WO2023127770A1 - フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製造方法 - Google Patents

フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2023127770A1
WO2023127770A1 PCT/JP2022/047812 JP2022047812W WO2023127770A1 WO 2023127770 A1 WO2023127770 A1 WO 2023127770A1 JP 2022047812 W JP2022047812 W JP 2022047812W WO 2023127770 A1 WO2023127770 A1 WO 2023127770A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
flexographic printing
printing plate
group
heat
photosensitive resin
Prior art date
Application number
PCT/JP2022/047812
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
征人 白川
Original Assignee
富士フイルム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 富士フイルム株式会社 filed Critical 富士フイルム株式会社
Publication of WO2023127770A1 publication Critical patent/WO2023127770A1/ja

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41CPROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00Forme preparation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Definitions

  • the photosensitive resin layer is a phenol-based polymerization inhibitor Q1 which is a compound represented by the formula (a) described later, the formulas (b-1) to (b-3) described later, and the formula ( The flexographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, which further contains a peroxide decomposing agent Q2 which is a compound represented by any one of c-1) to (c-2).
  • a numerical range represented by “-” means a range including the numerical values before and after “-” as lower and upper limits.
  • each component may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
  • the content of that component refers to the total content unless otherwise specified.
  • “(meth)acrylic” is a notation representing "acrylic” or “methacrylic”
  • “(meth)acrylate” is a notation representing "acrylate” or “methacrylate”
  • “(meth)acryloyl” is a notation representing "acryloyl” or “methacryloyl”.
  • the solid content refers to components other than volatile components such as solvents.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include photopolymerization initiators such as alkylphenones, acetophenones, benzoin ethers, benzophenones, thioxanthones, anthraquinones, benzyls, and biacetyls. More specific examples include benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, methyl-o-benzoylbenzoate, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone and the like.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.3 to 15% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive resin layer for the reason that the effects of the present invention are more excellent. , more preferably 0.5 to 10% by mass.
  • the content of the phenol-based polymerization inhibitor Q1 in the photosensitive resin layer is preferably 0.01 to 2% by mass with respect to the total solid content of the photosensitive resin layer for the reason that the effects of the present invention are more excellent. It is preferably 0.02 to 1% by mass, and even more preferably 0.05 to 0.5% by mass.
  • Y 1 to Y 9 represent substituents (eg, substituent W described later), and L 1 represents a divalent linking group.
  • Y 1 to Y 3 may be bonded to each other via a single bond or a divalent linking group to form a ring.
  • L 1 is preferably a divalent hydrocarbon group for the reason that the effects of the present invention are more excellent.
  • the divalent hydrocarbon group may have a substituent (for example, a substituent W described later) for the reason that the effects of the present invention are more excellent, and a divalent aromatic hydrocarbon group (particularly, 6 to 18 carbon atoms), a divalent aliphatic hydrocarbon group (especially 1 to 30 carbon atoms) or a group combining these, a divalent aromatic hydrocarbon group (especially an arylene group) and a divalent aliphatic hydrocarbon group (especially an alkylene group) in combination.
  • substituent W in this specification is described.
  • substituent W include halogen atoms, hydrocarbon groups (e.g., aliphatic hydrocarbon groups such as linear, branched, and cyclic alkyl groups, alkenyl groups, and alkynyl groups; aromatic hydrocarbon groups), aryl group, heterocyclic group (also referred to as heterocyclic group), cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxy group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclicoxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (including anilino group), ammonio group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl or arylsulfonylamin
  • the content of the infrared absorbing pigment is preferably 10 to 75% by mass based on the total solid content of the heat-sensitive image-forming layer for the reason that the effects of the present invention are more excellent. It is more preferably 20 to 50% by mass, even more preferably 30 to 40% by mass.
  • the content of the infrared absorbing pigment with respect to the total solid content of the heat-sensitive image forming layer is also simply referred to as "the content of the infrared absorbing pigment".
  • the ratio of the content of the ultraviolet absorbing dye to the content of the infrared absorbing pigment is the reason that the effects of the present invention are more excellent. It is preferably 10 to 70% by mass, more preferably 20 to 60% by mass, even more preferably 30 to 50% by mass, and particularly preferably 35 to 45% by mass.
  • the thickness of the heat-sensitive image forming layer is preferably 0.1 to 6 ⁇ m, more preferably 0.5 to 3 ⁇ m, more preferably 1.0 to 2.0 ⁇ m, for the reason that the effect of the present invention is more excellent. is more preferable.
  • the method for forming the heat-sensitive image forming layer is not particularly limited, and for example, the above components are mixed to prepare a composition (heat-sensitive image forming layer composition), which is then applied to a substrate or the like. methods and the like.
  • the printing plate precursor of the invention preferably has a cover sheet on the opposite side of the heat-sensitive image forming layer to the photosensitive resin layer.
  • the cover sheet is not particularly limited, but is preferably a transparent polymer film, and may be a single layer or a laminate of two or more layers.
  • transparent means that the visible light transmittance is 60% or more, preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

本発明は、マスク欠陥が少なく、現像時に装置を汚染し難く、さらに、得られるフレキソ印刷版が、凹線再現性に優れるとともにインキ絡みを生じ難い、フレキソ印刷版原版、及び、上記フレキソ印刷版原版を用いたフレキソ印刷版の製造方法を提供することを目的とする。本発明のフレキソ印刷版原版は、少なくとも、支持体と、感光性樹脂層と、感熱性画像形成層とを、この順に有するフレキソ印刷原版であって、上記感熱性画像形成層が、赤外線吸収剤としての顔料と、紫外線吸収剤としての染料とを含有し、上記感熱性画像形成層の光学濃度が、3.0以上である、フレキソ印刷版原版である。

