BE1013627A3 - Composition de reserve, composes photosensibles qui y sont contenus et leurs utilisations. - Google Patents

Composition de reserve, composes photosensibles qui y sont contenus et leurs utilisations. Download PDF

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BE1013627A3 BE2000/0228A BE200000228A BE1013627A3 BE 1013627 A3 BE1013627 A3 BE 1013627A3 BE 2000/0228 A BE2000/0228 A BE 2000/0228A BE 200000228 A BE200000228 A BE 200000228A BE 1013627 A3 BE1013627 A3 BE 1013627A3
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Abstract

L'invention concerne une composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement qui comprend (a) un composé qui durcit sous l'action d'un acide ou dont la solubilité est augmentée sous l'action d'un acide et (b) comme donneur d'acide photosensible, au moins un composé de formule I, II ou IIIoù R1 peut être un groupe phényle, R'1 peut être un groupe phényle R2 peut être un halogène, R3 peut être un groupe alkylsulfonyle en C1-C18, R'3 peut être un groupe phénylène-disulfonyle et X est halogène. Application aux matériaux photosensibles.

Description


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   "Composition de réserve, composés photosensibles qui y sont contenus et leurs utilisations" 
L'invention concerne de nouveaux dérivés d'oximes, des compositions de réserve photosensible amplifiée chimiquement comprenant ces composés et l'utilisation des composés comme acides latents qui peuvent être activés par irradiation avec un rayonnement électromagnétique actinique et des faisceaux d'électrons. 



   Le document US 4 540 598 propose des compositions de revêtement de surface comprenant des sulfonates d'oximes photosensibles, par exemple le benzènesulfonate de 4-chloroa-trifluoracétophénoxime, et des résines classiques durcissables par un acide. Le document US 4 736 055 décrit le   0- (4-hydroxyphénylsulfonate)   de 2,2,   2-trifluoro-1-phényl-   éthanoxime comme composant pour la préparation de polymères qui peuvent être utilisés comme résines dans des réserves photosensibles positives.

   Les documents US 5 627 011 et US 5 759 740 décrivent l'utilisation de cyanure de 
 EMI1.1 
 a- (4-toluènesulfonyloxyimino)-4-méthoxybenzyle et de cyanure de a- (4-toluènesulfonyloxyimino) -3-thiénylméthyle comme catalyseurs du type acide latent dans des réserves photosensibles positives et négatives amplifiées chimiquement pour des longueurs d'ondes de 340-390 nm, notamment dans la région de rayonnement de la raie i du mercure (365 nm). 



  Le document GB 2 306 958 mentionne l'utilisation de sulfonates d'oximes comme donneurs d'acide latent dans des réserves photosensibles positives et négatives, pour des longueurs d'onde comprises entre 180 et 600 nm, notamment dans la région de rayonnement au-delà de 390 nm. Le document US 5 714 625 propose   des a- (alkylsulfonyloxyimino} -1-cyclo-   hexénylacétonitriles et   a- (alkylsulfonyloxyimino) -1-cyclo-     penténylacétoni tri les   non aromatiques. Dans le document EP 241 423, des sulfonates d'oximes sont utilisés à une concentration d'environ 25 % comme photogénérateurs d'acide latent dans des réserves positives non amplifiées chimiquement.

   Dans Chemical Abstracts NO 97 : 144503,78 : 97752, 

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 Synthesis (1995), 553, il est décrit quelques sulfonates de fluorocétoximes à titre de produits expérimentaux pour des études de synthèse. 



   Il existe dans la technologie un besoin de donneurs d'acide latent non ioniques réactifs qui soient stables thermiquement et chimiquement et qui, après avoir été activés par la lumière, un rayonnement UV, un rayonnement X ou des faisceaux d'électrons, puissent être utilisés comme catalyseurs pour diverses réactions à catalyse acide, telles que des réactions de polycondensation, des réactions de dépolymérisation à catalyse acide, des réactions de substitution électrophile à catalyse acide ou l'enlèvement de groupes protecteurs par catalyse acide. Dans le domaine des réserves photosensibles amplifiées chimiquement, il existe un besoin particulier de catalyseurs du type acide latent doués d'une grande stabilité et d'une bonne solubilité. 



   On a maintenant découvert le fait surprenant que certains dérivés   d'oximes,   tels que décrits ci-dessous, conviennent particulièrement bien comme catalyseurs pour les réactions à catalyse acide susmentionnées. Les spectres d'absorption optique des composés spécifiques de l'invention sont ajustables sur une large plage du spectre électromagnétique et conviennent en particulier à des applications dans le domaine de l'ultraviolet lointain. De plus, les compositions de réserve photosensible amplifiée chimiquement comprenant les dérivés d'oximes de la présente invention sont stables thermiquement, même à des températures de cuisson élevées rencontrées pendant le traitement, et offrent une grande rapidité de réponse à la lumière. 



   L'invention concerne donc une composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement comprenant : (a) un composé qui durcit sous l'action d'un acide ou un composé dont la solubilité est augmentée sous l'action d'un acide ; et (b) comme donneur d'acide photosensible, au moins un composé de formule I, II ou III 

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 EMI3.1 
 
 EMI3.2 
 r formules dans lesquelles R1 est l'hydrogène, un groupe alkyle en Ci-cl2 non substitué ou un groupe alkyle en Ci-cl2 substitué par au moins un groupe cycloalkyle en C3-C30 ; ou bien R. est un groupe cycloalkyle en C-CQ, halogénoalkyle en Ci-c., alcényle en C-C, cycloalcényle en C4-C8' bicycloalcényle en Cg-C ou camphoryle ;

   ou bien R1 est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en C < -C, halogénoalkyle en C1-C4'phényl (alkyle en C1-C3)'halogéno, 1 4, ph'nyl (alkyle en Cl-C3) phényle, OR, NR. Rg, SRy, SORy et/ou SORy, les substituants OR., SR et NRcRg formant facultativement des cycles pentaou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R,, Re, Rc et/ou R-y, avec d'autres substituants présents sur le noyau phényle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau phényle ;

   ou bien R1 est un groupe naphtyle, anthracyle ou phénanthryle, chacun des groupes naphtyle, anthracyle et phénanthryle n'étant pas substitué ou étant substitué par au moins un groupe alkyle en Cl-c6, phényle, OR, NRRe, SR, SOR-, et/ou SOR, les substituants OR., SR-, et NReRg formant facultativement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R., Re, Rc et/ou Ry, avec d'autres substituants présents sur le noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ;

   ou bien R1 est un groupe hétéroaryle qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en Cl-c6, phényle, OR, NRcRe, SR, SORy et/ou SORy, les substituants OR., SR et NR, R, formant facultativement des cycles pentaou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R., Re, Rg 

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 et/ou R7, avec d'autres substituants présents sur le noyau hétéroaryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau hétéroaryle ; 
 EMI4.1 
 1 tous les radicaux R1 à l'exception de l'hydrogène pouvant en outre être substitués par un groupe ayant une liaison - 0-C-ou une liaison-0-Si-qui se clive sous l'action d'un acide ;

   
 EMI4.2 
 diphénylène ou oxydiphénylène, ces groupes n'étant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle en   Ci-cl2 ;   ou bien R'est un groupe alkylène en   C1-C12   ou 
 EMI4.3 
 A est -O-, -S-, -NR4-, -O(CO)-, -S(CO)-, -NR4(CO)-, -SO-,   -S02-1 OU-OS02-   ; A1 est un groupe alkylène en C1-C12 ou un groupe alkylène en   C2-C12   qui est interrompu par un ou plusieurs-0- ;

   R2 est un halogène ou un groupe halogénoalkyle en   C1-C, O ;   R3 est un groupe alkylsulfonyle en C1-C18, halogénoalkyl- 
 EMI4.4 
 sulfonyle en C i-Clo, camphorylsulfonyle, phényl (alkylsulfonyle en C < -C), cycloalkyisulfonyle en C--C, phényl- sulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénanthrylsulfonyle, les fragments cycloalkyle, phényle, naphtyle, anthracyle et phénanthryle des groupes cycloalkylsulfonyle 
 EMI4.5 
 en C3-C e enC-C, phênyl (alkylsulfonyle enC < -Cg), phényisulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle et phénanthrylsulfonyle n'étant pas substitués ou étant substitués par un ou plusieurs groupes halogéno, halogénoalkyle en C.-C., CN, NO2, alkyle en C.-C. g, phényle, alkylthio en C.-C,, OR., COOL 71 (alkyle en C1-C4)- (OC) O-, R7OSO2-et/ou-NRR6 ;

   ou bien R3 est un groupe halogénoalcanoyle en C2-C6' halogénobenzyle ou 
 EMI4.6 
 

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   Y., Y   et Y3 sont chacun indépendamment 0 ou S ; R'3 est un groupe phénylènedisulfonyle, naphtylènedi- 
 EMI5.1 
 oxydiphénylènedisulfonyle, ces groupes n'étant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle 
 EMI5.2 
 en Ci-cl2 ; ou bien R'3 est un groupe alkylènedisulfonyle en C-C ; X est un halogène ;

   R4 est l'hydrogène ou un groupe phényle, alkyle en C1-C18 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en   Ci-cl2,   alcoxycarbonyle en 
 EMI5.3 
 c e C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthio- carbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkyle en   CZ-C'8   qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est 
 EMI5.4 
 substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en 12, ph'noxy, phénoxycarbonyle, C < -C. , alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRcRg, alkylsulfonyle en C-C, phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;

   ou bien R4 est un groupe alcanoyle en C2-C18 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkylsulfonyle en   C1-C18   qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en   C-C,   phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ;

   

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   Re   et   H6   sont chacun indépendamment l'hydrogène ou un groupe 
 EMI6.1 
 alkyle en C e alkyle en C, -C'8 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy en C-C., alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phényl- thiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphnyl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C1-C6 ;

   ou bien   Rc   et R6 sont chacun un groupe alkyle en C2-C18 qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy en C1-C4, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en 
 EMI6.2 
 C-C ;

   ou bien   Re   et R6 sont chacun un groupe alcanoyle en   C-C. o   qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en   C-C < , phénoxy,   phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthio- 
 EMI6.3 
 carbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C.-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien Re et R6 sont chacun un groupe alkylsulfonyle en Ci-cl, qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en Cl-cl2, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle enCCj-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en CZ-C6 ;

   ou bien Re et R6 sont des groupes phényle, benzoyle, phényl- sulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénanthrylsulfonyle ; ou bien R5 et R6, avec l'atome d'azote auquel ils sont attachés, forment un cycle penta-, hexa-ou heptagonal qui peut être interrompu   par -0- ou par -NR4- ;   R7 est l'hydrogène, un groupe phényle ou un groupe alkyle en 
 EMI6.4 
 c e C, -C'8 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins 

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 un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en 
 EMI7.1 
 c e e C-C, phênoxy, phênoxycarbonyle, phénylthio, phènylthiocarbonyle, NR R e carbonyle, NReRg, alkylsulfonyle en C < -C, phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;

   ou bien R7 est un groupe alkyle   en C2-C18 qui   est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en 
 EMI7.2 
 cl-cl2, alcoxycarbonyle en CZ-C12'phénoxy, phénoxycarbonyle, 2 12, phénoxy, ph'noxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NReRc/alkyisulfonyle en C1-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R7 est un groupe alcanoyle en C-C. o gui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle,   NRSR6'   alkylsulfonyle en C!-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;

   ou bien R7 est un groupe alkylsulfonyle en   Ci-Cl, qui   n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en   C-c   phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, 
 EMI7.3 
 NRcRe, alkyisulfonyle en C-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en CZ-C6 ; ou bien R7 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthyl- phényl) sulfonyle ;   Rg, Rn   et R10 sont chacun indépendamment un groupe alkyle en C1-C6 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe   halogéno   ; ou bien   Rg, Rq   et R10 sont chacun un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe 
 EMI7.4 
 alkyle en Cl-c4 ou halogéno ;

   ou bien Rg et R10 forment ensemble un groupe 1, 2-phénylène ou alkylène en C2-C6 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en C1-C4 ou   halogéno.   



   Les composés des formules I, II et III sont caractérisés par le fait qu'ils contiennent au moins deux atomes d'halogène sur l'un des atomes de carbone voisins du groupe 

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 oximino. De préférence, les composés contiennent trois atomes d'halogène sur l'un des atomes de carbone voisins du groupe oximino. 
 EMI8.1 
 



  Un groupe alkyle en C e Un groupe alkyle en C-Cg est linéaire ou ramifié et c'est par exemple un groupe alkyle en C1-C8, C1-C6 ou   Cl-c4.   Des exemples en sont les groupes méthyle, éthyle, propyle, isopropyle, n-butyle, sec-butyle, isobutyle, tertbutyle, pentyle, hexyle, heptyle, 2,4,   4-triméthylpentyle,   2-éthylhexyle, octyle, nonyle, décyle, undécyle, dodécyle, tétradécyle, pentadécyle, hexadécyle, heptadécyle et octadécyle, de préférence un groupe alkyle en   Cl-c4   tel que méthyle, isopropyle ou butyle. 
 EMI8.2 
 



  Les groupes alkyle en Ci-c,,, alkyle en Cl-c6 et alkyle en Cl-c4 sont également linéaires ou ramifiés et sont, par exemple, tels que définis ci-dessus à concurrence du nombre correspondant d'atomes de carbone. Des classes intéressantes sont, par exemple, les groupes alkyle en   C.-Cg,   notamment en   Cl-c6,   de préférence en   Cl-C4.   tels que méthyle ou butyle. 



     R.   est, par exemple, un groupe alkyle en   C-C,     C4-C12, C9-C12 ou C4-C8.   
 EMI8.3 
 



  Un groupe alkyle en C2-C12 qui est interrompu une ou plusieurs fois par -0- est interrompu, par exemple, 1 à 5 fois, par exemple 1 à 3 fois ou 1 ou 2 fois, par des -0- non consécutifs. Ainsi, les motifs structuraux résultants sont, par exemple :-0 (CH2) 20H,-0 (CH2) 20CH3,-O (CH2CH20) 2CH2CHg, -CH2-0-CH3,-CH2CH2-0-CH2CH3'-[CH2CH2O]-CH, où y = 1 à 5, - (CH2CH20) 5CH2CH3,-CH2¯CH (CH3)-O-CH2-CH2CH3 ou   -CH2-CH (CH3)-O-CH2CH3.   



   Un groupe cycloalkyle en C3-C30 est un système monoou polycyclique aliphatique, par exemple un système mono-, bi-ou tricyclique aliphatique, par exemple un groupe cycloalkyle en C3-C20, C3-C18, C3-C12 ou C3-C10. Des exemples de systèmes monocycliques sont les groupes cyclopropyle, cyclobutyle, cyclopentyle, cyclohexyle et cycloheptyle, notamment cyclopentyle et cyclohexyle.

   Des exemples de systèmes polycycliques sont les groupes perhydroanthracyle, 

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 perhydrophénanthryle, perhydronaphtyle, perhydrofluorényle, perhydrochrysényle, perhydropicényle, adamantyle, bicyclo- [1. 1. 1] pentyle, bicyclo [4. 2.   2] décyle, bicyclo [2.   2.   2] octyle,   bicyclo [3. 3. 2] décyle, bicyclo [4. 3.   2] undécyle,   bicyclo- [4. 3.   3] dodécyle, bicyclo [3.   3.   3] undécyle, bicyclo [4.   3.   1]-   décyle, bicyclo [4. 2. 1] nonyle, bicyclo [ [3. 3. 1   nonyle,     bicyclo [3.   2. 1] octyle, etc.

   En outre, les groupes cycloalkyle "spiranniques"sont inclus dans la définition du groupe cycloalkyle en C3-C30 dans le présent contexte, et des exemples en sont les groupes spiro   [5. 2] octyle, spiro [5. 4]-   décyle, spiro [5.   5] undécyle.   D'autres exemples de groupes cycloalkyle polycycliques, qui font l'objet de la définition correspondante dans les composés de la présente invention, sont énumérés dans le document EP 878 738, pages 11 et 12, où une liaison a été ajoutée aux formules (1) à (46) pour donner le"yle". L'homme de l'art est informé de ce fait. 



   En général, les systèmes cycloaliphatiques peuvent former des motifs structuraux récurrents. 



   Les groupes alcényle en   C2-c12   peuvent être mono-ou   polyinsaturés,   linéaires ou ramifiés, et sont par exemple des groupes alcényle en C2-C8, C2-C6 ou   C2-C4.   Des exemples en sont les groupes allyle, méthallyle, vinyle, 1,1-diméthylallyle, 1-butényle, 3-butényle, 2-butényle, 1,3-pentadiényle, 5-hexényle et 7-octényle, notamment allyle et vinyle. 



   Un groupe cycloalcényle en   C < -Cg   peut avoir une ou plusieurs doubles liaisons, et il s'agit par exemple d'un groupe cycloalcényle en C4-C6 ou cycloalcényle   enCe-Cg.   Des exemples en sont les groupes cyclobutényle, cyclopentényle, cyclohexényle et cyclooctényle, notamment cyclopentényle et cyclohexényle, de préférence cyclohexényle. 



   Un groupe bicycloalcényle en   Ce-C.   est un groupe alcényle bicyclique qui peut posséder une ou plusieurs doubles liaisons et dans lequel les doubles liaisons sont situées dans le même cycle, mais peuvent aussi être situées dans les deux cycles. Si plusieurs doubles liaisons sont présentes dans le système bicyclique, les doubles liaisons sont conjuguées ou non conjuguées, de préférence les doubles 

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 liaisons sont conjuguées.

   Des exemples en sont les groupes   bicyclo [4.   2. 4] dodéc-3, 7-diène-5-yle,   bicyclo [4.   2. 4] dodéc- 3-ène-5-yle, bicyclo [4. 2.   4] dodéc-4-ène-6-yle,   bicyclo- [4. 2.   3] non-3-ène-5-yle, bicyclo [4.   2. 3] non-4-ène-6-yle,   bicyclo [4.   2. 3] non-7-ène-8-yle, bicyclo [4. 2. 3] non-8-ène- 7-yle, ces exemples se référant à la numérotation suivante 
 EMI10.1 
 
Un groupe alkylène   en C2-C12   est linéaire ou ramifié et il s'agit par exemple d'un groupe alkylène en   C-Cg,   C2-C6 ou C2-C4.

   Des exemples en sont les groupes éthylène, propylène, butylène, pentylène, hexylène, heptylène, octylène, nonylène, décylène, undécylène et dodécylène. 
 EMI10.2 
 Un groupe alkylène en C-Cgêst préféré, notamment alkylène Un groupe alkylène en C e ene en C-c e e en C, -C6' de préférence alkylène en C1-C4'tel que méthylène ou butylène. 



   Un groupe alkylènedisulfonyle en   C2-C12   est donc un groupe alkylène tel qu'indiqué ci-dessus qui porte un groupe sulfonyle sur ses deux portions"yle". Des exemples 
 EMI10.3 
 en sont-SO-(CHgCH)-SCH-où z = 1 à 6, par exemple - SO-CHCH-SO-ou-SO-CH (CH) CHSO-. 



  Les groupes phénylènedisulfonyle, diphénylènedisulfonyle et oxydiphénylènedisulfonyle portent également des groupes sulfonyle sur leurs portions "y1e". Par consé- 
 EMI10.4 
 0 quent, les structures résultantes sont !'\--/0 il-C par exemple o a 0 0 Il LII par " - s- 0 Il -0- a 0 0 - 0 1 -il-cil o O O O O o O exemple oc 0 0 -s ;"r-o-''' s s-par exemple 0. - a 0 Il, 0 - ". par - s-O-O- R'Il - a exempl 0 Il S -s 0 e -S 
Un groupe phényle substitué porte 1 à 5, par exemple 1,2 ou 3, notamment 1 ou 2, substituants sur le noyau phényle. La substitution se trouve de préférence aux positions 4,3, 4,3, 5 ou 3,4, 5 du noyau phényle. 

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 EMI11.1 
 



  Les groupes alkyle en Ci-ci, dans le groupe alkylsulfonyle en Ci-c 18 sont linéaires ou ramifiés et sont tels que décrits ci-dessus. 



  Les groupes cycloalkyle en C3-C30 dans le groupe cycloalkylsulfonyle en C3-C30 sont tels que décrits cidessus. 



  Lorsque les groupes naphtyle, phénanthryle, hétéroaryle et anthracyle sont substitués par un ou plusieurs groupes, ils sont par exemple mono-à penta-substitués, par exemple mono-, di-ou tri-substitués, notamment monoou disubstitués. 



  Lorsque R1 est un groupe phényle substitué par OR < , NReRc et/ou Sir7, et que les substituants OR4, 5R6 et/ou SUR ? forment des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R < , Rc, Rg ou Ry, avec d'autres substituants présents sur le noyau phényle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau phényle, les motifs structuraux suivants sont par exemple obtenus 
 EMI11.2 
 
 EMI11.3 
 Dans la présente demande, le terme"hétéroaryle" désigne des groupes substitués et non substitués, par 
 EMI11.4 
 exemple 3-thiényle, 2-thiényle, Q-- RsR6N't). 



  00 'S 's 0 0 
 EMI11.5 
 où Rr et R6 sont tels que définis ci-dessus, thianthrényle, 
 EMI11.6 
 Y isobenzofurannyle, xanthényle, phénoxanthiinyle, y - N N ou N, où Y est S, 0 ou NR4 et R4 est tel que défini 
 EMI11.7 
 ci-dessus. Des exemples en sont les groupes pyrazolyl, thiazolyle, oxazolyl, isothiazolyle ou isoxazolyle. Il y est également inclus, par exemple, les groupes furyle, 
 EMI11.8 
 N-N N-N pyrrolyle, 1, 2, 4-triazolyle, ou les hétérocycles N pentagonaux portant un groupe aromatique condensé, par 

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 EMI12.1 
 exemple benzimidazolyle, benzothiényle, benzofurannyle, benzoxazolyle et benzothiazolyle. 



  D'autres exemples de groupes"hétéroaryle"sont les 
 EMI12.2 
 r,'ir 4 groupes pyridyle, notamment 3-pyridyle, où R4 est R40 N 
 EMI12.3 
 tel que défini ci-dessus, pyrimidinyle, pyrazinyl, 1, 3, 5triazinyl, 2, 4-, 2, 2- ou 2, 3-diazinyle, indolizinyle, isoindolyle, indolyle, indazolyle, purinyle, isoquinolyle, quinolyle, phénoxazinyle et phénazinyle. Dans la présente demande, le terme"hétéroaryle"désigne également les 
 EMI12.4 
 groupes thioxanthyle, xanthyle, JRCH-r t) L m- 0 0 m oÙ m est 0 ou 1 et R Rc et R6 sont tels b 0 0 N EFRC 6 0 a Nr que définis ci-dessus, Co Wly ou anthraquinonyle. Chacun 0 N 
 EMI12.5 
 des groupes hétéroaryle peut porter les substituants indiqués ci-dessus. 



  Les groupes camphoryle, 10-camphoryle, désignent 
 EMI12.6 
 H3C CH3 le groupe camphor-l0-yle, à savoir X HC. 0 
 EMI12.7 
 Un groupe alcanoyle en C2-C6 est, par exemple, un groupe acétyle, propionyle, butanoyl ou hexanoyl, notamment acétyle. 



  Un groupe alcoxy en Ci-c4 est, par exemple, un groupe méthoxy, éthoxy, propoxy ou butoxy, les fragments alkyle des groupes alcoxy ayant plus de deux atomes de carbone pouvant également être ramifiés. 



  Un groupe alkylthio en C1-C4 est, par exemple, un groupe méthylthio, éthylthio, propylthio ou butylthio, les fragments alkyle des groupes alkylthio ayant plus de deux atomes de carbone pouvant également être ramifiés. 



  Un groupe alcoxycarbonyle en C2-C6 est un groupe (alkyle en C1-CS) -O-C (O) - dont le fragment alkyle en C-C est tel que défini ci-dessus à concurrence du nombre 

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 correspondant d'atomes de carbone. Des exemples sont les groupes méthoxycarbonyle, éthoxycarbonyle, propoxycarbonyle, butoxycarbonyle ou pentyloxycarbonyle, les portions alkyle des groupes alcoxy ayant plus de deux atomes de carbone pouvant également être ramifiées. 
 EMI13.1 
 



  Les groupes halogénoalkyle en C-C et halogénoi-ci, et halog' alkyle en C1-C4 sont des groupes alkyle en C1-C, et en Ci-c4 mono-ou polysubstitués par un halogène, les groupes alkyle en   Ci-ci,   et en C1-C4 étant, par exemple, tels que définis ci-dessus. Il y a, par exemple, 1 à 3 ou 1 ou 2 substituants halogéno sur le groupe alkyle. Des exemples sont les groupes chlorométhyle, trichlorométhyle, trifluorométhyle et 2-bromopropyle, notamment trifluorométhyle ou trichlorométhyle. Un groupe fluoroalkyle en   Ci-c,,   est préféré. 



   Un groupe halogénoalcanoyle en C2-c6 est un groupe (halogénoalkyle en   C.-Ce)-C (O)- où   le fragment halogénoalkyle en   Ci-c.   est tel que défini ci-dessus à concurrence du nombre correspondant d'atomes de carbone. Des exemples sont les groupes chloroacétyle, trichloroacétyle, trifluoroacétyle, pentafluoropropionyle, perfluorooctanoyle et 2-bromopropionyle, notamment   trifluoroacétyle ou   trichloroacétyle. 



   Un groupe halogénobenzoyle est un groupe benzoyle qui est mono-ou polysubstitué par un ou plusieurs substituants halogéno et/ou halogénoalkyle en   Ci-c4,   le substi- 
 EMI13.2 
 tuant halogénoalkyle en C, -C4 étant tel que défini ci- 1 4 dessus. Des exemples sont les groupes pentafluorobenzoyle, trichlorobenzoyle, trifluorométhylbenzoyle, notamment pentafluorobenzoyle. 



   Un halogène est le fluor, le chlore, le brome ou l'iode, notamment le chlore ou le fluor, de préférence le fluor. 



   Un groupe phényl (alkyle en C1-C3) est, par exemple 
 EMI13.3 
 un groupe benzyle, 2-phényléthyle, 3-phénylpropyle, a-méthylbenzyle ou a, a-diméthylbenzyle, notamment benzyle. 
 EMI13.4 
 Un groupe oxydiphénylène est 00-0 

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Lorsque   Re   et CR6, avec l'atome d'azote auquel ils sont attachés, forment un cycle penta-, hexa-ou heptagonal qui peut être interrompu par -O- ou par -NR4-, les structures suivantes sont par exemple obtenues 
 EMI14.1 
 Les définitions des groupes alkylsulfonyle en 
 EMI14.2 
 c e C < -C. g, phényl (alkylsulfonyleenC-Cg), camphorylsulfonyle, halogénoalkylsulfonyle en C1-C10 désignent les groupes i-cio d'signent les groupes alkyle en C e alkyle en C.-C.

   o phényl (alkyle en C1-C3)'camphoryle et halogénoalkyle en   C1-C10   correspondants, tels que décrits en détail ci-dessus, qui sont liés à un groupe sulfonyle   (-spar   conséquent, les groupes phénylsulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle et phénanthrylsulfonyle désignent également les groupes correspondants liés à un 
 EMI14.3 
 groupe sulfonyle. R3 est, par exemple, un groupe alkylsulfonyle en C-Cg, C-C, Cg-Cg ou C-C. 



  Les groupes ayant une liaison-0-C-ou-0-Si-qui se clive sous l'action d'un acide, et qui sont des substituants du radical R < , sont des groupes clivables par un acide qui augmentent la solubilité des composés de formule I, II, III ou Ib, IIb ou   IIIb   (les formules Ib, IIb et   IIIb   sont décrites ci-dessous) dans la solution alcaline de développement après réaction avec un acide. Cet effet est décrit, par exemple, dans le document US 4 883 740. 



   Des exemples de groupes qui conviennent comme substituants sur le radical R1 sont, par exemple, des orthoesters connus, les groupes trityle et benzyle, des esters de tert-butyle d'acides carboxyliques, des tert-butylcarbonates 
 EMI14.4 
 de phénols ou des éthers silyliques de phénols, par exemple 
 EMI14.5 
 u 0 0 .

   Il Il Il - OS i (CH) -C-C-O-C (CH)'-C-O-C (CHJ,-O-C-O-C (CH L H2 33-R ouoQo-p {, ou R < . et R12 sont chacun indépendamment R13 R13 

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 l'hydrogène, un groupe alkyle en   C.-Cg, cycloalkyle   en C3-C8, phényl (alkyle en C1-C3) ou bien   R11   et   R12 ensemble   forment un groupe alkylène en C2-C5, et R13 est un groupe alkyle en   C1-C10   non substitué ou substitué par un halogène, 
 EMI15.1 
 un groupe cycloalkyle en C-Cg non substitué ou substitué par un halogène, ou un groupe phényl (alkyle en Cl-c3), ou bien, si R. < et'R ne forment pas ensemble un groupe alkylène en C-Ce, R. et R ensemble peuvent former un groupe alkylène en   C-Cc   qui peut être interrompu par un   atome -0- ou   un   atome-S-.   



     L'expression"et/ou"est   destinée à signifier que non seulement l'un des termes définis (substituants) peut être présent, mais aussi plusieurs des termes définis (substituants) peuvent être présents ensemble, c'est-à-dire des associations de différents termes (substituants). 



   L'expression"au moins un"est destinée à signifier un ou plus de un, par exemple un ou deux ou trois, de préférence un ou deux. 



   L'invention concerne également les nouveaux composés de formule Ib, IIb ou   IIIb   
 EMI15.2 
 dans laquelle Rlt1 est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en   Ci-cl2,   
 EMI15.3 
 phényl (alkyle en C < -C), halogénoalkyle en C.-C < , halogène, phényl (alkyle en C e phényle, OR < , NReRg, SR.,, SORy et/ou SCHR, les substituants OR., SR et NReRg formant facultativement des cycles pentaou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R, Re, R6 et/ou R7, avec d'autres substituants présents sur le noyau phényle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau phényle ;

   

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 ou bien    RI ! 1 est   un groupe naphtyle, anthracyle ou phénanthryle, chacun des groupes naphtyle, anthracyle et phénanthryle n'étant pas substitué ou étant substitué par au moins un groupe alkyle en C1-C6, phényle, OR4, NR5R6, SR7, SOR7 et/ou SO2R7, les substituants OR4, SR7 et   NRRg   formant facultativement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R4, R5, R6 et/ou R7, avec d'autres substituants présents sur le noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ;

   ou bien R"1 est un groupe hétéroaryle qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en 
 EMI16.1 
 C-Cg, phênyle, OR, NReRg, SRy, SORy et/ou SORy, les substituants OR., SRy et NReRc formant facultativement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R4, R5, R6 et/ou Ru, avec d'autres substituants 
 EMI16.2 
 présents sur le noyau hétéroaryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau hétéroaryle ; 
 EMI16.3 
 III,.....

   J H./I R. est un groupe phenylen, naphtyle 1 ne, 1 
 EMI16.4 
 diphénylène ou oxydiphénylène, ces groupes n'étant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle 
 EMI16.5 
 en Cl-Cl2 ; ou bien R'" est-/"\,./-- 
 EMI16.6 
 A est-O-,-S-,-NR-,-O (CO)-,-S (CO)-,-NR (CO)-,-SO-,   - S02-, ou-OS02- ;     ;

   A.   est un groupe alkylène en   C1-C12   ou un groupe alkylène en
C2-C!2 qui est interrompu par un ou plusieurs-0- ;
R"3 est un groupe alkylsulfonyle en C1-C16, phényl (alkyl- sulfonyle en C1-C3), camphorylsulfonyle, naphtylsulfonyle, triméthylphénylsulfonyle, ou un groupe phénylsulfonyle qui est substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en   C2-C16'   
 EMI16.7 
 alcoxy en C-C, halogénoalkyle en C1-C4 et/ou halogéno ; et R'3 est un groupe phénylènedisulfonyle, naphtylènedi- 
 EMI16.8 
 0 0 il il sulfonyle, diphénylènedisulfonyle ou Il Il 0 0 

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 oxydiphénylènedisulfonyle, ces groupes n'étant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle en   C1-C12   ; ou bien R'3 est un groupe alkylènedisulfonyle en C2-C12 ;

   R4 est l'hydrogène ou un groupe phényle, alkyle en C1-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un 
 EMI17.1 
 groupe phényle, OH, alcoxy en C,-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRcRe, alkyisulfonyle enC-C, phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkyle en   C2-C12   qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en 
 EMI17.2 
 C-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRcRe, alkyisulfonyle en c e C.-C, phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;

   ou bien R4 est un groupe alcanoyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12 alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)- 
 EMI17.3 
 sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkylsulfonyle en Cl-cl2 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en Cl-cl2, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR, R6, alkylsulfonyle en C-c e NRRg, alkyisulfonyle en C-C, phénylsulfonyle, (4-méthyl- phényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ;

     Re   et R6 sont chacun indépendamment l'hydrogène ou un groupe 
 EMI17.4 
 alkyle en C.-C. qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkyl- 

 <Desc/Clms Page number 18> 

 sulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C1-C6 ;

   ou bien   Re   et R6 sont chacun un groupe alkyle en   C2-Cl2   qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy 
 EMI18.1 
 en C < -C < , alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxy- carbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C1-C12, phényl- 
 EMI18.2 
 sulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyie en Cl-C6 ; ou bien Re et R6 sont chacun un groupe alcanoyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C < -C < , phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en CZ-C6 ;

   ou bien Re et R6 sont chacun un groupe alkylsulfonyle en c-c e Cl-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C-c e en C.-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en CZ-C6 ; ou bien   Re   et R6 sont des groupes phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ; ou bien   Rc   et R6 sont des groupes phényle, benzoyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénanthrylsulfonyle ;

   ou bien   Re   et Ré, avec l'atome d'azote auquel ils sont attachés, forment un cycle penta-, hexa-ou heptagonal qui peut être interrompu   par -0- ou par -NR4- ;   R7 est l'hydrogène, un groupe phényle ou un groupe alkyle 
 EMI18.3 
 en C-c e au en Cl-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C-C, alcoxycarbonyle en C-C. , phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, 

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 phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle, en   C.-C,   phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en   C-Cg ;

     ou bien R7 est un groupe alkyle en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en 
 EMI19.1 
 C.-C, alcoxycarbonyle en Cp-C. , phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NReRe, alkyisulfonyle en c e C1-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R7 est un groupe alcanoyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C-C < , phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle,   NRRg,   alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, ($-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;

   ou bien R7 est un groupe alkylsulfonyle en   C1-C12   qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R7 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ; à condition que si   Rit 1   est un groupe 4-méthylphényle ou 4-octylphényle, alors   R"   ne soit pas un groupe méthanesulfonyle. 



   Les dérivés d'oximes (des formules I, Ib, II, IIb, III et IIIb) peuvent généralement être préparés par des procédés décrits dans la littérature, par exemple en faisant réagir les oximes libres appropriées (R3 et R'3 = H) de formule X ou XI avec les halogénures d'acides désirés (par exemple sulfoniques) de formule XV, XVI ou XVII (par exemple 
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 R3Cl ou Cl-R'3-Cl). 

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 où R, R, R-,, R'g et X sont tels que définis ci-dessus. 



  Ces réactions sont habituellement effectuées dans un solvant inerte tel que, par exemple, le toluène, le tétrahydrofuranne (THF) ou le diméthylformamide (DMF), en présence d'une base, par exemple une amine tertiaire telle que la triéthylamine, ou par réaction du sel d'une oxime avec le chlorure d'acide désiré. Ces procédés sont enseignés, par exemple, dans le document EP 48 615. Les sels de sodium d'oximes peuvent être obtenus, par exemple, en faisant réagir l'oxime en question avec un alcoolate de sodium dans le diméthylformamide. Ces réactions sont bien connues de l'homme de l'art et sont généralement conduites à des températures comprises dans l'intervalle de-15 à +50 C, de préférence 0 à 20 C. 



  Les oximes requises comme matières de départ peuvent être obtenues par divers procédés décrits dans des ouvrages de chimie classiques (par exemple Advanced Organic Chemistry de J. March, 4ème édition, Wiley Interscience, 1992), ou dans des monographies spécialisées, par exemple Organic functional group preparations de S. R. Sandler et W. Karo, Vol. 3, Academic Press. 



  L'un des procédés les plus commodes est, par exemple, la réaction de cétones avec l'hydroxylamine ou ses sels dans 

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 des solvants polaires comme l'éthanol ou l'éthanol aqueux. 



  Dans ce cas, une base telle que l'acétate de sodium est ajoutée pour régler le pH du mélange réactionnel. Il est bien connu que la vitesse de la réaction dépend du pH et la base peut être ajoutée au début ou continuellement durant la réaction. Des solvants basiques tels que la pyridine peuvent également être utilisés comme base et/ou comme solvant ou co-solvant. La température de réaction est généralement la température de reflux du mélange, habituellement environ 60 à   1200C.   



   Un autre procédé commode pour la synthèse d'oximes est la nitrosation de groupes   méthylène"actifs"avec   l'acide nitreux ou un nitrite d'alkyle. Des conditions alcalines, comme décrit par exemple dans Organic Synthesis, Vol. coll. VI (J. Wiley & Sons, New York, 1988), pages 199 et 840, ainsi que des conditions acides, comme décrit par exemple dans Organic Synthesis, Vol. coll. V, pages 32 et 373, Vol. coll. III, pages 191 et 513, Vol. coll. II, pages 202,204 et 363, conviennent pour la préparation des oximes utilisées comme matières de départ pour la préparation des composés selon l'invention. L'acide nitreux est habituellement produit à partir de nitrite de sodium. Le nitrite d'alkyle peut être, par exemple, le nitrite de méthyle, le nitrite d'éthyle, le nitrite d'isopropyle, le nitrite de butyle, le nitrite d'isoamyle. 



