WO2022124401A1 - 表示装置および電子機器 - Google Patents

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WO2022124401A1
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layer
refractive index
sub
color
pixels
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昌也 小倉
朋芳 市川
卓 坂入
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ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社
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Definitions

  • This disclosure relates to a display device and an electronic device equipped with the display device.
  • An object of the present disclosure is to provide a display device capable of suppressing the occurrence of a step between sub-pixels and an electronic device including the display device.
  • the first disclosure is With the board Equipped with multi-color sub-pixels arranged two-dimensionally on the board,
  • Each subpixel comprises a light emitting element having a resonator structure, and the light emitting element includes a reflection layer, an optical path length adjusting layer, a first electrode, an electroluminescence layer, and a second electrode in this order.
  • the optical path length adjusting layer has an facing surface facing the electroluminescence layer, and the height of the facing surface is constant for subpixels of a plurality of colors.
  • the optical path length adjusting layer includes a plurality of refractive index layers having different refractive indexes.
  • the optical path length adjusting layer is a display device having a different layer structure for each sub-pixel of a plurality of colors.
  • the “layer structure” means, for example, the number of layers of a plurality of refractive index layers constituting the optical path length adjusting layer, the thickness of the plurality of refractive index layers constituting the optical path length adjusting layer, or the optical path length. It means both the number and thickness of a plurality of refractive index layers constituting the adjusting layer.
  • the plurality of color sub-pixels may include a first color sub-pixel, a second color sub-pixel, and a third color sub-pixel.
  • the plurality of colors may include a first color, a second color, and a third color.
  • the first color, the second color, and the third color may be red, green, and blue, respectively.
  • the plurality of refractive index layers may include a first refractive index layer and a second refractive index layer.
  • the second disclosure is an electronic device provided with the display device of the first disclosure.
  • FIG. 1 is a schematic view showing an example of the overall configuration of the display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 3 is a plan view showing an example of the configuration of the reflection layer, the optical path length adjusting layer, and the first electrode.
  • 4A, 4B, 4C, 4D, and 4E are cross-sectional views for explaining an example of a method for manufacturing a display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • 5A, 5B, 5C, 5D, and 5E are cross-sectional views for explaining an example of a method for manufacturing a display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 1 is a schematic view showing an example of the overall configuration of the display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the display device according to the second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a plan view showing an example of the configuration of the reflection layer, the optical path length adjusting layer, and the first electrode.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the display device according to the modified example of the second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 9 is a plan view showing an example of the configuration of the reflection layer, the optical path length adjusting layer, and the first electrode.
  • FIG. 10 is a plan view showing an example of a schematic configuration of a module.
  • FIG. 11A is a front view showing an example of the appearance of the digital still camera.
  • FIG. 11B is a rear view showing an example of the appearance of the digital still camera.
  • FIG. 12 is a perspective view showing an example of the appearance of the head-mounted display.
  • FIG. 13 is a perspective view showing an example of the appearance of the television device.
  • FIG. 1 is a schematic view showing an example of the overall configuration of the display device 10 according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the display device 10 has a display area 110A and a peripheral area 110B provided on the peripheral edge of the display area 110A.
  • three-color sub-pixels 100R, 100G, and 100B are two-dimensionally arranged in a predetermined arrangement pattern such as a matrix.
  • the sub-pixel 100R is a red sub-pixel (first color sub-pixel).
  • the sub-pixel 100G is a green sub-pixel (second-color sub-pixel).
  • the sub-pixel 100B is a blue sub-pixel (third-color sub-pixel).
  • a combination of adjacent sub-pixels 100R, 100G, and 100B constitutes one pixel.
  • FIG. 1 shows an example in which a combination of three sub-pixels 100R, 100G, and 100B arranged in the row direction (horizontal direction) constitutes one pixel.
  • the peripheral region 110B is provided with a signal line drive circuit 111 and a scanning line drive circuit 112, which are drivers for displaying images.
  • the signal line drive circuit 111 supplies the signal voltage of the video signal corresponding to the luminance information supplied from the signal supply source (not shown) to the sub-pixel 100 selected via the signal line 111A.
  • the scanning line drive circuit 112 is configured by a shift register or the like that sequentially shifts (transfers) the start pulse in synchronization with the input clock pulse.
  • the scanning line drive circuit 112 scans the video signals in line units when writing the video signals to the sub-pixels 100, and sequentially supplies the scanning signals to the scanning lines 112A.
  • the display device 10 may be a micro display.
  • the display device 10 may be provided in a VR (Virtual Reality) device, an MR (Mixed Reality) device, an AR (Augmented Reality) device, an electronic viewfinder (EVF), a small projector, or the like.
  • VR Virtual Reality
  • MR Magnetic Reality
  • AR Augmented Reality
  • EVF electronic viewfinder
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the display device 10 according to the first embodiment of the present disclosure.
  • the display device 10 includes a drive substrate 11, an interlayer insulating layer 12, a reflective layer 13, an optical path length adjusting layer 14, a first electrode 15, an inter-element insulating layer 16, and an organic electroluminescence layer 17 (hereinafter, “” It is provided with an EL layer 17 ”), a second electrode 18, a protective layer 19, a color filter 20, a filled resin layer 21, and a facing substrate 22.
  • Drive substrate 11, interlayer insulation layer 12, reflection layer 13, optical path length adjustment layer 14, first electrode 15, EL layer 17, second electrode 18, protective layer 19, color filter 20, filled resin layer 21, facing substrate. 22 are laminated in this order.
  • the protective layer 19, the color filter 20, the filling resin layer 21, and the facing substrate 22 are provided as needed, and at least one of these layers may not be provided.
  • the display device 10 is an example of a light emitting device.
  • the display device 10 is a top emission type display device.
  • the opposite board 22 side of the display device 10 is the top side, and the drive board 11 side of the display device 10 is the bottom side.
  • the surface on the top side of the display device 10 is referred to as a first surface, and the surface on the bottom side of the display device 10 is referred to as a second surface.
  • the sub-pixels 100R, 100G, and 100B include light emitting elements 101R, 101G, and 101B, respectively.
  • the light emitting elements 101R, 101G, and 101B are composed of a reflection layer 13, an optical path length adjusting layer 14, a first electrode 15, an EL layer 17, and a second electrode 18.
  • the light emitting elements 101R, 101G, and 101B are so-called organic EL elements.
  • the light emitting elements 101R, 101G, and 101B emit red light, green light, and blue light, respectively.
  • a light emitting element 101 when the light emitting elements 101R, 101G, and 101B are generically referred to without particular distinction, they are referred to as a light emitting element 101.
  • the light emitting elements 101R, 101G, and 101B have resonator structures 102R, 102G, and 102B, respectively.
  • the resonator structures 102R, 102G, and 102B are composed of a reflective layer 13 and a second electrode 18.
  • the resonator structures 102R, 102G, and 102B resonate, emphasize, and emit light having a predetermined wavelength.
  • the resonator structure 102R resonates and emphasizes the red light contained in the white light generated in the EL layer 17, and emits it to the outside.
  • the resonator structure 102G resonates and emphasizes the green light contained in the white light generated in the EL layer 17, and emits it to the outside.
  • the resonator structure 102B resonates and emphasizes the blue light contained in the white light generated in the EL layer 17, and emits it to the outside.
  • the distance between the reflective layer 13 and the second electrode 18 is set to be constant for the three color sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the optical distance (optical path length) between the reflective layer 13 and the second electrode 18 is set according to the light having a predetermined wavelength to be resonated. More specifically, in the resonator structure 102R, the optical path length between the reflection layer 13 and the second electrode 18 is set so that red light resonates. In the resonator structure 102G, the optical path length between the reflection layer 13 and the second electrode 18 is set so that green light resonates. In the resonator structure 102B, the optical path length between the reflection layer 13 and the second electrode 18 is set so that blue light resonates.
  • Sub-pixels 100R, 100G, and 100B of three colors are two-dimensionally arranged on the first surface of the drive board 11 in a predetermined arrangement pattern such as a matrix.
  • the drive board 11 is a so-called backplane and drives a plurality of light emitting elements 101.
  • the substrate body of the drive substrate 11 may be made of, for example, glass or resin having low permeability of water and oxygen, or may be made of a semiconductor such as a transistor which can be easily formed.
  • the substrate body may be a glass substrate, a semiconductor substrate, a resin substrate, or the like.
  • the glass substrate includes, for example, high strain point glass, soda glass, borosilicate glass, forsterite, lead glass, quartz glass and the like.
  • the semiconductor substrate includes, for example, amorphous silicon, polycrystalline silicon, single crystal silicon, and the like.
  • the resin substrate contains, for example, at least one selected from the group consisting of polymethylmethacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinylphenol, polyethersulfone, polyimide, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like.
  • the interlayer insulating layer 12 (hereinafter, simply referred to as “insulating layer 12”) is provided on the first surface of the drive substrate 11 and covers the drive circuit, the power supply circuit, and the like.
  • the insulating layer 12 includes a plurality of contact plugs and a plurality of wirings (none of which are shown). Each contact plug connects the reflective layer 13 and the drive circuit.
  • the insulating layer 12 may have a single-layer structure or a laminated structure.
  • the insulating layer 12 may be an organic insulating layer, an inorganic insulating layer, or a laminate thereof.
  • the organic insulating layer contains, for example, at least one selected from the group consisting of polyimide-based resin, acrylic-based resin, novolak-based resin and the like.
  • the inorganic insulating layer contains, for example, at least one selected from the group consisting of silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (SiN), silicon oxynitride (SiON) and the like.
  • the reflective layer 13 is provided on the first surface of the insulating layer 12. The reflective layer 13 is separated for each sub-pixel 100. The reflective layer 13 reflects light incident from the EL layer 17 via the first electrode 15 and the optical path length adjusting layer 14. The thickness of the reflective layer 13 is constant for the sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the reflective layer 13 is made of a material having light reflectivity. Specifically, the reflective layer 13 is at least one selected from the group consisting of, for example, silver (Ag), aluminum (Al), platinum (Pt), gold (Au), chromium (Cr), tungsten (W) and the like. Includes species of metal elements.
  • the reflective layer 13 may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy. Specific examples of the alloy include silver alloys and aluminum alloys.
  • An underlayer may be provided adjacent to the second surface side of the reflective layer 13.
  • the underlayer improves the crystal orientation of the reflective layer 13 when the reflective layer 13 is formed.
  • the underlayer contains, for example, at least one selected from the group consisting of titanium (Ti), titanium nitride (TiN), titanium oxide (TiO 2 ) and the like.
  • the optical path length adjusting layer 14 is provided on the first surface of the insulating layer 12 and covers the reflective layer 13.
