WO2024070771A1 - 積層体、仮想現実表示装置 - Google Patents
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Abstract
本発明は、２層のコレステリック液晶層を含み、塗布処理によって形成されるコレステリック液晶層の反射率が高い積層体の提供を課題とする。本発明の積層体は、第１液晶化合物を含む第１組成物を用いて形成された第１コレステリック液晶層と、上記第１コレステリック液晶層上に、第２液晶化合物を含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層とを含む積層体であって、第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第１液晶化合物と、第２液晶化合物とが異なる化合物であって、コレステリック液晶相に由来する明線および暗線のうち、第１コレステリック液晶層側とは最も離れた位置の暗線を表層暗線とし、第２コレステリック液晶層の厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線を中間暗線とした際に、中間暗線の幅に対する表層暗線が存在する領域幅の比が、１．２以下である。
Description
本発明は、積層体、および、積層体を含む仮想現実表示装置に関する。
液晶化合物を含む組成物を用いて形成された層を２層以上有する積層体は、種々の用途に使用されている。上記のような積層体は、積層体に含まれる液晶化合物に由来する光学特性から、光学用途に用いられる場合が多い。
例えば、特許文献１では、第１の光学異方性層と第１の光学異方性層の表面に設けられた第２の光学異方性層を含み、第１の光学異方性層は、液晶化合物を配向させ重合させて固定化された層であり、液晶化合物の第２の光学異方性層と接している側の表面チルト角が５～８０°である光学フィルム（積層体）が開示されている。
例えば、特許文献１では、第１の光学異方性層と第１の光学異方性層の表面に設けられた第２の光学異方性層を含み、第１の光学異方性層は、液晶化合物を配向させ重合させて固定化された層であり、液晶化合物の第２の光学異方性層と接している側の表面チルト角が５～８０°である光学フィルム（積層体）が開示されている。
一方で、上記のような積層体において、コレステリック液晶化合物の配向方向を固定化してなる層（コレステリック液晶層）を用いる態様も知られている。
コレステリック液晶層を２層以上有する積層体は、コレステリック液晶層の特性を用いた素子として用いられる場合がある。
このような場合、特定の波長領域の電磁波の反射率（以下、単に「反射率」ともいう。）が高いことが求められる。
このような場合、特定の波長領域の電磁波の反射率（以下、単に「反射率」ともいう。）が高いことが求められる。
また、上記のようなコレステリック液晶層を２層以上有する積層体の製造は、製造工程を削減できる点で、液晶化合物を含む組成物を順次塗布して行われることが好ましい。すなわち、液晶化合物を含む組成物により一方のコレステリック液晶層を形成し、形成した一方のコレステリック液晶層に対して、液晶化合物を含む組成物を塗布して他方のコレステリック液晶層を形成することが好ましい。
本発明者らが特許文献１に記載の方法を参考にし、液晶化合物を含む組成物を順次塗布してコレステリック液晶層を２層有する積層体を製造したところ、得られた積層体の反射率が昨今求められる水準に達しておらず、改善が必要であることを知見した。
そこで、本発明は、２層のコレステリック液晶層を含み、塗布処理によって形成されるコレステリック液晶層の反射率が高い積層体の提供を課題とする。
また、本発明は、積層体を用いた仮想現実表示装置の提供も課題とする。
また、本発明は、積層体を用いた仮想現実表示装置の提供も課題とする。
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明を完成させるに至った。すなわち、以下の構成により上記課題が解決されることを見出した。
〔１〕 第１液晶化合物を含む第１組成物を用いて形成された第１コレステリック液晶層と、
上記第１コレステリック液晶層上に、第２液晶化合物を含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層とを含む積層体であって、
上記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
上記第１液晶化合物と、上記第２液晶化合物とが異なる化合物であって、
走査型電子顕微鏡で上記第２コレステリック液晶層の断面観察を行って観察される、上記第２コレステリック液晶層のコレステリック液晶相に由来する明線および暗線のうち、上記第１コレステリック液晶層側とは最も離れた位置の暗線を表層暗線とし、上記第２コレステリック液晶層の厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線を中間暗線とした際に、
上記第２コレステリック液晶層の厚み方向における上記中間暗線の幅に対する、上記第２コレステリック液晶層の厚み方向において上記表層暗線が存在する領域幅の比が、１．２以下である、積層体。
〔２〕 上記第２コレステリック液晶層の厚み方向における上記中間暗線の幅に対する、上記第２コレステリック液晶層の厚み方向において上記中間暗線が存在する領域幅の比が、３．０以下である、〔１〕に記載の積層体。
〔３〕 第１液晶化合物を含む第１組成物を用いて形成された第１コレステリック液晶層と、
上記第１コレステリック液晶層上に、第２液晶化合物を含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層とを含む積層体であって、
上記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
上記第１液晶化合物と、上記第２液晶化合物とが異なり、
上記第２コレステリック液晶層が界面活性剤を含み、
上記第２コレステリック液晶層の上記第１コレステリック液晶層側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である上記界面活性剤の凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない、積層体。
〔４〕 上記界面活性剤が、第１界面活性剤および第２界面活性剤を含む、〔３〕に記載の積層体。
〔５〕 上記第１界面活性剤が、上記第１組成物に含まれる界面活性剤であって、
上記第１界面活性剤が液晶性であって、液晶相から等方性液相への相転移温度が１００℃以上であるか、
上記第１界面活性剤が非液晶性であって、融点が９０℃以上である、〔４〕に記載の積層体。
〔６〕 上記第１界面活性剤が芳香環構造を４環以上有する、〔４〕または〔５〕に記載の積層体。
