WO2023127184A1 - すべり軸受ユニット及び回転陽極型ｘ線管 - Google Patents

Abstract

長期にわたって良好な軸受動作を得ることができるすべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管を提供する。　すべり軸受ユニットは、固定シャフトと、回転体と、潤滑剤と、を備える。前記固定シャフトは、第１ラジアル軸受面を含む径大部と、径小部と、を有する。前記回転体は、第２ラジアル軸受面を含む回転体本体と、シール部品と、を有する。前記シール部品は、第２外周面と、第２内周面と、前記第２内周面に開口し前記第２外周面側に凹み前記潤滑剤を捕捉可能な捕捉凹面と、貫通孔と、を含んでいる。前記貫通孔は、第１開口と、第２開口と、を有し、前記捕捉凹面で囲まれた空間を前記第１ラジアル軸受面と前記第２ラジアル軸受面との間の第１隙間につなげている。

Description

すべり軸受ユニット及び回転陽極型Ｘ線管

　本発明の実施形態は、すべり軸受ユニット及び回転陽極型Ｘ線管に関する。

　一般に、Ｘ線を使用して被写体を診断する医療用機器や工業用機器には、Ｘ線発生源としてＸ線管装置が使用されている。Ｘ線管装置として、回転陽極型のＸ線管を備えた回転陽極型Ｘ線管装置が知られている。

　回転陽極型Ｘ線管装置は、Ｘ線を放射する回転陽極型Ｘ線管と、ステータコイルと、これら回転陽極型Ｘ線管及びステータコイルを収容した筐体と、を備えている。回転陽極型Ｘ線管は、固定シャフトと、電子を発生する陰極と、陽極ターゲットと、回転体と、外囲器と、を備えている。回転体は円筒状に形成されている。陽極ターゲットは回転体に固定されている。固定シャフトと回転体との間の隙間には潤滑剤が充填されている。回転陽極型Ｘ線管は、動圧式のすべり軸受を使っている。回転体はステータコイルから発生する磁界により陽極ターゲットとともに回転する。また、陰極から放出された電子が陽極ターゲットに衝突することによりＸ線が放出される。

特開２０１２－１０４４０２号公報 特開２０１６－９６１７号公報 特開平１１－２１３９２７号公報

　本実施形態は、長期にわたって良好な軸受動作を得ることができるすべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管を提供する。

　一実施形態に係るすべり軸受ユニットは、
　回転軸線に沿って延出し、第１外周面に第１ラジアル軸受面を含む径大部と、前記径大部と一体に形成され前記径大部の第１外径より小さい第２外径を持つ径小部と、を有する固定シャフトと、
　前記固定シャフトを中心に回転自在な回転体と、
　潤滑剤と、を備え、
　前記回転体は、
　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部を囲んで位置し、第１内周面に第２ラジアル軸受面を含む回転体本体と、
　　前記回転体本体に固定され、筒状に形成され、前記径小部を囲んで位置し、第２外周面と、第２内周面と、前記第２内周面に開口し前記第２外周面側に凹み前記潤滑剤を捕捉可能な捕捉凹面と、貫通孔と、を含むシール部品と、を有し、
　前記潤滑剤は、前記固定シャフトと前記回転体との間の隙間に充填され、前記第１ラジアル軸受面及び前記第２ラジアル軸受面とともに動圧形のラジアルすべり軸受を形成し、
　前記貫通孔は、前記捕捉凹面に開口した第１開口と、前記シール部品のうち前記第２内周面及び前記捕捉凹面以外の面に開口した第２開口と、を有し、前記第１開口から前記第２開口まで前記シール部品を貫通し、前記捕捉凹面で囲まれた空間を前記第１ラジアル軸受面と前記第２ラジアル軸受面との間の第１隙間につなげている。

　また、一実施形態に係る回転陽極型Ｘ線管は、
　回転軸線に沿って延出し第１外周面に第１ラジアル軸受面を含む径大部と前記径大部と一体に形成され前記径大部の第１外径より小さい第２外径を持つ径小部とを有する固定シャフトと、前記固定シャフトを中心に回転自在な回転体と、潤滑剤と、を具備したすべり軸受ユニットと、
　前記回転体に固定された陽極ターゲットと、
　前記陽極ターゲットに対向配置された陰極と、
　前記すべり軸受ユニット、前記陽極ターゲット及び前記陰極を収容し、前記固定シャフトを固定する外囲器と、を備え、
　前記回転体は、
　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部を囲んで位置し、第１内周面に第２ラジアル軸受面を含む回転体本体と、
　　前記回転体本体に固定され、筒状に形成され、前記径小部を囲んで位置し、第２外周面と、第２内周面と、前記第２内周面に開口し前記第２外周面側に凹み前記潤滑剤を捕捉可能な捕捉凹面と、貫通孔と、を含むシール部品と、を有し、
　前記潤滑剤は、前記固定シャフトと前記回転体との間の隙間に充填され、前記第１ラジアル軸受面及び前記第２ラジアル軸受面とともに動圧形のラジアルすべり軸受を形成し、
　前記貫通孔は、前記捕捉凹面に開口した第１開口と、前記シール部品のうち前記第２内周面及び前記捕捉凹面以外の面に開口した第２開口と、を有し、前記第１開口から前記第２開口まで前記シール部品を貫通し、前記捕捉凹面で囲まれた空間を前記第１ラジアル軸受面と前記第２ラジアル軸受面との間の第１隙間につなげている。

図１は、第１の実施形態に係るＸ線管装置を示す断面図である。 図２は、図１に示したＸ線管の一部を示す拡大断面図である。 図３は、図１に示した固定シャフトの一部を示す側面図である。 図４は、上記第１の実施形態に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図５は、上記第１の実施形態の変形例１に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図６は、上記第１の実施形態の変形例２に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図７は、上記第１の実施形態の変形例３に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図８は、上記第１の実施形態の変形例４に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図９は、上記第１の実施形態の変形例５に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図１０は、第２の実施形態に係るＸ線管装置を示す断面図である。 図１１は、上記第２の実施形態に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図１２は、上記第２の実施形態の変形例１に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。 図１３は、第３の実施形態に係るＸ線管装置を示す断面図である。 図１４は、図１３に示したＸ線管の一部を示す拡大断面図である。 図１５は、図１４に示したＸ線管の一部をさらに拡大して示す断面図である。 図１６は、図１３に示した第２円筒を示す斜視図である。 図１７は、図１３に示した第１制限部材を示す斜視図である。 図１８は、上記第３の実施形態に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、陽極ターゲットに熱が入力され、陽極ターゲットが冷却されるまでの状態を示す図である。 図１９は、上記第３の実施形態の変形例１に係るＸ線管の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト及び回転体を示す図である。

　以下に、本発明の各実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。

　以下の各実施形態において、すべり軸受ユニット及びこのすべり軸受ユニットを備えた回転陽極型Ｘ線管装置について説明する。回転陽極型Ｘ線管装置は、回転陽極型Ｘ線管等を備えている。以下、回転陽極型Ｘ線管装置を単にＸ線管装置と称し、回転陽極型Ｘ線管を単にＸ線管と称する。Ｘ線管は、すべり軸受ユニットと、陽極ターゲットと、陰極と、外囲器と、を備えている。すべり軸受ユニットは、固定シャフトと、回転体と、潤滑剤としての液体金属（金属潤滑剤）と、を備え、すべり軸受を使っている。

　（第１の実施形態）
　まず、第１の実施形態に係るＸ線管装置について説明する。図１は、本第１の実施形態に係るＸ線管装置を示す断面図である。図２は、図１に示したＸ線管１の一部を示す拡大断面図である。図３は、図１に示した固定シャフト１０の一部を示す側面図である。図４は、本第１の実施形態に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図１に示すように、Ｘ線管装置は、回転陽極型のＸ線管１、磁界を発生させるコイルとしてのステータコイル２等を備えている。Ｘ線管１は、すべり軸受ユニットＵと、陽極ターゲット５０と、陰極６０と、外囲器７０と、を備えている。すべり軸受ユニットＵは、固定シャフト１０と、回転体２０と、潤滑剤としての液体金属ＬＭと、を備え、すべり軸受を使っている。

　図１乃至図３に示すように、固定シャフト１０は、円柱状に形成され、回転軸線ａに沿って延在し、外周面に形成されたラジアル軸受面Ｓ１１ａ，Ｓ１１ｂを有している。固定シャフト１０は、径大部１１及び径小部１３を備えている。径大部１１及び径小部１３は、同軸的に一体に形成されている。固定シャフト１０は、Ｆｅ（鉄）合金、Ｍｏ（モリブデン）合金等の金属で形成されている。

　固定シャフト１０の径大部１１は、回転軸線ａに沿って並んだ領域Ａ１、領域Ａ２、領域Ａ３、領域Ａ４、及び領域Ａ５に位置している。領域Ａ２は、回転軸線ａに沿った方向にて領域Ａ１に間隔を置いて位置している。領域Ａ３は、領域Ａ１と領域Ａ２との間に位置し、領域Ａ１及び領域Ａ２のそれぞれと隣り合っている。領域Ａ４は、領域Ａ３から向かって領域Ａ１を越えて位置し、領域Ａ１と隣り合っている。領域Ａ５は、領域Ａ３から向かって領域Ａ２を越えて位置し、領域Ａ２と隣り合っている。

　径大部１１は、円柱状に形成され、外周面Ｓ１１を備えている。外周面Ｓ１１は、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ、ラジアル軸受面Ｓ１１ｂ、凹面Ｓ１１ｃ、凹面Ｓ１１ｄ、及び凹面Ｓ１１ｅを有している。また、径大部１１は、一端面Ｓ１１ｆと、回転軸線ａに沿った方向にて一端面Ｓ１１ｆの反対側に位置する他端面Ｓ１１ｇと、を有している。

　一端面Ｓ１１ｆは、スラスト軸受面Ｓ１１ｉと、凹面Ｓ１１ｍと、を有している。凹面Ｓ１１ｍは、一端面Ｓ１１ｆに開口し、他端面Ｓ１１ｇ側に凹んでいる。回転軸線ａに沿った方向から一端面Ｓ１１ｆをみた場合、スラスト軸受面Ｓ１１ｉは円環状の形状を有し、凹面Ｓ１１ｍは円形の形状を有しスラスト軸受面Ｓ１１ｉで囲まれている。

　他端面Ｓ１１ｇは、スラスト軸受面Ｓ１１ｊと、凹面Ｓ１１ｎと、を有している。スラスト軸受面Ｓ１１ｊは、後述するシール部品９０と対向している。凹面Ｓ１１ｎは、他端面Ｓ１１ｇに開口し、一端面Ｓ１１ｆ側に凹んでいる。回転軸線ａに沿った方向から他端面Ｓ１１ｇをみた場合、スラスト軸受面Ｓ１１ｊは円環状の形状を有し、凹面Ｓ１１ｎは円環状の形状を有しスラスト軸受面Ｓ１１ｊで囲まれている。なお、径小部１３は、他端面Ｓ１１ｇのうち凹面Ｓ１１ｎで囲まれた領域から連続的に形成されている。

　ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ１１ｂは、それぞれ径大部１１の外周面Ｓ１１に全周にわたって形成されている。本第１の実施形態において、凹面Ｓ１１ｃ、凹面Ｓ１１ｄ、及び凹面Ｓ１１ｅは、それぞれ径大部１１の外周面Ｓ１１に全周にわたって形成されている。但し、凹面Ｓ１１ｃ、凹面Ｓ１１ｄ、及び凹面Ｓ１１ｅは、周方向にて、それぞれ断続的に形成されてもよい。

　ラジアル軸受面Ｓ１１ａは、領域Ａ１にて径大部１１に形成されている。ラジアル軸受面Ｓ１１ｂは、領域Ａ２にて径大部１１に形成されている。ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ１１ｂは、回転軸線ａに沿った方向に間隔を置いて位置している。

　ラジアル軸受面Ｓ１１ａは、プレーン面Ｓａと、複数の掻き込み凹面（複数のパターン部）Ｐａと、を有している。プレーン面Ｓａは、滑らかな外周面を有している。複数の掻き込み凹面Ｐａは、それぞれプレーン面Ｓａに開口し、回転軸線ａ側に凹み、液体金属ＬＭを掻き込むために形成されている。複数の掻き込み凹面Ｐａは、プレーン面Ｓａを窪めて形成され、領域Ａ１にて径大部１１の外周面Ｓ１１に全周にわたって並べられている。各々の掻き込み凹面Ｐａは、周方向に対して斜線状に延出して配列されている。掻き込み凹面Ｐａは、回転軸線ａ側に位置する底面Ｓｃを含んでいる。
　回転軸線ａに沿った方向において、複数の掻き込み凹面Ｐａは、間隔を置いて形成されている。但し、複数の掻き込み凹面Ｐａは、回転軸線ａに沿った方向において、つながってもよい。また、複数の掻き込み凹面Ｐａのうち凹面Ｓ１１ｃ側の掻き込み凹面Ｐａは、凹面Ｓ１１ｃに接していないが、凹面Ｓ１１ｃに接してもよい。同様に、複数の掻き込み凹面Ｐａのうち凹面Ｓ１１ｄ側の掻き込み凹面Ｐａは、凹面Ｓ１１ｄに接していないが、凹面Ｓ１１ｄに接してもよい。

　ラジアル軸受面Ｓ１１ｂは、プレーン面Ｓｂと、複数の掻き込み凹面（複数のパターン部）Ｐｂと、を有している。プレーン面Ｓｂは、滑らかな外周面を有している。複数の掻き込み凹面Ｐｂは、それぞれプレーン面Ｓｂに開口し、回転軸線ａ側に凹み、液体金属ＬＭを掻き込むために形成されている。複数の掻き込み凹面Ｐｂは、プレーン面Ｓｂを窪めて形成され、領域Ａ２にて径大部１１の外周面Ｓ１１に全周にわたって並べられている。掻き込み凹面Ｐｂは、周方向に対して斜線状に延出して配列されている。掻き込み凹面Ｐｂは、回転軸線ａ側に位置する底面Ｓｃを含んでいる。
　回転軸線ａに沿った方向において、複数の掻き込み凹面Ｐｂは、間隔を置いて形成されている。但し、複数の掻き込み凹面Ｐｂは、回転軸線ａに沿った方向において、つながっていてもよい。また、複数の掻き込み凹面Ｐｂのうち凹面Ｓ１１ｃ側の掻き込み凹面Ｐｂは、凹面Ｓ１１ｃに接していないが、凹面Ｓ１１ｃに接してもよい。同様に、複数の掻き込み凹面Ｐｂのうち凹面Ｓ１１ｅ側の掻き込み凹面Ｐｂは、凹面Ｓ１１ｅに接していないが、凹面Ｓ１１ｅに接してもよい。

　各々の掻き込み凹面Ｐａ及び各々の掻き込み凹面Ｐｂは、数十μｍの深さを有した溝で形成されている。複数の掻き込み凹面Ｐａ及び複数の掻き込み凹面Ｐｂは、それぞれヘリングボン・パターンを形作っている。このため、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ，Ｓ１１ｂは、それぞれ凹凸面であり、液体金属ＬＭを掻き込むことができ、液体金属ＬＭによる動圧を発生し易くすることができる。

　凹面Ｓ１１ｃは、領域Ａ３にて径大部１１に形成されている。凹面Ｓ１１ｄは、領域Ａ４にて径大部１１に形成されている。凹面Ｓ１１ｅは、領域Ａ５にて径大部１１に形成されている。凹面Ｓ１１ｃ、凹面Ｓ１１ｄ、及び凹面Ｓ１１ｅは、回転軸線ａに沿った方向に互いに間隔を置いて位置し、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ１１ｂから外れている。

　凹面Ｓ１１ｃは、回転軸線ａに沿った方向にて、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ１１ｂのそれぞれと並んでいる。凹面Ｓ１１ｄは、回転軸線ａに沿った方向にて、ラジアル軸受面Ｓ１１ａと並んでいる。凹面Ｓ１１ｅは、回転軸線ａに沿った方向にて、ラジアル軸受面Ｓ１１ｂと並んでいる。凹面Ｓ１１ｃ，Ｓ１１ｄ，Ｓ１１ｅは、それぞれ、滑らかな外周面であり、プレーン面である。
　なお、固定シャフト１０は、シェルタ及び上記シェルタにつながった複数の貫通孔を備えてもよい。上記シェルタは、液体金属ＬＭが適量充填される固定シャフト１０の内部空間である。複数の貫通孔は、凹面Ｓ１１ｃに開口した一以上の貫通孔を含んでいる。
　複数の貫通孔は、凹面Ｓ１１ｄに開口した一以上の貫通孔をさらに含んでいる。
　又は、複数の貫通孔は、凹面Ｓ１１ｄではなく凹面Ｓ１１ｅに開口した一以上の貫通孔をさらに含んでいる。
　又は、複数の貫通孔は、凹面Ｓ１１ｄに開口した一以上の貫通孔と、凹面Ｓ１１ｅに開口した一以上の貫通孔と、をさらに含んでいる。
　上記シェルタ及び上記複数の貫通孔は、液体金属ＬＭの循環路を形成することができる。

　凹面Ｓ１１ｃ、凹面Ｓ１１ｄ、及び凹面Ｓ１１ｅは、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ１１ｂに比べて窪んで形成されている。言い換えると、凹面Ｓ１１ｃ，Ｓ１１ｄ，Ｓ１１ｅは、プレーン面Ｓａ，Ｓｂの仮想の延長面Ｓｅより回転軸線ａ側に位置している。さらに言い換えると、固定シャフト１０において、凹面Ｓ１１ｃ，Ｓ１１ｄ，Ｓ１１ｅが形成される区間の外径ＤＯ２は、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ，Ｓ１１ｂが形成される区間の外径のうちの最小の外径ＤＯ１より小さい。

　回転軸線ａに垂直な方向にて、凹面（凹面Ｓ１１ｃ，Ｓ１１ｄ，Ｓ１１ｅ）と回転体２０との間の隙間は、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ（プレーン面Ｓａ）と回転体２０との間の隙間より大きく、ラジアル軸受面Ｓ１１ｂ（プレーン面Ｓｂ）と回転体２０との間の隙間より大きい。

　本第１の実施形態において、回転軸線ａに垂直な方向にて、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ（プレーン面Ｓａ）と回転体２０（内周面Ｓ２０ａ）との間の隙間、及びラジアル軸受面Ｓ１１ｂ（プレーン面Ｓｂ）と回転体２０との間の隙間は、それぞれ１０乃至４０μｍである。なお、上記隙間は、１０μｍ未満となってもよい。また、回転軸線ａに垂直な方向にて、凹面（凹面Ｓ１１ｃ，Ｓ１１ｄ，Ｓ１１ｅ）と回転体２０との間の隙間は、０．１乃至３ｍｍである。

　凹面Ｓ１１ｃと回転体２０との間の空間、凹面Ｓ１１ｄと回転体２０との間の空間、及び凹面Ｓ１１ｅと回転体２０との間の空間を、液体金属ＬＭを収容するリザーバとして機能させることができる。各々のラジアル軸受面Ｓ１１ａ，Ｓ１１ｂに両隣から液体金属ＬＭを供給できるため、軸受隙間における液体金属ＬＭの枯渇を抑制することができる。

　軸受隙間で液体金属ＬＭが稀薄になり、又は液体金属ＬＭが存在しなくなる場合に生じる固定シャフト１０のラジアル軸受面と回転体２０のラジアル軸受面との接触を抑制することができる。さらに、軸受面の少なくとも一方が削られてなる異物の発生自体を抑制することができるため、異物の液体金属ＬＭへの混入を抑制することができる。

　径小部１３は、円柱状に形成され、径大部１１の一端側に位置している。径小部１３は、径大部１１の外径（プレーン面Ｓａの外径又はプレーン面Ｓｂの外径）ＤＯ３より小さい外径ＤＯ４を持っている。径小部１３は、スラスト軸受面Ｓ１１ｊより回転軸線ａ側に位置している。

　図１及び図２に示すように、回転体２０は、固定シャフト１０を中心に回転自在に構成されている。回転体２０は、回転体本体２７と、シール部品９０と、筒部２５と、を備えている。回転体本体２７及びシール部品９０は、それぞれＦｅ合金、Ｍｏ合金等の金属で形成されている。筒部２５は、銅（Ｃｕ）、銅合金等の金属で形成されている。

　回転体本体２７は、第１円筒２１と、蓋部２９と、を備えている。
　第１円筒２１は、回転軸線ａに沿って延出し、筒状に形成され、固定シャフト１０（径大部１１）を囲んで位置している。本第１の実施形態において、第１円筒２１は、全長にわたって均一な内径及び外径を有している。第１円筒２１は、内周面Ｓ２０ａを有している。内周面Ｓ２０ａは、ラジアル軸受面Ｓ２０ｂを含んでいる。ラジアル軸受面Ｓ２０ｂは、少なくとも領域Ａ１及び領域Ａ２に位置している。本第１の実施形態において、ラジアル軸受面Ｓ２０ｂは、滑らかな内周面であり、プレーン面である。

　蓋部２９は、円板状に形成され、第１円筒２１と一体に形成され、第１円筒２１の一端側を液密に閉塞している。蓋部２９は、回転軸線ａに沿った方向に固定シャフト１０のスラスト軸受面Ｓ１１ｉと対向したスラスト軸受面Ｓ２０ｉを含んでいる。

　図２及び図４に示すように、シール部品９０は、回転体本体２７に固定され、筒状に形成され、径小部１３を囲んで位置している。シール部品９０は、筒部９１と、鍔部９２と、を有している。筒部９１は、外周面Ｓ９０ａと、内周面Ｓ９０ｂと、複数の捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅと、貫通孔ｈと、を含んでいる。
　また、シール部品９０は、固定シャフト１０のスラスト軸受面Ｓ１１ｊと対向したスラスト軸受面Ｓ２０ｊを含んでいる。

