WO2023026809A1 - シャント抵抗器 - Google Patents

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WO2023026809A1
WO2023026809A1 PCT/JP2022/029823 JP2022029823W WO2023026809A1 WO 2023026809 A1 WO2023026809 A1 WO 2023026809A1 JP 2022029823 W JP2022029823 W JP 2022029823W WO 2023026809 A1 WO2023026809 A1 WO 2023026809A1
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plating
resistor
shunt resistor
resistance
specific resistance
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Application number
PCT/JP2022/029823
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English (en)
French (fr)
Inventor
洋一 酒井
圭史 仲村
利文 溝上
Original Assignee
Koa株式会社
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C13/00Resistors not provided for elsewhere

Definitions

  • the present invention relates to shunt resistors.
  • JP2003-031401A shows a resistor comprising a resistor and first and second terminals provided at both ends of the resistor.
  • a first terminal and a second terminal of this resistor are formed of a metal such as aluminum.
  • JP2019-161225A discloses a shunt resistor that suppresses galvanic corrosion due to contact of dissimilar metals by coating dissimilar metal contact portions of an aluminum alloy and a copper alloy. It is stated that the coating can employ a plating process for coating a thin film of metal.
  • An object of the present invention is to make it possible to suppress the influence on resistance characteristics.
  • a resistor an electrode formed mainly of aluminum that is joined to the resistor, and at least a joint portion of the resistor and the electrode are covered, and the specific resistance is higher than that of the resistor. and a plating part configured by plating.
  • the junction between the resistor and the electrode is covered with the plated portion having a higher specific resistance than the resistor. For this reason, compared to the case where plating with a lower specific resistance than the resistor is bridged between the electrode and the resistor, the current flowing through the plating is suppressed, so the influence of the plating on the resistance characteristics of the shunt resistor. can be suppressed.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a shunt resistor according to one embodiment.
  • FIG. 2 is an explanatory diagram used to explain the relationship between the range of the plated portion and the effect in the shunt resistor according to one embodiment.
  • FIG. 3 is a graph showing the relationship between the amount of phosphorus added and the resistivity of the plated material used in one embodiment, and the relationship between the amount of phosphorus added and the temperature coefficient of resistance.
  • Electric vehicles are required to be lighter in order to extend the distance they can travel on a single charge. For this reason, the members that make up the parts of electric vehicles are being replaced with aluminum.
  • Parts used in electric vehicles include battery electrodes and electric wires, and it is being studied to replace the material of battery electrodes and electric wires with aluminum.
  • shunt resistors which are resistors for current detection used in electric vehicles, by configuring the shunt resistors with a material whose main component is aluminum. I thought.
  • the electrode is made of a material whose main component is aluminum
  • the resistor is made of a resistor material that has a large potential difference from the standard electrode potential of aluminum
  • galvanic corrosion may occur due to the contact of dissimilar metals. Copper, chromium, and iron, for example, are conceivable as resistor materials that undergo galvanic corrosion.
  • the inventor devised a shunt resistor that can suppress galvanic corrosion while reducing weight.
  • the shunt resistors shown in this embodiment are not limited to shunt resistors used in electric vehicles, and can be used as general shunt resistors.
  • FIG. 1 is a perspective view showing a shunt resistor 10 according to one embodiment.
  • FIG. 1 shows the shunt resistor 10 with the plated portion 30, which will be described later, removed.
  • the resistor body 12 of the shunt resistor 10 includes a resistor 14 and electrodes 16 and 18 that are joined to the resistor 14 and arranged side by side with the resistor 14 .
  • the electrodes include a first electrode 16 joined to one end of resistor 14 and a second electrode 18 joined to the other end of resistor 14 .
  • the first electrode 16 is formed with a first hole 16a
  • the second electrode 18 is formed with a second hole 18a.
  • a first joint portion 20 is formed at the joint portion between the resistor 14 and the first electrode 16 .
  • a second joint portion 22 is formed at the joint portion between the resistor 14 and the second electrode 18 .
  • the methods of joining the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 include fusion welding in which the materials to be welded are melted and joined together, pressure welding in which the materials to be welded are joined by diffusion of metal atoms, There is brazing in which materials to be welded are joined via a conductive material such as brazing material.
  • the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 are joined by fusion welding or pressure welding without using brazing for joining via a conductive material such as brazing material.
  • fusion welding include laser welding or electron beam welding.
  • no conductive material such as brazing material is interposed between the resistor 14 and the electrodes 16 and 18, and the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 are joined to each other. , the resistance characteristics of the shunt resistor 10 are improved.
  • the resistor 14 has a rectangular plate shape.
  • Each of the electrodes 16, 18 is also in the form of a rectangular plate.
  • the widths of the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 are set to be substantially the same.
  • the shunt resistor 10 in which the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 are joined is formed in a rectangular plate shape elongated in the direction NH in which the electrodes 16 and 18 and the resistor 14 are arranged.
  • Each of the electrodes 16 and 18 is made of a conductive material whose main component is aluminum (Al). Having aluminum as the main component means that the content of aluminum is 50 mass % or more with respect to the total mass of each electrode 16 , 18 .
  • the content of aluminum is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more.
  • a conductive material containing aluminum as a main component includes, for example, pure aluminum with a purity of 99% or more, or an aluminum alloy.
  • resistor material examples include a copper-manganese alloy, a copper-nickel alloy (eg, copper-nickel type 1, nickel silver, constantan, etc.), a nichrome alloy (eg, nichrome, type 1, Evanorm, NiCrMo steel, etc.), or An iron-chromium alloy is mentioned.
  • a copper-manganese alloy eg, copper-nickel type 1, nickel silver, constantan, etc.
  • nichrome alloy eg, nichrome, type 1, Evanorm, NiCrMo steel, etc.
  • An iron-chromium alloy is mentioned.
  • the shunt resistor 10 has a plated portion 30 (see FIG. 2).
  • the plated portion 30 covers at least the resistor 14 and the joint portions 20 and 22 of the electrodes 16 and 18 and is made of plating having a higher specific resistance than the resistor 14 .
  • the plated portion 30 is provided in close contact with the joint portions 20 and 22 .
  • the plating part 30 waterproofs and moisture-proofs the joints 20 and 22, and suppresses galvanic corrosion of the resistor 14, the electrodes 16 and 18, and the joints 20 and 22, which are made of dissimilar metals.
  • FIG. 2 is an explanatory diagram used to explain the relationship between the range of the plated portion 30 and the effect in the shunt resistor according to one embodiment.
  • the joints 20 and 22 of the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 are covered with the plated portion 30 from the upper surface, lower surface, left side and right side, the joints 20 and 22 of galvanic corrosion can be suppressed.
  • the shunt resistor 10C in which the joint portions 20, 22 and the electrodes 16, 18 are entirely covered with the plating portion 30 provides the following effects.
  • a bus bar connected to each electrode 16, 18 is made of copper (Cu), which is a metal different from that of each electrode 16, 18, galvanic voltage is generated at the contact portion between each electrode 16, 18 and the bus bar. Corrosion can be further suppressed.
  • the plating portion 30 can suppress the diffusion of tin (Sn) contained in the brazing material for brazing the busbars to the electrodes 16 and 18 .
  • the thickness of the plated portion 30 covering at least the joint portions 20 and 22 is set to 0.5 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less.