〔７〕 上記第１界面活性剤の分子量が５０００以下である、〔４〕～〔６〕のいずれか一つに記載の積層体。
〔８〕 上記第１界面活性剤が、後述する式（１１）で表される、〔４〕～〔７〕のいずれか一つに記載の積層体。
〔９〕 上記第２液晶化合物が棒状液晶化合物である、〔３〕～〔８〕のいずれか一つに記載の積層体。
〔１０〕 〔１〕～〔９〕のいずれか１つに記載の積層体を含む、仮想現実表示装置。
上記第１コレステリック液晶層上に、第２液晶化合物を含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層とを含む積層体であって、
上記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
上記第１液晶化合物と、上記第２液晶化合物とが異なる化合物であって、
走査型電子顕微鏡で上記第２コレステリック液晶層の断面観察を行って観察される、上記第２コレステリック液晶層のコレステリック液晶相に由来する明線および暗線のうち、上記第１コレステリック液晶層側とは最も離れた位置の暗線を表層暗線とし、上記第２コレステリック液晶層の厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線を中間暗線とした際に、
上記第２コレステリック液晶層の厚み方向における上記中間暗線の幅に対する、上記第２コレステリック液晶層の厚み方向において上記表層暗線が存在する領域幅の比が、１．２以下である、積層体。
〔２〕 上記第２コレステリック液晶層の厚み方向における上記中間暗線の幅に対する、上記第２コレステリック液晶層の厚み方向において上記中間暗線が存在する領域幅の比が、３．０以下である、〔１〕に記載の積層体。
〔３〕 第１液晶化合物を含む第１組成物を用いて形成された第１コレステリック液晶層と、
上記第１コレステリック液晶層上に、第２液晶化合物を含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層とを含む積層体であって、
上記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
上記第１液晶化合物と、上記第２液晶化合物とが異なり、
上記第２コレステリック液晶層が界面活性剤を含み、
上記第２コレステリック液晶層の上記第１コレステリック液晶層側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である上記界面活性剤の凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない、積層体。
〔４〕 上記界面活性剤が、第１界面活性剤および第２界面活性剤を含む、〔３〕に記載の積層体。
〔５〕 上記第１界面活性剤が、上記第１組成物に含まれる界面活性剤であって、
上記第１界面活性剤が液晶性であって、液晶相から等方性液相への相転移温度が１００℃以上であるか、
上記第１界面活性剤が非液晶性であって、融点が９０℃以上である、〔４〕に記載の積層体。
〔６〕 上記第１界面活性剤が芳香環構造を４環以上有する、〔４〕または〔５〕に記載の積層体。
〔７〕 上記第１界面活性剤の分子量が５０００以下である、〔４〕～〔６〕のいずれか一つに記載の積層体。
〔８〕 上記第１界面活性剤が、後述する式（１１）で表される、〔４〕～〔７〕のいずれか一つに記載の積層体。
〔９〕 上記第２液晶化合物が棒状液晶化合物である、〔３〕～〔８〕のいずれか一つに記載の積層体。
〔１０〕 〔１〕～〔９〕のいずれか１つに記載の積層体を含む、仮想現実表示装置。
本発明によれば、２層のコレステリック液晶層を含み、塗布処理によって形成されるコレステリック液晶層の反射率が高い積層体を提供できる。
また、本発明によれば、積層体を用いた仮想現実表示装置も提供できる。
また、本発明によれば、積層体を用いた仮想現実表示装置も提供できる。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされる場合があるが、本発明はそのような実施態様に制限されない。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされる場合があるが、本発明はそのような実施態様に制限されない。
以下、本明細書における各記載の意味を表す。
本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、第１液晶化合物と、第２液晶化合物とが異なる化合物であるという場合、第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が棒状液晶化合物である態様、および、第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が第１液晶化合物とは異なる円盤状液晶化合物である態様を含むものとする。
本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、第１液晶化合物と、第２液晶化合物とが異なる化合物であるという場合、第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が棒状液晶化合物である態様、および、第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が第１液晶化合物とは異なる円盤状液晶化合物である態様を含むものとする。
［積層体の第１実施態様］
本発明の積層体の第１実施態様は、第１液晶化合物Ａを含む第１組成物Ａを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ａと、上記第１コレステリック液晶層Ａ上に、第２液晶化合物Ａを含む第２組成物Ａを用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層Ａとを含む積層体である。ここで、上記第１組成物Ａに含まれる第１液晶化合物Ａが、円盤状液晶化合物であって、上記第１組成物Ａに含まれる第１液晶化合物Ａと、上記第２組成物Ａに含まれる第２液晶化合物Ａとが異なる化合物である。
また、走査型電子顕微鏡で上記第２コレステリック液晶層Ａの断面観察を行って観察される、上記第２コレステリック液晶層Ａのコレステリック液晶相に由来する明線および暗線のうち、上記第１コレステリック液晶層Ａ側とは最も離れた位置の暗線を表層暗線とし、上記第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線を中間暗線とした際に、上記第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向における上記中間暗線の幅に対する、上記第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向において上記表層暗線が存在する領域幅の比が、１．２以下である。