　シール部品９０の内周面Ｓ９０ｂと固定シャフト１０（径小部１３）との間の隙間（クリアランス）は、回転体２０の回転を維持するとともに液体金属ＬＭの漏洩を抑制できる値に設定されている。以上のことから、上記隙間は僅かであり、シール部品９０（筒部９１）はラビリンスシールリング（labyrinth seal ring）として機能するものである。回転軸線ａに垂直な方向における内周面Ｓ９０ｂと径小部１３との間の上記隙間は、５０乃至３００μｍの範囲内である。

　捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅは、それぞれ内周面Ｓ９０ｂに開口し、外周面Ｓ９０ａ側に凹み、液体金属ＬＭを捕捉可能に構成されている。捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅは、それぞれ筒部９１の内周面Ｓ９０ｂに全周にわたって形成されている。その場合、捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅは、それぞれ円環状の溝である。捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅは、それぞれ外周面Ｓ９０ａ側に位置する底面を含んでいる。例えば、捕捉凹面Ｓ９０ｃは、底面Ｓｄを含んでいる。

　捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅにおいて、捕捉凹面Ｓ９０ｃは最も径大部１１に近接し、捕捉凹面Ｓ９０ｅは最も径大部１１から離れている。回転軸線ａに沿った方向において、捕捉凹面Ｓ９０ｄは、捕捉凹面Ｓ９０ｃと捕捉凹面Ｓ９０ｅとの間に位置している。
　なお、シール部品９０は、複数の捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅを有していなくともよい。シール部品９０は、少なくとも捕捉凹面Ｓ９０ｃを有していればよい。

　貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃに開口した第１開口ＯＰ１と、シール部品９０（筒部９１）のうち内周面Ｓ９０ｂ及び捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅ以外の面に開口した第２開口ＯＰ２と、を有している。貫通孔ｈは、第１開口ＯＰ１から第２開口ＯＰ２までシール部品９０（筒部９１）を貫通している。
　ここで、固定シャフト１０のラジアル軸受面Ｓ１１ｂと回転体２０のラジアル軸受面Ｓ２０ｂとの間の隙間を第１隙間ｇ１とする。すると、貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃで囲まれた空間を第１隙間ｇ１につなげている。

　本第１の実施形態において、第１開口ＯＰ１は、捕捉凹面Ｓ９０ｃの底面Ｓｄに開口している。第２開口ＯＰ２は外周面Ｓ９０ａに開口している。シール部品９０の外周面Ｓ９０ａは、回転体２０の内周面Ｓ２０ａに隙間を置いて囲まれている。ここで、すべり軸受ユニットＵにおいて、内周面Ｓ２０ａと外周面Ｓ９０ａとの間の隙間を第２隙間ｇ２とする。すると、第２隙間ｇ２は、貫通孔ｈを第１隙間ｇ１につなげている。本実施形態において、ｇ２＞ｇ１である。第２隙間ｇ２の上限は、３ｍｍ程度であってもよい。
　なお、第２隙間ｇ２を、液体金属ＬＭを収容するリザーバとして機能させることができる。ラジアルすべり軸受Ｂｂ及びスラストすべり軸受Ｂｄの各々に隣から液体金属ＬＭを供給できるため、軸受における液体金属ＬＭの枯渇を抑制することができる。

　鍔部９２は、円環状の形状を有し、外周面Ｓ９０ａを全周にわたって囲み、外周面Ｓ９０ａから連続的に一体に形成されている。シール部品９０のうち鍔部９２が、第１円筒２１に固定されている。例えば、本第１の実施形態のように、第１円筒２１に対するシール部品９０の相対的な位置を固定するため、鍔部９２の外周側に円環状の段差部が形成されてもよい。鍔部９２の段差部を第１円筒２１に嵌合させることができる。

　シール部品９０は、ねじ１２０を用いて回転体本体２７（第１円筒２１）に固定されている。第１円筒２１とシール部品９０との境界は、全周にわたって溶接されている。溶接部１３０により、第１円筒２１とシール部品９０との隙間を液密に閉塞することができるため、第１円筒２１とシール部品９０との隙間を介した液体金属ＬＭの漏洩を抑制することができる。

　図１及び図２に示すように、筒部２５は、第１円筒２１の外周面と接合され、第１円筒２１に固着されている。なお、図２において、筒部２５の図示を省略している。
　すべり軸受ユニットＵに組立てる際、第１円筒２１と蓋部２９との一体物の内部に固定シャフト１０を嵌合する。その後、シール部品９０で蓋をするため、シール部品９０を第１円筒２１に固定する。

　本実施形態において、蓋部２９は第１円筒２１と一体に形成されているが、蓋部２９は第１円筒２１から物理的に独立した蓋であってもよい。
　固定シャフト１０及び回転体２０は、全対向領域で、互いに隙間を置いて設けられている。径大部１１は回転体２０で覆われている。径小部１３は回転体２０の外側に突出している。固定シャフト１０は回転体２０を回転可能に支持している。

　液体金属ＬＭは、固定シャフト１０（径大部１１）と回転体２０との間の隙間に充填されている。液体金属ＬＭは、ＧａＩｎ（ガリウム・インジウム）合金、ＧａＩｎＳｎ（ガリウム・インジウム・錫）合金等の材料を利用することができる。液体金属ＬＭは、上記隙間に適量充填されている。回転体２０の回転動作時、液体金属ＬＭの回転軸線ａ側の液面は、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ，Ｓ１１ｂの底面Ｓｃより回転軸線ａ側に位置している。これにより、軸受隙間における液体金属ＬＭの枯渇を抑制することができる。

　液体金属ＬＭは、固定シャフト１０の軸受面及び回転体２０の軸受面とともに動圧形のすべり軸受を形成している。
　液体金属ＬＭは、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ２０ｂとともに動圧形のラジアルすべり軸受Ｂａを形成している。ラジアルすべり軸受Ｂａは、領域Ａ１に位置している。
　液体金属ＬＭは、ラジアル軸受面Ｓ１１ｂ及びラジアル軸受面Ｓ２０ｂとともに動圧形のラジアルすべり軸受Ｂｂを形成している。ラジアルすべり軸受Ｂｂは、領域Ａ２に位置している。
　液体金属ＬＭは、スラスト軸受面Ｓ１１ｉ及びスラスト軸受面Ｓ２０ｉとともに動圧形のスラストすべり軸受Ｂｃを形成している。
　液体金属ＬＭは、スラスト軸受面Ｓ１１ｊ及びスラスト軸受面Ｓ２０ｊとともに動圧形のスラストすべり軸受Ｂｄを形成している。

　図１に示すように、陽極ターゲット５０は、円環状に形成され、固定シャフト１０、及び回転体２０と同軸的に設けられている。陽極ターゲット５０は、陽極ターゲット本体５１と、陽極ターゲット本体５１の外面の一部に設けられたターゲット層５２と、を有している。陽極ターゲット本体５１は、円環状に形成されている。陽極ターゲット本体５１は、回転体２０に固定され、回転体２０と一体となっている。

　本実施形態において、陽極ターゲット本体５１は、筒状の接続部１１０を介して回転体本体２７（蓋部２９）に間接に固定され、接続部１１０及び回転体本体２７と一体となっている。なお、接続部１１０は、Ｍｏ合金等の金属で形成されている。接続部１１０は、断熱部として機能し、陽極ターゲット５０から回転体２０に熱を伝え難くするものである。

　陽極ターゲット本体５１は、Ｍｏ、Ｗ（タングステン）、あるいはこれらを用いた合金で形成されている。ターゲット層５２は、陰極から放出される電子が衝突するターゲット面（電子衝突面）Ｓ５２を有している。ターゲット層５２を形成する金属の融点は、陽極ターゲット本体５１を形成する金属の融点と同一、又は陽極ターゲット本体５１を形成する金属の融点より高い。本第１の実施形態において、陽極ターゲット本体５１はＭｏ合金で形成され、ターゲット層５２はＷ合金で形成されている。

　陽極ターゲット５０は、回転体２０とともに回転可能である。ターゲット層５２のターゲット面Ｓ５２に電子が衝突すると、ターゲット面Ｓ５２に焦点が形成される。これにより、陽極ターゲット５０は、焦点からＸ線を放出する。

　陰極６０は、陽極ターゲット５０のターゲット層５２に間隔を置き、陽極ターゲット５０（ターゲット層５２）に対向配置されている。陰極６０は、外囲器７０の内壁に取付けられている。陰極６０は、ターゲット層５２に照射する電子を放出する電子放出源としてのフィラメント６１を有している。

　外囲器７０は、円筒状に形成されている。外囲器７０はガラス、セラミック、及び金属で形成されている。外囲器７０において、陽極ターゲット５０と対向した個所の外径は、筒部２５と対向した個所の外径より大きい。外囲器７０は開口部７２を有している。外囲器７０は、密閉され、すべり軸受ユニットＵ、陽極ターゲット５０、接続部１１０、及び陰極６０を収容している。外囲器７０の内部は真空状態（減圧状態）に維持されている。

　外囲器７０の気密状態を維持するよう、開口部７２は固定シャフト１０の径小部１３に気密に接合されている。この実施の形態において、Ｘ線管１は、片端支持軸受構造を採用している。外囲器７０は、固定シャフト１０の径小部１３を固定している。すなわち、径小部１３は、軸受の片持ち支持部として機能している。

　ステータコイル２は、回転体２０の外周面、より詳しくは筒部２５の外周面に対向し外囲器７０を囲むように設けられている。ステータコイル２の形状は円環状である。ステータコイル２は、筒部２５（回転体２０）に与える磁界を発生して回転体２０及び陽極ターゲット５０を回転させる。

　上記Ｘ線管装置の動作状態において、ステータコイル２は回転体２０（特に筒部２５）に与える磁界を発生するため、回転体２０は回転する。これにより、陽極ターゲット５０も回転体２０と一緒に回転する。また、陰極６０に電流が与えられ負の電圧が印加され、陽極ターゲット５０に相対的に正の電圧が印加される。
　回転体２０及び固定シャフト１０の電位は、陽極ターゲット５０の電位と同一となる。陽極接地型のＸ線管の場合、陽極ターゲット５０、回転体２０、固定シャフト１０、及び図示しない外囲器の金属部分は、接地電位となる。

　これにより、陰極６０と陽極ターゲット５０との間に電位差が生じる。フィラメント６１は電子を放出する。この電子は、加速され、ターゲット面Ｓ５２に衝突する。これにより、ターゲット面Ｓ５２に焦点が形成され、焦点は電子と衝突するときにＸ線を放出する。陽極ターゲット５０に衝突した電子（熱電子）は、Ｘ線に変換され、残りは熱エネルギに変換される。なお、陰極６０の電子放出源としては、フィラメントに限定されるものではなく、例えばフラットエミッタであってもよい。また、Ｘ線管１は、熱陰極Ｘ線管ではなく、冷陰極Ｘ線管であってもよい。

　図２及び図４に示すように、すべり軸受ユニットＵの動作状態において、軸受（例えば、スラストすべり軸受Ｂｄ）から液体金属ＬＭが押し出される場合がある。例えば、Ｘ線管１の動作中、固定シャフト１０及び回転体２０間に存在するガスの膨張により、固定シャフト１０及び回転体２０間の隙間から、ガスとともに液体金属ＬＭの一部が軸受外部に瞬間的に噴出する場合がある。

