WO2024101161A1 - ガスバリアフィルム、包装フィルム、包装袋、及び包装製品 - Google Patents

ガスバリアフィルム、包装フィルム、包装袋、及び包装製品 Download PDF

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WO2024101161A1
WO2024101161A1 PCT/JP2023/038572 JP2023038572W WO2024101161A1 WO 2024101161 A1 WO2024101161 A1 WO 2024101161A1 JP 2023038572 W JP2023038572 W JP 2023038572W WO 2024101161 A1 WO2024101161 A1 WO 2024101161A1
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gas barrier
layer
coating layer
barrier film
barrier coating
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PCT/JP2023/038572
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English (en)
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Inventor
美季 福上
Original Assignee
Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to gas barrier films, packaging films, packaging bags, and packaging products.
  • Gas barrier films are widely used as packaging materials for food and pharmaceutical products that undergo heat sterilization processes such as boiling and retort processing.
  • heat sterilization processes such as boiling and retort processing.
  • gas barrier films suitable for such applications have traditionally been made using a polyolefin film base material that is heat resistant and has a low oxygen permeability.
  • Patent Document 1 discloses that a gas barrier laminate comprises a substrate layer containing polyolefin, a metal oxide layer, and a gas barrier coating layer in this order, and that the gas barrier coating layer contains silicon alkoxide or a hydrolyzate thereof, and a water-soluble polymer, and that the content ratio a/b of the silicon atom content (a parts by mass) in the silicon alkoxide or a hydrolyzate thereof to the content (b parts by mass) of the water-soluble polymer is 3/97 or more and 45/55 or less in mass ratio, thereby providing excellent gas barrier properties after retort sterilization and abuse testing.
  • One aspect of the present invention aims to provide a gas barrier film that has low oxygen permeability and excellent adhesion even after heat sterilization (e.g., retort treatment at 130°C for 60 minutes).
  • Another aspect of the present invention aims to provide a packaging film, packaging bag, and packaging product that use the gas barrier film.
  • One aspect of the present invention relates to, for example, the following [1] to [12].
  • the gas barrier film according to [1] which has an oxygen permeability of 5.0 cm 3 /(m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less and a lamination strength of 1.5 N/15 mm or more.
  • a packaging film comprising the gas barrier film according to any one of [1] to [9] and a sealant layer.
  • a packaging bag comprising the packaging film according to [10].
  • a packaging product comprising the packaging bag according to [11] and contents contained in the packaging bag.
  • the present invention can provide a gas barrier film that has low oxygen permeability and excellent adhesion even after heat sterilization (e.g., retort treatment at 130°C for 60 minutes).
  • the present invention can also provide packaging films, packaging bags, and packaging products that use the gas barrier film.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a gas barrier film according to one embodiment of the present invention.
  • Fig. 1 is a schematic cross-sectional view showing a gas barrier film according to one embodiment of the present invention.
  • the gas barrier film 10 includes a base layer 1, an anchor coat layer 2, a deposition layer 3, and a gas barrier coating layer 4, in this order.
  • the gas barrier film according to one embodiment has low oxygen permeability and excellent adhesion even after heat sterilization.
  • the oxygen permeability of the gas barrier film after heat sterilization may be, for example, 5.0 cm 3 /(m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, 4.0 cm 3 /(m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less, or 3.5 cm 3 /(m 2 ⁇ day ⁇ atm) or less.
  • the laminate strength of the gas barrier film after heat sterilization may be 1.5 N/15 mm or more, 2.0 N/15 mm or more, 2.5 N/15 mm or more, 3.0 N/15 mm or more, or 3.5 N/15 mm or more.
  • heat sterilization refers to the treatment described in the examples below
  • the terms "oxygen permeability" and “lamination strength” refer to values measured by the methods described in the examples below.
  • the polypropylene content in the gas barrier film may be 90% by mass or more, 95% by mass or more, or 98% by mass or more, from the viewpoint of realizing mono-materialization and improving recyclability.
  • the substrate layer is a film (base film) that serves as a support, and contains a thermoplastic resin.
  • the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, and polyethylene terephthalate (PET).
  • PET polyethylene terephthalate
  • the thermoplastic resin may be polypropylene from the viewpoint of realizing mono-materialization and improving recyclability.
  • the thermoplastic resin is PET, it is easier to achieve lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization treatment, compared to when the thermoplastic resin is polypropylene.
  • the polypropylene may be a homopolypropylene or a propylene copolymer.
  • the propylene copolymer include polypropylene-based copolymers such as propylene-ethylene random copolymers, propylene-ethylene block copolymers, and propylene- ⁇ -olefin copolymers.
  • the polypropylene may be recycled polypropylene, or may be polypropylene obtained by polymerizing raw materials derived from biomass such as plants. These polypropylenes may be used alone, or may be mixed with polypropylene polymerized from fossil fuels.
  • the substrate layer may be a stretched film or an unstretched film.
  • the substrate layer may be a stretched film from the viewpoint of reducing oxygen permeability.
  • examples of the stretched film include uniaxially stretched films and biaxially stretched films.
  • the stretched film may be a biaxially stretched film from the viewpoint of improving heat resistance.
  • the substrate layer may contain known additives.
  • the additives may be, for example, organic additives such as antioxidants, stabilizers, lubricants such as calcium stearate, fatty acid amides, and erucic acid amide, and antistatic agents; or inorganic additives such as particulate lubricants such as silica, zeolite, syloid, hydrotalcite, and silicon particles.
  • the polypropylene content in the base layer may be 90% by mass or more, 95% by mass or more, or 98% by mass or more, from the viewpoint of realizing mono-materialization and improving recyclability.
  • the polypropylene content in the base layer may be substantially 100% by mass (an embodiment in which the base layer is made of polypropylene).
  • the thickness of the substrate layer may be, for example, 3 ⁇ m or more, 6 ⁇ m or more, or 10 ⁇ m or more, and may be 200 ⁇ m or less, 100 ⁇ m or less, 50 ⁇ m or less, 30 ⁇ m or less, or 20 ⁇ m or less.
  • the gas barrier film may or may not further include an anchor coat layer between the base layer and the deposition layer.
  • an anchor coat layer in the gas barrier film, low oxygen permeability and excellent adhesion can be more easily achieved even after heat sterilization treatment.
  • the anchor coat layer can be formed, for example, by applying an anchor coat layer-forming composition (anchor coat agent) onto the substrate layer and then drying.
  • anchor coat agents include solutions containing acrylic resin, epoxy resin, acrylic urethane resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, etc.
  • the anchor coat layer may contain at least one resin selected from the group consisting of acrylic urethane resin and polyester polyurethane resin.
  • the thickness of the anchor coat layer may be 0.05 ⁇ m or more, 0.08 ⁇ m or more, or 0.1 ⁇ m or more, from the viewpoint of further improving the adhesion between the substrate layer and the deposition layer.
  • the thickness of the anchor coat layer may be 2 ⁇ m or less, 1.5 ⁇ m or less, or 1 ⁇ m or less, from the viewpoint of easily imparting flexibility to the anchor coat layer and easily maintaining low oxygen permeability even when external factors such as bending or pulling are applied after the layer is formed.
  • the vapor-deposited layer is a layer provided on the base layer from the viewpoint of reducing oxygen permeability.
  • the vapor-deposited layer preferably has transparency.
  • the vapor deposition layer may contain an inorganic oxide.
  • inorganic oxides include aluminum oxide, silicon oxide, tin oxide, magnesium oxide, and mixtures thereof. From the viewpoint of having better heat resistance during heat sterilization treatment, the vapor deposition layer may contain at least one selected from the group consisting of aluminum oxide and silicon oxide.
  • the deposition layer may be formed by vacuum deposition, which has excellent productivity.
  • the deposition layer may also be formed by other thin film formation methods than vacuum deposition, such as sputtering, ion plating, and plasma chemical vapor deposition (CVD).
  • the heating means for the vacuum deposition method can be any of the following: electron beam heating, resistance heating, and induction heating.
  • the heating means for the vacuum deposition method can be electron beam heating, since it has a wide range of evaporation materials to choose from.
  • the deposition layer may be formed by a plasma-assisted method or an ion-beam-assisted method in order to improve adhesion to the base layer and the density of the deposition layer.
  • the deposition layer may be formed by reactive deposition in which various gases such as oxygen are blown in during deposition in order to improve the transparency of the deposition layer.
  • the thickness of the deposition layer may be 5 nm or more, 15 nm or more, or 20 nm or more, from the viewpoint of making it easier to make the thickness of the deposition layer uniform and to more easily ensure the function as a gas barrier film.
  • the thickness of the deposition layer may be 300 nm, 150 nm or less, or 100 nm or less, from the viewpoint of making it easier to impart flexibility to the deposition layer and making it less likely to crack even if external factors such as bending or pulling are applied after the layer is formed.
