WO2022085329A1 - 組成物並びにこれを用いた光学材料およびレンズ - Google Patents

組成物並びにこれを用いた光学材料およびレンズ Download PDF

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Abstract

高屈折率かつ色調に優れる光学材料が得られる組成物を提供する。　下記式（１）：　［上記式中、　Ａｒは、芳香環を示し、　ｍは２～８の整数を示し、　ｎは０～６の整数を示し、　ただし、ｍ＋ｎが芳香環を構成する炭素数以下であり、　Ｒ１は、それぞれ独立して、アルキルチオ基、エポキシアルキルチオ基、チオール基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、ジアルキルチオカルバモイル基、またはジアルキルカルバモイルチオ基を示す。］ で表される化合物（ａ）およびポリチオール（ｂ）を含む、組成物。

Description

組成物並びにこれを用いた光学材料およびレンズ
　本発明は、組成物並びにこれを用いた光学材料およびレンズに関する。
　光学材料、中でも眼鏡レンズの用途に使用される光学材料には、耐熱性、低比重、高透明性、低黄色度、高屈折率、高アッベ数等の光学性能が求められる。近年、さらなる高性能化が求められており、特に高屈折率および高アッベ数の光学材料が求められている。
　高屈折率および高アッベ数を実現するための材料として、エピスルフィド化合物を用いた光学材料用重合性組成物が注目されている。例えば、特許文献１には、硬化樹脂の屈折率（ｎｄ）が１．７１以上となる、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有するチオエポキシ化合物を含有する重合性組成物に係る発明が記載されている。この際、前記分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有するチオエポキシ化合物としては、ビス（２，３－エピチオプロピル）ジスルフィドが最も好ましいことが記載されている。
特開２００２－１９４０８３号公報
　特許文献１に記載の重合性組成物によれば、高屈折率の光学材料を得ることができる。しかし、さらなる高屈折率の光学材料が求められている。また、光学材料が高屈折率になるほど色調が低下する場合があることが判明した。そこで、本発明は、高屈折率かつ色調に優れる光学材料が得られる組成物を提供する。
　本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意研究を行った。その結果、芳香族骨格を有するエピスルフィド化合物およびポリチオ―ル化合物を組み合わせることで、上記課題が解決されうることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、例えば以下の通りである。
　［１］下記式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 ［上記式中、
　Ａｒは、芳香環を示し、
　ｍは２～８の整数を示し、
　ｎは０～６の整数を示し、
　ただし、ｍ＋ｎが芳香環を構成する炭素数以下であり、
　Ｒ１は、それぞれ独立して、アルキルチオ基、エポキシアルキルチオ基、チオール基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、ジアルキルチオカルバモイル基、またはジアルキルカルバモイルチオ基を示す。］
で表される化合物（ａ）およびポリチオール（ｂ）を含む、組成物。
　［２］Ａｒが、炭素および水素からなる芳香環である、上記［１］に記載の組成物。
　［３］ｍが、２または３である、上記［１］または［２］に記載の組成物。
　［４］ｍ＋ｎが、２～６である、上記［１］～［３］のいずれかに記載の組成物。
　［５］前記化合物（ａ）の含有量が、組成物総質量に対して、５～９５質量％である、上記［１］～［４］のいずれかに記載の組成物。
　［６］前記ポリチオール（ｂ）が、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアへプタン、メタンジチオール、（スルファニルメチルジスルファニル）メタンチオール、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ビス（メルカプトメチル）－１，４－ジチアン、１，２－ビス（２－メルカプトエチルチオ）－３－メルカプトプロパン、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、テトラメルカプトペンタエリスリトール、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、およびチイランメタンチオールからなる群から選択される少なくとも１つを含む、上記［１］～［５］のいずれかに記載の組成物。
　［７］下記式（２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 ［上記式中、
　ｐは０～４の整数を示し、
　ｑは０～２の整数を示す］
で表される化合物（ｃ）をさらに含む、上記［１］～［６］のいずれかに記載の組成物。
　［８］硫黄をさらに含む、上記［１］～［７］のいずれかに記載の組成物。
　［９］予備重合触媒をさらに含む、上記［１］～［８］のいずれかに記載の組成物。
　［１０］前記予備重合触媒が、２－メルカプト－１－メチルイミダゾール、２－メチル－Ｎ－イミダゾール、および１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレ－トからなる群から選択される少なくとも１つを含む、上記［９］に記載の組成物。
　［１１］上記［１］～［１０］のいずれかに記載の組成物を予備重合してなる、予備硬化物。
　［１２］上記［１］～［１０］のいずれかに記載の組成物または上記［１１］に記載の予備硬化物を硬化してなる、光学材料。
　［１３］上記［１２］に記載の光学材料を含む、光学レンズ。
　本発明によれば、高屈折率かつ色調に優れる光学材料が得られる組成物が提供される。
　以下、本発明について実施形態および例示物等を示して詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態および例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変更して実施できる。
　＜組成物＞
　本発明に係る組成物は、式（１）で表される化合物（ａ）およびポリチオール（ｂ）を含む。その他、式（２）で表される化合物（ｃ）、硫黄、重合性化合物、予備重合触媒、重合触媒、重合調整剤、添加剤等をさらに含んでいてもよい。
　組成物が、式（１）で表される化合物（ａ）、すなわち芳香族骨格を有するエピスルフィド化合物を含むことにより、得られる硬化物（光学材料）の高屈折率化ができる。また、組成物がポリチオール（ｂ）を含むことにより、得られる硬化物（光学材料）の色調を良化することができる。これらを合わせることで、得られる硬化物（光学材料）の屈折率と色調を高めることができる。このため、前記組成物は、好ましくは光学材料用組成物である。
　［化合物（ａ）］
　化合物（ａ）は下記式（１）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　Ａｒは、芳香環を示す。前記芳香環としては、炭素および水素からなる芳香環、複素芳香環（ヘテロ原子を含む芳香環）が挙げられる。なお、Ａｒは炭素数が２以上であり、好ましくは２～１８であり、より好ましくは２～１２であり、さらに好ましくは３～６である。また、Ａｒは５員環または６員環であることが好ましく、６員環であることがより好ましい。