   Les synthèses décrites peuvent conduire à la formation de formes isomères des composés de formules I, II et III ou de formules Ib, IIb et IIIb. La double liaison du groupe oximino peut exister sous les deux formes   syn   (cis, Z) et anti (trans, E), ou bien les deux isomères géométriques peuvent être présents sous forme de mélanges. Dans la présente invention, on peut utiliser aussi bien les isomères géométriques individuels que n'importe quels mélanges de deux isomères géométriques. L'invention concerne donc aussi les mélanges des formes isomères des composés de formules I, II et III ou des composés de formules Ib, IIb et   IIIb.   

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   Il est possible d'utiliser les isomères géométriques individuels (formes Z et E) des composés de formules I, II et III ou des composés de formules Ib, IIb et IIIb, et n'importe quels mélanges de deux isomères géométriques. 



  Cependant, on a constaté que les composés de formules I, II et III ou les composés de formules Ib, IIb et   IIIb   ayant une configuration spécifique (désignée sous réserve comme la forme Z) sont plus stables thermiquement que les composés ayant l'autre configuration (désignée sous réserve comme la forme E). Par conséquent, les composés de la présente invention dont l'utilisation est préférée sont ceux des formules I, II et III ou des formules Ib, IIb et   IIIb   sous forme de l'isomère individuel le plus stable thermiquement (désignée sous réserve comme la forme Z). 



   Les synthèses des oximes requises comme matières de départ peuvent conduire à la formation d'un mélange de formes isomères. On a découvert le fait surprenant que le mélange de formes isomères des oximes requises comme matières de départ est converti en une seule forme isomère (désignée sous réserve comme la forme Z) par traitement avec un acide. En utilisant l'isomère individuel (forme Z) de ces oximes comme matière de départ, on obtient l'isomère individuel le plus stable thermiquement des composés de formules I, II et III ou des composés de formules Ib, IIb et IIIb.

   Par conséquent, la présente invention concerne également un procédé pour la synthèse de l'isomère le plus stable thermiquement des composés de formules I, II et III ou des composés de formules Ib, IIb et   IIIb   par 1) conversion du mélange d'isomères des oximes correspondantes en les oximes d'une forme isomère individuelle par traitement avec un acide, et 2) réaction des oximes de la forme isomère individuelle avec les halogénures d'acides désirés. 



   Un objet de l'invention est donc un procédé pour la préparation spécifique de l'isomère thermiquement stable des esters d'oximes de formule I, II, ou III tels que définis ci-dessus ou des esters d'oximes de formule Ib, IIb ou IIIb tels que définis ci-dessus, par 

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 (1) traitement du mélange d'isomères des oximes libres correspondantes de formule X ou XI, obtenu par des procédés classiques, 
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 où R, R et X sont tels que définis ci-dessus, avec un acide ; et (2) réaction de l'isomère unique d'oxime libre ainsi préparé avec les halogénures d'acides correspondants de formule XV, XVI ou XVII R3Cl (XV) R"3Cl (XVI) Cl-R'-Cl (XVII) où R3 et R'3 sont tels que définis ci-dessus et R" est tel que défini ci-après. 



  Les réactions de conversion du mélange d'isomères d'oximes en l'isomère individuel désiré sont habituellement effectuées dans un solvant inerte tel que le chlorure de méthylène, l'acétate d'éthyle, le toluène, le tétrahydrofuranne ou le diméthylformamide, en présence d'un acide tel que l'acide chlorhydrique, l'acide sulfurique, l'acide acétique, l'acide trifluoracétique ou l'acide trifluorométhanesulfonique. Ces réactions sont habituellement conduites à une température comprise dans l'intervalle de - 15 C à +120 C, de préférence OOC à 80 C, mieux encore 5 C à 40 C. Les composés sont isolés par des techniques connues de l'homme de l'art, par exemple la distillation, la cristallisation, les techniques chromatographiques. Des exemples de procédés pour l'obtention des oximes de formule X ou XI comme matières de départ sont donnés ci-dessus. 



  Des composés intéressants des formules I, Ib, II, IIb, III, IIIb sont ceux dans lesquels R1 est l'hydrogène, un groupe alkyle en C2-C12 non substitué ou un groupe alkyle en C1-C12 substitué par un groupe cycloalkyle en C3-C30 ; 

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 ou bien   R1   est un groupe alcényle en C2-C12, cycloalcényle en C4-C8, bicycloalcényle en C6-C12 ou camphoryle ; ou bien R1 est un groupe phényle qui est substitué par un ou 
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 plusieurs groupes alkyle en C,-C, halogénoalkyle en Cl-C,, chloro, OR., NReRc/ SRy, SR et/ou-S-phényle, les substituants OR,, SRy et NReRg formant facultativement des cycles pentaou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R < , Re, Rc et/ou Ru, avec d'autres substituants présents sur le noyau phényle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau phényle ;

   ou bien R1 est un groupe 2-naphtyle, anthracyle ou phénanthryle, chacun des groupes 2-naphtyle, anthracyle et phénanthryle   n'étant. pas   substitué ou étant substitué par 
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 au moins un groupe alkyle en C1-C6, phényle, OR., NRRg, SR7 et/ou-S-phényle, les substituants OR., SRy et NRRg formant facultativement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R4, R5, R6 et/ou   Ry,   avec d'autres substituants présents sur le noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ; ou bien R1 est un groupe hétéroaryle qui n'est pas substitué 
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 ou est substitué par au moins un groupe alkyle en Cl-c6, phényle, OR, HPeRe, SRy et/ou-S-phényle, les substituants OR, SR et NR.

   R. formant facultativement des cycles pentaou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R,, Rc, Rg et/ou Ry, avec d'autres substituants présents sur le noyau hétéroaryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau hétéroaryle ; tous les radicaux R1 à l'exception de l'hydrogène pouvant en outre être substitués par un groupe ayant une   liaison-0-C-   ou une liaison -O-Si- qui se clive sous l'action d'un acide ;

   R4 est un groupe phényle, alkyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, 
 EMI24.4 
 alcoxy enC.-C, alkyisulfonyle enC-j-C, phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkyle en   CZ-C12   qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en 

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 C1-C12, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;

   R7 est un groupe alkyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH et/ou alcoxy en C1-C4 ; ou bien R7 est un groupe alkyle en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH et/ou alcoxy en   C1-C4   ; et tous les autres radicaux sont tels que décrits ci-dessus. 



   D'autres composés intéressants des formules I, Ib, II, IIb, III,   IIIb   sont ceux dans lesquels R3 est un groupe alkylsulfonyle en C2-C18, halogénoalkylsulfonyle en C1-C10, camphorylsulfonyle, phényl (alkylsulfonyle en C1-C3), cycloalkylsulfonyle en C3-C12, bnaphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénanthrylsulfonyle, les fragments cycloalkyle, naphtyle, anthracyle et phénanthryle des groupes cycloalkylsulfonyle en   C-.-C. , phényl   (alkylsulfonyle en C1-C3), phénylsulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle et phénanthrylsulfonyle n'étant pas substitués ou étant substitués par un ou plusieurs groupes 
 EMI25.1 
 halogéno, halogénoalkyleenC.-C., CN, N0.-,, alkyle en C.-C, phényle, alkylthio en C < -C., OR., COORy, (alkyle en Cl-C4)- (OC) O-, ROSO-et/ou-NReRg ;

   ou bien R3 est un groupe phényle substitué par un ou plusieurs groupes halogéno, halogénoalkyle en C1-C4'CN, N02, alkyle en C-C. g, phényle, alkylthio en C.-C., OR COOR7, ROSO-et/ou-NR. Rg ; ou bien R3 est un groupe halogénoalcanoyle en C2-C6 ou halogénobenzoyle ; R4 est un groupe phényle, alkyle en   C1-C12   qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, 
 EMI25.2 
 alcoxy enC < -C, alkyisulfonyle enC < -C, phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkyle en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs -0- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en Cl-cl2, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;

   et tous les autres radicaux sont tels que définis ci-dessus. 

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   Des composés particulièrement intéressants des formules I, Ib, II, IIb, III ou   IIIb   sont ceux dans lesquels   R.   est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est 
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 substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en Ci-cl2,' phényl (alkyle en C e phényl (alkyle en C-C), halogène, OR, NRRg, SRr, SORy et/ou S02R7'les substituants OR4 formant facultativement un cycle hexagonal, par l'intermédiaire des radicaux R4 ; ou bien R. est un groupe naphtyle ou thiényle ; 
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 R'1 est-yA-AA- -- ; 1-= > - 
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 A est -0- ou -S- ;

   Al est un groupe alkylène en   Cl-C12 ;   R2 est un halogène ou un groupe halogénoalkyle en   Cl-Cl0 ;   R3 est un groupe alkylsulfonyle en C1-C18, camphorylsulfonyle, phényl (alkylsulfonyle en C1-C3), phénylsulfonyle, naphtylsulfonyle, où le fragment phényle du groupe phénylsulfonyle n'est pas substitué ou est substitué par au moins 
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 un groupe alkyle en Cl-C'6 ou OR4 ;   R'3   est un groupe   phénylènedisulfonyle ;   X est du fluor ; R4 est un groupe phényle, alkyle en   C1-C18 qui   n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alcoxycarbonyle en C2-C12 ; 
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 ou bien R4 est un groupe alkyle en C-C.. g qui est interrompu par un ou plusieurs -0- et qui est substitué par au moins un groupe phényle ; R5 et R6 sont des groupes alkyle en C1-C18 ;

   R7 est un groupe phényle ou alkyle en C1-C18. 



   Des composés préférés de formule I, Ib, II, IIb, III ou IIIb sont ceux dans lesquels   R1   est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est 
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 substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en C.-C. , halogéno, OR4 ou Sur 7 ; R2 est du fluor ou un groupe fluoroalkyle en C1-C6 ; R3 est un groupe alkylsulfonyle en Cl-C12'camphor-l0-yl- sulfonyle, naphtylsulfonyle, phénylsulfonyle où le fragment phényle de ce groupe n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en   Ci-cl6   ou   OR4   ; 

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 X est du fluor ;

   R4 est un groupe alkyle en C1-C4 ; 
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 R7 est un groupe alkyle en C1-C4 ; i) si R1 est un groupe phényle, 4-méthylphényle, (méthylthio) phényle et R2 et X sont tous deux du fluor, alors   R3   n'est pas un groupe 4-méthylphénylsulfonyle ; ii) si R1 est un groupe 4-méthylphényle ou 4-octylphényle et R2 et X sont tous deux du fluor, alors R3 n'est pas un groupe 4-méthylsulfonyle ; iii) si R1 est un groupe phényle, 4-méthylphényle, 4-méthoxyphényle, 4-chlorophényle, trifluorométhyle ou cyclohexyle et R2 et X sont tous deux du fluor, alors R3 n'est pas un groupe phénylsulfonyle ; iv) si R1 est un groupe phényle et R2 est un groupe pentafluoroéthyle et X est du fluor, alors R3 n'est pas un groupe phénylsulfonyle. 



   Des composés particulièrement préférés sont le   O-méthylsulfonate   d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-l-phényl-   
 EMI27.2 
 éthanone, le O- (IO-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2trifluoro-l-phényléthanone, leO- (4-méthoxyphénylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l-phényléthanone, le 0- (1-naphtyl- sulfonate d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1-phényléthanone,   le 0- (2-naphtylsulfonate) d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1-phényl-   
 EMI27.3 
 éthanone, le 0- (2, 4, 6-triméthylphénylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l-phényléthanone, le 0- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-méthylphényl) - éthanone, le 0- (méthylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluor- 1- (4-méthylphényl) éthanone, le 0- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2,2,

     2-trifluoro-1- (2-méthylphényl) éthanone,   le 0- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (2, 4-diméthylphényl) éthanone,   le O- (l-naphtylsulfonate) 
 EMI27.4 
 d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2, 4-diméthylphényl) éthanone, le 0- (2-naphtylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-   1- (2,   4-diméthylphényl) éthanone, le 0- (10-camphorylsulfonate)   d'oxime de 2,   2,   2-trifluoro-1- (2,   4,   6-triméthylphényl)   éthanone, le O- (l-naphtylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (2,   4,6-triméthylphényl) éthanone, le 0- (2-naphtylsulfonate) 

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 d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2,   4, 6-triméthylphényl)- éthanone,

   le   O-méthylsulfonate   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-méthoxyphényl) éthanone, le   O-méthylsulfonate d'oxime   de 
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 2, 2, 2-trifluoro-l- (4-méthylthiophényl) éthanone, le 0-méthylesulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (3, 4-diméthoxyphényl) éthanone, le 0- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 3, 3, 4, 4, 4-heptafluoro-1-phénylbutanone, le 0-méthylesulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l- (phényl) éthanone, le 0- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro- 1- (phényl) éthanone, le O- (4-méthoxyphénylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (phényl) éthanone, le 0- (1-naphtyl) sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (phényl) éthanone, le 0- (2-naphtyl) sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-   1- (phényl)   éthanone, le   0- (2,   4,

  6-triméthylphényl) sulfonate d'oxime de 2,   2, 2-trifluoro-1- (phényl) éthanone,   le 0- (10camphoryl) sulfonate d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthyl-   phényl) éthanone, le   O-méthylsulfonate   d'oxime de 2,2, 2-tri- 
 EMI28.2 
 fluoro-1- (4-méthylphényl) éthanone, le O- (IO-camphoryl)sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2-méthylphényl)- éthanone, le 0- (1-naphtyl) sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-tri- fluoro-1-(2, 4-diméthylphényl) éthanone, le 0- (2-naphtyl)sulfonate d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2,   4-diméthylphényl) éthanone, le 0- (10-camphoryl) sulfonate d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2,   4,6-triméthylphényl) éthanone, le 0- (1-naphtyl) sulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 
 EMI28.3 
 1- (2, 4, 6-triméthylphényl) éthanone, le 0- (2-naphtyl)

   sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluor-1- (2, 4, 6-triméthylphényl) - éthanone, le   O-méthylsulfonate   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-méthoxyphényl) éthanone, le O-méthylsulfonate d'oxime de 2,2, 2=trifluoro-1-(4-thiométhylphényl)éthanone, le O-méthylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-(3,4-diméthoxyphényl)- éthanone, le 0- (4-méthylphényl) sulfonate d'oxime de 2,2, 2- 
 EMI28.4 
 trifluoro-1- (4-méthoxyphényl) éthanone, le 0- (4-méthoxyphényl) sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l- (4-méthoxyphényl) éthanone, le Q- (4-dodécylphényl) sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l- (4-méthoxyphényl) éthanone, leO-octylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-méthoxyphényl) - 

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 éthanone,   le0- (4-méthoxyphényl) sulfonate   d'oxime de 2,2,

   2trifluoro-1-(4-thiométhylphényl)éthanone, le 0- (4-dodécylphényl) sulfonate d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-thiométhyl-   phényl) éthanone, le O-octylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-tri- 
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 fluoro-1- (4-thiométhylphényl) éthanone, le 0- (2-naphtyl)." sulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-thiométhylphényl)- éthanone, le O-méthylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (2-méthylphényl)   éthanone, le   O-phénylsulfonate   d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylphényl)   éthanone,   le O-phényl-   sulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-(4-chlorophényl)- éthanone, le 0- (10-camphoryl) sulfonate d'oxime de 2,2, 3,3, 4,4, 4-heptafluoro-1- (phényl) butanone, le O-méthylsulfonate d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1-naphtyléthanone,

     le.   0-méthyle-   sulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-2-naphtyléthanone, le 
 EMI29.2 
 O-méthylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-[4-benzylphénylléth   andne, le O-méthylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-[4- (phényl-1, 4-dioxabut-1-yl) phényl]éthanone, le O-propylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-naphtyl- éthanone, le O-propylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 2-naphtyléthanone, le 0-propylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-   trifluoro-1- [4-benzylphényl] éthanone,   le O-propylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-[4-méthylsulfonylphényl]- éthanone, le O,   0-benzène-1,   3-disulfonate de bis [oxime de 
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 1- (4-phénoxyphényl) -2, 2, 2-trifluoroéthanone], 
 EMI29.4 
 
 EMI29.5 
 le O-propylsulfonated oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- [4-méthylsulfonyloxyphényl]éthanone,

   le O-propylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-[4-méthylcarbonyloxyphényl]éthanone, le O-propylsulfonate d'oxime de   2, 2, 2-trifluoro-1-[6H, 7H-   5,   8-dioxonapht-2-yl] éthanone,   le O-propylsulfonate d'oxime de   2, 2, 2-trifluoro-1-[4-méthoxycarbonylméthoxyphényl]-   éthanone, le o-propylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-   1-[4-(méthoxycarbonyl)-(4-amino-1-oxapent-1-yl)phényl]-   éthanone, le o-propylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-   1-[3,5-diméthyl-4-éthoxyphényl]éthanone, le O-propylsulfonate   d'oxime.

   de 2, 2,2-trifluoro-1-[4-benzyloxyphényl]éthanone, 

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 EMI30.1 
 le O-propylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-[2-thiophényl] éthanone et le O-propylsulfonate d'oxime de 2, 2, 2trifluoro-1-[1-dioxathiophén-2-yl]éthanone. 



  Évidemment, les groupes méthylsulfonyle, méthoxy, éthoxy ou méthylcarbonyle peuvent également être remplacés par d'autres groupes alkylsulfonyle, alcoxy ou alkylcarbonyle à chaîne plus longue. En outre, les groupes méthyle ou propyle des groupes O-alkylsulfonyloxime peuvent être facilement remplacés par d'autres groupes alkyle. 



  Les composés des formules I, II et III peuvent être utilisés comme donneurs d'acide photosensibles dans une réserve photosensible. Les systèmes de réserve peuvent être préparés par irradiation conformément à une image de systèmes comprenant des composés de formule I, II ou III, suivie par une étape de développement. 



  Par une réserve photosensible amplifiée chimiquement, on entend une composition de réserve dans laquelle le composant sensible à un rayonnement engendre une quantité catalytique d'acide qui catalyse ensuite une réaction chimique d'au moins un composant sensible à un acide de la réserve. Il en résulte l'induction d'une différence de solubilité entre les zones irradiées et non irradiées de la réserve. En raison de la nature catalytique de ce processus, une molécule d'acide peut déclencher des réactions en des sites multiples tandis qu'elle se diffuse à travers la matrice de polymère réactif, d'un site de réaction au suivant, tant qu'elle n'est pas fixée ou détruite par une quelconque réaction secondaire.

   Ainsi, une faible concentration d'acide est suffisante pour induire une grande différence de solubilité entre les zones exposées et non exposées de la réserve. Ainsi, il suffit seulement d'une faible concentration d'acide latent. En conséquence, on peut formuler des réserves ayant un fort contraste et une grande transparence à la longueur d'onde d'exposition dans la formation optique d'image, ce qui a pour effet de produire des images à profils raides, verticaux, avec une grande sensibilité.

   Cependant, en raison de ce processus catalytique, il est nécessaire que les catalyseurs du type acide 

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 latent soient très stables chimiquement et thermiquement (tant qu'ils ne sont pas irradiés) afin de ne pas engendrer d'acide pendant le stockage de la réserve ou pendant le traitement, qui, dans la plupart des cas, nécessite une étape de cuisson après exposition pour faire démarrer ou achever la réaction catalytique qui aboutit à la différence de solubilité. Il est également nécessaire que les cataly- seurs latents aient une bonne solubilité dans la formulation de réserve liquide et le film de réserve solide pour éviter toute formation de particules qui contrarierait l'applica- tion de ces réserves dans les procédés de fabrication en micro-électronique. 



   Par contre, les matières de réserve positives dont le mode d'action ne repose pas sur l'amplification chimique, doivent contenir une grande concentration de l'acide latent, car c'est seulement la concentration d'acide qui est engendrée par l'acide latent lors de l'exposition qui contribue à augmenter la solubilité des zones exposées dans la solution alcaline de développement. Étant donné qu'une faible concentration d'acide n'a que peu d'effet sur le changement de vitesse de dissolution de cette réserve et que la réaction s'effectue habituellement sans cuisson après exposition dans ce cas, les exigences concernant la stabilité thermique et chimique de l'acide latent sont moins rigoureuses que pour les réserves positives amplifiées chimiquement.

   Ces réservent nécessitent également une bien plus grande dose d'exposition pour engendrer suffisamment   1 d'acide   pour parvenir à une solubilité suffisante des zones exposées dans la solution alcaline de développement, et sont également affectées d'une transparence optique relativement basse (à cause de la grande concentration requise d'acide latent) et donnent donc des images de plus basse résolution et à flancs inclinés. Les compositions de réserves dont le mode d'action repose sur un processus non amplifié chimiquement sont donc inférieures aux réserves amplifiées chimiquement pour la photosensibilité, la résolution et la qualité d'image. 

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   D'après ce qui précède, il doit être clair que la stabilité chimique et thermique d'un catalyseur latent est cruciale pour une réserve amplifiée chimiquement et que les acides latents qui peuvent agir dans une réserve non amplifiée chimiquement ne sont pas nécessairement applicables aux réserves amplifiées chimiquement   Åa   cause des exigences différentes concernant la diffusion d'acide, la force d'acide et la stabilité thermique et chimique. 



   Une préférence est donnée aux compositions de réserve photosensible dans lesquelles, dans les composés de formules I, II et III, R1 est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est 
 EMI32.1 
 substitué par au moins un groupe alkyle en Ci-c6, phényle, OR., SRy,-S-phényle, halogène et/ou NReR./les substituants OR4 et NR5R6 formant facultativement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R., Re et/ou R6, avec d'autres substituants présents sur le noyau phényle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau phényle. 



   D'autres compositions de réserve photosensible intéressantes sont celles dans lesquelles, dans les composés de formules I, II et III,
R3 est un groupe alkylsulfonyle en   Ci-cl., phényl   (alkyl- sulfonyle en C3-C3), camphorylsuflonyle, halogénoalkyl- sulfonyle en C1-C10,   phénylsulfonyle,   naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénanthrylsulfonyle, les fragments phényle, naphtyle, anthracyle et phénanthryle des groupes phényl (alkylsulfonyle en C1-C3), phénylsulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle et phénanthrylsulfonyle n'étant pas substitués ou étant substitués par un ou 
 EMI32.2 
 plusieurs groupes halogéno, halogénoalkyle en C.-C., CN, N02, alkyle en Cl-Cl6, phényle, alkylthio en C-C, OR, COR7, (alkyle en C1-C4)-OCO-, R7OSO2- et/ou -NR5R6. 



   Des compositions de réserve photosensible amplifiée chimiquement préférées de la présente invention sont celles qui comprennent des composés de formules I, II et III dans lesquels X et R2 sont tous deux du fluor. Ces composés sont mentionnés comme les composés des formules la, lia et IIIa 

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 EMI33.1 
 dans lesquelles R1,   '   R3 et   RI3   sont tels que définis ci-dessus. 



   Des compositions de réserve photosensible amplifiée chimiquement particulièrement préférées sont celles qui comprennent au moins un composé de formule Ia où R, est un groupe phényle non substitué ou un groupe phényle substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en   Ci-c4'   alcoxy en C1-C4, alkylthio en C1-C4 ou halogéno ; R3 est un groupe alkylsulfonyle en   C-C. e,   cycloalkyl- 
 EMI33.2 
 sulfonyle en C-Co, phényl (alkylsulfonyle en C < -C), camphorylsulfonyle, naphtylsulfonyle ou phénylsulfonyle, ces groupes n'étant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle en C.-C, alcoxy en Cl-c4, halogénoalkyleenC.-C < , alkylthio en Cl-C4, N02 ou halogéno. 



  Dans d'autres compositions préférées selon l'invention, les radicaux R < , à l'exception de l'hydrogène, sont substitués par un groupe ayant une   liaison-0-C-ou   une liaison -O-Si- qui se clive sous l'action d'un acide. 



   La différence de solubilité de résine entre les zones irradiées et non irradiées qui apparaît à la suite de la réaction à catalyse acide de la matière de réserve pendant ou après l'irradiation de la réserve peut être de deux types selon les autres constituants qui sont présents dans la réserve. Si les compositions selon l'invention comprennent des composants qui augmentent la solubilité de la composition dans l'agent de développement après l'irradiation, la réserve est positive. L'invention concerne donc une réserve photosensible positive amplifiée chimiquement. 



   Si, au contraire, les composants de la formulation réduisent la solubilité de la composition après l'irradiation, la réserve est négative. L'invention concerne donc également une réserve photosensible négative amplifiée chimiquement. 

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   On appelle ci-après un inhibiteur de dissolution un composé monomère ou polymère qui, dans les zones exposées, réduit la vitesse de dissolution d'une résine liante soluble en milieu alcalin également présente dans la formulation de réserve et qui est essentiellement insoluble en milieu alcalin dans les zones non exposées, de sorte que le film de réserve subsiste dans la zone non exposée après le dévelop- pement dans une solution alcaline, mais qui est clivé en présence d'acide, ou est capable de subir une transposition, de telle manière que son produit réactionnel devienne soluble dans la solution alcaline de développement. 



   A titre de forme de réalisation spéciale, l'inven- tion inclut une composition de réserve photosensible positive amplifiée chimiquement développable en milieu alcalin comprenant   (a 1)   au moins un polymère ayant des groupes labiles aux acides qui se décomposent en présence d'un acide et augmentent la solubilité des zones exposées du film de réserve dans une solution alcaline aqueuse de développement, et (b) au moins un composé de formule I, II ou III. 



   Une autre forme de réalisation de l'invention est une composition de réserve photosensible positive amplifiée chimiquement comprenant (a2) au moins un inhibiteur de dissolution monomère ou oligomère ayant au moins un groupe labile aux acides qui se décompose en présence d'un acide et augmente la solubilité (dans une solution alcaline aqueuse de développement, et au moins un polymère soluble en milieu alcalin, et (b) au moins un composé de formule I, II ou III. 



   Une autre forme de réalisation spécifique de l'invention est une composition de réserve photosensible positive amplifiée chimiquement comprenant (al) au moins un polymère ayant des groupes labiles aux acides qui se décomposent en présence d'un acide et augmen- tent la solubilité dans les zones exposées dans une solution alcaline de développement ; 

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 (a2) un inhibiteur de dissolution monomère ou oligomère ayant au moins un groupe labile aux acides qui se décompose en présence d'un acide et augmente la solubilité des zones exposées en milieu alcalin ;

   (a3) un composé monomère, oligomère ou polymère soluble en milieu alcalin, à une concentration qui maintient les zones exposées du film de réserve dans un état essentiellement insoluble dans la solution alcaline de développement ; et (b) au moins un composé de formule 1, II ou III. 



   L'invention concerne donc une composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement comprenant (al) au moins un polymère ayant un groupe labile aux acides qui se décompose en présence d'un acide en augmentant la solubilité dans une solution alcaline aqueuse de développe- ment et/ou (a2) au moins un inhibiteur de dissolution monomère ou oligomère ayant au moins un groupe labile aux acides qui se décompose en présence d'un acide en augmentant la solubilité dans une solution alcaline aqueuse de développement et/ou (a3) au moins un composé monomère, oligomère ou polymère soluble en milieu alcalin ; et (b) comme donneur d'acide photosensible, au moins un composé de formule I, II ou III. 



   Les compositions peuvent comprendre, en plus du composant (b), d'autres donneurs d'acide photosensibles et/ou (c) d'autres additifs. 



   De tels systèmes de réserve positive amplifiée (chimiquement sont décrits, par exemple, par E. Reichmanis,
F. M. Houlihan,   O.   Nalamasu, T. X. Neenan, Chem. Mater., 1991,
3,394 ; ou C. G.   Willson,"Introduction   to Microlithography",
2ème édition, dirigé par L. S. Thompson, C. G. Willson, M. J. 



   Bowden, Amer. Chem. Soc., Washington DC, 1994, page 139. 



   Des exemples appropriés de groupes labiles aux acides qui se décomposent en présence d'un acide en produisant des groupes hydroxyle aromatiques, des groupes carboxyliques, des groupes céto et des groupes aldéhyde et augmentent la solubilité dans la solution alcaline aqueuse de développement 

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 sont, par exemple, des groupes éther d'alcoxyalkyle, des groupes éther de tétrahydrofurannyle, des groupes éther de tétrahydropyrannyle, des groupes ester de tert-alkyle, des groupes éther de trityle, des groupes éther de silyle, des groupes carbonate d'alkyle tels que des groupes tert-butyl- oxycarbonyloxy, des groupes ester de trityle, des groupes ester de silyle, des groupes ester d'alcoxyméthyle, des groupes ester de cumyle, des groupes acétal, des groupes cétal, des groupes ester de tétrahydropyrannyle, des groupes ester de tétrafurannyle,

   des groupes éther d'alkyle tertiaire, des groupes ester d'alkyle tertiaire, etc. 



   Le polymère ayant des groupes fonctionnels capables de se décomposer sous l'action d'un acide pour augmenter la solubilité du film de réserve comprenant ce polymère dans une solution alcaline de développement, qui peut être incorporé à la réserve positive selon la présente invention, peut comporter les groupes labiles aux acides dans son squelette et/ou ses chaînes latérales, de préférence dans ses chaînes latérales. 



   Le polymère ayant des groupes labiles aux acides qui est utilisable dans la présente invention peut être obtenu par une réaction d'un analogue du polymère dans laquelle les groupes solubles en milieu alcalin sont partiellement ou totalement convertis en les groupes labiles aux acides correspondants, ou directement par (co) polymérisation de monomères auxquels sont déjà attachés les groupes labiles aux acides, comme décrit par exemple dans les documents EP   '254 853, EP 878   738,   EP 877   293, JP-A-2-25850, JP-A-3-223860 et JP-A-4-251259. 



   Les polymères qui ont des groupes labiles aux acides attachés latéralement au squelette du polymère sont de préférence, dans la présente invention, des polymères qui ont, par exemple, des groupes éther de silyle, acétal, cétal et ester d'alcoxyalkyle (appelés des"groupes bloquants à basse énergie d'activation") qui se clivent complètement à des températures de cuisson après exposition relativement basses (habituellement entre la température ambiante et 

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   110 C)   et des polymères qui ont, par exemple, des groupes ester de tert-butyle ou des groupes tert-butyloxycarbonyle (TBOC) ou d'autres groupes ester qui contiennent un atome de carbone secondaire ou tertiaire adjacent à l'atome d'oxygène de la liaison ester (appelés des "groupes bloquants à haute énergie d'activation")

   qui nécessitent des températures de cuisson plus élevées (habituellement    > 110 C)   afin d'achever la réaction de déblocage en présence d'acide. On peut également utiliser des systèmes hybrides dans lesquels des groupes bloquants à haute énergie d'activation et des groupes bloquants à basse énergie d'activation sont à la fois présents dans un même polymère. En variante, on peut utiliser des mélanges de polymères ayant chacun une chimie différente de groupes bloquants, dans les compositions de réserve photosensible positive selon l'invention. 



   Les polymères préférés qui ont des groupes labiles aux acides sont des polymères et copolymères comprenant les types de monomères distincts suivants : 1) des monomères qui contiennent des groupes labiles aux acides qui se décomposent en présence d'un acide en augmentant la solubilité dans une solution alcaline aqueuse de développement, et 2) des monomères qui sont dépourvus de groupes labiles aux acides et dépourvus de groupes qui contribuent à la solubilité en milieu alcalin et/ou 3) des monomères qui contribuent à la solubilité en milieu alcalin du polymère. 



   Des exemples de monomères du type 1) sont : des (méth) acrylates d'alkyle secondaire ou tertiaire non cyclique ou cyclique tels que l'acrylate de butyle, y compris l'acrylate de   t-butyle,   le méthacrylate de butyle, y compris le méthacrylate de t-butyle, le (méth) acrylate de 3-oxocyclohexyle, le (méth) acrylate de tétrahydropyrannyle, le (méth) acrylate de 2-méthyladamantyle, le (méth) acrylate de cyclohexyle, le (méth) acrylate de norbornyle, les acrylates d'alcool (2-tétrahydropyrannyle) oxynorbornylique, les méthacrylates de (2-tétrahydropyrannyle) oxyméthyl- 

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 tricyclododécaneméthanol, le (méth) acrylate de triméthylsilylméthyle, le   o-/m-/p- (3-oxocyclohexyloxy)   styrène, le o-/m-/p-   (1-méthyl-1-phényléthoxy)   styrène,

   le o-/m-/p- 
 EMI38.1 
 tétrahydropyrannyloxystyrène, le o-/m-/p-adamantyloxystyrène, le o-/m-/p-cyclohexyloxystyrène, le o-/m-/pnorbornyloxystyrène, des (alcoxy non cyclique ou cyclique)carbonylstyrènes tels que le o-/m-/p-butoxycarbonylstyrène, y compris le p-t-butoxycarbonylstyrène, le o-/m-/p- (3-oxocyclohexyloxycarbonyl) styrène, leo-/m-/p- (1-méthyl-1-phényl- éthoxycarbonyl) styrène, le o-/m-/p-tétrahydropyrannyloxycarbonylstyrène, le o-/m-/p-adamantyloxycarbonylstyrène, le o-/m-/p-cyclohexyloxycarbonylstyrène, le o-/m-/pnorbornyloxycarbonylstyrène, des (alcoxy non cyclique ou cyclique) carbonyloxystyrènes tels que le o-/m-/p-butoxycarbonyloxystyrène, y compris le   p-t-butoxycarbonyloxy-   styrène,   leo-/m-/p-   (3-oxocyclohexyloxycarbonyloxy) styrène,

   le   o-/m-/p-     (1-méthyl-1-phényléthoxycarbonyloxy)   styrène, le o-/m-/p-tétrahydropyrannyloxycarbonyloxystyrène, le   o-/m-/p-   adamantyloxycarbonyloxystyrène, le o-/m-/p-cyclohexyloxycarbonyloxystyrène, le o-/m-/p-norbornyloxycarbonyloxystyrène, des (alcoxy non cyclique ou cyclique) carbonylalcoxystyrènes tels que le o-/m-/p-butoxycarbonylméthoxy- 
 EMI38.2 
 styrène, y compris le p-t-butoxycarbonylméthoxystyrène, le o-/m-/p- (3-oxocyclohexyloxycarbonylméthoxy) styrène, le o-/m-/p- (1-méthyl-1-phényléthoxycarbonylméthoxy) styrène, leo-/m-/p-tétrahydropyrannyloxycarbonylméthoxystyrène, le o-/m-/p-adamantyloxycarbonylméthoxystyrène, le o-/m-/pcyclohexyloxycarbonylméthoxystyrène, le o-/m-/p-norbornyl- 
 EMI38.3 
 oxycarbonylméthoxystyrène, le triméthylsiloxystyrène, le diméthyl (butyl)

   siloxystyrène, des acétates d'alkyle insaturé tels que l'acétate d'isopropényle et leurs dérivés. 



   Les monomères du type 1) portant des groupes labiles aux acides à basse énergie d'activation comprennent, par exemple, le   p-ou m- (1-méthoxy-1-méthyléthoxy)   styrène, le   p-ou/n- (1-méthoxy-1-méthyléthoxy)   méthylstyrène,   lep-ou   m- (1-méthoxy-1-méthylpropoxy) styrène,   lep-oum-d-méthoxy-     1-méthylpropoxy)méthylstyrène, le p- ou m-(1-méthoxyéthoxy)-   

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 styrène, le p-ou m- (l-méthoxyéthoxy) méthylstyrène, le pou m- (1-éthoxy-1-méthyléthoxy) styrène, lep-ou m-d-éthoxy- 1-méthyléthoxy) méthylstyrène, le p-oum- (1-éthoxy-1-méthylpropoxy) styrène, le p- ou m- (1-éthoxy-l-méthylpropoxy) méthylstyrène, le p-ou - (l-éthoxyéthoxy) styrène, le p-ou m- (l-éthoxyéthoxy) mêthylstyrène,

   lep- (l-éthoxyphényléthoxy)styrène, le p- ou m- (1-n-propoxy-l-méthyléthoxy) styrène, le p-ou m- (1-n-propoxy-1-méthyléthoxy) méthylstyrène, le p-ou7n- (1-n-propoxyéthoxy) styrène, le p- ou m- (1-n-propoxy- éthoxy) méthylstyrène, le p-ou - (1-isopropoxy-l-méthyl- éthoxy) styrène, le p-ou m- (1-isopropoxy-1-méthyléthoxy)méthylstyrène, le p-ou m- (l-isopropoxyéthoxy) styrène, le p- ou m- (1-isopropoxyéthoxy) méthylstyrène, le p-ou m- (1-isopropoxy-1-méthylpropoxy) styrène, le p- ou m- {1-isopropoxy-1-méthylpropoxy) méthylstyrène, le p-ou m- (l-isopropoxypropoxy) styrène, le p- ou m- (1-isopropoxypropoxy) méthylstyrène, le p-ou m- (l-n-butoxy-l-méthyléthoxy)styrène, le p-ou m- (1-n-butoxyéthoxy) styrène, le p-ou /n- (1-isobutoxy-1-méthyléthoxy) styrène, le p-ou m- (l-tertbutoxy-1-méthyléthoxy) styrène,

   le p-ou m- (l-n-pentoxy- 1-méthyléthoxy) styrène, le p-ou/n- (1-isoamyloxy-1-méthyl- éthoxy) styrène, le p-ou m- (l-n-hexyloxy-l-méthyléthoxy)styrène, le p- ou m- (1 -cyclohexyloxy-1-méthyléthoxy) styrène, le p- ou m- (1-triméthylsilyloxy-l-méthyléthoxy) styrène, le p- ou m- (1-triméthylsilyloxy-1-méthyléthoxy) méthylstyrène, le p- ou m-(1-benzyloxy-1-méthyléthoxy) styrène, le p-ou m-(1-benzyloxy-1-méthyléthoxy)méthylstyrène, le p-ou m-(1-méthoxy-1-méthyléthoxy) styrène,   le p- ou m- (1-méthoxy-     l-méthyléthoxy)   méthylstyrène, le p- ou m-(1-triméthylsilyl- oxy-1-méthyléthoxy) styrène, le p- ou m-(1-triméthylsilyloxy-
1-méthyléthoxy) méthylstyrène. 