  • the gas barrier coating layer is provided for the purpose of protecting the deposition layer and reducing the oxygen permeability of the gas barrier film.
  • the gas barrier coating layer may be made of a cured product of a composition containing a water-soluble polymer having a hydroxyl group, a metal alkoxide or a hydrolysate thereof, and a silane coupling agent or a hydrolysate thereof.
  • the gas barrier coating layer may be made of a cured product of a composition containing a water-soluble polymer having a hydroxyl group, a metal alkoxide or a hydrolysate thereof, and a silane coupling agent or a hydrolysate thereof, from the viewpoint of easily realizing a lower oxygen permeability and a better adhesion even after heat sterilization treatment, the gas barrier coating layer may be made of a cured product of a composition containing a water-soluble polymer having a hydroxyl group, a metal alkoxide or a hydrolysate thereof, and a silane coupling agent or a hydrolysate thereof.
  • the content of the water-soluble polymer having a hydroxyl group in the composition is made smaller than the content of the metal alkoxide, so that it is easier to realize a lower oxygen permeability and a better adhesion even after heat sterilization treatment.
  • water-soluble polymers having hydroxyl groups examples include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, starch, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium alginate, etc. From the viewpoint of lowering oxygen permeability even after heat sterilization treatment, the water-soluble polymer having hydroxyl groups may be polyvinyl alcohol (PVA).
  • PVA polyvinyl alcohol
  • the metal alkoxide may be a compound represented by the following general formula (1).
  • R 11 is a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms, and may be an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group (OR 11 is a hydrolyzable group).
  • R 12 is a monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms, and may be an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group.
  • M represents an n-valent metal atom such as Si, Ti, Al, or Zr.
  • m is an integer from 1 to n.
  • metal alkoxides include tetraethoxysilane [Si(OC 2 H 5 ) 4 ] and triisopropoxyaluminum [Al(O-2′-C 3 H 7 ) 3 ].
  • Tetraethoxysilane (TEOS) and triisopropoxyaluminum are preferred because they are relatively stable in aqueous solvents after hydrolysis.
  • the metal alkoxide may be tetraethoxysilane, which is likely to achieve lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization.
  • the silane coupling agent includes a compound represented by the following general formula (2). Si(OR 21 ) p (R 22 ) 3-p R 23 ... (2)
  • R 21 represents an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group
  • R 22 represents a monovalent organic group such as an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkyl group substituted with an acryloxy group, or an alkyl group substituted with a methacryloxy group
  • R 23 represents a monovalent organic functional group
  • p represents an integer of 1 to 3.
  • the R 21s or the R 22s may be the same or different.
  • Examples of the monovalent organic functional group represented by R 23 include a monovalent organic functional group containing a glycidyloxy group, an epoxy group, a mercapto group, a hydroxyl group, an amino group, an alkyl group substituted with a halogen atom, or an isocyanate group.
  • a monovalent organic functional group containing a glycidyloxy group, an epoxy group, a mercapto group, a hydroxyl group, an amino group, an alkyl group substituted with a halogen atom, or an isocyanate group may also be used.
  • silane coupling agents include vinyltrimethoxysilane, ⁇ -chloropropylmethyldimethoxysilane, ⁇ -chloropropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyltriethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and 1,3,5-tris(3-methoxysilylpropyl)isocyanurate.
  • the silane coupling agent may be 1,3,5-tris(3-methoxysilylpropyl)isocyanurate, which is more likely to achieve lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization.
  • the gas barrier coating layer contains, for example, hydrogen atoms, carbon atoms, oxygen atoms, and metal atoms.
  • the hydrogen atoms and carbon atoms are mainly derived from a water-soluble polymer having a hydroxyl group, a metal alkoxide, a silane coupling agent, etc.
  • the oxygen atoms are mainly derived from a metal alkoxide and a silane coupling agent.
  • the metal atoms are mainly derived from a metal alkoxide and a silane coupling agent.
  • the metal atoms may be silicon atoms.
  • the proportion of nitrogen atoms in the gas barrier coating layer may be 2.0 atomic % or less.
  • the gas barrier coating layer contains atoms such as hydrogen atoms, carbon atoms, oxygen atoms, and metal atoms can be confirmed by performing a surface analysis of the gas barrier coating layer using Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) and hydrogen forward scattering spectroscopy (HFS).
  • RBS Rutherford backscattering spectroscopy
  • HFS hydrogen forward scattering spectroscopy
  • the number of these atoms can also be measured using Rutherford backscattering spectroscopy and hydrogen forward scattering spectroscopy, and specifically, can be measured using the method described in the Examples below.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer is 10.5 ⁇ 10 22 to 13.0 ⁇ 10 22 atoms/cm 3.
  • the gas barrier coating layer is prevented from becoming too hard, is less likely to crack, and is likely to have a low oxygen permeability even after heat sterilization.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer is 13.0 ⁇ 10 22 atoms/cm 3 or less, the heat resistance is excellent, and the oxygen permeability is low even after heat sterilization, making it easy to achieve excellent adhesion.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer can be calculated by the method described in the examples below.
  • the atomic density may be 10.55 ⁇ 10 22 atoms/cm 3 or more, or 10.6 ⁇ 10 22 atoms/cm 3 or more, from the viewpoint of preventing the gas barrier coating layer from becoming too hard and becoming less likely to crack, and of making it easier to lower the oxygen permeability even after heat sterilization treatment.
  • the atomic density may be 12.5 ⁇ 10 22 atoms/cm 3 or less, 12.0 ⁇ 10 22 atoms/cm 3 or less, or 11.7 ⁇ 10 22 atoms/cm 3 or less , from the viewpoint of improving heat resistance and making it easier to lower the oxygen permeability and realize better adhesion even after heat sterilization treatment.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer can be adjusted, for example, by adjusting the type and amount of components contained in the gas barrier coating layer (water-soluble polymers having hydroxyl groups, metal alkoxides, silane coupling agents, etc.) and the drying temperature of the gas barrier coating layer.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the lowering the drying temperature of the gas barrier coating layer the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the density of the gas barrier coating layer is 1.6 to 2.1 g/cm 3.
  • the density of the gas barrier coating layer is 1.6 g/cm 3 or more, the heat resistance is excellent, and the oxygen permeability is reduced even after heat sterilization, making it easier to realize excellent adhesion.
  • the density of the gas barrier coating layer is 2.1 g/cm 3 or less, the gas barrier coating layer is prevented from becoming too hard, is less likely to crack, and makes it easier to reduce the oxygen permeability even after heat sterilization.
  • the density of the gas barrier coating layer can be calculated by the method described in the examples below.
  • Conventional gas barrier coating layers have a density of less than 1.6 g/cm 3 , whereas the gas barrier coating layer in the gas barrier film according to one embodiment has a density of 1.6 to 2.1 g/cm 3 , making it easier to realize a gas barrier film having low oxygen permeability and excellent adhesion even after heat sterilization.
  • the density may be 1.65 g/ cm3 or more, or 1.7 g/cm3 or more, from the viewpoints of more excellent heat resistance, lowering oxygen permeability even after heat sterilization, and making it easier to realize better adhesion.
  • the density may be 2.05 g/cm3 or less, or 2.0 g/ cm3 or less , from the viewpoints of more suppressing the gas barrier coating layer from becoming too hard, making it less likely to crack, and making it easier to make the oxygen permeability lower even after heat sterilization.
  • the density of the gas barrier coating layer can be adjusted, for example, by adjusting the type and amount of components contained in the gas barrier coating layer (water-soluble polymers having hydroxyl groups, metal alkoxides, silane coupling agents, etc.) and the drying temperature of the gas barrier coating layer.
  • the density of the gas barrier coating layer tends to decrease.
  • the density of the gas barrier coating layer tends to decrease.
  • the atomic density of the gas barrier coating layer tends to increase.
  • the density of the gas barrier coating layer tends to decrease.
  • the gas barrier coating layer can be formed by coating the vapor deposition layer with a composition for forming the gas barrier coating layer, followed by heating and drying.
  • the composition for forming the gas barrier coating layer can be prepared by dissolving a water-soluble polymer in an aqueous solvent (water, a mixed solvent of water and alcohol, etc.) and mixing it with at least one of a metal alkoxide and a silane coupling agent, or a pre-hydrolyzed version of either of these.
  • This composition (mixed solution) can also contain known additives such as an isocyanate compound, a dispersant, a stabilizer, a viscosity modifier, and a colorant.
  • the amount of PVA in the composition may be 15% by mass or more, 20% by mass or more, or 25% by mass or more based on the total solid content of the composition, from the viewpoint of maintaining the flexibility of the gas barrier coating layer and making it easier to form the gas barrier coating layer.