　前記炭素および水素からなる芳香環としては、特に制限されないが、ベンゼン環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられる。これらのうち、炭素および水素からなる芳香環は、ベンゼン環であることが好ましい。
　前記複素芳香環としては、特に制限されないが、フラン環、ピラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、フェナントリジン環、アクリジン環等が挙げられる。これらのうち、複素芳香環は、フラン環、ピラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、トリアゾール環、チアジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環であることが好ましく、トリアジン環、チアジアゾール環であることがより好ましく、チアジアゾール環であることがさらに好ましい。
　上述のうち、Ａｒは、炭素および水素からなる芳香環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
　ｍは２～８の整数を示し、色調および合成の簡便さの観点から好ましくは２、３、または６であり、より好ましくは２または３であり、さらに好ましくは３である。
　ｎは０～６の整数を示し、好ましくは０～２であり、より好ましくは０または１であり、さらに好ましくは０である。
　ｍ＋ｎは芳香環を構成する炭素数以下であり、好ましくは２～６であり、より好ましくは３～６であり、さらに好ましくは２～３であり、特に好ましくは３である。なお、「芳香環を構成する炭素数以下」とは、芳香環として有する炭素数の数を超えないことを意味する。例えば、炭素および水素からなる芳香環であるベンゼン環の場合、環を構成する炭素数は６であるから、ｍ＋ｎは６以下である。また、複素芳香環であるチアジアゾール環の場合、環を構成する炭素数は２であるから、ｍ＋ｎは２以下である。
　Ｒ１は、それぞれ独立して、アルキルチオ基、エポキシアルキルチオ基、チオール基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、ジアルキルチオカルバモイル基、またはジアルキルカルバモイルチオ基を示す。
　前記アルキルチオ基としては、特に制限されないが、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ－ブチルチオ基、ｔｅｒｔ－ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基等が挙げられる。
　前記エポキシアルキルチオ基としては、特に制限されないが、β－エポキシプロピルチオ基が挙げられる。
　前記ハロゲン基としては、特に制限されないが、フッ素基（－Ｆ）、塩素基（－Ｃｌ）、臭素基（－Ｂｒ）、ヨウ素基（－Ｉ）等が挙げられる。
　前記ジアルキルチオカルバモイル基としては、特に制限されないが、ジメチルチオカルバモイル基、ジエチルチオカルバモイル基、エチルメチルチオカルバモイル基等が挙げられる。
　また、一実施形態において、化合物（ａ）は下記式（１’）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（１’）において、ｍは２～６の整数を示し、色調および合成の簡便さの観点から好ましくは２、３、または６であり、より好ましくは２または３であり、さらに好ましくは３である。
　式（１’）において、ｎは０～４の整数を示し、好ましくは０～２であり、より好ましくは０または１であり、さらに好ましくは０である。
　式（１’）において、ｍ＋ｎは、６以下（ｍ＋ｎ≦６）であり、好ましくは２～６であり、より好ましくは３～６であり、さらに好ましくは３である。
　式（１’）において、Ｒ１は上記式（１）と同様である。
　化合物（ａ）の具体例としては、特に制限されないが、１，３－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，４－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン等のビス（エピスルフィド）化合物；１，３，５－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，２，４－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，２，５－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン等のトリス（エピスルフィド）化合物；１－メチル－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－メチル－２，４－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－メチル－２，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－エチル－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ｔ－ブチルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン等のアルキルチオ基置換ビス（エピスルフィド）化合物；１－（β－エポキシプロピルチオ）－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－（β－エポキシプロピルチオ）－２，４－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－（β－エポキシプロピルチオ）－２，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン等のエポキシアルキルチオ基置換ビス（エピスルフィド）化合物；１－メルカプト－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－メルカプト－２，４－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－メルカプト－２，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン等のチオール基置換ビス（エピスルフィド）化合物；１－フルオロ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－クロロ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ブロモ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－クロロ－２，４－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－クロロ－２，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン等のハロゲン基置換ビス（エピスルフィド）化合物；１－ヒドロキシ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ヒドロキシ－２，４－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ヒドロキシ－２