WO2022168891A1

WO2022168891A1 - ベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器

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Publication number: WO2022168891A1
Application number: PCT/JP2022/004135
Authority: WO
Inventors: 和範小田; 伸一郎高橋; 貴之太田; 利彦武田; 伸哉木浦; 誠山木; 功井上
Original assignee: 大日本印刷株式会社
Priority date: 2021-02-03
Filing date: 2022-02-02
Publication date: 2022-08-11
Also published as: JPWO2022168891A1; US20240125559A1; TW202246720A; KR20230137960A

Abstract

本発明によるベーパーチャンバ用の本体シートは、第１本体面と、第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、第１本体面から第２本体面に延びる貫通空間とを備えている。貫通空間は、平面視において第１方向に延びている。第１方向に垂直な断面で見たときに、貫通空間は、第１本体面に位置する第１開口部と、第２本体面に位置する第２開口部と、を有している。第２開口部は、第１開口部に平面視で重なる領域から、第１溝に平面視で重なる位置まで延びている。

Description

ベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器

　本発明は、ベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器に関する。

　携帯端末またはタブレット端末といったモバイル端末等の電子機器では、発熱を伴う電子デバイスが用いられている。この電子デバイスの例としては、中央演算処理装置（ＣＰＵ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）およびパワー半導体等が挙げられる。このような電子デバイスは、ヒートパイプ等の放熱装置によって冷却されている（例えば、特許文献１および２参照）。近年では、電子機器の薄型化のために、放熱装置の薄型化も求められている。放熱装置として、ヒートパイプより薄くできるベーパーチャンバの開発が進められている。ベーパーチャンバは、封入された作動流体が電子デバイスの熱を吸収して内部で拡散することにより、電子デバイスを効率良く冷却する。

　より具体的には、ベーパーチャンバ内の作動液（作動流体）は、電子デバイスに近接した部分（蒸発部）で電子デバイスから熱を受ける。熱を受けた作動液は蒸発して、作動蒸気になる。その作動蒸気は、ベーパーチャンバ内に形成された蒸気流路部内で、蒸発部から離れる方向に拡散する。拡散した作動蒸気は冷却されて凝縮し、作動液になる。ベーパーチャンバ内には、毛細管構造（ウィック）としての液流路部が設けられている。作動液は、液流路部を流れて、蒸発部に向かって輸送される。そして、蒸発部に輸送された作動液は、再び蒸発部で熱を受けて蒸発する。このようにして、作動流体が、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながらベーパーチャンバ内を還流し、電子デバイスの熱を拡散している。この結果、ベーパーチャンバの放熱効率が高められている。

特開２００８－８２６９８号公報特開２０１６－０１７７０２号公報

　本発明は、冷却効率を向上できるベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器を提供することを目的とする。

　本発明は、第１の解決手段として、
　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、
　前記第１本体面に設けられ、前記貫通空間に連通した複数の第１溝であって、第１方向に延びる複数の第１溝と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に位置する第１開口部と、前記第２本体面に位置する第２開口部と、を有し、前記第２開口部は、前記第１開口部に平面視で重なる領域から、前記第１溝に平面視で重なる位置まで延びている、ベーパーチャンバ用の本体シート、
を提供する。

　また、上述した第１の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた、前記第１開口部を画定する第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第２開口部を画定する第２空間凹部であって、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第２壁面を含み、
　互いに対応する前記第１壁面と前記第２壁面が、前記貫通空間の内側に向かって突出する壁面突出部で接続され、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２空間凹部は、互いに対応する前記第２壁面と前記壁面突出部を接続する、平坦状に形成された平坦面を含む、
ようにしてもよい。

　また、上述した第１の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた、前記第１開口部を画定する第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第２開口部を画定する第２空間凹部であって、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第２壁面を含み、
　互いに対応する前記第１壁面と前記第２壁面が、前記貫通空間の内側に向かって突出する壁面突出部で接続され、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２空間凹部は、互いに対応する前記第２壁面と前記壁面突出部を接続する凸部面を含み、
前記凸部面は、前記第１方向に延びるとともに前記第２本体面に向かって突出する空間凸部を含む、
ようにしてもよい。

　また、上述した第１の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記凸部面は、互いに離間した複数の前記空間凸部を含む、
ようにしてもよい。

　また、上述した第１の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた、前記第１開口部を画定する第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第２開口部を画定する第２空間凹部であって、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、凸状に湾曲した一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第２壁面を含む、
ようにしてもよい。

　また、上述した第１の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２開口部は、前記第１開口部に平面視で重なる領域から、前記第１開口部に対して両側で、前記第１溝に平面視で重なる位置まで延びている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第１の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　平面視において枠状に形成され、前記第１本体面から前記第２本体面に延びる枠体部であって、前記貫通空間を画定する枠体部と、
　前記枠体部の内側に設けられたランド部であって、前記第１方向に延びるとともに前記第１本体面から前記第２本体面に延びるランド部と、を備え、
　前記第１開口部および前記第２開口部は、前記枠体部と前記ランド部との間に位置し、
　前記ランド部の前記第１本体面に前記第１溝が位置し、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２開口部は、前記第１開口部に平面視で重なる領域から、前記ランド部に位置する前記第１溝に平面視で重なる位置まで延びるとともに、前記第１開口部よりも前記枠体部の外側に向かって延びている、
ようにしてもよい。

　また、本発明は、第２の解決手段として、
　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、　
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、一対の第２壁面を含み、
　前記第１空間凹部の一方の前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第１壁面突出部で接続され、
　前記第１壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第１壁面突出部は、前記第１本体面の法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置され、
　前記第１空間凹部の前記第１壁面突出部とは反対側に位置する前記第１壁面および前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面は、前記第１壁面から前記第２壁面にわたって連続して凹状に形成されている、ベーパーチャンバ用の本体シート、
を提供する。

　なお、上述した第２の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記貫通空間は、前記第１本体面に位置する、前記第１空間凹部によって画定された第１開口部と、前記第２本体面に位置する、前記第２空間凹部によって画定された第２開口部と、を有し、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第１開口部の中心は、前記第２開口部の中心に対してずれて配置されている、
ようにしてもよい。

　また、本発明は、第３の解決手段として、
　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、　
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、一対の第２壁面を含み、
　前記第１空間凹部の一方の前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第１壁面突出部で接続され、
　前記第１壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第１壁面突出部は、前記第１本体面の法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置され、
　前記貫通空間は、前記第１本体面に位置する、前記第１空間凹部によって画定された第１開口部と、前記第２本体面に位置する、前記第２空間凹部によって画定された第２開口部と、を有し、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第１開口部の中心は、前記第２開口部の中心に対してずれて配置されている、ベーパーチャンバ用の本体シート、
を提供する。

　また、上述した第３の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　平面視において枠状に形成された枠体部と、
　前記枠体部の内側に設けられたランド部であって、前記第１方向に延びて、前記枠体部との間に前記貫通空間を画定するランド部と、を更に備え、
　前記ランド部の幅をｗ１としたときに、前記第１開口部の中心と前記第２開口部の中心のずれ量は、０．０５ｍｍ～（０．８×ｗ１）ｍｍである、
ようにしてもよい。

　また、上述した第３の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１本体面に設けられた、前記貫通空間に連通した複数の第１溝を更に備え、
　前記第１壁面突出部は、前記中間位置よりも前記第１本体面の近くに配置されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第３の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１空間凹部の前記第１壁面突出部とは反対側に位置する前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第２壁面突出部で接続され、
　前記第２壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第２壁面突出部は、前記法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第３の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第２壁面突出部は、前記中間位置よりも前記第１本体面の近くに配置されている、
ようにしてもよい。

　また、本発明は、第４の解決手段として、
　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた第１空間凹部と、第２本体面に設けられた、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、前記第２本体面に設けられた第３空間凹部であって、前記第２空間凹部の両側に位置するとともに、当該第２空間凹部に連通する第３空間凹部と、を有し、
　前記第２空間凹部は、一対の第２壁面を含み、
　前記第３空間凹部は、第３壁面を含み、
　前記第２空間凹部の前記第２壁面の各々と、対応する前記第３空間凹部の前記第３壁面とが第３壁面突出部で接続され、
　前記第３壁面突出部が、前記第２本体面に向かって突出している、ベーパーチャンバ用の本体シート、
を提供する。

　また、上述した第４の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１空間凹部は、一対の第１壁面を含み、
　前記第１空間凹部の一方の前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第１壁面突出部で接続され、
　前記第１壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第１壁面突出部は、前記第１本体面の法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第４の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１本体面に設けられた、前記貫通空間に連通した複数の第１溝を更に備え、
　前記第１壁面突出部は、前記中間位置よりも前記第１本体面の近くに配置されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第４の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１空間凹部の前記第１壁面突出部とは反対側に位置する前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第２壁面突出部で接続され、
　前記第２壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第２壁面突出部は、前記法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第４の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第２壁面突出部は、前記中間位置よりも前記第１本体面の近くに配置されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第４の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第１空間凹部の前記第１壁面突出部とは反対側に位置する前記第１壁面および前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面は、前記第１壁面から前記第２壁面にわたって連続して凹状に形成されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第４の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記貫通空間は、前記第１本体面に位置する、前記第１空間凹部によって画定された第１開口部と、前記第２本体面に位置する、前記第２空間凹部によって画定された第２開口部と、を有し、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第１開口部の中心は、前記第２開口部の中心に対してずれて配置されている、
ようにしてもよい。

　また、上述した第４の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　平面視において枠状に形成された枠体部と、
　前記枠体部の内側に設けられたランド部であって、前記第１方向に延びて、前記枠体部との間に前記貫通空間を画定するランド部と、を更に備え、
　前記ランド部の幅をｗ１としたときに、前記第１開口部の中心と前記第２開口部の中心のずれ量は、０．０５ｍｍ～（０．８×ｗ１）ｍｍである、
ようにしてもよい。

　また、本発明は、第５の解決手段として、
　ベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に位置する第２本体面と、
　前記第１本体面と前記第２本体面とを貫通する貫通空間と、
　前記第２本体面に設けられ、前記貫通空間と連通した複数の第１溝と、を備え、
　前記貫通空間は、前記第１本体面の側に位置する湾曲状の第１壁面と、前記第２本体面の側に位置する湾曲状の第２壁面とを有し、
　前記第１壁面および前記第２壁面は、前記貫通空間の内側に張り出すように形成された突起部において合流し、
　前記突起部は、前記第１本体面と前記第２本体面との中間位置よりも前記第２本体面の近くに位置し、
　前記第１壁面は、前記第１本体面の側に第１壁面端部を有し、
　前記第１壁面端部は、平面視で、前記突起部よりも前記貫通空間の内側に位置する、ベーパーチャンバ用の本体シート、
を提供する。

　また、上述した第５の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　前記第２壁面は、前記第２本体面の側に第２壁面端部を有し、
　前記貫通空間の幅方向における前記第２壁面端部と前記突起部との距離をＬｐとし、前記第２壁面端部と前記第１壁面端部との距離をＬｓとしたとき、距離Ｌｓは、距離Ｌｐの１．０５倍以上２倍以下である、
ようにしてもよい。

　また、上述した第５の解決手段によるベーパーチャンバ用の本体シートにおいて、
　複数の前記第１溝は、互いに並列配置され、
　互いに隣り合う前記第１溝の間に、凸部列が設けられ、
　前記凸部列の各々は、複数の凸部を有し、
　前記第２壁面は、前記第２本体面の側に第２壁面端部を有し、
　前記第２壁面端部と前記第１壁面端部との距離をＬｓとしたとき、距離Ｌｓは、前記凸部の幅の１．１倍以上１０倍以下である、
ようにしてもよい。

　また、本発明は、第６の解決手段として、
　第１シートと、
　第２シートと、
　前記第１シートと前記第２シートとの間に介在された、第１の解決手段から第６の解決手段のそれぞれによるベーパーチャンバ用の本体シートと、を備えた、ベーパーチャンバ、
を提供する。

　また、本発明は、第７の解決手段として、
　作動流体が封入されたベーパーチャンバであって、
　第１シートと、
　第２シートと、
　前記第１シートと前記第２シートとの間に介在されたベーパーチャンバ用の本体シートと、を備え、
　前記本体シートは、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に位置する第２本体面と、
　前記第１本体面と前記第２本体面とを貫通する貫通空間と、
　前記第２本体面に設けられ、前記貫通空間と連通した複数の第１溝と、を有し、
　前記貫通空間は、前記第１本体面の側に位置する湾曲状の第１壁面と、前記第２本体面の側に位置する湾曲状の第２壁面とを有し、
　前記第１壁面および前記第２壁面は、前記貫通空間の内側に張り出すように形成された突起部において合流し、
　前記突起部は、前記第１本体面と前記第２本体面との中間位置よりも前記第２本体面の近くに位置し、
　前記第１壁面は、前記第１本体面の側に第１壁面端部を有し、
　前記第１壁面端部は、平面視で、前記突起部よりも前記貫通空間の内側に位置する、ベーパーチャンバ、
を提供する。

　また、上述した第７の解決手段によるベーパーチャンバにおいて、
　前記第２壁面は、前記第２本体面の側に第２壁面端部を有し、
　前記貫通空間の幅方向における前記第２壁面端部と前記突起部との距離をＬｐとし、前記第２壁面端部と前記第１壁面端部との距離をＬｓとしたとき、距離Ｌｓは、距離Ｌｐの１．０５倍以上２倍以下である、
ようにしてもよい。

　また、上述した第７の解決手段によるベーパーチャンバにおいて、
　複数の前記第１溝は、互いに並列配置され、
　互いに隣り合う前記第１溝の間に、凸部列が設けられ、
　前記凸部列の各々は、複数の凸部を有し、
　前記第２壁面は、前記第２本体面の側に第２壁面端部を有し、
　前記第２壁面端部と前記第１壁面端部との距離をＬｓとしたとき、距離Ｌｓは、前記凸部の幅の１．１倍以上１０倍以下である、
ようにしてもよい。

　また、本発明は、第８の解決手段として、
　ハウジングと、
　前記ハウジング内に収容された電子デバイスと、
　前記電子デバイスに熱的に接触した第６の解決手段または第７の解決手段によるベーパーチャンバと、を備えた、電子機器、
を提供する。

　本発明によれば、冷却効率を向上できる。

図１は、本発明の第１の実施の形態による電子機器を説明する模式斜視図である。図２は、本発明の第１の実施の形態によるベーパーチャンバを示す上面図である。図３は、図２のベーパーチャンバを示すＡ－Ａ線断面図である。図４は、図３の下側シートの上面図である。図５は、図３の上側シートの下面図である。図６は、図３のウィックシートの上面図である。図７は、図３のウィックシートの下面図である。図８Ａは、第２蒸気通路を示す図３の部分拡大断面図である。図８Ｂは、上側開口部の一例を示す部分拡大断面図である。図８Ｃは、上側開口部の一例を示す部分拡大断面図である。図８Ｄは、上側開口部の一例を示す部分拡大断面図である。図８Ｅは、上側開口部の一例を示す部分拡大断面図である。図８Ｆは、平坦面を説明するための模式図である。図９は、図７に示す液流路部の部分拡大上面図である。図１０は、第１蒸気通路を示す図３の部分拡大断面図である。図１１は、図８Ａに示すベーパーチャンバの変形例を示す部分拡大断面図である。図１２は、図８Ａに示すベーパーチャンバの変形例を示す部分拡大断面図である。図１３は、図８Ａに示すベーパーチャンバの変形例を示す部分拡大断面図である。図１４は、図８Ａに示すベーパーチャンバの変形例を示す部分拡大断面図である。図１５Ａは、図６に示すウィックシートの変形例であって、図６の部分拡大上面図である。図１５Ｂは、図１５Ａに示す第２領域における第２蒸気通路を示す部分拡大断面図である。図１６は、本発明の第２の実施の形態によるベーパーチャンバを示す断面図であって、図２のＡ－Ａ線断面に相当する断面図である。図１７は、図１６の部分拡大断面図である。図１８は、第２の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、ウィックシートの準備工程を説明するための図である。図１９は、第２の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、レジスト形成工程を説明するための図である。図２０は、第２の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、レジストのパターニング工程を説明するための図である。図２１は、第２の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、エッチング工程を説明するための図である。図２２は、第２の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、レジスト除去工程を説明するための図である。図２３は、第２の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法の接合工程を説明するための図である。図２４は、図１７に示すベーパーチャンバの変形例を示す部分拡大断面図である。図２５は、図１７に示すベーパーチャンバの他の変形例を示す部分拡大断面図である。図２６は、本発明の第３の実施の形態におけるベーパーチャンバを示す部分拡大断面図である。図２７は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第１レジスト形成工程を説明するための図である。図２８は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第１レジストの第１パターニング工程を説明するための図である。図２９は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第１エッチング工程を説明するための図である。図３０は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第１レジスト除去工程を説明するための図である。図３１は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第２レジスト形成工程を説明するための図である。図３２は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第２レジストの第２パターニング工程を説明するための図である。図３３は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第２エッチング工程を説明するための図である。図３４は、第３の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法において、第２レジスト除去工程を説明するための図である。図３５は、図２６に示すベーパーチャンバの変形例を示す部分拡大断面図である。図３６は、本発明の第４の実施の形態によるベーパーチャンバを示す上面図である。図３７は、図３６のベーパーチャンバを示すＢ－Ｂ線断面図である。図３８は、図３７の下側シートの上面図である。図３９は、図３７の上側シートの下面図である。図４０は、図３７のウィックシートの上面図である。図４１は、図３７のウィックシートの下面図である。図４２は、図３７の部分拡大断面図である。図４３は、図４０に示す液流路部の部分拡大上面図である。図４４は、第４の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法を説明する図である。図４５は、第４の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法を説明する図である。図４６は、第４の実施の形態によるベーパーチャンバの製造方法を説明する図である。図４７は、第４の実施の形態による蒸気流路部における作動流体の流れを示す部分拡大断面図である。

　以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

　本明細書において用いる、幾何学的条件と、物理的特性と、幾何学的条件または物理的特性の程度を特定する用語と、幾何学的条件または物理的特性を示す数値等については、厳密な意味に縛られることなく解釈してもよい。そして、これらの幾何学的条件、物理的特性、用語、および数値等については、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈してもよい。幾何学的条件を特定する用語の例としては、「長さ」、「角度」、「形状」および「配置」等が挙げられる。幾何学的条件を特定する用語の例としては、「平行」、「直交」および「同一」等が挙げられる。さらに、図面を明瞭にするために、同様の機能を期待し得る複数の部分の形状を、規則的に記載している。しかしながら、厳密な意味に縛られることなく、当該機能を期待できる範囲内で、当該部分の形状は互いに異なっていてもよい。図面においては、部材同士の接合面等を示す境界線を、便宜上、単なる直線で示しているが、厳密な直線であることに縛られることはなく、所望の接合性能を期待できる範囲内で、当該境界線の形状は任意である。

　（第１の実施の形態）
　図１～図１５Ｂを用いて、本発明の第１の実施の形態におけるベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器について説明する。本実施の形態におけるベーパーチャンバ１は、発熱を伴う電子デバイスＤとともに電子機器ＥのハウジングＨに収容されており、電子デバイスＤを冷却するための装置である。電子機器Ｅの例としては、携帯端末およびタブレット端末等のモバイル端末等が挙げられる。電子デバイスＤの例としては、中央演算処理装置（ＣＰＵ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）およびパワー半導体等が挙げられる。電子デバイスＤは、被冷却装置と称する場合もある。

　ここではまず、本実施の形態によるベーパーチャンバ１が搭載される電子機器Ｅについて、タブレット端末を例にとって説明する。図１に示すように、電子機器Ｅは、ハウジングＨと、ハウジングＨ内に収容された電子デバイスＤと、ベーパーチャンバ１と、を備えている。図１に示す電子機器Ｅでは、ハウジングＨの前面にタッチパネルディスプレイＴＤが設けられている。ベーパーチャンバ１は、ハウジングＨ内に収容されて、電子デバイスＤに熱的に接触するように配置される。ベーパーチャンバ１は、電子機器Ｅの使用時に電子デバイスＤで発生する熱を受ける。ベーパーチャンバ１が受けた熱は、後述する作動流体２ａ、２ｂを介してベーパーチャンバ１の外部に放出される。このようにして、電子デバイスＤは効果的に冷却される。電子機器Ｅがタブレット端末である場合には、電子デバイスＤは、中央演算処理装置等であってもよい。

　次に、本実施の形態によるベーパーチャンバ１について説明する。図２および図３に示すように、ベーパーチャンバ１は、作動流体２ａ、２ｂが封入された密封空間３を有している。密封空間３内の作動流体２ａ、２ｂが相変化を繰り返すことにより、上述した電子機器Ｅの電子デバイスＤが効果的に冷却される。作動流体２ａ、２ｂの例としては、純水、エタノール、メタノールおよびアセトン等、並びにそれらの混合液が挙げられる。なお、作動流体２ａ、２ｂは、凍結膨張性を有していてもよい。すなわち、作動流体２ａ、２ｂは、凍結時に膨張する流体であってもよい。凍結膨張性を有する作動流体２ａ、２ｂの例としては、純水、および純水にアルコール等の添加物を加えた水溶液等が挙げられる。

　図２および図３に示すように、ベーパーチャンバ１は、下側シート１０と、上側シート２０と、ベーパーチャンバ用のウィックシート３０と、蒸気流路部５０と、液流路部６０と、を備えている。ウィックシート３０は、下側シート１０と上側シート２０との間に介在されている。ベーパーチャンバ用のウィックシート３０を、以下、単に、ウィックシート３０と記す。本実施の形態によるベーパーチャンバ１は、下側シート１０、ウィックシート３０および上側シート２０が、この順番で重ねられている。

　ベーパーチャンバ１は、概略的に薄い平板状に形成されている。ベーパーチャンバ１の平面形状は任意であるが、図２に示すような矩形状であってもよい。ベーパーチャンバ１の平面形状は、例えば、１辺が１ｃｍで他の辺が３ｃｍの長方形であってもよく、１辺が１５ｃｍの正方形であってもよい。ベーパーチャンバ１の平面寸法は任意である。本実施の形態では、一例として、ベーパーチャンバ１の平面形状が、後述するＸ方向を長手方向とする矩形状である例について説明する。この場合、図４～図７に示すように、下側シート１０、上側シート２０およびウィックシート３０は、ベーパーチャンバ１と同様の平面形状を有していてもよい。また、ベーパーチャンバ１の平面形状は、矩形状に限られることはなく、円形状、楕円形状、Ｌ字形状またはＴ字形状等、任意の形状であってもよい。