  • the amount of PVA in the composition may be 70% by mass or less, 60% by mass or less, or 50% by mass or less based on the total solid content of the composition, from the viewpoint of making it easier to maintain low oxygen permeability even after heat sterilization treatment.
  • the amount of TEOS in the composition may be 30% by mass or more, 35% by mass or more, or 40% by mass or more based on the total solid content of the composition, from the viewpoint of easily maintaining low oxygen permeability even after heat sterilization treatment.
  • the amount of TEOS in the composition may be 80% by mass or less, 75% by mass or less, or 70% by mass or less based on the total solid content of the composition, from the viewpoint of maintaining the flexibility of the gas barrier coating layer and making it easier to form the gas barrier coating layer.
  • the amount of TEOS means a value converted to SiO2 .
  • the amount of isocyanurate silane in the composition may be 1 mass% or more, 3 mass% or more, or 5 mass% or more based on the total solid content of the composition, from the viewpoint of easily realizing hot water resistance and easily realizing excellent adhesion even after heat sterilization treatment.
  • the amount of isocyanurate silane in the composition may be 20 mass% or less, 15 mass% or less, or 10 mass% or less based on the total solid content of the composition, from the viewpoint of easily maintaining low oxygen permeability even after heat sterilization treatment without making the amount of other components in the composition too small.
  • the ratio of the content of the metal alkoxide to the content of the water-soluble polymer having a hydroxyl group in the composition may be 0.5 or more, 0.6 or more, 0.7 or more, or 0.8 or more, from the viewpoint of easily achieving better adhesion even after heat sterilization treatment, and may be 5 or less, 4 or less, 3 or less, 2.5 or less, 2 or less, or 1 or less, from the viewpoint of easily achieving lower oxygen permeability even after heat sterilization treatment.
  • the ratio of the content of the silane coupling agent to the content of the water-soluble polymer having a hydroxyl group in the composition may be 0 or more, 0.1 or more, 0.2 or more, or 0.22 or more, from the viewpoint of easily achieving lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization treatment, and may be 0.45 or less, 0.4 or less, or 0.35 or less, from the viewpoint of easily achieving lower oxygen permeability even after heat sterilization treatment.
  • the ratio of the content of the silane coupling agent to the content of the metal alkoxide in the composition may be 0 or more, 0.1 or more, 0.2 or more, or 0.22 or more, from the viewpoint of easily achieving lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization treatment, and may be 2 or less, 1 or less, 0.8 or less, 0.6 or less, or 0.4 or less, from the viewpoint of easily achieving better adhesion even after heat sterilization treatment.
  • the silicon oxide content in the gas barrier coating layer may be 30% by mass or more, 35% by mass or more, or 40% by mass or more, from the viewpoints of more excellent heat resistance and of lowering oxygen permeability even after heat sterilization treatment, making it easier to achieve better adhesion.
  • the silicon oxide content in the gas barrier coating layer may be 80% by mass or less, 75% by mass or less, or 70% by mass or less, from the viewpoints of more preventing the gas barrier coating layer from becoming too hard, making it less likely to crack, and of easier to achieve lower oxygen permeability even after heat sterilization treatment.
  • the drying temperature when forming the gas barrier coating layer may be 40°C or higher, 50°C or higher, 60°C or higher, or 90°C or higher, from the viewpoint of easily achieving lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization treatment, and may be 140°C or lower, 130°C or lower, or 120°C or lower, from the viewpoint of easily achieving lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization treatment.
  • the thickness of the gas barrier coating layer may be 80 nm or more, 90 nm or more, or 100 nm or more. If the thickness of the gas barrier coating layer is 80 nm or more, it is easy to maintain low oxygen permeability even after heat sterilization treatment.
  • the thickness of the gas barrier coating layer may be 1000 nm or less, 700 nm or less, 500 nm or less, or 400 nm or less. If the thickness of the gas barrier coating layer is 1000 nm or less, it is possible to suppress a decrease in gas barrier properties due to the occurrence of cracks in the layer during coating. From this perspective, the thickness of the gas barrier coating layer may be 80 to 1000 nm.
  • ⁇ Packaging film> Another embodiment of the present invention is a packaging film comprising the above gas barrier film and a sealant layer.
  • the sealant layer may be provided on the gas barrier coating layer side of the gas barrier film via an adhesive layer.
  • the adhesive layer is for bonding the films together.
  • adhesives constituting the adhesive layer include polyurethane resins in which a bifunctional or higher isocyanate compound is reacted with a base material such as polyester polyol, polyether polyol, acrylic polyol, or carbonate polyol.
  • the various polyols may be used alone or in combination of two or more.
  • the adhesive layer may be composed of a two-liquid curing urethane adhesive from the viewpoint of heat resistance during heat sterilization treatment.
  • the polyurethane resin may be blended with a carbodiimide compound, an oxazoline compound, an epoxy compound, a phosphorus compound, a silane coupling agent, or the like.
  • the adhesive used may be one whose polymer component is derived from biomass or has biodegradability.
  • the adhesive may be an adhesive with gas barrier properties.
  • the amount of adhesive applied may be, for example, 0.5 to 10 g/ m2 from the viewpoint of obtaining the desired adhesive strength, followability, processability, and the like.
  • the sealant layer includes a thermoplastic resin, for example, a polyolefin resin.
  • the polyolefin resin include ethylene resins such as low-density polyethylene resin (LDPE), medium-density polyethylene resin (MDPE), linear low-density polyethylene resin (LLDPE), ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene- ⁇ -olefin copolymer, and ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, and polypropylene resins such as homopolypropylene resin (PP), propylene-ethylene random copolymer, propylene-ethylene block copolymer, and propylene- ⁇ -olefin copolymer, and mixtures thereof.
  • the material of the sealant layer can be appropriately selected from the above-mentioned thermoplastic resins depending on the intended use and temperature conditions such as boiling and retorting.
  • thermoplastic resin constituting the sealant layer may or may not be stretched.
  • the sealant layer does not have to be stretched in order to lower the melting point and facilitate heat sealing.
  • the thickness of the sealant layer is not particularly limited, but may be, for example, 15 ⁇ m or more, 30 ⁇ m or more, or 50 ⁇ m or more, and may be 200 ⁇ m or less, 150 ⁇ m or less, or 100 ⁇ m or less.
  • the packaging bag is formed by making the packaging film described above. That is, another embodiment of the present invention is a packaging bag including the packaging film.
  • the packaging bag can accommodate contents such as food, medicine, etc.
  • another embodiment of the present invention is a packaging product including the packaging bag and the contents accommodated in the packaging bag.
  • the packaging bag may be one in which a sheet of packaging film is folded in half with the sealant layers facing each other, and then three sides are heat-sealed to form a bag shape, or two sheets of packaging material are stacked together with the sealant layers facing each other, and then four sides are heat-sealed to form a bag shape.
  • the packaging bag may also have a shape that has a bent portion (folded portion) such as a standing pouch.
  • the packaging bag according to this embodiment can maintain excellent gas barrier properties even when it has a shape that has a bent portion.
  • the following anchor coating agent was applied by gravure coating onto a 20 ⁇ m thick polypropylene film (manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello, Inc., product name: ME-1), and dried to form an anchor coating layer with a thickness of 0.1 ⁇ m.
  • a vapor deposition layer made of silicon oxide with a thickness of 25 nm was formed on the anchor coating layer using a vacuum deposition device with electron beam heating.
  • Acrylic polyol and tolylene diisocyanate were mixed so that the number of NCO groups in tolylene diisocyanate was equal to the number of OH groups in the acrylic polyol, and then the mixture was diluted with ethyl acetate so that the total solid content (total amount of acrylic polyol and tolylene diisocyanate) was 5 mass%. 5 mass parts of ⁇ -(3,4-epoxycyclohexyl)trimethoxysilane were added to the diluted mixture per 100 mass parts of the total amount of acrylic polyol and tolylene diisocyanate, and these were mixed to prepare an anchor coating agent.
  • the following coating liquid was applied onto the deposition layer and dried at 80° C. for 1 minute to form a gas barrier coating layer with a thickness of 320 nm. This resulted in a laminate (gas barrier film) in which the substrate layer/anchor coat layer/deposition layer/gas barrier coating layer were laminated in this order.
  • the polypropylene resin content in the resulting gas barrier film was 90% by mass or more.
  • Coating liquid The following A liquid, B liquid, and C liquid were mixed so that the mass ratio of polyvinyl alcohol (PVA) of A liquid, SiO2 of B liquid, and silane coupling agent (SC agent) of C liquid was 45:45:10 to prepare a coating liquid.
  • Solution A an aqueous solution containing 5% by mass of PVA (manufactured by Kuraray Co., Ltd., product name: Kuraray Bobal 60-98).