  • the optical path length adjusting layer 14 is a layer for adjusting the optical path length between the reflective layer 13 and the second electrode 18 for each of the three color sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the optical path length adjusting layer 14 has transparency.
  • the optical path length adjusting layer 14 includes a plurality of contact plugs 14C (see FIG. 3). Each contact plug 14C connects the first electrode 15 and the reflective layer 13.
  • the optical path length adjusting layer 14 has an facing surface (first surface) 14S facing the EL layer 17, and the height of the facing surface 14S is constant for the three color sub-pixels 100R, 100G, and 100B. That is, the facing surface 14S of the optical path length adjusting layer 14 is flat in the display area 110A.
  • the thickness D of the optical path length adjusting layer 14 between the reflective layer 13 and the first electrode 15 is constant for the three color sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the optical path length adjusting layer 14 has a different layer structure for each of the three color sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the layer configuration for each of the three sub-pixels 100R, 100G, and 100B is set so that the light corresponding to each of the colors of the sub-pixels 100R, 100G, and 100B is resonated by the resonator structures 102R, 102G, and 102B. That is, the layer structure of the sub-pixel 100R is set so that the red light corresponding to the color of the sub-pixel 100R is resonated by the resonator structure 102R.
  • the layer structure of the sub-pixel 100G is set so that the green light corresponding to the color of the sub-pixel 100G is resonated by the resonator structure 102G.
  • the layer structure of the sub-pixel 100B is set so that the blue light corresponding to the color of the sub-pixel 100B is resonated by the resonator structure 102B.
  • the optical path length adjusting layer 14 includes a first refractive index layer 14A and a second refractive index layer 14B.
  • the first refractive index layer 14A and the second refractive index layer 14B have different refractive indexes. Specifically, the refractive index of the second refractive index layer 14B is higher than that of the first refractive index layer 14A.
  • the layer configuration of the optical path length adjusting layer 14 in the sub-pixels of at least one color (specifically, the sub-pixels 100G and 100B) of the three-color sub-pixels 100R, 100G and 100B is the first refractive index layer 14A and the second. It is a laminated structure with the refractive index layer 14B of.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer 14 in the sub-pixel 100R is a single layer structure of the first refractive index layer 14A.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer 14 in the sub-pixel 100G and the sub-pixel 100B is a laminated structure of the first refractive index layer 14A and the second refractive index layer 14B.
  • the second refractive index layer 14B and the first refractive index layer 14A are laminated on the reflective layer 13 in this order.
  • the thicknesses of the first refractive index layer 14A and the second refractive index layer 14B are different between the sub-pixel 100G and the sub-pixel 100B.
  • the thickness of the first refractive index layer 14A in the sub-pixel 100G is thicker than the thickness of the first refractive index layer 14A in the sub-pixel 100B.
  • the thickness of the second refractive index layer 14B in the sub-pixel 100G is thinner than the thickness of the second refractive index layer 14B in the sub-pixel 100B.
  • the first refractive index layer 14A is continuously provided over the sub-pixels 100R, 100G, and 100B of three colors.
  • the second refractive index layer 14B is separated in an island shape, and each of the separated second refractive index layers 14B is provided in the sub-pixels 100G and 100B of the three color sub-pixels 100R, 100G and 100B, respectively. ing.
  • the first refractive index layer 14A is provided on the first surface of the insulating layer 12 so as to cover each of the separated second refractive index layers 14B.
  • the side surface of each separated second electrode is covered with the first refractive index layer 14A.
  • the front luminance of the display device 10 can be improved.
  • the first refractive index layer 14A contains, for example, a metal oxide.
  • the metal oxide contained in the first refractive index layer 14A includes, for example, at least one selected from the group consisting of silicon oxide (SiO 2 ), silicon oxide nitride (SiON) and aluminum oxide (AlO).
  • the second refractive index layer 14B contains, for example, a metal oxide.
  • the metal oxide contained in the second refractive index layer 14B is at least one selected from the group consisting of silicon oxide (SiON), silicon nitride (SiN), niobium oxide (NbO) and titanium oxide (TIO 2 ). including.
  • the first electrode 15 is provided on the first surface of the optical path length adjusting layer 14. The first electrode 15 is separated for each sub-pixel 100.
  • the first electrode 15 is an anode. When a voltage is applied between the first electrode 15 and the second electrode 18, holes are injected from the first electrode 15 into the EL layer 17.
  • the first electrode 15 is connected to the contact plug 14C as shown in FIG.
  • the first electrode 15 is preferably made of a material having a high work function and a high transmittance from the viewpoint of increasing the luminous efficiency.
  • the first electrode 15 is preferably a transparent electrode.
  • the transparent electrode contains, for example, a transparent conductive oxide (TCO).
  • TCO transparent conductive oxide
  • the transparent conductive oxide is, for example, a transparent conductive oxide containing indium (hereinafter referred to as "indium-based transparent conductive oxide”) and a transparent conductive oxide containing tin (hereinafter referred to as “tin-based transparent conductive oxide”). ”) And a transparent conductive oxide containing zinc (hereinafter referred to as“ zinc-based transparent conductive oxide ”).
  • the indium-based transparent conductive oxide includes, for example, indium tin oxide (ITO), indium tin oxide (IZO), indium gallium oxide (IGO), indium gallium oxide zinc (IGZO), or fluorine-doped indium oxide (IFO).
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • Tin-based transparent conductive oxides include, for example, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO) or fluorine-doped tin oxide (FTO).
  • Zinc-based transparent conductive oxides include, for example, zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide (AZO), boron-doped zinc oxide or gallium-doped zinc oxide (GZO).
  • the second electrode 18 is provided on the first surface of the EL layer 17.
  • the second electrode 18 faces the first electrode 15.
  • the second electrode 18 is continuously provided over all the sub-pixels 100 in the display area 110A, and is provided as an electrode common to all the sub-pixels 100 in the display area 110A.
  • the second electrode 18 is a cathode.
  • the second electrode 18 is a transparent electrode having transparency to the light generated in the EL layer 17.
  • the transparent electrode also includes a translucent reflective layer.
  • the second electrode 18 is preferably made of a material having a low work function from the viewpoint of increasing the luminous efficiency.
  • the second electrode 18 is composed of, for example, at least one of a metal layer and a metal oxide layer. More specifically, the second electrode 18 is composed of a single-layer film of a metal layer or a metal oxide layer, or a laminated film of a metal layer and a metal oxide layer.
  • the metal layer may be provided on the EL layer 17 side or the metal oxide layer may be provided on the EL layer 17 side, but the work function is low. From the viewpoint of adjoining the layer having the above to the EL layer 17, it is preferable that the metal layer is provided on the EL layer 17 side.
  • the metal layer contains at least one metal element selected from the group consisting of, for example, magnesium (Mg), aluminum (Al), silver (Ag), calcium (Ca), sodium (Na) and the like.
  • the metal layer may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy. Specific examples of the alloy include MgAg alloy, MgAl alloy, AlLi alloy and the like.
  • the metal oxide contains, for example, at least one of a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO), a mixture of indium oxide and zinc oxide (IZO) and zinc oxide (ZnO).
  • the second electrode 18 may be a multilayer film in which a first metal layer and a second metal layer are laminated.
  • the first metal layer may be provided on the EL layer 17 side.
  • the first metal layer was selected from the group consisting of, for example, calcium (Ca), barium (Ba), lithium (Li), cesium (Cs), indium (In), magnesium (Mg) and silver (Ag). Includes at least one species.
  • the first metal layer may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy.
  • the second metal layer contains, for example, at least one selected from the group consisting of magnesium (Mg) and silver (Ag).
  • the second metal layer may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy.
  • the EL layer 17 is provided between the first electrode 15 and the second electrode 18.
  • the EL layer 17 is continuously provided in the display area 110A over all the sub-pixels 100, and is provided as an organic layer common to all the sub-pixels 100 in the display area 110A.
  • the EL layer 17 is configured to be capable of emitting white light.
  • the EL layer 17 may be an organic EL layer having a 1-stack structure, an organic EL layer having a 2-stack structure, or an organic EL layer other than these.
  • the organic EL layer having a 1-stack structure is, for example, from the first electrode 15 to the second electrode 18, a hole injection layer, a hole transport layer, a red light emitting layer, a light emitting separation layer, a blue light emitting layer, and a green light emitting layer.
  • the electron transport layer, and the electron injection layer are laminated in this order.
  • the organic EL layer having a 2-stack structure has, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a blue light emitting layer, an electron transport layer, a charge generation layer, and a hole transport from the first electrode 15 to the second electrode 18. It has a structure in which a layer, a yellow light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are laminated in this order.
  • the hole injection layer is for increasing the hole injection efficiency into each light emitting layer and suppressing leakage.
  • the hole transport layer is for increasing the hole transport efficiency to each light emitting layer.
  • the electron injection layer is for increasing the electron injection efficiency into each light emitting layer.
  • the electron transport layer is for increasing the electron transport efficiency to each light emitting layer.
  • the light emitting separation layer is a layer for adjusting the injection of carriers into each light emitting layer, and the light emitting balance of each color is adjusted by injecting electrons or holes into each light emitting layer through the light emitting separating layer.
  • the charge generation layer supplies electrons and holes to the two light emitting layers sandwiching the charge generation layer, respectively.
  • the red light emitting layer, the green light emitting layer, the blue light emitting layer, and the yellow light emitting layer are each recombined with the holes injected from the first electrode 15 and the electrons injected from the second electrode 18 by applying an electric field. Occurs and produces red light, green light, blue light, and yellow light.
  • the inter-element insulating layer 16 (hereinafter referred to as “insulating layer 16”) is provided on the first surface of the optical path length adjusting layer 14 and between the adjacent first electrodes 15.
  • the insulating layer 16 insulates between each of the separated first electrodes 15.
  • the insulating layer 16 has a plurality of openings 16A. Each of the plurality of openings 16A is provided corresponding to each sub-pixel 100. More specifically, the plurality of openings 16A are each provided on the first surface (the surface facing the second electrode 18) of each of the separated first electrodes 15. The first electrode 15 and the EL layer 17 come into contact with each other through the opening 16A.
  • the same material as the above-mentioned insulating layer 12 can be exemplified.
  • the protective layer 19 is provided on the first surface of the second electrode 18 and covers a plurality of light emitting elements 101.
  • the protective layer 19 blocks the light emitting element 101 from the outside air and suppresses the infiltration of moisture from the external environment into the inside of the light emitting element 101.
  • the protective layer 19 may have a function of suppressing oxidation of the metal layer.
  • the protective layer 19 is made of, for example, an inorganic material having low hygroscopicity.
