WO2023190741A1 - 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置 - Google Patents

樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2023190741A1
WO2023190741A1 PCT/JP2023/012939 JP2023012939W WO2023190741A1 WO 2023190741 A1 WO2023190741 A1 WO 2023190741A1 JP 2023012939 W JP2023012939 W JP 2023012939W WO 2023190741 A1 WO2023190741 A1 WO 2023190741A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
transparent
resin composition
meth
conductive member
mass
Prior art date
Application number
PCT/JP2023/012939
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
大介 大槻
剛 野尻
遼 ▲高▼橋
佑太郎 高松
Original Assignee
株式会社レゾナック
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社レゾナック filed Critical 株式会社レゾナック
Publication of WO2023190741A1 publication Critical patent/WO2023190741A1/ja

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B25/00Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber
    • B32B25/04Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber comprising rubber as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B25/08Layered products comprising a layer of natural or synthetic rubber comprising rubber as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60VEHICLES IN GENERAL
    • B60JWINDOWS, WINDSCREENS, NON-FIXED ROOFS, DOORS, OR SIMILAR DEVICES FOR VEHICLES; REMOVABLE EXTERNAL PROTECTIVE COVERINGS SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLES
    • B60J1/00Windows; Windscreens; Accessories therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F287/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to block polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L53/00Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L53/02Compositions of block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers of vinyl-aromatic monomers and conjugated dienes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/36Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith
    • H01Q1/38Structural form of radiating elements, e.g. cone, spiral, umbrella; Particular materials used therewith formed by a conductive layer on an insulating support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q1/00Details of, or arrangements associated with, antennas
    • H01Q1/40Radiating elements coated with or embedded in protective material

