CN116583895A - 显示装置及电子设备 - Google Patents

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CN116583895A CN202180081615.XA CN202180081615A CN116583895A CN 116583895 A CN116583895 A CN 116583895A CN 202180081615 A CN202180081615 A CN 202180081615A CN 116583895 A CN116583895 A CN 116583895A
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color
display device
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小仓昌也
市川朋芳
坂入卓
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Abstract

提供了一种抑制子像素之间的台阶的产生的显示装置。该显示装置设置有基板以及二维地布置在基板上的多种颜色的子像素。每一个子像素包括具有谐振器结构的发光元件。发光元件依次包括反射层、光路长度调节层、第一电极、电致发光层和第二电极。光路长度调节层具有与电致发光层相对的相对表面，相对表面的高度在多种颜色的子像素之中是恒定的。光路长度调节层包括各自具有不同的折射率的多个折射率层。光路长度调节层对于多种颜色的子像素中的每一个子像素具有不同的层配置。

Description

显示装置及电子设备
技术领域
本公开涉及显示装置和包括该显示装置的电子设备。
背景技术
近年来，有机电致发光(EL)显示装置(在下文中简称为“显示装置”)已经广泛地普及。作为该显示装置，提出了具有谐振器结构(空腔结构)的显示装置(例如，参见专利文献1)。
引用列表
专利文献
专利文献1：JP 2014-235959 A
发明内容
本发明要解决的问题
然而，在具有谐振器结构的显示装置中，光路长度调节层的膜厚度对于每一种颜色的子像素是不同的，并且因此在子像素之间的电极、有机EL层等中形成台阶，导致可能出现光学特性的劣化和由台阶导致的可靠性缺陷等问题的发生。
本公开的目的是提供一种能够抑制在子像素之间产生台阶的显示装置以及包括该显示装置的电子设备。
问题的解决方案
为了解决上述问题，本公开的显示装置包括：
基板；以及
二维地布置在基板上的多种颜色的子像素。
每一个子像素包括具有谐振器结构的发光元件，并且发光元件依次包括反射层、光路长度调节层、第一电极、电致发光层和第二电极。
光路长度调节层具有面向电致发光层的面向表面，并且面向表面的高度对于多种颜色的子像素中的每一个是恒定的。
光路长度调节层包括具有不同的折射率的多个折射率层。
光路长度调节层对于多种颜色的子像素中的每一个子像素具有不同的层配置。
在第一公开中，“层配置”是指例如构成光路长度调节层的多个折射率层的层数、构成光路长度调节层的多个折射率层的厚度或者构成光路长度调节层的多个折射率层的层数以及厚度两者。
在第一公开中，多种颜色的子像素可以包括第一颜色的子像素、第二颜色的子像素和第三颜色的子像素。多种颜色可包括第一颜色、第二颜色和第三颜色。第一颜色、第二颜色和第三颜色可以分别是红色、绿色和蓝色。多个折射率层可包括第一折射率层和第二折射率层。
第二公开是包括第一公开的显示装置的电子设备。
附图说明
图1是示出根据本公开的第一实施方式的显示装置的总体配置的示例的示意图。
图2是示出根据本公开的第一实施方式的显示装置的配置的示例的截面图。
图3是示出反射层、光路长度调节层和第一电极的配置的示例的平面图。
图4的A、图4的B、图4的C、图4的D和图4的E是用于说明根据本公开的第一实施方式的显示装置的制造方法的示例的截面图。
图5的A、图5的B、图5的C、图5的D和图5的E是用于说明根据本公开的第一实施方式的显示装置的制造方法的示例的截面图。
图6是示出根据本公开的第二实施方式的显示装置的配置的示例的截面图。
图7是示出反射层、光路长度调节层和第一电极的配置的示例的平面图。
图8是示出根据本公开的第二实施方式的变形例的显示装置的配置的示例的截面图。
图9是示出反射层、光路长度调节层和第一电极的配置的示例的平面图。
图10是示出模块的示意性配置的示例的平面图。
图11的A是示出数码相机的外观的示例的正视图。图11的B是示出数码相机的外观的示例的后视图。
图12是头戴式显示器的外观的示例的透视图。
图13是示出电视装置的外观的示例的透视图。
具体实施方式
将参考附图按照以下顺序描述本公开的实施方式。另外，在以下的各实施方式的所有附图中，对相同或对应的部分标注相同的附图标记。
1第一实施方式(显示装置的示例)
2第二实施方式(显示装置的示例)
3变形例(显示装置的变形例)
4应用例(电子设备的示例)
<1第一实施方式>
[显示装置的配置]
图1是示出根据本公开的第一实施方式的显示装置10的总体配置的示例的示意图。显示装置10包括显示区域110A和设置在显示区域110A的外围边缘上的外围区域110B。在显示区域110A中，以诸如矩阵的规定布置图案二维地布置三种颜色的子像素100R、100G、100B。
