WO2023098555A1 - 半导体设备的片舟暂存装置及半导体设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种半导体设备的片舟暂存装置及半导体设备，片舟暂存装置用于暂存片舟，其两个相对设置的承载台用于分别承载片舟的长度方向上的两端；设置在每个承载台上的第一定位结构用于与片舟的长度方向上一端的两个定位部朝向或背离另一端的两个定位部的两侧面滚动接触，以对片舟在其长度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位；设置在每个承载台上的第二定位结构用于与片舟的长度方向上一端的两个定位部相互朝向或背离的两侧面滚动接触，以对片舟在其宽度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位。本发明提供的半导体设备的片舟暂存装置及半导体设备能够降低晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

Description

半导体设备的片舟暂存装置及半导体设备 技术领域

本发明涉及半导体设备技术领域，具体地，涉及一种半导体设备的片舟暂存装置及半导体设备。

背景技术

卧式等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition，简称PECVD)设备可以在高温条件下，在晶片的表面沉积形成氮化硅薄膜，在高温反应后，用于承载晶片的片舟需要在片舟暂存装置上进行冷却，待片舟冷却至接近室温后，再由机械手操作片舟进行倒片。

现有的一种片舟暂存装置在对片舟进行暂存时，片舟暂存装置上的定位结构具有的定位面会先与片舟上的定位部的定位面进行滑动接触，对片舟与片舟暂存装置的相对位置进行定位，之后片舟暂存装置的承载台再与片舟的两端接触，对片舟进行承载，之后片舟暂存装置的冷却组件向片舟吹送冷风，对片舟进行冷却。

但是，由于片舟暂存装置上的定位结构是与片舟上的定位部为面面滑动接触，而多数片舟的材质为石墨，因此，就导致当片舟暂存装置的定位结构与片舟的定位部接触时，石墨材质的片舟的定位部会有石墨颗粒被片舟暂存装置的定位结构摩擦下来，这样当冷却组件向片舟吹送冷风时，就会将摩擦下来的石墨颗粒吹起并吹向片舟，导致片舟承载的晶圆受到石墨颗粒的污染，造成晶片的洁净度较差。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种半导 体设备的片舟暂存装置及半导体设备，其能够降低晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

为实现本发明的目的而提供一种半导体设备的片舟暂存装置，用于暂存片舟，所述片舟在其长度方向上的两端均设置有两个定位部，且各端的两个所述定位部在所述片舟的宽度方向上间隔设置，所述片舟暂存装置包括两个相对设置的承载台，用于分别承载所述片舟在其长度方向上的两端；所述片舟暂存装置还包括在每个所述承载台上设置的第一定位结构和第二定位结构，其中，

所述第一定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部朝向或背离另一端的两个所述定位部的两侧面滚动接触，以对所述片舟在其长度方向上与所述片舟暂存装置的相对位置进行定位；

所述第二定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部相互朝向或背离的两侧面滚动接触，以对所述片舟在其宽度方向上与所述片舟暂存装置的相对位置进行定位。

可选的，在两个所述承载台相对的方向上，两个所述第一定位结构之间的距离小于两个所述第二定位结构之间的距离，所述第一定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部朝向另一端的两个所述定位部的两侧面滚动接触，所述第二定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部相互朝向的两侧面滚动接触。

可选的，所述第一定位结构包括在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置的两个第一滚轮，两个所述第一滚轮均与所述承载台可围绕垂直于两个所述承载台相对的方向转动连接，用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部朝向或背离另一端的两个所述定位部的两侧面分别滚动接触。

可选的，所述第一定位结构还包括两个第一连接件和两个第一转轴，两 个所述第一连接件均与所述承载台连接，并在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置，两个所述第一转轴分别穿设于两个所述第一连接件中，且各所述第一转轴的轴向均与两个所述承载台相对的方向垂直，两个所述第一滚轮可围绕所述第一转轴的轴线转动的分别套设在两个所述第一转轴上。

可选的，所述第二定位结构包括在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置的两个第二滚轮；两个所述第二滚轮均与所述承载台可围绕平行于两个所述承载台相对的方向转动连接，用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部相互朝向或背离的两侧面分别滚动接触。

可选的，所述第二定位结构还包括两个第二连接件和两个第二转轴，两个所述第二连接件均与所述承载台连接，并在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置，两个所述第二转轴分别穿设于两个所述第二连接件中，且各所述第二转轴的轴向均与两个所述承载台相对的方向平行，两个所述第二滚轮可围绕所述第二转轴的轴线转动的分别套设在两个所述第二转轴上。

可选的，所述承载台上设置有第一螺纹连接孔，所述第二连接件上设置有连接长孔，所述连接长孔的长轴垂直于两个所述承载台相对的方向；所述第二定位结构还包括第一螺纹连接件，所述第一螺纹连接件穿过所述连接长孔与所述第一螺纹连接孔螺纹连接，且所述第一螺纹连接件能够通过调节其与所述连接长孔在其长轴方向上的相对位置，来调节所述第二连接件与所述承载台在垂直于两个所述承载台相对的方向上的相对位置。

可选的，所述片舟暂存装置还包括两个第一支撑柱、两个第一支撑板和两个第二支撑板，两个所述第一支撑柱垂直于板面的轴线平行，两个所述第一支撑板分别与两个所述第一支撑柱连接，且所述第一支撑板的轴线与所述第一支撑柱的轴线垂直，两个所述第二支撑板分别与两个所述第一支撑板连接，且所述第二支撑板垂直于板面的轴线与所述第一支撑板垂直于板面的轴线垂直，并与所述第一支撑柱的轴线垂直，两个所述承载台分别与两个所述 第二支撑板连接。

可选的，所述片舟暂存装置还包括调节轴、第一固定件和第二固定件，其中，所述第一固定件与所述第二支撑板连接，且和所述第二固定件可拆卸的连接，所述第一固定件和所述第二固定件上分别开设有第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽能够配合形成调节孔，所述调节孔的轴向与两个所述承载台相对的方向平行；

所述调节轴与所述承载台连接，且穿设于所述调节孔中，所述调节轴能够通过调节其与所述调节孔在平行于两个所述承载台相对的方向上的相对位置，来调节两个所述承载台之间的距离。

