BR112014018114B1 - Método para a produção de depósitos de cobre mate - Google Patents
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Abstract
método para a produção de depósitos de cobre mate. a presente invenção refere-se a um método para deposição de um revestimento de cobre mate em que uma primeira camada de cobre é depositada a partir de um eletrólito de cobre aquoso que não contém um composto orgânico compreendendo enxofre divalente. uma segunda camada de cobre é então depositada sobre a primeira camada de cobre a partir de um eletrólito de cobre aquoso compreendendo um primeiro e um segundo aditivo contendo enxofre solúvel em água em que o primeiro composto contendo enxofre solúvel em água é um derivado de ácido alquil sulfônico e o segundo aditivo contendo enxofre solúvel em água é um derivado de ácido sulfônico aromático. o método proporciona camadas de cobre com um aspecto mate homogêneo e ajustável para aplicações decorativas. 21882789v1 1/1 21882789v1
Description
[001] A presente invenção refere-se a um método para deposição de depósitos de cobre mate no campo de revestimentos decorativos.
[002] Revestimentos de cobre mate no campo de revestimentos decorativos são necessários como um acabamento superficial para por exemplo equipamentos sanitários. Uma outra aplicação de revestimentos de cobre mate é para substituir as camadas de níquel mate ("níquel acetinado") como uma camada intermediária em sistemas de revestimento multicamadas decorativos que vêm se tornando cada vez mais requisitados devido à toxicidade do níquel.
[003] Um aspecto mate homogêneo é necessário para camadas metálicas decorativas. A homogeneidade do aspecto mate pode ser facilmente obtida em substratos que não têm um formato complexo porque distribuição da densidade de corrente durante a galvanoplastia de camadas de cobre mate varia dentro de uma faixa estreita. No entanto, em casos em que o substrato a ser revestido tem um formato complexo, a densidade de corrente durante a galvanoplastia varia dentro de uma faixa larga. Substratos típicos tendo um formato complexo que devem ser revestidos com um revestimento de cobre mate são por exemplo chuveiros e peças para o interior de automóveis.
[004] Uma outra exigência para as camadas de cobre mate é que seu nível de mateamento deve ser ajustável para que seja possível produzir camadas de cobre com níveis de mate diferentes.
[005] Composições de banho de galvanização compreendendo pelo menos um composto à base de poliglicerina para a produção de camadas de cobre de mate durante a fabricação de placas de circuito impresso foram divulgadas no documento US 2004/0020783 A1. Nem é possível obter um depósito de cobre mate homogêneo sobre um substrato tendo um formato complexo nem ajustar o nível de mateamento de tal depósito de cobre quando se usa o eletrólito divulgado naquele documento.
[006] Constitui o objetivo da presente invenção oferecer um método para depositar camadas de cobre que têm um aspecto mate homogêneo e ajustável, especialmente sobre substratos tendo um formato complexo.
[007] Este objetivo foi atingido por um método para deposição de um revestimento de cobre mate, compreendendo, nesta ordem, as etapas
[008] a. proporcionar um substrato,
[009] b. depositar uma primeira camada de cobre sobre o substrato a partir de um primeiro eletrólito aquoso compreendendo uma fonte de íons de cobre, pelo menos um ácido e pelo menos um composto de poliéter onde o referido primeiro eletrólito não contém um composto orgânico compreendendo enxofre divalente
[0010] e
[0011] c. depositar uma segunda camada de cobre sobre a primeira camada de cobre a partir de um segundo eletrólito aquoso compreendendo uma fonte de íons de cobre, pelo menos um ácido, um primeiro aditivo contendo enxofre solúvel em água selecionado do grupo que consiste em derivados de ácido alquil sulfônico e um segundo aditivo contendo enxofre solúvel em água selecionado do grupo que consiste em derivados de ácido sulfônico aromático.
[0012] Os revestimentos de cobre obtidos pelo método de acordo com a presente invenção têm um aspecto mate homogêneo em substratos que têm um formato complexo. Além disso, o aspecto mate do revestimento de cobre pode ser ajustado durante a deposição das camadas de cobre individuais.
