TW202324586A - 半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備 - Google Patents

Abstract

一種半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備，片舟暫存裝置用於暫存片舟，其兩個相對設置的承載台用於分別承載片舟的長度方向上的兩端；設置在每個承載臺上的第一定位結構用於與片舟的長度方向上一端的兩個定位部朝向或背離另一端的兩個定位部的兩側面滾動接觸，以對片舟在其長度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位；設置在每個承載臺上的第二定位結構用於與片舟的長度方向上一端的兩個定位部相互朝向或背離的兩側面滾動接觸，以對片舟在其寬度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位。

Description

半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備

本發明涉及半導體設備技術領域，具體地，涉及一種半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備。

臥式等離子體增強化學氣相沉積（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，簡稱PECVD）設備可以在高溫條件下，在晶片的表面沉積形成氮化矽薄膜，在高溫反應後，用於承載晶片的片舟需要在片舟暫存裝置上進行冷卻，待片舟冷卻至接近室溫後，再由機械手操作片舟進行倒片。

現有的一種片舟暫存裝置在對片舟進行暫存時，片舟暫存裝置上的定位結構具有的定位面會先與片舟上的定位部的定位面進行滑動接觸，對片舟與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，之後片舟暫存裝置的承載台再與片舟的兩端接觸，對片舟進行承載，之後片舟暫存裝置的冷卻元件向片舟吹送冷風，對片舟進行冷卻。

但是，由於片舟暫存裝置上的定位結構是與片舟上的定位部為面面滑動接觸，而多數片舟的材質為石墨，因此，就導致當片舟暫存裝置的定位結構與片舟的定位部接觸時，石墨材質的片舟的定位部會有石墨顆粒被片舟暫存裝置的定位結構摩擦下來，這樣當冷卻元件向片舟吹送冷風時，就會將摩擦下來的石墨顆粒吹起並吹向片舟，導致片舟承載的晶圓受到石墨顆粒的污染，造成晶片的潔淨度較差。

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提出了一種半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備，其能夠降低晶片受到的污染，提高晶片的潔淨度。

為實現本發明的目的而提供一種半導體設備的片舟暫存裝置，用於暫存片舟，該片舟在其長度方向上的兩端均設置有兩個定位部，且各端的兩個該定位部在該片舟的寬度方向上間隔設置，該片舟暫存裝置包括兩個相對設置的承載台，用於分別承載該片舟在其長度方向上的兩端；該片舟暫存裝置還包括在每個該承載臺上設置的第一定位結構和第二定位結構，其中，該第一定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部朝向或背離另一端的兩個該定位部的兩側面滾動接觸，以對該片舟在其長度方向上與該片舟暫存裝置的相對位置進行定位；該第二定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部相互朝向或背離的兩側面滾動接觸，以對該片舟在其寬度方向上與該片舟暫存裝置的相對位置進行定位。

可選的，在兩個該承載台相對的方向上，兩個該第一定位結構之間的距離小於兩個該第二定位結構之間的距離，該第一定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部朝向另一端的兩個該定位部的兩側面滾動接觸，該第二定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部相互朝向的兩側面滾動接觸。

可選的，該第一定位結構包括在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置的兩個第一滾輪，兩個該第一滾輪均與該承載台可圍繞垂直於兩個該承載台相對的方向轉動連接，用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部朝向或背離另一端的兩個該定位部的兩側面分別滾動接觸。

可選的，該第一定位結構還包括兩個第一連接件和兩個第一轉軸，兩個該第一連接件均與該承載台連接，並在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置，兩個該第一轉軸分別穿設於兩個該第一連接件中，且各該第一轉軸的軸向均與兩個該承載台相對的方向垂直，兩個該第一滾輪可圍繞該第一轉軸的軸線轉動的分別套設在兩個該第一轉軸上。

可選的，該第二定位結構包括在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置的兩個第二滾輪；兩個該第二滾輪均與該承載台可圍繞平行於兩個該承載台相對的方向轉動連接，用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部相互朝向或背離的兩側面分別滾動接觸。

可選的，該第二定位結構還包括兩個第二連接件和兩個第二轉軸，兩個該第二連接件均與該承載台連接，並在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置，兩個該第二轉軸分別穿設於兩個該第二連接件中，且各該第二轉軸的軸向均與兩個該承載台相對的方向平行，兩個該第二滾輪可圍繞該第二轉軸的軸線轉動的分別套設在兩個該第二轉軸上。

可選的，該承載臺上設置有第一螺紋連接孔，該第二連接件上設置有連接長孔，該連接長孔的長軸垂直於兩個該承載台相對的方向；該第二定位結構還包括第一螺紋連接件，該第一螺紋連接件穿過該連接長孔與該第一螺紋連接孔螺紋連接，且該第一螺紋連接件能夠通過調節其與該連接長孔在其長軸方向上的相對位置，來調節該第二連接件與該承載台在垂直於兩個該承載台相對的方向上的相對位置。

可選的，該片舟暫存裝置還包括兩個第一支撐柱、兩個第一支撐板和兩個第二支撐板，兩個該第一支撐柱垂直於板面的軸線平行，兩個該第一支撐板分別與兩個該第一支撐柱連接，且該第一支撐板的軸線與該第一支撐柱的軸線垂直，兩個該第二支撐板分別與兩個該第一支撐板連接，且該第二支撐板垂直於板面的軸線與該第一支撐板垂直於板面的軸線垂直，並與該第一支撐柱的軸線垂直，兩個該承載台分別與兩個該第二支撐板連接。

可選的，該片舟暫存裝置還包括調節軸、第一固定件和第二固定件，其中，該第一固定件與該第二支撐板連接，且和該第二固定件可拆卸的連接，該第一固定件和該第二固定件上分別開設有第一凹槽和第二凹槽，該第一凹槽和該第二凹槽能夠配合形成調節孔，該調節孔的軸向與兩個該承載台相對的方向平行；該調節軸與該承載台連接，且穿設於該調節孔中，該調節軸能夠通過調節其與該調節孔在平行於兩個該承載台相對的方向上的相對位置，來調節兩個該承載台之間的距離。

可選的，該承載臺上還設置有高度差補償件，該高度差補償件設置在其中一個該承載臺上，且該高度場補償件的上表面高於該承載台的上表面。

可選的，該片舟暫存裝置還包括檢測部件，該檢測部件設置在該第一支撐板上，用於檢測該承載臺上是否承載有該片舟，且該檢測部件與承載於該承載臺上的該片舟之間具有預設隔熱距離。

可選的，該片舟暫存裝置還包括液冷部件、風冷部件和過濾部件，該液冷部件用於冷卻其周圍的氣體，該風冷部件相對於該液冷部件靠近該承載台，用於將受該液冷部件冷卻的氣體吹送向承載於該承載臺上的該片舟，該過濾部件設置在該液冷部件和風冷部件之間，用於對該風冷部件吹送向承載於該承載臺上的該片舟的氣體進行過濾。

