WO2023199988A1 - 光学機能性フィルム、光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、仮想現実表示装置、光学フィルムおよび成形方法 - Google Patents

Abstract

本発明の課題は、曲面を含む立体形状に成形する際の位相差の発現および位相差の変化が抑制され、例えば、パンケーキレンズ型の仮想現実表示装置に適用した場合に漏れ光を低減することが可能な光学機能性フィルムを提供することにある。また、本発明の課題は、上記光学機能性フィルムを有する光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、および、仮想現実表示装置を提供することにある。　本発明の光学機能性フィルムは、少なくとも重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を形成してなる、光学機能性フィルムであって、上記液晶性化合物の重合率が４０％以下である。また、本発明の光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、および、仮想現実表示装置は、上記光学機能性フィルムを有する。

Description

光学機能性フィルム、光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、仮想現実表示装置、光学フィルムおよび成形方法

　本発明は、光学機能性フィルム、光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、仮想現実表示装置、光学フィルムおよび成形方法に関する。

　仮想現実表示装置は、専用のヘッドセットを頭部に装着し、複合レンズを通して表示される映像を視認することによって、仮想世界に入り込んだような臨場感を得ることができる表示装置である。
　仮想現実表示装置は、一般に画像表示パネルとフレネルレンズを有するが、画像表示パネルからフレネルレンズまでの距離が大きく、そのためヘッドセットが厚くなり、装着性が悪いことが課題であった。
　そこで、特許文献１、特許文献２に記載されるように、画像表示パネルと、反射型偏光子と、ハーフミラーとを有し、画像表示パネルから出射された光線を反射型偏光子とハーフミラーの間で往復させることによってヘッドセット全体の厚みを薄くする、パンケーキレンズと呼ばれる複合レンズのレンズ構成が提案されている。

　ここで反射偏光子は、入射光のうち一方の偏光を反射し、もう一方の偏光を透過する機能を有する偏光子である。反射偏光子による反射光、および透過光は、互いに直交する偏光状態となる。ここで、互いに直交する偏光状態とは、ポアンカレ球上において互いに対蹠点に位置する偏光状態のことであり、例えば、互いに直交する直線偏光や、右回り円偏光と左回り円偏光が、これに該当する。

　透過光、および反射光が直線偏光となる反射直線偏光子は、例えば、誘電体多層膜を延伸したフィルムや、ワイヤグリッド偏光子が知られている。また、透過光、および反射光が円偏光となる反射円偏光子としては、例えば、コレステリック液晶相を固定化した光反射層を有するコレステリック液晶層が知られている。

特表２０２０－５１９９６４号公報 ＵＳ１０３９４０４０Ｂ２

　特許文献１には、広い視野や、低い色収差、低い歪み、および優れたＭＴＦ（変調伝達関数）を得るために、光学レンズの球面または非球面の曲面上に光学積層体を貼合する方法が開示されている。
　しかしながら、光学異方性層を含む光学積層体を曲面上に貼合するためには、光学積層体を曲面を含む立体形状に成形する必要があり、このとき、光学異方性層が延伸されることにより、光学異方性層に位相差が発現したり、光学異方性層が有している位相差が変化したりする課題があった。また、曲面を含む立体形状への成形では、光学積層体は場所により異なる延伸倍率で延伸されることになり、場所によって位相差の発現量や変化量が異なってしまうことも課題であった。
　光学異方性層がλ／４位相差層等の位相差層である場合は、好ましくない位相差の発現によって、光学異方性層の位相差が意図しないものになってしまう場合がある。さらに、光学異方性層が有する光学軸が、意図しない方位に変化してしまう場合もある。
　また、光学異方性層がコレステリック液晶層等、通常は位相差を有さない層であっても、光学異方性層が延伸されることにより新たに位相差を発現する場合がある。コレステリック液晶層が位相差を発現した場合には、反射される偏光が意図した円偏光ではなく、楕円偏光になる等の支障をきたす場合がある。
　本発明者らの検討によれば、このような好ましくない位相差の発現および位相差の変化は、パンケーキレンズにおいて、画像表示装置から出射した光線の偏光を乱すことになり、それにより光線の一部が漏れ光となって、二重像およびコントラストの低下に繋がることがわかった。

　また、特許文献１には、反射型偏光子として、反射型直線偏光子を用い、画像表示パネルと、反射型直線偏光子と、ハーフミラーとをこの順で含むパンケーキレンズ構成の複合レンズが開示されている。画像表示パネルと、反射型偏光子と、ハーフミラーとをこの順で含む場合、反射型偏光子は、ハーフミラーの側から入射する光線に対して凹面鏡の作用を有する必要がある。反射型直線偏光子に凹面鏡の作用をもたせるために、反射型直線偏光子を曲面形状に成形する構成が提案されている。
　また、特許文献２には、反射型偏光子として、反射型直線偏光子を用い、画像表示パネルと、ハーフミラーと、反射型直線偏光子とをこの順で含むパンケーキレンズ構成の複合レンズが開示されている。特許文献２では、像面湾曲を改善するためにハーフミラーと反射型偏光子をともに曲面化する構成が提案されている。この時、反射型偏光子は凸面鏡の作用を有する必要がある。
　本発明者らの検討によれば、反射型直線偏光子を曲面形状に成形した場合、反射型偏光子とハーフミラーの間に配置して円偏光と直線偏光を変換する位相差フィルムの位相差が変化してしまい、入射光を適切に反射、透過させることができなくなり、漏れ光を増加させてしまうことがわかった。漏れ光が増加すると、ゴーストが視認されてしまう。

　本発明の第１実施形態は上記の実情に鑑みてなされたものであり、本発明の第１実施形態が解決しようとする課題は、曲面を含む立体形状に成形する際の位相差の発現および位相差の変化が抑制され、例えば、パンケーキレンズ型の仮想現実表示装置に適用した場合に漏れ光を低減することが可能な光学機能性フィルムを提供することである。また、本発明の第１実施形態が解決しようとする課題は、光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、および、仮想現実表示装置を提供することである。

　本発明の第２実施形態は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明の第２実施形態が解決しようとする課題は、パンケーキ型の仮想現実表示装置に適用した際に、漏れ光の発生が抑制される、光学フィルムを提供することである。
　また、本発明の第２実施形態は、上記光学フィルムの成形方法を提供することも課題とする。

　本発明者らは、上述の課題に関し鋭意検討を重ね、以下の構成により上記課題を解決することができることを見出した。

〔１〕少なくとも重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を形成してなる、光学機能性フィルムであって、上記液晶性化合物の重合率が、４０％以下である、光学機能性フィルム。
〔２〕上記液晶性化合物が、一方向に配向している、〔１〕に記載の光学機能性フィルム。
〔３〕上記液晶性化合物が、螺旋配向している、〔１〕に記載の光学機能性フィルム。
〔４〕〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載の光学機能性フィルムと、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である樹脂からなる基材フィルムとを有する、光学積層体。
〔５〕〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載の光学機能性フィルム、または、〔１〕～〔３〕のいずれか一項に記載の光学機能性フィルムおよび基材フィルムを有する光学積層体が、曲面を含む立体形状に成形されてなる成形体。
〔６〕〔５〕に記載の成形体に対して、加熱処理および紫外線照射からなる群より選択される少なくとも１つの硬化処理を行う硬化工程を有し、上記硬化処理により、上記光学機能性フィルムの上記液晶性化合物の重合率が５０％以上となる、光学部品の製造方法。
〔７〕上記硬化工程の前に、上記成形体を加熱し、上記液晶性化合物を配向させる配向工程をさらに有する、〔６〕に記載の光学部品の製造方法。
〔８〕〔６〕又は〔７〕に記載の光学部品の製造方法によって製造される、光学部品。
〔９〕偏光を出射する画像表示装置と、〔８〕に記載の光学部品とを有する、仮想現実表示装置。

　本発明者らが鋭意検討の結果、非平面の形状を有し、曲率半径が３０～１０００ｍｍであり、位相差の面内ばらつきが５％未満である光学フィルムによって、漏れ光を低減することが可能なパンケーキレンズ構成の薄型の仮想現実表示装置を実現できることを見出した。

　すなわち、以下の構成により上記課題を解決することができることを見出した。

〔１０〕　非平面の形状を有し、曲率半径が３０ｍｍ～１０００ｍｍであり、位相差の面内ばらつきが５％未満である光学フィルム。
〔１１〕　曲率半径が３０ｍｍ～１００ｍｍである、〔１０〕に記載の光学フィルム。
〔１２〕　位相差の面内ばらつきが３％未満である、〔１０〕または〔１１〕に記載の光学フィルム。
〔１３〕　膜厚の面内ばらつきが５％未満である、〔１０〕～〔１２〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔１４〕　光学フィルムが位相差フィルムである、〔１０〕～〔１３〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔１５〕　光学フィルムが、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１２０ｎｍから１６０ｎｍの範囲にある位相差フィルムである、〔１０〕～〔１４〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔１６〕　光学フィルムが位相差フィルムと反射型偏光子とを含む積層光学体である、〔１０〕～［１３］のいずれかに記載の光学フィルム。
〔１７〕　平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程と、
　光学フィルムを第一のモールドに押し付け、第一のモールドの形状に沿って変形させる第一の成形工程と、
　第一の成形工程で得られた光学フィルムを第二のモールドに押し付け、第二のモールドの形状に沿って変形させる第二の成形工程を含む、光学フィルムの成形方法。
〔１８〕　第一のモールドの形状が凸状の曲面部分を含み、第二のモールドの形状が凹状の曲面部分を含む、〔１７〕に記載の光学フィルムの成形方法。
〔１９〕　第一のモールドの曲率半径が、第二のモールドの曲率半径よりも大きい、〔１７〕または〔１８〕に記載の光学フィルムの成形方法。
〔２０〕　平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程と、
　光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程と、
　変形された光学フィルムを裁断する工程を含む、光学フィルムの成形方法であって、
　加熱工程が、光学フィルムに赤外線を照射することで加熱する工程であり、
　赤外線の照射量が、光学フィルムの面内に分布を有する、光学フィルムの成形方法。
〔２１〕　モールドが実質的に凹面球状であり、光学フィルムの面の法線方向から光学フィルムの面内の位置をモールドに射影したときに、
　凹面球状の頂点に位置する、光学フィルムに照射される赤外線照射量が、凹面球状の端部に位置する、光学フィルムに照射される赤外線照射量より少ない、〔２０〕に記載の光学フィルムの成形方法。
〔２２〕　モールドが実質的に凹面球状であり、光学フィルムの面の法線方向から光学フィルムの面内の位置をモールドに射影したときに、
　凹面球状の頂点に位置する、光学フィルムの温度が、凹面球状の端部に位置する、光学フィルムの温度よりも小さい、〔２０〕または〔２１〕に記載の光学フィルムの成形方法。
〔２３〕　平面形状を有する光学フィルムを非平面形状に変形する成形方法であって、
　直径方向の延伸倍率と、円周方向の延伸倍率との積の面内ばらつきが５％未満である、光学フィルムの成形方法。
〔２４〕　直径方向の延伸倍率と、円周方向の延伸倍率との積の面内ばらつきが３％未満である、〔２３〕に記載の光学フィルムの成形方法。
〔２５〕　直径方向の延伸倍率が、中心から遠ざかるに従って大きくなる、〔２３〕または〔２４〕に記載の光学フィルムの成形方法。

　本発明の第１実施形態によれば、曲面を含む立体形状に成形する際の位相差の発現および位相差の変化が抑制され、例えば、パンケーキレンズ型の仮想現実表示装置に適用した場合に漏れ光を低減することを可能な光学機能性フィルムを提供することができる。また、本発明の第１実施形態によれば、光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、および、仮想現実表示装置を提供することができる。

　本発明の第２実施形態によれば、パンケーキ型の仮想現実表示装置に適用した際に、漏れ光の発生が抑制される、光学フィルムを提供できる。
　また、本発明の第２実施形態によれば、上記光学フィルムの成形方法を提供できる。

第１実施形態の仮想現実表示装置の一例を示す概略図である。 第１実施形態の仮想現実表示装置の他の例を示す概略図である。 本発明の第２実施形態の積層光学体を用いた仮想現実表示装置の一例であり、主像の光線の一例を表す。 本発明の第２実施形態の積層光学体を用いた仮想現実表示装置の一例であり、ゴーストの光線の一例を表す。 本発明の第２実施形態の積層光学体の一例を示す概略図である。 本発明の第２実施形態の反射円偏光子の一例を示す概略図である。 本発明の第２実施形態の積層光学体の一例を示す概略図である。 本発明の第２実施形態の成形方法において、直径方向および円周方向の延伸倍率を調査するために光学フィルムに描画するパターンの一例である。 凹面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する際の手順を説明するための図である。 凹面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する際の手順を説明するための図である。 成形に使用されるフィルムの上面図である。 凸面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する際の手順を説明するための図である。 凸面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する際の手順を説明するための図である。 成形方法１を説明するための図である。 成形方法１を説明するための図である。 成形方法１を説明するための図である。 成形方法２を説明するための図である。 成形方法２で使用される平面形状の光学フィルムの上面図である。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

　また、本明細書において、液晶組成物、液晶化合物とは、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。

　以下、図面を参照して本発明を詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は「～」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

　本明細書において、「直交」とは、厳密に９０°を表すのではなく、９０°±１０°、好ましくは、９０°±５°を表すものとする。また、「平行」とは、厳密に０°を表すのではなく、０°±１０°、好ましくは、０°±５°を表すものとする。さらに、「４５°」とは、厳密に４５°を表すのではなく、４５°±１０°、好ましくは、４５°±５°を表すものとする。

　本明細書において「吸収軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において吸光度が最大となる偏光方向を意味する。また、「反射軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において反射率が最大となる偏光方向を意味する。また、「透過軸」とは、面内において吸収軸または反射軸と直交する方向を意味する。さらに、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。

　本明細書において、位相差とは、特にことわらない場合、面内レタデーションを意味し、Ｒｅ（λ）と記載する。ここで、Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレタデーションを表し、特に記載がないとき、波長λは５５０ｎｍとする。
　また、波長λにおける厚み方向のレタデーションは、本明細書においてＲｔｈ（λ）と記載する。
　Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、波長λで測定した値を用いることができる。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
　遅相軸方向（°）
　Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
　Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄが算出される。

　本明細書において、重合性基を有する液晶性化合物の重合率とは、重合性基を有する液晶性化合物を活性エネルギー線の照射および／または加熱によって重合させる重合反応において、重合反応に寄与した重合性基の数の割合を表す。即ち、（重合率（％）＝｛重合反応によって消失した重合性基の数／重合反応前の重合性基の数｝×１００）である。
　重合性基を有する液晶性化合物の重合率は、具体的には重合反応前後の重合性基による赤外吸収ピークの吸光度の比を測定することによって求めることができる。例えば、重合性基がメタアクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーである場合は、重合性化合物を含むフィルム等の赤外吸収スペクトルの８１０ｃｍ^-1付近に重合性基（アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基）に基づく吸収ピークが観測でき、観測される吸収ピークの吸光度に基づいて、上記重合率を求めることが好ましい。また、重合性化合物がオキセタン化合物である場合は、重合性化合物を含むフィルム等の赤外吸収スペクトルの９８６ｃｍ^-1付近に重合性基（オキセタニル基）に基づく吸収ピークが観測でき、観測される吸収ピークの吸光度で、上記重合率を求めることが好ましい。重合性化合物がエポキシ化合物である場合は、重合性化合物を含むフィルム等の赤外吸収スペクトルの７５０ｃｍ^-1付近に重合性基（エポキシ基）に基づく吸収ピークが観測でき、観測される吸収ピークの吸光度で、上記重合率を求めることが好ましい。
　光学機能性フィルムの赤外吸収スペクトルを測定する手段としては、市販の赤外分光光度計を用いることができ、透過型および反射型のいずれでもよく、サンプルの形態に応じて適宜選択することが好ましい。光学機能性フィルムの赤外吸収スペクトルは、例えば、ＢＩＯ－ＲＡＤ社製赤外分光光度計「ＦＴＳ－６０００」を用いて測定することができる。

　光学機能性フィルムの上記液晶性化合物の重合率のより具体的な測定方法は、以下の通りである。例えば、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を用いて光学機能性フィルムを形成する場合、組成物を用いて形成される塗布膜に対して活性エネルギー線の照射および／または加熱を行う前に、上記塗布膜の赤外吸収スペクトルＡをＡＴＲ法（Attenuated Total Reflection、全反射測定法）で測定し、次いで、活性エネルギー線の照射および／または加熱を行った後、形成されたフィルムの赤外吸収スペクトルＢを同様にＡＴＲ法で測定する。これら赤外吸収スペクトルＡおよびＢのそれぞれには、液晶性化合物が有する重合性基に基づく吸収ピークが出現する。赤外吸収スペクトルＡに出現した吸収ピークの吸光度Ａと、赤外吸収スペクトルＢに出現した吸収ピークの吸光度Ｂから、下記式（１）に基づいて、光学機能性フィルムの重合性基を有する液晶性化合物の重合率を求めることができる。
　　重合率（％）＝｛（吸光度Ａ－吸光度Ｂ）／（吸光度Ａ）｝×１００　　　（１）

＜光学機能性フィルム＞
　第１実施形態の光学機能性フィルムは、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を形成してなる。液晶性化合物は、光配向等によって任意の方位に配向させることが容易であるため、種々の光学機能をもたせることが可能である。
　また、第１実施形態の光学機能性フィルムは、重合性基を有する液晶性化合物の重合率が４０％以下である。
　以下、重合性基を有する液晶性化合物を、単に「液晶性化合物」と記載する場合がある。
　液晶性化合物とは、硬化等により、もはや液晶性を示さなくなったものも概念として含まれる。

　光学機能性フィルムにおいて液晶性化合物は、例えば、一方向に配向していてもよい。このような液晶性化合物が一方向に配向している光学機能性フィルムは、位相差フィルムとして用いることができる。
　また、一方向に配向した液晶性化合物を含み、さらに二色性物質を添加してなる光学機能性フィルムは、吸収型直線偏光子として用いることができる。
　さらに、光学機能性フィルムにおいて、液晶性化合物は螺旋配向していてもよい。螺旋配向した液晶性化合物はコレステリック液晶とも呼ばれ、螺旋配向した液晶性化合物を含む光学機能性フィルムは反射型円偏光子として用いることができる。
　上記のいずれの光学機能性フィルムも、パンケーキレンズ型の仮想現実表示装置等において有用である。

　ここで、図面を参照しながら、第１実施形態の光学機能性フィルムを用いて製造される仮想現実表示装置について、説明する。
　図１は、第１実施形態の仮想現実表示装置の一例を示す概略図である。
　図１に示す仮想現実表示装置１０は、図中右側から、画像表示パネル７０、λ／４位相差層１１、吸収型直線偏光子２１、λ／４位相差層１２および反射防止層５０からなる画像表示装置７２と、ハーフミラー３０、レンズ基材３４および反射防止層５１からなる光学機能層付き両凸レンズ９０と、反射型円偏光子４０、λ／４位相差層１３、吸収型直線偏光子２２およびレンズ基材３６からなる光学機能層付き平凸レンズ８０と、を有する。

　後述するように、図１に示す仮想現実表示装置１０において、λ／４位相差層１３、吸収型直線偏光子２２、および、反射型円偏光子４０は、それぞれ、第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面を含む立体形状（以下、「曲面状」ともいう。）に成形した後、所定の硬化処理を施すことにより得られるフィルムであってよい。
　後述する仮想現実表示装置の変形例に示すように、第１実施形態の光学機能性フィルムの使用態様は、図１に示す仮想現実表示装置１０が有する上記の光学部材に制限されず、例えば、両凸レンズに貼合される光学部材としても有用である。

　仮想現実表示装置１０において、レンズ基材３４は両凸レンズであり、レンズ基材３４の一方の面にはハーフミラー３０が曲面状に成形されて貼合され、他方の面には反射防止層５１が曲面状に成形されて貼合されている。なお、この際における貼合は、ＯＣＡ（Optical Clear Adhesive、光学透明貼着剤）等を用いる方法等、公知の方法で行えばよい。この点に関しては、以下に示す貼合も同様である。
　また、レンズ基材３６は平凸レンズであり、レンズ基材３６の凸面には吸収型直線偏光子２２、λ／４位相差板１３および反射型円偏光子４０のそれぞれが曲面状に成形されてこの順に貼合されている。
　レンズ基材３４およびレンズ基材３６は、ガラスおよびアクリル板等の、可視光に対して透明で、かつ、位相差が小さい材料、好ましくは位相差が無い材料で形成される。

　画像表示パネル７０は、例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示パネル等の公知の画像表示パネル（ディスプレイパネル）である。
　図示例において、画像表示パネル７０は無偏光の画像（画像光）を出射する。画像表示パネル７０が出射した無偏光の画像は、λ／４位相差層１１を通過して、吸収型直線偏光子２１を透過して直線偏光となり、λ／４位相差層１２によって円偏光に変換され、反射防止層５０を透過する。これにより、画像表示装置７２から左円偏光が出射される。
　吸収型直線偏光子２１は、例えば、紙面に垂直な方向の直線偏光を透過する吸収型直線偏光子である。λ／４位相差層１２は、例えば、紙面に垂直な方向の直線偏光を左円偏光に変換するように、遅相軸の方向を合わせて設けられる。
　反射防止層５０および反射防止層５１は、フッ化マグネシウム層および酸化ケイ素層等の公知の反射防止層（ＡＲコート）である。また、公知の反射防止フィルムを貼合してもよい。