  • the ratio of the specific resistance of the plated portion 30 to the specific resistance of each of the electrodes 16 and 18 is greater than the ratio of the specific resistance of the resistor 14 to the specific resistance of each of the electrodes 16 and 18. Moreover, the resistance value of the plated portion 30 is 50 times or more the resistance value of the resistor 14 .
  • the resistance value of the plated portion 30 is 100 times or more the resistance value of the resistor 14 . Furthermore, it is more preferable that the resistance value of the plated portion 30 is 1000 times or more the resistance value of the resistor 14 .
  • the plated portion 30 is composed of alloy plating containing phosphorus (P) or boron (B). Alloy plating containing phosphorus (P) includes Ni--P plating and Ni--P--W plating. Other alloy plating containing phosphorus (P) includes Ni--P--Mo plating, Ni--P--Cr plating, and Ni--P--Re plating.
  • Ni-B plating Ni-B-W plating, Ni-B-Mo plating, Ni-B-Cr plating, Ni-B-Re plating or Ni-B- P-based alloy plating can be mentioned.
  • the plated portion 30 has a temperature coefficient of resistance (TCR) of 200 ppm/°C or less and a specific resistance of 110 ⁇ cm or more.
  • TCR temperature coefficient of resistance
  • the temperature coefficient of resistance is obtained based on the rate of change in resistance and the amount of temperature change. For example, when an object that exhibits a first resistance value R1 at a first temperature T1 changes to a second temperature T2 and then exhibits a second resistance value R2, the temperature coefficient of resistance TCR [ppm/°C] is given by the following: Calculated by the arithmetic expression.
  • TCR ⁇ (R2-R1)/R1 ⁇ x 1000000/ ⁇ (T2-T1) ⁇
  • Nickel (Ni)-based alloy plating is used for the plating that constitutes the plating portion 30 .
  • the standard electrode potential of nickel (Ni) of the nickel (Ni)-based alloy plating that constitutes the plating portion 30 is ⁇ 0.26 V, and compared to copper (Cu), the standard electrode potential of aluminum (Al) is lower. difference is small. Therefore, galvanic corrosion is less likely to occur at the contact portions between the plated portion 30 and the electrodes 16 and 18 .
  • the standard electrode potential of aluminum (Al) forming the electrodes 16 and 18 is -1.70V.
  • the standard electrode potential of copper (Cu), which is a general electrode material and is a main component of the resistor 14, is +0.349V.
  • nickel (Ni)-based alloy plating can be formed thinner than plastic. As a result, the entire surface of the shunt resistor 10 can be covered without impairing the external shape.
  • nickel (Ni)-based alloy plating has good adhesion to metal materials. Adhere to 22.
  • the moisture-proof and waterproof effects can be enhanced.
  • the joints 20, 22 can be uniformly covered.
  • the plated portion 30 has conductivity. Therefore, when the plated portion 30 is bridged between the electrodes 16 and 18 and the resistor 14 , current also flows through the plated portion 30 , which affects the electrical characteristics of the shunt resistor 10 . For this reason, it is preferable to use a plating material having a high specific resistance for the alloy plating forming the plating portion 30 from the viewpoint of reducing the current flowing through the plating portion 30 .
  • a plating material with a low temperature coefficient of resistance (TCR) for the alloy plating forming the plating portion 30.
  • Ni--P plating or Ni--P--W plating is used as the plating material constituting the plating portion 30.
  • the plating material forming the plating portion 30 with high specific resistance and low temperature coefficient of resistance (TCR) is not limited to Ni--P plating or Ni--P--W plating.
  • the junctions 20 and 22 of the shunt resistor 10 are covered with a method other than plating, the junctions 20 and 22 can be covered with a Ni--Cr film or the like.
  • FIG. 3 is a diagram showing the relationship between the amount of phosphorus (P) added and the specific resistance, and the relationship between the amount of phosphorus (P) added and the temperature coefficient of resistance in the Ni—P plated material used in this embodiment. be.
  • Ni-P plating The amount of phosphorus (P) added to the Ni—P plating used in the electroless plating process is changed, and the measurement result 40 of the specific resistance of the plating portion 30 formed by the Ni—P plating of each addition amount and the temperature coefficient of resistance (TCR) measurements 42 are shown in FIG.
  • the specific resistance of the plating portion 30 is about 110 ⁇ cm, and the temperature coefficient of resistance (TCR ) is 200 ppm/°C or less.
  • the specific resistance of the plated portion 30 is higher than the specific resistance of 108 ⁇ cm of Ni—Cr alloy (nichrome) generally used as the resistor 14 .
  • the plating thickness of the plating portion 30 formed by Ni—P plating is set to 2 ⁇ m or more and less than 10 ⁇ m.
  • the resistance value of the plating portion 30 can be made 1000 times or more the resistance value of the resistor 14 .
  • the resistance value of the plating portion 30 can be 200 times the resistance value of the resistor 14 .
  • the plated portion 30 with Ni--P plating containing 9% by mass or more of phosphorus (P) with respect to the total mass of the Ni--P plating.
  • the specific resistance of the plated portion 30 can be 110 ⁇ cm or more, and the temperature coefficient of resistance (TCR) can be 200 ppm/° C. or less.
  • TCR temperature coefficient of resistance
  • the plated portion 30 with Ni--P plating containing 9% by mass or more of phosphorus (P) with respect to the total mass of the Ni--P plating.
  • Ni—P plating when the amount of phosphorus (P) added to the total mass of Ni—P plating is set to 9% by mass or more, the resistance of the plating portion 30 formed by this Ni—P plating
  • the temperature coefficient (TCR) was 200 ppm/° C. and the resistivity was 110 ⁇ cm.
  • Ni--Cr alloy (nichrome) used as a general resistor is 108 ⁇ cm, and the specific resistance of the plated portion 30 is equal to or higher than that of the Ni--Cr alloy (nichrome). Therefore, Ni—P plating containing 9% by mass or more of phosphorus (P) is suitable for the plating material forming the plating portion 30 .
  • the specific resistance is 250 ⁇ cm, and the resistance
  • the temperature coefficient (TCR) is 20 ppm/°C.
  • This plated portion 30 is applied to a shunt resistor including a resistor 14 made of a Cu—Mn—Ni alloy (manganin: registered trademark) having a minimum thickness of 0.5 mm and a specific resistance of 44 ⁇ cm, for example. do.
  • a shunt resistor including a resistor 14 made of a Cu—Mn—Ni alloy (manganin: registered trademark) having a minimum thickness of 0.5 mm and a specific resistance of 44 ⁇ cm, for example. do.
  • the plating thickness of the plating portion 30 is 10 ⁇ m, the influence on the temperature coefficient of resistance (TCR) of the entire shunt resistor 10 can be suppressed to 0.1 ppm/° C. or less.
  • the plated portion 30 is made of a Ni-6P alloy plated with 6% by mass of phosphorus (P) added to the total mass of the Ni-P plated, the specific resistance of the plated portion 30 is 70 ⁇ cm and the temperature coefficient of resistance (TCR) is 700 ppm/°C.
  • the specific resistance of the plated portion 30 composed of this Ni-6P alloy plating is 20 times higher than that of aluminum (Al), which has a specific resistance of 2.7 ⁇ cm. 1.5 times higher than Mn—Ni alloy (manganin: registered trademark).
