WO2023199950A1

WO2023199950A1 - 成形方法、光学フィルム、コレステリック液晶層、光学積層体、および、曲面状光学機能性層の作製方法

Info

Publication number: WO2023199950A1
Application number: PCT/JP2023/014900
Authority: WO
Inventors: 竜二実藤; 直良山田; 洋平 ▲濱▼地; 健裕笠原
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2022-04-14
Filing date: 2023-04-12
Publication date: 2023-10-19
Also published as: TW202347358A

Abstract

本発明が解決しようとする課題は、例えば仮想現実表示装置に用いた際に、ゴーストの発生を抑制できる光学フィルムを得られる成形方法、光学フィルム、コレステリック液晶層、光学積層体、および、曲面状光学機能性層の作製方法を提供することである。光学フィルムを加熱する加熱工程、光学フィルムをモールドに押し付け変形させる成形工程、光学フィルムを裁断する裁断工程含み、加熱工程が光学フィルムに赤外線を照射することで加熱する工程であり、赤外線の照射量が光学フィルムの面内に分布を有することにより、課題を解決する。

Description

成形方法、光学フィルム、コレステリック液晶層、光学積層体、および、曲面状光学機能性層の作製方法

　本発明は、成形方法、光学フィルム、コレステリック液晶層、光学積層体、および、曲面状光学機能性層の作製方法に関する。

　仮想現実表示装置は、専用のヘッドセットを頭部に装着し、複合レンズを通して表示される映像を視認することによって、仮想世界に入り込んだような臨場感を得ることができる表示装置である。
　仮想現実表示装置は、一般に画像表示パネルとフレネルレンズを有するが、画像表示パネルからフレネルレンズまでの距離が大きく、そのためヘッドセットが厚くなり、装着性が悪いことが課題であった。
　そこで、特許文献１および特許文献２に記載されるように、画像表示パネルと、反射型偏光子と、ハーフミラーとを有し、画像表示パネルから出射された光線を反射型偏光子とハーフミラーの間で往復させることによってヘッドセット全体の厚みを薄くする、パンケーキレンズ（往復光学系、折り返し光学系）と呼ばれる複合レンズのレンズ構成が提案されている。

　ここで反射偏光子は、入射光のうち一方の偏光を反射し、もう一方の偏光を透過する機能を有する偏光子である。反射偏光子による反射光、および透過光は、互いに直交する偏光状態となる。
　ここで、互いに直交する偏光状態とは、ポアンカレ球上において互いに対蹠点に位置する偏光状態の事であり、例えば、互いに直交する直線偏光、および、右円偏光（右回り円偏光）と左円偏光（左回り円偏光）とが、これに該当する。

　透過光および反射光が直線偏光となる反射直線偏光子は、例えば、誘電体多層膜を延伸したフィルム、および、ワイヤグリッド偏光子が知られている。また、透過光および反射光が円偏光となる反射円偏光子としては、例えば、コレステリック液晶相を固定化してなる光反射層（コレステリック液晶層）を有するフィルムが知られている。

特表２０２０―５１９９６４号公報米国特許第１０３９４０４０号明細書

　特許文献１には、反射型偏光子として、反射型直線偏光子を用い、画像表示パネルと、反射型直線偏光子と、ハーフミラーとをこの順で含むパンケーキレンズ構成の複合レンズが開示されている。画像表示パネルと、反射型偏光子と、ハーフミラーとをこの順で含む場合、反射型偏光子は、ハーフミラーの側から入射する光線に対して凹面鏡の作用を有する必要がある。反射型直線偏光子に凹面鏡の作用をもたせるために、反射型直線偏光子を曲面形状に成形する構成が提案されている。
　また、特許文献２には、反射型偏光子として、反射型直線偏光子を用い、画像表示パネルと、ハーフミラーと、反射型直線偏光子とをこの順で含むパンケーキレンズ構成の複合レンズが開示されている。特許文献２では、像面湾曲を改善するためにハーフミラーと反射型偏光子をともに曲面化する構成が提案されている。この時、反射型偏光子は凸面鏡の作用を有する必要がある。

　また、上述のように、反射型偏光子としては、反射円偏光子であるコレステリック液晶層も利用可能である。
　周知のように、コレステリック液晶層は、液晶化合物が螺旋状に旋回して積み重ねられた螺旋構造を有し、液晶化合物が螺旋状に１回転（３６０°回転）して積み重ねられた構成を螺旋１ピッチとして、螺旋状に旋回する液晶化合物が、複数ピッチ、積層された構造を有する。
　コレステリック液晶層は、所定の波長帯域の所定の円偏光を選択的に反射し、他の光を透過する。従って、このようなコレステリック液晶層は、パンケーキレンズにおける反射円偏光子として、好適に利用可能である。

　コレステリック液晶層は、基本的に、位相差を有さない。すなわち、コレステリック液晶層は、基本的に、面内レタデーションがゼロである。
　ところが、本発明者らの検討によれば、コレステリック液晶層を用いる反射偏光子を、特許文献１および特許文献２に記載されるように曲面形状に成形すると、面内において部分的に螺旋軸が変化してしまい、その結果、位相差が生じてしまうことが分かった。
　位相差を有するコレステリック液晶層は、入射光を適正に反射および透過させることができなくなる。そのため、このようなコレステリック液晶層を仮想現実表示装置を構成するパンケーキレンズに用いると、光が不要に透過して、不要な像が観察される、いわゆるゴースト（漏れ光）が増加してしまう。

　本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明が解決しようとする課題は、例えば仮想現実表示装置に用いた際に、ゴーストの発生を抑制できる光学フィルムを得られる成形方法、光学フィルム、コレステリック液晶層、光学積層体、および、曲面状光学機能性層の作製方法を提供することである。

　本発明者らは、鋭意検討の結果、コレステリック液晶層および低レタデーションフィルム（ゼロレタデーションフィルム）を成形して曲面形状を有する光学フィルムとする際に、中央を選択的に延伸するように成形を行うことで、成形による部分的な位相差の発生を抑制できることを見出した。
　また、本発明者らは、鋭意検討の結果、コレステリック液晶層に予め所定のパターンで面内に位相差を付与することで、曲面形状に成形した際の部分的な位相差の発生を打ち消すことができることを見出した。

　すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
　［１］　光学フィルムを加熱する加熱工程、
　光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　加熱工程が、光学フィルムに赤外線を照射することで加熱する工程であり、赤外線の照射量が、光学フィルムの面内に分布を有する、成形方法。
　［２］　モールドが、ガウス曲率が正である非可展面の凹面であり、光学フィルムの主面の法線方向から光学フィルムの面内の位置をモールドに射影したときに、
　凹面の頂点における光学フィルムへの赤外線照射量が、凹面の端部における光学フィルムへの赤外線照射量より多い、［１］に記載の成形方法。
　［３］　光学フィルムを加熱する加熱工程、
　光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　モールドの光学フィルムと接する面は、ガウス曲率が正である非可展面の凹面で、かつ、外周形状が楕円形であり、
　裁断工程における裁断形状が楕円形であり、裁断によって切り出す光学フィルムの楕円形の外周形状の長径が、モールドの外周形状の楕円形における長径に対して、５０％より大きく９５％よりも小さい、成形方法。
　［４］　光学フィルムを加熱する加熱工程、
　光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　加熱工程において、光学フィルムのモールドに接する領域を、光学フィルムのガラス転移温度Ｔｇよりも高い温度に加熱し、
　成形工程において、光学フィルムがモールドに接した直後に、光学フィルムのモールドに接した領域が、ガラス転移温度Ｔｇより低くなるように、モールドへの光学フィルムの押し付けを制御する、成形方法。
　［５］　モールドを加熱する加熱工程、
　加熱したモールドを光学フィルムに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　モールドは、ガウス曲率が正である非可展面の凸面であり、
　成形工程において、光学フィルムの中心にモールドの凸面頂点を押し付ける、成形方法。
　［６］　裁断工程における光学フィルムの裁断形状が楕円形であり、
　成形工程において、裁断形状となる楕円形のライン上の位置を拘束した状態で、光学フィルムをモールドに押し付ける、［５］に記載の成形方法。
　［７］　コレステリック液晶層であって、
　コレステリック液晶層が、中心から外側に向かって位相差が大きくなる位相差領域を有し、
　位相差領域において、位相差領域内の一点での遅相軸の方向と、中心から一点に向かう方向とが直交する、コレステリック液晶層。
　［８］　［７］に記載のコレステリック液晶層を複数層有する、光学積層体。
　［９］　棒状液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層と、円盤状液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層とが交互に積層されてなる、［８］に記載の光学積層体。
　［１０］　［７］に記載のコレステリック液晶層を作製するコレステリック液晶層作製工程と、
　コレステリック液晶層の位相差を解消するように曲面成形する成形工程を含む、曲面状光学機能性層の作製方法。
　［１１］　成形工程において、凹面成形面を有する成形型の凹面成形面の底部と、コレステリック液晶層の中心とが一致するように、コレステリック液晶層を成形型上に設置し、凹面成形面に沿うようにコレステリック液晶層を変形させる、［１０］に記載の曲面状光学機能性層の作製方法。
　［１２］　ガウス曲率が正である非可展面を有する光学フィルムであって、
　光学フィルムが、コレステリック液晶層であり、
　面内レタデーションの評価波長を、コレステリック液晶層における選択反射中心波長よりも短い側の半値波長から２０ｎｍを減じた波長とした際に、
　コレステリック液晶層の中心での評価波長における面内レタデーションＡが、評価波長の２％の値未満であり、かつ、
　コレステリック液晶層の外縁部での評価波長における面内レタデーションＢが、評価波長の２％の値未満である、光学フィルム。
　［１３］　ガウス曲率が正である非可展面を有する光学フィルムであって、
　光学フィルムが、選択反射特性を有さず、
　光学フィルムの中心での波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＡが１１ｎｍ未満であり、かつ、
　光学フィルムの外縁部での波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＢが１１ｎｍ未満である、光学フィルム。
　［１４］　外周形状が楕円形である、［１２］または［１３］に記載の光学フィルム。

　本発明によれば、例えば仮想現実表示装置に用いた際に、ゴーストの発生を抑制できる光学フィルムを得られる成形方法、光学フィルム、コレステリック液晶層、光学積層体、および、曲面状光学機能性層の作製方法を提供することできる。

本発明の第１実施形態の光学フィルムが利用可能な仮想現実表示装置の一例であり、主像の光線の一例を表す。本発明の第１実施形態の光学フィルムが利用可能な仮想現実表示装置の一例であり、ゴーストの光線の一例を表す。本発明の第１実施形態の光学フィルムを含む積層光学体の一例を示す概略図である。本発明の第１実施形態の光学フィルムの一例を示す概略図である。露光マスクの概略図である。本発明の第１実施形態の作用効果を説明するための概略図である。コレステリック液晶層の一例を示す概念図である。本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層の液晶化合物の一部を螺旋軸方向から見た図の一例を示す概念図である。本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層において、螺旋軸に沿って捩れ配向された複数の液晶化合物の一部を螺旋軸方向から見た図である。本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層において、螺旋軸方向から見た液晶化合物の存在確率を概念的に示す図である。本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層を作製する際に用いる露光マスクの概略図である。本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層の領域ごとの遅相軸を表す概念図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
　また、本明細書において、平行、直交とは厳密な意味での平行、直交を意味するのではなく、平行または直交から±５°の範囲を意味する。

　また、本明細書において、液晶組成物、液晶化合物とは、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。

　以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は「～」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

　本明細書において、「直交」とは、厳密に９０°を表すのではなく、９０°±１０°、好ましくは、９０°±５°を表すものとする。また、「平行」とは、厳密に０°を表すのではなく、０°±１０°、好ましくは、０°±５°を表すものとする。さらに、「４５°」とは、厳密に４５°を表すのではなく、４５°±１０°、好ましくは、４５°±５°を表すものとする。
　但し、偏光に関する表現において、『互いに直交する偏光状態』とは、ポアンカレ球上において互いに対蹠点に位置する偏光状態の事であり、例えば、互いに直交する直線偏光、および、右回り円偏光（右円偏光）と左回り円偏光（左円偏光）などが、これに該当するのは、前述のとおりである。

　本明細書において「吸収軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において吸光度が最大となる偏光方向を意味する。また、「反射軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において反射率が最大となる偏光方向を意味する。また、「透過軸」とは、面内において吸収軸または反射軸と直交する方向を意味する。さらに、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。

　本明細書において、位相差とは、特にことわらない場合、面内レタデーションを意味し、Ｒｅ（λ）と記載する。ここで、Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレタデーションを表し、特に記載がないとき、波長λは５５０ｎｍとする。
　また、波長λにおける厚み方向のレタデーションは、本明細書においてＲｔｈ（λ）と記載する。
　Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、波長λで測定した値を用いることができる。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
　遅相軸方向（°）
　Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
　Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄが算出される。

　また、本明細書において、液晶性組成物、液晶性化合物とは、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。

［第１実施形態］
＜光学フィルム＞
　本発明の第１実施形態の光学フィルムは曲面形状を有する。
　具体的には、本発明の第１実施形態の光学フィルムは、ガウス素曲率が正である非可展面の曲面形状を有するものである。このような曲面形状としては、球面、放物面、楕円面、中心から外方向に向かって曲率が変化する非球面、例えば円形のレンズであれば直径方向で光軸に対して非対称の曲面のような中心に対して非対称な曲面等、ガウス曲率が正である非可展面を有する各種の曲面形状が利用可能である。
　また、このような曲面形状を有する本発明の第１実施形態の光学フィルムにおいて、外周形状（外周端の形状）すなわち平面形状にも制限はなく、楕円形、楕円以外の長円形、多角形および不定形等の各種の形状が利用可能である。中でも、楕円形であるのが好ましい。なお、本発明においては、楕円形には円形も含む。
　平面形状とは、光学フィルムの曲面の頂部（底部）の法線方向から見た際の形状であり、例えば、曲面形状を有する光学フィルムがレンズである場合には、通常、光軸方向から見た場合の形状である。

　本発明の第１実施形態の光学フィルムは、コレステリック液晶層、または、位相差が小さいフィルム、いわゆるゼロレタデーションフィルムからなるものである。
　具体的には、本発明の第１実施形態の光学フィルムの第１の態様は、上述のような曲面形状を有するコレステリック液晶層からなるものであり、評価波長（測定波長）を、コレステリック液晶層における選択反射中心波長よりも短い側の半値波長から２０ｎｍを減じた波長として、中心での評価波長における面内レタデーションＡが評価波長の２％の値未満であり、かつ、外縁部での評価波長における面内レタデーションＢが評価波長の２％の値未満である。
　本発明の第１実施形態の光学フィルムの第１の態様は、例えば、コレステリック液晶層における選択反射中心波長よりも短い側の半値波長が４３０ｎｍである場合には、波長４１０ｎｍの光を面内レタデーションの評価波長として、中心の面内レタデーションＡが８．２ｎｍ未満で、外縁部の面内レタデーションＢも８．２ｎｍ未満である、光学フィルムである。
　なお、本発明の第１実施形態の第１の態様の光学フィルムが、複数のコレステリック液晶層を有する場合には、最も選択反射中心波長が短いコレステリック液晶層の選択反射中心波長よりも短い側の半値波長から２０ｎｍを減じた波長を、光学フィルムの面内レタデーションの評価波長とすればよい。

　また、本発明の第１実施形態の光学フィルムの第２の態様は、上述のような曲面形状を有する選択反射性を有さないフィルムからなるものであり、中心での波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＡが１１ｎｍ未満であり、かつ、外縁部での前記評価波長における面内レタデーションＢが、１１ｎｍ未満である。

　なお、本発明の第１実施形態の光学フィルムにおいて、中心とは、通常、曲面形状が凹状である場合には最下部（最深部）であり、曲面形状が凸状である場合には最頂部である。光学フィルムがレンズとして作用する場合には、通常、中心は光軸となる。
　また、外縁部（端部）とは、レンズの最外縁から５ｍｍ内側の点を指す。

　すなわち、本発明の第１実施形態の光学フィルムは、曲面形状を有するコレステリック液晶層、または、曲面形状を有する選択反射性を有さないフィルムからなり、全面的に位相差すなわち面内レタデーションが小さい。
　このような本発明の第１実施形態の光学フィルムによれば、例えば、仮想現実表示装置を構成するパンケーキレンズの反射型偏光子として用いた際に、ゴーストの発生を抑制できる。

　なお、このような本発明の第１実施形態の光学フィルムは、支持体（透明フィルム）、位相差フィルム（位相差板）、偏光子（偏光板）、反射型偏光子、および、反射防止フィルム等の各種の光学素子と組み合わせて構成された積層光学体として用いてもよい。
　積層光学体に関しては、後に詳述する。

〔選択反射性を有さないフィルム〕
　本発明の第１実施形態の光学フィルムにおいて、選択反射性を有さないフィルムとしては、低複屈折性の高分子樹脂からなる位相差の小さいフィルム、いわゆるゼロレタデーションフィルム（低レタデーションフィルム）が、各種、利用可能である。
　低複屈折性の高分子樹脂としては、複屈折が像形成の障害や信号ノイズの元となる光ディスク基板、ピックアップレンズ、カメラや顕微鏡やビデオカメラのレンズ、液晶ディスプレイ用基板、プリズム、光インターコネクション部品、光ファイバー、液晶表示用導光板レーザービームプリンター、プロジェクターおよびファクシミリ用のレンズ、フレネルレンズ、コンタクトレンズ、偏光板保護膜、ならびに、マイクロレンズアレイなどに用いられている低複屈折率有機素材を同様に用いることができる。
　このようなフィルムとしては、アクリル樹脂（ポリメチル（メタ）アクリレートなどのアクリル酸エステル類など）、ポリカーボネート、シクロペンタジエン系ポリオレフィンおよびノルボルネン系ポリオレフィンなどの環状ポリオレフィン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、ポリスチレンなどの芳香族ビニルポリマー類、ポリアリレート、ならびに、セルロースアシレートなどを挙げることができる。
　これらのフィルムの厚さには、制限はなく、形成材料、および、用途等に応じて、適正な厚さを、適宜、設定すればよい。

〔コレステリック液晶層〕
　上述のように、コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を固定してなるものであり、液晶化合物が螺旋状に旋回して積み重ねられた螺旋構造を有し、液晶化合物４０が螺旋状に１回転（３６０°回転）して積み重ねられた構成を螺旋１ピッチとして、螺旋状に旋回する液晶化合物が、複数ピッチ、積層された構造を有する。
　また、周知のように、コレステリック液晶層は、選択反射性を有する。具体的には、コレステリック液晶層は、所定の波長帯域の光を選択的に反射し、それ以外の波長域の光を透過する。また、コレステリック液晶層は、右円偏光を選択的に反射して左円偏光を透過し、あるいは、左円偏光を選択的に反射して右円偏光を透過する。
　すなわち、コレステリック液晶層は、所定の波長帯域の右円偏光または左円偏光を選択的に反射し、それ以外を透過する。言い換えれば、コレステリック液晶層は、特定の波長帯域において、入射光を右円偏光と左円偏光とに分離し、一方の円偏光を正反射し、もう一方の円偏光を透過する
　コレステリック液晶相において、選択反射の中心波長（選択反射中心波長λ）は、コレステリック液晶相における螺旋１ピッチ（螺旋ピッチＰ）の長さに依存し、コレステリック液晶相の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。そのため、この螺旋ピッチを調節することによって、選択反射中心波長すなわち選択的な反射波長域を調節できる。コレステリック液晶相の選択反射中心波長は、螺旋ピッチＰが長いほど、長波長になる。
　また、選択反射を示す波長域（円偏光反射波長域）の半値幅Δλ（ｎｍ）は、コレステリック液晶相のΔｎと螺旋ピッチＰとに依存し、Δλ＝Δｎ×Ｐの関係に従う。そのため、選択的な反射波長域の幅の制御は、Δｎを調節して行うことができる。Δｎは、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類およびその混合比率、ならびに、配向固定時の温度により調節できる。

　本発明において、コレステリック液晶層は、公知の各種のものが利用可能である。
　コレステリック液晶層としては、例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して、コレステリック液晶相を固定化してなるコレステリック液晶層を用いることができる。コレステリック液晶相を固定化してなるコレステリック液晶層は、薄膜でありながら透過光が高い偏光度を有するため好ましい。コレステリック液晶層は、延伸したり、立体形状等に成形したりした場合に、偏光度の低下や偏光軸の歪みが抑制されるという観点で、曲面成形に用いられる光学フィルムとして好ましい。また、偏光軸の歪みに起因する偏光度の低下も生じにくい。

　本発明の第１実施形態の光学フィルムは、複数のコレステリック液晶層を積層したものでもよい。
　一例として、少なくとも波長４６０ｎｍの反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５５０ｎｍの反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６００ｎｍの反射率が４０％以上である黄色光反射層と、波長６５０ｎｍの反射率が４０％以上である赤色光反射層とを有する、４層のコレステリック液晶層の積層体が好ましい。このような構成であると、可視域の広い波長範囲に亘って高い反射特性を発現できるため、好ましい。なお、上述の反射率は、コレステリック液晶層に対し、それぞれの波長で非偏光を入射した場合の反射率である。
　また、コレステリック液晶相を固定化してなるコレステリック液晶層である青色光反射層、緑色光反射層、黄色光反射層、および、赤色光反射層は、コレステリック液晶相の螺旋ピッチを厚み方向で連続的に変化させたピッチグラジエント構造を有していてもよい。ピッチグラジエント構造によれば、例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して、緑色光反射層と黄色光反射層を連続的に作製することができる。

　本発明の第１実施形態の光学フィルムにおいて、コレステリック液晶層は、青色光反射層と、緑色光反射層と、黄色光反射層と、赤色光反射層とが、この順で積層されているのが好ましい。
　また、コレステリック液晶層は、位相差層と組み合わせれる場合も多い。この際には、青色光反射層が、円偏光を直線偏光に変換する位相差層とは反対の面、すなわち光源側に設置されることが好ましい。このような配置であると、光線は青色光反射層、緑色光反射層、黄色光反射層および赤色光反射層をこの順で通過することになる。
　本発明者らは、青色光反射層を光源側に配置することでゴーストの発生を抑制できる原因を、Ｒｔｈの影響を抑制することができるため、と考えている。その推定機構を以下に述べる。光反射層として用いられるコレステリック液晶層において、十分な反射率（例えば４０％以上）を得るために必要な膜厚は長波長側ほど厚くなる。そのため、もし光源側に長波長の光を反射する光反射層がある場合、その膜厚は厚くなり、結果としてその層を通過する光が受けるＲｔｈは大きくなる。このような理由によって、光源側に配置される光反射層の反射帯域は短波側がより好ましいと考えられる。