　反射防止層５０を透過した左円偏光は、次いで、ハーフミラー３０に入射して、半分が透過する。ハーフミラー３０を透過した左円偏光は、レンズ基材３４および反射防止層５１を透過する。
　なお、ハーフミラー３０によって反射された左円偏光は、反射によって右円偏光に変換されて、反射防止層５０を透過してλ／４位相差層１２に入射する。
　λ／４位相差層１２は、紙面に垂直な方向の直線偏光を左円偏光に変換するものである。従って、λ／４位相差層１２に入射した右円偏光は、紙面の上下方向の直線偏光に変換されて、吸収型直線偏光子２１に入射する。
　吸収型直線偏光子２１は、紙面に垂直な方向の直線偏光を透過する吸収型直線偏光子である。従って、この紙面の上下方向の直線偏光は、吸収型直線偏光子２１によって吸収される。
　この点に関しては、後述する図２に示す仮想現実表示装置２０も同様である。

　反射型円偏光子４０は、例えば、コレステリック液晶層を有する反射型円偏光子であって、左円偏光を反射し、それ以外を透過する反射型円偏光子である。従って、反射型円偏光子４０に入射した左円偏光は、反射型円偏光子４０によって反射され、反射防止層５１およびレンズ基材３４を透過して、ハーフミラー３０に入射する。
　反射型円偏光子４０は、螺旋配向した液晶性化合物を含む第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形した後、所定の硬化処理を施すことにより得られる反射型円偏光子であってよい。

　ハーフミラー３０に入射した左円偏光は、半分がハーフミラー３０によって反射される。この反射によって、左円偏光は右円偏光に変換される。
　ハーフミラー３０によって反射された右円偏光は、レンズ基材３４および反射防止層５１を透過して、反射円偏光子４０に入射する。
　上述のように、反射円偏光子４０は、左円偏光を反射して、それ以外を透過する反射型円偏光子（コレステリック液晶層）である。従って、反射円偏光子４０に入射した右円偏光は、反射円偏光子４０を透過して、λ／４位相差層１３に入射する。

　λ／４位相差層１３は、右円偏光を紙面の上下方向の直線偏光に変換するように遅相軸の方向を合わせて配置されるλ／４位相差層である。また、吸収型直線偏光子２２は、紙面の上下方向の直線偏光を透過するように透過軸を合わせて配置された直線偏光子である。従って、λ／４位相差層１３に入射した右円偏光は、λ／４位相差層１３によって紙面の上下方向の直線偏光に変換され、次いで、吸収型直線偏光子２２を透過し、さらにレンズ基材３６を透過して、仮想現実画像として仮想現実表示装置１０の使用者に観察される。
　λ／４位相差層１３は、一方向に配向した液晶性化合物を含む第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形した後、所定の硬化処理を施すことにより得られる反射型円偏光子であってよい。また、吸収型直線偏光子２２は、一方向に配向した液晶性化合物と二色性物質とを含む第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形した後、所定の硬化処理を施すことにより得られる反射型円偏光子であってよい。

　吸収型直線偏光子２２は、不要に反射型円偏光子４０を透過した光を遮光して、漏れ光（ゴースト）となって仮想現実表示装置１０の使用者に観察されることを防止するものである。
　即ち、最初に左円偏光が反射型円偏光子４０に入射した際に、反射型円偏光子４０によって反射されず、不要に反射型円偏光子４０を透過してしまう左円偏光も存在する。
　しかしながら、この左円偏光は、右円偏光を紙面の上下方向の直線偏光に変換するλ／４位相差層１３によって、紙面に垂直な方向の直線偏光に変換される。従って、この直線偏光は、紙面の上下方向の直線偏光を透過するように透過軸を合わせて配置された直線偏光子である吸収型直線偏光子２２に吸収されるので、漏れ光となって使用者に観察されることを防止できる。

　ここで、図１に示す仮想現実表示装置１０においては、反射型円偏光子４０、λ／４位相差層１３および吸収型直線偏光子２２が、曲面状に成形されて、平凸レンズであるレンズ基材３６の凸面に貼合されている。
　光学機能性フィルムを曲面状に成形すると、成形後の光学機能性フィルムにおいて、延伸によって残留応力が生じ、光弾性効果によって位相差が発現し、または、位相差が変化してしまう。また、曲面状の成形では、部位によって延伸倍率が異なるため、位相差の発現量および変化量等が局所的に異なってしまうことがある。
　例えば、仮想現実表示装置１０の曲面状に成形されたλ／４位相差層１３において、実際の位相差が意図した位相差と少なくとも局所的に異なる場合、不要に反射型円偏光子４０を透過した左円偏光が、λ／４位相差層１３の部位によっては、紙面の垂直な方向の成分のみならず、紙面の上下方向の成分も含む光に変換されてしまう。このような光は、吸収型直線偏光子２２に完全に吸収されないため、漏れ光（ゴースト）となって仮想現実表示装置１０の使用者に観察されてしまう。

　他方、コレステリック液晶層は、通常は位相差を有さない。しかしながら、コレステリック液晶層においても、曲面状に成形する際の延伸に伴って生じる残留応力によって、局所的に異なる量の位相差が発現することがある。
　例えば、図１に示す仮想現実表示装置１０において、コレステリック液晶層を有し、曲面状に成形されている反射型円偏光子４０の部位によっては、反射する円偏光が、楕円偏光等の意図しない円偏光を含む光になってしまう。これにより、不要に反射型円偏光子４０を透過してしまう光の透過量が増加し、漏れ光（ゴースト）となって仮想現実表示装置１０の使用者に観察される光が増加してしまう。

　それに対して、第１実施形態の光学機能性フィルムは、上述の通り、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を形成してなるフィルムであって、重合性基を有する液晶性化合物の重合率が４０％以下であることを特徴とする。
　重合性基を有する液晶性化合物は、活性エネルギー線の照射および加熱によって重合させ、液晶性化合物の配向方向を固定化させることができるが、重合率を４０％以下にすることにより、光学機能性フィルムに柔軟性をもたせることができる。従って、第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形しても、延伸によって生じる残留応力が低減されるため、第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形して得られる成形体を、仮想現実表示装置が有する光学部材に用いることにより、その光学部材における曲面状の成形に伴う（局所的な）位相差の発現および変化を低減することができる。
　そのため、第１実施形態の光学機能性フィルムによれば、例えばパンケーキレンズ型の仮想現実表示装置に適用した場合に、漏れ光を低減して、高画質な仮想現実画像を表示できる。

　第１実施形態の光学機能性フィルムを用いて製造される仮想現実表示装置の構成は、図１に示す仮想現実表示装置１０に制限されない。
　図２に、第１実施形態の仮想現実表示装置の他の例を概略的に示す。
　図２に示す仮想現実表示装置２０は、上述した図１に示す仮想現実表示装置１０と同じ部材を多用する。従って、以下の説明では、同じ部材には同じ符号を付し、図１に示す仮想現実表示装置１０と異なる点について主に説明する。

　図２に示す仮想現実表示装置２０は、図中右側から、画像表示パネル７０、λ／４位相差層１１、吸収型直線偏光子２１、λ／４位相差層１２および反射防止層５０からなる画像表示装置７２と、ハーフミラー３０、レンズ基材３４およびλ／４位相差層１４からなる光学機能層付き両凸レンズ９２と、反射防止層５２、反射型直線偏光子４２、吸収型直線偏光子２２およびレンズ基材３６からなる光学機能層付き平凸レンズ８２と、を有する。
　図２に示す仮想現実表示装置２０において、λ／４位相差層１４、および、吸収型直線偏光子２２は、それぞれ、第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形した後、所定の硬化処理を施すことにより得られるフィルムであってよい。

　光学機能層付き両凸レンズ９２において、レンズ基材３４の一方の面にはハーフミラー３０が曲面状に成形されて貼合され、他方の面にはλ／４位相差層１４が曲面状に成形されて貼合されている。
　また、光学機能層付き平凸レンズ９２において、レンズ基材３６の凸面には吸収型直線偏光子２２、反射型円偏光子４２および反射防止層５２のそれぞれが曲面状に成形されてこの順に貼合されている。
　反射防止層５２は、上述の反射防止層５１と同様に、公知の反射防止層（ＡＲコート）、または、公知の反射防止フィルムであってよい。

　図２に示す仮想現実表示装置２０においても、図１に示す仮想現実表示装置１０と同様、画像表示パネル７０が出射した画像はλ／４位相差層１１によって左円偏光に変換され、画像表示装置７２から出射される。
　反射防止層５０を透過した左円偏光は、次いで、ハーフミラー３０に入射して、半分が透過する。ハーフミラー３０を透過した左円偏光は、レンズ基材３４を透過して、λ／４位相差層１４に入射する。
　ここで、λ／４位相差層１４は、一例として、左円偏光を紙面に垂直な方向の直線偏光に変換するように、遅相軸の方向を合わせて配置されるλ／４位相差層である。従って、λ／４位相差層１４に入射した左円偏光は、紙面に垂直な方向の直線偏光に変換される。
　λ／４位相差層１４は、一方向に配向した液晶性化合物を含む第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形した後、所定の硬化処理を施すことにより得られる反射型円偏光子であってよい。

　λ／４位相差層１４によって変換された紙面に垂直な方向の直線偏光は、反射防止層５２を透過し、反射型直線偏光子４２に入射する。
　反射型直線偏光子４２は、一例として、紙面に垂直な方向の直線偏光を反射して、紙面の上下方向の直線偏光を透過するものである。従って、反射型直線偏光子４２に入射した紙面に垂直な方向の直線偏光は、反射型直線偏光子４２によって反射されて、再度、λ／４位相差層１４に入射する。
　λ／４位相差層１４は、左円偏光を紙面に垂直な方向の直線偏光に変換するλ／４位相差層である。従って、λ／４位相差層１４に入射した紙面に垂直な方向の直線偏光は、λ／４位相差層１４によって左円偏光に変換される。

　λ／４位相差層１４によって変換された左円偏光は、レンズ基材３４を透過してハーフミラー３０に入射して、半分がハーフミラー３０によって反射される。この反射によって、左円偏光は右円偏光に変換される。
　ハーフミラー３０によって反射された右円偏光は、レンズ基材３４を透過して、λ／４位相差層１４に入射する。λ／４位相差層１４は、左円偏光を紙面に垂直方向の直線偏光に変換するλ／４位相差層である。従って、右円偏光は、λ／４位相差層１４によって紙面の上下方向の直線偏光に変換されて、反射防止層５２を透過し、反射型直線偏光子４２に入射する。
　反射型直線偏光子４２は、紙面に垂直方向の直線偏光を反射して、紙面の上下方向の直線偏光を透過するものである。従って、反射型直線偏光子４２に入射した紙面の上下方向の直線偏光は、反射型直線偏光子４２を透過する。
　反射型直線偏光子４２を透過した紙面の上下方向の直線偏光は、次いで、紙面の上下方向の直線偏光を透過する吸収型直線偏光子２２を透過して、仮想現実画像として仮想現実表示装置１００の使用者に観察される。

　なお、吸収型直線偏光子２２は、不要に反射型直線偏光子４２を透過した光を遮光して、漏れ光（ゴースト）となって仮想現実表示装置１００の使用者に観察されることを防止するためのものである。
　即ち、紙面に垂直な方向の直線偏光が最初に反射型直線偏光子４２に入射した際に、反射型直線偏光子４２によって反射されず、不要に反射型直線偏光子４２を透過してしまう紙面に垂直な方向の直線偏光も存在する。
　しかしながら、この紙面に垂直な方向の直線偏光は、紙面の上下方向の直線偏光を透過する吸収型直線偏光子２２によって吸収されるので、漏れ光となって使用者に観察されることを防止できる。

　ここで、図２に示す仮想現実表示装置２０において、両凸レンズであるレンズ基材３４の凸面に貼合されているλ／４位相差層１４は、上述の通り、曲面状に成形された際の延伸によって残留応力が生じ、光弾性効果によって位相差が発現し、または、位相差が変化してしまう。また、曲面状の成形では部位によって延伸倍率が異なるため、λ／４位相差層１４において、位相差の発現量および変化量等が局所的に異なってしまう場合がある。
　この場合、λ／４位相差層１４において、最初に入射した左円偏光を適正な直線偏光に変換することができず、例えば楕円偏光等を含む光に変換してしまう。このような光は、一部が反射型直線偏光子４２によって反射されず、反射型直線偏光子４２および吸収型直線偏光子２２を透過してしまい、漏れ光（ゴースト）となって仮想現実表示装置２０の使用者に観察されてしまう。

　それに対して、λ／４位相差層１４として、液晶性化合物の重合率が４０％以下である第１実施形態の光学機能性フィルムを曲面状に成形してなるフィルムを用いることにより、上述の通り、その光学部材における曲面状の成形に伴う（局所的な）位相差の発現および変化を低減し、漏れ光を低減して、高画質な仮想現実画像を表示できる。

　以下、第１実施形態の光学機能性フィルム、光学積層体、成形体、光学部品の製造方法、光学部品、および、仮想現実表示装置について、詳細に説明する。

　第１実施形態の光学機能性フィルムは、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を形成してなる光学機能性フィルムであって、重合性基を有する液晶性化合物の重合率が４０％以下である。上述の通り、上記液晶性化合物の重合率を４０％以下にすることにより、光学機能性フィルムに柔軟性をもたせ、曲面状に成形した際に生じる残留応力を低減し、位相差の発現および変化を抑制することができる。
　光学機能性フィルムの液晶性化合物の重合率は、２０％以下が好ましく、１０％以下がより好ましい。さらに、未重合の液晶性化合物が、常温において固形状態となる場合は、全ての液晶性化合物が未重合（即ち、重合率が０％）であることが好ましい。即ち、上記の重合率は０％であってもよい。重合率が２０％以下（より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは０％）である場合、光学機能性フィルムを曲面状に成形した後、光学機能性フィルムを加熱することによって、液晶性化合物を配向させる配向処理を行うことができる。これにより、曲面状の成形に起因する位相差の発現および位相差の変化をさらに抑制することができる。

　また、光学異方性層としてポリマーからなる光学機能性フィルムを用いた場合、ポリマーの種類によっては小さな曲率半径で曲面状に成形すると破断を起こす場合がある。そのため、曲率半径を大きくせざるを得ず、それがレンズの設計上の制約となり、広い視野、低い色収差、低い歪み、および、優れたＭＴＦを有する光学機能層付きレンズを十分に得ることができない場合がある。
　それに対して、液晶性化合物の重合率が４０％以下（好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは０％）である第１実施形態の光学機能性フィルムは、柔軟性を有するため、曲率半径が比較的小さい曲面を含む立体形状に成形する場合においても、光学機能性フィルムの破断を抑制することができる。これにより、レンズの設計上の自由度を向上し、広い視野、低い色収差、低い歪み、および、優れたＭＴＦを有する光学機能層付きレンズを製造することができる。

　さらに、コレステリック液晶層および反射型直線偏光子等の反射型偏光子は、延伸されることによって反射波長の帯域が短波長側にシフトすることがある。この短波長シフトにより、パンケーキレンズにおいて、画像表示装置から出射した光線の一部の波長域を適切に反射または透過することができなくなる場合がある。この場合、光線の一部が漏れ光となって、二重像およびコントラストの低下に繋がり、また、画像の色味が変化してしまう。
　それに対して、液晶性化合物の重合率が４０％以下（好ましくは２０％以下、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは０％）である第１実施形態の光学機能性フィルムは、光学機能性フィルムを曲面状に成形した後、光学機能性フィルムを加熱することによって、液晶性化合物を配向させる配向処理を行うことができる。この配向処理によって、コレステリック液晶層の螺旋ピッチがカイラル剤の量によって決まる螺旋ピッチに変化するため、曲面状の成形に起因する短波長シフトの発生を抑制することができる。これにより、一部の波長域における光線の不適切な反射および透過を抑制し、漏れ光および画像の色味の変化を抑制することができる。

　第１実施形態の光学機能性フィルムの形成に用いられる組成物は、重合性基を有する液晶性化合物を少なくとも含む。
　重合性基を有する液晶性化合物としては、重合性基を有する棒状液晶性化合物、および、重合性基を有する円盤状液晶性化合物のいずれも用いることができる。

　上述の通り、液晶性化合物が一方向に配向している光学機能性フィルムは、位相差フィルム（位相差層）として用いることができる。光学機能性フィルムが位相差フィルムである場合は、例えば、特開２０２０－０８４０７０号公報等を参照して、逆分散性を有する棒状液晶性化合物を一様配向させ、固定化することによって、逆分散性を有する位相差フィルムを作製することもできる。ここで、逆分散性を有するとは、波長が大きくなるに伴い、その波長における位相差の値が大きくなることをいう。光学機能性フィルムがλ／４板（λ／４位相差層）である場合、可視域の波長のいずれかにおいて、およそ１／４波長となる位相差を有していることが好ましい。
　また、光学機能性フィルムは、上述の通り、吸収型直線偏光子であってよい。吸収型直線偏光子である光学機能性フィルムは、例えば、液晶性化合物と二色性物質とを含む組成物を用いて塗布膜を形成し、液晶性化合物および二色性物質を一方向に配向させることで、作製できる。

　また、光学機能性フィルムは、上述の通り、螺旋配向した液晶性化合物を含むコレステリック液晶層からなる反射円偏光子であってもよい。コレステリック液晶層は、例えば、液晶性化合物とカイラル剤とを含む組成物を用いて塗布膜を形成し、加熱処理を行って螺旋配向させることにより、作製できる。
　螺旋配向のための加熱処理は、曲面状に成形した後に行うことが好ましい。これにより、曲面状の成形に起因する面内での螺旋ピッチの変化を抑制し、面内で一律の螺旋ピッチとすることができる。
　周知のように、コレステリック液晶層は、液晶性化合物が螺旋状に旋回して積み重ねられた螺旋構造を有し、液晶性化合物が螺旋状に１回転（３６０°回転）して積み重ねられた構成を螺旋１周期（螺旋周期）として、螺旋状に旋回する液晶性化合物が、複数周期、積層された構造を有する。
　コレステリック液晶層は、螺旋周期の長さ、および、液晶性化合物による螺旋の旋回方向（センス）に応じて、特定の波長域の右円偏光または左円偏光を反射して、それ以外の光を透過する。
　従って、仮想現実表示装置がカラー画像を表示する場合には、コレステリック液晶層は、例えば、赤色光に選択的な反射の中心波長を有するコレステリック液晶層、黄色光に選択的な反射の中心波長を有するコレステリック液晶層、緑色光に選択的な反射の中心波長を有するコレステリック液晶層、および、青色光に選択的な反射の中心波長を有するコレステリック液晶層など、複数層のコレステリック液晶層を有するものであってもよい。

（組成物）
　以下、第１実施形態の光学機能性フィルムの形成に用いられる組成物（以下、「本組成物」ともいう。）について、より詳しく説明する。

　本組成物に含まれる重合性基を有する液晶性化合物は、棒状液晶性化合物であっても、円盤状液晶性化合物であってもよい。
　重合性基を有する液晶性化合物は、低分子タイプであっても、高分子タイプであってもよい。ここで、高分子とは重合度が１００以上のものを意味する（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
　液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物を用いることが好ましい。また、本組成物は、２種以上の液晶性化合物を含んでいてもよい。２種以上の液晶性化合物の組み合わせとしては、２種以上の棒状液晶性化合物の組み合わせ、２種以上の円盤状液晶性化合物の組み合わせ、および、１種以上の棒状液晶性化合物と１種以上の円盤状液晶性化合物との組み合わせのいずれであってもよい。
　上記液晶性化合物は、１分子中に重合性基を２以上有することが好ましい。本組成物が２種以上の液晶性化合物を含む場合、少なくとも１種の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有することが好ましい。
　なお、本明細書においては、光学機能性フィルムにおいて、液晶性化合物が重合によって固定され、液晶性を示さない化合物となっても、便宜上、液晶性化合物と称する。

　液晶性化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、例えば、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基が挙げられる。
　ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、スチリル基およびアリル基が挙げられる。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記であり、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、メタアクリロイルオキシ基またはアクリロイルオキシ基を意味する表記である。カチオン重合性基としては、エポキシ基およびオキセタン基等が挙げられる。
　液晶性化合物が有する重合性基としては、ラジカル重合性基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。

　重合性基を有する棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報、および、特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載の液晶性化合物が挙げられる。また、重合性基を有する円盤状液晶性化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］および特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載の液晶性化合物が挙げられる。これらの記載は、本明細書に組み込まれる。

　本組成物は、二色性物質を含んでいてもよい。液晶性化合物と二色性物質とを含む本組成物を用いることにより、第１実施形態の光学機能性フィルムとして、吸収型直線偏光子を形成することができる。
　二色性物質は、特に制限されず、可視光吸収物質（二色性色素）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、カーボンナノチューブ、無機物質（例えば量子ロッド）等の公知の二色性物質（二色性色素）を使用できる。
　延伸時および成形時の偏光度低下が抑制される点で、二色性物質は架橋性基を有することが好ましい。架橋性基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、および、スチリル基が挙げられる。

　本組成物は、カイラル剤を含んでいてもよい。
　液晶性化合物とカイラル剤とを含む本組成物を用いることにより、第１実施形態の光学機能性フィルムとして、コレステリック液晶層からなる反射円偏光子を形成することができる。
　カイラル剤（キラル剤）は、コレステリック液晶性化合物の螺旋周期を調整するための化合物であり、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第一４２委員会編、１９８９に記載）を用いることができる。
　カイラル剤は、重合性基を有していてもよい。カイラル剤が有する重合性基は、液晶性化合物が有する重合性基と同種の基であることが好ましい。また、カイラル剤剤は、液晶性化合物であってもよい。

