WO2022075475A1

WO2022075475A1 - 積層光学フィルムおよび画像表示装置

Info

Publication number: WO2022075475A1
Application number: PCT/JP2021/037478
Authority: WO
Inventors: 直良山田; 洋平 ▲濱▼地
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2020-10-09
Filing date: 2021-10-08
Publication date: 2022-04-14
Also published as: US20230314679A1; CN116323180A; JPWO2022075475A1

Abstract

反射円偏光子を有する積層光学フィルムであって、反射像の画像鮮鋭度が高い積層光学フィルム、および、この積層光学フィルムを用いる画像表示装置の提供を課題とする。少なくとも、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とをこの順で有し、反射円偏光子に対して、直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下であることにより、課題を解決する。

Description

積層光学フィルムおよび画像表示装置

　本発明は、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とをこの順で有し、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である積層光学フィルム、および、この積層光学フィルムを用いる画像表示装置に関する。

　反射偏光子は、入射光のうち一方の偏光を反射し、もう一方の偏光を透過する機能を有する偏光子である。反射偏光子による反射光および透過光は、互いに直交する偏光状態となる。ここで、互いに直交する偏光状態とは、ポアンカレ球上において互いに対蹠点に位置する偏光状態の事であり、例えば、互いに直交する直線偏光、および、右回り円偏光と左回り円偏光などが、これに該当する。

　透過光および反射光が直線偏光となる反射直線偏光子としては、例えば、特許文献１に記載されるような誘電体多層膜を延伸したフィルム、および、特許文献２に記載されるようなワイヤグリッド偏光子等が知られている。

　また、透過光および反射光が円偏光となる反射円偏光子としては、例えば、特許文献３に記載されるようなコレステリック液晶相を固定化した層を有するフィルムが知られている。

　反射偏光子は、入射光から特定の偏光のみを取り出したり、入射光を２つの偏光に分離したりする目的で用いられる。
　例えば、液晶表示装置において、バックライトからの不要な偏光を反射して再利用することで、光利用効率を高める輝度向上フィルムとして用いられる。また、液晶プロジェクタにおいて、光源からの光を２つの直線偏光に分離し、それぞれを液晶パネルに供給するビームスプリッタとしても用いられる。

　また、近年、外光および画像表示装置からの光の一部を反射し、虚像および実像を生成する目的で、反射偏光子を用いる方法が提案されている。
　例えば、特許文献４には、反射偏光子を用いて後方からの光を反射する車載用ルームミラーが開示されている。また、特許文献５には、仮想現実表示装置および電子ファインダーなどにおいて表示部を小型、薄型化するため、反射偏光子とハーフミラーとの間で光を反射させて往復させ、虚像を生成する方法が開示されている。さらに、特許文献６には、反射偏光子と再帰反射板とを用い、空中に実像を生成する方法が開示されている。

特開２０１１－０５３７０５号公報特開２０１５－０２８６５６号公報特許第６２７７０８８号公報特開２０１７－２２７７２０号公報特開平７－１２０６７９号公報特開２０１８－０９２１３５号公報

　本発明者らの検討によれば、反射偏光子により外光および画像表示装置からの光の一部を反射し、虚像および実像を生じさせる場合、特許文献１、２および３に記載の従来の反射偏光子では、画像の鮮鋭度が低下する場合があることがわかった。

　本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明が解決しようとする課題は、反射円偏光子を有する積層光学フィルムであって、反射像の画像鮮鋭度が高い積層光学フィルム、および、この積層光学フィルムを用いる画像表示装置を提供することである。

　本発明者らは、上述の課題に関し鋭意検討を重ね、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

　［１］　少なくとも、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とをこの順で有し、
　反射円偏光子に対して、直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である、積層光学フィルム。
　［２］　さらに、表面粗さＲａが５０ｎｍ以下の支持体を有する、［１］に記載の積層光学フィルム。
　［３］　支持体が、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材である、［２］に記載の積層光学フィルム。
　［４］　支持体を有さない、［１］に記載の積層光学フィルム。
　［５］　反射円偏光子が、少なくとも、コレステリック液晶相を固定化してなる光反射層を有する、［１］～［４］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［６］　反射円偏光子が、少なくとも、波長４５０ｎｍの光の反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５３０ｎｍの光の反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６３０ｎｍの光の反射率が４０％以上である赤色光反射層とを有する、［１］～［５］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［７］　反射円偏光子が、さらに、波長８００ｎｍの光の反射率が４０％以上である赤外光反射層を有する、［６］に記載の積層光学フィルム。
　［８］　反射円偏光子が、少なくとも、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層と、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層とを有する、［１］～［７］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［９］　位相差層が、波長に対して実質的に逆分散性を有する、［１］～［８］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［１０］　位相差層が、少なくとも、一様配向した液晶化合物を固定化してなる層を有する、［１］～［９］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［１１］　位相差層が、少なくとも、厚さ方向を螺旋軸として捩れ配向した液晶化合物を固定化してなる層を有する、［１］～［１０］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［１２］　直線偏光子が、厚さ１０μｍ以下の層からなる、［１］～［１１］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［１３］　直線偏光子が、少なくとも、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層を有する、［１］～［１２］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［１４］　さらに、ポジティブＣプレートを有する、［１］～［１３］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［１５］　さらに、いずれかの表面に反射防止層を有する、［１］～［１４］のいずれかに記載の積層光学フィルム。
　［１６］　反射防止層が、モスアイフィルムまたはＡＲフィルムである、［１５］に記載の積層光学フィルム。
　［１７］　［１］～［１６］のいずれかに記載の積層光学フィルムと、画像表示素子とを有する、画像表示装置。
　［１８］　仮想現実表示装置である、［１７］に記載の画像表示装置。

　本発明によれば、反射像の画像鮮鋭度が高い積層光学フィルム、および、この積層光学フィルムを用いる画像表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の積層光学フィルムを用いた仮想現実表示装置の一例である。図２は、本発明の積層光学フィルムを用いた仮想現実表示装置の一例である。図３は、本発明の積層光学フィルムの一例を示す概略図である。

　以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態および具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は「～」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

　本明細書において、「直交」とは、２つの軸等が成す角度が厳密に９０°であること表すのではなく、９０°±１０°、好ましくは、９０°±５°を表すものとする。また、「平行」とは、２つの軸等が成す角度が厳密に０°であることを表すのではなく、０°±１０°、好ましくは、０°±５°を表すものとする。さらに、「４５°」とは、２つの軸等が成す角度が厳密に４５°であることを表すのではなく、４５°±１０°、好ましくは、４５°±５°を表すものとする。
　但し、偏光に関する表現において、『互いに直交する偏光状態』とは、ポアンカレ球上において互いに対蹠点に位置する偏光状態の事であり、例えば、互いに直交する直線偏光、および、右回り円偏光（右円偏光）と左回り円偏光（左円偏光）などが、これに該当するのは、前述のとおりである。

　本明細書において「吸収軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において吸光度が最大となる偏光方向を意味する。また、「反射軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において反射率が最大となる偏光方向を意味する。また、「透過軸」とは、面内において吸収軸または反射軸と直交する方向を意味する。さらに、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。

　本明細書において、位相差とは、特にことわらない場合、面内レタデーションを意味し、Ｒｅ（λ）と記載する。ここで、Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレタデーションを表し、特に記載がないとき、波長λは５５０ｎｍとする。
　また、波長λにおける厚さ方向のレタデーションは、本明細書においてＲｔｈ（λ）と記載する。
　Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、波長λで測定した値を用いることができる。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
　遅相軸方向（°）
　Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
　Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄが算出される。

［積層光学フィルム］
　本発明の積層光学フィルムは、少なくとも、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とをこの順で有し、反射円偏光子に対して、直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。なお、表面粗さＲａとは、算術平均粗さＲａである。

　図３に、本発明の積層光学フィルムの一例を概念的に示す。
　図３に示す積層光学フィルム１００は、図中上側から、反射防止層１０１、ポジティブＣプレート１０２、反射円偏光子１０３、ポジティブＣプレート１０４、位相差層１０５、および、直線偏光子１０６を有する。位相差層１０５は、円偏光を直線偏光に変換する位相差層である。
　前述のように、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子に対して、直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。言い換えれば、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子から見て、直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。
　従って、図３に示す積層光学フィルム１００においては、反射防止層１０１の表面、すなわち図中最上面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。

　本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とを、この順で有する積層光学フィルムにおいて、このような構成を有することにより、反射光の鮮鋭度（鮮鋭性）が高く、例えば画像表示装置に用いられた際に、鮮鋭度の高い画像を表示することを可能にしている。
　すなわち、本発明の積層光学フィルムを用いる本発明の画像表示装置は、鮮鋭度の高い画像の表示が可能な画像表示装置である。

　なお、後に実施例でも示すが、本発明の積層光学フィルムは図３に示す構成に制限はされない。
　すなわち、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子と、位相差層と、直線偏光子とを、この順で有するものであれば、例えば、反射防止層を有さない構成、および、ポジティブＣプレートを１層しか有さなない構成など、各種の層構成が利用可能である。

　また、図３に示す積層光学フィルム１００は、支持体を有していないが、本発明は、これに制限はされない。
　すなわち、本発明の積層光学フィルムは、積層光学フィルム、および／または、積層光学フィルムを構成する各層（膜）を支持するための、光学的な作用を発現しない支持体を有してもよい。
　支持体は、例えば反射防止層１０１およびポジティブＣプレート１０２などの積層光学フィルムを構成する各層の形成工程において、これらの層を形成し、支持するために設けられたものが、そのまま、本発明の積層光学フィルムに残った物であってもよい。あるいは、支持体は、積層光学フィルムを支持するために、各層とは別に、別途、設けられたものでもよい。
　従って、本発明の積層光学フィルムにおいて、支持体の数、および、支持体の位置には、制限はなく、各種の構成が利用可能である。しかしながら、上述した表面粗さＲａの点からは、支持体の数は少ない方が好ましい。従って、図３に示す例のように、支持体を有さない構成は好ましく例示される。以上の点に関しては、後に詳述する。

　本発明の積層光学フィルムは、例えば、画像表示素子と組み合わされて、本発明の画像表示装置を構成する。
　上述のように、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子と、位相差層と、直線偏光子とを、この順番で有する。また、後述するが、本発明の積層光学フィルムは、画像表示装置では、反射円偏光子を透過した光が、位相差層に入射するように配置される。さらに、前述のように、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子に対して、直線偏光子と反対側の面の表面粗さＲａが、１００ｎｍ以下である。
　従って、本発明の積層光学フィルムは、表面粗さＲａが１００ｎｍである表面が、画像表示素子側となるように配置される。
　すなわち、本発明の積層光学フィルムは、画像表示装置に用いられる場合には、表面粗さＲａが１００ｎｍである表面が、画像表示素子が表示した画像の入射面となる。

　上述のように、本発明の積層光学フィルムは、透過光の鮮鋭度の高い反射透過円偏光子として使用できる。
　好適な使用例として、本発明の積層光学フィルムを用いた本発明の画像表示装置として、仮想現実表示装置（ＶＲ(Virtual Reality)表示装置）を取り上げ、本発明の積層光学フィルムの作用を詳細に説明する。

　図１は、本発明の積層光学フィルム１００を用いた仮想現実表示装置である。
　前述のように、画像表示装置に用いられる場合には、本発明の積層光学フィルム１００は、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である面を、表示素子に向けて配置される。
　図１に示す仮想画像表示装置は、画像表示素子である画像表示パネル５００と、円偏光板４００と、ハーフミラー３００と、本発明の積層光学フィルム１００と、を有する。
　仮想画像表示装置において、画像表示パネル５００が出射した光線１０００（表示画像）は、図１に示すように、円偏光板４００を透過して円偏光となり、ハーフミラー３００を透過する。円偏光板４００は、光線１０００を積層光学フィルム１００の反射円偏光子１０３が反射する旋回方向の円偏光に変換する。
　光線１０００は、次いで、本発明の積層光学フィルム１００に、反射防止層１０１の側から入射して、反射円偏光子１０３によって全反射される。
　反射円偏光子１０３によって全反射された光線１０００は、ハーフミラー３００で再び反射され、再度、積層光学フィルム１００に入射する。このとき、光線１０００は、ハーフミラー３００で反射されたことにより、一度目に積層光学フィルム１００に入射したときの円偏光と直交する円偏光になっている。従って、光線１０００は積層光学フィルム１００を透過し、ユーザーに視認される。具体的には、光線１０００は、反射円偏光子１０３を透過して、位相差層１０５によって直線偏光に変換される。位相差層１０５は、反射円偏光子１０３を透過した光線１０００（円偏光）を、直線偏光子１０６を透過する方向の直線偏光に変換する。従って、位相差層１０５によって直線偏光に変換された光線１０００は、直線偏光子１０６を透過して、ユーザーに視認される。
　ここで、上述のように、積層光学フィルム１００は、反射防止層１０１の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。そのため、ユーザに視認される画像は、歪みが少ない、鮮鋭度が高い画像である。この点に関しては、後に詳述する。
　さらに、光線１０００は、ハーフミラー３００で反射される際、ハーフミラーが凹面鏡の形状になっていることにより、像は拡大され、ユーザーは拡大された虚像を視認することができる。上述の仕組みは、往復光学系、または折り返し光学系などと呼ばれている。