子像素100R是红色子像素(第一颜色的子像素)。子像素100G是绿色子像素(第二颜色的子像素)。子像素100B是蓝色子像素(第三颜色的子像素)。注意，在以下描述中，除非另外指明，否则子像素100R、100G、100B将被称为子像素100。相邻的子像素100R、100G、100B的组合构成一个像素(像素)。图1示出其中布置在行方向(水平方向)上的三个子像素100R、100G、100B的组合构成一个像素的示例。
在外围区域110B中，提供作为用于视频显示的驱动器的信号线驱动电路111和扫描线驱动电路112。信号线驱动电路111通过信号线111A将与从信号供应源(未示出)供应的亮度信息相对应的视频信号的信号电压供应给所选择的子像素100。扫描线驱动电路112包括与输入时钟脉冲同步地依次移位(传送)起始脉冲的移位寄存器等。扫描线驱动电路112在向每一个子像素写入视频信号时逐行扫描子像素100，并且向每条扫描线112A依次提供扫描信号。
显示装置10可以是微显示器。显示装置10可以包括在虚拟现实(VR)设备、混合现实(MR)设备、增强现实(AR)设备、电子取景器(EVF)、小型投影仪等中。
图2是示出根据本公开的第一实施方式的显示装置10的配置的示例的截面图。显示装置10包括驱动基板11、层间绝缘层12、反射层13、光路长度调节层14、第一电极15、元件间绝缘层16、有机电致发光层17(以下称为“EL层17”)、第二电极18、保护层19、滤色片20、填充树脂层21和面向基板22。驱动基板11、层间绝缘层12、反射层13、光路长度调节层14、第一电极15、EL层17、第二电极18、保护层19、滤色片20、填充树脂层21和面向基板22依次层压。注意，根据需要设置保护层19、滤色片20、填充树脂层21以及面向基板22，并且可以不设置这些层中的至少一个。
显示装置10是发光装置的示例。显示装置10是顶部发射型显示装置。显示装置10的面向基板22侧是顶侧，并且显示装置10的驱动基板11侧是底侧。在以下描述中，在构成显示装置10的每一层中，在显示装置10的顶侧上的表面被称为第一表面，并且在显示装置10的底侧上的表面被称为第二表面。
(发光元件)
子像素100R、100G、100B分别包括发光元件101R、101G、101B。发光元件101R、101G、101B中的每一个包括反射层13、光路长度调节层14、第一电极15、EL层17和第二电极18。发光元件101R、101G、101B是所谓的有机EL元件。发光元件101R、101G、101B分别发射红光、绿光和蓝光。在以下描述中，发光元件101R、101G、101B在统称为发光元件101时将被称为发光元件101，而不特别区分。
(谐振器结构)
发光元件101R、101G、101B分别具有谐振器结构102R、102G、102B。谐振器结构102R、102G、102B包含反射层13及第二电极18。谐振器结构102R、102G、102B中的每一个谐振、加强和发射特定波长的光。具体地，谐振器结构102R谐振并加强包括在EL层17中产生的白光中的红光，并将红光发射到外部。谐振器结构102G谐振并加强包括在EL层17中产生的白光中的绿光，并将绿光发射到外部。谐振器结构102B谐振并加强包括在EL层17中产生的白光中的蓝光，并将蓝光发射到外部。
反射层13与第二电极18之间的距离对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个被设置为恒定。另一方面，反射层13与第二电极18之间的光学距离(光路长度)根据被谐振的指定波长的光来设置。更具体地，在谐振器结构102R中，反射层13与第二电极18之间的光路长度被设置为使得红光谐振。在谐振结构102G中，反射层13与第二电极18之间的光路长度被设置为使得绿光谐振。在谐振器结构102B中，反射层13与第二电极18之间的光路长度被设置为使得蓝光谐振。
(驱动基板)
在驱动基板11的第一表面上，三种颜色的子像素100R、100G、100B以诸如矩阵的规定布置图案二维地布置。驱动基板11是所谓的背板并且驱动多个发光元件101。在驱动基板11的第一表面上，设置有驱动多个发光元件101的驱动电路、向多个发光元件101供电的电源电路等(均未示出)。
驱动基板11的基板主体可以包括例如具有低透湿性和透氧性的玻璃或树脂，或者可以包括促进晶体管等的形成的半导体。具体地，基板主体可以是玻璃基板、半导体基板、树脂基板等。玻璃基板包括例如高应变点玻璃、钠玻璃、硼硅酸盐玻璃、镁橄榄石、铅玻璃、石英玻璃等。半导体基板包括例如非晶硅、多晶硅、单晶硅等。树脂基板包含例如选自由聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚乙烯苯酚、聚醚砜、聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等组成的组中的至少一种。
(层间绝缘膜)
层间绝缘层12(在下文中简称为“绝缘层12”)设置在驱动基板11的第一表面上并覆盖驱动电路、电源电路等。绝缘层12包括多个接触插头和多个配线(两者均未示出)。每一个接触插头连接反射层13和驱动电路。
绝缘层12可以具有单层结构或层压结构。绝缘层12可以是有机绝缘层、无机绝缘层或其层压体。有机绝缘层含有例如选自由聚酰亚胺类树脂、丙烯酸类树脂、酚醛清漆类树脂等组成的组中的至少一种。无机绝缘层包含例如从由氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiN)、氮氧化硅(SiON)等组成的组中选择的至少一种。
(反射层)
