BRPI0708389A2 - substrato, notadamente substrato vìtreo transparente, vidraça e processo de fabricação do substrato - Google Patents

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BRPI0708389A2
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Abstract

SUBSTRATO, NOTADAMENTE SUBSTRATO VìTREO TRANSPARENTE, VIDRAçA E PROCESSO DE FABRICAçãO DO SUBSTRATO A invenção se refere a um substrato (10), notadamente substrato vítreo transparente, munido de um empilhamento de camadas finas que compreende uma camada funcional (40) com propriedades de reflexão no infravermelho e/ou na radiação solar, notadamente metálica à base de prata ou de liga metálica que contém prata, e dois revestimentos (20, 60), os ditos revestimentos sendo compostos por uma pluralidade de camadas dielétricas (24, 26; 64), de maneira a que a camada funcional (40) seja disposta entre os dois revestimentos (20, 60), a camada funcional (40) sendo colocada sobre uma camada de umedecimento (30) colocada ela própria diretamente sobre um revestimento subjacente (20), caracterizado pelo fato de que o revestimento subjacente (20) compreende pelo menos uma camada dielétrica (24) à base de nitreto, notadamente de nitreto de silício e/ou de nitreto de alumínio e pelo menos uma camada de nivelamento (26) não cristalizada feita de um óxido misto, a dita camada de nivelamento (26) estando em contato com a dita camada de umedecimento (30) subjacente.

Description

"SUBSTRATO, NOTADAMENTE SUBSTRATO VÍTREOTRANSPARENTE, VIDRAÇA E PROCESSO DE FABRICAÇÃO DOSUBSTRATO"
A invenção se refere aos substratos transparentes, notadamentefeitos de material rígido mineral como o vidro, os ditos substratos sendorevestidos de um empilhamento de camadas finas que compreende umacamada funcional de tipo metálico que pode agir sobre a radiação solar e/ou aradiação infravermelha de grande comprimento de onda.
A invenção se refere mais especialmente à utilização de taissubstratos para fabricar vidraças de isolamento térmico e/ou de proteção solar.Essas vidraças podem ser destinadas tanto para equipar os prédios quanto osveículos, tendo em vista notadamente diminuir o esforço de climatização e/ouimpedir um superaquecimento excessivo (vidraças ditas "de controle solar")e/ou diminuir a quantidade de energia dissipada para o exterior (vidraças ditas"baixo emissivas") provocados pela importância sempre crescente dassuperfícies vítreas nos prédios e nos habitáculos de veículos.
Essas vidraças podem por outro lado ser integradas emvidraças que apresentam funcionalidades especiais, como por exemplovidraças aquecedoras ou vidraças eletrocrômicas.
Um tipo de empilhamento de camadas conhecido por conferiraos substratos tais propriedades é constituído por uma camada metálicafuncional com propriedades de reflexão no infravermelho e/ou na radiaçãosolar, notadamente uma camada funcional metálicas à base de prata ou de ligametálica que contém prata.
Essa camada funcional metálica é colocada sob uma formacristalizada sobre uma camada de umedecimento também cristalizada quefavorece a orientação cristalina adequada da camada metálica colocada emcima.
Essa camada funcional se encontra disposta entre doisrevestimentos feitos de material dielétrico do tipo óxido ou nitreto metálico. Oempilhamento é geralmente obtido por uma sucessão de colocações efetuadaspor uma técnica que utiliza o vácuo como a pulverização catódicaeventualmente assistida por campo magnético. Podem também ser previstosum, e mesmo dois, revestimento(s) muito fino(s) chamado(s) "revestimentode bloqueio" colocado(s) diretamente sob, sobre ou de cada lado de cadacamada metálica funcional à base de prata, o revestimento subjacente comorevestimento de fixação, de nucleação e/ou de proteção por ocasião de umeventual tratamento térmico posteriormente à colocação, e o revestimentosobrejacente como revestimento de proteção ou "de sacrifício" a fim de evitara alteração da prata se uma camada que a encima é colocada por pulverizaçãocatódica em presença de oxigênio ou de nitrogênio e/ou se o empilhamento ésubmetido posteriormente à colocação a um tratamento térmico.