なお、コレステリック液晶層とは、コレステリック配向した液晶化合物を固定化してなる層を指す。
本発明の積層体の第１実施態様は、第１液晶化合物Ａを含む第１組成物Ａを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ａと、上記第１コレステリック液晶層Ａ上に、第２液晶化合物Ａを含む第２組成物Ａを用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層Ａとを含む積層体である。ここで、上記第１組成物Ａに含まれる第１液晶化合物Ａが、円盤状液晶化合物であって、上記第１組成物Ａに含まれる第１液晶化合物Ａと、上記第２組成物Ａに含まれる第２液晶化合物Ａとが異なる化合物である。
また、走査型電子顕微鏡で上記第２コレステリック液晶層Ａの断面観察を行って観察される、上記第２コレステリック液晶層Ａのコレステリック液晶相に由来する明線および暗線のうち、上記第１コレステリック液晶層Ａ側とは最も離れた位置の暗線を表層暗線とし、上記第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線を中間暗線とした際に、上記第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向における上記中間暗線の幅に対する、上記第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向において上記表層暗線が存在する領域幅の比が、１．２以下である。
なお、コレステリック液晶層とは、コレステリック配向した液晶化合物を固定化してなる層を指す。
積層体の第１実施態様について、図を参照しながら説明する。
図１に示すように、積層体１００は、第１コレステリック液晶層Ａ１０と、第２コレステリック液晶層Ａ１２とから構成されている。第１コレステリック液晶層Ａ１０は、第１液晶化合物Ａを含む第１組成物Ａを用いて形成されたものである。また、第２コレステリック液晶層Ａ１２は、第２液晶化合物Ａを含む第２組成物Ａを用いて、第１コレステリック液晶層Ａ１０上に塗布処理により形成されたものである。
図１に示すように、積層体１００は、第１コレステリック液晶層Ａ１０と、第２コレステリック液晶層Ａ１２とから構成されている。第１コレステリック液晶層Ａ１０は、第１液晶化合物Ａを含む第１組成物Ａを用いて形成されたものである。また、第２コレステリック液晶層Ａ１２は、第２液晶化合物Ａを含む第２組成物Ａを用いて、第１コレステリック液晶層Ａ１０上に塗布処理により形成されたものである。
一般的に、走査型電子顕微鏡にてコレステリック液晶層の断面観察を行うと、コレステリック液晶相に由来して、厚さ方向に、明線と暗線とが交互に積層した縞模様が観察される。図１の第１コレステリック液晶層Ａ１０および第２コレステリック液晶層Ａ１２においても、走査型電子顕微鏡による断面観察において、上記縞模様が観察される。
図２において、第２コレステリック液晶層Ａ１２の第１コレステリック液晶層Ａ１０側とは反対側近傍の走査型電子顕微鏡による断面拡大図の模式図を示す。図２を用いて、中間暗線の幅および表層暗線が存在する領域幅について説明する。
第２コレステリック液晶層Ａ１２では、コレステリック液晶相に由来する明線２６と、暗線２８とが、第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向において交互に存在する状態が観察される。なお、第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向の中間位置を、図２中では中間位置Ｍとして示す。
ここで、中間位置Ｍに最も近接する位置の暗線２８を中間暗線２８ｂとし、第１コレステリック液晶層１０Ａ側とは最も離れた位置の暗線２８を表層暗線２８ａとする。図２において、表層暗線２８ａは、第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向に振幅を有する波状の形状で配置されている。
第２コレステリック液晶層Ａ１２は、塗布処理により形成される層である。一般的に、塗布処理によりコレステリック液晶層を形成する場合、空気界面側における液晶化合物の配向制御が十分にできない場合が多い。そのため、空気界面側における、コレステリック液晶相に由来する明線および暗線が波状の形状になりやすい。それに対して、塗布処理によりコレステリック液晶層を形成する場合、コレステリック液晶層の厚み方向の中間位置では液晶化合物が配向されやすく、結果として、直線状の明線および暗線が形成されやすい。
第２コレステリック液晶層Ａ１２では、コレステリック液晶相に由来する明線２６と、暗線２８とが、第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向において交互に存在する状態が観察される。なお、第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向の中間位置を、図２中では中間位置Ｍとして示す。
ここで、中間位置Ｍに最も近接する位置の暗線２８を中間暗線２８ｂとし、第１コレステリック液晶層１０Ａ側とは最も離れた位置の暗線２８を表層暗線２８ａとする。図２において、表層暗線２８ａは、第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向に振幅を有する波状の形状で配置されている。
第２コレステリック液晶層Ａ１２は、塗布処理により形成される層である。一般的に、塗布処理によりコレステリック液晶層を形成する場合、空気界面側における液晶化合物の配向制御が十分にできない場合が多い。そのため、空気界面側における、コレステリック液晶相に由来する明線および暗線が波状の形状になりやすい。それに対して、塗布処理によりコレステリック液晶層を形成する場合、コレステリック液晶層の厚み方向の中間位置では液晶化合物が配向されやすく、結果として、直線状の明線および暗線が形成されやすい。
図２に示すように、幅Ｗｂが、上記中間暗線２８ｂの幅に該当する。
また、図２に示すように、領域幅Ｗｒａが、上記表層暗線２８ａが第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向において存在する領域の幅に該当する。領域幅Ｗｒａは、走査型電子顕微鏡での断面観察図において、波状の表層暗線２８ａを厚み方向に投影した長さにも該当する。
本実施態様においては、上記幅Ｗｂに対する、領域幅Ｗｒａの比（Ｗｒａ／Ｗｂ）が、１．２以下であり、１．１以下が好ましく、１．０５以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１．０以上が挙げられる。
また、図２に示すように、領域幅Ｗｒａが、上記表層暗線２８ａが第２コレステリック液晶層Ａ１２の厚み方向において存在する領域の幅に該当する。領域幅Ｗｒａは、走査型電子顕微鏡での断面観察図において、波状の表層暗線２８ａを厚み方向に投影した長さにも該当する。
