BR112015000712B1 - eletrodo para uma tocha de corte a arco plasma - Google Patents

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Abstract

ELETRODO PARA UMA TOCHA DE PLASMA DE ARCO Trata-se de um eletrodo para uma tocha de plasma de arco que é fornecida com recursos para aprimorar o desgaste do eletrodo. Um enxerto emissivo é recebido em uma cavidade formada ao longo de uma extremidade do corpo de tocha. Uma parte do enxerto emissivo é separada do corpo de tocha por uma luva posicionada ao longo do enxerto perto da superfície de emissão do enxerto. A luva pode operar para desacelerar a erosão do corpo de eletrodo e, desse modo, aprimorando a vida útil do eletrodo em geral.

Description

CAMPO DA INVENÇÃO
[0001] A matéria da presente revelação refere- se de modo geral a eletrodos para tochas de arco plasma e, mais particularmente, à configuração de insertos emissivos para tais eletrodos.
ANTECEDENTES DA INVENÇÃO
[0002] A operação de tochas de arco plasma convencionais é bem conhecida por aqueles versados na técnica. Os componentes básicos dessas tochas são um corpo, um eletrodo encaixado no corpo, um bocal que define um orifício para um arco plasma, uma fonte de gás ionizável e um abastecimento elétrico para produzir um arco no gás. Para começar, uma corrente elétrica é abastecida ao eletrodo (de modo geral um cátodo) e um arco piloto é iniciado no gás ionizável tipicamente entre o eletrodo e o bocal, sendo que o bocal define um anodo.
[0003] Um fluxo condutor do gás ionizado é, então, gerado a partir do eletrodo para a peça de trabalho, em que a peça de trabalho, então, define o anodo e um arco plasma é, assim, gerado a partir do eletrodo para a peça de trabalho. O gás ionizável pode ser não reativo, tal como nitrogênio, ou reativo, tal como oxigênio ou ar.
[0004] Um problema que persiste com tochas de arco plasma convencionais é o desgaste dos eletrodos. Tipicamente, os eletrodos incluem um inserto de háfnio ou de zircônio. Esses materiais são desejados pelas próprias propriedades materiais ao se cortar com um plasma de gás reativo mas são extremamente custosos e exigem substituição frequente.
[0005] Embora não se pretenda estar associado a nenhuma teoria particular, acredita-se que muitos fatores contibuem para o esgaste de eletrodo. Por exemplo, durante a operação da tocha, o material de inserto se torna extremamente quente e entra em um estado fundido à medida que elétrons são emitidos a partir do material de alta emissividade para formar o arco. Eventualmente, um orifício ou cavidade pode ser formar na superfície de emissão exposta do inserto. Essa cavidade, tipicamente côncava em formato, é formada devido à ejeção do material de alta emissividade fundido a partir do inserto durante a operação. A ejeção de material pode ocorrer em vários momentos durante o processo de corte tal como, por exemplo, durante criação de ativação inicial do arco plasma, durante operações de corte com o arco e/ou durante ou após parar o arco plasma. A ejeção de material fundido não apenas fornece desgaste do inserto, mas pode também desgastar outras partes da tocha tal como o bocal. Mais particularmente, o material fundido proveniente do inserto pode ser ejetado do eletrodo para o bocal circundante, que, por sua vez, pode fazer com que o arco se fixe de maneira inapropriada a, e, desse modo, danifique o bocal.
[0006] Portanto, um eletrodo que tem um ou mais recursos para melhorar o desgaste seria útil. Mais particularmente, um eletrodo que pode reduzir ou minimizar a ejeção de material fundido proveniente do inserto seria benéfico. Tal eletrodo que também possa reduzir ou minimizar o dano à porção do eletrodo que circunda o inserto também seria útil.