可选的，所述承载台上还设置有高度差补偿件，所述高度差补偿件设置在其中一个所述承载台上，且所述高度差补偿件的上表面高于所述承载台的上表面。

可选的，所述片舟暂存装置还包括检测部件，所述检测部件设置在所述第一支撑板上，用于检测所述承载台上是否承载有所述片舟，且所述检测部件与承载于所述承载台上的所述片舟之间具有预设隔热距离。

可选的，所述片舟暂存装置还包括液冷部件、风冷部件和过滤部件，所述液冷部件用于冷却其周围的气体，所述风冷部件相对于所述液冷部件靠近所述承载台，用于将受所述液冷部件冷却的气体吹送向承载于所述承载台上的所述片舟，所述过滤部件设置在所述液冷部件和风冷部件之间，用于对所述风冷部件吹送向承载于所述承载台上的所述片舟的气体进行过滤。

可选的，所述风冷部件包括风机和支撑架，所述风机设置在所述支撑架的上方，用于将受所述液冷部件冷却的气体吹送向承载于所述承载台上的所述片舟，所述支撑架的下方设置有容置所述过滤部件的容置槽，且所述支撑架设置有分别与所述风机和所述容置槽连通的通风口，且所述容置槽具有供所述过滤部件取放的第一取放口。

可选的，所述风机的数量为多个，多个所述风机分为多个风机组，各所述风机组包括至少一个所述风机，所述支撑架的数量为多个，所述风冷部件还包括支撑框架，多个所述风机组一一对应的设置在多个所述支撑架上，所述支撑框架中开设有供多个所述支撑架一一对应安装的多个安装空间，且所述支撑框架上开设有与多个所述安装空间和多个所述第一取放口一一对应连通的多个第二取放口，各所述第二取放口用于供所述过滤部件的取放。

可选的，所述风冷部件还包括风机保护件，所述风机保护件覆盖在所述风机的上方，且所述风机保护件上开设有供所述风机露出的露出口。

可选的，所述液冷部件包括液冷主体、液冷支架、进液管和出液管，所述液冷主体与所述液冷支架连接，所述进液管与所述液冷主体连通，用于向所述液冷主体中输送冷却液，所述出液管与所述液冷主体连通，用于从所述液冷主体中将升温后的所述冷却液排出。

本发明还提供一种半导体设备，包括如本发明提供的所述半导体设备的片舟暂存装置，所述片舟暂存装置用于暂存所述片舟。

本发明具有以下有益效果：

本发明提供的半导体设备的片舟暂存装置，当片舟被移动至片舟暂存装置上时，借助设置在每个承载台上的第一定位结构与片舟的长度方向上一端的两个定位部朝向或背离另一端的两个定位部的两侧面滚动接触，以借助设置在两个承载台上的第一定位结构对片舟在其长度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位，并借助设置在每个承载台上的第二定位结构与片舟的长度方向上一端的两个定位部相互朝向或背离的两侧面滚动接触，以借助设置在两个承载台上的第二定位结构对片舟在其宽度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位，从而对片舟与片舟暂存装置的相对位置进行定位，再借助相对设置的两个承载台分别承载片舟长度方向上的两端，从而对片舟进行承载，由于本发明提供的半导体设备的片舟暂存装置，在对片舟与片舟暂存装 置的相对位置进行定位的过程中，两个承载台上的第一定位结构和第二定位结构均是与片舟的定位部滚动接触，这与第一定位结构和第二定位结构与片舟的定位部滑动接触相比，可以减小第一定位结构和第二定位结构与片舟的定位部的摩擦力，从而可以减少第一定位结构和第二定位结构与片舟的定位部摩擦产生的颗粒污染物，继而当通过风冷对片舟进行冷却时，就能够降低片舟承载的晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

本发明提供的半导体设备，借助本发明提供的半导体设备的片舟暂存装置暂存片舟，从而能够降低晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

附图说明

图1为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置暂存的一种片舟的结构示意图；

图2为图1中M处的局部放大结构示意图；

图3为图1中N处的局部放大结构示意图；

图4为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的承载台、第一定位结构和第二定位结构的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的承载台、第一定位结构和第二定位结构的仰视结构示意图；

图7为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的片舟暂存装置、承载台、第一定位结构和第二定位结构的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的片舟暂存装置、承载台、第一定位结构和第二定位结构的仰视结构示意图；

图9为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的片舟暂存装置和检测部件的结构示意图；

图10为片舟倾斜承载于片舟暂存装置上的结构示意图；

图11为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置暂存多个片舟的结构示意图；

图12为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的液冷部件、风冷部件和过滤部件的结构示意图；

图13为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的风机、支撑架和过滤部件的结构示意图；

图14为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的风机、支撑架、支撑框架和过滤部件的结构示意图；

图15为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的支撑框架的结构示意图；

图16为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的支撑框架通过第二连接部件与第二支撑板连接的结构示意图；

图17为本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置的液冷部件的结构示意图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图来对本发明提供的片舟暂存装置及半导体设备进行详细描述。

如图1-图3所示，对本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置能够暂存的一种片舟01进行介绍，此种片舟01在其长度方向上的两端分别设置有两个定位部011，且各端的两个定位部011在片舟01的宽度方向上间隔设置，即，片舟01在其长度方向上的一端设置有两个定位部011，另一端也设置有两个定位部011，且片舟01在其长度方向上一端设置的两个定位部011在片舟01的宽度方向上间隔设置，另一端设置的两个定位部011也在片舟01的宽度方向上间隔设置，片舟01在其长度方向上设置有定位部011的两 端之间的部分用于承载晶片。

如图2和图3所示，在本发明实施例中提到的片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向另一端的两个定位部011的两侧面如图2中侧面A所示，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011背离另一端的两个定位部011的两侧面如图3中侧面B所示，即，侧面A与侧面B相互背离。片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向的两侧面如图2和图3中侧面C所示，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互背离的两侧面如图2和图3中侧面D所示，即，侧面C与侧面D相互背离。在一个具体的实施例中，每个定位部011为由上述四个侧面A-D构成的四面椎体，侧面C与侧面D相交，且呈夹角；侧面A与侧面B相互平行。

