CH346527A - Verfahren und Kondensationskammer zum Kondensieren von direkt in den festen Zustand übergehenden Metallchloriden - Google Patents
Verfahren und Kondensationskammer zum Kondensieren von direkt in den festen Zustand übergehenden MetallchloridenInfo
- Publication number
- CH346527A CH346527A CH346527DA CH346527A CH 346527 A CH346527 A CH 346527A CH 346527D A CH346527D A CH 346527DA CH 346527 A CH346527 A CH 346527A
- Authority
- CH
- Switzerland
- Prior art keywords
- condensation
- condensation chamber
- vapors
- chloride
- dependent
- Prior art date
Links
- 238000009833 condensation Methods 0.000 title claims description 48
- 230000005494 condensation Effects 0.000 title claims description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 13
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 13
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 claims description 12
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 9
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 8
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 7
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims 1
- 206010039509 Scab Diseases 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- -1 Fell8 Chemical class 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019804 NbCl5 Inorganic materials 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000589614 Pseudomonas stutzeri Species 0.000 description 1
- 229910004537 TaCl5 Inorganic materials 0.000 description 1
- XITGHTRVSNMXOD-UHFFFAOYSA-N [Nb].ClOCl Chemical compound [Nb].ClOCl XITGHTRVSNMXOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I pentachloroniobium Chemical compound Cl[Nb](Cl)(Cl)(Cl)Cl YHBDIEWMOMLKOO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007790 scraping Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I tantalum(v) chloride Chemical compound Cl[Ta](Cl)(Cl)(Cl)Cl OEIMLTQPLAGXMX-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B34/00—Obtaining refractory metals
- C22B34/20—Obtaining niobium, tantalum or vanadium
- C22B34/24—Obtaining niobium or tantalum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D7/00—Sublimation
- B01D7/02—Crystallisation directly from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G35/00—Compounds of tantalum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
Verfahren und Kondensationskammer zum Kondensieren von direkt in den festen Zustand übergehenden Metallchloriden
Die Kondensation von direkt in den festen Zustand übergehenden Chloriden wie Fell8, All3, TaCl5 und NbCI5 bietet insofern verfahrenstechnisch einige Schwierigkeiten, als vermieden werden muss, dass sich die Chloride an den Wänden des Kondensationsraumes krustenförmig absetzen. Als ganz besonders schwierig erweist sich die Kondensation der Oxychloride von Niob und Tantal.
Diese Verbindungen, die bekanntlich beim Chlorieren von Erz-Kohle Gemischen mit Chlorgas bei 600 bis 1000 in beträchtlicher Menge neben den entsprechenden Pentachloriden entstehen, zeigen nur schlechte Kristallisationstendenz und eine ausgesprochene Neigung zur Bildung sehr harter Beläge an Flächen, deren Temperatur niedriger ist als die Dampftemperatur der Chlorierungsprodukte. Durch eine Krustenbildung wird nicht nur die Austragung des Produktes kompliziert, sondern auch die Abführung der Kondensationswärme der Festchloride erschwert. Die Krustenbildung kann sogar zur Verstopfung der Apparatur und somit oft zu unerwünschten Unterbrüchen bei der kontinuierlichen Herstellung von Chlorierungsprodukten aus niob- und tantalhaltigen Erzen führen.
Zur Verhinderung der Krustenbildung sind verschiedene Mittel vorgeschlagen worden, z. B. mechanische Vibration der Wandungen der Kondensationskammer durch Hämmern, Klopfen, Vibrieren mit Hilfe eines Vibrators. Zur Ablösung gebildeter Krusten wurden ferner mechanische Schabvorrichtungen in den Kondensator eingebaut. Alle diese Massnahmen bringen konstruktive Komplikationen mit sich, indem mechanisch bewegte Teile verwendet werden.
Es wurde nun gefunden, dass das Problem in grundlegender Art gelöst werden kann, wenn man dafür sorgt, dass während der Kondensation der Metallchloride die Tendenz zur Krustenbildung dadurch auf einem Mindestwert gehalten wird, dass die Dämpfe unter mindestens teilweiser Vermeidung einer Berührung der Wände des Kondensationsraumes zum festen Zustand abgekühlt werden. Zweckmässig wird die Kondensation so durchgeführt, dass mindestens die Hauptmenge der Chlorierungsdämpfe durch Wärmeabstrahlung und Wärmeabfuhr durch Konvektion im freien Raum, d. h. nicht im Kontakt mit den Wänden der Kondensationszone, fest wird.