反射层13设置在绝缘层12的第一表面上。反射层13针对每一个子像素100分离。反射层13通过第一电极15和光路长度调节层14反射从EL层17入射的光。反射层13的厚度对于每一个子像素100R、100G、100B是恒定的。
反射层13包括具有光反射性的材料。具体地，反射层13包含例如从由银(Ag)、铝(Al)、铂(Pt)、金(Au)、铬(Cr)、钨(W)等组成的组中选择的至少一种金属元素。反射层13可包含作为合金的组成元素的上述至少一种金属元素。合金的具体示例包括银合金和铝合金。
底层(未示出)可设置为与反射层13的第二表面侧相邻。基底层改善了反射层13在成膜时的反射层13的晶体定向。基底层含有例如选自钛(Ti)、氮化钛(TiN)、氧化钛(TiO2)等中的至少一种。
(光路长度调节层)
光路长度调节层14设置在绝缘层12的第一表面上并覆盖反射层13。光路长度调节层14是用于调节反射层13与用于三种颜色的每一个子像素100R、100G、100B的第二电极18之间的光路长度的层。光路长度调节层14具有透明性。光路长度调节层14包括多个接触插头14C(参见图3)。每一个接触插头14C连接第一电极15和反射层13。
光路长度调节层14具有面向EL层17的面向表面(第一表面)14S，并且对于三种颜色的每一个子像素100R、100G、100B，面向表面14S的高度是恒定的。即，光路长度调节层14的面向表面14S在显示区域110A中是平坦的。对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个，反射层13与第一电极15之间的光路长度调节层14的厚度D是恒定的。
对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个，光路长度调节层14具有不同的层配置。三种颜色的每一个子像素100R、100G、100B的层配置被设置为使得对应于子像素100R、100G、100B的各个颜色的光束在谐振结构102R、102G、102B中谐振。即，子像素100R的层配置被设置为使得对应于子像素100R的颜色的红光在谐振器结构102R中谐振。设置子像素100G的层配置，使得在谐振器结构102G中使与子像素100G的颜色相对应的绿光谐振。设置子像素100B的层配置，在谐振器结构102B中，使与子像素100B的颜色相对应的蓝光谐振。
光路长度调节层14包括第一折射率层14A和第二折射率层14B。第一折射率层14A和第二折射率层14B具有不同的折射率。具体地，第二折射率层14B的折射率高于第一折射率层14A的折射率。在三种颜色的子像素100R、100G、100B之中的至少一个子像素(具体地，子像素100G、100B)中的光路长度调节层14的层配置是第一折射率层14A和第二折射率层14B的层压配置。
具体地，子像素100R中的光路长度调节层14的层配置是第一折射率层14A的单层配置。在子像素100G和子像素100B的每一个中的光路长度调节层14的层配置是第一折射率层14A和第二折射率层14B的层压配置。在子像素100G和子像素100B的每一个中，第二折射率层14B和第一折射率层14A依次层压在反射层13上。第一折射率层14A和第二折射率层14B的厚度在子像素100G和子像素100B之间不同。子像素100G内的第一折射率层14A的厚度大于子像素100B内的第一折射率层14A的厚度。另一方面，子像素100G中的第二折射率层14B的厚度小于子像素100B中的第二折射率层14B的厚度。
第一折射率层14A连续地设置在三种颜色的子像素100R、100G、100B上。另一方面，第二折射率层14B被分成岛，并且分别分离的第二折射率层14B分别设置在三种颜色的子像素100R、100G、100B之中的子像素100G、100B中。第一折射率层14A设置在绝缘层12的第一表面上，以覆盖每一个分离的第二折射率层14B。分离的第二电极的侧面被第一折射率层14A覆盖。这能够在第二折射率层14B的侧面与覆盖该侧面的第一折射率层14A之间的界面处实现光的全反射。因此，可以提高显示装置10的正面亮度。
第一折射率层14A包括例如金属氧化物。第一折射率层14A中包含的金属氧化物例如包括从由氧化硅(SiO2)、氧氮化硅(SiON)和氧化铝(Alo)组成的组中选择的至少一种。
例如，第二折射率层14B包括金属氧化物。包含在第二折射率层14B中的金属氧化物包括从由氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN)、氧化铌(NbO)和氧化钛(TiO2)组成的组中选择的至少一种。
(第一电极)
第一电极15设置在光路长度调节层14的第一表面上。对于每一个子像素100，第一电极15被分离。第一电极15是阳极。当在第一电极15和第二电极18之间施加电压时，空穴从第一电极15注入到EL层17中。如图3所示，第一电极15连接至接触插头14C。
从提高发光效率的观点来看，第一电极15优选包括具有高功函数和高透射率的材料。第一电极15优选是透明电极。透明电极包括例如透明导电氧化物(TCO)。透明导电氧化物包含，例如，选自由包含铟的透明导电氧化物(在下文中，称为“铟基透明导电氧化物”)、包含锡的透明导电氧化物(在下文中，称为“锡基透明导电氧化物”)和包含锌的透明导电氧化物(在下文中，称为“锌基透明导电氧化物”)组成的组中的至少一种。