  • the resistance value of the plated portion 30 composed of alloy plating containing Ni as a main component can be made 1000 times or more as compared with the resistance value of the resistor 14 of the shunt resistor 10. The influence on the resistance characteristics of the shunt resistor 10 can be greatly suppressed.
  • the resistance value of the plating portion 30 is 1000 times or more the resistance value of the resistor 14 of the shunt resistor 10, the current flowing through the plating portion 30 is 1/1000 or less of the current flowing through the shunt resistor 10.
  • the electrical influence of the plated portion 30 can be suppressed to 1/1000 or less of that of the entire shunt resistor 10, and the influence of the temperature coefficient of resistance (TCR) can be suppressed to one digit ppm/°C or less. can.
  • the resistance value of the plated portion 30 is 1000 times or more the resistance value of the resistor 14 of the shunt resistor 10 .
  • the resistance value of the plated portion 30 is 50 times or more the resistance value of the resistor 14, the influence of the plated portion 30 on the resistance characteristics of the shunt resistor 10 can be suppressed. Further, it has been confirmed that if the resistance value of the plated portion 30 is 100 times or more the resistance value of the resistor 14, the influence on the resistance characteristics of the shunt resistor 10 can be suppressed to double-digit ppm/°C. there is
  • the temperature coefficient of resistance (TCR) of the plated portion 30 is set to 200 ppm/°C or less.
  • the resistance value of the plating portion 30 is set to be 1000 times or more the resistance value of the resistor 14 of the shunt resistor 10, and the electrical influence of the plating portion 30 on the shunt resistor 10 is the same as that of the shunt resistor. It is 1/1000 or less of 10 whole.
  • TCR temperature coefficient of resistance
  • Ni—P plating containing less than 4% by mass of phosphorus (P) is not suitable for the plating material of the plating portion 30 .
  • Ni—P plating containing more than 13% by mass of phosphorus (P) is not suitable for the plating material of the plating portion 30 .
  • the specific resistance of aluminum (Al) forming the electrodes 16 and 18 is 2.7 ⁇ cm. Further, the specific resistance of the plated portion 30 can be 70 ⁇ cm or more even if the amount of phosphorus (P) added is 6% by mass with respect to the total mass of the Ni—P plating.
  • the ratio of the specific resistance of the plated portion 30 to the specific resistance of each electrode 16, 18 is greater than the ratio of the specific resistance of the resistor 14 to the specific resistance of each electrode 16, 18.
  • the amount of phosphorus (P) to be added is adjusted in the Ni--P--W plating as well as in the Ni--P plating. It is also known that in Ni--P--W plating, the temperature coefficient of resistance (TCR) decreases as the amount of tungsten (W) added increases.
  • Ni-P-W plating Ni--P--W plating
  • Ni— A plated portion 30 was formed using PW plating.
  • the plated portion 30 formed by this Ni—P—W plating had a temperature coefficient of resistance (TCR) of 100 ppm/° C. and a specific resistance of 155 ⁇ cm.
  • the specific resistance of this plated portion 30 is equal to or higher than the specific resistance of a Ni--Cr alloy (nichrome) used as a general resistor 14. Therefore, Ni—P—W plating containing 12% by mass of phosphorus (P) and 2.5% by mass of tungsten (W) is suitable for the plating material forming the plating portion 30.
  • the minimum thickness of the shunt resistor 10 is approximately 0.5 mm. Therefore, the plating thickness of the plating portion 30 formed in the shunt resistor 10 is ideally 0.5 ⁇ m, which is 1/1000 of 0.5 mm.
  • the plating portion 30 suppresses corrosion and the like, if the plating portion 30 has holes, the corrosion suppression effect is reduced. It is known that the number of holes formed in the plated portion 30 is greatly reduced when the plating thickness is 0.5 ⁇ m or more. For this reason, the plating thickness is preferably 0.5 ⁇ m or more in order to ensure the protective performance of the plating portion 30 .
  • the effect on the temperature coefficient of resistance (TCR) of the shunt resistor 10 should be suppressed to less than one digit ppm/°C. can be done.
  • the thickness of the plated portion 30 with respect to the resistor 14 of the shunt resistor 10 is is 1/50.
  • the resistance of the plated portion 30 is 50 times the resistance of the resistor 14 .
  • the specific resistance of the general plated portion 30 is lower than the specific resistance of the resistor 14.
  • the specific resistance of the plated portion 30 made of zinc (Zn) plating is 6 ⁇ cm.
  • the specific resistance of the Cu—Mn—Ni alloy (manganin: registered trademark) constituting the resistor 14 is 44 ⁇ cm, and the specific resistance of the plated portion 30 is about 1/7 of the specific resistance of the resistor 14. becomes.
  • the temperature coefficient of resistance (TCR) of zinc (Zn) plating is 3700 ppm/°C.
  • the effect of the plated portion 30 on the temperature coefficient of resistance (TCR) of the entire shunt resistor 10 is 528 ppm/° C. (3700 ⁇ (1/7)). Become.
  • the plated portion 30 is formed on the upper and lower surfaces of the resistor 14 . Therefore, the influence of the plated portion 30 on the temperature coefficient of resistance (TCR) of the shunt resistor 10 is approximately doubled.
  • the plating portion 30 is made of plating having a lower specific resistance than the resistor 14, the resistance characteristics of the shunt resistor 10 are greatly affected even when the thickness of the plating is taken into consideration. Therefore, general plating having a lower specific resistance than that of the resistor 14 is not suitable as a plating material for the plating portion 30 .
  • the specific resistance of the plated portion 30 is equal to or higher than that of the resistor 14 and the temperature coefficient of resistance (TCR) of the plated portion 30 is 200 ppm/°C or less.
  • TCR temperature coefficient of resistance
  • the resistor 14 is formed of a Ni—Cr alloy (nichrome) with a specific resistance of 108 ⁇ cm
  • the specific resistance of the plated portion 30 is 110 ⁇ cm
  • the temperature coefficient of resistance (TCR) is 200 ppm. /°C.
  • the influence on the temperature coefficient of resistance (TCR) of the 0.5 mm thick shunt resistor 10 as a whole can be suppressed to about 4 ppm/°C.
  • the shunt resistor 10 of this embodiment includes a resistor 14 and electrodes 16 and 18 joined to the resistor 14 and formed mainly of aluminum.
  • the shunt resistor 10 also includes a plated portion 30 that covers at least the resistor 14 and the junctions 20 and 22 of the electrodes 16 and 18 and that is made of a plating having a higher specific resistance than the resistor 14 .
  • the joints 20 and 22 between the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 whose main component is aluminum are covered with the plated portion 30 . Therefore, galvanic corrosion that can occur when the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 are made of different metals can be suppressed compared to the case where the joints 20 and 22 are exposed.
  • the joints 20 and 22 are covered with a plated portion 30 having a higher specific resistance than the resistor 14 . Therefore, compared to the case where the junctions 20 and 22 are covered with a plating having a lower specific resistance than the resistor 14 and this plating spans the electrodes 16 , 18 and the resistor 14 , the plating 30 is a shunt. It becomes possible to suppress the influence on the resistance characteristics of the resistor 10 .
  • the plated portion 30 has a higher specific resistance than the resistor 14. Therefore, the plating thickness can be increased while suppressing the influence on the resistance characteristics of the shunt resistor 10 as compared with the case of using the plating portion 30 having a low specific resistance. Thereby, the adjustment margin of plating thickness can be enlarged.