E assim conhecida pelo pedido de patente europeu N0 EP 803481, a utilização sob uma camada de umedecimento à base de óxido de zincode uma camada amorfa à base de óxido misto de zinco e de estanhodiretamente em contato com o substrato.
É revelado que uma tal camada amorfa quando ela não écolocada diretamente sobre o substrato mas sim que ela é intercalada entrepelo menos uma camada dielétrica subjacente e uma camada deumedecimento permite modificar a interface entre a camada dielétrica e acamada de umedecimento situada acima e assim melhorar substancialmente acristalização da camada de umedecimento assim como a cristalização dacamada metálica funcional.
Foi descoberto que de uma maneira surpreendente, aintegração de uma tal camada amorfa no revestimento subjacente à camadafuncional e provido de pelo menos uma camada dielétrica à base de nitretosob essa camada amorfa permite chegar a uma melhoria desejada dacristalização das camadas funcionais e assim a uma melhoria desejada daresistividade do empilhamento completo.
O objetivo da invenção é conseguir corrigir os inconvenientesda arte anterior, desenvolvendo para isso um novo tipo de empilhamento decamadas do tipo daqueles descritos precedentemente, empilhamento queapresenta uma resistividade melhorada, menor do que em um empilhamentosimilar de espessura de camada funcional e revestimentos equivalentes, que oempilhamento seja ou não submetido, a um (ou vários) tratamento(s)térmico(s) em alta temperatura do tipo recurvamento, têmpera ou recozimentoe no caso em que ele é submetido a um (ou vários) tal (tais) tratamento(s), aomesmo tempo em que preserva sua qualidade óptica e sua resistênciamecânica.
A invenção tem assim como objeto, em sua acepção masampla, um substrato, notadamente substrato vítreo transparente, munido deum empilhamento de camadas finas que compreende uma camada funcionalcom propriedades de reflexão no infravermelho e/ou na radiação solar,notadamente uma camada funcional metálica à base de prata ou de ligametálica que contém prata, e dois revestimentos, os ditos revestimentos sendocompostos por uma pluralidade de camadas dielétricas, de maneira a que acamada funcional seja disposta entre dois revestimentos, a camada funcionalsendo colocada sobre uma camada de umedecimento colocada ela própriadiretamente sobre um revestimento subjacente, caracterizado pelo fato de queo revestimento subjacente compreende pelo menos uma camada dielétrica àbase de nitreto, notadamente de nitreto de silício e/ou de nitreto de alumínio epelo menos uma camada de nivelamento não cristalizada feita de um óxidomisto, a dita camada de nivelamento estando em contato com a dita camadade umedecimento subjacente.
A invenção consiste assim em prever uma camada denivelamento não cristalizada sob a camada de umedecimento que ela écristalizada para permitir um crescimento adequado da camada funcionalsituada acima dessa camada de umedecimento, diretamente em contato com acamada de umedecimento ou por intermédio de um revestimento de sub-bloqueio.
Foi revelado que no caso em que o revestimento subjacentecompreende pelo menos uma camada dielétrica à base de nitreto, notadamentede nitreto de silício e/ou de nitreto de alumínio, escolher uma camada denivelamento não cristalizada feita de um óxido misto permitia obter uma boaresistividade do empilhamento e propriedades ópticas adaptadas àsexpectativas que o substrato seja submetido ou não a um tratamento térmicodepois de colocação.
A invenção se aplica assim aos substratos ditos "temperáveisou não" na medida em que é possível em uma mesma fachada de prédio porexemplo dispor na proximidade uns dos outros vidraças que integralsubstratos temperados e substratos não temperados, sem que seja possíveldistingui-los uns dos outros por uma simples observação visual da cor emreflexão e da reflexão luminosa.
No sentido da presente invenção quando é precisado que umacolocação de camada ou de revestimento (que compreende uma ou váriascamadas) é efetuado diretamente sob ou diretamente sobre uma outracolocação, é que não pode haver aí interposição de nenhuma camada entreessas duas colocações.