Description

フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製造方法
 本発明は、フレキソ印刷版原版、及び、それを用いたフレキソ印刷版の製造方法に関する。
 フレキソ印刷版の原版(フレキソ印刷版原版)は、ポリエステルフィルムなどからなる支持体の上に感光性の樹脂組成物からなる感光性樹脂層を備えているのが一般的である。フレキソ印刷版は、この原版の感光性樹脂層の面に所定の画像を露光したのち露光されていない部分の樹脂を除去することにより製造される。
 いわゆるアナログ方式のフレキソ印刷版原版は、所定の画像がすでに形成されているネガフィルムが感光性樹脂層の上に載せられ、このネガフィルムを通して感光性樹脂層の面に所定の画像が露光される。
 これに対し、LAM(Laser ablation mask)方式のフレキソ印刷版原版は、感光性樹脂層の上に感熱性画像形成層(赤外線アブレーション層)が予め設けられており、赤外線レーザを用いて感熱性画像形成層にデジタル化されたネガティブ画像情報を直接描画して所望のネガパターンを作製したのち、このネガパターン(マスク)を通して感光性樹脂層の面に所定の画像を露光する。
 ところで、所望のネガパターンが形成された感熱性画像形成層(マスク)は、露光工程において紫外線等を遮断する必要がある。これに対して、光学濃度が3.0以上の感熱マスク層(感熱性画像形成層)を用いたフレキソ印刷版原版が提案されている(特許文献1)。
特開2007-139853号公報
 昨今、より微細且つ鮮明な印刷が求められるなか、意図しない画像を形成しないように欠陥(ピンホール等)の少ない感熱性画像形成層を有するフレキソ印刷版原版が求められている。すなわち、マスク欠陥の少ないフレキソ印刷版原版が求められている。
 このような中、本発明者が特許文献1を参考にフレキソ印刷版原版を作製したところ、感熱性画像形成層に比較的大きなピンホールが生じる場合があることが明らかになった。
 また、昨今、生産性等の観点から、現像時に汚染し難いフレキソ印刷版原版が求められている。加えて、得られるフレキソ印刷版に対して、凹線再現性のさらなる向上や、インキ絡みのさらなる低減も求められている。
 そこで、本発明は、上記実情に鑑みて、マスク欠陥が少なく、現像時に装置を汚染し難く、さらに、得られるフレキソ印刷版が、凹線再現性に優れるとともにインキ絡みを生じ難い、フレキソ印刷版原版、及び、上記フレキソ印刷版原版を用いたフレキソ印刷版の製造方法を提供することを課題とする。
 本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、感熱性画像形成層の光学濃度を3.0以上にするとともに、感熱性画像形成層に、赤外線吸収剤として顔料と、紫外線吸収剤としての染料とを併用することで、上記課題が解決できることを見出し、本発明に至った。
 すなわち、本発明者は、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
(1) 少なくとも、支持体と、感光性樹脂層と、感熱性画像形成層とを、この順に有するフレキソ印刷原版であって、
 上記感熱性画像形成層が、赤外線吸収剤としての顔料と、紫外線吸収剤としての染料とを含有し、
 上記感熱性画像形成層の光学濃度が、3.0以上である、フレキソ印刷版原版。
(2) 上記染料が、トリアジン系化合物である、上記(1)に記載のフレキソ印刷版原版。
(3) 上記感光性樹脂層が、後述する式(a)で表される化合物であるフェノール系重合禁止剤Q1と、後述する式(b-1)~(b-3)及び後述する式(c-1)~(c-2)のいずれかで表される化合物である過酸化物分解剤Q2とを含有する、上記(1)又は(2)に記載のフレキソ印刷版原版。
(4) 上記フェノール系重合禁止剤Q1が、後述する式(d)で表される化合物である、上記(3)に記載のフレキソ印刷版原版。
(5) 上記感光性樹脂層が、水分散性粒子を含有する、上記(1)~(4)のいずれかに記載のフレキソ印刷版原版。
(6) 非画像部と画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
 上記(1)~(5)のいずれかに記載のフレキソ印刷版原版が有する感熱性画像形成層に画像を形成し、マスクを形成するマスク形成工程と、
 上記マスク形成工程の後に、上記マスクを通して、上記フレキソ印刷版原版が有する感光性樹脂層を画像様に露光する露光工程と、
 上記露光工程の後に、現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する現像工程とを有する、フレキソ印刷版の製造方法。
(7) 上記露光工程が、光源としてLED-UVを用いて露光する工程である、上記(6)に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
(8) 上記現像液が、水性現像液である、上記(6)又は(7)に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
 以下に示すように、本発明によれば、マスク欠陥が少なく、現像時に装置を汚染し難く、さらに、得られるフレキソ印刷版が、凹線再現性に優れるとともにインキ絡みを生じ難い、フレキソ印刷版原版、及び、上記フレキソ印刷版原版を用いたフレキソ印刷版の製造方法を提供することができる。
 以下、本発明について詳細に説明する。
 以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
 なお、本明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
 また、各成分は、1種を単独でも用いても、2種以上を併用してもよい。ここで、各成分について2種以上を併用する場合、その成分について含有量とは、特段の断りが無い限り、合計の含有量を指す。
 また、「(メタ)アクリル」は、「アクリル」又は「メタクリル」を表す表記であり、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレート」又は「メタクリレート」を表す表記であり、「(メタ)アクリロイル」は、「アクリロイル」又は「メタクリロイル」を表す表記である。
 また、固形分とは、溶剤等の揮発する成分以外の成分を言う。
 また、本明細書において、フレキソ印刷版原版について、感熱性画像形成層の欠陥(ピンホール等)を「マスク欠陥」とも言い、感熱性画像形成層の欠陥が少ないことを「マスク欠陥に優れる」とも言う。
 また、フレキソ印刷版原版について、現像時の装置の汚染し易さを「装置汚染性」とも言い、現像時に装置を汚染し難いことを「装置汚染性に優れる」とも言う。
 また、フレキソ印刷版原版について、得られるフレキソ印刷版がハイライト再現性に優れることを単に「ハイライト再現性に優れる」とも言う。
 また、フレキソ印刷版原版について、得られるフレキソ印刷版が凹線再現性に優れることを単に「凹線再現性に優れる」とも言う。
 また、フレキソ印刷版原版について、得られるフレキソ印刷版がインキ絡みを生じ難いことを単に「インキ絡みに優れる」とも言う。
 また、フレキソ印刷版原版について、マスク欠陥、装置汚染性、ハイライト再現性、凹線再現性、及び、インキ絡みに優れることを、単に「本発明の効果等が優れる」とも言う。
[フレキソ印刷版原版]
 本発明のフレキソ印刷版原版(以下、「本発明の印刷版原版」とも言う)は、
 少なくとも、支持体と、感光性樹脂層と、感熱性画像形成層とを、この順に有するフレキソ印刷原版であって、
 上記感熱性画像形成層が、赤外線吸収剤としての顔料と、紫外線吸収剤としての染料とを含有し、
 上記感熱性画像形成層の光学濃度が、3.0以上である、フレキソ印刷版原版である。
 本発明の印刷版原版においては、感熱性画像形成層の光学濃度が3.0以上であるため、感熱製画像形成層から形成されたマスクが露光時の紫外線等を十分に遮蔽するものと考えらえる。そのため、網点間や凹線部の深度が浅くなったり、そこにインキが詰まってインキ絡みが生じたりすることが抑えられ、結果として、優れた、凹線再現性、及び、インキ絡みを示すものと考えられる。
 また、本発明の印刷版原版においては、感熱性画像形成層に赤外線吸収剤としての顔料と紫外線吸収剤としての染料とを併用するため、所望の靭性が担保されてマスク欠陥が抑えられるとともに、現像時にはマスクが粉々に分散されて装置の汚染が抑制されるものと考えられる。
 以下、本発明の印刷版原版が有する各層について説明する。
〔支持体〕
 支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属;ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート))、PI(ポリイミド)、ポリアミド、LCP(液晶ポリマー)、PAN(ポリアクリロニトリル)、ポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂;スチレン-ブタジエンゴムなどの合成ゴム;ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など);布、紙等が挙げられる。
 支持体としては、寸法安定性及び入手容易性の観点から、ポリマーフィルム又は布であることが好ましく、ポリマーフィルムであることがより好ましい。支持体の形態は、ポリマー層がシート状であるかスリーブ状であるかによって決定される。
 布としては、綿、麻、絹、羊毛などの天然繊維、アセテート、ビニロン、ビニリデン、ポリ塩化ビニル、アクリル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリウレタン、フッ素系フィラメント、ポリクラール、レーヨン、ナイロン、ポリアミド、ポリエステルなどの合成繊維を平織りや綾織りした織物や各種編物とした布、不織布とした布を用いることができる。
 ポリマーフィルムとしては、ポリエステル(例えばPET(ポリエチレンテレフタレート)、PBT(ポリブチレンテレフタレート)、PEN(ポリエチレンナフタレート))、PI(ポリイミド)、ポリアミド、LCP(液晶ポリマー)、PAN(ポリアクリロニトリル);ポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂;スチレン-ブタジエンゴムなどの合成ゴム;ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂(エポキシ樹脂やフェノール樹脂など)などの各種のポリマーで形成されたフィルムが例示され、これらの中でも、寸法安定性等の観点から、ポリエステルフィルムであることが好ましい。
 上記ポリエステルフィルムとしては、PETフィルム、PBTフィルム、PENフィルム等が例示されるが、寸法安定性等の観点から、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムであることが好ましい。
 支持体の厚みは特に限定されないが、寸法安定性、ハンドリング性の観点から、5~3000μmであることが好ましく、50~2000μmであることがより好ましく、100~1000μmであることが更に好ましい。
〔感光性樹脂層〕
 感光性樹脂層(以下、「感光性層」又は「感光層」とも言う)は特に限定されず、従来公知の感光性樹脂組成物を用いて形成することができる。
 感光性樹脂層は、例えば、水分散性粒子、液状ポリマー、ゴム成分、光重合性モノマー、光重合開始剤、可塑剤、界面活性剤等を含有する。
<水分散性粒子>
 感光性樹脂層は、本発明の効果等がより優れる理由から、水分散性粒子を含有するのが好ましい。
 水分散性粒子は特に制限されないが、本発明の効果等がより優れる理由から、重合体であることが好ましい。
 上記重合体の具体例としては、ジエン系ポリマー(例えば、ポリブタジエン、天然ゴム、スチレン-ブタジエン共重合体、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート-ブタジエン共重合体、ポリクロロプレン、ポリイソプレン)、ポリウレタン、ビニルピリジン重合体、ブチル重合体、チオコール重合体、アクリレート重合体、これら重合体にアクリル酸、メタクリル酸などの他の成分を共重合して得られる重合体等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 上記重合体は、本発明の効果等がより優れる理由から、ジエン系ポリマーであることが好ましく、ポリブタジエンであることがより好ましい。
 上記重合体は、本発明の効果等がより優れる理由から、両末端に反応性官能基(例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基)を有さないものであることが好ましい。
