WO2024128155A1

WO2024128155A1 - 光学用積層体、積層光学フィルム、光学物品および仮想現実表示装置

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Publication number: WO2024128155A1
Application number: PCT/JP2023/044019
Authority: WO
Inventors: 竜二実藤; 真道岸野; 克己篠田; 直良山田
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2022-12-13
Filing date: 2023-12-08
Publication date: 2024-06-20

Abstract

仮想現実表示装置等に用いたときにゴーストの発生が少ない光学用積層体、光学積層体を備えた積層光学フィルム、光学用積層体を備えた光学物品、および、光学物品を含む仮想現実表示装置の提供を課題とする。接着層と、光干渉層と、２以上の積層反射層とをこの順に有し、積層反射層は、棒状液晶からなるコレステリック液晶層を１以上含む反射層Ａと、円盤状液晶からなるコレステリック液晶層を１以上含む反射層Ｂとを、１つずつ含み、隣接する積層反射層で反射層Ａ同士または反射層Ｂ同士が対向している場合には、隣接する反射層の反射中心波長が異なり、接着層の屈折率をｎＡ、光干渉層に隣接する反射層の平均屈折率をｎＬとして、光干渉層の屈折率ｎＩが（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０３≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０３で、光干渉層の膜厚が、６０ｎｍ～１１０ｎｍまたは２３０ｎｍ～３３０ｎｍである光学用積層体により、課題を解決する。

Description

光学用積層体、積層光学フィルム、光学物品および仮想現実表示装置

　本発明は、光学用積層体、積層光学フィルム、光学物品、および、仮想現実表示装置に関する。

　反射偏光子は、入射光のうち一方の偏光を反射し、もう一方の偏光を透過する機能を有する偏光子である。反射偏光子による反射光、および透過光は、互いに直交する偏光状態となる。
　ここで、互いに直交する偏光状態とは、ポアンカレ球上において互いに対蹠点に位置する偏光状態のことであり、例えば、互いに直交する直線偏光、および、右回り円偏光と左回り円偏光が、これに該当する。

　透過光および反射光が直線偏光となる反射直線偏光子としては、例えば、特許文献１に記載されるような誘電体多層膜を延伸したフィルム、および、特許文献２に記載されるようなワイヤグリッド偏光子等が知られている。

　また、透過光および反射光が円偏光となる反射円偏光子としては、例えば、特許文献３に記載されるような、コレステリック液晶相を固定化した光反射層を有するフィルムが知られている。

　反射偏光子は、入射光から特定の偏光のみを取り出したり、入射光を２つの偏光に分離したりする目的で用いられる。
　例えば、液晶表示装置において、バックライトからの不要な偏光を反射して再利用することで、光利用効率を高める輝度向上フィルムとして用いられる。また、液晶プロジェクタにおいて、光源からの光を２つの直線偏光に分離し、それぞれを液晶パネルに供給するビームスプリッタとしても用いられる。

　また、近年、外光および画像表示装置からの光の一部を反射し、虚像または実像を生成する目的で、反射偏光子を用いる方法が提案されている。
　例えば、特許文献４には、反射偏光子を用いて後方からの光を反射する車載用ルームミラーが開示されている。また、特許文献５には、仮想現実表示装置および電子ファインダーなどにおいて表示部を小型、薄型化するため、反射偏光子とハーフミラーとの間で光を反射させて往復させ、虚像を生成する方法が開示されている。

特開２０１１－０５３７０５号公報特開２０１５－０２８６５６号公報特許第６２７７０８８号公報特開２０１７－２２７７２０号公報特開平７－１２０６７９号公報

　本発明者らの検討によれば、反射偏光子により外光および画像表示装置からの光の一部を反射し、虚像または実像を生じさせる場合、特許文献１および２等に記載される従来の反射偏光子では、画像鮮鋭度が低下する場合があることがわかった。
　これに対して、コレステリック液晶相を固定化した光反射層を有する反射円偏光子を用いることで、良好な画像鮮鋭度が得られることが分かった。この理由は、コレステリック液晶相を固定化した光反射層を有することによって、高い偏光度を有する反射円偏光子を薄膜で実現できることから、異物の混入および素材分布の粗密による揺らぎの影響を受けにくいためと本発明者らは考えている。
　さらに、本発明者らの検討によれば、仮想現実表示装置および電子ファインダー等では、反射光に加え透過光も利用するが、その際本来カットしたい透過光が透過して視認されるゴーストの抑制が重要となる。特許文献３に記載の従来の反射円偏光子では、ゴースト抑制が観察され、更なる改良の余地があった。

　本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、本発明が解決しようとする課題は、仮想現実表示装置および電子ファインダー等に用いたときにゴーストの発生が少ない反射円偏光子に使用できる光学用積層体、上記反射円偏光子を備えた積層光学フィルム、および、光学用積層体を備えた光学物品、ならびに、光学物品を含む仮想現実表示装置を提供することである。

　本発明者らは、上述の課題に関し鋭意検討を重ね、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

　〔１〕　接着層と、光干渉層と、２層以上の積層反射層とを有する、光学用積層体であって、
　上記積層反射層は、実質的に棒状液晶化合物からなる第１液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を少なくとも１層以上含み、実質的に円盤状液晶化合物からなる第２液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を含まない反射層Ａと、
　実質的に円盤状液晶化合物からなる上記第２液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を少なくとも１層以上含み、実質的に棒状液晶化合物からなる上記第１液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を含まない反射層Ｂとを、１つずつ含み、
　上記２層以上の積層反射層のうち、積層方向に隣り合う２つの上記積層反射層において、上記反射層Ａ同士が対向している場合には、隣り合う２つの上記積層反射層に含まれる上記反射層Ａ同士の反射光の中心波長が異なり、
　上記２層以上の積層反射層のうち、積層方向に隣り合う２つの上記積層反射層において、上記反射層Ｂ同士が対向している場合には、隣り合う２つの上記積層反射層に含まれる上記反射層Ｂ同士の反射光の中心波長が異なり、
上記接着層と上記光干渉層と上記積層反射層がこの順に隣接し、
　上記接着層の屈折率がｎＡであり、上記積層反射層の上記反射層Ａおよび上記反射層Ｂのうち上記光干渉層に隣接するほうの平均屈折率がｎＬであるとき、上記光干渉層の屈折率ｎＩが、（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０３≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０３であり、
上記光干渉層の膜厚が、６０ｎｍ～１１０ｎｍ、もしくは２３０ｎｍ～３３０ｎｍである、光学用積層体。
　〔２〕　上記反射層Ａと、上記反射層Ｂとが上記光学用積層体の積層方向において交互に配置される、〔１〕に記載の光学用積層体。
　〔３〕　上記積層反射層の合計層数が２０以下である、〔１〕に記載の光学用積層体。
　〔４〕　波長４００～７００ｎｍの光の反射率が４０％以上５０％未満である、〔１〕に記載の光学用積層体。
　〔５〕　上記積層反射層が、１つの上記反射層Ａと１つの上記反射層Ｂとが直接接して構成されるか、または、１つの上記反射層Ａと、１つの上記反射層Ｂと、上記反射層Ａと上記反射層Ｂとの間に配置される密着層とから構成される、〔１〕に記載の光学用積層体。
　〔６〕　上記光干渉層が光配向膜である〔１〕～〔５〕のいずれか一つに記載の光学用積層体。
　〔７〕　上記光干渉層がＣプレートである〔１〕～〔５〕のいずれか一つに記載の光学用積層体。
　〔８〕　上記Ｃプレートと積層反射層の間にシンナモイル基を有する化合物が存在する〔７〕に記載の光学用積層体。
　〔９〕　上記光干渉層がハードコート層である〔１〕～〔５〕のいずれか一つに記載の光学用積層体。
　〔１０〕　少なくとも反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子と、をこの順で有する積層光学フィルムであって、
　上記反射円偏光子が〔１〕～〔９〕のいずれか一つに記載の光学用積層体である、積層光学フィルム。
　〔１１〕　上記直線偏光子が、少なくとも液晶化合物と二色性物質とを含む光吸収異方性層を含む、〔１０〕に記載の積層光学フィルム。
　〔１２〕　ポジティブＣプレートをさらに含む、〔１０〕に記載の積層光学フィルム。
　〔１３〕　表面に反射防止層をさらに含む、〔１０〕に記載の積層光学フィルム。
　〔１４〕　上記反射防止層が、モスアイフィルムまたはＡＲフィルムである、〔１３〕に記載の積層光学フィルム。
　〔１５〕　損失正接ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である樹脂基材を含む、〔１０〕に記載の積層光学フィルム。
　〔１６〕　〔１〕～〔９〕のいずれか一つに記載の光学用積層体を含む、光学物品。
　〔１７〕　〔１６〕に記載の光学物品を含む、仮想現実表示装置。

　本発明によれば、仮想現実表示装置および電子ファインダー等に用いたときにゴーストの発生が少ない反射円偏光子に使用できる光学用積層体を提供できる。
　また、本発明によれば、上記反射円偏光子を備えた積層光学フィルム、および、上記光学用積層体を備えた光学物品、ならびに、上記光学物品を含む仮想現実表示装置を提供できる。

図１は、本発明の第一実施態様の光学用積層体の一例を示す概略図である。図２は、本発明の第一実施態様の光学用積層体の一例を示す概略図である。図３は、本発明の積層光学フィルムを用いた仮想現実表示装置の一例である。図４は、本発明の積層光学フィルムを用いた仮想現実表示装置の一例である。図５は、本発明の積層光学フィルムの一例を示す概略図である。図６は、本発明の光学用積層体の作用を説明するための概略図である。図７は、従来の光学積層体の作用を説明するための概念図である。

　以下、本発明を詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態および具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。
　なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は「～」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

　本明細書において、「直交」とは、厳密に９０°を表すのではなく、９０°±１０°、好ましくは、９０°±５°を表すものとする。また、「平行」とは、厳密に０°を表すのではなく、０°±１０°、好ましくは、０°±５°を表すものとする。さらに、「４５°」とは、厳密に４５°を表すのではなく、４５°±１０°、好ましくは、４５°±５°を表すものとする。

　本明細書において「吸収軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において吸光度が最大となる偏光方向を意味する。また、「反射軸」とは、直線偏光を入射したとき、面内において反射率が最大となる偏光方向を意味する。また、「透過軸」とは、面内において吸収軸または反射軸と直交する方向を意味する。さらに、「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。「進相軸」とは、面内において屈折率が最小となる方向を意味し、遅相軸と直交する方向である。

　本明細書において、位相差とは、特にことわらない場合、面内レターデーションを意味し、Ｒｅ（λ）と記載する。ここで、Ｒｅ（λ）は波長λにおける面内のレターデーションを表し、特に記載がないとき、波長λは５５０ｎｍとする。
　また、波長λにおける厚み方向のレターデーションは、本明細書においてＲｔｈ（λ）と記載する。特に記載がないとき、波長λは５５０ｎｍとする。
　Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ　ＯＰＭＦ－１（オプトサイエンス社製）を用い、波長λで測定した値を用いることができる。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
　遅相軸方向（°）
　Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
　Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄが算出される。

　本発明の光学用積層体としては、以下の第一実施態様が挙げられる。
　以下、本発明の光学用積層体の第一実施態様について説明する。

［第一実施態様］
　本発明の第一実施態様の光学用積層体は、積層反射層を２層以上有し、
　上記積層反射層は、実質的に棒状液晶化合物からなる第１液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層（以下、「液晶層１」ともいう）を少なくとも１層以上含み、実質的に円盤状液晶化合物からなる第２液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層（以下、「液晶層２」ともいう）を含まない反射層Ａと、
　液晶層２を少なくとも１層以上含み、液晶層１を含まない反射層Ｂとを、１つずつ含み、
　上記２層以上の積層反射層のうち、積層方向に隣り合う２つの上記積層反射層において、上記反射層Ａ同士が対向している場合には、隣り合う２つの上記積層反射層に含まれる上記反射層Ａ同士の反射光の中心波長が異なり、
　上記２層以上の積層反射層のうち、積層方向に隣り合う２つの上記積層反射層において、上記反射層Ｂ同士が対向している場合には、隣り合う２つの上記積層反射層に含まれる上記反射層Ｂ同士の反射光の中心波長が異なり、
　上記接着層と上記光干渉層と上記積層反射層とがこの順に隣接し、
　上記接着層の屈折率がｎＡであり、上記積層反射層の上記反射層Ａおよび上記反射層Ｂのうち上記光干渉層に隣接するほうの平均屈折率がｎＬであるとき、上記光干渉層の屈折率ｎＩが、（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０３≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０３であり、
上記光干渉層の膜厚が、６０ｎｍ～１１０ｎｍ、もしくは２３０ｎｍ～３３０ｎｍである。

　本発明の第一実施態様の光学用積層体について、図面を用いながら説明する。図１は、第一実施態様の光学用積層体１０の構成の一例を示した概略断面図である。
　図１に示す態様においては、光学用積層体１０は、第１積層反射層２５と、第２積層反射層２６と、光干渉層２７と、接着層２８とから構成される。第１積層反射層２５は、反射層Ａ２１ａおよび反射層Ｂ２２ｂから構成され、第２積層反射層２６は、反射層Ａ２３ａおよび反射層Ｂ２４ｂから構成される。図１に示す態様の光学用積層体１０においては、反射層Ａ２１ａ、反射層Ｂ２２ｂ、反射層Ａ２３ａ、および、反射層Ｂ２４ｂがこの順で積層されている。
　本発明の第一実施態様の光学用積層体は、反射円偏光子に使用できる。光学用積層体が上記構成であると、反射層Ａが正のＲｔｈを有するのに対し、反射層Ｂが負のＲｔｈを有するため、互いのＲｔｈが相殺され、斜め方向からの入射光に対してもゴーストの発生を抑制できると考えられる。
　加えて、光干渉層の屈折率および膜厚を、上記関係を満たすように設定することで、第１積層反射層と接着層との間に存在する界面での反射防止効果を付与できる。すなわち、これにより、界面反射によって生じる円偏光の回転方向の変化、例えば、右円偏光は界面反射によって左円偏光に変化することを抑制できる。界面反射によって生じる円偏光の回転方向の変化は、ゴーストの発生の原因の一つであるため、界面反射を抑制することで、ゴーストの発生を抑制できると考えられる。この点に関しては。後に詳述する。
　以下、本発明の第一実施態様について詳細に説明する。

〔積層反射層〕
　本発明の第一実施態様の光学用積層体は、後段に詳述する反射層Ａと反射層Ｂとを１つずつ含む積層反射層を２層以上有する。すなわち、本発明の第一実施態様の光学用積層体は、反射層Ａおよび反射層Ｂをそれぞれ２層以上含む。
　積層反射層において、反射層Ａと反射層Ｂとが直接接していてもよく、反射層Ａと反射層Ｂとが他の層を介して積層されていてもよい。他の層としては、特に制限されないが、密着層、屈折率調節層、樹脂フィルム、ポジティブＣプレート、および、配向層等が挙げられる。密着層とは、例えば、接着層および粘着剤層等である。
　また、積層反射層は、１つの反射層Ａと１つの反射層Ｂとが直接接して構成されてもよく、１つの反射層Ａと、１つの反射層Ｂと、反射層Ａと反射層Ｂとの間に配置される密着層とから構成されてもよい。なかでも、積層反射層は、１つの反射層Ａと１つの反射層Ｂとが直接接して構成されることが好ましい。

　積層反射層は、光学用積層体において、反射層Ａと反射層Ｂとが、交互に配置されるように積層されていてもよく、反射層Ａ同士が対向するように積層されていてもよく、反射層Ｂ同士が対向するように積層されていてもよい。
　例えば、第一実施態様の光学用積層体が２層の積層反射層を有する場合、反射層Ａ、反射層Ｂ、反射層Ａおよび反射層Ｂの順で積層されていてもよく、反射層Ａ、反射層Ｂ、反射層Ｂおよび反射層Ａの順で積層されていてもよく、反射層Ｂ、反射層Ａ、反射層Ａおよび反射層Ｂの順で、積層されていてもよい。
　ただし、積層方向に隣り合う２つの上記積層反射層において、上記反射層Ａ同士が対向している場合、例えば、反射層Ｂ、反射層Ａ、反射層Ａおよび反射層Ｂの順で、積層されている場合には、隣り合う２つの上記積層反射層に含まれる反射層Ａ同士の反射光の中心波長が異なる。また、積層方向に隣り合う２つの上記積層反射層において、上記反射層Ｂ同士が対向している場合、例えば、反射層Ａ、反射層Ｂ、反射層Ｂおよび反射層Ａの順で、積層されている場合には、隣り合う２つの上記積層反射層に含まれる反射層Ｂ同士の反射光の中心波長が異なる。

