JP2019105821A - ポジ型感光性樹脂組成物及び有機ｅｌ発光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】発光効率が低下しにくい有機ＥＬ発光装置を形成しやすいポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、平均粒径が２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｂ）と、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を有する分散剤（Ｃ）と、ポジ型感光剤（Ｄ）とを含有する。吸湿剤（Ｂ）を含有しているため、吸湿剤（Ｂ）で水分を吸収することができる。分散剤（Ｃ）を含有しているため、吸湿剤（Ｂ）が平均粒径２００ｎｍ以下のナノ粒子であっても、分散性を高めることができる。【選択図】なし

Description

本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物及び有機ＥＬ発光装置に関する。詳しくは、本発明は、絶縁層等を形成するために用いられるポジ型感光性樹脂組成物、及びこのポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を備える有機ＥＬ発光装置に関する。

従来、有機ＥＬ発光装置（有機エレクトロルミネッセンス発光装置）は、照明、ディスプレイなどに適用されており、今後の普及が期待されている。

有機ＥＬ発光装置としては各種のものが提案されている。例えば、特許文献１〜３には、基板上に形成された第一電極と、第一電極上に形成された少なくとも有機化合物からなる発光層を含む薄膜層と、薄膜層上に形成された第二電極とを含む表示装置が開示されている。

有機ＥＬ発光装置の課題として、長期信頼性が挙げられる。発光層を構成する有機化合物は、一般的に、ガス成分や水分により劣化しやすく、これらに曝されると薄膜層の機能が低下し、発光輝度の低下などの不具合が発生することがあった。そこで、第一電極及び第二電極並びに薄膜層の全体をガスバリア膜で被覆したり、さらに樹脂層で被覆（封止）したりすることで、有機ＥＬ発光装置の長期信頼性を向上させている。

国際公開ＷＯ２０１６／０４７４８３号 特開２００２−０９１３４３号公報 特開２００２−１１６７１５号公報

しかし、有機ＥＬ発光装置を長時間発光させると、ガスバリア膜が薄くなったり、ガスバリア膜と樹脂層に亀裂等の欠陥が生じたりすることがあり、そこから水分等が浸入して薄膜層に到達することがあった。そして、薄膜層に達した水分等により有機化合物の劣化が生じて有機ＥＬ発光装置の発光効率が低下するという問題があった。

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、発光効率が低下しにくい有機ＥＬ発光装置を形成しやすいポジ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。

また本発明は、発光効率が低下しにくい有機ＥＬ発光装置を提供することを目的とする。

本発明に係る一態様のポジ型感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、平均粒径が２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｂ）と、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を有する分散剤（Ｃ）と、ポジ型感光剤（Ｄ）とを含有することを特徴とする。

本発明に係る一態様の有機ＥＬ発光装置は、前記ポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を備えることを特徴とする。

本発明に係るポジ型感光性樹脂組成物では、吸湿剤（Ｂ）を含有しているため、吸湿剤（Ｂ）で水分を吸収することができる。従って、ポジ型感光性樹脂組成物を含有して絶縁膜や隔壁を形成した場合に、有機化合物を含有する薄膜層に水分が到達しにくくなり、発光効率が低下しにくい有機ＥＬ発光装置を形成しやすい。

また本発明に係るポジ型感光性樹脂組成物では、分散剤（Ｃ）を含有しているため、吸湿剤（Ｂ）が平均粒径２００ｎｍ以下のナノ粒子であっても、分散性を高めることができ、均質なポジ型感光性樹脂組成物が得やすくなる。

図１は、本発明に係る有機ＥＬデバイスの一実施形態を示す断面図である。 図２は、本発明に係る有機ＥＬデバイスの他の一実施形態を示す断面図である。

以下、本発明を実施するための形態を説明する。

１．ポジ型感光性樹脂組成物
本実施形態に係るポジ型感光性樹脂組成物（以下、組成物（Ｘ）という場合がある）は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、平均粒径が２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｂ）と、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を有する分散剤（Ｃ）と、ポジ型感光剤（Ｄ）とを含有する。

［アルカリ可溶性樹脂（Ａ）］
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）としては、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール前駆体、ポリアミノアミド、ポリアミド、アルカリ可溶性基を有するラジカル重合性モノマーから得られる重合体、カルド樹脂、フェノール樹脂、環状オレフィン重合体、シロキサン樹脂などが挙げられるが、これに限定されない。これらの樹脂を２種以上含有してもよい。これらのアルカリ可溶性樹脂（Ａ）の中でも、耐熱性に優れ、高温下におけるアウトガス量が少ないものが好ましい。具体的には、ポリイミド、ポリイミド前駆体、またはポリベンゾオキサゾール前駆体の中から選ばれる少なくとも１種以上のアルカリ可溶性樹脂またはそれらの共重合体が好ましい。

ここでアルカリ可溶性とは、樹脂をγ−ブチロラクトンに溶解した溶液をシリコンウェハー上に塗布し、１２０℃で４分間プリベークを行って膜厚１０μｍ±０．５μｍのプリベーク膜を形成し、該プリベーク膜を２３±１℃の２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に１分間浸漬した後、純水でリンス処理したときの膜厚減少から求められる溶解速度が５０ｎｍ／分以上であることをいう。

アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、下記の一般式（１）または（２）で表される構造のうち少なくともいずれかを有するポリマーを含むことが好ましい。

（一般式（１）中、Ｒ^１は炭素数が２以上の２価以上８価以下の有機基、Ｒ^２は炭素数が２以上の２価以上６価以下の有機基、Ｒ^３は水素または炭素数が１以上２０以下の有機基をそれぞれ示す。ｍは０以上４以下の整数、ｐ、ｑは０以上４以下の整数（ただしｐ＋ｑ＞０）をそれぞれ示す。）

（一般式（２）中、Ｒ^４は炭素数が２以上の４価以上８価以下の有機基、Ｒ^５は炭素数２以上の２価以上６価以下の有機基をそれぞれ示す。ｒおよびｓはそれぞれ０以上４以下の整数を示す。）
ポリマー全体に対する（１）及び（２）の構造単位の含有量は、耐熱性が向上するため５０モル％以上が好ましく、７０モル％以上がより好ましく、９０モル％以上がさらに好ましい。またポリマ−は、一般式（１）または（２）のいずれかの構造単位単独で構成されていても、一般式（１）および（２）の両方の構造単位で構成されていてもかまわない。

一般式（１）で示される構造単位は、加熱あるいは適当な触媒により、イミド環、オキサゾール環、その他の環状構造を有するポリマーとなり得る。一般式（１）で示される構造単位は、ポリイミド前駆体のポリアミド酸もしくはポリアミド酸エステル、またはポリベンゾオキサゾール前駆体のポリヒドロキシアミドであることが好ましい。これらは、加熱後環状構造となることで、耐熱性、耐溶剤性が飛躍的に向上する。

一般式（１）中のＲ^１は、酸の構造成分を表しており、炭素数２以上の２価以上８価以下の有機基を示す。２価となる酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、ビス（カルボキシフェニル）プロパンなどの芳香族ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸などの脂肪族ジカルボン酸などを挙げることができる。３価となる酸としては、トリメリット酸、トリメシン酸などのトリカルボン酸などを挙げることができる。４価以上となる酸としてはピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ピリジンテトラカルボン酸、ペリレンテトラカルボン酸などのテトラカルボン酸や、そのカルボキシル基２個をメチル基やエチル基としたジエステル化合物、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などの脂肪族テトラカルボン酸や、そのカルボキシル基２個をメチル基やエチル基としたジエステル化合物を挙げることができる。また、ヒドロキシフタル酸、ヒドロキシトリメリット酸などの水酸基を有する酸も挙げることができる。これら酸成分は単独でも２種以上併用しても構わないが、テトラカルボン酸を１モル％以上４０モル％以下含むことが好ましい。また、アルカリ現像液に対する溶解性や感光性の観点から、水酸基を有する酸成分を５０モル％以上用いることが好ましく、７０モル％以上がより好ましい。

一般式（２）で示される構造単位は、イミド環をもつものである。上記一般式（２）中のＲ^４は、酸の構造成分を表しており、炭素数２以上の４価以上８価以下の有機基を示す。具体的には以下の４価以上となる酸の成分を使用することが好ましいがこれに限定されない。

４価以上となる酸としてはピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、ナフタレンテトラカルボン酸、ピリジンテトラカルボン酸、ペリレンテトラカルボン酸などのテトラカルボン酸や、そのカルボキシル基２個をメチル基やエチル基としたジエステル化合物、ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などの脂肪族テトラカルボン酸や、そのカルボキシル基２個をメチル基やエチル基としたジエステル化合物を挙げることができる。これら酸成分は単独でも２種以上併用しても構わないが、テトラカルボン酸を１モル％以上４０モル％以下含むことが好ましい。また、アルカリ現像液に対する溶解性や感光性の観点から、水酸基を有する酸成分を５０モル％以上用いることが好ましく、７０モル％以上がより好ましい。

一般式（１）中のＲ^１は、耐熱性の面から芳香族環を含有し、炭素数６以上３０以下の３価または４価の有機基であることが好ましい。

具体的には、一般式（１）中のＲ^１（ＣＯＯＲ^３）_ｍ（ＯＨ）_ｐは、一般式（３）で示されることが好ましい。

（一般式（３）中、Ｒ^１０およびＲ^１２はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、炭素数２以上２０以下の２価以上４価以下の有機基を示す。Ｒ^１１は炭素数３以上２０以下の３価以上６価以下の有機基を示す。Ｒ^１３およびＲ^１４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または炭素数１以上２０以下の１価の有機基を示す。ｔおよびｖは０以上２以下の整数、ｕは１以上４以下の整数を示す。ただし、ｔ＋ｖ≦２である。）
得られるポリマーの耐熱性の点から、Ｒ^１０およびＲ^１２は芳香族環を含むものが好ましく、特に好ましい構造としてトリメリット酸、トリメシン酸、ナフタレントリカルボン酸などの残基が挙げられる。

また、Ｒ^１１は炭素数３以上２０以下の３価以上６価以下の有機基を示している。さらに、ｕ個の水酸基はアミド結合と隣り合った位置にあることが熱閉環の進行をより容易とさせる点で好ましい。このような例として、フッ素原子を含んだ、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−ヒドロキシ−４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、フッ素原子を含まない、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（３−ヒドロキシ−４−アミノフェニル）プロパン、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，４−ジアミノ−フェノール、２，５−ジアミノフェノール、１，４−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシベンゼンのアミノ基が結合したものなどを挙げることができる。

