WO2023190218A1

WO2023190218A1 - 表示装置及び感光性組成物

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Publication number: WO2023190218A1
Application number: PCT/JP2023/011950
Authority: WO
Inventors: 勇剛谷垣; 拓紀西岡; 高志本間
Original assignee: 東レ株式会社
Priority date: 2022-03-30
Filing date: 2023-03-24
Publication date: 2023-10-05

Abstract

所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の高信頼性を兼ね備える有機ＥＬディスプレイを提供することを課題とする。　基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であって、画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であって、平面視において、複数の画素部を有し、該画素部における、該発光層を含む有機層と接する側の該第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、硫黄イオン（Ｓ－）の検出強度、塩素イオン（Ｃｌ－）の検出強度、臭素イオン（Ｂｒ－）の検出強度、及び、塩素イオン（Ｃｌ－）の検出強度と臭素イオン（Ｂｒ－）の検出強度の総和が、特定の一般式で表される関係を満たす、表示装置。

Description

表示装置及び感光性組成物

　本発明は、表示装置及び感光性組成物に関する。表示装置に関して、詳しくは、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」）ディスプレイ、量子ドットディスプレイ、又はマイクロ発光ダイオード（以下、「マイクロＬＥＤ」）ディスプレイに関する。特に、有機ＥＬディスプレイに関する。

　近年、スマートフォン、タブレット
Ｃ、及びテレビなどの薄型ディスプレイを有する表示装置において、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、又はマイクロＬＥＤディスプレイに関する技術が盛んに研究されており、それらを用いた製品が多く開発されている。

　有機ＥＬディスプレイにおける発光特性向上のため、有機ＥＬディスプレイの画素分割層、薄層トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」）平坦化層やＴＦＴ保護層、及びＴＦＴアレイ形成における層間絶縁層やゲート絶縁層には高耐熱性の感光性組成物が用いられる。例えば、第１電極上に形成される画素分割層は、アノード（陽極）となる第１電極を露出する開口部を形成する必要があるため、フォトリソグラフィーによって画素分割層を形成する。また有機ＥＬディスプレイは自発光素子を有するため、屋外における太陽光などの外光が入射すると、その外光反射によって視認性及びコントラストが低下する。そのため、外光を遮断して外光反射を低減する技術として、光取り出し側に偏光フィルムを形成することが一般的である。また画素分割層を形成する感光性組成物中に着色剤を含有させ、遮光性を向上させる技術も存在する。

　有機ＥＬディスプレイにおける発光特性向上に関しては、低電圧駆動化すれば所望の電圧によって高電流が流れるため、高輝度化・省電力化を実現できる。また、発光素子を高信頼性化すれば有機ＥＬディスプレイの耐久性向上を実現できる。そのため、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性に加え、発光素子の優れた信頼性との両立が求められる。

　有機ＥＬディスプレイとしては、画素分割層及び／又は平坦化層中の、金属元素及び／又はハロゲン元素の含有量の総和を特定範囲内とする有機ＥＬディスプレイ（特許文献１参照）などが挙げられる。感光性組成物としては、ポリイミドなどの第１樹脂と、カルド系樹脂などの第２の樹脂とを含有するネガ型感光性組成物（特許文献２参照）などが挙げられる。

国際公開第２０１８／１２３８５３号国際公開第２０１７／１５９８７６号

　有機ＥＬディスプレイにおいて、光取り出し側に偏光フィルムを形成すると発光素子からの発光も一部遮断されてしまう。そのため、偏光フィルムは外光反射抑制には有効であるものの、発光輝度が低下するという課題があった。

　一方、外光反射抑制のために画素分割層を形成する感光性組成物中に着色剤を含有させる場合、パターニング露光時の紫外線等も遮断されてしまう。そのため、パターン加工性の悪化や着色剤の溶解性に起因する現像残渣等は、有機ＥＬディスプレイの発光特性における高電圧駆動化の要因となる。また、現像残渣等に起因する異物により、発光素子の信頼性が低下するという課題もあった。

　従って、表示装置である有機ＥＬディスプレイには、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の高信頼性を兼ね備えることが要求される。しかしながら、上記の特許文献１に記載の表示装置は上記いずれかの特性が不十分であった。また感光性組成物には、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の高信頼性を兼ね備える硬化膜を提供可能であることが要求される。しかしながら、上記の特許文献２に記載の感光性組成物は上記いずれかの特性が不十分であった。

　上述した課題を解決するために、本発明の表示装置及び感光性組成物は、以下の［１］～［２０］の構成を有する。

　［１］基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であって、
　該画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であって、
　平面視において、複数の画素部を有し、
　該画素部における、該発光層を含む有機層と接する側の該第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、
　硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度を（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
　塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度を（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
　臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度を（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、かつ、
　該（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）及び該（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）の総和を（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）とするとき、
　一般式（ＳＡ－１）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たす、表示装置。
２≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＳＡ－１）
２≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＸＡ－１）
　［２］前記一般式（ＳＡ－１）及び前記一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たす、前記［１］に記載の表示装置。

　［３］前記第１電極が多層構造の非透明電極であって、
　該第１電極が非透明導電性金属層を有し、
　該第１電極の発光層側の最表層以外の層のうち少なくとも一層が、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層を有する、前記［１］又は［２］に記載の表示装置。

　［４］前記第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、
　該第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有する、前記［３］に記載の表示装置。

　［５］前記画素部における、前記発光層を含む有機層と接する側の前記透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、
　酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度を（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとするとき、
　前記一般式（ＳＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＳＡ－２）及び一般式（ＩｎＳＡ－１）で表される関係を満たし、
　及び／又は、
　前記一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＸＡ－２）及び一般式（ＩｎＸＡ－１）で表される関係を満たす、前記［４］に記載の表示装置。
０．０００１≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦０．１　（ＳＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＳＡ－１）
０．０００１≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦０．１　（ＸＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＸＡ－１）
　［６］さらに、一般式（ＳＡ－１ａ）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＡ－１ａ）で表される関係を満たす、前記［１］～［５］のいずれかに記載の表示装置。
２≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦１００　（ＳＡ－１ａ）
２≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦１００　（ＸＡ－１ａ）
　［７］画素分割層部上の発光層を含む有機層部が形成された領域と重畳しない領域における、第２電極部と接する側又は第２電極部の開口部において露出する側の該画素分割層部の表面において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、
　硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比を（Ｓ_ＰＤＬ）とし、
　塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比を（Ｃｌ_ＰＤＬ）とし、
　臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比を（Ｂｒ_ＰＤＬ）とし、かつ、
　該（Ｃｌ_ＰＤＬ）及び該（Ｂｒ_ＰＤＬ）の総和を（Ｘ_ＰＤＬ）とし、
　前記画素部における、該発光層を含む有機層部と接する側の第１電極部の表面において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、
　硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比を（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、
　塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比を（Ｃｌ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、
　臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比を（Ｂｒ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、かつ、
　該（Ｃｌ_{Ａｎｏｄｅ}）及び該（Ｂｒ_{Ａｎｏｄｅ}）の総和を（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）とするとき、
　一般式（ＳＤ－１）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＤ－１）で表される関係を満たす、前記［１］～［６］のいずれかに記載の表示装置。
０．１≦（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｓ_ＰＤＬ）≦２０　（ＳＤ－１）
０．１≦（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｘ_ＰＤＬ）≦２０　（ＸＤ－１）
　［８］前記画素分割層が、有機黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有し、
　該有機黒色顔料が、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及び、アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
　該二色以上の着色顔料混合物が、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む、前記［１］～［７］のいずれかに記載の表示装置。

　［９］前記画素分割層が、以下の（Ａ１－ＤＬ）樹脂及び／又は（Ａ３－ＤＬ）樹脂を含有する、前記［１］～［８］のいずれかに記載の表示装置。
（Ａ１－ＤＬ）樹脂：イミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及び、シロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造単位を有する樹脂
（Ａ３－ＤＬ）樹脂：フェノール性水酸基を含む構造単位を有する樹脂
　［１０］前記画素分割層が、以下の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物を含む、前記［１］～［９］のいずれかに記載の表示装置。
（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物：フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、カルバゾール構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、ベンゾインドール構造、又はジフェニルスルフィド構造を有し、これらの構造にイミノ基が結合した構造及び／又はこれらの構造にカルボニル基が結合した構造、を有する化合物
（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物：インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物
　［１１］前記第１電極における銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層が、主成分の元素と異なる元素として、さらに、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｂｉ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃ、及び、Ｓｉからなる群より選ばれる一種類以上を含む、前記［１］～［１０］のいずれかに記載の表示装置。

　［１２］さらに、フレキシブル基板を有し、
　該画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有し、
　前記発光層を含む有機層の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、及び円偏光板を有さず、
　曲面の表示部、外側への折り曲げ面を含む表示部、又は内側への折り曲げ面を含む表示部を有し、フレキシブル性を有する表示装置である、前記［１］～［１１］のいずれかに記載の表示装置。

　［１３］前記画素分割層が段差形状を有する硬化パターンを含み、
　該画素分割層の硬化パターンの段差形状における、厚膜部の膜厚を（Ｔ_ＦＴ）μｍとし、かつ、薄膜部の膜厚を（Ｔ_ＨＴ）μｍとするとき、
　該（Ｔ_ＦＴ）μｍと該（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍが０．５～１０．０μｍである、前記［１］～［１２］のいずれかに記載の表示装置。

　［１４］前記画素分割層の硬化パターンの段差形状における厚膜部及び薄膜部が、同一の（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、
　該厚膜部及び該薄膜部の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０である、前記［１３］に記載の表示装置。

　［１５］前記画素分割層が硬化パターンを有し、かつ、該画素分割層上の一部にスペーサ層を有し、
　該スペーサ層の膜厚（Ｔ_ＳＰ）μｍが０．５～１０．０μｍであって、
　該スペーサ層が、下記（１）～（３）の条件のうち少なくとも１つを満たす、前記［１］～［１２］のいずれかに記載の表示装置。
（１）該スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含まない
（２）該スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該スペーサ層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．０～０．３である
（３）該スペーサ層が（Ｃ２ｘ－ＤＬ）インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物を含む
　［１６］基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であって、
　該画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であって、
　該画素分割層が、以下の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物、及び、（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
　（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉａ）構造を有し、
　（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉｂ）構造を有し、
　下記（１ａ－ＤＬ）及び（１ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、又は、下記（２ａ－ＤＬ）及び（２ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、を満たす、表示装置。
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物：チオール構造含有化合物、スルフィド構造含有化合物、ジスルフィド構造含有化合物、スルホキシド構造含有化合物、スルホン構造含有化合物、スルトン構造含有化合物、チオフェン構造含有化合物、及び、スルホン酸構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、硫化物イオン構造、硫化水素イオン構造、硫酸イオン構造、及び、硫酸水素イオン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物：塩化アルキル構造含有化合物、塩化シクロアルキル構造含有化合物、塩化アリール構造含有化合物、臭化アルキル構造含有化合物、臭化シクロアルキル構造含有化合物、及び、臭化アリール構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、塩化物イオン構造及び／又は臭化物イオン構造を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（Ｉ－Ｉｂ）構造：炭素数１～６の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（１ａ－ＤＬ）画素分割層中の硫黄元素の含有量が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（１ｂ－ＤＬ）画素分割層中の硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ
（２ａ－ＤＬ）画素分割層中の塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ－ＤＬ）画素分割層中の塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ。

　［１７］（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｄ）着色剤を含有する感光性組成物であって、かつ以下の、条件（Ｉ）、及び／又は、条件（ＩＩ）を満たす、感光性組成物。
（Ｉ）さらに、硫黄元素を含む成分、塩素元素を含む成分、及び、臭素元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１ａ）及び／又は（２ａ）の条件を満たす
（１ａ）該感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（２ａ）該感光性組成物中に占める塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（ＩＩ）さらに、以下の硫黄系アニオンを含む成分、及び、以下のハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１ｂ）及び／又は（２ｂ）の条件を満たす
硫黄系アニオン：硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び、硫酸水素イオンからなる群より選ばれる一種類以上のイオン
ハロゲンアニオン：塩化物イオン、及び／又は、臭化物イオン
（１ｂ）該感光性組成物中に占める硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ）該感光性組成物中に占める塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
　［１８］前記硫黄元素を含む成分を含有し、かつ前記（１ａ）の条件を満たす、及び／又は、
　前記硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ前記（１ｂ）の条件を満たす、前記［１７］に記載の感光性組成物。

　［１９］前記硫黄元素を含む成分を含有し、かつ前記（１ａ）の条件を満たし、及び／又は、
　前記硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ前記（１ｂ）の条件を満たし、
　かつ、
　前記塩素元素を含む成分、及び、前記臭素元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ前記（２ａ）の条件を満たす、及び／又は、
　前記ハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ前記（２ｂ）の条件を満たす、前記［１７］又は［１８］に記載の感光性組成物。

　［２０］さらに、水を含有し、かつ下記（３）の条件を満たす、前記［１７］～［１９］のいずれかに記載の感光性組成物。
（３）該感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１～２．０質量％。

　所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の高信頼性を兼ね備える有機ＥＬディスプレイを提供すること。

段差形状を有する画素分割層を含む表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図である。画素分割層及びスペーサ層を含む表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図である。段差形状を有する画素分割層及び画素寸法制御層を含む表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図である。画素部の形状、カラーフィルタ層部の形状、及びブラックマトリックス層部の開口部の形状の一例を示す平面図である。ブラックマトリックス層部がカラーフィルタ層部と重畳する構成を有する表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図である。段差形状を有する画素分割層及び偏光フィルムを含む表示装置の一例を示す模式的断面図である。第１色の画素部、第２色の画素部、及び第３色の画素部を含む構成を有する表示装置の一例を示す平面図である。段差形状を有する硬化パターンの断面の一例を示す模式的断面図である。段差形状を有する画素分割層を含む表示装置における工程１～工程６の製造プロセスの一例を示す模式的断面図である。発光特性評価に用いた有機ＥＬディスプレイの基板における工程１～工程４の製造プロセスを示す平面図である。ハーフトーン特性評価に用いたハーフトーンフォトマスクにおける透光部、遮光部、及び半透光部の配置、並びに、寸法の一例を示す平面図である。発光特性評価に用いた有機ＥＬディスプレイの厚膜部、開口部、及び薄膜部の配置、並びに、寸法の一例を示す平面図である。

　以下、本発明の第一の態様及び第二の態様である表示装置について述べる。なお本発明の表示装置と記載する場合、本発明の第一の態様及び第二の態様である表示装置、並びに、後述する本発明の第三の態様である感光性組成物を硬化した硬化物を具備する表示装置に関する記載である。一方、特定の態様の表示装置について述べる場合、第一の態様である表示装置などと記載する。

　本発明の表示装置において、平面視における平面とは、後述する基板に水平な平面をいう。また本発明の表示装置において、平面視とは、基板に水平な平面をｘｙ軸平面とし、ｘｙ軸平面に対して直交する方向をｚ軸方向とした場合において、ｚ軸方向から見たｘｙ軸平面のうち、表示装置の光取り出し側の平面視をいう。なお平面視において特定の部材に着目する場合、特定の部材に重なる別の部材を透過して見たものとする。基板が平面でない場合、後述する任意の画素部に水平な平面をｘｙ平面とする。本発明の表示装置において、重畳するとは、ｚ軸方向に対して直接的又は間接的に重なることをいう。本発明の表示装置において、パターン寸法の平均値は、光学顕微鏡又は走査型電子顕微鏡（以下、「ＳＥＭ」）を用いて３０点のパターン寸法を測定した平均値として算出できる。またパターン寸法の最大値及び最小値は、同様に光学顕微鏡又はＳＥＭを用いて３０点のパターン寸法を測定した最大値と最小値として算出できる。なお樹脂の主鎖とは、構造単位を含む樹脂を構成する鎖のうち最も鎖長が長いものをいう。樹脂の側鎖とは、構造単位を含む樹脂を構成する鎖のうち、主鎖から分岐した又は主鎖に結合した、主鎖よりも鎖長が短いものをいう。樹脂の末端とは主鎖を封止する構造をいい、例えば、末端封止剤などに由来する構造である。また「＊＊結合」や「＊＊基」を含む、炭化水素基やアルキレン基とは、「＊＊結合」や「＊＊基」が結合した、炭化水素基やアルキレン基、又は、「＊＊結合」や「＊＊基」によって連結された、少なくとも２つの炭化水素基や少なくとも２つのアルキレン基をいう。

　＜表示装置＞
　本発明の第一の態様である表示装置は、基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であって、
　該画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であって、
　平面視において、複数の画素部を有し、
　該画素部における、該発光層を含む有機層と接する側の該第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、
　硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度を（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
　塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度を（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
　臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度を（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、かつ、
　該（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）及び該（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）の総和を（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）とするとき、
　一般式（ＳＡ－１）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たす、表示装置である。
２≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＳＡ－１）
２≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＸＡ－１）。

　このような構成とすることで、本発明の表示装置は、低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び発光素子の高信頼性を兼ね備えることが可能である。画素部において、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面における硫黄イオン、塩素イオン、及び臭素イオンの検出強度が大きいほど、第１電極の表面上のこれらの元素によって表面改質された比率が多いことを示す。硫黄イオン、塩素イオン、及び臭素イオンの検出強度を上記のような構成とすることで、仕事関数差の調整によって低電圧駆動が可能な優れた発光特性を奏功する。加えて、同一電圧駆動時における高発光輝度の効果を奏功すると考えられる。また意図的に第１電極上のこれらのイオンの検出強度を調整することで、例えば有機ＥＬディスプレイにおける第１電極上における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。それにより、発光特性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。また、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。
さらに、発光素子の高信頼性の効果を奏功する。

　本発明の第二の態様である表示装置は、基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であって、
　該画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であって、
　該画素分割層が、以下の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物、及び、（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
　（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉａ）構造を有し、
　（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉｂ）構造を有する、表示装置である。
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物：チオール構造含有化合物、スルフィド構造含有化合物、ジスルフィド構造含有化合物、スルホキシド構造含有化合物、スルホン構造含有化合物、スルトン構造含有化合物、チオフェン構造含有化合物、及び、スルホン酸構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、硫化物イオン構造、硫化水素イオン構造、硫酸イオン構造、及び、硫酸水素イオン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物：塩化アルキル構造含有化合物、塩化シクロアルキル構造含有化合物、塩化アリール構造含有化合物、臭化アルキル構造含有化合物、臭化シクロアルキル構造含有化合物、及び、臭化アリール構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、塩化物イオン構造及び／又は臭化物イオン構造を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（Ｉ－Ｉｂ）構造：炭素数１～６の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（１ａ－ＤＬ）画素分割層中の硫黄元素の含有量が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（１ｂ－ＤＬ）画素分割層中の硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ
（２ａ－ＤＬ）画素分割層中の塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ－ＤＬ）画素分割層中の塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ。

　このような構成とすることで、本発明の表示装置は、低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び発光素子の高信頼性を兼ね備えることが可能である。画素分割層中に硫黄元素を含む構造を有する化合物、上記の硫黄系アニオンを含む構造を有する化合物、塩素元素を含む構造を有する化合物、臭素元素を含む構造を有する化合物、又は上記のハロゲンアニオンを含む構造を有する化合物を含有させることで、後述する第１電極上に画素分割層を形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面がこれらの元素又はイオンによって表面改質されると推定される。また画素分割層を形成した後、画素分割層に含まれるこれらの元素又はイオンが遷移することで、第１電極の表面がこれらの元素又はイオンによって表面改質されると考えられる。その結果、仕事関数差の調整により低電圧駆動が可能な優れた発光特性を奏功すると推定される。加えて、同一電圧駆動時における高発光輝度の効果を奏功すると考えられる。また意図的にこれらの化合物を含有させることで、例えば有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層中における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。それにより、発光特性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。また、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。

　＜基板＞
　本発明の表示装置は、基板を有する。基板は耐衝撃性向上の観点から、二酸化ケイ素又は三酸化二アルミニウムを有することが好ましく、ガラス基板、石英基板、水晶基板、又はサファイア基板がより好ましい。

　基板は、フレキシブル性向上、折り曲げ性向上、及び表示装置の形状自由度向上（曲面形状又は折り曲げ形状など）の観点から、フレキシブル基板が好ましい。フレキシブル基板は、本発明の硬化膜と基板との密着性向上、及び折り曲げ性向上の観点から、炭素を主成分の元素として含む基板が好ましい。フレキシブル基板における主成分の元素とは、フレキシブル基板の構成元素において最も多く含まれる元素をいう。フレキシブル基板は、ポリイミド基板、ポリエチレンテレフタレート基板、シクロオレフィンポリマー基板、ポリカーボネート基板、又はセルローストリアセテート基板が好ましく、折り曲げ性向上の観点から、ポリイミド基板がより好ましい。本発明の表示装置は、後述する画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有することが好ましい。

　本発明の表示装置は、フレキシブル性を有する表示装置であることが好ましく、曲面の表示部、外側への折り曲げ面を含む表示部、又は内側への折り曲げ面を含む表示部を有することが好ましい。フレキシブル性を有する表示装置は、フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイ、フレキシブル性を有する量子ドットディスプレイ、又はフレキシブル性を有するマイクロＬＥＤディスプレイが好ましく、フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイがより好ましい。

　＜第１電極及び第２電極；平面視における第１電極部及び第２電極部＞
　本発明の表示装置は、第１電極及び第２電極を有する。第１電極及び第２電極として、透明電極と非透明電極とを組み合わせることにより、後述する発光層を含む有機層における発光を片側に取り出すことができる。透明電極及び非透明電極には、電気特性に優れることが求められる。透明電極又は非透明電極を陽極として用いる場合には、効率良く正孔を注入できること、一方、陰極として用いる場合には、効率良く電子を注入できることなどの複合的な特性が求められる。

　ボトムエミッション型の構成の表示装置は、第１電極に透明電極を、第２電極に非透明電極を有する。一方、トップエミッション型の構成の表示装置は、第１電極に非透明電極を、第２電極に透明電極を有する。ボトムエミッション型の構成の表示装置は、ボトムエミッション型の構成の有機ＥＬディスプレイが好ましい。トップエミッション型の構成の表示装置は、トップエミッション型の構成の有機ＥＬディスプレイが好ましい。透明電極とは、波長５５０ｎｍにおける透過率が３０％以上である電極をいう。非透明電極とは、波長５５０ｎｍにおける透過率が３０％未満である電極をいう。電極が多層構造の場合、多層構造とした場合の波長５５０ｎｍにおける透過率にて上記透過率を測定し、透明電極又は非透明電極に分類する。複合的な特性を両立するため、非透明電極の第１電極を多層構造とすることも好ましい。例えば、非透明電極の第１電極を多層構造とし、第１電極の基板側に、密着性や耐腐食性を向上させる下地層や、反射率を調整する反射調整層を有することもできる。なお電極が単層構造の場合、後述する透明導電性酸化膜層、非透明導電性層、非透明導電性金属層、透明導電性層、及び透明導電性金属層における透明又は非透明とは、上記と同様に、波長５５０ｎｍにおける透過率が３０％以上又は３０％未満であることをいう。一方、電極が多層構造の場合、波長５５０ｎｍにおける透過率が全体として３０％以上であることを透明といい、多層構造を構成する各層のうち１層でも３０％未満であることを非透明という。すなわち、多層構造が少なくとも１つの非透明導電性層又は非透明導電性金属層を有する場合、当該多層構造を具備する電極は非透明電極となる。多層構造の電極が透明に分類される場合、多層構造を構成する各層は、波長５５０ｎｍにおける透過率がそれぞれ７０％以上であることが好ましい。

　本発明の表示装置は、平面視において、複数の第１電極部を有することが好ましい。上述した第１電極を平面視したものが、第１電極部に相当する。本発明の表示装置は、平面視において、第２電極部を有することが好ましい。上述した第２電極を平面視したものが、第２電極部に相当する。本発明の表示装置は、複数の第２電極部を有することがより好ましい。本発明の表示装置が複数の第１電極部を有する場合の第１電極部の形状、及び本発明の表示装置が複数の第２電極部を有する場合の第２電極部の形状は、閉じた多角形、閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状、又は円弧で形成された閉じた形状が好ましい。閉じた多角形、閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状、及び円弧で形成された閉じた形状に関する例示及び好ましい記載は、後述の記載の通りである。

　＜透明導電性酸化膜層、非透明導電性層、非透明導電性金属層、透明導電性層、及び透明導電性金属層＞
　本発明の表示装置は、第１電極の発光層側の最表層に、透明導電性酸化膜層を有することが好ましく、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、又はＧａを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有することがより好ましく、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有することがさらに好ましい。透明導電性酸化膜層における主成分の元素とは、透明導電性酸化膜層の構成元素において最も多く含まれる酸素以外の元素をいう。Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、又はＧａを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、ＩＴＯ又はＩＺＯが好ましく、ＩＴＯがより好ましい。透明導電性酸化膜層は発光特性の低電圧駆動化及び発光素子の信頼性向上の観点から、アモルファス性の透明導電性酸化膜層が好ましく、インジウムを主成分の元素として含むアモルファス性の透明導電性酸化膜層がより好ましい。一方、透明導電性酸化膜層は発光輝度向上の観点から、多結晶性の透明導電性酸化膜層が好ましく、インジウムを主成分の元素として含む多結晶性の透明導電性酸化膜層がより好ましい。なお本発明の表示装置は、第１電極が多層構造、かつ透明電極又は非透明電極のいずれの場合おいても、第１電極の発光層側の最表層に、これらの透明導電性酸化膜層を有することが好ましい。第１電極は単層構造又は多層構造である。第１電極が単層構造の場合、第１電極は透明電極が好ましい。第１電極が多層構造の場合、第１電極は透明電極又は非透明電極である。第１電極を陽極として用いる場合、第１電極は発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、ＩＴＯ又はＩＺＯが好ましく、ＩＴＯがより好ましい。第１電極が透明電極の場合、第１電極の膜厚を調整して波長５５０ｎｍにおける透過率を調整することが好ましい。

　第１電極が単層構造の非透明電極の場合、第１電極は非透明導電性層である。第１電極が多層構造の非透明電極の場合、第１電極は非透明導電性層を有する。第１電極の発光層側の最表層以外の層のうち少なくとも一層が、非透明導電性層であることが好ましい。第１電極が非透明電極、かつ単層構造又は多層構造のいずれの場合おいても、非透明導電性層は金属元素を含む非透明導電性金属層が好ましい。また第１電極を陽極として用いる場合、非透明導電性金属層は発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、発光素子の信頼性向上、及び耐腐食性向上の観点から、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｍｏ、又はＣｒを主成分の元素として含むことが好ましく、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔｉ、又はＡｌを主成分の元素として含むことがより好ましく、銀又は銅を主成分の元素として含むことがさらに好ましい。非透明導電性金属層は主成分の元素と異なる元素として、さらに、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｂｉ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃ、及び、Ｓｉからなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましく、Ｉｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、及び、Ｓｉからなる群より選ばれる一種類以上を含むことがより好ましい。非透明導電性金属層における主成分の元素とは、非透明導電性金属層の構成元素において最も多く含まれる元素をいう。第１電極が非透明電極の場合、第１電極の膜厚を調整して波長５５０ｎｍにおける透過率を調整することが好ましい。

　本発明の表示装置は、第２電極の発光層側の最表層に、透明導電性金属層を有することが好ましく、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔｉ、又はＡｌを主成分の元素として含む透明導電性金属層を有することがより好ましく、マグネシウム又は銀を主成分の元素として含む透明導電性金属層を有することがさらに好ましい。透明導電性金属層における主成分の元素とは、透明導電性金属層の構成元素において最も多く含まれる元素をいう。Ｌｉ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔｉ、又はＡｌを主成分の元素として含む透明導電性金属層は、発光輝度向上の観点から、ＬｉＡｇ又はＭｇＡｇが好ましく、ＭｇＡｇがより好ましい。なお本発明の表示装置は、第２電極が多層構造、かつ透明電極又は非透明電極のいずれの場合おいても、第２電極の発光層側の最表層に、これらの透明導電性金属層を有することが好ましい。第２電極を陰極として用いる場合、透明導電性金属層又は非透明導電性金属層は発光輝度向上及び発光素子の信頼性向上の観点から、Ｌｉ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｔｉ、又はＡｌを主成分の元素として含む透明導電性金属層を有することがより好ましい。透明導電性金属層は、発光輝度向上の観点から、ＬｉＡｇ又はＭｇＡｇが好ましく、ＭｇＡｇがより好ましい。第２電極が透明電極又は非透明電極の場合、第２電極の膜厚を調整して波長５５０ｎｍにおける透過率を調整することが好ましい。

　＜アモルファス性の透明導電性酸化膜層；特定金属を含む非透明導電性金属層＞
　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、第１電極が多層構造の非透明電極であって、第１電極が非透明導電性金属層を有し、第１電極の発光層側の最表層以外の層のうち少なくとも一層が、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層を有することが好ましい。銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層を有することで、銀又は銅が低抵抗特性に優れるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置において、このような構成とする場合、本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化及び発光素子の信頼性向上の観点から、第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有することが好ましい。第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有することで、仕事関数差の調整によって、発光特性の低電圧駆動化及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、第１電極が多層構造の非透明電極であって、第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含むアモルファス性の透明導電性酸化膜層を有し、第１電極の発光層側の最表層以外の層のうち少なくとも一層が、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層を有し、トップエミッション型の構成であることが好ましい。上記と同様、非透明導電性金属層が含む銀又は銅が低抵抗特性に優れるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。また透明導電性酸化膜層が含むインジウムによる仕事関数差の調整によって、発光特性の低電圧駆動化及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。またアモルファス性の透明導電性酸化膜層により欠陥発生が抑制されるとともに、トップエミッション型の構成により素子内部での迷光や散乱光を低減でき、発光輝度確保のための駆動電圧の高電圧化を抑制できるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　第１電極の最表層にアモルファス性の透明導電性酸化膜層を有することで、第１電極の表面における欠陥発生や突起物発生が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。加えて、最表層のアモルファス性の導電性酸化膜層は、硫黄元素、塩素元素、及び臭素元素による表面改質が進行しやすく、仕事関数差の調整による発光特性の低電圧駆動化及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。また、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層を有することで、これらの金属が有する高反射率の特性により光取り出し効率が向上するため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。同様に、これらの金属が有する低抵抗率の特性により導電性が向上するため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。アモルファス性の透明導電性酸化膜層及び銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層により、発光特性の低電圧駆動化、発光素子の信頼性向上、発光輝度向上、及び光取り出し効率向上の効果が顕著となるため、トップエミッション型の構成の表示装置において、特に好適である。

　第１電極における、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層に占める、銀元素及び銅元素の含有比率の合計は、高反射率及び低抵抗率による発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、９５質量％以上が好ましく、９６質量％以上がより好ましく、９７質量％以上がさらに好ましい。一方、銀元素及び銅元素の含有比率の合計は、高反射率及び低抵抗率による発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、９９．５質量％以下が好ましく、９９質量％以下がより好ましく、９８．５質量％以下がさらに好ましい。

　第１電極における銀を主成分の元素として含む非透明導電性金属層は、主成分の元素と異なる元素として、さらに、銅及び／又はパラジウムを含むことが好ましく、銅及びパラジウムを含むことがより好ましい。また、第１電極における銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層は、主成分の元素と異なる元素として、さらに、銀及び／又はパラジウムを含むことが好ましく、銀及びパラジウムを含むことがより好ましい。これらの元素を含むことで、第１電極の導電性が向上するため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また、第１電極の耐熱性及び耐酸化性が顕著に向上するため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　第１電極における、銀を主成分の元素として含む非透明導電性金属層に占める、銅元素及びパラジウム元素の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上がさらに好ましい。一方、銅元素及びパラジウム元素の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以下が好ましく、４質量％以下がより好ましく、３質量％以下がさらに好ましい。また、第１電極における、銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層に占める、銀元素及びパラジウム元素の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上がさらに好ましい。一方、銀元素及びパラジウム元素の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以下が好ましく、４質量％以下がより好ましく、３質量％以下がさらに好ましい。

　本発明の表示装置において、第１電極が多層構造の非透明電極であって、第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含むアモルファス性の透明導電性酸化膜層を有し、第１電極の発光層側の最表層以外の層のうち少なくとも一層が、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層を有し、トップエミッション型の構成である場合、
本発明の表示装置は、第１電極における銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層は、主成分の元素と異なる元素として、さらに、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｂｉ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃ、及び、Ｓｉからなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましく、Ｉｎ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、及び、Ｓｉからなる群より選ばれる一種類以上を含むことがより好ましく、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、及び、Ｃａからなる群より選ばれる一種類以上を含むことがさらに好ましい。これらの元素を含むことで、第１電極の導電性が向上するため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。第１電極における銀を主成分の元素として含む非透明導電性金属層は、銅及び／又はパラジウムを含み、さらに、これらの元素を含むことが好ましい。第１電極における銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層は、銀及び／又はパラジウムを含み、さらに、これらの元素を含むことが好ましい。

　第１電極における、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層に占める、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｂｉ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃ、及び、Ｓｉの各元素の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。一方、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｂｉ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃ、及びＳｉの各元素の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、３質量％以下が好ましく、２質量％以下がより好ましい。

　＜画素分割層；平面視における画素分割層部＞
　本発明の表示装置は、画素分割層を有する。画素分割層とは、隣接する画素部同士を分割し、各画素部の領域を定義する層である。画素分割層は、第１電極上の領域を分割する層であることが好ましい。なお本発明の表示装置が後述する画素寸法制御層を有する場合、画素寸法制御層も隣接する画素部同士を分割しており、画素寸法制御層が各画素部の領域と寸法を定義する層となる。画素分割層は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましく、着色剤を含む感光性組成物を硬化した硬化膜がより好ましく、黒色剤を含む感光性組成物を硬化した硬化膜がさらに好ましい。画素分割層は、上述した第１電極上の一部と重なるように形成されていることが好ましい。このような構成とすることで、任意の画素における第１電極と第２電極とを絶縁でき、第１電極と第２電極との短絡に起因する画素非点灯を抑制できる。また任意の画素における第１電極と、隣接する画素における第１電極とを絶縁でき、第１電極同士の短絡に起因する画素非点灯を抑制できる。

　画素分割層は、感光性組成物中の樹脂等の成分の着色によって可視光線の波長において黒色であることが好ましく、樹脂等の成分の着色に加えて、熱発色剤及び／又は酸化発色剤等の着色によって黒色であることがより好ましい。画素分割層は、複数の着色剤の着色によって黒色であることがさらに好ましく、複数の着色剤の着色に加えて、熱発色剤及び／又は酸化発色剤等の着色によって黒色であることがさらにより好ましい。画素分割層は、黒色剤によって黒色であることが特に好ましい。なお着色しているとは、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、又は紫色であることをいう。

　本発明の表示装置は、平面視において、複数の開口部を有する画素分割層部を有することが好ましい。上述した画素分割層を平面視したものが、画素分割層部に相当する。本発明の表示装置は、後述する画素部の形状が、画素分割層部の開口部の形状と類似の形状又は相似の形状が好ましく、画素分割層部の開口部の形状と同一であることがより好ましい。本発明の表示装置が、平面視において、後述する画素寸法制御層部を有する場合、後述する画素部の形状が、画素寸法制御層部の開口部の形状と類似の形状又は相似の形状が好ましく、画素寸法制御層部の開口部の形状と同一であることがより好ましい。

　画素部の形状は、閉じた多角形、閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状、又は円弧で形成された閉じた形状が好ましい。閉じた多角形としては、例えば、三角形、正三角形、二等辺三角形、直角三角形、四角形、正方形、菱形、長方形、台形、直角台形、又は平行四辺形が挙げられる。閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状としては、例えば、三角形、正三角形、二等辺三角形、直角三角形、四角形、正方形、菱形、長方形、台形、直角台形、又は平行四辺形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状が挙げられる。円弧で形成された閉じた形状としては、例えば、円形、真円形、又は楕円形が挙げられる。画素部の形状は、四角形、正方形、菱形、若しくは長方形；四角形、正方形、菱形、若しくは長方形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状、又は、円形若しくは真円形が好ましい。画素部の形状は、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光輝度向上の観点から、閉じた多角形又は閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状が好ましい。画素部の形状を少なくとも一部の直線によって真円形から変えることで、発光素子からの発光が面発光として非対称となり、第１電極と第２電極との間における反射・干渉によって強められるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また、画素部の形状を少なくとも一部の直線によって真円形から変えることで、入射した外光の画素分割層部の表面における散乱が非対称となり、第１電極と第２電極との間における反射・干渉によって弱められるため、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。

　画素部と重畳する後述するカラーフィルタ層部の形状、画素部と重畳する後述するブラックマトリックス層部の開口部の形状、後述するスペーサ層部の形状、後述するオーバーコート層部の形状、及び後述するオーバーコート層部の開口部の形状は、閉じた多角形、閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状、又は円弧で形成された閉じた形状が好ましい。閉じた多角形、閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状、及び円弧で形成された閉じた形状に関する例示及び好ましい記載は、上記の通りである。

　画素部と重畳する後述するカラーフィルタ層部の形状は、画素部の形状と類似の形状又は相似の形状が好ましい。画素部と重畳する後述するブラックマトリックス層部の開口部の形状は、画素部の形状と類似の形状又は相似の形状が好ましい。カラーフィルタ層部の形状は、ブラックマトリックス層部の開口部の形状と類似の形状又は相似の形状が好ましい。画素部の形状、カラーフィルタ層部の形状、及びブラックマトリックス層部の開口部の形状は、いずれも類似の形状又は相似の形状であることがより好ましい。画素部の形状、カラーフィルタ層部の形状、及びブラックマトリックス層部の開口部の形状のうちいずれかが、類似の形状でなく、かつ相似の形状でなくでも構わない。画素部の形状、カラーフィルタ層部の形状、及びブラックマトリックス層部の開口部の形状は、それぞれ互いに類似の形状でなく、かつ相似の形状でなくても構わない。画素部の形状、カラーフィルタ層部の形状、及びブラックマトリックス層部の開口部の形状の一例を示す平面図を図４に示す。

　画素部の形状、画素分割層部の開口部の形状、後述する画素寸法制御層部の開口部の形状、後述するスペーサ層部の形状、後述するカラーフィルタ層部の形状、後述するブラックマトリックス層部の開口部の形状、後述するオーバーコート層部の形状、及び後述するオーバーコート層部の開口部の形状における、長軸方向のパターン寸法及び短軸方向のパターン寸法について、以下に記載する。

　形状が閉じた多角形の場合、長軸方向のパターン寸法とは、閉じた多角形を線対称に二分割する直線のうち、最長の直線の長さをいう。一方、短軸方向のパターン寸法とは、長軸方向と直交する方向の直線のうち、最長の直線の長さをいう。形状が、閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状の場合、長軸方向のパターン寸法とは、閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状を線対称に二分割する直線のうち、最長の直線の長さをいう。一方、短軸方向のパターン寸法とは、長軸方向と直交する方向の直線のうち、最長の直線の長さをいう。形状が円弧で形成された閉じた形状の場合、長軸方向のパターン寸法とは、円弧で形成された閉じた形状を線対称に二分割する直線のうち、最長の直線の長さをいう。一方、短軸方向のパターン寸法とは、長軸方向と直交する方向の直線のうち、最長の直線の長さをいう。形状が円形、真円形、又は楕円形の場合、長軸方向のパターン寸法とは、最長の円の直径をいう。一方、短軸方向のパターン寸法とは、長軸方向と直交する方向の円の直径をいう。

　画素分割層部の開口部及び後述する画素寸法制御層部の開口部のパターン寸法は、開口部における底部から底部までの長さをいう。画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部の長軸方向のパターン寸法の平均値は、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５．０μｍ以上が好ましく、６．０μｍ以上がより好ましく、７．０μｍ以上がさらに好ましく、８．０μｍ以上がさらにより好ましく、１０．０μｍ以上が特に好ましい。一方、画素分割層部の開口部又は後述する画素寸法制御層部の開口部の長軸方向のパターン寸法の平均値は、外光反射抑制及び発光輝度向上の観点から、５０．０μｍ以下が好ましく、４０．０μｍ以下がより好ましく、３５．０μｍ以下がさらに好ましい。また画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部の長軸方向のパターン寸法の平均値は、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３０．０μｍ以下が好ましく、２５．０μｍ以下がより好ましく、２０．０μｍ以下がさらに好ましく、１７．０μｍ以下がさらにより好ましく、１５．０μｍ以下が特に好ましい。

　画素部の長軸方向のパターン寸法は、画素部における底部から底部までの長さをいう。画素部の長軸方向のパターン寸法を（ＣＤ）μｍとし、かつ、画素部に対応する画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部の長軸方向のパターン寸法を（ＤＬ）μｍとするとき、（ＣＤ）μｍと（ＤＬ）μｍとの寸法差（ΔＣＤ－ＤＬ）μｍは、－２．０μｍ以上が好ましく、－１．５μｍ以上がより好ましく、－１．０μｍ以上がさらに好ましく、－０．５μｍ以上がさらにより好ましく、－０．２μｍ以上が特に好ましい。一方、（ＣＤ）μｍと（ＤＬ）μｍとの寸法差（ΔＣＤ－ＤＬ）μｍは、２．０μｍ以下が好ましく、１．５μｍ以下がより好ましく、１．０μｍ以下がさらに好ましく、０．５μｍ以下がさらにより好ましく、０．２μｍ以下が特に好ましい。画素部の長軸方向のパターン寸法は、画素部に対応する画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部の長軸方向のパターン寸法と同一であることが最も好ましい。

　＜画素寸法制御層；平面視における画素寸法制御層部＞
　本発明の表示装置は、さらに、画素寸法制御層を有することが好ましい。画素寸法制御層とは、画素分割層と画素部との両方に接し、各画素部の領域の寸法を調整する層である。画素寸法制御層は、画素分割層によって分割された第１電極上の領域の寸法を調整する層であることが好ましい。画素寸法制御層は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましい。画素寸法制御層は、上述した第１電極上の一部と重なるように形成されていることが好ましい。このような構成とすることで、画素部となる開口部のパターン寸法を高精度に制御できるため、パターン寸法均一性向上の効果が顕著となる。その結果、画素部のパターン寸法、カラーフィルタ層部のパターン寸法、及びブラックマトリックス層部の開口部のパターン寸法を高精度に制御でき、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、さらに、平面視において、複数の開口部を有する画素寸法制御層部を有することが好ましい。本発明の表示装置において、覆うとは、ｚ軸方向に対して少なくとも一部が直接的に重なることをいう。上述した画素寸法制御層を平面視したものが、画素寸法制御層部に相当する。段差形状を有する画素分割層及び画素寸法制御層を含む表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図を図３に示す。

　＜スペーサ層；平面視におけるスペーサ層部＞
　本発明の表示装置は、さらに、スペーサ層を有することが好ましい。スペーサ層とは、画素分割層の上及び／又は下に位置する層である。スペーサ層を有することで、画素分割層が段差形状を有しない場合においても、画素分割層が段差形状を有する場合における厚膜部に対応する機能を付与することができる。スペーサ層は、画素分割層上のスペーサ層及び／又は画素分割層の下に位置する下層スペーサ層を含むことが好ましい。スペーサ層は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましい。スペーサ層は、画素分割層上の一部に形成されていることが好ましい。このような構成とすることで、発光層を含む有機層を形成する際の画素分割層と蒸着マスクとの接触面積を小さくできる。従って、画素分割層の損傷抑制により、パネルの歩留まり低下抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、さらに、平面視において、スペーサ層部を有することが好ましい。上述したスペーサ層を平面視したものが、スペーサ層部に相当する。スペーサ層部の形状は、外光反射抑制の観点から、閉じた多角形又は閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状が好ましい。スペーサ層部の形状を少なくとも一部の直線によって真円形から変えることで、入射した外光のスペーサ層部の表面における散乱が非対称となり、第１電極と第２電極との間における反射・干渉によって弱められるため、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。

　＜画素分割層中、画素寸法制御層中、及びスペーサ層中の着色剤＞
　本発明の表示装置は、画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含む。このような構成とすることで、入射した外光を画素分割層で遮光できるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。また画素分割層の可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、画素分割層等からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤は、黒色剤及び／又は二色以上の着色剤混合物が好ましい。画素分割層中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤は、顔料及び／又は染料を含有することが好ましく、顔料及び染料を含有することがより好ましい。

　本発明の表示装置は、画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、スペーサ層が、下記（１）～（３）の条件のうち少なくとも１つを満たすことが好ましい。本発明の表示装置は、スペーサ層が、下記（１）及び（３）の条件のうち少なくとも１つを満たすことがより好ましく、少なくとも下記（１）の条件を満たすことがさらに好ましい。
（１）スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含まない
（２）スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、スペーサ層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．０～０．３である
（３）スペーサ層が（Ｃ２ｘ－ＤＬ）インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物を含む。

　このような構成とすることで、画素分割層とスペーサ層とが、異なる組成の感光性組成物を用いて二層成膜する方法で形成されている、又は、スペーサ層がポジ型の感光性組成物で形成されていることとなる。二層成膜する方法の場合、一層目の開口部は再度アルカリ現像液と接触することとなるため、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部における残渣発生が抑制され、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また、一層目の画素分割層はハーフトーンフォトマスクを用いたハーフトーン露光ではなく、ネガ型の場合はフルトーン露光によって光硬化が十分に進行しており、アルカリ現像液に対する溶解性が顕著に低下している。そのため、一層目の画素分割層の表面はラフネスの少ない平滑な膜面となっており、入射した外光の散乱が抑制されることで、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。一方、スペーサ層がポジ型の感光性組成物で形成されている場合、開口部は露光によってアルカリ溶解促進され、現像残渣発生が抑制されるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また画素分割層となる箇所は、一層目の画素分割層とポジ型の感光性組成物との相互作用により、アルカリ現像液に対する溶解性が顕著に低下している。従って、一層目の画素分割層の表面はラフネスの少ない平滑な膜面となっているため、入射した外光の散乱が抑制されることで、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。またスペーサ層を有するため、画素分割層の損傷抑制により、パネルの歩留まり低下抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。スペーサ層中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤は、黒色剤及び／又は二色以上の着色剤混合物が好ましい。スペーサ層中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤は、顔料及び／又は染料を含有することが好ましく、顔料及び染料を含有することがより好ましい。

　以下、画素分割層、画素寸法制御層、及び、スペーサ層（以下、「画素分割層等」）からなる群より選ばれる一種類以上中の着色剤について、まとめて記載する。画素分割層等中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有することが好ましい。画素分割層等中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、黒色染料及び／又は二色以上の着色染料混合物を含有することも好ましい。画素分割層等中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤は、後述する（Ｄ）着色剤であることが好ましい。

　画素分割層等は黒色顔料を含有することが好ましい。このような構成とすることで、入射した外光を画素分割層等で遮光できるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。また画素分割層等の可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、画素分割層等からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　画素分割層等は、有機黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有し、
有機黒色顔料が、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及び、アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
二色以上の着色顔料混合物が、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含むことが好ましい。
有機黒色顔料は、ベンゾフラノン系黒色顔料及び／又はペリレン系黒色顔料を含むことがより好ましく、ベンゾフラノン系黒色顔料を含むことがさらに好ましい。
二色以上の着色顔料混合物は、アントラキノン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリレン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、イミダゾロン系顔料、キナクリドン系顔料、ピランスロン系顔料、フタロシアニン系顔料、インダントロン系顔料、及び、ジオキサジン系顔料からなる群より選ばれる一種類以上の顔料を含むことが好ましく、ペリレン系顔料、イミダゾロン系顔料、及び、インダントロン系顔料からなる群より選ばれる一種類以上の顔料を含むことがより好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層等中のこれらの顔料は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する、第１電極の発光層側の表面における導電性向上を促進すると推定される。そのため、発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。

　ベンゾフラノン系黒色顔料は、ベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有することが好ましく、一般式（１６１）及び一般式（１６２）のいずれかで表される構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含むことがより好ましい。

　本発明の表示装置において、画素分割層等が、有機黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有する場合、画素分割層等は、ベンゾフラノン系黒色顔料を含み、ベンゾフラノン系黒色顔料が、一般式（１６１）及び一般式（１６２）のいずれかで表される構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含むことが好ましい。画素分割層等中のベンゾフラノン系黒色顔料は、後述するベンゾフラノン系黒色顔料であることが好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層等中のベンゾフラノン系黒色顔料は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。またベンゾフラノン系黒色顔料は、一般的な有機顔料と比較して顔料の単位質量当たりの遮光性に優れるため、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。またベンゾフラノン系黒色顔料は、一般的な有機顔料や無機顔料と比較して絶縁性及び低誘電性に優れるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　一般式（１６１）及び一般式（１６２）において、Ｒ^３４１～Ｒ^３４４は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。Ｒ^３４５～Ｒ^３４８は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ^３５３、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ^３５３、ＣＯＯ^－、ＣＯＮＨ_２、ＣＯＮＨＲ^３５３、ＣＯＮＲ^３５３Ｒ^３５４、ＣＮ、ＯＨ、ＯＲ^３５３、ＯＣＯＲ^３５３、ＯＣＯＮＨ_２、ＯＣＯＮＨＲ^３５３、ＯＣＯＮＲ^３５３Ｒ^３５４、ＮＯ_２、ＮＨ_２、ＮＨＲ^３５３、ＮＲ^３５３Ｒ^３５４、ＮＨＣＯＲ^３５３、ＮＲ^３５３ＣＯＲ^３５４、Ｎ＝ＣＨ_２、Ｎ＝ＣＨＲ^３５３、Ｎ＝ＣＲ^３５３Ｒ^３５４、ＳＨ、ＳＲ^３５３、ＳＯＲ^３５３、ＳＯ_２Ｒ^３５３、ＳＯ_３Ｒ^３５３、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３ ^－、ＳＯ_２ＮＨ_２、ＳＯ_２ＮＨＲ^３５３、又はＳＯ_２ＮＲ^３５３Ｒ^３５４を表す。Ｒ^３５３及びＲ^３５４は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数４～１０のシクロアルケニル基、又は炭素数２～１０のアルキニル基を表す。複数のＲ^３４５～Ｒ^３４８は、互いに直接結合、又は、酸素原子ブリッジ、硫黄原子ブリッジ、ＮＨブリッジ、若しくはＮＲ^３５３ブリッジにより環を形成しても構わない。Ｒ^３４９～Ｒ^３５２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。上述したアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、及びアリール基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　ペリレン系黒色顔料は、ペリレン構造を有することが好ましく、一般式（１６４）～（１６６）のいずれかで表される構造を有する化合物又はそれらの塩を含むことがより好ましく、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸ビスベンゾイミダゾール構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含むことがさらに好ましい。画素分割層等中のペリレン系黒色顔料は、後述するペリレン系黒色顔料であることが好ましい。

　一般式（１６４）～（１６６）において、Ｘ^２４１及びＸ^２４２は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数１～１０のアルキレン基を表す。Ｙ^２４１及びＹ^２４２は、それぞれ独立して、直接結合又は炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｒ^３６１及びＲ^３６２は、それぞれ独立して、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、又は炭素数２～６のアシル基を表す。Ｒ^３６３～Ｒ^３６９は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～６のアシル基、ハロゲン原子、Ｒ^３７０、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ^３７０、ＣＯＯ^－、ＣＯＮＨ_２、ＣＯＮＨＲ^３７０、ＣＯＮＲ^３７０Ｒ^３７１、ＣＮ、ＯＨ、ＯＲ^３７０、ＯＣＯＲ^３７０、ＯＣＯＮＨ_２、ＯＣＯＮＨＲ^３７０、ＯＣＯＮＲ^３７０Ｒ^３７１、ＮＯ_２、ＮＨ_２、ＮＨＲ^３７０、ＮＲ^３７０Ｒ^３７１、ＮＨＣＯＲ^３７０、ＮＲ^３７０ＣＯＲ^３７１、Ｎ＝ＣＨ_２、Ｎ＝ＣＨＲ^３７０、Ｎ＝ＣＲ^３７０Ｒ^３７１、ＳＨ、ＳＲ^３７０、ＳＯＲ^３７０、ＳＯ_２Ｒ^３７０、ＳＯ_３Ｒ^３７０、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３ ^－、ＳＯ_２ＮＨ_２、ＳＯ_２ＮＨＲ^３７０、又はＳＯ_２ＮＲ^３７０Ｒ^３７１を表す。Ｒ^３７０及びＲ^３７１は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数４～１０のシクロアルケニル基、又は炭素数２～１０のアルキニル基を表す。複数のＲ^３６７～Ｒ^３６９は、互いに直接結合、又は、酸素原子ブリッジ、硫黄原子ブリッジ、ＮＨブリッジ、若しくはＮＲ^３７０ブリッジにより環を形成しても構わない。ａ及びｂは、それぞれ独立して、０～５の整数を表す。ｃ、ｄ、ｅ、及びｆは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｇ、ｈ、及びｉは、それぞれ独立して、０～８の整数を表す。Ｘ^２４１及びＸ^２４２が直接結合であって、Ｙ^２４１及びＹ^２４２が直接結合の場合、Ｒ^３６１及びＲ^３６２は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、ａ及びｂは１である。Ｘ^２４１及びＸ^２４２が炭素数１～１０のアルキレン基であって、Ｙ^２４１及びＹ^２４２が直接結合の場合、Ｒ^３６１及びＲ^３６２はヒドロキシ基が好ましく、ａ及びｂは１である。Ｘ^２４１及びＸ^２４２が炭素数１～１０のアルキレン基であって、Ｙ^２４１及びＹ^２４２が炭素数６～１５のアリーレン基の場合、Ｒ^３６１及びＲ^３６２は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルコキシ基、又は炭素数２～６のアシル基が好ましく、ａ及びｂは、それぞれ独立して、０～５の整数を表す。上述したアルキレン基、アリーレン基、アルキル基、アルコキシ基、及びアシル基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　アゾ系黒色顔料は、アゾ基を有することが好ましく、アゾメチン構造及びカルバゾール構造を有する化合物又はその塩を含むことがより好ましく、一般式（１６８）で表される構造を有する化合物又はその塩を含むことがさらに好ましい。画素分割層等中のアゾ系黒色顔料は、後述するアゾ系黒色顔料であることが好ましい。