SUMÁRIO DA INVENÇÃO
[0007] A presente invenção refere-se a um eletrodo para uma tocha de arco plasma com recursos para melhorar o desgaste de eletrodo. Um inserto emissivo é recebido em uma cavidade formada ao longo de uma extremidade do corpo de tocha. Uma porção do inserto emissivo é separada do corpo de tocha por uma luva posicionada ao longo do inserto próximo à superfície de emissão do inserto. A luva pode operar para desacelerar a erosão do corpo de eletrodo e, desse modo, melhorar a vida útil geral do eletrodo. Objetivos e vantagens adicionais da invenção serão estabelecidas em parte na descrição a seguir ou podem ser aparentes a partir da descrição ou podem ser aprendidas através da prática da invenção.
[0008] Em uma modalidade exemplificativa, a presente invenção fornece um eletrodo para uma tocha de arco plasma. O eletrodo inclui um corpo alongado que define um corpo alongado e que compreende um material de alta condutividade térmica. O corpo tem uma face em uma extremidade de descarga do eletrodo. O corpo define uma perfuração que se estende ao longo da direção longitudinal. Um inserto é recebido na perfuração. O inserto tem uma parte externa e uma parte interna. A parte interna está em contato com o corpo alongado e a parte externa tem uma superfície de emissão exposta que é recuada em relação à face do corpo alongado. Um espaço anular é recebido na perfuração adjacente ao inserto. 0 espaço anular separa a parte externa do inserto do corpo alongado.
[0009] Em outra modalidade exemplificativa, a presente invenção fornece um eletrodo para uma tocha de arco plasma. 0 eletrodo inclui um corpo de eletrodo compreendido de um metal térmica e eletricamente condutivo. O corpo de eletrodo tem uma face e uma cavidade posicionada na face. Um inserto está encaixado na cavidade e compreende um material emissivo que tem uma função de tarefa menor que a função de tarefa do corpo de eletrodo. O inserto está posicionado em contato com o corpo de eletrodo. O inserto está recuado em relação à face do corpo de eletrodo. Uma luva circunda o inserto e separa uma porção do inserto próxima à face do corpo de eletrodo proveniente do corpo de eletrodo.
[0010] Esses e outros recursos, aspectos e vantagens da presente invenção se tornarão mais bem entendidos com referência à descrição e reivindicações anexas a seguir. Os desenhos anexos, que estão incorporados e constituem parte desse relatório descritivo, ilustram modalidades da invenção e, junto com a descrição, servem para explicar os princípios da invenção.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS
[0011] Uma revelação completa e capacitante da presente invenção, que inclui o melhor modo da mesma, direcionada àquele de conhecimento comum na técnica, é estabelecida no relatório descritivo, que faz referência às figuras anexas, nas quais:
[0012] A Figura 1 fornece uma vista esquemática de uma modalidade exemplificativa de sistema de tocha de arco plasma da presente invenção.
[0013] A Figura 2 é uma vista em corte transversal de uma modalidade exemplificativa de um eletrodo da presente invenção.
[0014] A Figura 3 é uma vista em corte transversal de outra modalidade exemplificativa de um eletrodo da presente invenção.
[0015] 0 uso dos mesmos numerais de referência ou similares nas figuras denota o meos ou similares recursos.
DESCRIÇÃO DETALHADA
[0016] Para propósitos de descrição da invenção, será feita agora referência em detalhes a modalidades da invenção, um ou mais exemplos dentre os quais estão ilustrados nos desenhos. Cada exemplo é fornecido por meio de explicação da invenção, não limitação da invenção. Na verdade, será aparente àquele versado na técnica que várias modificações e variações podem ser feitas na presente invenção sem sair do escopo ou espírito da invenção. Por exemplo, os recursos ilustrados ou descritos como parte de uma modalidade, podem ser usados com outra modalidade para render uma modalidade ainda mais adicional. Assim, pretende-se que a presente invenção abranja tais modificações e variações, visto que se incluem no escopo das reivindicações anexas e seus equivalentes.
[0017] A Figura 1 é uma vista esquemática simplificada de uma modalidade exemplificativa de um sistema de tocha de arco plasma convencional 10. A modalidade exemplificativa mostrada na Figura 1 é fornecida apenas como meio de exemplo. Outro sistema de tocha de arco plasmas de diferentes configurações pode ser usado com a presente invenção também.