可選的，該風冷部件包括風機和支撐架，該風機設置在該支撐架的上方，用於將受該液冷部件冷卻的氣體吹送向承載於該承載臺上的該片舟，該支撐架的下方設置有容置該過濾部件的容置槽，且該支撐架設置有分別與該風機和該容置槽連通的通風口，且該容置槽具有供該過濾部件取放的第一取放口。

可選的，該風機的數量為多個，多個該風機分為多個風機組，各該風機組包括至少一個該風機，該支撐架的數量為多個，該風冷部件還包括支撐框架，多個該風機組一一對應的設置在多個該支撐架上，該支撐框架中開設有供多個該支撐架一一對應安裝的多個安裝空間，且該支撐框架上開設有與多個該安裝空間和多個該第一取放口一一對應連通的多個第二取放口，各該第二取放口用於供該過濾部件的取放。

可選的，該風冷部件還包括風機保護件，該風機保護件覆蓋在該風機的上方，且該風機保護件上開設有供該風機露出的露出口。

可選的，該液冷部件包括液冷主體、液冷支架、進液管和出液管，該液冷主體與該液冷支架連接，該進液管與該液冷主體連通，用於向該液冷主體中輸送冷卻液，該出液管與該液冷主體連通，用於從該液冷主體中將升溫後的該冷卻液排出。

本發明還提供一種半導體設備，包括如本發明提供的該半導體設備的片舟暫存裝置，該片舟暫存裝置用於暫存該片舟。

本發明具有以下有益效果：

本發明提供的半導體設備的片舟暫存裝置，當片舟被移動至片舟暫存裝置上時，借助設置在每個承載臺上的第一定位結構與片舟的長度方向上一端的兩個定位部朝向或背離另一端的兩個定位部的兩側面滾動接觸，以借助設置在兩個承載臺上的第一定位結構對片舟在其長度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，並借助設置在每個承載臺上的第二定位結構與片舟的長度方向上一端的兩個定位部相互朝向或背離的兩側面滾動接觸，以借助設置在兩個承載臺上的第二定位結構對片舟在其寬度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，從而對片舟與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，再借助相對設置的兩個承載台分別承載片舟長度方向上的兩端，從而對片舟進行承載，由於本發明提供的半導體設備的片舟暫存裝置，在對片舟與片舟暫存裝置的相對位置進行定位的過程中，兩個承載臺上的第一定位結構和第二定位結構均是與片舟的定位部滾動接觸，這與第一定位結構和第二定位結構與片舟的定位部滑動接觸相比，可以減小第一定位結構和第二定位結構與片舟的定位部的摩擦力，從而可以減少第一定位結構和第二定位結構與片舟的定位部摩擦產生的顆粒污染物，繼而當通過風冷對片舟進行冷卻時，就能夠降低片舟承載的晶片受到的污染，提高晶片的潔淨度。

本發明提供的半導體設備，借助本發明提供的半導體設備的片舟暫存裝置暫存片舟，從而能夠降低晶片受到的污染，提高晶片的潔淨度。

以下揭露提供用於實施本揭露之不同構件之許多不同實施例或實例。下文描述組件及配置之特定實例以簡化本揭露。當然，此等僅為實例且非意欲限制。舉例而言，在以下描述中之一第一構件形成於一第二構件上方或上可包含其中該第一構件及該第二構件經形成為直接接觸之實施例，且亦可包含其中額外構件可形成在該第一構件與該第二構件之間，使得該第一構件及該第二構件可不直接接觸之實施例。另外，本揭露可在各個實例中重複參考數字及/或字母。此重複出於簡化及清楚之目的且本身不指示所論述之各個實施例及/或組態之間的關係。

此外，為便於描述，諸如「下面」、「下方」、「下」、「上方」、「上」及類似者之空間相對術語可在本文中用於描述一個元件或構件與另一(些)元件或構件之關係，如圖中圖解說明。空間相對術語意欲涵蓋除在圖中描繪之定向以外之使用或操作中之裝置之不同定向。設備可以其他方式定向(旋轉90度或按其他定向)且因此可同樣解釋本文中使用之空間相對描述詞。

儘管陳述本揭露之寬泛範疇之數值範圍及參數係近似值，然儘可能精確地報告特定實例中陳述之數值。然而，任何數值固有地含有必然由於見於各自測試量測中之標準偏差所致之某些誤差。再者，如本文中使用，術語「大約」通常意謂在一給定值或範圍之10%、5%、1%或0.5%內。替代地，術語「大約」意謂在由此項技術之一般技術者考量時處於平均值之一可接受標準誤差內。除在操作/工作實例中以外，或除非以其他方式明確指定，否則諸如針對本文中揭露之材料之數量、時間之持續時間、溫度、操作條件、數量之比率及其類似者之全部數值範圍、數量、值及百分比應被理解為在全部例項中由術語「大約」修飾。相應地，除非相反地指示，否則本揭露及隨附發明申請專利範圍中陳述之數值參數係可根據需要變化之近似值。至少，應至少鑑於所報告有效數位之數目且藉由應用普通捨入技術解釋各數值參數。範圍可在本文中表達為從一個端點至另一端點或在兩個端點之間。本文中揭露之全部範圍包含端點，除非另有指定。

如圖1-圖3所示，對本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置能夠暫存的一種片舟01進行介紹，此種片舟01在其長度方向上的兩端分別設置有兩個定位部011，且各端的兩個定位部011在片舟01的寬度方向上間隔設置，即，片舟01在其長度方向上的一端設置有兩個定位部011，另一端也設置有兩個定位部011，且片舟01在其長度方向上一端設置的兩個定位部011在片舟01的寬度方向上間隔設置，另一端設置的兩個定位部011也在片舟01的寬度方向上間隔設置，片舟01在其長度方向上設置有定位部011的兩端之間的部分用於承載晶片。

如圖2和圖3所示，在本發明實施例中提到的片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向另一端的兩個定位部011的兩側面如圖2中側面A所示，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011背離另一端的兩個定位部011的兩側面如圖3中側面B所示，即，側面A與側面B相互背離。片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向的兩側面如圖2和圖3中側面C所示，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互背離的兩側面如圖2和圖3中側面D所示，即，側面C與側面D相互背離。在一個具體的實施例中，每個定位部011為由上述四個側面A-D構成的四面椎體，側面C與側面D相交，且呈夾角；側面A與側面B相互平行。

如圖4所示，本發明實施例提供一種半導體設備的片舟暫存裝置，用於暫存片舟01，片舟01在其長度方向上的兩端均設置有兩個定位部011，且各端的兩個定位部011在片舟01的寬度方向上間隔設置，片舟暫存裝置包括兩個相對設置的承載台11，用於分別承載片舟01在其長度方向上的兩端；片舟暫存裝置還包括在每個承載台11上設置的第一定位結構和第二定位結構，位於同一承載台11上的第一定位結構與第二定位結構成角度設置，尤其是為了實現對片舟01暫存，並對其各端的兩個定位部011進行定位，位於同一承載台11上的第一定位結構與第二定位結構相互垂直設置，其中，第一定位結構用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向或背離另一端的兩個定位部011的兩側面滾動接觸，以對片舟01在其長度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位；第二定位結構用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向或背離的兩側面滾動接觸，以對片舟01在其寬度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位。