铟基透明导电氧化物例如包括氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化铟镓(IGO)、氧化铟镓锌(IGZO)或掺氟氧化铟(IFO)。在这些透明导电氧化物中，铟锡氧化物(ITO)是特别优选的。这是因为铟锡氧化物(ITO)在功函数方面向空穴注入EL层17具有特别低的势垒，并且因此可以使显示装置10的驱动电压特别低。锡基透明导电氧化物包含，例如氧化锡、锑掺杂的氧化锡(ATO)或氟掺杂的氧化锡(FTO)。锌类透明导电氧化物包括，例如氧化锌、铝掺杂氧化锌(AZO)、硼掺杂氧化锌、或镓掺杂氧化锌(GZO)。
(第二电极)
第二电极18设置在EL层17的第一表面上。第二电极18面向第一电极15。第二电极18被连续地设置在显示区域110A中的所有子像素100上并且被设置为显示区域110A中的所有子像素100共用的电极。第二电极18是阴极。第二电极18是对于在EL层17中产生的光具有透明性的透明电极。在此，透明电极还包括半透射反射层。从提高发光效率的观点来看，第二电极18优选包括具有低功函数的材料。
第二电极18包括例如金属层或金属氧化物层中的至少一个。更具体地，第二电极18包括金属层或金属氧化物层的单层膜，或金属层和金属氧化物层的层压膜。在第二电极18包括层压膜的情况下，金属层可以设置在EL层17侧上，或者金属氧化物层可以设置在EL层17侧上。然而，从使低功函数的层与EL层17相邻的观点来看，金属层优选设置在EL层17侧。
例如，金属层包含选自由镁(Mg)、铝(Al)、银(Ag)、钙(Ca)、钠(Na)等组成的组中的至少一种金属元素。金属层可以包含至少一种上述金属元素作为合金的组成元素。合金的具体示例包括MgAg合金、MgAl合金和AlLi合金。金属氧化物包含例如氧化铟和氧化锡(ITO)的混合物、氧化铟和氧化锌(IZO)的混合物、或氧化锌(ZnO)中的至少一种。
第二电极18可以是其中第一金属层和第二金属层层压的多层膜。第一金属层和第二金属层中的第一金属层可以设置在EL层17侧上。第一金属层包含例如从由钙(Ca)、钡(Ba)、锂(Li)、铯(Cs)、铟(In)、镁(Mg)和银(Ag)组成的组中选择的至少一种。第一金属层可以包含上述至少一种金属元素作为合金的组成元素。例如，第二金属层包含选自由镁(Mg)和银(Ag)组成的组中的至少一种。第二金属层可以包含上述至少一种金属元素作为合金的组成元素。
(EL层)
EL层17设置在第一电极15和第二电极18之间。EL层17连续地设置在显示区域110A中的所有子像素100上并且被设置为显示区域110A中的所有子像素100共有的有机层。
EL层17被配置为能够发射白光。EL层17可以是具有一堆叠结构的有机EL层、具有双堆叠结构的有机EL层或任何其他有机EL层。具有一堆叠结构的有机EL层具有一种配置，其中，例如，空穴注入层、空穴传输层、红色发光层、发光分离层、蓝色发光层、绿色发光层、电子传输层以及电子注入层按照这种顺序从第一电极15朝向第二电极18层压。具有双堆叠结构的有机EL层具有例如空穴注入层、空穴传输层、蓝色发光层、电子传输层、电荷产生层、空穴传输层、黄色发光层、电子传输层和电子注入层按照这种顺序从第一电极15朝向第二电极18层压的配置。
空穴注入层用于提高向每一个发光层中的空穴注入效率并防止泄漏。空穴传输层用于提高到每一个发光层的空穴传输效率。电子注入层用于提高到每一个发光层中的电子注入效率。电子传输层用于提高到每一个发光层的电子传输效率。发光分离层是用于调节载流子注入每一个发光层的层，并且通过经由发光分离层将电子或空穴注入每一个发光层来调节每种颜色的发光平衡。电荷产生层将电子和空穴分别提供至夹在电荷产生层之间的两个发光层。
红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层和黄色发光层通过施加电场分别产生红光、绿光、蓝光和黄光，引起从第一电极15注入的空穴与从第二电极18注入的电子之间的再结合。
(元件间绝缘层)
元件间绝缘层16(在后文中称为“绝缘层16”)设置在光路长度调节层14的第一表面上并且在相邻的第一电极15之间。绝缘层16将分离的第一电极15彼此绝缘。绝缘层16具有多个开口16A。多个开口16A分别对应于各子像素100设置。更具体地，多个开口16A分别设置在各个分离的第一电极15的第一表面(面向第二电极18的表面)上。第一电极15和EL层17通过开口16A彼此接触。
作为绝缘层16的构成材料，可例示与上述绝缘层12的材料相似的材料。
(保护层)
保护层19设置在第二电极18的第一表面上并且覆盖多个发光元件101。保护层19遮挡发光元件101免受外部空气影响，并且防止湿气从外部环境渗透到发光元件101中。此外，在第二电极18包括金属层的情况下，保护层19可以具有防止金属层的氧化的功能。
保护层19包括例如具有低吸湿性的无机材料。无机材料包括例如氧化硅(SiO2)、氮化硅(SiN)、氮氧化硅(SiNO)、氧化钛(TiO)或氧化铝(A10)中的至少一种。保护层19可以具有单层结构，但是在增加保护层19的厚度的情况下可以具有多层结构。这是为了减轻保护层19中的内部应力。保护层19可包括聚合物树脂。聚合物树脂包括选自由热固性树脂、紫外线固化树脂等组成的组中的至少一种。
(滤色片)
滤色片20设置在保护层19的第一表面上。滤色片20例如是片上滤色片(OCCF)。例如，滤色片20包括红色滤色片20R、绿色滤色片20G、以及蓝色滤色片20B。红色滤色片20R、绿色滤色片20G和蓝色滤色片20B分别被设置为面向发光元件101R、101G、101B。红色滤色片20R和发光元件101R构成子像素100R，绿色滤色片20G和发光元件101G构成子像素100G，并且蓝色滤色片20B和发光元件101B构成子像素100B。