[0013] O método para deposição de um revestimento de cobre mate compreende a deposição de duas camadas de cobre individuais sobre um substrato a partir de dois eletrólitos de cobre individuais que neste relatório são chamados de primeiro eletrólito a partir do qual a primeira camada de cobre é depositada e segundo eletrólito a partir do qual a segunda camada de cobre é depositada sobre a primeira camada de cobre.
[0014] O primeiro eletrólito compreende uma fonte de íons de cobre, pelo menos um ácido e pelo menos um composto de poliéter. O primeiro eletrólito não contém um composto orgânico compreendendo enxofre divalente, por exemplo, sulfetos, dissulfetos, tióis, e derivados dos mesmos.
[0015] íons de cobre são acrescentados ao primeiro eletrólito na forma de um sal de cobre solúvel em água ou de uma solução aquosa do mesmo. De preferência, a fonte de íons de cobre é selecionada dentre sulfato de cobre e metanossulfonato de cobre.A concentração de íons de cobre no primeiro eletrólito de preferência varia de 15 a 75 g/l, mais preferivelmente de 40 a 60 g/l.
[0016] O pelo menos um ácido no primeiro eletrólito é selecionado do grupo que compreende ácido sulfúrico, ácido fluorobórico e ácido metanossulfônico. A concentração do pelo menos um ácido no primeiro eletrólito de preferência varia de 20 a 400 g/l e mais preferivelmente de 40 a 300 g/l.
[0017] Caso ácido sulfúrico seja usado como o ácido, ele é de preferência adicionado na forma de uma solução a 50 a 96% em peso. Mais preferivelmente, o ácido sulfúrico é adicionado ao primeiro eletrólito como uma solução aquosa de ácido sulfúrico a 50% em peso.
[0018] O pelo menos um composto de poliéter no primeiro eletrólito é selecionado do grupo que consiste em polialquileno éteres e compostos à base de poliglicerina.
[0019] Polialquileno éteres adequados são selecionados do grupo que consiste em polietileno glicol, polipropileno glicol, poliglicol éter de álcool estearílico, poliglicol éter de nonilfenol, polialquilenoglicol éter de octanol, bis-(polialquileno glicol éter) de octanodiol, poli(etilenoglicol- ran-propilenoglicol), poli(etilenoglicol)-b/oco-poli(propilenoglicol)-b/oco- poli(etilenoglicol) e poli-(propilenoglicol)-b/oco-poli(etilenoglicol)-b/oco- poli(propilenoglicol).
[0020] Compostos à base de poliglicerina adequados são selecionados do grupo que consiste em poli(1,2,3-propantriol), poli(2,3- epoxi-1-propanol) e derivados dos mesmos que são representados pelas fórmulas (1), (2) e (3):
em que
[0021] n é um inteiro de 1 a 80, de preferência de 2 a 30;
[0022] R6, R7 e R8 são idênticos ou diferentes e são selecionados do grupo que consiste em hidrogênio, alquila, acila, fenila e benzila, onde alquil é de preferência Ci a Cie alquila linear ou ramificado e acil é de preferência R10—CO, onde R10 é Ci a Cw alquila linear ou ramificado, fenila ou benzila; alquila, fenila e benzila na fórmula (1) podendo ser substituídos;
em que
[0023] n é um inteiro >1, m é um inteiro >1 com a condição de que n + m é <30;
[0024] R6, R7, R8 e R9 são idênticos ou diferentes e são selecionados do grupo que consiste em hidrogênio, alquila, acila, fenil e benzila, onde alquila é de preferência Ci a Cw alquila linear ou ramificado e acila é de preferência R10—CO, onde R10 é Ci a Cw alquila linear ou ramificado, fenila ou benzila; alquila, fenila e benzila na fórmula (2) podendo ser substituídos;
em que
[0025] n é um inteiro de 1 a 80; de preferência de 2 a 20;
[0026] e onde R6, R7 são selecionados do grupo que consiste em hidrogênio, alquila, acila, fenil e benzila, onde alquila é de preferência Ci a Cw alquila linear ou ramificado e acila é de preferência R10—CO, onde R10 é Ci a Cw alquila linear ou ramificado, fenila ou benzila; alquila, fenila e benzila na fórmula (3) podendo ser substituídos.
