WO2022107480A1 - 金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材 - Google Patents

金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材 Download PDF

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WO2022107480A1
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WO
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metal
vapor deposition
layer
deposition layer
metal vapor
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PCT/JP2021/037170
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English (en)
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Inventor
定子 佐藤
Original Assignee
尾池工業株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation

Definitions

  • the present invention relates to a metal-like decorative film, a metal-like molded body, and a metal-like vehicle interior / exterior member. More specifically, the present invention allows millimeter waves to be transmitted while being able to form various metallic patterns and covering a device such as a millimeter wave radar from the outside so that it is difficult to see or cannot be seen from the outside.
  • the present invention relates to a metal-like decorative film, a metal-like molded body, and a metal-like vehicle interior / exterior member.
  • Patent Document 1 discloses a method for producing a partially vapor-deposited foil used in a transfer decoration method on the surface of a molded product such as a housing of a home electric appliance or a communication device and a simultaneous molding decoration method.
  • Patent Document 2 discloses a method for producing a film in which a metal-deposited layer is laminated and a metal-deposited film.
  • a millimeter-wave radar may be installed on the front part of the automobile.
  • equipment such as a millimeter-wave radar may be placed behind the grille, and the equipment is difficult to see from the outside. Further, since the millimeter wave can pass through the gap of the grill, the grill portion of the engine vehicle does not need to consider the transparency of the millimeter wave.
  • a design without a grill is adopted in an electric vehicle, it is possible to transmit millimeter waves, and it is difficult to see or hide equipment such as millimeter wave radar from the outside, and further, it is possible to hide it so that it cannot be seen.
  • the present invention has been made in view of such a conventional invention, and is capable of transmitting millimeter waves and making it difficult or invisible to see a device such as a radar from the outside. Further, it is an object of the present invention to provide a metal-like decorative film, a metal-like molded body, and a metal-like vehicle interior / exterior member capable of providing a metal-like design having excellent design.
  • the present inventor can form various designs by providing a plurality of metal vapor deposition layers containing indium in a metallic decorative film, can transmit millimeter waves, and further, can be used for radar and the like. We have found that the device is difficult to see from the outside or can be covered so that it cannot be seen, and completed the present invention.
  • the metallic decorative film of the present invention that solves the above problems has a base material, an anchor layer provided on the base material, and a metal vapor deposition layer provided on the anchor layer.
  • the metal vapor deposition layer includes a first metal vapor deposition layer that forms a predetermined pattern on the anchor layer, a first portion that covers the first metal vapor deposition layer, and a second portion other than the first portion.
  • the first metal vapor deposition layer has a second metal vapor deposition layer, the first metal vapor deposition layer contains indium, and the second metal vapor deposition layer is a metal-like decorative film containing indium.
  • the metal-like molded body of the present invention is a metal-like molded body using the above-mentioned metal-like decorative film.
  • the metal-like vehicle interior / exterior member of the present invention is a metal-like vehicle interior / exterior member using the above-mentioned metal-like molded body.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is an external photograph of a metallic molded product produced by using the metallic decorative film of the embodiment of the present invention.
  • FIG. 3A is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3B is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3C is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3A is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3B is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3C
  • FIG. 3D is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3E is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3F is a schematic cross-sectional view illustrating a patterning process for producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a state in which a gravure coater is used in a patterning step when producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a schematic view illustrating a roll of a gravure coater used in a patterning step when producing a metallic decorative film according to an embodiment of the present invention.
  • the metallic decorative film (hereinafter, also referred to as a film) has a base material, an anchor layer provided on the base material, and a metal vapor deposition layer provided on the anchor layer.
  • the metal vapor deposition layer is a second portion including a first metal vapor deposition layer forming a predetermined pattern on the anchor layer, a first portion covering the first metal vapor deposition layer, and a second portion other than the first portion. It has a metal vapor deposition layer.
  • the first metal vapor deposition layer contains indium.
  • the second metal vapor deposition layer contains indium. According to such a film, a predetermined pattern can be formed by the first metal vapor deposition layer.
  • the film can give various designs to an object (for example, an exterior member of an automobile).
  • the metal vapor deposition layer contains indium. Therefore, the metallic decorative film can transmit millimeter waves, and it is difficult to see the device such as a radar from the outside, or it can cover it so that it cannot be seen.
  • various designs can be applied to an object (for example, an exterior member of an automobile).
  • a design in addition to a design in which a device such as a radar is hidden so that it cannot be seen from the outside, a design in which the device such as a radar can be seen from the outside can be adopted. Each will be described below.
  • the base material is not particularly limited.
  • the substrate is a poly (meth) acrylic acid ester such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (polyfluoride).
  • PVDF polytetrafluoroethylene
  • PCTFE polychlorotrifluoroethylene
  • ETFE ethylene-tetrafluoroethylene copolymer
  • ECTFE ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer
  • tetrafluoroethylene-per It is composed of a fluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP) and the like.
  • the thickness of the base material is not particularly limited. As an example, the thickness of the base material is preferably 1.0 to 300 ⁇ m. When the thickness of the base material is within the above range, the film is excellent in scratch resistance and wear resistance.
  • the base material may be one having a desired surface treatment.
  • the surface treatment is not particularly limited.
  • the surface processing includes matte processing, satin processing, embossing processing, hairline processing and the like.
  • various coatings fluorine processing, hard coat processing, etc.
  • surface treatment such as transfer may be applied to the surface of the base material (the surface opposite to the surface on which the anchor layer is formed).
  • various designs and functionality can be imparted to the surface of the base material.
  • the anchor layer is provided on the substrate.
  • the anchor layer is provided to improve the adhesion between the base material and the metal vapor deposition layer.
  • the anchor layer is not particularly limited.
  • the anchor layer may be a raw material having good adhesion to the base material and good acceptance of indium contained in the metal vapor deposition layer, and may be an acrylic resin, a nitrocellulose resin, or a polyurethane resin. , Polyester-based resin, styrene-maleine-based acid resin, chlorinated PP-based resin, etc.
  • the thickness of the anchor layer is not particularly limited. As an example, the thickness of the anchor layer is preferably 0.1 to 3 ⁇ m. When the thickness of the anchor layer is within the above range, the film has excellent adhesion between the base material and the metal vapor deposition layer.
  • the anchor layer may be imparted with design by applying a colorant or a metal pigment. For example, by blending a yellow pigment as a colorant, the laminated film can express a golden appearance. The type and content of the colorant can be appropriately adjusted according to the desired metallic appearance. Further, the anchor layer may be provided with functionality such as an antistatic effect by blending an antistatic agent or the like.
  • the method of forming the anchor layer is not particularly limited.
  • a resin solution constituting the anchor layer appropriately dissolved in a solvent for example, methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, etc.
  • a solvent for example, methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, etc.
  • the resin solution of the anchor layer is applied to the substrate and then dried.
  • the solvent of the resin solution is immersed in the surface of the base material, and the resin constituting the anchor layer and the base material are compatible with each other.
  • the anchor layer and the base material can be firmly adhered to each other.
  • the metal vapor deposition layer is provided on the anchor layer.
  • the metal vapor deposition layer is a second metal vapor deposition layer composed of a first metal vapor deposition layer forming a predetermined pattern on the anchor layer, a first portion covering the first metal vapor deposition layer, and a second portion other than the first portion. Has a layer.
  • the first metal vapor deposition layer is provided on the anchor layer.
  • the first metal vapor deposition layer contains indium.
  • Indium may be contained as an oxide or a nitride.
  • the inclusion of indium in the first metal vapor deposition layer allows the resulting film to transmit millimeter waves from a millimeter wave radar.
  • the first metal-deposited layer containing indium is less likely to cause poor appearance and has excellent molding processability. As a result, the film is easily processed into various three-dimensional shapes.
  • the first metal vapor deposition layer may contain various non-metals, metals, metal oxides and metal nitrides in addition to indium.
  • Non-metals, metals and the like are not particularly limited.
  • non-metals are amorphous carbon (DLC) and its composites, and metals and the like are metals such as gold, silver, platinum, tin, chromium, silicon, titanium, zinc, aluminum and magnesium, and their oxidation. A thing, its nitride.
  • the content of indium in the first metal vapor deposition layer is not particularly limited.
  • the content of indium in the first metal vapor deposition layer is preferably 95% by mass or more, and more preferably 98% by mass or more.
  • the content of indium may be 100% by mass.
  • the thickness (average thickness) of the first metal vapor deposition layer is not particularly limited.
  • the thickness of the first metal vapor deposition layer is preferably 9 nm or more.
  • the thickness of the first metal vapor deposition layer is preferably 90 nm or less, more preferably 80 nm or less.
  • the first metal vapor deposition layer has a difference in reflectance and color of reflected light between the first portion formed in combination with the second metal vapor deposition layer described later and the second portion described later. Easy to adjust. Therefore, the obtained film can realize various metallic patterns, and is more excellent in design and design.
  • the first metal-deposited layer is likely to be provided so as to have a sea-island structure described later.
  • the metal vapor deposition layer may have a sea-island structure.
  • the thickness of the metal-deposited layer is the height when assuming a rectangle having the same width and the same area as the cross-sectional area (substantially fan-shaped cross-sectional area) of the metal-deposited layer having an island structure. be.
  • the method for measuring the thickness of the first metal-deposited layer and the second metal-deposited layer is not particularly limited.
  • the thickness can be measured by scanning electron microscope (SEM) observation, fluorescent X-ray analysis (XRF), ultraviolet-visible spectroscopy, and the like.
  • SEM scanning electron microscope
  • XRF fluorescent X-ray analysis
  • UV-visible spectroscopy ultraviolet-visible spectroscopy
  • the thickness of the metal vapor deposition layer is determined by observation with a scanning electron microscope (SEM), the cross section of the vapor deposition film containing indium is observed using a scanning electron microscope (SEM), and the metal layer containing indium at 5 to 10 places is observed. Measure the thickness of and calculate the average.
  • the thickness of the metal vapor deposition layer is determined by fluorescent X-ray analysis (XRF)
  • XRF fluorescent X-ray analysis
  • the thickness of the vapor deposition film containing indium at 5 to 10 points is measured by quantitative analysis, and the average is calculated.
  • the thickness of the metal vapor deposition layer is determined by ultraviolet-visible spectroscopy
  • the reflectance of the vapor deposition film containing indium at 5 to 10 points is measured by an ultraviolet-visible spectrophotometer, and the metal vapor deposition layer is obtained from the obtained reflectance spectrum. Calculate the average thickness of.
  • the thickness (nm) of the metal vapor deposition layer is calculated by the fluorescent X-ray analysis method (XRF).