A camada de nivelamento é dita "não cristalizada" no sentidoem que ela pode ser completamente amorfa ou parcialmente amorfa e assimparcialmente cristalizada, mas que ela não pode ser completamentecristalizada, em toda sua espessura. Ela não pode ser de natureza metálicapois ela é à base de óxido misto (um óxido misto é um óxido de pelo menosdois elementos).
O aspecto cristalográfico da camada de nivelamento éobrigatoriamente diferente daquele da camada de umedecimento visto que acamada de nivelamento é não cristalizada enquanto que a camada deumedecimento é, essencialmente, cristalizada; elas portanto não podem serconfundidas desse ponto de vista.
O interesse de uma tal camada de nivelamento é permitir obteruma interface com a camada de umedecimento diretamente sobrejacente que épouco rugosa. Essa pequena rugosidade é por outro lado observável nomicroscópio eletrônico de transmissão.
Por outro lado, a camada de umedecimento se textura melhor eapresenta além disso uma orientação cristalográfica preferencial maismarcada.
Cada camada de nivelamento é assim feita de um materialdiferente, tanto do ponto de vista cristalográfico quanto estequiométrico,daquele da camada de umedecimento sob a qual ela é diretamente disposta.
A camada à base de nitreto do revestimento subjacente, quecompreende por outro lado a camada de nivelamento, está em contato com osubstrato, diretamente ou indiretamente por intermédio de uma camada decontato por exemplo à base de óxido de titânio (TiO).
O índice dessa camada à base de nitreto é, de preferência,inferior a 2,2.
De preferência, a camada de nivelamento, é uma camada deóxido misto à base de óxido de um ou de vários dos metais seguintes: Sn, Si,Ti, Zr, Hf, Zn, Ga, In e mais precisamente uma camada de óxido misto à basede zinco e de estanho ou de óxido misto de zinco e de índio (ITO) colocada afrio.
O índice da camada de nivelamento é, de preferência, inferiora 2,2.
De preferência por outro lado, a camada de nivelamento, éuma camada de óxido misto não estequiométrico em oxigênio e maisespecialmente ainda uma camada de óxido misto à base de zinco e de estanhosub-estequiométrico dopada com antimônio (SnZnOx:Sb, χ sendo umnúmero).
Por outro lado, a camada de nivelamento apresenta depreferência uma espessura geométrica entre 0,1 e 30 nm e mais de preferênciacompreendida entre 0,2 e 10 nm.
Em uma variante preferida, pelo menos um revestimento debloqueio é à base de Ni ou de Ti ou é à base de uma liga à base de Ni,notadamente é à base de uma liga de NiCr.
Além disso, a camada de umedecimento subjacente à camadafuncional é, de preferência, à base de óxido de zinco; essa camada deumedecimento pode ser em especial à base de óxido de zinco dopado comalumínio.
A espessura geométrica de cada camada de umedecimento é depreferência compreendida entre 2 e 30 nm e mais de preferênciacompreendida entre 3 e 20 nm.
A vidraça de acordo com a invenção incorpora pelo menos osubstrato de sustentação do empilhamento de acordo com a invenção,eventualmente associado a pelo menos um outro substrato. Cada substratopode ser claro ou colorido. Um dos substratos pelo menos notadamente podeser feito de vidro colorido na massa. A escolha do tipo de coloração vaidepender do nível de transmissão luminosa e/ou do aspecto colorimétricoprocurados para a vidraça uma vez que sua fabricação foi terminada.
Assim para as vidraças destinadas a equipar veículos, certasnormas impõem que o pára-brisa apresenta uma transmissão luminosa Tl decerca de 75 % e outras normas impõem uma transmissão luminosa Tl decerca de 65 %; um tal nível de transmissão não sendo exigido para as vidraçaslaterais ou para o teto do automóvel, por exemplo. Os vidros tingidos quepodem ser escolhidos são por exemplo aqueles que, para uma espessura de 4mm, apresentam uma Tl de 65 % a 95 %, uma transmissão energética Te de40 % a 80 %, um comprimento de onda dominante em transmissão de 470 nma 525 nm associado a uma pureza de transmissão de 0,4 % a 6 % de acordocom o iluminante D65, o que pode ser "traduzido" no sistema de colorimetria(L, a*, b*) por valores de a* e de b* em transmissão respectivamentecompreendidos entre -9 e 0 e entre -8 e +2.