　本組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。
　重合開始剤は特に制限されないが、光重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、公知の化合物を使用できる。光重合開始剤としては、例えば、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、ｏ－アシルオキシム化合物（特開２０１６－２７３８４号公報の［００６５］）、ならびに、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報および特開平１０－２９９９７号公報）等が挙げられる。
　本組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、本組成物中の上記液晶性化合物および上記二色性物質の合計１００質量部に対し、０．０１～３０質量部が好ましい。

　本組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有することが好ましい。
　溶媒としては、光学機能性フィルムの形成に用いられる公知の溶媒が使用でき、例えば、ケトン類、エーテル類、および、アミド類が挙げられる。
　本組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、本組成物の全質量に対して、８０～９９質量％が好ましい。

（光学機能性フィルムの形成方法）
　第１実施形態の光学機能性フィルムの形成方法は、形成されるフィルムにおける液晶性化合物の重合率が４０％を超えない限り、特に制限されない。例えば、第１実施形態の光学機能性フィルムの形成方法としては、本組成物を配向層上に塗布して塗布膜を形成する塗布膜形成工程、および、塗布膜中の液晶性化合物を配向する配向工程を有し、必要に応じて、液晶性化合物の一部を硬化させる硬化工程を任意に行う方法が挙げられる。

　塗布膜形成工程は、本組成物を用いて配向層上に塗布膜を形成する工程である。
　上述した溶媒を含有する本組成物を用いること、または、本組成物を加熱して液状となった溶融物を用いることにより、配向層上に本組成物を塗布することが容易になる。
　本組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
　配向層は、配向層上において液晶性化合物を配向させる機能を有する公知の配向層（配向膜）を用いることができる。配向層としては、例えば、樹脂基材の表面にラビング処理を施すことにより形成されるラビング処理配向層、および、ラジカル重合性化合物を含む組成物からなる膜を光照射して形成される光配向層が挙げられる。
　上記の配向層は、光学機能性フィルムに積層された状態であってもよく、いずれかの段階で光学機能性フィルムから剥離されてもよい。

　配向工程は、塗布膜に含まれる液晶性化合物を配向させる工程である。これにより、光学機能性フィルムが得られる。
　配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒等の成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
　本組成物に含まれる液晶性化合物は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって配向する場合がある。例えば、本組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、光学機能性フィルムが得られる。
　乾燥処理が、塗布膜に含まれる液晶成分の液晶相への転移温度以上の温度で行われる場合には、後述する加熱処理は実施しなくてもよい。

　塗布膜に含まれる液晶性化合物の液晶相への転移温度は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。上記転移温度が１０℃以上であると、液晶相を呈する温度範囲にまで温度を下げるための冷却処理等が必要とならず、好ましい。また、上記転移温度が２５０℃以下であると、一旦液晶相を呈する温度範囲よりもさらに高温の等方性液体状態にする場合にも高温を要さず、熱エネルギーの浪費、ならびに、基板の変形および変質等を低減できるため、好ましい。

　配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる液晶性化合物を配向させることができるため、加熱処理後の塗布膜を光学機能性フィルムとして好適に使用できる。
　加熱処理は、製造適性等の面から１０～２５０℃が好ましく、２５～１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１～３００秒間が好ましく、１～６０秒間がより好ましい。
　なお、本態様では、塗布膜に含まれる液晶成分を配向する方法として、乾燥処理および加熱処理などを挙げているが、これに制限されず、公知の配向処理によって実施できる。

　上記配向工程後に、液晶性化合物の重合率が４０％を超えない範囲で光学機能性フィルムを硬化させる硬化工程を行ってもよい。
　硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。中でも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
　硬化に使用可能な光としては、赤外線、可視光、および、紫外線等の種々の光が挙げられ、紫外線が好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
　光照射を加熱しながら行う場合、光照射時の加熱温度は、液晶性化合物の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃が好ましい。

＜光学積層体＞
　第１実施形態の光学積層体は、上述の光学機能性フィルムと、基材フィルムとを有する。
　基材フィルムとしては、ｔａｎδ（損失正接（損失係数））のピーク温度が１７０℃以下である樹脂からなる基材フィルムが好ましい。また、光学機能性フィルムは、複数の層が積層されていてもよい。
　ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である樹脂としては、例えば、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィンおよびポリオレフィン等が挙げられる。
　基材フィルムを構成する樹脂のｔａｎδのピーク温度は、光学積層体の曲面状への成形を容易にする観点から、１５０℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましく、１２０℃以下がさらに好ましい。ｔａｎδのピーク温度が１２０℃以下である樹脂としては、例えば、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート等が挙げられる。下限値は特に制限されないが、６０℃以上であってよい。

　ここで、ｔａｎδの測定方法について記載する。
　動的粘弾性測定装置（アイティー計測制御（株）製、ＤＶＡ－２００）を用いて、あらかじめ温度２５℃湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿したフィルム試料について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”/Ｅ’）を求める値とする。
　装置:アイティー計測制御株式会社製　ＤＶＡ－２００
　試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
　測定条件:引張りモード
　測定温度:－１５０℃～２２０℃
　昇温条件:５℃/ｍｉｎ
　周波数:１Ｈｚ
　なお、一般的に光学用途においては、延伸処理がなされた樹脂基材を使用することが多く、延伸処理によって、ｔａｎδのピーク温度は高温になることが多い。例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）基材（例えば、富士フイルム株式会社製、ＴＧ４０）は、ｔａｎδのピーク温度は１８０℃以上となる。

　基材フィルムの厚みは特に制限されないが、５～３００μｍが好ましく、５～１００μｍがより好ましく、５～３０μｍがさらに好ましい。

　第１実施形態の光学積層体は、光学機能性フィルムおよび基材フィルム以外の他の層を有していてもよい。他の層としては、配向層および接着剤層が挙げられる。
　配向層としては、上述の配向層が挙げられる。
　光学積層体は、光学機能性フィルムと基材フィルムとの間等の光学機能性フィルムまたは基材フィルムに隣接する位置に、接着剤層を有していてもよい。接着剤層に含まれる接着剤は、貼り合わせた後の乾燥および反応により接着性を発現するものであれば特に制限されない。接着剤としては、例えば、乾燥により接着性が発現するポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）、並びに、反応により接着性を発現する硬化型接着剤が挙げられる。硬化型接着剤としては、例えば、（メタ）アクリレート系接着剤等の活性エネルギー線硬化型接着剤、および、エポキシ基またはオキセタニル基を有するカチオン重合硬化型接着剤が挙げられる。

＜成形体＞
　第１実施形態の成形体は、上述の光学機能性フィルム、または、上述の光学機能性フィルムおよび基材フィルムを有する光学積層体が、曲面を含む立体形状に成形されてなる部材である。
　第１実施形態の成形体は、例えば、光学機能性フィルムまたは光学積層体（好ましくはｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である樹脂からなる基材フィルムを有する光学積層体）が、成形基材の表面に積層成形された成形体である。成形体の光学機能性フィルムまたは光学積層体は、少なくとも曲面部を有する。
　光学機能性フィルムまたは光学積層体を曲面状に成形する方法としては、例えば、熱成形および真空成形が挙げられる。より具体的には、特開２００４－３２２５０１号公報に記載されているようなインサート成形、国際公開第２０１０／００１８６７号および特開２０１２－１１６０９４号公報に記載されているような真空成形、射出成形、圧空成形、減圧被覆成形、インモールド転写、並びに、金型プレス等が挙げられる。
　光学機能性フィルムまたは光学積層体を曲面状に成形する際、加熱処理を行うことも好ましい。加熱処理の温度は、８０～１７０℃が好ましく、１００～１５０℃がより好ましく、１１０～１４０℃がさらに好ましい。

　成形体の成形に用いられる成形基材は、特に制限されないが、成形基材を有する成形体を光学部品として用いる場合には、透明な部材からなることが好ましい。透明な部材としては、例えば、ガラス、アクリル系樹脂、および、ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。また、パンケーキレンズ用の光学部材として用いる場合は、成形基材は位相差を有さないことが好ましい。

＜光学部品の製造方法＞
　第１実施形態の成形体に対して、硬化処理を行うことにより、第１実施形態の光学部品が得られる。
　硬化処理は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。硬化に使用可能な光としては、赤外線、可視光、および、紫外線等の種々の光が挙げられ、紫外線が好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
　第１実施形態の光学部品の製造方法としては、第１実施形態の成形体に対して、加熱処理および紫外線照射からなる群より選択される少なくとも１つの硬化処理を行い、光学機能性フィルムの液晶性化合物の重合率が５０％以上となるようにする硬化工程を有することが好ましい。曲面状に積層した後に硬化処理を行うことで、液晶性化合物の配向方向を固定化することができる。
　耐久性の観点からは、硬化処理後の光学部品が有する光学機能性フィルムの液晶性化合物の重合率は、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。上限は特に制限されず、１００％であってもよい。
　加熱しながら光照射することにより硬化処理を行う場合、光照射時の加熱温度は、液晶性化合物の液晶相への転移温度にもよるが、２５～１４０℃が好ましく、加熱時間は０．１～６０秒間が好ましい。また、加熱のみで硬化処理を行う場合、加熱温度は１００～１４０℃が好ましく、加熱時間は５分間超３０分間以下が好ましい。

　第１実施形態の光学部品の製造方法は、上述の硬化工程の前に、成形体を加熱し、光学機能性フィルムに含まれる液晶性化合物を配向させる配向工程をさらに有していてもよく、上記の配向工程を有することが好ましい。液晶性化合物の重合率が十分に小さい場合、光学機能性フィルムを加熱する配向工程によって、液晶性化合物を配向させることが可能である。成形体に対して配向工程を行い、その後に上述の硬化工程（好ましくは紫外線の照射による硬化工程）を行うことによって、曲面状に成形された後であっても、液晶性化合物を任意の配向状態で固定化することができる。
　配向工程における加熱温度は、例えば１０～２５０℃であり、２５～１９０℃が好ましい。また、加熱時間は、例えば１～３００秒間であり、１～６０秒間が好ましい。
　配向工程において、液晶性化合物を任意の配向状態とするには、成形体は光学機能性フィルムに隣接している配向層を有することが好ましい。配向層としては、上述の配向層が挙げられ、中でも光配向層を好適に用いることができる。
　また、光学機能性フィルムをコレステリック液晶層とする場合は、重合性基を有する液晶性化合物を含む本組成物にカイラル剤を添加しておくことが好ましい。

（光学部品）
　第１実施形態の光学部品は、上記の第１実施形態の光学部品の製造方法により得られる。即ち、第１実施形態の光学部品は、第１実施形態の成形体に対して上記の硬化処理を行うことにより得られる部材である。
　第１実施形態の光学部品をパンケーキレンズ型の仮想現実表示装置に用いる場合には、広い視野、低い色収差、低い歪みおよび優れたＭＴＦが得られるよう、曲面を有する適切な形状の光学部品を設計し、製造することができる。

＜仮想現実表示装置＞
　第１実施形態の仮想現実表示装置は、少なくとも偏光を出射する画像表示装置と、第１実施形態の光学部品とを含む。仮想現実表示装置は、上記画像表示装置および光学部品の他に、ハーフミラーおよび視度調整レンズ等の付加的な光学部材を有していてもよい。
　偏光を出射する画像表示装置としては、公知の画像表示装置を用いることができ、例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）表示装置およびマイクロＬＥＤ表示装置等の自発光型の微細な発光体を透明基板上に配列した表示装置が挙げられる。これら自発光型の表示装置には、通常、表示面の反射防止のため表示面に（円）偏光板が貼合されている。そのため、出射光は偏光している。また、その他の画像表示装置としては液晶表示装置が例示される。液晶表示装置もまた、表面に偏光板を有するため、出射光は偏光している。

＜光学フィルム＞
　本発明の第２実施形態の光学フィルムは、非平面の形状を有する。
　非平面の形状とは、平面形状以外の他の形状を意味し、例えば、曲面形状が挙げられる。
　上記の曲面形状とは、０を超える曲率を有する形状を意味し、可展面である曲面形状および三次元曲面形状が含まれる。可展面とは、面の各部を伸縮することなしに平面に展開することができる面である。
　可展面である曲面形状としては、例えば、円筒周面、楕円筒周面、円錐周面および楕円錐周面等に相当する面が挙げられ、凸状の曲面であっても凹状の曲面であってもよい。三次元曲面とは、平面の変形では成立しない曲面、すなわち可展面ではない曲面を意味し、三次元曲面としては、球面および回転楕円体面等に相当する面、および、断面が放物線や双曲線等をなす曲面（例えば、回転放物面）に相当する面等が挙げられ、凸状の曲面であっても凹状の曲面であってもよい。

　曲面形状は、レンズ状であることが好ましい。レンズ状の曲面形状としては、例えば、球面形状、および、回転楕円体面形状等が挙げられ、凸状のレンズ状であっても、凹状のレンズ状であってもよい。

　光学フィルムが有する非平面の形状は、球面形状、回転楕円体形状、または、回転放物面形状が好ましい。

　光学フィルムは、上述したように非平面の形状を有し、所定の曲率半径を示す。つまり、光学フィルムの非平面の形状を有する部分（非平面形状部。好ましくは、曲面形状部）が、所定の曲率半径を示す。
　曲率半径は、３０～１０００ｍｍであり、本発明の第２実施形態の光学フィルムをパンケーキ型の仮想現実表示装置に適用した際に漏れ光の発生がより抑制される点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、３０～１００ｍｍが好ましい。
　曲率半径は、光学フィルムのいずれの位置で一定であってもよいし、異なっていてもよい。

　光学フィルムの位相差の面内ばらつきは、５％未満である。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、３％未満が好ましく、１％未満がより好ましい。下限は特に制限されないが、０％が挙げられる。
　上記光学フィルムの位相差の面内ばらつきは、以下の方法により算出する。本明細書では、以下の方法を「特定方法１」ともいう。）なお、位相差の面内ばらつきは、光学フィルムの各位置における波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションの測定値を用いて算出する。
　まず、光学フィルムを仮想現実表示装置に適用した際における画像表示パネルの出射面の法線方向から光学フィルムを平面視し、出射面の中心をとおって上記法線方向に延びる軸と平面視された光学フィルムとの交点を、光学フィルムの中心とする。
　次に、光学フィルムを平面視して得られる投影像において、上記中心を通り、面内方向の一方向に延びる直線を第１直線とし、上記中心を通り、第１直線を時計回りに４５°回転してなる直線を第２直線とし、上記中心を通り、第２直線を時計回りに４５°回転してなる直線を第３直線とし、上記中心を通り、第３直線を時計回りに４５°回転してなる直線を第４直線とする。
　次に、光学フィルムを平面して得られる投映像内に位置し、上記光学フィルムの中心を中心とした円を描く。その際、最も半径が大きく描ける内接円を第１円として、第１円の半径の半分の大きさの円を第２円とする。
　次に、上記平面視された光学フィルムの中心に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、第１直線と第１円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、第１直線と第２円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、第２直線と第１円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、第２直線と第２円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、第３直線と第１円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、第３直線と第２円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、第４直線と第１円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーション、および、第４直線と第２円との２つの交点に対応する光学フィルムの位置での面内レタデーションをそれぞれ測定する。なお、平面視された光学フィルムの中心に対応する光学フィルムの位置とは、光学フィルムを平面視して得られる投映像中の中心の位置を通って、投映像の法線方向に延びる軸と、光学フィルムとの交点に該当する。つまり、投映像中の中心の位置を、光学フィルムの位置に反映させて、その光学フィルムの位置での面内レタデーションを算出する。また、上記交点に対応する光学フィルムの位置とは、光学フィルムを平面視して得られる投映像中の選択された交点の位置を通って、投映像の法線方向に延びる軸と、光学フィルムとの交点に該当する。つまり、投映像中の交点の位置を、光学フィルムの位置に反映させて、その光学フィルムの位置での面内レタデーションを算出する。上記手順に従って、１７カ所の光学フィルムの面内レタデーションを測定する。
　次に、得られた測定値のうち、最大値、最小値、および、平均値をそれぞれ求め、以下の式より算出される位相差の面内ばらつき（％）を算出する。
　式　　面内ばらつき（％）＝｛（最大値－最小値）／平均値｝×１００

　本発明の第２実施形態の光学フィルムの外周端の形状は特に制限されず、例えば、真円形、楕円形、および、不規則な形状が用いられる。
　上記外周端の形状は、光学フィルムを仮想現実表示装置に適用した際における画像表示パネルの出射面の法線方向から光学フィルムを観察した際の光学フィルムの外周端の形状を意味する。

　本発明の第２実施形態の光学フィルムの膜厚の面内ばらつきは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、５％未満が好ましく、３％未満がより好ましい。下限は特に制限されないが、０％が挙げられる。
　上記膜厚の面内ばらつきを測定する方法としては、上述した位相差の面内ばらつきを算出する際に面内レタデーションを測定した１７カ所での膜厚を測定して、得られた測定値のうち、最大値、最小値、および、平均値をそれぞれ求め、以下の式より算出される位相差の面内ばらつき（％）を算出する。
　式　　面内ばらつき（％）＝｛（最大値－最小値）／平均値｝×１００
　なお、各箇所における膜厚の測定は、光学フィルムをミクロトームで切削して断面を出し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により適切な倍率（２～５万倍）で断面観察を行って、光学フィルムの膜厚を求める。
　なお、断面が観察し易いように、測定試料にはカーボン蒸着、および、エッチング等の適切な処理を施してもよい。加速電圧は、１～１０ｋＶの条件で最適化することが好ましい。
　本明細書では、上記膜厚の面内ばらつきを測定する方法を「特定方法２」ともいう。

　本発明の第２実施形態の光学フィルムとしては、例えば、位相差フィルム、コレステリック液晶層、偏光子、反射型偏光子、反射防止フィルム、透明フィルム、および、これらの一部を組み合わせて構成された積層光学体が用いられる。
　つまり、本発明の第２実施形態の光学フィルムは、単層構造のフィルムであってもよいし、複層構造のフィルムであってもよい。例えば、本発明の第２実施形態の光学フィルムは、位相差フィルムのみが構成されていてもよいし、本発明の第２実施形態の光学フィルムは、位相差フィルムと反射型偏光子とから構成される積層光学体であってもよい。
　本発明の第２実施形態の光学フィルムは、少なくとも、位相差フィルムを含むことが好ましい。つまり、本発明の第２実施形態の光学フィルムは、位相差フィルム単層から構成されていること、または、位相差フィルムを含む積層光学体であることが好ましい。
　以下では、まず、位相差フィルムについて詳述する。

＜位相差フィルム（以下、「位相差層」ともいう。）＞
　位相差層は、円偏光を入射したとき、出射光をおよそ直線偏光に変換する機能を有する。例えば、可視域の波長のいずれかにおいてＲｅがおよそ１／４波長となる位相差層を用いることができ、このとき、波長５５０ｎｍにおいて面内レタデーションＲｅ（５５０）が１２０ｎｍ～１５０ｎｍであることが好ましく、１２５ｎｍ～１４５ｎｍであることがより好ましく、１３５ｎｍ～１４０ｎｍであることがさらに好ましい。
　また、Ｒｅがおよそ３／４波長や、およそ５／４波長となる位相差層も、直線偏光を円偏光に変換することができるため、好ましい。

　また、位相差層は、波長に対して逆分散性を有していることが好ましい。逆分散性を有していると、可視域の広い波長範囲に亘って円偏光を直線偏光に変換することが可能になるため、好ましい。ここで、波長に対して逆分散性を有するとは、波長が大きくなるに伴い、該波長における位相差の値が大きくなることをいう。
　逆分散性を有する位相差層は、例えば、特開２０１７－０４９５７４号公報等を参照して、逆分散性を有する変性ポリカーボネート樹脂フィルム等のポリマーフィルムを一軸延伸することによって作製することができる。
　また、逆分散性を有する位相差層は、実質的に逆分散性を有していればよく、例えば、特許第０６２５９９２５号公報に開示されているように、Ｒｅがおよそ１／４波長となる位相差層と、Ｒｅがおよそ１／２波長となる位相差層を、互いの遅相軸がおよそ６０°の角をなすように積層することによっても作製することができる。このとき、１／４波長位相差層と１／２波長位相差層がそれぞれ順分散性（波長が大きくなるに伴い、該波長における位相差の値が小さくなる）であっても、可視域の広い波長範囲に亘って円偏光を直線偏光に変換でき、実質的に逆分散性を有するとみなせることが知られている。

　また、位相差層は、一様配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。例えば、棒状液晶化合物を面内方向に対し水平に一様配向させた層や、円盤状液晶化合物を面内方向に対し垂直に一様配向させた層を用いることができる。さらに、例えば、特開２０２０－０８４０７０号公報等を参照して、逆分散性を有する棒状液晶化合物を一様配向させ、固定化することによって、逆分散性を有する位相差層を作製することもできる。

　また、位相差層は、厚み方向を螺旋軸として捩れ配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。例えば、特許第５７５３９２２号公報、および、特許第５９６０７４３号公報等に開示されているように、厚み方向を螺旋軸として捩れ配向した棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を固定化してなる層を有する位相差層を用いることもでき、この場合、位相差層は実質的に逆分散性を有するとみなすことができるため、好ましい。

　位相差層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれる、アイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、位相差層は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

＜積層光学体＞
　積層光学体の一つの態様は、少なくとも、コレステリック液晶層と、円偏光と直線偏光を互いに変換する位相差層とを有する。
　積層光学体の一つの態様は、少なくとも、コレステリック液晶層と、円偏光と直線偏光を互いに変換する位相差層と、直線偏光子とをこの順で有する。
　積層光学体の一つの態様は、少なくとも、直線偏光型の反射偏光子と、円偏光と直線偏光を互いに変換する位相差層とを有する。
　積層光学体の一つの態様は、少なくとも、円偏光と直線偏光を互いに変換する位相差層と、直線偏光型の反射偏光子と、直線偏光子とをこの順で有する。
　積層光学体に含まれる位相差層は、上述した通りである。
　以下では、積層光学体に含まれ得る他の部材について詳述する。