　しかしながら、固定シャフト１０は凹面Ｓ１１ｎを有している。軸受から固定シャフト１０の径小部１３側にガス及び液体金属ＬＭが押し出されても、押し出されたガス及び液体金属ＬＭの衝撃を凹面Ｓ１１ｎで吸収することができる。
　なお、固定シャフト１０に凹面Ｓ１１ｎを形成することで、他端面Ｓ１１ｇにスラスト軸受面Ｓ１１ｊを高精度に形成することができる。

　さらに、すべり軸受ユニットＵはシール部品９０を備えている。そのため、シール部品９０の内周面Ｓ９０ｂと径小部１３との間に液体金属ＬＭが押し出されても、シール部品９０の複数の捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅは、押し出された液体金属ＬＭを捕捉することができる。

　これにより、すべり軸受ユニットＵの外側への液体金属ＬＭの漏洩を抑制することができる。外囲器７０の内部への液体金属ＬＭの飛散は抑制されるため、Ｘ線管１に生じる恐れのある放電の発生を抑制することができ、ひいては、Ｘ線管１の製品寿命の長期化を図ることができ、Ｘ線管１の製品信頼性の向上を図ることができる。そして、Ｘ線管１は、機能を失うことなく動作を継続することができる。

　貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃで囲まれた空間を、第２隙間ｇ２を介して第１隙間ｇ１及び第３隙間ｇ３につなげている。ここで、第３隙間ｇ３は、回転軸線ａに沿った方向において、径大部１１とシール部品９０との間の隙間である。貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃ、第２隙間ｇ２等とともに液体金属ＬＭの循環路を構成している。捕捉凹面Ｓ９０ｃで液体金属ＬＭを捕捉した場合、その液体金属ＬＭを、再度、軸受に利用することができる。そのため、軸受における液体金属ＬＭの枯渇を抑制することができる。

　ここで、固定シャフト１０及びシール部品９０の寸法について説明する。
　図３及び図４に示すように、前記回転軸線ａに垂直な方向において、回転軸線ａから貫通孔ｈの第１開口ＯＰ１までの最長の距離を第１距離ＤＩ１とし、回転軸線ａから貫通孔ｈの第２開口ＯＰ２までの最長の距離を第２距離ＤＩ２とし、回転軸線ａから掻き込み凹面Ｐａ，Ｐｂの各々の底面Ｓｃまでの距離を第３距離ＤＩ３とする。

　第２距離ＤＩ２は、第１距離ＤＩ１以上である。遠心力により、液体金属ＬＭを第１開口ＯＰ１から第２開口ＯＰ２まで貫通孔ｈの内部を移動させることができる。液体金属ＬＭを捕捉凹面Ｓ９０ｃの内部から貫通孔ｈを介して第２隙間ｇ２に移動させることができるため、液体金属ＬＭを良好に循環させることができる。

　第３距離ＤＩ３は、第１距離ＤＩ１以上である。第３距離ＤＩ３が第１距離ＤＩ１未満である場合と比較して、捕捉凹面Ｓ９０ｃの内部の液体金属ＬＭを掻き込み凹面Ｐａ，Ｐｂ側に良好に供給することができる。これにより、回転体２０の回転動作時、液体金属ＬＭの回転軸線ａ側の液面を、掻き込み凹面Ｐａ，Ｐｂの各々の底面Ｓｃより回転軸線ａ側に位置させ易くなり、軸受（ラジアルすべり軸受Ｂａ，Ｂｂ）における液体金属ＬＭの枯渇を抑制することができる。

　さらに、第３距離ＤＩ３は、第２距離ＤＩ２以上である。本実施形態において、第３距離ＤＩ３は、第２距離ＤＩ２を超えている。第３距離ＤＩ３が第２距離ＤＩ２未満である場合と比較して、貫通孔ｈの内部の液体金属ＬＭを掻き込み凹面Ｐａ，Ｐｂ側に良好に供給することができる。そして、軸受における液体金属ＬＭの枯渇を、一層、抑制することができる。
　上記のようにＸ線管１を備えたＸ線管装置が形成されている。

　上記のように構成された第１の実施形態に係るＸ線管装置によれば、Ｘ線管装置は、回転陽極型のＸ線管１を備えている。Ｘ線管１は、すべり軸受ユニットＵ、陽極ターゲット５０、陰極６０、外囲器７０等を備えている。すべり軸受ユニットＵは、固定シャフト１０、固定シャフト１０を中心に回転自在な回転体２０、液体金属ＬＭ等を備えている。固定シャフト１０は、回転軸線ａに沿って延出し外周面Ｓ１１にラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ１１ｂを含む径大部１１と、径大部１１の外径ＤＯ３より小さい外径ＤＯ４を持つ径小部１３と、を有している。

　回転体２０は、回転体本体２７と、シール部品９０と、を有している。回転体本体２７は、回転軸線ａに沿って延出して筒状に形成され、径大部１１を囲んで位置し、内周面Ｓ２０ａにラジアル軸受面Ｓ２０ｂを含んでいる。シール部品９０は、回転体本体２７に固定され、筒状に形成され、径小部１３を囲んで位置し、外周面Ｓ９０ａと、内周面Ｓ９０ｂと、内周面Ｓ９０ｂに開口し外周面Ｓ９０ａ側に凹み液体金属ＬＭを捕捉可能な捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅと、貫通孔ｈと、を含んでいる。

　液体金属ＬＭは、固定シャフト１０と回転体２０との間の隙間に充填されている。液体金属ＬＭは、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ２０ｂとともに動圧形のラジアルすべり軸受Ｂａを形成している。液体金属ＬＭは、ラジアル軸受面Ｓ１１ｂ及びラジアル軸受面Ｓ２０ｂとともに動圧形のラジアルすべり軸受Ｂｂを形成している。

　貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃに開口した第１開口ＯＰ１と、シール部品９０のうち内周面Ｓ９０ｂ及び捕捉凹面Ｓ９０ｃ，Ｓ９０ｄ，Ｓ９０ｅ以外の面に開口した第２開口ＯＰ２と、を有している。貫通孔ｈは、第１開口ＯＰ１から第２開口ＯＰ２までシール部品９０を貫通し、捕捉凹面Ｓ９０ｃで囲まれた空間をラジアル軸受面Ｓ１１ｂとラジアル軸受面Ｓ２０ｂとの間の第１隙間ｇ１につなげている。

　貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃ等とともに液体金属ＬＭの循環路を構成している。捕捉凹面Ｓ９０ｃで液体金属ＬＭを捕捉した場合、その液体金属ＬＭを、再度、軸受に利用することができる。そのため、軸受における液体金属ＬＭの枯渇を抑制することができる。

　貫通孔ｈの第１開口ＯＰ１は、捕捉凹面Ｓ９０ｃのうち回転軸線ａから最も離れた位置に形成されている。これにより、捕捉凹面Ｓ９０ｃで囲まれた空間に液体金属ＬＭが取り残される事態を回避することができる。
　上記のことから、長期にわたって良好な軸受動作を得ることができるすべり軸受ユニットＵ及びこのすべり軸受ユニットを備えたＸ線管１を得ることができる。

　（第１の実施形態の変形例１）
　次に、上記第１の実施形態の変形例１について説明する。Ｘ線管１（すべり軸受ユニットＵ）は、本変形例１で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図５は、本変形例１に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図５に示すように、第３距離ＤＩ３は、第２距離ＤＩ２と同一であってもよい。本変形例１において、ｇ２＝ｇ１である。貫通孔ｈの内部の液体金属ＬＭを掻き込み凹面Ｐａ，Ｐｂ側に良好に供給することができる。そして、軸受における液体金属ＬＭの枯渇を、一層、抑制することができる。
　その他、本変形例１は、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　（第１の実施形態の変形例２）
　次に、上記第１の実施形態の変形例２について説明する。Ｘ線管１（すべり軸受ユニットＵ）は、本変形例２で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図６は、本変形例２に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図６に示すように、例えば、液体金属ＬＭの流動性の理由により、第３距離ＤＩ３は、第２距離ＤＩ２未満であってもよい。ｇ２＜ｇ１である。本変形例２においても、貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃ等とともに液体金属ＬＭの循環路を構成している。そのため、本変形例２は、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　（第１の実施形態の変形例３）
　次に、上記第１の実施形態の変形例３について説明する。Ｘ線管１（すべり軸受ユニットＵ）は、本変形例３で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図７は、本変形例３に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図７に示すように、シール部品９０は、外周面Ｓ９０ａに開口し内周面Ｓ９０ｂ側に凹んだリザーバ凹面Ｓ９０ｆを有してもよい。リザーバ凹面Ｓ９０ｆは、液体金属ＬＭを収容可能である。貫通孔ｈの第２開口ＯＰ２は、リザーバ凹面Ｓ９０ｆに開口している。リザーバ凹面Ｓ９０ｆ及び第２隙間ｇ２は、貫通孔ｈを第１隙間ｇ１及び第３隙間ｇ３につなげている。

　本変形例３によれば、第２隙間ｇ２に加え、リザーバ凹面Ｓ９０ｆで囲まれた空間においても、液体金属ＬＭを収容することができる。軸受における液体金属ＬＭの枯渇を、一層、抑制することができる。その他、本変形例３は、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　（第１の実施形態の変形例４）
　次に、上記第１の実施形態の変形例４について説明する。Ｘ線管１（すべり軸受ユニットＵ）は、本変形例４で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図８は、本変形例４に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図８に示すように、捕捉凹面Ｓ９０ｃで囲まれた空間の体積は、内周面Ｓ９０ｂ側から外周面Ｓ９０ａ側に近づくにつれて漸減してもよい。捕捉凹面Ｓ９０ｃで捕捉した液体金属ＬＭを貫通孔ｈの第１開口ＯＰ１に向かい易くすることができる。その他、本変形例４は、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　（第１の実施形態の変形例５）
　次に、上記第１の実施形態の変形例５について説明する。Ｘ線管１（すべり軸受ユニットＵ）は、本変形例５で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図９は、本変形例５に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図９に示すように、シール部品９０は、複数の貫通孔ｈを備えてもよい。各々の貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃの底面Ｓｄに開口した第１開口ＯＰ１と、シール部品９０の外周面Ｓ９０ａに開口した第２開口ＯＰ２と、を有している。本変形例５において、シール部品９０は、２つの貫通孔ｈを備えているが、３つ以上の貫通孔ｈを備えてもよい。シール部品９０が１つの貫通孔ｈを備えている場合と比較し、捕捉凹面Ｓ９０ｃで捕捉した液体金属ＬＭを軸受側に戻し易くすることができる。その他、本変形例５は、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　（第２の実施形態）
　次に、第２の実施形態に係るＸ線管装置について説明する。Ｘ線管１は、本第２の実施形態で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図１０は、本第２の実施形態に係るＸ線管装置を示す断面図である。図１１は、本第２の実施形態に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。なお、図１１において、筒部２５の図示を省略している。