从发光元件101R、发光元件101G和发光元件101B发射的红光、绿光和蓝光分别穿过上述红色滤色片20R、绿色滤色片20G和蓝色滤色片20B。因此，从显示表面发射具有高色纯度的红光、绿光和蓝光。此外，遮光层(未示出)可以设置在相应颜色的滤色片20R、20G、20B之间的区域中，即，设置在滤色片20的子像素100之间。注意，滤色片20不限于片上滤色片，而可以是设置在面向基板22的第二表面上的滤色片。
(填充树脂层)
填充树脂层21设置在滤色片20与面向基板22之间。填充树脂层21具有用于粘合滤色片20和面向基板22的粘合层的功能。填充树脂层21包含例如选自由热固性树脂、紫外线固化树脂等组成的组中的至少一种。
(面向基板)
面向基板22被设置为面向驱动基板11。更具体地，面向基板22被设置成使得面向基板22的第二表面与驱动基板11的第一表面彼此面向。面向基板22密封发光元件101、滤色片20等。面向基板22包括对从滤色片20发射的每种颜色光透明的诸如玻璃的材料。
[显示装置的制造方法]
在下文中，将参考图4的A至图4的E以及图5的A至图5的E描述用于制造根据本公开的第一实施方式的显示装置10的方法的示例。
首先，使用例如薄膜形成技术、光刻技术和蚀刻技术在基板主体的第一表面上形成驱动电路、电源电路等。结果，获得驱动基板11。接下来，绝缘层12通过例如化学气相沉积(CVD)形成在驱动基板11的第一表面上以覆盖驱动电路、电源电路等。接下来，如图4的A所示，通过例如溅射在绝缘层12的第一表面上形成反射层13。接下来，使用例如光刻技术和蚀刻技术来图案化反射层13，并且在对应部分处分离子像素100。要注意的是，在图4的B和随后的附图中，省略反射层13的分离部分。
接下来，如图4的B所示，金属氧化物层14D通过例如CVD形成在反射层13的第一表面上。接着，如图4的C所示，在金属氧化物层14D的第一表面上形成具有预定图案的抗蚀剂掩模，然后通过抗蚀剂掩模干蚀刻金属氧化物层14D。因此，如图4的D所示，金属氧化物层14D保留在对应于每一个子像素100B的区域中。
接下来，如图4的E所示，金属氧化物层14E通过例如CVD形成在反射层13的第一表面上，并覆盖金属氧化物层14D。接着，如图5的A所示，在金属氧化物层14E的第一表面上形成具有预定图案的抗蚀剂掩模，然后通过抗蚀剂掩模干蚀刻金属氧化物层14D。因此，如图5的B所示，金属氧化物层14E在对应于每一个子像素100G的区域和对应于每一个子像素100B的区域中保持岛形，并且形成具有两种类型的高度的第二折射率层14B。
接下来，如图5的C所示，金属氧化物层14F通过例如CVD形成在反射层13的第一表面上，并且覆盖岛形第二折射率层14B。接下来，通过例如化学机械抛光(CMP)对金属氧化物层14F的第一表面进行抛光，以暴露具有如图5的D所示的两种类型的高度的第二折射率层14B中的较高的第二折射率层14B的第一表面。接下来，露出第二折射率层14B的金属氧化物层14F的第一表面经受等离子体处理以改变第二折射率层14B的第一表面的状态。因此，如图5的E所示，形成第一折射率层14A以便覆盖具有两种类型的高度的第二折射率层14B。即，光路长度调节层14形成在反射层13的第一表面上。
接下来，通过例如溅射在绝缘层12的第一表面上连续地形成金属氧化物层，并且然后使用例如光刻技术和蚀刻技术来图案化金属氧化物层。因此，形成针对每一个子像素100分离的第一电极15。
接下来，通过例如等离子体CVD在光路长度调节层14的第一表面上形成绝缘层16以覆盖第一电极15。接下来，通过例如光刻技术和干法蚀刻技术，在对应于每一个子像素100的位置处形成开口16A。由此，分离的第一电极15的第一表面暴露。
接下来，通过例如气相沉积将空穴注入层、空穴传输层、红色发光层、发光分离层、蓝色发光层、绿色发光层、电子传输层和电子注入层按照这种顺序层压在第一电极15的第一表面和光路长度调节层14的第一表面上以形成EL层17。接着，通过例如气相沉积或溅射在EL层17的第一表面上形成第二电极18。因此，多个发光元件101形成在绝缘层12的第一表面上。
接下来，通过例如CVD或气相沉积将保护层19形成在第二电极18的第一表面上，并且然后通过例如光刻将滤色片20形成在保护层19的第一表面上。注意，为了平坦化保护层19中的台阶或由滤色片20本身的膜厚度差异引起的台阶，平坦化层可以形成在滤色片20上方或下方，或者形成在滤色片20上方和下方。接下来，使用例如滴下式注入(ODF)用填充树脂层21覆盖滤色片20，并且然后将面向基板22放置在填充树脂层21上。接下来，例如，将热量施加至填充树脂层21，或者利用紫外线照射填充树脂层21以固化填充树脂层21，从而通过填充树脂层21粘结驱动基板11和面向基板22。由此，显示装置10被密封。如上所述，获得图2中所示的显示装置10。
[作用效果]
如上所述，在根据第一实施方式的显示装置10中，光路长度调节层14具有面向EL层17的面向表面14S，并且对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个，面向表面14S的高度是恒定的，使得可以抑制在子像素100R、100G、100B之间的绝缘层16、EL层17、第二电极18等中产生台阶。因此，可以防止由上述步骤引起的光学特性劣化和可靠性缺陷。