また、一般式（３）のＲ^１３およびＲ^１４はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素または炭素数１以上２０以下の１価の有機基を示しており、水素または炭素数１以上２０以下の炭化水素基が好ましい。炭素数を２０以下とすることで、アルカリ現像液に対する適度な溶解性が得られる。ｔおよびｖは０以上２以下の整数を示しているが、好ましくは１または２である。ただし、ｔ＋ｖ≦２である。また、ｕは１〜４の整数を表している。この範囲であれば、良好なパターン加工性が得られる。

一般式（３）で表される構造の中で、好ましい構造を例示すると下記に示す構造が挙げられるが、これらに限定されない。

また、一般式（１）中のＲ^２および一般式（２）中のＲ^５は、それぞれ炭素数２以上の２価以上４価以下の有機基を示しており、ジアミン構造の残基を表している。

ジアミンは単独でも２種以上併用しても構わない。ジアミンの具体的な例として以下に挙げるがこれに限定されない。

ジェファーミンＫＨ−５１１、ジェファーミンＥＤ−６００、ジェファーミンＥＤ−９００、ジェファーミンＥＤ−２００３、ジェファーミンＥＤＲ−１４８、ジェファーミンＥＤＲ−１７６（以上商品名、ＨＵＮＴＳＭＡＮ（株）製）など、ポリエチレンオキサイド基を含有するジアミン、Ｄ−２００、Ｄ−４００、Ｄ−２０００、Ｄ−４０００（以上商品名、ＨＵＮＴＳＭＡＮ（株）製）のポリオキシプロピレンジアミン、ビス（アミノ−ヒドロキシ−フェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（トリフルオロメチル）ベンチジンなどのフッ素原子を有するジアミン、フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、アミノフェノキシベンゼン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ビス（アミノフェノキシフェニル）プロパン、ビス（アミノフェノキシフェニル）スルホン等のフッ素原子を有さないジアミン、あるいはこれらの芳香族環にアルキル基やハロゲン原子で置換した化合物、ジアミノジヒドロキシピリミジン、ジアミノジヒドロキシピリジン、ヒドロキシ−ジアミノ−ピリミジン、ジアミノフェノール、ジヒドロキシベンチジン、ジアミノ安息香酸、ジアミノテレフタル酸などの化合物や、シクロヘキシルジアミン、メチレンビスシクロヘキシルアミン、ヘキサメチレンジアミンなどの脂肪族ジアミン、一般式（１）中のＲ^２（ＯＨ）_ｑおよび一般式（２）中のＲ^５（ＯＨ）_ｓが、一般式（４）〜（６）のいずれかで示される構造のものを挙げることができる。

これらの中で、アルカリ現像液に対する溶解性や感光性の観点から、水酸基を有するジアミン成分を６０モル％以上用いることが好ましい。

一般式（４）のＲ^１５およびＲ^１７は炭素数２以上２０以下の３価または４価の有機基を示し、Ｒ^１６は炭素数２以上３０以下の２価の有機基を示す。ｗおよびｘは１あるいは２を示す。一般式（５）のＲ^１８およびＲ^２０は炭素数２以上２０以下の２価の有機基を示し、Ｒ^１９は炭素数３以上２０以下の３価以上６価以下の有機基を示す。ｙは１〜４の整数を示す。一般式（６）のＲ^２１は炭素数２以上２０以下の２価の有機基を示し、Ｒ^２２は炭素数３以上２０以下の３価以上６価以下の有機基を示す。ｚは１以上４以下の整数を示す。

一般式（４）において、Ｒ^１５およびＲ^１７は炭素数２以上２０以下の３価または４価の有機基を示しており、得られるポリマーの耐熱性の点より芳香族環を有するものが好ましい。−Ｒ^１５（ＯＨ）_ｗ−および−Ｒ^１７（ＯＨ）_ｘ−の例として、具体的にはヒドロキシフェニル基、ジヒドロキシフェニル基、ヒドロキシナフチル基、ジヒドロキシナフチル基、ヒドロキシビフェニル基、ジヒドロキシビフェニル基、ビス（ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン基、ビス（ヒドロキシフェニル）プロパン基、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホン基、ヒドロキシジフェニルエーテル基、ジヒドロキシジフェニルエーテル基などが挙げられる。また、ヒドロキシシクロヘキシル基、ジヒドロキシシクロヘキシル基などの脂肪族の基も使用することができる。Ｒ^１６は炭素数２以上３０以下の２価の有機基を表している。得られるポリマーの耐熱性の点より芳香族環を有するものが好ましい。このような例としてはフェニル基、ビフェニル基、ジフェニルエーテル基、ジフェニルヘキサフルオロプロパン基、ジフェニルプロパン基、ジフェニルスルホン基などが挙げられる。これ以外にも脂肪族のシクロヘキシル基なども使用することができる。

一般式（５）において、Ｒ^１８およびＲ^２０は炭素数２以上２０以下の２価の有機基を表している。得られるポリマーの耐熱性より芳香族環を有するものが好ましい。このような例として、前述のＲ^１６の例として示した基が挙げられる。Ｒ^１９は炭素数３以上２０以下の３価以上６価以下の有機基を示しており、得られるポリマーの耐熱性より芳香族環を有するものが好ましい。−Ｒ^１９（ＯＨ）_ｙ−の例として、前述の−Ｒ^１５（ＯＨ）_ｗ−および−Ｒ１７（ＯＨ）_ｘ−の例として示した基が挙げられる。

一般式（６）において、Ｒ^２１は炭素数２以上２０以下の２価の有機基を表している。得られるポリマーの耐熱性から芳香族環を有するものが好ましい。このような例として、前述のＲ^１６の例として示した基が挙げられる。Ｒ^２２は炭素数３以上２０以下の３価以上６価以下の有機基を示しており、得られるポリマーの耐熱性より芳香族環を有するものが好ましい。−Ｒ^２２（ＯＨ）_ｚ−の例として、前述の−Ｒ^１５（ＯＨ）_ｗ−および−Ｒ^１７（ＯＨ）_ｘ−の例として示した基が挙げられる。

一般式（４）で表される構造の中で、好ましい構造を例示すると下記に示す構造が挙げられるが、これらに限定されない。

また、一般式（５）で表される構造の中で、好ましい構造を例示すると下記に示す構造が挙げられるが、これらに限定されない。

また、一般式（６）で表される構造の中で、好ましい構造を例示すると下記に示す構造が挙げられるが、これらに限定されない。

また、一般式（１）のＲ^３は、水素または炭素数１以上２０以下の１価の有機基を示している。得られる感光性樹脂組成物溶液の溶液安定性の観点からは、Ｒ^３は炭素数１以上２０以下の１価の有機基が好ましいが、アルカリ水溶液に対する溶解性の観点からは、水素が好ましい。本実施形態においては、水素と炭素数１以上２０以下の１価の有機基を混在させることができる。このＲ^３の水素と炭素数１以上２０以下の１価の有機基の量を調整することで、アルカリ水溶液に対する溶解速度が変化するので、この調整により適度な溶解速度を有した感光性樹脂組成物を得ることができる。好ましい範囲は、１０モル％以上９０モル％以下が水素原子である。また、アルカリ現像液に対する溶解性の観点から、有機基の炭素数は２０以下である。以上よりＲ^３は、炭素数１以上１６以下の炭化水素基を少なくとも１つ以上含有し、その他は水素原子であることが好ましい。

一般式（１）または（２）で表される構造を主成分とするポリマーは、例えば次の方法により重合液を得ることができる。

ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルの場合、例えば、低温中でテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物、末端封止に用いるモノアミノ化合物を反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後ジアミン化合物、モノアミノ化合物と縮合剤の存在下で反応させる方法、テトラカルボン酸二無水物とアルコールとによりジエステルを得、その後残りのジカルボン酸を酸クロリド化し、ジアミン化合物、モノアミノ化合物と反応させる方法などがある。

ポリヒドロキシアミドの場合、ビスアミノフェノール化合物とジカルボン酸ジクロライドを反応させる方法などによって得ることができる。

ポリイミドの場合は、上記ポリアミド酸またはポリアミド酸エステルを得た後、加熱あるいは酸や塩基などの化学処理で脱水閉環することで得ることができる。

重合液を得る溶剤としては、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、テトラメチル尿素、スルホラン、ジメチル−２−ピペリドン、ジメチルスルホキシド、ジグリムがあげられるがこれに限定されない。

一般式（１）または（２）で表される構造を主成分とするポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）でポリスチレン換算により測定した値が２０００以上１００，０００以下であることが好ましく、５０００以上５０，０００以下であることがより好ましく、１０，０００以上３０，０００以下の範囲内であることがさらに好ましい。一般式（１）または（２）で表される構造を主成分とするポリマーの重量分子量が２，０００以上１００，０００以下の範囲内であることにより、ポリマーのアルカリ現像液への溶解性が得られ、露光部と未露光部のコントラストが得られるため好ましい。

［吸湿剤（Ｂ）］
組成物（Ｘ）は、吸湿剤（Ｂ）を更に含有する。吸湿剤（Ｂ）は、吸湿性を有する無機粒子であることが好ましく、例えばゼオライト粒子、シリカゲル粒子、塩化カルシウム粒子、及び酸化チタンナノチューブ粒子からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。吸湿剤（Ｂ）がゼオライト粒子を含有することが特に好ましい。

平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子は、例えば一般的な工業的用ゼオライトを粉砕することで製造できる。ゼオライト粒子を製造するに当たって、ゼオライトを粉砕してから水熱合成などによって結晶化させてもよく、この場合、ゼオライト粒子は特に高い吸湿性を有することができる。このようなゼオライト粒子の製造方法は、特開２０１６−６９２６６号公報、特開２０１３−０４９６０２号公報などにより公知である。

ゼオライト粒子は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトを含むことが好ましく、ナトリウムイオンのうちＡ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト及びＹ型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含むことがより好ましい。ゼオライト粒子がＡ型ゼオライトのうち４Ａ型ゼオライトを含むことが特に好ましい。これらの場合、ゼオライト粒子は、水分の吸着に好適な結晶構造を有する。

平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子の製造方法の一具体例を示す。まず、原料であるゼオライト粉を準備し、このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉を水と混合してスラリーを調製し、このスラリーをビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。

続いて、水熱合成によりゼオライト粉を結晶化させる。例えば物理粉砕後のゼオライト粉を含むスラリーを、オートクレーブで加熱することで、水熱合成を行うことができる。水熱合成の条件は、例えば加熱温度１５０℃以上２００℃以下の範囲内、加熱時間１５時間以上２４時間以下の範囲内である。

続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば１５０℃以上２００℃以下の範囲内であり、乾燥時間は例えば２時間以上３時間以下の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。

続いて、必要に応じ、ゼオライト粉にイオン交換処理を施す。特にゼオライト粉がＬＴＡなどのナトリウムを含むゼオライトである場合は、ゼオライト粉中のナトリウムをマグネシウムと交換するイオン交換処理を施すことが好ましい。