　一方、図２は、画像表示パネル５００が照射した光線が、一度目に積層光学フィルムに入射したときに、反射されずに、漏れ光となる光線２０００となった場合を表す模式図である。図２から分かるように、このとき、ユーザーは、光路長が異なり、また、拡大されていない像を視認することになる。この像はゴーストおよび迷光等と呼ばれ、低減することが求められる。
　図示例の積層光学フィルム１００は、好ましい態様として、Ｒｔｈを調整するためのポジティブＣプレート１０２およびポジティブＣプレート１０４を有する。
　そのため、積層光学フィルム１００は、反射光が高い偏光度を有する。その結果、光線が一度目に積層光学フィルム１００に入射したときの反射率を高めることができ、漏れ光およびゴーストを低減することができる。
　また、図示例の積層光学フィルム１００は、好ましい態様として上記の構成を有することにより、透過光も高い偏光度を有する。そのため、光線が二度目に積層光学フィルム１００に入射したときの透過率を高めることができ、虚像の輝度を向上させ、さらに、虚像の色味付きを抑制することができる。

　積層光学フィルム１００は、図１および図２に示したように、画像表示装置を構成するレンズ等に合わせて曲面状に成形される場合がある。
　反射円偏光子として従来知られている、反射直線偏光子と１／４波長の位相差を有する位相差層とを積層した積層光学フィルムは、透過軸、反射軸および遅相軸等の光学軸を有するため、曲面形状への成形および延伸等を行った際に光学軸が歪むことによって、透過光および反射光の偏光度が低下する。
　それに対し、本発明の積層光学フィルムは、例えば反射円偏光子をコレステリック液晶相を固定してなる光反射層で構成することにより、反射円偏光子が光学軸を有さないため、延伸および成形等による偏光度の低下が生じにくい。従って、積層光学フィルム１００は、曲面形状に成形された場合であっても、偏光度の低下が生じにくい。

　また、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子１０３、円偏光を直線偏光に変換する位相差層１０５、および、直線偏光子１０６をこの順で有するため、反射円偏光子１０３からの漏れ光を直線偏光に変換した後、直線偏光子１０６によって吸収できる。
　具体的には、上述のように、円偏光板４００は、光線１０００を積層光学フィルム１００の反射円偏光子１０３が反射する旋回方向の円偏光に変換する。また、位相差相１０５は、反射円偏光子１０３が選択的に反射する円偏光と直交する円偏光を、直線偏光子１０６を透過する方向の直線偏光に変換する。
　従って、円偏光板４００によって変換された円偏光が反射円編子１０３を透過して漏れ光（光線２０００）となった場合には、この円偏光は、位相差層１０５によって、直線偏光子１０６を透過する直線偏光と直交する方向の直線偏光に変換される。その結果、反射円編子１０３を透過した漏れ光は、直線偏光子１０６によって吸収される。
　そのため、本発明の積層光学フィルム１００によれば、不要な光の透過を防止して、透過光の偏光度を高めることができる。
　尚、積層光学フィルムを延伸または成形した場合には、位相差層１０５の遅相軸および直線偏光子１０６の吸収軸が歪む等の懸念がある。しかしながら、上述の通り、反射円偏光子１０３は延伸および成形等を行っても、反射光および透過光は高い偏光度を有したままであり、反射円偏光子からの漏れ光の光量は小さいため、漏れ光の増加はわずかな量に抑えられる。

　また、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とを、この順で有し、かつ、反射円偏光子に対して、直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。図３に示す積層光学フィルム１００の場合には、反射防止層１０１の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。
　上述のように、本発明の積層光学フィルムは、画像表示装置に用いられる際には、画像表示素子が表示した画像の入射面が、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下の面となるように配置される。以下の説明では、『反射円偏光子に対して、直線偏光子とは反対側の表面』を便宜的に『画像入射面』ともいう。また、『円偏光を直線偏光に変換する位相差層』を、単に『位相差層』ともいい、それ以外の位相差層に関しては、例えば『直線偏光を直交する直線偏光に変換する位相差層』のように、注釈を付記する。
　本発明の積層光学フィルムは、画像入射面の表面粗さＲａを１００ｎｍ以下とすることにより、例えば、積層光学フィルムを仮想現実表示装置等に使用した場合、画像の鮮鋭度を向上させることができる。

　本発明者らは、反射円偏光子を含む積層光学フィルムによって光が反射される際、積層光学フィルムを構成する各層に凹凸があると、反射光の角度が歪み、像の歪みおよびボケ等に繋がり、画像の鮮鋭度が低下すると推定している。
　従って、本発明の積層光学フィルムにおいては、全ての層について、表面粗さＲａが小さいことが好ましい。本発明の積層光学フィルムを構成する各層は、それぞれ、表面粗さＲａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。また、反射像の画像鮮鋭度を高める観点では、特に、反射円偏光子のＲａが小さいことが好ましい。

　ここで、本発明の積層光学フィルムは、多数の層を積層して作製される。本発明者らの検討によれば、凹凸のある層に別の層を積層した場合、凹凸が重畳して、増幅される場合があることがわかった。
　従って、積層光学フィルムの表面の凹凸は、積層光学フィルムを構成する各層の凹凸が重畳されたものであると考えられる。すなわち、積層光学フィルムにおいて、画像入射面の表面粗さＲａは、積層光学フィルムを構成する各層の全体を総計した凹凸の程度を示していると考えられる。
　すなわち、本発明の積層光学フィルムは、画像入射面の表面粗さＲａを１００ｎｍ以下とすることにより、積層光学フィルムを構成する各層において、画像の歪みおよびボケに繋がり、画像の鮮鋭度が低下する原因となる凹凸を、十分に小さくできる。
　従って、本発明の積層光学フィルムを、例えば、上述のような仮想現実表示装置などの画像表示装置に等に使用した場合、鮮鋭度が高い画像を表示することができる。

　本発明の積層光学フィルムにおいて、画像入射面の表面粗さＲａは１００ｎｍ以下である。画像入射面の表面粗さＲａが１００ｎｍを超えると、画像表示装置等に用いられた場合には、十分に鮮鋭度が高い画像を得ることができない。
　本発明の積層光学フィルムにおいて、画像入射面の表面粗さＲａは、５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　画像入射面の表面粗さＲａは、基本的に、小さいほど好ましいが、通常５ｎｍ以上である。画像入射面の表面粗さＲａを５ｎｍ以上とすることで、本発明の積層光学フィルムを重ねて保管や搬送する際に、貼り付きをより防ぐことができる。
　なお、表面粗さＲａ（算術平均粗さＲａ）は、例えば、非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ(（株）菱化システム製)を用いて測定することができる。

　本発明の積層光学フィルムは、単位面積当たりの点欠陥数が小さいことが好ましい。すなわち、点欠陥は、透過光または反射光の偏光度の低下、および、画像鮮鋭度の低下等につながるため、少ないことが好ましい。
　本発明の積層光学フィルムは多数の層を積層して作製される。そのため、積層光学フィルム全体として点欠陥数を小さくするためには、各層における点欠陥数も小さいことが好ましい。具体的には、各層の点欠陥数は、１平方メートルあたり、２０個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、１個以下がさらに好ましい。積層光学フィルム全体としては、点欠陥数は、１平方メートルあたり、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、５個以下がさらに好ましい。
　ここで、点欠陥とは、異物、キズ、汚れ、膜厚変動、および、液晶化合物の配向不良等を含む。
　また、点欠陥の個数は、好ましくはサイズが１００μｍ以上の点欠陥、より好ましくはサイズが３０μｍ以上の点欠陥、さらに好ましくはサイズが１０μｍ以上の点欠陥の個数を数えた場合に、上記の個数であるのが好ましい。

　また、本発明の積層光学フィルムは、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内にアイトラッキング、表情認識および虹彩認証等といった近赤外光を光源に使用した各種センサーが組み込まれる場合がある。この点を考慮すると、本発明の積層光学フィルムは、センサーへの影響を最小限に抑えるために、近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

　以下、発明の積層光学フィルムを構成する各層について説明する。

［反射円偏光子］
　本発明の積層光学フィルムに用いる反射円偏光子は、入射光を、右回り円偏光（右円偏光）と左回り円偏光（左円偏光）とに分離し、一方の円偏光を正反射し、もう一方の円偏光を透過する光学部材である。
　反射円偏光子は、積層光学フィルムを延伸したり、立体形状等に成形したりした場合に、偏光度の低下および偏光軸の歪みが抑制されるという観点で、単体で反射円偏光子として機能するフィルムが好ましい。単体で反射円偏光子として機能するフィルムは反射軸および透過軸を有さないため、延伸および成形等を行っても偏光軸の歪みを生じる懸念が小さい。また、偏光軸の歪みに起因する偏光度の低下も生じにくい。
　単体で反射円偏光子として機能するフィルムとしては、例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して、コレステリック液晶相を固定化してなる光反射層を有する光学フィルムを用いることができる。コレステリック液晶相を固定化してなる光反射層を有する光学フィルムは、反射光および透過光のいずれも高い偏光度を有するため、好ましい。
　以下の説明では、『コレステリック液晶相を固定化してなる層』を、便宜的に『コレステリック液晶層』ともいう。

　本発明の積層光学フィルムに用いる反射円偏光子は、少なくとも、波長４５０ｎｍの光の反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５３０ｎｍの光の反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６３０ｎｍの光の反射率が４０％以上である赤色光反射層とを有することが好ましい。このような構成であると、可視域の広い波長範囲に亘って高い反射特性を発現できるため、好ましい。尚、上述の反射率は、反射円偏光子に対し、それぞれの波長で非偏光を入射した場合の反射率である。
　画像表示装置の中には、青色光、緑色光および赤色光のそれぞれの波長範囲において発光ピークを有するものがある。例えば、量子ドットを含むバックライトを有する液晶表示装置、青色、緑色および赤色に発光するＬＥＤが設置されたバックライトを有する液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、および、マイクロＬＥＤ表示装置等は、青色光、緑色光および赤色光のそれぞれの波長範囲に、比較的狭い半値全幅の発光ピークを有する。各色の発光ピークの半値全幅が狭いと、色再現性を向上できるため好ましい。これらの画像表示装置と組み合わせて使用する場合、反射円偏光子は、画像表示装置の発光ピークに該当する波長域に選択的に反射帯域を有していることが好ましい。
　また、コレステリック液晶相を固定化してなる青色光反射層、緑色光反射層、および赤色光反射層は、コレステリック液晶相の螺旋ピッチを厚さ方向で連続的に変化させたピッチグラジエント層を有していてもよい。例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して、緑色光反射層と赤色光反射層を連続的に作製することができる。

　また、本発明の積層光学フィルムを延伸したり、成形したりする場合には、反射円偏光子としての反射波長域が短波側にシフトすることがあるため、反射波長域は、あらかじめ波長のシフトを想定して選択されていることが好ましい。
　例えば、反射円偏光子としてコレステリック液晶相を固定化してなる層（コレステリック液晶層）を有する光学フィルムを用いる場合、延伸および成形等によってフィルムが引き延ばされ、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが小さくなってしまう場合があるため、コレステリック液晶相の螺旋ピッチをあらかじめ大きく設定しておくとよい。また、延伸および成形等による反射波長域の短波シフトを想定して、反射円偏光子は、波長８００ｎｍの反射率が４０％以上である赤外光反射層を有することも好ましい。
　さらに、延伸および成形等における延伸倍率が面内で均一でない場合は、面内のそれぞれの場所で、延伸による波長シフトに応じて適切な反射波長域が選択されてもよい。すなわち、面内において、反射波長域が異なる領域があってもよい。また、面内におけるそれぞれの場所で延伸倍率が異なることを想定して、あらかじめ反射波長域を必要な波長域よりも広くとっておくことも好ましい。