<2第二实施方式>
[显示装置的配置]
图6是示出根据本公开的第二实施方式的显示装置30的配置的示例的截面图。图7是示出反射层13、光路长度调节层14和第一电极31的配置的示例的平面图。显示装置30与根据第一实施方式的显示装置10的不同之处在于提供第一电极31而不是第一电极15，并且子像素100B中的光路长度调节层14的层配置是第二折射率层14B的单层配置。另外，在第二实施方式中，对与第一实施方式相同的部分标注相同的附图标记，省略其说明。
第一电极31包括电极体31A和延伸部31B。电极体31A具有与第一实施方式中的第一电极15的配置相似的配置。延伸部31B从电极体31A的第二表面的整个外围边缘朝向反射层13的第一表面的外围边缘延伸，并且延伸部31B的顶端连接至反射层13的第一表面的外围边缘。由此，延伸部31B形成围绕反射层13的第一表面的周壁。在此，电极体31A的第二表面是面向反射层13的第一表面的面向表面，并且反射层13的第一表面是面向电极体31A的第二表面的面向表面。
在子像素100R中，第一折射率层14A设置在电极体31A与反射层13之间。在子像素100G中，第一折射率层14A和第二折射率层14B设置在电极体31A与反射层13之间。图6示出在子像素100R中依次层压反射层13、第二折射率层14B、第一折射率层14A以及电极体31A的示例。然而，反射层13、第一折射率层14A、第二折射率层14B以及电极体31A可按该顺序层压在子像素100G中。在子像素100B中，第二折射率层14B设置在电极体31A与反射层13之间。
在第二实施方式中，对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个，反射层13与电极体31A之间的光路长度调节层14的厚度D被设置为恒定。
[作用效果]
如上所述，在根据第二实施方式的显示装置30中，第一电极31包括电极体31A和延伸部31B，并且延伸部31B从电极体31A的第二表面的外围边缘朝向反射层13的第一表面的外围边缘延伸并且连接至反射层13的第一表面的外围边缘。与第一电极15和反射层13通过接触插头14C连接的配置相比，这使得可以改善孔径比(参加图3)。应注意，在图3中示出的连接配置的情况下，连接至接触插头14C的第一电极15的一端被绝缘层16覆盖并且因此是不有助于发光的区域。
通过在反射层13的第一表面的外围边缘处以站立状态设置延伸部31B，指向相邻的子像素100的光可被延伸部31B反射。因此，可以提高显示装置10的正面亮度。
<3变形例>
(变形例1)
在第二实施方式中，已经描述了延伸部31B从电极体31A的第二表面的整个外围边缘朝向反射层13的第一表面的整个外围边缘延伸的示例。然而，如图8和图9中所示，延伸部可从电极体31A的第二表面的外围边缘的一部分朝向反射层13的第一表面的外围边缘的一部分延伸。即，延伸部31B可在反射层13的第一表面的外围边缘的一部分上形成壁。
(变形例2)
在第一实施方式和第二实施方式中，已经描述了显示装置10、30包括三种颜色的子像素100的示例。然而，显示装置10、30可以包括除了三种颜色之外的多种颜色的子像素100。
(变形例3)
光路长度调节层14的层配置并不局限于第一实施方式和第二实施方式中所描述的示例，而是可具有除第一实施方式和第二实施方式中所描述的那些之外的层配置。例如，在第一和第二实施方式中，已经描述了光路长度调节层14包括具有不同折射率的两个折射率层(即，第一折射率层14A和第二折射率层14B)的示例。然而，光路长度调节层14可以包括具有不同折射率的三个或更多个折射率层。
(变形例4)
在第一实施方式中，已经描述了第一折射率层14A包含金属氧化物的示例，但是第一折射率层14A可包含聚合物树脂。例如，聚合物树脂包括选自由热固性树脂、紫外线固化树脂等组成的组中的至少一种。
如在第一实施方式中，在第一折射率层14A被配置为覆盖各个分离的第二折射率层14B的情况下(参见图2)中，特别优选第一折射率层14A包含聚合物树脂。在第一折射率层14A包含聚合物树脂的情况下，第一折射率层14A可通过在反射层13上形成第二折射率层14B，然后将树脂涂覆到绝缘层12的第一表面并在显示装置10的制造过程中固化树脂来形成。这可以简化显示装置10的制造过程。
(变形例5)
在第一和第二实施方式中，已经描述了反射层13在三种颜色的子像素100R、100G、100B中具有相同厚度的示例。然而，对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个，反射层13的厚度可不同。在这种情况下，对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个，调节反射层13与第一电极15之间或反射层13与电极体31A之间的光路长度调节层14的厚度D，使得对于三种颜色的子像素100R、100G、100B中的每一个，光路长度调节层14的面向表面14S的高度是恒定的。
<4应用例>
(电子设备)
根据上述第一和第二实施方式及其变形例的显示装置10、30(以下称为“显示装置10等”)可以用于各种电子设备。显示装置10等被结合在各种电子设备中，例如，作为如图10所示的模块。特别适合用于需要高分辨率并靠近眼睛放大的摄像机或单透镜反射摄像机、头戴式显示器等的电子取景器。该模块在驱动基板11的一个短边上具有露出而没有被面向基板22等覆盖的区域210，并且外部连接端子(未示出)通过延伸信号线驱动电路111和扫描线驱动电路112的配线而形成在区域210中。用于输入和输出信号的柔性印刷电路(FPC)220可连接到外部连接端子。