本実施態様においては、上記幅Ｗｂに対する、領域幅Ｗｒａの比（Ｗｒａ／Ｗｂ）が、１．２以下であり、１．１以下が好ましく、１．０５以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、１．０以上が挙げられる。
なお、比（Ｗｒａ／Ｗｂ）の値が１．０に近いことは、表層暗線が第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向に広がって（例えば波打った状態で）存在しておらず、表層暗線が直線的に存在することを表す。上記状態は、第２コレステリック液晶層Ａにおける第２液晶化合物Ａの配向が乱れていないことを反映していると考えられる。機序は必ずしも定かではないが、上記状態が達成されると、第２液晶化合物Ａによる意図しない方向への反射が抑制され、コレステリック液晶層の反射率が高くなると考えられる。
以下、領域幅Ｗｒａおよび幅Ｗｂを求める際の具体的な方法について説明する。
以下、領域幅Ｗｒａおよび幅Ｗｂを求める際の具体的な方法について説明する。
領域幅Ｗｒａおよび幅Ｗｂを求める際の断面観察は、以下の手順で行う。
まず、第１コレステリック液晶層Ａおよび第２コレステリック液晶層Ａを含む積層体をエポキシ樹脂で包埋処理する。包埋処理した積層体をウルトラミクロトームで切削して積層体の断面が現れた観察用サンプルを得る。観察用サンプルを得る際は、積層体の表面に対して垂直な方向に切削を行う。ウルトラミクロトームによる切削は、切削薄片の厚みが２００ｎｍとなるように行う。
得られた観察用サンプルに対し、表面の導電性を担保するため、表面にカーボン蒸着処理を行う。
その後、走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＥＭ）により、観察用薄片の観察を行う。ＳＥＭとしては、例えば、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の「Ｓ－４８００」を使用できる。ＳＥＭによる観察は、加速電圧を２ｋＶに設定し、倍率２００００倍で二次電子像を取得する。なお、観察対象によって加速電圧および倍率は適宜変更してもよい。
この際得られる二次電子像（観察像）は、通常、１つの画素のビット深さが８ビット（０～２５５）のグレースケール画像である。なお、各画素が示す値が大きいほど白に近づき、各画素が表す値が小さいほど黒に近づく。
上記観察手順によれば、第２コレステリック液晶層Ａのコレステリック液晶相に由来する明線および暗線がみられる像（観察像）が取得できる。
まず、第１コレステリック液晶層Ａおよび第２コレステリック液晶層Ａを含む積層体をエポキシ樹脂で包埋処理する。包埋処理した積層体をウルトラミクロトームで切削して積層体の断面が現れた観察用サンプルを得る。観察用サンプルを得る際は、積層体の表面に対して垂直な方向に切削を行う。ウルトラミクロトームによる切削は、切削薄片の厚みが２００ｎｍとなるように行う。
得られた観察用サンプルに対し、表面の導電性を担保するため、表面にカーボン蒸着処理を行う。
その後、走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、ＳＥＭ）により、観察用薄片の観察を行う。ＳＥＭとしては、例えば、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の「Ｓ－４８００」を使用できる。ＳＥＭによる観察は、加速電圧を２ｋＶに設定し、倍率２００００倍で二次電子像を取得する。なお、観察対象によって加速電圧および倍率は適宜変更してもよい。
この際得られる二次電子像（観察像）は、通常、１つの画素のビット深さが８ビット（０～２５５）のグレースケール画像である。なお、各画素が示す値が大きいほど白に近づき、各画素が表す値が小さいほど黒に近づく。
上記観察手順によれば、第２コレステリック液晶層Ａのコレステリック液晶相に由来する明線および暗線がみられる像（観察像）が取得できる。
上記手順で得られた観察像に対し、下記手順の解析を行って、領域幅Ｗｒａおよび幅Ｗｂを求める。
まず、観察像の第２コレステリック液晶層Ａに対応する領域の画素のうち、最も明るい画素の明るさと、最も暗い画素の明るさとの明るさの平均値である平均値明るさを取得し、上記平均明るさを閾値とする。
また、観察像において、第２コレステリック液晶層Ａの厚みを測長して第２コレステリック液晶層Ａの平均厚みを得る。上記平均厚みは、第２コレステリック液晶層Ａの厚みを５箇所で測長し、その算術平均値とする。
次に、観察像において、各画素において上記閾値よりも暗い（値が小さい）画素は０（黒）とし、上記閾値よりも明るい（値が大きい）画素は１（白）とする画像処理を行い、処理観察像を得る。処理観察像においては、明線の領域が白となり、暗線の領域が黒となる。
まず、観察像の第２コレステリック液晶層Ａに対応する領域の画素のうち、最も明るい画素の明るさと、最も暗い画素の明るさとの明るさの平均値である平均値明るさを取得し、上記平均明るさを閾値とする。
また、観察像において、第２コレステリック液晶層Ａの厚みを測長して第２コレステリック液晶層Ａの平均厚みを得る。上記平均厚みは、第２コレステリック液晶層Ａの厚みを５箇所で測長し、その算術平均値とする。
次に、観察像において、各画素において上記閾値よりも暗い（値が小さい）画素は０（黒）とし、上記閾値よりも明るい（値が大きい）画素は１（白）とする画像処理を行い、処理観察像を得る。処理観察像においては、明線の領域が白となり、暗線の領域が黒となる。
処理観察像において、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線（図２では中間暗線２８ｂ）の平均幅を求め、上記幅Ｗｂとする。暗線の平均幅は、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向に暗線の幅を５箇所で測長し、その算術平均値とする。
また、処理観察像において、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向において、第１コレステリック液晶層Ａ側とは最も離れた位置の暗線（図２では表層暗線２８ａ）が存在する領域幅を求め、上記領域幅Ｗｒａとする。上記領域幅は、第１コレステリック液晶層Ａ側とは最も近い暗線が存在する位置から、第１コレステリック液晶層Ａ側とは離れた側の暗線が存在する位置までの第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向の幅を測長する。
以上の方法で、上記領域幅Ｗｒａおよび幅Ｗｂが求められる。
