WO2022210470A1 - 接合体の製造方法 - Google Patents

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Abstract

本開示に係る接合体の製造方法は、外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第1外層部、および第1外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第1内部を有する第1複合体を得る工程と;外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第2外層部、および第2外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第2内部を有する第2複合体を得る工程と;第1内部が第2内部に当接する第1当接面、および第2内部が第1内部に当接する第2当接面の少なくとも一方を、研削または研磨する工程と;第1当接面と第2当接面とを当接させ、真空雰囲気中または不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程とを含む。

Description

接合体の製造方法
 本発明は、接合体の製造方法に関する。
 従来、炭化ケイ素セラミックス材同士の接合は、特許文献1に記載のように、ろう材を用いて行われている。具体的には、特許文献1には、炭化ケイ素セラミックス材同士を、シリコンを含むろう材を用いて接合させる際、炭化ケイ素セラミックス材の非接合面にのみ、予め、酸化膜を形成する方法が記載されている。このような方法によって、炭化ケイ素セラミックス材同士を細孔または溝を有する面で接合させても、細孔または溝が閉塞しないようにしている。
特許第4954838号公報
 本開示に係る接合体の製造方法は、外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第1外層部、および第1外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第1内部を有する第1複合体を得る工程と;外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第2外層部、および第2外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第2内部を有する第2複合体を得る工程と;第1内部が第2内部に当接する第1当接面、および第2内部が第1内部に当接する第2当接面の少なくとも一方を、研削または研磨する工程と;第1当接面と第2当接面とを当接させ、真空雰囲気中または不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程とを含む。
本開示の一実施形態に係る製造方法によって得られる接合体を示す説明図である。 本開示の一実施形態に係る製造方法の工程を示す説明図である。
 上述のように従来の接合方法は、ろう材を用いているため、炭化ケイ素セラミックス材間にろう材層が存在する。その結果、ろう材層内に空隙が存在すると、接合強度が低下する。このろう材層の厚みのばらつきを抑制するには、シリコンの粒度分布を制御する必要がある。制御が適切にされなければ、外部に流体がリークすることがある。さらに、従来の接合方法では、炭化ケイ素セラミックス材同士を、真空ろう付けによって接合している。そのため、ろう材に含まれる炭素が飛散し、炉壁を汚すことがある。
 したがって、優れた接合強度を有する接合体、および炉壁を汚さずに、優れた接合強度を有する接合体を製造する方法が求められている。
 本開示に係る接合体の製造方法は、上記のように、第1当接面と第2当接面とを当接させ、真空雰囲気中または不活性ガス雰囲気中熱処理する工程とを含む。したがって、本開示によれば、炉壁を汚さずに、優れた接合強度を有する接合体を製造する方法を提供することができる。
 本開示の一実施形態に係る製造方法によって得られる接合体(以下、「一実施形態に係る接合体」と記載する場合がある)は、上記のように、第1複合体および第2複合体を備える。本開示に係る接合体を、図1に基づいて説明する。
 図1に示すように、一実施形態に係る接合体10は、第1複合体1および第2複合体2を備える。第1複合体1は、第1外層部11と第1外層部11に囲繞される第1内部12とを有する。第1外層部11は第1複合体1の外面側に位置しており、酸化珪素を主成分として含む。第1外層部11は酸化珪素を主成分として含む酸化膜であり、その厚みは限定されない。第1外層部11は、例えば700nm以上900nm以下の厚みを有する。
