WO2022270182A1

WO2022270182A1 - ポジ型感光性顔料組成物、およびその硬化物を含有する硬化膜、ならびに、有機ｅｌ表示装置

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Publication number: WO2022270182A1
Application number: PCT/JP2022/020484
Authority: WO
Inventors: 石川暁宏; 杉原充; 山本洋平
Original assignee: 東レ株式会社
Priority date: 2021-06-22
Filing date: 2022-05-17
Publication date: 2022-12-29
Also published as: TW202300564A; JPWO2022270182A1; KR20240024772A

Abstract

近赤外線を用いた露光マスクのアライメントが可能であり、ハーフトーン加工性に優れ、高い露光感度と高い保存安定性とを兼ね備えたポジ型感光性顔料組成物を提供する。（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料、（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩、（ｃ）樹脂、（ｄ）光酸発生剤および（ｅ）有機溶剤を含有するポジ型感光性顔料組成物である。（式（１）中、Ｒ１は置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。＊はペリレン骨格を構成する炭素原子との結合部位を表す。）（式（２）中、Ｒ２～Ｒ５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ６は、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する、１価の基を表す。＊は炭素原子との結合部位を表す。）

Description

ポジ型感光性顔料組成物、およびその硬化物を含有する硬化膜、ならびに、有機ＥＬ表示装置

　本発明は、ポジ型感光性顔料組成物、およびその硬化物を含有する硬化膜、ならびに、有機ＥＬ表示装置に関する。

　近年、フレキシブルタイプの有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が搭載された製品が開発されている。従来はパネル前面部に配置されていた厚い偏光板を用いないことにより、パネルの屈曲性の向上だけでなく、輝度のロスが無くなり発光素子の寿命の向上が期待されている。偏光板の機能を代替するためには、絶縁層の機能を有するパターン状の画素分割層に、太陽光などの外光反射を抑制する機能をさらに付与することが必要であり、画素分割層を黒色化して遮光性を付与する技術が注目されている。

　ところで、パネル生産時の歩留まり向上のため、画素分割層の開口部に発光層をパターン蒸着により形成する際、蒸着マスクと画素分割層との接触面積を少なくする目的で、全透過部、半透過部、および遮蔽部を面内に有するハーフトーン露光マスクを介して、少なくとも近紫外線を含む露光光を照射する露光工程を含むフォトリソグラフィ法により、段差形状を有する画素分割層を一括して形成する技術（ハーフトーン加工）が知られている。ハーフトーン加工は、薄膜部を形成した後に厚膜部を積層して形成する二層加工と比べて製造プロセスコストを大幅に下げることができるため有用である。

　ハーフトーン加工により段差形状を有する黒色の画素分割層を一括して形成するための材料としては、ペリレン系黒色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントブラック３１と、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有するポリマー型分散剤とを含有するネガ型感光性顔料組成物が特許文献１に開示されている。

　一方で、黒色の画素分割層を形成するためのポジ型感光性顔料組成物としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２と、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９と、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０とを混合した擬似黒色顔料と、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有するペリレン系色素誘導体型分散剤と、リン酸基を有するポリマー型分散剤とを含有するポジ型感光性顔料組成物が特許文献２に開示されている。また、窒化ジルコニウム粒子を含有するポジ型感光性顔料組成物が特許文献３に開示されている。

国際公開第２０１８／１８０５９２号国際公開第２０１９／０６５３５９号国際公開第２０２１／１８２４９９号

　しかしながら、特許文献１に開示されたネガ型感光性顔料組成物を用いて段差を有する黒色の画素分割層を一括形成すると、ハーフトーン加工性が不十分のため、特に開口部の開口幅が小さく設計される高精細パネルにおいては開口幅の面内均一性が低く、有機ＥＬ表示装置に輝度ムラが生じるという課題があった。一方で、特許文献２に開示されたポジ型感光性顔料組成物を用いると、最終的に得られる画素分割層の必要露光量が多く、また、保存安定性が不十分のため長期に貯蔵した後の経時変化が大きく必要露光量が多くなり、パネル生産性が低いという課題に加えて、開口幅の面内均一性が低く、有機ＥＬ表示装置に輝度ムラが生じるという課題があった。また、特許文献３に開示されたポジ型感光性顔料組成物のプリベーク膜は、窒化ジルコニウム粒子の光学特性に由来して近赤外線透過率が極めて低く、近赤外線カメラを用いた露光マスクのアライメントが不可能であり、ハーフトーン加工が困難であるという課題があった。
以上から、近赤外線を用いた露光マスクのアライメントが可能であり、ハーフトーン加工性に優れ、高い露光感度と高い保存安定性とを兼ね備えた感光性組成物が切望されていた。また、画素分割層の開口部の開口幅が小さい場合であっても輝度ムラが抑制された有機ＥＬ表示装置が切望されていた。

　上記課題を解決するため本発明のポジ型感光性顔料組成物は、次の構成を有する。すなわち、
（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料（以下、「（ａ）成分」という場合がある。）、（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩（以下、「（ｂ）成分」という場合がある。）、（ｃ）樹脂（以下、「（ｃ）成分」という場合がある。）、（ｄ）光酸発生剤（以下、「（ｄ）成分」という場合がある。）および（ｅ）有機溶剤（以下、「（ｅ）成分」という場合がある。）を含有するポジ型感光性顔料組成物、である。

　式（１）中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。＊はペリレン骨格を構成する炭素原子との結合部位を表す。

　式（２）中、Ｒ^２～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、または臭素原子を表す。Ｒ^６は、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する、１価の基を表す。＊は炭素原子との結合部位を表す。

　本発明の硬化膜は、次の構成を有する。すなわち、
　前記ポジ型感光性顔料組成物の硬化物を含有する硬化膜、である。

　本発明の有機ＥＬ表示装置は、次の構成を有する。すなわち、
　前記硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置、である。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ｂ）成分が、（ｂ－１）式（１４）で表される構造を有する化合物またはその金属塩（以下、「（ｂ－１）成分」という場合がある。）を含有することが好ましい。

　式（１４）中、Ｒ^７３～Ｒ^７６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子、または水酸基を表す。Ｒ^７７は炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ^７８はスルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^１は整数であり、１または２を表す。ｎ^１が２である場合、２つのＲ^７８は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。Ｒ^７９は炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のアルコキシ基を表す。ｎ^２は整数であり、０～２を表す。ｎ^２が２である場合、２つのＲ^７９は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。＊は炭素原子との結合部位を表す。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ｂ）成分が、（ｂ－２）式（１５）で表される構造を有する化合物またはその金属塩（以下、「（ｂ－２）成分」という場合がある。）を含有することが好ましい。

　式（１５）中、Ｒ^８０～Ｒ^８３は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^８４は単結合または炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ^８５は単結合またはＮＨを表す。Ｒ^８６は、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基が置換したフェニレン基、無置換のフェニレン基、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基が置換したナフチレン基および無置換のナフチレン基よりなる群から選ばれる１種の基を表す。Ｒ^８７はスルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^３は整数であり、１または２を表す。ｎ^３が２である場合、２つのＲ^８７は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。Ｒ^８８は炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のアルコキシ基を表す。ｎ^４は整数であり、０～２を表す。ｎ^４が２である場合、２つのＲ^８８は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。＊は炭素原子との結合部位を表す。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ａ）成分の一次粒子の平均アスペクト比が１．０～１．８であることが好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ｃ）樹脂のアミン価が５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ａ）成分が、式（３）で表される化合物および／または式（４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　式（３）および式（４）中、Ｒ^７～Ｒ^１４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基を表す。Ｒ^１５～Ｒ^２２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または臭素原子を表す。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ｃ）樹脂が、式（３９）で表される構造単位を有する樹脂を含有することが好ましい。

　式（３９）中、Ｒ^１０１およびＲ^１０２は、２～８価の有機基を表す。Ｒ^１０３およびＲ^１０４は、それぞれ独立に、フェノール性水酸基、カルボキシル基またはＣＯＯＡを表し、それぞれ単一の基であってもよく、異なる基が混在していてもよい。Ａは、炭素数１～１０の１価の炭化水素基を表す。ｒおよびｓは整数であり、それぞれ独立に、０～６を表す。ただし、ｒ＋ｓ＞０を満たす。＊は結合部位を表す。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ｂ）成分の含有量が、ポジ型感光性顔料組成物中に含有する顔料の合計１００重量部に対して５～５０重量部であることが好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｆ）加熱により、波長３５０～７８０ｎｍの領域において、波長３５０～５００ｎｍの領域に極大吸収波長を有する化合物に変換される化合物（以下、「（ｆ）成分」という場合がある。）を含有することが好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｈ）ジオキサジン骨格を有する化合物を含有する顔料（以下、「（ｈ）成分」という場合がある。）を含有することが好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ａ）成分と前記（ｈ）成分の合計１００重量部に対して、前記（ｈ）成分の含有量が１～５０重量部であることが好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、前記（ｈ）成分が、式（１２）で表される化合物を含有する顔料を含有することが好ましい。

　式（１２）中、Ｒ^１３１、Ｒ^１３２、Ｒ^１３３およびＲ^１３４は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基を表す。Ｒ^１３５およびＲ^１３６は、それぞれ独立に、ＮＨまたは酸素原子を表す。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、さらに、（i）アミノベンゼンスルホン酸を含有することが好ましい。

　また、上記課題を解決するため本発明の有機ＥＬ表示装置は、基板、第一電極、画素分割層、発光画素および第二電極を具備する有機ＥＬ表示装置であって、該画素分割層が（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料および（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩を含有する有機ＥＬ表示装置、である。

　式（２）中、Ｒ^２～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^６は、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する、１価の基を表す。＊は炭素原子との結合部位を表す。

　本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記画素分割層が、膜厚２．５～４．０μｍの厚膜部と、膜厚１．０～２．５μｍの薄膜部を有し、かつ該厚膜部と該薄膜部との膜厚の差が１．０μｍ以上の部位を有することが好ましい。

　本発明によれば、遮光性を有し、開口部における開口幅の面内均一性が高い、段差を有する画素分割層を、ハーフトーン加工により安定した高い露光感度で一括形成することができる。

実施例１６で得られた、段差を有する画素分割層を具備する露光感度評価用基板の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した撮像である。本発明の実施形態の具体例として挙げられる有機ＥＬ表示装置におけるＴＦＴ基板の断面図である。全ての実施例および比較例における、画素分割層の形成工程を含む有機ＥＬ表示装置の作製工程である。全ての実施例および比較例における、画素分割層形成基板の開口部の最大開口幅Ｗ_１と、最小開口幅Ｗ_２の一例を示す模式図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。画素分割層とは、有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層のことを意味し、液晶表示装置のブラックマトリクスは包括しない。可視光線とは波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ未満の領域の光を意味し、近紫外線とは２００ｎｍ以上３８０ｎｍ未満の領域の光を意味する。近赤外線とは波長７８０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の領域の光を意味する。遮光とは、硬化膜に対して垂直方向に入射した光の強度に対して透過した光の強度を低下させる機能を意味し、遮光性とは、可視光線を遮蔽する程度のことをいう。透過率とは、光透過率のことを意味する。重量平均分子量（Ｍｗ）とは、テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィで分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算した値である。

　一部の着色材の呼称に用いた「Ｃ．Ｉ．」とは、Ｃｏｌｏｕｒ　Ｉｎｄｅｘ　Ｇｅｎｅｒｉｃ　Ｎａｍｅの略であり、Ｔｈｅ　Ｓｏｃｉｅｔｙ　ｏｆ　Ｄｙｅｒｓ　ａｎｄ　Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ発行のカラーインデックスに基づき、カラーインデックスに登録済の着色材に関しては、Ｃｏｌｏｕｒ　Ｉｎｄｅｘ　Ｇｅｎｅｒｉｃ　Ｎａｍｅが、顔料または染料の化学構造や結晶形を表す。なお、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７などに分類されるカーボンブラックは無機黒色顔料に分類する。固形分とは、ポジ型感光性顔料組成物中、有機溶剤および水を除いた成分の割合（重量％）を意味する。

　本発明者らは鋭意検討を行った結果、特定の化学構造を有する顔料と、特定の化学構造を有する色素とを組み合わせ、さらに、樹脂と光酸発生剤によりポジ型の感光性を付与した顔料組成物が、前述の課題の解決にあたり格別顕著な効果を奏することを見出した。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料、（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩、（ｃ）樹脂、（ｄ）光酸発生剤および（ｅ）有機溶剤を含有するポジ型感光性顔料組成物である。

　式（２）中、Ｒ^２～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^６は、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する１価の基を表す。＊は炭素原子との結合部位を表す。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料を必須の構成要素として含有する。（ａ）成分は最終的に得られる画素分割層に遮光性を与える効果を奏する。後述の（ｂ）成分との共存下であれば（ａ）成分の波長５００～６００ｎｍの領域における最小透過率に対する、波長３００～４５０ｎｍの領域における最大透過率をより高くすることができ、後述の光学濃度に優れる一方で、波長３００～４５０ｎｍの領域の光を少なくとも含む露光光を膜の深部まで到達させやすく、高い露光感度が得られる。ここでいう露光感度とは、後述する露光工程で所望の膜厚および所望の開口幅の開口部を有する画素分割層を形成するために必要となる最小露光量を意味し、高い露光感度とは最小露光量が少ないことを意味する。加えて、（ａ）成分は波長３００～４５０ｎｍの領域における最大透過率と比べて、８００～１，２００ｎｍにおける最大透過率がさらに高く、近赤外線カメラを用いて電極形成基板に対する露光マスクの位置合わせを自動で行う、近赤外線アライメントによる高い位置精度での露光が可能であり、より高い生産性および高い歩留まりを得ることができる。また、（ａ）成分はペリレン骨格に加えて、式（１）で表される構造を分子内に２つ有することから、前述のペリレン系黒色顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントブラック３１や擬似黒色顔料と比べて耐熱性が高く、後述するキュア工程において酸素濃度によらず、２５０℃以上の高温処理後も変退色が生じることなく高い遮光性を維持することができる。したがって、所望の遮光性を得る上で膜中の顔料分を少なくすることができ、望ましく高い露光感度を発現することができる。

　式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物としては、例えば、シス体である式（３）で表される化合物、トランス体である式（４）で表される化合物、シス体である式（５）で表される化合物、トランス体である式（６）で表される化合物、シス体である式（７）で表される化合物、トランス体である式（８）で表される化合物が挙げられる。

　式（５）および式（６）中、Ｒ^２３～Ｒ^３４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基を表す。Ｒ^３５～Ｒ^４２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または臭素原子を表す。

　式（７）および式（８）中、Ｒ^４３～Ｒ^５４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基を表す。Ｒ^５５～Ｒ^６２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または臭素原子を表す。

　中でも、露光感度を向上する上で、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ａ）成分が、式（３）で表される化合物および／または式（４）で表される化合物を含有することが好ましい。シス体である式（９）で表される化合物および／またはトランス体である式（１０）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　以上の（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物は、単独でまたは複数種を含有してもよく、露光感度を向上する上で、シス体とトランス体との合計１００重量％に対してトランス体を４０～１００重量％含有することがより好ましい。

　（ａ）成分は、例えば、ペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体と、１，２－ジアミノベンゼンまたはその誘導体との反応生成物を顔料化することで得ることができる。具体的には、７０℃で融解させたフェノール中に、出発原料であるペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物と、１，２－ジアミノベンゼンとをそれぞれ１：２のｍｏｌ比で添加し、さらにピペラジンなどの塩基性触媒を添加した混合物を、液温１２０～１９０℃条件下で６～１０時間撹拌することにより反応を十分に進行させた後、生成した水をフェノールとの共沸混合物として蒸留分離する。次いで、１３０℃に冷却し、メタノールまたはエタノールを添加して５０～７０℃で１時間撹拌した後に濾別する。さらに、濾液が透明になるまでメタノールまたはエタノールで洗浄後に水洗し、減圧下４０～８０℃で２４時間以上乾燥させて、式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物に相当する顔料クルードを得る。顔料クルードは、シス体とトランス体との合計１００重量部に対してトランス体が３０～７０重量部含まれる混合物として得られる。顔料クルードとは、顔料化工程前の顔料前駆体を意味する。さらに、顔料化工程として、後述する化学的微細化処理および／または物理的微細化処理を行い、式（３）で表される化合物、および式（４）で表される化合物からなる（ａ）成分を得る。

　同様の方法で、前述の１，２－ジアミノベンゼンまたはその誘導体に替えて、１，８－ジアミノナフタレンまたはその誘導体を用いて合成および顔料化することで、式（５）で表される化合物、および式（６）で表される化合物を含む（ａ）成分を得ることができる。また、１，２－ジアミノナフタレンまたはその誘導体を用いて合成および顔料化することで、式（７）で表される化合物および式（８）で表される化合物からなる（ａ）成分を得ることができる。

　出発原料であるペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物の誘導体としては、例えば、国際公開第９７／２２６０７号に開示された選択的合成方法で得られる１，７－ジブロモペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物や、特開２０１８－１６５２５７に開示されたモノブロモペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。これらのペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物の誘導体は、例えば、Ｈｅｎａｎ　Ｔｉａｎｆｕ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製の市販品を用いてもよい。

　また、１，２－ジアミノベンゼンの誘導体としては、例えば、４，５－ジメチル－１，２－フェニレンジアミン、４，５－ジエチル－１，２－フェニレンジアミン、４，５－ジプロピル－１，２－フェニレンジアミン、１，２－ジアミノ－４－フルオロベンゼン、１，２－ジアミノ－４－ブロモベンゼン、４－メトキシ－１，２－フェニレンジアミン、４－エトキシ－１，２－フェニレンジアミン、４－プロポキシ－１，２－フェニレンジアミン、４－ブトキシ－１，２－フェニレンジアミン、１，２－ジアミノ－４，５－メトキシベンゼン、１，２－ジアミノ－４，５－エトキシベンゼン、１，２－ジアミノ－４，５－プロポキシベンゼン、１，２－ジアミノ－４，５－ブトキシベンゼンが挙げられ、１種または２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　式（９）で表される化合物および式（１０）で表される化合物からなる顔料は市販品を用いてもよく、例えば、“Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｋ００８７（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。式（９）で表される化合物の含有量が微量であり、式（１０）で表される化合物が８０重量％以上含有するトランス体の高純度品としては、ＰＴＣＢＩ（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製）が挙げられる。

　（ａ）成分の平均一次粒子径は、ハーフトーン加工性を向上する上で１０ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましい。露光感度を向上する上で１２０ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましい。

　ここでいう平均一次粒子径とは、画像解析式粒度分布測定装置を用いた粒度測定法により算出した、一次粒子径の数平均値をいう。画像の撮影には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができ、倍率５０，０００倍の条件で（ａ）成分の一次粒子が１００個以上撮影された画像から無作為に選択した５０個の一次粒子を解析して平均一次粒子径を算出することができる。（ａ）成分が真球状でない場合は、その長径と短径の平均値を一次粒子径とする。画像解析には、画像解析式粒度分布ソフトウェアＭａｃ－Ｖｉｅｗ（マウンテック社製；ＪＩＳ８８２７－１準拠；粒子径解析－画像解析法）を用いることができる。

　（ａ）成分の一次粒子の平均アスペクト比は、露光感度およびハーフトーン加工性を向上する上で、１．０～１．８が好ましく、１．０～１．４がより好ましい。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ａ）成分の一次粒子の平均アスペクト比が１．０～１．８であることが好ましい。