〔コレステリック液晶層〕
　コレステリック液晶層は、入射光を右回り円偏光と左回り円偏光とに分離し、一方の円偏光を正反射し、もう一方の円偏光を透過する光学部材である。例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して、コレステリック液晶相を固定化してなるコレステリック液晶層を用いることができる。コレステリック液晶相を固定化してなるフィルムは、薄膜でありながら透過光が高い偏光度を有するため好ましい。コレステリック液晶層は、延伸したり、立体形状等に成形したりした場合に、偏光度の低下および／または偏光軸の歪みが抑制されるという観点で、曲面成形に用いられるフィルムとして好ましい。また、偏光軸の歪みに起因する偏光度の低下も生じにくい。

　コレステリック液晶層は、波長４６０ｎｍの反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５５０ｎｍの反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６００ｎｍの反射率が４０％以上である黄色光反射層と、波長６５０ｎｍの反射率が４０％以上である赤色光反射層とを有することが好ましい。このような構成であると、可視域の広い波長範囲に亘って高い反射特性を発現できるため、好ましい。尚、上述の反射率は、コレステリック液晶層に対し、それぞれの波長で非偏光を入射した場合の反射率である。
　また、コレステリック液晶相を固定化してなる青色光反射層、緑色光反射層、黄色光反射層、および、赤色光反射層は、コレステリック液晶相の螺旋ピッチを厚み方向で連続的に変化させたピッチグラジエント層を有していてもよい。例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して、緑色光反射層と黄色光反射層を連続的に作製することができる。

　また、コレステリック液晶層は、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層と、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層とを有することも好ましい。このような構成であると、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相が正のＲｔｈを有するのに対し、円盤状液晶化合物を含むコレステリック液晶相は負のＲｔｈを有するため、互いのＲｔｈが相殺され、斜め方向からの入射光に対してもゴーストの発生を抑えることができるため、好ましい。

　Ｒｔｈが相殺される様子を数式で表すと下記のようになる。光反射層をｎ層有する光学積層フィルムにおいて、光源側から光反射層を順にＬ１、Ｌ２、Ｌ３、・・・、Ｌｎと名付けたときに、光反射層Ｌ１から光反射層Ｌｉまでの各層のＲｔｈの和をＳＲｔｈｉする。具体的には次式のようになる。
ＳＲｔｈ１＝Ｒｔｈ１
ＳＲｔｈ２＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２
・・・
ＳＲｔｈｉ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２・・・・＋Ｒｔｈｉ
・・・
ＳＲｔｈｎ＝Ｒｔｈ１＋Ｒｔｈ２・・・・＋Ｒｔｈｉ・・・・＋Ｒｔｈｎ
これら全てのＳＲｔｈｉ（ＳＲｔｈ１～ＳＲｔｈｎ）の絶対値が０．３μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以下であることがより好ましく、０．１μｍ以下であることがさらに好ましい。上記の式中の各層のＲｔｈｉは、上述したＲｔｈ算出の数式により求められる。

　コレステリック液晶層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましい。

　また、コレステリック液晶層を延伸したり、成形したりする場合には、コレステリック液晶層としての反射波長域がシフトすることがあるため、反射波長域は、あらかじめ波長のシフトを想定して選択されていることが好ましい。例えば、コレステリック液晶層としてコレステリック液晶相を固定化してなる光学フィルムを用いる場合、延伸または成形によってフィルムが引き延ばされ、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが小さくなってしまう場合があるため、コレステリック液晶相の螺旋ピッチをあらかじめ大きく設定しておくとよい。また、延伸または成形による反射波長域の短波シフトを想定して、コレステリック液晶層は、波長８００ｎｍの反射率が４０％以上である赤外光反射層を有することも好ましい。
　さらに、延伸や成形における延伸倍率が面内で均一でない場合は、面内のそれぞれの場所で、延伸による波長シフトに応じて適切な反射波長域が選択されてもよい。すなわち、面内において、反射波長域が異なる領域があってもよい。また、面内におけるそれぞれの場所で延伸倍率が異なることを想定して、あらかじめ反射波長域を必要な波長域よりも広くとっておくことも好ましい。

（コレステリック液晶層の製法）
　コレステリック液晶層は、液晶化合物、カイラル剤および重合開始剤、さらに必要に応じて添加される界面活性剤等を溶媒に溶解させた液晶組成物を、支持体上に、あるいは支持体上に形成された下地層に塗布し、乾燥させて塗膜を得て、塗膜中の液晶化合物を配向させて、この塗膜に活性光線を照射して液晶組成物を硬化することで、形成できる。これにより、コレステリック規則性が固定化されたコレステリック液晶構造を有するコレステリック液晶層を形成できる。

〔塗布方法〕
　液晶組成物を塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法等の公知の方法が挙げられる。

〔螺旋ピッチに面内分布を付与する方法〕
　コレステリック液晶層の螺旋ピッチに面内分布を付与する方法においては、例えば、光異性化によってＨＴＰが変化するカイラル剤を用いる方法がある。

　詳細を説明する。光異性化によってＨＴＰが変化するカイラル剤を含んだ液晶組成物を塗布（場合によってはその後に加熱処理）して配向させたコレステリック液晶層に、光異性化に対応した光照射を行うことでカイラル剤のＨＴＰが変化し、その結果としてコレステリック液晶層の螺旋ピッチを変えて、反射波長を変えることが可能となる。この性質を利用し、配向させたコレステリック液晶層に対して露光マスク等を使用してパターン状の光照射を行い光異性化させることで、光照射された領域のみ反射波長を変化させたパターンが得られる。パターンを得たのちに、コレステリック液晶層全体に液晶組成物の硬化のための露光を行い、液晶組成物を重合させることで、最終的に螺旋ピッチが面内分布を有するコレステリック液晶層（パターン状コレステリック液晶層）を得ることができる。硬化させた後のパターン状コレステリック液晶層ではもはや光異性化は起こらず、安定した性質を持つ。

　このパターン形成を効果的に行うには、光異性化のための光照射と硬化のための光照射の切り分けができていること、言い換えると、光異性化および硬化の一方が進んでいる際に他方がなるべく進まないようになっていることが好ましい。両者の切り分けのための策としては、例えば、酸素濃度による切り分け、および、露光波長による切り分け等が挙げられる。

　まず、酸素濃度について、光異性化は酸素濃度の影響を受けにくいが、硬化は（使用する開始剤にもよるが）酸素濃度が高いほど起きにくくなる。従って光異性化は酸素濃度が高い条件、例えば大気下、で行い、硬化は酸素濃度が低い条件、例えば窒素雰囲気を用いて酸素濃度３００体積ｐｐｍ以下で行う、ことで光異性化と硬化を切り分けがしやすくなる。

　また、露光波長について、カイラル剤の光異性化はカイラル剤の吸収波長で、硬化は光重合開始剤の吸収波長で進みやすくなる。従って、カイラル剤と光重合開始剤とで吸収波長が異なるようにカイラル剤と光重合開始剤を選択しておけば、露光波長による光異性化と硬化の切り分けが可能となる。

　なお、必要に応じて光異性化および硬化の一方、または、両方を加熱下で行ってもよい。加熱する際の温度としては２５～１４０℃が好ましく、３０～１００℃がより好ましい。

　光異性化によってＨＴＰが変化するカイラル剤を用いる方法の別の方法として、先にパターン状に硬化を行い、その後に未硬化の領域の異性化を行う方法もある。すなわち、配向させたコレステリック液晶相に対して、まず硬化のための光照射を露光マスク等を使用してパターン状に行う。その後に全面に光異性化のための光照射を行うことで、（先に硬化がなされた領域はもはや光異性化によるピッチ変化が起こりえないため）先に硬化がなされていない領域のみで光異性化によるピッチ変化が起き、反射波長の変化が起きる。この場合もパターンを得た後にコレステリック液晶層全体に液晶組成物の硬化のための露光を行い、液晶組成物を重合させることで、最終的なパターン状コレステリック液晶層を得ることができる。

〔各層の直接塗布〕
　コレステリック液晶層の各光反射層の間には、接着層を有さずに、直接隣の層が形成されることが好ましい。層を形成する際、すでに形成されている隣接層の上に直接塗布を行うことで、接着層をなくすことができる。さらに、面内の全ての方向で屈折率差を小さくするために、液晶化合物の配向方向（遅相軸方向）が界面で連続的に変化するように配置することが好ましい。例えば、円盤状液晶化合物を用いて形成された光反射層上に、棒状液晶化合物を用いて形成された光反射層を形成する場合、棒状液晶化合物を含む塗布液を直接塗布し、円盤状液晶化合物を含む光反射層の円盤状液晶化合物による配向規制力によって、遅相軸方向が界面で連続をなすように配向させることもできる。

〔各層の接着方法〕
　コレステリック液晶層は、多数の光反射層からなる積層体であることが好ましい。各層は任意の接着方法で接着することもでき、例えば、粘着剤、または、接着剤を用いることができる。
　粘着剤としては、市販の粘着剤を任意に用いることができる。なかでも、薄型化の観点、および、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点から、粘着層の厚みは、２５μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以下であることがより好ましく、６μｍ以下であることがもっとも好ましい。また、粘着剤は、アウトガスが生じにくいものであることが好ましい。特に、延伸または成形を行う場合、真空プロセスまたは加熱プロセスを経る場合があるが、それらの条件においてもアウトガスが出ないことが好ましい。
　接着剤としては、市販の接着剤等を任意に用いることができ、例えば、エポキシ樹脂系の接着剤、または、アクリル樹脂系の接着剤を用いることができる。
　薄型化の観点、および、コレステリック液晶層の表面粗さＲａを低減する観点から、接着層の厚みは、２５μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることがもっとも好ましい。また、接着層を薄くする観点、および、被着体に対し接着剤を均一な厚みで塗布する観点から、接着剤の粘度は、３００ｃＰ以下であることが好ましく、１００ｃＰ以下であることがより好ましい。
　また、被着体が表面凹凸を有している場合には、粘着剤および接着剤は、コレステリック液晶層の表面粗さＲａを低減する観点から、接着する層の表面凹凸を包埋できるよう、適切な粘弾性または厚みを選択することもできる。表面凹凸を包埋する観点からは、粘着剤および接着剤は、粘度が５０ｃＰ以上であることが好ましい。また、厚みは、表面凹凸の高さよりも厚いことが好ましい。
　接着剤の粘度を調整する方法としては、例えば、溶剤を含む接着剤を用いる方法が挙げられる。この場合、溶剤の比率によって接着剤の粘度を調整することができる。また、接着剤を被着体に塗布した後、溶剤を乾燥させることで、接着剤の厚みをより低減することができる。

　コレステリック液晶層において、余計な反射を低減し、透過光の偏光度の低下を抑制する観点からは、各層の接着に用いる粘着剤または接着剤は、隣接する層との屈折率差が小さいことが好ましい。液晶層は複屈折を持つことにより進相軸方向の屈折率と遅相軸方向の屈折率が異なるため、進相軸方向の屈折率と遅相軸方向の屈折率とを足して２で割った値をその液晶層の平均屈折率naveとした時に、隣接する粘着層または接着層の屈折率はnaveとの差が、０．０７５以下が好ましく、０．０５以下がより好ましく、０．０２５以下がさらに好ましい。粘着剤または接着剤の屈折率は、例えば、酸化チタンの微粒子またはジルコニアの微粒子等を混合し、調整することができる。
　また、コレステリック液晶層、位相差層、および直線偏光子は、面内において屈折率の異方性を有するが、面内における全ての方向において、隣接する層との屈折率差が０．１０以下であることが好ましい。そのため、粘着剤および接着剤は、面内に屈折率異方性を有するものであってもよい。
　また、コレステリック液晶層と粘着剤、もしくはコレステリック液晶層と接着剤の間に、進相軸方向の屈折率と遅相軸方向の屈折率との差がコレステリック液晶層よりも小さい屈折率調整層を有してよい。この場合、屈折率調整層はコレステリック液晶を有することが好ましい。屈折率調整層を有することで、界面反射をより抑制でき、ゴーストの発生をより抑制することができる。また、屈折率調整層の平均屈折率はコレステリック液晶層の平均屈折率よりも小さいことがより好ましい。また、屈折率調整層の反射光の中心波長は４３０ｎｍより小さいか６７０ｎｍより大きくてもよく、４３０ｎｍより小さいことがより好ましい。

　また、各層の間の接着層は、接着層の厚みが１００ｎｍ以下であることも好ましい。接着層の厚みが１００ｎｍ以下であると、可視域の光は屈折率差を感じにくくなり、余計な反射を抑制することができる。接着層の厚みは、５０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がさらに好ましい。厚みが１００ｎｍ以下の接着層を形成する方法としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ層）等のセラミック接着剤を貼合面に蒸着する方法が挙げられる。貼合部材の貼合面は、貼合前にプラズマ処理、コロナ処理、および、鹸化処理等の表面改質処理を施すこと、または、プライマー層を付与することができる。また、貼合面が複数ある場合は、貼合面毎に接着層の種類や厚みを調整することができる。具体的には、例えば、以下（１）～（３）に示す手順で、厚みが１００ｎｍ以下である接着層を設けることができる。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合する。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、蒸着等により、厚さ１００ｎｍ以下のＳｉＯｘ層を形成する。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、例えばアルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）等を用いて行うことができる。また、形成したＳｉＯｘ層の表面にプラズマ処理を施しておくことが好ましい。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を貼合した後、仮支持体を剥離する。貼合は、例えば、１２０℃の温度で実施することが好ましい。

　各層の塗布、接着、または貼合は、ロール・トウ・ロールで行ってもよいし、枚葉で行ってもよい。
　ロール・トウ・ロール方式は、生産性を向上したり、各層の軸ずれを低減したりする観点で好ましい。
　一方、枚葉方式は、少量、多品種生産に適していることや、上述した、接着層の厚みが１００ｎｍ以下であるような、特殊な接着方法を選択できる点で、好ましい。
　また、接着剤を被着体に塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法等の公知の方法が挙げられる。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれる、アイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、コレステリック液晶層は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

＜直線偏光子＞
　直線偏光子は、吸収型の偏光子であり、入射光のうち吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する。直線偏光子としては一般的な偏光子を用いることができ、例えば、ポリビニルアルコールまたはその他の高分子樹脂に二色性物質を染着し、延伸することで配向させた偏光子でもよいし、液晶化合物の配向を利用して二色性物質を配向させた偏光子でもよい。入手性の観点や、偏光度を高める観点では、ポリビニルアルコールをヨウ素で染色し、延伸した偏光子が好ましい。
　直線偏光子の厚みは、１０μｍ以下が好ましく、７μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。直線偏光子が薄いと、積層光学体を延伸したり、成形したりした場合に、フィルムのクラックや破断を防止することができる。
　また、直線偏光子の単板透過率は、４０％以上が好ましく、４２％以上がより好ましい。また、偏光度は、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９９％以上がさらに好ましい。尚、本明細書において、直線偏光子の単板透過率および偏光度は、自動偏光フィルム測定装置：ＶＡＰ－７０７０（日本分光社製）を用いて測定する。
　また、直線偏光子の透過軸の方向は、位相差層によって直線偏光に変換された光の偏光軸の方向に一致していることが好ましい。例えば、位相差層が１／４波長の位相差を有する層である場合、直線偏光子の透過軸と位相差層の遅相軸とのなす角は、およそ４５°であることが好ましい。

　直線偏光子は、液晶化合物と二色性物質とを含む光吸収異方性層であることも好ましい。液晶化合物と二色性物質を含む直線偏光子は、厚みを薄くすることができ、かつ、延伸または成形を行ってもクラックや破断を生じにくいため、好ましい。光吸収異方性層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍであることが好ましく、０．３～５μｍであることがより好ましい。
　液晶化合物と二色性物質とを含む直線偏光子は、例えば、特開２０２０－０２３１５３号公報等を参照して作製することができる。
　直線偏光子の偏光度を向上する観点からは、光吸収異方性層は、二色性物質の配向度が０．９５以上であることが好ましく、０．９７以上であることがより好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれる、アイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、直線偏光子は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

＜その他の機能層＞
　積層光学体は、上述した、コレステリック液晶層、位相差層、および直線偏光子に加え、その他の機能層を有していてもよい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれる、アイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、その他機能性層は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

＜ポジティブＣプレート＞
　積層光学体は、さらにポジティブＣプレートを有することも好ましい。ここで、ポジティブＣプレートとは、Ｒｅが実質的にゼロであり、Ｒｔｈが負の値を有する位相差層である。ポジティブＣプレートは、例えば、棒状液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７－１８７７３２号公報、特開２０１６－０５３７０９号公報、および、特開２０１５－２００８６１号公報の記載を参酌できる。
　ポジティブＣプレートは、斜めから入射した光に対して、透過光の偏光度を高めるための、光学補償層として機能する。ポジティブＣプレートは、積層光学体の任意の場所に設置することができ、複数が設置されていてもよい。

　ポジティブＣプレートは、コレステリック液晶層に隣接して、または、コレステリック液晶層の内部に、設置してもよい。コレステリック液晶層として、例えば、棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる光反射層を用いた場合、光反射層は正のＲｔｈを有する。このとき、コレステリック液晶層に対して斜め方向から光が入射した場合、Ｒｔｈの作用により反射光および透過光の偏光状態が変化し、透過光の偏光度が低下することがある。コレステリック液晶層の内部、または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化を抑制し、透過光の偏光度の低下を抑制できるため、好ましい。ポジティブＣプレートは、青色光反射層に対して緑色反射層とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。この場合のポジティブＣプレートのＲｅは、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈは、－６００～－１００ｎｍであることが好ましく、－４００～－２００ｎｍであることがより好ましい。

　また、ポジティブＣプレートは、位相差層に隣接して、または、位相差層の内部に、設置してもよい。位相差層として、例えば、棒状液晶化合物を固定化してなる層を用いた場合、位相差層は正のＲｔｈを有する。このとき、位相差層に対して斜め方向から光が入射した場合、Ｒｔｈの作用により透過光の偏光状態が変化し、透過光の偏光度が低下することがある。位相差層の内部、または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化を抑制し、透過光の偏光度の低下を抑制できるため、好ましい。ポジティブＣプレートは位相差層に対して直線偏光子とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。この場合のポジティブＣプレートのＲｅは、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈは、－９０～－４０ｎｍであることが好ましい。

＜反射防止層＞
　積層光学体は、表面に反射防止層を有することも好ましい。積層光学体は、特定の円偏光を反射し、それと直交する円偏光を透過する機能を有するが、積層光学体の表面における反射は、一般的に意図しない偏光の反射を含み、それにより透過光の偏光度を低下させる。そのため、積層光学体は表面に反射防止層を有することが好ましい。反射防止層は、積層光学体の一方の表面にのみ設置されてもよいし、両面に設置されてもよい。
　反射防止層の種類は特に制限されないが、より反射率を低下させる観点から、モスアイフィルムや、ＡＲフィルムが好ましい。また、積層光学体を延伸したり、成形したりする場合には、延伸により膜厚が変動しても高い反射防止性能を維持できることから、モスアイフィルムが好ましい。さらに、反射防止層が支持体を含むものであって、延伸または成形を行う場合には、延伸や成形を容易にする観点から、該支持体はＴｇのピーク温度が１７０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがより好ましい。具体的には、例えば、ＰＭＭＡフィルム等が好ましい。

＜第２の位相差層＞
　積層光学体は、上述した位相差層とは別に、さらに第２の位相差層を有することも好ましい。例えば、積層光学体は、コレステリック液晶層、位相差層、直線偏光子、および、第２の位相差層を、この順で含んでいてもよい。
　第２の位相差層は、直線偏光を円偏光に変換するものであることが好ましく、例えば、１／４波長のＲｅを有する位相差層が好ましい。その理由を、以下で説明する。
　積層光学体に対しコレステリック液晶層の側から入射し、コレステリック液晶層、位相差層、および直線偏光子を透過した光は、直線偏光となっており、その一部は直線偏光子の側の最表面で反射されて、再びコレステリック液晶層の側の表面から出射する。このような光は余計な反射光であり、反射光の偏光度を低下させる要因になり得るため、低減することが好ましい。そこで、直線偏光子の側の最表面での反射を抑制するため、反射防止層を積層する方法もあるが、積層光学体がガラスおよびプラスチック等の媒体に貼合されて用いられる場合、積層光学体の貼合面に反射防止層を有していても、媒体の表面における反射を抑止することはできないため、反射防止効果が得られない。
　一方、直線偏光を円偏光に変換する第２の位相差層を設置した場合には、直線偏光子の側の最表面に到達した光は円偏光となり、媒体の最表面で反射した際に直交する円偏光に変換される。その後、再び第２の位相差層を透過し、直線偏光子に到達したとき、光は直線偏光子の吸収軸方位の直線偏光となっており、直線偏光子で吸収される。従って、余計な反射を防止することができる。
　余計な反射をより効果的に抑制する観点から、第２の位相差層は、実質的に逆分散性を有していることが好ましい。

＜支持体＞
　積層光学体は、さらに支持体を有していてもよい。支持体は任意の場所に設置することができ、例えば、コレステリック液晶層、位相差層、または直線偏光子が、仮支持体から転写して用いるフィルムである場合、その転写先として支持体を用いることができる。
　支持体の種類は特に制限されないが、透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、並びに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィンフィルム、ポリアクリレートフィルム、および、ポリメタクリレートフィルムが好ましい。また、市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム株式会社製の「ＴＤ８０Ｕ」や「Ｚ－ＴＡＣ」等）を利用することもできる。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点、および、積層光学体の光学検査を容易にする観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、Ｒｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。