Definitions

  • the present disclosure relates to a resin composition, a cured product, a laminate, a transparent antenna, an image display device, and the like.
  • Antennas for receiving radio waves are installed in image display devices (for example, image display devices in various electronic devices such as computers, navigation systems, mobile phones, watches, and electronic dictionaries), components of automobiles, buildings, etc. .
  • image display devices for example, image display devices in various electronic devices such as computers, navigation systems, mobile phones, watches, and electronic dictionaries
  • an image display device with a built-in antenna is sometimes used.
  • image display devices have become smaller, thinner, and have diversified shapes, and in order to ensure design plausibility, image display devices are being used.
  • a transparent antenna with low visibility hereinafter also referred to as a "transparent antenna"
  • Various members have been considered for obtaining a transparent antenna (for example, see Patent Document 1 below).
  • a laminate including a cured product of a resin composition and a conductive member that comes into contact with the cured product may be used.
  • Such a laminate can be obtained by curing the resin composition while the resin composition is in contact with a conductive member.
  • wrinkles may occur in the conductive member when curing the resin composition, and it is required to suppress the generation of such wrinkles.
  • One aspect of the present disclosure aims to provide a resin composition that can suppress the generation of wrinkles in a conductive member when the resin composition is cured while the resin composition is in contact with the conductive member. Another aspect of the present disclosure aims to provide a cured product of the resin composition. Another aspect of the present disclosure aims to provide a laminate using the resin composition or a cured product thereof. Another aspect of the present disclosure aims to provide a transparent antenna using a cured product of the resin composition. Another aspect of the present disclosure aims to provide an image display device using the transparent antenna.
  • the present disclosure relates to the following [1] to [18].
  • [1] A resin composition containing an elastomer, a polymerizable compound, and a polymerization initiator, which gives a cured product with a tensile modulus of 50 MPa or more when the resin composition is heat-treated at 120°C for 30 minutes. , resin composition.
  • [2] The resin composition according to [1], wherein the elastomer contains a styrenic block copolymer.
  • R 1 represents a group containing 9 or less carbon atoms and 2 or more oxygen atoms
  • R 2a and R 2b each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • [8] The resin composition according to any one of [1] to [7], wherein the polymerization initiator contains a peroxide.
  • the laminate according to [12] or [13], wherein the conductive member has a thickness of 5 ⁇ m or less.
  • a transparent antenna at least one of which contains a cured product of the resin composition according to any one of [1] to [9].
  • An image display device comprising the transparent antenna according to any one of [15] to [17].
  • a resin composition that can suppress the generation of wrinkles in a conductive member when the resin composition is cured while the resin composition is in contact with the conductive member.
  • a cured product of the resin composition can be provided.
  • a laminate using the resin composition or a cured product thereof can be provided.
  • a transparent antenna using a cured product of the resin composition can be provided.
  • an image display device using the transparent antenna can be provided.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of a laminate.
  • 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an image display device.
  • 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an image display device.
  • a numerical range indicated using “-” indicates a range that includes the numerical values written before and after "-" as the minimum and maximum values, respectively.
  • the numerical range “A or more” means A and a range exceeding A.
  • the numerical range “A or less” means a range of A and less than A.
  • the upper limit or lower limit of the numerical range of one step can be arbitrarily combined with the upper limit or lower limit of the numerical range of another step.
  • the upper limit or lower limit of the numerical range may be replaced with the values shown in the examples.
  • “A or B” may include either A or B, or both.
  • the content of each component in the composition refers to the total amount of the multiple substances present in the composition, unless otherwise specified. means.
  • the term “layer” includes a structure having a shape formed on the entire surface as well as a structure having a shape formed in a part of the layer.
  • the term “process” is included in the term not only an independent process but also a process that cannot be clearly distinguished from other processes as long as the intended effect of the process is achieved.
  • (Meth)acrylate” means at least one of acrylate and methacrylate corresponding thereto. The same applies to other similar expressions such as "(meth)acrylic”.
  • the content of the (meth)acrylic compound means the total amount of the acrylic compound and the methacrylic compound.
  • the hydroxy group does not include the OH group contained in the carboxy group.
  • the resin composition according to this embodiment contains an elastomer, a polymerizable compound, and a polymerization initiator.
  • the resin composition according to this embodiment provides a cured product having a tensile modulus of 50 MPa or more when the resin composition is heat-treated at 120° C. for 30 minutes.
  • the resin composition according to this embodiment can be used as a resin composition for a transparent antenna.
  • the resin composition according to this embodiment can be used as a thermosetting resin composition.
  • the cured product according to this embodiment is obtained by curing the resin composition according to this embodiment, and is a cured product of the resin composition according to this embodiment.
  • the cured product according to this embodiment may be in a semi-cured state or in a fully cured state.
  • the resin composition according to the present embodiment it is possible to suppress the generation of wrinkles in the conductive member when the resin composition is cured in a state where the resin composition is in contact with the conductive member.
  • a cured product having excellent transparency can be obtained while suppressing the generation of wrinkles in the conductive member as described above.
  • Transparent antennas can be used in high-frequency band communications to achieve high-speed, large-capacity communications. Communication in high frequency bands tends to have large transmission losses. Therefore, as a constituent member of a transparent antenna, a cured product of a resin composition is required to have excellent dielectric properties. According to one aspect of the resin composition according to the present embodiment, a cured product having an excellent dielectric constant (low dielectric constant) can be obtained. According to one aspect of the resin composition according to the present embodiment, in the evaluation method described in Examples below, for example, 3.0 or less (preferably 2.8 or less, 2.6 or less, 2.5 or less, etc.) ) can be obtained.
  • a cured product having an excellent dielectric loss tangent (low dielectric loss tangent) can be obtained.
  • 0.0060 or less preferably 0.0050 or less, 0.0045 or less, 0.0040 or less
  • a dielectric loss tangent of 0.0035 or less, 0.0030 or less can be obtained.
  • the resin composition according to this embodiment provides a cured product with a tensile modulus of 50 MPa or more when the resin composition is heat-treated at 120° C. for 30 minutes.
  • the tensile modulus of the cured product is 80 MPa or more, 100 MPa or more, 150 MPa or more, 200 MPa or more, 250 MPa or more, 300 MPa or more, 350 MPa or more, 400 MPa or more, 410 MPa or more, 418 MPa or more, from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member. , 440 MPa or more, 450 MPa or more, or 500 MPa or more.
  • the tensile modulus of the cured product may be 1000 MPa or less, 800 MPa or less, 600 MPa or less, 500 MPa or less, 400 MPa or less, or 300 MPa or less. From these viewpoints, the tensile modulus of the cured product may be 50 to 1000 MPa, 100 to 1000 MPa, 200 to 1000 MPa, 300 to 1000 MPa, or 400 to 1000 MPa.
  • the tensile modulus of the cured product can be adjusted by adjusting the type and content of components such as the elastomer and polymerizable compound.
  • a film-like resin composition with a thickness of 100 ⁇ m can be used as the resin composition to be heat-treated.
  • the resin composition according to this embodiment contains an elastomer.
  • the elastomer include styrene elastomer, olefin elastomer, urethane elastomer, polyester elastomer, polyamide elastomer, silicone elastomer, and the like.
  • the elastomer may include a styrene-based elastomer from the viewpoint of easily suppressing the generation of wrinkles in the conductive member and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product.
  • the styrenic elastomer may be a polymer having a styrene compound as a monomer unit (a polymer having a monomer unit derived from a styrene compound; hereinafter referred to as a "styrenic polymer").
  • Styrene compounds include styrene; alkylstyrenes such as methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylstyrene, diethylstyrene, triethylstyrene, propylstyrene, butylstyrene, hexylstyrene, heptylstyrene, and octylstyrene; fluorostyrene, chlorostyrene, Examples include halogenated styrenes such as bromostyrene, dibromostyrene, and iodostyrene; nitrostyrene; acetylstyrene; and methoxystyrene.
  • alkylstyrenes such as methylstyrene, dimethylstyrene, trimethylstyrene, ethylst
  • Styrene-based polymers use styrene as a monomer unit from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in conductive members and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in cured products. may have.
  • styrene-based polymers include styrene-butadiene random copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-butylene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-isoprene-styrene block copolymer, and styrene-ethylene block copolymer.
  • the elastomer may contain a styrene-based block copolymer from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product.
  • the styrenic block copolymer may be a block copolymer having one styrene compound monomer unit and another styrene compound monomer unit, and the styrenic compound monomer unit, and It may be a block copolymer having monomer units of compounds other than styrene compounds.
  • the elastomer may contain a styrene-butadiene-styrene block copolymer from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member and from the viewpoint of easily increasing the tensile modulus of the cured product.
  • the styrenic polymer may be modified with a carboxylic acid anhydride or not modified with a carboxylic acid anhydride.
  • the carboxylic anhydride include dicarboxylic anhydrides such as maleic anhydride, phthalic anhydride, and itaconic anhydride.
  • the elastomer may contain a styrenic block copolymer modified with a carboxylic acid anhydride, and a styrenic block copolymer modified with a maleic anhydride, from the viewpoint of easily obtaining a cured product having high adhesion to conductive members.
  • styrene-butadiene-styrene block copolymer modified with a carboxylic acid anhydride
  • styrene-butadiene-styrene block copolymer modified with a maleic anhydride may include a styrene-butadiene-styrene block copolymer modified with a maleic anhydride.
  • the content of the monomer unit of the styrene compound or the content of the monomer unit of styrene is determined from the viewpoint of easily suppressing the generation of wrinkles in the conductive member and the excellent dielectric properties (low relative dielectric constant) of the cured product. , dielectric loss tangent, etc.), it may be in the following range based on the total mass of the styrenic polymer or the total mass of the styrenic block copolymer.
  • the content of monomer units is 5% by mass or more, 10% by mass or more, 15% by mass or more, 20% by mass or more, 25% by mass or more, 30% by mass or more, 35% by mass or more, or 40% by mass or more. It may be.
  • the content of monomer units is 80% by mass or less, 75% by mass or less, 70% by mass or less, 65% by mass or less, 60% by mass or less, 55% by mass or less, 50% by mass or less, 45% by mass or less, or , 40% by mass or less. From these viewpoints, the content of monomer units is 5 to 80% by mass, 5 to 60% by mass, 5 to 50% by mass, 20 to 80% by mass, 20 to 60% by mass, 20 to 50% by mass, It may be 30-80% by weight, 30-60% by weight, or 30-50% by weight.
  • the content of the styrenic polymer or the content of the styrene block copolymer is determined from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member and the excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) of the cured product. 50% by mass or more, more than 50% by mass, 70% by mass or more, 90% by mass or more, 95% by mass or more, or 99% by mass or more, based on the total mass of the elastomer. good.
  • the elastomer contained in the resin composition substantially consists of a styrenic polymer or a styrenic block copolymer (the content of the styrenic polymer or the content of the styrenic block copolymer is The content may be substantially 100% by mass based on the total mass of the elastomer contained in the elastomer.
  • MFR (melt flow rate, 200°C, 5 kgf (49 N), unit: g/10 min) of the styrenic polymer or styrenic block copolymer measured in accordance with ISO 1133 is within the following range. good.
  • MFR may be 1 or more, 2 or more, 3 or more, 4 or more, 5 or more, or 6 or more from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product.
  • MFR may be 7 or more.
  • MFR may be 10 or less, 9 or less, 8 or less, 7 or less, 6 or less, or 5 or less. From these points of view, the MFR may be 1-10, 3-8, 5-7, 4-6, or 6-8.
  • the Vicat softening temperature of the styrenic polymer or styrenic block copolymer (test load 10 N, temperature increase rate 50° C./h) measured in accordance with ISO 306 may be in the following range.
  • the Vicat softening temperature may be 50°C or higher, 60°C or higher, 70°C or higher, 72°C or higher, 75°C or higher, 80°C or higher, 81°C or higher, or 83°C or higher.
  • the Vicat softening temperature is 100°C or lower, 90°C or lower, 85°C or lower, 83°C or lower, 81°C or lower, or 80°C from the viewpoint of obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product.
  • the temperature may be below 75°C or below 72°C. From these viewpoints, the Vicat softening temperature may be 50-100°C, 60-90°C, or 70-85°C.
  • the content of the elastomer As the content of the elastomer, the content of the styrenic polymer, or the content of the styrene-based block copolymer, the content A is determined from the viewpoint of easily suppressing the generation of wrinkles in the conductive member, and from the viewpoint of being excellent in the cured product.
  • the total mass of the resin composition (excluding the mass of the organic solvent), the total amount of the elastomer, the polymerizable compound, and the polymerization initiator, the elastomer, the (meth) ) Total amount of acrylic compound and polymerization initiator, total amount of styrenic block copolymer, (meth)acrylic compound and polymerization initiator, total amount of elastomer and polymerizable compound, total amount of elastomer and (meth)acrylic compound Alternatively, the amount may be within the following range based on the total amount of the styrenic block copolymer and the (meth)acrylic compound.
  • Content A is 20% by mass or more, more than 20% by mass, 21% by mass or more, 23% by mass or more, 25% by mass or more, 30% by mass or more, more than 30% by mass, 40% by mass or more, more than 40% by mass, It may be 50% by mass or more, more than 50% by mass, 60% by mass or more, 65% by mass or more, 70% by mass or more, 75% by mass or more, 78% by mass or more, or 80% by mass or more. Content A may be 99% by mass or less, 95% by mass or less, 90% by mass or less, 85% by mass or less, 82% by mass or less, or 80% by mass or less.
  • content A is 20-99% by mass, 20-90% by mass, 20-85% by mass, 50-99% by mass, 50-90% by mass, 50-85% by mass, 70-99% by mass.
  • % 70-90% by weight, or 70-85% by weight.
  • the resin composition according to this embodiment contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound include radical polymerizable compounds, cationic polymerizable compounds, anionic polymerizable compounds, and the like.
  • the polymerizable compound may include a radically polymerizable compound from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product. .
  • polymerizable compounds examples include (meth)acrylic compounds (compounds having (meth)acryloyl groups), epoxy compounds (compounds having epoxy groups), maleimide compounds, vinylidene halide compounds, vinyl ether compounds, vinyl ester compounds, vinylamide compounds, Aromatic vinyl compounds (e.g. vinylpyridine compounds), allyl compounds, styrene compounds, (meth)acrylamide compounds, nadimide compounds, natural rubber, isoprene rubber, butyl rubber, nitrile rubber, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, Examples include carboxylated nitrile rubber, oxetane compounds, and lactone compounds.
  • Polymerizable compounds are useful from the viewpoint of easily suppressing wrinkles in conductive members, from the viewpoint of making it easy to obtain excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in cured products, and from the viewpoint of providing excellent transparency in cured products. From a simple standpoint, it may include a compound having an ethylenically unsaturated bond, and may include a (meth)acrylic compound. As the (meth)acrylic compound, a compound having no epoxy group may be used.
  • the (meth)acrylic compound is selected from the group consisting of monofunctional (meth)acrylic compounds and polyfunctional (meth)acrylic compounds (bifunctional (meth)acrylic compounds or trifunctional or more functional (meth)acrylic compounds). may contain at least one type of For example, a "bifunctional (meth)acrylic compound” means a compound in which the total number of acryloyl groups and methacryloyl groups in one molecule is 2.
  • (Meth)acrylic compounds are used as bifunctional (meth)acrylic compounds from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in conductive members and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low relative permittivity, dielectric loss tangent, etc.) in cured products. may include compounds.
  • Examples of monofunctional (meth)acrylic compounds include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate, tert-butyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, and isoamyl.
  • bifunctional (meth)acrylic compounds include ethylene glycol di(meth)acrylate, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, tetraethylene glycol di(meth)acrylate, and polyethylene glycol di(meth)acrylate.
  • propylene glycol di(meth)acrylate dipropylene glycol di(meth)acrylate, tripropylene glycol di(meth)acrylate, tetrapropylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, ethoxylated polypropylene glycol di(meth)acrylate, meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di(meth)acrylate ) acrylate, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol di(meth)acrylate, nonanediol di(meth)acrylate (e.g.
  • 1,9-nonanediol di(meth)acrylate decanediol di(meth)acrylate (e.g. 1,10-decanediol di(meth)acrylate), dodecanediol di(meth)acrylate (e.g. 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate) , glycerin di(meth)acrylate, ethoxylated 2-methyl-1,3-propanediol di(meth)acrylate (e.g.
  • Trimethylolpropane tri(meth)acrylic compounds having three or more functionalities include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, and ethoxylated propoxylated trimethylolpropane.
  • (Meth)acrylic compounds are aliphatic (meth)acrylates from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in conductive members and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in cured products. may include.
  • (Meth)acrylic compounds are suitable for use with alkanediol di(meth)acrylic compounds, from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in conductive members, and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low relative dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in cured products.
  • the (meth)acrylic compound may include an acrylic compound.
  • the (meth)acrylic compound may include a methacrylic compound from the viewpoint of easily obtaining a low dielectric loss tangent in the cured product.
  • the (meth)acrylic compound may include a compound represented by the following general formula (I) from the viewpoint of easy adjustment of the dielectric properties (relative permittivity, dielectric loss tangent, etc.) of the cured product.
  • R 1 represents a group containing 9 or less carbon atoms and 2 or more oxygen atoms
  • R 2a and R 2b each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • the number of carbon atoms in R 1 is 1-9.
  • the number of carbon atoms in R1 is 2 or more, 3 or more, 4 or more, 5 or more, 6 or more, 7 or more, from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product. Alternatively, it may be 8 or more.
  • the number of oxygen atoms in R1 is 6 or less, 5 or less, 4 or less, 3 or less, or 2 or less, from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product. It's fine.
  • the (meth)acrylic compound may include a compound in which R 1 in general formula (I) does not have a cyclic structure, from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in a cured product. , may include compounds in which R 1 does not have an alicyclic ring in general formula (I).
  • the content of the compound represented by the general formula (I) is determined based on the total mass of the polymerizable compound or (meth) It may be 50% by mass or more, more than 50% by mass, 70% by mass or more, 90% by mass or more, 95% by mass or more, 99% by mass or more, or more than 99% by mass, based on the total mass of the acrylic compound.
  • An embodiment in which the polymerizable compound or (meth)acrylic compound contained in the resin composition substantially consists of a compound represented by general formula (I) (the content of the compound represented by general formula (I) is The content may be substantially 100% by mass based on the total mass of the polymerizable compound or (meth)acrylic compound contained in the resin composition.
  • the (meth)acrylic compound may include a (meth)acrylic compound having a hydroxy group, and may not include a (meth)acrylic compound having a hydroxy group.
  • the content of the (meth)acrylic compound having a hydroxy group is 5% by mass or less, less than 5% by mass, 1% by mass or less, based on the total mass of the polymerizable compound or the total mass of the (meth)acrylic compound. It may be 0.1% by weight or less, 0.01% by weight or less, or substantially 0% by weight.
  • the molecular weight of the (meth)acrylic compound may be in the following range from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product.
  • the molecular weight of the (meth)acrylic compound is 80 or more, 100 or more, 120 or more, 150 or more, 180 or more, 200 or more, 220 or more, 250 or more, 260 or more, 280 or more, 290 or more, 300 or more, or 320 or more. It's good to be there.
  • the molecular weight of the (meth)acrylic compound may be 1000 or less, 800 or less, 600 or less, 550 or less, 500 or less, 450 or less, 400 or less, 350 or less, 320 or less, 300 or less, or 280 or less. From these viewpoints, the molecular weight of the (meth)acrylic compound is 80-1000, 80-500, 80-400, 80-300, 200-1000, 200-500, 200-400, 200-300, 250-1000, It may be 250-500, 250-400, 250-300, 300-1000, 300-500, or 300-400.
  • content B1 is determined from the viewpoint of easily suppressing the generation of wrinkles in the conductive member, and from the viewpoint of providing excellent dielectric properties (low relative dielectric constant) in the cured product. , dielectric loss tangent, etc.), the following range may be used for 100 parts by mass of elastomer, 100 parts by mass of styrenic polymer, or 100 parts by mass of styrenic block copolymer.
  • Content B1 may be 1 part by mass or more, 5 parts by mass or more, 10 parts by mass or more, 15 parts by mass or more, 20 parts by mass or more, or 25 parts by mass or more.
  • Content B1 is 300 parts by mass or less, 200 parts by mass or less, 100 parts by mass or less, 80 parts by mass or less, 60 parts by mass or less, 50 parts by mass or less, 40 parts by mass or less, 30 parts by mass or less, or 25 parts by mass. It may be the following. From these points of view, content B1 is 1 to 300 parts by mass, 10 to 300 parts by mass, 20 to 300 parts by mass, 1 to 100 parts by mass, 10 to 100 parts by mass, 20 to 100 parts by mass, 1 to 50 parts by mass. parts, 10 to 50 parts by weight, or 20 to 50 parts by weight.
  • content B2 is determined from the viewpoint of easily suppressing the generation of wrinkles in the conductive member, and from the viewpoint of providing excellent dielectric properties (low relative dielectric constant) in the cured product. , dielectric loss tangent, etc.), the total mass of the resin composition (excluding the mass of the organic solvent), the total amount of the elastomer, the polymerizable compound, and the polymerization initiator, the elastomer, the (meth)acrylic compound, and the polymerization initiator.
  • Content B2 may be 1% by mass or more, 5% by mass or more, 10% by mass or more, 15% by mass or more, 18% by mass or more, or 20% by mass or more.
  • Content B2 is 80% by mass or less, less than 80% by mass, 70% by mass or less, less than 70% by mass, 60% by mass or less, less than 60% by mass, 50% by mass or less, less than 50% by mass, 40% by mass or less, It may be 35% by mass or less, 30% by mass or less, 25% by mass or less, or 20% by mass or less. From these points of view, the content B2 is 1 to 80% by mass, 1 to 50% by mass, 1 to 30% by mass, 10 to 80% by mass, 10 to 50% by mass, 10 to 30% by mass, 15 to 80% by mass. %, 15-50% by weight, or 15-30% by weight.
  • the resin composition according to this embodiment contains a polymerization initiator.
  • a thermal polymerization initiator can be used as the polymerization initiator.
  • thermal polymerization initiators include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide; 1,1-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane, 1,1-bis(tert-butylperoxy); )-2-methylcyclohexane, 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(tert-hexylperoxy)cyclohexane, 1,1-bis(tert-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis(tert-hexylperoxy)cyclohexane, -hexylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane; hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide; ⁇ , ⁇ '-bis(tert-but