イオン交換処理は、例えばゼオライト粉を、マグネシウムイオンを含有する水溶液中に分散させて混合物を調製し、この混合物を加熱することで行われる。より具体的には、イオン交換処理は例えば次のように行われる。まずゼオライト粉を、塩化マグネシウム及び水と混合し、得られた混合物を加熱しながら撹拌する処理をする。この処理の間、撹拌を一時的に停止してから混合物の上澄みを捨て、続いて混合物に水を補充してから撹拌を再開するという操作を、適当な間隔をあけて複数回繰り返すことが好ましい。この処理における加熱温度は４０℃以上８０℃以下の範囲内、処理時間は６時間以上８時間以下の範囲内であることが好ましい。

イオン交換処理を施した場合、続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば１５０℃以上２００℃以下の範囲内であり、乾燥時間は例えば２時間以上３時間以下の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。これにより、平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子を得ることができる。

ゼオライト粉の結晶化を、シリケート及びアルカリ金属酸化物の存在下で行うこともできる。その場合の平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子の製造方法の具体例を示す。まず、ゼオライト粉を準備する。ゼオライト粉は、ａＭ１₂Ｏ・ｂＳｉＯ₂・Ａｌ₂Ｏ₃・ｃＭｅの組成を有することが好ましい。Ｍ１はアルカリ金属、プロトン、又はアンモニウムイオン（ＮＨ₄ ⁺）であり、Ｍｅはアルカリ土類金属であり、ａは０．０１以上１以下の範囲内の数であり、ｂは２０以上８０以下の範囲内の数であり、ｃは０以上１以下の範囲内の数である。ゼオライト粉は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトを含むことが好ましく、ナトリウムイオンのうちＡ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト及びＹ型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含むことがより好ましい。ゼオライト粉がＡ型ゼオライトのうち４Ａ型ゼオライトを含むことが特に好ましい。このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉をビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。

物理粉砕後のゼオライト粉を、Ｍ２₂Ｏ、ＳｉＯ₂及びＨ₂Ｏを含有する溶液に分散させ、スラリーを調製する。Ｍ２はアルカリ金属であり、好ましくはＫ又はＮａである。Ｍ２₂Ｏ／Ｈ₂Ｏのモル比は例えば０．００３以上０．０１以下の範囲内であり、ＳｉＯ₂／Ｈ₂Ｏのモル比は例えば０．００６以上０．０２５以下の範囲内である。ゼオライト粉の量は、例えば溶液１００ｍｌに対して０．５ｇ以上１０ｇ以下である。

このスラリーをオートクレーブで加熱することで、ゼオライト粉の結晶化を行うことができる。その条件は、例えば加熱温度１００℃以上２３０℃以下の範囲内、加熱時間１時間以上２４時間以下の範囲内である。続いて、ゼオライト粉を洗浄してから乾燥させる。これにより、平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子を得ることができる。

ゼオライト粒子のｐＨは７以上１０以下であることが好ましい。ゼオライト粒子のｐＨが７以上であると、ゼオライト粒子の結晶が破壊されにくくなり、そのためゼオライト粒子を含有する組成物（Ｘ）から作製された硬化物が特に高い吸湿性を有することができる。また、ゼオライト粒子のｐＨが１０以下であると、組成物（Ｘ）を硬化させる場合にゼオライト粒子が硬化を阻害しにくい。

なお、ゼオライト粒子のｐＨは、イオン交換水９９．９５ｇにゼオライト粒子０．０５ｇを入れて得られた分散液を、９０℃で２４時間加熱してから、分散液の上澄みのｐＨをｐＨ測定器で測定することで得られる値である。ｐＨ測定器としては、例えば堀場製作所製のコンパクトｐＨメータ＜ＬＡＱＵＡｔｗｉｎ＞Ｂ−７１１を用いることができる。

ゼオライト粒子のｐＨが７以上１０以下であるためには、ゼオライト粒子が、カウンターカチオンとしてプロトンを有するＦＡＵ Ｙ型のゼオライトからなることが好ましい。

ゼオライト粒子を作製する過程において、ゼオライトの水熱合成を行う場合に、ｐＨの調整のための処理を施してもよい。ｐＨの調整のための処理は、例えば水熱合成のために調製されたゼオライト粉を含むスラリーを加熱する前、スラリーの加熱中、又はスラリーの加熱後に行われる。ｐＨの調整は、例えばスラリーに酸を添加することで行われる。酸は、例えば塩酸、硫酸、硝酸といった無機酸と、ギ酸、酢酸、シュウ酸といった有機酸とからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。

吸湿剤（Ｂ）の平均粒径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。この平均粒径が２００ｎｍ以下であれば、硬化物は特に高い透明性を有することができる。また、この平均粒径が１０ｎｍ以上であれば、吸湿剤（Ｂ）の良好な吸湿性を維持できる。なお、この平均粒径は、動的光散乱法による測定結果から算出されるメディアン径、すなわち累積５０％径（Ｄ５０）である。なお、測定装置としては、マイクロトラック・ベル株式会社のナノトラックＮａｎｏｔｒａｃ Ｗａｖｅシリーズを用いることができる。

吸湿剤（Ｂ）の平均粒径は、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であれば更に好ましく、７０ｎｍ以下であれば特に好ましい。また、吸湿剤（Ｂ）の平均粒径が２０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であればより好ましい。この場合、硬化物は、特に良好な透明性と吸湿性とを有することができる。

吸湿剤（Ｂ）の累積９０％径（Ｄ９０）が２００ｎｍ以下であることも好ましい。この場合、硬化物は特に高い透明性を有することができる。

組成物（Ｘ）における吸湿剤（Ｂ）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１質量部以上３０質量部以下であることが好ましい。吸湿剤（Ｂ）の割合がアルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．０１質量部以上であれば硬化物は特に高い吸湿性を有することができる。また、吸湿剤（Ｂ）の割合がアルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して３０質量部％以下であれば組成物（Ｘ）の粘度を特に低減でき、組成物（Ｘ）がインクジェット法で塗布可能な程度の十分な低粘度を有することもできる。吸湿剤（Ｂ）の割合は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して０．０３質量部以上であれば更に好ましく、０．０５質量部以上であれば特に好ましい。また、吸湿剤（Ｂ）の割合は、２５質量部以下であればより好ましく、２０質量部以下であれば特に好ましい。

組成物（Ｘ）は、吸湿剤（Ｂ）以外の無機充填材を更に含有してもよい。特に、組成物（Ｘ）は、ナノサイズの高屈折率粒子を含有することが好ましい。高屈折率粒子の例はジルコニア粒子を含む。組成物（Ｘ）が高屈折率粒子を含有すると、硬化物の良好な透明性を維持しながら、硬化物を高屈折率化することができる。高屈折率粒子の平均粒径は、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましく、１０ｎｍ以上２０ｎｍ以下の範囲内であれば更に好ましい。

組成物（Ｘ）中の高屈折率粒子の割合は、硬化物が所望の屈折率を有するように適宜設計される。特に高屈折率粒子は、硬化物の屈折率が１．４５以上、１．５５未満の範囲内になるように組成物（Ｘ）に含有されることが好ましい。組成物（Ｘ）は、溶剤を含有しないことが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から硬化物を作製する際に組成物（Ｘ）を乾燥させて溶剤を揮発させるような必要がなくなる。

上述の成分を混合することで、組成物（Ｘ）を調製できる。組成物（Ｘ）は２５℃で液状であることが好ましい。

［分散剤（Ｃ）］
組成物（Ｘ）は、分散剤（Ｃ）を更に含有する。分散剤（Ｃ）は、吸湿剤（Ｂ）に吸着しうる界面活性剤である。分散剤（Ｃ）は、例えば吸湿剤（Ｂ）の粒子に吸着しうる吸着基（アンカーともいう）と、吸着基が吸湿剤（Ｂ）の粒子に吸着することでこの粒子に付着する鎖状又は櫛形状の分子骨格であるテールとを、有する。分散剤（Ｃ）は、例えばテールがアクリル系の分子鎖であるアクリル系分散剤と、テールがウレタン系の分子鎖であるウレタン系分散剤と、テールがポリエステル系の分子鎖であるポリエステル系分散剤とからなら群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。

組成物（Ｘ）が分散剤（Ｃ）を含有すると、吸湿剤（Ｂ）を組成物（Ｘ）中及び硬化物中で良好に分散させることができる。このため、硬化物が吸湿剤（Ｂ）を含有するにもかかわらず、硬化物の透明性が吸湿剤（Ｂ）によって低下されにくい。また、分散剤（Ｃ）は、組成物（Ｘ）の保管中における吸湿剤（Ｂ）の凝集を効果的に抑制できる。そのため組成物（Ｘ）の保存安定性が吸湿剤（Ｂ）によって低下されにくい。

さらに、硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性が分散剤（Ｃ）によって低下されにくい。これは、分散剤（Ｃ）が前記のように吸湿剤（Ｂ）に吸着しやすいため、分散剤（Ｃ）が硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の界面に影響を与えにくいからであると、考えられる。このため、組成物（Ｘ）の硬化物はガラス製の基材との高い密着性を有することができる。

分散剤（Ｃ）の沸点は２００℃以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から分散剤（Ｃ）が揮発しにくいことから、組成物（Ｘ）の保存安定性が更に向上する。

分散剤（Ｃ）は、吸着基として、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することが好ましい。この場合、吸湿剤（Ｂ）を組成物（Ｘ）中及び硬化物中で特に良好に分散させることができる。これは、分散剤（Ｃ）が塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することで、吸湿剤（Ｂ）に吸着しやすく、そのため吸湿剤（Ｂ）を分散させる作用が著しく発現するためと考えられる。

分散剤（Ｃ）は、ポリマーを含んでもよい。ポリマーの重量平均分子量は例えば１０００以上である。ポリマーは、例えば、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルとの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルとの塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエステルポリアミン、及びステアリルアミンアセテートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。分散剤がポリマーを含有すると、ポリマーが吸湿剤（Ｂ）の粒子に吸着した際に生じる立体障害効果が向上することで、吸湿剤（Ｂ）の分散性が向上しうる。

分散剤（Ｃ）は、例えば塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）と酸性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ２）とのうち、いずれか一方又は両方を含有できる。

塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）における塩基性の極性官能基は、例えばアミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、及び含窒素複素環基からなる群から選択される少なくとも一種の基を含む。分散剤（Ｆ１）が塩基性の極性官能基を有すると、分散剤（Ｆ１）は吸湿剤（Ｂ）に吸着しやすいため、吸湿剤（Ｂ）の分散性が向上しうる。塩基性の極性官能基は、分散剤（Ｆ１）の吸湿剤（Ｂ）への吸着能を特に高めることができること、吸湿剤（Ｂ）の分散性を特に向上できること、及び組成物（Ｘ）の粘度を特に低下できることから、アミノ基を含むことが好ましい。

塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）は、例えば商品名：ソルスパース２４０００（アミン価：４１．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパース３２０００（アミン価：３１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパース３９０００（アミン価：２５．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパースＪ１００、商品名：ソルスパースＪ２００等の日本ルーブルリゾール株式会社製のソルスパースシリーズ；商品名：ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−２０１３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１６２（アミン価：１３ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１６３（アミン価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６８（アミン価：１１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０５０（アミン価：３０．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５０（アミン価：５６．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）等のビックケミー・ジャパン株式会社製のＤｉｓｐｅｒＢＹＫシリーズ；商品名：ＢＹＫＪＥＴ−９１５１（アミン価：１７．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＢＹＫＪＥＴ−９１５２（アミン価：２７．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）等のビックケミー・ジャパン株式会社製のＢＹＫＪＥＴシリーズ、；及び商品名：アジスパーＰＢ８２１（アミン価：１１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：アジスパーＰＢ８２２（アミン価：１８．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：アジスパーＰＢ８８１（アミン価：１７．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）等の味の素ファインテクノ株式会社製のアジスパーシリーズを含む。

分散剤（Ｆ１）のアミン価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。また、分散剤（Ｆ１）は、リン酸基を有さないことが好ましい。分散剤（Ｆ１）がリン酸基を有する場合は、リン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下であることが好ましい。この場合、分散剤（Ｆ１）が、吸湿剤（Ｂ）を特に良好に分散させることができ、組成物（Ｘ）の保存安定性を特に高めることができ、硬化物の透明性を特に高めることができ、更に硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を特に高めることができる。分散剤（Ｆ１）に含まれうる成分のうち、アミノ基を有しリン酸基を有さない分散剤の例は、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０８を含み、アミノ基及びリン酸基を有しかつリン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下である分散剤の例は、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０１３及びビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０を含む。

酸性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ２）における酸性の極性官能基は、例えばカルボキシル基である。分散剤（Ｆ２）は、例えばビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−Ｐ１０５を含有する。

吸湿剤（Ｂ）１００質量部に対する分散剤（Ｃ）の量は、５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。分散剤（Ｃ）の量が５質量部以上であれば、分散剤（Ｃ）の利点を特に発揮させることができる。分散剤（Ｃ）の量が６０質量部以下であれば、硬化物と、窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を、より高めることができる。分散剤（Ｃ）の量は１５質量部以上であればより好ましい。分散剤（Ｃ）の量は５０質量部以下であればより好ましく、４０質量部以下であればより更に好ましく、３０質量部以下であれば特に好ましい。

［ポジ型感光剤（Ｄ）］
組成物（Ｘ）は、ポジ型感光剤（Ｄ）を含有する。ポジ型感光剤（Ｄ）としては各種のものが使用可能であるが、キノンジアジド化合物を含有することが好ましい。キノンジアジド化合物は、２種以上含有してもよい。

キノンジアジド化合物の例としては、ポリヒドロキシ化合物にキノンジアジドのスルホン酸がエステルで結合したもの、ポリアミノ化合物にキノンジアジドのスルホン酸がスルホンアミド結合したもの、ポリヒドロキシポリアミノ化合物にキノンジアジドのスルホン酸がエステル結合および／またはスルホンアミド結合したものなどが挙げられる。キノンジアジド化合物は、例えば、５−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとポリヒドロキシ化合物をトリエチルアミン存在下で反応させることにより得ることができる。

また上記ポリヒドロキシ化合物、ポリアミノ化合物、ポリヒドロキシポリアミノ化合物は反応させず添加することもできる。

これらポリヒドロキシ化合物やポリアミノ化合物の全ての官能基がキノンジアジドで置換されていなくてもよいが、露光部と未露光部のコントラストの観点からは、官能基全体の５０モル％以上がキノンジアジドで置換されていることが好ましい。このようなキノンジアジド化合物を用いることで、一般的な紫外線である水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）に感光するポジ型の感光性樹脂組成物を得ることができる。

ポリヒドロキシ化合物は、Ｂｉｓ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＥＺ、ＴｒｉｓＰ−ＨＡＰ、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ、ＴｒｉｓＰ−ＳＡ、ＴｒｉｓＯＣＲ−ＰＡ、ＢｉｓＯＣＨＰ−Ｚ、ＢｉｓＰ−ＭＺ、ＢｉｓＰ−ＰＺ、ＢｉｓＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＯＣＰ−ＩＰＺ、ＢｉｓＰ−ＣＰ、ＢｉｓＲＳ−２Ｐ、ＢｉｓＲＳ−３Ｐ、ＢｉｓＰ−ＯＣＨＰ、メチレントリス−ＦＲ−ＣＲ、ＢｉｓＲＳ−２６Ｘ、ＤＭＬ−ＭＢＰＣ、ＤＭＬ−ＭＢＯＣ、ＤＭＬ−ＯＣＨＰ、ＤＭＬ−ＰＣＨＰ、ＤＭＬ−ＰＣ、ＤＭＬ−ＰＴＢＰ、ＤＭＬ−３４Ｘ、ＤＭＬ−ＥＰ，ＤＭＬ−ＰＯＰ、ジメチロール−ＢｉｓＯＣ−Ｐ、ＤＭＬ−ＰＦＰ、ＤＭＬ−ＰＳＢＰ、ＤＭＬ−ＭＴｒｉｓＰＣ、ＴｒｉＭＬ−Ｐ、ＴｒｉＭＬ−３５ＸＬ、ＴＭＬ−ＢＰ、ＴＭＬ−ＨＱ、ＴＭＬ−ｐｐ−ＢＰＦ、ＴＭＬ−ＢＰＡ、ＴＭＯＭ−ＢＰ、ＨＭＬ−ＴＰＰＨＢＡ、ＨＭＬ−ＴＰＨＡＰ（以上、商品名、本州化学工業（株）製）、ＢＩＲ−ＯＣ、ＢＩＰ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＣ、ＢＩＲ−ＰＴＢＰ、ＢＩＲ−ＰＣＨＰ、ＢＩＰ−ＢＩＯＣ−Ｆ、４ＰＣ、ＢＩＲ−ＢＩＰＣ−Ｆ、ＴＥＰ−ＢＩＰ−Ａ、４６ＤＭＯＣ、４６ＤＭＯＥＰ、ＴＭ−ＢＩＰ−Ａ（以上、商品名、旭有機材工業（株）製）、２，６−ジメトキシメチル−４−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジメトキシメチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジアセトキシメチル−ｐ−クレゾール、ナフトール、テトラヒドロキシベンゾフェノン、没食子酸メチルエステル、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＥ、メチレンビスフェノール、ＢｉｓＰ−ＡＰ（商品名、本州化学工業（株）製）などが挙げられるが、これらに限定されない。

ポリアミノ化合物は、１，４−フェニレンジアミン、１，３−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド等が挙げられるが、これらに限定されない。

また、ポリヒドロキシポリアミノ化合物は、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、３，３’−ジヒドロキシベンジジン等が挙げられるが、これらに限定されない。

本実施形態のキノンジアジド化合物は５−ナフトキノンジアジドスルホニル基、４−ナフトキノンジアジドスルホニル基のいずれも好ましく用いられる。４−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物は水銀灯のｉ線領域に吸収を持っており、ｉ線露光に適している。５−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物は水銀灯のｇ線領域まで吸収が伸びており、ｇ線露光に適している。本実施形態においては、露光する波長によって４−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物、５−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物を選択することが好ましい。また、同一分子中に４−ナフトキノンジアジドスルホニル基、５−ナフトキノンジアジドスルホニル基を併用した、ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物を得ることもできるし、４−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物と５−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル化合物を混合して使用することもできる。

また、キノンジアジド化合物の数平均分子量は２，５００以下が好ましく、１，５００以下がより好ましく、１，２００以下がさらに好ましい。数平均分子量が２，５００以下であれば、パターン形成後の熱処理においてキノンジアジド化合物（Ｄ）が十分に熱分解し、耐熱性、機械特性、接着性に優れた硬化膜を得ることができる。一方、プリベーク時に揮発することを抑えるべく、分子量は３００以上が好ましく、３５０以上がより好ましい。

キノンジアジド化合物の含有量は、溶剤を除く組成物（Ｘ）の全量に対して、４質量％以上、好ましくは５質量％以上、より好ましくは６質量％以上であり、また１２質量％以下、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは９質量％以下である。キノンジアジド化合物の含有量が４質量％以上であると、優れた感度でパターンを形成することができ、キノンジアジド化合物の含有量が１２質量％以下であると、キノンジアジド化合物（Ｄ）の硫黄原子に由来する画素シュリンクを抑制することができ、有機ＥＬ発光装置の長期信頼性を向上させることができる。

［架橋剤（Ｅ）］
組成物（Ｘ）は、必要に応じて、架橋剤（Ｅ）をさらに含有していてもよい。架橋剤（Ｅ）は、アルカリ可溶樹脂（Ａ）及び溶解促進剤などを架橋し、樹脂中に取り込まれる化合物であり、含有することによって硬化膜の架橋度が高くなる。これによって、硬化膜の耐薬品性と耐湿熱性が向上し、かつ熱硬化時のパターンリフローによるパターン解像度の低下が抑制される。

架橋剤（Ｅ）としては、一般式（７）で表されるものが使用可能である。

Ｒ^２３の構造は以下のようなものが例示される。

（式中、Ｒ^２３は直接結合または１価以上４価以下の連結基を示す。Ｒ^２４は炭素数１以上２０以下の１価の有機基、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＦを示す。Ｒ^２５およびＲ^２６は、ＣＨ_２ＯＲ^２８（Ｒ^２８は水素原子または炭素数１以上６以下の１価の炭化水素基）を示す。Ｒ^２７は水素原子、メチル基、またはエチル基を示す。ｈは０以上２以下の整数、ｉは１以上４以下の整数を示す。ｉが２以上４以下の場合、複数のＲ^２４〜Ｒ^２７はそれぞれ同じでも異なってもよいが、同一のベンゼン環がＲ^２３を２つ有する場合は、Ｒ^２３は同じである。Ｒ^２３を表す１価以上４価以下の連結基の例において、Ｒ^２９〜Ｒ^５１は水素原子、炭素数１以上２０以下の１価の有機基、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＦを示す。）