[0027] Compostos à base de poliglicerina são produzidos de acordo com métodos conhecidos. Instruções sobre as condições de produção encontram-se descritas nas seguintes publicações, por exemplo: Cosmet. Sei. Technol. Ser., glycerines, página 106 e US 3.945.894. Maiores detalhes sobre as sínteses de compostos à base de poliglicerina de acordo com as fórmulas (1), (2) e (3) encontram-se descritas no documento US 2004/0020783 A1.
[0028] Mais preferivelmente, o pelo menos um composto de poliéter no primeiro eletrólito é selecionado dentre compostos de acordo com as fórmulas (1), (2) e (3).
[0029] A concentração do pelo menos um composto de poliéter ou de todos os compostos do tipo poliéter juntos no caso de mais de um composto de poliéter ser acrescentado de preferência varia de 0,005 g/l a 20 g/l, mais preferivelmente de 0,01 g/l a 5 g/l.
[0030] Durante a operação, a temperatura do primeiro eletrólito é de preferência ajustada em um valor na faixa de 30 a 60 °C, mais preferivelmente de 40 a 50 °C.
[0031] A densidade de corrente aplicada ao substrato durante a deposição de cobre a partir do primeiro eletrólito aquoso de preferência varia de 0,5 a 5 A/dm2, mais preferivelmente de 1 a 3 A/dm2.
[0032] Opcionalmente, o substrato é enxaguado com água antes de a segunda camada de cobre ser depositada a partir do segundo eletrólito.
[0033] íons de cobre são acrescentados ao segundo eletrólito como um sal de cobre solúvel em água ou como uma solução aquosa do mesmo. De preferência, a fonte de íons de cobre é selecionada dentre sulfato de cobre e metanossulfonato de cobre.A concentração de íons de cobre no segundo eletrólito de preferência varia de 15 a 75 g/l, mais preferivelmente de 40 a 60 g/l.
[0034] O pelo menos um ácido no segundo eletrólito é selecionado do grupo que compreende ácido sulfúrico, ácido fluorbórico e ácido metanossulfônico. A concentração do pelo menos um ácido no segundo eletrólito de preferência varia de 20 a 400 g/l e mais preferivelmente de 40 a 300 g/l.
[0035] Caso ácido sulfúrico seja usado como o ácido, ele é adicionado na forma de uma solução a 50 a 96% em peso. De preferência, o ácido sulfúrico é adicionado ao segundo eletrólito como uma solução aquosa de ácido sulfúrico a 50% em peso.
[0036] O segundo eletrólito compreende ainda um primeiro aditivo contendo enxofre solúvel em água e um segundo aditivo contendo enxofre solúvel em água.
[0037] O primeiro composto contendo enxofre solúvel em água é um derivado de ácido alquil sulfônico.De preferência, o derivado de ácido alquil sulfônico compreende enxofre divalente.
[0038] O segundo composto contendo enxofre solúvel em água é um derivado de ácido sulfônico aromático.De preferência, o derivado de ácido sulfônico aromático compreende enxofre divalente.
[0039] O primeiro aditivo contendo enxofre é mais preferivelmente selecionados do grupo que consiste em compostos de acordo com as fórmulas (4) e (5): R1S—(CH2)n—SO3R2 (4) R3SO3—(CH2)m—S—S—(CH2)m—SO3R3 (5) em que
[0040] R1 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, metila, etila, propila, butila, lítio, sódio, potássio e amónio, mais preferivelmente R1 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, metila, etila, propila, sódio e potássio;
[0041] n é um inteiro de 1 a 6, mais preferivelmente n é um inteiro de 2 a 4;
[0042] R2 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, metila, etila, propila, butila, lítio, sódio, potássio e amónio, mais preferivelmente, R2 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, sódio e potássio;
[0043] R3 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, metila, etila, propila, butila, lítio, sódio, potássio e amónio, mais preferivelmente R3 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, sódio, potássio e
[0044] m é um inteiro de 1 a 6, mais preferivelmente m é um inteiro de 2 a 4.
