WO2022138828A1 - 表示装置および電子機器 - Google Patents

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WO2022138828A1
WO2022138828A1 PCT/JP2021/047892 JP2021047892W WO2022138828A1 WO 2022138828 A1 WO2022138828 A1 WO 2022138828A1 JP 2021047892 W JP2021047892 W JP 2021047892W WO 2022138828 A1 WO2022138828 A1 WO 2022138828A1
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WO
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display device
light
layer
filter
electrode
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PCT/JP2021/047892
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English (en)
French (fr)
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圭一 八木
柱元 濱地
陽介 元山
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ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社
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    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • H10K59/8792—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light comprising light absorbing layers, e.g. black layers

Definitions

  • This disclosure relates to a display device and an electronic device equipped with the display device.
  • peripheral region a region around the display region
  • stray light or the like is generated. Therefore, in order to suppress the reflection of external light, a technique for suppressing the reflection of light in the visible light region by stacking two or more color filters in the peripheral region has been conventionally proposed (for example, Patent Document). 1).
  • An object of the present disclosure is to provide a display device capable of suppressing light reflection in the visible light region in the peripheral region and an electronic device including the display device.
  • the first disclosure is The area around the display area is provided with a reflective part, an insulating layer, electrodes, and a filter of a specified color in this order.
  • a resonator structure is composed of a reflector and electrodes, and the resonator structure is a display device that attenuates light of a specified color.
  • the second disclosure is an electronic device provided with the display device of the first disclosure.
  • the third disclosure is A reflection unit, a light absorption unit, an electrode, and a color filter are provided in this order in the area around the display area.
  • the light absorption unit is a display device that absorbs the light transmitted through the color filter.
  • the fourth disclosure is an electronic device provided with the display device of the third disclosure.
  • FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of a display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG.
  • FIG. 3 is a graph showing the light intensity distribution of the filter and the resonator structure.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing a configuration example of the display device according to the second embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration example of the display device according to the third embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display device according to a modified example.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display device according to a modified example.
  • FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of a display device according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display device according to a modified example.
  • FIG. 9A is a front view showing an example of the appearance of the digital still camera.
  • FIG. 9B is a rear view showing an example of the appearance of the digital still camera.
  • FIG. 10 is a perspective view showing an example of the appearance of the head-mounted display.
  • FIG. 11 is a perspective view showing an example of the appearance of the television device.
  • FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of a display device 100 according to the first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG.
  • the display device 100 is a so-called organic EL display device.
  • the display device 100 has a display area R1 and a peripheral area R2.
  • a plurality of sub-pixels 101R, 101G, and 101B are two-dimensionally arranged in a predetermined arrangement pattern such as a matrix.
  • the peripheral area R2 is provided around the display area R1.
  • the peripheral region R2 has a closed loop shape surrounding the display region R1.
  • the sub-pixel 101R displays red
  • the sub-pixel 101G displays green
  • the sub-pixel 101B displays blue.
  • the sub-pixels 101R, 101G, and 101B are generically referred to without particular distinction, they are referred to as sub-pixels 101.
  • a combination of adjacent sub-pixels 101R, 101G, and 101B constitutes one pixel.
  • the display device 100 may further have a connection area R3.
  • a pad portion 31 is provided in the connection area R3.
  • the pad unit 31 is a connection unit for electrically connecting the display device 100 to the main board or the like of an electronic device.
  • the pad portion 31 is provided with a plurality of connection terminals 31A.
  • the pad portion 31 is connected to a main board of an electronic device or the like via a connecting member such as a flexible printed wiring board or the like.
  • the display device 100 may be a micro display.
  • the display device 100 may be provided in a VR (Virtual Reality) device, an MR (Mixed Reality) device, an AR (Augmented Reality) device, an electronic viewfinder (EVF), a small projector, or the like.
  • VR Virtual Reality
  • MR Magnetic Reality
  • AR Augmented Reality
  • EVF electronic viewfinder
  • the display device 100 includes a first substrate 11, an insulating layer 12, a reflective layer 13, an insulating layer 14, a plurality of first electrodes 15A, an insulating layer 16, and an organic EL. It includes a layer 17, a second electrode 18, a third electrode 15B, a protective layer 19, a flattening layer 20, a color filter 21, a filled resin layer 22, and a second substrate 23.
  • the flattening layer 20 is provided as needed and may not be provided.
  • the filled resin layer 22 and the second substrate 23 are also provided as needed, and may not be provided.
  • the color filter 21, the filling resin layer 22, and the second substrate 23 are provided in this order.
  • the peripheral region R2 is filled with a first substrate 11, an insulating layer 12, a reflective layer 13, an insulating layer 14, a third electrode 15B, a second electrode 18, a protective layer 19, a flattening layer 20, a color filter 21, and a filling.
  • the resin layer 22 and the second substrate 23 are provided in this order.
  • the peripheral region R2 is provided with the third electrode 15B will be described, but the third electrode 15B is provided as needed and may not be provided. ..
  • the display device 100 is a top emission type display device.
  • the second substrate 23 side of the display device 100 is the top side (display surface side), and the first substrate 11 side of the display device 100 is the bottom side.
  • the surface on the top side of the display device 100 is referred to as a first surface
  • the surface on the bottom side of the display device 100 is referred to as a second surface.
  • the sub-pixels 101R, 101G, and 101B include light emitting elements 24R, 24G, and 24B, respectively.
  • the light emitting elements 24R, 24G, and 24B are so-called organic EL elements.
  • the light emitting element 24R is a red light emitting element that emits red light.
  • the light emitting element 24G is a green light emitting element that emits green light.
  • the light emitting element 24B is a blue light emitting element that emits blue light.
  • the light emitting element 24 is composed of a reflective layer 13, an insulating layer 14, a first electrode 15A, an organic EL layer 17, and a second electrode 18.
  • the light emitting elements 24R, 24G, and 24B have resonator structures 25R, 25G, and 25B, respectively.
  • the resonator structures 25R, 25G, and 25B are composed of a reflective layer 13 and a second electrode 18.
  • the resonator structures 25R, 25G, and 25B resonate and emphasize light having a predetermined wavelength corresponding to each color of the sub-pixels 101R, 101G, and 101B, and emit light toward the display surface.
  • the resonator structure 25R resonates and emphasizes the red light contained in the white light generated in the organic EL layer 17, and emits it toward the display surface.
  • the resonator structure 25G resonates and emphasizes the green light contained in the white light generated in the organic EL layer 17, and emits it toward the display surface.
  • the resonator structure 25B resonates and emphasizes the blue light contained in the white light generated in the organic EL layer 17, and emits it toward the display surface.
  • the resonator structures 25R, 25G, and 25B are generically referred to without particular distinction, they are referred to as the resonator structure 25.
  • the optical path length (optical distance) between the reflective layer 13 and the second electrode 18 in the display region R1 is set according to the light of the specified wavelength resonating in each of the resonator structures 25R, 25G, and 25B. More specifically, in the resonator structure 25R, the optical path length between the reflection layer 13 and the second electrode 18 is set so that the red light resonates and is emphasized. In the resonator structure 25G, the optical path length between the reflection layer 13 and the second electrode 18 is set so that the green light resonates and is emphasized. In the resonator structure 25B, the optical path length between the reflection layer 13 and the second electrode 18 is set so that blue light resonates and is emphasized.
  • a resonator structure 25R1 is provided in the peripheral region R2.
  • the resonator structure 25R1 is composed of a reflective layer 13 and a second electrode 18.
  • the resonator structure 25R1 resonates and emphasizes light having a specified wavelength, and cancels and weakens light other than the specified wavelength.
  • the resonator structure 25R1 resonates and emphasizes red light, and cancels and weakens light other than red light (for example, blue light).
  • the optical path length (optical distance) between the reflective layer 13 and the second electrode 18 in the peripheral region R2 is set according to the light of the specified wavelength resonated by the resonator structure 25R1. More specifically, in the resonator structure 25R1, the optical path length between the reflective layer 13 and the second electrode 18 is set so that red light resonates and is emphasized, and light other than red light is canceled and weakened. Has been done.
  • Red light is, for example, light having spectral characteristics with a half width in the range of 603 nm or more and 660 nm or less.
  • the green light is, for example, light having spectral characteristics having a half width in the range of 515 nm or more and 565 nm or less.
  • the blue light is, for example, light having spectral characteristics having a half width in the range of 442 nm or more and 487 nm or less.
  • the first substrate 11 is a so-called backplane.
  • the first substrate 11 is provided with a drive circuit for driving a plurality of light emitting elements 24, a power supply circuit for supplying electric power to the plurality of light emitting elements 24 (none of which is shown), and the like.
  • the substrate body of the first substrate 11 may be made of, for example, a semiconductor such as a transistor which can be easily formed, or may be made of glass or resin having low water and oxygen permeability.
  • the substrate body may be a semiconductor substrate, a glass substrate, a resin substrate, or the like.
  • the semiconductor substrate includes, for example, amorphous silicon, polycrystalline silicon, single crystal silicon, and the like.
  • the glass substrate includes, for example, high strain point glass, soda glass, borosilicate glass, forsterite, lead glass, quartz glass and the like.
  • the resin substrate contains, for example, at least one selected from the group consisting of polymethylmethacrylate, polyvinyl alcohol, polyvinylphenol, polyethersulfone, polyimide, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate and the like.
  • the insulating layer 12 is provided on the first surface of the first substrate 11 and covers the drive circuit, the power supply circuit, and the like. As a result, the first surface of the first substrate 11 is flattened.
  • the insulating layer 12 insulates between the first substrate 11 and the reflective layer 13.
  • the insulating layer 12 includes a plurality of vias and a plurality of wirings (none of which are shown). The plurality of vias electrically connect the reflective layer 13 and the drive circuit.
  • the insulating layer 12 may have a single-layer structure or a laminated structure.
  • the insulating layer 12 may be an organic insulating layer, an inorganic insulating layer, or a laminate thereof.
  • the organic insulating layer contains, for example, at least one selected from the group consisting of polyimide-based resin, acrylic-based resin, novolak-based resin and the like.
  • the inorganic insulating layer contains, for example, at least one selected from the group consisting of silicon oxide (SiO x ), silicon nitride (SiN x ), silicon oxynitride (SiO x N y ) and the like.
  • the reflective layer 13 is provided on the first surface of the insulating layer 12.
  • the reflective layer 13 includes a plurality of reflective portions 13A, a reflective portion 13B, and an insulating portion 13C.
  • the plurality of reflecting portions 13A are provided in the display area R1. Each of the plurality of reflecting portions 13A is provided corresponding to the sub pixel 101.
  • the reflecting portion 13A reflects the light incident from the organic EL layer 17 through the first electrode 15A and the insulating layer 14.
  • the thicknesses of the reflective portions 13A of the sub-pixels 101R, 101G, and 101B may be the same.
  • the resonator structures 25R, 25G, and 25B are configured by the reflecting portion 13A and the second electrode 18.
  • the reflective portion 13A is made of a material having light reflectivity.
  • the reflective layer 13 is at least one selected from the group consisting of, for example, silver (Ag), aluminum (Al), platinum (Pt), gold (Au), chromium (Cr), tungsten (W) and the like. Includes seed metal elements.
  • the reflective layer 13 may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy. Specific examples of the alloy include silver alloys and aluminum alloys.
  • the reflecting unit 13A includes at least one selected from the group consisting of, for example, titanium (Ti), titanium nitride (TiN), titanium oxide (TiO 2 ) and the like.
  • the reflection portion 13B is provided in the peripheral region R2.
  • the reflecting unit 13B reflects external light incident on the display device 100 from the display surface side.
  • the reflective portion 13B may have a closed loop shape surrounding the display region R1.
  • the shape of the reflective portion 13B is not limited to this, and for example, the reflective portion 13B may be provided discontinuously in the circumferential direction of the peripheral region R2, or may have a specified length in the circumferential direction of the peripheral region R2. It may be provided in a section having a sill.
  • the reflective portion 13B may be a wiring layer or the like including copper (Cu) wiring or the like.
  • the resonator structure 25R1 is composed of the reflecting portion 13B and the second electrode 18.
  • the reflective portion 13B is made of a material having light reflectivity.
  • the reflective portion 13B may contain the same material as the reflective portion 13A.
  • the insulating portion 13C is provided between the adjacent reflecting portions 13A, and insulates between the adjacent reflecting portions 13A. Further, the insulating portion 13C is provided between the adjacent reflecting portion 13A and the reflecting portion 13B, and insulates between the adjacent reflecting portion 13A and the reflecting portion 13B.
  • the constituent material of the insulating portion 13C the same material as the above-mentioned insulating layer 12 can be exemplified.
  • the insulating layer 14 is provided on the first surface of the reflective layer 13.
  • the insulating layer 14 insulates between the reflective layer 13 and the plurality of first electrodes 15A. Further, the insulating layer 14 also has a function as an optical path length adjusting layer for adjusting the optical path length between the reflective layer 13 and the second electrode 18 for each of the three color sub-pixels 101R, 101G, and 101B.
  • the insulating layer 14 has transparency.