(具体示例1)
图11的A和图11的B示出数码相机310的外观的示例。数码相机310是可更换镜头的单镜头反射类型，并且包括大致位于相机主体311前方的中心处的可更换拍摄镜头单元(可更换镜头)312和将由拍摄者保持在前方左侧的把手313。
监视器314设置在从相机主体311的背面的中心向左偏离的位置处。在监视器314的上方设有电子取景器(目镜窗)315。通过观察电子取景器315，拍摄者可以观看从拍摄镜头单元312引导的对象的光学图像以确定构图。作为电子取景器315，可以使用显示装置10等。
(具体示例2)
图12示出头戴式显示器320的外观的示例。头戴式显示器320包括例如耳钩322，耳钩322在玻璃形状的显示部分321的两侧上安装在用户的头部上。作为显示部分321，可以使用显示装置10等。
(具体示例3)
图13示出电视装置330的外观的示例。电视装置330包括，例如包括前面板332和滤光玻璃333的视频显示屏幕部331，并且视频显示屏幕部331包括显示装置10等。
尽管上面已经具体描述根据本公开的第一实施方式和第二实施方式及其变形，但是本公开不限于上述第一实施方式和第二实施方式及其变形，并且可以基于本公开的技术构思进行各种变形。
例如，在第一和第二实施方式及其变形例中描述的配置、方法、处理、形状、材料、数值等仅仅是示例，并且根据需要，可以使用不同的配置、方法、处理、形状、材料、数值等。
在不背离本公开的主旨的情况下，第一和第二实施方式及其变形例的配置、方法、处理、形状、材料、数值等可彼此组合。
第一和第二实施方式及其变形例中举例说明的材料可以单独使用或以两种或更多种的组合使用，除非另有说明。
此外，本公开可采用以下配置。
(1)
一种显示装置，包括：
基板；以及
多种颜色的子像素，二维地布置在基板上，其中，
子像素中的每一个子像素包括具有谐振器结构的发光元件，并且发光元件依次包括反射层、光路长度调节层、第一电极、电致发光层和第二电极，
光路长度调节层具有面向电致发光层的面向表面，并且面向表面的高度对于多种颜色的子像素中的每一个子像素是恒定的，
光路长度调节层包括具有不同的折射率的多个折射率层，并且
光路长度调节层对于多种颜色的子像素中的每一个子像素具有不同的层配置。
(2)
根据(1)所述的显示装置，其中，反射层与第一电极之间的光路长度调节层的厚度对于多种颜色的子像素中的每一个子像素是恒定的。
(3)
根据(1)或(2)所述的显示装置，其中，反射层与第二电极之间的距离对于多种颜色的子像素中的每一个子像素是恒定的。
(4)
根据(1)至(3)中任一项所述的显示装置，其中，多种颜色的子像素中的每一个子像素的层配置被设置为使得与子像素中的每一个子像素的颜色相对应的光在谐振器结构中谐振。
(5)
根据(1)至(4)中任一项所述的显示装置，其中，
光路长度调节层包括第一折射率层和折射率比第一折射率层的折射率更高的第二折射率层，并且
多种颜色的子像素之中的至少一种颜色的子像素中的光路长度调节层的层配置是第一折射率层和第二折射率层的层压配置。
(6)
根据(5)所述的显示装置，其中，
第一折射率层连续地设置在多种颜色的子像素上，并且
第二折射率层被分离并设置在多种颜色的子像素之中的一些颜色的子像素中。
(7)
根据(6)所述的显示装置，其中，每一个所分离的第二折射率层的侧表面被第一折射率层覆盖。
(8)
根据(5)所述的显示装置，其中，
第二折射率层被分离并设置在多种颜色的子像素之中的一些颜色的子像素中，并且
第一折射率层覆盖每一个所分离的第二折射率层。
(9)
根据(8)所述的显示装置，其中，第一折射率层包含树脂。
(10)
根据(1)至(4)中任一项所述的显示装置，其中，
多种颜色的子像素包括第一颜色的子像素、第二颜色的子像素和第三颜色的子像素，并且
光路长度调节层包括第一折射率层和折射率比第一折射率层的折射率更高的第二折射率层。
(11)
根据(10)所述的显示装置，其中，第一颜色的子像素的谐振器结构、第二颜色的子像素的谐振器结构和第三颜色的子像素的谐振器结构分别谐振第一颜色的光、第二颜色的光和第三颜色的光。
(12)
根据(10)或(11)所述的显示装置，其中，
第一颜色的子像素中的光路长度调节层的层配置是第一折射率层的单层配置，
第二颜色的子像素中的光路长度调节层的层配置是第一折射率层和第二折射率层的层压配置，并且
第三颜色的子像素中的光路长度调节层的层配置是第二折射率层的单层配置。
(13)
根据(10)或(11)所述的显示装置，其中，
第一颜色的子像素中的光路长度调节层的层配置是第一折射率层的单层配置，
第二颜色的子像素和第三颜色的子像素中的每一个子像素中的光路长度调节层的层配置是第一折射率层和第二折射率层的层压配置，并且
第一折射率层和第二折射率层的厚度在第二颜色的子像素与第三颜色的子像素之间是不同的。
(14)
根据(10)至(13)中任一项所述的显示装置，其中，第一颜色、第二颜色和第三颜色分别为红色、绿色和蓝色。
(15)
根据(1)至(14)中任一项所述的显示装置，其中，第一电极包括电极体和延伸部，并且延伸部从电极体的外围边缘朝向反射层延伸并连接至反射层。
(16)
一种电子设备，包括根据(1)至(15)中任一项所述的显示装置。
参考符号列表
10、30显示装置
11驱动基板
12层间绝缘膜