　本発明の第１実施形態の光学フィルムは、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶層と、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶層とを有するのも好ましい。
　このような構成であると、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相が正のＲｔｈを有するのに対し、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相は負のＲｔｈを有するため、互いのＲｔｈが相殺され、斜め方向からの入射光に対してもゴーストの発生を抑えることができるため、好ましい。
　本発明者らの検討によれば、この場合には、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶層からなる青色光反射層、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶層からなる緑色光反射層、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶層からなる黄色光反射層、および、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶層からなる赤色光反射層をこの順で含むことが好ましい。なお、反射層の順番、液晶の種類は、一例であり、これらの構成に限定されるものではない。

　Ｒｔｈが相殺される様子を数式で表すと下記のようになる。
　光反射層をｎ層有する光学積層フィルムにおいて、光源側から光反射層を順にＬ１、Ｌ２、Ｌ３、・・・、Ｌｎと名付けたときに、光反射層Ｌ１から光反射層Ｌｉまでの各層のＲｔｈの和をＳＲｔｈｉする。具体的には次式のようになる。
ＳＲｔｈ１＝Ｒｔｈ１
ＳＲｔｈ２＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２
・・・
ＳＲｔｈｉ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２・・・・＋Ｒｔｈｉ
・・・
ＳＲｔｈｎ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２・・・・＋Ｒｔｈｉ・・・・＋Ｒｔｈｎ
　これら全てのＳＲｔｈｉ（ＳＲｔｈ１～ＳＲｔｈｎ）の絶対値が０．３μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以下であることが最も好ましい。上記の式中の各層のＲｔｈｉは［００２３］記載のＲｔｈ算出の数式により求められる。

　コレステリック液晶層の厚さは、特に制限はされないが、薄型化する観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以下であることがより好ましい。

　また、コレステリック液晶層を延伸したり、成形したりする場合には、コレステリック液晶層としての反射波長域がシフトすることがあるため、反射波長域は、あらかじめ波長のシフトを想定して選択されていることが好ましい。
　例えば、コレステリック液晶層を用いる場合、延伸や成形によってフィルムが引き延ばされ、コレステリック液晶層の螺旋ピッチが小さくなってしまう場合があるため、コレステリック液晶相の螺旋ピッチをあらかじめ大きく設定しておくとよい。また、延伸や成形による反射波長域の短波シフトを想定して、コレステリック液晶層は、波長８００ｎｍの反射率が４０％以上である赤外光反射層を有することも好ましい。
　さらに、延伸や成形における延伸倍率が面内で均一でない場合は、面内のそれぞれの場所で、延伸による波長シフトに応じて適切な反射波長域が選択されてもよい。すなわち、面内において、反射波長域が異なる領域があってもよい。また、面内におけるそれぞれの場所で延伸倍率が異なることを想定して、あらかじめ反射波長域を必要な波長域よりも広くとっておくことも好ましい。

（コレステリック液晶層の製法）
　コレステリック液晶層は、液晶化合物、カイラル剤（キラル剤）および重合開始剤、さらに必要に応じて添加される界面活性剤等を溶媒に溶解させた液晶組成物を、支持体上、あるいは支持体上に形成された下地層（配向膜）に塗布し、乾燥させて塗膜を得て、塗膜中の液晶化合物を配向させて、この塗膜に活性光線を照射して液晶組成物を硬化することで、形成できる。
　これにより、コレステリック規則性（コレステリック液晶相）が固定化されたコレステリック液晶構造を有するコレステリック液晶層を形成できる。

〔塗布方法〕
　塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

〔螺旋ピッチに面内分布を付与する方法〕
　本発明の第１実施形態の光学フィルムを構成するコレステリック液晶層は、螺旋ピッチに面内分布を有してもよい。コレステリック液晶層が螺旋ピッチに面内分布を有することで、後述する曲面形状への成形によって膜厚が変化した場合でも、面内における選択的な反射波長域のバラつきを抑制することができる。
　コレステリック液晶層の螺旋ピッチに面内分布を付与する方法においては、例えば、光異性化によってＨＴＰが変化するカイラル剤を用いる方法がある。

　詳細を説明する。
　光異性化によってＨＴＰが変化するカイラル剤を含んだ液晶組成物を塗布し、必要に応じてその後に加熱処理して配向させたコレステリック液晶層に、光異性化に対応した光照射を行うことでカイラル剤のＨＴＰが変化し、その結果としてコレステリック液晶層の螺旋ピッチを変えて、反射波長を変えることが可能となる。
　この性質を利用し、配向させたコレステリック液晶層に対して露光マスク等を使用してパターン状の光照射を行い光異性化させることで、光照射された領域のみ反射波長を変化させたパターンが得られる。パターンを得たのちに、コレステリック液晶層全体に液晶組成物の硬化のための露光を行い、液晶組成物を重合させることで、最終的に螺旋ピッチが面内分布を有するコレステリック液晶層（パターン状コレステリック液晶層）を得ることができる。硬化させた後のパターン状コレステリック液晶層ではもはや光異性化は起こらず、安定した性質を持つ。

　このパターン形成を効果的に行うには、光異性化のための光照射と、硬化のための光照射との切り分けができているのが好ましい。言い換えると、このパターン形成を効果的に行うには、光異性化と硬化の一方が進んでいる際に、他方がなるべく進まないようになっているのが好ましい。
　両者の切り分け方法としては、例えば、酸素濃度による切り分け、露光波長による切り分けなどが挙げられる。

　まず、酸素濃度について、光異性化は酸素濃度の影響を受けにくいが、使用する開始剤にもよるが、硬化は、基本的に、酸素濃度が高いほど起きにくくなる。
　従って、光異性化は、酸素濃度が高い条件、例えば大気下で行い、硬化は、酸素濃度が低い条件、例えば窒素雰囲気を用いて酸素濃度３００体積ｐｐｍ以下で行う。これにより、光異性化と硬化との切り分けがしやすくなる。

　また、露光波長について、カイラル剤の光異性化はカイラル剤の吸収波長で、硬化は光重合開始剤の吸収波長で、それぞれ進みやすくなる。
　従って、カイラル剤と光重合開始剤とで吸収波長が異なるように、カイラル剤および光重合開始剤を選択することにより、露光波長による光異性化と硬化との切り分けが可能となる。

　なお、必要に応じて、光異性化および硬化の一方、あるいは、両方を加熱下で行ってもよい。加熱する際の温度としては２５～１４０℃が好ましく、３０～１００℃がより好ましい。

　光異性化によってＨＴＰが変化するカイラル剤を用いる方法の別の方法として、先にパターン状に硬化を行い、その後に未硬化の領域の異性化を行う方法もある。
　すなわち、配向させたコレステリック液晶相に対して、まず硬化のための光照射を露光マスク等を使用してパターン状に行う。その後、全面に光異性化のための光照射を行う。先に硬化がなされた領域は、もはや光異性化によるピッチ変化が起こりえない。そのため、先に硬化がなされていない領域のみで光異性化によるピッチ変化が起き、反射波長の変化が起きる。
　この場合もパターンを得た後にコレステリック液晶層全体に液晶組成物の硬化のための露光を行い、液晶組成物を重合させることで、最終的なパターン状コレステリック液晶層を得ることができる。

〔各層の直接塗布〕
　上述のように、本発明の第１実施形態の光学フィルムは、複数層のコレステリック液晶層を積層したものであってもよい。
　この際においては、各コレステリック液晶層の間には、貼着層を有さずに、直接、隣の層が形成されることが好ましい。層を形成する際、すでに形成されている隣接層の上に直接塗布を行うことで、貼着層をなくすことができる。以下の説明では、コレステリック液晶層を『光反射層』ともいう。
　さらに、面内の全ての方向で屈折率差を小さくするために、液晶化合物の配向方向（遅相軸方向）が界面で連続的に変化するように配置することが好ましい。例えば、円盤状液晶を含有する光反射層上に、棒状液晶を含有する光反射層を形成する場合、棒状液晶を含有する塗布液を直接塗布し、円盤状液晶を含有する光反射層の円盤状液晶による配向規制力によって、遅相軸方向が界面で連続をなすように配向させることもできる。

〔各層の貼着方法〕
　上述のように、本発明の第１実施形態の光学フィルムは、複数層のコレステリック液晶層（光反射層）を積層したものであってもよい。この際においては、各光反射層は任意の貼着方法で貼着することもできる。貼着は、粘着剤および接着剤等を用いて行うことができる。
　粘着剤としては、市販の粘着剤を任意に用いることができる。ここで光学フィルムの薄型化の観点、および、表面粗さＲａを低減する観点から、粘着剤の厚さは、２５μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、６μｍ以下がさらに好ましい。また、粘着剤は、アウトガスが生じにくいものであることが好ましい。特に、延伸や成形を行う場合、真空プロセスや加熱プロセスを経る場合があるが、それらの条件においてもアウトガスが出ないことが好ましい。
　接着剤としては、市販の接着剤等を任意に用いることができる。具体的には、接着剤としては、エポキシ樹脂系の接着剤、および、アクリル樹脂系の接着剤が例示される。
を用いることができる。
　ここで光学フィルムの薄型化の観点、および、表面粗さＲａを低減する観点から、接着剤の厚さは、２５μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、１μｍ以下がさらに好ましい。また、接着剤は、接着剤層を薄くする観点、および、被着体に対し接着剤を均一な厚みで塗布する観点から、粘度が３００ｃＰ以下であるのが好ましく、１００ｃＰ以下がより好ましい。
　また、被着体が表面凹凸を有している場合には、粘着剤および接着剤は、コレステリック液晶層の表面粗さＲａを低減する観点から、接着する層の表面凹凸を包埋できるよう、適切な粘弾性または厚みを選択することもできる。表面凹凸を包埋する観点からは、粘着剤および接着剤は、粘度が５０ｃＰ以上であることが好ましい。また、厚みは、表面凹凸の高さよりも厚いことが好ましい。
　接着剤の粘度を調整する方法としては、例えば、溶剤を含む接着剤を用いる方法が挙げられる。この場合、溶剤の比率によって接着剤の粘度を調整することができる。また、接着剤を被着体に塗布した後、溶剤を乾燥させることで、接着剤の厚みをより低減することができる。

　コレステリック液晶層において、余計な反射を低減し、透過光の偏光度の低下を抑制する観点からは、各層の接着に用いる粘着剤および接着剤は、隣接する層との屈折率差が小さいことが好ましい。液晶層は複屈折を持つため、進相軸方向と遅相軸方向の屈折率が異なるので、進相軸方向と遅相軸方向の屈折率を足して２で割った値をその液晶層の平均屈折率ｎaveとした時に、隣接する粘着層または貼着層の屈折率はｎaveとの差が、０．０７５以下であるのが好ましく、０．０５以下であるのがより好ましく、０．０２５以下であるのがさらに好ましい。粘着剤および接着剤の屈折率は、例えば、酸化チタンの微粒子やジルコニアの微粒子等を混合し、調整することができる。
　また、コレステリック液晶層は、面内に屈折率の異方性を有するが、面内における全ての方向において、隣接する層との屈折率差が０．１０以下であることが好ましい。そのため、粘着剤や接着剤は、面内に屈折率異方性を有するものであってもよい。この点に関しては、本発明の第１実施形態の光学フィルム（コレステリック液晶層）を用いる積層光学体が、面内に屈折率の異方性を有する位相差層および直線偏光子を含む場合でも同様である。
　また、本発明の第１実施形態の光学フィルムが複数層のコレステリック層で構成される場合には、コレステリック液晶層と粘着剤との間、または、コレステリック液晶層と接着剤との間に、進相軸方向と遅相軸方向の屈折率の差がコレステリック液晶層よりも小さい屈折率調整層を有して良い。この場合、屈折率調整層はコレステリック液晶を有することが好ましい。屈折率調整層を有することで、界面反射をより抑制でき、ゴーストの発生をより抑制できる。また、屈折率調整層の平均屈折率はコレステリック液晶層の平均屈折率よりも小さいことが好ましい。また、屈折率調整層の反射光の中心波長は４３０ｎｍより小さいか６７０ｎｍより大きくても良く、４３０ｎｍより小さいことがより好ましい。

　また、各コレステリック液晶層の間の貼着層は、厚みが１００ｎｍ以下であるのが好ましい。
　貼着層の厚みが１００ｎｍ以下であると、可視域の光は屈折率差を感じにくくなり、余計な反射を抑制することができる。貼着層の厚みは、５０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　厚みが１００ｎｍ以下の貼着層を形成する方法としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ層）などのセラミック接着剤を貼合面に蒸着する方法があげられる。
　貼合部材の貼合面は、貼合前にプラズマ処理、コロナ処理および鹸化処理等の表面改質処理を施してもよい。また、貼合部材の貼合面には、プライマー層を設けてもよい。
　また、貼合面が複数ある場合は、貼合面毎に貼着層の種類および厚みを調整してもよい。する事ができる。具体的には、例えば、以下（１）～（３）に示す手順で、厚みが１００ｎｍ以下である貼着層を設けることができる。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合する。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、蒸着等により、厚さ１００ｎｍ以下のＳｉＯｘ層を形成する。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、例えばアルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）等を用いて行うことができる。また、形成したＳｉＯｘ層の表面にプラズマ処理を施しておく事が好ましい。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を貼合した後、仮支持体を剥離する。貼合は、例えば、１２０℃の温度で実施する事が好ましい。

　各層の塗布、接着および貼合は、ロール・トウ・ロールで行ってもよいし、枚葉で行ってもよい。
　ロール・トウ・ロール方式は、生産性を向上できる点、および、各層の軸ずれを低減できる点等で好ましい。
　一方、枚葉方式は、少量、多品種生産に適している点、および、上述した、貼着層の厚みが１００ｎｍ以下であるような、特殊な接着方法を選択できる点等で、好ましい。
　また、接着剤を被着体に塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

　上述のように、本発明の第１実施形態の光学フィルムであるコレステリック液晶層は、他の層と積層されて積層光学体として用いることもできる。これらの層としては、支持体および配向層等を含んでいてもよい。
　ここで、支持体および配向層は、積層光学体を作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、コレステリック液晶層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学体を薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、および、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレート、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレート等のフィルムが好ましい。また、これらのフィルムは、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、セルロースアセテートフィルムであれば、市販品としては、富士フイルム社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等が例示される。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。この点では、ポリカーボネートおよびポリエステル系のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、支持体は、Ｒｅ（面内レタデーション）が１０ｎｍ以下であるのが好ましく、Ｒｔｈ（厚さ方向のレタデーション）の絶対値が５０ｎｍ以下であるのが好ましい。なお、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、積層光学体の製造工程において、コレステリック液晶層やその他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内には、アイトラッキング、表情認識、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種のセンサーが組み込まれる場合がある。この場合において、センサーへの影響を最小限に抑えるためには、コレステリック液晶層は、近赤外光に対して透過性であるのが好ましい。

〔積層光学体〕
　上述のように、本発明の第１実施形態の光学フィルム（コレステリック液晶層）は、その他のフィルム状の光学素子と積層した、積層光学体として用いてもよい。
　ここで、積層光学体としては、コレステリック液晶層に加え、円偏光を直線偏光に変換する位相差層、および、直線偏光子を、この順で有する構成が好ましく例示される。

　本発明の第１実施形態の光学レンズ、および、本発明の第１実施形態の光学フィルム（コレステリック液晶層）を含む積層光学体は、レンズと組み合わせて複合レンズとして用いてもよい。この複合レンズの好適な利用例として、仮想現実表示装置が好適に例示される。
　以下、仮想現実表示装置の作用を説明することにより、本発明の第１実施形態の光学フィルム（コレステリック液晶層）を含む積層光学体の作用を詳細に説明する。

　図１は、積層光学体を用いた仮想現実表示装置を概念的に示す図である。
　図１に示す仮想現実表示装置は、画像表示パネル５００、円偏光板４００、ハーフミラー３００、レンズ２００、および、積層光学体１００を有する。上述のように、積層光学体１００は、コレステリック液晶層、位相差層および直線偏光子を、この順で有する。
　図１に示す仮想現実表示装置において、画像表示パネル５００が出射した光線１０００（表示画像）は、円偏光板４００を透過して円偏光となり、半分がハーフミラー３００を透過する。
　ハーフミラー３００を透過した光線１０００は、次いで、レンズ２００を透過して、積層光学体１００にコレステリック液晶層の側から入射して、右円偏光または左円偏光が反射される。
　コレステリック液晶層で反射された円偏光は、レンズ２００を再び透過した後、ハーフミラー３００で再び反射され、再度、レンズ２００を透過して積層光学体１００に入射する。ここで、光線１０００の円偏光状態は、積層光学体（コレステリック液晶層）で反射されたときには変化せず、ハーフミラー３００で反射されたときに、最初に積層光学体１００に入射したときの円偏光と直交する円偏光に変化する。すなわち、右円偏光は左円偏光に、左円偏光は右円偏光に変化する。従って、ハーフミラー３００で反射された光線１０００は積層光学体１００を透過し、ユーザーに視認される。
　さらに、光線１０００は、ハーフミラー３００で反射される際、ハーフミラーが凹面鏡の形状になっていることにより、像は拡大され、ユーザーは拡大された虚像を視認することができる。このような光学系はパンケーキレンズ（往復光学系、折り返し光学系）と呼ばれている。

　一方、図２は、光線１０００が一度目に積層光学体１００に入射したとき、反射されずに不要に透過し、漏れ光２０００となった場合を表す模式図である。具体的には、漏れ光２０００は、例えば、積層光学体１００（コレステリック液晶層）が右円偏光を選択的に反射する場合に、右円偏光の光線１０００が一度目に積層光学体１００に入射した際に、反射されずに不要に透過した光である。
　図２に示されるように、このとき、ユーザーは拡大されていない像である漏れ光２０００を視認することになる。この像はゴースト等と呼ばれ、低減することが求められる。
　コレステリック液晶層は、本来、位相差（面内レタデーション）を有さない。しかしながら、図１および図２に示す仮想現実表示装置では、積層光学体１００すなわちコレステリック液晶層が凹面鏡状に成形されている。そのため、このコレステリック液晶層は、面内において部分的に螺旋軸が変化してしまい、その結果、位相差が生じてしまう。位相差を有するコレステリック液晶層は、入射光を適正に反射および透過させることができなくなる。そのため、このようなコレステリック液晶層を仮想現実表示装置を構成するパンケーキレンズに用いると、漏れ光２０００すなわちゴーストが増加してしまう。
　これに対して、本発明の第１実施形態の光学フィルム（コレステリック液晶層）は、上述のように、曲面形状を有し、さらに、面内レタデーションの評価波長（測定波長）をコレステリック液晶層における選択反射中心波長よりも短い側の半値波長から２０ｎｍを減じた波長として、コレステリック液晶層の中心での評価波長における面内レタデーションＡが評価波長の２％の値未満であり、かつ、コレステリック液晶層の外縁部での評価波長における面内レタデーションＢが評価波長の２％の値未満である。すなわち、本発明の第１実施形態の光学フィルムは、全面的に位相差が小さい。
　そのため、本発明の第１実施形態の光学フィルムを有する積層光学体１００を用いる仮想現実表示装置は、曲面形状を有する光学フィルムすなわちコレステリック液晶層を用いているにも関わらず、ゴーストの発生を抑制できる。
　また、このような全面的に位相差が小さい光学フィルムは、後述する本発明の第１実施形態の成形方法で作製できる。

　積層光学体１００の一形態の層構成を図３に示す。
　図３に示す積層光学体１００は、反射防止層１０１、ポジティブＣプレート１０２、光学フィルム１０３、ポジティブＣプレート１０４、位相差層１０５、および、直線偏光子１０６を、この順で有する。光学フィルム１０３は、本発明の第１実施形態の光学フィルムであり、コレステリック液晶層である。
　積層光学体１００は、光学フィルム１０３、円偏光を直線偏光に変換する位相差層１０５、および、直線偏光子１０６をこの順で有する。ここで、位相差層１０５および直線偏光子１０６は、光学フィルム１０３が、本来、反射する円偏光を、直線偏光子が吸収する方向の直線偏光子に変換するように設定される。積層光学体１００によれば、光学フィルム１０３（コレステリック液晶層）からの漏れ光を直線偏光子によって吸収することができる。そのため、透過光の偏光度を高めることができる。
　なお、積層光学体を成形した際には、コレステリック液晶層に位相差が生じる懸念があるが、上述の通り、本発明の第１実施形態のコレステリック液晶層は、延伸や成形を行っても位相差はが小さいままであり、コレステリック液晶層からの漏れ光の光量は小さいため、漏れ光の増加はわずかな量に抑えられる。

　上述のように、本発明の第１実施形態の光学フィルムは、複数のコレステリック液晶層で構成されてもよい。図４に、この構成の一例を示す。
　この光学フィルム１０３は、第１の光反射層（コレステリック液晶層）３１、第２の光反射層３２、第３の光反射層３３、および、第４の光反射層３４を、順で有する。このような光学フィルム１０３としては、一例として、上述した、波長４６０ｎｍの反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５５０ｎｍの反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６００ｎｍの反射率が４０％以上である黄色光反射層と、波長６５０ｎｍの反射率が４０％以上である赤色光反射層と、を有する光学フィルムが例示される。

