WO2022131319A1 - 接着性粒子、接着剤及び調光積層体 - Google Patents

Abstract

加熱時の液だれを抑制することができ、接着性を高めることができ、かつ、光抜けの発生を抑制することができる接着性粒子を提供する。　本発明に係る接着性粒子は、基材粒子と、前記基材粒子の表面上に配置された被覆部とを備え、前記基材粒子が、黒色粒子であり、前記被覆部が、熱硬化性樹脂を含む。

Description

接着性粒子、接着剤及び調光積層体

　本発明は、接着性粒子に関する。また、本発明は、上記接着性粒子を用いた接着剤及び調光積層体に関する。

　液晶表示装置及び車載用ディスプレイ等のディスプレイ装置に、調光ガラスや調光フィルム等の調光材料が用いられることがある。調光材料は、電界の印加の有無により光透過率が変化する性質を有し、入射光量の調整が可能な材料である。

　また、液晶表示素子は、２枚のガラス又はフィルム基板間に液晶が配置されて構成されている。該液晶表示素子では、２枚のガラス又はフィルム基板を貼り合わせるために、接着剤が用いられている。

　近年、ディスプレイ装置の大画面化、フレキシブル化に伴い、より高い接着性を有する接着剤のニーズが高まっている。また、接着剤の接着性をより一層高めるために、接着性を有する粒子（接着性粒子）が接着剤に含有されることがある。さらに、接着剤中の粒子から光が透過する光抜けを防止するために、該粒子が濃色に着色されることがある。

　下記の特許文献１には、基材粒子と、上記基材粒子の表面上に配置された被覆部とを備える粒子が開示されている。該粒子では、上記基材粒子が着色剤を含み、上記被覆部の材料が特定の構造を有する化合物である。特許文献１には、上記被覆部の材料として、熱可塑性樹脂が記載されている。

特開２０１８－１３２７４０号公報

　着色された基材粒子の表面が熱可塑性樹脂で被覆された粒子では、被覆層の厚みを十分に設けることができず、結果として粒子の接着性を十分に高めることが困難なことがある。また、加熱時に被覆層の熱可塑性樹脂が溶融して液だれが発生し、結果として接着性が低下することがある。また、液だれが発生すると、液晶表示素子を点灯作動させたときに、バックライトからの光が溶融した樹脂部分を透過する現象（光抜け）が起こることがある。光抜けにより、液晶表示素子のコントラストが低下したり、ホワイトスポットと呼ばれる表示品質の低下が生じたりするという課題がある。

　本発明の目的は、加熱時の液だれを抑制することができ、接着性を高めることができ、かつ、光抜けの発生を抑制することができる接着性粒子を提供することである。また、本発明の目的は、上記接着性粒子を用いた接着剤及び調光積層体を提供することである。

　本発明の広い局面によれば、基材粒子と、前記基材粒子の表面上に配置された被覆部とを備え、前記基材粒子が、黒色粒子であり、前記被覆部が、熱硬化性樹脂を含む、接着性粒子が提供される。

　本発明に係る接着性粒子のある特定の局面では、前記被覆部の厚みの、前記接着性粒子の粒子径に対する比が、０．０１を超える。

　本発明に係る接着性粒子のある特定の局面では、前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂であり、前記被覆部が、アミン硬化剤を含む。

　本発明に係る接着性粒子のある特定の局面では、前記基材粒子の１０％Ｋ値が、１０Ｎ／ｍｍ^２以上７０００Ｎ／ｍｍ^２以下である。

　本発明の広い局面によれば、上述した接着性粒子と、バインダーとを含む、接着剤が提供される。

　本発明の広い局面によれば、第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された調光層とを備え、前記調光層の材料が、上述した接着性粒子を含む、調光積層体が提供される。

　本発明に係る接着性粒子は、基材粒子と、上記基材粒子の表面上に配置された被覆部とを備え、上記基材粒子が、黒色粒子であり、上記被覆部が、熱硬化性樹脂を含む。本発明に係る接着性粒子では、上記の構成が備えられているので、加熱時の液だれを抑制することができ、接着性を高めることができ、かつ、光抜けの発生を抑制することができる。

図１は、本発明の第１の実施形態に係る接着性粒子を示す断面図である。 図２は、本発明の第１の実施形態に係る接着性粒子を用いたＰＤＬＣ方式の調光積層体の一例を示す断面図である。 図３は、本発明の第１の実施形態に係る接着性粒子を用いたＳＰＤ方式の調光積層体の一例を示す断面図である。

　以下、本発明の詳細を説明する。

　＜接着性粒子＞
　本発明に係る接着性粒子は、基材粒子と、上記基材粒子の表面上に配置された被覆部とを備える。本発明に係る接着性粒子では、上記基材粒子が、黒色粒子である。本発明に係る接着性粒子では、上記被覆部が、熱硬化性樹脂を含む。

　本発明に係る接着性粒子では、上記の構成が備えられているので、被覆部の厚みを十分に確保することができ、結果として接着性を十分に高めることができる。また、本発明に係る接着性粒子を含む接着剤の接着性を高めることができる。上記熱硬化性樹脂を熱硬化させることで、接着を行うことができる。また、加熱時の液だれを抑制することができる。結果として、接着性をさらに一層高めることができ、かつ、光抜けの発生を抑制することができる。また、液だれによる汚染を防ぐことができる。光抜けの発生を抑制することにより、液晶表示素子のコントラストの低下を防ぎ、かつ、表示品質の低下を防ぐことができる。

　上記接着性粒子は、接着剤に好適に用いることができる。また、上記接着性粒子は、調光材料、調光層及び調光積層体に用いることができる。上記接着性粒子は調光ガラス用スペーサとして用いられてもよく、調光フィルム用スペーサとして用いられてもよい。上記接着性粒子は、調光積層体用接着性粒子であってもよい。

　上記接着性粒子の形状は、特に限定されない。上記接着性粒子の形状は、球状であってもよく、球状以外の形状であってもよく、扁平状等の形状であってもよい。なお、球状は、真球状に限定されず、略球状も含み、例えば、アスペクト比（長径／短径）が１．５以下である形状も含む。

　図１は、本発明の第１の実施形態に係る接着性粒子を示す断面図である。

　図１に示す接着性粒子１は、基材粒子２と、基材粒子２の表面上に配置された被覆部３とを備える。被覆部３は、基材粒子２の表面に接しており、基材粒子２の表面を被覆している。接着性粒子１は、基材粒子２の表面が被覆部３によって被覆された被覆粒子である。接着性粒子１では、基材粒子２は黒色粒子である。接着性粒子１では、被覆部３は、熱硬化性樹脂を含む。

　上記被覆部は、上記基材粒子の表面を完全に被覆していてもよく、上記基材粒子の表面を完全に被覆していなくてもよい。上記基材粒子は、上記被覆部によって被覆されていない部分を有していてもよい。

　接着性粒子１は、基材粒子２を有するので、ギャップ制御性に優れる。したがって、接着性粒子１は、調光積層体等のスペーサとして好適に用いることができる。接着性粒子１は、調光ガラス用スペーサ及び調光フィルム用スペーサとして好適に用いることができる。例えば、基板間に上記接着性粒子が配置された調光積層体において、基板間のギャップを高精度に制御することができ、基板間の厚みの均一性を高めることができる。また、導電膜の剥離を抑制することで、調光積層体の調光性能を維持することができる。

　実用性の観点からは、上記接着性粒子の平均粒子径は、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは８μｍ以上、さらに好ましくは１０μｍ以上であり、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは３０μｍ以下、さらに好ましくは２５μｍ以下である。