また、処理観察像において、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向において、第１コレステリック液晶層Ａ側とは最も離れた位置の暗線（図２では表層暗線２８ａ）が存在する領域幅を求め、上記領域幅Ｗｒａとする。上記領域幅は、第１コレステリック液晶層Ａ側とは最も近い暗線が存在する位置から、第１コレステリック液晶層Ａ側とは離れた側の暗線が存在する位置までの第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向の幅を測長する。
以上の方法で、上記領域幅Ｗｒａおよび幅Ｗｂが求められる。
なお、処理観察像において、第２コレステリック液晶層Ａの第１コレステリック液晶層Ａ側とは反対側の表面付近で、不連続な黒の領域が観察される場合があるが、これは暗線とはしない。上記暗線は、処理観察像において、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向と直交する方向に連続的に存在する黒の領域の部分を指す。
なお、領域幅Ｗｒａを求める手順と同様にして、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線（図２では中間暗線２８ｂ）が存在する領域幅（以下、「領域幅Ｗｒｂ」ともいう。）も求められる。
ここで、上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比（領域幅Ｗｒｂ／幅Ｗｂ）の値は、３．０以下が好ましく、１．２以下がより好ましく、１．１以下がさらに好ましい。上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比の値の下限は、１．０が挙げられる。
上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比の値が１．０に近いことは、第２コレステリックＢ液晶層Ａの厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線が、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向に広がって（例えば波打った状態で）存在しておらず、上記暗線が直線的に存在することを表す。上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比の値が上記好ましい範囲であると、コレステリック液晶層の反射率を高くしやすい。
ここで、上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比（領域幅Ｗｒｂ／幅Ｗｂ）の値は、３．０以下が好ましく、１．２以下がより好ましく、１．１以下がさらに好ましい。上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比の値の下限は、１．０が挙げられる。
上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比の値が１．０に近いことは、第２コレステリックＢ液晶層Ａの厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線が、第２コレステリック液晶層Ａの厚み方向に広がって（例えば波打った状態で）存在しておらず、上記暗線が直線的に存在することを表す。上記幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比の値が上記好ましい範囲であると、コレステリック液晶層の反射率を高くしやすい。
以下、積層体の第１実施態様の各構成、および、各構成に用いられる材料について説明する。
＜第１コレステリック液晶層Ａ＞
本発明の積層体の第１実施態様は、第１液晶化合物Ａを含む第１組成物Ａを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ａを含む。すなわち、第１コレステリック液晶層Ａは、コレステリック配向した第１液晶化合物Ａを固定化してなる層である。したがって、第１コレステリック液晶層Ａは、後述する第１組成物Ａに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第１液晶化合物Ａを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第１コレステリック液晶層Ａにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第１コレステリック液晶層Ａ中の第１液晶化合物Ａは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第１液晶化合物Ａは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
本発明の積層体の第１実施態様は、第１液晶化合物Ａを含む第１組成物Ａを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ａを含む。すなわち、第１コレステリック液晶層Ａは、コレステリック配向した第１液晶化合物Ａを固定化してなる層である。したがって、第１コレステリック液晶層Ａは、後述する第１組成物Ａに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第１液晶化合物Ａを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第１コレステリック液晶層Ａにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第１コレステリック液晶層Ａ中の第１液晶化合物Ａは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第１液晶化合物Ａは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
第１コレステリック液晶層Ａは、コレステリック配向した第１液晶化合物Ａにより、特定の波長領域の電磁波（光）を反射できる。第１コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、第１コレステリック液晶層Ａの平均屈折率ｎを用いて、λ＝ｎ×Ｐの関係で表される。なお、第１コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長は、以下のようにして求めることができる。分光光度計ＵＶ３１５０（島津製作所）を用いて第１コレステリック液晶層Ａの透過スペクトルを液晶層１の法線方向から測定すると、中心波長λ付近の領域において、透過率が低下するピークを有するスペクトルが得られる。このうち、最も大きいピークの値の１／２の値の透過率となる２つの波長のうち、短波長側の波長の値をλｌ（ｎｍ）、長波長側の波長の値をλｈ（ｎｍ）とし、反射光の中心波長λは、下記式で求められる。