  • the polymerization initiator contains a thermal radical polymerization initiator from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product. Often a thermal cationic polymerization initiator may be included.
  • the polymerization initiator may contain a peroxide, from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member, and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product, Peroxy esters may be included and may include 2,5-dimethyl-2,5-bis(2-ethylhexanoylperoxy)hexane.
  • the content of the polymerization initiator is the total mass of the resin composition (excluding the mass of the organic solvent), the total amount of the elastomer, the polymerizable compound, and the polymerization initiator, and the total amount of the elastomer, the (meth)acrylic compound, and the polymerization initiator. , total amount of styrenic block copolymer, (meth)acrylic compound and polymerization initiator, total amount of elastomer and polymerizable compound, total amount of elastomer and (meth)acrylic compound, or styrenic block copolymer and The amount may be within the following range based on the total amount of the (meth)acrylic compound.
  • the content of the polymerization initiator is determined from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member, from the viewpoint of making it easy to obtain excellent dielectric properties (low dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product, and from the viewpoint of obtaining excellent curability. From a simple standpoint, 0.01% by mass or more, 0.05% by mass or more, 0.1% by mass or more, more than 0.1% by mass, 0.3% by mass or more, 0.5% by mass or more, 0.8% by mass % or more, 0.9% by mass or more, or 1% by mass or more.
  • the content of the polymerization initiator is 10% by mass or less, from the viewpoint of easily suppressing the occurrence of wrinkles in the conductive member and from the viewpoint of easily obtaining excellent dielectric properties (low relative dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) in the cured product. It may be 8% by mass or less, 5% by mass or less, 3% by mass or less, 2% by mass or less, less than 2% by mass, 1.5% by mass or less, or 1% by mass or less. From these viewpoints, the content of the polymerization initiator is 0.01 to 10% by mass, 0.01 to 5% by mass, 0.01 to 2% by mass, 0.1 to 10% by mass, 0.1 to 5% by mass. % by weight, 0.1-2% by weight, 0.5-10% by weight, 0.5-5% by weight, or 0.5-2% by weight.
  • the resin composition according to this embodiment may contain additives other than the elastomer, polymerizable compound, and polymerization initiator.
  • additives include curing accelerators, antioxidants, ultraviolet absorbers, visible light absorbers, colorants, plasticizers, stabilizers, fillers, reducing agents, bicarbonates, etc.
  • the reducing agent include vanadyl acetylacetonate, vanadium acetylacetonate, cobalt acetylacetonate, copper acetylacetonate, vanadyl naphthenate, vanadyl stearate, copper naphthenate, copper acetate, cobalt octylate, and the like.
  • the content of filler is based on the total amount of elastomer and polymerizable compound, the total amount of elastomer and (meth)acrylic compound, or the total amount of styrenic block copolymer and (meth)acrylic compound. , 100% by mass or less, less than 100% by mass, 50% by mass or less, 20% by mass or less, less than 20% by mass, 10% by mass or less, 1% by mass or less, 0.1% by mass or less, or substantially 0 mass% It may be %.
  • the content of the reducing agent is 0.01 parts by mass or less, less than 0.01 parts by mass, 0.001 parts by mass or less, or 100 parts by mass of the polymerizable compound or 100 parts by mass of the (meth)acrylic compound.
  • the content of hydrogen carbonate is 0.1 parts by mass or less, less than 0.1 parts by mass, 0.01 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the polymerizable compound or 100 parts by mass of the (meth)acrylic compound. It may be 0.001 parts by weight or less, or substantially 0 parts by weight.
  • the resin composition according to this embodiment may contain an organic solvent.
  • the resin composition according to this embodiment may be used as a resin varnish by diluting it with an organic solvent.
  • organic solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene, and p-cymene; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and 4-hydroxy-4 - Ketones such as methyl-2-pentanone; Esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, ⁇ -butyrolactone; Carbonic esters such as ethylene carbonate and propylene carbonate; N,N-dimethylformamide, N , N-dimethylacetamide, N-methylpyrrol
  • the total light transmittance per 100 ⁇ m thickness of the layer containing the resin composition according to this embodiment or the cured product according to this embodiment may be 90% or more or 91% or more.
  • the total light transmittance can be measured using, for example, NDH-5000 (trade name) manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with the method specified in JIS K 7136.
  • the total light transmittance described below can also be measured by the same method.
  • the laminate according to the present embodiment includes a base film (supporting film) and a transparent resin layer disposed on the base film, and the transparent resin layer is made of the resin composition according to the present embodiment and the like. Contains at least one selected from the group consisting of cured products.
  • the constituent materials of the base film include polyester (polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyolefin (polyethylene, polypropylene, cycloolefin polymer, etc.), polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyether. Examples include imide, polyether sulfide, polyether sulfone, polyether ketone, polyphenylene ether, and polyphenylene sulfide.
  • the thickness of the base film may be 1 to 200 ⁇ m, 10 to 100 ⁇ m, 20 to 80 ⁇ m, or 20 to 50 ⁇ m.
  • the thickness of the transparent resin layer is 1000 ⁇ m or less, 800 ⁇ m or less, 500 ⁇ m or less, 300 ⁇ m or less, 250 ⁇ m or less, 200 ⁇ m or less, 150 ⁇ m or less, or 100 ⁇ m from the viewpoint of easily obtaining excellent transmittance and making the transparent antenna thinner. Below, it may be 80 ⁇ m or less, 50 ⁇ m or less, 30 ⁇ m or less, 25 ⁇ m or less, 20 ⁇ m or less, 15 ⁇ m or less, 12 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or less, 9 ⁇ m or less, or 8 ⁇ m or less.
  • the thickness of the transparent resin layer is 0.1 ⁇ m or more, 0.5 ⁇ m or more, 0.75 ⁇ m or more, 1 ⁇ m or more, 2 ⁇ m or more, 3 ⁇ m or more from the viewpoint of easily reducing transmission loss and improving antenna characteristics. , 5 ⁇ m or more, 6 ⁇ m or more, 7 ⁇ m or more, 8 ⁇ m or more, 10 ⁇ m or more, 20 ⁇ m or more, 30 ⁇ m or more, 40 ⁇ m or more, 50 ⁇ m or more, 80 ⁇ m or more, or 100 ⁇ m or more.
  • the thickness of the transparent resin layer is 0.1 to 1000 ⁇ m, 1 to 1000 ⁇ m, 10 to 500 ⁇ m, 20 to 200 ⁇ m, 50 to 200 ⁇ m, 0.1 to 500 ⁇ m, 0.1 to 100 ⁇ m, 0.5 ⁇ 250 ⁇ m, 0.5 to 150 ⁇ m, 0.75 to 100 ⁇ m, 1 to 50 ⁇ m, 2 to 30 ⁇ m, 3 to 20 ⁇ m, or 5 to 20 ⁇ m.
  • the first aspect of the laminate according to this embodiment may include a protective film disposed on the transparent resin layer.
  • the second aspect of the laminate according to this embodiment may include a conductive member disposed on the transparent resin layer.
  • the protective film As the constituent material of the protective film, the above-mentioned constituent materials as the constituent material of the base film can be used.
  • the protective film may be the same film as the base film, or may be a different film from the base film.
  • the thickness of the protective film may be 1 to 200 ⁇ m, 10 to 100 ⁇ m, 20 to 80 ⁇ m, or 20 to 50 ⁇ m.
  • the conductive member may be solid and may have a patterned portion (may be patterned).
  • a conductive member having a patterned portion hereinafter referred to as a "patterned conductive member”
  • part or all of the conductive member may be patterned (see the following description regarding the conductive member having a patterned portion).
  • Examples of the shape of the patterned portion include a mesh shape, a spiral shape, and the like.
  • the conductive member may not be patterned (eg, meshed).
  • the patterned (eg, mesh-shaped) electrically conductive member may be composed of a wire (eg, a metal wire).
  • Examples of the constituent material of the conductive member include metal materials, carbon materials (for example, graphene), conductive polymers, and the like.
  • Examples of the metal material include copper, silver, and gold.
  • the conductive member may contain copper from the viewpoint of easily obtaining excellent conductivity and from the viewpoint of easily reducing manufacturing costs.
  • the conductive member may have a single layer or multiple layers.
  • the multi-layer conductive member includes, for example, a first conductive member (for example, a metal member) disposed on a transparent resin layer, and a second conductive member (for example, a metal member) disposed on the first conductive member. , may have.
  • At least one member selected from the group consisting of the first conductive member and the second conductive member may be solid and may have a patterned (for example, mesh-like) portion.
  • the second electrically conductive member can be used as a protective layer that suppresses staining, damage, etc. of the first electrically conductive member, and thereby, it is also possible to improve the handleability of the laminate.
  • At least one member selected from the group consisting of the first conductive member and the second conductive member may contain copper.
  • the thickness of the conductive member (total thickness if the conductive member has multiple layers), the thickness of the first conductive member, or the thickness of the second conductive member may be in the following ranges.
  • the thickness is 50 ⁇ m or less, 45 ⁇ m or less, 40 ⁇ m or less, 35 ⁇ m or less, 30 ⁇ m or less, from the viewpoint that the conductive member is hard to chip, and from the viewpoint of easy patterning when a solid conductive member is patterned (for example, mesh processing). , 25 ⁇ m or less, 20 ⁇ m or less, 18 ⁇ m or less, 15 ⁇ m or less, 10 ⁇ m or less, 8 ⁇ m or less, 5 ⁇ m or less, 3 ⁇ m or less, or 2 ⁇ m or less.
  • the thickness is 0.1 ⁇ m or more, 0.3 ⁇ m or more, 0.5 ⁇ m or more, 0.8 ⁇ m or more, 1 ⁇ m or more, 1.2 ⁇ m or more, 1.5 ⁇ m or more, or 2 ⁇ m or more, from the viewpoint of easily obtaining excellent elongation. It may be. From these points of view, the thickness may be 0.1-50 ⁇ m, 0.1-30 ⁇ m, 0.1-20 ⁇ m, 0.1-10 ⁇ m, 0.5-5 ⁇ m, or 1-3 ⁇ m.
  • the thickness of the first conductive member may be smaller than the thickness of the second conductive member.
  • the thickness of the conductive member (total thickness) or the thickness of the second conductive member is 3 ⁇ m or more, 5 ⁇ m or more, 8 ⁇ m or more, 10 ⁇ m or more, 15 ⁇ m or more, 18 ⁇ m or more, or , 20 ⁇ m or more.
  • the laminate according to the second aspect may include a protective film disposed on the conductive member.
  • the protective film the protective film described above as the protective film in the laminate according to the first aspect can be used. At least a portion of the surface of the protective film on the conductive member side may be subjected to a mold release treatment, and a release layer may be disposed on at least a portion of the surface of the protective film on the conductive member side.
  • the laminate according to the second aspect includes a base film, a transparent resin layer, a conductive member, and a protective film, the conductive member being a single layer, and at least one of the surfaces of the protective film on the conductive member side. It may be an embodiment in which part of the mold release treatment is performed.
  • the laminate according to the second embodiment may include a layer L disposed on the conductive member as a layer containing at least one selected from the group consisting of a photosensitive composition and a cured product thereof.
  • the photosensitive composition has photosensitivity to actinic rays (ultraviolet rays, etc.), and may have positive photosensitivity or negative photosensitivity.
  • the photosensitive composition may have photocurability that is cured by light irradiation.
  • the layer L may be formed either before or after the light irradiation, and may have at least one member selected from the group consisting of an uncured portion and a cured portion.
  • the layer L may be formed either before or after the light irradiation, and may have at least one type selected from the group consisting of an unexposed area and an exposed area.
  • the constituent materials of the photosensitive composition are not particularly limited.
  • the laminate 10 in FIG. 1A includes a base film 10a, a transparent resin layer 10b disposed on the base film 10a, and a protective film 10c disposed on the transparent resin layer 10b.
  • the transparent resin layer 10b is made of the resin composition according to the present embodiment or the cured product according to the present embodiment.
  • the laminate 20 in FIG. 1(b) includes a base film 20a, a transparent resin layer 20b disposed on the base film 20a, and a conductive member 20c disposed on the transparent resin layer 20b.
  • the transparent resin layer 20b is made of the resin composition according to this embodiment or the cured product according to this embodiment.
  • the transparent resin layer 30b is made of the resin composition according to this embodiment or the cured product according to this embodiment.
  • the resin composition and cured product thereof according to the present embodiment can be used in a transparent antenna and a method for manufacturing the same.
  • the locations where the resin composition and its cured product according to the present embodiment are applied are not particularly limited.
  • the base material obtained by curing the resin composition of the transparent resin layer in the curing process will be referred to as a "transparent base material", and the transparent resin layer will be formed in the curing process.
  • a layer that may include a state before curing the resin composition is referred to as a "transparent resin layer.”
  • a first aspect of the transparent antenna according to the present embodiment includes a transparent base material and a conductive member disposed on the transparent base material, and the transparent base material contains a cured product of the resin composition according to the present embodiment.
  • the transparent antenna according to the first aspect may include a covering member disposed on the conductive member, the covering member may include a cured product of the resin composition according to the present embodiment, and the covering member may include a cured product of the resin composition according to the present embodiment.
  • a second aspect of the transparent antenna according to the present embodiment includes a conductive member and a covering member disposed on the conductive member, and the covering member includes a cured product of the resin composition according to the present embodiment.
  • the second aspect of the transparent antenna according to this embodiment may include a transparent base material, and the conductive member may be disposed on the transparent base material.
  • the transparent base material may contain the cured product of the resin composition according to the present embodiment, or may not contain the cured product of the resin composition according to the present embodiment (this embodiment may include cured products of resin compositions that do not fall under the category of resin compositions according to the present invention).
  • the transparent antenna according to the present embodiment includes a transparent base material, a conductive member disposed on the transparent base material, and a covering member disposed on the conductive member, and is selected from the group consisting of the transparent base material and the covering member. At least one of the selected resin compositions may include a cured product of the resin composition according to the present embodiment.
  • the covering member may be disposed on at least a portion (part or all) of the conductive member.
  • the covering member may be disposed on at least a portion (part or all) of the transparent substrate.
  • the covering member may have a portion disposed on the transparent base material without being disposed on the conductive member.
  • the covering member may be in contact with the conductive member.
  • the covering member may or may not be in contact with the transparent base material.
  • the transparent base material may be in contact with a transparent member different from the covering member (for example, a support member described below).
  • the covering member may be in contact with a transparent member different from the transparent base material (for example, a protection member described below).
  • At least one member selected from the group consisting of the transparent base material and the covering member can contain a cured product of the resin composition according to the present embodiment.
  • member A When one of the transparent base material and the coating member (hereinafter referred to as "member A") does not contain the cured product of the resin composition according to the present embodiment, member A has a thickness of 90% or more per 100 ⁇ m or It may be formed of a material having a total light transmittance of 91% or more.
  • member A The constituent materials of member A include polyolefin (polyethylene, polypropylene, cycloolefin polymer (COP), etc.), polyester (polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, Examples include polyetherimide, polyether sulfide, polyether sulfone, polyether ketone, polyphenylene ether, and polyphenylene sulfide.
  • member A may include a cycloolefin polymer.
  • the configuration described above regarding the conductive member in the laminate according to the second aspect can be used as the configuration of the conductive member.
  • the conductive member may contain copper.
  • the conductive member may be solid or may have a patterned (eg, mesh-like) portion.
  • the conductive member may be a single layer.
  • the thickness of the transparent base material the thickness mentioned above regarding the transparent resin layer of the laminate according to this embodiment can be used.
  • the transparent antenna according to this embodiment may include a support member that supports a transparent base material, that is, a support member, a transparent base material disposed on the support member, and a conductive member disposed on the transparent base material. You may have the following.
  • the transparent antenna according to the present embodiment may include a protective member disposed on the covering member, that is, a transparent base material, a conductive member disposed on the transparent base material, and a covering disposed on the conductive member. and a protection member disposed on the covering member.
  • the shapes of the support member and the protection member are not particularly limited, and may be film-like, substrate-like, irregularly shaped, or the like.
  • the constituent materials of the support member and the protection member include resin materials, inorganic materials, and the like.
  • resin materials include polyolefins (polyethylene, polypropylene, cycloolefin polymers, etc.), polyesters (polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyether.
  • Examples include sulfide, polyether sulfone, polyether ketone, polyphenylene ether, and polyphenylene sulfide.
  • Examples of the inorganic material include glass.
  • the support member and the protection member are not limited to being transparent, and may be transparent members (transparent film, transparent substrate, etc.) or non-transparent members.
  • the support member and the protection member may be formed of a material having a total light transmittance of 90% or more per 100 ⁇ m thickness.
  • the support member may contain polyolefin from the viewpoint of low dielectricity.
  • a first aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment includes at least one selected from the group consisting of the resin composition and its cured product according to the present embodiment, as a method for obtaining the transparent antenna according to the first aspect.
  • a processing step is provided in which at least a portion of the conductive member (solid conductive member) disposed on the transparent resin layer is patterned (for example, processed into a mesh shape).
  • a patterned resist layer is placed on the conductive member of the laminate including a transparent resin layer and a conductive member placed on the transparent resin layer, and the conductive member is etched to form a pattern. (For example, a mesh-like conductive member) may be obtained.
  • the resist layer may be removed after etching the conductive member.
  • a patterned resist layer can be obtained by removing an uncured portion or a cured portion of a photosensitive layer (a layer containing a photosensitive composition) disposed on a conductive member.
  • a patterned resist layer is formed by irradiating (exposure) a photosensitive layer (a layer containing a photosensitive composition) disposed on a conductive member with actinic light (e.g. ultraviolet rays), and then forming an unexposed part of the photosensitive layer (a layer containing a photosensitive composition). It can be obtained by removing (developing) the exposed area (when the layer has negative photosensitivity) or the exposed area (when the photosensitive layer has positive photosensitivity).
  • the photosensitive layer the above-mentioned layer L can be used.
  • a laminate including a conductive member disposed on a transparent resin layer is obtained by forming a conductive member on a transparent resin layer containing at least one selected from the group consisting of the resin composition according to this embodiment and its cured product.
  • the conductive member may be obtained by forming the conductive member on the transparent resin layer after removing the protective film of the laminate according to the first aspect.
  • the laminate including the conductive member disposed on the transparent resin layer may be the laminate according to the second aspect.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the first aspect includes curing the transparent resin layer (resin composition of the transparent resin layer) before the processing step, after the processing step, or before and after the processing step to obtain a cured product (transparent
  • the method may include a curing step to obtain a base material).
  • the uncured resin composition may be heated to cure the resin composition.
  • the curing process in other aspects of the method for manufacturing a transparent antenna described below may be the same as the curing process in the method for manufacturing a transparent antenna according to the first aspect.
  • a second aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment includes at least one selected from the group consisting of the resin composition and its cured product according to the present embodiment, as a method for obtaining the transparent antenna according to the first aspect.
  • the method includes a forming step of forming a patterned (for example, mesh-shaped) conductive member in a state where a patterned resist layer is disposed on the transparent resin layer.
  • a patterned (for example, mesh-shaped) conductive member may be formed by plating or sputtering using a resist layer as a mask. The resist layer may be removed after the formation process.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the second aspect includes curing the transparent resin layer (resin composition of the transparent resin layer) before the forming step, after the forming step, or before and after the forming step to obtain a cured product (transparent
  • the method may include a curing step to obtain a base material).
  • the third aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment includes a removing step of removing the base film in the laminate according to the second aspect.
  • the conductive member in the laminate according to the second aspect may have a patterned (for example, mesh-shaped) portion. If the transparent resin layer of the laminate includes a cured product during the removal process (if the transparent resin layer is a transparent base material), the removal process may be performed to form a transparent base material and a conductive member (in a pattern (e.g. A laminate of mesh-like conductive members, etc.) can be obtained.
  • the transparent resin layer (resin composition of the transparent resin layer) is cured before the removal step, after the removal step, or before and after the removal step, and the cured product (transparent
  • the method may include a curing step to obtain a base material).
  • a fourth aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment includes a lamination step of laminating the transparent resin layer in the laminate according to the present embodiment on a support member.
  • the support member the support member described above regarding the transparent antenna can be used.
  • the transparent resin layer may be laminated on the support member with the base film of the laminate according to the present embodiment removed, and the transparent resin layer may be laminated with the protective film of the laminate according to the first aspect removed.
  • a transparent resin layer may be laminated onto the support member.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect may include a removal step A for removing the base film in the laminate according to the present embodiment, and a removal step B for removing the protective film in the laminate according to the first aspect. may be provided.
  • the transparent resin layer and the conductive member may be laminated on the support member in a state where the transparent resin layer is located closer to the support member than the conductive member, and the transparent resin layer and the conductive member may be laminated on the support member.
  • the transparent resin layer and the conductive member may be laminated on the support member with the transparent resin layer and the conductive member in contact with the support member.
  • the conductive member may be solid or may have a patterned (for example, mesh-like) portion.
  • the transparent resin layer and the conductive member can be laminated on the support member in a state where the base film in the laminate according to the second aspect is removed.
  • the transparent resin layer is located closer to the supporting member than the conductive member (the conductive member is closer to the protective film).