Zu diesem Zweck kann man z. B. die heissen, d. h. die auf einer Temperatur oberhalb des Kondensationspunktes befindlichen, mit inerten Gasen wie Kohlenmonoxyd, Kohlendioxyd, Phosgen oder Stickstoff gegebenenfalls vermischten Chloriddämpfe durch eine heizbare, oberhalb des Kondensationspunktes der Dämpfe gehaltenen Zuleitung bis ins Innere einer gekühlten Kondensationszone führen, deren Dimensionen und Gestalt so gewählt sind, dass die heissen Chloriddämpfe zum festen Zustand kondensieren, bevor sie die Wände des Kondensationsraumes erreicht haben. Infolgedessen wird die Kondensationskammer um so grösser sein, je grösser die Geschwindigkeit und je höher die Temperatur der eintretenden Dämpfe ist. Zweckmässig verwendet man eine vertikale Kondensationskammer, z. B. einen zylinderförmigen Kondensator, in den die Chlonddämpfe von oben eingeleitet werden.
Die beiliegende Zeichnung zeigt z. B. einen Schnitt durch einen für die Durchführung des vorliegenden Verfahrens verwendbaren Kondensationsraum. Die auf einer Temperatur oberhalb des Kondensationspunktes befindlichen, mit inerten Gasen wie CO, CO2, N2 vermischten Chloriddämpfe B treten durch die bis zur Mündung M auf die Temperatur T1 geheizte, unterhalb des Deckels D vorsprin gende Zuleitung Z in den Kondensationsraum ein.
Die Wandungen A des Kondensationsraumes werden durch Kühlung bei K mit Luft oder eventuell einem flüssigen Wärmeübertragungsmittel auf einer konstanten Temperatur T2 gehalten. Durch entsprechende Wahl des Kondensatordurchmessers sowie der Temperaturen T, und T2 gelingt es, bei gegebener Dampfzusammensetzung und -geschwindigkeit, die Gesamtmenge der Festehloride im freien Raum zur Kristallisation zu bringen und damit eine Kondensation an den Wandungen zu verhindern. Entsprechend kann man in einer solchen Apparatur von gegebenen Dimensionen durch Regulierung der Eintrittsgeschwindigkeit der Chloriddämpfe ebenfalls eine Kondensation an den Wandungen der Kondensationskammer verhindern.
Die Kondensation der dampfförmigen Chlorierungsprodukte im freien Raum der Kondensationszone kann ebenfalls dadurch erreicht werden, dass zwischen den Wandungen A der Kondensationskammer und den eintretenden Dämpfen ein inertes Gas eingeschaltet wird. Zu diesem Zwecke können z. B.
Stickstoff, CO2 oder die von Chlorierungsprodukten befreiten Reaktionsgase verwendet werden, welche nach Abscheidung der festen Chloride F von der Austrittsöffnung C der Abgase zurückgeleitet werden.
Das inerte, kalte Gas kann den Wandungen entlang, oder um die Chloriddämpfe herum, z. B. durch Verwendung einer konzentrisch um die Dampfzuführung angeordneten und parallel gerichteten Leitung, dem Kondensationsraum zugeführt werden.
Durch passende Wahl der Temperatur und der Menge des inerten Gases kann eine beträchtliche Menge der Kondensationswärme weggeführt werden, so dass die Chlorierungsprodukte, welche die Wandungen erst durch einen kalten Gasmantel erreichen können, meist im freien Raum bzw. im Trenngas fest ausfallen.
Zum gleichen Zweck kann man auch zwischen den Wandungen des - Kondensationsraumes und den eintretenden warmen Chlorierungsgasen anstelle eines inerten Trenngases flüssige, mit den Metallchloriden nicht reagierende Verbindungen, insbesondere flüssige Chloride, z. B. Siliciumtetrachlorid, Titantetrachlorid oder Tetrachlorkohlenstoff, vorzugsweise in fein verteilter Form und in solchen Mengen zugeben, dass alle flüssig zugesetzten Chloride verdampfen und in der Dampfphase bleiben, während die festen Chloride ausgeschieden werden.
Die Kondensationskammer kann aus Nickel, Stahl, vernickeltem oder emailliertem Stahl hergestellt sein. Falls die Wandungen der Kammer unterhalb etwa 100" C gehalten werden, kommt auch Aluminium als Konstruktionsmaterial der Kondensationskammer in Betracht.
Nach dem vorliegenden Verfahren können in der erfindungsgemässen Apparatur die verschiedensten, direkt in den festen Zustand übergehenden Metallchloride unter weitgehender Vermeidung einer Krustenbildung kondensiert werden. Als Ausgangsstoffe kommen insbesondere die durch Chlorieren von Niob und/oder Tantal enthaltenden Erzen erhältlichen Chloride, vor allem solche Chloridgemische in Betracht, die neben Pentachloriden noch Tantal- und vorzugsweise Nioboxychlorid enthalten. Zu solchen Gemischen gelangt man nach an sich bekannten Methoden, z.