具體地，第一定位結構用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向另一端的兩個定位部011的兩側面滾動接觸，即如圖2中，第一定位結構與定位部011的兩側面A滾動接觸；或者，第一定位結構用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011背離另一端的兩個定位部011的兩側面滾動接觸，即如圖3中，第一定位結構與定位部011的兩側面B滾動接觸；通過上述設置，第一定位結構實現對片舟01在其長度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位。

第二定位結構用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向兩側面滾動接觸，即如圖2和圖3所示，第二定位結構與定位部011的兩側面C滾動接觸；或者，第二定位結構用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互背離兩側面滾動接觸，即如圖2和圖3所示，第二定位結構與定位部011的兩側面D滾動接觸；通過上述設置，第二定位結構實現對片舟01在其寬度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位。

本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置，當片舟01被移動至片舟暫存裝置上時，借助設置在每個承載台11上的第一定位結構與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向或背離另一端的兩個定位部011的兩側面滾動接觸，以借助設置在兩個承載台11上的第一定位結構對片舟01在其長度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，並借助設置在每個承載台11上的第二定位結構與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向或背離的兩側面滾動接觸，以借助設置在兩個承載台11上的第二定位結構對片舟01在其寬度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，從而對片舟01與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，再借助相對設置的兩個承載台11分別承載片舟01的長度方向上的兩端，從而對片舟01進行承載，由於本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置，在對片舟01與片舟暫存裝置的相對位置進行定位的過程中，兩個承載台11上的第一定位結構和第二定位結構均是與片舟01的定位部011滾動接觸，這與第一定位結構和第二定位結構與片舟01的定位部011滑動接觸相比，可以減小第一定位結構和第二定位結構與片舟01的定位部011的摩擦力，從而可以減少第一定位結構和第二定位結構與片舟01的定位部011摩擦產生的顆粒污染物，繼而當通過風冷對片舟01進行冷卻時，就能夠降低片舟01承載的晶片受到的污染，提高晶片的潔淨度。

也就是說，當片舟01被移動至本發明實施例提供的片舟暫存裝置上進行暫存時，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向或背離另一端的兩個定位部011的兩側面與兩個承載台11中的一個承載台11上的第一定位結構滾動接觸，片舟01的長度方向上另一端的兩個定位部011朝向或背離一端的兩個定位部011的兩側面與兩個承載台11中的另一個承載台11上的第一定位結構滾動接觸，並且，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向或背離的兩側面與兩個承載台11中的一個承載台11上的第二定位結構滾動接觸，片舟01的長度方向上另一端的兩個定位部011相互朝向或背離的兩側面與兩個承載台11中的另一個承載台11上的第二定位結構滾動接觸，以借助兩個承載台11上的第一定位結構對片舟01在其長度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，並借助兩個承載台11上的第二定位結構對片舟01在其寬度方向上與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，從而借助兩個承載台11上的第一定位結構和第二定位結構對片舟01與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，之後片舟01的長度方向上的一端與兩個承載台11中的一個接觸，片舟01的長度方向上的另一端與兩個承載台11中的另一個接觸，以借助兩個承載台11對片舟01進行承載，使片舟01承載於片舟暫存裝置上。

由於片舟01的定位部011在與本發明實施例提供的片舟暫存裝置的兩個承載台11上的第一定位結構和第二定位結構接觸，借助兩個承載台11上的第一定位結構和第二定位結構對片舟01與片舟暫存裝置的相對位置進行定位時，片舟01的定位部011是與兩個承載台11上的第一定位結構和第二定位結構滾動接觸，因此，這與片舟01的定位部011與現有的一種片舟暫存裝置的定位結構滑動接觸相比，可以減小片舟01的定位部011受到的摩擦力，從而可以減少石墨材質的片舟01被第一定位結構和第二定位結構摩擦下來的石墨顆粒，繼而可以當通過風冷對片舟01進行冷卻時，就能夠降低片舟01承載的晶片受到的污染，提高晶片的潔淨度。

在本發明一優選實施例中，在兩個承載台11相對的方向上，兩個第一定位結構之間的距離可以小於兩個第二定位結構之間的距離，第一定位結構用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向另一端的兩個定位部011的兩側面滾動接觸，第二定位結構可以用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向的兩側面滾動接觸。

當片舟01被移動至片舟暫存裝置上進行暫存時，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向另一端的兩個定位部011的兩側面與第一定位結構滾動接觸，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向的兩側面與第二定位結構滾動接觸，這樣，在第一定位結構和第二定位結構對片舟01與片舟暫存裝置的相對位置進行定位，以及片舟01承載於承載台11上時，片舟01的長度方向上設置有定位部011的兩端之間的用於承載晶片的部分會位於兩個第一定位結構之間，並且，由於兩個第二定位結構之間的距離大於兩個第一定位結構之間的距離，因此，片舟01的長度方向上設置有定位部011的兩端之間的用於承載晶片的部分也位於兩個第二定位結構之間，從而避免第一定位結構和第二定位結構對片舟01承載的晶片造成損傷，提高片舟暫存裝置的使用穩定性，並且，這樣的設計可以使得承載台11承載片舟01的位置靠近片舟01的中心，使承載台11能夠穩定的承載片舟01，從而提高片舟暫存裝置的使用穩定性。

如圖5-圖8所示，在本發明一優選實施例中，第一定位結構可以包括在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔設置的兩個第一滾輪33，兩個第一滾輪33均與承載台11可圍繞垂直於兩個承載台11相對的方向轉動連接，用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向另一端的兩個定位部011的兩側面（即，側面A）分別滾動接觸；或者，用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011背離另一端的兩個定位部011的兩側面（即，側面B）分別滾動接觸。

實現第一滾輪33與承載台11轉動連接的方式有多種，例如，第一定位結構還包括兩個第一連接件31和兩個第一轉軸32，兩個第一連接件31均與承載台11連接，並在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔設置，兩個第一轉軸32分別穿設於兩個第一連接件31中，且各第一轉軸32的軸向均與兩個承載台11相對的方向垂直，兩個第一滾輪33可圍繞第一轉軸32的軸線轉動的分別套設在兩個第一轉軸32上。