  • the specific resistance tends to increase and the temperature coefficient of resistance (TCR) tends to decrease as the solid solution amount of the additive increases.
  • the plated portion 30 is made of a plate having a higher specific resistance than the resistor 14, so that the temperature coefficient of resistance (TCR) of the plated portion 30 is lower than the temperature coefficient of resistance (TCR) of the resistor 14. can also be lowered. This makes it possible to suppress the influence of the plated portion 30 on the temperature characteristics of the shunt resistor 10 .
  • the ratio of the specific resistance of the plated portion 30 to the specific resistance of the electrodes 16 and 18 is greater than the ratio of the specific resistance of the resistor 14 to the specific resistance of the electrodes 16 and 18 .
  • the ratio of the resistivity of the resistor 14 to the resistivity of the electrodes 16 and 18 is large.
  • the plating portion 30 covering the joint portions 20 and 22 has a higher specific resistance than the resistor 14, and the ratio of the specific resistance of the plating portion 30 to the specific resistance of the electrodes 16 and 18 is It is desirable to be larger than the multiplication factor of the specific resistance of the resistor 14 .
  • the resistance value of the plated portion 30 is 50 times or more the resistance value of the resistor 14 .
  • the resistance value of the plated portion 30 is 50 times or more the resistance value of the resistor 14, the influence of the plated portion 30 on the resistance characteristics of the shunt resistor 10 can be further suppressed.
  • the plated portion 30 is made of alloy plating containing phosphorus (P) or boron (B).
  • the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 are joined without interposing a conductive material such as brazing material.
  • the resistance characteristics of the shunt resistor 10 can be improved compared to the case where a conductive material such as brazing material is interposed between the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 .
  • the fixability of the plated portion 30 covering the joint portions 20 and 22 is improved, and the surface of the plated portion 30 can be formed more uniformly.
  • the plated portion 30 covers the entire surfaces of the resistor 14 and the electrodes 16 and 18 .
  • the plated portion 30 has a temperature coefficient of resistance (TCR) of 200 ppm/°C or less and a specific resistance of 110 ⁇ cm or more.
  • the temperature coefficient of resistance (TCR) can be suppressed while ensuring the plating thickness.
  • the plated portion 30 is made of Ni--P plating or Ni--P--W plating.
  • the plating portion 30 by configuring the plating portion 30 with a Ni-based alloy plating, the difference in standard electrode potential between the electrodes 16 and 18 and the aluminum constituting the electrodes 16 and 18 can be suppressed compared to copper. Thereby, galvanic corrosion at the contact portions between the plated portion 30 and the electrodes 16 and 18 can be suppressed.
  • the plated portion 30 formed by Ni-based alloy plating has good adhesion to metal and can be formed to be thin compared to the case where the film is formed of plastic. Thereby, the junctions 20 and 22 can be covered without spoiling the shape of the shunt resistor 10 .
  • the Ni--P plating or Ni--P--W plating forming the plating portion 30 has a high specific resistance and a low temperature coefficient of resistance (TCR). Therefore, the influence of the plated portion 30 on the electrical characteristics of the shunt resistor 10 can be suppressed.
  • the thickness of the plated portion 30 is 0.5 ⁇ m or more and 10.0 ⁇ m or less.
  • the number of holes that can be formed in the plated portion 30 can be suppressed by setting the thickness of the plated portion 30 to 0.5 ⁇ m or more. Thereby, the protective performance of the plated portion 30 can be enhanced.