，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン等のヒドロキシ基置換ビス（エピスルフィド）化合物；１－ジメチルチオカルバモイル－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－エメチルチオカルバモイル－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－エメチルチオカルバモイル－２，４－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－エメチルチオカルバモイル－２，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン等のジアルキルチオカルバモイル基置換ビス（エピスルフィド）化合物；１－ジメチルカルバモイルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－エメチルカルバモイルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ジメチルカルバモイルチオ－２，４－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ジメチルカルバモイルチオ－２，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン等のジアルキルカルバモイルチオ基置換ビス（エピスルフィド）化合物；２，５－ビス（β－エピチオプロピルチオ）－１，３，４－チアジアゾール、３，４－ビス（β－エピチオプロピルチオ）－１，２，５－チアジアゾール、２，４，６－トリス（β－エピチオプロピルチオ）─１，３，５－トリアジン等の複素環系化合物が挙げられる。これらのうち、１，３－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，４－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，３，５－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１－アルキルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－エポキシアルキルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－チオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ハロ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ヒドロキシ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－ジアルキルチオカルバモイル－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、１－アルキルカルバモイルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン、２，５－ビス（β－エピチオプロピルチオ）－１，３，４－チアジアゾール、３，４－ビス（β－エピチオプロピルチオ）－１，２，５－チアジアゾール、２，４，６－トリス（β－エピチオプロピルチオ）─１，３，５－トリアジンであることが好ましく、１，３－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，４－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、１，３，５－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン、２，５－ビス（β－エピチオプロピルチオ）－１，３，４－チアジアゾール、２，４，６－トリス（β－エピチオプロピルチオ）─１，３，５－トリアジンであることがより好ましく、屈折率がより高くなる観点から、１，３，５－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼンであることがさらに好ましい。なお、上述の化合物（ａ）は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　化合物（ａ）の含有量は、組成物総質量に対して、０．１～９９．５質量％であることが好ましく、５～９５質量％であることがより好ましく、１０～９５質量％であることがさらに好ましく、１０～８５質量％であることが特に好ましい。化合物（ａ）の含有量が上記範囲にあると、十分な色調向上効果を得ることができる。なお、一実施形態において、色調を良化する観点から、化合物（ａ）の含有量は、組成物総質量に対して、０．１～６０質量％であることが好ましく、１～５５質量％であることがより好ましく、３～３０質量％であることがさらに好ましい。
　［ポリチオール（ｂ）］
　ポリチオ―ル（ｂ）は１分子あたりチオール基（－ＳＨ）を２つ以上有する化合物を意味する。この際、化合物（ａ）（芳香族骨格を有するエピスルフィド化合物）に該当するものはポリチオール（ｂ）には含まれない。
　ポリチオ―ル（ｂ）としては、特に限定されないが、色調改善効果が高い観点から、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアへプタン、メタンジチオール、（スルファニルメチルジスルファニル）メタンチオール、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ビス（メルカプトメチル）－１，４－ジチアン、１，２－ビス（２－メルカプトエチルチオ）－３－メルカプトプロパン、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、テトラメルカプトペンタエリスリトール、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、およびチイランメタンチオールであることが好ましく、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアへプタン、メタンジチオール、（スルファニルメチルジスルファニル）メタンチオール、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンであることがより好ましく、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアへプタン、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカンであることがさらに好ましい。なお、上述のポリチオ―ル（ｂ）は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　ポリチオール（ｂ）の含有量は、組成物総質量に対して、０．１～３０質量％であることが好ましく、０．１～２０質量％であることがより好ましく、０．５～２０質量％であることがさらに好ましく、１～１５質量％であることが特に好ましい。ポリチオール（ｂ）の含有量が上記範囲にあると、色調安定効果と耐熱性とのバランスがよくなることから好ましい。なお、一実施形態において、色調を良化する観点から、化合物（ｂ）の含有量は、組成物総質量に対して、２～３０質量％であることが好ましく、４～３０質量％であることがより好ましく、７．５～２５質量％であることがさらに好ましい。