　また、積層光学体は、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下であるのが好ましい。
　Ｒａが小さいと、例えば、積層光学体を仮想現実表示装置等に使用した場合、画像の鮮鋭性を向上させることができるため、好ましい。本発明者らは、積層光学体において光が反射される際、凹凸があると、反射光の角度が歪み、像の歪みやボケに繋がると推定している。積層光学体のＲａは、５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　また、積層光学体は、多数の層を積層して作製される。本発明者らの検討によれば、凹凸のある層に別の層を積層した場合、凹凸が増幅される場合があることがわかった。従って、積層光学体においては、全ての層について、Ｒａが小さいことが好ましい。積層光学体の各層は、それぞれ、Ｒａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　また、反射像の画像鮮鋭性を高める観点では、特に、コレステリック液晶層のＲａが小さいことが好ましい。
　表面粗さＲａは、例えば、非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ(菱化システム社製)を用いて測定することができる。Ｖｅｒｔｓｃａｎは試料からの反射光の位相を利用した表面形状計測法であるため、コレステリック液晶層を測定する場合はフィルム内部からの反射光が重畳してしまって表面形状を正確に測れない場合がある。この場合、表面の反射率を高めて、さらに内部からの反射を抑制するために試料の表面に金属層を形成しても良い。試料の表面に金属層を形成する主な方法としてはスパッタ法が用いられる。スパッタする材料としては、Ａｕ、Ａｌ、Ｐｔなどが用いられる。

　積層光学体は、単位面積当たりの点欠陥数が小さいのが好ましい。点欠陥は、透過光の偏光度の低下や、画像鮮鋭度の低下につながるため、少ないことが好ましい。
　積層光学体は多数の層を積層して作製されるため、積層光学体全体として点欠陥数を小さくするためには、各層における点欠陥数も小さいことが好ましい。具体的には、各層の点欠陥数は、１平方メートルあたり、２０個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、１個以下がさらに好ましい。また、積層光学体全体としては、点欠陥数は、１平方メートルあたり、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、５個以下がさらに好ましい。
　この点欠陥の個数は、好ましくは、サイズが１００μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、さらに好ましくは１０μｍ以上の点欠陥の個数を数える。
　なお、点欠陥とは、異物、キズ、汚れ、膜厚変動、および、液晶化合物の配向不良等を含む。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内には、アイトラッキング、表情認識、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種のセンサーが組み込まれる場合がある。この場合において、センサーへの影響を最小限に抑えるためには、積層光学体は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

〔位相差層〕
　積層光学体に用いる位相差層は、円偏光を入射したとき、出射光をおよそ直線偏光に変換する機能を有する。
　位相差層としては、例えば、可視域の波長のいずれかにおいて面内レタデーションＲｅがおよそ１／４波長となる位相差層を用いることができる。一例として、位相差層は、波長５５０ｎｍにおいて面内レタデーションＲｅ（５５０）が１２０～１５０ｎｍであるのが好ましく、１２５～１４５ｎｍであるのがより好ましく、１３５～１４０ｎｍであるのがさらに好ましい。
　また、Ｒｅがおよそ３／４波長や、およそ５／４波長となる位相差層も、直線偏光を円偏光に変換することができるため、好ましい。

　また、積層光学体に用いる位相差層は、波長に対して逆分散性を有していることが好ましい。
　位相差層が逆分散性を有していると、可視域の広い波長範囲に亘って円偏光を直線偏光に変換することが可能になるため、好ましい。ここで、波長に対して逆分散性を有するとは、波長が大きくなるに伴い、該波長における位相差の値が大きくなることをいう。
　逆分散性を有する位相差層は、例えば、特開２０１７－０４９５７４号公報等を参照して、逆分散性を有する変性ポリカーボネート樹脂フィルム等のポリマーフィルムを一軸延伸することによって作製することができる。
　また、逆分散性を有する位相差層は、実質的に逆分散性を有していればよく、例えば、特許第０６２５９９２５号公報に開示されているように、Ｒｅがおよそ１／４波長となる位相差層と、Ｒｅがおよそ１／２波長となる位相差層を、互いの遅相軸がおよそ６０°の角をなすように積層することによっても作製することができる。このとき、１／４波長位相差層と１／２波長位相差層とがそれぞれ順分散性（波長が大きくなるに伴い、該波長における位相差の値が小さくなる）であっても、可視域の広い波長範囲に亘って円偏光を直線偏光に変換でき、実質的に逆分散性を有するとみなせることが知られている。この場合、積層光学体は、コレステリック液晶層と、１／４波長位相差層と、１／２波長位相差層と、直線偏光子とをこの順で有することが好ましい。

　また、積層光学体に用いる位相差層は、一様配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。
　このような位相差層としては、例えば、棒状液晶化合物を面内方向に対し水平に一様配向させた層、および、円盤状液晶化合物を面内方向に対し垂直に一様配向させた層等を用いることができる。さらに、例えば、特開２０２０－０８４０７０号公報等を参照して、逆分散性を有する棒状液晶化合物を一様配向させ、固定化することによって作製した、逆分散性を有する位相差層も利用可能である。

　また、積層光学体に用いる位相差層は、厚み方向を螺旋軸として捩れ配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。
　例えば、特許第０５７５３９２２号公報、および、特許第０５９６０７４３号公報等に開示されているように、厚み方向を螺旋軸として捩れ配向した棒状液晶化合物あるいは円盤状液晶化合物を固定化してなる層を有する位相差層を用いることもできる。この場合、位相差層は実質的に逆分散性を有するとみなすことができるため、好ましい。

　位相差層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。

　位相差層は、支持体および配向層等を含んでいてもよい。
　なお、支持体および配向層は、積層光学体を作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、位相差層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学体を薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、および、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、ポリメタクリレートが好ましい。支持体は、市販品も利用可能である。市販品の一例として、セルロースアセテートフィルムであれば、富士フイルム社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等が例示される。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。この点からは、ポリカーボネートおよびポリエステル系のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、支持体は、面内レタデーションが１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ法y工のレタデーションＲｔｈの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。また、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、積層光学体の製造工程において、位相差層やその他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内には、アイトラッキング、表情認識および虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種のセンサーが組み込まれる場合がある。この場合において、センサーへの影響を最小限に抑えるためには、積層光学体に用いる位相差層は近赤外光に対して透過性であるのが好ましい。

〔直線偏光子〕
　積層光学体に用いる直線偏光子は、吸収型の偏光子であり、入射光のうち吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する。
　直線偏光子としては一般的な偏光子を用いることができる。一例として、ポリビニルアルコールおよびその他の高分子樹脂に二色性物質を染着し、延伸することで配向させた偏光子、ならびに、液晶化合物の配向を利用して二色性物質を配向させた偏光子が例示される。入手性の観点、偏光度を高める観点では、ポリビニルアルコールをヨウ素で染色し、延伸した偏光子が好ましい。
　直線偏光子の厚みは、１０μｍ以下が好ましく、７μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。直線偏光子が薄いと、積層光学体を延伸したり、成形したりした場合に、フィルムのクラックや破断を防止することができる。
　また、直線偏光子の単板透過率は、４０％以上が好ましく、４２％以上がより好ましい。また、偏光度は、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９９％以上がさらに好ましい。なお、本明細書において、直線偏光子の単板透過率および偏光度は、自動偏光フィルム測定装置：ＶＡＰ－７０７０（日本分光社製）を用いて測定する。
　また、直線偏光子の透過軸の方向は、位相差層によって直線偏光に変換された光の偏光軸の方向に一致していることが好ましい。例えば、位相差層が１／４波長の位相差を有する層である場合、直線偏光子の透過軸と位相差層の遅相軸とのなす角は、およそ４５°であることが好ましい。

　積層光学体に用いる直線偏光子は、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層であることも好ましい。液晶化合物と二色性物質を含有してなる直線偏光子は、厚みを薄くすることができ、かつ、延伸や成形を行ってもクラックや破断を生じにくいため、好ましい。光吸収異方性層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。
　液晶化合物と二色性物質を含有してなる直線偏光子は、例えば、特開２０２０－０２３１５３号公報等を参照して作製することができる。
　直線偏光子の偏光度を向上する観点からは、光吸収異方性層は、二色性物質の配向度が０．９５以上であることが好ましく、０．９７以上であることがより好ましい。

　直線偏光子が、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層からなる場合、直線偏光子は、支持体および配向層等を含んでいてもよい。
　支持体および配向層は、積層光学体を作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、光吸収異方性層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学体を薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、ならびに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレートが好ましい。支持体は、市販品も利用可能である。市販品の一例として、セルロースアセテートフィルムであれば、富士フイルム社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等が例示される。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。この点では、ポリカーボネートおよびポリエステル系のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、支持体は、面内レタデーションＲｅが１０ｎｍ以下であるのが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈの絶対値が５０ｎｍ以下であるのが好ましい。また、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、積層光学体の製造工程において、光吸収異方性層やその他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内には、アイトラッキング、表情認識および虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種のセンサーが組み込まれる場合がある。この場合において、センサーへの影響を最小限に抑えるためには、積層光学体に用いる直線偏光子は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

〔その他の機能層〕
　積層光学体は、コレステリック液晶層、位相差層、および、直線偏光子に加え、その他の機能層を有していてもよい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内には、アイトラッキング、表情認識および虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種のセンサーが組み込まれる場合がある。この場合において、センサーへの影響を最小限に抑えるためには、積層光学体に用いるその他の機能性層は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

　＜ポジティブＣプレート＞
　図３に示されるように、積層光学体は、さらにポジティブＣプレートを有することも好ましい。ここで、ポジティブＣプレートとは、面内レタデーションＲｅが実質的にゼロであり、厚さ方向のレタデーションＲｔｈが負の値を有する位相差層である。
　ポジティブＣプレートは、例えば、棒状液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７－１８７７３２号公報、特開２０１６－５３７０９号公報、および、特開２０１５－２００８６１号公報などの記載を参酌できる。
　ポジティブＣプレートは、斜めから入射した光に対して、透過光の偏光度を高めるための、光学補償層として機能する。ポジティブＣプレートは、積層光学体の任意の場所に設置することができ、複数が設置されていてもよい。

　ポジティブＣプレートは、コレステリック液晶層に隣接して、または、コレステリック液晶層の内部に、設置してもよい。
　コレステリック液晶層として、例えば棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層を用いた場合、光反射層は正のＲｔｈを有する。このとき、コレステリック液晶層に対して斜め方向から光が入射した場合、Ｒｔｈの作用により反射光および透過光の偏光状態が変化し、透過光の偏光度が低下することがある。コレステリック液晶層の内部、または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化を抑制し、透過光の偏光度の低下を抑制できるため、好ましい。本発明者らの検討によれば、ポジティブＣプレートは、青色光反射層に対して緑色反射層とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。
　この場合のポジティブＣプレートの面内レタデーションＲｅは、１０ｎｍ以下であるのが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈは、－６００～－１００ｎｍが好ましく、－４００～－２００ｎｍがより好ましい。

　また、積層光学体において、ポジティブＣプレートは、位相差層に隣接して、または、位相差層の内部に、設置してもよい。
　位相差層として、例えば棒状液晶化合物を固定化してなる層を用いた場合、位相差層は正のＲｔｈを有する。このとき、位相差層に対して斜め方向から光が入射した場合、Ｒｔｈの作用により透過光の偏光状態が変化し、透過光の偏光度が低下することがある。位相差層の内部、または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化を抑制し、透過光の偏光度の低下を抑制できるため、好ましい。本発明者らの検討によれば、ポジティブＣプレートは位相差層に対して直線偏光子とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。
　この場合のポジティブＣプレートの面内レタデーションＲｅは、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈは、－９０～－４０ｎｍであることが好ましい。

　＜反射防止層＞
　積層光学体は、表面に反射防止層を有することも好ましい。
　積層光学体は、特定の円偏光を反射し、それと直交する円偏光を透過する機能を有するが、積層光学体の表面における反射は、一般的に意図しない偏光の反射を含み、それにより透過光の偏光度を低下させる。そのため、積層光学体は表面に反射防止層を有することが好ましい。
　反射防止層は、積層光学体の一方の表面にのみ設置されてもよいし、両面に設置されてもよい。
　反射防止層の種類は特に制限されないが、より反射率を低下させる観点から、モスアイフィルムおよびＡＲフィルムが好適に例示される。また、積層光学体を延伸したり、成形したりする場合には、延伸により膜厚が変動しても高い反射防止性能を維持できることから、モスアイフィルムがより好ましい。
　さらに、反射防止層が支持体を含んでもよい。反射防止層が支持体を含む際に、積層光学体の延伸および成形を行う場合には、延伸や成形を容易にする観点から、反射防止層の支持体はＴｇのピーク温度が１７０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがさらに好ましい。具体的には、支持体としては、例えば、ＰＭＭＡフィルム等が好ましい。

　＜第２の位相差層＞
　積層光学体は、さらに第２の位相差層を有することも好ましい。たとえば、積層光学体は、コレステリック液晶層、位相差層、直線偏光子、第２の位相差層を、この順で含んでいてもよい。
　第２の位相差層は、直線偏光を円偏光に変換するものであることが好ましく、たとえば、１／４波長のＲｅを有する位相差層が好ましい。その理由を、以下で説明する。
　積層光学体に対しコレステリック液晶層の側から入射し、コレステリック液晶層、位相差層および直線偏光子を透過した光は、直線偏光となっており、その一部は直線偏光子の側の最表面で反射されて、再びコレステリック液晶層の側の表面から出射する。このような光は余計な反射光であり、反射光の偏光度を低下させる要因になり得るため、低減することが好ましい。そこで、直線偏光子の側の最表面での反射を抑制するため、反射防止層を積層する方法もあるが、積層光学体がガラスやプラスチック等の媒体に貼合されて用いられる場合、積層光学体の貼合面に反射防止層を有していても、媒体の表面における反射を抑止することはできないため、反射防止効果が得られない。
　これに対して、直線偏光を円偏光に変換する第２の位相差層を設置した場合には、直線偏光子の側の最表面に到達した光は円偏光となり、媒体の最表面で反射した際に直交する円偏光に変換される。その後、再び第２の位相差層を透過し、直線偏光子に到達したとき、光は直線偏光子の吸収軸方位の直線偏光となっており、直線偏光子で吸収される。従って、余計な反射を防止することができる。
　余計な反射をより効果的に抑制する観点から、第２の位相差層は、実質的に逆分散性を有していることが好ましい。

　＜支持体＞
　積層光学体は、さらに支持体を有していてもよい。支持体は任意の場所に設置することができ、例えば、コレステリック液晶層、位相差層、または直線偏光子が、仮支持体から転写して用いるフィルムである場合、その転写先として支持体を用いることができる。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、ならびに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレートが好ましい。また、支持体は、市販品も利用可能である。市販品の一例として、セルロースアセテートフィルムであれば、富士フイルム社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等が例示される。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点、および、積層光学体の光学検査を容易にする観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、面内レタデーションＲｅが１０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さ方向のレタデーションＲｔｈの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。

　積層光学体が、延伸や成形を行われるものである場合、支持体は、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であることが好ましい。低温で成形が可能となる観点では、ｔａｎδのピーク温度が１５０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがさらに好ましい。

　ここで、ｔａｎδの測定方法について記載する。
　動的粘弾性測定装置（例えば、アイティー計測制御社製、ＤＶＡ－２００）を用いて、あらかじめ温度２５℃、湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿したフィルム試料について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”/Ｅ’）を求める値とする。
　装置:アイティー計測制御株式会社製　ＤＶＡ－２００
　試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
　測定条件:引張りモード
　測定温度:－１５０℃～２２０℃
　昇温条件:５℃/ｍｉｎ
　周波数:１Ｈｚ
　なお、一般的に光学用途においては、延伸処理がなされた樹脂基材を使用することが多く、延伸処理によって、ｔａｎδのピーク温度は高温になることが多い。例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）基材（富士フイルム社製、ＴＧ４０）は、ｔａｎδのピーク温度は１８０℃以上となる。

　ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である支持体は、特に制限なく様々な樹脂基材が使用可能である。
　一例として、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステルおよびポリアクリル酸エステル等のアクリル系樹脂；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。中でも、市場から容易に入手できる、透明性に優れている等の点から、好ましくは、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートおよびアクリル系樹脂等が好適に例示され、特に好ましくは、環状オレフィン系樹脂およびポリメタクリル酸エステルが例示される。

　市販の樹脂基材としては、テクノロイＳ００１Ｇ、テクノロイＳ０１４Ｇ、テクノロイＳ０００、テクノロイＣ００１およびテクノロイＣ０００（住化アクリル販売社）、ルミラーＵタイプ、ルミラーＦＸ１０およびルミラーＳＦ２０（東レ社製）、ＨＫ－５３Ａ（東山フィルム社製）、テフレックスＦＴ３（帝人デュポンフィルム社製）、エスシーナおよびＳＣＡ４０（積水化学工業社製）、ゼオノアフィルム（オプテス社製）、ならびに、アートンフィルム（ＪＳＲ社製）などが挙げられる。

　支持体の厚みは特に制限されないが、５～３００μｍが好ましく、５～１００μｍがより好ましく、５～３０μｍがさらに好ましい。

〔各層の接着方法〕
　積層光学体は、多数の層からなる積層体である。各層は任意の貼着方法で貼着することもでき。貼着は、粘着剤および接着剤等を用いて行うことができる。
　粘着剤としては、市販の粘着剤を任意に用いることができる。ここで、薄型化の観点、および、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点から、粘着剤は厚みは２５μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、６μｍ以下がさらに好ましい。また、粘着剤は、アウトガスが生じにくいものであることが好ましい。特に、積層光学体の延伸および成形等を行う場合、真空プロセスや加熱プロセスを経る場合があるが、それらの条件においてもアウトガスが出ないことが好ましい。
　接着剤としては、市販の接着剤等を任意に用いることができる。接着剤としては、ば、エポキシ樹脂系の接着剤およびアクリル樹脂系の接着剤等が例示される。
　接着剤は、薄型化の観点、および、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点から、厚みが２５μｍ以下であるのが好ましく、５μｍ以下であるのがより好ましく、１μｍ以下であるのがさらに好ましい。また、接着剤は、接着剤層を薄くする観点、および、被着体に対し接着剤を均一な厚みで塗布する観点から、粘度が３００ｃＰ以下であるのが好ましく、１００ｃＰ以下がより好ましく、１０ｃＰ以下がさらに好ましい。
　また、被着体が表面凹凸を有している場合には、粘着剤や接着剤は、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点から、接着する層の表面凹凸を包埋できるよう、適切な粘弾性または厚みを選択することもできる。表面凹凸を包埋する観点からは、粘着剤や接着剤は、粘度が５０ｃＰ以上であることが好ましい。また、厚みは、表面凹凸の高さよりも厚いことが好ましい。
　接着剤の粘度を調整する方法としては、例えば、溶剤を含む接着剤を用いる方法が挙げられる。この場合、溶剤の比率によって接着剤の粘度を調整することができる。また、接着剤を被着体に塗布した後、溶剤を乾燥させることで、接着剤の厚みをより低減することができる。

　積層光学体においては、余計な反射を低減し、透過光および反射光の偏光度の低下を抑制する観点からは、各層の接着に用いる粘着剤または接着剤は、隣接する層との屈折率差が小さいのが好ましい。具体的には、隣接する層の屈折率差は、０．１以下が好ましく、０．０５以下がより好ましく、０．０１以下がさらに好ましい。粘着剤または接着剤の屈折率は、例えば、酸化チタンの微粒子やジルコニアの微粒子等を混合することで調整することができる。
　また、コレステリック液晶層、位相差層、および直線偏光子は、面内において屈折率の異方性を有するが、面内における全ての方向において、隣接する層との屈折率差が０．０５以下であるのが好ましい。そのため、粘着剤や接着剤は、面内に屈折率異方性を有するものであってもよい。

　また、各層の間の貼着層は、厚みが１００ｎｍ以下であるのが好ましい。貼着層の厚みが１００ｎｍ以下であると、可視域の光は屈折率差を感じにくくなり、余計な反射を抑制することができる。貼着層の厚みは、５０ｎｍ以下がより好ましい。
　厚みが１００ｎｍ以下の貼着層を形成する方法としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ層）などのセラミック接着剤を貼合面に蒸着する方法があげられる。貼合部材の貼合面は、貼合前にプラズマ処理、コロナ処理、および、鹸化処理等の表面改質処理を施してもよい。また、貼合部材の貼合面には、プライマー層を設けてもよい。
　さらに、貼合面が複数ある場合は、貼合面毎に貼着層の種類や厚みを調整する事ができる。具体的には、例えば、以下（１）～（３）に示す手順で、厚みが１００ｎｍ以下である貼着層を設けることができる。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合する。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、蒸着等により、厚さ１００ｎｍ以下のＳｉＯｘ層を形成する。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、例えばアルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）等を用いて行うことができる。また、形成したＳｉＯｘ層の表面にプラズマ処理を施しておく事が好ましい。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を貼合した後、仮支持体を剥離する。貼合は、例えば、１２０℃の温度で実施する事が好ましい。

　各層の塗布、接着、または貼合は、ロール・トウ・ロールで行ってもよいし、枚葉で行ってもよい。ロール・トウ・ロール方式は、生産性を向上できる、各層の軸ずれを低減できる等の観点で好ましい。
　一方、枚葉方式は、少量、多品種生産に適している、上述した、貼着層の厚みが１００ｎｍ以下であるような、特殊な接着方法を選択できる等の観点で、好ましい。
　また、接着剤を被着体に塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

〔各層の直接塗布〕
　積層光学体の各層の間には、貼着層を有さないことも好ましい。層を形成する際、すでに形成されている隣接層の上に直接塗布を行うことで、貼着層をなくすことができる。
　さらに、隣接する層の一方、または両方が液晶化合物を含む層である場合、面内の全ての方向で屈折率差を小さくするために、液晶化合物の配向方向が界面で連続的に変化するようにすることが好ましい。例えば、液晶化合物と二色性物質を含有する直線偏光子に対して、液晶化合物を含有する位相差層を直接塗布し、直線偏光子の液晶化合物による配向規制力によって、位相差層の液晶化合物が界面で連続をなすように配向させることもできる。

〔各層の積層の順序〕
　積層光学体は多数の層からなるが、それらを積層する工程の順序には特に制限がなく、任意に選択することができる。
　例えば、仮支持体と機能層からなるフィルムから、機能層を転写する場合には、転写先のフィルムの厚みが１０μｍ以上になるように積層順序を調整することで、転写時のシワおよびクラック等が生じることを抑制できる。
　また、積層光学体は、表面凹凸が大きい層の上に別の層を積層した場合、表面凹凸がさらに増幅される場合がある。従って、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点からは、ため、表面粗さＲａが小さい層から順に積層していくことが好ましい。
　さらに、積層光学体の作製工程における品質評価の観点から、積層の順序を選択することもできる。例えば、コレステリック液晶層を除く層を積層し、透過光学系による品質評価を実施した後に、コレステリック液晶層を積層し、反射光学系での品質評価を実施することができる。
　また、積層光学体の製造歩留まりを向上させたり、コストを低減したりする観点から、積層の順序を選択することもできる。