  • the first metal vapor deposition layer preferably has a sea-island structure (so-called discontinuous structure).
  • the first metal vapor deposition layer containing indium can obtain an excellent metallic luster as compared with other general metal vapor deposition layers such as an aluminum vapor deposition layer.
  • the obtained film is more likely to transmit millimeter waves.
  • the method of providing the first metal vapor deposition layer so as to have a sea-island structure is not particularly limited.
  • the first metal vapor deposition layer uses a vapor deposition source containing indium and has a sea-island structure by a physical vapor deposition (PVD) method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method. Can be formed.
  • PVD physical vapor deposition
  • the second metal-deposited layer is composed of a first portion that covers the first metal-deposited layer and a second portion other than the first portion.
  • the second metal vapor deposition layer contains indium. Indium may be contained as an oxide or a nitride. The inclusion of indium in the second metal vapor deposition layer allows the resulting film to transmit millimeter waves from the millimeter wave radar. In addition, the second metal-deposited layer containing indium is less likely to cause poor appearance and has excellent molding processability. As a result, the film is easily processed into various three-dimensional shapes.
  • the second metal vapor deposition layer may contain various non-metals, metals, metal oxides and metal nitrides in addition to indium.
  • Non-metals, metals and the like are not particularly limited.
  • non-metals include amorphous carbon (DLC) and its composites, and metals and the like include metals such as gold, silver, platinum, tin, chromium, silicon, titanium, zinc, aluminum and magnesium, and their oxides. It is the nitride.
  • the content of indium in the second metal vapor deposition layer is not particularly limited.
  • the content of indium in the second metal vapor deposition layer is preferably 95% by mass or more, and more preferably 98% by mass or more.
  • the content of indium may be 100% by mass.
  • the thickness (average thickness) of the second metal vapor deposition layer is not particularly limited.
  • the thickness of the second metal vapor deposition layer is preferably 20 nm or more.
  • the thickness of the second metal vapor deposition layer is preferably 90 nm or less, more preferably 80 nm or less.
  • the thickness of the second metal vapor deposition layer is within the above range, millimeter waves are easily transmitted.
  • the value of the total light reflectance is higher than the value of the total light transmittance, making it difficult to see the back of the film, and a device such as a radar is used. It becomes difficult to see from the outside.
  • the second metal-deposited layer is likely to be provided so as to have a sea-island structure described later.
  • the second metal vapor deposition layer preferably has a sea-island structure (so-called discontinuous structure).
  • the second metal vapor deposition layer containing indium can obtain an excellent metallic luster as compared with other general metal vapor deposition layers such as an aluminum vapor deposition layer.
  • the sea-island structure the obtained film is more likely to transmit millimeter waves.
  • the method of providing the second metal vapor deposition layer so as to have a sea-island structure is not particularly limited.
  • the second metal vapor deposition layer uses a vapor deposition source containing indium and has a sea-island structure by a physical vapor deposition (PVD) method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or an ion plating method. Can be formed.
  • PVD physical vapor deposition
  • the first portion of the second metal vapor deposition layer is a portion that covers the first metal vapor deposition layer.
  • the second portion of the second metal vapor deposition layer is a portion other than the first portion. Therefore, the second portion is provided on the anchor layer.
  • the film of the present embodiment can transmit millimeter waves in both the first part and the second part. That is, the radio wave attenuation rate at a frequency of 77 GHz in the first portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Further, the radio wave attenuation rate at a frequency of 77 GHz in the second portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Since the radio wave attenuation at the frequency of 77 GHz in the first part and the second part is within the above range, the film is more transparent to millimeter waves, which are preferably used in forward monitoring radars for detecting long distances, for example. It's easy to do.
  • the radio wave attenuation rate and the radio wave transmittance can be calculated based on the following equations.
  • Radio wave attenuation rate (dB) (Attenuation rate without metal-like decorative film)-(Attenuation rate when metal-like decorative film is installed)
  • Radio wave transmittance (%) 10 a x 100
  • the index a is "-((radio wave attenuation rate) / 20)".
  • the radio wave attenuation rate is determined by using a "waveguide type transmission attenuation / shield effect measurement system Model No. SEM02" manufactured by Keycom Co., Ltd. and a vector network analyzer (ME7838A) manufactured by Anritsu Co., Ltd. Can be measured.
  • the film of the present embodiment can transmit millimeter waves in both the first portion and the second portion. That is, the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the first portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Further, the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the second portion is preferably 1 dB or less, and more preferably 0.5 dB or less. Since the radio wave attenuation rate at the frequency of 24 GHz in the first part and the second part is within the above range, the film more transmits millimeter waves (quasi-millimeter waves) preferably adopted in, for example, peripheral monitoring radar. It's easy to do.
  • the total light reflectance at an incident angle of 5 ° at a wavelength of 550 nm in the second portion is preferably 35% or more, and more preferably 37% or more. Further, the total light reflectance at an incident angle of 5 ° at a wavelength of 550 nm in the second portion is preferably 75% or less, and more preferably 70% or less.
  • the film can easily express a metallic appearance. Further, when the film is provided on the front portion of an automobile or the like equipped with a millimeter-wave radar, it is difficult to see the device such as the radar from the outside, or it is easy to cover up the film so that it cannot be seen.
  • the total light reflectance was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (UV-3600) manufactured by Shimadzu Corporation. Specifically, when the incident light is incident from a direction inclined by 5 ° from the film normal direction, the total light reflected light (mirror surface reflected light (normally reflected light)) when the aluminum mirror as the reference plate is installed. + The amount of diffused reflected light (excluding mirror-reflected light) is set to 100%, whereas the total light reflected light (mirror-reflected light (normally reflected light)) when the film of the present embodiment is installed is + diffused reflected light. The amount of (excluding mirror-reflected light)) was defined as the total light reflectance (%).
  • UV-3600 ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer
  • the method of forming the metal-deposited layer is not particularly limited.
  • a conventionally known vacuum vapor deposition method, a sputtering method, a physical vapor deposition method such as an ion plating method, a chemical vapor deposition method, or the like can be appropriately adopted.
  • the vapor deposition conditions conventionally known conditions can be appropriately adopted based on the desired thickness of the metal vapor deposition layer.
  • the metal material preferably has few impurities and a purity of 99% by weight or more, and more preferably 99.5% by weight or more. Further, the metal material is preferably processed into a granular shape, a rod shape, a tablet shape, a wire shape, or a crucible shape to be used.
  • the heating method for evaporating the metal material is a method of putting the metal material in the crucible and performing resistance heating or high frequency heating, a method of performing electron beam heating, and putting the metal material in a ceramic board such as boron nitride directly. A well-known method such as a method of performing resistance heating can be used.
  • the crucible used for vacuum deposition is preferably made of carbon, and may be made of alumina, magnesia, titania, or beryllia.
  • the first metal vapor deposition layer is formed so as to have a predetermined pattern with respect to the anchor layer.
  • a second metal vapor deposition layer is formed so as to cover the anchor layer and the first metal vapor deposition layer.
  • the film of the present embodiment may be provided with other layers as appropriate.
  • the film may be provided with an adhesive layer.
  • the adhesive layer is provided to bond the film to the adherend.
  • the adhesive layer is not particularly limited.
  • the adhesive layer is composed of various adhesives, adhesives, pressure-sensitive adhesives (PSA: Pressure Sensitive Adhesive) and the like.
  • PSA Pressure Sensitive Adhesive
  • the adhesive is not particularly limited.
  • the adhesives are acrylic resin-based, urethane resin-based, urethane-modified polyester resin-based, polyester resin-based, epoxy resin-based, ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA) -based, and vinyl resin-based (vinyl chloride, vinegar).
  • Bi vinyl acetate-vinegar vinyl copolymer resin
  • styrene-ethylene-butylene copolymer resin system polyvinyl alcohol resin system
  • polyacrylamide resin system polyacrylamide resin system
  • isobutylene rubber isoprene rubber
  • natural rubber SBR, NBR
  • resins may be appropriately dissolved in a solvent and used, or may be used without a solvent.
  • the thickness of the adhesive layer is not particularly limited. As an example, the thickness of the adhesive layer is preferably 10 ⁇ m or more, and more preferably 15 ⁇ m or more. The thickness of the adhesive layer is preferably 60 ⁇ m or less, more preferably 55 ⁇ m or less. When the thickness of the adhesive layer is within the above range, the obtained film is further excellent in appearance and adhesiveness at the time of adhesion.
  • the adhesive layer may be imparted with design by applying a metal pigment. Further, the adhesive layer may be imparted with functionality such as an antistatic effect by blending an antistatic agent or the like. Thereby, the adhesive layer can improve the bonding suitability.
  • the method of forming the adhesive layer is not particularly limited.
  • a resin solution constituting the adhesive layer appropriately dissolved in a solvent is applied to a separator described later using a roll coater or the like, and then the separator on which the adhesive layer is formed is metal-deposited. It may be bonded to the layer, or the above resin solution may be applied directly onto the metal vapor deposition layer to form an adhesive layer.
  • an off-the-shelf product in which the adhesive layer is provided on the separator may be used as the adhesive layer.
  • the method for forming the adhesive layer can be appropriately selected depending on the characteristics of the adhesive and the adhesive to be used.
  • the OD (Optical Density) value of the film is preferably 1.5 or less, and more preferably 1.3 or less.
  • the OD value is preferably 0.4 or more, and more preferably 0.5 or more.
  • the OD value is a parameter indicating the transparency of light, and can be measured using, for example, a transmission densitometer (X-Rite 361T, manufactured by X-Rite). Since the OD value of the film of the present embodiment is within the above range, it is possible to make it difficult to see the back of the film and to make it difficult for a device such as a radar to be seen from the outside while maintaining millimeter wave transparency. Will be.
  • the film of the present embodiment has a first metal vapor deposition layer containing indium and a second metal vapor deposition layer containing indium.
  • the second metal vapor deposition layer includes a first portion that covers the first metal vapor deposition layer and a second portion other than the first portion.
  • Both the first metal-deposited layer and the second metal-deposited layer have radio wave transmission and transmit millimeter waves. Therefore, for example, a predetermined pattern can be formed by the first metal vapor deposition layer, and a film having excellent design can be obtained. Further, since the metal vapor deposition layer has a metallic luster, the millimeter wave radar can be obscured so that it is difficult to see from the outside or cannot be seen from the outside.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the film 1 of the present embodiment.
  • the anchor layer is omitted.
  • the first metal vapor deposition layer 3 is provided so as to form a predetermined pattern on the base material 2 provided with the anchor layer.