組成物（Ｘ）において、一般式（７）で表される架橋剤は、未置換のものや多量化したものなどが混入すると、組成物（Ｘ）の架橋反応が十分進まない場合がある。このため、一般式（７）で表される化合物の純度は、８０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。純度が８０％以上であれば、組成物（Ｘ）の架橋反応を十分に行い、吸水性基となる未反応基を少なくすることができるため、組成物（Ｘ）の吸水性を小さくすることができる。高純度の架橋剤（Ｅ）を得るためには、再結晶、蒸留などを行い、目的物だけを集める方法などがある。架橋剤（Ｅ）の純度は液体クロマトグラフィー法により求めることができる。

さらに、架橋剤（Ｅ）としては、一般式（８）で表されるメチロール系構造、エポキシ構造、オキセタン構造の群から選択される構造を２個以上有する化合物が挙げられる。上記構造の組み合わせは特に限定されないが、選択される構造は同じものであることが好ましい。

一般式（８）で表されるメチロール系構造を２個以上有するメチロール系化合物において、Ｒ^６０は水素、炭素数１以上１０以下のアルキル基のいずれかを表す。なお、化合物中の複数のＲ^６０はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基が挙げられる。

メチロール系構造を２個以上有するメチロール系化合物の具体例としては、メチロール系構造を２つ有するものとして、ＤＭ−ＢＩ２５Ｘ−Ｆ、４６ＤＭＯＣ、４６ＤＭＯＩＰＰ、４６ＤＭＯＥＰ（以上、商品名、旭有機材工業（株）製）、ＤＭＬ−ＭＢＰＣ、ＤＭＬ−ＭＢＯＣ、ＤＭＬ−ＯＣＨＰ、ＤＭＬ−ＰＣ、ＤＭＬ−ＰＣＨＰ、ＤＭＬ−ＰＴＢＰ、ＤＭＬ−３４Ｘ、ＤＭＬ−ＥＰ、ＤＭＬ−ＰＯＰ、ＤＭＬ−ＯＣ、ジメチロール−Ｂｉｓ−Ｃ、ジメチロール−ＢｉｓＯＣ−Ｐ、ＤＭＬ−ＢｉｓＯＣ−Ｚ、ＤＭＬ−ＢｉｓＯＣＨＰ−Ｚ、ＤＭＬ−ＰＦＰ、ＤＭＬ−ＰＳＢＰ、ＤＭＬ−ＭＢ２５、ＤＭＬ−ＭＴｒｉｓＰＣ、ＤＭＬ−Ｂｉｓ２５Ｘ−３４ＸＬ、ＤＭＬ−Ｂｉｓ２５Ｘ−ＰＣＨＰ（以上、商品名、本州化学工業（株）製）、ニカラックＭＸ−２９０（商品名、（株）三和ケミカル製）、２，６−ジメトキシメチル−４−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジメトキシメチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジアセトキシメチル−ｐ−クレゾールなどが挙げられる。メチロール系構造を３つ有するものとしては、ＴｒｉＭＬ−Ｐ、ＴｒｉＭＬ−３５ＸＬ、ＴｒｉＭＬ−ＴｒｉｓＣＲ−ＨＡＰ（以上、商品名、本州化学工業（株）製）などが挙げられる。メチロール系構造を４つ有するものとしては、ＴＭ−ＢＩＰ−Ａ（商品名、旭有機材工業（株）製）、ＴＭＬ−ＢＰ、ＴＭＬ−ＨＱ、ＴＭＬ−ｐｐ−ＢＰＦ、ＴＭＬ−ＢＰＡ、ＴＭＯＭ−ＢＰ（以上、商品名、本州化学工業（株）製）、ニカラックＭＸ−２８０、ニカラックＭＸ−２７０（以上、商品名、（株）三和ケミカル製）などが挙げられる。メチロール系構造を６つ有するものとしては、ＨＭＬ−ＴＰＰＨＢＡ、ＨＭＬ−ＴＰＨＡＰ、ＨＭＯＭ−ＴＰＰＨＢＡ、ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰ（以上、商品名、本州化学工業（株）製）、ニカラックＭＷ−３９０、ニカラックＭＷ−１００ＬＭ、ニカラック３０−ＨＭ（以上、商品名、（株）三和ケミカル製）などが挙げられる。

これらのうち、本発明では熱架橋性基を少なくとも２つ含有するものが好ましく、特に好ましくは、熱架橋性基を２つ有するものとして４６ＤＭＯＣ、４６ＤＭＯＥＰ、ＤＭＬ−ＭＢＰＣ、ＤＭＬ−ＭＢＯＣ、ＤＭＬ−ＯＣＨＰ、ＤＭＬ−ＰＣ、ＤＭＬ−ＰＣＨＰ、ＤＭＬ−ＰＴＢＰ、ＤＭＬ−３４Ｘ、ＤＭＬ−ＥＰ、ＤＭＬ−ＰＯＰ、ジメチロール−ＢｉｓＯＣ−Ｐ、ＤＭＬ−ＰＦＰ、ＤＭＬ−ＰＳＢＰ、ＤＭＬ−ＭＴｒｉｓＰＣ、ニカラックＭＸ−２９０、Ｂ−ａ型ベンゾオキサジン、Ｂ−ｍ型ベンゾオキサジン、２，６−ジメトキシメチル−４−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジメトキシメチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジアセトキシメチル−ｐ−クレゾールなど、熱架橋性基を３つ有するものとしてＴｒｉＭＬ−Ｐ、ＴｒｉＭＬ−３５ＸＬなど、熱架橋性基を４つ有するものとしてＴＭ−ＢＩＰ−Ａ、ＴＭＬ−ＢＰ、ＴＭＬ−ＨＱ、ＴＭＬ−ｐｐ−ＢＰＦ、ＴＭＬ−ＢＰＡ、ＴＭＯＭ−ＢＰ、“ニカラック”ＭＸ−２８０、“ニカラック”ＭＸ−２７０など、熱架橋性基を６つ有するものとしてＨＭＬ−ＴＰＰＨＢＡ、ＨＭＬ−ＴＰＨＡＰ、ＨＭＯＭ−ＴＰＰＨＢＡ、ＨＭＯＭ−ＴＰＨＡＰなどが挙げられる。また、さらに好ましい例として、“ニカラック”ＭＸ−２８０、“ニカラック”ＭＸ−２７０、“ニカラック”ＭＷ−１００ＬＭ、“ニカラック”ＭＷ−３９０、“ニカラック”３０ＨＭ（商品名、（株）三和ケミカル製）などが挙げられる。

架橋剤（Ｅ）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して５質量部以上が好ましく、１０質量部以上がより好ましい。５質量部以上であると、硬化膜の架橋密度が高くなり、耐薬品性が向上するため好ましい。さらに１０質量部以上であるとより高い機械特性が得られる。一方、組成物（Ｘ）の保存安定性、機械強度の観点から、５０質量部以下が好ましく、４０質量部以下がより好ましく、３０質量部以下がさらに好ましい。

［その他の成分］
組成物（Ｘ）は、ＳｉＮ等の下地基板との接着性を高めるために、さらにシラン化合物を含有していてもよい。

また組成物（Ｘ）は、粘度調整のために、さらに溶剤を含有していてもよい。この溶剤としては、γ−ブチロラクトンなどの極性の非プロトン性溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジイソブチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン類、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類などが挙げられ、これらの溶剤を２種以上含有してもよい。

組成物（Ｘ）の粘度は、塗膜均一性が向上するため、１ｍＰa・ｓ以上になるように調整することが好ましく、５ｍＰa・ｓ以上になるように調整することがより好ましい。一方、ポジ型感光性樹脂組成物の保存安定性、塗布時の送液の容易性の観点から、ポジ型感光性組成物の粘度を１０００ｍＰa・ｓ以下になるように調整することが好ましく、１００ｍＰa・ｓ以下になるように調整することがより好ましい。

［組成物（Ｘ）の製造方法］
組成物（Ｘ）の製造方法の一例を示す。

（Ａ）〜（Ｄ）成分、溶剤および必要によりその他成分をガラス製のフラスコやステンレス製の容器に入れてメカニカルスターラーなどによって撹拌溶解させる方法、超音波で溶解させる方法、遊星式撹拌脱泡装置で撹拌溶解させる方法などが挙げられる。

この際、ポジ型感光性樹脂組成物の粘度は、塗布性より１ｍＰａ・ｓ以上１００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。また、異物を除去するために０．００１μｍ以上５μｍ以下のポアサイズのフィルターで濾過してもよい。ポアサイズが大きすぎると異物が除去しきれず、デバイスを作製後に欠点や不良になる。ポアサイズが小さすぎるとろ過に時間がかかる。

［組成物（Ｘ）を用いたパターン形成］
組成物（Ｘ）を用いたパターン形成方法の一例を示す。

組成物（Ｘ）は基板上に塗布される。基板はシリコンウエハー、セラミックス類、ガリウムヒ素、金属、ガラス、金属酸化絶縁膜、窒化ケイ素、透明電極として有機ＥＬ素子等に使用されるＩＴＯが挙げられるが、これらに限定はされない。塗布方法は、インクジェットによる塗布、スピンナを用いた回転塗布、スプレー塗布、ロールコーティング、スリットダイコーティングなどの方法が挙げられる。また、塗布膜厚は、塗布手法、組成物の固形分濃度、粘度などによって異なるが、通常、デバイスの設計により乾燥後の膜厚が０．１μｍ以上１５０μｍ以下になるように塗布される。

次に、組成物（Ｘ）を塗布した基板を乾燥して感光性樹脂膜を得る。乾燥はオーブン、ホットプレート、赤外線などを使用し、５０℃以上１５０℃以下の範囲で１分以上数時間以下の範囲内で行うことが好ましい。低温、短時間すぎると溶媒が揮発せず感光性膜を得られず、高温、長時間すぎると感光剤等が分解する可能性がある。

次に、この感光性樹脂膜上に所望のパターンを有するマスクを通して化学線を照射し、露光する。露光に用いられる化学線としては紫外線、可視光線、電子線、Ｘ線などがあるが、本発明では水銀灯のｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を用いることが好ましい。これはこの化学線でナフトキノン化合物が容易に反応するためである。

ここで、組成物（Ｘ）の光の波長３６５ｎｍにおける光透過率が５０％以上であることが好ましい。この光透過率は、組成物（Ｘ）からなる膜厚１．５μｍのプリベーク膜において測定される。光透過率は、例えば、日立ハイテクノロジーの分光光度計（U-4100）を用いて測定することができる。この場合、露光に用いられる化学線が組成物（Ｘ）の膜の深部にまで到達しやすくなり、露光が充分に行われる。

感光性樹脂膜から耐熱性樹脂のパタ−ンを形成するには、露光後、現像液を用いて露光部を除去すればよい。現像液は、テトラメチルアンモニウムの水溶液、ジエタノールアミン、ジエチルアミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミン、ジエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、酢酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエタノール、ジメチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどのアルカリ性を示す化合物の水溶液が好ましい。また場合によっては、これらのアルカリ水溶液にＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、ジメチルアクリルアミドなどの極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソブチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などを単独あるいは数種を組み合わせたものを添加してもよい。現像後は水にてリンス処理をする。ここでもエタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル類などを水に加えてリンス処理をしてもよい。