如图4所示，本发明实施例提供一种半导体设备的片舟暂存装置，用于暂存片舟01，片舟01在其长度方向上的两端均设置有两个定位部011，且各端的两个定位部011在片舟01的宽度方向上间隔设置，片舟暂存装置包括两个相对设置的承载台11，用于分别承载片舟01在其长度方向上的两端；片舟暂存装置还包括在每个承载台11上设置的第一定位结构和第二定位结构，位于同一承载台11上的第一定位结构与第二定位结构成角度设置，尤其是为了实现对片舟01暂存，并对其各端的两个定位部011进行定位，位于同一承载台11上的第一定位结构与第二定位结构相互垂直设置，其中，第一定位结构用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向或背离另一端的两个定位部011的两侧面滚动接触，以对片舟01在其长度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位；第二定位结构用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向或背离的两侧面滚动接触，以对片舟01在其宽度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位。

具体地，第一定位结构用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向另一端的两个定位部011的两侧面滚动接触，即如图2中，第一定 位结构与定位部011的两侧面A滚动接触；或者，第一定位结构用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011背离另一端的两个定位部011的两侧面滚动接触，即如图3中，第一定位结构与定位部011的两侧面B滚动接触；通过上述设置，第一定位结构实现对片舟01在其长度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位。

第二定位结构用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向两侧面滚动接触，即如图2和图3所示，第二定位结构与定位部011的两侧面C滚动接触；或者，第二定位结构用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互背离两侧面滚动接触，即如图2和图3所示，第二定位结构与定位部011的两侧面D滚动接触；通过上述设置，第二定位结构实现对片舟01在其宽度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位。

本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置，当片舟01被移动至片舟暂存装置上时，借助设置在每个承载台11上的第一定位结构与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向或背离另一端的两个定位部011的两侧面滚动接触，以借助设置在两个承载台11上的第一定位结构对片舟01在其长度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位，并借助设置在每个承载台11上的第二定位结构与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向或背离的两侧面滚动接触，以借助设置在两个承载台11上的第二定位结构对片舟01在其宽度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位，从而对片舟01与片舟暂存装置的相对位置进行定位，再借助相对设置的两个承载台11分别承载片舟01的长度方向上的两端，从而对片舟01进行承载，由于本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置，在对片舟01与片舟暂存装置的相对位置进行定位的过程中，两个承载台11上的第一定位结构和第二定位结构均是与片舟01的定位部011滚动接触，这与第一定位结构和第二定位结构与片舟01的定位部011滑动接触相比，可以减小第一定位结构和第二定位 结构与片舟01的定位部011的摩擦力，从而可以减少第一定位结构和第二定位结构与片舟01的定位部011摩擦产生的颗粒污染物，继而当通过风冷对片舟01进行冷却时，就能够降低片舟01承载的晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

也就是说，当片舟01被移动至本发明实施例提供的片舟暂存装置上进行暂存时，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向或背离另一端的两个定位部011的两侧面与两个承载台11中的一个承载台11上的第一定位结构滚动接触，片舟01的长度方向上另一端的两个定位部011朝向或背离一端的两个定位部011的两侧面与两个承载台11中的另一个承载台11上的第一定位结构滚动接触，并且，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向或背离的两侧面与两个承载台11中的一个承载台11上的第二定位结构滚动接触，片舟01的长度方向上另一端的两个定位部011相互朝向或背离的两侧面与两个承载台11中的另一个承载台11上的第二定位结构滚动接触，以借助两个承载台11上的第一定位结构对片舟01在其长度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位，并借助两个承载台11上的第二定位结构对片舟01在其宽度方向上与片舟暂存装置的相对位置进行定位，从而借助两个承载台11上的第一定位结构和第二定位结构对片舟01与片舟暂存装置的相对位置进行定位，之后片舟01的长度方向上的一端与两个承载台11中的一个接触，片舟01的长度方向上的另一端与两个承载台11中的另一个接触，以借助两个承载台11对片舟01进行承载，使片舟01承载于片舟暂存装置上。

由于片舟01的定位部011在与本发明实施例提供的片舟暂存装置的两个承载台11上的第一定位结构和第二定位结构接触，借助两个承载台11上的第一定位结构和第二定位结构对片舟01与片舟暂存装置的相对位置进行定位时，片舟01的定位部011是与两个承载台11上的第一定位结构和第二定位结构滚动接触，因此，这与片舟01的定位部011与现有的一种片舟暂存 装置的定位结构滑动接触相比，可以减小片舟01的定位部011受到的摩擦力，从而可以减少石墨材质的片舟01被第一定位结构和第二定位结构摩擦下来的石墨颗粒，继而可以当通过风冷对片舟01进行冷却时，就能够降低片舟01承载的晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

在本发明一优选实施例中，在两个承载台11相对的方向上，两个第一定位结构之间的距离可以小于两个第二定位结构之间的距离，第一定位结构用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向另一端的两个定位部011的两侧面滚动接触，第二定位结构可以用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向的两侧面滚动接触。

当片舟01被移动至片舟暂存装置上进行暂存时，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向另一端的两个定位部011的两侧面与第一定位结构滚动接触，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向的两侧面与第二定位结构滚动接触，这样，在第一定位结构和第二定位结构对片舟01与片舟暂存装置的相对位置进行定位，以及片舟01承载于承载台11上时，片舟01的长度方向上设置有定位部011的两端之间的用于承载晶片的部分会位于两个第一定位结构之间，并且，由于两个第二定位结构之间的距离大于两个第一定位结构之间的距离，因此，片舟01的长度方向上设置有定位部011的两端之间的用于承载晶片的部分也位于两个第二定位结构之间，从而避免第一定位结构和第二定位结构对片舟01承载的晶片造成损伤，提高片舟暂存装置的使用稳定性，并且，这样的设计可以使得承载台11承载片舟01的位置靠近片舟01的中心，使承载台11能够稳定的承载片舟01，从而提高片舟暂存装置的使用稳定性。

如图5-图8所示，在本发明一优选实施例中，第一定位结构可以包括在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔设置的两个第一滚轮33，两个第一滚轮33均与承载台11可围绕垂直于两个承载台11相对的方向转动连接，用 于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向另一端的两个定位部011的两侧面(即，侧面A)分别滚动接触；或者，用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011背离另一端的两个定位部011的两侧面(即，侧面B)分别滚动接触。