  • the first metal vapor deposition layer 3 has a sea-island structure.
  • the island part is the area where indium exists, and the sea part is the area where indium does not exist.
  • the second metal vapor deposition layer 4 is provided so as to cover the base material 2 provided with the anchor layer and the first metal vapor deposition layer 3.
  • the portion P1 is the first portion of the second metal vapor deposition layer 4 that covers the first metal vapor deposition layer 3.
  • the portion P2 is a second portion other than the first portion.
  • the second metal vapor deposition layer 4 is drawn in the shape of scattered islands. This is because the suitable second metal vapor deposition layer 4 has a sea-island structure.
  • the obtained film may be provided with a separator.
  • a separator provided with an adhesive layer in advance may be used, or an adhesive layer may be formed on the separator and the adhesive layer may be bonded so as to be in contact with the metal vapor deposition layer.
  • the separator is not particularly limited.
  • the separator is a plastic film or paper surface-coated with a release agent such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, polypropylene, a fluorine-based release agent, or a long-chain alkyl acrylate-based release agent.
  • a release agent such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene, polypropylene, a fluorine-based release agent, or a long-chain alkyl acrylate-based release agent.
  • the adhesive layer is exposed.
  • the exposed adhesive layer is attached to an adherend (described later) before molding.
  • an adherend (backing sheet, backer) may be provided on the adhesive layer.
  • the adherend is preferably provided when the film insert method is adopted when manufacturing the metallic molded body described later.
  • the adherend is not particularly limited.
  • the adherend may be a polymer sheet capable of thermoforming, and may be an ABS sheet, a polyvinyl acrylic sheet, a polypropylene sheet, a polyethylene sheet, a polycarbonate sheet, an A-PET sheet, or a PET-G sheet. , Vinyl chloride (PVC) -based sheet, polyamide-based sheet and the like are preferable.
  • the thickness of the adherend is not particularly limited.
  • the thickness of the adherend is preferably 0.05 to 5 mm, more preferably 0.3 to 3 mm from the viewpoint of formability in compression molding and the like.
  • the adherend one having a desired surface treatment may be used.
  • the surface treatment is not particularly limited.
  • the surface processing includes matte processing, satin processing, embossing processing, hairline processing, various patterns and the like.
  • an adherend provided with an adhesive layer in advance may be used, or an adhesive layer may be formed on the adherend and bonded so that the adhesive layer is in contact with the metal vapor deposition layer.
  • the adherend to which the film of the present embodiment is attached is appropriately processed into a three-dimensional shape to produce a molded product (metal-like molded product).
  • the molding method of the metallic molded body is not particularly limited.
  • the molding method is formed by vacuum forming, TOM (Threee dimension Overlay Method) forming or the like.
  • TOM molding the film is applied to a pre-prepared adherend and softened by heat to be integrally molded to follow the adherend.
  • vacuum forming the film is heated and softened by a heater. Next, the heated film is pressed against a mold having a desired three-dimensional shape while being vacuum-sucked, and is deformed to follow the shape of the three-dimensional molded product.
  • the metallic molded body is easy to be manufactured by molding.
  • the above-mentioned film is used as the metal-like molded body that has been molded. Therefore, various designs can be given to the metallic molded body. Further, the metallic molded body can transmit millimeter waves.
  • the metallic molded body is not particularly limited.
  • the metal-like molded body is a metal-like vehicle interior / exterior member, a metal-like signboard, a metal-like home appliance, a metal-like amusement product, a metal-like building material, and the like.
  • the metal-like molded body is preferably used as a metal-like vehicle interior / exterior member.
  • the metal-like vehicle interior / exterior members are not particularly limited.
  • metallic vehicle interior and exterior parts include instrument panel garnishes and ornaments, audio panels, auto air conditioner panels, steering ornaments, door trim ornaments, power window switch bezels, operation knobs, switches and caps or covers, and radiators.
  • the metallic vehicle interior / exterior member of the present embodiment is preferably used for the front portion (grill portion in the engine vehicle) of the electric vehicle. That is, the electric vehicle does not require a grill at the front portion of the vehicle.
  • ADAS advanced driver assistance system
  • a millimeter-wave radar is provided on the front part of the automobile.
  • the metallic molded body of the present embodiment can transmit millimeter waves, it is possible to cover up equipment such as a millimeter wave radar while transmitting millimeter waves.
  • the metallic molded body can adopt various designs for the front part of the electric vehicle instead of the grill part without impairing the function of the millimeter wave radar.
  • the embodiment of the present invention has been described above.
  • the present invention is not particularly limited to the above embodiment.
  • the above-described embodiment mainly describes an invention having the following configuration.
  • the metal vapor deposition layer of the above is a metal-like decorative film containing indium, and the second metal vapor deposition layer contains indium.
  • a predetermined pattern can be formed by the first metal vapor deposition layer.
  • the metallic decorative film of the present invention can give various designs to an object (for example, an exterior member of an automobile).
  • the metal vapor deposition layer contains indium. Therefore, the metallic decorative film can transmit millimeter waves, and it is difficult to see the device such as a radar from the outside, or it can cover it so that it cannot be seen.
  • the metallic decorative film can have high millimeter wave transparency in both the first portion and the second portion.
  • the metallic decorative film is easier to express a metallic appearance.
  • the metallic decorative film is easy to cover up devices such as radar so that they cannot be seen from the outside.
  • the metallic decorative film is more likely to transmit millimeter waves.
  • the metallic decorative film is more likely to transmit millimeter waves, which are preferably used in a forward monitoring radar for detecting a long distance, for example.
  • the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the first part is 1 dB or less
  • the radio wave attenuation rate at a frequency of 24 GHz in the second part is 1 dB or less.
  • the metallic decorative film is more likely to transmit millimeter waves (quasi-millimeter waves), which are suitably used in, for example, peripheral monitoring radars.
  • the metallic molded body is easily manufactured by molding.
  • the molded metal-like molded body the above-mentioned metal-like decorative film is used. Therefore, various designs can be given to the metallic molded body.
  • the metal-like molded body can transmit millimeter waves and can cover a device such as a radar so that it cannot be visually recognized from the outside.
  • the metal-like molded body is used as the metal-like vehicle interior / exterior member. Therefore, various designs can be applied to the metal-like vehicle interior / exterior members. Further, the metal-like vehicle interior / exterior member can transmit millimeter waves, and can make it difficult to see the device such as a radar from the outside, or can cover it so that it cannot be seen.
  • Example 1 A substrate (thickness 75 ⁇ m) made of PMMA was prepared. Using a gravure coater, apply an anchor coating agent solution containing an acrylic polyol and an isocyanate-based coating material to the substrate so that the thickness becomes 1.3 ⁇ m after drying, and then dry it at 100 ° C. for 1 minute. And formed an anchor layer. Next, a metal vapor deposition layer (first metal vapor deposition layer) made of indium was formed on the anchor layer by a vacuum vapor deposition method so as to have a predetermined pattern and a thickness of 9 nm (patterning step, details of which will be described later). do.).
  • a metal vapor deposition layer (second metal vapor deposition layer) having a thickness of 9 nm was formed so as to cover the anchor layer and the first metal vapor deposition layer by a vacuum vapor deposition method.
  • a separator (PET film) with an adhesive layer (thickness 25 ⁇ m) made of an acrylic adhesive was prepared.
  • the metal vapor deposition layer and the adhesive layer (adhesive layer) are bonded so as to be in contact with each other, the adhesive layer (adhesive layer) is transferred to the metal vapor deposition layer, and then the separator is peeled off to prepare the metal-like decorative film of Example 1. did.
  • Examples 2 to 6> A metal-like decorative film was produced by the same method as in Example 1 except that the thickness, OD value, etc. of the metal-deposited layer were adjusted according to the formulations shown in Table 1.
  • a substrate made of PET was prepared.
  • a solution containing 5% cellulose acetate butyrate (CAB) was applied to the substrate by a gravure coating method at a coating rate of 0.06 g / m 2 ⁇ 0.01 g / m 2 , and the temperature was 110 ° C. or higher and 120. It was dried below ° C to form an anchor layer of 50 nm.
  • a metal vapor deposition layer made of aluminum was formed on the anchor layer by a vacuum vapor deposition method so as to have a predetermined pattern and a thickness of 20 nm.
  • a separator PET film with an adhesive layer (thickness 25 ⁇ m) made of an acrylic adhesive was prepared.
  • the metal vapor deposition layer and the adhesive layer (adhesive layer) are bonded so as to be in contact with each other, the adhesive layer (adhesive layer) is transferred to the metal vapor deposition layer, and then the separator is peeled off to prepare the metal-like decorative film of Comparative Example 1. did.
  • O.D. L. Is an abbreviation for Over Load, which means that the resistance value exceeds the range of the measuring instrument and cannot be measured (the same applies to Table 3).
  • resistance value it is a value of 107 ⁇ / ⁇ or more. That is, although the films of Examples 1 to 6 are indium films which are metal films, they have high resistance, low conductivity, and indium has a sea-island structure. That is, it can be said that the indium film is a discontinuous film.
  • the OD value, the thickness, the resistance value, the total light transmittance and the total light transmittance at a wavelength of 550 nm, the radio wave attenuation rate and the radio wave at a frequency of 77 GHz are according to the following methods.
  • the transmittance, the radio wave attenuation rate and the radio wave transmission rate at a frequency of 24 GHz were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
  • OD value> The OD value was measured using a transmission densitometer (X-Rite361T, manufactured by X-Rite).
  • the thickness was measured by X-ray fluorescence analysis (XRF). Specifically, the thickness is quantitatively analyzed using a fluorescent X-ray measuring device (ZSX Primus IV, Rigaku Denki Kogyo Co., Ltd.), and the thickness (nm) of the metal vapor deposition film at 5 to 10 points is measured and averaged. Was calculated.
  • XRF X-ray fluorescence analysis
  • the resistance value was measured using a surface resistance measuring device (Lorester GP MCP-T360, Dia Instruments).
  • UV-3600 ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer
  • the amount of (excluding mirror-reflected light)) was defined as the total light reflectance (%).
  • the total light transmittance the amount of incident light in the state where the film is not installed (air; Air only) is set to 100%, and when the film of the present invention is installed, the diffusion component transmitted through the film is used.
  • the amount of emitted light included was defined as the total light transmittance (%).
  • Radio wave attenuation rate (dB) (Attenuation rate without metal-like decorative film)-(Attenuation rate when metal-like decorative film is installed)
  • Radio wave transmittance (%) 10 a x 100
  • the index a is "-((radio wave attenuation rate) / 20)”.