  • the thickness of the plating portion 30 is 10.0 ⁇ m or less, the temperature coefficient of resistance (TCR) can be suppressed.
  • the shunt resistor 10 is not limited to this shape.
  • the shunt resistor 10 may have a shape in which each electrode is provided on the lower surface of the resistor 14, a shape in which an L-shaped electrode is provided on the end surface of the resistor 14, or a shape in which the end surface of the resistor 14 is provided.
  • the electrode provided in the may be shaped so as to protrude downward from the resistor 14 .

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Details Of Resistors (AREA)

Abstract

シャント抵抗器10は、抵抗体14と、抵抗体14に接合されアルミニウムを主成分として形成された電極16,18とを備える。また、シャント抵抗器10は、少なくとも抵抗体14及び電極16,18の接合部20,22を覆うとともに抵抗体14よりも比抵抗が高いめっきで構成されためっき部30を備える。

Description

シャント抵抗器
 本発明は、シャント抵抗器に関する。
 JP2003-031401Aには、抵抗体と、抵抗体の両端部に設けられた第1の端子及び第2の端子とを備えた抵抗器が示されている。この抵抗器の第1の端子及び第2の端子は、アルミニウム等の金属で形成される。
 また、JP2019-161225Aには、アルミ合金と銅合金との異種金属の接触部分をコーティングして異種金属接触によるガルバニック腐食を抑制するシャント抵抗器が示されている。このコーティングには、金属の薄膜を被覆するめっき処理を採用できる旨が記載されている。
 しかしながら、金属製のめっきが電極と抵抗体とに架渡されると、抵抗特性に影響を与える虞がある。
 本発明は、抵抗特性への影響を抑制可能とすることを目的とする。
 本発明のある態様によれば、抵抗体と、抵抗体に接合され、アルミニウムを主成分として形成された電極と、少なくとも抵抗体及び電極の接合部を覆うとともに、抵抗体よりも比抵抗が高いめっきで構成されためっき部と、を備える。
 本態様によれば、抵抗体及び電極の接合部は、抵抗体よりも比抵抗が高いめっき部で覆われる。このため、抵抗体よりも比抵抗が低いめっきが電極と抵抗体とに架渡される場合と比較して、めっき部に流れる電流が抑えられるので、めっき部がシャント抵抗器の抵抗特性に与える影響を抑制することが可能となる。
図1は、一実施形態に係るシャント抵抗器を示す斜視図である。 図2は、一実施形態に係るシャント抵抗器におけるめっき部の範囲と効果との関係の説明に用いる説明図である。 図3は、一実施形態で用いためっき材のリンの添加量と比抵抗との関係、及びリンの添加量と抵抗温度係数との関係を示す線図である。
 近年、環境対応のため、各国で排ガス規制が強化されており、電気自動車(EV:Electric Vehicle)の開発が進んでいる。
 電気自動車においては、一回の充電で走行できる距離を延ばすため、軽量化が要求されている。このため、電気自動車の部品を構成する部材がアルミニウムに置き換えられている。電気自動車で用いられる部品としては、バッテリの電極及び電線が挙げられ、バッテリの電極の材料及び電線の材料をアルミニウムに置き換えることが検討されている。
 そこで、発明者は、電気自動車に用いられる電流検出用の抵抗器であるシャント抵抗器についても、アルミニウムを主成分とした材料でシャント抵抗器を構成することで、シャント抵抗器の軽量化を図ることを考えた。
 ここで、異種金属を接続すると、標準電極電位の違いにより、その接点で局部電池を形成し、水分等の存在によりガルバニック腐食が発生する虞がある。このガルバニック腐食は、金属がアルミニウムの場合に顕著に表れる。
 アルミニウムを主成分とした材料で電極を構成した場合、アルミニウムの標準電極電位と電位差が大きい抵抗体材料で抵抗体が構成されていると、異種金属接触によるガルバニック腐食が生じ得る。ガルバニック腐食が生ずる抵抗体材料としては、例えば銅、クロム、及び鉄などが想定される。
 そこで、発明者は、軽量化を図りつつ、ガルバニック腐食を抑制できるシャント抵抗器を案出した。
 以下、本発明の一実施形態ついて説明する。なお、本実施形態で示すシャント抵抗は、電気自動車で用いられるシャント抵抗器に限定されるものではなく、一般的なシャント抵抗器として用いることができる。
 [シャント抵抗器]
 図1は、一実施形態に係るシャント抵抗器10を示す斜視図である。図1には、説明の都合上、後述するめっき部30が除かれたシャント抵抗器10が示されている。
 図1に示すように、シャント抵抗器10の抵抗器本体12は、抵抗体14と、抵抗体14に接合され抵抗体14と並んで配置される電極16,18とを備える。電極は、抵抗体14の一端に接合された第一電極16と、抵抗体14の他端に接合された第二電極18とを含む。第一電極16には、第一穴16aが形成されており、第二電極18には、第二穴18aが形成されている。
 抵抗体14と第一電極16との接合部分には、第一接合部20が形成される。抵抗体14と第二電極18との接合部分には、第二接合部22が形成される。
 ここで、抵抗体14と各電極16、18とを接合する方法としては、被接合材料同士が溶融して接合される融接と、被溶接材料を金属原子の拡散により接合される圧接と、被溶接材料をロウ材などの導電材料を介して接合されるロウ接がある。
 本実施形態においては、ロウ材などの導電材料を介して接合するロウ接は使用することなく、抵抗体14と各電極16、18とは、融接又は圧接によって接合される。融接の一例としては、レーザ溶接又は電子ビーム溶接が挙げられる。
 これにより本実施形態では、抵抗体14と各電極16,18との間にロウ材などの導電材料が介在しておらず、抵抗体14と各電極16,18とが互いに接合されているので、シャント抵抗器10の抵抗特性の向上が図られる。
 抵抗体14は、長方形の板状である。各電極16、18も、長方形の板状である。抵抗体14及び各電極16、18の幅は、略同寸法に設定されている。これにより、抵抗体14と各電極16、18とが接合されたシャント抵抗器10は、各電極16、18及び抵抗体14の並び方向NHに長い長方形の板状に形成される。
 (導電材料)
 各電極16、18は、アルミニウム(Al)を主成分とした導電材料で構成される。アルミニウムを主成分とするとは、各電極16、18の全質量に対してアルミニウムの含有量が50質量%以上であることを意味する。アルミニウムの含有量は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。
 アルミニウムを主成分とする導電材料としては、例えば、純度が99%以上の純アルミニウム、又はアルミニウム合金が挙げられる。
 (抵抗体材料)
 抵抗体14を構成する抵抗体材料としては、例えば、銅マンガン合金、銅ニッケル合金(例えば銅ニッケル1種、洋白、コンスタンタンなど)、ニクロム合金(ニクロム1種、エバノーム、NiCrMo鋼など)、又は鉄クロム合金が挙げられる。
 シャント抵抗器10は、めっき部30を備える(図2参照)。このめっき部30は、少なくとも抵抗体14及び各電極16、18の各接合部20、22を覆うとともに、抵抗体14よりも比抵抗が高いめっきで構成される。めっき部30は、各接合部20、22に密着して設けられる。めっき部30は、各接合部20、22を、防水及び防湿し、異種金属で構成された抵抗体14と各電極16、18と各接合部20、22のガルバニック腐食を抑制する。
 図2は、一実施形態に係るシャント抵抗器におけるめっき部30の範囲と効果との関係の説明に用いる説明図である。
 図2に示すように、めっき部30を有しないシャント抵抗器10Aにおいては、各接合部20、22に水分が付着するとガルバニック腐食が生じ得る。
 しかし、抵抗体14及び各電極16、18の各接合部20、22を、上面、下面、左側面、及び右側面からめっき部30で覆ったシャント抵抗器10Bにおいては、各接合部20、22のガルバニック腐食を抑制することができる。