  • the transparent resin layer, the conductive member, and the protective film may be laminated on the support member in a state in which the transparent resin layer is located on the transparent resin layer side.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect includes the removal step A and the lamination step. Afterwards, a removal step B for removing the protective film may be included.
  • the transparent resin layer, the conductive member, and the layer L are attached to the support member in a state where the transparent resin layer is located closer to the support member than the conductive member. It may be laminated on top.
  • the supporting member when laminating the supporting member and the conductive member with good adhesion in a laminate having a supporting member and a conductive member disposed on the supporting member, the supporting member may be subjected to surface treatment (plasma treatment, corona treatment, etc.). This may complicate the manufacturing process of the laminate.
  • surface treatment plasma treatment, corona treatment, etc.
  • the adhesion between the polyolefin and the conductive member e.g., metal material such as copper
  • surface treatment is required to obtain sufficient adhesion.
  • a laminate of the support member and the conductive member for example, it is possible to obtain a laminate having a support member, a transparent base material, and a conductive member), and for example, a support member containing a polyolefin and a conductive member containing copper can be brought into sufficient adhesion through a transparent base material. It is possible to obtain a transparent antenna while obtaining the same characteristics. Further, according to the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect, the transparent resin layer and the conductive member can be supplied on the support member at once by laminating the laminate according to the second aspect on the support member.
  • the laminate according to the second aspect includes the layer L described above
  • the laminate according to the second aspect is laminated on the support member, so that the transparent resin is It is possible to supply the layer, the conductive member, and the layer L on the support member all at once, and it is not necessary to form each member on the support member each time a transparent antenna is manufactured, and the transparent antenna can be provided by a simple method. You can get an antenna.
  • a transparent antenna according to the fourth aspect, by using a material having excellent dielectric properties (low relative dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.) as the constituent material of the transparent resin layer or the transparent base material, A transparent antenna with excellent antenna characteristics can be obtained.
  • a material having excellent dielectric properties low relative dielectric constant, dielectric loss tangent, etc.
  • the transparent resin layer in the removal step A, the removal step B, and the lamination step may be uncured or may be a cured product.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect includes: before the removal step A, before the removal step B, before the lamination step, after the removal step A, after the removal step B, after the lamination step, and after the removal step A.
  • a curing step of curing the transparent resin layer (resin composition of the transparent resin layer) to obtain a cured product (transparent base material) may be provided before and after the removal step B, or before and after the lamination step.
  • the conductive member in the removal step A, the removal step B, and the lamination step may be solid and may have a patterned (for example, mesh-like) portion.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect may include a processing step A in which at least a portion of the conductive member is patterned (for example, processed into a mesh shape) after the lamination step. .
  • the processing step A at least a portion of the conductive member may be patterned by etching at least a portion of the conductive member using a patterned resist layer as a mask.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect is a laminate including a transparent resin layer and a conductive member disposed on the transparent resin layer.
  • the conductive member may include at least one type selected from the above, and the conductive member may have a patterned portion.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect includes at least a portion of the layer L after the lamination step and before the processing step A.
  • a processing step B may be included in which a patterned layer L (resist layer) is obtained by patterning.
  • processing step B at least one part of the layer L is removed (developed) by removing (developing) the unexposed area (when the layer L has negative photosensitivity) or the exposed area (when the layer L has positive photosensitivity).
  • At least a portion of the layer L may be patterned by exposing the layer L and then removing (developing) the unexposed or exposed portions.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect may include a step of exposing at least a portion of the layer L before the laminating step.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect uses a laminate including a layer containing at least one selected from the group consisting of a photosensitive composition and a cured product thereof. and a conductive member disposed between the first layer and the second layer, the laminate is supported in a state in which the first layer is located closer to the support member than the second layer.
  • the first layer includes at least one type selected from the group consisting of the resin composition and its cured product according to the present embodiment, and the second layer includes a photosensitive composition and a cured product thereof.
  • An embodiment may include at least one selected from the group consisting of cured products thereof.
  • the conductive member in the removal step A, the removal step B, and the lamination step may have multiple layers, and the first conductive member disposed on the transparent resin layer and the first conductive member disposed on the transparent resin layer. and a second conductive member disposed on the first conductive member. At least one member selected from the group consisting of the first conductive member and the second conductive member may be solid and may have a patterned (for example, mesh-like) portion. At least one member selected from the group consisting of the first conductive member and the second conductive member may contain copper.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect may include a removal step C of removing the second conductive member after the lamination step. In the removal step C, the second electrically conductive member can be peeled off from the first electrically conductive member.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect may include, after the removal step C, a processing step of patterning at least a portion of the first conductive member (for example, processing it into a mesh shape).
  • the first conductive member may be etched with a patterned resist layer disposed on the first conductive member.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect includes curing and curing the transparent resin layer (resin composition of the transparent resin layer) before the removal step C, after the removal step C, or before and after the removal step C. It may include a curing step to obtain a product (transparent base material).
  • a fifth aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment is a method for obtaining the transparent antenna according to the first aspect, in which the above-mentioned base film and the above-mentioned transparent resin layer (the resin composition according to the present embodiment and A laminate (a laminate according to the second aspect) comprising: a transparent resin layer containing at least one type selected from the group consisting of cured products thereof; ), in which the transparent resin layer in the laminate according to the second aspect is located closer to the support member than the conductive member, and the transparent resin layer and the conductive member are laminated on the support member.
  • a removing step C is provided for removing the second conductive member in the state.
  • a transparent resin layer and a conductive member are laminated on a supporting member before the removing step C, after the removing step C, or before and after the removing step C.
  • the method may include a curing step of curing the resin layer (resin composition of the transparent resin layer) to obtain a cured product (transparent base material).
  • the transparent resin layer may be cured in a state where the transparent resin layer and the conductive member are laminated on the support member, with the transparent resin layer being located closer to the support member than the conductive member.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the fifth aspect after removing the second conductive member (after the removal step C), at least a portion of the first conductive member is patterned (for example, processed into a mesh shape). It may include a processing step.
  • An example of the method for manufacturing the transparent antenna according to the fifth aspect includes, as the laminate according to the second aspect, the above-mentioned base film, the above-mentioned transparent resin layer (transparent resin layer containing an uncured resin composition), A manufacturing method using a laminate including the above-described conductive member having a first conductive member and a second conductive member, the above-mentioned removal step A (first removal step), lamination step, and curing step. and a removal step C (second removal step).
  • At least one member selected from the group consisting of the first conductive member and the second conductive member may contain copper.
  • the first conductive member in the laminate may be solid and may have a patterned (for example, mesh-shaped) portion.
  • a sixth aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment is a method for obtaining the transparent antenna according to the first aspect, in which a transparent resin layer (selected from the group consisting of the resin composition according to the present embodiment and a cured product thereof) is provided.
  • a removing step B is provided in which the protective film is removed in a state where the transparent resin layer containing at least one type of transparent resin layer), the conductive member, and the protective film are laminated in this order on the support member.
  • the laminate may have, for example, a single layer of the electrically conductive member, and a mold release treatment may be applied to at least a portion of the surface of the protective film on the electrically conductive member side.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the sixth aspect includes a removing step A of removing the base film in the laminate according to the second aspect, and removing the transparent resin layer, the conductive member, and the protective film from the supporting member before the removing step B. It may include a laminating step of laminating on top.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the sixth aspect includes curing the transparent resin layer (resin composition of the transparent resin layer) before the removal step B, after the removal step B, or before and after the removal step B. It may include a curing step to obtain a product (transparent base material).
  • the transparent antenna manufacturing method may include a covering member forming step of forming a covering member (a covering member not containing the resin composition according to the present embodiment and a cured product thereof) on the conductive member.
  • the method may include a step of arranging a protective member (for example, a transparent member) on the covering member.
  • a seventh aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment is a method for obtaining the transparent antenna according to the second aspect, in which the resin composition according to the present embodiment and a cured product thereof are applied on a conductive member.
  • the method further includes a covering member forming step of forming a covering member containing at least one of the following.
  • the covering member may be formed by supplying the resin composition according to the present embodiment onto the conductive member, and the transparent resin layer of the laminate according to the present embodiment may be disposed on the conductive member.
  • a covering member (transparent resin layer) may be formed by.
  • the transparent resin layer of the laminate according to this embodiment may be placed on the conductive member after removing the base film or the protective film.
  • the resin composition according to the present embodiment is applied onto the conductive member in a laminate including a transparent resin layer (transparent resin layer supporting the conductive member) and a conductive member disposed on the transparent resin layer. It may be a step of forming a covering member containing at least one selected from the group consisting of a transparent resin layer (a transparent resin layer that supports a conductive member) and a part of the transparent resin layer (for example, a transparent resin layer that supports a conductive member).
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the seventh aspect includes curing the covering member (resin composition of the covering member) before the covering member forming step, after the covering member forming step, or before and after the covering member forming step. It may include a curing step to obtain a cured product.
  • a transparent resin layer supporting a conductive member (resin of the transparent resin layer
  • the composition may include a curing step of curing the composition to obtain a cured product (transparent base material).
  • the covering member and the transparent resin layer supporting the conductive member may be cured in the same curing process.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the seventh aspect may include a step of arranging a protective member (for example, a transparent member) on the covering member after the covering member forming step.
  • An eighth aspect of the method for manufacturing a transparent antenna according to the present embodiment is a method for obtaining the transparent antenna according to the second aspect, in which a conductive member is formed in a laminate including a conductive member and a covering member disposed on the conductive member.
  • the layered product is laminated on the transparent resin layer in a state where the member is located closer to the transparent resin layer than the covering member, and the covering member is selected from the group consisting of the resin composition and its cured product according to the present embodiment. Contains at least one selected type.
  • the laminate according to the second aspect can be used as the laminate including a conductive member and a covering member disposed on the conductive member, and in the lamination step, the laminate according to the second aspect can be A transparent resin layer can be arranged as a covering member.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the eighth aspect includes a curing step of curing the covering member (resin composition of the covering member) to obtain a cured product before the laminating step, after the laminating step, or before and after the laminating step. may be provided.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the eighth aspect includes curing the transparent resin layer (resin composition of the transparent resin layer) before the lamination step, after the lamination step, or before and after the lamination step to obtain a cured product (transparent
  • the method may include a curing step to obtain a base material).
  • the covering member and the transparent resin layer may be cured in the same curing process.
  • the method for manufacturing a transparent antenna according to the eighth aspect may include a step of arranging a protective member (for example, a transparent member) on the covering member before the laminating step, after the laminating step, or before and after the laminating step.
  • the transparent resin layer and the conductive member are the same as the transparent resin layer and the conductive member described above regarding the laminate and the transparent antenna according to the present embodiment.
  • the transparent resin layer may be supported by a support member.
  • the covering member may have a part disposed on the transparent resin layer without being disposed on the conductive member, and in contact with the transparent base material and the conductive member. good.
  • the steps, configurations, etc. described above for each aspect may be combined with each other.
  • the steps, configurations, etc. described above regarding the method for manufacturing a transparent antenna according to the fourth aspect can be used.
  • the transparent antenna according to this embodiment can be used in image display devices, automobile components (windshields, rear glass, sunroofs, windows, etc.), buildings, and the like.
  • the image display device, automobile, or building according to this embodiment includes the transparent antenna according to this embodiment.
  • the image display device may include an image display section that displays an image, and a bezel section (frame section) located around the image display section, and a transparent antenna may be disposed on the image display section.
  • the image display device may be used in various electronic devices such as personal computers, navigation systems (eg, car navigation systems), mobile phones, watches, and electronic dictionaries.
  • the image display device 100 in FIG. 3 includes a transparent antenna 110 and a protection member 120 disposed on the transparent antenna 110.
  • the transparent antenna 110 includes a transparent base material 110a, a mesh-like conductive member 110b disposed on the transparent base material 110a, and a covering member 110c disposed on the transparent base material 110a and the conductive member 110b.
  • the image display device 200 in FIG. 4 includes a transparent antenna 210 and a protection member 220 disposed on the transparent antenna 210.
  • the transparent antenna 210 includes a transparent member 210a, a transparent base material 210b disposed on the transparent member 210a, a mesh-shaped conductive member 210c disposed on the transparent base material 210b, and a transparent base material 210b and the conductive member 210c. and a covering member 210d disposed at.
  • the covering members 110c and 210d cover the transparent base materials 110a and 210b and the conductive members 110b and 210c.
  • At least one selected from the group consisting of the transparent base material 110a and the covering member 110c includes a cured product of the resin composition according to the present embodiment, for example, a cured product of the resin composition according to the present embodiment. consists of things.
  • One of the transparent base material 110a and the covering member 110c may be formed of a material (eg, polyolefin such as cycloolefin polymer) having a total light transmittance of 90% or more per 100 ⁇ m thickness.
  • At least one selected from the group consisting of the transparent base material 210b and the covering member 210d includes a cured product of the resin composition according to the present embodiment, for example, a cured product of the resin composition according to the present embodiment.
  • a cured product of the resin composition according to the present embodiment consists of things.
  • One of the transparent base material 210b and the covering member 210d may be formed of a material having a total light transmittance of 90% or more per 100 ⁇ m thickness.
  • the conductive members 110b and 210c are made of copper, for example.
  • the transparent member 210a is made of polyolefin, for example.
  • the protective members 120, 220 may be, for example, glass plates.
  • elastomer 1 maleic anhydride-modified styrene-butadiene-styrene block copolymer, manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name: Tuffrene 912, styrene content: 40% by mass
  • polymerizable compound 1 acrylic Compound, 1,9-nonanediol diacrylate, manufactured by Showa Denko Materials Co., Ltd., trade name: FA-129AS
  • PA-129AS polymerization initiator (2,5-dimethyl-2,5-bis(2-ethylhexane)
  • a resin varnish was obtained by mixing 1.0 parts by mass of (peroxy)hexane, manufactured by NOF Corporation, trade name: Perhexa 25O), and 150 parts by mass of a solvent (toluene).
  • Example 2 Example 1 except that polymerizable compound 2 (methacrylic compound, 1,9-nonanediol dimethacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK ester NOD-N) was used in place of polymerizable compound 1.
  • a resin varnish was obtained in the same manner as above.
  • Example 3 Same as Example 1 except that polymerizable compound 3 (methacrylic compound, 1,12-dodecanediol dimethacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK ester DDD) was used instead of polymerizable compound 1.
  • a resin varnish was obtained by performing the following steps.
  • Elastomer 2 styrene-butadiene-styrene block copolymer, manufactured by Asahi Kasei Corporation, product name: Asaflex 810, MFR (ISO 1133, 200°C, 5 kgf) 5 g/10 minutes, Vicat softening temperature (ISO Resin varnishes were obtained in the same manner as in Examples 1 to 3 except that 306, 10N, 50°C/h) and 83°C) were used.
  • Elastomer 3 styrene-butadiene-styrene block copolymer, manufactured by Asahi Kasei Corporation, product name: Asaflex 830, MFR (ISO 1133, 200°C, 5 kgf) 6 g/10 minutes, Vicat softening temperature (ISO Resin varnishes were obtained in the same manner as in Examples 1 to 3 except that 306, 10N, 50°C/h) and 72°C) were used.
  • Elastomer 4 styrene-butadiene-styrene block copolymer, manufactured by Asahi Kasei Corporation, product name: Asaflex 840, MFR (ISO 1133, 200°C, 5 kgf) 7 g/10 minutes, Vicat softening temperature (ISO A resin varnish was obtained in the same manner as in Examples 1 to 3 except that 306, 10N, 50°C/h) and 81°C) were used.
  • Example 1 A resin varnish was obtained in the same manner as in Example 1, except that Elastomer 5 (styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer, manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name: Tuftec H1041) was used in place of Elastomer 1. Ta.
  • Elastomer 5 styrene-ethylene-butylene-styrene block copolymer, manufactured by Asahi Kasei Corporation, trade name: Tuftec H1041
  • Elastomer 6 hydrogenated styrene-butadiene random copolymer, manufactured by JSR Corporation, trade name: Dynalon 2324P
  • JSR Corporation trade name: Dynalon 2324P
  • a resin varnish was obtained in the same manner as in Example 1 except for the following.
  • Comparative example 3 A resin varnish was produced in the same manner as in Comparative Example 2, except that the amount of elastomer 6 used was changed to 60 parts by mass, and 20 parts by mass of polymerizable compound 1 was changed to 40 parts by mass of polymerizable compound 2. I got it.
  • Comparative example 4 A resin varnish was produced in the same manner as in Comparative Example 2, except that the amount of elastomer 6 used was changed to 60 parts by mass, and 20 parts by mass of polymerizable compound 1 was changed to 40 parts by mass of polymerizable compound 3. I got it.
  • a surface-release-treated PET film (manufactured by Fujimori Industries Co., Ltd., trade name: HTA, thickness: 75 ⁇ m) was prepared as a base film.
  • a knife coater manufactured by Yasui Seiki Co., Ltd., trade name: SNC-300
  • the above resin varnish was applied onto the release-treated surface of this PET film.
  • a resin film was formed by drying at 100° C. for 10 minutes in a dryer (manufactured by Futaba Kagaku Co., Ltd., trade name: MSO-80TPS).
  • the thickness of the resin film after drying was adjusted to 100 ⁇ m.
  • a surface release-treated PET film manufactured by Fujimori Industries Co., Ltd., product name: BD, thickness: 75 ⁇ m
  • the release-treated surface of the protective film is attached to the resin film to form the laminated film A. Obtained.
  • the above-mentioned laminated film A is heat-treated at 120°C for 30 minutes to heat-cure the resin film, thereby forming a base film and a cured film.
  • An evaluation film including a protective film and a protective film was obtained.
  • a laminate having a length of 50 mm and a width of 10 mm was cut out from the above evaluation film, and then the base film and protective film of this laminate were removed to obtain a test piece.
  • the stress-strain curve of the test piece was measured using an autograph (manufactured by Shimadzu Corporation, trade name: EZ-S) in an environment of 25° C., and the tensile modulus was determined from the stress-strain curve.
  • the distance between chucks at the time of measurement was set to 20 mm, and the tension speed was set to 50 mm/min.
  • the tensile modulus was measured at a load of 0.5N to 1.0N. The results are shown in Table 1.
  • the relative permittivity and dielectric loss tangent of this laminate were measured using the same method.
  • the relative dielectric constant and dielectric loss tangent of the cured film were obtained by subtracting the measurement results of the above-mentioned laminate (a laminate in which only the base film and the protective film were laminated) from the measurement results of the above-mentioned test piece. The results are shown in Table 1.
  • a laminate manufactured by Mitsui Kinzoku Co., Ltd., trade name: MT-18FL
  • copper foil A thinness: 18 ⁇ m
  • copper foil B thinness: 2 ⁇ m
  • a pressure vacuum laminator manufactured by Nikko Materials Co., Ltd., product name: V130
  • the copper foil B of the copper member was bonded together under the conditions of a pressure of 0.5 MPa, vacuuming for 10 seconds, and pressure bonding for 30 seconds.
  • the exposed resin film and COP film After removing the base film (base film of laminated film A), the exposed resin film and COP film (thickness: 100 ⁇ m) under the conditions of a pressure of 0.5 MPa, evacuation for 10 seconds, and pressure bonding for 30 seconds to obtain a laminated film B.
  • a test piece was obtained by cutting out a laminate with a length of 100 mm and a width of 100 mm from the above-mentioned evaluation film. Copper foil A was removed from this test piece, and the presence or absence of wrinkles in exposed copper foil B was confirmed. The case where there were no wrinkles was evaluated as "A,” and the case with wrinkles was evaluated as “B.” The results are shown in Table 1.
  • 10,20,30... Laminate 10a, 20a, 30a... Base film, 10b, 20b, 30b... Transparent resin layer, 10c... Protective film, 20c, 30c, 30d, 110b, 210c... Conductive member, 100,200 ... Image display device, 110, 210... Transparent antenna, 110a, 210b... Transparent base material, 110c, 210d... Covering member, 120, 220... Protection member, 210a... Transparent member.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