 本明細書において「主成分」とは、80質量%以上を占める成分を意味する。成分の同定は、CuKα線を用いたX線回折装置で行い、炭化珪素および珪素の含有量は、例えば、リートベルト法により求めればよい。
 第1内部12は炭化珪素および珪素を含み、第1外層部11に囲繞されている。具体的には、炭化珪素および珪素を含む部材において、この部材の外側面を酸化して形成される酸化珪素を主成分とする酸化膜が「第1外層部11」に相当し、残りの部分が「第1内部12」に相当する。
 第1内部12に含まれる炭化珪素および珪素の含有量は限定されない。炭化珪素は、例えば、70質量%以上92質量%以下の割合で含まれていてもよい。炭化珪素は珪素よりもヤング率(動的弾性率)および3点曲げ強度といった機械的特性に優れている。そのため、炭化珪素の含有量が70質量%以上の場合、得られる接合体の機械的特性が向上する。一方、珪素は炭化珪素よりも熱伝導率が高い。そのため、炭化珪素の含有量が92質量%以下の場合、得られる接合体の熱伝導性が向上する。したがって、炭化珪素の含有量が70質量%以上92質量%以下であれば、機械的特性と熱伝導性とを両立させることができる。
 第1内部12において、珪素の重心間距離の平均値と珪素の円相当径の平均値との差は限定されず、例えば、8μm以上20μm以下であってもよい。この差が8μm以上であると、炭化珪素の分布密度が高くなる。そのため、得られる接合体の剛性が向上し、剛性の偏りも低減される。一方、この差が20μm以下であると、得られる接合体の熱伝導性が向上し、熱伝導性の偏りも低減される。
 第1内部12の閉気孔率は限定されず、例えば、0.1%以下であってもよい。第1内部12の閉気孔率が0.1%以下であれば、閉気孔の容積が少なくなる。そのため、得られる接合体において、閉気孔にパーティクルが含まれていたとしても、珪素がパーティクルに侵食されるおそれが低減する。
 第2複合体2は、第2外層部21と第2外層部21に囲繞される第2内部22とを有する。第2外層部21は第2複合体2の外面側に位置しており、酸化珪素を主成分として含む。第2外層部21は酸化珪素を主成分として含む酸化膜であり、その厚みは限定されない。第2外層部21は、例えば700nm以上900nm以下の厚みを有する。「主成分」については上述の通りであり、詳細な説明は省略する。
 第2内部22は炭化珪素および珪素を含み、第2外層部21に囲繞されている。具体的には、炭化珪素および珪素を含む部材において、この部材の外側面を酸化して形成される酸化珪素を主成分とする酸化膜が「第2外層部21」に相当し、残りの部分が「第2内部22」に相当する。
 第2内部22に含まれる炭化珪素および珪素の含有量は限定されない。炭化珪素は、例えば、70質量%以上92質量%以下の割合で含まれていてもよい。炭化珪素は珪素よりもヤング率(動的弾性率)および3点曲げ強度といった機械的特性に優れている。そのため、炭化珪素の含有量が70質量%以上の場合、得られる接合体の機械的特性が向上する。一方、珪素は炭化珪素よりも熱伝導率が高い。そのため、炭化珪素の含有量が92質量%以下の場合、得られる接合体の熱伝導性が向上する。したがって、炭化珪素の含有量が70質量%以上92質量%以下であれば、機械的特性と熱伝導性とを両立させることができる。第1内部21および第2内部22に含まれる各成分は、X線回折装置で同定し、炭化珪素および珪素の各含有量は、リートベルト法で求めればよい。
 第2内部22において、珪素の重心間距離の平均値と珪素の円相当径の平均値との差は限定されず、例えば、8μm以上20μm以下であってもよい。この差が8μm以上であると、炭化珪素の分布密度が高くなる。そのため、得られる接合体の剛性が向上し、剛性の偏りも低減される。一方、この差が20μm以下であると、得られる接合体の熱伝導性が向上し、熱伝導性の偏りも低減される。
 第1内部21および第2内部22における珪素の重心間距離は、以下の方法で求めればよい。まず、第1内部21および第2内部22のそれぞれ一部を切り出す。切り出した後、ダイヤモンド砥粒を用い、断面を研磨して得られる鏡面から、平均的な範囲を選択する。その後、各面積が0.191mm2(横方向の長さが351μm、縦方向の長さが545μm)となる範囲を走査型電子顕微鏡で撮影して、観察像を得る。
 この観察像を対象として、画像解析ソフト「A像くん(ver2.52)」(登録商標、旭化成エンジニアリング(株)製、以降の説明において画像解析ソフト「A像くん」と記した場合、旭化成エンジニアリング(株)製の画像解析ソフトを示す)を用いて分散度計測の重心間距離法という手法で珪素の重心間距離を求める。
 この手法の設定条件としては、画像の明暗を示す指標であるしきい値を190~195、明度を明、小図形除去面積を1μm2、雑音除去フィルタを有とする。珪素の円相当径は、上記観察像を対象として、粒子解析という手法で求める。この手法の設定条件は、重心間距離法で用いた設定条件と同じである。