  • the radio wave attenuation rate is determined by using a "waveguide type transmission attenuation / shield effect measurement system Model No. SEM02" manufactured by Keycom Co., Ltd. and a vector network analyzer (ME7838A) manufactured by Anritsu Co., Ltd. It was measured.
  • the radio wave attenuation rate at frequencies 77 GHz and 24 GHz in the first portion and the second portion was almost unchanged, and the radio wave transmittance was high. Therefore, it was found that all of these films can transmit millimeter waves well.
  • the value of the total light transmittance is higher than the value of the total light reflectance, and the back of the film is easily visible, so that a device such as a radar can be used. It is easy to see from the outside, and it is suitable for a skeleton-like design that makes it easy to see devices such as radar from the outside.
  • the value of the total light reflectance is higher than the value of the total light transmittance, making it difficult to see the back of the film, such as a radar. It is suitable when a design that makes it difficult for the device to be visually recognized from the outside is required. Since the first portion is a portion where the indium layer is vapor-deposited twice, it is considered that the reflectance is higher than that of the second portion, which is the portion where the indium layer is vapor-deposited once. Therefore, if it is difficult to see the back of the film in the second part, it is considered that it is difficult to see the back of the film in the first part as well.
  • the films of Examples 1 to 6 are the first metal vapor deposition layer. It was found that the pattern shape formed by the film is not easily restricted and the design is excellent.
  • FIG. 2 is an external photograph of a molded product obtained by molding the metallic decorative film of Examples 1, 2 and 5.
  • molded bodies molded bodies F1 to F3 obtained by molding the films of Examples 5, 2 and 1 are shown.
  • the inside of the rhombus pattern is the first portion (the portion where the indium layer is vapor-deposited twice), and the outside of the rhombus pattern is the second portion (the portion where the indium layer is vapor-deposited once).
  • the molded bodies F1 and F2 of Examples 5 and 2 have a metallic tone not only in the first portion but also in the second portion, making it difficult to visually recognize the back of the film.
  • the back of the film is hard to be visually recognized in the first portion, but the back of the film is easily visible in the second portion, and the device such as a radar is easily visible from the outside. It is suitable when a skeleton-like design is required.
  • the molded bodies F1 and F2 of Examples 5 and 2 not only the reflectance in the first portion in the rhombic pattern but also the color of the reflected light is changed by changing the thickness of the second metal vapor deposition layer. You can see that.
  • the portion shown by the diamond shape indicates the first portion of the second metal vapor deposition layer, which is a portion covering the first metal vapor deposition layer (first portion P1a, P1b, P1c).
  • the other portion indicates a second portion in which the anchor layer is provided with the second metal vapor deposition layer (second portion P2a, P2b, P2c).
  • a predetermined design diamond pattern in FIG. 2 can be freely expressed, and its color can be adjusted.
  • the metal-like decorative film of Comparative Example 1 in which the metal-deposited layer was formed using aluminum had low radio wave transmission. Therefore, it was found that the film of Comparative Example 1 could not transmit millimeter waves well. It is presumed that the film of Comparative Example 1 has an aluminum-deposited film that is close to a continuous film and cannot transmit millimeter waves satisfactorily.
  • ⁇ Reference example 1> A substrate (thickness 75 ⁇ m) made of PMMA was prepared. Using a gravure coater, apply an anchor coating agent solution containing an acrylic polyol and an isocyanate-based coating material to the substrate so that the thickness becomes 1.3 ⁇ m after drying, and then dry it at 100 ° C. for 1 minute. And formed an anchor layer. Next, a solid film of the metal vapor deposition layer made of indium was formed on the anchor layer by a vacuum vapor deposition method so as to have a thickness of 9 nm. As a result, the metallic decorative film of Reference Example 1 was produced.
  • Reference Examples 2 to 7 A metal-like decorative film was produced by the same method as in Reference Example 1 except that the thickness, OD value, etc. of the metal-deposited layer were adjusted according to the formulations shown in Table 3.
  • the films of Reference Examples 1 to 7 correspond to the second portion (the portion where the indium layer is vapor-deposited once) in Examples 1 to 6.
  • the films of Reference Examples 1 to 4 had a low radio wave attenuation rate at frequencies of 77 GHz and 24 GHz with almost no change, and a high radio wave transmittance. Therefore, it was found that all of these films can transmit millimeter waves well.
  • the films of Reference Examples 5 to 7 had high radio wave attenuation at frequencies of 77 GHz and 24 GHz and low radio wave transmittance. Therefore, it was found that none of these films could transmit millimeter waves well.
  • the indium-deposited film no longer exhibits a sea-island structure, and is a film close to a continuous film, and it is presumed that millimeter waves cannot be transmitted well. Therefore, it is considered that the upper limit of the thickness of the metal vapor-deposited film in the second portion, which enables the millimeter wave to be transmitted satisfactorily, is 90 nm. That is, if the thickness of the indium-deposited film is 90 nm or less, it is considered that millimeter waves can be satisfactorily transmitted. The same can be said for the first metal vapor deposition layer.
  • a base material 2 (thickness 75 ⁇ m) made of PMMA was prepared.
  • a gravure coater was used on the base material 2 to apply an anchor coating agent solution in which an acrylic polyol and an isocyanate-based coating material were mixed so as to be 1.3 ⁇ m after drying. Then, it was dried at 100 ° C. for 1 minute to form an anchor layer 2a.
  • the intermediate film A having the anchor layer 2a formed on the base material 2 is oriented so that the anchor layer 2a side of the intermediate film A faces the roll R side, and the water-soluble primer layer Wp. was partially formed (see FIG. 3C).