Para vidraças destinadas a equipar prédios, a vidraçaapresenta, de preferência, uma transmissão luminosa Tl de pelo menos 75 % emesmo mais para aplicações "baixo -emissiva", e uma transmissão luminosaTl de pelo menos 40 % e mesmo mais para aplicações "controle solar".
A vidraça de acordo com a invenção pode apresentar umaestrutura laminada, que associa notadamente pelo menos dois substratosrígidos do tipo vidro por pelo menos uma folha de polímero termoplástico, afim de apresentar uma estrutura de tipo vidro/empilhamento de camadasfinas/folha(s)/vidro. O polímero pode notadamente ser à base depolivinilbutiral PVB, etileno vinilacetato EVA, polietileno tereftalato PET,policloreto de vinila PVC.
A vidraça pode também apresentar uma estrutura de vidraçalaminada dita assimétrica, que associa um substrato rígido de tipo vidro a pelomenos uma folha de polímero de tipo poliuretano com propriedades deabsorsor de energia, eventualmente associada a uma outra camada depolímeros com propriedades "auto-cicatrizantes". Para mais detalhes sobreesse tipo de vidraça, é possível recorrer notadamente às patentes EP-O 132198, EP-O 131 523, EP-O 389 354.
A vidraça pode então apresentar uma estrutura de tipovidro/empilhamento de camadas finas/folha(s) de polímero.
As vidraças de acordo com a invenção são próprias para sersubmetidas a um tratamento térmico sem dano para o empilhamento decamadas finas. Elas são portanto eventualmente recurvadas e/ou temperadas.
A vidraça pode ser recurvada e/ou temperada sendoconstituída de um só substrato, aquele munido do empilhamento. Trata-seentão de uma vidraça dita "monolítica". No caso em que elas são recurvadas,notadamente tendo em vista constituir vidraças para veículos, o empilhamentode camadas finas se encontra de preferência em uma face pelo menosparcialmente não plana.
A vidraça pode também ser uma vidraça múltipla,notadamente uma vidraça dupla, pelo menos o substrato de sustentação doempilhamento podendo ser recurvado e/ou temperado. É preferível em umaconfiguração de vidraça múltipla que o empilhamento seja disposto demaneira a ser voltado para o lado da lâmina de gás intercalar. Em umaestrutura laminada, o substrato de sustentação do empilhamento está depreferência em contato com a folha de polímero.
Quando a vidraça é monolítica ou múltipla do tipo vidraçadupla ou vidraça laminada, pelo menos o substrato de sustentação doempilhamento pode ser feito de vidro recurvado ou temperado, esse substratopodendo ser recurvado ou temperado antes ou depois da colocação doempilhamento.
A invenção também se refere ao processo de fabricação dossubstratos de acordo com a invenção, que consiste em colocar oempilhamento de camadas finas sobre seu substrato por uma técnica sobvácuo do tipo pulverização catódica eventualmente assistida por campomagnético, e depois em efetuar sobre o substrato revestido um tratamentotérmico de recurvamento/têmpera ou recozimento sem degradação de suaqualidade óptica e/ou mecânica.
Entretanto não está excluído que a primeira ou as primeirascamadas do empilhamento possa(m) ser colocada(s) por uma outra técnica,por exemplo por uma técnica de decomposição térmica de tipo pirólise.