　一般式（１６８）において、Ｘ^２５１は、炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｙ^２５１は、炭素数６～１５のアリーレン基を表す。Ｒ^３８１～Ｒ^３８３は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、Ｒ^３９０、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ^３９０、ＣＯＯ^－、ＣＯＮＨ_２、ＣＯＮＨＲ^３９０、ＣＯＮＲ^３９０Ｒ^３９１、ＣＮ、ＯＨ、ＯＲ^３９０、ＯＣＯＲ^３９０、ＯＣＯＮＨ_２、ＯＣＯＮＨＲ^３９０、ＯＣＯＮＲ^３９０Ｒ^３９１、ＮＯ_２、ＮＨ_２、ＮＨＲ^３９０、ＮＲ^３９０Ｒ^３９１、ＮＨＣＯＲ^３９０、ＮＲ^３９０ＣＯＲ^３９１、Ｎ＝ＣＨ_２、Ｎ＝ＣＨＲ^３９０、Ｎ＝ＣＲ^３９０Ｒ^３９１、ＳＨ、ＳＲ^３９０、ＳＯＲ^３９０、ＳＯ_２Ｒ^３９０、ＳＯ_３Ｒ^３９０、ＳＯ_３Ｈ、ＳＯ_３ ^－、ＳＯ_２ＮＨ_２、ＳＯ_２ＮＨＲ^３９０、又はＳＯ_２ＮＲ^３９０Ｒ^３９１を表す。Ｒ^３９０及びＲ^３９１は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数４～１０のシクロアルケニル基、又は炭素数２～１０のアルキニル基を表す。複数のＲ^３８１～Ｒ^３８３は、互いに直接結合、又は、酸素原子ブリッジ、硫黄原子ブリッジ、ＮＨブリッジ、若しくはＮＲ^３９０ブリッジにより環を形成しても構わない。Ｒ^３８４は、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、又はニトロ基を表す。Ｒ^３８５は、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～１０のアシルアミノ基、又はニトロ基を表す。Ｒ^３８６～Ｒ^３８９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基を表す。ａは０～４の整数を表す。ｂは０～２の整数を表す。ｃは０～４の整数を表す。ｄ及びｅは、それぞれ独立して、０～８の整数を表す。ｎは１～４の整数を表す。上述したアリーレン基、アルキル基、アルコキシ基、及びアシルアミノ基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　画素分割層等中の顔料の一次粒子径及び平均一次粒子径は２０～１５０ｎｍであることが好ましい。画素分割層等中の顔料の一次粒子径及び平均一次粒子径は、発光素子の信頼性向上の観点から、２０ｎｍ以上が好ましく、３０ｎｍ以上がより好ましく、４０ｎｍ以上がさらに好ましく、５０ｎｍ以上がさらにより好ましく、６０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、画素分割層等中の顔料の一次粒子径及び平均一次粒子径は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、１５０ｎｍ以下が好ましく、１２０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下がさらに好ましく、９０ｎｍ以下がさらにより好ましく、８０ｎｍ以下が特に好ましい。顔料の一次粒子径とは、顔料の一次粒子における長軸径をいう。

　画素分割層等中の顔料の一次粒子径は、画素分割層等を薄く割断したものを測定試料として、イオンミリング処理により研磨して平滑性を高めた断面について、透過型電子顕微鏡（以下、「ＴＥＭ」）を用いて画素分割層等の表面から深さ方向に０．２～０．８μｍの範囲に位置する箇所を倍率５０，０００倍の条件で観測した撮像を、画像解析式粒度分布測定ソフトウェア（Ｍａｃ－Ｖｉｅｗ；ＭＯＵＮＴＥＣＨ社製）を用いて測定できる。また画素分割層等中の顔料の平均一次粒子径は、測定試料の断面を撮像及び解析し、画素分割層等中の顔料の一次粒子３０個を測定した平均値として算出できる。さらに、透過型電子顕微鏡－エネルギー分散型Ｘ線分光法（以下、「ＴＥＭ－ＥＤＸ」）で観測することで粒子を構成する元素を判別できる。

　画素分割層等は、黒色染料及び／又は二色以上の着色染料混合物を含有し、
黒色染料がアゾ系黒色染料を含み、二色以上の着色染料混合物が、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の染料を含むことが好ましい。
黒色染料は、アゾ系黒色染料が好ましい。黒色染料は、ソルベントブラック２７～４７が好ましく、ソルベントブラック２７、２９、又は３４がより好ましい（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。黒色染料としては、例えば、ＶＡＬＩＦＡＳＴ（登録商標）　Ｂｌａｃｋ　３８０４（ソルベントブラック３４）、同　３８１０（ソルベントブラック２９）、同　３８２０（ソルベントブラック２７）、同　３８３０（ソルベントブラック２７）、ＮＵＢＩＡＮ（登録商標）　Ｂｌａｃｋ　ＴＮ－８７０（ソルベントブラック７）（以上、いずれもオリエント化学工業（株）製）が挙げられる。二色以上の着色染料混合物は、スクアリリウム系染料、キサンテン系染料、トリアリールメタン系染料、及び、フタロシアニン系染料からなる群より選ばれる一種類以上の染料を含むことが好ましく、キサンテン系染料及び／又はトリアリールメタン系染料を含むことがより好ましく、キサンテン系染料を含むことがさらに好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層等中のこれらの染料は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する、第１電極の発光層側の表面における導電性向上を促進すると推定される。そのため、発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。

　本発明の表示装置は、画素分割層等が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、さらに、熱発色剤に由来する構造を有する化合物及び／又は酸化発色剤に由来する構造を有する化合物を含むことが好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　熱発色剤に由来する構造を有する化合物は、熱発色剤が、不活性雰囲気下、加熱によって構造変化又は分解した後の構造を有する化合物が好ましく、キノン構造及び／又はキノイド構造を有する化合物がより好ましい。キノン構造及び／又はキノイド構造を有する化合物は、以下の（Ｑ１）化合物及び／又は（Ｑ２）化合物を含むことがさらに好ましい。不活性雰囲気は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、若しくはキセノン雰囲気、酸素を１～１０，０００質量ｐｐｍ（０．０００１～１質量％）未満含有するガス雰囲気、又は、真空が好ましい。
（Ｑ１）キノン構造及び／又はキノイド構造を有し、かつ、芳香族構造を有する化合物
（Ｑ２）２つ以上のキノン構造及び／又は２つ以上のキノイド構造を有する化合物。

　酸化発色剤に由来する構造を有する化合物は、酸化発色剤が、酸素を含むガス雰囲気下、加熱によって構造変化又は分解した後の構造を有する化合物が好ましく、キノン構造及び／又はキノイド構造を有する化合物がより好ましい。キノン構造及び／又はキノイド構造を有する化合物は、上記の（Ｑ１）化合物及び／又は（Ｑ２）化合物を含むことがさらに好ましい。酸素を含むガス雰囲気は、空気若しくは酸素雰囲気、又は、酸素を１０，０００質量ｐｐｍ（１質量％）以上含有するガス雰囲気が好ましい。

　＜画素分割層中、画素寸法制御層中、及びスペーサ層中の無機粒子；シリカ粒子＞
　以下、画素分割層等中の無機粒子及びシリカ粒子について、まとめて記載する。画素分割層等は無機粒子を含むことが好ましい。このような構成とすることで、画素分割層等中の無機粒子の堅牢な構造により画素分割層等の耐熱性が顕著に向上し、画素分割層等からのアウトガスが抑制される。その結果、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層等中の無機粒子は、後述する（Ｈ）無機粒子であることが好ましい。

　画素分割層等中の無機粒子は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｒ、Ａｇ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｗ、又はＲｅを主成分の元素として含むことが好ましく、ケイ素、アルミニウム、チタン、バナジウム、クロム、鉄、コバルト、銅、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、又はセリウムを主成分の元素として含むことがより好ましく、ケイ素を主成分の元素として含むことがさらに好ましい。無機粒子における主成分の元素とは、無機粒子の構成元素において最も多く含まれる元素をいう。なお上記の元素のうち、いずれか単独での質量を基準に判断するものとする。これらの元素を主成分の元素に含むことで、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層等中の無機粒子は、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、酸化バナジウム粒子、酸化クロム粒子、酸化鉄粒子、酸化コバルト粒子、酸化銅粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化ニオブ粒子、酸化スズ粒子、又は酸化セリウム粒子が好ましく、シリカ粒子がより好ましい。

　画素分割層等はシリカ粒子を含むことがより好ましい。このような構成とすることで、画素分割層等中の無機粒子と同様に、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。加えて、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また画素分割層等中のシリカ粒子により、画素分割層等の表面における入射した外光の反射・散乱が低減されるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。画素分割層等中のシリカ粒子は、後述する（Ｈ１）シリカ粒子であることが好ましい。

　画素分割層等中のシリカ粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径は５～５０ｎｍであることが好ましい。画素分割層等中のシリカ粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径は、発光素子の信頼性向上の観点から、５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。一方、画素分割層等中のシリカ粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がさらに好ましく、２５ｎｍ以下がさらにより好ましく、２０ｎｍ以下が特に好ましく、１５ｎｍ以下が最も好ましい。シリカ粒子の一次粒子径とは、シリカ粒子の一次粒子における長軸径をいう。ただし、有機顔料及び無機顔料における表面処理剤又は被覆層に含まれる二酸化ケイ素は、その一次粒子径やアスペクト比によらずシリカ粒子には含まれないものとする。

　画素分割層等中のシリカ粒子の一次粒子径及びアスペクト比は、画素分割層等を薄く割断したものを測定試料として、イオンミリング処理により研磨して平滑性を高めた断面について、ＴＥＭを用いて画素分割層等の表面から深さ方向に０．２～０．８μｍの範囲に位置する箇所を倍率５０，０００倍の条件で観測した撮像を、画像解析式粒度分布測定ソフトウェア（Ｍａｃ－Ｖｉｅｗ；ＭＯＵＮＴＥＣＨ社製）を用いて測定できる。また画素分割層等中のシリカ粒子の平均一次粒子径は、測定試料の断面を撮像及び解析し、画素分割層等中のシリカ粒子の一次粒子３０個を測定した平均値として算出できる。さらに、ＴＥＭ－ＥＤＸで観測することで粒子を構成する元素を判別でき、画素分割層等中のシリカ粒子の特定が可能である。

　画素分割層等は、一次粒子径又は平均一次粒子径が５～５０ｎｍのシリカ粒子を含み、さらに、一次粒子径又は平均一次粒子径が５ｎｍ未満のシリカ粒子、及び／又は、一次粒子径又は平均一次粒子径が５０ｎｍを超えるシリカ粒子を含有しても構わない。

　画素分割層等中のシリカ粒子は、表面に官能基を有することが好ましい。シリカ粒子が表面に有する官能基は、ラジカル重合性基を含む表面修飾基の反応残基、熱反応性基を含む表面修飾基の反応残基、シラノール基、アルコキシシリル基、アルキルシリル基、ジアルキルシリル基、トリアルキルシリル基、フェニルシリル基、又はジフェニルシリル基が好ましく、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ラジカル重合性基を含む表面修飾基の反応残基又は熱反応性基を含む表面修飾基の反応残基がより好ましい。

　ラジカル重合性基は、スチリル基、シンナモイル基、マレイミド基、ナジイミド基、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、又はアリル基が好ましい。熱反応性基は、アルコキシメチル基、メチロール基、エポキシ基、オキセタニル基、又はブロックイソシアネート基が好ましい。

　画素分割層等中のシリカ粒子は、発光素子の信頼性向上の観点から、ナトリウム元素を含むシリカ粒子を含有することが好ましい。ナトリウム元素の存在形態としては、例えば、イオン（Ｎａ^＋）又はシラノール基との塩（Ｓｉ－ＯＮａ）が挙げられる。画素分割層等中の全シリカ粒子に占めるナトリウム元素の含有量は、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、５質量ｐｐｍ以上がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、５０質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以上が好ましく、３００質量ｐｐｍ以上がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以上がさらに好ましい。一方、画素分割層等中の全シリカ粒子に占めるナトリウム元素の含有量は、１０，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５，０００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３，０００質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１，０００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。ナトリウム元素を含むシリカ粒子は、アルカリ条件下、ケイ素源として強アルカリであるケイ酸ナトリウムと、強酸である鉱酸との反応により得られる。シリカ粒子が有するナトリウム元素は、上記のＴＥＭ－ＥＤＸを用い、シリカ粒子の一次粒子の断面を撮像及び解析することで、長軸と短軸との交点に当たる中心部において検出できる。

　＜画素分割層中、画素寸法制御層中、及びスペーサ層中の樹脂＞
　以下、画素分割層等中の樹脂について、まとめて記載する。画素分割層等は、以下の（Ａ１－ＤＬ）樹脂及び／又は（Ａ３－ＤＬ）樹脂を含有することが好ましい。
（Ａ１－ＤＬ）樹脂：イミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及び、シロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造単位を有する樹脂
（Ａ３－ＤＬ）樹脂：フェノール性水酸基を含む構造単位を有する樹脂。

　このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。これは、画素分割層等中の（Ａ１－ＤＬ）樹脂及び（Ａ３－ＤＬ）樹脂が可視光線の波長の光を吸収するため、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。また画素分割層等中の（Ａ１－ＤＬ）樹脂及び（Ａ３－ＤＬ）樹脂は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。加えて、（Ａ１－ＤＬ）樹脂のイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、若しくはシロキサン構造、又は、（Ａ３－ＤＬ）樹脂の芳香環骨格の優れた耐熱性により、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。画素分割層等中の（Ａ１－ＤＬ）樹脂は、後述する（Ａ１）樹脂に由来する構造及び／又は後述する（Ａ２）樹脂に由来する構造を有する樹脂であることが好ましい。画素分割層等中の（Ａ３－ＤＬ）樹脂は、後述する（Ａ３）樹脂に由来する構造、後述する（Ａ１）樹脂に由来する構造、及び後述する（Ａ２）樹脂に由来する構造からなる群より選ばれる一種類以上を有する樹脂であることが好ましい。

　画素分割層等は、以下の（Ａ２－ＤＬ）樹脂を含有することが好ましい。画素分割層等は、（Ａ１－ＤＬ）樹脂及び／又は（Ａ３－ＤＬ）樹脂を含有し、さらに、（Ａ２－ＤＬ）樹脂を含有することがより好ましい。画素分割層等は、（Ａ１－ＤＬ）樹脂及び（Ａ２－ＤＬ）樹脂を含有することがさらに好ましく、（Ａ１－ＤＬ）樹脂、（Ａ２－ＤＬ）樹脂、及び（Ａ３－ＤＬ）樹脂を含有することが特に好ましい。
（Ａ２－ＤＬ）樹脂：一般式（２４）で表される構造単位を有する樹脂。

　一般式（２４）において、Ｒ^６７～Ｒ^６９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。ａは０又は１である。＊^１は樹脂中の結合点を表す。

　一般式（２４）で表される構造単位は、エチレン性不飽和二重結合基の反応残基を含むことが好ましい。エチレン性不飽和二重結合基の反応残基とは、エチレン性不飽和二重結合基が、光及び／又は熱によりラジカル重合した後の残基をいう。エチレン性不飽和二重結合基の反応残基は、後述する（Ａ２）樹脂中のエチレン性不飽和二重結合基がラジカル重合した後の残基が好ましく、後述する（Ａ２）樹脂中のエチレン性不飽和二重結合基が後述する（Ｂ）ラジカル重合性化合物とラジカル重合した後の残基がより好ましい。

　このような構成とすることで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層等中の（Ａ２－ＤＬ）樹脂は、（メタ）アクリロイル基などのラジカル重合性基をラジカル重合させて架橋密度を向上させた樹脂である。（Ａ２－ＤＬ）樹脂の架橋構造の優れた耐熱性により、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。画素分割層等中の（Ａ２－ＤＬ）樹脂は、後述する（Ａ２）樹脂に由来する構造及び／又は後述する（Ａ３）樹脂に由来する構造を有する樹脂であることが好ましい。

　画素分割層等中の（Ａ１－ＤＬ）樹脂は、後述する一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（９）及び（１０）のいずれかで表される構造単位からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。

　画素分割層等中の（Ａ３－ＤＬ）樹脂は、後述する一般式（３１）、（３２）、（３３）、（３４）、（３５）、（３６）、（３８）、（３９）及び（４０）のいずれかで表される構造単位からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。これらの樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基としてフェノール性水酸基を有し、樹脂の構造単位中に芳香環骨格を含むことが好ましく、樹脂の構造単位中に酸性基としてフェノール性水酸基を有し、芳香環骨格を含むことがより好ましい。樹脂中に含まれるフェノール性水酸基の一部が、他の樹脂や化合物と反応して架橋構造を形成していることも好ましい。

　画素分割層等中の（Ａ２－ＤＬ）樹脂は、後述する一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（９）及び（１０）のいずれかで表される構造単位からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。画素分割層等中の（Ａ２－ＤＬ）樹脂は、縮合多環式構造を有する構造単位；縮合多環式ヘテロ環構造を有する構造単位；芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造を有する構造単位、及び、少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造を有する構造単位、からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。縮合多環式構造は、ナフタレン構造、フルオレン構造、又はインダン構造が好ましい。縮合多環式ヘテロ環構造は、キサンテン構造、インドリノン構造、又はイソインドリノン構造が好ましい。脂環式骨格は、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造が好ましい。少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造は、ビフェニル構造が好ましい。画素分割層等中の（Ａ２－ＤＬ）樹脂は、ノボラック構造、クレゾールノボラック構造、トリフェニルアルカン構造、ジフェニル－フェニルアルキルフェニルアルカン構造、及び、ジフェニルアルカン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。

　＜画素分割層中、画素寸法制御層中、及びスペーサ層中の化合物＞
　以下、画素分割層等中の化合物について、まとめて記載する。画素分割層等は、（Ｃ１－ＤＬ）光重合開始剤に由来する構造を有する化合物（以下、「（Ｃ１－ＤＬ）化合物」）及び／又は（Ｃ２－ＤＬ）ナフトキノンジアジド化合物に由来する構造を有する化合物（以下、「（Ｃ２－ＤＬ）化合物」）を含むことが好ましい。画素分割層等中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物は、オキシムエステル構造を含む、光重合開始剤に由来する構造を有する化合物及び／又はオキシムエステルカルボニル構造を含む、光重合開始剤に由来する構造を有する化合物が好ましい。画素分割層等中の（Ｃ２－ＤＬ）化合物は、１，２－ナフトキノンジアジド－５－スルホン酸エステル化合物に由来する構造を有する化合物及び／又は１，２－ナフトキノンジアジド－４－スルホン酸エステル化合物に由来する構造を有する化合物が好ましい。画素分割層は、インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物を含むことが好ましい。

　このような構成とすることで、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。これは、画素分割層等中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び（Ｃ２－ＤＬ）化合物が可視光線の波長の光を吸収するため、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。また画素分割層等中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物は、（メタ）アクリロイル基などを有するラジカル重合性化合物をラジカル重合させて膜の架橋密度を向上させた後に、画素分割層等中に含まれる残基を有する化合物である。画素分割層等中の（Ｃ２－ＤＬ）化合物は、熱硬化時等に架橋構造を形成して膜の架橋密度を向上させた後に、画素分割層等中に含まれる残基を有する化合物である。そのため、画素分割層等中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び（Ｃ２－ＤＬ）化合物が、画素分割層等中の架橋構造の一部として取り込まれることで膜の架橋密度を向上させ、画素分割層等からのアウトガスを抑制するため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　画素分割層等は、以下の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物を含むことがより好ましい。
（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物：フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、カルバゾール構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、ベンゾインドール構造、又はジフェニルスルフィド構造を有し、これらの構造にイミノ基が結合した構造及び／又はこれらの構造にカルボニル基が結合した構造、を有する化合物
（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物：インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物。

　画素分割層等中の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物は、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、カルバゾール構造、又はベンゾカルバゾール構造を有する化合物が好ましく、これらの構造にイミノ基が結合した構造を有する化合物がより好ましい。
画素分割層等中の（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物は、１Ｈ－インデン－３－カルボン酸エステル－７－スルホン酸アリールエステル構造を有する化合物及び／又は１Ｈ－インデン－１－スルホン酸アリールエステル－３－カルボン酸エステル構造を有する化合物が好ましい。

　このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。これは、画素分割層等中における（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物の縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、若しくは芳香環骨格、及び、（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物のインデン構造を含むカルボン酸エステル構造及びインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造が可視光線の波長の光を吸収するため、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。また画素分割層等中の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物及び（Ｃ２ｘ－ＤＬ）は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。加えて、画素分割層等中の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物は、（メタ）アクリロイル基などを有するラジカル重合性化合物をラジカル重合させて膜の架橋密度を向上させた後に、画素分割層等中に含まれる残基を有する化合物である。画素分割層等中の（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物は、熱硬化時等に架橋構造を形成して膜の架橋密度を向上させた後に、画素分割層等中に含まれる残基を有する化合物である。そのため、画素分割層等中の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物及び（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物が、画素分割層等中の架橋構造の一部として取り込まれることで膜の架橋密度を向上させ、画素分割層等からのアウトガスを抑制するため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。画素分割層等中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物は、後述する（Ｃ１）化合物に由来する構造を有する化合物であることが好ましく、後述する（Ｃ１－１）化合物に由来する構造を有する化合物であることがより好ましい。画素分割層等中の（Ｃ２－ＤＬ）化合物及び（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物は、後述する（Ｃ２）化合物に由来する構造を有する化合物であることが好ましい。

　本発明の第二の態様である表示装置は、画素分割層が、以下の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物、及び、（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉａ）構造を有し、
（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉｂ）構造を有し、
　下記（１ａ－ＤＬ）及び（１ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、又は、下記（２ａ－ＤＬ）及び（２ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、を満たす。
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物：チオール構造含有化合物、スルフィド構造含有化合物、ジスルフィド構造含有化合物、スルホキシド構造含有化合物、スルホン構造含有化合物、スルトン構造含有化合物、チオフェン構造含有化合物、及び、スルホン酸構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、硫化物イオン構造、硫化水素イオン構造、硫酸イオン構造、及び、硫酸水素イオン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物：塩化アルキル構造含有化合物、塩化シクロアルキル構造含有化合物、塩化アリール構造含有化合物、臭化アルキル構造含有化合物、臭化シクロアルキル構造含有化合物、及び、臭化アリール構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、塩化物イオン構造及び／又は臭化物イオン構造を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（Ｉ－Ｉｂ）構造：炭素数１～６の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（１ａ－ＤＬ）画素分割層中の硫黄元素の含有量が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（１ｂ－ＤＬ）画素分割層中の硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ
（２ａ－ＤＬ）画素分割層中の塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ－ＤＬ）画素分割層中の塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ。

　画素分割層中に硫黄元素を含む構造を有する化合物、上記の硫黄系アニオンを含む構造を有する化合物、塩素元素を含む構造を有する化合物、臭素元素を含む構造を有する化合物、又は上記のハロゲンアニオンを含む構造を有する化合物を含有させることで、仕事関数差の調整によって低電圧駆動が可能な優れた発光特性を奏功すると推定される。その結果、同一電圧駆動時における高発光輝度の効果を奏功すると考えられる。さらに、例えば有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層中における分極構造や電荷バランスの制御によって発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。また、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。

　本発明の表示装置は、画素分割層等が、以下の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物、及び、（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物：チオール構造含有化合物、スルフィド構造含有化合物、ジスルフィド構造含有化合物、スルホキシド構造含有化合物、スルホン構造含有化合物、スルトン構造含有化合物、チオフェン構造含有化合物、及び、スルホン酸構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、硫化物イオン構造、硫化水素イオン構造、硫酸イオン構造、及び、硫酸水素イオン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物：塩化アルキル構造含有化合物、塩化シクロアルキル構造含有化合物、塩化アリール構造含有化合物、臭化アルキル構造含有化合物、臭化シクロアルキル構造含有化合物、及び、臭化アリール構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、塩化物イオン構造及び／又は臭化物イオン構造を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層等中の硫黄元素を有する化合物、及び、塩素元素又は臭素元素を有する化合物は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また第１電極の表面は硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素によって表面改質されるとともに、硫黄原子、塩素原子、又は臭素原子上の置換基の自己組織化によって緻密な膜を形成していると考えられる。そのため、第１電極の耐熱性及び耐酸化性が向上するため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。なお、（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物、及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物をまとめて、以下、「（Ｉ－ＤＬ）化合物」という場合もある。

　このような構成とする場合、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、
画素分割層等が（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物を含有する場合、（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物は、チオール構造含有化合物、スルフィド構造含有化合物、ジスルフィド構造含有化合物、及び、スルホン酸構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
画素分割層等が（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物を含有する場合、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物は、アニオン種として、硫化物イオン構造、硫化水素イオン構造、硫酸イオン構造、及び、硫酸水素イオン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有し、かつ、カチオン種として、四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物を含み、
画素分割層等が（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物を含有する場合、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物は、塩化アルキル構造含有化合物、塩化シクロアルキル構造含有化合物、臭化アルキル構造含有化合物、及び、臭化シクロアルキル構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
画素分割層等が（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物を含有する場合、（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物は、アニオン種として、塩化物イオン構造及び／又は臭化物イオン構造を有し、かつ、カチオン種として、四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物を含むことが好ましい。

　このような構成とすることで、第１電極の発光層側の表面における表面改質作用がより促進されるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また第１電極の表面が、硫黄原子、塩素原子、又は臭素原子上の置換基の自己組織化によってより緻密な膜が形成されていると考えられるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　画素分割層等は、（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物を含有することがより好ましい。画素分割層等は、（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物を含有し、かつ、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物を含有することがさらに好ましい。画素分割層等は、（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物を含有することもより好ましい。画素分割層等は、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物を含有することもより好ましい。（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物、及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物は、それぞれ二種類以上の化合物を含有することも好ましい。

　画素分割層等は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉａ）構造を有し、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉｂ）構造を有することが好ましい。
（Ｉ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（Ｉ－Ｉｂ）構造：炭素数１～６の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物は、以下の（ＩＩ－Ｉａ）構造及び／又は（ＩＩＩ－Ｉａ）構造を有することがより好ましい。
（ＩＩ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１価の脂肪族基、炭素数６～３０の２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、及び、炭素数１０～３０のアルキルアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（ＩＩＩ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１価の脂肪族基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、及び、炭素数７～１５のアリール基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物は、硫黄原子に結合する置換基を有し、
置換基が（Ｉ－Ｉａ）構造であることが好ましく、置換基が（ＩＩ－Ｉａ）構造及び／又は（ＩＩＩ－Ｉａ）構造であることがより好ましい。
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物は、塩素原子又は臭素原子に結合する置換基を有し、
置換基が（Ｉ－Ｉａ）構造であることが好ましく、置換基が（ＩＩ－Ｉａ）構造及び／又は（ＩＩＩ－Ｉａ）構造であることがより好ましい。

　（ＩＩ－Ｉａ）構造は、以下の（ＩＩ－Ｉａｘ）構造が好ましい。
（ＩＩ－Ｉａｘ）構造：炭素数６～１２の１価の脂肪族基、炭素数６～１２の２価の脂肪族基、炭素数１４～２６のアルキルアリール基、及び、炭素数１４～２６のアルキルアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（ＩＩＩ－Ｉａ）構造は、以下の（ＩＩＩ－Ｉａｘ）構造が好ましい。
（ＩＩＩ－Ｉａｘ）構造：炭素数６～１２の１価の脂肪族基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１４～２６のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１４～２６のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、及び、炭素数７～１０のアリール基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｉ－Ｉａ）構造、（ＩＩ－Ｉａ）構造、及び（ＩＩＩ－Ｉａ）構造において、１価の脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。２価の脂肪族基は、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。また１～２価の脂肪族基は、直鎖構造又は分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。

　（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物は、カチオン種である、上記のアンモニウムイオン構造等の窒素原子に結合する置換基を有し、置換基が（Ｉ－Ｉｂ）構造であることが好ましい。

　（Ｉ－Ｉｂ）構造は、以下の（Ｉ－Ｉｂｘ）構造が好ましい。
（Ｉ－Ｉｂｘ）構造：炭素数１～４の１価の脂肪族基、炭素数１０～２６のアルキルアリール基、炭素数１０～２６のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１０のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｉ－Ｉｂ）構造において、１価の脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。２価の脂肪族基は、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。また１～２価の脂肪族基は、直鎖構造又は分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。１～２価の脂肪族基は、置換基として、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、又はアミノ基を有しても構わない。
（Ｉ－Ｉｂ）構造において、上記のアンモニウムイオン構造等は、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造が好ましく、四級アンモニウムイオン構造がより好ましい。四級アンモニウムイオン構造は、炭素数１～６のアルキル基を４つ有することが好ましく、炭素数１～４のアルキル基を４つ有することがより好ましい。４つのアルキル基は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基であり、炭素数が同じでもよく、異なっていてもよい。

　本発明の表示装置は、下記（１ａ－ＤＬ）及び（１ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、又は、下記（２ａ－ＤＬ）及び（２ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、を満たす。
（１ａ－ＤＬ）画素分割層中の硫黄元素の含有量が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（１ｂ－ＤＬ）画素分割層中の硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ
（２ａ－ＤＬ）画素分割層中の塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ－ＤＬ）画素分割層中の塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ。

　本発明の表示装置は、画素分割層が、上記の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物を含有する場合、上記（１ａ－ＤＬ）及び（１ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上満たすことが好ましく、上記（１ａ－ＤＬ）の条件及び上記（１ｂ－ＤＬ）の条件を満たすことがより好ましい。
また本発明の表示装置は、画素分割層が、上記の（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物を含有する場合、上記（２ａ－ＤＬ）及び（２ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上満たすことが好ましく、上記（２ａ－ＤＬ）の条件及び上記（２ｂ－ＤＬ）の条件を満たすことがより好ましい。
また本発明の表示装置は、画素分割層が、上記の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物を含有し、かつ、上記の（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物を含有する場合、
上記（１ａ－ＤＬ）及び（１ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上満たし、かつ、上記（２ａ－ＤＬ）及び（２ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上満たすことがより好ましく、
上記（１ａ－ＤＬ）の条件及び上記（１ｂ－ＤＬ）の条件を満たし、かつ、上記（２ａ－ＤＬ）の条件及び上記（２ｂ－ＤＬ）の条件を満たすことがさらに好ましい。

　画素分割層中の硫黄元素の含有量は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、硫黄元素の含有量は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　画素分割層中の塩素元素及び臭素元素の含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、塩素元素及び臭素元素の含有量の合計は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　画素分割層中の硫黄元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンである硫黄元素の総量である。同様に、画素分割層中の塩素元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンである塩素元素の総量である。同様に、画素分割層中の臭素元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンである臭素元素の総量である。

　画素分割層中の硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計は、１，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　画素分割層中の塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計は、１，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　画素分割層等中の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物は、後述する（Ｉ１ａ）化合物に由来する構造を有する化合物であることが好ましい。画素分割層等中の（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物は、後述する（Ｉ１ｂ）化合物に由来する構造を有する化合物であることが好ましい。画素分割層等中の（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物は、後述する（Ｉ２ａ）化合物に由来する構造を有する化合物であることが好ましい。画素分割層等中の（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物は、後述する（Ｉ２ｂ）化合物に由来する構造を有する化合物であることが好ましい。

　画素分割層中の硫黄元素、塩素元素、及び臭素元素の含有量は、燃焼イオンクロマトグラフィーによって測定できる。測定方法の一例としては、例えば、感光性組成物を分析装置の燃焼管内で燃焼・分解させ、発生したガスを吸収液に吸収後、吸収液の一部をイオンクロマトグラフィーにより分析することで測定できる。

　また画素分割層中の硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、塩化物イオン、及び臭化物イオンの含有量は、イオンクロマトグラフィーによって測定できる。測定方法の一例としては、例えば、まず画素分割層を削り取り、１０ｍｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム水溶液に削り取った画素分割層を添加して２時間振とうし、イオン成分を抽出する。次いで、抽出液を濾過処理した後、イオンクロマトグラフィーでアニオン成分を分析することで測定できる。

　本発明の表示装置は、画素分割層が、（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ２－ＤＬ）化合物を含み、画素寸法制御層及びスペーサ層が、画素分割層中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物とは異なる（Ｃ１－ＤＬ）化合物、及び／又は、画素分割層中の（Ｃ２－ＤＬ）化合物とは異なる（Ｃ２－ＤＬ）化合物を含むことが好ましく、画素分割層が、（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物を含み、画素寸法制御層及びスペーサ層が、画素分割層中の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物とは異なる（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物、及び／又は、画素分割層中の（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物とは異なる（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物を含むことがより好ましい。

　＜画素分割層及びスペーサ層の表面における表面粗さの最大値＞
　本発明の表示装置は、画素分割層が後述する段差形状を有する硬化パターンを含み、画素分割層の硬化パターンの段差形状において、画素分割層の薄膜部の表面における表面粗さの最大値が０．１～５０．０ｎｍであることが好ましい。一方、画素分割層の硬化パターンの段差形状において、画素分割層の厚膜部の表面における表面粗さの最大値が０．１～５０．０ｎｍであることが好ましい。このような構成とすることで、画素分割層と第２電極との密着性向上、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層の表面における表面粗さの最大値は、画素分割層と第２電極との密着性向上の観点から、０．１ｎｍ以上が好ましく、０．３ｎｍ以上がより好ましく、０．５ｎｍ以上がさらに好ましく、０．７ｎｍ以上がさらにより好ましく、１．０ｎｍ以上が特に好ましい。画素分割層の表面における表面粗さの最大値は、さらに、外光反射抑制の観点から、３．０ｎｍ以上が好ましく、５．０ｎｍ以上がより好ましく、７．０ｎｍ以上がさらに好ましく、１０．０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、画素分割層の表面における表面粗さの最大値は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０．０ｎｍ以下が好ましく、４０．０ｎｍ以下がより好ましく、３０．０ｎｍ以下がさらに好ましく、２０．０ｎｍ以下が特に好ましい。なお、画素分割層の厚膜部の表面における算術平均粗さが、１．０ｎｍ以上であることが好ましい。また、画素分割層の厚膜部の表面における表面粗さの最大値が、１．０ｎｍ以上であることも好ましい。

　本発明の表示装置において、画素分割層は上層の第２電極と接することが好ましい。しかしながら、画素分割層と第２電極との密着性が不足する場合には界面剥離が発生しやすく、パネルの歩留まり低下及び発光素子の信頼性低下の要因となる場合がある。特に、本発明の表示装置がフレキシブル性を有する表示装置である場合、画素分割層と第２電極との密着性が不足する場合の界面剥離の発生が顕著となる。上述した通り、本発明の表示装置がフレキシブル性を有する表示装置である場合、画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有することが好ましい。しかしながら、フレキシブル基板の動きに追従して、画素分割層と第２電極との界面に応力が発生することで、界面剥離の発生が顕著になると推定される。画素分割層の表面における表面粗さの最大値が上述した範囲内であると、画素分割層と第２電極との密着性向上の効果が顕著となる。

　上述した通り、本発明の表示装置において、画素分割層は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましい。なお画素分割層部を形成した後、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部における第１電極の表面上に僅かに残存する残渣等を分解・除去するため、プラズマ処理等によって第１電極の表面上を洗浄することが一般的である。しかしながら、第１電極の表面上の残渣等を分解・除去するためにプラズマ処理の出力強化又は長時間化をすると、画素分割層の表面も分解・除去されてしまう。そのため、プラズマ処理後に画素分割層の表面に残存する低分子成分や画素分割層の表面の分解・変質部位が、発光素子の信頼性低下の要因となる場合がある。プラズマ処理による画素分割層の表面の分解・変質の度合いは、画素分割層の表面における表面粗さの最大値を測定することで求めることができる。画素分割層の表面における表面粗さの最大値が大きいほど、画素分割層の表面の分解・変質の度合いが大きいことを表す。画素分割層の表面における表面粗さの最大値が上述した範囲内であると、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置において、画素分割層の表面における表面粗さの最大値を上述した範囲内とし、画素分割層の表面における拡散反射光を増加させることで、外光反射抑制の効果が顕著となる。一般的に、外光が入射した場合、表面において正反射光と拡散反射光の二種類の反射光が発生する。それらの合計が反射光となるが、視認性における眩しさ及び映り込みには、正反射光の影響が大きい。そのため外光反射抑制には、拡散反射光を増加させ、正反射光を低減することが有効であると考えられる。従って、画素分割層の表面における表面粗さの最大値を上述した範囲内とすることで、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。

　本発明の表示装置は、画素分割層が段差形状を有する硬化パターンを含む場合、画素分割層の薄膜部の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}）とし、かつ、画素分割層の厚膜部の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）とするとき、（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）｜が１．０～５０．０ｎｍであることが好ましい。

　画素分割層の薄膜部の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}）とし、かつ、画素分割層の厚膜部の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）とするとき、（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）｜は０．１～５０．０ｎｍが好ましい。（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）｜は、画素分割層と第２電極との密着性向上及び外光反射抑制の観点から、１．０ｎｍ以上が好ましく、３．０ｎｍ以上がより好ましく、５．０ｎｍ以上がさらに好ましく、７．０ｎｍ以上がさらにより好ましく、１０．０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）｜は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０．０ｎｍ以下が好ましく、４０．０ｎｍ以下がより好ましく、３０．０ｎｍ以下がさらに好ましく、２０．０ｎｍ以下が特に好ましい。

　本発明の表示装置は、画素分割層が硬化パターンを有し、かつ、画素分割層上の一部にスペーサ層を有する場合、画素分割層の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}）とし、かつ、スペーサ層の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）とするとき、（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）｜が１．０～５０．０ｎｍであることが好ましい。このような構成とすることで、画素分割層と第２電極との密着性向上、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　画素分割層の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}）とし、かつ、スペーサ層の表面における表面粗さの最大値を（Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）とするとき、（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）｜は０．１～５０．０ｎｍが好ましい。（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＤＬ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＳＰ／ｍａｘ}）｜に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}）と（Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）との差｜Δ（Ｒａ_{ＨＴ／ｍａｘ}－Ｒａ_{ＦＴ／ｍａｘ}）｜に関する例示及び好ましい記載の通りである。

　本発明の表示装置において、算術平均粗さ及び表面粗さの最大値は、原子間力顕微鏡（以下、「ＡＦＭ」）によって測定できる。一般的に、ＡＦＭによる測定は、水平な面に置いた表示装置が有する画素分割層等の表面に対して、鉛直上方から測定を行う。
本発明の表示装置において、算術平均粗さ及び表面粗さの最大値とは、画素分割層等の表面におけるＡＦＭにより測定可能な面、すなわち、基板と略平行な面において測定された値をいう。

　＜画素分割層、画素寸法制御層、及びスペーサ層の光学濃度；フレキシブル性を有する表示装置＞
　本発明の表示装置は、画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０である。このような構成とすることで、入射した外光を画素分割層で遮光できるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。また画素分割層の可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、画素分割層等からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層は黒色であることが好ましい。画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．７以上が好ましく、１．０以上がより好ましく、１．２以上がさらに好ましく、１．５以上が特に好ましい。一方、画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２．７以下が好ましく、２．５以下がより好ましく、２．２以下がさらに好ましく、２．０以下が特に好ましい。ここで光学濃度とは、感光性組成物を２５０℃で６０分間加熱して硬化した硬化物における光学濃度をいう。熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し、２５０℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却するというものである。なお感光性組成物が染料若しくは熱発色剤を含有する場合、又は、感光性組成物がポジ型の感光性を有する場合、熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却する条件とした。また感光性組成物が酸化発色剤を含有する場合、熱硬化条件は、空気雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却する条件とした。この熱硬化条件は、特に断りのない限り本明細書全体において共通する。

　本発明の表示装置は、画素寸法制御層及び／又はスペーサ層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であることも好ましい。このような構成とすることで、入射した外光を画素寸法制御層又はスペーサ層で遮光できるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。またこれらの層の可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、これらの層等からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素寸法制御層及び／又はスペーサ層は黒色であることが好ましい。画素寸法制御層及びスペーサ層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度に関する例示及び好ましい記載は、上記の画素分割層の光学濃度に関する例示及び好ましい記載の通りである。

　なお画素分割層、画素寸法制御層、及びスペーサ層のうち少なくとも２つの層が積層した構造における、それぞれの層の光学濃度は、以下の方法で求めることができる。まず少なくとも２つの層が積層した構造における光学濃度（ＯＤ_{ＴＯＴＡＬ}）と、それぞれの層の膜厚を測定する。次に、積層した構造となっていない箇所、例えば、画素分割層のみの箇所における光学濃度と画素分割層の膜厚を測定する。得られた値から、例えば、画素分割層の膜厚１μｍ当たりの光学濃度（ＯＤ_ＰＤＬ）を算出する。次いで、積層した構造における光学濃度（ＯＤ_{ＴＯＴＡＬ}）及びそれぞれの層の膜厚と、光学濃度（ＯＤ_ＰＤＬ）とを用いた光学濃度の差分から、例えば、画素寸法制御層又はスペーサ層の光学濃度を算出する。

　本発明の表示装置は、発光層を含む有機層の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、及び円偏光板を有しないことが好ましい。このような構成とすることで、本発明の表示装置は、フレキシブル性向上及び折り曲げ性に乏しい偏光フィルムを有しないことで、フレキシブル性向上及び折り曲げ性向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、さらに、フレキシブル基板を有し、画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有し、発光層を含む有機層の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、及び円偏光板を有さず、曲面の表示部、外側への折り曲げ面を含む表示部、又は内側への折り曲げ面を含む表示部を有し、フレキシブル性を有する表示装置であることが好ましい。

　このような構成とすることで、本発明の表示装置は、発光層を含む有機層の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、又は円偏光板などの偏光フィルムを有しなくても、画素分割層の遮光性により、電極配線の可視化防止及び外光反射抑制の効果が顕著となる。すなわち、本発明の表示装置は、フレキシブル性及び折り曲げ性に乏しい偏光フィルムを有しないことで、フレキシブル性向上及び折り曲げ性向上の効果が顕著となる。従って、本発明の表示装置は、画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有し、発光層を含む有機層の光取り出し側に偏光フィルムを有しない、フレキシブル性を有する表示装置に好適であり、フレキシブル性を有する有機ＥＬディスプレイに特に好適である。また偏光フィルムを有しないことで、表示装置の製造におけるコスト削減の効果が顕著となる。段差形状を有する画素分割層及び偏光フィルムを含む表示装置の一例を示す模式的断面図を図６に示す。

　本発明の表示装置は、画素寸法制御層及び／又はスペーサ層が、フレキシブル基板上に積層されている構造を有することが好ましい。このような構成とすることで、本発明の表示装置は、発光層を含む有機層の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、又は円偏光板などの偏光フィルムを有しなくても、画素寸法制御層又はスペーサ層の遮光性により、電極配線の可視化防止及び外光反射抑制の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、発光層を含む有機層の光取り出し側に、さらに、直線偏光板、１／４波長板、及び、円偏光板からなる群から選ばれる一種類以上を有することも好ましい。このような構成とすることで、画素分割層の遮光性及び偏光フィルムの遮光性により、電極配線の可視化防止及び外光反射抑制の効果が顕著となる。また本発明の表示装置が画素寸法制御層及び／又はスペーサ層を有する場合、これらの層の遮光性及び偏光フィルムの遮光性により、電極配線の可視化防止及び外光反射抑制の効果が顕著となる。従って、本発明の表示装置は、特に優れた外光反射抑制が求められる表示装置に好適であり、特に優れた外光反射抑制が求められる有機ＥＬディスプレイに特に好適である。

　＜画素分割層の段差形状を有する硬化パターン＞
　本発明の表示装置は、画素分割層が段差形状を有する硬化パターンを含み、画素分割層の硬化パターンの段差形状における、厚膜部の膜厚を（Ｔ_ＦＴ）μｍとし、かつ、薄膜部の膜厚を（Ｔ_ＨＴ）μｍとするとき、（Ｔ_ＦＴ）μｍと（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍが０．５～１０．０μｍであることが好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層が段差形状を有する硬化パターンを含み、膜厚差が０．５μｍ以上であることで、発光層を含む有機層を形成する際の画素分割層と蒸着マスクとの接触面積を小さくできる。従って、画素分割層の損傷抑制により、パネルの歩留まり低下抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。また段差形状を有する画素分割層を形成する方法としては、（１）ハーフトーンフォトマスクを用いて段差形状を一括加工する方法、及び（２）画素分割層を二層成膜する方法が一般的である。（１）の方法の場合、画素分割層部の開口部の近傍は、画素分割層の段差形状において薄膜部である。そのため、厚膜部と比較してアルカリ可溶性を高める設計となっている。従って、画素分割層部の開口部における残渣発生が抑制され、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。一方、（２）の方法の場合、画素分割層部の開口部の近傍は、画素分割層の段差形状における薄膜部であり一層目である。そのため、厚膜部である二層目を成膜する際、一層目の開口部は再度アルカリ現像液と接触することとなる。従って、画素分割層部の開口部における残渣発生が抑制され、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。ハーフトーンフォトマスクを用いて段差形状を一括加工する場合、上記の効果に加えて、プロセスタイム短縮・生産性向上の効果も顕著となる。

　本発明の表示装置において画素分割層が有する、段差形状を有する硬化パターンの断面の一例を示す模式的断面図を図８に示す。段差形状における厚膜部３４は、ネガ型の場合は露光時の硬化部、ポジ型の場合は露光時の未露光部に相当し、硬化パターンの最大の膜厚を有する。段差形状における薄膜部３５ａ，３５ｂ，３５ｃは、露光時のハーフトーン露光部に相当し、厚膜部３４の厚さより小さい膜厚を有する。段差形状を有する硬化パターンの断面における傾斜辺３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄ，３６ｅのそれぞれのテーパー角θ_ａ，θ_ｂ，θ_ｃ，θ_ｄ，θ_ｅは、いずれも順テーパーであることが好ましく、低テーパーであることがより好ましい。ここでいうテーパー角θ_ａ，θ_ｂ，θ_ｃ，θ_ｄ，θ_ｅとは、図８に示すように、硬化パターンが形成される下地の基板の水平辺３７、又は薄膜部３５ａ，３５ｂ，３５ｃの水平辺と、薄膜部３５ａ，３５ｂ，３５ｃの水平辺と交差する段差形状を有する硬化パターンの断面における傾斜辺３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄ，３６ｅとが成す、段差形状を有する硬化パターンの断面内部の角をいう。ここでいう順テーパーとは、テーパー角が０°より大きく９０°未満の範囲内であることをいい、逆テーパーとは、テーパー角が９０°より大きく１８０°未満の範囲内であることをいう。また矩形とは、テーパー角が９０°であることをいい、低テーパーとは、テーパー角が０°より大きく６０°の範囲内であることをいう。

　本発明の表示装置において画素分割層が有する、段差形状を有する硬化パターンの下側（下地の基板の水平辺３７側）表面の平面及び上側表面の平面間の厚さにおいて、最も大きい厚さを有する領域を厚膜部３４、厚膜部の厚さより小さい厚さを有する領域を薄膜部３５ａ，３５ｂ，３５ｃとする。厚膜部３４の膜厚を（Ｔ_ＦＴ）μｍとし、厚膜部３４に少なくとも１つの段差形状を介して配置された薄膜部３５ａ，３５ｂ，３５ｃの膜厚を（Ｔ_ＨＴ）μｍとするとき、（Ｔ_ＦＴ）μｍと（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍは、それぞれが、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましく、１．５μｍ以上がさらに好ましく、２．０μｍ以上がさらにより好ましく、２．５μｍ以上が特に好ましく、３．０μｍ以上が最も好ましい。また全てが、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましく、１．５μｍ以上がさらに好ましく、２．０μｍ以上がさらにより好ましく、２．５μｍ以上が特に好ましく、３．０μｍ以上が最も好ましい。なお（Ｔ_ＦＴ）μｍと薄膜部３５ａ又は３５ｂの膜厚（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍが、上記範囲であることがより好ましく、（Ｔ_ＦＴ）μｍと薄膜部３５ａの膜厚（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍが、上記範囲であることがさらに好ましい。一方、（Ｔ_ＦＴ）μｍと（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍは、１０．０μｍ以下が好ましく、９．５μｍ以下がより好ましく、９．０μｍ以下がさらに好ましく、８．５μｍ以下がさらにより好ましく、８．０μｍ以下が特に好ましい。

　本発明の表示装置は、式（α）～（γ）で表される関係を全て満たすことが好ましく、式（δ）～（ζ）で表される関係をさらに全て満たすことがより好ましい。
２．０≦（Ｔ_ＦＴ）≦１０．０　（α）
０．２０≦（Ｔ_ＨＴ）≦７．５　（β）
０．１０×（Ｔ_ＦＴ）≦（Ｔ_ＨＴ）≦０．７５×（Ｔ_ＦＴ）　（γ）
２．０≦（Ｔ_ＦＴ）≦１０．０　（δ）
０．３０≦（Ｔ_ＨＴ）≦７．０　（ε）
０．１５×（Ｔ_ＦＴ）≦（Ｔ_ＨＴ）≦０．７０×（Ｔ_ＦＴ）　（ζ）。

　このような構成とすることで、パネルの歩留まり低下抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。ハーフトーンフォトマスクを用いて段差形状を一括加工する場合、上記の効果に加えて、プロセスタイム短縮・生産性向上の効果も顕著となる。

　本発明の表示装置は、画素分割層の硬化パターンの段差形状における厚膜部及び薄膜部が、同一の（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含むことが好ましい。さらに、厚膜部及び薄膜部が、同一の（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び／又は同一の（Ｃ２－ＤＬ）化合物を含むことがより好ましい。このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置において、画素分割層が段差形状を有する硬化パターンを含み、画素分割層の硬化パターンの段差形状における、厚膜部の膜厚を（Ｔ_ＦＴ）μｍとし、かつ、薄膜部の膜厚を（Ｔ_ＨＴ）μｍとするとき、（Ｔ_ＦＴ）μｍと（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍが０．５～１０．０μｍである場合、本発明の表示装置は、画素分割層の硬化パターンの段差形状における厚膜部及び薄膜部が、同一の（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、厚膜部及び薄膜部の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であることが好ましい。さらに、厚膜部及び薄膜部が、同一の（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び／又は同一の（Ｃ２－ＤＬ）化合物を含むことがより好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層の段差形状における厚膜部及び薄膜部が、同一の着色剤を含み、同一範囲内の光学濃度であって、かつ、同一の感光剤を含むことから、段差形状を有する画素分割層が、単一の感光性組成物及びハーフトーンフォトマスクを用いて段差形状を一括加工する方法で形成されていることとなる。従って、上述した通り、薄膜部は厚膜部と比較してアルカリ可溶性を高める設計となっているため、画素分割層部の開口部における残渣発生が抑制され、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。上記の効果に加えて、プロセスタイム短縮・生産性向上の効果も顕著となる。また段差形状を有するため、画素分割層の損傷抑制により、パネルの歩留まり低下抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。同一の（Ｃ１－ＤＬ）化合物は、同一の上述した（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物が好ましい。同一の（Ｃ２－ＤＬ）化合物は、同一の上述した（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物が好ましい。段差形状を有する画素分割層を含む表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図を図１に示す。

　＜画素分割層上のスペーサ層＞
　本発明の表示装置は、画素分割層が硬化パターンを有し、かつ、画素分割層上の一部にスペーサ層を有し、スペーサ層の膜厚（Ｔ_ＳＰ）μｍが０．５～１０．０μｍであることが好ましい。

　このような構成とすることで、フォトリソグラフィーにより、十分な高さを有するスペーサ層を形成できる。スペーサ層を有するため、画素分割層の損傷抑制により、パネルの歩留まり低下抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層及びスペーサ層を含む表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図を図２に示す。