這樣的設計可以使得兩個第一滾輪33分別通過兩個轉軸和兩個連接件與承載台11連接，並在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔設置。當片舟01被移動至片舟暫存裝置上進行暫存時，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011朝向另一端的兩個定位部011的兩側面（即，側面A）與一個承載台11上的第一定位結構的兩個第一滾輪33分別接觸，片舟01的長度方向上另一端的兩個定位部011朝向一端的兩個定位部011的兩側面（即，側面A）與另一個承載台11上的第一定位結構的兩個第一滾輪33分別接觸，由於第一轉軸32的軸向與兩個承載台11相對的方向垂直，且第一滾輪33可圍繞第一轉軸32的軸線轉動的套設在第一轉軸32上，因此，第一滾輪33在受到定位部011的作用力下會圍繞第一轉軸32的軸線轉動，從而實現與片舟01長度方向上一端的兩個定位部011朝向另一端的兩個定位部011的兩側面滾動接觸。

如圖5-圖8所示，在本發明一優選實施例中，第二定位結構可以包括在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔設置的兩個第二滾輪23；兩個第二滾輪23均與承載台11可圍繞平行於兩個承載台11相對的方向轉動連接，用於與片舟01的長度方向上一端的兩述定位部011相互朝向的兩側面（即，側面C）分別滾動接觸；或者，用於與片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互背離的兩側面（即，側面D）分別滾動接觸。

實現第二滾輪23與承載台11轉動連接的方式有多種，例如，第二定位結構還包括兩個第二連接件21和兩個第二轉軸22；兩個第二連接件21均與承載台11連接，並在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔設置，兩個第二轉軸22分別穿設於兩個第二連接件21中，且各第二轉軸22的軸向均與兩個承載台11相對的方向平行，兩個第二滾輪23可圍繞第二轉軸22的軸線轉動的分別套設在兩個第二轉軸22上，用於與片舟01長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向的兩側面（圖2中的側面C）分別滾動接觸。

這樣的設計可以使得兩個第二滾輪23分別通過兩個第二轉軸22和兩個連接件與承載台11連接，並在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔設置。當片舟01被移動至片舟暫存裝置上進行暫存時，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向的兩側面（即，側面C）與一個承載台11上的第二定位結構的兩個第二滾輪23分別接觸，片舟01的長度方向上另一端的兩個定位部011相互朝向的兩側面（即，側面C）與另一個承載台11上的第二定位結構的兩個第二滾輪23分別接觸，由於第二轉軸22的軸向與兩個承載台11相對的方向平行，且第二滾輪23可圍繞第二轉軸22的軸線轉動的套設在第二轉軸22上，因此，第二滾輪23在受到定位部011的作用力下會圍繞第二轉軸22的軸線轉動，從而實現與片舟01長度方向上一端的兩個定位部011相互朝向的兩側面滾動接觸。

在本發明一優選實施例中，第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上，可以靠近或遠離另一個第二連接件21的與承載台11可調節的連接。

這樣的設計是由於不同的片舟01，在片舟01的寬度方向上間隔設置的兩個定位部011之間的距離不同，通過調節第二連接件21，使第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上靠近或遠離另一個第二連接件21（如圖8中第二連接件21處箭頭所示），可以調節兩個第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔的距離，使與兩個第二連接件21分別連接的兩個第二滾輪23能夠與在片舟01的寬度方向上間隔不同距離的兩個定位部011相適應，使片舟暫存裝置能夠適用於不同的片舟01，從而提高片舟暫存裝置的適應性。

例如，通過調節一個第二連接件21，使該第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上靠近另一個第二連接件21，可以減小兩個第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔的距離，使與兩個第二連接件21分別連接的兩個第二滾輪23能夠與在片舟01的寬度方向上間隔距離較小的兩個定位部011相適應，通過調節一個第二連接件21，使該第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上遠離另一個第二連接件21，可以增大兩個第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔的距離，使與兩個第二連接件21分別連接的兩個第二滾輪23能夠與在片舟01的寬度方向上間隔距離較大的兩個定位部011相適應。

如圖6和圖8所示，在本發明一優選實施例中，承載台11上可以設置有第一螺紋連接孔，第二連接件21上可以設置有連接長孔211，該連接長孔211的長軸垂直於兩個承載台11相對的方向；第二定位結構可以還包括第一螺紋連接件25，連接長孔211的長軸垂直於兩個承載台11相對的方向，第一螺紋連接件25穿過連接長孔211與第一螺紋連接孔螺紋連接，且第一螺紋連接件25能夠通過調節其與連接長孔211在其長軸方向上的相對位置，來調節第二連接件21與承載台11在垂直於兩個承載台11相對的方向上的相對位置。

在需要調節兩個第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔的距離時，可以通過旋松第一螺紋連接件25，使第二連接件21能夠相對於承載台11活動，由於設置在第二連接件21上的連接長孔211的長軸垂直於兩個承載台11相對的方向，因此，此時，可以在垂直於兩個承載台11相對的方向上移動第二連接件21，使第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上靠近或遠離另一個第二連接件21，當將兩個第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔的距離調節至合適位置時，可以通過旋緊第一螺紋連接件25，將第二連接件21與承載台11緊固，使第二連接件21無法相對於承載台11活動，從而完成對兩個第二連接件21在垂直於兩個承載台11相對的方向上間隔的距離的調節。

如圖5所示，可選的，第一定位結構可以還包括鎖止環34，第一轉軸32的一端設置有供鎖止環34插入的環形槽，鎖止環34插入該環形槽中，並與套設在第一轉軸32上的第一滾輪33的一端相抵，以將第一滾輪33鎖止在第一轉軸32上。

如圖4、圖7-圖9、圖11、圖16所示，在本發明一優選實施例中，片舟暫存裝置可以還包括兩個第一支撐柱41、兩個第一支撐板42和兩個第二支撐板43，兩個第一支撐柱41的軸線平行，兩個第一支撐板42分別與兩個第一支撐柱41連接，且第一支撐板42垂直於板面的軸線與第一支撐柱41的軸線垂直，兩個第二支撐板43分別與兩個第一支撐板42連接，且第二支撐板43垂直於板面的軸線與第一支撐板42垂直於板面的軸線垂直，並與第一支撐柱41的軸線均垂直，兩個承載台11分別與兩個第二支撐板43連接。上述板面是指支撐板的外表面中面積最大的表面。

當兩個第一支撐柱41豎直放置時，兩個第一支撐柱41的軸線與豎直方向平行，由於第一支撐板42垂直於板面的軸線與第一支撐柱41的軸線垂直，因此，此時第一支撐板42垂直於板面的軸線與水準方向平行，由於第二支撐板43垂直於板面的軸線與第一支撐板42垂直於板面的軸線垂直，並與第一支撐柱41的軸線垂直，因此，此時第二支撐板43垂直於板面的軸線與水準方向平行，並與第一支撐板42垂直於板面的軸線在水準方向上垂直，即，第二支撐板43垂直於板面的軸線與第一支撐板42垂直於板面的軸線呈“L”型，兩個承載台11分別與兩個第二支撐板43連接，並相對設置。兩個第一支撐柱41通過分別支撐兩個第一支撐板42和兩個第二支撐板43，以對兩個承載台11進行支撐，使兩個承載台11能夠承載片舟01。