  • Solution B Tetraethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: KBE04), methanol (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.), and 0.1 N hydrochloric acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) were mixed in a mass ratio of 17:10:73 to prepare a hydrolysis solution having a solid content of 5 mass% ( SiO2 equivalent).
  • Liquid C A hydrolysis solution prepared by dissolving 1,3,5-tris(3-methoxysilylpropyl)isocyanurate in a solution with a mass ratio of water and IPA (isopropyl alcohol) of 1:1 so that the solid content was 5 mass % (calculated as R 2 Si(OH) 3 ).
  • Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 to 5 Gas barrier films were obtained in the same manner as in Example 1, except that the mixing ratio of the liquids A, B, and C, the thickness of the gas barrier coating layer, the drying temperature, and the drying time were changed as shown in Table 1.
  • the polypropylene resin content in each of the obtained gas barrier films was 90% by mass or more.
  • Example 9 Gas barrier films were obtained in the same manner as in Example 1, except that a 12 ⁇ m-thick PET film (manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd., product name: FE2001) was used as the substrate, and the drying temperature and drying time were changed as shown in Table 1.
  • the polypropylene resin content in each of the obtained gas barrier films was 90 mass % or more.
  • ⁇ Preparation of packaging film> A 60 ⁇ m-thick unstretched polypropylene film (manufactured by Toray Industries, Inc., product name: Torayfan ZK207) was laminated on the gas barrier coating layer side of the prepared gas barrier film by dry lamination via a two-component curing urethane adhesive (manufactured by Mitsui Chemicals SKC Polyurethanes, Inc., product name: A525/A52). This produced a packaging film.
  • the density of each atom in the gas barrier coating layer was calculated from the composition and surface density of each atom on the surface of the gas barrier coating layer using the following formula (2), and the density of the gas barrier coating layer was calculated by adding up the densities of each atom.
  • the calculation results of the atomic number density and density of the gas barrier coating layer are shown in Table 1.
  • the proportion of nitrogen atoms in the gas barrier coating layer was 2.0 atomic % or less.
  • Atomic density surface density / thickness ...
  • Density of each atom surface density ⁇ atomic composition ⁇ atomic weight of each atom / Avogadro's constant / thickness ...
  • the oxygen transmission rate of the sealed pouch after retort treatment was measured.
  • the measurement was performed using an oxygen transmission rate measuring device (OXTRAN 2/20, manufactured by Modern Control) under conditions of a temperature of 30°C and a relative humidity of 70%.
  • the measurement method was in accordance with JIS K-7126, Method B (isobaric method), and ASTM D3985-81, and the measured value was expressed in units of [ cm3 / m2 ⁇ day ⁇ atm]. The results are shown in Table 1.
  • Example 1 shows that lowering the drying temperature tends to increase the atomic number density and decrease the density. Also, a comparison between Example 1 and Example 3 shows that increasing the drying temperature can achieve lower oxygen permeability and better adhesion even after heat sterilization.
  • Example 1 shows that by increasing the amount of water-soluble polymer having hydroxyl groups while keeping the amount of silane coupling agent constant, the atomic number density tends to increase and the density tends to decrease. Furthermore, a comparison between Example 1 and Example 4 shows that by decreasing the amount of water-soluble polymer having hydroxyl groups while keeping the amount of silane coupling agent constant, lower oxygen permeability and better adhesion can be achieved even after heat sterilization treatment.
  • Example 1 and Example 8 show that by increasing the amount of silane coupling agent while keeping the amount of water-soluble polymer having hydroxyl groups constant, the atomic number density increases and there is a tendency for the density to also increase. Furthermore, a comparison between Example 1 and Example 8 shows that by increasing the amount of silane coupling agent while keeping the amount of water-soluble polymer having hydroxyl groups constant, lower oxygen permeability and better adhesion can be achieved even after heat sterilization treatment.
  • Comparing Example 2 with Comparative Example 2 it can be seen that by increasing the amount of water-soluble polymer having hydroxyl groups while keeping the amount of metal alkoxide constant, the atomic number density tends to increase and the density tends to decrease. Also, comparing Example 2 with Comparative Example 2, it can be seen that by increasing the amount of water-soluble polymer having hydroxyl groups while keeping the amount of metal alkoxide constant, a lower oxygen permeability can be achieved even after heat sterilization treatment.