　図１０に示すように、固定シャフト１０は、鍔部１７をさらに備えている。鍔部１７は、径大部１１の外周面側に位置し、径大部１１と一体に形成されている。本実施形態において、鍔部１７は、径大部１１の凹面Ｓ１１ｅから連続的に形成されている。言い換えると、鍔部１７及び径大部１１は、同一材料で同時に形成されている。但し、互いに物理的に独立した鍔部１７及び径大部１１等を用意し、径大部１１に鍔部１７を固定することで固定シャフト１０を形成してもよい。

　回転体２０は、軸受部材２６をさらに備えている。軸受部材２６は、筒状に形成されている。回転軸線ａに沿った方向において、軸受部材２６は、回転体本体２７（第１円筒２１）とともに鍔部１７を挟んでいる。例えば、本第２の実施形態のように、第１円筒２１に対する軸受部材２６の相対的な位置を固定するため、軸受部材２６の外周側に円環状の段差部が形成されてもよい。軸受部材２６の段差部を第１円筒２１に嵌合させることができる。

　同様に、第１円筒２１及び軸受部材２６に対するシール部品９０の相対的な位置を固定するため、鍔部９２の外周側に円環状の段差部が形成されてもよい。鍔部９２の段差部を軸受部材２６に嵌合させることができる。

　図１１に示すように、シール部品９０及び軸受部材２６は、ねじ１２０を用いて回転体本体２７（第１円筒２１）に固定されている。第１円筒２１と軸受部材２６との境界は、全周にわたって溶接されている。溶接部１４０により、第１円筒２１と軸受部材２６との隙間を液密に閉塞することができるため、第１円筒２１と軸受部材２６との隙間を介した液体金属ＬＭの漏洩を抑制することができる。軸受部材２６とシール部品９０との境界は、全周にわたって溶接されている。溶接部１５０により、軸受部材２６とシール部品９０との隙間を液密に閉塞することができるため、軸受部材２６とシール部品９０との隙間を介した液体金属ＬＭの漏洩を抑制することができる。

　鍔部１７は、スラスト軸受面Ｓ１１ｉと、回転軸線ａに沿った方向においてスラスト軸受面Ｓ１１ｉの反対側に位置したスラスト軸受面Ｓ１１ｊと、を含んでいる。回転体本体２７（第１円筒２１）は、回転軸線ａに沿った方向に鍔部１７のスラスト軸受面Ｓ１１ｉと対向したスラスト軸受面Ｓ２０ｉを含んでいる。軸受部材２６は、回転軸線ａに沿った方向に鍔部１７のスラスト軸受面Ｓ１１ｊと対向したスラスト軸受面Ｓ２０ｊを含んでいる。

　液体金属ＬＭは、鍔部１７のスラスト軸受面Ｓ１１ｉ及び第１円筒２１のスラスト軸受面Ｓ２０ｉとともに動圧形のスラストすべり軸受Ｂｃを形成している。
　液体金属ＬＭは、鍔部１７のスラスト軸受面Ｓ１１ｊ及び軸受部材２６のスラスト軸受面Ｓ２０ｊとともに動圧形のスラストすべり軸受Ｂｄを形成している。
　ここで、すべり軸受ユニットＵにおいて、第２隙間ｇ２は、シール部品９０の外周面Ｓ９０ａと軸受部材２６の内周面Ｓ２６との間の隙間である。

　シール部品９０は、円環部９１ａを有している。円環部９１ａは、捕捉凹面Ｓ９０ｃの一部である第１端面９１ｂと、回転軸線ａに沿った方向において第１端面９１ｂの反対側に位置し径大部１１と対向した第２端面９１ｃとを含んでいる。貫通孔ｈの第１開口ＯＰ１は、第１端面９１ｂ及び底面Ｓｄの少なくとも一方に開口している。本実施形態において、第１開口ＯＰ１は第１端面９１ｂに開口している。貫通孔ｈの第２開口ＯＰ２は、第２端面９１ｃに開口している。貫通孔ｈは、第１開口ＯＰ１から第２開口ＯＰ２までシール部品９０（円環部９１ａ）を貫通している。
　本実施形態において、貫通孔ｈは、回転軸線ａに沿った方向に延出している。第２距離ＤＩ２は、第１距離ＤＩ１と同一である。

　貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｃで囲まれた空間を第３隙間ｇ３につなげている。本実施形態において、径大部１１及びシール部品９０は、液体金属ＬＭとともにスラストすべり軸受を形成していない。そのため、貫通孔ｈの第２開口ＯＰ２を、第３隙間ｇ３に直につなげることができる。第３隙間ｇ３は、貫通孔ｈを第１隙間ｇ１等につなげている。

　上記のように構成された第２の実施形態に係るＸ線管装置によれば、Ｘ線管１は、すべり軸受ユニットＵ、陽極ターゲット５０、陰極６０、外囲器７０等を備えている。すべり軸受ユニットＵは、第３隙間ｇ３から離れた位置にスラストすべり軸受を有している。

　貫通孔ｈは、第３隙間ｇ３に直につながった第２開口ＯＰ２を有し、捕捉凹面Ｓ９０ｃ等とともに液体金属ＬＭの循環路を構成している。捕捉凹面Ｓ９０ｃで液体金属ＬＭを捕捉した場合、スラストすべり軸受に悪影響を及ぼすこと無しに、液体金属ＬＭを、再度、軸受に利用することができる。

　上記のことから、本第２の実施形態においても、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。本第２の実施形態は、長期にわたって良好な軸受動作を得ることができるすべり軸受ユニットＵ及びこのすべり軸受ユニットを備えたＸ線管１を得ることができる。
　なお、本第２の実施形態に、上記変形例１（図５）、上記変形例２（図６）、上記変形例３（図７）、上記変形例４（図８）、及び上記変形例５（図９）の１以上の技術を適用可能である。

　（第２の実施形態の変形例１）
　次に、上記第２の実施形態の変形例１について説明する。Ｘ線管１（すべり軸受ユニットＵ）は、本変形例１で説明する構成以外、上記第２の実施形態と同様に構成されている。図１２は、本変形例１に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図１２に示すように、貫通孔ｈは、回転軸線ａに沿った方向に延出していなくともよい。第２距離ＤＩ２は、第１距離ＤＩ１を超えてもよい。すなわち、回転軸線ａに垂直な方向において、回転軸線ａから貫通孔ｈの第２開口ＯＰ２までの最長の距離は、回転軸線ａから貫通孔ｈの第１開口ＯＰ１までの最長の距離を超えてもよい。本変形例１においても、上記第２の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　（第３の実施形態）
　次に、第３の実施形態に係るＸ線管装置について説明する。Ｘ線管１は、本第３の実施形態で説明する構成以外、上記第１の実施形態と同様に構成されている。図１３は、本第３の実施形態に係るＸ線管装置を示す断面図である。図１４は、図１３に示したＸ線管１の一部を示す拡大断面図である。図１４において、筒部２５の図示を省略している。図１５は、図１４に示したＸ線管１の一部をさらに拡大して示す断面図である。図１６は、図１３に示した第２円筒２２を示す斜視図である。図１７は、図１３に示した第１制限部材２３を示す斜視図である。

　図１３及び図１４に示すように、固定シャフト１０は、径小部１２をさらに備えている。径小部１２は、径大部１１より外径の小さい円柱状に形成され、径大部１１の他端側に位置している。径小部１２は、スラスト軸受面Ｓ１１ｉより回転軸線ａ側に位置している。なお、回転軸線ａに沿った方向から一端面Ｓ１１ｆをみた場合、凹面Ｓ１１ｍは、円環状の形状を有し、スラスト軸受面Ｓ１１ｉと径小部１２との間に位置している。

　固定シャフト１０は、第１底面１０ｂ１と、第２底面１０ｂ２と、熱伝達部１０ａと、を含んでいる。第２底面１０ｂ２は、回転軸線ａに沿った方向において第１底面１０ｂ１の反対側に位置している。本実施形態において、第１底面１０ｂ１は径小部１２に位置し、第２底面１０ｂ２は径小部１３に位置している。

　熱伝達部１０ａは、回転軸線ａに沿って延出し、第１底面１０ｂ１及び第２底面１０ｂ２の少なくとも一方に開口している。本実施形態において、熱伝達部１０ａは、熱伝達穴であり、第２底面１０ｂ２に開口し、第１底面１０ｂ１に開口していない。熱伝達部１０ａは、冷媒の流路を形成している。熱伝達部１０ａは、強制対流にて内部を流れる冷媒に熱を伝達する。本実施形態において、冷媒は冷却液Ｌである。水冷又は油冷にてＸ線管１の陽極ターゲット５０の冷却率を向上させることができる。但し、冷媒は空気であってもよく、空冷にて陽極ターゲット５０の冷却率を向上させてもよい。
　熱伝達部１０ａは、少なくとも領域Ａ１に位置していた方が望ましい。これにより、固定シャフト１０のうち、陽極ターゲット５０の熱が伝わり易い個所を冷却することができる。なお、領域Ａ１は、陽極ターゲット５０で囲まれた領域である。

　回転体２０は、第１円筒２１と、第２円筒２２と、第１制限部材２３と、第２制限部材２４と、筒部２５と、シール部品９０と、を備えている。第１円筒２１、第２円筒２２、第１制限部材２３、及び第２制限部材２４は、それぞれＦｅ合金やＭｏ合金等の金属で形成されている。回転体２０において、第１円筒２１は外側に位置する外円筒であり、第２円筒２２は相対的に内側に位置する内円筒である。

　図１３乃至図１６に示すように、第１円筒２１は、回転軸線ａに沿って延出して筒状に形成され、径大部１１を囲んで位置している。第２円筒２２は、回転軸線ａに沿って延出し、筒状に形成されている。第２円筒２２は、固定シャフト１０の径大部１１と第１円筒２１との間に位置している。本実施形態において、第２円筒２２は、全長にわたって均一な内径及び外径を有している。第２円筒２２の内径は固定シャフト１０（径大部１１）の外径（外径ＤＯ３）より大きく、第２円筒２２の外径は第１円筒２１の内径より小さい。

　第１円筒２１はラジアル軸受面Ｓ２０ｂを含んでいない。第２円筒２２は、ラジアル軸受面Ｓ２０ｂを含む内周面Ｓ２０ａを有している。ラジアル軸受面Ｓ２０ｂは、少なくとも領域Ａ１及び領域Ａ２に位置している。本実施形態において、ラジアル軸受面Ｓ２０ｂは、滑らかな内周面であり、プレーン面である。第２円筒２２と固定シャフト１０との間の隙間、及び第２円筒２２と第１円筒２１との間の隙間の分、第２円筒２２は、固定シャフト１０及び第１円筒２１の各々に対して偏心した位置に移動可能である。第２円筒２２は、第１円筒２１に対して相対的に回転しないように回転動作が制限されている。そのため、第２円筒２２の回転速度は、第１円筒２１の回転速度と同一である。