如圖4、圖7、圖9、圖11和圖16所示，可選的，片舟暫存裝置可以還包括兩個第一連接部件45，兩個第一連接部件45分別與兩個第一支撐柱41連接，並分別與兩個第一支撐板42連接。即，兩個第一支撐板42分別通過兩個第一連接部件45分別與兩個第一支撐柱41連接。

如圖11所示，可選的，各第一支撐柱41的軸向上可以均設置有多個第一支撐板42和多個第二支撐板43，片舟暫存裝置可以包括多個承載組，各承載組均包括相對設置的兩個承載台11，承載組的數量與第一支撐柱41軸向上的第二支撐板43的數量相同，各承載組的承載台11一一對應的與多個第二支撐板43連接，各承載組均用於承載片舟01。借助多個承載台11組可以同時承載多個片舟01，從而提高片舟暫存裝置的暫存能力。

如圖11所示，可選的，片舟暫存裝置可以還包括兩個第二支撐柱44，其中一個第二支撐柱44的兩端分別與兩個第一支撐柱41的一端連接，另一個第二支撐柱44的兩端分別與兩個第一支撐柱41的另一端連接，這樣兩個第一支撐柱41和兩個第二支撐柱44就能夠形成一個框架，以提高片舟暫存裝置的穩定性。

在本發明一優選實施例中，承載台11在兩個承載台11相對的方向上，可以靠近或遠離另一個承載台11的與第二支撐板43可調節的連接。

這樣的設計是由於不同的片舟01，片舟01的長度方向上一端的兩個定位部011與另一端的兩個定位部011之間的距離不同，通過調節承載台11，使一個承載台11在兩個承載台11相對的方向上靠近或遠離另一個承載台11（如圖8中承載台11上箭頭所示），可以調節兩個承載台11在兩個承載台11相對的方向上之間的距離，使與一個承載台11連接的兩個第一滾輪33和與另一個承載台11連接的兩個第一滾輪33，能夠與在片舟01長度方向上間隔不同距離的兩個定位部011相適應，使片舟暫存裝置能夠適用於不同的片舟01，從而提高片舟暫存裝置的適應性。

例如，通過調節一個承載台11，使該承載台11在兩個承載台11相對的方向上靠近另一個承載台11，可以減小兩個承載台11在兩個承載台11相對的方向上之間的距離，使與一個承載台11連接的兩個第一滾輪33和與另一個承載台11連接的兩個第一滾輪33，能夠與在片舟01的長度方向上間隔距離較小的兩個定位部011相適應，通過調節一個承載台11，使該承載台11在兩個承載台11相對的方向上遠離另一個承載台11，可以增大兩個承載台11在兩個承載台11相對的方向上之間的距離，使與一個承載台11連接的兩個第一滾輪33和與另一個承載台11連接的兩個第一滾輪33，能夠與在片舟01長度方向上間隔距離較大的兩個定位部011相適應。

如圖5-圖8所示，在本發明一優選實施例中，片舟暫存裝置還可以包括調節軸13、第一固定件14和第二固定件15，其中，第一固定件14與第二支撐板43連接，且和第二固定件15可拆卸的連接，第一固定件14和第二固定件15上分別開設有第一凹槽和第二凹槽，該第一凹槽和第二凹槽能夠配合形成調節孔，該調節孔的軸向與兩個承載台11相對的方向平行；調節軸13與承載台11連接，且穿設于上述調節孔中，調節軸13能夠通過調節其與上述調節孔在平行於兩個承載台11相對的方向上的相對位置，來調節兩個承載台11之間的距離。

在需要調節兩個承載台11在兩個承載台11相對的方向上之間的距離時，可以將第二固定件15與第一固定件14拆卸，使第二凹槽與第一凹槽分離，即，調節孔取消對調節軸13的卡緊，使與承載台11連接的調節軸13能夠相對于調節孔移動，由於調節軸13的軸向與兩個承載台11相對的方向平行，因此，此時，可以在兩個承載台11相對的方向上移動調節軸13，使與調節軸13連接的一個承載台11在兩個承載台11相對的方向上靠近或遠離另一個承載台11，當將兩個承載台11在兩個承載台11相對的方向上之間的距離調節至合適位置時，可以將第二固定件15與第一固定件14連接，使第二凹槽與第一凹槽形成調節孔，以借助調節孔卡緊調節軸13，使與承載台11連接的調節軸13無法相對于調節孔移動，從而完成對兩個承載台11在兩個承載台11相對的方向上之間的距離的調節。

如圖6和圖8所示，可選的，片舟暫存裝置還可以包括第三連接件16和鎖止件17，第三連接件16與承載台11連接，調節軸13穿入至第三連接件16中，並與第三連接件16連接，鎖止件17貫穿第三連接件16，並與第一連接件31相抵，以鎖止第三連接件16的位置。

如圖5和圖7所示，在本發明一優選實施例中，承載台11上還可以設置有高度差補償件12，高度差補償件12設置在其中一個承載台11上，且高度場補償件12的上表面高於承載台11的上表面。

這樣的設計是由於加工誤差及安裝誤差會使得相對設置的兩個承載台11無法保證處於同一水準高度，導致相對設置的兩個承載台11通過分別承載片舟01長度方向上的兩端，對片舟01進行承載時，片舟01可能會發生傾斜（如圖10所示），造成片舟01的長度方向上設置有定位部011的兩端之間的用於承載晶片的部分可能會與承載台11接觸，即，承載台11與片舟01的長度方向上設置有定位部011的兩端之間的用於承載晶片的部分接觸，對片舟01進行承載，而這就可能會使得片舟01承載的晶片與承載台11接觸，從而使得片舟01承載的晶片受到承載台11的外力而損壞。

而發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置，通過在其中一個承載台11上設置高度差補償件12，可以借助高度差補償件12對相對設置的兩個承載台11在水準高度上的誤差進行補償，使片舟01的水準地放置於兩個承載台11上。可選的，通過將高度差補償件12設置在其中一個承載台11上，且位於兩個承載台11相對的方向上遠離另一個承載台11的一側，可以使高度差補償件12遠離片舟01的長度方向上設置有定位部011的兩端之間的用於承載晶片的部分，避免高度差補償件12與片舟01的長度方向上設置有定位部011的兩端之間的用於承載晶片的部分接觸，從而避免高度差補償件12片舟01承載的晶片接觸，對片舟01承載的晶片造成損壞，進而提高片舟暫存裝置的使用穩定性。

如圖5和圖7所示，可選的，高度差補償件12可以包括高度差補償板，該高度差補償板的上表面用於與片舟01的一端接觸。

如圖7所示，在本發明一優選實施例中，片舟暫存裝置可以還包括檢測部件5，檢測部件5設置在第一支撐板42上，用於檢測承載台11上是否承載有片舟01，且檢測部件5與承載於承載台11上的片舟01之間具有預設隔熱距離。