　本発明の積層光学フィルムに用いる反射円偏光子は、青色光反射層と、緑色光反射層と、赤色光反射層とが、この順で積層されていることが好ましい。また、青色光反射層が、円偏光を直線偏光に変換する位相差層とは反対の面に設置されることが好ましい。
　このような配置であると、光線は青色光反射層、緑色光反射層、および赤色光反射層をこの順で通過することになる。本発明者らは、このとき、特に斜め入射時において、各層のＲｔｈの影響を受けにくくなるため、反射光の偏光度および透過光の偏光度を高めることができると推定している。

　また、本発明の積層光学フィルムに用いる反射円偏光子は、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層と、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層とを有することも好ましい。
　このような構成であると、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相が正のＲｔｈを有するのに対し、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相は負のＲｔｈを有するため、互いのＲｔｈが相殺され、斜め方向からの入射光に対しても反射光および透過光の偏光度を高めることができるため、好ましい。
　本発明者らの検討によれば、この場合には、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相からなる青色光反射層、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相からなる赤色光反射層、および、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相からなる緑色光反射層をこの順で含み、青色光反射層が、円偏光を直線偏光に変換する位相差層とは反対の面に設置されることが好ましい。
　また、反射円偏光子が、棒状および円盤状液晶化合物からなる光反射層を有する場合には、視感度の観点から、光反射層の順番は、画像表示素子側から緑色、赤色、青色の順であるのが好ましい。
　さらに、反射円偏光子が、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層と、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層とを有する場合には、補償の観点から、液晶の種類は、画像表示素子側から円盤状、棒状、円盤状、もしくは円盤状、棒状、棒状であることが好ましい。
　ただし、光反射層の順番、および、液晶の種類は、一例であり、本発明の積層光学フィルムの反射円偏光子は、これらの構成に限定されるものではない。

　反射円偏光子の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。

　本発明の積層光学フィルムにおいて、反射円偏光子は、支持体、配向層、および、光反射層等を含んでいてもよい。この際において、支持体および配向層は、積層光学フィルムを作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、反射円偏光子を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学フィルムを薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、ならびに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレート等が好ましい。また、支持体は、市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム（株）製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等）などを利用することもできる。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。例えば、ポリカーボネート、および、ポリエステル系等のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、面内レタデーションＲｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。また、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、積層光学フィルムの製造工程において、反射円偏光子、および、その他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキングおよび表情認識、ならびに、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、本発明の積層光学フィルムに用いる反射円偏光子は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

［位相差層］
　本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、円偏光を入射したとき、出射光を直線偏光に変換する機能を有する。例えば、位相差層は、可視域の波長のいずれかにおいてＲｅがおよそ１／４波長となる位相差層を用いることができる。このとき、位相差層は、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が１２０～１５０ｎｍであることが好ましく、１２５～１４５ｎｍであることがより好ましく、１３５～１４０ｎｍであることがさらに好ましい。
　また、面内レタデーションＲｅがおよそ３／４波長、および、およそ５／４波長となる位相差層も、直線偏光を円偏光に変換することができるため、好ましい。

　また、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、波長に対して逆分散性を有していることが好ましい。逆分散性を有していると、可視域の広い波長範囲に亘って円偏光を直線偏光に変換することが可能になるため、好ましい。ここで、波長に対して逆分散性を有するとは、波長が大きくなるに伴い、各波長における位相差の値が大きくなることをいう。
　逆分散性を有する位相差層は、例えば、特開２０１７－０４９５７４号公報等を参照して、逆分散性を有する変性ポリカーボネート樹脂フィルム等のポリマーフィルムを一軸延伸することによって作製することができる。
　また、逆分散性を有する位相差層は、実質的に逆分散性を有していればよく、例えば、特許第０６２５９９２５号公報に開示されているように、面内レタデーションＲｅがおよそ１／４波長となる位相差層と、面内レタデーションＲｅがおよそ１／２波長となる位相差層を、互いの遅相軸がおよそ６０°の角をなすように積層することによっても作製することができる。このとき、１／４波長位相差層と１／２波長位相差層がそれぞれ順分散性（波長が大きくなるに伴い、該波長における位相差の値が小さくなる）であっても、可視域の広い波長範囲に亘って円偏光を直線偏光に変換でき、実質的に逆分散性を有するとみなせることが知られている。この場合、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子と、１／４波長位相差層と、１／２波長位相差層と、直線偏光子とをこの順で有することが好ましい。

　また、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、一様配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。
　例えば、棒状液晶化合物を面内方向に対し水平に一様配向させた層、および、円盤状液晶化合物を面内方向に対し垂直に一様配向させた層などを用いることができる。さらに、例えば、特開２０２０－０８４０７０号公報等を参照して、逆分散性を有する棒状液晶化合物を一様配向させて、固定化することによって、逆分散性を有する位相差層を作製することもできる。

　また、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、厚さ方向を螺旋軸として捩れ配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。
　例えば、特許第０５７５３９２２号公報、および、特許第０５９６０７４３号公報等に開示されているように、厚さ方向を螺旋軸として捩れ配向した棒状液晶化合物あるいは円盤状液晶化合物を固定化してなる層を有する位相差層を用いることもでき、この場合、位相差層は実質的に逆分散性を有するとみなすことができるため、好ましい。

　位相差層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍであることが好ましく、０．３～５μｍであることがより好ましい。

　本発明の積層光学フィルムにおいて、位相差層は、支持体、配向層、および、位相差層等を含んでいてもよい。この際において、支持体および配向層は、積層光学フィルムを作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、位相差層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学フィルムを薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、ならびに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレート等が好ましい。また、支持体は、市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム（株）製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等）などを利用することもできる。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。例えば、ポリカーボネート、および、ポリエステル系等のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、面内レタデーションＲｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。また、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、積層光学フィルムの製造工程において、位相差層およびその他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキングおよび表情認識、ならびに、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

［直線偏光子］
　本発明の積層光学フィルムに用いる直線偏光子は、吸収型の偏光子であり、入射光のうち吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する。
　直線偏光子としては一般的な偏光子を用いることができ、例えば、ポリビニルアルコール、または、その他の高分子樹脂に二色性物質を染着し、延伸することで配向させた偏光子でも良いし、液晶化合物の配向を利用して二色性物質を配向させた偏光子でも良い。入手性の観点、および、偏光度を高める観点では、ポリビニルアルコールをヨウ素で染色し、延伸した偏光子が好ましい。
　直線偏光子の厚さは、１０μｍ以下が好ましく、７μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。直線偏光子が薄いと、積層光学フィルムを延伸したり、成形したりした場合に、フィルムのクラックおよび破断等を防止することができる。
　また、直線偏光子の単板透過率は、４０％以上が好ましく、４２％以上がより好ましい。また、直線偏光子の偏光度は、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９９％以上がさらに好ましい。尚、本発明において、直線偏光子の単板透過率および偏光度は、自動偏光フィルム測定装置：ＶＡＰ－７０７０（日本分光（株）製）を用いて測定する。
　また、直線偏光子の透過軸の方向は、位相差層によって直線偏光に変換された光の偏光軸の方向に一致していることが好ましい。例えば、位相差層が１／４波長の位相差を有する層である場合、直線偏光子の透過軸と位相差層の遅相軸とのなす角は、およそ４５°であることが好ましい。

　本発明の積層光学フィルムに用いる直線偏光子は、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層であることも好ましい。液晶化合物と二色性物質を含有してなる直線偏光子は、厚さを薄くすることができ、かつ、延伸および成形等を行ってもクラックおよび破断等を生じにくいため、好ましい。
　光吸収異方性層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍであることが好ましく、０．３～５μｍであることがより好ましい。
　液晶化合物と二色性物質を含有してなる直線偏光子は、例えば、特開２０２０－０２３１５３号公報等を参照して作製することができる。直線偏光子の偏光度を向上する観点からは、光吸収異方性層は、二色性物質の配向度が０．９５以上であることが好ましく、０．９７以上であることがより好ましい。

　本発明の積層光学フィルムに用いる直線偏光子が、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層からなる場合、直線偏光子は、支持体、配向層、および、光吸収異方性層等を含んでいてもよい。この際において、支持体および配向層は、積層光学フィルムを作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、光吸収異方性層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学フィルムを薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、ならびに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレート島が好ましい。また、支持体は、市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム（株）製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等）など利用することもできる。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。例えば、ポリカーボネート、および、ポリエステル系等のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、面内レタデーションＲｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。また、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、積層光学フィルムの製造工程において、光吸収異方性層およびその他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキングおよび表情認識、ならびに、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、本発明の積層光学フィルムに用いる直線偏光子は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

［光吸収異方性層］
　ここで、光吸収異方性層について、より詳細に説明する。光吸収異方性層は、液晶化合物と二色性物質を含有し、液晶化合物を一様配向させることによって、二色性物質も一方向に配向させることができる。
　延伸時および成形時等における偏光度低下が抑制される点で、液晶化合物および二色性物質は、ラジカル重合性基を有することが好ましい。液晶化合物および二色性物質が、ラジカル重合性基を有する場合には、光吸収異方性層を形成するために用いる組成物の固形分重量に対して、ラジカル重合性基のモル含有率が、０．６ｍｍｏｌ／ｇ以上であるのが好ましく、１．０ｍｍｏｌ／ｇ以上であるのがより好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以上であるのがさらに好ましい。

　＜液晶化合物＞
　光吸収異方性層を形成するための組成物が含有する液晶化合物は、可視域で二色性を示さない液晶化合物が好ましい。
　液晶化合物としては、低分子液晶化合物および高分子液晶化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶化合物のことをいう。また、「高分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶化合物のことをいう。
　低分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００２７］～［００３４］に記載されている液晶化合物が挙げられる。中でもスメックチック性を示す低分子液晶化合物が好ましい。
　高分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶高分子が挙げられる。また、高分子液晶化合物は、末端に架橋性基（例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基等）を有しているのが好ましい。
　液晶化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。高分子液晶化合物と低分子液晶化合物を併用することも好ましい。
　液晶化合物の含有量は、本組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子の配向度がより向上する。

　液晶化合物は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、高分子液晶化合物であることが好ましく、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも略す。）を含む高分子液晶化合物であることがより好ましい。

　上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。

　Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１－Ａ）で表される基が好ましい。

　式（Ｐ１－Ａ）～（Ｐ１－Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１－Ａ）において、Ｒ¹は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１－Ｄ）において、Ｒ²はアルキル基を表す。
　式（Ｐ１－Ａ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｂ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｃ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
　式（Ｐ１－Ｄ）で表される基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。

　Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
　Ｌ１が表す２価の連結基としては、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｃ（Ｏ）ＮＲ³－、－ＮＲ³Ｃ（Ｏ）－、－ＳＯ₂－、および、－ＮＲ³Ｒ⁴－などが挙げられる。式中、Ｒ³およびＲ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表わす。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ａ）で表される基である場合には、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は－Ｃ（Ｏ）Ｏ－で表される基が好ましい。
　Ｐ１が式（Ｐ１－Ｂ）～（Ｐ１－Ｄ）で表される基である場合には、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。

　ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいこと、および、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
　ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊－（ＣＨ₂－ＣＨ₂Ｏ）_n1－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１～２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２～１０の整数であることが好ましく、２～４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
　また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＨ（ＣＨ₃）－ＣＨ₂Ｏ）_n2－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１～３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（Ｓｉ（ＣＨ₃）₂－Ｏ）_n3－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
　また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、＊－（ＣＦ₂－ＣＦ₂）_n4－＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６～１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。

　Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「ＦｌｕｓｓｉｇｅＫｒｉｓｔａｌｌｅｉｎＴａｂｅｌｌｅｎＩＩ」（ＶＥＢＤｅｕｔｓｃｈｅＶｅｒｌａｇｆｕｒＧｒｕｎｄｓｔｏｆｆＩｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁～第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
　メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環状構造を有する基であることが好ましい。
　メソゲン基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２～４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。

　メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１－Ａ）または下記式（Ｍ１－Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１－Ｂ）で表される基がより好ましい。

　式（Ｍ１－Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は置換基で置換されていてもよい。
　Ａ１で表される２価の基は、４～６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
　＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。

　Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン－ジイル基、アントラセン－ジイル基およびテトラセン－ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性および原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。

　Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
　２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
　２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン－ジイル基）、ピリダジン－ジイル基、イミダゾール－ジイル基、チエニレン（チオフェン－ジイル基）、キノリレン基（キノリン－ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン－ジイル基）、オキサゾール－ジイル基、チアゾール－ジイル基、オキサジアゾール－ジイル基、ベンゾチアゾール－ジイル基、ベンゾチアジアゾール－ジイル基、フタルイミド－ジイル基、チエノチアゾール－ジイル基、チアゾロチアゾール－ジイル基、チエノチオフェン－ジイル基、および、チエノオキサゾール－ジイル基などが挙げられる。

　Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。

　式（Ｍ１－Ａ）中、ａ１は１～１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１－Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２は１～１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２以上の整数が好ましく、２がより好ましい。
　式（Ｍ１－Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。

　式（Ｍ１－Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、－Ｏ－、－（ＣＨ₂）_g－、－（ＣＦ₂）_g－、－Ｓｉ（ＣＨ₃）₂－、－（Ｓｉ（ＣＨ₃）₂Ｏ）_g－、－（ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂）_g－（ｇは１～１０の整数を表す。）、－Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）₂－Ｃ（Ｚ’）₂－、－Ｃ（Ｏ）－、－ＯＣ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）－、－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－、－Ｎ＝Ｃ（Ｚ）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）－、－Ｎ（Ｚ”）－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－Ｃ（Ｏ）－Ｓ－、－Ｓ－Ｃ（Ｏ）－Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）－、－Ｃ（Ｚ）＝Ｎ－Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）－（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１～Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｎ＝Ｎ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）（Ｏ）－、－（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ－、－ＳＣ（Ｏ）－、および、－Ｃ（Ｏ）Ｓ－などが挙げられる。なかでも、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。

　Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。

　Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、および、炭素数１～１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、－Ｌ－Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１およびＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
　Ｔ１は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、炭素数１～１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１～５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０－２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
　Ｔ１の主鎖の原子数は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、偏光子の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ－ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ－ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。

　繰り返し単位（１）の含有量は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０～１００質量％が好ましい。
　本発明において、高分子液晶化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
　繰り返し単位（１）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、繰り返し単位（１）が高分子液晶化合物中に２種含まれているのがよい。

　高分子液晶化合物が繰り返し単位（１）を２種含む場合、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
　上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、又は、シアノ基であることがより好ましい。
　高分子液晶化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と高分子液晶化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、５０／５０～９５／５であることが好ましく、６０／４０～９３／７であることがより好ましく、７０／３０～９０／１０であることがさらに好ましい。

　＜繰り返し単位（３－２）＞
　本発明の高分子液晶化合物は、さらに、下記式（３－２）で表される繰り返し単位（本明細書において、「繰り返し単位（３－２）」ともいう。）を含んでいてもよい。これにより、高分子液晶化合物の溶媒に対する溶解性が向上すること、および、液晶相転移温度の調整が容易になることなどの利点がある。
　繰り返し単位（３－２）は、少なくともメソゲン基を有しないという点で、上記繰り返し単位（１）と異なる。
　高分子液晶化合物が繰り返し単位（３－２）を含む場合には、高分子液晶化合物は、繰り返し単位（１）と繰り返し単位（３－２）との共重合体であり（さらに、繰り返し単位Ａ，Ｂを含む共重合体であってもよい）、ブロック重合体、交互重合体、ランダム重合体、および、グラフト重合体など、いずれの重合体であってもよい。

　式（３－２）中、Ｐ３は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ３は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ３はスペーサー基を表し、Ｔ３は末端基を表す。
　式（３－２）におけるＰ３、Ｌ３、ＳＰ３およびＴ３の具体例はそれぞれ、上記式（１）におけるＰ１、Ｌ１、ＳＰ１およびＴ１と同様である。
　ここで、式（３－２）におけるＴ３は、光吸収異方性層の強度が向上する観点から、重合性基を有することが好ましい。

　繰り返し単位（３－２）を含有する場合の含有量は、高分子液晶化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、０．５～４０質量％が好ましく、１～３０質量％がより好ましい。
　繰り返し単位（３－２）は、高分子液晶化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。繰り返し単位（３－２）を２種以上含む場合には、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。

　（重量平均分子量）
　高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、１０００～５０００００が好ましく、２０００～３０００００がより好ましい。高分子液晶化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、高分子液晶化合物の取り扱いが容易になる。
　特に、塗布時のクラック抑制の観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００～３０００００がより好ましい。
　また、配向度の温度ラチチュードの観点から、高分子液晶化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
　ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
　・溶媒（溶離液）：Ｎ－メチルピロリドン
　・装置名：ＴＯＳＯＨＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
　・カラム：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ－Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
　・カラム温度：２５℃
　・試料濃度：０．１質量％
　・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
　・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン　Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

　（含有量）
　本発明においては、液晶化合物の含有量は、光吸収異方性層を形成するための組成物における固形分中の５０～９９質量％となる量であることが好ましく、７０～９６質量％となる量であることがより好ましい。
　ここで、「光吸収異方性層を形成するための組成物における固形分」とは、溶媒を除いた成分をいい、固形分の具体例としては、上記液晶化合物および後述する二色性物質、重合開始剤、界面改良剤などが挙げられる。

　＜二色性物質＞
　光吸収異方性層を形成するための組成物は、二色性物質を含有する。
　二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、紫外線吸収物質、赤外光吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブなどが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
　具体的には、例えば、特開２０１３－２２８７０６号公報の［００６７］～［００７１］段落、特開２０１３－２２７５３２号公報の［０００８］～［００２６］段落、特開２０１３－２０９３６７号公報の［０００８］～［００１５］段落、特開２０１３－１４８８３号公報の［００４５］～［００５８］段落、特開２０１３－１０９０９０号公報の［００１２］～［００２９］段落、特開２０１３－１０１３２８号公報の［０００９］～［００１７］段落、特開２０１３－３７３５３号公報の［００５１］～［００６５］段落、特開２０１２－６３３８７号公報の［００４９］～［００７３］段落、特開平１１－３０５０３６号公報の［００１６］～［００１８］段落、特開２００１－１３３６３０号公報の［０００９］～［００１１］段落、特開２０１１－２１５３３７号公報の［００３０］～［０１６９］、特開２０１０－１０６２４２号公報の［００２１］～［００７５］段落、特開２０１０－２１５８４６号公報の［００１１］～［００２５］段落、特開２０１１－０４８３１１号公報の［００１７］～［００６９］段落、特開２０１１－２１３６１０号公報の［００１３］～［０１３３］段落、特開２０１１－２３７５１３号公報の［００７４］～［０２４６］段落、特開２０１６－００６５０２号公報の［０００５］～［００５１］段落、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］～［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］～［００６２］段落、国際公開第２０１７／１５４８３５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１５４６９５号の［００１４］～［００３３］段落、国際公開第２０１７／１９５８３３号の［００１３］～［００３７］段落、および、国際公開第２０１８／１６４２５２号の［００１４］～［００３４］段落などに記載されたものが挙げられる。

　本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、より広い波長範囲で高い偏光度を得る観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。

　上記二色性物質は、架橋性基を有していてもよい。特に、加熱時の偏光度変化を抑制する観点では、架橋性基を有することが好ましい。
　上記架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　（含有量）
　光吸収異方性層を形成するための組成物の二色性物質の含有量は、二色性物質の配向度がより高くなる理由から、上記液晶化合物１００質量部に対して１～４００質量部であることが好ましく、２～１００質量部であることがより好ましく、５～３０質量部であることが更に好ましい。

　上述した液晶化合物および二色性物質は、そのいずれもが近赤外光に対して吸収を有さないのが好ましい。こうすることで、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証等といった近赤外光を光源に使用した各種センサーに対する光吸収異方性層の影響を最小限に抑えることができる。

　＜界面活性剤＞
　光吸収異方性層を形成するための組成物が含有する界面活性剤は、従来公知の界面活性剤を用いることが可能であるが、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位と、環構造を含む繰り返し単位とを有する共重合体が好ましい。
　以下の説明では、フッ化アルキル基を含む繰り返し単位を『繰り返し単位Ｆ』、環構造を含む繰り返し単位を『繰り返し単位Ｍ』ともいう。

　ハンセンの溶解度パラメータは、ＨＳＰｉＰ（Ｖｅｒ．５．１．０８）に化合物の構造式を入力して算出される値を採用した。分散項δＤは、ファンデルワールス力に起因する項である。
　なお、共重合体においては、各々の繰り返し単位の結合部を水素原子に置き換えた構造式でδＤおよび体積を計算し、体積比で平均した値を採用している。
　液晶化合物を配向させるために８０℃～１４０℃の高温熟成が必要であり、高温熟成時に組成物の粘度が下がりハジキ故障が生じることがある。
　発明者らが検討した結果、界面活性剤のδＤとハジキ故障との間に相関があることが明らかになった。具体的には、界面活性剤のδＤが１５．５以上１７．５以下が好ましく、１５．８以上１７．０以下がより好ましい。

　（繰り返し単位Ｆ）
　上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ａ）で表される繰り返し単位であることが好ましい。

　上記式（ａ）中、Ｒ^a1は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^a2は、少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基もしくは炭素数２～２０のアルケニル基を表す。

　上記式（ａ）中、Ｒ^a2は、得られる光吸収異方性層の配向欠陥がより抑制される理由から、少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～１０のアルキル基もしくは炭素数２～１０のアルケニレン基が好ましく、炭素数１～１０のアルキル基であることがより好ましく、Ｒ^a2に含まれる半数以上の炭素原子がフッ素原子を置換基として有することが特に好ましい。

　本発明においては、上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆは、下記式（ｂ）で表される繰り返し単位であることがより好ましい。

　上記式（ｂ）中、Ｒ^a1は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、ｍａおよびｎａは、それぞれ独立に０以上の整数を表し、Ｘは、水素原子またはフッ素原子を表す。
　ここで、ｍａは、１以上１０以下の整数であることが好ましく、ｎａは、４以上１２以下が好ましい。

　上記共重合体が有する繰り返し単位Ｆを形成する単量体（以下、「フルオロアルキル基含有モノマー」ともいう）としては、具体的には、例えば、２，２，２－トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）エチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ヘキサデカフルオロノニル（メタ）アクリレート、１Ｈ－１－（トリフオロメチル）トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ－ヘキサフルオロブチル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロブチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－３－メチルブチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－（パーフルオロ－５－メチルヘキシル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、および、３－（パーフルオロ－７－メチルオクチル）－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

　本発明において、フルオロアルキル基含有モノマーを共重合させる割合は、反応性および表面改質効果等の観点から、後述するメソゲン基を有するモノマー１モルに対して、０．０１～１００モルであることが好ましく、０．１～５０モルであることがより好ましく、１～３０モルであることが更に好ましい。

　（繰り返し単位Ｍ）
　上記共重合体が有する繰り返し単位Ｍは、環構造を含む単位であればよい。
　環構造とは、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および、脂環式基からなる群から選択される少なくとも１種の環構造を表す。配向欠陥を抑制する観点からは２個以上の環構造を有することが好ましい。

　上記式（ｃ）中、Ｒ^a1は、水素原子または炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌ４、Ｌ５は単結合または炭素数１～８のアルキレン基を表し、Ｇ１、Ｇ２は２価の環状基を表し、Ｔ１は末端基を表す。ｎは、０～４の整数を表す。

　Ｌ４、Ｌ５が表すアルキレン基については、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ₂－は、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ³¹－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｓ）－、－ＣＲ³²＝ＣＲ³²－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＳｉＲ³³Ｒ³⁴－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ³⁵＝Ｎ－Ｎ＝ＣＲ³⁶－、－ＣＲ³⁷＝Ｎ－、および、－ＳＯ₂－からなる群より選択される少なくとも一種の基によって置き換えられていてもよく、Ｒ³¹～Ｒ³⁷は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、または、炭素数１～１０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。
　また、Ｌが、アルキレン基を表す場合、アルキレン基を構成する１個以上の－ＣＨ₂－に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、炭素数１～１０の直鎖状のアルキル基および炭素数１～１０の分岐状のアルキル基からなる群より選択される少なくとも１種の基によって置き換えられていてもよい。
　中でも、Ｌ４については炭素数４～６で末端が酸素のアルキレンオキシ基が好ましく、Ｌ５については、エステル基が最も好ましい。

　Ｇ１およびＧ２が表す２価の環状基は、それぞれ独立に、炭素数５～８の２価の脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基を構成する－ＣＨ_２－の１個以上が－Ｏ－、－Ｓ－または－ＮＨ－で置換されていてもよい。さらに、脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基は複数が単結合していても良い。中でも、ベンゼン環が好ましい。

　Ｔ４が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基、炭素数１～１０のアルコキシ基、炭素数１～１０のアルキルチオ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）－：Ｒはアルキル基）、炭素数１～１０のアシルオキシ基、炭素数１～１０のアシルアミノ基、炭素数１～１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１～１０のスルホニルアミノ基、炭素数１～１０のスルファモイル基、炭素数１～１０のカルバモイル基、炭素数１～１０のスルフィニル基、炭素数１～１０のウレイド基、および、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。中でも、水素原子、および、シアノ基が最も好ましい。