Os detalhes e características vantajosas da invenção sedestacam dos exemplos não limitativos seguintes, ilustrados com o auxílio dasfiguras anexas:
- A figura 1 ilustra a evolução, antes de tratamento térmico, daresistência por quadrado de um empilhamento monocamada funcionalprovido de um revestimento monocamada de sobre-bloqueio, sem e com umacamada de nivelamento, em função da espessura da camada dielétricacolocada embaixo;
- A figura 2 ilustra a evolução, depois de tratamento térmico,da resistência por quadrado do mesmo empilhamento monocamada funcionalque na figura 1, em e com uma camada de nivelamento, em função daespessura da camada dielétrica colocada embaixo;
- A figura 3 ilustra a evolução, antes de tratamento térmico, daresistência por quadrado de um empilhamento monocamada funcionalprovido de um revestimento monocamada de sobre-bloqueio em função daespessura da camada nivelamento;
- A figura 4 ilustra a evolução, depois de tratamento térmico,da resistência por quadrado do mesmo empilhamento monocamada funcionalque na figura 3 em função da espessura da camada de nivelamento;
- A figura 5 ilustra um empilhamento monocamada funcionalde acordo com a invenção, a camada funcional sendo provida de umrevestimento de sobre-bloqueio mas não de um revestimento de sub-bloqueio;
- A figura 6 ilustra um empilhamento monocamada funcionalde acordo com a invenção, a camada funcional sendo provida de umrevestimento de sub-bloqueio mas não de um revestimento de sobre-bloqueio;e
- A figura 7 ilustra um empilhamento monocamada funcionalde acordo com a invenção, a camada funcional sendo provida de umrevestimento de sub-bloqueio e de um revestimento de sobre-bloqueio.
Nas figuras que ilustram empilhamentos de camadas, asproporções entre as espessuras dos diferentes materiais não são rigorosamenterespeitadas a fim de facilitar a leitura das mesmas.
Por outro lado, em todos os exemplos abaixo o empilhamentode camadas finas é colocado sobre um substrato 10 feito de vidro sodo-cálcicode uma espessura de 2 mm.
Em todos os casos em que um tratamento térmico foi aplicadoao substrato, tratava-se de um recozimento durante cerca de 5 minutos a umatemperatura de cerca de 660°C seguido por um resfriamento no ar ambiente(cerca de 20°C).
As figuras 1 a 4 têm como objetivo ilustrar a importância dapresença de uma camada de nivelamento em um empilhamento do tipodaquele ilustrado na figura 5, que ilustra um empilhamento de acordo com ainvenção.
Um exemplo, numerado 1 de empilhamento monocamadafuncional de acordo com a invenção é do tipo:
Substrato/Si3N4/SnZnOx:Sb/ZnO/Ag/Ti/ZnO/Si3N4
Variável/Variável/8 nm/10 nm/2 nm/8 nm/20 nm
Nas figuras 1 e 2, as curvas C1 e C11 ilustram a variação daresistência por quadrado (em ohms) do empilhamento em função da espessurada camada de dielétrico à base de nitreto de silício (e Si3N4) em contato com osubstrato, respectivamente antes (BHT) e depois (AHT) de tratamentotérmico, quando o empilhamento não é provido de uma camada denivelamento.
As curvas C2 e C12 ilustram a variação da resistência porquadrado (em ohms) do empilhamento em função da espessura da camada dedielétrico à base de nitreto de silício (e Si3N4) em contato com o substrato,respectivamente antes e depois de tratamento térmico, quando oempilhamento é provido de uma camada de nivelamento feita de SnZnOx: Sbde uma espessura de 6 nm (x designa um número não nulo).
As curvas C3 e C13 ilustram a variação da resistência porquadrado (em ohms) do empilhamento em função da espessura da camada dedielétrico à base de nitreto de silício (e Si3N4) em contato com o substrato,respectivamente antes e depois de tratamento térmico, quando oempilhamento é provido de uma camada de nivelamento feita de SnZnOx:Sbde uma espessura de 20 nm.
Como visível nessas figuras 1 e 2, para uma mesma espessurade dielétrico em contato com o substrato (por exemplo 20 nm), a resistênciapor quadrado do empilhamento é sempre menor - e portanto melhor — para ascurvas C2, C3, C12eC13 quando o empilhamento compreende uma camadade nivelamento à base de SnZnOx:Sb entre a camada de dielétrico à base denitreto de silício em contato com o substrato e a camada de umedecimento àbase de óxido de zinco ZnO subjacente à camada funcional à base de prata Age a resistência por quadrado do empilhamento é sempre menor para umaespessura de camada de nivelamento de 20 nm (curvas C3 e C13).