   D'autres exemples de polymères ayant des groupes labiles aux acides du type ester d'alcoxyalkyle sont donnés dans les documents US 5 225 316 et EP 829 766. Des exemples de polymères ayant des groupes acétal bloquants sont donnés dans les documents US 5 670 299, EP 780 732, US 5 627 006,
US 5 558 976, US 5 558 971, US 5 468 589, EP 704 762, 

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 EP 762 206, EP 342 498, EP 553 737 et sont décrits dans ACS Symp. Ser. 614,"Microelectronics Technology", pages 35-55 (1995) et J. Photopolymer Sci. Technol., Vol. 10,   NO 4   (1997), pages 571-578. Le polymère utilisé dans la présente invention n'est pas limité à ceux-ci. 



   En ce qui concerne les polymères ayant des groupes acétal comme groupes labiles aux acides, il est possible d'incorporer des liaisons transversales labiles aux acides, par exemple comme décrit par H.-T. Schacht, P. Falcigno, N. Muenzel, R. Schulz et A. Medina, ACS Symp. Ser. 706 (Micro-and Nanopatterning Polymers), pages 78-94,1997 ; H.-T. Schacht, N. Muenzel, P. Falcigno, H. Holzwarth et J. Schneider, J. Photopolymer Science and Technology, Vol. 9 (1996), 573-586. Ce système réticulé est préféré du point de vue de la résistance à la chaleur des motifs de réserve. 



   Les monomères ayant des groupes labiles aux acides à haute énergie d'activation sont, par exemple, le p-tertbutoxycarbonyloxystyrène, l'acrylate de tert-butyle, le méthacrylate de tert-butyle, le méthacrylate de 2-méthyl- 2-adamantyle, le méthacrylate d'isobornyle. 



   Des exemples de comonomères du type 2)   sont :   des monomères vinyliques aromatiques tels que le styrène, le a-méthylstyrène, l'acétoxystyrène, le a-méthylnaphtalène, l'acénaphtylène, des composés vinyliques alicycliques tels que le vinylnorbornane, le vinyladamantane, le vinylcyclohexane, des (méth) acrylates d'alkyle tels que le méthacrylate de méthyle, l'acrylonitrile, le vinylcyclohexanol, ainsi que l'anhydride maléique. 



   Des exemples de comonomères du type 3)   sont :   des composés vinyliques aromatiques tels que l'hydroxystyrène, des acides acryliques tels que l'acide méthacrylique, l'éthylcarbonyloxystyrène et leurs dérivés. Ces polymères sont décrits, par exemple, dans les documents US 5 827 634, US 5 625 020, US 5 492 793, US 5 372 912, EP 660 187, US 5 679 495, EP 813   113 et EP 831   369. D'autres exemples sont l'acide crotonique, l'acide isocrotonique, 

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 l'acide 3-buténoïque, l'acide acrylique, l'acide 4-penté- noïque, l'acide propiolique, l'acide 2-butynoïque, l'acide maléique, l'acide fumarique et l'acide acétylènecarboxy- lique. Le polymère utilisé dans la présente invention n'y est pas limité. 



   La proportion de monomères labiles aux acides dans le polymère peut varier sur un large intervalle et dépend de la quantité des autres comonomères et de la solubilité en milieu alcalin du polymère débarrassé de sa protection. 



   Habituellement, la proportion de monomères contenant des groupes labiles au acides dans le polymère est comprise entre 5 et 60 mol %. Si la proportion est trop petite, il en résulte de trop faibles vitesses de développement et des résidus de la réserve dans les zones exposées. Si la proportion des monomères labiles aux acides est trop grande, les motifs de réserve sont mal définis (érodés) après le développement et les détails étroits ne peuvent plus être résolus et/ou la réserve perd son adhérence au substrat pendant le développement. De préférence, les copolymères qui ont des groupes labiles aux acides ont un Mp d'environ 3000 à environ 200 000, mieux encore d'environ 5000 à 50 000, avec une distribution de poids moléculaires d'environ 3 ou moins, mieux encore une distribution de poids moléculaires d'environ 2 ou moins.

   Des polymères non phénoliques, par exemple un copolymère d'un acrylate d'alkyle tel que l'acrylate de t-butyle ou le méthacrylate de t-butyle et d'un composé vinylique alicyclique tel qu'un composé de vinylnorbornanyle ou de vinylcyclohexanol, peuvent également être préparés par une telle polymérisation radicalaire ou d'autres techniques connues et ont convenablement un Mp d'environ 8000 à environ 50 000 et une distribution de poids moléculaires d'environ 3 ou moins. 



   D'autres comonomères peuvent être ajoutés convena- blement en une quantité appropriée afin de régler la température de transition vitreuse du polymère, etc. 



   Dans la présente invention, on peut utiliser un mélange d'au moins deux polymères ayant des groupes labiles 

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 aux acides. Par exemple, on peut faire usage d'un mélange d'un polymère ayant des groupes labiles aux acides qui sont clivés très facilement, tels que des groupes acétal ou des groupes tétrahydropyrannyloxy, et d'un polymère ayant des groupes clivables par un acide qui sont clivés moins facilement, par exemple des groupes esters d'alkyle tertiaire. En outre, des groupes clivables par un acide ayant différentes tailles peuvent être associés en mélangeant au moins deux polymères ayant des groupes clivables par un acide différents, tels qu'un groupe ester de   tert-   butyle et un groupe 2-méthyladamantyle, ou un groupe 1-éthoxyéthoxy et un groupe tétrahydropyrannyle.

   On peut également utiliser un mélange d'une résine non réticulée et d'une résine réticulée. La quantité de ces polymères dans la présente invention est de préférence de 30 à 99 % en poids, mieux encore de 50 à   98 %   en poids, par rapport à la quantité totale de tous les composants solides. Un composé monomère ou oligomère ou une résine soluble en milieu alcalin n'ayant pas de groupes labiles aux acides peut en outre être incorporé dans la composition afin de régler la solubilité en milieu alcalin. Des exemples de mélanges de polymères ayant différents groupes labiles aux acides sont donnés dans les documents EP 780 732, EP 679 951 et US 5 817 444. 



   De préférence, des inhibiteurs de dissolution monomères et oligomères (a2) sont utilisés dans la présente invention. 



   L'inhibiteur de dissolution monomère ou oligomère ayant un groupe labile aux acides à utiliser dans la présente invention est un composé qui comporte dans sa structure moléculaire au moins un groupe labile aux acides qui se décompose en présence d'un acide pour augmenter la solubilité dans la solution alcaline aqueuse de développement.

   Des exemples en sont les groupes éther d'alcoxyméthyle, les groupes éther de tétrahydrofurannyle, les groupes éther de tétrahydropyannyle, les groupes éther d'alcoxyéthyle, les groupes éther de trityle, les groupes éther de silyle, les groupes carbonate d'alkyle, les groupes 

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 ester de trityle, les groupes ester de silyle, les groupes ester d'alcoxyméthyle, les groupes carbamate de vinyle, les groupes carbamate d'alkyle tertiaire, les groupes tritylamino, les groupes ester de cumyle, les groupes acétal, les groupes cétal, les groupes ester de tétrahydropyrannyle, les groupes ester de tétrahydrofurannyle, les groupes éther d'alkyle tertiaire, les groupes ester d'alkyle tertiaire, etc.

   Le poids moléculaire du composé inhibiteur de dissolution décomposable par un acide à utiliser dans la présente invention est de 3000 ou moins, de préférence de 100 à 3000, mieux encore de 200 à 2500. 



   Des exemples d'inhibiteurs de dissolution monomères et oligomères ayant des groupes labiles aux acides sont décrits par les formules (I) à (XVI) du document EP 0 831 369. 



  D'autres inhibiteurs de dissolution appropriés ayant des 
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 groupes labiles aux acides sont décrits dans le documents US 5 356 752, US 5 037 721, US 5 015 554, JP-A-1-289946, JP-A-1-289947, JP-A-2-2560, JP-A-3-128959, JP-A-3-158855, JP-A-3-179353, JP-A-3-191351, JP-A-3-200251, JP-A-3-200252, JP-A-3-200253, JP-A-3-200254, JP-A-3-200255, JP-A-3-259149, JP-A-3-279958, JP-A-3-279959, JP-A-4-1650, JP-A-4-1651, JP-A-11260, JP-A-4-12356, JP-A-4-123567, JP-A-4-12357 et les demandes de brevet japonais   NO 3-33229,   3-230790, 3-320438,4-254157, 4-52732,4-103215, 4-104542,4-107885, 4-107889,4-152195, 4-254157,4-103215, 4-104542,4-107885, 4-107889 et 4-152195. 



   La composition peut également contenir des inhibiteurs de dissolution polymères, par exemple des polyacétals, comme décrit par exemple dans le document US 5 354 643, ou des   poly-N,     O-acétals,   par exemple ceux décrits dans le document US 5 498 506, soit en association avec un polymère soluble en milieu alcalin, soit en association avec un polymère contenant des groupes labiles aux acides qui augmentent la solubilité du film de réserve dans l'agent de développement après l'exposition, soit avec une association des deux types de polymères. 

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   Dans le cas où un inhibiteur de dissolution ayant des groupes labiles aux acides est utilisé dans la présente invention en association avec les dérivés d'oximes de formule I, II ou III, le polymère soluble en milieu alcalin et/ou le polymère ayant des groupes labiles aux acides, la quantité de l'inhibiteur de dissolution est de 3 à 55 % en poids, de préférence 5 à 45 % en poids, très préférablement 10 à 35 % en poids, par rapport à la quantité totale de tous les composants solides de la composition photosensible. 



   Un polymère soluble dans une solution alcaline aqueuse (a3) est de préférence utilisé dans la présente invention. Des exemples de ces polymères comprennent des résines novolaques, des résines novolaques hydrogénées, des résines acétone-pyrogallol, le poly (o-hydroxystyrène), le poly (m-hydroxystyrène), le poly (p-hydroxystyrène), les poly (hydroxystyrènes) hydrogénés, les poly (hydroxystyrènes) à substituants halogéno ou alkyle, les copolymères hydroxystyrène/maléimide N-substitué, les copolymères de o/p-et m/p-hydroxystyrène, les poly (hydroxystyrènes) partiellement o-alkylés [par exemple les poly (hydroxystyrènes) o-méthylés,   o- (l-méthoxy)   éthylés,   o- (l-éthoxy)   éthylés,   o-2-tétrahydro-   pyrannylés et o- (t-butoxycarbonyl)

   méthylés ayant un degré de substitution de 5 à 30 mol % des groupes hydroxyle], les poly (hydroxystyrènes) o-acylés [par exemple les poly- (hydroxystyrènes) o-acétylés et o- (t-butoxy) carbonylés ayant un degré de substitution de 5 à 30 mol % des groupes hydroxyle], les copolymères styrène/anhydride maléique, les copolymères styrène/hydroxystyrène, les copolymères   a-méthylstyrène/hydroxystyrène,   les résines méthacryliques carboxylées, et leurs dérivés.

   D'autres polymères appropriés sont un acide poly (méth) acrylique [par exemple le poly (acide acrylique)], les copolymères acide (méth) acrylique/ (méth)acrylate [par exemple les copolymères acide acrylique/ acrylate de méthyle, les copolymères acide méthacrylique/ méthacrylate de méthyle ou les copolymères acide méthacrylique/méthacrylate de méthyle/méthacrylate de t-butyle], les copolymères acide (méth) acrylique/alcène [par exemple 

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 les copolymères acide acrylique/éthylène], les copolymères acide (méth) acrylique/ (méth) acrylamide [par exemple les copolymères acide   acrylique/acrylamide],   les copolymères acide (méth) acrylique/chlorure de vinyle [par exemple les copolymères acide acrylique/chlorure de vinyle], les copolymères acide (méth)

   acrylique/acétate de vinyle [par exemple les copolymères acide acrylique/acétate de vinyle], les copolymères acide maléique/éther de vinyle [par exemple les copolymères acide maléique/éther de méthyle et de vinyle], les copolymères monoester d'acide maléique/éther de méthyle et de vinyle [par exemple les copolymères ester monométhylique d'acide maléique/éther de méthyle et de vinyle], les copolymères acide maléique/acide (méth) acrylique [par exemple les copolymères acide maléique/acide acrylique ou les copolymère acide   maléique/acide   méthacrylique], les copolymères acide maléique/ (méth) acrylate [par exemple les copolymères acide maléique/acrylate de méthyle], les copolymères acide maléique/chlorure de vinyle,

   les copolymères acide maléique/acétate de vinyle et les copolymères acide maléique/alcène [par exemple les copolymères acide maléique/éthylène et les copolymères acide maléique/   1-chloroprène].   Cependant, le polymère soluble en milieu alcalin à utiliser dans la présente invention n'est pas limité à ces exemples. 



   Des polymères solubles en milieu alcalin (a3) particulièrement préférés sont les résines novolaques, le poly (o-hydroxystyrène), le poly (m-hydroxystyrène), le poly (p-hydroxystyrène), les copolymères des hydroxystyrènes monomères correspondants, par exemple avec le   p-vinylcyclo-   hexanol, les poly (hydroxystyrènes) à substituants alkyle, 
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 les poly (hydroxystyrènes) partiellement o-ou m-alkylés et o-ou m-acylés, les copolymères styrène/hydroxystyrène et les copolymères a-méthylstyrène/hydroxystyrène. Les résines novolaques sont obtenues par addition-condensation d'un ou plusieurs monomères donnés, comme principal ingrédient, avec un ou plusieurs aldéhydes en présence d'un catalyseur acide. 

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   Des exemples de monomères utiles dans la préparation de résines solubles en milieu alcalin comprennent des composés aromatiques hydroxylés tels que le phénol, les crésols, c'est-à-dire le m-crésol, le p-crésol et le o-crésol, les xylénols, par exemple le 2, 5-xylénol, le 3, 5-xylénol, le 3, 4-xylénol et le 2,3-xylénol, les alcoxy- 
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 phénols, par exemple le p-méthoxyphénol, le m-méthoxyphénol, le 3, 5-diméthoxyphénol, le 2-méthoxy-4-méthylphénol, le m-éthoxyphénol, le p-éthoxyphénol, le m-propoxyphénol, le p-propoxyphénol, le m-butoxyphénol et le p-butoxyphénol, les dialkylphénols, par exemple le 2-méthyl-4-isopropylphénol, et d'autres composés aromatiques hydroxylés comprenant le m-chlorophénol,   le p-chlorophénol,   le o-chlorophénol, le dihydroxybiphényle, le bisphénol A, le phénylphénol,

   le résorcinol et le naphtol. Ces composés peuvent être utilisés individuellement ou en mélange de deux ou plusieurs d'entre eux. Les principaux monomères pour les résines novolaques ne sont pas limités par les exemples donnés ci-dessus. 



   Des exemples d'aldéhydes utiles pour la polycondensation avec les composés phénoliques pour la préparation de novolaques comprennent le formaldéhyde, le p-formaldéhyde, l'acétaldéhyde, le propionaldéhyde, le benzaldéhyde, le phénylacétaldéhyde,   le a-phénylpropionaldéhyde, lep-phényl-   propionaldéhyde, le o-hydroxybenzaldéhyde, le m-hydroxy- 
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 benzaldéhyde, lep-hydroxybenzaldéhyde, leo-chlorobenzaldéhyde, le m-chlorobenzaldéhyde, le p-chlorobenzaldéhyde, le o-nitrobenzaldéhyde, lem-nitrobenzaldéhyde, leo-méthyl- 1 benzaldéhyde, le m-méthylbenzaldéhyde, le p-méthylbenzaldéhyde, le p-éthylbenzaldéhyde, le p-n-butylbenzaldéhyde, le furfural, le chloroacétaldéhyde, et des acétals dérivés de ceux-ci, tels que l'acétal   diéthylique de chloroacétaldéhyde.   



  Le formaldéhyde est préféré parmi ces aldéhydes. Ces aldéhydes peuvent être utilisés individuellement ou en association de deux ou plusieurs d'entre eux. 



   Des exemples du catalyseur acide comprennent l'acide chlorhydrique, l'acide sulfurique, l'acide formique, l'acide acétique et l'acide oxalique. 

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   Le poids moléculaire moyen en poids de la résine novolaque ainsi obtenue est convenablement de 1000 à 30 000. Si son poids moléculaire moyen en poids est inférieur à   1000,   la réduction du film pendant le développement dans les régions non exposées risque d'être trop importante. Si son poids moléculaire moyen en poids dépasse 50 000, le vitesse de développement peut être trop lente. L'intervalle de poids moléculaire particulièrement préféré pour la résine novolaque est de 2000 à 20 000. 



   Les poly (hydroxystyrènes) et leurs dérivés et copolymères indiqués ci-dessus comme polymères solubles en milieu alcalin autres que les résines novolaques ont chacun un poids moléculaire moyen en poids de 2000 ou plus, de préférence de 4000 à 200 000, mieux encore de 5000 à 50 000. 



  En vue d'obtenir un film de polymère dont la résistance à la chaleur soit améliorée, son poids moléculaire moyen en poids est avantageusement d'au moins 5000 ou plus. 



   Dans le contexte de la présente invention, le poids moléculaire moyen en poids est celui qui est déterminé par chromatographie par perméation sur gel étalonnée avec des étalons de polystyrène. 



   Dans la présente invention, les polymères solubles en milieu alcalin peuvent être utilisés sous forme d'un mélange de deux ou plusieurs d'entre eux. Dans le cas où l'on utilise un mélange d'un polymère soluble en milieu alcalin et du polymère ayant des groupes qui se décomposent sous l'action d'un acide pour augmenter la solubilité dans une solution alcaline de développement, la quantité ajoutée du polymère soluble en milieu alcalin est de préférence d'au plus 80 % en poids, mieux encore d'au plus 60 % en poids, très préférablement d'au plus 40 % en poids, par rapport à la quantité totale de la composition photosensible (à l'exclusion du solvant). Une quantité dépassant 80 % en poids est indésirable car le motif de réserve est affecté d'une réduction considérable d'épaisseur, ce qui conduit à de mauvaises images et une basse résolution.

   Dans le cas où un polymère soluble en milieu alcalin est utilisé avec 

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 un inhibiteur de dissolution, sans le polymère ayant des groupes qui se décomposent sous l'action d'un acide, pour augmenter la solubilité dans une solution alcaline de développement, la quantité du polymère soluble en milieu alcalin est de préférence de 40 % à 90 % en poids, mieux encore de 50 à 85 % en poids, très préférablement de 60 à 80 % en poids. Si sa quantité est inférieure à 40 % en poids, il s'ensuit des effets indésirables tels qu'une sensibilité réduite. A l'opposé, si elle dépasse 90 % en poids, le motif de réserve est affecté d'une réduction considérable d'épaisseur de film, ce qui conduit à une mauvaise résolution et une mauvaise reproduction d'image. 



   La proportion des dérivés d'oximes de formule I, II ou III (composant (b)) dans la réserve positive selon la présente invention est de préférence comprise entre 0,01 % et 20 % en poids, par rapport à la quantité totale de tous les composants solides de la réserve photosensible. 



   L'utilisation des dérivés d'oximes selon l'invention dans des systèmes amplifiés chimiquement, qui opèrent selon le principe de l'enlèvement d'un groupe protecteur d'un polymère, produit généralement une réserve positive. Les réserves positives sont préférées aux réserves négatives dans beaucoup d'applications, notamment en raison de leur plus grande résolution. Il est cependant également intéressant de produire une image négative en utilisant le mécanisme des réserves positives, afin de conjuguer les avantages du haut degré de résolution de la réserve positive avec les propriétés de la réserve négative. On peut y parvenir en introduisant une étape d'inversion d'image, comme décrit par exemple dans le document EP 361 906.

   A cet effet, la matière de réserve irradiée selon une image est, avant l'étape de développement, traitée avec, par exemple, une base gazeuse pour neutraliser ainsi conformément à l'image l'acide qui a été produit. Ensuite, une seconde irradiation, sur toute la surface, et un post-traitement thermique sont effectués, et l'image négative est ensuite développée de la manière usuelle. 

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 Des composants sensibles à un acide qui produisent 
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 e de façon caractéristique une réserve négative sont notamment des composés qui, lorsqu'ils sont catalysés par un acide (par exemple l'acide formé pendant l'irradiation des composés de formule I, II ou III), sont capables de subir une réaction de réticulation avec eux-mêmes et/ou avec un ou plusieurs autres composants de la composition.

   Les composés de ce type sont, par exemple, les résines durcissables par un acide connues telles que, par exemple, les résines acryliques, polyesters, alkydes, de mélamine, d'urée, époxy et phénoliques, ou leurs mélanges. Les résines aminées, les résines phénoliques et les résines époxy sont très appropriées. Des résines durcissables par un acide de ce type sont généralement connues et sont décrites, par exemple, dans"Ullmanns Enzyklopâdie der technischen Chemie" [Ullmann's Encyclopaedia of Technical Chemistry], 4ème édition, Vol. 15 (1978), pages 613-628. Les composants de réticulation doivent généralement être présents à une concentration de 2 à 40 % en poids, de préférence 5 à 30 % en poids, par rapport à la matière sèche totale de la composition de réserve négative. 



   L'invention inclut donc, à titre de forme de réalisation spéciale, des réserves photosensibles négatives amplifiées chimiquement, développables en milieu alcalin, comprenant (a4) une résine soluble en milieu alcalin comme liant, (a5) un composant qui, lorsqu'il est catalysé par un acide, subit une réaction de réticulation avec lui-même et/ou avec le liant, et (b) comme donneur d'acide photosensible, un dérivé d'oxime de formule I, II ou III. 



  La composition peut comprendre, en plus du composant (b), d'autres donneurs d'acide photosensibles et/ou (c) d'autres additifs. 



   Des résines durcissables par un acide   (a5)   particulièrement préférées sont des résines aminées, telles que les résines d'urée, de guanidine, de biuret ou de mélamine éthérifiées ou non éthérifiées, notamment les résines 

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 de mélamine méthylées ou les résines de mélamine butylées, et les glycoluriles et urones correspondants. Par le terme   "résines" employé   dans le présent contexte, on entend les mélanges techniques usuels, qui comprennent habituellement aussi des oligomères, ainsi que les composés purs et de grande pureté. Les résines durcissables par un acide auxquelles on donne la plus grande préférence sont la N-hexa (méthoxyméthyl) mélamine, le tétraméthoxyméthylglycolurile et la N, N'-diméthoxyméthylurone. 



   La concentration du composé de formule I, II ou III dans les réserves négatives est en général de 0,1 à 30 % en poids, de préférence d'au plus 20 % en poids, par rapport au poids de matière sèche totale des compositions. Une concentration de 1 à 15 % en poids est particulièrement préférée. 



   Lorsque cela est approprié, les compositions négatives peuvent comprendre un liant polymère filmogène (a4). Ce liant est de préférence une résine phénolique soluble en milieu alcalin. Des résines convenant bien à cet effet sont, par exemple, des novolaques dérivées d'un aldéhyde, par exemple l'acétaldéhyde ou le furfuraldéhyde, mais notamment le formaldéhyde, et d'un phénol, par exemple le phénol non substitué, un mono-ou dichlorophénol tel que le p-chlorophénol, un phénol mono-ou disubstitué par des groupes alkyle en   C1-C9   tel que le o-, m-ou p-crésol, les 
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 divers xylénols, le p-tert-butylphénol, le p-nonylphénol, le p-phénylphénol, le résorcinol, le bis (4-hydroxyphényl)- méthane ou le 2,2-bis (4-hydroxyphényl) propane.

   Des résines r également appropriées sont des homo-et copolymères à base de phénols éthyléniquement insaturés, par exemple des homo- polymères de phénols à substitution vinyle ou 1-propényle   tels que le p-vinylphénol ou le p- (1-propényl)   phénol, ou des copolymères de ces phénols avec un ou plusieurs composés éthyléniquement insaturés, par exemple des styrènes. 



   La quantité de liant doit être généralement de 30 à 95 % en poids, ou de préférence de 40 à 80 % en poids. 



   Une composition de réserve négative particulièrement préférée comprend 0,5 à 15 % en poids d'un dérivé d'oxime 

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 de formule I, II ou III (composant (b)), 40 à 99 % en poids d'une résine phénolique comme liant (composant (a4)), par exemple l'un de ceux mentionnés ci-dessus, et 0,5 à 30 % en poids d'une résine de mélamine (composant   (a5))   comme agent de réticulation, les pourcentages étant exprimés par rapport au poids de matière sèche de la composition. Une réserve négative ayant des propriétés particulièrement bonnes est obtenue avec une résine novolaque ou, notamment, avec un polyvinylphénol comme liant. 



   Les dérivés d'oximes peuvent également être utilisés comme générateurs d'acide, qui peuvent être activés photo- chimiquement pour effectuer la réticulation catalysée par un acide de, par exemple, poly (glycidyl) méthacrylates dans des systèmes de réserve négative. Ces réactions de réticu- lation sont décrites, par exemple, par Chae et coll., dans
Pollimo, 1993, 17 (3), 292. 



   Les compositions de réserve positives et négatives peuvent comprendre, en plus du composé donneur d'acide photosensible de formule I, II ou III, d'autres composés donneurs d'acide photosensibles (b1), d'autres additifs (c), d'autres photo-initiateurs (d) et/ou des sensibilisateurs (e). Par conséquent, l'invention inclut également des compositions de réserve amplifiée chimiquement telles que décrites ci-dessus qui comprennent, en plus des composants (a) et (b), ou des composants   (al),   (a2), (a3) et (b), ou des composants (a4), (a5) et (b), d'autres additifs (c), d'autres composés donneurs d'acide photosensibles (b1), d'autres photo-initiateurs (d) et/ou des sensibilisateurs (e). 



   Les dérivés d'oximes de la présente invention peuvent également être utilisés, dans les réserves positives et négatives, avec d'autres photogénérateurs d'acide latent connus (b1), par exemple des sels d'oniums, des 6-nitro- benzylsulfonates, des   bis-sulfonyldiazométhanes,   des sulfo- nates d'oximes contenant le groupe cyano, etc. Des exemples de photogénérateurs d'acide latent connus pour les réserves amplifiées chimiquement sont décrits dans les documents 

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 US 5 731 364, US 5 800 964, EP 704 762, US 5 468 589, US 5 558 971, US 5 558 976 et en particulier EP 794 457 et EP 795 786. 



   Si l'on utilise un mélange de photogénérateurs d'acide latent dans les compositions de réserve selon l'invention, le rapport en poids des dérivés d'oximes de formule I, II ou III aux autres photogénérateurs d'acide latent (b1) dans le mélange est de préférence de 1 : 99 à 99 : 1. 



   Des exemples de photogénérateurs d'acide latent qui sont utilisables en mélange avec les composés de formules I, II et III sont les suivants : (1) Sels d'oniums, par exemple des sels d'iodonium, sels de sulfonium, sels de phosphonium, sels de diazonium et sel de pyridinium. Des composés préférés sont le trifluorométhanesulfonate de diphényliodonium, le pyrènesulfonate de diphényliodonium, le dodécylbenzènesulfonate de diphényliodonium, le trifluorométhanesulfonate   de triphénylsulfonium, l'hexafluoroantimoniate   de triphénylsulfonium, l'hexafluoroantimoniate de diphényliodonium, le naphtalènesulfonate de triphénylsulfonium, le toluènesulfonate de (hydroxyphényl) benzylméthylsulfonium, etc. 



  Le trifluorométhanesulfonate de triphénylsulfonium et l'hexafluoroantimoniate de diphényliodonium sont particulièrement préférés. 



  (2) Composés halogénés, composés hétérocycliques contenant un groupe halogénoalkyle, composés hydrocarbonés contenant un groupe halogénoalkyle, 
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 1 etc. Des composés préférés sont des dérivés de (trichlorométhyl)-s-triazine tels que la phényl-bis (trichlorométhyl)s-triazine, laméthoxyphényl-bis (trichlorométhyl) -s-triazine, la naphtyl-bis (trichlorométhyl)-s-triazine, etc. le 1,1-bis (4-chlorophényl)-2, 2,2-trichloréthane ; etc. 



  (3) Sulfones, par exemple des   ss-cétosulfones,     ss-sulfonylsulfones   et leurs dérivés a-diazoïques, etc. Des composés préférés sont la phénacylphénylsufone, la   mésitylphénacylsulfone,   le bis (phénylsulfonyl) méthane, le bis (phénylsulfonyl) diazométhane. 

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  (4) Sulfonates, par exemple des esters d'acides alkylsulfoniques, esters d'acides halogénoalkylsulfoniques, esters d'acides arylsulfoniques, iminosulfonates, imidosulfonates, etc. Des imidosulfonates préférés sont, par exemple, le N- (trifluorométhylsulfonyloxy) succinimide, le N- (trifluorométhylsulfonyloxy) phtalimide, le N- (trifluorométhylsulfonyloxy) naphtylimide, le N- (trifluorométhylsulfonyloxy) diphénylmaléimide, leN- (trifluorométhylsulfonyloxy) bicyclo [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3-dicarboximide, le -N- (trifluorométhylsulfonyloxy) -7-oxabicyclo[2. 2. 1]hept 5-ène-2, 3-dicarboximide, le N- (trifluorométhylsulfonyloxy)-7-oxabicyclo [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3-dicarboximide, le N- (trifluorométhylsulfonyloxy) bicyclo [2. 2.

   1 heptane-5, 6-oxy- 2, 3-dicarboximide, le N- (camphanylsulfonyloxy) succinimide, le N- (camphanylsulfonyloxy) phtalimide, le N- (camphanylsulfonyloxy) naphtylimide, le N- (camphanylsulfonyloxy)diphénylmaléimide, le N- (camphanylsulfonyloxy) bicyclo- [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3-dicarboximide, leN- (camphanylsulfonyloxy)-7-oxabicyclo [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3-dicarboximide, le N- (camphanylsulfonyloxy) bicyclo [2. 2. 1] heptane-5, 6-oxy-2, 3dicarboximide, leN- (4-méthylphénylsulfonyloxy) succinimide, le N- (4-méthylphénylsulfonyloxy) phtalimide, le N- (4-méthylphénylsulfonyloxy) naphtylimide, le N- (4-méthylphénylsulfonyloxy) diphénylmaléimide, le N- (4-méthylphénylsulfonyloxy)bicyclo [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3-dicarboximide, le N- (4-méthylphénylsulfonyloxy)-7-oxabicyclo [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3-dicarboximide, le N- (4-méthylphénylsulfonyloxy) bicyclo [2. 2.

   1]heptane-5, 6-oxy-2, 3-dicarboximide, le N- (2-trifluorométhylphénylsulfonyloxy) succinimide, le N- (2-trifluorométhylphénylsulfonyloxy) naphtylimide, le N- (2-trifluorométhylphénylsulfonyloxy) diphénylmaléimide, le N- (2-trifluorométhylphénylsulfonyloxy) bicyclo [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3dicarboximide, le N- (2-trifluorométhylphénylsulfonyloxy) - 7-oxabicyclo [2. 2. 1] hept-5-ène-2, 3-dicarboximide, le N- (2trifluorométhylphénylsulfonyloxy) bicyclo[2. 2. 1]heptane- 5, 6-oxy-2, 3-dicarboximide, etc. 

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   D'autres sulfonates appropriés sont de préférence, par exemple, le tosylate de benzoine, le tristrifluorométhanesulfonate de pyrogallol, le triester de pyrogallol d'acide méthanesulfonique, le 9,10-diéthoxyanthracène- 2-sulfonate de nitrobenzyl, le cyanure de   a- (4-toluène-     sulfonyloxyimino)   benzyle, le cyanure de   a- (4-toluène-   sulfonyloxyimino)-4-méthoxybenzyle, le cyanure de a- (4toluènesulfonyloxyimino)-2-thiénylméthyle, le a- (méthane- 
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 sulfonyloxyimino) -1-cyclohexénylacétonitrile, le a- (butylsulfonyloxyimino) -1-cyclopenténylacétonitrile, le (4-méthylsulfonyloxyimino-cyclohexa-2, 5-diénylidène) phénylacétonitrile, le (5-.

   méthylsulfonyloxyimino-5H-thiophène- 2-ylidène) phénylacétonitrile, le (5-mêthylsulfonyloxyiminoSH-thiophène-2-ylidène) - (2-méthylphényl) acétonitrile, le (5-méthylsulfonyloxyimino-5H-thiophène-2-ylidiène)- (2-chlorophényl) acétonitrile, etc. 



   Dans la composition de résine sensible à un rayonnement de la présente invention, des sulfonates particulièrement préférés comprennent le triester de pyrogallol d'acide méthanesulfonique, le   N- (trifluorométhylsulfonyloxy) bicyclo-   [2. 2.   1]hept-5-ène-2, 3-dicarboximide,   le N- (camphanylsulfonyloxy) naphtylimide, le N- (2-trifluorométhylphénylsulfonyloxy) phtalimide, le   N- (trifluorométhylsulfonyloxy)-     bicyclo [2.   2.   1] hept-5-ène-2,   3-dicarboximide, le N- (camphanylsulfonyloxy) naphtylimide, le N- (2-trifluorométhylphénylsulfonyloxy) phtalimide, etc. 



  (5) Dérivés de quinonediazides, par exemple des esters d'acide 1,2-quinonediazide sulfonique de composés polyhydroxylés. Des composés préférés sont ceux qui comportent un groupe 1,2-quinonediazidesulfonyle, par exemple un groupe 1,2-benzoquinonediazide-4-sulfonyle, un groupe 1,   2-naphtoquinonediazide-4-sulfonyle,   un groupe 1,2-naphtoquinonediazide-5-sulfonyle, un groupe 1,2-naphtoquinonediazide-6-sulfonyle, etc.

   Des composés particulièrement préférés ont un groupe 1, 2-naphtoquinonediazide-4-sulfonyle ou un groupe 1,   2-naphtoquinonediazide-5-sulfonyle.   Des composés qui conviennent en particulier sont des esters 

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 d'acide 1,2-quinonediazidesulfonique de (poly) hydroxyphénylarylcétones telles que la 2,3,   4-trihydroxybenzophénone,   la 2,4, 6-trihydroxybenzophénone, la 2,3, 4,4'-tétrahydroxybenzophénone, la 2,2', 3,4-tétrahydroxybenzophénone, la 
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 2, 3, 4, 4'-tétrahydroxybenzophénone, la2, 2', 4, 4'-tétrahydroxybenzophénone, la 2, 2', 3, 4, 4'-pentahydroxybenzophénone, la 2,2', 3,6, 6'-pentahydroxybenzophénone, la 2,3, 3', 4,4', 5'hexahydroxybenzophénone, la 2,3', 4,4', 5', 6-hexahydroxybenzophénone, etc. ;

   des esters d'acide 1,2-quinonediazidesulfonique de bis [ (poly)   hydroxyphényl] alcanes   tels que le bis (4-hydroxyphényl) éthane, le bis (2, 4-dihydroxyphényl)- éthane, le 2,2-bis (4-hydroxyphényl) propane, le 2,2-bis- (2,   4-dihydroxyphényl) propane,   le 2,2-bis (2,3, 4-trihydroxyphényl) propane, etc. ;

   des esters d'acide 1,2-quinonediazidesulfonique de (poly) hydroxyphénylalcanes tels que le 4,   4' -dihydroxytriphénylméthane,   le 4,4', 4"-trihydroxytriphénylméthane, le 4, 4', 5,   5' -tétraméthyl-2,   2', 2"-trihydroxytriphénylméthane, le 2,2, 5, 5'-tétraméthyl-4,   41, 4"-   trihydroxytriphénylméthane, le 1, 1,1-tris (4-hydroxyphényl)- éthane, le 1,1-bis   (4-hydroxyphényl)-1-phényléthane,   le 1,1-bis   (4-hydroxyphényl)-1- (4- [1- (hydroxyphênyl)-1-méthyl-     éthyl] phényl)   éthane, etc. ; des esters d'acide 1,2-quinonediazidesulfonique de (poly) hydroxyphénylflavanes tels que le 2,4, 4-triméthyl-2', 4',   7-trihydroxy-2-phénylflavane,   le 2,4, 4-triméthyl-2'-4', 5', 6,7-pentahydroxy-2-phénylflavane, etc. 



   Les compositions de réserve photosensible positive et négative de la présente invention peuvent contenir facultativement un ou plusieurs additifs (c) couramment utilisés dans les réserves photosensibles en les quantités usuelles connues de l'homme de l'art, par exemple des colorants, pigments, plastifiants, agents tensio-actifs, adjuvants d'écoulement, agents mouillants, promoteurs d'adhérence, agents de thixotropie, colorants, charges, accélérateurs de dissolution, amplificateurs d'acide, photosensibilisateurs et composés basiques organiques. 