实现第一滚轮33与承载台11转动连接的方式有多种，例如，第一定位结构还包括两个第一连接件31和两个第一转轴32，两个第一连接件31均与承载台11连接，并在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔设置，两个第一转轴32分别穿设于两个第一连接件31中，且各第一转轴32的轴向均与两个承载台11相对的方向垂直，两个第一滚轮33可围绕第一转轴32的轴线转动的分别套设在两个第一转轴32上。

这样的设计可以使得两个第一滚轮33分别通过两个转轴和两个连接件与承载台11连接，并在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔设置。当片舟01被移动至片舟暂存装置上进行暂存时，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011朝向另一端的两个定位部011的两侧面(即，侧面A)与一个承载台11上的第一定位结构的两个第一滚轮33分别接触，片舟01的长度方向上另一端的两个定位部011朝向一端的两个定位部011的两侧面(即，侧面A)与另一个承载台11上的第一定位结构的两个第一滚轮33分别接触，由于第一转轴32的轴向与两个承载台11相对的方向垂直，且第一滚轮33可围绕第一转轴32的轴线转动的套设在第一转轴32上，因此，第一滚轮33在受到定位部011的作用力下会围绕第一转轴32的轴线转动，从而实现与片舟01长度方向上一端的两个定位部011朝向另一端的两个定位部011的两侧面滚动接触。

如图5-图8所示，在本发明一优选实施例中，第二定位结构可以包括在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔设置的两个第二滚轮23；两个第二滚轮23均与承载台11可围绕平行于两个承载台11相对的方向转动连接，用 于与片舟01的长度方向上一端的两述定位部011相互朝向的两侧面(即，侧面C)分别滚动接触；或者，用于与片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互背离的两侧面(即，侧面D)分别滚动接触。

实现第二滚轮23与承载台11转动连接的方式有多种，例如，第二定位结构还包括两个第二连接件21和两个第二转轴22；两个第二连接件21均与承载台11连接，并在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔设置，两个第二转轴22分别穿设于两个第二连接件21中，且各第二转轴22的轴向均与两个承载台11相对的方向平行，两个第二滚轮23可围绕第二转轴22的轴线转动的分别套设在两个第二转轴22上，用于与片舟01长度方向上一端的两个定位部011相互朝向的两侧面(图2中的侧面C)分别滚动接触。

这样的设计可以使得两个第二滚轮23分别通过两个第二转轴22和两个连接件与承载台11连接，并在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔设置。当片舟01被移动至片舟暂存装置上进行暂存时，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011相互朝向的两侧面(即，侧面C)与一个承载台11上的第二定位结构的两个第二滚轮23分别接触，片舟01的长度方向上另一端的两个定位部011相互朝向的两侧面(即，侧面C)与另一个承载台11上的第二定位结构的两个第二滚轮23分别接触，由于第二转轴22的轴向与两个承载台11相对的方向平行，且第二滚轮23可围绕第二转轴22的轴线转动的套设在第二转轴22上，因此，第二滚轮23在受到定位部011的作用力下会围绕第二转轴22的轴线转动，从而实现与片舟01长度方向上一端的两个定位部011相互朝向的两侧面滚动接触。

在本发明一优选实施例中，第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上，可以靠近或远离另一个第二连接件21的与承载台11可调节的连接。

这样的设计是由于不同的片舟01，在片舟01的宽度方向上间隔设置的 两个定位部011之间的距离不同，通过调节第二连接件21，使第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上靠近或远离另一个第二连接件21(如图8中第二连接件21处箭头所示)，可以调节两个第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔的距离，使与两个第二连接件21分别连接的两个第二滚轮23能够与在片舟01的宽度方向上间隔不同距离的两个定位部011相适应，使片舟暂存装置能够适用于不同的片舟01，从而提高片舟暂存装置的适应性。

例如，通过调节一个第二连接件21，使该第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上靠近另一个第二连接件21，可以减小两个第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔的距离，使与两个第二连接件21分别连接的两个第二滚轮23能够与在片舟01的宽度方向上间隔距离较小的两个定位部011相适应，通过调节一个第二连接件21，使该第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上远离另一个第二连接件21，可以增大两个第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔的距离，使与两个第二连接件21分别连接的两个第二滚轮23能够与在片舟01的宽度方向上间隔距离较大的两个定位部011相适应。

如图6和图8所示，在本发明一优选实施例中，承载台11上可以设置有第一螺纹连接孔，第二连接件21上可以设置有连接长孔211，该连接长孔211的长轴垂直于两个承载台11相对的方向；第二定位结构可以还包括第一螺纹连接件25，连接长孔211的长轴垂直于两个承载台11相对的方向，第一螺纹连接件25穿过连接长孔211与第一螺纹连接孔螺纹连接，且第一螺纹连接件25能够通过调节其与连接长孔211在其长轴方向上的相对位置，来调节第二连接件21与承载台11在垂直于两个承载台11相对的方向上的相对位置。

在需要调节两个第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上间 隔的距离时，可以通过旋松第一螺纹连接件25，使第二连接件21能够相对于承载台11活动，由于设置在第二连接件21上的连接长孔211的长轴垂直于两个承载台11相对的方向，因此，此时，可以在垂直于两个承载台11相对的方向上移动第二连接件21，使第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上靠近或远离另一个第二连接件21，当将两个第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔的距离调节至合适位置时，可以通过旋紧第一螺纹连接件25，将第二连接件21与承载台11紧固，使第二连接件21无法相对于承载台11活动，从而完成对两个第二连接件21在垂直于两个承载台11相对的方向上间隔的距离的调节。

如图5所示，可选的，第一定位结构可以还包括锁止环34，第一转轴32的一端设置有供锁止环34插入的环形槽，锁止环34插入该环形槽中，并与套设在第一转轴32上的第一滚轮33的一端相抵，以将第一滚轮33锁止在第一转轴32上。

如图4、图7-图9、图11、图16所示，在本发明一优选实施例中，片舟暂存装置可以还包括两个第一支撑柱41、两个第一支撑板42和两个第二支撑板43，两个第一支撑柱41的轴线平行，两个第一支撑板42分别与两个第一支撑柱41连接，且第一支撑板42垂直于板面的轴线与第一支撑柱41的轴线垂直，两个第二支撑板43分别与两个第一支撑板42连接，且第二支撑板43垂直于板面的轴线与第一支撑板42垂直于板面的轴线垂直，并与第一支撑柱41的轴线均垂直，两个承载台11分别与两个第二支撑板43连接。上述板面是指支撑板的外表面中面积最大的表面。