　なお、本発明の第１実施形態の光学フィルムの第２の態様は、コレステリック液晶層ではなく、選択反射性を有さないフィルムである。
　この光学フィルムを用いる積層光学体は、公知の各種の光学素子が利用可能であり、各光学素子に関しては、上述の記載に準じる。

＜複合レンズ＞
　複合レンズの一形態は、レンズと本発明の第１実施形態の光学フィルムとを有する。あるいは、複合レンズの一形態は、レンズと、本発明の第１実施形態の光学フィルムを含む積層光学体とを有する。図１に示すように、レンズの片面にはハーフミラーが形成されていても良い。
　レンズとしては凸レンズ、凹レンズを使用することができる。凸レンズとしては両凸レンズ、平凸レンズ、凸メニスカスレンズを使用することができる。凹レンズとしては両凹レンズ、平凹レンズ、凹メニスカスレンズを使用することができる。
　仮想現実表示装置に使用するレンズとしては、視野角拡大のために凸メニスカスレンズおよび凹メニスカスレンズが好ましく例示され、さらに色収差を少なく抑えられる点で凹メニスカスレンズがより好ましい。
　レンズの形成材料としては、ガラス、結晶、および、プラスチック等、可視光に対して透明なものを用いることができる。レンズの複屈折は虹ムラや漏れ光の原因となるため、小さい方が好ましく、複屈折ゼロ材料がより好ましい。

＜仮想現実表示装置＞
　図１に示すように、仮想現実表示装置の一形態は、少なくとも偏光を出射する画像表示パネルと、本発明の第１実施形態の光学フィルムを含む複合レンズとを含む。また、その他にハーフミラーや視度調整レンズ等、付加的な光学部材を有していても良い。

＜画像表示パネル＞
　本発明の第１実施形態の光学フィルムを利用する仮想現実表示装置において、画像表示パネル（画像表示装置）は、公知の画像表示装置を用いることができる。
　具体的には、画像表示パネルとしては、
たとえば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置等の自発光型の微細な発光体を透明基板上に配列した表示装置が例示される。これら自発光型の表示装置は、通常、表示面の反射防止のため表示面に（円）偏光板が貼合されている。そのため、出射光は偏光している。
　また、その他の画像表示装置としては液晶表示装置が例示される。液晶表示装置もまた、表面に偏光板を有するため、出射光は偏光している。以下の説明では、有機エレクトロルミネッセンス表示装置をＯＬＥＤともいう。ＯＬＥＤとは『Organic Light Emitting Diode』の略である。

＜成形方法＞
　上述のように、本発明の第１実施形態の光学フィルムは、球面、放物面、楕円面、および、非球面等のガウス曲率が正である非可展面の曲面形状を有するものである。
　このような曲面形状を有する光学フィルム（積層光学体）は、平面状の光学フィルムを作成して、この光学フィルムをモールドに押し付けて曲面形状に成形し、最後に、成形した光学フィルムを目的とする光学素子の形状、例えば、円形の平面形状を有するレンズであれば円形など、目的とする形状などに裁断することで形成する。
　平面の光学フィルムを、このような曲面形状の光学フィルムに成形する本発明の第１実施形態の成形方法（成型方法）は、光学フィルムあるいはモールドを加熱する工程（加熱工程）、加熱した光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程（成形工程）、および、成形した光学フィルムを裁断する工程（裁断工程）、を含む。なお、以下に示す成形方法は、本発明の第１実施形態の光学フィルムを含む積層光学体の成形も含む。
　以下の説明では、曲面形状に成形される平面状の光学フィルムを、便宜的に、『被成形フィルム』ともいう。

〔加熱工程（光学フィルムを加熱する工程）〕
　加熱工程において、被成形フィルムを加熱する方法には、制限はなく、公知の方法が、各種、利用可能である。
　一例として、加熱した固体へ接触させることによる加熱、加熱した液体へ接触させることによる加熱、加熱した気体へ接触させることによる加熱、赤外線を照射することによる加熱、および、マイクロ波を照射することによる加熱等が例示される。中でも、成形直前に遠隔で加熱ができる点で、赤外線を照射することによる加熱が好ましい。
　なお、加熱工程では、被成形フィルムに代えて、モールドを加熱してもよい。この場合のモールドの加熱も、公知の方法で行えばよい。

　加熱に用いる赤外線の波長には制限はないが、１．０～３０．０μｍが好ましく、１．５～５μｍがより好ましい。
　赤外線の光源（ＩＲ光源）としては、石英管にタングステンフィラメントを不入した近赤外ランプヒータ、および、石英管を多重化して石英管間の一部をエアで冷却する機構とした波長制御ヒータ等が例示される。
　また、被成形フィルム上に赤外線の照射量に分布をつけることで、成形中の物性値を目的に応じて制御することができる。赤外線の照射量に分布（強度分布）を付ける方法としては、公知の方法が利用可能である。一例として、ＩＲ光源の配置の密度に粗密を付ける方法、および、ＩＲ光源と被成形フィルムとの間に赤外光に対する透過率をパターン化したフィルターを配置する方法等が例示される。
　透過率をパターン化したフィルターとしては、ガラスに金属を蒸着したフィルター、選択的な反射波長帯域が赤外線であるコレステリック液晶層を設けたフィルター、選択的な反射波長帯域が赤外線である誘電体多層膜を設けたフィルター、および、赤外線を吸収するインクを塗布したフィルターなどが例示される。
　加熱工程において、被成形フィルムの温度制御は照射する赤外線の量で制御すればよい。一例として、赤外線の照射時間で制御する方法、および、照射する赤外線の照度で制御する方法が例示される。なお、被成形フィルムの温度は、例えば非接触放射温度計および熱電対等を用いてモニターし、目的とする温度にすることが可能である。

　なお、加熱工程では、被成形フィルムに代えて、モールドを加熱してもよい。この場合のモールドの加熱も、公知の方法で行えばよい。

〔成形工程（被成形フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程）〕
　成形工程において、被成形フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる方法としては、例えばモールドが凹面である場合には、成形空間の減圧、および、加圧等が例示される。また、モールドが凸面である場合には、モールドを押し込む方法を用いることも可能である。

〔光学フィルムを裁断する工程〕
　成形した光学フィルムを任意の形状に切り出す方法としては、カッター、ハサミ、カッティングプロッター、および、レーザー裁断機などを用いることができる。

　本発明の第１実施形態の曲面形状を有する光学フィルムは、コレステリック液晶層、または、選択反射性を有さない光学フィルムを曲面形状に成形してなるものである。
　コレステリック液晶層は、基本的に位相差（面内レタデーション）を有さない。また、本発明において、選択反射性を有さない光学フィルムは、好ましくは低複屈折性の高分子樹脂からなる位相差が小さい光学フィルムであり、具体的には、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１１ｎｍ未満の光学フィルムである。なお、本発明において、位相差とは、特に断りが無い場合には、面内位相差（面内方向の位相差）である。
　ここで、本発明者らの検討によれば、このような光学フィルム（被成形フィルム）を加熱して曲面形状に成形すると、部分的に延伸の量および方向が異なってしまい、その結果、面内に位相差を生じてしまう。

　一例として、図６に概念的に示すように、被成形フィルムＦを、球面の凹面のモールドＭに押し付けて成形する場合を例に説明する。
　このような成形を行う場合、成形後の光学フィルムＦは、中央部と外縁部（端部）とで、延伸の状態が異なる。具体的には、この場合には、光学フィルムＦの中央部では、フィルムが周方向および直径方向の両方に延伸される。これに対して、光学フィルムＦすなわち球面のモールドＭの外縁部では、周方向への延伸は殆どなく、直径方向のみが延伸される。
　すなわち、この場合には、光学フィルムＦは、中央部は全面的に均一に伸長されるのに対し、外縁部では、直径方向の一方向にのみ延伸される。このような延伸量の不均一性は、中央から外縁部に向かうに応じて大きくなる。言い換えれば、光学フィルムをモールドＭに押し付けることによって曲面形状に成形する際には、中央部では光学フィルムは等方的に延伸されるが、外縁部すなわち端部では延伸に異方性を有する。また、延伸の異方性は、中央から端部に向かって、漸次、大きくなる。

　その結果、コレステリック液晶層では、中央部における螺旋軸の変化は小さいが、外縁部および外縁部の近傍では螺旋軸が変化して、位相差が生じてしまう。位相差を有するコレステリック液晶層は、入射光を適正に反射および透過させることができなくなる。そのため、このようなコレステリック液晶層を仮想現実表示装置を構成するパンケーキレンズに用いると、不要な像が観察される、いわゆるゴースト（漏れ光）が増加してしまうのは、上述のとおりである。
　また、いわゆる低レタデーションフィルム（ゼロレタデーションフィルム）も、中央部は面方向に均一に延伸され、外縁部では直径方向のみに大きく延伸されると、外縁部および外縁部の近傍でフィルムの光学的な特性のバランスが崩れる。その結果、位相差が生じてしまい、成形された曲面形状を有する光学フィルムは、面内に位相差のバラつきを生じ、低レタデーションフィルムとしての機能が低下する。

　これに対して、本発明の第１実施形態の成形方法によれば、平面状の光学フィルム（被成形フィルム）を加熱して、モールドに押し付けて曲面形状に成形する際に位相差が生じることを抑制できる。
　その結果、本発明の第１実施形態の成形方法方によれば、上述のように、曲面形状を有するコレステリック液晶層、または、曲面形状を有する選択反射性を有さないフィルムからなり、全面的に位相差すなわち面内レタデーションが小さい、本発明の第１実施形態の光学フィルムを作製できる。

　以下、本発明の第１実施形態の成形方法について説明する。
　上述のように、本発明の第１実施形態の成形方法は、上述のように、平面状の光学フィルム（被成形フィルム）を加熱する加熱工程、加熱した被成形フィルムをモールドに押し付けて、モールドに沿って変形することで曲面形状に成形する成形工程、および、成形した光学フィルムを裁断する裁断工程を有するものである。
　本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様は、このような成形方法の加熱工程において、赤外線を照射することで被成形フィルムを加熱し、かつ、赤外線の照射量に面内分布を設ける。言い換えれば、本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様は、赤外線照射による被成形フィルムの加熱において、被成形フィルムの加熱量すなわち加熱後の被成形フィルム温度に面内分布を設ける。
　より具体的には、好ましい態様として、本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様では、ガウス曲率が正である非可展面の凹面を有するモールドを用い、被成形フィルムの主面の法線方向から光学フィルムの面内の位置をモールドに射影したときに、凹面の頂点（底部）における被成形フィルムへの赤外線照射量を、凹面の端部すなわち外縁部における被成形フィルムへの赤外線照射量よりも多くする。言い換えれば、本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様では、赤外線照射による被成形フィルムの加熱において、モールドの凹面の頂点すなわち成形後の被成形フィルムの中央の温度を、外縁部（端部）よりも高くする。
　なお、主面とは、シート状物（フィルム、板状物、層）の最大面であり、通常、厚さ方向の両面である。また、法線方向とは、言い換えれば、シート状物の主面と直交する方向である。

　モールドへの押し付けによる成形において、被成形フィルムの変形すなわち延伸は、通常、温度が高い方が行い易い。
　すなわち、本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様においては、被成形フィルムの中央部の温度を外縁部よりも高くすることにより、成形すなわち延伸の多くを、面方向に均等に延伸される中央部で行う。そのため、曲面形状に成形された後の光学フィルムは、大部分を位相差が生じない、面方向に均等に延伸され領域とすることができる。
　その結果、本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様によれば、全面的に位相差すなわち面内レタデーションが小さい、本発明の第１実施形態の光学フィルムを作製できる。

　本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様において、被成形フィルム（モールド）の中央部と端部との温度差には、制限はなく、被成形フィルム（成形前の積層光学体）の形成材料に応じて、適宜、設定すればよい。一例として、被成形フィルムの延伸を主に支配する層のＴｇ（ガラス転移温度）に応じて、中央部の温度はＴｇ以上とし、端部の温度はＴｇ未満とする方法が例示される。
　これにより、面方向に均等に延伸される中央部をより大きく変形させることが可能になる。
　また、本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様において、中央部と端部との間における赤外線の照射量の変換すなわち温度変化は、段階的であっても、連続的であってもよい。
　なお、本発明の第１実施形態の成形方法の第１の態様において、中央部と端部とで赤外線の照射量に差をつける方法は、公知の方法が利用可能である。一例として、上述した光源の配置の密度に粗密を付ける方法、および、光源と被成形フィルムとの間に赤外光に対する透過率をパターン化したフィルターを配置する方法等が例示される。

　本発明の第１実施形態の成形方法の第２の態様は、上述のように加熱工程、成形工程および裁断工程を有する光学フィルムの成形において、モールドの光学フィルム（被成形フィルム）と接する面を、ガウス曲率が正である非可展面の凹面で、かつ、外周形状を楕円形とする。その上で、裁断工程において光学フィルを楕円形に裁断し、かつ、裁断によって切り出す光学フィルムの楕円形の外周形状の長径を、モールドの外周形状の楕円形における長径に対して、５０％より大きく９５％よりも小さくする。
　なお、本発明においては、楕円形は円形を含むのは、上述のとおりである。

　すなわち、本発明の第１実施形態の成形方法の第２の態様においては、作製する曲面形状を有する光学フィルムに比して、大きな平面状の被成形フィルム、および、大きなモールドを用いて、加熱工程および成形工程を行う。その後、裁断工程において、光学フィルムの中央部すなわちモールドの中央部に押圧されて成形すなわち伸長された部分のみを切り出す。
　従って、本発明の第１実施形態の成形方法の第２の態様においても、曲面形状に成形された裁断された後の光学フィルムは、大部分が、位相差が生じていない、面方向に均等に延伸された領域となる。その結果、本発明の第１実施形態の成形方法の第２の態様においても、全面的に位相差すなわち面内レタデーションが小さい、本発明の光学フィルムを作製できる。

　本発明の第１実施形態の成形方法の第２の態様では、裁断工程において切り出す光学フィルムの楕円形の外周形状の長径を、モールドの外周形状の楕円形における長径に対して、５０％より大きく９５％よりも小さくする。
　切り出す光学フィルムの長径が、モールドの外周形状の長径の５０％以下では、光学フィルムが無駄になる不都合が生じる。
　切り出す光学フィルムの長径が、モールドの外周形状の長径の９５％以上では、周方向と直径方向との延伸量が大きく異なる領域が多くなり、曲面形状を有し、かつ、全面的に十分に位相差が小さい光学フィルムが得られない。
　本発明の第１実施形態の成形方法の第２の態様において、裁断工程において切り出す光学フィルムの楕円形の外周形状の長径は、モールドの外周形状の楕円形における長径に対して、６０～９０％が好ましく、７０～９０％がより好ましい。

　本発明の第１実施形態の成形方法の第３の態様は、上述のように加熱工程、成形工程および裁断工程を有する光学フィルムの成形において、加熱工程では、光学フィルム（被成形フィルム）のモールドに接する領域を、被成形フィルムのガラス転移温度Ｔｇよりも高い温度に加熱し、成形工程では、被成形フィルムがモールドに接した直後に、被成形フィルムのモールドに接した領域がガラス転移温度Ｔｇより低くなるように、モールドへの被成形フィルムの押し付けを制御する。
　なお、この成形方法において、光学フィルムを含む積層光学体を成形する場合、すなわち、光学フィルムを含む積層光学体が被成形フィルムである場合には、支持体などの最も剛性の高い部材のガラス転移温度Ｔｇを対象として、温度制御を行う。

　例えばモールドが凹面である場合、平面状の光学フィルム（被成形フィルム）をモールドに押し付ける際には、被成形フィルムは端部からモールドの端部に接触して、最後に中央部が凹面の頂部（底部）に接触する。また、加熱等を行わない限り、モールドの温度は、成形の為に加熱される被成形フィルムの温度よりも低温である。
　すなわち、本発明の第１実施形態の成形方法の第３の態様は、成形工程において、中央部は温度がＴｇ以上の伸び易い状態のままで、かつ、モールドに接触した領域は伸びにくい状態として、モールドへの押し付けによる被成形フィルムの成形を行う。
　従って、本発明の第１実施形態の成形方法の第３の態様においても、成形すなわち延伸の多くを、面方向に均等に延伸される中央部で行うことになり、曲面形状に成形された後の光学フィルムは、大部分を位相差が生じない、面方向に均等に延伸され領域とすることができる。
　その結果、本発明の第１実施形態の成形方法の第３の態様によれば、全面的に位相差すなわち面内レタデーションが小さい、本発明の第１実施形態の光学フィルムを作製できる。

　本発明の第１実施形態の成形方法の第３の態様においては、成形工程において、被成形フィルムがモールドに接した直後に、モールドに接した領域がガラス転移温度Ｔｇより低くなるようになる被成形フィルムの押し付けの制御方法としては、各種の方法が利用可能である。
　一例として、加熱工程において被成形フィルムを加熱した後、モールドに被成形フィルムを押し付ける際の速度を調節することで、モールドに接した領域がガラス転移温度Ｔｇより低くなるようにする制御方法が例示される。

　本発明の第１実施形態の成形方法の第４の態様は、モールドを加熱する加熱工程、加熱したモールドを光学フィルム（被成形フィルム）に押し付け、モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、光学フィルムを裁断する裁断工程を有するものである。
　このような本発明の第１実施形態の成形方法の第４の態様においては、モールドは、ガウス曲率が正である非可展面の凸面であり、成形工程において、被成形フィルムの中心にモールドの凸面頂点を押し付けることで、被成形フィルムの成形を行う。
　また、好ましくは、裁断工程における光学フィルムの裁断形状を楕円形とし、さらに、成形工程において、裁断形状となる楕円形のライン上の位置を拘束した状態で被成形フィルムをモールドに押し付ける。

　すなわち、本発明の第１実施形態の成形方法の第４の態様は、加熱したモールドを光学フィルム（被成形フィルム）の中心に押し付けて曲面形状への成形を行うことにより、被成形フィルムの中央部の温度を最初に向上して伸び易い状態として成形を行い、モールドによる押し付けを進めるにしたがって、温度が高い領域が端部に向かって広がる。
　従って、本発明の第１実施形態の成形方法の第４の態様においても、成形すなわち延伸の多くを、面方向に均等に延伸される中央部で行うことになり、曲面形状に成形された後の光学フィルムは、大部分を位相差が生じない、面方向に均等に延伸され領域とすることができる。
　好ましくは、被成形フィルムの端部を拘束した状態でモールドを押し付けて成形を行うことにより、延伸に異方性を有し位相差が生じ易い端部近傍の延伸を抑制して、より好適に成形すなわち延伸の多くを中央部で行うことができる。
　その結果、本発明の第１実施形態の成形方法の第４の態様によれば、全面的に位相差すなわち面内レタデーションが小さい、本発明の第１実施形態の光学フィルムを作製できる。

　本発明の第１実施形態の成形方法の第４の態様において、被成形フィルムの端部を拘束する方法には制限はなく、各種の方法が利用可能である。
　一例として、凸状のモールドの押し付けによって成形される被成形フィルムを支持する支持台に、剥離可能な粘着シート等を用いて被成形フィルムの端部近傍を貼着する方法、凸状のモールドの押し付けによって成形される被成形フィルムを支持する支持台に、治具等を用いて被成形フィルムの端部近傍を固定する方法等が例示される。

＜成形装置＞
　このような本発明の第１実施形態の成形方法を行う光学フィルムの成形装置には、制限はなく、各種の構成を有する成形装置が利用可能である。
　成形装置の１つの形態としては、上面に開口部を有するボックス１と、下面に開口部を有するボックス２からなり、成形空間を形成するために、ボックス１の開口部とボックス２の開口部を直接もしくはその他の治具を介して合わせることで、密閉された成形空間を形成する。
　成形空間内には、成形される平面状の光学フィルム（被成形フィルム）、および、この光学フィルムの成形を行うためモールドを配置する。なお、本発明の第１実施形態の光学フィルム（積層光学体）をレンズに貼着して上述したような複合レンズとする場合には、モールドとして凹レンズ等のレンズを用いて、曲面形状に成形した光学フィルムを、そのまま、モールドに貼着してもよい。
　成形装置には、ＩＲ光源等の被成形フィルムを加熱するための加熱手段が配置される。加熱手段は、、複数個、分散して配置してもよい。加熱手段は成形空間内に配置しても良いし、成形空間外に配置して透明な窓を介して被成形フィルムに赤外線等の熱線を照射しても良い。
　被成形フィルムは、仕切りとして、ボックス１とボックス２とからなる成形空間を２つの空間に分けるように配置される。また、モールドは、被成形フィルムよりも下側のボックス１内に配置する。
　この状態で、ボックス１およびボックス２の内部を所定の圧力まで減圧し、次いで、被成形フィルムを加熱し、その後、ボックス２内にの圧力を高く（減圧度を低く）することで、モールドに被成形フィルムを押し付ける。

［第２実施形態］
＜コレステリック液晶層（光学機能性層）＞
　本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層（光学機能性層）は、液晶性化合物を含む光学機能性層であって、
　コレステリック液晶層が、中心から外側に向かって位相差が大きくなる位相差領域を有し、
　位相差領域において、位相差領域内の一点での遅相軸の方向と、中心から一点に向かう方向とが直交する、コレステリック液晶層である。

　また、本発明の第２実施形態の光学積層体は、上記コレステリック液晶層を複数層有する光学積層体である。
　本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層、および、光学積層体は、単体で用いられてもよいし、支持体および配向膜等の他の機能層と積層されて光学フィルムとして用いられてもよい。

　〔コレステリック液晶相〕
　コレステリック液晶相は、特定の波長において選択反射性を示すことが知られている。
　一般的なコレステリック液晶相において、選択反射の中心波長（選択反射中心波長）λは、コレステリック液晶相における螺旋のピッチＰに依存し、コレステリック液晶相の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。そのため、この螺旋ピッチを調節することによって、選択反射中心波長を調節することができる。
　コレステリック液晶相の選択反射中心波長は、ピッチＰが長いほど、長波長になる。
　なお、螺旋のピッチＰとは、上述したように、コレステリック液晶相の螺旋構造１ピッチ分（螺旋の周期）であり、言い換えれば、螺旋の巻き数１回分であり、すなわち、コレステリック液晶相を構成する液晶化合物のダイレクター（棒状液晶であれば長軸方向）が３６０°回転する螺旋軸方向の長さである。

