AT406273B

AT406273B - Verfahren zum aufschliessen von edelmetallhaltigen materialien

Info

Publication number: AT406273B
Application number: AT0179297A
Authority: AT
Original assignee: Prior Eng Ag
Priority date: 1997-10-23
Filing date: 1997-10-23
Publication date: 2000-03-27
Also published as: ATA179297A; AU9615698A; ZA989682B; WO1999022036A1

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



   Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufarbeiten von edelmetallhaltigen Materialien, insbesondere von metallurgischen Primärkonzentraten, bei dem die Materialien bei erhöhter Temperatur in der Reihenfolge einer oxidierenden Behandlung, einer reduzierenden Behandlung und einer Chlorierung unter Einsatz von gasförmigen Behandlungsmedien unterzogen werden, wobei Gold und die Platingruppenmetalle im Rückstand verbleiben. 



   Dieses Verfahren wird in Fachkreisen als Chloroxomatverfahren bezeichnet und in der WO 96/17097 beschrieben. Dabei geht es darum, aus gold- und platingruppenmetallhaltigen Rohmaterialien die Begleitmetalle und andere Beimischungen in der Gasphase zu entfernen, sodass letztlich ein Rückstand bleibt, in dem Gold und die Platingruppenmetalle angereichert sind Die Rohmaterialien sind üblicherweise Konzentrate aus der Ni-, Cu- oder Zn-Verhüttung und enthalten z. B. S, Se, Ag, Te, Cu, Ni, As, Sb und Pb als Begleitmetalle bzw. Verunreingung. Zuerst wird das Material mit oxidierendem Gas (Sauerstoff oder sauerstoffhaltige Gasmischung wie z. B. 



  20 % 02 in Inertgas oder in Luft) bei 200 bis 800, vorzugsweise 400 bis 500 C behandelt, wobei vor allem S und Se entfernt werden, aber auch Metalloxide gebildet und flüchtige Sauerstoffverbindungen entfernt. 



   Nach Spülen mit Inertgas, z.:B. mit N2, wird mit reduzierendem Gas (Wasserstoff bzw. wasserstoffhältiges Gas wie z. B. Stickstoff mit zumindest 1 % H2) bei 200 bis 1000, vorzugsweise 600 bis 800 C behandelt, vor allem um vorher gebildete Metalloxide wieder zum Metall zu reduzieren. Anschliessend kann wieder mit Inertgas gespült werden und als Abschluss wird mit Chlorgas bei 800 bis 1300, vorzugsweise 900 bis 1150 C chloriert, wobei flüchtige Chloride (z. B. von Cu, Ni, Ag) entweichen. Nach dem Abkühlen des Materials wird gewaschen, um nichtflüchtige Chloride zu entfernen und man erhält einen Rückstand, der ein Konzentrat von Gold und Platingruppenmetallen ist, das auch z.B. Si02 enthält. 



   Ein anderes Verfahren zur Aufarbeitung der eingangs erwähnten Materialien ist in der US-A 4 086 084 beschrieben, nämlich ein einstufiges Verfahren, bei dem dieses Material mit einem halogenhaltigen Gas bei einer Temperatur behandelt wird, die hoch genug ist, dass sich die Halide von Silber und der unedlen Metalle bilden und verflüchtigen. Dabei kann das halogenhaltige Gas auch ein Inertgas wie Stickstoff oder Argon, ein reduzierendes Gas, wie Wasserstoff, oder ein oxidierendes Gas, wie Chlor oder Brom enthalten. Bevorzugt werden Gemische aus C12 und HCI, allerdings dann nicht, wenn im zu behandelnden Material Ru oder Pd vorhanden sind. 



   In der US-A   4 353 740   ist ein Verfahren zum Rückgewinnen von Gold aus einem goldhaltigen Erz beschrieben, bei dem das Erz zerkleinert, bei erhöhter Temperatur in Gegenwart von Luft oder Sauerstoff oxidativ abgeröstet, um Sulfide abzubauen, und anschliessend bei 300-400 C mit Chlor in Gegenwart von mindestens 1 Mol Eisen pro Mol Gold im Erz chloriert wird, um einerseits goldfreies Erz und anderseits flüchtiges Goldchlorid und einen flüchtigen Goldchlorid/Eisenchloridkomplex zu erhalten, wobei diese flüchtigen Substanzen durch eine Halid- Salzschmelze geführt werden, aus der später das Gold gewonnen wird. 