　図２に示すように、ベーパーチャンバ１は、作動流体２ａ、２ｂが蒸発する蒸発領域ＳＲと、作動流体２ａ、２ｂが凝縮する凝縮領域ＣＲと、を有している。作動蒸気２ａは、気体状態の作動流体であり、作動液２ｂは、液体状態の作動流体である。

　蒸発領域ＳＲは、平面視で電子デバイスＤと重なる領域であり、電子デバイスＤが取り付けられる領域である。蒸発領域ＳＲは、ベーパーチャンバ１の任意の場所に配置されていてもよい。本実施の形態においては、ベーパーチャンバ１のＸ方向における一方の側（図２における左側）に、蒸発領域ＳＲが形成されている。蒸発領域ＳＲに電子デバイスＤからの熱が伝わり、この熱によって作動液２ｂが蒸発領域ＳＲにおいて蒸発する。電子デバイスＤからの熱は、平面視で電子デバイスＤに重なる領域だけではなく、当該領域の周辺にも伝わり得る。このため、蒸発領域ＳＲは、平面視で、電子デバイスＤに重なっている領域とその周辺の領域とを含む。ここで平面視とは、ベーパーチャンバ１が電子デバイスＤから熱を受ける面および受けた熱を放出する面に直交する方向から見た状態であってもよい。熱を受ける面とは、下側シート１０の後述する第１下側シート面１０ａに相当する。熱を放出する面とは、上側シート２０の後述する第２上側シート面２０ｂに相当する。例えば、図２に示すように、ベーパーチャンバ１を上方から見た状態、または下方から見た状態が平面視に相当している。

　凝縮領域ＣＲは、平面視で電子デバイスＤと重ならない領域であって、主として作動流体の作動蒸気２ａが熱を放出して凝縮する領域である。凝縮領域ＣＲは、蒸発領域ＳＲの周囲の領域であってもよい。凝縮領域ＣＲにおいて作動蒸気２ａからの熱が上側シート２０に放出され、作動蒸気２ａが凝縮領域ＣＲにおいて冷却されて凝縮する。

　なお、ベーパーチャンバ１がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本実施の形態では、便宜上、電子デバイスＤから熱を受けるシートを上述の下側シート１０と称し、受けた熱を放出するシートを上述の上側シート２０と称する。このため、下側シート１０が下側に配置され、上側シート２０が上側に配置された状態で、以下説明する。

　図３に示すように、下側シート１０は、第１シートの一例である。下側シート１０は、ウィックシート３０とは反対側に設けられた第１下側シート面１０ａと、第１下側シート面１０ａとは反対側に設けられた第２下側シート面１０ｂと、を有している。第２下側シート面１０ｂは、ウィックシート３０の側に位置している。本実施の形態においては、第２下側シート面１０ｂが、ウィックシート３０の後述する第１本体面３０ａに接している。図４に示すように、下側シート１０の四隅に、アライメント孔１２が設けられていてもよい。第１下側シート面１０ａに、上述の電子デバイスＤが取り付けられてもよい。

　図３に示すように、上側シート２０は、第２シートの一例である。上側シート２０は、ウィックシート３０の側に設けられた第１上側シート面２０ａと、第１上側シート面２０ａとは反対側に設けられた第２上側シート面２０ｂと、を有している。本実施の形態においては、第１上側シート面２０ａが、ウィックシート３０の後述する第２本体面３０ｂに接している。図５に示すように、上側シート２０の四隅に、アライメント孔２２が設けられていてもよい。第２上側シート面２０ｂに、上述のハウジングＨの一部を構成するハウジング部材Ｈａが取り付けられてもよい。第２上側シート面２０ｂの全体が、ハウジング部材Ｈａで覆われてもよい。

　図３に示すように、ウィックシート３０は、本体シートの一例である。ウィックシート３０は、第１本体面３０ａと、第１本体面３０ａとは反対側に設けられた第２本体面３０ｂと、を有している。第１本体面３０ａは、下側シート１０の側に配置されており、第１本体面３０ａに下側シート１０が設けられている。第２本体面３０ｂは、上側シート２０の側に配置されており、第２本体面３０ｂに上側シート２０が設けられている。

　下側シート１０の第２下側シート面１０ｂとウィックシート３０の第１本体面３０ａとは、拡散接合で、互いに恒久的に接合されていてもよい。同様に、上側シート２０の第１上側シート面２０ａとウィックシート３０の第２本体面３０ｂとは、拡散接合で、互いに恒久的に接合されていてもよい。なお、下側シート１０、上側シート２０およびウィックシート３０は、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。なお、「恒久的に接合」という用語は、厳密な意味に縛られることはなく、ベーパーチャンバ１の動作時に、密封空間３の密封性を維持可能な程度に、下側シート１０とウィックシート３０との接合を維持できることを意味する用語として用いられていてもよい。また、「恒久的に接合」という用語は、上側シート２０とウィックシート３０との接合を維持できる程度に接合されていることを意味する用語として用いられてもよい。

　本実施の形態によるウィックシート３０は、図３、図６および図７に示すように、平面視で矩形枠状に形成された枠体部３２と、枠体部３２内に設けられた複数のランド部３３と、を有している。枠体部３２および各ランド部３３は、第１本体面３０ａから第２本体面３０ｂに延びている。枠体部３２およびランド部３３は、後述するエッチング工程においてエッチングされることなく、ウィックシート３０の材料が残る部分である。本実施の形態では、枠体部３２は、平面視で、矩形枠状に形成されている。枠体部３２の内側に、蒸気流路部５０が画定されている。枠体部３２の内側であって、各ランド部３３の周囲に蒸気流路部５０が配置されている。各ランド部３３の周囲を作動蒸気２ａが流れる。蒸気流路部５０は、枠体部３２とランド部３３との間で画定されるとともに、互いに隣り合う一対のランド部３３の間で画定されている。

　本実施の形態では、ランド部３３は、平面視で、Ｘ方向を長手方向として細長状に延びていてもよい。ランド部３３の平面形状は、細長の矩形形状になっていてもよい。各ランド部３３は、Ｙ方向において等間隔に離間して、互いに平行に配置されていてもよい。各ランド部３３の周囲を作動蒸気２ａが流れて、凝縮領域ＣＲに向かって輸送される。これにより、作動蒸気２ａの流れが妨げられることを抑制している。本実施の形態においては、Ｘ方向は、第１方向の一例であり、図６における左右方向に相当している。Ｙ方向は、第２方向の一例であり、図６における上下方向に相当している。Ｘ方向をランド部３３の長手方向とし、Ｙ方向を平面視でＸ方向に直交する方向としている。Ｘ方向およびＹ方向にそれぞれ直交する方向をＺ方向とする。

　ランド部３３の幅ｗ１（図８Ａ参照）は、例えば、１００μｍ～３０００μｍであってもよい。ここで、ランド部３３の幅ｗ１は、Ｙ方向におけるランド部３３の寸法である。後述する壁面突出部５７、５８を用いてより詳細に述べると、ランド部３３の幅ｗ１は、ランド部３３を画定する第１壁面突出部５７の先端と、第２壁面突出部５８の先端とのＹ方向における距離を意味している。

　枠体部３２および各ランド部３３は、下側シート１０に拡散接合されるとともに、上側シート２０に拡散接合される。このことにより、ベーパーチャンバ１の機械的強度を向上させている。後述する下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａ、５３ｂおよび上側蒸気流路凹部５４の上側壁面５４ａ、５４ｂは、ランド部３３の側壁を構成している。ウィックシート３０の第１本体面３０ａおよび第２本体面３０ｂは、枠体部３２および各ランド部３３にわたって、平坦状に形成されていてもよい。

　蒸気流路部５０は、貫通空間の一例である。蒸気流路部５０は、ウィックシート３０の第１本体面３０ａに設けられていてもよい。蒸気流路部５０は、主として、作動蒸気２ａが通る流路であってもよい。蒸気流路部５０には、作動液２ｂも通ってもよい。本実施の形態においては、蒸気流路部５０は、第１本体面３０ａから第２本体面３０ｂに延びており、ウィックシート３０を貫通している。蒸気流路部５０は、第１本体面３０ａにおいて、下側シート１０で覆われていてもよく、第２本体面３０ｂにおいて、上側シート２０で覆われていてもよい。

　図６および図７に示すように、本実施の形態における蒸気流路部５０は、第１蒸気通路５１と複数の第２蒸気通路５２とを有している。第１蒸気通路５１は、平面視においてＸ方向に延びる部分と、Ｙ方向に延びる部分と、を含んでおり、枠体部３２とランド部３３との間に形成されている。この第１蒸気通路５１は、枠体部３２の内側であってランド部３３の外側に連続状に形成されている。第１蒸気通路５１の平面形状は、矩形枠状になっている。第２蒸気通路５２は、平面視においてＸ方向に延びており、互いに隣り合うランド部３３の間に形成されている。第２蒸気通路５２の平面形状は、細長の矩形形状になっている。複数のランド部３３によって、蒸気流路部５０は、第１蒸気通路５１と複数の第２蒸気通路５２とに区画されている。

　図８Ａに示すように、第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２は、ウィックシート３０の第１本体面３０ａから第２本体面３０ｂに延びている。第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２はそれぞれ、下側蒸気流路凹部５３と、上側蒸気流路凹部５４と、下側開口部５５と、上側開口部５６と、を有している。下側蒸気流路凹部５３は、第１空間凹部の一例であり、第１本体面３０ａに設けられている。上側蒸気流路凹部５４は、第２空間凹部の一例であり、第２本体面３０ｂに設けられている。下側蒸気流路凹部５３と上側蒸気流路凹部５４とが連通することにより、蒸気流路部５０の第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２が、第１本体面３０ａから第２本体面３０ｂにわたって延びるように形成されている。下側開口部５５は、第１開口部の一例であり、第１本体面３０ａに位置している。下側開口部５５は、第１本体面３０ａにおいて下側蒸気流路凹部５３によって画定されている。上側開口部５６は、第２開口部の一例であり、第２本体面３０ｂに位置している。上側開口部５６は、第２本体面３０ｂにおいて上側蒸気流路凹部５４によって画定されている。

　下側蒸気流路凹部５３は、後述するエッチング工程において、ウィックシート３０の第１本体面３０ａからエッチングされることによって、第１本体面３０ａに凹状に形成されている。このことにより、下側蒸気流路凹部５３は、図８Ａに示すように、湾曲状に形成された一対の下側壁面５３ａ、５３ｂを有している。下側壁面５３ａ、５３ｂは、第１壁面の一例である。下側壁面５３ａは、図８Ａにおける左側の壁面であり、下側壁面５３ｂは、図８Ａにおける右側の壁面である。下側壁面５３ａおよび下側壁面５３ｂは、下側開口部５５から第２本体面３０ｂに向かって延びるように形成されている。下側壁面５３ａ、５３ｂは、凹状に湾曲していてもよい。各下側壁面５３ａ、５３ｂは、下側蒸気流路凹部５３を画定し、図８Ａに示す断面において、第２本体面３０ｂに近づくにつれて、対向する下側壁面５３ａ、５３ｂに近づくように湾曲していてもよい。このような下側蒸気流路凹部５３は、第１蒸気通路５１の一部および第２蒸気通路５２の一部を構成している。下側蒸気流路凹部５３は、第１蒸気通路５１の下半分および第２蒸気通路５２の下半分を構成していてもよい。

　下側開口部５５の幅ｗ２は、例えば、１００μｍ～３０００μｍであってもよい。下側開口部５５の幅ｗ２は、第１本体面３０ａにおける下側蒸気流路凹部５３の幅寸法を意味している。幅ｗ２は、第１蒸気通路５１のうちＸ方向に延びる部分におけるＹ方向の寸法に相当するとともに、第２蒸気通路５２におけるＹ方向の寸法に相当している。本実施の形態においては、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａと下側壁面５３ｂとの間のＹ方向の寸法は、第２本体面３０ｂから第１本体面３０ａに向かって徐々に大きくなっており、第１本体面３０ａにおいて最大になっている。このため、幅ｗ２は、下側壁面５３ａと下側壁面５３ｂとの間のＹ方向の寸法の最大値となっている。しかしながら、下側壁面５３ａと下側壁面５３ｂとの間のＹ方向の寸法は、第１本体面３０ａにおいて最大になっていなくてもよい。例えば、下側壁面５３ａと下側壁面５３ｂとの間のＹ方向の寸法が最大となる位置は、第１本体面３０ａよりも第２本体面３０ｂの近くに位置していてもよい。幅ｗ２は、第１蒸気通路５１のうちＹ方向に延びる部分におけるＸ方向の寸法にも相当している。

　上側蒸気流路凹部５４は、後述するエッチング工程において、ウィックシート３０の第２本体面３０ｂからエッチングされることによって、第２本体面３０ｂに凹状に形成されている。このことにより、上側蒸気流路凹部５４は、図８Ａに示すように、湾曲状に形成された一対の上側壁面５４ａ、５４ｂを有している。上側壁面５４ａ、５４ｂは、第２壁面の一例である。上側壁面５４ａは、図８Ａにおける左側の壁面であり、上側壁面５４ｂは、図８Ａにおける右側の壁面である。上側壁面５４ａおよび上側壁面５４ｂは、上側開口部５６から第１本体面３０ａに向かって延びるように形成されている。上側壁面５４ａ、５４ｂは、凹状に湾曲していてもよい。各上側壁面５４ａ、５４ｂは、上側蒸気流路凹部５４を画定し、図８Ａに示す断面において、第１本体面３０ａに近づくにつれて、対向する上側壁面５４ａ、５４ｂに近づくように湾曲していてもよい。このような上側蒸気流路凹部５４は、第１蒸気通路５１の一部および第２蒸気通路５２の一部を構成している。上側蒸気流路凹部５４は、第１蒸気通路５１の上半分および第２蒸気通路５２の上半分を構成していてもよい。

　上側開口部５６の幅ｗ３は、上述した下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなっていてもよい。幅ｗ３は、例えば、１６０μｍ～５８００μｍであってもよい。上側開口部５６の幅ｗ３は、第２本体面３０ｂにおける上側蒸気流路凹部５４の幅寸法を意味している。幅ｗ３は、第１蒸気通路５１のうちＸ方向に延びる部分におけるＹ方向の寸法および第２蒸気通路５２におけるＹ方向の寸法に相当している。本実施の形態においては、上側壁面５４ａと上側壁面５４ｂとの間のＹ方向の寸法は、第１本体面３０ａから第２本体面３０ｂに向かって徐々に大きくなっており、第２本体面３０ｂにおいて最大になっている。このため、幅ｗ３は、上側壁面５４ａと上側壁面５４ｂとの間のＹ方向の寸法の最大値となっている。しかしながら、上側壁面５４ａと上側壁面５４ｂとの間のＹ方向の寸法は、第２本体面３０ｂにおいて最大になっていなくてもよい。例えば、上側壁面５４ａと上側壁面５４ｂとの間のＹ方向の寸法が最大となる位置は、第２本体面３０ｂよりも第１本体面３０ａの近くに位置していてもよい。幅ｗ３は、第１蒸気通路５１のうちＹ方向に延びる部分におけるＸ方向の寸法にも相当している。

　図８Ａに示すように、平面視において、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部５６の中心５６ａに重なっていてもよい。あるいは、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部５６の中心５６ａに対してずれて配置されていてもよい。

　下側開口部５５は、Ｘ方向に延びる一対の下側開口側縁５５ｂによって画定されていてもよい。下側開口側縁５５ｂは、第１開口側縁の一例である。上述した下側開口部５５の中心５５ａとは、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、一対の下側開口側縁５５ｂの中点であってもよい。図８Ａにおいては、下側開口側縁５５ｂは、第１本体面３０ａと下側壁面５３ａ、５３ｂとの交点として示されており、これらの交点の中点が、下側開口部５５の中心５５ａであってもよい。

　上側開口部５６は、Ｘ方向に延びる一対の上側開口側縁５６ｂによって画定されていてもよい。上側開口側縁５６ｂは、第２開口側縁の一例である。上述した上側開口部５６の中心５６ａとは、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、一対の上側開口側縁５６ｂの中点であってもよい。図８Ａにおいては、上側開口側縁５６ｂは、第２本体面３０ｂと上側壁面５４ａ、５４ｂとの交点として示されており、これらの交点の中点が、上側開口部５６の中心５６ａであってもよい。

　上述したように、上側開口部５６の幅ｗ３は、下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなっていてもよい。上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、後述する主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていてもよい。このことにより、下側蒸気流路凹部５３よりも上側蒸気流路凹部５４の流路断面積を増大できる。ここで、図８Ａに示すように、第２壁面突出部５８を通ってＺ方向に延びる直線が第２下側シート面１０ｂと交わる交点をＰ１とする。交点Ｐ１と、下側開口側縁５５ｂと、下側壁面５３ｂと、第２壁面突出部５８とで区画される領域を下側蒸気流路部分領域とする。第２壁面突出部５８を通ってＺ方向に延びる直線が第１上側シート面２０ａと交わる交点をＰ２とする。交点Ｐ２と、上側開口側縁５６ｂと、上側壁面５４ｂと、第２壁面突出部５８とで区画される領域を上側蒸気流路部分領域とする。上側蒸気流路部分領域は、下側蒸気流路部分領域よりも大きい流路断面積を有しているため、上側蒸気流路部分領域の毛細管作用が、下側蒸気流路部分領域の毛細管作用よりも小さくなる。このため、上側蒸気流路部分領域は、上側蒸気流路部分領域における作動蒸気２ａの流路抵抗を低減でき、作動蒸気２ａを容易に拡散して放熱効率を向上できる。下側壁面５３ａおよび上側壁面５４ａで画定される領域においても同様である。一方、Ｙ方向において隣り合う上側開口部５６の間に、上側シート２０に接合されたランド部３３が形成されている。このことにより、ベーパーチャンバ１の機械的強度が確保されている。このようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ１においては、限られたスペースを有効利用するとともに機械的強度を確保しつつ、放熱効率の向上を図っている。

　上側開口部５６の一部は、蒸気通路５１、５２に隣接する主流溝６１の一部に平面視で重なっていてもよい。上側開口部５６の一部は、複数の主流溝６１に平面視で重なっていてもよい。上側開口部５６が重なる主流溝６１の本数は、任意である。

　上側開口部５６と主流溝６１との位置関係の例について、図８Ｂ～図８Ｅを参照して説明する。ここでは、１つの上側開口部５６によって構成される第２蒸気通路５２に隣接する主流溝６１を、主流溝６１Ｐとし、主流溝６１Ｐに隣接する他の主流溝６１を主流溝６１Ｑとして説明する。主流溝６１Ｑは、主流溝６１Ｐよりも下側開口部５５の中心５５ａの遠くに位置している。言い換えると、主流溝６１Ｑは、主流溝６１Ｐよりも上側開口部５６の中心５６ａの遠くに位置している。本実施の形態においては、平面視において、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部５６の中心５６ａに重なっている。以下では、下側開口部５５の中心５５ａを用いて、上側開口部５６と主流溝６１との位置関係について説明する。

　主流溝６１Ｐ、６１Ｑは、Ｘ方向に延びる第１主流溝側縁６１ａおよび第２主流溝側縁６１ｂを含んでいる。図８Ｂ～図８Ｅにおいては、第１主流溝側縁６１ａおよび第２主流溝側縁６１ｂは、第１本体面３０ａと後述する壁面６２との交点として示されている。第１主流溝側縁６１ａは、第２主流溝側縁６１ｂよりも下側開口部５５の中心５５ａの近くに位置し、第２主流溝側縁６１ｂは、第１主流溝側縁６１ａよりも下側開口部５５の中心５５ａの遠くに位置している。

　例えば、図８Ｂに示すように、上側開口部５６は、Ｙ方向において、主流溝６１Ｐの一部に重なる位置まで延びていてもよい。この場合、上側開口側縁５６ｂは、平面視で、主流溝６１Ｐの第２主流溝側縁６１ｂよりも下側開口部５５の中心５５ａの近くに位置していてもよい。

　あるいは、図８Ｃに示すように、上側開口部５６は、Ｙ方向において、第２蒸気通路５２に隣接する主流溝６１Ｐの全体に重なる位置まで延びていてもよい。この場合、上側開口側縁５６ｂは、平面視で、主流溝６１Ｐの第２主流溝側縁６１ｂに重なる位置に位置していてもよく、主流溝６１Ｐの第２主流溝側縁６１ｂよりも下側開口部５５の中心５５ａの遠くに位置していてもよい。あるいは、上側開口側縁５６ｂは、平面視で、主流溝６１Ｑの第１主流溝側縁６１ａに重なる位置に位置していてもよい。

　あるいは、図８Ｄに示すように、上側開口部５６は、Ｙ方向において、主流溝６１Ｑの一部に重なる位置まで延びていてもよい。この場合、上側開口側縁５６ｂは、平面視で、主流溝６１Ｑの第１主流溝側縁６１ａよりも下側開口部５５の中心５５ａの遠くに位置していてもよく、主流溝６１Ｑの第２主流溝側縁６１ｂよりも下側開口部５５の中心５５ａの近くに位置していてもよい。

　あるいは、図８Ｅに示すように、上側開口部５６は、Ｙ方向において、主流溝６１Ｑの全体に重なる位置まで延びていてもよい。この場合、上側開口側縁５６ｂは、平面視で、主流溝６１Ｑの第２主流溝側縁６１ｂに重なる位置に位置していてもよく、主流溝６１Ｑの第２主流溝側縁６１ｂよりも下側開口部５５の中心５５ａの遠くに位置していてもよい。

　以上、上側開口部５６と、上側開口部５６によって構成される第２蒸気通路５２に隣接する主流溝６１との位置関係の例について説明した。上側開口部５６と、上側開口部５６によって構成される第１蒸気通路５１に隣接する主流溝６１との位置関係についても同様である。

