JP2018101741A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
吸気ダクトを、このような上端、下端及び中間に配置された3つの吸気ダクトで構成することにより、各ダクトの寸法、吸引力等の条件を変えることができる。そのため、アンロードの際に移動するウエハボート24の温度が異なる領域に合わせて、条件が異なるダクトを適宜配置することができるので、ウエハWを効率よく冷却することができる。
20 ローディングエリア
24 ウエハボート
41 反応管
50 制御部
60〜62 ダクト
60a〜62a 本体
60b〜62b 吸気口
70〜75 排気ファン
W ウエハ
F フランジ
P1〜P3 仕切壁
Claims (9)
- 処理容器と、
複数の基板を保持して、前記処理容器にロード及びアンロードされる基板保持具と、
前記処理容器からアンロードされたアンロード位置における前記基板保持具の周囲に対向して配置され、吸気口を備える吸気ダクトとを有し、
前記吸気ダクトは、
前記吸気ダクトの本体を構成する固定ダクト部と、
前記固定ダクト部に収容されて、前記吸気口を構成する可動ダクト部とを有する基板処理装置。 - 前記アンロード位置で前記吸気口を前記基板保持具に近づけるように前記可動ダクト部を駆動する制御部を有する請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記可動ダクト部にフランジが設けられている請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記可動ダクト部には、高さ方向に前記可動ダクト部の内部を複数の空間に仕切る少なくとも1つの仕切壁を有する、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記吸気ダクトは、上端、下端及び中間に配置された3つの吸気ダクトで構成されている、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記吸気ダクトのうち、少なくとも1つは、他と異なる水平位置に配置された請求項1乃至5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 処理容器から、複数の基板を保持した基板保持具をアンロードする工程と、
前記処理容器からアンロードされたアンロード位置における前記基板保持具の周囲に対向して配置され、吸気口を備える少なくとも1つの吸気ダクトを、前記アンロード位置で前記吸気口を前記基板保持具に近づけるように駆動する工程と、
前記吸気ダクトを作動させる工程と、を有する基板処理方法。 - 前記吸気ダクトは、
前記吸気ダクトの本体を構成する固定ダクト部と、
前記固定ダクト部に収容され、前記吸気口を構成する可動ダクト部とを有し、
前記アンロード位置で前記吸気口を前記基板保持具に近づけるように前記可動ダクト部が駆動する、請求項7に記載の基板処理方法。 - 前記可動ダクト部を前記基板保持具に近づけるタイミングは、前記基板保持具が前記アンロード位置に到達したタイミングである請求項8に記載の基板処理方法。
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