Foi verificado que a camada de nivelamento feita de óxidomisto é amorfa em toda sua espessura, enquanto que a camada deumedecimento e a camada funcional metálica são ambas cristalizadas, emtoda a espessura das mesmas.
Em conseqüência disso, a presença da camada de nivelamentomelhora de uma maneira importante a resistência por quadrado doempilhamento com espessura de dielétrico subjacente comparável e essamelhoria é ainda maior quanto maior for a espessura da camada denivelamento.
Nas figuras 3 e 4, as curvas ilustram a variação da resistênciapor quadrado (em ohms) do empilhamento em função da espessura da camadade nivelamento à base de óxido de zinco e de estanho dopado com antimônio(e SnZnOx: Sb), respectivamente antes (BHT) e depois (AHT) de tratamentotérmico, quando o empilhamento é provido de uma camada à base de nitretode silício Si3N4 de 20 nm entre o substrato e a camada à base de SnZnOx:Sb.Também foi verificado que a camada de nivelamento feita deóxido misto é amorfa em toda sua espessura, enquanto que a camada deumedecimento e a camada funcional metálica são ambas cristalizadas, emtoda a espessura das mesmas.
Como visível nessas figuras 3 e 4 também, a presença de umacamada de nivelamento melhora de uma maneira importante a resistência porquadrado do empilhamento para uma camada de nivelamento compreendidaentre > 0 e 4 nm de espessura e essa melhoria é ainda maior quanto maior fora espessura da camada de nivelamento.
Constatações similares podem ser feitas com umempilhamento monocamada funcional provido de um revestimento de sub-bloqueio e sem revestimento de sobre-bloqueio ou provido de umrevestimento de sub-bloqueio e de um revestimento de sobre-bloqueio.
Uma outra série de ensaio foi realizada.
Três exemplos, numerados 2, 3 e 4, foram realizados com basena estrutura de empilhamento monocamada funcional ilustrada na figura 5 naqual a camada funcional 40 é provida de um revestimento de sobre-bloqueio45.
A tabela 1 abaixo ilustra as espessuras em nanômetros de cadauma das camadas:
Tabela 1
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As características de resistividade, ópticas e energéticas dessesexemplos são relatadas na tabela 2 abaixo:Tabela 2
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Assim, a resistividade do empilhamento tanto antes quantodepois de tratamento térmico do exemplo 4 de acordo com a invenção ésempre inferior respectivamente aos contra-exemplos 3 e 2.
Além disso, a reflexão luminosa Rl, a transmissão luminosa Tlmedidas de acordo com o iluminante D65 e as cores em reflexão a* e b* nosistema LAB medidas de acordo com o iluminante D65 no lado das camadasnão variam de maneira verdadeiramente significativa entre os exemplos deacordo com a invenção e os contra exemplos 3 e 2.
Comparando-se as características ópticas e energéticas antesde tratamento térmico com essas mesmas características depois de tratamentotérmico nenhuma degradação maior foi constatada.
Outros ensaios foram realizados com base na estrutura deempilhamento monocamada funcional ilustrada na figura 6 na qual a camadafuncional 40 é provida de um revestimento de sobre-bloqueio 45 mas não deum revestimento de sub-bloqueio 35.
Outros ensaios foram realizados com base na estrutura deempilhamento monocamada funcional ilustrada na figura 7 na qual a camadafuncional 40 é provida de um revestimento de sub-bloqueio 35 e de umrevestimento de sobre-bloqueio 45.
Todos esses ensaios permitiram chegar a constataçõessimilares.Ensaios foram por outro lado conduzidos para permitir medir arugosidade das camadas.
A tabela 3 abaixo ilustra as rugosidades medidas porreflexometria X e expressas em nm (a rugosidade do substrato sendo de cercade 0,4):
Tabela 3
<table>table see original document page 15</column></row><table>
Como visível nessa tabela, a rugosidade da camada à base denitreto de silício S13N4 colocada sozinha sobre o vidro é elevada, mas arugosidade final de um empilhamento que compreende uma camada à base deóxido de estanho e de índio SnInOx (ITO) ou uma camada à base de óxidomisto de zinco e de estanho SnZnOx:Sb colocada sobre a camada à base denitreto de silício é menor. A camada de umedecimento à base de óxido mistopermite assim melhorar a rugosidade da interface em contato com a camadade umedecimento, diminuindo essa rugosidade.