  • the water-soluble primer polyvinyl butyral resin was used, and the heat was dried at 100 ° C. for 1 minute to form a water-soluble primer layer Wp.
  • the roll R is composed of a convex portion D protruding in a rhombus shape and a concave portion E other than that protruding.
  • the concave portion E can be filled with the water-soluble primer layer Wp by rotating the roll R while immersing the roll R in the tray WB in which the water-soluble primer layer Wp is stored. At this time, the convex portion D is not filled with the water-soluble primer layer Wp. Then, as shown in FIG.
  • the roll R is rotated by using the gravure coater GC, and the intermediate film A is brought into contact with the roll R and passed while being wound up on the anchor layer 2a.
  • an intermediate film A'in which the water-soluble primer layer Wp was formed only outside the diamond-shaped portion could be obtained (see FIG. 3C).
  • the first metal (indium) vapor deposition layer 3 was formed on the entire surface of the intermediate film A'.
  • the first metal (indium) vapor-deposited layer 3 actually exhibits a sea-island structure as shown in FIG. 1 instead of a continuous film as shown in FIG. 3D.
  • the entire film was immersed in a vat containing pure water to remove the first metal (indium) vapor-deposited layer 3 on the portion where the water-soluble primer layer Wp was present (water washing step) (see FIG. 3E). .. Then, the second metal (indium) vapor deposition layer 4 was vapor-deposited on the entire surface.
  • the second metal (indium) vapor-deposited layer 4 actually exhibits a sea-island structure as shown in FIG. 1 instead of a continuous film as shown in FIG. 3F.
  • the metallic decorative film 1 in which the first portion P1 and the second portion P2 are patterned can be produced (see FIG. 3F).

Abstract

基材と、基材上に設けられたアンカー層と、アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第１の金属蒸着層と、第１の金属蒸着層を覆う第１部分と、第１部分以外の第２部分とからなる第２の金属蒸着層とを有し、第１の金属蒸着層は、インジウムを含み、第２の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルム。

Description

金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材
　本発明は、金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材に関する。より詳細には、本発明は、様々な金属調のパターン模様を形成でき、かつ、ミリ波レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないよう覆い隠しつつ、ミリ波を透過させることのできる金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材に関する。
　従来、基材に対して金属蒸着層のパターンを形成する技術が開発されている。特許文献１には、家電製品、通信機器の筺体等となる成形品表面への転写加飾法や成形同時加飾法に用いられる部分蒸着箔の製造方法が開示されている。特許文献２には、金属蒸着層を積層したフィルムの製造方法および金属蒸着フィルムが開示されている。
特開２００６－２３９９６２号公報 特開２００６－１２３２９５号公報
　ところで、電気自動車は、自動車フロント部分において、グリルが必要でない。そのため、自動車フロント部分をどのようなデザインとするかが種々検討されている。法令により、電気自動車のフロント部分（エンジン車でいうグリル部分）などの人が衝突する可能性のある部分は、柔らかく、可逆性のあるプラスチックが用いられる。そのため、ボンネット部分（金属）と同じ材質を、自動車フロント部分に使用することにより、統一感を出すことはできない。
　また、最近の自動車では、ＡＤＡＳ（先進運転支援システム）や自動運転技術のため、自動車フロント部分にミリ波レーダーが設けられる場合がある。エンジン車の場合、グリル部分の奥にミリ波レーダー等の機器が配置されればよく、外部から機器は視認されにくい。また、グリルの隙間をミリ波が通過できるため、エンジン車のグリル部分は、ミリ波の透過性を考慮してなくてもよい。一方、電気自動車においてグリルのないデザインが採用される場合、ミリ波を透過でき、かつ、ミリ波レーダー等の機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように隠すことができ、さらに、デザイン性の優れた金属調意匠を設けることのできる技術が求められている。このような課題を解決する発明は、上記特許文献１～２には開示されていない。
　本発明は、このような従来の発明に鑑みてなされたものであり、ミリ波を透過でき、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができ、さらに、デザイン性の優れた金属調意匠を設けることのできる金属調加飾フィルム、金属調成形体および金属調車両内外装部材を提供することを目的とする。
　本発明者は、鋭意検討した結果、金属調加飾フィルムにおいて、インジウムを含む複数の金属蒸着層を設けることにより、種々のデザインを形成でき、かつ、ミリ波を透過でき、さらに、レーダーなどの機器が外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる点を見出し、本発明を完成させた。
　すなわち、上記課題を解決する本発明の金属調加飾フィルムは、基材と、前記基材上に設けられたアンカー層と、前記アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、前記金属蒸着層は、前記アンカー層上に所定のパターンを形成する第１の金属蒸着層と、前記第１の金属蒸着層を覆う第１部分と、前記第１部分以外の第２部分とからなる第２の金属蒸着層とを有し、前記第１の金属蒸着層は、インジウムを含み、前記第２の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルムである。
　本発明の金属調成形体は、上記金属調加飾フィルムを用いた、金属調成形体である。
　本発明の金属調車両内外装部材は、上記金属調成形体を用いた、金属調車両内外装部材である。
図１は、本発明の一実施形態の金属調加飾フィルムの模式的な断面図である。 図２は、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを用いて作製した金属調成形体の外観写真である。 図３Ａは、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程を説明する模式的な断面図である。 図３Ｂは、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程を説明する模式的な断面図である。 図３Ｃは、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程を説明する模式的な断面図である。 図３Ｄは、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程を説明する模式的な断面図である。 図３Ｅは、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程を説明する模式的な断面図である。 図３Ｆは、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程を説明する模式的な断面図である。 図４は、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程においてグラビアコーターを用いている状態を説明する模式図である。 図５は、本発明の実施例の金属調加飾フィルムを作製する際のパターニング工程において使用されるグラビアコーターのロールを説明する模式図である。
＜金属調加飾フィルム＞
　本発明の一実施形態に金属調加飾フィルム（以下、フィルムともいう）は、基材と、基材上に設けられたアンカー層と、アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有する。金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第１の金属蒸着層と、第１の金属蒸着層を覆う第１部分と、第１部分以外の第２部分とからなる第２の金属蒸着層とを有する。第１の金属蒸着層は、インジウムを含む。第２の金属蒸着層は、インジウムを含む。このようなフィルムによれば、第１の金属蒸着層によって、所定のパターンを形成することができる。これにより、たとえば、フィルムは、種々のデザインを、対象物（たとえば自動車の外装部材）に付与することができる。また、金属蒸着層は、インジウムを含む。そのため、金属調加飾フィルムは、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる。すなわち、本実施形態のフィルムによれば、種々のデザインを、対象物（たとえば自動車の外装部材）に付与することができる。この際、デザインとしては、レーダーなどの機器を外部から視認できないよう覆い隠したデザインのほか、あえてレーダーなどの機器がいくらか外部から視認できるようなデザインなども採用することができる。以下、それぞれについて説明する。
（基材）
　基材は特に限定されない。一例を挙げると、基材は、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン－２，６－ナフタレート、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、エチレン－テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、エチレン－クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン－パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）等からなる。
　基材の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、基材の厚みは、１．０～３００μｍであることが好ましい。基材の厚みが上記範囲内であることにより、フィルムは、耐擦傷性、耐摩耗性が優れる。
　基材は、所望の表面加工が施されたものが使用されてもよい。表面加工は特に限定されない。一例を挙げると、表面加工は、マット加工、サテン加工、エンボス加工、ヘアライン加工等である。また、基材の表面（アンカー層が形成される面とは反対の面）に、各種コーティング（フッ素加工、ハードコート加工等）、転写等の表面加工が施されてもよい。これにより、基材の表面には、各種意匠性や機能性が付与され得る。
（アンカー層）
　アンカー層は、基材上に設けられる。アンカー層は、基材と金属蒸着層との密着性を向上させるために設けられる。
　アンカー層は特に限定されない。一例を挙げると、アンカー層は、基材との密着性がよく、かつ、金属蒸着層に含まれるインジウムの受理性がよい原料であればよく、アクリル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、スチレン－マレイン系酸樹脂、塩素化ＰＰ系樹脂等である。
　アンカー層の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、アンカー層の厚みは、０．１～３μｍが好ましい。アンカー層の厚みが上記範囲内であることにより、フィルムは、基材と金属蒸着層との密着性が優れる。
　アンカー層は、着色剤や金属顔料が付与されることにより、意匠性が付与されてもよい。たとえば、着色剤としてイエロー顔料が配合されることにより、積層フィルムは、金色の外観を表現し得る。着色剤の種類や含有量は、所望する金属調の外観に応じて適宜調整され得る。また、アンカー層は、帯電防止剤等が配合されることにより、帯電防止効果などの機能性が付与されてもよい。