　繰り返し単位Ｆの全体に対するモル比は、配向度の観点から５０モル％以上が好ましく、ハジキの観点から、７０モル％以下が好ましい。

　（含有量）
　本発明においては、上述した界面活性剤の含有量は、得られる光吸収異方性層の配向度がより高くなる理由から、上記液晶化合物１００質量部に対して０．０５～１５質量部であることが好ましく、０．０８～１０質量部であることがより好ましく、０．１～５質量部であることが更に好ましい。

　＜重合開始剤＞
　光吸収異方性層を形成するための組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
　重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物(特開２０１６－２７３８４号公報の［００６５］)、ならびに、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）などが挙げられる。
　このような光重合開始剤は、市販品も用いることができる。市販品の光重合開始剤としては、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア－１８４、イルガキュア－９０７、イルガキュア－３６９、イルガキュア－６５１、イルガキュア－８１９、イルガキュア－ＯＸＥ－０１、および、イルガキュア－ＯＸＥ－０２等が挙げられる。

　光吸収異方性層を形成するための組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、光吸収異方性層を形成するための組成物中の上記二色性物質と上記高分子液晶化合物との合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましく、０．１～１５質量部がより好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、光吸収異方性膜の耐久性が良好となり、３０質量部以下であることで、光吸収異方性膜の配向度がより良好となる。
　重合開始剤は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。重合開始剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

　＜溶媒＞
　本発明の光吸収異方性層を形成するための組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有することが好ましい。
　溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２－ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペタンタノンおよびシクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、２－メチルテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピランおよびジオキソランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびトリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼンおよびクロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルおよび乳酸エチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、イソペンチルアルコール、ネオペンチルアルコール、ジアセトンアルコールおよびベンジルアルコールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２－ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンおよびＮ－エチルピロリドンなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水等が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　これらの溶媒のうち、溶解性に優れるという効果を活かす観点から、ケトン類（特にシクロペンタノンおよびシクロヘキサノン）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロピランおよびジオキソラン）、ならびに、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドンおよびＮ－エチルピロリドン）が好ましい。

　光吸収異方性層を形成するための組成物が溶媒を含有する場合、溶媒の含有量は、光吸収異方性層を形成するための組成物の全質量に対して、８０～９９質量％であることが好ましく、８３～９７質量％であることがより好ましく、８５～９５質量％であることが特に好ましい。
　溶媒は、１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。溶媒を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

　＜光吸収異方性層の形成方法＞
　光吸収異方性層の形成方法は特に限定されず、上述した光吸収異方性層を形成するための組成物を上述した光配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程と、塗布膜に含まれる液晶成分および二色性物質を配向させる工程と、をこの順に含む方法が挙げられる。以下の説明では、上述の塗布膜を形成する工程を『塗布膜形成工程』、液晶成分および二色性物質を配向させる工程を『配向工程』ともいう。
　なお、液晶成分とは、上述した液晶化合物だけでなく、上述した二色性物質が液晶性を有している場合は、液晶性を有する二色性物質も含む成分である。

　（塗布膜形成工程）
　塗布膜形成工程は、光吸収異方性層を形成するための組成物を光配向層上に塗布して塗布膜を形成する工程である。
　上述した溶媒を含有する光吸収異方性層を形成するための組成物を用いたり、光吸収異方性層を形成するための組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、光配向層上に光吸収異方性層を形成するための組成物を塗布することが容易になる。
　光吸収異方性層を形成するための組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

　（配向工程）
　配向工程は、塗布膜に含まれる液晶成分を配向させる工程である。これにより、光吸収異方性層が得られる。
　配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
　ここで、光吸収異方性層を形成するための組成物に含まれる液晶成分は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、光吸収異方性層を形成するための組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光吸収異方性を持つ塗布膜（すなわち、光吸収異方性膜）が得られる。
　乾燥処理が、塗布膜に含まれる液晶成分の液晶相への転移温度以上の温度で行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

　塗布膜に含まれる液晶成分の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

　配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶成分を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光吸収異方性膜として好適に使用できる。
　加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒が好ましく、１～６０秒がより好ましい。

　配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０～２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含まれる液晶成分の配向を固定することができる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
　以上の工程によって、光吸収異方性膜を得ることができる。
　なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに限定されず、公知の配向処理によって実施できる。

　（他の工程）
　光吸収異方性層の形成方法は、上記配向工程後に、光吸収異方性層を硬化させる工程を有していてもよい。以下の説明では、この工程を『硬化工程』ともいう。
　硬化工程は、例えば、光吸収異方性層が架橋性基（重合性基）を有している場合には、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
　硬化に用いる光は、赤外光、可視光、および、紫外線など、種々の光を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
　光照射を加熱しながら行う場合、光照射時の加熱温度は、液晶膜に含まれる液晶成分の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１０℃であることが好ましい。
　また、光照射は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって液晶膜の硬化が進行する場合には、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で光照射することが好ましい。

［その他の機能層］
　本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子、位相差層、および直線偏光子に加え、その他の機能層を有していてもよい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証等といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、その他機能性層は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

　＜ポジティブＣプレート＞
　本発明の積層光学フィルムは、さらにポジティブＣプレートを有することも好ましい。　ここで、ポジティブＣプレートとは、面内レタデーションＲｅが実質的にゼロであり、厚さ方向のレタデーションＲｔｈが負の値を有する位相差層である。
　ポジティブＣプレートは、例えば、棒状液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７－１８７７３２号公報、特開２０１６－５３７０９号公報、および、特開２０１５－２００８６１号公報などの記載を参酌できる。
　ポジティブＣプレートは、斜めから入射した光に対して、透過光および反射光の偏光度を高めるための、光学補償層として機能する。ポジティブＣプレートは、積層光学フィルムの任意の場所に設置することができ、１枚でも、複数が設置されていてもよい。

　ポジティブＣプレートは、反射円偏光子に隣接して配置してもよく、反射円偏光子の内部に配置してもよい。
　反射円偏光子として、例えば棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層を用いた場合、光反射層は正の厚さ方向のレタデーションＲｔｈを有する。このとき、反射円偏光子に対して斜め方向から光が入射した場合、レタデーションＲｔｈの作用により反射光および透過光の偏光状態が変化し、反射光および透過光の偏光度が低下することがある。
　これに対して、反射円偏光子の内部および／または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化を抑制し、反射光および透過光の偏光度の低下を抑制できるため、好ましい。
　本発明者らの検討によれば、ポジティブＣプレートは、青色光反射層に対して緑色反射層とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。この場合のポジティブＣプレートは、面内レタデーションＲｅが、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈが、－６００ｎｍ～－１００ｎｍであることが好ましく、－４００ｎｍ～－２００ｎｍであることがより好ましい。

　また、ポジティブＣプレートは、位相差層に隣接して配置してもよく、位相差層の内部に配置してもよい。
　位相差層として、例えば棒状液晶化合物を固定化してなる層を用いた場合、位相差層は正の厚さ方向のレタデーションＲｔｈを有する。このとき、位相差層に対して斜め方向から光が入射した場合、厚さ方向のレタデーションＲｔｈの作用により透過光の偏光状態が変化し、透過光の偏光度が低下することがある。
　これに対して、位相差層の内部および／または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化を抑制し、透過光の偏光度の低下を抑制できるため、好ましい。
　本発明者らの検討によれば、ポジティブＣプレートは位相差層に対して直線偏光子とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。この場合のポジティブＣプレートは、面内レタデーションＲｅが、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈが、－９０ｎｍ～－４０ｎｍであることが好ましい。

　さらに、ポジティブＣプレートは、上述した位相差層および直線偏光子等と同様の支持体を有してもよい。

　＜反射防止層＞
　本発明の積層光学フィルムは、表面に反射防止層を有することも好ましい。
　本発明の積層光学フィルムは、特定の円偏光を反射し、それと直交する円偏光を透過する機能を有するが、積層光学フィルムの表面における反射は、一般的に意図しない偏光の反射を含み、それにより透過光および反射光の偏光度を低下させる。そのため、積層光学フィルムは表面に反射防止層を有することが好ましい。
　反射防止層は、積層光学フィルムの一方の表面にのみ設置されてもよいし、両面に設置されてもよい。
　反射防止層の種類は特に制限されないが、より反射率を低下させる観点から、モスアイフィルム、および、ＡＲフィルム等が好ましい。また、積層光学フィルムを延伸したり、成形したりする場合には、延伸により膜厚が変動しても高い反射防止性能を維持できることから、モスアイフィルムが好ましい。一方、反射防止層の表面に汚れが付着した場合のふき取り性の良さ、および、表面の微細構造が壊れる等、取り扱い上の困難さが少ないという観点からは、ＡＲフィルムが好ましい。
　さらに、反射防止層が支持体を含むものであって、延伸および成形等を行う場合には、延伸および成形等を容易にする観点から、該支持体はＴｇのピーク温度が１７０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがさらに好ましい。具体的には、例えば、ＰＭＭＡフィルム等が好ましい。

　＜第２の位相差層＞
　本発明の積層光学フィルムは、さらに第２の位相差層を有することも好ましい。例えば、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子、位相差層、直線偏光子、および、第２の位相差層を、この順で含んでいてもよい。
　第２の位相差層は、直線偏光を円偏光に変換するものであることが好ましく、たとえば、１／４波長の面内レタデーションＲｅを有する位相差層が好ましい。その理由を、以下で説明する。
　積層光学フィルムに対し反射円偏光子の側から入射し、反射円偏光子、位相差層および直線偏光子を透過した光は、直線偏光となっており、その一部は直線偏光子の側の最表面で反射されて、再び反射円偏光子の側の表面から出射する。このような光は余計な反射光であり、反射光の偏光度を低下させる要因になり得るため、低減することが好ましい。そこで、直線偏光子の側の最表面での反射を抑制するため、反射防止層を積層する方法もあるが、積層光学フィルムがガラスおよびプラスチック等の媒体に貼合されて用いられる場合、積層光学フィルムの貼合面に反射防止層を有していても、媒体の表面における反射を抑止することはできないため、反射防止効果が得られない。
　一方、直線偏光を円偏光に変換する第２の位相差層を設置した場合には、直線偏光子の側の最表面に到達した光は円偏光となり、媒体の最表面で反射した際に直交する円偏光に変換される。その後、再び第２の位相差層を透過し、直線偏光子に到達したとき、光は直線偏光子の吸収軸方位の直線偏光となっており、直線偏光子で吸収される。従って、余計な反射を防止することができる。
　余計な反射をより効果的に抑制する観点から、第２の位相差層は、実質的に逆分散性を有していることが好ましい。

　＜支持体＞
　本発明の積層光学フィルムは、さらに支持体を有していてもよい。
　支持体は任意の場所に設置することができる。
　支持体は、上述した、本発明の積層光学フィルムを構成する反射円偏光子、位相差層、直線偏光子、ポジティブＣプレート、および、反射防止層等の各層を構成する支持体であってもよく、あるいは、別途、積層光学フィルムを支持するために追加したものであってもよい。
　また、例えば、反射円偏光子、位相差層、直線偏光子、ポジティブＣプレート、および、反射防止層等の１以上が、仮支持体から転写して用いるフィルムである場合、その転写先として支持体を用いることができる。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、および、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレート等が好ましい。また、支持体は、市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム（株）製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等）などを利用することもできる。
　また、支持体は、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点、および、積層光学フィルムの光学検査を容易にする観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、Ｒｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。

　本発明の積層光学フィルムが、組み合わされるレンズの形状に応じた成型など、延伸および成形等を行うものである場合、支持体は、ｔａｎδ（損失正接（損失係数））のピーク温度が１７０℃以下であることが好ましい。
　低温で成形が可能となる観点では、支持体は、ｔａｎδのピーク温度が１５０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがさらに好ましい。

　上述のように、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子の光反射層としてコレステリック液晶層を有することにより、反射円偏光子が光学軸を有さないため、延伸および成形等による偏光度の低下が生じにくい。
　また、本発明の積層光学フィルムは、好ましい態様として、反射円偏光子が、光反射層として、棒状液晶化合物からなるコレステリック液晶層と、円盤状化合物からなるコレステリック液晶層とを有することで、反射光および透過光の偏光度を向上できる。
　さらに、本発明の積層光学フィルムは、好ましい態様として、ポジティブＣプレートを有することにより、同様に、反射光および透過光の偏光度を向上できる。