当两个第一支撑柱41竖直放置时，两个第一支撑柱41的轴线与竖直方向平行，由于第一支撑板42垂直于板面的轴线与第一支撑柱41的轴线垂直，因此，此时第一支撑板42垂直于板面的轴线与水平方向平行，由于第二支撑板43垂直于板面的轴线与第一支撑板42垂直于板面的轴线垂直，并与第一 支撑柱41的轴线垂直，因此，此时第二支撑板43垂直于板面的轴线与水平方向平行，并与第一支撑板42垂直于板面的轴线在水平方向上垂直，即，第二支撑板43垂直于板面的轴线与第一支撑板42垂直于板面的轴线呈“L”型，两个承载台11分别与两个第二支撑板43连接，并相对设置。两个第一支撑柱41通过分别支撑两个第一支撑板42和两个第二支撑板43，以对两个承载台11进行支撑，使两个承载台11能够承载片舟01。

如图4、图7、图9、图11和图16所示，可选的，片舟暂存装置可以还包括两个第一连接部件45，两个第一连接部件45分别与两个第一支撑柱41连接，并分别与两个第一支撑板42连接。即，两个第一支撑板42分别通过两个第一连接部件45分别与两个第一支撑柱41连接。

如图11所示，可选的，各第一支撑柱41的轴向上可以均设置有多个第一支撑板42和多个第二支撑板43，片舟暂存装置可以包括多个承载组，各承载组均包括相对设置的两个承载台11，承载组的数量与第一支撑柱41轴向上的第二支撑板43的数量相同，各承载组的承载台11一一对应的与多个第二支撑板43连接，各承载组均用于承载片舟01。借助多个承载台11组可以同时承载多个片舟01，从而提高片舟暂存装置的暂存能力。

如图11所示，可选的，片舟暂存装置可以还包括两个第二支撑柱44，其中一个第二支撑柱44的两端分别与两个第一支撑柱41的一端连接，另一个第二支撑柱44的两端分别与两个第一支撑柱41的另一端连接，这样两个第一支撑柱41和两个第二支撑柱44就能够形成一个框架，以提高片舟暂存装置的稳定性。

在本发明一优选实施例中，承载台11在两个承载台11相对的方向上，可以靠近或远离另一个承载台11的与第二支撑板43可调节的连接。

这样的设计是由于不同的片舟01，片舟01的长度方向上一端的两个定位部011与另一端的两个定位部011之间的距离不同，通过调节承载台11， 使一个承载台11在两个承载台11相对的方向上靠近或远离另一个承载台11(如图8中承载台11上箭头所示)，可以调节两个承载台11在两个承载台11相对的方向上之间的距离，使与一个承载台11连接的两个第一滚轮33和与另一个承载台11连接的两个第一滚轮33，能够与在片舟01长度方向上间隔不同距离的两个定位部011相适应，使片舟暂存装置能够适用于不同的片舟01，从而提高片舟暂存装置的适应性。

例如，通过调节一个承载台11，使该承载台11在两个承载台11相对的方向上靠近另一个承载台11，可以减小两个承载台11在两个承载台11相对的方向上之间的距离，使与一个承载台11连接的两个第一滚轮33和与另一个承载台11连接的两个第一滚轮33，能够与在片舟01的长度方向上间隔距离较小的两个定位部011相适应，通过调节一个承载台11，使该承载台11在两个承载台11相对的方向上远离另一个承载台11，可以增大两个承载台11在两个承载台11相对的方向上之间的距离，使与一个承载台11连接的两个第一滚轮33和与另一个承载台11连接的两个第一滚轮33，能够与在片舟01长度方向上间隔距离较大的两个定位部011相适应。

如图5-图8所示，在本发明一优选实施例中，片舟暂存装置还可以包括调节轴13、第一固定件14和第二固定件15，其中，第一固定件14与第二支撑板43连接，且和第二固定件15可拆卸的连接，第一固定件14和第二固定件15上分别开设有第一凹槽和第二凹槽，该第一凹槽和第二凹槽能够配合形成调节孔，该调节孔的轴向与两个承载台11相对的方向平行；调节轴13与承载台11连接，且穿设于上述调节孔中，调节轴13能够通过调节其与上述调节孔在平行于两个承载台11相对的方向上的相对位置，来调节两个承载台11之间的距离。

在需要调节两个承载台11在两个承载台11相对的方向上之间的距离时，可以将第二固定件15与第一固定件14拆卸，使第二凹槽与第一凹槽分 离，即，调节孔取消对调节轴13的卡紧，使与承载台11连接的调节轴13能够相对于调节孔移动，由于调节轴13的轴向与两个承载台11相对的方向平行，因此，此时，可以在两个承载台11相对的方向上移动调节轴13，使与调节轴13连接的一个承载台11在两个承载台11相对的方向上靠近或远离另一个承载台11，当将两个承载台11在两个承载台11相对的方向上之间的距离调节至合适位置时，可以将第二固定件15与第一固定件14连接，使第二凹槽与第一凹槽形成调节孔，以借助调节孔卡紧调节轴13，使与承载台11连接的调节轴13无法相对于调节孔移动，从而完成对两个承载台11在两个承载台11相对的方向上之间的距离的调节。

如图6和图8所示，可选的，片舟暂存装置还可以包括第三连接件16和锁止件17，第三连接件16与承载台11连接，调节轴13穿入至第三连接件16中，并与第三连接件16连接，锁止件17贯穿第三连接件16，并与第一连接件31相抵，以锁止第三连接件16的位置。

如图5和图7所示，在本发明一优选实施例中，承载台11上还可以设置有高度差补偿件12，高度差补偿件12设置在其中一个承载台11上，且高度差补偿件12的上表面高于承载台11的上表面。