　［化合物（ｃ）］
　一実施形態において、組成物は化合物（ｃ）をさらに含んでいてもよい。前記化合物（ｃ）は下記式（２）で表される。化合物（ｃ）は化合物（ａ）と共重合可能であり、化合物（ａ）とともに用いることで硬化反応性を高める効果がある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　ｐは０～４の整数を示し、好ましくは０～２であり、より好ましくは０または１である。
　ｑは０～２の整数を示し、好ましくは０～２であり、より好ましくは０または１である。
　化合物（ｃ）の具体例としては、特に制限されないが、ビス（β－エピチオプロピル）スルフィド、ビス（β－エピチオプロピル）ジスルフィドが挙げられる。これらのうち、ビス（β－エピチオプロピル）スルフィドであることが好ましい。上述の化合物（ｃ）は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、ビス（β－エピチオプロピル）スルフィドは上記式（２）においてｐ＝ｑ＝０の化合物に相当し、ビス（β－エピチオプロピル）ジスルフィドは上記式（２）においてｐ＝０かつｑ＝１である化合物に相当する。
　化合物（ｃ）の含有量は、組成物総質量に対して、０～７０質量％であり、好ましくは１～６０質量％、より好ましくは１～５０質量％である。化合物（ｃ）の含有量が上記範囲にあると、耐熱性を確保しつつ、硬化反応性を向上しうることから好ましい。
　［硫黄］
　一実施形態において、組成物は硫黄をさらに含んでいてもよい。硫黄を含むことにより、得られる光学材料の屈折率を向上させることができる。
　硫黄の形状は、特に制限されず、いかなる形状であってもよい。具体的な形状としては、微粉硫黄、コロイド硫黄、沈降硫黄、結晶硫黄、昇華硫黄等が挙げられる。これらのうち、溶解速度の観点から微粉硫黄であることが好ましい。
　硫黄の粒径（直径）は、１０メッシュ（目開き１．７０ｍｍ）より小さいことが好ましく、３０メッシュ（目開き５００μｍ）より小さいことがより好ましく、６０メッシュ（目開き２５０μｍ）より小さいことがさらに好ましい。硫黄の粒径が１０メッシュより小さいと、硫黄が溶解しやすいことから好ましい。
　硫黄の純度は、特に制限されないが、９８％以上であることが好ましく、９９．０％以上であることがより好ましく、９９．５％以上であることがさらに好ましく、９９．９％以上であることが特に好ましい。硫黄の純度が９８％以上であると、得られる光学材料の色調がより改善することから好ましい。
　硫黄の含有量は、組成物総質量に対して、０～２０質量％であることが好ましく、０．１～１８質量％であることがより好ましく、１～１５質量％であることがさらに好ましい。硫黄の含有量が上記範囲にあると折率向上効果と溶解性のバランスに優れることから好ましい。
　［重合性化合物］
　一実施形態において、組成物は重合性化合物をさらに含んでいてもよい。重合性化合物を含むことにより光学材料の物性を調整することができる。なお、「重合性化合物」とは、化合物（ａ）と共重合できる化合物を意味する。
　前記重合性化合物は、化合物（ａ）と共重合可能な化合物であれば特に制限されないが、化合物（ａ）および化合物（ｃ）以外のエピスルフィド化合物、ビニル化合物、メタクリル化合物、アクリル化合物、アリル化合物等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　重合性化合物の添加量は、本発明の効果を阻害しない範囲であれば特に制限されず、例えば、組成物総質量に対して、０～３０質量％であることが好ましく、１～３０質量％であることがより好ましく、１～２０質量％であることがさらに好ましい。
　［予備重合触媒］
　一実施形態において、組成物は予備重合触媒をさらに含んでいてもよい。予備重合触媒を含むことで、後述する予備硬化物を好適に製造することができる。
　予備重合触媒としては、特に制限されないが、イミダゾール類、ホスフィン類、チオ尿素類、第４級アンモニウム塩、第４級ホスホニウム塩、第３級スルホニウム塩、第２級ヨードニウム塩、ヒンダードアミン等が挙げられる。これらのうち、組成物との相溶性が良好である観点から、イミダゾール類、ヒンダードアミンであることが好ましい。
　前記イミダゾール類としては、特に制限されないが、Ｎ―ベンジルイミダゾール、４－メチルイミダゾール、４－エチルイミダゾール、１－フェニルイミダゾール、２－メチル－Ｎ－メチルイミダゾール等が挙げられる。
　前記ヒンダードアミンとしては、特に制限されないが、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレ－ト、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルアクリレ－ト、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジル－４－ビニルベンゾエートなどのヒンダードアミンが挙げられる。
　これらのうち、予備重合触媒は、２－メルカプト－１－メチルイミダゾール、２－メチル－Ｎ－イミダゾール、１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレ－トからなる群から選択される少なくとも１つを含むことが好ましい。なお、上述の予備重合触媒は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　予備重合触媒の添加量は、組成物の成分、混合比および重合硬化方法によって変化するため一概には決められないが、通常、化合物（ａ）、ポリチオール（ｂ）、化合物（ｃ）、および硫黄の合計１００質量％に対して、０．０００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．００３質量％～３．０質量％であることがより好ましい。予備重合触媒の添加量が０．０００１質量％以上であると、予備重合反応が好適に進行することから好ましい。一方、予備重合触媒の添加量が１０質量％以下であると、耐酸化性が高くなることから好ましい。
　［重合触媒］
　一実施形態において、組成物は重合触媒をさらに含んでいてもよい。重合触媒を含むことで、組成物を好適に重合させて光学材料を製造することができる。
　重合触媒としては、特に制限されないが、アミン類、ホスフィン類、第４級アンモニウム塩類、第４級ホスホニウム塩類、第３級スルホニウム塩類、第２級ヨードニウム塩類、鉱酸類、ルイス酸類、有機酸類、ケイ酸類、四フッ化ホウ酸類、過酸化物、アゾ化系合物、アルデヒドとアンモニア系化合物の縮合物、グアニジン類、チオ尿素類、チアゾール類、スルフェンアミド類、チウラム類、ジチオカルバミン酸塩類、キサントゲン酸塩類、酸性リン酸エステル類等が挙げられる。これらのうち、アミン類、ホスフィン類、第４級アンモニウム塩類、第４級ホスホニウム塩類であることが好ましい。なお、これらの重合触媒は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　重合触媒の添加量は、組成物総質量に対して、０．０００１～１０質量％であることが好ましく、０．０１～３質量％であることがより好ましい。
　［重合調整剤］
　一実施形態において、組成物は重合調整剤をさらに含んでいてもよい。
　重合調整剤としては、特に制限されないが、長期周期律表における第１３～１６族のハロゲン化物等が挙げられる。これらのうちケイ素、ゲルマニウム、スズ、アンチモンのハロゲン化物であることが好ましく、アルキル基を有するゲルマニウム、スズ、アンチモンの塩化物であることがさらに好ましい。これらの重合調整剤は単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　重合調整剤の添加量は、組成物総質量に対して、０．０００１～５．０質量％であることが好ましく、０．０１～２質量％であることがより好ましい。