  • Reference Signs List 1 substrate layer, 2: anchor coat layer, 3: vapor deposition layer, 4: gas barrier coating layer, 10: gas barrier film.

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Abstract

ガスバリアフィルムは、熱可塑性樹脂を含む基材層と、蒸着層と、ガスバリア性被覆層と、をこの順に備え、ガスバリア性被覆層の原子数密度が１０．５×１０２２～１３．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３であり、且つ、密度が１．６～２．１ｇ／ｃｍ３である。

Description

ガスバリアフィルム、包装フィルム、包装袋、及び包装製品
　本発明は、ガスバリアフィルム、包装フィルム、包装袋、及び包装製品に関する。
　ガスバリアフィルムは、ボイル処理、レトルト処理等の加熱殺菌処理がなされる、食品や医薬品用の包装材料において広く用いられている。食品や医薬品等の内容物を包装するにあたっては、内容物の変質や腐敗を抑制し、それらの品質を維持するために、酸素透過率を小さくすることが重要である。そのため、従来このような用途に適したガスバリアフィルムとして、耐熱性があり酸素透過率の小さいポリオレフィンフィルム基材を用いたものが使用されている。
　例えば、特許文献１には、ガスバリア積層体がポリオレフィンを含む基材層と、金属酸化物層と、ガスバリア性被覆層と、をこの順に備え、前記ガスバリア性被覆層が、ケイ素アルコキシド又はその加水分解物と、水溶性高分子と、を含み、前記ケイ素アルコキシド又はその加水分解物におけるシリコン原子の含有量（ａ質量部）と、前記水溶性高分子の含有量（ｂ質量部）との含有割合ａ／ｂが、質量比で３／９７以上４５／５５以下であることにより、レトルト殺菌処理後や、虐待試験後に優れたガスバリア性を有することが示されている。
国際公開第２０２１／２２０９７７号
　しかしながら、従来のガスバリアフィルムでは、加熱殺菌処理後における酸素バリア性及び密着性には更なる改善の余地がある。
　本発明の一側面は、加熱殺菌処理後（例えば、１３０℃で６０分間のレトルト処理）においても低い酸素透過度及び優れた密着性を有するガスバリアフィルムを提供することを目的とする。本発明の他の一側面は、当該ガスバリアフィルムを用いた包装フィルム、包装袋、及び包装製品を提供することを目的とする。
　本発明の一側面は、例えば、以下の［１］～［１２］に関する。
［１］熱可塑性樹脂を含む基材層と、蒸着層と、ガスバリア性被覆層と、をこの順に備え、
　前記ガスバリア性被覆層の原子数密度が１０．５×１０２２～１３．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３であり、且つ、密度が１．６～２．１ｇ／ｃｍ３である、ガスバリアフィルム。
［２］酸素透過度が５．０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、且つ、ラミネート強度が１．５Ｎ／１５ｍｍ以上である、［１］に記載のガスバリアフィルム。
［３］前記熱可塑性樹脂がポリプロピレンである、［１］又は［２］に記載のガスバリアフィルム。
［４］当該ガスバリアフィルムにおけるポリプロピレンの含有量が９０質量％以上である、［１］～［３］のいずれか一つに記載のガスバリアフィルム。
［５］前記基材層と前記蒸着層との間にアンカーコート層をさらに備える、［１］～［４］のいずれか一つに記載のガスバリアフィルム。
［６］前記蒸着層が酸化アルミニウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、［１］～［５］のいずれか一つに記載のガスバリアフィルム。
［７］前記ガスバリア性被覆層が、水酸基を有する水溶性高分子と、金属アルコキシド又はその加水分解物と、シランカップリング剤又はその加水分解物と、を含む組成物の硬化体からなる、［１］～［６］のいずれか一つに記載のガスバリアフィルム。
［８］前記ガスバリア性被覆層における酸化ケイ素の含有量が３０～８０質量％である、［１］～［７］のいずれか一つに記載のガスバリアフィルム。
［９］前記ガスバリア性被覆層の厚さが８０～１０００ｎｍである、［１］～［８］のいずれか一つに記載のガスバリアフィルム。
［１０］［１］～［９］のいずれか一つに記載のガスバリアフィルム、及びシーラント層を備える、包装フィルム。
［１１］［１０］に記載の包装フィルムを備える、包装袋。
［１２］［１１］に記載の包装袋と、前記包装袋に収容される内容物と、を備える、包装製品。
　本発明によれば、加熱殺菌処理後（例えば、１３０℃で６０分間のレトルト処理）においても低い酸素透過度及び優れた密着性を有するガスバリアフィルムを提供することができる。また、本発明によれば、当該ガスバリアフィルムを用いた包装フィルム、包装袋、及び包装製品を提供することができる。
本発明の一実施形態に係るガスバリアフィルムを示す模式断面図である。
　以下、場合により図面を参照しながら、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
＜ガスバリアフィルム＞
　図１は、本発明の一実施形態に係るガスバリアフィルムを示す模式断面図である。図１に示すように、ガスバリアフィルム１０は、基材層１と、アンカーコート層２と、蒸着層３と、ガスバリア性被覆層４と、をこの順に備える。
　一実施形態に係るガスバリアフィルムは、加熱殺菌処理後においても低い酸素透過度及び優れた密着性を有する。ガスバリアフィルムの加熱殺菌処理後における酸素透過度は、例えば、５．０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、４．０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、又は３．５ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であってもよい。ガスバリアフィルムの加熱殺菌処理後におけるラミネート強度は、１．５Ｎ／１５ｍｍ以上、２．０Ｎ／１５ｍｍ以上、２．５Ｎ／１５ｍｍ以上、３．０Ｎ／１５ｍｍ以上、又は３．５Ｎ／１５ｍｍ以上であってもよい。本明細書において、「加熱殺菌処理」とは、後述の実施例に記載の処理を意味し、「酸素透過度」及び「ラミネート強度」とは、後述の実施例に記載の方法で測定される数値を意味する。
　ガスバリアフィルムにおけるポリプロピレンの含有量は、モノマテリアル化を実現し、リサイクル性が向上する観点から、９０質量％以上、９５質量％以上、又は９８質量％以上であってもよい。
［基材層］
　基材層は、支持体となるフィルム（ベースフィルム）であり、熱可塑性樹脂を含む。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等が挙げられる。熱可塑性樹脂は、モノマテリアル化を実現し、リサイクル性が向上する観点から、ポリプロピレンであってもよい。熱可塑性樹脂がＰＥＴである場合、熱可塑性樹脂がポリプロピレンである場合と比べて、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい。
　ポリプロピレンは、ホモポリプロピレン又はプロピレンコポリマーであってもよい。プロピレンコポリマーとしては、例えば、プロピレン－エチレンランダム共重合体、プロピレン－エチレンブロック共重合体、プロピレン－α－オレフィン共重合体等のポリプロピレン系コポリマーが挙げられる。
　ポリプロピレンは、リサイクルされたポリプロピレンであってもよく、植物等のバイオマス由来の原料を重合して得られたポリプロピレンであってもよい。これらのポリプロピレンを単独で使用してもよく、これらのポリプロピレンと化石燃料から重合されたポリプロピレンとを混合して使用してもよい。
　基材層は、延伸フィルムであってもよく、未延伸フィルムであってもよい。基材層は、酸素透過度を低くする観点から、延伸フィルムであってもよい。基材層が延伸フィルムである場合、延伸フィルムとしては、一軸延伸フィルム及び二軸延伸フィルムが挙げられる。延伸フィルムは、耐熱性を向上させる観点から、二軸延伸フィルムであってもよい。
　基材層は、公知の添加剤を含有してもよい。添加剤は、例えば、酸化防止剤、安定剤、ステアリン酸カルシウム、脂肪酸アミド、エルカ酸アミド等の滑剤、帯電防止剤などの有機添加剤；シリカ、ゼオライト、サイロイド、ハイドロタルサイト、シリコン粒子等の粒子状滑剤などの無機添加剤であってもよい。
　基材層におけるポリプロピレンの含有量は、モノマテリアル化を実現し、リサイクル性が向上する観点から、９０質量％以上、９５質量％以上、又は９８質量％以上であってもよい。基材層におけるポリプロピレンの含有量は、実質的に１００質量％（基材層がポリプロピレンからなる態様）であってもよい。
　基材層の厚さは、例えば、３μｍ以上、６μｍ以上、又は１０μｍ以上であってもよく、２００μｍ以下、１００μｍ以下、５０μｍ以下、３０μｍ以下、又は２０μｍ以下であってもよい。
［アンカーコート層］
　ガスバリアフィルムは、基材層と蒸着層との間にアンカーコート層をさらに備えてもよく、備えていなくてもよい。ガスバリアフィルムがアンカーコート層を備えることにより、加熱殺菌処理後においても低い酸素透過度及び優れた密着性をより実現しやすい。
　アンカーコート層は、例えば、アンカーコート層形成用組成物（アンカーコート剤）を基材層上に塗布した後、乾燥させて形成することができる。アンカーコート剤としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステル系ポリウレタン樹脂、ポリエーテル系ポリウレタン樹脂等を含む溶液が挙げられる。アンカーコート層は、耐熱性及び層間密着性が優れる観点から、アクリルウレタン樹脂、及びポリエステル系ポリウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでもよい。
　アンカーコート層の厚さは、基材層と蒸着層との密着性をより向上させることができる観点から、０．０５μｍ以上、０．０８μｍ以上、又は０．１μｍ以上であってもよい。アンカーコート層の厚さは、アンカーコート層に柔軟性を付与し易く、層形成後に折り曲げや引っ張りなどの外的要因が加わっても酸素透過度を低く維持し易い観点から、２μｍ以下、１．５μｍ以下、又は１μｍ以下であってもよい。
［蒸着層］
　蒸着層は、酸素透過度を低くする観点から基材層上に設けられる層である。蒸着層は透明性を有することが好ましい。
　蒸着層は、無機酸化物を含んでもよい。無機酸化物としては、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化錫、酸化マグネシウム、又はこれらの混合物等が挙げられる。蒸着層は、加熱殺菌処理時における耐熱性がより優れる観点から、酸化アルミニウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでもよい。
　蒸着層は、生産性が優れる観点から、真空蒸着法により形成してもよい。蒸着層は、真空蒸着法以外の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ）などで形成することもできる。
　真空蒸着法の加熱手段としては、電子線加熱方式、抵抗加熱方式、及び誘導加熱方式のうちのいずれかの方式を用いることができる。真空蒸着法の加熱手段は、蒸発材料の選択性が幅広いことから電子線加熱方式であってもよい。