这样的设计是由于加工误差及安装误差会使得相对设置的两个承载台11无法保证处于同一水平高度，导致相对设置的两个承载台11通过分别承载片舟01长度方向上的两端，对片舟01进行承载时，片舟01可能会发生倾斜(如图10所示)，造成片舟01的长度方向上设置有定位部011的两端之间的用于承载晶片的部分可能会与承载台11接触，即，承载台11与片舟01的长度方向上设置有定位部011的两端之间的用于承载晶片的部分接触，对片舟01进行承载，而这就可能会使得片舟01承载的晶片与承载台11接触，从而使得片舟01承载的晶片受到承载台11的外力而损坏。

而发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置，通过在其中一个承载 台11上设置高度差补偿件12，可以借助高度差补偿件12对相对设置的两个承载台11在水平高度上的误差进行补偿，使片舟01的水平地放置于两个承载台11上。可选的，通过将高度差补偿件12设置在其中一个承载台11上，且位于两个承载台11相对的方向上远离另一个承载台11的一侧，可以使高度差补偿件12远离片舟01的长度方向上设置有定位部011的两端之间的用于承载晶片的部分，避免高度差补偿件12与片舟01的长度方向上设置有定位部011的两端之间的用于承载晶片的部分接触，从而避免高度差补偿件12片舟01承载的晶片接触，对片舟01承载的晶片造成损坏，进而提高片舟暂存装置的使用稳定性。

如图5和图7所示，可选的，高度差补偿件12可以包括高度差补偿板，该高度差补偿板的上表面用于与片舟01的一端接触。

如图7所示，在本发明一优选实施例中，片舟暂存装置可以还包括检测部件5，检测部件5设置在第一支撑板42上，用于检测承载台11上是否承载有片舟01，且检测部件5与承载于承载台11上的片舟01之间具有预设隔热距离。

借助检测部件5检测承载台11上是否承载有片舟01，可以避免承载台11承载有片舟01时，仍向承载台11上传输片舟01，导致两个片舟01发生碰撞，造成片舟01及片舟01承载的晶片损坏的情况发生，从而提高片舟暂存装置的使用稳定性，并且，通过使检测部件5与承载于承载台11上的片舟01之间具有预设隔热距离，可以避免半导体工艺结束后的片舟01的高温热量对检测部件5造成损坏，进而提高片舟暂存装置的使用稳定性。

可选的，预设隔热距离可以大于或等于80毫米(mm)。

如图7和图9所示，在本发明一优选实施例中，检测部件5可以包括光电传感器51。这样的设计是由于光电传感器51无需与片舟01接触就可以检测承载台11上是否承载有片舟01，从而可以避免半导体工艺结束后的片舟 01的高温热量对检测部件5造成损坏，进而提高片舟暂存装置的使用稳定性。

如图7和图9所示，可选的，光电传感器51可以位于第一支撑板42与第二支撑板43的连接处。

如图7和图9所示，可选的，检测部件5可以还包括检测支撑部件52，检测支撑部件52设置在第一支撑板42上，光电传感器51与检测支撑部件52连接，检测支撑部件52用于支撑光电传感器51。

如图11-17所示，在本发明一优选实施例中，片舟暂存装置可以还包括液冷部件9、风冷部件和过滤部件7，液冷部件9用于冷却其周围的气体，风冷部件相对于液冷部件9距离承载台11更近，用于将受液冷部件9冷却的气体吹送向承载于承载台11上的片舟01，过滤部件7设置在液冷部件9和风冷部件之间，用于对风冷部件吹送向承载于承载台11上的片舟01的气体进行过滤。

借助液冷部件9和风冷部件对承载于承载台11上的片舟01进行冷却，可以使半导体工艺结束后的高温片舟01的温度得到降低，即，在半导体工艺结束后，片舟01被移动至承载台11上，液冷部件9和风冷部件对承载于承载台11上的片舟01进行冷却，使片舟01的温度得到降低。

液冷部件9可以与其周围的气体发生热交换，将其周围的气体冷却，风冷部件相对于液冷部件9靠近承载台11，风冷部件可以将被液冷部件9冷却了的气体吹送向承载于承载台11上的片舟01，使被液冷部件9冷却了的气体与片舟01生热交换，对片舟01进行冷却，过滤部件7设置在液冷部件9和风冷部件之间，这样当液冷部件9周围被液冷部件9冷却了的气体被风冷部件吹送向片舟01的过程中，会经过过滤部件7受到过滤部件7的过滤。

这样即使片舟01与第一定位结构和第二定位结构摩擦产生颗粒污染物，借助过滤部件7也可以将随气体被风冷部件吹起的颗粒污染物在随气体到达片舟01之前过滤掉，避免颗粒污染物到达片舟01，并且，本申请发明人还 发现片舟暂存装置周围可能还存在除片舟01与第一定位结构和第二定位结构摩擦产生颗粒污染物落之外的其余颗粒污染物，借助过滤部件7也可以将随气体被风冷部件吹起的除片舟01与第一定位结构和第二定位结构摩擦产生颗粒污染物落之外的其余颗粒污染物在随气体到达片舟01之前过滤掉，避免除片舟01与第一定位结构和第二定位结构摩擦产生颗粒污染物落之外的其余颗粒污染物到达片舟01，从而能够进一步降低片舟01承载的晶片受到的污染，进一步提高晶片的洁净度。

如图11所示，可选的，液冷部件9、风冷部件和过滤部件7可以与承载台11对应的设置在承载台11的下方。

如图4和图11所示，可选的，液冷部件9、风冷部件和过滤部件7可以与第二支撑板43连接。

如图11所示，可选的，当第一支撑柱41的轴向上设置有多个第一支撑板42和多个第二支撑板43，片舟暂存装置包括多个承载组，各承载组均包括相对设置的两个承载台11，承载组的数量与第一支撑柱41轴向上的第二支撑板43的数量相同，各承载组的承载台11一一对应的与多个第二支撑板43连接时，液冷部件9、风冷部件和过滤部件7的数量可以均为多个，多个液冷部件9、多个风冷部件和多个过滤部件7一一对应的与多个第二支撑板43连接，用于一一对应的对承载于承载台11上的片舟01进行冷却。

可选的，液冷部件9、风冷部件和过滤部件7的总高度可以小于或等于90mm，这样可以降低液冷部件9、风冷部件和过滤部件7在高度方向上所占用的空间，为承载台11承载片舟01提供更大的空间。