　［添加剤］
　一実施形態において、組成物は添加剤をさらに含んでいてもよい。添加剤としては、特に制限されないが、酸化防止剤、ブルーイング剤、紫外線吸収剤、消臭剤、密着改善剤、離型性改善剤、ラジカル重合開始剤等が挙げられる。これらの添加剤は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　添加剤の含有量は、組成物総質量に対して、０～１０質量％であることが好ましく、０．５～１０質量％であることがさらに好ましい。
　［組成物の組成］
　一実施形態において、組成物は、以下の組成を有する。すなわち、組成物は、組成物総量に対して、
　化合物（ａ）：５～９５質量％、好ましくは１０～９５質量％；
　ポリチオ―ル（ｂ）：０．１～３０質量％、好ましくは０．５～２０質量％；
　化合物（ｃ）：０～８５質量％、好ましくは０～８０質量％； 
　硫黄：０～２０質量％、好ましくは０～１５質量％；
　予備重合触媒：０～５質量％、好ましくは０～３質量％；
　重合触媒：０～５質量％、好ましくは０．０００１～３質量％；および
　重合調整剤：０～５質量％、好ましくは０．０００１～３質量％； 
を含む。
　＜組成物の製造方法＞
　上述の組成物は、特に制限されず、公知の方法で製造することができる。具体的には、化合物（ａ）およびポリチオール（ｂ）、並びに必要に応じて、化合物（ｃ）、硫黄等を混合することで製造することができる。
　＜予備硬化物＞
　本発明の一形態によれば、予備硬化物が提供される。前記予備硬化物は、上述の組成物を予備重合してなる。予備硬化物とすることで、粘度上昇の速度低下が可能になる、光学材料の透明性が向上する、ハンドリングが容易になる等の観点から好ましい。なお、本明細書において、「予備硬化物」とは、粘度５，０００ｍｐｓ以下の液体を意味し、化合物（ａ）、ポリチオール（ｂ）、化合物（ｃ）、硫黄、および重合性化合物の少なくとも１つが重合反応により形成した重合体、部分重合体、オリゴマー等を含む。なお、本明細書において、「粘度」は、下記の方法により測定された値を採用するものとする。
　［粘度測定方法］
　コーンプレート型粘度計ＤＶ２ＴＨＡ　ＣＰ（Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ　ＡＭＥＴＥＫ社製）を用い、３０℃における予備硬化物の粘度を測定する。
　＜予備硬化物の製造方法＞
　本発明の一形態によれば、予備硬化物の製造方法が提供される。前記予備硬化物の製造方法は、組成物を予備重合する予備重合工程を含む。
　［予備重合工程］
　予備重合工程は、組成物を予備重合する工程である。
　組成物は、上述したものが用いられる。前記組成物は、好ましくは予備重合触媒を含む。
　予備重合工程は、好ましくは予備重合後に続いて後述する重合工程を実施する観点から、モールド等の型に注型して行うことが好ましい。この際、注型前に０．１～５μｍ程度の孔径のフィルター等で不純物を濾過し除去することが、光学材料の品質を高める観点から好ましい。
　前記予備重合の温度は、－１０～１６０℃であることが好ましく、０～１００℃であることがより好ましく、２０～８０℃であることがさらに好ましい。
　前記予備重合の時間は、０．１～４８０分であることが好ましく、０．１～４２０分であることがより好ましく、０．１～３６０分であるであることがさらに好ましい。
　一実施形態において、予備重合は、好ましくは－１０～１６０℃で０．１～４８０分、より好ましくは０～１００℃で０．１～４２０分、さらに好ましくは２０～８０℃で０．１～３６０分行われる。
　予備重合は、常圧で行ってもよいし、加圧下で行ってもよいし、減圧下で行ってもよい。予備重合を減圧下で行う場合には、反応を促進する硫化水素が除去されるため、常圧で行う場合に比べると通常反応が穏和に進行する。なお、常圧で行う場合には、大気中で行ってもよいし、不活性ガス中で行ってもよい。
　予備重合工程において、予備重合の反応の進行度を検知することが好ましい。前記検知方法としては、特に制限されないが、液体クロマトグラフィー、粘度測定、比重測定、屈折率測定が挙げられる。これらのうち、簡便であることから、屈折率測定を行うことが好ましい。なお、これらの検知方法は、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　予備重合の反応の進行度の検知は、インラインで行うことが好ましい。特に、予備重合を加圧下または減圧下で行う場合には、インラインで検知を行うことにより、測定サンプル取得のために加圧または減圧を解除する必要がないことからより好ましい。インラインで検知を行う場合、例えば、屈折率測定を行う場合、屈折率計の検出部を予備重合前の組成物および予備重合の反応液に浸漬させることで、反応の進行に伴う屈折率の上昇を検知することができ、反応の進行度を制御することができる。なお、屈折率等の温度により測定値が変化する検知方法の場合には、測定温度、屈折率、基準温度での屈折率等を多重回帰分析し、検出部の温度と屈折率との関係を事前に決定することが好ましい。具体的には、基準温度の屈折率へ自動的に変換可能な温度補正機能が付与された屈折率計を用いるのが好ましい。インライン型屈折率計としては発光ダイオードを光源としてプリズム反射光の角度をＣＣＤセルで識別する方式等が挙げられる。
　＜光学材料＞
　本発明の一形態によれば、光学材料が提供される。前記光学材料は、上述の組成物または上述の予備硬化物を硬化してなる。すなわち、光学材料は、前記組成物または予備硬化物の硬化物である。
　本形態に係る光学材料は、高屈折率かつ色調に優れる。
　具体的には、光学材料の屈折率は、１．７０以上であることが好ましく、１．７２以上であることがより好ましく、１．７３以上であることがさらに好ましく、１．７５以上であることが特に好ましい。すなわち、上述の組成物は、得られる光学材料の屈折率が好ましくは１．７０以上、より好ましくは１．７２以上、さらに好ましくは１．７３以上、特に好まくは１．７５以上である。なお、「屈折率」の値は、実施例に記載の方法により測定される。
　また、光学材料の色調は、ＹＩ値が５以下であることが好ましく、４以下であることがより好ましく、３以下であることがさらに好ましく、２以下であることが特に好ましい。すなわち、上述の組成物は、得られる光学材料のＹＩ値が好ましくは５以下、より好ましくは４以下、さらに好ましくは３以下、特に好まくは２以下である。なお、本明細書において、「ＹＩ値」は実施例に記載の方法により測定される。
　本形態に係る光学材料は、高屈折率かつ色調に優れることから、組成物に種々のコモノマーを配合し、かつ、その配合量を増加させることが可能であり、これにより広範な物性を持つ光学材料の設計が可能となる。
　＜光学材料の製造方法＞
　本発明の一形態によれば、光学材料の製造方法が提供される。前記製造方法は、上述の組成物または上述の予備硬化物を重合する重合工程を含む。
　［重合工程］
　重合工程は、上述の組成物または上述の予備硬化物を重合する工程である。
　重合工程は、通常、モールド等の型に組成物または予備硬化物を注型し、重合させることにより行われる。組成物を用いる場合には、注型前に０．１～５μｍ程度の孔径のフィルター等で不純物を濾過し除去することが、光学材料の品質を高める観点から好ましい。
　一実施形態において、重合工程は、重合温度まで昇温を行う工程、重合温度で保持する工程、降温を行う工程を含む。
