AT255226B - Verfahren zum Niederschlagen dünner Filme aus Metall auf einem Substrat durch Kathodenzerstäubung - Google Patents

Verfahren zum Niederschlagen dünner Filme aus Metall auf einem Substrat durch Kathodenzerstäubung

Info

Publication number
AT255226B
AT255226B AT307465A AT307465A AT255226B AT 255226 B AT255226 B AT 255226B AT 307465 A AT307465 A AT 307465A AT 307465 A AT307465 A AT 307465A AT 255226 B AT255226 B AT 255226B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
sputtering
deposition
substrate
metal
thin films
Prior art date
Application number
AT307465A
Other languages
German (de)
English (en)
Original Assignee
Western Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Western Electric Co filed Critical Western Electric Co
Application granted granted Critical
Publication of AT255226B publication Critical patent/AT255226B/de

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
AT307465A 1964-06-04 1965-04-05 Verfahren zum Niederschlagen dünner Filme aus Metall auf einem Substrat durch Kathodenzerstäubung AT255226B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US37253764A 1964-06-04 1964-06-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
AT255226B true AT255226B (de) 1967-06-26

Family

ID=23468560

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT307465A AT255226B (de) 1964-06-04 1965-04-05 Verfahren zum Niederschlagen dünner Filme aus Metall auf einem Substrat durch Kathodenzerstäubung

Country Status (9)

Country Link
AT (1) AT255226B (es)
BE (1) BE664061A (es)
DE (1) DE1515322C3 (es)
ES (1) ES313735A1 (es)
FR (1) FR1434758A (es)
GB (1) GB1104487A (es)
IL (1) IL23185A (es)
NL (2) NL6506292A (es)
SE (1) SE314269B (es)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3617459A (en) * 1967-09-15 1971-11-02 Ibm Rf sputtering method and apparatus for producing insulating films of varied physical properties
MX145314A (es) * 1975-12-17 1982-01-27 Coulter Systems Corp Mejoras a un aparato chisporroteador para producir pelicula electrofotografica

Also Published As

Publication number Publication date
GB1104487A (en) 1968-02-28
ES313735A1 (es) 1965-07-16
DE1515322C3 (de) 1974-05-02
FR1434758A (fr) 1966-04-08
NL136984C (es)
DE1515322A1 (de) 1972-03-02
BE664061A (es) 1965-09-16
DE1515322B2 (de) 1973-10-04
IL23185A (en) 1968-08-22
SE314269B (es) 1969-09-01
NL6506292A (es) 1965-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CH490512A (de) Verfahren zum Überziehen metallischer Gegenstände mit einer Metallschicht durch Diffusion
AT282028B (de) Verfahren zum Beschichten eines Metallsubstrats
DK120409B (da) Fremgangsmåde til dannelse af en tynd, gennemsigtig metaloxidfilm indeholdende mindst 25 vægtprocent cobaltoxid på et glasunderlag samt filmdannende opløsning til gennemførelse af fremgangsmåden.
AT286738B (de) Vorrichtung zur Beschichtung von Unterlagen durch Vakuumbedampfung
CH531942A (de) Verfahren zum Überziehen eines Substrates
AT283844B (de) Verfahren zur Steuerung der Dicke eines Metallüberzuges
AT267278B (de) Verfahren zur Herstellung von metallischen Überzügen auf Oberflächen nichtmetallischer Unterlagen
CH535662A (de) Verfahren zum Überziehen eines Substrates
CH531944A (de) Verfahren zum Überziehen eines Substrates
AT255225B (de) Verfahren und Einrichtung zum Vakuumüberziehen von Gegenständen durch Kathodenzerstäubung
CH500768A (de) Einrichtung zum Beschichten von Materialien durch kathodische Zerstäubung
AT300499B (de) Verfahren zur elektrophoretischen Abscheidung eines Überzuges auf einem elektrisch leitenden Substrat
DK116701B (da) Fremgangsmåde til overtrækning af et metalunderlag.
DE1805734B2 (de) Verfahren zum kontinuierlichen auftragen einer beschichtungs masse aus im wesentlichen fluessigen material auf ein laufen des band
AT255226B (de) Verfahren zum Niederschlagen dünner Filme aus Metall auf einem Substrat durch Kathodenzerstäubung
AT287150B (de) Verfahren zur Herstellung eines Zinkfarbenüberzuges auf einer Metallunterlage durch elektrophoretische Abscheidung
AT288811B (de) Vorrichtung zum epitaktischen Abscheiden von kristallinem Material aus der Gasphase auf Substratkörpern
AT304220B (de) Vorrichtung zur Ablagerung dünner Schichten durch Kathodenzerstäubung auf beiden Seiten eines oder mehrerer Metallträger
CH531943A (de) Verfahren zum Überziehen eines Substrates
CH418770A (de) Verfahren zum Aufbringen dünner Schichten durch thermisches Verdampfen
AT264953B (de) Verfahren zum Aufdampfen dünner Schichten
CH433989A (de) Verfahren zur Herstellung ätzfester Kopierschichten auf Metallunterlagen
CH497538A (de) Verfahren zum Herstellen einer Niobschicht durch schmelzflusselektrolytische Abscheidung auf einem Kupferträger
AT318009B (de) Verfahren zum Herstellen einer Metallschicht aus mehreren Metallfilmen auf Oberflächen von Halbleiterbauelementen
CH451886A (de) Verfahren zum epitaktischen Abscheiden einer kristallinen Schicht