　上記接着性粒子の粒子径は、上記接着性粒子が真球状である場合には直径を意味し、上記接着性粒子が真球状以外の形状である場合には、その体積相当の真球と仮定した際の直径を意味する。

　また、上記接着性粒子の粒子径は、上記接着性粒子を粒子径測定装置により測定した平均粒子径を意味する。粒子径測定装置としては、例えば、レーザー光散乱、電気抵抗値変化、撮像後の画像解析等の原理を用いた粒度分布測定機等が挙げられる。具体的には上記接着性粒子の粒子径の測定方法としては、例えば、粒度分布測定装置（ベックマンコールター社製「Ｍｕｌｔｉｓｉｚｅｒ４」）を用いて、約１０００００個の粒子径を測定し、平均粒子径を測定する方法が挙げられる。上記平均粒子径は、数平均粒子径を示す。

　接着性をより一層高める観点からは、上記接着性粒子の粒子径のＣＶ値は、好ましくは１０％以下、より好ましくは７％以下である。上記接着性粒子の粒子径のＣＶ値の上限は、特に限定されない。上記接着性粒子の粒子径のＣＶ値は、３０％以下であってもよい。

　上記接着性粒子の粒子径のＣＶ値（変動係数）は、以下のようにして測定できる。

　ＣＶ値（％）＝（ρ／Ｄｎ）×１００
　ρ：上記接着性粒子の粒子径の標準偏差
　Ｄｎ：上記接着性粒子の粒子径の平均値

　上記接着性粒子の２５℃における１０％圧縮したときの圧縮弾性率（１０％Ｋ値）は、好ましくは１０Ｎ／ｍｍ^２以上、より好ましくは１０００Ｎ／ｍｍ^２以上であり、好ましくは１００００Ｎ／ｍｍ^２以下、より好ましくは７０００Ｎ／ｍｍ^２以下である。上記１０％Ｋ値が、上記下限以上及び上記上限以下であると、ギャップを高精度に制御することができる。

　上記接着性粒子の２５℃における３０％圧縮したときの圧縮弾性率（３０％Ｋ値）は、好ましくは５０Ｎ／ｍｍ^２以上、より好ましくは２０００Ｎ／ｍｍ^２以上であり、好ましくは２００００Ｎ／ｍｍ^２以下、より好ましくは１００００Ｎ／ｍｍ^２以下である。上記３０％Ｋ値が、上記下限以上及び上記上限以下であると、ギャップを高精度に制御することができる。

　上記接着性粒子における上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）は、以下のようにして測定できる。

　微小圧縮試験機を用いて、円柱（直径１００μｍ、ダイヤモンド製）の平滑圧子端面で、２５℃、圧縮速度０．３ｍＮ／秒、及び最大試験荷重２０ｍＮの条件下で接着性粒子１個を圧縮する。このときの荷重値（Ｎ）及び圧縮変位（ｍｍ）を測定する。得られた測定値から、上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）を下記式により求めることができる。上記微小圧縮試験機として、例えば、フィッシャー社製「フィッシャースコープＨ－１００」等が用いられる。上記接着性粒子における上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）は、任意に選択された５０個の接着性粒子の上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）を算術平均することにより、算出することが好ましい。

　１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値（Ｎ／ｍｍ^２）＝（３／２^１／２）・Ｆ・Ｓ^－３／２・Ｒ^－１／２
　Ｆ：接着性粒子が１０％又は３０％圧縮変形したときの荷重値（Ｎ）
　Ｓ：接着性粒子が１０％又は３０％圧縮変形したときの圧縮変位（ｍｍ）
　Ｒ：接着性粒子の半径（ｍｍ）

　上記圧縮弾性率は、接着性粒子の硬さを普遍的かつ定量的に表す。上記圧縮弾性率の使用により、接着性粒子の硬さを定量的かつ一義的に表すことができる。

　接着性をより一層高める観点からは、以下の接着性試験Ａにおいて、上記接着性粒子の引張降伏応力は、好ましくは０．０３ＭＰａ以上、より好ましくは０．０５ＭＰａ以上、さらに好ましくは０．１ＭＰａ以上である。上記接着性粒子の引張降伏応力の上限は、特に限定されない。以下の接着性試験Ａにおいて、上記接着性粒子の引張降伏応力は、０．０３ＭＰａ以下であってもよく、０．０３ＭＰａ未満であってもよい。

　また、接着性をより一層高める観点からは、以下の接着性試験Ｂにおいて、上記接着性粒子の引張降伏応力は、好ましくは０．０５ＭＰａ以上、より好ましくは０．０７ＭＰａ以上、さらに好ましくは０．１２ＭＰａ以上である。上記接着性粒子の引張降伏応力の上限は、特に限定されない。以下の接着性試験Ｂにおいて、上記接着性粒子の引張降伏応力は、０．０５ＭＰａ以下であってもよく、０．０５ＭＰａ未満であってもよい。

　（接着性試験Ａ）
　第１の基板及び第２の基板として、ガラス基板を用意する。第１の基板の表面上に、接着性粒子を１０個／ｍｍ^２となるように散布する。次いで、ＪＩＳ　Ｋ６８５０の方法に準拠して５ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧力で、１００℃で６０分間加熱して、接着性粒子を第１，第２の基板上に接着させ、試験体（試験サンプル）を作製する。テンシロン万能材料試験機を用いて、引張速度２０ｍｍ／ｍｉｎ、ロードセル定格１０００Ｎで得られた試験体の２３℃での接着強度を測定する。この測定値を、接着性粒子の引張降伏応力とする。

　（接着性試験Ｂ）
　第１の基板及び第２の基板として、ガラス基板を用意する。第１の基板の表面上に、接着性粒子を１０個／ｍｍ^２となるように散布する。次いで、ＪＩＳ　Ｋ　６８５０の方法に準拠して５ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧力で、１３０℃で６０分間加熱して、接着性粒子を第１，第２の基板上に接着させ、試験体（試験サンプル）を作製する。テンシロン万能材料試験機を用いて、引張速度２０ｍｍ／ｍｉｎ、ロードセル定格１０００Ｎで得られた試験体の２３℃での接着強度を測定する。この測定値を、接着性粒子の引張降伏応力とする。

　上記ガラス基板としては、松浪硝子工業社製「Ｓ－７２１３」等が用いられる。上記テンシロン万能材料試験機としては、エー・アンド・デイ社製「ＲＴＩ－１３１０」等が用いられる。

　以下、接着性粒子の他の詳細を説明する。なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」と「メタクリレート」との一方又は双方を意味し、「（メタ）アクリル」は「アクリル」と「メタクリル」との一方又は双方を意味する。

　（基材粒子）
　上記基材粒子は、黒色粒子である。本発明に係る接着性粒子では、上記の構成が備えられているので、光抜けの発生を抑制することができる。

　上記基材粒子の材料は特に限定されない。上記基材粒子の材料は、有機材料であってもよく、無機材料であってもよい。

　上記有機材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂；ポリメチルメタクリレート及びポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂；ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、及びジビニルベンゼン重合体等が挙げられる。上記ジビニルベンゼン重合体は、ジビニルベンゼン共重合体であってもよい。上記ジビニルベンゼン共重合体等としては、ジビニルベンゼン－スチレン共重合体及びジビニルベンゼン－（メタ）アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。上記接着性粒子及び上記基材粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御する観点からは、上記基材粒子の材料は、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を１種又は２種以上重合させた重合体であることが好ましい。

　上記基材粒子を、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を重合させて得る場合、上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。