A presente invenção é descrita no que precede a título deexemplo. Fica entendido que o profissional é capaz de realizar diferentesvariantes da invenção sem por causa disso sair do âmbito da patente tal comodefinido pelas reivindicações.

Claims (11)

1. Substrato (10), notadamente substrato vítreo transparente,caracterizado pelo fato de que é munido de um empilhamento de camadasfinas que compreende uma camada funcional (40) com propriedades dereflexão no infravermelho e/ou na radiação solar, notadamente metálica àbase de prata ou de liga metálica que contém prata, e dois revestimentos (20,-60), os ditos revestimentos sendo compostos por uma pluralidade de camadasdielétricas (24, 26; 64), de maneira a que a camada funcional (40) sejadisposta entre os dois revestimentos (20, 60), a camada funcional (40) sendocolocada sobre uma camada de umedecimento (30) colocada ela própriadiretamente sobre um revestimento subjacente (20), caracterizado pelo fato deque o revestimento subjacente (20) compreende pelo menos uma camadadielétrica (24) à base de nitreto, notadamente de nitreto de silício e/ou denitreto de alumínio e pelo menos uma camada de nivelamento (26) nãocristalizada feita de um óxido misto, a dita camada de nivelamento (26)estando em contato com a dita camada de umedecimento (30) subjacente.
2. Substrato (10) de acordo com a reivindicação 1,caracterizado pelo fato de que a camada de nivelamento (26) é uma camadade óxido misto, à base de óxido de um ou de vários dos metais seguintes: Sn,Si, Ti, Zr, Hf, Zn, Ga, In.
3. Substrato (10) de acordo a reivindicação precedente,caracterizado pelo fato de que a camada de nivelamento (26) é uma camadade óxido misto à base de zinco e de estanho eventualmente dopada ou deóxido misto de zinco e de índio (ITO) colocada a frio.
4. Substrato (10) de acordo com uma qualquer dasreivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que a camada denivelamento (26), é uma camada de óxido não estequiométrico em oxigênio.
5. Substrato (10) de acordo com uma qualquer dasreivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que a camada denivelamento (26) apresenta uma espessura geométrica entre 0,1 e 30 nm e depreferência compreendida entre 0,2 e 10 nm.
6. Substrato (10) de acordo com uma qualquer dasreivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que a camada funcional(40) é disposta diretamente sobre pelo menos um revestimento de bloqueio(35) subjacente e/ou diretamente sob pelo menos um revestimento debloqueio (45) sobrejacente.
7. Substrato (10) de acordo com a reivindicação precedente,caracterizado pelo fato de que pelo menos um revestimento de bloqueio (35,45) é à base de Ni ou de Ti ou é à base de uma liga à base de Ni, notadamenteé à base de uma liga de NiCr.
8. Substrato (10) de acordo com uma qualquer dasreivindicações precedentes, caracterizado pelo fato de que a camada deumedecimento (30) subjacente à camada funcional (40) é à base de óxido dezinco.
9. Vidraça caracterizada pelo fato de que ela incorpora pelomenos um substrato (10) de acordo com uma qualquer das reivindicaçõesprecedentes, eventualmente associado a pelo menos um outro substrato.
10. Vidraça de acordo com a reivindicação precedentemontada em monolítico ou em vidraça múltipla do tipo vidraça dupla ouvidraça laminada, caracterizada pelo fato de que pelo menos o substrato desustentação do empilhamento é recurvado ou temperado.
11. Processo de fabricação do substrato (10) de acordo comuma qualquer das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que coloca-se o empilhamento de camadas finas sobre o substrato por uma técnica sobvácuo do tipo pulverização catódica eventualmente assistida por campomagnético, e depois efetua-se um tratamento térmico do tipo recurvamento,têmpera ou recozimento sobre o dito substrato, sem degradação de suaqualidade óptica e/ou mecânica.
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