　図１０に示すように、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第１蒸気通路５１における上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、下側開口部５５よりも枠体部３２の外側に向かって延びていてもよい。第１蒸気通路５１における下側開口部５５および上側開口部５６は、枠体部３２と、枠体部３２に隣り合うランド部３３との間に位置している。ここでは、第１蒸気通路５１のうちＸ方向に延びる部分における上側開口部５６について説明する。第１蒸気通路５１のうちＹ方向に延びる部分においても同様に、上側開口部５６の幅が、下側開口部５５の幅よりも大きくなっていてもよい。

　より具体的に説明する。上述した一対の下側開口側縁５５ｂが、第１下側開口側縁５５ｂａと、第２下側開口側縁５５ｂｂと、で構成されているとする。第１下側開口側縁５５ｂａは、枠体部３２と下側開口部５５との境界を画定し、第２下側開口側縁５５ｂｂは、ランド部３３と下側開口部５５との境界を画定している。上述した一対の上側開口側縁５６ｂが、第１上側開口側縁５６ｂａと、第２上側開口側縁５６ｂｂとで構成されているとする。第１上側開口側縁５６ｂａは、枠体部３２と上側開口部５６との境界を画定し、第２上側開口側縁５６ｂｂは、ランド部３３と上側開口部５６との境界を画定している。

　第１上側開口側縁５６ｂａは、第１下側開口側縁５５ｂａよりも、枠体部３２の外側に位置している。図１０に示す例においては、第１上側開口側縁５６ｂａは、第１下側開口側縁５５ｂａよりも左側に位置している。

　Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第１蒸気通路５１における上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、ランド部３３に位置する主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていてもよい。第２上側開口側縁５６ｂｂは、ランド部３３に位置する液流路部６０に重なる位置に位置している。図１０に示す例においては、第２上側開口側縁５６ｂｂは、第２下側開口側縁５５ｂｂよりも右側に位置している。

　図８Ａに示すように、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第２蒸気通路５２における上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、ランド部３３に位置する主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていてもよい。第２蒸気通路５２における上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、下側開口部５５に対して両側で、主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていてもよい。

　より具体的に説明する。ここでは、互いに隣り合う第１ランド部３３Ｐと第２ランド部３３Ｑとの間に第２蒸気通路５２が位置しているとする。下側開口部５５および上側開口部５６は、第１ランド部３３Ｐと第２ランド部３３Ｑとの間に位置している。

　Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第２蒸気通路５２における上側開口部５６は、第１ランド部３３Ｐに位置する主流溝６１に平面視で重なる位置から、第２ランド部３３Ｑに位置する主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていてもよい。各上側開口側縁５６ｂは、対応するランド部３３Ｐ、３３Ｑの液流路部６０に重なる位置に位置している。図８Ａに示す例においては、左側に位置する上側開口側縁５６ｂは、左側に位置する下側開口側縁５５ｂよりも左側に位置している。右側に位置する上側開口側縁５６ｂは、右側に位置する下側開口側縁５５ｂよりも右側に位置している。

　図８Ａに示すように、各壁面突出部５７、５８から、対応する上側開口側縁５６ｂまでの距離がｗ１２で示されている。ｗ１２は、例えば、３０μｍ～１４００μｍであってもよい。距離ｗ１２は、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、第１壁面突出部５７から左側の上側開口側縁５６ｂとの間の平面距離であるとともに、第２壁面突出部５８から右側の上側開口側縁５６ｂとの間の平面距離を意味している。距離ｗ１２は、Ｙ方向の寸法に相当している。

　図８Ａに示すように、第２本体面３０ｂにおけるランド部３３の幅がｗ１３で示されている。ｗ１３は、例えば、３０μｍ～２９００μｍであってもよい。幅ｗ１３は、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、一方の上側開口部５６を画定する上側開口側縁５６ｂから他方の上側開口部５６を画定する上側開口側縁５６ｂまでの距離を意味している。幅ｗ１３は、Ｙ方向の寸法に相当している。

　図８Ａに示すように、下側蒸気流路凹部５３の各下側壁面５３ａ、５３ｂと、上側蒸気流路凹部５４の対応する上側壁面５４ａ、５４ｂとが、壁面突出部５７、５８で接続されている。より具体的には、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａと、上側蒸気流路凹部５４の対応する上側壁面５４ａとが第１壁面突出部５７で接続されている。下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ｂと、上側蒸気流路凹部５４の対応する上側壁面５４ｂとが第２壁面突出部５８で接続されている。第１壁面突出部５７は、図８Ａにおける左側の壁面突出部であり、第２壁面突出部５８は、図８Ａにおける右側の壁面突出部である。

　図８Ａに示すように、第１壁面突出部５７は、蒸気通路５１、５２の内側に向かって突出していてもよい。第２壁面突出部５８は、蒸気通路５１、５２の内側に向かって突出してもよい。本実施の形態においては、一対の壁面突出部５７、５８が、互いに向かうように第１本体面３０ａおよび第２本体面３０ｂに沿う方向に突出している。

　本実施の形態においては、第１壁面突出部５７は、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに配置されている。しかしながら、このことに限られることはなく、第１壁面突出部５７は、中間位置ＭＰに対してずれて配置されていてもよい。図８Ａに示す例においては、第１壁面突出部５７は、Ｚ方向において、第２壁面突出部５８と同じ位置に配置されている。しかしながら、このことに限られることはなく、第１壁面突出部５７は、Ｚ方向において、第２壁面突出部５８に対してずれて配置されていてもよい。

　同様に、本実施の形態においては、第２壁面突出部５８は、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに配置されている。しかしながら、このことに限られることはなく、第２壁面突出部５８は、中間位置ＭＰに対してずれて配置されていてもよい。図８Ａに示す例においては、第２壁面突出部５８は、Ｚ方向において、第１壁面突出部５７と同じ位置に配置されている。しかしながら、このことに限られることはなく、第２壁面突出部５８は、Ｚ方向において、第１壁面突出部５７に対してずれて配置されていてもよい。

　一対の壁面突出部５７、５８によって貫通部３４が画定され、貫通部３４において、下側蒸気流路凹部５３と上側蒸気流路凹部５４とが互いに連通している。本実施の形態では、第１蒸気通路５１における貫通部３４の平面形状は、第１蒸気通路５１と同様に矩形枠状になっている。第２蒸気通路５２における貫通部３４の平面形状は、第２蒸気通路５２と同様に細長の矩形形状になっている。このような貫通部３４の幅ｗ４（図８Ａ参照）は、例えば、２００μｍ～５００μｍであってもよい。ここで、貫通部３４の幅ｗ４は、Ｙ方向において互いに隣り合うランド部３３の間のギャップに相当する。より詳細には、幅ｗ４は、貫通部３４を画定する第１壁面突出部５７の先端と第２壁面突出部５８の先端とのＹ方向における距離を意味している。

　Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、上側蒸気流路凹部５４は、２つの平坦面５９ａ、５９ｂを含んでいてもよい。各平坦面５９ａ、５９ｂは、互いに対応する上側壁面５４ａ、５４ｂと壁面突出部５７、５８を接続する。平坦面５９ａは、図８Ａにおける左側の面であり、平坦面５９ｂは、図８Ａにおける右側の面である。より具体的には、上側壁面５４ａは、一方の平坦面５９ａを介して第１壁面突出部５７に接続され、平坦面５９ａは、上側壁面５４ａと第１壁面突出部５７との間に形成されている。上側壁面５４ｂは、他方の平坦面５９ｂを介して第２壁面突出部５８に接続され、平坦面５９ｂは、上側壁面５４ｂと第２壁面突出部５８との間に形成されている。平坦面５９ａ、５９ｂは、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第２本体面３０ｂに沿っていてもよい。この場合、平坦面５９ａ、５９ｂは、第２本体面３０ｂに平行であってもよく、第１本体面３０ａに平行であってもよい。しかしながら、平坦面５９ａ、５９ｂは、第２本体面３０ｂに対して傾斜していてもよい。２つの平坦面５９ａ、５９ｂが、両方とも第２本体面３０ｂに沿っていてもよく、両方とも第２本体面３０ｂに対して傾斜していてもよい。あるいは、２つの平坦面５９ａ、５９ｂのうちの一方が第２本体面３０ｂに沿うとともに、他方が第２本体面３０ｂに対して傾斜していてもよい。

　平坦面５９ａ、５９ｂは、平坦状に形成されていてもよい。例えば、平坦面５９ａ、５９ｂは、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、平坦面５９ａ、５９ｂに垂直な方向において３μｍ未満の範囲内に含まれるように形成されていてもよい。例えば、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、壁面突出部５７、５８と、上側壁面５４ａ、５４ｂの端点とを結ぶ基準線に垂直な方向において３μｍ未満の範囲内に含まれていてもよい。

　図８Ｆを参照して、平坦面５９ａ、５９ｂについてより詳細に説明する。ここでは、説明を明瞭にするために、代表的に平坦面５９ｂについて説明する。平坦面５９ａについては、平坦面５９ｂと同様であるため、詳細な説明は省略する。

　図８Ｆに示すように、平坦面５９ｂに対応する基準線が、符号５９ｃが付された線で示されている。基準線５９ｃは、第２壁面突出部５８と上側壁面５４ｂの端点５４ｃとを結ぶ直線であってもよい。端点５４ｃは、上側壁面５４ｂのうち第２壁面突出部５８に最も近い点であってもよい。平坦面５９ｂは、第１境界線５９ｄと第２境界線５９ｅとの間の範囲５９ｆ内に形成されていてもよい。第１境界線５９ｄは、基準線５９ｃから第１本体面３０ａに近づく方向にずれた線であって、基準線５９ｃに平行な線であってもよい。第２境界線５９ｅは、基準線５９ｃから第２本体面３０ｂに近づく方向にずれた線であって、基準線５９ｃに平行な線であってもよい。このように規定された第１境界線５９ｄと第２境界線５９ｅとの間の範囲５９ｆ内に、平坦面５９ｂが形成されていてもよい。

　図８Ｆに示すように、基準線５９ｃは、第２本体面３０ｂに沿っていてもよい。この場合、第１境界線５９ｄおよび第２境界線５９ｅも、第２本体面３０ｂに沿っていてもよい。しかしながら、このことに限られることはなく、基準線５９ｃは、第２本体面３０ｂに対して傾斜していてもよい。この場合、第１境界線５９ｄおよび第２境界線５９ｅも、第２本体面３０ｂに対して傾斜していてもよい。

　図８Ｆに示すように、第１境界線５９ｄと基準線５９ｃとの間の距離と、第２境界線５９ｅと基準線５９ｃとの間の距離は、等しくてもよい。この場合、例えば、第１境界線５９ｄと基準線５９ｃとの間の距離は、１．５μｍ未満であってもよい。例えば、第２境界線５９ｅと基準線５９ｃとの間の距離は、１．５μｍ未満であってもよい。しかしながら、第１境界線５９ｄと基準線５９ｃとの間の距離と、第２境界線５９ｅと基準線５９ｃとの間の距離が、等しいことに限られることはない。第１境界線５０ｄと第２境界線５９ｅとの距離が、３．０μｍ未満であれば、第１境界線５９ｄと基準線５９ｃとの間の距離と、第２境界線５９ｅと基準線５９ｃとの間の距離は、異なっていてもよい。第１境界線５９ｄは、基準線５９ｃに重なっていてもよく、あるいは、第２境界線５９ｅは、基準線５９ｃに重なっていてもよい。

　図８Ａに示すように、上側蒸気流路凹部５４の深さがｈ２で示されている。ｈ２は、例えば、２０μｍ～２５０μｍであってもよい。深さｈ２は、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、第２本体面３０ｂから平坦面５９ａ、５９ｂまでの距離を意味している。深さｈ２は、Ｚ方向の寸法に相当している。

　上側開口部５６の幅ｗ３は、ランド部３３のＸ方向における全領域にわたって、下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなっていてもよい。このことにより、蒸気通路５１、５２の流路断面積を、ランド部３３のＸ方向における全領域にわたって増大できる。

　このように構成された第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２を含む蒸気流路部５０は、上述した密封空間３の一部を構成している。図３に示すように、本実施の形態による蒸気流路部５０は、主として、下側シート１０と、上側シート２０と、上述したウィックシート３０の枠体部３２およびランド部３３によって画定されている。各蒸気通路５１、５２は、作動蒸気２ａが通るように比較的大きな流路断面積を有している。

　ここで、図３は、図面を明瞭にするために、第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２等を拡大して示しており、これらの蒸気通路５１、５２等の個数や配置は、図２、図６および図７とは異なっている。

　ところで、図示しないが、蒸気流路部５０内に、ランド部３３を枠体部３２に支持する支持部が複数設けられていてもよい。また、互いに隣り合うランド部３３同士を支持する支持部が設けられていてもよい。これらの支持部は、Ｘ方向においてランド部３３の両側に設けられていてもよく、Ｙ方向におけるランド部３３の両側に設けられていてもよい。支持部は、蒸気流路部５０を拡散する作動蒸気２ａの流れを妨げないように形成されていてもよい。例えば、ウィックシート３０の第１本体面３０ａおよび第２本体面３０ｂのうちの一方の側に配置されて、他方の側には、蒸気流路をなす空間が形成されるようにしてもよい。このことにより、支持部の厚さをウィックシート３０の厚さよりも薄くでき、第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２が、Ｘ方向およびＹ方向において分断されることを防止できる。

　図６および図７に示すように、ウィックシート３０の四隅には、下側シート１０および上側シート２０と同様に、アライメント孔３５が設けられていてもよい。

　図２に示すように、ベーパーチャンバ１は、Ｘ方向における一方の側の端縁に、密封空間３に作動液２ｂを注入する注入部４を更に備えていてもよい。図２に示す形態では、注入部４は、蒸発領域ＳＲの側に配置されており、蒸発領域ＳＲの側の端縁からベーパーチャンバ１の外側に突出している。なお、注入部４は、後述する図３６等に示すように、ベーパーチャンバ１の外側に突出していなくてもよい。

　より具体的には、注入部４は、下側注入突出部１１（図４参照）と、上側注入突出部２１（図５参照）と、ウィックシート注入突出部３６（図６および図７参照）と、を有していてもよい。下側注入突出部１１は、下側シート１０を構成する。上側注入突出部２１は、上側シート２０を構成する。ウィックシート注入突出部３６は、ウィックシート３０を構成する。このうちウィックシート注入突出部３６に注入流路３７が形成されている。この注入流路３７は、ウィックシート３０の第１本体面３０ａから第２本体面３０ｂに延びていてもよく、Ｚ方向においてウィックシート３０のウィックシート注入突出部３６を貫通していてもよい。また、注入流路３７は、蒸気流路部５０に連通しており、作動液２ｂは、注入流路３７を通過して密封空間３に注入される。なお、液流路部６０の配置によっては、注入流路３７は液流路部６０に連通させるようにしてもよい。ウィックシート注入突出部３６の上面および下面は、概略的には平坦状に形成されていてもよく、下側注入突出部１１の上面および上側注入突出部２１の下面も、概略的には平坦状に形成されていてもよい。各注入突出部１１、２１、３６の平面形状は等しくてもよい。

　なお、本実施の形態では、注入部４は、ベーパーチャンバ１のＸ方向における一対の端縁のうちの一方の側の端縁に設けられている例が示されているが、これに限られることはなく、任意の位置に設けることができる。また、ウィックシート注入突出部３６に設けられた注入流路３７は、作動液２ｂを注入できれば、ウィックシート注入突出部３６を貫通していなくてもよい。この場合、ウィックシート３０の第１本体面３０ａおよび第２本体面３０ｂのうちの一方に形成された凹部で、蒸気流路部５０に連通する注入流路３７を構成できる。

　図３、図８Ａおよび図１０に示すように、液流路部６０は、下側シート１０とウィックシート３０との間に設けられていてもよい。本実施の形態においては、液流路部６０は、ウィックシート３０の第１本体面３０ａに設けられている。液流路部６０は、主として作動液２ｂが通る流路であってもよい。液流路部６０には、上述した作動蒸気２ａが通ってもよい。液流路部６０は、上述した密封空間３の一部を構成しており、蒸気流路部５０に連通している。液流路部６０は、作動液２ｂを蒸発領域ＳＲに輸送するための毛細管構造（ウィック）として構成されている。本実施の形態においては、液流路部６０は、ウィックシート３０の各ランド部３３の第１本体面３０ａに設けられている。液流路部６０は、各ランド部３３の第１本体面３０ａの全体にわたって形成されていてもよい。図３等では図示していないが、各ランド部３３の第２本体面３０ｂには、液流路部６０が設けられていてもよい。

　図９に示すように、液流路部６０は、複数の溝を含む溝集合体の一例である。より具体的には、液流路部６０は、作動液２ｂが通る複数の主流溝６１と、主流溝６１に連通する複数の連絡溝６５と、を有している。液流路部６０の主流溝６１は、第１溝の一例である。液流路部６０の連絡溝６５は、第２溝の一例である。主流溝６１および連絡溝６５は、作動液２ｂが通る溝である。連絡溝６５は、主流溝６１と連通している。

　各主流溝６１は、図９に示すように、Ｘ方向に延びるように形成されている。主流溝６１は、主として、作動液２ｂが毛細管作用によって流れるように、蒸気流路部５０の第１蒸気通路５１または第２蒸気通路５２よりも小さな流路断面積を有している。このことにより、主流溝６１は、作動蒸気２ａから凝縮した作動液２ｂを蒸発領域ＳＲに輸送するように構成されている。各主流溝６１は、Ｘ方向に直交するＹ方向に沿って、等間隔に離間して配置されていてもよい。

　主流溝６１は、後述するエッチング工程において、ウィックシート３０の第１本体面３０ａからエッチングされることによって形成されている。このことにより、主流溝６１は、図８Ａに示すように、湾曲状に形成された壁面６２を有している。この壁面６２は、主流溝６１を画定し、第２本体面３０ｂに向かって膨らむような形状で湾曲している。

　図８Ａおよび図９に示すように、主流溝６１の幅ｗ５（Ｙ方向における寸法）は、例えば、５μｍ～４００μｍであってもよい。なお、主流溝６１の幅ｗ５は、第１本体面３０ａにおける寸法を意味している。また、図８Ａに示すように、主流溝６１の深さｈ１（Ｚ方向における寸法）は、例えば、５μｍ～１００μｍであってもよい。

　図９に示すように、各連絡溝６５は、Ｘ方向とは異なる方向に延びている。本実施の形態においては、各連絡溝６５は、Ｙ方向に延びるように形成されており、主流溝６１に垂直に形成されている。いくつかの連絡溝６５は、互いに隣り合う主流溝６１同士を連通するように配置されている。他の連絡溝６５は、蒸気流路部５０（第１蒸気通路５１または第２蒸気通路５２）と主流溝６１とを連通するように配置されている。すなわち、当該連絡溝６５は、Ｙ方向におけるランド部３３の側縁３３ａから当該側縁３３ａに隣り合う主流溝６１に延びている。このようにして、蒸気流路部５０の第１蒸気通路５１または第２蒸気通路５２と主流溝６１とが連通されている。

　連絡溝６５は、主として、作動液２ｂが毛細管作用によって流れるように、蒸気流路部５０の第１蒸気通路５１または第２蒸気通路５２よりも小さな流路断面積を有している。各連絡溝６５は、Ｘ方向に沿って、等間隔に離間して配置されていてもよい。

　連絡溝６５も、主流溝６１と同様に、エッチングによって形成され、主流溝６１と同様の湾曲状に形成された壁面（図示せず）を有している。図９に示すように、連絡溝６５の幅ｗ６（Ｘ方向における寸法）は、主流溝６１の幅ｗ５と等しくてもよいが、幅ｗ５よりも大きくても、小さくてもよい。連絡溝６５の深さは、主流溝６１の深さｈ１と等しくてもよいが、深さｈ１よりも深くても、浅くてもよい。

　図９に示すように、液流路部６０は、ウィックシート３０の第１本体面３０ａに設けられた凸部列６３を有している。凸部列６３は、互いに隣り合う主流溝６１の間に設けられている。各凸部列６３は、Ｘ方向に配列された複数の凸部６４（液流路突出部の一例）を含んでいる。凸部６４は、液流路部６０内に設けられており、上側シート２０に当接している。各凸部６４は、平面視で、Ｘ方向が長手方向となるように矩形状に形成されている。Ｙ方向において互いに隣り合う凸部６４の間に、主流溝６１が介在され、Ｘ方向において互いに隣り合う凸部６４の間には、連絡溝６５が介在されている。連絡溝６５は、Ｙ方向に延びるように形成され、Ｙ方向において互いに隣り合う主流溝６１同士を連通している。このことにより、これらの主流溝６１の間で作動液２ｂが往来可能になっている。

　凸部６４は、後述するエッチング工程においてエッチングされることなく、ウィックシート３０の材料が残る部分である。本実施の形態では、図９に示すように、凸部６４の平面形状は、ウィックシート３０の第１本体面３０ａの位置における形状であるが、矩形状になっている。

　本実施の形態においては、凸部６４は、千鳥状に配置されている。より具体的には、Ｙ方向において互いに隣り合う凸部列６３の凸部６４が、Ｘ方向において互いにずれて配置されている。このずれ量は、Ｘ方向における凸部６４の配列ピッチの半分であってもよい。凸部６４の幅ｗ７（Ｙ方向における寸法）は、例えば、５μｍ～５００μｍであってもよい。なお、凸部６４の幅ｗ７は、第１本体面３０ａにおける寸法を意味している。なお、凸部６４の配置は、千鳥状であることに限られることはなく、並列配列されていてもよい。この場合、Ｙ方向において互いに隣り合う凸部列６３の凸部６４が、Ｙ方向においても整列される。

　主流溝６１は、連絡溝６５と連通する交差部６６を含んでいる。交差部６６において、主流溝６１と連絡溝６５とがＴ字状に連通している。このことにより、一の主流溝６１と、一方の側（例えば、図９における上側）の連絡溝６５とが連通している交差部６６において、他方の側（例えば、図９における下側）の連絡溝６５が当該主流溝６１に連通することを回避できる。