在本发明一优选实施例中，过滤部件7可以包括棉花。棉花内部的间隙较小，可以在对颗粒污染物进行阻挡的同时，还能够供风冷部件吹送向片舟01的气体通过，并且，棉花还能够对颗粒污染物进行吸附，这与过滤网相比能够具有更好的过滤效果，从而进一步降低片舟01承载的晶片受到的污染， 进一步提高晶片的洁净度。

如图12和图13所示，在本发明一优选实施例中，风冷部件可以包括风机81和支撑架82，风机81设置在支撑架82的上方，用于将受液冷部件9冷却的气体吹送向承载于承载台11上的片舟01，支撑架82的下方设置有容置过滤部件7的容置槽821，且支撑架82设置有分别与风机81和容置槽821连通的通风口，且容置槽821具有供过滤部件7取放的第一取放口。

即，过滤部件7容置于容置槽821中，风机81设置在支撑架82的上方，在风冷部件将受液冷部件9冷却的气体吹送向片舟01时，风机81提供动力将受液冷部件9冷却的气体由过滤部件7的下方吹送向过滤部件7的上方，气体在由过滤部件7的下方到过滤部件7的上方的过程中，会依次经过容置槽821的槽口、过滤部件7和通风口，气体在经过过滤部件7时会受到过滤部件7的过滤，从而借助过滤部件7将随气体流动的颗粒污染物过滤掉，容置槽821具有供过滤部件7取放的第一取放口，通过第一取放口可以将旧的过滤部件7从容置槽821内取出，并将新的过滤部件7放入至容置槽821内，从而便于过滤部件7的更换。

如图12-图15所示，在本发明一优选实施例中，风机81的数量可以为多个，多个风机81分为多个风机组，各风机组包括至少一个风机81，支撑架82的数量为多个，风冷部件还包括支撑框架83，多个风机组一一对应的设置在多个支撑架82上，支撑框架83中开设有供多个支撑架82一一对应安装的多个安装空间，且支撑框架83上开设有与多个安装空间和多个第一取放口一一对应连通的多个第二取放口，各第二取放口用于供过滤部件7的取放。

通过设置多个可以提高风冷部件吹送片舟01的气体的量，从而提高对片舟01冷却的效果，降低片舟01的冷却时间，提高工作效率。

例如，如图12-图15所示，风机81的数量可以为十二个，十二个风机81分为三个风机组，各风机组均包括四个风机81，各风机组的四个风机81 设置在一个支撑架82上，支撑框架83中开设有供三个支撑架82一一对应安装的三个安装空间，且支撑框架83上开设有与三个安装空间和三个支撑架82的三个第一取放口一一对应连通的三个第二取放口，通过各第二取放口可以将旧的过滤部件7从容置槽821内取出，并将新的过滤部件7放入至容置槽821内，从而便于过滤部件7的更换。

但是，风机81的数量、风机组的数量、各风机组的风机81的数量、支撑架82的数量、支撑框架83的安装空间的数量和第二取放口的数量并不以此为限。

如图4和图12所示，在本发明一优选实施例中，风冷部件可以还包括风机保护件85，风机保护件85覆盖在风机81的上方，且风机保护件85上开设有供风机81露出的露出口86。

风机81吹送向片舟01的气体通过露出口86吹送向片舟01。

如图15和图16所示，可选的，支撑框架83长度方向上的两端可以设置有第二连接部件84，第二连接部件84可以与第二支撑板43连接。

这样就可以使支撑框架83通过第二连接部件84与第二支撑板43连接，从而使液冷部件9、风冷部件和过滤部件7与第二支撑板43连接。

如图12和图17所示，在本发明一优选实施例中，液冷部件9可以包括液冷主体91、液冷支架92、进液管93和出液管94，液冷主体91与液冷支架92连接，进液管93与液冷主体91连通，用于向液冷主体91中输送冷却液，出液管94与液冷主体91连通，用于从液冷主体91中将升温后的冷却液排出。

进液管93向液冷主体91中输送冷却液，冷却液在液冷主体91中与液冷主体91周围的气体发生热交换，对液冷主体91周围的气体进行冷却，在冷却液与液冷主体91周围的气体发生热交换的过程中，液冷主体91周围的气体的热量会使得冷却液升温，升温后的冷却液无法再对液冷主体91周围的 气体进行冷却，通过出液管94从液冷主体91中将升温后的冷却液排出，进液管93可以持续向液冷主体91中输送冷却液，使液冷主体91中的冷却液能够持续的与液冷主体91周围的气体发生热交换，持续的对液冷主体91周围的气体进行冷却。

如图4所示，可选的，液冷支架92可以与支撑框架83连接，并位于支撑框架83的下方。

如图4、图12和图17所示，在本发明一优选实施例中，液冷部件9可以还包括进液通断阀95和出液通断阀96，进液通断阀95设置在进液管93上，用于控制进液管93的通断，出液通断阀96设置在出液管94上，用于控制出液管94的通断。

这样可以根据实际情况，通过进液通断阀95控制进液管93的通断，来控制冷却液是否通过进液管93被输送至液冷主体91中，通过出液通断阀96控制出液管94的通断，来控制液冷主体91中的冷却液是否通过出液管94排出。

可选的，进液通断阀95可以包括球阀。

可选的，出液通断阀96可以包括球阀。

本发明实施例还提供一种半导体设备，包括如本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置，片舟暂存装置用于暂存片舟01。

本发明实施例提供的半导体设备，借助发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置暂存片舟01，从而能够降低晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

综上所述，本发明实施例提供的半导体设备的片舟暂存装置及半导体设备能够降低晶片受到的污染，提高晶片的洁净度。

可以解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言， 在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (17)

1. 一种半导体设备的片舟暂存装置，用于暂存片舟，所述片舟在其长度方向上的两端均设置有两个定位部，且各端的两个所述定位部在所述片舟的宽度方向上间隔设置，其特征在于，所述片舟暂存装置包括两个相对设置的承载台，用于分别承载所述片舟在其长度方向上的两端；所述片舟暂存装置还包括在每个所述承载台上设置的第一定位结构和第二定位结构，其中，

   所述第一定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部朝向或背离另一端的两个所述定位部的两侧面滚动接触，以对所述片舟在其长度方向上与所述片舟暂存装置的相对位置进行定位；