  • the height of the first surface of the insulating layer 14 in the display area R1 differs between the three color sub-pixels 101R, 101G, and 101B.
  • the insulating layer 14 in the display region R1 has a different thickness for each of the three color sub-pixels 101R, 101G, and 101B.
  • the thickness of the insulating layer 14 for each of the three sub-pixels 101R, 101G, and 101B is set so that the light corresponding to each color of the sub-pixels 101R, 101G, and 101B is resonated by the resonator structures 25R, 25G, and 25B. Has been done.
  • the thickness of the insulating layer 14 of the sub-pixel 101R is set so that the red light corresponding to the color of the sub-pixel 101R resonates and is emphasized by the resonator structure 25R.
  • the thickness of the insulating layer 14 of the sub-pixel 101G is set so that the green light corresponding to the color of the sub-pixel 101G resonates and is emphasized by the resonator structure 25G.
  • the thickness of the insulating layer 14 of the sub-pixel 101B is set so that the blue light corresponding to the color of the sub-pixel 101B resonates and is emphasized by the resonator structure 25B.
  • the thickness of the insulating layer 14 of the peripheral region R2 may be the same as the thickness of the insulating layer 14 of the sub pixel 101R among the sub pixels 101R, 101G, and 101B.
  • the thickness of the insulating layer 14 in the peripheral region R2 is set so that red light resonates and is emphasized by the resonator structure 25R1 and light other than red light is canceled and weakened.
  • the insulating layer 14 includes a plurality of vias (connection portions) 14A and a plurality of vias (connection portions) 14B.
  • the plurality of vias 14A are provided in the display area R1.
  • One via 14A is provided for one sub-pixel 101.
  • the via 14A electrically connects the reflecting portion 13A and the first electrode 15A. From the viewpoint of suppressing deterioration in the performance of the resonator structure 25, it is preferable that the via 14A is provided at a position that does not overlap with the opening 16A of the insulating layer 16 in the thickness direction of the display device 100.
  • a plurality of vias 14B are provided in the peripheral region R2.
  • a plurality of vias 14B electrically connect the reflecting portion 13B and the third electrode 15B. From the viewpoint of suppressing deterioration in the performance of the resonator structure 25, it is preferable that the via 14B is provided at a position that does not overlap with the opening 16A of the insulating layer 16 in the thickness direction of the display device 100.
  • the same material as the above-mentioned insulating layer 12 can be exemplified.
  • the plurality of first electrodes 15A are provided on the first surface of the insulating layer 14 in the display region R1. Each of the plurality of first electrodes 15A is provided corresponding to the sub-pixel 101.
  • the first electrode 15A is an anode. When a voltage is applied between the first electrode 15A and the second electrode 18, holes are injected from the first electrode 15A into the organic EL layer 17.
  • the first electrode 15A is electrically connected to the reflecting portion 13A via the via 14A.
  • the first electrode 15A is preferably made of a material having a high work function and a high transmittance from the viewpoint of increasing the luminous efficiency.
  • the first electrode 15A is a transparent electrode having transparency to the light generated in the organic EL layer 17.
  • the transparent electrode contains, for example, a transparent conductive oxide (TCO).
  • the transparent conductive oxide is, for example, a transparent conductive oxide containing indium (hereinafter referred to as "indium-based transparent conductive oxide”) and a transparent conductive oxide containing tin (hereinafter referred to as “tin-based transparent conductive oxide”). ”) And a transparent conductive oxide containing zinc (hereinafter referred to as“ zinc-based transparent conductive oxide ”).
  • the indium-based transparent conductive oxide includes, for example, indium tin oxide (ITO), indium tin oxide (IZO), indium gallium oxide (IGO), indium gallium oxide zinc (IGZO), or fluorine-doped indium oxide (IFO).
  • ITO indium tin oxide
  • ITO indium tin oxide
  • Tin-based transparent conductive oxides include, for example, tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO) or fluorine-doped tin oxide (FTO).
  • Zinc-based transparent conductive oxides include, for example, zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide (AZO), boron-doped zinc oxide or gallium-doped zinc oxide (GZO).
  • the second electrode 18 is provided on the first surface of the organic EL layer 17 and the first surface of the third electrode 15B.
  • the second electrode 18 is continuously provided from the display region R1 to the peripheral region R2, and is provided as an electrode common to all sub-pixels 101 in the display region R1.
  • the second electrode 18 is a cathode.
  • the second electrode 18 is a transparent electrode having transparency to the light generated in the organic EL layer 17.
  • the transparent electrode also includes a translucent reflective layer.
  • the second electrode 18 is preferably made of a material having a low work function from the viewpoint of increasing the luminous efficiency.
  • the second electrode 18 is composed of, for example, at least one of a metal layer and a metal oxide layer. More specifically, the second electrode 18 is composed of a single-layer film of a metal layer or a metal oxide layer, or a laminated film of a metal layer and a metal oxide layer.
  • the metal layer may be provided on the organic EL layer 17 side, or the metal oxide layer may be provided on the organic EL layer 17 side, but it is low. From the viewpoint of making the layer having a work function adjacent to the organic EL layer 17, it is preferable that the metal layer is provided on the organic EL layer 17 side.
  • the metal layer contains at least one metal element selected from the group consisting of, for example, magnesium (Mg), aluminum (Al), silver (Ag), calcium (Ca), sodium (Na) and the like.
  • the metal layer may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy. Specific examples of the alloy include MgAg alloy, MgAl alloy, AlLi alloy and the like.
  • As the metal oxide a transparent conductive oxide similar to that of the first electrode 15A can be exemplified.
  • the second electrode 18 may be a multilayer film in which a first metal layer and a second metal layer are laminated.
  • the first metal layer may be provided on the organic EL layer 17 side.
  • the first metal layer was selected from the group consisting of, for example, calcium (Ca), barium (Ba), lithium (Li), cesium (Cs), indium (In), magnesium (Mg) and silver (Ag). Includes at least one species.
  • the first metal layer may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy.
  • the second metal layer contains, for example, at least one selected from the group consisting of magnesium (Mg) and silver (Ag).
  • the second metal layer may contain at least one of the above metal elements as a constituent element of the alloy.
  • the third electrode 15B is provided on the first surface of the insulating layer 14 in the peripheral region R2.
  • the third electrode 15B is preferably a transparent electrode.
  • the transparent electrode is preferably a transparent electrode having the same configuration as the first electrode 15A. Specifically, it is preferable that the transparent electrode has the same thickness as the first electrode 15A and is made of the same material. In this case, the third electrode 15B can be formed in the same process as the first electrode 15A.
  • the third electrode 15B has the same shape as the reflecting portion 13B.
  • the third electrode 15B has, for example, a closed loop shape surrounding the display region R1.
  • the insulating layer 16 is provided on the first surface of the insulating layer 14 and between the adjacent first electrodes 15A.
  • the insulating layer 16 insulates between the adjacent first electrodes 15A. Further, the insulating layer 16 insulates between the adjacent first electrode 15A and the third electrode 15B.
  • the insulating layer 16 has a plurality of openings 16A and openings 16B.
  • Each of the plurality of openings 16A is provided corresponding to each sub-pixel 101. More specifically, the plurality of openings 16A are each provided on the first surface (the surface on the organic EL layer 17 side) of each of the first electrodes 15A. The first electrode 15A and the organic EL layer 17 come into contact with each other through the opening 16A.
  • the opening 16B is provided on the first surface (the surface on the second electrode 18 side) of the third electrode 15B. The opening 16B may have the same shape as the third electrode 15B. The third electrode 15B and the second electrode 18 come into electrical contact with each other through the opening 16B.
  • the same material as the above-mentioned insulating layer 12 can be exemplified.
  • Organic EL layer 17 is provided between the first electrode 15A and the second electrode 18.
  • the organic EL layer 17 is continuously provided in the display area R1 over all the sub-pixels 101, and is provided as an organic layer common to all the sub-pixels 101 in the display area R1.
  • the organic EL layer 17 is configured to be capable of emitting white light.
  • the organic EL layer 17 may be an organic EL layer having a 1-stack structure including a single-layer light emitting unit, or may be an organic EL layer having a 2-stack structure including a two-layer light emitting unit, or other than these. It may be an organic EL layer of.
  • the organic EL layer having a 1-stack structure is, for example, from the first electrode 15A toward the second electrode 18, a hole injection layer, a hole transport layer, a red light emitting layer, a light emitting separation layer, a blue light emitting layer, and a green light emitting layer. ,
  • the electron transport layer, and the electron injection layer are laminated in this order.
  • the organic EL layer having a 2-stack structure has, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a blue light emitting layer, an electron transport layer, a charge generation layer, and a hole transport from the first electrode 15A to the second electrode 18. It has a structure in which a layer, a yellow light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are laminated in this order.
  • the hole injection layer is for increasing the hole injection efficiency into each light emitting layer and suppressing leakage.
  • the hole transport layer is for increasing the hole transport efficiency to each light emitting layer.
  • the electron injection layer is for increasing the electron injection efficiency into each light emitting layer.
  • the electron transport layer is for increasing the electron transport efficiency to each light emitting layer.
  • the light emitting separation layer is a layer for adjusting the injection of carriers into each light emitting layer, and the light emitting balance of each color is adjusted by injecting electrons or holes into each light emitting layer through the light emitting separating layer.
  • the charge generation layer supplies electrons and holes to the two light emitting layers sandwiching the charge generation layer, respectively.
  • the red light emitting layer, the green light emitting layer, the blue light emitting layer, and the yellow light emitting layer are each recombined with the holes injected from the first electrode 15A and the electrons injected from the second electrode 18 by applying an electric field. Occurs, and red light, green light, blue light, and yellow light are generated.
  • the protective layer 19 is provided on the first surface of the second electrode 18 and covers a plurality of light emitting elements 24.
  • the protective layer 19 blocks the light emitting element 24 from the outside air and suppresses the infiltration of moisture from the external environment into the inside of the light emitting element 24.
  • the protective layer 19 may have a function of suppressing oxidation of the metal layer.
  • the protective layer 19 has transparency.
  • the protective layer 19 contains, for example, an inorganic material or a polymer resin having low hygroscopicity.
  • the protective layer 19 may have a single-layer structure or a multi-layer structure. When increasing the thickness of the protective layer 19, it is preferable to have a multi-layer structure. This is to relieve the internal stress in the protective layer 19.
  • the inorganic material is selected from the group consisting of, for example, silicon oxide (SiO x ), silicon nitride (SiN x ), silicon oxide nitride (SiO x Ny ), titanium oxide (TiO x ), aluminum oxide (AlO x ) and the like. Includes at least one species.
  • the polymer resin contains, for example, at least one selected from the group consisting of thermosetting resins, ultraviolet curable resins and the like.
  • the flattening layer 20 is provided on the first surface of the protective layer 19 and flattens the first surface of the protective layer 19.
  • the flattening layer 20 contains, for example, a polymer resin.
  • the polymer resin contains, for example, at least one selected from the group consisting of thermosetting resins, ultraviolet curable resins and the like.
  • the flattening layer 20 has transparency.
  • the color filter 21 is provided on the first surface of the flattening layer 20.
  • the color filter 21 is, for example, an on-chip color filter (OCCF).
  • the color filter 21 includes a plurality of red filters 21R, a plurality of green filters 21G, and a plurality of blue filters 21B.
  • the plurality of red filters 21R, the plurality of green filters 21G, and the plurality of blue filters 21B are provided in the display area R1.
  • the red filter 21R, the green filter 21G, and the blue filter 21B are provided so as to overlap the light emitting elements 24R, 24G, and 24B in the thickness direction of the display device 100, respectively.
  • the red filter 21R and the light emitting element 24R form a sub pixel 101R
  • the green filter 21G and the light emitting element 24G form a sub pixel 101G
  • the blue filter 21B and the light emitting element 24B form a sub pixel 101B.
  • the red light, green light, and blue light emitted from the light emitting element 24R, the light emitting element 24G, and the light emitting element 24B pass through the above-mentioned red filter 21R, green filter 21G, and blue filter 21B, respectively.
  • red filter 21R, green filter 21G, and blue filter 21B red light, green light, and blue light having high color purity are emitted from the display surface.
  • a light-shielding layer may be provided in the region between the filters 21R, 21G, and 21B of each color, that is, between the sub-pixels 101 of the color filter 21.
  • the color filter 21 further includes a blue filter (filter of a specified color) 21B1 as a single layer filter.
  • the blue filter 21B1 has the same color as the filter included in one of the sub-pixels 101R, 101G, and 101B.
  • the blue filter 21B1 is provided in the peripheral region R2.
  • the color filter 21 is not limited to the on-chip color filter, and may be provided on the second surface of the second substrate 23.
  • the light resonated by the resonator structure 25R1 is light (red light) having a color different from that of the blue filter 21B1. Therefore, in the resonator structure 25R1, the light (blue light) having the same color as that of the blue filter 21B1 is weakened.
  • the blue light transmitted through the blue filter 21B1 is weakened.
  • Light in the visible light region is shielded by the blue filter 21B1 and the resonator structure 25R1.
  • visible light region refers to a wavelength range of 380 nm or more and 780 nm or less.