　積層光学体が、延伸または成形を行うものである場合、支持体は、ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であることが好ましい。低温で成形が可能となる観点では、ｔａｎδのピーク温度が１５０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがより好ましい。

　ここで、ｔａｎδの測定方法について記載する。動的粘弾性測定装置（アイティー計測制御株式会社製ＤＶＡ－２００）を用いて、あらかじめ温度２５℃湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿したフィルム試料について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、ｔａｎδ（＝Ｅ”/Ｅ’）を求める値とする。
　装置:アイティー計測制御株式会社製　ＤＶＡ－２００
　試料:５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
　測定条件:引張りモード
　測定温度:－１５０℃～２２０℃
　昇温条件:５℃/ｍｉｎ
　周波数:１Ｈｚ
　なお、一般的に光学用途においては、延伸処理がなされた樹脂基材を使用することが多く、延伸処理によって、ｔａｎδのピーク温度は高温になることが多い。例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）は、ｔａｎδのピーク温度は１８０℃以上となる。

　ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である支持体は、特に制限なく様々な樹脂基材が使用可能である。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステルおよびポリアクリル酸エステル等のアクリル系樹脂；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、好ましくは、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートまたはアクリル系樹脂であり、特に好ましくは、環状オレフィン系樹脂またはポリメタクリル酸エステルである。

　市販の樹脂基材としては、テクノロイＳ００１Ｇ、テクノロイＳ０１４Ｇ、テクノロイＳ０００、テクノロイＣ００１、テクノロイＣ０００（住化アクリル販売株式会社）、ルミラーＵタイプ、ルミラーＦＸ１０、ルミラーＳＦ２０（東レ株式会社）、ＨＫ－５３Ａ（東山フィルム株式会社）、テフレックスＦＴ３（帝人デュポンフィルム株式会社）、エスシーナ”およびＳＣＡ４０（積水化学工業（株））、ゼオノアフィルム（オプテス（株））、アートンフィルム（ＪＳＲ（株））等が挙げられる。

　支持体の厚みは特に制限されないが、５～３００μｍが好ましく、５～１００μｍがより好ましく、５～３０μｍがさらに好ましい。

＜各層の接着方法＞
　積層光学体は、多数の層からなる積層体である。各層は任意の接着方法で接着することができ、例えば、粘着剤や、接着剤を用いることができる。
　粘着剤としては、市販の粘着剤を任意に用いることができる。薄型化の観点、および、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点から、粘着層の厚みは、２５μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以下であることがより好ましく、６μｍ以下であることがさらに好ましい。また、粘着剤は、アウトガスが生じにくいものであることが好ましい。特に、延伸や成形を行う場合、真空プロセスや加熱プロセスを経る場合があるが、それらの条件においてもアウトガスが出ないことが好ましい。
　接着剤としては、市販の接着剤等を任意に用いることができ、例えば、エポキシ樹脂系の接着剤、および、アクリル樹脂系の接着剤を用いることができる。
　薄型化の観点、および、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点から、接着層の厚みは、２５μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることがさらに好ましい。また、接着層を薄くする観点、および、被着体に対し接着剤を均一な厚みで塗布する観点から、接着剤の粘度は、３００ｃＰ以下であることが好ましく、１００ｃＰ以下であることがより好ましく、１０ｃＰ以下であることがさらに好ましい。
　また、被着体が表面凹凸を有している場合には、粘着剤および接着剤は、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点から、接着する層の表面凹凸を包埋できるよう、適切な粘弾性または厚みを選択することもできる。表面凹凸を包埋する観点からは、粘着剤および接着剤は、粘度が５０ｃＰ以上であることが好ましい。また、厚みは、表面凹凸の高さよりも厚いことが好ましい。
　接着剤の粘度を調整する方法としては、例えば、溶剤を含む接着剤を用いる方法が挙げられる。この場合、溶剤の比率によって接着剤の粘度を調整することができる。また、接着剤を被着体に塗布した後、溶剤を乾燥させることで、接着剤の厚みをより低減することができる。

　積層光学体において、余計な反射を低減し、透過光および反射光の偏光度の低下を抑制する観点からは、各層の接着に用いる粘着剤または接着剤は、隣接する層との屈折率差が小さいことが好ましい。具体的には、隣接する層の屈折率差は、０．１以下が好ましく、０．０５以下がより好ましく、０．０１以下がさらに好ましい。粘着剤または接着剤の屈折率は、例えば、酸化チタンの微粒子やジルコニアの微粒子等を混合し、調整することができる。
　また、コレステリック液晶層、位相差層、および直線偏光子は、面内において屈折率の異方性を有するが、面内における全ての方向において、隣接する層との屈折率差が０．０５以下であることが好ましい。そのため、粘着剤や接着剤は、面内に屈折率異方性を有するものであってもよい。

　また、各層の間の接着層は、接着層の厚みが１００ｎｍ以下であることも好ましい。接着層の厚みが１００ｎｍ以下であると、可視域の光は屈折率差を感じにくくなり、余計な反射を抑制することができる。接着層の厚みは、５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みが１００ｎｍ以下の接着層を形成する方法としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ層）等のセラミック接着剤を貼合面に蒸着する方法があげられる。貼合部材の貼合面は、貼合前にプラズマ処理、コロナ処理、および、鹸化処理等の表面改質処理を施すこと、および、プライマー層を付与することができる。また、貼合面が複数ある場合は、貼合面毎に接着層の種類または厚みを調整することができる。具体的には、例えば、以下（１）～（３）に示す手順で、厚みが１００ｎｍ以下である接着層を設けることができる。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合する。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、蒸着等により、厚さ１００ｎｍ以下のＳｉＯｘ層を形成する。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、例えばアルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）等を用いて行うことができる。また、形成したＳｉＯｘ層の表面にプラズマ処理を施しておく事が好ましい。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を貼合した後、仮支持体を剥離する。貼合は、例えば、１２０℃の温度で実施する事が好ましい。

　各層の塗布、接着、または貼合は、ロール・トウ・ロールで行ってもよいし、枚葉で行ってもよい。ロール・トウ・ロール方式は、生産性を向上したり、各層の軸ずれを低減したりする観点で好ましい。
　一方、枚葉方式は、少量、多品種生産に適していることや、上述した、接着層の厚みが１００ｎｍ以下であるような、特殊な接着方法を選択できる点で、好ましい。
　また、接着剤を被着体に塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法等の公知の方法が挙げられる。

＜各層の直接塗布＞
　積層光学体の各層の間には、接着層を有さないことも好ましい。層を形成する際、すでに形成されている隣接層の上に直接塗布を行うことで、接着層をなくすことができる。さらに、隣接する層の一方、または両方が液晶化合物を含む層である場合、面内の全ての方向で屈折率差を小さくするために、液晶化合物の配向方向が界面で連続的に変化するようにすることが好ましい。例えば、液晶化合物と二色性物質を含む直線偏光子に対して、液晶化合物を含む位相差層を直接塗布し、直線偏光子の液晶化合物による配向規制力によって、位相差層の液晶化合物が界面で連続をなすように配向させることもできる。

＜各層の積層の順序＞
　積層光学体は多数の層からなるが、それらを積層する工程の順序には特に制限がなく、任意に選択することができる。
　例えば、仮支持体と機能層とからなるフィルムから、機能層を転写する場合には、転写先のフィルムの厚みが１０μｍ以上になるように積層順序を調整することで、転写時のシワやクラックを防止することができる。
　また、積層光学体の表面粗さＲａを低減する観点からは、表面凹凸が大きい層の上に別の層を積層した場合、表面凹凸がさらに増幅される場合があるため、表面粗さＲａが小さい層から順に積層していくことが好ましい。
　また、積層光学体の作製工程における品質評価の観点から、積層の順序を選択することもできる。例えば、コレステリック液晶層を除く層を積層し、透過光学系による品質評価を実施した後に、コレステリック液晶層を積層し、反射光学系での品質評価を実施することができる。
　また、積層光学体の製造歩留まりを向上させたり、コストを低減したりする観点から、積層の順序を選択することもできる。

　本発明の第２実施形態の用いられる位相差フィルム、それを含む積層光学体、および、それを含む複合レンズの好適な使用例として、積層光学体を用いた仮想現実表示装置を取り上げ、積層光学体の作用を詳細に説明する。

　図３は、積層光学体を用いた仮想現実表示装置である。図３に示すように、画像表示パネル５００から出射した光線１０００は、円偏光板４００を透過して円偏光となり、ハーフミラー３００を透過する。次いで、レンズ２００を透過して、積層光学体１００に入射して反射され、レンズ２００を再び透過した後、ハーフミラー３００で再び反射され、再度、レンズ２００を透過して積層光学体１００に入射する。このとき、光線１０００の円偏光状態は、積層光学体１００で反射されたときには変化せず、ハーフミラーで反射されたときに、積層光学体１００に入射したときの円偏光と直交する円偏光に変化する。従って、光線１０００は積層光学体１００を透過し、ユーザーに視認される。さらに、光線１０００は、ハーフミラー３００で反射される際、ハーフミラーが凹面鏡の形状になっていることにより、像は拡大され、ユーザーは拡大された虚像を視認することができる。上述の仕組みは、往復光学系、または折り返し光学系等と呼ばれている。
　一方、図４は、光線２０００が一度目に積層光学体１００に入射したとき、反射されずに透過し、漏れ光となった場合を表す模式図である。図から分かるように、このとき、ユーザーは拡大されていない像を視認することになる。この像はゴースト等と呼ばれ、低減することが求められる。
　積層光学体１００は、本発明の第２実施形態の要件を満たすため、光線が一度目に積層光学体１００に入射したときの透過光の漏れ（すなわちゴースト）を低減することができる。
　また、積層光学体１００は、本発明の第２実施形態の要件を満たすため、光線が二度目に積層光学体１００に入射したときの透過率を高めることができ、虚像の輝度を向上させ、さらに、虚像の色味付きを抑制することができる。

　積層光学体１００は、図３、および図４に示したように、レンズ等の曲面上に成形される場合がある。これによって、像面湾曲を抑制し、瞳孔泳ぎ（Ｐｕｐｉｌ Ｓｗｉm）を、改善することができる。また収差低減、視野角拡大等の効果が得られる。
　例えば、反射円偏光子と１／４波長の位相差を有する位相差層とを積層した積層光学体は、コレステリック液晶層が光学軸を有さないため、延伸や成形による偏光度の低下が生じにくい。

　積層光学体（１００）の一形態の層構成を図５に示す。なお、図５においては、光学フィルムである積層光学体の非平面の形状は示しておらず、簡略化して、平面形状として示している。
　コレステリック液晶層（１０１）、ポジティブＣプレート（１０２）、位相差層（１０３）、直線偏光子（１０４）、位相差層（１０５）、反射防止フィルム（１０６）がこの順で配置される。尚、積層光学体を延伸または成形した際、位相差層の遅相軸や直線偏光子の吸収軸が歪む懸念があるが、上述の通り、コレステリック液晶層は延伸や成形を行っても高い偏光度を有したままであり、コレステリック液晶層からの漏れ光の光量は小さいため、漏れ光の増加はわずかな量に抑えられる。
　また、本発明の第２実施形態に用いられるコレステリック液晶層（１０１）の層構成の一例を図６に示す。第一の光反射層（１３１）、第二の光反射層（１３２）、第三の光反射層（１３３）、第四の光反射層（１３４）がこの順で配置される。なお、図６においては、光学フィルムに含まれ得るコレステリック液晶層の非平面の形状は示しておらず、簡略化して、平面形状として示している。

　積層光学体（１００Ｂ）の異なるもう一つの一形態の層構成を図７に示す。なお、図７においては、光学フィルムである積層光学体の非平面の形状は示しておらず、簡略化して、平面形状として示している。
　積層光学体（１００Ｂ）では、ポジティブＣプレート（１１１）、位相差層（１１２）、直線偏光型反射偏光子（１１３）、直線偏光子（１１４）、位相差層（１１５）、および、反射防止フィルム（１１６）がこの順で配置される。

　また、積層光学体は、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下であることが好ましい。Ｒａが小さいと、例えば、積層光学体を仮想現実表示装置等に使用した場合、画像の鮮鋭性を向上させることができるため、好ましい。本発明者らは、積層光学体において光が反射される際、凹凸があると、反射光の角度が歪み、像の歪みやボケに繋がると推定している。積層光学体のＲａは、５０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　また、積層光学体は、多数の層を積層して作製される。凹凸のある層に別の層を積層した場合、凹凸が増幅される場合がある。従って、積層光学体においては、全ての層について、Ｒａが小さいことが好ましい。積層光学体の各層は、それぞれ、Ｒａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
　また、反射像の画像鮮鋭性を高める観点では、特に、コレステリック液晶層のＲａが小さいことが好ましい。
　表面粗さＲａは、例えば、非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ(株式会社 菱化システム社製)を用いて測定することができる。Ｖｅｒｔｓｃａｎは試料からの反射光の位相を利用した表面形状計測法であるため、コレステリック液晶相を固定してなる光反射層からなるコレステリック液晶層を測定する場合はフィルム内部からの反射光が重畳してしまって表面形状を正確に測れない場合がある。この場合、表面の反射率を高めて、さらに内部からの反射を抑制するために試料の表面に金属層を形成しても良い。試料の表面に金属層を形成する主な方法としてはスパッタ法が用いられる。スパッタする材料としては、Ａｕ、Ａｌ、および、Ｐｔ等が用いられる。

　積層光学体は、単位面積当たりの点欠陥数が小さいことが好ましい。積層光学体は多数の層を積層して作製されるため、積層光学体全体として点欠陥数を小さくするためには、各層における点欠陥数も小さいことが好ましい。具体的には、各層の点欠陥数は、１平方メートルあたり、２０個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、１個以下がさらに好ましい。積層光学体全体としては、点欠陥数は、１平方メートルあたり、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、５個以下がさらに好ましい。
　点欠陥は、透過光の偏光度の低下や、画像鮮鋭度の低下につながるため、少ないことが好ましい。
　ここで、点欠陥とは、異物、キズ、汚れ、膜厚変動、および、液晶化合物の配向不良等を含む。
　また、上述した点欠陥の個数は、好ましくは、サイズが１００μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、もっとも好ましくは１０μｍ以上の点欠陥の個数を数えることが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれる、アイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、積層光学体は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

＜複合レンズ＞
　複合レンズの一形態は、レンズと本発明の第２実施形態の光学フィルムとを含む。レンズの片面にはハーフミラーが形成されていてもよい。レンズとしては、凸レンズ、および、凹レンズを使用することができる。凸レンズとしては、両凸レンズ、平凸レンズ、および、凸メニスカスレンズを使用することができる。凹レンズとしては、両凹レンズ、平凹レンズ、および、凹メニスカスレンズを使用することができる。
　仮想現実表示装置に使用するレンズとしては、視野角拡大のために、凸メニスカスレンズ、または、凹メニスカスレンズが好ましく、さらに色収差を少なく抑えられる点で、凹メニスカスレンズがより好ましい。
　レンズの材料としては、ガラス、結晶、および、プラスチック等の可視光に対して透明なものを用いることができる。レンズの複屈折は虹ムラまたは漏れ光の原因となるため、小さい方が好ましく、複屈折ゼロ材料がより好ましい。

＜仮想現実表示装置＞
　仮想現実表示装置の一形態は、少なくとも偏光を出射する画像表示装置と、本発明の第２実施形態の光学フィルムを含む複合レンズとを含む。また、その他にハーフミラーや視度調整レンズ等、付加的な光学部材を有していてもよい。

＜画像表示装置＞
　本発明の第２実施形態に用いる画像表示装置としては、公知の画像表示装置を用いることができる。例えば、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）表示装置、および、マイクロＬＥＤ表示装置等の自発光型の微細な発光体を透明基板上に配列した表示装置が例示される。これら自発光型の表示装置は、通常、表示面の反射防止のため表示面に（円）偏光板が貼合されている。そのため、出射光は偏光している。また、その他の画像表示装置としては液晶表示装置が例示される。液晶表示装置もまた、表面に偏光板を有するため、出射光は偏光している。以下の説明では、有機エレクトロルミネッセンス表示装置をＯＬＥＤともいう。ＯＬＥＤとは『Organic Light Emitting Diode』の略である。

＜成形方法＞
　上述した非平面の形状を有する光学フィルムの製造方法は特に制限されない。
　なかでも、本発明の第２実施形態の光学フィルムの成形方法は、平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程と、加熱された光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程と、光学フィルムを裁断する工程を含むことが好ましい。
　以下、各工程について詳述する。

（平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程）
　本工程で使用される光学フィルムは、平面形状を有する。後述するように、この平面形状を有する光学フィルムに所定の形状が転写され、上述した非平面の形状を有する光学フィルムが得られる。
　平面形状を有する光学フィルムは、上述した非平面の形状を有する光学フィルムが有し得る各種部材（例えば、位相差フィルム等）を含む。ただし、平面形状を有する光学フィルムに含まれる各種部材は、平面形状を有する。

　平面形状を有する光学フィルムを加熱する方法としては、加熱した固体へ接触させることによる加熱、加熱した液体へ接触させることによる加熱、加熱した気体へ接触させることによる加熱、赤外線を照射することによる加熱、および、マイクロ波を照射することによる加熱等が挙げられ、成形直前に遠隔で加熱ができる、赤外線を照射することによる加熱が好ましい。

　加熱に用いる赤外線の波長は１．０μｍから３０．０μｍが好ましく、１．５μｍから５μｍがより好ましい。
　ＩＲ光源としては、石英管にタングステンフィラメントを封入した近赤外ランプヒータや、石英管を多重化して石英管間の一部をエアで冷却する機構とした波長制御ヒータ等を用いることができる。また、光学フィルム上に赤外線照射量分布をつけることで、成形中の物性値を目的に応じて制御することができる。強度分布を付ける方法としては、ＩＲ光源の配置の密度に粗密を付ける方法、および、ＩＲ光源と光学フィルムとの間に赤外光に対する透過率をパターン化したフィルターを配置する方法が用いられる。透過率をパターン化したフィルターとしては、ガラスに金属を蒸着したものや、コレステリック液晶層の反射帯域を赤外化したもの、誘電体多層膜で反射帯域を赤外化したもの、赤外線を吸収するインク等が用いられる。光学フィルムの温度制御は赤外線照射の強さで制御し、赤外線照射時間や赤外線照射の照度で制御する。光学フィルムの温度は非接触放射温度計や熱電対等を用いてモニターし、狙いの温度で成形することが可能である。

（光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程）
　加熱された光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる方法としては、成形空間の減圧、および／または、加圧が用いられる。また、モールドを押し込む方法を用いることも可能である。

　本工程で使用される成形装置の一つの形態は、上方向に開口部を有するボックス１と、下方向に開口部を有するボックス２からなり、成形空間を形成するために、ボックス１の開口部とボックス２の開口部を直接またはその他の治具を介して合わせることで、密閉された成形空間を形成する。成形空間内には成形される形状のモールド（被着体ともいう）と成形される被成形フィルムが配置される。被成形フィルムは仕切りとして、ボックス１とボックス２からなる成形空間を２つの空間に分ける。モールドは被成形フィルムよりも下側のボックス１側に配置される。さらに真空成形装置は被成形フィルムを加熱するための加熱素子が複数個分散して配置される。加熱素子は成形空間内に配置してもよいし、成形空間外に配置して透明な窓を介して被成形フィルムを加熱照射してもよい。

（光学フィルムを裁断する工程）
　成形した光学フィルムを任意の形状に切り出す方法としては、カッター、ハサミ、カッティングプロッター、および、レーザー裁断機等を用いることができる。

＜位相差分布を発生させない成形方法のコンセプト＞
　平面形状を有する光学フィルムを成形して、上述した非平面の形状を有し、位相差の面内ばらつきが５％未満の光学フィルムを得るためには、成形の際に位相差の面内分布が発生しないことが好ましい。以下では、光学フィルムに含まれる位相差フィルムを一例として、位相差分布を発生させない成形方法のコンセプトについて詳述する。

　上述したように、位相差フィルムを曲面に成形する際に、位相差の面内分布が発生しないことが好ましい。これによって仮想現実表示装置の中のパンケーキレンズに曲面成形した位相差フィルムを用いた場合でもゴーストの発生を抑制することができる。
　位相差フィルムの位相差に面内分布が発生する理由は、場所によって成形後の膜厚ｄが異なるためであり、これによって複屈折Δｎと膜厚ｄの積である位相差Ｒｅが面内分布を有する。膜厚ｄが面内分布を有する理由は、成形時の延伸倍率（直交する２方位の延伸倍率の積）が場所によって異なることに起因する。そのためこの発生を抑制するためには、モールドの曲面に沿った形状となるように変形させながら、直交する２方位の延伸倍率の積が一定となることが必要である。直交する２方位としては、例えば、曲面成形時のモールドの形状の重心位置を点Ｏとし、点Ｏを中心とする円座標系を想定した時に、各点の直径方向（各点の位置と点Ｏとを結ぶ直線が延びる方向）の延伸倍率と円周方向（直径方向と直交する方向）との延伸倍率の積が一定であることが好ましい。ここで一定であるとは、面内ばらつき（％）を｛（最大値－最小値）／平均値｝×１００で表した時に、５％未満であることが好ましく、３％未満であることがより好ましく、１％未満であることがさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０％が挙げられる。
　なお、上記直径方向の延伸倍率、および、上記円周方向の延伸倍率の算出の仕方は、後段で詳述する。