　回転軸線ａに沿った方向における第２円筒２２の長さは、ラジアルすべり軸受及びスラストすべり軸受の機能を損なうことの無いよう、調整されている。
　第２円筒２２は、第１端面２２ｅ１と、第２端面２２ｅ２と、１以上の凹部２２ｒと、を含んでいる。第１端面２２ｅ１は、第２円筒２２のうち回転軸線ａに沿った方向の端に位置している。第２端面２２ｅ２は、第２円筒２２のうち回転軸線ａに沿った方向の端に位置し、第１端面２２ｅ１の反対側にある。本実施形態において、第２円筒２２は、３つの凹部２２ｒを有している。これらの凹部２２ｒは、周方向に互いに間隔を置いて位置している。各々の凹部２２ｒは、第１端面２２ｅ１に開口し、回転軸線ａに沿った方向に凹んでいる。
　本実施形態において、回転軸線ａに垂直な方向にて、第１円筒２１と第２円筒２２との間の隙間は、１０乃至４０μｍである。

　図１３、図１４、及び図１７に示すように、第１制限部材２３は、第１部材２３ａと、１以上の第２部材２３ｂと、を有している。本実施形態において、第１制限部材２３は、３つの第２部材２３ｂを有している。第１部材２３ａは、円環状の形状を有し、第１円筒２１に固定されている。例えば、本実施形態のように、第１円筒２１に対する第１部材２３ａの相対的な位置を固定するため、第１部材２３ａの外周側に環状の段差部が形成されてもよい。第１部材２３ａの段差部を第１円筒２１に嵌合させることができる。

　回転軸線ａに沿った方向にて、第１部材２３ａを第１円筒２１に押圧した状態に保持することで、第１部材２３ａを第１円筒２１に固定することができる。又は、溶接やろう接により第１部材２３ａを第１円筒２１に固定したり、ねじを用いて第１部材２３ａを第１円筒２１に取り外し可能に固定したり、してもよい。

　第１部材２３ａは、第２円筒２２の第１端面２２ｅ１と対向している。これにより、第１部材２３ａは、回転軸線ａに沿った方向の第２円筒２２の移動を制限することができる。第１部材２３ａは、回転軸線ａに沿った方向に固定シャフト１０のスラスト軸受面Ｓ１１ｉと対向したスラスト軸受面Ｓ２０ｉを含んでいる。スラスト軸受面Ｓ２０ｉは、第１部材２３ａの内周側に位置し、環状の形状を有している。なお、図１７において、スラスト軸受面Ｓ２０ｉにはドットパターンを付している。

　各々の第２部材２３ｂは、第１部材２３ａから回転軸線ａに沿った方向に突出している。第２部材２３ｂは、第２円筒２２の凹部２２ｒに一対一で対応して設けられている。各々の第２部材２３ｂは、第２円筒２２の凹部２２ｒに嵌合している。本実施形態において、第２部材２３ｂと凹部２２ｒとの間には嵌合のための十分な隙間が確保されている。そのため、締り嵌めを利用すること無しに、第２部材２３ｂを凹部２２ｒに嵌合させることができる。また、第２部材２３ｂと凹部２２ｒとの間の隙間を、液体金属ＬＭの循環路として利用することができる。

　第２部材２３ｂは、第２円筒２２の凹部２２ｒとともに第２円筒２２の回転動作を制限するように構成されている。第２円筒２２は、第１円筒２１に対して回転しないように制限されている。

　第１制限部材２３（第１部材２３ａ）と固定シャフト１０（径小部１２）との間の隙間（クリアランス）は、回転体２０の回転を維持するとともに液体金属ＬＭの漏洩を抑制できる値に設定されている。以上のことから、上記隙間は僅かであり、第１部材２３ａはラビリンスシールリング（labyrinth seal ring）として機能するものである。

　図１３乃至図１５に示すように、第２制限部材２４は、円環状の形状を有し、第１円筒２１に固定されている。本実施形態において、第２制限部材２４は、第１円筒２１と同一材料で一体成形されている。第２制限部材２４は、第２円筒２２の第２端面２２ｅ２と対向している。これにより、第２制限部材２４は、回転軸線ａに沿った方向の第２円筒２２の移動を制限することができる。第２制限部材２４及び第１円筒２１は、回転体本体２７として機能している。

　シール部品９０は、ねじ１２０を用いて回転体本体２７に固定されている。シール部品９０は、少なくとも第１円筒２１に間接に固定されていればよい。回転体本体２７（第２制限部材２４）とシール部品９０との境界は、全周にわたって溶接されている。溶接部１３０により、第２制限部材２４とシール部品９０との隙間を液密に閉塞することができるため、第２制限部材２４とシール部品９０との隙間を介した液体金属ＬＭの漏洩を抑制することができる。

　すべり軸受ユニットＵに組立てる際、第１円筒２１と第２制限部材２４との一体物である回転体本体２７の内部に第２円筒２２を挿入し、続いて、第２円筒２２に固定シャフト１０を嵌合する。その後、第１制限部材２３で蓋をするため、第１制限部材２３を第１円筒２１に固定する。次いで、シール部品９０を回転体本体２７に固定する。

　本実施形態において、第２制限部材２４は第１円筒２１と一体に形成され、第１制限部材２３は第１円筒２１から物理的に独立している。
　但し、第１制限部材２３は第１円筒２１と一体に形成され、第２制限部材２４は第１円筒２１から物理的に独立してもよい。
　又は、第１制限部材２３及び第２制限部材２４は、それぞれ第１円筒２１から物理的に独立してもよい。

　固定シャフト１０及び回転体２０は、全対向領域で、互いに隙間を置いて設けられている。径大部１１は回転体２０で覆われている。径小部１２及び径小部１３は回転体２０の外側に突出している。固定シャフト１０は回転体２０を回転可能に支持している。

　液体金属ＬＭは、固定シャフト１０（径大部１１）と、第１円筒２１と、第２円筒２２と、第１制限部材２３と、第２制限部材２４と、シール部品９０と、の間の複数の隙間に充填されている。

　第２円筒２２の第１端面２２ｅ１（凹部２２ｒ）と第１制限部材２３との間の隙間は、固定シャフト１０と第２円筒２２との間の隙間と、第１円筒２１と第２円筒２２との間の隙間と、につなげられ、液体金属ＬＭの循環路を構成している。
　第２円筒２２の第２端面２２ｅ２と第２制限部材２４との間の隙間は、固定シャフト１０と第２円筒２２との間の隙間と、第１円筒２１と第２円筒２２との間の隙間と、につなげられ、液体金属ＬＭの循環路を構成している。

　上記のことから、液体金属ＬＭは、固定シャフト１０（径大部１１）と、第１円筒２１と、第２円筒２２と、第１制限部材２３と、第２制限部材２４と、シール部品９０と、の間の複数の隙間を移動可能である。

　ここで、固定シャフト１０、第１円筒２１、第２円筒２２、及び陽極ターゲット本体５１の材質について説明する。
　第１円筒２１及び第２円筒２２の材料の選択の自由度は高い。そのため、第２円筒２２は、第１円筒２１と同一の材料で形成されてもよく、第１円筒２１と異なる材料で形成されてもよい。

　第２円筒２２は、固定シャフト１０と同一の材料で形成されてもよい。第２円筒２２の熱膨張率と、固定シャフト１０の熱膨張率とを一致させることができる。例えば、ラジアル軸受隙間の変動を抑制することができる。
　第１円筒２１は、固定シャフト１０と同一の材料で形成されてもよい。第１円筒２１の熱膨張率と、固定シャフト１０の熱膨張率とを一致させることができる。例えば、スラスト軸受隙間の変動を抑制することができる。

　なお、固定シャフト１０は、第１円筒２１と異なる材料で形成されてもよく、第２円筒２２と異なる材料で形成されてもよい。例えば、固定シャフト１０を第１円筒２１より軟らかい金属で形成したり、固定シャフト１０を第２円筒２２より軟らかい金属で形成したり、することができる。固定シャフト１０を加工し易くなるため、固定シャフト１０の生産性の向上を図ることができる。

　陽極ターゲット本体５１が第１円筒２１の外周面に間隔を置いて位置している場合、第１円筒２１は、陽極ターゲット本体５１と同一の材料で形成されてもよく、陽極ターゲット本体５１と異なる材料で形成されてもよい。
　陽極ターゲット本体５１が第１円筒２１の外周面につなげられ、陽極ターゲット本体５１が第１円筒２１の外周面に固着されている場合、第１円筒２１は、陽極ターゲット本体５１と同一の材料で形成されている。陽極ターゲット本体５１の熱膨張率と、第１円筒２１の熱膨張率とを一致させることができる。例えば、第１円筒２１から陽極ターゲット本体５１が外れたり、第１円筒２１及び陽極ターゲット本体５１の少なくとも一方が破損したり、する事態を抑制することができる。

　外囲器７０は開口部７１をさらに有している。外囲器７０の気密状態を維持するよう、開口部７１は固定シャフト１０の径小部１２に気密に接合されている。本実施形態において、Ｘ線管１は、両端支持軸受構造を採用している。外囲器７０は、固定シャフト１０の径小部１２及び径小部１３を固定している。すなわち、径小部１２及び径小部１３は、軸受の両持ち支持部として機能している。

　Ｘ線管１は、固定シャフト１０の内部に設けられた管部４０を備えている。円環部１６は、固定シャフト１０の第２底面１０ｂ２に液密に接合されている。管部４０は、外周面が円環部１６の開口部に液密に接合され、固定シャフト１０の外部に延出している。固定シャフト１０は、管部４０とともに冷却液Ｌの流路を形成している。

　管部４０は、この内部に冷却液Ｌを取り入れる取入口４０ａと、冷却液Ｌを固定シャフト１０の内部に吐き出す吐出口４０ｂを有している。取入口４０ａは、固定シャフト１０の第２底面１０ｂ２から外部に延出した側に位置している。また吐出口４０ｂは、回転軸線ａに沿った方向にて、熱伝達部（熱伝達穴）１０ａの底面に隙間を置いて位置している。

　外囲器７０の外側において、固定シャフト１０には開口部が形成され、この開口部には管部４５が液密に接合されている。管部４５は、冷却液Ｌを外部に取り出す取出口４５ａを有している。以上のことから、Ｘ線管１の内部を循環する冷却液Ｌは、取入口４０ａから取り入れられ、管部４０の内部を通り、吐出口４０ｂから固定シャフト１０の内部に吐出され、管部４０及び固定シャフト１０の間を通り、管部４５の取出口４５ａから取り出される。なお、上記冷却液Ｌは、逆方向に循環してもよい。この場合、管部４５が冷却液Ｌの取入口を形成し、管部４０が冷却液Ｌの取出口を形成する。

　図１８は、本実施形態に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、陽極ターゲット５０に熱が入力され、陽極ターゲット５０が冷却されるまでの状態を示す図である。
　図１８に示すように、陽極ターゲット５０に熱が発生すると、陽極ターゲット５０は熱膨張する。すると、陽極ターゲット５０と一体、又は陽極ターゲット５０と強固に結合した部分に熱膨張による応力が伝搬し、熱変形が発生する。本実施形態において、第１円筒２１のうち領域Ａ１に位置する部分で熱変形が発生し易い。例えば、第１円筒２１のうち領域Ａ１に位置する部分は、半径方向の外側に最大で１００μｍ拡張され得る。