  • the filling resin layer 22 is provided between the color filter 21 and the second substrate 23.
  • the filled resin layer 22 has a function as an adhesive layer for adhering the color filter 21 and the second substrate 23.
  • the filled resin layer 22 has transparency.
  • the packed resin layer 22 contains at least one selected from the group consisting of, for example, a thermosetting resin and an ultraviolet curable resin.
  • the second substrate 23 is provided so as to face the first substrate 11.
  • the second substrate 23 seals the light emitting element 24, the color filter 21, and the like.
  • the second substrate 23 has transparency.
  • the second substrate 23 is made of a material such as glass that is transparent to each color light emitted from the color filter 21.
  • a drive circuit, a power supply circuit, and the like are formed on the first surface of the substrate body by using, for example, a thin film forming technique, a photolithography technique, and an etching technique.
  • the first substrate 11 is obtained.
  • the insulating layer 12 is formed on the first surface of the first substrate 11 so as to cover the drive circuit, the power supply circuit, and the like.
  • a metal layer is formed on the first surface of the insulating layer 12 by a sputtering method.
  • the metal layer is patterned using, for example, a photolithography technique and an etching technique to form a plurality of reflective portions 13A and 13B.
  • an insulating layer is formed on the first surface of the insulating layer 12 so as to cover the plurality of reflecting portions 13A and the reflecting portions 13B.
  • a CMP Chemical Mechanical Polishing
  • the excess insulating layer is removed, and the first surface of the plurality of reflecting portions 13A and the reflecting portion 13B is exposed. Let me. As a result, the reflective layer 13 is formed.
  • a CVD method, a photolithography technique, an etching technique, or the like is used to form an insulating layer 14 having a different thickness for each of the sub-pixels 101R, 101G, and 101B.
  • the thickness of the insulating layer 14 in the peripheral region R2 is set to be the same as the thickness of the insulating layer 14 in the sub-pixel 101R.
  • a plurality of vias 14A and a plurality of vias 14B are formed on the insulating layer 14 by using, for example, a CVD method, a photolithography technique, an etching technique, or the like.
  • the metal oxide layer is formed on the first surface of the insulating layer 14 by, for example, a sputtering method
  • the metal oxide layer is patterned by using, for example, a photolithography technique and an etching technique. As a result, a plurality of first electrodes 15A and third electrodes 15B are formed.
  • an insulating layer 16 is formed on the first surface of the insulating layer 14 so as to cover the plurality of first electrodes 15A and third electrodes 15B.
  • the opening 16A is formed on the first surface of each of the plurality of first electrodes 15A by, for example, a photolithography technique and a dry etching technique, and the opening 16B is formed on the first surface of the third electrode 15B.
  • the hole injection layer, the hole transport layer, the red light emitting layer, the light emission separation layer, the blue light emitting layer, the green light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer are formed into the first electrode 15A.
  • the organic EL layer 17 is formed in the display region R1 by laminating in this order on the surface of the surface and the first surface of the insulating layer 16.
  • the second electrode 18 is formed from the display region R1 to the peripheral region R2, for example, by a vapor deposition method or a sputtering method. As a result, a plurality of light emitting elements 24 are formed on the first surface of the insulating layer 12.
  • the flattening layer 20 is formed on the first surface of the protective layer 19 by, for example, a spin coating method. Form to.
  • the color filter 21 is formed on the first surface of the flattening layer 20 by, for example, photolithography. At this time, the blue filter 21B in the display area R1 and the blue filter 21B1 in the peripheral area R2 are manufactured in the same process.
  • the color filter 21 is covered with the filled resin layer 22, and then the second substrate 23 is placed on the filled resin layer 22.
  • the first substrate 11 and the second substrate 11 and the second are passed through the filling resin layer 22.
  • the substrate 23 of the above is bonded.
  • the display device 100 is sealed.
  • the display device 100 shown in FIG. 2 is obtained.
  • the display device 100 has a reflective portion 13B, an insulating layer 14, a second electrode 18, and a blue filter 21B in a peripheral region R2 around the display region R1.
  • the resonator structure 25R is configured by the reflector 13B and the second electrode 18, and the resonator structure 25R resonates red light different from the color of the blue filter 21B.
  • the blue filter 21B has a spectral transmission characteristic that transmits blue light among the light in the visible light region and shields light other than blue light (see “spectral curve L1" in FIG. 3).
  • the resonator structure 25R has a function of resonating and emphasizing red light among the light in the visible light region and canceling and weakening light other than red light (see “spectral curve L2” in FIG. 3). Therefore, by providing the single-layer blue filter 21B and the resonator structure 25R in the peripheral region R2, it is possible to block the light in the visible light region (see “spectral curve L3” in FIG. 3). Therefore, it is possible to suppress the reflection of external light in the peripheral region R2.
  • FIG. 1 spectral transmission characteristic that transmits blue light among the light in the visible light region and shields light other than blue light
  • the resonator structure 25R has a function of resonating and emphasizing red light among the light in the visible light region and canceling and weakening light other than red light
  • the “intensity” on the vertical axis indicates the intensity of the transmitted light of the blue filter 21B for the “spectral curve L1”, and the emitted light of the resonator structure 25R for the “spectral curve L2”.
  • the intensity of the reflected light in the peripheral region R2 is shown with respect to the “spectral curve L3”.
  • the filter provided in the peripheral region R2 is a single-layer blue filter 21B, it is difficult to generate a step between the peripheral region R2 and the display region R1. Can be done.
  • the width of the peripheral region R2 is narrowed, it is possible to suppress the occurrence of non-uniformity in the thickness of the color filter 21 in the vicinity of the inside of the peripheral region R2 in the manufacturing process of the color filter 21. Therefore, it is possible to suppress deterioration (unevenness) in image quality in the vicinity of the inside of the peripheral region R2. Therefore, even when the display device 100 has a narrow frame, good image quality can be ensured.
  • the filter provided in the peripheral region for reflection suppression is a laminated body in which two or more color filters are laminated
  • a step is likely to occur between the peripheral region and the display region.
  • the width of the peripheral region is narrowed, non-uniformity in the thickness of the color filter tends to occur near the inside of the peripheral region in the process of manufacturing the color filter, and as a result, the image quality deteriorates (unevenness) near the inside of the peripheral region. ) Is likely to occur. Therefore, when the display device 100 is narrowed, it becomes difficult to secure good image quality.
  • the resonator structure 25R1 in the peripheral region R2 can be manufactured at the same time as the resonator structure 25R in the display region R1. Further, at the same time as the production of the blue filter 21B in the display region R1, the blue filter 21B1 in the peripheral region R2 can also be produced. Therefore, the display device 100 can be manufactured while suppressing an increase in the manufacturing process.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing a configuration example of the display device 110 according to the second embodiment of the present disclosure.
  • the display device 110 is different from the display device 100 according to the first embodiment in that the light absorption layer 14C is provided between the insulating layer 14 and the third electrode 15B.
  • the same reference numerals are given to the same parts as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • the light absorption layer 14C is provided at a position where it overlaps with the blue filter 21B1 in the thickness direction of the display device 100.
  • the light absorption layer 14C has conductivity.
  • the light absorption layer 14C is an example of a light absorption unit, and is configured to be capable of absorbing blue light transmitted by the blue filter 21B1.
  • the blue filter 21B and the light absorption layer 14C block external light incident on the display device 110 from the display surface of the peripheral region R2.
  • the light absorbing layer 14C and the reflecting portion 13B are electrically connected by a plurality of vias 14B. At least a part of the plurality of vias 14B is provided at a position overlapping the opening 16A of the insulating layer 16 in the thickness direction of the display device 110.
  • the plurality of vias 14B may be made of the same material as the light absorption layer 14C and may be integrated.
  • the light absorption layer 14C contains, for example, an inorganic material having light absorption.
  • Inorganic materials include, for example, metal nitrides.
  • the metal nitride contains, for example, at least one selected from the group consisting of titanium nitride (TiN x ), tantalum nitride (TaN x ) and the like.
  • the resonator structure 25R1 In the first embodiment, an example in which the resonator structure 25R1 is configured in which the reflecting portion 13B and the second electrode 18 resonate and emphasize the red light and cancel and weaken the light other than the red light has been described.
  • the resonator structure 25R1 may or may not be configured by the reflecting portion 13B and the second electrode 18.
  • blue light can be reduced by both the light absorption layer 14C and the resonator structure 25R1.
  • the display device 110 has a reflection unit 13B, a light absorption layer 14C, a second electrode 18, and a blue filter 21B in a peripheral region R2 around the display region R1.
  • the blue filter 21B transmits the blue light contained in the external light incident on the peripheral region R2, while absorbing the light other than the blue light.
  • the light absorption layer 14C absorbs blue light that has passed through the blue filter 21B. Therefore, the blue filter 21B and the light absorption layer 14C can block the external light incident on the peripheral region R2. Therefore, it is possible to suppress the reflection of external light in the peripheral region R2.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a configuration example of the display device 120 according to the third embodiment of the present disclosure.
  • the display device 120 includes a plurality of lenses 26A and a plurality of lenses 26B, and instead of the plurality of vias 14B (see FIG. 2), a plurality of vias 14D having light absorption are provided. It is different from the display device 100 according to the embodiment.
  • the same reference numerals are given to the same parts as those in the first embodiment, and the description thereof will be omitted.
  • a plurality of vias 14D are provided in the peripheral region R2.
  • the plurality of vias 14D connect the reflecting portion 13B and the third electrode 15B in the same manner as the vias 14B.
  • the plurality of vias 14D are an example of a light absorbing unit, and are configured to be capable of absorbing blue light transmitted by the blue filter 21B1. At least a part of the plurality of vias 14D is provided at a position overlapping the opening 16A of the insulating layer 16 in the thickness direction of the display device 120.
  • the plurality of vias 14D include the same material as the light absorption layer 14C in the second embodiment.
  • the plurality of lenses 26A are provided on the first surface of the color filter 21 in the display area R1.
  • the plurality of lenses 26A are provided on the red filter 21R, the green filter 21G, and the blue filter 21B, respectively.
  • the plurality of lenses 26A are covered with the filling resin layer 22.
  • the lens 26A on the red filter 21R collects the red light emitted from the red filter 21R toward the front of the display device 100.
  • the lens 26A on the green filter 21G collects the green light emitted from the green filter 21G toward the front of the display device 100.
  • the lens 26A on the blue filter 21B collects the blue light emitted from the blue filter 21B toward the front of the display device 100.
  • the lens 26B has, for example, a dome shape or a conical stand shape.
  • the plurality of lenses 26B are provided on the first surface of the color filter 21 in the peripheral region R2, specifically, the first surface of the blue filter 21B1.
  • the plurality of lenses 26B are arranged in one or two rows along the outer circumference of the display area R1, for example.
  • the plurality of lenses 26B are covered with the filling resin layer 22.
  • the plurality of lenses 26B collect the external light incident on the display surface of the peripheral region R2 on the end portion 14DA of the via 14D.
  • the lens 26B has, for example, a dome shape or a conical stand shape.
  • the lens 26B may have the same shape as the lens 26A, or may have a different shape from the lens 26A.
  • the lens 26B may be a columnar lens (for example, a cylindrical lens or the like) extending along the outer circumference of the display area R1.
  • the resonator structure 25R1 In the first embodiment, an example in which the resonator structure 25R1 is configured in which the reflecting portion 13B and the second electrode 18 resonate and emphasize the red light and cancel and weaken the light other than the red light has been described.
  • the resonator structure 25R1 may or may not be configured by the reflecting portion 13B and the second electrode 18.
  • blue light can be reduced by both the plurality of vias 14D and the resonator structure 25R1.
  • the insulating layer 14 includes the via 14D which is a light absorbing portion, and the lens 26B receives the light incident on the blue filter 21B1 at the end portion 14DA of the via 14B. Condensate on. Light other than the blue light contained in the external light incident on the peripheral region R2 is absorbed by the blue filter 21B1. The blue light transmitted through the blue filter 21B1 is collected and absorbed by the end portion 14DA of the via 14D. Therefore, the blue filter 21B1 and the plurality of vias 14D can block the external light incident on the peripheral region R2. Therefore, it is possible to suppress the reflection of external light in the peripheral region R2.
  • the display device 100 includes the red filter 21R in the peripheral region R2
  • a resonator structure 25B that resonates and emphasizes blue light and cancels and weakens light other than blue light is provided instead of the resonator structure 25R1.
  • the thickness of the insulating layer 14 in the peripheral region R2 may be set to be the same as the thickness of the insulating layer 14 in the blue sub-pixel 101B.
  • the display device 110 includes the red filter 21R in the peripheral region R2, a light absorption layer 14C capable of absorbing red light is used.
  • a red filter 21R and a light absorption layer 14C in the peripheral region R2 it is possible to block external light incident on the peripheral region R2. Therefore, the same effect as that of the second embodiment can be obtained.
  • the display device 110 includes the green filter 21G in the peripheral region R2, a light absorbing layer 14C capable of absorbing green light is used.
  • a green filter 21G and a light absorption layer 14C in the peripheral region R2 it is possible to block external light incident on the peripheral region R2. Therefore, the same effect as that of the second embodiment can be obtained.