[0018] O sistema de tocha de arco plasma 10 inclui uma tocha de arco plasma 11 que tem um corpo básico, de modo geral indicado como 12. O corpo 12 inclui um tubo de abastecimento de tocha 34 que define uma câmara de abastecimento 36 que é abastecida com uma fonte de gás ionizável pressurizado proveniente de um abastecimento de gás 24 através da linha de abastecimento de gás 26. Uma válvula atuada remotamente, tal como a válvula solenoide 28, está disposta em linha entre o tubo de abastecimento 34 e a fonte de gás 24 para desligar o abastecimento de gás à tocha 10 sob a atuação da válvula. Conforme é apreciado por aqueles versados na técnica, o gás de plasma pode ser não reativo, tal como nitrogênio, ou reativo, tal como oxigênio ou ar.
[0019] O corpo de tocha 12 inclui um corpo de eletrodo alongado 46, formado tipicamente de, por exemplo, cobre. Um inserto ou elemento de eletrodo 50 é ajustado na extremidade inferior do corpo de eletrodo 46 - modalidades exemplificativas que serão mais completamente descritas abaixo. 0 elemento 50 é tipicamente formado de háfnio ou zircônio, particularmente quando um gás reativo é usado como o gás de plasma.
[0020] Um corpo de isolamento 38 circunda de modo geral o tubo de abastecimento 34 e o corpo de eletrodo 46. Um corpo de cátodo 40 está disposto de modo geral circundando o tubo de abastecimento 34 e um corpo de anodo 42 está disposto circundando o corpo de isolamento 38. Um bocal 16 está disposto na extremidade dianteira do corpo de eletrodo 46 e define uma passagem de arco 52 alinhada com o inserto de eletrodo 50. Um anel de redemoinho 44 está disposto ao redor do corpo de eletrodo 46 e tem orifícios definidos no mesmo para induzir um componente de redemoinho ao gás de plasma que entra na câmara de gás de plasma 14, conforme será discutido em maiores detalhes abaixo.
[0021] Uma fonte de energia 18 é fornecida para abastecer corrente elétrica ao corpo de eletrodo 46 e ao elemento de eletrodo 50. Um cabo de alimentação negativa 20 está em comunicação elétrica com o tubo de abastecimento 34 e o corpo de cátodo 40. Em um modo de arco piloto, um cabo de alimentação positiva 22 está em comunicação elétrica com o corpo de anodo 42 através do comutador 23. O corpo de isolamento 38 isola eletricamente o corpo de anodo 42 do corpo de cátodo 40. O cabo de alimentação positiva 22 também é conectável à peça de trabalho 54 que deve ser cortada pela tocha de plasma uma vez que o comutador 23 seja aberto. A fonte de energia 18 pode constituir qualquer fonte de energia CC convencional suficiente para fornecer corrente à tocha a uma voltagem apropriada para iniciar o arco piloto e, então, manter o arco no modo operacional de corte da tocha.
[0022] Em operação, o gás de plasma flui a partir da fonte 24, através da linha de abastecimento 26 e desliga a válvula 28 na câmara 36 do tubo de abastecimento 34, conforme é indicado de modo geral pelas setas. O gás de plasma flui para paixo na câmara 36 através de orifícios no corpo de cátodo e em orifícios no anel de redemoinho 44 antes de entrar na câmara inferior de gás de plasma 14. Dese ser entendido que a câmara inferior de gás de plasma 14 está em comunicação pneumática com a totalidade da câmara de abastecimento 36 do tubo de abastecimento 34 de modo que uma mudança na pressão com em qualquer lugar dentro do sistema efetuará uma mudança na pressão dentro da câmara inferior de gás de plasma 14. Em operação, uma pressão diferencial sai entre a câmara de abastecimento 36 e a câmara de plasma inferior 14 de modo que o gás de plasma flui a partir da câmara de abastecimento 36, através do anel de redemoinho 44 e para fora do bocal 16 com um componente de redemoinho induzido ao mesmo.