 また、各接合部20、22と各電極16、18全体をめっき部30で覆ったシャント抵抗器10Cでは、次のような効果が得られる。すなわち、各電極16、18に接続される例えば、バスバーが、各電極16、18と異なる金属である銅(Cu)で構成された場合、各電極16、18とバスバーとの接触部分でのガルバニック腐食をさらに抑制することができる。また、各電極16、18にバスバーをロウ付けするロウ材に含まれるスズ(Sn)の拡散をめっき部30によって抑制することができる。
 さらに、抵抗体14及び各電極16、18の表面全体をめっき部30で覆ったシャント抵抗器10Dにおいては、抵抗体14表面の腐食及び変色等を抑制することができる。
 ここで、シャント抵抗器10の一部にめっきを施す場合、マスキング等の追加工程および追加部材が必要となり、コストアップの要因となる。そこで、シャント抵抗器10の表面全体にめっきを施し、シャント抵抗器10の表面全体をめっき部30で覆うことで、製造コストを抑えることができる。
 (めっき部)
 少なくとも各接合部20、22を覆うめっき部30の厚みは、0.5μm以上10.0μm以下とする。
 各電極16、18の比抵抗に対するめっき部30の比抵抗の倍率は、各電極16、18の比抵抗に対する抵抗体14の比抵抗の倍率よりも大きい。また、めっき部30の抵抗値は、抵抗体14の抵抗値の50倍以上である。
 ここで、めっき部30の抵抗値は、抵抗体14の抵抗値の100倍以上とすることが望ましい。さらに、めっき部30の抵抗値は、抵抗体14の抵抗値の1000倍以上であることがさらに好ましい。
 また、めっき部30は、リン(P)又はホウ素(B)を含む合金めっきで構成される。リン(P)を含む合金めっきとしては、Ni-Pめっき又はNi-P-Wめっきが挙げられる。また、リン(P)を含むその他の合金めっきとしては、Ni-P-Moめっき、Ni-P-Crめっき、又はNi-P-Reめっきが挙げられる。
 そして、ホウ素(B)を含む合金めっきとしては、Ni-Bめっき、Ni-B-Wめっき、Ni-B-Moめっき、Ni-B-Crめっき、Ni-B-Reめっき又はNi-B-P系の合金めっきが挙げられる。
 めっき部30の抵抗温度係数(TCR)は、200ppm/℃以下であり、比抵抗は、110μΩ・cm以上であることが好ましい。
 抵抗温度係数(TCR)は、抵抗値の変化率と温度変化量とに基づいて求められる。例えば、第一温度T1で第一抵抗値R1を示す物体を第二温度T2に変化させた際に物体が第二抵抗値R2となる場合、抵抗温度係数TCR[ppm/℃]は、次の演算式で求められる。
 TCR={(R2-R1)/R1}×1000000/{(T2-T1)}
 このようなめっき部30を構成するめっきの選定について具体的に説明する。
 めっき部30を構成するめっきは、ニッケル(Ni)系の合金めっきが用いられる。めっき部30を構成するニッケル(Ni)系の合金めっきのニッケル(Ni)の標準電極電位は、-0.26Vであり、銅(Cu)と比較して、アルミニウム(Al)との標準電極電位の差が小さい。このため、めっき部30と各電極16、18との接触部におけるガルバニック腐食を生じ難くする。
 なお、各電極16、18を構成するアルミニウム(Al)の標準電極電位は、-1.70Vである。また、一般的な電極の材料となるとともに抵抗体14の主成分である銅(Cu)の標準電極電位は、+0.349Vである。
 また、ニッケル(Ni)系の合金めっきは、プラスチックと比べて薄く形成することができる。これにより、外観形状を損なうことなく、シャント抵抗器10の全面を覆うことができる。
 また、ニッケル(Ni)系の合金めっきは、金属材料に対する密着性も良く、各電極16、18を構成するアルミニウム(Al)と抵抗体14を構成する銅(Cu)との各接合部20、22に密着する。
 このため、各接合部20、22をプラスチックで覆う構造上、プラスチックと金属との接触界面から水分が侵入する可能性がある場合と比較して、防湿及び防水効果を高めることができるとともに、各接合部20、22を均一に覆うことができる。
 また、高温で使用する場合であっても、プラスチックを用いる場合と比較して、溶けたり、燃えたりすることを防止することができる。
 ここで、めっき部30は、導電性を有する。このため、各電極16、18と抵抗体14との間にめっき部30が架渡されると、めっき部30にも電流が流れるので、シャント抵抗器10の電気的特性に影響を与える。このため、めっき部30を構成する合金めっきは、めっき部30に流れる電流を小さくする観点から、比抵抗が高いめっき材を用いることが好ましい。
 また、シャント抵抗器10の温度特性を向上するために、めっき部30を構成する合金めっきは、抵抗温度係数(TCR)が低いめっき材を用いることが好ましい。
 そこで、本実施形態では、比抵抗が高く、抵抗温度係数(TCR)が低いニッケル(Ni)合金めっきのうち、Ni-Pめっき又はNi-P-Wめっきを、めっき部30を構成するめっき材とする。
 なお、比抵抗が高く、抵抗温度係数(TCR)が低いめっき部30を構成するめっき材は、Ni-Pめっき又はNi-P-Wめっきに限定されるものではない。めっき部30を構成するめっき材としては、前述したように、Ni-B系の合金めっき、Ni-P-Moめっき、Ni-P-Crめっき、又はNi-P-Reめっきを用いることができる。また、シャント抵抗器10の接合部20、22をめっき以外で覆う場合、接合部20、22をNi-Cr膜などで覆うこともできる。
 図3は、本実施形態で用いたNi-Pめっき材においてリン(P)の添加量と比抵抗との関係、及びリン(P)の添加量と抵抗温度係数との関係を示す線図である。
 (Ni-Pめっき)
 無電解めっき処理で用いるNi-Pめっきに加えるリン(P)の添加量を変化させ、各添加量のNi-Pめっきで形成されためっき部30の比抵抗の測定結果40と、抵抗温度係数(TCR)の測定結果42とが図3に示されている。
 この図から、Ni-Pめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量が、9質量%以上になると、めっき部30の比抵抗が、約110μΩ・cmとなり、抵抗温度係数(TCR)が、200ppm/℃以下となる。この場合、めっき部30の比抵抗は、一般的に抵抗体14として用いられるNi-Cr合金(ニクロム)の比抵抗108μΩ・cmよりも高くなる。
 ここで、Ni-Pめっきで形成されるめっき部30のめっき厚を、2μm以上10μm未満とする。めっき厚を、2μm以上とした際には、めっき部30の抵抗値を抵抗体14の抵抗値の1000倍以上とすることができる。また、めっき厚を、10μm未満とした際には、めっき部30の抵抗値を抵抗体14の抵抗値の200倍とすることができる。これにより、めっき部30がシャント抵抗器10の抵抗特性に与える影響を低減することができる。
 このため、Ni-Pめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量が、9質量%以上のNi-Pめっきでめっき部30を形成することが好ましい。これにより、めっき部30の比抵抗を、110μΩ・cm以上とすることができ、抵抗温度係数(TCR)を、200ppm/℃以下とすることができる。
 この場合、シャント抵抗器10全体の抵抗温度係数(TCR)に及ぼす影響を大幅に低減することでき、シャント抵抗器10の抵抗特性への影響を大幅に抑制することができる。
 したがって、Ni-Pめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量が、9質量%以上のNi-Pめっきでめっき部30を形成することが望ましい。
 なお、Ni-Pめっきにおいて、Ni-Pめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量を、9質量%以上とした場合、このNi-Pめっきで形成されためっき部30の抵抗温度係数(TCR)は、200ppm/℃であり、比抵抗は、110μΩ・cmであった。
 一般的な抵抗体として用いられるNi-Cr合金(ニクロム)の比抵抗は、108μΩ・cmであり、めっき部30の比抵抗は、Ni-Cr合金(ニクロム)の比抵抗と同等以上である。このため、リン(P)の添加量が9質量%以上のNi-Pめっきは、めっき部30を構成するめっき材に適している。
 一方、めっき部30を形成するNi-Pめっきにおいて、Ni-Pめっき全質量に対して、リン(P)の添加量が、13質量%の場合、比抵抗が、250μΩ・cmであり、抵抗温度係数(TCR)は、20ppm/℃である。
 このめっき部30を、例えば、最低厚みが0.5mmであり、比抵抗が44μΩ・cmのCu-Mn-Ni合金(マンガニン:登録商標)で形成された抵抗体14を備えるシャント抵抗器に適用する。この場合、めっき部30のめっき厚を、仮に10μmとしても、シャント抵抗器10全体の抵抗温度係数(TCR)に及ぼす影響を、0.1ppm/℃以下に抑えることができることになる。