   Die WO 90/13678 beschreibt ein Verfahren zum Anreichem von Edelmetallen ausgehend von z. B. Schlacken, wobei das zerkleinerte Ausgangsmaterial gefroren und UV- sowie IR-Strahlung ausgesetzt und anschliessend in Gegenwart von Na-borhydrid, eines Metallsalzes, von Wasser und eines brennbaren stickstoffhaltigen Materials abgeröstet wird. Anschliessend wird zusammen mit einem Fluxmaterial und einem Muttermetall (z. B. Cu) aufgeschmolzen und die Schlacke abgegossen, wobei die Edelmetalle ins Muttermetall gehen. 



   Demgegenüber betrifft ein Aspekt der vorliegenden Erfindung vor allem das in der WO 96/17097 beschriebene Chloroxomatverfahren, kann aber auch vorteilhaft beim Verfahren gemäss der US-PS 4 086 084 angewendet werden. Dieser Teil der Erfindung beruht auf dem überraschenden Umstand, dass bessere Umsätze erzielbar sind, wenn das Chlorierungsmedium durch UV-Strahlung aktiviert wird.

   Demgemäss ist ein Verfahren zum Aufschliessen von edelmetallhaltigen Materialien, insbesondere von metallurgischen Primärkonzentraten, bei dem die Materialien bei erhöhter Temperatur einer Halogenierung unter Einsatz von gasförmigen Behandlungsmedien unterzogen werden, wobei Gold und die Platingruppenmetalle im Rückstand verbleiben, vorzugsweise in der Reihenfolge einer oxidierenden Behandlung, einer reduzierenden Behandlung und einer Chlorierung dadurch gekennzeichnet, dass das Halogenierungsmedium durch UV-Bestrahlung aktiviert wird. 



   Ein anderer Aspekt der Erfindung ist die Verbesserung des Chloroxomatverfahrens dahingehend, dass die Chlorierung anfangs mit Chlorgas und anschliessend mit HCI- Gas durchgeführt wird. Auf diese Weise wird ein schonenderer Materialaufschluss mit minimalem Übergang von Wertstoffen in die Gasphase erzielt.

   Der zweite Aspekt der Erfindung ist 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 demgemäss ein Verfahren zum Aufschliessen von edelmetallhaltigen Materialien, insbesondere von metallurgischen Primärkonzentraten, bei dem die Materialien bei erhöhter Temperatur in der Reihenfolge einer oxidierenden Behandlung, einer reduzierenden Behandlung und einer Chlorierung unter Einsatz von gasförmigen Behandlungsmedien unterzogen werden, wobei Gold und die Platingruppenmetalle im Rückstand verbleiben, dadurch gekennzeichnet, dass die Chlorierung anfangs mit Chlorgas und anschliessend mit HCI- Gas durchgeführt wird 
Dabei kann vorteilhaft in Anwendung des ersten Aspekts der Erfindung zumindest eines der Chlorierungsgase durch UV-Bestrahlung aktiviert sein. 



   Vorgezogen wird, dass das Chlorgas nach mindestens der Hälfte der Chlorierungsdauer, insbesondere nach etwa 75 % der Chlorierungsdauer, durch HCI- Gas ersetzt wird 
Wie bereits in der WO 96/17097 vorgeschlagen, wird die Chlorierung bei 800 bis 1300 C, vorzugsweise bei 900 bis 1150 C, durchgeführt. 



   Ein typisches Beispiel einer Chloroxomat- Behandlungsweise ist in der A 1534/97 der Anmelderin wie folgt geoffenbart : 
 EMI2.1 
 
 EMI2.2 
 
<tb> 15 <SEP> (Aufheizen) <SEP> N, <SEP> 15 <SEP> 450
<tb> 
 
 EMI2.3 
 
 EMI2.4 
 dazwischen jeweils   N2  1 min. lang mit 50 Vh. 



   Dabei wurden beim Aufheizen auf 450 C weisse Dämpfe und bei 450 C Wasserabspaltung; bei der Sauerstoffbehandlung weisse Dämpfe; bei der H2/N2-Behandlung bei 850 C zuerst weisse, dann rote, dann dunkelbraune Dämpfe sowie Wasserabspaltung; sowie bei der   CI2-Behandlung   hellbraungraue Dämpfe beobachtet. 



   Die folgende Tabelle gibt eine erfindungsgemäss variierte Behandlungsweise wieder 
 EMI2.5 
 
 EMI2.6 
 
<tb> 15 <SEP> (Aufheizen) <SEP> N2 <SEP> 15 <SEP> 450
<tb> 
<tb> 15 <SEP> N, <SEP> 15 <SEP> 450
<tb> 
<tb> 15 <SEP> (Aufheizen) <SEP> N, <SEP> 15 <SEP> 550
<tb> 
 