B. durch Chlorierung eines Gemisches der Oxyde des Niobs und des Tantals mit Chlorgas und einem Reduktionsmittel, wie Kohle, bei 400 bis 1000" in einem Schacht- oder Rohrofen; hierbei können die üblicherweise in der Technik vorliegenden Gemische mit einem Gehalt an Oxyden des Niobs und des Tantals oder auch die Naturprodukte benützt werden, die die beiden Elemente meist in Form ihrer Oxyde enthalten, wie z. B. die zwecks Anreicherung gegebenenfalls nachbehandelten Erze, z. B.
Niobit, Tantalit, Pyrochlor usw.
Tm nachfolgenden Beispiel bedeuten die Teile, sofern nichts anderes angegeben wird, Gewichtsteile, die Prozente Gewichtsprozente; die Temperaturen sind in Celsiusgraden angegeben.
Beispiel
Unter Verwendung eines auf 700O vorgewärmten Ofens mit einem Innendurchmesser von 60 mm wurden Briketts aus 80 Teilen Columbiterz und 20 Teilen Russ in einem kontinuierlichen Chlorstrom von 1 Liter pro Minute chloriert. Die Temperatur im Chlorierungsofen wurde während der Umsetzung auf etwa 7500 gehalten, und die warmen Chlorierungsprodukte wurden mit einer Geschwindigkeit von 10 bis 15 cm pro Sekunde durch eine elektrisch auf 450" gehaltene Zuleitung mit einem Durchmesser von 15 mm von oben in einen zylinderförmigen, vertikalen Kondensationsraum mit einem innern Durchmesser von 120 mm und einer Höhe von 250 mm eingeleitet. Die Mündung der durch Widerstandsheizung (auf der Zeichnung mit E bezeichnet) auf 4500 gehaltenen Zuleitung befand sich 50 mm unterhalb des den Kondensationsraum abschliessenden Deckels.
Die Wände des Kondensationsraumes wurden von aussen durch einen Luftstrom auf Zimmertemperatur gehalten.
Das anfallende, kristallisierte Produkt war von feinpulveriger Beschaffenheit, locker und frei flie ssend. Eine Krustenbildung an den Wandungen trat nicht auf. Geringe Staubniederschläge rutschten von den Wandungen ab, sobald sie eine nennenswerte Masse erreicht hatten.
Es ist einleuchtend, dass die oben beschriebene Apparatur auf beliebige Grössenordnungen übertragen und damit in industriellem Massstab angewandt werden kann. Für den angestrebten Effekt entscheidend ist einzig, dass die Dampfgeschwindigkeit, der Abstand zwischen der Einmündung der warmen Chloriddämpfe und der am nächsten kommenden Wand, die Temperatur der Dämpfe und diejenige der Wandungen des Kondensationsraumes ins richtige, z. B. in das weiter oben angegebene Verhältnis gesetzt werden.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH 1 Verfahren zum Kondensieren von direkt in den festen Zustand übergehenden Metallchloriden mit höchstens geringer Krustenbildung, dadurch gekennzeichnet, dass man die Chloriddämpfe unter mindestens teilweiser Vermeidung einer Berührung der Wandungen des Kondensationsraumes zum festen Zustand abkühlt.UNTERANSPRÜCHE 1. Verfahren gemäss Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass man die Kondensation so durchführt, dass mindestens die Hauptmenge der Chloriddämpfe durch Wärmeabstrahlung sowie Wärmeabfuhr durch Konvektion im freien Raum der Kondensationszone fest wird.2. Verfahren gemäss Patentanspruch I und Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass man als Ausgangsstoffe Chlorierungsprodukte von Niob und/ oder Tantal enthaltenden Materialien, insbesondere Chlorierungsprodukte von Niob- und Tantalerzen, verwendet.3. Verfahren gemäss Patentanspruch I, dadurch gekennzeichnet, dass man die Chloriddämpfe in die gekühlte Kondensationskammer durch eine geheizte, oberhalb der Erstarrungstemperatur der Metallchloride gehaltene, im Innern der Kondensationskammer vorspringende Zuleitung einleitet und die Dimensionen bzw. die Temperatur der Kondensationskammer so wählt, dass die Chloride im freien Raum fest werden.4. Verfahren gemäss Unteranspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen den Wandungen der Kondensationskammer und den eintretenden Dämpfen ein kühles Inertgas separat eingeleitet wird.5. Verfahren gemäss Unteranspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass als inertes Gas gekühltes, chloridfreies Abgas verwendet wird.6. Verfahren gemäss Unteranspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass als inertes Gas Kohlendioxydgas verwendet wird.PATENTANSPRUCH II Kondensationskammer zur Durchführung des Verfahrens gemäss Patentanspruch I, gekennzeichnet durch eine heizbare, in das Innere der Kondensationskammer vorspringende Zuleitung für die Chloriddämpfe.UNTERANSPRUCH 7. Kondensationskammer gemäss Patentanspruch II, dadurch gekennzeichnet, dass die heizbare, die warmen Chloriddämpfe zuführende Leitung bis zu einem Viertel der Höhe des Kondensationsraumes in diesen vorspringt.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH346527T | 1956-06-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CH346527A true CH346527A (de) | 1960-05-31 |