　一次粒子のアスペクト比とは、一次粒子の長径の値を短径の値で除した値の小数点第二位を四捨五入した値を意味する。一次粒子の平均アスペクト比とは、ＴＥＭを用いて倍率５０，０００倍の条件で（ａ）成分の一次粒子が１００個以上撮影された画像から無作為に選択した５０個の一次粒子のアスペクト比の数平均値を意味する。

　（ａ）成分の最大一次粒子径は、保存安定性を向上する上で４０ｎｍ以上が好ましく、８０ｎｍ以上がより好ましい。露光感度を向上する上で２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。最大一次粒子径は、前述の平均一次粒子径を算出する際に用いた５０個の一次粒子径のうちの最大値を意味する。

　（ａ）成分の平均一次粒子径、一次粒子の平均アスペクト比および最大一次粒子径を制御する方法としては、アシッドペースト法などの化学的微細化処理および／またはソルベントソルトミリング法などの物理的微細化処理を好ましく適用できる。アシッドペースト法は高硬度の有機顔料の微細化に特に有効であり、ソルベントソルトミリング法は粗大な一次粒子の低減に特に有効であり、いずれの手法も（ａ）成分の微細化処理に好ましく適用することができる。

　アシッドペースト法とは、５０～９８重量％硫酸水溶液などの強酸中に有機顔料クルードまたは有機顔料を溶解した液を、多量の水へ投入して析出させ、造粒した後に濾別し、さらに強酸を水洗により除去して乾燥、粉砕して微細化有機顔料を得る方法をいう。

　一方、ソルベントソルトミリング法とは、有機顔料、摩砕材および水溶性有機溶剤を混合したペーストを２０～８０℃下で湿式混練した後に、多量の水に投入して攪拌し、摩砕材および水溶性有機溶剤を水洗により除去した濾物を乾燥、粉砕して微細化有機顔料を得る方法をいう。混練機としては、例えば、ニーダー（（株）井上製作所製）を用いることができる。摩砕材としては、平均一次粒子径０．１～５０μｍの微粒状の水溶性無機塩を用いることができ、例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウムまたは硫酸カリウムが挙げられる。２００℃以上の加熱処理をして予め水分を０．５重量％以下にまで低減し、硬度を高めておくことが望ましい。水溶性有機溶剤としてはグリコール系溶剤が好ましい。グリコール系溶剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコールが挙げられる。（ａ）成分と、（ｂ）成分とを共存させて化学的微細化処理および／または物理的微細化処理を行い、（ａ）成分の少なくとも一部に（ｂ）成分による表面処理が施された顔料とすることで、より高い露光感度が得られる場合がある。

　画素分割層の絶縁性を向上し、電圧印加時の短絡を回避する上で、アシッドペースト法における強酸、ソルベントソルトミリング法における摩砕材、およびそれらを由来とするイオン性不純物の残留量の合計は、（ａ）成分中、５００重量ｐｐｍ以下が好ましく、１００重量ｐｐｍ以下がより好ましい。除去率を高める目的で、温水にノニオン系界面活性剤を０．１～１．０重量％混合した溶液を用いて（ａ）成分を洗浄する工程を追加してもよい。

　（ａ）成分中、式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物の存在形態は特に限定されない。（ａ）成分は、式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物のみからなる顔料であってもよく、さらに他の色素化合物との混晶からなる顔料であってもよい。ここでいう混晶からなる顔料は、例えば、式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を、他の色素化合物として有機色素化合物および／または有機金属錯体色素化合物と共存させて、前述のアシッドペースト法などの化学的微細化処理を行うことで製造することができる。なお、本明細書中、式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物と、ジオキサジン骨格を有する化合物の混晶からなる顔料は、（ａ）成分と（ｈ）成分との混合物と定義する。その混合比率は、両化合物のｍｏｌ数の比率から換算された重量比率に基づいて求められる。同様に、（ａ）成分の一次粒子と、（ｈ）成分の一次粒子との凝集物からなる二次粒子や、（ｈ）成分を（ａ）成分の表面に処理した顔料、（ａ）成分を（ｈ）成分の表面に処理した顔料などもまた、（ａ）成分と（ｈ）成分との混合物と定義する。

　（ａ）成分に含有する、式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物の含有量は、画素分割層の遮光性を高める上で、ポジ型感光性顔料組成物の固形分１００重量％中、１重量％以上が好ましく、５重量％以上がより好ましい。露光感度を向上する上で、３０重量％以下が好ましく、２０重量％以下がより好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、さらに、（ｈ）ジオキサジン骨格を有する化合物を含有する顔料を含有することが好ましい。ここでいうジオキサジン骨格とは、トリフェンジオキサジン骨格を意味する。（ｈ）成分は、前述の（ａ）成分と同様に、最終的に得られる画素分割層に遮光性を与える効果を奏するとともに、波長３００～４５０ｎｍの領域の光を少なくとも含む露光光を膜の深部まで到達させやすく、高い露光感度を得ることができる。また、同観点から、特に０．８を超える高い遮光性（ＯＤ／μｍ）を有する画素分割層を形成する場合において露光感度の低下を抑制することができる。

　（ｈ）成分の含有量は、露光感度を向上する上で、（ａ）成分と（ｈ）成分の合計１００重量部に対して、１重量部以上が好ましく、１０重量部以上がより好ましい。一方で、保存安定性を向上する上で、５０重量部以下が好ましく、４０重量部以下がより好ましい。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ａ）成分と（ｈ）成分の合計１００重量部に対して、（ｈ）成分の含有量が１～５０重量部であることが好ましい。

　（ｈ）成分としては、例えば、式（１１）で表される化合物を含有する顔料、式（１２）で表される化合物を含有する顔料が挙げられる。式（１１）で表される化合物および式（１２）で表される化合物は、オキサジン環を分子内に２つ有する。すなわち、ジオキサジン骨格を分子内に１つ有する化合物である。式（１１）で表される化合物の具体例としては、式（１１）中、Ｒ^６３およびＲ^６４が塩素原子であり、Ｒ^６５およびＲ^６８が水素原子であり、Ｒ^６６およびＲ^６７がエチル基である化合物からなる顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントブルー８０が挙げられる。式（１２）で表される化合物の具体例としては、式（１２）中、Ｒ^１３１およびＲ^１３２がエチル基であり、Ｒ^１３３およびＲ^１３４がメチル基であり、Ｒ^１３５およびＲ^１３６がＮＨである化合物からなる顔料であるＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７が挙げられる。

　式（１１）中、Ｒ^６３およびＲ^６４は、それぞれ独立に、水素原子またはハロゲン原子を表す。Ｒ^６５～Ｒ^６８は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基またはフェニル基を表す。

　式（１２）中、Ｒ^１３１、Ｒ^１３２、Ｒ^１３３およびＲ^１３４は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基を表す。Ｒ^１３５およびＲ^１３６は、それぞれ独立に、ＮＨまたは酸素原子を表す。
中でも、高い露光感度を得る上で、式（１２）で表される化合物を含有する顔料が好ましい。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｈ）成分が、式（１２）で表される化合物を含有する顔料を含有することがより好ましい。

　式（１２）中、Ｒ^１３１およびＲ^１３２は互いに同一であり、炭素数１～３のアルキル基であることが好ましく、Ｒ^１３３およびＲ^１３４はメチル基が好ましく、Ｒ^１３５およびＲ^１３６はＮＨが好ましい。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｈ）成分が、式（１３）で表される化合物を含有する顔料を含有することが最も好ましい。

　式（１３）中、Ｒ^６９およびＲ^７０は、互いに同一であり、炭素数１～３のアルキル基を表す。

　その他の顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、１２０、１３８、１３９、１５０、１５１、１７５、１８０、１８５、１８１、１９２、１９３、１９４などの有機黄色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、３６、４３、６０、６１、６２、６４、７１、７２などの有機橙色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、１２３、１４９、１７８、１７７、１７９、１８０、１８９、１９０、２０２、２０９、２５４、２５５、２６４などの有機赤色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：６、１６、２５、５６、５７、６０、６１、６４、６５、６６、７５、７９、８０などの有機青色顔料、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２９、３２などの有機紫色顔料が挙げられる。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩を必須の構成要素として含有する。ここでいう金属塩とは、スルホン酸の金属塩およびカルボン酸の金属塩を意味し、すなわち、（ｂ）成分に属する金属塩はスルホ基の金属塩の基および／またはカルボキシル基の金属塩の基を有する。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、ハーフトーン加工性、露光感度および保存安定性を向上する上で、（ｂ）成分が有機色素化合物またはその金属塩を含有することが好ましい。
ここでいう有機色素化合物とは、有機染料および有機顔料を意味する。

　（ｂ）成分は、ハーフトーン加工性、露光感度および保存安定性を向上する効果を奏する。ハーフトーン加工性を向上するとは、段差を有する画素分割層の開口部における開口幅の面内均一性を高くすることを意味する。開口幅の面内均一性を高めることで、画素分割層の開口部に形成される発光画素サイズのばらつきを抑え、輝度ムラを抑制することができる。保存安定性とは、調製してから１日間貯蔵した後のポジ型感光性顔料組成物の露光感度を基準として、３０日間貯蔵した後のポジ型感光性顔料組成物の露光感度の変化率を意味する。保存安定性が高いとは、望ましく露光感度の変化率が小さいことを意味する。貯蔵とは、密栓したポジ型感光性顔料組成物を大気圧下かつ遮光下かつ－２０±１℃に維持された冷暗所で、密閉状態で静置することを意味する。熱や光に対して活性の高い光酸発生剤を含むポジ型感光性顔料組成物の経時変化を低減するため前述の環境下で貯蔵することは、当業者の技術常識において一般的である。露光感度を向上することでパネル生産性を高めることができ、また、保存安定性を向上することで、段差を有する画素分割層を安定した露光感度で形成することができる。

　（ｂ）成分に属する化合物がＮ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さないことにより、保存安定性を損なうことなく、式（２）で表される構造を由来とした（ａ）成分に対する高いπ－πスタッキング効果と、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を由来とした高い荷電付与効果を発現することができ、ハーフトーン加工性、露光感度および保存安定性を向上する効果を得ることができる。また、ポジ型感光性顔料組成物が（ｈ）成分を含有する場合、（ｂ）成分は（ａ）成分だけでなく（ｈ）成分に対しても同作用効果を発現することができ、ハーフトーン加工性、露光感度および保存安定性を向上する効果を得ることができる。ここでいうＮ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピル基、Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノプロピル基、Ｎ，Ｎ－ジプロピルアミノプロピル基が挙げられるが、（ｂ）成分が分子内に有するイミド環は含まれない。なお、式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物であり、かつ式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩については、（ｂ）成分に属する化合物であると定義する。

　ここでいうスルホ基とは、－ＳＯ_３Ｈを意味するだけでなく、ポジ型感光性顔料組成物中の存在形態として、プロトンが解離した形態である－ＳＯ_３ ^-もまた包括する。カルボキシル基についても同様に、－ＣＯＯＨを意味するだけでなく、プロトンが解離した形態である－ＣＯＯ^-もまた包括する。

　式（２）中、露光感度を向上する上で、好ましくは、Ｒ^２～Ｒ^５は全て水素原子である。好ましくは、Ｒ^６は、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基を１つまたは２つ有する１価の基である。好ましくは、＊はナフタレン骨格を構成する炭素原子との結合部位である。１価の基であるＲ^６が有する、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する基としては、例えば、スルホフェニル基、ジスルホフェニル基、カルボキシフェニル基、ジカルボキシフェニル基、カルボキシ－スルホフェニル基、メチル－スルホフェニル基、メトキシ－スルホフェニル基、スルホナフチル基、ジスルホナフチル基、カルボキシナフチル基、ジカルボキシナフチル基、カルボキシ－スルホナフチル基、メチル－スルホナフチル基、メトキシ－スルホナフチル基が挙げられる。中でも、保存安定性を向上する上で、１つまたは２つのスルホ基が、フェニル基に置換した基が好ましい。

　式（２）で表される構造を有する化合物の金属塩としては、例えば、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｌｉ^＋などの一価の金属陽イオンとの塩や、Ｃａ^２＋、Ｍｎ^２＋、Ｓｒ^２＋、Ｂａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ａｌ^３＋などの多価の金属陽イオンとの塩が挙げられる。

　（ｂ）成分としては、露光感度および保存安定性を向上する上で、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する芳香環が、炭素数１～６のアルキレン基および／またはアゾ結合を含む２価の連結基を介してイミド環の窒素原子と結合した構造を有する化合物が好ましい。具体的には、（ｂ－１）式（１４）で表される構造を有する化合物またはその金属塩、または（ｂ－２）式（１５）で表される構造を有する化合物またはその金属塩が好ましい。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｂ）成分が、（ｂ－１）式（１４）で表される構造を有する化合物またはその金属塩を含有することが好ましい。（ｂ－１）式（１４）で表される構造を有する化合物またはその金属塩が、有機色素化合物またはその金属塩を含有することがより好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｂ）成分が、（ｂ－２）式（１５）で表される構造を有する化合物またはその金属塩を含有することが好ましい。（ｂ－２）式（１５）で表される構造を有する化合物またはその金属塩が、有機色素化合物またはその金属塩を含有することがより好ましい。

　なお、本明細書中において、式（１４）で表される構造と、式（１５）で表される構造とを分子内に両方有する化合物は、アゾ結合を有する点から、（ｂ－２）成分に属する化合物と定義する。

　式（１４）中、Ｒ^７３～Ｒ^７６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^７７は炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ^７８はスルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^１は整数であり、１または２を表す。ｎ^１が２である場合、２つのＲ^７８は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。Ｒ^７９は炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のアルコキシ基を表す。ｎ^２は整数であり、０～２を表す。ｎ^２が２である場合、２つのＲ^７９は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。＊は炭素原子との結合部位を表す。

　式（１４）で表される構造を有する化合物の金属塩の形態としては、前述の式（２）で表される構造を有する化合物の金属塩の形態と同一の観点が適用できる。

　式（１５）中、Ｒ^８０～Ｒ^８３は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^８４は単結合、または炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ^８５は単結合、またはＮＨを表す。Ｒ^８６は、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基が置換したフェニレン基、無置換のフェニレン基、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基が置換したナフチレン基、無置換のナフチレン基よりなる群から選ばれる１種の基を表す。Ｒ^８７はスルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^３は整数であり、１または２を表す。ｎ^３が２である場合、２つのＲ^８７は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。Ｒ^８８は炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のアルコキシ基を表す。ｎ^４は整数であり、０～２を表す。ｎ^４が２である場合、２つのＲ^８８は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。＊は炭素原子との結合部位を表す。

　式（１５）で表される構造を有する化合物の金属塩の形態としては、前述の式（２）で表される構造を有する化合物の金属塩の形態と同一の観点が適用できる。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｂ－１）成分が、式（１６）で表される化合物を含有することがより好ましい。式（１６）で表される化合物は有機色素化合物に相当する。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｂ－２）成分が、式（１７）で表される化合物を含有することがより好ましい。式（１７）で表される化合物は有機色素化合物に相当する。

　式（１６）中、Ｒ^８９およびＲ^９０は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルキレン基を表す。ｎ^５は整数であり、０～２を表す。Ｒ^９１およびＲ^９２は、スルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^６は整数であり、１または２を表す。ｎ^７は整数であり、０または１を表す。ｎ^６が２である場合、２つのＲ^９１は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。

　式（１７）中、Ｒ^９３およびＲ^９４は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基が置換したフェニレン基、無置換のフェニレン基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基が置換したナフチレン基、無置換のナフチレン基よりなる群から選ばれる１種の基を表す。ｎ^８は整数であり、０～２を表す。Ｒ^９５およびＲ^９６は、スルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^９は整数であり、１または２を表す。ｎ^１０は整数であり、０または１を表す。ｎ^９が２である場合、２つのＲ^９５は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。

　なお、式（１６）で表される化合物は、ｎ^５が０の場合はナフタレン骨格を有し、ｎ^５が１の場合はペリレン骨格を有し、ｎ^５が２の場合はテリレン骨格を有する。式（１７）で表される化合物は、ｎ^８が０の場合はナフタレン骨格を有し、ｎ^８が１の場合はペリレン骨格を有し、ｎ^８が２の場合はテリレン骨格を有する。

　（ｂ－１）成分に属する化合物の具体例としては、式（２０）で表される化合物、式（２１）で表される化合物、式（２２）で表される化合物、式（２３）で表される化合物が挙げられ、これら化合物は有機色素化合物に相当する。（ｂ－２）成分に属する化合物の具体例としては、式（１８）で表される化合物、式（１９）で表される化合物、式（２４）で表される化合物、式（２５）で表される化合物、式（２６）で表される化合物、式（２７）で表される化合物、式（２８）で表される化合物、式（２９）で表される化合物、式（３０）で表される化合物、式（３１）で表される化合物、式（３２）で表される化合物が挙げられ、これら化合物は有機色素化合物に相当する。

　（ｂ）成分に属する化合物を得る方法としては、例えば、スルホン化反応、またはイミド化反応が挙げられる。必要に応じて両反応を組み合わせ、２段階の合成ルートとしてもよい。

　スルホン化反応により（ｂ－２）成分を得る方法を例示すれば次のとおりである。出発原料である式（３３）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７８を、１０～５０重量％発煙硫酸、または５０～１００重量％濃硫酸に溶解させた混合物を加熱し、末端フェニル基にスルホ基が選択的に導入されるように液温を４０～９０℃の範囲で調整して３～１０時間攪拌する。液温を４０℃以上とすることで出発原料の未反応分の残留を抑制でき、９０℃以下とすることで出発原料の分解反応を抑制でき、生成物の純度を高めることができる。

　次いで、前述の出発原料に対して１００倍以上の重量の水、好ましくは氷水の中に投入して赤色析出物を含むスラリーを得て、濾過を行う。次いで、メタノールまたはエタノールで洗浄した後に、好ましくは硫酸イオンの残存量が５０重量ｐｐｍを下回るまで繰り返し水洗を行い、６０～８０℃減圧下で乾燥させる。最後に、ハンマーミルまたはジェットミルを用いた乾式粉砕処理により乾燥凝集を解きほぐしてパウダー化する。以上の操作により、前述の（ｂ－２）成分に相当する、モノスルホ体の式（２４）で表される化合物、ジスルホ体の式（２５）で表される化合物および／またはトリスルホ体の式（２６）で表される化合物（またはそれらの金属塩）を得ることができる。目的生成物の１分子あたりのスルホ基の導入数およびその分布は、発煙硫酸または濃硫酸の濃度に応じた液温および反応時間で制御することができ、前述のＬＣ－ＭＳおよびＮＭＲにより構造解析を行うことで反応終点を決定することができる。また、シリカゲルクロマトグラフィを用いた精製処理を行うことにより、特定範囲の数のスルホ基が導入された化合物の純度を高めることもできる。

　（ｂ－１）成分についても同様のスルホン化反応で得ることができ、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７８に替えて、出発原料として式（３４）で表されるＣ．Ｉ．ピグメントブラック３１を用いれば、前述の式（２１）で表される化合物を合成することができる。Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３１の市販品としては、“Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｓ００８４（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。