　以下、積層方向に隣り合う２つの上記積層反射層において、上記反射層Ａ同士が対向している場合の光学用積層体について図面を用いながら説明する。
　図２に示す光学用積層体１１は、第１積層反射層２５と、第２積層反射層２６と、光干渉層２７と、接着層２８から構成されている。第１積層反射層２５は、反射層Ｂ２１ｂおよび反射層Ａ２２ａから構成され、第２積層反射層２６は、反射層Ａ２３ａおよび反射層Ｂ２４ｂから構成される。図２に示す態様の光学用積層体１１においては、反射層Ｂ２１ｂ、反射層Ａ２２ａ、反射層Ａ２３ａ、および、反射層Ｂ２４ｂがこの順で積層されている。
　ただし、この光学用積層体１１においては、反射層Ａ２２ａの反射光の中心波長と、反射層Ａ２３ａの反射光の中心波長とが異なる。また、図２に示す光学用積層体１１において、反射層Ａ２２ａは、第１積層反射層２５に含まれるものとし、反射層Ａ２３ａは、第２積層反射層２６に含まれるものとする。
　すなわち、後段で詳述するように、反射層Ａは、２層以上の反射光の中心波長が異なる液晶層１を含んでいてもよいが、光学用積層体において、液晶層１が２層以上連続して配置される場合は、積層反射層の数が最大となるように反射層Ａおよび積層反射層をとるものとする。
　同様に、後段で詳述するように、反射層Ｂは、２層以上の反射光の中心波長が異なる液晶層２を含んでいてもよいが、光学用積層体において、液晶層２が２層以上連続して配置される場合は、積層反射層の数が最大となるように反射層Ｂおよび積層反射層をとるものとする。
　なかでも、上記積層反射層の積層の態様は、反射層Ａと反射層Ｂとが、交互に配置されるように積層されている態様が好ましい。すなわち、反射層Ａと、反射層Ｂとが、光学用積層体の厚み方向において交互に配置される態様が好ましい。

　第一実施態様の光学用積層体は、積層反射層を２層以上含む。従って、本発明の光学用積層体は、積層反射層を３層含んでもよく、あるいは、４層以上含んでもよい。すなわち、光学用積層体は、上記反射層Ａおよび反射層Ｂをそれぞれ２層以上含むが、上記反射層Ａおよび反射層Ｂをそれぞれ３層含んでもよく、あるいは、それぞれ４層以上含んでもよい。
　光学用積層体が含む積層反射層の合計層数は、３０層以下が好ましく、２０層以下がより好ましく、１０層以下がさらに好ましい。すなわち、光学用積層体の上記反射層Ａおよび反射層Ｂの合計層数は、６０層以下が好ましく、４０層以下が好ましく、２０層以下がより好ましい。

　積層反射層の厚みは、０．２μｍ以上が好ましく、０．４μｍ以上がより好ましく、０．６μｍ以上がさらに好ましい。また、積層反射層の厚みは、２０．０μｍ以下が好ましく、１４．０μｍ以下がより好ましく、１０．０μｍ以下がさらに好ましい。
　積層反射層の厚みは、後述する反射層Ａおよび反射層Ｂと同様の方法で測定できる。

　以下、反射層Ａおよび反射層Ｂについて説明する。

〔反射層Ａ〕
　本発明の第一実施態様の光学用積層体が含む積層反射層は、液晶層１を少なくとも１層以上含み、液晶層２を含まない反射層Ａを含む。
　液晶層１は、実質的に棒状液晶化合物からなる第１液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層であり、実質的に棒状液晶化合物からなる。なお、「実質的に棒状液晶化合物からなる第１液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層」とは、上記第１液晶化合物をコレステリック液晶相とし、コレステリック液晶相の配向状態を固定化してなる層を指す。上記「実質的に棒状液晶化合物からなる」とは、液晶層１が含む液晶化合物（第１液晶化合物）のうち、棒状液晶化合物が９５質量％以上であることをいう。つまり、「実質的に棒状液晶化合物からなる第１液晶化合物」とは、棒状液晶化合物の含有量が、第１液晶化合物の全質量に対して、９５質量％以上であることを意味する。なかでも、第１液晶化合物は、棒状液晶化合物のみからなることが好ましい。
　また、液晶層２は、実質的に円盤状液晶化合物からなる第２液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層であり、実質的に円盤状液晶化合物からなる。なお、「実質的に円盤状液晶化合物からなる第２液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層」とは、上記第２液晶化合物をコレステリック液晶相とし、コレステリック液晶相の配向状態を固定化してなる層を指す。上記「実質的に円盤状液晶化合物からなる」とは、液晶層２が含む液晶化合物（第２液晶化合物）のうち、円盤状液晶化合物が９５質量％以上であることをいう。つまり、「実質的に円盤状液晶化合物からなる第２液晶化合物」とは、円盤状液晶化合物の含有量が、第２液晶化合物の全質量に対して、９５質量％以上であることを意味する。なかでも、第２液晶化合物は、円盤状液晶化合物のみからなることが好ましい。

　反射層Ａは、液晶層１を１層以上含んでいればよく、従って２層以上含んでもよい。反射層Ａが液晶層１を２層以上含む場合、２層以上の液晶層１の間に、液晶層２以外の他の層が含まれていてもよく、含まれていなくてもよい。他の層としては、特に制限されないが、密着層（例えば、接着層、粘着剤層等）、屈折率調節層、樹脂フィルム、ポジティブＣプレート、および、配向層等が挙げられる。
　反射層Ａが含む液晶層１の層数は、５層以下が好ましく、３層以下がより好ましく、２層以下がさらに好ましい。反射層Ａが含む液晶層１の層数は、１層も好ましい。
　なお、例えば、２つの液晶層１が、それぞれ異なる反射光の中心波長を有する場合、２層の液晶層１であるとみなす。また、２つ以上の液晶層１の反射光の中心波長が同一であれば、例えば逐次塗布して形成されたものであっても、上記他の層で隔てられていても、１層の液晶層１とみなす。

　反射層Ａが液晶層１を２層以上含む場合、反射層Ａの反射光の中心波長は、反射層Ａ全体の反射光の中心波長とする。反射光の中心波長の測定方法は、後述するとおりである。

　反射層Ａの厚みは、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。反射層Ａの厚みは、ゴーストをより抑制できる点で、１０．０μｍ以下が好ましく、７．０μｍ以下がより好ましく、５．０μｍ以下がさらに好ましい。
　反射層Ａの厚みは、光学用積層体の断面を作製し、走査型電子顕微鏡で観察することで測定できる。反射層Ａの厚みは、光学用積層体の断面において、任意の５点について反射層Ａの厚みを平均して得られる値とする。なお、光学用積層体の断面を走査型電子顕微鏡で観察した際、後述する反射層Ａの領域と反射層Ｂの領域とは、撮影画像のコントラストの違いで区別できる。また、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ：Ｔｉｍｅ－ｏｆ－　ｆｌｉｇｈｔ　ＳＩＭＳ）による膜厚方向の組成分析を用いることによっても、反射層Ａと反射層Ｂを区別することができる。

　反射層ＡのＲｔｈは、波長５５０ｎｍにおいて、８～８００ｎｍが好ましく、１６～５６０ｎｍがより好ましく、２４～４００ｎｍがさらに好ましい。
　反射層ＡのＲｔｈは、光学用積層体から反射層Ａのみを取り出してＲｔｈを測定してもよいし、反射層Ａを作製する際と同様の条件で作製した層のＲｔｈを測定してもよい。

　上記液晶層１が含む棒状液晶化合物は、公知の棒状液晶化合物が挙げられ、重合性基を有する重合性棒状液晶化合物が好ましく挙げられる。
　棒状液晶化合物の例としては、特に制限されないが、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１または特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものが挙げられる。

　棒状液晶化合物は屈折率異方性Δｎが高い（高Δｎ)液晶化合物を用いることも好ましい。ここでΔｎとは遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差分である。
　棒状液晶化合物が高Δｎの特性を有していると、コレステリック液晶相の螺旋構造の巻き数が少なくても高い反射率が得られるため、薄い膜厚でも所望の反射特性を得ることができる。薄膜化によりコレステリック液晶層の法線方向から斜めに傾いた入射光に対して生じる位相差の大きさを低減することができ、その結果としてよりゴーストを低減することができる。
　屈折率異方性Δｎの高い液晶化合物としては、特に限定されないが、国際公開第２０１９／１８２１２９号の段落［００１４］～［００２９］に例示の化合物、および、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を好ましく用いることができる。

　一般式（Ｉ）中、Ｐ^１およびＰ^２は、それぞれ独立に、水素原子、－ＣＮ、－ＮＣＳまたは重合性基を表す。
　一般式（Ｉ）中、Ｓｐ^１およびＳｐ^２は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。ただし、Ｓｐ^１およびＳｐ^２は、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基および脂肪族炭化水素環基からなる群より選ばれる少なくとも１つの基を含む２価の連結基を表すことはない。
　一般式（Ｉ）中、Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＨＲ－、－ＣＨＲＣＨＲ－、－ＯＣＨＲ－、－ＣＨＲＯ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－Ｓ－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－ＳＣＨＲ－、－ＣＨＲＳ－、－ＳＯ－ＣＨＲ－、－ＣＨＲ－ＳＯ－、－ＳＯ_２－ＣＨＲ－、－ＣＨＲ－ＳＯ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｓ－、－ＳＣＦ_２－、－ＯＣＨＲＣＨＲＯ－、－ＳＣＨＲＣＨＲＳ－、－ＳＯ－ＣＨＲＣＨＲ－ＳＯ－、－ＳＯ_２－ＣＨＲＣＨＲ－ＳＯ_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨＲＣＨＲ－、－ＯＣＯ－ＣＨＲＣＨＲ－、－ＣＨＲＣＨＲ－ＣＯＯ－、－ＣＨＲＣＨＲ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨＲ－、－ＯＣＯ－ＣＨＲ－、－ＣＨＲ－ＣＯＯ－、－ＣＨＲ－ＯＣＯ－、－ＣＲ＝ＣＲ－、－ＣＲ＝Ｎ－、－Ｎ＝ＣＲ－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＲ－、－ＣＦ＝ＣＦ－またはＣ≡Ｃ－を表す。Ｒは水素原子または炭素原子数１～１０のアルキル基を表す。Ｒが複数存在する場合は、同一であっても異なっていてもよい。Ｚ^１およびＺ^２は、それぞれ複数存在する場合は、同一であっても異なっていてもよい。複数存在するＺ^３は、同一であっても異なっていてもよい。ただし、Ｓｐ^２に連結したＺ^３は、単結合を表す。
　一般式（Ｉ）中、Ｘ^１およびＸ^２は、それぞれ独立に、単結合またはＳ－を表す。複数存在するＸ^１およびＸ^２は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。ただし、複数存在するＸ^１および複数存在するＸ^２のうち、いずれか少なくとも１つは－Ｓ－を表す。
　一般式（Ｉ）中、ｋは２～４の整数を表す。
　一般式（Ｉ）中、ｍおよびｎは、それぞれ独立に、０～３の整数を表す。複数存在するｍは、同一であっても異なっていてもよい。
　一般式（Ｉ）中、Ａ^１、Ａ^２、Ａ^３およびＡ^４は、それぞれ独立に、下記一般式（Ｂ－１）～（Ｂ－７）のいずれかで表される基、または下記一般式（Ｂ－１）～（Ｂ－７）のいずれかで表される基を２つ以上３つ以下連結してなる基を表す。複数存在するＡ^２およびＡ^３は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ａ^１およびＡ^４は、それぞれ複数存在する場合は、同一であっても異なっていてもよい。

　一般式（Ｂ－１）～（Ｂ－７）中、Ｗ^１～Ｗ^１８は、それぞれ独立に、ＣＲ^１またはＮを表し、Ｒ^１は水素原子または下記置換基Ｌを表す。
　一般式（Ｂ－１）～（Ｂ－７）中、Ｙ^１～Ｙ^６は、それぞれ独立に、ＮＲ^２、ＯまたはＳを表し、Ｒ^２は水素原子または下記置換基Ｌを表す。
　一般式（Ｂ－１）～（Ｂ－７）中、Ｇ^１～Ｇ^４は、それぞれ独立に、ＣＲ^３Ｒ^４、ＮＲ^５、ＯまたはＳを表し、Ｒ^３～Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子または下記置換基Ｌを表す。
　一般式（Ｂ－１）～（Ｂ－７）中、Ｍ^１およびＭ^２は、それぞれ独立に、ＣＲ^６またはＮを表し、Ｒ^６は水素原子または下記の置換基Ｌを表す。
　＊は結合位置を表す。

　置換基Ｌは、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数１～１０のアルキルアミノ基、炭素原子数１～１０のアルキルチオ基、炭素原子数１～１０のアルカノイル基、炭素原子数１～１０のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１～１０のアルカノイルアミノ基、炭素原子数１～１０のアルカノイルチオ基、炭素原子数２～１０のアルキルオキシカルボニル基、炭素原子数２～１０のアルキルアミノカルボニル基、炭素原子数２～１０のアルキルチオカルボニル基、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基、カルボキシ基、スルホ基、アミド基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子または重合性基である。ただし、置換基Ｌとして記載した上記基が－ＣＨ_２－を有する場合、上記基に含まれる－ＣＨ_２－の少なくとも１つを、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－またはＣ≡Ｃ－に置き換えてなる基も置換基Ｌに含まれる。また、置換基Ｌとして記載した上記基が水素原子を有する場合、上記基に含まれる水素原子の少なくとも１つを、フッ素原子および重合性基からなる群より選択される少なくとも１つに置き換えてなる基も置換基Ｌに含まれる。

　よりゴーストを低減するため、液晶化合物の屈折率異方性Δｎ_５５０（波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性）は０．１２以上が好ましく、０．１６以上がより好ましく、０．２０以上がさらに好ましく、０．２５以上が最も好ましい。
　Δｎ_５５０（波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性）の上限としては、界面反射抑制の観点から、０．９０以下が好ましく、０．７０以下がより好ましく、０．５０以下がさらに好ましい。

　また、液晶層１は、コレステリック液晶相となっている棒状液晶化合物の配向が保持されている層であればよく、典型的には、重合性基を有する重合性棒状液晶化合物を、カイラル剤を添加する等の方法でコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して形成できる。上記のようにして形成した液晶層１は、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることない状態に変化した層であればよい。
　なお、液晶層１においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、液晶層１中の棒状液晶化合物は、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性棒状液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。

　液晶層１の反射光の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、液晶層１の平均屈折率ｎを用いて、λ＝ｎ×Ｐの関係で表される。
　なお、液晶層１の反射光の中心波長は、以下のようにして求めることができる。分光光度計ＵＶ３１５０（島津製作所）を用いて反射層Ａの透過スペクトルを液晶層１の法線方向から測定すると、反射光の中心波長付近の領域において、透過率が低下するピークを有するスペクトルが得られる。このうち、最も大きいピークの値の１／２の値の透過率となる２つの波長のうち、短波長側の波長の値をλ_ｌ（ｎｍ）、長波長側の波長の値をλ_ｈ（ｎｍ）とし、反射光の中心波長λは、下記式で求められる。
　λ＝（λ_ｌ＋λ_ｈ）／２

　コレステリック液晶相のピッチは、重合性棒状液晶化合物とともに用いるカイラル剤の種類、およびその添加濃度で変化し、上記いずれか１つ以上を調節することで所望のピッチのコレステリック液晶相が得られる。なお、螺旋の旋回方向、およびピッチの測定方法については、「液晶化学実験入門」日本液晶学会編　シグマ出版２００７年出版、４６頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会　丸善　１９６頁に記載の方法を用いることができる。

〔反射層Ｂ〕
　本発明の第一実施態様の光学用積層体が含む積層反射層は、液晶層２を少なくとも１層以上含み、液晶層１を含まない反射層Ｂを含む。
　液晶層２および液晶層１の定義は、上述したとおりである。

　反射層Ｂは、液晶層２を１層以上含んでいればよく、従って２層以上含んでもよい。反射層Ｂが液晶層２を２層以上含む場合、２層以上の液晶層２の間に、液晶層１以外の他の層が含まれていてもよく、含まれていなくてもよい。他の層としては、特に制限されないが、密着層（例えば、接着層、粘着剤層等）、屈折率調節層、樹脂フィルム、ポジティブＣプレート、および、配向層等が挙げられる。
　反射層Ｂが含む液晶層２の層数は、５層以下が好ましく、３層以下がより好ましく、２層以下がさらに好ましい。反射層Ｂが含む液晶層２の層数は、１層も好ましい。
　なお、例えば、２つの液晶層２が、それぞれ異なる反射光の中心波長を有する場合、２層の液晶層２であるとみなす。また、２つ以上の液晶層２の反射光の中心波長が同一であれば、例えば逐次塗布して形成されたものであっても、上記他の層で隔てられていても、１層の液晶層２とみなす。

　反射層Ｂが液晶層２を２層以上含む場合、反射層Ｂの反射光の中心波長は、反射層Ｂ全体の反射光の中心波長とする。各液晶層２の反射光の中心波長の測定は、上述する液晶層１の反射光の中心波長の測定方法に準じて行う。

　反射層Ｂの厚みは、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。反射層Ｂの厚みは、ゴーストをより抑制できる点で、１０．０μｍ以下が好ましく、７．０μｍ以下がより好ましく、５．０μｍ以下がさらに好ましい。
　反射層Ｂの厚みは、光学用積層体の断面を作製し、透過型電子顕微鏡で観察することで測定できる。

　反射層ＢのＲｔｈは、波長５５０ｎｍにおいて、－８～－８００ｎｍが好ましく、－１６～－５６０ｎｍがより好ましく、－２４～－４００ｎｍがさらに好ましい。
　反射層ＢのＲｔｈは、光学用積層体から反射層Ｂのみを取り出してＲｔｈを測定してもよいし、反射層Ｂを作製する際と同様の条件で作製した層のＲｔｈを測定してもよい。