　しかしながら、本実施形態において、第２円筒２２は、第１円筒２１に対して物理的に固定されていない。第２円筒２２は、第１円筒２１との間に隙間を置いている。第２円筒２２は、第１円筒２１に強固に結合されていないため、第１円筒２１の変形による応力は、第２円筒２２に伝搬し難い。陽極ターゲット５０の熱膨張に起因した第２円筒２２の変形を抑制することができ、軸受性能の低下を抑制することができる。

　また、第１円筒２１と第２円筒２２との間の体積が増加するため、遠心力により液体金属ＬＭは第１円筒２１側に集まり、径大部１１側に真空空間が発生する。しかし、凹面Ｓ１１ｃ，Ｓ１１ｄ，Ｓ１１ｅにより、予め液体金属ＬＭのリザーバ空間を形成しているため、第１円筒２１と第２円筒２２との間の隙間や、軸受隙間に液体金属ＬＭを供給することができる。上記のことからも、軸受性能の低下を抑制することができる。また、陽極ターゲット５０から径大部１１側への熱伝達は阻害されない。

　なお、第２部材２３ｂを凹部２２ｒに嵌合させる場合、本実施形態と異なり、締り嵌めを利用して、第２部材２３ｂを凹部２２ｒに嵌合させてもよい。この場合も、陽極ターゲット５０の熱膨張に起因した第２円筒２２の変形を抑制することができる。なぜなら、陽極ターゲット５０が熱膨張しても第１円筒２１の端部は変形し難く、第２円筒２２が第１円筒２１のうち変形し難い端部に間接に固定されるためである。

　上記のように、締り嵌めにより、第１円筒２１に対する第２円筒２２の相対的な位置を固定してもよい。その場合、第２円筒２２を、第１円筒２１に対して偏心した位置に移動できなくすることができる。なお、第１円筒２１に対する第２円筒２２の相対的な位置を固定する手法は、締り嵌めに限定されるものではなく、ろう接によって行ったり、溶接によって行ったり、ねじを用いて行ったり、してもよい。

　本実施形態では、第２円筒２２のうち第１端面２２ｅ１側の端部を、第１制限部材２３を介して第１円筒２１に間接に固定している。
　但し、第１円筒２１に対する第２円筒２２の相対的な位置を固定するため、第２円筒２２のうち第１端面２２ｅ１側の端部を固定しなくともよい。第２円筒２２のうち第２端面２２ｅ２側の端部を、第２制限部材２４を介して第１円筒２１に間接に固定してもよい。第１端面２２ｅ１より第２端面２２ｅ２側の方が陽極ターゲット５０からの熱伝達パスが長いため、第２円筒２２の変形を、一層、抑制することができる。

　又は、第２円筒２２のうち第１端面２２ｅ１側の端部を、第１制限部材２３を介して第１円筒２１に間接に固定し、かつ、第２円筒２２のうち第２端面２２ｅ２側の端部を、第２制限部材２４を介して第１円筒２１に間接に固定してもよい。

　ここで、固定シャフト１０及びシール部品９０の寸法について説明する。
　図３及び図１５に示すように、第２距離ＤＩ２は、第１距離ＤＩ１以上である。本実施形態において、第２距離ＤＩ２は、第１距離ＤＩ１を超えている。第３距離ＤＩ３は、第１距離ＤＩ１以上である。本実施形態において、第３距離ＤＩ３は、第１距離ＤＩ１を超えている。さらに、第３距離ＤＩ３は、第２距離ＤＩ２以上である。本実施形態において、第３距離ＤＩ３は、第２距離ＤＩ２を超えている。

　さらに、ここで、すべり軸受ユニットＵにおいて、第１円筒２１の内周面と第２円筒２２の外周面との間の隙間を第４隙間ｇ４とし、第１円筒２１の内周面とシール部品９０の外周面Ｓ９０ａとの間の隙間を第５隙間ｇ５とする。第２隙間ｇ２は、貫通孔ｈを第１隙間ｇ１につなげている。第５隙間ｇ５は、貫通孔ｈを第４隙間ｇ４につなげている。

　上記のように構成された第３の実施形態に係るＸ線管装置によれば、Ｘ線管装置は、回転陽極型のＸ線管１を備えている。Ｘ線管１はすべり軸受ユニットＵを備え、すべり軸受ユニットＵはシール部品９０を有している。本実施形態のシール部品９０は、上記第１の実施形態のシール部品９０と同様に形成されている。そのため、本実施形態は、上記第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　回転体２０は、第１円筒２１と、第２円筒２２と、を有している。第１円筒２１は、回転軸線ａに沿って延出して筒状に形成され、固定シャフト１０を囲んで位置している。第２円筒２２は、回転軸線ａに沿って延出して筒状に形成され、固定シャフト１０と第１円筒２１との間に位置し、内周面Ｓ２０ａにラジアル軸受面Ｓ２０ｂを含み、第１円筒２１に対して相対的に回転しないように回転動作が制限されている。第２円筒２２は、固定シャフト１０及び第１円筒２１の各々に対して偏心した位置に移動可能であってもよい。

　液体金属ＬＭは、固定シャフト１０と第１円筒２１と第２円筒２２との間の複数の隙間に充填され、ラジアル軸受面Ｓ１１ａ及びラジアル軸受面Ｓ２０ｂとともに動圧形のラジアルすべり軸受Ｂａを形成し、ラジアル軸受面Ｓ１１ｂ及びラジアル軸受面Ｓ２０ｂとともに動圧形のラジアルすべり軸受Ｂｂを形成している。陽極ターゲット５０は、第１円筒２１の外周面を囲み、第１円筒２１に固定されている。

　回転体２０は、二重円筒構造を有している。陽極ターゲット５０と強固に結合される又は陽極ターゲット５０と一体に形成される第１円筒２１と、ラジアルすべり軸受Ｂａ，Ｂｂを形成する第２円筒２２とは、物理的に独立している。第２円筒２２は、陽極ターゲット５０の熱膨張による悪影響を受け難い。本実施形態によれば、良好な軸受動作を得ることができるすべり軸受ユニットＵ及びこのすべり軸受ユニットＵを備えたＸ線管１を得ることができる。
　なお、本第３の実施形態に、上記変形例１（図５）、上記変形例２（図６）、上記変形例３（図７）、上記変形例４（図８）、及び上記変形例５（図９）の１以上の技術を適用可能である。

　（第３の実施形態の変形例１）
　次に、上記第３の実施形態の変形例１について説明する。Ｘ線管１（すべり軸受ユニットＵ）は、本変形例１で説明する構成以外、上記第３の実施形態と同様に構成されている。図１９は、本変形例１に係るＸ線管１の一部を示す拡大断面図であり、固定シャフト１０及び回転体２０を示す図である。

　図１９に示すように、回転体２０は、第２制限部材２４無しに形成されてもよい。シール部品９０は、ねじ１２０を用いて第１円筒２１に固定されている。シール部品９０は、第２円筒２２の第２端面２２ｅ２と対向している。これにより、シール部品９０は、回転軸線ａに沿った方向の第２円筒２２の移動を制限することができる。

　回転軸線ａに垂直な方向にて、シール部品９０は、第１円筒２１と対向しているが、第２円筒２２と対向していない。すべり軸受ユニットＵにおいて、第２円筒２２の第２端面２２ｅ２とシール部品９０の第２端面９１ｃとの間の隙間を第６隙間ｇ６とする。第５隙間ｇ５は、貫通孔ｈを第４隙間ｇ４につなげている。さらに、第５隙間ｇ５は、貫通孔ｈを第６隙間ｇ６を介して第１隙間ｇ１につなげている。

　図３及び図１９に示すように、第３距離ＤＩ３は、第１距離ＤＩ１以上である。本変形例１において、第３距離ＤＩ３は、第１距離ＤＩ１を超えている。本変形例１においても、上記第３の実施形態と同様の効果を得ることができる。

　本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

　例えば、径大部１１は、助走区間と呼ばれる凹面Ｓ１１ｄ無しに形成されてもよく、この場合、ラジアル軸受面Ｓ１１ａは、径大部１１の端まで存在してもよい。径大部１１は、助走区間と呼ばれる凹面Ｓ１１ｅ無しに形成されてもよく、この場合、ラジアル軸受面Ｓ１１ｂは、径大部１１の端まで存在してもよい。
　貫通孔ｈは、最も径大部１１に近接した捕捉凹面Ｓ９０ｃに開口しているが、捕捉凹面Ｓ９０ｃ以外の捕捉凹面に開口してもよい。例えば、貫通孔ｈは、捕捉凹面Ｓ９０ｄに開口してもよい。又は、シール部品９０は、捕捉凹面Ｓ９０ｃに開口した貫通孔ｈと、捕捉凹面Ｓ９０ｄに開口した貫通孔ｈと、の両方を備えてもよい。

Claims (20)