　一方で、イミド化反応により（ｂ）成分を得る方法を例示すれば次のとおりである。出発原料である式（３５）で表されるペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体と、式（３６）で表される３－（アミノメチル）安息香酸などの１級アミノ基を有するアミノ酸とを、好ましくは融解イミダゾールなどの塩基性合成溶媒中に添加し混合する。必要に応じて酢酸亜鉛などの触媒を添加してもよい。

　次いで、窒素雰囲気下で８０～１６０℃の加熱温度を維持して３～１０時間攪拌し、イミド化反応を進行させる。得られた混合物を２０℃以下に冷却した後、必要に応じて１０～５０重量％塩酸を加え、用いた出発原料に対して１００倍以上の重量の多量の水、好ましくは氷水の中に投入して赤色析出物を含むスラリーを得て濾過を行う。次いで、メタノールまたはエタノールで洗浄した後に、好ましくはアミノ酸の残存量が５０重量ｐｐｍを下回るまで繰り返し水洗を行い、６０～８０℃減圧下で乾燥させる。最後に、ハンマーミルまたはジェットミルを用いた乾式粉砕処理により乾燥凝集を解きほぐしてパウダー化する。以上の操作により、前述の（ｂ－１）成分に相当する式（２３）で表される化合物を得ることができる。

　（ｂ－２）成分についても同様のイミド化反応で得ることができ、例えば、前述のアミノ酸に替えて、式（３７）で表される化合物を用いれば、前述の式（２７）で表される化合物を合成することができる。

　また、前述のアミノ酸に替えて、Ｎ－（１－ナフチル）エチレンジアミンを用いれば、前述の式（１９）で表される化合物を得ることができる。テリレン－３，４，１１，１２－テトラカルボン酸二無水物またはナフタレン－１，４，５，８－テトラカルボン酸二無水物と、３－［（４－アミノフェニル）アゾ］ベンゼンスルホン酸とのイミド化反応により、前述の式（３０）で表される化合物、式（３１）で表される化合物をそれぞれ合成することができる。

　（ｂ）成分を得る方法としては、例えば、式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物を水に分散させたスラリーを作製した後にアルカリ条件下とし、塩化アルミニウムなどのＡｌ^３＋源、塩化バリウムなどのＢａ^２＋源、または塩化カルシウムなどのＣａ^２＋源を添加して３０～６０℃加温下で攪拌して造塩させた後に精製、乾燥および乾式粉砕処理によりパウダー化する方法が挙げられる。

　ポジ型感光性顔料組成物中および画素分割層中における（ｂ）成分の存在形態は少なくとも一部が不溶粒子であってもよく、あるいは溶解していてもよく、特に限定されない。保存安定性を向上する上で、（ｂ）成分のうち９０重量％以上が不溶粒子として存在することが好ましく、存在形態は（ｃ）樹脂および後述する（ｅ）有機溶剤により好ましく制御できる。後述する顔料分散液を調製する際に共存させることで、（ｂ）成分の少なくとも一部が（ａ）成分の表面に吸着した形態とすることがより好ましい。（ｈ）成分を含有する場合もまた同様に、（ｂ）成分の少なくとも一部が（ｈ）成分の表面に吸着した形態とすることが好ましい。（ｂ）成分は、（ａ）成分および（ｈ）成分の少なくともいずれか一方と固溶体を成していてもよい。（ｂ）成分が不溶粒子を含む場合、その平均一次粒子径、および平均アスペクト比は、前述の（ａ）成分と同一の観点が好ましく適用される。

　（ｂ）成分の含有量は、保存安定性を向上する上で、ポジ型感光性顔料組成物中に含有する顔料の合計１００重量部に対して５重量部以上が好ましく、１２重量部以上がより好ましい。露光感度を向上する上で、５０重量部以下が好ましく、４０重量部以下がより好ましい。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｂ）成分の含有量がポジ型感光性顔料組成物中に含有する顔料の合計１００重量部に対して５～５０重量部であることがより好ましい。ここでいうポジ型感光性顔料組成物中に含有する顔料とは、（ａ）成分および（ｈ）成分に加えて、その他の顔料として例示した前述の顔料の群を意味し、（ｂ）成分のポジ型感光性顔料組成物中における存在形態が溶解および／または不溶粒子にかかわらず、（ｂ）成分を包含しない。（ｂ）成分が（ａ）成分および（ｈ）成分の少なくともいずれか一方と固溶体を形成している場合、（ｂ）成分を構成する化合物のｍｏｌ数と、顔料を構成する化合物のｍｏｌ数を、それぞれ重量に換算することで（ｂ）成分の含有量を求めることができる。

　（ａ）成分、（ｈ）成分および（ｂ）成分を構成する化合物の化学構造は、本発明のポジ型感光性顔料組成物を遠心分離処理して得られる濃縮物を試料として、マトリックス支援レーザー脱離イオン化－飛行時間型質量分析法（ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳ）、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）、飛行時間型質量分析法（ＴＯＦ－ＭＳ）、核磁気共鳴法（ＮＭＲ）、液体クロマトグラフ質量分析法（ＬＣ－ＭＳ）、赤外吸収スペクトル、Ｘ線回析などの公知の分析手法を組み合わせることにより解析することができる。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｃ）樹脂を必須の構成要素として含有する。ここでいう樹脂とは、繰り返し単位の数が５つ以上の高分子鎖を有し、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００以上の化合物を意味する。（ｃ）成分は後述する（ｄ）成分とともに、ポジ型の感光性を与える成分であるとともに、最終的に得られる画素分割層中に（ａ）成分および（ｂ）成分を分散し、基板上に定着させるためのバインダー成分としての機能を有する。

　（ｃ）成分は特に限定されないが、ハーフトーン加工性を向上する上で、（ｃ－１）アルカリ可溶性基を有する樹脂（以下、「（ｃ－１）成分」という場合がある。）を含有することが好ましい。ここでいうアルカリ可溶性基とは水酸基、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基を意味する。アルカリ可溶性基としては水酸基が好ましく、中でも、フェノール性水酸基がより好ましい。

　（ｃ－１）成分としては、例えば、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール前駆体、フェノール樹脂、アルカリ可溶性基を有するラジカル重合性単官能モノマー由来の繰り返し単位を有する樹脂、ポリシロキサンが挙げられる。これら樹脂は複数種のアルカリ可溶性基を分子内に有した樹脂であってよく、２種以上の樹脂を含有してもよい。

　中でも、ハーフトーン加工性を向上できる点から、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール前駆体またはそれらの共重合体が好ましい。ここでいう共重合体の製法は特に限定されず、ランダム共重体であっても、ブロック共重合体であってもよい。ここでいうブロック共重合体とは、分子内に異なる樹脂種の繰り返し単位を有し、かつ同一構造からなる繰り返し単位が１０個以上連なった高分子鎖を有する共重合体を意味する。

　具体的には、式（３８）で表される構造単位、および／または式（３９）で表される構造単位を有する樹脂が挙げられる。

　式（３８）中、Ｒ^９７は、４～１０価の有機基を表す。Ｒ^９８は２～８価の有機基を表す。Ｒ^９９およびＲ^１００は、それぞれ独立に、水酸基またはカルボキシル基を表し、それぞれ単一の基であってもよく、異なる基が混在していてもよい。ｐおよびｑは整数であり、それぞれ独立に、０～６を表す。ただし、ｐ＋ｑ＞０を満たす。＊は結合部位を表す。

　式（３９）で表される構造単位を有する樹脂は、ハーフトーン加工性を向上する上で、ＣＯＯＡで表される基を有することが好ましく、式（３９）中、炭素数１～１０の１価の炭化水素基Ａとしては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基またはベンジル基が挙げられる。

　中でも、（ｃ－１）成分としては、保存安定性を向上する上で、（ｂ）成分との相互作用が高いアミド結合を有する構造単位を有することがよく、式（３９）で表される構造単位を有する樹脂を含有することがより好ましい。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｃ）樹脂が、式（３９）で表される構造単位を有する樹脂を含有することがより好ましい。式（３９）で表される構造単位を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、保存安定性を向上する上で、１０，０００以上５０，０００以下が好ましい。

　式（３８）中、Ｒ^９７－（Ｒ^９９）ｐは、酸二無水物の残基を表す。Ｒ^９７は、芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数５～４０の有機基が好ましい。酸二無水物の残基としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、１，１－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４－ジカルボキシフェニン）メタン二無水物、ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、１，２，５，６－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、９，９－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）フルオレン酸二無水物、９，９－ビス｛４－（３，４－ジカルボキシフェノキシ）フェニル｝フルオレン酸二無水物、式（４０）で表される構造の酸二無水物の残基などの芳香族テトラカルボン酸二無水物の残基や、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物の残基などの脂肪族のテトラカルボン酸二無水物の残基などを挙げることができる。

　式（４０）中、Ｒ^１０５は単結合、酸素原子、Ｃ（ＣＦ_３）_２、Ｃ（ＣＨ_３）_２またはＳＯ_２を表す。Ｒ^１０６およびＲ^１０７は、それぞれ独立に、水素原子または水酸基を表す。

　式（３９）中、Ｒ^１０１－（Ｒ^１０３）ｒは酸の残基を表す。Ｒ^１０１は、芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数５～４０の有機基が好ましい。

　酸の残基としては、例えば、ジカルボン酸の残基、トリカルボン酸の残基、テトラカルボン酸の残基などが挙げられる。ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ビス（カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビフェニルジカルボン酸、ベンゾフェノンジカルボン酸、トリフェニルジカルボン酸が挙げられる。トリカルボン酸としては、トリメリット酸、トリメシン酸、ジフェニルエーテルトリカルボン酸、ビフェニルトリカルボン酸の残基などが挙げられる。テトラカルボン酸の残基としては、ピロメリット酸、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４’－ビフェニルテトラカルボン酸、２，２’，３，３’－ビフェニルテトラカルボン酸、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２’，３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸、２，２－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，１－ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エタン、１，１－ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）エタン、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）メタン、ビス（２，３－ジカルボキシフェニル）メタン、ビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エーテル、１，２，５，６－ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，５，６－ピリジンテトラカルボン酸、３，４，９，１０－ペリレンテトラカルボン酸の残基などの芳香族テトラカルボン酸の残基や、ブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４－シクロペンタンテトラカルボン酸の残基などの脂肪族テトラカルボン酸の残基が挙げられる。

　式（３８）中のＲ^９８－（Ｒ^１００）ｑおよび式（３９）中のＲ^１０２－（Ｒ^１０４）ｓは、ジアミンの残基を表す。Ｒ^９８およびＲ^１０２は、芳香族環または環状脂肪族基を含有する炭素原子数５～４０の有機基が好ましい。

　ジアミンの残基としては、例えば、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、ｍ－フェニレンジアミン、ｐ－フェニレンジアミン、１，５－ナフタレンジアミン、２，６－ナフタレンジアミン、ビス（４－アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス｛４－（４－アミノフェノキシ）フェニル｝エーテル、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ジエチル－４，４’－ジアミノビフェニル、３，３’－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、３，３’－ジエチル－４，４’－ジアミノビフェニル、９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレンの残基またはこれらの芳香族環の水素原子の少なくとも一部をアルキル基やハロゲン原子で置換した化合物の残基の他、式（４１）で表される化合物、式（４２）で表される化合物、式（４３）で表される化合物、式（４４）で表される化合物、式（４５）で表される化合物の残基が挙げられる。

　式（４１）中、Ｒ^１０８は単結合、酸素原子、Ｃ（ＣＦ_３）_２、Ｃ（ＣＨ_３）_２またはＳＯ_２を表す。Ｒ^１０９およびＲ^１１０は、それぞれ独立に、水素原子または水酸基を表す。

　式（４２）中、Ｒ^１１１は単結合、酸素原子、Ｃ（ＣＦ_３）_２、Ｃ（ＣＨ_３）_２またはＳＯ_２を表す。Ｒ^１１２およびＲ^１１３は、それぞれ独立に、水素原子または水酸基を表す。

　式（４３）中、Ｒ^１１４、Ｒ^１１５、Ｒ^１１６およびＲ^１１７は、それぞれ独立に、水素原子または水酸基を表す。

　式（４４）中、Ｒ^１１８およびＲ^１１９は、それぞれ独立に、水素原子または水酸基を表す。

　また、これらの樹脂の末端を、モノアミンにより封止することで重量平均分子量（Ｍｗ）を調節しやすくなるとともに、（ｃ）樹脂としての保存安定性を向上することができる。

　モノアミンとしては、例えば、１－ヒドロキシ－４－アミノナフタレン、２－ヒドロキシ－７－アミノナフタレン、２－ヒドロキシ－６－アミノナフタレン、２－ヒドロキシ－５－アミノナフタレン、１－カルボキシ－７－アミノナフタレン、１－カルボキシ－６－アミノナフタレン、１－カルボキシ－５－アミノナフタレン、２－カルボキシ－７－アミノナフタレン、２－カルボキシ－６－アミノナフタレン、２－アミノフェノール、３－アミノフェノール、４－アミノフェノールが挙げられる。

　式（３９）中、ＣＯＯＡで表される基は、カルボキシル基をエステル化剤により変換することで得られる。エステル化剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミドジエチルアセタールが挙げられる。

　式（３８）で表される構造単位および／または式（３９）で表される構造単位を有する樹脂は公知の方法で得ることができ、例えば、日本国特許第４３４１２９３号、国際公開第２０１４／０９７９９２号、国際公開第２０１９／１８１７８２号に開示された方法で合成することができる。

　フェノール樹脂としては、例えば、式（４５）で表される構造単位および／または式（４６）で表される構造単位を有するノボラック型フェノール樹脂や、レゾール型フェノール樹脂が挙げられる。フェノール樹脂はアルカリ現像液に対する溶解速度や現像膜の熱流動性を調整する目的で併用してもよい。フェノール樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、現像性の観点から、１，５００以上１５，０００以下が好ましい。

　式（４５）および式（４６）中、Ｒ^１２０およびＲ^１２１は、それぞれ独立に、メチレン基またはＣＨ－Ａｒ基を表す。Ａｒは炭素数１～３のアルキル基が置換したフェニル基または無置換のフェニル基を表す。＊は結合部位を表す。

　フェノール樹脂は公知の方法で得ることができ、フェノール、ｏ－クレゾール、ｍ－クレゾール、ｐ－クレゾール、キシレゾールなどのフェノール骨格を有する化合物に、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒドなどのアルデヒド化合物を、酸性触媒の共存下で縮合させることにより合成することができる。フェノール樹脂の市販品としては、例えば、ＴＲＲ５０３０Ｇ、ＴＲＲ５０１０Ｇ、ＴＲ４０２０Ｇ、ＴＲ４０８０Ｇ、ＴＲ４０００Ｂ、ＴＲＭ３０Ｂ２０Ｇ、ＥＰ２３Ｆ１０Ｇ（以上、いずれも旭有機材（株）製）が挙げられる。

　アルカリ可溶性基を有するラジカル重合性単官能モノマー由来の繰り返し単位を有する樹脂としては、例えば、ヒドロキシスチレン、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリレート、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヒドロキシフェニル置換マレイミドなどの水酸基を有するラジカル重合性単官能モノマーを１種または２種以上組み合わせてラジカル重合して得られる樹脂が挙げられる。さらに、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシル（メタ）アクリレート、アリルグリシジル（メタ）アクリレートなどの熱架橋性基を有するラジカル重合性単官能モノマーを共重合させてもよい。ここでいう（メタ）アクリレートとは、メタクリレートまたはアクリレートを意味する。具体的には、式（４７）で表される構造を有する樹脂や、式（４８）で表される構造を有する樹脂が好ましく挙げられる。アルカリ可溶性基を有するラジカル重合性単官能モノマー由来の繰り返し単位を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、現像性の観点から３，０００以上３０，０００以下が好ましい。

　式（４７）および式（４８）中、Ｒ^１２２およびＲ^１２４は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。Ｒ^１２３は、単結合、ＣＯＯまたはＣＯＮＨを表す。Ｒ^１２５は、エポキシ基を有する一価の有機基を表す。＊は結合部位を表す。

　（ｃ）樹脂としては、（ｃ－２）アルカリ可溶性基を有さない樹脂（以下、「（ｃ－２）成分」という場合がある。）を含有させてもよい。（ｃ－２）成分としては、例えば、アルカリ可溶性基を有さない（メタ）アクリル系樹脂が挙げられ、（ａ）成分および／または（ａ）成分以外の顔料の、表面の少なくとも一部を被覆するための表面処理材として好ましく用いることができる。（メタ）アクリル系樹脂を顔料１００重量部に対して５～２０重量部共存させて前途の物理的微細化処理を行うと、活性面が生じて結晶成長や凝集が進行しやすい有機顔料であっても微細化が進行しやすくなる場合がある。（ｃ－２）成分を顔料の表面処理材として含有させる場合、水洗により摩砕材を除去する際の溶出を回避して顔料表面に定着させる上で、非水溶性樹脂であることが望ましい。

　アルカリ可溶性基を有さない（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ－プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレートなどのアルカリ可溶性基を有さないラジカル重合性単官能モノマーを１種または２種以上組み合わせてラジカル重合して得られる樹脂が挙げられる。

　（ｃ）樹脂の含有量は、保存安定性を向上する上で、ポジ型感光性顔料組成物の固形分１００重量％中、１０重量％以上が好ましく、３０重量％以上がより好ましい。露光感度を向上する上で、９０重量％以下が好ましく、６０重量％以下がより好ましい。
また、式（３９）で表される構造単位を有する樹脂の含有量は、露光感度と保存安定性を向上する上で、（ｃ）樹脂中、５０重量％以上が好ましく、８０重量％以上がより好ましい。

　（ｃ）樹脂のアミン価は、保存安定性を向上する上で、５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、３．０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。（ｃ）樹脂が、アミン価の異なる複数種の樹脂を含有する場合、含有比率に応じた加重平均値を（ｃ）樹脂のアミン価とみなすことができる。

　すなわち、本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｃ）樹脂のアミン価が５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。ここでいうアミン価の測定方法を以下に説明する。
試料を１００ｍＬの三角フラスコに溶媒（γ－ブチロラクトン）６０ｍＬを加えて溶解させ、電位差滴定装置ＡＴ－７１０およびガラス電極Ｃ－１７３（いずれも京都電子工業（株）製）を用いて、滴定液（０．１ｍｏｌ／Ｌ塩酸）で滴定を行い、得られた変曲点を終点とする。別途、同様の方法で試料を含有させずブランク滴定を行い、下記式からアミン価を算出する。

　アミン価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝（Ｖ^１－Ｖ^０）×ｆ×０．１×５６．１１／Ｓ
　上式中、Ｓ：試料（（ｃ）樹脂）の質量（ｇ）、Ｖ^０：ブランク滴定で要した滴定液の量（ｍＬ）、Ｖ^１：試料の滴定で要した滴定液の量（ｍＬ）、ｆ：滴定液のファクター（１．００６）である。

　ポジ型感光性顔料組成物中から（ｃ）樹脂を単離する方法としては、いかなる手段を用いてもよく、例えば、γ－ブチロラクトンで希釈し、遠心分離装置に複数回かけて底液の顔料濃縮物を不溶の粒子成分として濾別し、さらに必要に応じてカラム精製による分離処理や減圧乾燥処理を行ってもよい。なお、樹脂溶液を試料とした場合は、その固形分に応じて樹脂溶液のアミン価を（ｃ）樹脂のアミン価に換算すればよい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｄ）光酸発生剤を必須の構成要素として含有する。光酸発生剤は、光照射により分解し、酸を発生する化合物であれば、特に限定されない。