[0023] No modo de arco piloto da tocha 10, o comutador 23 está fechado de modo que o cabo de alimentação positiva está conectado ao corpo de anodo 42. A fonte de energia 18 fornece corrente a voltagem apropriada para iniciar que o arco piloto entre no elemento de eletrodo 50 e no bocal 16. Um fluxo e pressão desejados de plasma são definidos pelo operador para inicar o arco piloto. O arco piloto é inicado por uma fagulha ou outro meio, tal como uma técnica de inicio de contato, todas dentre as quais são conhecidas na técnica.
[0024] O fluxo de gás de plasma durante o modo de arco piloto é proveniente do abastecimento 24, através da linha de abastecimento 26 e da válvula solenoide 28, na câmara de abastecimento 36, através de orifícios no corpo de cátodo 40, através dos orifícios no anel de redemoinho 44, na câmara de plasma inferior 14, e para fora através da passagem de arco 52 do bocal 16. O fluxo de redemoinho gerado pelo anel de redemoinho 44 é desejado como um meio para estabilizar o arco no modo operacional de corte de modo que o arco não colida e danifique o bocal.
[0025] A fim de passar a tocha 10 para o modo de corte, a tocha é colocada próximo â peça de trabalho 54 de modo que o arco é transferido para a peça de trabalho 54 à medida que o comutador 23 abre para que potência positiva seja alimentada apenas à peça de trabalho 54. A corrente é aumentada a um nível desejado para cortar de modo que um arco plasma 56 seja gerado que se estende através da passagem de arco 52 para a peça de trabalho 54 . Os níveis de corrente operacionais dependem do tipo de tocha e aplicação desejada. Por exemplo, os níveis de corrente operacionais podem variar de cerca de 20 a cerca de 400 amps.
[0026] Conforme a corrente operacional é aumentada durante o início do processo de corte, o gás de plasma dentro da câmara de plasma inferior 14 se aquece e uma diminuição no fluxo de gás de plasma para fora do bocal 16 é resultada. A fim de sustentar fluxo suficiente de gás de plasma através do bocal 16 para sustentar o arco plasma 56, sendo que a pressão do gás de plasma é alimentada deve ser aumentada com o aumento de corrente. Reciprocamente, em direção ao fim do processo de corte, a redução do nível de corrente e fluxo de gás de plasma pode ser suidadosamente coordenada para, por exemplo, evitar danos ao eletrodo.
[0027] A Figura 2 fornece uma vista em corte transversal e lateral de outra modalidade exemplificativa do corpo de eletrodo alongado 46. 0 corpo de eletrodo 46 define um corpo alongado L e tem uma face 60 posicionada na extremidade de descarga 62. 0 corpo de eletrodo 46 é feito de um material que é altamente condutivo termicamente e altamente condutivo eletricamente. Por exemplo, o corpo de eletrodo 4 6 pode ser feito de cobre ou prata. O corpo de eletrodo 46 pode ser construído com vários recursos para prender o corpo 46 à tocha de arco plasma 11. Conforme mostrado, a modalidade exemplificativa da Figura 2 inclui fios 64 para recebimento complementar na tocha 11. Outras configurações também podem ser usadas. 0 corpo de eletrodo 46 também inclui uma câmara 58 que pode ser dotada de, por exemplo, um fluido de transferência de calor para ajudar a resfriar o corpo de eletrodo 46 durante operações de corte.
[0028] O corpo de eletrodo 46 define uma cavidade ou perfuração 66 que se estende ao longo do corpo alongado L a partir da face 60. Para essa modalidade exemplificativa do corpo de eletrodo 46, um inserto 68 é recebido na perfuração 66. 0 inserto 68 é feito de um material altamente emissivo que tem uma função de tarefa de elétron baixa tal como, por exemplo, háfnio, zircônio, tungsténio e ligas dos mesmos. Desse modo, o inserto 68 prontamente emitirá elétrons provenientes da superfície de emissão 72 sobre, por exemplo, a aplicação de uma diferença de potencial elétrico suficiente entre o inserto 68 e uma peça de trabalho adjacente. De forma notável, a função de tarefa de elétron do inserto 68 é menor que a função de tarefa de elétron do corpo de eletrodo 4 6 de modo que o arco plasma é gerado na superfície de emissão 72.