　直径方向の延伸倍率と円周方向の延伸倍率との積のばらつきを５％未満とすることで、膜厚のばらつきを５％未満に抑えることができ、これによって位相差のばらつきを５％未満に抑えることができる。
　さらに、直径方向の延伸倍率と円周方向の延伸倍率との積のばらつきを３％未満とすることで、膜厚のばらつきを３％未満に抑えることができ、これによって位相差のばらつきを３％未満に抑えることができる。
　さらに、直径方向の延伸倍率と円周方向の延伸倍率との積のばらつきを１％未満とすることで、膜厚のばらつきを１％未満に抑えることができ、これによって位相差のばらつきを１％未満に抑えることができる。
　これを実現するための具体的な延伸特性としては、点Ｏから距離が離れるに従って、直径方向の延伸倍率が増加することが好ましい。より好ましくは、点Ｏからの距離をｘとしたときに、直径方向の延伸倍率が下記式に従うことが好ましい。
　直径方向の延伸倍率＝ｐ＊ｘ／Ｒ／ｓｑｒｔ（１－（１－ｐ＊ｘ^２／２／Ｒ^２）^２）
　ここで、＊は積、ｓｑｒｔは平方根を表す。また、ｐは直径方向の延伸倍率と円周方向の延伸倍率との積、Ｒはモールドの曲率半径を表す。

＜モールドの設置方法＞
　モールドを成形装置に設置する方法は特に制限されない。例えば、上述の成形装置の下側のボックス１内に、天板が水平な可動式のステージを設置し、該ステージ上にモールドを設置することができる。この場合、成形装置の内部を真空にした後、可動式ステージを上昇させることによって、被成形フィルムにモールドを押し当てることができる。
　また、ステージ上に設置するモールドは１個であってもよいし、複数個であってもよい。生産性を向上させる観点からは、モールドの面積よりも大きな面積を有する被成形フィルムを用い、複数のモールドを設置して、同時に複数個の成形体を作製することもできる。

＜モールドを把持するための治具＞
　また、ステージ上でモールドが動かないよう、モールドをはめ込むことが可能な窪みを有する治具を用いて、モールドを把持することも好ましい。このようにすることで、ステージ上でモールドが動かないよう、固定することができる。
　また、モールドを把持する治具は、モールドの成形面（被成形フィルムを貼合する面）以外の面を被覆することが好ましい。被成形フィルムがモールドの成形面に加えてモールドの端面をも被覆しようとすると、被成形フィルムが大きく引き伸ばされることになり、フィルムの膜厚や光学特性に著しい不均一をもたらすことがある。そのため、モールドの成形面以外の面を被覆する治具を用いて、成形面以外の面に被成形フィルムが接触することを防止することが好ましい。
　また、治具は、モールドが存在しない部分において、モールドの成形面と同程度の高さ、かつ、水平な面を有するものであることが好ましい。このようにすることで、モールドの成形面以外の部分において被成形フィルムが延伸されることを抑制でき、フィルムの膜厚や光学特性の均一性を向上させることができる。
　また、被成形フィルムをモールドに成形する際、治具およびモールドを設置した可動式のステージを、モールドの成形面の位置が被成形フィルムの位置とおよそ等しい高さになるように、ステージを上昇させ、成形することが好ましい。このようにすることで、治具の端面に被成形フィルムが接触し、フィルムが大きく引き伸ばされることを防止できる。
　上述の治具は、上述のステージと一体となっているものであってもよい。

＜光学フィルムの被着体への貼合方法＞
　光学フィルムを被着体に貼合する方法は特に制限されない。例えば、光学フィルムを上述のいずれかの方法で曲面形状に成形した後、接着剤等を用いてレンズ等の被着体に接着してもよい。
　また、工程を簡略化する観点からは、光学フィルムのモールドに接触する面にあらかじめ粘着シートを貼合しておき、曲面形状に成形すると同時に、モールドの曲面部に貼り合わせることが好ましい。

＜延伸倍率の評価方法＞
　成形方法の場所ごとの延伸倍率を評価するために、例えば、図８に示すようなパターンを成形前のフィルムに描画する。このパターンの１例としては、成形前のフィルムに描かれる内接円（最も半径が大きく描ける円）の半径の１／４間隔で描かれる等間隔の円（例えば、図８においては、実線で示す内接円の半径が２０ｍｍの場合であり、半径５ｍｍ間隔の破線で示す円を描く）と、方位角方向に４５度刻みで等間隔の直線（図８中の直線状の破線）を描く。なお、円の中心が、フィルムの重心に該当する。また、上記直線は、いずれも円の中心をとおる直線である。このパターンの交点の座標を、成形前後で測定し、隣接する交点間の変化率を求めることで、直径方向の延伸倍率を評価することができる。より具体的には、直径方向に位置する２点間の、成形前の２点間の距離をＬ０、成形後の２点間の距離をＬ１とすると、延伸倍率はＬ１／Ｌ０を計算することで得られる。上記手順に従って、３２個のＬ１／Ｌ０を算出し、各点の直径方向の延伸倍率とする。
　また、円の中心に対する各交点の座標を用いることで、円周方向の延伸倍率を評価することができる。より具体的には、成形前の中心からの距離をｒ０、成形後に中心の接平面に平行な平面に射影した時の中心と交点の距離をｒ１とすると、その距離で描いた円の円周長さが２πｒ０から２πｒ１に変化するため、円周方向の延伸倍率はｒ１／ｒ０で求めることができる。ｒ０、ｒ１は、各点のｘｙｚ座標（中心は原点０，０，０）から、ｒ０＝ｓｑｒｔ（ｘ０^２＋ｙ０^２）、ｒ１＝ｓｑｒｔ（ｘ１^２＋ｙ１^２）、で求めることができる。上記手順に従って、ｒ０を適宜変更して、上記直径方向の延伸倍率を求めた３２個の各点でのｒ１／ｒ０を算出し、各点の円周方向の延伸倍率とする。
　上記により算出した３２個の各点での直径方向の延伸倍率と円周方向（直径方向と直交する方向）との延伸倍率との積を算出して、最大値、最小値、および、平均値を求めて、上述した面内ばらつき（％）を算出する。

＜位相差分布を発生させない成形方法１＞
　位相差分布を発生させない成形方法の一例としては、平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程と、加熱された光学フィルムを第一のモールドに押し付け、第一のモールドの形状に沿って変形させる第一の成形工程と、第一の成形工程で成形された光学フィルムを第二のモールドに押し付け、第二のモールドの形状に沿って変形させる第二の成形工程を含む、光学フィルムの成形方法が挙げられる。
　なかでも、上記成形方法において、第一のモールドの形状が凸状の曲面部分を含み、第二のモールドの形状が凹状の曲面部分を含むことが好ましい。
　また、上記成形方法において、第一のモールドの曲率半径が、第二のモールドの曲率半径よりも大きいことが好ましい。
　これによって中心から距離が離れるに従って、直径方向の延伸倍率が増加する成形特性を付与することができる。その結果、直径方向の延伸倍率と円周方向の倍率の積のばらつきを抑えることができ、膜厚ばらつき、位相差ばらつきを抑えることができる。

　以下では、上記方法の好適態様について、より詳細に説明する。
　まず、凹面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する場合において生じる現象について、図９～１１を用いて説明する。図９および１０は、凹面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する際の手順を示し、図１１は成形に使用されるフィルムを示す。
　図９に示すように、凹面形状の成形面を有する成形型２２０上に円形状のフィルム２２２を配置して、図１０に示すように、成形型２２０の成形面に沿うようにフィルム２２２を変形させることにより、凹面形状が転写されたフィルム２２４が得られる。
　通常、このような凹面成形の場合、図９および１１に示す、フィルム２２２の中央部２２２Ｃおよび中央部２２２Ｃを取り囲む周縁部２２２Ｒにおいて延伸倍率の違いが生じる。より具体的には、フィルム２２２の中央部２２２Ｃの方が、フィルム２２２の周縁部２２２Ｒよりも延伸されやすい。結果として、凹面形状が転写されたフィルム２２４において、中央部２２４Ｃの膜厚が周縁部２２４Ｒの膜厚よりも薄くなる。

　次に、凸面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する場合において生じる現象について、図１１～１３を用いて説明する。図１２および１３は、凸面形状の成形面を有する成形型を用いてフィルムを成形する際の手順を示し、図１１は成形に使用されるフィルムを示す。
　図１２に示すように、凸面形状の成形面を有する成形型２２６上に円形状のフィルム２２２を配置して、図１３に示すように、成形型２２６の成形面に沿うようにフィルム２２２を変形させることにより、凸面形状が転写されたフィルム２２８が得られる。
　通常、このような凸面成形の場合、図１１および１２に示す、フィルム２２２の中央部２２２Ｃおよび周縁部２２２Ｒにおいて延伸倍率の違いが生じる。より具体的には、フィルム２２２の周縁部２２２Ｒの方が、フィルム２２２の中央部２２２Ｃよりも延伸されやすい。結果として、凸面形状が転写されたフィルム２２８において、周縁部２２８Ｒの膜厚が中央部２２８Ｃの膜厚よりも薄くなる。

　上記のように、凹面成形の場合、得られるフィルムの中央部の膜厚が周縁部の膜厚よりも薄くなり、凸面成形の場合、得られるフィルムの周縁部の膜厚が中央部の膜厚よりも薄くなる。
　そこで、上述したように、上記成形方法１の好適態様として、凸面形状の成形面を有する成形型を用いて、この成形型の成形面に沿って平面形状の光学フィルムを変形させる工程１Ａと、上記凸面形状の成形面の曲率半径よりも小さい曲率半径の凹面形状の成形面を有する成形型を用いて、工程１Ａによって得られた凸面形状が転写された光学フィルムの上記工程１Ａの成形型と接していた表面とは反対側の表面を上記成形型の成形面側にして、凸面形状が転写された光学フィルムを上記凹面形状の成形面に沿って変形させる工程２Ａとを有する製造方法が挙げられる。

　以下、上記成形方法１の好適態様について図面を用いて説明する。
　成形方法１の好適態様においては、まず、凸面形状の成形面を有する成形型を用いて、この成形型の成形面に沿って平面形状の光学フィルムを変形させる工程１Ａを実施する。本工程を実施することにより、図１４に示すように、凸面形状の成形面を有する成形型２３０上に、凸面形状が転写された光学フィルム２３２が得られる。この光学フィルム２３２においては、上述した図１２および１３を用いて説明したように、光学フィルム２３２の周縁部２３２Ｒの膜厚が中央部２３２Ｃの膜厚よりも薄くなる。
　次に、上記凸面形状の成形面の曲率半径よりも小さい曲率半径の凹面形状の成形面を有する成形型を用いて、工程１Ａによって得られた凸面形状が転写された光学フィルムの上記工程１Ａの成形型と接していた表面とは反対側の表面を上記成形型の成形面側にして、凸面形状が転写された光学フィルムを上記凹面形状の成形面に沿って変形させる工程２Ａを実施する。工程２Ａで使用される凹面形状の成形面を有する成形型２３４の成形面の曲率半径は、工程１Ａで使用される凸面形状の成形面を有する成形型２３０の成形面の曲率半径よりも小さい。工程２Ａにおいては、まず、図１５に示すように、工程１Ａで使用された成形型２３０よりもより曲率半径が小さい成形面を有する成形型２３４上に、工程１Ａで得られた光学フィルム２３２を配置する。なお、光学フィルム２３２を成形型２３４上に配置する際には、光学フィルム２３２の成形型２３０と接していた表面とは反対側の表面が成形型２３４の成形面側になるように配置する。次に、図１６に示すように、光学フィルム２３２を成形型２３４の成形面に沿うように変形させ、曲面形状部を有する光学フィルム２３６が得られる。
　上述した図９および１０を用いて説明したように、凹面成形をする場合、通常、フィルムの中央部の膜厚が周縁部の膜厚よりも薄くなる。そのため、工程２Ａを実施した際には、光学フィルム２３２の中央部２３２Ｃの膜厚の減少分が周縁部２３２Ｒの膜厚の減少分よりも大きい。
　つまり、工程１Ａにおいては、光学フィルムの周縁部の膜厚の減少分が中央部の膜厚の減少分よりも大きく、工程２Ａにおいては、光学フィルムの中央部の膜厚の減少分が周縁部の膜厚の減少分よりも大きいため、工程１Ａおよび工程２Ａを実施すると、中央部および周縁部の膜厚の減少分が同程度となり、結果として、得られる光学フィルム２３６において膜厚の面内のバラツキの発生が抑制される。

　上述したように、工程２Ａで使用される成形型の成形面の曲率半径は、工程１Ａで使用される成形型の成形面の曲率半径よりも小さい。
　工程１Ａで使用される成形型の成形面の曲率半径（ＣＡ１）に対する工程２Ａで使用される成形型の成形面の曲率半径（ＣＡ２）の比（ＣＡ２／ＣＡ１）は、製造したい光学フィルムに合わせて最適な値が選択されるが、０．６～０．９が好ましく、０．７～０．８５がより好ましい。
　なお、工程１Ａで使用される成形型の成形面の位置によって曲率半径が異なる場合には、最小の曲率半径を上記「工程１Ａで使用される成形型の成形面の曲率半径」とする。
　また、工程２Ａで使用される成形型の成形面の位置によって曲率半径が異なる場合には、最小の曲率半径を上記「工程２Ａで使用される成形型の成形面の曲率半径」とする。

［位相差分布を発生させない成形方法２］
　位相差分布を発生させない成形方法の別の一例としては、平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程と、加熱された光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程と、変形された光学フィルムを裁断する工程を含む、光学フィルムの成形方法であって、加熱工程が、光学フィルムに赤外線を照射することで加熱する工程であり、赤外線の照射量が、光学フィルムの面内に分布を有する、光学フィルムの成形方法が挙げられる。
　なかでも、上記成形方法において、モールドが実質的に凹面球状であり、光学フィルムの面の法線方向から光学フィルムの面内の位置をモールドに射影したときに、凹面球状の頂点に位置する光学フィルムに照射される赤外線照射量が、凹面球状の端部に位置する光学フィルムに照射される赤外線照射量より少ないことが好ましい。
　また、上記成形方法において、モールドが実質的に凹面球状であり、光学フィルムの面の法線方向から光学フィルムの面内の位置をモールドに射影したときに、凹面球状の頂点に位置する光学フィルムの温度が、凹面球状の端部に位置する光学フィルムの温度よりも小さいことが好ましい。
　これによって中心から距離が離れるに従って、直径方向の延伸倍率が増加する成形特性を付与することができる。その結果、直径方向の延伸倍率と円周方向の倍率の積のばらつきを抑えることができ、膜厚ばらつき、位相差ばらつきを抑えることができる。

　以下では、上記方法の好適態様について、より詳細に説明する。
　上述したように、凹面形状の成形面を有する成形型を用いる場合、フィルムの中央部の膜厚が周縁部の膜厚よりも薄くなりやすい。
　そこで、上記成形方法２の好適態様においては、図１７および１８に示すように、凹面形状の成形面を有する成形型２４０上に配置された、平面形状の光学フィルム２４２の中央部２４２Ｃの赤外線照射による加熱温度よりも、周縁部２４２Ｒの赤外線照射による加熱温度を高くすることにより、光学フィルム２４２を成形面に沿って変形させる際に、周縁部２４２Ｒが延伸しやすくしている。つまり、上述したように、通常、凹面形状の成形面を有する成形型を用いた成形では中央部の膜厚の減少分が周縁部の膜厚の減少分よりも大きくなるのに対して、中央部と周縁部との加熱条件を変更することにより、中央部をより延びづらく、周縁部をより延びやすくして、中央部での膜厚減少分を抑制しつつ、周縁部での膜厚の減少分を大きくしている。その結果、変形された光学フィルムにおいては膜厚の面内バラツキが抑制される。

　本発明において、第１実施形態～第２実施形態は組み合わせて用いることができる。
　例えば、第１実施形態に係る光学機能性フィルムと、第２実施形態に係る光学フィルムの成形方法とを組み合わせて用いてもよい。一例として、第１実施形態に係る光学機能性フィルムを、第２実施形態に係る成形方法１または成形方法２にて成形して、非平面の形状を有する光学フィルムを製造してもよい。
　上記は、第１実施形態～第２実施形態の組み合わせの一例であり、本発明においては、上記組み合わせには限定されない。

　以下に実施例を挙げて、本発明の特徴をさらに具体的に説明する。なお、以下に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。また、本発明の趣旨を逸脱しない限り、以下に示す構成以外の構成とすることもできる。

＜＜第１実施形態＞＞
〔位相差層１の作製〕
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、重合性基を有する液晶性化合物を含む位相差層形成用塗布液Ａ１を用いて、セルロースアシレートフィルムからなる仮支持体上に逆分散性の位相差層１を作製した。ただし、液晶性化合物を重合するために塗布液Ａ１の塗膜に対して紫外線を照射する際の紫外線の照射量を３００ｍＪ／ｃｍ²から５０ｍＪ／ｃｍ²に変更した。
　得られた位相差層１の位相差は、Ｒｅ＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝７３ｎｍであった。また、位相差層１の液晶性化合物の重合率は、２６％であった。また、位相差層１において、上記液晶性化合物は、一方向に配向していた。
　なお、本実施例において、各光学機能性フィルムまたは各層の位相差は、ＡｘｏＳｃａｎ　ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いる上述の方法により測定した。また、各光学機能性フィルムまたは各層の液晶性化合物の重合率は、赤外分光光度計（ＢＩＯ－ＲＡＤ社製「ＦＴＳ－６０００」）を用いて重合性基に基づく吸収ピークを観測する上述の方法により測定した。
　このようにして作製した位相差層１を、実施例１および２の仮想現実表示装置を製造する際、光学機能性フィルムとして用いた。

〔位相差層２の作製〕
　液晶性化合物を重合するために塗布液Ａ１の塗膜に対して照射する紫外線の照射量を、３００ｍＪ／ｃｍ²に変更した以外は、位相差層１の作製と同様にして、位相差層２を作製した。
　得られた位相差層２の位相差は、Ｒｅ＝１４５ｎｍ、Ｒｔｈ＝７２ｎｍであった。また、位相差層２に含まれる液晶性化合物の重合率は、７３％であり、位相差層２において液晶性化合物は、一方向に配向していた。
　このようにして作製した位相差層２を、比較例１の仮想現実表示装置を製造する際、光学機能性フィルムとして用いた。

〔コレステリック液晶層用塗布液の調製〕
（コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－１）
　下記に示す組成物を、７０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－１を調製した。ここでＲは棒状液晶性化合物を含む塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　１２０．９質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　２１．３質量部
・下記の棒状液晶性化合物の混合物　　　　　　　　　１００．０質量部
・光重合開始剤Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
・下記のカイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
・下記の界面活性剤Ｆ１　　　　　　　　　　　　　　０．０２７質量部
・下記の界面活性剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　０．０６７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－２）
　カイラル剤Ａの添加量を下記表のように変更した以外は、コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－１と同様に、コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－２を調製した。

　表１．棒状液晶性化合物を含有する塗布液のカイラル剤量

　棒状液晶性化合物の混合物

　上記混合物において、数値は質量％である。また、Ｒは酸素原子で結合する基である。さらに、上記の棒状液晶性化合物の波長３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数は、１４０／ｍｏｌ・ｃｍであった。

　カイラル剤Ａ

　界面活性剤Ｆ１

　界面活性剤Ｆ２

　光重合開始剤Ｂ

　カイラル剤Ａは、光によって螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）が減少するカイラル剤である。

（コレステリック液晶層用塗布液Ｄ－１）
　下記に示す組成物を、５０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、コレステリック液晶層用塗布液Ｄ－１を調製した。ここでＤは円盤状液晶性化合物を含む塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　コレステリック液晶層用塗布液Ｄ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶性化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記の円盤状液晶性化合物（Ｂ）　　　　　　　　　　　　２０質量部
・重合性モノマーＥ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・界面活性剤Ｆ４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７）　　　３質量部
・カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．００質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２９０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

（コレステリック液晶層用塗布液Ｄ－２）
　カイラル剤Ａの添加量を下記表２のように変更した以外は、コレステリック液晶層用塗布液Ｄ－１と同様に、コレステリック液晶層用塗布液Ｄ－２を調製した。

　表２．円盤状液晶性化合物を含有する塗布液のカイラル剤量

　円盤状液晶性化合物（Ａ）

円盤状液晶性化合物（Ｂ）

重合性モノマーＥ１

界面活性剤Ｆ４

〔コレステリック液晶層１の作製〕
　仮支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東洋紡株式会社製、Ａ４１００）を用意した。このＰＥＴフィルムは、一方の面に易接着層を有する。

　先に示したＰＥＴフィルムの易接着層が無い面をラビング処理し、上記で調製したコレステリック液晶層用塗布液Ｒ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度４０ｍＷ／ｃｍ²、照射量５０ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、コレステリック液晶層からなる赤色光反射コレステリック液晶層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。このとき、硬化後の赤色光反射コレステリック液晶層の膜厚が４．５μｍとなるように塗布厚みを調整した。
　得られた赤色光反射コレステリック液晶層の液晶性化合物の重合率は、１７％であった。

　次に、赤色光反射コレステリック液晶層の表面に対して、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った表面上にコレステリック液晶層用塗布液Ｄ－１をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に、１１５℃で３分間の加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を４５℃に保持しながら、塗布膜に対して窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（照射量：５０ｍＪ／ｃｍ²）して硬化することで、赤色光反射コレステリック液晶層上に黄色光反射コレステリック液晶層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。このとき、硬化後の黄色光反射コレステリック液晶層の膜厚が３．３μｍとなるように塗布厚みを調整した。
　得られた黄色光反射コレステリック液晶層の液晶性化合物の重合率は、２１％であった。