　コレステリック液晶層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope））で観察すると、コレステリック液晶相に由来して、厚さ方向に明線（明部）と暗線（暗部）とを交互に有する縞模様が観察される。螺旋周期ピッチすなわちピッチＰは、厚さ方向の明線２本および暗線２本分の長さ、すなわち、厚さ方向の暗線２本および明線２本分の長さに等しい。

　コレステリック液晶相の螺旋ピッチは、コレステリック液晶層を形成する際に、液晶化合物と共に用いるキラル剤の種類、および、キラル剤の添加濃度に依存する。従って、これらを調節することによって、所望の螺旋ピッチを得ることができる。
　なお、ピッチの調節については富士フイルム研究報告Ｎｏ．５０（２００５年）ｐ．６０－６３に詳細な記載がある。螺旋のセンスおよびピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編　シグマ出版２００７年出版、４６頁、および、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会　丸善　１９６頁に記載される方法を用いることができる。

　コレステリック液晶相は、特定の波長において左右いずれかの円偏光に対して選択反射性を示す。反射光が右円偏光であるか左円偏光であるかは、コレステリック液晶相の螺旋の捩れ方向（センス）による。コレステリック液晶相による円偏光の選択反射は、コレステリック液晶層の螺旋の捩れ方向が右の場合は右円偏光を反射し、螺旋の捩れ方向が左の場合は左円偏光を反射する。従って、コレステリック液晶相における螺旋の捩れ方向は、コレステリック液晶層に右円偏光および／または左円偏光を入射させることで、確認できる。
　なお、コレステリック液晶相の旋回の方向は、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類および／または添加されるキラル剤の種類によって調節できる。

　また、選択反射を示す選択反射波長域（円偏光反射波長域）の半値幅Δλ（ｎｍ）、は、コレステリック液晶相のΔｎと螺旋のピッチＰとに依存し、Δλ＝Δｎ×Ｐの関係に従う。そのため、選択反射波長域（選択的な反射波長域）の幅の制御は、Δｎを調節して行うことができる。Δｎは、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類およびその混合比率、ならびに、配向固定時の温度により調節できる。

　〔コレステリック液晶層〕
　周知のとおり、コレステリック液晶層は、液晶化合物を螺旋状にコレステリック配向させたコレステリック液晶相を固定してなる層である。コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相の螺旋ピッチによって定まる選択反射中心波長を有し、選択反射中心波長を含む波長域の光を反射し、他の波長域の光を透過する。

　ここで、一般的なコレステリック液晶層は、面内に屈折率差を有さず、面内リタデーションが略０である。
　これに対して、本発明においては、コレステリック液晶層が、面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘと、進相軸方向の屈折率ｎｙとが、ｎｘ＞ｎｙを満たす領域（位相差領域）を有する構成とすることで、コレステリック液晶層が正面リタデーション（面内リタデーション）を示す。また、本発明においては、コレステリック液晶層は、この位相差領域において、中心から外側に向かって位相差が大きくなり、位相差領域内の一点での遅相軸の方向と、中心からこの一点に向かう方向とが直交する構成を有する。

　以下、ｎｘ＞ｎｙを満たす領域を有するコレステリック液晶層について説明する。

　図７に、このようなコレステリック液晶層の一例を概念的に示す。コレステリック液晶層１２６は、支持体１２０上に形成された配向膜１２４の上に形成されている。
　以下の説明では、支持体１２０側を下方、コレステリック液晶層１２６側を上方、とも言う。従って、支持体１２０においては、コレステリック液晶層１２６側を上面、逆側を下面、ともいう。また、配向膜１２４およびコレステリック液晶層１２６においては、支持体１２０側の面を下面、逆側を上面ともいう。

　支持体１２０は、コレステリック液晶層１２６を形成する際にコレステリック液晶層を支持するものである。支持体１２０が仮支持体である場合には、コレステリック液晶層を作製する際に用いられる各種の仮支持体が例示される。例えば、仮支持体としては、ガラス、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、アクリル、および、ポリオレフィン等からなるフィルム状の部材が例示される。また、これらの材料からなる層を複数層有する多層の支持体であってもよい。

　配向膜１２４は、支持体１２０の表面（上面）に形成される。
　配向膜１２４は、コレステリック液晶層１２６を形成する際に、液晶化合物１３２を所定の配向状態に配向するための配向膜である。

　配向膜１２４は、公知の各種のものが利用可能である。
　例えば、ポリマーなどの有機化合物からなるラビング処理膜、無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、ならびに、ω－トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチルなどの有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ（Langmuir-Blodgett：ラングミュア・ブロジェット）膜を累積させた膜、光配向性の素材に偏光または非偏光を出射して配向膜とした光配向膜等が例示される。

　配向膜１２４は、配向膜の形成材料に応じた、公知の方法で形成すればよい。
　例えば、ラビング処理による配向膜は、ポリマー層の表面を紙または布で一定方向に数回こすることにより形成できる。
　配向膜に使用する材料としては、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平９－１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー、特開２００５－９７３７７号公報、特開２００５－９９２２８号公報、および、特開２００５－１２８５０３号公報記載の配向膜等の形成に用いられる材料が好ましい。
　また、配向膜１２４を形成せずに、支持体１２０にラビング処理およびレーザ加工等の処理を施すことで、支持体１２０を配向膜として作用させてもよい。

　配向膜１２４は、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向膜１２４とした、いわゆる光配向膜も好適に利用される。すなわち、配向膜１２４として、支持体１２０上に、光配向材料を塗布して形成した光配向膜が、好適に利用される。
　偏光の照射は、光配向膜に対して、垂直方向または斜め方向から行うことができ、非偏光の照射は、光配向膜に対して、斜め方向から行うことができる。

　本発明に利用可能な配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報および特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報および特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号および特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報および特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、光架橋性ポリアミドおよび光架橋性ポリエステル、ならびに、特開平９－１１８７１７号公報、特表平１０－５０６４２０号公報、特表２００３－５０５５６１号公報、国際公開第２０１０／１５０７４８号、特開２０１３－１７７５６１号公報および特開２０１４－１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物およびクマリン化合物等が、好ましい例として例示される。
　中でも、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、光架橋性ポリアミド、光架橋性ポリエステル、シンナメート化合物、および、カルコン化合物は、好適に利用される。

　配向膜１２４の厚さには制限はなく、配向膜の形成材料に応じて、必要な配向機能を得られる厚さを、適宜、設定すればよい。
　配向膜の厚さは、０．０１～５μｍが好ましく、０．０５～２μｍがより好ましい。

　支持体および配向膜は、剥離され取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、コレステリック液晶層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、仮支持体が有する位相差が、透過光および反射光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。

　コレステリック液晶層１２６は、配向膜１２４の表面（上面）に形成される。
　なお、図７においては、図面を簡略化してコレステリック液晶層１２６の構成を明確に示すために、コレステリック液晶層１２６は、コレステリック液晶相における液晶化合物１３２の捩じれ配向の２回転分（７２０°回転分）のみを概念的に示している。すなわち、図７では、コレステリック液晶相における螺旋構造の２ピッチのみを示している。
　しかしながら、コレステリック液晶層１２６は、通常のコレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液晶層と同様に、液晶化合物１３２が、厚さ方向の螺旋軸に沿って、螺旋状に旋回して積み重ねられた螺旋構造を有し、液晶化合物１３２が螺旋状に１回転（３６０°回転）して積み重ねられた構成を螺旋周期１ピッチとして、螺旋状に旋回する液晶化合物１３２が、１ピッチ以上、積層された構造を有する。

　すなわち、本発明において、コレステリック液晶相（コレステリック液晶層）とは、螺旋構造が１ピッチ以上、積層されたものである。コレステリック液晶層は、液晶化合物１３２による螺旋構造が１ピッチ以上、積層されることで、前述の波長選択性を有する反射性を発現する。
　従って、本発明においては、液晶化合物１３２が、厚さ方向の螺旋軸に沿って、螺旋状に旋回して積み重ねられた螺旋構造を有する層であっても、螺旋周期が１ピッチ未満の層は、コレステリック液晶層ではない。

　コレステリック液晶層１２６は、コレステリック液晶相を固定してなるものである。すなわち、コレステリック液晶層１２６は、液晶化合物１３２（液晶材料）をコレステリック配向した層である。周知のように、コレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液層は、波長選択反射性を有する。前述のとおり、コレステリック液晶層の選択的な反射波長域は、上述した螺旋１ピッチの厚さ方向の長さ（図７に示すピッチＰ）に依存する。

　ここで、本発明において、コレステリック液晶層１２６は、面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘと、進相軸方向の屈折率ｎｙとが、ｎｘ＞ｎｙを満たす領域（位相差領域）を有する。また、本発明においては、コレステリック液晶層は、この位相差領域において、中心から外側に向かって位相差が大きくなり、位相差領域内の一点での遅相軸の方向と、中心からこの一点に向かう方向とが直交する構成を有する。

　本発明において、コレステリック液晶層１２６は、図８に示すように、液晶化合物１３２の配列を螺旋軸方向から見た際の、隣接する液晶化合物１３２の分子軸がなす角度が漸次変化した構成を有する。言い換えると、液晶化合物１３２の配列を螺旋軸方向から見た際の液晶化合物１３２の存在確立が異なっている。これにより、コレステリック液晶層１２６は、面内の遅相軸方向の屈折率ｎｘと、進相軸方向の屈折率ｎｙとが、ｎｘ＞ｎｙを満たす構成となっている。
　なお、以下の説明において、コレステリック液晶層１２６が、図８に示すように液晶化合物１３２の配列を螺旋軸方向から見た際に、隣接する液晶化合物１３２の分子軸がなす角度が漸次変化している構成を有することを、屈折率楕円体を有するともいう。

　コレステリック液晶層において、選択反射中心波長には、制限はなく、用途に応じて、適宜、設定すればよい。
　本発明においては、コレステリック液晶層として、少なくとも波長４５０ｎｍの反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５３０ｎｍの反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６３０ｎｍの反射率が４０％以上である赤色光反射層とを有することが好ましい。すなわち、コレステリック液晶層を複数層有する光学積層体において、各コレステリック液晶層の選択反射中心波長が互いに異なっていてもよい。このような構成であると、可視域の広い波長範囲に亘って高い反射特性を発現できるため、好ましい。尚、上述の反射率は、反射円偏光子に対し、それぞれの波長で非偏光を入射した場合の反射率である。
　画像表示装置の中には、青色光、緑色光、および赤色光のそれぞれの波長範囲において発光ピークを有するものがある。例えば、量子ドットを含むバックライトを有する液晶表示装置、青色、緑色、および赤色に発光するＬＥＤが設置されたバックライトを有する液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置等は、青色光、緑色光、および赤色光のそれぞれの波長範囲に、比較的狭い半値全幅の発光ピークを有する。各色の発光ピークの半値全幅が狭いと、色再現性を向上できるため好ましい。これらの画像表示装置と組み合わせて使用する場合、反射円偏光子（コレステリック液晶層）は、画像表示装置の発光ピークに該当する波長域に選択的に反射帯域を有していることが好ましい。
　また、コレステリック液晶相を固定化してなる青色光反射層、緑色光反射層、および赤色光反射層は、コレステリック液晶相の螺旋ピッチを厚み方向で連続的に変化させたピッチグラジエント層を有していてもよい。例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して、緑色光反射層と赤色光反射層を連続的に作製することができる。

　また、本発明のコレステリック液晶層（コレステリック液晶層を含む光学フィルム）を延伸したり、成形したりする場合には、反射円偏光子としての反射波長域が短波側にシフトすることがあるため、反射波長域は、あらかじめ波長のシフトを想定して選択されていることが好ましい。例えば、反射円偏光子としてコレステリック液晶相を固定化してなるコレステリック液晶層を含む光学フィルムを用いる場合、延伸および成形等によってフィルムが引き延ばされ、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが小さくなってしまう場合があるため、コレステリック液晶相の螺旋ピッチをあらかじめ大きく設定しておくことが好ましい。また、延伸および成形等による反射波長域の短波シフトを想定して、反射円偏光子は、波長８００ｎｍの反射率が４０％以上である赤外光反射層を有することも好ましい。
　さらに、延伸および成形等における延伸倍率が面内で均一でない場合は、面内のそれぞれの場所で、延伸による波長シフトに応じて適切な反射波長域が選択されてもよい。すなわち、面内において、反射波長域が異なる領域があってもよい。また、面内におけるそれぞれの場所で延伸倍率が異なることを想定して、あらかじめ反射波長域を必要な波長域よりも広くとっておくことが好ましい。

　本発明において、コレステリック液晶層を複数層有する光学積層体である場合には、コレステリック液晶層である、青色光反射層と、緑色光反射層と、赤色光反射層とが、この順で積層されていることが好ましい。また、複数のコレステリック液晶層に加えて、位相差層を有する場合には、青色光反射層が、円偏光を直線偏光に変換する位相差層とは反対の面に設置されることが好ましい。このような配置であると、光線は青色光反射層、緑色反射層、および赤色光反射をこの順で通過することになる。本発明者らは、このとき、特に斜め入射時において、各層のＲｔｈの影響を受けにくくなるため、反射光の偏光度および透過光の偏光度を高めることができると推定している。

　本発明の第２実施形態の光学積層体は、棒状液晶化合物を用いて形成された第１のコレステリック液晶層と、円盤状液晶化合物を用いて形成された第２のコレステリック液晶層とが交互に積層されてなることも好ましい。
　第１のコレステリック液晶層が、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層であり、第２のコレステリック液晶層が、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層とを有し、第１のコレステリック液晶層と第２のコレステリック液晶層が、交互に配さることが好ましい。このような構成であると、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相が正のＲｔｈを有するのに対し、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相は負のＲｔｈを有するため、互いのＲｔｈが相殺され、斜め方向からの入射光に対しても反射光および透過光の偏光度を高めることができるため、好ましい。その際、第１のコレステリック液晶層と第２のコレステリック液晶層とは、選択反射中心波長が略同じであってもよいし、異なっていてもよい。本発明者らの検討によれば、この場合には、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相からなる青色光反射層、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相からなる赤色光反射層、および棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相からなる緑色光反射層をこの順で含み、青色光反射層が、円偏光を直線偏光に変換する位相差層とは反対の面に設置されることが好ましい。また、視感度の観点から、反射層の順番は、ディスプレイ側から緑色、赤色、青色の順であるのが好ましい。
　また、補償の観点から、液晶の種類は、ディスプレイ側から円盤状、棒状、円盤状、もしくは円盤状、棒状、棒状であることが好ましい。
　反射層（コレステリック液晶層）の順番、液晶の種類は、一例であり、これらの構成に限定されるものではない。

　光学機能性層（コレステリック液晶層）の厚さは、コレステリック液晶層の形成材料等に応じて、必要な光の反射率が得られる厚さを、適宜、設定すればよいが、薄型化する観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましい。

　〔コレステリック液晶層の形成方法〕
　コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を層状に固定して形成できる。
　コレステリック液晶相を固定した構造は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている構造であればよく、典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、外場または外力によって配向形態に変化を生じさせることない状態に変化した構造が好ましい。
　なお、コレステリック液晶相を固定した構造においては、コレステリック液晶相の光学的性質が保持されていれば十分であり、コレステリック液晶層において、液晶化合物は液晶性を示さなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、液晶性を失っていてもよい。

　コレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液晶層の形成に用いる材料としては、一例として、液晶化合物を含む液晶組成物が挙げられる。液晶化合物は重合性液晶化合物であるのが好ましい。
　また、コレステリック液晶層の形成に用いる液晶組成物は、さらに界面活性剤およびキラル剤を含んでいてもよい。

　重合性液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよい。
　コレステリック液晶相を形成する棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。

　重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、およびアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基がより好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１～６個、より好ましくは１～３個である。
　重合性液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、国際公開第９５／２２５８６号、国際公開第９５／２４４５５号、国際公開第９７／００６００号、国際公開第９８／２３５８０号、国際公開第９８／５２９０５号、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－８００８１号公報、および、特開２００１－３２８９７３号公報等に記載の化合物が含まれる。２種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。

　また、上記以外の重合性液晶化合物としては、特開昭５７－１６５４８０号公報に開示されているようなコレステリック相を有する環式オルガノポリシロキサン化合物等を用いることができる。さらに、前述の高分子液晶化合物としては、液晶を呈するメソゲン基を主鎖、側鎖、あるいは主鎖および側鎖の両方の位置に導入した高分子、コレステリル基を側鎖に導入した高分子コレステリック液晶、特開平９－１３３８１０号公報に開示されているような液晶性高分子、および、特開平１１－２９３２５２号公報に開示されているような液晶性高分子等を用いることができる。

　円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報および特開２０１０－２４４０３８号公報等に記載のものを好ましく用いることができる。

　また、液晶組成物中の重合性液晶化合物の添加量は、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、７５～９９．９質量％であるのが好ましく、８０～９９質量％であるのがより好ましく、８５～９０質量％であるのがさらに好ましい。

　＜＜界面活性剤＞＞
　コレステリック液晶層を形成する際に用いる液晶組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
　界面活性剤は、安定的に、または迅速に、コレステリック液晶相の配向に寄与する配向制御剤として機能できる化合物が好ましい。界面活性剤としては、例えば、シリコ－ン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤が挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましく例示される。

　界面活性剤の具体例としては、特開２０１４－１１９６０５号公報の段落［００８２］～［００９０］に記載の化合物、特開２０１２－２０３２３７号公報の段落［００３１］～［００３４］に記載の化合物、特開２００５－９９２４８号公報の段落［００９２］および［００９３］中に例示されている化合物、特開２００２－１２９１６２号公報の段落［００７６］～［００７８］および段落［００８２］～［００８５］中に例示されている化合物、ならびに、特開２００７－２７２１８５号公報の段落［００１８］～［００４３］等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、などが挙げられる。
　なお、界面活性剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　フッ素系界面活性剤として、特開２０１４－１１９６０５号公報の段落［００８２］～［００９０］に記載の化合物が好ましい。

　液晶組成物中における、界面活性剤の添加量は、液晶化合物の全質量に対して０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましく、０．０２～１質量％がさらに好ましい。

　＜＜キラル剤（光学活性化合物）＞＞
　キラル剤（カイラル剤）はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル剤は、化合物によって誘起する螺旋の捩れ方向または螺旋周期ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
　キラル剤には制限はなく、公知の化合物（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ（twisted nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）、イソソルビド、および、イソマンニド誘導体等を用いることができる。
　キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、および、これらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であるのが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であるのが好ましく、不飽和重合性基であるのがより好ましく、エチレン性不飽和重合性基であるのがさらに好ましい。
　また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。

　キラル剤が光異性化基を有する場合には、塗布、配向後に活性光線などのフォトマスク出射によって、発光波長に対応した所望の反射波長のパターンを形成することができるので好ましい。光異性化基としては、フォトクロッミック性を示す化合物の異性化部位、アゾ基、アゾキシ基、または、シンナモイル基が好ましい。具体的な化合物として、特開２００２－８０４７８号公報、特開２００２－８０８５１号公報、特開２００２－１７９６６８号公報、特開２００２－１７９６６９号公報、特開２００２－１７９６７０号公報、特開２００２－１７９６８１号公報、特開２００２－１７９６８２号公報、特開２００２－３３８５７５号公報、特開２００２－３３８６６８号公報、特開２００３－３１３１８９号公報、および、特開２００３－３１３２９２号公報等に記載の化合物を用いることができる。

　液晶組成物における、キラル剤の含有量は、液晶化合物の含有モル量に対して０．０１～２００モル％が好ましく、１～３０モル％がより好ましい。

　＜＜重合開始剤＞＞
　液晶組成物が重合性化合物を含む場合は、重合開始剤を含有しているのが好ましい。紫外線出射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線出射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。
　光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、米国特許第２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、ならびに、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。

　中でも、重合開始剤は、二色性のラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　二色性のラジカル重合開始剤とは、光重合開始剤のうち、特定の偏光方向の光に対して吸収選択性を有し、その偏光により励起されてフリーラジカルを発生させるものをいう。つまり、二色性のラジカル重合開始剤とは、特定の偏光方向の光と、上記特定の偏光方向の光と直交する偏光方向の光とで、異なる吸収選択性を有する重合開始剤である。
　その詳細及び具体例については、ＷＯ２００３／０５４１１１号パンフレットに記載がある
　二色性のラジカル重合開始剤の具体例としては、下記化学式の重合開始剤が挙げられる。また、二色性のラジカル重合開始剤としては、特表２０１６－５３５８６３号公報の段落［００４６］～［００９７］に記載の重合開始剤を用いることができる。

　液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、液晶化合物の含有量に対して０．１～２０質量％であるのが好ましく、０．５～１２質量％であるのがさらに好ましい。

　＜＜架橋剤＞＞
　液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、および、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
　架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレートおよびエチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］および４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートおよびビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ならびに、ビニルトリメトキシシラン、Ｎ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　架橋剤の含有量は、液晶組成物の固形分質量に対して、３～２０質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。架橋剤の含有量が上記範囲内であれば、架橋密度向上の効果が得られやすく、コレステリック液晶相の安定性がより向上する。

　＜＜その他の添加剤＞＞
　液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、および、金属酸化物微粒子等を、光学的性能等を低下させない範囲で添加することができる。

　液晶組成物は、コレステリック液晶層を形成する際には、液体として用いられるのが好ましい。液晶組成物は溶媒を含んでいてもよい。溶媒には、制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましい。
　有機溶媒には、制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、および、エーテル類などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が好ましい。

　コレステリック液晶層を形成する際には、コレステリック液晶層の形成面に液晶組成物を塗布して、液晶化合物をコレステリック液晶相の状態に配向した後、液晶化合物を硬化して、コレステリック液晶層とするのが好ましい。
　例えば、配向膜１２４上にコレステリック液晶層１２６を形成する場合には、配向膜１２４に液晶組成物を塗布して、液晶化合物をコレステリック液晶相の状態に配向した後、液晶化合物を硬化して、コレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液晶層１２６を形成するのが好ましい。
　液晶組成物の塗布は、インクジェットおよびスクロール印刷等の印刷法、ならびに、スピンコート、バーコートおよびスプレー塗布等のシート状物に液体を一様に塗布できる公知の方法が全て利用可能である。