 第2内部22の閉気孔率は限定されず、例えば、0.1%以下であってもよい。第2内部22の閉気孔率が0.1%以下であれば、閉気孔の容積が少なくなる。そのため、得られる接合体において、閉気孔にパーティクルが含まれていたとしても、珪素がパーティクルに侵食されるおそれが低減する。珪素の円相当径は、上記観察像を対象として、粒子解析という手法で求めればよい。この手法の設定条件は、画像の明暗を示す指標であるしきい値を155、明度を暗、小図形除去面積を1μm2、雑音除去フィルタを有とする。
 第1複合体1および第2複合体2が、それぞれ第1外層部11および第2外層部21を有することによって、接合体10が高温条件下に曝されたとしても、第1内部12および第2内部22の形状安定性が向上する。その理由は、酸化珪素の融点は珪素の融点よりも高いためである。
 一実施形態に係る接合体10において、第1内部12が第2内部22に当接する第1当接面15と、第2内部22が第1内部12に当接する第2当接面25とは、拡散接合している。拡散接合とは、接着剤などを介さずに部材同士を接合させることであり、部材同士を密着させて、部材の融点以下の温度条件下で、接合面間に生じる原子の拡散を利用して部材同士を接合することである。一実施形態に係る接合体10では、第1当接面15および第2当接面25において珪素原子(Si)が拡散し、接合している。
 一実施形態に係る接合体10において、第1当接面15と第2当接面25との間に空隙が含まれない。第1当接面15と第2当接面25とが拡散接合しており、第1当接面15と第2当接面25との間に空隙が含まれないため、接合体10は優れた接合強度を有する。さらに、接合体10において、第1内部12と第2内部22との熱交換が容易に行われる。
 「第1当接面15と第2当接面25との間に空隙が含まれない」とは、第1当接面15と第2当接面25との間で厚み方向の最大長が20μmを超える空隙を含まないことを意味する。そのため、最大長が20μm以下の微細な空隙のみが含まれている場合も、「空隙が含まれない」に相当する。空隙については、例えば、第1当接面15および第2当接面25を含む断面を研磨して得られる鏡面を、走査型電子顕微鏡を用いて、250倍程度の倍率で観察すればよい。鏡面における第1当接面(第2当接面)の長さを、例えば0.35mmとして、この長さにおける空隙の最大長を測定すればよい。
 一実施形態に係る接合体10において、第1当接面15には、図1に示すように、深さ方向に向かって第1凹部13が備えられていてもよい。このような第1凹部13が備えられていることによって、得られる接合体10の第1凹部13に流体を流すことができる。流体の速度や粘性に応じて、第1凹部13の幅や深さは適宜調整することができる。そのため、第1凹部13におけるフィレットの影響(例えば、フィレットによって生じる流体の乱流の発生)は、無視できるほど低減される。その結果、第1凹部13に流体を流しても、流路抵抗のばらつきを低減することができる。
 第1凹部13の大きさおよび形状は限定されず、接合体10の大きさ、用途、流す流体の種類などに応じて適宜設定すればよい。さらに、第1凹部13の代わりに貫通孔(第1貫通孔)であってもよい。
 第1凹部13の内壁面および内底面の少なくとも一方、または第1貫通孔の内壁面には、酸化珪素を主成分として含む第1内層部14が備えられていてもよい。このような第1内層部14が備えられていると、上述の第1外層部11と同様、接合体10において、第1凹部13または第1貫通孔が高温条件下に曝されたとしても、第1凹部13または第1貫通孔の形状安定性が向上する。その理由は、上述の通りであり、酸化珪素の融点は珪素の融点よりも高いためである。第1内層部14は、例えば700nm以上900nm以下の厚みを有していてもよい。
 一実施形態に係る接合体10において、第2当接面25には、図1に示すように、深さ方向に向かって第2凹部23が備えられていてもよい。このような第2凹部23が備えられていることによって、得られる接合体10の第2凹部23に流体を流すことができる。第2凹部23についても、第1凹部13と同様、第2凹部23に流体を流しても、流路抵抗のばらつきを低減することができる。
 第2凹部23の大きさおよび形状は限定されず、接合体10の大きさ、用途、流す流体の種類などに応じて適宜設定すればよい。さらに、第2凹部23の代わりに貫通孔(第2貫通孔)であってもよい。
 第2凹部23の内壁面および内底面の少なくとも一方、または第2貫通孔の内壁面には、酸化珪素を主成分として含む第2内層部24が備えられていてもよい。理由については、上述の第1凹部13において説明した通りである。第2内層部24は、例えば700nm以上900nm以下の厚みを有していてもよい。