　上記非架橋性の単量体としては、ビニル化合物として、スチレン、α－メチルスチレン、クロルスチレン等のスチレン単量体；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物；酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル化合物；塩化ビニル、フッ化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリル化合物として、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート化合物；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の酸素原子含有（メタ）アクリレート化合物；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル含有単量体；トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロエチル（メタ）アクリレート等のハロゲン含有（メタ）アクリレート化合物；α－オレフィン化合物として、ジイソブチレン、イソブチレン、リニアレン、エチレン、プロピレン等のオレフィン化合物；共役ジエン化合物として、イソプレン、ブタジエン等が挙げられる。

　上記架橋性の単量体としては、ビニル化合物として、ジビニルベンゼン、１，４－ジビニロキシブタン、ジビニルスルホン等のビニル単量体；（メタ）アクリル化合物として、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート化合物；アリル化合物として、トリアリル（イソ）シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル；シラン化合物として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、γ－（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のシランアルコキシド化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシシラン、ジメトキシエチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジエトキシエチルビニルシラン、エチルメチルジビニルシラン、メチルビニルジメトキシシラン、エチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、エチルビニルジエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の重合性二重結合含有シランアルコキシド；デカメチルシクロペンタシロキサン等の環状シロキサン；片末端変性シリコーンオイル、両末端シリコーンオイル、側鎖型シリコーンオイル等の変性（反応性）シリコーンオイル；（メタ）アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体等が挙げられる。

　黒色度を高め、光抜けの発生を抑制する観点からは、上記基材粒子は、着色剤を含むことが好ましい。上記基材粒子は、上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体に、上記着色剤を均一に混合及び分散させて、重合させることによって得ることができる。

　黒色度を高め、光抜けの発生を抑制する観点からは、上記着色剤は、顔料又は染料であることが好ましく、黒色顔料又は黒色染料であることが好ましい。上記着色剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　上記顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック、アニリンブラック、酸化鉄、ランプブラック、グラファイト、銅－クロムの複合酸化物及び銅－クロム－亜鉛の複合酸化物等が挙げられる。黒色度を高め、光抜けの発生を抑制する観点からは、上記顔料は、カーボンブラックであることが好ましい。

　上記染料としては、ピラゾールアゾ系染料、アニリノアゾ系染料、トリフェニルメタン系染料、アントラキノン系染料、アンスラピリドン系染料、ベンジリデン系染料、オキソール系染料、ピラゾロトリアゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、シアニン系染料、フェノチアジン系染料、ピロロピラゾールアゾメチン系染料、キサテン系染料、フタロシアニン系染料、ベンゾピラン系染料、インジゴ系染料、ピロメテン系染料、トリアリールメタン系染料、アゾメチン系染料、ベリレン系染料、ペリノン系染料、クオタリレン系染料、及びキノフタロン系染料等が挙げられる。上記染料は、酸性染料、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料及びこれらの誘導体の内の２種以上を混合することにより黒色にされた染料等であってもよい。

　上記の重合方法としては特に限定されず、ラジカル重合、イオン重合、重縮合（縮合重合、縮重合）、付加縮合、リビング重合、及びリビングラジカル重合等の公知の方法が挙げられる。また、他の重合方法としては、ラジカル重合開始剤の存在下での懸濁重合及び分散重合等が挙げられる。

　上記無機材料としては、ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、鉛ガラス、ソーダ石灰ガラス、アルミナ及びアルミナシリケートガラス等が挙げられる。

　上記基材粒子は、上記有機材料のみにより形成されていてもよく、上記無機材料のみにより形成されていてもよく、上記有機材料と上記無機材料との双方により形成されていてもよい。上記基材粒子は、有機材料のみにより形成されていることが好ましい。この場合には、上記粒子が適度な硬度を有することができ、スペーサとしての機能をより一層効果的に発揮することができる。

　上記基材粒子は、有機無機ハイブリッド粒子であってもよい。上記基材粒子は、コアシェル粒子であってもよい。上記基材粒子が有機無機ハイブリッド粒子である場合に、上記基材粒子の材料である無機物としては、シリカ、アルミナ、チタン酸バリウム、ジルコニア及びシリコーン等が挙げられる。上記無機物は金属ではないことが好ましい。上記シリカにより形成された基材粒子としては特に限定されないが、加水分解性のアルコキシシリル基を２つ以上持つケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる基材粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。

　上記有機無機ハイブリッド粒子は、コアと、該コアの表面上に配置されたシェルとを有するコアシェル型の有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。上記コアが有機コアであることが好ましい。上記シェルが無機シェルであることが好ましい。上記粒子がスペーサとしての機能をより一層効果的に発揮する観点からは、上記基材粒子は、有機コアと上記有機コアの表面上に配置された無機シェルとを有する有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。

　上記有機コアの材料としては、上述した有機材料等が挙げられる。

　上記無機シェルの材料としては、上述した基材粒子の材料として挙げた無機物が挙げられる。上記無機シェルの材料は、シリカであることが好ましい。上記無機シェルは、上記コアの表面上で、金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物とした後、該シェル状物を焼成させることにより形成されていることが好ましい。上記金属アルコキシドはシランアルコキシドであることが好ましい。上記無機シェルはシランアルコキシドにより形成されていることが好ましい。

　実用性の観点からは、上記基材粒子の粒子径は、好ましくは０．９μｍ以上、より好ましくは７．９μｍ以上、さらに好ましくは９．９μｍ以上であり、好ましくは４９μｍ以下、より好ましくは２９μｍ以下、さらに好ましくは２４．５μｍ以下である。

　上記基材粒子の粒子径は、上記基材粒子が真球状である場合には直径を意味し、上記基材粒子が真球状以外の形状である場合には、その体積相当の真球と仮定した際の直径を意味する。

　また、上記基材粒子の粒子径は、上記基材粒子を粒子径測定装置により測定した平均粒子径を意味する。粒子径測定装置としては、例えば、レーザー光散乱、電気抵抗値変化、撮像後の画像解析等の原理を用いた粒度分布測定機等が挙げられる。具体的には上記基材粒子の粒子径の測定方法としては、例えば、粒度分布測定装置（ベックマンコールター社製「Ｍｕｌｔｉｓｉｚｅｒ４」）を用いて、約１０００００個の粒子径を測定し、平均粒子径を測定する方法が挙げられる。上記平均粒子径は、数平均粒子径を示す。

　接着性をより一層高める観点からは、上記基材粒子の粒子径のＣＶ値は、好ましくは１０％以下、より好ましくは７％以下である。上記基材粒子の粒子径のＣＶ値の上限は、特に限定されない。上記基材粒子の粒子径のＣＶ値は、３０％以下であってもよい。

　上記基材粒子の粒子径のＣＶ値（変動係数）は、以下のようにして測定できる。

　ＣＶ値（％）＝（ρ／Ｄｎ）×１００
　ρ：上記基材粒子の粒子径の標準偏差
　Ｄｎ：上記基材粒子の粒子径の平均値

　上記基材粒子の２５℃における１０％圧縮したときの圧縮弾性率（１０％Ｋ値）は、好ましくは１０Ｎ／ｍｍ^２以上、より好ましくは１０００Ｎ／ｍｍ^２以上であり、好ましくは１００００Ｎ／ｍｍ^２以下、より好ましくは７０００Ｎ／ｍｍ^２以下である。上記１０％Ｋ値が、上記下限以上及び上記上限以下であると、ギャップを高精度に制御することができる。

　上記基材粒子の２５℃における３０％圧縮したときの圧縮弾性率（３０％Ｋ値）は、好ましくは５０Ｎ／ｍｍ^２以上、より好ましくは２０００Ｎ／ｍｍ^２以上であり、好ましくは２００００Ｎ／ｍｍ^２以下、より好ましくは１００００Ｎ／ｍｍ^２以下である。上記３０％Ｋ値が、上記下限以上及び上記上限以下であると、ギャップを高精度に制御することができる。