　上記液晶層２が含む円盤状液晶化合物は、特に制限されず、公知の円盤状液晶化合物を用いることができる。一例として、円盤状液晶化合物としては、特開２００７－１０８７３２号広報の段落[００２０]～[０１２２]に記載の円盤状液晶化合物を好適に用いることができる。
　また、円盤状液晶化合物は屈折率異方性Δｎが高い（高Δｎ）液晶化合物を用いることも好ましい。ここで、Δｎとは遅相軸方向の屈折率と進相軸方向の屈折率の差分である。
　円盤状液晶化合物が高Δｎの特性を有していると、コレステリック液晶相の螺旋構造の巻き数が少なくても高い反射率が得られるため、薄い膜厚でも所望の反射特性を得ることができる。薄膜化によりコレステリック液晶層の法線方向から斜めに傾いた入射光に対して生じる位相差の大きさを低減することができ、その結果としてよりゴーストを低減することができる。高Δｎの円盤状化合物は、例えば、特開２０１０－２４４０３８号公報の段落[００１２]～[０１０８]に記載の円盤状液晶化合物を好適に用いることができる。
　よりゴーストを低減するため、液晶化合物の屈折率異方性Δｎ_５５０（波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性）は、０．１２以上が好ましく、０．１６以上がより好ましく、０．２０以上がさらに好ましく、０．２５以上が最も好ましい。
　Δｎ_５５０（波長５５０ｎｍにおける屈折率異方性）の上限としては、界面反射抑制の観点から、０．９０以下が好ましく、０．７０以下がより好ましく、０．５０以下がさらに好ましい。
　また、液晶層２は、コレステリック液晶相となっている円盤状液晶化合物の配向が保持されている層であればよく、典型的には、重合性基を有する重合性円盤状液晶化合物を、カイラル剤を添加する等の方法でコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して形成できる。上記のようにして形成した液晶層２は、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることない状態に変化した層であればよい。
　なお、液晶層２においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、液晶層２中の円盤状液晶化合物は、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性円盤状液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。

　液晶層２の反射光の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチに依存し、液晶層１の場合と同様に定義でき、同様の方法で測定できる。

　コレステリック液晶相のピッチは、重合性円盤状液晶化合物とともに用いるカイラル剤の種類、およびその添加濃度で変化し、上記いずれか１つ以上を調節することで所望のピッチのコレステリック液晶相が得られる。なお、螺旋の旋回方向、およびピッチの測定方法については、上述した文献が参考にできる。

　またコレステリック液晶相のピッチは、膜厚方向に変化していても良い。膜厚方向にピッチが変化している様子をピッチグラジエントと呼び、膜厚方向にピッチが変化している層をピッチグラジエント層と呼ぶ。ピッチグラジエント層は、公知の方法で作製でき、例えば、特開２０２０－０６０６２７号公報等を参照して作製できる。
　ピッチグラジエント層では、膜厚方向に螺旋ピッチが変化しているため、複数の波長域の光を反射し得る。

〔反射率〕
　本発明の第一実施態様の光学用積層体の波長４００～７００ｎｍの光の反射率は、４０％以上５０％未満が好ましい。上記反射率が４０％以上である場合、ゴーストをより抑制しやすい。なお、上記波長４００～７００ｎｍの光は、無偏光の光を指す。
　光学用積層体の波長４００～７００ｎｍの光の反射率は、以下の条件で測定したものとする。
　測定には、日本分光社製の紫外可視近赤外分光光度計Ｖ－７５０からなる自動絶対反射率測定システムを用いる。光学用積層体に対し、入射角５°で波長３５０～９００ｎｍのＳ波、Ｐ波の偏光を入射する。Ｓ波およびＰ波それぞれに対する絶対反射率を測定し、波長毎に平均値を計算することで反射スペクトルを得る。得られた反射率スペクトルから、波長４００～７００ｎｍの光に対する平均反射率を算出し、上記光学用積層体の波長４００～７００ｎｍの光の反射率とする。

〔反射層Ａおよび反射層Ｂの種類と配置〕
　本発明の第一実施態様の光学用積層体は、上記反射層Ａおよび反射層Ｂを含む。
　此処で、光学積層体は、少なくとも波長４６０ｎｍの反射率が４０％以上である青色光反射層と、波長５５０ｎｍの反射率が４０％以上である緑色光反射層と、波長６００ｎｍの反射率が４０％以上である黄色光反射層と、波長６５０ｎｍの反射率が４０％以上である赤色光反射層とを含むことが好ましい。なお、上記青色光反射層、緑色光反射層、黄色光反射層および赤色光反射層は、それぞれ、反射層Ａおよび反射層Ｂのいずれが該当してもよい。
　例えば、反射層Ａが青色光反射層に該当するようにする場合、上述した方法で、反射層Ａの反射光の中心波長を調節し、反射光の中心波長を４６０ｎｍ程度とすればよい。また、反射層Ｂが青色光反射層に該当するようにする場合、上述した方法で、反射層Ｂの反射光の中心波長を調節し、反射光の中心波長を４６０ｎｍ程度とすればよい。なお、上記反射率は、反射層に対し、それぞれの波長で非偏光を入射した場合の反射率である。
　光学用積層体は、上記青色光反射層、緑色光反射層、黄色光反射層および赤色光反射層を含む場合、２層以上の青色光反射層を有していてもよく、２層以上の緑色光反射層を有していてもよく、２層以上の黄色光反射層を有していてもよく、２層以上の赤色光反射層を有していてもよい。

　上記青色光反射層の反射光の中心波長は、４３０ｎｍ以上５００ｎｍ未満の範囲内にあることが好ましい。
　上記緑色光反射層の反射光の中心波長は、５００ｎｍ以上５７０ｎｍ未満の範囲内にあることが好ましい。
　上記黄色光反射層の反射光の中心波長は、５７０ｎｍ以上６２０ｎｍ未満の範囲内にあることが好ましい。
　上記赤色光反射層の反射光の中心波長は、６２０ｎｍ以上６７０ｎｍ未満の範囲内にあることが好ましい。
　反射光の中心波長の測定方法は、上述したとおりである。

　また、本発明の第一実施態様の光学用積層体において、可視光領域（波長４００～７００ｎｍ）全域にわたって、反射率が４０％以上となるように、光学用積層体に含まれる反射層Ａおよび反射層Ｂの反射光の中心波長をそれぞれ調節してもよい。

　また、光学用積層体は、上記青色光反射層、緑色光反射層、黄色光反射層および赤色光反射層がこの順で積層されていることも好ましい。
　また、上記のような積層順の光学用積層体を、後述する反射円偏光子に適用する場合において、長波長側の反射層（例えば赤色光反射層）では、十分な反射率を得るために必要な反射層の厚みが厚くなり、反射層自身のＲｔｈによる、反射層を透過する光に対する影響が大きくなる点で、光源側に配置される反射層は、短波長側の反射層（例えば、青色光反射層）であることが好ましい。

　本発明の第一実施態様の光学用積層体では、反射層Ａが正のＲｔｈを有するのに対し、反射層Ｂが負のＲｔｈを有するため、互いのＲｔｈが相殺されることを上述したが、詳細について以下に説明する。
　反射層をｎ層有する光学用積層体において、光源側から反射層を順にＬ_１、Ｌ_２、Ｌ_３、・・・、Ｌ_ｎ（ｎは４以上の整数）と名付けたときに、反射層Ｌ_１から反射層Ｌ_ｉ（ｉはｎ以下の整数）までの各層のＲｔｈの和をＳＲｔｈ_ｉとする。具体的には、ＳＲｔｈ_ｉは以下のように表される。
　ＳＲｔｈ_１＝Ｒｔｈ_１
　ＳＲｔｈ_２＝Ｒｔｈ_１＋Ｒｔｈ_２
　・・・
　ＳＲｔｈ_ｉ＝Ｒｔｈ_１＋Ｒｔｈ_２＋・・・・＋Ｒｔｈ_ｉ
　・・・
　ＳＲｔｈ_ｎ＝Ｒｔｈ_１＋Ｒｔｈ_２＋・・・・＋Ｒｔｈ_ｉ＋・・・・＋Ｒｔｈ_ｎ
　これら全てのＳＲｔｈ_ｉ（ＳＲｔｈ_１～ＳＲｔｈ_ｎ）の絶対値は、それぞれ０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がより好ましく、０．１μｍ以下がさらに好ましい。上記の式中の各層のＲｔｈ_ｉは上述した記載のＲｔｈ算出の数式により求められる。
　ＳＲｔｈ_ｉを上記好ましい範囲とすることで、各反射層を透過する際に発生する位相差を低減し、斜め方向からの入射光に対してもゴーストの発生をより抑制できると考えられる。

　また、積層反射層において、反射層Ａと反射層Ｂとが直接接して構成される場合、屈折率差を小さくするために、液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）の配向方向（遅相軸方向）が界面で連続的に変化するように配置することが好ましい。上記のような配置は、例えば、反射層Ｂ上に、反射層Ａを形成する場合、棒状液晶化合物を含む塗布液を反射層Ｂ上に直接塗布し、反射層Ｂに含まれる円盤状液晶化合物による配向規制力によって、遅相軸方向が界面で連続をなすように配向させることもできる。

　本発明の第一実施態様の光学用積層体の厚みは、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましい。
　下限は特に制限されないが、例えば、１μｍ以上が挙げられ、５μｍ以上が好ましい。

　本発明の第一実施態様の光学用積層体の製造方法、光学用積層体を用いた積層光学フィルム等については後段で説明する。

〔光干渉層〕
　本発明の光学用積層体は光干渉層を含む。光干渉層の屈折率は、以下に述べる条件をみたす。
　すなわち、光干渉層に隣接する接着層の屈折率がｎＡであり、積層反射層の反射層Ａおよび反射層Ｂのうち光干渉層に隣接するほうの平均屈折率がｎＬであるときに、光干渉層の屈折率ｎＩが、
（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０３≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０３
である。
　図１に示す光学用積層体１０であれば、接着層２８の屈折率ｎＡ、反射層Ａ２１ａの平均屈折率ｎＬ、および、光干渉層２７の屈折率ｎＩが、上記関係を満たす。
　光干渉層に隣接する接着層の屈折率ｎＡ、積層反射層の反射層Ａおよび反射層Ｂのうち光干渉層に隣接するほうの平均屈折率ｎＬは、ならびに、光干渉層の屈折率ｎＩは、
　（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０２≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０２
を満たすのが好ましく、
　（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０１≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０１
を満たすのがより好ましい。
　積層反射層においては、反射層Ａおよび反射層Ｂのいずれが光干渉層と隣接してもよい。「積層反射層の反射層Ａおよび反射層Ｂのうち光干渉層に隣接するほうの平均屈折率がｎＬ」とは、反射層Ａが光干渉層に隣接している場合は、反射層Ａの平均屈折率がｎＬであり、反射層Ｂが光干渉層に隣接している場合は、反射層Ｂの平均屈折率がｎＬである。

　光干渉層の屈折率をこの範囲に設定することで、光干渉層の両面における振幅反射率を同程度の大きさにすることができる。そのため、大きな反射防止効果を得られると考えられる。
　すなわち、光学用積層体において、光干渉層が無い場合には、積層反射層の反射層と接着層とが隣接する。図１に示す光学用積層体１０であれば、反射層Ａ２１ａと接着層２８とが隣接する。両層の界面では、屈折率の差に応じた界面での反射が生じる。
　例えば、積層反射層のコレステリック液晶層（反射層）が右円偏光を反射するものである場合、左円偏光が積層反射層を不要に透過すると、この光はゴーストになる。具体的には、右円偏光が接着層側から入射した場合、積層反射層を構成する反射層は、右円偏光を接着層側に反射する。この際において、反射層（コレステリック液晶層）で反射された右円偏光は、一部が、積層反射層の反射層と接着層との界面で反射される。この反射の際に右円偏光は左円偏光に変換される。上述のように、積層反射層の反射層（コレステリック液晶層）は右円偏光を反射するので、左円偏光は透過する。この不要に透過した左円偏光が、ゴーストとなる。
　これに対し、本発明の光学用積層体は、積層反射層と接着層との間に、上述した屈折率を有する光干渉層を有する。本発明の光学用積層体は、このような光干渉層を有することにより、積層反射層と接着層との間に存在する層の界面における屈折率の差を小さくできる。具体的には、本発明の光学用積層体は、このような光干渉層を有することにより、光干渉層に隣接する反射層と光干渉層との屈折率の差、および、光干渉層と接着層との屈折率の差を小さくできる。
　本発明の光学用積層体は、これにより、反射層と接着層との間に存在する界面における界面反射を減少して、界面反射によって生じる円偏光の回転方向の変化、例えば、右円偏光が界面反射によって左円偏光に変化することを抑制することができる。界面反射によって生じる円偏光の回転方向の変化は、ゴーストの発生の原因の一つであるため、界面反射を抑制することで、ゴーストの発生を抑制できると考えられる。
　以上の点に関しては、後に仮想現実表示装置を例示して詳述する。

　なお、光干渉層、反射層、接着層の各屈折率は実施例に記載の方法を参照して測定できる。
　また、本発明において、各層の屈折率は、いずれも、波長５５０ｎｍの光における屈折率である。

　本発明の光学用積層体において、光干渉層の膜厚は、６０～１１０ｎｍ、または、２３０～３３０ｎｍの範囲である。
　上述のように、本発明の光学用積層体では、積層反射層の光干渉層に隣接する反射層と光干渉層との屈折率の差、および、光干渉層と接着層との屈折率の差が小さいので、この界面での反射を低減できる。しかしながら、両界面の間でも、多少ではあるが、界面反射を生じる。これに対して、本発明の光学用積層体は、光干渉層の膜厚を上記範囲とすることにより、両界面での反射光の位相を好適にずらして、両界面での反射光を互いに打ち消すようにできる。その結果、界面での不要な光の反射によるゴーストを、さらに低減できる。
　以上の点に関しても、後に仮想現実画像表示装置を例示して詳述する。
　なお、光干渉層の膜厚は、７５～１００ｎｍ、または、２４５～３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、８０～９５ｎｍ、または、２６０～２８５ｎｍの範囲にあることがより好ましい。

　光干渉層の形成材料には、制限はなく、『（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０３≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０３』を満たす屈折率ｎＩを得られるものであれば、公知の各種の材料が利用可能である。
　具体的には、光干渉層を形成する材料としては、モノマーを架橋したハードコート材料、光配向膜、および、液晶材料を用いたＣプレートを利用することができる。
　このうち、Ｃプレートは光学補償調節の役割も担うことができるため、より好ましい。さらにポジティブＣプレートであることがより好ましい。ここで、ポジティブＣプレートとは、Ｒｅが実質的にゼロであり、Ｒｔｈが負の値を有する位相差層である。ポジティブＣプレートは、例えば、棒状液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７－１８７７３２号公報、特開２０１６－０５３７０９号公報、および、特開２０１５－２００８６１号公報などの記載を参酌できる。
　ポジティブＣプレートは、斜めから入射した光に対して、透過光の偏光度を高めるための、光学補償層として機能する。ポジティブＣプレートは、積層光学フィルムの任意の場所に設置することができ、複数が設置されていてもよい。この場合のＣプレートのＲｅ（５５０）は、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、－１００～－１ｎｍであることが好ましく、－３０～－５ｎｍであることがより好ましい。

〔層間光配向膜用材料〕
　ここで、本発明においては、光干渉層と積層反射層との間に、層間光配向膜用材料が存在するのが好ましい。なお、層間光配向膜用材料は、光干渉層に含まれていてもよい。
　これにより光干渉層上に液晶材料を塗布した時に液晶化合物を配向させることができ、光干渉層と反射層とが隣接した構造を形成することができる。
　層間光配向膜用材料としては、一例として、特開２０２１－１４３３３６号公報に記載の光配向性ポリマーを用いることができる。
　層間光配向膜用材料は、シンナモイル基を有する化合物であることが好ましい。特に、光干渉層がＣプレートである場合には、シンナモイル基を有する化合物すなわちシンナモイル化合物が、光干渉層と積層反射層との間に存在するのが好ましい。すなわち、シンナモイル化合物は、光干渉層（好ましくはＣプレート）と積層反射層との境界近傍の領域に存在するのが好ましい。

〔ハードコート層〕
　ハードコート層としては、上記ｎIに関する要件を満たす限りは特に制限されず、公知のハードコート層を用いることができる。
　ハードコート層を形成する方法としては、架橋性モノマーを含む硬化性組成物を最外コレステリック液晶層上に塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を硬化してハードコート層とする方法が挙げられる。

　上記硬化性組成物に含まれる架橋性モノマーとしては、架橋性基を有するモノマーが挙げられる。架橋性基は、特に制限されないが、ラジカル重合性基、および、カチオン重合性基が挙げられる。
　ラジカル重合性基としては、特に制限されないが、例えば、ビニル基、ブタジエン基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、酢酸ビニル基、フマル酸エステル基、スチリル基、ビニルピロリドン基、および、マレイミド基が挙げられ、（メタ）アクリル基が好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基と、メタアクリロイル基とを含む概念を表す。
　カチオン重合性基としては、特に制限されないが、例えば、ビニルエーテル基、エポキシ基、および、オキセタニル基が挙げられる。

　架橋性基を有するモノマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を同時に用いてもよい。

　また、硬化性組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤は、光重合開始剤、および、熱重合開始剤等の公知の重合開始剤を適用できる。