エラストマーと、重合性化合物と、重合開始剤と、を含有する樹脂組成物であって、当該樹脂組成物を120℃で30分熱処理したときに引張弾性率50MPa以上の硬化物を与える、樹脂組成物。基材フィルムと、当該基材フィルム上に配置された透明樹脂層と、を備え、前記透明樹脂層が、前記樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、積層体。 透明基材110aと、透明基材110a上に配置された導電部材110bと、導電部材110b上に配置された被覆部材110cと、を備え、透明基材110a及び被覆部材110cからなる群より選ばれる少なくとも一種が前記樹脂組成物の硬化物を含む、透明アンテナ110。透明アンテナ110を備える、画像表示装置100。

Description

樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置
 本開示は、樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、画像表示装置等に関する。
 電波を受信するためのアンテナは、画像表示装置(例えば、パソコン、ナビゲーションシステム、携帯電話、時計、電子辞書等の各種電子機器における画像表示装置)、自動車の構成部材、建物などに設置されている。例えば、アンテナを内蔵する画像表示装置が用いられる場合があり、近年、画像表示装置の小型化、薄型化、形状の多様化等に対応し、設計の尤度を確保するために、画像を表示するための画像表示部上に、透明で視認性が低いアンテナ(以下、「透明アンテナ」ともいう)を配置することが提案されている。透明アンテナを得るための部材に対しては、各種部材が検討されている(例えば、下記特許文献1参照)。
特開2011-091788号公報
 透明アンテナを得るに際して、樹脂組成物の硬化物と、当該硬化物に当接する導電部材と、を有する積層体を用いる場合がある。このような積層体は、樹脂組成物が導電部材に当接した状態で当該樹脂組成物を硬化させることにより得ることができる。しかしながら、本発明者の知見によれば、樹脂組成物を硬化させる際に導電部材にしわが生じる場合があり、このようなしわの発生を抑制することが求められる。
 本開示の一側面は、樹脂組成物が導電部材に当接した状態で当該樹脂組成物を硬化させる際に導電部材におけるしわの発生を抑制可能な樹脂組成物を提供することを目的とする。本開示の他の一側面は、当該樹脂組成物の硬化物を提供することを目的とする。本開示の他の一側面は、当該樹脂組成物又はその硬化物を用いた積層体を提供することを目的とする。本開示の他の一側面は、当該樹脂組成物の硬化物を用いた透明アンテナを提供することを目的とする。本開示の他の一側面は、当該透明アンテナを用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
 本開示は、いくつかの側面において、下記の[1]~[18]等に関する。
[1]エラストマーと、重合性化合物と、重合開始剤と、を含有する樹脂組成物であって、当該樹脂組成物を120℃で30分熱処理したときに引張弾性率50MPa以上の硬化物を与える、樹脂組成物。
[2]前記エラストマーがスチレン系ブロック共重合体を含む、[1]に記載の樹脂組成物。
[3]前記エラストマーがスチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体を含む、[1]又は[2]に記載の樹脂組成物。
[4]前記エラストマーの含有量が、当該樹脂組成物の全質量を基準として50質量%以上である、[1]~[3]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[5]前記重合性化合物が(メタ)アクリル化合物を含む、[1]~[4]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[6]前記重合性化合物がアルカンジオールジ(メタ)アクリレートを含む、[1]~[5]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[7]前記重合性化合物が、下記一般式(I)で表される化合物を含む、[1]~[6]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[式中、Rは、9以下の炭素原子及び2以上の酸素原子を含む基を表し、R2a及びR2bは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。]
[8]前記重合開始剤が過酸化物を含む、[1]~[7]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[9]前記重合開始剤がパーオキシエステルを含む、[1]~[8]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[10][1]~[9]のいずれか一つに記載の樹脂組成物の硬化物。
[11]基材フィルムと、当該基材フィルム上に配置された透明樹脂層と、を備え、前記透明樹脂層が、[1]~[9]のいずれか一つに記載の樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、積層体。
[12]前記透明樹脂層上に配置された導電部材を更に備える、[11]に記載の積層体。
[13]前記導電部材が銅を含有する、[12]に記載の積層体。
[14]前記導電部材の厚さが5μm以下である、[12]又は[13]に記載の積層体。
[15]透明基材と、当該透明基材上に配置された導電部材と、当該導電部材上に配置された被覆部材と、を備え、前記透明基材及び前記被覆部材からなる群より選ばれる少なくとも一種が、[1]~[9]のいずれか一つに記載の樹脂組成物の硬化物を含む、透明アンテナ。
[16]前記導電部材がメッシュ状の部分を有する、[15]に記載の透明アンテナ。
[17]前記導電部材が銅を含有する、[15]又は[16]に記載の透明アンテナ。
[18][15]~[17]のいずれか一つに記載の透明アンテナを備える、画像表示装置。
 本開示の一側面によれば、樹脂組成物が導電部材に当接した状態で当該樹脂組成物を硬化させる際に導電部材におけるしわの発生を抑制可能な樹脂組成物を提供することができる。本開示の他の一側面によれば、当該樹脂組成物の硬化物を提供することができる。本開示の他の一側面によれば、当該樹脂組成物又はその硬化物を用いた積層体を提供することができる。本開示の他の一側面によれば、当該樹脂組成物の硬化物を用いた透明アンテナを提供することができる。本開示の他の一側面によれば、当該透明アンテナを用いた画像表示装置を提供することができる。
積層体の例を示す模式断面図である。 積層体の例を示す模式断面図である。 画像表示装置の例を示す模式断面図である。 画像表示装置の例を示す模式断面図である。
 以下、本開示の実施形態について詳細に説明する。但し、本開示は以下の実施形態に限定されるものではない。
 本明細書において、「~」を用いて示された数値範囲は、「~」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。数値範囲の「A以上」とは、A、及び、Aを超える範囲を意味する。数値範囲の「A以下」とは、A、及び、A未満の範囲を意味する。本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値又は下限値は、他の段階の数値範囲の上限値又は下限値と任意に組み合わせることができる。本明細書に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。「A又はB」とは、A及びBのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。本明細書に例示する材料は、特に断らない限り、一種を単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。本明細書において、組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構造に加え、一部に形成されている形状の構造も包含される。「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート、及び、それに対応するメタクリレートの少なくとも一方を意味する。「(メタ)アクリル」等の他の類似の表現においても同様である。(メタ)アクリル化合物の含有量は、アクリル化合物及びメタクリル化合物の合計量を意味する。ヒドロキシ基は、カルボキシ基に含まれるOH基を包含しない。
 本実施形態に係る樹脂組成物は、エラストマーと、重合性化合物と、重合開始剤と、を含有する。本実施形態に係る樹脂組成物は、当該樹脂組成物を120℃で30分熱処理したときに引張弾性率50MPa以上の硬化物を与える。本実施形態に係る樹脂組成物は、透明アンテナ用の樹脂組成物として用いることができる。本実施形態に係る樹脂組成物は、熱硬化性の樹脂組成物として用いることができる。本実施形態に係る硬化物は、本実施形態に係る樹脂組成物を硬化することにより得られ、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物である。本実施形態に係る硬化物は、半硬化状態であってよく、完全硬化状態であってよい。
 本実施形態に係る樹脂組成物によれば、当該樹脂組成物が導電部材に当接した状態で樹脂組成物を硬化させる際に導電部材におけるしわの発生を抑制可能であり、例えば、当該樹脂組成物が導電部材に当接した状態で樹脂組成物を120℃で30分熱処理することにより硬化させる際に導電部材におけるしわの発生を抑制できる。
 本実施形態に係る樹脂組成物の一態様によれば、上述のとおり導電部材におけるしわの発生を抑制しつつ、優れた透明性を有する硬化物を得ることができる。
 透明アンテナは、高速大容量通信を達成するための高周波帯域の通信において用いることができる。高周波帯域の通信では、伝送損失が大きい傾向がある。そのため、透明アンテナの構成部材として、樹脂組成物の硬化物に対しては、優れた誘電特性を有することが求められる。本実施形態に係る樹脂組成物の一態様によれば、優れた比誘電率(低い比誘電率)を有する硬化物を得ることができる。本実施形態に係る樹脂組成物の一態様によれば、後述の実施例に記載の評価方法において、例えば3.0以下(好ましくは、2.8以下、2.6以下、2.5以下等)の比誘電率を得ることができる。また、本実施形態に係る樹脂組成物の一態様によれば、優れた誘電正接(低い誘電正接)を有する硬化物を得ることができる。本実施形態に係る樹脂組成物の一態様によれば、後述の実施例に記載の評価方法において、例えば0.0060以下(好ましくは、0.0050以下、0.0045以下、0.0040以下、0.0035以下、0.0030以下等)の誘電正接を得ることができる。
 本実施形態に係る樹脂組成物は、当該樹脂組成物を120℃で30分熱処理したときに引張弾性率50MPa以上の硬化物を与える。硬化物の引張弾性率は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点から、80MPa以上、100MPa以上、150MPa以上、200MPa以上、250MPa以上、300MPa以上、350MPa以上、400MPa以上、410MPa以上、418MPa以上、440MPa以上、450MPa以上、又は、500MPa以上であってよい。硬化物の引張弾性率は、1000MPa以下、800MPa以下、600MPa以下、500MPa以下、400MPa以下、又は、300MPa以下であってよい。これらの観点から、硬化物の引張弾性率は、50~1000MPa、100~1000MPa、200~1000MPa、300~1000MPa、又は、400~1000MPaであってよい。硬化物の引張弾性率は、エラストマー、重合性化合物等の成分の種類、含有量などにより調整できる。熱処理対象の樹脂組成物としては、厚さ100μmのフィルム状の樹脂組成物を用いることができる。
 本実施形態に係る樹脂組成物は、エラストマーを含有する。エラストマーとしては、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ポリアミド系エラストマー、シリコーン系エラストマー等が挙げられる。エラストマーは、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、スチレン系エラストマーを含んでよい。
 スチレン系エラストマーは、スチレン化合物を単量体単位として有する重合体(スチレン化合物に由来する単量体単位を有する重合体。以下、「スチレン系重合体」という。)であってよい。スチレン化合物としては、スチレン;メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、トリエチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、ヘプチルスチレン、オクチルスチレン等のアルキルスチレン;フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン等のハロゲン化スチレン;ニトロスチレン;アセチルスチレン;メトキシスチレンなどが挙げられる。スチレン系重合体は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、スチレンを単量体単位として有してよい。
 スチレン系重合体としては、スチレン-ブタジエンランダム共重合体、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-ブチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-エチレン-ブチレン-スチレンブロック共重合体、スチレン-エチレン-プロピレン-スチレンブロック共重合体、これらの水素添加型共重合体等が挙げられる。
 エラストマーは、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、スチレン系ブロック共重合体を含んでよい。スチレン系ブロック共重合体は、一のスチレン化合物の単量体単位、及び、他のスチレン化合物の単量体単位を有するブロック共重合体であってよく、スチレン化合物の単量体単位、及び、スチレン化合物に該当しない化合物の単量体単位を有するブロック共重合体であってよい。エラストマーは、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物の引張弾性率を高めやすい観点から、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体を含んでよい。
 スチレン系重合体は、カルボン酸無水物により変性されていてよく、カルボン酸無水物により変性されていなくてよい。カルボン酸無水物としては、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸等のジカルボン酸無水物などが挙げられる。エラストマーは、導電部材に対する高い密着性を有する硬化物を得やすい観点から、カルボン酸無水物により変性されたスチレン系ブロック共重合体を含んでよく、無水マレイン酸により変性されたスチレン系ブロック共重合体を含んでよく、カルボン酸無水物により変性されたスチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体を含んでよく、無水マレイン酸により変性されたスチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体を含んでよい。
 スチレン化合物の単量体単位の含有量、又は、スチレンの単量体単位の含有量は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、スチレン系重合体の全質量、又は、スチレン系ブロック共重合体の全質量を基準として下記の範囲であってよい。単量体単位の含有量は、5質量%以上、10質量%以上、15質量%以上、20質量%以上、25質量%以上、30質量%以上、35質量%以上、又は、40質量%以上であってよい。単量体単位の含有量は、80質量%以下、75質量%以下、70質量%以下、65質量%以下、60質量%以下、55質量%以下、50質量%以下、45質量%以下、又は、40質量%以下であってよい。これらの観点から、単量体単位の含有量は、5~80質量%、5~60質量%、5~50質量%、20~80質量%、20~60質量%、20~50質量%、30~80質量%、30~60質量%、又は、30~50質量%であってよい。
 スチレン系重合体の含有量、又は、スチレン系ブロック共重合体の含有量は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、エラストマーの全質量を基準として、50質量%以上、50質量%超、70質量%以上、90質量%以上、95質量%以上、又は、99質量%以上であってよい。樹脂組成物に含まれるエラストマーが実質的にスチレン系重合体又はスチレン系ブロック共重合体からなる態様(スチレン系重合体の含有量、又は、スチレン系ブロック共重合体の含有量が、樹脂組成物に含まれるエラストマーの全質量を基準として実質的に100質量%である態様)であってよい。
 ISO 1133に準拠して測定されるスチレン系重合体又はスチレン系ブロック共重合体のMFR(メルトフローレート。200℃、5kgf(49N)。単位:g/10分)は、下記の範囲であってよい。MFRは、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、1以上、2以上、3以上、4以上、5以上、又は、6以上であってよい。MFRは、7以上であってもよい。MFRは、10以下、9以下、8以下、7以下、6以下、又は、5以下であってよい。これらの観点から、MFRは、1~10、3~8、5~7、4~6、又は、6~8であってよい。
 ISO 306に準拠して測定されるスチレン系重合体又はスチレン系ブロック共重合体のビカット軟化温度(試験荷重10N、昇温速度50℃/h)は、下記の範囲であってよい。ビカット軟化温度は、50℃以上、60℃以上、70℃以上、72℃以上、75℃以上、80℃以上、81℃以上、又は、83℃以上であってよい。ビカット軟化温度は、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、100℃以下、90℃以下、85℃以下、83℃以下、81℃以下、80℃以下、75℃以下、又は、72℃以下であってよい。これらの観点から、ビカット軟化温度は、50~100℃、60~90℃、又は、70~85℃であってよい。
 エラストマーの含有量、スチレン系重合体の含有量、又は、スチレン系ブロック共重合体の含有量として、含有量Aは、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、樹脂組成物の全質量(有機溶剤の質量を除く)、エラストマー、重合性化合物及び重合開始剤の合計量、エラストマー、(メタ)アクリル化合物及び重合開始剤の合計量、スチレン系ブロック共重合体、(メタ)アクリル化合物及び重合開始剤の合計量、エラストマー及び重合性化合物の合計量、エラストマー及び(メタ)アクリル化合物の合計量、又は、スチレン系ブロック共重合体及び(メタ)アクリル化合物の合計量を基準として下記の範囲であってよい。含有量Aは、20質量%以上、20質量%超、21質量%以上、23質量%以上、25質量%以上、30質量%以上、30質量%超、40質量%以上、40質量%超、50質量%以上、50質量%超、60質量%以上、65質量%以上、70質量%以上、75質量%以上、78質量%以上、又は、80質量%以上であってよい。含有量Aは、99質量%以下、95質量%以下、90質量%以下、85質量%以下、82質量%以下、又は、80質量%以下であってよい。これらの観点から、含有量Aは、20~99質量%、20~90質量%、20~85質量%、50~99質量%、50~90質量%、50~85質量%、70~99質量%、70~90質量%、又は、70~85質量%であってよい。
 本実施形態に係る樹脂組成物は、重合性化合物を含有する。重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、アニオン重合性化合物等が挙げられる。重合性化合物は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、ラジカル重合性化合物を含んでよい。
 重合性化合物としては、(メタ)アクリル化合物((メタ)アクリロイル基を有する化合物)、エポキシ化合物(エポキシ基を有する化合物)、マレイミド化合物、ハロゲン化ビニリデン化合物、ビニルエーテル化合物、ビニルエステル化合物、ビニルアミド化合物、芳香族ビニル化合物(例えばビニルピリジン化合物)、アリル化合物、スチレン化合物、(メタ)アクリルアミド化合物、ナジイミド化合物、天然ゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、ニトリルゴム、ブタジエンゴム、スチレン-ブタジエンゴム、アクリロニトリル-ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、オキセタン化合物、ラクトン化合物等が挙げられる。重合性化合物は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点、及び、硬化物において優れた透明性を得やすい観点から、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含んでよく、(メタ)アクリル化合物を含んでよい。(メタ)アクリル化合物としては、エポキシ基を有さない化合物を用いてよい。
 (メタ)アクリル化合物は、単官能(メタ)アクリル化合物、及び、多官能(メタ)アクリル化合物(2官能(メタ)アクリル化合物、又は、3官能以上の(メタ)アクリル化合物)からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでよい。例えば、「2官能(メタ)アクリル化合物」は、一分子中におけるアクリロイル基及びメタクリロイル基の合計が2である化合物を意味する。(メタ)アクリル化合物は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、2官能(メタ)アクリル化合物を含んでよい。
 単官能(メタ)アクリル化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert-ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチルヘプチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、モノ(2-(メタ)アクリロイロキシエチル)スクシネート等の脂肪族(メタ)アクリレート;シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、モノ(2-(メタ)アクリロイロキシエチル)テトラヒドロフタレート、モノ(2-(メタ)アクリロイロキシエチル)ヘキサヒドロフタレート等の脂環式(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、o-ビフェニル(メタ)アクリレート、1-ナフチル(メタ)アクリレート、2-ナフチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、p-クミルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、o-フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、1-ナフトキシエチル(メタ)アクリレート、2-ナフトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(o-フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(1-ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(2-ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート;2-テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N-(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、2-(メタ)アクリロイロキシエチル-N-カルバゾール等の複素環式(メタ)アクリレート;(メタ)アクリロイル基含有ホスフェート(例えば(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート);これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
 2官能(メタ)アクリル化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3-メチル-1,5-ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート(例えば1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート)、デカンジオールジ(メタ)アクリレート(例えば1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート)、ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート(例えば1,12-ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート)、グリセリンジ(メタ)アクリレート、エトキシ化2-メチル-1,3-プロパンジオールジ(メタ)アクリレート等の脂肪族(メタ)アクリレート(例えばアルカンジオールジ(メタ)アクリレート);シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート等の脂環式(メタ)アクリレート;エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAFジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAFジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールAFジ(メタ)アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化フルオレン型ジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化フルオレン型ジ(メタ)アクリレート等の芳香族(メタ)アクリレート;ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート等の複素環式(メタ)アクリレート;これらのカプロラクトン変性体;ネオペンチルグリコール型エポキシ(メタ)アクリレート等の脂肪族エポキシ(メタ)アクリレート;シクロヘキサンジメタノール型エポキシ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート等の脂環式エポキシ(メタ)アクリレート;レゾルシノール型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールF型エポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAF型エポキシ(メタ)アクリレート、フルオレン型エポキシ(メタ)アクリレート等の芳香族エポキシ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 3官能以上の(メタ)アクリル化合物としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の脂肪族(メタ)アクリレート;エトキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート等の複素環式(メタ)アクリレート;これらのカプロラクトン変性体;フェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート等の芳香族エポキシ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
 (メタ)アクリル化合物は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、脂肪族(メタ)アクリレートを含んでよい。(メタ)アクリル化合物は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、アルカンジオールジ(メタ)アクリレートを含んでよく、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、及び、ドデカンジオールジ(メタ)アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでよい。(メタ)アクリル化合物は、アクリル化合物を含んでよい。(メタ)アクリル化合物は、硬化物において低い誘電正接を得やすい観点から、メタクリル化合物を含んでよい。
 (メタ)アクリル化合物は、硬化物における誘電特性(比誘電率、誘電正接等)を調整しやすい観点から、下記一般式(I)で表される化合物を含んでよい。
[式中、Rは、9以下の炭素原子及び2以上の酸素原子を含む基を表し、R2a及びR2bは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。]
 Rの炭素原子の数は、1~9である。Rの炭素原子の数は、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、2以上、3以上、4以上、5以上、6以上、7以上、又は、8以上であってよい。Rの酸素原子の数は、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、6以下、5以下、4以下、3以下、又は、2以下であってよい。Rは、両端に酸素原子が結合した炭化水素基であってよく、「-O-C2n-O-」基(n=1~9)であってよい。(メタ)アクリル化合物は、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、一般式(I)においてRが環状構造を有さない化合物を含んでよく、一般式(I)においてRが脂環を有さない化合物を含んでよい。