　上記基材粒子における上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）は、以下のようにして測定できる。

　微小圧縮試験機を用いて、円柱（直径１００μｍ、ダイヤモンド製）の平滑圧子端面で、２５℃、圧縮速度０．３ｍＮ／秒、及び最大試験荷重２０ｍＮの条件下で基材粒子１個を圧縮する。このときの荷重値（Ｎ）及び圧縮変位（ｍｍ）を測定する。得られた測定値から、上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）を下記式により求めることができる。上記微小圧縮試験機として、例えば、フィッシャー社製「フィッシャースコープＨ－１００」等が用いられる。上記基材粒子における上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）は、任意に選択された５０個の基材粒子の上記圧縮弾性率（１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値）を算術平均することにより、算出することが好ましい。

　１０％Ｋ値及び３０％Ｋ値（Ｎ／ｍｍ^２）＝（３／２^１／２）・Ｆ・Ｓ^－３／２・Ｒ^－１／２
　Ｆ：基材粒子が１０％又は３０％圧縮変形したときの荷重値（Ｎ）
　Ｓ：基材粒子が１０％又は３０％圧縮変形したときの圧縮変位（ｍｍ）
　Ｒ：基材粒子の半径（ｍｍ）

　上記圧縮弾性率は、基材粒子の硬さを普遍的かつ定量的に表す。上記圧縮弾性率の使用により、基材粒子の硬さを定量的かつ一義的に表すことができる。

　上記接着性粒子１００重量％中、上記基材粒子の含有量は、好ましくは１３重量％以上、より好ましくは３７重量％以上、さらに好ましくは６３重量％以上であり、好ましくは９９重量％以下、より好ましくは９４重量％以下、さらに好ましくは８７重量％以下である。上記基材粒子の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、接着性をより一層高め、かつ、加熱時の液だれをより一層効果的に抑制することができる。

　光抜けの発生を抑制し、かつ、基材粒子の強度を高める観点からは、上記基材粒子１００重量％中、上記着色剤の含有量は、好ましくは１重量％以上、より好ましくは３重量％以上、さらに好ましくは５重量％以上であり、好ましくは２０重量％以下、より好ましくは１５重量％以下、さらに好ましくは１０重量％以下である。上記基材粒子が複数の着色剤を含む場合に、上記着色剤の含有量は、複数の着色剤の含有量の合計を意味する。

　（被覆部）
　本発明に係る接着性粒子では、上記被覆部は、上記基材粒子の表面上に配置されている。上記被覆部は、熱硬化性樹脂を含む。上記被覆部は、熱硬化性樹脂部である。上記熱硬化性樹脂部は、熱硬化性樹脂により形成されており、熱硬化性樹脂を含む。本発明に係る接着性粒子では、上記の構成が備えられているので、被覆部の厚みを十分に確保することができ、結果として接着性を十分に高めることができる。また、加熱時の液だれを抑制することができる。結果として、接着性をさらに一層高めることができ、かつ、光抜けの発生を抑制することができる。光抜けの発生を抑制することにより、液晶表示素子のコントラストの低下を防ぎ、かつ、表示品質の低下を防ぐことができる。

　上記被覆部は、１つの層により形成されていてもよい。上記被覆部は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、上記被覆部は、２層以上の積層構造を有していてもよい。上記被覆部が複数の層により形成されている場合には、最外層は熱硬化性樹脂を含むことが好ましい。

　上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　上記エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリシクロデカン骨格を有するエポキシ樹脂、及びトリアジン核を骨格に有するエポキシ樹脂等が挙げられる。

　上記ビニルエステル樹脂としては、ビス系ビニルエステル樹脂、及びノボラック系ビニルエステル樹脂等が挙げられる。

　上記不飽和ポリエステル樹脂としては、α，β－不飽和ジカルボン酸又はその酸無水物とグリコール類との重縮合によって得られる樹脂等が挙げられる。

　低温における接着性を高める観点からは、上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂であることが好ましい。低温における接着性を高める観点からは、上記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂を含むことが好ましい。

　上記接着性粒子の材料としてエポキシ樹脂を用いる場合には、上記エポキシ樹脂は多官能エポキシ樹脂であることが好ましい。上記多官能エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、及びビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等の２官能エポキシ樹脂、トリアジン型エポキシ樹脂、及びグリシジルアミン型エポキシ樹脂等の３官能エポキシ樹脂、並びに、テトラキスフェノールエタン型エポキシ樹脂、及びグリシジルアミン型エポキシ樹脂等の４官能エポキシ樹脂等が挙げられる。上記エポキシ樹脂は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　また、上記接着性粒子の材料としてエポキシ樹脂を用いる場合には、エポキシ樹脂とともに硬化剤を用いることが好ましい。上記硬化剤は、上記エポキシ樹脂を熱硬化させる。上記硬化剤は特に限定されない。上記硬化剤としては、イミダゾール硬化剤、アミン硬化剤、フェノール硬化剤、ポリチオール硬化剤等のチオール硬化剤、及び酸無水物硬化剤等が挙げられる。上記硬化剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。上記接着性粒子の圧縮特性を好適な範囲に容易に制御する観点からは、上記硬化剤は、アミン硬化剤であることが好ましい。

　上記イミダゾール硬化剤は特に限定されない。上記イミダゾール硬化剤としては、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾリウムトリメリテート、２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジン及び２，４－ジアミノ－６－［２’－メチルイミダゾリル－（１’）］－エチル－ｓ－トリアジンイソシアヌル酸付加物、２－フェニル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２－フェニル－４－ベンジル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２－パラトルイル－４－メチル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２－メタトルイル－４－メチル－５－ヒドロキシメチルイミダゾール、２－メタトルイル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール、２－パラトルイル－４，５－ジヒドロキシメチルイミダゾール等における１Ｈ－イミダゾールの５位の水素原子がヒドロキシメチル基で置換され、かつ、２位の水素原子がフェニル基又はトルイル基で置換されたイミダゾール化合物等が挙げられる。

　上記チオール硬化剤は特に限定されない。上記チオール硬化剤としては、トリメチロールプロパントリス－３－メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス－３－メルカプトプロピオネート及びジペンタエリスリトールヘキサ－３－メルカプトプロピオネート等が挙げられる。

　上記アミン硬化剤は特に限定されない。上記アミン硬化剤としては、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、２，５（２，６）－ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、３，９－ビス（３－アミノプロピル）－２，４，８，１０－テトラスピロ［５．５］ウンデカン、ビス（４－アミノシクロヘキシル）メタン、フェニレンジアミン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノフェニルエーテル、メタキシレンジアミン、ジアミノナフタレン、ビスアミノメチルシクロヘキサン、及びジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。上記アミン硬化剤は、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、２，５（２，６）－ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、メタフェニレンジアミン、ジアノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、フェニレンジアミン、又は２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパンであることが好ましい。これらの好ましいアミン硬化剤の使用により、低温における接着性を高めることができる。低温における接着性を高める観点からは、上記アミン硬化剤は、エチレンジアミン、２，５（２，６）－ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ジアミノジフェニルメタン、フェニレンジアミン、又は２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパンであることがより好ましい。

　上記酸無水物硬化剤は特に限定されず、エポキシ化合物等の熱硬化性化合物の硬化剤として用いられる酸無水物であれば広く用いることができる。上記酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、フタル酸誘導体の無水物、無水マレイン酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水グルタル酸、無水コハク酸、グリセリンビス無水トリメリット酸モノアセテート、及びエチレングリコールビス無水トリメリット酸等の２官能の酸無水物硬化剤、無水トリメリット酸等の３官能の酸無水物硬化剤、並びに、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、及びポリアゼライン酸無水物等の４官能以上の酸無水物硬化剤等が挙げられる。