[0045] A concentração do primeiro aditivo contendo enxofre no segundo eletrólito de preferência varia de 0,0001 a 0,05 g/l, mais preferivelmente de 0,0002 a 0,025 g/l.
[0046] O segundo aditivo contendo enxofre no segundo eletrólito é mais preferivelmente selecionado do grupo que consiste em compostos de acordo com as fórmulas (6) e (7): R4Sy—X—SO3M (6) em que R4 é selecionado do grupo que consiste em
e hidrogênio;
[0047] X é selecionado do grupo que consiste em
[0048] y é um inteiro de 1 a 4 e M é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, sódio, potássio e amónio; e
em que R5é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, SH e SO3M e M é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, sódio, potássio e amónio.
[0049] Mais preferivelmente, 0 segundo aditivo contendo enxofre é selecionado dentre compostos de acordo com a fórmula (6).
[0050] A concentração do segundo aditivo contendo enxofre no segundo eletrólito de preferência varia de 0,005 a 1 g/l, mais preferivelmente de 0,01 a 0,25 g/l.
[0051] Opcionalmente, 0 segundo eletrólito compreende ainda um ou mais aditivos carreadores selecionados do grupo que consiste em álcool polivinílico, carboximetilcelulose, polietileno glicol, polipropileno glicol, poliglicol éster de ácido esteárico, naftóis alcoxilados, poliglicol éster de ácido oleico, poliglicol éter de álcool estearílico, éter de nonilfenol poliglicol, polialquileno glicol éter de octanol, bis- (polialquileno glicol éter) de octanodiol, poli(etilenoglicol-ran- propilenoglicol), poli(etilenoglicol)-b/oco-poli(propilenoglicol)-b/oco- poli(etilenoglicol) e poli(propilenoglicol)-b/oco-poli(etilenoglicol)-b/oco- poli(propilenoglicol).
[0052] A concentração do aditivo carreador opcional no segundo eletrólito de preferência varia de 0,005 g/l a 5 g/l, mais preferivelmente de 0,01 g/l a 3 g/l.
[0053] Durante a operação, a temperatura do segundo eletrólito é de preferência ajustada em um valor na faixa de 20 a 50 °C, mais preferivelmente de 25 a 30 °C.
[0054] A densidade de corrente aplicada ao substrato durante a deposição de cobre a partir do segundo eletrólito aquoso de preferência varia de 0,5 a 5 A/dm2, mais preferivelmente de 1 a 3 A/dm2.
[0055] O nível de mateamento da superfície de cobre pode ser adaptado ajustando-se a espessura da primeira e da segunda camadas de cobre por simples experimentação. Um aspecto mais mate pode ser obtido com uma segunda camada de cobre mais fina, ao passo que um aspecto menos mate pode ser obtido com uma segunda camada de cobre mais grossa.
[0056] Os exemplos a seguir ilustram ainda a presente invenção.
[0057] Tanto substratos de ABS (copolímero de acrilonitrila- butadiena-estirol) quanto substratos de bronze tendo um formato complexo foram usados em todos os exemplos.
[0058] Os substratos de ABS foram causticados em ácido crômico, ativados com um coloide contendo paládio e metalizados por galvanização não eletrolítica de níquel a partir de um eletrólito à base de hipofosfito ácido antes da deposição de cobre.
[0059] Os substratos de bronze foram desengordurados antes da deposição de cobre.
[0060] O aspecto mate dos revestimentos de cobre foi testado por exame visual dos substratos banhados a cobre em todos os exemplos. Exemplo 1 (comparativo)
[0061] Cobre foi depositado sobre substratos de bronze e ABS tendo um formato complexo a partir de um eletrólito ácido aquoso compreendendo 80 g/l de CuSO4 5H2O, 240 g/l de ácido sulfúrico, e 1 g/l de uma mistura de compostos à base de poliglicerina de acordo com a fórmula (1) com n = 2 a 7.
[0062] Foi obtida uma superfície de cobre fortemente mate homogêneo que é mate demais para aplicações decorativas.