　本発明の表示装置においてスペーサ層の膜厚（Ｔ_ＳＰ）μｍは、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましく、１．５μｍ以上がさらに好ましく、２．０μｍ以上がさらにより好ましく、２．５μｍ以上が特に好ましく、３．０μｍ以上が最も好ましい。一方、スペーサ層の膜厚（Ｔ_ＳＰ）μｍは、１０．０μｍ以下が好ましく、９．５μｍ以下がより好ましく、９．０μｍ以下がさらに好ましく、８．５μｍ以下がさらにより好ましく、８．０μｍ以下が特に好ましい。

　本発明の表示装置は、画素分割層が硬化パターンを有し、かつ、画素分割層上の一部にスペーサ層を有し、スペーサ層の膜厚（Ｔ_ＳＰ）μｍが０．５～１０．０μｍであって、
スペーサ層が、下記（１）～（３）の条件のうち少なくとも１つを満たすことが好ましく、下記（１）及び（３）の条件のうち少なくとも１つを満たすことがより好ましく、少なくとも下記（１）の条件を満たすことがさらに好ましい。
（１）スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含まない
（２）スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、スペーサ層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．０～０．３である
（３）スペーサ層が（Ｃ２ｘ－ＤＬ）インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物を含む。

　本発明の表示装置は、スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含まないことが好ましい。スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含まないことで、十分な高さを有するスペーサ層を形成でき、画素分割層の損傷抑制により、パネルの歩留まり低下抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　＜発光層を含む有機層；平面視における発光層を含む有機層部及び画素部＞
　本発明の表示装置は、発光層を含む有機層を有する。発光層を含む有機層は、発光層を含む有機ＥＬ層及び／又は発光層を含む光取り出し層を有することが好ましい。発光層を含む有機層は、上述した第１電極上、かつ上述した第１電極及び第２電極の間に形成された積層構造とすることが好ましい。このような構成とすることで、後述する画素部に相当する領域を形成できる。後述する画素部に相当する領域は、発光層を含む有機層が、上述した第１電極と接する領域に相当する。

　有機ＥＬ層は、さらに、正孔輸送層及び／又は電子輸送層を有することが好ましく、発光層との積層構造となるように有機ＥＬ層を形成することが好ましい。

　本発明の表示装置は、発光層を含む有機ＥＬ層を用いた積層構造とすることで、表示装置である有機ＥＬディスプレイを製造できる。一方、本発明の表示装置は、発光層を含む光取り出し層を用いた積層構造とすることで、表示装置である量子ドットディスプレイ又はマイクロＬＥＤディスプレイを製造できる。

　本発明の表示装置は、発光層を含む光取り出し層が量子ドットを含む構成である量子ドットディスプレイも好ましい。量子ドットディスプレイは、基板上に、第１電極、第２電極、画素分割層、及び発光層を含む光取り出し層を有する表示装置であって、画素分割層は、第１電極上の一部と重なるように形成され、発光層を含む光取り出し層は、第１電極上、かつ第１電極及び第２電極の間に形成された構成を有し、発光層を含む光取り出し層が量子ドットを含む構成を有する表示装置である。

　本発明の表示装置は、発光層を含む光取り出し層が無機半導体を含む構成であるマイクロＬＥＤディスプレイも好ましい。マイクロＬＥＤディスプレイは、基板上に、第１電極、第２電極、画素分割層、及び発光層を含む光取り出し層を有する表示装置であって、画素分割層は、第１電極上の一部と重なるように形成され、発光層を含む光取り出し層は、第１電極上、かつ第１電極及び第２電極の間に形成された構成を有し、発光層を含む光取り出し層が無機半導体を含む構成を有する表示装置である。

　本発明の表示装置において、発光層を含む有機ＥＬ層及び発光層を含む光取り出し層の両方を用いる積層構造とした表示装置の製造も可能である。例えば、以下の（１）～（２）の表示装置が挙げられる。
（１）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層及び発光層を含む光取り出し層（例えば、自発光型の量子ドットを含む層）の両方を光源とする発光素子を有する表示装置。
（２）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光を、発光層を含む有機ＥＬ層上の、発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光を発光する、発光素子を有する表示装置。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光色純度向上の観点から、発光層を含む有機ＥＬ層及び発光層を含む光取り出し層を有する表示装置が好ましい。本発明の表示装置において、発光層を含む光取り出し層が量子ドットを含むことが好ましく、発光層を含む有機ＥＬ層及び発光層を含む光取り出し層が、第１電極上に、発光層を含む有機ＥＬ層、及び発光層を含む光取り出し層の順に形成されていることが好ましい。

　一方、本発明の表示装置は、発光層を含む有機ＥＬ層及び発光層を含む光取り出し層の両方を用いた積層構造として、発光層を含む光取り出し層を第１電極上ではなく、別の位置に有する表示装置の製造も可能である。例えば、以下の（３）～（５）の表示装置が挙げられる。
（３）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光１及びＬＥＤなどのバックライトからの光を、第１電極上ではない位置にある発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光２、の両方を光源とする表示装置。
（４）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光を、第１電極上ではない位置にある発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光、を光源とする表示装置。
（５）第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光１、及び、第１電極上の、発光層を含む有機ＥＬ層を光源とする発光素子（有機ＥＬ発光素子）からの発光を、第１電極上ではない位置にある発光層を含む光取り出し層（例えば、量子ドットを含む層）によって色変換させた光２、の両方を光源とする表示装置。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光色純度向上の観点から、さらに、量子ドットを含むカラーフィルタを有することが好ましい。量子ドットを含むカラーフィルタを有する積層構造とする場合、平面視において、量子ドットを含むカラーフィルタと重畳し、かつ量子ドットを含むカラーフィルタよりも下に位置する発光素子は、青色光を発光する有機ＥＬ発光素子、白色光を発光する有機ＥＬ発光素子、青色光を発光するＬＥＤ素子、又は白色光を発光するＬＥＤ素子が好ましい。

　本発明の表示装置は、平面視において、発光層を含む有機層部を有することが好ましい。上述した発光層を含む有機層を平面視したものが、発光層を含む有機層部に相当する。本発明の表示装置は、平面視において、複数の画素部を有する。本発明の表示装置は、平面視において、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部における、上述した第１電極部上かつ発光層を含む有機層部が形成された箇所を画素部とすることが好ましい。画素部に相当する領域は、発光層を含む有機層部が、上述した第１電極部と接する領域に相当する。本発明の表示装置は、平面視において、画素部が、カラーフィルタ層部及びブラックマトリックス層部の開口部と重畳することが好ましい。

　＜封止層＞
　本発明の表示装置は、封止層を有することが好ましい。封止層とは、発光層を含む有機層を有する積層構造を封止して外界と遮断し、水分及びガス等の侵入を抑制する層である。封止層は非感光性組成物又は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましい。封止層は金属元素又はケイ素を含む無機層も好ましい。封止層は、上述した第１電極、第２電極、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部、発光層を含む有機層、及び画素部などの表示装置の表示領域と重畳するように形成され、表示装置の表示領域を封止するように形成されていることが好ましい。このような構成とすることで、表示装置の表示領域と外界とを遮断でき、水分及びガス等の侵入による発光素子の劣化を抑制できるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。封止層は水分及び酸素の侵入を抑制する構造を有することがより好ましい。

　封止層が非感光性組成物又は感光性組成物を硬化した硬化膜の場合、組成物中の樹脂等の成分によって水蒸気透過率及びガス透過率を低下させていることが好ましく、さらに、光反応による架橋構造及び／又は熱反応による架橋構造によって水蒸気透過率及びガス透過率を低下させていることがより好ましい。封止層が金属元素又はケイ素を含む無機層の場合、水蒸気透過率低下及びガス透過率低下の観点から、ケイ素の酸化物、ケイ素の窒化物、又はケイ素の酸窒化物が好ましく、二酸化ケイ素、四窒化三ケイ素、又は酸窒化ケイ素がより好ましい。

　＜カラーフィルタ層；平面視におけるカラーフィルタ層部＞
　本発明の表示装置は、カラーフィルタ層を有することが好ましい。カラーフィルタ層とは、光取り出し側に位置し、発光スペクトルを調整する層である。カラーフィルタ層は、画素分割層と画素部から離隔して光取り出し側に位置し、画素部からの発光の発光スペクトルを調整する層であることが好ましい。カラーフィルタ層は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましく、着色剤を含む感光性組成物を硬化した硬化膜がより好ましい。カラーフィルタ層は、上述した画素部の少なくとも一部と重畳するように形成されていることが好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光色純度向上の効果が顕著となる。

　カラーフィルタ層は、感光性組成物中の樹脂等の成分によって可視光線の波長において着色していることが好ましく、樹脂等の成分に加えて、熱発色剤及び／又は酸化発色剤等によって着色していることがより好ましい。なお着色しているとは、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、又は紫色であることをいう。カラーフィルタ層は、着色顔料及び／又は着色染料を含有することが好ましく、着色顔料及び着色染料を含有することがより好ましい。

　本発明の表示装置は、平面視において、複数のカラーフィルタ層部を有することが好ましい。上述したカラーフィルタ層を平面視したものが、カラーフィルタ層部に相当する。カラーフィルタ層部の形状は、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光輝度向上の観点から、閉じた多角形又は閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状が好ましい。カラーフィルタ層部の形状を少なくとも一部の直線によって真円形から変えることで、発光素子からの発光が面発光として非対称となり、カラーフィルタ層部から出射した光の干渉によって強められるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また、カラーフィルタ層部の形状を少なくとも一部の直線によって真円形から変えることで、カラーフィルタ層部から入射する外光の画素分割層部の表面における散乱が非対称となり、第１電極と第２電極との間における反射・干渉によって弱められるため、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。

　＜ブラックマトリックス層；平面視におけるブラックマトリックス層部＞
　本発明の表示装置は、ブラックマトリックス層を有することが好ましい。ブラックマトリックス層とは、光取り出し側に位置し、発光領域を調整する層である。ブラックマトリックス層は、画素分割層と画素部から離隔して光取り出し側に位置し、画素部からの発光の発光領域を調整する層であることが好ましい。ブラックマトリックス層は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましく、複数の着色剤を含む感光性組成物を硬化した硬化膜がより好ましく、黒色剤を含む感光性組成物を硬化した硬化膜がさらに好ましい。ブラックマトリックス層の開口部は、上述した画素部と重畳するように形成されていることが好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光輝度向上の効果が顕著となる。

　ブラックマトリックス層は、感光性組成物中の樹脂等の成分の着色によって可視光線の波長において黒色であることが好ましく、樹脂等の成分の着色に加えて、熱発色剤及び／又は酸化発色剤等の着色によって黒色であることがより好ましい。なお着色しているとは、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、又は紫色であることをいう。ブラックマトリックス層は、黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有することが好ましく、有機黒色顔料及び／又は無機黒色顔料を含有することが好ましい。有機黒色顔料は、カーボンブラック、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及び、アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましい。無機黒色顔料は、金属元素の微粒子、酸化物、複合酸化物、硫化物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、窒化物、炭化物、又は酸窒化物を含むことが好ましい。金属元素は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｙ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、又はＡｇが好ましい。

　ブラックマトリックス層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度は０．５～４．０であることが好ましい。このような構成とすることで、入射した外光をブラックマトリックス層で遮光できるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。またブラックマトリックス層の可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、画素分割層に入射する外光が低減することで画素分割層からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。ブラックマトリックス層は黒色であることが好ましい。ここでブラックマトリックス層の光学濃度に関しては、上述した画素分割層の光学濃度に関する記載の通りである。

　本発明の表示装置は、平面視において、複数の開口部を有するブラックマトリックス層部を有することが好ましい。上述したブラックマトリックス層を平面視したものが、ブラックマトリックス層部に相当する。ブラックマトリックス層部の開口部の形状は、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光輝度向上の観点から、閉じた多角形又は閉じた多角形から少なくとも一部の辺及び／又は頂点が円弧に置き換えられた形状が好ましい。ブラックマトリックス層部の開口部の形状を少なくとも一部の直線によって真円形から変えることで、発光素子からの発光が面発光として非対称となり、ブラックマトリックス層部の開口部から出射した光の干渉によって強められるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また、ブラックマトリックス層部の開口部の形状を少なくとも一部の直線によって真円形から変えることで、ブラックマトリックス層部の開口部から入射する外光の画素分割層部の表面における散乱が非対称となり、第１電極と第２電極との間における反射・干渉によって弱められるため、外光反射抑制の効果が顕著になると推定される。

　本発明の表示装置は、平面視において、ブラックマトリックス層部がカラーフィルタ層部と重畳せず、さらに、一般式（ＣＦ／ＢＭ）で表される関係を満たすことが好ましい。
（ＣＦ_Ｌ）≦（ＢＭ_Ｌ）　（ＣＦ／ＢＭ）。

　ブラックマトリックス層部の上にカラーフィルタ層部が重畳する場合、積層部の近傍ではカラーフィルタ層部の膜厚が厚く形成される箇所が発生する。このような場合、発光素子からの発光がカラーフィルタ層部の膜厚の厚い箇所を通過することとなる。一方、カラーフィルタ層部の上にブラックマトリックス層部が重畳する場合、カラーフィルタ層部の端部においてブラックマトリックス層部に覆われる箇所が発生する。このような場合、発光素子からの発光がブラックマトリックス層部に覆われた箇所を通過できないこととなる。上記のような構成とすることで、ブラックマトリックス層部の上にカラーフィルタ層部が重畳した積層部、及びカラーフィルタ層部の上にブラックマトリックス層部が重畳した積層部の形成を回避できるため、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。加えて、広範な視野角での発光輝度向上の効果が顕著となる。ブラックマトリックス層部がカラーフィルタ層部と重畳する構成を有する表示装置の一例を示す模式的断面図及び平面図を図５に示す。

　＜オーバーコート層；平面視におけるオーバーコート層部＞
　本発明の表示装置は、さらに、ブラックマトリックス層及びカラーフィルタ層を離隔するオーバーコート層を有することが好ましい。オーバーコート層とは、ブラックマトリックス層とカラーフィルタ層との両方に接し、積層構造の表面を平坦化する層である。オーバーコート層は非感光性組成物又は感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましく、感光性組成物を硬化した硬化膜がより好ましく、着色剤を含む感光性組成物を硬化した硬化膜がさらに好ましい。オーバーコート層は、上述した画素部と重畳するように形成されていることが好ましい。一方、オーバーコート層は、上述した画素部と重畳しないように形成されていることがより好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光輝度向上の効果が顕著となる。加えて、広範な視野角での発光輝度向上の効果が顕著となる。

　＜ＴＦＴ素子層＞
　本発明の表示装置は、さらに、ＴＦＴ素子層を有することが好ましい。本発明の表示装置は、ＴＦＴ素子層が、半導体層、ソース電極、ドレイン電極、ゲート電極、及びゲート絶縁層を有することがより好ましい。本発明の表示装置が、ＴＦＴ素子層を有する場合、さらに、それらの上層の導電層を絶縁する層間絶縁層を有することが好ましい。

　ＴＦＴ素子層において、半導体層としては、例えば、アモルファス性のシリコン（ａ－Ｓｉ；非晶質シリコン）、多結晶性のシリコン（ｐ－Ｓｉ；多結晶シリコン）、マイクロクリスタルシリコン、若しくはナノクリスタルシリコンなどのシリコン半導体層、酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ；Ｉｎ－Ｇａ－Ｚｎ－Ｏ）などに代表される酸化物半導体層、又は多結晶性のシリコンと酸化物半導体とを併用したＬＴＰＯ（Ｌｏｗ　Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　Ｐｏｌｙｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）が挙げられる。

　本発明の表示装置が、アクティブ駆動型トップエミッション型の構成である場合、基板上に、ＴＦＴ素子層を有し、ＴＦＴ素子層が、パターン加工されたアイランド型の第１電極と接合されることが好ましい。

　＜ＴＦＴ平坦化層及びＴＦＴ保護層＞
　本発明の表示装置は、さらに、ＴＦＴ平坦化層及び／又はＴＦＴ保護層を有することが好ましく、少なくとも二層のＴＦＴ平坦化層及び／又は少なくとも二層のＴＦＴ保護層を有することがより好ましい。ＴＦＴ平坦化層及び／又はＴＦＴ保護層とは、ＴＦＴ素子を含む積層構造の表面を平坦化及び／又は保護する層である。

　ＴＦＴ平坦化層及びＴＦＴ保護層は、感光性組成物中の樹脂等の成分の着色によって可視光線の波長において黒色であることが好ましく、樹脂等の成分の着色に加えて、熱発色剤及び／又は酸化発色剤等の着色によって黒色であることがより好ましい。なお着色しているとは、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、又は紫色であることをいう。

　＜層間絶縁層＞
　本発明の表示装置は、さらに、層間絶縁層を有することが好ましく、少なくとも二層の層間絶縁層を有することがより好ましい。層間絶縁層とは、積層構造中の配線や電極などの導電層を絶縁する層である。層間絶縁層は、ＴＦＴ平坦化層及び／又はＴＦＴ保護層の下層の導電層を絶縁する層間絶縁層が好ましい。また層間絶縁層は、後述するタッチパネル配線及び／又はタッチパネル電極を絶縁する層間絶縁層が好ましい。

　層間絶縁層は、感光性組成物中の樹脂等の成分の着色によって可視光線の波長において黒色であることが好ましく、樹脂等の成分の着色に加えて、熱発色剤及び／又は酸化発色剤等の着色によって黒色であることがより好ましい。なお着色しているとは、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、又は紫色であることをいう。

　＜タッチパネル配線及びタッチパネル電極＞
　本発明の表示装置は、さらに、タッチパネル配線及び／又はタッチパネル電極を有することが好ましく、少なくとも二層のタッチパネル配線及び／又は少なくとも二層のタッチパネル電極を有することがより好ましい。タッチパネル配線とは、位置検出機能を有する部材と外部回路とを導通するための配線をいう。タッチパネル配線は、タッチパネル電極と外部回路とを導通するための引き出し配線であることが好ましい。タッチパネル電極とは、位置検出機能を有する電極をいう。タッチパネル電極は、静電容量の変化によって位置検出機能をする電極であることが好ましい。

　タッチパネル配線には透明電極又は非透明電極を用いることができる。タッチパネル配線は、画素部の面積拡大、表示装置の開口率向上、及び表示装置の狭ベゼル化の観点から、透明電極が好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、及び発光輝度向上の効果が顕著となる。タッチパネル電極は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及びタッチパネル電極の視認性抑制の観点から、透明電極が好ましい。

　本発明の表示装置は、基板上の上述した第１電極よりも下に、タッチパネル配線、タッチパネル電極、及び層間絶縁層を含むことで、インセル型タッチパネルを有する。このような構成とすることで、発光輝度向上の効果が顕著となる。本発明の表示装置は、第２電極上の上述した封止層の下層に、タッチパネル配線、タッチパネル電極、及び層間絶縁層を含むことで、インセル型タッチパネルを有する。このような構成とすることで、発光輝度向上の効果が顕著となる。本発明の表示装置は、封止層上の上述したカラーフィルタ層及びブラックマトリックス層の下層に、タッチパネル配線、タッチパネル電極、及び層間絶縁層を含むことで、オンセル型タッチパネルを有する。このような構成とすることで、発光輝度向上及び工程数削減の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、同一の基板上における、カラーフィルタ層、ブラックマトリックス層、又はオーバーコート層（以下、「カラーフィルタ層等」）の上層に、タッチパネル配線、タッチパネル電極、及び層間絶縁層を含むことで、オンセル型タッチパネルを有する。このような構成とすることで、発光輝度向上及び工程数削減の効果が顕著となる。一方、本発明の表示装置は、カラーフィルタ層等の上層に、異なる基板上の、タッチパネル配線、タッチパネル電極、及び層間絶縁層を貼り合わせることで、アウトセル型タッチパネルを有する。このような構成とすることで、工程数削減の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、同一の基板上における、カラーフィルタ層等の上層に、直線偏光板、１／４波長板、及び、円偏光板からなる群より選ばれる一種類以上を含むことで、ビルドアップ型偏光フィルムを有する。このような構成とすることで、外光反射抑制の効果が顕著となる。一方、本発明の表示装置は、カラーフィルタ層等の上層に、異なる基板上の、直線偏光板、１／４波長板、及び、円偏光板からなる群より選ばれる一種類以上を貼り合わせることで、外付け型偏光フィルムを有する。このような構成とすることで、外光反射抑制及び工程数削減の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、同一の基板上における、カラーフィルタ層等の上層に、直線偏光板、１／４波長板、及び円偏光板を含まないことで、偏光フィルムを有しない表示装置を製造可能である。同様に、本発明の表示装置は、カラーフィルタ層等の上層に、異なる基板上の、直線偏光板、１／４波長板、及び円偏光板を貼り合わせないことで、偏光フィルムを有しない表示装置を製造可能である。このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、フレキシブル性向上、及び折り曲げ性向上の効果が顕著となる。また偏光フィルムを有しないことで、表示装置の製造におけるコスト削減の効果が顕著となる。

　封止層、カラーフィルタ層、ブラックマトリックス層、オーバーコート層、ＴＦＴ平坦化層、ＴＦＴ保護層、層間絶縁層は、上述した画素分割層等と同様の感光性組成物の硬化膜であるのも好ましい。またこれらの層は、上述した画素分割層等と同様の着色剤、樹脂、又は化合物を含有することも好ましい。

　なお封止層中、カラーフィルタ層中、ブラックマトリックス層中、オーバーコート層中、ＴＦＴ平坦化層中、ＴＦＴ保護層中、及び層間絶縁層中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤に関する例示及び好ましい記載は、上記の画素分割層等中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤に関する例示及び好ましい記載の通りである。
これらの層中の樹脂に関する例示及び好ましい記載は、上記の画素分割層等中の（Ａ１－ＤＬ）樹脂、（Ａ２－ＤＬ）樹脂、及び（Ａ３－ＤＬ）樹脂に関する例示及び好ましい記載の通りである。
これらの層中の化合物に関する例示及び好ましい記載は、上記の画素分割層中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物、（Ｃ２－ＤＬ）化合物、（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物、（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物、リン酸系構造を有する化合物、硫黄元素を有する化合物、及び塩素元素又は臭素元素を有する化合物に関する例示及び好ましい記載の通りである。

　＜表示装置の構成＞
　本発明の表示装置は、同一の基板上に、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層、封止層、カラーフィルタ層、及びブラックマトリックス層を有することが好ましい。本発明の表示装置は、第１電極、発光層を含む有機層、第２電極、封止層、及びカラーフィルタ層がこの順に重畳して形成されていることが好ましい。

　例えば、別々の基板上に画素分割層とカラーフィルタ層をそれぞれ形成し、画素分割層を形成した基板とカラーフィルタ層を形成した基板とを、接着材などを用いた方法によって貼り合わせる場合、貼り合わせの位置精度悪化による発光不良などが発生する。また別々の基板上に画素分割層とカラーフィルタ層を形成するため、それぞれの基板上に積層構造を形成する際の露光アライメント誤差が発生し、別々の基板を貼り合わせる際の積層構造における設計誤差による発光不良などが発生する。一方、本発明の表示装置は、同一の基板上に、これらの各層が形成されている場合、例えば、画素部とカラーフィルタ層部との位置精度悪化や露光アライメント誤差等に起因する発光不良などを抑制できるため、パネルの歩留まり低下抑制、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　＜平面視における表示装置の構成＞
　本発明の表示装置は、平面視において、複数の画素部を有する。本発明の表示装置は、平面視において、画素分割層部の開口部における、第１電極部上かつ発光層を含む有機層部が形成された箇所を画素部としたときに、複数の画素部及び複数の開口部を有する画素分割層部を有することが好ましく、複数の画素部、複数の開口部を有する画素分割層部、複数のカラーフィルタ層部、及び複数の開口部を有するブラックマトリックス層部を有することが好ましい。
本発明の表示装置は、平面視において、画素寸法制御層部の開口部における、第１電極部上かつ発光層を含む有機層部が形成された箇所を画素部としたときに、複数の画素部及び複数の開口部を有する画素寸法制御層部を有することが好ましく、複数の画素部、複数の開口部を有する画素寸法制御層部、複数のカラーフィルタ層部、及び複数の開口部を有するブラックマトリックス層部を有することが好ましい。
本発明の表示装置は、平面視において、画素部が、カラーフィルタ層部及びブラックマトリックス層部の開口部と重畳することがより好ましい。

　本発明の表示装置は、平面視において、ブラックマトリックス層部がカラーフィルタ層部と重畳しないことが好ましい。このような構成とすることで、発光輝度向上の効果が顕著となる。加えて、広範な視野角での発光輝度向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置において、平面視において、ブラックマトリックス層部がカラーフィルタ層部と重畳しない場合、本発明の表示装置は、さらに、ブラックマトリックス層及びカラーフィルタ層を離隔するオーバーコート層を有することが好ましい。さらに、平面視において、ブラックマトリックス層部及びカラーフィルタ層部を離隔するオーバーコート層部を有することが好ましい。本発明の表示装置は、平面視において、画素部がオーバーコート層部と重畳することが好ましい。一方、本発明の表示装置は、画素部がオーバーコート層部と重畳しないことがより好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制及び発光輝度向上の効果が顕著となる。加えて、広範な視野角での発光輝度向上の効果が顕著となる。

　＜第１電極上における硫黄イオン（Ｓ^－）、塩素イオン（Ｃｌ^－）、臭素イオン（Ｂｒ^－）、及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度＞
　本発明の表示装置は、画素部における、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、
硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度を（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度を（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度を（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、かつ、
（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）及び（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）の総和を（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）とするとき、一般式（ＳＡ－１）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たす。
２≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＳＡ－１）
２≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＸＡ－１）。

　一般式（ＳＡ－１）は、硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度が特定範囲であることを示す式である。一般式（ＸＡ－１）は、塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の総和が特定範囲であることを示す式である。画素部において、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面における硫黄イオン、塩素イオン、及び臭素イオンの検出強度が大きいほど、第１電極の表面上のこれらの元素によって表面改質された比率が多いことを示す。硫黄イオン、塩素イオン、及び臭素イオンの検出強度を上記のような構成とすることで、仕事関数差の調整によって低電圧駆動が可能な優れた発光特性を奏功する。その結果、同一電圧駆動時における高発光輝度の効果を奏功する。さらに、発光素子の高信頼性の効果を奏功する。加えて、同一電圧駆動時における高発光輝度の効果を奏功すると考えられる。また意図的に第１電極上のこれらのイオンの検出強度を調整することで、例えば有機ＥＬディスプレイにおける第１電極上における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。それにより、発光特性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。また、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上記一般式（ＳＡ－１）及び上記一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、一般式（ＳＡ－１ａ）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＡ－１ａ）で表される関係を満たすことが好ましい。
２≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦１００　（ＳＡ－１ａ）
２≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦１００　（ＸＡ－１ａ）。

　（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２以上が好ましく、４以上がより好ましく、６以上がさらに好ましく、８以上がさらにより好ましく、１０以上が特に好ましい。一方、（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２００以下が好ましく、１７０以下がより好ましく、１５０以下がさらに好ましく、１２０以下がさらにより好ましく、１００以下が特に好ましい。さらに（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、８０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、４０以下がさらに好ましく、３０以下がさらにより好ましく、２５以下が特に好ましい。

　（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２以上が好ましく、４以上がより好ましく、６以上がさらに好ましく、８以上がさらにより好ましく、１０以上が特に好ましい。一方、（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２００以下が好ましく、１７０以下がより好ましく、１５０以下がさらに好ましく、１２０以下がさらにより好ましく、１００以下が特に好ましい。さらに（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、８０以下が好ましく、６０以下がより好ましく、４０以下がさらに好ましく、３０以下がさらにより好ましく、２５以下が特に好ましい。

　なお硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度、塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度、及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度は飛行時間型二次イオン質量分析を３回測定した平均値として算出できる。また第１電極の表面から深さ３ｎｍ及び深さ４ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことも好ましく、第１電極の表面から深さ３ｎｍ、深さ４ｎｍ、及び深さ５ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことがより好ましい。

　なお本発明の表示装置において、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面は、飛行時間型二次イオン質量分析におけるデプス測定によって求めることができる。まず画素部に対して、バイアスを印加して加速させたエッチングイオン種を発光層側から衝突させ、第１電極側に向かって深さ方向にエッチングしながら、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を発光層側から衝突させる。その際に放出された二次イオンを測定し、発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルを測定する。デプスプロファイルにおいて、第１電極の発光層側の最表層が含む元素のうち、少なくとも１つのイオンの検出強度が１００以上となった点を、第１電極の表面とする。また、第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置とは、発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルを第１電極の底部まで測定するとともに第１電極の厚さを測定し、それらの値から第１電極のスパッタレートを算出することで、第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置を求めることができる。

　同様に、本発明の表示装置において、発光層を含む有機層と接する側のインジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層の表面は、飛行時間型二次イオン質量分析におけるデプス測定によって求めることができる。画素部に対して、同様の方法で発光層側から二次イオンを測定し、深さ方向のデプスプロファイルを測定する。デプスプロファイルにおいて、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度が１００以上となった点を、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層の表面とする。また、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置とは、発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルを透明導電性酸化膜層の底部まで測定するとともに透明導電性酸化膜層の厚さを測定し、それらの値から透明導電性酸化膜層のスパッタレートを算出することで、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置を求めることができる。

　なお第１電極の底部又は透明導電性酸化膜層の底部とは、デプスプロファイルにおいて、第１電極の直下に位置する層又は透明導電性酸化膜層の直下に位置する層が含む元素のうち、少なくとも１つのイオンの検出強度が１００以上となった点を、第１電極の底部又は透明導電性酸化膜層の底部とする。なお第１電極の厚さ及び透明導電性酸化膜層の厚さは、ＴＥＭ又はＳＥＭを用いて測定できる。また第１電極又は透明導電性酸化膜層を元素組成分析し、当該元素組成と同一の組成となる金属膜又は酸化膜を所望の厚さで成膜する。次に、得られた金属膜又は酸化膜を飛行時間型二次イオン質量分析におけるデプス測定により、深さ方向のデプスプロファイルを金属膜又は酸化膜の底部まで測定し、金属膜又は酸化膜の厚さから金属膜又は酸化膜のスパッタレートを算出することでも求めることができる。元素組成分析の方法としては、例えば、ラザフォード後方散乱分析法やその他の分析手法が挙げられる。

　本発明の表示装置において、第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有する場合、本発明の表示装置は、画素部における、発光層を含む有機層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度を（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとするとき、上記一般式（ＳＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＳＡ－２）及び一般式（ＩｎＳＡ－１）で表される関係を満たし、及び／又は、上記一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＸＡ－２）及び一般式（ＩｎＸＡ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。
０．０００１≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦０．１０００　（ＳＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＳＡ－１）
０．０００１≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦０．１０００　（ＸＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＸＡ－１）。

　上記のような構成の場合、本発明の表示装置は画素部において、第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む厚さ３ｎｍ以上の透明導電性酸化膜層を有する。一般式（ＳＡ－２）は、硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度と酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度とが、特定強度比であることを示す式である。一般式（ＸＡ－２）は、塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の総和と、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度とが、特定強度比であることを示す式である。一般式（ＩｎＳＡ－１）及び一般式（ＩｎＸＡ－１）は、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度が特定範囲であることを示す式である。画素部において、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面における酸化インジウムイオンの検出強度が大きいほど、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層の表面が露出した比率が多いことを示す。このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上記一般式（ＳＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＳＡ－２）及び一般式（ＩｎＳＡ－１）で表される関係を満たし、及び、上記一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＸＡ－２）及び一般式（ＩｎＸＡ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。

　（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０００３以上が好ましく、０．０００５以上がより好ましく、０．００１０以上がさらに好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、０．００２０以上が好ましく、０．００４０以上がより好ましく、０．００６０以上がさらに好ましく、０．００８０以上がさらにより好ましく、０．０１００以上が特に好ましい。一方、（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、０．０８００以下が好ましく、０．０６００以下がより好ましく、０．０４００以下がさらに好ましく、０．０３００以下がさらにより好ましく、０．０２５０以下が特に好ましい。

　（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、１，５００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましい。一方、（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、３０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましく、１５，０００以下がさらに好ましく、１０，０００以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、７，５００以下が好ましく、６，０００以下がより好ましく、５，０００以下がさらに好ましく、４，０００以下がさらにより好ましく、３，５００以下が特に好ましい。

　（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０００３以上が好ましく、０．０００５以上がより好ましく、０．００１０以上がさらに好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、０．００２０以上が好ましく、０．００４０以上がより好ましく、０．００６０以上がさらに好ましく、０．００８０以上がさらにより好ましく、０．０１００以上が特に好ましい。一方、（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、０．０８００以下が好ましく、０．０６００以下がより好ましく、０．０４００以下がさらに好ましく、０．０３００以下がさらにより好ましく、０．０２５０以下が特に好ましい。

　なお酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度は飛行時間型二次イオン質量分析を３回測定した平均値として算出できる。また第１電極の表面から深さ３ｎｍ及び深さ４ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことも好ましく、第１電極の表面から深さ３ｎｍ、深さ４ｎｍ、及び深さ５ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことがより好ましい。

　＜第１電極上における炭素イオン（Ｃ^－）及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度＞
　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、画素部における、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、炭素イオン（Ｃ^－）の検出強度を（Ｃ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとするとき、一般式（ＣＡ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。
２０≦（Ｃ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４，０００　（ＣＡ－１）
　一般式（ＣＡ－１）は、炭素イオン（Ｃ^－）の検出強度が特定範囲であることを示す式である。画素部において、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面における炭素イオンの検出強度が大きいほど、第１電極の表面上において、炭素原子の存在比率が多いことを示す。（Ｃ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、５０以上が好ましく、７５以上がより好ましく、１００以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、３，０００以下が好ましく、２，０００以下がより好ましく、１，０００以下がさらに好ましい。

　本発明の表示装置において、第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有する場合、本発明の表示装置は、画素部における、発光層を含む有機層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度を（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとするとき、上記一般式（ＣＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＣＡ－２）及び一般式（ＩｎＣＡ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。
０．００１≦（Ｃ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４．０　（ＣＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＣＡ－１）。

　一般式（ＣＡ－２）は、炭素イオン（Ｃ^－）の検出強度と酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度とが、特定強度比であることを示す式である。一般式（ＩｎＣＡ－１）は、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度が特定範囲であることを示す式である。このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｃ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、０．００３以上が好ましく、０．００５以上がより好ましく、０．０１０以上がさらに好ましく、０．０２０以上が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、０．０５０以上が好ましく、０．０７５以上がより好ましく、０．１００以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、３．０以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、１．０以下がさらに好ましい。（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、１，２００以上が好ましく、１，５００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましい。一方、（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、３０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましく、１５，０００以下がさらに好ましく、１０，０００以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、７，５００以下が好ましく、６，０００以下がより好ましく、５，０００以下がさらに好ましく、４，０００以下がさらにより好ましく、３，５００以下が特に好ましい。

　なお炭素イオン（Ｃ^－）の検出強度は飛行時間型二次イオン質量分析を３回測定した平均値として算出できる。また第１電極の表面から深さ３ｎｍ及び深さ４ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことも好ましく、第１電極の表面から深さ３ｎｍ、深さ４ｎｍ、及び深さ５ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことがより好ましい。

　＜第１電極上におけるシアン化物イオン（ＣＮ^－）及び酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度＞
　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、画素部における、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、シアン化物イオン（ＣＮ^－）の検出強度を（ＣＮ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとするとき、一般式（ＣＮＡ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。
２０≦（ＣＮ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４，０００　（ＣＮＡ－１）
　一般式（ＣＮＡ－１）は、シアン化物イオン（ＣＮ^－）の検出強度が特定範囲であることを示す式である。画素部において、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面におけるシアン化物イオンの検出強度が大きいほど、第１電極の表面上において、窒素原子に結合した炭素原子の存在比率が多いことを示す。（ＣＮ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、５０以上が好ましく、７５以上がより好ましく、１００以上がさらに好ましい。一方、（ＣＮ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、３，０００以下が好ましく、２，０００以下がより好ましく、１，０００以下がさらに好ましい。

　本発明の表示装置において、第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有する場合、本発明の表示装置は、画素部における、発光層を含む有機層と接する側の透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度を（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとするとき、上記一般式（ＣＮＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＣＮＡ－２）及び一般式（ＩｎＣＮＡ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。
０．００１≦（ＣＮ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４．０　（ＣＮＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＣＮＡ－１）。

　一般式（ＣＮＡ－２）は、シアン化物イオン（Ｃ^－）の検出強度と酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度とが、特定強度比であることを示す式である。一般式（ＩｎＣＮＡ－１）は、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度が特定範囲であることを示す式である。このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（ＣＮ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、０．００３以上が好ましく、０．００５以上がより好ましく、０．０１０以上がさらに好ましく、０．０２０以上が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、０．０５０以上が好ましく、０．０７５以上がより好ましく、０．１００以上がさらに好ましい。一方、（ＣＮ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、３．０以下が好ましく、２．０以下がより好ましく、１．０以下がさらに好ましい。（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、１，２００以上が好ましく、１，５００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましい。一方、（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）は、３０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましく、１５，０００以下がさらに好ましく、１０，０００以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、７，５００以下が好ましく、６，０００以下がより好ましく、５，０００以下がさらに好ましく、４，０００以下がさらにより好ましく、３，５００以下が特に好ましい。

　なおシアン化物イオン（ＣＮ^－）の検出強度は飛行時間型二次イオン質量分析を３回測定した平均値として算出できる。また第１電極の表面から深さ３ｎｍ及び深さ４ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことも好ましく、第１電極の表面から深さ３ｎｍ、深さ４ｎｍ、及び深さ５ｎｍのそれぞれの位置において測定される、各イオンの検出強度の平均値が上記関係を満たすことがより好ましい。

　＜画素分割層部上及び第１電極部上における硫黄イオン（Ｓ^－）、塩素イオン（Ｃｌ^－）、及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比＞
　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、画素分割層部上の発光層を含む有機層部が形成された領域と重畳しない領域における、第２電極部と接する側又は第２電極部の開口部において露出する側の画素分割層部の表面において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、
硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比を（Ｓ_ＰＤＬ）とし、
塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比を（Ｃｌ_ＰＤＬ）とし、
臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比を（Ｂｒ_ＰＤＬ）とし、かつ、
（Ｃｌ_ＰＤＬ）及び（Ｂｒ_ＰＤＬ）の総和を（Ｘ_ＰＤＬ）とし、
画素部における、発光層を含む有機層部と接する側の第１電極部の表面において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、
硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比を（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、
塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比を（Ｃｌ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、
臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比を（Ｂｒ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、かつ、
（Ｃｌ_{Ａｎｏｄｅ}）及び（Ｂｒ_{Ａｎｏｄｅ}）の総和を（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）とするとき、一般式（ＳＤ－１）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＤ－１）で表される関係を満たすことが好ましい。
０．１≦（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｓ_ＰＤＬ）≦２０　（ＳＤ－１）
０．１≦（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｘ_ＰＤＬ）≦２０　（ＸＤ－１）。

　なお上記の画素分割層部の表面とは、画素分割層部上の発光層を含む有機層部が形成されていない領域において第２電極部を除去して露出した画素分割層部の表面、又は、画素分割層部上の発光層を含む有機層部と第２電極部とがいずれも形成されていない画素分割層部の表面をいう。また上記の第１電極部の表面とは、第１電極部上の発光層を含む有機層部を除去して露出した第１電極部の表面をいう。一般式（ＳＤ－１）は、画素分割層部上における硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比と、第１電極部上における硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比とが、特定強度比であることを示す式である。一般式（ＸＤ－１）は、画素分割層部上における塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比の総和と、第１電極部上における塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比の総和とが、特定強度比であることを示す式である。（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｓ_ＰＤＬ）及び（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｘ_ＰＤＬ）が大きいほど、第１電極部の表面上のこれらの元素によって表面改質された比率が多いことを示す。すなわち、第１電極部の表面上にこれらの元素が多く存在することを表す。このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｓ_ＰＤＬ）は、０．３以上が好ましく、０．５以上がより好ましく、１．０以上がさらに好ましい。一方、（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｓ_ＰＤＬ）は、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。

　（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｘ_ＰＤＬ）は、０．３以上が好ましく、０．５以上がより好ましく、１．０以上がさらに好ましい。一方、（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｘ_ＰＤＬ）は、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上記一般式（ＳＤ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＳＤ－２）及び一般式（ＳＤ－３）で表される関係を満たし、及び／又は、上記一般式（ＸＤ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＸＤ－２）及び一般式（ＸＤ－３）で表される関係を満たすことが好ましい。
０．００００１≦（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）≦０．００２００　（ＳＤ－２）
０．０００１≦（Ｓ_ＰＤＬ）≦０．０１００　（ＳＤ－３）
０．００００１≦（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）≦０．００２００　（ＸＤ－２）
０．０００１≦（Ｘ_ＰＤＬ）≦０．０１００　（ＸＤ－３）
　一般式（ＳＤ－２）は、第１電極部上における硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比が、特定範囲であることを示す式である。一般式（ＳＤ－３）は、画素分割層部上における硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比が、特定範囲であることを示す式である。一般式（ＸＤ－２）は、第１電極部上における塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比の総和が、特定範囲であることを示す式である。一般式（ＸＤ－２）は、画素分割層部上における塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比及び臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比の総和が、特定範囲であることを示す式である。このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　本発明の表示装置は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、上記一般式（ＳＤ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＳＤ－２）及び一般式（ＳＤ－３）で表される関係を満たし、及び、上記一般式（ＸＤ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＸＤ－２）及び一般式（ＸＤ－３）で表される関係を満たすことが好ましい。

　（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）は、０．００００３以上が好ましく、０．００００５以上がより好ましく、０．０００１０以上がさらに好ましい。一方、（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）は、０．００１５０以下が好ましく、０．００１２０以下がより好ましく、０．００１００以下がさらに好ましい。（Ｓ_ＰＤＬ）は、０．０００２以上が好ましく、０．０００３以上がより好ましく、０．０００５以上がさらに好ましい。一方、（Ｓ_ＰＤＬ）は、０．００７０以下が好ましく、０．００５０以下がより好ましく、０．００３０以下がさらに好ましい。

　（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）は、０．００００３以上が好ましく、０．００００５以上がより好ましく、０．０００１０以上がさらに好ましい。一方、（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）は、０．００１５０以下が好ましく、０．００１２０以下がより好ましく、０．００１００以下がさらに好ましい。（Ｘ_ＰＤＬ）は、０．０００２以上が好ましく、０．０００３以上がより好ましく、０．０００５以上がさらに好ましい。一方、（Ｘ_ＰＤＬ）は、０．００７０以下が好ましく、０．００５０以下がより好ましく、０．００３０以下がさらに好ましい。

　本発明の表示装置は、平面視において、画素部が、カラーフィルタ層部及びブラックマトリックス層部の開口部と離隔して重畳することが好ましい。本発明の表示装置において、このような構成とする場合、カラーフィルタ層部は画素部と離隔しており、本発明の表示装置は、カラーフィルタ層部と画素部との距離が５．０～２０．０μｍであることが好ましい。このような構成とすることで、画素部、カラーフィルタ層部、及びブラックマトリックス層部が適切な距離で配置されるため、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、発光色純度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。カラーフィルタ層部と画素部との距離は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、５．０μｍ以上が好ましく、７．０μｍ以上がより好ましく、９．０μｍ以上がさらに好ましく、１０．０μｍ以上が特に好ましい。一方、カラーフィルタ層部と画素部との距離は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、フレキシブル性向上、及び折り曲げ性向上の観点から、２０．０μｍ以下が好ましく、１８．０μｍ以下がより好ましく、１６．０μｍ以下がさらに好ましく、１５．０μｍ以下が特に好ましい。

　＜複数色の画素部を有する表示装置の構成＞
　本発明の表示装置は、平面視において、画素部が、第１色の画素部、第２色の画素部、及び第３色の画素部を有し、第１色、第２色、及び第３色が互いに異なる色であって、平面視において、カラーフィルタ層部が、第１色の画素部に対応する第１色のカラーフィルタ層部、第２色の画素部に対応する第２色のカラーフィルタ層部、及び第３色の画素部に対応する第３色のカラーフィルタ層部を有することが好ましい。なお第１色の画素部に対応する第１色のカラーフィルタ層部とは、第１色の画素部と第１色のカラーフィルタ層部とが互いに同系色の色であることをいう。第２色の画素部に対応する第２色のカラーフィルタ層部、及び、第３色の画素部に対応する第３色のカラーフィルタ層部も同様である。第１色の画素部からの発光の発光スペクトルにおける極大発光波長と、第１色のカラーフィルタ層部の透過スペクトルにおける極大透過波長との差は、３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。第２色の画素部に対応する第３色のカラーフィルタ層部、及び、第３色の画素部に対応する第３色のカラーフィルタ層部も同様である。

　本発明の表示装置は、平面視において、第１色の画素部が第１色のカラーフィルタ層部と重畳し、第２色の画素部が第２色のカラーフィルタ層部と重畳し、かつ、第３色の画素部が第３色のカラーフィルタ層部と重畳することが好ましい。第１色、第２色、及び第３色が、緑色、赤色、及び青色である場合、本発明の表示装置はフルカラー型の発光が可能な表示装置を提供可能である。従って、上記のような構成とすることで、本発明の表示装置は、フルカラー型の発光が可能であって、かつ、優れた外光反射抑制効果、低電圧駆動が可能な優れた発光特性、高発光輝度、及び発光素子の高信頼性を兼ね備えることが可能である。第１色の画素部、第２色の画素部、及び第３色の画素部を含む構成を有する表示装置の一例を示す平面図を図７に示す。

　本発明の表示装置において、このような構成とする場合、第１色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値が、第２色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値よりも小さく、かつ、第３色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値よりも小さいことが好ましい。本発明の表示装置は、第１色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値が５．０～２５．０μｍであることが好ましい。このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、発光色純度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　第１色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値は、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５．０μｍ以上が好ましく、６．０μｍ以上がより好ましく、７．０μｍ以上がさらに好ましく、８．０μｍ以上がさらにより好ましく、１０．０μｍ以上が特に好ましい。一方、第１色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値は、外光反射抑制及び発光輝度向上の観点から、５０．０μｍ以下が好ましく、４０．０μｍ以下がより好ましく、３５．０μｍ以下がさらに好ましい。また第１色の画素部の長軸方向のパターン寸法は、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、３０．０μｍ以下が好ましく、２５．０μｍ以下がより好ましく、２０．０μｍ以下がさらに好ましく、１７．０μｍ以下がさらにより好ましく、１５．０μｍ以下が特に好ましい。

　第２色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値、及び第３色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値に関する例示及び好ましい記載は、上記の第１色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値に関する例示及び好ましい記載の通りである。

　本発明の表示装置は、第１色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値を（ＣＤ_Ｌ１）μｍ、第２色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値を（ＣＤ_Ｌ２）μｍとし、かつ、第３色の画素部の長軸方向のパターン寸法の平均値を（ＣＤ_Ｌ３）μｍとするとき、一般式（ＣＤ－１ａ）及び一般式（ＣＤ－１ｂ）で表される関係を満たす。本発明の表示装置は、さらに、一般式（ＣＤ－２ａ）又は一般式（ＣＤ－３ａ）で表される関係を満たすことが好ましく、一般式（ＣＤ－２ｂ）又は一般式（ＣＤ－３ｂ）で表される関係を満たすことがより好ましい。
（ＣＤ_Ｌ１）＜（ＣＤ_Ｌ２）　（ＣＤ－１ａ）
（ＣＤ_Ｌ１）＜（ＣＤ_Ｌ３）　（ＣＤ－１ｂ）
（ＣＤ_Ｌ２）≦（ＣＤ_Ｌ３）　（ＣＤ－２ａ）
（ＣＤ_Ｌ２）＜（ＣＤ_Ｌ３）　（ＣＤ－２ｂ）
（ＣＤ_Ｌ２）≧（ＣＤ_Ｌ３）　（ＣＤ－３ａ）
（ＣＤ_Ｌ２）＞（ＣＤ_Ｌ３）　（ＣＤ－３ｂ）。

　本発明の表示装置は、さらに、一般式（ＣＤ－１／２ａ）及び／又は一般式（ＣＤ－１／３ａ）で表される関係を満たすことが好ましく、一般式（ＣＤ－１／２ａ）及び一般式（ＣＤ－１／３ａ）で表される関係を満たすことがより好ましい。本発明の表示装置は、さらに、一般式（ＣＤ－２／３ａ）又は一般式（ＣＤ－２／３ｂ）で表される関係を満たすことが好ましい。
１．０１×（ＣＤ_Ｌ１）≦（ＣＤ_Ｌ２）≦１．４０×（ＣＤ_Ｌ２）　（ＣＤ－１／２ａ）
１．２０×（ＣＤ_Ｌ１）≦（ＣＤ_Ｌ３）≦１．６０×（ＣＤ_Ｌ１）　（ＣＤ－１／３ａ）
１．０１×（ＣＤ_Ｌ２）≦（ＣＤ_Ｌ３）≦１．４０×（ＣＤ_Ｌ２）　（ＣＤ－２／３ａ）
１．０１×（ＣＤ_Ｌ３）≦（ＣＤ_Ｌ２）≦１．４０×（ＣＤ_Ｌ３）　（ＣＤ－２／３ｂ）。

　本発明の表示装置の第１色の画素部、第２色の画素部、及び第３色の画素部において、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、第１色は緑色又は赤色が好ましく、緑色がより好ましい。第２色は緑色、赤色、又は青色が好ましく、赤色がより好ましい。第３色は赤色、又は青色が好ましく、青色がより好ましい。
第１色が緑色の場合、第２色は赤色又は青色が好ましく、赤色がより好ましい。
第１色が緑色であって、第２色が赤色の場合、第３色は青色が好ましい。
第１色が緑色であって、第２色が青色の場合、第３色は赤色が好ましい。
第１色が赤色の場合、第２色は緑色又は青色が好ましく、緑色がより好ましい。
第１色が赤色であって、第２色が緑色の場合、第３色は青色が好ましい。
第１色が緑色、第２色が赤色、及び第３色が青色であることが特に好ましい。
第１色が緑色、第２色が青色、第３色は赤色であることも好ましい。

　本発明の表示装置は、平面視において、画素部が、さらに、追加色の画素部を有し、第１色、第２色、第３色、及び追加色が互いに異なる色であって、平面視において、カラーフィルタ層部が、さらに、追加色に対応する追加色のカラーフィルタ層部を有し、平面視において、追加色の画素部が追加色のカラーフィルタ層部と重畳することも好ましい。追加色は１つであることが好ましく、追加色が２つ以上であることも好ましい。追加色は、白色、橙色、黄色、及び、紫色からなる群より選ばれる一色以上が好ましい。

　本発明の表示装置において、赤色の画素部からの発光の発光スペクトルにおける、極大発光波長は５６０～７００ｎｍが好ましい。緑色の画素部からの発光の発光スペクトルにおける、極大発光波長は５００～５６０ｎｍが好ましい。青色の画素部からの発光の発光スペクトルにおける、極大発光波長は４２０～５００ｎｍが好ましい。

　本発明の表示装置において、赤色のカラーフィルタ層部の透過スペクトルにおける、極大透過波長は５６０～７００ｎｍが好ましい。緑色のカラーフィルタ層部の透過スペクトルにおける、極大透過波長は５００～５６０ｎｍが好ましい。青色のカラーフィルタ層部の透過スペクトルにおける、極大透過波長は４２０～５００ｎｍが好ましい。

　＜硫黄イオン（Ｓ－）、塩素イオン（Ｃｌ－）、及び臭素イオン（Ｂｒ－）の検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法＞
　本発明の表示装置における、画素部において、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面における硫黄イオン、塩素イオン、及び臭素イオンの検出強度が、特定強度である第１電極の形成方法について説明する。本発明の表示装置における第１電極は、例えば、以下の（Ｉ）～（Ｖ）の方法により得られる。
（Ｉ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び後述する（Ｉ）化合物を含有する感光性組成物を用いて、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成し、第１電極の最表層を露出させる方法（以下、「（Ｉ）特定化合物を含む感光性組成物のパターンを形成する方法」）
（ＩＩ）（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、及び後述する（Ｉ）化合物を含有する非感光性組成物を用いて、第１電極上に非感光性組成物の塗膜を成膜した後、非感光性組成物の塗膜をパターン加工し、第１電極の最表層を露出させる方法（以下、「（ＩＩ）特定化合物を含む非感光性組成物の塗膜をパターン加工する方法」）
（ＩＩＩ）後述する（Ｉ）化合物を含む溶液を、第１電極上に接触させる方法（以下、「（ＩＩＩ）特定化合物の溶液に接触させる方法」）
（ＩＶ）後述する（Ｉ）化合物をガス化させて、第１電極上に接触させる方法（以下、「（ＩＶ）特定化合物のガスに接触させる方法」）
（Ｖ）後述する（Ｉ）化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させる方法（以下、「（Ｖ）特定化合物のイオンに接触させる方法」）。