　前記重合は多段階で行われてもよい。すなわち、重合温度を保持する工程は２以上を有していてもよい。一実施形態において、重合工程は、第１の重合温度まで昇温を行う工程、第１の重合温度で保持する工程、第２の重合温度まで昇温を行う工程、第２の重合温度で保持する工程、降温を行う工程を含む。この場合、第１の重合温度は第２の重合温度よりも低い。また、別の一実施形態において、重合工程は、第１の重合温度まで昇温を行う工程、第１の重合温度で保持する工程、第２の重合温度まで降温を行う工程、第２の重合温度で保持する工程、降温を行う工程を含む。この場合、第１の重合温度は第２の重合温度よりも高い。
　昇温を行う工程の昇温速度は０．１℃～１００℃／ｈであることが好ましい。また、降温を行う工程の降温速度は０．１℃～１００℃／ｈであることが好ましい。
　重合温度は、通常、－１０℃～１４０℃であり、好ましくは０～１４０℃である。
　重合時間は、通常、１～１００時間であり、好ましくは１～７２時間である。なお、本明細書において「重合時間」とは、昇温を行う工程、降温を行う工程の時間を含めた時間を意味する。
　なお、重合後、得られた光学材料をアニール処理することが好ましい。アニール処理をすることで、光学材料の歪みを防止または抑制することができる。なお、アニール処理の温度は、５０～１５０℃であることが好ましい。また、アニール処理の時間は、１０分～５時間であることが好ましい。
　得られた光学材料に対して、必要に応じて染色、ハードコート、耐衝撃性コート、反射防止、防曇性付与等の表面処理を行ってもよい。
　＜光学材料の用途＞
　上述の光学材料は、光学部材、機械部品材料、電気・電子部品材料、自動車部品材料、土木建築材料、成形材料の他、塗料や接着剤の材料等の各種用途に有用である。これらのうち、光学材料は、眼鏡レンズ、（デジタル）カメラ用撮像レンズ、光ビーム集光レンズ、光拡散用レンズ等のレンズ、ＬＥＤ用封止材、光学用接着剤、光伝送用接合材料、光ファイバー、プリズム、フィルター、回折格子、ウォッチガラス、表示装置用のカバーガラス等の透明ガラスやカバーガラス等の光学用途；ＬＣＤや有機ＥＬやＰＤＰ等の表示素子用基板、カラーフィルター用基板、タッチパネル用基板、情報記録基板、ディスプレイバックライト、導光板、ディスプレイ保護膜、反射防止フィルム、防曇フィルム等のコーティング剤（コーティング膜）等の表示デバイス用途等に好適に使用される。前記光学材料は、特に、光学レンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の用途に使用されることが好ましく、光学レンズに使用されることがより好ましい。すなわち、一実施形態において、上述の光学材料を含む、光学レンズが提供される。
　本発明に係る組成物から得られる光学レンズは、安定性、色相、透明性などに優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明の効果を奏する限りにおいて適宜実施形態を変更することができる。
　光学材料の分析・評価は以下の方法で行った。
　［光学材料の屈折率］
　デジタル精密屈折率計ＫＰＲ－２０００（株式会社島津製作所製）を用い、２５℃におけるｅ線（５４６．１ｎｍ）の光学材料の屈折率を測定した。
　［光学材料の色調評価］
　分光測色計ＣＭ－５（コニカミノルタジャパン株式会社製）を用い、２５℃での２．６ｍｍ厚の光学材料のＹＩ値を測定した。
　［合成例１：１，３，５－トリメルカプトベンゼン（以下、ＴＭＢと称する）の合成］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　Beilstein Journal of Organic Chemistry, 8, 461-471, No. 53; 2012を参考に合成した。具体的には、以下の通りである。
　すなわち、温度計、滴下ロートを装着した四つ口フラスコを窒素置換した。その後、Ｎ－メチルピロリドン４００ｇ、および水酸化ナトリウム８２．７ｇ（２０６７ｍｍｏｌ）を投入し、５℃で攪拌した。続いて、ｔ－ブチルチオール１８６．４ｇ（２０６７ｍｍｏｌ）を滴下し、５℃で３時間攪拌した。更に、１，３，５－トリクロロベンゼン５０．０ｇ（２７５．５６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃に昇温し、２４時間攪拌した。次いで、反応液を２５℃まで冷却し、トルエン４００ｇを加えた後に水４００ｇで水洗を３回行い、溶媒を留去することで４５．３ｇ（１３２．３ｍｍｏｌ）の１，３，５─トリス（ｔ－ブチルチオ）ベンゼン（ＴＴＢＢ）の粗生成物を得た。
　得られたＴＴＢＢの粗生成物４５．３ｇ（１３２．３ｍｍｏｌ）を、温度計を装着した三つ口フラスコに入れ、反応容器を窒素置換した。その後、トルエン４３６ｇを入れ２０℃で攪拌した。続いて、塩化アルミニウム１９．４ｇ（１４５．４ｍｍｏｌ）を加え、３時間攪拌した。２０％硫酸２２５ｇを加えてトルエン層を３回水洗し、溶媒を留去することで１６．１ｇ（９２．４ｍｍｏｌ）のＴＭＢの粗生成物を得た。
　得られたＴＭＢの粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、ＴＭＢ１（ＴＭＢ純度１００％）の留分（ＴＭＢ留分１）、およびＴＭＢ２、ＴＭＢ３を含む２つの留分（ＴＭＢ留分２および３）を得た。得られた結果を下記表１に示す。
　［合成例２：ＴＭＢの合成］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 　Bulletin de la Societe Chimique de France, (2), 302-8; 1987を参考に合成した。具体的には、以下の通りである。
　すなわち、温度計を装着した三つ口フラスコに、フロログルシノール３０．０ｇ（２３８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド３７５ｇとを加えた。その後、反応液を５℃まで冷却し、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン１３３．４ｇ（１１８９ｍｍｏｌ）とジメチルチオカルバモイルクロリド１４７．０ｇ（１１８９ｍｍｏｌ）とを加え、２４時間攪拌した。次いで、クロロホルム３００ｇを加えた後に、１０％ＮａＯＨ水溶液３００ｇで洗浄を３回行い、溶媒を留去することで７３．８ｇ（１９０ｍｍｏｌ）の１，３，５─トリス（ジメチルチオカルバモイル）ベンゼンの粗生成物を得た。
　得られた１，３，５─トリス（ジメチルチオカルバモイル）ベンゼンの粗生成物７３．８ｇを、温度計を装着した三つ口フラスコに入れ、２４０℃で７時間攪拌した。その後、２５℃まで冷却することで、７３．８ｇ（１９０ｍｍｏｌ）の１，３，５─トリス（ジメチルカルバモイルチオ）ベンゼンの粗生成物を得た。
　得られた１，３，５─トリス（ジメチルカルバモイルチオ）ベンゼンの粗生成物７３．８ｇを、温度計を装着した三つ口フラスコに入れた。次いで、ジエチレングリコール８２６ｇ、水８９．１ｇ、および水酸化カリウム５３．４ｇ（９５２ｍｍｏｌ）を入れ、９５℃で１０時間攪拌した。その後、２５℃まで冷却し、２０％硫酸３７０ｇおよびクロロホルム７４０ｇを加えた。有機層を３回水洗し、溶媒を留去することで１５．９ｇ（９１ｍｍｏｌ）のＴＭＢの粗生成物を得た。
　得られたＴＭＢの粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、ＴＭＢ１（ＴＭＢ純度１００％）の留分（ＴＭＢ留分４）、およびＴＭＢ４、ＴＭＢ５、ＴＭＢ６を含む３つの留分（ＴＭＢ留分５～７）を得た。得られた結果を下記表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