　一般的に光学用途においては、延伸処理がなされた樹脂基材を使用することが多く、延伸処理によって、ｔａｎδのピーク温度は高温になることが多い。例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材（例えば、富士フイルム（株）製、ＴＧ４０）は、ｔａｎδのピーク温度は１８０℃以上となる。
　ここで、積層光学フィルムが延伸および成形等を行うものである場合には、支持体のＴｇ（ガラス転移温度）よりも高い温度に加熱して、成形等を行う必要がある。この際において、成型のための加熱温度が高いと、積層光学フィルムを構成する各層、特に、位相差層および直線偏光子が劣化する可能性がある。
　例えば、位相差層が劣化すると、円偏光から直線偏光への変換、および、直線偏光から円偏光への変換を適正に行うことができなくなる。また、直線偏光子が劣化すると、本来は透過するべきではない方向の直線偏光が透過してしまう。
　その結果、積層光学フィルムで反射および透過される光の偏光度が低下して、漏れ光が生じてしまい、ゴーストおよび迷光が生じる。

　これに対して、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の支持体を用いることにより、比較的、低い温度で積層光学フィルムの成形等を行うことが可能になり、位相差層および直線偏光子等の劣化を防止できる。
　すなわち、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の支持体を用いることにより、積層光学フィルムの延伸および成形等を行った場合にも、反射光および透過光の高い偏光度を保つことが可能になる。

　ここで、ｔａｎδの測定方法について記載する。
　動的粘弾性測定装置（アイティー計測制御（株）製、ＤＶＡ－２００）を用いて、あらかじめ温度２５℃湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿したフィルム試料について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”/Ｅ’）を求める値とする。
　装置:アイティー計測制御（株）製　ＤＶＡ－２００
　試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
　測定条件:引張りモード
　測定温度:－１５０℃～２２０℃
　昇温条件:５℃/ｍｉｎ
　周波数:１Ｈｚ

　ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である支持体は、特に制限はなく、様々な樹脂基材が使用可能である。
　例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステルおよびポリアクリル酸エステル等のアクリル系樹脂；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシド；が挙げられる。
　中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、好ましくは、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートおよびアクリル系樹脂等が例示され、特に好ましくは、環状オレフィン系樹脂およびポリメタクリル酸エステル等が例示される。
　また、光学積層フィルムの耐久性の観点から、支持体のｔａｎδのピーク温度は８０℃以上が好ましい。

　市販の樹脂基材としては、テクノロイＳ００１Ｇ、テクノロイＳ０１４Ｇ、テクノロイＳ０００、テクノロイＣ００１およびテクノロイＣ０００（住化アクリル販売（株））、ルミラーＵタイプ、ルミラーＦＸ１０およびルミラーＳＦ２０（東レ（株））、ＨＫ－５３Ａ（東山フィルム（株））、テフレックスＦＴ３（帝人デュポンフィルム（株））、エスシーナおよびＳＣＡ４０（積水化学工業（株））、ゼオノアフィルム（オプテス（株））、ならびに、アートンフィルム（ＪＳＲ（株））などが挙げられる。

　支持体の厚さは特に制限されないが、５～３００μｍが好ましく、５～１００μｍがより好ましく、５～３０μｍがさらに好ましい。

　上述のように、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子、位相差層および直線偏光子を、この順番で有するものであり、画像入射面、すなわち、反射円偏光子に対して、直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である。
　本発明の積層光学フィルムは、画像入射面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下とすることにより、仮想現実表示装置等の画像表示装置に用いられた場合に、鮮鋭度の高い画像を表示することが可能になるのも、上述のとおりである。

　ここで、上述のように、画像入射面の表面粗さＲａは、積層光学フィルムを構成する各層の凹凸が重畳されたものであるが、中でも、積層光学フィルムが支持体を有する場合には、支持体の凹凸が、画像入射面の表面粗さＲａに大きく影響する。すなわち、本発明の積層光学フィルムにおいては、凹凸の少ない支持体を用いることにより、好適に画像入射面の表面粗さＲａを１００ｎｍ以下にすることができる。
　そのため、本発明の積層光学フィルムが支持体を有する場合には、支持体の表面粗さＲａが小さい方が好ましい。具体的には、支持体の表面粗さＲａは、５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がさらに好ましい。

　本発明の積層光学フィルムは、複数の支持体を有してもよい。しかしながら、上述のように、画像入射面の表面粗さＲａを考慮すると、支持体の数は、少ない方が好ましく、２層以下が好ましく、特に、１層が好ましい。
　また、同様の理由で、本発明の積層光学フィルムは、フィルム全体を支持可能であれば、支持体を有さないのも好ましい。

［各層の接着方法］
　本発明の積層光学フィルムは、多数の層からなる積層体である。各層は任意の貼着方法で貼着することができる。各層を貼着する貼着層には、例えば、粘着剤および接着剤等を用いることができる。
　粘着剤としては、市販の粘着剤を任意に用いることができる。
　粘着剤の厚さは、積層光学フィルムの薄型化の観点、および、積層光学フィルムの画像入射面の表面粗さＲａを低減する観点から、２５μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、６μｍ以下がさらに好ましい。また、粘着剤は、アウトガスが生じにくいものであることが好ましい。特に、延伸および成形等を行う場合、真空プロセスおよび加熱プロセス等を経る場合があるが、それらの条件においてもアウトガスが出ないことが好ましい。
　接着剤としては、市販の接着剤等を任意に用いることができ、たとえば、エポキシ樹脂系の接着剤、および、アクリル樹脂系の接着剤等を用いることができる。
　接着剤の厚さは、積層光学フィルムの薄型化の観点、および、積層光学フィルムの画像入射面の表面粗さＲａを低減する観点から、２５μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下がさらに好ましい。また、接着剤の粘度は、接着剤層を薄くする観点、および、被着体に対し接着剤を均一な厚さで塗布する観点から、３００ｃＰ以下が好ましく、１００ｃＰ以下がより好ましく、１０ｃＰ以下がさらに好ましい。

　また、被着体が表面凹凸を有している場合には、粘着剤および接着剤は、積層光学フィルムの表面粗さＲａを低減する観点から、貼着する層の表面凹凸を包埋できるよう、適切な粘弾性または厚さを選択することもできる。表面凹凸を包埋する観点からは、粘着剤および接着剤は、粘度が５０ｃＰ以上であることが好ましい。また、厚さは、表面凹凸の高さよりも厚いことが好ましい。
　接着剤および粘着剤の粘度を調整する方法としては、例えば、溶剤を含む接着剤および粘着剤を用いる方法が挙げられる。この場合、溶剤の比率によって接着剤の粘度を調整することができる。また、接着剤を被着体に塗布した後、溶剤を乾燥させることで、接着剤の厚さをより低減することができる。

　積層光学フィルムにおいて、余計な反射を低減し、透過光および反射光の偏光度の低下を抑制する観点からは、各層の貼着に用いる粘着剤および接着剤は、隣接する層との屈折率差が小さいことが好ましい。具体的には、粘着剤および接着剤と、隣接する層との屈折率差は、０．０５以下が好ましく、０．０１以下がより好ましい。粘着剤および接着剤の屈折率は、例えば、酸化チタンの微粒子およびジルコニアの微粒子等を混合し、調整することができる。
　また、反射円偏光子、位相差層および直線偏光子は、面内において屈折率の異方性を有するが、面内における全ての方向において、隣接する層との屈折率差が０．０５以下であることが好ましい。そのため、粘着剤および接着剤は、面内に屈折率異方性を有するものであってもよい。

　また、各層の間の貼着層は、厚さが１００ｎｍ以下であることも好ましい。
　貼着層の厚さが１００ｎｍ以下であると、可視域の光は屈折率差を感じず、余計な反射を抑制することができる。貼着層の厚さは、５０ｎｍ以下がより好ましい。
　厚さが１００ｎｍ以下の貼着層を形成する方法としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ層）などのセラミック接着剤を貼着面に蒸着する方法があげられる。貼着部材の貼着面は、貼着前にプラズマ処理、コロナ処理および鹸化処理等の表面改質処理を施す事、および、プライマー層を付与する事等ができる。また、貼着面が複数ある場合は、貼着面毎に貼着層の種類および厚さ等を調整する事ができる。
　具体的には、例えば、以下（１）～（３）に示す手順で、厚さが１００ｎｍ以下である貼着層を設けることができる。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合する。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、蒸着等により、厚さ１００ｎｍ以下のＳｉＯｘ層を形成する。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、例えばアルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）等を用いて行うことができる。また、形成したＳｉＯｘ層の表面にプラズマ処理を施しておく事が好ましい。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を貼合した後、仮支持体を剥離する。貼着は、例えば、１２０℃の温度で実施する事が好ましい。

　各層への接着剤および粘着剤の塗布、ＳｉＯｘ層などの貼着層の形成、および、貼着等は、ロール・トウ・ロールで行ってもよいし、枚葉で行ってもよい。
　ロール・トウ・ロール方式は、生産性を向上したり、各層の軸ずれを低減したりする観点で好ましい。
　一方、枚葉方式は、少量、多品種生産に適していること、および、上述した、貼着層の厚さが１００ｎｍ以下であるような、特殊な貼着方法を選択できる点で、好ましい。
　また、接着剤および粘着剤を被着体に塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

［各層の直接塗布］
　本発明の積層光学フィルムの各層の間には、貼着層を有さないことも好ましい。層を形成する際、すでに形成されている隣接層の上に直接塗布を行うことで、貼着層をなくすことができる。
　さらに、隣接する層の一方、または両方が液晶化合物を含む層である場合、面内の全ての方向で屈折率差を小さくするために、液晶化合物の配向方向が界面で連続的に変化するようにすることが好ましい。例えば、液晶化合物と二色性物質とを含有する直線偏光子に対して、液晶化合物を含有する位相差層の形成組成物を直接塗布し、直線偏光子の液晶化合物による配向規制力によって、位相差層の液晶化合物の配向方向が、界面で直線偏光子と連続的になるように配向させることもできる。

［各層の積層の順序］
　本発明の積層光学フィルムは多数の層からなるが、それらを積層する工程の順序には特に制限がなく、任意に選択することができる。
　例えば、仮支持体と機能層からなるフィルムから、機能層を転写する場合には、転写先のフィルムの厚さが１０μｍ以上になるように積層順序を調整することで、転写時のシワおよびクラック等の発生を防止することができる。
　また、表面凹凸が大きい層の上に別の層を積層した場合、表面凹凸がさらに増幅される場合があるため、積層光学フィルムの画像入射面の表面粗さＲａを低減する観点からは、表面粗さＲａが小さい層から順に積層していくことが好ましい。
　さらに、積層光学フィルムの作製工程における品質評価の観点から、積層の順序を選択することもできる。例えば、反射円偏光子を除く層を積層し、透過光学系による品質評価を実施した後に、反射円偏光子を積層し、反射光学系での品質評価を実施することができる。
　また、積層光学フィルムの製造歩留まりを向上させたり、コストを低減したりする観点から、積層の順序を選択することもできる。

［本発明の積層光学フィルムの応用］
　本発明の積層光学フィルムは、例えば、特許文献４～６に記載されるように、車載用ルームミラー、仮想現実表示装置、拡張現実表示装置、複合現実表示装置、電子ファインダー、および、空中像表示装置等の画像表示装置に組み込む反射偏光子として好適に用いることができる。
　特に、反射偏光子とハーフミラーとの間で光を反射させて往復させる、往復光学系を有する仮想現実表示装置および電子ファインダー等においては、本発明の積層光学フィルムは、表示画像の鮮明性を向上させる観点で、非常に有用である。また、往復光学系を有する仮想現実表示装置および電子ファインダー等は、反射偏光子の他にも、吸収型偏光子および円偏光子等の光学フィルムを有する場合があるが、本発明の積層光学フィルムに用いる部材および接着方法等の一部を、上述の反射偏光子以外の光学フィルムにも用いる事で、表示画像の鮮明性をさらに向上させることができる。

　以下に実施例を挙げて、本発明の特徴をさらに具体的に説明する。なお、以下に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。また、本発明の趣旨を逸脱しない限り、以下に示す構成以外の構成とすることもできる。

［反射円偏光子１の作製］
　仮支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東洋紡（株）製、Ａ４１００）を用意した。このＰＥＴフィルムは、一方の面に易接着層を有する。