現像後、２００℃以上５００℃以下の温度を加えて耐熱性樹脂被膜に変換する。この加熱処理は温度を選び、段階的に昇温するか、ある温度範囲を選び連続的に昇温しながら５分〜５時間実施する。一例としては、１３０℃、２００℃、３５０℃で各３０分ずつ熱処理する。あるいは室温より３２０℃まで２時間かけて直線的に昇温するなどの方法が挙げられる。

組成物（Ｘ）により形成した耐熱性樹脂被膜は、電子部品に好適に用いることができ、ＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ Ｓｃａｌｅ Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ）などの半導体素子の表面保護膜、層間絶縁膜、有機ＥＬ素子の絶縁膜、ＴＦＴ基板の平坦化膜などに使用することができる。

［有機ＥＬ発光装置］
本実施形態の有機ＥＬ発光装置は、組成物（Ｘ）の硬化物を絶縁膜及び隔壁（バンク部分）などとして備えている。

図１は、本実施形態の有機ＥＬ発光装置の第一例を示している。この有機ＥＬ発光装置６００は、トップエミッション型の発光装置であって、１つ分のサブピクセルが図示されている。有機ＥＬ発光装置６００は、有機ＥＬ素子１２０を備えている。有機ＥＬ素子１２０は、第１電極１２１、有機発光層１２２および第２電極１２３を含む。第１電極１２１はＩＴＯ（酸化インジウムスズ（スズドープ酸化インジウム））などで形成される透明電極であって、ガラス基板などの基板１０１上に設けられている。有機発光層１２２は、正孔注入層６２１、正孔輸送層６２２、有機発光層６２３および電子輸送層６２４を含む。有機ＥＬ発光装置６００は、さらに、有機ＥＬ素子１２０上に封止層２４０を備え、封止層２４０上にガスバリア膜（パッシベーション層）１３２を備える。封止層２４０は、ガスバリア膜（パッシベーション層）２４１と樹脂層（封止材）２４２を備える。

有機ＥＬデバイス６００には、複数の有機ＥＬ素子１２０が設けられており、隣り合う有機ＥＬ素子１２０を区画するように、隔壁６１７が設けられている。この隔壁６１７は、組成物（Ｘ）を使用して上記のようなパターン形成方法によって形成される。隔壁６１７の形状や大きさは任意であるが、例えば、第一電極の幅寸法Ｌ１が８０μｍ、有機ＥＬ素子１２０の幅寸法Ｌ２が７０μｍの場合、隔壁６１７は断面略台形に形成され、その底辺Ｌ３が１００μｍ、高さＨが１μｍに形成される。

そして、隔壁６１７は吸湿剤（Ｂ）を含有する組成物（Ｘ）の硬化物であるため、ガスバリア膜１３２，２４１及び樹脂層２４２に亀裂等の欠陥が生じて、そこから水分が浸入しても、隔壁６１７中の吸湿剤（Ｂ）で吸収することができる。従って、水分が有機ＥＬ素子１２０に到達しにくくなって、有機ＥＬ素子１２０中の有機化合物の劣化が生じにくくなって有機ＥＬ発光装置６００の発光効率が低下しにくく、長期信頼性が得やすくなる。

図２は、本実施形態の有機ＥＬ発光装置の第二例を示している。この有機ＥＬ発光装置６０１の構造の第二例を、図２を参照して説明する。なお、図１に示す第一例と共通する要素については、図１と同じ符号を付して、詳細な説明を適宜省略する。

図２に示す有機ＥＬ発光装置６０１も、トップエミッションタイプである。有機ＥＬ発光装置６０１は、基板１０１、基板１０１と間隔をあけて対向する透明基板１０３、基板１０１の透明基板１０３と対向する面の上にある有機ＥＬ素子１２０、及び有機ＥＬ素子１２０を覆う第一の樹脂層２４２を備える。

有機ＥＬ素子１２０は、第一例の場合と同様、例えば一対の電極（第１電極及び第二電極）１２１、１２３と、電極１２１、１２３間にある有機発光層１２２とを備える。有機発光層１２２は、例えば正孔注入層６２１、正孔輸送層６２２、有機発光層６２３及び電子輸送層６２４を備え、これらの層は前記の順番に積層している。

有機ＥＬ発光装置６０１は複数の有機ＥＬ素子１２０を備え、かつ複数の有機ＥＬ素子１２０が、基板１０１上でアレイ９（以下素子アレイ９という）を構成している。素子アレイ９は、隔壁６１７も備える。隔壁６１７は、基板１０１上にあり、隣合う二つの有機ＥＬ素子１２０の間を仕切っている。隔壁６１７は、例えば感光性の樹脂材料をフォトグラフィ法で成形することで作製される。素子アレイ９は、隣合う有機ＥＬ素子１２０の電極１２３及び電子輸送層６２４同士を電気的に接続する接続配線８も備える。接続配線８は、隔壁６１７上に設けられている。

有機ＥＬ発光装置６０１は、有機ＥＬ素子１２０を覆うガスバリア膜１３２、２４１も備える。ガスバリア膜１３２、２４１は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましい。第一のガスバリア膜２４１は素子アレイ９に直接接触した状態で、素子アレイ９を覆うことで、有機ＥＬ素子１２０を覆っている。第二のガスバリア膜１３２は、第一のガスバリア膜２４１に対して、素子アレイ９とは反対側の位置に配置され、かつ第二のガスバリア膜１３２と第一のガスバリア膜２４１との間には間隔があけられている。第一のガスバリア膜２４１と第二のガスバリア膜１３２との間に、第一の樹脂層２４２が充填されている。すなわち、有機ＥＬ素子１２０と、有機ＥＬ素子１２０を覆う第一の樹脂層２４２との間に、第一のガスバリア膜２４１が介在している。

さらに、第二のガスバリア膜１３２と透明基板１０３との間に、第二の樹脂層（封止材）１５２が充填されている。第二の樹脂層１５２は、例えば透明な樹脂材料から作製される。第二の樹脂層１５２の材質は特に制限されない。第二の樹脂層１５２の材質は、第一の樹脂層２４２と同じであっても、異なっていてもよい。

［有機ＥＬ発光装置の作製方法］
図１に示す第一例の有機ＥＬ発光装置６００の作製方法について説明する。

まず、基板１０１を準備する。この基板１０１の一面上に隔壁を、組成物（Ｘ）を用いてフォトグラフィ法等で作製する。この基板１０１の一面上に、有機ＥＬ素子１２０を設ける。有機ＥＬ素子１２０は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機ＥＬ素子１２０をインクジェット法などの塗布法で作製することが好ましい。次に、ガスバリア膜２４１を設ける。ガスバリア膜２４１は、例えば蒸着法で作製できる。次に、基板１０１の一面及び有機ＥＬ素子１２０を覆うように樹脂層２４２を形成する。樹脂層２４２を形成する方法は、例えばキャスティング法又はインクジェット法である。次に、樹脂層２４２の表面にガスバリア膜１３２を設ける。ガスバリア膜１３２は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。

図２に示す第二例の有機ＥＬ発光装置１の作製方法について説明する。

まず、基板１０１を準備する。この基板１０１の一面上に隔壁６１７を組成物（Ｘ）を用いてフォトグラフィ法等で作製する。続いて、基板１０１の一面上に複数の有機ＥＬ素子１２０を設ける。有機ＥＬ素子１２０は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機ＥＬ素子１２０を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。これにより、基板１０１に素子アレイ９を作製する。次に、素子アレイ９の上に第一のガスバリア膜２４１を設ける。第一のガスバリア膜２４１は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。

次に、第一のガスバリア膜２４１の上に紫外線硬化製樹脂等の樹脂を、例えばインクジェット法で成形して、塗膜を作製する。有機ＥＬ素子１２０の形成と塗膜の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、有機ＥＬ発光装置６０１の製造効率を特に向上できる。続いて、塗膜に紫外線を照射することで硬化させて、樹脂層２４２を作製する。樹脂層２４２の厚みは例えば５μｍ以上５０μｍ以下である。次に、樹脂層２４２の上に第二のガスバリア膜１３２を設ける。第二のガスバリア膜１３２は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。

次に、基板１０１の一面上に、第二のガスバリア膜１３２を覆うように、紫外線硬化性の樹脂材料を設けてから、この樹脂材料に透明基板１０３を重ねる。透明基板１０３は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。次に外部から透明基板１０３へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板１０３を透過して紫外線硬化性の樹脂材料へ到達する。これにより、紫外線硬化性の樹脂材料が硬化し、第二の樹脂層１５２が作製される。

以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。

［合成例１ ヒドロキシル基含有酸無水物（ａ）の合成］
乾燥窒素気流下、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（ＢＡＨＦ）１８３ｇ（０．５モル）とアリルグリシジルエーテル３４２ｇ（３モル）をガンマブチロラクトン（ＧＢＬ）１０００ｇに溶解させ、−１５℃に冷却した。ここにＧＢＬ５００ｇに溶解させた無水トリメリット酸クロリド２２１ｇ（１．１モル）を反応液の温度が０℃を越えないように滴下した。滴下終了後、０℃で４時間反応させた。この溶液をロータリーエバポレーターで濃縮して、トルエン１０Ｌに投入して、下記式で表されるヒドロキシル基含有酸無水物（ａ）を得た。

［合成例２ ヒドロキシル基含有ジアミン化合物（ｂ）の合成］
ＢＡＨＦ１８３ｇ（０．５モル）をアセトン１Ｌ、プロピレンオキシド１７４ｇ（３モル）に溶解させ、−１５℃に冷却した。ここに３−ニトロベンゾイルクロリド２０４ｇ（１．１モル）をアセトン１Ｌに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、−１５℃で４時間反応させ、その後室温に戻した。析出した白色固体をろ別し、５０℃で真空乾燥した。

得られた固体３００ｇを３Ｌのステンレスオートクレーブに入れ、メチルセルソルブ２．５Ｌに分散させ、５％パラジウム−炭素を２０ｇ加えた。ここに水素を風船で導入して、還元反応を室温で行った。約２時間後、風船がこれ以上しぼまないことを確認して反応を終了させた。反応終了後、ろ過して触媒であるパラジウム化合物を除き、ロータリーエバポレーターで濃縮し、下記式で表されるヒドロキシル基含有ジアミン化合物（ｂ）を得た。