　アンカー層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、アンカー層は、ロールコーター等を用いて、適宜溶剤（たとえばメチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチル等）に溶解したアンカー層を構成する樹脂溶液を、基材上に塗布し、次いで８０～１００℃程度で３０秒から１分乾燥することにより形成し得る。
　アンカー層の樹脂溶液は、基材に塗布され、次いで、乾燥される。これにより、基材の表面に樹脂溶液の溶媒が浸漬し、アンカー層を構成する樹脂と基材とが相溶する。その結果、アンカー層と基材とは、強固に密着し得る。
（金属蒸着層）
　金属蒸着層は、アンカー層上に設けられる。金属蒸着層は、アンカー層上に所定のパターンを形成する第１の金属蒸着層と、第１の金属蒸着層を覆う第１部分および第１部分以外の第２部分からなる第２の金属蒸着層とを有する。
・第１の金属蒸着層
　第１の金属蒸着層は、アンカー層上に設けられる。第１の金属蒸着層は、インジウムを含む。インジウムは、酸化物、窒化物として含まれてもよい。第１の金属蒸着層がインジウムを含むことにより、得られるフィルムは、ミリ波レーダーからのミリ波を透過させることができる。また、インジウムを含む第１の金属蒸着層は、外観不良を生じにくく、成形加工性が優れる。その結果、フィルムは、種々の三次元形状に加工されやすい。
　また、第１の金属蒸着層は、インジウムの他、各種非金属、金属、金属酸化物および金属窒化物を含んでもよい。非金属、金属等は特に限定されない。一例を挙げると、非金属は、アモルファスカーボン（ＤＬＣ）およびその複合体であり、金属等は、金、銀、白金、スズ、クロム、ケイ素、チタン、亜鉛、アルミニウムおよびマグネシウム等の金属、その酸化物、その窒化物である。
　第１の金属蒸着層におけるインジウムの含有量は特に限定されない。一例を挙げると、インジウムの含有量は、第１の金属蒸着層中、９５質量％以上であることが好ましく、９８質量％以上であることがより好ましい。インジウムの含有量は、１００質量％であってもよい。
　第１の金属蒸着層の厚み（平均厚み）は特に限定されない。一例を挙げると、第１の金属蒸着層の厚みは、９ｎｍ以上であることが好ましい。また、第１の金属蒸着層の厚みは、９０ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましい。第１の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、ミリ波が透過しやすくなる。また、第１の金属蒸着層は、後述する第２の金属蒸着層と合わせて形成される第１の部分、および、後述する第２の部分における、反射率および反射光の色味の違いを調整しやすい。そのため、得られるフィルムは、様々な金属調パターンを実現可能となり、意匠性やデザイン性がより優れる。また、第１の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、第１の金属蒸着層は、後述する海島構造を有するよう設けられやすい。なお、本実施形態において、金属蒸着層は、海島構造を採る場合がある。このような場合、金属蒸着層の厚みは、島構造である金属蒸着層の断面積（略扇形断面の面積）と、同横幅で、かつ、同面積となる長方形を想定した場合の高さである。
　なお、本実施形態において、第１の金属蒸着層および後述する第２の金属蒸着層の厚みを測定する方法は特に限定されない。一例を挙げると、厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）、紫外可視分光法等により測定し得る。走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察により金属蒸着層の厚みを求める場合、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、インジウムを含む蒸着膜の断面観察を行い、５～１０箇所のインジウムを含む金属層の厚みを測定し、平均を算出する。また、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）により金属蒸着層の厚みを求める場合、定量分析により、５～１０箇所のインジウムを含む蒸着膜の厚みを測定し、平均を算出する。さらに、紫外可視分光法により金属蒸着層の厚みを求める場合、紫外可視分光光度計により５～１０箇所のインジウムを含む蒸着膜の反射率を測定し、得られた反射率のスペクトルから金属蒸着層の厚みの平均を算出する。本実施形態では、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）により金属蒸着層の厚み（ｎｍ）を算出する。
　第１の金属蒸着層は、海島構造（いわゆる不連続構造）を有することが好ましい。これにより、インジウムを含む第１の金属蒸着層は、たとえば、アルミニウム蒸着層等の他の一般的な金属蒸着層と比較して、優れた金属光沢を得ることができる。また、海島構造を有することにより、得られるフィルムは、ミリ波をより透過しやすい。
　なお、海島構造を有するよう第１の金属蒸着層を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、第１の金属蒸着層は、インジウムを含む蒸着源を用い、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相蒸着（ＰＶＤ）法によって、海島構造を有するよう形成され得る。
・第２の金属蒸着層
　第２の金属蒸着層は、第１の金属蒸着層を覆う第１部分と、第１部分以外の第２部分とからなる。第２の金属蒸着層は、インジウムを含む。インジウムは、酸化物、窒化物として含まれてもよい。第２の金属蒸着層がインジウムを含むことにより、得られるフィルムは、ミリ波レーダーからのミリ波を透過させることができる。また、インジウムを含む第２の金属蒸着層は、外観不良を生じにくく、成形加工性が優れる。その結果、フィルムは、種々の三次元形状に加工されやすい。
　また、第２の金属蒸着層は、インジウムの他、各種非金属、金属、金属酸化物および金属窒化物を含んでもよい。非金属、金属等は特に限定されない。一例を挙げると、非金属は、アモルファスカーボン（ＤＬＣ）およびその複合体、金属等は、金、銀、白金、スズ、クロム、ケイ素、チタン、亜鉛、アルミニウムおよびマグネシウム等の金属、その酸化物、その窒化物である。
　第２の金属蒸着層におけるインジウムの含有量は特に限定されない。一例を挙げると、インジウムの含有量は、第２の金属蒸着層中、９５質量％以上であることが好ましく、９８質量％以上であることがより好ましい。インジウムの含有量は、１００質量％であってもよい。
　第２の金属蒸着層の厚み（平均厚み）は特に限定されない。一例を挙げると、第２の金属蒸着層の厚みは、２０ｎｍ以上であることが好ましい。また、第２の金属蒸着層の厚みは、９０ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましい。第２の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、ミリ波が透過しやすくなる。また、後述するように、第２の金属蒸着層において、全光線透過率の値よりも全光線反射率の値の方が高くなり、フィルムの奥を視認されにくくなって、レーダーなどの機器を外部から視認されにくくなる。また、第２の金属蒸着層の厚みが上記範囲内であることにより、第２の金属蒸着層は、後述する海島構造を有するよう設けられやすい。
　第２の金属蒸着層は、海島構造（いわゆる不連続構造）を有することが好ましい。これにより、インジウムを含む第２の金属蒸着層は、たとえば、アルミニウム蒸着層等の他の一般的な金属蒸着層と比較して、優れた金属光沢を得ることができる。また、海島構造を有することにより、得られるフィルムは、ミリ波をより透過しやすい。
　なお、海島構造を有するよう第２の金属蒸着層を設ける方法は特に限定されない。一例を挙げると、第２の金属蒸着層は、インジウムを含む蒸着源を用い、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相蒸着（ＰＶＤ）法によって、海島構造を有するよう形成され得る。
　本実施形態において、第２の金属蒸着層における第１部分は、第１の金属蒸着層を覆う部分である。一方、第２の金属蒸着層における第２部分は、第１部分以外の部分である。そのため、第２部分は、アンカー層上に設けられる。
　本実施形態のフィルムは、第１部分および第２部分の両方において、ミリ波を透過することができる。すなわち、第１部分における、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であることが好ましく、０．５ｄＢ以下であることがより好ましい。また、第２部分における、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であることが好ましく、０．５ｄＢ以下であることがより好ましい。第１部分および第２部分における、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率が上記範囲内であることにより、フィルムは、たとえば長距離を探知する前方監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波を、より透過しやすい。
　なお、本実施形態において、電波減衰率および電波透過率は、以下の式に基づいて算出し得る。
　電波減衰率（ｄＢ）＝（金属調加飾フィルムなしの減衰率）－（金属調加飾フィルムを設置した時の減衰率）
　電波透過率（％）＝１０a×１００
　　ここで、指数ａは、「－（（電波減衰率）／２０）」である。
　また、電波減衰率は、キーコム（株）製の「導波管タイプ　透過減衰量／シールド効果測定システム　Ｍｏｄｅｌ　Ｎｏ．ＳＥＭ０２」を用いて、アンリツ（株）製のベクトルネットワークアナライザ（ＭＥ７８３８Ａ）を用いて測定することができる。
　また、本実施形態のフィルムは、第１部分および第２部分の両方において、ミリ波を透過することができる。すなわち、第１部分における、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であることが好ましく、０．５ｄＢ以下であることがより好ましい。また、第２部分における、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であることが好ましく、０．５ｄＢ以下であることがより好ましい。第１部分および第２部分における、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率が上記範囲内であることにより、フィルムは、たとえば周辺監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波（準ミリ波）を、より透過しやすい。
　第２部分における、波長５５０ｎｍにおける入射角５°の全光線反射率は、３５％以上であることが好ましく、３７％以上であることがより好ましい。また、第２部分における、波長５５０ｎｍにおける入射角５°の全光線反射率は、７５％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましい。全光線反射率が上記範囲内であることにより、フィルムは、より金属調の外観を表現しやすい。また、フィルムは、ミリ波レーダーを備える自動車等のフロント部分に設けられる場合において、レーダー等の機器を、外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠しやすい。なお、本実施形態において、全光線反射率は、（株）島津製作所製の紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ－３６００）を使用して測定した。具体的には、入射光をフィルム法線方向から５°傾斜した方向から入射させた場合において、基準板であるアルミニウムの鏡を設置した時の全光線反射光（鏡面反射光（正反射光）＋拡散反射光（鏡面反射光を除く））の量を１００％とし、それに対して、本実施形態のフィルムを設置した時の全光線反射光（鏡面反射光（正反射光）＋拡散反射光（鏡面反射光を除く））の量を全光線反射率（％）とした。
　金属蒸着層全体の説明に戻り、金属蒸着層の形成方法（蒸着方法）は、特に限定されない。一例を挙げると、蒸着方法は、従来公知の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法、または、化学蒸着法等を適宜採用し得る。これらの中でも、生産性が高いという理由により、真空蒸着法により金属蒸着層を設けることが好ましい。蒸着条件は、所望する金属蒸着層の厚みに基づいて、従来公知の条件が適宜採用され得る。なお、金属材料は、不純物が少なく、純度が９９重量％以上であることが好ましく、９９．５重量％以上であることがより好ましい。また、金属材料は、粒状、ロッド状、タブレット状、ワイヤー状あるいは使用するルツボ形状に加工したものであることが好ましい。金属材料を蒸発させるための加熱方法は、ルツボ中に金属材料を入れて抵抗加熱あるいは高周波加熱を行う方式や、電子ビーム加熱を行う方法、窒化硼素などのセラミック製のボードに金属材料を入れ直接抵抗加熱を行う方法など、周知の方法を用いることができる。真空蒸着に用いるルツボは、カーボン製であることが望ましく、アルミナやマグネシア、チタニア、ベリリア製のルツボであってもよい。
　本実施形態では、アンカー層に対して、所定のパターンを有するように、第１の金属蒸着層が形成される。次いで、アンカー層および第１の金属蒸着層を覆うように、第２の金属蒸着層が形成される。
（その他の層）
　本実施形態のフィルムは、上記した構成に加え、適宜その他の層が設けられてもよい。一例を挙げると、フィルムは、接着層が設けられてもよい。接着層は、被着体に、フィルムを貼り合わせるために設けられる。
　接着層は特に限定されない。一例を挙げると、接着層は、各種接着剤、粘着剤、感圧粘着剤（ＰＳＡ：Pressure Sensitive Adhesive）等からなる。接着剤は特に限定されない。一例を挙げると、接着剤は、アクリル樹脂系、ウレタン樹脂系、ウレタン変性ポリエステル樹脂系、ポリエステル樹脂系、エポキシ樹脂系、エチレン－酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ）系、ビニル樹脂系（塩ビ、酢ビ、塩ビ－酢ビ共重合樹脂）、スチレン－エチレン－ブチレン共重合体樹脂系、ポリビニルアルコール樹脂系、ポリアクリルアミド樹脂系、ポリアクリルアミド樹脂系、イソブチレンゴム、イソプレンゴム、天然ゴム、ＳＢＲ、ＮＢＲ、シリコーンゴム等の樹脂からなる。これらの樹脂は、適宜、溶剤に溶解されて使用されてもよく、無溶剤で使用されてもよい。