　下記に示す組成物を、７０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、光反射層用塗布液Ｃｈ－Ａ、Ｃｈ－Ｂ、および、Ｃｈ－Ｃを、それぞれ調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　光反射層用塗布液Ｃｈ－Ａ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　１２０．９質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　２１．３質量部
・下記の棒状液晶化合物の混合物　　　　　　　　　　１００．０質量部
・光重合開始剤Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
・下記のカイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　２．５０質量部
・下記の界面活性剤　Ｆ１　　　　　　　　　　　　　０．０２７質量部
・下記の界面活性剤　Ｆ２　　　　　　　　　　　　　０．０６７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（光反射層用塗布液Ｃｈ－Ｂ）
　カイラル剤Ａを３．５０質量部とした以外は、光反射層用塗布液Ｃｈ－Ａと同様に調製した。

（光反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃ）
　カイラル剤Ａを４．５０質量部とした以外は、光反射層用塗布液Ｃｈ－Ａと同様に調製した。

　棒状液晶化合物の混合物

　上記混合物において、数値は質量％である。また、Ｒは酸素原子で結合する基である。さらに、上記の棒状液晶化合物の波長３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数は、１４０／ｍｏｌ・ｃｍであった。

　カイラル剤Ａ

　界面活性剤Ｆ１

　界面活性剤Ｆ２

　光重合開始剤Ｂ

　カイラル剤Ａは、光によって螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）が減少するカイラル剤である。

　先に示したＰＥＴフィルム（仮支持体）の易接着層が無い面をラビング処理し、上記で調製した光反射層用塗布液Ｃｈ－Ａを＃８のワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥した。
　その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層からなる赤色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。

　塗布液をＣｈ－Ｂとした以外は、赤色光反射層と同様の手順で、ＰＥＴフィルム（仮支持体）にコレステリック液晶層からなる緑色光反射層を作製した。

　塗布液をＣｈ－Ｃとした以外は、赤色光反射層と同様の手順で、ＰＥＴフィルム（仮支持体）にコレステリック液晶層からなる青色光反射層を作製した。

　作製した赤色光反射層、緑色光反射層、および、青色光反射層の断面をＳＥＭを用いて観察したところ、いずれも明部と暗部の縞模様が観察された。その際、コレステリック液晶層の明部と暗部との縞模様の間隔は、層内で変化がなかった。

　また、赤色光反射層、緑色光反射層、および青色光反射層のコレステリック液晶層の厚さは、それぞれ４μｍであった。
　なお、反射円偏光子１において、赤色光反射層、緑色光反射層、および、青色光反射層は、いずれも、棒状液晶化合物からなるコレステリック液晶層である。

　また、赤色光反射層、緑色光反射層、および青色光反射層の仮支持体側の表面粗さＲａは、いずれも２０ｎｍ以下であった。
　なお、表面粗さＲａ（算術平均粗さＲａ）の測定は、非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ(（株）菱化システム製)を用いて行った。具体的には、測定するフィルムの測定面とは反対側の面を、平滑なガラス基材に対し厚さ５ｕｍの粘着剤で貼合し、表面凹凸を測定した。表面粗さＲａは、およそ４ｍｍ角の範囲の凹凸データから算出した。この際、ガラス基材はイーグルＸＧ（厚さ０．７μｍ、コーニング社製）を、粘着剤はＮＣＦ－Ｄ６９２（厚さ５μｍ、リンテック社製）を使用した。この点に関しては、以下の表面粗さＲａの測定も同様である。

［反射円偏光子２の作製］
（光反射層用塗布液Ｃｈ－Ｄ）
　下記に示す組成物を、５０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、光反射層用塗布液Ｃｈ－Ｄを調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光反射層用塗布液Ｃｈ－Ｄ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記の円盤状液晶化合物（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　２０質量部
・重合性モノマーＥ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・界面活性剤Ｆ４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７）　　　３質量部
・カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．３０質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２９０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　円盤状液晶化合物（Ａ）

　円盤状液晶化合物（Ｂ）

　重合性モノマーＥ１

　界面活性剤Ｆ４

　先に示したＰＥＴフィルム（仮支持体）の易接着層が無い面をラビング処理し、上記で調製した光反射層用塗布液Ｃｈ－Ｃをワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射することで、コレステリック液晶層からなる青色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。

　次に、青色光反射層上に、光反射層用塗布液Ｃｈ－Ａをワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射することで、青色光反射層上にコレステリック液晶層からなる赤色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。

　次に、赤色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行い、コロナ処理を行った面に光反射層用塗布液Ｃｈ－Ｄをワイヤーバーで塗布した。
　続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ²）して、赤色光反射層上にコレステリック液晶層からなる緑色光反射層を作製した。

　作製した積層フィルムの断面をＳＥＭを用いて観察したところ、明部と暗部の縞模様が観察された。その際、ＰＥＴフィルム（仮支持体）側から青色光反射層に対応する一定の縞模様間隔の層が２．９μｍ、赤色光反射層に対応する一定の縞模様間隔の層が３．９μｍ、緑色光反射層に対応する一定の縞模様間隔の層が４．８μｍ観察された。
　なお、反射円偏光子２において、赤色光反射層および青色光反射層は、いずれも、棒状液晶化合物からなるコレステリック液晶層であり、緑色光反射層は、円盤状液晶化合物からなるコレステリック液晶層である。

　また、作製した積層フィルムの仮支持体側の表面粗さＲａは、２０ｎｍ以下であった。

［ポジティブＣプレート１の作製］
　特開２０１６－０５３７０９号公報の段落０１３２～０１３４に記載の方法を参照し、膜厚を調整して、ポジティブＣプレート１を作製した。ただし、支持体は、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）からトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）に変更した。
　このＴＡＣフィルムの液晶層側の表面粗さＲａは、２２ｎｍであった。
　ポジティブＣプレート１は、面内レタデーションＲｅ＝０．２ｎｍ、厚さ方向のレタデーションＲｔｈ＝－３１０ｎｍであった。

［位相差層１の作製］
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、仮支持体となるセルロースアシレートフィルムに逆分散性の位相差層１を作製した。
　位相差層１は、面内レタデーションＲｅ＝１４６ｎｍ、厚さ方向のレタデーションＲｔｈ＝７３ｎｍであった。

［ポジティブＣプレート２の作製］
　膜厚を調整した以外は、ポジティブＣプレート１と同様にして、ポジティブＣプレート２を作製した。なお、ポジティブＣプレート１の作製では、支持体としてＴＡＣフィルムを用いたが、ポジティブＣプレート２の作製では、仮支持体としてＰＥＴフィルムを用いた。
　ポジティブＣプレート２は、面内レタデーションＲｅ＝０．１ｎｍ、厚さ方向のレタデーションＲｔｈ＝－７０ｎｍであった。

［直線偏光子１の作製］

＜セルロースアシレートフィルム１の作製＞
　（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　化合物Ｆ

　（外層セルロースアシレートドープの作製）
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２、日本アエロジル（株）製）　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚さ４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レタデーションは０ｎｍであった。

　＜光配向膜１の作製＞

　後述する配向層形成用塗布液ＰＡ１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１（仮支持体）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成し、光配向膜１を得た。
膜厚は０．３μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記記重合体ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ-1　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　０．００５質量部
・キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　１２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　重合体ＰＡ－１

　酸発生剤ＰＡＧ－１

　酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

　＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
　得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層を形成するための組成物Ｐ１をワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布層Ｐ１を形成した。
　次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。
　次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ²の照射条件で２秒間照射することにより、配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を形成して、直線偏光子１を作製した。
　光吸収異方性層Ｐ１の膜厚は１．６μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層を形成するための組成物Ｐ１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．５９質量部
・下記高分子液晶化合物Ｐ－１　　　　　　　　　　　　２．２１質量部
・下記低分子液晶化合物Ｍ－１　　　　　　　　　　　　１．３６質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製）　　０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　二色性物質Ｄ－１

　二色性物質Ｄ－２

　二色性物質Ｄ－３

　高分子液晶化合物Ｐ－１

　低分子液晶化合物Ｍ－１

　界面活性剤Ｆ－１

［直線偏光子２の作製］
　特開２０１５－１２９８２６号公報の実施例に記載されている樹脂基材付きの薄型偏光膜の作製法を参照し、仮支持体となるＰＥＴフィルム上に、厚さ４μｍのＰＶＡ層を含む直線偏光子２を形成した。

［位相差層２の作製］
　特開２０２０－７６９６８号公報の段落０１０８～０１０９に記載の方法を参照し、ポリカーボネート系樹脂からなり、波長に対して逆分散性を有する位相差層２を作製した。
　なお、位相差層２のＲｅは１４０ｎｍであった。

［実施例１］
　作製したポジティブＣプレート１の支持体（ＴＡＣ）に、反射円偏光子１で作製した各光反射層を、支持体側から青色光反射層、緑色光反射層および赤色光反射層の順となるように転写して、積層した。
　なお、各光反射層の転写は、以下の手順により行った。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合し、光反射層の形成に用いた仮支持体（ＰＥＴフィルム）を剥離した。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、厚さ５０ｎｍのＳｉＯｘ層を蒸着した。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、アルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）を用いて行った。その後、形成したＳｉＯｘ層の表面をプラズマ処理した。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を１２０℃で貼合した後、仮支持体（ガラス基材）を剥離した。
　次に、赤色光反射層に対し、上述と同様の手順（１）～（３）にて、ポジティブＣプレート２を積層した。
　次に、ポジティブＣプレート２に対し、上述と同様の手順（１）～（３）にて、位相差層１を積層した。
　最後に、位相差層１に対し、上述と同様の手順（１）～（３）にて、直線偏光子１（光吸収異方性層Ｐ１）を積層した。ただし、位相差層１の遅相軸と、光吸収異方性層Ｐ１の吸収軸とが４５°をなすように積層し、位相差層１から出射した光の偏光軸と、光吸収異方性層Ｐ１の透過軸とが、平行になるようにした。
　このようにして、実施例１の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例１の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるポジティブＣプレートの表面粗さＲａを測定した。なお、画像入射面とは、上述のように、積層光学フィルムにおける、反射円偏光子に対して直線偏光子とは反対側の表面である。その結果、画像入射面すなわちポジティブＣプレートの表面粗さＲａは３０ｎｍであった。
　なお、支持体となるＴＡＣフィルムの液晶層側の表面粗さＲａが２２ｎｍであるのは、上述のとおりである。

［実施例２］
　作製した反射円偏光子２の緑色光反射層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合し、反射円偏光子２の形成に用いた仮支持体（ＰＥＴフィルム）を剥離して、青色光反射層を露出した。
　この青色光反射層に対し、実施例１と同様の手順（１）～（３）にて、ポジティブＣプレート２を積層した。
　次に、ポジティブＣプレート２に対し、実施例１と同様の手順（１）～（３）にて、位相差層１を積層した。
　さらに、位相差層１に対し、実施例１と同様の手順（１）～（３）にて、直線偏光子１（光吸収異方性層Ｐ１）光を積層した。ただし、位相差層１の遅相軸と、光吸収異方性層Ｐ１の吸収軸とが４５°をなすように積層し、位相差層１から出射した光の偏光軸と、光吸収異方性層Ｐ１の透過軸とが、平行になるようにした。
　一方で、藤森工業（株）製の『ＭＡＳＴＡＣＫ、ＡＳ３－３０４』を用意した。これは、ＴＡＣ製の支持体にモスアイ層からなる反射防止層を設けてなる反射防止フィルムである。この反射防止フィルムのＴＡＣ支持体のモスアイ層側の表面粗さＲａは２５ｎｍであった。
　反射円偏光子２に貼着したガラス基材からなる仮支持体を剥離し、反射防止フィルムのＴＡＣ支持体と、カラス基材の剥離によって露出した緑色光反射層とを、実施例１と同様の手順（２）～（３）にて積層し、実施例２の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例２の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるモスアイ層の表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは３０ｎｍであった。

［実施例３］
　直線偏光子１（光吸収異方性層Ｐ１）を直線偏光子Ｐ２に変えた以外は、実施例１と同様にして、実施例３の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例３の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるポジティブＣプレートの表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは６０ｎｍであった。

［実施例４］
　位相差層１を位相差層２に変えた以外は、実施例１と同様にして、実施例４の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例４の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるポジティブＣプレートの表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは３５ｎｍであった。

［実施例５］
　直線偏光子１（光吸収異方性層Ｐ１）を直線偏光子Ｐ２に変え、位相差層１を位相差層２に変えた以外は、実施例１と同様にして、実施例５の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例４の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるポジティブＣプレートの表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは６５ｎｍであった。

［実施例６］
　ポジティブＣプレート２を積層せずに、青色光反射層に位相差層１を積層し、その上に直線偏光子１を積層した以外は、実施例２と同様にして、実施例６の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例６の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるモスアイ層の表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは３０ｎｍであった。