　（ｄ）成分を含有することで、発生した酸により露光部の膜のアルカリ現像液に対する溶解性を、未露光部の膜のアルカリ現像液に対する溶解性と比べて相対的に高くする効果を奏し、露光マスクを介してパターン露光された露光部の膜を除去してパターンを形成する、ポジ型のフォトリソグラフィが可能となる。加えて、露光量の調整により膜中の酸発生量を制御することができ、ハーフトーン露光マスクを介して少ない露光量で露光された露光部の膜のアルカリ現像液に対する溶解性を、多い露光量で露光された露光部の膜のアルカリ現像液に対する溶解性と比べて相対的に低くする効果を奏し、ポジ型のハーフトーン加工による段差を有するパターンの形成を可能とする。

　（ｄ）成分としては、キノンジアジド化合物、オキシムスルホネート化合物、イミドスルホネート化合物が挙げられる。中でも、未露光部の膜に優れた溶解抑止効果を発現し、露光部と未露光部の溶解速度の差をより大きくすることができ、露光感度に優れる点から、キノンジアジド化合物が好ましい。キノンジアジド化合物としては、フェノール性水酸基を有する化合物と、１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－４－スルホニルクロリド（以下、「４－ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド」という場合がある。）のエステル化反応により得られる化合物である４－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物や、フェノール性水酸基を有する化合物と、１，２－ナフトキノン－２－ジアジド－５－スルホニルクロリド（以下、「５－ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド」という場合がある。）のエステル化反応により得られる化合物である５－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物が好ましく挙げられる。

　フェノール性水酸基を有する化合物としては、露光感度を向上する上で、フェノール性水酸基を分子内に２つ以上有する化合物が好ましい。フェノール性水酸基を分子内に２つ以上有する化合物としては、例えば、式（４９）で表されるＴｒｉｓＰ－ＨＡＰ、式（５０）で表されるＴｒｉｓＰ－ＰＡ、式（５１）で表されるＴｅｋＰ－４ＨＢＰＡ、ＴｒｉｓＰ－ＳＡ、ＴｒｉｓＯＣＲ－ＰＡ、ＢｉｓＰ－ＡＰ、ＢｉｓＰ－ＮＯ、ＢｉｓＰ－ＰＲ、ＢｉｓＰ－Ｂ、ＢｉｓＰ－ＤＥ、ＢｉｓＰ－ＤＰ、ＢｉｓＰ－ＤＰ、ＢｉｓＲＳ－２Ｐ、ＢｉｓＲＳ－３Ｐ、ＢｉｓＰ－ＤＥＫ（以上、いずれも本州化学工業（株）製）が挙げられる。

　水銀灯におけるｉ線（波長３６５ｎｍ）領域に吸収を有する４－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物と、ｉ線からｈ線（波長４０５ｎｍ）およびｇ線（波長４３６ｎｍ）の領域まで広く吸収を有する５－ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物とを含有させてもよい。また、分子内に４－ナフトキノンジアジドスルホニル基と５－ナフトキノンジアジドスルホニル基とを有するキノンジアジド化合物を含有させてもよい。中でも、波長３６５～４３６ｎｍの領域における（ａ）成分および（ｂ）成分を含む膜の透過率は、概して波長４１０～４４０ｎｍの領域で最大となるため、露光感度を向上する上で、式（５２）で表される５－ナフトキノンジアジドスルホニル基を有する化合物を含有することがより好ましい。なお、式（５２）で表される構造を有する化合物を含有する場合、露光部の膜中でカルボン酸が発生する。

　式（５２）中、Ｒ^１２６～Ｒ^１３０は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基を表す。＊は結合部位を表す。

　また、（ｄ）成分は、熱架橋性基であるアルコキシアルキル基またはエポキシ基と、感光基であるナフトキノンジアジドスルホニル基を分子内に有する化合物を含有してもよい。具体例としては、特開２０１８／１５８２６３号で開示されたアルコキシメチル基を有するキノンジアジド化合物が挙げられる。本明細書中、これら化合物については（ｇ）熱架橋剤（以下、「（ｇ）成分」という場合がある。）ではなく、（ｄ）成分に属する化合物であると定義する。

　（ｄ）成分の市販品としては、ｉ線に感光して酸を発生するナフトキノンジアジド化合物であるＰＡ－２８（ダイトーケミックス（株）製）、ｉ線に感光して酸を発生するオキシムスルホネート化合物であるＰＡＧ１０３、ＰＡＧ２０３（以上、いずれもＢＡＳＦ社製）、ｉ線に感光して酸を発生するイミドスルホネート化合物であるＮＩＴ、ＮＩＮ、ＩＬＰ－１１０（以上、いずれもＨｅｒａｅｕｓ社製）が挙げられる。

　（ｄ）成分の含有量は、膜中に必要十分な量の酸を発生させて露光感度を向上する上で、ポジ型感光性顔料組成物の固形分１００重量％中、１重量％以上が好ましく、５重量％以上がより好ましい。膜表面における露光光の過度な吸収を抑制して露光感度を向上する上で、３０重量％以下が好ましく、２０重量％以下がより好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、（ｅ）有機溶剤を必須の構成要素として含有する。（ｅ）有機溶剤は、（ａ）成分の分散媒として保存安定性の向上に寄与するだけでなく、ポジ型感光性顔料組成物の塗布性を向上して後述するプリベーク膜の平滑性を高め、ハーフトーン加工性を向上する効果を奏する。

　（ｅ）成分としては、例えば、エーテル系溶剤、グリコール系溶剤、アセテート系溶剤、ケトン系溶剤、ラクトン系溶剤、芳香族炭素系溶剤、アミド系溶剤が挙げられる。

　エーテル系溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（以下、「ＰＧＭＥ」）、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルが挙げられる。グリコール系溶剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコールが挙げられる。アセテート系溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、３－メトキシブチルアセテート（以下、「ＭＢＡ」）が挙げられる。ケトン系溶剤としては、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノンが挙げられる。ラクトン系溶剤としては、γ－ブチロラクトン、γ－バレロラクトンが挙げられる。芳香族炭素系溶剤としては、トルエン、キシレン、ベンゼンが挙げられる。アミド系溶剤としては、Ｎ－メチルピロリドン（以下、「ＮＭＰ」）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドが挙げられる。中でも、保存安定性を向上する上で、エーテル系溶剤および／またはアセテート系溶剤を含有することが好ましく、さらにラクトン系溶剤を含有することがより好ましい。

　（ｅ）成分の含有量は、保存安定性を向上する上で、ポジ型感光性顔料組成物１００重量％中、３０重量％以上が好ましく、５０重量％以上がより好ましい。プリベーク膜の平滑性を高める上で、９９重量％以下が好ましく、９５重量％以下がより好ましい。

　芳香族炭化水素系溶剤およびアミド系溶剤の含有量は、保存安定性を向上する上で、ポジ型感光性顔料組成物１００重量％中、それぞれ０．５重量％以下が好ましい。また、ポジ型感光性顔料組成物１００重量％中、水を０．０１～０．５重量％含有することで保存安定性がさらに向上する場合がある。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、さらに、（ｆ）加熱により、波長３５０～７８０ｎｍの領域において、波長３５０～５００ｎｍの領域に極大吸収波長を有する化合物に変換される化合物を含有することが好ましい。なお、ここでいう（ｆ）成分は、（ａ）～（i）成分のいずれにも属さない化合物であり、また、熱発色の原理は特に限定されない。前述の通り、（ａ）成分および（ｈ）成分は波長４１０～４４０ｎｍの領域の透過率が５００～６５０ｎｍの領域の透過率と比べて高いため、（ｆ）成分を含有することで、熱処理後に得られる画素分割層の波長４１０～４４０ｎｍの領域における最大透過率を好ましく低くすることができる。したがって、例えば、（ａ）成分として暗紫色を呈する前述の式（９）で表される化合物および式（１０）で表される化合物を含有する顔料に加えて、熱発色後の（ｆ）成分が黄色、橙色または茶褐色を呈することで、青色領域の外光反射抑制機能にも優れた黒色の画素分割層を得ることができる。発色が開始される最低温度としては、露光感度の低下を回避する上で１５０℃以上が好ましく、透過率の低減効果を十分に得る上で２３０℃以下が好ましい。（ｆ）成分としては、例えば、特開２００４－３２６０９４号に記載の熱発色性化合物が挙げられる。中でも、ハーフトーン加工性を向上する上で、（ｆ）成分が水酸基含有化合物を含有することが好ましい。水酸基含有化合物としては、例えば、４，４’，４”，４’’’－（１，４－フェニレンジメチリデン）テトラキスフェノール（熱処理後の極大吸収波長：４４０ｎｍ）、式（５３）で表される４，４’，４”－トリヒドロキシトリフェニルメタン（熱処理後の極大吸収波長：４６０ｎｍ）、４－［ビス（４－ヒドロキシフェニル）メチル）］２－メトキシフェノール（熱処理後の極大吸収波長：４７０ｎｍ）が挙げられる。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、さらに、（ｇ）成分を含有してもよい。（ｇ）成分としては、アルコキシメチル基またはエポキシ基を分子内に２つ以上有する化合物が好ましい。アルコキシメチル基としては、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基が挙げられる。（ｇ）成分と（ｃ）樹脂との反応および（ｇ）成分同士の反応によって形成される架橋構造により、画素分割層の耐熱性や屈曲性を向上できる。加えて、強酸性のエッチング液や強アルカリ性のレジスト剥離液に対する耐性、すなわち耐薬品性を向上することができ、本発明のポジ型感光性顔料組成物の硬化物を含む硬化膜をＴＦＴ（Ｔｈｉｎ－ｆｉｌｍ　ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒｓ）平坦化層として用いる場合、硬化膜の部分溶解や遮光性の低下を抑制することができる。

　分子内に２つ以上のアルコキシメチル基を有する化合物としては、例えば、ＨＭＯＭ－ＴＰＨＡＰ、ＤＭＬ－ＰＣ、ＤＭＬ－ＰＥＰ、ＤＭＬ－ＯＣ、ＤＭＬ－ＰＯＰ（以上、いずれも本州化学工業（株）製）、“ＮＩＫＡＬＡＣ（登録商標）”ＭＸ－３９０、同ＭＸ－２９０、同ＭＸ－２８０、同ＭＸ－２７０、同ＭＷ－１００ＬＭ、同ＭＸ－７５０ＬＭ（以上、いずれも（株）三和ケミカル製）が挙げられる。

　分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物としては、例えば、ＴＥＰＩＣ－Ｓ、ＴＥＰＩＣ－ＰＡＳ、ＴＥＰＩＣ－ＶＬ、ＴＥＰＩＣ－ＵＣ（以上、いずれも日産化学（株）製）、ＸＤ－１０００、ＸＤ－１０００－Ｈ、ＸＤ－１０００－２Ｌ、ＮＣ－３０００（以上、いずれも日本化薬（株）製）、ＴＥＣＨＭＯＲＥＶＧ３１０１Ｌ（（株）プリンテック製）、ＴＲ－ＦＲ－２０１（Ｔｒｏｎｌｙ社製）が挙げられる。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、露光感度を向上する上で、さらに、（i）アミノベンゼンスルホン酸（以下、「（i）成分」という場合がある。）を含有することが好ましい。（i）成分としては、例えば、２－アミノベンゼンスルホン酸、３－アミノベンゼンスルホン酸、４－アミノベンゼンスルホン酸（以上、いずれも東京化成工業（株））が挙げられる。（i）成分の含有量は、露光感度を向上する上でポジ型感光性顔料組成物の固形分中、０．０１％以上が好ましい。保存安定性を維持する上で０．５重量％以下が好ましい。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は必要に応じて、その他成分としてレベリング剤や、基板表面に対する密着改良剤を含有してもよい。また、分子内にフッ素原子を含有する界面活性剤を含有させて画素分割層の表面に撥液性を付与してもよい。

　ポジ型感光性顔料組成物を調製する方法としては、湿式分散処理により（ａ）成分、（ｂ）成分、（ｃ）樹脂および（ｅ）成分を含有する顔料分散液を予め調製し、次いで（ｄ）成分および（ｅ）成分と、必要に応じて（ｆ）成分、（ｇ）成分、（i）成分およびその他成分を顔料分散液と混合、撹拌して、必要に応じてフィルタ濾過を行う方法が挙げられる。（ｈ）成分を含有させる場合、ポジ型感光性顔料組成物の保存安定性を向上する上で、（ａ）成分、（ｂ）成分、（ｃ）樹脂、（ｅ）成分および（ｈ）成分を含有する顔料分散液を予め調製することが望ましい。

　湿式分散処理を行なうための分散機としては湿式メディア分散機であっても、湿式メディアレス分散機であってもよいが、分散処理速度に優れ、経済的に有利な点で湿式メディア分散機の使用が望ましい。湿式メディア分散処理により、（ａ）成分など顔料成分の二次凝集体を解凝集させて好ましくは一次粒子径に近い領域にまで二次粒子径を細かい方向へ制御することができる。湿式メディア分散機としては、例えば、“レボミル（登録商標）”（浅田鉄工（株）製）、“ナノ・ゲッター（登録商標）”（アシザワ・ファインテック（株）製）、“ＤＹＮＯ－ＭＩＬＬ（登録商標）”（Ｗｉｌｌｙ　Ａ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社製）、“スパイクミル（登録商標）”（（株）井上製作所製）、“サンドグラインダー（登録商標）”（デュポン社製）、“ウルトラアペックスミル　アドバンス（登録商標）”（（株）広島メタル＆マシナリー製）、“ＮＥＯ－アルファミル（登録商標）”（ＡＩＭＥＸ（株）製）などのビーズミルが挙げられる。中でも、一次粒子の破壊を回避でき、平均一次粒子径、一次粒子の平均アスペクト比、および最大一次粒子径を維持しながら、一次粒子が多数凝集した二次凝集体を解きほぐすことができる点で、ウルトラアペックスミル　アドバンスが好ましい。メディアの材質はジルコニアなどのセラミックビーズが好ましく、その直径は０．０３～０．５ｍｍφが好ましい。市販品としては、“トレセラム（登録商標）”（東レ（株）製）が挙げられる。

　動的光散乱法により測定される、体積を基準とするポジ型感光性顔料組成物中の粒子成分の粒度分布におけるＤ５０（累積５０％二次粒子径）は、保存安定性を向上する上で、３０ｎｍ以上が好ましい。露光感度を向上する上で、７０ｎｍ以下が好ましい。一方で、Ｄ９０（累積９０％二次粒子径）は、保存安定性を向上する上で、８０ｎｍ以上が好ましい。露光感度を向上する上で、１５０ｎｍ以下が好ましい。Ｄ５０、Ｄ９０は、粒度分布測定試料を測定した値のことをいう。粒度分布測定試料とは、ポジ型感光性顔料組成物：希釈溶剤＝１：９９（重量比）となるよう、３回に分けて等分の希釈溶剤をポジ型感光性顔料組成物に混合して１０分間シェーカー上で攪拌した測定対象物のことをいう。希釈溶剤としては、ポジ型感光性顔料組成物が含有する（ｅ）有機溶剤と同一組成の溶剤を用いる。ここでいう粒度分布とは、動的光散乱法の粒度分布測定装置ＳＺ－１００（（株）堀場製作所製）で測定することができ、光源に対する体積を基準とした粒度分布のことをいう。Ｄ５０、Ｄ９０は累積粒度分布曲線において、小さい粒子径の側を基点（０％）として、大きい粒子径の側へ累積してそれぞれ５０％、９０％に相当する粒子径（ｎｍ）のことを意味する。

　本発明の硬化膜は、本発明のポジ型感光性顔料組成物の硬化物を含有する硬化膜であることが好ましい。ここでいう硬化物とは、ポジ型感光性顔料組成物を大気圧下２００℃以上４００℃以下の温度で１０分間以上加熱する工程を経て得られたものを意味する。

　本発明の有機ＥＬ表示装置は、本発明のポジ型感光性顔料組成物の硬化物を含有する硬化膜を具備することが好ましい。有機ＥＬ表示装置における硬化膜の形態は特に制限されるものではないが、例えば、画素分割層やＴＦＴ平坦化層が挙げられる。ポジ型感光性顔料組成物の硬化物を含有する画素分割層および／またはＴＦＴ平坦化層を具備する場合、本発明の有機ＥＬ表示装置は外光反射抑制機能に優れ、偏光板を具備することなく視認性に優れるという技術的効果を奏する。本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する硬化膜中に含有する、ポジ型感光性顔料組成物の硬化物以外の成分としては、例えば、硬化膜の形成工程中に混入した水分や、下地基板または電極などを由来として硬化膜中に混入したＮａ^＋、Ａｇ^＋などの金属イオンが挙げられる。本発明の有機ＥＬ表示装置が具備する硬化膜中の、ポジ型感光性顔料組成物の硬化物の含有量は９０重量％以上が好ましく、９５重量％以上がより好ましい。

　本発明の硬化膜を有機ＥＬ表示装置の画素分割層として利用する場合の好ましい態様を以下に説明する。

　画素分割層の膜厚１．０μｍあたりの光学濃度（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｄｅｎｓｉｔｙ）は、外光反射を抑制して表示装置としての価値を高める上で、０．５以上が好ましく、０．７以上がより好ましい。露光感度の観点から、１．３以下が好ましく、１．１以下がより好ましい。

　光学濃度とは、透明基材上に膜厚１．５μｍの膜厚となるように形成した画素分割層を、光学濃度計Ｘ－Ｒｉｔｅ　３６１Ｔ（Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）を用いて入射光強度と透過光強度を測定し、以下の式から算出された値を、膜厚の値である１．５で除した値のことを意味し、光学濃度が高いほど遮光性が高いことを示す。透明基材としては、透明ガラス基材である「テンパックス（ＡＧＣテクノグラス（株）製）」を好ましく用いることができる。

　　　光学濃度　＝　ｌｏｇ_１０（Ｉ_０／Ｉ）
　上式中、Ｉ_０：入射光強度、Ｉ：透過光強度である。

　発光層をパターン蒸着する際の蒸着マスクとの接触面積を少なくして歩留まりを向上し、かつ露光感度との両立を図る上で、段差を有する画素分割層の厚膜部の膜厚は２．５～４．０μｍが好ましく、薄膜部の膜厚は１．０～２．５μｍが好ましい。ここでいう厚膜部の膜厚および薄膜部の膜厚とは、膜の端部に位置する傾斜部の膜厚を除き、平坦部の膜厚を意味する。厚膜部と薄膜部との膜厚の差は、１．０～１．５μｍが好ましい。薄膜部にのみ開口部が形成され、厚膜部はスペーサー状に局所的に配置されていてもよい。段差を有する画素分割層の薄膜部の端部に位置する傾斜部における断面テーパー角度は、電極の断線を抑制して非点灯画素の発生を回避する上で５０°以下が好ましく、４０°以下がより好ましい。薄膜部の端部における遮光性の低下を抑制する上で１５°以上が好ましく、２０°以上がより好ましい。