［合成例３ ヒドロキシル基含有ジアミン（ｃ）の合成］
２−アミノ−４−ニトロフェノール１５４ｇ（１モル）をアセトン５００ｍＬ、プロピレンオキシド３００ｇ（３．４モル）に溶解させ、−１５℃に冷却した。ここにイソフタル酸クロリド１１２ｇ（０．５５モル）をアセトン６００ｍＬに溶解させた溶液を徐々に滴下した。滴下終了後、−１５℃で４時間反応させた。その後、室温に戻して生成している沈殿をろ過で集めた。

この沈殿をＧＢＬ２Ｌに溶解させて、５％パラジウム−炭素３０ｇを加えて、激しく攪拌した。ここに水素ガスを入れた風船を取り付け、室温で水素ガスの風船がこれ以上縮まない状態になるまで攪拌を続け、さらに２時間水素ガスの風船を取り付けた状態で攪拌した。攪拌終了後、ろ過でパラジウム化合物を除き、溶液をロータリーエバポレーターで半量になるまで濃縮した。ここにエタノールを加えて、再結晶を行い、下記式で表されるヒドロキシル基含有ジアミン（ｃ）の結晶を得た。

［合成例４ キノンジアジド化合物（ｄ）の合成］
乾燥窒素気流下、ＴｒｉｓＰ−ＨＡＰ（商品名、本州化学工業（株）製）、１５．３１ｇ（０．０５モル）と５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド４０．２８ｇ（０．１５モル）を１，４−ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４−ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン１５．１８ｇを系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、ろ液を水に投入させた。その後、析出した沈殿をろ過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記式で表されるキノンジアジド化合物（ｄ）を得た。

［合成例６ ポリイミド前駆体Ａ−１の合成］
乾燥窒素気流下、４，４’−ジアミノフェニルエーテル（ＤＡＥ）５０．１ｇ（０．２５モル）、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン（ＳｉＤＡ）１２．４ｇ（０．０５モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）５００ｇに溶解させた。ここに合成例１で得られたヒドロキシ基含有酸無水物（ａ）２１４ｇ（０．３０モル）をＮＭＰ１４０ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で４時間反応させた。その後、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール７１．４ｇ（０．６モル）をＮＭＰ５０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、５０℃で３時間攪拌し重合液を得た。この重合液を水５Ｌに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、５Ｌの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を２回繰り返した。この後、８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥し、ポリイミド前駆体Ａ−１を得た。

［合成例７ ポリイミド前駆体Ａ−２の合成］
乾燥窒素気流下、合成例２で得られたヒドロキシル基含有ジアミン（ｂ）１３６ｇ（０．２２５モル）をＮＭＰ５００ｇに溶解させた。ここに合成例１で得られた３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸無水物（ＯＤＰＡ）７７．６ｇ（０．２５モル）をピリジン３００ｇとともに加えて、４０℃で２時間反応させた。その後、末端封止剤として、３−エチニルアニリン５．８ｇ（０．０５モル）を加え、さらに４０℃で１時間反応させた。その後、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール７３．５ｇ（０．５モル）をＮＭＰ５０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、４０℃で２時間攪拌し重合液を得た。この重合液を水５Ｌに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、５Ｌの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を２回繰り返した。この後、８０℃の真空乾燥機で７２時間乾燥し、ポリイミド前駆体Ａ−２を得た。

［合成例８ ポリイミド前駆体Ａ−３の合成］
乾燥窒素気流下、合成例３で得られたヒドロキシル基含有ジアミン化合物（ｃ）１５１ｇ（０．４０モル）、ＳｉＤＡ１２．４ｇ（０．０５モル）をＮＭＰ５００ｇに溶解させた。ここにＯＤＰＡ１５５ｇ（０．５モル）をＮＭＰ２１０ｇとともに加えて、２０℃で１時間反応させ、次いで５０℃で１時間反応させた。その後、末端封止剤として、４−アリルアニリン９．５ｇ（０．０８モル）を加え、さらに５０℃で１時間反応させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール１３２ｇ（０．９モル）をＮＭＰ１５０ｇで希釈した溶液を１０分かけて滴下した。滴下後、４０℃で３時間攪拌し重合液を得た。この重合液を水５Ｌに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、５Ｌの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を２回繰り返した。この後、８０℃の真空乾燥機で２０時間乾燥し、ポリイミド前駆体Ａ−３を得た。

［合成例９ ポリベンゾオキサゾール前駆体Ａ−４の合成］
乾燥窒素気流下、ジフェニルエーテル−４，４’−ジカルボン酸ジクロライド（ＤＥＤＣ）１モルと１−ヒドロキシベンゾトリアゾール２モルとを反応させて得られたジカルボン酸誘導体１９７ｇ（０．４０モル）とＢＡＨＦ１８３ｇ（０．５０モル）をＮＭＰ５００ｇに溶解させ、７５℃で１２時間攪拌した。次に、末端封止剤として、ＮＭＰ３００ｇに溶解させた３−アリルベンゼンジカルボン酸無水物３７．６ｇ（０．２０モル）を加え、さらに７５℃で１２時間攪拌し、重合液を得た。この重合液を水５Ｌに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、５Ｌの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を２回繰り返した。この後、８０℃の真空乾燥機で３６時間乾燥し、ポリベンゾオキサゾール前駆体Ａ−４を得た。

［合成例１０ ポリイミドＡ−５の合成］
乾燥窒素気流下、ＢＡＨＦ４９．６ｇ（０．１３５モル）とＳｉＤＡ３．７ｇ（０．０１５モル）をＮＭＰ２００ｇに溶解させ、ＯＤＰＡ４６．７ｇ（０．１５モル）を加えて撹拌し、室温で５時間反応させた。その後、２００℃まで加熱し２時間イミド化させ、重合液を得た。

上記重合液を水２Ｌに加えスラリー化した。このスラリーを減圧濾過し脱水したのち、５Ｌの水を加えメカニカルスターラーで攪拌後減圧濾過し脱水を２回繰り返した後、８０℃の真空乾燥機で７２時間乾燥し、ポリイミドＡ−５を得た。

［ゼオライト粒子１］
ゼオライト粒子１は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は２０ｎｍ、そのＤ９０は５０ｎｍ、そのｐＨは１０である。

出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。

このスラリーに粒径１００μｍのジルコニアビーズ４００ｇを入れてから、ビーズミル粉砕機でスラリー中のゼオライト粉を３時間粉砕することで、Ｎａ系ゼオライトの平均粒径を１２０ｎｍにした。このときのスラリー流量は１０ｋｇ／ｈ、スラリー粘度は１０ｍＰａ・ｓである。

続いて、スラリーから粒径１００μｍのジルコニアビーズを取り除き、その代わりに粒径５０μｍのジルコニアビーズ４００ｇを入れてから、ビーズミル粉砕機でスラリー中のＮａ系ゼオライトを１時間粉砕することで、ゼオライト粉の平均粒径を７０ｎｍにした。このときのスラリー流量は１０ｋｇ／ｈ、スラリー粘度は６ｍＰａ・ｓである。

続いて、スラリーから粒径５０μｍのジルコニアビーズを取り除き、その代わりに粒径３０μｍのジルコニアビーズ４５０ｇを入れてから、ビーズミル粉砕機でスラリー中のゼオライト粉を１時間粉砕することで、ゼオライト粉の平均粒径を２０ｎｍにした。このときのスラリー流量は１０ｋｇ／ｈ、スラリー粘度は４ｍＰａ・ｓである。

続いて、スラリーを、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉を乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒径を整えることで、ゼオライト粒子１を得た。

なお、ゼオライト粒子のｐＨは次の方法で測定した。ポリエチレン製の瓶にゼオライト粒子０．０５ｇとイオン交換水９９．９５ｇとを入れてから、瓶を恒温槽に入れて、９０℃で２４時間加熱した。続いて、瓶の中の液の上澄みのｐＨを、堀場製作所製のコンパクトｐＨメータ＜ＬＡＱＵＡｔｗｉｎ＞Ｂ−７１１を用いて測定した。

［ゼオライト粒子２］
ゼオライト粒子２は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は６０ｎｍ、そのＤ９０は１１０ｎｍ、そのｐＨは１０である。

出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。このスラリー中のゼオライト粉を、ゼオライト粒子１の場合に準じた方法で、平均粒径が６０ｎｍになるように粉砕した。

続いて、スラリーを、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉を乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒径を整えることで、ゼオライト粒子２を得た。

［ゼオライト粒子３］
ゼオライト粒子３は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は１５０ｎｍ、そのＤ９０は２５０ｎｍ、そのｐＨは１０である。

出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。このスラリー中のゼオライト粉を、ゼオライト粒子１の場合に準じた方法で、平均粒径が１５０ｎｍになるように粉砕した。

続いて、スラリーを、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉を乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒径を整えることで、ゼオライト粒子３を得た。

［ゼオライト粒子４］
ゼオライト粒子４は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は６０ｎｍ、そのＤ９０は１１０ｎｍ、そのｐＨは１０である。

出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。このスラリー中のゼオライト粉を、ゼオライト粒子１の場合に準じた方法で、平均粒径が６０ｎｍになるように粉砕した。

処理後のスラリー中のゼオライト粉に、次の方法で水熱合成処理を施した。スラリー５０ｇをフッ素樹脂製容器に入れ、このフッ素樹脂製容器を、オートクレーブのステンレススチール製（ＳＵＳ３１６製）容器に入れた。ステンレススチール製容器は、容量１００ｃｃ、耐熱温度２００℃、耐圧力５０ＭＰａであり、安全弁を備えた蓋により密閉される密閉構造を有する。このステンレススチール製容器を乾燥機に配置して密閉し、１８０℃で２４時間加熱した。次に、乾燥機からステンレススチール製容器を取り出し、これを常温の水の中に入れることで急冷した。

ステンレススチール製容器からフッ素樹脂製容器を取り出し、これをバットに入れて、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、フッ素樹脂製容器内のスラリーを乾燥した。これにより、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉をフッ素樹脂製容器から取り出し、乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒度を整えることで、ゼオライト粒子４を得た。

［ゼオライト粒子５］
ゼオライト粒子５は、表面処理が施されていない粉末品である東ソー製の品番ゼオラム４Ａ、１００メッシュパス品であり、そのＤ５０は１３μｍ、そのＤ９０は３０μｍ、そのｐＨは１０である。

［分散剤］
ソルスパース３２０００：ポリエチレンイミンを主骨格とする脂肪酸アミンの櫛型樹脂分散剤、アミン価：３１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、沸点２００℃以上、ルーブリゾール社製、品名ソルスパース３２０００。

［実施例１〜１０及び比較例１，２］
表１に示す配合割合（単位は質量％）で、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）、吸湿剤（Ｂ）、分散剤（Ｃ）及びポジ型感光剤（Ｄ）並びに架橋剤（Ｅ）を配合して組成物（ワニス）を得た。架橋剤（Ｅ）としては、下記構造式を有するＭＸ−２８０（株式会社三和ケミカル製）を用いた。