  • the display device 120 includes the red filter 21R in the peripheral region R2, a via 14D capable of absorbing red light is used.
  • a red filter 21R and a via 14D in the peripheral region R2 it is possible to block external light incident on the peripheral region R2. Therefore, the same effect as that of the third embodiment can be obtained.
  • the display device 120 includes the green filter 21G in the peripheral region R2, a via 14D capable of absorbing green light is used.
  • a green filter 21G and a via 14D in the peripheral region R2 it is possible to block external light incident on the peripheral region R2. Therefore, the same effect as that of the third embodiment can be obtained.
  • the color filter 21 includes a three-color filter, that is, a red filter 21R, a green filter 21G, and a blue filter 21B has been described, but the color filter 21 is as shown in FIG. A two-color filter may be provided, or as shown in FIG. 7, a one-color filter may be provided. Alternatively, the display devices 100, 110, 120 may not include the color filter 21.
  • the flattening layer 27 filters as shown in FIGS. 6 and 7 in order to suppress the occurrence of unevenness due to the missing portion of the filter. It may be provided in the missing portion of.
  • the sub-pixel 101 not provided with a filter In the sub-pixel 101 not provided with a filter, light of a specified color is extracted from the resonator structure 25. On the other hand, in the sub-pixel 101 provided with the filter, light of a specified color is taken out by the combination of the filter and the resonator structure 25. From the viewpoint of improving the color purity, it is preferable to combine the filter and the resonator structure 25.
  • the optical path length between the reflecting portion 13B and the second electrode 18 in the peripheral region R2 is adjusted by the thickness of the insulating layer 14 has been described. It may be adjusted by the thickness of the reflecting portion 13B or the third electrode 15B, or may be adjusted by the thickness of two or more of the insulating layer 14, the reflecting portion 13B and the third electrode 15B. ..
  • the display devices 100, 110, 120 (hereinafter referred to as “display device 100 and the like”) according to the first to third embodiments described above and modifications thereof may be provided in various electronic devices.
  • high resolution is required such as an electronic viewfinder or a head-mounted display of a video camera or a single-lens reflex camera, and it is preferable to prepare for a magnified use near the eyes.
  • FIG. 9A is a front view showing an example of the appearance of the digital still camera 310.
  • FIG. 9B is a rear view showing an example of the appearance of the digital still camera 310.
  • This digital still camera 310 is a single-lens reflex type with interchangeable lenses, and has an interchangeable shooting lens unit (interchangeable lens) 312 in the center of the front of the camera body (camera body) 311 and on the left side of the front. It has a grip portion 313 for the photographer to grip.
  • interchangeable shooting lens unit interchangeable lens
  • a monitor 314 is provided at a position shifted to the left from the center of the back of the camera body 311.
  • An electronic viewfinder (eyepiece window) 315 is provided on the upper part of the monitor 314. By looking into the electronic viewfinder 315, the photographer can visually recognize the optical image of the subject guided from the photographing lens unit 312 and determine the composition.
  • the electronic viewfinder 315 any of the display devices 100 and the like can be used.
  • FIG. 10 is a perspective view showing an example of the appearance of the head-mounted display 320.
  • the head-mounted display 320 has, for example, ear hooks 322 for being worn on the user's head on both sides of the eyeglass-shaped display unit 321.
  • the display unit 321 any one of the display device 100 and the like can be used.
  • FIG. 11 is a perspective view showing an example of the appearance of the television device 330.
  • the television device 330 has, for example, a video display screen unit 331 including a front panel 332 and a filter glass 333, and the video display screen unit 331 is composed of any one of the display devices 100 and the like.
  • the configurations, methods, processes, shapes, materials, numerical values, etc. given in the above-mentioned first to third embodiments and modifications thereof are merely examples, and different configurations, methods, and the like are required.
  • the process, shape, material, numerical value, etc. may be used.
  • the present disclosure may also adopt the following configuration.
  • the area around the display area is provided with a reflective part, an insulating layer, electrodes, and a filter of a specified color in this order.
  • a resonator structure is formed by the reflector and the electrodes, and the resonator structure is a display device that attenuates light of the specified color.
  • the display device according to (1) wherein the light in the visible light region is shielded by the filter of the specified color and the resonator structure.
  • the display area is provided with pixels of multiple colors. The plurality of color pixels include the insulating layer.
  • the display device wherein the thickness of the insulating layer in the area surrounding the display area is the same as the thickness of the insulating layer in one color pixel of the plurality of color pixels.
  • the display area is provided with pixels of multiple colors.
  • the display device wherein the pixel of one color among the pixels of the plurality of colors includes a filter of the same color as the filter of the specified color.
  • the display device according to (3) or (4), wherein the plurality of color pixels include a red pixel, a green pixel, and a blue pixel.
  • the display device according to any one of (1) to (5), wherein the specified color is red, green or blue.
  • the display device according to any one of (1) to (6), wherein the electrode is provided from the display area to a region around the display area.
  • the electrode is a cathode.
  • the display device according to any one of (1) to (8), further comprising a transparent electrode between the insulating layer and the electrode.
  • An electronic device provided with the display device according to any one of (1) to (9).
  • a reflection unit, a light absorption unit, an electrode, and a color filter are provided in this order in the area around the display area.
  • the light absorbing unit is a display device that absorbs the light transmitted through the color filter.
  • the display device (12) The display device according to (11), wherein the light in the visible light region is shielded by the color filter and the light absorbing unit. (13) The display device according to (11) or (12), wherein the light absorption unit is a light absorption layer having conductivity. (14) An insulating layer is further provided between the reflecting portion and the light absorbing layer. The insulating layer includes a connecting portion that electrically connects the reflecting portion and the light absorbing layer. The display device according to (13), wherein the light absorption layer and the connection portion are made of the same material. (15) An insulating layer including the light absorbing portion is further provided between the reflecting portion and the electrode, and a lens is further provided on the color filter.
