的铬酐，1g～2g的硫酸，2g～7g的硫酸锶，0.5g～0.9g的柠檬酸钠，余量为去离子水。
10.根据权利要求1所述的一种镁及镁合金电镀方法，其特征在于所说的仿金镀液，每升中含有10g～20g的焦磷酸铜，3g～6g的硫酸锌，25g～36g的氯化亚锡，167g～220g焦磷酸钾，28g～37g的氨三乙酸，8g～9g的柠檬酸钠，3g～7g的氢氧化钾，余量为去离子水。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106521589A (zh) * 2016-11-22 2017-03-22 南昌大学 一种高通量制备镁合金块体样品的方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101435097B (zh) * 2007-11-13 2010-12-15 沈阳工业大学 一种镁合金表面上无氰电镀金属层的方法
CN101435098B (zh) * 2007-11-13 2011-03-02 沈阳工业大学 一种镁合金表面上无氰电镀镍层的方法
CN101660183B (zh) * 2008-08-27 2012-03-28 比亚迪股份有限公司 一种镁合金电镀方法
CN101696500B (zh) * 2009-10-26 2011-08-24 宁波表面工程研究中心 一种镁合金材料表面的防腐处理方法
CN101736348B (zh) * 2009-12-28 2013-01-09 江苏麟龙新材料股份有限公司 一种对耐海洋气候的工程零件进行表面活化处理的方法
CN103898585A (zh) * 2013-06-03 2014-07-02 无锡市锡山区鹅湖镇荡口青荡金属制品厂 一种镁合金压铸件表面电镀铬工艺
CN103898560B (zh) * 2013-06-03 2016-12-28 顾玉奎 一种在镁合金压铸件表面镀铬的电镀工艺
CN104152955A (zh) * 2014-07-17 2014-11-19 广东致卓精密金属科技有限公司 碱性溶液电镀光亮白铜锡电镀液及工艺
CN105543907A (zh) * 2015-12-09 2016-05-04 深圳市正天伟科技有限公司 一种耐高电流密度电镀铜添加剂及其制备方法
CN107587173A (zh) * 2017-10-17 2018-01-16 广东羚光新材料股份有限公司 一种镍电镀液及其应用
CN110592627B (zh) * 2019-10-31 2021-04-06 四川轻化工大学 一种无氰仿金电镀液及其镁合金电镀工艺

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1477229A (zh) * 2003-07-10 2004-02-25 上海交通大学 浸锌层阳极氧化法彩化工艺及其处理溶液配方

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1477229A (zh) * 2003-07-10 2004-02-25 上海交通大学 浸锌层阳极氧化法彩化工艺及其处理溶液配方

Non-Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
镁及镁合金电镀与化学镀. 郭洪飞，安茂忠.电镀与环保，第24卷第2期. 2004
镁及镁合金电镀与化学镀. 郭洪飞，安茂忠.电镀与环保，第24卷第2期. 2004 *
镁及镁合金表面电镀镍工艺的研究. 王赫莹，李德高.表面技术，第33卷第5期. 2004
镁及镁合金表面电镀镍工艺的研究. 王赫莹，李德高.表面技术，第33卷第5期. 2004 *
镁及镁合金表面镀锌工艺. 韩夏云，郭忠诚，龙晋明，薛方勤，徐瑞东.材料保护，第35卷第1期. 2002
镁及镁合金表面镀锌工艺. 韩夏云，郭忠诚，龙晋明，薛方勤，徐瑞东.材料保护，第35卷第1期. 2002 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106521589A (zh) * 2016-11-22 2017-03-22 南昌大学 一种高通量制备镁合金块体样品的方法

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Granted publication date: 20080514