　上記基材粒子の全表面積１００％中、上記被覆部により覆われている表面積（被覆率）は、好ましくは２０％以上、より好ましくは５０％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは８５％以上である。上記被覆率の上限は特に限定されない。上記被覆率は１００％以下であってもよく、９９％以下であってもよい。上記被覆率が、上記下限以上であると、接着性をより一層高めることができる。また、上記接着性粒子をギャップ材として用いる場合に、ギャップをより一層高精度に制御することができる。

　上記基材粒子の全表面積１００％中、上記被覆部により覆われている表面積（被覆率）は、接着性粒子を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、被覆部により覆われている表面積の基材粒子の投影面積に対する百分率を算出することにより求められる。

　接着性をより一層高める観点からは、上記被覆部の厚みは、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、さらに好ましくは１μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは７μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下である。なお、上記被覆部が複数の層により形成されている場合には、上記被覆部の厚みは、上記被覆部全体の厚みを意味する。

　上記被覆部の厚みは、上記基材粒子の粒子径と上記粒子の粒子径との差により算出することができる。

　上記被覆部の厚みの、上記接着性粒子の粒子径に対する比（被覆部の厚み／接着性粒子の粒子径）を比Ａとする。接着性をより一層高め、光抜けの発生を抑制する観点からは、上記比Ａは、好ましくは０．０１を超え、より好ましくは０．０２以上、さらに好ましくは０．０３以上、特に好ましくは０．０５以上であり、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下、さらに好ましくは０．２０以下、特に好ましくは０．１５以下である。

　上記基材粒子１００重量部に対して、上記熱硬化性樹脂の含有量は、好ましくは１重量部以上、より好ましくは６重量部以上、さらに好ましくは１３重量部以上であり、好ましくは８７重量部以下、より好ましくは６３重量部以下、さらに好ましくは５７重量部以下である。上記熱硬化性樹脂の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、接着性をより一層高め、かつ、加熱時の液だれをより一層効果的に抑制することができる。

　上記基材粒子１００重量部に対して、上記硬化剤の含有量は、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは１重量部以上、さらに好ましくは２重量部以上であり、好ましくは４０重量部以下、より好ましくは３５重量部以下、さらに好ましくは３０重量部以下である。上記硬化剤の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、低温における接着性を高め、かつ、凝集を抑制することができる。

　上記接着性粒子中の上記熱硬化性樹脂１００重量部に対して、上記接着性粒子中の上記硬化剤の含有量は、好ましくは５重量部以上、より好ましくは１０重量部以上、さらに好ましくは１５重量部以上であり、好ましくは４０重量部以下、より好ましくは３０重量部以下、さらに好ましくは２５重量部以下である。上記硬化剤の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、低温における接着性を高め、かつ、凝集を抑制することができる。

　＜接着剤＞
　本発明に係る接着剤は、上述した接着性粒子と、バインダーとを含む。上記接着性粒子は、バインダー中に分散され、接着剤として用いられることが好ましい。上記接着剤は、調光層及び調光積層体に好適に用いられる。上記バインダーは１種のみが用いられてもよく、２種以上が用いられてもよい。

　上記バインダーは特に限定されない。上記バインダーとしては、一般的には絶縁性の樹脂が用いられる。バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体及びエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体、スチレン－ブタジエン－スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン－ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル－スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。

　上記接着剤及び上記バインダーは、熱可塑性成分又は熱硬化性成分を含むことが好ましい。上記接着剤及び上記バインダーは、熱可塑性成分を含んでいてもよく、熱硬化性成分を含んでいてもよい。

　上記接着剤は、上記接着性粒子及び上記バインダーの他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。

　上記接着剤１００重量％中、上記バインダーの含有量は好ましくは１０重量％以上、より好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上であり、好ましくは９９．９９重量％以下、より好ましくは９９．９重量％以下である。上記バインダーの含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、接着性をより一層高めることができる。

　上記接着剤１００重量％中、上記接着性粒子の含有量は好ましくは０．０１重量％以上、より好ましくは０．１重量％以上であり、好ましくは８０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下、さらに好ましくは４０重量％以下、特に好ましくは２０重量％以下、最も好ましくは１０重量％以下である。上記接着性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、接着性を高め、かつ、ギャップを高精度に制御することができる。

　＜調光積層体＞
　本発明に係る調光積層体は、第１の基板と、第２の基板と、上記第１の基板と上記第２の基板との間に配置された調光層とを備える。本発明に係る調光積層体では、上記調光層の材料が、上述した接着性粒子を含む。

　図２は、本発明の第１の実施形態に係る接着性粒子を用いたＰＤＬＣ方式の調光積層体の一例を示す断面図である。

　ＰＤＬＣ方式の調光積層体５１は、第１の基板５２と、第２の基板５３と、調光層５４とを備える。調光層５４は、第１の基板５２と第２の基板５３との間に配置されている。第１の基板５２と、第２の基板５３との間において、調光層５４の周囲に、シール剤が配置されていてもよい。

　調光層５４は、液晶カプセル５４Ａと、バインダー５４Ｂと、複数の接着性粒子１とを含む。液晶カプセル５４Ａは、バインダー５４Ｂ中に分散している。液晶カプセル５４Ａは、バインダー５４Ｂ中に、カプセル状に保持されている。液晶材料は、カプセル状でバインダー中に分散していてもよく、液晶材料が連続相としてバインダー中に分散してもよい。

　接着性粒子１は、球状の接着性粒子である。ＰＤＬＣ方式の調光積層体５１では、接着性粒子１の熱硬化性樹脂部は、熱硬化している。

　図３は、本発明の第１の実施形態に係る接着性粒子を用いたＳＰＤ方式の調光積層体の一例を示す断面図である。

　ＳＰＤ方式の調光積層体６１は、第１の基板６２と、第２の基板６３と、調光層６４とを備える。調光層６４は、第１の基板６２と第２の基板６３との間に配置されている。第１の基板６２と、第２の基板６３との間において、調光層６４の周囲に、シール剤が配置されていてもよい。

　調光層６４の材料は、複数の接着性粒子１を含む。接着性粒子１は、球状の接着性粒子である。ＳＰＤ方式の調光積層体６１では、接着性粒子１の熱硬化性樹脂部は、熱硬化している。

　調光層６４は、光調整懸濁液の液滴６４Ａと、樹脂マトリックス６４Ｂを含む。光調整懸濁液の液滴６４Ａは、樹脂マトリックス６４Ｂ中に分散している。光調整懸濁液の液滴６４Ａは、樹脂マトリックス６４Ｂ中に液滴状態で保持されている。

　上記第１の基板の表面上及び上記第２の基板の表面上には、透明電極が形成されていてもよい。上記透明電極の材料としては、インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）等が挙げられる。

　上記調光層は、調光性を有する。上記調光性とは、電界の印加の有無により可視光透過率が変化し、入射光量を調整することができる性質である。可視光透過率を変化させる作用機構としては、例えば、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ）方式、ＳＰＤ（Ｓｕｓｐｅｎｄｅｄ　Ｐａｒｔｉｃｌｅ　Ｄｅｖｉｃｅ）方式、液晶を使用したゲストホスト型液晶方式、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）方式、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ－Ｐｌａｎｅ－Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等がある。上記調光層の材料は、特に限定されず、調光性を有していれば、どのような材料であってもよい。

　上記調光積層体は、ＰＤＬＣ方式の調光積層体又はＳＰＤ方式の調光積層体であることが好ましい。

　［ＰＤＬＣ方式］
　上記調光層は、バインダーと、上記バインダー中に分散している液晶材料とをさらに含むことが好ましい。

　上記液晶材料は、特に限定されない。上記液晶材料は、電界の印加によって配向が変化する性質を有することが好ましい。上記液晶材料は、上記バインダー中に連続相として分散していてもよく、上記バインダー中に液晶ドロップ状又は液晶カプセル状で分散してもよい。上記液晶材料としては、ネマチック液晶、及びコレステリック液晶等が挙げられる。