  • the color filter is a red filter, a green filter, or a blue filter.
  • First substrate 12 Insulation layer 13 Reflection layer 13A, 13B Reflection part 13C Insulation layer 14 Insulation layer 14A, 14B, 14D Via 14C Light absorption layer 14DA End 15A First electrode 15B Third electrode 16 Insulation layer 17 Organic Electroluminescence layer 18 Second electrode 19 Protective layer 20 Flattening layer 21 Color filter 21R Red filter 21G Green filter 21B, 21B1 Blue filter 22 Filled resin layer 23 Second substrate 24R, 24G, 24B Light emitting element 25R, 25G, 25B Resonator structure 26A, 26B Lens 27 Flattening layer 31 Pad section 31A Connection terminal 100, 110, 120 Display device 101R, 101G, 101B Subpixel R1 Display area R2 Peripheral area R3 Connection area 310 Digital still camera (electronic device) 320 Head-mounted display (electronic device) 330 Television equipment (electronic equipment)

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Abstract

周辺領域において可視光領域の光の反射を抑制することができる表示装置を提供する。　表示装置は、表示領域の周辺の領域に、反射部と、絶縁層と、電極と、規定の色のフィルタとをこの順序で備える。反射部および電極により共振器構造が構成され、共振器構造は、規定の色の光を弱める。

Description

表示装置および電子機器
　本開示は、表示装置およびそれを備える電子機器に関する。
　有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置等の表示装置では、表示領域の周辺の領域（以下「周辺領域」という。）に金属層等の反射部が設けられているため、周辺領域で外光が反射し、迷光等が発生するという問題がある。このため、上記外光反射を抑制するため、従来では、周辺領域に２色以上のカラーフィルタを積層することにより、可視光領域の光の反射を抑制する技術が提案されている（例えば特許文献１参照）。
特開２０１０－２６６７１１号公報
　上述のように、従来、周辺領域にて可視光領域の光の反射を抑制する技術が望まれている。
　本開示の目的は、周辺領域において可視光領域の光の反射を抑制することができる表示装置およびそれを備える電子機器を提供することにある。
　上述の課題を解決するために、第１の開示は、
　表示領域の周辺の領域に、反射部と、絶縁層と、電極と、規定の色のフィルタとをこの順序で備え、
　反射部および電極により共振器構造が構成され、共振器構造は、規定の色の光を弱める表示装置である。
　第２の開示は、第１の開示の表示装置を備える電子機器である。
　第３の開示は、
　表示領域の周辺の領域に、反射部と、光吸収部と、電極と、カラーフィルタとをこの順序で備え、
　光吸収部は、カラーフィルタが透過する光を吸収する表示装置である。
　第４の開示は、第３の開示の表示装置を備える電子機器である。
図１は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す平面図である。 図２は、図１のII－II線に沿った断面図である。 図３は、フィルタおよび共振器構造の光強度分布を示すグラフである。 図４は、本開示の第２の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。 図５は、本開示の第３の実施形態に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。 図６は、変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。 図７は、変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。 図８は、変形例に係る表示装置の一構成例を示す断面図である。 図９Ａは、デジタルスチルカメラの外観の一例を示す正面図である。図９Ｂは、デジタルスチルカメラの外観の一例を示す背面図である。 図１０は、ヘッドマウントディスプレイの外観の一例を斜視図である。 図１１は、テレビジョン装置の外観の一例を示す斜視図である。
　本開示の実施形態について以下の順序で説明する。
　１　第１の実施形態（表示装置の例）
　２　第２の実施形態（表示装置の例）
　３　第３の実施形態（表示装置の例）
　４　変形例（表示装置の変形例）
　５　応用例（電子機器の例）
＜１　第１の実施形態＞
［表示装置の構成］
　図１は、本開示の第１の実施形態に係る表示装置１００の一構成例を示す平面図である。図２は、図１のII－II線に沿った断面図である。表示装置１００は、いわゆる有機ＥＬ表示装置である。表示装置１００は、表示領域Ｒ１と周辺領域Ｒ２とを有する。表示領域Ｒ１内には、複数のサブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂがマトリクス状等の規定の配置パターンで２次元配置されている。周辺領域Ｒ２は、表示領域Ｒ１の周辺に設けられている。周辺領域Ｒ２は、表示領域Ｒ１を囲む閉ループ状を有している。
　サブ画素１０１Ｒは赤色を表示し、サブ画素１０１Ｇは緑色を表示し、サブ画素１０１Ｂは青色を表示する。なお、以下の説明において、サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂを特に区別せず総称する場合には、サブ画素１０１という。例えば、隣接するサブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。
　表示装置１００は、接続領域Ｒ３をさらに有していてもよい。接続領域Ｒ３には、パッド部３１が設けられている。パッド部３１は、表示装置１００を電子機器のメイン基板等に電気的に接続するための接続部である。パッド部３１には、複数の接続端子３１Ａが設けられている。パッド部３１は、例えば、フレキシブルプリント配線基板等の接続部材を介して電子機器のメイン基板等に接続される。
　表示装置１００は、マイクロディスプレイであってもよい。表示装置１００は、ＶＲ（Virtual Reality）装置、ＭＲ（Mixed Reality）装置、ＡＲ（Augmented Reality）装置、電子ビューファインダ（Electronic View Finder：ＥＶＦ）または小型プロジェクタ等に備えられてもよい。
　表示装置１００は、図２に示すように、第１の基板１１と、絶縁層１２と、反射層１３と、絶縁層１４と、複数の第１の電極１５Ａと、絶縁層１６と、有機ＥＬ層１７と、第２の電極１８と、第３の電極１５Ｂと、保護層１９と、平坦化層２０と、カラーフィルタ２１と、充填樹脂層２２と、第２の基板２３とを備える。但し、平坦化層２０は、必要に応じて備えられるものであり、備えられていなくてもよい。充填樹脂層２２および第２の基板２３も、必要に応じて備えられるものであり、備えられていなくてもよい。
　表示領域Ｒ１には、第１の基板１１、絶縁層１２、反射層１３、絶縁層１４、第１の電極１５Ａ、有機ＥＬ層１７、第２の電極１８、保護層１９、平坦化層２０、カラーフィルタ２１、充填樹脂層２２、第２の基板２３がこの順序で備えられている。
　周辺領域Ｒ２には、第１の基板１１、絶縁層１２、反射層１３、絶縁層１４、第３の電極１５Ｂ、第２の電極１８、保護層１９、平坦化層２０、カラーフィルタ２１、充填樹脂層２２、第２の基板２３がこの順序で備えられている。第１の実施形態では、周辺領域Ｒ２に第３の電極１５Ｂが備えられている例について説明するが、第３の電極１５Ｂは必要に応じて備えられるものであり、備えられていなくてもよい。
　表示装置１００は、トップエミッション方式の表示装置である。表示装置１００の第２の基板２３側がトップ側（表示面側）となり、表示装置１００の第１の基板１１側がボトム側となる。以下の説明において、表示装置１００を構成する各層において、表示装置１００のトップ側となる面を第１の面といい、表示装置１００のボトム側となる面を第２の面という。
（発光素子２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂ）
　サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂはそれぞれ、発光素子２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂを備える。発光素子２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂは、いわゆる有機ＥＬ素子である。発光素子２４Ｒは、赤色光を出射する赤色発光素子である。発光素子２４Ｇは、緑色光を出射する緑色発光素子である。発光素子２４Ｂは、青色光を出射する青色発光素子である。以下の説明において、発光素子２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂを特に区別せず総称する場合には、発光素子２４という。発光素子２４は、反射層１３と、絶縁層１４と、第１の電極１５Ａと、有機ＥＬ層１７と、第２の電極１８とにより構成されている。
（共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ、２５Ａ）
　発光素子２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂはそれぞれ、共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂを有している。共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂは、反射層１３と第２の電極１８とにより構成されている。共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂは、サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂそれぞれの色に対応する規定波長の光を共振させ強調し、表示面に向けて出射する。具体的には、共振器構造２５Ｒは、有機ＥＬ層１７で発生された白色光に含まれる赤色光を共振させ強調し、表示面に向けて放出する。共振器構造２５Ｇは、有機ＥＬ層１７で発生された白色光に含まれる緑色光を共振させ強調し、表示面に向けて放出する。共振器構造２５Ｂは、有機ＥＬ層１７で発生された白色光に含まれる青色光を共振させ強調し、表示面に向けて放出する。なお、以下の説明において、共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂを特に区別せず総称する場合には、共振器構造２５という。
　表示領域Ｒ１において反射層１３と第２の電極１８との間の光路長（光学的距離）は、共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂそれぞれで共振させる規定波長の光に応じて設定されている。より具体的には、共振器構造２５Ｒでは、反射層１３と第２の電極１８との間の光路長は、赤色光が共振し強調するように設定されている。共振器構造２５Ｇでは、反射層１３と第２の電極１８との間の光路長は、緑色光が共振し強調するように設定されている。共振器構造２５Ｂでは、反射層１３と第２の電極１８との間の光路長は、青色光が共振し強調するように設定されている。
　周辺領域Ｒ２には、共振器構造２５Ｒ１が設けられている。共振器構造２５Ｒ１は、反射層１３と第２の電極１８とにより構成されている。共振器構造２５Ｒ１は、規定波長の光を共振させ強調し、規定波長以外の光を打ち消し合わせ弱める。具体的には、共振器構造２５Ｒ１は、赤色光を共振させ強調し、赤色光以外の光（例えば青色光）を打ち消し合わせ弱める。
　周辺領域Ｒ２において反射層１３と第２の電極１８との間の光路長（光学的距離）は、共振器構造２５Ｒ１で共振させる規定波長の光に応じて設定されている。より具体的には、共振器構造２５Ｒ１では、反射層１３と第２の電極１８との間の光路長は、赤色光が共振し強調され、赤色光以外の光が打ち消し合わされ弱められるように設定されている。
　赤色光は、例えば、半値幅が６０３ｎｍ以上６６０ｎｍ以下の範囲にある分光特性を有する光である。緑色光は、例えば、半値幅が５１５ｎｍ以上５６５ｎｍ以下の範囲にある分光特性を有する光である。青色光は、例えば、半値幅が４４２ｎｍ以上４８７ｎｍ以下の範囲にある分光特性を有する光である。
（第１の基板１１）
　第１の基板１１は、いわゆるバックプレーンである。第１の基板１１には、複数の発光素子２４を駆動する駆動回路、および複数の発光素子２４に電力を供給する電源回路等（いずれも図示せず）が設けられている。第１の基板１１の基板本体は、例えば、トランジスタ等の形成が容易な半導体で構成されていてもよいし、水分および酸素の透過性が低いガラスまたは樹脂で構成されていてもよい。具体的には、基板本体は、半導体基板、ガラス基板または樹脂基板等であってもよい。半導体基板は、例えば、アモルファスシリコン、多結晶シリコンまたは単結晶シリコン等を含む。ガラス基板は、例えば、高歪点ガラス、ソーダガラス、ホウケイ酸ガラス、フォルステライト、鉛ガラスまたは石英ガラス等を含む。樹脂基板は、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタラートおよびポリエチレンナフタレート等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（絶縁層１２）
　絶縁層１２は、第１の基板１１の第１の面上に設けられ、駆動回路および電源回路等を覆っている。これにより、第１の基板１１の第１の面が平坦化されている。絶縁層１２は、第１の基板１１と反射層１３の間を絶縁する。絶縁層１２は、複数のビアおよび複数の配線（いずれも図示せず）を備える。複数のビアは、反射層１３と駆動回路とを電気的に接続する。
　絶縁層１２は、単層構造を有していてもよいし、積層構造を有していてもよい。絶縁層１２は、有機絶縁層であってもよいし、無機絶縁層であってもよいし、これらの積層体であってもよい。有機絶縁層は、例えば、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂およびノボラック系樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。無機絶縁層は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）および酸窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（反射層１３）