  • the inorganic material contains, for example, at least one of silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (SiN), silicon oxide nitride (SiNO), titanium oxide (TIO) and aluminum oxide (AlO).
  • the protective layer 19 may have a single-layer structure, but may have a multi-layer structure when the thickness of the protective layer 19 is increased. This is to relieve the internal stress in the protective layer 19.
  • the protective layer 19 may be made of a polymer resin.
  • the polymer resin contains at least one selected from the group consisting of thermosetting resins, ultraviolet curable resins and the like.
  • the color filter 20 is provided on the first surface of the protective layer 19.
  • the color filter 20 is, for example, an on-chip color filter (OCCF).
  • the color filter 20 includes, for example, a red filter 20R, a green filter 20G, and a blue filter 20B.
  • the red filter 20R, the green filter 20G, and the blue filter 20B are provided facing the light emitting elements 101R, 101G, and 101B, respectively.
  • the red filter 20R and the light emitting element 101R form a sub pixel 100R
  • the green filter 20G and the light emitting element 101G form a sub pixel 100G
  • the blue filter 20B and the light emitting element 101B form a sub pixel 100B.
  • the red light, green light, and blue light emitted from the light emitting element 101R, the light emitting element 101G, and the light emitting element 101B pass through the red filter 20R, the green filter 20G, and the blue filter 20B, respectively.
  • red light, green light, and blue light having high color purity are emitted from the display surface.
  • a light-shielding layer (not shown) may be provided in the region between the filters 20R, 20G, and 20B of each color, that is, between the sub-pixels 100 of the color filter 20.
  • the color filter 20 is not limited to the on-chip color filter, and may be provided on the second surface of the facing substrate 22.
  • the filling resin layer 21 is provided between the color filter 20 and the facing substrate 22.
  • the filled resin layer 21 has a function as an adhesive layer for adhering the color filter 20 and the facing substrate 22.
  • the packed resin layer 21 contains at least one selected from the group consisting of, for example, a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin.
  • the facing board 22 is provided so as to face the drive board 11. More specifically, the opposed substrate 22 is provided so that the second surface of the opposed substrate 22 and the first surface of the drive substrate 11 face each other.
  • the facing substrate 22 seals the light emitting element 101, the color filter 20, and the like.
  • the facing substrate 22 is made of a material such as glass that is transparent to each color light emitted from the color filter 20.
  • a drive circuit, a power supply circuit, and the like are formed on the first surface of the substrate body by using, for example, a thin film forming technique, a photolithography technique, and an etching technique.
  • the drive board 11 is obtained.
  • the insulating layer 12 is formed on the first surface of the drive substrate 11 so as to cover the drive circuit, the power supply circuit, and the like.
  • the reflective layer 13 is formed on the first surface of the insulating layer 12, as shown in FIG. 4A.
  • the reflective layer 13 is patterned using, for example, a photolithography technique and an etching technique, and separated at a portion corresponding to the sub-pixels 100.
  • the illustration of the separated portion of the reflective layer 13 is omitted.
  • the metal oxide layer 14D is formed on the first surface of the reflective layer 13 as shown in FIG. 4B.
  • a resist mask having a predetermined pattern is formed on the first surface of the metal oxide layer 14D, and then the metal oxide layer 14D is dry-etched via the resist mask.
  • the metal oxide layer 14D remains in the region corresponding to each sub-pixel 100B.
  • the metal oxide layer 14E is formed on the first surface of the reflective layer 13 to cover the metal oxide layer 14D.
  • a resist mask having a predetermined pattern is formed on the first surface of the metal oxide layer 14E, and then the metal oxide layer 14D is dry-etched via the resist mask.
  • the metal oxide layer 14E remains in an island shape in the region corresponding to each sub-pixel 100G and the region corresponding to each sub-pixel 100B, and the second refraction having two kinds of heights remains.
  • the rate layer 14B is formed.
  • the metal oxide layer 14F is formed on the first surface of the reflective layer 13 to cover the island-shaped second refractive index layer 14B.
  • the second refractive index layer 14B having two different heights. Of these, the first surface of the higher second refractive index layer 14B is exposed.
  • the state of the first surface of the second refractive index layer 14B is changed by plasma-treating the first surface of the metal oxide layer 14F exposed to the second refractive index layer 14B.
  • the first refractive index layer 14A is formed so as to cover the second refractive index layer 14B having two different heights. That is, the optical path length adjusting layer 14 is formed on the first surface of the reflective layer 13.
  • the metal oxide layer is sequentially formed on the first surface of the insulating layer 12 by, for example, a sputtering method, and then the metal oxide layer is patterned by using, for example, a photolithography technique and an etching technique. As a result, the first electrode 15 separated for each sub-pixel 100 is formed.
  • an insulating layer 16 is formed on the first surface of the optical path length adjusting layer 14 so as to cover the first electrode 15.
  • an opening 16A is formed at a position corresponding to each sub-pixel 100 by a photolithography technique and a dry etching technique. This exposes the first surface of each separated first electrode 15.
  • the hole injection layer, the hole transport layer, the red light emitting layer, the light emission separation layer, the blue light emitting layer, the green light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer are formed into the first electrode 15.
  • the EL layer 17 is formed by laminating in this order on the surface of the surface and the first surface of the optical path length adjusting layer 14.
  • the second electrode 18 is formed on the first surface of the EL layer 17 by, for example, a thin film deposition method or a sputtering method. As a result, a plurality of light emitting elements 101 are formed on the first surface of the insulating layer 12.
  • the color filter 20 is placed on the first surface of the protective layer 19 by, for example, photolithography. Form.
  • the flattening layer may be formed on both the upper, lower or upper and lower sides of the color filter 20.
  • ODF One Drop Fill
  • the drive substrate 11 and the facing substrate 22 are formed via the filled resin layer 21. Are pasted together. As a result, the display device 10 is sealed. As a result, the display device 10 shown in FIG. 2 is obtained.
  • the optical path length adjusting layer 14 has a facing surface 14S facing the EL layer 17, and the height of the facing surface 14S is a sub-pixel of three colors. Since it is constant at 100R, 100G, and 100B, it is possible to suppress the occurrence of a step in the insulating layer 16, the EL layer 17, the second electrode 18, and the like between the sub-pixels 100R, 100G, and 100B. Therefore, it is possible to suppress deterioration of optical characteristics and poor reliability due to the above-mentioned step.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of the display device 30 according to the second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a plan view showing an example of the configuration of the reflection layer 13, the optical path length adjusting layer 14, and the first electrode 31.
  • the display device 30 includes a first electrode 31 in place of the first electrode 15, and the layer structure of the optical path length adjusting layer 14 in the sub-pixel 100B is a single layer structure of the second refractive index layer 14B. In that respect, it is different from the display device 10 according to the first embodiment.
  • the same reference numerals are given to the same parts as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the first electrode 31 has an electrode body 31A and an extension portion 31B.
  • the electrode body 31A has the same configuration as the first electrode 15 in the first embodiment.
  • the extending portion 31B extends from the entire peripheral edge portion of the second surface of the electrode body 31A toward the peripheral edge portion of the first surface of the reflective layer 13, and the tip of the extending portion 31B is the first of the reflective layer 13. It is connected to the peripheral edge of the surface of 1.
  • the extending portion 31B forms a peripheral wall portion surrounding the first surface of the reflective layer 13.
  • the second surface of the electrode body 31A is a facing surface facing the first surface of the reflective layer 13, and the first surface of the reflective layer 13 faces the second surface of the electrode body 31A. It is a facing surface.
  • a first refractive index layer 14A is provided between the electrode main body 31A and the reflective layer 13.
  • a first refractive index layer 14A and a second refractive index layer 14B are provided between the electrode main body 31A and the reflective layer 13.
  • FIG. 6 shows an example in which the reflective layer 13, the second refractive index layer 14B, the first refractive index layer 14A, and the electrode body 31A are laminated in this order in the sub pixel 100R.
  • the reflective layer 13, the first refractive index layer 14A, the second refractive index layer 14B, and the electrode body 31A may be laminated in this order.
  • a second refractive index layer 14B is provided between the electrode main body 31A and the reflective layer 13.
  • the thickness D of the optical path length adjusting layer 14 between the reflective layer 13 and the electrode main body 31A is set to be constant for the three color sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the first electrode 31 includes an electrode main body 31A and an extension portion 31B, and the extension portion 31B is a second electrode main body 31A. It extends from the peripheral edge of the surface toward the peripheral edge of the first surface of the reflective layer 13 and is connected to the peripheral edge of the first surface of the reflective layer 13.
  • the aperture ratio can be improved as compared with the configuration in which the first electrode 15 and the reflective layer 13 are connected by the contact plug 14C (see FIG. 3).
  • one end of the first electrode 15 connected to the contact plug 14C is covered with the insulating layer 16, so that it is a region that does not contribute to light emission.
  • the extending portion 31B is provided in an upright state on the peripheral edge of the first surface of the reflecting layer 13, the light directed to the adjacent sub-pixel 100 can be reflected by the extending portion 31B. Therefore, the front luminance of the display device 10 can be improved.
  • Modification 1 In the second embodiment, an example has been described in which the extension portion 31B is extended from the entire peripheral edge portion of the second surface of the electrode body 31A toward the entire peripheral edge portion of the first surface of the reflective layer 13. However, as shown in FIGS. 8 and 9, even if the electrode body 31A extends from a part of the peripheral portion of the second surface to a part of the peripheral portion of the first surface of the reflective layer 13. good. That is, the extending portion 31B may form a wall portion on a part of the peripheral portion of the first surface of the reflective layer 13.
  • Modification 2 In the first and second embodiments, an example in which the display devices 10 and 30 include sub-pixels 100 of three colors has been described, but the display devices 10 and 30 are provided with sub-pixels 100 of a plurality of colors other than the three colors. You may.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer 14 is not limited to the examples described in the first and second embodiments, and has a layer structure other than those described in the first and second embodiments. You may.
  • the optical path length adjusting layer 14 includes two refractive index layers having different refractive indexes (that is, the first refractive index layer 14A and the second refractive index layer 14B).
  • the optical path length adjusting layer 14 may include three or more refractive index layers having different refractive indexes.
  • the first refractive index layer 14A may contain a polymer resin.
  • This polymer resin contains, for example, at least one selected from the group consisting of thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and the like.
  • the first refractive index layer 14A covers each of the separated second refractive index layers 14B as in the first embodiment (see FIG. 2), the first refractive index layer 14A is a polymer. It is particularly preferable to include a resin.
  • the first refractive index layer 14A contains a polymer resin, in the manufacturing process of the display device 10, the second refractive index layer 14B is formed on the reflective layer 13, and then the resin is formed on the first surface of the insulating layer 12.