   所述第二定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部相互朝向或背离的两侧面滚动接触，以对所述片舟在其宽度方向上与所述片舟暂存装置的相对位置进行定位。
2. 根据权利要求1所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，在两个所述承载台相对的方向上，两个所述第一定位结构之间的距离小于两个所述第二定位结构之间的距离，所述第一定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部朝向另一端的两个所述定位部的两侧面滚动接触，所述第二定位结构用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部相互朝向的两侧面滚动接触。
3. 根据权利要求1或2所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述第一定位结构包括在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置的两个第一滚轮，两个所述第一滚轮均与所述承载台可围绕垂直于两个所述承载台相对的方向转动连接，用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部朝向或背离另一端的两个所述定位部的两侧面分别滚动接触。
4. 根据权利要求3所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述第一定位结构还包括两个第一连接件和两个第一转轴，两个所述第一连接件均与所述承载台连接，并在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置，两个所述第一转轴分别穿设于两个所述第一连接件中，且各所述第一转轴的轴向均与两个所述承载台相对的方向垂直，两个所述第一滚轮可围绕所述第一转轴的轴线转动的分别套设在两个所述第一转轴上。
5. 根据权利要求1或2所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述第二定位结构包括在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置的两个第二滚轮；两个所述第二滚轮均与所述承载台可围绕平行于两个所述承载台相对的方向转动连接，用于与所述片舟的长度方向上一端的两个所述定位部相互朝向或背离的两侧面分别滚动接触。
6. 根据权利要求5所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述第二定位结构还包括两个第二连接件和两个第二转轴，两个所述第二连接件均与所述承载台连接，并在垂直于两个所述承载台相对的方向上间隔设置，两个所述第二转轴分别穿设于两个所述第二连接件中，且各所述第二转轴的轴向均与两个所述承载台相对的方向平行，两个所述第二滚轮可围绕所述第二转轴的轴线转动的分别套设在两个所述第二转轴上。
7. 根据权利要求6所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述承载台上设置有第一螺纹连接孔，所述第二连接件上设置有连接长孔，所述连接长孔的长轴垂直于两个所述承载台相对的方向；所述第二定位结构还包括第一螺纹连接件，所述第一螺纹连接件穿过所述连接长孔与所述第一螺纹连接孔螺纹连接，且所述第一螺纹连接件能够通过调节其与所述连接长孔在其长轴方向上的相对位置，来调节所述第二连接件与所述承载台在垂直于两个所述承载台相对的方向上的相对位置。
8. 根据权利要求1所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述片舟暂存装置还包括两个第一支撑柱、两个第一支撑板和两个第二支撑板，两个所述第一支撑柱的轴线平行，两个所述第一支撑板分别与两个所述第一支撑柱连接，且所述第一支撑板垂直于板面的轴线与所述第一支撑柱的轴线垂直，两个所述第二支撑板分别与两个所述第一支撑板连接，且所述第二支撑板垂直于板面的轴线与所述第一支撑板垂直于板面的轴线垂直，并与所述第一支撑柱的轴线垂直，两个所述承载台分别与两个所述第二支撑板连接。
9. 根据权利要求8所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述片舟暂存装置还包括调节轴、第一固定件和第二固定件，其中，所述第一固定件与所述第二支撑板连接，且和所述第二固定件可拆卸的连接，所述第一固定件和所述第二固定件上分别开设有第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽能够配合形成调节孔，所述调节孔的轴向与两个所述承载台相对的方向平行；

   所述调节轴与所述承载台连接，且穿设于所述调节孔中，所述调节轴能够通过调节其与所述调节孔在平行于两个所述承载台相对的方向上的相对位置，来调节两个所述承载台之间的距离。
10. 根据权利要求1所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述承载台上还设置有高度差补偿件，所述高度差补偿件设置在其中一个所述承载台上，且所述高度差补偿件的上表面高于所述承载台的上表面。
11. 根据权利要求8所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述片舟暂存装置还包括检测部件，所述检测部件设置在所述第一支撑板上，用于检测所述承载台上是否承载有所述片舟，且所述检测部件与承载于 所述承载台上的所述片舟之间具有预设隔热距离。
12. 根据权利要求1所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述片舟暂存装置还包括液冷部件、风冷部件和过滤部件，所述液冷部件用于冷却其周围的气体，所述风冷部件相对于所述液冷部件靠近所述承载台，用于将受所述液冷部件冷却的气体吹送向承载于所述承载台上的所述片舟，所述过滤部件设置在所述液冷部件和风冷部件之间，用于对所述风冷部件吹送向承载于所述承载台上的所述片舟的气体进行过滤。
13. 根据权利要求12所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述风冷部件包括风机和支撑架，所述风机设置在所述支撑架的上方，用于将受所述液冷部件冷却的气体吹送向承载于所述承载台上的所述片舟，所述支撑架的下方设置有容置所述过滤部件的容置槽，且所述支撑架设置有分别与所述风机和所述容置槽连通的通风口，且所述容置槽具有供所述过滤部件取放的第一取放口。
14. 根据权利要求13所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述风机的数量为多个，多个所述风机分为多个风机组，各所述风机组包括至少一个所述风机，所述支撑架的数量为多个，所述风冷部件还包括支撑框架，多个所述风机组一一对应的设置在多个所述支撑架上，所述支撑框架中开设有供多个所述支撑架一一对应安装的多个安装空间，且所述支撑框架上开设有与多个所述安装空间和多个所述第一取放口一一对应连通的多个第二取放口，各所述第二取放口用于供所述过滤部件的取放。
15. 根据权利要求13所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述风冷部件还包括风机保护件，所述风机保护件覆盖在所述风机的上方，且所述风机保护件上开设有供所述风机露出的露出口。
16. 根据权利要求12所述的半导体设备的片舟暂存装置，其特征在于，所述液冷部件包括液冷主体、液冷支架、进液管和出液管，所述液冷主体与所述液冷支架连接，所述进液管与所述液冷主体连通，用于向所述液冷主体中输送冷却液，所述出液管与所述液冷主体连通，用于从所述液冷主体中将升温后的所述冷却液排出。
17. 一种半导体设备，其特征在于，包括如权利要求1-16任意一项所述的半导体设备的片舟暂存装置，所述片舟暂存装置用于暂存所述片舟。

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