　反射層１３は、絶縁層１２の第１の面上に設けられている。反射層１３は、複数の反射部１３Ａと、反射部１３Ｂと、絶縁部１３Ｃとを備える。
　複数の反射部１３Ａは、表示領域Ｒ１に設けられている。複数の反射部１３Ａはそれぞれ、サブ画素１０１に対応して設けられている。反射部１３Ａは、有機ＥＬ層１７から第１の電極１５Ａおよび絶縁層１４を介して入射された光を反射する。サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂの反射部１３Ａの厚さは、同一であってもよい。反射部１３Ａと第２の電極１８とにより共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂが構成されている。
　反射部１３Ａは、光反射性を有する材料で構成されている。反射層１３は、具体的には例えば、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）およびタングステン（Ｗ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種の金属元素を含む。反射層１３は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。合金の具体例としては、銀合金またはアルミニウム合金が挙げられる。
　反射部１３Ａの第２の面側に下地層（図示せず）が隣接して設けられていてもよい。下地層は、反射部１３Ａの成膜時に、反射層１３の結晶配向性を向上する。反射部１３Ａは、例えば、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）および酸化チタン（ＴｉＯ２）等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
　反射部１３Ｂは、周辺領域Ｒ２に設けられている。反射部１３Ｂは、表示面側から表示装置１００内に入射した外光を反射する。反射部１３Ｂは、図１に示すように、表示領域Ｒ１を囲む閉ループ状を有していてもよい。但し、反射部１３Ｂの形状はこれに限定されず、例えば、反射部１３Ｂは、周辺領域Ｒ２の周方向に不連続的に設けられていてもよいし、周辺領域Ｒ２の周方向に規定の長さを有する区画に設けられていてもよい。反射部１３Ｂが、銅（Ｃｕ）配線等を含む配線層等であってもよい。反射部１３Ｂと第２の電極１８とにより共振器構造２５Ｒ１が構成されている。
　反射部１３Ｂは、光反射性を有する材料で構成されている。反射部１３Ｂは、反射部１３Ａと同様の材料を含んでいてもよい。
　絶縁部１３Ｃは、隣接する反射部１３Ａの間に設けられ、隣接する反射部１３Ａの間を絶縁する。また、絶縁部１３Ｃは、隣接する反射部１３Ａと反射部１３Ｂとの間に設けられ、隣接する反射部１３Ａと反射部１３Ｂの間を絶縁する。絶縁部１３Ｃの構成材料としては、上述の絶縁層１２と同様の材料を例示することができる。
（絶縁層１４）
　絶縁層１４は、反射層１３の第１の面上に設けられている。絶縁層１４は、反射層１３と複数の第１の電極１５Ａの間を絶縁する。また、絶縁層１４は、３色のサブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ毎に反射層１３と第２の電極１８との間の光路長を調整する光路長調整層としての機能も有する。絶縁層１４は、透明性を有している。
　表示領域Ｒ１における絶縁層１４の第１の面の高さは、３色のサブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂで異なる。表示領域Ｒ１における絶縁層１４は、３色のサブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ毎に異なる厚さを有している。３色のサブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ毎の絶縁層１４の厚さは、サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂそれぞれの色に対応した光が共振器構造２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂで共振されるように設定されている。すなわち、サブ画素１０１Ｒの絶縁層１４の厚さは、サブ画素１０１Ｒの色に対応した赤色光が共振器構造２５Ｒで共振、強調されるように設定されている。サブ画素１０１Ｇの絶縁層１４の厚さは、サブ画素１０１Ｇの色に対応した緑色光が共振器構造２５Ｇで共振、強調されるように設定されている。サブ画素１０１Ｂの絶縁層１４の厚さは、サブ画素１０１Ｂの色に対応した青色光が共振器構造２５Ｂで共振、強調されるように設定されている。
　周辺領域Ｒ２の絶縁層１４の厚さは、サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂのうちサブ画素１０１Ｒの絶縁層１４の厚さと同一であってもよい。周辺領域Ｒ２の絶縁層１４の厚さは、赤色光が共振器構造２５Ｒ１で共振、強調され、赤色光以外の光が打ち消し合わされ、弱められるように設定されている。
　絶縁層１４は、複数のビア（接続部）１４Ａと複数のビア（接続部）１４Ｂとを備える。複数のビア１４Ａは、表示領域Ｒ１に設けられている。１つのビア１４Ａが、１つのサブ画素１０１に対して設けられている。ビア１４Ａは、反射部１３Ａと第１の電極１５Ａとを電気的に接続する。共振器構造２５の性能低下を抑制する観点から、ビア１４Ａは、表示装置１００の厚さ方向において、絶縁層１６が有する開口１６Ａと重ならない位置に設けられていることが好ましい。
　複数のビア１４Ｂは、周辺領域Ｒ２に設けられている。複数のビア１４Ｂが、反射部１３Ｂと第３の電極１５Ｂとを電気的に接続する。共振器構造２５の性能低下を抑制する観点から、ビア１４Ｂは、表示装置１００の厚さ方向において、絶縁層１６が有する開口１６Ａと重ならない位置に設けられていることが好ましい。
　絶縁層１４の構成材料としては、上述の絶縁層１２と同様の材料を例示することができる。
（第１の電極１５Ａ）
　複数の第１の電極１５Ａは、表示領域Ｒ１における絶縁層１４の第１の面上に設けられている。複数の第１の電極１５Ａはそれぞれ、サブ画素１０１に対応して設けられている。第１の電極１５Ａは、アノードである。第１の電極１５Ａと第２の電極１８の間に電圧が加えられると、第１の電極１５Ａから有機ＥＬ層１７にホールが注入される。第１の電極１５Ａは、ビア１４Ａを介して反射部１３Ａに電気的に接続されている。
　第１の電極１５Ａは、発光効率を高める観点から、仕事関数が高く、かつ、透過率の高い材料で構成されていることが好ましい。第１の電極１５Ａは、有機ＥＬ層１７で発生した光に対して透明性を有する透明電極である。透明電極は、例えば、透明導電性酸化物（ＴＣＯ：Transparent Conductive Oxide）を含む。透明導電性酸化物は、例えば、インジウムを含む透明導電性酸化物（以下「インジウム系透明導電性酸化物」という。）、錫を含む透明導電性酸化物（以下「錫系透明導電性酸化物」という。）および亜鉛を含む透明導電性酸化物（以下「亜鉛系透明導電性酸化物」という。）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
　インジウム系透明導電性酸化物は、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ）、酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ）またはフッ素ドープ酸化インジウム（ＩＦＯ）を含む。これらの透明導電性酸化物のうちでも酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が特に好ましい。酸化インジウム錫（ＩＴＯ）は、仕事関数的に有機ＥＬ層１７へのホール注入障壁が特に低いため、表示装置１００の駆動電圧を特に低電圧化することができるからである。錫系透明導電性酸化物は、例えば、酸化錫、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）またはフッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）を含む。亜鉛系透明導電性酸化物は、例えば、酸化亜鉛、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ホウ素ドープ酸化亜鉛またはガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）を含む。
（第２の電極１８）
　第２の電極１８は、有機ＥＬ層１７の第１の面および第３の電極１５Ｂの第１の面上に設けられている。第２の電極１８は、表示領域Ｒ１から周辺領域Ｒ２に亘って連続して設けられ、表示領域Ｒ１内においてすべてのサブ画素１０１に共通の電極として設けられている。第２の電極１８は、カソードである。第２の電極１８は、有機ＥＬ層１７で発生した光に対して透過性を有する透明電極である。ここで、透明電極には、半透過性反射層も含まれるものとする。第２の電極１８は、発光効率を高める観点から、仕事関数が低い材料によって構成されることが好ましい。
　第２の電極１８は、例えば、金属層および金属酸化物層のうちの少なくとも一層により構成されている。より具体的には、第２の電極１８は、金属層もしくは金属酸化物層の単層膜、または金属層と金属酸化物層の積層膜により構成されている。第２の電極１８が積層膜により構成されている場合、金属層が有機ＥＬ層１７側に設けられてもよいし、金属酸化物層が有機ＥＬ層１７側に設けられてもよいが、低い仕事関数を有する層を有機ＥＬ層１７に隣接させる観点からすると、金属層が有機ＥＬ層１７側に設けられていることが好ましい。
　金属層は、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、カルシウム（Ｃａ）およびナトリウム（Ｎａ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種の金属元素を含む。金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。合金の具体例としては、ＭｇＡｇ合金、ＭｇＡｌ合金またはＡｌＬｉ合金等が挙げられる。金属酸化物としては、第１の電極１５Ａと同様の透明導電性酸化物を例示することができる。
　第２の電極１８は、第１の金属層および第２の金属層が積層された多層膜であってもよい。第１の金属層および第２の金属層のうち第１の金属層が、有機ＥＬ層１７側に設けられていてもよい。第１の金属層は、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）、リチウム（Ｌｉ）、セシウム（Ｃｓ）、インジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）および銀（Ａｇ）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。第１の金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。第２の金属層は、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）および銀（Ａｇ）からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。第２の金属層は、上記少なくとも１種の金属元素を合金の構成元素として含んでいてもよい。
（第３の電極１５Ｂ）
　第３の電極１５Ｂは、周辺領域Ｒ２における絶縁層１４の第１の面上に設けられている。第３の電極１５Ｂは、透明電極であることが好ましい。この透明電極は、第１の電極１５Ａと同一の構成を有する透明電極であることが好ましい。具体的には、第１の電極１５Ａと同一の厚さを有し、かつ、同一の材料により構成された透明電極であることが好ましい。この場合、第３の電極１５Ｂを第１の電極１５Ａと同一の工程で形成することができる。第３の電極１５Ｂは、反射部１３Ｂと同様の形状を有している。第３の電極１５Ｂは、例えば、表示領域Ｒ１を囲む閉ループ状を有している。
（絶縁層１６）
　絶縁層１６は、絶縁層１４の第１の面上、かつ、隣接する第１の電極１５Ａの間に設けられている。絶縁層１６は、隣接する第１の電極１５Ａの間を絶縁する。また、絶縁層１６は、隣接する第１の電極１５Ａと第３の電極１５Ｂの間を絶縁する。
　絶縁層１６は、複数の開口１６Ａおよび開口１６Ｂを有する。複数の開口１６Ａはそれぞれ、各サブ画素１０１に対応して設けられている。より具体的には、複数の開口１６Ａはそれぞれ、各第１の電極１５Ａの第１の面（有機ＥＬ層１７側の面）上に設けられている。開口１６Ａを介して、第１の電極１５Ａと有機ＥＬ層１７とが接触する。開口１６Ｂは、第３の電極１５Ｂの第１の面（第２の電極１８側の面）上に設けられている。開口１６Ｂは、第３の電極１５Ｂと同様の形状を有していてもよい。開口１６Ｂを介して、第３の電極１５Ｂと第２の電極１８とが電気的に接触する。
　絶縁層１６の構成材料としては、上述の絶縁層１２と同様の材料を例示することができる。
（有機ＥＬ層１７）
　有機ＥＬ層１７は、第１の電極１５Ａと第２の電極１８の間に設けられている。有機ＥＬ層１７は、表示領域Ｒ１内においてすべてのサブ画素１０１に亘って連続して設けられ、表示領域Ｒ１内においてすべてのサブ画素１０１に共通の有機層として設けられている。
　有機ＥＬ層１７は、白色光を発光可能に構成されている。有機ＥＬ層１７は、単層の発光ユニットを備える、１ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層であってもよいし、２層の発光ユニットを備える、２ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層であってもよいし、これら以外の有機ＥＬ層であってもよい。１ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層は、例えば、第１の電極１５Ａから第２の電極１８に向かって、正孔注入層、正孔輸送層、赤色発光層、発光分離層、青色発光層、緑色発光層、電子輸送層、電子注入層がこの順序で積層された構成を有する。２ｓｔａｃｋ構造の有機ＥＬ層は、例えば、第１の電極１５Ａから第２の電極１８に向かって、正孔注入層、正孔輸送層、青色発光層、電子輸送層、電荷発生層、正孔輸送層、黄色発光層、電子輸送層と、電子注入層がこの順序で積層された構成を有する。
　正孔注入層は、各発光層への正孔注入効率を高めると共に、リークを抑制するためのものである。正孔輸送層は、各発光層への正孔輸送効率を高めるためのものである。電子注入層は、各発光層への電子注入効率を高めるためのものである。電子輸送層は、各発光層への電子輸送効率を高めるためのものである。発光分離層は、各発光層へのキャリアの注入を調整するための層であり、発光分離層を介して各発光層に電子やホールが注入されることにより各色の発光バランスが調整される。電荷発生層は、電荷発生層を挟む２つの発光層に電子と正孔をそれぞれ供給する。
　赤色発光層、緑色発光層、青色発光層、黄色発光層はそれぞれ、電界をかけることにより、第１の電極１５Ａから注入された正孔と第２の電極１８から注入された電子との再結合が起こり、赤色光、緑色光、青色光、黄色光を発生するものである。
（保護層１９）
　保護層１９は、第２の電極１８の第１の面上に設けられ、複数の発光素子２４を覆う。保護層１９は、発光素子２４を外気と遮断し、外部環境から発光素子２４内部への水分浸入を抑制する。また、第２の電極１８が金属層により構成されている場合には、保護層１９は、この金属層の酸化を抑制する機能を有していてもよい。保護層１９は、透明性を有している。
　保護層１９は、例えば、吸湿性が低い無機材料または高分子樹脂を含む。保護層１９は、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。保護層１９の厚さを厚くする場合には、多層構造とすることが好ましい。保護層１９における内部応力を緩和するためである。無機材料は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、酸化窒化シリコン（ＳｉＯｘＮｙ）、酸化チタン（ＴｉＯｘ）および酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。高分子樹脂は、例えば、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（平坦化層２０）