  • the first refractive index layer 14A can be formed by applying and curing the first refractive index layer 14A. Therefore, the manufacturing process of the display device 10 can be simplified.
  • the thickness of the reflective layer 13 has three colors. It may be different for each of the sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the thickness D of the optical path length adjusting layer 14 between the electrode body 31A and the electrode body 31A is adjusted for each of the three color sub-pixels 100R, 100G, and 100B.
  • the display devices 10 and 30 (hereinafter referred to as “display device 10 and the like”) according to the first and second embodiments described above and their modifications can be used for various electronic devices.
  • the display device 10 and the like are incorporated into various electronic devices, for example, as a module as shown in FIG. In particular, it is suitable for those that require high resolution such as an electronic viewfinder or a head-mounted display of a video camera or a single-lens reflex camera, and are used by enlarging them near the eyes.
  • This module has a region 210 exposed on one short side of the drive board 11 without being covered by the facing board 22 or the like, and the wiring of the signal line drive circuit 111 and the scanning line drive circuit 112 is connected to this region 210.
  • An external connection terminal (not shown) is formed by extending it.
  • a flexible printed circuit board (FPC) 220 for signal input / output may be connected to the external connection terminal.
  • 11A and 11B show an example of the appearance of the digital still camera 310.
  • This digital still camera 310 is a single-lens reflex type with interchangeable lenses, and has an interchangeable shooting lens unit (interchangeable lens) 312 in the center of the front of the camera body (camera body) 311 and on the left side of the front. It has a grip portion 313 for the photographer to grip.
  • interchangeable shooting lens unit interchangeable lens
  • a monitor 314 is provided at a position shifted to the left from the center of the back of the camera body 311.
  • An electronic viewfinder (eyepiece window) 315 is provided on the upper part of the monitor 314. By looking into the electronic viewfinder 315, the photographer can visually recognize the optical image of the subject guided from the photographing lens unit 312 and determine the composition.
  • a display device 10 or the like can be used as the electronic viewfinder 315.
  • FIG. 12 shows an example of the appearance of the head-mounted display 320.
  • the head-mounted display 320 has, for example, ear hooks 322 for being worn on the user's head on both sides of the eyeglass-shaped display unit 321.
  • a display device 10 or the like can be used as the display unit 321.
  • FIG. 13 shows an example of the appearance of the television device 330.
  • the television device 330 has, for example, a video display screen unit 331 including a front panel 332 and a filter glass 333, and the video display screen unit 331 is composed of a display device 10 and the like.
  • the configurations, methods, processes, shapes, materials, numerical values, etc. given in the above-mentioned first and second embodiments and variations thereof are merely examples, and different configurations, methods, and the like as necessary.
  • the process, shape, material, numerical value, etc. may be used.
  • the present disclosure may also adopt the following configuration.
  • Each of the subpixels includes a light emitting element having a resonator structure, and the light emitting element has a reflection layer, an optical path length adjusting layer, a first electrode, an electroluminescence layer, and a second electrode in this order.
  • Prepare for The optical path length adjusting layer has a facing surface facing the electroluminescence layer, and the height of the facing surface is constant in the subpixels of the plurality of colors.
  • the optical path length adjusting layer includes a plurality of refractive index layers having different refractive indexes.
  • the optical path length adjusting layer is a display device having a different layer structure for each of the plurality of color sub-pixels.
  • the layer configuration for each of the plurality of color sub-pixels is set so that the light corresponding to the color of each sub-pixel is resonated by the resonator structure, whichever is one of (1) to (3).
  • the optical path length adjusting layer includes a first refractive index layer and a second refractive index layer having a higher refractive index than the first refractive index layer.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer in the sub-pixels of at least one color among the sub-pixels of the plurality of colors is a laminated structure of the first refractive index layer and the second refractive index layer (1).
  • the first refractive index layer is continuously provided over the sub-pixels of the plurality of colors.
  • the display device according to (6) wherein the separated side surface of the second refractive index layer is covered with the first refractive index layer.
  • the second refractive index layer is separated and provided in the sub-pixels of a part of the sub-pixels of the plurality of colors.
  • the plurality of color sub-pixels include a first color sub-pixel, a second color sub-pixel, and a third color sub-pixel.
  • the optical path length adjusting layer includes a first refractive index layer and a second refractive index layer having a higher refractive index than the first refractive index layer.
  • the display device described in. (11) The resonator structure of the first color sub-pixel, the resonator structure of the second color sub-pixel, and the resonator structure of the third color sub-pixel are each of the first color.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer in the sub-pixel of the first color is a single layer structure of the first refractive index layer.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer in the second color sub-pixel is a laminated structure of the first refractive index layer and the second refractive index layer.
  • the display device according to (10) or (11), wherein the layer structure of the optical path length adjusting layer in the sub-pixels of the third color is a single layer structure of the second refractive index layer.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer in the sub-pixel of the first color is a single layer structure of the first refractive index layer.