　すなわち、一の主流溝６１のＹ方向における両側（図９における上下両側）に存在する連絡溝６５が、Ｘ方向において同じ位置に配置される場合、当該主流溝６１と当該連絡溝６５とが、十字状に交わる。この場合、当該主流溝６１の壁面６２（図８Ａ参照）が、Ｘ方向における同じ位置で、当該連絡溝６５によって両側（図９における上側および下側）で切り欠かれる。この切り欠かれた位置では、十字状に連続した空間が形成され、主流溝６１の毛細管作用が低下し得る。

　これに対して本実施の形態によれば、一の主流溝６１のＹ方向における両側（図９における上下両側）に存在する連絡溝６５が、Ｘ方向において異なる位置に配置されている。このことにより、当該主流溝６１の壁面６２のうち、Ｙ方向の一方の側で連絡溝６５によって切り欠かれる位置と、Ｙ方向の他方の側で連絡溝６５によって切り欠かれる位置とを、Ｘ方向で異ならせることができる。この場合、主流溝６１は、Ｙ方向における一方の側で連絡溝６５と連通するため、Ｙ方向における他方の側では、当該主流溝６１の壁面６２を残存できる。このため、主流溝６１の壁面６２が連絡溝６５によって切り欠かれた位置では、連続する空間はＴ字状に形成され、主流溝６１の毛細管作用の低下を抑制できる。このため、蒸発領域ＳＲに向かう作動液２ｂの推進力が交差部６６で低下することを抑制できる。

　ところで、下側シート１０、上側シート２０およびウィックシート３０を構成する材料は、ベーパーチャンバ１としての放熱効率を確保できる程度に熱伝導率が良好な材料であれば、特に限られることはない。例えば、各シート１０、２０、３０の材料としては、良好な熱伝導率と、作動流体として純水を使用する場合の耐腐食性と、を有する銅または銅合金が挙げられる。銅の例としては、純銅および無酸素銅（Ｃ１０２０）等が挙げられる。銅合金の例としては、錫を含む銅合金、チタンを含む銅合金（Ｃ１９９０等）、並びに、ニッケル、シリコンおよびマグネシウムを含む銅合金であるコルソン系銅合金（Ｃ７０２５等）等が挙げられる。錫を含む銅合金は、例えば、りん青銅（Ｃ５２１０等）である。

　図３に示すベーパーチャンバ１の厚さｔ１は、例えば、１００μｍ～５００μｍであってもよい。ベーパーチャンバ１の厚さｔ１を１００μｍ以上にすることにより、蒸気流路部５０を適切に確保することで、ベーパーチャンバ１として適切に機能させることができる。一方、厚さｔ１を５００μｍ以下にすることにより、ベーパーチャンバ１の厚さｔ１が厚くなることを抑制できる。

　ウィックシート３０の厚さは、下側シート１０の厚さよりも厚くてもよい。同様に、ウィックシート３０の厚さは、上側シート２０の厚さよりも厚くてもよい。本実施の形態においては、下側シート１０の厚さと上側シート２０の厚さが等しい例を示しているが、このことに限られることはなく、下側シート１０の厚さと上側シート２０の厚さは、異なっていてもよい。

　下側シート１０の厚さｔ２は、例えば、６μｍ～１００μｍであってもよい。下側シート１０の厚さｔ２を６μｍ以上にすることにより、下側シート１０の機械的強度および長期信頼性を確保できる。一方、下側シート１０の厚さｔ２を１００μｍ以下にすることにより、ベーパーチャンバ１の厚さｔ１が厚くなることを抑制できる。同様に、上側シート２０の厚さｔ３は、下側シート１０の厚さｔ２と同様に設定されていてもよい。

　ウィックシート３０の厚さｔ４は、例えば、５０μｍ～３００μｍであってもよい。ウィックシート３０の厚さｔ４を５０μｍ以上にすることにより、蒸気流路部５０を適切に確保することで、ベーパーチャンバ１として適切に動作できる。一方、３００μｍ以下にすることにより、ベーパーチャンバ１の厚さｔ１が厚くなることを抑制できる。なお、ウィックシート３０の厚さｔ４は、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの距離であってもよい。

　このような構成からなる本実施の形態によるベーパーチャンバ１は、後述する図１８～図２３を用いて説明する製造方法を参照することにより製造できる。上側蒸気流路凹部５４の平坦面５９ａ、５９ｂは、レジストの形状、エッチング液の流し方またはエッチング時間等のエッチング条件を調節することにより、容易に形成できる。

　次に、ベーパーチャンバ１の作動方法、すなわち、電子デバイスＤの冷却方法について説明する。

　上述のようにして得られたベーパーチャンバ１は、モバイル端末等のハウジングＨ内に設置されて、ハウジング部材Ｈａが上側シート２０の第２上側シート面２０ｂに取り付けられる。あるいは、ハウジング部材Ｈａにベーパーチャンバ１が取り付けられる。また、下側シート１０の第１下側シート面１０ａに、被冷却装置であるＣＰＵ等の電子デバイスＤが取り付けられる。あるいは、電子デバイスＤにベーパーチャンバ１が取り付けられる。密封空間３内の作動液２ｂは、その表面張力によって、密封空間３の壁面に付着する。より具体的には、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａ、５３ｂ、上側蒸気流路凹部５４の上側壁面５４ａ、５４ｂ、平坦面５９ａ、５９ｂ、主流溝６１の壁面６２および連絡溝６５の壁面に、作動液２ｂは付着する。作動液２ｂは、下側シート１０の第２下側シート面１０ｂのうち下側蒸気流路凹部５３に露出した部分にも付着し得る。作動液２ｂは、上側シート２０の第１上側シート面２０ａのうち上側蒸気流路凹部５４、主流溝６１および連絡溝６５に露出した部分にも付着し得る。

　この状態で電子デバイスＤが発熱すると、蒸発領域ＳＲ（図６および図７参照）に存在する作動液２ｂが、電子デバイスＤから熱を受ける。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液２ｂが蒸発（気化）し、作動蒸気２ａが生成される。生成された作動蒸気２ａの多くは、密封空間３を構成する第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２内で拡散する（図７の実線矢印参照）。より具体的には、蒸気流路部５０の第１蒸気通路５１のうちＸ方向に延びる部分および第２蒸気通路５２において、作動蒸気２ａは、主としてＸ方向に拡散する。一方、第１蒸気通路５１のうちＹ方向に延びる部分においては、作動蒸気２ａは、主としてＹ方向に拡散する。本実施の形態においては、上側開口部５６が下側開口部５５よりも大きくなっていることにより、蒸気通路５１、５２の流路断面積が増大されている。このため、作動蒸気２ａの流路抵抗が低減され、作動蒸気２ａは、スムーズに拡散できる。

　そして、各蒸気通路５１、５２内の作動蒸気２ａは、蒸発領域ＳＲから離れ、作動蒸気２ａの多くは、比較的温度の低い凝縮領域ＣＲ（図６および図７における右側の部分）に輸送される。凝縮領域ＣＲにおいて、作動蒸気２ａは、主として上側シート２０に放熱して冷却される。上側シート２０が作動蒸気２ａから受けた熱は、ハウジング部材Ｈａ（図３参照）を介して外気に伝達される。

　作動蒸気２ａは、凝縮領域ＣＲにおいて上側シート２０に放熱することにより、蒸発領域ＳＲにおいて吸収した潜熱を失って凝縮し、作動液２ｂが生成される。生成された作動液２ｂは、各蒸気流路凹部５３、５４の壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂ、平坦面５９ａ、５９ｂおよび下側シート１０の第２下側シート面１０ｂおよび上側シート２０の第１上側シート面２０ａに付着する。ここで、蒸発領域ＳＲでは作動液２ｂが蒸発し続けている。このため、液流路部６０のうち蒸発領域ＳＲ以外の領域（すなわち、凝縮領域ＣＲ）における作動液２ｂは、各主流溝６１の毛細管作用により、蒸発領域ＳＲに向かって輸送される（図７の破線矢印参照）。このことにより、各壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂ、平坦面５９ａ、５９ｂ、第２下側シート面１０ｂおよび第１上側シート面２０ａに付着した作動液２ｂは、液流路部６０に移動し、連絡溝６５を通過して主流溝６１に入り込む。このようにして、各主流溝６１および各連絡溝６５に、作動液２ｂが充填される。このため、充填された作動液２ｂは、各主流溝６１の毛細管作用により、蒸発領域ＳＲに向かう推進力を得て、蒸発領域ＳＲに向かってスムーズに輸送される。

　液流路部６０においては、各主流溝６１が、対応する連絡溝６５を介して、隣り合う他の主流溝６１と連通している。このことにより、互いに隣り合う主流溝６１同士で、作動液２ｂが往来し、主流溝６１でドライアウトが発生することが抑制されている。このため、各主流溝６１内の作動液２ｂに毛細管作用が付与されて、作動液２ｂは、蒸発領域ＳＲに向かってスムーズに輸送される。

　一方、各蒸気流路凹部５３、５４の壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂおよび平坦面５９ａ、５９ｂに付着した作動液２ｂは、蒸気流路凹部５３、５４の毛細管作用によっても、蒸発領域ＳＲに輸送され得る。蒸気流路凹部５３、５４は、主として作動蒸気２ａの流路として機能するが、壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂおよび平坦面５９ａ、５９ｂに付着した作動液２ｂには、毛細管作用が付与され得る。

　蒸発領域ＳＲに達した作動液２ｂは、電子デバイスＤから再び熱を受けて蒸発する。作動液２ｂから蒸発した作動蒸気２ａは、蒸発領域ＳＲ内の連絡溝６５を通って、流路断面積が大きい下側蒸気流路凹部５３および上側蒸気流路凹部５４に移動し、各蒸気流路凹部５３、５４内で拡散する。このようにして、作動流体２ａ、２ｂが、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながら密封空間３内を還流して電子デバイスＤの熱を拡散させて放出する。この結果、電子デバイスＤが冷却される。

　このように本実施の形態によれば、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第２本体面３０ｂに位置する上側開口部５６が、第１本体面３０ａに位置する下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びている。このことにより、蒸気通路５１、５２の流路断面積を増大できる。このため、作動蒸気２ａの流路抵抗を低減でき、作動蒸気２ａを容易に拡散できる。この結果、ベーパーチャンバ１の放熱効率を向上でき、電子デバイスＤの冷却効率を向上できる。

　また、本実施の形態によれば、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、上側蒸気流路凹部５４は、互いに対応する上側壁面５４ａと壁面突出部５７、５８を接続する平坦面５９ａ、５９ｂを含んでいる。平坦面５９ａ、５９ｂは、平坦状に形成されている。このことにより、作動蒸気２ａの流路抵抗をより一層低減でき、作動蒸気２ａをより一層容易に拡散できる。

　また、本実施の形態によれば、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、下側開口部５５に対して両側で、主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びている。このことにより、蒸気通路５１、５２の流路断面積をより一層増大できる。このため、作動蒸気２ａの流路抵抗を低減でき、作動蒸気２ａを容易に拡散できる。この結果、ベーパーチャンバ１の放熱効率を向上でき、電子デバイスＤの冷却効率を向上できる。

　なお、上述した本実施の形態においては、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、下側開口部５５に対して両側で、主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図１１に示すように、上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、下側開口部５５に対して一方の側で、主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていてもよい。上側開口部５６は、下側開口部５５に対して他方の側で、主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていなくてもよい。この場合においても、蒸気通路５１、５２の流路断面積を増大できる。図１１に示す例では、上側開口部５６は、下側開口部５５に対して左側に延びている。Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、上側蒸気流路凹部５４が、１つの平坦面５９ａを含んでいる。平坦面５９ａは、上側開口部５６が延びる側に配置されている。平坦面５９ａは、一方の上側壁面５４ａと第１壁面突出部５７を接続している。他方の上側壁面５４ｂと第２壁面突出部５８は、平坦面５９ｂ（図８Ａ参照）を介在させることなく接続されている。平坦面５９ａとは反対側に位置する上側開口側縁５６ｂは、対応する下側開口側縁５５ｂと平面視で重なる位置に位置していてもよい。図１１に示す例では、下側開口部５５の中心５５ａと、上側開口部５６の中心５６ａは、互いにずれて配置されていてもよい。

　また、上述した本実施の形態においては、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、上側蒸気流路凹部５４は、平坦面５９ａ、５９ｂを含んでいる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図１２に示すように、上側蒸気流路凹部５４は、凸部面７５ａ、７５ｂを含んでいてもよい。凸部面７５ａ、７５ｂは、互いに対応する上側壁面５４ａ、５４ｂと壁面突出部５７、５８を接続する。凸部面７５ａは、図１２における左側の面であり、凸部面７５ｂは、図１２における右側の面である。より具体的には、上側壁面５４ａが、一方の凸部面７５ａを介して第１壁面突出部５７に接続され、上側壁面５４ｂが、他方の凸部面７５ｂを介して第２壁面突出部５８に接続されている。凸部面７５ａ、７５ｂはそれぞれ、空間凸部７６を含んでいる。空間凸部７６は、Ｘ方向に延びるとともに第２本体面３０ｂに向かって突出している。このことにより、空間凸部７６に沿って流れるように作動蒸気２ａを整流できる。このため、作動蒸気２ａの流路抵抗を低減でき、作動蒸気２ａをより一層容易に拡散できる。凸部面７５ａ、７５ｂはそれぞれ、互いに離間した複数の空間凸部７６を含んでいてもよい。隣り合う２つの空間凸部７６の間に、凹状に湾曲する凹状湾曲面７７が形成されていてもよい。壁面突出部５７、５８と、隣り合う空間凸部７６との間にも凹状湾曲面７７が形成されていてもよい。図１２に示す例においては、凸部面７５ａ、７５ｂが、２つの空間凸部７６を含んでいる。この場合、作動蒸気２ａをより一層整流できる。

　図１２に示すように、上側蒸気流路凹部５４の深さがｈ３で示されている。ｈ３は、例えば、２０μｍ～２５０μｍであってもよい。深さｈ３は、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、第２本体面３０ｂから凸部面７５ａ、７５ｂまでの最大距離を意味している。深さｈ３は、Ｚ方向の寸法に相当している。

　図１２に示すように、第２本体面３０ｂから空間凸部７６までの深さがｈ４で示されている。ｈ４は、例えば、１７μｍ～２４５μｍであってもよい。深さｈ４は、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、第２本体面３０ｂから空間凸部７６の先端までの距離を意味している。深さｈ４は、Ｚ方向の寸法に相当している。

　図１２に示すように、空間凸部７６の間隔がｗ１４で示されている。ｗ１４は、例えば、３０μｍ～３００μｍであってもよい。間隔ｗ１４は、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、互いに隣り合う空間凸部７６のピッチ距離を意味している。間隔ｗ１４は、Ｙ方向の寸法に相当している。

　また、上述した本実施の形態においては、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、上側蒸気流路凹部５４は、平坦面５９ａ、５９ｂを含んでいる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図１３に示すように、上側蒸気流路凹部５４は、平坦面５９ａ、５９ｂを含んでいなくてもよい。より具体的には、上側壁面５４ａ、５４ｂと壁面突出部５７、５８は、平坦面５９ａ、５９ｂを介在させることなく接続されている。この場合においても、第２本体面３０ｂに位置する上側開口部５６が、第１本体面３０ａに位置する下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから、主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていればよい。このことにより、蒸気通路５１、５２の流路断面積を増大できるとともに作動蒸気２ａの流路抵抗を低減できる。

　また、上述した本実施の形態においては、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａ、５３ｂが、凹状に湾曲している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。図１４に示すように、下側壁面５３ａ、５３ｂは、凸状に湾曲していてもよい。各下側壁面５３ａ、５３ｂと、上側壁面５４ａ、５４ｂとは、壁面突出部５７、５８を介在させることなく接続されていてもよい。各下側壁面５３ａ、５３ｂと、上側壁面５４ａ、５４ｂとは、平坦面５９ａ、５９ｂを介在させることなく接続されていてもよい。このように、下側壁面５３ａ、５３ｂを凸状に湾曲させることにより、壁面突出部５７、５８が形成されることを回避できる。このため、蒸気通路５１、５２の流路断面積を増大できるとともに、作動蒸気２ａの流路抵抗を低減できる。なお、下側壁面５３ａ、５３ｂと、上側壁面５４ａ、５４ｂは、平坦面５９ａ、５９ｂを介在させて接続されていてもよい。

　また、上述した本実施の形態においては、上側開口部５６の幅ｗ３は、ランド部３３のＸ方向における全領域にわたって、下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなっている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図１５Ａに示すように、上側開口部５６の幅ｗ３が下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなっている領域は、ランド部３３のＸ方向の一部の領域であってもよい。

　図１５Ａに示す例においては、上側開口部５６が、第１領域５６ｄと、第２領域５６ｅと、を含んでいる。第１領域５６ｄは、上側開口部５６が、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びている領域である。第２領域５６ｅは、上側開口部５６が、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていない領域である。第１領域５６ｄにおいては、幅ｗ３が幅ｗ２よりも大きくなっている。第２領域５６ｅにおける幅ｗ３は、例えば、図１５Ｂに示すように、第１領域５６ｄにおける幅ｗ３よりも小さくなっている。第２領域５６ｅにおいては、幅ｗ３が幅ｗ２に等しくなっていてもよく、上側開口部５６は、下側開口部５５に平面視で重なっていてもよい。より具体的には、上側開口側縁５６ｂは、対応する下側開口側縁５５ｂと平面視で重なる位置に位置しており、上側開口側縁５６ｂは、対応する下側開口側縁５５ｂと平面視で重なる位置に位置している。このことにより、ランド部３３と上側シート２０との接合面積を増大でき、ベーパーチャンバ１の機械的強度を向上できる。

　Ｘ方向における第１領域５６ｄの位置および第２領域５６ｅの位置は、任意である。例えば、第１領域５６ｄが蒸発領域ＳＲに位置されるとともに第２領域５６ｅが凝縮領域ＣＲに位置されていてもよい。この場合、作動蒸気２ａの圧力が高くなる傾向にある蒸発領域ＳＲにおいて、蒸気通路５１、５２の流路断面積を増大できる。

　例えば、第１領域５６ｄが凝縮領域ＣＲに位置するとともに第２領域５６ｅが蒸発領域ＳＲに位置していてもよい。この場合、凝縮領域ＣＲにおいて作動蒸気２ａの流速を低減でき、凝縮を促進できる。

　例えば、第１領域５６ｄは、Ｘ方向におけるベーパーチャンバ１の中間部に位置していてもよい。第１領域５６ｄは、凝縮領域ＣＲのうち蒸発領域ＳＲに近い領域に位置していてもよい。この場合、蒸発領域ＳＲから拡散した作動蒸気の流路抵抗を低減でき、作動蒸気２ａを蒸発領域ＳＲから遠い位置に拡散できる。このことにより、ベーパーチャンバ１の放熱効率を向上できる。

　（第２の実施の形態）
　次に、図１６～図２５を用いて、本発明の第２の実施の形態におけるベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器について説明する。

　図１６～図２５に示す第２の実施の形態においては、第１壁面突出部が、第１本体面の法線方向において、第１本体面と第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置されている点が主に異なる。他の構成は、図１～図１５に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、図１６～図２５において、図１～図１５に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

　図１６および図１７に示すように、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部５６の中心５６ａに対してずれて配置されている。より具体的には、第１蒸気通路５１のうちＸ方向に延びる部分においては、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部５６の中心５６ａに対してＹ方向における一方の側にずれて配置されている。同様に、第２蒸気通路５２においても、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部５６の中心５６ａに対してＹ方向における一方の側にずれて配置されている。このように、本実施の形態においては、第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２の断面形状が、Ｙ方向において非対称になっていてもよい。

　図１６および図１７においては、下側開口部５５の中心５５ａが、上側開口部５６の中心５６ａに対して右側にずれて配置されている例が示されているが、左側にずれて配置されていてもよい。図１７に示すように、下側開口部５５の中心５５ａと上側開口部５６の中心５６ａのずれ量ｓ１は、例えば、０．０５ｍｍ～（０．８×ｗ１）ｍｍであってもよい。０．０５ｍｍ以上とすることにより、中心５５ａと中心５６ａとのずれによる後述する効果を具現できる。一方、ずれ量ｓ１を（０．８×ｗ１）ｍｍ以下とすることにより、ランド部３３の幅ｗ１の８０％以下とすることができる。この場合、ランド部３３の機械的強度を確保でき、拡散接合時等の負荷が掛かる際にウィックシート３０が変形することを抑制できる。なお、図２、図６および図７においては、図面を明瞭にするために、下側開口部５５の中心５５ａと上側開口部５６の中心５６ａがずれていない状態を示している。

　本実施の形態によるランド部３３の幅ｗ１（図１７参照）は、例えば、１００μｍ～１５００μｍであってもよい。本実施の形態による下側開口部５５の幅ｗ２は、例えば、１００μｍ～５０００μｍであってもよい。　本実施の形態による上側開口部５６の幅ｗ３は、上述した下側開口部５５の幅ｗ２と同様に、例えば、幅ｗ３は、１００μｍ～５０００μｍであってもよい。しかしながら、上側開口部５６の幅ｗ３は、下側開口部５５の幅ｗ２と異なっていてもよい。

　Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、各下側開口側縁５５ｂは、対応する上側開口側縁５６ｂに対してずれて配置されている。各下側開口側縁５５ｂが、対応する上側開口側縁５６ｂに対して右側にずれて配置されている。

　なお、第１蒸気通路５１のうちＹ方向に延びる部分においても同様に、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部５６の中心５６ａに対してＸ方向における一方の側にずれて配置されていてもよい。この場合、各下側開口側縁５５ｂは、対応する上側開口側縁５６ｂに対して一方の側にずれて配置されていてもよい。

　　本実施の形態による一対の壁面突出部５７、５８は、互いに向かうように斜めに突出している。第１壁面突出部５７が、右上に向かって突出している。第２壁面突出部５８が、左下に向かって突出している。