　上記ネマチック液晶の材料としては、シアノビフェニル系、フェニルエステル系、アゾキシベンゼン系、含フッ素ビフェニル系、炭酸エステル系及びシッフ塩基系等が挙げられる。上記ネマチック液晶の材料は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　上記コレステリック液晶の材料としては、ステロイド系コレステロール誘導体、シッフ塩基系、アゾ系、アゾキシ系、安息香酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、シクロヘキシルカルボン酸エステル系、フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシルシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシルエタン系、シクロヘキサン系、トラン系、アルケニル系、スチルベン系、縮合多環系等のネマチック液晶やスメクチック液晶、及びこれらの混合液晶に、シッフ塩基系、アゾ系、エステル系、ビフェニル系等の光学活性材料のカイラル成分を添加した材料等が挙げられる。上記コレステリック液晶の材料は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　上記バインダーは、上記液晶材料を保持し、上記液晶材料の流動を抑制する。上記バインダーは、特に限定されない。上記バインダーは、液晶材料に溶解せず、外力に耐え得る強度を持ち、さらに、反射光及び入射光に対して高い透過性を有することが好ましい。上記バインダーの材料としては、ゼラチン、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体、ポリアクリル酸系ポリマー、エチレンイミン、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリアミジン、イソプレン系スルホン酸ポリマー等の水溶性高分子材料、及びフッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の水性エマルジョン化できる材料等が挙げられる。上記バインダーの材料は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　上記バインダーは、架橋剤によって架橋されていることが好ましい。上記架橋剤は、特に限定されない。上記架橋剤は、上記バインダー間で架橋が形成され、上記バインダーを硬膜化、難溶化、又は不溶化することが可能であることが好ましい。上記架橋剤としては、アセトアルデヒド、グルタルアルデヒド、グリオキサール、多価金属塩化合物のカリミョウバン水和物、アジピン酸ジヒドラジド、メラミンホルマリンオリゴマー、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリアミドエピクロロヒドリン、及びポリカルボジイミド等が挙げられる。上記架橋剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　［ＳＰＤ方式］
　上記調光層は、樹脂マトリックスと、上記樹脂マトリックス中に分散している光調整懸濁液とをさらに含むことが好ましい。

　上記光調整懸濁液は、分散媒と、分散媒中に分散した光調整粒子を含む。

　上記光調整粒子としては、ポリヨウ化物、カーボンブラック等の炭素系材料、銅、ニッケル、鉄、コバルト、クロム、チタン、アルミニウム等の金属材料、及び窒化ケイ素、窒化チタン、酸化アルミニウム等の無機化合物材料等が挙げられる。また、これらの材料がポリマーで被覆された粒子であってもよい。上記光調整粒子は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。

　上記分散媒は、上記光調整粒子を流動可能な状態で分散させる。上記分散媒は、上記光調整粒子に選択的に付着し、上記光調整粒子を被覆し、樹脂マトリックスとの相分離の際に上記光調整粒子が相分離された液滴相に移動するように作用し、電気導電性がなく、樹脂マトリックスとは親和性がない材料であることが好ましい。さらに、上記分散媒は、調光積層体とした際に、樹脂マトリックスとの屈折率が近似した液状共重合体であることが好ましい。上記液状共重合体としては、フルオロ基又は水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルオリゴマーが好ましく、フルオロ基及び水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルオリゴマーがより好ましい。このような共重合体を使用すると、フルオロ基又は水酸基のモノマー単位が光調整粒子に向き、残りのモノマー単位が光調整懸濁液の液滴を樹脂マトリックス中で安定化させる。このため、光調整懸濁液内に光調整粒子が分散しやすく、樹脂マトリックスとの相分離の際に光調整粒子が相分離される液滴内に誘導されやすい。

　上記フルオロ基又は水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルオリゴマーとしては、メタクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸３，５，５－トリメチルヘキシル／アクリル酸２－ヒドロキシプロピル／フマール酸共重合体、アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸２，２，３，３－テトラフルオロプロピル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、アクリル酸１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ヘプタデカフルオロデシル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸２，２，２－トリフルオロエチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸２，２，３，３－テトラフルオロプロピル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、メタクリル酸１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体、及びメタクリル酸１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－ヘプタデカフルオロデシル／アクリル酸ブチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル共重合体等が挙げられる。また、これらの（メタ）アクリル酸エステルオリゴマーはフルオロ基及び水酸基の両方を有することがより好ましい。

　上記（メタ）アクリル酸エステルオリゴマーの重量平均分子量は、好ましくは１０００以上、より好ましくは２０００以上であり、好ましくは２００００以下、より好ましくは１００００以下である。

　上記調光層は、上記樹脂マトリックスを形成するための樹脂材料と、上記光調整懸濁液とを用いて、作製することができる。

　上記樹脂材料は、エネルギー線を照射することにより硬化する樹脂材料であることが好ましい。エネルギー線を照射することにより硬化する樹脂材料としては、光重合開始剤及び、紫外線、可視光線、電子線等のエネルギー線により硬化する高分子化合物を含む高分子組成物が挙げられる。上記高分子組成物としては、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体及び光重合開始剤を含む高分子組成物が挙げられる。上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。

　上記非架橋性の単量体としては、ビニル化合物として、スチレン、α－メチルスチレン、クロルスチレン等のスチレン単量体；メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル化合物；酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル化合物；塩化ビニル、フッ化ビニル等のハロゲン含有単量体；（メタ）アクリル化合物として、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート化合物；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の酸素原子含有（メタ）アクリレート化合物；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル含有単量体；トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロエチル（メタ）アクリレート等のハロゲン含有（メタ）アクリレート化合物；α－オレフィン化合物として、ジイソブチレン、イソブチレン、リニアレン、エチレン、プロピレン等のオレフィン化合物；共役ジエン化合物として、イソプレン、ブタジエン等が挙げられる。

　上記架橋性の単量体としては、ビニル化合物として、ジビニルベンゼン、１，４－ジビニロキシブタン、ジビニルスルホン等のビニル単量体；（メタ）アクリル化合物として、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート化合物；アリル化合物として、トリアリル（イソ）シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル；シラン化合物として、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ－オクチルトリエトキシシラン、ｎ－デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、γ－（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１，３－ジビニルテトラメチルジシロキサン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のシランアルコキシド化合物；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジメトキシメチルビニルシシラン、ジメトキシエチルビニルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジエトキシエチルビニルシラン、エチルメチルジビニルシラン、メチルビニルジメトキシシラン、エチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、エチルビニルジエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の重合性二重結合含有シランアルコキシド；デカメチルシクロペンタシロキサン等の環状シロキサン；片末端変性シリコーンオイル、両末端シリコーンオイル、側鎖型シリコーンオイル等の変性（反応性）シリコーンオイル；（メタ）アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体等が挙げられる。

　上記光重合開始剤としては、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－（４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキサイド、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、及び（１－ヒドロキシシクロヘキシル）フェニルケトン等が挙げられる。

　上記樹脂材料は、有機溶剤可溶型樹脂、熱可塑性樹脂、及びポリ（メタ）アクリル酸等を含んでいてもよい。また、上記樹脂材料は、着色防止剤、酸化防止剤、及び密着性付与剤等の各種添加剤を含んでいてもよく、溶剤を含んでいてもよい。