  • the layer structure of the optical path length adjusting layer in the second color sub-pixel and the third color sub-pixel is a laminated structure of the first refractive index layer and the second refractive index layer.
  • the first electrode includes an electrode body and an extension portion, and the extension portion extends from the peripheral edge portion of the electrode body toward the reflection layer and is connected to the reflection layer (the extension portion).
  • Electrode 1 16 Insulation layer between elements 17 Organic electroluminescence layer 18 Second electrode 19 Protective layer 20 Color filter 20R Red filter 20G Green filter 20B Blue filter 21 Filled resin layer 22 Opposing substrate 23, 24 Resist layer 31 Electrode body 32 100R, 100G, 100B Subpixels 101R, 101G, 101B Light emitting element 102R, 102G, 102B Resonator structure 110A Display area 110B Peripheral area 111 Signal line drive circuit 111A Signal line 112 Scan line drive circuit 112A Scan line 310 Digital still camera (Electronics) 320 Head-mounted display (electronic device) 330 Television equipment (electronic equipment)

Abstract

サブ画素間における段差の発生を抑制することができる表示装置を提供する。　表示装置は、基板と、基板上に２次元配置された複数色のサブ画素とを備える。各サブ画素は、共振器構造を有する発光素子を備え、発光素子は、反射層と、光路長調整層と、第１の電極と、エレクトロルミネッセンス層と、第２の電極とをこの順序で備える。光路長調整層は、エレクトロルミネッセンス層と対向する対向面を有し、該対向面の高さが、複数色のサブ画素で一定である。光路長調整層は、屈折率がそれぞれ異なる複数の屈折率層を備え、光路長調整層は、複数色のサブ画素毎に層構成が異なっている。

Description

表示装置および電子機器
　本開示は、表示装置およびそれを備える電子機器に関する。
　近年、有機ＥＬ（Electroluminescence）表示装置（以下単に「表示装置」という。）は、広く普及している。この表示装置としては、共振器構造（キャビティ構造）を有するものが提案されている（例えば特許文献１参照）。
特開２０１４－２３５９５９号公報
　しかしながら、共振器構造を有する表示装置では、各色サブ画素で光路長調整層の膜厚が異なるために、サブ画素間において電極や有機ＥＬ層等に段差が形成され、この段差に起因した光学特性の悪化や信頼性不良が生じやすいという問題がある。
　本開示の目的は、サブ画素間における段差の発生を抑制することができる表示装置およびそれを備える電子機器を提供することにある。
　上述の課題を解決するために、第１の開示は、
　基板と、
　基板上に２次元配置された複数色のサブ画素と
　を備え、
　各サブ画素は、共振器構造を有する発光素子を備え、発光素子は、反射層と、光路長調整層と、第１の電極と、エレクトロルミネッセンス層と、第２の電極とをこの順序で備え、
　光路長調整層は、エレクトロルミネッセンス層と対向する対向面を有し、該対向面の高さが、複数色のサブ画素で一定であり、
　光路長調整層は、屈折率がそれぞれ異なる複数の屈折率層を備え、
　光路長調整層は、複数色のサブ画素毎に層構成が異なっている表示装置である。
　第１の開示において、“層構成”とは、例えば、光路長調整層を構成する複数の屈折率層の層数、光路長調整層を構成する複数の屈折率層の厚さ、または光路長調整層を構成する複数の屈折率層の層数および厚さの両方を意味する。
　第１の開示において、複数色のサブ画素は、第１の色のサブ画素と、第２の色のサブ画素と、第３の色のサブ画素とを含んでいてもよい。複数色は、第１の色と、第２の色と、第３の色とを含んでいてもよい。第１の色、第２の色、第３の色はそれぞれ、赤色、緑色、青色であってもよい。複数の屈折率層は、第１の屈折率層と、第２の屈折率層とを備えていてもよい。
　第２の開示は、第１の開示の表示装置を備える電子機器である。
図１は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の全体構成の一例を示す概略図である。 図２は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の構成の一例を示す断面図である。 図３は、反射層、光路長調整層および第１の電極の構成の一例を示す平面図である。 図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃ、図４Ｄ、図４Ｅはそれぞれ、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法の一例を説明するための断面図である。 図５Ａ、図５Ｂ、図５Ｃ、図５Ｄ、図５Ｅはそれぞれ、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の製造方法の一例を説明するための断面図である。 図６は、本開示の第２の実施形態に係る表示装置の構成の一例を示す断面図である。 図７は、反射層、光路長調整層および第１の電極の構成の一例を示す平面図である。 図８は、本開示の第２の実施形態の変形例に係る表示装置の構成の一例を示す断面図である。 図９は、反射層、光路長調整層および第１の電極の構成の一例を示す平面図である。 図１０は、モジュールの概略構成の一例を示す平面図である。 図１１Ａは、デジタルスチルカメラの外観の一例を示す正面図である。図１１Ｂは、デジタルスチルカメラの外観の一例を示す背面図である。 図１２は、ヘッドマウントディスプレイの外観の一例を斜視図である。 図１３は、テレビジョン装置の外観の一例を示す斜視図である。
　本開示の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
　１　第１の実施形態（表示装置の例）
　２　第２の実施形態（表示装置の例）
　３　変形例（表示装置の変形例）
　４　応用例（電子機器の例）
＜１　第１の実施形態＞
［表示装置の構成］
　図１は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置１０の全体構成の一例を示す概略図である。表示装置１０は、表示領域１１０Ａと、表示領域１１０Ａの周縁に設けられた周辺領域１１０Ｂとを有している。表示領域１１０Ａ内には、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂがマトリクス状等の規定の配置パターンで２次元配置されている。
　サブ画素１００Ｒは、赤色のサブ画素（第１の色のサブ画素）である。サブ画素１００Ｇは、緑色のサブ画素（第２の色のサブ画素）である。サブ画素１００Ｂは、青色のサブ画素（第３の色のサブ画素）である。なお、以下の説明において、サブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂを特に区別しない場合には、サブ画素１００という。隣接するサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。図１では、行方向（水平方向）に並ぶ３つのサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂの組み合わせが一つの画素を構成している例が示されている。
　周辺領域１１０Ｂには、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１１１および走査線駆動回路１１２が設けられている。信号線駆動回路１１１は、信号供給源（図示せず）から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧を、信号線１１１Ａを介して選択されたサブ画素１００に供給するものである。走査線駆動回路１１２は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト（転送）するシフトレジスタ等によって構成される。走査線駆動回路１１２は、各サブ画素１００への映像信号の書き込みに際し行単位でそれらを走査し、各走査線１１２Ａに走査信号を順次供給するものである。
　表示装置１０は、マイクロディスプレイであってもよい。表示装置１０は、ＶＲ（Virtual Reality）装置、ＭＲ（Mixed Reality）装置、ＡＲ（Augmented Reality）装置、電子ビューファインダ（Electronic View Finder：ＥＶＦ）または小型プロジェクタ等に備えられてもよい。
　図２は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置１０の構成の一例を示す断面図である。表示装置１０は、駆動基板１１と、層間絶縁層１２と、反射層１３と、光路長調整層１４と、第１の電極１５と、素子間絶縁層１６と、有機エレクトロルミネッセンス層１７（以下「ＥＬ層１７」という。）と、第２の電極１８と、保護層１９と、カラーフィルタ２０と、充填樹脂層２１と、対向基板２２とを備える。駆動基板１１、層間絶縁層１２、反射層１３、光路長調整層１４、第１の電極１５、ＥＬ層１７、第２の電極１８、保護層１９、カラーフィルタ２０、充填樹脂層２１、対向基板２２は、この順序で積層されている。なお、保護層１９、カラーフィルタ２０、充填樹脂層２１および対向基板２２は、必要に応じて備えられるものであり、これらのうちの少なくとも１つの層は備えられていなくてもよい。
　表示装置１０は、発光装置の一例である。表示装置１０は、トップエミッション方式の表示装置である。表示装置１０の対向基板２２側がトップ側となり、表示装置１０の駆動基板１１側がボトム側となる。以下の説明において、表示装置１０を構成する各層において、表示装置１０のトップ側となる面を第１の面といい、表示装置１０のボトム側となる面を第２の面という。
（発光素子）
　サブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂはそれぞれ、発光素子１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂを備える。発光素子１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂは、反射層１３と、光路長調整層１４と、第１の電極１５と、ＥＬ層１７と、第２の電極１８とにより構成されている。発光素子１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂは、いわゆる有機ＥＬ素子である。発光素子１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂはそれぞれ、赤色光、緑色光、青色光を出射する。以下の説明において、発光素子１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂを特に区別せず総称する場合には、発光素子１０１という。
（共振器構造）
　発光素子１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂはそれぞれ、共振器構造１０２Ｒ、１０２Ｇ、１０２Ｂを有している。共振器構造１０２Ｒ、１０２Ｇ、１０２Ｂは、反射層１３と第２の電極１８とにより構成されている。共振器構造１０２Ｒ、１０２Ｇ、１０２Ｂは、規定波長の光を共振させ強調し、出射する。具体的には、共振器構造１０２Ｒは、ＥＬ層１７で発生された白色光に含まれる赤色光を共振させ強調し、外部に放出する。共振器構造１０２Ｇは、ＥＬ層１７で発生された白色光に含まれる緑色光を共振させ強調し、外部に放出する。共振器構造１０２Ｂは、ＥＬ層１７で発生された白色光に含まれる青色光を共振させ強調し、外部に放出する。
　反射層１３と第２の電極１８との間の距離は、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで一定に設定されている。一方、反射層１３と第２の電極１８との間の光学的距離（光路長）は、共振させる規定波長の光に応じて設定されている。より具体的には、共振器構造１０２Ｒでは、反射層１３と第２の電極１８との間の光路長は、赤色光が共振するように設定されている。共振器構造１０２Ｇでは、反射層１３と第２の電極１８との間の光路長は、緑色光が共振するように設定されている。共振器構造１０２Ｂでは、反射層１３と第２の電極１８との間の光路長は、青色光が共振するように設定されている。
（駆動基板）
　駆動基板１１の第１の面上には、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂがマトリクス状等の規定の配置パターンで２次元配置されている。駆動基板１１は、いわゆるバックプレーンであり、複数の発光素子１０１を駆動する。駆動基板１１の第１の面上には、複数の発光素子１０１を駆動する駆動回路、および複数の発光素子１０１に電力を供給する電源回路等（いずれも図示せず）が設けられている。
　駆動基板１１の基板本体は、例えば、水分および酸素の透過性が低いガラスまたは樹脂で構成されていてもよく、トランジスタ等の形成が容易な半導体で形成されてもよい。具体的には、基板本体は、ガラス基板、半導体基板または樹脂基板等であってもよい。ガラス基板は、例えば、高歪点ガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、フォルステライト、鉛ガラスまたは石英ガラス等を含む。半導体基板は、例えば、アモルファスシリコン、多結晶シリコンまたは単結晶シリコン等を含む。樹脂基板は、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラートおよびポリエチレンナフタレート等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（層間絶縁層）