　塗布された液晶組成物は、必要に応じて乾燥および／または加熱され、その後、硬化され、コレステリック液晶層を形成する。この乾燥および／または加熱の工程で、液晶組成物中の液晶化合物がコレステリック液晶相に配向すればよい。加熱を行う場合、加熱温度は、２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。

　配向させた液晶化合物は、必要に応じて、さらに重合される。重合は、熱重合、および、光出射による光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。光出射は、紫外線を用いるのが好ましい。出射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²～５０Ｊ／ｃｍ²が好ましく、５０～１５００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で光出射を実施してもよい。出射する紫外線の波長は２５０～４３０ｎｍが好ましい。

（液晶エラストマー）
　本発明において、コレステリック液晶層に液晶エラストマーを用いても良い。液晶エラストマーは液晶とエラストマーのハイブリッド材料である。例えば、ゴム弾性をもつ柔軟な高分子網目中に液晶性の剛直なメソゲン基が導入された構造をもつ。そのため、柔軟な力学特性を持ち伸縮性を有する特徴がある。また、液晶の配向状態と系のマクロな形状が強く相関しているため、温度および電場などで液晶の配向状態が変化すると、配向度変化に応じたマクロ変形する特徴がある。例えば、液晶エラストマーをネマチック相からランダム配向の等方相となる温度まで昇温していくと、試料がダイレクタ一方向に収縮していき、その収縮量は温度上昇とともに、つまり液晶の配向度の減少とともに増加していく。変形は熱可逆的であり、再びネマチック相まで降温するともとの形状に戻る。一方、コレステリック液晶相の液晶エラストマーは、昇温して液晶の配向度が減少すると、らせん軸方向のマクロな伸長変形が起きるため、らせんピッチ長が増加し、選択反射ピークの反射中心波長が長波長側にシフトする。この変化も熱可逆的で降温するとともに反射中心波長が短波長側に戻る。

　＜＜コレステリック液晶層の屈折率楕円体＞＞
　前述のとおり、コレステリック液晶層１２６は、液晶化合物１３２の配列を螺旋軸方向から見た際に、隣接する液晶化合物１３２の分子軸がなす角度が漸次変化している構成である屈折率楕円体を有する。
　屈折率楕円体について、図９および図１０を用いて説明する。
　図９は、螺旋軸に沿って捩れ配向された複数の液晶化合物の一部（１／４ピッチ分）を螺旋軸方向（ｚ方向）から見た図であり、図１０は、螺旋軸方向から見た液晶化合物の存在確率を概念的に示す図である。図９は、一例として、液晶化合物が棒状液晶化合物の場合であり、棒状液晶化合物の長軸が分子軸である。液晶化合物が円盤状液晶化合物の場合は、螺旋軸方向から見た際の円盤状液晶化合物の円盤面方向が分子軸となる。

　図９において、分子軸がｙ方向と平行な液晶化合物をＣ１とし、分子軸がｘ方向と平行な液晶化合物をＣ７とし、Ｃ１とＣ７との間の液晶化合物を液晶化合物Ｃ１側から液晶化合物Ｃ７側に向かってＣ２～Ｃ６とする。液晶化合物Ｃ１～Ｃ７は、螺旋軸に沿って捩れ配向されており、液晶化合物Ｃ１から液晶化合物Ｃ７の間で９０°回転している。捩れ配向された液晶化合物の角度が３６０°変化する液晶化合物間の長さを１ピッチ（図７中の「Ｐ」）とすると、液晶化合物Ｃ１から液晶化合物Ｃ７までの螺旋軸方向（図９の紙面に垂直な方向）の長さは１／４ピッチである。

　図９に示すように、液晶化合物Ｃ１から液晶化合物Ｃ７までの１／４ピッチの中で、ｚ方向（螺旋軸方向）から見た、隣接する液晶化合物の分子軸がなす角度が異なっている。図９に示す例では、液晶化合物Ｃ１と液晶化合物Ｃ２とのなす角度θ₁は、液晶化合物Ｃ２と液晶化合物Ｃ３とのなす角度θ₂よりも大きく、液晶化合物Ｃ２と液晶化合物Ｃ３とのなす角度θ₂は、液晶化合物Ｃ３と液晶化合物Ｃ４とのなす角度θ₃よりも大きく、晶化合物Ｃ３と液晶化合物Ｃ４とのなす角度θ₃は、液晶化合物Ｃ４と液晶化合物Ｃ５とのなす角度θ₄よりも大きく、液晶化合物Ｃ４と液晶化合物Ｃ５とのなす角度θ₄は、液晶化合物Ｃ５と液晶化合物Ｃ６とのなす角度θ₅よりも大きく、液晶化合物Ｃ５と液晶化合物Ｃ６とのなす角度θ₅は、液晶化合物Ｃ６と液晶化合物Ｃ７とのなす角度θ₆よりも大きく、液晶化合物Ｃ６と液晶化合物Ｃ７とのなす角度θ₆は最も小さい。

　すなわち、液晶化合物Ｃ１～Ｃ７は、液晶化合物Ｃ１側から液晶化合物Ｃ７側に向かうに従って、隣接する液晶化合物の分子軸がなす角度が小さくなるように捩れ配向されている。例えば、液晶化合物間の間隔（厚さ方向の間隔）が略一定であるとすると、液晶化合物Ｃ１から液晶化合物Ｃ７までの１／４ピッチの中で、液晶化合物Ｃ１側から液晶化合物Ｃ７側に向かうに従って、単位長さ当たりの回転角が減少する構成となる。
　コレステリック液晶層１２６においては、このように、１／４ピッチの中で、単位長さ当たりの回転角が変化する構成が繰り返されて、液晶化合物が捩れ配向されている。

　ここで、単位長さ当たりの回転角が一定の場合には、隣接する液晶化合物の分子軸がなす角度が一定であるため、螺旋軸方向から見た液晶化合物の存在確率はどの方向でも同じになる。従って、この場合は、コレステリック液晶層は、面内方向において、屈折率の異方性を有さない（等方性の）ものとなる。
　これに対して、上述のように、液晶化合物Ｃ１から液晶化合物Ｃ７までの１／４ピッチの中で、液晶化合物Ｃ１側から液晶化合物Ｃ７側に向かうに従って、単位長さ当たりの回転角が減少する構成とすることで、螺旋軸方向から見た液晶化合物の存在確率は、図１０に概念的に示すように、ｙ方向に比べてｘ方向が高くなる。ｘ方向とｙ方向とで液晶化合物の存在確率が異なるものとなることで、ｘ方向とｙ方向とで屈折率が異なるものとなり、屈折率異方性が生じる。言い換えると、螺旋軸に垂直な面内において屈折率異方性が生じる。

　液晶化合物の存在確率が高くなるｘ方向の屈折率ｎｘは、液晶化合物の存在確率が低くなるｙ方向の屈折率ｎｙよりも高くなる。従って、屈折率ｎｘ、屈折率ｎｙは、ｎｘ＞ｎｙを満たす。
　液晶化合物の存在確立が高いｘ方向はコレステリック液晶層１２６の面内の遅相軸方向となり、液晶化合物の存在確立が低いｙ方向はコレステリック液晶層１２６の面内の進相軸方向となる。

　このように、液晶化合物の捩れ配向において、１／４ピッチの中で単位長さ当たりの回転角が変化する構成（屈折率楕円体を有する構成）は、コレステリック液晶層となる組成物を塗布した後に、コレステリック液晶相（組成物層）に、螺旋軸と直交する方向の偏光を照射することで形成することができる。

　偏光照射により、コレステリック液晶相を歪ませて面内のリタデーションを発生させることができる。すなわち、屈折率ｎｘ＞屈折率ｎｙとすることができる。

　具体的には、照射した偏光の偏光方向と合致する方向に分子軸を有する液晶化合物の重合が進行する。このとき、一部の液晶化合物のみが重合するため、この位置に存在したキラル剤が排除されて他の位置に移動する。
　従って、液晶化合物の分子軸の方向が偏光方向に近い位置では、キラル剤の量が少なくなり、捩れ配向の回転角が小さくなる。一方、液晶化合物の分子軸の方向が偏光方向に直交する位置では、キラル剤の量が多くなり、捩れ配向の回転角が大きくなる。
　これによって、図９に示すように、螺旋軸に沿って捩れ配向された液晶化合物において、分子軸が偏光方向と平行な液晶化合物から、偏光方向に直交する液晶化合物までの１／４ピッチの中で、偏光方向に平行な液晶化合物側から偏光方向に直交する液晶化合物側に向かうに従って、隣接する液晶化合物の分子軸がなす角度が小さくなる構成とすることができる。すなわち、コレステリック液晶相に偏光を照射することで、ｘ方向とｙ方向とで液晶化合物の存在確率が異なるものとなり、ｘ方向とｙ方向とで屈折率が異なる、屈折率異方性が生じる。これによって、光学素子１０の屈折率ｎｘ、および、屈折率ｎｙは、ｎｘ＞ｎｙを満たすものとすることができる。すなわち、コレステリック液晶層が屈折率楕円体を有する構成とすることができる。

　この偏光照射はコレステリック液晶相の固定化と同時に行ってもよいし、先に偏光照射を行ってから非偏光照射でさらに固定化を行ってもよいし、非偏光照射で先に固定化してから偏光照射によって光配向を行ってもよい。大きなリタデーションを得るためには偏光照射のみ、もしくは先に偏光照射することが好ましい。偏光照射は、酸素濃度０．５％以下の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ²～１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、１００～８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は２０～１０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、５０～５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、１００～３５０ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。偏光照射によって硬化する液晶性化合物の種類については特に制限はないが、反応性基としてエチレン不飽和基を有する液晶性化合物が好ましい。

　また、偏光の照射によってコレステリック液晶相を歪ませて面内のリタデーションを発生させる方法として、二色性液晶性重合開始剤を用いる方法（ＷＯ０３／０５４１１１Ａ１）、あるいは、分子内にシンナモイル基等の光配向性官能基を有する棒状液晶性化合物を用いる方法（特開２００２－６１３８）が挙げられる。

　照射する光は、紫外線でも、可視光でも、赤外線でもよい。すなわち、塗膜が含有する液晶化合物および重合開始剤等に応じて、液晶化合物が重合できる光を、適宜、選択すればよい。

　重合開始剤として二色性のラジカル重合開始剤を用いることによって、組成物層に偏光を照射した際に、偏光方向と合致する方向に分子軸を有する液晶化合物の重合をより好適に進行させることができる。

　なお、面内の遅相軸の方向、進相軸の方向、屈折率ｎｘ、および、屈折率ｎｙは、分光エリプソ測定機であるＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製Ｍ－２０００ＵＩを用いて測定することができる。なお、屈折率ｎｘ、および、屈折率ｎｙは、位相差Δｎ×ｄの測定値から平均複屈折ｎ_aveと厚さｄの実測値を用いて求めることができる。ここで、Δｎ＝ｎｘ－ｎｙ、平均屈折率ｎ_ave＝（ｎｘ＋ｎｙ）／２である。一般に液晶の平均屈折率は１．５程度であるため、この値を用いてｎｘとｎｙを求めることもできる。また、本発明で用いられているコレステリック液晶層の面内の遅相軸の方向、進相軸の方向、屈折率ｎｘ、および、屈折率ｎｙを測定するときには、コレステリック液晶層における選択反射中心波長よりも短い側の半値波長から２０ｎｍを減じた波長を測定波長とする。このようにすると、コレステリック選択反射に由来するリタデーションの旋光成分の影響を極力減らせるので精度のよい測定ができる。

　また、屈折率楕円体を有するコレステリック液晶層は、コレステリック液晶層となる組成物を塗布した後に、あるいは、コレステリック液晶相を固定化した後に、あるいは、コレステリック液晶相を半固定化した状態で、コレステリック液晶層を延伸することでも形成することができる。

　ここで、本発明の第２実施形態においては、屈折率楕円体を有するコレステリック液晶層の遅相軸は、面内で複数の方位を有することが好ましく、用途に応じてその方位を変化させることが好ましい。例えば、球の一部のような曲面に成型する場合、実質的に同心円状に配されると、成型時の延伸による位相差を打ち消すことができるため好ましい。また、成型後のリタデーションは１０ｎｍ未満であることが好ましい。

　具体的には、コレステリック液晶層が、中心から外側に向かって位相差が大きくなる位相差領域を有し、位相差領域において、位相差領域内の一点での遅相軸の方向と、中心から一点に向かう方向とが直交する。このような構成のコレステリック液晶層について図１２を用いて説明する。

　図１２は、本発明のコレステリック液晶層の遅相軸を概念的に表す図である。
　図１２において、コレステリック液晶層の面内の微小な領域内における遅相軸の方向を矢印で示し、その領域における位相差の大きさを矢印の長さで示している。
　図１２において、中心Ｏでは、位相差は略０である。また、例えば、中心Ｏから、外側に向かう、一点鎖線ｒ_１で示す線上において、点Ｐ₁、点Ｐ₂、点Ｐ₃それぞれの位置（微小な領域）における遅相軸の方向はいずれも、一点鎖線ｒ₁と略直交する。また、点Ｐ₂の位置における位相差の大きさは、点Ｐ₁の位置における位相差よりも大きく、また、点Ｐ₃の位置における位相差の大きさは、点Ｐ₂の位置における位相差よりも大きい。すなわち、中心Ｏから外側に向かって離間した位置ほど位相差が大きい。

　図１２に示すように、コレステリック液晶層は、中心Ｏから外側に向かう、いずれの方向においても、中心Ｏから外側に向かって位相差が大きくなっており、また、ある一点における遅相軸の方向は、この一点と中心Ｏとを結んだ線分と略直交する。言い換えると、遅相軸の方向は径方向と略直交する。このように、コレステリック液晶層において、面内の微小な領域ごとの遅相軸の方向および位相差の大きさは、面内の位置によって異なっている。

　また、好ましくは、図１２に示すように、中心Ｏからの距離が同じ位置では、位相差の大きさは略同じとなる。

　図１２に示すコレステリック液晶層では、位相差の大きさが同じ領域での遅相軸を表す矢印すべてに接する接線を引くと、図１２中、破線で示すように、中心Ｏの円を描く。位相差の大きさごとに直径が異なる大きさの円を描き、複数の円が中心Ｏを共有する同心円となる。以下の説明において、図１２に示すような遅相軸のパターンを、同心円状のパターンともいう。

　本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層は、遅相軸が同心円状のパターンを有することにより、例えば、コレステリック液晶層を、球の一部のような曲面に成型する場合に、成型時の延伸による位相差を打ち消すことができる。

　具体的には、従来のコレステリック液晶層の場合には、螺旋軸方向から見た、隣接する液晶化合物の分子軸のなす角度は略一定、すなわち、単位長さ当たりの回転角が一定である。従って、従来のコレステリック液晶層は、面内のいずれの位置（微小な領域）においても、屈折率の異方性（位相差）を有さない、等方性のものである。

　このような従来のコレステリック液晶層を、例えば、球の一部のような曲面に成型した場合には、平面視において、中央に近い領域は、方向によらず一定の延伸倍率で延伸されるため、異方性は生じない。しかしながら、成形される領域の端部に近い領域では、円周方向と径方向とで異なる延伸倍率で延伸されてしまう。そのため、円周方向と径方向とで液晶化合物の存在確率に偏りが生じてしまい、これにより、屈折率の異方性（位相差）が生じてしまう。具体的には、端部に近い領域ほど、円周方向の延伸倍率は小さく、径方向の延伸倍率が高くなるため、径方向の液晶化合物の存在確率が高くなり、径方向に遅相軸を有することになる（図６参照）。このように、従来のコレステリック液晶層を球の一部のような曲面に成型した場合には、面内の位置によって、生じる位相差の大きさが異なる。そのため、成形したコレステリック液晶層を仮想現実表示装置のパンケーキレンズを構成する反射円偏光子として用いた場合には、入射光を適切に反射、透過させることができなくなり、漏れ光を増加させてしまう。仮想現実表示装置において、漏れ光は、ゴーストとして視認されてしまう。

　これに対して、本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層は、外側ほど位相差が大きく、また、遅相軸の方向は径方向と略直交する、同心円状のパターンを有する。そのため、例えば、球の一部のような曲面に成型した場合には、平面視において、中央に近い領域は、方向によらず一定の延伸倍率で延伸されるため、異方性は生じず、位相差は略０のままである。一方、成形される領域の端部に近い領域では、円周方向には小さい延伸倍率で延伸され、径方向には高い延伸倍率で延伸されるが、端部に近い領域は遅相軸の方向が径方向と略直交しているため、すなわち、径方向と略直交する方向（円周方向）の液晶化合物の存在確率が高いため、径方向に延伸されることで径方向と円周方向とでの液晶化合物の存在確立の差が小さくなる。これにより、端部に近い領域における屈折率の異方性（位相差）が小さくなる。このように、成形される際の、位置ごとの円周方向の延伸倍率と径方向の延伸倍率に応じて、コレステリック液晶層に外側ほど位相差が大きく、また、遅相軸の方向は径方向と略直交する、同心円状のパターンを付与することで、成形後の面内の各領域で位相差を小さく（略０）することができる。従って、本発明のコレステリック液晶層を成形して仮想現実表示装置のパンケーキレンズを構成する反射円偏光子として用いた場合には、入射光を適切に反射、透過させることができ、漏れ光を低減することができる。これにより、仮想現実表示装置において、ゴーストが視認されることを抑制できる。

　外側ほど位相差が大きく、また、遅相軸の方向は径方向と略直交する、同心円状のパターンを有するコレステリック液晶層の形成方法について説明する。
　前述のとおり、位相差を有するコレステリック液晶層は、コレステリック液晶層となる組成物を塗布した後に、コレステリック液晶相（組成物層）に、偏光を照射することで形成できる。その際、偏光の方向に液晶化合物の存在確立が高くなり、遅相軸方向となるような屈折率楕円体が形成されるため、照射する偏光の方向を、外側ほど位相差が大きく、また、遅相軸の方向が径方向と略直交する、同心円状のパターンとなるように、偏光を照射すればよい。

　屈折率楕円体を有するコレステリック液晶層の遅相軸が、面内で複数の方位を有するためには、公知の偏光露光方法を使用することができる。具体例としては、特開２００８－２３３９０３号公報に記載の方法で作製できる。

　一例として、図１１に示すようなマスクを用いて、コレステリック液晶相（組成物層）を回転させながら、偏光を照射する方法が挙げられる。
　図１１に示すマスクは、三角形状の透過部が、頂部が中心に略一致して、端部に向かって細長く形成されている。また、透過部における光透過率（露光に用いる波長の光の透過率）は、中心側が低く、端部に向かって高くなっている。このマスクを介して、径方向と直交する方向の偏光を、コレステリック液晶相（組成物層）に照射し、また、三角形状の透過部の頂部を中心としてコレステリック液晶相（組成物層）を回転させることで、外側ほど位相差が大きく、また、遅相軸の方向が径方向と略直交する、同心円状のパターンを形成することができる。

＜光学積層体＞
　本発明の第２実施形態の光学積層体は、例えば、上述の光学機能性層（コレステリック液晶層）と、基材フィルムを含む。また、光学機能性層は、複数の層が積層されていても良い。基材フィルムは、例えば、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート等が挙げられる。

＜光学部品＞
　本発明の第２実施形態の光学部品は、上述のコレステリック液晶層を成形した成形体（曲面状光学機能性層）である。光学部品をパンケーキレンズ型の仮想現実表示装置に用いる場合には、広い視野や、低い色収差、低い歪み、および優れたＭＴＦが得られるよう、光学部品は曲面を有する適切な形状に設計することができる。

　成形体の形状は、球の一部、放物線回転体、非球面レンズ形状等の種々の形状とすることができる。また、成形体の形状は、積層するレンズの形状に合わせた形状であってもよい。
　具体的には、本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層（を含む光学積層体）を成形して得られる成型体は、上述した本発明の第１実施形態の光学フィルムの第１の態様と同様の構成とすることができる。すなわち、成型体は、ガウス素曲率が正である非可展面の曲面形状を有するものである。このような曲面形状としては、球面、放物面、楕円面、中心から外方向に向かって曲率が変化する非球面、例えば円形のレンズであれば直径方向で光軸に対して非対称の曲面のような中心に対して非対称な曲面等、ガウス曲率が正である非可展面を有する各種の曲面形状が利用可能である。
　また、このような曲面形状を有する成型体において、外周形状（外周端の形状）すなわち平面形状にも制限はなく、楕円形、楕円以外の長円形、多角形および不定形等の各種の形状が利用可能である。中でも、楕円形であるのが好ましい。なお、本発明においては、楕円形には円形も含む。
　平面形状とは、成型体の曲面の頂部（底部）の法線方向から見た際の形状であり、例えば、曲面形状を有する成型体がレンズである場合には、通常、光軸方向から見た場合の形状である。

　本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層（を含む光学積層体）を成形して得られる成型体は、第１実施形態の光学フィルムの第１の態様と同様に、評価波長（測定波長）を、コレステリック液晶層における選択反射中心波長よりも短い側の半値波長から２０ｎｍを減じた波長として、中心での評価波長における面内レタデーションＡが評価波長の２％の値未満であり、かつ、外縁部での評価波長における面内レタデーションＢが評価波長の２％の値未満であるものとすることができる。

　このよう成形体（曲面状光学機能性層）の作製方法は、上述したコレステリック液晶層を作製するコレステリック液晶層作製工程と、コレステリック液晶層の位相差を解消するように曲面成形する成形工程を含む。
　また、成形工程において、凹面成形面を有する成形型の凹面成形面の底部と、コレステリック液晶層の中心（位相差領域の中心）とが一致するように、コレステリック液晶層を成形型上に設置し、凹面成形面に沿うようにコレステリック液晶層を変形させることが好ましい。
　このような凹面成形面を有する成形型を用いた成形方法は、真空成形等の従来公知の方法が利用可能である。