借助檢測部件5檢測承載台11上是否承載有片舟01，可以避免承載台11承載有片舟01時，仍向承載台11上傳輸片舟01，導致兩個片舟01發生碰撞，造成片舟01及片舟01承載的晶片損壞的情況發生，從而提高片舟暫存裝置的使用穩定性，並且，通過使檢測部件5與承載於承載台11上的片舟01之間具有預設隔熱距離，可以避免半導體工藝結束後的片舟01的高溫熱量對檢測部件5造成損壞，進而提高片舟暫存裝置的使用穩定性。

可選的，預設隔熱距離可以大於或等於80毫米（mm）。

如圖7和圖9所示，在本發明一優選實施例中，檢測部件5可以包括光電感測器51。這樣的設計是由於光電感測器51無需與片舟01接觸就可以檢測承載台11上是否承載有片舟01，從而可以避免半導體工藝結束後的片舟01的高溫熱量對檢測部件5造成損壞，進而提高片舟暫存裝置的使用穩定性。

如圖7和圖9所示，可選的，光電感測器51可以位於第一支撐板42與第二支撐板43的連接處。

如圖7和圖9所示，可選的，檢測部件5可以還包括檢測支撐部件52，檢測支撐部件52設置在第一支撐板42上，光電感測器51與檢測支撐部件52連接，檢測支撐部件52用於支撐光電感測器51。

如圖11-17所示，在本發明一優選實施例中，片舟暫存裝置可以還包括液冷部件9、風冷部件和過濾部件7，液冷部件9用於冷卻其周圍的氣體，風冷部件相對于液冷部件9距離承載台11更近，用於將受液冷部件9冷卻的氣體吹送向承載於承載台11上的片舟01，過濾部件7設置在液冷部件9和風冷部件之間，用於對風冷部件吹送向承載於承載台11上的片舟01的氣體進行過濾。

借助液冷部件9和風冷部件對承載於承載台11上的片舟01進行冷卻，可以使半導體工藝結束後的高溫片舟01的溫度得到降低，即，在半導體工藝結束後，片舟01被移動至承載台11上，液冷部件9和風冷部件對承載於承載台11上的片舟01進行冷卻，使片舟01的溫度得到降低。

液冷部件9可以與其周圍的氣體發生熱交換，將其周圍的氣體冷卻，風冷部件相對于液冷部件9靠近承載台11，風冷部件可以將被液冷部件9冷卻了的氣體吹送向承載於承載台11上的片舟01，使被液冷部件9冷卻了的氣體與片舟01生熱交換，對片舟01進行冷卻，過濾部件7設置在液冷部件9和風冷部件之間，這樣當液冷部件9周圍被液冷部件9冷卻了的氣體被風冷部件吹送向片舟01的過程中，會經過過濾部件7受到過濾部件7的過濾。

這樣即使片舟01與第一定位結構和第二定位結構摩擦產生顆粒污染物，借助過濾部件7也可以將隨氣體被風冷部件吹起的顆粒污染物在隨氣體到達片舟01之前過濾掉，避免顆粒污染物到達片舟01，並且，本申請發明人還發現片舟暫存裝置周圍可能還存在除片舟01與第一定位結構和第二定位結構摩擦產生顆粒污染物落之外的其餘顆粒污染物，借助過濾部件7也可以將隨氣體被風冷部件吹起的除片舟01與第一定位結構和第二定位結構摩擦產生顆粒污染物落之外的其餘顆粒污染物在隨氣體到達片舟01之前過濾掉，避免除片舟01與第一定位結構和第二定位結構摩擦產生顆粒污染物落之外的其餘顆粒污染物到達片舟01，從而能夠進一步降低片舟01承載的晶片受到的污染，進一步提高晶片的潔淨度。

如圖11所示，可選的，液冷部件9、風冷部件和過濾部件7可以與承載台11對應的設置在承載台11的下方。

如圖4和圖11所示，可選的，液冷部件9、風冷部件和過濾部件7可以與第二支撐板43連接。

如圖11所示，可選的，當第一支撐柱41的軸向上設置有多個第一支撐板42和多個第二支撐板43，片舟暫存裝置包括多個承載組，各承載組均包括相對設置的兩個承載台11，承載組的數量與第一支撐柱41軸向上的第二支撐板43的數量相同，各承載組的承載台11一一對應的與多個第二支撐板43連接時，液冷部件9、風冷部件和過濾部件7的數量可以均為多個，多個液冷部件9、多個風冷部件和多個過濾部件7一一對應的與多個第二支撐板43連接，用於一一對應的對承載於承載台11上的片舟01進行冷卻。

可選的，液冷部件9、風冷部件和過濾部件7的總高度可以小於或等於90mm，這樣可以降低液冷部件9、風冷部件和過濾部件7在高度方向上所佔用的空間，為承載台11承載片舟01提供更大的空間。

在本發明一優選實施例中，過濾部件7可以包括棉花。棉花內部的間隙較小，可以在對顆粒污染物進行阻擋的同時，還能夠供風冷部件吹送向片舟01的氣體通過，並且，棉花還能夠對顆粒污染物進行吸附，這與過濾網相比能夠具有更好的過濾效果，從而進一步降低片舟01承載的晶片受到的污染，進一步提高晶片的潔淨度。

如圖12和圖13所示，在本發明一優選實施例中，風冷部件可以包括風機81和支撐架82，風機81設置在支撐架82的上方，用於將受液冷部件9冷卻的氣體吹送向承載於承載台11上的片舟01，支撐架82的下方設置有容置過濾部件7的容置槽821，且支撐架82設置有分別與風機81和容置槽821連通的通風口，且容置槽821具有供過濾部件7取放的第一取放口。

即，過濾部件7容置於容置槽821中，風機81設置在支撐架82的上方，在風冷部件將受液冷部件9冷卻的氣體吹送向片舟01時，風機81提供動力將受液冷部件9冷卻的氣體由過濾部件7的下方吹送向過濾部件7的上方，氣體在由過濾部件7的下方到過濾部件7的上方的過程中，會依次經過容置槽821的槽口、過濾部件7和通風口，氣體在經過過濾部件7時會受到過濾部件7的過濾，從而借助過濾部件7將隨氣體流動的顆粒污染物過濾掉，容置槽821具有供過濾部件7取放的第一取放口，通過第一取放口可以將舊的過濾部件7從容置槽821內取出，並將新的過濾部件7放入至容置槽821內，從而便於過濾部件7的更換。

如圖12-圖15所示，在本發明一優選實施例中，風機81的數量可以為多個，多個風機81分為多個風機組，各風機組包括至少一個風機81，支撐架82的數量為多個，風冷部件還包括支撐框架83，多個風機組一一對應的設置在多個支撐架82上，支撐框架83中開設有供多個支撐架82一一對應安裝的多個安裝空間，且支撐框架83上開設有與多個安裝空間和多個第一取放口一一對應連通的多個第二取放口，各第二取放口用於供過濾部件7的取放。