　層間絶縁層１２（以下、単に「絶縁層１２」という。）は、駆動基板１１の第１の面上に設けられ、駆動回路および電源回路等を覆っている。絶縁層１２は、複数のコンタクトプラグおよび複数の配線（いずれも図示せず）を備える。各コンタクトプラグは、反射層１３と駆動回路とを接続する。
　絶縁層１２は、単層構造を有していてもよいし、積層構造を有していてもよい。絶縁層１２は、有機絶縁層であってもよいし、無機絶縁層であってもよいし、これらの積層体であってもよい。有機絶縁層は、例えば、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂およびノボラック系樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。無機絶縁層は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、窒化シリコン（ＳｉＮ）および酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（反射層）
　反射層１３は、絶縁層１２の第１の面上に設けられている。反射層１３は、サブ画素１００毎に分離されている。反射層１３は、ＥＬ層１７から第１の電極１５および光路長調整層１４を介して入射された光を反射する。反射層１３の厚さは、サブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで一定である。
　反射層１３は、光反射性を有する材料で構成されている。反射層１３は、具体的には例えば、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）およびタングステン（Ｗ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種の金属元素を含む。反射層１３は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。合金の具体例としては、銀合金またはアルミニウム合金が挙げられる。
　反射層１３の第２の面側に下地層（図示せず）が隣接して設けられていてもよい。下地層は、反射層１３の成膜時に、反射層１３の結晶配向性を向上する。下地層は、例えば、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）および酸化チタン（ＴｉＯ２）等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（光路長調整層）
　光路長調整層１４は、絶縁層１２の第１の面上に設けられ、反射層１３を覆っている。光路長調整層１４は、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ毎に反射層１３と第２の電極１８との間の光路長を調整するための層である。光路長調整層１４は、透明性を有している。光路長調整層１４は、複数のコンタクトプラグ１４Ｃ（図３参照）を備える。各コンタクトプラグ１４Ｃは、第１の電極１５と反射層１３とを接続する。
　光路長調整層１４は、ＥＬ層１７と対向する対向面（第１の面）１４Ｓを有し、この対向面１４Ｓの高さが、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで一定である。すなわち、表示領域１１０Ａ内において光路長調整層１４の対向面１４Ｓは、平坦である。反射層１３と第１の電極１５との間における光路長調整層１４の厚さＤは、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで一定である。
　光路長調整層１４は、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ毎に層構成が異なっている。３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ毎の層構成は、サブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂの色それぞれに対応した光が共振器構造１０２Ｒ、１０２Ｇ、１０２Ｂで共振されるように設定されている。すなわち、サブ画素１００Ｒの層構成は、サブ画素１００Ｒの色に対応した赤色光が共振器構造１０２Ｒで共振されるように設定されている。サブ画素１００Ｇの層構成は、サブ画素１００Ｇの色に対応した緑色光が共振器構造１０２Ｇで共振されるように設定されている。サブ画素１００Ｂの層構成は、サブ画素１００Ｂの色に対応した青色光が共振器構造１０２Ｂで共振されるように設定されている。
　光路長調整層１４は、第１の屈折率層１４Ａと、第２の屈折率層１４Ｂとを備える。第１の屈折率層１４Ａと第２の屈折率層１４Ｂとは、屈折率が異なっている。具体的には、第２の屈折率層１４Ｂの屈折率は、第１の屈折率層１４Ａの屈折率に比べて高い。３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのうちの少なくとも一色のサブ画素（具体的にはサブ画素１００Ｇ、１００Ｂ）における光路長調整層１４の層構成は、第１の屈折率層１４Ａと第２の屈折率層１４Ｂとの積層構成である。
　具体的には、サブ画素１００Ｒにおける光路長調整層１４の層構成は、第１の屈折率層１４Ａの単層構成である。サブ画素１００Ｇおよびサブ画素１００Ｂにおける光路長調整層１４の層構成は、第１の屈折率層１４Ａと第２の屈折率層１４Ｂとの積層構成である。サブ画素１００Ｇおよびサブ画素１００Ｂにおいて、第２の屈折率層１４Ｂ、第１の屈折率層１４Ａは反射層１３上にこの順序で積層されている。第１の屈折率層１４Ａおよび第２の屈折率層１４Ｂの厚さが、サブ画素１００Ｇおよびサブ画素１００Ｂで異なっている。サブ画素１００Ｇにおける第１の屈折率層１４Ａの厚さが、サブ画素１００Ｂにおける第１の屈折率層１４Ａの厚さに比べて厚い。一方、サブ画素１００Ｇにおける第２の屈折率層１４Ｂの厚さが、サブ画素１００Ｂにおける第２の屈折率層１４Ｂの厚さに比べて薄い。
　第１の屈折率層１４Ａは、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂに亘って連続して設けられている。一方、第２の屈折率層１４Ｂは島状に分離され、分離された各第２の屈折率層１４Ｂは、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのうちサブ画素１００Ｇ、１００Ｂにそれぞれ設けられている。第１の屈折率層１４Ａは、分離された各第２の屈折率層１４Ｂを覆うように、絶縁層１２の第１の面上に設けられている。分離された各第２の電極の側面は、第１の屈折率層１４Ａで覆われている。これにより、第２の屈折率層１４Ｂの側面とこれを覆う第１の屈折率層１４Ａとの間の界面で光を全反射することができる。したがって、表示装置１０の正面輝度を向上することができる。
　第１の屈折率層１４Ａは、例えば、金属酸化物を含む。第１の屈折率層１４Ａに含まれる金属酸化物は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム（ＡｌＯ）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
　第２の屈折率層１４Ｂは、例えば、金属酸化物を含む。第２の屈折率層１４Ｂに含まれる金属酸化物は、酸化窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸化ニオブ（ＮｂＯ）および酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（第１の電極）
　第１の電極１５は、光路長調整層１４の第１の面上に設けられている。第１の電極１５は、サブ画素１００毎に分離されている。第１の電極１５は、アノードである。第１の電極１５と第２の電極１８の間に電圧が加えられると、第１の電極１５からＥＬ層１７にホールが注入される。第１の電極１５は、図３に示すように、コンタクトプラグ１４Ｃに接続されている。
　第１の電極１５は、発光効率を高める観点から、仕事関数が高く、かつ、透過率の高い材料で構成されていることが好ましい。第１の電極１５は、透明電極であることが好ましい。透明電極は、例えば、透明導電性酸化物（ＴＣＯ：Transparent Conductive Oxide）を含む。透明導電性酸化物は、例えば、インジウムを含む透明導電性酸化物（以下「インジウム系透明導電性酸化物」という。）、錫を含む透明導電性酸化物（以下「錫系透明導電性酸化物」という。）および亜鉛を含む透明導電性酸化物（以下「亜鉛系透明導電性酸化物」という。）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
　インジウム系透明導電性酸化物は、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ）、酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ）またはフッ素ドープ酸化インジウム（ＩＦＯ）を含む。これらの透明導電性酸化物のうちでも酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が特に好ましい。酸化インジウム錫（ＩＴＯ）は、仕事関数的にＥＬ層１７へのホール注入障壁が特に低いため、表示装置１０の駆動電圧を特に低電圧化することができるからである。錫系透明導電性酸化物は、例えば、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）またはフッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）を含む。亜鉛系透明導電性酸化物は、例えば、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ホウ素ドープ酸化亜鉛またはガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）を含む。
（第２の電極）
　第２の電極１８は、ＥＬ層１７の第１の面に設けられている。第２の電極１８は、第１の電極１５と対向している。第２の電極１８は、表示領域１１０Ａ内においてすべてのサブ画素１００に亘って連続して設けられ、表示領域１１０Ａ内においてすべてのサブ画素１００に共通の電極として設けられている。第２の電極１８は、カソードである。第２の電極１８は、ＥＬ層１７で発生した光に対して透過性を有する透明電極である。ここで、透明電極には、半透過性反射層も含まれるものとする。第２の電極１８は、発光効率を高める観点から、仕事関数が低い材料によって構成されることが好ましい。
　第２の電極１８は、例えば、金属層および金属酸化物層のうちの少なくとも一層により構成されている。より具体的には、第２の電極１８は、金属層もしくは金属酸化物層の単層膜、または金属層と金属酸化物層の積層膜により構成されている。第２の電極１８が積層膜により構成されている場合、金属層がＥＬ層１７側に設けられてもよいし、金属酸化物層がＥＬ層１７側に設けられてもよいが、低い仕事関数を有する層をＥＬ層１７に隣接させる観点からすると、金属層がＥＬ層１７側に設けられていることが好ましい。
　金属層は、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、カルシウム（Ｃａ）およびナトリウム（Ｎａ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種の金属元素を含む。金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。合金の具体例としては、ＭｇＡｇ合金、ＭｇＡｌ合金またはＡｌＬｉ合金等が挙げられる。金属酸化物は、例えば、インジウム酸化物と錫酸化物の混合体（ＩＴＯ）、インジウム酸化物と亜鉛酸化物の混合体（ＩＺＯ）および酸化亜鉛（ＺｎＯ）のうちの少なくとも１種を含む。
　第２の電極１８は、第１の金属層および第２の金属層が積層された多層膜であってもよい。第１の金属層および第２の金属層のうち第１の金属層が、ＥＬ層１７側に設けられていてもよい。第１の金属層は、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）、リチウム（Ｌｉ）、セシウム（Ｃｓ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）および銀（Ａｇ）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。第１の金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。第２の金属層は、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）および銀（Ａｇ）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。第２の金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。
（ＥＬ層）
　ＥＬ層１７は、第１の電極１５と第２の電極１８の間に設けられている。ＥＬ層１７は、表示領域１１０Ａ内においてすべてのサブ画素１００に亘って連続して設けられ、表示領域１１０Ａ内においてすべてのサブ画素１００に共通の有機層として設けられている。
　ＥＬ層１７は、白色光を発光可能に構成されている。ＥＬ層１７は、１ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層であってもよいし、２ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層であってもよいし、これら以外の有機ＥＬ層であってもよい。１ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層は、例えば、第１の電極１５から第２の電極１８に向かって、正孔注入層、正孔輸送層、赤色発光層、発光分離層、青色発光層、緑色発光層、電子輸送層、電子注入層がこの順序で積層された構成を有する。２ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層は、例えば、第１の電極１５から第２の電極１８に向かって、正孔注入層、正孔輸送層、青色発光層、電子輸送層、電荷発生層、正孔輸送層、黄色発光層、電子輸送層と、電子注入層がこの順序で積層された構成を有する。