1. 　回転軸線に沿って延出し、第１外周面に第１ラジアル軸受面を含む径大部と、前記径大部と一体に形成され前記径大部の第１外径より小さい第２外径を持つ径小部と、を有する固定シャフトと、
   　前記固定シャフトを中心に回転自在な回転体と、
   　潤滑剤と、を備え、
   　前記回転体は、
   　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部を囲んで位置し、第１内周面に第２ラジアル軸受面を含む回転体本体と、
   　　前記回転体本体に固定され、筒状に形成され、前記径小部を囲んで位置し、第２外周面と、第２内周面と、前記第２内周面に開口し前記第２外周面側に凹み前記潤滑剤を捕捉可能な捕捉凹面と、貫通孔と、を含むシール部品と、を有し、
   　前記潤滑剤は、前記固定シャフトと前記回転体との間の隙間に充填され、前記第１ラジアル軸受面及び前記第２ラジアル軸受面とともに動圧形のラジアルすべり軸受を形成し、
   　前記貫通孔は、前記捕捉凹面に開口した第１開口と、前記シール部品のうち前記第２内周面及び前記捕捉凹面以外の面に開口した第２開口と、を有し、前記第１開口から前記第２開口まで前記シール部品を貫通し、前記捕捉凹面で囲まれた空間を前記第１ラジアル軸受面と前記第２ラジアル軸受面との間の第１隙間につなげている、
   すべり軸受ユニット。
2. 　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記第１開口までの最長の距離を第１距離とし、前記回転軸線から前記第２開口までの最長の距離を第２距離とすると、
   　前記第２距離は、前記第１距離以上である、
   請求項１に記載のすべり軸受ユニット。
3. 　前記第１内周面と前記第２外周面との間に第２隙間を有し、
   　前記捕捉凹面は、前記第２外周面側に位置する底面を含み、
   　前記第１開口は前記捕捉凹面の前記底面に開口し、
   　前記第２開口は前記第２外周面に開口し、
   　前記第２隙間は、前記貫通孔を前記第１隙間につなげている、
   請求項２に記載のすべり軸受ユニット。
4. 　前記径大部は、前記シール部品と対向した第１スラスト軸受面を含み、
   　前記シール部品は、前記第１スラスト軸受面と対向した第２スラスト軸受面を含み、
   　前記潤滑剤は、前記第１スラスト軸受面及び前記第２スラスト軸受面とともに動圧形のスラストすべり軸受を形成している、
   請求項３に記載のすべり軸受ユニット。
5. 　前記第１ラジアル軸受面は、滑らかなプレーン面と、それぞれ前記プレーン面に開口し前記回転軸線側に凹み前記潤滑剤を掻き込むための複数の掻き込み凹面と、を有し、
   　前記掻き込み凹面は、前記回転軸線側に位置する底面を含み、
   　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記掻き込み凹面の前記底面までの距離を第３距離とすると、
   　前記第３距離は、前記第２距離以上である、
   請求項２に記載のすべり軸受ユニット。
6. 　前記第１ラジアル軸受面は、滑らかなプレーン面と、それぞれ前記プレーン面に開口し前記回転軸線側に凹み前記潤滑剤を掻き込むための複数の掻き込み凹面と、を有し、
   　前記掻き込み凹面は、前記回転軸線側に位置する底面を含み、
   　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記掻き込み凹面の前記底面までの距離を第３距離とすると、
   　前記第３距離は、前記第２距離未満である、
   請求項２に記載のすべり軸受ユニット。
7. 　前記第１内周面と前記第２外周面との間に第２隙間を有し、
   　前記シール部品は、前記第２外周面に開口し前記第２内周面側に凹み前記潤滑剤を収容可能なリザーバ凹面をさらに有し、
   　前記捕捉凹面は、前記第２外周面側に位置する底面を含み、
   　前記第１開口は前記捕捉凹面の前記底面に開口し、
   　前記第２開口は前記リザーバ凹面に開口し、
   　前記リザーバ凹面及び前記第２隙間は、前記貫通孔を前記第１隙間につなげている、
   請求項２に記載のすべり軸受ユニット。
8. 　前記固定シャフトは、前記第１外周面側に位置し前記径大部と一体に形成された鍔部をさらに有し、
   　前記鍔部は、第１スラスト軸受面と、前記回転軸線に沿った方向において前記第１スラスト軸受面の反対側に位置した第３スラスト軸受面と、を含み、
   　前記回転体は、前記第１スラスト軸受面と対向した第２スラスト軸受面と、前記第３スラスト軸受面と対向した第４スラスト軸受面と、を有し、
   　前記潤滑剤は、前記第１スラスト軸受面及び前記第２スラスト軸受面とともに動圧形の第１スラストすべり軸受を形成し、
   　前記潤滑剤は、前記第３スラスト軸受面及び前記第４スラスト軸受面とともに動圧形の第２スラストすべり軸受を形成し、
   　前記回転軸線に沿った方向において、前記径大部と前記シール部品との間に第３隙間を有し、
   　前記捕捉凹面は、前記第２外周面側に位置する底面を含み、
   　前記シール部品は、前記捕捉凹面の一部である第１端面と前記回転軸線に沿った方向において前記第１端面の反対側に位置し前記径大部と対向した第２端面とを含む円環部を有し、
   　前記第１開口は前記第１端面及び前記捕捉凹面の前記底面の少なくとも一方に開口し、
   　前記第２開口は前記第２端面に開口し、
   　前記第３隙間は、前記貫通孔を前記第１隙間につなげている、
   請求項２に記載のすべり軸受ユニット。
9. 　前記回転体本体は、
   　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部を囲んで位置した第１円筒と、
   　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部と前記第１円筒との間に位置し、前記第２ラジアル軸受面を含む前記第１内周面を有し、前記第１円筒に対して相対的に回転しないように回転動作が制限された第２円筒と、を有し、
   　前記シール部品は、前記第１円筒に固定され、
   　前記潤滑剤は、前記固定シャフトと前記第１円筒と前記第２円筒との間の複数の隙間に充填されている、
   請求項２に記載のすべり軸受ユニット。
10. 　前記第１ラジアル軸受面は、滑らかなプレーン面と、それぞれ前記プレーン面に開口し前記回転軸線側に凹み前記潤滑剤を掻き込むための複数の掻き込み凹面と、を有し、
    　前記掻き込み凹面は、前記回転軸線側に位置する底面を含み、
    　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記掻き込み凹面の前記底面までの距離を第３距離とすると、
    　前記第３距離は、前記第１距離以上である、
    請求項２に記載のすべり軸受ユニット。
11. 　回転軸線に沿って延出し第１外周面に第１ラジアル軸受面を含む径大部と前記径大部と一体に形成され前記径大部の第１外径より小さい第２外径を持つ径小部とを有する固定シャフトと、前記固定シャフトを中心に回転自在な回転体と、潤滑剤と、を具備したすべり軸受ユニットと、
    　前記回転体に固定された陽極ターゲットと、
    　前記陽極ターゲットに対向配置された陰極と、
    　前記すべり軸受ユニット、前記陽極ターゲット及び前記陰極を収容し、前記固定シャフトを固定する外囲器と、を備え、
    　前記回転体は、
    　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部を囲んで位置し、第１内周面に第２ラジアル軸受面を含む回転体本体と、
    　　前記回転体本体に固定され、筒状に形成され、前記径小部を囲んで位置し、第２外周面と、第２内周面と、前記第２内周面に開口し前記第２外周面側に凹み前記潤滑剤を捕捉可能な捕捉凹面と、貫通孔と、を含むシール部品と、を有し、
    　前記潤滑剤は、前記固定シャフトと前記回転体との間の隙間に充填され、前記第１ラジアル軸受面及び前記第２ラジアル軸受面とともに動圧形のラジアルすべり軸受を形成し、
    　前記貫通孔は、前記捕捉凹面に開口した第１開口と、前記シール部品のうち前記第２内周面及び前記捕捉凹面以外の面に開口した第２開口と、を有し、前記第１開口から前記第２開口まで前記シール部品を貫通し、前記捕捉凹面で囲まれた空間を前記第１ラジアル軸受面と前記第２ラジアル軸受面との間の第１隙間につなげている、
    回転陽極型Ｘ線管。
12. 　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記第１開口までの最長の距離を第１距離とし、前記回転軸線から前記第２開口までの最長の距離を第２距離とすると、
    　前記第２距離は、前記第１距離以上である、
    請求項１１に記載の回転陽極型Ｘ線管。
13. 　前記第１内周面と前記第２外周面との間に第２隙間を有し、
    　前記捕捉凹面は、前記第２外周面側に位置する底面を含み、
    　前記第１開口は前記捕捉凹面の前記底面に開口し、
    　前記第２開口は前記第２外周面に開口し、
    　前記第２隙間は、前記貫通孔を前記第１隙間につなげている、
    請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。
14. 　前記径大部は、前記シール部品と対向した第１スラスト軸受面を含み、
    　前記シール部品は、前記第１スラスト軸受面と対向した第２スラスト軸受面を含み、
    　前記潤滑剤は、前記第１スラスト軸受面及び前記第２スラスト軸受面とともに動圧形のスラストすべり軸受を形成している、
    請求項１３に記載の回転陽極型Ｘ線管。
15. 　前記第１ラジアル軸受面は、滑らかなプレーン面と、それぞれ前記プレーン面に開口し前記回転軸線側に凹み前記潤滑剤を掻き込むための複数の掻き込み凹面と、を有し、
    　前記掻き込み凹面は、前記回転軸線側に位置する底面を含み、
    　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記掻き込み凹面の前記底面までの距離を第３距離とすると、
    　前記第３距離は、前記第２距離以上である、
    請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。
16. 　前記第１ラジアル軸受面は、滑らかなプレーン面と、それぞれ前記プレーン面に開口し前記回転軸線側に凹み前記潤滑剤を掻き込むための複数の掻き込み凹面と、を有し、
    　前記掻き込み凹面は、前記回転軸線側に位置する底面を含み、
    　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記掻き込み凹面の前記底面までの距離を第３距離とすると、
    　前記第３距離は、前記第２距離未満である、
    請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。
17. 　前記第１内周面と前記第２外周面との間に第２隙間を有し、
    　前記シール部品は、前記第２外周面に開口し前記第２内周面側に凹み前記潤滑剤を収容可能なリザーバ凹面をさらに有し、
    　前記捕捉凹面は、前記第２外周面側に位置する底面を含み、
    　前記第１開口は前記捕捉凹面の前記底面に開口し、
    　前記第２開口は前記リザーバ凹面に開口し、
    　前記リザーバ凹面及び前記第２隙間は、前記貫通孔を前記第１隙間につなげている、
    請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。
18. 　前記固定シャフトは、前記第１外周面側に位置し前記径大部と一体に形成された鍔部をさらに有し、
    　前記鍔部は、第１スラスト軸受面と、前記回転軸線に沿った方向において前記第１スラスト軸受面の反対側に位置した第３スラスト軸受面と、を含み、
    　前記回転体は、前記第１スラスト軸受面と対向した第２スラスト軸受面と、前記第３スラスト軸受面と対向した第４スラスト軸受面と、を有し、
    　前記潤滑剤は、前記第１スラスト軸受面及び前記第２スラスト軸受面とともに動圧形の第１スラストすべり軸受を形成し、
    　前記潤滑剤は、前記第３スラスト軸受面及び前記第４スラスト軸受面とともに動圧形の第２スラストすべり軸受を形成し、
    　前記回転軸線に沿った方向において、前記径大部と前記シール部品との間に第３隙間を有し、
    　前記捕捉凹面は、前記第２外周面側に位置する底面を含み、
    　前記シール部品は、前記捕捉凹面の一部である第１端面と前記回転軸線に沿った方向において前記第１端面の反対側に位置し前記径大部と対向した第２端面とを含む円環部を有し、
    　前記第１開口は前記第１端面及び前記捕捉凹面の前記底面の少なくとも一方に開口し、
    　前記第２開口は前記第２端面に開口し、
    　前記第３隙間は、前記貫通孔を前記第１隙間につなげている、
    請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。
19. 　前記回転体本体は、
    　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部を囲んで位置した第１円筒と、
    　　前記回転軸線に沿って延出して筒状に形成され、前記径大部と前記第１円筒との間に位置し、前記第２ラジアル軸受面を含む前記第１内周面を有し、前記第１円筒に対して相対的に回転しないように回転動作が制限された第２円筒と、を有し、
    　前記シール部品は、前記第１円筒に固定され、
    　前記潤滑剤は、前記固定シャフトと前記第１円筒と前記第２円筒との間の複数の隙間に充填されている、
    請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。
20. 　前記第１ラジアル軸受面は、滑らかなプレーン面と、それぞれ前記プレーン面に開口し前記回転軸線側に凹み前記潤滑剤を掻き込むための複数の掻き込み凹面と、を有し、
    　前記掻き込み凹面は、前記回転軸線側に位置する底面を含み、
    　前記回転軸線に垂直な方向において、前記回転軸線から前記掻き込み凹面の前記底面までの距離を第３距離とすると、
    　前記第３距離は、前記第１距離以上である、
    請求項１２に記載の回転陽極型Ｘ線管。

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