　［合成例３：エピスルフィド化合物の合成］
　温度計、滴下ロートを装着した四つ口フラスコに、ＴＭＢ留分１を１５．０ｇ（８６．１ｍｍｏｌ）入れて反応容器を窒素置換した。その後、２４％水酸化ナトリウム水溶液０．７２ｇをメタノール５９．４ｇに溶かした溶液およびトルエン６５．０ｇを先の反応容器に加え、５℃まで冷却しながら撹拌した。次いで、撹拌しながらエピクロロヒドリン２４．７ｇ（２６６．８ｍｍｏｌ）を液温５～１５℃に保ちつつ滴下した。滴下終了後、更に３時間５℃で撹拌を行い、１，３，５－トリス（３―クロロ─２―ヒドロキシプロピルチオ）ベンゼンを得た。
　次いで、２４％水酸化ナトリウム水溶液６４．６ｇ（３８７．３ｍｍｏｌ）を液温５～１５℃に保ちつつ滴下した。滴下終了後、液温を１５℃とし１７ｈ熟成させた。有機層を水１５０ｇで３回洗浄後、溶媒を留去して１，３，５－トリス（β－エポキシプロピルチオ）ベンゼン２９．０ｇ（総収率９８％）を得た。
　得られた１，３，５－トリス（β－エポキシプロピルチオ）ベンゼン２９．０ｇ（８４．７ｍｏｌ）にトルエン１４５ｍＬ、メタノール１４５ｍＬ、無水酢酸１．５６ｇ（１５．２ｍｍｏｌ）、およびチオ尿素３８．７ｇ（５０８．０ｍｍｏｌ）を加えて、２０℃で２４時間撹拌を行った。２０％硫酸１４５ｇを加えてトルエン層を３回水洗し、溶媒を留去することで２３．１ｇの１，３，５－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン（以下、化合物１と称する）の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１の純度１００％の留分（ａ－１）および化合物２（１－メルカプト－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン）、化合物３（１－（β－エポキシプロピルチオ）－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン）を含む２つの留分（ａ－２およびａ－３）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例４：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えてＴＭＢ留分２を用いたことを除いては合成例３と同様の方法で化合物１の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１の純度１００％の留分（ａ－１）および化合物４（１－クロロ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン）を含む留分（ａ－４）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例５：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えてＴＭＢ留分３を用いたことを除いては合成例３と同様の方法で化合物１の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１の純度１００％の留分（ａ－１）および化合物５（１－ｔ－ブチルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン）を含む留分（ａ－５）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例６：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えてＴＭＢ留分５を用いたことを除いては合成例３と同様の方法で化合物１の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１の純度１００％の留分（ａ－１）および化合物６（１－ヒドロキシ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン）を含む留分（ａ－６）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例７：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えてＴＭＢ留分６を用いたことを除いては合成例３と同様の方法で化合物１の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１の純度１００％の留分（ａ－１）および化合物７（１－ジメチルチオカルバモイル－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン）を含む留分（ａ－７）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例８：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えてＴＭＢ留分７を用いたことを除いては合成例３と同様の方法で化合物１の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１の純度１００％の留分（ａ－１）および化合物８（１－ジメチルカルバモイルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン）を含む留分（ａ－８）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例９：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えて１，３－ジメルカプトベンゼン（東京化成工業株式会社製）を用いたことを除いては合成例３と同様の方法で化合物９（１，３－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン）の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物９の純度１００％の留分（ａ－９）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例１０：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えてビスムチオール（東京化成工業株式会社製）を用いたことを除いては、合成例３と同様の方法で化合物１０（２，５－ビス（β－エピチオプロピルチオ）－１，３，４－チアジアゾール）の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１０の純度１００％の留分（ａ－１０）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　［合成例１１：エピスルフィド化合物の合成］
　ＴＭＢ留分１に代えてチオシアヌル酸（東京化成工業株式会社製）を用いたことを除いては、合成例３と同様の方法で化合物１１（２，４，６－トリス（β－エピチオプロピルチオ）─１，３，５－トリアジン）の粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラム精製することで、化合物１１の純度１００％の留分（ａ－１１）を得た。得られた結果を下記表２に示す。