　本実施の形態においては、第１壁面突出部５７は、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに対してずれて配置されている。Ｚ方向は、ウィックシート３０の厚さ方向であって、第１本体面３０ａの法線方向に相当する。図１７に示すように、第１壁面突出部５７は、上述した中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されていてもよい。この場合、第１壁面突出部５７は、第２本体面３０ｂよりも第１本体面３０ａに近い位置に配置される。第１本体面３０ａから第１壁面突出部５７までの距離ｓ２は、例えば、ｈ１以上であってもよく、ｔ４／２未満であってもよい。ｈ１は、上述したように主流溝６１の深さである。ｔ４は、上述したようにウィックシート３０の厚さである。

　同様に、本実施の形態においては、第２壁面突出部５８は、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに対してずれて配置されている。図１７に示すように、第２壁面突出部５８は、上述した中間位置ＭＰよりも第２本体面３０ｂの近くに配置されていてもよい。この場合、第２壁面突出部５８は、第１本体面３０ａよりも第２本体面３０ｂに近い位置に配置される。第２本体面３０ｂから第２壁面突出部５８までの距離ｓ３は、第１本体面３０ａから第１壁面突出部５７までの距離ｓ２と等しくてもよく、または距離ｓ２と異なっていてもよい。距離ｓ３は、例えば、ｈ１以上であってもよく、ｔ４／２未満であってもよい。

　次に、このような構成からなる本実施の形態のベーパーチャンバ１の製造方法について、図１８～図２３を用いて説明する。

　ここでは、初めに、ウィックシート３０を作製するウィックシート作製工程について説明する。

　まず、図１８に示すように、材料準備工程として、下面Ｍａ（第１材料面の一例）と上面Ｍｂ（第２材料面の一例）とを含む、平板状の金属材料シートＭを準備する。金属材料シートＭとしては、所望の厚さを有する圧延材で形成されていてもよい。

　材料準備工程の後、図１９に示すように、レジスト形成工程として、金属材料シートＭの下面Ｍａに、下側レジスト膜７０が形成されるとともに、上面Ｍｂに、上側レジスト膜７１が形成される。各レジスト膜７０、７１を形成する前に、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂが、前処理として、酸性脱脂処理されてもよい。また、各レジスト膜７０、７１は、液状レジストを下面Ｍａおよび上面Ｍｂに塗布して乾燥および硬化させることで形成されてもよい。あるいは、各レジスト膜７０、７１は、ドライフィルムレジストを下面Ｍａおよび上面Ｍｂに貼り付けることで形成されてもよい。

　次に、図２０に示すように、パターニング工程として、下側レジスト膜７０および上側レジスト膜７１が、フォトリソグラフィー技術によって、パターニングされる。この場合、下側レジスト膜７０に、下側開口部５５に対応する第１レジスト開口７２が形成されるとともに、液流路部６０の主流溝６１および連絡溝６５に対応する第２レジスト開口７３が形成される。また、上側レジスト膜７１には、上側開口部５６に対応する第３レジスト開口７４が形成される。第１レジスト開口７２の中心は、対応する第３レジスト開口７４の中心に対してＹ方向における一方の側にずれて配置される。第１レジスト開口７２のＹ方向の寸法ｗ２’は、第３レジスト開口７４のＹ方向の寸法ｗ３’と等しくてもよいが、異なっていてもよい。ｗ２’は、下側開口部５５の幅ｗ２に対応する寸法であって、下側開口部５５の幅ｗ２をエッチングで形成するために設定される寸法である。同様に、ｗ３’は、下側開口部５５の幅ｗ３に対応する寸法であって、上側開口部５６の幅ｗ３をエッチングで形成するために設定される寸法である。

　続いて、図２１に示すように、エッチング工程として、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂがエッチングされる。このことにより、金属材料シートＭの下面Ｍａのうち、第１レジスト開口７２および第２レジスト開口７３に対応する部分がエッチングされる。これにより、図２１に示すような蒸気流路部５０の下側蒸気流路凹部５３、並びに、液流路部６０の主流溝６１および連絡溝６５が形成される。また、上面Ｍｂのうち、第３レジスト開口７４に対応する部分がエッチングされて、図２１に示すような蒸気流路部５０の上側蒸気流路凹部５４が形成される。なお、エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。

　エッチングは、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂを同時にエッチングしてもよい。しかしながら、このことに限られることはなく、下面Ｍａと上面Ｍｂのエッチングは別々の工程として行われてもよい。また、蒸気流路部５０および液流路部６０が同時にエッチングで形成されてもよく、別々の工程で形成されてもよい。

　また、エッチング工程においては、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂをエッチングすることにより、図６および図７に示すようなウィックシート３０の所定の外形輪郭形状が得られる。

　エッチング工程の後、図２２に示すように、レジスト除去工程として、下側レジスト膜７０および上側レジスト膜７１が除去される。

　このようにして、本実施の形態によるウィックシート３０が得られる。

　ウィックシート３０の作製工程の後、接合工程として、図２３に示すように、下側シート１０、上側シート２０およびウィックシート３０が接合される。なお、下側シート１０および上側シート２０は、所望の厚さを有する圧延材で形成されていてもよい。

　より具体的には、まず、下側シート１０、ウィックシート３０および上側シート２０をこの順番で積層する。この場合、下側シート１０の第２下側シート面１０ｂにウィックシート３０の第１本体面３０ａが重ね合わされ、ウィックシート３０の第２本体面３０ｂに、上側シート２０の第１上側シート面２０ａが重ね合わされる。この際、下側シート１０のアライメント孔１２と、ウィックシート３０のアライメント孔３５と、上側シート２０のアライメント孔２２とを利用して、各シート１０、２０、３０が位置合わせされる。

　続いて、下側シート１０、ウィックシート３０および上側シート２０が仮止めされる。例えば、スポット的に抵抗溶接を行って、これらのシート１０、２０、３０が仮止めされてもよく、レーザ溶接でこれらのシート１０、２０、３０が仮止めされてもよい。

　次に、下側シート１０と、ウィックシート３０と、上側シート２０とが、拡散接合によって恒久的に接合される。拡散接合とは、接合する下側シート１０とウィックシート３０を密着させるとともにウィックシート３０と上側シート２０を密着させてこれらのシート１０、２０、３０を接合する方法である。より具体的には、真空や不活性ガス中等の制御された雰囲気中で、各シート１０、２０、３０を積層方向に加圧するとともに加熱する。これにより、接合面に生じる原子の拡散を利用して各シート１０、２０、３０が接合される。拡散接合は、各シート１０、２０、３０の材料を融点に近い温度まで加熱するが、融点よりは低いため、各シート１０、２０、３０が溶融して変形することを回避できる。より具体的には、ウィックシート３０の枠体部３２および各ランド部３３における第１本体面３０ａが、下側シート１０の第２下側シート面１０ｂに拡散接合される。また、ウィックシート３０の枠体部３２および各ランド部３３における第２本体面３０ｂが、上側シート２０面の第１上側シート面２０ａに拡散接合される。このようにして、各シート１０、２０、３０が拡散接合されて、下側シート１０と上側シート２０との間に、蒸気流路部５０と液流路部６０とを有する密封空間３が形成される。上述した注入部４においては、下側シート１０の下側注入突出部１１とウィックシート３０のウィックシート注入突出部３６とが拡散接合される。ウィックシート注入突出部３６と上側シート２０の上側注入突出部２１とが拡散接合される。これにより、注入流路３７が閉じた空間となる。

　接合工程の後、注入部４から密封空間３に作動液２ｂが注入される。注入時、作動液２ｂは、注入流路３７を通過して、密封空間３に供給される。

　その後、上述した注入流路３７が封止される。例えば、注入部４を部分的に溶融させて注入流路３７を封止するようにしてもよい。このことにより、密封空間３と外部との連通が遮断されて、作動液２ｂが密封空間３に封入され、密封空間３内の作動液２ｂが外部に漏洩することが防止される。なお、封止後、注入部４は、切断されてもよい。

　以上のようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ１が得られる。

　本実施の形態によるベーパーチャンバ１の作動時について説明する。

　各蒸気流路凹部５３、５４の壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂに付着した作動液２ｂは、蒸気流路凹部５３、５４の毛細管作用によっても、蒸発領域ＳＲに輸送され得る。蒸気流路凹部５３、５４は、主として作動蒸気２ａの流路として機能するが、壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂに付着した作動液２ｂには、毛細管作用が付与され得る。Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂの長さが短い場合には、壁面５３ａ、５３ｂ、５４ａ、５４ｂに付着した作動液２ｂに付与される毛細管作用を高めることができる。壁面の長さとは、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの壁面に沿った長さを意味する。

　図１７に示すように、本実施の形態においては、第１壁面突出部５７が、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されている。この場合、第１壁面突出部５７に接続された下側壁面５３ａの長さが短くなり、下側壁面５３ａに付着した作動液２ｂに付与される毛細管作用が高められる。

　一方、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第１壁面突出部５７に接続された上側壁面５４ａの長さは長くなる。この場合、上側壁面５４ａにおいて作動液２ｂを保持する作用が高められ、上側壁面５４ａにおける作動液２ｂの保持量が増大し得る。上側壁面５４ａに保持された作動液２ｂは、第１壁面突出部５７を越えて下側壁面５３ａに移動し、下側壁面５３ａの毛細管作用によって蒸発領域ＳＲに輸送される。このため、上側壁面５４ａで保持された作動液２ｂによって、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。

　下側壁面５３ａは、第１本体面３０ａに接続されており、第１本体面３０ａに、液流路部６０の主流溝６１および連絡溝６５が設けられている。この場合、下側壁面５３ａと液流路部６０が近づき、下側壁面５３ａと液流路部６０との間で、作動液２ｂの往来が可能になる。

　同様に、本実施の形態においては、第２壁面突出部５８が、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの中間位置ＭＰよりも第２本体面３０ｂの近くに配置されている。この場合、第２壁面突出部５８に接続された上側壁面５４ｂの長さが短くなり、上側壁面５４ｂに付着した作動液２ｂに付与される毛細管作用が高められる。

　一方、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第２壁面突出部５８に接続された下側壁面５３ｂの長さは長くなる。この場合、下側壁面５３ｂにおいて作動液２ｂを保持する作用が高められ、下側壁面５３ｂにおける作動液２ｂの保持量が増大し得る。下側壁面５３ｂに保持された作動液２ｂは、第２壁面突出部５８を越えて上側壁面５４ｂに移動し、上側壁面５４ｂの毛細管作用によって蒸発領域ＳＲに輸送される。このため、下側壁面５３ｂで保持された作動液２ｂによって、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。

　下側壁面５３ｂは、第１本体面３０ａに接続されており、第１本体面３０ａに、液流路部６０の主流溝６１および連絡溝６５が設けられている。この場合、下側壁面５３ｂと液流路部６０が近づき、下側壁面５３ｂで保持された作動液２ｂは、液流路部６０に移動し得る。このことによっても、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。

　このようにして、液流路部６０だけでなく、蒸気流路部５０によっても、作動液２ｂを蒸発領域ＳＲに輸送できる。

　このように本実施の形態によれば、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａと、上側蒸気流路凹部５４の上側壁面５４ａとが、第１壁面突出部５７で接続されている。第１壁面突出部５７は、蒸気流路部５０の内側に向かって突出し、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに対してずれて配置されている。このことにより、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、下側壁面５３ａの長さと上側壁面５４ａの長さを異ならせることができる。このため、下側壁面５３ａおよび上側壁面５４ａのうちの長さが短い方の壁面に付着した作動液２ｂに付与される毛細管作用を高めることができるとともに、長さが長い方の壁面に保持される作動液２ｂの保持作用を高めることができる。例えば、下側壁面５３ａの長さが短い場合には、上側壁面５４ａで保持された作動液２ｂを下側壁面５３ａの毛細管作用によって蒸発領域ＳＲに輸送できる。このため、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。この結果、ベーパーチャンバ１の放熱効率を向上でき、電子デバイスＤの冷却効率を向上できる。

　また、本実施の形態によれば、第１本体面３０ａに、複数の主流溝６１および複数の連絡溝６５を含む液流路部６０が設けられ、第１壁面突出部５７が、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置される。このことにより、第１壁面突出部５７を液流路部６０に近づけることができる。このため、液流路部６０に近い下側壁面５３ａに付着した作動液２ｂに付与される毛細管作用を高めることができ、作動液２ｂが下側壁面５３ａと液流路部６０との間で往来できる。この場合、下側壁面５３ａと液流路部６０のうち毛細管作用が強い方に作動液２ｂを集めることができ、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。

　また、本実施の形態によれば、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ｂと、上側蒸気流路凹部５４の上側壁面５４ｂとが、第２壁面突出部５８で接続されている。第２壁面突出部５８は、蒸気流路部５０の内側に向かって突出し、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに対してずれて配置されている。このことにより、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、下側壁面５３ｂの長さと上側壁面５４ｂの長さを異ならせることができる。このため、下側壁面５３ｂおよび上側壁面５４ｂのうちの長さが短い方の壁面に付着した作動液２ｂに付与される毛細管作用を高めることができるとともに、長さが長い方の壁面に保持される作動液２ｂの保持作用を高めることができる。例えば、上側壁面５４ｂの長さが短い場合には、下側壁面５３ｂで保持された作動液２ｂを上側壁面５４ｂの毛細管作用によって蒸発領域ＳＲに輸送できる。このため、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。この結果、ベーパーチャンバ１の放熱効率を向上でき、電子デバイスＤの冷却効率を向上できる。

　また、本実施の形態によれば、ウィックシート３０の第１本体面３０ａに位置する蒸気流路部５０の下側開口部５５の中心５５ａが、第２本体面３０ｂに位置する上側開口部５６の中心５６ａに対してずれて配置されている。このことにより、第１壁面突出部５７および第２壁面突出部５８を、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに対して容易にずらして配置できる。このため、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を容易に増大できる。また、下側開口部５５の中心５５ａが、上側開口部５６の中心５６ａに対してずれて配置されている場合、下側開口部５５の幅ｗ２と上側開口部５６の幅ｗ３との差を低減できる。この場合、下側壁面５３ｂによる作動液２ｂの保持作用と、上側壁面５４ａによる作動液２ｂの保持作用が偏ることを抑制できる。このため、ベーパーチャンバ１の性能が、ベーパーチャンバ１の姿勢に影響を受けることを抑制でき、ベーパーチャンバ１の信頼性を向上できる。

　なお、上述した本実施の形態においては、第１壁面突出部５７が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されるとともに、第２壁面突出部５８が、中間位置ＭＰよりも第２本体面３０ｂの近くに配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、第１壁面突出部５７が、中間位置ＭＰよりも第２本体面３０ｂの近くに配置されるとともに、第２壁面突出部５８が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されていてもよい。この場合、第２壁面突出部５８を液流路部６０に近づけることができ、作動液２ｂが下側壁面５３ｂと液流路部６０との間で往来できる。あるいは、第２壁面突出部５８は、中間位置ＭＰに配置されていてもよい。

　あるいは、図２４に示すように、第１壁面突出部５７が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されるとともに、第２壁面突出部５８が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されていてもよい。

　例えば、図２１に示すエッチング工程において、下側蒸気流路凹部５３のエッチング速度を低下させるように第１レジスト開口７２を形成することにより、図２４に示す第１壁面突出部５７および第２壁面突出部５８を形成できる。図２４において、第１本体面３０ａから第１壁面突出部５７までの距離ｓ４は、例えば、２０μｍ以上であってもよい。例えば、距離ｓ４は、ｔ４／２未満であってもよく、ｈ１以下であってもよい。第１本体面３０ａから第２壁面突出部５８までの距離ｓ５は、距離ｓ４と等しくてもよく、または距離ｓ４と異なっていてもよい。距離ｓ５は、例えば、２０μｍ以上であってもよい。例えば、距離ｓ５は、ｔ４／２未満であってもよく、ｈ１以下であってもよい。

　図２４に示す変形例によれば、第１壁面突出部５７が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されるとともに、第２壁面突出部５８が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されている。このことにより、第１壁面突出部５７および第２壁面突出部５８を、液流路部６０に近づけることができる。このため、液流路部６０に近い下側壁面５３ａおよび下側壁面５３ｂに付着した作動液２ｂに付与される毛細管作用を高めることができる。この場合、作動液２ｂが下側壁面５３ａと液流路部６０との間で往来できるとともに、作動液２ｂが下側壁面５３ｂと液流路部６０との間で往来できる。このため、下側壁面５３ａ、下側壁面５３ｂおよび液流路部６０のうち毛細管作用が強い箇所に作動液２ｂを集めることができ、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。

　また、図２４に示す変形例によれば、第１壁面突出部５７が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されるとともに、第２壁面突出部５８が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されている。このことにより、上側蒸気流路凹部５４内で拡散する作動蒸気２ａの流路を、大きな円形状に近づけることができる。このため、作動蒸気２ａの流路抵抗を低減でき、作動蒸気２ａを容易に拡散できる。このため、ベーパーチャンバ１の放熱効率を向上でき、電子デバイスＤの冷却効率を向上できる。

　また、上述した本実施の形態においては、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ｂと、上側蒸気流路凹部５４の上側壁面５４ｂとが第２壁面突出部５８で接続されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。例えば、図２５に示すように、下側壁面５３ｂおよび上側壁面５４ｂは、下側壁面５３ｂから上側壁面５４ｂにわたって連続して凹状に形成されていてもよい。この場合、下側壁面５３ｂおよび上側壁面５４ｂは、蒸気流路凹部５３、５４の外側に膨らむように形成されていてもよい。例えば、図２５に示す右側の下側開口側縁５５ｂと、右側の上側開口側縁５６ｂとを結ぶ直線よりも、蒸気流路凹部５３、５４の外側に膨らむように、下側壁面５３ｂおよび上側壁面５４ｂが形成されていてもよい。下側壁面５３ｂおよび上側壁面５４ｂは、連続して滑らかに湾曲していてもよい。

　例えば、図２１に示すエッチング工程において、下側蒸気流路凹部５３のうち下側壁面５３ｂの側の部分のエッチング速度を、下側壁面５３ａの側の部分のエッチング速度に対して相対的に増大させてもよい。例えば、下側蒸気流路凹部５３のうち下側壁面５３ａの側の部分のエッチング速度を低下させるように第１レジスト開口７２を形成してもよい。このことにより、下側蒸気流路凹部５３のうち下側壁面５３ｂの側の部分のエッチング速度を、下側壁面５３ａの側の部分のエッチング速度よりも増大できる。同様に、上側蒸気流路凹部５４のうち上側壁面５４ａの側の部分のエッチング速度を低下させるように第３レジスト開口７４を形成してもよい。このことにより、上側蒸気流路凹部５４のうち上側壁面５４ｂの側の部分のエッチング速度を、上側壁面５４ａの側の部分のエッチング速度よりも増大できる。このようにして、第２壁面突出部５８が形成されないように、下側壁面５３ｂと上側壁面５４ｂとが形成される。この結果、下側壁面５３ｂおよび上側壁面５４ｂが、下側壁面５３ｂから上側壁面５４ｂにわたって連続して凹状に形成される。

　このように図２５に示す変形例によれば、下側壁面５３ｂおよび上側壁面５４ｂが、下側壁面５３ｂから上側壁面５４ｂにわたって連続して凹状に形成されている。このことにより、蒸気流路凹部５３、５４内で拡散する作動蒸気２ａの流路を、大きな円形状に近づけることができる。このため、作動蒸気２ａの流路抵抗を低減でき、作動蒸気２ａを容易に拡散できる。このため、ベーパーチャンバ１の放熱効率を向上でき、電子デバイスＤの冷却効率を向上できる。

　（第３の実施の形態）
　次に、図２６～図３５を用いて、本発明の第３の実施の形態におけるベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器について説明する。

　図２６～図３５に示す第３の実施の形態においては、第２本体面に、第２空間凹部の両側に位置する第３空間凹部が設けられている。第２空間凹部の壁面の各々と、対応する第３空間凹部の第３壁面とを接続する一対の第３壁面突出部が、第２本体面に向かって突出している。これらの点が主に異なる。他の構成は、図１６～図２５に示す第２の実施の形態と略同一である。なお、図２６～図３５において、図１６～図２５に示す第２の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

　本実施の形態におけるベーパーチャンバ１は、図２６に示すように、蒸気流路部５０の第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２はそれぞれ、下側蒸気流路凹部５３と、第１上側蒸気流路凹部８１および第２上側蒸気流路凹部８２と、を有している。下側蒸気流路凹部５３は、第１空間凹部の一例であり、第１本体面３０ａに設けられている。第１上側蒸気流路凹部８１は、第２空間凹部の一例であり、第２本体面３０ｂに設けられている。第２上側蒸気流路凹部８２は、第３空間凹部の一例であり、第２本体面３０ｂに設けられている。第１上側蒸気流路凹部８１は、一対の第１上側壁面８１ａ、８１ｂを有している。第１上側壁面８１ａ、８１ｂは、第２壁面の一例である。第１上側壁面８１ａは、図２６における左側の壁面であり、第１上側壁面８１ｂは、図２６における右側の壁面である。本実施の形態における第１上側蒸気流路凹部８１および第１上側壁面８１ａ、８１ｂは、図１６等に示す上側蒸気流路凹部５４および上側壁面５４ａ、５４ｂと略同一である。このため、第１上側蒸気流路凹部８１および第１上側壁面８１ａ、８１ｂについての詳細な説明は省略する。

　図２６に示すように、Ｘ方向に垂直な断面で見たときに、第２上側蒸気流路凹部８２は、第１上側蒸気流路凹部８１の両側に位置している。各第２上側蒸気流路凹部８２は、第１上側蒸気流路凹部８１に連通し、第２本体面３０ｂにおいて連続した開口を形成している。

　第２上側蒸気流路凹部８２は、後述する第２エッチング工程において、ウィックシート３０の第２本体面３０ｂからエッチングされることによって、第２本体面３０ｂに凹状に形成されている。このことにより、第２上側蒸気流路凹部８２は、図２６に示すように、湾曲状に形成された第２上側壁面８２ａを有している。第２上側壁面８２ａは、第３壁面の一例である。この第２上側壁面８２ａは、第２上側蒸気流路凹部８２を画定しており、第１蒸気通路５１の一部および第２蒸気通路５２の一部を構成している。