＜仮想現実表示装置＞
　本発明の第２実施形態の仮想現実表示装置は、少なくとも偏光を出射する画像表示装置と、上述した本発明の第２実施形態の光学部品（成型体）とを含む。また、その他にハーフミラーおよび視度調整レンズ等、付加的な光学部材を有していても良い。
　偏光を出射する画像表示装置としては、公知の画像表示装置を用いることができる。たとえば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置等の自発光型の微細な発光体を透明基板上に配列した表示装置が例示される。これら自発光型の表示装置は、通常、表示面の反射防止のため表示面に（円）偏光板が貼合されている。そのため、出射光は偏光している。また、その他の画像表示装置としては液晶表示装置が例示される。液晶表示装置もまた、表面に偏光板を有するため、出射光は偏光している。以下の説明では、有機エレクトロルミネッセンス表示装置をＯＬＥＤともいう。ＯＬＥＤとは『Organic Light Emitting Diode』の略である。

　具体的には、本発明の第２実施形態の仮想現実表示装置は、図１に示す仮想現実表示装置において、光学積層体１００として、本発明の第２実施形態のコレステリック液晶層（を含む光学積層体）を成形した成型体を用いる以外は、第１実施形態の仮想現実表示装置と同様の構成とすることができる。

　以下に実施例を挙げて、本発明の特徴をさらに具体的に説明する。なお、以下に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。また、本発明の趣旨を逸脱しない限り、以下に示す構成以外の構成とすることもできる。

［第１実施形態の実施例］
〔反射層用塗布液Ｒ－１～Ｒ－６の作製〕

　下記に示す組成物を、７０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｒ－１～Ｒ－６をそれぞれ調製した。ここでＲは棒状液晶を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　反射層用塗布液（棒状液晶化合物を含有）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　１２０．９質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　２１．３質量部
・下記の棒状液晶化合物の混合物　　　　　　　　　　１００．０質量部
・光重合開始剤Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
・下記のカイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　下記の表１に記載
・下記の界面活性剤　Ｆ１　　　　　　　　　　　　　０．０２７質量部
・下記の界面活性剤　Ｆ２　　　　　　　　　　　　　０．０６７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　棒状液晶化合物を含有する塗布液（Ｒ－１～Ｒ６）のカイラル剤量

　棒状液晶化合物の混合物
　上記混合物において、数値は質量％である。また、Ｒは酸素原子で結合する基である。さらに、上記の棒状液晶の波長３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数は、１４０／ｍｏｌ・ｃｍであった。

　カイラル剤Ａ

　界面活性剤Ｆ１

　界面活性剤Ｆ２

　光重合開始剤Ｂ

　カイラル剤Ａは、光によって螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）が減少するカイラル剤である。

（反射層用塗布液Ｄ－１～Ｄ－７）
　下記に示す組成物を、５０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｄ－１～Ｄ－７を調製した。ここでＤは円盤状液晶を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
反射層用塗布液（円盤状液晶化合物を含有）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記の円盤状液晶化合物（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　２０質量部
・重合性モノマーＥ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・界面活性剤Ｆ４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７）　　　３質量部
・カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　下記の表２に記載
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２９０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　円盤状液晶化合物を含有する塗布液のカイラル剤量

　円盤状液晶化合物（Ａ）

　円盤状液晶化合物（Ｂ）

重合性モノマーＥ１

界面活性剤Ｆ４

〔光学フィルム１の作製〕
　仮支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東洋紡（株）製、Ａ４１００）を用意した。このＰＥＴフィルムは、一方の面に易接着層を有する。

　先に示したＰＥＴフィルムの易接着層が無い面をラビング処理し、上記で調製した反射層用塗布液Ｒ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥し、溶媒を気化させた後に１００℃で１分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、大気下にて４０℃で、露光マスク越しに照射量５ｍＪ／ｃｍ²の高圧水銀ランプの光を照射し、光異性化を行った。この時使用した露光マスクのイメージ図を図５に示す。中心の透過率が高く、端部に向かうに従って透過率が下がる回転対称型の露光マスクを使用した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ²、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、コレステリック液晶層からなる赤色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の赤色光反射層の膜厚が４．５μｍとなるように塗布厚みを調整した。露光マスクを使用した光異性化により、中心部の反射スペクトルの中心波長は７０１ｎｍであり、端部の反射スペクトルの中心波長は６８３ｎｍであるコレステリック液晶の螺旋ピッチが面内分布を有するパターン化コレステリック液晶層を作製した。

　次に、赤色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に反射層用塗布液Ｄ－２をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、大気下にて４０℃で、露光マスク越しに照射量５ｍＪ／ｃｍ²の高圧水銀ランプの光を照射し、光異性化を行った。この時使用した露光マスクは１層目の赤色光反射層で用いた露光マスクと同じものである。その後、再度１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得たのち、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ²、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、赤色光反射層上に黄色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の黄色光反射層の膜厚が３．３μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、黄色光反射層上に、反射層用塗布液Ｒ－３をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥し、溶媒を気化させた後に１００℃で１分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、大気下にて４０℃で、露光マスク越しに照射量５ｍＪ／ｃｍ2の高圧水銀ランプの光を照射し、光異性化を行った。この時使用した露光マスクは１層目の赤色光反射層で用いた露光マスクと同じものである。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ²、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、黄色光反射層上に緑色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の緑色光反射層の膜厚が２．７μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、赤色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に反射層用塗布液Ｄ－４をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、大気下にて４０℃で、露光マスク越しに照射量５ｍＪ／ｃｍ²の高圧水銀ランプの光を照射し、光異性化を行った。この時使用した露光マスクは１層目の赤色光反射層で用いた露光マスクと同じものである。その後、再度１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得たのち、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、緑色光反射層上に青色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の青色光反射層の膜厚が２．５μｍとなるように塗布厚みを調整した。
　これにより光学フィルム１を作製した。

　光学フィルム１の作製に用いた反射層用塗布液、カイラル剤量、反射中心波長および膜厚を下記の表に示す。
　ここで、反射中心波長とは、コレステリック液晶相を用いた反射帯域を有する光反射フィルムの特性を定義するのに用いられ、フィルムが反射するスペクトルバンドの中間点を指す。具体的には、ピーク反射率に対して半値を示す短波長側の波長と長波長側の波長の平均値を計算することで得た。反射中心波長（反射光の中心波長）は、単層だけ塗布した膜を作成して確認した。膜厚はＳＥＭで確認した。

　光学フィルム１の反射層（コレステリック液晶層）

〔光学フィルム２の作製〕
　光学フィルム２は、層数を８層に増やし、反射層用塗布液、カイラル剤量、反射中心波長および膜厚を下記の表のように変えた以外は、反射円偏光子１と同じ作製方法で作製した。

　光学フィルム２の反射層（コレステリック液晶層）

〔光学フィルム３および光学フィルム４の作製〕
　光学フィルム３は、光学フィルム１を作製するプロセスのうち、反射層（コレステリック液晶層）を作製する際の露光マスクを用いた異性化露光を実施せずに作製した。

　光学フィルム４は、光学フィルム２を作製するプロセスのうち、反射層（コレステリック液晶層）を作製する際の露光マスクを用いた異性化露光を実施せずに作製した。

〔光学フィルム５の作製〕
　光学フィルム５は、反射層（コレステリック液晶層）の層数を５層に増やし、反射層用塗布液および膜厚を下記表３－３のように変更した。また、コレステリック液晶を配向させるための光配向膜として、下記に示す光干渉層用塗布液を用いて作製した光干渉層（ポジティブＣプレート層）を用いた。

＜光干渉層用塗布液ＰＣ－１＞
　下記に示す組成物を、６０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、光干渉層用塗布液ＰＣ－１を調製した。

――――――――――――――――――――――――――――――――
　光干渉層用塗布液ＰＣ－１
――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　３０１１．０質量部
・上記棒状液晶化合物の混合物　　　　　　　　　　１００．０質量部
・下記光重合開始剤Ｃ　　　　　　　　　　　　　　　　５．１質量部
・下記光酸発生剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０質量部
・下記親水性ポリマー　　　　　　　　　　　　　　　　２．０質量部
・下記垂直配向剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．９質量部
・下記減粘剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．２質量部
・下記層間光配向膜用材料　　　　　　　　　　　　　　８．０質量部
・下記安定剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

　光重合開始剤Ｃ

　光酸発生剤

　親水性ポリマー

　垂直配向剤

　減粘剤

　層間光配向膜用材料

　安定剤

　支持体として、厚さ６０μｍのＴＡＣフィルム（トリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム社製、ＴＧ６０））を用意した。

　支持体（ＴＡＣフィルム）に、上記で調製した光干渉層用塗布液ＰＣ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、８０℃で６０秒乾燥した。
　その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ）にて、７８℃で照射量３００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線ＬＥＤランプ（波長３６５ｎｍ）の光を照射して液晶化合物を硬化すると同時に、層間光配向膜用材料の開裂基を開裂させた。その後、１１５℃で２５秒加熱することで、フッ素原子を含む置換基を脱離させた。
　これにより、最表面にシンナモイル基を有し、膜厚が８０ｎｍである光干渉層としてのポジティブＣプレート層を形成した。
　干渉膜厚計ＯＰＴＭ（大塚電子製、最小二乗法で解析）で測定した屈折率ｎＩは１．５７だった。Ａｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）で測定した波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈは－８ｎｍだった。

　次に、照度７ｍＷ／ｃｍ²、照射量７．９ｍＪ／ｃｍ²の偏光ＵＶ（波長３１３ｎｍ）をポジティブＣプレート側から照射した。
　波長３１３ｎｍの偏光ＵＶは、水銀ランプから出た紫外光を、波長３１３ｎｍに透過帯域を有するバンドパスフィルタと、ワイヤーグリッド偏光板を透過させることで得た。
　反射層用塗布液Ｒ－５をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で７２秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ²、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、コレステリック液晶層からなる緑色光反射層（第１の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。このとき、硬化後の緑色光反射層の膜厚が２．４μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、緑色光反射層の表面に、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に、反射層用塗布液Ｄ－５をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。
　その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ²）して硬化することで、緑色光反射層上に青色光反射層（第２の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の青色光反射層の膜厚が１．７μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、青色光反射層上に、反射層用塗布液Ｄ－６をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ²）して硬化することで、青色光反射層上に第２の青色光反射層（第３の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の青色光反射層の膜厚が３．８μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、第２の青色光反射層上に、反射層用塗布液Ｒ－６をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で７２秒乾燥した。
　その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、第２の青色光反射層上に赤色光反射層（第４の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の赤色光反射層の膜厚が４．８μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、赤色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に反射層用塗布液Ｄ－７をワイヤーバーコーターで塗布した。
　続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。
　その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ²）して硬化することで、赤色光反射層上に黄色光反射層（第５の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の黄色光反射層の膜厚が３．３μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　作製した光学フィルム５の各反射層について、反射層用塗布液、カイラル剤量、反射中心波長および膜厚を下記の表に示す。

　光学フィルム５の反射層（コレステリック液晶層）

〔光学フィルム６の準備〕
　成形テストに用いる光学等方性を有する光学フィルム６として、膜厚５０μｍのＰＭＭＡフィルム（ポリメチルメタアクリレートフィルム）を用意した。

〔成形方法１〕
　光学フィルム２を、リンテック社製の粘着シート（ＮＣＦ－Ｄ６９２（５））を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、粘着シートからセパレートフィルムを剥離して粘着面を露出させた状態にして、成形装置にセットした。
　成形装置内の成形空間は、光学フィルム１で仕切られたボックス１とボックス２とからなり、光学フィルム２の下側にあるボックス１に、モールドとしてＴｈｏｒｌａｂ社製の凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。
　また、光学フィルム１の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に光学フィルムを加熱するためのＩＲ光源を設置した。
　ＩＲ光源と光学フィルム２との間に、波長２．２μｍから波長３．０μｍの赤外線を反射率約５０％で反射するコレステリック液晶層を、モールドの外周形状に合わせて切り抜き、さらに中心部を直径１インチで円形状に切り抜くことで得た、リング状のパターン赤外線反射フィルターを配置した。この際、真上から見たときに、パターン赤外線反射フィルターの中心部が、モールドの中心部に来るように配置した。
　次に、真空ポンプでボックス１内およびボックス２内を、それぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。
　次に、光学フィルム２を加熱する工程として、赤外線を照射し、光学フィルム１の中心部が１０８℃、端部が９９℃となるまで加熱した。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転位温度Ｔｇは１０５℃であるため、成形中、中心部が伸びやすく、端部が伸びにくい状態になることを狙った。
　次に、光学フィルム２をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、光学フィルム２をモールドに圧着させた。光学フィルム２は粘着シートを介してモールドに貼られ、そのまま複合レンズ１として使用した。
　最後に光学フィルムを、モールドであるレンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形された光学フィルム２をレンズに貼合された状態で得た。

〔成形方法２〕
　光学フィルム２を、リンテック社製の粘着シート（ＮＣＦ－Ｄ６９２（５））を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、粘着シートからセパレートフィルムを剥離して粘着面を露出させた状態にして、成形装置にセットした。
　成形装置内の成形空間は光学フィルム２で仕切られたボックス１とボックス２からなり、光学フィルム２の下側にあるボックス１に、モールドとしてＴｈｏｒｌａｂ社製の凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）の周りを粘土で拡張したものを凹面が上になるように配置した。粘土による拡張は、レンズの凹面の曲面がほぼ実質的に同曲率のまま延長するようにし、レンズと粘土を含むモールドの形状が直径３インチ、凹面の曲率半径６５ｍｍとなるようにした。
　また、光学フィルム２の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に光学フィルム２を加熱するためのＩＲ光源を設置した。
　次に、真空ポンプでボックス１内およびボックス２内を、それぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。
　次に、光学フィルム２を加熱する工程として、赤外線を照射し、光学フィルム２の中心部が１０８℃となるまで加熱した。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転位温度Ｔｇは１０５℃であるため、それ以上の温度を狙った。
　次に、光学フィルム２をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、前記ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、光学フィルム２をモールドに圧着させた。光学フィルム２は粘着シートを介してモールド内のレンズ部分に貼られ、そのまま複合レンズ２として使用し、レンズの外側に配置した粘土は除去した。
　最後に、光学フィルム２を、レンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形された光学フィルム２をレンズに貼合された状態で得た。この時切り出された光学フィルム２の直径は、レンズと粘土で形成したモールドの直径に対して６７％だった。

〔成形方法３〕
　光学フィルム２を、リンテック社製の粘着シート（ＮＣＦ－Ｄ６９２（５））を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、粘着シートからセパレートフィルムを剥離して粘着面を露出させた状態にして、成形装置にセットした。
　成形装置内の成形空間は光学フィルム１で仕切られたボックス１とボックス２とからなり、光学フィルム２の下側にあるボックス１に、モールドとしてＴｈｏｒｌａｂ社製の凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。
　また、光学フィルム２の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に光学フィルムを加熱するためのＩＲ光源を設置した。
　次に、真空ポンプでボックス１内およびボックス２内を、それぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。
　次に、光学フィルム２を加熱する工程として、赤外線を照射し、光学フィルム２の中心部が１０８℃となるまで加熱した。
　次に、光学フィルム２をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、光学フィルム２をモールドに圧着させた。この時、３００ｋＰａに到達するまでの加圧のスピードを調整し、モールドに圧着直後の中心部の温度が、９９℃となるようにした。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転位温度Ｔｇは１０５℃であるため、成形中、中心部は伸びやすいままで、成形途中で端部が伸びにくい状態に変化することを狙った。
　光学フィルム２は粘着シートを介してモールドに貼られ、そのまま複合レンズ３として使用した。
　最後に光学フィルム２を、モールドであるレンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形された光学フィルム２をレンズに貼合された状態で得た。

〔成形方法４〕
　光学フィルム２を、リンテック社製粘着シート（ＮＣＦ－Ｄ６９２（５））を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、粘着シートからセパレートフィルムを剥離して粘着面を露出させた状態にした。
　凹面形状のモールドとしてＴｈｏｒｌａｂ社製の凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。
　モールドの上に粘着面が下になるように光学フィルム２を配置した。これにより光学フィルム２は凹面モールドの縁部に拘束される状態となった。
　次に曲率半径６５ｍｍの凸面形状のモールドを用意し、モールドを１２０℃にオーブンで加熱した。
　次に凸面形状のモールドの凸部頂点が、真上から見たときに、凹面形状のモールドの中心部に来るように配置して、ゆっくりと光学フィルム２に押し付けた。これにより成形中、中心部の温度がまず上がって伸びやすい状態になり、凸面の押し込みが進む中で温度が高い領域が端部に向かって広がるようにした。
　光学フィルム２は粘着シートを介してモールドに貼られ、そのまま複合レンズ４として使用した。最後に光学フィルムのモールドであるレンズからはみ出した部分を裁断することで、曲面に成形された光学フィルム２をレンズに貼合された状態で得た。

　光学フィルム１、３、４および５は成形方法１で成形し、それぞれ複合レンズ５、６、７および８を作成した。

〔偏光板積層体の作製〕
〔ポジティブＣプレート１の作製〕
　特開２０１６－０５３７０９号公報の段落０１３２～０１３４に記載の方法を参照し、膜厚を調整して、ポジティブＣプレート１を作製した。ポジティブＣプレート１は、Ｒｅ＝０．２ｎｍ、Ｒｔｈ＝－３１０ｎｍであった。

〔位相差層１の作製〕
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、逆分散性の位相差層１を作製した。位相差層１は、Ｒｅ＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝７３ｎｍであった。

〔直線偏光子の作製〕
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
　（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　化合物Ｆ

　（外層セルロースアシレートドープの作製）
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２、日本アエロジル社製）　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レタデーションは０ｎｍであった。

　＜光配向層ＰＡ１の形成＞

　後述する配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成した。膜厚は０．３μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体Ｍ－ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ-1　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　０．００５質量部
・キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　１２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　重合体Ｍ－ＰＡ－１

　酸発生剤ＰＡＧ－１

　酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

　＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
　得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用塗布液Ｓ－Ｐ－１をワイヤーバーで連続的に塗布した。次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を形成した。膜厚は１．６μｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光吸収異方性層形成用塗布液Ｓ－Ｐ－１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．５９質量部
・下記高分子液晶化合物Ｍ－Ｐ－１　　　　　　　　　　２．２１質量部
・下記低分子液晶化合物Ｍ－１　　　　　　　　　　　　１．３６質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ-０２（ＢＡＳＦ社製）　０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　二色性物質Ｄ－１

　二色性物質Ｄ－２

　二色性物質Ｄ－３

　高分子液晶化合物Ｍ－Ｐ－１

　低分子液晶化合物Ｍ－１

　界面活性剤Ｆ－１

　得られたポジティブＣプレート１の支持体の反対側に、得られた位相差層１を貼合した。
　次に光吸収異方性層Ｐ１を転写した。この際、光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体とは反対側の層がポジティブＣプレート１側になるように転写した。光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体は、転写後に剥離して取り除いた。
　光吸収異方性層Ｐ１の転写は、以下の手順により行った。
（１）ポジティブＣプレート１の支持体側に、ＵＶ接着剤ケミシールＵ２０８４Ｂ（ケミテック社製、硬化後屈折率ｎ１．６０）をワイヤーバーコーターで厚み２μｍとなるように塗布した。その上に光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体の反対側がＵＶ接着剤と接するように、ラミネーターで貼り合わせた。
（２）パージボックスのなかで酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になるまで窒素パージした後、光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体側から高圧水銀ランプの紫外線を照射して硬化した。照度は２５ｍＷ／ｃｍ²、照射量は１０００ｍＪ／ｃｍ²だった。
（３）最後に光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体を剥離した。
　ただし、位相差層１の遅相軸と、光吸収異方性層Ｐ１の吸収軸とが４５°をなすように積層した。最後にポジティブＣプレート１の支持体を剥離した。
　このようにして、偏光板積層体を作製した。作製した偏光板積層体にポジティブＣプレート側から右円偏光を入射すると、実質的にほとんどの可視光が吸収され、左円偏光を入射すると実質的にほとんどの可視光が透過してくることを確認した。

［積層光学体１および複合レンズ９の作製］
　光学フィルム５の黄色光反射層（第５の光反射層）側の面と、作製した偏光板積層体の光吸収異方性層Ｐ１の反対側の面が向き合う配置で、リンテック社製の粘着シート（ＮＣＦ－Ｄ６９２（５））を介して貼合した。
　貼合後、光学フィルム５の支持体として用いていたタックフィルムを剥離して、コレステリック液晶と位相差フィルムと光吸収異方性層からなる積層光学体１を得た。

　作製した積層光学体１を成形方法１で成形し、複合レンズ９を作成した。
　この際には、積層光学体１の光学フィルム５側の面がレンズ側になるように配置して、成形を行った。

　［光学フィルム６を用いた複合レンズ１１～１４の作製］
　光学フィルム６を成形方法１～４で成形して、複合レンズ１１～１４を作製した。

〔複合レンズへのハーフミラーの形成〕
　複合レンズ１（凹面側に光学フィルム２を貼合したＴｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ））の凸面側に、反射率が４０％となるようにアルミ蒸着を施してハーフミラーとした。複合レンズ１の中心部と端部の反射スペクトルを分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）に大型積分球装置（日本分光社製、ＩＬＶ－４７１）を取り付けたものを用いて測定した結果、中心部と端部の反射スペクトルの帯域のずれは０．８％だった。
　同様に複合レンズ２～７にもアルミ蒸着を施した。
　なお、光異性化を行わなかった光学フィルム３、４および５を用いた複合レンズ６、７および８については、中心部と端部の反射スペクトルの帯域のズレは、それぞれ２．８％だった。

［実施例１～８］
　往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ　ＶＲ　Ｇｌａｓｓ」を分解し、複合レンズを全て取り出した。
　取り出した複合レンズに代えて、光学フィルム２を貼合した複合レンズ１を本体に組み込み、さらに複合レンズ１と使用者の目との間に、偏光板積層体の光吸収異方性層Ｐ１側が目側に来るように設置することで、実施例１の仮想現実表示装置を作製した。
　作製した仮想現実表示装置において、画像表示パネルに白黒のチェッカーパターンを表示させ、ゴースト視認性を目視にて、下記四段階で評価した。