　＜（Ｉ）特定化合物を含む感光性組成物のパターンを形成する方法＞
　本発明の表示装置における第１電極は、硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物である後述する（Ｉ）化合物を含む感光性組成物を、第１電極上にパターン形成する方法で形成できる。（Ｉ）特定化合物を含む感光性組成物のパターンを形成する方法は、第１電極の表面を硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素によって表面改質させ、パターン形成時に表面改質された第１電極の最表層を露出させる方法である。パターンを形成する方法は、フォトリソグラフィーにより直接パターン形成する方法が好ましい。本方法によって形成したパターンを有する硬化膜が画素分割層に相当し、本発明の表示装置を製造可能である。特定化合物を含む感光性組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｃ）感光剤を含有する。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、後述する樹脂が挙げられる。（Ｃ）感光剤としては、後述する化合物が挙げられる。特定化合物を含む感光性組成物は、さらに、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、後述する化合物が挙げられる。

　硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物を含む感光性組成物を、第１電極上にパターン形成する方法としては、例えば、
（１）フォトマスクを介して活性化学線を照射した後、現像液を用いて現像してパターン形成する方法が挙げられる。すなわち、フォトリソグラフィーにより直接パターン形成する方法である。

　フォトマスクを介して活性化学線の照射に用いる活性化学線は、水銀灯のｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、又はｇ線（波長４３６ｎｍ）が好ましく、ｉ線、ｈ線及びｇ線の混合線がより好ましい。現像液を用いた現像に用いる現像液は、アルカリ溶液が好ましく、有機系のアルカリ溶液又はアルカリ性を示す化合物の水溶液がより好ましい。現像液として、有機溶媒を用いても構わない。

　現像液を用いて現像してパターン形成した後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。リンス液は、水、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒が好ましく、水がより好ましい。

　＜（ＩＩ）特定化合物を含む非感光性組成物の塗膜をパターン加工する方法＞
　本発明の表示装置における第１電極は、硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物である後述する（Ｉ）化合物を含む非感光性組成物を、第１電極上に成膜した後にパターン加工する方法で形成できる。（ＩＩ）特定化合物を含む非感光性組成物の塗膜をパターン加工する方法は、第１電極の表面を硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素によって表面改質させ、パターン加工時に表面改質された第１電極の最表層を露出させる方法である。パターン加工する方法は、エッチングによりパターン加工する方法が好ましい。本方法によって形成したパターンを有する硬化膜が画素分割層に相当し、本発明の表示装置を製造可能である。特定化合物を含む非感光性組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有する。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂としては、後述する樹脂が挙げられる。特定化合物を含む非感光性組成物は、さらに、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、後述する化合物が挙げられる。

　硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物を含む非感光性組成物を、第１電極上に成膜した後にパターン加工する方法としては、例えば、
（１）フォトレジストを用いて、ウェットエッチングによりパターン加工する方法、
（２）フォトレジストを用いて、ドライエッチングによりパターン加工する方法、又は、
（３）フォトレジストを用いて、フォトレジストの現像時に一括開口してパターン加工する方法、が挙げられる。

　ウェットエッチングに用いるエッチング液としては、例えば、酸性溶液、アルカリ溶液、又は有機溶媒が挙げられる。ドライエッチングに用いるエッチングガスとしては、例えば、ハロゲン化炭化水素、ハロゲン化硫黄、ハロゲン化ホウ素、ハロゲン化希ガス、ハロゲン、酸素、オゾン、又は希ガスが挙げられる。フォトレジストの現像に用いる現像液は、アルカリ溶液が好ましく、有機系のアルカリ溶液又はアルカリ性を示す化合物の水溶液がより好ましい。現像液として、有機溶媒を用いても構わない。

　ウェットエッチングによりパターン加工した後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。またフォトレジストの現像時に一括開口してパターン加工した後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。リンス液は、水、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒が好ましく、水がより好ましい。

　＜（ＩＩＩ）特定化合物の溶液に接触させる方法＞
　本発明の表示装置における第１電極は、硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物である後述する（Ｉ）化合物を含む溶液を、第１電極上に接触させる方法で形成できる。（ＩＩＩ）特定化合物の溶液に接触させる方法は、第１電極の表面を硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素によって表面改質させる方法である。本方法によって形成した第１電極上に、感光性組成物又は非感光性組成物を用いて画素分割層を形成することで、本発明の表示装置を製造可能である。硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物の溶液は、さらに、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、後述する化合物が挙げられる。

　硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物の溶液を、第１電極上に接触させる方法としては、例えば、
（１）硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物の溶液を、第１電極上に塗布する方法、
（２）硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物の溶液を、第１電極上に霧状にして放射する方法、又は、
（３）硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物の溶液中に、第１電極を浸漬させる方法、が挙げられる。

　硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物の溶液を、第１電極上に接触させた後、さらに、リンス液で洗浄することが好ましい。リンス液は、水、アルコール類の水溶液、エステル類の水溶液、酸性を示す化合物の水溶液、又は有機溶媒が好ましく、水がより好ましい。

　＜（ＩＶ）特定化合物のガスに接触させる方法＞
　本発明の表示装置における第１電極は、硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物である後述する（Ｉ）化合物をガス化させて、第１電極上に接触させる方法で形成できる。（ＩＶ）特定化合物のガスに接触させる方法は、第１電極の表面を硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素によって表面改質させる方法である。本方法によって形成した第１電極上に、感光性組成物又は非感光性組成物を用いて画素分割層を形成することで、本発明の表示装置を製造可能である。

　硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物をガス化させて、第１電極上に接触させる方法としては、例えば、
（１）容器内に硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物をガス化させて充填し、第１電極上に接触させる方法、
（２）硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物をガス化させ、第１電極上に噴射して接触させる方法、又は、
（３）容器内に硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物をガス化させて充填し、化学気相成長法により、第１電極上に成膜させる方法、が挙げられる。

　＜（Ｖ）特定化合物のイオンに接触させる方法＞
　本発明の表示装置における第１電極は、硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物である後述する（Ｉ）化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させる方法で形成できる。（ＩＶ）特定化合物のイオンに接触させる方法は、第１電極の表面を硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素によって表面改質させる方法である。本方法によって形成した第１電極上に、感光性組成物又は非感光性組成物を用いて画素分割層を形成することで、本発明の表示装置を製造可能である。

　硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物をイオン化させて、第１電極上に接触させる方法としては、例えば、
（１）容器内に硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物をガス化させて充填し、電磁波によってイオン化させ、第１電極上に接触させる方法、又は、
（２）硫黄元素、塩素元素、又は臭素元素を含む化合物をガス化させ、さらに、電磁波によってイオン化させ、バイアスを印加して加速させて第１電極上に衝突させる方法、が挙げられる。

　＜非感光性組成物及び感光性組成物の硬化膜＞
　本発明の表示装置において、画素分割層、画素寸法制御層、スペーサ層、封止層、カラーフィルタ層、ブラックマトリックス層、オーバーコート層、ＴＦＴ平坦化層、ＴＦＴ保護層、及び層間絶縁層は、非感光性組成物を硬化した硬化膜が好ましく、感光性組成物を硬化した硬化膜がより好ましい。非感光性組成物及び感光性組成物は、下記に示す構成成分を含有することが好ましい。

　硬化とは、反応により架橋構造が形成され、膜の流動性が無くなること、又、その状態をいう。反応は、加熱、エネルギー線の照射等、特に限定されるものではないが、加熱によるものが好ましい。加熱によって架橋構造が形成され、膜の流動性が無くなった状態を熱硬化という。加熱条件としては、例えば、１５０～５００℃で、５～３００分間加熱するなどの条件である。加熱方法としては、例えば、オーブン、ホットプレート、赤外線、フラッシュアニール装置、又はレーザーアニール装置を用いて加熱する方法が挙げられる。処理雰囲気としては、例えば、空気、酸素、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン若しくはキセノン雰囲気下、酸素を１～１０，０００質量ｐｐｍ（０．０００１～１質量％）未満含有するガス雰囲気下、酸素を１０，０００質量ｐｐｍ（１質量％）以上含有するガス雰囲気下、又は、真空下が挙げられる。

　＜非感光性組成物及び感光性組成物＞
　以下、本発明の第三の態様である感光性組成物について述べる。また本発明の別の態様である非感光性組成物及び感光性組成物についても述べる。なお本発明において非感光性組成物や感光性組成物と記載する場合、本発明の第三の態様である感光性組成物、又は、本発明の第一の態様及び第二の態様である表示装置に具備される硬化膜を形成する非感光性組成物若しくは感光性組成物に関する記載である。また本発明の組成物と記載する場合、これら全ての組成物に関する記載である。一方、特定の態様の組成物について述べる場合、本発明の第三の態様である感光性組成物などと記載する。

　本発明の第三の態様である感光性組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｄ）着色剤を含有する感光性組成物であって、以下の、条件（Ｉ）、及び／又は、条件（ＩＩ）を満たす、感光性組成物である。
（Ｉ）さらに、硫黄元素を含む成分、塩素元素を含む成分、及び、臭素元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、下記（１ａ）及び／又は（２ａ）の条件を満たす
（１ａ）該感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（２ａ）該感光性組成物中に占める塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（ＩＩ）さらに、以下の硫黄系アニオンを含む成分、及び、以下のハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、下記（１ｂ）及び／又は（２ｂ）の条件を満たす
硫黄系アニオン：硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び、硫酸水素イオンからなる群より選ばれる一種類以上のイオン
ハロゲンアニオン：塩化物イオン、及び／又は、臭化物イオン
（１ｂ）該感光性組成物中に占める硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ）該感光性組成物中に占める塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ。

　このような構成とすることで、本発明の感光性組成物は、低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び発光素子の高信頼性を兼ね備える硬化膜を提供可能である。感光性組成物中に微量の硫黄元素を含む成分、上記の硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、又は上記のハロゲンアニオンを含む成分を含有させることで、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面がこれらの元素又はイオンによって表面改質されると推定される。また感光性組成物のパターンを形成した後、画素分割層に含まれるこれらの元素又はイオンが遷移することで、第１電極の表面がこれらの元素又はイオンによって表面改質されると考えられる。その結果、仕事関数差の調整により低電圧駆動が可能な優れた発光特性を奏功すると推定される。加えて、同一電圧駆動時における高発光輝度の効果を奏功すると考えられる。また意図的にこれらの成分を微量含有させることで、例えば有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層中における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。それにより、発光特性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。また、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂＞
　本発明の組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有する。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂とは、酸性基を有し、アルカリ現像液に対する溶解性を有する樹脂をいう。感光性組成物中の（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、後述する（Ｃ）感光剤によって、感光性組成物にポジ型又はネガ型の感光性が付与され、アルカリ現像液で現像することでポジ型又はネガ型のパターンを形成可能な溶解性を有する樹脂が好ましい。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は樹脂の構造単位中に酸性基を有することがより好ましい。

　本発明の組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有し、さらに、後述する硫黄元素を含む成分、硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、又はハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ、後述する硫黄元素、硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、及びハロゲンアニオンの含有量を特定範囲とすることで、低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び発光素子の高信頼性の効果を奏功する。このような構成とすることで、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が意図しない不純物を含有する場合であっても、それらの不純物による発光特性の高電圧駆動化及び発光素子の信頼性低下の抑制が可能となる。

　（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有させることで、感光性組成物の硬化膜は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の樹脂構造が導入されるため耐熱性が向上し、画素分割層等からのアウトガスが抑制される。その結果、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、フェノール性水酸基を有することが好ましく、樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有することがより好ましい。フェノール性水酸基を有する（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有させることで、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。

　（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、発光素子の信頼性向上の観点から、ラジカル重合性基を有することが好ましく、樹脂の構造単位中にラジカル重合性基を有することがより好ましい。ラジカル重合性基を有する（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有させることで、（メタ）アクリロイル基などのラジカル重合性基がラジカル重合した架橋構造が導入されるため、感光性組成物の硬化膜は架橋密度向上により耐熱性向上の効果が顕著となる。その結果、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ラジカル重合性基を有する樹脂及びラジカル重合性基を有しない樹脂を含有することが好ましい。ポジ型の感光性組成物の場合、ラジカル重合性基を有しない（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有させることで、感光性組成物中の二重結合基量を制御でき、感光性組成物中の二重結合基と後述する（Ｃ）感光剤が有する芳香環との相互作用により、アルカリ溶解性が向上すると推定される。一方、ネガ型の感光性組成物の場合、ラジカル重合性基を有しない（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を含有させることで、過度な光硬化が制御されるため残渣発生が抑制されると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンによる表面改質において、第１電極の表面における残渣発生による表面改質阻害を抑制できると考えられる。

　ラジカル重合性基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。ラジカル重合性基は、光反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び、炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上がより好ましい。光反応性基は、スチリル基、シンナモイル基、マレイミド基、ナジイミド基、又は（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。一方、炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数２～５のアルキニル基は、ビニル基、アリル基、２－メチル－２－プロペニル基、クロトニル基、２－メチル－２－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、２，３－ジメチル－２－ブテニル基、エチニル基、又は２－プロパルギル基が好ましく、ビニル基又はアリル基がより好ましい。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；（Ａ１）樹脂、（Ａ２）樹脂、及び（Ａ３）樹脂＞
　本発明の組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、以下の（Ａ１）樹脂及び／又は（Ａ３）樹脂を含有することが好ましい。
（Ａ１）樹脂：イミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及び、シロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造単位を有する樹脂
（Ａ３）樹脂：フェノール性水酸基を有する樹脂
（Ａ１）樹脂は、樹脂の構造単位中にイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造及びシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。（Ａ３）樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つにフェノール性水酸基を有することが好ましく、樹脂の構造単位中にフェノール性水酸基を有することがより好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。（Ａ１）樹脂及び（Ａ３）樹脂は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。加えて、（Ａ１）樹脂のイミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、若しくはシロキサン構造、又は、（Ａ３）樹脂の芳香環骨格の優れた耐熱性により、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　なお（Ａ１）樹脂、（Ａ３）樹脂、及び以下の（Ａ２）樹脂は、これらの中で、それぞれが、別の樹脂を構成する構造や基を有する場合は、以下の規則によりいずれかに分類するものとする。
（Ａ２）樹脂：ラジカル重合性基を有する樹脂
ある樹脂が（Ａ１）樹脂、（Ａ２）樹脂、（Ａ３）樹脂のうち、２つ以上に該当しうる場合は、以下のようにしていずれの樹脂に該当するか決定する。すなわち、イミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及び、シロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造単位（以下、単に「イミド構造等構造単位」という）を有し、かつ、ラジカル重合性基を有しない樹脂が、フェノール性水酸基を有する場合、当該樹脂は、（Ａ１）樹脂に該当するものとする。また、イミド構造等構造単位を有する樹脂が、ラジカル重合性基を有し、かつ、フェノール性水酸基を有しない場合、当該樹脂は（Ａ２）樹脂に該当するものとする。一方、イミド構造等構造単位を有さず、ラジカル重合性基を有する樹脂がフェノール性水酸基を有する場合、当該樹脂は（Ａ３）樹脂に該当するものとする。また、イミド構造等構造単位を有する樹脂が、ラジカル重合性基を有し、さらにフェノール性水酸基を有する場合、当該樹脂は（Ａ２）樹脂に該当するものとする。

　（Ａ１）樹脂を硬化した樹脂は、上述した画素分割層等中の（Ａ１－ＤＬ）樹脂であることが好ましい。（Ａ２）樹脂を硬化した樹脂は、上述した画素分割層等中の（Ａ２－ＤＬ）樹脂であることが好ましい。（Ａ３）樹脂を硬化した樹脂は、上述した画素分割層等中の（Ａ３－ＤＬ）樹脂であることが好ましい。

　（Ａ１）樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、以下の（Ａ１－１）樹脂、（Ａ１－２）樹脂、（Ａ１－３）樹脂、（Ａ１－４）樹脂、（Ａ１－５）樹脂、（Ａ１－６）樹脂、及び、（Ａ１－７）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ１）樹脂は、以下の（Ａ１－１）樹脂、（Ａ１－２）樹脂、（Ａ１－３）樹脂、（Ａ１－４）樹脂、（Ａ１－５）樹脂、及び、（Ａ１－６）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましく、（Ａ１－１）樹脂及び／又は（Ａ１－５）樹脂を含有することがさらに好ましい。（Ａ１）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
（Ａ１－１）樹脂：ポリイミド
（Ａ１－２）樹脂：ポリイミド前駆体
（Ａ１－３）樹脂：ポリベンゾオキサゾール
（Ａ１－４）樹脂：ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ａ１－５）樹脂：ポリアミドイミド
（Ａ１－６）樹脂：ポリアミドイミド前駆体
（Ａ１－７）樹脂：ポリシロキサン。

　（Ａ３）樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、以下の（Ａ３－１）樹脂、（Ａ３－２）樹脂、（Ａ３－３）樹脂、及び、（Ａ３－４）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ３）樹脂は、（Ａ３－１）樹脂及び／又は（Ａ３－３）樹脂を含有することがより好ましく、（Ａ３－１）樹脂を含有することがさらに好ましい。（Ａ３）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
（Ａ３－１）樹脂：フェノール樹脂
（Ａ３－２）樹脂：ポリヒドロキシスチレン
（Ａ３－３）樹脂：フェノール基含有エポキシ樹脂
（Ａ３－４）樹脂：フェノール基含有アクリル樹脂。

　（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、以下の（Ａ２）樹脂を含有することが好ましい。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、（Ａ１）樹脂及び／又は（Ａ３）樹脂を含有し、さらに以下の（Ａ２）樹脂を含有することがより好ましい。（Ａ）アルカリ可溶性樹脂は、（Ａ１）樹脂及び（Ａ２）樹脂を含有することがさらに好ましく、（Ａ１）樹脂、（Ａ３）樹脂、及び（Ａ２）樹脂を含有することが特に好ましい。
（Ａ２）樹脂：ラジカル重合性基を有する樹脂。

　このような構成とすることで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。（Ａ２）樹脂は、（メタ）アクリロイル基などのラジカル重合性基を有する樹脂である。（Ａ２）樹脂を含有させることで、感光性組成物の硬化膜は（メタ）アクリロイル基などのラジカル重合性基がラジカル重合した架橋構造が導入されるため、架橋密度を向上の効果が顕著となる。このような架橋構造の優れた耐熱性により、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　（Ａ２）樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、以下の（Ａ２－ａ）樹脂、（Ａ２－ｂ）樹脂、（Ａ２－ｃ）樹脂、（Ａ２－ｄ）樹脂、（Ａ２－ｅ）樹脂、（Ａ２－ｆ）樹脂、（Ａ２－ｇ）樹脂、（Ａ２－１）樹脂、（Ａ２－２）樹脂、及び、（Ａ２－３）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ａ２）樹脂は、（Ａ２－ａ）樹脂、（Ａ２－ｂ）樹脂、（Ａ２－ｃ）樹脂、（Ａ２－ｄ）樹脂、（Ａ２－ｅ）樹脂、（Ａ２－ｆ）樹脂、及び、（Ａ２－ｇ）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがより好ましく、（Ａ２－ａ）樹脂、（Ａ２－ｂ）樹脂、（Ａ２－ｃ）樹脂、（Ａ２－ｄ）樹脂、（Ａ２－ｅ）樹脂、及び、（Ａ２－ｆ）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することがさらに好ましい。
（Ａ２）樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ａ２－ａ）樹脂、（Ａ２－ｂ）樹脂、（Ａ２－ｃ）樹脂、（Ａ２－ｄ）樹脂、（Ａ２－ｅ）樹脂、（Ａ２－ｆ）樹脂、及び、（Ａ２－ｇ）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、さらに（Ａ２－１）樹脂、（Ａ２－２）樹脂、及び、（Ａ２－３）樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することもさらに好ましい。（Ａ２）樹脂は、単一の樹脂又はそれらの共重合体のいずれであっても構わない。
（Ａ２－ａ）樹脂：不飽和基含有ポリイミド
（Ａ２－ｂ）樹脂：不飽和基含有ポリイミド前駆体
（Ａ２－ｃ）樹脂：不飽和基含有ポリベンゾオキサゾール
（Ａ２－ｄ）樹脂：不飽和基含有ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ａ２－ｅ）樹脂：不飽和基含有ポリアミドイミド
（Ａ２－ｆ）樹脂：不飽和基含有ポリアミドイミド前駆体
（Ａ２－ｇ）樹脂：不飽和基含有ポリシロキサン
（Ａ２－１）樹脂：多環側鎖含有樹脂
（Ａ２－２）樹脂：酸変性エポキシ樹脂
（Ａ２－３）樹脂：アクリル樹脂。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；（Ａ３ａ）樹脂及び（Ａ３ｂ）樹脂＞
　本発明の組成物は、発光素子の信頼性向上の観点から、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、以下の（Ａ３ｂ）樹脂を含有することも好ましい。（Ａ３ｂ）樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つにフェノール性水酸基を有し、かつ、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つにラジカル重合性基を有することが好ましい。
（Ａ３ｂ）樹脂：（Ａ３）樹脂のうちフェノール性水酸基、及びラジカル重合性基を有する樹脂。

　（Ａ３ｂ）樹脂の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、５００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、７００ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、１，０００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、３，０００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、２，０００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、１，５００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、以下の（Ａ３ａ）樹脂を含有することも好ましい。（Ａ３ａ）樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つにフェノール性水酸基を有することが好ましい。
（Ａ３ａ）樹脂：（Ａ３）樹脂のうちフェノール性水酸基を有し、かつラジカル重合性基を有しない樹脂。

　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、（Ａ３ｂ）樹脂を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、さらに（Ａ３ａ）樹脂を含有することが好ましい。

　＜酸性基＞
　（Ａ１）樹脂及び（Ａ２）樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基を有する。さらに、（Ａ１）樹脂と、（Ａ２）樹脂のうち上記のイミド構造等構造単位を有する（Ａ２）樹脂は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、酸性基として以下の（ＷＡ）弱酸性基を有することが好ましく、フェノール性水酸基又はシラノール基を有することがより好ましく、フェノール性水酸基を有することがさらに好ましい。一方、（Ａ１）樹脂及び（Ａ２）樹脂は、現像後の残渣抑制の観点から、酸性基としてカルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はスルホン酸基を有することが好ましく、カルボキシ基又はカルボン酸無水物基を有することがより好ましい。（Ａ１）樹脂及び（Ａ２）樹脂は、酸性基として（ＷＡ）弱酸性基を有し、さらにカルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はスルホン酸基を有することも好ましい。
（ＷＡ）弱酸性基：フェノール性水酸基、ヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基、及び、メルカプト基からなる群より選ばれる一種類以上の基。

　（Ａ１）樹脂の酸当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、２００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、２５０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、３００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、酸当量は、現像後の残渣抑制、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、５００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、４５０ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　（Ａ２）樹脂の酸当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、３００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、３５０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、酸当量は、現像後の残渣抑制、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、７００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、６００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、５５０ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　（Ａ３）樹脂は、フェノール性水酸基を有する。（Ａ３）樹脂は、フェノール性水酸基を有する構造単位及びフェノール性水酸基を有する末端構造のうち少なくとも１つを有することが好ましい。また（Ａ３）樹脂は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、さらにヒドロキシイミド基、ヒドロキシアミド基、シラノール基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）メチロール基、又はメルカプト基を有することも好ましい。一方、（Ａ３）樹脂は、現像後の残渣抑制の観点から、さらにカルボキシ基、カルボン酸無水物基、又はスルホン酸基を有することが好ましく、カルボキシ基又はカルボン酸無水物基を有することがより好ましい。

　（Ａ３）樹脂の酸当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、７０ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、８０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、９０ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、酸当量は、現像後の残渣抑制、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、４５０ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、３５０ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、３００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；ポリイミド及びポリイミド前駆体＞
　以下、ポリイミドである（Ａ１－１）樹脂及び（Ａ２－ａ）樹脂について、まとめて記載する。同様に、ポリイミド前駆体である（Ａ１－２）樹脂及び（Ａ２－ｂ）樹脂について、まとめて記載する。ポリイミド前駆体としては、例えば、テトラカルボン酸又は対応するテトラカルボン酸二無水物などと、ジアミン又はジイソシアネート化合物などとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。また、ポリイミド前駆体の他の例としては、例えば、ポリアミド酸、ポリアミド酸エステル、ポリアミド酸アミド、又はポリイソイミドが挙げられる。ポリイミドとしては、例えば、ポリイミド前駆体を加熱又は触媒を用いた反応により、脱水閉環させることで得られる樹脂が挙げられる。ポリイミド及びポリイミド前駆体は、樹脂を合成する反応において、さらにジカルボン酸又は対応するジカルボン酸活性ジエステルなどを用いることで得られる、ポリアミドとの共重合体である樹脂であっても構わない。

　ポリイミドは、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（１）で表される構造単位を有することが好ましい。ポリイミド中の全構造単位に占める、一般式（１）で表される構造単位の含有比率は、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　ポリイミド前駆体は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（３）で表される構造単位を有することが好ましい。ポリイミド前駆体中の全構造単位に占める、一般式（３）で表される構造単位の含有比率は、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　一般式（１）及び一般式（３）において、Ｒ^１及びＲ^９は、それぞれ独立して、４～１０価の有機基を表す。Ｒ^２及びＲ^１０は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基を表す。Ｒ^３、Ｒ^４、及びＲ^１３は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は一般式（７）若しくは一般式（８）で表される置換基を表す。Ｒ^１１は、一般式（７）又は一般式（８）で表される置換基を表す。Ｒ^１２は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、又はメルカプト基を表す。ｐは０～６の整数を表す。ｑは０～８の整数を表す。ｔは２～８の整数を表し、ｕは０～６の整数を表し、２≦ｔ＋ｕ≦８である。ｖは０～８の整数を表す。

　一般式（１）及び一般式（３）において、Ｒ^１、Ｒ^９、Ｒ^２、及びＲ^１０は、それぞれ独立して、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、又は炭素数６～３０の芳香族構造を有することが好ましい。ただし、Ｒ^３又はＲ^４がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ^１又はＲ^２はその構造中に芳香族構造を含む。また、Ｒ^１２又はＲ^１３がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ^９又はＲ^１０はその構造中に芳香族構造を含む。ｑは１～８の整数が好ましい。ｖは１～８の整数が好ましい。Ｒ^１及びＲ^９は、カルボン酸残基と呼ばれる場合もある。Ｒ^２及びＲ^１０は、アミン残基と呼ばれる場合もある。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　一般式（７）及び一般式（８）において、Ｒ^２８～Ｒ^３０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～６のアシル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。一般式（７）及び一般式（８）において、Ｒ^２８～Ｒ^３０は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数２～４のアシル基、又は炭素数６～１０のアリール基が好ましい。上述したアルキル基、アシル基、及びアリール基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　ポリイミド前駆体としては、一般式（３）で表される構造単位におけるＲ^１１が、一般式（７）で表される置換基である場合において、Ｒ^２８が水素原子である構造単位をアミド酸構造単位という。一般式（３）で表される構造単位におけるＲ^１１が、一般式（７）で表される置換基である場合において、Ｒ^２８が炭素数１～１０のアルキル基、炭素数２～６のアシル基又は炭素数６～１５のアリール基である構造単位を、アミド酸エステル構造単位という。一般式（３）で表される構造単位におけるＲ^１１が、一般式（８）で表される置換基である場合の構造単位を、アミド酸アミド構造単位という。ポリイミド前駆体は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、アミド酸エステル構造単位及び／又はアミド酸アミド構造単位を有することが好ましい。アミド酸エステル構造単位及び／又はアミド酸アミド構造単位を有するポリイミド前駆体としては、カルボン酸残基に結合したカルボキシ基の一部を、エステル化及び／又はアミド化させることで得られる樹脂が挙げられる。またポリイミド前駆体は、アミド酸構造単位、アミド酸エステル構造単位、及びアミド酸アミド構造単位の一部がイミド閉環したイミド閉環構造単位を有しても構わない。アミド酸構造単位、アミド酸エステル構造単位、アミド酸アミド構造単位、又はイミド閉環構造単位の含有比率の合計に占める、アミド酸エステル構造単位及びアミド酸アミド構造単位の含有比率の合計は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、１０ｍｏｌ％以上が好ましく、３０ｍｏｌ％以上がより好ましく、５０ｍｏｌ％以上がさらに好ましい。一方、アミド酸エステル構造単位及びアミド酸アミド構造単位の含有比率の合計は、現像後の残渣抑制の観点から、１００ｍｏｌ％以下が好ましく、９０ｍｏｌ％以上がより好ましく、８０ｍｏｌ％以上がさらに好ましい。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；ポリベンゾオキサゾール前駆体及びポリベンゾオキサゾール＞
　以下、ポリベンゾオキサゾールである（Ａ１－３）樹脂及び（Ａ２－ｃ）樹脂について、まとめて記載する。同様に、ポリベンゾオキサゾール前駆体である（Ａ１－４）樹脂及び（Ａ２－ｄ）樹脂について、まとめて記載する。ポリベンゾオキサゾール前駆体としては、例えば、ジカルボン酸又は対応するジカルボン酸活性ジエステルなどと、ジアミンとしてビスアミノフェノール化合物などとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。また、ポリベンゾオキサゾール前駆体の他の例としては、例えば、ポリヒドロキシアミドが挙げられる。ポリベンゾオキサゾールとしては、例えば、ポリベンゾオキサゾール前駆体を加熱又は触媒を用いた反応により、脱水閉環させることで得られる樹脂が挙げられる。ポリベンゾオキサゾール及びポリベンゾオキサゾール前駆体は、樹脂を合成する反応において、さらにジアミン又はジイソシアネート化合物などを用いることで得られる、ポリアミドとの共重合体である樹脂であっても構わない。

　ポリベンゾオキサゾールは、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（２）で表される構造単位を有することが好ましい。ポリベンゾオキサゾール中の全構造単位に占める、一般式（２）で表される構造単位の含有比率は、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　ポリベンゾオキサゾール前駆体は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（４）で表される構造単位を有することが好ましい。ポリベンゾオキサゾール前駆体中の全構造単位に占める、一般式（４）で表される構造単位の含有比率は、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ^５及びＲ^１４は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基を表す。Ｒ^６及びＲ^１５は、それぞれ独立して、芳香族構造を有する４～１０価の有機基を表す。Ｒ^７、Ｒ^８、及びＲ^１６は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（７）若しくは一般式（８）で表される置換基を表す。Ｒ^１７はフェノール性水酸基を表す。Ｒ^１８は、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（７）若しくは一般式（８）で表される置換基を表す。ｒは０～８の整数を表す。ｓは０～６の整数を表す。ｗは０～８の整数を表す。ｘは２～８の整数を表し、ｙは０～６の整数を表し、２≦ｘ＋ｙ≦８である。

　一般式（２）及び一般式（４）において、Ｒ^５、Ｒ^１４、Ｒ^６、及びＲ^１５は、それぞれ独立して、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、又は炭素数６～３０の芳香族構造を有することが好ましい。ただし、Ｒ^７又はＲ^８がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ^５又はＲ^６はその構造中に芳香族構造を含む。また、Ｒ^１６がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ^１４はその構造中に芳香族構造を含む。また、Ｒ^１７と結合するＲ^１５はその構造中に芳香族構造を含む。ｓは１～６の整数が好ましい。Ｒ^５及びＲ^１４は、カルボン酸残基と呼ばれる場合もある。Ｒ^６及びＲ^１５は、アミン残基と呼ばれる場合もある。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；ポリアミドイミド及びポリアミドイミド前駆体＞
　以下、ポリアミドイミド又はポリアミドイミド前駆体である（Ａ１－５）樹脂、（Ａ１－６）樹脂、（Ａ２－ｅ）樹脂、及び（Ａ２－ｆ）樹脂について、まとめて記載する。ポリアミドイミド前駆体としては、例えば、トリカルボン酸又は対応するトリカルボン酸無水物などと、ジアミン又はジイソシアネート化合物などとを反応させることで得られる樹脂が挙げられる。ポリアミドイミドとしては、例えば、ポリアミドイミド前駆体を加熱又は触媒を用いた反応により、脱水閉環させることで得られる樹脂が挙げられる。ポリアミドイミド及びポリアミドイミド前駆体は、樹脂を合成する反応において、さらにジカルボン酸又は対応するジカルボン酸活性ジエステルなどを用いることで得られる、ポリアミドとの共重合体である樹脂であっても構わない。

　ポリアミドイミドは、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（５）で表される構造単位を有することが好ましい。ポリアミドイミド中の全構造単位に占める、一般式（５）で表される構造単位の含有比率は、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　ポリアミドイミド前駆体は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（６）で表される構造単位を有することが好ましい。ポリアミドイミド前駆体中の全構造単位に占める、一般式（６）で表される構造単位の含有比率は、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　一般式（５）及び一般式（６）において、Ｒ^１９及びＲ^２３は、それぞれ独立して、３～１０価の有機基を表す。Ｒ^２０及びＲ^２４は、それぞれ独立して、２～１０価の有機基を表す。Ｒ^２１、Ｒ^２２、及びＲ^２７は、それぞれ独立して、フェノール性水酸基、スルホン酸基、メルカプト基、又は上述した一般式（７）若しくは一般式（８）で表される置換基を表す。Ｒ^２５は、一般式（７）又は一般式（８）で表される置換基を表す。Ｒ^２６は、フェノール性水酸基、スルホン酸基、又はメルカプト基を表す。ｍは０～７の整数を表す。ｎは０～８の整数を表す。ａは０～７の整数を表す。ｂは０～８の整数を表す。

　一般式（５）及び一般式（６）において、Ｒ^１９、Ｒ^２３、Ｒ^２０、及びＲ^２４は、それぞれ独立して、炭素数２～２０の脂肪族構造、炭素数４～２０の脂環式構造、又は炭素数６～３０の芳香族構造を有することが好ましい。ただし、Ｒ^２１又はＲ^２２がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ^１９又はＲ^２０はその構造中に芳香族構造を含む。また、Ｒ^２６又はＲ^２７がフェノール性水酸基を表す場合、フェノール性水酸基と結合するＲ^２３又はＲ^２４はその構造中に芳香族構造を含む。ｎは１～８の整数が好ましい。ｂは１～８の整数が好ましい。Ｒ^１９及びＲ^２３は、カルボン酸残基と呼ばれる場合もある。Ｒ^２０及びＲ^２４は、アミン残基と呼ばれる場合もある。上述した脂肪族構造、脂環式構造、及び芳香族構造は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　＜フッ素原子を有する構造単位＞
　ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミドイミド、及びポリアミドイミド前駆体（以下、「ポリイミド系の樹脂」）は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、フッ素原子を有する構造単位を有することが好ましい。ここでいう露光とは、活性化学線（放射線）の照射のことであり、例えば、可視光線、紫外線、電子線、又はＸ線などの照射が挙げられる。以降、露光とは、活性化学線（放射線）の照射をいう。

　ポリイミド系の樹脂において、それぞれの樹脂の全構造単位のうち、カルボン酸に由来する構造単位又はカルボン酸誘導体に由来する構造単位にフッ素原子を有し、かつアミンに由来する構造単位又はアミン誘導体に由来する構造単位にフッ素原子を有する場合、それぞれの樹脂の全構造単位に占める、フッ素原子を有する構造単位の含有比率の合計は、１０～１００ｍｏｌ％が好ましく、３０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、５０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。なお、カルボン酸に由来する構造単位又はカルボン酸誘導体に由来する構造単位とは、テトラカルボン酸若しくは対応するテトラカルボン酸二無水物に由来する構造単位、ジカルボン酸若しくは対応するジカルボン酸活性ジエステルに由来する構造単位、又はトリカルボン酸若しくは対応するトリカルボン酸無水物に由来する構造単位を含む。また、アミンに由来する構造単位又はアミン誘導体に由来する構造単位とは、ジアミンに由来する構造単位、ジイソシアネート化合物に由来する構造単位、又はビスアミノフェノール化合物に由来する構造単位などを含む。

　また、それぞれの樹脂の全構造単位のうち、カルボン酸に由来する構造単位又はカルボン酸誘導体に由来する構造単位のみにフッ素原子を有する場合、全カルボン酸に由来する構造単位及び全カルボン酸誘導体に由来する構造単位の合計に占める、フッ素原子を有する構造単位の含有比率の合計は、１０～１００ｍｏｌ％が好ましく、３０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、５０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　一方、それぞれの樹脂の全構造単位のうち、アミンに由来する構造単位又はアミン誘導体に由来する構造単位のみにフッ素原子を有する場合、全アミンに由来する構造単位及び全アミン誘導体に由来する構造単位の合計に占める、フッ素原子を有する構造単位の含有比率の合計は、１０～１００ｍｏｌ％が好ましく、３０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、５０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　＜酸性基＞
　ポリイミド系の樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基を有する。これらの樹脂は、酸性基を有するカルボン酸に由来する構造単位又は酸性基を有するジアミンに由来する構造単位などの酸性基を有する構造単位、又は酸性基を有する末端構造を有することが好ましい。また、それぞれの樹脂が有する一部のヒドロキシ基などと、多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる樹脂も好ましく、それぞれの樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応により酸性基を導入した樹脂も好ましい。

　＜ラジカル重合性基＞
　（Ａ２）樹脂である（Ａ２－ａ）樹脂、（Ａ２－ｂ）樹脂、（Ａ２－ｃ）樹脂、（Ａ２－ｄ）樹脂、（Ａ２－ｅ）樹脂、及び（Ａ２－ｆ）樹脂（以下、「ポリイミド系の（Ａ２）樹脂」）は、ラジカル重合性基を有する。これらの（Ａ２）樹脂は、（Ａ１－１）樹脂、（Ａ１－２）樹脂、（Ａ１－３）樹脂、（Ａ１－４）樹脂、（Ａ１－５）樹脂、及び（Ａ１－６）樹脂（以下、「ポリイミド系の（Ａ１）樹脂」）において、それぞれの樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有する化合物とを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、それぞれの樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりラジカル重合性基を導入した樹脂も好ましい。ラジカル重合性基を有する化合物は、ラジカル重合性基を有する求電子性化合物が好ましい。求電子性化合物は、反応性及び化合物の利用性の観点から、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アルコール化合物、アルデヒド化合物、ケトン化合物、又はカルボン酸無水物が好ましく、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、又はアルコール化合物がより好ましい。

　上述したポリイミド系の（Ａ２）樹脂の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、５００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、７００ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、１，０００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、３，０００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、２，０００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、１，５００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　＜その他の構造単位、末端封止剤、及び分子量＞
　ポリイミド系の樹脂が有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族カルボン酸に由来する構造単位又は芳香族ジアミンに由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましい。また、パターン形状の低テーパー化の観点から、シリコーンジアミンに由来する構造単位などのシリル基若しくはシロキサン結合を有する構造単位、又はオキシアルキレンジアミンに由来する構造単位などのオキシアルキレン骨格を有する構造単位も好ましい。また、樹脂の末端が、モノアミン又はジカルボン酸無水物などの末端封止剤で封止された構造を有することも好ましい。ポリイミド系の樹脂は、露光時の感度向上の観点から、樹脂の末端に、樹脂などと反応可能な架橋性基又はラジカル重合性基を有することが好ましく、マレイミド基又はナジイミド基を有することがより好ましい。

　ポリイミド系の樹脂の重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」）は、発光素子の信頼性向上の観点から、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」）で測定されるポリスチレン換算で、１，０００以上が好ましく、３，０００以上がより好ましく、５，０００以上がさらに好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、１００，０００以下が好ましく、５０，０００以下がより好ましく、３０，０００以下がさらに好ましく、２０，０００以下が特に好ましい。ポリイミド系の樹脂は公知の方法で合成できる。それぞれの樹脂の合成に用いられるテトラカルボン酸、トリカルボン酸、ジカルボン酸、及びそれらの誘導体、並びに、ジアミン、ビスアミノフェノール化合物、モノアミン、及びそれらの誘導体としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号又は国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の化合物が挙げられる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；ポリシロキサン＞
　以下、ポリシロキサンである（Ａ１－７）樹脂及び（Ａ２－ｇ）樹脂について、まとめて記載する。ポリシロキサンとしては、例えば、三官能オルガノシラン、四官能オルガノシラン、二官能オルガノシラン、及び、一官能オルガノシランからなる群より選ばれる一種類以上を加水分解し、脱水縮合させて得られる樹脂が挙げられる。

　ポリシロキサンは、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（９）で表される三官能オルガノシラン単位及び／又は一般式（１０）で表される四官能オルガノシラン単位を有することが好ましい。

　一般式（９）において、Ｒ^４１は、水素原子又は１価の有機基を表す。一般式（９）及び一般式（１０）において、＊^１～＊^３は、それぞれ独立して、樹脂中の結合点を表す。一般式（９）において、Ｒ^４１は、水素原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数１～１０のハロゲン化アルキル基、炭素数４～１０のハロゲン化シクロアルキル基、又は炭素数６～１５のハロゲン化アリール基が好ましい。上述したアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化シクロアルキル基、及びハロゲン化アリール基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。

　ポリシロキサンに占める、一般式（９）で表される三官能オルガノシラン単位の含有比率は、Ｓｉ原子ｍｏｌ比で５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。三官能オルガノシラン単位は、現像後の残渣抑制の観点から、エポキシ基を有するオルガノシラン単位が好ましい。

　ポリシロキサンに占める、一般式（１０）で表される四官能オルガノシラン単位の含有比率は、現像後の残渣抑制の観点から、Ｓｉ原子ｍｏｌ比で１ｍｏｌ％以上が好ましく、５ｍｏｌ％以上がより好ましく、１０ｍｏｌ％以上がさらに好ましい。一方、一般式（１０）で表される四官能オルガノシラン単位の含有比率は、パターン形状の低テーパー化の観点から、Ｓｉ原子ｍｏｌ比で４０ｍｏｌ％以下が好ましく、３０ｍｏｌ％以下がより好ましく、２０ｍｏｌ％以下がさらに好ましい。

　＜酸性基＞
　ポリシロキサンは、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基としてシラノール基を有する。ポリシロキサンはシラノール基とは異なる酸性基を有することも好ましい。ポリシロキサンは、酸性基を有するオルガノシラン単位を有する樹脂が好ましい。また、樹脂が有する一部のヒドロキシ基などと、多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる樹脂も好ましく、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応により酸性基を導入した樹脂も好ましい。

　＜ラジカル重合性基＞
　（Ａ２）樹脂である（Ａ２－ｇ）樹脂は、ラジカル重合性基を有する。（Ａ２－ｇ）樹脂は、ラジカル重合性基を有するオルガノシラン単位を有する樹脂が好ましい。また、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有する化合物とを反応させて得られる樹脂も好ましく、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりラジカル重合性基を導入した樹脂も好ましい。（Ａ２－ｇ）樹脂の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、５００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、７００ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、１，０００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、３，０００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、２，０００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、１，５００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　＜その他の構造単位及び分子量＞
　ポリシロキサンが有する構造単位は、パターン形状の低テーパー化の観点から、二官能オルガノシラン単位又は一官能オルガノシラン単位も好ましい。また、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族基を有するオルガノシラン単位も好ましい。各オルガノシラン単位は、規則的な配列又は不規則的な配列のいずれであっても構わない。規則的な配列としては、例えば、交互共重合、周期的共重合、ブロック共重合、又はグラフト共重合などが挙げられる。不規則的な配列としては、例えば、ランダム共重合などが挙げられる。また、各オルガノシラン単位は、二次元的な配列又は三次元的な配列のいずれであっても構わない。二次元的な配列としては、例えば、直鎖状が挙げられる。三次元的な配列としては、例えば、梯子状、籠状、又は網目状などが挙げられる。

　ポリシロキサンのＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましく、１，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、１０，０００以下がより好ましい。ポリシロキサンは公知の方法で合成できる。オルガノシランとしては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号又は国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の化合物が挙げられる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；多環側鎖含有樹脂＞
　以下、多環側鎖含有樹脂である（Ａ２－１）樹脂について記載する。多環側鎖含有樹脂としては、例えば、以下の（１－ａ２－１）～（６－ａ２－１）で得られる樹脂が挙げられる。必要に応じて、いずれかの反応段階において多官能アルコール化合物をさらに反応させても構わない。
（１－ａ２－１）多官能フェノール化合物と多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる樹脂。
（２－ａ２－１）多官能フェノール化合物とエポキシ化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる樹脂。
（３－ａ２－１）環状骨格含有多官能アルコール化合物と多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる樹脂。
（４－ａ２－１）環状骨格含有多官能アルコール化合物とエポキシ化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる樹脂。
（５－ａ２－１）多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる樹脂。
（６－ａ２－１）多官能エポキシ化合物とカルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる樹脂。

　多環側鎖含有樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、縮合多環式構造を有する構造単位又は縮合多環式ヘテロ環構造を有する構造単位を有することが好ましい。縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造は、フルオレン構造、キサンテン構造、又はイソインドリノン構造が好ましい。

　＜酸性基＞
　多環側鎖含有樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基を有する。多環側鎖含有樹脂は、多官能カルボン酸化合物に由来する構造単位、多官能カルボン酸二無水物に由来する構造単位、及び酸性基を有する末端構造のうち少なくとも１つを有することが好ましい。また、樹脂が有する一部のヒドロキシ基などと、多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる樹脂も好ましく、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応により酸性基を導入した樹脂も好ましい。

　＜ラジカル重合性基＞
　（Ａ２）樹脂である（Ａ２－１）樹脂は、ラジカル重合性基を有する。（Ａ２－１）樹脂は、ラジカル重合性基を有するエポキシ化合物に由来する構造単位、ラジカル重合性基を有するカルボン酸化合物に由来する構造単位、及びラジカル重合性基を有する末端構造のうち少なくとも１つを有することが好ましい。また、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有する化合物とを反応させて得られる樹脂も好ましく、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりラジカル重合性基を導入した樹脂も好ましい。（Ａ２－１）樹脂の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、３００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、５００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、１，５００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、１，０００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、７００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　＜その他の構造単位、末端封止剤、及び分子量＞
　多環側鎖含有樹脂が有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族多官能カルボン酸化合物に由来する構造単位又は芳香族多官能カルボン酸二無水物に由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましい。また、樹脂の末端が、モノカルボン酸、ジカルボン酸無水物、又はトリカルボン酸無水物などの末端封止剤で封止された構造を有することも好ましい。

　多環側鎖含有樹脂のＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましく、１，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、１０，０００以下がより好ましい。多環側鎖含有樹脂は公知の方法で合成できる。フェノール化合物、アルコール化合物、エポキシ化合物、カルボン酸無水物、及びカルボン酸化合物としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号又は国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の化合物が挙げられる。

　多環側鎖含有樹脂としては、例えば、“ＡＤＥＫＡ　ＡＲＫＬＳ”（登録商標）　ＷＲ－１０１若しくは同　ＷＲ－３０１（以上、いずれもＡＤＥＫＡ社製）、又は“ＯＧＳＯＬ”（登録商標）　ＣＲ－１０３０（大阪ガスケミカル社製）が挙げられる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；酸変性エポキシ樹脂＞
　以下、酸変性エポキシ樹脂である（Ａ２－２）樹脂について記載する。酸変性エポキシ樹脂としては、例えば、以下の（１－ａ２－２）～（２－ａ２－２）で得られる樹脂が挙げられる。必要に応じて、いずれかの反応段階において多官能アルコール化合物をさらに反応させても構わない。
（１－ａ２－２）多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、エポキシ化合物を反応させて得られる樹脂。
（２－ａ２－２）多官能エポキシ化合物とカルボン酸化合物とを反応させて得られる化合物に、多官能カルボン酸二無水物を反応させて得られる樹脂。

　酸変性エポキシ樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、縮合多環式構造を有する構造単位、縮合多環式ヘテロ環構造を有する構造単位、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造を有する構造単位、又は、少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造を有する構造単位、を有することが好ましい。縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造は、ナフタレン構造、フルオレン構造、又はキサンテン構造が好ましい。脂環式骨格は、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造が好ましい。少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造は、ビフェニル構造が好ましい。

　＜酸性基＞
　酸変性エポキシ樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基を有する。酸変性エポキシ樹脂は、多官能カルボン酸化合物に由来する構造単位、多官能カルボン酸二無水物に由来する構造単位、及び酸性基を有する末端構造のうち少なくとも１つを有することが好ましい。酸変性エポキシ樹脂を製造する方法としては、例えば、多官能エポキシ化合物と多官能カルボン酸化合物との反応により、樹脂中にカルボキシ基を有する樹脂を得る方法や、多官能エポキシ化合物とカルボン酸化合物とを反応させた後、樹脂中の一部のヒドロキシ基と多官能カルボン酸二無水物を反応させる方法が挙げられる。また、酸変性エポキシ樹脂を製造する別の方法としては、例えば、酸性基を有さない樹脂に酸性基を導入する方法が挙げられる。より具体的には、例えば、樹脂が有する一部のヒドロキシ基などと、多官能カルボン酸二無水物とを反応させる方法や、カルボキシ基を有さない樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応により酸性基を導入する方法などが挙げられる。

　＜ラジカル重合性基＞
　（Ａ２）樹脂である（Ａ２－２）樹脂は、ラジカル重合性基を有する。（Ａ２－２）樹脂は、ラジカル重合性基を有するエポキシ化合物に由来する構造単位、ラジカル重合性基を有するカルボン酸化合物に由来する構造単位、及びラジカル重合性基を有する末端構造のうち少なくとも１つを有することが好ましい。また、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有する化合物とを反応させて得られる樹脂も好ましく、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりラジカル重合性基を導入した樹脂も好ましい。（Ａ２－２）樹脂の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、３００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、５００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、１，５００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、１，０００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、７００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　＜その他の構造単位、末端封止剤、及び分子量＞
　酸変性エポキシ樹脂が有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族多官能カルボン酸化合物に由来する構造単位又は芳香族多官能カルボン酸二無水物に由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましい。また、樹脂の末端が、モノカルボン酸、ジカルボン酸無水物、又はトリカルボン酸無水物などの末端封止剤で封止された構造を有することも好ましい。

　酸変性エポキシ樹脂のＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましく、１，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。酸変性エポキシ樹脂は公知の方法で合成できる。エポキシ化合物、カルボン酸無水物、及びカルボン酸化合物としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号又は国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の化合物が挙げられる。

　酸変性エポキシ樹脂としては、例えば、“ＫＡＹＡＲＡＤ”（登録商標）　ＰＣＲ－１２２２Ｈ、同　ＣＣＲ－１１７１Ｈ、同　ＴＣＲ－１３４８Ｈ、同　ＺＡＲ－１４９４Ｈ、同　ＺＦＲ－１４０１Ｈ、同　ＺＣＲ－１７９８Ｈ、同　ＺＸＲ－１８０７Ｈ、同　ＺＣＲ－６００２Ｈ、又は同　ＺＣＲ－８００１Ｈ（以上、いずれも日本化薬社製）が挙げられる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；アクリル樹脂＞
　以下、アクリル樹脂である（Ａ２－３）樹脂について記載する。アクリル樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸誘導体、（メタ）アクリル酸エステル誘導体、スチレン誘導体、及び、その他の共重合成分からなる群より選ばれる一種類以上をラジカル共重合させて得られる樹脂が挙げられる。

　＜酸性基＞
　アクリル樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基を有する。アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸誘導体に由来する構造単位、又は酸性基を有する末端構造を有することが好ましい。また、樹脂が有する一部のヒドロキシ基などと、多官能カルボン酸二無水物とを反応させて得られる樹脂も好ましく、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応により酸性基を導入した樹脂も好ましい。

　＜ラジカル重合性基＞
　（Ａ２）樹脂である（Ａ２－３）樹脂は、ラジカル重合性基を有する。（Ａ２－３）樹脂は、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有するエポキシ化合物などとを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂が有するエポキシ基などと、ラジカル重合性基を有するカルボン酸化合物などとを反応させて得られる樹脂も好ましい。また、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりラジカル重合性基を導入した樹脂も好ましい。（Ａ２－３）樹脂の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、５００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、７００ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、１，０００ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、４，０００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、３，０００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、２，０００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましく、１，５００ｇ／ｍｏｌ以下が特に好ましい。

　＜その他の構造単位及び分子量＞
　アクリル樹脂が有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する構造単位又はスチレン誘導体に由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましく、脂環式（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する構造単位などの脂環式基を有する構造単位も好ましい。

　アクリル樹脂のＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、１，０００以上が好ましく、３，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。アクリル樹脂は公知の方法で合成できる。（メタ）アクリル酸誘導体、（メタ）アクリル酸エステル誘導体、スチレン誘導体、及びその他の共重合成分としては、例えば、国際公開第２０１７／０５７２８１号又は国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の化合物が挙げられる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；フェノール樹脂＞
　以下、フェノール樹脂である（Ａ３－１）樹脂について記載する。フェノール樹脂としては、例えば、フェノール化合物などと、アルデヒド化合物、ケトン化合物、アルコキシメチル化合物、及び、メチロール化合物からなる群より選ばれる一種類以上とを反応させて得られる樹脂が挙げられる。フェノール樹脂は、ノボラック樹脂及び／又はレゾール樹脂を含有することが好ましい。ノボラック樹脂とは、酸触媒下にて反応させて得られる樹脂をいう。レゾール樹脂とは、塩基触媒下にて反応させて得られる樹脂をいう。（Ａ３－１）樹脂を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。

　フェノール樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、一般式（３１）、（３２）、（３３）、（３４）、（３５）、（３８）、（３９）及び（４０）のいずれかで表される構造単位を有する樹脂からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。