　本実施の形態における上側開口部８３は、第２本体面３０ｂに位置しており、第２本体面３０ｂにおける第１上側蒸気流路凹部８１および第２上側蒸気流路凹部８２の開口である。第１蒸気通路５１における上側開口部８３の平面形状は、図６に示すように、矩形枠状になっている。第２蒸気通路５２における上側開口部８３の平面形状は、図６に示すように、細長の矩形形状になっている。上側開口部８３は、第２本体面３０ｂにおいて、第１上側蒸気流路凹部８１および第２上側蒸気流路凹部８２によって画定される開口である。

　上側開口部８３の幅ｗ８は、例えば、２００μｍ～６０００μｍであってもよい。ここで、上側開口部８３の幅ｗ８は、Ｙ方向における上側開口部８３の寸法である。上側開口部８３の幅ｗ８は、第１蒸気通路５１のうちＸ方向に延びる部分におけるＹ方向の寸法に相当するとともに、第２蒸気通路５２におけるＹ方向の寸法に相当している。本実施の形態においては、蒸気通路５１、５２を画定する一対の第２上側蒸気流路凹部８２の第２上側壁面８２ａ間のＹ方向の寸法は、第１本体面３０ａから第２本体面３０ｂに向かって徐々に大きくなっており、第２本体面３０ｂにおいて最大になっている。このため、幅ｗ８は、一対の第２上側壁面８２ａ間のＹ方向の寸法の最大値となっている。しかしながら、一対の第２上側壁面８２ａ間のＹ方向の寸法は、第２本体面３０ｂにおいて最大になっていなくてもよい。例えば、一対の第２上側壁面８２ａ間のＹ方向の寸法が最大となる位置は、第２本体面３０ｂよりも第１本体面３０ａの近くに位置していてもよい。なお、幅ｗ８は、第１蒸気通路５１のうちＹ方向に延びる部分におけるＸ方向の寸法にも相当している。また、上側開口部８３の幅ｗ８は、下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくてもよい。本実施の形態においても、上側開口部８３は、下側開口部５５に平面視で重なる領域５６ｃから主流溝６１に平面視で重なる位置まで延びていてもよい。

　本実施の形態においては、第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２の断面形状は、Ｙ方向において対称になっていてもよい。すなわち、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部８３の中心８３ａに対して、Ｙ方向で同じ位置に配置されていてもよい。

　上側開口部８３は、Ｘ方向に延びる一対の上側開口側縁８３ｂ（第２開口側縁の一例）によって画定されている。上述した上側開口部８３の中心８３ａとは、Ｘ方向に垂直な断面で見たときの、一対の上側開口側縁８３ｂの中点である。図２６においては、上側開口側縁８３ｂは、第２本体面３０ｂと第２上側蒸気流路凹部８２の第２上側壁面８２ａとの交点として示されており、これらの交点の中点が、上側開口部８３の中心８３ａである。

　各上側開口側縁８３ｂは、対応する下側開口側縁５５ｂに対して一方の側にずれて配置されている。図２６においては、上側開口部８３の右側の上側開口側縁８３ｂが、下側開口部５５の右側の下側開口側縁５５ｂに対して右側にずれて配置されており、左側の上側開口側縁８３ｂが、左側の下側開口側縁５５ｂに対して左側にずれて配置されている。このようにして、上側開口部８３の幅ｗ８が、下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなっている。

　本実施の形態においては、第１上側蒸気流路凹部８１の第１上側壁面８１ａ、８１ｂは、第２本体面３０ｂまで延びていない。第１上側壁面８１ａ、８１ｂを、第１上側壁面８１ａ、８１ｂの湾曲形状に沿って第２本体面３０ｂまで延長した場合の開口の幅ｗ９は、図１７に示す上側開口部５６の幅ｗ３と等しくてもよい。すなわち、後述する第１パターニング工程において、第２本体面３０ｂに形成された第１上側レジスト膜９１に形成される第３レジスト開口９４は、第１本体面３０ａに形成された第１下側レジスト膜９０に形成される第１レジスト開口９２と、等しくてもよい。

　図２６に示すように、第１上側蒸気流路凹部８１の各第１上側壁面８１ａ、８１ｂと、対応する第２上側蒸気流路凹部８２の第２上側壁面８２ａとが、第３壁面突出部８４で接続されている。このことにより、第１上側壁面８１ａ、８１ｂは、第２本体面３０ｂまで延びておらず、第１上側蒸気流路凹部８１は、その側方で第２上側蒸気流路凹部８２に連通している。

　第３壁面突出部８４は、第２本体面３０ｂに向かって突出していてもよい。第３壁面突出部８４は、上側シート２０に向かって張り出すように形成されていてもよい。第３壁面突出部８４は、第２本体面３０ｂよりも第１本体面３０ａの近くに位置しており、上側シート２０の第１上側シート面２０ａから離間している。

　下側蒸気流路凹部５３の各下側壁面５３ａ、５３ｂと、第１上側蒸気流路凹部８１の対応する第１上側壁面８１ａ、８１ｂとが、壁面突出部５７、５８で接続されている。より具体的には、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａと、第１上側蒸気流路凹部８１の対応する第１上側壁面８１ａとが第１壁面突出部５７で接続されている。下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ｂと、第１上側蒸気流路凹部８１の対応する第１上側壁面８１ｂとが第２壁面突出部５８で接続されている。第１壁面突出部５７は、図２６における左側の壁面突出部であり、第２壁面突出部５８は、図２６における右側の壁面突出部である。

　図２６に示すように、第１壁面突出部５７は、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに配置されていてもよい。第２壁面突出部５８は、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに配置されていてもよい。

　一対の壁面突出部５７、５８によって貫通部３４が画定され、貫通部３４において、下側蒸気流路凹部５３と第１上側蒸気流路凹部８１とが互いに連通している。このような貫通部３４の幅ｗ１０（図２６参照）は、例えば、４００μｍ～１６００μｍであってもよい。ここで、貫通部３４の幅ｗ１０は、Ｙ方向において互いに隣り合うランド部３３の間のギャップに相当する。より詳細には、幅ｗ１０は、貫通部３４を画定する第１壁面突出部５７の先端と第２壁面突出部５８の先端とのＹ方向における距離を意味している。

　また、本実施の形態によるランド部３３の幅ｗ１１（図２６参照）は、例えば、１００μｍ～１５００μｍであってもよい。ここで、ランド部３３の幅ｗ１１は、Ｙ方向におけるランド部３３の最大寸法である。より詳細には、ランド部３３の幅ｗ１１は、ランド部３３を画定する第１壁面突出部５７の先端と、第２壁面突出部５８の先端とのＹ方向における距離を意味している。

　次に、このような構成からなる本実施の形態のベーパーチャンバ１の製造方法について、図２７～図３４を用いて説明する。ここでは、主として、第２の実施の形態と異なる点について説明する。

　図１８に示す材料準備工程の後、図２７に示すように、第１レジスト形成工程として、金属材料シートＭの下面Ｍａに、第１下側レジスト膜９０が形成されるとともに、上面Ｍｂに、第１上側レジスト膜９１が形成される。第１レジスト形成工程は、図１９に示すレジスト形成工程と同様に行ってもよい。

　次に、図２８に示すように、第１パターニング工程として、第１下側レジスト膜９０および第１上側レジスト膜９１が、フォトリソグラフィー技術によって、パターニングされる。この場合、第１下側レジスト膜９０に、下側開口部５５に対応する第１レジスト開口９２が形成されるとともに、液流路部６０の主流溝６１および連絡溝６５に対応する第２レジスト開口９３が形成される。また、第１上側レジスト膜９１には、上側開口部８３に対応する第３レジスト開口９４が形成される。第３レジスト開口９４のＹ方向の寸法ｗ９’は、図２６に示す幅ｗ９に対応する寸法であって、幅ｗ９をエッチングで形成するために設定される寸法である。ｗ９’は、第１レジスト開口９２のＹ方向の寸法ｗ３’と等しくてもよいが、異なっていてもよい。

　続いて、図２９に示すように、第１エッチング工程として、図２１に示すエッチング工程と同様に、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂがエッチングされる。このことにより、金属材料シートＭの下面Ｍａに、図２９に示すような蒸気流路部５０の下側蒸気流路凹部５３、並びに、液流路部６０の主流溝６１および連絡溝６５が形成される。また、上面Ｍｂには、蒸気流路部５０の第１上側蒸気流路凹部８１が形成される。

　第１エッチング工程の後、図３０に示すように、第１レジスト除去工程として、第１下側レジスト膜９０および第１上側レジスト膜９１が除去される。

　第１レジスト除去工程の後、図３１に示すように、第２レジスト形成工程として、金属材料シートＭの下面Ｍａに、第２下側レジスト膜９５が形成されるとともに、上面Ｍｂに、第２上側レジスト膜９６が形成される。また、下側蒸気流路凹部５３の下側壁面５３ａ、５３ｂおよび第１上側蒸気流路凹部８１の第１上側壁面８１ａ、８１ｂには、壁面レジスト膜９７が形成される。第２下側レジスト膜９５、第２上側レジスト膜９６および壁面レジスト膜９７は、液状レジストを用いて形成されていてもよい。この場合、下側壁面５３ａ、５３ｂおよび第１上側壁面８１ａ、８１ｂに、容易に壁面レジスト膜９７を形成できる。各レジスト膜９５～９７を形成する前に、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂ、並びに各壁面５３ａ、５３ｂ、８１ａ、８１ｂが、前処理として、酸性脱脂処理されてもよい。

　次に、図３２に示すように、第２パターニング工程として、第２上側レジスト膜９６および壁面レジスト膜９７が、フォトリソグラフィー技術によって、パターニングされる。この場合、第２上側レジスト膜９６および壁面レジスト膜９７に、第２上側蒸気流路凹部８２に対応する第４レジスト開口９８が形成される。第４レジスト開口９８は、第２上側レジスト膜９６から壁面レジスト膜９７に延びるように形成される。第４レジスト開口９８は、図３２に示すように、第１上側蒸気流路凹部８１とは反対側の開口縁が、Ｙ方向の寸法ｗ８’を満たすように、形成されてもよい。ｗ８’は、上側開口部８３の幅ｗ８に対応する寸法であって、上側開口部８３の幅ｗ８をエッチングで形成するために設定される寸法である。

　続いて、図３３に示すように、第２エッチング工程として、図２１に示すエッチング工程と同様に、金属材料シートＭの上面Ｍｂおよび第１上側蒸気流路凹部８１の第１上側壁面８１ａ、８１ｂがエッチングされる。このことにより、金属材料シートＭの上面Ｍｂおよび第１上側壁面８１ａ、８１ｂには、蒸気流路部５０の第２上側蒸気流路凹部８２が形成される。

　第２エッチング工程の後、図３４に示すように、第２レジスト除去工程として、第２下側レジスト膜９５および第２上側レジスト膜９６が除去される。

　このように本実施の形態によれば、第１上側蒸気流路凹部８１の第１上側壁面８１ａ、８１ｂと、第１上側蒸気流路凹部８１の両側に位置する第２上側蒸気流路凹部８２の第２上側壁面８２ａとが第３壁面突出部８４によって接続されている。第３壁面突出部８４が、第２本体面３０ｂに向かって突出している。このことにより、上側シート２０の第２上側シート面２０ｂが凹状に変形することを抑制できる。すなわち、上側シート２０のうち上側開口部８３に重なる部分が、大気の圧力を第２上側シート面２０ｂで受けることにより、減圧されている蒸気流路部５０の第１上側蒸気流路凹部８１および第２上側蒸気流路凹部８２内に入り込む場合が考えられる。この場合、上側シート２０の当該部分が、第３壁面突出部８４よりも深く入り込むことを抑制できる。このため、上側シート２０の第２上側シート面２０ｂが凹状に変形することを抑制できる。この場合、電子デバイスＤと下側シート１０との密着性を向上でき、電子デバイスＤとベーパーチャンバ１との間の熱抵抗を低減できる。

　なお、上述した本実施の形態においては、第１壁面突出部５７および第２壁面突出部５８が、Ｚ方向において、第１本体面３０ａと第２本体面３０ｂとの間の中間位置ＭＰに配置されている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはない。　

　例えば、図３５に示すように、第１壁面突出部５７が、Ｚ方向において、中間位置ＭＰに対してずれて配置されていてもよい。図３５においては、第１壁面突出部５７が、中間位置ＭＰよりも第１本体面３０ａの近くに配置されている。第１本体面３０ａから第１壁面突出部５７までの距離ｓ２は、図１７に示す距離ｓ２と同様であってもよい。

　図３５に示すように、第２壁面突出部５８が、Ｚ方向において、中間位置ＭＰに対してずれて配置されていてもよい。図３５においては、第２壁面突出部５８が、中間位置ＭＰよりも第２本体面３０ｂの近くに配置されている。第２本体面３０ｂから第２壁面突出部５８までの距離ｓ３は、図１７に示す距離ｓ３と同様であってもよい。

　図３５に示す変形例においては、第１壁面突出部５７および第２壁面突出部５８が、図１７に示す例と同様にして配置されている。この場合、第１蒸気通路５１および第２蒸気通路５２の断面形状が、Ｙ方向において非対称になっていてもよい。

　図３５においては、下側開口部５５の中心５５ａは、上側開口部８３の中心８３ａに対してＹ方向における一方の側にずれて配置されている。図３５においては、下側開口部５５が、上側開口部８３に対して右側にずれて配置されている例が示されているが、左側にずれて配置されていてもよい。下側開口部５５の中心５５ａと上側開口部８３の中心８３ａのずれ量は、図１７に示すずれ量ｓ１と等しくてもよい。

　図３５においては、上側開口部８３の右側の上側開口側縁８３ｂが、下側開口部５５の右側の下側開口側縁５５ｂに対して右側にずれて配置されており、左側の上側開口側縁８３ｂが、左側の下側開口側縁５５ｂに対して左側にずれて配置されている。このようにして、上側開口部８３の幅ｗ８が、下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなっている。しかしながら、上側開口部８３の幅ｗ８が、下側開口部５５の幅ｗ２よりも大きくなれば、上側開口部８３の右側の上側開口側縁８３ｂが、下側開口部５５の右側の下側開口側縁５５ｂに対して左側にずれて配置されていてもよい。あるいは、この場合、上側開口部８３の右側の上側開口側縁８３ｂは右側の下側開口側縁５５ｂと同じ位置に配置されていてもよい。

　（第４の実施の形態）
　次に、図３６～図４７を用いて、本発明の第４の実施の形態におけるベーパーチャンバ用の本体シート、ベーパーチャンバおよび電子機器について説明する。

　図３６～図４７に示す第４の実施の形態においては、第１本体面の側に位置する第１壁面端部が、平面視で、突起部よりも蒸気流路部の内側に位置する点が主に異なる。他の構成は、図１～図１７に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、図３６～図４７において、図１～図１７に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。

　本実施の形態によるベーパーチャンバ１００について説明する。図３６および図３７に示すように、ベーパーチャンバ１００は、作動流体２ａ、２ｂが封入された密封空間１０３を有している。密封空間１０３内の作動流体２ａ、２ｂが相変化を繰り返すことにより、上述した電子機器Ｅの電子デバイスＤが効果的に冷却される。

　図３６および図３７に示すように、ベーパーチャンバ１００は、下側シート１１０と、上側シート１２０と、ベーパーチャンバ用のウィックシート１３０と、を備えている。ベーパーチャンバ用のウィックシート１３０を、以下、単に、ウィックシート１３０と記す。本実施の形態によるベーパーチャンバ１００は、下側シート１１０、ウィックシート１３０および上側シート１２０が、この順番で積層されている。

　ベーパーチャンバ１００は、概略的に薄い平板状に形成されている。ベーパーチャンバ１００の平面形状は任意であるが、図３６に示すような矩形状であってもよい。ベーパーチャンバ１００の平面形状は、例えば、１辺が５０ｍｍ以上２００ｍｍ以下で他の辺が１５０ｍｍ以上６０ｍｍの長方形であってもよく、１辺が７０ｍｍ以上３００ｍｍ以下の正方形であってもよい。ベーパーチャンバ１００の平面寸法は任意である。本実施の形態では、一例として、ベーパーチャンバ１００の平面形状が、後述するＸ方向を長手方向とする矩形状である例について説明する。この場合、図３８乃至図４１に示すように、下側シート１１０、上側シート１２０およびウィックシート１３０は、ベーパーチャンバ１００と同様の平面形状を有していてもよい。また、ベーパーチャンバ１００の平面形状は、矩形状に限られることはなく、円形状、楕円形状、Ｌ字形状またはＴ字形状等、任意の形状であってもよい。

　図３６に示すように、ベーパーチャンバ１００は、作動流体２ａ、２ｂが蒸発する蒸発領域ＳＲと、作動流体２ａ、２ｂが凝縮する凝縮領域ＣＲと、を有している。

　蒸発領域ＳＲは、平面視で電子デバイスＤと重なる領域であり、電子デバイスＤが取り付けられる領域である。蒸発領域ＳＲは、ベーパーチャンバ１００の任意の場所に配置されていてもよい。本実施の形態においては、ベーパーチャンバ１００のＸ方向における一方の側（図３６における左側）に、蒸発領域ＳＲが形成されている。蒸発領域ＳＲに電子デバイスＤからの熱が伝わり、この熱によって作動液２ｂが蒸発領域ＳＲにおいて蒸発する。電子デバイスＤからの熱は、平面視で電子デバイスＤに重なる領域だけではなく、当該領域の周辺にも伝わり得る。このため、蒸発領域ＳＲは、平面視で、電子デバイスＤに重なっている領域とその周辺の領域とを含む。ここで平面視とは、ベーパーチャンバ１００が電子デバイスＤから熱を受ける面および受けた熱を放出する面に直交する方向から見た状態であってもよい。熱を受ける面とは、上側シート１２０の後述する第２上側シート面１２０ｂに相当する。熱を放出する面とは、下側シート１１０の後述する第１下側シート面１１０ａに相当する。例えば、図３６に示すように、ベーパーチャンバ１００を上方から見た状態、または下方から見た状態が平面視に相当している。

　凝縮領域ＣＲは、平面視で電子デバイスＤと重ならない領域であって、主として作動蒸気２ａが熱を放出して凝縮する領域である。凝縮領域ＣＲは、蒸発領域ＳＲの周囲の領域であってもよい。凝縮領域ＣＲにおいて作動蒸気２ａからの熱が下側シート１１０に放出され、作動蒸気２ａが凝縮領域ＣＲにおいて冷却されて凝縮する。

　なお、ベーパーチャンバ１００がモバイル端末内に設置される場合、モバイル端末の姿勢によっては、上下関係が崩れる場合もある。しかしながら、本実施の形態では、便宜上、電子デバイスＤから熱を受けるシートを上述の上側シート１２０と称し、受けた熱を放出するシートを上述の下側シート１１０と称する。このため、下側シート１１０が下側に配置され、上側シート１２０が上側に配置された状態で、以下説明する。

　図３７に示すように、下側シート１１０は、第１シートの一例である。下側シート１１０は、ウィックシート１３０とは反対側に位置する第１下側シート面１１０ａと、第１下側シート面１１０ａとは反対側に位置する第２下側シート面１１０ｂと、を有している。第２下側シート面１１０ｂは、ウィックシート１３０の側に位置している。下側シート１１０は、全体的に平坦状に形成されていてもよく、下側シート１１０は全体的に一定の厚さを有していてもよい。この第１下側シート面１１０ａに、モバイル端末等のハウジングの一部を構成するハウジング部材Ｈａが取り付けられてもよい。第１下側シート面１１０ａの全体が、ハウジング部材Ｈａで覆われてもよい。図３８に示すように、下側シート１１０の四隅に、アライメント孔１１２が設けられていてもよい。

　図３７に示すように、上側シート１２０は、第２シートの一例である。上側シート１２０は、ウィックシート１３０の側に設けられた第１上側シート面１２０ａと、第１上側シート面１２０ａとは反対側に位置する第２上側シート面１２０ｂと、を有している。上側シート１２０は、全体的に平坦状に形成されていてもよく、上側シート１２０は全体的に一定の厚さを有していてもよい。この第２上側シート面１２０ｂに、上述の電子デバイスＤが取り付けられてもよい。図３９に示すように、上側シート１２０の四隅に、アライメント孔１２２が設けられていてもよい。

　図３７に示すように、ウィックシート１３０は、本体シートの一例である。ウィックシート１３０は、蒸気流路部１５０と、蒸気流路部１５０に隣接して配置された液流路部１６０とを備えている。またウィックシート１３０は、第１本体面１３１ａと、第１本体面１３１ａとは反対側に位置する第２本体面１３１ｂと、を有している。第１本体面１３１ａは、下側シート１１０の側に配置されており、第２本体面１３１ｂは、上側シート１２０の側に配置されている。

　下側シート１１０の第２下側シート面１１０ｂとウィックシート１３０の第１本体面１３１ａとは、拡散接合で、互いに恒久的に接合されていてもよい。同様に、上側シート１２０の第１上側シート面１２０ａとウィックシート１３０の第２本体面１３１ｂとは、拡散接合で、互いに恒久的に接合されていてもよい。なお、下側シート１１０、上側シート１２０およびウィックシート１３０は、拡散接合ではなく、恒久的に接合できれば、ろう付け等の他の方式で接合されていてもよい。

　本実施の形態によるウィックシート１３０は、図３７、図４０および図４１に示すように、平面視で矩形枠状に形成された枠体部１３２と、枠体部１３２内に設けられたランド部１３３と、を有している。枠体部１３２および各ランド部１３３は、第１本体面１３１ａから第２本体面１３１ｂに延びている。枠体部１３２およびランド部１３３は、後述するエッチング工程においてエッチングされることなく、ウィックシート１３０の材料が残る部分である。本実施の形態では、枠体部１３２は、平面視で、矩形枠状に形成されている。枠体部１３２の内側に、蒸気流路部１５０が画定されている。枠体部１３２の内側であって、ランド部１３３の周囲を作動蒸気２ａが流れる。