　段差を有する画素分割層を形成する方法としては、ポジ型感光性顔料組成物を塗布して塗布膜を得る塗布工程と、塗布膜を加熱してプリベーク膜を得るプリベーク工程と、ポジ型ハーフトーン露光マスクを介して活性化学線をパターン露光して露光部、半露光部および未露光部とを面内に有する露光膜を得る露光工程と、アルカリ現像液を用いて現像して露光部に加えて、半露光部および未露光部の一部を除去して現像膜を得る現像工程と、加熱により熱硬化させて硬化膜を得るキュア工程とを含む方法が好ましい。

　塗布工程で用いる塗布装置としては薄膜塗布性に優れる点で、スピンコーターまたはスリットコーターを好ましく用いることができる。塗布後はピンギャッププリベークあるいはコンタクトプリベークを行ってもよい。

　プリベーク工程におけるプリベーク温度は５０～１５０℃が好ましく、プリベーク時間は３０秒間～５分間が好ましい。段差を有する画素分割層を一括形成する場合、プリベーク膜の膜厚は３．５～６．０μｍが好ましい。後述する露光工程において、近赤外線アライメントを行う場合、ポジ型感光性顔料組成物のプリベーク膜の波長８００～１，３００ｎｍにおける最大透過率は位置精度を高める上で、２０％以上が好ましく、３０％以上がより好ましい。

　露光工程で用いる露光装置としては、例えば、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、パラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）が挙げられる。露光時に照射する活性化学線としては、超高圧水銀灯のｊ線（波長３１３ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）、ｈ線（波長４０５ｎｍ）またはｇ線（波長４３６ｎｍ）が挙げられる。少なくともｈ線を含む混合線が好ましく、ｇ線、ｈ線およびｉ線を含む混合線がより好ましい。ポジ型ハーフトーン露光マスクは、全透過部、半透過部および遮蔽部を基板面内に有し、全透過部における露光量を１００％、遮蔽部の露光量を０％としたとき、半透過部における露光量が１０～５０％となるように設計されたマスクを用いることが好ましい。

　露光膜における露光部とは露光マスクの全透過部を介してパターン露光された部位を意味し、半露光部とは露光マスクの半透過部を介してパターン露光された部位を意味し、未露光部とは露光マスクの遮蔽部により露光されない部位を意味する。キュア工程後に得られる段差を有する画素分割層において、それぞれ開口部、薄膜部、厚膜部となる。

　現像工程における現像方式としては、例えば、シャワー、ディッピング、パドルなどの方式が挙げられ、露光膜を１０秒～３分間浸漬する方法が挙げられる。ハーフトーン加工性を高める上でパドル方式が好ましい。アルカリ現像液としては、０．４～２．５重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液（以下、「ＴＭＡＨ」）が好ましく、市販品としては、例えば、２．３８重量％ＴＭＡＨ（多摩化学工業（株）製）が挙げられる。現像工程後は脱イオン水のシャワーによる洗浄処理および／またはエアー噴射による水切り処理を加えても構わない。現像時間は、現像膜の膜厚の面内均一性を向上する上で、プリベーク膜の膜厚から、段差を有する現像膜の厚膜部（未露光部）の膜厚を差し引いた値、すなわち現像工程における膜減り（μｍ）が、１．０μｍ以下となるように設定することが好ましい。露光感度を向上する上で、０．５μｍ以上となるように設定することが好ましい。また、得られた現像膜に対して、第二の露光工程として露光光を再度照射してキュア工程での膜の流動性を制御してもよい。

　キュア工程においては、加熱により現像膜を熱硬化させるとともに、膜中に残存した現像液や水分などを揮散させて硬化膜を得る。加熱装置としては、例えば、熱風オーブン、ＩＲオーブンなどが挙げられ、加熱雰囲気は窒素または空気下が挙げられる。加熱温度は大気圧下２００～３５０℃が好ましく、２２０～２８０℃がより好ましい。

　本発明の有機ＥＬ表示装置は、基板、第一電極、画素分割層、発光画素および第二電極を具備する有機ＥＬ表示装置であって、該画素分割層が（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料および（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩を含有する有機ＥＬ表示装置、である。

　本発明の有機ＥＬ表示装置によれば、パネル表示部の面内の輝度のばらつき、すなわち輝度ムラが少ないという有利な技術的効果を奏する。

　図２に、本発明の実施形態の具体例として挙げられる有機ＥＬ表示装置におけるＴＦＴ基板の断面図を示す。

　基板８の表面に、ボトムゲート型またはトップゲート型の薄膜トランジスタ３（以降、ＴＦＴ３と略記する。）が行列状に設けられており、ＴＦＴ３と、ＴＦＴ３に接続された配線４とを覆う状態でＴＦＴ絶縁層５が形成されている。さらに、ＴＦＴ絶縁層５の表面には、平坦化層６が形成されており、平坦化層６には配線４へ第一電極７を接続するために開口するコンタクトホール９が設けられている。平坦化層６の表面には、第一電極７がパターン形成されており、配線４に接続されている。第一電極７のパターン周縁を囲むようにして、画素分割層１０が形成されている。画素分割層１０には開口部が設けられており、開口部には有機ＥＬ発光材料を含む、発光画素１１が形成されており、第二電極１２が、画素分割層１０と発光画素１１とを覆う状態で成膜されている。以上の積層構成からなるＴＦＴ基板を真空下で封止した後に発光画素部に電圧を印加すれば、有機ＥＬ表示装置として発光させることできる。画素分割層１０が有する開口部の形状は特に限定されず、正方形、長方形または楕円状であってよい。開口部の開口幅は後述する発光画素１１のサイズにより適宜決定すればよく、例えば、短径が１０～５０μｍであってよい。開口部の開口幅の短径が小さいほど、本発明の有機ＥＬ表示装置が奏する輝度ムラを抑制する効果は、より有用なものとなる。

　本発明の有機ＥＬ表示装置は、画素分割層が、膜厚２．５～４．０μｍの厚膜部と、膜厚１．０～２．５μｍの薄膜部を有し、かつ該厚膜部と該薄膜部との膜厚の差が１．０μｍ以上の部位を有することが好ましい。厚膜部はスペーサー効果を奏し、発光画素１１形成時に蒸着マスクとの接触面積を少なくして生産歩留まりを向上するとともに、有機ＥＬ素子の欠陥を防止し、非点灯画素の発生を抑制することができる。

　発光画素１１の発光ピーク波長は特に制限されないが、例えば、光の３原色であるブルー、レッド、グリーンの領域それぞれの発光ピーク波長を有する異なる種類の画素が配列したものを全面に成膜する構成が挙げられる。レッド領域のピーク波長は、５６０～７００ｎｍ、ブルー領域のピーク波長は４２０～４８０ｎｍ、グリーン領域のピーク波長は、５００～５５０ｎｍであってもよい。別途の積層部材としてブルー、レッド、グリーンのカラーフィルタと、それらを隔てるブラックマトリクスを表示部前面に組み合わせて配置したものであってもよい。発光画素１１を構成する有機ＥＬ発光材料としては、発光層に加え、さらに正孔輸送層および／または電子輸送層を組み合わせた材料を好適に用いることができる。発光画素１１をパターン形成する方法としてはマスク蒸着法が挙げられる。マスク蒸着法とは、蒸着マスクを用いて有機化合物を蒸着してパターニングする方法であり、具体的には、所望のパターンを開口部とした蒸着マスクを基板側に配置して蒸着を行う方法が挙げられる。高精細の発光画素を形成するために用いる蒸着マスクとしては、例えば、特開２０１９－１６３５４３号公報で開示された蒸着マスクが挙げられる。

　第一電極７としては、例えば、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）などの導電性金属酸化物を用いることができ、中でも、透明性と導電性に優れることから、ＩＴＯを好適に用いることができる。ＩＴＯをパターン形成する方法としては、スパッタ法でＩＴＯを全面成膜したのちに、エッチング用ポジ型レジスト材料をフォトリソグラフィ法によりパターン形成してＩＴＯ膜上にレジストパターンを得て、該レジストパターン非形成部のＩＴＯ膜のみをエッチング液により除去する。次いで、レジストパターンをレジスト剥離液により除去し、さらに必要に応じて所望の結晶化度となるよう熱処理を行う方法が挙げられる。エッチング用ポジ型レジスト材料としてはアルカリ可溶性ノボラック系樹脂を含有するポジ型感光性顔料組成物を用いることができる。エッチング液としては硝酸と塩酸とを含む水溶液やシュウ酸水溶液を用いることができ、市販品としては、例えば、ＩＴＯ－１０１Ｎ（関東化学（株）製）、“エスクリーン（登録商標）”ＩＳ－２、同ＩＳ－３（以上、いずれも佐々木化学薬品（株）製）が挙げられる。レジスト剥離液としては有機アミン系水溶液を用いることができ、市販品としては、例えば、“アンラスト（登録商標）”Ｍ６、同Ｍ６Ｂ、同ＴＮ－１－５、同Ｍ７１－２（以上、いずれも三若純薬研究所）が挙げられる。本発明の有機ＥＬ表示装置がトップエミッション型有機ＥＬ表示装置である場合、光反射性と基板への密着性とを向上させるため、第一電極７はＩＴＯ／銀合金／ＩＴＯの積層構成であってもよい。

　第二電極１２としては、電極として機能する層であれば、いかなる物質からなっていても構わない。第二電極１２としては、例えば、本発明の有機ＥＬ表示装置がボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置である場合、光反射性に優れる点で、アルミニウムからなる層を好ましく用いることができる。トップエミッション型有機ＥＬ表示装置である場合、光透過性に優れる点で、銀／マグネシウムなどの銀合金を好ましく用いることができる。第二電極１２は、スパッタ法で全面成膜することにより得ることができる。

　本発明の有機ＥＬ表示装置の光取り出し方向は、特に限定されず、発光画素１１から放たれる発光光を、基板８を介して基板側へ取り出す、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置であってもよく、第二電極１２を介して発光光を基板８の反対側へ取り出す、トップエミッション型有機ＥＬ表示装置であってもよい。

　基板８は、屈曲性を有さないガラスからなる基板や、屈曲性を有するポリイミド樹脂からなる基板を用いることができる。ガラスとしては、例えば、ＯＡ－１０Ｇ、ＯＡ－１１（以上、いずれも日本電気硝子（株）製）、ＡＮ－１００（旭硝子（株）製）が挙げられる。ポリイミド樹脂からなる基板としては、ポリアミド酸を含む溶液を仮支持体の表面に塗布し、次いで２５０～４００℃で加熱処理することでポリアミド酸をイミド化してポリイミド樹脂に変換した後に、仮支持体をレーザーなどで剥離することで得られる基板が挙げられる。この場合に用いられるポリアミド酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物とを、Ｎ－メチル－２－ピロリドンなどのアミド系溶剤中で反応させて合成することができ、中でも、熱線膨張係数が小さく寸法安定性に優れる点で、芳香族テトラカルボン酸二無水物の残基と、芳香族ジアミン化合物の残基とを有するポリアミド酸が好ましい。具体例としては、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の残基と、ｐ－フェニレンジアミンの残基とを有するポリアミド酸を挙げることができる。

　以下に本発明を、その実施例および比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。まず、各実施例および比較例における評価方法について説明する。

　（１）露光感度（必要最小露光量）の評価
　縦１５０ｍｍ／横１５０ｍｍの無アルカリガラス基板の表面に、スパッタ法により銀合金（９９．００重量％の銀と、１．００重量％の銅からなる合金）を全面成膜した。さらに、スパッタ法によりＩＴＯ膜を全面成膜し、無アルカリガラス基板の表面の全面に銀合金膜／ＩＴＯ膜を具備するガラス基板を得た。

　実施例１～１９、比較例１～５および比較例７で得られたポジ型感光性顔料組成物１～２４および２６を、スピンコーターを用いて最終的に得られる段差を有する画素分割層の厚膜部の膜厚が３．０±０．２μｍ、薄膜部の膜厚が１．５μｍとなるように回転数を調節して、銀合金膜／ＩＴＯ膜を具備するガラス基板のＩＴＯ表面にそれぞれ塗布し、塗布膜を得た。さらに、ホットプレートを用いて、塗布膜を大気圧下１１０℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得て、近赤外線カメラ（光源波長：８００ｎｍ）を用いてポジ型ハーフトーン露光マスク（縦：３０．０μｍ、横：３０．０μｍの正方形の全透過部が２２０個配列し、全透過部における露光量を１００％、遮蔽部の露光量を０％としたとき、半透過部における露光量が１５％となるように設計されたマスク）の位置合わせを行った。ポジ型ハーフトーン露光マスクを介して、両面アライメント片面露光装置を用いて、４０～３００（ｍＪ／ｃｍ^２：ｉ線換算値）の範囲内で１０ｍＪごとに段階的に露光量を変えて、超高圧水銀灯のｇ、ｈ、ｉ混合線をプリベーク膜にパターン露光し、露光部、半露光部および未露光部を面内に有する露光膜を得た。なお、パターン露光はポジ型ハーフトーン露光マスクをプリベーク膜の表面に接触させて行った。

　次いで、現像工程として、フォトリソグラフィ用小型現像装置（ＡＤ－１２００；滝沢産業（株）製）と、アルカリ現像液である２．３８重量％水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液とを用いてパドル方式で現像した。ここでいうパドル方式とは、露光膜の表面にアルカリ現像液を１０秒間シャワー塗布した後、所定の現像時間に達するまで静置させて現像する方式のことをいう。なお、現像時間は４０～９０秒の範囲内で、後述するキュア工程後に得られる段差を有する画素分割層の厚膜部の膜厚が３．０±０．２μｍ、薄膜部の膜厚が１．５μｍとなる時間とした。さらに、脱イオン水を用いて３０秒間シャワー方式でリンスした後に２００ｒｐｍで３０秒間の条件で基板を空回しして乾燥させ、段差を有する現像膜を具備する現像膜形成基板を得た。

　次いで、キュア工程として、高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム（株）製）を用いて現像膜を空気下２５０℃で１時間加熱して、段差を有する画素分割層を具備する露光感度評価用基板を得た。参考として、実施例１６で得られた、段差を有する画素分割層を具備する露光感度評価用基板の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察した撮像を図１に示す。図１中、１は画素分割層の厚膜部であり、２は画素分割層の薄膜部である。

　ＦＰＤ検査顕微鏡（ＭＸ－６１Ｌ；オリンパス（株）製）を用いて画素分割層の薄膜部を観察し、各露光量の領域における開口部１０箇所の開口幅の平均値が３０．０±０．１μｍの範囲内となるように開口したときの必要最小露光量（ｍＪ／ｃｍ^２：ｉ線換算値）を露光感度とし、その値が小さいほど優れているとした。以下の判定基準に基づいて評価し、Ａ～Ｃを合格、Ｄ～Ｅを不合格とした。ただし、前述の条件の範囲内で厚膜部の膜厚が３．０±０．２μｍ、薄膜部の膜厚が１．５μｍに一括形成できなかった場合は、その評価をＦとし、不合格とした。また、プリベーク膜の膜厚から、段差を有する現像膜の厚膜部（未露光部）の膜厚を差し引いた値、すなわち現像工程における膜減り（μｍ）についても評価を行い、膜減りが１．０μｍを超えた場合は、露光感度の評価対象から除外することとした。また、近赤外線カメラにより銀合金膜が視認できない場合は近赤外線アライメントが不可能であり、露光感度の評価対象から除外することとした。

　なお、比較例６で得られたネガ型感光性顔料組成物１については、前述のポジ型ハーフトーン露光マスクに替えて、ネガ型ハーフトーン露光マスク（縦：３０．０μｍ、横：３０．０μｍの正方形の遮蔽部が２２０個配列し、全透過部における露光量を１００％、遮蔽部の露光量を０％としたとき、半透過部における露光量が３０％となるように設計された反転マスク）を用いた以外は同様の方法で露光感度を求めた。
Ａ：露光感度が、４０ｍＪ／ｃｍ^２以上、１００ｍＪ／ｃｍ^２未満である。
Ｂ：露光感度が、１００ｍＪ／ｃｍ^２以上、１５０ｍＪ／ｃｍ^２未満である。
Ｃ：露光感度が、１５０ｍＪ／ｃｍ^２以上、２００ｍＪ／ｃｍ^２未満である。
Ｄ：露光感度が、２００ｍＪ／ｃｍ^２以上、２５０ｍＪ／ｃｍ^２未満である。
Ｅ：露光感度が、２５０ｍＪ／ｃｍ^２以上、３００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。
Ｆ：ハーフトーン加工が困難であり正当な評価が不可能。

　（２）硬化膜の遮光性（ＯＤ／μｍ）の評価
　実施例１～１９、比較例１～７で得られた膜厚１．５μｍの硬化膜を形成した光学特性評価用基板について、光学濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ社製；Ｘ－Ｒｉｔｅ　３６１Ｔ）を用いて膜面側から面内３箇所において全光学濃度（Ｔｏｔａｌ　ＯＤ値）を測定して平均値を算出し、その数値を１．５で除した値を、小数点第二位を四捨五入した小数点第一位までの数値を、硬化膜の厚さ１．０μｍあたりのＯＤ値（ＯＤ／μｍ）とした。ＯＤ／μｍの値が大きいほど遮光性が高く優れた硬化膜であるとの基準で評価を行った。硬化膜を形成していないテンパックスのＯＤ値を別途測定した結果、０．００であったため、光学特性評価用基板のＯＤ値を、硬化膜のＯＤ値とみなした。硬化膜の膜厚は、触針式膜厚測定装置（東京精密（株）；サーフコム）を用いて面内３箇所において測定し、その平均値の小数点第二位を四捨五入して、小数点第一位までの数値を求めた。

　（３）硬化膜の波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率の評価
　実施例１～１９、比較例１～５および比較例７で得られたポジ型感光性顔料組成物１～２４、２６、比較例６で得られたネガ型感光性顔料組成物１を用いて得られた膜厚１．５μｍの硬化膜を形成した光学特性評価用基板について、紫外可視分光光度計「ＵＶ－２６０（島津製作所（株）製）」を用いて、波長３８０～７８０ｎｍの範囲における透過率を波長１ｎｍごとに測定した。波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率（％）を面内３箇所において測定した値の平均値を算出し、その値が小さいほど優れた硬化膜であるとの基準で評価を行った。

　（４）保存安定性の評価（露光感度の変化率）
　実施例１～１９、比較例１～５および比較例７で得られたポジ型感光性顔料組成物１～２４、２６、および比較例６で得られたネガ型感光性顔料組成物１について、調製してから３０日間貯蔵後の露光感度の値から、１日間貯蔵後の露光感度の値を差し引いた値を、１日間貯蔵後の露光感度の値で除して、さらに１００を乗じた値の小数点第一位を四捨五入した値を、露光感度の変化率（％）とした。露光感度の変化率が小さいほど保存安定性が高く優れているとし、以下の判定基準に基づいて評価し、Ａ～Ｃを合格、Ｄ～Ｅを不合格とした。ただし、調製してから１日間貯蔵後または３０日間貯蔵後の少なくともいずれかの場合において、厚膜部の膜厚が３．０±０．２μｍ、薄膜部の膜厚が１．５μｍに一括形成できなかった場合は、その評価をＦとし、不合格とした。また、１日間貯蔵後または３０日間貯蔵後、少なくともいずれかの時点での評価において露光感度が２００ｍＪ／ｃｍ^２以上であった場合は、その評価をＧとし、不合格とした。ＦかつＧに相当する場合、その評価をＦとし、不合格とした。
Ａ：露光感度の変化率が、５％未満である。
Ｂ：露光感度の変化率が、５％以上、１５％未満である。
Ｃ：露光感度の変化率が、１５％以上、３０％未満である。
Ｄ：露光感度の変化率が、３０％以上、４０％未満である。
Ｅ：露光感度の変化率が、４０％以上である。
Ｆ：ハーフトーン加工が困難であり正当な評価が不可能。
Ｇ：１日間貯蔵後または３０日間貯蔵後、少なくともいずれかの時点での評価において露光感度が２００ｍＪ／ｃｍ^２以上である。