 第1凹部13(または第1貫通孔)と第2凹部23(または第1貫通孔)とは、同じ形状であってもよく、異なる形状であってもよい。さらに、第1凹部13(または第1貫通孔)と第2凹部23(または第1貫通孔)とは、図1に示すように、第1複合体1と第2複合体2とを接合させた場合に、対応するように位置していてもよく、異なる場所に位置していてもよい。
 本開示の一実施形態に係る接合体の製造方法は、下記の工程(a)~(c)を含む。
  工程(a):外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第1外層部、および第1外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第1内部を有する第1複合体を得る工程。
  工程(b):外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第2外層部、および第2外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第2内部を有する第2複合体を得る工程。
  工程(c):第1内部が第2内部に当接する第1当接面、および第2内部が第1内部に当接する第2当接面の少なくとも一方を、研削または研磨する工程。
  工程(d):第1当接面と第2当接面とを当接させ、真空雰囲気中または不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程。
 工程(a)および工程(b)は、それぞれ第1複合体1および第2複合体2を得る工程である。まず、40μm以上250μm以下の平均粒径を有するα型炭化珪素粉末100質量部に対して、1μm以上90μm以下の平均粒径を有する珪素粉末8.7質量部以上42.9質量部以下を混合する。得られたα型炭化珪素と珪素との混合粉末に、成形助剤として、脱脂処理後の残炭率が10%以上となるような熱硬化性樹脂を添加する。炭化珪素および珪素の平均粒径は、液相沈降法、光投下法、レーザー散乱回折法などによって測定することができる。
 熱硬化性樹脂としては、限定されず、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、フラン樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、メタクリル樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。熱硬化後の低収縮性の点で、成形助剤としては、例えば、レゾール型またはノボラック型のフェノール樹脂を使用するのがよい。
 珪素粉末の純度については高い方がよい。珪素を95質量%以上の割合で含む粉末を使用してもよく、珪素を99質量%以上の割合で含む粉末を使用するのがよい。使用する珪素粉末の形状は限定されず、例えば、球形または球形に近い形状であってもよく、不規則形状であってもよい。珪素粉末は、熱処理によって珪素相となり、炭化珪素の結晶粒子を連結する。
 次いで、混合した原料を、転動造粒機、スプレードレイヤー、圧縮造粒機、押出造粒機などの造粒機を使用して造粒することによって顆粒を得る。大きな粒径(例えば、0.4mm以上1.6mm以下)を有する顆粒を得るためには、転動造粒機を使用すればよい。造粒時間は限定されず、成形体の潰れ性を考慮すると、30分以上造粒するのがよい。顆粒の粒径は限定されず、成形体の潰れ性やハンドリング性を考慮すると、0.4mm以上1.6mm以下であるのがよく、0.5mm以上1.5mm以下であってもよい。
 次いで、得られた顆粒を成形する。顆粒を成形する方法としては、例えば、乾式加圧成形法、冷間等方静水圧成形法などが挙げられる。成形する際の圧力は、例えば、78.4MPa以上117.6MPa以下である。得られた成形体を、非酸化雰囲気下、1460℃以上1500℃以下で熱処理することによって、焼結体が得られる。熱処理する前に、必要に応じて、アルゴン、ヘリウム、ネオン、真空などの非酸化雰囲気下、400℃以上600℃以下の温度で脱脂処理を行ってもよい。
 図2は、本開示の一実施形態に係る製造方法の工程を示す説明図である。このようにして得られた焼結体(部材)に第1凹部13および第2凹部23を形成する。その後、部材を酸化処理に供して、部材の表面に酸化珪素を主成分とする酸化膜を形成する。この酸化膜が「第1外層部11および第1内層部14」ならびに「第2外層部21および第2内層部24」に相当し、残りの部分が「第1内部12」および「第2内部22」に相当する。「第1外層部11および第1内層部14」ならびに「第2外層部21および第2内層部24」の厚みは、上述の通りである。このようにして、第1複合体1および第2複合体2が得られる。