＜ゴーストの評価＞
Ａ；僅かに見えるが気にならない。
Ｂ；弱いゴーストが見える。
Ｃ；やや強いゴーストが見える。
Ｄ；強いゴーストが見える。

　さらに、複合レンズ２～８を用いて、実施例２～８の仮想現実表示装置を同様の手順で作成し、ゴースト視認性の評価を行った。各実施例で用いた成形方法および光学フィルムの種類を表４に示す。

［実施例９］
　往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ　ＶＲ　Ｇｌａｓｓ」を分解し、複合レンズを全て取り出した。
　取り出した複合レンズに代えて、積層光学体１を貼合した複合レンズ９を本体に組み込むことで、実施例９の仮想現実表示装置を作製した。
　作製した仮想現実表示装置において、同様に、画像表示パネルに白黒のチェッカーパターンを表示させ、ゴースト視認性の評価を行った。

［実施例１１～１４］
　光学フィルム６を用いた複合レンズ１１～１４を、実施例１１～１４とした。

　＜位相差の測定＞
　実施例１～９の複合レンズ１～９、および、実施例１１～１４の複合レンズ１１～１４に関して、複合レンズから光学フィルムの中心部と端部の小片を剥離して取り出し、Ａｘｏｓｃａｎを用いて位相差（面内レタデーション）を測定した。
　なお、端部の小片の位置は、レンズの縁部から５ｍｍの位置を、方位角方向に、４５度間隔で８点サンプリングした。サンプリングした８点で測定した位相差のうち、最大値を、光学フィルムの端部の位相差とした。
　また、光学フィルムがコレステリック液晶層を有する実施例１～９においては、最も選択中心波長が短いコレステリック液晶層に応じて評価波長を設定した。なお、端部と中心部とで評価波長が異なるのは、端部と中心部とで延伸倍率が異なることに起因して、短波長側の半値幅が異なるためである。

　各実施例における複合レンズ、成形方法およびコレステリック層を下記の表４に、ゴースト視認性の評価結果を下記の表５に、位相差の測定結果を下記の表５に、それぞれ示す。
　なお、実施例１１～１４に関しては、ゴーストの評価は行わず、位相差の測定のみを行った。

　表４　各実施例における複合レンズ、成形方法およびコレステリック層

　表５　ゴースト視認性の評価結果

　表５に示されるように、実施例１～４、８、９の仮想現実表示装置においては全視野領域にわたって、ゴーストが良好だった。また白黒のチェッカーパターンの白部の色の変化が気にならなかった。
　実施例５および実施例６ゴーストは端部でやや強いゴーストが視認されたが、許容内だった。また実施例６は視野中央部に弱いゴーストが見えた。実施例５は白黒のチェッカーパターンの白部の色の変化は気にならず、実施例６は白黒のチェッカーパターンの白部の色の変化が認識された。実施例７は視野中央部で弱いゴーストが視認されたが端部では視認されなかった。実施例７は白黒のチェッカーパターンの白部の色の変化が認識された。

　表６　各実施例の位相差の評価

　表６に示されるように、本発明の成形方法で複合レンズの形状に成形したコレステリック液晶層を有する光学フィルム１～５は、中心および端部（外縁部）共に、成形後の位相差すなわち面内レタデーションが評価波長（評価波長）の２％未満である。
　また、本発明の成形方法で複合レンズの形状に成形したＰＭＭＡフィルムを用いる光学フィルム６も、中心および端部（外縁部）共に、成形後の位相差すなわち面内レタデーションが、１１ｎｍ未満である。
　以上のように、本発明の成形方法によれば、成形を行った後でも、中心部および端部共に、光学フィルムの位相差の発生すなわち面内レタデーションが低く抑えられている。

［第２実施形態の実施例］
〔コレステリック層用塗布液Ｒ－１～Ｒ－４の作製〕

　下記に示す組成物を、７０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、コレステリック層用塗布液Ｒ－１～Ｒ－４をそれぞれ調製した。ここでＲは棒状液晶を用いた塗布液を意味する。各コレステリック層用塗布液に含まれるカイラル剤の量を表７に示す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　コレステリック層用塗布液Ｒ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　１２０．９質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　２１．３質量部
・下記の棒状液晶の混合物　　　　　　　　　　　　　１００．０質量部
・重合開始剤ＬＣ－１－１　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
・下記のカイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　表７に記載
・下記の界面活性剤Ｆ１　　　　　　　　　　　　　　０．０２７質量部
・下記の界面活性剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　０．０６７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

表７.　棒状液晶を含有する塗布液のカイラル剤量

　棒状液晶の混合物

　上記混合物において、数値は質量％である。また、Ｒは酸素原子で結合する基である。さらに、上記の棒状液晶の波長３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数は、１４０／ｍｏｌ・ｃｍであった。

　カイラル剤Ａ

　界面活性剤Ｆ１

　界面活性剤Ｆ２

　重合開始剤ＬＣ－１－１　

（コレステリック層用塗布液Ｄ－１～Ｄ－４）
　下記に示す組成物を、５０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、コレステリック層用塗布液Ｄ－１～Ｄ－４を調製した。ここでＤは円盤状液晶を用いた塗布液を意味する。各コレステリック層用塗布液に含まれるカイラル剤の量を表８に示す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
コレステリック層用塗布液Ｄ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶（Ａ）　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記の円盤状液晶（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
・重合性モノマーＥ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・界面活性剤Ｆ４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・重合開始剤ＬＣ－１－１　　　　　　　　　　　　　　　　　３質量部
・カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　表８に記載
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２９０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

表８.　円盤状液晶を含有する塗布液のカイラル剤量

　円盤状液晶（Ａ）

円盤状液晶（Ｂ）

重合性モノマーＥ１

界面活性剤Ｆ４

〔積層体１の作製〕
　仮支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東洋紡（株）製、Ａ４１００）を用意した。このＰＥＴフィルムは、一方の面に易接着層を有する。

　先に示したＰＥＴフィルムの易接着層が無い面をラビング処理し、上記で調製したコレステリック液晶用塗布液Ｒ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１分乾燥し、溶媒を気化させた後に１００℃で１分間加熱熟成を行って、均一な配向状態のコレステリック液晶相が支持体上に塗布されたコレステリック液晶フィルムを得た。このコレステリック液晶フィルムを、回転機構を有するステージに配置した。その後、ＵＶ（紫外線）光源として３５０～４００ｎｍに強い発光スペクトルを有するＤ－Ｂｕｌｂを搭載したマイクロウェーブ発光方式の紫外線照射装置（ＬｉｇｈｔＨａｍｍｅｒ１０、２４０Ｗ／ｃｍ、ＦｕｓｉｏｎＵＶＳｙｓｔｅｍｓ社製）を用い、照射面から１０ｃｍ離れた位置に、ワイヤグリッド偏光フィルタ（ＰｒｏＦｌｕｘＰＰＬ０２（高透過率タイプ）、Ｍｏｘｔｅｋ社製）を設置して、８０℃に加熱したコレステリック液晶フィルムを回転させながら、窒素雰囲気下で露光マスク越しに偏光UV光を照射した。この時使用した露光マスクの概念図を図１１に示す。
　図１１に示した露光マスクおよび、上記露光マスクを使用した露光方法について以下に説明する。露光マスクは、マスク中央からｙ軸対象な三角形状の領域Ａにおいて偏光ＵＶが透過し、またｙ軸に沿って中央から端部にかけて連続的に透過率が０%から１００％となるように設計した。また、中央から三角形状のｘ軸と直行する辺までの長さは、１インチとした。
　コレステリック液晶フィルムを回転させながら、図１１の露光マスクを通して、コレステリック液晶フィルムに図１１のｙ軸と平行な偏光のＵＶを照射し、照射度および照射量が、中央部は０ｍＷ／ｃｍ²の照度および０ｍJ／ｃｍ²の照射量、端部は２００ｍＷ／ｃｍ²の照度および３００ｍＪ／ｃｍ²の照射量となるようにした。その結果、回転中心を中心として、同心円状に変化する遅相軸が形成された。形成した遅相軸の概念図を図１２に示す。その後更に、窒素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２となるようにメタルハライドランプの光を照射して、コレステリック液晶を硬化することで、コレステリック液晶層からなる赤色光反射層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の赤色光反射層の膜厚は４．５μｍであった。

　次に、赤色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上にコレステリック液晶層用塗布液Ｄ－２をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を１００℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で５分間加熱熟成を行って、均一な配向状態のコステリック液晶相が支持体上に塗布されたコレステリック液晶フィルムを得た。その後、赤色反射層と同様の手法で、マスクを介した偏光ＵＶ照射、メタルハライドランプＵＶ照射をし、赤色光反射層上に黄色光反射層を形成した。この時、硬化後の黄色光反射層の膜厚が３．３μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、黄色光反射層上に、コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－３をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１分乾燥し、溶媒を気化させた後に１００℃で１分間加熱熟成を行って、均一な配向状態のコステリック液晶相が支持体上に塗布されたコレステリック液晶フィルムを得た。その後、赤色反射層と同様の手法で、マスクを介した偏光ＵＶ照射、メタルハライドランプＵＶ照射をし、黄色光反射層上に緑色光反射層を形成した。この時、硬化後の緑色光反射層の膜厚が２．７μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、緑色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上にコレステリック液晶層用塗布液Ｄ－４をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を１００℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で５分間加熱熟成を行って、均一な配向状態のコステリック液晶相が支持体上に塗布されたコレステリック液晶フィルムを得た。その後、赤色反射層と同様の手法で、マスクを介した偏光ＵＶ照射、メタルハライドランプＵＶ照射をし、緑色光反射層上に青色光反射層を形成した。この時、硬化後の青色光反射層の膜厚が２．５μｍとなるように塗布厚みを調整した。これによりコレステリック液晶層を複数層有する積層体１を作製した。用いたコレステリック液晶層用塗布液および膜厚を表９－１に示す。

〔積層体２の作製〕
　積層体２は、層数を８層に増やし、コレステリック液晶層用塗布液と膜厚を下記表９－２のように変えた以外は、積層体１と同じ作製方法で作製した。

〔積層体３の作製〕
　積層体３は、積層体１を作製するプロセスのうち、露光マスクを用いた偏光ＵＶ照射を実施せずに作製した。

〔積層体４の作製〕
　積層体４は、積層体２を作製するプロセスのうち、露光マスクを用いた偏光ＵＶ照射を実施せずに作製した。

〔光学積層体の作製〕
　積層体１を、リンテック社製粘着シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（５）」を介してＰＭＭＡフィルムに貼合しＰＥＴ支持体を剥離して光学積層体１を得た。積層体１を、積層体２～４とした以外は、光学積層体１と同様の手法で光学積層体２～４を得た。

〔位相差と遅相軸の評価〕
　エリプソ測定機であるＪ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製Ｍ－２０００ＵＩを用いて、光学積層体１の遅相軸と位相差を測定した。光学積層体１は、マスク露光の際の回転中心を中心として、実質的に同心円状に遅相軸を有していた。また、マスク露光の際の回転中心の光学積層体１の位相差を測定したところ、０ｎｍであった。マスク露光の際の回転中心から、上記同心円の半径方向に０．２インチ離間した位置の光学積層体１の位相差は２ｎｍであった。マスク露光の際の回転中心から、上記同心円の半径方向に０．６インチ離間した位置の光学積層体１の位相差は１２ｎｍであった。マスク露光の際の回転中心から、上記同心円の半径方向に０．８インチ離間した位置の光学積層体１の位相差は２３ｎｍであった。
　光学積層体２～４を同様に評価した結果を表１０に示す。上記手法でマスクを介して偏光ＵＶを照射したコレステリック液晶層を有する光学積層体１および光学積層体２は、面内で異なる位相差を有し、実質的に同心円状に遅相軸を有した。一方、偏光ＵＶを照射しなかったコレステリック液晶層を有する光学積層体３および光学積層体４は、位相差を有さなかった。

〔成形方法〕
　光学積層体１を、粘着シートを介してＴｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）の凹面に真空成形法を用いて成形した。最後に、光学積層体１のレンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形されたコレステリック液晶層を含む光学部品１を得た。

　光学積層体１の代わりに、光学積層体２を使用する以外は、光学部品１と同様の作製方法で、光学部品２を得た。

　光学積層体１の代わりに、光学積層体３を使用する以外は、光学部品１と同様の作製方法で、光学部品３を得た。

　光学積層体１の代わりに、光学積層体４を使用する以外は、光学部品１と同様の作製方法で、光学部品４を得た。

〔偏光板積層体の作製〕

〔ポジティブＣプレート１の作製〕
　特開２０１６－０５３７０９号公報の段落０１３２～０１３４に記載の方法を参照し、膜厚を調整して、ポジティブＣプレート１を作製した。ポジティブＣプレート１は、Ｒｅ＝０．２ｎｍ、Ｒｔｈ＝－３１０ｎｍであった。

〔直線偏光子の作製〕

〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
　（コア層セルロースアシレートドープの作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　化合物Ｆ

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マット剤溶液
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ　Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルタでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内リタデーションは０ｎｍであった。

　＜光配向層ＰＡ１の形成＞

　後述する配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成した。膜厚は０．３μｍであった。

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（配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１）
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下記記重合体Ｍ－ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ-1　　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　　０．００５質量部
キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　　１２２．００質量部
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　重合体Ｍ－ＰＡ－１

　酸発生剤ＰＡＧ－１

　酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

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光吸収異方性層形成用塗布液Ｓ－Ｐ－１の組成
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・下記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．５９質量部
・下記高分子液晶性化合物Ｍ－Ｐ－１　　　　　　　　　２．２１質量部
・下記低分子液晶性化合物Ｍ－１　　　　　　　　　　　１．３６質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ-０２（ＢＡＳＦ社製）　０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　二色性物質Ｄ－１

　二色性物質Ｄ－２

　二色性物質Ｄ－３

　高分子液晶性化合物Ｍ－Ｐ－１

　低分子液晶性化合物Ｍ－１

　界面活性剤Ｆ－１

　得られたポジティブＣプレート１の支持体の反対側に、得られた位相差層１を貼合した。次に光吸収異方性層Ｐ１を転写した。この際、光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体とは反対側の層がポジティブＣプレート１側になるように転写した。光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体は、転写後に剥離して取り除いた。光吸収異方性層Ｐ１の転写は、以下の手順により行った。
（１）ポジティブＣプレート１の支持体側に、ＵＶ接着剤ケミシールＵ２０８４Ｂ（ケミテック株式会社製、硬化後屈折率ｎ１．６０）をワイヤーバーコーターで厚み２μｍとなるように塗布した。その上に光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体の反対側がＵＶ接着剤と接するように、ラミネーターで貼り合わせた。
（２）パージボックスのなかで酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になるまで窒素パージした後、光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体側から高圧水銀ランプの紫外線を照射して硬化した。照度は２５ｍＷ／ｃｍ^２、照射量は１０００ｍＪ／ｃｍ^２だった。
（３）最後に光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体を剥離した。
　ただし、位相差層１の遅相軸と、光吸収異方性層Ｐ１の吸収軸とが４５°をなすように積層した。最後にポジティブＣプレート１の支持体を剥離した。このようにして、偏光板積層体を得た。本偏光板積層体にポジティブＣプレート側から右円偏光を入射すると、実質的にほとんどの可視光が吸収され、左円偏光を入射すると実質的にほとんどの可視光が透過してくることを確認した。

〔光学部品へのハーフミラーの形成〕
　光学部品１の凸面側に、反射率が４０％となるようにアルミニウム蒸着を施してハーフミラーとした。同様に光学部品２～４にもアルミニウム蒸着を施した。

［実施例２－１］
　往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ　ＶＲ　Ｇｌａｓｓ」を分解し、複合レンズを全て取り出した。代わりに光学部品１を本体に組み込み、更に光学部品１と目の間に偏光板積層体の光吸収異方性層Ｐ１側が目側に来るように設置することで、実施例２－１の仮想現実表示装置を作製した。
　更に、光学物品１をそれぞれ光学物品２～４に代えて、実施例２－２、および比較例２－１、２－２の仮想現実表示装置を同様の手順で作製した。
＜漏れ光の評価＞
　作製した実施例２－１～２－２，および比較例２－１～２－２の仮想現実表示装置において、画像表示装置に白黒のチェッカーパターンを表示させ、目視にて、漏れ光の程度を下記三段階で評価した。尚、漏れ光があると、二重像が視認され、該当部分のコントラストが低下する。
Ａ；二重像がほとんど見えない
Ｂ；二重像が僅かに見えるが気にならない
Ｃ；二重像がはっきり見える
　結果を、表１１に示す。

＜表示の均一性の評価＞
　作製した実施例２－１～２－２，および比較例２－１～２－２の仮想現実表示装置において、画像表示装置に白黒のチェッカーパターンを表示させ、目視にて、表示の均一性を下記三段階で評価した。
Ａ；全面にわたり均一な表示である
Ｂ；画像の一部が不均一に歪んでいる
Ｃ；画像の大部分が歪んでいる
　結果を、表１１に示す。

表１１　実施例の仮想現実表示装置の評価結果

　上記の結果から、凹面成形後のコレステリック液晶層は、凹面成形前に同心円状に配された遅相軸が、凹面成形により解消し、その結果としてレタデーションが１０ｎｍ以下となったために、漏れ光と表示均一性の評価が良好となったことを示している。
　以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

　３１　第１の光反射層
　３２　第２の光反射層
　３３　第３の光反射層
　３４　第４の光反射層
　１００　積層光学体
　１０１　反射防止層
　１０２　ポジティブＣプレート
　１０３　光学フィルム
　１０４　ポジティブＣプレート
　１０５　位相差層
　１０６　直線偏光子
　１２０　支持体
　１２４　配向膜
　１２６　コレステリック液晶層
　１３２　液晶化合物
　２００　レンズ
　３００　ハーフミラー
　４００　円偏光板（反射円偏光子）
　５００　画像表示パネル
　１０００　光線
　２０００　ゴーストを形成する光線

Claims

　光学フィルムを加熱する加熱工程、
　前記光学フィルムをモールドに押し付け、前記モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　前記光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　前記加熱工程が、前記光学フィルムに赤外線を照射することで加熱する工程であり、前記赤外線の照射量が、前記光学フィルムの面内に分布を有する、成形方法。
　前記モールドが、ガウス曲率が正である非可展面の凹面であり、前記光学フィルムの主面の法線方向から前記光学フィルムの面内の位置を前記モールドに射影したときに、
　前記凹面の頂点における前記光学フィルムへの赤外線照射量が、前記凹面の端部における前記光学フィルムへの赤外線照射量より多い、請求項１に記載の成形方法。
　光学フィルムを加熱する加熱工程、
　前記光学フィルムをモールドに押し付け、前記モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　前記光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　前記モールドの前記光学フィルムと接する面は、ガウス曲率が正である非可展面の凹面で、かつ、外周形状が楕円形であり、
　前記裁断工程における裁断形状が楕円形であり、裁断によって切り出す前記光学フィルムの楕円形の外周形状の長径が、前記モールドの外周形状の楕円形における長径に対して、５０％より大きく９５％よりも小さい、成形方法。
　光学フィルムを加熱する加熱工程、
　前記光学フィルムをモールドに押し付け、前記モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　前記光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　前記加熱工程において、前記光学フィルムの前記モールドに接する領域を、前記光学フィルムのガラス転移温度Ｔｇよりも高い温度に加熱し、
　前記成形工程において、前記光学フィルムが前記モールドに接した直後に、前記光学フィルムの前記モールドに接した領域が、ガラス転移温度Ｔｇより低くなるように、前記モールドへの前記光学フィルムの押し付けを制御する、成形方法。
　モールドを加熱する加熱工程、
　加熱した前記モールドを光学フィルムに押し付け、前記モールドの形状に沿って変形させる成形工程、および、
　前記光学フィルムを裁断する裁断工程、を含む光学フィルムの成形方法であって、
　前記モールドは、ガウス曲率が正である非可展面の凸面であり、
　前記成形工程において、前記光学フィルムの中心に前記モールドの凸面頂点を押し付ける、成形方法。
　前記裁断工程における前記光学フィルムの裁断形状が楕円形であり、
　前記成形工程において、前記裁断形状となる楕円形のライン上の位置を拘束した状態で、前記光学フィルムを前記モールドに押し付ける、請求項５に記載の成形方法。
　コレステリック液晶層であって、
　前記コレステリック液晶層が、中心から外側に向かって位相差が大きくなる位相差領域を有し、
　前記位相差領域において、前記位相差領域内の一点での遅相軸の方向と、前記中心から前記一点に向かう方向とが直交する、コレステリック液晶層。
　請求項７に記載のコレステリック液晶層を複数層有する、光学積層体。
　棒状液晶化合物を用いて形成された前記コレステリック液晶層と、円盤状液晶化合物を用いて形成された前記コレステリック液晶層とが交互に積層されてなる、請求項８に記載の光学積層体。
　請求項７に記載のコレステリック液晶層を作製するコレステリック液晶層作製工程と、
　前記コレステリック液晶層の位相差を解消するように曲面成形する成形工程を含む、曲面状光学機能性層の作製方法。
　前記成形工程において、凹面成形面を有する成形型の前記凹面成形面の底部と、前記コレステリック液晶層の中心とが一致するように、コレステリック液晶層を成形型上に設置し、前記凹面成形面に沿うように前記コレステリック液晶層を変形させる、請求項１０に記載の曲面状光学機能性層の作製方法。
　ガウス曲率が正である非可展面を有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムが、コレステリック液晶層であり、
　面内レタデーションの評価波長を、前記コレステリック液晶層における選択反射中心波長よりも短い側の半値波長から２０ｎｍを減じた波長とした際に、
　前記コレステリック液晶層の中心での前記評価波長における面内レタデーションＡが、前記評価波長の２％の値未満であり、かつ、
　前記コレステリック液晶層の外縁部での前記評価波長における面内レタデーションＢが、前記評価波長の２％の値未満である、光学フィルム。
　ガウス曲率が正である非可展面を有する光学フィルムであって、
　前記光学フィルムが、選択反射特性を有さず、
　前記光学フィルムの中心での波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＡが１１ｎｍ未満であり、かつ、
　前記光学フィルムの外縁部での波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＢが１１ｎｍ未満である、光学フィルム。
　外周形状が楕円形である、請求項１２または１３に記載の光学フィルム。