Family
ID=4507653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CH346527D CH346527A (de) | 1956-06-15 | 1956-06-15 | Verfahren und Kondensationskammer zum Kondensieren von direkt in den festen Zustand übergehenden Metallchloriden |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH346527A (de) |
| DE (1) | DE1063117B (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7507594A (nl) * | 1975-06-26 | 1976-12-28 | Ultra Centrifuge Nederland Nv | Inrichting voor het afscheiden van een sublimatie- product uit een gas. |
| AU7126496A (en) * | 1995-10-04 | 1997-04-28 | Fls Automation A/S | Method and device for preventing formation of deposits in pipe systems |
| CN112996932B (zh) * | 2018-07-11 | 2022-06-21 | 乌斯季卡面诺戈尔斯克钛和镁种植股份有限公司 | 一种对氯化盐熔体中的含钛原料进行氯化的装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1644518A (en) * | 1920-03-22 | 1927-10-04 | Nat Aniline & Chem Co Inc | Sublimation apparatus |
| DE576279C (de) * | 1929-09-28 | 1933-05-09 | Agnes Lindner Dr | Verfahren zur Gewinnung von Metallchlorverbindungen aus durch chlorierende Roestung gewonnenen Gasen |
-
1956
- 1956-06-15 CH CH346527D patent/CH346527A/de unknown
-
1957
- 1957-05-25 DE DEC14897A patent/DE1063117B/de active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE1063117B (de) | 1959-08-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2915023C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Metallnitridpulver | |
| DE69521432T2 (de) | Verfahren zur herstellung von metallen und anderen elementen | |
| DE2843379A1 (de) | Verfahren zum gewinnen von festem cyanurchlorid (a) | |
| GB1594704A (en) | Process for selectively recovering metal chlorides from gaseous effluent | |
| DE1442999B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem amorphem Siliciumdioxid | |
| DE1467357B2 (de) | Verfahren zur abscheidung von eisen (ii)-chlorid aus chlorierungsgasen von der chlorierung eisen- und titanhaltiger mineralien | |
| CH346527A (de) | Verfahren und Kondensationskammer zum Kondensieren von direkt in den festen Zustand übergehenden Metallchloriden | |
| EP0219764B1 (de) | Verbessertes Siliciumnitrid und Verfahren zu dessen Herstellung | |
| DE2401770B2 (de) | Verfahren zur abscheidung von phthalsaeureanhydrid aus gasfoermigen reaktionsabstroemen | |
| DE3874163T2 (de) | Verfahren zum kondensieren von aluminiumchlorid. | |
| DE1592960C3 (de) | Verfahren zur Inhibierung der Bildung von Ablagerungen von Metalloxiden bei der Dampfphasenoxidation zur Herstellung von Metalloxidpigmenten | |
| DE2804741C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von hochreinem Aluminiumchlorid | |
| DE4037449A1 (de) | Verfahren zur herstellung von kugelfoermigem amorphem siliciumnitrid | |
| DE1668541A1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Tetrafluorkohlenstoff | |
| US1018406A (en) | Manufacture of ammonium carbonate. | |
| AT214927B (de) | Verfahren zur Herstellung von Cyanursäure | |
| DE1467327C (de) | Verfahren zur Herstellung von wasserfreiem Chrom-(III)-chlorid | |
| DE3623493A1 (de) | Verfahren zur herstellung von siliciumhexachlorid | |
| DE2221021A1 (de) | Verfahren zur herstellung von aluminiumtrichlorid | |
| AT340365B (de) | Verfahren zur erzeugung von magnesiumoxyd bzw. -oxydhydrat | |
| DE2410534A1 (de) | Verfahren zur herstellung von fluorwasserstoff | |
| DE817146C (de) | Verfahren zur Chlorierung von Metalloxyden und -Carbonaten | |
| DE530892C (de) | Herstellung von reinem, wasserfreiem Aluminiumchlorid | |
| DE2032545A1 (en) | Metal chloride(s) prodn - by chlorination of finely dispersed metal(s) suspended in inert gas | |
| DE1442999C (de) | Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem amorphem Siliciumdioxid |