　（５）ハーフトーン加工性の評価
　実施例１～１９、比較例１～３、および比較例６～７で得られた画素分割層形成基板について、ＦＰＤ検査顕微鏡を用いて観察し、面内１０箇所の開口部の開口幅を測長した。最大開口幅Ｗ_１（μｍ）から最小開口幅Ｗ_２（μｍ）を差し引いた値Ｗ_３（μｍ）が小さいほど優れているとし、以下の判定基準に基づいて評価し、Ａ～Ｃを合格、Ｄ～Ｅを不合格とした。ただし、厚膜部の膜厚が３．０±０．２μｍ、薄膜部の膜厚が１．５μｍに一括形成できなかった場合は、その評価をＦとし、不合格とした。
Ａ：Ｗ_３が、１．０μｍ未満である。
Ｂ：Ｗ_３が、１．０μｍ以上、１．２μｍ未満である。
Ｃ：Ｗ_３が、１．２μｍ以上、１．５μｍ未満である。
Ｄ：Ｗ_３が、１．５μｍ以上、２．０μｍ未満である。
Ｅ：Ｗ_３が、２．０μｍ以上である。
Ｆ：ハーフトーン加工が困難であり正当な評価が不可能。

　（６）有機ＥＬ表示装置の評価
　実施例１～１９、比較例１～３、および比較例６～７で得られた有機ＥＬ表示装置を、１０ｍＡ／ｃｍ^２の直流駆動により発光させて、縦３０ｍｍ／横３０ｍｍのエリア内に形成した画素部において中央部に位置する画素部３０箇所を、倍率５０倍でモニター上に拡大表示させて観察し、面内の輝度のムラを以下の判定基準に基づいて評価し、Ａ～Ｃを合格、Ｄ～Ｅを不合格とした。ただし、非点灯画素が１箇所以上観られた場合は、その評価をＥとし、不合格とした。
Ａ：輝度ムラが観られない。
Ｂ：輝度ムラが僅かに観られる。
Ｃ：輝度ムラが観られる。
Ｄ：輝度ムラが顕著に観られる。
Ｅ：非点灯画素が１箇所以上観られる。

　以下に、実施例および比較例で用いた各種原料についての情報を示す。

　（合成例１：ヒドロキシル基含有ジアミン化合物Ａの合成）
　１８．３ｇ（０．０５ｍｏｌ）の２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを、１００ｍＬのアセトン、１７．４ｇ（０．３ｍｏｌ）のプロピレンオキシドに溶解させ、－１５℃に冷却した。ここに０．１１ｍｏｌ（２０．４ｇ）の３－ニトロベンゾイルクロリドを、１００ｍＬのアセトンに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、－１５℃で４時間反応させて、その後室温に戻した。析出した白色固体を濾別し、５０℃で真空乾燥した。固体３０ｇを３００ｍＬのステンレスオートクレーブに入れ、メチルセロソルブ２５０ｍＬに分散させ、５％パラジウム－炭素を２ｇ加えた。ここに水素を風船で導入して、還元反応を室温で行なった。約２時間後、風船がこれ以上しぼまないことを確認して反応を終了させた。反応終了後、濾過して触媒であるパラジウム化合物を除き、ロータリーエバポレーターで濃縮し、式（５４）で表されるヒドロキシル基含有ジアミン化合物Ａを得た。

　（合成例２：ポリイミド前駆体Ｂの合成）
　乾燥窒素気流下、３１．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）の３，３’，４，４’－ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物を、５００ｇのＮＭＰに溶解させた。ここに合成例１で得られた４５．３５ｇ（０．０７５ｍｏｌ）のヒドロキシル基含有ジアミン化合物Ａと、１．２４ｇ（０．００５ｍｏｌ）の１，３－ビス（３－アミノプロピル）テトラメチルジシロキサンを、５０ｇのＮＭＰとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で２時間反応させた。末端封止剤として、４．３６ｇ（０．０４ｍｏｌ）の４－アミノフェノールを、５ｇのＮＭＰとともに加え、５０℃で２時間反応させた。その後、２８．６ｇ（０．２４ｍｏｌ）のＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドジメチルアセタールを５０ｇ投入した。投入後、５０℃で３時間撹拌した。撹拌終了後、溶液を室温まで冷却した後、溶液を３Ｌの水に投入して白色沈殿を得た。以上の操作を５回繰り返して得られた白色沈殿を濾物として集め、水で５回洗浄した後、８０℃の真空乾燥機で２４時間乾燥させ、ポリイミド前駆体Ｂを得た。ポリイミド前駆体Ｂは（ｃ－１）成分であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２５，０００であり、アミン価は１．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

　（合成例３：ポリイミド樹脂Ｃの合成）
　乾燥窒素気流下、１５０．１５ｇ（０．４１ｍｏｌ）の２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、６．２０ｇ（０．０２ｍｏｌ）の１，３－ビス（３－アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、および末端封止剤である１３．６５ｇ（０．１３ｍｏｌ）の３－アミノフェノールを、５００．００ｇのＮＭＰに溶解し、そこに１５５．１０ｇ（０．５０ｍｏｌ）のビス（３，４－ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、および１５０．００ｇのＮＭＰを加えて２０℃で１時間撹拌し、さらに水を除去しながら１８０℃で４時間撹拌した。反応終了後、反応液を１０Ｌの水に投入し、生成した沈殿物を濾過して集め、水で５回洗浄し、８０℃ の真空乾燥機で２０時間乾燥して、式（３８）で表される構造単位を有し、式（３９）で表される構造単位を有さないポリイミド樹脂Ｃを得た。ポリイミド樹脂Ｃは（ｃ－１）成分であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は２５，０００であり、アミン価は１．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

　（合成例４：メタクリル系樹脂溶液Ｄの合成）
　特許文献２の合成例２を参照し、以下の方法でメタクリル系樹脂溶液Ｄを得た。

　乾燥窒素気流下、液温１００℃に維持した１８５．４４ｇのＰＧＭＥＡ中に、１２．９１ｇ（０．１５ｍｏｌ）のメタクリル酸と、５５．０７ｇ（０．５５ｍｏｌ）のメチルメタクリレートと、リン酸基を有するエチレン性不飽和モノマーである２１．０１ｇ（０．１０ｍｏｌ）のアシッドホスホキシエチルメタクリレートと、２６．４３ｇ（０．１５ｍｏｌ）のベンジルメタクリレートと、８．２１ｇのアゾビスイソブチロニトリルとの混合液を３０分間かけて滴下していき、さらに液温を１００℃に維持したまま１時間撹拌することで熱重合反応を進行させた後に冷却し、リン酸基を有するメタクリル系樹脂ｄを合成した。メタクリル系樹脂ｄは（ｃ－１）成分であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は９，５００であった。これを固形分３０重量％となるようにＰＧＭＥＡで希釈して、メタクリル系樹脂溶液Ｄを得た。

　（合成例５：ポリイミド樹脂Ｅの合成）
　乾燥窒素気流下、５８．６０ｇ（０．１６ｍｏｌ）の２，２－ビス（３－アミノ－４－ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、末端封止剤として８．７３ｇ（０．０８ｍｏｌ）の３－アミノフェノールを、３００．００ｇのＮＭＰに溶解した。ここに、６２．０４ｇ（０．２０ｍｏｌ）の３，３’，４，４’－ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物を、１００．００ｇのＮＭＰとともに添加し、２０℃で１時間攪拌し、次いで５０℃で４時間攪拌した。その後、キシレンを１５ｇ添加し、水をキシレンとともに共沸しながら、１５０℃で５時間撹拌した。撹拌終了後、溶液を水５Ｌに投入して白色沈殿を集めた。この沈殿を濾過で集めて、水で３回洗浄した後、８０℃の真空乾燥機で２４時間乾燥し、式（３８）で表される構造単位を有し、式（３９）で表される構造単位を有さないポリイミド樹脂Ｅを得た。ポリイミド樹脂Ｅは（ｃ－１）成分であり、数平均分子量（Ｍｗ）は８，２００であり、アミン価は１．０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。

　（合成例６：キノンジアジド化合物ａの合成）
　乾燥窒素気流下、２１．２２ｇ（０．０５ｍｏｌ）のＴｒｉｓＰ－ＰＡ（本州化学工業（株）製）と、３６．２７ｇ（０．１３５ｍｏｌ）の５－ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドを、４５０ｇの１，４－ジオキサンに溶解させ、室温にした。ここに、１５．１８ｇのトリエチルアミンを、５０ｇの１，４－ジオキサンに溶解させた液を、系内が３５℃以下となるように滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入した。その後濾過を行い、析出した沈殿物を集めた。この沈殿物を真空乾燥機で乾燥させ、（ｄ）成分である式（５５）で表されるキノンジアジド化合物ａを得た。キノンジアジド化合物ａは（ｄ）成分である。

式（５５）中、＊は酸素原子との結合部位を表す。

　（合成例７：キノンジアジド化合物ｂの合成）
　３６．２７ｇ（０．１３５ｍｏｌ）の５－ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドに替えて、３６．２７ｇ（０．１３５ｍｏｌ）の４－ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドを用いた以外は合成例３と同じ方法で合成を行い、式（５６）で表されるキノンジアジド化合物ｂを得た。キノンジアジド化合物ｂは（ｄ）成分である。

式（５６）中、＊は酸素原子との結合部位を表す。

　（製造例１：微細化ペリレンブラック顔料１の製造）
　１，０００．００ｇの“Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｋ００８７（ＢＡＳＦ社製）を、大気圧下／空気下２５０℃のオーブンで１時間加熱し、室温となるまで冷却した後にボールミルで乾燥凝集を解きほぐし、紫味がかった黒色顔料１を得た。次いで、以下の手順でソルベントソルトミリングによる物理的微細化処理を行った。

　５００．００ｇの黒色顔料１と、２．５ｋｇの摩砕材（２３０℃１時間の加熱処理をして予め水分を０．１重量％とした平均一次粒子径０．５μｍの塩化ナトリウム粒子）、２５０．００ｇのジプロピレングリコールとを混合して、ステンレス製１ガロンニーダー（井上製作所製）に仕込み、９０℃で８時間混練した。この混練物を５Ｌの温水に投入し、７０℃に維持しながら１時間攪拌してスラリー状とし、イオンクロマトグラフィで定量される塩素イオンが５０重量ｐｐｍ以下となるまで濾過、水洗を繰り返して、摩砕材およびジプロピレングリコールを除去した。さらに、大気圧下／空気下１００℃のオーブンで６時間乾燥させた後にボールミルで乾燥凝集を解きほぐし、式（９）で表される化合物および式（１０）で表される化合物の異性体混合物からなる微細化ペリレンブラック顔料１を得た。なお、微細化ペリレンブラック顔料１は（ａ）成分であり、平均一次粒子径２５ｎｍ、最大一次粒子径９８ｎｍ、平均アスペクト比１．１である。なお、微細化ペリレンブラック顔料１の化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（製造例２：微細化ペリレンブラック顔料２の製造）
　７０℃で融解させた２，６４８．１６ｇのフェノール中に、５８８．４８ｇ（１．５０ｍｏｌ）のペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物と、４０８．６０ｇ（３．００ｍｏｌ）の４，５－ジメチル－１，２－フェニレンジアミンと、６４．６１ｇのピペラジンとを添加した混合物を、攪拌を維持しながら液温を１７０℃に昇温した。次いで、１７０℃の加熱条件で８時間撹拌を行い、反応を十分に進行させた後、生成した水をフェノールとの共沸混合物として蒸留分離した。次いで、１３０℃に冷却し、エタノール５００ｇを５０ｇずつ段階的に添加し、６０℃で１時間撹拌した後に反応生成物を濾別した。濾液が透明になるまでエタノールで洗浄した後に水洗し、減圧下８０℃で２４時間乾燥させて、顔料クルード２を得た。次いで、以下の手順でソルベントソルトミリングによる物理的微細化処理を行った。

　５００．００ｇの顔料クルード２と、２．５ｋｇの摩砕材（２３０℃１時間の加熱処理をして予め水分を０．１重量％とした平均一次粒子径０．５μｍの塩化ナトリウム粒子）、２５０．００ｇのジプロピレングリコールとを混合して、ステンレス製１ガロンニーダー（井上製作所製）に仕込み、９０℃で１０時間混練した。この混練物を５Ｌの温水に投入し、７０℃に維持しながら１時間攪拌してスラリー状とし、イオンクロマトグラフィで定量される塩素イオンが５０重量ｐｐｍ以下となるまで濾過、水洗を繰り返して、摩砕材およびジプロピレングリコールを除去した。さらに、大気圧下／空気下１００℃のオーブンで６時間乾燥させた後にボールミルで乾燥凝集を解きほぐし、式（５７）で表される化合物、および式（５８）で表される化合物の異性体混合物からなる微細化ペリレンブラック顔料２を得た。

　なお、微細化ペリレンブラック顔料２は（ａ）成分であり、平均一次粒子径２６ｎｍ、最大一次粒子径１１０ｎｍ、平均アスペクト比１．１である。なお、微細化ペリレンブラック顔料２の化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（製造例３：微細化ペリレンブラック顔料３の製造）
　７０℃で融解させた２，６４８．１６ｇのフェノール中に、５８８．４８ｇ（１．５０ｍｏｌ）のペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物と、３７８．３０ｇ（３．００ｍｏｌ）の４－フルオロ－１，２－フェニレンジアミンと、６４．６１ｇのピペラジンとを添加した混合物を、攪拌を維持しながら液温を１７０℃に昇温した。次いで、１７０℃の加熱条件で８時間撹拌を行い、反応を十分に進行させた後、生成した水をフェノールとの共沸混合物として蒸留分離した。次いで、１３０℃に冷却し、エタノール５００ｇを５０ｇずつ段階的に添加し、６０℃で１時間撹拌した後に反応生成物を濾別した。濾液が透明になるまでエタノールで洗浄した後に水洗し、減圧下８０℃で２４時間乾燥させて、顔料クルード３を得た。以降は製造例２と同じ方法でソルベントソルトミリングによる物理的微細化処理を行い、式（５９）で表される化合物および式（６０）で表される化合物の異性体混合物からなる微細化ペリレンブラック顔料３を得た。

　なお、微細化ペリレンブラック顔料３は（ａ）成分であり、平均一次粒子径４５ｎｍ、平均アスペクト比１．３、最大一次粒子径１１９ｎｍである。なお、微細化ペリレンブラック顔料３の化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（製造例４：微細化ペリレンブラック顔料４の製造）
　７０℃で融解させた２，６４８．１６ｇのフェノール中に、５８８．４８ｇ（１．５０ｍｏｌ）のペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物と、４７４．６０ｇ（３．００ｍｏｌ）の１，８－ジアミノナフタレンと、６４．６１ｇのピペラジンとを添加した混合物を、攪拌を維持しながら液温を１７０℃に昇温した。次いで、１７０℃の加熱条件で８時間撹拌を行い、反応を十分に進行させた後、生成した水をフェノールとの共沸混合物として蒸留分離した。次いで、１３０℃に冷却し、エタノール５００ｇを５０ｇずつ段階的に添加し、６０℃で１時間撹拌した後に反応生成物を濾別した。濾液が透明になるまでエタノールで洗浄した後に水洗し、減圧下８０℃で２４時間乾燥させて、顔料クルード４を得た。以降は製造例２と同じ方法でソルベントソルトミリングによる物理的微細化処理を行い、式（６１）で表される化合物および式（６２）で表される化合物の異性体混合物からなる微細化ペリレンブラック顔料４を得た。

　なお、微細化ペリレンブラック顔料４は（ａ）成分であり、平均一次粒子径８５ｎｍ、平均アスペクト比１．６、最大一次粒子径１２５ｎｍである。なお、微細化ペリレンブラック顔料４の化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（製造例５：微細化ジオキサジン顔料１の製造）
　１，０００．００ｇのＣ．Ｉ．ピグメントブルー８０（クラリアント社製）を、大気圧下／空気下２００℃のオーブンで１時間加熱した後に、室温となるまで冷却した後にボールミルで乾燥凝集を解きほぐし、紫味がかった青色のジオキサジン顔料である青色顔料１を得た。次いで、以下の手順でソルベントソルトミリングによる物理的微細化処理を行った。

　５００．００ｇの青色顔料１と、２．５ｋｇの摩砕材（製造例２で使用したものと同一）、２５０．００ｇのジプロピレングリコールとを混合して、ステンレス製１ガロンニーダー（井上製作所製）に仕込み、９０℃で５時間混練した。この混練物を５Ｌの温水に投入し、７０℃に維持しながら１時間攪拌してスラリー状とし、濾過、水洗を３回繰り返して、摩砕材およびジプロピレングリコールを除去した。さらに、大気圧下／空気下１００℃のオーブンで６時間乾燥させた後にボールミルで乾燥凝集を解きほぐし、式（１１）中、Ｒ^６３およびＲ^６４が塩素原子であり、Ｒ^６５およびＲ^６８が水素原子であり、Ｒ^６６およびＲ^６７がエチル基である化合物からなる微細化ジオキサジン顔料１を得た。なお、微細化ジオキサジン顔料１は（ｈ）成分であり、平均一次粒子径３４ｎｍ、最大一次粒子径１４０ｎｍ、平均アスペクト比１．２である。なお、微細化ジオキサジン顔料１の化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（製造例６：微細化ジオキサジン顔料２の製造）
　１，０００．００ｇの“Ｃｒｏｍｏｐｈｔａｌ（登録商標）”Ｖｉｏｌｅｔ　Ｄ５７００（ＢＡＳＦ社製：Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７）を、大気圧下／空気下２００℃のオーブンで１時間加熱した後に、室温となるまで冷却した後にボールミルで乾燥凝集を解きほぐし、紫色のジオキサジン顔料である紫色顔料１を得た。次いで、以下の手順でソルベントソルトミリングによる物理的微細化処理を行った。

　５００．００ｇの紫色顔料１と、２．５ｋｇの摩砕材（製造例２で使用したものと同一）、２５０．００ｇのジプロピレングリコールとを混合して、ステンレス製１ガロンニーダー（井上製作所製）に仕込み、９０℃で５時間混練した。この混練物を５Ｌの温水に投入し、７０℃に維持しながら１時間攪拌してスラリー状とし、濾過、水洗を３回繰り返して、摩砕材およびジプロピレングリコールを除去した。さらに、大気圧下／空気下１００℃のオーブンで６時間乾燥させた後にボールミルで乾燥凝集を解きほぐし、式（１２）中、Ｒ^１３１およびＲ^１３２がエチル基であり、Ｒ^１３３およびＲ^１３４がメチル基であり、Ｒ^１３５およびＲ^１３６がＮＨである化合物からなる微細化ジオキサジン顔料２を得た。
なお、微細化ジオキサジン顔料２は（ｈ）成分であり、平均一次粒子径３０ｎｍ、最大一次粒子径１１０ｎｍ、平均アスペクト比１．０である。なお、微細化ジオキサジン顔料２の化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　以上の製造例１～４で製造した微細化ペリレンブラック顔料１～４、製造例５～６で製造した微細化ジオキサジン顔料１～２に加えて、 “ＩＲＧＡＰＨＯＲ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｓ００８４（ＢＡＳＦ社製；Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック３１；以下、「Ｂｌａｃｋ　Ｓ００８４」）、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７９、およびＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０の平均一次粒子径、平均アスペクト比および最大一次粒子径を表１にまとめて示す。