[0029] 0 inserto 68 inclui duas porções, a saber, uma parte externa 76 que inclui superfície de emissão 72 e uma parte interna 78 que está oculto dentro do corpo de eletrodo 46. A parte interna 78 está em contato com o corpo de eletrodo 46. Tal contato fornece uma conexão elétrica atravavés da corrente que pode passar para gerar uma conexão elétrica através da corrente que pode passar para gerar o arco plasma na superfície de emissão 72. Adicionalmente, o contato entre a parte interna 78 e o corpo de eletrodo 46 também prevê transferência de calor para longe do inserto emissivo 68.
[0030] A parte externa 76 fornece a superfície de emissão 72 em que o arco plasma é preferencialmente gerado durante operação do sistema de tocha 10. Conforme mostrado, a parte externa 76 é separada do contato com o corpo de eletrodo 46 por uma luva ou espaço anular 70. Mais especificamente, tanto o inserto 68 quanto o espaço anular 70 são recebidos na perfuração 66 do corpo de eletrodo 46. Entretanto, a parte externa 76 do inserto 68 é incluída dentro do espaço anular 7 0 de modo que a extremidade do inserto 68 que fornece a superfície de emissão 72 que está isolada do corpo de eletrodo 62. Para essa modalidade exemplificativa, a extremidade exposta do espaço anular 70 também é fornecida com uma superfície chanfrada 74. Adicionalmente, conforme mostrado, a superfície de emissão 72 da parte externa 76 está recuada em relação à face 60 do corpo de eletrodo 46.
[0031] Sem estarem ligados a qualquer teoria particular de operação, os inventores acreditam que ao fornecer o espaço anular 70 ao redor da parte externa 76 do inserto 68 enquanto recua o inserto 68 em relação à face 60, o espaço anular 70 fornece um material que isola o inserto 68 e atura diferentemente do inserto 68 durante a operação do sistema de tocha de arco plasma 10. Mais especifciamente, sem o espaço anular 70, acredita-se que o material proveniente do inserto recuado 68 molhará a superfície circinferencial exposta (ver, por exemplo, a superfície 75 na Figura 3) da perfuração 66 próxima à face 60 para fornecer proteção limitada do corpo de eletrodo 46 de desgaste. Entretanto, conforme o inserto 68 se desgasta, eventualmente o material emissivo proveniente do inserto 68 não molha mais a superfície circunferencial exposta da perfuração 66 e o corpo de eletrodo 46 se desgastará de modo não desejável. Ainda, os inventores determinaram que ao posicionar o espaço anular 70 ao redor da parte externa recuada 76 do inserto 68, o material do espaço anular 70 opera como um refratário para proteger adicionalmente o corpo de eletrodo 46 e fornecer melhoramento adicional no desgaste de eletrodo. A borda chanfrada edge 74 no espaço anular 70 por também adicionalmente minimizar o desgaste do corpo de eletrodo 46.
[0032] Adicionalmente, em uma modalidade exemplificativa da invenção, o material usado para p espaço anular 70 pode compreender o mesmo material usado para o inserto 68. Por exemplo, tanto o espaço anular 70 quanto o inserto 68 podem ser feitos de háfnio. Assim, mesmo quando o espaço anular 70 e o inserto 68 são feitos do mesmo material, melhorias no desgaste de eletrodo podem ser obtidas conforme o espaço anular 70 atua para isolar o inserto 68 termicamente e atuar um refratário em relação ao corpo de eletrodo.