[0063] Cobre foi depositado sobre substratos de bronze e ABS tendo um formato complexo a partir de um eletrólito ácido aquoso compreendendo 80 g/l de CuSO4 5H2O, 240 g/l de ácido sulfúrico, e 0,5 mg/l de um primeiro aditivo contendo enxofre de acordo com a fórmula (5) com m = 3 e R3 = sódio, 80 mg/l de um segundo aditivo contendo enxofre de acordo com a fórmula (6) com R4 =
X = 
y = 2 e M = sódio e 200 mg/l de polietileno glicol.
[0064] A superfície de cobre obtida tem um brilho técnico homogêneo que não é desejado para aplicações decorativas.
[0065] Uma primeira camada de cobre foi depositada sobre substratos de bronze e ABS tendo um formato complexo a partir do eletrólito usado no exemplo 2. Sobre a mesma, uma segunda camada de cobre foi depositada a partir do eletrólito usado no exemplo 1.
[0066] Foi obtida uma superfície homogêneo de cobre fortemente mate que é mate demais para aplicações decorativas.
[0067] Uma primeira camada de cobre foi depositada sobre substratos de bronze e ABS tendo um formato complexo a partir do eletrólito usado no exemplo 1. Em seguida, uma segunda camada de cobre foi depositada sobre a mesma a partir de um segundo eletrólito compreendendo 80 g/l de CuSO4 5H2O, 240 g/l de ácido sulfúrico, e 0,5 mg/l de um aditivo contendo enxofre de acordo com a fórmula (5) com m = 3 e R3 = sódio. O segundo eletrólito não contém um segundo aditivo contendo enxofre selecionado dentre compostos de acordo com as fórmulas (6) e (7).
[0068] A superfície de cobre resultante tem um aspecto mate não homogêneo que não é aceitável para aplicações decorativas.
[0069] Uma primeira camada de cobre foi depositada sobre substratos de bronze e ABS tendo um formato complexo a partir do eletrólito usado no exemplo 1. Em seguida, uma segunda camada de cobre foi depositada sobre a mesma a partir de um segundo eletrólito compreendendo 80 g/l de CuSO4 5H2O, 240 g/l de ácido sulfúrico, e 80 mg/l de um aditivo contendo enxofre de acordo com a fórmula (6) com R4 =
, x = 
y = 2 e M = sódio. O segundo eletrólito não contém um primeiro aditivo contendo enxofre selecionado dentre compostos de acordo com as fórmulas (4) e (5).
[0070] A superfície de cobre obtida tem um aspecto mate com áreas queimadas (aspecto preto sombreado) que não é aceitável para aplicações decorativas.
[0071] A primeira camada de cobre foi depositada sobre os substratos de bronze e ABS a partir do eletrólito usado no Exemplo 1. A segunda camada de cobre foi depositada sobre a mesma a partir do eletrólito usado no Exemplo 2.
[0072] A superfície de cobre obtida tem um aspecto mate homogêneo que é desejado para aplicações decorativas.
[0073] A primeira camada de cobre foi depositado a partir de um primeiro eletrólito compreendendo 80 g/l de CUSO4 5H2O, 240 g/l de ácido sulfúrico, e 1 g/l de polietileno glicol. A segunda camada de cobre foi depositada sobre a mesma a partir do eletrólito usado no
[0074] A superfície de cobre obtida tem um aspecto mate homogêneo que é desejado para aplicações decorativas. Tabela 1: Primeiro e sequndo eletrólitos usados nos Exemplos 1 a 6.
Claims (13)
1. Método para deposição de um revestimento de cobre mate caracterizado por compreender, nesta ordem, as etapas a. proporcionar um substrato, b. depositar uma primeira camada de cobre sobre o substrato a partir de um primeiro eletrólito aquoso compreendendo uma fonte de íons de cobre, pelo menos um ácido e pelo menos um composto de poliéter em que o referido primeiro eletrólito não contém um composto orgânico compreendendo enxofre divalente e c. depositar uma segunda camada de cobre sobre a primeira camada de cobre a partir de um segundo eletrólito aquoso compreendendo uma fonte de íons de cobre, pelo menos um ácido, pelo menos um primeiro aditivo contendo enxofre solúvel em água selecionado do grupo que consiste em derivados de ácido alquil sulfônico e um segundo aditivo contendo enxofre solúvel em água selecionado do grupo que consiste em derivados de ácido sulfônico aromático em que uma densidade de corrente é aplicada ao substrato durante as etapas b e c.
2. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com a reivindicação 1, em que o pelo menos um composto de poliéter no primeiro eletrólito é caracterizado pelo fato de que é selecionado do grupo que consiste em polialquileno glicóis e poliglicerinas.
3. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizado pelo fato de que o pelo menos um composto de poliéter no primeiro eletrólito é caracterizado pelo fato de que é selecionado do grupo que consiste em poli(1,2,3-propantriol), poli(2,3-epoxi-1-propanol) e derivados dos mesmos.
4. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que o pelo menos um composto de poliéter no primeiro eletrólito é é selecionado do grupo que consiste em compostos de acordo com as fórmulas (1), (2) e (3):
em que n é um inteiro de 1 a 80; 
) em que n é um inteiro >1, m é um inteiro >1 com a condição de que n + m é <30; 
) em que n é um inteiro de 1 a 80; e em que R6, R7, R8 e R9 são idênticos ou diferentes e são selecionados do grupo que compreende hidrogênio, alquila, acila, fenila e benzila.
5. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com a reivindicação 4, caracterizado pelo fato de que o peso molecular dos compostos de acordo com as fórmulas (1), (2) e (3) varia de 160 a 6000 g/mol.
6. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que a concentração do pelo menos um composto de poliéter no primeiro eletrólito varia de 0,005 g/l a 5 g/l.
7. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que o primeiro aditivo contendo enxofre solúvel em água no segundo eletrólito é selecionado do grupo que consiste em compostos de acordo com as fórmulas (4) e (5): R1S—(CH2)n—SO3R2 (4) R3SO3—(CH2)m—S—S—(CH2)m—SO3R3 (5) em que R1 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, metila, etila, propila, butila, lítio, sódio, potássio e amónio, n varia de 1 a 6, R2 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, metila, etila, propila, butila, lítio, sódio, potássio e amónio, R3 é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, metila, etila, propila, butila, lítio, sódio, potássio e amónio e m varia de 1 a 6.
8. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que a concentração do primeiro aditivo contendo enxofre solúvel em água no segundo eletrólito varia de 0,0001 a 0,05 g/l.
9. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que o segundo aditivo contendo enxofre solúvel em água no segundo eletrólito é selecionado do grupo que consiste em compostos de acordo com as fórmulas (6) e (7): R4Sy—X—SO3M (6) em que R4 é selecionado do grupo que consiste em
e hidrogênio; X é selecionado do grupo que consiste em 
y é um inteiro de 1 a 4 e M é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, sódio, potássio e amónio; e 
em que R5 é selecionado do grupo que consiste em H, SH e SO3M e M é selecionado do grupo que consiste em hidrogênio, sódio, potássio e amónio.
10. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 9, caracterizado pelo fato de que a concentração do segundo aditivo contendo enxofre solúvel em água no segundo eletrólito varia de 0,005 a 1 g/l.
11. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que o segundo eletrólito compreende ainda pelo menos um aditivo carreador.
12. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com a reivindicação 11, caracterizado pelo fato de que o pelo menos um aditivo carreador é selecionado do grupo que consiste em álcool polivinílico, carboximetilcelulose, polietileno glicol, polipropileno glicol, poliglicol éster de ácido esteárico, naftóis alcoxilados, poliglicol éster de ácido oleico, poliglicol éter de álcool estearílico, poliglicol éter de nonilfenol, polialquileno glicol éter de octanol, bis-(polialquileno glicol éter) de octanodiol, poli-(etilenoglicol- ran-propilenoglicol), poli(etilenoglicol)-b/oco-poli-(propilenoglicol)-b/oco- poli(etilenoglicol) e poli(propilenoglicol)-b/oco-poli(etilenoglicol)-b/oco- poli(propilenoglicol).
13. Método para deposição de um revestimento de cobre mate de acordo com a reivindicação 11 ou 12, caracterizado pelo fato de que a concentração do pelo menos um aditivo carreador no segundo eletrólito varia de 0,005 g/l a 5 g/l.
Applications Claiming Priority (3)
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