　（合成例８：色素Ａの合成）
　顆粒状の色素であるＤａｉｗａ　Ｒｅｄ　１７８（ダイワ化成（株）製）を乳鉢で磨り潰し、ステンレス製ふるい濾過器（開口径３８μｍ）にかけて粗大分を除去して得られた５０．００ｇのパウダーを、９５０．００ｇのＰＧＭＥ：水＝重量比１：１混合溶液に添加して３０分間撹拌して予備攪拌液を得た。１．０ｍｍφのジルコニアビーズ（“トレセラム（登録商標）”東レ（株）製）が充填率７５体積％でベッセル内に充填された横型ビーズミル（“ＤＹＮＯ－ＭＩＬＬ（登録商標）”Ｗｉｌｌｙ　Ａ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社製）に予備攪拌液を送液し、循環方式で湿式メディア分散処理を周速１０ｍ／ｓで２時間行った後、濾過フィルタに通液させた薄い赤色の濾液を廃棄し、イオンクロマトグラフィで定量される硫酸イオンが５０ｐｐｍを下回るまで水洗を行い、濾物を集めた。濾物を減圧下８０℃で２４時間乾燥させて、固形分１００％のパウダー状の色素Ａを得た。色素Ａは（ｂ－２）成分であり、式（２４）で表される化合物、式（２５）で表される化合物および式（２６）で表される化合物の重量比率４２：５５：３の混合物である。なお、色素Ａの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析し、色素Ａを構成する化合物の重量比率はＬＣ－ＭＳを用いて分析した。

　（合成例９：色素Ｂの合成）
　５０．００ｇのＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７８を、５００．００ｇの８０重量％濃硫酸に溶解させて加熱し、液温７０℃で６時間攪拌を行い、スルホン化反応を進行させた。次いで、５ｋｇの氷水の中に投入して析出物を含むスラリーを得て濾過を行った。次いで、濾物をエタノールで洗浄した後に、硫酸イオンの残存量が５０重量ｐｐｍを下回るまで繰り返し水洗を行い、減圧下８０℃で２４時間乾燥させた。さらに、ナノジェットマイザー（（株）アイシンナノテクノロジーズ製）を用いて乾式粉砕処理を行い、ステンレス製ふるい濾過器（開口径５０μｍ）にかけて粗大分を除去し、パウダー状の色素Ｂを得た。色素Ｂは（ｂ－２）成分であり、式（２４）で表される化合物、式（２５）で表される化合物および式（２６）で表される化合物の重量比率２５：６５：１０の混合物である。なお、色素Ｂの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析し、色素Ｂを構成する化合物の重量比率はＬＣ－ＭＳを用いて分析した。

　（合成例１０：色素Ｃの合成）
　５０．００ｇのＣ．Ｉ．ピグメントブラック３１を、５００．００ｇの８０重量％濃硫酸に溶解させて加熱し、液温６０℃で４時間攪拌を行い、スルホン化反応を進行させた。以降の工程は合成例６と同様の方法で行い、パウダー状の色素Ｃを得た。色素Ｃは（ｂ－１）成分であり、式（２１）で表される化合物および式（６３）で表される化合物の重量比率３３：６７の混合物である。なお、色素Ｃの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析し、色素Ｃを構成する化合物の重量比率はＬＣ－ＭＳを用いて分析した。

　（合成例１１：色素Ｄの合成）
　１９６．１６ｇ（０．５０ｍｏｌ）のペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物と、１５１．１６ｇ（１．００ｍｏｌ）の３－（アミノメチル）安息香酸とを、１００℃で融解させた１，９６１．６０ｇのイミダゾール中に添加し、窒素雰囲気下で１３０℃の加熱温度で６時間攪拌してイミド化反応を進行させた。得られた反応生成物を１０℃に冷却した後、５ｋｇの氷水の中に投入して析出物を含むスラリーを得て濾過を行った。次いで、濾物をエタノールで洗浄した後に水洗を行い、減圧下８０℃で２４時間乾燥させた。さらに、ナノジェットマイザーを用いて乾式粉砕処理を行い、ステンレス製ふるい濾過器（開口径５０μｍ）にかけて粗大分を除去し、パウダー状の色素Ｄを得た。色素Ｄは（ｂ－１）成分であり、式（２３）で表される化合物である。なお、色素Ｄの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（合成例１２：色素Ｅの合成）
　１３４．０９ｇ（０．５０ｍｏｌ）のナフタレン－１，４，５，８－テトラカルボン酸二無水物と、２９１．３３ｇ（１．００ｍｏｌ）の３－［（４－アミノ－３－メチルフェニル）アゾ］ベンゼンスルホン酸とを、１００℃で融解させた１３４０．９０ｇのイミダゾール中に添加して加熱し、窒素雰囲気下、液温１５０℃で６時間攪拌してイミド化反応を進行させた。得られた反応生成物を１０℃に冷却した後、５ｋｇの氷水の中に投入して析出物を含むスラリーを得て濾過を行った。次いで、濾物をエタノールで洗浄した後に水洗を行い、減圧下８０℃で２４時間乾燥させた。さらに、ナノジェットマイザーを用いて乾式粉砕処理を行い、ステンレス製ふるい濾過器（開口径５０μｍ）にかけて粗大分を除去し、パウダー状の色素Ｅを得た。色素Ｅは（ｂ－２）成分であり、式（６４）で表される化合物である。なお、色素Ｅの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（合成例１３：色素Ｆの合成）
　５０．００ｇのＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８を、２５０．００ｇの１１重量％の発煙硫酸に溶解させて加熱し、液温９０℃で６時間攪拌を行い、スルホン化反応を進行させた。２５℃まで冷却した後に５００ｇの水の中に投入して析出物を含むスラリーを得て濾過を行った。次いで、濾物を硫酸イオンの残存量が５０重量ｐｐｍを下回るまで繰り返し水洗を行い、減圧下９０℃で２４時間乾燥させた。さらに、ナノジェットマイザーを用いて乾式粉砕処理を行い、ステンレス製ふるい濾過器（開口径５０μｍ）にかけて粗大分を除去し、パウダー状の色素Ｆを得た。色素Ｆは（ｂ）成分に相当しない化合物であり、式（６５）で表される化合物である。なお、色素Ｆの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　（合成例１４：色素Ｇの合成）
　７８．４６ｇ（０．２０ｍｏｌ）のペリレン－３，４，９，１０－テトラカルボン酸二無水物と、３４．７３ｇ（０．２７ｍｏｌ）の３－ジエチルアミノプロピルアミンとを、１３０７．７３ｇのｏ－ジクロロベンゼンに添加し、液温１２０℃で３時間攪拌を行い、イミド化反応を進行させた。減圧蒸留によりｏ－ジクロロベンゼンを除去し、アセトンで洗浄した後に、水洗および濾過を行い、減圧下９０℃で２４時間乾燥させた。さらに、ナノジェットマイザーを用いて乾式粉砕処理を行い、ステンレス製ふるい濾過器（開口径５０μｍ）にかけて粗大分を除去し、パウダー状の色素Ｇを得た。色素Ｇは（ｂ）成分に相当しない化合物であり、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有する、式（６６）で表される化合物である。なお、色素Ｇの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　色素Ｈ：特許文献２で開示されたペリレン系色素誘導体８。（ｂ）成分に相当しない化合物であり、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有する、式（６７）で表される化合物。

　（合成例１５：色素Iの合成）
　５０．００ｇのＮ，Ｎ’－ジフェニル－３，４，９，１０－ペリレンジカルボキシミド（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を、５００．００ｇの７０重量％濃硫酸に溶解させて加熱し、液温７０℃で３時間攪拌を行い、スルホン化反応を進行させた。液温４０℃に冷却した後に５ｋｇの氷水の中に投入して赤色析出物を含むスラリーを得て濾過を行った。エタノールおよび脱イオン水で洗浄して濾過を行い、赤色析出物Ａを濾物として得た。ＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析したところ、赤色析出物ＡはＮ，Ｎ’－ジフェニル－３，４，９，１０－ペリレンジカルボキシミドのモノスルホン化物であった。次いで、赤色析出物Ａを含む濾物を３ｋｇの脱イオン水に添加、攪拌して再度スラリー化した。さらに、スラリーのｐＨが１１．０になるまで、水酸化ナトリウムの２０重量％水溶液を攪拌しながら段階的に添加した後に液温６０℃に昇温し、３時間攪拌を行った。次いで、スラリーのｐＨが３．５を示すまで塩化カルシウム（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社製）の５重量％水溶液を攪拌しながら段階的に添加して赤色析出物Ｂを生成させ、これを濾別して繰り返し水洗を行い、減圧下８０℃で２４時間乾燥させた。さらに、ナノジェットマイザー（（株）アイシンナノテクノロジーズ製）を用いて乾式粉砕処理を行い、ステンレス製ふるい濾過器（開口径５０μｍ）にかけて粗大分を除去し、パウダー状の色素Iを得て、蛍光Ｘ線分析によりカルシウム塩であることを確認した。色素Iは（ｂ）成分であり、式（７５）で表される化合物である。

　色素Ｊ：欧州特許出願公開第０４８６５３１号の実施例７に基づいて合成し、シリカゲルクロマトグラフィにより精製処理をして得られた、式（７６）で表される化合物。色素Ｊの化学構造はＭＡＬＤＩ－ＴＯＦ　ＭＳを用いて分析した。

　色素Ｋ：式（７７）で表されるペリレン－３－スルホン酸（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ社製）

　以上の色素Ａ～Ｋが分子内に有する式（２）で表される構造の数、および分子内に有する官能基の数について表２にまとめて示す。表２中、「０」の表記は、有さないことを意味する。

　（調製例１：顔料分散液１の調製）
　（ｅ）成分である９００．００ｇの混合溶剤（ＰＧＭＥ、乳酸エチルおよびγ－ブチロラクトン；重量比率５０：４０：１０）中に、（ｃ－１）成分である６８．３８ｇのポリイミド前駆体Ｂを添加し、３０分間攪拌して溶解させた。さらに、（ｂ－２）成分である４．５９ｇの色素Ａを添加し、３０分間攪拌した後に、（ａ）成分である２７．０３ｇの“Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｋ００８７（表３中、「Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ　Ｂｌａｃｋ　Ｋ００８７」）を添加して３０分間攪拌し、予備攪拌液を得た。次いで、０．０５ｍｍφのジルコニアビーズである“トレセラム（登録商標）”（東レ（株）製）が充填率７５体積％でベッセル内に充填された縦型ビーズミル“ウルトラアペックスミル　アドバンス（登録商標）”；（株）広島メタル＆マシナリー製）に予備攪拌液を送液し、循環方式で周速１０ｍ／ｓで５時間の湿式メディア分散処理を行い、固形分１０．００重量％の顔料分散液を得た。口径０．８μｍの濾過フィルタで第一の濾過を行い、さらに口径０．２μｍの濾過フィルタで第二の濾過を行った。濾過前後で小数点第二位までの固形分の値としては変動が観られず、（ａ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）樹脂＝重量比率１００：１７：２５３であり、固形分１０．００重量％の顔料分散液１を得た。各原料の配合重量を表３に示す。

　（調製例２～５：顔料分散液２～５の調製）
　 “Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｋ００８７に替えて、微細化ペリレンブラック顔料１～４をそれぞれ用いたこと以外は調製例１と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、顔料分散液２～５を得た。各原料の配合重量を表３に示す。

　（調製例６～９：顔料分散液６～９の調製）
　色素Ａに替えて、色素Ｂ～Ｅをそれぞれ用いたこと以外は調製例１と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、顔料分散液６～９を得た。各原料の配合重量を表４に示す。

　（調製例１０：顔料分散液１０の調製）
　ポリイミド前駆体Ｂに替えて、ポリイミド樹脂Ｃを用いたこと以外は調製例１と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、顔料分散液１０を得た。各原料の配合重量を表４に示す。

　（調製例１１～１２：顔料分散液１１～１２の調製）
　調製例６を基準に、各原料の配合量の比率を変えたこと以外は調製例１と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、顔料分散液１１～１２を得た。各原料の配合重量を表４に示す。

　（調製例１３～１４：顔料分散液１３～１４の調製）
　色素Ａに替えて、色素Ｆ～Ｇをそれぞれ用いたこと以外は調製例１と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、顔料分散液１３～１４を得た。各原料の配合重量を表５に示す。

　（調製例１５：顔料分散液１５の調製）
　２６．７２ｇのポリイミド樹脂Ｃと、９３．７５ｇのメタクリル系樹脂溶液Ｄ（固形分３０重量％）と、７８４．３８ｇのＰＧＭＥＡと、１．４１ｇの色素Ｈとを混合して３０分間撹拌して予備攪拌液を得た。次いで、２８．１３ｇのＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１９２（平均一次粒子径４２ｎｍ）と、２８．１３ｇのＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７９（平均一次粒子径４８ｎｍ）と、３７．５０ｇのＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０（平均一次粒子径６１ｎｍ）を投入して３０分間撹拌した。０．４ｍｍφのジルコニアビーズである“トレセラム（登録商標）”（東レ（株）製）が充填された横型ビーズミル（“ＤＹＮＯ－ＭＩＬＬ（登録商標）”Ｗｉｌｌｙ　Ａ．Ｂａｃｈｏｆｅｎ社製）を用いて、３０分間循環式で湿式メディア分散処理を行った。次いで、０．０５ｍｍφのジルコニアビーズである“トレセラム（登録商標）”（東レ（株）製）が充填率７５体積％でベッセル内に充填された縦型ビーズミル（“ウルトラアペックスミル（登録商標）”（株）広島メタル＆マシナリー製）を用いて、循環式で湿式メディア分散処理を行い、３０分間を経過して以降、分散処理時間が１０分間経過するごとにガラス瓶へ適量抜き出してサンプリングした顔料分散液を、動的光散乱法粒度分布測定装置ＳＺ－１００にセットして平均分散粒子径を測定して、サンプリング後３０分間後の時点で１５０ｎｍ±２０ｎｍの範囲内となった顔料分散液を顔料分散液１３とした。ここでいう平均分散粒子径とは、顔料分散液が含有する全ての顔料粒子の二次粒子径の数平均値を意味する。

　（調製例１６：顔料分散液１６の調製）
　８９１．７１ｇのＰＧＭＥＡ中に、６０．００ｇのＴＲＲ５０１０Ｇ（旭有機材（株）製；固形分１００重量％；（ｃ－１）成分であるＰＧＭＥＡ可溶性フェノール樹脂）を添加し、３０分間攪拌して溶解させた。次いで、（ｃ－２）成分である２１．２７ｇのＢＹＫ－ＬＰＮ６９１９（ビックケミージャパン（株）製；固形分６１重量％のＰＧＭＥＡ溶液。溶剤を除いた樹脂分のアミン価１１８ｍｇＫＯＨ／ｇ；Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有するブロック重合型メタクリル系樹脂）を添加して５分間攪拌した後に、（ａ）成分である２７．０３ｇの“Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｋ００８７を添加して３０分間攪拌し、予備攪拌液を得た。以降は調製例１と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、固形分１０．００重量％の顔料分散液１６を得た。各原料の配合重量を表５に示す。

　（調製例１７：顔料分散液１７の調製）
　３０．００ｇのポリイミド樹脂Ｅと、（ｃ－１）成分である。３０．００ｇの“ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ（登録商標）”２００００（ルーブリゾール社製；固形分１００重量％；アミン価３２ｍｇＫＯＨ／ｇ；Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有するポリエーテル系樹脂）と、８５０．００ｇのＭＢＡとを混合して３０分間撹拌した。次いで、９０．００ｇの“ＩＲＧＡＰＨＯＲ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｓ００８４（ＢＡＳＦ社製；（以下、「Ｂｌａｃｋ　Ｓ００８４」）を混合し、高速攪拌機（ホモディスパー２．５型；プライミクス（株）製）を用いて２０分間攪拌し、予備攪拌液を得た。次いで、０．３０ｍｍφのジルコニア粉砕ボール（ＹＴＺ；東ソー（株）製）が充填率７５体積％でベッセル内に充填された縦型ビーズミル（“ウルトラアペックスミル（登録商標）”（株）広島メタル＆マシナリー製）に、予備分散液を送液し、周速７．０ｍ／ｓで３時間処理して、固形分１５．００重量％の顔料分散液１７を得た。

　（実施例１）
　黄色灯下、（ｅ）成分である８．０３ｇの混合溶剤（ＰＧＭＥ、乳酸エチルおよびγ－ブチロラクトン；重量比率５０：４０：１０）中に、（ｃ－１）成分である０．８３ｇのポリイミド前駆体Ｂと、１．２７ｇのキノンジアジド化合物ａと、０．１５ｇのキノンジアジド化合物ｂと、（ｆ）成分である０．６８ｇの４，４’，４”－トリヒドロキシトリフェニルメタンと、（ｇ）成分である０．７５ｇのＨＭＯＭ－ＴＰＨＡＰ（本州化学工業（株）製；式（６８）で表される化合物）と、レベリング剤である０．０５ｇのＢＹＫ－３３３（ビックケミージャパン（株）製）の固形分５重量％ＰＧＭＥ溶液を添加し、３０分間攪拌し溶解させた。さらに、３８．２５ｇの顔料分散液１を添加し、３０分間攪拌して固形分１５．００重量％のポジ型感光性顔料組成物１を得た。各原料の配合重量を表６に示す。

　調製後、ポジ型感光性顔料組成物１を各２４ｇ、２つの５０ｍＬ遮光ガラス瓶に添加し、密栓して貯蔵した（大気圧下／遮光下／－２０±１℃に維持された冷暗所にて密閉状態で静置）。１日間貯蔵後、一方を冷暗所から取り出して室温（２３℃）とし、前述の方法で露光感度を評価した。

　次いで、透明ガラス基材である「テンパックス（ＡＧＣテクノグラス（株）製）の表面に、ポジ型感光性顔料組成物１を、最終的に得られる硬化膜の厚さが１．５μｍとなるように回転数を調節してスピンコーターで塗布して塗布膜を得た。ホットプレート（ＳＣＷ－６３６；大日本スクリーン製造（株）製）を用いて塗布膜を大気圧下１１０℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得た。両面アライメント片面露光装置を用い、超高圧水銀灯のｇ，ｈ，ｉ混合線を前述の方法で求めた露光感度（必要最小露光量）の１５％に相当する露光量で、プリベーク膜の全面に照射して露光膜を得た。露光感度の評価時と同じ方法で現像、リンスおよび乾燥を行い、ベタ状の現像膜を得た。高温イナートガスオーブン（ＩＮＨ－９ＣＤ－Ｓ；光洋サーモシステム（株）製）を用いて、現像膜を空気下２５０℃で１時間加熱して、膜厚１．５μｍのベタ状の硬化膜を具備する光学特性評価用基板を得て、前述の方法で光学濃度（ＯＤ／μｍ）、および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率を評価した。