　ハードコート層の屈折率は、例えば、上記硬化性組成物に含まれる架橋性モノマーの屈折率によって調節できる。
　例えば、架橋性モノマーとして分子中に芳香環等を有する架橋性モノマーを用いることで、ハードコート層の屈折率を高めることができる。一方、架橋性モノマーとして分子中に芳香環等を有さない架橋性モノマーを用いることで、ハードコート層の屈折率を低くすることができる。
　また、上記硬化性組成物に無機酸化物微粒子を混合し、ハードコート層の屈折率を調節することができる。

〔光配向膜〕
　光干渉層としては、光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向層とした、いわゆる光配向膜（光配向層）を用いることも好ましい態様である。
　光配向膜には、垂直方向または斜め方向から偏光照射する工程、または、斜め方向から非偏光照射する工程により配向規制力を付与することが好ましい。
　光配向膜を利用することで、特定液晶化合物を優れた対称性で水平配向させることが可能である。そのため、光配向膜を利用して形成された位相差層ポジティブＡプレートは、特にＩＰＳ（In-Place-Switching）モード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要無い液晶表示装置における光学補償に有用である。
　光配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６－２８５１９７号公報、特開２００７－０７６８３９号公報、特開２００７－１３８１３８号公報、特開２００７－０９４０７１号公報、特開２００７－１２１７２１号公報、特開２００７－１４０４６５号公報、特開２００７－１５６４３９号公報、特開２００７－１３３１８４号公報、特開２００９－１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号公報および特許第４１５１７４６号公報に記載のアゾ化合物、特開２００２－２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２－２６５５４１号公報および特開２００２－３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号公報および特許第４２０５１９８号公報に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３－５２０８７８号公報、特表２００４－５２９２２０号公報および特許第４１６２８５０号公報に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドまたはエステル、ならびに、特開平９－１１８７１７号公報、特表平１０－５０６４２０号公報、特表２００３－５０５５６１号公報、国際公開第２０１０/１５０７４８号、特開２０１３－１７７５６１号公報および特開２０１４－０１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物およびクマリン化合物が挙げられる。
　特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、シンナメート化合物、および、カルコン化合物が挙げられる。

〔接着層〕
　本発明の光学用積層体は、接着層を含む。
　この接着層は、本発明の光学積層体を、何らかの光学部材（光学部品）に貼着するために用いられる。例えば、本発明の光学用積層体を、後述する仮想現実表示装置の反射円偏光子として用いる場合には、接着層によって、仮想現実表示装置を構成する光学系（パンケーキレンズ）のレンズに本発明の光学用積層体を貼着する。
　接着層は、上記関係式を満たす屈折率を有するものであれば、公知の接着剤および粘着剤を適宜使うことができる。一例として、後述の積層光学フィルムで用いられている接着剤および粘着剤を、適宜、使うことができる。
　接着層の厚さには、制限はなく、必要な貼着力を得られる厚さを、接着層の形成材料に応じて、適宜、設定すればよい。

［光学用積層体の製造方法］
　本発明の光学用積層体（第一実施態様）は、公知の方法で製造でき、その方法は特に制限されない。

　例えば、第一実施態様の製造方法としては、棒状液晶化合物を含む組成物を基材上に塗布してコレステリック液晶相とした後、コレステリック液晶相の配向状態を固定化して第１のコレステリック液晶層を形成し、円盤状液晶化合物を含む組成物を第１のコレステリック液晶層上に塗布してコレステリック液晶相とした後、コレステリック液晶相の配向状態を固定化して第２のコレステリック液晶層を形成し、第１のコレステリック液晶層と同様にして第２のコレステリック液晶層上に第３のコレステリック液晶層を形成し、第２のコレステリック液晶層と同様にして第３のコレステリック液晶層上に第４のコレステリック液晶層を形成する方法が挙げられる。
　なお、上記第１のコレステリック液晶層および第３のコレステリック液晶層は、第一実施態様の反射層Ａに該当し、上記第２のコレステリック液晶層および第４のコレステリック液晶層は、第一実施態様の反射層Ｂに該当する。

　このようにして積層反射層を形成したら、積層反射層の表面に光干渉層を形成する。
　光干渉層の形成方法には、制限はなく、光干渉層の形成材料に応じて、適宜、選択すればよい。
　例えば、光干渉層が液晶化合物を用いるポジティブＣプレートである場合には、ポジティブＣプレートを構成する液晶化合物を含む組成物を調製して、この組成物を積層反射層の表面に塗布、乾燥した後、紫外線照射等によって液晶化合物を硬化することで、光干渉層を形成すればよい。
　また、光干渉層がハードコート層である場合には、ハードコート層となる重合性化合物を含む組成物を調製して、この組成物を積層反射層の表面に塗布、乾燥した後、紫外線照射等によって重合性化合物を硬化することで、光干渉層を形成すればよい。
　さらに、光干渉層が光配向膜である場合には、光配向膜を形成する化合物を含む組成物を調製して、この組成物を積層反射層の表面に塗布、乾燥した後、紫外線照射等によって重合性化合物を硬化することで、光干渉層を形成すればよい。
　なお、本例においては、積層反射層の上に光干渉層を形成しているが、逆に、先に光干渉層を形成して、この光干渉層の上に、上述した組成物を用いて反射層（コレステリック液晶層）を形成してもよい。

　さらに、この光干渉層の上に、接着層を形成して、本発明の光学用積層体とする。
　なお、接着層の形成方法には、制限はなく、接着層の形成材料に応じた公知の方法が、各種、利用可能である。従って、接着層は、塗布法によって形成しても、シート状の粘着層を貼着することで形成してもよい。

　また、本発明の光学用積層体において、接着層は、本発明の光学用積層体を利用する光学部材（光学部品）に貼着する際に形成してもよい。
　例えば、本発明の光学用積層体を用いる光学部材（光学部品）、および／または、上述のように作製した積層反射層および光干渉層の積層体の光干渉層に、接着層となる組成物を塗布し、この接着層で光学部材と積層反射層および光干渉層の積層体とを接着することで、本発明の光学用積層体に接着層を形成してもよい。あるいは、粘着剤等からなる接着層を、本発明の光学用積層体を用いる光学部材（光学部品）に設けておき、この接着層に、上述のように作製した積層反射層と光干渉層との積層体を、光干渉層側を向けて積層し、貼着することで、本発明の光学用積層体に接着層を形成してもよい。

　また、本発明の光学用積層体を反射円偏光子に用いる場合で、反射円偏光子を延伸したり、成形したりする場合には、反射円偏光子としての反射波長域が短波長側にシフトすることがある。そのため、反射波長域は、あらかじめ波長のシフトを想定して光学用積層体を製造することが好ましい。
　例えば、反射円偏光子としてコレステリック液晶相を固定化してなる層を含む光学用積層体を用いる場合、延伸および成形によって光学用積層体が引き延ばされ、コレステリック液晶相の螺旋ピッチが小さくなってしまう場合があるため、コレステリック液晶相の螺旋ピッチをあらかじめ大きく設定しておくとよい。また、延伸および成形による反射波長域の短波シフトを想定して、光学用積層体は、波長８００ｎｍの反射率が４０％以上である赤外光反射層を有することも好ましい。
　さらに、延伸および成形における延伸倍率が面内で均一でない場合は、光学用積層体の面内のそれぞれの場所で、延伸による波長シフトに応じて適切な反射波長域が選択されて光学用積層体が製造されてもよい。すなわち、光学用積層体の面内において、反射波長域が異なる領域があってもよい。また、光学用積層体の面内におけるそれぞれの場所で延伸倍率が異なることを想定して、あらかじめ反射波長域を必要な波長域よりも広くとっておくことも好ましい。

　上記では、各コレステリック液晶層上に、直接、コレステリック液晶層を形成する組成物を塗布してコレステリック液晶層を形成する方法、および、コレステリック液晶層からなる反射層に、直接、光干渉層を形成する組成物を塗布して光干渉層を形成する方法を示した。
　しかしながら、本発明の光学用積層体の製造方法は、これに制限はされず、コレステリック液晶層および／または光干渉層を、それぞれ別の基材上に塗布して形成し、例えば接着層または粘着層等の密着層（貼着層）を介して、コレステリック液晶層および光干渉層を積層してもよい。

　上記粘着層に用いる粘着剤としては、市販の粘着剤を任意に用いることができる。ここで、薄型化の観点、および、表面粗さＲａを低減する観点から、粘着剤は、厚みが２５μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以下であることがより好ましく、６μｍ以下であることがさらに好ましい。また、粘着剤は、アウトガスが生じにくいものであることが好ましい。特に、延伸および成形を行う場合、真空プロセスおよび加熱プロセスを経る場合があるが、それらの条件においてもアウトガスが出ないことが好ましい。
　上記接着層に用いる接着剤としては、市販の接着剤等を任意に用いることができ、たとえば、エポキシ樹脂系の接着剤、および、アクリル樹脂系の接着剤を用いることができる。
　接着剤は、薄型化の観点、および、光学用積層体を用いる反射円偏光子の表面粗さＲａを低減する観点から、厚みが２５μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることがさらに好ましい。また、接着剤は、接着層を薄くする観点、および、被着体に対し接着剤を均一な厚みで塗布する観点から、粘度が３００ｃＰ以下であることが好ましく、１００ｃＰ以下がより好ましい。
　また、被着体が表面凹凸を有している場合には、粘着剤および接着剤は、光学用積層体を用いる反射円偏光子の表面粗さＲａを低減する観点から、接着する層の表面凹凸を包埋できるよう、適切な粘弾性または厚みを選択することもできる。表面凹凸を包埋する観点からは、粘着剤および接着剤は、粘度が５０ｃＰ以上であることが好ましい。また、厚みは、表面凹凸の高さよりも厚いことが好ましい。
　接着剤の粘度を調節する方法としては、例えば、溶媒を含む接着剤を用いる方法が挙げられる。この場合、溶媒の比率によって接着剤の粘度を調節することができる。また、接着剤を被着体に塗布した後、溶媒を乾燥させることで、接着剤の厚みをより低減することができる。

　本発明の光学用積層体において、界面での反射を低減し、透過光の偏光度の低下を抑制する観点からは、各層の接着に用いる粘着剤または接着剤は、隣接する層との屈折率差が小さいことが好ましい。
　コレステリック液晶層は、複屈折を持つことにより進相軸方向と遅相軸方向の屈折率が異なるため、進相軸方向と遅相軸方向の屈折率を足して２で割った値をその液晶層の平均屈折率ｎ_ａｖｅとしたときに、隣接する粘着層または接着層の屈折率はｎ_ａｖｅとの差は、０．０７５以下が好ましく、０．０５以下がより好ましく、０．０２５以下がさらに好ましい。粘着剤または接着剤の屈折率は、例えば、酸化チタンの微粒子およびジルコニアの微粒子等を混合し、調節することができる。

　また、各層の間の接着層は、厚みが１００ｎｍ以下であることも好ましい。接着層の厚みが１００ｎｍ以下であると、可視域の光は屈折率差を感じにくくなり、余計な反射を抑制することができる。接着層の厚みは、５０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　厚みが１００ｎｍ以下の接着層を形成する方法としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ層）などのセラミック接着剤を貼合面に蒸着する方法があげられる。貼合部材の貼合面は、貼合前にプラズマ処理、コロナ処理および鹸化処理等の表面改質処理を施すこと、ならびに、プライマー層を付与することができる。また、貼合面が複数ある場合は、貼合面毎に接着層の種類および厚みを調節することができる。具体的には、例えば、以下（１）～（３）に示す手順で、厚みが１００ｎｍ以下である接着層を設けることができる。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合する。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、蒸着等により、厚さ１００ｎｍ以下のＳｉＯｘ層を形成する。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、例えばアルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）等を用いて行うことができる。また、形成したＳｉＯｘ層の表面にプラズマ処理を施しておくことが好ましい。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を貼合した後、仮支持体を剥離する。貼合は、例えば、１２０℃の温度で実施することが好ましい。

　各層の塗布、接着、または貼合は、ロール・トゥ・ロールで行ってもよいし、枚葉方式で行ってもよい。
　ロール・トゥ・ロール方式は、生産性を向上したり、各層の軸ずれを低減したりする観点で好ましい。
　一方、枚葉方式は、少量、多品種生産に適していること、および、上述した、接着層の厚みが１００ｎｍ以下であるような、特殊な接着方法を選択できる点で、好ましい。
　また、接着剤を被着体に塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

　本発明の光学用積層体を用いる反射円偏光子は、支持体、および配向層等を含んでいてもよいが、支持体および配向層は、後述する積層光学フィルムを作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、反射円偏光子を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学フィルムを薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、可視光線に対して透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、ならびに、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレートが好ましい。また市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム株式会社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等）を利用することもできる。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。例えば、ポリカーボネート、および、ポリエステル系のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、５５０ｎｍにおけるＲｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。また、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、後述する積層光学フィルムの製造工程において、反射円偏光子、および、その他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキング、表情認識および虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑える点で、後述する積層光学フィルムに用いる、光学用積層体を用いる反射円偏光子は、近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

［積層光学フィルム］
　本発明の積層光学フィルムは、少なくとも、反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子とをこの順で有する。
　本発明の積層光学フィルムにおいては、反射円偏光子として、上述した本発明の光学用積層体（第一実施態様）を用いる。光学用積層体（第一実施態様）の好ましい態様は上述したとおりである。

　本発明の光学用積層体、および、それを含む積層光学フィルムの好適な使用例として、本発明の積層光学フィルムを用いた仮想現実表示装置を取り上げ、本発明の積層光学フィルムの作用を詳細に説明する。
　なお、本発明の仮想現実表示装置は、後述する本発明の光学部品を含むものである。

　図３は、本発明の積層光学フィルムを用いた仮想現実表示装置の概略図である。
　図３に示す態様の仮想現実表示装置においては、視認側から順に、上記光学用積層体を用いた反射円偏光子を有する積層光学フィルム１００、レンズ２００、ハーフミラー３００、円偏光板４００、および、画像表示パネル５００が配置されている。
　また、積層光学フィルム１００においては、視認側から順に、直線偏光子、位相差層、および、反射円偏光子が配置される。積層光学フィルム１００は、反射円偏光子すなわち本発明の光学用積層体が有する接着層によって、レンズ２００に貼着されている。
　本例では、一例として、円偏光板４００は、画像表示パネル５００が出射した光（画像）を右円偏光にして透過する。また、反射円偏光子を構成する積層反射層の反射層は、右円偏光を選択的に反射するコレステリック液晶層である。
　さらに、積層光学フィルム１００において、位相差層および直線偏光子は、位相差層側から左円偏光が入射した際に、変換した直線偏光を透過するように、遅相軸および透過軸が設定されている。

　図３に示すように、画像表示パネル５００から出射した光線１０００（虚像を形成する光線１０００）は、円偏光板４００を透過して円偏光（右円偏光）となり、ハーフミラー３００を透過する。
　次いで、本発明の積層光学フィルム１００に反射円偏光子の側から入射して全反射され、ハーフミラー３００で再び反射され、再度、積層光学フィルム１００に入射する。このとき、光線１０００は、ハーフミラーで反射されたことにより、一度目に積層光学フィルム１００に入射したときの円偏光と旋回方向が逆の円偏光（左円偏光）になっている。したがって、光線１０００は、積層光学フィルム１００を透過し、ユーザーに視認される。
　さらに、光線１０００は、ハーフミラー３００で反射される際、ハーフミラーが凹面鏡の形状になっていることにより、ハーフミラー３００およびレンズ２００によって画像表示パネル５００に表示される像が拡大され、ユーザーは拡大された虚像を視認することができる。上述の仕組みは、往復光学系、または折り返し光学系などと呼ばれている。

　一方、図４は、図３に示す仮想現実表示装置において、ゴーストが発生する場合を説明するための概略図である。
　より具体的には、仮想現実表示装置において、光線２０００（ゴーストを形成する光線２０００）が一度目に積層光学フィルム１００に入射したとき、適正に反射されずに透過し、漏れ光となった場合を表す模式図である。図４に示すように、光線２０００が一度目に積層光学フィルム１００に入射したとき、反射されずに透過し、漏れ光が発生している場合、図４から分かるように、ユーザーは拡大されていない像を視認することになる。この像はゴースト等と呼ばれ、低減することが求められる。

　ここで、反射円偏光子すなわち本発明の光学用積層体は、上述のように、接着層と積層反射層との間に、光干渉層を有する。
　そのため、このゴーストを低減することができる。以下、図６および図７を参照して。詳細に説明する。なお、図６および図７では、一例として、図１に示す光学用積層体１０を例示している。

　図７に概念的に示すように、画像表示パネル５００から出射して、円偏光板４００を透過した右円偏光（光線１０００）は、レンズ２００側から入射し、接着層２８を透過して、反射層Ａ２１ａ～反射層Ｂ２４ｂによって、接着層２８に向かって反射される。
　この際に、この右円偏光（光線１０００）は、一部が、接着層２８と反射層Ａ２１ａとの界面で反射される。また、この際に右円偏光は、左円偏光に変換される。従って、この左円偏光（光線２０００）は、反射層Ａ２１ａ～反射層Ｂ２４ｂ、位相差層および直線偏光子、すなわち、積層光学フィルム１００を透過して、ゴーストとしてユーザーに視認されてしまう。