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   D'autres exemples pour les composés basiques organiques qui peuvent être utilisés dans la composition de réserve de la présente invention sont des composés qui sont des bases plus fortes que le phénol, en particulier des composés basiques azotés. Ces composés peuvent être ioniques comme, par exemple, les sels de tétraalkylammonium, ou non ioniques. Des composés basiques organiques préférés sont des composés basiques azotés ayant, par molécule, deux ou plus de deux atomes d'azote ayant des environnements chimiques différents. Des composés particulièrement préférés sont ceux qui contiennent à la fois au moins un groupe amino substitué ou non substitué et au moins une structure cyclique azotée, et ceux qui contiennent au moins un groupe alkylamino.

   Des exemples de ces composés préférés comprennent la guanidine, l'aminopyridine, les aminoalkylpyridines, l'aminopyrrolidine, l'indazole, l'imidazole, le pyrazole, la pyrazine, la pyrimidine, la purine, l'imidazoline, la pyrazoline, la pipérazine, l'aminomorpholine et les aminoalkylmorpholines. Les composés non substitués sont appropriés, ainsi que leurs dérivés substitués. Des substituants préférés comprennent les groupes amino, aminoalkyle, alkylamino, aminoraryle, arylamino, alkyle,   alcoxy,'acyle,   acyloxy, aryle, aryloxy, nitro, hydroxyle et cyano.

   Des exemples particuliers de composés basiques organiques particulièrement préférés comprennent la guanidine, la 
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 1, 1-diméthylguanidine, la 1, 1, 3, 3-tétraméthylguanidine, la 2-aminopyridine, la 3-aminopyridine, la 4-aminopyridine, la 2-diméthylaminopyridine, la 4-diméthylaminopyridine, la 2-diéthylaminopyridine, la   2- (aminométhyl)   pyridine, la 2-amino-3-méthylpyridine, la 2-amino-4-méthylpyridine, la   2-amino5-rnéthylpyridine,   la 2-amino-6-méthylpyridine,   la 3-aminoéthylpyridine,   la 4-aminoéthylpyridine, la 3-aminopyrrolidine, la pipérazine, la   N- (2-aminoéthyl) pipérazine,   la N- (2-aminoéthyl) pipéridine, la 4-amino-2,2, 6, 6-tétraméthylpipéridine, la   4-pipéridinopipéridine,   la 2-imino- 
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 pipéridine,

   la 1- (2-aminoéthyl) pyrrolidine, le pyrazole, le 3-amino-5-méthylpyrazole, le 5-amino-3-méthyl-1-p-tolylpyrazole, la pyrazine, la 2- (aminométhyl) -5-méthylpyrazine, 

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 la pyrimidine, la 2,4-diaminopyrimidine, la 4,6-dihydroxypyrimidine, la 2-pyrazoline, la 3-pyrazoline, la N-aminomorpholine et la N- (2-aminoéthyl) morpholine. 



   D'autres exemples de composés basiques organiques appropriés sont décrits dans les documents DE 4 408 318, US 5 609 989, US 5 556 734, EP 762 207, DE 4 306 069, EP 611 998, EP 813 113, EP 611 998 et US 5 498 506. Cependant, les composés basiques organiques utilisables dans la présente invention ne sont pas limités à ces exemples. 



   Les composés basiques azotés peuvent être utilisés individuellement ou en association d'au moins deux d'entre eux. La quantité ajoutée des composés basiques azotés est habituellement de 0,001 à 10 parties en poids, de préférence 0,01 à 5 parties en poids, pour 100 parties en poids de la composition de résine photosensible (à l'exclusion du solvant). Si leur quantité est inférieure à 0,001 partie en poids, les effets de la présente invention ne peuvent être obtenus. A l'opposé, si cette quantité dépasse 10 parties en poids, il risque d'apparaître une sensibilité réduite et une moindre aptitude au développement dans les régions non exposées. 



   La composition peut encore contenir un composé basique organique qui se décompose sous l'action d'un rayonnement actinique ("base suicide") tel que décrit, par exemple, dans les documents EP 710 885, US 5 663 035, US 5 595 855, US 5 525 453 et EP 611 998. 



   Des exemples de colorants (c) convenant pour les compositions de la présente invention sont des colorants oléosolubles et des colorants basiques, par exemple le Jaune à l'Huile NO 101, le Jaune à l'Huile NO 103, le Rose à 
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 l'Huile NO 312, le Vert à l'Huile BG, le Bleu à l'Huile BOS, le Bleu à l'Huile NO 603, le Noir à l'Huile BY, le Noir à l'Huile BS, le Noir à l'Huile T-505 (tous fabriqués par Orient Chemical Industries, Ltd., Japon), le violet cristal-   lisé (No 42555 du C. I. ), le violet de méthyle (No 42535   du C. I.), la rhodamine B   (No   45170B du C. I.), le vert   malachite (No 42000 du C. I. ) et le bleu de méthylène (NO 52015 du C. I. ).   

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   Des sensibilisateurs spectraux (e) peuvent en outre être ajoutés pour sensibiliser le photogénérateur d'acide latent afin qu'il présente une absorption dans une région de plus grandes longueurs d'onde que celles de l'ultraviolet lointain, de sorte que la composition photosensible de la présente invention puisse être rendue sensible, par exemple à un rayonnement de raie i ou de raie g.

   Des exemples de sensibilisateurs spectraux comprennent des   benzophénones,   la p, p'-tétraéthyléthylaminobenzophénone, la thioxanthone, la 2-chloroxanthone, l'anthrone, le pyrène, le pérylène, la phénothiazine, le benzile, l'orangé d'acridine, la benzoflavine, la cétoflavine T, le 9,10-diphénylanthracène, la 9-fluorénone, l'acétophénone, le phénanthrène, le   2-nitrofluorène,   le   5-nitroacénaphtène,   la benzoquinone, la 2-chloro-4-nitraniline, la   N-acétyl-p-nitraniline,   la p-nitraniline, la N-acétyl-4-nitro-naphtylamine, le picramide, l'anthraquinone, la 2-éthylanthraquinone, la 2-tert-butylanthraquinone, la 1,2-benzanthraquinone, la 3-méthyl-1,3-diaza-1, 9-benzanthrone,   ladibenzalacétone,   la 1,2-naphtoquinone, des dérivés de 3-acylcoumarine, la 3,

  3'-carbonylbis (5,7-diméthoxycarbonylcoumarine), des 3- (aroylméthylène) thiazolines,   l'éosine,   la rhodamine, l'érythrosine et le coronène. Cependant, les sensibilisateurs spectraux qui conviennent ne sont pas limités à ces exemples. 



   Ces sensibilisateurs spectraux peuvent également être utilisés comme absorbeurs de lumière pour absorber l'ultraviolet lointain émis par une source lumineuse. Dans ce cas, l'absorbeur de lumière réduit la réflexion de lumière par le substrat et atténue l'influence des réflexions multiples dans le film de réserve, en diminuant ainsi l'effet d'ondes stationnaires. 



   D'autres additifs (c) appropriés sont des"amplificateurs d'acide", qui sont des composés accélérant la formation d'acide ou accroissant la concentration d'acide. Ces composés peuvent également être utilisés en association avec les dérivés d'oximes de formules I, II et III selon 

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 l'invention dans des réserves positives ou négatives, ou dans des systèmes de formation d'image ainsi que dans toutes les applications de revêtement. De tels amplificateurs d'acide sont décrits, par exemple, par K. Arimitsu et coll., J.   Photopolym. Sei. Technol., 1995,   8, page 43 ; K. Kudo 
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 et coll., J. Photopolym. Sei. Technol., 1995, 8, page 45 ; K. Ichimura et coll., Chem. Letters, 1995, page 551. 



   Pour l'application à un substrat de la composition photosensible de la présente invention, la composition est habituellement dissoute dans un solvant approprié. 



  Des exemples préférés de ces solvants comprennent le chlorure d'éthylène, la cyclohexanone, la cyclopentanone, la 2-heptanone, la y-butyrolactone, la méthyléthylcétone, 
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 l'éther monométhylique d'éthylène-glycol, l'éther mono- éthylique d'éthylène-glycol, l'acétate de 2-méthoxyéthyle, l'acétate de 2-éthoxyéthyle, le 2-éthoxyéthanol, l'éther diméthylique de diéthylène-glycol, l'acétate d'éther monoéthylique d'éthylène-glycol, l'éther monométhylique de propylène-glycol, l'acétate d'éther monométhylique de propylène-glycol, le toluène, l'acétate d'éthyle, le lactate de méthyle, le lactate d'éthyle, le méthoxypropionate de méthyle, l'éthoxypropionate d'éthyle, le pyruvate de méthyle, le pyruvate d'éthyle, le pyruvate de propyle, le N, N-diméthylformamide,   lediméthylsulfoxyde,

   laN-méthyl-   pyrrolidone et le tétrahydrofuranne. Ces solvants peuvent être utilisés individuellement ou en mélanges. Des exemples préférés de solvants sont des esters tels que l'acétate de 2-méthoxyéthyle,   l'acétate d'éther monoéthylique d'êthylène-   glycol, l'acétate d'éther monométhylique de propylène-glycol, le méthoxypropionate de méthyle, l'éthoxypropionate d'éthyle et le lactate d'éthyle. L'utilisation de ces solvants est avantageuse car les dérivés d'oximes représentés par les formules I, II et III selon la présente invention ont une bonne compatibilité avec ces solvants et présentent une meilleure solubilité dans ceux-ci. 



   Un agent tensio-actif peut être ajouté au solvant. 



  Des exemples d'agents tensio-actifs appropriés comprennent 

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 des agents tensio-actifs non ioniques tels que des éthers alkyliques de polyoxyéthylène, par exemple l'éther laury- lique de   polyoxyéthylène,   l'éther stéarylique de polyoxy- éthylène, l'éther acétylique de polyoxyéthylène et l'éther oléylique de polyoxyéthylène ; des éthers alkylaryliques de polyoxyéthylène, par exemple l'éther octylphénylique de polyoxyéthylène et l'éther nonylphénylique de polyoxy- éthylène ; des copolymères séquences polyoxyéthylène/ polyoxypropylène, des esters d'acides gras de sorbitanne, par exemple le monolaurate de sorbitanne, le monopalmitate de sorbitanne, le monostéarate de sorbitanne, le monooléate de sorbitanne, le trioléate de sorbitanne ;

   des agents tensio-actifs fluorochimiques tels que F-top EF301, EF303 et EF352 (fabriqués   par New Akita   Chemical Company, Japon),
Megafac F171 et F17. 3 (fabriqués par Dainippon Ink & 
Chemicals, Inc., Japon), Fluorad FC 430 et FC 431 (fabriqués par Sumitomo 3M Ltd., Japon), Asahi Guard AG710 et Surflon
S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105 et SC106 (fabriqués par Asahi Glass Co., Ltd., Japon) ; et les (co) polymères acryliques ou méthacryliques Poly-flow NO 75 et NO 95 (fabriqués par Kyoeisha Chemical Co.,   Ltd.,   Japon). 



   La quantité ajoutée de l'agent tensio-actif est habituelle- ment de 2 parties en poids ou moins, avantageusement de
0,5 parties en poids ou moins, pour 100 parties en poids des composants solides de la composition de la présente invention. Les agents tensio-actifs peuvent être ajoutés individuellement ou en association de deux ou plusieurs   1 d'entre   eux. 



   La solution est appliquée uniformément à un substrat par des techniques d'application connues, par exemple le dépôt par centrifugation, l'immersion, l'étendage à la racle, les techniques d'application au rideau, l'application à la brosse, la pulvérisation et le couchage au rouleau. 



   Il est également possible d'appliquer la couche photo- sensible à un support flexible temporaire, puis de revêtir le substrat final par transfert de couche (stratification). 



   La quantité appliquée (épaisseur de couche) et la nature 

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 du substrat (substrat d'application) dépendent du domaine d'utilisation considéré. La gamme des épaisseurs de couche peut en principe comprendre des valeurs d'environ 0,01 um à plus de 100   um.   



   Après l'opération d'application, le solvant est généralement éliminé par chauffage, ce qui donne une couche de la réserve photosensible sur le substrat. La température de séchage doit évidemment être inférieure à la température à laquelle certains composants de la réserve pourraient réagir ou se décomposer. En général, les températures de séchage se situent entre 60 et   160 C.   



   La couche de réserve est ensuite irradiée confor- 
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 mément à une image. L'expression"irradiation conforme à une image"inclut une irradiation effectuée selon un motif prédéterminé en utilisant un rayonnement actinique, c'est- à-dire aussi bien une irradiation à travers un masque comportant un motif prédéterminé, par exemple une diapositive, un masque en chrome ou un réticule, qu'une irradiation faite en utilisant un faisceau laser ou un faisceau d'électrons qui écrit directement sur la surface de la réserve, par exemple sous la commande d'un ordinateur, et produit ainsi une image. Une autre méthode de production d'un motif opère par interférence de deux faisceaux ou images, comme c'est le cas, par exemple, dans les applications holographiques.

   Il est également possible d'utiliser des masques constitués de cristaux liquides qui peuvent être adressés pixel par pixel pour créer des images numériques, comme décrit par exemple par A. Bertsch, J. Y. Jezequel, J. C. Andre dans Journal of Photochemistry and Photobiology A : Chemistry, 1997, 107, pages 275-281, et par K.-P. Nicolay dans Offset Printing, 1997,6, pages 34-37. 



   Après l'irradiation, et si nécessaire un traitement thermique, les parties irradiées (dans le cas des réserves positives) ou les parties non irradiées (dans le cas des réserves négatives) de la composition sont éliminées d'une manière connue en soi en utilisant une solution de développement. 

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   Afin d'accélérer la. réaction catalytique et, par conséquent, l'apparition d'une différence suffisante de solubilité entre les zones irradiées et non irradiées de la couche de réserve dans l'agent de développement, la couche est de préférence chauffée avant d'être développée. 



   Le chauffage peut également être effectué ou commencé pendant l'irradiation. On emploie de préférence des tempéra- tures de 60 à   160 C.   La période de temps dépend du procédé de chauffage et, si nécessaire, la période optimale peut être facilement déterminée par l'homme de l'art au moyen de quelques expériences de routine. Elle est généralement de quelques secondes à plusieurs minutes. Par exemple, une période très appropriée est de 10 à 300 secondes lorsqu'on utilise une plaque chaude et de 1 à 30 minutes lorsqu'on utilise un four à convection. Il est important que les donneurs d'acide latent selon l'invention dans les parties non irradiées de la réserve soient stables dans ces condi- tions de traitement. 



   La couche de réserve est ensuite développée, les parties de la couche qui, après irradiation, sont plus solubles dans l'agent de développement étant éliminées.
Si nécessaire, cette étape opératoire peut être accélérée par une légère agitation de la pièce d'oeuvre, un brossage doux de la couche de réserve dans le bain de développement ou un développement par pulvérisation. Les solutions alcalines aqueuses de développement qui sont usuelles dans la technologie des réserves peuvent, par exemple, être utilisées pour le développement.

   Ces solutions de développe- ment comprennent, par exemple, de l'hydroxyde de sodium ou de potassium, les carbonates, hydrogénocarbonates, silicates ou métasilicates correspondants, mais de préférence des bases non métalliques telles que l'ammoniac ou des amines, par exemple l'éthylamine, la n-propylamine, la diéthylamine, la   di-n-propylamine,   la triéthylamine, la méthyldiéthyl- amine, des alcanolamines telles que la   diméthyléthanolamine,   la triéthanolamine, des hydroxydes d'ammonium quaternaire tels que l'hydroxyde de tétraméthylammonium ou l'hydroxyde 

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 de tétraéthylammonium. Les solutions de développement sont généralement à une concentration allant jusqu'à 0, 5N, mais sont habituellement diluées de façon appropriée avant l'emploi.

   Par exemple, les solutions ayant une normalité d'environ 0,1 à 0,3 sont bien adaptées. Le choix de l'agent de développement dépend de la nature de la couche de surface photodurcissable, notamment de la nature du liant utilisé ou des produits de photolyse résultants. Les solutions de développement aqueuses peuvent comprendre également, si nécessaire, des quantités relativement faibles d'agents mouillants et/ou de solvants organiques. Des exemples représentatifs de solvants organiques qui peuvent être ajoutés aux solutions de développement sont, par exemple, la cyclohexanone,   le 2-éthoxyéthanol,   le toluène, l'acétone, l'isopropanol, ainsi que des mélanges d'au moins deux de ces solvants. Un système de développement aqueux/organique représentatif est à base de   Butylcellosolve/eau.   



  * La présente invention concerne également un procédé pour la formation d'une image de réserve, qui consiste à (1) appliquer une composition telle que décrite ci-dessus à un substrat ; (2) cuire la composition après application à des températures comprises entre   60 C   et   160 C   ; (3) irradier conformément à une image avec de la lumière ayant des longueurs d'onde comprises entre 150 nm et 1500 nm ; (4) facultativement, cuire la composition après exposition à des températures comprises entre   600C   et 1600C ; et (5) développer avec un solvant ou avec une solution alcaline aqueuse de développement. 



   Un procédé préféré est celui dans lequel l'irradiation conformément à une image est effectuée avec un rayonnement monochromatique ou polychromatique dans la gamme de longueurs d'onde de 190 à 450 nm, en particulier dans la gamme de 190 à 260 nm. 



   Les réserves photosensibles selon l'invention ont d'excellentes propriétés lithographiques, en particulier 

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 une grande sensibilité et une grande transparence de la réserve au rayonnement formateur d'image. 



   Des domaines possibles d'utilisation de la composition de l'invention sont les suivants : utilisation comme réserves photosensibles pour l'électronique, telles que des réserves de gravure, réserves de galvanoplastie ou épargnes de soudure ; fabrication de circuits intégrés ou réserves pour transistors à couches minces (TFT) ; fabrication de plaques d'impression telles que les plaques d'impression offset ou les pochoirs d'impression sérigraphique ; utilisation dans la gravure de pièces moulées ou dans des techniques de stéréolithographie ou d'holographie. Les substrats d'application et les conditions opératoires varient de façon correspondante. 



   Les compositions selon l'invention sont également remarquablement appropriées comme compositions de revêtement pour tous types de substrats, y compris le bois, les textiles, le papier, les céramiques, le verre, les matières plastiques telles que les polyesters, le polytéréphtalate d'éthylène, les polyoléfines ou l'acétate de cellulose, notamment sous la forme de pellicules, et en particulier pour revêtir des métaux tels que Ni, Fe, Zn, Mg, Co ou notamment Cu et Al et également Si, les oxydes ou nitrures de silicium, sur lesquels une image doit être formée par irradiation conformément à une image. 



   L'invention concerne également l'utilisation des composés de formules Ib, IIb et   IIIb   comme donneurs d'acide latent photosensibles dans des compositions qui peuvent être réticulées sous l'action d'un acide et/ou comme activateurs de dissolution dans des compositions où la solubilité est augmentée sous l'action d'un acide. 



   L'invention concerne en outre un procédé pour la réticulation de composés qui peuvent être réticulés sous l'action d'un acide, ce procédé consistant à ajouter un composé de formule Ib, IIb et/ou   IIIb   aux composés susmentionnés et à effectuer une irradiation conformément à une image ou sur toute la surface avec une lumière ayant une longueur d'onde de 150 à 1500 nm. 

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   L'invention concerne également l'utilisation de composés de formules Ib, IIb ou   IIIb   comme donneurs d'acide photosensibles dans la préparation de revêtements de surface, encres d'impression, plaques d'impression, compositions dentaires, filtres colorés, réserves ou matériaux d'enregistrement d'images, ou matériaux d'enregistrement d'images pour l'enregistrement d'images holographiques, ainsi qu'un procédé pour la préparation de revêtements de surface, encres d'impression, plaques d'impression, compositions dentaires, filtres colorés, réserves ou matériaux d'enregistrement d'images, ou matériaux d'enregistrement d'images pour l'enregistrement d'images holographiques. 



  L'invention concerne encore l'utilisation de composés de formules I, II et III comme donneurs d'acide photosensibles dans la préparation de filtres colorés ou de matières de réserve amplifiée chimiquement. 



   Comme déjà mentionné ci-dessus, dans les compositions photoréticulables, les dérivés d'oximes agissent comme des catalyseurs de durcissement latents : lorsqu'ils sont irradiés par une lumière, ils libèrent un acide qui catalyse la réaction de réticulation. De plus, l'acide libéré par le rayonnement peut, par exemple, catalyser l'enlèvement de groupes protecteurs appropriés, sensibles aux acides, d'une structure polymère, ou le clivage de polymères contenant des groupes sensibles aux acides dans leur squelette. D'autres applications sont, par exemple, des systèmes à changement de couleur dont le mécanisme d'action repose sur une variation de pH ou de solubilité, par exemple d'un pigment protégé par des groupes protecteurs sensibles aux acides. 



   Les dérivés d'oximes selon la présente invention peuvent également être utilisés pour produire des images de "copie sans développement"lorsque le composé est utilisé avec un colorant qui change de couleur lorsque le pH change, comme décrit, par exemple, dans le document JP Hei 4-328552-A ou dans le document US 5 237 059. Ces systèmes à changement de couleur peuvent également être utilisés selon le document EP 199 672 pour contrôler des marchandises qui sont sensibles à la chaleur ou aux rayonnements. 

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   En plus d'un changement de couleur, il est possible que des cristaux de pigment soient précipités pendant la l'élimination de protection par catalyse acide de molécules de pigment soluble (par exemple comme décrit dans les documents EP 648 770, EP 648 817 et EP 742 255) ; cet effet peut être mis à profit dans la production de filtres colorés, par exemple comme décrit dans le document EP 654 711, ou la formation d'images de copie sans développement et les applications aux indicateurs, lorsque la couleur du précur- seur de pigment latent diffère de celle des cristaux de pigment précipités. 



   Les compositions utilisant des pigments latents ou des colorants sensibles au pH en association avec les dérivés d'oximes peuvent être utilisées comme indicateurs pour un rayonnement électromagnétique, tel que les rayons gamma, les faisceaux d'électrons, la lumière UV ou visible, ou comme dosimètres simples à jeter après usage. Ces dosi- mètres sont intéressants notamment pour une lumière qui est invisible à l'oeil humain, telle qu'une lumière UV ou IR. 



   Enfin, les dérivés d'oximes qui sont peu solubles dans une solution alcaline aqueuse de développement peuvent être rendus solubles dans la solution de développement par conversion en l'acide libre sous l'action de la lumière, et ils peuvent donc être utilisés comme activateurs de solubilité en association avec des résines filmogènes appropriées. 



   Les résines qui peuvent être réticulées par catalyse 1 acide et donc par les photogénérateurs d'acide latent de formule I, II ou III, en particulier les composés de formule   Ib   ou IIIb, selon l'invention sont, par exemple, des mélanges d'alcools polyfonctionnels ou de résines polyesters et acryliques contenant des groupes hydroxyle ou d'acétals polyvinyliques partiellement hydrolysés ou d'alcools polyvinyliques avec des dérivés d'acétals polyfonctionnels.
Dans certaines conditions, par exemple, une auto-condensa- tion des résines fonctionnalisées par des groupes acétal est également possible. 

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   Les résines durcissables par un acide appropriées sont en général toutes les résines dont le durcissement peut être accéléré par des catalyseurs acides, telles que des aminoplastes ou des résines phénolique du type résol. Ces résines sont, par exemple, des résines de mélamine, d'urée, époxy, phénoliques, acryliques, polyesters et alkydes, mais notamment des mélanges de résines acryliques, polyesters ou alkydes avec une résine de mélamine. Il y est également inclus les résines modifiées de revêtement de surface, telles que les résines alkydes et polyesters à modification acrylique.

   Des exemples de types individuels de résines qui sont couverts par   l'expression"résines   acryliques, polyesters et alkydes"sont décrits, par exemple, dans Lackkunstharze de Wagner et Sarx (Munich, 1971), pages 86-123 et pages 229-238, ou   dans"Ullmanns Enzyklopâdie   der technischen Chemie", 4ème édition, Vol. 15 (1978), pages 613-628, ou Ullmann's Encyclopaedia of Industrial Chemistry, Verlag Chemie, 1991, Vol. 18, pages 360 et suivantes, Vol. 



  A19, pages 371 et suivantes. 



   Dans les applications de revêtement, le revêtement de surface comprend de préférence une résine aminée. Des exemples en sont les résines d'urée, de guanidine, de biuret ou de mélamine éthérifiées ou non éthérifiées. La catalyse acide est particulièrement importante dans le durcissement de revêtements de surface comprenant des résines aminées éthérifiées, telles que les résines de mélamine méthylée ou butylée   (N-méthoxyméthyl-ou   N-butoxyméthylmélamine) ou les glycoluriles méthylés/butylés.

   Des exemples d'autres compositions de résine sont des mélanges d'alcools polyfonctionnels ou de résines polyesters et acryliques contenant des groupes hydroxyle ou d'acétate de polyvinyle partiellement hydrolysé ou d'alcools polyvinyliques avec des dérivés de dihydropyrannyle polyfonctionnels, tels que des dérivés d'acide 3,   4-dihydro-2H-pyranne-2-carboxylique.   Des polysiloxanes peuvent également être réticulés au moyen de la catalyse acide. Ces résines contenant des groupes siloxane peuvent, par exemple, subir une auto-condensation 

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 au moyen d'une hydrolyse par catalyse acide ou être réticulées par un second composant de la résine, tel qu'un alcool polyfonctionnel, une résine polyester ou acrylique contenant des groupes hydroxyle, un acétal polyvinylique partiellement hydrolysé ou un alcool polyvinylique.

   Ce type de polycondensation de polysiloxanes est décrit, par exemple, par J. J. Lebrun, H. Pode, Comprehensive Polymer Science, Volume 5, page 593, Pergamon Press, Oxford, 1989. D'autres matières cationiquement polymérisables qui conviennent pour la préparation de revêtements de surface sont des composés éthyléniquement insaturés polymérisables par un mécanisme cationique, tels que des éthers de vinyle, par exemple l'éther de méthyle et de vinyle, l'éther d'isobutyle et de vinyle, l'éther trivinylique de triméthylolpropane, l'éther divinylique d'éthylène-glycol ; des éthers de vinyle cycliques, par exemple le 3,4-dihydro-2-formyl-2H-pyranne (acroléine dimère) ou l'ester d'acide 3,4-dihydro-2H-pyranne- 2-carboxylique du 2-hydroxyméthyl-3,4-dihydro-2H-pyranne ;

   des esters de vinyle tels que l'acétate de vinyle et le stéarate de vinyle, des mono-et dioléfines telles que le a-méthylstyrène, la   N-vinylpyrrolidone   ou le N-vinylcarbazole. 



   Pour certaines applications, on utilise des mélanges de résines ayant des constituants monomères ou oligomères contenant des groupes insaturés polymérisables. Ces revêtements de surface peuvent également être durcis en utilisant les composés de formules I, II et III. Dans ce procédé, on peut utiliser aussi des initiateurs de polymérisation radicalaire ou des photo-initiateurs. Les premiers amorcent la polymérisation des groupes insaturés pendant le traitement thermique, les seconds pendant l'irradiation UV. 



   L'invention concerne également une composition comprenant (a) un composé qui durcit sous l'action d'un acide ou un composé dont la solubilité est augmentée sous l'action d'un acide ; et (b) comme donneur d'acide photosensible, au moins un composé de formule Ib, IIb ou   IIIb   comme décrit ci-dessus. 

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   Les composés des formules I, II et III, ou Ib, IIb et IIIb, respectivement, sont généralement ajoutés aux compositions en une quantité de 0,1 à 30 % en poids, par exemple de   0, 5   à 10 % en poids, notamment de 1 à 5 % en poids. 



   Selon l'invention, les composés de formule I, Ib, II, IIb, III ou   IIIb   peuvent être utilisés avec d'autres composés donneurs d'acide photosensibles (b1), d'autres photo-initiateurs (d), des sensibilisateurs (e) et/ou des additifs (c). Des composés donneurs d'acide photosensibles (b1), des sensibilisateurs (e) et des additifs (c) appropriés sont décrits ci-dessus. 



   Des exemples de photo-initiateurs supplémentaires (d) sont des photo-initiateurs radicalaires, tels que ceux de la classe des benzophénones, des dérivés d'acétophénone tels qu'une   a-hydroxycycloalkylphénylcétone,   une dialcoxyacétophénone, la a-hydroxyacétophénone ou la a-aminoacétophénone, des   4-aroyl-1, 3-dioxolannes,   des éthers alkyliques de benzoïne et cétals de benzile, des oxydes de monoacylphosphine, des oxydes   de bisacylphosphine   ou des titanocènes.

   Des exemples de photo-initiateurs supplémentaires parti- 
 EMI69.1 
 culièrement appropriés sont les suivants : 1- (4-dodécylbenzoyl) -1-hydroxy-1-méthyléthane, 1- (4-isopropylbenzoyl) - 1-hydroxy-1-méthyléthane, 1-benzoyl-1-hydroxy-1-méthyl- éthane, 1-[4- (2-hydroxyéthoxy) benzoyl]-1-hydroxy-1-méthyl- éthane, 1-[4- (acroyloxyéthoxy) benzoyl]-1-hydroxy-1-méthyl- éthane, diphénylcétone, phényl-1-hydroxycyclohexyl-cétone,   (4-morpholinobenzoyl)-1-benzyl-1-diméthylaminopropane, 1- (3, 4-diméthoxyphényl)-2-benzyl-2-diméthylaminobutane-   1-one,   (4-méthylthiobenzoyl)-1-méthyl-1-morpholinoéthane,   cétal diméthylique de benzile, bis   (cyclopentadiényl)-   bis (2,   6-difluoro-3-pyrrylphényl)   titane, oxyde de triméthylbenzoyldiphénylphosphine, oxyde de bis (2,

   6-diméthoxy- 
 EMI69.2 
 benzoyl)- (2, 4, 4-triméthylpentyl) phosphine, oxyde de bis (2, 4, 6-triméthylbenzoyl)-2, 4-dipentoxyphénylphosphine et oxyde de bis (2, 4, 6-triméthylbenzoyl) phénylphosphine. D'autres photo-initiateurs supplémentaires appropriés sont 

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 proposés, par exemple, dans le document US 4 950 581, de la colonne 20, ligne 35, à la colonne 21, ligne 35. D'autres exemples sont des dérivés de trihalogénométhyltriazine ou des composés d'hexaarylbisimidazolyle. D'autres exemples de photo-initiateurs supplémentaires sont des borates, par exemple comme décrit dans les documents US 4 772 530, EP 775 706, GB 2 307 474, GB 2 307 473 et GB 2 304 472. 



  Les borates sont utilisés de préférence en association avec des composés accepteurs d'électrons tels que, par exemple, des cations de colorants ou des dérivés de thioxanthone. 



   D'autres exemples de photo-initiateurs supplémentaires sont des peroxydes, par exemple le peroxyde de benzoyle (d'autres peroxydes appropriés sont décrits dans le document US 4 950 581, colonne 19, lignes 17 à 25), ou des photo-initiateurs cationiques tels que des sels de sulfonium ou d'iodonium aromatiques, tels que ceux décrits dans le document US 4 950 581, de la colonne 18, ligne 60, à la colonne 19, ligne 10, ou des sels de complexes cyclopentadiényl-arène-fer (II), par exemple l'hexafluorophosphate de   (n-isopropylbenzène)(r)-cyclopentadiényl)   fer (II). 



   Les compositions de revêtement de surface peuvent être des solutions ou dispersions de la résine de revêtement de surface dans un solvant organique ou dans l'eau, mais elles peuvent également être sans solvant. Des produits particulièrement intéressants sont les compositions de revêtement de surface ayant une basse teneur en solvant, appelées des"revêtements de surface à haut extrait sec", et les compositions de revêtement en poudre. Les compositions de revêtement de surface peuvent être des vernis incolores, tels qu'utilisés, par exemple, dans l'industrie automobile comme vernis de finition pour revêtements multicouches. Elles peuvent également comprendre des pigments et/ou des charges, qui peuvent être des composés minéraux ou organiques, et des poudres métalliques pour former des finitions à effet métallisé. 



   Les compositions de revêtement de surface peuvent également comprendre des quantités relativement petites 

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 d'additifs spéciaux usuels dans la technologie des revêtements de surface, par exemple des agents améliorant l'écoulement, des agents de thixotropie, des agents d'égalisation, des agents antimousse, des agents mouillants, des promoteurs d'adhérence, des stabilisants à la lumière, des antioxydants ou des sensibilisateurs. 



   Des absorbeurs d'UV, par exemple ceux du type hydroxyphénylbenzotriazole, hydroxyphénylbenzophénone, amide d'acide oxalique ou   hydroxyphényl-s-triazine,   peuvent être ajoutés aux compositions selon l'invention comme stabilisants à la lumière. Ces composés peuvent être utilisés individuellement ou en mélanges, avec ou sans addition d'amines à empêchement stérique (SLAES). 



   Des exemples de ces absorbeurs d'UV et stabilisants à la lumière sont les suivants : 1. 2- (2'-hydroxyphényl) benzotriazoles, par exemple : 2- (2'hydroxy-5'-méthylphényl) benzotriazole,   2- (3', S'-di-tert-   butyl-2'-hydroxyphényl)   benzotriazole, 2- (5'-tert-butyl-   2'-hydroxyphényl) benzotriazole,   2- (2'-hydroxy-5'- (1, 1, 3, 3-   
 EMI71.1 
 tétraméthylbutyl) phényl) benzotriazole, 2- (3', 5'-di-tertbutyl-2'-hydroxyphényl)-5-chlorobenzotriazole, 2- (3'-tertbutyl-2'-hydroxy-5'-méthylphényl)-5-chlorobenzotriazole, 2- (3'-sec-butyl-5'-tert-butyl-2'-hydroxyphényl) benzotriazole,   2- (2'-hydroxy-4'-octoxyphényl)   benzotriazole, 2- (3', 5'-ditert-amyl-2'-hydroxyphényl) benzotriazole, 2- (3', 5'-bis- 
 EMI71.2 
 (a, a-diméthylbenzyl)-2'-hydroxyphényl) benzotriazole,

   mélange de 2- (3'-tert-butyl-21-hydroxy-S'- (2-octyloxycarbonyléthy1) phényD-5-chlorobenzotriazole, 2- {3'-ùert-butyl-5'- [2- (2- éthylhexyloxy) carbonyléthyl]-2'-hydroxyphényl}-5-chlorobenzotriazole, 2- (3'-tert-butyl-2'-hydroxy-5'- (2-méthoxycarbonyléthyl) phényl)-5-chlorobenzotriazole, 2- (3'- & ertbutyl-2'-hydroxy-5'- (2-méthoxycarbonyléthyl) phényl) benzotriazole/2- (3'-tert-butyl-2'-hydroxy-5'- (2-octyloxycarbonyl- éthyl) phényl) benzotriazole, 2- {3'-tert-butyl-5'-[2- (2-éthyl- hexyloxy) carbonyléthyl]-2'-hydroxyphényl) benzotriazole, 2-(3'-dodécyl-2'-hydroxy-5'-méthylphényl)benzotriazole et 

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 EMI72.1 
 2- (3'-tert-butyl-2'-hydroxy-5'- (2-isooctyloxycarbonyléthyl)phényl) benzotriazole, 2, 2'-méthylène-bis [4- (1, 1, 3, 3-tétraméthylbutyl) -6-benzotriazole-2-ylphénol] ;

   produit de transestérification du 2- [3'-tert-butyl-5 1 - (2-méthoxycarbonyl-   éthyl)-2'-hydroxyphényl]-benzotriazole   avec le polyéthylèneglycol 300 ;   [R-CH2CH2-COO   (CH2)   342-où   où R=3'-tert-butyl-   4'-hydroxy-5'-2H-benzotriazole-2-ylphényle.   



  2.2-hydroxybenzophénones, par exemple les dérivés portant des substituants 4-hydroxy, 4-méthoxy, 4-octoxy, 4-décyloxy, 4-dodécyloxy, 4-benzyloxy, 4,   2',     4'-trihydroxyet2'-hydroxy-   4,4'-diméthoxy. 



  3. Esters d'acides benzoïques substitués et non substitués, par exemple : salicylate de   4-tert-butylphényle,   salicylate de phényle, salicylate d'octylphényle, dibenzoylrésorcinol, 
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 bis (4-tert-butylbenzoyl) résorcinol, benzoylrésorcinol, 3, 5di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate de 2, 4-di-tert-butylphényle, 3,   S-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate   d'hexadécyle, 3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate d'octadécyle et 3, 5-di-tertbutyl-4-hydroxybenzoatede2-éthyl-4,6-di-tert-butylphényle. 4.

   Acrylates, par exemple :   a-cyano-P,     ss-diphénylacrylate   
 EMI72.3 
 d'éthyle ou d'isooctyle, a-carbométhoxycinnamate de méthyle, a-cyano-P-méthyl-p-méthoxycinnamate de méthyle ou de butyle, a-carbométhoxy-p-méthoxycinnamate de méthyle et N- (P-carbométhoxy-ss-cyanovinyl) -2-méthylindoline. 