　蒸着層は、基材層との密着性及び蒸着層の緻密性を向上させる観点から、プラズマアシスト法、又はイオンビームアシスト法により形成してもよい。蒸着層は、蒸着層の透明性を向上させる観点から、蒸着の際に酸素等の各種ガスを吹き込む反応蒸着により形成してもよい。
　蒸着層の厚さは、蒸着層の厚さを均一にし易く、ガスバリアフィルムとしての機能をより確保し易い観点から、５ｎｍ以上、１５ｎｍ以上、又は２０ｎｍ以上であってもよい。蒸着層の厚さは、蒸着層に柔軟性を付与し易く、層形成後に折り曲げや引っ張りなどの外的要因が加わっても蒸着層に亀裂を生じ難くなる観点から、３００ｎｍ、１５０ｎｍ以下、又は１００ｎｍ以下であってよい。
［ガスバリア性被覆層］
　ガスバリア性被覆層は、蒸着層を保護し、ガスバリアフィルムの酸素透過度を低くする目的で設けられる。ガスバリア性被覆層は、水酸基を有する水溶性高分子と、金属アルコキシド又はその加水分解物と、シランカップリング剤又はその加水分解物と、を含む組成物の硬化体からなってよい。ガスバリア性被覆層は、水酸基を有する水溶性高分子と、金属アルコキシド又はその加水分解物と、を含む組成物の硬化体からなっていてもよく、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい観点から、水酸基を有する水溶性高分子と、金属アルコキシド又はその加水分解物と、シランカップリング剤又はその加水分解物と、を含む組成物の硬化体からなってよい。ガスバリア性被覆層を形成する組成物がシランカップリング剤を含まない場合、組成物における水酸基を有する水溶性高分子の含有量を金属アルコキシドの含有量よりも少なくすることにより、加熱殺菌処理後においても低い酸素透過度及び優れた密着性を実現しやすくなる。
　水酸基を有する水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。加熱殺菌処理後においても酸素透過度をより低くする観点から、水酸基を有する水溶性高分子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）であってもよい。
　金属アルコキシドとしては、下記の一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
　Ｍ（ＯＲ１１）ｍ（Ｒ１２）ｎ－ｍ　　　…（１）
　上記式（１）中、Ｒ１１は炭素数１～８の１価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基（ＯＲ１１は加水分解性基）であってもよい。Ｒ１２は炭素数１～８の１価の有機基であり、メチル基、エチル基等のアルキル基であってもよい。ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等のｎ価の金属原子を示す。ｍは１～ｎの整数である。なお、Ｒ１１及びＲ１２が複数存在する場合、Ｒ１１同士又はＲ１２同士は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
　金属アルコキシドとして具体的には、テトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Ａｌ（Ｏ－２’－Ｃ３Ｈ７）３〕等が挙げられる。テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）及びトリイソプロポキシアルミニウムは、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であるため好ましい。金属アルコキシドは、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい観点から、テトラエトキシシランであってもよい。
　シランカップリング剤としては、下記の一般式（２）で表される化合物が挙げられる。
　Ｓｉ（ＯＲ２１）ｐ（Ｒ２２）３－ｐＲ２３　　　…（２）
　上記式（２）中、Ｒ２１はメチル基、エチル基等のアルキル基を示し、Ｒ２２はアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、アクリロキシ基で置換されたアルキル基、又は、メタクリロキシ基で置換されたアルキル基等の１価の有機基を示し、Ｒ２３は１価の有機官能基を示し、ｐは１～３の整数を示す。なお、Ｒ２１又はＲ２２が複数存在する場合、Ｒ２１同士又はＲ２２同士は、同一であってもよく、異なっていてもよい。Ｒ２３で示される１価の有機官能基としては、グリシジルオキシ基、エポキシ基、メルカプト基、水酸基、アミノ基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、又は、イソシアネート基を含有する１価の有機官能基が挙げられる。これらのシランカップリング剤を二量体、三量体などの多量体とした化合物を使用してもよい。
　シランカップリング剤として具体的には、ビニルトリメトキシシラン、γ－クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ－クロロプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルトリエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、１，３，５－トリス（３－メトキシシリルプロピル）イソシアヌレート等のシランカップリング剤などが挙げられる。シランカップリング剤は、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい観点から、１，３，５－トリス（３－メトキシシリルプロピル）イソシアヌレートであってもよい。
　ガスバリア性被覆層は、例えば、水素原子、炭素原子、酸素原子、及び金属原子を含有する。水素原子及び炭素原子は、主に水酸基を有する水溶性高分子、金属アルコキシド、シランカップリング剤等に由来する。酸素原子は、主に金属アルコキシド、シランカップリング剤に由来する。金属原子は、主に金属アルコキシド、シランカップリング剤に由来する。金属原子は、ケイ素原子であってもよい。ガスバリア性被覆層における窒素原子の割合は、２．０ａｔｏｍｉｃ％以下であってもよい。
　ガスバリア性被覆層が水素原子、炭素原子、酸素原子、金属原子等の原子を含有することは、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）及び水素前方散乱分光法（ＨＦＳ）によりガスバリア性被覆層の表面分析を行うことにより確認することができる。また、これらの原子の数は、ラザフォード後方散乱分光法及び水素前方散乱分光法により測定することができ、具体的には、後述の実施例に記載の方法により測定することができる。
　ガスバリア性被覆層の原子数密度は、１０．５×１０２２～１３．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３である。ガスバリア性被覆層の原子数密度が１０．５×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上であることにより、ガスバリア性被覆層が硬くなりすぎることを抑制し、割れにくくなると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低くしやすくなる。ガスバリア性被覆層の原子数密度が１３．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であることにより、耐熱性が優れると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低くし、優れた密着性を実現しやすくなる。ガスバリア性被覆層の原子数密度は、後述の実施例に記載の方法により算出することができる。
　原子数密度は、ガスバリア性被覆層が硬くなりすぎることをより抑制し、より割れにくくなると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度をより低くしやすくなる観点から、１０．５５×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上、又は１０．６×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上であってもよい。原子数密度は、耐熱性が優れると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度をより低くし、より優れた密着性を実現しやすくなる観点から、１２．５×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、１２．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、又は１１．７×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であってもよい。
　ガスバリア性被覆層の原子数密度は、例えば、ガスバリア性被覆層が含有する成分（水酸基を有する水溶性高分子、金属アルコキシド、シランカップリング剤等）の種類や量、ガスバリア性被覆層の乾燥温度を調整することにより、調整することができる。
　より具体的には、水酸基を有する水溶性高分子の含有量を金属アルコキシドの含有量に対して大きくすることにより、ガスバリア性被覆層の原子数密度が大きくなる傾向がある。また、水酸基を有する水溶性高分子の含有量をシランカップリング剤の含有量に対して大きくすることにより、ガスバリア性被覆層の原子数密度が大きくなる傾向がある。また、シランカップリング剤の含有量を金属アルコキシドの含有量に対して大きくすることにより、ガスバリア性被覆層の原子数密度が大きくなる傾向がある。また、ガスバリア性被覆層の乾燥温度を低くすることにより、ガスバリア性被覆層の原子数密度が大きくなる傾向がある。
　ガスバリア性被覆層の密度は、１．６～２．１ｇ／ｃｍ３である。ガスバリア性被覆層の密度が１．６ｇ／ｃｍ３以上であることにより、耐熱性が優れると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低くし、優れた密着性を実現しやすくなる。ガスバリア性被覆層の密度が２．１ｇ／ｃｍ３以下であることにより、ガスバリア性被覆層が硬くなりすぎることを抑制し、割れにくくなると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低くしやすくなる。ガスバリア性被覆層の密度は、後述の実施例に記載の方法により算出することができる。従来のガスバリア性被覆層は、密度が１．６ｇ／ｃｍ３未満であるのに対して、一実施形態に係るガスバリアフィルムにおけるガスバリア性被覆層は、密度が１．６～２．１ｇ／ｃｍ３であることにより、加熱殺菌処理後においても低い酸素透過度及び優れた密着性を有するガスバリアフィルムを実現することができる。
　密度は、耐熱性がより優れると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度をより低くし、より優れた密着性を実現しやすくなる観点から、１．６５ｇ／ｃｍ３以上、又は１．７ｇ／ｃｍ３以上であってもよい。密度は、ガスバリア性被覆層が硬くなりすぎることをより抑制し、より割れにくくなると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度をより低くしやすくなる観点から、２．０５ｇ／ｃｍ３以下、又は２．０ｇ／ｃｍ３以下であってもよい。