　（第１の基板及び第２の基板）
　上記第１の基板及び上記第２の基板は、光透過性を有する基材（光透過性基材）であることが好ましい。上記第１の基板及び上記第２の基板は、透明基材であることが好ましい。例えば、透明基材の一方側から、透明基材を介して他方側に光が透過する。例えば、透明基材の一方側から、透明基材を介して他方側にある物質を目視したときに、物質を視認可能である。透明には、半透明も含まれる。透明基材は、無色透明であってもよく、有色透明であってもよい。

　上記第１の基板及び上記第２の基板の材料は、特に限定されない。上記第１の基板の材料と上記第２の基板の材料とは同一であってもよく、異なっていてもよい。上記基板の材料としては、ガラス及び樹脂フィルム等が挙げられる。上記ガラスとしては、一般建築用のソーダ石灰ガラス、鉛ガラス、硼珪酸ガラス、及びその他用途における各種組成のガラス等、並びに熱反射ガラス、熱吸収ガラス、及び強化ガラス等の機能ガラスが挙げられる。上記樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルム、ポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、アクリル樹脂系フィルム等の樹脂フィルムが挙げられる。透明性、成形性、接着性、加工性等に優れていることから、上記透明基材は、樹脂基材であることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることがさらに好ましい。

　上記第１の基板及び上記第２の基板は、調光のための電界を印加可能であるように、基板本体と、基板本体の表面に形成された透明導電膜とを備えることが好ましい。上記透明導電膜としては、インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ_２、及びＩｎ_２Ｏ_３等が挙げられる。

　調光積層体の視認性を高める観点からは、上記第１の基板及び第２の基板の可視光透過率は、好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上である。

　上記基板の可視光透過率は、分光測定等を実施し、ＩＳＯ１３８３７：２００８に準拠して測定することができる。また、ＪＩＳ　Ｋ６７１４規格に準拠した方法等によって測定することもできる。

　以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。

　以下の材料を用意した。

　基材粒子：
　基材粒子Ａ（黒色粒子、積水化学工業社製「ミクロパールＫＢＮ－５１２」、平均粒子径１２．０μｍ、ＣＶ値４．０％）
　基材粒子Ｂ（黒色粒子、平均粒子径１３．１μｍ、ＣＶ値３．０％、下記の合成例１に従って作製）
　基材粒子Ｃ（黒色粒子、積水化学工業社製「ミクロパールＫＢＮ－５０７」、平均粒子径７．０μｍ、ＣＶ値４．０％）
　基材粒子Ｄ（エポキシ樹脂粒子、平均粒子径９．８μｍ、ＣＶ値７．３％、下記の合成例２に従って作製）
　基材粒子Ｅ（白色粒子、積水化学工業社製「ミクロパールＳＰ－２１０」、平均粒子径１０．０μｍ、ＣＶ値５．０％）

　（合成例１）
　メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ）１７０ｇと水３５ｇとを２５℃で１時間撹拌した後、水１２００ｇと１Ｎ－アンモニア水溶液１２ｇとの混合液を添加し、さらに１時間撹拌することにより、ＭＴＭＳシード粒子の分散液を得た。

　メチルトリメトキシシラン９６ｇと水４６７ｇとを２５℃で１時間撹拌した溶液に、１％ドデシル硫酸アンモニウム水溶液１３ｇを混合した。得られた混合液に上記分散液２２０ｇを添加し、２０分間撹拌してオルガノポリシロキサン分散液を調製した。

　次に、アクリロニトリル５０ｇに、アゾビスイソブチロニトリル（重合開始剤、ＡＩＢＮ）５ｇを溶解して混合液を調製した。この混合液と、硫酸エステル塩（乳化剤、日本乳化剤社製「ニューコール７０７ＳＦ」）３ｇをイオン交換水１００ｇに溶解させた溶液とを、ホモジナイザーにより２００００ｒｐｍで１分間撹拌して、単量体エマルションを調製した。単量体エマルションをオルガノポリシロキサン分散液に添加し、１時間撹拌した後、単量体のラジカル重合を行うため、７０℃で６時間保持することで複合粒子の分散液を調製した。得られた分散液を冷却した後、メタノールで洗浄し、上澄みのメタノールを除去した後、オーブンで８０℃にて１時間乾燥することで、複合粒子を得た。得られた複合粒子を窒素雰囲気下、５８０℃で１８０分間焼成を行うことで基材粒子Ｂを得た。

　（合成例２）
　温度計、撹拌機、冷却管を備えた反応容器に、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ社製「ＥＸＡ－８５０－ＣＲＰ」）１０重量部と、ポリビニルピロリドン（分散安定剤）７．５重量部と、エタノール２５０重量部とを入れ、６５℃で１時間撹拌することで均一に溶解させた。次に、４，４’－ジアミノジフェニルメタン（アミン硬化剤）２．１重量部と、エタノール３５重量部とを混合し、均一に溶解させた後、反応容器内に添加し、６５℃及び２０時間の条件で反応させ、反応生成物を得た。得られた反応生成物をメタノールで洗浄した後、分級操作を行って基材粒子Ｄを得た。

　熱硬化性樹脂：
　熱硬化性樹脂Ｆ（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＤＩＣ社製「ＥＸＡ－８５０－ＣＲＰ」）
　熱硬化性樹脂Ｇ（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ＤＩＣ社製「ＥＸＡ－４８５０－１５０」）

　硬化剤：
　２，５（２，６）－ビス（アミノメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン（アミン硬化剤、三井化学社製「ＮＢＤＡ」）

　熱可塑性樹脂原料：
　スチレンモノマー

　（実施例１）
　（１）接着性粒子の作製
　セパラブルフラスコに、基材粒子Ａ１０重量部と、熱硬化性樹脂Ｆ２重量部と、熱硬化性樹脂Ｇ２重量部と、ポリビニルピロリドン（富士フィルム和光純薬社製「Ｋ－３０」）２５重量部と、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド５重量部と、メタノール５００重量部と、エタノール５００重量部とを混合により溶解させた。次いで、アミン硬化剤２重量部を添加し、４５℃で２０時間反応させた。その後、母液分離を行い、メタノールで洗浄した後、２５℃真空下で２４時間乾燥を行い、接着性粒子を得た。

　（２）ＰＤＬＣ方式の調光積層体の作製
　第１の基板、第２の基板の材料として、厚み５０μｍのＰＥＴフィルムを用意した。ＰＥＴフィルムの一方の面に、ジルコニア粒子が分散されたアクリル系ハードコート樹脂（東洋インキ社製「リオデュラスＴＹＺ」）を塗布した後、ＵＶを照射することで硬化させ、厚み０．８μｍの第１のハードコート層を形成した。ＰＥＴフィルムの他方の面に、アクリル系ハードコート樹脂（東洋インキ社製「リオデュラスＴＹＡＢ」）を塗布した後、ＵＶを照射することで硬化させ、厚み２．０μｍの第２のハードコート層を形成した。このようにして、基材フィルムを得た。

　この基材フィルムを真空装置内に設置し、真空排気を実施した。真空度が９．０×１０^－４Ｐａまで到達した後、アルゴンガスを導入して、ＤＣマグネトロンスパッタリング法によりアルゴンガス雰囲気下で、第１のハードコート層の表面上にＳｉＯｘ層、ＳｉＯ_２層及びＳｉＯｘ層を第１のハードコート層側からこの順で成膜し、その上にインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層を積層した。具体的には、ＳｎＯ_２が７重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットを用いて、ターゲット表面の最大水平磁束密度が１０００ガウスとなるカソードを用いて、チャンバー圧力３．５×１０^－１Ｐａ、ＡｒガスとＯ_２ガスとの比を１００：１として真空装置に導入しながら、厚み１８ｎｍの導電層（インジウムスズ酸化物層）を形成した。その後、ＩＲ加熱式オーブン（ミノグループ社製）にて１６０℃で９分アニール処理を行うことで、第１の基板、及び第２の基板（透明導電フィルムの基板）を得た。第１の基板の表面上に、接着性粒子を１５個／ｃｍ^２となるように散布した。次いで、調光材料（「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ」、第２６巻第６１３２～６１３４頁（１９９３年）に記載の方法に準拠して作製）を積層し、第２の基板を積層した。このとき、５ｋｇｆ／ｃｍ^２の圧力で、１００℃で６０分間加熱して、接着性粒子を第１、第２の基板上に接着させ、調光積層体を作製した。