λ＝（λｌ＋λｈ）／２
λ＝（λｌ＋λｈ）／２
第１コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長λは、特に制限されないが、可視光領域（波長４００～７００ｎｍ）にあることが好ましい。
第１コレステリック液晶層Ａの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
第１コレステリック液晶層Ａの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
コレステリック液晶相のピッチは、第１液晶化合物Ａとともに用いるカイラル剤の種類、およびその添加濃度で変化し、上記いずれか１つ以上を調整することで所望のピッチのコレステリック液晶相が得られる。なお、螺旋の旋回方向、およびピッチの測定方法については、「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版２００７年出版、４６頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 １９６頁に記載の方法を用いることができる。
第１コレステリック液晶層Ａの形成において、界面活性剤を含む第１組成物Ａを用いた場合、第１コレステリック液晶層Ａにおいて、第２コレステリック液晶層Ａとの界面付近に、界面活性剤が多く含まれる場合が多い。界面活性剤の分布を確認する方法としては、例えば、イオンスパッタリングしながら飛行時間型２次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ：Ｔｉｍｅ－ｏｆ－Ｆｌｉｇｈｔ Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）で深さ方向の界面活性剤に由来する二次イオン強度を分析する方法が挙げられる。ＴＯＦ－ＳＩＭＳについては、具体的には日本表面科学会編「表面分析技術選書 ２次イオン質量分析法」丸善株式会社（１９９９年発行）に記載されている。なお、イオンビームを照射しながらＴＯＦ－ＳＩＭＳで積層体の深さ方向の成分を分析する際において、表面深さ領域１～２ｎｍの成分分析を行った後、さらにイオンビームで深さ方向に１ｎｍから数百ｎｍ掘り進んで、次の表面深さ領域１～２ｎｍの成分分析を行う一連の操作を繰り返す。
第１コレステリック液晶層Ａの厚みは、０．１～１０μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。
以下、第１コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第１組成物Ａについて説明する。
以下、第１コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第１組成物Ａについて説明する。
＜第１組成物Ａ＞
第１コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第１組成物Ａは、第１液晶化合物Ａを含む。
以下、第１組成物Ａに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
第１コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第１組成物Ａは、第１液晶化合物Ａを含む。
以下、第１組成物Ａに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
（第１液晶化合物Ａ）
第１液晶化合物Ａは、円盤状液晶化合物であれば特に制限されず、公知の円盤状液晶化合物を用いることができる。ただし、第１液晶化合物Ａは、後述する第２液晶化合物Ａとは異なる化合物を選択する。
第１液晶化合物Ａをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第１液晶化合物Ａと、カイラル剤とを含む第１組成物Ａを用いる方法が挙げられる。
第１液晶化合物Ａは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。第１液晶化合物Ａとしては、円盤状液晶化合物が好ましい。
重合性円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載のものを好ましく用いることができる。
第１液晶化合物Ａは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
第１組成物Ａ中における第１液晶化合物Ａの含有量は特に制限されないが、第１組成物Ａ中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。
なお、固形分とは、溶媒を除去した第１コレステリック液晶層Ａを形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
第１液晶化合物Ａは、円盤状液晶化合物であれば特に制限されず、公知の円盤状液晶化合物を用いることができる。ただし、第１液晶化合物Ａは、後述する第２液晶化合物Ａとは異なる化合物を選択する。
第１液晶化合物Ａをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第１液晶化合物Ａと、カイラル剤とを含む第１組成物Ａを用いる方法が挙げられる。
第１液晶化合物Ａは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。第１液晶化合物Ａとしては、円盤状液晶化合物が好ましい。
重合性円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載のものを好ましく用いることができる。
第１液晶化合物Ａは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
第１組成物Ａ中における第１液晶化合物Ａの含有量は特に制限されないが、第１組成物Ａ中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。
なお、固形分とは、溶媒を除去した第１コレステリック液晶層Ａを形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
（第１界面活性剤Ａ１）
第１組成物Ａは、第１界面活性剤Ａ１を含んでいてもよい。第１界面活性剤Ａ１は、第１組成物Ａを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第１液晶化合物Ａの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第１実施態様において、第１界面活性剤Ａ１は特に制限されないが、好ましい態様も含め、後述する第２実施態様に用いられる第１界面活性剤Ｂ１を用いることも好ましい。第１界面活性剤Ａ１の好ましい特性等も、第１界面活性剤Ｂ１と同様であることが好ましい。