   5. Amines à empêchement stérique, par exemple : sébacate de bis (2, 2, 6,6-tétraméthylpipéridyle), succinate de bis (2,2, 6,6- tétraméthyl-pipéridyle), sébacate de bis (1,2, 2,6, 6-penta-   méthyl-pipéridyle),   n-butyl-3, 5-di-tert-butyl-4-hydroxy- benzylmalonate de bis (1,2, 2,6, 6-pentaméthylpipéridyle), 
 EMI72.4 
 produit de condensation de la 1-hydroxyéthyl-2, 2, 6, 6tétraméthyl-4-hydroxypipéridine et de l'acide succinique, produit de condensation de la N, N'-bis (2,2, 6,6-tétraméthyl- 4-pipéridyl) hexaméthylènediamine et de la 4-tert-octylamino- 2,6-dichloro-1, 3, 5-s-triazine, nitrilotriacétate de tris- (2,2, 6,6-tétraméthyl-4-pipéridyle), butane-1,2, 3,4-tétracarboxylate de tétrakis (2,2, 6,6-tétraméthyl-4-pipéridyle), 1,   1'- (1, 2-éthanediyl)-bis   (3,3,   5, 5-tétraméthylpipérazinone),

     

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 4-benzoyl-2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine, 4-stéaryloxy- 2, 2, 6, 6-tétraméthylpipéridine, 2-n-butyl-2- (2-hydroxy-3, 5di-tert-butylbenzyl) malonate de bis (1, 2, 2, 6, 6-pentaméthyl- pipéridyle), 3-n-octyl-7,7, 9, 9-tétraméthyl-1, 3,8-triazaspiro [4.

   5]   décane-2,   4-dione, sébacate de bis   (1-octyloxy-   2,2, 6,   6-tétraméthylpipéridyle),   succinate de bis (1-octyloxy- 2,2, 6,   6-tétraméthylpipéridyle),   produit de condensation de la N, N'-bis (2,2, 6, 6-tétraméthyl-4-pipéridyl) hexaméthylènediamine et de la 4-morpholino-2,6-dichloro-1, 3,5-triazine, produit de condensation de la 2-chloro-4,6-bis (4-n-butylamino-2,2, 6, 6-tétraméthylpipéridyl)-1, 3, 5-triazine et du 1,2-bis (3-aminopropylamino) éthane, produit de condensation de la 2-chloro-4,6-bis (4-n-butylamino-1, 2,2, 6, 6-pentaméthyl-   pipéridyl)-1,   3, 5-triazine et du 1,2-bis (3-aminopropylamino) éthane,   8-acétyl-3-dodécyl-7,   7,9, 9-tétraméthyl-1,3, 8triazaspiro [4.

   5] décane-2, 4-dione,   3-dodecyl-1-   (2,2, 6,6-   tétraméthyl-4-pipéridyl) pyrrolidine-2, 5-dione et 3-dodécyl-   1- (1, 2,2, 6,6-pentaméthyl-4-pipéridyl) pyrrolidin-2, 5-dione. 



  6. Oxamides, par exemple : 4,   4'-dioctyloxyoxanilide,   2,   2'-diéthoxyoxanilide,   2,2'-dioctyloxy-5,   5'-di-tert-butyl-   oxanilide, 2, 2'-didodécyloxy-5, 5'-di-tert-butyloxanilide, 2-éthoxy-2'-éthyloxanilide, N, N'-bis   (3-diméthylaminopropyl) -   oxamide, 2-éthoxy-5-tert-butyl-2'-éthyloxanilide et son mélange avec le 2-éthoxy-2'-éthyl-5, 4'-di-tert-butyloxanilide, et mélanges de o-et p-diméthoxy-et de   0- et p-dì-   éthoxy-oxanilides. 



  7.    2- (2-hydroxyphényl) -1, 3, 5-triazines,   par exemple : 
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 2, 4, 6-tris (2-hydroxy-4-octyloxyphényl) -1, 3, 5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-octyloxyphényl)-4, 6-bis (2, 4-diméthylphényl)- 1, 3, 5-triazine, 2- (2, 4-dihydroxyphényl)-4, 6-bis (2, 4-diméthylphényl)-1, 3, 5-triazine, 2, 4-bis (2-hydroxy-4-propyloxyphényl) - 6- (2, 4-diméthylphényl)-1, 3, 5-triazine, 2- (2-hydroxy-4-octyloxyphényl)-4, 6-bis (4-méthylphényl)-1, 3, 5-triazine, 2- (2hydroxy-4-dodécyloxyphényl)-4, 6-bis (2, 4-diméthylphényl)- 1, 3, 5-triazine, 2- [2-hydroxy-4- (2-hydroxy-3-butyloxypropyloxy) phényl]-4, 6-bis (2, 4-diméthylphényl) -1, 3, 5-triazine, 

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   2-[2-hydroxy-4- (2-hydroxy-3-octyloxypropyloxy) phényl]-     4, 6-bis   (2, 4-diméthylphényl)-1, 3, 5-triazine,

     2-[4-dodécyloxy/     tridécyloxy- (2-hydroxypropyl) oxy-2-hydroxyphényl]-4,   6-bis- (2, 4-diméthylphényl)-1, 3, 5-triazine. 



  8. Phosphites et phosphonites, par exemple : phosphite de triphényle, phosphites de diphényle et d'alkyle, phosphites de phényle et de dialkyle, phosphite de tris (nonylphényle), phosphite de trilauryle, phosphite de trioctadécyle, diphosphite de distéaryle-pentaérythritol, phosphite de 
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 tris (2, 4-di-tert-butylphényle), diphosphite de diisodécylepentaérythritol, diphosphite de bis (2, 4-di-tert-butylphényle)-pentaérythritol, diphosphite de bis (2, 6-di-tert- butyl-4-méthylphényle)-pentaérythritol, diphosphite de bisisodécyloxy-pentaérythritol, diphosphite de bis (2,4-di- 
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 tert-butyl-6-méthylphényle) -pentaérythritol, diphosphite de bis (2, 4, 6-tris-tert-butylphényle) -pentaérythritol, triphosphit de tristéaryle-sorbitol, 44'-diphénylènediphosphonite de tétrakis (2, 4-di-tert-butylphényle), 6-isooctyloxy-2, 4, 8,

   10-tétra-tert-butyl-12H-dibenzo[d, g]- 1, 3, 2-dioxaphosphocine, 6-fluoro-2, 4, 8, 10-tétra-tert-butyl- 12-méthyldibenzo [d, g]-1, 3, 2-dioxaphosphocine, phosphite de bis (2, 4-di-tert-butyl-6-méthylphényle) et de méthyle et phosphite de bis (2, 4-di-tert-butyl-6-méthylphényle) et d'éthyle. 



   Ces stabilisants à la lumière peuvent également être ajoutés, par exemple, à une couche adjacente de revêtement de surface à partir de laquelle ils diffusent progressivement dans la couche de vernis au four à protéger. La couche adjacente de revêtement de surface peut être un primaire appliqué sous le vernis au four ou un vernis de finition appliqué sur le vernis au four. 



   Il est également possible d'ajouter à la résine, par exemple, des   photosensibilisateurs   qui déplacent ou élargissent la sensibilité spectrale, de sorte qu'on puisse réduire la période d'irradiation et/ou utiliser d'autres sources de lumière. Des exemples de photosensibilisateurs sont des cétones aromatiques ou des aldéhydes 

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 aromatiques (tels que décrits, par exemple, dans le document US 4 017 652), des 3-acylcoumarines (telles que décrites, par exemple, dans les documents US 4 366 228, EP 738 928, EP 22 188), des cétocoumarines (telles que décrites, par exemple, dans les documents US 5 534 633, EP 538 997, JP 8272095-A), des styrylcoumarines (telles que décrites, par exemple, dans le document EP 624 580), des   3-(aryl-   méthylène) thiazolines, des thioxanthones,

   des composés aromatiques condensés tels que le pérylène, des amines aromatiques (telles que décrites, par exemple, dans les documents US 4 069 954 ou WO 96/41237) ou des colorants cationiques et basiques (tels que décrits, par exemple, dans le document US 4   026 705),   par exemple   l'éosine,   la rhodanine, et l'érythrosine, ainsi que des colorants et pigments (tels que décrits, par exemple, dans les documents JP 8320551-A, EP 747 771, JP 7036179-A, EP 619 520, JP 6161109-A, JP 6043641, JP   6035198-A,   WO 93/15440, EP 568993, JP   5005005-A,   JP 5027432-A, JP 5301910-A, JP 4014083-A, JP 4294148-A, EP 359 431, EP 103 294, US 4 282 309, EP 39 025, EP 5274, EP 727 713, EP 726 497 ou DE 2 027 467. 



   D'autres additifs usuels sont, selon l'usage prévu, des agents d'avivage optique, des charges, des pigments, des colorants, des agents mouillants ou des agents améliorant l'écoulement et des promoteurs d'adhérence. 



   Pour le durcissement de revêtements épais et pigmentés, il est approprié d'ajouter des microbilles de verre ou des fibres de verre pulvérisées, comme décrit dans le document US 5 013 768. 



   Les dérivés d'oximes peuvent également être utilisés, par exemple, dans des systèmes hybrides. Ces systèmes sont basés sur des formulations qui sont complètement durcies par deux mécanismes réactionnels différents. Des exemples en sont les systèmes qui comprennent des composants capables de subir une réaction de polymérisation ou une réaction de réticulation catalysée par un acide, mais qui comprennent également d'autres composants qui se réticulent par un second 

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 mécanisme. Des exemples du second mécanisme sont le durcis- sement complet radicalaire, la réticulation par oxydation ou la réticulation amorcée par l'humidité.

   Le second mécanisme de durcissement peut être amorcé uniquement par la chaleur, si nécessaire avec un catalyseur approprié, ou également au moyen de lumière en utilisant un second photo-initiateur. 



   Des photo-initiateurs supplémentaires appropriés sont décrits ci-dessus. 



   Si la composition comprend un composant réticulable par voie radicalaire, le processus de durcissement, notam- ment pour les compositions qui sont pigmentées (par exemple avec du bioxyde de titane), peut également être facilité par l'addition d'un composant qui forme des radicaux dans des conditions thermiques, par exemple un composé azoïque tel que   le 2,   2'-azobis (4-méthoxy-2,   4-diméthylvaléronitrile),   un triazène, un diazosulfure, un pentazadiène ou un peroxyde tel qu'un hydroperoxyde ou un peroxycarbonate, par exemple l'hydroperoxyde de tert-butyle, comme décrit par exemple dans le document EP 245 639. L'addition d'initiateurs redox, tels que des sels de cobalt, permet de faciliter le durcissement par réticulation par oxydation avec l'oxygène de l'air. 



   La composition de revêtement de surface peut être appliquée par l'une des techniques usuelles dans la techno- logie, par exemple la pulvérisation, l'application de peinture ou l'immersion. Lorsqu'on utilise des compositions de revêtement de surface appropriées, une application électrique est également possible, par exemple un dépôt anodique par électrophorèse. Après séchage, le film de revêtement de surface est irradié. Si nécessaire, le film de revêtement de surface est ensuite complètement durci par traitement thermique. 



   Les composés de formules I, II et III peuvent également être utilisés pour le durcissement de pièces moulées fabriquées à partir de composites. Un composite consiste en un matériau de matrice capable de se tenir de lui-même, par exemple une étoffe en fibre de verre, imprégné de la composition photodurcissable. 

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   D'après le document EP 592 139, il est connu que des dérivés d'oximes peuvent être utilisés comme générateurs d'acide, qui peuvent être activés par la lumière, dans des compositions qui conviennent au traitement de surface et au nettoyage de surfaces en verre, aluminium et acier. L'utilisation de ces composés dans des systèmes à base d'organosilane donne des compositions qui ont une stabilité au stockage notablement meilleure que celle des compositions obtenues en utilisant l'acide libre. Les composés de formules I, II et III conviennent également à cette application. 



   Les dérivés d'oximes de la présente invention peuvent également être utilisés pour mettre en forme des polymères qui subissent sous l'effet d'un acide une transition en un état où ils ont les propriétés requises par des techniques de photolithographie. Par exemple, les dérivés d'oximes peuvent être utilisés pour conformer des polymères émissifs conjugués tels que décrits, par exemple, par M. L. 



  Renak, C. Bazan, D. Roitman, Advanced Materials, 1997,9, 392. Ces polymères émissifs conformés peuvent être utilisés pour fabriquer des diodes électroluminescentes (LED) conformées à l'échelle microscopique qui peuvent être utilisées pour fabriquer des écrans d'affichage et des supports de stockage d'information. D'une manière similaire, des précurseurs de polyimide (par exemple des précurseurs de polyimide ayant des groupes protecteurs labiles aux acides qui modifient la solubilité dans l'agent de développement) peuvent être irradiés pour former des couches conformées de polyimide qui peuvent servir de revêtements protecteurs, couches isolantes et couches intermédiaires dans la production de microplaquettes et de cartes à circuit imprimé. 



   Les formulations de l'invention peuvent également être utilisées dans les revêtements conformes, les couches isolantes photoconformables selon une image et les diélectriques, comme on les utilise dans des systèmes à édification 

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 successive pour des cartes à circuit imprimé, des couches d'amortissement de contraintes dans la fabrication de circuits intégrés. 



   Il est connu que des polymères conjugués tels que, par exemple, des polyanilines, peuvent être convertis de l'état semi-conducteur à l'état conducteur par dopage avec des protons. Les dérivés d'oximes de la présente invention peuvent également être utilisés pour irradier conformément à une image des compositions comprenant de tels polymères conjugués afin de former des structures conductrices (zones exposées) encastrées dans un matériau isolant (zones non exposées). Ces matériaux peuvent être utilisés comme éléments de câblage et de connexion pour la production de dispositifs électriques et électroniques. 



   Des sources de rayonnement appropriées pour les compositions comprenant des composés de formules I, II ou III sont des sources de rayonnement qui émettent un rayonnement à une longueur d'onde d'environ 150 à 1500, par exemple 180 à 1000 ou de préférence 190 à 700 nanomètres, ainsi que des faisceaux d'électrons et un rayonnement électromagnétique à grande énergie tel que des rayons X. Les sources ponctuelles ainsi que les projecteurs planiformes (tapis de lampes) sont utilisables.

   Des exemples sont les lampes à arc à électrodes de charbon, les lampes à arc au xénon, les lampes à vapeur de mercure à moyenne, haute et basse pres- 
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 sion, éventuellement dopées avec des halogénures métalliques (lampes à métal-halogène), les lampes à vapeur métallique excitées par micro-ondes, les lampes à excimère, les tubes fluorescents superactiniques, les lampes fluorescentes, les lampes à incandescence à l'argon, les lampes-éclairs électroniques, les lampes d'éclairage photographique, les faisceaux d'électrons et les rayons X engendrés par des synchrotrons ou un plasma de laser. La distance entre la source de rayonnement et le substrat à irradier selon l'invention peut varier, par exemple, de 2 cm à 150 cm selon l'application considérée et le type et/ou la puissance 

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 de la source de rayonnement.

   Des sources de rayonnement appropriées sont notamment des lampes à vapeur de mercure, notamment les lampes à vapeur de mercure à moyenne et haute pression, les raies d'émission à d'autres longueurs d'ondes de leur rayonnement pouvant être rejetées par filtrage si cela est souhaité. C'est notamment le cas pour un rayonnement à longueur d'onde relativement courte. Il est cependant également possible d'utiliser des lampes à basse énergie (par exemple des tubes fluorescents) qui sont capables d'émettre dans la bande appropriée de longueurs d'onde. 



  Un exemple en est la lampe Philips TL03. Des sources de rayonnement d'un autre type que l'on peut utiliser sont les diodes électroluminescentes (LED) qui émettent à des longueurs d'onde différentes sur tout le spectre, soit comme une source émettrice à bande étroite, soit comme une source à bande large (lumière blanche). Des sources de rayonnement du type laser sont également utilisables, par exemple des lasers à excimère, tels que les lasers Kr-F, pour l'irradiation à 248 nm, les lasers Ar-F à 193 nm, ou le laser à F2 à 157 nm. Les lasers opérant dans le spectre visible et dans la région infrarouge sont également utilisables. Un rayonnement particulièrement approprié est celui des raies i, h et g du mercure à des longueurs d'onde de 365,405 et 436 nanomètres.

   Une source de lumière laser appropriée est, par exemple, un laser à ions argon qui émet un rayonnement à des longueurs d'onde de 454,458, 466,472, 478,488 et 514 nanomètres. On peut également utiliser les lasers Nd-YAG émettant de la lumière à 1064 nm et ses deuxième et troisième harmonique (respectivement 532 nm et 355 nm). Des lasers convenant également sont, par exemple, un laser hélium/cadmium ayant une émission à 442 nm ou des lasers qui émettent dans la région UV. Avec ce type d'irradiation, il n'est pas absolument indispensable d'utiliser un photomasque en contact avec la couche photopolymère pour produire une réserve positive ou négative ; le faisceau laser commandé est capable   d'"écrire"directement   sur la couche. 

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  A cet effet, la grande sensibilité des matières selon l'invention est très avantageuse, en permettant de grandes vitesses d'écriture à des intensités relativement basses. Par l'irradiation, les dérivés d'oximes contenus dans la composition dans les zones irradiées de la couche de surface se décomposent en formant les acides. 



  Contrairement au durcissement usuel par irradiation UV avec une grande intensité de rayonnement, l'activation avec les composés de l'invention est réalisée sous l'action d'un rayonnement d'intensité relativement faible. Un tel rayonnement comprend, par exemple, la lumière du jour (lumière solaire) et des sources de rayonnements équivalents à la lumière du jour. La lumière solaire diffère pas sa composition spectrale et son intensité de la lumière des sources de rayonnement artificielles habituellement utilisées dans le durcissement par irradiation UV. Les caractéristiques d'absorption des composés selon l'invention sont bien adaptées à l'exploitation de la lumière solaire comme source naturelle de rayonnement pour le durcissement. 



  Il faut comprendre que les sources de lumière artificielle équivalente à la lumière du jour qui peuvent être utilisées pour activer les composés selon l'invention sont des projecteurs de faible intensité, tels que certaines lampes fluorescentes, par exemple la lampe fluorescente spéciale Philips TL05 ou la lampe fluorescente spéciale Philips TL09. 



  Les lampes émettant une forte proportion de lumière du jour et la lumière du jour elle-même sont particulièrement capables de durcir convenablement la surface d'une couche de revêtement de surface d'une manière qui supprime le collant. Dans ce cas, un coûteux appareil de durcissement est inutile et les compositions peuvent être utilisées en particulier pour les finitions exposées à l'extérieur. Le durcissement par la lumière du jour ou des sources de lumière équivalente à la lumière du jour est une technique économe en énergie et évite les émissions de composants organiques volatils dans les applications à l'extérieur. 

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  Contrairement à la technique à courroie transporteuse, qui convient aux pièces plates, le durcissement à la lumière du jour peut également être utilisé pour les finitions extérieures sur des articles et structures statiques ou fixes. Le revêtement de surface à durcir peut être exposé directement à la lumière solaire ou des sources de lumière équivalente à la lumière du jour. Le durcissement peut, cependant, également avoir lieu derrière une couche transparente (par exemple une vitre ou une feuille de matière plastique). 



   Les exemples qui suivent illustrent L'invention plus en détail. Les parties et pourcentages, sont comme dans le reste de la description, exprimés en poids, sauf indication contraire. Lorsque des groupes alkyle ayant plus de trois atomes de carbone sont mentionnés sans indication d'isomères spécifiques, il s'agit des isomères normaux dans chaque cas. 



  Exemple 1 :   O-méthylsulfonate   d'oxime de 
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 2, 2, 2-trifluoro-1-phényl-éthanone 1. 1 : Oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-phényléthanone 
On dissout 25 g (0,144 mol) de 2,2, 2-trifluoro-   1-phényléthanone dans 40 ml d'éthanol à 80oC.   A la solution, on ajoute goutte à goutte 10,5 g (0,151 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 20,1 g (0,245 mol) d'acétate de sodium dissous dans 20 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant une nuit et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans de   l'eau,   le précipité blanc est rincé à l'eau et séché sous vide en donnant 24,4 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1-phényléthanone. Le produit brut est utilisé dans l'étape suivante sans autre purification. 



  1. 2 :   O-méthylsulfonate   d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1-phényléthanone  
On dissout 2,0 g (10,6 mmol) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-phényléthanone dans 40 ml de tétrahydrofuranne (THF) et la solution est refroidie au bain de glace. 

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  A la solution, on ajoute 1, 3 g   (11,   7 mmol) de chlorure de méthylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1, 6 g (15, 9 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par reprécipitation en utilisant du méthanol et de l'eau pour donner 2, 3 g (8,6 mmol ; 81 %) de   O- (méthanesulfonate)   d'oxime de 2, 2, 2- 
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 trifluoro-1-phényléthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion (P. F.) de 51-64 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCl).     Ô [ppm] :   3, 26 (s, 3H), 7,47-7, 63 (m, 5H). 
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  Exemple 2 : O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2/2-trifluoro-l-phényléthanone 
On dissout 2,0 g (10, 6 mmol) d'oxime de 2, 2, 2-tri- fluoro-1-phényléthanone (préparée comme décrit dans l'Exem- ple 1.1) dans 40 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,9 g (11, 6 mmol) de chlorure de 10-camphorylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,6 g (15, 9 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 2,5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, dés- hydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (1 : 9) comme éluant   t pour   donner 2,2 g   (5, 5   mmol ; 52 %) de 0- (10-camphoryl- sulfonate)   d'oxime de 2, 2,   2-trifluoro-1-phényléthanone sous forme d'un liquide jaune pâle. La structure est confirmée par le spectre RMN de H   (CDCl).   6 [ppm] : 0,92 (s, 3H),   1, 14 (Z) /1, 18 (E) (s, 3H), 1, 40-1, 50 (m, 1H), 1, 66-1,75 (m,  
1H), 1,92-2, 19 (m, 3H), 2, 34-2, 55 (m, 2H), 3,28 (E)/3, 33 (Z) (d, 1H), 3, 87 (Z)/3, 97 (E) (d, 1H), 7, 48-7, 65 (m, 5H). La RMN de   1H   révèle que le produit est un mélange à 9 : 1 des isomères
Z et E.

   Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. 

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 Exemple 3 : 0- (4-méthoxyphénylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-phényléthanone 
On dissout 2,0 g (10,6 mmol) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-phényléthanone (préparée comme décrit dans l'Exemple 1.1) dans 40 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,4 g   (11,   7 mmol) de chlorure de 4-méthoxyphénylsulfonyle, puis on ajoute goutte 
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 à goutte 1, 6 g (15, 9 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à 00C pendant 5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans du méthanol pour donner 2,3 g 
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 (6, 5 mmol ; 61 %) de 0- (4-méthoxyphénylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-phényléthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 69-73 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de H   (CDC13)'6 [ppm]   : 3,92 (s, 3H), 7, 05 (d, 2H), 7,38-7, 58 (m, 5H), 7,95 (d, 2H). 



   Exemple 4 : O- (l-naphtylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1-phényléthanone  
On dissout 2,0 g (10,6 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri- fluoro-1-phényléthanone (préparée comme décrit dans l'Exem- ple 1.1) dans 40 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,6 g (11,6 mmol) de chlorure de 1-naphtylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,6 g (15,9 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 4 heures, versé dans   1 de   l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgSO4 et concentrée.

   Le résidu est purifié par reprécipitation en utilisant de l'acétone et de l'eau pour donner 3,7 g (9,8 mmol ; 92 %) de   O-   (l-naphtyl- 
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 sulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-phényléthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 96-104 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCl). Ô [ppm]   : 7,23-7, 38 (m, 2H), 7,43-7, 85 (m, 6H), 7,95-8, 05 (m, 1H), 8,18-8, 27 (m, 1H), 8,37-8, 83 (m,   2H).   

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  Exemple 5 : 0- (2-naphtylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1-phényléthanone  
On dissout 2,0 g (10,6 mmol) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-phényléthanone (préparée comme décrit dans l'Exemple 1. 1) dans 40 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,6 g (11,6 mmol) de chlorure de 2-naphtylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,6 g (15, 9 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   00C   pendant 4 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans du méthanol pour donner 2,8 g (7,4 mmol ; 70 %) de   0- (2-naphtylsulfonate)   d'oxime de 
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 2, 2, 2-trifluoro-l-phényléthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 117-120 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de H   (CDC13)'Ï [ppm]   : 7,37-7, 58 (m, 5H), 7,64-7, 78 (m, 2H), 7,92-8, 09 (m, 4H), 8,63 (s, 1H). 
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 Exemple 6 : O- (2, 4, 6-triméthylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1-phényléthanone 
On dissout 2,0 g (10,6 mmol) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-phényléthanone (préparée comme décrit dans l'Exemple 1.1) dans 40 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,5 g (11,6 mmol) de chlorure de 2,4, 6-triméthylphénylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,6 g (15,9 mmol) de triéthylamine. 



  Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 4,5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. 



  La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par reprécipitation en utilisant du méthanol et de l'eau pour donner 3,2 g (8,6 mmol ; 81 %) de 0- (2, 4,6-triméthyl-   phénylsulfonate)   d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1-phényléthanone   sous forme d'un solide blanc, P. F.   90-103 C.   La structure est confirmée par le spectre RMN de H (CDCl3)'Ï [ppm] :   2,34 (E) /2,36 (Z) (s, 3H), 2,60 (Z)/2, 68 (E) (s, 6H), 7,00 (m,   2H), 7,40 (s, 2H), 7, 47-7,58 (m, 3H). La RMN de   H   révèle 

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 que le produit est un mélange à 4 : 1 d'isomères Z et E. Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. 



  Exemple 7 : 0- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylphényl)   éthanone 7. 1 : 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylphényl)   éthanone
On mélange 50,0 g (0,543 mol) de toluène et 66,3 g (0,543 mol) de 4-diméthylaminopyridine dans 700   ml de CH2Cl2   et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute goutte à goutte 114,0 g (0,543 mol) d'anhydride trifluoracétique, puis 167 g (1,25 mol) de AlCl3 par portions. Le mélange réactionnel est agité à la température ambiante pendant une nuit, versé dans de l'eau glacée et extrait avec   CHCl. La   phase organique est lavée à l'eau, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est distillé à   90 C/15   mm de Hg, pour donner 49,5 g du produit sous forme d'un liquide incolore. 



  7.2 : Oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-   (4-méthylphényl)   éthanone
On dissout 49,5 g (0,263 mol) de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-méthylphényl) éthanone dans 250 ml d'éthanol à   80 C.   



  A la solution, on ajoute goutte à goutte 19,2 g (0,276 g) de chlorure d'hydroxylammonium et 36,7 g (0,447 mol) d'acétate de sodium dissous dans 125 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 3,5 heures. Le mélange est versé dans de l'eau glacée en donnant un solide blanc. 



  La filtration donne 39,2 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-méthylphényl) éthanone sous forme d'un solide-blanc, P. F.   54-68 C.   Le produit brut est utilisé dans l'étape suivante sans autre purification. 
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  7. 3 : O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-méthylphényl) éthanone 
On dissout 3,0 g (14,8 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-méthylphényl) éthanone   dans 30 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 4,1 g (16,2 mmol) de chlorure de 10-camphorylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 2,3 g (22,2 mmol) 

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 de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 90 min, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (1 : 9) comme éluant pour donner 3,2 g (7,7 mmol ; 52 %) 
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 de O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro- 1- (4-méthylphényl) éthanone sous forme d'un liquide incolore. 



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H (CDC13)'   ô [ppm] : 0,92 (s, 3H), 1, 14 (Z) /1, 18 (E) (s, 3H), 1,42-1, 50   (m, 1H), 1,64-1, 74 (m, 1H), 1,93-2, 18 (m, 3H), 2,35-2, 56   (m, 5H), 3,28 (E) /3,33 (Z) (d, 1H), 3,87 (Z)/3, 94 (E) (d, 1H), 7, 27-7, 32 (m, 2H), 7,43 (Z) /7,35 (E) (d, 2H). La RMN de H   révèle que le produit est un mélange à 4 : 1   d'isomères Z   et E. Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. 



  Exemple 8 :   O- (méthylsulfonate)   d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylphényl)   éthanone
On dissout 3,0 g (14,8 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-l- (4-méthylphényl)   éthanone (préparée comme décrit dans l'Exemple 7.2) dans 30 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 1,9 g (16,2 mmol) de chlorure de méthylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 2,3 g (22,2 mmol) de triéthylamine. 
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  Le mélange réactionnel est agité à 0 C pendant 4 heures, s versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. 



  La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (15 : 85) comme éluant pour donner 2,6 g (9,2 mmol ; 62 %) de   O- (méthylsulfonate)   
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 d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-mêthylphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 56-67 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de'H (CDC13)'ô [ppm] : 2, 42 (s, 3H), 3, 27 (s, 3H), 7, 26-7, 53 (m, 4H). 

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  Exemple 9 : O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2-méthylphényl) éthanone 9. 1 : 2,2,   2-trifluoro-1- (2-méthylphényl)   éthanone
Un réactif de Grignard est préparé à partir de 25,0 g (0,146 mol) de 2-bromotoluène et 4,3 g (0,175 mol) de magnésium dans 100 ml d'éther de diéthyle. Le réactif de Grignard est ajouté goutte à goutte à une solution de 22,8 g (0,161 mol) de trifluoracétate d'éthyle dans 120 ml d'éther de diéthyle à-78 C. On laisse le mélange réactionnel se réchauffer à la température ambiante et le mélange est agité pendant une heure de plus.

   On ajoute ensuite au mélange 300 ml d'une solution aqueuse de   NH4Cl   et 100 ml de HCl   1N.   La phase aqueuse est enlevée, la phase organique est lavée avec une solution aqueuse de   NH4Cl   et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec de l'hexane comme éluant pour donner 6,3 g de 2,2, 2-trifluoro- 1- (2-méthylphényl) éthanone sous forme d'un liquide incolore. 



  9.2 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2-méthylphényl)   éthanone
On dissout 3,7 g (0,020 mol) de 2,2, 2-trifluoro-   1- (2-méthylphényl) éthanone   dans 20 ml d'éthanol à 80 C. 



  A la solution, on ajoute goutte à goutte 1,4 g (0,020 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 2,7 g (0,033 mol) d'acétate de sodium dissous dans 10 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée pour donner 2,7 g d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2-méthylphényl)   éthanone sous forme d'un solide blanc. Le produit brut est utilisé dans l'étape réactionnelle suivante sans autre purification. 
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  9. 3 : O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2-méthylphényl) éthanone 
On dissout 1,2 g (5,9 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (2-méthylphényl)   éthanone dans 30 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 1, 6 g (6, 5   dechlorurede10-camphorylsulfonyle,   

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 puis on ajoute goutte à goutte 0, 90 g (8, 9 mmol) de tri- éthylamine. Après avoir été agité à 0 C pendant 3 heures, le mélange réactionnel est versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (1 : 9) comme éluant pour donner 1, 2 g (2, 9 mmol ; 49 %) de O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2-méthylphényl) éthanone sous forme d'un liquide incolore. La structure est confirmée par le spectre RMN de H (CDCl). ô [ppm] : 0, 92 (s, 3H), 1, 12 (Z)/1, 18 (E) (s, 3H), 1, 38-1, 50 (m, 1H), 1, 55-1, 75 (m, 1H), 1, 90-2, 18 (m, 3H), 2, 28-2, 53 (m, 5H), 3, 25-3, 38 (m, 1H), 3, 84 (Z)/3, 90 (E) (d, 1H), 7, 15-7, 46 (m, 4H). La RMN de 1H révèle que le produit est un mélange à 7 : 3 d'isomères Z et E. Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. 



  Exemple 10 : O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2, 4-diméthylphényl) éthanone 10. 1 : 2, 2, 2-trifluoro-1- (2, 4-diméthylphényl) éthanone On mélange 30, 4 g (0, 286 mol) de m-xylène et 34, 9 g (0, 286 mol) de 4-diméthylaminopyridine dans 400 ml de CH2Cl2 et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 87, 6 g (0, 657 mol) deAlCl, puis on ajoute goutte à goutte 60 g (0, 286 mol) d'anhydride trifluoracétique. 



  Le mélange réactionnel est agité à la température ambiante pendant une nuit, versé dans de l'eau glacée et extrait avec CHCl. La phase organique est lavée avec de l'eau, une solution aqueuse de NaHC03 et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est distillé à 100 C/15 mm Hg pour donner 12, 6 g du produit brut sous forme d'un liquide incolore. Ce produit brut est utilisé dans l'étape réactionnelle suivante sans autre purification. 



  10. 2 : Oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2, 4-diméthylphényl) - éthanone On dissout 12, 6 g (0, 062 mol) de 2, 2, 2-trifluoro- 1- (2, 6-diméthylphényl) éthanone dans 30 ml d'éthanol à 80oC. 



  A la solution, on ajoute goutte à goutte 4, 6 g (0, 066 mol) 

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 de chlorure d'hydroxylammonium et 8,7 g (0,106 mol) d'acétate de sodium dissous dans 15 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant une nuit en donnant un précipité blanc. Le mélange est versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est 
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 lavée avec de l'eau, une solution aqueuse de NH. C1 et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée pour donner 11,9 g d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2, 4-diméthylphényl)-   éthanone brute sous forme d'un liquide incolore. Le produit brut est utilisé dans l'étape réactionnelle suivante sans autre purification. 
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  10. 3 : O- (IO-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l- (2, 4-diméthylphényl} éthanone 
On dissout 2,0 g (9,2 mmol) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-(2,4-diméthylphényl) éthanone dans 20 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,5 g (10,1 mmol) de chlorure de 10-camphorylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,4 g (13,8 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 50 min, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. 



  Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (3 : 7) comme éluant pour donner 2,2 g (5,0 mmol ; 54 %) 
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 de O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro- 1- (2, 4-diméthylphényl) éthanone sous forme d'un liquide incolore. La structure est confirmée par le spectre RMN de H   (CDCl).     ô [ppm]   : 0,92 (s, 3H), 1, 12 (Z)/1, 18 (E) (s, 3H), 1,38-1, 50 (m, 1H), 1,54-1, 80 (m, 1H), 1,90-2, 58 (m, 11H),   3,25-3, 38 (m, 1H), 3,83 (Z) /3,88 (E) (d, 1H), 7,03-7, 28 (m,   
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 3H). La RMN de 1H révèle que le produit est un mélange à 3 : 2 d'isomères Z et E. Les signaux sont attribués aux configura- tions E et Z sous réserve. 



  Exemple 11 : O- (l-naphtylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-l- (2,   4-diméthylphényl) éthanone
On dissout 2,0 g (9,2 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluor-1-(2,   4-diméthylphényl) éthanone (préparée comme décrit 

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 dans l'Exemple 10.2) dans 30 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,3 g (10,1 mmol) de chlorure de 1-naphtylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,4 g (13,8 mmol) de triéthylamine. 



  Après avoir été agité à   0 C   pendant 60 min, le mélange réactionnel est versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. 



  Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane   (3 :   7) comme éluant pour donner 3,0 g (7,3 mmol ; 80 %) 
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 de O- (l-naphtylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro- 1- (2, 4-diméthylphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 85-124 C. La structure est confirmée par le spectre   RMN de H (CDCl). 6 [ppm] : 1,71 (E) /2,03 (Z) (s, 3H), 2,28 (E) /2,39 (Z) (s, 3H), 6,77-7, 13 (m, 3H), 7,54-7, 78   (m, 3H), 7,95-8, 03 (m, 1H), 8,15-8, 23 (m, 1H), 8,35-8, 70 (m, 2H). La RMN de 1H révèle que le produit est un mélange à 7   : 3 d'isomères   Z et E. Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. 



  Exemple 12 : 0- (2-naphtylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1- (2,   4-diméthylphényl) éthanone
On dissout 2,0 g (9,2 mmol) d'oxime de 2,2, 2-   trifluor-1-(2,   4-diméthylphényl) éthanone (préparée comme décrit dans l'Exemple 10.2) dans 30 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,3 g (10,1 mmol) de chlorure de 2-naphtylsulfonyle, puis 
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 on ajoute goutte à goutte 1, 4 g (13, 8 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à 0 C pendant 60 min, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (3 : 7) comme éluant pour donner 2,1 g (5,3 mmol ; 57 %) de   0- (2-naphtyl-   sulfonate) d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2, 4-diméthylphényl) -   éthanone sous forme d'un liquide incolore. La structure 

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 est confirmée par le spectre RMN de 1H (CDC13). 6 [ppm] :   2,05 (E) /2,10 (Z) (s, 3H), 2,31 (E) /2,35 (Z) (s, 3H), 6,92-7, 13   (m, 3H), 7,61-7, 77 (m, 2H), 7,88-8, 08 (m, 4H), 8,61 (s, 1H). La RMN de 1H révèle que le produit est un mélange à 7 : 3 d'isomères Z et E. Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. 
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  Exemple 13 : O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l- (2, 4, 6-triméthylphényl)- éthanone
13. 1 : 2,2,   2-trifluoro-1- (2,   4,6-triméthylphényl) éthanone
On mélange 50,0 g (0,416 mol) de mésitylène et
50,8 g (0,416 mol) de 4-diméthylaminopyridine dans 600 ml de   CH2C12   et la solution est refroidie au bain de glace. 



   A la solution, on ajoute goutte à goutte 87,4 g (0,416 mol) d'anhydride trifluoracétique, puis 128 g (0,957 mol) de
AlCl3 par portions. Le mélange réactionnel est agité à la température ambiante pendant une nuit, versé dans de l'eau glacée et extrait avec   CHCl. La   phase organique est lavée à l'eau, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est distillé à   100 C/1   mm Hg pour donner 44,6 g du produit brut sous forme d'un liquide incolore. Le produit brut est utilisé dans l'étape suivante sans autre purification. 



   13.2 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (2,   4, 6-triméthylphényl)- éthanone
On dissout 6,3 g (0,029 mol) de 2,2, 2-trifluoro-   1- (2,   4, 6-triméthylphényl) éthanone dans 30 ml d'éthanol   , à 80oC.   A la solution, on ajoute goutte à goutte 2,0 g (0, 029 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 4,1 g (0,050 mol) d'acétate de sodium dissous dans 15 ml d'eau.
Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant une nuit, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée à la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par recristallisation dans 20 ml d'hexane pour donner 1,9 g 
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 d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2, 4, 6-triméthylphényl) éthanone sous la forme de cristaux blancs, P.