 このように、シャント抵抗器10の抵抗体14の厚みと、めっき部30のめっき厚との関係から、抵抗体14の比抵抗とめっき部30の比抵抗との関係を考慮して、めっき部30がシャント抵抗器10に及ぼす影響を抑えた設計が可能となる。
 また、Ni-Pめっき全質量に対して、リン(P)の添加量が、6質量%のNi-6P合金のめっきでめっき部30を構成した場合、めっき部30の比抵抗は、70μΩ・cmであり、抵抗温度係数(TCR)は、700ppm/℃である。
 このNi-6P合金のめっきで構成されるめっき部30の比抵抗は、比抵抗が2.7μΩ・cmであるアルミニウム(Al)よりも20倍以上高く、比抵抗が、44μΩ・cmのCu-Mn-Ni合金(マンガニン:登録商標)よりも、1.5倍高い。
 このように、シャント抵抗器10の抵抗体14の抵抗値と比較して、Niを主成分とした合金めっきで構成されるめっき部30の抵抗値を、1000倍以上とすることができるので、シャント抵抗器10の抵抗特性への影響を大幅に抑制することができる。
 また、めっき部30の抵抗値を、シャント抵抗器10の抵抗体14の抵抗値の1000倍以上にすることで、めっき部30を流れる電流を、シャント抵抗器10を流れる電流の1/1000以下にすることができる。これにより、めっき部30の電気的な影響度を、シャント抵抗器10全体の1/1000以下に抑えることができ、抵抗温度係数(TCR)の影響を、一桁ppm/℃以下に抑えることができる。
 このため、めっき部30の抵抗値は、シャント抵抗器10の抵抗体14の抵抗値の1000倍以上にすることが好ましい。
 ここで、めっき部30の抵抗値は、抵抗体14の抵抗値の50倍以上であれば、めっき部30がシャント抵抗器10の抵抗特性に与える影響を抑制することができる。また、めっき部30の抵抗値は、抵抗体14の抵抗値の100倍以上であれば、シャント抵抗器10の抵抗特性への影響を二桁ppm/℃に抑制することができることが確認されている。
 そして、好ましくは、めっき部30の抵抗温度係数(TCR)を、200ppm/℃以下にする。
 ここで、めっき部30の抵抗値は、シャント抵抗器10の抵抗体14の抵抗値の1000倍以上とされており、めっき部30がシャント抵抗器10に与える電気的な影響は、シャント抵抗器10全体の1/1000以下である。
 このため、シャント抵抗器10の抵抗温度係数(TCR)への影響を、0.2ppm/℃以下に抑えることができる。
 なお、Ni-Pめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量が、4質量%未満になると、一般的に抵抗体14として用いられるCu-Mn-Ni合金(マンガニン:登録商標)の比抵抗である44μΩ・cmと同等以下となる。このため、リン(P)の添加量が4質量%未満のNi-Pめっきは、めっき部30のめっき材に適さない。
 また、Ni-Pめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量が、13質量%を超えると、Ni-Pめっきへのリン(P)の含有量の制御が難しくなる。このため、リン(P)の添加量が13質量%を超えるNi-Pめっきは、めっき部30のめっき材に適さない。
 ここで、各電極16、18を構成するアルミニウム(Al)の比抵抗は、2.7μΩ・cmである。また、めっき部30の比抵抗は、Ni-Pめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量が、6質量%であっても、70μΩ・cm以上にすることができる。
 このように、各電極16、18の比抵抗に対するめっき部30の比抵抗の倍率は、各電極16、18の比抵抗に対する抵抗体14の比抵抗の倍率よりも大きい。
 なお、Ni-P-Wめっきでめっき部30を構成する場合、Ni-P-Wめっきにおいても、Ni-Pめっきの場合と同様に、リン(P)の添加量を調整するものとする。また、Ni-P-Wめっきにおいて、タングステン(W)の添加量の増加に伴って、抵抗温度係数(TCR)が下がることが分かっている。
 (Ni-P-Wめっき)
 Ni-P-Wめっきについて具体的に説明する。
 Ni-P-Wめっきにおいて、Ni-P-Wめっきの全質量に対して、リン(P)の添加量を12質量%、タングステン(W)の添加量を2.5質量%としたNi-P-Wめっきを用いてめっき部30を形成した。このNi-P-Wめっきで形成されるめっき部30の抵抗温度係数(TCR)は、100ppm/℃であり、比抵抗は155μΩ・cmであった。
 このめっき部30の比抵抗は、一般的な抵抗体14として用いられるNi-Cr合金(ニクロム)の比抵抗と同等以上である。このため、リン(P)の添加量が12質量%であり、タングステン(W)の添加量が2.5質量%のNi-P-Wめっきは、めっき部30を構成するめっき材に適している。
 (めっき厚)
 一般的なシャント抵抗器10では、シャント抵抗器10の最低厚みが約0.5mmである。このため、シャント抵抗器10に形成されるめっき部30のめっき厚は、0.5mmの1/1000である、0.5μmが理想である。
 ここで、めっき部30で腐食等を抑制する場合、めっき部30に孔が開いていると腐食抑制効果が低下する。めっき部30に形成される孔の数は、めっき厚が、0.5μm以上となると大きく減少することが知られている。このため、めっき厚は、めっき部30による保護性能を確保するために、0.5μm以上とすることが好ましい。
 このように、めっき厚を、0.5μm以上としても、前述したように、めっき部30の比抵抗が抵抗体14の比抵抗と同じであれば、1000倍の抵抗値を確保することができる。
 このため、めっき部30の抵抗温度係数(TCR)が数千ppm/℃程度であったとしても、シャント抵抗器10の抵抗温度係数(TCR)に及ぼす影響を一桁ppm/℃以下に抑えることができる。
 一方、最低厚みが0.5mmの一般的なシャント抵抗器10の抵抗体14に、めっき厚が、10μmのめっき部30を形成した場合、シャント抵抗器10の抵抗体14に対するめっき部30の厚みは、1/50となる。この場合、例えば抵抗体14とめっき部30との比抵抗を同じとすると、めっき部30の抵抗値は、抵抗体14の抵抗値の50倍となる。
 ここで、一般的なめっき部30の比抵抗は、抵抗体14の比抵抗よりも低い。例えば、めっき部30を亜鉛(Zn)めっきで構成する場合、亜鉛(Zn)めっきで構成されるめっき部30の比抵抗は、6μΩ・cmである。また、抵抗体14を構成するCu-Mn-Ni合金(マンガニン:登録商標)の比抵抗は、44μΩ・cmであり、めっき部30の比抵抗は、抵抗体14の比抵抗の1/7程度となる。
 また、亜鉛(Zn)めっきの抵抗温度係数(TCR)は、3700ppm/℃である。この亜鉛(Zn)めっきでめっき部30を構成した場合、めっき部30が、シャント抵抗器10全体の抵抗温度係数(TCR)に及ぼす影響は、528ppm/℃(3700×(1/7))となる。
 そして、めっき部30は、抵抗体14の上面及び下面に形成される。このため、めっき部30がシャント抵抗器10の抵抗温度係数(TCR)に与える影響は、約二倍となる。
 このように、抵抗体14よりも比抵抗が低いめっきでめっき部30を構成すると、めっき厚を考慮しても、シャント抵抗器10の抵抗特性に及ぼす影響が大きい。このため、抵抗体14よりも比抵抗が低い一般的なめっきは、めっき部30のめっき材として適さない。
 このため、めっき部30の比抵抗を抵抗体14と同等以上とし、めっき部30の抵抗温度係数(TCR)を、200ppm/℃以下にすることが望ましい。この場合、シャント抵抗器10全体の抵抗温度係数(TCR)に及ぼす影響を、4ppm/℃(200×(1/50))に抑えることができる。
 その一例として、比抵抗が108μΩ・cmであるNi-Cr合金(ニクロム)で抵抗体14を形成した場合、めっき部30の比抵抗を、110μΩ・cmとし、抵抗温度係数(TCR)を、200ppm/℃とする。この場合、めっき部30のめっき厚を、10μmとしても、0.5mm厚のシャント抵抗器10全体の抵抗温度係数(TCR)に及ぼす影響を、4ppm/℃程度に抑えることができる。
 これにより、めっき部30のめっき厚を、5μm程度まで抑えることが困難であり、めっき厚が、5μmよりも厚くなる場合であっても、抵抗特性の維持が可能となる。
 (作用及び効果)
 次に、第一実施形態による作用効果について説明する。
 本実施形態のシャント抵抗器10は、抵抗体14と、抵抗体14に接合されアルミニウムを主成分として形成された電極16,18とを備える。また、シャント抵抗器10は、少なくとも抵抗体14及び電極16,18の接合部20,22を覆うとともに抵抗体14よりも比抵抗が高いめっきで構成されためっき部30を備える。
 この構成によれば、抵抗体14と、アルミニウムを主成分とした電極16,18との接合部20,22は、めっき部30で覆われている。このため、接合部20,22が露出する場合と比較して、抵抗体14と電極16,18とが異なる金属で形成された場合に生じ得るガルバニック腐食を抑制することができる。