 一般式(I)で表される化合物の含有量は、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、重合性化合物の全質量、又は、(メタ)アクリル化合物の全質量を基準として、50質量%以上、50質量%超、70質量%以上、90質量%以上、95質量%以上、99質量%以上、又は、99質量%超であってよい。樹脂組成物に含まれる重合性化合物又は(メタ)アクリル化合物が、実質的に、一般式(I)で表される化合物からなる態様(一般式(I)で表される化合物の含有量が、樹脂組成物に含まれる重合性化合物又は(メタ)アクリル化合物の全質量を基準として実質的に100質量%である態様)であってよい。
 (メタ)アクリル化合物は、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル化合物を含んでよく、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル化合物を含まなくてよい。ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリル化合物の含有量は、重合性化合物の全質量、又は、(メタ)アクリル化合物の全質量を基準として、5質量%以下、5質量%未満、1質量%以下、0.1質量%以下、0.01質量%以下、又は、実質的に0質量%であってよい。
 (メタ)アクリル化合物の分子量は、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、下記の範囲であってよい。(メタ)アクリル化合物の分子量は、80以上、100以上、120以上、150以上、180以上、200以上、220以上、250以上、260以上、280以上、290以上、300以上、又は、320以上であってよい。(メタ)アクリル化合物の分子量は、1000以下、800以下、600以下、550以下、500以下、450以下、400以下、350以下、320以下、300以下、又は、280以下であってよい。これらの観点から、(メタ)アクリル化合物の分子量は、80~1000、80~500、80~400、80~300、200~1000、200~500、200~400、200~300、250~1000、250~500、250~400、250~300、300~1000、300~500、又は、300~400であってよい。
 重合性化合物の含有量、又は、(メタ)アクリル化合物の含有量として、含有量B1は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、エラストマー100質量部、スチレン系重合体100質量部、又は、スチレン系ブロック共重合体100質量部に対して下記の範囲であってよい。含有量B1は、1質量部以上、5質量部以上、10質量部以上、15質量部以上、20質量部以上、又は、25質量部以上であってよい。含有量B1は、300質量部以下、200質量部以下、100質量部以下、80質量部以下、60質量部以下、50質量部以下、40質量部以下、30質量部以下、又は、25質量部以下であってよい。これらの観点から、含有量B1は、1~300質量部、10~300質量部、20~300質量部、1~100質量部、10~100質量部、20~100質量部、1~50質量部、10~50質量部、又は、20~50質量部であってよい。
 重合性化合物の含有量、又は、(メタ)アクリル化合物の含有量として、含有量B2は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、樹脂組成物の全質量(有機溶剤の質量を除く)、エラストマー、重合性化合物及び重合開始剤の合計量、エラストマー、(メタ)アクリル化合物及び重合開始剤の合計量、スチレン系ブロック共重合体、(メタ)アクリル化合物及び重合開始剤の合計量、エラストマー及び重合性化合物の合計量、エラストマー及び(メタ)アクリル化合物の合計量、又は、スチレン系ブロック共重合体及び(メタ)アクリル化合物の合計量を基準として下記の範囲であってよい。含有量B2は、1質量%以上、5質量%以上、10質量%以上、15質量%以上、18質量%以上、又は、20質量%以上であってよい。含有量B2は、80質量%以下、80質量%未満、70質量%以下、70質量%未満、60質量%以下、60質量%未満、50質量%以下、50質量%未満、40質量%以下、35質量%以下、30質量%以下、25質量%以下、又は、20質量%以下であってよい。これらの観点から、含有量B2は、1~80質量%、1~50質量%、1~30質量%、10~80質量%、10~50質量%、10~30質量%、15~80質量%、15~50質量%、又は、15~30質量%であってよい。
 本実施形態に係る樹脂組成物は、重合開始剤を含有する。重合開始剤としては、熱重合開始剤を用いることができる。
 熱重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド;1,1-ビス(tert-ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1-ビス(tert-ブチルパーオキシ)-2-メチルシクロヘキサン、1,1-ビス(tert-ブチルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、1,1-ビス(tert-ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1-ビス(tert-ヘキシルパーオキシ)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール;p-メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド;α,α’-ビス(tert-ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、tert-ブチルクミルパーオキシド、ジ-tert-ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド;オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド;ビス(4-tert-ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ-2-エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ-2-エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ-3-メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート;tert-ブチルパーオキシピバレート、tert-ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3-テトラメチルブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、2,5-ジメチル-2,5-ビス(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、tert-ヘキシルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシイソブチレート、tert-ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシラウリレート、tert-ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキシルモノカーボネート、tert-ブチルパーオキシベンゾエート、tert-ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5-ジメチル-2,5-ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、tert-ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル;無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、無水ジメチルグルタル酸、無水ジエチルグルタル酸、無水コハク酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、4,4’-ビフタル酸無水物、4,4’-カルボニルジフタル酸無水物、4,4’-スルホニルジフタル酸無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物、4,4’-オキシジフタル酸無水物、9,9-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)フルオレン二無水物、2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等の酸無水物;2,2’-アゾビスイソブチロニトリル、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)、2,2’-アゾビス(4-メトキシ-2’-ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物などが挙げられる。
 重合開始剤は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、熱ラジカル重合開始剤を含んでよく、熱カチオン重合開始剤を含んでよい。重合開始剤は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、過酸化物を含んでよく、パーオキシエステルを含んでよく、2,5-ジメチル-2,5-ビス(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサンを含んでよい。
 重合開始剤の含有量は、樹脂組成物の全質量(有機溶剤の質量を除く)、エラストマー、重合性化合物及び重合開始剤の合計量、エラストマー、(メタ)アクリル化合物及び重合開始剤の合計量、スチレン系ブロック共重合体、(メタ)アクリル化合物及び重合開始剤の合計量、エラストマー及び重合性化合物の合計量、エラストマー及び(メタ)アクリル化合物の合計量、又は、スチレン系ブロック共重合体及び(メタ)アクリル化合物の合計量を基準として下記の範囲であってよい。重合開始剤の含有量は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点、及び、優れた硬化性を得やすい観点から、0.01質量%以上、0.05質量%以上、0.1質量%以上、0.1質量%超、0.3質量%以上、0.5質量%以上、0.8質量%以上、0.9質量%以上、又は、1質量%以上であってよい。重合開始剤の含有量は、導電部材におけるしわの発生を抑制しやすい観点、及び、硬化物において優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を得やすい観点から、10質量%以下、8質量%以下、5質量%以下、3質量%以下、2質量%以下、2質量%未満、1.5質量%以下、又は、1質量%以下であってよい。これらの観点から、重合開始剤の含有量は、0.01~10質量%、0.01~5質量%、0.01~2質量%、0.1~10質量%、0.1~5質量%、0.1~2質量%、0.5~10質量%、0.5~5質量%、又は、0.5~2質量%であってよい。
 本実施形態に係る樹脂組成物は、エラストマー、重合性化合物及び重合開始剤以外の添加剤を含有してよい。このような添加剤としては、硬化促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤(フィラー)、還元剤、炭酸水素塩等が挙げられる。還元剤としては、バナジルアセチルアセトネート、バナジウムアセチルアセトネート、コバルトアセチルアセトネート、銅アセチルアセトネート、ナフテン酸バナジル、ステアリン酸バナジル、ナフテン酸銅、酢酸銅、オクチル酸コバルト等が挙げられる。
 充填剤(フィラー)の含有量は、エラストマー及び重合性化合物の合計量、エラストマー及び(メタ)アクリル化合物の合計量、又は、スチレン系ブロック共重合体及び(メタ)アクリル化合物の合計量を基準として、100質量%以下、100質量%未満、50質量%以下、20質量%以下、20質量%未満、10質量%以下、1質量%以下、0.1質量%以下、又は、実質的に0質量%であってよい。還元剤の含有量は、重合性化合物100質量部、又は、(メタ)アクリル化合物100質量部に対して、0.01質量部以下、0.01質量部未満、0.001質量部以下、又は、実質的に0質量部であってよい。炭酸水素塩の含有量は、重合性化合物100質量部、又は、(メタ)アクリル化合物100質量部に対して、0.1質量部以下、0.1質量部未満、0.01質量部以下、0.001質量部以下、又は、実質的に0質量部であってよい。
 本実施形態に係る樹脂組成物は、有機溶剤を含有してよい。本実施形態に係る樹脂組成物は、有機溶剤を用いて希釈することにより樹脂ワニスとして用いてよい。有機溶剤としては、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、p-シメン等の芳香族炭化水素;テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等の環状エーテル;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン等のケトン;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ-ブチロラクトン等のエステル;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル;N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
 本実施形態に係る樹脂組成物を含む層、又は、本実施形態に係る硬化物における厚さ100μmあたりの全光線透過率は、90%以上又は91%以上であってよい。全光線透過率は、JIS K 7136に規定される方法に準拠して、例えば、日本電色工業株式会社製のNDH-5000(商品名)を用いて測定できる。以下に記載の全光線透過率についても同様の方法により測定できる。
 本実施形態に係る積層体は、基材フィルム(支持フィルム)と、当該基材フィルム上に配置された透明樹脂層と、を備え、透明樹脂層が、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む。
 基材フィルムの構成材料としては、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー等)、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィドなどが挙げられる。基材フィルムの厚さは、1~200μm、10~100μm、20~80μm、又は、20~50μmであってよい。
 透明樹脂層の厚さは、優れた透過率を得やすい観点、及び、透明アンテナを薄型化しやすい観点から、1000μm以下、800μm以下、500μm以下、300μm以下、250μm以下、200μm以下、150μm以下、100μm以下、80μm以下、50μm以下、30μm以下、25μm以下、20μm以下、15μm以下、12μm以下、10μm以下、9μm以下、又は、8μm以下であってよい。透明樹脂層の厚さは、伝送損失を低減しやすい観点、及び、アンテナ特性が向上しやすい観点から、0.1μm以上、0.5μm以上、0.75μm以上、1μm以上、2μm以上、3μm以上、5μm以上、6μm以上、7μm以上、8μm以上、10μm以上、20μm以上、30μm以上、40μm以上、50μm以上、80μm以上、又は、100μm以上であってよい。これらの観点から、透明樹脂層の厚さは、0.1~1000μm、1~1000μm、10~500μm、20~200μm、50~200μm、0.1~500μm、0.1~100μm、0.5~250μm、0.5~150μm、0.75~100μm、1~50μm、2~30μm、3~20μm又は、5~20μmであってよい。
 本実施形態に係る積層体の第1態様は、透明樹脂層上に配置された保護フィルムを備えてよい。本実施形態に係る積層体の第2態様は、透明樹脂層上に配置された導電部材を備えてよい。
 保護フィルムの構成材料としては、基材フィルムの構成材料として上述した構成材料を用いることができる。保護フィルムは、基材フィルムと同一のフィルムであってよく、基材フィルムと異なるフィルムであってよい。保護フィルムの厚さは、1~200μm、10~100μm、20~80μm、又は、20~50μmであってよい。
 導電部材は、中実であってよく、パターン状の部分を有してよい(パターニングされていてよい)。パターン状の部分を有する導電部材(以下、「パターン状の導電部材」という)では、導電部材の一部又は全部がパターニングされていてよい(導電部材がパターン状の部分を有することに関する以下の記載についても同様)。パターン状の部分の形状としては、メッシュ状、渦状等が挙げられる。中実の導電部材を備える透明アンテナを用いる場合、導電部材はパターニング(例えばメッシュ加工)されなくてよい。パターン状(例えばメッシュ状)の導電部材は、ワイヤ(例えば金属ワイヤ)により構成されてよい。導電部材の構成材料としては、金属材料、炭素材料(例えばグラフェン)、導電性高分子等が挙げられる。金属材料としては、銅、銀、金等が挙げられる。導電部材は、優れた導電性を得やすい観点、及び、製造コストを低減しやすい観点から、銅を含有してよい。
 導電部材は、単層であってよく、複数層であってよい。複数層の導電部材は、例えば、透明樹脂層上に配置された第1の導電部材(例えば金属部材)と、第1の導電部材上に配置された第2の導電部材(例えば金属部材)と、を有してよい。第1の導電部材及び第2の導電部材からなる群より選ばれる少なくとも一種は、中実であってよく、パターン状(例えばメッシュ状)の部分を有してよい。第2の導電部材は、第1の導電部材の汚れ、損傷等を抑制する保護層として用いることが可能であり、これにより、積層体の取扱性を向上させることもできる。第1の導電部材及び第2の導電部材からなる群より選ばれる少なくとも一種は、銅を含有してよい。
 導電部材の厚さ(導電部材が複数層である場合は総厚)、第1の導電部材の厚さ、又は、第2の導電部材の厚さは、下記の範囲であってよい。厚さは、導電部材が欠けにくい観点、及び、中実の導電部材がパターニング(例えばメッシュ加工)される場合にはパターニングしやすい観点から、50μm以下、45μm以下、40μm以下、35μm以下、30μm以下、25μm以下、20μm以下、18μm以下、15μm以下、10μm以下、8μm以下、5μm以下、3μm以下、又は、2μm以下であってよい。厚さは、優れた伸びを得やすい観点から、0.1μm以上、0.3μm以上、0.5μm以上、0.8μm以上、1μm以上、1.2μm以上、1.5μm以上、又は、2μm以上であってよい。これらの観点から、厚さは、0.1~50μm、0.1~30μm、0.1~20μm、0.1~10μm、0.5~5μm、又は、1~3μmであってよい。
 第1の導電部材の厚さは、第2の導電部材の厚さより小さくてよい。導電部材が複数層である場合、導電部材の厚さ(総厚)、又は、第2の導電部材の厚さは、3μm以上、5μm以上、8μm以上、10μm以上、15μm以上、18μm以上、又は、20μm以上であってよい。
 第2態様に係る積層体は、導電部材上に配置された保護フィルムを備えてよい。保護フィルムとしては、第1態様に係る積層体における保護フィルムとして上述した保護フィルムを用いることができる。保護フィルムにおける導電部材側の面の少なくとも一部に離型処理が施されていてよく、保護フィルムにおける導電部材側の面の少なくとも一部に剥離層が配置されていてよい。例えば、第2態様に係る積層体は、基材フィルムと、透明樹脂層と、導電部材と、保護フィルムと、を備え、導電部材が単層であり、保護フィルムにおける導電部材側の面の少なくとも一部に離型処理が施されている態様であってよい。
 第2態様に係る積層体は、感光性組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む層として、導電部材上に配置された層Lを備えてよい。感光性組成物は、活性光線(紫外線等)に対する感光性を有しており、ポジ型の感光性を有してよく、ネガ型の感光性を有してよい。感光性組成物は、光照射によって硬化する光硬化性を有してよい。層Lは、光照射の前及び後のいずれであってもよく、未硬化部及び硬化部からなる群より選ばれる少なくとも一種を有してよい。層Lは、光照射の前及び後のいずれであってもよく、未露光部及び露光部からなる群より選ばれる少なくとも一種を有してよい。感光性組成物の構成材料は、特に限定されない。
 図1及び図2は、積層体の例を示す模式断面図である。図1(a)の積層体10は、基材フィルム10aと、基材フィルム10a上に配置された透明樹脂層10bと、透明樹脂層10b上に配置された保護フィルム10cと、を備える。透明樹脂層10bは、本実施形態に係る樹脂組成物、又は、本実施形態に係る硬化物からなる。図1(b)の積層体20は、基材フィルム20aと、基材フィルム20a上に配置された透明樹脂層20bと、透明樹脂層20b上に配置された導電部材20cと、を備える。透明樹脂層20bは、本実施形態に係る樹脂組成物、又は、本実施形態に係る硬化物からなる。図2の積層体30は、基材フィルム30aと、基材フィルム30a上に配置された透明樹脂層30bと、透明樹脂層30b上に配置された導電部材30cと、導電部材30c上に配置された導電部材30dと、を備える。透明樹脂層30bは、本実施形態に係る樹脂組成物、又は、本実施形態に係る硬化物からなる。
 本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物は、透明アンテナ及びその製造方法において用いることができる。透明アンテナにおいて、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物の適用箇所は、特に限定されない。本実施形態に係る樹脂組成物を用いる場合について、以下、硬化工程において透明樹脂層の樹脂組成物を硬化することにより得られた基材を「透明基材」と称し、硬化工程において透明樹脂層の樹脂組成物を硬化する前の状態を含み得る層を「透明樹脂層」と称する。
 本実施形態に係る透明アンテナの第1態様は、透明基材と、透明基材上に配置された導電部材と、を備え、透明基材が、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含む。第1態様に係る透明アンテナは、導電部材上に配置された被覆部材を備えてよく、被覆部材は、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含んでよく、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含まなくてもよい(本実施形態に係る樹脂組成物に該当しない樹脂組成物の硬化物を含んでよい)。本実施形態に係る透明アンテナの第2態様は、導電部材と、導電部材上に配置された被覆部材と、を備え、被覆部材が、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含む。本実施形態に係る透明アンテナの第2態様は、透明基材を備えてよく、導電部材は、透明基材上に配置されてよい。第2態様に係る透明アンテナにおいて、透明基材は、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含んでよく、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含まなくてもよい(本実施形態に係る樹脂組成物に該当しない樹脂組成物の硬化物を含んでよい)。本実施形態に係る透明アンテナは、透明基材と、透明基材上に配置された導電部材と、導電部材上に配置された被覆部材と、を備え、透明基材及び被覆部材からなる群より選ばれる少なくとも一種が、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含む態様であってよい。
 本実施形態に係る透明アンテナにおいて、被覆部材は、導電部材の少なくとも一部(一部又は全部)の上に配置されてよい。被覆部材は、透明基材の少なくとも一部(一部又は全部)の上に配置されてよい。被覆部材は、導電部材上に配置された部分に加えて、導電部材上に配置されることなく透明基材上に配置された部分を有してよい。導電部材が透明基材の一部(例えば、透明基材の主面の一部)の上に配置されることにより、被覆部材(透明部材)は、透明基材及び導電部材上に配置されてよい。被覆部材は、導電部材を被覆することにより導電部材を保護することができる。被覆部材は、透明基材を被覆することにより透明基材を保護することができる。
 被覆部材は、導電部材に当接してよい。被覆部材は、透明基材に当接してよく、透明基材に当接していなくてもよい。透明基材は、被覆部材とは異なる透明部材(例えば、後述の支持部材)に当接してよい。被覆部材は、透明基材とは異なる透明部材(例えば、後述の保護部材)に当接してよい。
 本実施形態に係る透明アンテナにおいて、透明基材及び被覆部材からなる群より選ばれる少なくとも一種の部材は、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含むことができる。透明基材及び被覆部材のうちの一方の部材(以下、「部材A」という)が本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含まない場合、部材Aは、厚さ100μmあたり90%以上又は91%以上の全光線透過率を有する材料により形成されてよい。部材Aの構成材料としては、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー(COP)等)、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィドなどが挙げられる。例えば、部材Aは、シクロオレフィンポリマーを含んでよい。
 本実施形態に係る透明アンテナにおいて、導電部材の構成としては、第2態様に係る積層体における導電部材に関して上述した構成を用いることができる。例えば、導電部材は、銅を含有してよい。導電部材は、中実であってよく、パターン状(例えばメッシュ状)の部分を有してよい。導電部材は、単層であってよい。透明基材の厚さとしては、本実施形態に係る積層体の透明樹脂層に関して上述した厚さを用いることができる。
 本実施形態に係る透明アンテナは、透明基材を支持する支持部材を備えてよく、すなわち、支持部材と、支持部材上に配置された透明基材と、透明基材上に配置された導電部材と、を備えてよい。本実施形態に係る透明アンテナは、被覆部材上に配置された保護部材を備えてよく、すなわち、透明基材と、透明基材上に配置された導電部材と、導電部材上に配置された被覆部材と、被覆部材上に配置された保護部材と、を備えてよい。
 支持部材及び保護部材の形状は、特に限定されず、フィルム状、基板状、不定形状等であってよい。支持部材及び保護部材の構成材料としては、樹脂材料、無機材料等が挙げられる。樹脂材料としては、ポリオレフィン(ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー等)、ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等)、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィドなどが挙げられる。無機材料としては、ガラス等が挙げられる。支持部材及び保護部材は、透明であることに限られず、透明部材(透明フィルム、透明基板等)であってよく、透明ではない部材であってよい。支持部材及び保護部材は、厚さ100μmあたり90%以上の全光線透過率を有する材料により形成されてよい。支持部材は、低誘電である観点から、ポリオレフィンを含んでよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第1態様は、第1態様に係る透明アンテナを得る方法として、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む透明樹脂層上に配置された導電部材(中実の導電部材)の少なくとも一部をパターニングする(例えばメッシュ状に加工する)加工工程を備える。加工工程では、透明樹脂層と、透明樹脂層上に配置された導電部材と、を備える積層体の導電部材上にパターン状のレジスト層が配置された状態で導電部材をエッチングすることによりパターン状(例えばメッシュ状)の導電部材を得てよい。レジスト層は、導電部材をエッチングした後に除去してよい。パターン状のレジスト層は、導電部材上に配置された感光層(感光性組成物を含む層)の未硬化部又は硬化部を除去することにより得ることができる。例えば、パターン状のレジスト層は、導電部材上に配置された感光層(感光性組成物を含む層)に活性光線(例えば紫外線)を照射(露光)した後、感光層の未露光部(感光層がネガ型の感光性を有する場合)又は露光部(感光層がポジ型の感光性を有する場合)を除去(現像)することにより得ることができる。感光層としては、上述の層Lを用いることができる。
 透明樹脂層上に配置された導電部材を備える積層体は、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む透明樹脂層上に導電部材を形成して得られてよく、例えば、第1態様に係る積層体の保護フィルムを除去した後に透明樹脂層上に導電部材を形成して得られてよい。透明樹脂層上に配置された導電部材を備える積層体は、第2態様に係る積層体であってもよい。