   F. 119-125 C. 

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  13. 3 : O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (2, 4, 6-triméthylphényl) éthanone 
On dissout 1,8 g (7,8 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluor-1-(2,   4,   6-triméthylphényl)   éthanone dans 20 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,2 g (8, 6 mmol) de chlorure de   10-camphoryl-   sulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,2 g   (11,   7 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à OOC pendant 50 min, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. 



  Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (1 : 4) comme éluant pour donner 3,4 g (7,6 mmol ; 97 %) 
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 de O- (10-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro- 1- (2, 4, 6-triméthylphényl) éthanone sous forme d'un liquide incolore. La structure est confirmée par le spectre RMN de
H (CDC13). 6 [ppm] : 0,92 (s, 3H), 1,14 (s, 3H), 1,40-1, 49 (m, 1H), 1,65-1, 75 (m, 1H), 1,93-2, 47 (m, 14H), 3,35 (d, 1H),
3,84 (d, 1H), 7,12 (s, 2H). 



   Exemple 14 : O- (l-naphtylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1- (2,   4, 6-triméthylphényl)- éthanone
On dissout 2,0 g (8,7 mmol) d'oxime de 2,2, 2-   trifluor-1-(2,   4,   6-triméthylphényl) éthanone (préparée   comme décrit dans l'Exemple 13.2) dans 40 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute   r 2,   2 g (9,5 mmol) de chlorure de 1-naphtylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1, 3 g (13,0 mmol) de triéthylamine. 



   Le mélange réactionnel est agité à   00C   pendant 150 min, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. 



   La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par recristallisation dans 5 ml de méthanol pour donner
1,5 g (3,6 mmol ; 41 %) de O- (l-naphtylsulfonate) d'oxime 
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 de 2, 2, 2-trifluoro-l- (2, 4, 6-triméthylphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 137-145 C. La structure est 

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 confirmée par le spectre RMN de H (CDCl3). 6 [ppm] : 1, 88- 2,39 (m, 9H), 6,49-7, 12 (m, 2H), 7,56-7, 72 (m, 3H), 8,00 (t, 1H), 8,22 (d, 1H), 8,37-8, 54 (m, 2H). 



  Exemple 15 : 0- (2-naphtylsulfonate) d'oxime de
2,   2, 2-trifluoro-1- (2,   4, 6-triméthylphényl)- éthanone
On dissout 2,0 g (8,7 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluor-1-(2,   4,6-triméthylphényl) éthanone (préparée comme décrit dans l'Exemple 13.2) dans 50 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,2 g (9,5 mmol) de chlorure de 2-naphtylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,4 g (14,3 mmol) de triéthylamine. 



  Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 210 min, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. 



  La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par recristallisation dans un mélange d'hexane et d'acétate d'éthyle (9 : 1) pour donner 1,5 g (3,6 mmol ; 41 %) de   O- (2-naphtylsulfonate) d'oxime   de 2,2, 2-trifluoro-1- (2, 4,6triméthylphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc, P. F.   106-113 C.   La structure est confirmée par le spectre RMN de H   (CDC13). Ï [ppm]   : 2,21 (s, 3H), 2,30 (s, 6H), 7,01 (s, 2H), 7,63-7, 76 (m, 2H), 7,96 (t, 2H), 8,03 (d, 2H), 8,62 (s, 1H). 



  Exemple 16 : O-méthylsulfonate d'oxime de 2,2, 2-trifluor-
1- (4-méthoxyphényl) éthanone 16. 1 : 2,   2, 2-trifluoro-1- (4-méthoxyphényl)   éthanone
On mélange 29,0 g (0,268 mol) d'anisole et 32,8 g (0,268 mol) de 4-diméthylaminopyridine dans 300   ml de CH2Cl2   et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute goutte à goutte 56,3 g (0,268 mol) d'anhydride trifluoracétique, puis 82,2 g (0,616 mol) de   AlCl   par portions. Le mélange réactionnel est agité à la température ambiante pendant une nuit, versé dans de l'eau glacée et extrait avec   CHCl. La   phase organique est lavée à l'eau, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec 

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 un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (5 : 95) pour donner 37,8 g du produit sous forme d'un liquide brunâtre. 



    16.   2 :   Oxime de 2,   2,   2-trifluoro-1- (4-méthoxyphényl)   éthanone
On dissout 37,2 g (0,182 mol) de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-méthoxyphényl)   éthanone dans 150 ml d'éthanol à   80 C.   



  A la solution, on ajoute goutte à goutte 13,3 g (0,191 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 25,4 g (0,309 mol) d'acétate de sodium dissous dans 75 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 4 heures. 



  Le mélange est versé dans de l'eau glacée et le précipité est séparé par filtration pour donner 30,0 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-(4-méthoxyphényl)éthanone sous forme d'un solide jaune pâle. Le produit brut est utilisé dans l'étape réactionnelle suivante sans autre purification. 



  16.3 :   O- (méthylsulfonate)   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-méthoxyphényl) éthanone  
On dissout 6,5 g (30,0 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-méthoxyphényl)   éthanone dans 25 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 3,8 g (33,0 mmol) de chlorure de méthanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 4,6 g (45,0 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. 



  Le résidu est purifié par recristallisation dans 15 ml d'éthanol pour donner 5,9 g (20,0 mmol ; 67 %)   de O- (méthyl-   
 EMI94.1 
 sulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-méthoxyphényl) - éthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 47-51 C. 



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCl).     5   [ppm] : 3,27 (s, 3H), 3,88 (s, 3H), 7,00 (d, 2H), 7,55 (d, 2H). 



    Exemple 17 : O-méthylsulfonate   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-
1- (4-méthylthiophényl) éthanone 17. 1 : 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylthiophényl)   éthanone
On mélange 50,0 g (0,403 mol) de thioanisole et 49,2 g (0,403 mol) de 4-diméthylaminopyridine dans 500 ml 

 <Desc/Clms Page number 95> 

 de CH2Cl2 et la solution est refroidie au bain de glace. 



  A la solution, on ajoute goutte à goutte 84,6 g (0,403 mol) d'anhydride trifluoracétique, puis 123,0 g (0,926 mol) de AlCl3 par portions. Le mélange réactionnel est agité à la température ambiante pendant une nuit, versé dans de l'eau glacée et extrait avec   CH2Cl2.   La phase organique est lavée à l'eau, déshydratée sur MgS04 et concentrée pour donner 50,0 g de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylthiophényl)   éthanone sous forme d'un solide jaune. Le produit brut est utilisé dans l'étape réactionnelle suivante sans autre purification. 



  17.2 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylthiophényl) -   éthanone
On dissout 49,3 g (0,224 mol) de 2,2, 2-trifluoro- 1-(4-méthylthiophényl) éthanone dans 250 ml   d'éthanol à 80 oc.   



  A la solution, on ajoute goutte à goutte 16,3 g (0,235 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 31,2 g (0,381 mol) d'acétate de sodium dissous dans 125 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 6,5 heures et versé dans de l'eau glacée. La filtration du précipité donne 51,1 g d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylthiophényl) -   éthanone sous forme d'un solide jaune. Le produit brut est utilisé dans l'étape réactionnelle suivante sans autre purification. 



    17.   3 :   O- (méthylsulfonate)   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-
1- (4-méthylthiophényl) éthanone
On dissout 5,9 g (25,0 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-méthylthiophényl) éthanone   dans 30 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 3,2 g (28,0 mmol) de chlorure de méthylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 3,8 g (38,0 mmol) de tri- éthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans 30 ml d'éthanol pour donner 3,9 g (12,4 mmol ; 50 %) de   O- (méthylsulfonate)   d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthylthiophényl) éthanone   

 <Desc/Clms Page number 96> 

 sous forme d'un solide jaunâtre pâle, P. F. 87-90 C. 



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDC13).   ô [ppm] : 2,52 (s, 3H), 3,26 (s, 3H), 7,31 (d, 2H), 7,47 (d, 2H). 



  Exemple 18 :   O-méthylsulfonate   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (3,   4-diméthoxyphényl) éthanone 18. 1 : 2,2,   2-trifluoro-1- (3,   4-diméthoxyphényl) éthanone
On mélange 13,8 g (0,10 mol) de 1,2-diméthoxybenzène et 12,2 g (0,10 mol) de 4-diméthylaminopyridine dans 75 ml de CH2Cl2 et la solution est refroidie au bain de glace. 



  A la solution, on ajoute goutte à goutte 21,0 g (0,10 mol) d'anhydride trifluoracétique, puis 32,   0   g (0,24 mol) de 
 EMI96.1 
 AlCl a AlCl par portions. Le mélange réactionnel est agité à la température ambiante pendant une nuit, versé dans de l'eau glacée et extrait avec   CH2Clz.   La phase organique est lavée à l'eau, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (1 : 9) pour donner 2,9 g de produit sous forme d'un solide blanc. 



   18.2 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (3, 4-diméthoxyphényl) -   éthanone
On dissout 2,9 g (9,7 mmol) de 2,2, 2-trifluoro-   1- (3,   4-diméthoxyphényl) éthanone dans 12 ml   d'éthanol à 80OC.   



   A la solution, on ajoute goutte à goutte 0,83 g (12,0 mmol) de chlorure d'hydroxylammonium et 1,2 g (15,0 mmol) d'acétate de sodium dissous dans 6 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 7,5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'éther. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée pour donner 2,3 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-
1- (3, 4-diméthoxyphényl) éthanone. Le produit brut est utilisé dans l'étape réactionnelle suivante sans autre purification. 



   18.3 :   O- (méthylsulfonate)   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (3, 4-diméthoxyphényl)   éthanone
On dissout 2,3 g (9,0 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (3, 4-diméthoxyphényl)   éthanone dans 20 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, 

 <Desc/Clms Page number 97> 

 on ajoute 1,2 g (10,0 mmol) de chlorure de méthylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1, 5 g (15,0 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 5 heures, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans 15 ml d'éthanol pour donner 2,2 g (6,7 mmol ; 74 %) de O- (méthylsulfonate) 
 EMI97.1 
 d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (3, 4-diméthoxyphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc, P. F. 105-107 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de H (CDCl). ô [ppm] : 3,27 (s, 3H), 3,91 (s, 3H), 3,95 (s, 3H), 6,96 (d, 1H), 7,05 (s, 1H), 7,20 (d, 1H). 
 EMI97.2 
 



  Exemple 19 : O- (IO-camphorylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 3, 3, 4, 4, 4-heptafluoro-1-phénylbutanone 19. 1 : Oxime de 2,2, 3,3, 4,4,   4-heptafluoro-1-phénylbutanone  
On dissout 10 g (0,037 mol) de 2,2, 3,4, 4,4-heptafluoro-1-phénylbutanone dans 30 ml d'éthanol à   80 C.   A la solution, on ajoute goutte à goutte 2,6 g (0,038 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 5,1 g (0,062 mol) d'acétate de sodium dissous dans 15 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 6 heures. Le mélange est versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée à la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans 5 ml d'hexane pour donner 4,7 g d'oxime de 2,2, 3,3, 4,4,   4-heptafluoro-1-phénylbutanone   sous forme d'un solide blanc, P. F.   57-60 C.   



  19.2 :   O- (10-camphorylsulfonate)   d'oxime de
2,2, 3,3, 4,4,   4-heptafluoro-1-phénylbutanone  
On dissout 2,0 g (10,6 mmol) d'oxime de 2,2, 3,3, 4,4,   4-heptafluoro-1-phénylbutanone   dans 40 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. 



  A la solution, on ajoute 2,9 g (11,6 mmol) de chlorure de 10-camphorylsulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,6 g (16,0 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 4,5 heures, versé dans de l'eau glacée 

 <Desc/Clms Page number 98> 

 et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par chromatographie instantanée sur gel de silice avec un mélange d'acétate d'éthyle et d'hexane (1 : 9) comme éluant pour donner 2,3 g (4,6 mmol ; 43 %) de   O- (10-camphorylsulfonate)   d'oxime de 2,2, 3,3, 4,4,   4-heptafluoro-1-phénylbutanone   sous forme d'un liquide jaune pâle.

   La structure est confirmée par le spectre RMN de H (CDC13). Ï [ppm] : 0,92 (s, 3H),   1,12 (Z) /1,18 (E) (s, 3H), 1,40-1, 50 (m, 1H), 1,66-1, 73 (m, 1H), 1,92-2, 18 (m, 3H), 2,31-2, 54 (m, 2H), 3,28 (Z) /3,33 (E) (d, 1H), 3,83 (Z) /3,93 (E) (d, 1H), 7, 37-7, 63 (m, 5H). La RMN   de   1H   révèle que le produit est un mélange à 3 : 2 d'isomères Z et E. Les signaux sont attribués aux configurations E   et'Z   sous réserve. 



  Exemples 20 à 36
Les composés des Exemples 20 à 36 sont obtenus selon le procédé décrit dans l'Exemple 1.2 en utilisant les matières de départ correspondantes. Les structures et les valeurs physiques sont énoncées dans le Tableau 1. 



   TABLEAU 1 
 EMI98.1 
 
 EMI98.2 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> État <SEP> : <SEP> P. <SEP> F. <SEP> (OC)/1
<tb> Ex. <SEP> Purification <SEP> 1
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> 1H <SEP> [#(ppm)]
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 112-115/í
<tb> # <SEP> dans <SEP> l'éthanol <SEP> 2,48 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 3, <SEP> 87
<tb> 20 <SEP> CH2O#CH2 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 6,97 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 3 <SEP> # <SEP> 7,38 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,46
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7, <SEP> 90 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 94-97/1
<tb> dans <SEP> le <SEP> méthanol <SEP> 3,85 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 3, <SEP> 90
<tb> 21 <SEP> # <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 6,97 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 3 <SEP> 7,03 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7, <SEP> 46
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,95 <SEP> (d, <SEP> 2H)

  
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 99> 

 
 EMI99.1 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> État <SEP> " <SEP> P.F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> 1H <SEP> [#(ppm)]
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune <SEP> pâle/
<tb> (hexane:acétate <SEP> 0,73-1,79 <SEP> (m, <SEP> 23H),
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 95:5) <SEP> 2,48-2,85 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 22 <SEP> # <SEP> 3,85 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 6,97
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,3-7,39
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 7,45 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,88-7,95 <SEP> (m, <SEP> 2H)
<tb> chromatographic <SEP> solide <SEP> jaune <SEP> pâle/
<tb> (hexane:acétate <SEP> 0,87 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,21-1,52
<tb> 23 <SEP> # <SEP> -C8H17 <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 9:

  1) <SEP> (m, <SEP> 10H), <SEP> 1,82-1,92
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,39 <SEP> (t, <SEP> 2H), <SEP> 3,37 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 6,99
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,54 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 85-86/
<tb> dans <SEP> l'hexane/ <SEP> 2,51 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 3,91
<tb> 24 <SEP> # <SEP> acétate <SEP> d'éthyle <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 7,04 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,28 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,37
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,95 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune/
<tb> (hexane:acétate <SEP> 0,75-1,78 <SEP> (m, <SEP> 23H),
<tb> d'éthyle <SEP> :

   <SEP> 95:5) <SEP> 2,52(E) <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 2,52-2,85 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 7,02-7,43 <SEP> (m, <SEP> 6H),
<tb> 7,88-7,95 <SEP> (m, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 40-41/
<tb> (hexane:acétate <SEP> 0,82 <SEP> (t, <SEP> 3H),
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 95:

  5) <SEP> 1,13-1,31 <SEP> (m, <SEP> 8H),
<tb> 26 <SEP> # <SEP> -C8H17 <SEP> 1,33-1,43 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 1,74-1,84 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 2,45 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 3,33 <SEP> (t,
<tb> 2H), <SEP> 7,24 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,38 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 122-128/
<tb> dans <SEP> le <SEP> toluène <SEP> 2,52 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 7,28
<tb> 27 <SEP> # <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,37 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,65-7,77 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 7,92-8,07 <SEP> (m, <SEP> 4H),
<tb> 8,62 <SEP> (s, <SEP> 1H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 58-60/
<tb> (hexane:acétate <SEP> 2,19(E)/2,38(Z) <SEP> (s,
<tb> 28 <SEP> # <SEP> -CH3 <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 4:1) <SEP> 3H), <SEP> 3,25 <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 7,17-7,47 <SEP> (m, <SEP> 4H).
<tb> 



  2:E <SEP> = <SEP> 1:1
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 100> 

 
 EMI100.1 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> État <SEP> : <SEP> P. <SEP> F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification <SEP> 1
<tb> Structure <SEP> État <SEP> : <SEP> P.F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> 1H <SEP> [#(ppm)]
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 63-75/
<tb> # <SEP> dans <SEP> l'éthanol <SEP> 2,40 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 7,20-
<tb> 29 <SEP> H <SEP> c-o- <SEP> -C6Hs <SEP> 7, <SEP> 35 <SEP> (m, <SEP> 4H), <SEP> 7,53-
<tb> 7, <SEP> 76 <SEP> (m, <SEP> 3H), <SEP> 8,03 <SEP> (d,
<tb> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 68-76/
<tb> 30 <SEP> CL-C6H5 <SEP> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 7,33-7, <SEP> 78 <SEP> (m, <SEP> 7H),
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 9 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> 7,97-8, <SEP> 08 <SEP> (m, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> jaune <SEP> brunâtre,
<tb> mélange <SEP> de <SEP> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 55-67/
<tb> 31 <SEP> &alpha;- <SEP> et <SEP> ss- <SEP> -CH3 <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 3,25/3, <SEP> 27/3,30 <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 7,47-8,05 <SEP> (m, <SEP> 7H) <SEP> ;
<tb> naphtyle <SEP> mélange <SEP> d'isomères
<tb> a, <SEP> ss, <SEP> E, <SEP> z
<tb> # <SEP> chromatographie <SEP> huile <SEP> jaune/
<tb> 32 <SEP> # <SEP> -CH3 <SEP> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 3, <SEP> 24 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 4,04
<tb> C <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> (s, <SEP> 2H), <SEP> 7,19 <SEP> (m, <SEP> 9H)
<tb> H2
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 92-96/
<tb> . <SEP> (CH2Cl2) <SEP> 3,24 <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 5 <SEP> 33 <SEP> # <SEP> 4, <SEP> 31-4,40 <SEP> (m, <SEP> 4H),
<tb> 6, <SEP> 92-7, <SEP> 07 <SEP> (m, <SEP> 5H),
<tb> 7,28-7, <SEP> 33 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 7,51-7, <SEP> 61 <SEP> (m, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> huile <SEP> jaune/
<tb> mélange <SEP> de <SEP> (hexane-acétate <SEP> 1,11 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,99
<tb> 34 <SEP> &alpha;- <SEP> et <SEP> ss- <SEP> d'éthyl <SEP> = <SEP> 5 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,39 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> naphtyle <SEP> 7, <SEP> 44-8,02 <SEP> (m, <SEP> 7H) <SEP> ;
<tb> mélange <SEP> d'isomères
<tb> &alpha;, <SEP> ss, <SEP> E, <SEP> Z
<tb> chromatographie <SEP> huile <SEP> jaune/
<tb> 35 <SEP> # <SEP> (hexane <SEP> :

   <SEP> acétate <SEP> 1,08 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,90
<tb> # <SEP> -C3H7 <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,39 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> H2 <SEP> 7,19-7,43 <SEP> (m, <SEP> 9H)
<tb> 36 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> précipitation <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 130
<tb> avec <SEP> C2H5OH/H2O
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 101> 

 
 EMI101.1 
 Exemple 37 . A C\ . 00. 



  Il 1 . c 1 ! 11 o o o oo < X C 3 3 ; < 4 Composé de formule III ; R1 est R2 est F 0 R es t '-'3s"- 0 
 EMI101.2 
 Le composé de l'Exemple 37 est préparé en faisant réagir 2 moles de l'oxime correspondante avec 1 mole du dichlorure correspondant selon le procédé décrit dans l'Exemple 1.2. Le composé est un solide blanc ayant un point de fusion de   111-112OC.   Valeurs de RMN de 1H [ppm] : 7, 00- 7,13 (m, 8H), 7,20-7, 28 (m, 2H), 7,38-7, 48 (m, 8H), 7,87 (t, 1H), 8,36 (d, 2H), 8,63 (s, 1H). 



  Exemple 38 : 
 EMI101.3 
 
 EMI101.4 
 Composé de formule II ; R est R est F ; 22. 2 R3 est-SOCH. 



  Le composé de l'Exemple 38 est préparé en faisant e e réagir 1 mole de la bisoxime correspondante avec 2 moles du chlorure correspondant selon le procédé décrit dans l'Exemple 1.2. Le composé est isolé par chromatographie avec un mélange hexane : acétate d'éthyle (5 : 1) et c'est un liquide jaune pâle. Valeurs de RMN de 1H [ppm] : 3,25/3, 27 (s, 6H), 
 EMI101.5 
 4, 43 (s, 4H), 7, 02-7, 08 (m, 4H), 7, 53-7, 62 (m, 4H). Exemple 39 1 
 EMI101.6 
 F3é'\\ Il 2-'2 \\ Il'CF3 F''"'\P, il CF 13c"c 3 Composé de formule II ; ; Ri 1 est ; R2 est F ; R3 est-SOCH 

 <Desc/Clms Page number 102> 

 
 EMI102.1 
 Le composé de l'Exemple 39 est préparé comme décrit dans l'Exemple 38. Le composé est isolé par chromatographie avec un mélange hexane : acétate d'éthyle (5 : 1) et c'est un liquide orangé.

   Valeurs de RMN de 1H [ppm] : 1, 12 (t, 6H), 1, 88-2, 02 (m, 4H), 3, 34-3, 43 (m, 4H), 4, 43 (s, 4H), 7, 00- 7, 07 (m, 4H), 7, 51-7, 61 (m, 4H). 



  Exemples 40 à 74 Les composés des Exemples 40 à 74 sont obtenus selon le procédé décrit dans l'Exemple 1. 2 en utilisant les matières de départ correspondantes. Les structures et valeurs physiques sont énoncées dans le Tableau 2. 



  TABLEAU 2 
 EMI102.2 
 
 EMI102.3 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> Éthat <SEP> : <SEP> P.F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification <SEP> 1
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> H <SEP> [Ô <SEP> (ppm)]
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> # <SEP> dans <SEP> le <SEP> méthanol/126-127/
<tb> acétate <SEP> d'éthyle <SEP> 2,34 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 2,52
<tb> 40 <SEP> CH5- <SEP> # <SEP> # <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 2,60 <SEP> (s,
<tb> # <SEP> 6H), <SEP> 7,04 <SEP> (s, <SEP> 2H),
<tb> H3C <SEP> 7, <SEP> 29 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,38
<tb> (d, <SEP> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> le <SEP> méthanol <SEP> 101-102/
<tb> 41 <SEP> CH3O <SEP> # <SEP> # <SEP> CH3 <SEP> 2,34 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 2,60
<tb> (s, <SEP> 6H), <SEP> 3, <SEP> 87 <SEP> (s,
<tb> ut <SEP> 3H), <SEP> 6,96-7, <SEP> 03 <SEP> (m,
<tb> 4H), <SEP> 7,

  46 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 71-73/
<tb> 0-0-0- <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 4 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 3,26 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 7,06
<tb> 42 <SEP> # <SEP> -CH3 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7, <SEP> 11 <SEP> (d,
<tb> 2H), <SEP> 7,24 <SEP> (t, <SEP> 1H),
<tb> 7,43 <SEP> (t, <SEP> 2H), <SEP> 7,53
<tb> (d, <SEP> 2H)
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 103> 

 
 EMI103.1 
 
<tb> 
<tb> Structrue <SEP> État <SEP> : <SEP> P.F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> 1H <SEP> [#(ppm)]
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune <SEP> pâle/
<tb> (hexane:

   <SEP> acétate <SEP> 0,93 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,13
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 85:15) <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 1,40-1,48
<tb> (m, <SEP> 1H), <SEP> 1,67-1,75
<tb> (m, <SEP> 1H), <SEP> 1,93-2,18
<tb> 43 <SEP> # <SEP> (m, <SEP> 3H), <SEP> 2,33-2,46
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 2,52 <SEP> (s,
<tb> #H), <SEP> 3,34 <SEP> (d, <SEP> 1H),
<tb> 3,85 <SEP> (d, <SEP> 1H),
<tb> 7,32 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,47 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> le <SEP> méthanol <SEP> 85-87/
<tb> 3,87 <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 44 <SEP> CH3O <SEP> # <SEP> # <SEP> 6,98 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,46
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,63-7,76
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 7,93-8,00
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 8,03 <SEP> (d,
<tb> 2H), <SEP> 8,63 <SEP> (s, <SEP> 1H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> incolore/
<tb> (hexane-acétate <SEP> 0,93 <SEP> (s, <SEP> 3H)

  , <SEP> 1,14
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 3:1) <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 1,40-1,49
<tb> (m, <SEP> 1H), <SEP> 1,68-1,77
<tb> 45 <SEP> # <SEP> (m, <SEP> 1H), <SEP> 1,93-2,18
<tb> (m, <SEP> 3H), <SEP> 2,35-2,46
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,35 <SEP> d,
<tb> 1H), <SEP> 3,85 <SEP> (d, <SEP> 1H),
<tb> 3,88 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 7,00
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,54 <SEP> (d,
<tb> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> l'hexane/ <SEP> 81-82/
<tb> acétate <SEP> d'éthyle <SEP> 3,84 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 4,68
<tb> 46 <SEP> # <SEP> (s, <SEP> 2H), <SEP> 6,93 <SEP> (d,
<tb> 2H), <SEP> 7,36 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,42 <SEP> (s, <SEP> 5H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> l'hexane <SEP> 87-88/
<tb> 1,21 <SEP> (d, <SEP> 12H), <SEP> 1,28
<tb> 47 <SEP> CH3O <SEP> # <SEP> CH <SEP> (d, <SEP> 6H), <SEP> 2,93 <SEP> (m,
<tb> 1H),

   <SEP> 3,88 <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 4,06 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 6,98
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,19 <SEP> (s,
<tb> 2H), <SEP> 7,49 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 104> 

 
 EMI104.1 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> État <SEP> : <SEP> P. <SEP> F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> H <SEP> [6 <SEP> (ppm)]
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> l'hexane <SEP> 78-80/
<tb> H3C <SEP> 2,35 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 2,60
<tb> 48 <SEP> # <SEP> (s, <SEP> 6H), <SEP> 6, <SEP> 98-7, <SEP> 07
<tb> # <SEP> (m, <SEP> 4H), <SEP> 7,10 <SEP> (d,
<tb> H <SEP> C <SEP> 2H), <SEP> 7,23 <SEP> (t, <SEP> 1H),
<tb> # <SEP> 7,39-7,47 <SEP> (m, <SEP> 4H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaurne <SEP> pale/
<tb> # <SEP> (hexane <SEP> :

   <SEP> acétate <SEP> 1, <SEP> 47 <SEP> (d, <SEP> 6H), <SEP> 3,81
<tb> 49 <SEP> # <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> (m, <SEP> 1H), <SEP> 3,87 <SEP> (s,
<tb> CH <SEP> 3H), <SEP> 7, <SEP> 00 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 3 <SEP> 7, <SEP> 53 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 69-70/
<tb> # <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> 1,12 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,94
<tb> 50# <SEP> -C3H7 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 2,53 <SEP> (s,
<tb> # <SEP> 3H), <SEP> 3,39 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 7,30 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,45
<tb> (d, <SEP> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> .-., <SEP> dans <SEP> l'hexane/51-52/
<tb> # <SEP> acétate <SEP> d'éthyle <SEP> 1, <SEP> 47 <SEP> (d, <SEP> 6H), <SEP> 2,52
<tb> \ <SEP> (5, <SEP> 3H), <SEP> 3,80 <SEP> (m,
<tb> 1H), <SEP> 7,32 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7, <SEP> 46 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> incolore/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 0,96 <SEP> (t, <SEP> 3H),
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> 1,49 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,87
<tb> 52 <SEP> -C4H9 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 2,53 <SEP> (s,
<tb> # <SEP> 3H), <SEP> 3,40 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 7,32 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,46 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> brunâtre/
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 0,97 <SEP> (t, <SEP> 3H),
<tb> 53 <SEP> # <SEP> -C4H9 <SEP> 1,50 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,87
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,42 <SEP> (t,
<tb> 2H), <SEP> 3,87 <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 7,00 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7, <SEP> 54
<tb> (d, <SEP> 2H)
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 105> 

 
 EMI105.1 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> État <SEP> :

   <SEP> P. <SEP> F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> H <SEP> [Ô <SEP> (ppm)]
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 90-91/
<tb> # <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 3,93 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 6,98-
<tb> 54 <SEP> # <SEP> 7,12 <SEP> (m, <SEP> 6H), <SEP> 7,22
<tb> # <SEP> (t, <SEP> 1H), <SEP> 7,38-7, <SEP> 46
<tb> (m, <SEP> 4H), <SEP> 7,95 <SEP> (d,
<tb> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> le <SEP> 147-148/
<tb> 2-propanol <SEP> 7,03 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7, <SEP> 09
<tb> # <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,21 <SEP> (t,
<tb> # <SEP> 1H), <SEP> 7,38-7, <SEP> 45 <SEP> (m,
<tb> 4H), <SEP> 7,63-7, <SEP> 77 <SEP> (m,
<tb> 2H), <SEP> 7,92-8, <SEP> 04 <SEP> (m,
<tb> 4H), <SEP> 8,63 <SEP> (s, <SEP> H)

  
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> brun/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 0, <SEP> 84-0,93 <SEP> (m, <SEP> 3H),
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 9 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 1,20-1, <SEP> 40 <SEP> (m, <SEP> 8H),
<tb> 1,40-1, <SEP> 54 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 1,88 <SEP> (Z) <SEP> /2,05 <SEP> (E)
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,42 <SEP> (Z) <SEP> /
<tb> # <SEP> 13, <SEP> 65 <SEP> (E) <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 56 <SEP> # <SEP> -C8H1 <SEP> 7,00-7,12 <SEP> (m, <SEP> 4H),
<tb> 7,22 <SEP> (t, <SEP> 1H), <SEP> 7,40
<tb> (t, <SEP> 2H), <SEP> 7,50 <SEP> (d,
<tb> 2H). <SEP> E <SEP> : <SEP> Z <SEP> = <SEP> 1 <SEP> : <SEP> 3.
<tb> 



  Les <SEP> signaux <SEP> sont
<tb> attribués <SEP> aux
<tb> isomères <SEP> E <SEP> et <SEP> Z
<tb> sous <SEP> réserve.
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 70-72/
<tb> CH <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 6 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 1, <SEP> 17-1, <SEP> 30 <SEP> (m, <SEP> 18H),
<tb> 57 <SEP> # <SEP> 2,93 <SEP> (m, <SEP> 1H), <SEP> 4,05
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 6,98-7,12
<tb> H <SEP> # <SEP> (m, <SEP> 4H), <SEP> 7,15-7, <SEP> 27
<tb> H3C <SEP> CH <SEP> CH3 <SEP> (m, <SEP> 3H), <SEP> 7,37-7, <SEP> 48
<tb> C. <SEP> H3 <SEP> (m, <SEP> 4H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 67-68/
<tb> 3 <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> 1,48 <SEP> (d, <SEP> 6H), <SEP> 3,82
<tb> 58 <SEP> # <SEP> (m, <SEP> 1H) <SEP> (m, <SEP> 1H), <SEP> 6, <SEP> 98-7, <SEP> 12
<tb> ru <SEP> (m, <SEP> 4H), <SEP> 7, <SEP> 22 <SEP> (t,
<tb> "3 <SEP> 1H), <SEP> 7,43 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 7,50 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 106> 

 
 EMI106.1 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> Etat <SEP> : <SEP> P.F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex-Purification
<tb> RA <SEP> Ra <SEP> RMN <SEP> de'H <SEP> (6 <SEP> (ppm))
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> incolore/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 0,98 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,50
<tb> d'éthyle <SEP> : <SEP> : <SEP> 8 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,88 <SEP> (m,
<tb> 59 <SEP> # <SEP> -C@H@ <SEP> 2H), <SEP> 3,41 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> -C4H9 <SEP> 7, <SEP> 00-7,14 <SEP> (m, <SEP> 4H),
<tb> 7,22 <SEP> (t, <SEP> 1H),
<tb> 7,42 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 7,51 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> chlorure <SEP> 101-103/
<tb> 60-CH3 <SEP> de <SEP> méthyle <SEP> = <SEP> 1 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 3,25 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 7,23
<tb> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,37-7, <SEP> 58
<tb> (m, <SEP> 7H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 54-55/
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> 0,90 <SEP> (t, <SEP> 3H),
<tb> ,-. <SEP> 1, <SEP> 22-1, <SEP> 40 <SEP> (m, <SEP> 8H),
<tb> 61 <SEP> -CH3 <SEP> 1,40-1, <SEP> 52 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> # <SEP> 1, <SEP> 83 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,27
<tb> (s, <SEP> 3H), <SEP> 4,00 <SEP> (t,
<tb> 2H), <SEP> 6,98 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,54 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 3, <SEP> 25 <SEP> (s, <SEP> 3H),
<tb> 62 <SEP> # <SEP> -CH3 <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 6 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 4,05 <SEP> (s, <SEP> 2H),
<tb> 7, <SEP> 18-7,35 <SEP> (m, <SEP> 7H),
<tb> 7, <SEP> 45 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> incolore/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 0,89 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,11
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 9 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,24-1, <SEP> 40
<tb> (m, <SEP> 8H), <SEP> 1, <SEP> 41-1, <SEP> 52
<tb> 63 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,80 <SEP> (m,
<tb> 2H), <SEP> 1,94 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 3,39 <SEP> (t, <SEP> 2H), <SEP> 4,00
<tb> (t, <SEP> 3H), <SEP> 6,98 <SEP> (d,
<tb> 2H), <SEP> 7,53 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> le <SEP> 52-53/
<tb> 2-propanol <SEP> 0,99 <SEP> (t, <SEP> 3H),
<tb> 64 <SEP> C4H9O <SEP> # <SEP> -CH3 <SEP> 1,51 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,79 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,26 <SEP> (s,
<tb> 3H), <SEP> 4,03 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 6,98 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7, <SEP> 53 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 107> 

 
 EMI107.1 
 
<tb> 
<tb> !
<tb> Structure <SEP> État <SEP> :

   <SEP> P. <SEP> F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification
<tb> RA <SEP> Rg <SEP> RMNdeH <SEP> [5 <SEP> (ppm) <SEP> 
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune <SEP> pâle/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 0, <SEP> 98 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1, <SEP> 10 <SEP> i
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1, <SEP> 49 <SEP> (m,
<tb> 65 <SEP> # <SEP> -C@H@ <SEP> 2H), <SEP> 1,78 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 65 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> 1, <SEP> 92 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,38
<tb> (t, <SEP> 2H), <SEP> 4,02 <SEP> (t,
<tb> 2H), <SEP> 6,98 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7,52 <SEP> (d, <SEP> 2H) <SEP> !
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc, <SEP> 98/
<tb> - <SEP> dans <SEP> l'éthanol <SEP> 1,11 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,92
<tb> 66 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,39 <SEP> (t,
<tb> 2H), <SEP> 4,32 <SEP> (m, <SEP> 4H),
<tb> 6,97 <SEP> (d, <SEP> 1H), <SEP> 7,05
<tb> (m, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 1,12 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,98
<tb> s <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 5 <SEP> :

   <SEP> 1) <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,45 <SEP> (t,
<tb> 67 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> 2H), <SEP> 7,22-7, <SEP> 27
<tb> (m, <SEP> 1H), <SEP> 7,77-7, <SEP> 85
<tb> (m, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 0,88 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1, <SEP> 12
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 20 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,18-1, <SEP> 43
<tb> m, <SEP> 22H), <SEP> 1,44-1,53
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,83 <SEP> (m,
<tb> 68 <SEP> -C3H7 <SEP> 2H0, <SEP> 1,95 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> 3,28-3,42 <SEP> (m, <SEP> 3H),
<tb> 4,01 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 6,84-6, <SEP> 90 <SEP> (m, <SEP> 1H),
<tb> 7,38-7, <SEP> 42 <SEP> (m, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> incolore/
<tb> (hexane <SEP> :

   <SEP> acétate <SEP> 1, <SEP> 17 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,92
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 3:1) <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 2,80 <SEP> (s,
<tb> 69 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> 3H0, <SEP> 3,42 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 7,65 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,78
<tb> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> incolore/
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 1, <SEP> 10 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,27
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 3 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,92 <SEP> (m,
<tb> 70 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> 2H), <SEP> 2,82 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 3,39 <SEP> (t, <SEP> 2H), <SEP> 4,20
<tb> 22 <SEP> (q, <SEP> 2H), <SEP> 4, <SEP> 30 <SEP> (m,
<tb> 4H), <SEP> 7,02 <SEP> (d, <SEP> 2H),
<tb> 7, <SEP> 51 <SEP> (d, <SEP> 2H)
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 108> 

 
 EMI108.1 
 
<tb> 
<tb> Structure <SEP> État <SEP> :

   <SEP> P. <SEP> F. <SEP> ( C)/
<tb> Ex. <SEP> Purification
<tb> RA <SEP> RB <SEP> RMN <SEP> de <SEP> 1H <SEP> [#(ppm)]
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> (hexane <SEP> : <SEP> acétate <SEP> 38-40/
<tb> d'éthyle <SEP> = <SEP> 13 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> 0,88 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1, <SEP> 10
<tb> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,22-1, <SEP> 42
<tb> (m, <SEP> 24H), <SEP> 1,42-1, <SEP> 53
<tb> H3C <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,78-1, <SEP> 86
<tb> 71 <SEP> C16H33O <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,88-1,98
<tb> # <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 2,25 <SEP> (s,
<tb> 3H), <SEP> 3,38 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 4,02 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 6, <SEP> 88 <SEP> (d, <SEP> 1H),
<tb> 7,32 <SEP> (s, <SEP> 1H),
<tb> 7,40 <SEP> (d, <SEP> 1H)
<tb> chromatographie <SEP> liquide <SEP> jaune <SEP> pâle/
<tb> (chlorure <SEP> de <SEP> 0,89 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,

  12
<tb> méthylène) <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,20-1, <SEP> 41
<tb> H <SEP> C <SEP> (m, <SEP> 16H), <SEP> 1,42-1, <SEP> 53
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 1,83 <SEP> (m,
<tb> 72 <SEP> C <SEP> HO <SEP> c <SEP> 2H), <SEP> 1,94 <SEP> (m, <SEP> 2H),
<tb> # <SEP> 2, <SEP> 24 <SEP> (s, <SEP> 3H), <SEP> 3,40
<tb> (t, <SEP> 2H), <SEP> 4,01 <SEP> (t,
<tb> 2H), <SEP> 6,87 <SEP> (d, <SEP> 1H),
<tb> 7,33 <SEP> (s, <SEP> 1H),
<tb> 7, <SEP> 40 <SEP> (d, <SEP> 1H)
<tb> recristallisation <SEP> solide <SEP> blanc,
<tb> dans <SEP> l'éthanol <SEP> 73-74/
<tb> 1, <SEP> 08-1,18 <SEP> (m, <SEP> 6H),
<tb> 73 <SEP> # <SEP> -C3H7 <SEP> 1,94 <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 2,07
<tb> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,32 <SEP> (t,
<tb> 2H), <SEP> 3,40 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> 6,94 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,57
<tb> (d, <SEP> 2H)
<tb> chromatographie <SEP> solide <SEP> jaune, <SEP> 105/
<tb> H-C <SEP> (hexane <SEP> :

   <SEP> acétate <SEP> 1,08 <SEP> (t, <SEP> 3H), <SEP> 1,90
<tb> # <SEP> d'éthyle <SEP> = <SEP> 3 <SEP> : <SEP> 1) <SEP> (m, <SEP> 2H), <SEP> 3,04 <SEP> (s,
<tb> # <SEP> -C3H7 <SEP> 6H), <SEP> 3,38 <SEP> (t, <SEP> 2H),
<tb> H3C <SEP> 6,69 <SEP> (d, <SEP> 2H), <SEP> 7,58
<tb> (d, <SEP> 2H)
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 109> 

 
 EMI109.1 
 Exemple 75 : 
 EMI109.2 
 
 EMI109.3 
 "IN Composé de formule III ; R est 3 s. ; R est F ; 's h 1 1 1 $la 2 0, 1 a .,. 3. 