　平坦化層２０は、保護層１９の第１の面上に設けられ、保護層１９の第１の面を平坦化する。平坦化層２０は、例えば、高分子樹脂を含む。高分子樹脂は、例えば、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。平坦化層２０は、透明性を有している。
（カラーフィルタ２１）
　カラーフィルタ２１は、平坦化層２０の第１の面上に設けられている。カラーフィルタ２１は、例えば、オンチップカラーフィルタ（On Chip Color Filter：ＯＣＣＦ）である。カラーフィルタ２１は、複数の赤色フィルタ２１Ｒ、複数の緑色フィルタ２１Ｇおよび複数の青色フィルタ２１Ｂを備える。複数の赤色フィルタ２１Ｒ、複数の緑色フィルタ２１Ｇおよび複数の青色フィルタ２１Ｂは、表示領域Ｒ１に設けられている。赤色フィルタ２１Ｒ、緑色フィルタ２１Ｇ、青色フィルタ２１Ｂはそれぞれ、表示装置１００の厚さ方向に発光素子２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂと重なるように設けられている。赤色フィルタ２１Ｒと発光素子２４Ｒとによりサブ画素１０１Ｒが構成され、緑色フィルタ２１Ｇと発光素子２４Ｇとによりサブ画素１０１Ｇが構成され、青色フィルタ２１Ｂと発光素子２４Ｂとによりサブ画素１０１Ｂが構成されている。
　発光素子２４Ｒ、発光素子２４Ｇ、発光素子２４Ｂから発せられた赤色光、緑色光、青色光はそれぞれ、上記の赤色フィルタ２１Ｒ、緑色フィルタ２１Ｇ、青色フィルタ２１Ｂを透過する。これにより、高い色純度を有する赤色光、緑色光、青色光が表示面から出射される。また、各色のフィルタ２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ間、すなわちカラーフィルタ２１のサブ画素１０１間の領域には、遮光層（図示せず）が設けられていてもよい。
　カラーフィルタ２１は、単層フィルタとして青色フィルタ（規定の色のフィルタ）２１Ｂ１をさらに備える。青色フィルタ２１Ｂ１は、サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂのうちの一つが備えるフィルタと同色である。青色フィルタ２１Ｂ１は、周辺領域Ｒ２に設けられている。なお、カラーフィルタ２１は、オンチップカラーフィルタに限定されるものではなく、第２の基板２３の第２の面に設けられたものであってもよい。共振器構造２５Ｒ１により共振される光は、青色フィルタ２１Ｂ１の色とは異なる色の光（赤色光）である。したがって、共振器構造２５Ｒ１では、青色フィルタ２１Ｂ１の色と同色の光（青色光）は弱められる。すなわち、共振器構造２５Ｒ１では、青色フィルタ２１Ｂ１を透過した青色光が弱められる。青色フィルタ２１Ｂ１と共振器構造２５Ｒ１により、可視光領域の光が遮光される。本明細書において、“可視光領域”とは、３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の波長域のことをいう。
（充填樹脂層２２）
　充填樹脂層２２は、カラーフィルタ２１と第２の基板２３の間に設けられている。充填樹脂層２２は、カラーフィルタ２１と第２の基板２３とを接着する接着層としての機能を有している。充填樹脂層２２は、透明性を有している。充填樹脂層２２は、例えば、熱硬化型樹脂および紫外線硬化型樹脂等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
（第２の基板２３）
　第２の基板２３は、第１の基板１１に対向して設けられている。第２の基板２３は、発光素子２４およびカラーフィルタ２１等を封止する。第２の基板２３は、透明性を有している。第２の基板２３は、カラーフィルタ２１からから出射される各色光に対して透明なガラス等の材料により構成される。
［表示装置の製造方法］
　以下、本開示の第１の実施形態に係る表示装置１００の製造方法の一例について説明する。
　まず、例えば薄膜形成技術、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術等を用いて、基板本体の第１の面上に駆動回路および電源回路等を形成する。これにより、第１の基板１１が得られる。次に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法により、駆動回路および電源回路等を覆うように絶縁層１２を第１の基板１１の第１の面上に形成する。次に、例えばスパッタリング法により、金属層を絶縁層１２の第１の面上に形成する。次に、例えばフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて、金属層をパターニングし、複数の反射部１３Ａおよび反射部１３Ｂを形成する。
　次に、例えばＣＶＤ法により、複数の反射部１３Ａおよび反射部１３Ｂを覆うように、絶縁層１２の第１の面上に絶縁層を形成する。次に、例えばＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）法により、絶縁層の第１の面を研磨することにより、余分な絶縁層を除去し、複数の反射部１３Ａおよび反射部１３Ｂの第１の面を露出させる。これにより、反射層１３が形成される。次に、例えばＣＶＤ法、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術等を用いて、サブ画素１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ毎に厚さが異なる絶縁層１４を形成する。この際、周辺領域Ｒ２における絶縁層１４の厚さは、サブ画素１０１Ｒにおける絶縁層１４の厚さと同一に設定される。次に、例えばＣＶＤ法、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術等を用いて、絶縁層１４に複数のビア１４Ａおよび複数のビア１４Ｂを形成する。
　次に、例えばスパッタリング法により、金属酸化物層を絶縁層１４の第１の面上に形成したのち、例えばフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて金属酸化物層をパターニングする。これにより、複数の第１の電極１５Ａおよび第３の電極１５Ｂが形成される。
　次に、例えばプラズマＣＶＤ法により、複数の第１の電極１５Ａおよび第３の電極１５Ｂを覆うように絶縁層１４の第１の面上に絶縁層１６を形成する。次に、例えばフォトリソグラフィ技術およびドライエッチング技術により、複数の第１の電極１５Ａそれぞれの第１の面上に開口１６Ａを形成すると共に、第３の電極１５Ｂの第１の面上に開口１６Ｂを形成する。
　次に、例えば蒸着法により、正孔注入層、正孔輸送層、赤色発光層、発光分離層、青色発光層、緑色発光層、電子輸送層、電子注入層を第１の電極１５Ａの第１の面および絶縁層１６の第１の面上にこの順序で積層することにより、表示領域Ｒ１に有機ＥＬ層１７を形成する。次に、例えば蒸着法またはスパッタリング法により、第２の電極１８を表示領域Ｒ１から周辺領域Ｒ２に亘って形成する。これにより、絶縁層１２の第１の面上に複数の発光素子２４が形成される。
　次に、例えばＣＶＤ法または蒸着法により、保護層１９を第２の電極１８の第１の面上に形成したのち、例えばスピンコート法により平坦化層２０を保護層１９の第１の面上に形成する。次に、例えばフォトリソグラフィにより、平坦化層２０の第１の面上にカラーフィルタ２１を形成する。この際、表示領域Ｒ１の青色フィルタ２１Ｂと周辺領域Ｒ２の青色フィルタ２１Ｂ１とは同一工程にて作製される。
　次に、例えばＯＤＦ（One Drop Fill）方式を用いて、充填樹脂層２２によりカラーフィルタ２１を覆ったのち、第２の基板２３を充填樹脂層２２上に載置する。次に、例えば充填樹脂層２２に熱を加えるか、または充填樹脂層２２に紫外線を照射し、充填樹脂層２２を硬化させることにより、充填樹脂層２２を介して第１の基板１１と第２の基板２３とを貼り合せる。これにより、表示装置１００が封止される。以上により、図２に示す表示装置１００が得られる。
［作用効果］
　上述したように、第１の実施形態に係る表示装置１００は、表示領域Ｒ１の周辺の周辺領域Ｒ２に、反射部１３Ｂと、絶縁層１４と、第２の電極１８と、青色フィルタ２１Ｂとをこの順序で備える。反射部１３Ｂおよび第２の電極１８により共振器構造２５Ｒが構成され、共振器構造２５Ｒは、青色フィルタ２１Ｂの色とは異なる赤色の光を共振する。
　青色フィルタ２１Ｂは、可視光領域の光のうち青色光を透過し、青色光以外の光を遮光する分光透過特性を有している（図３の“分光曲線Ｌ１”参照）。一方、共振器構造２５Ｒは、可視光領域の光のうち赤色光を共振させ強調し、赤色光以外の光を打ち消し合わせ弱める機能を有している（図３の“分光曲線Ｌ２”参照）。したがって、単層の青色フィルタ２１Ｂと共振器構造２５Ｒとが周辺領域Ｒ２に備えられていることで、可視光領域の光を遮光することができる（図３の“分光曲線Ｌ３”参照）。よって、周辺領域Ｒ２における外光の反射を抑制することができる。なお、図３において、縦軸の“強度”は、“分光曲線Ｌ１”に対しては青色フィルタ２１Ｂの透過光の強度を示し、“分光曲線Ｌ２”に対しては共振器構造２５Ｒの出射光の強度を示し、“分光曲線Ｌ３”に対しては周辺領域Ｒ２の反射光の強度を示す。
　第１の実施形態に係る表示装置１００では、周辺領域Ｒ２に設けられたフィルタが、単層の青色フィルタ２１Ｂであるため、周辺領域Ｒ２と表示領域Ｒ１との間に段差を発生し難くすることができる。これにより、周辺領域Ｒ２の幅を狭くしても、カラーフィルタ２１の作製工程において、周辺領域Ｒ２の内側近傍でカラーフィルタ２１の厚みに不均一性が生じることを抑制することができる。したがって、周辺領域Ｒ２の内側近傍における画質低下（ムラ）を抑制することできる。よって、表示装置１００を狭額縁化した場合にも、良好な画質を確保することができる。
　一方、反射抑制のために周縁領域に設けられたフィルタが、２層以上のカラーフィルタが積層された積層体である場合には、周辺領域と表示領域との間に段差が発生し易くなる。これにより、周縁領域の幅を狭くすると、カラーフィルタの作製工程において、周辺領域の内側近傍でカラーフィルタの厚みに不均一性が生じ易くなり、これにより、周辺領域の内側近傍で画質低下（ムラ）が発生し易くなる。よって、表示装置１００を狭額縁化した場合に、良好な画質を確保することが困難となる。
　第１の実施形態に係る表示装置１００では、表示領域Ｒ１における共振器構造２５Ｒの作製と同時に、周辺領域Ｒ２における共振器構造２５Ｒ１も作製することができる。また、表示領域Ｒ１における青色フィルタ２１Ｂの作製と同時に、周辺領域Ｒ２の青色フィルタ２１Ｂ１も作製することができる。したがって、製造工程の増加を抑制しつつ、表示装置１００を作製することができる。
＜２　第２の実施形態＞
［表示装置の構成］
　図４は、本開示の第２の実施形態に係る表示装置１１０の一構成例を示す断面図である。表示装置１１０は、絶縁層１４と第３の電極１５Ｂの間に光吸収層１４Ｃを備える点において、第１の実施形態に係る表示装置１００とは異なっている。なお、第２の実施形態において、第１の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
　光吸収層１４Ｃは、表示装置１００の厚さ方向に青色フィルタ２１Ｂ１と重なる位置に設けられている。光吸収層１４Ｃは、導電性を有する。光吸収層１４Ｃは、光吸収部の一例であり、青色フィルタ２１Ｂ１が透過する青色光を吸収可能に構成されている。青色フィルタ２１Ｂと光吸収層１４Ｃにより、周辺領域Ｒ２の表示面から表示装置１１０内に入射した外光が遮光される。
　光吸収層１４Ｃと反射部１３Ｂとは、複数のビア１４Ｂにより電気的に接続されている。複数のビア１４Ｂのうちの少なくとも一部は、表示装置１１０の厚さ方向において、絶縁層１６が有する開口１６Ａと重なる位置に設けられている。複数のビア１４Ｂは、光吸収層１４Ｃと同一材料により構成され一体となっていてもよい。
　光吸収層１４Ｃは、例えば、光吸収性を有する無機材料を含む。無機材料は、例えば、金属窒化物を含む。金属窒化物は、例えば、窒化チタン（ＴｉＮｘ）および窒化タンタル（ＴａＮｘ）等からなる群より選ばれた少なくとも１種を含む。
　第１の実施形態では、反射部１３Ｂと第２の電極１８とにより、赤色光を共振させ強調し、赤色光以外の光を打ち消し合わせ弱める共振器構造２５Ｒ１が構成されている例について説明したが、第２の実施形態では、反射部１３Ｂと第２の電極１８とにより、共振器構造２５Ｒ１が構成されていてもよいし、構成されていなくてもよい。共振器構造２５Ｒ１が構成されている場合には、光吸収層１４Ｃと共振器構造２５Ｒ１との両方で、青色光を低減させることができる。
［作用効果］
　上述したように、第２の実施形態に係る表示装置１１０は、表示領域Ｒ１の周辺の周辺領域Ｒ２に、反射部１３Ｂと、光吸収層１４Ｃと、第２の電極１８と、青色フィルタ２１Ｂとをこの順序で備える。青色フィルタ２１Ｂは、周辺領域Ｒ２に入射した外光に含まれる青色光を透過するのに対して、青色光以外の光を吸収する。光吸収層１４Ｃは、青色フィルタ２１Ｂを透過した青色光を吸収する。したがって、青色フィルタ２１Ｂと光吸収層１４Ｃにより、周辺領域Ｒ２に入射した外光を遮光することができる。よって、周辺領域Ｒ２における外光の反射を抑制することができる。
＜３　第３の実施形態＞
［表示装置の構成］
　図５は、本開示の第３の実施形態に係る表示装置１２０の一構成例を示す断面図である。表示装置１２０は、複数のレンズ２６Ａと複数のレンズ２６Ｂとを備え、かつ、複数のビア１４Ｂ（図２参照）に代えて、光吸収性を有する複数のビア１４Ｄを備える点において、第１の実施形態に係る表示装置１００とは異なっている。なお、第３の実施形態において、第１の実施形態と同様の箇所には同一の符号を付して説明を省略する。
　複数のビア１４Ｄは、周辺領域Ｒ２に設けられている。複数のビア１４Ｄは、ビア１４Ｂと同様に、反射部１３Ｂと第３の電極１５Ｂとを接続する。複数のビア１４Ｄは、光吸収部の一例であり、青色フィルタ２１Ｂ１が透過する青色光を吸収可能に構成されている。複数のビア１４Ｄのうちの少なくとも一部は、表示装置１２０の厚さ方向において、絶縁層１６が有する開口１６Ａと重なる位置に設けられている。複数のビア１４Ｄは、第２の実施形態における光吸収層１４Ｃと同様の材料を含む。
　複数のレンズ２６Ａは、表示領域Ｒ１におけるカラーフィルタ２１の第１の面に設けられている。複数のレンズ２６Ａはそれぞれ、赤色フィルタ２１Ｒ、緑色フィルタ２１Ｇ、青色フィルタ２１Ｂ上に設けられている。複数のレンズ２６Ａは、充填樹脂層２２により覆われている。
　赤色フィルタ２１Ｒ上のレンズ２６Ａは、赤色フィルタ２１Ｒから出射された赤色光を表示装置１００の正面に向けて集光する。緑色フィルタ２１Ｇ上のレンズ２６Ａは、緑色フィルタ２１Ｇから出射された緑色光を表示装置１００の正面に向けて集光する。青色フィルタ２１Ｂ上のレンズ２６Ａは、青色フィルタ２１Ｂから出射された青色光を表示装置１００の正面に向けて集光する。上述のように、複数のレンズ２６Ａが表示領域Ｒ１におけるカラーフィルタ２１の第１の面に設けられていることで、正面方向における光の利用効率が高められる。レンズ２６Ｂは、例えば、ドーム状または円錐台状等を有する。
　複数のレンズ２６Ｂは、周辺領域Ｒ２におけるカラーフィルタ２１の第１の面、具体的には青色フィルタ２１Ｂ１の第１の面に設けられている。複数のレンズ２６Ｂは、例えば、表示領域Ｒ１の外周に沿って１列または２列で配置されている。複数のレンズ２６Ｂは、充填樹脂層２２により覆われている。複数のレンズ２６Ｂは、周辺領域Ｒ２の表示面に入射する外光をビア１４Ｄの端部１４ＤＡに集光する。レンズ２６Ｂは、例えば、ドーム状または円錐台状等を有する。
　レンズ２６Ｂは、レンズ２６Ａと同一の形状を有していてもよいし、レンズ２６Ａとは異なる形状を有していてもよい。レンズ２６Ｂは、表示領域Ｒ１の外周に沿って延設された柱面状のレンズ（例えばシリンドリカルレンズ等）であってもよい。
　第１の実施形態では、反射部１３Ｂと第２の電極１８とにより、赤色光を共振させ強調し、赤色光以外の光を打ち消し合わせ弱める共振器構造２５Ｒ１が構成されている例について説明したが、第２の実施形態では、反射部１３Ｂと第２の電極１８とにより、共振器構造２５Ｒ１が構成されていてもよいし、構成されていなくてもよい。共振器構造２５Ｒ１が構成されている場合には、複数のビア１４Ｄと共振器構造２５Ｒ１との両方で、青色光を低減させることができる。
