AT65957B - Verfahren zur Gewinnung von durch elektrische Entladung in Gasen bei hoher Temperatur gebildeten Produkten. - Google Patents

Verfahren zur Gewinnung von durch elektrische Entladung in Gasen bei hoher Temperatur gebildeten Produkten.

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  Verfahren zur Gewinnung von durch elektrische Entladung in Gasen bei hoher
Temperatur gebildeten Produkten. 



   Es ist bekannt, dass einige   gasförmige   Verbindungen, welche bei    hoher'l'emperatur ent.   stehen, wie z. B. Stickoxyde, leicht wieder zerfallen, wenn sie nicht von der hohen Temperatur, bei der sie gebildet werden, schnell auf eine   verhältnismässig   niedrige Temperatur gebracht werden. Bei der Herstellung solcher Verbindungen sind deshalb verschiedene Mittel zur Abkühlung der Gase vorgeschlagen worden, wie Einspritzen von Wasser, Führung der Gase durch Kühler mit kalten Wänden oder Expansion des Gases nach vorheriger Kompression. 



   Es hat sich nun   gezeigt,   dass noch bessere Resultate erzielt werden, wenn die Gase, nachdem sie durch eine elektrische Entladung auf eine hohe Temperatur erhitzt worden sind, zusammen mit der Entladung in einen Raum gelangen, wo der Druck bedeutend niedriger als der   de, AJ11o-   sphäre gehalten wird. 



   Die Zeichnung veranschaulicht zwei zur DurchfÜhrung des   Verfahrens geeignet e Anordnungen   in schematischer Darstellung. 
 EMI1.1 
 mittels eines an die Leitung 8 angeschlossenen Exhaustors oder dgl. auf z. B. ein oder ein paar hundert Millimeter Quecksilbersäule gehalten wird. 



     Gemäss   der Ausführungsform nach Fig. 2 ist der Ofenraum mit feuerfestem Material 1 ausgekleidet und die elektrische Entladung 4 findet. zwischen den Elektroden 2 und 3 statt. Die erhitzten Gase strömen durch die enge Öffnung bei 6, welche als ein kurzes Rohr in der feuer- 
 EMI1.2 
 
 EMI1.3 
 welche, im Gegensatz zu den hier beispielsweise erwähnten, zum Teil oder hauptsächlich im Winked gegen die Strömungsrichtung der Gase stattfinden, wie dies z. B. bei Verwendung hörnerförmiger 
 EMI1.4 
 eine schmale Öffnung in den   Vakuumraum   hineingelangt. 



   Die Gase   im Xiederdruckraum können   noch einer besonderen Kühlung mittels Wassers oder in anderer Weise unterworfen werden. 

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  1. PATENT-ANSPRUCH : EMI1.5 **WARNUNG** Ende CLMS Feld Kannt Anfang DESC uberlappen**.
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