　次に、黄色光反射コレステリック液晶層上に、コレステリック液晶層用塗布液Ｒ－２をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度４０ｍＷ、照射量５０ｍＪ／ｃｍ²のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、黄色光反射コレステリック液晶層上に緑色光反射コレステリック液晶層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。このとき、硬化後の緑色光反射コレステリック液晶層の膜厚が２．７μｍとなるように塗布厚みを調整した。
　得られた緑色光反射コレステリック液晶層の液晶性化合物の重合率は、１９％であった。

　次に、緑色光反射コレステリック液晶層の表面に対して、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ²でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った表面上にコレステリック液晶層用塗布液Ｄ－２をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を４５℃に保持しながら、塗布膜に対して窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（照射量：５０ｍＪ／ｃｍ²）して硬化することで、緑色光反射コレステリック液晶層上に青色光反射コレステリック液晶層を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。このとき、硬化後の青色光反射コレステリック液晶層の膜厚が２．５μｍとなるように塗布厚みを調整した。
　得られた青色光反射コレステリック液晶層の液晶性化合物の重合率は、２４％であった。
　このようにして、赤色光反射コレステリック液晶層、黄色光反射コレステリック液晶層、緑色光反射コレステリック液晶層および青色光反射コレステリック液晶層がこの順に積層されてなるコレステリック液晶層１（光学機能性フィルム）を得た。

〔光学積層体１の作製〕
　基材として、住化アクリル販売株式会社製のＰＭＭＡフィルム「テクノロイＳ００１（厚さ７５μｍ）」を準備し、上述の仮支持体付き位相差層１を、紫外線硬化型接着剤を用いて基材に貼合した。続いて、仮支持体として用いていたセルロースアシレートフィルムを位相差層１から剥離して除去した。このようにして、位相差層１と基材とを有する光学積層体１を得た。
　なお、上述のｔａｎδの測定方法で測定した結果、上記基材を構成する樹脂のｔａｎδのピーク温度は、１００℃であった。

〔光学積層体２の作製〕
　位相差層１を位相差層２に変えた以外は、光学積層体１の作製方法と同様にして、光学積層体２を得た。

〔光学積層体３の作製〕
　位相差層１をコレステリック液晶層１に変えた以外は、光学積層体１の作製方法と同様にして、光学積層体３を得た。

［実施例１］
　ＨＴＣ社製の仮想現実表示装置「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」を分解し、鏡筒から光学レンズを取り出した。なお、「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」はパンケーキレンズを採用した仮想現実表示装置であり、画像表示装置として、表面に貼合されている偏光板により円偏光を出射する液晶表示装置が用いられていた。
　また、取り出した光学レンズは、片面にハーフミラーコートがなされた両凸レンズ、および、平面に光学積層体が貼合された平凸レンズの２つであった。
　取り出した２つの光学レンズのうち、両凸レンズのハーフミラーコートがなされた面とは反対の面に、上述の光学積層体１を、真空成形法を用いて成形しながら貼り付けて、曲面を含む立体形状に成形した成形体を得た。なお、光学積層体１を両凸レンズに貼り付けるための粘着剤として、リンテック株式会社製の粘着剤「ＮＣＦ－Ｄ６９５」を用いて、厚み５μｍの粘着剤層を形成した。以下、真空成形法を用いる場合には、同様にリンテック株式会社製の粘着剤「ＮＣＦ－Ｄ６９５」を用いて、光学フィルムを曲面上に貼り付けた。
　このようにして得た成形体に、紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射し、位相差層１（λ／４位相差層）、両凸レンズおよびハーフミラーコートをこの順に有する光学部品１を得た。光学部品１において、位相差層１の液晶性化合物の液晶性化合物の重合率は、７８％であった。
　次に、取り出した平凸レンズの平面から、光学積層体を剥離し、代わりに、吸収型偏光子、３Ｍ社製反射型直線偏光子「ＡＰＦ」、および、デクセリアルズ社製反射防止フィルム「ＡＲ１００」をこの順で貼合して、光学積層体付き平凸レンズＡを得た。
　得られた光学部品１、および、光学積層体付き平凸レンズＡを、上記の取り出した両凸レンズおよび平凸レンズに代えて、「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」の鏡筒にそれぞれ組み付けて、実施例１の仮想現実表示装置を作製した。

［実施例２］
　ＨＴＣ社製の仮想現実表示装置「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」を分解し、上記の２つの光学レンズを取り出した。
　取り出した２つの光学レンズのうち、光学積層体が貼合されている平凸レンズに代わる光学レンズとして、凸面側の曲率半径６５ｍｍ、直径５０ｍｍ、焦点距離１２５ｍｍの平凸レンズ１を準備した。平凸レンズ１の凸面側に、吸収型偏光子、上述の光学積層体１、および、上述の光学積層体３を、この順序で、真空成形法を用い成形しながら貼り付けて、曲面を含む立体形状に成形した成形体を得た。
　次に、得られた成形体を１１０℃で３０秒間加熱し、位相差層１およびコレステリック液晶層のそれぞれに含まれる液晶性化合物を配向させる配向処理を行った後、さらに位相差層１およびコレステリック液晶層に対して紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ²の強度で照射し、光学部品２を得た。得られた光学部品２は、平凸レンズ、吸収型偏光子、位相差層１（λ／４位相差層）、および、コレステリック液晶層１（反射型円偏光子）をこの順に有していた。光学部品２における位相差層１の液晶性化合物の重合率は、光学部品２から光学積層体１の一部を剥離して測定した結果、７３％であった。同様に、コレステリック液晶層１の液晶性化合物の重合率は、６５％であった。
　得られた光学部品２を、上記の取り出した平凸レンズに代えて「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」の鏡筒に組み付けるとともに、上記の取り出した両凸レンズを再び「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」の鏡筒に組み付けて、実施例２の仮想現実表示装置を作製した。

［比較例１］
　ＨＴＣ社製の仮想現実表示装置「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」を分解し、上記の２つの光学レンズを取り出した。
　取り出した２つの光学レンズのうち、両凸レンズのハーフミラーコートがなされた面とは反対の面に、上述の光学積層体２を、真空成形法を用いて成形しながら貼り付けて、曲面を含む立体形状に成形した成形体を得た。このようにして得た成形体を、光学部品３とした。光学部品３においては、位相差層２の一部が破断していた。
　次に、取り出した平凸レンズの平面から、光学積層体を剥離し、代わりに、吸収型偏光子、３Ｍ社製反射型直線偏光子「ＡＰＦ」、および、デクセリアルズ社製反射防止フィルム「ＡＲ１００」をこの順で貼合して、光学積層体付き平凸レンズＡを得た。
　得られた光学部品３、および、光学積層体付き平凸レンズＡを、上記の取り出した両凸レンズおよび平凸レンズに代えて、「ＶＩＶＥ　ＦＬＯＷ」の鏡筒にそれぞれ組み付けて、比較例１の仮想現実表示装置を作製した。

［評価］
＜光学積層体の位相差の評価＞
　作製した実施例１～２および比較例１における光学部品の位相差を、ＡｘｏＳｃａｎ　ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いて測定した。位相差は、各光学部品が有する光学レンズ（両凸レンズまたは平凸レンズ）の中央から半径１５ｍｍの位置で、方位角４５°ごとに測定し、上述の位相差層１または位相差層２の位相差からの、Ｒｅのずれ量が最大となる値を記録した。なお、実施例２の光学部品２に関しては、光学積層体３に用いたコレステリック液晶層１が反射率をもたない波長５００ｎｍで位相差を測定した。その他の光学積層体は、波長５５０ｎｍで位相差を測定した。
　各光学部品の位相差の測定結果を、表１に示す。

＜漏れ光の評価＞
　作製した実施例１～２および比較例１の仮想現実表示装置において、画像表示装置に白黒のチェッカーパターンを表示させ、目視にて、漏れ光の程度を下記三段階で評価した。なお、漏れ光があると、二重像が視認され、該当部分のコントラストが低下する。
Ａ；二重像がほとんど見えない。
Ｂ；二重像が僅かに見えるが気にならない。
Ｃ；二重像がはっきり見える。
　漏れ光の評価結果を、表１に示す。

＜表示の均一性の評価＞
　作製した実施例１～２および比較例１の仮想現実表示装置において、画像表示装置に白黒のチェッカーパターンを表示させ、目視にて、表示の均一性を下記三段階で評価した。
Ａ；全面にわたり均一な表示である。
Ｂ；画像の一部が不均一に歪んでいる。
Ｃ；画像の大部分が歪んでいる。
　表示の均一性の評価結果を、表３に示す。

　表３．実施例、比較例の仮想現実表示装置の評価結果

　表３からわかるように、実施例１および２の光学部品は、位相差層１の面内でのＲｅのずれが小さく抑えられており、それにより、第１実施形態の仮想現実表示装置は、比較例に比べて、漏れ光が効果的に低減され、二重像の発生およびコントラストの低下が抑制されていることが確認された。
　また、実施例１および２の光学部品を用いた仮想現実表示装置は、画像の表示が全面で均一であったが、比較例１の光学部品を用いた仮想現実表示装置は、光学部品に用いた位相差層１が破断したことにより、画像の大部分が歪んでいた。

　以上、本発明の第１実施形態の仮想現実表示装置について詳細に説明したが、本発明は、上述の例に制限はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良および変更を行ってもよいのは、もちろんである。

＜＜第２実施形態＞＞
＜位相差フィルム１１の作製＞
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、重合性基を有する液晶化合物を含む位相差層形成用塗布液を用いて、逆分散性の位相差フィルム１１を作製した。位相差フィルム１１の位相差は、Ｒｅ＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝７３ｎｍであった。なお、位相差の評価には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いた。また、Ｒｅの面内ばらつきは０．７％だった。位相差フィルム１１の塗膜の膜厚は２．５μｍであった。また、塗膜の膜厚の面内ばらつきは０．７％だった。ここで、塗膜の膜厚の評価にはＳＥＭを用いた。また、位相差フィルム１１において、上記液晶化合物は、一方向に配向していた。
　なお、Ｒｅの面内ばらつき、および、膜厚の面内ばらつきは、以下のように測定した。
　まず、位相差フィルム１１の中心（重心に該当）を中心とした円を描く。その際、最も半径が大きく描ける内接円を第１円として、第１円の半径の半分の大きさの円を第２円とする。また、上記位相差フィルム１１の中心を通り、面内方向の一方向に延びる直線を第１直線とし、上記中心を通り、第１直線を時計回りに４５°回転してなる直線を第２直線とし、上記中心を通り、第２直線を時計回りに４５°回転してなる直線を第３直線とし、上記中心を通り、第３直線を時計回りに４５°回転してなる直線を第４直線とする。
　次に、上記位相差フィルム１１の中心での膜厚および面内レタデーション、第１直線と第１円との２つの交点での膜厚および面内レタデーション、第１直線と第２円との２つの交点での膜厚および面内レタデーション、第２直線と第１円との２つの交点での膜厚および面内レタデーション、第２直線と第２円との２つの交点での膜厚および面内レタデーション、第３直線と第１円との２つの交点での膜厚および面内レタデーション、第３直線と第２円との２つの交点での膜厚および面内レタデーション、第４直線と第１円との２つの交点での膜厚および面内レタデーション、および、第４直線と第２円との２つの交点での膜厚および面内レタデーションをそれぞれ測定する。これら１７点の測定値の平均値、最大値、および、最小値から、面内ばらつき（Ｒｅの面内ばらつき、および、膜厚の面内ばらつき）を算出した。具体的には、得られた測定値のうち、最大値、最小値、および、平均値をそれぞれ求め、以下の式より算出されるＲｅの面内ばらつき（％）および膜厚の面内ばらつき（％）をそれぞれ算出した。
　式　　面内ばらつき（％）＝｛（最大値－最小値）／平均値｝×１００
　例えば、膜厚の面内ばらつきを算出する際には、１７点の膜厚の測定値の平均値、最大、および、最小値をそれぞれ算出し、上記式に各値を代入する。

＜位相差フィルム１２の作製＞
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、重合性基を有する液晶化合物を含む位相差層形成用塗布液を用いて、逆分散性の位相差フィルム１２を作製した。ただし、液晶化合物を硬化する際、紫外線の照射量は、３００ｍＪ／ｃｍ^２から５０ｍＪ／ｃｍ^２に変更した。また、位相差フィルム１２において、上記液晶化合物は、一方向に配向していた。
　得られた位相差フィルム１２は、Ｒｅ＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝７３ｎｍであった。またＲｅの面内ばらつきは０．７％だった。位相差フィルム１２の塗膜の膜厚は２．５μｍであった。また塗膜の膜厚の面内ばらつきは０．７％だった。ここで、塗膜の膜厚の評価にはＳＥＭを用いた。また、液晶化合物の重合率は、２６％であった。
　Ｒｅの面内ばらつき（％）および膜厚の面内ばらつき（％）は、上記〔位相差フィルム１の作製〕で実施した手順と同様の手順によって算出した。
　重合率は、上述した第１実施形態に記載される方法で測定した。

＜反射円偏光子１１の作製＞
〔反射層用塗布液Ｒ－１〕
　下記に示す組成物を、７０℃に保温された容器中にて、攪拌および溶解させ、反射層用塗布液Ｒ－１を調製した。ここでＲは棒状液晶化合物を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　反射層用塗布液Ｒ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　１２０．９質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　２１．３質量部
・下記の棒状液晶化合物の混合物　　　　　　　　　　１００．０質量部
・光重合開始剤Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
・下記のカイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　３．４５質量部
・下記の界面活性剤　Ｆ１　　　　　　　　　　　　　０．０２７質量部
・下記の界面活性剤　Ｆ２　　　　　　　　　　　　　０．０６７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　棒状液晶化合物の混合物

　上記混合物において、数値は質量％である。また、Ｒは酸素原子で結合する基である。さらに、上記の棒状液晶の波長３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数は、１４０／ｍｏｌ・ｃｍであった。

　カイラル剤Ａ

　界面活性剤Ｆ１

　界面活性剤Ｆ２

　光重合開始剤Ｂ

　カイラル剤Ａは、光によって螺旋誘起力（ＨＴＰ：Ｈｅｌｉｃａｌ　Ｔｗｉｓｔｉｎｇ　Ｐｏｗｅｒ）が減少するカイラル剤である。

〔反射層用塗布液Ｒ－２〕
　カイラル剤Ａの添加量を後段に示す表４のように変更した以外は、反射層用塗布液Ｒ－１と同様に調製した。

　表４．　棒状液晶化合物を含有する塗布液のカイラル剤量

〔反射層用塗布液Ｄ－１〕
　下記に示す組成物を、５０℃に保温された容器中にて、攪拌および溶解させ、反射層用塗布液Ｄ－１を調製した。ここでＤは円盤状液晶を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　反射層用塗布液Ｄ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記の円盤状液晶化合物（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　２０質量部
・重合性モノマーＥ１　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・界面活性剤Ｆ４　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７）　　　３質量部
・上記カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　４．４８質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２９０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　円盤状液晶化合物（Ａ）

　円盤状液晶化合物（Ｂ）

　重合性モノマーＥ１

　界面活性剤Ｆ４

〔反射層用塗布液Ｄ－２〕
　カイラル剤Ａの添加量を下記表５のように変更した以外は、反射層用塗布液Ｄ－１と同様に調製した。

　表５．　円盤状液晶化合物を含有する塗布液のカイラル剤量

〔反射円偏光子１１の作製〕
　仮支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東洋紡（株）製、Ａ４１００）を用意した。このＰＥＴフィルムは、一方の面に易接着層を有する。

　先に示したＰＥＴフィルムの易接着層が無い面をラビング処理し、上記で調製した反射層用塗布液Ｒ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、コレステリック液晶層からなる黄色光反射層（第一の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。このとき、硬化後の黄色光反射層の膜厚が２．５μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、黄色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に、反射層用塗布液Ｄ－１をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）して硬化することで、黄色光反射層上に緑色光反射層（第二の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の緑色光反射層の膜厚が２．４μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、緑色光反射層上に、反射層用塗布液Ｒ－２をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で１２０秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、緑色光反射層上に赤色光反射層（第三の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の赤色光反射層の膜厚が２．４μｍとなるように塗布厚みを調整した。

　次に、赤色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に反射層用塗布液Ｄ－２をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）して硬化することで、赤色光反射層上に青色光反射層（第四の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の青色光反射層の膜厚が２．６μｍとなるように塗布厚みを調整した。
　これにより反射円偏光子１１を作製した。反射円偏光子１１の作製に用いた反射層用塗布液、反射中心波長および膜厚を表６に示す。

＜ポジティブＣプレート１１の作製＞
　特開２０１６－０５３７０９号公報の段落０１３２～０１３４に記載の方法を参照し、膜厚を調整して、ポジティブＣプレート１１を作製した。ポジティブＣプレート１１は、Ｒｅ＝０．２ｎｍ、Ｒｔｈ＝－３１０ｎｍであった。

＜位相差層１１の作製＞
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、重合性基を有する液晶化合物を含む位相差層形成用塗布液を用いて、逆分散性の位相差層１１を作製した。位相差層１１は、Ｒｅ＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝７３ｎｍであった。位相差層１１の位相差は、Ｒｅ＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝７３ｎｍであった。なお、位相差の評価には、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用いた。またＲｅの面内ばらつきは０．７％だった。位相差層１１の膜厚は２．５μｍであった。また、位相差層１において、上記液晶化合物は、一方向に配向していた。また膜厚の面内ばらつきは０．７％だった。ここで、膜厚の評価にはＳＥＭを用いた。
　Ｒｅの面内ばらつき（％）および膜厚の面内ばらつき（％）は、上記〔位相差フィルム１１の作製〕で実施した手順と同様の手順によって算出した。

＜位相差層１２の作製＞
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、重合性基を有する液晶化合物を含む位相差層形成用塗布液を用いて、逆分散性の位相差層１２を作製した。ただし、液晶化合物を硬化する際、紫外線の照射量は、３００ｍＪ／ｃｍ^２から５０ｍＪ／ｃｍ^２に変更した。また、位相差層１２において、上記液晶化合物は、一方向に配向していた。
　得られた位相差層１２は、Ｒｅ＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ＝７３ｎｍであった。また、Ｒｅの面内ばらつきは０．７％だった。位相差層１２の塗膜の膜厚は２．５μｍであった。また、塗膜の膜厚の面内ばらつきは０．７％だった。ここで、塗膜の膜厚の評価にはＳＥＭを用いた。また、液晶化合物の重合率は、２６％であった。
　Ｒｅの面内ばらつき（％）および膜厚の面内ばらつき（％）は、上記〔位相差フィルム１１の作製〕で実施した手順と同様の手順によって算出した。
　重合率は、上述した第１実施形態に記載される方法で測定した。

＜直線偏光子の作製＞
（セルロースアシレートフィルム１１の作製）
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　化合物Ｆ

　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

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マット剤溶液
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）　　 　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶剤）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１１の面内レタデーションは０ｎｍであった。

（光配向層ＰＡ１の形成）
　後述する配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成した。膜厚は０．３μｍであった。

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（配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１）
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下記記重合体Ｍ－ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
下記酸発生剤ＰＡＧ-1　　　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　　０．００５質量部
キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２２０．００質量部
メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　　１２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　重合体Ｍ－ＰＡ－１

　酸発生剤ＰＡＧ－１

　酸発生剤ＣＰＩ－１１０Ｆ

（光吸収異方性層Ｐ１の形成）
　得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用塗布液Ｓ－Ｐ－１をワイヤーバーで連続的に塗布した。次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を形成した。膜厚は１．６μｍであった。

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光吸収異方性層形成用塗布液Ｓ－Ｐ－１の組成
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・下記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．５９質量部
・下記高分子液晶化合物Ｍ－Ｐ－１　　　　　　　　　２．２１質量部
・下記低分子液晶化合物Ｍ－１　　　　　　　　　　　１．３６質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ-０２（ＢＡＳＦ社製）　 ０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－１　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　二色性物質Ｄ－１

　二色性物質Ｄ－２

　二色性物質Ｄ－３

　高分子液晶化合物Ｍ－Ｐ－１

　低分子液晶化合物Ｍ－１

　界面活性剤Ｆ－１

＜積層光学体１１の作製＞
　反射円偏光子１１の転写は、以下の手順により行った。得られたポジティブＣプレート１１の支持体側に、得られた反射円偏光子１１を転写した。この際、反射円偏光子１１の仮支持体側の層（第一の光反射層）がポジティブＣプレート１１側になるように、一度、粘着性層を有する仮支持体に転写して仮支持体側の層を露出させた後、ポジティブＣプレート１１に貼合した。反射円偏光子１１の仮支持体は、貼合後に剥離して取り除いた。得られたポジティブＣプレート１１の支持体の反対側に、得られた位相差層１１を貼合した。次に、光吸収異方性層Ｐ１を転写した。この際、光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体とは反対側の層が位相差層１１側になるように転写した。光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体は、転写後に剥離して取り除いた。光吸収異方性層Ｐ１の転写は、以下の手順により行った。
（１）ポジティブＣプレート１１の支持体側に、ＵＶ接着剤ケミシールＵ２０８４Ｂ（ケミテック株式会社製、硬化後屈折率ｎ：１．６０）をワイヤーバーコーターで厚み２μｍとなるように塗布した。その上に光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体の反対側がＵＶ接着剤と接するように、ラミネーターで貼り合わせた。
（２）パージボックスのなかで酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になるまで窒素パージした後、光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体側から高圧水銀ランプの紫外線を照射して硬化した。照度は２５ｍＷ／ｃｍ^２、照射量は１０００ｍＪ／ｃｍ^２だった。
（３）最後に光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体を剥離した。
　ただし、位相差層１１の遅相軸と、光吸収異方性層Ｐ１の吸収軸とが４５°をなすように積層した。最後にポジティブＣプレート１１の支持体を剥離した。次に、光吸収異方性層Ｐ１に位相差層１１、反射防止フィルムをこの順で貼合した。このようにして、円偏光反射偏光子である反射円偏光子１１を用いた積層光学体１を得た。