　これに対して、本発明の光学用積層体は、図６に概念的に示すように、接着層２８と反射層Ａ２１ａ（積層反射層）との間に、光干渉層２７を有する。
　上述の様に、本発明においては、光干渉層２７に隣接する接着層２８の屈折率がｎＡであり、光干渉層に隣接する反射層（反射層Ａ２１ａ）の平均屈折率がｎＬであるときに、光干渉層２７の屈折率ｎＩが、
　　（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０３≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０３
を満たす。
　そのため、本発明の光学用積層体は、積層反射層（反射層）と接着層との間に存在する層の界面における屈折率の差を小さくできる。図示例においては、積層反射層の光干渉層に隣接する反射層（反射層Ａ２１ａ）と光干渉層２７との屈折率の差、および、光干渉層２７と接着層２８との屈折率の差を小さくできる。
　本発明の光学用積層体は、これにより、接着層２８と反射層Ａ２１ａとの間に存在する界面、すなわち、反射層Ａ２１ａと光干渉層２７との界面、および、光干渉層２７と接着層２８との界面における界面反射を減少することができる。なお、図６では、図面を簡略化するために、光干渉層２７と接着層２８との界面反射のみを図示している。
　本発明の光学積層体は、このような構成を有することにより、界面反射によって生じる円偏光の旋回方向の変化、例えば、右円偏光（光線１０００）が左円偏光（光線２０００）に変化することを抑制できる。その結果、本発明の光学用積層体を、例えば、仮想現実表示装置の反射円偏光として用いることにより、ゴーストを低減することができる。

　加えて、本発明の光学用積層体において、光干渉層２７の膜厚は、６０～１１０ｎｍ、または、２３０～３３０ｎｍの範囲である。
　上述のように、本発明の光学用積層体では、光干渉層２７に隣接する反射層Ａ２１ａと光干渉層２７との屈折率の差、および、光干渉層２７と接着層２８との屈折率の差が小さいので、この界面での反射を低減できる。しかしながら、両界面の間でも、多少ではあるが、界面反射を生じる。
　これに対して、本発明の光学用積層体は、光干渉層２７の膜厚、すなわち、光を反射する界面間の距離を上記範囲とする。
　本発明においては、この構成により、反射層Ａ２１ａと光干渉層２７との界面で反射される光（光線２０００）の位相と、光干渉層２７と接着層２８との界面で反射される光（光線２０００）の位相とを、好適にずらすことができる。本発明においては、この構成により、好ましくは、反射層Ａ２１ａと光干渉層２７との界面で反射される光の位相と、光干渉層２７と接着層２８との界面で反射される光の位相とを、λ／２、ずらすことができる。
　そのため、本発明の光学用積層体によれば、両界面での反射光を互いに打ち消すようにできる。その結果、本発明の光学用積層体によれば、界面での不要な光の反射によるゴーストを、さらに低減できる。

　加えて、上記反射層Ａおよび反射層Ｂを含む積層反射層を有する本発明の積層光学フィルム１００は、高い偏光度を有している。そのため、光線が一度目に積層光学フィルム１００に入射したときの透過光の漏れ（すなわちゴースト）を低減することができる。
　また、本発明の積層光学フィルム１００は、透過光に対しても高い偏光度を有しているため、光線が二度目に積層光学フィルム１００に入射したときの透過率を高めることができ、虚像の輝度を向上させ、さらに、虚像の色味付きを抑制することができる。

　積層光学フィルム１００は、図３、および図４に示したように、レンズ等の曲面上に成形される場合がある。
　反射円偏光子として従来知られている、反射直線偏光子と１／４波長の位相差を有する位相差層とを積層した従来の光学フィルムは、透過軸、反射軸、および遅相軸等の光学軸を有するため、曲面形状に延伸および成形を行った際に光学軸が歪むことによって、透過光の偏光度が低下する。それに対し、本発明の積層光学フィルム１００は、反射円偏光子（光学用積層体）が光学軸を有さないため、延伸および成形による偏光度の低下が生じにくい。したがって、積層光学フィルム１００は、曲面形状に成形された場合であっても、偏光度の低下が生じにくい。

　本発明の積層光学フィルム１００の層構成の一例を図５に示す。
　図５に示す積層光学フィルム１００は、反射円偏光子１０３、ポジティブＣプレート１０４、位相差層１０５、および、直線偏光子１０６がこの順で配置される。上述したように、反射円偏光子１０３には、上記本発明の光学用積層体を用いる。なお、図５に示す積層光学フィルム１００は、好ましい態様としてポジティブＣプレート１０４を有しているが、本発明の積層光学フィルムは、ポジティブＣプレート１０４を有さなくてもよい。
　本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子１０３、円偏光を直線偏光に変換する位相差層１０５、および、直線偏光子１０６をこの順で有するため、反射円偏光子１０３からの漏れ光を直線偏光に変換した後、直線偏光子によって吸収することができる。そのため、透過光の偏光度を高めることができる。
　なお、積層光学フィルムを延伸または成形した際には、位相差層の遅相軸および直線偏光子の吸収軸等が歪む懸念があるが、上述のとおり、反射円偏光子は延伸および成形を行っても高い偏光度を有したままであり、反射円偏光子からの漏れ光の光量は小さいため、漏れ光の増加はわずかな量に抑えられる。

　また、本発明の積層光学フィルムは、表面粗さＲａが１００ｎｍ以下であることが好ましい。Ｒａが小さいと、例えば、積層光学フィルムを仮想現実表示装置等に使用した場合、画像の鮮鋭性を向上させることができる。本発明者らは、積層光学フィルムにおいて光が反射される際、凹凸があると、反射光の角度が歪み、像の歪みおよびボケに繋がると推定している。積層光学フィルムのＲａは、５０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以下がさらに好ましく、１０ｎｍ以下が特に好ましい。
　また、本発明の積層光学フィルムは、多数の層を積層して作製される。本発明者らの検討によれば、凹凸のある層に別の層を積層した場合、凹凸が増幅される場合があることがわかった。したがって、本発明の積層光学フィルムにおいては、全ての層について、Ｒａが小さいことが好ましい。本発明の積層光学フィルムの各層は、それぞれ、Ｒａが５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。
　また、反射像の画像鮮鋭度を高める観点では、特に、反射円偏光子のＲａが小さいことが好ましい。
　表面粗さＲａは、例えば、非接触表面・層断面形状計測システムＶｅｒｔＳｃａｎ（株式会社　菱化システム社製）を用いて測定することができる。
　Ｖｅｒｔｓｃａｎは試料からの反射光の位相を利用した表面形状計測法であるため、コレステリック液晶相を固定してなる反射層からなる反射円偏光子（上記光学用積層体）を測定する場合は、フィルム内部からの反射光が重畳してしまって表面形状を正確に測れない場合がある。この場合、表面の反射率を高めて、さらに内部からの反射を抑制するために試料の表面に金属層を形成してもよい。試料の表面に金属層を形成する方法としては、例えばスパッタ法が用いられる。スパッタする材料としては、Ａｕ、Ａｌ、およびＰｔなどが用いられる。

　本発明の積層光学フィルムは、単位面積当たりの点欠陥数が小さいことが好ましい。本発明の積層光学フィルムは多数の層を積層して作製されるため、積層光学フィルム全体として点欠陥数を小さくするためには、各層における点欠陥数も小さいことが好ましい。具体的には、各層の点欠陥数は、１平方メートルあたり、２０個以下が好ましく、１０個以下がより好ましく、１個以下がさらに好ましい。積層光学フィルム全体としては、点欠陥数は、１平方メートルあたり、１００個以下が好ましく、５０個以下がより好ましく、５個以下がさらに好ましい。
　点欠陥は、透過光の偏光度の低下、および、画像鮮鋭度の低下につながるため、少ないことが好ましい。
　ここで、点欠陥とは、異物、キズ、汚れ、膜厚変動、および、液晶化合物の配向不良等を含む。
　また、上述した点欠陥の個数は、好ましくは、サイズが１００μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、さらに好ましくは１０μｍ以上の点欠陥の個数を数えることが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内にアイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーが組み込まれる場合があり、センサーへの影響を最小限に抑えるためには、本発明の積層光学フィルムは近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

〔位相差層〕
　本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、円偏光を入射したとき、出射光をおよそ直線偏光に変換する機能を有する。例えば、可視域の波長のいずれかにおいてＲｅがおよそ１／４波長となる位相差層を用いることができる。このとき、波長５５０ｎｍにおいて面内レターデーションＲｅ（５５０）が１２０～１５０ｎｍであることが好ましく、１２５～１４５ｎｍであることがより好ましく、１３５～１４０ｎｍであることがさらに好ましい。
　また、Ｒｅがおよそ３／４波長、および、Ｒｅがおよそ５／４波長となる位相差層も、直線偏光を円偏光に変換することができるため、好ましい。

　また、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、波長に対して逆分散性を有していることが好ましい。逆分散性を有していると、可視域の広い波長範囲にわたって円偏光を直線偏光に変換することが可能になるため、好ましい。ここで、波長に対して逆分散性を有するとは、波長が大きくなるに伴い、その波長における位相差の値が大きくなることをいう。
　逆分散性を有する位相差層は、例えば、特開２０１７－０４９５７４号公報等を参照して、逆分散性を有する変性ポリカーボネート樹脂フィルム等のポリマーフィルムを一軸延伸することによって作製することができる。
　また、逆分散性を有する位相差層は、実質的に逆分散性を有していればよく、例えば、特許第０６２５９９２５号公報に開示されているように、Ｒｅがおよそ１／４波長となる位相差層と、Ｒｅがおよそ１／２波長となる位相差層を、互いの遅相軸がおよそ６０°の角をなすように積層することによっても作製することができる。このとき、１／４波長位相差層と１／２波長位相差層とがそれぞれ順分散性（波長が大きくなるに伴い、該波長における位相差の値が小さくなる）であっても、可視域の広い波長範囲にわたって円偏光を直線偏光に変換でき、実質的に逆分散性を有するとみなせることが知られている。この場合、本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子と、１／４波長位相差層と、１／２波長位相差層と、直線偏光子とをこの順で有することが好ましい。

　また、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、一様配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。例えば、棒状液晶化合物を面内方向に対し水平に一様配向させた層、および、円盤状液晶化合物を面内方向に対し垂直に一様配向させた層を用いることができる。
　さらに、例えば、特開２０２０－０８４０７０号公報等を参照して、逆分散性を有する棒状液晶化合物を一様配向させ、固定化することによって、逆分散性を有する位相差層を作製することもできる。

　また、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、厚み方向を螺旋軸として捩れ配向した液晶化合物を固定化してなる層を有することも好ましい。
　例えば、特許第０５７５３９２２号公報、および、特許第０５９６０７４３号公報等に開示されているように、厚み方向を螺旋軸として捩れ配向した棒状液晶化合物あるいは円盤状液晶化合物を固定化してなる層を有する位相差層を用いることもできる。この場合、位相差層は実質的に逆分散性を有するとみなすことができるため、好ましい。

　位相差層の厚みは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。

　本発明の積層光学フィルムにおいて、位相差層は、支持体および配向層等を含んでいてもよい。
　また、支持体および配向層は、積層光学フィルムを作製する際に剥離され、取り除かれる仮支持体であってもよい。仮支持体を用いる場合は、位相差層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学フィルムを薄型化することができ、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、可視光線に対して透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、および、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレートが好ましい。また、支持体は、市販品のセルロースアセテートフィルムを利用することもできる。市販品のセルロースアセテートフィルムとしては、例えば、富士フイルム株式会社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等が例示される。
　支持体が仮支持体である場合は、剥離時の破断を防止する観点から、引き裂き強度の高い支持体が好ましい。例えば、ポリカーボネート、および、ポリエステル系のフィルムが好ましい。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、Ｒｅ（５５０）の大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。また、支持体が上述の仮支持体として使用されるものであっても、積層光学フィルムの製造工程において、位相差層、および、その他の積層体の品質検査を行う上で、仮支持体の位相差は小さいことが好ましい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、本発明の積層光学フィルムに用いる位相差層は、近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

〔直線偏光子〕
　本発明の積層光学フィルムに用いる直線偏光子は、吸収型の直線偏光子が好ましい。吸収型の直線偏光子は、入射光のうち吸収軸方向の直線偏光を吸収し、透過軸方向の直線偏光を透過する。
　直線偏光子としては、一般的な偏光子を用いることができ、例えば、ポリビニルアルコール、および、その他の高分子樹脂に二色性物質を染着し、延伸することで配向させた偏光子でも良いし、液晶化合物の配向を利用して二色性物質を配向させた偏光子でも良い。入手性の観点、および、偏光度を高める観点では、ポリビニルアルコールをヨウ素で染色し、延伸した偏光子が好ましい。
　直線偏光子の厚みは、１０μｍ以下が好ましく、７μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。直線偏光子が薄いと、積層光学フィルムを延伸したり、成形したりした場合に、フィルムのクラックおよび破断等を防止することができる。
　また、直線偏光子の単板透過率は、４０％以上が好ましく、４２％以上がより好ましい。また、偏光度は、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましく、９９％以上がさらに好ましい。なお、本明細書において、直線偏光子の単板透過率および偏光度は、自動偏光フィルム測定装置：ＶＡＰ－７０７０（日本分光社製）を用いて測定する。
　また、直線偏光子の透過軸の方向は、位相差層によって直線偏光に変換された光の偏光軸の方向に一致していることが好ましい。例えば、位相差層が１／４波長の位相差を有する層である場合、直線偏光子の透過軸と位相差層の遅相軸とのなす角は、およそ４５°であることが好ましい。

　本発明の積層光学フィルムに用いる直線偏光子は、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層であることも好ましい。液晶化合物と二色性物質を含有する直線偏光子は、厚みを薄くすることができ、かつ、延伸および成形等を行ってもクラックおよび破断等を生じにくいため、好ましい。光吸収異方性層の厚さは、特に限定されないが、薄型化する観点から、０．１～８μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。
　液晶化合物と二色性物質を含有してなる直線偏光子は、例えば、特開２０２０－０２３１５３号公報等を参照して作製することができる。直線偏光子の偏光度を向上する観点からは、光吸収異方性層は、二色性物質の配向度が０．９５以上であることが好ましく、０．９７以上であることがより好ましい。

　光吸収異方性層を形成するための光吸収異方性層形成用組成物が含有する液晶化合物は、可視域で二色性を示さない液晶化合物が好ましい。
　液晶化合物としては、低分子液晶化合物および高分子液晶化合物のいずれも用いることができる。ここで、「低分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有さない液晶化合物のことをいう。また、「高分子液晶化合物」とは、化学構造中に繰り返し単位を有する液晶化合物のことをいう。
　高分子液晶化合物としては、例えば、特開２０１１－２３７５１３号公報に記載されているサーモトロピック液晶高分子が挙げられる。また、高分子液晶化合物は、末端に架橋性基を有していることが好ましい。高分子液晶化合物が末端に有する架橋性基としては、例えば、アクリロイル基およびメタクリロイル基等が例示される。
　液晶化合物は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。高分子液晶化合物と低分子液晶化合物を併用することも好ましい。
　液晶化合物の含有量は、本組成物中の二色性物質の含有量１００質量部に対して、２５～２０００質量部が好ましく、３３～１０００質量部がより好ましく、５０～５００質量部がさらに好ましい。液晶化合物の含有量が上記範囲内にあることで、偏光子の配向度がより向上する。

　光吸収異方性層を形成するための光吸収異方性層形成用組成物が含有する二色性物質は、特に限定されず、可視光吸収物質（二色性色素）、紫外線吸収物質、赤外線吸収物質、非線形光学物質、および、カーボンナノチューブなどが挙げられ、従来公知の二色性物質（二色性色素）を使用することができる。
　本発明においては、２種以上の二色性物質を併用してもよく、例えば、より広い波長範囲で高い偏光度を得る観点から、波長３７０～５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質と、波長５００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の二色性物質とを併用することが好ましい。

　本発明の直線偏光子が、液晶化合物と二色性物質とを含有する光吸収異方性層からなる場合、直線偏光子は、支持体、および配向層等を含んでいてもよいが、支持体および配向層は、積層光学フィルムを作製する際に剥離される仮支持体であってもよい。
　仮支持体を用いる場合は、光吸収異方性層を別の積層体に転写した後、仮支持体を剥離して取り除くことによって、積層光学フィルムを薄型化でき、さらに、仮支持体が有する位相差が、透過光の偏光度に与える悪影響を除くことができるため、好ましい。
　支持体の種類は特に制限されないが、可視光線に対して透明であることが好ましく、例えば、上記位相差層として用いられる支持体と同様の支持体を用いることができる。直線偏光子に用いられる支持体の好ましい態様は、上記位相差層として用いられる支持体の好ましい態様と同様である。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキングおよび表情認識、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、本発明の積層光学フィルムに用いる直線偏光子は近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

〔その他の機能層〕
　本発明の積層光学フィルムは、反射円偏光子、位相差層、および、直線偏光子に加え、その他の機能層を有していてもよい。

　また、仮想現実表示装置および電子ファインダー等の光学系内に組み込まれるアイトラッキング、表情認識、および、虹彩認証といった近赤外光を光源に使用した各種センサーへの影響を最小限に抑えるためには、その他機能性層は、近赤外光に対して透過性であることが好ましい。