 第1態様に係る透明アンテナの製造方法は、加工工程の前、加工工程の後、又は、加工工程の前後に、透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。硬化工程では、未硬化の樹脂組成物を加熱して樹脂組成物を硬化させてよい。以下で説明する透明アンテナの製造方法の他の態様における硬化工程は、第1態様に係る透明アンテナの製造方法における硬化工程と同様であってよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第2態様は、第1態様に係る透明アンテナを得る方法として、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む透明樹脂層上にパターン状のレジスト層が配置された状態でパターン状(例えばメッシュ状)の導電部材を形成する形成工程を備える。形成工程では、レジスト層をマスクとして用いて、めっき又はスパッタリングによりパターン状(例えばメッシュ状)の導電部材を形成してよい。レジスト層は、形成工程の後に除去してよい。第2態様に係る透明アンテナの製造方法は、形成工程の前、形成工程の後、又は、形成工程の前後に、透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第3態様は、第2態様に係る積層体における基材フィルムを除去する除去工程を備える。第2態様に係る積層体における導電部材は、パターン状(例えばメッシュ状)の部分を有してよい。除去工程時の積層体の透明樹脂層が硬化物を含む場合(透明樹脂層が透明基材である場合)には、除去工程により、透明アンテナとして、透明基材及び導電部材(パターン状(例えばメッシュ状)の導電部材等)の積層体を得ることができる。第3態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程の前、除去工程の後、又は、除去工程の前後に、透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第4態様は、本実施形態に係る積層体における透明樹脂層を支持部材上に積層する積層工程を備える。支持部材としては、透明アンテナに関して上述した支持部材を用いることができる。積層工程では、本実施形態に係る積層体における基材フィルムが除去された状態で透明樹脂層を支持部材上に積層してよく、第1態様に係る積層体における保護フィルムが除去された状態で透明樹脂層を支持部材上に積層してよい。第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、本実施形態に係る積層体における基材フィルムを除去する除去工程Aを備えてよく、第1態様に係る積層体における保護フィルムを除去する除去工程Bを備えてよい。
 第2態様に係る積層体を用いる場合、積層工程では、透明樹脂層が導電部材よりも支持部材側に位置する状態で透明樹脂層及び導電部材を支持部材上に積層してよく、透明樹脂層が支持部材に接した状態で透明樹脂層及び導電部材を支持部材上に積層してよい。積層工程において導電部材は、中実であってよく、パターン状(例えばメッシュ状)の部分を有してよい。積層工程では、第2態様に係る積層体における基材フィルムが除去された状態で透明樹脂層及び導電部材を支持部材上に積層することができる。第2態様に係る積層体が、導電部材上に配置された保護フィルムを備えている場合、積層工程では、透明樹脂層が導電部材よりも支持部材側に位置する状態(導電部材が保護フィルムよりも透明樹脂層側に位置する状態)で透明樹脂層、導電部材及び保護フィルムを支持部材上に積層してよい。第2態様に係る積層体が、基材フィルムと、透明樹脂層と、導電部材と、保護フィルムと、を備える場合、第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程A及び積層工程の後に、保護フィルムを除去する除去工程Bを備えてよい。第2態様に係る積層体が上述の層Lを備えている場合、積層工程では、透明樹脂層が導電部材よりも支持部材側に位置する状態で透明樹脂層、導電部材及び層Lを支持部材上に積層してよい。
 ところで、支持部材と、支持部材上に配置された導電部材と、を有する積層体において支持部材と導電部材とを密着性よく積層する場合、支持部材に表面処理(プラズマ処理、コロナ処理等)を施す場合があり、積層体の製造過程が繁雑化し得る。例えば、支持部材の構成材料としてポリオレフィンを用いる場合、ポリオレフィンと導電部材(例えば、銅等の金属材料)との密着性が低いことから、充分な密着性を得るために表面処理を施すことが求められる場合がある。一方、第4態様に係る透明アンテナの製造方法によれば、透明基材を介して支持部材と導電部材との充分な密着性を得つつ、透明アンテナとして支持部材と導電部材との積層体(支持部材、透明基材及び導電部材を有する積層体)を得ることが可能であり、例えば、透明基材を介して、ポリオレフィンを含有する支持部材と、銅を含有する導電部材との充分な密着性を得つつ透明アンテナを得ることができる。また、第4態様に係る透明アンテナの製造方法によれば、第2態様に係る積層体を支持部材上に積層することにより透明樹脂層及び導電部材を一括して支持部材上に供給することが可能であり、透明アンテナを製造する度に支持部材上に各部材を形成することを要さず、簡便な手法により透明アンテナを得ることができる。第2態様に係る積層体が上述の層Lを備えている場合、第4態様に係る透明アンテナの製造方法によれば、第2態様に係る積層体を支持部材上に積層することにより透明樹脂層、導電部材及び層Lを一括して支持部材上に供給することが可能であり、透明アンテナを製造する度に支持部材上に各部材を形成することを要さず、簡便な手法により透明アンテナを得ることができる。さらに、第4態様に係る透明アンテナの製造方法によれば、透明樹脂層又は透明基材の構成材料として、優れた誘電特性(低い比誘電率、誘電正接等)を有する材料を用いることにより、優れたアンテナ特性を有する透明アンテナを得ることができる。
 第4態様に係る透明アンテナの製造方法において、除去工程A、除去工程B及び積層工程における透明樹脂層は、未硬化であってよく、硬化物であってよい。第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程Aの前、除去工程Bの前、積層工程の前、除去工程Aの後、除去工程Bの後、積層工程の後、除去工程Aの前後、除去工程Bの前後、又は、積層工程の前後に、透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。
 第4態様に係る透明アンテナの製造方法において、除去工程A、除去工程B及び積層工程における導電部材は、中実であってよく、パターン状(例えばメッシュ状)の部分を有してよい。導電部材が中実である場合、第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、積層工程の後に、導電部材の少なくとも一部をパターニングする(例えばメッシュ状に加工する)加工工程Aを備えてよい。加工工程Aでは、パターン状のレジスト層をマスクとして用いて、導電部材の少なくとも一部をエッチングすることにより導電部材の少なくとも一部をパターニングしてよい。積層工程における導電部材がパターン状の部分を有する態様として、第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、透明樹脂層と、当該透明樹脂層上に配置された導電部材と、を備える積層体における透明樹脂層が導電部材よりも支持部材側に位置する状態で積層体を支持部材上に積層する積層工程を備え、透明樹脂層が、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、導電部材がパターン状の部分を有する態様であってよい。
 第2態様に係る積層体が上述の層Lを備えている場合、第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、積層工程の後、且つ、加工工程Aの前に、層Lの少なくとも一部をパターニングすることによりパターン状の層L(レジスト層)を得る加工工程Bを備えてよい。加工工程Bでは、未露光部(層Lがネガ型の感光性を有する場合)又は露光部(層Lがポジ型の感光性を有する場合)を除去(現像)することにより層Lの少なくとも一部をパターニングすることが可能であり、層Lを露光した後に未露光部又は露光部を除去(現像)することにより層Lの少なくとも一部をパターニングしてよい。第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、積層工程の前に、層Lの少なくとも一部を露光する工程を備えてもよい。感光性組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む層を備える積層体を用いた態様として、第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、第1の層と、第2の層と、第1の層及び第2の層の間に配置された導電部材と、を備える積層体における第1の層が第2の層よりも支持部材側に位置する状態で積層体を支持部材上に積層する積層工程を備え、第1の層が、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、第2の層が、感光性組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む態様であってよい。
 第4態様に係る透明アンテナの製造方法において、除去工程A、除去工程B及び積層工程における導電部材は、複数層であってよく、透明樹脂層上に配置された第1の導電部材と、第1の導電部材上に配置された第2の導電部材と、を有してよい。第1の導電部材及び第2の導電部材からなる群より選ばれる少なくとも一種は、中実であってよく、パターン状(例えばメッシュ状)の部分を有してよい。第1の導電部材及び第2の導電部材からなる群より選ばれる少なくとも一種は、銅を含有してよい。導電部材が第1の導電部材及び第2の導電部材を有する場合、積層工程では、第1の導電部材が第2の導電部材よりも支持部材側に位置する状態で透明樹脂層及び導電部材を支持部材上に積層してよい。第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、積層工程の後に、第2の導電部材を除去する除去工程Cを備えてよい。除去工程Cでは、第2の導電部材を第1の導電部材から剥離することができる。第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程Cの後に、第1の導電部材の少なくとも一部をパターニングする(例えばメッシュ状に加工する)加工工程を備えてよい。加工工程では、例えば、第1の導電部材上にパターン状のレジスト層が配置された状態で第1の導電部材をエッチングしてよい。第4態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程Cの前、除去工程Cの後、又は、除去工程Cの前後に、透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第5態様は、第1態様に係る透明アンテナを得る方法として、上述の基材フィルムと、上述の透明樹脂層(本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む透明樹脂層)と、第1の導電部材及び第2の導電部材を有する上述の導電部材と、を備える積層体(第2態様に係る積層体)を用いた透明アンテナの製造方法であって、第2態様に係る積層体における透明樹脂層が導電部材よりも支持部材側に位置しつつ透明樹脂層及び導電部材が支持部材上に積層された状態で第2の導電部材を除去する除去工程Cを備える。
 第5態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程Cの前、除去工程Cの後、又は、除去工程Cの前後に、透明樹脂層及び導電部材が支持部材上に積層された状態で透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。硬化工程では、透明樹脂層が導電部材よりも支持部材側に位置しつつ透明樹脂層及び導電部材が支持部材上に積層された状態で透明樹脂層を硬化させてよい。第5態様に係る透明アンテナの製造方法は、第2の導電部材を除去した後(除去工程Cの後)に、第1の導電部材の少なくとも一部をパターニングする(例えばメッシュ状に加工する)加工工程を備えてよい。第5態様に係る透明アンテナの製造方法の一例は、第2態様に係る積層体として、上述の基材フィルムと、上述の透明樹脂層(未硬化の樹脂組成物を含む透明樹脂層)と、第1の導電部材及び第2の導電部材を有する上述の導電部材と、を備える積層体を用いた製造方法であって、上述の除去工程A(第1の除去工程)、積層工程、硬化工程及び除去工程C(第2の除去工程)を備える。第5態様に係る透明アンテナの製造方法において、第1の導電部材及び第2の導電部材からなる群より選ばれる少なくとも一種は、銅を含有してよい。また、積層体における第1の導電部材は、中実であってよく、パターン状(例えばメッシュ状)の部分を有してよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第6態様は、第1態様に係る透明アンテナを得る方法として、透明樹脂層(本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む透明樹脂層)、導電部材及び保護フィルムがこの順に支持部材上に積層された状態で保護フィルムを除去する除去工程Bを備える。この場合、積層体は、例えば、導電部材が単層であり、保護フィルムにおける導電部材側の面の少なくとも一部に離型処理が施されている態様であってよい。第6態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程Bの前に、第2態様に係る積層体における基材フィルムを除去する除去工程Aと、透明樹脂層、導電部材及び保護フィルムを支持部材上に積層する積層工程と、を備えてよい。第6態様に係る透明アンテナの製造方法は、除去工程Bの前、除去工程Bの後、又は、除去工程Bの前後に、透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。
 第1~6態様に係る透明アンテナの製造方法は、導電部材上に被覆部材(本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物を含まない被覆部材)を形成する被覆部材形成工程を備えてよく、被覆部材形成工程の後に、被覆部材上に保護部材(例えば透明部材)を配置する工程を備えてよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第7態様は、第2態様に係る透明アンテナを得る方法として、導電部材上に、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む被覆部材を形成する被覆部材形成工程を備える。被覆部材形成工程では、本実施形態に係る樹脂組成物を導電部材上に供給することにより被覆部材を形成してよく、本実施形態に係る積層体の透明樹脂層を導電部材上に配置することにより被覆部材(透明樹脂層)を形成してよい。本実施形態に係る積層体を用いる場合、基材フィルム又は保護フィルムを除去した後に、本実施形態に係る積層体の透明樹脂層を導電部材上に配置してよい。被覆部材形成工程は、透明樹脂層(導電部材を支持する透明樹脂層)と、透明樹脂層上に配置された導電部材と、を備える積層体における導電部材上に、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む被覆部材を形成する工程であってよく、透明樹脂層(導電部材を支持する透明樹脂層)と、透明樹脂層の一部(例えば、透明樹脂層の主面における一部)の上に配置された導電部材と、を備える積層体における透明樹脂層及び導電部材上に、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む被覆部材を形成する工程であってよい。
 第7態様に係る透明アンテナの製造方法は、被覆部材形成工程の前、被覆部材形成工程の後、又は、被覆部材形成工程の前後に、被覆部材(被覆部材の樹脂組成物)を硬化して硬化物を得る硬化工程を備えてよい。第7態様に係る透明アンテナの製造方法は、被覆部材形成工程の前、被覆部材形成工程の後、又は、被覆部材形成工程の前後に、導電部材を支持する透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。被覆部材、及び、導電部材を支持する透明樹脂層は、同一の硬化工程で硬化してよい。第7態様に係る透明アンテナの製造方法は、被覆部材形成工程の後に、被覆部材上に保護部材(例えば透明部材)を配置する工程を備えてよい。
 本実施形態に係る透明アンテナの製造方法の第8態様は、第2態様に係る透明アンテナを得る方法として、導電部材と、当該導電部材上に配置された被覆部材と、を備える積層体における導電部材が被覆部材よりも透明樹脂層側に位置する状態で積層体を透明樹脂層上に積層する積層工程を備え、被覆部材が、本実施形態に係る樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む。導電部材と、当該導電部材上に配置された被覆部材と、を備える積層体としては、第2態様に係る積層体を用いることが可能であり、積層工程では、第2態様に係る積層体における透明樹脂層を被覆部材として配置することができる。
 第8態様に係る透明アンテナの製造方法は、積層工程の前、積層工程の後、又は、積層工程の前後に、被覆部材(被覆部材の樹脂組成物)を硬化して硬化物を得る硬化工程を備えてよい。第8態様に係る透明アンテナの製造方法は、積層工程の前、積層工程の後、又は、積層工程の前後に、透明樹脂層(透明樹脂層の樹脂組成物)を硬化して硬化物(透明基材)を得る硬化工程を備えてよい。被覆部材及び透明樹脂層は、同一の硬化工程で硬化してよい。第8態様に係る透明アンテナの製造方法は、積層工程の前、積層工程の後、又は、積層工程の前後に、被覆部材上に保護部材(例えば透明部材)を配置する工程を備えてよい。
 第7態様及び第8態様に係る透明アンテナの製造方法において、透明樹脂層及び導電部材は、本実施形態に係る積層体及び透明アンテナに関して上述した透明樹脂層及び導電部材と同様である。透明樹脂層は、支持部材に支持されていてよい。被覆部材は、導電部材上に配置された部分に加えて、導電部材上に配置されることなく透明樹脂層上に配置された部分を有してよく、透明基材及び導電部材に当接してよい。
 上述した第1~8態様に係る透明アンテナの製造方法では、各態様に関して上述した工程、構成等を相互に組み合わせてよい。例えば、第5態様に係る透明アンテナの製造方法では、第4態様に係る透明アンテナの製造方法に関して上述した工程、構成等を用いることができる。
 本実施形態に係る透明アンテナは、画像表示装置、自動車の構成部材(フロントガラス、リアガラス、サンルーフ、窓等)、建物などにおいて用いることができる。本実施形態に係る画像表示装置、自動車又は建物は、本実施形態に係る透明アンテナを備える。画像表示装置は、画像を表示する画像表示部と、画像表示部の周囲に位置するベゼル部(額縁部)と、を有してよく、透明アンテナが画像表示部に配置されていてよい。画像表示装置は、パソコン、ナビゲーションシステム(例えばカーナビゲーション)、携帯電話、時計、電子辞書等の各種電子機器に用いられてよい。
 図3及び図4は、画像表示装置の例を示す模式断面図であり、画像表示装置の画像表示部の一部を示す。図3の画像表示装置100は、透明アンテナ110と、透明アンテナ110上に配置された保護部材120と、を備える。透明アンテナ110は、透明基材110aと、透明基材110a上に配置されたメッシュ状の導電部材110bと、透明基材110a及び導電部材110b上に配置された被覆部材110cと、を備える。図4の画像表示装置200は、透明アンテナ210と、透明アンテナ210上に配置された保護部材220と、を備える。透明アンテナ210は、透明部材210aと、透明部材210a上に配置された透明基材210bと、透明基材210b上に配置されたメッシュ状の導電部材210cと、透明基材210b及び導電部材210c上に配置された被覆部材210dと、を備える。被覆部材110c,210dは、透明基材110a,210b及び導電部材110b,210cを被覆している。
 画像表示装置100において、透明基材110a及び被覆部材110cからなる群より選ばれる少なくとも一種は、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含み、例えば、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物からなる。透明基材110a及び被覆部材110cのうちの一方は、厚さ100μmあたり90%以上の全光線透過率を有する材料(例えば、シクロオレフィンポリマー等のポリオレフィン)により形成されてよい。画像表示装置200において、透明基材210b及び被覆部材210dからなる群より選ばれる少なくとも一種は、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物を含み、例えば、本実施形態に係る樹脂組成物の硬化物からなる。透明基材210b及び被覆部材210dのうちの一方は、厚さ100μmあたり90%以上の全光線透過率を有する材料により形成されてよい。導電部材110b,210cは、例えば、銅により形成されている。透明部材210aは、例えば、ポリオレフィンにより形成されている。保護部材120,220は、例えば、ガラス板であってよい。
 以下、実施例及び比較例を用いて本開示について更に説明するが、本開示は以下の実施例に限定されるものではない。
<樹脂ワニスの調製>
(実施例1)
 攪拌しながら、エラストマー1(無水マレイン酸変性スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、旭化成株式会社製、商品名:タフプレン912、スチレン含有量:40質量%)80質量部、重合性化合物1(アクリル化合物、1,9-ノナンジオールジアクリレート、昭和電工マテリアルズ株式会社製、商品名:FA-129AS)20質量部、重合開始剤(2,5-ジメチル-2,5-ビス(2-エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、日本油脂株式会社製、商品名:パーヘキサ25O)1.0質量部、及び、溶剤(トルエン)150質量部を混合することにより樹脂ワニスを得た。
(実施例2)
 重合性化合物1に代えて重合性化合物2(メタクリル化合物、1,9-ノナンジオールジメタクリレート、新中村化学工業株式会社製、商品名:NKエステルNOD-N)を用いたことを除き実施例1と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(実施例3)
 重合性化合物1に代えて重合性化合物3(メタクリル化合物、1,12-ドデカンジオールジメタクリレート、新中村化学工業株式会社製、商品名:NKエステルDDD)を用いたことを除き実施例1と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(実施例4~6)
 エラストマー1に代えてエラストマー2(スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、旭化成株式会社製、商品名:アサフレックス810、MFR(ISO 1133、200℃、5kgf)5g/10分、ビカット軟化温度(ISO 306、10N、50℃/h)83℃)を用いたことを除き実施例1~3と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(実施例7~9)
 エラストマー1に代えてエラストマー3(スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、旭化成株式会社製、商品名:アサフレックス830、MFR(ISO 1133、200℃、5kgf)6g/10分、ビカット軟化温度(ISO 306、10N、50℃/h)72℃)を用いたことを除き実施例1~3と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(実施例10~12)
 エラストマー1に代えてエラストマー4(スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体、旭化成株式会社製、商品名:アサフレックス840、MFR(ISO 1133、200℃、5kgf)7g/10分、ビカット軟化温度(ISO 306、10N、50℃/h)81℃)を用いたことを除き実施例1~3と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(比較例1)
 エラストマー1に代えてエラストマー5(スチレン-エチレン-ブチレン-スチレンブロック共重合体、旭化成株式会社製、商品名:タフテックH1041)を用いたことを除き実施例1と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(比較例2)
 エラストマー1に代えてエラストマー6(水素添加型スチレンブタジエンランダム共重合体、JSR株式会社製、商品名:ダイナロン2324P)を用いたこと、及び、重合開始剤の使用量を0.2質量部に変更したことを除き実施例1と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(比較例3)
 エラストマー6の使用量を60質量部に変更したこと、及び、20質量部の重合性化合物1を40質量部の重合性化合物2に変更したことを除き比較例2と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
(比較例4)
 エラストマー6の使用量を60質量部に変更したこと、及び、20質量部の重合性化合物1を40質量部の重合性化合物3に変更したことを除き比較例2と同様に行うことにより樹脂ワニスを得た。
<硬化物の引張弾性率及び誘電特性の評価>
 基材フィルムとして表面離型処理PETフィルム(藤森工業株式会社製、商品名:HTA、厚さ:75μm)を準備した。ナイフコータ(株式会社康井精機製、商品名:SNC-300)を用いて、このPETフィルムの離型処理面上に上述の樹脂ワニスを塗布した。次いで、乾燥機(株式会社二葉科学製、商品名:MSO-80TPS)中において100℃で10分乾燥することにより樹脂フィルムを形成した。塗工機のギャップを調節することにより、乾燥後の樹脂フィルムの厚さを100μmに調整した。保護フィルムとして表面離型処理PETフィルム(藤森工業株式会社製、商品名:BD、厚さ:75μm)を準備した後、保護フィルムの離型処理面を樹脂フィルムに貼り付けることにより積層フィルムAを得た。
 乾燥機(株式会社二葉科学製、商品名:MSO-80TPS)において、上述の積層フィルムAに対して120℃で30分熱処理を施して樹脂フィルムを熱硬化することにより、基材フィルム、硬化フィルム及び保護フィルムを備える評価用フィルムを得た。
 上述の評価用フィルムから長さ50mm、幅10mmの積層体を切り出した後、この積層体の基材フィルム及び保護フィルムを除去することにより試験片を得た。25℃の環境下、オートグラフ(株式会社島津製作所製、商品名:EZ-S)を用いて試験片の応力-ひずみ曲線を測定し、応力-ひずみ曲線から引張弾性率を求めた。測定時のチャック間距離は20mmに設定し、引張速度は50mm/minに設定した。引張弾性率として、荷重0.5Nから1.0Nにおける値を測定した。結果を表1に示す。
 実施例1~12の上述の評価用フィルムから長さ80mm、幅80mmの積層体を試験片として切り出した後、ベクトル型ネットワークアナライザ(アジレントテクノロジー社製、商品名:E8364B)及び10GHz共振器(株式会社関東電子応用開発製、商品名:CP531)を用いて、25℃の環境下、スプリットポスト誘電体共振器法(SPDR法)によりこの試験片全体の比誘電率(Dk)及び誘電正接(Df)を測定した。また、上述の基材フィルム及び保護フィルムのみを積層した積層体(長さ:80mm、幅:80mm)を作製した後、同様の手法によりこの積層体の比誘電率及び誘電正接を測定した。上述の試験片の測定結果から上述の積層体(基材フィルム及び保護フィルムのみを積層した積層体)の測定結果を差し引くことにより、硬化フィルムの比誘電率及び誘電正接を得た。結果を表1に示す。
<全光線透過率の測定>
 実施例1及び10の上述の評価用フィルムから長さ30mm、幅30mmの積層体を切り出した後、この積層体の基材フィルム及び保護フィルムを除去することにより試験片を得た。試験片の全光線透過率(T.T.)を、JIS K 7136に準じた方法によって測定した。具体的には、25℃の環境下、白色LEDランプを照射し、試験片を透過した光の全光線透過率を測定した。測定装置として日本電色工業株式会社製のSH7000(商品名)を用いた。全光線透過率は、実施例1において91%であり、実施例10において90%であった。同様の測定により、実施例1及び10以外の実施例においても90%以上の全光線透過率が得られる。
<しわ外観の評価>
 銅部材として、銅箔A(厚さ:18μm)及び銅箔B(厚さ:2μm)の積層体(三井金属株式会社製、商品名:MT-18FL)を準備した。上述の積層フィルムAの保護フィルムを除去した後、加圧式真空ラミネータ(ニッコー・マテリアルズ株式会社製、商品名:V130)を用いて、露出した樹脂フィルム(積層フィルムAの樹脂フィルム)と上述の銅部材の銅箔Bとを圧力0.5MPa、真空引き10秒、圧着30秒の条件で貼り合わせた。基材フィルム(積層フィルムAの基材フィルム)を除去した後、加圧式真空ラミネータ(ニッコー・マテリアルズ株式会社製、商品名:V130)を用いて、露出した樹脂フィルムとCOPフィルム(厚さ:100μm)とを圧力0.5MPa、真空引き10秒、圧着30秒の条件で貼り合わせることにより積層フィルムBを得た。
 乾燥機(株式会社二葉科学製、商品名:MSO-80TPS)において、上述の積層フィルムBに対して120℃で30分熱処理を施して樹脂フィルムを熱硬化することにより、COPフィルム、硬化フィルム、銅箔B及び銅箔Aを備える評価用フィルムを得た。
 上述の評価用フィルムから長さ100mm、幅100mmの積層体を切り出すことにより試験片を得た。この試験片から銅箔Aを除去し、露出した銅箔Bにおけるしわの有無を確認した。しわがない場合を「A」と評価し、しわがある場合を「B」と評価した。結果を表1に示す。
 10,20,30…積層体、10a,20a,30a…基材フィルム、10b,20b,30b…透明樹脂層、10c…保護フィルム、20c,30c,30d,110b,210c…導電部材、100,200…画像表示装置、110,210…透明アンテナ、110a,210b…透明基材、110c,210d…被覆部材、120,220…保護部材、210a…透明部材。