　一般式（３１）～（３５）において、Ｘ^３１～Ｘ^３７は、それぞれ独立して、炭素数１～２の脂肪族構造を表す。Ｙ^３３は、炭素数１～１０のアルキレン基を表す。Ｙ^３５は、直接結合、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数１～６のアルキリデン基、炭素数１～６のハロゲン化アルキレン基、炭素数１～６のハロゲン化アルキリデン基、芳香族基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造、又は少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造を表す。Ｒ^７１～Ｒ^８２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、炭素数１～１０のアシル基、カルボキシ基、アミノ基、又は環を形成する基を表す。環を形成する基によって連結する環は、単環式又は縮合多環式の炭化水素環を表す。Ｒ^８３～Ｒ^８８は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、又はヒドロキシ基を表す。ａは１～４の整数を表す。ｂは１～５の整数を表す。ｍは０～３の整数を表す。ｎは０～４の整数を表す。ｃは１～４の整数を表す。ｏ及びｐは、それぞれ独立して、０～３の整数を表す。ｑは０～４の整数を表す。ｄは１～４の整数を表す。ｒ及びｓは、それぞれ独立して、０～３の整数を表す。ｔは０～４の整数を表す。ｅは１～４の整数を表す。ｆ、ｇ、ｖ、及びｗは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。ｕは０～３の整数を表す。ｈは１～３の整数を表す。ｘは０～２の整数を表す。ｙ及びｚは、それぞれ独立して、０又は１を表す。α、β、γ、δ、ε、及びζは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。＊^１及び＊^２は、それぞれ独立して、樹脂中の結合点を表す。

　一般式（３１）～（３５）において、Ｙ^３５は、芳香族基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造、又は少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造が好ましく、縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造がより好ましい。上述した脂肪族構造、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、環を形成する基、アルキレン基、アルキリデン基、芳香族基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格、及び脂環式骨格は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。環を形成する基によって形成される縮合多環式の炭化水素環は、ナフタレン環、アントラセン環、ピレン環、インダン環、インデン環、テトラヒドロナフタレン環、フルオレン環、キサンテン環、又はイソインドリノン環が好ましい。

　一般式（３８）～（４０）において、Ｚ^３１～Ｚ^３４は、それぞれ独立して、炭素数１～２の脂肪族構造を表す。Ｗ^３２は、芳香族基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造、又は少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造を表す。Ｗ^３４は、直接結合、炭素数１～６のアルキレン基、炭素数１～６のアルキリデン基、炭素数１～６のハロゲン化アルキレン基、炭素数１～６のハロゲン化アルキリデン基、芳香族基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造、又は少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造を表す。Ｒ^９１～Ｒ^９６は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、炭素数１～１０のアシル基、カルボキシ基、アミノ基、又は環を形成する基を表す。環を形成する基によって連結する環は、単環式又は縮合多環式の炭化水素環を表す。Ｒ^９７～Ｒ^９９は、それぞれ独立して、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、又はヒドロキシ基を表す。ａは１～４の整数を表す。ｍは０～３の整数を表す。ｎは０～５の整数を表す。ｂは１～４の整数を表す。ｏは０～３の整数を表す。ｐは０～１０の整数を表す。ただしＷ^３２の価数をＸとすると、０≦ｐ≦（Ｘ－２）である。ｃ及びｄは、それぞれ独立して、１～４の整数を表す。ｑ及びｒは、それぞれ独立して、０～３の整数を表す。α、β、及びγは、それぞれ独立して、０～４の整数を表す。

　一般式（３８）～（４０）において、Ｗ^３２は、縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造が好ましい。Ｗ^３４は、芳香族基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造、又は少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造が好ましく、縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造がより好ましい。上述した脂肪族構造、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アシル基、環を形成する基、アルキレン基、アルキリデン基、芳香族基、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格、及び脂環式骨格は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。環を形成する基によって形成される縮合多環式の炭化水素環は、ナフタレン環、アントラセン環、ピレン環、インダン環、インデン環、テトラヒドロナフタレン環、フルオレン環、キサンテン環、又はイソインドリノン環が好ましい。

　フェノール樹脂の全構造単位に占める、上述した一般式（３１）で表される構造単位、一般式（３２）で表される構造単位、一般式（３４）で表される構造単位、一般式（３５）で表される構造単位、又は一般式（３８）で表される構造単位の含有比率は、５０ｍｏｌ％以上が好ましく、６０ｍｏｌ％以上がより好ましく、７０ｍｏｌ％以上がさらに好ましい。一方、上述した一般式（３１）で表される構造単位、一般式（３２）で表される構造単位、一般式（３４）で表される構造単位、一般式（３５）で表される構造単位、又は一般式（３８）で表される構造単位の含有比率は、１００ｍｏｌ％以下が好ましく、９０ｍｏｌ％以下がより好ましい。

　フェノール樹脂の全構造単位に占める、上述した一般式（３３）で表される構造単位、一般式（３９）で表される構造単位、又は一般式（４０）で表される構造単位の含有比率は、５ｍｏｌ％以上が好ましく、１０ｍｏｌ％以上がより好ましく、１５ｍｏｌ％以上がさらに好ましく、２０ｍｏｌ％以上が特に好ましい。一方、上述した一般式（３３）で表される構造単位、一般式（３９）で表される構造単位、又は一般式（４０）で表される構造単位の含有比率は、７０ｍｏｌ％以下が好ましく、６０ｍｏｌ％以下がより好ましく、５０ｍｏｌ％以下がさらに好ましい。

　フェノール樹脂は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、一般式（３６）で表される構造単位を有することも好ましい。フェノール樹脂の全構造単位に占める、一般式（３６）で表される構造単位の含有比率は、５０～１００ｍｏｌ％が好ましく、６０～１００ｍｏｌ％がより好ましく、７０～１００ｍｏｌ％がさらに好ましい。

　一般式（３６）において、Ｘ^３８は、炭素数１～６の脂肪族構造を表す。Ｒ^８９は、ハロゲン原子、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数２～１０のアルケニル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数２～１０のアルケニルオキシ基、炭素数１～１０のアシル基、カルボキシ基、アミノ基、又は環を形成する基を表す。環を形成する基によって連結する環は、単環式又は縮合多環式の炭化水素環を表す。Ｒ^９０は、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数４～１０のシクロアルキル基、又は炭素数６～１５のアリール基を表す。ａは１～４の整数を表す。ｂは０～３の整数を表す。αは０～４の整数を表す。上述した脂肪族構造、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基、アシル基、環を形成する基、及びアルキレン基は、ヘテロ原子を有してもよく、無置換体又は置換体のいずれであっても構わない。環を形成する基によって形成される縮合多環式の炭化水素環は、ナフタレン環、アントラセン環、ピレン環、インダン環、インデン環、テトラヒドロナフタレン環、フルオレン環、キサンテン環、又はイソインドリノン環が好ましい。

　＜酸性基＞
　フェノール樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基としてフェノール性水酸基を有する。フェノール樹脂は、フェノール化合物と、アルデヒド化合物、アルコキシメチル化合物、及び、メチロール化合物からなる群より選ばれる一種類以上とを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりフェノール性水酸基を導入した樹脂も好ましい。なお、カルボキシ基及び／又はカルボン酸無水物基を有しても構わない。例えば、樹脂が有するフェノール性水酸基とカルボン酸無水物とを反応させて得られる樹脂、又はフェノール化合物としてカルボキシ基及び／又はカルボン酸無水物基を有するフェノール化合物を反応させて得られる樹脂が挙げられる。

　＜ラジカル重合性基＞
　フェノール樹脂は、以下の（Ａ３ｂ－１）樹脂を含有することが好ましい。（Ａ３ｂ－１）樹脂は、少なくとも１つのラジカル重合性基を有する（Ａ３ｂ）樹脂である。
（Ａ３ｂ－１）樹脂：不飽和基含有フェノール樹脂。

　（Ａ３ｂ－１）樹脂は、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有するエポキシ化合物などとを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりラジカル重合性基を導入した樹脂も好ましい。なお、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が（Ａ３ｂ－１）樹脂を含有する場合、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、さらに以下の（Ａ３ａ－１）樹脂を含有することが好ましい。不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。（Ａ３ａ－１）樹脂は、ラジカル重合性基を有しない（Ａ３ａ）樹脂である。
（Ａ３ａ－１）樹脂：不飽和基を有しないフェノール樹脂。

　＜その他の構造単位及び分子量＞
　フェノール樹脂が有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族アルデヒド化合物に由来する構造単位又は芳香族ケトン化合物に由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましく、脂環式アルデヒド化合物に由来する構造単位、脂環式ケトン化合物に由来する構造単位、脂環式アルコキシメチル化合物に由来する構造単位、又は脂環式メチロール化合物に由来する構造単位などの脂環式基を有する構造単位も好ましい。

　フェノール樹脂のＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましく、１，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、３０，０００以下がより好ましく、１０，０００以下がさらに好ましく、５，０００以下がさらにより好ましく、３，０００以下が特に好ましい。フェノール樹脂は公知の方法で合成できる。フェノール化合物、アルデヒド化合物、ケトン化合物、アルコキシメチル化合物、及びメチロール化合物としては、例えば、国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の化合物が挙げられる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；ポリヒドロキシスチレン＞
　以下、ポリヒドロキシスチレンである（Ａ３－２）樹脂について記載する。ポリヒドロキシスチレンとしては、例えば、ヒドロキシスチレン誘導体などと、スチレン誘導体及び／又はその他の共重合成分とをラジカル共重合させて得られる樹脂が挙げられる。その他の共重合成分としては、（メタ）アクリル酸誘導体又は（メタ）アクリル酸エステル誘導体などが挙げられる。（Ａ３－２）樹脂を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。

　＜酸性基＞
　ポリヒドロキシスチレンは、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基としてフェノール性水酸基を有する。ポリヒドロキシスチレンは、少なくともヒドロキシスチレン誘導体を含む共重合成分をラジカル共重合させて得られる樹脂が好ましい。また、さらにエポキシ基などの反応性基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含む共重合成分をラジカル共重合させて得られた樹脂において、樹脂が有するエポキシ基などと、カルボキシ基を有するフェノール化合物などとを反応させて得られる樹脂も好ましく、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりフェノール性水酸基を導入した樹脂も好ましい。なお、カルボキシ基及び／又はカルボン酸無水物基を有しても構わない。例えば、樹脂が有するフェノール性水酸基とカルボン酸無水物とを反応させて得られる樹脂、又はその他の共重合成分としてカルボキシ基及び／又はカルボン酸無水物基を有する共重合成分を反応させて得られる樹脂が挙げられる。

　＜ラジカル重合性基＞
　ポリヒドロキシスチレンは、以下の（Ａ３ｂ－２）樹脂を含有することが好ましい。（Ａ３ｂ－２）樹脂は、少なくとも１つのラジカル重合性基を有する（Ａ３ｂ）樹脂である。
（Ａ３ｂ－２）樹脂：不飽和基含有ポリヒドロキシスチレン。

　（Ａ３ｂ－２）樹脂は、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有するエポキシ化合物などとを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂が有するエポキシ基などと、ラジカル重合性基を有するカルボン酸化合物などとを反応させて得られる樹脂も好ましい。なお、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が（Ａ３ｂ－２）樹脂を含有する場合、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、さらに以下の（Ａ３ａ－２）樹脂を含有することが好ましい。不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。（Ａ３ａ－２）樹脂は、ラジカル重合性基を有しない（Ａ３ａ）樹脂である。
（Ａ３ａ－２）樹脂：不飽和基を有しないポリヒドロキシスチレン。

　＜その他の構造単位及び分子量＞
　ポリヒドロキシスチレンが有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましく、脂環式（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する構造単位などの脂環式基を有する構造単位も好ましい。

　ポリヒドロキシスチレンのＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましく、１，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。ポリヒドロキシスチレンは公知の方法で合成できる。ヒドロキシスチレン誘導体、スチレン誘導体、及びその他の共重合成分としては、例えば、国際公開第２０１７／１５９８７６号に記載の化合物が挙げられる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；フェノール基含有エポキシ樹脂＞
　以下、フェノール基含有エポキシ樹脂である（Ａ３－３）樹脂について記載する。フェノール基含有エポキシ樹脂としては、例えば、以下の（１－ａ３－３）～（２－ａ３－３）で得られる樹脂が挙げられる。必要に応じて、いずれかの反応段階において多官能アルコール化合物をさらに反応させても構わない。フェノール基含有エポキシ樹脂は、樹脂の構造単位中に環状骨格を有する。（Ａ３－３）樹脂を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。なお、フェノール基含有エポキシ樹脂は、フェノール基変性エポキシ樹脂と表記される場合もある。
（１－ａ３－３）多官能エポキシ化合物と、エポキシ反応性基を有するフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂。
（２－ａ３－３）上述した（１－ａ３－３）の樹脂に、さらに多官能カルボン酸二無水物又は多官能カルボン酸化合物を反応させて得られる樹脂。

　フェノール基含有エポキシ樹脂は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、縮合多環式構造を有する構造単位、縮合多環式ヘテロ環構造を有する構造単位、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造を有する構造単位、又は、少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造を有する構造単位、を有することが好ましい。縮合多環式構造又は縮合多環式ヘテロ環構造は、ナフタレン構造、フルオレン構造、又はキサンテン構造が好ましい。脂環式骨格は、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造が好ましい。少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造は、ビフェニル構造が好ましい。

　＜酸性基＞
　フェノール基含有エポキシ樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基としてフェノール性水酸基を有する。フェノール基含有エポキシ樹脂は、多官能エポキシ化合物などと、カルボキシ基を有するフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりフェノール性水酸基を導入した樹脂も好ましい。なお、カルボキシ基及び／又はカルボン酸無水物基を有しても構わない。例えば、樹脂が有するヒドロキシ基とカルボン酸無水物とを反応させて得られる樹脂が挙げられる。

　＜ラジカル重合性基＞
　フェノール基含有エポキシ樹脂は、以下の（Ａ３ｂ－３）樹脂を含有することが好ましい。（Ａ３ｂ－３）樹脂は、少なくとも１つのラジカル重合性基を有する（Ａ３ｂ）樹脂である。
（Ａ３ｂ－３）樹脂：不飽和基含有フェノール基含有エポキシ樹脂。

　（Ａ３ｂ－３）樹脂は、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有するエポキシ化合物などとを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂が有するエポキシ基などと、ラジカル重合性基を有するカルボン酸化合物などとを反応させて得られる樹脂も好ましい。なお、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が（Ａ３ｂ－３）樹脂を含有する場合、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、さらに以下の（Ａ３ａ－３）樹脂を含有することが好ましい。不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。（Ａ３ａ－３）樹脂は、ラジカル重合性基を有しない（Ａ３ａ）樹脂である。
（Ａ３ａ－３）樹脂：不飽和基を有しないフェノール基含有エポキシ樹脂。

　＜その他の構造単位及び分子量＞
　フェノール基含有エポキシ樹脂が有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族多官能カルボン酸化合物に由来する構造単位又は芳香族多官能カルボン酸二無水物に由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましい。

　フェノール基含有エポキシ樹脂のＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、５００以上が好ましく、１，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。フェノール基含有エポキシ樹脂は公知の方法で合成できる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂；フェノール基含有アクリル樹脂＞
　以下、フェノール基含有アクリル樹脂である（Ａ３－４）樹脂について記載する。フェノール基含有アクリル樹脂としては、例えば、以下の（１－ａ３－４）～（５－ａ３－４）で得られる樹脂が挙げられる。（Ａ３－４）樹脂を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。なお、フェノール基含有アクリル樹脂は、フェノール基変性アクリル樹脂と表記される場合もある。
（１－ａ３－４）（メタ）アクリル酸誘導体、（メタ）アクリル酸エステル誘導体、スチレン誘導体、及び、その他の共重合成分からなる群より選ばれる一種類以上をラジカル共重合させて得られる樹脂に、さらに付加反応性基を有するフェノール化合物を反応させて得られる樹脂。
（２－ａ３－４）上述した（１－ａ３－４）の樹脂に、さらに多官能カルボン酸二無水物又は多官能カルボン酸化合物を反応させて得られる樹脂。
（３－ａ３－４）フェノール性水酸基を有する共重合成分、並びに、（メタ）アクリル酸誘導体、（メタ）アクリル酸エステル誘導体、スチレン誘導体、及び、その他の共重合成分からなる群より選ばれる一種類以上をラジカル共重合させて得られる樹脂。ここでフェノール性水酸基を有する共重合成分は、ヒドロキシスチレン誘導体とはとは別の共重合成分である。
（４－ａ３－４）上述した（３－ａ３－４）樹脂に、さらに付加反応性基を有するフェノール化合物を反応させて得られる樹脂。
（５－ａ３－４）上述した（４－ａ３－４）の樹脂に、さらに多官能カルボン酸二無水物又は多官能カルボン酸化合物を反応させて得られる樹脂。

　＜酸性基＞
　フェノール基含有アクリル樹脂は、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに酸性基としてフェノール性水酸基を有する。フェノール基含有アクリル樹脂は、エポキシ基などの反応性基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含む共重合成分をラジカル共重合させて得られた樹脂において、樹脂が有するエポキシ基などと、カルボキシ基を有するフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂の主鎖、樹脂の側鎖及び樹脂の末端のうち少なくとも１つに、触媒を用いた反応によりフェノール性水酸基を導入した樹脂も好ましい。なお、カルボキシ基及び／又はカルボン酸無水物基を有しても構わない。例えば、樹脂が有するヒドロキシ基とカルボン酸無水物とを反応させて得られる樹脂が挙げられる。

　＜ラジカル重合性基＞
　フェノール基含有アクリル樹脂は、以下の（Ａ３ｂ－４）樹脂を含有することが好ましい。（Ａ３ｂ－４）樹脂は、少なくとも１つのラジカル重合性基を有する（Ａ３ｂ）樹脂である。
（Ａ３ｂ－４）樹脂：不飽和基含有フェノール基含有アクリル樹脂。

　（Ａ３ｂ－４）樹脂は、樹脂が有する一部の酸性基などと、ラジカル重合性基を有するエポキシ化合物などとを反応させて得られる樹脂が好ましい。また、樹脂が有するエポキシ基などと、ラジカル重合性基を有するカルボン酸化合物などとを反応させて得られる樹脂も好ましい。なお、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が（Ａ３ｂ－４）樹脂を含有する場合、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、さらに以下の（Ａ３ａ－４）樹脂を含有することが好ましい。不飽和基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。（Ａ３ａ－４）樹脂は、ラジカル重合性基を有しない（Ａ３ａ）樹脂である。
（Ａ３ａ－４）樹脂：不飽和基を有しないフェノール基含有アクリル樹脂。

　＜その他の構造単位及び分子量＞
　フェノール基含有アクリル樹脂が有する構造単位は、発光素子の信頼性向上の観点から、芳香族（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する構造単位又はスチレン誘導体に由来する構造単位などの芳香族基を有する構造単位も好ましく、脂環式（メタ）アクリル酸エステル誘導体に由来する構造単位などの脂環式基を有する構造単位も好ましい。

　フェノール基含有アクリル樹脂のＭｗは、発光素子の信頼性向上の観点から、ＧＰＣで測定されるポリスチレン換算で、１，０００以上が好ましく、３，０００以上がより好ましい。一方、Ｍｗは、現像後の残渣抑制、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、５０，０００以下が好ましく、２０，０００以下がより好ましい。フェノール基含有アクリル樹脂は公知の方法で合成できる。

　＜（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有比率＞
　本発明の組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計１００質量％に占める、（Ａ１）樹脂の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上がさらにより好ましく、３５質量％以上が特に好ましい。一方、（Ａ１）樹脂の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の観点から、１００質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下がさらに好ましく、７５質量％以下がさらにより好ましく、７０質量％以下が特により好ましい。

　本発明の組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計１００質量％に占める、（Ａ２）樹脂の含有比率の合計は、発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましく、２０質量％以上がさらにより好ましく、２５質量％以上が特に好ましい。一方、（Ａ２）樹脂の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、９５質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、７５質量％以下がさらに好ましく、７０質量％以下がさらにより好ましく、６５質量％以下が特に好ましい。

　本発明の組成物において、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の合計１００質量％に占める、（Ａ３）樹脂の含有比率の合計は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、１５質量％以上がさらにより好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ａ３）樹脂の含有比率の合計は、発光素子の信頼性向上の観点から、９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７０質量％以下がさらに好ましく、６５質量％以下がさらにより好ましく、６０質量％以下が特に好ましい。

　溶剤を除く、本発明の組成物の全固形分中に占める（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有比率は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、２５質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有比率は、発光素子の信頼性向上の観点から、７５質量％以下が好ましく、６５質量％以下がより好ましく、５５質量％以下がさらに好ましい。また、本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）ラジカル重合性化合物の合計を１００質量部とした場合において、２５質量部以上が好ましく、３５質量部以上がより好ましく、４５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の含有量は、８５質量部以下が好ましく、８０質量部以下がより好ましく、７５質量部以下がさらに好ましい。なお組成物の全固形分とは、組成物中の溶剤を除く全ての成分の質量の合計をいう。また固形分濃度は、組成物１ｇを１５０℃で３０分間加熱して蒸発乾固させ、加熱後に残存した質量を測定し、加熱前後の質量から算出される固形分濃度として算出できる。

　＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物＞
　本発明の組成物は、さらに、（Ｂ）ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ）化合物」）を含有することが好ましい。（Ｂ）化合物とはラジカル重合性基を有する化合物をいい、少なくとも２つのラジカル重合性基を有する化合物が好ましい。ラジカル重合性基に関する例示及び好ましい記載は、上記の（Ａ）アルカリ可溶性樹脂における記載の通りである。（Ｂ）化合物を含有させることで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。感光性組成物の硬化膜は、（Ｂ）化合物が有する（メタ）アクリロイル基などのラジカル重合性基がラジカル重合した架橋構造が導入されるため架橋密度向上により耐熱性向上の効果が顕著となる。その結果、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　ラジカル重合性基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。感光性組成物がネガ型の感光性を有する場合、パターニング露光時、後述する（Ｃ１）光重合開始剤から発生するラジカルによって（Ｂ）化合物のラジカル重合が進行し、感光性組成物の膜の露光部がアルカリ現像液に対して不溶化することで、ネガ型のパターン形成の効果が顕著となる。また、露光時の光硬化が促進され、露光時の感度向上の効果が顕著となる。一方、感光性組成物がポジ型の感光性を有する場合、パターニング露光時の未露光部において、現像後露光時又は熱硬化時に（Ｂ）化合物のラジカル重合が進行し、感光性組成物の膜の架橋度が向上することで、熱硬化後のパターン形状制御の効果が顕著となる。（Ｂ）化合物のラジカル重合性基は、ラジカル重合が進行しやすい観点から、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。

　（Ｂ）化合物は、後述する（Ｂ１）疎水性骨格含有ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ１）化合物」）、（Ｂ２）柔軟骨格含有ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ２）化合物」）、及び、（Ｂ３）環状骨格含有ラジカル重合性化合物（以下、「（Ｂ３）化合物」）からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ｂ）化合物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｂ１）化合物及び／又は（Ｂ３）化合物を含有し、さらに（Ｂ２）化合物を含有することがより好ましい。

　（Ｂ）化合物の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、８０ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、９０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上の観点から、８００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、６００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましい。

　本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ｂ）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上及び現像後の残渣抑制の観点から、１５質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましく、２５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｂ）化合物の含有量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点、並びに、発光素子の信頼性向上の観点から、７５質量部以下が好ましく、６５質量部以下がより好ましく、５５質量部以下がさらに好ましい。

　＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物；（Ｂ１）化合物＞
　本発明の組成物は、（Ｂ）化合物を含み、（Ｂ）化合物が、（Ｂ１）化合物を含有し、（Ｂ１）化合物が、以下の（Ｉ－ｂ１）構造及び（ＩＩ－ｂ１）構造を有し、（ＩＩ－ｂ１）構造を少なくとも２つ有することが好ましい。
（Ｉ－ｂ１）構造：フルオレン構造、インダン構造、縮合多環脂環式構造、インドリノン構造、及び、イソインドリノン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造
（ＩＩ－ｂ１）構造：ラジカル重合性基を有する有機基を含む構造。

　ラジカル重合性基は、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。（Ｂ１）化合物を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｂ１）化合物は、露光時の感度向上、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、（Ｉ－ｂ１）構造、（ＩＩ－ｂ１）構造、並びに、以下の（ＩＩＩ－ｂ１）構造又は（ＩＶ－ｂ１）構造を有することがより好ましい。
（ＩＩＩ－ｂ１）構造：アルキレンカルボニル基、オキシアルキレンカルボニル基、又は、アミノアルキレンカルボニル基を含む構造。
（ＩＶ－ｂ１）構造：ヒドロキシ基を含むアルキレン基、又は、ヒドロキシ基を含むオキシアルキレン基、を含む構造。

　（Ｂ１）化合物が有する（ＩＩＩ－ｂ１）構造又は（ＩＶ－ｂ１）構造の数の合計は、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、（ＩＩＩ－ｂ１）構造又は（ＩＶ－ｂ１）構造の数の合計は、１０個以下が好ましく、８個以下がより好ましく、６個以下がさらに好ましい。（Ｂ１）化合物は、（ＩＩＩ－ｂ１）構造を有することが好ましい。（ＩＩＩ－ｂ１）構造は、ラクトン化合物に由来する構造又はラクタム化合物に由来する構造が好ましい。

　（Ｂ１）化合物の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、１５０ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、１９０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましい。一方、二重結合当量は、現像後の残渣抑制の観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましい。

　本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ｂ１）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましい。一方、（Ｂ１）化合物の含有量は、現像後の残渣抑制の観点から、２５質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。

　＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物；（Ｂ２）化合物＞
　本発明の組成物は、（Ｂ）化合物を含み、（Ｂ）化合物が、（Ｂ２）化合物を含有し、（Ｂ２）化合物が、以下の（Ｉ－ｂ２）構造、（ＩＩ－ｂ２）構造、及び（ＩＩＩ－ｂ２）構造を有し、（ＩＩ－ｂ２）構造を少なくとも２つ有することが好ましい。
（Ｉ－ｂ２）構造：少なくとも２つのヒドロキシ基を有する化合物に由来する構造
（ＩＩ－ｂ２）構造：ラジカル重合性基を有する有機基、を含む構造
（ＩＩＩ－ｂ２）構造：アルキレン基、オキシアルキレン基、ヒドロキシ基を含むアルキレン基、ヒドロキシ基を含むオキシアルキレン基、アルキレンカルボニル基、オキシアルキレンカルボニル基、又は、アミノアルキレンカルボニル基、を含む構造。

　ラジカル重合性基は、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。（Ｂ２）化合物を含有させることで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｂ２）化合物において、（Ｉ－ｂ２）構造は、露光時の感度向上、現像後の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、以下の（Ｉ－ｂ２ｘ）構造がより好ましい。
（Ｉ－ｂ２ｘ）構造：脂肪族多官能アルコールに由来する構造、脂環式構造、及び、ヘテロ脂環式構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造。

　（Ｂ２）化合物は、露光時の感度向上、現像後の残渣抑制、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、以下の（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）構造を有することがより好ましい。
（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）構造：アルキレンカルボニル基、オキシアルキレンカルボニル基、又は、アミノアルキレンカルボニル基、を含む構造。

　（Ｂ２）化合物が有する（ＩＩＩ－ｂ２）構造の数、及び（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）構造の数の合計は、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、（ＩＩＩ－ｂ２）構造の数、及び（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）構造の数の合計は、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましい。アルキレン基、オキシアルキレン基、ヒドロキシ基を含むアルキレン基、及びヒドロキシ基を含むオキシアルキレン基は、エポキシ化合物に由来する構造又はアルキレングリコールに由来する構造が好ましい。（Ｂ２）化合物は、（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）構造を有することが好ましい。（ＩＩＩ－ｂ２ｘ）構造は、ラクトン化合物に由来する構造又はラクタム化合物に由来する構造が好ましい。

　（Ｂ２）化合物が有するラジカル重合性基数は、露光時の感度向上、現像後の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、ラジカル重合性基数は、ハーフトーン特性向上及びパターン形状の低テーパー化の観点から、１２個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、８個以下がさらに好ましい。また、（Ｂ２）化合物の二重結合当量は、ハーフトーン特性向上及びパターン形状の低テーパー化の観点から、１００ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、１２０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましい。一方、二重結合当量は、露光時の感度向上、現像後の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましい。（Ｂ２）化合物は、露光時の感度向上、現像後の残渣抑制、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、少なくとも３つの（ＩＩ－ｂ２）構造を有する化合物、及び２つの（ＩＩ－ｂ２）構造を有する化合物を含有することがより好ましい。

　本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ｂ２）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、露光時の感度向上、現像後の残渣抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、１０質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましい。一方、（Ｂ２）化合物の含有量は、ハーフトーン特性向上、及びパターン形状の低テーパー化の観点から、４０質量部以下が好ましく、３５質量部以下がより好ましい。

　＜（Ｂ）ラジカル重合性化合物；（Ｂ３）化合物＞
　本発明の組成物は、（Ｂ）化合物を含み、（Ｂ）化合物が、（Ｂ３）化合物を含有し、（Ｂ３）化合物が、以下の（Ｉ－ｂ３）構造及び（ＩＩ－ｂ３）構造を有し、（ＩＩ－ｂ３）構造を少なくとも２つ有することが好ましい。
（Ｉ－ｂ３）構造：脂環式構造及び／又はヘテロ脂環式構造を含む構造
（ＩＩ－ｂ３）構造：ラジカル重合性基を有する有機基を含む構造。

　（Ｂ３）化合物は、（Ｂ１）化合物及び（Ｂ２）化合物とは異なる化合物である。なお、（Ｂ１）化合物及び（Ｂ２）化合物の両方に該当する化合物は、（Ｂ１）化合物に含まれるものとする。ラジカル重合性基は、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。（Ｂ３）化合物を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｂ３）化合物は、現像後の残渣抑制、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、上述した（Ｉ－ｂ３）構造が、窒素原子を少なくとも２つ有する環状構造を含む構造であることが好ましい。窒素原子を少なくとも２つ有する環状構造は、イソシアヌル酸構造及び／又はトリアジン構造が好ましい。

　（Ｂ３）化合物の二重結合当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制及びハーフトーン特性向上の観点から、１５０ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、１９０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましい。一方、二重結合当量は、現像後の残渣抑制の観点から、６００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、４００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましい。

　本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ｂ３）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましい。一方、（Ｂ３）化合物の含有量は、現像後の残渣抑制の観点から、２５質量部以下が好ましく、２０質量部以下がより好ましい。

　＜（Ｃ）感光剤＞
　本発明の感光性組成物は、（Ｃ）感光剤を含有する。（Ｃ）感光剤とは、露光によって結合開裂、反応、又は構造変化して別の化合物を発生させることで、感光性組成物にポジ型又はネガ型の感光性を付与する化合物をいう。

　本発明の感光性組成物は、（Ｃ）感光剤を含有し、さらに、後述する硫黄元素を含む成分、硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、又はハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ、後述する硫黄元素、硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、及びハロゲンアニオンの含有量を特定範囲とすることで、低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び発光素子の高信頼性の効果を奏功する。このような構成とすることで、（Ｃ）感光剤が意図しない不純物を含有する場合であっても、それらの不純物による発光特性の高電圧駆動化及び発光素子の信頼性低下の抑制が可能となる。

　（Ｃ）感光剤を含有させることで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。感光性組成物の硬化膜は、（Ｃ）感光剤の熱硬化時の架橋構造が導入されるため架橋密度向上により耐熱性向上の効果が顕著となる。その結果、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　（Ｃ）感光剤は、（Ｃ１）光重合開始剤（以下、「（Ｃ１）化合物」）、（Ｃ２）ナフトキノンジアジド化合物（以下、「（Ｃ２）化合物」）、及び、（Ｃ３）光酸発生剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。感光性組成物にネガ型の感光性を付与する場合、（Ｃ１）化合物を含有することが好ましく、さらに、（Ｃ２）化合物及び／又は（Ｃ３）光酸発生剤を含有することがより好ましい。感光性組成物にポジ型の感光性を付与する場合、（Ｃ２）化合物を含有することが好ましく、さらに、（Ｃ１）化合物及び／又は（Ｃ３）光酸発生剤を含有することがより好ましい。

　溶剤を除く、本発明の感光性組成物の全固形分中に占める（Ｃ）感光剤の含有比率は、露光時の感度向上の観点から、０．３質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましく、２．０質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ）感光剤の含有比率は、現像後の残渣抑制の観点から、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。

　＜（Ｃ）感光剤；（Ｃ１）化合物＞
　（Ｃ１）化合物とは、露光によって結合開裂及び／又は反応してラジカルを発生する化合物をいう。（Ｃ１）化合物を含有することが、ネガ型のパターン形成に好適である。露光時、（Ｃ１）化合物から発生するラジカルが僅かな量であっても、上述した（Ｂ）化合物などのラジカル重合が連鎖的に進行するため、低露光量の光でのネガ型のパターン形成に好適であり、露光時の感度向上の効果が顕著となる。（Ｃ１）化合物を含有させることで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。感光性組成物の硬化膜は、（Ｃ１）化合物が（メタ）アクリロイル基などのラジカル重合性基のラジカル重合を促進し、架橋構造が導入されるため架橋密度向上により耐熱性向上の効果が顕著となる。その結果、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　（Ｃ１）化合物は、ベンジルケタール系化合物、α－ヒドロキシケトン系化合物、α－アミノケトン系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシムエステル系化合物、アクリジン系化合物、チタノセン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、芳香族ケトエステル系化合物、又は安息香酸エステル系化合物が好ましく、露光時の感度向上の観点から、α－ヒドロキシケトン系化合物、α－アミノケトン系化合物、アシルホスフィンオキシド系化合物、ビイミダゾール系化合物、又はオキシムエステル系化合物がより好ましく、露光時の感度向上、ハーフトーン特性向上、及び現像後の残渣抑制の観点から、オキシムエステル系化合物がさらに好ましい。

　溶剤を除く、本発明の感光性組成物の全固形分中に占める（Ｃ１）化合物の含有比率は、露光時の感度向上の観点から、０．３質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましく、２．０質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ１）化合物の含有比率は、現像後の残渣抑制の観点から、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。また、本発明の感光性組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の感光性組成物に占める（Ｃ１）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、１質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ１）化合物の含有量は、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。

　＜（Ｃ）感光剤；（Ｃ１－１）化合物＞
　本発明の感光性組成物は、（Ｃ１）化合物が、（Ｃ１－１）オキシムエステル系化合物（以下、「（Ｃ１－１）化合物」）を含有することが好ましい。（Ｃ１－１）化合物とは、露光によって結合開裂及び／又は反応してラジカルを発生する骨格として、オキシムエステル構造を有する化合物をいう。（Ｃ１－１）化合物を含有させることで、露光時の感度向上、ハーフトーン特性向上、及び現像後の残渣抑制の効果が顕著となる。本発明の感光性組成物は、露光時の感度向上、ハーフトーン特性向上、及び現像後の残渣抑制の観点から、（Ｃ１）化合物が、（Ｃ１－１）化合物を含有し、さらに、上述した（Ｂ）化合物を含有することが好ましい。（Ｃ１－１）化合物は、露光時の光に対する吸光度が高いため、高効率的なラジカル発生に好適であり、（Ｂ）化合物のラジカル重合の反応速度向上が顕著となる。

　（Ｃ１－１）化合物は、縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、又はジフェニルスルフィド構造を有することが好ましい。（Ｃ１－１）化合物は、縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、又はジフェニルスルフィド構造に、少なくとも１つのオキシムエステル構造が結合した構造（α－オキシム構造）、又は少なくとも１つのオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造（すなわち、カルボニル構造を介してオキシムエステル構造が結合した構造；β－オキシム構造）を有することが好ましく、少なくとも１つのオキシムエステル構造が結合した構造を有することがより好ましい。縮合多環式構造は、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、インデン構造、インダン構造、ベンゾインデン構造、又はベンゾインダン構造が好ましく、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、又はジベンゾフルオレン構造がより好ましい。縮合多環式ヘテロ環構造は、カルバゾール構造、ジベンゾフラン構造、ジベンゾチオフェン構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、インドリン構造、ベンゾインドール構造、ベンゾインドリン構造、フェノチアジン構造、又はフェノチアジンオキシド構造が好ましく、カルバゾール構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、又はベンゾインドール構造がより好ましい。（Ｃ１－１）化合物は、露光時の感度向上、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、ベンゾインドール構造、フェノチアジン構造、又はフェノチアジンオキシド構造を有することが好ましい。

　（Ｃ１－１）化合物は、露光時の感度向上、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、ニトロ基、ナフチルカルボニル構造、トリメチルベンゾイル構造、チオフェニルカルボニル構造、フリルカルボニル構造、少なくとも２つのオキシムエステル構造、及び少なくとも２つのオキシムエステルカルボニル構造（以下、「（Ｃ１－１）化合物が有する特定の置換基」）からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。中でも、縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、又はジフェニルスルフィド構造に、（Ｃ１－１）化合物が有する特定の置換基が結合した構造を有することが好ましく、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、又はジベンゾフルオレン構造に、（Ｃ１－１）化合物が有する特定の置換基が結合した構造を有することがより好ましい。

　（Ｃ１－１）化合物が、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、又はジベンゾフルオレン構造を有することで、（Ｃ１－１）化合物がフォトブリーチング性を有するため、露光時の感度向上、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の効果が顕著となる。フォトブリーチング性とは、露光によって結合開裂及び／又は反応することで、紫外領域の波長（例えば、４００ｎｍ以下）の吸光度及び／又は可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）の吸光度が低下することをいう。同様に、フォトブリーチング性を有する観点から、（Ｃ１－１）化合物は、ジフェニルスルフィド構造、インドール構造、ベンゾインドール構造、フェノチアジン構造、又はフェノチアジンオキシド構造を有することも好ましく、縮合多環式構造又は縮合多環式へテロ環構造に、少なくとも１つのオキシムエステルカルボニル構造が結合した構造を有することも好ましい。

　（Ｃ１－１）化合物は、露光時の感度向上、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、ハロゲン原子で置換された基を有することが好ましく、フッ素原子で置換された基を有することがより好ましい。上述した（Ａ）アルカリ可溶性樹脂がハロゲン原子を有する構造単位を有する場合、樹脂と光重合開始剤との相溶性向上により、膜表面から膜深部における光硬化が促進されるためと推測される。なお、上述したポリイミド系の樹脂は、上述したフッ素原子を有する構造単位を有することが好ましい。ハロゲン原子で置換された基は、トリフルオロメチル基、トリフルオロプロピル基、トリクロロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、フルオロシクロペンチル基、フルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロプロポキシ基、テトラフルオロプロポキシ基、又はペンタフルオロフェノキシ基が好ましい。

　（Ｃ１－１）化合物は、露光時の感度向上、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、ラジカル重合性基を有することが好ましい。ラジカル重合性基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。ラジカル重合性基は、光反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び、炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上がより好ましい。光反応性基は、スチリル基、シンナモイル基、マレイミド基、ナジイミド基、又は（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。一方、炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数２～５のアルキニル基は、ビニル基、アリル基、２－メチル－２－プロペニル基、クロトニル基、２－メチル－２－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、２，３－ジメチル－２－ブテニル基、エチニル基、又は２－プロパルギル基が好ましく、ビニル基又はアリル基がより好ましい。中でも、縮合多環式構造、縮合多環式へテロ環構造、又はジフェニルスルフィド構造に、ラジカル重合性基が結合した構造を有することが好ましい。

　溶剤を除く、本発明の感光性組成物の全固形分中に占める（Ｃ１－１）化合物の好ましい含有比率は、上述した（Ｃ１）化合物の好ましい含有比率の通りである。また、本発明の感光性組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の感光性組成物に占める（Ｃ１－１）化合物の好ましい含有量は、上述した（Ｃ１）化合物の好ましい含有量の通りである。（Ｃ１）化合物に由来する構造を有する化合物が、上述した画素分割層等中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物であることが好ましい。（Ｃ１－１）化合物に由来する構造を有する化合物が、上述した画素分割層等中の（Ｃ１－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物であることが好ましい。

　＜（Ｃ）感光剤；（Ｃ２）化合物＞
　（Ｃ２）化合物とは、露光によって構造変化してインデンカルボン酸及び／又はスルホインデンカルボン酸を発生する化合物をいう。露光時、（Ｃ２）化合物が構造変化した酸性化合物により、感光性組成物の膜の露光部がアルカリ現像液に対して可溶化することで、ポジ型のパターン形成の効果が顕著となる。また、露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が選択的に向上し、現像後の解像度向上の効果が顕著となる。一方、本発明の感光性組成物がネガ型の感光性を有する場合、（Ｃ）感光剤が、上述した（Ｃ１）化合物及び（Ｃ２）化合物を含有することで、現像後における狭マスクバイアス抑制、ハーフトーン特性向上、現像時のパターン形状変化抑制、及びパターン形状の低テーパー化の効果が顕著となる。

　（Ｃ２）化合物は、フェノール性水酸基を有する化合物の１，２－ナフトキノンジアジド－５－スルホン酸エステル体又は１，２－ナフトキノンジアジド－４－スルホン酸エステル体が好ましい。（Ｃ２）化合物を製造する方法としては、例えば、フェノール性水酸基を有する化合物と、ナフトキノンジアジドスルホン酸とをエステル化反応させる方法や、フェノール性水酸基を有する化合物と、ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドとをエステル化反応させる方法などが挙げられる。ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドは、１，２－ナフトキノンジアジド－５－スルホン酸クロリド又は１，２－ナフトキノンジアジド－４－スルホン酸クロリドが好ましい。

　溶剤を除く、本発明の感光性組成物の全固形分中に占める（Ｃ２）化合物の含有比率は、露光時の感度向上の観点から、０．３質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましく、２．０質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ１）化合物の含有比率は、現像後の残渣抑制の観点から、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。また、本発明の感光性組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の感光性組成物に占める（Ｃ２）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、１質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｃ２）化合物の含有量は、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。（Ｃ２）化合物に由来する構造を有する化合物が、上述した画素分割層等中の（Ｃ２－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物であることが好ましい。

　＜（Ｃ）感光剤；（Ｃ３）光酸発生剤＞
　（Ｃ３）光酸発生剤とは、露光によって結合開裂及び／又は反応して酸を発生する化合物をいう。露光時、（Ｃ３）光酸発生剤から発生する酸が僅かな量であっても、カチオン重合性化合物のカチオン重合、及び／又は、後述する（Ｇ）架橋剤などと樹脂との架橋が連鎖的に進行するため、低露光量でのネガ型のパターン形成に好適である。（Ｃ）感光剤が、上述した（Ｃ１）化合物及び（Ｃ３）光酸発生剤を含有することも好ましい。一方、（Ｃ）感光剤が上述した（Ｃ２）化合物及び（Ｃ３）光酸発生剤を含有する場合、現像後露光時に（Ｃ３）光酸発生剤から酸を発生できる。発生した酸により、その後の熱硬化時における後述する（Ｃ）架橋剤などと樹脂との架橋を促進できるため、硬化膜の耐熱性向上及び硬化膜の耐薬品性向上の効果が顕著となる。

　（Ｃ３）光酸発生剤としては、例えば、イオン性化合物又は非イオン性化合物が挙げられる。イオン性化合物は、トリオルガノスルホニウム塩系化合物が好ましい。非イオン性化合物は、ハロゲン含有化合物、ジアゾメタン化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、カルボン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、リン酸エステル化合物、又はスルホンベンゾトリアゾール化合物が好ましい。溶剤を除く、本発明の感光性組成物の全固形分中に占める（Ｃ３）化合物の好ましい含有比率は、上述した（Ｃ）感光剤の好ましい含有比率の通りである。

　＜（Ｄ）着色剤；（Ｄａ）黒色剤＞
　本発明の組成物は、（Ｄ）着色剤を含有する。（Ｄ）着色剤とは、可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）の光を吸収することで着色させる化合物をいう。（Ｄ）着色剤を含有させることで、組成物の膜を透過する光又は組成物の膜から反射する光を所望の色に着色できる。また、組成物の膜に遮光性を付与できる。

　本発明の組成物は、（Ｄ）着色剤を含有し、さらに、後述する硫黄元素を含む成分、硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、又はハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ、後述する硫黄元素、硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、及びハロゲンアニオンの含有量を特定範囲とすることで、低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び発光素子の高信頼性の効果を奏功する。このような構成とすることで、（Ｄ）着色剤が意図しない不純物を含有する場合であっても、それらの不純物による発光特性の高電圧駆動化及び発光素子の信頼性低下の抑制が可能となる。

　（Ｄ）着色剤を含有させることで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。感光性組成物の硬化膜は、（Ｄ）着色剤が入射した外光を遮光できるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。また可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、画素分割層等からのアウトガスが抑制される。その結果、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｄ）着色剤は、顔料又は染料が好ましい。顔料とは、対象物の表面に物理吸着又は相互作用等をして着色させる化合物をいい、一般に溶剤等に不溶である。染料とは、対象物の表面構造に化学吸着等をして着色させる化合物をいい、一般に溶剤等に可溶である。特に、可視光線の遮光性が必要な場合、（Ｄ）着色剤は、（Ｄａ）黒色剤及び／又は二色以上の着色剤混合物を含むことが好ましい。

　（Ｄａ）黒色剤とは、可視光線の波長の光を吸収することで黒色化させる化合物をいう。（Ｄａ）黒色剤を含有させることで、組成物の膜の遮光性向上及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。（Ｄａ）黒色剤を含有する組成物の膜は、外光反射抑制による高コントラスト化、隣接画素からの光漏れ防止、又はＴＦＴの誤作動防止などが要求される用途に好適であり、画素分割層、スペーサ層、ブラックマトリックス層、ＴＦＴ平坦化層、ＴＦＴ保護層、及び層間絶縁層に特に好適である。二色以上の着色剤混合物は、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の着色剤を含むことが好ましい。二色以上の着色剤混合物は、二色以上の着色剤により可視光線の波長の光を吸収することで擬似的に黒色に着色させる混合物であることがより好ましい。本発明の組成物は、（Ｄａ）黒色剤を含有し、さらに、（Ｄｂ）黒色以外の着色剤を含有しても構わない。（Ｄｂ）黒色以外の着色剤を含有させることで、組成物の膜を所望の色座標に調色できる。（Ｄ）着色剤は、上述した画素分割層等中の（Ｄ－ＤＬ）着色剤であることが好ましい。

　（Ｄ）着色剤における黒色とは、Ｃｏｌｏｕｒ　Ｉｎｄｅｘ　Ｇｅｎｅｒｉｃ　Ｎａｍｅ（以下、「Ｃ．Ｉ．ナンバー」）に“ＢＬＡＣＫ”が含まれるものをいう。Ｃ．Ｉ．ナンバーが付与されていないものを含有するときは、硬化膜とした場合に黒色であるものをいう。硬化膜とした場合における黒色とは、（Ｄ）着色剤を含有する組成物の硬化膜の透過スペクトルにおいて、波長５５０ｎｍにおける膜厚１．０μｍあたりの透過率をランベルト・ベールの式に基づいて、波長５５０ｎｍにおける透過率が１０％となるように膜厚を０．１～１．５μｍの範囲内で換算した場合に、換算後の透過スペクトルにおける波長４５０～６５０ｎｍにおける透過率が２５％以下であることをいう。硬化膜の透過スペクトルは、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０２８５］に記載の方法に基づき、求めることができる。

　顔料の一次粒子径及び平均一次粒子径は２０～１５０ｎｍであることが好ましい。顔料の一次粒子径及び平均一次粒子径は、発光素子の信頼性向上の観点から、２０ｎｍ以上が好ましく、３０ｎｍ以上がより好ましく、４０ｎｍ以上がさらに好ましく、５０ｎｍ以上がさらにより好ましく、６０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、顔料の一次粒子径及び平均一次粒子径は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、１５０ｎｍ以下が好ましく、１２０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下がさらに好ましく、９０ｎｍ以下がさらにより好ましく、８０ｎｍ以下が特に好ましい。顔料の一次粒子径とは、顔料の一次粒子における長軸径をいう。顔料分散液中の顔料の平均一次粒子径の好ましい範囲は、上記の顔料の一次粒子径及び平均一次粒子径の好ましい範囲の通りである。

　顔料の一次粒子径は、硬化膜を薄く割断したものを測定試料として、イオンミリング処理により研磨して平滑性を高めた断面について、透過型電子顕微鏡（以下、「ＴＥＭ」）を用いて硬化膜の表面から深さ方向に０．２～０．８μｍの範囲に位置する箇所を倍率５０，０００倍の条件で観測した撮像を、画像解析式粒度分布測定ソフトウェア（Ｍａｃ－Ｖｉｅｗ；ＭＯＵＮＴＥＣＨ社製）を用いて測定できる。また顔料の平均一次粒子径は、測定試料の断面を撮像及び解析し、顔料の一次粒子３０個を測定した平均値として算出できる。さらに、透過型電子顕微鏡－エネルギー分散型Ｘ線分光法（以下、「ＴＥＭ－ＥＤＸ」）で観測することで粒子を構成する元素を判別できる。なお、顔料分散液中の顔料の平均一次粒子径は、動的光散乱法により粒度分布を測定することで求めることができる。

　溶剤を除く、本発明の組成物の全固形分中に占める（Ｄ）着色剤の含有比率は、遮光性向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｄ）着色剤の含有比率は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、７０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。本発明の組成物において、（Ｄａ）黒色剤の好ましい含有比率は、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。

　＜（Ｄ）着色剤；黒色顔料、二色以上の着色顔料混合物、黒色染料、及び二色以上の着色染料混合物＞
　本発明の組成物は、（Ｄ）着色剤が、黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有し、
黒色顔料が、有機黒色顔料を含み、有機黒色顔料が、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及び、アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
二色以上の着色顔料混合物が、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含むことが好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。これらの顔料は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する、第１電極の発光層側の表面における導電性向上を促進すると推定される。そのため、発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また画素分割層等の可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、画素分割層等からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｄａ）黒色剤は、黒色顔料を含有することが好ましい。黒色顔料は、有機黒色顔料及び／又は無機黒色顔料を含有することが好ましく、有機黒色顔料を含有することがより好ましい。二色以上の着色剤混合物は、二色以上の着色顔料混合物を含有することが好ましい。二色以上の着色顔料混合物は、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含むことが好ましい。二色以上の着色顔料混合物は、青色顔料、赤色顔料、及び黄色顔料を含む着色顔料混合物；青色顔料、赤色顔料、及び橙色顔料を含む着色顔料混合物；青色顔料、紫色顔料、及び橙色顔料を含む着色顔料混合物、又は、紫色顔料及び黄色顔料を含む着色顔料混合物がより好ましい。二色以上の着色顔料混合物は、アントラキノン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、ペリレン系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、イミダゾロン系顔料、キナクリドン系顔料、ピランスロン系顔料、フタロシアニン系顔料、インダントロン系顔料、及び、ジオキサジン系顔料からなる群より選ばれる一種類以上の顔料を含むことが好ましく、ペリレン系顔料、イミダゾロン系顔料、及び、インダントロン系顔料からなる群より選ばれる一種類以上の顔料を含むことがより好ましい。本発明の組成物において、黒色顔料及び二色以上の着色顔料混合物の好ましい含有比率は、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。

　本発明の組成物は、（Ｄ）着色剤が、黒色染料及び／又は二色以上の着色染料混合物を含有し、黒色染料が、アゾ系黒色染料を含み、二色以上の着色染料混合物が、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の染料を含み、
二色以上の着色染料混合物が、スクアリリウム系染料、キサンテン系染料、トリアリールメタン系染料、及び、フタロシアニン系染料からなる群より選ばれる一種類以上の染料を含むことが好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。これらの染料は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する、第１電極の発光層側の表面における導電性向上を促進すると推定される。そのため、発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また画素分割層等の可視光線の波長及び紫外領域の波長における遮光性向上により、画素分割層等からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｄａ）黒色剤は、黒色染料を含有することが好ましい。黒色染料は、金属元素を含む黒色染料及び／又は金属元素を含まない黒色染料を含有することが好ましく、金属元素を含まない黒色染料を含有することがより好ましい。黒色染料は、アゾ系黒色染料が好ましい。黒色染料は、ソルベントブラック２７～４７が好ましく、ソルベントブラック２７、２９、又は３４がより好ましい（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。黒色染料としては、例えば、ＶＡＬＩＦＡＳＴ（登録商標）　Ｂｌａｃｋ　３８０４（ソルベントブラック３４）、同　３８１０（ソルベントブラック２９）、同　３８２０（ソルベントブラック２７）、同　３８３０（ソルベントブラック２７）、ＮＵＢＩＡＮ（登録商標）　Ｂｌａｃｋ　ＴＮ－８７０（ソルベントブラック７）（以上、いずれもオリエント化学工業（株）製）が挙げられる。二色以上の着色剤混合物は、二色以上の着色染料混合物を含有することが好ましい。二色以上の着色染料混合物は、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の染料を含むことが好ましい。二色以上の着色染料混合物は、青色染料、赤色染料、及び黄色染料を含む着色染料混合物；青色染料、赤色染料、及び橙色染料を含む着色染料混合物；青色染料、紫色染料、及び橙色染料を含む着色染料混合物、又は、紫色染料及び黄色染料含む着色染料合物がより好ましい。二色以上の着色染料混合物は、スクアリリウム系染料、キサンテン系染料、トリアリールメタン系染料、及び、フタロシアニン系染料からなる群より選ばれる一種類以上の染料を含むことが好ましく、キサンテン系染料及び／又はトリアリールメタン系染料を含むことがより好ましく、キサンテン系染料を含むことがさらに好ましい。本発明の組成物において、黒色染料及び二色以上の着色染料混合物の好ましい含有比率は、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。