  3 \'0 0 0 0 
 EMI109.4 
 Le composé de l'Exemple 75 est préparé en faisant réagir 2 moles de l'oxime correspondante avec 1 mole du dichlorure correspondant selon le procédé décrit dans l'Exemple 1. 2. Le composé est purifié par recristallisation dans le toluène et c'est un solide blanc ayant un point de fusion de 135-137 C. Valeurs de RMN de 1H, 6 [ppm] : 2, 53 (s, 6H), 7, 32 (d, 4H), 7, 39 (d, 4H), 7, 88 (t, 1H), 8, 36 (d, 2H), 8, 63 (s, 1H). 



  Exemple 76 : 
 EMI109.5 
 
 EMI109.6 
 Composé de formule III ; R < est-C\k' ; R est F ; R'est sO Rg est 0 0 
 EMI109.7 
 Le composé de l'Exemple 76 est préparé en faisant réagir 2 moles de l'oxime correspondante avec 1 mole du dichlorure correspondant selon le procédé décrit dans 

 <Desc/Clms Page number 110> 

 l'Exemple 1.2. Le compose est purifié par recristallisation dans l'éthanol et c'est un solide blanc ayant un-point de fusion de   127-128 C.   Valeurs de RMN de 1H, 6 [ppm] : 3, 88 (s, 6H), 6,98 (d, 4H), 7,47 (d, 4H), 7,87 (t, 1H), 8,35 (d, 2H), 8,62 (s, 1H). 



  Exemple 77 : 
 EMI110.1 
 
 EMI110.2 
 Composé de formule II ; R'est-\//' j/ 
 EMI110.3 
 R2 est F ; R3 est-SOCH-y Le composé de l'Exemple 77 est préparé en faisant réagir 1 mole de la bisoxime correspondante avec 2 moles du chlorure correspondant selon le procédé décrit dans l'Exemple 1.2. Le composé est isolé par recristallisation dans le méthanol et c'est un solide blanc ayant un point de fusion de 84-86 C. Valeurs de   RMN de 1H (CDCl3), # [ppm] : 1,11 (t,   6H), 1,93 (m, 4H), 3,24 (s, 4H), 3,40 (t, 4H), 7,37 (d, 4H), 7,44 (d, 4H). 



    Exemple 78 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de  
2,2,   2-trifluoro-l- (4-méthoxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E, z) 78.1 : Oxime de 2,2, 2-trifluoro-1-(4-méthoxyphényl)- éthanone (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 10 g (49,0 mmol) de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-méthoxyphényl)   éthanone dans 100 ml d'éthanol. 



  A la solution, on ajoute 4,1 g (58,8 mmol) de chlorure d'hydroxylammonium et 11,9 ml (147 mmol) de pyridine. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 4 heures et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans 50 ml d'eau et extrait avec 100 ml et 50 ml d'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec une solution aqueuse d'hydrogénosulfate de potassium, de l'eau et de la saumure, déshydratée sur   MUS04   et concentrée. Le résidu est purifié par chromatographie 

 <Desc/Clms Page number 111> 

 
 EMI111.1 
 avec du chlorure de méthylène pour donner 5, 3 g d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-méthoxyphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de 62-80 C. 



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCl).   



    # [ppm] : 3,84 (s, 3H), 6, 93 (E)/6, 99 (Z) (d, 2H), 7,45 (E) /   7,55 (Z) (d, 2H), 8,78 (large s, 1H). Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. 



  Le rapport du mélange est estimé à E : Z = 1 : 1. 



  78.2 : O-(1-propylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-
1- (4-méthoxyphényl) éthanone (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 3,7 g (17,0 mmol) d'oxime de 2,2, 2-   trifluoro-1- (4-méthoxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères) dans 20 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,7 g (18,7 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 3,6 ml (25,5 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par chromatographie avec du chlorure de méthylène pour donner 5,4 g (16,5 mmol ; 97 %) de O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthoxyphényl) éthanone   sous forme d'un liquide jaune pâle. La structure est confirmée par le spectre RMN de H   (CDC13)'Ï [ppm]   : 1,11 (t, 3H), 1,88-2, 02 (m, 2H), 3,34-3, 43 (m, 2H), 3,88 (s, 3H), 6,95-7, 03 (m, 2H), 7, 52-7,58 (m, 2H). Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. 



    Exemple 79 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de  
2,2,   2-trifluoro-1- (4-méthoxyphényl)   éthanone (isomère unique) 79.1 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1   - (4-méthoxyphényl) éthanone (isomère unique) 
 EMI111.2 
 On dissout 118, 5 g (0, 58 mol) de 2, 2, 2-trifluor- 1- (4-méthoxyphényl) éthanone dans 470 ml d'éthanol et 

 <Desc/Clms Page number 112> 

 la solution est chauffée à   80 C.   A la solution, on ajoute 42,4 g (0,61 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 80,9 g (0,99 mol) d'acétate de sodium dissous dans 240 ml d'eau. 



  Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 5 heures et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans 500 ml d'eau et un solide blanc précipite. Le solide est isolé par filtration et rincé à l'eau, et purifié par recristallisation dans le toluène pour donner 73,1 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-méthoxyphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc. 



  La structure est confirmée par le spectre RMN   de H (CDC1-.).     Ï   [ppm] : 3,84 (s, 3H), 6,99 (d, 2H), 7,55 (d, 2H), 9,11   (large s, 1H).   Le spectre indique que le composé est un isomère unique, auquel est attribuée sous réserve la configuration Z. 



    79. 2 : O- (1-propylsulfonate) q'oxime   de 2,2, 2-trifluoro-
1- (4-méthoxyphényl) éthanone (isomère unique)
On dissout 12,0 g (54,8 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-méthoxyphényl) éthanone   (isomère unique) dans 100 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. 



  A la solution, on ajoute 9,4 g (65,7 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 8,3 g (82,1 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par chromatographie avec du chlorure de méthylène pour donner 15,8 g (48,6 mmol ; 89 %) de O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-méthoxyphényl) éthanone sous forme d'un liquide jaune pâle. La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H (CDCl3). 6 [ppm] : 1,11 (t, 3H), 1,94 (m, 2H), 3,39 (t, 2H), 3,88 (s, 3H), 7,00 (d, 2H), 7,54 (d, 2H).

   Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z. 

 <Desc/Clms Page number 113> 

 



    Exemple 80 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de  
2,2, 2-trifluoro-1-(4-phénoxyphényl)éthanone (mélange d'isomères E, Z)   80. 1 : Oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-phénoxyphényl) éthanone   (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 122 g (0,46 mol) d'oxime de 2,2, 2-tri- 
 EMI113.1 
 fluoro-1- (4-phénoxyphényl) éthanone dans 370 ml d'éthanol et la solution est chauffée à 80 C. A la solution, on ajoute 33,3 g (0,48 mol) de chlorure d'hydroxylammonium et 63,7 g (0,78 mol) d'acétate de sodium dissous dans 190 ml d'eau. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 5,5 heures et versé dans de l'eau. Un solide jaune pâle précipite. 



  Le solide est isolé par filtration et rincé à l'eau, et ajouté à de l'hexane et chauffé à   600C   pendant 20 min. Après refroidissement, le solide est isolé et rincé à l'hexane pour donner 109 g d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-phénoxy-   phényl) éthanone sous forme d'un solide blanc. La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCio).     6 [ppm]   : 7,00-7, 10 (m, 4H), 7,18 (t, 1H), 7,39 (t, 2H), 7,55 (d, 2H), 9,35 (large s, 1H). 



  80.2 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-phénoxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 10 g (35,6 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-phénoxyphényl}   éthanone (mélange d'isomères) dans 70 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 7,2 g (50,2 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 6,3 g (62,7 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par chromatographie avec un mélange hexane/acétate d'éthyle (5 : 1) pour donner 8,0 g (20,7 mmol ; 58 %) de   0- (1-propylsulfonate)   d'oxime de 
 EMI113.2 
 2, 2, 2-trifluoro-l- (4-phénoxyphényl} éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de 48-53OC. 

 <Desc/Clms Page number 114> 

 



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H (CDC13). 



    6 [ppm] : 1,07-1, 18 (m, 3H), 1,92 (Z) /2,10 (E) (m, 2H),   3, 40 (Z)/3, 67 (E) (t, 2H), 7,00-7, 12 (m, 4H), 7,15-7, 28 (m, 1H), 7,34-7, 45 (m, 2H), 7,51 (d, 2H). Les signaux sont attribués aux configurations   E et   Z sous réserve. Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. 



  Le rapport du mélange est estimé à E : Z   =   1 : 5. 



    Exemple 81 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de  
2,2,   2-trifluoro-1- (4-phénoxyphényl)   éthanone (isomère unique) 81. 1 :   Oxime de 2,   2,   2-trifluoro-1- (4-phénoxyphényl)   éthanone (isomère unique)
On dissout 35 g (124 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-phénoxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E et Z), préparée selon le procédé décrit dans l'Exemple 80.1, dans 300 ml de chlorure de méthylène. On ajoute 1,1 ml de HCl concentré à la solution qui est agitée à la température ambiante pendant 4,5 heures. Le mélange réactionnel est lavé avec de l'eau et de la saumure, déshydraté sur MgS04 et concentré pour donner 33,4 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-méthoxyphényl) éthanone (isomère unique) sous forme d'un solide blanc.

   La structure est confirmée par le spectre RMN de H (CDC13). 6 [ppm] : 7,00-7, 12 (m,   4H),   7,19 (t, 1H), 7,39   (t, 2H),   7,57 (d, 2H), 8,95 (s, 1H). 



  81. 2 :   O- (1-propylsulfonate)   d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-
1- (4-phénoxyphényl) éthanone (isomère unique)
On dissout 10,0 g (35,6 mmol) d'oxime de 2,2, 2-   trifluoro-1- (4-phénoxyphényl)   éthanone (isomère unique) dans 80 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. 



  A la solution, on ajoute 5,6 g (39,1 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 5,4 g (53,3 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation 

 <Desc/Clms Page number 115> 

 dans l'hexane pour donner 12,6 g (32,5 mmol ; 91 %) de O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-phénoxyphényl)   éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de   63-64 C.   La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCl,).   ô [ppm] : 1,11 (t, 3H), 1,92 (m, 2H), 3,40 (t, 2H), 7,05 (d, 2H), 7,11 (d, 2H), 7,23 (t, 1H), 7,42 (t, 2H), 7,51 (d, 2H). Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z. 



    Exemple 82 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de  
2,2,   2-trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E, Z) 82. 1 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)-   éthanone (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 32 g (89,3 mmol) de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-dodécyloxyphényl) éthanone dans 200 ml d'éthanol. A la solution, on ajoute 7,4 g (107 mmol) de chlorure d'hydroxylammonium et 21,2 g (268 mmol) de pyridine. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 1, 5 heure et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans de l'eau et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec une solution aqueuse d'hydrogénosulfate de potassium, de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. 



  Le résidu est purifié par recristallisation dans un mélange   hexane/toluène pour donner 8,   4 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-dodécyloxyphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de   70-72 C.   La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDC13).     6 [ppm] :   0,89 (t, 3H), 1,20-1, 40 (m, 16H), 1,40-1, 50 (m, 2H),   1,79 (m, 2H), 3,86-4, 03 (m, 2H), 6,93 (E) /6,97 (Z) (d, 2H),   7,44   (E)/ 7,   53 (Z) (d, 2H),   8,   59   (Z)/8,   61 (E)   (large s,   1H). 



  Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. Le rapport du mélange est estimé à E : Z = 1 : 4. 

 <Desc/Clms Page number 116> 

 



  82.2 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 8,0 g (21,4 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E, Z) dans 50 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 3,4 g (23,6 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 3,3 g (32,1 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans le méthanol pour donner 9,1 g (19,0 mmol ; 89 %) de   0-   (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de   40-41 C.   



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDC13).   ô [ppm] : 0, 88 (t, 3H), 1,10 (t, 3H), 1,20-1, 40 (m, 16H), 1,40-1, 50 (m, 2H), 1,75-1, 85 (m, 2H), 1,87-1,   98   (m, 2H), 3,32-3, 42 (m, 2H), 4,00 (t, 2H), 6,93-7, 00 (m, 2H), 7,48- 7,57 (m, 2H). Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. 



  Exemple 83 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone (isomère unique) 83.1 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)-   éthanone (isomère unique)
On dissout 15 g (41,8 mmol) de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone dans 100 ml d'éthanol. 



  A la solution, on ajoute 3,5 g (50,2 mmol) de chlorure d'hydroxylammonium et 10,1 ml (125,4 mmol) de pyridine. 



  Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 2 heures et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans 100 ml d'eau et extrait avec 100 ml, puis 50 ml d'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec une solution aqueuse 

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 d'hydrogénosulfate de potassium, de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est dissous dans 100 ml de chlorure de méthylène. A la solution, on ajoute 4,2 g de HCl concentré. Le mélange réactionnel est agité à la température ambiante pendant une nuit et versé dans de l'eau. Après élimination de la phase aqueuse, la phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans l'hexane pour donner 9,7 g 
 EMI117.1 
 d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-l- (4-dodécyloxyphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de 75-76 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de H (CDCl3). 6 [ppm] : 0, 89 (t, 3H), 1, 21-1, 40 (m, 16H), 1, 40- 1,52 (m, 2H), 1,80 (m, 2H), 3,99 (t, 2H), 6,97 (d, 2H), 7,53 (d, 2H), 8, 43 (s, 1H). Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z. Lorsqu'on utilise de l'acide sulfurique à la place de HCl, on obtient également l'isomère unique de l'oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone. 



  83.2 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro-
1- (4-dodécyloxyphényl) éthanone (isomères unique)
On dissout 7,0 9 (18, 7 mmol) d'oxime de 2, 2, 2-   trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl)   éthanone (isomère unique) dans 50 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 2,9 g (20,6 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 3,9 ml (28,1 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié 
 EMI117.2 
 par recristallisation dans le méthanol pour donner 7, 6 g (15, 9 mmol ; 85 %) de O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-dodécyloxyphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de 42-44 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (COCIo).   



  5 [ppm] : 0,88 (t, 3H), 1,10 (t, 3H), 1,20-1, 40 (m, 16H), 

 <Desc/Clms Page number 118> 

 1,40-1, 50 (m, 2H), 1,80 (m, 2H), 1,94 (m, 2H), 3,48 (t, 2H), 4,00 (t, 1H), 6,97 (d, 2H), 7,53 (d, 2H). Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z. 



    Exemple 84 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de  
2,2,   2-trifluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl) -   éthanone (mélange d'isomères E, Z) 84.1 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl) -   éthanone (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 27 g (65,1 mmol) de 2,2, 2-trifluoro-   1- (4-hexadécyloxyphényl) éthanone   dans 100 ml d'éthanol. 



  A la solution, on ajoute 4,5 g (65,1 mmol) de chlorure d'hydroxylammonium et 12,9 g (163 mmol) de pyridine. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 4 heures et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans de l'eau et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec une solution aqueuse d'hydrogénosulfate de potassium, de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. 



  Le résidu est purifié par recristallisation dans un mélange hexane/toluène pour donner 13,5 g d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 1- (4-hexadécyloxyphényl) éthanone sous forme d'un solide beige ayant un point de fusion de   76-80 C.   La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCl).     ô [ppm]   : 0,88 (t, 3H), 1,20-1, 40 (m, 24H), 1,40-1, 50 (m, 2H), 1,75-1, 84   (m, 2H), 3,96-4, 02 (m, 2H), 6,89 (E) /6,95 (Z) (d, 2H), 7,43 (E) /7,52 (Z) (d, 2H), 8,28 (Z) /8,43 (E) (large s, 1H).   



  Les signaux sont attribués aux configurations E et Z sous réserve. Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. Le rapport du mélange est estimé à E : Z = 7 : 3. 



  84.2 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de
2,2,   2-trifluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 8,0 g (18,6 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl)   éthanone (mélange d'isomères E, Z) dans 50 ml de THF et la solution est refroidie au bain 

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 de glace. A la solution, on ajoute 2,9 g (20,5 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 2,8 g (27,9 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   00C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée.

   Le résidu est purifié par recristallisation dans le méthanol pour donner 8,9 g (16,6 mmol ; 89 %) de O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 
 EMI119.1 
 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl) éthanone sousforme d'un solide blanc ayant un point de fusion de 56-57 C. 



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H (CDC13).   Ï   [ppm] : 0, 88 (t, 3H), 1,12 (t, 3H), 1,18-1, 40 (m, 24H), 1,40-1, 50 (m, 2H), 1,76-1, 85 (m, 2H), 1,88-2, 02 (m, 2H), 3,32-3, 44 (m, 2H), 4,02 (t, 2H), 6,93-7, 00 (m, 2H), 7,48- 7,56 (m, 2H). Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. 



    Exemple 85 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de  
2,2,   2-trifluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl) -   éthanone (isomère unique)   85.   1 : Oxime de 2,2,   2-trifluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl) -   éthanone isomère unique)
On dissout 5,3 g (12,3 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-. 1- (4-hexadécyloxyphênyl)   éthanone (mélange d'isomères E et Z) préparée selon le procédé décrit dans l'Exemple 84.1 dans 100 ml de chlorure de méthylène. A la solution, on ajoute 1,0 ml de HCl concentré et le mélange est agité à la température ambiante pendant une nuit.

   Le mélange réactionnel est lavé avec de l'eau et de la saumure, déshydraté sur MgS04 et concentré pour donner 5,3 g d'oxime de 2,2, 2- 
 EMI119.2 
 trifluoro-l- (4-hexadécyloxyphényl) éthanone (isomère unique) sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de 84-85 C. La structure est confirmée par le spectre RMN de H (CDC13). Ï [ppm] : 0, 88 (t, 3H), 1, 20-1, 40 (m, 24H), 1, 40- 1,50 (m, 2H), 1,80 (m, 2H), 4,00 (t, 2H), 6,95 (d, 2H), 7,52 (d, 2H), 8,06 (s, 1H).

   Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z. 

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 85.2 : O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 2,2, 2-trifluoro- 
 EMI120.1 
 e e 1- (4-hexadécyloxyphényl) éthanone (isomère unique) 
On dissout 5,2 g (12,2 mmol) d'oxime de 2,2, 2-tri-   fluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl)   éthanone (isomère unique) dans 50 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 1,9 g (13,3 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 1,84 g (18,2 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité à   0 C   pendant 1 heure, versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle.

   La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur   MUS04   et concentrée. Le résidu est purifié par recristallisation dans le méthanol pour donner 5,8 g (10,8 mmol ; 89 %) de O- (l-propylsulfonate) d'oxime de 
 EMI120.2 
 2, 2, 2-trifluoro-1- (4-hexadécyloxyphényl) éthanone sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de 59-60 C. 



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H (CDC13).   Ï   [ppm] : 0,88 (t, 3H), 1,12 (t, 3H), 1,23-1, 41 (m, 24H), 1,41-1, 50 (m, 2H), 1,80 (m, 2H), 1,93 (m, 2H), 3,40 (t, 2H), 4,02 (t, 2H), 6,97 (d, 2H), 7,53 (d, 2H). Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z. 



  Exemple 86 : 
 EMI120.3 
 (mélange d'isomères E, Z) 
 EMI120.4 
 Composé de formule II ; R'est"/'/' ; -" 0 R2 est F ; R est-SOCHy 86. 1-. 0 0 --' ; c-- 3 F-C CF, 
 EMI120.5 
 Le composé de l'Exemple 86. 1 est préparé en faisant réagir 1 mole de 1,3-diphénoxypropane avec 2 moles de 4-diméthylaminopyridine, 2 moles d'anhydride trifluoracétique et 5 moles de AlCl3 selon le procédé décrit dans l'Exemple 7.1. 

 <Desc/Clms Page number 121> 

 Le produit brut est purifié par recristallisation dans le toluène. 
 EMI121.1 
 



  (mélange d'isomères E, Z)
On dissout 18,0 g (42,8 mmol) du composé de l'Exemple 86.1 dans 100 ml d'éthanol. A la solution, on ajoute 6,0 g (85,7 mmol) de chlorure d'hydroxylammonium et 16,9 g (214 mmol) de pyridine. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 4 heures et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans de l'eau et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec une solution aqueuse d'hydrogénosulfate de potassium, de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par recristallisation dans le toluène pour donner 16,1 g du composé de l'Exemple 86.2 sous forme d'un solide blanc. La structure 
 EMI121.2 
 est confirmée par le spectre RMN de 1H (DMSO-d6). 6 [ppm] : 2,22-2, 34 (m, 2H), 4,22-4, 32 (m, 4H), 7,06-7, 17 (m, 4H), 7,47/7, 52 (d, 4H).

   Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et   Z.   
 EMI121.3 
 



  *(mélange a-isomeres E, z)
On dissout 8,0 g (17,8 mmol) du composé de l'Exemple 86.2 (mélange d'isomères E, Z) dans 80 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 5,6 g (39,1 mmol) de chlorure de 1-propanesulfonyle, puis on ajoute goutte à goutte 5, 4 g (53,3 mmol) de triéthylamine. Le mélange réactionnel est agité pendant 2 heures à   0 C, versé   dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par chromatographie avec un mélange hexane/ acétate d'éthyle (2 : 1) pour donner 10,7 g (16,1 mmol ; 91 %) 

 <Desc/Clms Page number 122> 

 
 EMI122.1 
 du composé de l'Exemple 86. 3 sous forme d'un solide jaune pâle ayant un point de fusion de 80-84 C.

   La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H (CDC13). ô [ppm] : 1, 12 t, 6H), 1, 97 (m, 4H), 2, 36 (m, 2H), 3, 35-3, 45 (m, 4H), 4, 25 (t, 4H), 6,98-7, 06 (m, 4H), 7,54/7, 58 (d, 4H). Le spectre indique que le composé est un mélange d'isomères E et Z. 



  Exemple 87 
 EMI122.2 
 ---..---- 1 1 
 EMI122.3 
 (isomère unique) 
 EMI122.4 
   tlsomere unique)  
On dissout 21,0 9 (50,0 mmol) du composé de l'Exemple 86.1 dans 150 ml d'éthanol. A la solution, on ajoute 8,4 g (120 mmol) de chlorure d'hydroxylammonium et 23,8 g (300 mmol) de pyridine. Le mélange réactionnel est chauffé au reflux pendant 1,5 heure et le solvant est éliminé par distillation à l'évaporateur rotatif. Le résidu est versé dans de l'eau et extrait à l'acétate d'éthyle. La phase organique est lavée avec une solution aqueuse d'hydrogénosulfate de potassium, de l'eau et de la saumure, déshydratée sur   Wog804   et concentrée. Le résidu est dissous dans 150 ml d'acétate d'éthyle. On ajoute à la solution 0,43 ml de HCl concentré et le mélange est agité à la température ambiante pendant 2 heures.

   Le mélange réactionnel est lavé avec de l'eau et de la saumure, déshydraté sur MgS04 et concentré. 



  Le résidu est purifié par recristallisation dans le toluène pour donner 21,4 g du composé de l'Exemple 87.1 sous forme d'un solide blanc. La structure est confirmée par le spectre RMN de H   (DMSO-dg).   6 [ppm] : 2,43 (m, 2H), 4,42 (t, 4H), 7,30 (d, 4H), 7,70 (d, 4H). Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z, Z. 

 <Desc/Clms Page number 123> 

 
 EMI123.1 
 



  (isomère unique)
On dissout 8,0 g (17,8 mmol) du composé de l'Exemple 87.1 (isomère unique) dans 80 ml de THF et la solution est refroidie au bain de glace. A la solution, on ajoute 5,6 g (39,1 mmol) de chlorure de   1-propanesulfonyle,   puis on ajoute goutte à goutte 5,4 g (53,3 mmol) de triéthylamine. 



  Le mélange réactionnel est agité pendant 2 heures à   0 C,   versé dans de l'eau glacée et extrait à l'acétate d'éthyle. 



  La phase organique est lavée avec de l'eau et de la saumure, déshydratée sur MgS04 et concentrée. Le résidu est purifié par recristallisation dans le méthanol pour donner 9,1 g (13,7 mmol ; 77 %) du composé de l'Exemple 87.2 sous forme d'un solide blanc ayant un point de fusion de   60-62 C.   



  La structure est confirmée par le spectre RMN de 1H   (CDCl).   ô [ppm] : 1,12 (t, 6H), 1,97 (m, 4H), 2, 36 (m, 2H), 3,39 (t, 4H), 4,25 (t, 4H), 7,02 (d, 4H), 7,53 (d, 4H). Le spectre indique que le composé est un isomère unique auquel est attribuée sous réserve la configuration Z, Z. 



  Exemple 88 :
Une formulation de réserve positive amplifiée chimiquement est préparée en mélangeant les ingrédients suivants : 100,0 parties d'un liant résineux (un copolymère de 22 mol % de styrène, 69 mol % de p-hydroxystyrène et 9 mol % d'acrylate de t-butyle, ayant un P. M. de 9850 ;

  
RTMMaruzen MARUKA LYNCUR PHS/STY/TBA, fourni par
Maruzen Oil Company, Japon)
0,4 partie d'un agent d'égalisation (FC-430, fourni par
3M) 400,0 parties d'acétate d'éther méthylique de propylène- glycol (PGMEA) (fourni par Tokyo Kasei, Japon)
4,0 parties du photogénérateur d'acide à examiner 

 <Desc/Clms Page number 124> 

 
La formulation de réserve est déposée par centrifugation sur une tranche de silicone traitée par l'hexaméthyldisilazane à 6500 tr/min pendant 60 secondes et soumise à une cuisson douce pendant 90 secondes à   140 C   sur une plaque chaude pour donner une épaisseur de film de 800 nm. 



  Le film de réserve est ensuite exposé à un rayonnement ultraviolet lointain d'une longueur d'onde de 254 nm à travers un filtre interférentiel à bande étroite et un masque de quartz à plusieurs densités en utilisant une lampe à vapeur de mercure à haute pression de Ushio, UXM-501MD, et un aligneur de masque Canon PLA-521, puis il est cuit après l'exposition pendant 90 secondes à   140 C   sur une plaque chaude, et développé ensuite. L'intensité d'exposition est mesurée avec un appareil Unimeter UIT-150 de Ushio.

   La dose d'élimination    (E.), qui   est la dose juste suffisante pour éliminer complètement le film de réserve avec un développement par immersion pendant 90 secondes dans un agent de développement constitué d'une solution aqueuse à 2,38 % d'hydroxyde de   tétraméthylammonium,   est déterminée d'après la courbe de contraste mesurée (courbe caractéristique) comme décrit par R. Dammel,"Diazonaphthoquinone-based Resists", SPIE Tutorial Text Series, Vol. TT 11, Optical Engineering Press, p. 10-11 (1993). La formulation de réserve est d'autant plus sensible que la dose nécessaire est plus petite. Les résultats sont rassemblés dans le Tableau 3 et démontrent que les compositions conviennent à la préparation de réserves photosensibles positives. 



   TABLEAU 3 
 EMI124.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> Dose <SEP> d'élimination <SEP> (E)
<tb> l'Exemple <SEP> (mJ/cm2-)
<tb> 2 <SEP> 0, <SEP> 18
<tb> 3 <SEP> 0,18
<tb> 5 <SEP> 0,10
<tb> 6 <SEP> 0,23
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 125> 

 
 EMI125.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> Dose <SEP> d'élimination <SEP> (E)
<tb> l'Exemple <SEP> (mJ/cm2)
<tb> 13 <SEP> 1, <SEP> 14
<tb> 16 <SEP> 0, <SEP> 19
<tb> 17 <SEP> 0, <SEP> 24
<tb> 20 <SEP> 0, <SEP> 16
<tb> 21 <SEP> 0, <SEP> 16
<tb> 26 <SEP> 0, <SEP> 25
<tb> 27 <SEP> 0,15
<tb> 29 <SEP> 0,07
<tb> 
   Exemple 89 :  
Une formulation de réserve négative chimiquement amplifiée est préparée en mélangeant les ingrédients suivants : 100,0 parties d'un liant résineux (un poly (p-hydroxystyrène) 
 EMI125.2 
 RTM ayant un P.

   M. de 11 900 ; RTMVP-8000, fourni par 
Nisso, Japon) 10, 0 parties d'une résine d'urée-mélamine comme agent de réticulation (N,   N'-diméthoxyméthylurée,     RMX-290,   fourni par Sanwa Chemical Co., Ltd.) 
 EMI125.3 
 RTM 0, 5 partie d'un agent d'égalisation (RTMFC-430, fourni par 
3M)
7,7 parties du photogénérateur d'acide à examiner 500,0 parties d'acétate d'éther méthylique de propylène- glycol (PGMEA) (fourni par Tokyo Kasei, Japon)
La formulation de réserve est déposée par centrifugation sur une tranche de silicone traitée par l'hexaméthyldiméthylsilane à 6000 tr/min pendant 60 secondes à une épaisseur de 800 nm. Après cuisson douce pendant 60 secondes à   110 C   sur une plaque chaude, on obtient un film de réserve non collant.

   Le film de réserve est ensuite exposé à une longueur d'onde d'exposition UV de 254 nm à travers 

 <Desc/Clms Page number 126> 

 un filtre à bande étroite et un masque de quartz à plusieurs densités en utilisant une lampe à vapeur de mercure à haute pression de Ushio, UXM-501MD, et un aligneur de masque Canon PLA-521, afin de déterminer la Dose de Gel    (Do)   qui est obtenue d'une manière analogue à l'Exemple 88, excepté que le film de réserve est cuit à   110 C   pendant 60 secondes après l'exposition et avant le développement par immersion pendant 60 secondes dans une solution aqueuse à 2,38 % d'hydroxyde de tétraméthylammonium et que la dose de gel est déterminée comme la dose juste suffisante pour laisser une couche mince de réserve réticulée sur le substrat après le développement.

   Les courbes de contraste (courbes caractéristiques), pour les réserves positive et négative, sont étudiées en ce qui concerne la dose d'élimination (pour les réserves positives) et la dose de gel (pour les réserves négatives) par E. Reichmanis et L. F. Thompson, ACS SympA Ser.   412,"Polymers   in Microlithography", p. 4-5, American Chemical Society, Washington, DC, 1989). Les sensibilités des réserves négatives obtenues sont indiquées dans le Tableau 4. 



   TABLEAU 4 
 EMI126.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> Dose <SEP> de <SEP> Gel <SEP> (Do)
<tb> l'Exemple <SEP> (mJ/cm <SEP> 2)
<tb> 1 <SEP> 0,96
<tb> 2 <SEP> 3, <SEP> 74
<tb> 3 <SEP> 0,57
<tb> 6 <SEP> 0,43
<tb> 7 <SEP> 1, <SEP> 50
<tb> 13 <SEP> 3,81
<tb> 15 <SEP> 0,52
<tb> 16 <SEP> 0, <SEP> 10
<tb> 17 <SEP> 0, <SEP> 32
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 127> 

 
 EMI127.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> Dose <SEP> de <SEP> Gel <SEP> (Do)
<tb> l'Exemple <SEP> (mJ/cm <SEP> 2.)
<tb> 22 <SEP> 2,58
<tb> 23 <SEP> 1,65
<tb> 24 <SEP> 0,42
<tb> 25 <SEP> 2,53
<tb> 26 <SEP> 0,79
<tb> 27 <SEP> 0,57
<tb> 
   Exemple 90  
Une formulation de réserve positive amplifiée 
 EMI127.2 
 chimiquement est préparée en mélangeant les ingrédients préparée e suivants :

   100,00 parties du même liant résineux que décrit à l'Exem- ple 88
0,48 partie d'un agent d'égalisation (FC-430, fourni par 
 EMI127.3 
 3M) 475,00 parties d'acétate d'éther méthylique de propylène- glycol (PGMEA) (fourni par Tokyo Kasei, Japon)
4,0 parties du photogénérateur d'acide à examiner
La formulation de réserve est déposée par centrifugation sur une tranche de silicone traitée par l'hexaméthyldiméthylsilane à 3000 tr/min pendant 45 secondes et soumise à une cuisson douce pendant 90 secondes à   140 C   sur une plaque chaude pour donner une épaisseur de film de 800 nm. 



  Le film de réserve est ensuite exposé à un rayonnement ultraviolet lointain d'une longueur d'onde de 254 nm à travers un filtre interférentiel à bande étroite et un masque de quartz à plusieurs densités en utilisant une lampe à vapeur de mercure à haute pression de Ushio, UXM-501MD, et un aligneur de masque Canon PLA-521. Les échantillons sont cuits après l'exposition pendant 90 secondes à 1400C sur une plaque chaude, et développés. L'intensité d'exposition est 

 <Desc/Clms Page number 128> 

 mesurée avec un appareil Unimeter UIT-150 de Ushio.

   La dose d'élimination    (Eo), qui   est la dose juste suffisante pour éliminer complètement le film de réserve avec un développement par immersion pendant 60 secondes dans un agent de développement constitué d'une solution aqueuse à 1,79 % d'hydroxyde de tétraméthylammonium, est déterminée d'après la courbe de contraste mesurée. La formulation de réserve est d'autant plus sensible que la dose nécessaire est plus petite. Les résultats sont rassemblés dans le Tableau 5 et démontrent que les compositions conviennent à la préparation de réserves photosensibles positives. 