 上記重合体は、本発明の効果等がより優れる理由から、水分散ラテックスから水を除去することで得られる重合体であることが好ましい。上記水分散ラテックスの具体例としては、上述した重合体の具体例の水分散ラテックスが挙げられる。
(含有量)
 感光性樹脂層において水分散性粒子の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、5~80質量%であることが好ましく、10~50質量%であることがより好ましく、20~40質量%であることがさらに好ましい。
<液状ポリマー>
 感光性樹脂層は、本発明の効果等がより優れる理由から、液状ポリマーを含有するのが好ましい。
 液状ポリマーは、本発明の効果等がより優れる理由から、両末端に反応性官能基を有するのが好ましい。
(主鎖)
 液状ポリマーの主鎖を構成するポリマーは特に制限されないが、例えば、熱可塑性ポリマーなどが挙げられる。
 上記熱可塑性ポリマーは、熱可塑性を示すポリマーであれば特に限定されず、その具体例としては、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ゴム、熱可塑性エラストマーなどが挙げられる。
 これらのうち、より柔軟で可撓性を有する膜が形成されやすくなる理由から、ゴム、熱可塑性エラストマーが好ましく、ゴムがより好ましく、ジエン系ゴムがさらに好ましい。
 上記ゴムとしては、具体的には、例えば、ブタジエンゴム(BR)、ニトリルゴム(NBR)、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、イソプレンゴム、スチレンイソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、エチレン-プロピレン共重合体、塩素化ポリエチレンなどが挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。これらのうち、水現像性がより良好となる理由、また、乾燥性及び画像再現性の観点から、ブタジエンゴム(BR)及びニトリルゴム(NBR)からなる群から選択される少なくとも1種のゴムであることが好ましく、ブタジエンゴムがより好ましい。
 上記熱可塑性エラストマーとしては、ポリブタジエン系熱可塑性エラストマー、ポリイソプレン系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑性エラストマー、アクリル系熱可塑性エラストマーが挙げられる。具体的には、例えば、SB(ポリスチレン-ポリブタジエン)、SBS(ポリスチレン-ポリブタジエン-ポリスチレン)、SIS(ポリスチレン-ポリイソプレン-ポリスチレン)、SEBS(ポリスチレン-ポリエチレン/ポリブチレン-ポリスチレン)、ABS(アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体)、ACM(アクリル酸エステルゴム)、ACS(アクリロニトリル塩素化ポリエチレンスチレン共重合体)、アクリロニトリルスチレン共重合体、シンジオタクチック1,2-ポリブタジエン、ポリメタクリル酸メチル-ポリアクリル酸ブチル-ポリメタクリル酸メチルなどが挙げられる。これらのうち、水現像性がより良好となる理由、また、乾燥性及び画像再現性の観点から、SBS、SISが特に好ましい。
(末端)
 上述のとおり、液状ポリマーは、本発明の効果等がより優れる理由から、両末端に反応性官能基を有するのが好ましい。
 上記反応性官能基は特に制限されないが、本発明の効果等がより優れる理由から、エチレン性不飽和基であることが好ましい。
 上記エチレン性不飽和基は、本発明の効果等がより優れる理由から、ビニル基(CH=CH-)、アリル基(CH=CH-CH-)、(メタ)アクリロイル基、又は、(メタ)アクリロイル基であることが好ましく、(メタ)アクリロイルオキシ基であることがより好ましい。
 液状ポリマーは、主鎖を構成するポリマーの両末端に2価の連結基を介して反応性官能基を有していてもよい。
 上記2価の連結基は特に制限されないが、例えば、直鎖状、分岐状若しくは環状の2価の脂肪族炭化水素基(例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基)、2価の芳香族炭化水素基(例えば、フェニレン基)、-O-、-S-、-SO-、-NR-、-CO-、-NH-、-COO-、-CONR-、-O-CO-O-、-SO-、-NHCOO-、-SONR-、-NH-CO-NH-又はこれらを2種以上組み合わせた基(例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など)などが挙げられる。ここで、Rは、水素原子又はアルキル基(好ましくは炭素数1~10)を表す。
(分子量)
 液状ポリマーの重量平均分子量(Mw)は、本発明の効果等がより優れる理由から、1,000以上100,000未満であることが好ましく、5,000~50,000であることがより好ましい。
 なお、本願明細書において、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ法(GPC)法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、GPCは、HLC-8220GPC(東ソー株式会社製)を用い、カラムとして、TSKgeL Super HZM-H、TSKgeL SuperHZ4000、TSKgeL SuperHZ2000(東ソー株式会社製、4.6mmID×15cm)を3本用い、溶離液としてTHF(テトラヒドロフラン)を用いる。また、条件としては、試料濃度を0.35質量%、流速を0.35mL/min(分)、サンプル注入量を10μL、測定温度を40℃とし、IR検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー株式会社製「標準試料TSK standard,polystyrene」:「F-40」、「F-20」、「F-4」、「F-1」、「A-5000」、「A-2500」、「A-1000」、「n-プロピルベンゼン」の8サンプルから作製する。
(含有量)
 感光性樹脂層において、上記液状ポリマーの含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層層の全固形分に対して、1~30質量%であることが好ましく、3~20質量%であることがより好ましく、5~10質量%であることがさらに好ましい。
<ゴム成分>
 ゴム成分は特に制限されないが、その具体例としては、ブタジエンゴム(BR)、ニトリルゴム(NBR)、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、イソプレンゴム、スチレンイソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、エチレン-プロピレン共重合体、塩素化ポリエチレンなどが挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 これらのうち、本発明の効果等がより優れる理由から、ブタジエンゴム(BR)及びニトリルゴム(NBR)からなる群から選択される少なくとも1種のゴム成分であることが好ましく、ブタジエンゴムがより好ましい。
 なお、ゴム成分は固形であることが好ましい。また、ゴム成分は粒子ではない点で上述した水分散性粒子と区別される。
(分子量)
 ゴム成分の重量平均分子量(Mw)は特に制限されないが、本発明の効果等がより優れる理由から、100,000以上であることが好ましく、200,000以上であることがより好ましく、300,000~2,000,000であることがさらに好ましく、300,000~1,500,000であることが特に好ましく、300,000~700,000であることが最も好ましい。
(含有量)
 感光性樹脂層において、ゴム成分の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、1~50質量%であることが好ましく、5~40質量%であることがより好ましく、7~30質量%であることがさらに好ましい。
<光重合性モノマー>
 光重合性モノマーは特に制限されず、従来公知のフレキソ印刷版原版に用いられている光重合性モノマーを用いることができる。
 光重合性モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和化合物を挙げることができる。
 上記エチレン性不飽和化合物としては、単官能エチレン性不飽和化合物であっても、多官能エチレン性不飽和化合物であってもよいが、本発明の効果等がより優れる理由から、多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
 多官能エチレン性不飽和化合物としては、本発明の効果等がより優れる理由から、例えば、末端エチレン性不飽和基を2~20個有する化合物が好適に挙げられ、具体的には、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、1,9-ノナンジオールジメタクリレート、1,12-ドデカンジオールジアクリレート、1,12-ドデカンジオールジメタクリレート等のアルカンジオール(メタ)アクリレート化合物;
 エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等のグリコールジ(メタ)アクリレート化合物;
 エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物;
 ビスフェノールAジグリシジルエーテル(メタ)アクリル酸付加物、変性ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのPO付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのEO付加物ジ(メタ)アクリレート等のビスフェノールAのジ(メタ)アクリレート化合物;
 ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレートなどの3価以上のアルコールのエステル化合物、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物;
 ビス(4-(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン;
 等が挙げられる。なお、POはプロピレンオキシド、EOはエチレンオキシドを示す。
(含有量)
 感光性樹脂層において、光重合性モノマーの含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、1~30質量%であることが好ましく、2~25質量%であることがより好ましく、5~20質量%であることがさらに好ましい。
<光重合開始剤>
 光重合開始剤は特に限定されず、例えば、アルキルフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アントラキノン類、ベンジル類、ビアセチル類等の光重合開始剤を挙げることができる。
 より具体的には、例えば、ベンジルジメチルケタール、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどを挙げることができる。
(含有量)
 感光性樹脂層において、光重合開始剤の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、0.3~15質量%であることが好ましく、0.5~10質量%であることがより好ましい。
<可塑剤>
 感光性樹脂層は、本発明の効果等がより優れる理由から、可塑剤を含有するのが好ましい。
 可塑剤としては、具体的には、例えば、液状ゴム、オイル、ポリエステル、リン酸系化合物などが挙げられる。
 液状ゴムとしては、具体的には、例えば、液状のポリブタジエン、液状のポリイソプレン、又は、これらをマレイン酸やエポキシ基により変性したものなどが挙げられる。
 オイルとしては、具体的には、例えば、パラフィン、ナフテン、アロマなどが挙げられる。
 ポリエステルとしては、具体的には、例えば、アジピン酸系ポリエステルなどが挙げられる。
 リン酸系化合物としては、具体的には、例えば、リン酸エステルなどが挙げられる。
(含有量)
 感光性樹脂層において、可塑剤の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、0.1~40質量%であることが好ましく、5~30質量%であることがより好ましい。
<界面活性剤>