　（Ｄａ）黒色剤が黒色顔料を含有し、さらに、黒色以外の顔料及び／又は黒色以外の染料を含有することも好ましい。（Ｄａ）黒色剤が黒色染料を含有し、さらに、黒色以外の顔料及び／又は黒色以外の染料を含有することも好ましい。黒色以外の顔料は、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる一色以上の顔料を含むことが好ましく、二色以上の顔料を含むことがより好ましい。黒色以外の染料は、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる一色以上の染料を含むことが好ましく、二色以上の染料を含むことがより好ましい。

　＜（Ｄ）着色剤；有機黒色顔料及び無機黒色顔料＞
　有機黒色顔料としては、例えば、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、アゾ系黒色顔料、アントラキノン系黒色顔料、アニリン系黒色顔料、又はカーボンブラックが挙げられる。有機黒色顔料は、カーボンブラック、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及び、アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましい。本発明の組成物において、有機黒色顔料の好ましい含有比率は、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。

　無機黒色顔料は、無機黒色顔料は、金属元素の微粒子、酸化物、複合酸化物、硫化物、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩、窒化物、炭化物、又は酸窒化物を含むことが好ましく、金属元素の窒化物、炭化物、又は酸窒化物を含むことがより好ましい。金属元素は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｙ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、又はＡｇが好ましく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、又はＲｅがより好ましく、チタン、ジルコニウム、バナジウム、又はニオブがさらに好ましい。無機黒色顔料は、チタン、ジルコニウム、バナジウム、若しくはニオブの窒化物、これらの炭化物、又はこれらの酸窒化物を含むことが特に好ましい。無機黒色顔料は、さらに、上述した金属元素とは異なる元素を含有することが好ましく、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｚｎ、又はＡｇを含有することがより好ましく、Ｂ、Ａｌ、又はＳｉを含有することがさらに好ましい。本発明の組成物において、無機黒色顔料の好ましい含有比率は、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。

　＜（Ｄ）着色剤；ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及びアゾ系黒色顔料＞
　有機黒色顔料は、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及び、アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含むことが好ましく、ベンゾフラノン系黒色顔料及び／又はペリレン系黒色顔料を含むことがより好ましく、ベンゾフラノン系黒色顔料を含むことがさらに好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。特に、ベンゾフラノン系黒色顔料は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。またベンゾフラノン系黒色顔料は、一般的な有機顔料と比較して顔料の単位質量当たりの遮光性に優れるため、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。またベンゾフラノン系黒色顔料は、一般的な有機顔料や無機顔料と比較して絶縁性及び低誘電性に優れるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　ベンゾフラノン系黒色顔料は、ベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－２（３Ｈ）－オン構造又はベンゼン環を共有してもよい少なくとも２つのベンゾフラン－３（２Ｈ）－オン構造を有することが好ましく、上記一般式（１６１）及び上記一般式（１６２）のいずれかで表される構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩がより好ましい。

　ペリレン系黒色顔料は、ペリレン構造を有することが好ましく、上記一般式（１６４）～（１６６）のいずれかで表される構造を有する化合物又はそれらの塩がより好ましく、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸ビスベンゾイミダゾール構造を有する化合物、それらの幾何異性体、それらの塩、又はそれらの幾何異性体の塩を含むことがさらに好ましい。

　アゾ系黒色顔料は、アゾ基を有することが好ましく、アゾメチン構造及びカルバゾール構造を有する化合物又はその塩を含むことがより好ましく、上記一般式（１６８）で表される構造を有する化合物又はその塩がさらに好ましい。

　ベンゾフラノン系黒色顔料としては、例えば、“ＩＲＧＡＰＨＯＲ”（登録商標）　ＢＬＡＣＫ　Ｓ０１００ＣＦ（ＢＡＳＦ社製）、国際公開第２０１０／０８１６２４号記載の黒色顔料、又は国際公開第２０１０／０８１７５６号記載の黒色顔料が挙げられる。またペリレン系黒色顔料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３１又はＣ．Ｉ．ピグメントブラック３２が挙げられる（数値はいずれもＣ．Ｉ．ナンバー）。上述した以外に、“ＰＡＬＩＯＧＥＮ”（登録商標）　ＢＬＡＣＫ　Ｓ００８４、同　Ｋ００８４、同　Ｌ００８６、同　Ｋ００８６、同　Ｋ００８７、同　Ｋ００８８、同　ＥＨ０７８８、同　ＦＫ４２８０、又は同　ＦＫ４２８１（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）が挙げられる。また（Ｄ１ａ－１ｃ）アゾ系黒色顔料としては、例えば、“ＣＨＲＯＭＯＦＩＮＥ”（登録商標）　ＢＬＡＣＫ　Ａ１１０３（大日精化工業社製）、特開平０１－１７０６０１号公報に記載された黒色顔料、又は特開平０２－０３４６６４号公報に記載された黒色顔料が挙げられる。本発明の組成物において、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及びアゾ系黒色顔料の好ましい含有比率は、上述した（Ｄ）着色剤の好ましい含有比率の通りである。ベンゾフラノン系黒色顔料は、上述した画素分割層等中のベンゾフラノン系黒色顔料であることが好ましい。ペリレン系黒色顔料は、上述した画素分割層等中のペリレン系黒色顔料であることが好ましい。アゾ系黒色顔料は、上述した画素分割層等中のアゾ系黒色顔料であることが好ましい。

　＜熱発色剤及び酸化発色剤＞
　本発明の組成物は、発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｄ）着色剤を含有し、さらに、熱発色剤及び／又は酸化発色剤を含むことが好ましい。熱発色剤とは、不活性雰囲気下、加熱によって可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）の光を吸収することで着色させる化合物をいう。熱発色剤は、不活性雰囲気下、加熱によって構造変化又は分解する構造を有する化合物が好ましく、少なくとも２つのフェノール性水酸基を含み、かつ、芳香族構造を有する化合物がより好ましい。少なくとも２つのフェノール性水酸基を含み、かつ、芳香族構造を有する化合物は、不活性雰囲気下、加熱によってキノン構造及び／又はキノイド構造を有する化合物に構造変化又は分解することが好ましく、上述した（Ｑ１）化合物及び／又は（Ｑ２）化合物に構造変化又は分解することがより好ましい。

　酸化発色剤とは、酸素を含むガス雰囲気下、加熱によって可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）の光を吸収することで着色させる化合物をいう。酸化発色剤は、酸素を含むガス雰囲気下、加熱によって構造変化又は分解する構造を有する化合物が好ましく、少なくとも２つのフェノール性水酸基を含み、かつ、芳香族構造を有する化合物がより好ましい。少なくとも２つのフェノール性水酸基を含み、かつ、芳香族構造を有する化合物は、酸素を含むガス雰囲気下、加熱によってキノン構造及び／又はキノイド構造を有する化合物に構造変化又は分解することが好ましく、上述した（Ｑ１）化合物及び／又は（Ｑ２）化合物に構造変化又は分解することがより好ましい。

　熱発色剤及び酸化発色剤は、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン構造及び／又はトリス（４－ヒドロキシフェニル）メタン構造を有する化合物が好ましく、トリス（４－ヒドロキシフェニル）メタン構造を有する化合物がより好ましい。

　溶剤を除く、本発明の組成物の全固形分中に占める熱発色剤及び酸化発色剤の含有比率は、遮光性向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。一方、熱発色剤及び酸化発色剤の含有比率は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

　＜（ＤＣ）被覆層＞
　本発明の組成物は、発光素子の信頼性向上の観点から、有機黒色顔料が、さらに、（ＤＣ）被覆層を有することが好ましい。（ＤＣ）被覆層とは、例えば、シランカップリング剤による表面処理、ケイ酸塩による表面処理、金属アルコキシドによる表面処理、又は樹脂による被覆処理などの処理で形成される顔料表面を被覆する層をいう。（ＤＣ）被覆層を有することで、有機黒色顔料の耐酸性、耐アルカリ性、耐溶剤性、分散安定性、又は耐熱性を向上できる。特に、ベンゾフラノン系黒色顔料が、さらに、（ＤＣ）被覆層を有することで、顔料に起因する現像後の残渣抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。有機黒色顔料に対する、（ＤＣ）被覆層による平均被覆率は、５０～１００％が好ましく、７０～１００％がより好ましく、９０～１００％がさらに好ましい。有機黒色顔料に対する、（ＤＣ）被覆層による平均被覆率は、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０３４９］に記載の方法に基づき、求めることができる。

　＜（ＤＣ）被覆層；シリカ被覆層、金属酸化物被覆層、及び金属水酸化物被覆層＞
　（ＤＣ）被覆層は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、シリカ被覆層、金属酸化物被覆層、及び、金属水酸化物被覆層からなる群より選ばれる一種類を含有することが好ましく、シリカ被覆層を含有することがより好ましい。シリカ被覆層におけるシリカとしては、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）又はその含水物が挙げられる。金属酸化物被覆層における金属酸化物には、金属酸化物そのものだけでなく、例えば、金属酸化物の水和物なども含まれる。金属酸化物としては、例えば、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）又はアルミナ水和物（Ａｌ_２Ｏ_３・ｎＨ_２Ｏ）が挙げられる。金属水酸化物被覆層における金属水酸化物としては、例えば、水酸化アルミニウム（Ａｌ（ＯＨ）_３）が挙げられる。

　シリカ被覆層の含有量は、有機黒色顔料を１００質量部とした場合において、現像後の残渣抑制の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、１質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。一方、シリカ被覆層の含有量は、現像後の残渣抑制の観点から、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。また、金属酸化物被覆層及び金属水酸化物被覆層の含有量の合計は、有機黒色顔料を１００質量部とした場合において、現像後の残渣抑制の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、０．１質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましい。一方、金属酸化物被覆層及び金属水酸化物被覆層の含有量の合計は、現像後の残渣抑制の観点から、２０質量部以下が好ましく、１０質量部以下がより好ましい。

　＜（Ｅ）分散剤＞
　本発明の組成物は、さらに、（Ｅ）分散剤を含有することが好ましい。（Ｅ）分散剤とは、上述した顔料などの表面と相互作用する表面親和性構造と、分散安定性を向上させる分散安定化構造とを有する化合物をいう。分散安定化構造としては、例えば、静電反発によって分散安定化させるイオン性置換基や極性置換基、又は立体障害によって分散安定化させるポリマー鎖などが挙げられる。（Ｅ）分散剤を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。

　（Ｅ）分散剤が有する表面親和性構造は、塩基性基、酸性基、塩基性基の塩構造、及び酸性基の塩構造からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましく、塩基性基、及び／又は、塩基性基の塩構造を有することがより好ましい。（Ｅ）分散剤は、塩基性基を有する分散剤、塩基性基及び酸性基を有する分散剤、又は塩基性基の塩構造を有する分散剤を含有することが好ましく、塩基性基を有する分散剤、又は、塩基性基及び酸性基を有する分散剤を含有することがより好ましい。なお、酸性基を有する分散剤、酸性基の塩構造を有する分散剤、又は、塩基性基及び酸性基のいずれも有しない分散剤を含有しても構わない。

　（Ｅ）分散剤が有する塩基性基は、三級アミノ基、又は、ピロリジン構造、ピロール構造、イミダゾール構造、若しくはピペリジン構造などの含窒素環構造が好ましい。（Ｅ）分散剤が有する酸性基は、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、又はフェノール性水酸基が好ましい。（Ｅ）分散剤が有する塩基性基の塩構造は、四級アンモニウム塩構造又は上述した含窒素環構造の塩構造が好ましい。塩基性基の塩構造におけるカウンターアニオンは、カルボン酸アニオン、スルホン酸アニオン、フェノキシアニオン、硫酸アニオン、硝酸アニオン、リン酸アニオン、又はハロゲンアニオンが好ましく、カルボン酸アニオンがより好ましい。ポリマー鎖を有する（Ｅ）分散剤は、フッ素樹脂系分散剤、シリコーン系分散剤、アクリル樹脂系分散剤、ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤、ポリエステル系分散剤、ポリウレタン系分散剤、ポリオール系分散剤、ポリアルキレンアミン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、又はポリアリルアミン系分散剤が好ましい。

　（Ｅ）分散剤のアミン価は、現像後の残渣抑制の観点から、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、アミン価は、現像後の残渣抑制の観点から、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。ここでいうアミン価とは、（Ｅ）分散剤１ｇ又は（Ｅ１）化合物１ｇ当たりと反応する酸と当量の水酸化カリウムの質量をいい、単位はｍｇＫＯＨ／ｇである。

　（Ｅ）分散剤の酸価は、現像後の残渣抑制の観点から、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。一方、酸価は、現像後の残渣抑制の観点から、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。ここでいう酸価とは、（Ｅ）分散剤１ｇ又は（Ｅ１）化合物１ｇ当たりと反応する水酸化カリウムの質量をいい、単位はｍｇＫＯＨ／ｇである。

　本発明の組成物が顔料を含有する場合、（Ｅ）分散剤の含有量は、顔料を１００質量部とした場合において、現像後の残渣抑制の観点から、５質量部以上が好ましく、１５質量部以上がより好ましい。一方、（Ｅ）分散剤の含有量の合計は、現像後の残渣抑制の観点から、５０質量部以下が好ましく、４０質量部以下がより好ましい。

　＜（Ｅ）分散剤；（Ｅ１）塩基性基を有する分散剤＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｄ）着色剤が、黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有し、さらに、（Ｅ）分散剤を含有し、（Ｅ）分散剤が、（Ｅ１）塩基性基を有する分散剤を含み、（Ｅ１）塩基性基を有する分散剤が、一般式（２６）で表される構造及び／又は一般式（２９）で表される構造、並びにポリオキシアルキレン構造を有することが好ましい。

　一般式（２６）において、ｎは１～９の整数を表す。＊^１～＊^４は、それぞれ独立して、ポリオキシアルキレン構造との結合点を表す。一般式（２９）において、Ｘ^５６及びＸ^５７は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。Ｙ^５６～Ｙ^５９は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキレン基を表す。ａ及びｂは、それぞれ独立して、１～１００の整数を表す。ｃ及びｄは、それぞれ独立して、０～１００の整数を表す。＊^７は、炭素原子又は窒素原子との結合点を表す。

　感光性組成物中に顔料と、特定構造の分散剤を含有させることで、顔料と第１電極の発光層側の表面との間の過剰な相互作用を抑制し、顔料起因の残渣発生が抑制されると推定される。また特定構造の分散剤が、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また顔料の分散性が向上するため、顔料の微細化による遮光性向上により、画素分割層等からのアウトガスが抑制され、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。本発明の組成物において、（Ｅ１）塩基性基を有する分散剤の好ましい含有量は、上述した（Ｅ）分散剤の好ましい含有量の通りである。

　＜（Ｆ）化合物；（Ｆ０）化合物及び（ＦＢ）化合物＞
　本発明の組成物は、さらに、以下の（Ｆ０）化合物及び／又は（ＦＢ）化合物を含有することが好ましい。
（Ｆ０）化合物：リン原子を含む酸性基、及び／又は、リン原子を含む酸性基の塩を有する化合物
（ＦＢ）化合物：リン原子を含むベタイン構造を有する化合物。

　（Ｆ０）化合物及び／又は（ＦＢ）化合物を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著となる。なお、（Ｆ０）化合物及び（ＦＢ）化合物をまとめて、以下、「（Ｆ）化合物」という場合もある。

　（Ｆ０）化合物は、以下の（Ｉ－ｆ０）構造を有することが好ましい。
（Ｉ－ｆ０）構造：炭素数４～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、及び、炭素数６～１５のアリール基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（ＦＢ）化合物は、以下の（Ｉ－ｆｂ）構造を有することが好ましい。
（Ｉ－ｆｂ）構造：アンモニウムイオン構造を有する炭素数１～６の１～２価の脂肪族基を含む構造。

　本発明の組成物は、（Ｆ０）化合物及び／又は（ＦＢ）化合物を含有し、（Ｆ０）化合物が、以下の（Ｆ１）化合物を含み、（ＦＢ）化合物が、以下の（ＦＢ１）化合物を含むことが好ましい。
（Ｆ１）化合物：リン酸化合物、ホスホン酸化合物、ホスフィン酸化合物、及び、それらの塩からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（ＦＢ１）化合物：リン酸ベタイン化合物、ホスホン酸ベタイン化合物、及び、ホスフィン酸ベタイン化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物。

　本発明の組成物は、（Ｆ１）化合物及び（ＦＢ１）化合物を含有することがより好ましい。（Ｆ１）化合物及び（ＦＢ１）化合物は、それぞれ二種類以上の化合物を含有することも好ましい。（Ｆ１）化合物及び／又は（ＦＢ１）化合物を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。画素分割層中のリン酸系構造を有する化合物は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また第１電極の表面はリン元素によって表面改質されるとともに、リン原子上の置換基の自己組織化によって緻密な膜を形成していると考えられる。そのため、第１電極の耐熱性及び耐酸化性が向上するため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　（Ｆ１）化合物は、以下の（Ｉ－ｆ１）構造及び／又は（ＩＩ－ｆ１）構造を有することが好ましい。
（Ｉ－ｆ１）構造：炭素数４～３０の１価の脂肪族基、炭素数６～３０の２価の脂肪族基、及び、炭素数１０～３０のアルキルアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（ＩＩ－ｆ１）構造：炭素数４～３０の１価の脂肪族基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、及び、炭素数６～１５のアリール基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｆ１）化合物は、リン原子に結合する置換基及び／又はＰ－Ｏ結合上の酸素原子に結合する置換基を有し、置換基が（Ｉ－ｆ１）構造及び／又は（ＩＩ－ｆ１）構造であることが好ましい。（Ｉ－ｆ１）構造は、以下の（Ｉ－ｆ１ｘ）構造が好ましい。
（Ｉ－ｆ１ｘ）構造：炭素数６～１２の１価の脂肪族基、炭素数６～１２の２価の脂肪族基、及び、炭素数１４～２６のアルキルアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
１価の脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。２価の脂肪族基は、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。また（Ｉ－ｆ１）構造は、直鎖構造又は分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。（ＩＩ－ｆ１）構造は、以下の（ＩＩ－ｆ１ｘ）構造が好ましい。
（ＩＩ－ｆ１ｘ）構造：炭素数６～１２の１価の脂肪族基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１４～２６のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、及び、炭素数６～１０のアリール基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
１価の脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。また（ＩＩ－ｆ１）構造は、直鎖構造又は分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。

　（ＦＢ１）化合物は、以下の（Ｉ－ｆｂ１）構造を有することが好ましい。
（Ｉ－ｆｂ１）構造：アンモニウムイオン構造を有する炭素数１～６の１～２価の脂肪族基を含む構造
（ＦＢ１）化合物は、リン原子に結合する置換基及び／又はＰ－Ｏ結合上の酸素原子に結合する置換基を有し、置換基が（Ｉ－ｆｂ１）構造であることが好ましい。

　（Ｉ－ｆｂ１）構造において、炭素数１～６の１～２価の脂肪族基は、炭素数１～４の２価の脂肪族基が好ましい。１価の脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。２価の脂肪族基は、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。また炭素数１～６の１～２価の脂肪族基は、直鎖構造又は分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。炭素数１～６の１～２価の脂肪族基は、置換基として、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、又はアミノ基を有しても構わない。

　（Ｉ－ｆｂ１）構造において、アンモニウムイオン構造は、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造が好ましく、四級アンモニウムイオン構造がより好ましい。四級アンモニウムイオン構造は、炭素数１～６のアルキル基を４つ有することが好ましく、炭素数１～４のアルキル基を４つ有することがより好ましい。４つのアルキル基は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基であり、炭素数が同じでもよく、異なっていてもよい。

　（ＦＢ１）化合物は、以下の（ＩＩ－ｆｂ１）構造を有することもまた好ましい。
（ＩＩ－ｆｂ１）構造：炭素数６～３０の脂肪酸化合物に由来する脂肪酸エステル構造、及び／又は、炭素数６～３０の脂肪族アルコールに由来する脂肪族エーテル構造
（ＦＢ１）化合物は、リン原子に結合する置換基及び／又はＰ－Ｏ結合上の酸素原子に結合する置換基を有し、置換基が二種類以上であって、置換基が（Ｉ－ｆｂ１）構造及び（ＩＩ－ｆｂ１）構造であることが好ましい。

　（ＩＩ－ｆｂ１）構造は、炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基を有することが好ましく、炭素数１０～２０の１～２価の脂肪族基を有することがより好ましい。１価の脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。２価の脂肪族基は、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。また炭素数６～３０の１～２価の脂肪族基は、直鎖構造又は分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。

　（Ｆ０）化合物におけるリン原子を含む酸性基の塩を有する化合物とは、リン原子を含む酸性基の塩、又は、リン原子を含む酸性基の塩構造を部分構造として有する化合物をいう。（Ｆ０）化合物におけるリン原子を含む酸性基の塩は、リン原子を含む酸性基と、カチオン構造を有する化合物との塩が挙げられる。例えば、上記の（Ｉ－ｆ０）構造を有するリン原子を含む酸性基のアンモニウム塩又はテトラアルキルアンモニウム塩などが挙げられる。（Ｆ０）化合物におけるリン原子を含む酸性基の塩構造を部分構造として有する化合物は、リン原子を含む酸性基と、カチオン構造を有する化合物との塩構造を部分構造として有する化合物が挙げられる。例えば、上記の（Ｉ－ｆ０）構造を有するリン原子を含む酸性基のアンモニウム塩構造又はテトラアルキルアンモニウム塩構造などを部分構造として有する化合物が挙げられる。別の例として、上記の（Ｉ－ｆ０）構造を有するリン原子を含む酸性基のアンモニウム塩構造又はテトラアルキルアンモニウム塩構造などを主鎖、側鎖、又は末端に有する樹脂が挙げられる。同様に、（Ｆ１）化合物におけるリン酸化合物の塩、ホスホン酸化合物の塩、又はホスフィン酸化合物の塩は、リン酸化合物、ホスホン酸化合物、及びホスフィン酸化合物と、カチオン構造を有する化合物との塩が挙げられる。

　溶剤を除く、本発明の組成物の全固形分中に占める（Ｆ１）化合物及び（ＦＢ１）化合物の含有比率の合計は、現像後の残渣抑制の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、０．０２質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１５質量％以上がさらに好ましく、０．２５質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｆ１）化合物及び（ＦＢ１）化合物の含有比率の合計は、現像後の残渣抑制の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、１．８質量％以下が好ましく、１．５質量％以下がより好ましく、１．３質量％以下がさらに好ましく、１．０質量％以下が特に好ましい。また、本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ｆ１）化合物及び（ＦＢ１）化合物の含有量の合計は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、０．０５質量部以上が好ましく、０．１０質量部以上がより好ましく、０．３０質量部以上がさらに好ましく、０．５０質量部以上が特に好ましい。一方、（Ｆ１）化合物及び（ＦＢ１）化合物の含有量の合計は、３．０質量部以下が好ましく、２．５質量部以下がより好ましく、２．０質量部以下がさらに好ましく、１．５質量部以下が特に好ましい。

　＜（Ｇ）架橋剤＞
　本発明の組成物は、さらに、（Ｇ）架橋剤を含有することが好ましい。（Ｇ）架橋剤とは、樹脂などと結合可能な架橋性基を有する化合物又はカチオン重合性基を有する化合物をいう。（Ｇ）架橋剤を含有させることで、感光性組成物の硬化膜は、（Ｇ）架橋剤による架橋構造が導入されるため耐熱性が向上し、画素分割層等からのアウトガスが抑制される。その結果、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｇ）架橋剤は、アルコキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、エポキシ基、オキセタニル基、及び、ブロックイソシアネート基（以下、「特定の架橋性基」）からなる群より選ばれる一種類以上の基を有する化合物が好ましく、特定の架橋性基からなる群より選ばれる一種類以上の基を少なくとも２つ有する化合物がより好ましい。アルコキシアルキル基は、アルコキシメチル基が好ましく、メトキシメチル基がより好ましい。ヒドロキシアルキル基は、メチロール基が好ましい。

　（Ｇ）架橋剤は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、後述する（Ｇ１）化合物、（Ｇ２）化合物、及び、（Ｇ３）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。（Ｇ）化合物は、（Ｇ１）化合物を含有し、さらに（Ｇ２）化合物及び／又は（Ｇ３）化合物を含有することがより好ましい。（Ｇ１）化合物、（Ｇ２）化合物、及び（Ｇ３）化合物は、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部における現像後の残渣発生及び／又は熱硬化後の残渣発生を抑制すると推定される。そのため、発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。

　＜（Ｇ）架橋剤；（Ｇ１）化合物、（Ｇ２）化合物、及び（Ｇ３）化合物＞
　（Ｇ）架橋剤は、以下の（Ｇ１）化合物を含有することが好ましい。（Ｇ１）化合物とは、以下の（Ｉ－ｇ１）構造及び（ＩＩ－ｇ１）構造を有し、（ＩＩ－ｇ１）構造を少なくとも２つ有する化合物をいう。
（Ｇ１）化合物：疎水性骨格含有エポキシ架橋剤
（Ｉ－ｇ１）構造：縮合多環式構造、縮合多環式ヘテロ環構造、芳香環骨格及び脂環式骨格が直接連結された構造、並びに、少なくとも２つの芳香環骨格が直接連結された構造、からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造
（ＩＩ－ｇ１）構造：エポキシ基を有する有機基を含む構造
（Ｇ１）化合物は、フルオレン構造、インダン構造、インドリノン構造、イソインドリノン構造、キサンテン構造、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン構造、及び、ビナフチル構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造を有することが好ましい。

　（Ｇ１）化合物のエポキシ基当量は、現像後の残渣抑制の観点から、１５０ｇ／ｍｏｌ以上が好ましく、１７０ｇ／ｍｏｌ以上がより好ましく、１９０ｇ／ｍｏｌ以上がさらに好ましい。一方、エポキシ基当量は、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、８００ｇ／ｍｏｌ以下が好ましく、６００ｇ／ｍｏｌ以下がより好ましく、５００ｇ／ｍｏｌ以下がさらに好ましい。

　（Ｇ）架橋剤は、以下の（Ｇ２）化合物を含有することもまた好ましい。
（Ｇ２）化合物：少なくとも２つのフェノール性水酸基、及び、少なくとも２つの架橋性基を有する化合物
（Ｇ２）化合物は、以下の（Ｉ－ｇ２）構造を少なくとも２つ有することが好ましい。また（Ｇ２）化合物は、以下の（Ｉ－ｇ２ｘ）構造を少なくとも２つ有することがより好ましい。
（Ｉ－ｇ２）構造：１つの芳香族構造にフェノール性水酸基、及び、架橋性基が結合した構造
（Ｉ－ｇ２ｘ）構造：１つの芳香族構造にフェノール性水酸基、及び、少なくとも２つの架橋性基、が結合した構造。

　（Ｇ）架橋剤は、以下の（Ｇ３）化合物を含有すること好ましい。
（Ｇ３）化合物：窒素原子を少なくとも２つ有する環状構造を含む構造、及び少なくとも２つの架橋性基を有する化合物
（Ｇ３）化合物は、イソシアヌル酸構造、トリアジン構造、グリコールウリル構造、イミダゾリドン構造、ピラゾール構造、イミダゾール構造、トリアゾール構造、テトラゾール構造、及び、プリン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましく、イソシアヌル酸構造及び／又はトリアジン構造を有することがより好ましい。

　溶剤を除く、本発明の組成物の全固形分中に占める（Ｇ１）化合物の含有比率は、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、０．３質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましく、２．０質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｇ１）化合物の含有比率は、現像後の残渣抑制の観点から、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。また、本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ｇ１）化合物の含有量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、１質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｇ１）化合物の含有量は、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。

　溶剤を除く、本発明の組成物の全固形分中に占める（Ｇ２）化合物及び（Ｇ３）化合物の含有比率の合計は、現像後の残渣抑制、現像後における狭マスクバイアス抑制、及びハーフトーン特性向上の観点から、０．３質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましく、２．０質量％以上がさらに好ましい。一方、（Ｇ２）化合物及び（Ｇ３）化合物の含有比率の合計は、現像後の残渣抑制、及び露光時の感度向上の観点から、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。また、本発明の組成物が、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物を含有する場合、本発明の組成物に占める（Ｇ２）化合物及び（Ｇ３）化合物の含有量の合計は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂及び（Ｂ）化合物の合計を１００質量部とした場合において、１質量部以上が好ましく、３質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。一方、（Ｇ２）化合物及び（Ｇ３）化合物の含有量の合計は、３０質量部以下が好ましく、２５質量部以下がより好ましく、２０質量部以下がさらに好ましい。

　＜（Ｈ）無機粒子＞
　本発明の組成物は、さらに、（Ｈ）無機粒子を含有することが好ましい。（Ｈ）無機粒子とは、金属元素、半金属元素、及び、半導体元素からなる群より選ばれる元素を主成分として含む粒子をいう。（Ｈ）無機粒子における主成分とは、（Ｈ）無機粒子の構成元素において、質量を基準として最も多く含まれる成分をいう。（Ｈ）無機粒子としては、例えば、水を除いた質量のうち金属化合物、半金属化合物、及び、半導体化合物からなる群より選ばれる化合物の含有比率が９０質量％以上の粒子が挙げられる。金属化合物、半金属化合物、又は半導体化合物としては、例えば、上記元素のハロゲン化物、酸化物、窒化物、水酸化物、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、又はメタケイ酸塩が挙げられる。

　（Ｈ）無機粒子を含有させることで、感光性組成物の硬化膜は、（Ｈ）無機粒子の堅牢な構造が導入されるため耐熱性が顕著に向上し、画素分割層等からのアウトガスが抑制される。その結果、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　（Ｈ）無機粒子は、上述した画素分割層等中の無機粒子であることが好ましい。

　本発明の組成物において、（Ｈ）無機粒子は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｒ、Ａｇ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｗ又はＲｅを主成分の元素として含むことが好ましく、ケイ素、アルミニウム、チタン、バナジウム、クロム、鉄、コバルト、銅、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、又はセリウムを主成分の元素として含むことがより好ましく、ケイ素を主成分の元素として含むことがさらに好ましい。ここで、（Ｈ）無機粒子が、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｒ、Ａｇ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｗ又はＲｅを主成分の元素とするとは、これらの中のいずれか単独での質量を基準に判断するものとする。これらの元素を主成分の元素として含むことで、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。（Ｈ）無機粒子は、シリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、酸化バナジウム粒子、酸化クロム粒子、酸化鉄粒子、酸化コバルト粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化ニオブ粒子、酸化スズ粒子、又は酸化セリウム粒子が好ましく、シリカ粒子がより好ましい。

　（Ｈ）無機粒子は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｋ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｒ、Ｙ、Ａｇ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、及び、Ｒｅからなる群より選ばれる一種類以上の元素を含むことが好ましく、ケイ素、アルミニウム、チタン、バナジウム、クロム、鉄、コバルト、銅、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、セリウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、及び、ハフニウムからなる群より選ばれる一種類以上の元素を含むことがより好ましく、ケイ素元素を含むことがさらに好ましい。これらの元素は、（Ｈ）無機粒子における主成分の元素と同じであっても構わない。（Ｈ）無機粒子は主成分の元素とは異なる元素として、これらの元素を含むことも好ましい。

　本発明の組成物において、（Ｈ）無機粒子を含有し、（Ｈ）無機粒子が、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｒ、Ａｇ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｗ、又はＲｅを主成分の元素として含む場合、本発明の組成物は、（Ｈ）無機粒子が、表面にラジカル重合性基及び／又は熱反応性基を有することが好ましい。

　このような構成とすることで、外光反射抑制、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。表面にラジカル重合性基及び／又は熱反応性基を有する（Ｈ）無機粒子を含有させることで、（メタ）アクリロイル基などのラジカル重合性基がラジカル重合した架橋構造が導入されるため、感光性組成物の硬化膜は架橋密度向上により耐熱性向上の効果が顕著となる。その結果、画素分割層等からのアウトガスが抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　ラジカル重合性基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。ラジカル重合性基は、光反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び、炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上がより好ましい。光反応性基は、スチリル基、シンナモイル基、マレイミド基、ナジイミド基、又は（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。一方、炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数２～５のアルキニル基は、ビニル基、アリル基、２－メチル－２－プロペニル基、クロトニル基、２－メチル－２－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、２，３－ジメチル－２－ブテニル基、エチニル基、又は２－プロパルギル基が好ましく、ビニル基又はアリル基がより好ましい。熱反応性基は、アルコキシメチル基、メチロール基、エポキシ基、オキセタニル基、又はブロックイソシアネート基が好ましい。

　（Ｈ）無機粒子は、表面にシラノール基、アルコキシシリル基、アルキルシリル基、ジアルキルシリル基、トリアルキルシリル基、フェニルシリル基、及び、ジフェニルシリル基からなる群より選ばれる一種類以上を有することも好ましい。（Ｈ）無機粒子は、表面にラジカル重合性基及び／又は熱反応性基を有し、かつこれらの官能基を有することも好ましい。

　表面に官能基を有する（Ｈ）無機粒子は、官能基を有するオルガノシラン化合物に由来する表面修飾基を、（Ｈ）無機粒子表面のヒドロキシ基及び／又はシラノール基との脱水縮合反応によって導入することで得られる。

　また、表面に官能基を有する（Ｈ）無機粒子は、官能基を有するイソシアネート化合物に由来する表面修飾基を、（Ｈ）無機粒子表面のヒドロキシ基及び／又はシラノール基とのウレタン化反応によって導入することでも得られる。官能基を有するオルガノシラン化合物に由来する表面修飾基と、官能基を有するイソシアネート化合物に由来する表面修飾基とを（Ｈ）無機粒子の表面に順に修飾することで、それぞれの官能基を含む表面修飾基を有する（Ｈ）無機粒子が得られる。

　溶剤を除く、本発明の組成物の全固形分中に占める（Ｈ）無機粒子の含有比率は、発光素子の信頼性向上の観点から、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上がさらに好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。一方、（Ｈ）無機粒子の含有比率は、露光時の感度向上の観点、及び、発光素子の信頼性向上の観点から、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。

　＜（Ｈ）無機粒子；（Ｈ１）シリカ粒子＞
　本発明の組成物において、さらに、（Ｈ）無機粒子を含有し、（Ｈ）無機粒子が、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｌｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｒ、Ａｇ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｗ、又はＲｅを主成分の元素として含む場合、本発明の組成物は、（Ｈ）無機粒子が、（Ｈ１）シリカ粒子を含有することが好ましい。なお（Ｈ１）シリカ粒子は（Ｈ）無機粒子のうち、ケイ素を主成分として含む無機粒子である。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。（Ｈ１）シリカ粒子を含有させることで、感光性組成物の硬化膜は、（Ｈ１）シリカ粒子の堅牢な構造が導入されるため耐熱性が顕著に向上し、画素分割層等からのアウトガスが抑制される。その結果、発光素子の劣化が抑制されるため、発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。加えて、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。そのため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化を促進すると考えられる。その結果、同一電圧駆動時における発光輝度向上の効果が顕著になると推定される。また硬化膜の表面における入射した外光の反射・散乱が低減されるため、外光反射抑制の効果が顕著となる。

　（Ｈ１）シリカ粒子とは、ケイ素を主成分の元素として含む無機粒子をいう。（Ｈ１）シリカ粒子としては、例えば、水を除いた質量のうち二酸化ケイ素の純分が９０質量％以上の粒子、二酸化ケイ素（無水ケイ酸）からなる粒子、二酸化ケイ素水和物（含水ケイ酸又はホワイトカーボン）からなる粒子、石英ガラスからなる粒子、又は、オルトケイ酸、メタケイ酸、及びメタ二ケイ酸からなる粒子が挙げられる。（Ｈ１）シリカ粒子は、有機溶媒及び／又は水を分散媒としたシリカ粒子分散液が好ましい。（Ｈ１）シリカ粒子は、上述した画素分割層等中のシリカ粒子であることが好ましい。

　（Ｈ１）シリカ粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径は５～５０ｎｍであることが好ましい。（Ｈ１）シリカ粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径は、発光素子の信頼性向上の観点から、５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上がさらに好ましい。一方、（Ｈ１）シリカ粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径は、外光反射抑制及び発光素子の信頼性向上の観点から、５０ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がさらに好ましく、２５ｎｍ以下がさらにより好ましく、２０ｎｍ以下が特に好ましく、１５ｎｍ以下が最も好ましい。シリカ粒子の一次粒子径とは、シリカ粒子の一次粒子における長軸径をいう。シリカ粒子分散液中の（Ｈ１）シリカ粒子の平均一次粒子径の好ましい範囲は、上記の（Ｈ１）シリカ粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径の好ましい範囲の通りである。ただし、有機顔料及び無機顔料における表面処理剤又は被覆層に含まれる二酸化ケイ素は、その一次粒子径やアスペクト比によらずシリカ粒子には含まれないものとする。

　（Ｈ１）シリカ粒子の一次粒子径及びアスペクト比は、硬化膜を薄く割断したものを測定試料として、イオンミリング処理により研磨して平滑性を高めた断面について、ＴＥＭを用いて硬化膜の表面から深さ方向に０．２～０．８μｍの範囲に位置する箇所を倍率５０，０００倍の条件で観測した撮像を、画像解析式粒度分布測定ソフトウェア（Ｍａｃ－Ｖｉｅｗ；ＭＯＵＮＴＥＣＨ社製）を用いて測定できる。また（Ｈ１）シリカ粒子の平均一次粒子径は、測定試料の断面を撮像及び解析し、（Ｈ１）シリカ粒子の一次粒子３０個を測定した平均値として算出できる。さらに、ＴＥＭ－ＥＤＸで観測することで粒子を構成する元素を判別でき、硬化膜中のシリカ粒子の特定が可能である。なお、シリカ粒子分散液中の（Ｈ１）シリカ粒子の平均一次粒子径は、動的光散乱法により粒度分布を測定することで求めることができる。

　本発明の組成物は、一次粒子径又は平均一次粒子径が５～５０ｎｍの（Ｈ１）シリカ粒子を含み、さらに、一次粒子径又は平均一次粒子径が５ｎｍ未満の（Ｈ１）シリカ粒子、及び／又は、一次粒子径又は平均一次粒子径が５０ｎｍを超える（Ｈ１）シリカ粒子を含有しても構わない。

　（Ｈ１）シリカ粒子は、発光素子の信頼性向上の観点から、ナトリウム元素を含むことが好ましい。ナトリウム元素の存在形態としては、例えば、イオン（Ｎａ^＋）又はシラノール基との塩（Ｓｉ－ＯＮａ）が挙げられる。（Ｈ１）シリカ粒子に占めるナトリウム元素の含有量は、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、５質量ｐｐｍ以上がより好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、５０質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以上が好ましく、３００質量ｐｐｍ以上がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以上がさらに好ましい。一方、（Ｈ１）シリカ粒子に占めるナトリウム元素の含有量は、１０，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５，０００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３，０００質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１，０００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。ナトリウム元素を含むシリカ粒子は、アルカリ条件下、ケイ素源として強アルカリであるケイ酸ナトリウムと、強酸である鉱酸との反応により得られる。本発明の組成物において、（Ｈ１）シリカ粒子の好ましい含有比率は、上述した（Ｈ）無機粒子の好ましい含有比率の通りである。

　＜（Ｉ）化合物；（Ｉ１ａ）化合物、（Ｉ１ｂ）化合物、（Ｉ２ａ）化合物、及び（Ｉ２ｂ）化合物＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、以下の（Ｉ１ａ）化合物、（Ｉ１ｂ）化合物、（Ｉ２ａ）化合物、及び、（Ｉ２ｂ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましい。
（Ｉ１ａ）化合物：チオール化合物、スルフィド化合物、ジスルフィド化合物、スルホキシド化合物、スルホン化合物、スルトン化合物、チオフェン化合物、及び、スルホン酸化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ１ｂ）化合物：アニオン種として、硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び、硫酸水素イオンからなる群より選ばれる一種類以上を含み、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン、一級アンモニウムイオン、二級アンモニウムイオン、三級アンモニウムイオン、又は四級アンモニウムイオンを含む、化合物
（Ｉ２ａ）化合物：塩化アルキル化合物、塩化シクロアルキル化合物、塩化アリール化合物、臭化アルキル化合物、臭化シクロアルキル化合物、及び、臭化アリール化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ２ｂ）化合物：アニオン種として、塩化物イオン及び／又は臭化物イオンを含み、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン、一級アンモニウムイオン、二級アンモニウムイオン、三級アンモニウムイオン、又は四級アンモニウムイオンを含む、化合物
なお、（Ｉ１ａ）化合物、（Ｉ１ｂ）化合物、（Ｉ２ａ）化合物、及び（Ｉ２ｂ）化合物をまとめて、以下、「（Ｉ）化合物」という場合もある。

　感光性組成物中にこれらの化合物を含有させることで、第１電極の発光層側の表面がこれらの化合物によって表面改質されるため、仕事関数差の調整により発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果が顕著になるとと推定される。また硬化膜中の分極構造や電荷バランスが制御されるため、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションの抑制により発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると考えられる。さらに、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　本発明の組成物において、このような構成とする場合、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、
本発明の組成物が（Ｉ１ａ）化合物を含有する場合、（Ｉ１ａ）化合物は、チオール化合物、スルフィド化合物、ジスルフィド化合物、及び、スルホン酸化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物を含み、
本発明の組成物が（Ｉ１ｂ）化合物を含有する場合、（Ｉ１ｂ）化合物は、アニオン種として、硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び、硫酸水素イオンからなる群より選ばれる一種類以上を含み、かつ、カチオン種として、四級アンモニウムイオンを含む、化合物を含み、
本発明の組成物が（Ｉ２ａ）化合物を含有する場合、（Ｉ２ａ）化合物は、塩化アルキル化合物、塩化シクロアルキル化合物、臭化アルキル化合物、及び、臭化シクロアルキル化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物を含み、
本発明の組成物が（Ｉ２ｂ）化合物を含有する場合、（Ｉ２ｂ）化合物は、アニオン種として、塩化物イオン及び／又は臭化物イオンを含み、かつ、カチオン種として、四級アンモニウムイオンを含む、化合物を含むことが好ましい。

　感光性組成物中にこれらの化合物を含有させることで、上述した通り、第１電極の発光層側の表面の表面改質により、発光特性の低電圧駆動化及び発光輝度向上の効果を顕著になるとと推定される。また上述した通り、硬化膜中の分極構造や電荷バランスの制御により、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると考えられる。さらに、上述した通り、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｉ１ａ）化合物及び／又は（Ｉ１ｂ）化合物を含有することがより好ましい。本発明の組成物は、（Ｉ１ａ）化合物及び／又は（Ｉ１ｂ）化合物を含有し、かつ、（Ｉ２ａ）化合物及び／又は（Ｉ２ｂ）化合物を含有することがさらに好ましい。本発明の組成物は、（Ｉ１ａ）化合物及び（Ｉ１ｂ）化合物を含有することもより好ましい。本発明の組成物は、（Ｉ２ａ）化合物及び（Ｉ２ｂ）化合物を含有することもより好ましい。（Ｉ１ａ）化合物、（Ｉ１ｂ）化合物、（Ｉ２ａ）化合物、及び（Ｉ２ｂ）化合物は、それぞれ二種類以上の化合物を含有することも好ましい。

　（Ｉ１ａ）化合物及び（Ｉ２ａ）化合物は、以下の（Ｉ－Ｉａ）構造を有することが好ましい。
（Ｉ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数６～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（Ｉ１ａ）化合物及び（Ｉ２ａ）化合物は、以下の（ＩＩ－Ｉａ）構造及び／又は（ＩＩＩ－Ｉａ）構造を有することがより好ましい。
（ＩＩ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１価の脂肪族基、炭素数６～３０の２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、及び、炭素数１０～３０のアルキルアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（ＩＩＩ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１価の脂肪族基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、及び、炭素数６～１５のアリール基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｉ１ａ）化合物は、硫黄原子に結合する置換基を有し、置換基が（Ｉ－Ｉａ）構造であることが好ましく、置換基が（ＩＩ－Ｉａ）構造及び／又は（ＩＩＩ－Ｉａ）構造であることがより好ましい。
（Ｉ２ａ）化合物は、塩素原子又は臭素原子に結合する置換基を有し、置換基が（Ｉ－Ｉａ）構造であることが好ましく、置換基が（ＩＩ－Ｉａ）構造及び／又は（ＩＩＩ－Ｉａ）構造であることがより好ましい。

　（ＩＩ－Ｉａ）構造は、以下の（ＩＩ－Ｉａｘ）構造が好ましい。
（ＩＩ－Ｉａｘ）構造：炭素数６～１２の１価の脂肪族基、炭素数６～１２の２価の脂肪族基、炭素数１４～２６のアルキルアリール基、及び、炭素数１４～２６のアルキルアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（ＩＩＩ－Ｉａ）構造は、以下の（ＩＩＩ－Ｉａｘ）構造が好ましい。
（ＩＩＩ－Ｉａｘ）構造：炭素数６～１２の１価の脂肪族基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１４～２６のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、炭素数１４～２６のアルキルアリール基が結合したオキシアルキレン基、及び、炭素数６～１０のアリール基が結合したオキシアルキレン基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｉ１ｂ）化合物及び（Ｉ２ｂ）化合物は、以下の（Ｉ－Ｉｂ）構造を有することが好ましい。
（Ｉ－Ｉｂ）構造：炭素数１～６の１～２価の脂肪族基、炭素数７～３０のアルキルアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数６～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（Ｉ１ｂ）化合物及び（Ｉ２ｂ）化合物は、カチオン種である、上記のアンモニウムイオン等の窒素原子に結合する置換基を有し、置換基が（Ｉ－Ｉｂ）構造であることが好ましい。

　（Ｉ－Ｉｂ）構造は、以下の（Ｉ－Ｉｂｘ）構造が好ましい。
（Ｉ－Ｉｂｘ）構造：炭素数１～４の１価の脂肪族基、炭素数７～２６のアルキルアリール基、炭素数７～２６のアリールアルキル基、及び、炭素数６～１０のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造。

　（Ｉ－Ｉｂ）構造において、１価の脂肪族基は、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。２価の脂肪族基は、アルキレン基、アルケニレン基、又はアルキニレン基が好ましく、アルキレン基がより好ましい。また１～２価の脂肪族基は、直鎖構造又は分岐構造が好ましく、直鎖構造がより好ましい。１～２価の脂肪族基は、置換基として、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、又はアミノ基を有しても構わない。
（Ｉ－Ｉｂ）構造において、上記のアンモニウムイオン等は、アンモニウムイオン、一級アンモニウムイオン、二級アンモニウムイオン、三級アンモニウムイオン、又は四級アンモニウムイオンが好ましく、四級アンモニウムイオンがより好ましい。四級アンモニウムイオンは、炭素数１～６のアルキル基を４つ有することが好ましく、炭素数１～４のアルキル基を４つ有することがより好ましい。４つのアルキル基は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基であり、炭素数が同じでもよく、異なっていてもよい。

　（Ｉ１ａ）化合物において、チオール化合物としては、例えば、ブタンチオール、ヘキサンチオール、オクタンチオール、ドデカンチオール、オクタデカンチオール、エタンジチオール、オクタンジチオール、シクロプロパンチオール、シクロヘキサンチオール、チオフェノール、トルエンチオール、ベンジルチオール、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプトオクチルトリメトキシシラン、又はメルカプトドデシルトリメトキシシランが挙げられる。
スルフィド化合物としては、例えば、ジメチルスルフィド、ジブチルスルフィド、ジヘキシルスルフィド、ジオクチルスルフィド、ジドデシルスルフィド、ジシクロプロピルスルフィド、ジシクロヘキシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、ジトリルスルフィド、又はジベンジルスルフィドが挙げられる。
ジスルフィド化合物としては、例えば、ジメチルスルフィド、ジブチルスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジオクチルスルフィド、ジドデシルスルフィド、ジシクロプロピルスルフィド、ジシクロヘキシルスルフィド、ジフェニルスルフィド、ジトリルジスルフィド、又はジベンジルスルフィドが挙げられる。
スルホン酸化合物としては、例えば、メタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、ヘキサンスルホン酸、オクタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、シクロプロパンスルホン酸、シクロヘキサンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、又はフェニルメタンスルホン酸が挙げられる。

　（Ｉ１ｂ）化合物において、アニオン種として、硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び、硫酸水素イオンからなる群より選ばれる一種類以上を含み、かつ、カチオン種として、四級アンモニウムイオンを含む、化合物としては、例えば、硫化ビス（テトラエチルアンモニウム）、硫化ビス（テトラブチルアンモニウム）、硫化ビス（ブチルトリエチルアンモニウム）、硫化ビス（オクチルトリエチルアンモニウム）、硫化ビス（ドデシルトリエチルアンモニウム）、硫化ビス（シクロヘキシルトリエチルアンモニウム）、硫化ビス（フェニルトリエチルアンモニウム）、硫化ビス（トリルトリエチルアンモニウム）、若しくは硫化ビス（ベンジルトリエチルアンモニウム）；又は、硫酸ビス（テトラエチルアンモニウム）、硫酸ビス（テトラブチルアンモニウム）、硫酸ビス（ブチルトリエチルアンモニウム）、硫酸ビス（オクチルトリエチルアンモニウム）、硫酸ビス（ドデシルトリエチルアンモニウム）、硫酸ビス（シクロヘキシルトリエチルアンモニウム）、硫酸ビス（フェニルトリエチルアンモニウム）、硫酸ビス（トリルトリエチルアンモニウム）、若しくは硫酸ビス（ベンジルトリエチルアンモニウム）が挙げられる。

　（Ｉ２ａ）化合物において、塩化アルキル化合物、塩化シクロアルキル化合物、又は塩化アリール化合物としては、例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロシクロプロパン、エピクロロヒドリン、塩化ブチル、塩化ヘキシル、塩化オクチル、塩化ドデシル、塩化シクロヘキサン、塩化フェニル、塩化トリル、又は塩化ベンジルが挙げられる。
臭化アルキル化合物、臭化シクロアルキル化合物、又は臭化アリール化合物としては、例えば、ジブロモメタン、ジブロモエタン、テトラブロモエタン、ブロモホルム、四臭化炭素、ブロモシクロプロパン、エピブロモヒドリン、臭化ブチル、臭化ヘキシル、臭化オクチル、臭化ドデシル、臭化シクロヘキサン、臭化フェニル、臭化トリル、又は臭化ベンジルが挙げられる。

　（Ｉ２ｂ）化合物において、アニオン種として、塩化物イオン及び／又は臭化物イオンを含み、かつ、カチオン種として、四級アンモニウムイオンを含む、化合物としては、例えば、塩化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラエチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ブチルトリエチルアンモニウム、塩化オクチルトリエチルアンモニウム、塩化ドデシルトリエチルアンモニウム、塩化シクロプロピルトリエチルアンモニウム、塩化シクロヘキシルトリエチルアンモニウム、塩化フェニルトリエチルアンモニウム、塩化トリルトリエチルアンモニウム、若しくは塩化ベンジルトリエチルアンモニウム；又は、臭化テトラメチルアンモニウム、臭化テトラエチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム、臭化ブチルトリエチルアンモニウム、臭化オクチルトリエチルアンモニウム、臭化ドデシルトリエチルアンモニウム、臭化シクロプロピルトリエチルアンモニウム、臭化シクロヘキシルトリエチルアンモニウム、臭化フェニルトリエチルアンモニウム、臭化トリルトリエチルアンモニウム、若しくは臭化ベンジルトリエチルアンモニウムが挙げられる。

　（Ｉ１ａ）化合物は、上述した画素分割層等中の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物であることが好ましい。（Ｉ２ａ）化合物は、上述した画素分割層等中の（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物であることが好ましい。（Ｉ１ｂ）化合物は、上述した画素分割層等中の（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物であることが好ましい。（Ｉ２ｂ）化合物は、上述した画素分割層等中の（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物であることが好ましい。

　一方、感光性組成物の保管安定性が悪い場合、例えば、室温で保管後の異物発生が課題となる場合もある。感光性組成物の保管中に異物が発生した場合、画素分割層又は画素寸法制御層の形成時、画素分割層中又は画素寸法制御層中や開口部に異物が残存し、このような異物により、発光素子の信頼性が低下する要因となる。本発明の表示装置に用いられる感光性組成物は、（Ｉ）化合物の含有量を適切な範囲とすることで、保管安定性向上の効果が顕著となる。