　＜ポジティブＣプレート＞
　本発明の積層光学フィルムは、図５に示すように、さらにポジティブＣプレートを有することも好ましい。ここで、ポジティブＣプレートとは、Ｒｅが実質的にゼロであり、Ｒｔｈが負の値を有する位相差層である。
　ポジティブＣプレートは、例えば、棒状液晶化合物を垂直配向させることにより得ることができる。ポジティブＣプレートの製造方法の詳細は、例えば、特開２０１７－１８７７３２号公報、特開２０１６－０５３７０９号公報、および、特開２０１５－２００８６１号公報などの記載を参酌できる。
　ポジティブＣプレートは、斜めから入射した光に対して、透過光の偏光度を高めるための、光学補償層として機能する。ポジティブＣプレートは、積層光学フィルムの任意の場所に設置することができ、複数が設置されていてもよい。

　ポジティブＣプレートは、反射円偏光子に隣接して、または、反射円偏光子の内部に、設置してもよい。
　反射円偏光子として、例えば棒状液晶化合物を含むコレステリック液晶相を固定化してなる反射層を用いた場合、反射層は正のＲｔｈを有する。このとき、反射円偏光子に対して斜め方向から光が入射した場合、Ｒｔｈの作用により反射光および透過光の偏光状態が変化し、透過光の偏光度が低下することがある。反射円偏光子の内部、または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化をより抑制し、透過光の偏光度の低下をより抑制でき、結果としてゴーストをより抑制できるため、好ましい。
　本発明者らの検討によれば、ポジティブＣプレートは、青色光反射層に対して緑色反射層とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。この場合のポジティブＣプレートのＲｅ（５５０）は、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、－６００～－１００ｎｍであることが好ましく、－４００～－２００ｎｍであることがより好ましい。

　また、ポジティブＣプレートは、位相差層に隣接して、または、位相差層の内部に、設置してもよい。位相差層として、例えば棒状液晶化合物を固定化してなる層を用いた場合、位相差層は正のＲｔｈを有する。このとき、位相差層に対して斜め方向から光が入射した場合、Ｒｔｈの作用により透過光の偏光状態が変化し、透過光の偏光度が低下することがある。位相差層の内部、または近傍にポジティブＣプレートを有していると、斜め入射光の偏光状態の変化を抑制し、透過光の偏光度の低下を抑制できるため、好ましい。本発明者らの検討によれば、ポジティブＣプレートは位相差層に対して直線偏光子とは反対の面に設置されていることが好ましいが、その他の場所に設置されていてもよい。この場合のポジティブＣプレートのＲｅ（５５０）は、およそ１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈ（５５０）は、－９０～－４０ｎｍであることが好ましい。

　＜反射防止層＞
　本発明の積層光学フィルムは、表面に反射防止層を有することも好ましい。本発明の積層光学フィルムは、特定の円偏光を反射し、それと直交する円偏光を透過する機能を有するが、積層光学フィルムの表面における反射は、一般的に意図しない偏光の反射を含み、それにより透過光の偏光度を低下させる場合がある。そのため、積層光学フィルムは表面に反射防止層を有することが好ましい。反射防止層は、積層光学フィルムの一方の表面にのみ設置されてもよいし、両面に設置されてもよい。
　反射防止層の種類は特に制限されないが、より反射率を低下させる観点から、モスアイフィルムおよびＡＲ（Ａｎｔｉ－Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ）フィルムが好ましい。モスアイフィルム、および、ＡＲフィルムは、公知のものを用いることができる。
　また、積層光学フィルムを延伸したり、成形したりする場合には、延伸により膜厚が変動しても高い反射防止性能を維持できることから、モスアイフィルムが好ましい。さらに、反射防止層が支持体を含むものであって、延伸および成形を行う場合には、延伸および成形を容易にする観点から、上記支持体のガラス転移温度Ｔｇのピーク温度が１７０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがより好ましい。具体的には、支持体としては、例えば、ＰＭＭＡフィルム等が好ましい。

　＜第２の位相差層＞
　本発明の積層光学フィルムは、さらに第２の位相差層を有することも好ましい。例えば、反射円偏光子、位相差層、直線偏光子、および、第２の位相差層を、この順で含んでいてもよい。
　第２の位相差層は、直線偏光を円偏光に変換するものであることが好ましく、たとえば、１／４波長のＲｅを有する位相差層が好ましい。その理由を、以下で説明する。
　積層光学フィルムに対し反射円偏光子の側から入射し、反射円偏光子、位相差層、および直線偏光子を透過した光は、直線偏光となっており、その一部は直線偏光子の側の最表面で反射されて、再び反射円偏光子の側の表面から出射する。このような光は余計な反射光であり、反射光の偏光度を低下させる要因になり得るため、低減することが好ましい。そこで、直線偏光子の側の最表面での反射を抑制するため、反射防止層を積層する方法もあるが、積層光学フィルムが、ガラスおよびプラスチック等の媒体に貼合されて用いられる場合、積層光学フィルムの貼合面に反射防止層を有していても、媒体の表面における反射を抑止することはできないため、反射防止効果が得られにくい。
　一方、直線偏光を円偏光に変換する第２の位相差層を設置した場合には、直線偏光子の側の最表面に到達した光は円偏光となり、媒体の最表面で反射した際に直交する円偏光に変換される。その後、再び第２の位相差層を透過し、直線偏光子に到達したとき、光は直線偏光子の吸収軸方位の直線偏光となっており、直線偏光子で吸収される。したがって、余計な反射を防止することができる。
　余計な反射をより効果的に抑制する観点から、第２の位相差層は、実質的に逆分散性を有していることが好ましい。

　＜支持体＞
　本発明の積層光学フィルムは、さらに支持体（樹脂基材）を有していてもよい。支持体は任意の場所に設置することができ、例えば、反射円偏光子、位相差層、または直線偏光子が、仮支持体から転写して用いるフィルムである場合、その転写先として支持体を用いることができる。
　支持体の種類は特に制限されないが、可視光線に対して透明であることが好ましく、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、および、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、および、ポリメタクリレートは、好ましく例示される。また、支持体としては、市販品のセルロースアセテートフィルムを利用することもできる。市販品のセルロースアセテートフィルムとしては、例えば、富士フイルム株式会社製の「ＴＤ８０Ｕ」および「Ｚ－ＴＡＣ」等が例示される。
　また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点、および、積層光学フィルムの光学検査を容易にする観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、Ｒｅ（５５０）の大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈ（５５０）の大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。

　本発明の積層光学フィルムが、延伸および成形を行うものである場合、支持体（樹脂基材）は、損失正接ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下であることが好ましい。低温で成形が可能となる観点では、損失正接ｔａｎδのピーク温度が１５０℃以下であることが好ましく、１３０℃以下であることがさらに好ましい。

　ここで、損失正接ｔａｎδの測定方法について記載する。
　動的粘弾性測定装置（アイティー計測制御株式会社製ＤＶＡ－２００）を用いて、あらかじめ温度２５℃湿度６０％Ｒｈ雰囲気下で２時間以上調湿したフィルム試料について、下記条件において、Ｅ”（損失弾性率）とＥ’（貯蔵弾性率）を測定し、損失正接ｔａｎδ（＝Ｅ”／Ｅ’）を求める値とする。
　装置：アイティー計測制御株式会社製　ＤＶＡ－２００
　試料：５ｍｍ、長さ５０ｍｍ（ギャップ２０ｍｍ）
　測定条件：引張りモード
　測定温度：－１５０℃～２２０℃
　昇温条件：５℃／ｍｉｎ
　周波数：１Ｈｚ
　なお、一般的に光学用途においては、延伸処理がなされた樹脂基材を使用することが多く、延伸処理によって、損失正接ｔａｎδのピーク温度は高温になることが多い。例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）は、ｔａｎδのピーク温度は１８０℃以上となる。

　損失正接ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である支持体は、特に制限なく様々な樹脂基材が使用可能である。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステルおよびポリアクリル酸エステル等のアクリル系樹脂；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。中でも、市場から容易に入手できたり、透明性に優れていたりする点から、好ましくは、環状オレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、および、アクリル系樹脂であり、特に好ましくは、環状オレフィン系樹脂、および、ポリメタクリル酸エステルである。

　市販の樹脂基材としては、テクノロイＳ００１Ｇ、テクノロイＳ０１４Ｇ、テクノロイＳ０００、テクノロイＣ００１およびテクノロイＣ０００（住化アクリル販売株式会社）、ルミラーＵタイプ、ルミラーＦＸ１０およびルミラーＳＦ２０（東レ株式会社）、ＨＫ－５３Ａ（東山フィルム株式会社）、テフレックスＦＴ３（帝人デュポンフィルム株式会社）、エスシーナおよびＳＣＡ４０（積水化学工業（株））、ゼオノアフィルム（オプテス（株））、ならびに、アートンフィルム（ＪＳＲ（株））などが挙げられる。

　支持体の厚みは特に制限されないが、５～３００μｍが好ましく、５～１００μｍがより好ましく、５～３０μｍがさらに好ましい。

　また、積層光学フィルムは、上述した層以外の層を有していてもよい。例えば、上述した以外の層としては、後述する粘着剤によって形成される粘着層、後述する接着剤によって形成される接着層、および、屈折率調節層が挙げられる。
　また、反射円偏光子と粘着剤、または反射円偏光子と接着剤の間に、進相軸方向と遅相軸方向の屈折率の差が反射円偏光子よりも小さい屈折率調節層を設けてもよい。この場合、屈折率調節層はコレステリック液晶の配向状態を固定化してなる層を有することが好ましい。屈折率調節層を有することで、界面反射をより抑制でき、ゴーストの発生をより抑制することができる。また、屈折率調節層の平均屈折率は、反射円偏光子の平均屈折率よりも小さいことがより好ましい。また、屈折率調節層の反射光の中心波長は４３０ｎｍより小さいか６７０ｎｍより大きくても良く、４３０ｎｍより小さいことがより好ましい。

〔各層の接着方法〕
　本発明の積層光学フィルムは、多数の層からなる積層体である。各層は任意の接着方法で接着（貼着）することができ、例えば、粘着剤および接着剤を用いることができる。
　粘着剤としては、市販の粘着剤を任意に用いることができるが、薄型化の観点、および、積層光学フィルムの表面粗さＲａを低減する観点から、厚みが２５μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以下であることがより好ましく、６μｍ以下であることがさらに好ましい。また、粘着剤は、アウトガスが生じにくいものであることが好ましい。特に、延伸および成形を行う場合、真空プロセスおよび加熱プロセス等を経る場合があるが、それらの条件においてもアウトガスが出ないことが好ましい。
　接着剤としては、市販の接着剤等を任意に用いることができ、たとえば、エポキシ樹脂系の接着剤、および、アクリル樹脂系の接着剤等を用いることができる。
　接着剤は、薄型化の観点、および、積層光学フィルムの表面粗さＲａを低減する観点から、厚みが２５μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以下であることがより好ましく、１μｍ以下であることがさらに好ましい。また、接着剤は、接着層を薄くする観点、および、被着体に対し接着剤を均一な厚みで塗布する観点から、粘度が３００ｃＰ以下であることが好ましく、１００ｃＰ以下がより好ましく、１０ｃＰ以下がさらに好ましい。
　また、被着体が表面凹凸を有している場合には、粘着剤および接着剤は、積層光学フィルムの表面粗さＲａを低減する観点から、接着する層の表面凹凸を包埋できるよう、適切な粘弾性または厚みを選択することもできる。表面凹凸を包埋する観点からは、粘着剤および接着剤は、粘度が５０ｃＰ以上であることが好ましい。また、厚みは、表面凹凸の高さよりも厚いことが好ましい。
　接着剤の粘度を調節する方法としては、例えば、溶媒を含む接着剤を用いる方法が挙げられる。この場合、溶媒の比率によって接着剤の粘度を調節することができる。また、接着剤を被着体に塗布した後、溶媒を乾燥させることで、接着剤の厚みをより低減することができる。

　積層光学フィルムにおいて、余計な反射を低減し、透過光および反射光の偏光度の低下を抑制する観点からは、各層の接着に用いる粘着剤または接着剤は、隣接する層との屈折率差が小さいことが好ましい。具体的には、隣接する層の屈折率差は、０．１以下が好ましく、０．０５以下がより好ましく、０．０１以下がさらに好ましい。粘着剤または接着剤の屈折率は、例えば、酸化チタンの微粒子およびジルコニアの微粒子等を混合し、調節することができる。
　また、反射円偏光子、位相差層、および、直線偏光子は、面内において屈折率の異方性を有する場合があるが、面内における全ての方向において、隣接する層との屈折率差が０．０５以下であることが好ましい。そのため、粘着剤および接着剤は、面内に屈折率異方性を有するものであってもよい。

　また、各層の間の接着層は、接着層の厚みが１００ｎｍ以下であることも好ましい。接着層の厚みが１００ｎｍ以下であると、可視域の光は屈折率差を感じにくくなり、界面での反射を抑制することができる。接着層の厚みは、５０ｎｍ以下がより好ましい。厚みが１００ｎｍ以下の接着層を形成する方法としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ層）などのセラミック接着剤を貼合面に蒸着する方法があげられる。貼合部材の貼合面は、貼合前にプラズマ処理、コロナ処理、鹸化処理等の表面改質処理を施すこと、および、プライマー層を付与することができる。また、貼合面が複数ある場合は、貼合面毎に接着層の種類および厚み等を調節することができる。具体的には、例えば、以下（１）～（３）に示す手順で、厚みが１００ｎｍ以下である接着層を設けることができる。
（１）積層する層を、ガラス基材からなる仮支持体に貼合する。
（２）積層する層の表面と、積層される層の表面の両方に対し、蒸着等により、厚さ１００ｎｍ以下のＳｉＯｘ層を形成する。蒸着は、ＳｉＯｘ粉体を蒸着源とし、例えばアルバック社製の蒸着装置（型番ＵＬＥＹＥＳ）等を用いて行うことができる。また、形成したＳｉＯｘ層の表面にプラズマ処理を施しておくことが好ましい。
（３）形成されたＳｉＯｘ層同士を貼合した後、仮支持体を剥離する。貼合は、例えば、１２０℃の温度で実施することが好ましい。

　各層の塗布、接着、または貼合は、ロール・トゥ・ロールで行ってもよいし、枚葉で行ってもよい。ロール・トゥ・ロール方式は、生産性を向上したり、各層の軸ずれを低減したりする観点で好ましい。
　一方、枚葉方式は、少量、多品種生産に適していること、および、上述した接着層の厚みが１００ｎｍ以下であるような、特殊な接着方法を選択できる点で、好ましい。
　また、接着剤を被着体に塗布する方法としては、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。

〔各層の直接塗布〕
　本発明の積層光学フィルムの各層の間には、接着層を有さないことも好ましい。層を形成する際、すでに形成されている隣接層の上に直接塗布を行うことで、接着層をなくすことができる。
　さらに、隣接する層の一方、または両方が液晶化合物を含む層である場合、面内の全ての方向で屈折率差を小さくするために、液晶化合物の配向方向が界面で連続的に変化するようにすることが好ましい。例えば、液晶化合物と二色性物質を含有する直線偏光子に対して、液晶化合物を含有する位相差層を直接塗布し、直線偏光子の液晶化合物による配向規制力によって、位相差層の液晶化合物が界面で連続をなすように配向させることもできる。

〔各層の積層の順序〕
　本発明の積層光学フィルムは多数の層からなるが、それらを積層する工程の順序には特に制限がなく、任意に選択することができる。
　例えば、仮支持体と機能層からなるフィルムから、機能層を転写する場合には、転写先のフィルムの厚みが１０μｍ以上になるように積層順序を調節することで、転写時のシワおよびクラックを防止することができる。
　また、積層光学フィルムの表面粗さＲａを低減する観点からは、表面凹凸が大きい層の上に別の層を積層した場合、表面凹凸がさらに増幅される場合があるため、表面粗さＲａが小さい層から順に積層していくことが好ましい。
　また、積層光学フィルムの作製工程における品質評価の観点から、積層の順序を選択することもできる。例えば、反射円偏光子を除く層を積層し、透過光学系による品質評価を実施した後に、反射円偏光子を積層し、反射光学系での品質評価を実施してもよい。
　また、積層光学フィルムの製造歩留まりを向上させたり、コストを低減したりする観点から、積層の順序を選択することもできる。

［本発明の積層光学フィルムの応用］
　本発明の積層光学フィルムは、例えば、特許文献４～５に記載されるように、車載用ルームミラー、仮想現実表示装置、および、電子ファインダーなどに組み込む反射偏光子として用いることができる。
　特に、反射偏光子とハーフミラーとの間で光を反射させて往復させる、往復光学系を有する仮想現実表示装置および電子ファインダー等においては、本発明の積層光学フィルムは、表示画像の鮮明性を向上させる観点で、非常に有用である。また、往復光学系を有する仮想現実表示装置および電子ファインダー等は、反射偏光子の他にも、吸収型偏光子および円偏光子等の光学フィルムを有する場合があるが、本発明の積層光学フィルムに用いる部材、および、接着方法の一部を、上述の反射偏光子以外の光学フィルムにも用いることで、表示画像の鮮明性をさらに向上させることができる。

＜成形方法＞
本発明の光学用積層体および積層光学フィルムは平面の形態で用いても良いし、任意の形状の形態に成形して用いても良い。ここでは、光学用積層体および積層光学フィルムを合わせて光学フィルムと称して、成形方法を述べる。
　光学フィルムの成形方法は、光学フィルムを加熱する工程と、上記光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程と、上記光学フィルムを裁断する工程を含む。

〔光学フィルムを加熱する工程〕
　光学フィルムを加熱する方法としては、加熱した固体へ接触させることによる加熱、加熱した液体へ接触させることによる加熱、加熱した気体へ接触させることによる加熱、赤外線を照射することによる加熱、マイクロ波を照射することによる加熱等を用いることができるが、成形直前に遠隔で加熱ができる赤外線を照射することによる加熱が好ましい。