   TABLEAU 5 
 EMI128.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> Dose <SEP> d'élimination <SEP> (E)
<tb> l'Exemple <SEP> (mJ/cm2.)
<tb> 40 <SEP> 1,79
<tb> 41 <SEP> 1,63
<tb> 42 <SEP> 1,32
<tb> 43 <SEP> 1,50
<tb> 44 <SEP> 0, <SEP> 91
<tb> 45 <SEP> 4,61
<tb> 46 <SEP> 0, <SEP> 72
<tb> 47 <SEP> 4,16
<tb> 48 <SEP> 1,63
<tb> 49 <SEP> 0, <SEP> 99
<tb> 50 <SEP> 1,22
<tb> 51 <SEP> 1,22
<tb> 52 <SEP> 0,99
<tb> 53 <SEP> 0,56
<tb> 54 <SEP> 0,69
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 129> 

 
 EMI129.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> Dose <SEP> d'élimination <SEP> (Eo)
<tb> l'Exemple <SEP> (mJ/cm")
<tb> 55 <SEP> 0, <SEP> 69
<tb> 56 <SEP> 1,17
<tb> 57 <SEP> 5,01
<tb> 58 <SEP> 2,02
<tb> 59 <SEP> 1,47
<tb> 61 <SEP> 3,07
<tb> 62 <SEP> 1,51
<tb> 63 <SEP> 2,77
<tb> 64 <SEP> 2,66
<tb> 65 <SEP> 1,57
<tb> 66 <SEP> 2,90
<tb> 67 <SEP> 1, <SEP> 11
<tb> 69 <SEP> 1,33
<tb> 70 <SEP> 2,20
<tb> 72 <SEP> 4,

  25
<tb> 75 <SEP> 0, <SEP> 89
<tb> 76 <SEP> 1,30
<tb> 79 <SEP> 1, <SEP> 21
<tb> 80 <SEP> 1, <SEP> 54
<tb> 81 <SEP> 1,55
<tb> 83 <SEP> 5,00
<tb> 85 <SEP> 7,27
<tb> 87 <SEP> 1,73
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 130> 

 
 EMI130.1 
 Exemple 91 : 
Le point de dégradation (Td) du photogénérateur d'acide latent en présence de la même quantité (par rapport au poids) de poly (4-hydroxystyrène), ayant un Mp de 5100 et qui est disponible dans le commerce sous la désignation Maruzene MARUKA LYNCUR PHMC de Maruzene Oil Company, Tokyo, Japon, est déterminé par analyse en CDB (Calorimétrie Différentielle à Balayage). Les acides latents photosensibles sont d'autant plus stables à la chaleur que les valeurs sont plus élevées. Les résultats sont résumés dans le Tableau 6 ci-dessous. 



   TABLEAU 6 
 EMI130.2 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> l'Exemple <SEP> Td <SEP> ( C)
<tb> 1 <SEP> > 200
<tb> 2 <SEP> > 200
<tb> 3 <SEP> 180
<tb> 5 <SEP> 183
<tb> 6 <SEP> > 200
<tb> 8 <SEP> > 200
<tb> 13 <SEP> 197
<tb> 15 <SEP> 173
<tb> 16 <SEP> 186
<tb> 17 <SEP> 192
<tb> 18 <SEP> 175
<tb> 20 <SEP> 196
<tb> 21 <SEP> 176
<tb> 22 <SEP> 180
<tb> 23 <SEP> 219
<tb> 25 <SEP> 197
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 131> 

 
 EMI131.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> l'Exemple <SEP> Td <SEP> ( C)

  
<tb> 27 <SEP> 188
<tb> 40 <SEP> 174
<tb> 41 <SEP> 170
<tb> 42 <SEP> > 200
<tb> 43 <SEP> 185
<tb> 44 <SEP> 186
<tb> 45 <SEP> 174
<tb> 46 <SEP> 198
<tb> 47 <SEP> > 200
<tb> 48 <SEP> > 200
<tb> 49 <SEP> 172
<tb> 50 <SEP> 193
<tb> 51 <SEP> > 200
<tb> 52 <SEP> > 200
<tb> 53 <SEP> 186
<tb> 54 <SEP> 190
<tb> 55 <SEP> 184
<tb> 56 <SEP> > 200
<tb> 57 <SEP> > 200
<tb> 58 <SEP> > 200
<tb> 59 <SEP> 191
<tb> 61 <SEP> > 200
<tb> 62 <SEP> 193
<tb> 63 <SEP> > 200
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 132> 

 
 EMI132.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> l'Exemple <SEP> Td <SEP> ( C)
<tb> 64 <SEP> > 200
<tb> 65 <SEP> > 200
<tb> 66 <SEP> 186
<tb> 67 <SEP> 187
<tb> 69 <SEP> 173
<tb> 70 <SEP> 175
<tb> 72 <SEP> > 200
<tb> 75 <SEP> 175
<tb> 76 <SEP> 175
<tb> 79 <SEP> 190
<tb> 80 <SEP> 188
<tb> 81 <SEP> > 200
<tb> 83 <SEP> > 200
<tb> 85 <SEP> 197
<tb> 87 <SEP> 188
<tb> 
   Exemple 92 :

    
Le point de dégradation (Td) du photogénérateur d'acide latent en présence de la même quantité (par rapport au poids) de poly (4-hydroxystyrène) est mesuré de la même manière que décrit à l'Exemple 91. Les résultats sont résumés dans le Tableau 7 ci-dessous. 



   TABLEAU 7 
 EMI132.2 
 1 1 1 
 EMI132.3 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> l'Exemple <SEP> Td <SEP> ( C)
<tb> 78 <SEP> (mélange <SEP> d'isomères) <SEP> 116, <SEP> 185
<tb> 79 <SEP> (isomère <SEP> unique <SEP> de <SEP> 78) <SEP> 190
<tb> 
 

 <Desc/Clms Page number 133> 

 
 EMI133.1 
 
<tb> 
<tb> Composé <SEP> de <SEP> l'Exemple <SEP> Td <SEP> (OC)
<tb> 80 <SEP> (mélange <SEP> d'isomères) <SEP> 185, <SEP> > 2001)
<tb> 81 <SEP> (isomère <SEP> unique <SEP> de <SEP> 80) <SEP> > 200
<tb> 82 <SEP> (mélange <SEP> d'isomères) <SEP> 151, <SEP> > 2001)
<tb> 83 <SEP> (isomère <SEP> unique <SEP> de <SEP> 82) <SEP> > 200
<tb> 84 <SEP> (mélange <SEP> d'isomères) <SEP> 150, <SEP> 1971)
<tb> 85 <SEP> (isomère <SEP> unique <SEP> de <SEP> 84) <SEP> 197
<tb> 86 <SEP> (mélange <SEP> d'isomères) <SEP> 140, <SEP> 1881)
<tb> 87 <SEP> (isomère <SEP> unique <SEP> de <SEP> 86)

   <SEP> 188
<tb> 
 1) Deux pics apparaissent dans la mesure en CDB. 



  Les valeurs sont estimées d'après le point de départ des décompositions.

Claims (17)

  1. REVENDICATIONS 1. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement, caractérisée en ce qu'elle comprend : (a) un composé qui durcit sous l'action d'un acide ou un composé dont la solubilité est augmentée sous l'action d'un acide ; et (b) comme donneur d'acide photosensible, au moins un composé de formule I, II ou III EMI134.1 formules dans lesquelles R1 est l'hydrogène, un groupe alkyle en C1-C12 non substitué EMI134.2 ou un groupe alkyle en CI-cl2 substitué par au moins un groupe cycloalkyle en C3-C30 ; ou bien R1 est un groupe cycloalkyle en C-Co, halogénoalkyle en C e alkyle en C-Cn, alcényle en C-C, cycloalcényle en C4-CB' bicycloalcényle en C6-C12 ou camphoryle ;
    ou bien R1 est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en Ci-cl2, EMI134.3 halogénoalkyle en C,-c e halogénoalkyle en C-C, phényl (alkyle en C1-C3)'halogéno, phényle, OR NRrRg, SRy, SORy et/ou SORy, les substituants OR < , SR et NR.
    Rg formant facultativement des cycles pentaou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R., Re, Rg et/ou Ru, avec d'autres substituants présents sur le noyau phényle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau phényle ; ou bien R1 est un groupe naphtyle, anthracyle ou phénanthryle, chacun des groupes naphtyle, anthracyle et phénanthryle n'étant pas substitué ou étant substitué par au moins un EMI134.4 groupe alkyle en C-C, phényle, OR, NRRg, SRy, SORy et/ou S02R7'les substituants OR, SR et NRRg formant facultati- vement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R., Re, Re et/ou R7, avec d'autres substituants <Desc/Clms Page number 135> présents sur le noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ;
    ou bien R1 est un groupe hétéroaryle qui n'est pas substitué EMI135.1 ou est substitué par au moins un groupe alkyle en CL-Ce, phényle, OR, NRRg, SRy, SORy et/ou SORy, les substituants OR, SRy et NReR,. formant facultativement des cycles penta- ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R4, R5, R6 et/ou R7, avec d'autres substituants présents sur le noyau hétéroaryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau hétéroaryle ; tous les radicaux R1 à l'exception de l'hydrogène pouvant en outre être substitués par un groupe ayant une liaison-0-Cou une liaison-0-Si-qui se clive sous l'action d'un acide ;
    EMI135.2 Roi est un groupe phénylène, naphtylène, \,/- ? \/-' 1 naphtylene, - CH2 -' diphenylen ou oxydiphenylene, ces groupes n etant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle en Ci-cl2 ; ou bien R'1 est un groupe alkylène en C1-C12 ou EMI135.3 A est -O-, -S-, -NR4-, -O(CO)-, -S(CO)-, -NR4(CO)-, -SO-, - S02-, ou-OS02- ; A1 est un groupe alkylène en C1-C12 ou un groupe alkylène en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs-0- ; R2 est un halogène ou un groupe halogénoalkyle en C1-C10 ;
    R3 est un groupe alkylsulfonyle en C, -C'8' halogénoalkyl- EMI135.4 sulfonyle en C-Co, camphorylsulfonyle, phényl (alkylsulfonyle en C < -C), cycloalkyisulfonyle en C-C, phénylsulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénan- thrylsulfonyle, les fragments cycloalkyle, phényle, naphtyle, anthracyle et phénanthryle des groupes cycloalkylsulfonyle EMI135.5 en C,-c e enC-C, phényl (alkylsulfonyle enC-C), phênyisulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle et phénanthrylsulfonyle n'étant pas substitués ou étant substitués par un ou <Desc/Clms Page number 136> plusieurs groupes halogène, halogénoalkyle en C..-C < , CN, N02, alkyle en C1-C16, phényle, alkylthio en C1-C4, OR4, COOR7, (alkyle en C1-C4)- (OC) O-, R70SO2-et/ou-NR5R6 ;
    ou bien R3 est un groupe halogénoalcanoyle en C2-C6, halogénobenzyle ou EMI136.1 Y1, Y2 et Y3 sont chacun indépendamment 0 ou S ; R'3 est un groupe phénylènedisulfonyle, naphtylènedi- EMI136.2 -o D-o 0 Il Il sulfonyle,-s- -CH- )-s-, diphénylènedisulfonyle 0 - Z. - 8 0 0 ou oxydiphénylènedisulfonyle, ces groupes n'étant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle en C1-C12 ; ou bien R'3 est un groupe alkylènedisulfonyle en C-C ; X est un halogène ;
    R4 est l'hydrogène ou un groupe phényle, alkyle en Cl-cl8 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en CZ-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkyle en C2-C18 qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en EMI136.3 ci-ci., alcoxycarbonyle en C-C e C.-C, alcoxycarbonyle en C-C..., phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRcRc, alkyisulfonyle en C.-C, phênyisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en CZ-C6 ;
    ou bien R4 est un groupe alcanoyle en C,-C. g qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NReR, alkylsulfonyle en C-c e e alkylsulfonyle en C < -C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; <Desc/Clms Page number 137> ou bien R4 est un groupe alkylsulfonyle en C1-C18 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe EMI137.1 phényle, OH, alcoxy en Ci-cl2, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NReRg, alkylsulfonyle en C-C, phénylsulfonyle, (4-méthyl- phényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ;
    Rc et R6 sont chacun indépendamment l'hydrogène ou un groupe EMI137.2 alkyle en Ci-cl8 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy en Ci-c4, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phényl- thiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en Ci-c6 ;
    ou bien Re et R6 sont chacun un groupe alkyle en Cp-C qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy en C1-C4, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C1-C6 ;
    ou bien Rc et R6 sont chacun un groupe alcanoyle en C-C. r, qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un EMI137.3 groupe phényle, OH, alcoxy en Ci-cl2, alcoxycarbonyle en c-C e C-C < , phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en Ci-cl2l phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien Re et R6 sont chacun un groupe alkylsulfonyle en ci-cl, qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en Cl-cl2, alcoxycarbonyle en C-C, , phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle enC.-C < , phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;
    <Desc/Clms Page number 138> ou bien Re et R6 sont des groupes phényle, benzoyle, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénanthrylsulfonyle ; ou bien Re et Ru, avec l'atome d'azote auquel ils sont attachés, forment un cycle penta-, hexa-ou heptagonal qui peut être interrompu par -0- ou par -NR4- ; R7 est l'hydrogène, un groupe phényle ou un groupe alkyle en EMI138.1 ci-cl, qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phênoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NReRc, alkyisulfonyle en C-C < g, phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;
    . ou bien R7 est un groupe alkyle en C2-C18 qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en EMI138.2 C1-C121 alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phênoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRcRg, alkyisulfonyle en c e C-C. , phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R7 est un groupe alcanoyle en C2-C18 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, ($-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;
    ou bien R7 est un groupe alkylsulfonyle en C1-C18 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, EMI138.3 NR R e NReR6, alkylsulfonyle en C1-C, phénylsulfonyle, (4-méthyl- phényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R7 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ;
    R8, R9 et R10 sont chacun indépendamment un groupe alkyle en Cl-c6 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe halogéno ; <Desc/Clms Page number 139> EMI139.1 ou bien Rg, Rg et R10 sont chacun un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en C1-C4 ou halogéno ; ou bien Rq et R10 forment ensemble un groupe 1,2-phénylène ou alkylène en C2-C6 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en C1-C4 ou halogéno.
  2. 2. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'elle. comprend des composés des formules I, II et III dans lesquels X et R2 sont tous deux du fluor.
  3. 3. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement selon la revendication 1, caractérisée en ce que, dans les composés de formules I, II et III, EMI139.2 R1 est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en C < -C phényl (alkyle en C-C), halogène, OR, NRRg, SR, SORy et/ou S02R7'les substituants OR4 formant facultativement un cycle hexagonal, par l'intermédiaire des radicaux R4 ; ou bien R1 est un groupe naphtyle ou thiényle ; EMI139.3 A est -O- ou -S- ;
    Ai est un groupe alkylène en C.-C ; R2 est un halogène ou un groupe halogénoalkyle en C1-C10 ; R3 est un groupe alkylsulfonyle en Ci-cl., camphorylsulfonyle, phényl (alkylsulfonyle en C1-C3), phénylsulfonyle, naphtylsulfonyle, où le fragment phényle du groupe phénylsulfonyle n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en Cl-cl6 ou OR4 ; R'3 est un groupe phénylènedisulfonyle ; X est du fluor ;
    R4 est un groupe phényle, alkyle en Ci-cl, qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alcoxycarbonyle en C2-C12 ; ou bien R4 est un groupe alkyle en C-Cg qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui est substitué par au moins un groupe phényle ; <Desc/Clms Page number 140> R5 et R6 sont des groupes alkyle en C1-C18 ; R7 est un groupe phényle ou alkyle en Ci-ci..
  4. 4. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'il s'agit d'une réserve positive.
  5. 5. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement selon la revendication 4, caractérisée en ce qu'elle comprend (al) au moins un polymère ayant un groupe labile aux acides qui se décompose en présence d'un acide en augmentant la solubilité dans une solution alcaline aqueuse de développement ; et/ou (a2) au moins un inhibiteur de dissolution monomère ou oligomère ayant un groupe labile aux acides qui se décompose en présence d'un acide en augmentant la solubilité dans une solution alcaline aqueuse de développement ; et/ou (a3) au moins un composé monomère, oligomère ou polymère soluble en milieu alcalin ; et (b) comme donneur d'acide photosensible, au moins un composé de formule I, II ou III.
  6. 6. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'il s'agit d'une réserve négative.
  7. 7. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement selon la revendication 6, caractérisée en ce qu'elle comprend (a4) une résine soluble en milieu alcalin comme liant, (aS) un composant qui, lorsqu'il est catalysé par un acide, subit une réaction de réticulation avec lui-même et/ou avec le liant, et (b) comme donneur d'acide photosensible, un dérivé d'oxime de formule I, II ou III.
  8. 8. Composition de réserve photosensible amplifiée chimiquement selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisée en ce qu'elle comprend, en plus des composants (a) et (b), ou des composants (al), (a2), (a3) et (b), ou des composants (a4), (a5) et (b), d'autres additifs (c), <Desc/Clms Page number 141> d'autres composés donneurs d'acide photosensibles (b1), d'autres photo-initiateurs (d) et/ou des sensibilisateurs (e).
  9. 9. Procédé de formation d'une image de réserve, caractérisé en ce qu'il consiste à (1) appliquer une composition telle que décrite dans l'une quelconque des revendications précédentes à un substrat ; (2) cuire la composition après application à des températures comprises entre 600C et 1600C ; (3) irradier la composition conformément à une image avec de EMI141.1 la lumière ayant des longueurs d'onde comprises entre 150 nm et 1500 nm ; (4) facultativement, cuire la composition après irradiation à des températures comprises entre 600C et 1600C ; et (5) développer avec un solvant ou avec un agent de développement alcalin aqueux.
  10. 10. Composé caractérisé en ce qu'il répond à la formule Ib, IIb ou IIIb EMI141.2 dans laquelle Rit 1 est un groupe phényle qui n'est pas substitué ou est EMI141.3 substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en C-C, phényl (alkyle en C < -C), halogénoalkyle en C.-C, halogène, phényle, OR < , NReRe, SRn,, SOR et/ou SORy, les substituants OR., SRy et NRcRe formant facultativement des cycles penta- ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R4, R5, R6 et/ou Ru, avec d'autres substituants présents sur le noyau phényle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau phényle ;
    ou bien R"1 est un groupe naphtyle, anthracyle ou phénanthryle, chacun des groupes naphtyle, anthracyle et phénanthryle n'étant pas substitué ou étant substitué par au moins <Desc/Clms Page number 142> EMI142.1 un groupe alkyle en C < -Cg, phênyle, OR < , NReRg, SR, SOR et/ou SOR, les substituants OR., SRy et NR5R6 formant facultativement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R4, R5, R6 et/ou R, avec d'autres substituants présents sur le noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau naphtyle, anthracyle ou phénanthryle ;
    ou bien R"1 est un groupe hétéroaryle qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe alkyle en EMI142.2 C-Cg, phênyle, OR, NRRg, SR, SOR et/ou SORy, les substituants OR4'SR7 et NRgRg formant facultativement des cycles penta-ou hexagonaux, par l'intermédiaire des radicaux R4, R5, R6 et/ou R7, avec d'autres substituants EMI142.3 présents sur le noyau hétéroaryle ou avec l'un des atomes de carbone du noyau hétéroaryle ; EMI142.4 R'"est un groupe phénylène, naphtylène,- (,/-2\-/, EMI142.5 diphénylène ou oxydiphénylène, ces groupes n'étant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle en Ci-c, 2 ; EMI142.6 ou bien R'" est \/ "\/ ; EMI142.7 A est-O-,-S-,-NR-,-O (CO)-,-S (CO)-,-NR (CO)-,-SO-, - S02-, ou-OS02- ;
    A1 est un groupe alkylène en Ci-c, ou un groupe alkylène en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs-0- ; R"-. est un groupe alkylsulfonyle en C1-C16, phényl (alkylsulfonyle en C1-C3), camphorylsulfonyle, naphtylsulfonyle, triméthylphénylsulfonyle, ou un groupe phénylsulfonyle qui est substitué par un ou plusieurs groupes alkyle en C2-C16' EMI142.8 alcoxy en C e alcoxy en C.-C < , halogénoalkyle en Ci-C4 et/ou halogène ; et R est un groupe phénylènedisulfonyle, naphtylènedi- - ^ EMI142.9 il-, ri sulfonyle,-s-'C < \ T-s-, diphénylènedisulfonyle ou \==/ \==/ il il 0 oxydiphénylènedisulfonyle, ces groupes n'etant pas substitués ou étant substitués par au moins un groupe alkyle EMI142.10 en Ci-cl2 ; ou bien R'3 est un groupe alkylènedisulfonyle en C-C ;
    <Desc/Clms Page number 143> R4 est l'hydrogène ou un groupe phényle, alkyle en C1-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un EMI143.1 groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C-C.. p, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRcRc, alkyisulfonyle en C.-C < , phényisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkyle en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs -0- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C ?-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRcRg, alkylsulfonyle en C-C, phényisulfonyle, (4-méthylphényDsulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;
    ou bien R4 est un groupe alcanoyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C. , alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe alkylsulfonyle en C1-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien R4 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ;
    Re et R6 sont chacun indépendamment l'hydrogène ou un groupe EMI143.2 alkyle en Cl-cl2 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy en C < -C, alcoxycarbonyle en C-C < , phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phényl- thiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)sulfonyle et/ou alcanoyle en C1-C6 ;
    ou bien Re et R6 sont chacun un groupe alkyle en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe OH, alcoxy <Desc/Clms Page number 144> EMI144.1 en C < -C < , alcoxycarbonyle en C-C. , phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C1-C6 ; EMI144.2 ou bien Rc et R6 sont chacun un groupe alcanoyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C. , alcoxycarbonyle en C.,-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle en C.-C < , phênyisulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;
    ou bien R. et R6 sont chacun un groupe alkylsulfonyle en C1-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C2-C12, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, phénylamino, phénylaminocarbonyle, alkylsulfonyle EMI144.3 en Ci-c e en C1-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ; ou bien Re et R6 sont des groupes phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl)sulfonyle; ou bien Re et R6 sont des groupes phényle, benzoyle, naphtylsulfonyle, anthracylsulfonyle ou phénanthrylsulfonyle ;
    ou bien Re et R6, avec l'atome d'azote auquel ils sont attachés, forment un cycle penta-, hexa-ou heptagonal qui peut être interrompu par -0- ou par -NR4- ; R7 est l'hydrogène, un groupe phényle ou un groupe alkyle en EMI144.4 C1-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins c-c e par au mo un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C < p, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NRsR6'alkylsulfonyle en C1-C12'phénylsulfonyle, 5 61 1 12, ph'nylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;
    ou bien R7 est un groupe alkyle en C2-C12 qui est interrompu par un ou plusieurs -O- et qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en EMI144.5 121 ph'noxy, phénoxycarbonyle, C.-C, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, <Desc/Clms Page number 145> EMI145.1 phénylthio, phénylthiocarbonyle, NReRg, alkylsulfonyle en Ci-cl2, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C2-C6 ;
    ou bien R7 est un groupe alcanoyle en C2-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C.-C, alcoxycarbonyle en C-C, phênoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NReRg, alkylsulfonyle en C-c e alkylsulfonyle en C1-C, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl)- sulfonyle et/ou alcanoyle en C-Cg ; ou bien'R7 est un groupe alkylsulfonyle en C1-C12 qui n'est pas substitué ou est substitué par au moins un groupe phényle, OH, alcoxy en C1-C12, alcoxycarbonyle en C-C, phénoxy, phénoxycarbonyle, phénylthio, phénylthiocarbonyle, NR5R6, alkylsulfonyle en C1-C12, phénylsulfonyle, (4-méthylphényl) sulfonyle et/ou alcanoyle en C-Cg ; ou bien R7 est un groupe phénylsulfonyle ou (4-méthylphényl) sulfonyle ;
    EMI145.2 à condition que si R". est un groupe 4-méthylphényle ou 4-octylphényle, alors R" 3 ne soit pas un groupe méthane- sulfonyle.
  11. 11. Procédé pour la préparation spécifique de l'isomère thermostable des composés du type ester d'oxime de formule I, II ou III selon la revendication 1 ou des composés du type ester d'oxime de formule Ib, IIb ou IIIb EMI145.3 e en ce qu'il consiste selon la revendication 10, caractérisé en ce qu'il consiste à (1) traiter le mélange d'isomères des oximes correspondantes de formule X ou XI, obtenu par des procédés classiques, EMI145.4 où R1, R-etX sont tels que définis dans la revendication 1, avec un acide ;
    et <Desc/Clms Page number 146> (2) faire réagir l'isomère unique d'oxime ainsi préparé avec les halogénures d'acides correspondants de formule XV, XVI ou XVII R3Cl (XV) R"3Cl (XVI) Cl-R'3-Cl (XVII) où R3 et R'-, sont tels que définis dans la revendication 1 et R"3 est tel que défini dans la revendication 10.
  12. 12. Composition caractérisé en ce qu'elle comprend (a) un composé qui durcit sous l'action d'un acide ou un composé dont la solubilité est augmentée sous l'action d'un acide ; et (b) comme donneur d'acide photosensible, au moins un composé de formule Ib, IIb ou IIIb selon la revendication 10.
  13. 13. Utilisation de composés de formule Ib, II, ou IIIb selon la revendication 10 comme donneurs d'acide photosensibles dans des compositions qui peuvent être réticulées sous l'action d'un acide et/ou comme activateurs de dissolution dans des compositions dont la solubilité est augmentée sous l'action d'un acide.
  14. 14. Procédé de réticulation de composés qui peuvent être réticulés sous l'action d'un acide, caractérisé en ce qu'il consiste à ajouter un composé de formule Ib, IIb et/ou IIIb selon la revendication 10 auxdits composés et à irradier conformément à une image ou sur toute la surface avec de la lumière ayant une longueur d'onde de 150 à 1500 nm.
  15. 15. Utilisation de composés de formule Ib, IIb ou IIIb selon la revendication 10 comme donneurs d'acide photosensibles dans la préparation de revêtements de surface, encres d'impression, plaques d'impression, compositions dentaires, filtres colorés, réserves ou matériaux d'enregistrement d'images, ou matériaux d'enregistrement d'images pour l'enregistrement d'images holographiques.
  16. 16. Procédé selon la revendication 14, caractérisé en ce qu'il s'applique à la préparation de revêtements de surface, encres d'impression, plaques d'impression, compositions dentaires, filtres colorés, réserves ou matériaux d'enregistrement d'images, ou matériaux d'enregistrement d'images pour l'enregistrement d'images holographiques. <Desc/Clms Page number 147>
  17. 17. Utilisation de composés de formules I, II ou III selon la revendication 1 comme donneurs d'acide photosensibles dans la préparation de filtres colorés ou matières de réserve amplifiée chimiquement.
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Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI272451B (en) * 2000-09-25 2007-02-01 Ciba Sc Holding Ag Chemically amplified photoresist composition, process for preparation of a photoresist, and use of said chemically amplified photoresist composition
CN100528838C (zh) * 2001-06-11 2009-08-19 西巴特殊化学品控股有限公司 具有复合结构的肟酯光引发剂
US6824954B2 (en) * 2001-08-23 2004-11-30 Jsr Corporation Sulfonyloxime compound, and radiation sensitive acid generator, positive type radiation sensitive resin composition and negative type radiation sensitive resin composition using same
CA2474532A1 (fr) * 2002-02-06 2003-08-14 Peter Murer Derives sulfonates et leur utilisation comme acides latents
US6875480B2 (en) * 2002-02-27 2005-04-05 Industrial Technology Research Institute Method of enhancement of electrical conductivity for conductive polymer by use of field effect control
JP3841405B2 (ja) * 2002-03-29 2006-11-01 富士写真フイルム株式会社 ネガ型レジスト組成物
EP1595182B1 (fr) * 2003-02-19 2015-09-30 Basf Se Dérivés d'oximes halogénés et leur utilisation comme acides latents
US7098463B2 (en) * 2003-03-03 2006-08-29 Heuris Pharma, Llc Three-dimensional dosimeter for penetrating radiation and method of use
KR101193824B1 (ko) * 2004-07-20 2012-10-24 시바 홀딩 인크 옥심 유도체 및 잠산으로서의 이의 용도
TWI332122B (en) 2005-04-06 2010-10-21 Shinetsu Chemical Co Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions and patterning process
JP4626758B2 (ja) * 2005-07-07 2011-02-09 信越化学工業株式会社 含フッ素環状構造を有するケイ素化合物及びシリコーン樹脂、それを用いたレジスト組成物、及びパターン形成方法
US20070077452A1 (en) * 2005-10-04 2007-04-05 Jie Liu Organic light emitting devices having latent activated layers and methods of fabricating the same
KR100814232B1 (ko) * 2005-12-01 2008-03-17 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물을포함하는 착색 감광성 조성물
US20070176167A1 (en) * 2006-01-27 2007-08-02 General Electric Company Method of making organic light emitting devices
TWI406840B (zh) * 2006-02-24 2013-09-01 Fujifilm Corp 肟衍生物、光聚合性組成物、彩色濾光片及其製法
US8293436B2 (en) * 2006-02-24 2012-10-23 Fujifilm Corporation Oxime derivative, photopolymerizable composition, color filter, and process for producing the same
US7771913B2 (en) * 2006-04-04 2010-08-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Resist composition and patterning process using the same
JP4548617B2 (ja) * 2006-06-09 2010-09-22 信越化学工業株式会社 化学増幅レジスト材料用光酸発生剤、及び該光酸発生剤を含有するレジスト材料、並びにこれを用いたパターン形成方法
JP4623311B2 (ja) * 2006-06-14 2011-02-02 信越化学工業株式会社 化学増幅レジスト材料用光酸発生剤、及び該光酸発生剤を含有するレジスト材料、並びにこれを用いたパターン形成方法
CN101473268A (zh) * 2006-06-20 2009-07-01 西巴控股有限公司 肟磺酸酯和其作为潜伏酸的用途
US7527912B2 (en) * 2006-09-28 2009-05-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Photoacid generators, resist compositions, and patterning process
JP4509080B2 (ja) * 2006-09-28 2010-07-21 信越化学工業株式会社 シルセスキオキサン系化合物混合物及び加水分解性シラン化合物、その製造方法及びそれを用いたレジスト組成物並びにパターン形成方法及び基板の加工方法
US7771914B2 (en) * 2006-10-17 2010-08-10 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Resist composition and patterning process
JP4784760B2 (ja) * 2006-10-20 2011-10-05 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP4288520B2 (ja) * 2006-10-24 2009-07-01 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
US7618764B2 (en) * 2006-11-22 2009-11-17 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Positive resist compositions and patterning process
JP2008129389A (ja) * 2006-11-22 2008-06-05 Shin Etsu Chem Co Ltd ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4314494B2 (ja) * 2006-11-29 2009-08-19 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4910662B2 (ja) * 2006-11-29 2012-04-04 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4435196B2 (ja) * 2007-03-29 2010-03-17 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
US8466096B2 (en) * 2007-04-26 2013-06-18 Afton Chemical Corporation 1,3,2-dioxaphosphorinane, 2-sulfide derivatives for use as anti-wear additives in lubricant compositions
US20080268839A1 (en) * 2007-04-27 2008-10-30 Ayers John I Reducing a number of registration termination massages in a network for cellular devices
JP5035560B2 (ja) * 2007-07-04 2012-09-26 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
JP4475435B2 (ja) * 2007-07-30 2010-06-09 信越化学工業株式会社 含フッ素単量体、含フッ素高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP5035562B2 (ja) * 2007-08-22 2012-09-26 信越化学工業株式会社 パターン形成方法
JP5019071B2 (ja) * 2007-09-05 2012-09-05 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP5013119B2 (ja) * 2007-09-20 2012-08-29 信越化学工業株式会社 パターン形成方法並びにこれに用いるレジスト材料
JP4993138B2 (ja) * 2007-09-26 2012-08-08 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
JP4513989B2 (ja) 2008-01-18 2010-07-28 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4513990B2 (ja) 2008-01-18 2010-07-28 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4844761B2 (ja) * 2008-01-18 2011-12-28 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP5131461B2 (ja) * 2008-02-14 2013-01-30 信越化学工業株式会社 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
JP5071658B2 (ja) * 2008-02-14 2012-11-14 信越化学工業株式会社 レジスト材料、レジスト保護膜材料、及びパターン形成方法
WO2009103611A1 (fr) * 2008-02-21 2009-08-27 Basf Se Films indicateurs de dose d'uv
JP5177432B2 (ja) * 2008-02-21 2013-04-03 信越化学工業株式会社 パターン形成方法
JP4623324B2 (ja) * 2008-03-18 2011-02-02 信越化学工業株式会社 水酸基を有する単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
JP5245956B2 (ja) * 2008-03-25 2013-07-24 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP4569786B2 (ja) 2008-05-01 2010-10-27 信越化学工業株式会社 新規光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
JP4650644B2 (ja) * 2008-05-12 2011-03-16 信越化学工業株式会社 レジスト材料及びパターン形成方法
JP5381298B2 (ja) * 2008-05-12 2014-01-08 信越化学工業株式会社 レジスト保護膜材料及びパターン形成方法
JP4743450B2 (ja) * 2008-09-05 2011-08-10 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4771101B2 (ja) * 2008-09-05 2011-09-14 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4743451B2 (ja) * 2008-09-05 2011-08-10 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
JP4655128B2 (ja) * 2008-09-05 2011-03-23 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
CA2736521A1 (fr) * 2008-09-09 2010-03-18 Sonette Myburgh, Trustee For The Herman Myburgh Preservation Trust Mecanisme pour outil cloueur
EP2414894B1 (fr) * 2009-03-30 2014-02-12 Basf Se Films indicateurs de dose d'uv
JP5177434B2 (ja) * 2009-04-08 2013-04-03 信越化学工業株式会社 パターン形成方法
US8691925B2 (en) 2011-09-23 2014-04-08 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof
US8686109B2 (en) 2012-03-09 2014-04-01 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Methods and materials for removing metals in block copolymers
US8835581B2 (en) 2012-06-08 2014-09-16 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Neutral layer polymer composition for directed self assembly and processes thereof
US10457088B2 (en) 2013-05-13 2019-10-29 Ridgefield Acquisition Template for self assembly and method of making a self assembled pattern
US9093263B2 (en) 2013-09-27 2015-07-28 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using
US9181449B2 (en) 2013-12-16 2015-11-10 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Underlayer composition for promoting self assembly and method of making and using
KR101491975B1 (ko) 2014-03-14 2015-02-11 (주)휴넷플러스 화학 증폭형 포지티브 감광성 경화 수지 조성물, 이를 이용한 경화막의 제조 방법 및 경화막을 포함하는 전자소자
US9994538B2 (en) 2015-02-02 2018-06-12 Basf Se Latent acids and their use
WO2018033559A1 (fr) 2016-08-18 2018-02-22 AZ Electronic Materials (Luxembourg) S.à.r.l. Compositions polymères pour applications d'auto-assemblage
JP6835969B2 (ja) 2016-12-21 2021-02-24 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ ブロックコポリマーの自己組織化のための新規組成物及び方法
WO2018155547A1 (fr) * 2017-02-23 2018-08-30 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 Composition de résine photosensible, procédé de production de motif durci, produit durci, film isolant intercouche, couche de revêtement de couverture, couche de protection de surface et composant électronique

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4540598A (en) * 1983-08-17 1985-09-10 Ciba-Geigy Corporation Process for curing acid-curable finishes
EP0199672A1 (fr) * 1985-04-12 1986-10-29 Ciba-Geigy Ag Sulfonates d'oximes contenant des groupes réactifs
DE19644797A1 (de) * 1995-10-31 1997-05-07 Ciba Geigy Ag Oximsulfonsäureester und deren Verwendung als latente Sulfonsäuren

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4329488A (en) * 1980-12-05 1982-05-11 Hoffmann-La Roche Inc. Propionic acid esters and herbicidal use thereof
GB8608528D0 (en) * 1986-04-08 1986-05-14 Ciba Geigy Ag Production of positive images
US5104770A (en) 1988-03-11 1992-04-14 Hoechst Celanese Corporation Positive-working photoresist compositions
JP2782876B2 (ja) 1989-12-28 1998-08-06 住友化学工業株式会社 オキシムエーテルの異性化方法
DE4203170A1 (de) 1992-02-05 1993-08-12 Basf Ag Verfahren zur herstellung von e-oximethern von phenylglyoxylsaeureestern
EP0571330B1 (fr) 1992-05-22 1999-04-07 Ciba SC Holding AG Photoréserve à haute résolution et à sensibilité augmentée pour l'exposition avec des lampes émettant en lignes I
JP3830183B2 (ja) * 1995-09-29 2006-10-04 東京応化工業株式会社 オキシムスルホネート化合物及びレジスト用酸発生剤
JP3456808B2 (ja) 1995-09-29 2003-10-14 東京応化工業株式会社 ホトレジスト組成物
JP3665166B2 (ja) * 1996-07-24 2005-06-29 東京応化工業株式会社 化学増幅型レジスト組成物及びそれに用いる酸発生剤
US6042988A (en) * 1996-12-26 2000-03-28 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Chemical-amplification-type negative resist composition
TW550439B (en) 1997-07-01 2003-09-01 Ciba Sc Holding Ag New oxime sulfonates as latent acids and compositions and photoresists comprising said oxime sulfonates
AU6340899A (en) * 1998-10-29 2000-05-22 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Oxime derivatives and the use thereof as latent acids
TW588221B (en) * 2000-09-07 2004-05-21 Shinetsu Chemical Co Polymers, resist compositions and patterning process

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4540598A (en) * 1983-08-17 1985-09-10 Ciba-Geigy Corporation Process for curing acid-curable finishes
EP0199672A1 (fr) * 1985-04-12 1986-10-29 Ciba-Geigy Ag Sulfonates d'oximes contenant des groupes réactifs
DE19644797A1 (de) * 1995-10-31 1997-05-07 Ciba Geigy Ag Oximsulfonsäureester und deren Verwendung als latente Sulfonsäuren

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.M. DELFINO ET AL.: "Design, Synthesis, and Properties of a Photoactivatable Membrane-Spanning Phospholipidic Probe", JOURNAL OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, vol. 115, 1993, Washington, DC, US, pages 3458 - 3474, XP002113445 *
M. PLATZ ET AL.: "Photolysis of 3-Aryl-3-(trifluoromethyl)diazirines: A Caveat Regarding Their Use in Photoaffinity Probes", BIOCONJUGATE CHEMISTRY, vol. 2, no. 5, 1991, Washington, DC, US, pages 337 - 341, XP002113444 *

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Publication number Publication date
NL1014545A1 (nl) 2000-10-03
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SE0001090D0 (sv) 2000-03-28
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SE0001090L (sv) 2000-10-01
AU766803B2 (en) 2003-10-23

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