＜積層光学体１２の作製＞
　直線偏光型反射偏光子として広帯域誘電体多層膜（３Ｍ社商標名ＡＰＦ）を用いた。ＡＰＦの一方の面に、位相差層１１、および、ポジティブＣプレート１１をこの順で貼合した。また、反対側の面に、光吸収異方性層Ｐ１を上記積層光学体１１と同じ手順で転写した。次に光吸収異方性層Ｐ１に、位相差層１１、および、反射防止フィルムを貼合した。このようにして、直線偏光型反射偏光子を用いた積層光学体２を作製した。

＜積層光学体１３の作製＞
　直線偏光型反射偏光子として広帯域誘電体多層膜（３Ｍ社商標名ＡＰＦ）を用いた。ＡＰＦの一方の面に、光吸収異方性層Ｐ１を上記積層光学体１１と同じ手順で転写した。次に光吸収異方性層Ｐ１に、位相差層１１、および、反射防止フィルムを貼合した。このようにして、直線偏光型反射偏光子を用いた積層光学体１３を作製した。また、反対側の面に、位相差層１２、ポジティブＣプレート１１をこの順で、それぞれリンテック社製粘着シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（５）」を介して貼合した。

＜レンズへのハーフミラーの形成＞
　レンズ（Ｔｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ））の凸面側に、反射率が４０％となるようにアルミ蒸着を施し、ハーフミラーを形成した。

＜実施例１１、１２＞
（成形方法１）
　位相差フィルム１１を、リンテック社製粘着シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（５）」を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、成形装置にセットした。この時、ＰＭＭＡフィルム側が下側に来るように配置した。成形装置内の成形空間は位相差フィルム１１で仕切られたボックス１とボックス２からなり、位相差フィルム１１の下側にあるボックス１に、モールドとしてＥｄｍｕｎｄ　Ｏｐｔｉｃｓ社製＃３２―９７４（直径２インチ、曲率半径７８ｍｍの凸レンズ）を凸面が上になるように配置した。また、位相差フィルム１１の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に位相差フィルム１１を加熱するためのＩＲ光源を設置した。次に、真空ポンプでボックス１内、ボックス２内をそれぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。次に、位相差フィルム１１を加熱する工程として、赤外線を照射し、位相差フィルム１１の温度が１０８℃となるまで加熱した。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転位温度Ｔｇは１０５℃であるため、成形中、フィルムが伸びやすい状態になることを狙った。次に、位相差フィルム１１をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、位相差フィルム１１をモールドに圧着させた。最後に位相差フィルム１１を、モールドであるレンズから取り外した。これにより非平面状に成形された位相差フィルム１１を得た。
　次に、非平面状に成形された位相差フィルム１１を、最初の成形とは上下を逆向きにして、ＰＭＭＡフィルム側が上側に来るように成形装置にセットした。この時、最初の成形による位相差フィルム１１内の非平面状に成形された領域は下側に出っ張っていた。位相差フィルム１１内の非平面状に成形された領域の丁度真下に、モールドとして凸面側にアルミ蒸着を施したＴｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。次に、真空ポンプでボックス１内、ボックス２内をそれぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。次に、位相差フィルム１１を加熱する工程として、赤外線を照射し、位相差フィルム１１の温度が１０８℃となるまで加熱した。次に、位相差フィルム１１をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、位相差フィルム１１をモールドに圧着させた。最後に位相差フィルム１１を、モールドであるレンズから取り外した。これにより、成形方法１によって曲面に成形された位相差フィルム１１を実施例１１として得た。

（成形方法２）
　位相差フィルム１１を、リンテック社製粘着シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（５）」を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、成形装置にセットした。成形装置内の成形空間は位相差フィルム１１で仕切られたボックス１とボックス２からなり、位相差フィルム１１の下側にあるボックス１に、モールドとして凸面側にアルミ蒸着を施したＴｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。また位相差フィルム１１の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に位相差フィルム１１を加熱するためのＩＲ光源を設置した。ＩＲ光源と位相差フィルム１１の間に、波長２．２μｍから波長３．０μｍの赤外線を反射率約５０％で反射するコレステリック液晶層を、直径１インチの円形状に切り抜くことで得た円形のパターン赤外線反射フィルターを配置した。この際、真上から見たときに、パターン赤外線反射フィルターの中心部が、モールドの中心部に来るように配置した。次に、真空ポンプでボックス１内、ボックス２内をそれぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。次に、位相差フィルム１１を加熱する工程として、赤外線を照射し、位相差フィルム１１の中心部が９９℃、端部が１０８℃となるまで加熱した。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転位温度Ｔｇは１０５℃であるため、成形中、中心部が伸びにくく、端部が伸びやすい状態になることを狙った。次に、位相差フィルム１１をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、位相差フィルム１１をモールドに圧着させた。最後に位相差フィルム１１を、モールドであるレンズから取り外した。これにより、成形方法２によって曲面に成形された位相差フィルム１１を実施例１２として得た。
　なお、上記成形方法２においては、直径方向の延伸倍率が、中心から遠ざかるに従って大きくなった。

＜実施例１５、１６＞
（成形方法３）
　位相差フィルム１２を、リンテック社製粘着シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（５）」を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、成形装置にセットした。この時、ＰＭＭＡフィルム側が下側に来るように配置した。成形装置内の成形空間は位相差フィルム１２で仕切られたボックス１とボックス２からなり、位相差フィルム１２の下側にあるボックス１に、モールドとしてＥｄｍｕｎｄ　Ｏｐｔｉｃｓ社製＃３２―９７４（直径２インチ、曲率半径７８ｍｍの凸レンズ）を凸面が上になるように配置した。また位相差フィルム１２の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に位相差フィルム１２を加熱するためのＩＲ光源を設置した。次に、真空ポンプでボックス１内、ボックス２内をそれぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。次に、位相差フィルム１２を加熱する工程として、赤外線を照射し、位相差フィルム１２の温度が１０８℃となるまで加熱した。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転位温度Ｔｇは１０５℃であるため、成形中、フィルムが伸びやすい状態になることを狙った。次に、位相差フィルム１２をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、位相差フィルム１２をモールドに圧着させた。最後に位相差フィルム１２を、モールドであるレンズから取り外した。これにより非平面状に成形された位相差フィルム１２を得た。
　次に、非平面状に成形された位相差フィルム１２を、最初の成形とは上下を逆向きにして、ＰＭＭＡフィルム側が上側に来るように成形装置にセットした。この時、最初の成形による位相差フィルム１２内の非平面状に成形された領域は下側に出っ張っていた。位相差フィルム１２内の非平面状に成形された領域の丁度真下に、モールドとして凸面側にアルミ蒸着を施したＴｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。次に、真空ポンプでボックス１内、ボックス２内をそれぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。次に、位相差フィルム１２を加熱する工程として、赤外線を照射し、位相差フィルム１２の温度が１０８℃となるまで加熱した。次に、位相差フィルム１２をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、位相差フィルム１２をモールドに圧着させた。次に、位相差フィルム１２を圧着させたモールドを１１０℃で３０秒間加熱し、配向処理を行い、さらに紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２の強度で照射し、硬化を行った。位相差フィルム１２の液晶層の重合率をＡＴＲ法で測定した結果、重合率は７８％だった。最後に位相差フィルム１２を、モールドであるレンズから取り外した。これにより、成形方法３によって曲面に成形された位相差フィルム１２を実施例１５として得た。

（成形方法４）
　位相差フィルム１２を、リンテック社製粘着シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（５）」を介してＰＭＭＡフィルムに貼合し、成形装置にセットした。成形装置内の成形空間は位相差フィルム１２で仕切られたボックス１とボックス２からなり、位相差フィルム１２の下側にあるボックス１に、モールドとして凸面側にアルミ蒸着を施したＴｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。また位相差フィルム１２の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に位相差フィルム１２を加熱するためのＩＲ光源を設置した。ＩＲ光源と位相差フィルム１２の間に、波長２．２μｍから波長３．０μｍの赤外線を反射率約５０％で反射するコレステリック液晶層を、直径１インチの円形状に切り抜くことで得た円形のパターン赤外線反射フィルターを配置した。この際、真上から見たときに、パターン赤外線反射フィルターの中心部が、モールドの中心部に来るように配置した。次に、真空ポンプでボックス１内、ボックス２内をそれぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。次に、位相差フィルム１２を加熱する工程として、赤外線を照射し、位相差フィルム１２の中心部が９９℃、端部が１０８℃となるまで加熱した。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転位温度Ｔｇは１０５℃であるため、成形中、中心部が伸びにくく、端部が伸びやすい状態になることを狙った。次に、位相差フィルム１２をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、位相差フィルム１２をモールドに圧着させた。次に、位相差フィルム１２を圧着させたモールドを１１０℃で３０秒間加熱し、配向処理を行い、さらに紫外線を３００ｍＪ／ｃｍ^２の強度で照射し、硬化を行った。位相差フィルム１２の液晶層の重合率をＡＴＲ法で測定した結果、重合率は７８％だった。最後に位相差フィルム１２を、モールドであるレンズから取り外した。これにより、成形方法４によって曲面に成形された位相差フィルム１２を実施例１６として得た。

＜成形した位相差フィルムの評価＞
　実施例１１の曲面に成形した位相差フィルム１１の位相差は、Ｒｅ＝１４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝７０ｎｍであった。またＲｅの面内ばらつきは２．７％だった。実施例１１の曲面に成形した位相差フィルム１１の膜厚は、２．４μｍであった。また膜厚の面内ばらつきは３．０％だった。これにより、成形方法１１によって曲面に成形した位相差フィルム１１は、位相差、膜厚ともに、面内ばらつきが約２％増加したことを確認した。
　実施例１１の曲面に成形した位相差フィルム１１の直径方向の延伸倍率と円周方向（直径方向と直交する方向）の延伸倍率の積の面内ばらつきは２．１％だった。
　上記Ｒｅの面内ばらつき、および、上記膜厚の面内ばらつきは、上述した方法（上記特定方法１、および、上記特定方法２）にて測定した。

　実施例１２の曲面に成形した位相差フィルム１１の位相差は、Ｒｅ＝１４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝７０ｎｍであった。またＲｅの面内ばらつきは３．３％だった。実施例１２の曲面に成形した位相差フィルム１１の膜厚は、２．４μｍであった。また、膜厚の面内ばらつきは３．２％だった。これにより、成形方法２によって曲面に成形した位相差フィルム１１は、位相差および膜厚ともに、面内ばらつきが約２．５％増加したことを確認した。
　実施例１２の曲面に成形した位相差フィルム１１の直径方向の延伸倍率と円周方向（直径方向と直交する方向）の延伸倍率の積の面内ばらつきは２．５％だった。
　上記Ｒｅの面内ばらつき、および、上記膜厚の面内ばらつきは、上述した方法（上記特定方法１、および、上記特定方法２）にて測定した。

　実施例１５の曲面に成形した位相差フィルム１２の位相差は、Ｒｅ＝１４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝７０ｎｍであった。また、Ｒｅの面内ばらつきは２．５％だった。実施例１５の曲面に成形した位相差フィルム１２の膜厚は、２．４μｍであった。また、膜厚の面内ばらつきは３．２％だった。これにより、成形方法３によって曲面に成形した位相差フィルム１２は、位相差の面内ばらつきが約１．８％増加したことを確認した。また、膜厚の面内ばらつきが約２．５％増加したことを確認した。
　実施例１５の曲面に成形した位相差フィルム１２の直径方向の延伸倍率と円周方向（直径方向と直交する方向）の延伸倍率の積の面内ばらつきは２．５％だった。

　実施例１６の曲面に成形した位相差フィルム１２の位相差は、Ｒｅ＝１４０ｎｍ、Ｒｔｈ＝７０ｎｍであった。またＲｅの面内ばらつきは２．５％だった。実施例１６の曲面に成形した位相差フィルム１２の膜厚は、２．４μｍであった。また、膜厚の面内ばらつきは３．２％だった。これにより、成形方法４によって曲面に成形した位相差フィルム１２は、位相差の面内ばらつきが約１．８％増加したことを確認した。また、膜厚の面内ばらつきが約２．５％増加したことを確認した。
　実施例１６の曲面に成形した位相差フィルム１２の直径方向の延伸倍率と円周方向（直径方向と直交する方向）の延伸倍率の積の面内ばらつきは２．５％だった。

＜実施例１３、１４＞
　積層光学体１１は成形方法１と同様の手順で成形した。なお、積層光学体１１は粘着シートを介してモールドに貼られ、最後に積層光学体１１を、モールドであるレンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形された積層光学体１１がレンズに貼合された複合レンズ１１を得た。
　積層光学体１２は成形方法１と同様の手順で成形した。なお、積層光学体１２は粘着シートを介してモールドに貼られ、最後に積層光学体１２を、モールドであるレンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形された積層光学体１２がレンズに貼合された複合レンズ１２を得た。

＜実施例１７、１８＞
　積層光学体１３を成形方法３と同様の手順で成形した。なお、積層光学体１３は粘着シートを介してモールドに貼られ、最後に積層光学体１３を、モールドであるレンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形された積層光学体１３がレンズに貼合された複合レンズ１３を得た。
　積層光学体１３を成形方法４と同様の手順で成形した。なお、積層光学体１３は粘着シートを介してモールドに貼られ、最後に積層光学体１３を、モールドであるレンズからはみ出した部分を裁断して切り出すことで、曲面に成形された積層光学体１３がレンズに貼合された複合レンズ１４を得た。

＜仮想現実表示装置の作製＞
　往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ　ＶＲ　Ｇｌａｓｓ」を分解し、複合レンズを全て取り出した。代わりに積層光学体１１を貼合した複合レンズ１１を本体に組み込み、さらに複合レンズ１１と目の間に積層光学体の光吸収異方性層Ｐ１側が目側に来るように設置することで、実施例１３の仮想現実表示装置を作製した。作製した仮想現実表示装置において、画像表示パネルに白黒のチェッカーパターンを表示させ、ゴースト視認性を目視にて、下記四段階で評価した。

（ゴーストの評価）
ＡＡ；ほぼ見えない
Ａ；僅かに見えるが気にならない。
Ｂ；弱いゴーストが見える。
Ｃ；やや強いゴーストが見える。
Ｄ；強いゴーストが見える。
　さらに、実施例１４、１７、１８の仮想現実表示装置を同様の手順で作製し、ゴースト視認性の評価を行った。各実施例で用いた成形方法および光学フィルムの種類を表７に示す。またその評価結果を表８に示す。
　その結果、実施例１３、１４、１７、１８の仮想現実表示装置においては全視野領域にわたって、ゴーストが良好だった。また白黒のチェッカーパターンの白部の色の変化が気にならなかった。

表７.　実施例に用いた成形方法および光学フィルムの種類

表８.　実施例の評価結果

　１０，２０　仮想現実表示装置
　１１，１２，１３，１４　λ／４位相差層
　２１，２２　吸収型直線偏光子
　３０　ハーフミラー
　３４，３６　レンズ基材
　４０　反射型円偏光子
　４２　反射型直線偏光子
　５０，５１，５２　反射防止層
　７０　画像表示パネル
　７２　画像表示装置
　８０，８２　光学機能層付き平凸レンズ
　９０，９２　光学機能層付き両凸レンズ
　１００，１００Ｂ　積層光学体
　１０１　コレステリック液晶層
　１０２　ポジティブＣプレート
　１０３　位相差層
　１０４　直線偏光子
　１０５　位相差層
　１０６　反射防止フィルム
　１１１　ポジティブＣプレート
　１１２　位相差層
　１１３　直線偏光型反射偏光子
　１１４　直線偏光子
　１１５　位相差層
　１１６　反射防止フィルム
　１３１　第一の光反射層
　１３２　第二の光反射層
　１３３　第三の光反射層
　１３４　第四の光反射層
　２００　レンズ
　２２０，２３４，２４０　　凹面形状の成形面を有する成形型
　２２２　　フィルム
　２２４　　凹面形状が転写されたフィルム
　２２６，２３０　　凸面形状の成形面を有する成形型
　２２８　　凸面形状が転写されたフィルム
　２３２　　凸面形状が転写された光学フィルム
　２３６　　曲面形状部を有する光学フィルム
　２４２　　平面形状の光学フィルム
　３００　ハーフミラー
　４００　反射円偏光子
　５００　画像表示パネル
　１０００　虚像を形成する光線
　２０００　ゴーストを形成する光線

Claims (25)

1. 　少なくとも重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物を形成してなる、光学機能性フィルムであって、前記液晶性化合物の重合率が、４０％以下である、光学機能性フィルム。
2. 　前記液晶性化合物が、一方向に配向している、請求項１に記載の光学機能性フィルム。
3. 　前記液晶性化合物が、螺旋配向している、請求項１に記載の光学機能性フィルム。
4. 　請求項１～３のいずれか一項に記載の光学機能性フィルムと、
   　ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である樹脂からなる基材フィルムとを有する、光学積層体。
5. 　請求項１～３のいずれか一項に記載の光学機能性フィルム、または、請求項１～３のいずれか一項に記載の光学機能性フィルムおよび基材フィルムを有する光学積層体が、曲面を含む立体形状に成形されてなる成形体。
6. 　請求項５に記載の成形体に対して、加熱処理および紫外線照射からなる群より選択される少なくとも１つの硬化処理を行う硬化工程を有し、
   　前記硬化処理により、前記光学機能性フィルムの前記液晶性化合物の重合率が５０％以上となる、光学部品の製造方法。
7. 　前記硬化工程の前に、前記成形体を加熱し、前記液晶性化合物を配向させる配向工程をさらに有する、請求項６に記載の光学部品の製造方法。
8. 　請求項６に記載の光学部品の製造方法によって製造される、光学部品。
9. 　偏光を出射する画像表示装置と、
   　請求項８に記載の光学部品とを有する、仮想現実表示装置。
10. 　非平面の形状を有し、曲率半径が３０ｍｍ～１０００ｍｍであり、位相差の面内ばらつきが５％未満である光学フィルム。
11. 　曲率半径が３０ｍｍ～１００ｍｍである、請求項１０に記載の光学フィルム。
12. 　前記位相差の面内ばらつきが３％未満である、請求項１０または１１に記載の光学フィルム。
13. 　膜厚の面内ばらつきが５％未満である、請求項１０または１１に記載の光学フィルム。
14. 　前記光学フィルムが位相差フィルムである、請求項１０または１１に記載の光学フィルム。
15. 　前記光学フィルムが、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションが１２０ｎｍから１６０ｎｍの範囲にある位相差フィルムである、請求項１０または１１に記載の光学フィルム。
16. 　前記光学フィルムが位相差フィルムと反射型偏光子とを含む積層光学体である、請求項１０または１１に記載の光学フィルム。
17. 　平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程と、
    　前記光学フィルムを第一のモールドに押し付け、第一のモールドの形状に沿って変形させる第一の成形工程と、
    　前記第一の成形工程で得られた前記光学フィルムを第二のモールドに押し付け、第二のモールドの形状に沿って変形させる第二の成形工程を含む、光学フィルムの成形方法。
18. 　前記第一のモールドの形状が凸状の曲面部分を含み、前記第二のモールドの形状が凹状の曲面部分を含む、請求項１７に記載の光学フィルムの成形方法。
19. 　前記第一のモールドの曲率半径が、前記第二のモールドの曲率半径よりも大きい、請求項１７または１８に記載の光学フィルムの成形方法。
20. 　平面形状を有する光学フィルムを加熱する工程と、
    　前記光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程と、
    　変形された前記光学フィルムを裁断する工程を含む、光学フィルムの成形方法であって、
    　前記加熱工程が、前記光学フィルムに赤外線を照射することで加熱する工程であり、
    　前記赤外線の照射量が、前記光学フィルムの面内に分布を有する、光学フィルムの成形方法。
21. 　前記モールドが実質的に凹面球状であり、前記光学フィルムの面の法線方向から前記光学フィルムの面内の位置を前記モールドに射影したときに、
    　前記凹面球状の頂点に位置する、前記光学フィルムに照射される赤外線照射量が、前記凹面球状の端部に位置する、前記光学フィルムに照射される赤外線照射量より少ない、請求項２０に記載の光学フィルムの成形方法。
22. 　前記モールドが実質的に凹面球状であり、前記光学フィルムの面の法線方向から前記光学フィルムの面内の位置を前記モールドに射影したときに、
    　前記凹面球状の頂点に位置する、前記光学フィルムの温度が、前記凹面球状の端部に位置する、前記光学フィルムの温度よりも小さい、請求項２０または２１に記載の光学フィルムの成形方法。
23. 　平面形状を有する光学フィルムを非平面形状に変形する成形方法であって、
    　直径方向の延伸倍率と、円周方向の延伸倍率との積の面内ばらつきが５％未満である、光学フィルムの成形方法。
24. 　前記直径方向の延伸倍率と、前記円周方向の延伸倍率との積の面内ばらつきが３％未満である、請求項２３に記載の光学フィルムの成形方法。
25. 　前記直径方向の延伸倍率が、中心から遠ざかるに従って大きくなる、請求項２３または２４に記載の光学フィルムの成形方法。

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