　正孔注入層は、各発光層への正孔注入効率を高めると共に、リークを抑制するためのものである。正孔輸送層は、各発光層への正孔輸送効率を高めるためのものである。電子注入層は、各発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子輸送層は、各発光層への電子輸送効率を高めるためのものである。発光分離層は、各発光層へのキャリアの注入を調整するための層であり、発光分離層を介して各発光層に電子やホールが注入されることにより各色の発光バランスが調整される。電荷発生層は、電荷発生層を挟む２つの発光層に電子と正孔をそれぞれ供給する。
　赤色発光層、緑色発光層、青色発光層、黄色発光層はそれぞれ、電界をかけることにより、第１の電極１５から注入された正孔と第２の電極１８から注入された電子との再結合が起こり、赤色光、緑色光、青色光、黄色光を発生するものである。
（素子間絶縁層）
　素子間絶縁層１６（以下「絶縁層１６」という。）は、光路長調整層１４の第１の面上、かつ、隣接する第１の電極１５の間に設けられている。絶縁層１６は、分離された各第１の電極１５の間を絶縁する。絶縁層１６は、複数の開口１６Ａを有する。複数の開口１６Ａはそれぞれ、各サブ画素１００に対応して設けられている。より具体的には、複数の開口１６Ａはそれぞれ、分離された各第１の電極１５の第１の面（第２の電極１８との対向面）上に設けられている。開口１６Ａを介して、第１の電極１５とＥＬ層１７とが接触する。
　絶縁層１６の構成材料としては、上述の絶縁層１２と同様の材料を例示することができる。
（保護層）
　保護層１９は、第２の電極１８の第１の面上に設けられ、複数の発光素子１０１を覆う。保護層１９は、発光素子１０１を外気と遮断し、外部環境から発光素子１０１内部への水分浸入を抑制する。また、第２の電極１８が金属層により構成されている場合には、保護層１９は、この金属層の酸化を抑制する機能を有していてもよい。
　保護層１９は、例えば、吸湿性が低い無機材料により構成される。無機材料は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＮＯ）、酸化チタン（ＴｉＯ）および酸化アルミニウム（ＡｌＯ）のうちの少なくとも１種を含む。保護層１９は、単層構造であってもよいが、保護層１９の厚さを厚くする場合には多層構造としてもよい。保護層１９における内部応力を緩和するためである。保護層１９が、高分子樹脂により構成されていてもよい。高分子樹脂は、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（カラーフィルタ）
　カラーフィルタ２０は、保護層１９の第１の面上に設けられている。カラーフィルタ２０は、例えば、オンチップカラーフィルタ（On Chip Color Filter：ＯＣＣＦ）である。カラーフィルタ２０は、例えば、赤色フィルタ２０Ｒ、緑色フィルタ２０Ｇおよび青色フィルタ２０Ｂを備える。赤色フィルタ２０Ｒ、緑色フィルタ２０Ｇ、青色フィルタ２０Ｂはそれぞれ、発光素子１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂに対向して設けられている。赤色フィルタ２０Ｒと発光素子１０１Ｒとによりサブ画素１００Ｒが構成され、緑色フィルタ２０Ｇと発光素子１０１Ｇとによりサブ画素１００Ｇが構成され、青色フィルタ２０Ｂと発光素子１０１Ｂとによりサブ画素１００Ｂが構成されている。
　発光素子１０１Ｒ、発光素子１０１Ｇ、発光素子１０１Ｂから発せられた赤色光、緑色光、青色光はそれぞれ、上記の赤色フィルタ２０Ｒ、緑色フィルタ２０Ｇ、青色フィルタ２０Ｂを透過する。これにより、高い色純度を有する赤色光、緑色光、青色光が表示面から出射される。また、各色のフィルタ２０Ｒ、２０Ｇ、２０Ｂ間、すなわちカラーフィルタ２０のサブ画素１００間の領域には、遮光層（図示せず）が設けられていてもよい。なお、カラーフィルタ２０は、オンチップカラーフィルタに限定されるものではなく、対向基板２２の第２の面に設けられたものであってもよい。
（充填樹脂層）
　充填樹脂層２１は、カラーフィルタ２０と対向基板２２の間に設けられている。充填樹脂層２１は、カラーフィルタ２０と対向基板２２とを接着する接着層としての機能を有している。充填樹脂層２１は、例えば、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（対向基板）
　対向基板２２は、駆動基板１１に対向して設けられている。より具体的には、対向基板２２は、対向基板２２の第２の面と駆動基板１１の第１の面とが対向するように設けられている。対向基板２２は、発光素子１０１およびカラーフィルタ２０等を封止する。対向基板２２は、カラーフィルタ２０から出射される各色光に対して透明なガラス等の材料により構成される。
［表示装置の製造方法］
　以下、図４Ａ～図４Ｅ、図５Ａ～図５Ｅを参照して、本開示の第１の実施形態に係る表示装置１０の製造方法の一例について説明する。
　まず、例えば薄膜形成技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、基板本体の第１の面上に駆動回路および電源回路等を形成する。これにより、駆動基板１１が得られる。次に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、駆動回路および電源回路等を覆うように絶縁層１２を駆動基板１１の第１の面上に形成する。次に、例えばスパッタリング法により、図４Ａに示すように、反射層１３を絶縁層１２の第１の面上に形成する。次に、例えばフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、反射層１３をパターニングし、サブ画素１００間に対応する部分で分離する。なお、図４Ｂ以降の図では、反射層１３の分離部分の図示が省略されている。
　次に、例えばＣＶＤ法により、図４Ｂに示すように、金属酸化物層１４Ｄを反射層１３の第１の面上に形成する。次に、図４Ｃに示すように、金属酸化物層１４Ｄの第１の面上に所定のパターンのレジストマスクを形成したのち、レジストマスクを介して金属酸化物層１４Ｄをドライエッチングする。これにより、図４Ｄに示すように、各サブ画素１００Ｂに対応する領域に金属酸化物層１４Ｄが残る。
　次に、例えばＣＶＤ法により、図４Ｅに示すように、金属酸化物層１４Ｅを反射層１３の第１の面上に形成し、金属酸化物層１４Ｄを覆う。次に、図５Ａに示すように、金属酸化物層１４Ｅの第１の面上に所定のパターンのレジストマスクを形成したのち、レジストマスクを介して金属酸化物層１４Ｄをドライエッチングする。これにより、図５Ｂに示すように、各サブ画素１００Ｇに対応する領域および各サブ画素１００Ｂに対応する領域に金属酸化物層１４Ｅが島状に残り、２種の高さを有する第２の屈折率層１４Ｂが形成される。
　次に、例えばＣＶＤ法により、図５Ｃに示すように、金属酸化物層１４Ｆを反射層１３の第１の面上に形成し、島状の第２の屈折率層１４Ｂを覆う。次に、例えばＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）法により、金属酸化物層１４Ｆの第１の面を研磨することにより、図５Ｄに示すように、２種の高さの第２の屈折率層１４Ｂのうち、高い方の第２の屈折率層１４Ｂの第１の面を露出させる。次に、第２の屈折率層１４Ｂが露出した金属酸化物層１４Ｆの第１の面をプラズマ処理することにより、第２の屈折率層１４Ｂの第１の面の状態を変化させる。これにより、図５Ｅに示すように、２種の高さを有する第２の屈折率層１４Ｂを覆うように第１の屈折率層１４Ａが形成される。すなわち、反射層１３の第１の面上に光路長調整層１４が形成される。
　次に、例えばスパッタリング法により、金属酸化物層を絶縁層１２の第１の面上に順次形成したのち、例えばフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて金属酸化物層をパターニングする。これにより、サブ画素１００毎に分離された第１の電極１５が形成される。
　次に、例えばプラズマＣＶＤ法により、第１の電極１５を覆うように光路長調整層１４の第１の面上に絶縁層１６を形成する。次に、例えばフォトリソグラフィ技術およびドライエッチング技術により、各サブ画素１００に対応する位置にそれぞれ開口１６Ａを形成する。これにより、分離された各第１の電極１５の第１の面が露出する。
　次に、例えば蒸着法により、正孔注入層、正孔輸送層、赤色発光層、発光分離層、青色発光層、緑色発光層、電子輸送層、電子注入層を第１の電極１５の第１の面および光路長調整層１４の第１の面上にこの順序で積層することにより、ＥＬ層１７を形成する。次に、例えば蒸着法またはスパッタリング法により、第２の電極１８をＥＬ層１７の第１の面上に形成する。これにより、絶縁層１２の第１の面上に複数の発光素子１０１が形成される。
　次に、例えばＣＶＤ法または蒸着法により、保護層１９を第２の電極１８の第１の面上に形成したのち、例えばフォトリソグラフィにより、保護層１９の第１の面上にカラーフィルタ２０を形成する。なお、保護層１９の段差やカラーフィルタ２０自体の膜厚差による段差を平坦化するために、カラーフィルタ２０の上、下または上下両方に平坦化層を形成してもよい。次に、例えばＯＤＦ（One Drop Fill）方式を用いて、充填樹脂層２１によりカラーフィルタ２０を覆ったのち、対向基板２２を充填樹脂層２１上に載置する。次に、例えば充填樹脂層２１に熱を加えるか、または充填樹脂層２１に紫外線を照射し、充填樹脂層２１を硬化させることにより、充填樹脂層２１を介して駆動基板１１と対向基板２２とを貼り合せる。これにより、表示装置１０が封止される。以上により、図２に示す表示装置１０が得られる。
［作用効果］
　上述したように、第１の実施形態に係る表示装置１０では、光路長調整層１４は、ＥＬ層１７と対向する対向面１４Ｓを有し、対向面１４Ｓの高さが、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで一定であるので、サブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂの間にて絶縁層１６、ＥＬ層１７および第２の電極１８等に段差が発生することを抑制することができる。したがって、上記段差に起因した光学特性の悪化や信頼性不良を抑制することができる。
＜２　第２の実施形態＞
［表示装置の構成］
　図６は、本開示の第２の実施形態に係る表示装置３０の構成の一例を示す断面図である。図７は、反射層１３、光路長調整層１４および第１の電極３１の構成の一例を示す平面図である。表示装置３０は、第１の電極１５に代えて第１の電極３１を備えると共に、サブ画素１００Ｂにおける光路長調整層１４の層構成が、第２の屈折率層１４Ｂの単層構成となっている点において、第１の実施形態に係る表示装置１０とは異なっている。なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
　第１の電極３１は、電極本体３１Ａと、延設部３１Ｂとを有する。電極本体３１Ａは、第１の実施形態における第１の電極１５と同様の構成を有している。延設部３１Ｂは、電極本体３１Ａの第２の面の周縁部全体から反射層１３の第１の面の周縁部に向かって延設され、延設部３１Ｂの先端は、反射層１３の第１の面の周縁部に接続されている。これにより、延設部３１Ｂは、反射層１３の第１の面を囲む周壁部を形成している。ここで、電極本体３１Ａの第２の面は、反射層１３の第１の面に対向する対向面であり、反射層１３の第１の面は、電極本体３１Ａの第２の面に対向する対向面である。
　サブ画素１００Ｒでは、電極本体３１Ａと反射層１３との間に第１の屈折率層１４Ａが設けられている。サブ画素１００Ｇでは、電極本体３１Ａと反射層１３との間に第１の屈折率層１４Ａと第２の屈折率層１４Ｂとが設けられている。図６では、サブ画素１００Ｒにおいて、反射層１３、第２の屈折率層１４Ｂ、第１の屈折率層１４Ａ、電極本体３１Ａの順に積層された例が示されているが、サブ画素１００Ｇにおいて、反射層１３、第１の屈折率層１４Ａ、第２の屈折率層１４Ｂ、電極本体３１Ａの順に積層されていてもよい。サブ画素１００Ｂでは、電極本体３１Ａと反射層１３との間に第２の屈折率層１４Ｂが設けられている。
　第２の実施形態においては、反射層１３と電極本体３１Ａとの間における光路長調整層１４の厚さＤが、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで一定に設定される。
［作用効果］
　上述したように、第２の実施形態に係る表示装置３０では、第１の電極３１は、電極本体３１Ａと、延設部３１Ｂとを備え、延設部３１Ｂは、電極本体３１Ａの第２の面の周縁部から反射層１３の第１の面の周縁部に向かって延設され、反射層１３の第１の面の周縁部に接続されている。これにより、コンタクトプラグ１４Ｃにより第１の電極１５と反射層１３とを接続する構成（図３参照）に比べて、開口率を向上することができる。なお、図３に示す接続構成の場合には、第１の電極１５のうち、コンタクトプラグ１４Ｃに接続された一端部は、絶縁層１６により覆われているため、発光に寄与しない領域となる。
　反射層１３の第１の面の周縁部に延設部３１Ｂが立てた状態で設けられているので、隣接するサブ画素１００に向かう光を延設部３１Ｂにより反射することができる。したがって、表示装置１０の正面輝度を向上することができる。
＜３　変形例＞
（変形例１）
　第２の実施形態では、延設部３１Ｂが、電極本体３１Ａの第２の面の周縁部全体から反射層１３の第１の面の周縁部全体に向かって延設されている例について説明したが、図８、図９に示すように、電極本体３１Ａの第２の面の周縁部の一部から反射層１３の第１の面の周縁部の一部に向かって延設されていてもよい。すなわち、延設部３１Ｂは、反射層１３の第１の面の周縁部の一部に壁部を形成していてもよい。
（変形例２）
　第１、第２の実施形態では、表示装置１０、３０が３色のサブ画素１００を備える例について説明したが、表示装置１０、３０が３色以外の複数色のサブ画素１００を備えるようにしてもよい。
（変形例３）
　光路長調整層１４の層構成は第１、第２の実施形態にて説明した例に限定されるものではなく、第１、第２の実施形態にて説明した以外の層構成を有していてもよい。例えば、第１、第２の実施形態では、光路長調整層１４が、屈折率がそれぞれ異なる２層の屈折率層（すなわち第１の屈折率層１４Ａおよび第２の屈折率層１４Ｂ）を備える例について説明したが、光路長調整層１４が、屈折率がそれぞれ異なる３層以上の屈折率層を備えるようにしてもよい。
（変形例４）
　第１の実施形態では、第１の屈折率層１４Ａが金属酸化物を含む例について説明したが、第１の屈折率層１４Ａが高分子樹脂を含んでいてもよい。この高分子樹脂は、例えば、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
　第１の実施形態におけるように、第１の屈折率層１４Ａが、分離された各第２の屈折率層１４Ｂを覆う構成の場合（図２参照）、第１の屈折率層１４Ａが高分子樹脂を含むことが特に好ましい。第１の屈折率層１４Ａが高分子樹脂を含む場合、表示装置１０の製造工程において、第２の屈折率層１４Ｂを反射層１３上に形成したのち、絶縁層１２の第１の面に樹脂を塗布し硬化させることにより、第１の屈折率層１４Ａを形成することができる。したがって、表示装置１０の製造工程を簡略化することができる。