13反射层
14光路长度调节层
14A第一折射率层
14B第二折射率层
14C接触插头
14D、14E、14F金属氧化物层
15、31第一电极
16元件间绝缘层
17有机电致发光层
18第二电极
19保护层
20滤色片
20R红色滤色片
20G绿色滤色片
20B蓝色滤色片
21填充树脂层
22面向基板
23、24抗蚀剂层
31电极体
32延伸部
100R、100G、100B子像素
101R、101G、101B发光元件
102R、102G、102B谐振器结构
110A显示区域
110B外围区域
111信号线驱动电路
111A信号线
112扫描线驱动电路
112A扫描线
310数码相机(电子设备)
320头戴式显示器(电子设备)
330电视装置(电子设备)

Claims (16)

1.一种显示装置，包括：
基板；以及
多种颜色的子像素，二维地布置在所述基板上，其中，
所述子像素中的每一个子像素包括具有谐振器结构的发光元件，并且所述发光元件依次包括反射层、光路长度调节层、第一电极、电致发光层和第二电极，
所述光路长度调节层具有面向所述电致发光层的面向表面，并且所述面向表面的高度对于所述多种颜色的所述子像素中的每一个子像素是恒定的，
所述光路长度调节层包括具有不同的折射率的多个折射率层，并且
所述光路长度调节层对于所述多种颜色的所述子像素中的每一个子像素具有不同的层配置。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述反射层与所述第一电极之间的所述光路长度调节层的厚度对于所述多种颜色的所述子像素中的每一个子像素是恒定的。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述反射层与所述第二电极之间的距离对于所述多种颜色的所述子像素中的每一个子像素是恒定的。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多种颜色的所述子像素中的每一个子像素的层配置被设置为使得与所述子像素中的每一个子像素的颜色相对应的光在所述谐振器结构中谐振。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述光路长度调节层包括第一折射率层和折射率比所述第一折射率层的折射率更高的第二折射率层，并且
所述多种颜色的所述子像素之中的至少一种颜色的子像素中的所述光路长度调节层的层配置是所述第一折射率层和所述第二折射率层的层压配置。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，
所述第一折射率层连续地设置在所述多种颜色的所述子像素上，并且
所述第二折射率层被分离并设置在所述多种颜色的所述子像素之中的一些颜色的子像素中。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，每一个所分离的第二折射率层的侧表面被所述第一折射率层覆盖。
8.根据权利要求5所述的显示装置，其中，
所述第二折射率层被分离并设置在所述多种颜色的所述子像素之中的一些颜色的子像素中，并且
所述第一折射率层覆盖每一个所分离的第二折射率层。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第一折射率层包含树脂。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，
所述多种颜色的所述子像素包括第一颜色的子像素、第二颜色的子像素和第三颜色的子像素，并且
所述光路长度调节层包括第一折射率层和折射率比所述第一折射率层的折射率更高的第二折射率层。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述第一颜色的子像素的谐振器结构、所述第二颜色的子像素的谐振器结构和所述第三颜色的子像素的谐振器结构分别谐振所述第一颜色的光、所述第二颜色的光和所述第三颜色的光。
12.根据权利要求10所述的显示装置，其中，
所述第一颜色的子像素中的所述光路长度调节层的层配置是所述第一折射率层的单层配置，
所述第二颜色的子像素中的所述光路长度调节层的层配置是所述第一折射率层和所述第二折射率层的层压配置，并且
所述第三颜色的子像素中的所述光路长度调节层的层配置是所述第二折射率层的单层配置。
13.根据权利要求10所述的显示装置，其中，
所述第一颜色的子像素中的所述光路长度调节层的层配置是所述第一折射率层的单层配置，
所述第二颜色的子像素和所述第三颜色的子像素中的每一个子像素中的所述光路长度调节层的层配置是所述第一折射率层和所述第二折射率层的层压配置，并且
所述第一折射率层和所述第二折射率层的厚度在所述第二颜色的子像素与所述第三颜色的子像素之间是不同的。
14.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述第一颜色、所述第二颜色和所述第三颜色分别是红色、绿色和蓝色。
15.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一电极包括电极体和延伸部，并且所述延伸部从所述电极体的外围边缘朝向所述反射层延伸并连接至所述反射层。
16.一种电子设备，包括根据权利要求1所述的显示装置。
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