　化合物１：１，３，５－トリス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物２：１－メルカプト－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物３：１－（β－エポキシプロピルチオ）－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物４：１－クロロ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物５：１－ｔ－ブチルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物６：１－ヒドロキシ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物７：１－ジメチルチオカルバモイル－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物８：１－ジメチルカルバモイルチオ－３，５－ビス（β－エポチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物９：１，３－ビス（β－エピチオプロピルチオ）ベンゼン
　化合物１０：２，５－ビス（β－エピチオプロピルチオ）－１，３，４－チアジアゾール
　化合物１１：２，４，６－トリス（β－エピチオプロピルチオ）─１，３，５－トリアジン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
　［原料］
　ポリチオール（ｂ）として、以下の化合物ｂ－１～化合物ｂ－３を準備した。
　ｂ－１：１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアへプタン
　ｂ－２：ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド
　ｂ－３：４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　また、化合物（ｃ）として、以下の化合物ｃ－１～化合物ｃ－２を準備した。
　ｃ－１：ビス（β－エピチオプロピル）スルフィド
　ｃ－２：ビス（β－エピチオプロピル）ジスルフィド
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　［実施例１］
　留分ａ－１　８０質量部、化合物ｂ－１　２０質量部、重合触媒としてテトラ－ｎ－ブチルホスホニウムブロマイド０．０２質量部、および重合調整剤としてジ－ｎ－ブチルスズジクロライド０．０５質量部を混合しながら真空脱気を行うことで、組成物を製造した。
　［実施例２～１８、比較例１～３］
　表３に示す組成に変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で組成物を製造した。
　［評価］
　実施例１～１８、比較例１～３で製造した組成物を３０℃で１０時間加熱し、１００℃まで１０時間かけて昇温させ、最後に１００℃で５時間加熱して重合硬化させた。放冷後、１２０℃で３０分アニール処理を行い、光学材料を製造した。
　製造した光学材料の屈折率および色調評価の結果を下記表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　表３の結果からも明らかなように、実施例１～１８の組成物を硬化してなる硬化物（光学材料）は、高屈折率かつ色調に優れることが分かる。
　他方、比較例１では、ポリチオール（ｂ）が含まれない結果、色調が不十分であった。
　また、化合物ｃ－１（ビス（β－エピチオプロピル）スルフィド）を用いた従来技術に係る比較例２では、屈折率が不十分であることが分かる。
　さらに、比較例３は、硫黄を添加して屈折率を高くしようとすると、色調が低下することが分かる。
 

Claims (13)

  1. 　下記式（１）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［上記式中、
    　Ａｒは、芳香環を示し、
    　ｍは２～８の整数を示し、
    　ｎは０～６の整数を示し、
    　ただし、ｍ＋ｎが芳香環を構成する炭素数以下であり、
    　Ｒ１は、それぞれ独立して、アルキルチオ基、エポキシアルキルチオ基、チオール基、ハロゲン基、ヒドロキシ基、ジアルキルチオカルバモイル基、またはジアルキルカルバモイルチオ基を示す。］
    で表される化合物（ａ）およびポリチオール（ｂ）を含む、組成物。
  2. 　Ａｒが、炭素および水素からなる芳香環である、請求項１に記載の組成物。
  3. 　ｍが、２または３である、請求項１または２に記載の組成物。
  4. 　ｍ＋ｎが、２～６である、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 　前記化合物（ａ）の含有量が、組成物総質量に対して、５～９５質量％である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 　前記ポリチオール（ｂ）が、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアへプタン、メタンジチオール、（スルファニルメチルジスルファニル）メタンチオール、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ビス（メルカプトメチル）－１，４－ジチアン、１，２－ビス（２－メルカプトエチルチオ）－３－メルカプトプロパン、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、テトラメルカプトペンタエリスリトール、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、およびチイランメタンチオールからなる群から選択される少なくとも１つを含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 　下記式（２）：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［上記式中、
    　ｐは０～４の整数を示し、
    　ｑは０～２の整数を示す］
    で表される化合物（ｃ）をさらに含む、請求項１～６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. 　硫黄をさらに含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 　予備重合触媒をさらに含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物。
  10. 　前記予備重合触媒が、２－メルカプト－１－メチルイミダゾール、２－メチル－Ｎ－イミダゾール、および１，２，２，６，６－ペンタメチルピペリジルメタクリレ－トからなる群から選択される少なくとも１つを含む、請求項９に記載の組成物。
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の組成物を予備重合してなる、予備硬化物。
  12. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の組成物または請求項１１に記載の予備硬化物を硬化してなる、光学材料。
  13. 　請求項１２に記載の光学材料を含む、光学レンズ。
     
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