 感光性樹脂層は、本発明の効果等がより優れる理由から、界面活性剤を含有するのが好ましい。
 界面活性剤としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤を挙げることができる。なかでも、本発明の効果等がより優れる理由から、アニオン性界面活性剤が好ましい。
 上記アニオン性界面活性剤としては、具体的には、例えば、
 ラウリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等の脂肪族カルボン酸塩;
 ラウリル硫酸エステルナトリウム、セチル硫酸エステルナトリウム、オレイル硫酸エステルナトリウム等の高級アルコール硫酸エステル塩;
 ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩;
 ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル硫酸エステルナトリウム、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸エステルナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル硫酸エステル塩;
 アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ドデシルスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩;
 アルキルジスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルアリルスルホン酸塩;
 ラウリルリン酸モノエステルジナトリウム、ラウリルリン酸ジエステルナトリウム等の高級アルコールリン酸エステル塩;
 ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸モノエステルジナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ジエステルナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩;
 等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 これらのうち、本発明の効果等がより優れる理由から、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリルスルホン酸塩などのスルホン酸系界面活性剤が好ましい。
(含有量)
 感光性樹脂層において、界面活性剤の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、0.1~20質量%であることが好ましく、1~10質量%であることがより好ましい。
<熱重合禁止剤>
 感光性樹脂層は、混練時の熱安定性を高める、貯蔵安定性を高めるなどの観点から、熱重合禁止剤(安定剤)を含有するのが好ましい。
 熱重合禁止剤としては、フェノール類、ハイドロキノン類、カテコール類のものなどを挙げることができる。
(含有量)
 感光性樹脂層において、熱重合禁止剤の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、0.001~5質量%であることが好ましい。
<その他の成分>
 感光性樹脂層は、本発明の効果を阻害しない範囲において、種々の特性向上を目的として、さらに紫外線吸収剤、染料、顔料、消泡剤、香料などを適宜含有してもよい。
<好適な態様>
 感光性樹脂層は、本発明の効果等がより優れる理由から、後述する式(a)で表される化合物であるフェノール系重合禁止剤Q1と、後述する式(b-1)~(b-3)及び後述する式(c-1)~(c-2)のいずれかで表される化合物である過酸化物分解剤Q2とを含有するのが好ましい。
(フェノール系重合禁止剤Q1)
 フェノール系重合禁止剤Q1は、下記式(a)で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 式(a)中、X~Xは、水素原子、又は、置換基(例えば、後述する置換基W)を表す。
 上記置換基は、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい、炭化水素基又はアルコキシ基(特に、炭素数1~10)であることが好ましい。上記炭化水素基の具体例としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基などが挙げられる。上記脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。上記脂肪族炭化水素基の具体例としては、直鎖状又は分岐状のアルキル基(特に、炭素数1~30)、直鎖状又は分岐状のアルケニル基(特に、炭素数2~30)、直鎖状又は分岐状のアルキニル基(特に、炭素数2~30)などが挙げられる。上記芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などの炭素数6~18の芳香族炭化水素基などが挙げられる。
 式(a)中、X及びXは、本発明の効果等がより優れる理由から、水素原子、又は、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい炭化水素基であることが好ましい。上記炭化水素基は、本発明の効果等がより優れる理由から、脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~10)であることが好ましく、分岐状の脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
 式(a)中、Xは、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)であることが好ましい。上記置換基は、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい、炭化水素基又はアルコキシ基(特に、炭素数1~10)であることが好ましい。炭化水素基の具体例は上述のとおりである。上記炭化水素基は、本発明の効果等がより優れる理由から、脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~10)であることが好ましく、直鎖状の脂肪族炭化水素基(特に、アルキル基)であることが好ましい。
 フェノール系重合禁止剤Q1は、本発明の効果等がより優れる理由から、下記式(d)で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 式(d)中、X、X及びXは、水素原子、又は、置換基(例えば、後述する置換基W)を表す。
 式(d)中、X及びXの好適な態様は、式(a)と同じである。
 式(d)中、Xは、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい炭化水素基であることが好ましい。上記炭化水素基は、本発明の効果等がより優れる理由から、脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~10)であることが好ましく、直鎖状の脂肪族炭化水素基(特に、アルキル基)であることがより好ましい。
 感光性樹脂層においてフェノール系重合禁止剤Q1の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、0.01~2質量%であることが好ましく、0.02~1質量%であることがより好ましく、0.05~0.5質量%であることがさらに好ましい。
(過酸化物分解剤Q2)
 過酸化物分解剤Q2は、下記式(b-1)~(b-3)及び下記式(c-1)~(c-2)のいずれかで表される化合物である。
(1)式(b-1)~(b-3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 式(b-1)~(b-3)中、Y~Yは、置換基(例えば、後述する置換基W)を表し、Lは、2価の連結基を表す。Y~Yは、それぞれ互いに単結合又は2価の連結基を介して結合して環を形成していてもよい。
 上記置換基は、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい炭化水素基であることが好ましい。炭化水素基の具体例は上述のとおりである。
(1-1)式(b-1)
 式(b-1)中、Y~Yは、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい、芳香族炭化水素基(特に、炭素数6~18)、脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~30)又はこれらを組み合わせた基であることが好ましく、分岐状の脂肪族炭化水素基(例えば、t-ブチル基)を有する芳香族炭化水素基(特に、フェニル基)、又は、脂肪族炭化水素基(特に、アルキル基)であることがより好ましい。芳香族炭化水素基及び脂肪族炭化水素基の具体例は上述のとおりである。
 式(b-1)中、Y~Yのいずれか2つは互いに連結して環を形成していてもよい。Y~Yのいずれか2つが互いに連結して環を形成する場合、2価の連結基を介して連結してもよい。上記2価の連結基は特に制限されないが、例えば、直鎖状、分岐状若しくは環状の2価の脂肪族炭化水素基(例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基)、2価の芳香族炭化水素基(例えば、フェニレン基)、-O-、-S-、-SO-、-NR-、-CO-、-NH-、-COO-、-CONR-、-O-CO-O-、-SO-、-NHCOO-、-SONR-、-NH-CO-NH-又はこれらを2種以上組み合わせた基(例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など)などが挙げられる。ここで、Rは、水素原子又はアルキル基(好ましくは炭素数1~10)を表す。上記2価の連結基は、本発明の効果等がより優れる理由から、アルキレン基(特に、炭素数1~10)であることが好ましい。
(1-2)式(b-2)
 式(b-2)中、Y~Yは、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい、芳香族炭化水素基(特に、炭素数6~18)、脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~30)又はこれらを組み合わせた基であることが好ましく、分岐状の脂肪族炭化水素基(例えば、t-ブチル基)を有する芳香族炭化水素基(特に、フェニル基)であることがより好ましい。芳香族炭化水素基及び脂肪族炭化水素基の具体例は上述のとおりである。
(1-3)式(b-3)
 式(b-3)中、Y~Yは、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい、芳香族炭化水素基(特に、炭素数6~18)、脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~30)又はこれらを組み合わせた基であることが好ましく、脂肪族炭化水素基(特に、アルキル基)であることがより好ましい。
 式(b-3)中、Lで表される2価の連結基の具体例は上述のとおりである。
 式(b-3)中、Lは、本発明の効果等がより優れる理由から、2価の炭化水素基であることが好ましい。上記2価の炭化水素基は、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい、2価の芳香族炭化水素基(特に、炭素数6~18)、2価の脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~30)又はこれらを組み合わせた基であることが好ましく、2価の芳香族炭化水素基(特に、アリーレン基)と2価の脂肪族炭化水素基(特に、アルキレン基)とを組み合わせた基であることがより好ましい。
(2)式(c-1)~(c-2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 式(c-1)中、Z~Zは、置換基(例えば、後述する置換基W)を表し、Lは、2価の連結基を表し、aは0又は1を表し、bは1又は2を表し、a+b=2を満たす。
 式(c-2)中、Z~Zは、置換基(例えば、後述する脂環基W)を表し、Lは、単結合又は2価の連結基を表し、Lは、2価の連結基を表し、cは0~3の整数を表し、dは1~4の整数を表し、c+d=4を満たす。
 式(c-1)中のbが2である場合、複数存在するZ及びLは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい
 式(c-2)中のcが2~3の整数である場合、複数存在するZは、同一であっても異なっていてもよい。
 式(c-2)中のdが2~4の整数である場合、複数存在するZ、L及びLは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
(2-1)式(c-1)
 式(c-1)中、Z~Zは、本発明の効果等がより優れる理由から、置換基(例えば、後述する置換基W)を有していてもよい炭化水素基であることが好ましく、脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~30)であることがより好ましく、アルキル基であることがさらに好ましい。
 式(c-1)中、Lで表される2価の連結基の具体例は上述のとおりである。
 式(c-1)中、Lは、本発明の効果等がより優れる理由から、2価の炭化水素基であることが好ましい。上記2価の炭化水素基は、本発明の効果等がより優れる理由から、2価の脂肪族炭化水素基(特に、炭素数1~30)であることが好ましい。
 式(c-1)中、aは、本発明の効果等がより優れる理由から、0であることが好ましい。
 式(c-1)中、bは、本発明の効果等がより優れる理由から、2であることが好ましい。
(2-2)式(c-2)
 式(c-2)中、Zの好適な態様は、式(c-1)中のZ~Zと同じである。
 式(c-2)中、L及びLの具体例及び好適な態様は、式(c-1)中のLと同じである。
 式(c-2)中、cは、本発明の効果等がより優れる理由から、0~2の整数であることが好ましく、0~1の整数であることがより好ましく、0であることがさらに好ましい。
 式(c-2)中、dは、本発明の効果等がより優れる理由から、2~4の整数であることが好ましく、3~4の整数であることがより好ましく、4であることがさらに好ましい。
 感光性樹脂層において過酸化物分解剤Q2の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感光性樹脂層の全固形分に対して、0.01~5質量%であることが好ましく、0.1~3質量%であることがより好ましく、0.5~2質量%であることがさらに好ましい。
<置換基W>
 本明細書における置換基Wについて記載する。
 置換基Wとしては、例えば、ハロゲン原子、炭化水素基(例えば、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基等の脂肪族炭化水素基;芳香族炭化水素基)、アリール基、複素環基(ヘテロ環基といってもよい)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(-B(OH)2)、ホスファト基(-OPO(OH)2)、スルファト基(-OSO3H)、その他の公知の置換基などが挙げられる。
<厚み>
 感光性樹脂層の厚みは、本発明の効果等がより優れる理由から、0.2~6mmであることが好ましく、0.5~3mmであることがより好ましく、1.0~2.0mmであることがさらに好ましい。
<感光性樹脂層の形成方法>
 感光性樹脂層を形成する方法は特に制限されず、例えば、上述した各成分等を混合して組成物(感光性樹脂層用組成物)を調製し、これを基材等に塗布する方法等が挙げられる。
〔感熱性画像形成層〕
 感熱性画像形成層は、赤外線吸収剤としての顔料と、紫外線吸収剤としての染料とを含有する。また、上記感熱性画像形成層の光学濃度は、3.0以上である。
 感熱性画像形成層は、赤外線アブレーション層として機能し、マスクを形成する。
<赤外線吸収顔料>
 上述のとおり、感熱性画像形成層は、赤外線吸収剤としての顔料(以下、「赤外線吸収顔料」とも言う)を含有する。
 赤外線吸収顔料は、赤外線を吸収して熱に変換し得る顔料であれば特に制限されない。ここで、顔料とは、水や溶剤などの溶媒に不溶の物質を意図する。
 赤外線吸収顔料に具体例としては、黒色顔料(例えば、カーボンブラック、アニリンブラック、シアニンブラックなど)、緑色顔料、カーボングラファイト、鉄粉、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、金属酸化物(例えば、酸化コバルト、酸化タングステンなど)、及び、金属粉(例えば、ビスマス、スズ、テルル、アルミニウムなど)などを挙げることができる。
 これらのうち、バインダーポリマー中での分散性に優れるなどの観点から、カーボンブラック、カーボングラファイトなどが好ましい。
(含有量)
 感熱性画像形成層において、赤外線吸収顔料の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感熱性画像形成層の全固形分に対して、10~75質量%であることが好ましく、20~50質量%であることがより好ましく、30~40質量%であることがさらに好ましい。なお、以下、感熱性画像形成層の全固形分に対する赤外線吸収顔料の含有量を単に「赤外線吸収顔料の含有量」とも言う。
<紫外線吸収染料>
 上述のとおり、感熱性画像形成層は、紫外線吸収剤としての染料(以下、「紫外線吸収染料」とも言う)を含有する。
 紫外線吸収染料は、紫外線を吸収する染料であれば特に制限されない。ここで、染料は、水や溶剤などの溶媒に溶解しうる物質を意図する。
 紫外線吸収染料は、本発明の効果等がより優れる理由から、波長300~400nmの領域に吸収を有する染料が好ましい。
 紫外線吸収染料の具体例としては、ベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物、及び、ベンゾフェノン系化合物などが挙げられる。
 また、別の具体例としては、フタロシアニン、ナフタロシアニン、ローダミン色素、ナフトキノン系色素、ポリメチン染料、カルコゲン系色素、シアニン、メロシアニン、アゾ染料、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系金属錯体などの金属錯体なども挙げられる。
 これらのうち、本発明の効果等がより優れる理由から、トリアジン系化合物(トリアジン環を有する化合物)が好ましい。
(含有量)
 感熱性画像形成層において、紫外線吸収染料の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感熱性画像形成層の全固形分に対して、2~50質量%であることが好ましく、5~30質量%であることがより好ましく、10~15質量%であることがさらに好ましい。なお、以下、感熱性画像形成層の全固形分に対する紫外線吸収染料の含有量を単に「紫外線吸収染料の含有量」とも言う。
<紫外線吸収染料の含有量/赤外線吸収顔料の含有量>
 感熱性画像形成層において、赤外線吸収顔料の含有量に対する紫外線吸収染料の含有量の割合(紫外線吸収染料の含有量/赤外線吸収顔料の含有量)は、本発明の効果等がより優れる理由から、10~70質量%であることが好ましく、20~60質量%であることがより好ましく、30~50質量%であることがさらに好ましく、35~45質量%であることが特に好ましい。
<バインダーポリマー>
 感熱性画像形成層は、本発明の効果等がより優れる理由から、バインダーポリマーとして、ゴム成分及び樹脂成分を含有するのが好ましい。
(ゴム成分)
 ゴム成分は、感光性樹脂層との密着性が阻害されないゴムであれば特に限定されない。
 ゴム成分の具体例としては、ブタジエンゴム(BR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、イソプレンゴム(IR)、スチレンイソプレンゴム(SIR)、スチレンブタジエンゴム(SBR)、エチレン-プロピレン共重合体、塩素化ポリエチレンなどが挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
 これらのうち、隣接する感光性樹脂層との密着性が良好となる理由から、ブタジエンゴム(BR)、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、又は、スチレンブタジエンゴム(SBR)であることが好ましく、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)であることがより好ましい。
 感熱性画像形成層において、ゴム成分の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感熱性画像形成層の全固形分に対して、5~50質量%であることが好ましく、10~40質量%であることがより好ましく、20~30質量%であることがさらに好ましい。
(樹脂成分)
 樹脂成分は、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂の少なくとも一方(以下、「(メタ)アクリル樹脂」と略す。)を含有するものであれば特に限定されない。
 ここで、(メタ)アクリル樹脂は、アクリル酸、メタアクリル酸、アクリル酸エステル、メタアクリル酸エステルから選択される1種以上のモノマーの重合体又は共重合体であれば特に限定されない。
 感熱性画像形成層において、樹脂成分の含有量は、本発明の効果等がより優れる理由から、感熱性画像形成層の全固形分に対して、5~50質量%であることが好ましく、10~40質量%であることがより好ましく、20~30質量%であることがさらに好ましい。
<その他の成分>
 感熱性画像形成層は、上述した成分以外の成分(その他の成分)を含有していてもよい。そのような成分としては、上述した樹脂成分以外の樹脂成分(例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂など)、可塑剤等が挙げられる。
<厚み>
 感熱性画像形成層の厚みは、本発明の効果等がより優れる理由から、0.1~6μmであることが好ましく、0.5~3μmであることがより好ましく、1.0~2.0μmであることがさらに好ましい。
<光学濃度>
 上述のとおり、感熱性画像形成層の光学濃度は、3.0以上である。なかでも、本発明の効果等がより優れる理由から、3.3以上であることが好ましく、3.5以上であることがより好ましく、3.8以上であることがさらに好ましく、4.0以上であることが特に好ましく、4.5以上であることが最も好ましい。
 上記光学濃度の上限は特に制限されないが、本発明の効果等がより優れる理由から、10.0以下であることが好ましく、6.0以下であることがより好ましい。
 上記光学濃度は、例えば、サカタインクス(株)製のBMT-1等の透過濃度計を用いて測定することができる。
<感熱性画像形成層の形成方法>
 感熱性画像形成層を形成する方法は特に制限されず、例えば、上述した各成分等を混合して組成物(感熱性画像形成層用組成物)を調製し、これを基材等に塗布する方法等が挙げられる。
〔その他の層〕
 本発明の印刷版原版は、上述した層以外の層(その他の層)を有していてもよい。そのような層としては、例えば、カバーシート(保護フィルム)、機能層等が挙げられる。
<カバーシート>
 本発明の印刷版原版は、感熱性画像形成層の感光性樹脂層とは反対側面にカバーシートを有することが好ましい。
 カバーシートは特に限定されないが、透明なポリマーフィルムであることが好ましく、1層単独でも2層以上が積層されたものであってもよい。
 ここで、「透明」とは、可視光の透過率が60%以上であることを示し、好ましくは80%以上であり、特に好ましくは90%以上である。
 ポリマーフィルムの材料としては、セルロース系ポリマー;ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー;熱可塑性ノルボルネン系ポリマー;ポリカーボネート系ポリマー;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、フッ素ポリエステルポリマー等のポリエステル系ポリマー;ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系ポリマー;ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、ポリブタジエン等のポリオレフィン系ポリマー;塩化ビニル系ポリマー;ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー;イミド系ポリマー;スルホン系ポリマー;ポリエーテルスルホン系ポリマー;ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー;ポリフェニレンスルフィド系ポリマー;塩化ビニリデン系ポリマー;ビニルアルコール系ポリマー;ビニルブチラール系ポリマー;アリレート系ポリマー;ポリオキシメチレン系ポリマー;エポキシ系ポリマー;又はこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
