AT150977B - Verfahren zur Herstellung unterdruckdichter Lotverbindungen für elektrische Vakuumapparate. - Google Patents

Verfahren zur Herstellung unterdruckdichter Lotverbindungen für elektrische Vakuumapparate.

Info

Publication number
AT150977B
AT150977B AT150977DA AT150977B AT 150977 B AT150977 B AT 150977B AT 150977D A AT150977D A AT 150977DA AT 150977 B AT150977 B AT 150977B
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
solder
production
vacuum apparatus
low
pressure
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Werner Dr Phil Espe
Original Assignee
Siemens Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Ag filed Critical Siemens Ag
Application granted granted Critical
Publication of AT150977B publication Critical patent/AT150977B/de

Links

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)

Description


   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Verfahren zur Herstellung   unterdruckdichter   Lotverbindungen für elektrische Vakuumapparate. 
 EMI1.1 
 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 ausschliesst, so dass die   Betriebsfähigkeit der Entladungsapparate und ihre Lebensdauer wesentlich. erhöht   werden. Durch die Vermeidung bei niedrigen Temperaturen schmelzender Legierungskomponenten für die Lotverbindungen verhindert man ausserdem, dass aus den Lotverbindungen selbst Gase oder Stoffe austreten, die lichtabsorbierende Beschläge auf den Gaswänden verursachen und die Isolation an den Isolierteilen, beispielsweise an den Quetschfüssen, beeinträchtigen. 



   Für vakuumdichte Metallverbindungen eignen sich beispielsweise eutektisehe Silber-KupferLegierungen, die aus 28 Gewiehtsprozent Kupfer und 72 Gewichtsprozent Silber bestehen. Der Schmelzpunkt dieser Legierung liegt bei etwa 779  C, d. h. also wesentlich niedriger als der Schmelzpunkt reinen Silberlotes (961  C) oder reinen Kupferlotes   (1084  C).   Anderseits liegt der Schmelzpunkt der 
 EMI2.1 
   (200-400  C)   und erlaubt daher eine verhältnismässig starke Erhitzung der Gefässe zum Zwecke der Entgasung. Man kann bei Verwendung der erfindungsgemäss vorgeschlagenen Lotlegierungen mit der Erhitzungstemperatur bis zu etwa 700  C gehen. Die Verwendung von eutektischen Lotlegierungen der   vorerwähnten   Art bietet den Vorteil, dass das Lecken des Lotes vermieden wird. 



   Die Herstellung einer solchen Lotverbindung ist in der Zeichnung beispielsweise veranschaulicht. 



   An der   Durchführung-     1,   die aus Kupfer besteht, ist eine Platinkappe 2 aufgesetzt, auf welche bei 3 beispielsweise ein Glasgefäss angeschmolzen ist. Die Verbindung des Stabes 1 mit der Platinkappe 2 erfolgt durch Lötung mit der vorerwähnten Lotlegierung an der Stelle 4. 



   Andere eutektische Legierungen, die den eingangs gestellten Anforderungen genügen, erhält man beispielsweise, wenn man als Komponenten für diese Legierungen, die zwei, drei und mehr Komponenten 
 EMI2.2 
 Wolfram, Tantal od. dgl. verwendet ; das sind Metalle, die vorzugsweise aus der dritten, fünften oder siebenten Reihe der zweiten, sechsten oder achten Gruppe des periodischen Systems der Elemente stammen. Es eignen sich beispielsweise Eisen-Titan-Lote, Eisen-Nickel-Kohlenstoff-Lote besonders zur Verbindung von Eisen-Nickel-Teilen, Kupfer-Eisen-Phosphor-Lot zum Verbinden von Kupfer mit Eisen, Eisen-Titan-Niekel endlich zum Verbinden von Eisen und Nickel. Man sieht schon aus diesen Beispielen, dass es vorteilhaft ist, wenn die Werkstoffe der miteinander zu verbindenden Teile mindestens zum Teil Komponenten der eutektischen Lotlegierungen bilden.

   Die vorerwähnten Lote eignen sich in hohem   Masse   auch zur Verbindung von Porzellan und Keramik mit Eisen. Zur Verbindung von Eisen und Nickel eignet sich ausser der vorerwähnten Lotlegierung namentlich auch eine   eutektische Lotlegierung   aus Eisen-Titan-Nickel. Bei der Wahl ternärer und polynärer Lotlegierungen empfiehlt es sich, darauf Tu achten, dass man jeweils eine solche Zusammensetzung wählt, dass der Schmelzpunkt der betreffenden eutektischen Legierung den niedrigsten eutektischen Schmelzpunkt der betreffenden Legierung überhaupt darstellt, d. h. also vorzugsweise dasjenige Eutektikum, dessen Schmelztemperaturen gegenüber den Schmelztemperaturen der andern Eutektika des betreffenden Systems am niedrigsten liegt.