 また、接合部20,22は、抵抗体14よりも比抵抗が高いめっき部30で覆われる。このため、抵抗体14よりも比抵抗が低いめっきで接合部20,22が覆われ、このめっきが電極16,18と抵抗体14とに架渡される場合と比較して、めっき部30がシャント抵抗器10の抵抗特性に与える影響を抑制することが可能となる。
 また、めっき部30は抵抗体14よりも比抵抗が高い。このため、比抵抗が低いめっき部30を用いる場合と比較して、シャント抵抗器10の抵抗特性に与える影響を抑えつつ、めっき厚を厚くすることができる。これにより、めっき厚の調整代を大きくすることができる。
 ここで、めっきが合金で形成される場合、添加物の固溶量の増加に伴って比抵抗が高くなると共に抵抗温度係数(TCR)が低下する傾向にある。
 そこで、本実施形態では、めっき部30を抵抗体14よりも比抵抗が高いめっきで構成することで、めっき部30の抵抗温度係数(TCR)を、抵抗体14の抵抗温度係数(TCR)よりも低くすることができる。これにより、めっき部30がシャント抵抗器10の温度特性に与える影響を抑制することが可能となる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、電極16,18の比抵抗に対するめっき部30の比抵抗の倍率は、電極16,18の比抵抗に対する抵抗体14の比抵抗の倍率よりも大きい。
 すなわち、シャント抵抗器10の抵抗値を設計する場合、電極16,18の比抵抗に対して抵抗体14の比抵抗の倍率が大きい方が望ましい。また、接合部20,22を覆うめっき部30は、抵抗体14よりも比抵抗が高く、かつ電極16,18の比抵抗に対するめっき部30の比抵抗の倍率が電極16,18の比抵抗に対する抵抗体14の比抵抗の倍率よりも大きいことが望ましい。
 このため、このような構成とすることによって、めっき部30がシャント抵抗器10の抵抗特性に与える影響の抑制効果をより高めることができる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、めっき部30の抵抗値は、抵抗体14の抵抗値の50倍以上である。
 この構成によれば、めっき部30の抵抗値が抵抗体14の抵抗値の50倍以上であるため、めっき部30がシャント抵抗器10の抵抗特性に与える影響をさらに抑制することができる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、めっき部30は、リン(P)又はホウ素(B)を含む合金めっきで構成される。
 この構成によれば、比抵抗が高く、かつ抵抗温度係数(TCR)が低いめっき部30を形成することができる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、抵抗体14及び電極16,18は、ロウ材などの導電材料を介さずに接合される。
 この構成によれば、抵抗体14と電極16,18と間にロウ材などの導電材料が介在する場合と比較して、シャント抵抗器10の抵抗特性を向上することができる。また、接合部20,22を覆うめっき部30の固定性が向上するとともに、めっき部30表面をより均一に形成することができる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、めっき部30は、抵抗体14及び電極16,18の表面全体を覆う。
 この構成によれば、例えば電極16,18にアルミニウムと異なる金属からなるバスバーが接続される場合に生じ得るガルバニック腐食の抑制が可能となる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、めっき部30は、抵抗温度係数(TCR)が200ppm/℃以下であり、比抵抗が110μΩ・cm以上である。
 この構成によれば、例えば抵抗体14に比較的比抵抗が高いニクロムを用いた場合であっても、めっき厚を確保しつつ、抵抗温度係数(TCR)を抑制することができる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、めっき部30は、Ni-Pめっき又はNi-P-Wめっきで構成される。
 この構成によれば、Ni系の合金めっきでめっき部30を構成することで、銅と比較して、電極16,18を構成アルミニウムとの標準電極電位の差が抑えられる。これにより、めっき部30と電極16,18との接触部分におけるガルバニック腐食を抑制することができる。
 また、Ni系の合金めっきで形成されるめっき部30は、プラスチックで被膜を形成する場合と比較して、金属に対する密着性が良く、薄肉に形成することができる。これにより、シャント抵抗器10の形状を損なうこと無く、接合部20,22を覆うことができる。
 そして、めっき部30を構成するNi-Pめっき又はNi-P-Wめっきは、比抵抗が高く、抵抗温度係数(TCR)が低い。このため、めっき部30がシャント抵抗器10の電気的特性に与える影響を抑制することができる。
 また、本実施形態のシャント抵抗器10において、めっき部30の厚みは、0.5μm以上10.0μm以下である。
 この構成によれば、めっき部30の厚みを、0.5μm以上とすることで、めっき部30に形成され得る孔の数を抑制することができる。これにより、めっき部30による保護性能を高まることができる。
 また、めっき部30の厚みを、10.0μm以下とすることで、抵抗温度係数(TCR)を抑えることができる。
 なお、本実施形態では、長方形板状のシャント抵抗器10を例に挙げて説明したが、シャント抵抗器10は、この形状に限定されるものではない。
 例えば、シャント抵抗器10は、抵抗体14の下面に各電極が設けられた形状であったり、抵抗体14の端面にL字状の電極が設けられた形状であったり、抵抗体14の端面に設けられた電極が抵抗体14よりも下方へ突出する形状であってもよい。
 以上、本発明の実施形態について説明したが、上記実施形態は本発明の適用例の一部を示したに過ぎず、本発明の技術的範囲を上記実施形態の具体的構成に限定する趣旨ではない。
 本願は、2021年8月27日に日本国特許庁に出願された特願2021-139180に基づく優先権を主張し、この出願の全ての内容は参照により本明細書に組み込まれる。
 10  シャント抵抗器
 14  抵抗体
 16  第一電極
 18  第二電極
 20  第一接合部
 22  第二接合部
 30  めっき部
 

Claims (9)

  1.  抵抗体と、
     前記抵抗体に接合され、アルミニウムを主成分として形成された電極と、
     少なくとも前記抵抗体及び前記電極の接合部を覆うとともに、前記抵抗体よりも比抵抗が高いめっきで構成されためっき部と、
     を備えたシャント抵抗器。
  2.  請求項1に記載のシャント抵抗器であって、
     前記電極の比抵抗に対する前記めっき部の比抵抗の倍率は、前記電極の比抵抗に対する前記抵抗体の比抵抗の倍率よりも大きい、
     シャント抵抗器。
  3.  請求項1又は請求項2に記載のシャント抵抗器であって、
     前記めっき部の抵抗値は、前記抵抗体の抵抗値の50倍以上である
     シャント抵抗器。
  4.  請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のシャント抵抗器であって、
     前記めっき部は、リン又はホウ素を含む合金めっきで構成される、
     シャント抵抗器。
  5.  請求項1から請求項4のいずれか一項に記載のシャント抵抗器であって、
     前記抵抗体と前記電極との間は、導電材料を介さずに互いに接合される、
     シャント抵抗器。
  6.  請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のシャント抵抗器であって、
     前記めっき部は、前記抵抗体及び前記電極の表面全体を覆う、
     シャント抵抗器。
  7.  請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のシャント抵抗器であって、
     前記めっき部は、抵抗温度係数が200ppm/℃以下であり、比抵抗が110μΩ・cm以上である、
     シャント抵抗器。
  8.  請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のシャント抵抗器であって、
     前記めっき部は、Ni-Pめっき又はNi-P-Wめっきで構成される、
     シャント抵抗器。
  9.  請求項1から請求項8のいずれか一項に記載のシャント抵抗器であって、
     前記めっき部の厚みは、0.5μm以上10.0μm以下である、
     シャント抵抗器。
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