通過設置多個可以提高風冷部件吹送片舟01的氣體的量，從而提高對片舟01冷卻的效果，降低片舟01的冷卻時間，提高工作效率。

例如，如圖12-圖15所示，風機81的數量可以為十二個，十二個風機81分為三個風機組，各風機組均包括四個風機81，各風機組的四個風機81設置在一個支撐架82上，支撐框架83中開設有供三個支撐架82一一對應安裝的三個安裝空間，且支撐框架83上開設有與三個安裝空間和三個支撐架82的三個第一取放口一一對應連通的三個第二取放口，通過各第二取放口可以將舊的過濾部件7從容置槽821內取出，並將新的過濾部件7放入至容置槽821內，從而便於過濾部件7的更換。

但是，風機81的數量、風機組的數量、各風機組的風機81的數量、支撐架82的數量、支撐框架83的安裝空間的數量和第二取放口的數量並不以此為限。

如圖4和圖12所示，在本發明一優選實施例中，風冷部件可以還包括風機保護件85，風機保護件85覆蓋在風機81的上方，且風機保護件85上開設有供風機81露出的露出口86。

風機81吹送向片舟01的氣體通過露出口86吹送向片舟01。

如圖15和圖16所示，可選的，支撐框架83長度方向上的兩端可以設置有第二連接部件84，第二連接部件84可以與第二支撐板43連接。

這樣就可以使支撐框架83通過第二連接部件84與第二支撐板43連接，從而使液冷部件9、風冷部件和過濾部件7與第二支撐板43連接。

如圖12和圖17所示，在本發明一優選實施例中，液冷部件9可以包括液冷主體91、液冷支架92、進液管93和出液管94，液冷主體91與液冷支架92連接，進液管93與液冷主體91連通，用於向液冷主體91中輸送冷卻液，出液管94與液冷主體91連通，用於從液冷主體91中將升溫後的冷卻液排出。

進液管93向液冷主體91中輸送冷卻液，冷卻液在液冷主體91中與液冷主體91周圍的氣體發生熱交換，對液冷主體91周圍的氣體進行冷卻，在冷卻液與液冷主體91周圍的氣體發生熱交換的過程中，液冷主體91周圍的氣體的熱量會使得冷卻液升溫，升溫後的冷卻液無法再對液冷主體91周圍的氣體進行冷卻，通過出液管94從液冷主體91中將升溫後的冷卻液排出，進液管93可以持續向液冷主體91中輸送冷卻液，使液冷主體91中的冷卻液能夠持續的與液冷主體91周圍的氣體發生熱交換，持續的對液冷主體91周圍的氣體進行冷卻。

如圖4所示，可選的，液冷支架92可以與支撐框架83連接，並位於支撐框架83的下方。

如圖4、圖12和圖17所示，在本發明一優選實施例中，液冷部件9可以還包括進液通斷閥95和出液通斷閥96，進液通斷閥95設置在進液管93上，用於控制進液管93的通斷，出液通斷閥96設置在出液管94上，用於控制出液管94的通斷。

這樣可以根據實際情況，通過進液通斷閥95控制進液管93的通斷，來控制冷卻液是否通過進液管93被輸送至液冷主體91中，通過出液通斷閥96控制出液管94的通斷，來控制液冷主體91中的冷卻液是否通過出液管94排出。

可選的，進液通斷閥95可以包括球閥。

可選的，出液通斷閥96可以包括球閥。

本發明實施例還提供一種半導體設備，包括如本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置，片舟暫存裝置用於暫存片舟01。

本發明實施例提供的半導體設備，借助發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置暫存片舟01，從而能夠降低晶片受到的污染，提高晶片的潔淨度。

綜上所述，本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置及半導體設備能夠降低晶片受到的污染，提高晶片的潔淨度。

前述內容概括數項實施例之特徵，使得熟習此項技術者可更佳地理解本揭露之態樣。熟習此項技術者應瞭解，其等可容易地使用本揭露作為用於設計或修改用於實行本文仲介紹之實施例之相同目的及/或達成相同優點之其他製程及結構之一基礎。熟習此項技術者亦應瞭解，此等等效構造不背離本揭露之精神及範疇，且其等可在不背離本揭露之精神及範疇之情況下在本文中作出各種改變、置換及更改。

01:片舟 011:定位部 5:檢測部件 7:過濾部件 9:液冷部件 11:承載台 12:高度差補償件 13:調節軸 14:第一固定件 15:第二固定件 16:第三連接件 17:鎖止件 21:第二連接件 22:第二轉軸 23:第二滾輪 25:第一螺紋連接件 31:第一連接件 32:第一轉軸 33:第一滾輪 34:鎖止環 41:第一支撐柱 42:第一支撐板 43:第二支撐板 44:第二支撐柱 45:第一連接部件 51:光電感測器 52:檢測支撐部件 81:風機 82:支撐架 83:支撐框架 84:第二連接部件 85:風機保護件 86:露出口 91:液冷主體 92:液冷支架 93:進液管 94:出液管 95:進液通斷閥 96:出液通斷閥 211:連接長孔 821:容置槽

當結合附圖閱讀時，從以下詳細描述最佳理解本揭露之態樣。應注意，根據產業中之標準實踐，各種構件未按比例繪製。事實上，為了論述的清楚起見可任意增大或減小各種構件之尺寸。 圖1為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置暫存的一種片舟的結構示意圖； 圖2為圖1中M處的局部放大結構示意圖； 圖3為圖1中N處的局部放大結構示意圖； 圖4為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的結構示意圖； 圖5為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的承載台、第一定位結構和第二定位結構的結構示意圖； 圖6為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的承載台、第一定位結構和第二定位結構的仰視結構示意圖； 圖7為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的片舟暫存裝置、承載台、第一定位結構和第二定位結構的結構示意圖； 圖8為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的片舟暫存裝置、承載台、第一定位結構和第二定位結構的仰視結構示意圖； 圖9為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的片舟暫存裝置和檢測部件的結構示意圖； 圖10為片舟傾斜承載於片舟暫存裝置上的結構示意圖； 圖11為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置暫存多個片舟的結構示意圖； 圖12為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的液冷部件、風冷部件和過濾部件的結構示意圖； 圖13為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的風機、支撐架和過濾部件的結構示意圖； 圖14為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的風機、支撐架、支撐框架和過濾部件的結構示意圖； 圖15為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的支撐框架的結構示意圖； 圖16為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的支撐框架通過第二連接部件與第二支撐板連接的結構示意圖； 圖17為本發明實施例提供的半導體設備的片舟暫存裝置的液冷部件的結構示意圖。

11:承載台

41:第一支撐柱

42:第一支撐板

43:第二支撐板

45:第一連接部件

81:風機

85:風機保護件

92:液冷支架

93:進液管

94:出液管

95:進液通斷閥

96:出液通斷閥

Claims (17)