Claims (18)

  1.  エラストマーと、重合性化合物と、重合開始剤と、を含有する樹脂組成物であって、
     当該樹脂組成物を120℃で30分熱処理したときに引張弾性率50MPa以上の硬化物を与える、樹脂組成物。
  2.  前記エラストマーがスチレン系ブロック共重合体を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
  3.  前記エラストマーがスチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
  4.  前記エラストマーの含有量が、当該樹脂組成物の全質量を基準として50質量%以上である、請求項1に記載の樹脂組成物。
  5.  前記重合性化合物が(メタ)アクリル化合物を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
  6.  前記重合性化合物がアルカンジオールジ(メタ)アクリレートを含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
  7.  前記重合性化合物が、下記一般式(I)で表される化合物を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
    [式中、Rは、9以下の炭素原子及び2以上の酸素原子を含む基を表し、R2a及びR2bは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。]
  8.  前記重合開始剤が過酸化物を含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
  9.  前記重合開始剤がパーオキシエステルを含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
  10.  請求項1~9のいずれか一項に記載の樹脂組成物の硬化物。
  11.  基材フィルムと、当該基材フィルム上に配置された透明樹脂層と、を備え、
     前記透明樹脂層が、請求項1~9のいずれか一項に記載の樹脂組成物及びその硬化物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む、積層体。
  12.  前記透明樹脂層上に配置された導電部材を更に備える、請求項11に記載の積層体。
  13.  前記導電部材が銅を含有する、請求項12に記載の積層体。
  14.  前記導電部材の厚さが5μm以下である、請求項12に記載の積層体。
  15.  透明基材と、当該透明基材上に配置された導電部材と、当該導電部材上に配置された被覆部材と、を備え、
     前記透明基材及び前記被覆部材からなる群より選ばれる少なくとも一種が、請求項1~9のいずれか一項に記載の樹脂組成物の硬化物を含む、透明アンテナ。
  16.  前記導電部材がメッシュ状の部分を有する、請求項15に記載の透明アンテナ。
  17.  前記導電部材が銅を含有する、請求項15に記載の透明アンテナ。
  18.  請求項15に記載の透明アンテナを備える、画像表示装置。

     
PCT/JP2023/012939 2022-03-31 2023-03-29 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置 WO2023190741A1 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022059928 2022-03-31
JP2022-059928 2022-03-31
JP2022-128114 2022-08-10
JP2022128114 2022-08-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023190741A1 true WO2023190741A1 (ja) 2023-10-05

Family

ID=88202709

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2023/012939 WO2023190741A1 (ja) 2022-03-31 2023-03-29 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TW202402940A (ja)
WO (1) WO2023190741A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013861A (ja) * 1983-07-02 1985-01-24 Nitto Electric Ind Co Ltd 硬化性被覆用組成物
JP2009076354A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Tokai Rubber Ind Ltd 燃料電池用接着性シール部材
JP2011091788A (ja) * 2009-09-24 2011-05-06 Dainippon Printing Co Ltd 透明アンテナ用エレメント及び透明アンテナ
JP2015047745A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
JP2016044268A (ja) * 2014-08-25 2016-04-04 ナミックス株式会社 接着剤
JP2016199714A (ja) * 2015-04-13 2016-12-01 日華化学株式会社 活性エネルギー線硬化性重合体組成物、それを用いた硬化膜、及び前記硬化膜を有する積層体

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013861A (ja) * 1983-07-02 1985-01-24 Nitto Electric Ind Co Ltd 硬化性被覆用組成物
JP2009076354A (ja) * 2007-09-21 2009-04-09 Tokai Rubber Ind Ltd 燃料電池用接着性シール部材
JP2011091788A (ja) * 2009-09-24 2011-05-06 Dainippon Printing Co Ltd 透明アンテナ用エレメント及び透明アンテナ
JP2015047745A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版及びその製造方法、並びに、フレキソ印刷版及びその製版方法
JP2016044268A (ja) * 2014-08-25 2016-04-04 ナミックス株式会社 接着剤
JP2016199714A (ja) * 2015-04-13 2016-12-01 日華化学株式会社 活性エネルギー線硬化性重合体組成物、それを用いた硬化膜、及び前記硬化膜を有する積層体

Also Published As

Publication number Publication date
TW202402940A (zh) 2024-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2016080346A1 (ja) 半導体装置及びその製造方法、並びに可撓性樹脂層形成用樹脂組成物
JP6789496B2 (ja) 硬化性樹脂シート、電気回路用可撓性基材、可撓性電気回路体及び半導体装置
EP4212562A1 (en) Composition and cured product of same
CN112210211A (zh) 树脂组合物
WO2023190741A1 (ja) 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置
KR20240043114A (ko) 수지 조성물
JP7306381B2 (ja) 導体基板、伸縮性配線基板、及び配線基板用伸縮性樹脂フィルム
WO2023190719A1 (ja) 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置
WO2022177008A1 (ja) 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ及びその製造方法、並びに、画像表示装置
JP5606023B2 (ja) 配線板用透明接着剤樹脂組成物及びそれを用いた配線板用透明接着フィルム
JP2024025025A (ja) 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ及び画像表示装置
JP2017186433A (ja) 硬化性樹脂シート、可撓性電気回路体及び半導体装置
WO2024181377A1 (ja) 半導体パッケージ及び半導体パッケージ用樹脂組成物
JP2018034422A (ja) 積層体、金属張積層体、プリント配線基板および電子機器
JP7445092B2 (ja) 絶縁層を含む多層構造体
JP2023152935A (ja) 樹脂組成物、硬化物、積層体、透明アンテナ、及び、画像表示装置
JP2018172460A (ja) 可撓性樹脂形成用組成物、樹脂フィルム、電気回路体及び半導体装置
WO2024106433A1 (ja) 絶縁接着層を含む多層構造体及びその硬化物
KR20240117051A (ko) 배선판의 제조 방법
KR20240080150A (ko) 수지 조성물
WO2018092329A1 (ja) 配線基板及びその製造方法
TW202348674A (zh) 樹脂組成物
JP2024074136A (ja) ブロック共重合体、硬化物、電子回路基板材料、樹脂フィルム、プリプレグ、積層体、及び半導体チップパッケージ
TW202315912A (zh) 樹脂薄片、積層板、覆金屬積層板、印刷線路板及半導體封裝體
TW202344584A (zh) 樹脂組成物

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 23780749

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2024512714

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A