後述する第２実施態様に用いられる第１界面活性剤Ｂ１を用いることで、上述した暗線領域幅／暗線幅比を上記範囲に調整しやすい。
第１組成物Ａは、第１界面活性剤Ａ１を含んでいてもよい。第１界面活性剤Ａ１は、第１組成物Ａを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第１液晶化合物Ａの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第１実施態様において、第１界面活性剤Ａ１は特に制限されないが、好ましい態様も含め、後述する第２実施態様に用いられる第１界面活性剤Ｂ１を用いることも好ましい。第１界面活性剤Ａ１の好ましい特性等も、第１界面活性剤Ｂ１と同様であることが好ましい。
後述する第２実施態様に用いられる第１界面活性剤Ｂ１を用いることで、上述した暗線領域幅／暗線幅比を上記範囲に調整しやすい。
第１組成物Ａの全固形分に対する第１界面活性剤Ａ１の含有量は、０．０１～１質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。
（溶媒）
第１組成物Ａは、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒は、第１組成物Ａに含まれる成分を溶解できれば特に制限されない。溶媒としては、例えば、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、カーボネート系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭素系溶媒、水、および、アルコール系溶媒が挙げられる。
溶媒は１種のみを使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
第１組成物Ａは、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒は、第１組成物Ａに含まれる成分を溶解できれば特に制限されない。溶媒としては、例えば、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、カーボネート系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭素系溶媒、水、および、アルコール系溶媒が挙げられる。
溶媒は１種のみを使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
（その他の成分）
第１組成物Ａは、上述した成分以外の他の成分を含んでいてもよい。
例えば、第１組成物Ａは、重合開始剤を含んでいてもよい。第１組成物Ａが重合開始剤を含む場合、より効率的に重合性液晶化合物の重合が進行する。
重合開始剤としては公知の重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。
第１組成物Ａ中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、第１組成物Ａ中の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
第１組成物Ａは、上述した成分以外の他の成分を含んでいてもよい。
例えば、第１組成物Ａは、重合開始剤を含んでいてもよい。第１組成物Ａが重合開始剤を含む場合、より効率的に重合性液晶化合物の重合が進行する。
重合開始剤としては公知の重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。
第１組成物Ａ中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、第１組成物Ａ中の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。
また、第１組成物Ａは、その他の成分としてカイラル剤を含んでいてもよい。
第１組成物Ａがカイラル剤を含むことにより、第１液晶化合物Ａを螺旋軸に沿って捩れ配向させることができる。
カイラル剤の種類は、特に制限されない。公知のカイラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
第１組成物Ａがカイラル剤を含むことにより、第１液晶化合物Ａを螺旋軸に沿って捩れ配向させることができる。
カイラル剤の種類は、特に制限されない。公知のカイラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
カイラル剤としては、光照射により螺旋誘起力が変化する感光性カイラル剤（以下、単に「カイラル剤Ａ」ともいう。）であってもよい。カイラル剤Ａは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。カイラル剤Ａは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、カイラル剤Ａは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
カイラル剤Ａは、重合性基を有していてもよい。
カイラル剤Ａは、重合性基を有していてもよい。
第１組成物Ａは、カイラル剤Ａを２種以上含んでいてもよいし、少なくとも１種のカイラル剤Ａと少なくとも１種の光照射により螺旋誘起力が変化しないカイラル剤とを含んでいてもよい。
第１組成物Ａ中における上記カイラル剤Ａの含有量は特に制限されないが、第１液晶化合物Ａが均一に配向しやすい点で、第１液晶化合物Ａの全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、３．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましい。カイラル剤Ａの含有量の下限は特に制限されないが、第１液晶化合物Ａの全質量に対して、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましく、０．０５質量％以上がさらに好ましい。
＜第２コレステリック液晶層Ａ＞
本発明の積層体の第１実施態様は、第１コレステリック液晶層Ａ上に、第２液晶化合物Ａを含む第２組成物Ａを用いて塗布処理により形成される第２コレステリック液晶層Ａを含む。すなわち、第２コレステリック液晶層Ａは、コレステリック配向した第２液晶化合物Ａを固定化してなる層である。したがって、第２コレステリック液晶層Ａは、後述する第２組成物Ａに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第２液晶化合物Ａを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第２コレステリック液晶層Ａにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第２コレステリック液晶層Ａ中の第２液晶化合物Ａは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第２液晶化合物Ａは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