　＜硫黄元素、硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、及びハロゲンアニオンの含有量＞
　本発明の組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び、（Ｄ）着色剤を含有することに加え、以下の、条件（Ｉ）、及び／又は、条件（ＩＩ）を満たす。
（Ｉ）さらに、硫黄元素を含む成分、塩素元素を含む成分、及び、臭素元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１ａ）及び／又は（２ａ）の条件を満たす
（１ａ）感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（２ａ）感光性組成物中に占める塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（ＩＩ）さらに、以下の硫黄系アニオンを含む成分、及び、以下のハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１ｂ）及び／又は（２ｂ）の条件を満たす
硫黄系アニオン：硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び、硫酸水素イオンからなる群より選ばれる一種類以上のイオン
ハロゲンアニオン：塩化物イオン、及び／又は、臭化物イオン
（１ｂ）感光性組成物中に占める硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ）感光性組成物中に占める塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ。

　このような構成とすることで、本発明の組成物は、低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び発光素子の高信頼性の効果を奏功する。本発明の組成物中の各成分が意図しない不純物を含有する場合であっても、それらの不純物による発光特性の高電圧駆動化及び発光素子の信頼性低下の抑制が可能となる。また上述した通り、感光性組成物中に微量の硫黄元素を含む成分、上記の硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、又は上記のハロゲンアニオンを含む成分を含有させることで、第１電極の発光層側の表面がこれらの元素又はイオンによって表面改質されると考えられる。その結果、仕事関数差の調整により低電圧駆動が可能な優れた発光特性及び高発光輝度の効果を奏功すると推定される。また意図的にこれらの成分を微量含有させることで、硬化膜中の分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。その結果、イオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションの抑制により発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。また、第１電極中の金属のマイグレーション抑制や凝集抑制により、発光素子の高信頼性の効果を奏功すると推定される。なお、感光性組成物中に占める硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、及び上記のハロゲンアニオンのうち、少なくとも１つの含有量が特定範囲であることで、第１電極の発光層側の表面がこれらの元素又はイオンにより選択的に表面改質されるものと推定される。

　一例として、感光性組成物が硫黄元素を含む成分を含有し、感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が５０質量ｐｐｍである場合、上記（１ａ）の条件を満たす。

　別の例として、感光性組成物が硫化物イオンを含む成分を含有し、感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が５００質量ｐｐｍであり、かつ、感光性組成物中に占める硫化物イオンの含有量が５００質量ｐｐｍである場合、上記（１ｂ）の条件を満たす。

　別の例として、感光性組成物が硫化物イオンを含む成分を含有し、感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が５０質量ｐｐｍであり、かつ、感光性組成物中に占める硫化物イオンの含有量が５０質量ｐｐｍである場合、上記（１ａ）の条件及び上記（１ｂ）の条件を満たす。

　別の例として、感光性組成物が硫黄元素を含む成分及び硫化物イオンを含む成分を含有し、感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が６０質量ｐｐｍであり、かつ、感光性組成物中に占める硫化物イオンの含有量が３０質量ｐｐｍである場合、上記（１ａ）の条件及び上記（１ｂ）の条件を満たす。

　本発明の組成物は、硫黄元素を含む成分を含有し、かつ上記（１ａ）の条件を満たす、及び／又は、硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ上記（１ｂ）の条件を満たすことがより好ましく、硫黄元素を含む成分を含有し、かつ上記（１ａ）の条件を満たし、及び、硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ上記（１ｂ）の条件を満たすことがさらに好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。これは感光性組成物中の微量の硫黄元素を含む成分又は上記の硫黄系アニオンを含む成分が、硫黄元素又は硫黄系アニオン中の硫黄原子の分極能により第１電極の発光層側の表面と相互作用しやすいためと考えられる。それにより、第１電極の発光層側の表面が硫黄元素又は硫黄系アニオンによって表面改質されると推定される。

　本発明の組成物は、硫黄元素を含む成分を含有し、かつ上記（１ａ）の条件を満たし、及び／又は、硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ上記（１ｂ）の条件を満たし、かつ、
　塩素元素を含む成分、及び、臭素元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ上記（２ａ）の条件を満たす、及び／又は、ハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ上記（２ｂ）の条件を満たすことがさらに好ましい。

　このような構成とすることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。これは感光性組成物中にこれらの成分を微量含有させることで、第１電極の発光層側の表面が硫黄元素又は硫黄系アニオンによって表面改質された後、さらに、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンによって表面改質されるためと考えられる。それにより、第１電極の表面に緻密な膜が形成され、高密度な表面改質がされるためと推定される。

　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、硫黄元素を含む成分及び／又は上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有することがより好ましく、硫黄元素を含む成分及び上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有することがさらに好ましい。また本発明の組成物は、塩素元素を含む成分及び／又は臭素元素を含む成分、並びに、上記のハロゲンアニオンを含む成分を含有することがより好ましい。本発明の組成物は、硫黄元素を含む成分及び／又は上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、及び、上記のハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有することもさらに好ましい。上記の硫黄系アニオンは、硫化物イオン及び／又は硫化水素イオンを含むことがより好ましい。上記のハロゲンアニオンは、塩化物イオンを含むことがより好ましい。

　本発明の組成物が、硫黄元素を含む成分を含有する場合、上記（１ａ）の条件を満たすことが好ましい。本発明の組成物が、上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有する場合、上記（１ｂ）の条件を満たすことが好ましい。本発明の組成物は、硫黄元素を含む成分及び／又は上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ上記（１ａ）及び／又は（１ｂ）の条件を満たすことが好ましく、硫黄元素を含む成分及び上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ上記（１ａ）及び（１ｂ）の条件を満たすことがより好ましい。

　本発明の組成物が、塩素元素を含む成分を含有する場合、上記（２ａ）の条件を満たすことが好ましい。本発明の組成物が、臭素元素を含む成分を含有する場合、上記（２ａ）の条件を満たすことが好ましい。本発明の組成物が、上記のハロゲンアニオンを含む成分を含有する場合、上記（２ｂ）の条件を満たすことが好ましい。

　本発明の組成物は、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、及び、上記のハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ上記（２ａ）及び／又は（２ｂ）の条件を満たすことが好ましく、塩素元素を含む成分及び／又は臭素元素を含む成分、並びに、上記のハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ上記（２ａ）及び（２ｂ）の条件を満たすことがより好ましい。

　本発明の組成物は、硫黄元素を含む成分及び／又は上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ上記（１ａ）及び／又は（１ｂ）の条件を満たし、かつ、
塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、及び、上記のハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、上記（２ａ）及び／又は（２ｂ）の条件を満たすことがより好ましく、
硫黄元素を含む成分及び上記の硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ上記（１ａ）及び（１ｂ）の条件を満たし、かつ、塩素元素を含む成分及び／又は臭素元素を含む成分、並びに、上記のハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ上記（２ａ）及び（２ｂ）の条件を満たすことがさらに好ましい。

　本発明の組成物は、硫黄元素を含む成分、硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、及び、ハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上が、上記の（Ｉ）化合物を含むことが好ましい。（Ｉ）化合物に関する例示及び好ましい記載は、上記の通りである。

　一方、感光性組成物の保管安定性が悪い場合、例えば、室温で保管後の異物発生が課題となる場合もある。感光性組成物の保管中に異物が発生した場合、画素分割層の形成時、画素分割層中又は画素寸法制御層中や開口部に異物が残存し、このような異物により、発光素子の信頼性が低下する要因となる。本発明の組成物は、硫黄元素を含む成分、上記の硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、又は上記のハロゲンアニオンを含む成分の含有量を適切な範囲とすることで、保管安定性向上の効果が顕著となる。

　感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、硫黄元素の含有量は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上及び保管安定性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　感光性組成物中に占める塩素元素及び臭素元素の含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、塩素元素及び臭素元素の含有量の合計は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上及び保管安定性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンである硫黄元素の総量である。同様に、感光性組成物中に占める塩素元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンである塩素元素の総量である。同様に、感光性組成物中に占める臭素元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンである臭素元素の総量である。

　感光性組成物中に占める硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計は、１，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７００質量ｐｐｍ以下がより好ましい。また保管安定性向上の観点から、５００質量ｐｐｍ以下が好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がより好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　感光性組成物中に占める塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計は、１，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７００質量ｐｐｍ以下がより好ましい。また保管安定性向上の観点から、５００質量ｐｐｍ以下が好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がより好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　＜水の含有量＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、かつ下記（３）の条件を満たすことが好ましい。
（３）感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１～２．０質量％。

　感光性組成物中に微量の水を含有させることで、水分子が硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンと水素結合などの相互作用をすると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンが感光性組成物中で安定に存在できると考えられる。その結果、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。

　感光性組成物中に占める水の含有量は、０．０１質量％以上が好ましく、０．０３質量％以上がより好ましく、０．０５質量％以上がさらに好ましく、０．０７質量％以上がさらにより好ましく、０．１質量％以上が特に好ましい。一方、水の含有量は、３．５質量％以下が好ましく、３．０質量％以下がより好ましく、２．５質量％以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、２．０質量％以下が好ましく、１．７質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下がさらに好ましく、１．２質量％以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、１．０質量％以下が好ましく、０．７質量％以下がより好ましく、０．５質量％以下がさらに好ましい。

　＜ナトリウム元素、カリウム元素、マグネシウム元素、及びカルシウム元素の含有量＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、ナトリウム元素を含む成分、カリウム元素を含む成分、マグネシウム元素を含む成分、及び、カルシウム元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（４）の条件を満たすことが好ましい。
（４）感光性組成物中に占めるナトリウム元素、カリウム元素、マグネシウム元素、及びカルシウム元素の含有量の合計が０．０１～１００質量ｐｐｍ。

　感光性組成物中に微量のナトリウム元素を含む成分、カリウム元素を含む成分、マグネシウム元素を含む成分、又はカルシウム元素を含む成分を含有させることで、これらの金属元素が硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンと、イオン結合又は共有結合などの結合を形成して塩又は化合物を形成すると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンが感光性組成物中で安定に存在できると考えられる。その結果、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。また意図的にこれらの金属元素を含む成分を微量含有させることで、例えば有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層中における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。それにより、発光特性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ナトリウム元素を含む成分及び／又はカリウム元素を含む成分を含有することがより好ましく、ナトリウム元素を含む成分を含有することがさらに好ましい。本発明の組成物は、ナトリウム元素を含む成分及びカリウム元素を含む成分を含有することもさらに好ましい。また本発明の組成物は、マグネシウム元素を含む成分及びカルシウム元素を含む成分を含有することがより好ましい。本発明の組成物は、ナトリウム元素を含む成分及び／又はカリウム元素を含む成分を含有し、かつ、マグネシウム元素を含む成分及び／又はカルシウム元素を含む成分を含有することもさらに好ましい。

　本発明の組成物は、ナトリウム元素を含む成分、カリウム元素を含む成分、マグネシウム元素を含む成分、及び、カルシウム元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上が、上記の（Ｈ）無機粒子を含むことが好ましい。すなわち（Ｈ）無機粒子が、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、及び、カルシウムからなる群より選ばれる一種類以上の元素を含むことが好ましい。ナトリウム元素、カリウム元素、マグネシウム元素、及びカルシウム元素は、（Ｈ）無機粒子における主成分の元素と同じであっても構わない。（Ｈ）無機粒子は主成分の元素とは異なる元素として、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、及び、カルシウムからなる群より選ばれる一種類以上の元素を含むことも好ましい。（Ｈ）無機粒子に関する例示及び好ましい記載は、上記の通りである。

　ナトリウム元素及び／又はカリウム元素を含む（Ｈ）無機粒子は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ナトリウム元素及び／又はカリウム元素を含む（Ｈ１）シリカ粒子が好ましく、上述したナトリウム元素を含む（Ｈ１）シリカ粒子がより好ましい。

　感光性組成物中に占めるナトリウム元素、カリウム元素、マグネシウム元素、及びカルシウム元素の含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、ナトリウム元素、カリウム元素、マグネシウム元素、及びカルシウム元素の含有量の合計は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　感光性組成物中に占めるナトリウム元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンであるナトリウム元素の総量である。同様に、感光性組成物中に占めるカリウム元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンであるカリウム元素の総量である。同様に、感光性組成物中に占めるマグネシウム元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンであるマグネシウム元素の総量である。同様に、感光性組成物中に占めるカルシウム元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンであるカルシウム元素の総量である。

　＜ベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、ベンゼン、トルエン、キシレン、及び、ナフタレンからなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（５）の条件を満たすことが好ましい。
（５）感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計が０．０１～１００質量ｐｐｍ。

　感光性組成物中に微量のベンゼン、トルエン、キシレン、又はナフタレンを含有させることで、これらのπ電子を有する化合物が硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンと、π電子による配位結合などの相互作用をして錯体を形成すると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンが感光性組成物中で安定に存在できると考えられる。さらに、π電子を有する化合物間のπ電子相互作用により、これらの元素又はイオンが局所的に配向・凝集した状態にあると推定される。その結果、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。

　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、トルエン及び／又はキシレンを含有することがより好ましく、トルエンを含有することがさらに好ましい。本発明の組成物は、ベンゼン、トルエン、キシレン、及び、ナフタレンからなる群より選ばれる二種類以上を含有することもより好ましく、三種類以上を含有することもさらに好ましい。

　感光性組成物中に占めるベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、ベンゼン、トルエン、キシレン、及びナフタレンの含有量の合計は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　＜特定構造のグリコールエーテル化合物の含有量＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、一般式（２１）で表される化合物及び／又は一般式（２２）で表される化合物を含有し、かつ下記（６）の条件を満たすことが好ましい。本発明の組成物は、一般式（２１）で表される化合物及び一般式（２２）で表される化合物を含有することがより好ましい。
（６）感光性組成物中に占める一般式（２１）で表される化合物及び一般式（２２）で表される化合物の含有量の合計が０．００１～１．０質量％。

（一般式（２１）及び一般式（２２）において、Ｒ^５１～Ｒ^５３は、それぞれ独立して、炭素数１～６のアルキル基を表す。Ｒ^５４及びＲ^５５は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～６のアルキル基を表す。）
　感光性組成物中に微量の上記一般式（２１）で表される化合物又は微量の一般式（２２）で表される化合物を含有させることで、これらのグリコールエーテル基を有する特定化合物が硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンと、配位結合などの相互作用をして錯体を形成すると推定される。すなわち、これらの特定化合物が、近接する２つの酸素原子上の非共有電子対によるキレート型の配位子として機能すると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンが感光性組成物中で安定に存在できると考えられる。その結果、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。なお種々の検討を重ねた結果、このようなキレート型の配位子としての機能及び本発明における効果は、グリコールエーテル基を有する特定化合物による特異的な効果である。すなわち、感光性組成物中に微量の上記一般式（２１）で表される化合物又は微量の一般式（２２）で表される化合物を含有させることで、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。

　感光性組成物中に占める一般式（２１）で表される化合物及び一般式（２２）で表される化合物の含有量の合計は、０．００１質量％以上が好ましく、０．００３質量％以上がより好ましく、０．００５質量％以上がさらに好ましく、０．００７質量％以上がさらにより好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．０１質量％以上が好ましく、０．０３質量％以上がより好ましく、０．０５質量％以上がさらに好ましく、０．０７質量％以上がさらにより好ましく、０．１質量％以上が特に好ましい。一方、一般式（２１）で表される化合物及び一般式（２２）で表される化合物の含有量の合計は、２．５質量％以下が好ましく、２．０質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１．０質量％以下が好ましく、０．８５質量％以下がより好ましく、０．７５質量％以下がさらに好ましく、０．６０質量％以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、０．５０質量％以下が好ましく、０．３５質量％以下がより好ましく、０．２５質量％以下がさらに好ましい。

　＜界面活性剤の含有量＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、界面活性剤を含有し、界面活性剤が、以下の（ａ）フッ素を有する構造、（ｂ）シリル基を有する構造、及び、（ｃ）シロキサン結合を有する構造からなる群より選ばれる一種類以上の構造を含み、かつ下記（７）の条件を満たすことが好ましい。
本発明の組成物は、界面活性剤が、以下の（ｂ）シリル基を有する構造及び／又は（ｃ）シロキサン結合を有する構造を有することがより好ましい。
（ａ）フッ素を有する構造：２つ以上のフッ素原子を有するアルキル基及び／又は２つ以上のフッ素原子を有するアルキレン基、を含む構造
（ｂ）シリル基を有する構造：２つ以上のトリメチルシリル基を有するアルキル基、２つ以上のトリメチルシリル基を有するアルキレン基、及び、トリメチルシリル基を含む２つ以上の末端構造からなる群より選ばれる一種類以上、を含む構造
（ｃ）シロキサン結合を有する構造：２つ以上のジメチルシロキサン結合を有するアルキル基、２つ以上のジメチルシロキサン結合を有するアルキレン基、及び、２つ以上のジメチルシロキサン結合を有するポリジメチルシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上、を含む構造
（７）感光性組成物中に占める界面活性剤の含有量が１０～２，０００質量ｐｐｍ。

　感光性組成物中に特定構造を有する微量の界面活性剤を含有させることで、これらの化合物が第１電極の発光層側の表面と相互作用するため、感光性組成物中の疎水性の高い成分と第１電極の表面との間の過剰な相互作用を抑制し、疎水性の高い成分起因の残渣発生が抑制されると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンによる表面改質において、第１電極の表面における残渣発生による表面改質阻害を抑制できると考えられる。その結果、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。

　界面活性剤はポリマー鎖を有することが好ましく、ポリマー鎖の主鎖、ポリマー鎖の側鎖、及びポリマー鎖の末端のうち少なくとも１つに、上記の（ａ）フッ素を有する構造、（ｂ）シリル基を有する構造、及び、（ｃ）シロキサン結合を有する構造からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。ポリマー鎖を有する界面活性剤としては、例えば、フッ素樹脂系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、アクリル樹脂系界面活性剤、ポリオキシアルキレンエーテル系界面活性剤、ポリエステル系界面活性剤、ポリウレタン系界面活性剤、ポリオール系界面活性剤、ポリアルキレンアミン系界面活性剤、ポリエチレンイミン系界面活性剤、又はポリアリルアミン系界面活性剤が挙げられ、フッ素樹脂系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、又はアクリル樹脂系界面活性剤が好ましい。

　感光性組成物中に占める界面活性剤の含有量は、１０質量ｐｐｍ以上が好ましく、３０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、７０質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、１００質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、界面活性剤の含有量は、１５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、１０，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５，０００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、２，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、１，５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１，０００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、２００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　＜ハフニウム元素及びイットリウム元素の含有量＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、（Ｄ）着色剤が、黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有し、
さらに、ハフニウム元素を含む成分及び／又はイットリウム元素を含む成分を含有し、かつ下記（８）の条件を満たすことが好ましい。本発明の組成物は、ハフニウム元素を含む成分及びイットリウム元素を含む成分を含有することがより好ましい。
（８）感光性組成物中に占めるハフニウム元素及びイットリウム元素の含有量の合計が０．０１～１００質量ｐｐｍ。

　感光性組成物中に顔料と、微量のハフニウム元素を含む成分又はイットリウム元素を含む成分を含有させることで、顔料と第１電極の発光層側の表面との間の過剰な相互作用を抑制し、顔料起因の残渣発生が抑制されると推定される。またこれらの金属元素が硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンと、イオン結合又は配位結合などの相互作用をして塩又は錯体を形成すると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンが感光性組成物中で安定に存在できると考えられる。その結果、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。また意図的にこれらの金属元素を含む成分を微量含有させることで、例えば有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層中における分極構造や電荷バランスが制御されると考えられる。それにより、発光特性に悪影響を及ぼす金属不純物やイオン不純物に起因するイオンマイグレーションやエレクトロマイグレーションを抑制することで、発光素子の信頼性向上の効果が顕著になると推定される。

　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、ハフニウム元素を含む成分を含有することがより好ましい。本発明の組成物は、ハフニウム元素を含む成分及びイットリウム元素を含む成分を含有することがさらに好ましい。

　本発明の組成物は、ハフニウム元素を含む成分及び／又はイットリウム元素を含む成分が、上記の（Ｈ）無機粒子を含むことが好ましい。すなわち（Ｈ）無機粒子が、ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含むことが好ましい。ハフニウム元素及びイットリウム元素は、（Ｈ）無機粒子における主成分の元素と同じであっても構わない。（Ｈ）無機粒子は主成分の元素とは異なる元素として、ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含むことも好ましい。（Ｈ）無機粒子に関する例示及び好ましい記載は、上記の通りである。

　ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含む（Ｈ）無機粒子としては、例えば、酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）、ハフニウム元素以外の金属元素とハフニウム元素との複合酸化物、ハフニウム元素以外の金属元素の酸化物と酸化ハフニウムとの固溶体、酸窒化ハフニウム、ハフニウム元素以外の金属元素とハフニウム元素との複合酸窒化物、又はハフニウム元素以外の金属元素の酸窒化物と酸窒化ハフニウムとの固溶体が挙げられる。発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）又はハフニウム元素以外の金属元素とハフニウム元素との複合酸化物が好ましく、ジルコニウム元素とハフニウム元素との複合酸化物（ＺｒＯ_２－ＨｆＯ_２）がより好ましい。ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含む（Ｈ）無機粒子としては、例えば、Ｈａｆｎｉｕｍ　ｏｘｉｄｅ　Ｐ、同　Ｒ、若しくは同　Ｓ（以上、いずれもＡＴＩ　ＭＥＴＡＬＳ社製）、又は酸化ハフニウム微粒子（高純度化学研究所社製）が挙げられる。

　ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含む（Ｈ）無機粒子は、（Ｄ）着色剤として顔料を含む顔料分散液に含まれる成分であることも好ましい。例えば、感光性組成物が（Ｄ）着色剤として顔料を含む場合であって、感光性組成物の製造において顔料分散液とその他の成分とを混合する場合、ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含む（Ｈ）無機粒子を顔料分散液に含まれる成分として感光性組成物中に含有させることができる。（Ｄ）着色剤として顔料を含む顔料分散液を調製する際、ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含む（Ｈ）無機粒子を含有する粉砕メディアを用いて、粉砕メディアの表面を機械的エネルギーにより湿式研磨して生じた微粒子を顔料と共分散させることが好ましい。このような方法により、ハフニウム元素及び／又はイットリウム元素を含む（Ｈ）無機粒子を顔料分散液に含有させることができ、得られた顔料分散液を用いて感光性組成物を製造することで、感光性組成物中に含有させることができる。

　感光性組成物中に占めるハフニウム元素及びイットリウム元素の含有量の合計は、０．０１質量ｐｐｍ以上が好ましく、０．０３質量ｐｐｍ以上がより好ましく、０．０５質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、０．０７質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、０．１質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、ハフニウム元素及びイットリウム元素の含有量の合計は、７００質量ｐｐｍ以下が好ましく、５００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、１００質量ｐｐｍ以下が好ましく、７０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、３０質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、１０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。さらに、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、７質量ｐｐｍ以下が好ましく、５質量ｐｐｍ以下がより好ましく、３質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　感光性組成物中に占めるハフニウム元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンであるハフニウム元素の総量である。同様に、感光性組成物中に占めるイットリウム元素の含有量は、単体、イオン、化合物、又は化合物イオンであるイットリウム元素の総量である。

　＜ポリオキシアルキレンエーテル化合物の含有量＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、ポリオキシアルキレンエーテル化合物を含有し、ポリオキシアルキレンエーテル化合物が、以下の（ａ）疎水性構造及び（ｂ）親水性構造を有し、かつ下記（９）の条件を満たすことが好ましい。
（ａ）疎水性構造：炭素数１～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数６～１５のアリール基、炭素数７～２５のアリールアルキル基、炭素数７～２５のアルキルアリール基、及び、炭素数７～２５のアリールアルキル基が少なくとも２つ結合した炭素数６～１５のアリール基、からなる群より選ばれる基を含む構造
（ｂ）親水性構造：２～２０個の炭素数１～６のオキシアルキレン基
（９）感光性組成物中に占めるポリオキシアルキレンエーテル化合物の含有量が１０～５，０００質量ｐｐｍ。

　感光性組成物中に特定構造を有する微量のポリオキシアルキレンエーテル化合物を含有させることで、本化合物が第１電極の発光層側の表面に吸着して表面修飾し、感光性組成物中の疎水性の高い成分が第１電極の表面に付着した場合におけるアルカリ現像液に対する溶解促進作用を有するため、疎水性の高い成分起因の残渣発生が抑制されると推定される。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンによる表面改質において、第１電極の表面における残渣発生による表面改質阻害を抑制できると考えられる。その結果、第１電極上に感光性組成物のパターンを形成する際、画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に相当する第１電極の発光層側の表面における表面改質作用を促進すると推定される。

　（ａ）疎水性構造において、炭素数１～３０の１～２価の脂肪族基は、炭素数４～１２の１～２価の脂肪族基が好ましい。炭素数６～１５のアリール基は、炭素数６～１０のアリール基が好ましい。炭素数７～２５のアリールアルキル基は、炭素数７～１５のアリールアルキル基が好ましい。炭素数７～２５のアルキルアリール基は、炭素数７～１５のアルキルアリール基が好ましい。炭素数７～２５のアリールアルキル基が少なくとも２つ結合した炭素数６～１５のアリール基は、炭素数６～１５のアリール基を有する炭素数２～５のアルケニル基が少なくとも２つ結合した、炭素数６～１５のアリール基が好ましい。（ａ）疎水性構造は、炭素数７～２５のアリールアルキル基が少なくとも２つ結合した炭素数６～１５のアリール基を有することがより好ましい。

　（ｂ）親水性構造において、炭素数１～６のオキシアルキレン基は、オキシエチレン基又はオキシプロピレン基が好ましく、オキシエチレン基がより好ましい。（ｂ）親水性構造において、炭素数１～６のオキシアルキレン基数は、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、炭素数１～６のオキシアルキレン基数は、２０個以下が好ましく、１５個以下がより好ましく、１０個以下がさらに好ましい。

　ポリオキシアルキレンエーテル化合物は、さらに、以下の（ｃ）親水性基を有することがより好ましい。
（ｃ）親水性基：フェノール性水酸基及び／又は炭素数１～６のオキシアルキレン基に結合するヒドロキシ基。

　（ｃ）親水性基において、フェノール性水酸基数は、１個以上が好ましく、２個以上がより好ましく、３個以上がさらに好ましい。一方、フェノール性水酸基数は、１０個以下が好ましく、８個以下がより好ましく、６個以下がさらに好ましい。炭素数１～６のオキシアルキレン基に結合するヒドロキシ基数は、１個以上が好ましく、２個以上がより好ましく、３個以上がさらに好ましい。一方、炭素数１～６のオキシアルキレン基に結合するヒドロキシ基数数は、１０個以下が好ましく、８個以下がより好ましく、６個以下がさらに好ましい。

　感光性組成物中に占めるポリオキシアルキレンエーテル化合物の含有量は、１０質量ｐｐｍ以上が好ましく、３０質量ｐｐｍ以上がより好ましく、５０質量ｐｐｍ以上がさらに好ましく、７０質量ｐｐｍ以上がさらにより好ましく、１００質量ｐｐｍ以上が特に好ましい。一方、ポリオキシアルキレンエーテル化合物の含有量は、１５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、１０，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、７，０００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましい。さらに、発光素子の信頼性向上の観点から、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１，５００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１，０００質量ｐｐｍ以下がさらにより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。

　＜溶解促進剤＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、溶解促進剤を含有することが好ましい。溶解促進剤とは、アルカリ現像液へ溶解可能な酸性基及び／又は親水性基を有する化合物をいう。溶解促進剤を含有させることで、感光性組成物中の疎水性の高い成分起因の残渣発生抑制の効果が顕著となる。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンによる表面改質において、第１電極の表面における残渣発生による表面改質阻害を抑制できると考えられる。

　溶解促進剤は、多官能カルボン酸化合物、多官能フェノール化合物、及び、ヒドロキシイミド化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有することが好ましく、多官能フェノール化合物を含有することがより好ましい。溶解促進剤は、フェノール性水酸基を有することが好ましい。溶解促進剤が有するフェノール性水酸基数は、２個以上が好ましく、３個以上がより好ましく、４個以上がさらに好ましい。一方、フェノール性水酸基数は、１０個以下が好ましく、８個以下がより好ましく、６個以下がさらに好ましい。

　＜撥インク剤＞
　本発明の組成物は、発光特性の低電圧駆動化、発光輝度向上、及び発光素子の信頼性向上の観点から、さらに、撥インク剤を含有することが好ましい。撥インク剤とは、撥水性の構造及び／又は撥油性の構造を有し、かつ反応性基を有する化合物をいう。撥インク剤を含有させることで膜の撥液性を向上できるため、膜の純水に対する接触角及び／又は膜の有機溶剤に対する接触角向上の効果が顕著となる。また感光性組成物中の疎水性の高い成分起因の残渣発生抑制の効果が顕著となる。そのため、硫黄元素、上記の硫黄系アニオン、塩素元素、臭素元素、又は上記のハロゲンアニオンによる表面改質において、第１電極の表面における残渣発生による表面改質阻害を抑制できると考えられる。

　撥インク剤が有する撥水性の構造及び／又は撥油性の構造は、（ａ）フッ素を有する構造、（ｂ）シリル基を有する構造、及び、（ｃ）シロキサン結合を有する構造からなる群より選ばれる一種類以上を有することが好ましい。
（ａ）フッ素を有する構造：２つ以上のフッ素原子を有するアルキル基及び／又は２つ以上のフッ素原子を有するアルキレン基を含む構造
（ｂ）シリル基を有する構造：２つ以上のトリメチルシリル基を有するアルキル基及び／又は２つ以上のトリメチルシリル基を有するアルキレン基を含む構造
（ｃ）シロキサン結合を有する構造：２つ以上のジメチルシロキサン結合を有するアルキル基、２つ以上のジメチルシロキサン結合を有するアルキレン基、及び、２つ以上のジメチルシロキサン結合を有するポリジメチルシロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造。

　撥インク剤が有する反応性基は、少なくとも２つのラジカル重合性基及び／又は少なくとも２つの熱反応性基を有することが好ましい。ラジカル重合性基は、エチレン性不飽和二重結合基が好ましい。ラジカル重合性基は、光反応性基、炭素数２～５のアルケニル基、及び、炭素数２～５のアルキニル基からなる群より選ばれる一種類以上がより好ましい。光反応性基は、スチリル基、シンナモイル基、マレイミド基、ナジイミド基、又は（メタ）アクリロイル基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。一方、炭素数２～５のアルケニル基又は炭素数２～５のアルキニル基は、ビニル基、アリル基、２－メチル－２－プロペニル基、クロトニル基、２－メチル－２－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、２，３－ジメチル－２－ブテニル基、エチニル基、又は２－プロパルギル基が好ましく、ビニル基又はアリル基がより好ましい。熱反応性基は、アルコキシメチル基、メチロール基、エポキシ基、オキセタニル基、又はブロックイソシアネート基が好ましい。

　撥インク剤はポリマー鎖を有することが好ましく、ポリマー鎖の主鎖、ポリマー鎖の側鎖、及びポリマー鎖の末端のうち少なくとも１つに、上記の撥水性の構造及び／又は撥油性の構造を有することが好ましい。またポリマー鎖の主鎖、ポリマー鎖の側鎖、及びポリマー鎖の末端のうち少なくとも１つに、上記の反応性基を有することが好ましい。ポリマー鎖を有する撥インク剤としては、例えば、フッ素樹脂系撥インク剤、シリコーン系撥インク剤、アクリル樹脂系撥インク剤、ポリオキシアルキレンエーテル系撥インク剤、ポリエステル系撥インク剤、ポリウレタン系撥インク剤、ポリオール系撥インク剤、ポリアルキレンアミン系撥インク剤、ポリエチレンイミン系撥インク剤、又はポリアリルアミン系撥インク剤が挙げられ、フッ素樹脂系撥インク剤、シリコーン系撥インク剤、又はアクリル樹脂系撥インク剤が好ましい。

　＜その他の添加剤＞
　本発明の組成物は、増感剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、及び、シランカップリング剤からなる群より選ばれる一種類以上を含有することも好ましい。増感剤は、フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、フルオレノン構造、又はチオキサントン構造を有する化合物が好ましい。連鎖移動剤は、メルカプト基を少なくとも２つ有する化合物が好ましい。重合禁止剤は、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、又はベンゾイミダゾール化合物が好ましい。シランカップリング剤は、三官能オルガノシラン、四官能オルガノシラン、又はシリケート化合物が好ましい。

　＜溶剤＞
　本発明の組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤を含有させることで、感光性組成物及び／又は非感光性組成物の膜を基板上に所望の膜厚で成膜でき、塗膜の膜厚均一性向上の効果が顕著となる。溶剤は、各種樹脂及び各種添加剤の溶解性の観点から、アルコール性水酸基を有する化合物、カルボニル基を有する化合物、エステル結合を有する化合物、又はエーテル結合を少なくとも３つ有する化合物が好ましい。感光性組成物に占める溶剤の含有比率は、塗布方法などに応じて適宜調整可能である。例えば、スピンコーティングにより塗膜を形成する場合、感光性組成物に占める溶剤の含有比率は５０～９５質量％とすることが一般的である。

　本発明の組成物が（Ｄ）着色剤を含有し、（Ｄ）着色剤が顔料を含有する場合、溶剤はカルボニル基を有する溶剤及び／又はエステル結合を有する溶剤を含有することが好ましい。カルボニル基は、アルキルカルボニル基、ジアルキルカルボニル基、ホルミル基、カルボキシ基、アミド基、イミド基、ウレア結合、又はウレタン結合が好ましい。エステル結合は、カルボン酸エステル結合、炭酸エステル結合、又はギ酸エステル結合が好ましく、カルボン酸エステル結合がより好ましい。カルボン酸エステル結合の中でも、アセテート結合、プロピオネート結合、又はブチレート結合がより好ましく、アセテート結合がさらに好ましい。溶剤に占めるカルボニル基を有する溶剤及びエステル結合を有する溶剤の含有比率の合計は、現像後の残渣抑制及び現像後の解像度向上の観点から、３０～１００質量％が好ましく、５０～１００質量％がより好ましく、７０～１００質量％がさらに好ましい。

　＜本発明の組成物の製造方法＞
　本発明の組成物の代表的な製造方法について説明する。本発明の組成物が（Ｄ）着色剤を含有し、（Ｄ）着色剤が顔料を含有する場合、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の溶液に必要に応じて（Ｅ）分散剤を加え、その混合溶液に分散機を用いて顔料を分散させ、顔料分散液を調製する。次に、この顔料分散液に、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）ラジカル重合性化合物、（Ｃ）感光剤、必要に応じてその他の添加剤、及び任意の溶剤を加え、２０分～３時間攪拌して均一な溶液とする。攪拌後、得られた溶液を濾過することで本発明の組成物が得られる。分散機は、現像後の残渣抑制の観点から、ビーズミルが好ましい。ビーズミルにおける粉砕メディアとしては、例えば、チタニアビーズ、ジルコニアビーズ、又はジルコンビーズが挙げられる。粉砕メディアは、ジルコニアビーズが好ましく、ジルコニア（ＺｒＯ_２）と酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）との純分が９０質量％以上のセラミックビーズ、又は、ジルコニウム元素とハフニウム元素との複合酸化物（ＺｒＯ_２－ＨｆＯ_２）の純分が９０質量％以上のセラミックビーズがより好ましい。粉砕メディア径は、０．０１ｍｍ以上が好ましく、０．０１５ｍｍ以上がより好ましく、００３ｍｍ以上がさらに好ましい。一方、粉砕メディア系は、６ｍｍ以下が好ましく、５ｍｍ以下がより好ましく、３ｍｍ以下がさらに好ましい。

　＜硬化物と硬化物の光学濃度、テーパー角、段差形状、及び接触角＞
　本発明の硬化物は本発明の組成物を硬化したものである。硬化とは、反応により架橋構造が形成され、膜の流動性が無くなること、又、その状態をいう。反応は、加熱によるもの、エネルギー線の照射によるもの等、特に限定されるものではないが、加熱によるものが好ましい。加熱によって架橋構造が形成され、膜の流動性が無くなった状態を熱硬化という。加熱条件としては、例えば、１５０～５００℃で、５～３００分間加熱するなどの条件である。加熱方法としては、例えば、オーブン、ホットプレート、赤外線、フラッシュアニール装置、又はレーザーアニール装置を用いて加熱する方法が挙げられる。処理雰囲気としては、例えば、空気、酸素、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン若しくはキセノン雰囲気下、酸素を１～１０，０００質量ｐｐｍ（０．０００１～１質量％）未満含有するガス雰囲気下、酸素を１０，０００質量ｐｐｍ（１質量％）以上含有するガス雰囲気下、又は、真空下が挙げられる。

　本発明の組成物を硬化した硬化膜において、膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長（３８０～７８０ｎｍ）における光学濃度は、外光反射抑制、及び隣接画素からの光漏れ防止の観点から、０．５～３．０が好ましい。膜厚１μｍ当たりの光学濃度は、上述した（Ｄ）着色剤の組成及び含有比率により調節できる。ここで本発明の組成物を硬化した硬化膜の光学濃度に関しては、上述した画素分割層の光学濃度に関する記載の通りである。本発明の組成物を硬化した硬化膜が含む、硬化パターンの断面における傾斜辺のテーパー角は、電極断線防止、及び有機ＥＬディスプレイにおける発光素子の信頼性向上の観点から、１０～５５°が好ましい。

　本発明の組成物を硬化した硬化膜が含む、段差形状を有する硬化パターンの断面の一例を示す模式的断面図を同様に図８に示す。図８に関する例示及び好ましい記載は上述した通りである。本発明の組成物を硬化した硬化膜が含む、段差形状を有する硬化パターンに関する例示及び好ましい記載は、上記の画素分割層が有する段差形状を有する硬化パターンにおける記載の通りである。（Ｔ_ＦＴ）μｍと（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍが１．５μｍ以上であると、発光層を形成する際の蒸着マスクとの接触面積を小さくできるため、パネルの歩留まり低下抑制、及び有機ＥＬディスプレイにおける発光素子の信頼性向上の効果が顕著となる。また、段差形状を有する硬化パターン一層で十分な膜厚差を有するため、プロセスタイム削減・生産性向上の効果が顕著となる。一方、膜厚差が１０．０μｍ以下であると、段差形状を有する硬化パターン形成時の露光量を低減できるため、プロセスタイム削減・生産性向上の効果が顕著となる。

　本発明の組成物を硬化した硬化膜は、純水及び／又は有機溶剤に対する接触角が特定範囲であることが好ましい。そのような場合、本発明の組成物を硬化した硬化膜は、有機ＥＬディスプレイの画素分割層であることが好ましい。

　＜本発明の硬化物を具備する表示装置及び半導体装置＞
　以下、本発明の硬化物を具備する表示装置について述べる。本発明の表示装置としては、例えば、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、マイクロＬＥＤディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、又は電界放出ディスプレイが挙げられる。本発明の表示装置は、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、又はマイクロＬＥＤディスプレイが好ましく、有機ＥＬディスプレイがより好ましい。

　本発明の組成物は、所望の電流密度を得るにあたり、低電圧駆動が可能な優れた発光特性を有するとともに、発光素子の高信頼性を兼ね備えることが可能である。そのため、上述した硬化条件にて本発明の組成物を硬化した硬化膜は、有機ＥＬディスプレイの画素分割層、ＴＦＴ平坦化層、ＴＦＴ保護層、層間絶縁層、又はゲート絶縁層として特に好ましい。また、ブラックマトリックス又はブラックカラムスペーサーとしても好ましく、有機ＥＬディスプレイに特に好適に具備できる。その結果、発光素子の高信頼性によって有機ＥＬディスプレイの耐久性向上を実現できる。上述した理由により、本発明の組成物は有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層を形成するための用途において、特に好適である。さらに、有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層の段差形状を一括形成するための用途において、特に好適である。すなわち、本発明の組成物は、有機ＥＬディスプレイにおける画素分割層の段差形状を一括形成するために用いられることが好ましい。

　また本発明の組成物は、感光性組成物中に微量の硫黄元素を含む成分、上記の硫黄系アニオンを含む成分、塩素元素を含む成分、臭素元素を含む成分、又は上記のハロゲンアニオンを含む成分を含有する。そのため、上述した硬化条件にて本発明の組成物を硬化した硬化膜は、半導体装置や多層配線板等の電子部品にも好適に具備できる。具体的には、半導体のパッシベーション膜、半導体素子の保護膜、高密度実装用多層配線の層間絶縁膜、再配線間の層間絶縁膜にも好適に具備できる。

　すなわち、本発明の半導体装置は、金属配線及び絶縁膜を有する半導体装置であって、本発明の組成物を硬化した硬化膜を、絶縁膜として有する半導体装置である。半導体装置とは、一般的に、半導体素子やそれを集積した集積回路を部品として含む装置を指す。本発明における半導体装置は、半導体素子を含む装置のみでなく、配線基板等の半導体装置用の部品も含むものとする。また半導体素子などが封止樹脂によって保護され、さらに外部と電気接続する機能を持たせた半導体パッケージも本発明の半導体装置に含まれる。

　＜表示装置＞
　本発明の表示装置は、本発明の硬化物を具備する。本発明の表示装置は、基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であることが好ましい。本発明の表示装置は、画素分割層が本発明の硬化物であることが好ましい。また本発明の硬化物を具備する表示装置は、有機ＥＬディスプレイであることが好ましい。

　本発明の組成物において、（Ｄ）着色剤が（Ｄａ）黒色剤を含む場合、硬化膜の遮光性向上が可能となる。そのため、本発明の組成物を硬化した硬化膜を具備する表示装置は、発光層を含む有機層の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、又は円偏光板などの偏光フィルムを有しなくても、電極配線の可視化防止及び外光反射抑制の効果が顕著となる。すなわち、フレキシブル性及び折り曲げ性に乏しい偏光フィルムを有しないことで、フレキシブル性向上及び折り曲げ性向上の効果が顕著となる。従って、硬化膜がフレキシブル基板上に積層されている構造を有し、発光層を含む有機層の光取り出し側に偏光フィルムを有しない、フレキシブル性を有する表示装置に特に好適である。

　＜硬化物の製造方法＞
　本発明の硬化物の製造方法は、以下の（１）～（４）の工程を有する。
（１）基板上に、本発明の組成物の塗膜を成膜する工程、
（２）感光性組成物の塗膜にフォトマスクを介して活性化学線を照射する工程、
（３）現像液を用いて現像し、感光性組成物のパターンを形成する工程、及び、
（４）パターンを加熱し、感光性組成物の硬化パターンを得る工程。
なおこれらの工程において、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０４５３］～段落［０４８１］に記載の各方法を適用しても構わない。塗膜を成膜する工程は、塗布した後、プリベークして成膜することが好ましい。硬化パターンを得る工程は、パターンを加熱して熱硬化させることが好ましい。

　＜表示装置の製造プロセスの模式的断面図＞
　本発明の表示装置において、段差形状を有する画素分割層を含む表示装置の製造プロセスを例に、図９に模式的断面図を示して説明する。まず、（工程１）基板１０１上に、ＴＦＴ素子層１０３を形成した後、スパッタ法とフォトレジストを用いたエッチング法に基づくパターン加工による導電層／金属配線１０２の形成、及び、感光性組成物を用いたフォトリソグラフィー法に基づくパターン加工による層間絶縁層１０４の形成を複数回繰り返し、導電層／金属配線１０２と層間絶縁層１０４の積層構造を形成する。次に、（工程２）感光性組成物を用いたフォトリソグラフィー法に基づくパターン加工によってＴＦＴ平坦化層／ＴＦＴ保護層１０５を形成した後、スパッタ法とフォトレジストを用いたエッチング法に基づくパターン加工によって銀‐パラジウム‐銅合金（以下、「ＡＰＣ」）層を成膜し、さらに、ＡＰＣ層の上層に同様にスパッタ法とエッチング法で酸化インジウムスズ（以下、「ＩＴＯ」）層を成膜して非透明電極（反射電極）である第１電極１０７を形成する。その後、（工程３）感光性組成物及びハーフトーンフォトマスクを用いたフォトリソグラフィー法に基づくパターン加工によって、画素分割層における厚膜部１１６を含む段差形状を有する画素分割層１０６Ａを形成する。次いで、（工程４）蒸着マスクを用いた蒸着法でＥＬ発光材料を成膜して発光層を含む有機層１０８を形成した後、蒸着法でマグネシウム‐銀合金（以下、「ＭｇＡｇ」）層を成膜して透明電極である第２電極１０９を形成する。さらに、化学気相成長法で四窒化三ケイ素層を成膜して封止層１１０を形成した後、蒸着法とエッチング法でタッチパネル配線／タッチパネル電極１１１を形成する。次に、（工程５）感光性組成物を用いたフォトリソグラフィー法に基づくパターン加工によってカラーフィルタ層１１２を形成した後、同様にフォトリソグラフィー法でブラックマトリックス層１１３を形成する。その後、（工程６）感光性組成物を用いたフォトリソグラフィー法に基づくパターン加工によってオーバーコート層１１４を形成した後、対向する基板１１５を接合させることで、段差形状を有する画素分割層を含む表示装置を得る。

　＜表示装置の製造方法＞
　本発明の表示装置の製造方法は、
（１）第１電極を形成する工程、
（２）第１電極上に、画素分割層を形成する工程、
（３）第１電極上に、発光層を含む有機層を形成する工程、
（４）発光層を含む有機層上に、第２電極を形成する工程、
（５）封止層を形成する工程、及び、
（６）カラーフィルタ層及びブラックマトリックス層を形成する工程、を有する、表示装置の製造方法であることが好ましい。

　本発明の表示装置の製造方法は、（２）第１電極上に、画素分割層を形成する工程の後、第１電極上及び画素分割層上に、画素寸法制御層を形成する工程を有することも好ましい。

　本発明の表示装置の製造方法は、（２）第１電極上に、画素分割層を形成する工程の後、画素分割層上に、スペーサ層を形成する工程を有することも好ましい。

　以上の工程により、第１電極と第２電極とが交差し、かつ画素分割層部の開口部又は画素寸法制御層部の開口部に対応する画素部を有する表示装置を製造可能である。本発明の表示装置における画素部は、対向配置された第１電極と第２電極とが交差して重なる箇所であって、さらに、第１電極上の画素分割層部によって区画される箇所であって、第１電極上かつ発光層を含む有機層が形成された箇所であることが好ましい。アクティブマトリックス型表示装置において、スイッチング手段が形成される構造が画素部の一部と重畳することがある。そのような構成の場合、画素部の形状は一部が欠落した形状であっても構わない。

　本発明の表示装置の製造方法は、上述した（６）工程の後、さらに、無機層及び／又は有機層の積層構造を形成する工程を有することが好ましい。また、カラーフィルタ層、ブラックマトリックス層、又はオーバーコート層（以下、「カラーフィルタ層等」）の上層に、さらに、無機層及び／又は有機層の積層構造を形成する工程（以下、「カラーフィルタ層等の上層における積層工程」）を有することがより好ましい。カラーフィルタ層等の上層における積層工程は、同一の基板上における、カラーフィルタ層等の上層に、無機層及び／又は有機層の積層構造を形成する工程が好ましい。一方、カラーフィルタ層等の上層における積層工程は、異なる基板上に、無機層及び／又は有機層の積層構造を形成する工程の後、無機層及び／又は有機層の積層構造を、カラーフィルタ層等の上層に貼り合わせる工程も好ましい。また、無機層及び／又は有機層の積層構造を、カラーフィルタ層等の上層に接着層で貼り合わせる工程がより好ましい。無機層及び有機層としては、例えば、接着層、金属配線、配線電極、タッチパネル配線、タッチパネル電極、層間絶縁層、配線保護層、段差平坦化層、直線偏光板、１／４波長板、円偏光板、又は基板が挙げられる。

　本発明の表示装置の製造方法は、有機ＥＬディスプレイ、量子ドットディスプレイ、又はマイクロＬＥＤディスプレイの製造に好適であり、有機ＥＬディスプレイの製造に特に好適である。

　以下に実施例、参考例、及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの範囲に限定されない。なお、以下実施例の説明または表で用いた化合物のうち略語を使用しているものについて、略語に対応する名称を、まとめて表１－１に示す。

　＜各樹脂の合成例＞
　（Ａ）アルカリ可溶性樹脂として、合成例１～２２で得られた各樹脂の組成を、まとめて表１－２～表１－５に示す。各樹脂は以下の文献に記載の方法に基づき、適宜モノマーとなる単量体化合物や共重合比率を変更して、公知の方法により合成した。モノマーの共重合比率は、表１－２～表１－５の通りである。
合成例１及び２は、国際公開第２０１７／０５７２８１号の段落［０５４４］の合成例１に記載の方法。
合成例４は、国際公開第２０１７／０５７２８１号の段落［０５４８］の合成例１５に記載の方法。
合成例５は、国際公開第２０１７／０５７２８１号の段落［０５４６］の合成例１２に記載の方法。
合成例９は、国際公開第２０１７／０５７２８１号の段落［０５５３］の合成例３０に記載の方法。
合成例１０は、国際公開第２０１７／０５７２８１号の段落［０５６３］の合成例４５に記載の方法。
合成例２１及び２２は、国際公開第２０１７／０５７２８１号の段落［０５６４］の合成例４６に記載の方法。
合成例３は、国際公開第２０１７／１５９８７６号の段落［０７２６］の合成例６に記載の方法。
合成例１１及び１２は、国際公開第２０１７／１５９８７６号の段落［０７４４］の合成例２５に記載の方法。
合成例１３は、国際公開第２０１７／１５９８７６号の段落［０７３９］の合成例２０に記載の方法。
合成例１５～１８は、国際公開第２０１７／１５９８７６号の段落［０７４０］の合成例２１に記載の方法。
合成例１９は、国際公開第２０１７／１５９８７６号の段落［０７４２］の合成例２３に記載の方法。
合成例６は、国際公開第２０１７／０５７１４３号の段落［０１６１］の合成例９に記載の方法。
合成例７及び８は、国際公開第２０１８／１５９３８４号の段落［０１６０］の合成例９に記載の方法。
合成例１４は、国際公開第２０１２／１４１１６５号の段落［０１２０］の合成例５に記載の方法。
合成例２０は、特開２０２０－０４２１５０号公報の段落［０１７１］の製造例１に記載の方法。

　なお、合成例３及び８は、国際公開第２０１７／１５９８７６号の段落［０７２６］の合成例６に記載の方法に基づき、ラジカル重合性基を導入した。
合成例１３、１７、及び２２は、国際公開第２０１７／１５９８７６号の段落［０７３９］の合成例２０に記載の方法に基づき、ラジカル重合性基を導入した。
合成例１１において、エポキシ基を有するＮＣ－３０００－Ｈに対して、不飽和カルボン酸を反応させており、ＮＣ－３０００－Ｈ由来のエポキシ基に対して全て開環付加させた。
合成例１２において、エポキシ基を有するＮＣ－３５００に対して、不飽和カルボン酸を反応させており、ＮＣ－３５００由来のエポキシ基に対して全て開環付加させた。
合成例１３、１７、及び２２において、エポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
合成例２０において、エポキシ基を有するＮＣ－３０００－Ｈ由来の構造単位に対して、カルボキシ基含有フェノール化合物を反応させており、ＮＣ－３０００－Ｈ由来のエポキシ基に対して全て開環付加させた。
合成例２１において、エポキシ基を有するＧＭＡ由来の構造単位に対して、カルボキシ基含有フェノール化合物を反応させており、ＧＭＡ由来のエポキシ基に対して全て開環付加させた。

　合成例４で使用した下記構造のヒドロキシ基含有ジアミンである（ＨＡ）は、国際公開第２０１６／０５６４５１号の段落［０３７４］～段落［０３７６］における、合成例１に記載の合成方法に基づき、公知の方法により合成した。なお下記構造のヒドロキシ基含有ジアミンである（ＨＡ）を用いて合成例４で得られた樹脂は、アミド酸エステル構造単位、アミド酸構造単位、及びイミド閉環構造を有するポリイミド前駆体である。

　合成例１４において、国際公開第２０１２／１４１１６５号の段落［０１０９］～段落［０１２２］における、合成例３及び合成例５に記載の合成方法に基づき、ＸＬＮと４－ヒドロキシベンズアルデヒドとの縮合反応物に代えて、ＸＬＮとＳＡＤとの縮合反応物として下記構造のフェノール化合物を合成し、得られたフェノール化合物をアルデヒド化合物との縮合反応に使用した。

　合成例４において、樹脂中のアミド酸構造単位に対してエステル化剤であるＤＦＡを反応させており、メチル基を有するアミド酸エステル構造単位に構造変換させた。
合成例１３において、樹脂中のＭＡＡに由来するカルボキシ基に対してエポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。
合成例２２において、樹脂中のＨＰＭＡに由来するフェノール性水酸基に対してエポキシ基を有するＧＭＡを反応させており、ＧＭＡのエポキシ基を全て開環付加させた。