[0033] Em outras modalidades da invenção, o espaço anular 70 é feito de um material diferente do material do inserto 68 e tem uma função de tarefa de elétron maior, uma temperatura de ponto de fusão maior ou ambos em relação ao material usado para o inserto 68. Em modalidades ainda adicionais da invenção, o espaço anular 70 compreende um isolante elétrico e térmico. Por exemplo, um material de cerâmica tal como, por exemplo, óxido de alumínio, carbonato de silício e/ou carbonato de tungsténio podem ser usados para que o espaço anular 7 0 melhore a própria capacidade de atuar como um material refratário.
[0034] A Figura 3 fornece outra modalidade exemplificativa da presente invenção similar à modalidade da Figura 2 exceto pela posição da superfície 74 do espaço anular 70 em relação à face 60 do corpo de eletrodo 46. Mais particularmente, para essa modalidade exemplificativa, tanto o espaço anular 70 quanto o inserto 68 estão recuados dentro da perfuração 66 do corpo de eletrodo 46. Para essa modalidade exemplificativa, acredita-se que o espaço anular 70 ainda opere como um refratário para ajudar a isolar o inserto 68 do corpo de eletrodo 46 conforme descrito para a modalidade of Figura 2. Os materiais usados para a construção do espaço anular 70 e do inserto 68 são similares àqueles descritos para a modalidade exemplificativa da Figura 2. Em outras modalidades ainda adicionais da invenção, o espaço anular 70 pode estar recuado em relação à face 60, mas não está nivelado com a superfície de emissão 72 do inserto 68.
[0035] Embora a presente matéria tenha sido descrita em detalhes em relação às modalidades exemplificativas e métodos específicos da mesma, será observado que aqueles versados na técnica, com o objetivo de obter um entendimento do supracitado podem prontamente produzir alterações a, variações de, e equivalentes de tais modalidades. Portanto, o escopo da presente revelação está dado por meio de exemplo mais que por meio de limitação e a matéria revelada não impossibilita a inclusão de tais modificações, variações e/ou adições à present matéria conforme será prontamente aparente àquele de versamento comum na técnica com o uso dos ensinamentos revelados no presente documento. NUMERAIS DE REFERÊNCIA 10 sistema de tocha 11 tocha 12 corpo de tocha 14 câmara de gás de plasma 16 bocal 18 fonte de energia 20 cabo de alimentação negativa 22 cabo de alimentação positiva 23 comutador 24 fonte de gás 26 linha de abastecimento 28 válvula 34 tubo de abastecimento 36 câmara 38 corpo de isolamento 40 corpo de cátodo 42 corpo de anodo 44 anel de redemoinho 46 corpo de eletrodo 50 inserto de eletrodo 52 passagem de arco 54 peça de trabalho 56 arco 58 câmara 60 face 62 extremidade de descarga 64 fio 66 perfuração 68 inserto 70 espaço anular 72 superfície de emissão 74 superfície chanfrada 75 superfície 76 parte externa 78 parte interna L direção longitudinal

Claims (12)

1. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10) caracterizado pelo fato de que compreende: um corpo alongado (46) que uma direção longitudinal (L) e que compreende um material de alta condutividade térmica, sendo que o corpo alongado (46) que tem uma face (60) disposta uma extremidade de descarga (62) do eletrodo, sendo que o corpo alongado (46) define uma perfuração (66) que se estende ao longo da direção longitudinal (L); um enxerto (68) recebido na dita perfuração (66) e que tem uma parte externa (76) e uma parte interna (78), em que a parte interna (78) está em contato com o dito corpo alongado (46) e a parte externa (76) tem uma superfície de emissão exposta (72) que é recuada em relação à face (60) do dito corpo alongado (46); e um espaço anular (70) que recebe na dita perfuração (66) adjacente ao dito enxerto (68), sendo que o dito espaço anular (70) separa a parte externa (76) do dito enxerto (68) do corpo alongado (46), e em que o dito espaço anular (70) inteiro é recuado em relação à dita face (60) do dito corpo alongado (46) e em que uma extremidade inteira do dito espaço anular (70) está nivelada com a superfície de emissão (72) do dito enxerto (68), expondo uma superfície interna da dita perfuração (66) próximo à dita extremidade do dito espaço anular (70).
2. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o dito espaço anular (70) compreende um material com uma função de tarefa maior do que a função de tarefa do dito enxerto (68).
3. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o dito espaço anular (70) compreende um material com uma temperatura de ponto de fusão maior do que a temperatura de ponto de fusão do dito enxerto (68).
4. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o dito espaço anular (70) compreende um material com uma função de tarefa maior do que a função de tarefa do dito enxerto (68) e com uma temperatura de ponto de fusão maior que a temperatura do ponto de fusão do dito enxerto (68).
5. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o dito espaço anular (70) e o dito enxerto (68) são, cada um, compreendidos do mesmo material.
6. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), de acordo com a reivindicação 5, caracterizado pelo fato de que o dito espaço anular (70) e o dito enxerto (68) são, cada um compreendido de háfnio.
7. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), caracterizado pelo fato de que compreende: um corpo de eletrodo (46) composto de um metal termicamente e eletricamente condutivo, sendo que o dito corpo de eletrodo (46) tem uma face (60) e uma cavidade (66) posicionada na face (60); um enxerto (68) encaixado na dita cavidade (66) e compreendendo um material emissivo que tem uma função de tarefa menor do que a função de tarefa do corpo de eletrodo (46), sendo que o dito enxerto (68) é posicionado em contato com o dito corpo de eletrodo (46), o dito enxerto (68) tem uma superfície de emissão sendo recuado em relação à face (60) do dito corpo de eletrodo (46); e uma luva (70) que circunda o dito enxerto (68) e que separa uma parte (76) do dito enxerto (68) perto da face (60) do dito corpo de eletrodo (46) a partir do dito corpo de eletrodo (46), em que a dita luva (70) inteira é recuada em relação à dita face (60) do dito corpo do eletrodo (46) e em que uma extremidade inteira da dita luva (70) está nivelada com a superfície de emissão (72) do dito enxerto (68), expondo uma superfície interna da dita cavidade (66) perto da extremidade da dita luva (70).
8. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que a dita luva (70) compreende um material com uma função de tarefa maior do que a função de tarefa do dito enxerto (68).
9. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que a dita luva (70) compreende um material com uma temperatura de ponto de fusão maior do que a temperatura de ponto de fusão do dito enxerto (68).
10. Eletrodo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que a dita luva (70) compreende um material com uma função de tarefa maior do que a função de tarefa do dito enxerto (68) e com uma temperatura de ponto de fusão maior do que a temperatura de ponto de fusão do dito enxerto (68).
11. Eletrodo, de acordo com a reivindicação 7, caracterizado pelo fato de que a dita luva (70) e o dito enxerto (68) são, cada um, compreendidos de háfnio.
12. Eletrodo para uma tocha de plasma de arco (10), caracterizado pelo fato de que compreende: um corpo de eletrodo (46) composto de um metal termicamente e eletricamente condutivo, sendo que o dito corpo de eletrodo (46) tem uma face (60) disposta em uma extremidade de descarga do eletrodo e uma cavidade (66) posicionada na face (60); um enxerto (68) montado na dita cavidade (66), sendo que o dito enxerto (68) é posicionado em contato com o dito corpo de eletrodo (46), sendo que o dito enxerto (68) é recuado em relação à face (60) do dito corpo de eletrodo (46); e uma luva (70) que circunda o dito enxerto (68) e que separa uma parte (76) do enxerto (68) perto da face (60) do dito corpo de eletrodo (46) a partir do dito corpo de eletrodo (46), em que pelo menos uma porção da referida luva (70) adjacente à extremidade de descarga (62) é recuada em relação à referida face (60) do dito corpo do eletrodo (46) e é nivelada com uma superfície de emissão (72) o dito enxerto (68), e em que a referida luva (70) compreende um material com uma função de tarefa maior do que a função de tarefa do dito enxerto (68) e com uma temperatura de ponto de fusão maior do que a temperatura de ponto de fusão do dito enxerto (68).
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