 また、カバーシートの表面(感熱性画像形成層が形成される面)には、感熱性画像形成層の密着を抑えてカバーシートの剥離性を高めるための離型処理が施されていてもよい。このような離型処理としては、カバーシートの表面に離型剤を塗布して離型層を形成するなどの方法が挙げられる。離型剤としては、シリコーン系離型剤、アルキル系離型剤などが挙げられる。
 カバーシートの厚みは、25~250μmであることが好ましい。
<機能層>
 本発明の印刷版原版は、上述した感光性樹脂層と感熱性画像形成層との間に、任意の機能層を含んでいてもよい。
 上記機能層は特に限定されないが、UV(紫外線)露光時に重合阻害の原因となりうる大気中の酸素遮断、及び、感熱性画像形成層と感光性樹脂層との間での物質移動を抑制することを目的として、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、ポリ(メタ)アクリロニトリル、ポリアミド等が挙げられる。
 また、上記機能層は性能に悪影響を及ぼさない範囲で添加剤を含有してもよい。
 上記添加剤としては、可塑剤、各種安定剤などが挙げられる。
 また、上記機能層の欠点を低減するために性能に悪影響を及ぼさない範囲で、消泡剤やレベリング剤等の添加剤を配合してもよい。
〔フレキソ印刷版原版の製造方法〕
 本発明のフレキソ印刷版原版を製造する方法は特に制限されないが、例えば、カバーシートに感熱性画像形成層用組成物を塗布し、乾燥させることによって、感熱性画像形成層/カバーシートからなる積層体Xを得、次いで、積層体Xと、表面に接着剤を塗布して成る支持体の接着剤が塗布されている面との間に感光性樹脂層用組成物を挟み、加熱してプレスすることで、支持体、感光性樹脂層、感熱性画像形成層、及び、カバーシートがこの順で積層されたフレキソ印刷版を製造する方法等が挙げられる。
[フレキソ印刷版の製造方法]
 本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、
 非画像部と画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
 上述した本発明のフレキソ印刷版原版が有する感熱性画像形成層に画像を形成し、マスクを形成するマスク形成工程と、
 上記マスク形成工程の後に、上記マスクを通して、上記フレキソ印刷版原版が有する感光性樹脂層を画像様に露光する露光工程と、
 上記露光工程の後に、現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する現像工程とを有する、フレキソ印刷版の製造方法である。
 以下、各工程について説明する。
〔マスク形成工程〕
 マスク形成工程は、感熱性画像形成層に画像を形成し、後述する露光工程に用いるマスクを形成する工程である。
 ここで、感熱性画像形成層は、赤外レーザーが照射されると赤外線吸収顔料の作用で熱が発生し、その熱の作用で熱分解性化合物が分解して感熱性画像形成層が除去、すなわちレーザー融除される。
 そのため、画像データに基づき、感熱性画像形成層を選択的にレーザー融除することによって、感光性樹脂層に潜像を形成しうるマスクを得ることができる。
 赤外レーザーの照射には、発振波長が750nm~3000nmの範囲にあるものが用いられる。
 このようなレーザーとしては、例えば、ルビーレーザー、アレキサンドライトレーザー、ペロブスカイトレーザー、Nd-YAGレーザー、エメラルドガラスレーザーなどの固体レーザー;InGaAsP、InGaAs、GaAsAlなどの半導体レーザー;ローダミン色素のような色素レーザー;などが挙げられる。
 また、これらの光源をファイバーにより増幅させるファイバーレーザーも用いることができる。
 これらのうち、描画精度が向上する理由から、ファイバーレーザーを用いることが好ましい。
〔露光工程〕
 露光工程は、上述したマスク形成工程で得られたマスクを通して、感光性樹脂層を画像様に露光する工程であり、感光性樹脂層に画像様に紫外線を照射することにより、紫外線の照射された領域の架橋及び/又は重合を惹起し、硬化させることができる。
 露光の光源としては、蛍光灯、LED-UV(発光ダイオードを用いた紫外線光源)等が挙げられるが、本発明の効果等がより優れる理由から(特にハイライト再現性により優れる理由から)、LED-UVが好ましい。
 光源のUV照度は、本発明の効果等がより優れる理由から(特にハイライト再現性により優れる理由から)、50mW/cm以上であることが好ましく、100mW/cm以上であることがより好ましい。光源のUV照度の上限は特に制限されないが、本発明の効果等がより優れる理由から、10W/cm以下であることが好ましい。
〔現像工程〕
 現像工程は、現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する工程である。
 現像工程で用いる現像液は、特に限定されず、従来公知の現像液を用いることができるが、環境負荷の低減の観点から、水を50質量%以上含有する現像液(以下、「水性現像液」とも略す。)を用いることが好ましい。なお、現像液は、水溶液であっても懸濁液(例えば、水分散液など)であってもよい。
 また、水性現像液に含まれる水の含有量は、水性現像液の総質量に対して80~99.99質量%であることが好ましく、90~99.9質量%であることがより好ましい。
〔リンス工程〕
 本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、本発明の効果等がより優れる理由から、上述した現像工程の後に、現像工程で形成された非画像部と画像部の表面を、水を用いてリンスするリンス工程を有するのが好ましい。
 リンス工程におけるリンス手段としては、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、フレキソ印刷版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、非画像部及び画像部の表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられる。
〔裏露光工程〕
 本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、本発明の効果等がより優れる理由から、上述したマスク形成工程又は上述した露光工程の前に、フレキソ印刷版原版の支持体側から紫外線照射を行う裏露光工程を有するのが好ましい。
 以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
[実施例1]
〔感光性樹脂層用組成物の調製〕
 水分散ラテックス(Nipol LX111NF、ポリブタジエンの水分散ラテックス、固形分55%、日本ゼオン社製)63.6質量部と、テレケリックポリマー(BAC-45、大阪有機化学工業社製)(両末端にアクリロイルオキシ基を有するポリブタジエン、Mw=10,000)10質量部と、1,9-ノナンジオールジメタクリレート(NKエステルNOD-N、新中村化学工業社製)8.7質量部とを混合し、60℃に加熱した乾燥機で3時間水分を蒸発させて、水分散性粒子を含む混合物を得た。
 この混合物と、ブタジエンゴム(NF35R、旭化成社製)20質量部と、可塑剤(ダイアナプロセスオイルPW-32、出光興産社製)15質量部と、界面活性剤(ラピゾールA-90、有効分90%、日油社製)4.4質量部とを110℃に設定したニーダー中で45分混練した。その後、ニーダー中に、熱重合禁止剤(ジブチルヒドロキシトルエン)(BHT)(式(a)で表される化合物。ここで、式(a)中、X及びXはt-ブチル基を表し、Xはメチル基を表す。)(フェノール系重合禁止剤Q1)0.2質量部と、光重合開始剤(ベンジルジメチルケタール、東京化学工業社製)3質量部とを投入し、5分間混練して、感光性樹脂層用組成物を調製した。
〔感熱性画像形成層用組成物の調製〕
 アクリル樹脂A(ハイパールM5000、Tg:65℃、根上工業(株)社製)50質量部及びNBR50質量部からなるバインダーポリマー100質量部に対し、赤外線吸収顔料としてのカーボンブラック(三菱化学社製MA8)70質量部、紫外線吸収染料としての2,2′,4,4′-テトラヒドロキシベンゾフェノン27.6質量部及び可塑剤(ダイアナプロセスオイルPW-32、出光興産社製)3質量部を加え、さらに溶剤としてメチルイソブチルケトン812質量部を加え、羽攪拌にて混合した。得られた混合液を三本ロールミルによって分散させた後、固形分が15質量%となるようにさらにメチルイソブチルケトンを加えることにより、感熱性画像形成層用組成物を調製した。
〔フレキソ印刷版原版の作製〕
 シリコーン系離型剤が塗布されている厚み125μmのPETフィルム(カバーシート)に、乾燥後の塗膜の厚みが1μmとなるように、バーコータで上述した感熱性画像形成層用組成物を塗布し、120℃で5分乾燥させることにより、感熱性画像形成層/カバーシートからなる積層体Xを得た。
 次いで、この積層体Xと、厚み125μmのPETフィルム(基材)の表面に接着剤を塗布してなる支持体の接着剤が塗布されている面との間に上述した感光性樹脂層用組成物を挟み、感光性樹脂層の厚みが1.5mmになるように120℃に加熱したプレス機でプレスすることにより、支持体、感光性樹脂層、感熱性画像形成層、及び、カバーシートがこの順で積層された実施例1のフレキソ印刷版原版を作製した。
[実施例1以外の実施例、及び、比較例]
 感熱性画像形成層用組成物の調製において、赤外線吸収顔料、及び、紫外線吸収染料の種類及び含有量を、表1の感熱性画像形成層の欄に記載のとおり変更し、感光性樹脂層用組成物の調製において、フェノール系重合禁止剤Q1の種類及び含有量を表1の感光性樹脂層の欄に記載のとおり変更し、表1の感光性樹脂層の欄に過酸化物分解剤Q2が記載されている実施例については、フェノール系重合禁止剤Q1とともに同欄に記載の種類及び含有量の過酸化物分解剤Q2を投入し、フレキソ印刷版原版の作製において、感熱性画像形成層の厚みを表1の感熱性画像形成層の欄に記載のとおり変更した点以外は、実施例1と同様の手順に従って、実施例1以外の実施例及び比較例のフレキソ印刷版原版を作製した。なお、比較例1及び比較例3~4では、感熱性画像形成層用組成物の調製において、紫外線吸収染料を配合しなかった。また、比較例2では、感熱性画像形成層用組成物の調製において、赤外線吸収顔料を配合しなかった。
[赤外線吸収顔料]
 表1中の「赤外線吸収顔料」の欄の種類については以下のとおりである。顔料1は、上述した赤外線吸収顔料に該当する。
・顔料1:カーボンブラック(三菱化学社製MA8)
 表1中の「赤外線吸収顔料」の欄の含有量は、感熱性画像形成層の全固形分、すなわち、感熱性画像形成層用組成物の全固形分に対する質量%を表す。
[紫外線吸収染料]
 表1中の「紫外線吸収染料」の欄の種類については以下のとおりである。染料2~7は、いずれも上述した紫外線吸収染料に該当する。
・染料2:2,2′,4,4′-テトラヒドロキシベンゾフェノン(下記構造)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
・染料3:Disperse Yellow3(下記構造)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
・染料4:クルクミン(下記構造)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
・染料5:Sudan Black(下記構造)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
・染料6:Tinuvin1600(下記構造)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
・染料7:アデカスタブLA-F70(下記構造)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 表1中の「紫外線吸収染料」の欄の含有量は、感熱性画像形成層の全固形分、すなわち、感熱性画像形成層用組成物の全固形分に対する質量%を表す。
[フェノール系重合禁止剤Q1]
 表1中の「フェノール系重合禁止剤Q1」の欄の種類については以下のとおりである。BHT及びMEHQは、いずれもフェノール系重合禁止剤Q1に該当する。
・BHT:ジブチルヒドロキシトルエン(下記構造)(式(a)で表される化合物。ここで、式(a)中、X及びXはt-ブチル基を表し、Xはメチル基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015