　一方、調製してから３０日間貯蔵後、もう一方のポジ型感光性顔料組成物１を冷暗所から取り出して室温（２３℃）とし、前述の方法で露光感度を再度測定して保存安定性を評価した結果を表７に示す。

　さらに、以下の方法で、ポジ型感光性顔料組成物１の硬化膜からなる画素分割層および画素分割層を具備する有機ＥＬ表示装置を作製した。

　図３に、画素分割層の形成工程を含む有機ＥＬ表示装置の作製工程を示す。

　縦７０ｍｍ／横７０ｍｍの無アルカリガラス基板１３の表面に、スパッタ法により銀合金（９９．００重量％の銀と、１．００重量％の銅からなる合金）を全面成膜した。アルカリ可溶性ノボラック系ポジ型レジストを用いて、液温３０℃の銀合金エッチング液ＳＥＡ－１に浸漬してエッチングして、膜厚５０ｎｍのパターン状の銀合金膜１４を得た。さらに、スパッタ法によりＩＴＯ膜（インジウム－錫酸化物）を全面成膜した。アルカリ可溶性ノボラック系ポジ型レジストを用いて液温５０℃の５重量％シュウ酸水溶液に５分間浸漬し、脱イオン水で２分間シャワー水洗した後にエアーブローで乾燥させ、膜厚１０ｎｍの同パターン状のＩＴＯ膜１５を得た。以上の工程により、無アルカリガラス基板の表面に、銀合金膜／ＩＴＯ膜の積層パターンからなる第一電極を具備する第一電極形成基板を得た。

　ポジ型感光性顔料組成物１を、スピンコーターを用いて、最終的に得られる段差を有する画素分割層の厚膜部の膜厚が３．０±０．２μｍ、薄膜部の膜厚が１．５μｍとなるように回転数を調節して、第一電極形成基板の表面に塗布し、塗布膜を得た。さらに、ホットプレートを用いて、塗布膜を大気圧下１１０℃で１２０秒間プリベークして、プリベーク膜を得て、近赤外線カメラ（光源波長：８００ｎｍ）を用いてポジ型ハーフトーン露光マスク（縦：３０．０μｍ、横：３０．０μｍの正方形の全透過部が２２０個配列し、全透過部における露光量を１００％、遮蔽部の露光量を０％としたとき、半透過部における露光量が１５％となるように設計されたマスク）の位置合わせを行った。ポジ型ハーフトーン露光マスクを介して、前述の方法で求めた必要最小露光量（露光感度）でプリベーク膜にパターン露光して露光膜を得た。なお、パターン露光は、ポジ型ハーフトーン露光マスクをプリベーク膜の表面に接触させて行った。次いで、必要最小露光量の評価時と同じ方法で現像、リンスおよび乾燥を行い、パターン状の現像膜を得た。高温イナートガスオーブンを用いて現像膜を空気下２５０℃で１時間加熱して、第一電極形成基板中央部の縦３０ｍｍ／横３０ｍｍのエリア内に、開口部を２２０個有し、段差を有する画素分割層１６を具備する画素分割層形成基板を得た。前述の方法で開口幅を測定し、ハーフトーン加工性を評価した結果を表７に示す。

　次に、真空蒸着法により発光層を含む有機ＥＬ層１７を、画素分割層１６の開口部に形成するため、真空度１×１０^－３Ｐａ以下の蒸着条件下で、蒸着源に対して画素分割層形成基板を回転させ、まず、正孔注入層として、式（６９）で表される化合物（ＨＴ－１）を１０ｎｍ、正孔輸送層として、式（７０）で表される化合物（ＨＴ－２）を５０ｎｍの厚さで成膜した。次に、発光層上に、ホスト材料として、式（７１）で表される化合物（ＧＨ－１）、ドーパント材料として式（７２）で表される化合物（ＧＤ－１）を４０ｎｍの厚さで蒸着した。次いで、電子輸送材料として式（７３）で表される化合物（ＥＴ－１）と、式（７４）で表される化合物（ＬｉＱ）を、体積比１：１で４０ｎｍの厚さで積層した。

　次に、化合物（ＬｉＱ）を２ｎｍ蒸着した後、銀／マグネシウム合金（体積比１０：１）を厚さ１５０ｎｍとなるように蒸着して第二電極１８を形成した。次いで、低湿／窒素雰囲気下、エポキシ樹脂系接着剤を用いて、キャップ状ガラス板を接着することにより封止し、グリーンの発光画素が配列した有機ＥＬ表示装置を得た。なお、有機ＥＬ層１７を構成する各層は、前述の画素分割層と比べて非常に薄く、触針式膜厚測定装置では高い測定精度が得られないため、１００ｎｍ未満の薄膜に好適な水晶発振式膜厚モニターを用いてそれぞれ測定し、面内３点の平均値の少数点第一位を四捨五入して得られた値を膜の厚さとした。作製した有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを前述の方法で評価した結果を表７に示す。

　（実施例２～６）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液２～５を用いて、表６に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物２～１０をそれぞれ調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表７に示す。

　（実施例７～１０）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液６～９を用いて、表８に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物７～１０をそれぞれ調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表９に示す。

　（実施例１１）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液１０を用い、ポリイミド前駆体Ｂに替えてポリイミド樹脂Ｃを用いて、表１０に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物１１を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表１１に示す。

　（実施例１２）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液６を用い、ポリイミド前駆体Ｂに替えてポリイミド樹脂Ｃを用いて、表１０に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物１２を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表１１に示す。

　（実施例１３～１４）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液１１～１２を用い、表１０に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物１２を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表１１に示す。

　（比較例１～３）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液１３～１５を用い、表１２に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物１５～１７を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表１３に示す。

　（比較例４～５）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液１６～１７を用い、表１４に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物１６～１７を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率を評価した。評価結果を表１５に示す。なお、３０日間貯蔵後はハーフトーン加工が困難となったため正当に評価することができなかった。

　（比較例６）
　黄色灯下、２１．９５ｇのＭＢＡ中に、オキシムエステル系光重合開始剤である０．４１ｇの“ アデカアークルズ（登録商標）”ＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）と、７．２７ｇのポリイミド樹脂Ｅを添加し、１０分間攪拌して溶解させた。さらに、（ｇ）成分である０．５５ｇのＭＷ－１００ＬＭ（本州化学（株）製）と、光硬化性モノマーである０．８２ｇのライトエステルＤＣＰ－Ｍ（共栄社（株）製）と、０．８２ｇの“ ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”ＤＰＣＡ－６０（日本化薬（株）製）と、１８．１８ｇの顔料分散液１７を添加し、３０分間攪拌して、ネガ型感光性顔料組成物１を調製した。各原料の配合重量を表１４に示す。実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表１５に示す。

　（調製例１８：顔料分散液１８の調製）
　（ｅ）成分である９００．００ｇの混合溶剤（ＰＧＭＥ、乳酸エチルおよびγ－ブチロラクトン；重量比率５０：４０：１０）中に、（ｃ－１）成分である６８．３８ｇのポリイミド前駆体Ｂを添加し、３０分間攪拌して溶解させた。さらに、（ｂ－２）成分である４．５９ｇの色素Ｂを添加し、３０分間攪拌した後に、（ａ）成分である１８．９２ｇの微細化ペリレンブラック顔料１と、８．１１ｇの微細化ジオキサジン顔料１を添加して３０分間攪拌し、予備攪拌液を得た。次いで、０．４ｍｍφのジルコニアビーズである“トレセラム（登録商標）”（東レ（株）製）が充填率７５体積％でベッセル内に充填された縦型ビーズミル“ウルトラアペックスミル　アドバンス（登録商標）”；（株）広島メタル＆マシナリー製）に予備攪拌液を送液し、循環方式で周速１０ｍ／ｓで１時間の湿式メディア分散処理を行った。次いで、０．１ｍｍφのジルコニアビーズである“トレセラム（登録商標）”（東レ（株）製）が充填率７５体積％でベッセル内に充填された縦型ビーズミルに送液し、循環方式で周速８ｍ／ｓで４時間の湿式メディア分散処理を行い、固形分１０．００重量％の顔料分散液を得た。口径０．８μｍの濾過フィルタで第一の濾過を行い、さらに口径０．２μｍの濾過フィルタで第二の濾過を行った。濾過前後で小数点第二位までの固形分の値としては変動が観られず、（ａ）成分：（ｈ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）樹脂＝重量比率７０：３０：１７：２５３であり、固形分１０．００重量％の顔料分散液１８を得た。各原料の配合重量を表１６に示す。

　（調製例１９：顔料分散液１９の調製）
　微細化ジオキサジン顔料１に替えて、微細化ジオキサジン顔料２を用いたこと以外は調製例１８と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、（ａ）成分：（ｈ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）樹脂＝重量比率７０：３０：１７：２５３であり、固形分１０．００重量％の顔料分散液１９を得た。各原料の配合重量を表１６に示す。

　（調製例２０：顔料分散液２０の調製）
　微細化ジオキサジン顔料１に替えて、微細化ジオキサジン顔料２を用いたこと以外は調製例１８と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、（ａ）成分：（ｈ）成分：（ｂ）成分：（ｃ）樹脂＝重量比率５５：４５：１７：２５３であり、固形分１０．００重量％の顔料分散液２０を得た。各原料の配合重量を表１６に示す。

　（実施例１５～１７）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液１８～２０を用いて、表１７に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物２０～２２をそれぞれ調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表１８に示す。

　（調製例２１～２３）
　“Ｓｐｅｃｔｒａｓｅｎｓｅ（登録商標）”Ｂｌａｃｋ　Ｋ００８７に替えて微細化ペリレンブラック顔料１を用い、色素Ａに替えて色素Ｉ、ＪおよびＫをそれぞれ用いたこと以外は調製例１と同様の方法で湿式メディア分散処理および濾過を行い、顔料分散液２１～２３を得た。各原料の配合重量を表１９に示す。

　（実施例１８）
　顔料分散液１に替えて、顔料分散液２１を用いて、表２０に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物２３を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表２１に示す。

　（比較例７）
　顔料分散液１に替えて、顔料分散液２２を用いて、表２０に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物２４を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表２１に示す。

　（比較例８）
　顔料分散液１に替えて、顔料分散液２３を用いて、表２０に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物２５を調製したが、１日間貯蔵後の時点で著しい高粘度化が生じて塗布性に劣り、プリベーク膜の作製およびハーフトーン加工が困難であった。

　（実施例１９）
　顔料分散液１に替えて顔料分散液１９を用いて、また、（Ｉ）成分として４－アミノベンゼンスルホン酸（東京化成工業（株）製）を用いて、表２０に示す配合量でポジ型感光性顔料組成物２６を調製し、実施例１と同じ方法で露光感度、硬化膜の遮光性および波長４１０～４４０ｎｍにおける最大透過率、保存安定性、ハーフトーン加工性および有機ＥＬ表示装置の輝度ムラを評価した。評価結果を表２１に示す。

　（比較例９）
　国際公開第２０２１／１８２４９９号の実施例１に開示されたポジ型感光性樹脂組成物（ＰＢ－１）を用いて、実施例１と同じ方法で露光感度の評価を試みたが、近赤外線カメラを用いたポジ型ハーフトーン露光マスクの位置合わせが困難であり、評価対象から除外した。また、第一電極形成基板上に２．０、３．０および４．０μｍの膜厚となるようにそれぞれプリベーク膜を形成したが、いずれもポジ型ハーフトーン露光マスクの位置合わせが困難であり、実施例１と同じ方法で有機ＥＬ表示装置を作製することは不可能であった。

　以上の結果から、実施例１～１９におけるポジ型感光性顔料組成物は、比較例１～５、比較例７～９におけるポジ型感光性顔料組成物および比較例６におけるネガ型感光性顔料組成物と比べて、近赤外線を用いた露光マスクのアライメントが可能であり、ハーフトーン加工性に優れ、かつ高い露光感度と高い保存安定性とを兼ね備えていることがわかる。中でも、ＯＤ/μｍ＝１．０と高い遮光性の画素分割層を形成する場合、（ｈ）成分を含む実施例１５～１７では実施例１２と比べて優れた露光感度が得られており、さらに（i）成分を含む実施例１９では、より優れた露光感度が得られている。
また、実施例１～１９における有機ＥＬ表示装置は、比較例２～３および比較例６における有機ＥＬ表示装置と比べて輝度ムラが少ない点で優れている。

　したがって、本発明のポジ型感光性顔料組成物、ポジ型感光性顔料組成物の硬化物を含有する硬化膜およびそれを具備する有機ＥＬ表示装置が有用であることがわかる。

　本発明のポジ型感光性顔料組成物は、安定して高い露光感度で高精細な硬化膜を形成することが求められる用途、例えば、有機ＥＬ表示装置の画素分割層、有機ＥＬ表示装置のＴＦＴ平坦化層、量子ドット有機ＥＬ表示装置（ＱＤ－ＯＬＥＤ）の隔壁、マイクロＬＥＤディスプレイの平坦化層、液晶表示装置のブラックマトリクス、液晶表示装置のブラックカラムスペーサー、固体撮像素子の近赤外線透過性可視光遮蔽膜、表示装置のブラックベゼルなどを形成するための材料として好ましく利用することができる。中でも、折り曲げが可能なフレキシブルディスプレイを搭載した有機ＥＬ表示装置が具備する画素分割層を形成するための材料として特に好ましく利用することができる。

１：厚膜部
２：薄膜部
３：ＴＦＴ
４：配線
５：ＴＦＴ絶縁層
６：平坦化層
７：第一電極
８：基板
９：コンタクトホール
１０：画素分割層
１１：発光画素
１２：第二電極
１３：無アルカリガラス基板
１４：銀合金膜
１５：ＩＴＯ膜
１６：画素分割層
１７：有機ＥＬ層
１８：第二電極

Claims

（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料、（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩、（ｃ）樹脂、（ｄ）光酸発生剤および（ｅ）有機溶剤を含有するポジ型感光性顔料組成物。

（式（１）中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。＊はペリレン骨格を構成する炭素原子との結合部位を表す。）

（式（２）中、Ｒ^２～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^６は、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する、１価の基を表す。＊は炭素原子との結合部位を表す。）
前記（ｂ）成分が、（ｂ－１）式（１４）で表される構造を有する化合物またはその金属塩を含有する請求項１に記載のポジ型感光性顔料組成物。

（式（１４）中、Ｒ^７３～Ｒ^７６は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^７７は単結合または炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ^７８はスルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^１は整数であり、１または２を表す。ｎ^１が２である場合、２つのＲ^７８は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。Ｒ^７９は炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のアルコキシ基を表す。ｎ^２は整数であり、０～２を表す。ｎ^２が２である場合、２つのＲ^７９は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。＊は炭素原子との結合部位を表す。）
前記（ｂ）成分が、（ｂ－２）式（１５）で表される構造を有する化合物またはその金属塩を含有する請求項１または２に記載のポジ型感光性顔料組成物。

（式（１５）中、Ｒ^８０～Ｒ^８３は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^８４は単結合または炭素数１～６のアルキレン基を表す。Ｒ^８５は単結合またはＮＨを表す。Ｒ^８６は、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基が置換したフェニレン基、無置換のフェニレン基、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基が置換したナフチレン基および無置換のナフチレン基よりなる群から選ばれる１種の基を表す。Ｒ^８７はスルホ基またはカルボキシル基を表す。ｎ^３は整数であり、１または２を表す。ｎ^３が２である場合、２つのＲ^８７は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。Ｒ^８８は炭素数１～３のアルキル基または炭素数１～３のアルコキシ基を表す。ｎ^４は整数であり、０～２を表す。ｎ^４が２である場合、２つのＲ^８８は同一の置換基であってもよく、互いに異なる置換基であってもよい。＊は炭素原子との結合部位を表す。）
前記（ａ）成分の一次粒子の平均アスペクト比が１．０～１．８である請求項１～３のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。
前記（ｃ）樹脂のアミン価が５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である請求項１～４のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。
前記（ａ）成分が、式（３）で表される化合物および／または式（４）で表される化合物を含有する請求項１～５のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。

（式（３）および式（４）中、Ｒ^７～Ｒ^１４は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のアルコキシ基を表す。Ｒ^１５～Ｒ^２２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または臭素原子を表す。）
前記（ｃ）樹脂が、式（３９）で表される構造単位を有する樹脂を含有する請求項１～６のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。

（式（３９）中、Ｒ^１０１およびＲ^１０２は、２～８価の有機基を表す。Ｒ^１０３およびＲ^１０４は、それぞれ独立に、水酸基、カルボキシル基またはＣＯＯＡを表し、それぞれ単一の基であってもよく、異なる基が混在していてもよい。Ａは、炭素数１～１０の１価の炭化水素基を表す。ｒおよびｓは整数であり、それぞれ独立に、０～６を表す。ただし、ｒ＋ｓ＞０を満たす。＊は結合部位を表す。）
前記（ｂ）成分の含有量が、ポジ型感光性顔料組成物中に含有する顔料の合計１００重量部に対して５～５０重量部である請求項１～７のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。
さらに、（ｆ）加熱により、波長３５０～７８０ｎｍの領域において、波長３５０～５００ｎｍの領域に極大吸収波長を有する化合物に変換される化合物を含有する請求項１～８のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。
さらに、（ｈ）ジオキサジン骨格を有する化合物を含有する顔料を含有する請求項１～９のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。
前記（ａ）成分と前記（ｈ）成分の合計１００重量部に対して、前記（ｈ）成分の含有量が１～５０重量部である請求項１０に記載のポジ型感光性顔料組成物。
前記（ｈ）成分が、式（１２）で表される化合物を含有する顔料を含有する請求項１０または１１に記載のポジ型感光性顔料組成物。

（式（１２）中、Ｒ^１３１、Ｒ^１３２、Ｒ^１３３およびＲ^１３４は、それぞれ独立に、炭素数１～５のアルキル基を表す。Ｒ^１３５およびＲ^１３６は、それぞれ独立に、ＮＨまたは酸素原子を表す。）
さらに、（i）アミノベンゼンスルホン酸を含有する請求項１～１２のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物。
請求項１～１３のいずれかに記載のポジ型感光性顔料組成物の硬化物を含有する硬化膜。
請求項１４に記載の硬化膜を具備する有機ＥＬ表示装置。
基板、第一電極、画素分割層、発光画素および第二電極を具備する有機ＥＬ表示装置であって、該画素分割層が（ａ）式（１）で表される構造を分子内に２つ有し、ペリレン骨格を分子内に１つ有する化合物を含有する顔料および（ｂ）式（２）で表される構造を有し、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノアルキル基を有さない化合物またはその金属塩を含有する有機ＥＬ表示装置。

（式（１）中、Ｒ^１は置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいナフチレン基を表す。＊はペリレン骨格を構成する炭素原子との結合部位を表す。）

（式（２）中、Ｒ^２～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、臭素原子または水酸基を表す。Ｒ^６は、芳香環を構成する炭素原子と結合したスルホ基および／または芳香環を構成する炭素原子と結合したカルボキシル基を有する、１価の基を表す。＊は炭素原子との結合部位を表す。）
前記画素分割層が、膜厚２．５～４．０μｍの厚膜部と、膜厚１．０～２．５μｍの薄膜部を有し、かつ該厚膜部と該薄膜部との膜厚の差が１．０μｍ以上の部位を有する請求項１６に記載の有機ＥＬ表示装置。