　各合成例で得られた樹脂、並びに、各実施例、参考例、及び比較例で使用した樹脂について、各樹脂が有する構造単位と構造を、まとめて表２－１に示す。

　＜各顔料分散液の調製例＞
　調製例１　顔料分散液（Ｂｋ－１）の調製
　分散剤としてＡＤＰを３５．０ｇ、溶剤としてＰＧＭＥＡを７６５．０ｇ秤量して混合し、１０分間攪拌して拡散した後、着色剤としてＢｋ－Ｓ０１００ＣＦを１００．０ｇ秤量して混合して３０分間攪拌して予備攪拌液を得た。粉砕メディアとして、ジルコニウム元素とハフニウム元素との複合酸化物（ＺｒＯ_２－ＨｆＯ_２）の純分が９０質量％以上のセラミックビーズである０．４０ｍｍφの複合酸化物からなる粉砕メディア（ジルコニア（ＺｒＯ_２）／酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）／酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）＝９３．３／１．５／４．９／０．３（質量比））がベッセル内に充填された縦型ビーズミルに予備攪拌液を送液し、循環方式で第一の湿式メディア分散処理を周速８ｍ／ｓで３時間行った。さらに、粉砕メディアとして、０．０５ｍｍφの複合酸化物からなる粉砕メディア（ジルコニア（ＺｒＯ_２）／酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）／酸化イットリウム（Ｙ_２Ｏ_３）／酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）＝９３．３／１．５／４．９／０．３（質量比））がベッセル内に充填された縦型ビーズミルに送液し、数平均粒子径が８０ｎｍとなるように循環方式で第二の湿式メディア分散処理を周速９ｍ／ｓで行った。その後、０．８０μｍφのフィルターで濾過を行い、固形分濃度１５質量％、着色剤／分散剤＝１００／３５（質量比）の顔料分散液（Ｂｋ－１）を得た。得られた顔料分散液中の顔料の平均一次粒子径は８０ｎｍであった。

　顔料分散液として、調製例１～７で得られた各分散液の組成を、まとめて表２－２に示す。調製例２～７は、各顔料分散液を調製例１と同様の方法により調製した。なお、調製例６で使用した表面被覆ベンゾフラノン系黒色顔料（Ｂｋ－ＣＢＦ１）は、国際公開第２０１９／０８７９８５号の段落［０５０３］～段落［０５０５］における、被覆例１に記載の合成方法に基づき、公知の方法により合成した。調製例７で使用した表面被覆ペリレン系黒色顔料（Ｂｋ－ＣＰＲ１）は、国際公開第２０１８／０３８０８３号の段落［０１８６］～段落［０１８８］及び段落［０１９１］における、実施例１８に記載の合成方法に基づき、公知の方法により合成した。また、調製例１～７で使用したポリアルキレンアミン系－ポリオキシアルキレンエーテル系分散剤（ＡＤＰ）は、特開２０２０－０７０３５２号公報の段落［０１３８］～段落［０１４１］における、合成例２に記載の方法に基づき、公知の方法により合成した。各実施例、参考例、及び比較例で使用した（Ｄ）着色剤及び（Ｅ）分散剤の一覧と説明も、まとめて表２－２に示す。

　合成例２３　シリカ粒子（ＳＰ－１）分散液の合成
　三口フラスコに、溶剤としてＭＥＫを１０４．５ｇ、ナトリウム元素を含有するシリカ粒子分散液としてＭＥＫ－ＳＴ－４０を１４２．５ｇ、重合禁止剤としてＭＯＰを０．０１ｇ秤量して添加して混合し、１０分間攪拌した後、液温を５０℃に昇温した。次いで、表面修飾剤として、３．０ｇのＫＢＭ－５０３を５０．０ｇのＭＥＫに溶解させた溶液を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、５０℃で２時間攪拌して表面修飾剤を脱水縮合させた。反応後、反応溶液を室温に冷却し、シリカ粒子（ＳＰ－１）分散液を得た。得られたシリカ粒子（ＳＰ－１）は、ラジカル重合性基としてメタクリロイル基を含む表面修飾基を有する。

　各実施例、参考例、及び比較例で使用したシリカ粒子の一覧と説明を、まとめて表２－３に示す。なおシリカ粒子（ＳＰ－２）の分散液である（ＭＳｉＰ－１）は、ナトリウム元素を含有するシリカ粒子分散液としてＭＥＫ－ＳＴ－４０、表面修飾剤としてＫＢＭ－１３を用いて、重合禁止剤であるＭＯＰは用いずに、メチルシリル基を含む表面修飾基を有するシリカ粒子を合成して用いた。シリカ粒子（ＳＰ－３）の分散液である（ＭＳｉＰ－２）は、ナトリウム元素を含有するシリカ粒子分散液としてＭＥＫ－ＳＴ－Ｌ、表面修飾剤としてＫＢＭ－１３を用いて、重合禁止剤であるＭＯＰは用いずに、メチルシリル基を含む表面修飾基を有するシリカ粒子を合成して使用した。

　＜各実施例、参考例、及び比較例における評価方法＞
　各実施例、参考例、及び比較例における評価方法を以下に示す。

　（１）樹脂の重量平均分子量
　ＧＰＣ分析装置（ＨＬＣ－８２２０；東ソー社製）を用い、流動層としてテトラヒドロフラン又はＮ－メチル－２－ピロリドンを用いて、「ＪＩＳ　Ｋ７２５２－３（２００８）」に基づき、常温付近での方法によりポリスチレン換算の重量平均分子量を測定して求めた。

　（２）酸当量
　電位差自動滴定装置（ＡＴ－５１０；京都電子工業社製）を用い、滴定試薬として０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム／エタノール溶液、滴定溶剤としてキシレン／Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド＝１／１（質量比）を用いて、「ＪＩＳ　Ｋ２５０１（２００３）」に基づき、電位差滴定法により、フェノール性水酸基及びカルボキシ基の酸価（単位はｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定して求めた。測定したフェノール性水酸基及びカルボキシ基の酸価の値から、フェノール性水酸基及びカルボキシ基の酸当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出した。
なおシラノール基の酸当量は、以下の方法により算出した。シラノール基をアセチル化する反応において、アセチル化試薬として無水酢酸、触媒としてイミダゾール及びＮ，Ｎ’－ジメチルアミノピリジン、溶剤としてＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドを用いて、同様に電位差滴定法により、シラノール価（単位はｍｇＫＯＨ／ｇ）を測定して求めた。測定したシラノール価の値から、シラノール基の酸当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出した。

　（３）二重結合当量
　電位差自動滴定装置（ＡＴ－５１０；京都電子工業社製）を用い、ヨウ素供給源として一塩化ヨウ素溶液（三塩化ヨウ素＝７．９ｇ、ヨウ素＝８．９ｇ、酢酸＝１，０００ｍＬの混合溶液）、未反応ヨウ素の捕捉水溶液として１００ｇ／Ｌのヨウ化カリウム水溶液、滴定試薬として０．１ｍｏｌ／Ｌのチオ硫酸ナトリウム水溶液を用いて、ＪＩＳ　Ｋ００７０：１９９２「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価、及び不けん化物の試験方法」の「第６項よう素価」に記載の方法に基づき、ウィイス法により、樹脂のヨウ素価を測定した。測定したヨウ素価（単位はｇＩ／１００ｇ）の値から、二重結合当量（単位はｇ／ｍｏｌ）を算出した。

　（４）顔料分散液中の顔料の平均一次粒子径
　動的光散乱法粒度分布測定装置（ＳＺ－１００；堀場製作所社製）を用い、レーザー波長を５３２ｎｍ、希釈溶媒としてＰＧＭＥＡ、希釈倍率を２５０倍（質量比）、溶媒粘度を１．２５、溶媒屈折率を１．４０、測定温度を２５℃、測定モードを散乱光、演算条件を多分散・ブロードとして、Ｄ５０（メジアン径）を測定した。なお測定回数を２回として、平均値を顔料分散液中の顔料の平均一次粒子径とした。

　（５）基板の前処理
　ガラス上に、ＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、さらに、ＡＰＣ層の上層に、ＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜したガラス基板（ジオマテック社製；以下、「ＩＴＯ／Ａｇ基板」）は、卓上型光表面処理装置（ＰＬ１６－１１０；セン特殊光源社製）を用いて、１００秒間ＵＶ－Ｏ_３洗浄処理をして使用した。テンパックスガラス基板（ＡＧＣテクノグラス社製）は、前処理をせずに使用した。

　（６）膜厚測定
　表面粗さ・輪郭形状測定機（ＳＵＲＦＣＯＭ１４００Ｄ；東京精密社製）を用いて、測定倍率を１０，０００倍、測定長さを１．０ｍｍ、測定速度を０．３０ｍｍ／ｓとして、膜厚を測定した。

　（７）遮光性（光学濃度値（以下、「ＯＤ値」））
　下記、実施例１記載の方法で、テンパックスガラス基板上に感光性組成物の硬化膜を作製した。透過濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ　３６１Ｔ（Ｖ）；Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）を用いて、作製した硬化膜の面内３箇所における入射光強度（Ｉ_０）及び透過光強度（Ｉ）をそれぞれ測定した。遮光性の指標として、膜厚１μｍ当たりのＯＤ値を下記式により算出し、面内３箇所におけるＯＤ値の平均値を算出した。
ＯＤ値＝ｌｏｇ_１０（Ｉ_０／Ｉ）。

　（８）第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置におけるイオン検出強度
　下記、実施例１記載の方法で作製した有機ＥＬディスプレイにおいて、飛行時間型二次イオン質量分析によりイオン検出強度を測定した。画素部に対して、バイアスを印加して加速させたエッチングイオン種を発光層側から衝突させた。第１電極側に向かって深さ方向にエッチングしながら、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を、発光層側から衝突させた。その際に放出された二次イオンを測定し、発光層側から第１電極側に向かう深さ方向のデプスプロファイルを測定した。デプスプロファイルにおいて、第１電極を構成する元素のイオン種の検出強度が１００以上となった点を、第１電極の表面とした。なお第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有する場合、酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度が１００以上となった点を、第１電極の表面とした。また第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置は、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面を起点として、第１電極の内部方向に向かう深さ方向のデプスプロファイルを第１電極の底部まで測定するとともに第１電極の厚さを測定し、それらの値から第１電極のスパッタレートを算出することで求めた。飛行時間型二次イオン質量分析の測定条件は下記の通りである。各イオンの検出強度は飛行時間型二次イオン質量分析を３回測定した平均値として算出した。
＜測定条件＞
装置：飛行時間型二次イオン質量分析計（ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５；ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）
エッチングイオン種：Ｃｓ^＋
エッチングイオン加速エネルギー：０．２５ｋｅＶ
エッチングイオン電流量：７ｎＡ
エッチング領域：１５０μｍ□
測定面積：３０μｍ□
ピクセル数：１２８×１２８ｐｉｘｅｌ
一次イオン種：Ｂｉ^＋
一次イオンエネルギー：２５ｋｅＶ
一次イオン電流量：０．６ｐＡ（ｃｙｃｌｅ　ｔｉｍｅ：５０μｓ）
二次イオン極性：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
質量分解能：Ｈｉｇｈ
帯電補償：Ｅ－ｇｕｎ。

　（９）画素分割層部の表面における負イオン検出強度の総和に占めるイオン検出強度の比、及び、第１電極の表面における負イオン検出強度の総和に占めるイオン検出強度の比
　下記、実施例１記載の方法で作製した有機ＥＬディスプレイにおいて、飛行時間型二次イオン質量分析によりイオン検出強度を測定した。画素分割層部の表面に対して、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を衝突させ、その際に放出された二次イオンを測定した。同様に、画素部における、発光層を含む有機層と接する側の第１電極の表面に対して、バイアスを印加して加速させた一次イオン種を衝突させ、その際に放出された二次イオンを測定した。飛行時間型二次イオン質量分析の測定条件は下記の通りである。
＜測定条件＞
装置：飛行時間型二次イオン質量分析計（ＴＯＦ．ＳＩＭＳ５；ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）
画素分割層部の表面の測定面積：１００μｍ□
透明導電性酸化膜層の表面の測定面積：５０μｍ□
スキャン数：８
ピクセル数：２５６×２５６ｐｉｘｅｌ
測定真空度（試料導入前）：４×１０^－７Ｐａ（４×１０^－９ｍｂａｒ）以下
一次イオン種：Ｂｉ_３ ^＋＋
一次イオン加速電圧：２５ｋＶ
一次イオン電流量：０．１ｐＡ（ｃｙｃｌｅ　ｔｉｍｅ：１４０μｓ）
パルス幅：１３．３ｎｓ
バンチング：あり（高質量分解能）
帯電中和：なし
後段加速：１０ｋＶ。

　（１０）発光素子の発光特性（低電圧駆動特性・発光輝度及び発光素子の信頼性）
　＜低電圧駆動特性・発光輝度評価（電流密度－電圧特性評価）＞
　下記、実施例１記載の方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、低電圧側から順次電圧値を変え、電流密度が３０ｍＡ／ｃｍ^２となるまで直流駆動にて発光させた。低電圧側から順次電圧値を変えた場合における電圧値及び電流密度をプロットし、低電圧駆動特性・発光輝度の指標として、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ^２となる駆動電圧を求めた。下記のように判定し、駆動電圧が４．５Ｖ以下となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋及びＣを合格とした。
Ａ＋：駆動電圧が３．２Ｖ以下
Ａ：駆動電圧が３．２Ｖを超え、かつ３．５Ｖ以下
Ｂ＋：駆動電圧が３．５Ｖを超え、かつ３．７Ｖ以下
Ｂ：駆動電圧が３．７Ｖを超え、かつ４．０Ｖ以下
Ｃ＋：駆動電圧が４．０Ｖを超え、かつ４．２Ｖ以下
Ｃ：駆動電圧が４．２Ｖを超え、かつ４．５Ｖ以下
Ｄ：駆動電圧が４．５Ｖを超え、かつ５．５Ｖ以下
Ｅ：駆動電圧が５．５Ｖを超過、又は測定不能。

　＜発光素子の信頼性評価＞
　下記、実施例１記載の方法で作製した有機ＥＬディスプレイを、１０ｍＡ／ｃｍ^２で直流駆動にて発光させ、非発光領域や輝度ムラなどの発光不良がないかを観察した。また耐久性試験として、発光素子の光取り出し側を上にして８０℃に加熱し、波長３６５ｎｍ、照度０．６ｍＷ／ｃｍ^２の光を照射して、５００時間保持した。５００時間後、有機ＥＬディスプレイを１０ｍＡ／ｃｍ^２で直流駆動にて発光させて発光特性に変化がないかを観察した。発光素子の信頼性の指標として、耐久性試験前の発光領域面積を１００％とした場合における、耐久性試験後の発光領域面積を測定した。下記のように判定し、発光領域面積が８０％以上となる、Ａ＋、Ａ、Ｂ＋、Ｂ、Ｃ＋及びＣを合格とした。
Ａ＋：発光領域面積が１００％
Ａ：発光領域面積が９７％以上、かつ１００％未満
Ｂ＋：発光領域面積が９４％以上、かつ９７％未満
Ｂ：発光領域面積が９０％以上、かつ９４％未満
Ｃ＋：発光領域面積が８５％以上、かつ９０％未満
Ｃ：発光領域面積が８０％以上、かつ８５％未満
Ｄ：発光領域面積が６０％以上、かつ８０％未満
Ｅ：発光領域面積が６０％未満。

　＜各実施例、参考例、及び比較例で使用した化合物＞
　各実施例、参考例、及び比較例で使用した（Ｆ１）化合物の一覧と物性値を、まとめて表２－４に示す。各実施例、参考例、及び比較例で使用した界面活性剤及び撥インク剤の一覧と説明も、まとめて表２－４に示す。

　各実施例、参考例、及び比較例における略語に対応する名称を、まとめて表２－５に示す。また、各実施例、参考例、及び比較例で使用した化合物として、（ｂ－１）～（ｂ－７）、（ｃ－１）～（ｃ－４）、（ｆ－１）～（ｆ－２）、（ｇ－１）～（ｇ－５）、（ｖ－１）、及び（ＮＱＤ－１）の構造を以下に示す。

　なお（ｓ－１）及び（ｓ－２）は、上述した特定構造のグリコールエーテル化合物に含まれる。（ｖ－１）は、上述したポリオキシアルキレンエーテル化合物に含まれ、（ａ）疎水性構造（炭素数６のフェニル基を有する炭素数２のエチレン基が２つ結合した、炭素数６のフェニル基）、（ｂ）親水性構造（１２個の炭素数２のオキシエチレン基）、及び親水性基（オキシエチレン基に結合するヒドロキシ基）を有する。（ｗ－１）は、上述した撥インク剤に含まれる。また（ｄ－８）は、Ａ．Ｒ．５２／Ｂ．Ｂ．７＝１／１（ｍｏｌ比）で混合して攪拌し、析出した塩をろ過して水で３回洗浄した後、乾燥させて得た染料である。また（ｕ－１ｂ）及び（ｕ－２ｂ）は、顔料分散液に由来する成分とは異なり、別途添加した酸化ハフニウム及び酸化イットリウムである。

　＜実施例１＞
　表３－１に記載の組成にて、感光性組成物１を調製した。まず、（Ｄ）着色剤を含まない調合液を調製した後、顔料分散液と調合液とを混合して感光性組成物を調製した。溶剤として、ＰＧＭＥＡ／ＥＤＭ／ＭＢＡ＝７０／２０／１０（質量比）を用いて、感光性組成物の固形分濃度が１５質量％となるように調製した。得られた感光性組成物の溶液は、０．４５μｍφのフィルターで濾過して使用した。

　なお（Ｉ）化合物の添加量は、感光性組成物中に占める硫黄元素等の各元素の含有量及び硫化物イオン等の各イオンの含有量が、表３－１に記載の組成となるように調製した。同様に、水の含有量（以下、「水分率」）、ナトリウム元素等の含有量、ベンゼン等の含有量、特定構造のグリコールエーテル化合物の含有量、界面活性剤の含有量、ポリオキシアルキレンエーテル化合物の含有量、及び撥インク剤の含有量は、表３－１に記載の組成となるように調製した。また酸化ハフニウム及び酸化イットリウムは顔料分散液に由来する成分であり、ハフニウム元素及びイットリウム元素の含有量も顔料分散液に由来する含有量である。

　また同様の方法により、感光性組成物Ｘ１を表２－６に記載の組成にて調製した。

　＜感光性組成物の硬化膜の作製＞
　まず、感光性組成物の硬化膜の作製方法について記載する。調製した感光性組成物１を、ＩＴＯ／Ａｇ基板上にスピンコーター（ＭＳ－Ａ１００；ミカサ社製）を用いて任意の回転数でスピンコーティングにより塗布した後、ブザーホットプレート（ＨＰＤ－３０００ＢＺＮ；アズワン社製）を用いて１２０℃で１２０秒間プリベークし、膜厚約１．８μｍのプリベーク膜を作製した。作製したプリベーク膜を、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液でスプレー現像し、プリベーク膜（未露光部）が完全に溶解する時間（Ｂｒｅａｋｉｎｇ　Ｐｏｉｎｔ；以下、「ＢＰ」）を測定した。

　上述の方法と同様にプリベーク膜を作製し、作製したプリベーク膜を、両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー　ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ　ＭＯＤＥＬ　４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を介して、超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した。露光後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で現像し、水で３０秒間リンスして感光性組成物１の現像後膜を作製した。現像時間は、測定したＢＰの１．３倍とした。現像後のパターンを観察し、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを１８μｍの寸法幅にて形成できる最適露光量（ｉ線照度計の値）を求めた。最適露光量で露光後、現像した後のパターンを、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム社製）を用いて２５０℃で熱硬化させ、膜厚約１．２μｍの感光性組成物１の硬化膜を作製した。熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し、２５０℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。

　核磁気共鳴分光分析、赤外分光分析、及び飛行時間型二次イオン質量分析などの方法で硬化膜を分析し、硬化膜中に含まれる樹脂の構造単位及び化合物の構造を分析した。上述の方法で感光性組成物１を硬化した硬化膜は、以下の樹脂及び化合物を含有することを確認した。すなわち、感光性組成物１を硬化した硬化膜は、感光性組成物１が含有する各構成成分に由来する構造を有する化合物を含有する。
（Ａ１－ＤＬ）樹脂：一般式（１）で表される構造単位を有する樹脂
（Ａ２－ＤＬ）樹脂：一般式（２４）で表される構造単位及びビフェニル構造を有する酸変性エポキシ樹脂
（Ａ３－ＤＬ）樹脂：一般式（３２）で表される構造単位を有する樹脂
（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物：ベンゾカルバゾール構造を有し、ベンゾカルバゾール構造にイミノ基が結合した構造を有する化合物
（Ｄ－ＤＬ）着色剤：ベンゾフラノン系黒色顔料かつ一般式（１６１）で表される構造を有する化合物
リン酸系構造を有する化合物：ホスホン酸エステル構造を有する化合物
（Ｇ２－ＤＬ）化合物：１，１，１－トリス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン構造を有する化合物
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物：炭素数８の１価のオクチル基を有するチオール構造を有する化合物
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物：炭素数８の１価のオクチル基を有する塩化アルキル構造を有する化合物。

　＜有機ＥＬディスプレイの作製（画素分割層部及びスペーサ層部を具備する）＞
　次に、有機ＥＬディスプレイの作製方法について記載する。図１０に、使用した基板の概略図を示す。まず、３８×４６ｍｍの無アルカリガラス基板４７に、非透明導電性金属層としてＡＰＣ（銀／パラジウム／銅＝９８．０７／０．８７／１．０６（質量比））をスパッタにより１００ｎｍ成膜し、エッチングによりパターン加工してＡＰＣ層を形成した。さらに、ＡＰＣ層の上層に透明導電性酸化膜層としてアモルファス性のＩＴＯをスパッタにより１０ｎｍ成膜し、エッチングにより、第１電極部４８として反射電極を形成した。また、第２電極を取り出すため補助電極部４９も同時に形成した（図１０（工程１））。得られた基板を“セミコクリーン”（登録商標）５６（フルウチ化学社製）で１０分間超音波洗浄し、超純水で洗浄した。次に、この基板上に、感光性組成物１を上記の方法で塗布及びプリベークし、所定のパターンを有するフォトマスクを介してパターニング露光、現像及びリンスした後、加熱し熱硬化させた。なお露光量は最適露光量とし、現像時間はＢＰの１．３倍とした。熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し、２５０℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。以上の方法で、幅７０μｍ及び長さ７０μｍの四角形の開口部が、幅方向にピッチ１７５μｍ及び長さ方向にピッチ１７５μｍで配置され、それぞれの開口部が第１電極を露出せしめる形状の画素分割層部５０を、基板有効エリアに限定して形成した（図１０（工程２））。なお、この開口部が、最終的に有機ＥＬディスプレイの発光画素となる。また、基板有効エリアは、１６ｍｍ四方であり、画素分割層部５０の厚さは、約１．５μｍで形成した。

　さらに、画素分割層部５０を形成した基板上に、表２－６に記載の感光性組成物Ｘ１を上記の方法で塗布及びプリベークし、所定のパターンを有するフォトマスクを介してパターニング露光、現像及びリンスした後、加熱し熱硬化させた。なお現像時間は６０秒とし、露光量は事前に測定しておいた最適露光量とした。また熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。このような方法で、画素分割層部５０上の開口部に隣接しない複数の箇所に、幅３５μｍ及び長さ３５μｍの四角形のスペーサ層部を形成した。スペーサ層部の厚さは、約１．５μｍで形成した。

　次に、第１電極部４８、補助電極部４９、画素分割層部５０、及びスペーサ層部を形成した基板を用いて、有機ＥＬディスプレイの作製を行った。前処理として、窒素プラズマ処理を行った後、真空蒸着法により、発光層を含む有機ＥＬ層部５１を形成した（図１０（工程３））。なお、蒸着時の真空度は、１×１０^－３Ｐａ以下であり、蒸着中は蒸着源に対して基板を回転させた。まず、正孔注入層として、化合物（ＨＴ－１）を１０ｎｍ、正孔輸送層として、化合物（ＨＴ－２）を５０ｎｍ蒸着した。次に、発光層に、ホスト材料として、化合物（ＧＨ－１）とドーパント材料として、化合物（ＧＤ－１）を、ドープ濃度が１０体積％なるように４０ｎｍの厚さに蒸着した。その後、電子輸送材料として、化合物（ＥＴ－１）と化合物（ＬｉＱ）を、体積比１：１で４０ｎｍの厚さに積層した。なお、有機ＥＬ層で用いた化合物（化合物（ＨＴ－１）、化合物（ＨＴ－２）、化合物（ＧＨ－１）、化合物（ＧＤ－１）、化合物（ＥＴ－１）、及び化合物（ＬｉＱ））は、国際公開第２０１７／０５７２８１号の段落［０５９９］～段落［０６００］に記載のものと同一化合物を用いた。

　次に、化合物（ＬｉＱ）を２ｎｍ蒸着した後、ＭｇＡｇ（マグネシウム／銀＝１０／１（体積比））を１０ｎｍ蒸着して第２電極部５２とし、透明電極を形成した（図１０（工程４））。その後、低湿窒素雰囲気下、エポキシ樹脂系接着剤を用いて、キャップ状ガラス板を接着することで封止をし、１枚の基板上に５ｍｍ四方のトップエミッション型有機ＥＬディスプレイを４つ作製した。なお、ここでいう膜厚は、水晶発振式膜厚モニター表示値である。

　核磁気共鳴分光分析、赤外分光分析、及び飛行時間型二次イオン質量分析などの方法でスペーサ層部を分析し、スペーサ層部中に含まれる樹脂の構造単位及び化合物の構造を分析した。上述の方法で感光性組成物Ｘ１を硬化したスペーサ層部は、以下の樹脂及び化合物を含有することを確認した。すなわち、感光性組成物Ｘ１を硬化したスペーサ層部は、感光性組成物Ｘ１が含有する各構成成分に由来する構造を有する同一の化合物を含有する。また感光性組成物Ｘ１を硬化したスペーサ層部は、（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含有しない。
（Ａ１－ＤＬ）樹脂：一般式（１）で表される構造単位を有する樹脂
（Ａ２－ＤＬ）樹脂：一般式（２４）で表される構造単位及びビフェニル構造を有する酸変性エポキシ樹脂
（Ａ３－ＤＬ）樹脂：一般式（３２）で表される構造単位を有する樹脂
（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物：１Ｈ－インデン－３－カルボン酸エステル－７－スルホン酸アリールエステル構造を有する化合物
（Ｇ２－ＤＬ）化合物：１，１，１－トリス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン構造を有する化合物
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物：炭素数８の１価のオクチル基を有するチオール構造を有する化合物
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物：炭素数８の１価のオクチル基を有する塩化アルキル構造を有する化合物。

　＜実施例２～７６、比較例１～６、実施例３６Ａ～６１Ａ、８１Ａ～８９Ａ、１０５Ａ、及び１０６Ａ、並びに、比較例１Ａ及び５Ａ＞
　実施例１と同様に、感光性組成物２～７８、並びに、感光性組成物３６Ａ～６１Ａ、８１Ａ～８９Ａ、１０５Ａ、１０６Ａ、１１０Ａ、及び１１４Ａを、表３－１～表８－２に記載の組成にて調製した。表３－１～表８－２において括弧内の数値は各成分の固形分の質量部を示す。得られた各感光性組成物を用いて、実施例１と同様に、基板上に感光性組成物を成膜して感光特性、硬化膜特性、及び発光特性の評価を行った。これらの評価結果を、まとめて表３－１～表８－２に示す。

　表３－１～表３－３において、（Ｉ）化合物を変えた感光性組成物にて、第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置におけるイオン検出強度を変化させて各種特性の評価をした。また表３－４～表３－５において、その他化合物を変えた感光性組成物にて、感光性組成物中に占めるその他の各元素の含有量及びその他の各化合物の含有量を変化させて各種特性の評価をした。
表７－２には、実施例１における表面粗さの最大値、及び、画素分割層とスペーサ層の表面粗さの最大値の差を記載した。また表７－２には、実施例１における、負イオン検出強度の総和に占めるイオン検出強度の比、及び、第１電極部と画素分割層部の比を記載した。
表８－１において、（Ｉ）化合物を含有しない感光性組成物、又は、感光性組成物中に占める各元素の含有量及び各イオンの含有量を変えた感光性組成物にて、第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置におけるイオン検出強度を変化させて各種特性の評価をした。また表８－２において、（Ｉ）化合物を含有しない感光性組成物、又は、感光性組成物中に占める各元素の含有量及び各イオンの含有量が好ましくない感光性組成物にて、各種特性の評価をした。

　＜実施例７７；感光性組成物の硬化膜の作製（厚膜部及び薄膜部を有する硬化膜）＞
　まず、感光性組成物の硬化膜の作製方法について記載する。上記、実施例１記載の方法で、ＩＴＯ／Ａｇ基板上に感光性組成物１のプリベーク膜を約５．０μｍの膜厚で成膜した。作製したプリベーク膜を、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液でスプレー現像し、プリベーク膜（未露光部）が完全に溶解する時間（Ｂｒｅａｋｉｎｇ　Ｐｏｉｎｔ；以下、「ＢＰ」）を測定した。

　上述の方法と同様にプリベーク膜を作製し、作製したプリベーク膜を、両面アライメント片面露光装置（マスクアライナー　ＰＥＭ－６Ｍ；ユニオン光学社製）を用いて、ハーフトーン特性評価用のハーフトーンフォトマスクを介して、透光部の露光量を変えて超高圧水銀灯のｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）、及びｇ線（波長４３６ｎｍ）でパターニング露光した。ハーフトーンフォトマスクは、透光部、遮光部、及び透光部と遮光部の間に半透光部を有するフォトマスクを用いた。半透光部の透過率（％Ｔ_ＨＴ）がそれぞれ、透光部の透過率（％Ｔ_ＦＴ）の２０％、２５％、又は３０％である箇所を有する。透光部と半透光部は隣接しており、半透光部と遮光部は隣接している。ハーフトーンフォトマスクの一例として、透光部、遮光部、及び半透光部の配置、並びに、寸法の一例を図１１に示す。露光後、フォトリソ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業社製）を用いて、２．３８質量％ＴＭＡＨ水溶液で現像し、水で３０秒間リンスして段差形状を有する感光性組成物１の現像後膜を作製した。現像時間は、測定したＢＰの１．３倍とした。現像後のパターンを観察し、半透光部から形成される薄膜部で区画され、遮光部から形成される開口部を有する２０μｍのスペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを２２μｍの寸法幅にて形成できる透光部及び半透光部の最適露光量（ｉ線照度計の値）を求めた。最適露光量で露光後、現像した後のパターンを、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム社製）を用いて２５０℃で熱硬化させ、膜厚約３．０μｍの厚膜部及び膜厚約１．５μｍの薄膜部の段差形状を有する感光性組成物１の硬化膜を作製した。熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２５０℃まで昇温し、２５０℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。

　核磁気共鳴分光分析、赤外分光分析、及び飛行時間型二次イオン質量分析などの方法で硬化膜を分析し、硬化膜中に含まれる樹脂の構造単位及び化合物の構造を分析した。上述の方法で感光性組成物１を硬化した硬化膜の段差形状における厚膜部及び薄膜部は、上記の実施例１における、感光性組成物１を硬化した硬化膜と同構造の樹脂及び化合物を含有することを確認した。すなわち、感光性組成物１を硬化した硬化膜の段差形状における厚膜部及び薄膜部は、感光性組成物１が含有する各構成成分に由来する構造を有する同一の化合物を含有する。また感光性組成物１を硬化した硬化膜の段差形状における厚膜部及び薄膜部は、遮光性の指標である膜厚１μｍ当たりのＯＤ値が１．１であった。

　＜実施例７７；有機ＥＬディスプレイの作製（厚膜部及び薄膜部を有する画素分割層部を具備する）＞
　次に、有機ＥＬディスプレイの作製方法について記載する。上記、実施例１記載の方法で、有機ＥＬディスプレイを作製した。なお所定のパターンを有し、かつ、透光部、遮光部、及び透光部と遮光部の間に半透光部を有するハーフトーンフォトマスクを用いて、感光性組成物１の段差形状を有するパターンを含む硬化膜を、画素分割層部５０として形成し、有機ＥＬディスプレイを作製した。感光性組成物１の段差形状を有するパターンを有する画素分割層部５０は、膜厚約３．０μｍの厚膜部及び膜厚約１．５μｍの薄膜部を有するように形成した。段差形状を有するパターンは厚膜部、開口部、及び薄膜部を有し、幅７０μｍ及び長さ７０μｍの四角形の開口部が、幅方向にピッチ１７５μｍ及び長さ方向にピッチ１７５μｍで配置されている。薄膜部と厚膜部に関して、幅７０μｍの開口部と開口部の間の１０５μｍ（ピッチ１７５μｍ－幅７０μｍ＝１０５μｍ）は、厚膜部３５μｍが配置されるとともに、開口部に隣接する薄膜部３５μｍが厚膜部の両側に配置されている。また、長さ７０μｍの開口部と開口部の間の１０５μｍ（ピッチ１７５μｍ－長さ７０μｍ＝１０５μｍ）は、厚膜部３５μｍが配置されるとともに、開口部に隣接する薄膜部３５μｍが厚膜部の両側に配置されている。作製した有機ＥＬディスプレイの厚膜部、開口部、及び薄膜部の配置、並びに、寸法の概略図を図１２に示す。実施例１と同様に各種特性の評価をした。これらの評価結果を、まとめて表７－３に示す。

　＜比較例７＞
　比較例２において、（Ｉ）化合物として（Ｓ－４）の代わりに（Ｓ－２）を用い、それ以外は比較例２と同様にして、感光性組成物７９を調製した。なお感光性組成物中に占めるＳ元素含有量が５００質量ｐｐｍとなるように、感光性組成物７９を調製した。得られた感光性組成物を２５℃で一週間保管した。保管後、実施例１と同様に、基板上に感光性組成物を成膜した結果、異物の発生が多く、感光性組成物の保管安定性が悪い結果であった。

　＜実施例７８＞
　（Ｉ）化合物として（Ｓ－２）を含有し、かつ、感光性組成物中に占めるＳ元素含有量が３質量ｐｐｍである感光性組成物１を、同様に２５℃で一週間保管した。保管後、実施例１と同様に、基板上に感光性組成物を成膜した結果、異物の発生は無く、感光性組成物の保管安定性が良好な結果であった。

　＜実施例７９＞
　上記で調製した感光性組成物７９を２５℃で一週間保管した後の感光性組成物を、感光性組成物７９’とする。感光性組成物７９’を、基板上に塗布する前に０．４５μｍφのフィルターで濾過する以外は実施例１と同様にして、基板上に感光性組成物を成膜して感光特性、硬化膜特性、及び発光特性の評価を行った。膜厚１μｍ当たりのＯＤ値は１．１、耐久性試験後の発光領域面積はＣ＋、電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ^２となる駆動電圧はＢであった。

　上述した各実施例において、ポジ型の感光性を有する感光性組成物を用いた場合の現像時間は６０秒、９０秒、又は１２０秒とし、感度測定用のグレースケールマスク（ＭＤＲＭ　ＭＯＤＥＬ　４０００－５－ＦＳ；Ｏｐｔｏ－Ｌｉｎｅ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社製）を用いて、２０μｍのライン・アンド・スペースパターンにおいて、開口部に相当するスペースパターンを２０μｍの寸法幅にて形成できる最適露光量（ｉ線照度計の値）を求めた。またポジ型の感光性を有する感光性組成物を用いた場合、熱硬化条件は、酸素濃度２０質量ｐｐｍ以下の窒素雰囲気下、昇温速度３．５℃／ｍｉｎで２００℃まで昇温し、２００℃で６０分間加熱処理を行った後、５０℃まで冷却した。

　水分率は、カールフィッシャー試薬を用いた容量滴定法によって測定した。ナトリウム元素、カリウム元素、マグネシウム元素、カルシウム元素、ハフニウム元素、及びイットリウム元素の含有量は、標準物質による検量線を用いた誘導結合プラズマ質量分析及び誘導結合プラズマ発光分光分析によって測定した。ベンゼン、トルエン、キシレン、ナフタレン、特定構造のグリコールエーテル化合物、界面活性剤、ポリオキシアルキレンエーテル化合物、及び撥インク剤の含有量は、標準物質による検量線を用いたガスクロマトグラフィー質量分析及び液体クロマトグラフィー質量分析によって測定した。

　硫黄元素、塩素元素、及び臭素元素の含有量は、燃焼イオンクロマトグラフィーによって測定した。感光性組成物を分析装置の燃焼管内で燃焼・分解させ、発生したガスを吸収液に吸収後、吸収液の一部をイオンクロマトグラフィーにより分析した。元素含有量の記載が無いものは、当該元素が検出されなかったことを示す。
＜燃焼・吸収条件＞
システム：ＡＱＦ－２１００Ｈ、ＧＡ－２１０（三菱化学社製）
電気炉温度：Ｉｎｌｅｔ　９００℃，　Ｏｕｔｌｅｔ　１０００℃
ガス：Ａｒ／Ｏ_２　２００ｍＬ／ｍｉｎ，　Ｏ_２　４００ｍＬ／ｍｉｎ
吸収液：Ｈ_２Ｏ_２　０．１質量％
吸収液量：５ｍＬ
＜イオンクロマトグラフィー・アニオン分析条件＞
システム：ＩＣＳ１６００（ＤＩＯＮＥＸ社製）
移動相：２．７ｍｍｏｌ／Ｌ　Ｎａ_２ＣＯ_３，　０．３ｍｍｏｌ／Ｌ　ＮａＨＣＯ_３
流速：１．５０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：電気伝導度検出器
注入量：１００μＬ。

　また硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、塩化物イオン、及び臭化物イオンの含有量は、イオンクロマトグラフィーによって測定した。１０ｍｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム水溶液に感光性組成物を添加して２時間振とうし、イオン成分を抽出した。抽出液を以下の条件で濾過処理した後、イオンクロマトグラフィーでアニオン成分を分析した。イオン含有量の記載が無いものは、当該イオンが検出されなかったことを示す。
＜濾過処理条件＞
メンブレンフィルター：０．２２μｍφ、ＰＶＤＦ（Ｍｅｒｃｋ　Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ社製）
固相抽出用カートリッジ：ＩｎｅｒｔＳｅｐ　Ｓｌｉｍ－Ｊ　ＰＬＳ－３（ジーエルサイエンス社製）
陽イオン交換カートリッジ：ＯｎＧｕａｒｄ　ＩＩ　Ｈ（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｆｉｓｈｅｒ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）
＜イオンクロマトグラフィー分析条件＞
装置：ＩＣＳ－５０００^＋（Ｔｈｅｒｍｏ　Ｆｉｓｈｅｒ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）
分離カラム：２ｍｍφ×２５０ｍｍ、ＩｏｎＰａｃ　ＡＳ１１－ＨＣ－４μｍ
溶離液：水酸化カリウム／グラジエント
検出器：電気伝導度検出器
試料注入量：１００μＬ。

　３４　厚膜部
　３５ａ，３５ｂ，３５ｃ　薄膜部
　３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３６ｄ，３６ｅ　硬化パターンの断面における傾斜辺
　３７　下地の基板の水平辺
　４１　透光部
　４２　遮光部
　４３　半透光部
　４４　厚膜部
　４５　開口部
　４６　薄膜部
　４７　無アルカリガラス基板
　４８　第１電極部
　４９　補助電極部
　５０　画素分割層部
　５１　発光層を含む有機ＥＬ層部
　５２　第２電極部
　１００Ａ　段差形状を有する画素分割層を含む表示装置
　１００Ｂ　画素分割層及びスペーサ層を有する表示装置
　１００Ｅ　段差形状を有する画素分割層及び偏光フィルムを含む表示装置
　２００Ａ　段差形状を有する画素分割層及び画素寸法制御層を含む表示装置
　１０１，２０１　基板
　１０２，２０２　導電層／金属配線
　１０３，２０３　ＴＦＴ素子層
　１０４，２０４　層間絶縁層
　１０５，２０５　ＴＦＴ平坦化層／ＴＦＴ保護層
　１０６Ａ，２０６Ａ　段差形状を有する画素分割層
　１０６Ｂ　画素分割層
　１０７，２０７　第１電極
　１０８，２０８　発光層を含む有機層
　１０９，２０９　第２電極
　１１０，２１０　封止層
　１１１，２１１　タッチパネル配線／タッチパネル電極
　１１２，２１２　カラーフィルタ層
　１１３，２１３　ブラックマトリックス層
　１１４，２１４　オーバーコート層
　１１５，２１５　基板
　１１６，２１６　画素分割層における厚膜部
　１１７Ａ　スペーサ層
　２１８Ａ　画素寸法制御層
　１２３　偏光フィルム
　１００ｘ，２００ｘ　平面視における断面軸
　１０６Ａａ，２０６Ａａ　段差形状を有する画素分割層部の開口部
　１０６Ｂａ　画素分割層部の開口部
　１１２ａ，２１２ａ　カラーフィルタ層部
　１１３ａ，２１３ａ　ブラックマトリックス層部の開口部
　１１６ａ，２１６ａ　画素分割層部における厚膜部
　１１７Ａａ　スペーサ層部
　２１８Ａａ　画素寸法制御層部の開口部
　１２４ａ　画素部
　１２４ａ１　第１色の画素部
　１２４ａ２　第２色の画素部
　１２４ａ３　第３色の画素部

Claims

　基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であって、
　該画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であって、
　平面視において、複数の画素部を有し、
　該画素部における、該発光層を含む有機層と接する側の該第１電極の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、
　硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度を（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
　塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度を（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、
　臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度を（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとし、かつ、
　該（Ｃｌ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）及び該（Ｂｒ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）の総和を（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）とするとき、
　一般式（ＳＡ－１）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たす、表示装置。
２≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＳＡ－１）
２≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦２００　（ＸＡ－１）
　前記一般式（ＳＡ－１）及び前記一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たす、請求項１に記載の表示装置。
　前記第１電極が多層構造の非透明電極であって、
　該第１電極が非透明導電性金属層を有し、
　該第１電極の発光層側の最表層以外の層のうち少なくとも一層が、銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層を有する、請求項１に記載の表示装置。
　前記第１電極が透明導電性酸化膜層及び非透明導電性金属層を有し、
　該第１電極の発光層側の最表層に、インジウムを主成分の元素として含む透明導電性酸化膜層を有する、請求項３に記載の表示装置。
　前記画素部における、前記発光層を含む有機層と接する側の前記透明導電性酸化膜層の表面から深さ３ｎｍの位置において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される、
　酸化インジウムイオン（ＩｎＯ_２ ^－）の検出強度を（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）ｃｏｕｎｔｓとするとき、
　前記一般式（ＳＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＳＡ－２）及び一般式（ＩｎＳＡ－１）で表される関係を満たし、
　及び／又は、
　前記一般式（ＸＡ－１）で表される関係を満たし、さらに、一般式（ＸＡ－２）及び一般式（ＩｎＸＡ－１）で表される関係を満たす、請求項４に記載の表示装置。
０．０００１≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦０．１　（ＳＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＳＡ－１）
０．０００１≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）／（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦０．１　（ＸＡ－２）
１，０００≦（ＩｎＯ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦４０，０００　（ＩｎＸＡ－１）
　さらに、一般式（ＳＡ－１ａ）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＡ－１ａ）で表される関係を満たす、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
２≦（Ｓ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦１００　（ＳＡ－１ａ）
２≦（Ｘ_{Ｄｅｐ／Ａｎｏｄｅ}）≦１００　（ＸＡ－１ａ）
　画素分割層部上の発光層を含む有機層部が形成された領域と重畳しない領域における、第２電極部と接する側又は第２電極部の開口部において露出する側の該画素分割層部の表面において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、
　硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比を（Ｓ_ＰＤＬ）とし、
　塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比を（Ｃｌ_ＰＤＬ）とし、
　臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比を（Ｂｒ_ＰＤＬ）とし、かつ、
　該（Ｃｌ_ＰＤＬ）及び該（Ｂｒ_ＰＤＬ）の総和を（Ｘ_ＰＤＬ）とし、
　前記画素部における、該発光層を含む有機層部と接する側の第１電極部の表面において、飛行時間型二次イオン質量分析により測定される負イオン検出強度の総和に占める、
　硫黄イオン（Ｓ^－）の検出強度の比を（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、
　塩素イオン（Ｃｌ^－）の検出強度の比を（Ｃｌ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、
　臭素イオン（Ｂｒ^－）の検出強度の比を（Ｂｒ_{Ａｎｏｄｅ}）とし、かつ、
　該（Ｃｌ_{Ａｎｏｄｅ}）及び該（Ｂｒ_{Ａｎｏｄｅ}）の総和を（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）とするとき、
　一般式（ＳＤ－１）で表される関係、及び／又は、一般式（ＸＤ－１）で表される関係を満たす、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
０．１≦（Ｓ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｓ_ＰＤＬ）≦２０　（ＳＤ－１）
０．１≦（Ｘ_{Ａｎｏｄｅ}）／（Ｘ_ＰＤＬ）≦２０　（ＸＤ－１）
　前記画素分割層が、有機黒色顔料及び／又は二色以上の着色顔料混合物を含有し、
　該有機黒色顔料が、ベンゾフラノン系黒色顔料、ペリレン系黒色顔料、及び、アゾ系黒色顔料からなる群より選ばれる一種類以上を含み、
　該二色以上の着色顔料混合物が、赤色、橙色、黄色、緑色、青色、及び、紫色からなる群より選ばれる二色以上の顔料を含む、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
　前記画素分割層が、以下の（Ａ１－ＤＬ）樹脂及び／又は（Ａ３－ＤＬ）樹脂を含有する、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
（Ａ１－ＤＬ）樹脂：イミド構造、アミド構造、オキサゾール構造、及び、シロキサン構造からなる群より選ばれる一種類以上を含む構造単位を有する樹脂
（Ａ３－ＤＬ）樹脂：フェノール性水酸基を含む構造単位を有する樹脂
　前記画素分割層が、以下の（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物及び／又は（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物を含む、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
（Ｃ１ｘ－ＤＬ）化合物：フルオレン構造、ベンゾフルオレン構造、ジベンゾフルオレン構造、カルバゾール構造、ベンゾカルバゾール構造、インドール構造、ベンゾインドール構造、又はジフェニルスルフィド構造を有し、これらの構造にイミノ基が結合した構造及び／又はこれらの構造にカルボニル基が結合した構造、を有する化合物
（Ｃ２ｘ－ＤＬ）化合物：インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物
　前記第１電極における銀又は銅を主成分の元素として含む非透明導電性金属層が、主成分の元素と異なる元素として、さらに、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｇａ、Ｂｉ、Ｎｄ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃ、及び、Ｓｉからなる群より選ばれる一種類以上を含む、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
　さらに、フレキシブル基板を有し、
　該画素分割層がフレキシブル基板上に積層されている構造を有し、
　前記発光層を含む有機層の光取り出し側に、直線偏光板、１／４波長板、及び円偏光板を有さず、
　曲面の表示部、外側への折り曲げ面を含む表示部、又は内側への折り曲げ面を含む表示部を有し、フレキシブル性を有する表示装置である、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
　前記画素分割層が段差形状を有する硬化パターンを含み、
　該画素分割層の硬化パターンの段差形状における、厚膜部の膜厚を（Ｔ_ＦＴ）μｍとし、かつ、薄膜部の膜厚を（Ｔ_ＨＴ）μｍとするとき、
　該（Ｔ_ＦＴ）μｍと該（Ｔ_ＨＴ）μｍとの膜厚差（ΔＴ_{ＦＴ－ＨＴ}）μｍが０．５～１０．０μｍである、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
　前記画素分割層の硬化パターンの段差形状における厚膜部及び薄膜部が、同一の（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、
　該厚膜部及び該薄膜部の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０である、請求項１３に記載の表示装置。
　前記画素分割層が硬化パターンを有し、かつ、該画素分割層上の一部にスペーサ層を有し、
　該スペーサ層の膜厚（Ｔ_ＳＰ）μｍが０．５～１０．０μｍであって、
　該スペーサ層が、下記（１）～（３）の条件のうち少なくとも１つを満たす、請求項１～５のいずれかに記載の表示装置。
（１）該スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含まない
（２）該スペーサ層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該スペーサ層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．０～０．３である
（３）該スペーサ層が（Ｃ２ｘ－ＤＬ）インデン構造を含むカルボン酸エステル構造及び／又はインデン構造を含むスルホン酸アリールエステル構造を有する化合物を含む
　基板、第１電極、第２電極、画素分割層、発光層を含む有機層を有する表示装置であって、
　該画素分割層が（Ｄ－ＤＬ）着色剤を含み、該画素分割層の膜厚１μｍ当たりの可視光線の波長における光学濃度が０．５～３．０であって、
　該画素分割層が、以下の（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物、（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物、（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物、及び、（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、
　（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉａ）構造を有し、
　（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物及び（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物が、以下の（Ｉ－Ｉｂ）構造を有し、
　下記（１ａ－ＤＬ）及び（１ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、又は、下記（２ａ－ＤＬ）及び（２ｂ－ＤＬ）の条件を１つ以上、を満たす、表示装置。
（Ｉ１ａ－ＤＬ）化合物：チオール構造含有化合物、スルフィド構造含有化合物、ジスルフィド構造含有化合物、スルホキシド構造含有化合物、スルホン構造含有化合物、スルトン構造含有化合物、チオフェン構造含有化合物、及び、スルホン酸構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ１ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、硫化物イオン構造、硫化水素イオン構造、硫酸イオン構造、及び、硫酸水素イオン構造からなる群より選ばれる一種類以上を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ２ａ－ＤＬ）化合物：塩化アルキル構造含有化合物、塩化シクロアルキル構造含有化合物、塩化アリール構造含有化合物、臭化アルキル構造含有化合物、臭化シクロアルキル構造含有化合物、及び、臭化アリール構造含有化合物からなる群より選ばれる一種類以上の化合物
（Ｉ２ｂ－ＤＬ）化合物：アニオン種として、塩化物イオン構造及び／又は臭化物イオン構造を有し、かつ、
　カチオン種として、アンモニウムイオン構造、一級アンモニウムイオン構造、二級アンモニウムイオン構造、三級アンモニウムイオン構造、又は四級アンモニウムイオン構造を有する、化合物
（Ｉ－Ｉａ）構造：炭素数４～３０の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（Ｉ－Ｉｂ）構造：炭素数１～６の１～２価の脂肪族基、炭素数１０～３０のアルキルアリール基、炭素数１０～３０のアリールアルキル基、及び、炭素数７～１５のアリール基からなる群より選ばれる一種類以上の基を含む構造
（１ａ－ＤＬ）画素分割層中の硫黄元素の含有量が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（１ｂ－ＤＬ）画素分割層中の硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ
（２ａ－ＤＬ）画素分割層中の塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ－ＤＬ）画素分割層中の塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～１，０００質量ｐｐｍ。
　（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）感光剤、及び（Ｄ）着色剤を含有する感光性組成物であって、かつ以下の、条件（Ｉ）、及び／又は、条件（ＩＩ）を満たす、感光性組成物。
（Ｉ）さらに、硫黄元素を含む成分、塩素元素を含む成分、及び、臭素元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１ａ）及び／又は（２ａ）の条件を満たす
（１ａ）該感光性組成物中に占める硫黄元素の含有量が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（２ａ）該感光性組成物中に占める塩素元素及び臭素元素の含有量の合計が０．０１～１００質量ｐｐｍ
（ＩＩ）さらに、以下の硫黄系アニオンを含む成分、及び、以下のハロゲンアニオンを含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ下記（１ｂ）及び／又は（２ｂ）の条件を満たす
硫黄系アニオン：硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び、硫酸水素イオンからなる群より選ばれる一種類以上のイオン
ハロゲンアニオン：塩化物イオン、及び／又は、臭化物イオン
（１ｂ）該感光性組成物中に占める硫化物イオン、硫化水素イオン、硫酸イオン、及び硫酸水素イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
（２ｂ）該感光性組成物中に占める塩化物イオン及び臭化物イオンの含有量の合計が０．０１～５００質量ｐｐｍ
　前記硫黄元素を含む成分を含有し、かつ前記（１ａ）の条件を満たす、及び／又は、
　前記硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ前記（１ｂ）の条件を満たす、請求項１７に記載の感光性組成物。
　前記硫黄元素を含む成分を含有し、かつ前記（１ａ）の条件を満たし、及び／又は、
　前記硫黄系アニオンを含む成分を含有し、かつ前記（１ｂ）の条件を満たし、
　かつ、
　前記塩素元素を含む成分、及び、前記臭素元素を含む成分からなる群より選ばれる一種類以上を含有し、かつ前記（２ａ）の条件を満たす、及び／又は、
　前記ハロゲンアニオンを含む成分を含有し、かつ前記（２ｂ）の条件を満たす、請求項１７に記載の感光性組成物。
　さらに、水を含有し、かつ下記（３）の条件を満たす、請求項１７～１９のいずれかに記載の感光性組成物。
（３）該感光性組成物中に占める水の含有量が０．０１～２．０質量％