・MEHQ:p-メトキシフェノール(下記構造)(式(a)で表される化合物。ここで、X及びXは水素原子を表し、Xはメトキシ基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
[過酸化物分解剤Q2]
 表1中の「過酸化物分解剤Q2」の欄の種類については以下のとおりである。Q2-1~Q2-10は、いずれも過酸化物分解剤Q2に該当する。
・Q2-1:アデカスタブ 2112(下記構造。ここで、tBuはt-ブチル基を表す。)(式(b-1)で表される化合物。ここで、Y~Yは2,4-ジ-t-ブチルフェニル基を表す)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017

・Q2-2:アデカスタブ 1178(下記構造)(式(b-1)で表される化合物。ここで、Y~Yはノニル基を表す)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000018

・Q2-3:アデカスタブ C(下記構造)(式(b-1)で表される化合物。ここで、Y~Yのうち、2つはフェニル基を表し、1つはオクチル基を表す)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019

・Q2-4:アデカスタブ HP-10(下記構造。ここで、tBuはt-ブチル基を表す。)(式(b-1)で表される化合物。ここで、Y~Yのうち、2つは2,4-ジ-t-ブチルフェニル基を表し、これらは互いにメチレン基を介して連結して環を形成し、1つはオクチル基を表す)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020

・Q2-5:アデカスタブ PEP-36(下記構造。ここで、tBuはt-ブチル基を表す。)(式(b-2)で表される化合物。ここで、Y~Yは2,5-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル基を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021

・Q2-6:アデカスタブ 1500(下記構造。ここで、Rは炭素数12~15のアルキル基を表す。)(式(b-3)で表される化合物。ここで、Y~Yは炭素数12~15のアルキル基を表し、Lは-C-C(CH-C-を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022

・Q2-7:3,3′-チオジプロピオン酸ジドデシル(下記構造)(式(c-1)で表される化合物。ここで、Zはドデシル基を表し、Lはエチレン基を表し、aは0を表し、bは2を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023

・Q2-8:3,3′-チオジプロピオン酸ジミリスチル(下記構造)(式(c-1)で表される化合物。ここで、Zはミリスチル基を表し、Lはエチレン基を表し、aは0を表し、bは2を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024

・Q2-9:3,3′-チオジプロピオン酸ジステアリル(下記構造)(式(c-1)で表される化合物。ここで、Zはステアリル基を表し、Lはエチレン基を表し、aは0を表し、bは2を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025

・Q2-10:ペンタエリトリトールテトラキス[3-ラウリルチオプロピオナート](下記構造)(式(c-2)で表される化合物。ここで、Zはドデシル基を表し、Lはメチレン基を表し、Lはエチレン基を表し、cは0を表し、dは4を表す。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
[光学濃度]
 各例について感熱性画像形成層の光学濃度を表1に示す。光学濃度は透過濃度計(サカタインクス(株)製のBMT-1)を用いて測定したものである。
[フレキソ印刷版の製造]
 得られた各フレキソ印刷版原版を用いて、以下のとおりフレキソ印刷版を製造した。
〔裏露光工程〕
 Concept 302 ECDLF(Glunz&Jensen社製)(紫外線露光機)を用いて、フレキソ印刷版原版の裏面側(支持体側)から80Wのエネルギーで18秒間露光(裏露光)を実施した。
〔マスク形成工程〕
 次いで、カバーシートを剥がし、CDI Spark 2530 Inline(ESKO社製)(イメージング機)を用いて、アブレーションにより感熱性画像形成層に評価画像を形成し、マスクを形成した。なお、評価画像は以下のとおりとした。
・ハイライト再現性:画像線数175lpiで網点面積率が0.4%から10%まで0.4%刻みで含まれる1cm角の網点画像
・凹線再現性:凹線幅が20μmから100μmまで10μm刻みで含まれる凹線画像
・インキ絡み:画像線数175lpiで網点面積率が5%から50%まで5%刻みで含まれる1cm角の網点画像
〔露光工程〕
 形成されたマスクを通して、感光性樹脂層を画像様に露光(主露光)を実施した。
 具体的には、CDI Spark 2530 Inline(ESKO社製)(紫外線(LED-UV)露光機)を用いて、表面から720秒間、3回転の条件で露光(主露光)を実施した。UV照度は、200mW/cmであった。
〔現像工程〕
 その後、C-Touch2530(GSTR社製)(現像機)により、フィニッシュパワー&ピュアパウダーSP(レキット・ベンキーザージャパン社製)の水溶液(濃度は0.5質量%)(現像液)を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成した。このようにして、非画像部と画像部とを有するフレキソ印刷版を得た。
[評価]
 以下のとおり、ハイライト再現性、凹線再現性、インキ絡み、マスク欠陥、及び、装置汚染性を評価した。結果を表1に示す。
 なお、ハイライト再現性、凹線再現性、及び、インキ絡みについては、印刷評価により評価した。印刷機はフレキソ印刷機(太陽機械製、TLF-270)を使用した。より具体的には、得られたフレキソ印刷版を、クッションテープ(Lohmann社製)を介して、版胴(ドラム)に張り込み、印刷機に設置した。その後、キスタッチ(画像全面が着肉し始める印圧)を0(基準印圧)とし、そこから、80μm押し込んだ条件で、印刷速度150m/分印刷を行った。評価に使用した被印刷体は、上記条件で5km毎25kmまでサンプリングした。被印刷体としては、50μmOPPフィルムFOS-AQ(フタムラ化学社製)を用いた。また、インキとしては、溶剤フレキソインキ、XS716(DICグラフィックス製)を用いた。
〔ハイライト再現性〕
 得られたフレキソ印刷版を用いて印刷を行い、印刷物上に再現される最小の網点面積率によって以下のとおり評価した。2点であることが好ましい。
・2点:網点面積率5%以下の網点が再現した。
・1点:網点面積率5%以下の網点が再現しなかった。
〔凹線再現性〕
 得られたフレキソ印刷版を用いて印刷を行い、印刷物上に再現される最も幅の細い凹線によって以下のとおり評価した。ここで再現とは、版上の凹線部にインキがつまらず被印刷体に転写しないことをいう。実用上、3点~5点であることが好ましく、4点~5点であることがより好ましく、5点であることがさらに好ましい。
・5点:20μm幅の凹線が再現
・4点:30μm幅の凹線が再現
・3点:40μm幅の凹線が再現
・2点:50μm幅の凹線が再現
・1点:60μm幅以上の凹線が再現
〔インキ絡み〕
 得られたフレキソ印刷版を用いて印刷を行い、印刷物上で網点がインキによりつながって印刷された個数(絡み個数)を数えて以下のとおり評価した。実用上、3点~5点であることが好ましく、4点~5点であることがより好ましく、5点であることがさらに好ましい。
・5点:絡み個数が10個以下
・4点:絡み個数が11個以上20個以下
・3点:絡み個数が21個以上40個以下 
・2点:絡み個数が41個以上80個以下
・1点:絡み個数が80個より多い
〔マスク欠陥〕
 フレキソ印刷版原版を5cm角にカットし評価版とした。評価版をライトテーブル(フジカラーLEDビュアー)に載せてバックライトで照らし、感熱性画像形成層のピンホールの有無を調べた。最大のピンホールの直径によって以下のとおり評価した。実用上、3点~5点であることが好ましく、4点~5点であることがより好ましく、5点であることがさらに好ましい。
・5点:300μm以下
・4点:300μm超400μm以下
・3点:400μm超500μm以下
・2点:500μm超700μm以下
・1点:700μmより大きい
〔装置汚染性〕
 得られたフレキソ印刷版原版を用いて上述のとおりフレキソ印刷版を製造したときの、現像後の現像ブラシの毛先に付着した感熱性画像形成層の量によって以下のとおり評価した。実用上、2点~3点であることが好ましく、3点であることがより好ましい。
・3点:現像ブラシの毛先に感熱性画像形成層が付着しなかった。
・2点:現像ブラシの毛先に感熱性画像形成層が付着したが、次に現像する版材に再付着はしなかった。
・1点:現像ブラシの毛先に感熱性画像形成層が絡みつくように付着し、次に現像する版材に再付着した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
 表1から分かるように、感熱性画像形成層が、赤外線吸収顔料と、紫外線吸収染料とを含有し、その光学濃度が3.0以上である実施例1~21のフレキソ印刷版原版は、優れた、凹線再現性、インキ絡み、マスク欠陥、及び、装置汚染性を示した。
 実施例1~6の対比(感熱性画像形成層における紫外線吸収染料の種類のみが異なる態様同士の対比)から、感熱性画像形成層の光学濃度が3.5以上である実施例2~6は、より優れた、凹線再現性及びインキ絡みを示した。なかでも、紫外線吸収染料がトリアジン系化合物である実施例5~6は、さらに優れた、凹線再現性及びインキ絡みを示した。
 また、実施例6~8の対比(感熱性画像形成層における赤外線吸収顔料の含有量のみが異なる態様同士の対比)から、感熱性画像形成層における赤外線吸収顔料の含有量が30質量%以上である実施例6及び実施例8は、より優れた、凹線再現性及びインキ絡みを示した。
 また、実施例6~8の対比(感熱性画像形成層における赤外線吸収顔料の含有量のみが異なる態様同士の対比)から、感熱性画像形成層における赤外線吸収顔料の含有量が40質量%以下である実施例6~7は、より優れたマスク欠陥を示した。
 また、実施例6と実施例9と実施例10との対比(感熱性画像形成層における紫外線吸収染料の含有量のみが異なる態様同士の対比)から、感熱性画像形成層における紫外線吸収染料の含有量が10質量%以上である実施例6及び実施例10は、より優れた、凹線再現性及びインキ絡みを示した。
 また、実施例1と実施例11との対比(感光性樹脂層の過酸化物分解剤Q2の有無のみが異なる態様同士の対比)から、感光性樹脂層がフェノール系重合禁止剤Q1に加えて過酸化物分解剤Q2を含有する実施例11は、より優れた、凹線再現性及びインキ絡みを示した。
 一方、感熱性画像形成層が紫外線吸収染料を含有しない比較例1及び比較例3~4は、マスク欠陥が不十分であった。このうち、感熱性画像形成層の光学濃度が3.0未満である比較例3~4は、凹線再現性及びインキ絡みも不十分であった。また、感熱性画像形成層が赤外線吸収顔料を含有しない比較例2は、装置汚染性が不十分であった。また、感熱性画像形成層が赤外線吸収顔料と紫外線吸収染料とを含有するが、感熱性画像形成層の光学濃度が3.0未満である比較例5は、凹線再現性及びインキ絡みが不十分であった。