 工程(c)は、第1複合体1の第1当接面15、および第2複合体2の第2当接面25の少なくとも一方を、研削または研磨する工程である。第1当接面15および第2当接面25の少なくとも一方を研削または研磨することによって、接合した際の密着性を向上させることができる。その結果、優れた接合強度が発揮される。接合強度を向上させる点で、第1当接面15および第2当接面25の両方を研削または研磨してもよい。
 研削または研磨する方法は限定されない。例えば、研削または、ラップ加工、ポリッシュ加工などによって研磨される。
 工程(d)は、第1当接面と第2当接面とを当接させ、熱処理する工程である。熱処理は、真空雰囲気中または不活性ガス雰囲気中で行われる。熱処理温度は、例えば、1100℃以上1650℃以下である。熱処理温度を1100℃以上とすることで、第1当接面15および第2当接面25の各周辺で珪素が適度に溶融して、第1複合体1と第2複合体2とを強固に接合することができる。熱処理温度を1650℃以下とすること、上記各周辺以外を溶融させることがないので、第1複合体1および第2複合体2の各剛性を高い状態で維持することができる。
 不活性ガスとしては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオンなどが挙げられる。熱処理の時間は、第1複合体1および第2複合体2の大きさなどに応じて適宜設定され、例えば、1分以上180分以下である。このようにして、第1複合体1および第2複合体2において、第1当接面15と第2当接面25とが拡散接合され、一実施形態に係る接合体10が得られる。なお、第1当接面15と第2当接面25とを当接させ、熱処理する場合、厚み方向から押圧しても、上側に位置する部材の自重のみであってもよい。
 本開示に係る接合体は、例えば、熱交換装置において、500℃以上、さらには800℃以上高温環境下に曝されるような部材として使用される。このような部材としては、高温での強度が高いことから、例えば、水と高温のガスとの熱交換器などが挙げられる。
 以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
(実施例1)
 まず、第1複合体および第2複合体をそれぞれ作製した。拡散接合する前に、第1複合体の第1当接面および第2複合体の第2当接面とは、予め表1に示す状態の面になるようにした。第1当接面と第2当接面とを当接させ、真空雰囲気中で熱処理温度を1350℃として拡散接合して試料を得た。
 各試料の第1当接面および第2当接面を含む断面を研磨して得られる鏡面を、走査型電子顕微鏡を用いて、250倍の倍率で、空隙の有無を観察した。ここで、鏡面における第1当接面(第2当接面)の長さを0.35mmとし、この長さにおける空隙を観察の対象とした。厚み方向の最大長が20μmを超える空隙が観察された試料は、「有」、それ以外の試料については「無」とし、その結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1に示すように、試料No.2~4は、第1当接面と第2当接面との間に空隙が含まれていない。すなわち、厚み方向の最大長が20μmを超える空隙が観察されていない。そのため、良好な拡散接合が得られていると言える。
(実施例2)
 まず、本実施形態の接合体からなる試料を準備した。各試料に含まれる炭化珪素および珪素の各含有量は、予め表2に示す値になるように調整した。各試料の第1内部および第2内部に含まれる各成分は、X線回折装置で同定し、炭化珪素および珪素の各含有量は、リートベルト法で求めた。炭化珪素および珪素以外の成分の含有量は、蛍光X線分析装置で求めた結果、その含有量の合計は0.1質量%以下であった。各試料について、動的弾性率および熱伝導率を測定した。
 動的弾性率は、JIS R 1602:1995に記載された超音波パルス法を用いて測定した。動的弾性率の測定に用いる試料は、10mm角、長さが40mmの角柱であり、第1当接面および第2当接面(いずれも長さが40mm、幅が10mmの矩形)が試料に照射するレーザーパルス光に対して垂直になるように配置した。結果を表2に示す。
 熱伝導率は、JIS R 1611:2010(ISO 18755:2005(MOD)に記載されたフラッシュ法を用いて測定した。熱伝導率の測定に用いる試料は、直径が10mm、厚さが3mmの円板とし、第1当接面および第2当接面(いずれも直径が3mmの円形)が試料に照射するレーザーパルス光に対して垂直になるように配置した。結果を表2に示す。
 各試料の第1当接面および第2当接面を含む断面を研磨して得られる鏡面を実施例1で示した方法と同じ方法で空隙の有無を観察した。いずれの試料も空隙がないことを確認した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表2に示すように、試料No.6~19は、第1内部および第2内部の少なくともいずれかにおける炭化珪素の含有量が70質量%以上92質量%以下である。そのため、高い動的弾性率と高い熱伝導率とを兼ね備えていると言える。