［有機ＥＬ発光装置の作成］
ガラス製の基板上に厚み１３０ｎｍのＩＴＯ電極を作製した後、長さ９ｍｍ、幅８０μｍのストライプ形状にパターニングした。このストライプ状第一電極は１００μｍピッチとした。このＩＴＯをパターニングしたガラス基板上に１．５μｍとなるように各実施例及び各比較例の組成物（ワニス）を用いたプリベーク膜を作製し、露光、現像、キュア等の加工することで、幅７０μｍ、長さ２５０μｍの開口部をあけ、しかも、第一電極の端部を覆うような形状の樹脂からなる厚さ約１μｍ絶縁層を形成させた。上記のプリベーク膜の作製にあたっては、ホットプレートを用い１２０℃×３分の条件で加熱した。露光は所定のフォトマクスを用いてパターニングした。キュアはクリーンオープン中で実施した。現像は２．３８ｗｔ％ＴＭＡＨを現像液として用いて６０秒間行った。そして、現像後の基板をクリーンオーブンで２５０℃６０分熱処理し、上記のような約１μｍ絶縁層を形成した。

その基板に、真空蒸着法で、厚み６０ｎｍのα−ＮＰＤの層、厚み６０ｎｍのＡｌｑ３の層、厚み０．５ｎｍのフッ化リチウムの層、及び厚み１００ｎｍのアルミニウムの層を順次作製した。これにより、ＩＴＯストライプ状第一電極上に、パターニングされた発光層が形成され、第一電極と直交するようにストライプ状第二電極が配置された単純マトリクス型カラー有機電界発光表示装置を作製した。

次に、基板上に、有機ＥＬ素子を覆う平面視寸法１３ｍｍ×１３ｍｍ、厚み約２５０ｎｍの窒化ケイ素の層を、プラズマＣＶＤ法にて作製した。この窒化ケイ素の層上に組成物を、インクジェットプリンター（マイクロジェット社製、「ＮａｎｏＰｒｉｎｔｅｒ３００」）にて塗布した。続いて、組成物にパナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ²の条件で５０秒間紫外線照射して光硬化させることで、封止材を作製した。さらに、基板上に、有機ＥＬ素子を覆う平面視寸法１２ｍｍ×１２ｍｍ、厚み約２５０ｎｍの窒化ケイ素の層（パッシベーション層）を、プラズマＣＶＤ法にて作製した。これにより、有機ＥＬ発光装置を得た。

［感度の評価］
得られた感光性樹脂膜の露光部の膜厚が０μｍであった場合は、上記露光時間がより短い条件で、膜厚が０μｍより厚い場合は上記露光時間がより長い条件で、上記測定を繰り返し、現像後に露光部の膜厚が０μｍとなる露光量のうち、最小のものを感度として評価した。感度を比較し良い順に、６０ｍＪ／ｃｍ^２以下を◎、６０ｍＪ／ｃｍ^２より大きく１００ｍＪ／ｃｍ^２以下を○、１００ｍＪ／ｃｍ^２より大きく２００ｍＪ／ｃｍ^２以下を△、２００ｍＪ／ｃｍ^２を超えるもの×と評価した。

［初期発光特性］
製造直後の有機ＥＬ素子に３Ｖの電圧を印加して有機ＥＬ素子を発光させた。このときの有機ＥＬ素子の発光状態（ダークスポット及び有機ＥＬ素子周辺消光の有無）を目視で観察した。その結果、ダークスポット及び周辺消光が無く均一に発光した場合を「◎」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以下の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「○」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以上７０％未満の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「△」と評価した。有機ＥＬ素子全体の７０％以上の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「×」と評価した。

［耐久性］
上記の初期発光特性の試験のために作製した有機ＥＬ発光装置を、８５℃、８５％ＲＨの条件下に１００時間暴露した後、有機ＥＬ素子に３Ｖの電圧を印加して有機ＥＬ素子を発光させた。このときの有機ＥＬ素子の発光状態（ダークスポット及び有機ＥＬ素子周辺消光の有無）を目視で観察した。

その結果、ダークスポット及び周辺消光が無く均一に発光した場合を「◎」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以下の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「○」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以上７０％未満の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「△」と評価した。有機ＥＬ素子全体の７０％以上の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「×」と評価した。

本実施形態のポジ型感光性樹脂組成物は以下の態様を含む。

第１の態様は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、平均粒径が２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｂ）と、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を有する分散剤（Ｃ）と、ポジ型感光剤（Ｄ）とを含有する。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物は、吸湿剤（Ｂ）を含有しているため、吸湿剤（Ｂ）で水分を吸収することができる。従って、ポジ型感光性樹脂組成物を含有して絶縁膜や隔壁を形成した場合に、有機化合物を含有する薄膜層に水分が到達しにくくなり、発光効率が低下しにくい有機ＥＬ発光装置を形成しやすい。またポジ型感光性樹脂組成物は、分散剤（Ｃ）を含有しているため、吸湿剤（Ｂ）が平均粒径２００ｎｍ以下のナノ粒子であっても、分散性を高めることができ、均質なポジ型感光性樹脂組成物が得やすくなる。

第２の態様は、第１の態様において、前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、一般式（１）または（２）で表される構造のうち少なくともいずれかを有するポリマーを含むである。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物は、耐熱性及び耐溶剤性に優れる絶縁膜及び隔壁などを形成することができる。

第３の態様は、第１又は第２の態様において、前記吸湿剤（Ｂ）は、ゼオライト粒子を含有する。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物は、吸湿性に優れる絶縁膜及び隔壁などを形成することができる。

第４の態様は、第１乃至第３のいずれか一つの態様において、前記吸湿剤（Ｂ）の含有量が、前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１質量部以上３０質量部以下である。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物は、吸湿性に優れる絶縁膜及び隔壁などを形成することができる。

第５の態様は、第１乃至第４のいずれか一つの態様において、前記分散剤（Ｃ）の含有量が、前記吸湿剤（Ｂ）１００質量部に対して、５質量部以上６０質量部以下である。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物は、吸湿剤（Ｂ）の分散性を向上させることができる。

第６の態様は、第１乃至第５のいずれか一つの態様において、光の波長３６５ｎｍにおける光透過率が５０％以上である。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物は、感光性に優れるものとなる。

第７の態様は、第１乃至第６のいずれか一つの態様において、前記ポジ型感光剤（Ｄ）がキノンジアジド化合物である。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物は、感光性に優れるものとなる。

第８の態様は、第１乃至第７のいずれか一つの態様において、さらに、一般式（７）で表される架橋剤（Ｅ）を含有する。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物の硬化膜の耐薬品性と耐湿熱性が向上し、かつ熱硬化時のパターンリフローによるパターン解像度の低下が抑制される。

第９の態様は、第１乃至第８のいずれか一つのポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を備える。

この場合、有機ＥＬ発光装置は、ポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を含む吸湿性に優れる絶縁膜及び隔壁を有することになる。

第１０の態様は、有機ＥＬ素子（１２０）と、有機ＥＬ素子（１２０）を区画する隔壁（６１７）とを備える。隔壁（６１７）が第１乃至第８のいずれか一つのポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を含む。

この場合、ポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を含む吸湿性に優れる隔壁（６１７）を有することになる。

１２０ 有機ＥＬ素子
６００ 有機ＥＬ発光装置
６１７ 隔壁

Claims (10)

1. アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、
   平均粒径が２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｂ）と、
   塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を有する分散剤（Ｃ）と、
   ポジ型感光剤（Ｄ）と
   を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
2. 請求項１において、
   前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、一般式（１）または（２）で表される構造のうち少なくともいずれかを有するポリマーを含む
   ポジ型感光性樹脂組成物。
   

   

   （一般式（１）中、Ｒ^１は炭素数が２以上の２価以上８価以下の有機基、Ｒ^２は炭素数が２以上の２価以上６価以下の有機基、Ｒ^３は水素または炭素数が１以上２０以下の有機基をそれぞれ示す。ｍは０以上４以下の整数、ｐ、ｑは０以上４以下の整数（ただしｐ＋ｑ＞０）をそれぞれ示す。）
   

   

   （一般式（２）中、Ｒ^４は炭素数が２以上の４価以上８価以下の有機基、Ｒ^５は炭素数２以上の２価以上６価以下の有機基をそれぞれ示す。ｒおよびｓはそれぞれ０以上４以下の整数を示す。）
3. 請求項１又は２において、
   前記吸湿剤（Ｂ）は、ゼオライト粒子を含有する
   ポジ型感光性樹脂組成物。
4. 請求項１乃至３のいずれか一項において、
   前記吸湿剤（Ｂ）の含有量が、前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）１００質量部に対して、０．０１質量部以上３０質量部以下である
   ポジ型感光性樹脂組成物。
5. 請求項１乃至４のいずれか一項において、
   前記分散剤（Ｃ）の含有量が、前記吸湿剤（Ｂ）１００質量部に対して、５質量部以上６０質量部以下である
   ポジ型感光性樹脂組成物。
6. 請求項１乃至５のいずれか一項において、
   光の波長３６５ｎｍにおける光透過率が５０％以上である
   ポジ型感光性樹脂組成物。
7. 請求項１乃至６のいずれか一項において、
   前記ポジ型感光剤（Ｄ）がキノンジアジド化合物である
   ポジ型感光性樹脂組成物。
8. 請求項１乃至７のいずれか一項において、
   さらに、一般式（７）で表される架橋剤（Ｅ）を含有する
   ポジ型感光性樹脂組成物。
   

   

   （式中、Ｒ^２３は直接結合または１価以上４価以下の連結基を示す。Ｒ^２４は炭素数１以上２０以下の１価の有機基、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＦを示す。Ｒ^２５およびＲ^２６は、ＣＨ_２ＯＲ^２８（Ｒ^２８は水素原子または炭素数１以上６以下の１価の炭化水素基）を示す。Ｒ^２７は水素原子、メチル基、またはエチル基を示す。ｈは０以上２以下の整数、ｉは１以上４以下の整数を示す。ｉが２以上４以下の場合、複数のＲ^２４〜Ｒ^２７はそれぞれ同じでも異なってもよいが、同一のベンゼン環がＲ^２３を２つ有する場合は、Ｒ^２３は同じである。Ｒ^２３を表す１価以上４価以下の連結基の例において、Ｒ^２９〜Ｒ^５１は水素原子、炭素数１以上２０以下の１価の有機基、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、またはＦを示す。）
9. 請求項１乃至８のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を備える
   有機ＥＬ発光装置。
10. 有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を区画する隔壁とを備え、
    前記隔壁が請求項１乃至８のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物の硬化物を含む
    有機ＥＬ発光装置。

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