　（実施例２～５及び比較例２，３）
　接着性粒子の材料を表１，２のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして、接着性粒子及び調光積層体を作製した。なお、実施例２～５及び比較例３では、実施例１と同様に熱硬化性樹脂Ｆ，Ｇを用いた。

　（比較例１）
　セパラブルフラスコに、基材粒子Ａ１０重量部と、メタノール１００重量部と、ｐ－スチレンスルホン酸ナトリウム１．５重量％を溶解させたイオン交換水９００重量部とを添加してよく分散させた。その後、スチレンモノマー７重量部と、ペルオキソ二硫酸アンモニウム０．１重量部とをイオン交換水３０重量部に溶解させた溶液を添加して、７０℃で１０時間反応させた。その後、母液分離を行い、イオン交換水で洗浄した後、５５℃で２４時間減圧乾燥を行うことで、熱硬化性樹脂部を有さず、基材粒子の表面が熱可塑性樹脂により被覆されている粒子を作製した。得られた粒子を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、調光積層体を作製した。

　（比較例４）
　接着性粒子として、基材粒子Ａの表面を熱可塑性樹脂でグラフト化した粒子（積水化学工業社製「ミクロパールＫＢＳ－５０７－ＫＡ４」、平均粒子径７．１６μｍ、ＣＶ値５．０％）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、調光積層体を作製した。

　（評価）
　（１）基材粒子の粒子径、被覆部の厚み、及び接着性粒子の粒子径
　上述した方法により、基材粒子の粒子径、被覆部の厚み、及び接着性粒子の粒子径を求めた。また、上記被覆部の厚みの、上記接着性粒子の粒子径に対する比（被覆部の厚み／接着性粒子の粒子径）を、計算により求めた。

　（２）液だれ抑制性
　第１の基板、第２の基板として、上述した透明導電フィルムの基板を用意した。第１の基板の表面上に、得られた接着性粒子を１５個／ｃｍ^２となるように散布した。次いで、第２の基板を積層した。その後、２００℃で６０分間加熱して、デジタルマイクロスコープ（キーエンス社製「ＶＨＸ－２０００」）を用いて、粒子表面が液だれしているか否かを観察した。画像倍率は２００倍とし、任意の５０個の接着性粒子を観察した。液だれ抑制性を、以下の基準で判定した。

　［液だれ抑制性の判断基準］
　〇〇：液だれしている接着性粒子が３個未満
　○：液だれしている接着性粒子が３個以上１０個未満
　×：液だれしている接着性粒子が１０個以上

　（３）接着性（引張降伏応力）
　得られた接着性粒子を用いて、上述の接着性試験Ｂに従って試験体（試験サンプル）を作製した。テンシロン万能材料試験機（エー・アンド・デイ社製「ＲＴＩ－１３１０」）を用いて、上記試験体の２３℃での引張降伏応力を測定した（接着性試験Ｂ）。接着性を、以下の基準で判定した。

　［接着性の判断基準］
　〇〇：引張降伏応力が０．１２ＭＰａ以上
　○：引張降伏応力が０．０７ＭＰａ以上０．１２ＭＰａ未満
　×：引張降伏応力が０．０７ＭＰａ未満

　（４）光抜け抑制性
　得られた接着性粒子をＴＮ（ツイステッドネマチック）型液晶表示素子用スペーサとして用いて、以下の方法でＴＮ型液晶表示素子を作製した。

　第１、第２の基板（透明ガラス板、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ）の一面に、ＣＶＤ法によりＳｉＯ_２膜を蒸着した後、ＳｉＯ_２膜の表面全体にスパッタリングによりＩＴＯ膜を形成した。その後、スピンコート法によりポリイミド配向膜（日産化学社製「ＳＥ－７２１０」）を配置し、２８０℃で９０分間焼成することによりポリイミド配向膜を形成した。次いで、ラビング処理を行った後、第１の基板の配向膜側に、得られた接着性粒子を乾式散布機（日清エンジニアリング社製「ＤＩＳＰＡ－μＲ」）を用いて１ｍｍ^２当たり２０～１００個となるよう散布した。第２の基板の周辺に周辺シール剤（主剤：ＳＥ４５００、硬化剤：ＨＡＶＥＮ　ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）を形成した後、ラビング方向（ツイスト角）が９０°になるように対向配置させ、第１の基板及び第２の基板を張り合わせた後、１６０℃で９０分間処理してシール剤を硬化させて空セルを作製した。得られた空セルに、ＴＮ型液晶（メルク社製「ＭＬＣ－６２２２」）を注入した後、注入口を接着剤（積水化学工業社製「フォトレックＡ－７８０」）で塞いでＴＮ型液晶表示素子を作製し、１２０℃で３０分間熱処理した。

　得られたＴＮ型液晶表示素子を、ノーマリホワイト表示モードになるようにクロスニコルに配置した偏光フィルムで挟み込み、７Ｖの電圧を印加しながらデジタルマイクロスコープ（キーエンス社製「ＶＨＸ－２０００」）を用いて、接着性粒子の光抜けの状態を観察した。画像倍率は２００倍とし、任意の５視野において、光抜けしている接着性粒子の個数の割合を計算した。光抜け抑制性を、以下の基準で判定した。

　［光抜け抑制性］
　〇〇：光抜けしている接着性粒子が３％未満
　○：光抜けしている接着性粒子が３％以上７％未満
　×：光抜けしている接着性粒子が７％以上

　接着性粒子の構成及び結果を下記の表１及び表２に示す。

　１…接着性粒子
　２…基材粒子
　３…被覆部
　５１…ＰＤＬＣ方式の調光積層体
　５２…第１の基板
　５３…第２の基板
　５４…調光層
　５４Ａ…液晶カプセル
　５４Ｂ…バインダー
　６１…ＳＰＤ方式の調光積層体
　６２…第１の基板
　６３…第２の基板
　６４…調光層
　６４Ａ…光調整懸濁液の液滴
　６４Ａａ…分散媒
　６４Ａｂ…光調整粒子
　６４Ｂ…樹脂マトリックス

Claims (6)

1. 　基材粒子と、前記基材粒子の表面上に配置された被覆部とを備え、
   　前記基材粒子が、黒色粒子であり、
   　前記被覆部が、熱硬化性樹脂を含む、接着性粒子。
2. 　前記被覆部の厚みの、前記接着性粒子の粒子径に対する比が、０．０１を超える、請求項１に記載の接着性粒子。
3. 　前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂であり、
   　前記被覆部が、アミン硬化剤を含む、請求項１又は２に記載の接着性粒子。
4. 　前記基材粒子の１０％Ｋ値が、１０Ｎ／ｍｍ^２以上７０００Ｎ／ｍｍ^２以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載の接着性粒子。
5. 　請求項１～４のいずれか１項に記載の接着性粒子と、
   　バインダーとを含む、接着剤。
6. 　第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された調光層とを備え、
   　前記調光層の材料が、請求項１～４のいずれか１項に記載の接着性粒子を含む、調光積層体。

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