CH182084A - Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen photolithographischen Platten. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen photolithographischen Platten.Info
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Description
Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen photolithographischen Platten. Vorliegende Erfindung bezieht sich auf das Herstellen von lichtempfindlichen, photo lithographischen Platten. Die im Handel üblichen, lichtempfindlichen Überzugssub- stanzen sind, wenn der Atmosphäre aus gesetzt, rascher Zerstörung unterworfen: es ist demzufolge gewöhnlich notwendig, die Platten innerhalb weniger Stunden nach dem Überziehen zu gebrauchen. Ein Aufbewah ren der Platten für den Gebrauch bei belie biger Zeit erweist sich als unpraktisch. Der Zweck der vorliegenden Erfindung ist nun, zu ermöglichen, die überzogenen Platten auf unbestimmte Zeit aufzubewah ren und so einem viel gehegten Bedürfnis von Druckern zu entsprechen, welche beim gewöhnlichen Geschäftsgang keine grosse Zahl von Platten benötigen und die im Be darfsfall eine Platte vom Vorrat nehmen. Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist nun ein Verfahren zur Herstellung licht empfindlicher, photolithographischer Plat ten, welche sich dadurch kennzeichnet, dass man Platten zuerst mit einem bichromatier- ten Kolloid überzieht und dann dieselben in Abwesenheit von Feuchtigkeit aufbewahrt, das Ganze derart, dass die Platten zu belie biger Zeit nach dem Lichtempfindlichmachen gebraucht werden können. Zweckmässig wird die Abwesenheit von Feuchtigkeit durch Evakuieren eines die Platten aufnehmenden, luftdichten Behälters erreicht, wobei zum Absaugen der Luft aus dem Behälter irgend eine geeignete Vakuum pumpe benutzt werden kann. Die Abwesen heit von Feuchtigkeit kann auch dadurch er reicht werden, dass man den Behälter der Platten mit ausgetrockneter Luft oder an derem Gas füllt, indem gefunden wurde, dass die normale Zerstörung der Platten von der in der normalen, atmosphärischen Luft ent haltenen Feuchtigkeit herrührt. Jedes pas sende Trockenagens zum Trocknen der Luft und jedes Mittel zum Einführen der Trocken luft in den Behälter kann angewendet wer den. Vorzugsweise wird der Behälter mit Luft gefüllt und ein trocknendes Agens wird im Behälter vorgesehen. Das genannte Agens kann aus Calciumchlorid, gallertartiger Kie selerde, Phosphorpentogyd oder einem andern geeigneten Material bestehen.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH: Verfahren zur Herstellung lichtempfind licher, photolithographischer Platten, da durch gekennzeichnet, dass man Platten zu erst mit einem bichromatierten Kolloid über zieht und dann dieselben in Abwesenheit von Feuchtigkeit aufbewahrt, das Ganze der art, dass die Platten zu beliebiger Zeit nach dem Lichtempfindlichmachen gebraucht wer den können. ÜNTBUAN SPUL CHt 1. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass man die Platten in einem Behälter aufbewahrt, den man eva kuiert hat. 2.Verfahren nach Patentansprueli. dadurch gekennzeichnet, dass man die Platten in einem Behälter aufbewahrt, in den man ein luftaustrocknendes Agens eingeführt hat. 3. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass man die Platten in einem Behälter aufbewahrt, den man mit einem ausgetrockneten, gasförmigen Me dium gefüllt hat.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| GB182084X | 1934-02-19 |
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|---|---|---|---|
| CH182084D CH182084A (de) | 1934-02-19 | 1935-02-11 | Verfahren zur Herstellung von lichtempfindlichen photolithographischen Platten. |
Country Status (1)
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1935
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