　接着層の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、接着層の厚みは、１０μｍ以上であることが好ましく、１５μｍ以上であることがより好ましい。また、接着層の厚みは、６０μｍ以下であることが好ましく、５５μｍ以下であることがより好ましい。接着層の厚みが上記範囲内であることにより、得られるフィルムは、接着時の外観および接着性がさらに優れる。
　接着層は、金属顔料が付与されることにより、意匠性が付与されてもよい。また、接着層は、帯電防止剤等が配合されることにより、帯電防止効果などの機能性が付与されてもよい。これにより、接着層は、貼り合わせ適性が向上し得る。
　接着層を形成する方法は特に限定されない。一例を挙げると、接着層は、ロールコーター等を用いて、適宜溶剤に溶解した接着層を構成する樹脂溶液を、後述するセパレータに塗布し、その後、接着層の形成されたセパレータを、金属蒸着層に貼り合わせてもよく、金属蒸着層上に直接、上記樹脂溶液を塗布して接着層を形成してもよい。また、接着層は、セパレータに接着層が設けられた既製品が使用されてもよい。接着層の形成方法は、使用する接着剤や粘着剤の特性に応じて適宜選択され得る。
　フィルム全体の説明に戻り、フィルムのＯＤ（Optical Density、光学濃度）値は、１．５以下であることが好ましく、１．３以下であることがより好ましい。また、ＯＤ値は、０．４以上であることが好ましく、０．５以上であることがより好ましい。ＯＤ値は、光の透過性を示すパラメータであり、たとえば、透過濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ３６１Ｔ、Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）を用いて測定し得る。本実施形態のフィルムは、ＯＤ値が上記範囲内であることにより、ミリ波透過性を維持しつつ、フィルムの奥を視認されにくくしてレーダーなどの機器を外部から視認されにくくすることが可能となる。
　以上、本実施形態のフィルムは、インジウムを含む第１の金属蒸着層と、インジウムを含む第２の金属蒸着層とを有する。第２の金属蒸着層は、第１の金属蒸着層を覆う第１部分と、第１部分以外の第２部分とからなる。第１の金属蒸着層および第２の金属蒸着層は、いずれも電波透過性があり、ミリ波を透過する。そのため、たとえば、第１の金属蒸着層によって所定のパターンを形成することができ、デザイン性の優れたフィルムが得られる。また、金属蒸着層は、金属光沢を有しているため、外部から視認し難いか、または、視認できないようにミリ波レーダーを覆い隠すことができる。
　図１は、本実施形態のフィルム１の模式的な断面図である。なお、図１では、アンカー層は省略されている。図１に示されるように、第１の金属蒸着層３は、アンカー層の設けられた基材２上に所定のパターンを形成するよう設けられている。第１の金属蒸着層３は、海島構造を有している。つまり、島の部分はインジウムが存在する領域であり、海の部分はインジウムが存在しない領域である。また、第２の金属蒸着層４は、アンカー層の設けられた基材２と第１の金属蒸着層３とを覆うように設けられている。図１において、部分Ｐ１は、第２の金属蒸着層４のうち、第１の金属蒸着層３を覆っている第１部分である。部分Ｐ２は、第１部分以外の第２部分である。なお、図１では、第２の金属蒸着層４は、点在する島状に描かれている。これは、好適な第２の金属蒸着層４が、海島構造を有しているためである。
　また、得られたフィルムは、セパレータが設けられてもよい。フィルムは、あらかじめ接着層が設けられたセパレータが用いられてもよく、セパレータに接着層を形成し、その接着層が金属蒸着層と接するように貼り合わせられてもよい。
　セパレータは特に限定されない。一例を挙げると、セパレータは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン、ポリプロピレンや、フッ素系剥離剤、長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤により表面コートされたプラスチックフィルムや紙等である。
　セパレータが剥離されると、接着層が露出する。露出された接着層は、成形加工前の被着体（後述）に対して貼り付けられる。
（被着体）
　本実施形態のフィルムは、接着層に、被着体（バッキングシート、バッカー）が設けられてもよい。被着体は、後述する金属調成形体を製造する際に、フィルムインサート工法が採用される場合に、好適に設けられる。被着体は特に限定されない。一例を挙げると、被着体は、熱成形が可能な重合体シートであればよく、ＡＢＳシート、ポリアクリル系シート、ポリプロピレンシート、ポリエチレンシート、ポリカーボネート系シート、Ａ－ＰＥＴシート、ＰＥＴ－Ｇシート、塩化ビニル（ＰＶＣ）系シート、ポリアミド系シート等であることが好ましい。
　被着体の厚みは特に限定されない。一例を挙げると、被着体の厚みは、圧縮成形等における成形性の観点から０．０５～５ｍｍであることが好ましく、０．３～３ｍｍであることがより好ましい。
　被着体は、所望の表面加工が施されたものが使用されてもよい。表面加工は特に限定されない。一例を挙げると、表面加工は、マット加工、サテン加工、エンボス加工、ヘアライン加工、各種パターン柄等である。
　被着体は、あらかじめ接着層が設けられた被着体が用いられてもよく、被着体に接着層を形成し、その接着層が金属蒸着層と接するように貼り合わせられてもよい。
　その後、本実施形態のフィルムが貼り付けられた被着体は、適宜三次元形状に加工され、成形品（金属調成形体）が作製される。金属調成形体の成形方法は特に限定されない。一例を挙げると、成形方法は、真空成形、ＴＯＭ（Three dimension Overlay Method）成形等によって成形される。ＴＯＭ成形では、フィルムは、あらかじめ準備された被着体に付与され、熱により軟化されることにより、被着体に追随するよう一体成形される。一方、真空成形では、フィルムは、ヒーターによって加熱され、軟化される。次いで、加熱されたフィルムは、所望の３次元形状の金型に対して、真空吸引しながら押し付けられ、三次元成形品の形状に追随するよう変形される。
　このように、金属調成形体は、成形加工によって製造されやすい。成形加工された金属調成形体は、上記フィルムが用いられている。そのため、金属調成形体は、種々のデザインが付与され得る。また、金属調成形体は、ミリ波を透過することができる。
　金属調成形体は特に限定されない。一例を挙げると、金属調成形体は、金属調車両内外装部材、金属調看板、金属調家電、金属調アミューズメント用製品、金属調建材等である。これらの中でも、金属調成形体は、金属調車両内外装部材として好適に用いられる。金属調車両内外装部材は特に限定されない。一例を挙げると、金属調車両内外装部材は、インストルメントパネルガーニッシュおよびオーナメント、オーディオパネル、オートエアコンパネル、ステアリングオーナメント、ドアトリムオーナメント、パワーウィンドウスイッチベゼル、操作系ノブ、スイッチおよびキャップもしくはカバー各種、ラジエーターグリル、ピラーガーニッシュ、バックドアオーナメント、サイドミラーカバー、アウターパネル、リアスポイラー、インサイドもしくはアウトサイドドアハンドル、サイドバイザー、ホイールカバー、二輪自動車用カウリング等である。これらの中でも、本実施形態の金属調車両内外装部材は、電気自動車におけるフロント部分（エンジン車におけるグリル部分）により好適に用いられる。すなわち、電気自動車は、自動車フロント部分において、グリルが必要でない。また、ＡＤＡＳ（先進運転支援システム）や自動運転技術のため、自動車フロント部分には、ミリ波レーダーが設けられる。このような場合において、本実施形態の金属調成形体は、ミリ波を透過させることができるため、ミリ波を透過させつつ、ミリ波レーダーなどの機器類を覆い隠すことができる。これにより、金属調成形体は、ミリ波レーダーの機能を何ら損なうことも無く、グリル部分に変えて、電気自動車のフロント部分に種々のデザインを採用することができる。
　以上、本発明の一実施形態について説明した。本発明は、上記実施形態に格別限定されない。なお、上記した実施形態は、以下の構成を有する発明を主に説明するものである。
　（１）基材と、前記基材上に設けられたアンカー層と、前記アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、前記金属蒸着層は、前記アンカー層上に所定のパターンを形成する第１の金属蒸着層と、前記第１の金属蒸着層を覆う第１部分と、前記第１部分以外の第２部分とからなる第２の金属蒸着層とを有し、前記第１の金属蒸着層は、インジウムを含み、前記第２の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルム。
　このような構成によれば、第１の金属蒸着層によって、所定のパターンを形成することができる。これにより、たとえば、本発明の金属調加飾フィルムは、種々のデザインを、対象物（たとえば自動車の外装部材）に付与することができる。また、金属蒸着層は、インジウムを含む。そのため、金属調加飾フィルムは、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる。
　（２）前記第１の金属蒸着層の平均厚みは、９０ｎｍ以下であり、前記第２の金属蒸着層の平均厚みは、９０ｎｍ以下である、（１）記載の金属調加飾フィルム。
　このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、第１部分および第２部分ともにミリ波透過性を高くすることができる。
　（３）前記第２部分における、波長５５０ｎｍにおける入射角５°の全光線反射率は、３５％以上である、（１）または（２）記載の金属調加飾フィルム。
　このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、より金属調の外観を表現しやすい。また、金属調加飾フィルムは、レーダーなどの機器を外部から視認できないように覆い隠しやすい。
　（４）前記第１の金属蒸着層は、海島構造を有し、前記第２の金属蒸着層は、海島構造を有する、（１）～（３）のいずれかに記載の金属調加飾フィルム。
　このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、ミリ波をより透過しやすい。
　（５）前記第１部分における、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であり、前記第２部分における、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下である、（１）～（４）のいずれかに記載の金属調加飾フィルム。
　このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、たとえば長距離を探知する前方監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波を、より透過しやすい。
　（６）前記第１部分における、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であり、前記第２部分における、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下である、（１）～（５）のいずれかに記載の金属調加飾フィルム。
　このような構成によれば、金属調加飾フィルムは、たとえば周辺監視用レーダーにおいて好適に採用されているミリ波（準ミリ波）を、より透過しやすい。
　（７）（１）～（６）のいずれかに記載の金属調加飾フィルムを用いた、金属調成形体。
　このような構成によれば、金属調成形体は、成形加工によって製造されやすい。成形加工された金属調成形体は、上記金属調加飾フィルムが用いられている。そのため、金属調成形体は、種々のデザインが付与され得る。また、金属調成形体は、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認できないように覆い隠すことができる。
　（８）（７）に記載の金属調成形体を用いた、金属調車両内外装部材。
　このような構成によれば、金属調車両内外装部材は、上記金属調成形体が用いられている。そのため、金属調車両内外装部材は、種々のデザインが付与され得る。また、金属調車両内外装部材は、ミリ波を透過することができ、かつ、レーダーなどの機器を外部から視認し難いか、または、視認できないように覆い隠すことができる。
　以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。本発明は、これら実施例に何ら限定されない。なお、特に制限のない限り、「％」は「質量％」を意味し、「部」は「質量部」を意味する。
＜実施例１＞
　ＰＭＭＡからなる基材（厚み７５μｍ）を準備した。基材に対して、グラビアコーターを用いて、乾燥後１．３μｍとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを１００℃で１分間乾燥させ、アンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、所定のパターンとなるよう、厚みが９ｎｍとなるようにインジウムによる金属蒸着層（第１の金属蒸着層）を形成した（パターニング工程。詳細は後述する。）。次いで、真空蒸着法により、アンカー層および第１の金属蒸着層を覆うように、厚み９ｎｍの金属蒸着層（第２の金属蒸着層）を形成した。これとは別に、アクリル系粘着剤からなる粘着層（厚み２５μｍ）付きセパレータ（ＰＥＴフィルム）を準備した。金属蒸着層と粘着層（接着層）とが接するように貼り合わせ、粘着層（接着層）を金属蒸着層に転写させた後、セパレータを剥離し、実施例１の金属調加飾フィルムを作製した。
＜実施例２～６＞
　表１に示される処方にしたがって金属蒸着層の厚み、ＯＤ値等を調整した以外は、実施例１と同様の方法により、金属調加飾フィルムを作製した。
＜比較例１＞