［作用効果］
　上述したように、第３の実施形態に係る表示装置１２０では、絶縁層１４は、光吸収部であるビア１４Ｄを含み、レンズ２６Ｂは、青色フィルタ２１Ｂ１に入射する光をビア１４Ｂの端部１４ＤＡに集光する。周辺領域Ｒ２に入射した外光に含まれる青色光以外の光は青色フィルタ２１Ｂ１により吸収される。青色フィルタ２１Ｂ１を透過した青色光は、ビア１４Ｄの端部１４ＤＡに集光され吸収される。したがって、青色フィルタ２１Ｂ１と複数のビア１４Ｄにより、周辺領域Ｒ２に入射した外光を遮光することができる。よって、周辺領域Ｒ２における外光の反射を抑制することができる。
＜４　変形例＞
［変形例１］
　第１の実施形態では、表示装置１００が、規定の色のフィルタとして青色フィルタ２１Ｂ１を周辺領域Ｒ２に備える例について説明したが、表示装置１００が、規定の色のフィルタとして、青色フィルタ２１Ｂ１に代えて赤色フィルタ２１Ｒまたは緑色フィルタ２１Ｇを周辺領域Ｒ２に備えるようにしてもよい。
　表示装置１００が赤色フィルタ２１Ｒを周辺領域Ｒ２に備える場合には、共振器構造２５Ｒ１に代えて、青色光を共振させ強調し、青色光以外の光を打ち消し合わせ弱める共振器構造２５Ｂが備えられる。このように赤色フィルタ２１Ｒと共振器構造２５Ｂとが周辺領域Ｒ２に備えられていることで、周辺領域Ｒ２に入射した外光を遮光することができる。したがって、第１の実施形態と同様の効果が得られる。周辺領域Ｒ２における絶縁層１４の厚さは、青色のサブ画素１０１Ｂにおける絶縁層１４と同一の厚さに設定されてもよい。
　第２または第３の実施形態においても、上記の第１の実施形態の変形例と同様の構成が用いられてもよい。
［変形例２］
　第２の実施形態では、表示装置１１０が、青色フィルタ２１Ｂ１を周辺領域Ｒ２に備える例について説明したが、表示装置１１０が、青色フィルタ２１Ｂ１に代えて赤色フィルタ２１Ｒまたは緑色フィルタ２１Ｇを周辺領域Ｒ２に備えるようにしてもよい。
　表示装置１１０が赤色フィルタ２１Ｒを周辺領域Ｒ２に備える場合には、光吸収層１４Ｃとしては、赤色光を吸収可能なものが用いられる。このような赤色フィルタ２１Ｒと光吸収層１４Ｃとが周辺領域Ｒ２に備えられていることで、周辺領域Ｒ２に入射した外光を遮光することができる。したがって、第２の実施形態と同様の効果が得られる。
　表示装置１１０が緑色フィルタ２１Ｇを周辺領域Ｒ２に備える場合には、光吸収層１４Ｃとしては、緑色光を吸収可能なものが用いられる。このような緑色フィルタ２１Ｇと光吸収層１４Ｃとが周辺領域Ｒ２に備えられていることで、周辺領域Ｒ２に入射した外光を遮光することができる。したがって、第２の実施形態と同様の効果が得られる。
［変形例３］
　第３の実施形態では、表示装置１２０が、青色フィルタ２１Ｂ１を周辺領域Ｒ２に備える例について説明したが、表示装置１２０が、青色フィルタ２１Ｂ１に代えて赤色フィルタ２１Ｒまたは緑色フィルタ２１Ｇを周辺領域Ｒ２に備えるようにしてもよい。
　表示装置１２０が赤色フィルタ２１Ｒを周辺領域Ｒ２に備える場合には、ビア１４Ｄとしては、赤色光を吸収可能なものが用いられる。このような赤色フィルタ２１Ｒとビア１４Ｄとが周辺領域Ｒ２に備えられていることで、周辺領域Ｒ２に入射した外光を遮光することができる。したがって、第３の実施形態と同様の効果が得られる。
　表示装置１２０が緑色フィルタ２１Ｇを周辺領域Ｒ２に備える場合には、ビア１４Ｄとしては、緑色光を吸収可能なものが用いられる。このような緑色フィルタ２１Ｇとビア１４Ｄとが周辺領域Ｒ２に備えられていることで、周辺領域Ｒ２に入射した外光を遮光することができる。したがって、第３の実施形態と同様の効果が得られる。
［変形例４］
　第１～第３の実施形態では、カラーフィルタ２１が３色のフィルタ、すなわち赤色フィルタ２１Ｒと緑色フィルタ２１Ｇと青色フィルタ２１Ｂを備える例について説明したが、カラーフィルタ２１が、図６に示すように、２色のフィルタを備えるようにしてもよいし、図７に示すように、１色のフィルタを備えるようにしてもよい。あるいは、表示装置１００、１１０、１２０が、カラーフィルタ２１を備えていなくてもよい。
　カラーフィルタ２１が、１色または２色のフィルタを備える場合には、フィルタの欠落部分に起因する凹凸の発生を抑制するために、図６、図７に示すように、平坦化層２７がフィルタの欠落部分に設けられていてもよい。
　フィルタが備えられていないサブ画素１０１では、共振器構造２５より規定色の光が取り出される。一方、フィルタが備えられているサブ画素１０１では、フィルタと共振器構造２５との組み合わせにより規定色の光が取り出される。色純度の向上の観点からすると、フィルタと共振器構造２５とを組み合わせることが好ましい。
［変形例５］
　第３の実施形態では、カラーフィルタ２１の第１の面に複数のレンズ２６Ａおよび複数のレンズ２６Ｂが備えられている例（図５参照）について説明したが、図８に示すように、カラーフィルタ２１の第２の面に複数のレンズ２６Ａおよび複数のレンズ２６Ｂが備えられてもよい。
［変形例６］
　第１～第３の実施形態では、表示領域Ｒ１において反射部１３Ａと第２の電極１８との間の光路長が、絶縁層１４の厚さにより調整されている例について説明したが、反射部１３Ａまたは第１の電極１５Ａの厚さにより調整されていてもよいし、絶縁層１４、反射部１３Ａおよび第１の電極１５Ａのうちの２種以上の厚さにより調整されていてもよい。
　また、第１～第３の実施形態では、周辺領域Ｒ２において反射部１３Ｂと第２の電極１８との間の光路長が、絶縁層１４の厚さにより調整されている例について説明したが、反射部１３Ｂまたは第３の電極１５Ｂの厚さにより調整されていてもよいし、絶縁層１４、反射部１３Ｂおよび第３の電極１５Ｂのうちの２種以上の厚さにより調整されていてもよい。
＜５　応用例＞
（電子機器）
　上述の第１～第３の実施形態およびそれらの変形例に係る表示装置１００、１１０、１２０（以下「表示装置１００等」という。）は、種々の電子機器に備えられてもよい。特にビデオカメラや一眼レフカメラの電子ビューファインダまたはヘッドマウント型ディスプレイ等の高解像度が要求され、目の近くで拡大して使用されるものに備えられることが好ましい。
（具体例１）
　図９Ａは、デジタルスチルカメラ３１０の外観の一例を示す正面図である。図９Ｂは、デジタルスチルカメラ３１０の外観の一例を示す背面図である。このデジタルスチルカメラ３１０は、レンズ交換式一眼レフレックスタイプのものであり、カメラ本体部（カメラボディ）３１１の正面略中央に交換式の撮影レンズユニット（交換レンズ）３１２を有し、正面左側に撮影者が把持するためのグリップ部３１３を有している。
　カメラ本体部３１１の背面中央から左側にずれた位置には、モニタ３１４が設けられている。モニタ３１４の上部には、電子ビューファインダ（接眼窓）３１５が設けられている。撮影者は、電子ビューファインダ３１５を覗くことによって、撮影レンズユニット３１２から導かれた被写体の光像を視認して構図決定を行うことが可能である。電子ビューファインダ３１５としては、表示装置１００等のいずれかを用いることができる。
（具体例２）
　図１０は、ヘッドマウントディスプレイ３２０の外観の一例を示す斜視図である。ヘッドマウントディスプレイ３２０は、例えば、眼鏡形の表示部３２１の両側に、使用者の頭部に装着するための耳掛け部３２２を有している。表示部３２１としては、表示装置１００等のいずれかを用いることができる。
（具体例３）
　図１１は、テレビジョン装置３３０の外観の一例を示す斜視図である。このテレビジョン装置３３０は、例えば、フロントパネル３３２およびフィルターガラス３３３を含む映像表示画面部３３１を有しており、この映像表示画面部３３１は、表示装置１００等のいずれかにより構成されている。
　以上、本開示の第１～第３の実施形態およびそれらの変形例について具体的に説明したが、本開示は、上述の第１～第３の実施形態およびそれらの変形例に限定されるものではなく、本開示の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
　例えば、上述の第１～第３の実施形態およびそれらの変形例において挙げた構成、方法、工程、形状、材料および数値等はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、工程、形状、材料および数値等を用いてもよい。
　上述の第１～第３の実施形態およびそれらの変形例の構成、方法、工程、形状、材料および数値等は、本開示の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
　上述の第１～第３の実施形態およびそれらの変形例に例示した材料は、特に断らない限り、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　また、本開示は以下の構成を採用することもできる。
（１）
　表示領域の周辺の領域に、反射部と、絶縁層と、電極と、規定の色のフィルタとをこの順序で備え、
　前記反射部および前記電極により共振器構造が構成され、前記共振器構造は、前記規定の色の光を弱める表示装置。
（２）
　前記規定の色のフィルタと前記共振器構造により、可視光領域の光が遮光される（１）に記載の表示装置。
（３）
　前記表示領域に複数色の画素を備え、
　前記複数色の画素は、前記絶縁層を含み、
　前記表示領域の周辺の領域における前記絶縁層の厚さは、前記複数色の画素のうちの一色の画素における前記絶縁層の厚さと同一である（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）
　前記表示領域に複数色の画素を備え、
　前記複数色の画素のうちの一色の画素は、前記規定の色のフィルタと同色のフィルタを備える（１）または（２）に記載の表示装置。
（５）
　前記複数色の画素は、赤色の画素、緑色の画素および青色の画素を含む（３）または（４）に記載の表示装置。
（６）
　前記規定の色が、赤色、緑色または青色である（１）から（５）のいずれかに記載の表示装置。
（７）
　前記電極は、前記表示領域から該表示領域の周辺の領域に亘って設けられている（１）から（６）のいずれかに記載の表示装置。
（８）
　前記電極は、カソードである（７）に記載の表示装置。
（９）
　前記絶縁層と前記電極との間に透明電極をさらに備える（１）から（８）のいずれかに記載の表示装置。
（１０）
　（１）から（９）のいずれかに記載の表示装置を備える電子機器。
（１１）
　表示領域の周辺の領域に、反射部と、光吸収部と、電極と、カラーフィルタとをこの順序で備え、
　前記光吸収部は、前記カラーフィルタが透過する光を吸収する表示装置。
（１２）
　前記カラーフィルタと前記光吸収部により、可視光領域の光が遮光される（１１）に記載の表示装置。
（１３）
　前記光吸収部は、導電性を有する光吸収層である（１１）または（１２）に記載の表示装置。
（１４）
　前記反射部と前記光吸収層との間に絶縁層をさらに備え、
　前記絶縁層は、前記反射部と光吸収層とを電気的に接続する接続部を備え、
　前記光吸収層および前記接続部は同一の材料により構成されている（１３）に記載の表示装置。
（１５）
　前記反射部と前記電極との間に、前記光吸収部を含む絶縁層をさらに備え、かつ、前記カラーフィルタ上にレンズをさらに備え、
　前記レンズは、前記カラーフィルタに入射する外光を前記光吸収部に集光する（１１）または（１２）に記載の表示装置。
（１６）
　前記光吸収部は、前記反射部と前記電極とを電気的に接続する（１５）に記載の表示装置。
（１７）
　前記光吸収部は、ビアである（１６）に記載の表示装置。
（１８）
　前記反射部および前記電極により共振器構造が構成され、前記共振器構造は、前記カラーフィルタと同色の色の光を弱める（１１）から（１７）のいずれかに記載の表示装置。
（１９）
　前記カラーフィルタは、赤色フィルタ、緑色フィルタまたは青色フィルタである（１１）から（１８）のいずれかに記載の表示装置。
（２０）
　（１１）から（１９）のいずれかに記載の表示装置を備える電子機器。
　１１　　第１の基板
　１２　　絶縁層
　１３　　反射層
　１３Ａ、１３Ｂ　　反射部
　１３Ｃ　　絶縁層
　１４　　絶縁層
　１４Ａ、１４Ｂ、１４Ｄ　　ビア
　１４Ｃ　　光吸収層
　１４ＤＡ　　端部
　１５Ａ　　第１の電極
　１５Ｂ　　第３の電極
　１６　　絶縁層
　１７　　有機エレクトロルミネッセンス層
　１８　　第２の電極
　１９　　保護層
　２０　　平坦化層
　２１　　カラーフィルタ
　２１Ｒ　　赤色フィルタ
　２１Ｇ　　緑色フィルタ
　２１Ｂ、２１Ｂ１　　青色フィルタ
　２２　　充填樹脂層
　２３　　第２の基板
　２４Ｒ、２４Ｇ、２４Ｂ　　発光素子
　２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ　　共振器構造
　２６Ａ、２６Ｂ　　レンズ
　２７　　平坦化層
　３１　　パッド部
　３１Ａ　　接続端子
　１００、１１０、１２０　　表示装置
　１０１Ｒ、１０１Ｇ、１０１Ｂ　　サブ画素
　Ｒ１　　表示領域
　Ｒ２　　周辺領域
　Ｒ３　　接続領域
　３１０　　デジタルスチルカメラ（電子機器）
　３２０　　ヘッドマウントディスプレイ（電子機器）
　３３０　　テレビジョン装置（電子機器）

Claims (20)

  1. 　表示領域の周辺の領域に、反射部と、絶縁層と、電極と、規定の色のフィルタとをこの順序で備え、
    　前記反射部および前記電極により共振器構造が構成され、前記共振器構造は、前記規定の色の光を弱める表示装置。
  2. 　前記規定の色のフィルタと前記共振器構造により、可視光領域の光が遮光される請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記表示領域に複数色の画素を備え、
    　前記複数色の画素は、前記絶縁層を含み、
    　前記表示領域の周辺の領域における前記絶縁層の厚さは、前記複数色の画素のうちの一色の画素における前記絶縁層の厚さと同一である請求項１に記載の表示装置。
  4. 　前記表示領域に複数色の画素を備え、
    　前記複数色の画素のうちの一色の画素は、前記規定の色のフィルタと同色のフィルタを備える請求項１に記載の表示装置。
  5. 　前記複数色の画素は、赤色の画素、緑色の画素および青色の画素を含む請求項４に記載の表示装置。
  6. 　前記規定の色が、赤色、緑色または青色である請求項１に記載の表示装置。
  7. 　前記電極は、前記表示領域から該表示領域の周辺の領域に亘って設けられている請求項１に記載の表示装置。
  8. 　前記電極は、カソードである請求項７に記載の表示装置。
  9. 　前記絶縁層と前記電極との間に透明電極をさらに備える請求項１に記載の表示装置。
  10. 　請求項１に記載の表示装置を備える電子機器。
  11. 　表示領域の周辺の領域に、反射部と、光吸収部と、電極と、カラーフィルタとをこの順序で備え、
    　前記光吸収部は、前記カラーフィルタが透過する光を吸収する表示装置。
  12. 　前記カラーフィルタと前記光吸収部により、可視光領域の光が遮光される請求項１１に記載の表示装置。
  13. 　前記光吸収部は、導電性を有する光吸収層である請求項１１に記載の表示装置。
  14. 　前記反射部と前記光吸収層との間に絶縁層をさらに備え、
    　前記絶縁層は、前記反射部と前記光吸収層とを電気的に接続する接続部を備え、
    　前記光吸収層および前記接続部は同一の材料により構成されている請求項１３に記載の表示装置。
  15. 　前記反射部と前記電極との間に、前記光吸収部を含む絶縁層をさらに備え、かつ、前記カラーフィルタ上にレンズをさらに備え、
    　前記レンズは、前記カラーフィルタに入射する外光を前記光吸収部に集光する請求項１１に記載の表示装置。
  16. 　前記光吸収部は、前記反射部と前記電極とを電気的に接続する請求項１５に記載の表示装置。
  17. 　前記光吸収部は、ビアである請求項１６に記載の表示装置。
  18. 　前記反射部および前記電極により共振器構造が構成され、前記共振器構造は、前記カラーフィルタと同色の色の光を弱める請求項１１に記載の表示装置。
  19. 　前記カラーフィルタは、赤色フィルタ、緑色フィルタまたは青色フィルタである請求項１１に記載の表示装置。
  20. 　請求項１１に記載の表示装置を備える電子機器。
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