（変形例５）
　第１、第２の実施形態では、反射層１３が３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで同一の厚さを有している例について説明したが、反射層１３の厚さが、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ毎に異なっていてもよい。この場合、光路長調整層１４の対向面１４Ｓの高さが３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂで一定となるように、反射層１３と第１の電極１５との間、または反射層１３と電極本体３１Ａとの間における光路長調整層１４の厚さＤが、３色のサブ画素１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ毎に調整される。
＜４　応用例＞
（電子機器）
　上述の第１、第２の実施形態およびそれらの変形例に係る表示装置１０、３０（以下「表示装置１０等」という。）は、各種の電子機器に用いることが可能である。表示装置１０等は、例えば、図１０に示したようなモジュールとして、種々の電子機器に組み込まれる。特にビデオカメラや一眼レフカメラの電子ビューファインダまたはヘッドマウント型ディスプレイ等の高解像度が要求され、目の近くで拡大して使用されるものに適する。このモジュールは、駆動基板１１の一方の短辺側に、対向基板２２等により覆われず露出した領域２１０を有し、この領域２１０に、信号線駆動回路１１１および走査線駆動回路１１２の配線を延長して外部接続端子（図示せず）が形成されている。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（Flexible Printed Circuit：ＦＰＣ）２２０が接続されていてもよい。
（具体例１）
　図１１Ａ、図１１Ｂは、デジタルスチルカメラ３１０の外観の一例を示す。このデジタルスチルカメラ３１０は、レンズ交換式一眼レフレックスタイプのものであり、カメラ本体部（カメラボディ）３１１の正面略中央に交換式の撮影レンズユニット（交換レンズ）３１２を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部３１３を有している。
　カメラ本体部３１１の背面中央から左側にずれた位置には、モニタ３１４が設けられている。モニタ３１４の上部には、電子ビューファインダ（接眼窓）３１５が設けられている。撮影者は、電子ビューファインダ３１５を覗くことによって、撮影レンズユニット３１２から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。電子ビューファインダ３１５としては、表示装置１０等を用いることができる。
（具体例２）
　図１２は、ヘッドマウントディスプレイ３２０の外観の一例を示す。ヘッドマウントディスプレイ３２０は、例えば、眼鏡形の表示部３２１の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部３２２を有している。表示部３２１としては、表示装置１０等を用いることができる。
（具体例３）
　図１３は、テレビジョン装置３３０の外観の一例を示す。このテレビジョン装置３３０は、例えば、フロントパネル３３２およびフィルターガラス３３３を含む映像表示画面部３３１を有しており、この映像表示画面部３３１は、表示装置１０等により構成されている。
　以上、本開示の第１、第２の実施形態およびそれらの変形例について具体的に説明したが、本開示は、上述の第１、第２の実施形態およびそれらの変形例に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
　例えば、上述の第１、第２の実施形態およびそれらの変形例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。
　上述の第１、第２の実施形態およびそれらの変形例の構成、方法、工程、形状、材料および数値等は、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
　上述の第１、第２の実施形態およびそれらの変形例に例示した材料は、特に断らない限り、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
（１）
　基板と、
　前記基板上に２次元配置された複数色のサブ画素と
　を備え、
　前記各サブ画素は、共振器構造を有する発光素子を備え、前記発光素子は、反射層と、光路長調整層と、第１の電極と、エレクトロルミネッセンス層と、第２の電極とをこの順序で備え、
　前記光路長調整層は、前記エレクトロルミネッセンス層と対向する対向面を有し、該対向面の高さが、前記複数色のサブ画素で一定であり、
　前記光路長調整層は、屈折率がそれぞれ異なる複数の屈折率層を備え、
　前記光路長調整層は、前記複数色のサブ画素毎に層構成が異なっている表示装置。
（２）
　前記反射層と前記第１の電極との間における前記光路長調整層の厚さが、前記複数色のサブ画素で一定である（１）に記載の表示装置。
（３）
　前記反射層と前記第２の電極との間の距離は、前記複数色のサブ画素で一定である（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）
　前記複数色のサブ画素毎の前記層構成は、前記各サブ画素の色に対応した光が前記共振器構造で共振されるように設定されている（１）から（３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（５）
　前記光路長調整層は、第１の屈折率層と、前記第１の屈折率層に比べて屈折率が高い第２の屈折率層とを備え、
　前記複数色のサブ画素のうちの少なくとも一色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層と前記第２の屈折率層との積層構成である（１）から（４）のいずれか１項に記載の表示装置。
（６）
　前記第１の屈折率層は、前記複数色のサブ画素に亘って連続して設けられ、
　前記第２の屈折率層は、分離され、前記複数色のサブ画素のうちの一部の色のサブ画素に設けられている（５）に記載の表示装置。
（７）
　分離された前記第２の屈折率層の側面は、前記第１の屈折率層で覆われている（６）に記載の表示装置。
（８）
　前記第２の屈折率層は、分離され、前記複数色のサブ画素のうちの一部の色のサブ画素に設けられ、
　前記第１の屈折率層は、分離された前記第２の屈折率層を覆っている（５）に記載の表示装置。
（９）
　前記第１の屈折率層は、樹脂を含む（８）に記載の表示装置。
（１０）
　前記複数色のサブ画素は、第１の色のサブ画素と、第２の色のサブ画素と、第３の色のサブ画素とを含み、
　前記光路長調整層は、第１の屈折率層と、前記第１の屈折率層に比べて屈折率が高い第２の屈折率層とを備える（１）から（４）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１１）
　前記第１の色のサブ画素の前記共振器構造、前記第２の色のサブ画素の前記共振器構造、前記第３の色のサブ画素の前記共振器構造はそれぞれ、前記第１の色の光、前記第２の色の光、前記第３の色の光を共振させる（１０）に記載の表示装置。
（１２）
　前記第１の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層の単層構成であり、
　前記第２の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層と前記第２の屈折率層との積層構成であり、
　前記第３の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第２の屈折率層の単層構成である（１０）または（１１）に記載の表示装置。
（１３）
　前記第１の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層の単層構成であり、
　前記第２の色のサブ画素および前記第３の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層と前記第２の屈折率層との積層構成であり、
　前記第１の屈折率層および前記第２の屈折率層の厚さが、前記第２の色のサブ画素および前記第３の色のサブ画素で異なる（１０）または（１１）に記載の表示装置。
（１４）
　前記第１の色、前記第２の色、前記第３の色はそれぞれ、赤色、緑色、青色である（１０）から（１３）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１５）
　前記第１の電極は、電極本体と、延設部とを備え、前記延設部は、前記電極本体の周縁部から前記反射層に向かって延設され、前記反射層に接続されている（１）から（１４）のいずれか１項に記載の表示装置。
（１６）
　（１）から（１５）のいずれか１項に記載の表示装置を備える電子機器。
　１０、３０　　表示装置
　１１　　駆動基板
　１２　　層間絶縁層
　１３　　反射層
　１４　　光路長調整層
　１４Ａ　　第１の屈折率層
　１４Ｂ　　第２の屈折率層
　１４Ｃ　　コンタクトプラグ
　１４Ｄ、１４Ｅ、１４Ｆ　　金属酸化物層
　１５、３１　　第１の電極
　１６　　素子間絶縁層
　１７　　有機エレクトロルミネッセンス層
　１８　　第２の電極
　１９　　保護層
　２０　　カラーフィルタ
　２０Ｒ　　赤色フィルタ
　２０Ｇ　　緑色フィルタ
　２０Ｂ　　青色フィルタ
　２１　　充填樹脂層
　２２　　対向基板
　２３、２４　　レジスト層
　３１　　電極本体
　３２　　延設部
　１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ　　サブ画素
　１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ　　発光素子
　１０２Ｒ、１０２Ｇ、１０２Ｂ　　共振器構造
　１１０Ａ　　表示領域
　１１０Ｂ　　周辺領域
　１１１　　信号線駆動回路
　１１１Ａ　　信号線
　１１２　　走査線駆動回路
　１１２Ａ　　走査線
　３１０　　デジタルスチルカメラ（電子機器）
　３２０　　ヘッドマウントディスプレイ（電子機器）
　３３０　　テレビジョン装置（電子機器）

Claims (16)

  1. 　基板と、
    　前記基板上に２次元配置された複数色のサブ画素と
    　を備え、
    　前記各サブ画素は、共振器構造を有する発光素子を備え、前記発光素子は、反射層と、光路長調整層と、第１の電極と、エレクトロルミネッセンス層と、第２の電極とをこの順序で備え、
    　前記光路長調整層は、前記エレクトロルミネッセンス層と対向する対向面を有し、該対向面の高さが、前記複数色のサブ画素で一定であり、
    　前記光路長調整層は、屈折率がそれぞれ異なる複数の屈折率層を備え、
    　前記光路長調整層は、前記複数色のサブ画素毎に層構成が異なっている表示装置。
  2. 　前記反射層と前記第１の電極との間における前記光路長調整層の厚さが、前記複数色のサブ画素で一定である請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記反射層と前記第２の電極との間の距離は、前記複数色のサブ画素で一定である請求項１に記載の表示装置。
  4. 　前記複数色のサブ画素毎の前記層構成は、前記各サブ画素の色に対応した光が前記共振器構造で共振されるように設定されている請求項１に記載の表示装置。
  5. 　前記光路長調整層は、第１の屈折率層と、前記第１の屈折率層に比べて屈折率が高い第２の屈折率層とを備え、
    　前記複数色のサブ画素のうちの少なくとも一色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層と前記第２の屈折率層との積層構成である請求項１に記載の表示装置。
  6. 　前記第１の屈折率層は、前記複数色のサブ画素に亘って連続して設けられ、
    　前記第２の屈折率層は、分離され、前記複数色のサブ画素のうちの一部の色のサブ画素に設けられている請求項５に記載の表示装置。
  7. 　分離された前記第２の屈折率層の側面は、前記第１の屈折率層で覆われている請求項６に記載の表示装置。
  8. 　前記第２の屈折率層は、分離され、前記複数色のサブ画素のうちの一部の色のサブ画素に設けられ、
    　前記第１の屈折率層は、分離された前記第２の屈折率層を覆っている請求項５に記載の表示装置。
  9. 　前記第１の屈折率層は、樹脂を含む請求項８に記載の表示装置。
  10. 　前記複数色のサブ画素は、第１の色のサブ画素と、第２の色のサブ画素と、第３の色のサブ画素とを含み、
    　前記光路長調整層は、第１の屈折率層と、前記第１の屈折率層に比べて屈折率が高い第２の屈折率層とを備える請求項１に記載の表示装置。
  11. 　前記第１の色のサブ画素の前記共振器構造、前記第２の色のサブ画素の前記共振器構造、前記第３の色のサブ画素の前記共振器構造はそれぞれ、前記第１の色の光、前記第２の色の光、前記第３の色の光を共振させる請求項１０に記載の表示装置。
  12. 　前記第１の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層の単層構成であり、
    　前記第２の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層と前記第２の屈折率層との積層構成であり、
    　前記第３の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第２の屈折率層の単層構成である請求項１０に記載の表示装置。
  13. 　前記第１の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層の単層構成であり、
    　前記第２の色のサブ画素および前記第３の色のサブ画素における前記光路長調整層の層構成は、前記第１の屈折率層と前記第２の屈折率層との積層構成であり、
    　前記第１の屈折率層および前記第２の屈折率層の厚さが、前記第２の色のサブ画素および前記第３の色のサブ画素で異なる請求項１０に記載の表示装置。
  14. 　前記第１の色、前記第２の色、前記第３の色はそれぞれ、赤色、緑色、青色である請求項１０に記載の表示装置。
  15. 　前記第１の電極は、電極本体と、延設部とを備え、前記延設部は、前記電極本体の周縁部から前記反射層に向かって延設され、前記反射層に接続されている請求項１に記載の表示装置。
  16. 　請求項１に記載の表示装置を備える電子機器。
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