　加熱に用いる赤外線の波長は、１．０～３０．０μｍが好ましく、１．５～５μｍがより好ましく用いられる。
　ＩＲ光源としては、石英管にタングステンフィラメントを封入した近赤外ランプヒータ、および、石英管を多重化して石英管間の一部をエアで冷却する機構とした波長制御ヒータなどを用いることができる。
　また、光学フィルムの面内で温度分布を付けることで、成形中の物性値を目的に応じて制御することができる。
　温度分布を付ける方法としては、加熱に用いる赤外線の照射量分布をつける方法、冷却風の強度分布で制御する方法、モールドへの接触による冷却進行をモールドの温度および接触時間制御することで分布を付与する方法などがある。赤外線照射量分布を付ける方法としては、ＩＲ光源の配置の密度に粗密を付ける方法、および、ＩＲ光源と光学フィルムの間に赤外光に対する透過率をパターン化したフィルターを配置する方法が用いられる。透過率をパターン化したフィルターとしては、ガラスに金属を蒸着したもの、コレステリック液晶層の反射帯域を赤外化したもの、誘電体多層膜で反射帯域を赤外化したもの、および、赤外線を吸収するインクなどが用いられる。光学フィルムの温度制御は、赤外線照射の強さ、赤外線照射時間、および、赤外線照射の照度等で制御する。
　光学フィルムの温度は非接触放射温度計および熱電対等の温度測定手段を用いてモニターし、狙いの温度で成形することが可能である。

〔光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程〕
光学フィルムをモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる方法としては、成形空間の減圧、加圧が用いられる。またモールドを押し込む方法を用いることも可能である。

〔光学フィルムを裁断する工程〕
　成形した光学フィルムを任意の形状に切り出す方法としては、カッター、ハサミ、カッティングプロッター、および、レーザー裁断機などを用いることができる。
＜成形装置＞
　成形装置の一つの形態は、上方向に開口部を有するボックス１と、下方向に開口部を有するボックス２からなり、成形空間を形成するために、ボックス１の開口部とボックス２の開口部を直接もしくはその他の治具を介して合わせることで、密閉された成形空間を形成する装置が例示される。
　成形空間内には成形される形状のモールド（被着体ともいう）と成形される被成形フィルムが配置される。被成形フィルムは仕切りとして、ボックス１とボックス２からなる成形空間を２つの空間に分ける。上記モールドは被成形フィルムよりも下側のボックス１側に配置される。さらに真空成形装置は被成形フィルムを加熱するための加熱素子が複数個分散して配置される。加熱素子は成形空間内に配置しても良いし、成形空間外に配置して透明な窓を介して被成形フィルムを加熱照射しても良い。

＜光学物品＞
　本発明の光学部品は、本発明の光学積層体を含むものである。
　本発明の光学物品の一形態は、レンズと、本発明の光学用積層体または本発明の積層光学フィルムとを有する複合レンズである。レンズの片面にはハーフミラーが形成されていても良い。
　レンズとしては凸レンズ、および、凹レンズを使用することができる。凸レンズとしては両凸レンズ、平凸レンズ、および、凸メニスカスレンズを使用することができる。凹レンズとしては両凹レンズ、平凹レンズ、および、凹メニスカスレンズを使用することができる。集光光学系に使用するレンズとしては凸メニスカスレンズ、および、凹メニスカスレンズが好ましく、さらに収差を少なく抑えられる点で凹メニスカスレンズがより好ましい。
　レンズの形成材料としては、ガラス、結晶、および、プラスチック等可視光に対して透明なものを用いることができる。
　レンズの複屈折はムラおよびノイズの原因となるため、小さい方が好ましく、複屈折ゼロ材料がより好ましい。本発明の光学物品に用いられる本発明の積層光学フィルムは平面でも良いし、曲面でも良いが、像の歪みおよび収差が少ないという点で曲面が好ましい。

　本発明の光学物品のもう一つの形態は、プリズムまたは基板と、本発明の光学用積層体または本発明の積層光学フィルムとを有するものである。
　プリズムおよび基板の形成材料としては、ガラス、結晶、および、プラスチック等が例示される。これらの形成材料は、可視光に対して透明でも良いし不透明なものでも良い。プリズムおよび基板の複屈折は、ムラおよびノイズ等の原因となるため、小さい方が好ましく、複屈折がゼロである材料がより好ましい。

　以下に実施例を挙げて、本発明の特徴をさらに具体的に説明する。なお、以下に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。また、本発明の趣旨を逸脱しない限り、以下に示す構成以外の構成とすることもできる。

〔反射層用塗布液の調製〕

＜反射層用塗布液Ｒ－１＞
　下記に示す組成物を、７０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｒ－１を調製した。ここでＲは棒状液晶化合物を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　反射層用塗布液Ｒ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　１２０．９質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　２１．３質量部
・下記の棒状液晶化合物の混合物Ｘ　　　　　　　　　１００．０質量部
・下記の光重合開始剤Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
・下記のカイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　４．１８質量部
・下記の界面活性剤Ｆ１　　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　棒状液晶化合物の混合物Ｘ

　上記混合物Ｘにおいて、数値は質量％である。また、Ｒは酸素原子で結合する基である。さらに、上記の棒状液晶化合物の波長３００～４００ｎｍにおける平均モル吸光係数は、１４０／ｍｏｌ・ｃｍであった。

　カイラル剤Ａ

　界面活性剤Ｆ１

　光重合開始剤Ｂ

　カイラル剤Ａは、光によって螺旋誘起力（ＨＴＰ：Ｈｅｌｉｃａｌ　Ｔｗｉｓｔｉｎｇ　Ｐｏｗｅｒ）が減少するカイラル剤である。

＜反射層用塗布液Ｒ－２＞
　カイラル剤Ａの添加量を後段に示す表１のように変更した以外は、反射層用塗布液Ｒ－１と同様に調製した。

　表１．　棒状液晶化合物を含有する塗布液のカイラル剤量

＜反射層用塗布液Ｄ－１＞
　下記に示す組成物を、５０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｄ－１を調製した。ここでＤは円盤状液晶化合物を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　反射層用塗布液Ｄ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶化合物（Ａ）　　　　　　　　　　　　　８０質量部
・下記の円盤状液晶化合物（Ｂ）　　　　　　　　　　　　　２０質量部
・下記の重合性モノマーＥ１　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・下記の界面活性剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７）　　　３質量部
・上記カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　５．４５質量部
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　２９０質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　円盤状液晶化合物（Ａ）

　円盤状液晶化合物（Ｂ）

　重合性モノマーＥ１

　界面活性剤Ｆ２

＜反射層用塗布液Ｄ－２、３＞
　カイラル剤Ａの添加量を下記表２のように変更した以外は、反射層用塗布液Ｄ－１と同様に調製した。

　表２．　円盤状液晶化合物を含有する塗布液のカイラル剤量

＜光干渉層用塗布液ＰＡ－１＞
　下記に示す組成物を、６０℃に保温された容器中にて、攪拌、溶解させ、光干渉層用塗布液ＰＡ－１を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　光干渉層用塗布液ＰＡ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　３０１１．０質量部
・上記棒状液晶化合物の混合物Ｘ　　　　　　　　　　１００．０質量部
・下記光重合開始剤Ｃ　　　　　　　　　　　　　　　　　５．１質量部
・下記光酸発生剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０質量部
・下記親水性ポリマー　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０質量部
・下記垂直配向剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．９質量部
・下記減粘剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４．２質量部
・下記層間光配向膜用材料　　　　　　　　　　　　　　　８．０質量部
・下記安定剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　光重合開始剤Ｃ

　光酸発生剤

　親水性ポリマー

　垂直配向剤

　減粘剤

　層間光配向膜用材料

　安定剤

〔反射円偏光子１の作製〕
　仮支持体として、厚さ６０μｍのタック（トリアセチルセルロース）フィルム（富士フイルム株式会社製、ＴＧ６０）を用意した。

　先に示したタックフィルムに、上記で調製した光干渉層用塗布液ＰＡ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、８０℃で６０秒乾燥した。
　その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ）にて、７８℃で照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線ＬＥＤランプ（波長３６５ｎｍ）の光を照射して液晶化合物を硬化すると同時に、層間光配向膜用材料の開裂基を開裂させた。その後、１１５℃で２５秒加熱することで、フッ素原子を含む置換基を脱離させた。
　これにより、最表面にシンナモイル基を有し、膜厚が９０ｎｍであるポジティブＣプレート層を形成した。
　干渉膜厚計ＯＰＴＭ（大塚電子製、最小二乗法で解析）で測定した波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩは１．５７だった。Ａｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）で測定した波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈ（５５０）は－９ｎｍだった。

　次に、照度７ｍＷ／ｃｍ^２、照射量７．９ｍＪ／ｃｍ^２の偏光ＵＶ（波長３１３ｎｍ）をポジティブＣプレート側から照射した。波長３１３ｎｍの偏光ＵＶは、水銀ランプから出た紫外光を、波長３１３ｎｍに透過帯域を有するバンドパスフィルタと、ワイヤーグリッド偏光板を透過させることで得た。
　上記で調製した反射層用塗布液Ｒ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で７２秒乾燥した。その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、コレステリック液晶層からなる第一の青色光反射層（第一の光反射層）を形成した。
　光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。このとき、硬化後の第一の青色光反射層の膜厚が２．６μｍとなるように塗布厚みを調節した。

　次に、第一の青色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に、反射層用塗布液Ｄ－１をワイヤーバーコーターで塗布した。
　続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）して硬化することで、第一の青色光反射層上に第二の青色光反射層（第二の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の第二の青色光反射層の膜厚が２．０μｍとなるように塗布厚みを調節した。

　次に、第二の青色光反射層上に、反射層用塗布液Ｄ－２をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。
　その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）して硬化することで、第二の青色光反射層上に緑色光反射層（第三の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の緑色光反射層の膜厚が２．７μｍとなるように塗布厚みを調節した。

　次に、緑色光反射層上に、反射層用塗布液Ｒ－２をワイヤーバーコーターで塗布した後、１１０℃で７２秒乾燥した。
　その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ以下）にて、１００℃で、照度８０ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２のメタルハライドランプの光を照射して硬化することで、緑色光反射層上に赤色光反射層（第四の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の赤色光反射層の膜厚が３．４μｍとなるように塗布厚みを調節した。

　次に、赤色光反射層面を、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に反射層用塗布液Ｄ－３をワイヤーバーコーターで塗布した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥し、溶媒を気化させた後に１１５℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。
　その後、この塗布膜を４５℃に保持し、これに窒素雰囲気下でメタルハライドランプを用いて紫外線照射（３００ｍＪ／ｃｍ^２）して硬化することで、赤色光反射層上に黄色光反射層（第五の光反射層）を形成した。光の照射は、いずれも、コレステリック液晶層側から行った。この時、硬化後の黄色光反射層の膜厚が３．４μｍとなるように塗布厚みを調節した。

　作製した反射円偏光子１の各反射層について、反射中心波長と膜厚を表３に示す。ここで、反射中心波長とは、コレステリック液晶を用いた反射帯域を有する光反射フィルムの特性を定義するのに用いられ、フィルムが反射するスペクトルバンドの中間点を指す。具体的には、ピーク反射率に対して半値を示す短波長側の波長と長波長側の波長の平均値を計算することで得た。反射中心波長（反射光の中心波長）は、単層だけ塗布した膜を作成して確認した。膜厚はＳＥＭで確認した。

　表３．　反射円偏光子の光反射層の特性

〔反射円偏光子２～５、７～１５の作製〕
　反射円偏光子２～５、７～１５は、光干渉層の膜厚を下記表４のように変えた以外は、反射円偏光子１と同じ作製方法で作製した。
　また、反射円偏光子６は、光干渉層を設けず、ラビングしたＰＥＴフィルムの上に、反射円偏光子１と同じ条件で反射層を作製することで、光干渉層の無い反射円偏光子を作製した。

〔反射円偏光子１６の作製〕
反射円偏光子１６は、光干渉層として下記のプロセスで光配向層を形成した以外は、反射円偏光子１と同じ作製方法で作製した。

　＜光配向層の形成＞

　後述する配向層形成用塗布液ＰＡ２を、ワイヤーバーで連続的に厚さ６０μｍのタック（トリアセチルセルロース）フィルム（富士フイルム株式会社製、ＴＧ６０）上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。膜厚は８０ｎｍであった。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
（配向層形成用塗布液ＰＡ２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記重合体Ｍ－ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
・下記酸発生剤ＰＡＧ－１　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
・下記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　０．００５質量部
・キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　３６６０．００質量部
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　３６６．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　重合体Ｍ－ＰＡ－１

　酸発生剤ＰＡＧ－１

　酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ

　［反射円偏光子１７の作製］
〔反射層用塗布液Ｒ－３の調製〕
　下記に示す組成物を、７０℃に保温された容器中にて、撹拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｒ－３を調製した。ここで、Ｒは棒状液晶化合物を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　反射層用塗布液Ｒ－３
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　１２０．９質量部
・シクロヘキサノン　　　　　　　　　　　　　　　　　２１．３質量部
・下記の棒状液晶化合物Ｘ２　　　　　　　　　　　　１００．０質量部
・上記光重合開始剤Ｂ　　　　　　　　　　　　　　　　１．００質量部
・上記カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　４．１８質量部
・上記界面活性剤Ｆ１　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　棒状液晶化合物Ｘ２

〔反射層用塗布液Ｒ－４〕
　カイラル剤Ａの添加量を後段に示す表４のように変更した以外は、反射層用塗布液Ｒ－３と同様に反射層用塗布液Ｒ－４を調製した。

〔反射層用塗布液Ｄ－４〕
　下記に示す組成物を、撹拌、溶解させ、反射層用塗布液Ｄ－４を調製した。ここで、Ｄは円盤状液晶化合物を用いた塗布液を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　反射層用塗布液Ｄ－４
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の円盤状液晶化合物（Ｃ）　　　　　　　　　　　　１００質量部
・上記重合性モノマーＥ１　　　　　　　　　　　　　　　　１０質量部
・上記界面活性剤Ｆ２　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７）　　　３質量部
・上記カイラル剤Ａ　　　　　　　　　　　　　　　　　５．４５質量部
・メチレンクロライド　　　　　　　　　　　　　　　　　３４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　円盤状液晶化合物（Ｃ）

〔反射層用塗布液Ｄ－５および反射層用塗布液Ｄ－６〕
　カイラル剤Ａの添加量を下記表５のように変更した以外は、反射層用塗布液Ｄ－４と同様に、反射層用塗布液Ｄ－５および反射層用塗布液Ｄ－６を調製した。

　これらの塗布液を用いて、硬化後の膜厚が表６記載の値になるように調節した以外は、反射偏光子６と同じ方法でラビングしたＰＥＴフィルム上へ塗布を行って、反射円偏光子１７を作製した。

　作製した反射円偏光子１～１７の特性を下記表７に示す。
　表７．作製した反射円偏光子１～１７

〔積層光学フィルム１～１６の作製〕
　以下の手順で積層光学フィルムを作製した。

＜位相差層１の作製＞
　特開２０２０－０８４０７０号公報の段落０１５１～０１６３に記載の方法を参照して、逆分散性の位相差層１を作製した。
　位相差層１は、Ｒｅ（５５０）＝１４６ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝７３ｎｍであった。

＜ポジティブＣプレート２の作製＞
　特開２０１６－０５３７０９号公報の段落０１３２～０１３４に記載の方法を参照し、膜厚を調節して、ポジティブＣプレート２を作製した。ただし、支持体は、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）からトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）に変更した。
　ポジティブＣプレート２は、Ｒｅ（５５０）＝０．１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝－８０ｎｍであった。

＜直線偏光子の作製＞
　以下の手順で、直線偏光子を作製した。

（セルロースアシレートフィルム１の作製）
　－コア層セルロースアシレートドープの作製－
　下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
　コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート　　　　１００質量部
・特開２０１５－２２７９５５号公報の実施例に
　記載されたポリエステル化合物Ｂ　　　　　　　　　　　　１２質量部
・下記化合物Ｆ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　化合物Ｆ

　－外層セルロースアシレートドープの作製－
　上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
　マット剤溶液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ　Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）　　　２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　７６質量部
・メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ　　　　　　　　　１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　－セルロースアシレートフィルム１の作製－
　上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
　次いで、溶媒含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
　その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の面内レターデーションは０ｎｍであった。

　＜光配向層ＰＡ１の形成＞

　後述する配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１を、ワイヤーバーで連続的に上記セルロースアシレートフィルム１上に塗布した。塗膜が形成された支持体を１４０℃の温風で１２０秒間乾燥し、続いて、塗膜に対して偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ^２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層ＰＡ１を形成した。膜厚は０．３μｍであった。

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（配向層形成用塗布液Ｓ－ＰＡ－１）
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・上記重合体Ｍ－ＰＡ－１　　　　　　　　　　　　１００．００質量部
・上記酸発生剤ＰＡＧ－１　　　　　　　　　　　　　　５．００質量部
・上記酸発生剤ＣＰＩ－１１０ＴＦ　　　　　　　　　０．００５質量部
・キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２２０．００質量部
・メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　　　１２２．００質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