(実施例3)
 まず、本実施形態の接合体からなる試料を準備した。各試料に含まれる炭化珪素の含有量は81質量%、珪素の含有量は19質量%になるように調整した。ここで、第1内部および第2内部を得るために、成形する際に用いる圧力を成形圧として表3に示した。各試料の第1当接面および第2当接面を含む断面を研磨して得られる鏡面を実施例1で示した方法と同じ方法で空隙の有無を観察した結果、いずれの試料も空隙がないことを確認した。
 各試料の動的弾性率、3点曲げ強度および熱伝導率を実施例1で示した方法と同じ方法で測定した。結果を表3に示した。
 各試料の第1内部および第2内部の珪素の重心間距離は、以下の方法で求めた。まず、第1内部、第2内部を含む試料を別々に切り出して、ダイヤモンド砥粒を用いて試料の断面を研磨して得られる鏡面から、平均的な範囲を選択して、各面積が0.191mm2(横方向の長さが351μm、縦方向の長さが545μm)となる範囲をCCDカメラで撮影して、観察像を得た。
 この観察像を対象として、画像解析ソフト「A像くん(ver2.52)」(登録商標、旭化成エンジニアリング(株)製)を用いて分散度計測の重心間距離法という手法で珪素の重心間距離を求めた。この手法の設定条件としては、画像の明暗を示す指標であるしきい値を190、明度を明、小図形除去面積を1μm2、雑音除去フィルタを有とした。
 珪素の円相当径は、上記観察像を対象として、粒子解析という手法で求めた。この手法の設定条件としては、画像の明暗を示す指標であるしきい値を195とした以外は、明度を明、小図形除去面積を1μm2、雑音除去フィルタを有とした。珪素の重心間距離および円相当径の平均値をそれぞれ算出し、珪素の重心間距離の平均値から円相当径の平均値を引いた値を珪素の間隔として表3に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 表3に示すように、試料No.22~35は、第1内部および第2内部の少なくともいずれかにおける珪素の間隔が8μm以上20μm以下である。そのため、高い動的弾性率と高い熱伝導率とを兼ね備えており、剛性および熱伝導性に偏りが少ないと言える。
 10 接合体
 1  第1複合体
 11 第1外層部
 12 第1内部
 13 第1凹部
 14 第1内層部
 15 第1当接面
 2  第2複合体
 21 第2外層部
 22 第2内部
 23 第2凹部
 24 第2内層部
 25 第2当接面

Claims (8)

  1.  外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第1外層部、および該第1外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第1内部を有する第1複合体を得る工程と、
     外面側に位置し酸化珪素を主成分として含む第2外層部、および該第2外層部に囲繞される炭化珪素および珪素を含む第2内部を有する第2複合体を得る工程と、
     前記第1内部が前記第2内部に当接する第1当接面、および前記第2内部が前記第1内部に当接する第2当接面の少なくとも一方を、研削または研磨する工程と、
     前記第1当接面と前記第2当接面とを当接させ、真空雰囲気中または不活性ガス雰囲気中で熱処理する工程と、
    を含む、接合体の製造方法。
  2.  前記第1当接面が、深さ方向に向かって第1凹部または第1貫通孔を備える、請求項1に記載の接合体の製造方法。
  3.  前記第1複合体が、前記第1凹部の内壁面および内底面の少なくとも一方、または前記第1貫通孔の内壁面に、酸化珪素を主成分として含む第1内層部を備える、請求項2に記載の接合体の製造方法。
  4.  前記第2当接面が、深さ方向に向かって第2凹部または第2貫通孔を備える、請求項1~3のいずれかに記載の接合体の製造方法。
  5.  前記第2複合体が、前記第2凹部の内壁面および内底面の少なくとも一方、または前記第2貫通孔の内壁面に、酸化珪素を主成分として含む第2内層部を備える、請求項4に記載の接合体の製造方法。
  6.  前記第1内部および前記第2内部の少なくとも一方における炭化珪素の含有量が、70質量%以上92質量%以下である、請求項1~5のいずれかに記載の接合体の製造方法。
  7.  前記第1内部および前記第2内部の少なくとも一方において、珪素の重心間距離の平均値と珪素の円相当径の平均値との差が、8μm以上20μm以下である、請求項1~6のいずれかに記載の接合体の製造方法。
  8.  前記第1内部および前記第2内部の少なくとも一方の閉気孔率が、0.1%以下である、請求項1~7のいずれかに記載の接合体の製造方法。
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