　ガスバリア性被覆層の密度は、例えば、ガスバリア性被覆層が含有する成分（水酸基を有する水溶性高分子、金属アルコキシド、シランカップリング剤等）の種類や量、ガスバリア性被覆層の乾燥温度を調整することにより、調整することができる。
　より具体的には、水酸基を有する水溶性高分子の含有量を金属アルコキシドの含有量に対して大きくすることにより、ガスバリア性被覆層の密度が小さくなる傾向がある。また、水酸基を有する水溶性高分子の含有量をシランカップリング剤の含有量に対して大きくすることにより、ガスバリア性被覆層の密度が小さくなる傾向がある。また、金属アルコキシドの含有量をシランカップリング剤の含有量に対して大きくすることにより、ガスバリア性被覆層の原子数密度が大きくなる傾向がある。また、ガスバリア性被覆層の乾燥温度を低くすることにより、ガスバリア性被覆層の密度が小さくなる傾向がある。
　ガスバリア性被覆層は、ガスバリア性被覆層形成用組成物を蒸着層上にコーティングした後、加熱乾燥させて形成することができる。ガスバリア性被覆層形成用組成物は、水溶性高分子を水性溶媒（水、水とアルコールとの混合溶媒等）に溶解させたものに、金属アルコキシド及びシランカップリング剤の少なくともいずれか一方を、又はこれらを予め加水分解させたものを混合することで調製できる。この組成物（混合溶液）には、イソシアネート化合物；分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤等の公知の添加剤を添加することもできる。
　水酸基を有する水溶性高分子としてＰＶＡを含む場合、組成物中のＰＶＡの量は、ガスバリア性被覆層の柔軟性が保持され、ガスバリア性被覆層を形成し易くなる観点から、組成物の全固形分量を基準として、１５質量％以上、２０質量％以上、又は２５質量％以上であってもよい。水酸基を有する水溶性高分子としてＰＶＡを含む場合、組成物中のＰＶＡの量は、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低く維持しやすい観点から、組成物の全固形分量を基準として、７０質量％以下、６０質量％以下、又は５０質量％以下であってもよい。
　金属アルコキシドとしてＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）を含む場合、組成物中のＴＥＯＳの量は、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低く維持しやすい観点から、組成物の全固形分量を基準として、３０質量％以上、３５質量％以上、又は４０質量％以上であってもよい。金属アルコキシドとしてＴＥＯＳを含む場合、組成物中のＴＥＯＳの量は、ガスバリア性被覆層の柔軟性を保持され、ガスバリア性被覆層を形成し易くなる観点から、組成物の全固形分量を基準として、８０質量％以下、７５質量％以下、又は７０質量％以下であってもよい。なお、本明細書においてＴＥＯＳの量は、ＳｉＯ２に換算の値を意味する。
　シランカップリング剤としてイソシアヌレートシランを含む場合、組成物中のイソシアヌレートシランの量は、耐熱水性を実現し易く、加熱殺菌処理後においても優れた密着性を実現しやすい観点から、組成物の全固形分量を基準として、１質量％以上、３質量％以上、又は５質量％以上であってもよい。シランカップリング剤としてイソシアヌレートシランを含む場合、組成物中のイソシアヌレートシランの量は、組成物中の他の成分の量が少なくなり過ぎず、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低く維持しやすい観点から、組成物の全固形分量を基準として、２０質量％以下、１５質量％以下、又は１０質量％以下であってもよい。
　組成物中の水酸基を有する水溶性高分子の含有量に対する金属アルコキシドの含有量の比率（金属アルコキシドの含有量／水酸基を有する水溶性高分子の含有量）は、加熱殺菌処理後においてもより優れた密着性を実現しやすい観点から、０．５以上、０．６以上、０．７以上、又は０．８以上であってもよく、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度を実現しやすい観点から、５以下、４以下、３以下、２．５以下、２以下、又は１以下であってもよい。
　組成物中の水酸基を有する水溶性高分子の含有量に対するシランカップリング剤の含有量の比率（シランカップリング剤の含有量／水酸基を有する水溶性高分子の含有量）は、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい観点から、０以上、０．１以上、０．２以上、又は０．２２以上であってもよく、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度を実現しやすい観点から、０．４５以下、０．４以下、又は０．３５以下であってもよい。
　組成物中の金属アルコキシドの含有量に対するシランカップリング剤の含有量の比率（シランカップリング剤の含有量／金属アルコキシドの含有量）は、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい観点から、０以上、０．１以上、０．２以上、又は０．２２以上であってもよく、加熱殺菌処理後においてもより優れた密着性を実現しやすい観点から、２以下、１以下、０．８以下、０．６以下、又は０．４以下であってもよい。
　ガスバリア性被覆層における酸化ケイ素の含有量は、耐熱性がより優れると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度をより低くしより、優れた密着性を実現しやすくなる観点から、３０質量％以上、３５質量％以上、又は４０質量％以上であってもよい。ガスバリア性被覆層における酸化ケイ素の含有量は、ガスバリア性被覆層が硬くなりすぎることをより抑制し、より割れにくくなると共に、加熱殺菌処理後においても酸素透過度をより低くしやすくなる観点から、８０質量％以下、７５質量％以下、又は７０質量％以下であってもよい。
　ガスバリア性被覆層を形成する際の乾燥温度は、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい観点から、４０℃以上、５０℃以上、６０℃以上、又は９０℃以上であってもよく、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現しやすい観点から、１４０℃以下、１３０℃以下、又は１２０℃以下であってもよい。
　ガスバリア性被覆層の厚さは、８０ｎｍ以上、９０ｎｍ以上、又は１００ｎｍ以上であってもよい。ガスバリア性被覆層の厚さが８０ｎｍ以上であれば、加熱殺菌処理後においても酸素透過度を低く維持しやすい。ガスバリア性被覆層の厚さは、１０００ｎｍ以下、７００ｎｍ以下、５００ｎｍ以下、又は４００ｎｍ以下であってもよい。ガスバリア性被覆層の厚さが１０００ｎｍ以下であれば、塗工時に層のクラック発生によるガスバリア性の低下を抑えることができる。このような観点から、ガスバリア性被覆層の厚さは、８０～１０００ｎｍであってもよい。
＜包装フィルム＞
　本発明の他の一実施形態は、上記ガスバリアフィルム、及びシーラント層を備える、包装フィルムである。シーラント層は、ガスバリアフィルムのガスバリア性被覆層側に、接着層を介して設けられていてもよい。
（接着層）
　接着層は、各フィルム同士を接着するものである。接着層を構成する接着剤としては、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、アクリルポリオール、カーボネートポリオール等の主剤に対し、二官能以上のイソシアネート化合物を作用させたポリウレタン樹脂などが挙げられる。各種ポリオールは、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。接着層は、加熱殺菌処理時における耐熱性の観点から、２液硬化型のウレタン系接着剤で構成されていてもよい。
　接着性を向上させるために、上述のポリウレタン樹脂には、カルボジイミド化合物、オキサゾリン化合物、エポキシ化合物、リン化合物、シランカップリング剤等が配合されてもよい。接着剤として、環境配慮の観点から高分子成分がバイオマス由来であるものや生分解性を有するものを使用してもよい。接着剤は、ガスバリア性を有する接着剤であってもよい。
　接着剤の塗布量は、所望の接着強度、追随性、及び加工性等を得る観点から、例えば、０．５～１０ｇ／ｍ２であってよい。
（シーラント層）
　シーラント層は熱可塑性樹脂を含み、例えば、ポリオレフィン系樹脂を含む。ポリオレフィン系樹脂としては、低密度ポリエチレン樹脂（ＬＤＰＥ）、中密度ポリエチレン樹脂（ＭＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂（ＬＬＤＰＥ）、エチレン－酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）、エチレン－αオレフィン共重合体、エチレン－（メタ）アクリル酸共重合体等のエチレン系樹脂、ホモポリプロピレン樹脂（ＰＰ）、プロピレン－エチレンランダム共重合体、プロピレン－エチレンブロック共重合体、プロピレン－αオレフィン共重合体等のポリプロピレン系樹脂、又はこれらの混合物などが挙げられる。シーラント層の材質は、上述した熱可塑性樹脂の中から、使用用途やボイル処理、レトルト処理などの温度条件によって適宜選択できる。
　シーラント層を構成する熱可塑性樹脂は、延伸されていてもよく、延伸されていなくてもよい。シーラント層は、融点を低下させ、ヒートシールを容易にする観点から、延伸されていなくてもよい。
　シーラント層の厚さは特に制限されないが、例えば１５μｍ以上、３０μｍ以上、又は５０μｍ以上であってもよく、２００μｍ以下、１５０μｍ以下、又は１００μｍ以下であってもよい。
＜包装袋、包装製品＞
　包装袋は、上述した包装フィルムを製袋してなるものである。すなわち、本発明の他の一実施形態は、包装フィルムを備える、包装袋である。包装袋には、食品、医薬品等の内容物を収容することができる。すなわち、本発明の他の一実施形態は、包装袋と、包装袋に収容される内容物と、を備える、包装製品である。
　包装袋は、１枚の包装フィルムをシーラント層が対向するように二つ折りにした後、３辺をヒートシールすることによって袋形状としたものであってもよく、２枚の包装材をシーラント層が対向するように重ねた後、４辺をヒートシールすることによって袋形状としたものであってもよい。また、包装袋は、スタンディングパウチ等の屈曲部（折り曲げ部）を有する形状であってもよい。本実施形態に係る包装袋は、屈曲部を有する形状であっても優れたガスバリア性を維持することができる。
　以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
＜ガスバリアフィルムの作製＞
（実施例１）
　厚さ２０μｍのポリプロピレンフィルム（三井化学東セロ株式会社製、商品名：ＭＥ－１）上に、下記のアンカーコート剤をグラビアコートにより塗布し、乾燥させて、厚さ０．１μｍのアンカーコート層を形成した。次いで、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、アンカーコート層上に厚さ２５ｎｍの酸化ケイ素からなる蒸着層を形成した。
（アンカーコート剤）