　＜光吸収異方性層Ｐ１の形成＞
　得られた配向層ＰＡ１上に、下記の光吸収異方性層形成用塗布液Ｓ－Ｐ－１をワイヤーバーで連続的に塗布した。
　次いで、塗布層Ｐ１を１４０℃で３０秒間加熱し、塗布層Ｐ１を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、９０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
　その後、ＬＥＤ灯（中心波長３６５ｎｍ）を用いて照度２００ｍＷ／ｃｍ^２の照射条件で２秒間照射することにより、配向層ＰＡ１上に光吸収異方性層Ｐ１を形成した。膜厚は１．６μｍであった。

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　光吸収異方性層形成用塗布液Ｓ－Ｐ－１の組成
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・下記二色性物質Ｄ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．２５質量部
・下記二色性物質Ｄ－２　　　　　　　　　　　　　　　０．３６質量部
・下記二色性物質Ｄ－３　　　　　　　　　　　　　　　０．５９質量部
・下記高分子液晶化合物Ｍ－Ｐ－１　　　　　　　　　　２．２１質量部
・下記低分子液晶化合物Ｍ－１　　　　　　　　　　　　１．３６質量部
・重合開始剤
　ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製）　０．２００質量部
・下記界面活性剤Ｆ－３　　　　　　　　　　　　　　０．０２６質量部
・シクロペンタノン　　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・テトラヒドロフラン　　　　　　　　　　　　　　　４６．００質量部
・ベンジルアルコール　　　　　　　　　　　　　　　　３．００質量部
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　二色性物質Ｄ－１

　二色性物質Ｄ－２

　二色性物質Ｄ－３

　高分子液晶化合物Ｍ－Ｐ－１

　低分子液晶化合物Ｍ－１

　界面活性剤Ｆ－３

＜積層光学フィルム作製のための転写＞
　積層光学フィルム作製のための転写は、以下の手順により行った。
（１）ＰＭＭＡ基材に、ＵＶ接着剤ケミシールＵ２０８４Ｂ（ケミテック株式会社製、硬化後屈折率ｎ１．６０）をワイヤーバーコーターで厚み２μｍとなるように塗布した。その上に光吸収異方性層Ｐ１を転写した。光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体の反対側がＵＶ接着剤と接するように、ラミネーターで貼り合わせた。
（２）パージボックスのなかで酸素濃度が１００ｐｐｍ以下になるまで窒素パージした後、光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体側から高圧水銀ランプの紫外線を照射して硬化した。照度は２５ｍＷ／ｃｍ^２、照射量は１０００ｍＪ／ｃｍ^２だった。
（３）最後に光吸収異方性層Ｐ１の仮支持体を剥離した。

　次に、光吸収異方性層Ｐ１に対し、上述と同様の転写の手順にて、位相差層１を転写した。ただし、位相差層１の遅相軸と、光吸収異方性層Ｐ１の吸収軸とが４５°をなすように積層した。次に、位相差層１に対し、上述と同様の転写の手順にて、ポジティブＣプレート２を転写した。
　最後に、ポジティブＣプレート２に対し、上述と同様の転写の手順にて、反射円偏光子１を転写した。このようにして、実施例１の反射円偏光子１を用いた積層光学フィルムを得た。

　反射円偏光子２～１６に関しても、同様の手順にて、積層光学フィルム２～１６を作製した。また、反射円偏光子１７に関しても、同様の手順で、積層光学フィルム２３を作製した。

〔積層光学フィルム１７の作製〕
　積層光学フィルム６の反射円偏光子６側の面に、屈折率１．５７、膜厚９０ｎｍのハードコート層を塗布法で形成することで光干渉層を形成した。ハードコート層のＲｔｈ（５５０）は０ｎｍであった。ハードコート層塗布液の組成および塗布プロセスを以下に示す。

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（ハードコート層用塗布液ＨＣ－１）
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・重合性化合物１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２質量部
（１０官能ウレタンアクリレート（日本合成化学製ＵＶ－１７００Ｂ））
・重合性化合物２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８質量部
（フルオレン化合物（大阪ガスケミカル社製オグソールＥＡ０２００））
・光重合開始剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５質量部
（オキシムエステル系（ＢＡＳＦジャパン製イルガキュアＯＸＥ０１））
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　８００．００質量部
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　先に示した積層光学フィルム６の反射円偏光子６側の面に上記で調節したハードコート層用塗布液ＨＣ－１をワイヤーバーコーターで塗布した後、８０℃で６０秒乾燥した。
　その後、低酸素雰囲気下（１００ｐｐｍ）にて、７８℃で照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線ＬＥＤランプ（波長３６５ｎｍ）の光を照射して重合性化合物を硬化させた。
　これにより、最表面にハードコート材料からなる膜厚９０ｎｍの光干渉層を有する積層光学フィルム１７を作製した。

〔積層光学フィルム１８～２２の作製〕
　積層光学フィルム１７と同じ作成手順で、光干渉層を形成した。ただし、ハードコート層用塗布液ＨＣ－１の重合性化合物１と重合性化合物２との比率を変更することで、ハードコート層の屈折率を変更した。
　積層光学フィルム６の反射円偏光子６側の面に、屈折率１．５５、膜厚９０ｎｍのハードコート層を塗布し、積層光学フィルム１８とした。同様に、屈折率１．５３、膜厚９０ｎｍのハードコート層を塗布法で形成し、積層光学フィルム１９とした。同様に、屈折率１．５１、膜厚９０ｎｍのハードコート層を塗布法で形成し、積層光学フィルム２０とした。同様に、屈折率１．５６、膜厚９０ｎｍのハードコート層を塗布法で形成し、積層光学フィルム２１とした。同様に、屈折率１．５４、膜厚９０ｎｍのハードコート層を塗布法で形成し、積層光学フィルム２２とした。いずれのハードコート層も、Ｒｔｈ（５５０）は０ｎｍであった。

〔積層光学フィルム２４の作製〕
　積層光学フィルム１７と同じ作成手順で、積層光学フィルム２３の反射円偏光子１７側の面に、屈折率１．５７、膜厚９０ｎｍのハードコート層を塗布法で形成し、積層光学フィルム２４とした。

〔成形方法〕
　作製した積層光学フィルムを曲面形状に成形した。
　積層光学フィルム１を成形装置にセットした。
　成形装置内の成形空間は積層光学フィルム１で仕切られたボックス１とボックス２からなり、積層光学フィルム１の下側にあるボックス１に、モールドとして凸面側にアルミ蒸着を施したＴｈｏｒｌａｂ社製凸メニスカスレンズＬＥ１０７６－Ａ（直径２インチ、焦点距離１００ｍｍ、凹面側の曲率半径６５ｍｍ）を凹面が上になるように配置した。この際、積層光学フィルム１の反射円偏光子側がモールド側になるように配置した。
　また、積層光学フィルム１の上側にあるボックス２には、上部に透明な窓を設置し、この外側に積層光学フィルム１を加熱するためのＩＲ光源を設置した。
　ＩＲ光源と積層光学フィルム１の間に、波長２．２μｍから波長３．０μｍの赤外線を反射率約５０％で反射するコレステリック液晶層からなるパターン赤外線反射フィルターを配置した。パターン赤外線反射フィルターのパターンは、ドーナツ形であり、直径２インチの円形状の赤外線反射フィルターの中心部を直径１インチでくりぬいたものである。この際、真上から見たときに、パターン赤外線反射フィルターの中心部が、モールドの中心部に来るように配置した。
　次に、真空ポンプでボックス１内、ボックス２内をそれぞれ０．１気圧以下となるように真空引きした。
　次に、積層光学フィルム１を加熱する工程として、赤外線を照射し、積層光学フィルム１の中心部が１０８℃、端部が９９℃となるまで加熱した。支持体として用いたＰＭＭＡフィルムのガラス転移温度Ｔｇは１０５℃であるため、成形中、中心部が伸びやすく、端部が伸びにくい状態になることを狙った。
　次に、積層光学フィルム１をモールドに押し付け、モールドの形状に沿って変形させる工程として、上記ボックス２にガスボンベからガスを流入させて３００ｋＰａに加圧し、積層光学フィルム１をモールドに圧着させた。最後に積層光学フィルム１を、モールドであるレンズから取り外した。これにより、曲面に成形された積層光学フィルム１を得た。

　積層光学フィルム２～２２、２４に関しても、同様の手順にて、曲面に成形した。

〔ゴーストの評価〕
［仮想現実表示装置の作製］
　往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ　ＶＲ　Ｇｌａｓｓ」を分解し、複合レンズを全て取り出した。
　代わりに積層した積層光学フィルム１を貼合した複合レンズ１を本体に組み込み、さらに複合レンズ１と目の間に積層光学フィルム１の光吸収異方性層Ｐ１側が目側に来るように設置することで、実施例１の仮想現実表示装置を作製した。
　積層光学フィルム１と複合レンズ１との貼合は、光干渉層が複合レンズ１と対面するように、貼着剤（綜研化学社製、ＳＫ２０５７）によって行った。この貼着剤が、本発明の光学用積層体における接着層となる。
　なお、この時、積層光学フィルム１（実施例１）をレンズに設置する時に用いた接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＡは１．４９、光反射層（反射層Ａ（反射層Ａ２１ａ）に相当）の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎＬは１．６３だった。これらの値の積の平方根（（ｎＡ×ｎＬ）^１／２）は１．５６であり、光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩ（１．５７）との屈折率差は０．０１だった。

　また、積層光学フィルム２～２０、２４に関しても、同様に、複合レンズ１と貼合して仮想現実表示装置の本体に組み込み、実施例２～１３、１６および比較例１～７の仮想現実表示装置を作製した。
　積層光学フィルム２１および２２に関しては、貼着剤をリンテック社製の粘着剤（ＮＣＦ－Ｄ６９２）に変更した以外は同様に、複合レンズ１と貼合して仮想現実表示装置の本体に組み込み、実施例１４および１５の仮想現実表示装置を作製した。
　なお、実施例２～９、実施例１１、比較例１、および、比較例３～６も同様に光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩは１．５７であり、屈折率差は０．０１だった。
　また、実施例１０（反射偏光子１６）の光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩは１．５６であり、屈折率差は０．００だった。
　また、実施例１２の光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩは１．５５であり、屈折率差は０．０１だった。また、実施例１３の光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩは１．５３であり、屈折率差は０．０３だった。一方、比較例７の光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩは１．５１であり、屈折率差は０．０５だった。
　積層光学フィルム２１（実施例１４）をレンズに設置する時に用いた接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＡは１．４６、光反射層（反射層Ａ（反射層Ａ２１ａ）に相当）の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎＬは１．６３だった。これらの値の積の平方根（（ｎＡ×ｎＬ）^１／２）は１．５４であり、光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩ（１．５６）との屈折率差は０．０２だった。また、実施例１５の光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩは１．５４であり、屈折率差は０．００だった。
　さらに、積層光学フィルム２４（実施例１６）をレンズに設置する時に用いた接着層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＡは１．４９、光反射層（反射層Ａ（反射層Ａ２１ａ）に相当）の波長５５０ｎｍにおける平均屈折率ｎＬは１．６６（Δｎは０．２２５）だった。これらの値の積の平方根（（ｎＡ×ｎＬ）^１／２）は１．５７であり、光干渉層の波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎＩ（１．５７）との屈折率差は０．００だった。
　各実施例および比較例と、使用する反射円偏光子および使用する積層光学フィルムとの関係を、下記の表８に示す。

　ここで、接着層の屈折率は、干渉膜厚計ＯＰＴＭ（大塚電子製、最小二乗法で解析）で測定した。また光反射層の平均屈折率は次に述べる方法で測定した。
　まず、接着層に隣接する光反射層を剥離して取得し、その光反射層の断面をＳＥＭで観察して螺旋ピッチＰを取得した。螺旋ピッチＰはＳＥＭ像に現れる明暗の縞模様の２周期分である。次に反射スペクトル（日本分光社製、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ－７５０）を測定し、光反射層の反射帯域の短波長側半値波長λｌと長波長側半値波長λｈを取得した。螺旋ピッチＰと半値波長λｌ、λｈを用いることで、光反射層の二方位の屈折率ｎｌ＝λｌ／Ｐ、ｎｈ＝λｈ／Ｐを得ることができる。これから光反射層の平均屈折率ｎＩ＝（ｎｌ＋ｎｈ）／２を得た。

＜ゴーストの評価＞
　作製した仮想現実表示装置において、画像表示パネルに白黒のチェッカーパターンを表示させ、ゴースト視認性を目視にて、下記五段階で評価した。
Ａ；全く見えない。
Ｂ；僅かに見えるが気にならない。
Ｃ；弱いゴーストが見える。
Ｄ；やや強いゴーストが見える。
Ｅ；強いゴーストが見える。
　評価結果を表９に示す。
　その結果、実施例１～１６の仮想現実表示装置においては、レンズの全領域にわたって、ゴーストは気にならないレベルか、弱かった。一方、比較例１～７の仮想現実表示装置においては、チェッカーパターンの黒表示領域に、一部、白表示領域の光がやや強いゴーストとして視認された。

　表８．　実施例、比較例に用いる反射円偏光子の種類

　表９．　ゴーストの評価結果

　仮想現実表示装置および電子ファインダー等に好適に利用可能である。

　１０，１１　光学用積層体
　２１ａ，２２ａ，２３ａ　反射層Ａ
　２１ｂ，２２ｂ，２４ｂ　反射層Ｂ
　２５　第１積層反射層
　２６　第２積層反射層
　２７　光干渉層
　２８　接着層
　１００　積層光学フィルム
　１０３　反射円偏光子
　１０４　ポジティブＣプレート
　１０５　位相差層
　１０６　直線偏光子
　３００　ハーフミラー
　４００　円偏光子
　５００　画像表示パネル
　１０００　光線（虚像を形成する光線）
　２０００　光線（ゴーストを形成する光線）

Claims

　接着層と、光干渉層と、２層以上の積層反射層とを有する、光学用積層体であって、
　前記積層反射層は、実質的に棒状液晶化合物からなる第１液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を少なくとも１層以上含み、実質的に円盤状液晶化合物からなる第２液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を含まない反射層Ａと、
　実質的に円盤状液晶化合物からなる前記第２液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を少なくとも１層以上含み、実質的に棒状液晶化合物からなる前記第１液晶化合物を用いて形成されたコレステリック液晶層を含まない反射層Ｂとを、１つずつ含み、
　前記２層以上の積層反射層のうち、積層方向に隣り合う２つの前記積層反射層において、前記反射層Ａ同士が対向している場合には、隣り合う２つの前記積層反射層に含まれる前記反射層Ａ同士の反射光の中心波長が異なり、
　前記２層以上の積層反射層のうち、積層方向に隣り合う２つの前記積層反射層において、前記反射層Ｂ同士が対向している場合には、隣り合う２つの前記積層反射層に含まれる前記反射層Ｂ同士の反射光の中心波長が異なり、
　前記接着層と前記光干渉層と前記積層反射層とがこの順に隣接し、
　前記接着層の屈折率がｎＡであり、前記積層反射層の前記反射層Ａおよび前記反射層Ｂのうち前記光干渉層に隣接するほうの平均屈折率がｎＬであるとき、前記光干渉層の屈折率ｎＩが、（ｎＡ×ｎＬ）^１／２－０．０３≦ｎＩ≦（ｎＡ×ｎＬ）^１／２＋０．０３であり、
　前記光干渉層の膜厚が、６０ｎｍ～１１０ｎｍ、もしくは２３０ｎｍ～３３０ｎｍである、光学用積層体。
　前記反射層Ａと、前記反射層Ｂとが前記光学用積層体の積層方向において交互に配置される、請求項１に記載の光学用積層体。
　前記積層反射層の合計層数が２０以下である、請求項１に記載の光学用積層体。
　波長４００～７００ｎｍの光の反射率が４０％以上５０％未満である、請求項１に記載の光学用積層体。
　前記積層反射層が、１つの前記反射層Ａと１つの前記反射層Ｂとが直接接して構成されるか、または、１つの前記反射層Ａと、１つの前記反射層Ｂと、前記反射層Ａと前記反射層Ｂとの間に配置される密着層とから構成される、請求項１に記載の光学用積層体。
　前記光干渉層が光配向膜である請求項１に記載の光学用積層体。
　前記光干渉層がＣプレートである請求項１に記載の光学用積層体。
　前記Ｃプレートと積層反射層の間にシンナモイル基を有する化合物が存在する請求項７に記載の光学用積層体。
　前記光干渉層がハードコート層である請求項１に記載の光学用積層体。
　少なくとも反射円偏光子と、円偏光を直線偏光に変換する位相差層と、直線偏光子と、をこの順で有する積層光学フィルムであって、
　前記反射円偏光子が請求項１～９のいずれか１項に記載の光学用積層体である、積層光学フィルム。
　前記直線偏光子が、少なくとも液晶化合物と二色性物質とを含む光吸収異方性層を含む、請求項１０に記載の積層光学フィルム。
　ポジティブＣプレートをさらに含む、請求項１０に記載の積層光学フィルム。
　表面に反射防止層をさらに含む、請求項１０に記載の積層光学フィルム。
　前記反射防止層が、モスアイフィルムまたはＡＲフィルムである、請求項１３に記載の積層光学フィルム。
　損失正接ｔａｎδのピーク温度が１７０℃以下である樹脂基材を含む、請求項１０に記載の積層光学フィルム。
　請求項１に記載の光学用積層体を含む、光学物品。
　請求項１６に記載の光学物品を含む、仮想現実表示装置。