　ＰＥＴからなる基材（厚み１２μｍ）を準備した。基材に対して、５％のセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）を含む溶液をグラビアコート法により０．０６ｇ／ｍ2±０．０１ｇ／ｍ2の塗工量で塗工し、１１０℃以上１２０℃以下で乾燥させて、５０ｎｍのアンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、所定のパターンとなるよう、厚みが２０ｎｍとなるようにアルミニウムによる金属蒸着層を形成した。これとは別に、アクリル系粘着剤からなる粘着層（厚み２５μｍ）付きセパレータ（ＰＥＴフィルム）を準備した。金属蒸着層と粘着層（接着層）とが接するように貼り合わせ、粘着層（接着層）を金属蒸着層に転写させた後、セパレータを剥離し、比較例１の金属調加飾フィルムを作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　なお、表１において、Ｏ．Ｌ．とは、Ｏｖｅｒ　Ｌｏａｄの略記であり、抵抗値が測定器のレンジをオーバーして、測定できなかったという意味である（表３も同様）。抵抗値でいうと、１０7Ω／□以上の値になる。つまり、実施例１～６のフィルムは、金属膜であるインジウム膜であるにも関わらず、高抵抗であり、導電性が低く、インジウムが海島構造を呈している。つまり、インジウム膜が不連続膜であることを示していると言うことができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　実施例１～６、比較例１において得られたフィルムについて、以下の方法に従って、ＯＤ値、厚み、抵抗値、波長５５０ｎｍにおける全光線反射率および全光線透過率、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率および電波透過率、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率および電波透過率を評価した。結果を表１および表２に示す。
＜ＯＤ値＞
　ＯＤ値は、透過濃度計（Ｘ－Ｒｉｔｅ３６１Ｔ、Ｘ－Ｒｉｔｅ社製）を用いて測定した。
＜厚み＞
　厚みは、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）により測定した。具体的には、厚みは、蛍光Ｘ線測定装置（ＺＳＸ　ＰｒｉｍｕｓIV、理学電機工業（株））を用いて定量分析を行い、５～１０箇所の金属蒸着膜の厚み（ｎｍ）を測定し、平均を算出した。
＜抵抗値＞
　抵抗値は、表面抵抗測定器（ロレスターＧＰ　ＭＣＰ－Ｔ３６０、ダイヤインスツルメンツ）を用いて測定した。
＜波長５５０ｎｍにおける全光線反射率および全光線透過率＞
　全光線反射率および全光線透過率は、紫外可視近赤外分光光度計（ＵＶ－３６００、（株）島津製作所）を用いて測定した。全光線反射率について、入射光をフィルム法線方向から５°傾斜した方向から入射させた場合において、基準板であるアルミニウムの鏡を設置した時の全光線反射光（鏡面反射光（正反射光）＋拡散反射光（鏡面反射光を除く））の量を１００％とし、それに対して、本発明のフィルムを設置した時の全光線反射光（鏡面反射光（正反射光）＋拡散反射光（鏡面反射光を除く））の量を全光線反射率（％）とした。全光線透過率についてであるが、フィルムを設置していない状態（空気；Ａｉｒのみ）の入射光の量を１００％とし、本発明のフィルムを設置した時に、当該フィルムを透過した、拡散成分を含む出射光の量を全光線透過率（％）とした。
＜周波数７７ＧＨｚおよび周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率および電波透過率＞
　電波減衰率および電波透過率は、以下の式に基づいて算出した。
　電波減衰率（ｄＢ）＝（金属調加飾フィルムなしの減衰率）－（金属調加飾フィルムを設置した時の減衰率）
　電波透過率（％）＝１０a×１００
　　ここで、指数ａは、「－（（電波減衰率）／２０）」である。
　また、電波減衰率は、キーコム（株）製の「導波管タイプ　透過減衰量／シールド効果測定システム　Ｍｏｄｅｌ　Ｎｏ．ＳＥＭ０２」を用いて、アンリツ（株）製のベクトルネットワークアナライザ（ＭＥ７８３８Ａ）を用いて測定した。
　表１に示されるように、実施例１～６の金属調加飾フィルムは、第１部分および第２部分における周波数７７ＧＨｚおよび２４ＧＨｚにおける電波減衰率がほとんど変わりなく低く、電波透過率が高かった。そのため、これらのフィルムは、いずれもミリ波を良好に透過させることができることが分かった。ここで、実施例１のフィルムは、第２部分において、全光線反射率の値よりも全光線透過率の値の方が高く、フィルムの奥を視認されやすくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されやすくなっていて、外部からレーダーなどの機器を視認しやすいようなスケルトン的なデザインには適している。一方、実施例２～６のフィルムはいずれも、第２部分において、全光線透過率の値よりも全光線反射率の値の方が高く、フィルムの奥を視認されにくくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されにくいデザインが要求される場合に適している。なお、第１部分はインジウム層が２回蒸着された部分であるため、インジウム層が１回蒸着された部分である第２部分よりも反射率は高くなると考えられる。そのため、第２部分において、フィルムの奥を視認されにくくなっているのであれば、第１部分においても、フィルムの奥を視認されにくくなっていると考えられる。さらに、実施例１～６のフィルムはいずれも、第１部分と第２部分との間に電波減衰率の差がほとんどないことから、実施例１～６のフィルムは、第１の金属蒸着層によって形成されるパターン形状が制限されにくく、デザイン性が優れることがわかった。
　図２は、実施例１、２、５の金属調加飾フィルムを成形した成形体の外観写真である。図２では、左より、実施例５、実施例２および実施例１のフィルムを成形した成形体（成形体Ｆ１～Ｆ３）が示されている。図２において、菱形パターン内が第１部分（インジウム層が２回蒸着された部分）であり、菱形パターン外が第２部分（インジウム層が１回蒸着された部分）である。図２に示されるように、実施例５、２の成形体Ｆ１、Ｆ２は、第１部分だけでなく、第２部分でも金属調を有しており、フィルムの奥を視認されにくくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されにくくなっていて好ましい。実施例１の成形体Ｆ３は、第１部分ではフィルムの奥を視認されにくくなっているが、第２部分ではフィルムの奥を視認されやすくなっており、レーダーなどの機器を外部から視認されやすくなっていて、スケルトン的なデザインが要求される場合に適している。実施例５、２の成形体Ｆ１、Ｆ２では、第２の金属蒸着層の厚みを変化させたことにより、菱形パターン内の第１部分における反射率だけでなく、反射光の色味も変化していることがわかる。このように、第１の金属蒸着層および第２の金属蒸着層の厚みを変えることで、金属調の様々な意匠性を有するデザインパターンを自在に実現することが可能となる。また、菱形形状で示した部位は、第２の金属蒸着層のうち、第１の金属蒸着層を覆う部分である第１部分を示している（第１部分Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃ）。一方、その他の部分は、アンカー層に第２の金属蒸着層が設けられた第２部分を示している（第２部分Ｐ２ａ、Ｐ２ｂ、Ｐ２ｃ）。図２に示されるように、本発明によれば、所定のデザイン（図２では菱形模様）を自由に表現でき、かつ、その色味に関しても調整することができる。
　一方、アルミニウムを用いて金属蒸着層を形成した比較例１の金属調加飾フィルムは、電波透過性が低かった。そのため、比較例１のフィルムは、ミリ波を良好に透過させることができないことが分かった。比較例１のフィルムは、アルミニウム蒸着膜が連続膜に近い膜になっており、ミリ波を良好に透過させることができないものと推察される。
＜参考例１＞
　ＰＭＭＡからなる基材（厚み７５μｍ）を準備した。基材に対して、グラビアコーターを用いて、乾燥後１．３μｍとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを１００℃で１分間乾燥させ、アンカー層を形成した。次いで、アンカー層に対して、真空蒸着法により、厚みが９ｎｍとなるようにインジウムによる金属蒸着層のベタ膜を形成した。これにより、参考例１の金属調加飾フィルムを作製した。
＜参考例２～７＞
　表３に示される処方にしたがって金属蒸着層の厚み、ＯＤ値等を調整した以外は、参考例１と同様の方法により、金属調加飾フィルムを作製した。ここで、参考例１～７のフィルムは、実施例１～６における第２部分（インジウム層が１回蒸着された部分）に相当する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　表３から分かるように、参考例１～４のフィルムは、周波数７７ＧＨｚおよび２４ＧＨｚにおける電波減衰率がほとんど変わりなく低く、電波透過率が高かった。そのため、これらのフィルムは、いずれもミリ波を良好に透過させることができることが分かった。
　一方、参考例５～７のフィルムは、周波数７７ＧＨｚおよび２４ＧＨｚにおける電波減衰率が高く、電波透過率が低かった。そのため、これらのフィルムは、いずれもミリ波を良好に透過させることができないことが分かった。参考例５～７のフィルムでは、インジウム蒸着膜がもはや海島構造を呈しておらず、連続膜に近い膜になっており、ミリ波を良好に透過させることができないものと推察される。従って、ミリ波を良好に透過させることが可能になる、第２部分における金属蒸着膜の厚みの上限値としては、９０ｎｍであると考えられる。つまり、インジウム蒸着膜の厚みが９０ｎｍ以下であれば、ミリ波を良好に透過させることが可能になると考えられる。このことは、第１の金属蒸着層についても同じことが言えると考えられる。
＜パターニング工程＞
　以下で図３～５を参照して、実施例１～６のパターニング工程について、詳細に説明する。
　まず、図３Ａに示すように、ＰＭＭＡからなる基材２（厚み７５μｍ）を準備した。次に、図３Ｂに示すように、基材２上にグラビアコーターを用いて、乾燥後１．３μｍとなるようにアクリルポリオールとイソシアネート系塗材とを混合したアンカーコート剤溶液を塗工し、ついでそれを１００℃で１分間乾燥させ、アンカー層２ａを形成した。基材２上にアンカー層２ａを形成した中間フィルムＡを、図４に示すグラビアコーターＧＣを用いて、中間フィルムＡのアンカー層２ａ側が、ロールＲ側を向くようにして、水溶性プライマー層Ｗｐを部分的に形成した（図３Ｃ参照）。水溶性プライマーとしては、ポリビニルブチラール樹脂を用い、熱を１００℃で１分間乾燥させ、水溶性プライマー層Ｗｐを形成した。ロールＲは、図５に示すように、菱形形状に突出している凸部Ｄと、それ以外の突出していない凹部Ｅとから構成されている。グラビアコーターＧＣにおいて、ロールＲを水溶性プライマー層Ｗｐが溜めてあるトレーＷＢに浸しつつ、ロールＲを回転させることで、凹部Ｅに水溶性プライマー層Ｗｐを充填させることができる。この際、凸部Ｄには水溶性プライマー層Ｗｐが充填されない。そして、図４に示すように、グラビアコーターＧＣを用いて、ロールＲを回転させて、中間フィルムＡをロールＲに接触させつつ、中間フィルムＡを巻き取りながら通過させることで、アンカー層２ａ上に、菱形形状部分外でのみ水溶性プライマー層Ｗｐが形成された中間フィルムＡ’を得ることができた（図３Ｃ参照）。その後、図３Ｄに示すように、中間フィルムＡ’の全面に第１の金属（インジウム）蒸着層３を形成した。第１の金属（インジウム）蒸着層３は、実際には、図３Ｄに示すように連続膜ではなく、図１に示すように海島構造を呈している。そして、純水を入れたバット内にフィルム全体を浸して、水溶性プライマー層Ｗｐが存在する部分上にある第１の金属（インジウム）蒸着層３を除去した（水洗工程）（図３Ｅ参照）。その後、第２の金属（インジウム）蒸着層４を全面に蒸着した。第２の金属（インジウム）蒸着層４は、実際には、図３Ｆに示すように連続膜ではなく、図１に示すように海島構造を呈している。以上により、第１部分Ｐ１と第２部分Ｐ２とがパターニングされた金属調加飾フィルム１を作製することができた（図３Ｆ参照）。
　１　金属調加飾フィルム
　２　基材
　２ａ　アンカー層
　３　第１の金属蒸着層
　４　第２の金属蒸着層
　Ａ、Ａ’　中間フィルム
　Ｄ　凸部
　Ｅ　凹部
　Ｆ１～Ｆ３　成形体
　ＧＣ　グラビアコーター
　Ｐ１、Ｐ１ａ、Ｐ１ｂ、Ｐ１ｃ　第１部分
　Ｐ２、Ｐ２ａ、Ｐ２ｂ、Ｐ２ｃ　第２部分
　Ｒ　ロール
　ＷＢ　トレー
　Ｗｐ　水溶性プライマー層

Claims (8)

  1. 　基材と、前記基材上に設けられたアンカー層と、前記アンカー層上に設けられた金属蒸着層とを有し、
    　前記金属蒸着層は、
    　　前記アンカー層上に所定のパターンを形成する第１の金属蒸着層と、
    　　前記第１の金属蒸着層を覆う第１部分と、前記第１部分以外の第２部分とからなる第２の金属蒸着層とを有し、
    　前記第１の金属蒸着層は、インジウムを含み、
    　前記第２の金属蒸着層は、インジウムを含む、金属調加飾フィルム。
  2. 　前記第１の金属蒸着層の平均厚みは、９０ｎｍ以下であり、
    　前記第２の金属蒸着層の平均厚みは、９０ｎｍ以下である、請求項１記載の金属調加飾フィルム。
  3. 　前記第２部分における、波長５５０ｎｍにおける入射角５°の全光線反射率は、３５％以上である、請求項１または２記載の金属調加飾フィルム。
  4. 　前記第１の金属蒸着層は、海島構造を有し、
    　前記第２の金属蒸着層は、海島構造を有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の金属調加飾フィルム。
  5. 　前記第１部分における、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であり、
    　前記第２部分における、周波数７７ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の金属調加飾フィルム。
  6. 　前記第１部分における、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下であり、
    　前記第２部分における、周波数２４ＧＨｚにおける電波減衰率は、１ｄＢ以下である、請求項１～５のいずれか１項に記載の金属調加飾フィルム。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の金属調加飾フィルムを用いた、金属調成形体。
  8. 　請求項７に記載の金属調成形体を用いた、金属調車両内外装部材。
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