1. 一種半導體設備的片舟暫存裝置，用於暫存片舟，該片舟在其長度方向上的兩端均設置有兩個定位部，且各端的兩個該定位部在該片舟的寬度方向上間隔設置，其中，該片舟暫存裝置包括兩個相對設置的承載台，用於分別承載該片舟在其長度方向上的兩端；該片舟暫存裝置還包括在每個該承載臺上設置的一第一定位結構和一第二定位結構，其中， 該第一定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部朝向或背離另一端的兩個該定位部的兩側面滾動接觸，以對該片舟在其長度方向上與該片舟暫存裝置的相對位置進行定位； 該第二定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部相互朝向或背離的兩側面滾動接觸，以對該片舟在其寬度方向上與該片舟暫存裝置的相對位置進行定位。
2. 如請求項1所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，在兩個該承載台相對的方向上，兩個該第一定位結構之間的距離小於兩個該第二定位結構之間的距離，該第一定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部朝向另一端的兩個該定位部的兩側面滾動接觸，該第二定位結構用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部相互朝向的兩側面滾動接觸。
3. 如請求項1或2所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該第一定位結構包括在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置的兩個第一滾輪，兩個該第一滾輪均與該承載台可圍繞垂直於兩個該承載台相對的方向轉動連接，用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部朝向或背離另一端的兩個該定位部的兩側面分別滾動接觸。
4. 如請求項3所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該第一定位結構還包括兩個第一連接件和兩個第一轉軸，兩個該第一連接件均與該承載台連接，並在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置，兩個該第一轉軸分別穿設於兩個該第一連接件中，且各該第一轉軸的軸向均與兩個該承載台相對的方向垂直，兩個該第一滾輪可圍繞該第一轉軸的軸線轉動的分別套設在兩個該第一轉軸上。
5. 如請求項1或2所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該第二定位結構包括在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置的兩個第二滾輪；兩個該第二滾輪均與該承載台可圍繞平行於兩個該承載台相對的方向轉動連接，用於與該片舟的長度方向上一端的兩個該定位部相互朝向或背離的兩側面分別滾動接觸。
6. 如請求項5所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該第二定位結構還包括兩個第二連接件和兩個第二轉軸，兩個該第二連接件均與該承載台連接，並在垂直於兩個該承載台相對的方向上間隔設置，兩個該第二轉軸分別穿設於兩個該第二連接件中，且各該第二轉軸的軸向均與兩個該承載台相對的方向平行，兩個該第二滾輪可圍繞該第二轉軸的軸線轉動的分別套設在兩個該第二轉軸上。
7. 如請求項6所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該承載臺上設置有一第一螺紋連接孔，該第二連接件上設置有一連接長孔，該連接長孔的長軸垂直於兩個該承載台相對的方向；該第二定位結構還包括一第一螺紋連接件，該第一螺紋連接件穿過該連接長孔與該第一螺紋連接孔螺紋連接，且該第一螺紋連接件能夠通過調節其與該連接長孔在其長軸方向上的相對位置，來調節該第二連接件與該承載台在垂直於兩個該承載台相對的方向上的相對位置。
8. 如請求項1所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該片舟暫存裝置還包括兩個第一支撐柱、兩個第一支撐板和兩個第二支撐板，兩個該第一支撐柱的軸線平行，兩個該第一支撐板分別與兩個該第一支撐柱連接，且該第一支撐板垂直於板面的軸線與該第一支撐柱的軸線垂直，兩個該第二支撐板分別與兩個該第一支撐板連接，且該第二支撐板垂直於板面的軸線與該第一支撐板垂直於板面的軸線垂直，並與該第一支撐柱的軸線垂直，兩個該承載台分別與兩個該第二支撐板連接。
9. 如請求項8所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該片舟暫存裝置還包括一調節軸、一第一固定件和一第二固定件，其中，該第一固定件與該第二支撐板連接，且和該第二固定件可拆卸的連接，該第一固定件和該第二固定件上分別開設有一第一凹槽和一第二凹槽，該第一凹槽和該第二凹槽能夠配合形成一調節孔，該調節孔的軸向與兩個該承載台相對的方向平行； 該調節軸與該承載台連接，且穿設於該調節孔中，該調節軸能夠通過調節其與該調節孔在平行於兩個該承載台相對的方向上的相對位置，來調節兩個該承載台之間的距離。
10. 如請求項1所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該承載臺上還設置有一高度差補償件，該高度差補償件設置在其中一個該承載臺上，且該高度場補償件的上表面高於該承載台的上表面。
11. 如請求項8所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該片舟暫存裝置還包括一檢測部件，該檢測部件設置在該第一支撐板上，用於檢測該承載臺上是否承載有該片舟，且該檢測部件與承載於該承載臺上的該片舟之間具有一預設隔熱距離。
12. 如請求項1所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該片舟暫存裝置還包括一液冷部件、一風冷部件和一過濾部件，該液冷部件用於冷卻其周圍的氣體，該風冷部件相對於該液冷部件靠近該承載台，用於將受該液冷部件冷卻的氣體吹送向承載於該承載臺上的該片舟，該過濾部件設置在該液冷部件和風冷部件之間，用於對該風冷部件吹送向承載於該承載臺上的該片舟的氣體進行過濾。
13. 如請求項12所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該風冷部件包括一風機和一支撐架，該風機設置在該支撐架的上方，用於將受該液冷部件冷卻的氣體吹送向承載於該承載臺上的該片舟，該支撐架的下方設置有容置該過濾部件的一容置槽，且該支撐架設置有分別與該風機和該容置槽連通的通風口，且該容置槽具有供該過濾部件取放的一第一取放口。
14. 如請求項13所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該風機的數量為多個，多個該風機分為多個風機組，各該風機組包括至少一個該風機，該支撐架的數量為多個，該風冷部件還包括支撐框架，多個該風機組一一對應的設置在多個該支撐架上，該支撐框架中開設有供多個該支撐架一一對應安裝的多個安裝空間，且該支撐框架上開設有與多個該安裝空間和多個該第一取放口一一對應連通的多個第二取放口，各該第二取放口用於供該過濾部件的取放。
15. 如請求項13所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該風冷部件還包括一風機保護件，該風機保護件覆蓋在該風機的上方，且該風機保護件上開設有供該風機露出的露出口。
16. 如請求項12所述的半導體設備的片舟暫存裝置，其中，該液冷部件包括一液冷主體、一液冷支架、一進液管和一出液管，該液冷主體與該液冷支架連接，該進液管與該液冷主體連通，用於向該液冷主體中輸送冷卻液，該出液管與該液冷主體連通，用於從該液冷主體中將升溫後的該冷卻液排出。
17. 一種半導體設備，其中，包括如請求項1-16任意一項所述的半導體設備的片舟暫存裝置，該片舟暫存裝置用於暫存該片舟。

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