　本実施の形態では、ランド部１３３は、平面視で、Ｘ方向を長手方向として細長状に延びていてもよい。ランド部１３３の平面形状は、細長の矩形形状になっていてもよい。各ランド部１３３は、Ｙ方向において等間隔に離間して、互いに平行に配置されていてもよい。各ランド部１３３の周囲を作動蒸気２ａが流れて、凝縮領域ＣＲに向かって輸送される。これにより、作動蒸気２ａの流れが妨げられることを抑制している。ランド部１３３の幅ｗ２１（図４２参照）は、例えば、３６μｍ以上４０００μｍ以下であってもよい。ここで、ランド部１３３の幅ｗ２１は、Ｙ方向におけるランド部１３３の寸法であって、ランド部１３３の最も太い位置（例えば、後述する第１壁面端部１５３ｂが存在する位置）における寸法を意味している。

　枠体部１３２および各ランド部１３３は、下側シート１１０に拡散接合されるとともに、上側シート１２０に拡散接合される。これにより、ベーパーチャンバ１００の機械的強度を向上させている。後述する蒸気通路１５１の第１壁面１５３ａ、第２壁面１５４ａおよび突起部１５５は、ランド部１３３の側壁を構成している。各ランド部１３３の幅方向（Ｘ方向）両側には、それぞれ第１壁面１５３ａ、第２壁面１５４ａおよび突起部１５５が形成されている。各ランド部１３３の幅方向（Ｘ方向）に沿う断面形状（図４２参照）は、線対称な形状であってもよい。また突起部１５５が存在する位置におけるランド部１３３の幅ｗ２６は、例えば、３０μｍ以上３０００μｍ以下であってもよい。ウィックシート１３０の第１本体面１３１ａおよび第２本体面１３１ｂは、枠体部１３２および各ランド部１３３にわたって、平坦状に形成されていてもよい。なお、図３７において、枠体部１３２の側壁は、ランド部１３３の側壁と略同一の形状を有している。しかしながら、これに限らず、枠体部１３２の側壁は、必ずしもランド部１３３の側壁と略同一の形状を有していなくてもよい。

　蒸気流路部５０は、貫通空間の一例である。蒸気流路部１５０は、主として、作動蒸気２ａが通る流路である。蒸気流路部１５０は、第１本体面１３１ａから第２本体面１３１ｂに延びており、ウィックシート１３０を貫通している。

　図４０および図４１に示すように、本実施の形態における蒸気流路部１５０は、複数の蒸気通路１５１を有している。各蒸気通路１５１は、枠体部１３２の内側であってランド部１３３の外側に形成されている。すなわち蒸気通路１５１は、枠体部１３２とランド部１３３との間、および互いに隣り合うランド部１３３同士の間に形成されている。各蒸気通路１５１の平面形状は、細長の矩形形状になっている。複数のランド部１３３によって、蒸気流路部１５０は、複数の蒸気通路１５１に区画されている。

　図３７に示すように、蒸気通路１５１は、ウィックシート１３０の第１本体面１３１ａから第２本体面１３１ｂにわたって延びるように形成されている。蒸気通路１５１は、後述するエッチング工程において、ウィックシート１３０の第１本体面１３１ａおよび第２本体面１３１ｂからそれぞれエッチングされることによって形成されてもよい。

　図４２に示すように、蒸気通路１５１は、湾曲状に形成された第１壁面１５３ａと、湾曲状に形成された第２壁面１５４ａとを有している。第１壁面１５３ａは、第１本体面１３１ａの側に位置しており、ランド部１３３の幅方向内側に向かって凹むような曲線形状で湾曲している。第２壁面１５４ａは、第２本体面１３１ｂの側に位置しており、ランド部１３３の幅方向内側に向かって凹むような曲線形状で湾曲している。第１壁面１５３ａおよび第２壁面１５４ａは、蒸気通路１５１の内側に張り出すように形成された突起部１５５において合流している。突起部１５５は、断面視で鋭角的または鈍角的に形成されていてもよい。蒸気通路１５１を挟んで互いに隣接する一対の突起部１５５同士の幅ｗ２７（図４２参照）は、例えば、３０μｍ以上３０００μｍ以下であってもよい。ここで、一対の突起部１５５同士の幅ｗ２７とは、突起部１５５が存在する位置において蒸気通路１５１を幅方向（Ｙ方向）に測定した距離をいう。

　第１壁面１５３ａは、第１本体面１３１ａ側に位置する第１壁面端部１５３ｂを有する。第１壁面１５３ａの上端は突起部１５５であり、第１壁面１５３ａの第２本体面１３１ｂの側の端部に相当している。第１壁面１５３ａの下端は第１壁面端部１５３ｂであり、第１壁面１５３ａの第１本体面１３１ａの側の端部に相当している。第１壁面１５３ａは、第１壁面端部１５３ｂにおいて下側シート１１０に接している。なお第１壁面端部１５３ｂは、断面視で鋭角的に形成されていてもよい。また図４２において、第１壁面１５３ａのうち、断面視でランド部１３３の幅方向（Ｙ方向）内側に最も凹んだ点を符号１５３ｃで示す。

　第２壁面１５４ａは、第２本体面１３１ｂ側に位置する第２壁面端部１５４ｂを有する。第２壁面１５４ａの上端は第２壁面端部１５４ｂであり、第２壁面１５４ａの第２本体面１３１ｂの側の端部に相当している。第２壁面１５４ａの下端は突起部１５５であり、第２壁面１５４ａの第１本体面１３１ａの側の端部に相当している。第２壁面１５４ａは、第２壁面端部１５４ｂにおいて上側シート１２０に接している。また第２壁面端部１５４ｂは、後述する凸部１６４の外縁を構成してもよい。なお第２壁面端部１５４ｂは、断面視で鈍角的に形成されていてもよい。

　本実施の形態において、第１壁面端部１５３ｂは、平面視で、突起部１５５よりも蒸気流路部１５０の内側に位置する。すなわち平面視で、ランド部１３３の幅方向（Ｙ方向）内側から外側に向けて、第２壁面端部１５４ｂ、点１５３ｃ、突起部１５５、第１壁面端部１５３ｂの順に存在する。外側は、蒸気流路部１５０の側に相当している。蒸気通路１５１の平面面積は第２壁面端部１５４ｂが存在する位置において最大となり、第１壁面端部１５３ｂが存在する位置において最小となる。蒸気通路１５１の幅ｗ２２（図４２参照）は、例えば、１００μｍ以上５０００μｍ以下であってもよい。ここで、蒸気通路１５１の幅ｗ２２とは、蒸気通路１５１の最も狭い部分における幅であり、この場合は、第１壁面端部１５３ｂが存在する位置において幅方向（Ｙ方向）に測定した距離をいう。また蒸気通路１５１の幅ｗ２２は、幅方向（Ｙ方向）において互いに隣り合うランド部１３３の間のギャップに相当する。

　図４２に示すように、蒸気流路部１５０の幅方向（Ｙ方向）における第２壁面端部１５４ｂと突起部１５５との距離をＬｐとし、第２壁面端部１５４ｂと第１壁面端部１５３ｂとの距離をＬｓとする。このとき、距離Ｌｓは、距離Ｌｐの１．０５倍以上２倍以下であってもよく、１．０５倍以上１．８倍以下であってもよい。距離Ｌｓが距離Ｌｐの１．０５倍以上となっていることにより、ランド部１３３と下側シート１１０との接合面積が増加し、第１壁面端部１５３ｂの近傍における拡散接合の強度を高めることができる。距離Ｌｓが距離Ｌｐの２倍以下となっていることにより、蒸気通路１５１の幅を確保し、蒸気通路１５１において作動蒸気２ａはスムーズに流れることができる。上記距離Ｌｓは、６μｍ以上５００μｍ以下であってもよい。上記距離Ｌｐは、３μｍ以上４００μｍ以下であってもよい。

　また、第２壁面端部１５４ｂと第１壁面端部１５３ｂとの距離Ｌｓは、後述する凸部１６４の幅ｗ２５の１．１倍以上１０倍以下としてもよい。距離Ｌｓが幅ｗ２５の１．１倍以上となっていることにより、ランド部１３３と下側シート１１０との接合面積が増加し、第１壁面端部１５３ｂの近傍における拡散接合またはろう付け等による接合の強度を高めることができる。距離Ｌｓが幅ｗ２５の１０倍以下となっていることにより、蒸気通路１５１の幅を確保し、蒸気通路１５１において作動蒸気２ａはスムーズに流れることができる。

　ウィックシート１３０の厚み方向（Ｚ方向）における突起部１５５は、第１本体面１３１ａと第２本体面１３１ｂとの中間位置Ｐｚよりも第２本体面１３１ｂの近くに位置している。突起部１５５と第２本体面１３１ｂとの距離をｔ２５としたとき、距離ｔ２５は、後述するウィックシート１３０の厚さｔ２４の５％以上、１０％以上、または２０％以上であってもよい。距離ｔ２５は、ウィックシート１３０の厚さｔ２４の４５％以下、４０％以下、または３０％以下であってもよい。

　このように構成された蒸気通路１５１を含む蒸気流路部１５０は、上述した密封空間１０３の一部を構成している。図３７に示すように、本実施の形態による蒸気流路部１５０は、主として、下側シート１１０と、上側シート１２０と、上述したウィックシート１３０の枠体部１３２およびランド部１３３によって画定されている。各蒸気通路１５１は、作動蒸気２ａが通るように比較的大きな流路断面積を有している。

　ここで、図３７は、図面を明瞭にするために、蒸気通路１５１等を拡大して示しており、これらの蒸気通路１５１等の個数および配置は、図３６、図４０および図４１とは異なっている。

　ところで、図４０および図４１に示すように、蒸気流路部１５０内に、ランド部１３３を枠体部１３２に支持する支持部１３９が設けられている。支持部１３９は、互いに隣り合うランド部１３３同士を支持する。支持部１３９は、長手方向（Ｘ方向）においてランド部１３３の両側に設けられている。支持部１３９は、蒸気流路部１５０を拡散する作動蒸気２ａの流れを妨げないように形成されていてもよい。この場合、支持部１３９は、ウィックシート１３０の第１本体面１３１ａの側に配置され、第２本体面１３１ｂの側には、蒸気流路部１５０に連通する空間が形成されている。これにより、支持部１３９の厚さをウィックシート１３０の厚さよりも薄くでき、蒸気通路１５１が、Ｘ方向およびＹ方向において分断されることを防止できる。しかしながら、これに限らず、支持部１３９は、第２本体面１３１ｂの側に配置されていてもよい。また、支持部１３９の第１本体面１３１ａの側の面および第２本体面１３１ｂの側の面の両方に、蒸気流路部１５０に連通する空間が形成されるようにしてもよい。

　図４０および図４１に示すように、ウィックシート１３０の四隅に、アライメント孔１３５が設けられていてもよい。

　また、図３６に示すように、ベーパーチャンバ１００は、Ｘ方向における一方の側の端縁に、密封空間１０３に作動液２ｂを注入する注入部１０４を更に備えていてもよい。図３６に示す形態では、注入部１０４は、蒸発領域ＳＲの側に配置されている。注入部１０４は、ウィックシート１３０に形成された注入流路３７を有する。この注入流路１３７は、ウィックシート１３０の第２本体面１３１ｂの側に形成されており、第２本体面１３１ｂの側から凹状に形成されている。ベーパーチャンバ１００の完成後、注入流路１３７は封止された状態となっている。また、注入流路１３７は、蒸気流路部１５０に連通しており、作動液２ｂは、注入流路１３７を通過して密封空間１０３に注入される。なお、液流路部１６０の配置によっては、注入流路１３７は液流路部１６０に連通させるようにしてもよい。

　なお、本実施の形態では、注入部１０４は、ベーパーチャンバ１００のＸ方向における一対の端縁のうちの一方の側の端縁に設けられている例が示されているが、これに限られることはなく、任意の位置に設けることができる。なお、注入部１０４は、ベーパーチャンバ１００のＸ方向における一方の側の端縁から突出するように予め形成してもよい。

　図３７、図４０および図４１に示すように、液流路部１６０は、ウィックシート１３０の第２本体面１３１ｂに設けられている。液流路部１６０は、主として作動液２ｂが通るように構成されている。この液流路部１６０は、上述した密封空間１０３の一部を構成しており、蒸気流路部１５０に連通している。液流路部１６０は、作動液２ｂを蒸発領域ＳＲに輸送するための毛細管構造（ウィック）として構成されている。本実施の形態においては、液流路部１６０は、ウィックシート１３０の各ランド部１３３の第２本体面１３１ｂに設けられている。液流路部１６０は、各ランド部１３３の第２本体面１３１ｂの全体にわたって形成されていてもよい。

　図４３に示すように、液流路部１６０は、複数の溝を含む溝集合体の一例である。液流路部１６０は、作動液２ｂが通るとともに互いに並列配置された複数の主流溝１６１と、主流溝１６１に連通する複数の連絡溝１６５と、を有している。液流路部１６０の主流溝１６１は、第１溝の一例である。液流路部１６０の連絡溝１６５は、第２溝の一例である。なお、図４３に示す例では、各ランド部１３３に６本の主流溝１６１が含まれているが、これに限られることはない。各ランド部１３３に含まれる主流溝１６１の本数は任意であり、例えば、３本以上２０本以下としてもよい。

　各主流溝１６１は、図４３に示すように、それぞれランド部１３３の長手方向（Ｘ方向）に沿って延びるように形成されている。複数の主流溝１６１は、互いに平行に配置されている。なお、ランド部１３３が平面視で湾曲している場合、各主流溝１６１は、ランド部１３３の湾曲方向に沿って曲線状に延びていてもよい。すなわち、各主流溝１６１は、必ずしも直線状に形成されていなくてもよく、また、Ｘ方向に平行に延びていなくてもよい。

　主流溝１６１は、主として、作動液２ｂが毛細管作用によって流れるように、蒸気流路部１５０の蒸気通路１５１よりも小さな流路断面積を有している。主流溝１６１は、作動蒸気２ａから凝縮した作動液２ｂを蒸発領域ＳＲに輸送するように構成されている。各主流溝１６１は、幅方向（Ｙ方向）に、互いに間隔を空けて配置されている。

　主流溝１６１は、後述するエッチング工程において、ウィックシート１３０の第２本体面１３１ｂからエッチングされることによって形成されている。主流溝１６１は、図４２に示すように、湾曲状に形成された壁面１６２を有している。この壁面１６２は、主流溝１６１を画定し、第１本体面１３１ａに向かって膨らむような形状で湾曲している。なお、図４２に示す断面において、各壁面１６２の曲率半径は、蒸気通路１５１の第２壁面１５４ａの曲率半径よりも小さくてもよい。

　図４３において、主流溝１６１の幅ｗ２３は、例えば、２μｍ以上５００μｍ以下であってもよい。主流溝１６１の幅ｗ２３とは、ランド部１３３の長手方向に対して垂直な方向の長さであり、この場合はＹ方向における寸法である。また主流溝１６１の幅ｗ２３は、第２本体面１３１ｂにおける寸法を意味している。

　また、図４２に示すように、主流溝１６１の深さｈ２１は、例えば、３μｍ以上３００μｍ以下としてもよい。なお、主流溝１６１の深さｈ２１は、第２本体面１３１ｂから、第２本体面１３１ｂに対して垂直な方向に測定した距離であり、この場合はＺ方向における寸法である。また、深さｈ２１は、主流溝１６１の最も深いところにおける深さをいう。

　図４３に示すように、各連絡溝１６５は、Ｘ方向とは異なる方向に延びている。本実施の形態においては、各連絡溝１６５は、Ｙ方向に延びるように形成されており、主流溝１６１に対して垂直に形成されている。いくつかの連絡溝１６５は、互いに隣り合う主流溝１６１同士を連通するように配置されている。他の連絡溝１６５は、蒸気流路部１５０（蒸気通路１５１）と、蒸気流路部１５０に最も近い主流溝１６１とを連通するように配置されている。すなわち、当該連絡溝１６５は、Ｙ方向におけるランド部１３３の端部から当該端部に隣接する主流溝１６１に延びている。このようにして、蒸気流路部１５０の蒸気通路１５１と主流溝１６１とが連通されている。

　連絡溝１６５は、主として、作動液２ｂが毛細管作用によって流れるように、蒸気流路部１５０の蒸気通路１５１よりも小さな流路断面積を有している。各連絡溝１６５は、ランド部１３３の長手方向（Ｘ方向）に、等間隔に離間して配置されていてもよい。

　連絡溝１６５も、主流溝１６１と同様に、エッチングによって形成され、主流溝１６１と同様の湾曲状に形成された壁面（図示せず）を有している。図４３に示すように、連絡溝１６５の幅ｗ２４（Ｘ方向における寸法）は、５μｍ以上３００μｍ以下としてもよい。連絡溝１６５の深さは、３μｍ以上３００μｍ以下としてもよい。

　主流溝１６１は、連絡溝１６５と連通する交差部１６６を含んでいる。交差部１６６において、主流溝１６１と連絡溝１６５とがＴ字状に連通している。これにより、一の主流溝１６１と、一方の側（例えば、図４３における上側）の連絡溝１６５とが連通している交差部１６６において、他方の側（例えば、図４３における下側）の連絡溝１６５が当該主流溝１６１に連通することを回避できる。これにより、当該交差部１６６において、主流溝１６１の壁面１６２がＹ方向両側で切り欠かれることがなく、一方の壁面１６２を残存できる。このため、交差部１６６においても、主流溝１６１内の作動液２ｂに毛細管作用を付与でき、蒸発領域ＳＲに向かう作動液２ｂの推進力が交差部１６６で低下することを抑制できる。

　図４３に示すように、液流路部１６０の互いに隣り合う主流溝１６１同士の間に、液凸部列１６３が設けられている。なお、図４３に示す例では、各ランド部１３３に７列の液凸部列１６３が含まれている場合を例に挙げているが、これに限られることはない。各ランド部１３３に含まれる液凸部列１６３の数は任意であり、例えば、３列以上２０列以下としてもよい。

　各液凸部列１６３は、図４３に示すように、それぞれランド部１３３の長手方向（Ｘ方向）に沿って延びるように形成されている。複数の液凸部列１６３は、互いに平行に配置されている。なお、ランド部１３３が平面視で湾曲している場合、各液凸部列１６３は、ランド部１３３の湾曲方向に沿って曲線状に延びていてもよい。すなわち、各液凸部列１６３は、必ずしも直線状に形成されていなくてもよく、また、Ｘ方向に平行に延びていなくてもよい。各液凸部列１６３は、幅方向（Ｙ方向）に、互いに間隔を空けて配置されている。

　各液凸部列１６３は、それぞれＸ方向に配列された複数の凸部１６４（液流路突出部）を含む。凸部１６４は、液流路部１６０内に設けられ、主流溝１６１および連絡溝１６５から突出して上側シート１２０に当接している。各凸部１６４は、平面視で、Ｘ方向が長手方向となるように矩形状に形成されている。Ｙ方向において互いに隣り合う凸部１６４同士の間には、それぞれ主流溝１６１が配置されている。Ｘ方向において互いに隣り合う凸部１６４の間には、それぞれ連絡溝１６５が配置されている。連絡溝１６５は、Ｙ方向に延びるように形成され、Ｙ方向において互いに隣り合う主流溝１６１同士を連通している。これにより、これらの主流溝１６１の間で作動液２ｂが往来可能になっている。

　凸部１６４は、後述するエッチング工程においてエッチングで除去されることなく、ウィックシート１３０の材料が残る部分である。本実施の形態では、図４３に示すように、凸部１６４の平面形状）が、矩形状になっている。凸部１６４の平面形状は、ウィックシート１３０の第２本体面１３１ｂの位置における形状に相当している。凸部１６４の幅ｗ２５は、例えば、５μｍ以上５００μｍ以下であってもよい。なお、凸部１６４の幅ｗ２５とは、凸部１６４の幅が最大となる箇所における値をいう。

　凸部１６４の幅方向（Ｙ方向）における、凸部１６４の配列ピッチは、例えば、７μｍ以上１０００μｍ以下であってもよい。ここで、凸部１６４の配列ピッチとは、凸部１６４のＹ方向の中心と、隣接する凸部１６４のＹ方向の中心との間隔であり、Ｙ方向に測定した距離をいう。

　本実施の形態においては、凸部１６４は、千鳥状（互い違い）に配置されている。より具体的には、Ｙ方向において互いに隣り合う液凸部列１６３の凸部１６４が、Ｘ方向において互いにずれて配置されている。このずれ量は、Ｘ方向における凸部１６４の配列ピッチの半分であってもよい。なお、凸部１６４の配置は、千鳥状に限られることはなく、並列に配列されていてもよい。この場合、Ｙ方向において互いに隣り合う液凸部列１６３の凸部１６４が、Ｘ方向においても整列される。

　凸部１６４の長さＬ１は、各凸部１６４同士の間で均一であってもよい。また凸部１６４の長さＬ１は、連絡溝１６５の幅ｗ２４よりも長い（Ｌ１＞ｗ２４）。なお、凸部１６４の長さＬ１とは、Ｘ方向における凸部１６４の寸法に相当しており、第２本体面１３１ｂにおけるＸ方向の最大寸法を意味している。

　ところで、下側シート１１０、上側シート１２０およびウィックシート１３０を構成する材料は、熱伝導率が良好な材料であれば特に限られることはない。下側シート１１０、上側シート１２０およびウィックシート１３０は、例えば、銅または銅合金を含んでいてもよい。この場合、各シート１１０、１２０、１３０の熱伝導率を高めることができ、ベーパーチャンバ１００の放熱効率を高めることができる。また、作動流体２ａ、２ｂとして純水を使用する場合には、腐食することを防止できる。なお、所望の放熱効率を得るとともに腐食を防止できれば、これらのシート１１０、１２０、１３０には、アルミニウム若しくはチタン等の他の金属材料、またはステンレス等の他の金属合金材料を用いることもできる。

　また、図３７に示すベーパーチャンバ１００の厚さｔ２１は、例えば、１００μｍ以上２０００μｍ以下であってもよい。ベーパーチャンバ１００の厚さｔ２１を１００μｍ以上にすることにより、蒸気流路部１５０を適切に確保することで、ベーパーチャンバ１００として適切に機能できる。一方、厚さｔ２１を２０００μｍ以下にすることにより、ベーパーチャンバ１００の厚さｔ２１が厚くなることを抑制できる。