　アクリルポリオールとトリレンジイソシアネートとを、アクリルポリオールのＯＨ基の数に対してトリレンジイソシアネートのＮＣＯ基の数が等量となるように混合した後、全固形分（アクリルポリオール及びトリレンジイソシアネートの合計量）が５質量％になるように酢酸エチルで希釈した。希釈後の混合液に、アクリルポリオール及びトリレンジイソシアネートの合計量１００質量部に対してβ－（３，４－エポキシシクロへキシル）トリメトキシシランを５質量部添加し、これらを混合することでアンカーコート剤を調製した。
　蒸着層上に下記のコーティング液を塗工し、８０℃で１分間乾燥させることにより厚さ３２０ｎｍのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、基材層／アンカーコート層／蒸着層／ガスバリア性被覆層がこの順に積層した積層体（ガスバリアフィルム）を得た。得られたガスバリアフィルムにおけるポリプロピレン樹脂の含有量は、９０質量％以上であった。
（コーティング液）
　以下のＡ液、Ｂ液、及びＣ液を、Ａ液のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と、Ｂ液のＳｉＯ２と、Ｃ液のシランカップリング剤（ＳＣ剤）との質量比が４５：４５：１０となるように混合してコーティング液を調製した。
　Ａ液：ＰＶＡ（株式会社クラレ製、商品名：クラレボバール６０－９８）が５質量％となるように調整した水溶液。
　Ｂ液：テトラエトキシシラン（信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ０４）と、メタノール（関東化学株式会社製）と、０．１Ｎ塩酸（関東化学株式会社製）と、を質量比で１７：１０：７３となるように混合し、固形分５質量％（ＳｉＯ２換算）となるように調整した加水分解溶液。
　Ｃ液：１，３，５－トリス（３－メトキシシリルプロピル）イソシアヌレートを、水とＩＰＡ（イソプロピルアルコール）との質量比が１：１の溶液で固形分５質量％（Ｒ２Ｓｉ（ＯＨ）３換算）となるように調整した加水分解溶液。
（実施例２～８、比較例１～５）
　Ａ液、Ｂ液、及びＣ液の混合比率、ガスバリア性被覆層の膜厚、乾燥温度、及び乾燥時間を表１に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。得られた各ガスバリアフィルムにおけるポリプロピレン樹脂の含有量は、９０質量％以上であった。
（実施例９）
　基材として厚さ１２μｍのＰＥＴフィルム（フタムラ化学株式会社製、商品名：ＦＥ２００１）を用いたこと、乾燥温度、及び乾燥時間を表１に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にしてガスバリアフィルムを得た。得られた各ガスバリアフィルムにおけるポリプロピレン樹脂の含有量は、９０質量％以上であった。
＜包装フィルムの作製＞
　作製したガスバリアフィルムのガスバリア性被覆層側に、２液硬化型ウレタン系接着剤（三井化学ＳＫＣポリウレタン株式会社製、商品名：Ａ５２５／Ａ５２）を介してドライラミネート法により、厚さ６０μｍの未延伸ポリプロピレンフィルム（東レ株式会社製、商品名：トレファンＺＫ２０７）を積層した。これにより、包装フィルムを得た。
＜ガスバリア性被覆層の表面分析＞
　ガスバリア性被覆層の表面の各原子の組成（ａｔｏｍｉｃ％）をラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）及び水素前方散乱分光法（ＨＦＳ）により測定した。測定は、Ｐｅｌｌｅｔｒｏｎ　３ＳＤＨ（Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｅｌｅｄｔｒｏｓｔａｔｉｃｓ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）を用いて、下記の測定条件で行った。測定で得られた組成（ａｔｏｍｉｃ％）から、測定で得られるスペクトルに対してフィッティング解析を行い、面密度（ａｔｏｍｓ／ｃｍ２）を算出した。次いで、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）によりガスバリア性被覆層の厚さを測定し、下記式（１）によりガスバリア性被覆層の原子数密度を算出した。
　また、ガスバリア性被覆層の表面の各原子の組成と面密度により、下記式（２）によりガスバリア性被覆層における各原子の密度を算出し、各原子の密度を合計することによってガスバリア性被覆層の密度を算出した。ガスバリア性被覆層の原子数密度及び密度の算出結果を表１に示す。また、ガスバリア性被覆層における窒素原子の割合は、２．０ａｔｏｍｉｃ％以下であった。
　原子数密度＝面密度／厚さ　…（１）
　各原子の密度＝面密度×原子の組成×各原子の原子量／アボガドロ定数／厚さ　…（２）
　各原子の密度：ｇ／ｃｍ３、面密度：ａｔｏｍｓ／ｃｍ２、原子の組成：ａｔｏｍｉｃ％、厚さ：ｃｍ。
（測定条件）
・入射イオン：４Ｈｅ＋＋
・入射エネルギー：２３００ｋｅＶ
・入射角：０ｄｅｇ（ＲＢＳ単独）、７５ｄｅｇ（ＲＢＳ／ＨＦＳ同時）
・散乱角：１６０ｄｅｇ
・反跳角：なし（ＲＢＳ単独）、３０ｄｅｇ（ＲＢＳ／ＨＦＳ同時）
・試料電流：３ｎＡ
・ビーム径：２ｍｍφ
・面内回転：なし
・照射量：２０μＣ（０．１μＣ×２００点、ＲＢＳ単独）、５μＣ（０．１μＣ×５０点、ＲＢＳ／ＨＦＳ同時）
＜評価＞
（レトルト処理）
　作製した包装フィルムを縦３１５ｍｍ×横２３０ｍｍの大きさに切り出し、長手方向を二つ折りにし、３辺をヒートシールすることにより開口を有するパウチを作製した。このパウチに水を入れ、開口部をヒートシールし、密封パウチを得た。作製した密封パウチを、貯湯式レトルト釜を用いて１３０℃で６０分間レトルト処理（加熱殺菌処理）を行った。
（酸素透過度測定）
　レトルト処理後の密封パウチに対して、酸素透過度測定を行った。測定は酸素透過度測定装置（Ｍｏｄｅｒｎ　Ｃｏｎｔｒｏｌ社製、ＯＸＴＲＡＮ　２／２０）を用いて、温度３０℃、相対湿度７０％の条件で行った。測定方法は、ＪＩＳ　Ｋ－７１２６、Ｂ法（等圧法）、及びＡＳＴＭ　Ｄ３９８５－８１に準拠し、測定値は単位［ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ］で表記した。結果を表１に示す。
（ラミネート強度測定）
　レトルト処理後の密封パウチから水を抜き、ガスバリアフィルムと未延伸ポリプロピレンフィルム間のラミネート強度測定を行った。測定はＪＩＳ　Ｋ６８５４に準拠し、試験幅１５ｍｍ、剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、剥離角度Ｔ型にて行った。測定値は単位［Ｎ／１５ｍｍ］で表記した。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　実施例１と実施例３との比較から、乾燥温度を低くすることにより、原子数密度が大きくなり、密度が小さくなる傾向があることがわかる。また、実施例１と実施例３との比較から、乾燥温度を高くすることにより、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現できることがわかる。
　実施例１と実施例４との比較から、シランカップリング剤の量を一定にしつつ、水酸基を有する水溶性高分子の量を多くすることにより、原子数密度が大きくなり、密度が小さくなる傾向があることがわかる。また、実施例１と実施例４との比較から、シランカップリング剤の量を一定にしつつ、水酸基を有する水溶性高分子の量を少なくすることにより、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現できることがわかる。
　実施例１と実施例８との比較から、水酸基を有する水溶性高分子の量を一定にしつつ、シランカップリング剤の量を多くすることにより、原子数密度が大きくなり、密度も大きくなる傾向があることがわかる。また、実施例１と実施例８との比較から、水酸基を有する水溶性高分子の量を一定にしつつ、シランカップリング剤の量を多くすることにより、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度及びより優れた密着性を実現できることがわかる。
　実施例２と比較例２との比較から、金属アルコキシドの量を一定にしつつ、水酸基を有する水溶性高分子の量を多くすることにより、原子数密度が大きくなり、密度が小さくなる傾向があることがわかる。また、実施例２と比較例２との比較から、金属アルコキシドの量を一定にしつつ、水酸基を有する水溶性高分子の量を多くすることにより、加熱殺菌処理後においてもより低い酸素透過度を実現できることがわかる。
　１…基材層、２…アンカーコート層、３…蒸着層、４…ガスバリア性被覆層、１０…ガスバリアフィルム。

 

Claims (12)

  1. 　熱可塑性樹脂を含む基材層と、蒸着層と、ガスバリア性被覆層と、をこの順に備え、
    　前記ガスバリア性被覆層の原子数密度が１０．５×１０２２～１３．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３であり、且つ、密度が１．６～２．１ｇ／ｃｍ３である、ガスバリアフィルム。
  2. 　加熱殺菌処理における酸素透過度が５．０ｃｍ３／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、且つ、加熱殺菌処理におけるラミネート強度が１．５Ｎ／１５ｍｍ以上である、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  3. 　前記熱可塑性樹脂がポリプロピレン樹脂である、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  4. 　当該ガスバリアフィルムにおけるポリプロピレン樹脂の含有量が９０質量％以上である、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  5. 　前記基材層と前記蒸着層との間にアンカーコート層をさらに備える、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  6. 　前記蒸着層が酸化アルミニウム及び酸化ケイ素からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  7. 　前記ガスバリア性被覆層が、水酸基を有する水溶性高分子と、金属アルコキシド又はその加水分解物と、シランカップリング剤又はその加水分解物と、を含む組成物の硬化体からなる、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  8. 　前記ガスバリア性被覆層における酸化ケイ素の含有量が３０～８０質量％である、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  9. 　前記ガスバリア性被覆層の厚さが８０～１０００ｎｍである、請求項１に記載のガスバリアフィルム。
  10. 　請求項１～９のいずれか一項に記載のガスバリアフィルム、及びシーラント層を備える、包装フィルム。
  11. 　請求項１０に記載の包装フィルムを備える、包装袋。
  12. 　請求項１１に記載の包装袋と、前記包装袋に収容される内容物と、を備える、包装製品。

     
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