Claims (8)

  1.  少なくとも、支持体と、感光性樹脂層と、感熱性画像形成層とを、この順に有するフレキソ印刷原版であって、
     前記感熱性画像形成層が、赤外線吸収剤としての顔料と、紫外線吸収剤としての染料とを含有し、
     前記感熱性画像形成層の光学濃度が、3.0以上である、フレキソ印刷版原版。
  2.  前記染料が、トリアジン系化合物である、請求項1に記載のフレキソ印刷版原版。
  3.  前記感光性樹脂層が、下記式(a)で表される化合物であるフェノール系重合禁止剤Q1と、下記式(b-1)~(b-3)及び下記式(c-1)~(c-2)のいずれかで表される化合物である過酸化物分解剤Q2とを含有する、請求項1又は2に記載のフレキソ印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

     式(a)中、X~Xは、水素原子、又は、置換基を表す。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

     式(b-1)~(b-3)中、Y~Yは、置換基を表し、Lは、2価の連結基を表す。Y~Yのいずれか2つが互いに連結して環を形成していてもよい。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

     式(c-1)中、Z~Zは、置換基を表し、Lは、2価の連結基を表し、aは0又は1を表し、bは1又は2を表し、a+b=2を満たす。
     式(c-2)中、Z~Zは、置換基を表し、Lは、単結合又は2価の連結基を表し、Lは、2価の連結基を表し、cは0~3の整数を表し、dは1~4の整数を表し、c+d=4を満たす。
  4.  前記フェノール系重合禁止剤Q1が、下記式(d)で表される化合物である、請求項3に記載のフレキソ印刷版原版。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

     式(d)中、X、X及びXは、水素原子、又は、置換基を表す。
  5.  前記感光性樹脂層が、水分散性粒子を含有する、請求項1又は2に記載のフレキソ印刷版原版。
  6.  非画像部と画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
     請求項1又は2に記載のフレキソ印刷版原版が有する感熱性画像形成層に画像を形成し、マスクを形成するマスク形成工程と、
     前記マスク形成工程の後に、前記マスクを通して、前記フレキソ印刷版原版が有する感光性樹脂層を画像様に露光する露光工程と、
     前記露光工程の後に、現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する現像工程とを有する、フレキソ印刷版の製造方法。
  7.  前記露光工程が、光源としてLED-UVを用いて露光する工程である、請求項6に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
  8.  前記現像液が、水性現像液である、請求項6に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
PCT/JP2022/047812 2021-12-27 2022-12-26 フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製造方法 WO2023127770A1 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021-212325 2021-12-27
JP2021212325 2021-12-27
JP2022119288 2022-07-27
JP2022-119288 2022-07-27

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023127770A1 true WO2023127770A1 (ja) 2023-07-06

Family

ID=86999218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2022/047812 WO2023127770A1 (ja) 2021-12-27 2022-12-26 フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製造方法

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2023127770A1 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200207142A1 (en) * 2019-01-02 2020-07-02 Macdermid Graphics Solutions Llc Liquid Photopolymer Resin Compositions for Flexographic Printing
JP2021162667A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 東レ株式会社 感光性樹脂積層体

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200207142A1 (en) * 2019-01-02 2020-07-02 Macdermid Graphics Solutions Llc Liquid Photopolymer Resin Compositions for Flexographic Printing
JP2021162667A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 東レ株式会社 感光性樹脂積層体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5691274B2 (ja) 感光性樹脂印刷版原版
JP5601606B1 (ja) フレキソ印刷版の製造方法
CN104985914B (zh) 包含两层感光层的可水显影的光聚合型平版印刷版材料及其应用
WO2011013601A1 (ja) フレキソ印刷原版
WO2013146586A1 (ja) Ctpフレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物およびそれから得られる印刷原版
JPH04342258A (ja) 溶媒耐性が改善された感光性エラストマー部材
JP7417553B2 (ja) 水現像性フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版および感光性樹脂組成物
JP2010237583A (ja) 水系現像感光性樹脂印刷原版
WO2023127770A1 (ja) フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版の製造方法
WO2020196820A1 (ja) フレキソ印刷版用現像液組成物、現像液および印刷原版の製造方法
US8632956B2 (en) Process for producing photosensitive resin plate and relief printing plate having recessed and projected pattern, and plate surface treating liquid used in the process
JP2023083372A (ja) フレキソ印刷版原版及びフレキソ印刷版
JPH0594015A (ja) 感光性印刷用エレメント
JP2005257727A (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いた感光性フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版
WO2023277053A1 (ja) フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版の製造方法
WO2022181659A1 (ja) フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版の製造方法
WO2024024612A1 (ja) フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版の製造方法
JP6051920B2 (ja) フレキソ印刷原版用感光性樹脂組成物及びフレキソ印刷原版
JP2004163532A (ja) 感光性樹脂積層体
WO2022168921A1 (ja) フレキソ印刷版原版
US20230393480A1 (en) Manufacturing method of flexographic printing plate
KR20200124261A (ko) 임프린트용 경화성 조성물, 이형제, 경화물, 패턴 형성 방법 및 리소그래피 방법
JP7242838B2 (ja) 水現像性フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版および感光性樹脂組成物
JP2004170597A (ja) 感光性印刷用原版
JP7241187B2 (ja) 水現像性フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 22915993

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1