　下側シート１１０の厚さｔ２２は、例えば、２５μｍ以上５００μｍ以下であってもよい。下側シート１１０の厚さｔ２２を２５μｍ以上にすることにより、下側シート１１０の機械的強度を確保できる。一方、下側シート１１０の厚さｔ２２を５００μｍ以下にすることにより、ベーパーチャンバ１００の厚さｔ２１が厚くなることを抑制できる。同様に、上側シート１２０の厚さｔ２３は、下側シート１１０の厚さｔ２２と同様に設定されていてもよい。上側シート１２０の厚さｔ２３と、下側シート１１０の厚さｔ２２は、異なっていてもよい。

　ウィックシート１３０の厚さｔ２４は、例えば、５０μｍ以上１０００μｍ以下であってもよい。ウィックシート１３０の厚さｔ２４を５０μｍ以上にすることにより、蒸気流路部１５０を適切に確保することで、ベーパーチャンバ１００として適切に動作できる。一方、１０００μｍ以下にすることにより、ベーパーチャンバ１００の厚さｔ２１が厚くなることを抑制できる。

　次に、このような構成からなる本実施の形態のベーパーチャンバ１００の製造方法について、図４４～図４６を用いて説明する。なお、図４４～図４６では、図３７の断面図と同様の断面を示している。

　ここでは、初めに、ウィックシート１３０の作製工程について説明する。

　まず、図４４に示すように、準備工程として、下面Ｍａと上面Ｍｂとを含む、平板状の金属材料シートＭを準備する。

　準備工程の後、エッチング工程として、図４５に示すように、金属材料シートＭを、下面Ｍａおよび上面Ｍｂからエッチングして、蒸気流路部１５０、液流路部１６０を形成する。

　より具体的には、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂに、フォトリソグラフィー技術によって、パターン状のレジスト膜（図示せず）が形成される。続いて、パターン状のレジスト膜の開口を介して、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂがエッチングされる。これにより、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂがパターン状にエッチングされて、図４５に示すような蒸気流路部１５０および液流路部１６０が形成される。なお、エッチング液には、例えば、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液、または塩化銅水溶液等の塩化銅系エッチング液を用いることができる。

　エッチングは、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂを同時にエッチングしてもよい。しかしながら、これに限られることはなく、下面Ｍａと上面Ｍｂのエッチングは別々の工程として行われてもよい。また、蒸気流路部１５０および液流路部１６０が同時にエッチングで形成されてもよく、別々の工程で形成されてもよい。

　また、エッチング工程においては、金属材料シートＭの下面Ｍａおよび上面Ｍｂをエッチングすることにより、図４０および図４１に示すような所定の外形輪郭形状が得られる。すなわち、ウィックシート１３０の端縁が形成される。

　このようにして、本実施の形態によるウィックシート１３０が得られる。

　ウィックシート１３０の作製工程の後、接合工程として、図４６に示すように、下側シート１１０、上側シート１２０およびウィックシート１３０が接合される。なお、下側シート１１０および上側シート１２０は、所望の厚さを有する圧延材で形成されていてもよい。

　より具体的には、まず、下側シート１１０、ウィックシート１３０および上側シート１２０をこの順番で積層する。この場合、下側シート１１０の第２下側シート面１１０ｂにウィックシート１３０の第１本体面１３１ａが重ね合わされ、ウィックシート１３０の第２本体面１３１ｂに、上側シート１２０の第１上側シート面１２０ａが重ね合わされる。この際、下側シート１１０のアライメント孔１１２と、ウィックシート１３０のアライメント孔１３５と、上側シート１２０のアライメント孔１２２とを利用して、各シート１１０、１２０、１３０が位置合わせされる。

　続いて、下側シート１１０、ウィックシート１３０および上側シート１２０が仮止めされる。例えば、スポット的に抵抗溶接を行って、これらのシート１１０、１２０、１３０が仮止めされてもよく、レーザ溶接でこれらのシート１１０、１２０、１３０が仮止めされてもよい。

　次に、下側シート１１０と、ウィックシート１３０と、上側シート１２０とが、拡散接合によって恒久的に接合される。より具体的には、ウィックシート１３０の枠体部１３２および各ランド部１３３における第１本体面１３１ａが、下側シート１１０の第２下側シート面１１０ｂに拡散接合される。また、ウィックシート１３０の枠体部１３２および各ランド部１３３における第２本体面１３１ｂが、上側シート１２０面の第１上側シート面１２０ａに拡散接合される。このようにして、各シート１１０、１２０、１３０が拡散接合されて、下側シート１１０と上側シート１２０との間に、蒸気流路部１５０と液流路部１６０とを有する密封空間１０３が形成される。

　接合工程の後、注入部１０４から密封空間１０３に作動液２ｂが注入される。

　その後、上述した注入流路１３７が封止される。例えば、注入部１０４を部分的に溶融させて注入流路１３７を封止するようにしてもよい。これにより、密封空間１０３と外部との連通が遮断されて、作動液２ｂが密封空間１０３に封入され、密封空間１０３内の作動液２ｂが外部に漏洩することが防止される。

　以上のようにして、本実施の形態によるベーパーチャンバ１００が得られる。

　次に、ベーパーチャンバ１００の作動方法、すなわち、電子デバイスＤの冷却方法について説明する。

　上述のようにして得られたベーパーチャンバ１００は、モバイル端末等の電子機器ＥのハウジングＨ内に設置されるとともに、上側シート１２０の第２上側シート面１２０ｂに、被冷却装置であるＣＰＵ等の電子デバイスＤが取り付けられる。あるいは、電子デバイスＤにベーパーチャンバ１００が取り付けられる。密封空間１０３内の作動液２ｂは、その表面張力によって、密封空間１０３の壁面、すなわち、蒸気通路１５１の第１壁面１５３ａおよび第２壁面１５４ａ、液流路部１６０の主流溝１６１の壁面１６２、および連絡溝１６５の壁面に付着する。また、作動液２ｂは、下側シート１１０の第２下側シート面１１０ｂのうち蒸気通路１５１に露出した部分にも付着し得る。さらに、作動液２ｂは、上側シート１２０の第１上側シート面１２０ａのうち蒸気通路１５１、主流溝１６１および連絡溝１６５に露出した部分にも付着し得る。

　この状態で電子デバイスＤが発熱すると、蒸発領域ＳＲ（図４０および図４１参照）に存在する作動液２ｂが、電子デバイスＤから熱を受ける。受けた熱は潜熱として吸収されて作動液２ｂが蒸発（気化）し、作動蒸気２ａが生成される。生成された作動蒸気２ａの多くは、密封空間１０３を構成する蒸気通路１５１内で拡散する（図４０の実線矢印参照）。各蒸気通路１５１内の作動蒸気２ａは、蒸発領域ＳＲから離れ、作動蒸気２ａの多くは、比較的温度の低い凝縮領域ＣＲ（図４０および図４１における右側の部分）に輸送される。凝縮領域ＣＲにおいて、作動蒸気２ａは、主として下側シート１１０に放熱して冷却される。下側シート１１０が作動蒸気２ａから受けた熱は、ハウジング部材Ｈａ（図３７参照）を介して外気に伝達される。

　作動蒸気２ａは、凝縮領域ＣＲにおいて下側シート１１０に放熱することにより、蒸発領域ＳＲにおいて吸収した潜熱を失って凝縮し、作動液２ｂが生成される。生成された作動液２ｂは、各蒸気通路１５１の第１壁面１５３ａおよび第２壁面１５４ａ、下側シート１１０の第２下側シート面１１０ｂ、および上側シート１２０の第１上側シート面１２０ａに付着する。ここで、蒸発領域ＳＲでは作動液２ｂが蒸発し続けている。このため、液流路部１６０のうち蒸発領域ＳＲ以外の領域（すなわち、凝縮領域ＣＲ）における作動液２ｂは、各主流溝１６１の毛細管作用により、蒸発領域ＳＲに向かって輸送される（図４０の破線矢印参照）。これにより、各蒸気通路１５１、第２下側シート面１１０ｂおよび第１上側シート面１２０ａに付着した作動液２ｂは、液流路部１６０に移動し、連絡溝１６５を通過して主流溝１６１に入り込む。このようにして、各主流溝１６１および各連絡溝１６５に、作動液２ｂが充填される。このため、充填された作動液２ｂは、各主流溝１６１の毛細管作用により、蒸発領域ＳＲに向かう推進力を得て、蒸発領域ＳＲに向かってスムーズに輸送される。

　液流路部１６０においては、各主流溝１６１が、対応する連絡溝１６５を介して、隣り合う他の主流溝１６１と連通している。これにより、互いに隣り合う主流溝１６１同士で、作動液２ｂが往来し、主流溝１６１でドライアウトが発生することが抑制されている。このため、各主流溝１６１内の作動液２ｂに毛細管作用が付与されて、作動液２ｂは、蒸発領域ＳＲに向かってスムーズに輸送される。

　蒸発領域ＳＲに達した作動液２ｂは、電子デバイスＤから再び熱を受けて蒸発する。作動液２ｂから蒸発した作動蒸気２ａは、蒸発領域ＳＲ内の連絡溝１６５を通って、流路断面積が大きい蒸気通路１５１に移動し、各蒸気通路１５１内で拡散する。このようにして、作動流体２ａ、２ｂが、相変化、すなわち蒸発と凝縮とを繰り返しながら密封空間１０３内を還流して電子デバイスＤの熱を輸送して放出する。この結果、電子デバイスＤが冷却される。

　ところで、蒸発領域ＳＲにおいては、作動液２ｂから生成した作動蒸気２ａが、液流路部１６０から蒸気通路１５１に向けて移動する。この際、作動蒸気２ａは、主流溝１６１から、各液流路部１６０の幅方向外側の凸部１６４に隣接する連絡溝１６５を通過して、蒸気通路１５１に流出する。

　一般に、蒸気通路１５１の第２本体面１３１ｂの側の部分は、厚み方向（Ｚ方向）における作動蒸気２ａの圧力勾配が大きく、蒸気通路１５１の第１本体面１３１ａの側の部分は、厚み方向（Ｚ方向）における作動蒸気２ａの圧力勾配が小さい。本実施の形態においては、図４７に示すように、突起部１５５は、第１本体面１３１ａと第２本体面１３１ｂとの中間位置Ｐｚよりも第２本体面１３１ｂの近くに位置している。このため、気化した作動蒸気２ａが液流路部１６０から蒸気通路１５１に広がる際、突起部１５５付近においては、突起部１５５の上下方向における圧力勾配が大きくなる。突起部１５５に対して上側の部分と下側の部分との間の圧力差が大きくなり得る。突起部１５５に対する上側の部分は、第２壁面１５４ａの側の部分に相当し、突起部１５５に対する下側の部分は、第１壁面１５３ａの側の部分に相当している。したがって、突起部１５５の上側の部分における作動蒸気２ａの気圧が、突起部１５５の下側の部分における作動蒸気２ａの気圧よりも十分に大きくでき、作動蒸気２ａが突起部１５５を容易に乗り越えることができる。これにより、作動蒸気２ａを突起部１５５の上側の部分から下側の部分へ容易に回り込ませることができる。この結果、突起部１５５が作動蒸気２ａの通過に対する障害となりにくく、突起部１５５から突起部１５５の下側の部分へ向けて作動蒸気２ａをスムーズに拡散できる。

　また、本実施の形態においては、第１壁面１５３ａの第１壁面端部１５３ｂは、平面視で、突起部１５５よりも蒸気流路部１５０の内側に位置する。このため、第１壁面１５３ａを、蒸気通路１５１の内側に向かうように形成される。これにより、突起部１５５の上側の部分から下側の部分へ回り込んだ作動蒸気２ａが、第１壁面１５３ａを伝わって蒸気通路１５１の幅方向（Ｙ方向）内側に導かれる。この結果、蒸気通路１５１の内部で作動蒸気２ａの拡散がスムーズに行われ、ベーパーチャンバ１００の冷却能力を高めることができる。第１壁面１５３ａの曲率半径は、第１壁面端部１５３ｂに向かって徐々に大きくなっていてもよい。このため、曲率半径が大きくなることに伴って、第１本体面１３１ａへ向かう作動蒸気２ａの流れに対する障害が増大する。これにより、蒸気通路１５１の内部における作動蒸気２ａの拡散をより一層スムーズに行うことができる。

　一方、凝縮領域ＣＲにおいては、作動蒸気２ａから生成した作動液２ｂが、蒸気通路１５１から液流路部１６０に向けて移動する。この際、作動液２ｂは、各液流路部１６０の幅方向外側の凸部１６４に隣接する連絡溝１６５を通過して、主流溝１６１に入り込む。

　本実施の形態においては、第１壁面１５３ａの第１壁面端部１５３ｂは、平面視で、突起部１５５よりも蒸気流路部１５０の内側に位置する。このため、蒸気通路１５１を流れてきた作動液２ｂが、第１壁面１５３ａを伝わって液流路部１６０に導かれる。この結果、作動液２ｂが液流路部１６０にスムーズに入り込む。また作動液２ｂが突起部１５５を容易に乗り越えることができるため、突起部１５５が作動液２ｂの通過に対する障害となりにくく、突起部１５５から液流路部１６０への作動液２ｂの流入をスムーズに行うことができる。

　また、本実施の形態においては、突起部１５５が、中間位置Ｐｚよりも第２本体面１３１ｂの近くに位置している。このため、第２壁面１５４ａの曲率半径を、第１壁面１５３ａの曲率半径よりも小さくできる。これにより、第２壁面１５４ａの毛細管作用を高めることができ、作動液２ｂを液流路部１６０にスムーズに流入できる。また、毛細管作用が高められていることにより、第２壁面１５４ａによる作動液２ｂの保持作用を高めることもできる。このため、蒸発領域ＳＲへの作動液２ｂの輸送量を増大できる。

　また、本実施の形態においては、第１壁面１５３ａの第１壁面端部１５３ｂは、平面視で、突起部１５５よりも蒸気流路部１５０の内側に位置するので、ランド部１３３の幅方向端部の形状欠陥を平面視で確認しやすい。

　さらに、本実施の形態においては、第１壁面１５３ａは、液流路部１６０に向けて曲線状に湾曲しているので、蒸気通路１５１の容積が広くなり、ベーパーチャンバ１００の冷却能力を高めることができる。

　本発明は上記各実施の形態および各変形例そのままに限定されることはなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記各実施の形態および各変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。各実施の形態および各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。

Claims

　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、
　前記第１本体面に設けられ、前記貫通空間に連通した複数の第１溝であって、第１方向に延びる複数の第１溝と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に位置する第１開口部と、前記第２本体面に位置する第２開口部と、を有し、前記第２開口部は、前記第１開口部に平面視で重なる領域から、前記第１溝に平面視で重なる位置まで延びている、ベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた、前記第１開口部を画定する第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第２開口部を画定する第２空間凹部であって、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第２壁面を含み、
　互いに対応する前記第１壁面と前記第２壁面が、前記貫通空間の内側に向かって突出する壁面突出部で接続され、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２空間凹部は、互いに対応する前記第２壁面と前記壁面突出部を接続する、平坦状に形成された平坦面を含む、請求項１に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた、前記第１開口部を画定する第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第２開口部を画定する第２空間凹部であって、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第２壁面を含み、
　互いに対応する前記第１壁面と前記第２壁面が、前記貫通空間の内側に向かって突出する壁面突出部で接続され、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２空間凹部は、互いに対応する前記第２壁面と前記壁面突出部を接続する凸部面を含み、
　前記凸部面は、前記第１方向に延びるとともに前記第２本体面に向かって突出する空間凸部を含む、請求項１に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記凸部面は、互いに離間した複数の前記空間凸部を含む、請求項３に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた、前記第１開口部を画定する第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第２開口部を画定する第２空間凹部であって、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、凸状に湾曲した一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、凹状に湾曲した一対の第２壁面を含む、請求項１に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２開口部は、前記第１開口部に平面視で重なる領域から、前記第１開口部に対して両側で、前記第１溝に平面視で重なる位置まで延びている、請求項１～５のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　平面視において枠状に形成され、前記第１本体面から前記第２本体面に延びる枠体部であって、前記貫通空間を画定する枠体部と、
　前記枠体部の内側に設けられたランド部であって、前記第１方向に延びるとともに前記第１本体面から前記第２本体面に延びるランド部と、を備え、
　前記第１開口部および前記第２開口部は、前記枠体部と前記ランド部との間に位置し、
　前記ランド部の前記第１本体面に前記第１溝が位置し、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第２開口部は、前記第１開口部に平面視で重なる領域から、前記ランド部に位置する前記第１溝に平面視で重なる位置まで延びるとともに、前記第１開口部よりも前記枠体部の外側に向かって延びている、請求項１～６のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、　
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、一対の第２壁面を含み、
　前記第１空間凹部の一方の前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第１壁面突出部で接続され、
　前記第１壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第１壁面突出部は、前記第１本体面の法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置され、
　前記第１空間凹部の前記第１壁面突出部とは反対側に位置する前記第１壁面および前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面は、前記第１壁面から前記第２壁面にわたって連続して凹状に形成されている、ベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記貫通空間は、前記第１本体面に位置する、前記第１空間凹部によって画定された第１開口部と、前記第２本体面に位置する、前記第２空間凹部によって画定された第２開口部と、を有し、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第１開口部の中心は、前記第２開口部の中心に対してずれて配置されている、請求項８に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、　
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた第１空間凹部と、前記第２本体面に設けられた、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、を有し、
　前記第１空間凹部は、一対の第１壁面を含み、
　前記第２空間凹部は、一対の第２壁面を含み、
　前記第１空間凹部の一方の前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第１壁面突出部で接続され、
　前記第１壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第１壁面突出部は、前記第１本体面の法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置され、
　前記貫通空間は、前記第１本体面に位置する、前記第１空間凹部によって画定された第１開口部と、前記第２本体面に位置する、前記第２空間凹部によって画定された第２開口部と、を有し、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記第１開口部の中心は、前記第２開口部の中心に対してずれて配置されている、ベーパーチャンバ用の本体シート。
　平面視において枠状に形成された枠体部と、
　前記枠体部の内側に設けられたランド部であって、前記第１方向に延びて、前記枠体部との間に前記貫通空間を画定するランド部と、を更に備え、
　前記ランド部の幅をｗ１としたときに、前記第１開口部の中心と前記第２開口部の中心のずれ量は、０．０５ｍｍ～（０．８×ｗ１）ｍｍである、請求項９または１０に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第１本体面に設けられた、前記貫通空間に連通した複数の第１溝を更に備え、
　前記第１壁面突出部は、前記中間位置よりも前記第１本体面の近くに配置されている、請求項８～１１のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第１空間凹部の前記第１壁面突出部とは反対側に位置する前記第１壁面と、前記第２空間凹部の対応する前記第２壁面とが第２壁面突出部で接続され、
　前記第２壁面突出部は、前記貫通空間の内側に向かって突出し、
　前記第２壁面突出部は、前記法線方向において、前記第１本体面と前記第２本体面との間の中間位置に対してずれて配置されている、請求項１２に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第２壁面突出部は、前記中間位置よりも前記第１本体面の近くに配置されている、請求項１３に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　作動流体が封入されるベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に設けられた第２本体面と、
　前記第１本体面から前記第２本体面に延びる貫通空間と、を備え、
　前記貫通空間は、平面視において第１方向に延びており、
　前記第１方向に垂直な断面で見たときに、前記貫通空間は、前記第１本体面に設けられた第１空間凹部と、第２本体面に設けられた、前記第１空間凹部と連通する第２空間凹部と、前記第２本体面に設けられた第３空間凹部であって、前記第２空間凹部の両側に位置するとともに、当該第２空間凹部に連通する第３空間凹部と、を有し、
　前記第２空間凹部は、一対の第２壁面を含み、
　前記第３空間凹部は、第３壁面を含み、
　前記第２空間凹部の前記第２壁面の各々と、対応する前記第３空間凹部の前記第３壁面とが第３壁面突出部で接続され、
　前記第３壁面突出部が、前記第２本体面に向かって突出している、ベーパーチャンバ用の本体シート。
　ベーパーチャンバ用の本体シートであって、
　第１本体面と、
　前記第１本体面とは反対側に位置する第２本体面と、
　前記第１本体面と前記第２本体面とを貫通する貫通空間と、
　前記第２本体面に設けられ、前記貫通空間と連通した複数の第１溝と、を備え、
　前記貫通空間は、前記第１本体面の側に位置する湾曲状の第１壁面と、前記第２本体面の側に位置する湾曲状の第２壁面とを有し、
　前記第１壁面および前記第２壁面は、前記貫通空間の内側に張り出すように形成された突起部において合流し、
　前記突起部は、前記第１本体面と前記第２本体面との中間位置よりも前記第２本体面の近くに位置し、
　前記第１壁面は、前記第１本体面の側に第１壁面端部を有し、
　前記第１壁面端部は、平面視で、前記突起部よりも前記貫通空間の内側に位置する、ベーパーチャンバ用の本体シート。
　前記第２壁面は、前記第２本体面の側に第２壁面端部を有し、
　前記貫通空間の幅方向における前記第２壁面端部と前記突起部との距離をＬｐとし、前記第２壁面端部と前記第１壁面端部との距離をＬｓとしたとき、距離Ｌｓは、距離Ｌｐの１．０５倍以上２倍以下である、請求項１６に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　複数の前記第１溝は、互いに並列配置され、
　互いに隣り合う前記第１溝の間に、凸部列が設けられ、
　前記凸部列の各々は、複数の凸部を有し、
　前記第２壁面は、前記第２本体面の側に第２壁面端部を有し、
　前記第２壁面端部と前記第１壁面端部との距離をＬｓとしたとき、距離Ｌｓは、前記凸部の幅の１．１倍以上１０倍以下である、請求項１６に記載のベーパーチャンバ用の本体シート。
　第１シートと、
　第２シートと、
　前記第１シートと前記第２シートとの間に介在された、請求項１～１８のいずれか一項に記載のベーパーチャンバ用の本体シートと、を備えた、ベーパーチャンバ。
　ハウジングと、
　前記ハウジング内に収容された電子デバイスと、
　前記電子デバイスに熱的に接触した、請求項１９に記載のベーパーチャンバと、を備えた、電子機器。