   Die Verbindungen haben den Vorteil, dass sie   namentlieh   gegenüber agressiven Gasen und Dämpfen z. B. Quecksilberdämpfen und gegenüber metallischem Quecksilber praktisch unangreifbar sind. 
 EMI2.3 
 als zweckmässig, deren Komponenten mindestens zum Teil durch Silber und Platin gebildet werden.

Claims (1)

  1. PATENT-ANSPRUCH : Verfahren zur Herstellung unterdruckdichter Lotverbindungen für elektrische Vakuum- EMI2.4 eutektischer Lotlegierungen, deren Schmelzpunkt einerseits unter dem Schmelzpunkt der beim Löten durch die Wechselwirkung zwischen Lot und Werkstückmetall sich bildenden Legierungen liegt, anderseits aber so hoch ist, dass eine verhältnismässig starke und lang andauernde Erhitzung der Vakuumapparate zum Zwecke der Entgasung ohne Gefährdung der Festigkeit und Dichtigkeit der Lötstelle vorgenommen werden kann. EMI2.5
AT150977D 1934-10-29 1935-09-12 Verfahren zur Herstellung unterdruckdichter Lotverbindungen für elektrische Vakuumapparate. AT150977B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE150977X 1934-10-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
AT150977B true AT150977B (de) 1937-10-11

Family

ID=5674218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT150977D AT150977B (de) 1934-10-29 1935-09-12 Verfahren zur Herstellung unterdruckdichter Lotverbindungen für elektrische Vakuumapparate.

Country Status (1)

Country Link
AT (1) AT150977B (de)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1287911B (de) Gold-Kupfer-Hartlot
US2121590A (en) Vacuum-and gas-tight vessel for electric apparatus
AT150977B (de) Verfahren zur Herstellung unterdruckdichter Lotverbindungen für elektrische Vakuumapparate.
AT101492B (de) Elektrische Entladeröhre mit zwei oder mehr Elektroden.
US2159806A (en) Sealing material for vacuum vessels
US2159805A (en) Sealing material for vacuum vessels
DE665006C (de) Lot fuer Metallteile von Vakuumgefaessen, insbesondere elektrischen Gluehlampen, Entladungslampen und Quecksilberdampfgleichrichtern
DE838167C (de)
DE665301C (de) Lot fuer Metallteile von Vakuumgefaessen, insbesondere elektrischen Gluehlampen, Entladungslampen und Quecksilberdampfgleichrichtern
US2159809A (en) Sealing material for vacuum vessels
DE663897C (de) Verfahren zum Verbinden eines Quarzkoerpers mit einem Metallteil oder einem anderen Quarzkoerper durch Loeten
US2159810A (en) Sealing material for vacuum vessels
US1921416A (en) Alloy
DE668310C (de) Lot fuer Metallteile von Vakuumgefaessen, insbesondere elektrischen Gluehlampen, Entladungslampen und Quecksilberdampfgleichrichtern
AT152259B (de) Vakuumdichte Verbindung zwischen Quarz und Metall.
US2159808A (en) Sealing material for vacuum vessels
AT151639B (de) Verfahren zum Aufbringen von dichten und lötfähigen Metallschichten auf fertig gebrannte keramische Körper.
DE1029945B (de) Aus einer Kupfer-Titan-Legierung bestehendes Loetmaterial zur vakuumdichten Verbindung keramischer Teile mit Teilen aus Keramik oder Metall
DE668934C (de) Lot fuer Metallteile von Vakuumgefaessen, insbesondere elektrischen Gluehlampen, Entladungslampen und Quecksilberdampfgleichrichtern
AT158508B (de) Lötmetall aus einer eutektischen Legierung für das Verlöten von Metallteilen in elektrischen Vakuumgefäßen.
AT164775B (de) Keramischer Körper, insbesondere für elektrische Entladungseinrichtungen, und Verfahren zur Vereinigung von Körpern, von denen mindestens einer aus keramischem Werkstoff- besteht
DE668847C (de) Lot fuer Metallteile von Vakuumgefaessen, insbesondere elektrischen Gluehlampen, Entladungslampen und Quecksilberdampfgleichrichtern
DE762675C (de) Verfahren zur Halterung von zweiteiligen Stromdurchfuehrungen in keramischen Isolierkoerpern fuer elektrische Entladungsgefaesse
DE194707C (de)
DE751305C (de) Stromdurchfuehrung fuer elektrische Gluehlampen und Entladungsgefaesse