 EMI2.7 
 
 EMI2.8 
 
<tb> 15 <SEP> N2 <SEP> 15 <SEP> 550
<tb> 
 
 EMI2.9 
 
 EMI2.10 
 
<tb> 15 <SEP> N, <SEP> 15 <SEP> 200
<tb> 
 
 EMI2.11 
 
 EMI2.12 
 
<tb> 10 <SEP> (Aufheizen) <SEP> N= <SEP> 15 <SEP> B50
<tb> 
 
 EMI2.13 
 
 EMI2.14 
 
<tb> 30 <SEP> HCI/N, <SEP> F@@note <SEP> 1050
<tb> 
 
 EMI2.15 
 
 EMI2.16 
 
<tb> 90 <SEP> N2 <SEP> 10 <SEP> Raumtemperatur <SEP> . <SEP> 
<tb> 
 



   Fussnote. 50 min lang C12 jeweils 5 min lang mit 16 l/h, dazwischen jeweils N2 1 min lang mit 50 1/h, dann 30 min lang N2:HCI mit 15:25 l/h 

 <Desc/Clms Page number 3> 

 Es wurden folgende Ergebnisse erzielt: 
 EMI3.1 
 
 EMI3.2 
 
<tb> Alle <SEP> 37,20 <SEP> 100 <SEP> 11.41 <SEP> 100 <SEP> 
<tb> 
<tb> Pt <SEP> 3,55 <SEP> 9,53 <SEP> 3.77 <SEP> 33,00
<tb> 
 
 EMI3.3 
 
 EMI3.4 
 
<tb> Rh <SEP> 2.66 <SEP> z16 <SEP> 2,68 <SEP> 23,50
<tb> 
 
 EMI3.5 
 
 EMI3.6 
 
<tb> Av <SEP> 0,41 <SEP> 1,09 <SEP> nd <SEP> nd
<tb> 
<tb> Ag <SEP> 2,45 <SEP> 6,59 <SEP> 0,07 <SEP> 0.60
<tb> 
<tb> Fe <SEP> 0,12 <SEP> 0.33 <SEP> 0,01 <SEP> 0,10
<tb> 
 
 EMI3.7 
 
 EMI3.8 
 
<tb> Zn <SEP> nd <SEP> nd <SEP> nd <SEP> nd
<tb> 
 
 EMI3.9 
 
 EMI3.10 
 
<tb> Se <SEP> 0,28 <SEP> 0,74 <SEP> nd <SEP> nd <SEP> 
<tb> 
<tb> Sn <SEP> 0,48 <SEP> 1,29 <SEP> 0,01 <SEP> 0,10
<tb> 
<tb> Sb <SEP> 1,12 <SEP> 3,

  00 <SEP> nd <SEP> nd
<tb> 
<tb> Te <SEP> 1,02 <SEP> 2,73 <SEP> nd <SEP> nd
<tb> 
<tb> Pb <SEP> 5,33 <SEP> 14,33 <SEP> nd <SEP> nd
<tb> 
 
 EMI3.11 
 
 EMI3.12 
 
<tb> Summe <SEP> 30,47 <SEP> 81,86 <SEP> 11,38 <SEP> 99,70
<tb> 
 nd = nicht nachgewiesen 
Patentansprüche : 1. Verfahren zum Aufschliessen von edelmetallhaltigen Materialien, insbesondere von metallurgischen Primärkonzentraten, bei dem die Materialien bei erhöhter Temperatur einer Halogenierung unter Einsatz von gasförmigen Behandlungsmedien unterzogen werden, wobei Gold und die Platingruppenmetalle im Rückstand verbleiben, vorzugsweise in der Reihenfolge einer oxidierenden Behandlung, einer reduzierenden Behandlung und einer Chlorierung, dadurch gekennzeichnet, dass das Halogenierungsmedium durch UV- 
Bestrahlung aktiviert wird. 



  2. Verfahren zum Aufschliessen von edelmetallhaltigen Materialien, insbesondere von metallurgischen Primarkonzentraten, bei dem die Materialien bei erhöhter Temperatur in der Reihenfolge einer oxidierenden Behandlung, einer reduzierenden Behandlung und einer Chlorierung unter Einsatz von gasförmigen Behandlungsmedien unterzogen werden, wobei Gold und die Platingruppenmetalle im Rückstand verbleiben, dadurch gekennzeichnet, dass die Chlorierung anfangs mit Chlorgas und anschliessend mit HCI- 
Gas durchgeführt wird.

Claims

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eines der Chlorierungsgase durch UV-Bestrahlung aktiviert wird.

4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Chlorgas nach mindestens der Hälfte der Chlorierungsdauer, insbesondere nach etwa 75 % der Chlorierungsdauer, durch HCI- Gas ersetzt wird. <Desc/Clms Page number 4>

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Chlorierung bei 750 bis 1300 C, vorzugsweise bei 830 bis 1150 C, durchgeführt wird Hiezu 0 Blatt Zeichnungen