　［実施例７］
　ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）製の支持体（厚さ７５μｍ）に、モスアイ層からなる反射防止層を設けてなる反射防止フィルムを用意した。なお、モスアイ層は、実施例２と同じものとした。
　この反射防止フィルムにおいて、ＰＭＭＡ支持体のモスアイ層側の表面粗さＲａは２０ｎｍであった。

　作製した反射円偏光子２の緑色光反射層と、反射防止フィルムの支持体（ＰＭＭＡ）とを、実施例１と同様の手順（２）～（３）にて、積層した。
　次に、反射円偏光子２の仮支持体（ＰＥＴフィルム）を剥離し、露出した青色光反射層に対し、実施例１と同様の手順（１）～（３）にて、ポジティブＣプレート２を積層した。
　次に、ポジティブＣプレート２に対し、実施例１と同様の手順（１）～（３）にて、位相差層１を積層した。
　最後に、位相差層１に対し、実施例１と同様の手順（１）～（３）にて、直線偏光子１（光吸収異方性層Ｐ１）光を積層した。ただし、位相差層１の遅相軸と、光吸収異方性層Ｐ１の吸収軸とが４５°をなすように積層し、位相差層１から出射した光の偏光軸と、光吸収異方性層Ｐ１の透過軸とが、平行になるようにした。
　これにより、実施例７の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例７の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるモスアイ層の表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは３０ｎｍであった。

［実施例８］
　ポリメチルメタクリレート製の支持体に代えて、環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）製の支持体（厚さ１００μｍ）を有する以外は、実施例７と同じ反射防止フィルムを用意した。
　この反射防止フィルムを用いた以外は、実施例７と同様にして、実施例８の積層光学フィルムを作製した。
　反射防止フィルムのＣＯＰ支持体のモスアイ層側の表面粗さＲａは２０ｎｍであった。
　この実施例８の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるモスアイ層の表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは３０ｎｍであった。

［実施例９］
　ポジティブＣプレート２を積層せずに、青色光反射層に位相差層１を積層し、その上に直線偏光子１を積層した以外は、実施例７と同様にして、実施例９の積層光学フィルムを作製した。
　この実施例９の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるモスアイ層の表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは３０ｎｍであった。

［実施例１０］
　実施例７の積層光学フィルムの直線偏光子に対し、さらに、実施例１と同様の手順（１）～（３）にて、２層目の位相差層１を積層して、実施例１０の積層光学フィルムを作製した。
　なお、この２層目の位相差層は、遅相軸の向きが１層目の位相差層の遅相軸と同方向になるように積層した。
　この実施例１０の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるモスアイ層の表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは３０ｎｍであった。

［比較例１］
　Ａｐｐｌｅ社製タブレット型コンピュータｉＰａｄ（登録商標）を分解し、液晶セルのバックライト側の面から、偏光板を剥離した。剥離した偏光板は、入射側から、反射直線偏光子、および、直線偏光子が積層されていた。反射直線偏光子は、誘電体多層膜を延伸したフィルム（ＡＰＦ）であり、直線偏光子は、ヨウ素で染色した延伸ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを含んでいた。
　剥離した偏光板の反射直線偏光子の表面に、上述の位相差層１を、位相差層１の遅相軸と反射直線偏光子の反射軸とが４５°をなすように粘着剤で貼合し、転写した。
　このようにして、反射円偏光子としての機能を有する、比較例１の積層光学フィルムを作製した。
　この比較例１の積層光学フィルムにおいて、画像入射面に対応するのは位相差層１（１／４λ層（塗布））である。画像入射面の表面粗さＲａは１６０ｎｍであった。

［比較例２］
　実施例１において、ポジティブＣプレート１の支持体（ＴＡＣ）を液晶層側の表面粗さＲａが６５ｎｍのＴＡＣフィルムにした以外は、実施例１と同様にして、比較例２の積層光学フィルムを作製した。
　この比較例２の積層光学フィルムにおいて、画像入射面となるポジティブＣプレートの表面粗さＲａを測定した。その結果、画像入射面の表面粗さＲａは１２０ｎｍであった。

＜偏光度の評価＞
　得られた積層光学フィルムの透過光、および、反射光の偏光度を、以下の方法で測定した。
　（株）村上色材研究所製の「ゴニオフォトメータ」の受光部に、１／４波長板および直線偏光子からなる円偏光板を貼り付けた。ステージに積層光学フィルムを設置し、反射面に対し波長５５０ｎｍの非偏光を入射させた。次いで、受光部を回転させて、積層光学フィルムからの透過光および反射光の光量を測定し、入射光の光量で除して、右円偏光に対する透過率および反射率を算出した。また、受光部に貼り付ける円偏光板を交換し、同様の測定を行って、左円偏光に対する透過率、および反射率を算出した。
　ここで、右円偏光の透過率をＴｒ、左円偏光の透過率をＴｌとし、透過光の偏光度Ｐｃｔを、下記式（２）に従い算出した。
　式（２）：　Ｐｃｔ　＝　｜（Ｔｒ－Ｔｌ）／（Ｔｒ＋Ｔｌ）｜
　ここで、右円偏光の反射率をＲｒ、左円偏光の反射率をＲｌとし、反射光の偏光度Ｐｃｒを、下記式（３）に従い算出した。
　式（３）：　Ｐｃｒ　＝　｜（Ｒｒ－Ｒｌ）／（Ｒｒ＋Ｒｌ）｜
　結果を下記の表に示す。

＜成形後の偏光度の評価＞
　実施例６～１０、および、比較例１の積層光学フィルムについては、成型後の偏光度も測定した。
　すなわち、測定対象となる積層光学フィルムを、２００ｍｍ×３００ｍｍに裁断し、直径５０ｍｍ、厚さ１０ｍｍの凸レンズを型として用い、特開２０１２－１１６０９４号公報に記載の方法にて真空成形を行った。成形温度は１１０℃とした。
　成形後の積層光学フィルムに対し、上記と同様の方法で偏光度の測定を行った。
　結果を下記の表１に示す。

＜画像鮮鋭度およびゴーストの評価＞
　往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ　ＶＲ　Ｇｌａｓｓ」のレンズを分解し、最も視認側のレンズを取り出した。このレンズは、視認側が凸面の平凸レンズであり、平面の側に反射円偏光子が貼合されていた。
　次に、レンズから反射円偏光子を剥離し、代わりに、実施例１～１０および比較例１～２の積層光学フィルムを、直線偏光子の側が視認側となるように貼合した。
　上述のレンズを再度、本体に組み込み、仮想現実表示装置を作製した。

　作製した仮想現実表示装置において、画像表示パネルに白黒のチェッカーパターンを表示させ、画像鮮鋭度およびゴーストを目視にて評価した。
　画像鮮鋭度に関しては、
　レンズの全領域にわたって、白黒のチェッカーパターンが非常に鮮鋭に視認できたものをＡ、
　レンズの全領域にわたって、白黒のチェッカーパターンが鮮鋭に視認できたものをＢ、
　白黒のチェッカーパターンが不鮮明であったものをＣ、と評価した。
　また、ゴーストに関しては、
　レンズの全領域にわたって、ゴーストが視認できなかったものをＡ、
　レンズの全領域にわたって、若干のゴーストが認められたが、実用上、問題が無いものをＢ、
　実用上、問題となるゴーストが視認されたものをＣ、と評価した。
　結果を下記の表に示す。

　また、下記の表には、各積層光学フィルムの層構成も併記する。
　なお、下記の表の層構成において、ポジティブＣ層は、ポジティブＣプレートを示し、
　支持体（ＴＡＣ）は、トリアセチルセルロース製の支持体を、支持体（ＰＭＭＡ）は、ポリメチルメタクリレート製の支持体を、支持体（ＣＯＰ）は、環状オレフィン樹脂製の支持体を、それぞれ示し、
　棒状は、反射層（コレステリック液晶層）を形成する液晶化合物が棒状液晶化合物であることを、円盤状は、反射層（コレステリック液晶層）を形成する液晶化合物が円盤状液晶化合物でああることを、それぞれ示し、
　１／４λ層（塗布）は、位相差層１、すなわち、塗布法によって形成した１／４λ層を、１／４λ層（ＰＣ）は、位相差層２、すなわち、ポリカーボネート樹脂からなる１／４λ層を、それぞれ示し、
　さらに、直線偏光子層（塗布）は、直線偏光子層１（光吸収異方性層Ｐ１）、すなわち、塗布法によって形成した直線偏光子を、直線偏光子層（ＰＶＡ）は、直線偏光子２、すなわち、ＰＶＡ層を含む直線偏光子を、それぞれ示す。

　なお、上記表において、比較例１は、反射直線偏光子（ＡＰＦ）自体が支持体として作用するので、支持体の表面粗さＲａは測定していない。

　上記表に示されるように、画像入射面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である本発明の積層光学フィルムは、いずれも、レンズの全領域にわたって白黒のチェッカーパターンにおいて非常に高い画像鮮鋭度が得られている。これに対して、画像入射面の表面粗さＲａが１００ｎｍを超える比較例の積層光学フィルムは、白黒のチェッカーパターンが不鮮明で、画像鮮鋭度が低い。また、比較例１に示されるように、支持体の表面粗さＲａが大きいと、画像入射面の表面粗さＲａも大きくなる。
　実施例２および実施例６、ならびに、実施例７および実施例９に示されるように、本発明の積層光学フィルムでは、必要に応じて、ポジティブＣプレートを用いることにより、反射光および透過光の偏光度を高くすることができ、その結果、ゴーストが非常に少ない画像を表示できる。
　実施例１，２、７および８等に示されるように、本発明の積層光学フィルムでは、反射円偏光子が、棒状液晶化合物からなる光反射層と、円盤状液晶化合物からなる光反射層とを有することにより、全ての光反射層が棒状液晶化合物からなる反射円偏光子に比して、ポジティブＣプレートの数を少なくしても、高い偏光度を得ることができる。
　実施例１０に示されるように、直線偏光子の表面に、さらに、第２の位相差層を有することにより、観察側の表面での反射を防止して、反射光の偏光度を向上できる。
　さらに、実施例６～１０に示されるように、本発明の積層光学フィルムでは、支持体としてｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材を用いることにより、低温でも成形が可能になり、その結果、例えばレンズ形状等に応じて成型した場合でも、成型後に反射光および透過光の偏光度が低下することを防止できる。
　以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

　１００　積層光学フィルム
　１０１　反射防止層
　１０２　ポジティブＣプレート
　１０３　反射円偏光子
　１０４　ポジティブＣプレート
　１０５　位相差層
　１０６　直線偏光子
　３００　ハーフミラー
　４００　円偏光子
　５００　画像表示パネル
　１０００　虚像を形成する光線
　２０００　ゴーストを形成する光線

Claims

　少なくとも、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とをこの順で有し、
　前記反射円偏光子に対して、前記直線偏光子とは反対側の表面の表面粗さＲａが１００ｎｍ以下である、積層光学フィルム。
　さらに、表面粗さＲａが５０ｎｍ以下の支持体を有する、請求項１に記載の積層光学フィルム。
　前記支持体が、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下の樹脂基材である、請求項２に記載の積層光学フィルム。
　支持体を有さない、請求項１に記載の積層光学フィルム。
　前記反射円偏光子が、少なくとも、コレステリック液晶相を固定化してなる光反射層を有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記反射円偏光子が、少なくとも、波長４５０ｎｍの光の反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５３０ｎｍの光の反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６３０ｎｍの光の反射率が４０％以上である赤色光反射層とを有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記反射円偏光子が、さらに、波長８００ｎｍの光の反射率が４０％以上である赤外光反射層を有する、請求項６に記載の積層光学フィルム。
　前記反射円偏光子が、少なくとも、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層と、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層とを有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記位相差層が、波長に対して実質的に逆分散性を有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記位相差層が、少なくとも、一様配向した液晶化合物を固定化してなる層を有する、請求項１～９のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記位相差層が、少なくとも、厚さ方向を螺旋軸として捩れ配向した液晶化合物を固定化してなる層を有する、請求項１～１０のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記直線偏光子が、厚さ１０μｍ以下の層からなる、請求項１～１１のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記直線偏光子が、少なくとも、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層を有する、請求項１～１２のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　さらに、ポジティブＣプレートを有する、請求項１～１３のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　さらに、いずれかの表面に反射防止層を有する、請求項１～１４のいずれか１項に記載の積層光学フィルム。
　前記反射防止層が、モスアイフィルムまたはＡＲフィルムである、請求項１５に記載の積層光学フィルム。
　請求項１～１６のいずれか１項に記載の積層光学フィルムと、画像表示素子とを有する、画像表示装置。
　仮想現実表示装置である、請求項１７に記載の画像表示装置。