本発明の積層体の第１実施態様は、第１コレステリック液晶層Ａ上に、第２液晶化合物Ａを含む第２組成物Ａを用いて塗布処理により形成される第２コレステリック液晶層Ａを含む。すなわち、第２コレステリック液晶層Ａは、コレステリック配向した第２液晶化合物Ａを固定化してなる層である。したがって、第２コレステリック液晶層Ａは、後述する第２組成物Ａに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第２液晶化合物Ａを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第２コレステリック液晶層Ａにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第２コレステリック液晶層Ａ中の第２液晶化合物Ａは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第２液晶化合物Ａは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
第２コレステリック液晶層Ａは、コレステリック配向した第２液晶化合物Ａにより、特定の波長領域の電磁波（光）を反射できる。第２コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、第２コレステリック液晶層Ａの平均屈折率ｎを用いて、λ＝ｎ×Ｐの関係で表される。なお、第２コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長は、第１コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長と同様にして求めることができる。
第２コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長λは、特に制限されないが、可視光領域にあることが好ましい。
第２コレステリック液晶層Ａの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
第２コレステリック液晶層Ａの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
コレステリック液晶相のピッチは、第２液晶化合物Ａとともに用いるカイラル剤の種類、およびその添加濃度で変化し、上記いずれか１つ以上を調整することで所望のピッチのコレステリック液晶相が得られる。
第２コレステリック液晶層Ａは、上記第１コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第１組成物Ａに含まれる成分を含んでいてもよい。例えば、第２コレステリック液晶層Ａは、上記第１界面活性剤を含んでいてもよい。
また、第２コレステリック液晶層Ａの形成において、界面活性剤を含む第２組成物Ａを用いた場合、第１コレステリック液晶層Ａ側とは反対側の第２コレステリック液晶層Ａの表面に、界面活性剤が多く含まれる場合が多い。第２コレステリック液晶層Ａ中の界面活性剤の分布は、第１コレステリック液晶層Ａで記載した方法と同様の方法で確認できる。
第２コレステリック液晶層Ａの厚みは、０．１～１０μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。
以下、第２コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第２組成物Ａについて説明する。
以下、第２コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第２組成物Ａについて説明する。
＜第２組成物Ａ＞
第２コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第２組成物Ａは、第２液晶化合物Ａを含む。
以下、第２組成物Ａに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
第２コレステリック液晶層Ａの形成に用いる第２組成物Ａは、第２液晶化合物Ａを含む。
以下、第２組成物Ａに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
（第２液晶化合物Ａ）
第２液晶化合物Ａは、特に制限されず、公知の液晶化合物を用いることができる。ただし、第２液晶化合物Ａは、第１液晶化合物Ａとは異なる化合物を選択する。液晶化合物としては、例えば、棒状液晶化合物、および、円盤状液晶化合物が挙げられる。第２液晶化合物Ａをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第２液晶化合物Ａと、カイラル剤とを含む第２組成物Ａを用いる方法が挙げられる。
第２液晶化合物Ａは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。
第２液晶化合物Ａとしては、重合性棒状液晶化合物または重合性円盤状液晶化合物が好ましく、積層体の厚み方向のレタデーションを低減する点で、重合性棒状液晶化合物がより好ましい。
なお、重合性棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載のものを好ましく用いることができる。
重合性円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載のものを好ましく用いることができる。
第２液晶化合物Ａは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
第２組成物Ａ中における第２液晶化合物Ａの含有量は特に制限されないが、第２組成物Ａ中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。
なお、固形分とは、溶媒を除去した第２コレステリック液晶層Ａを形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
第２液晶化合物Ａは、特に制限されず、公知の液晶化合物を用いることができる。ただし、第２液晶化合物Ａは、第１液晶化合物Ａとは異なる化合物を選択する。液晶化合物としては、例えば、棒状液晶化合物、および、円盤状液晶化合物が挙げられる。第２液晶化合物Ａをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第２液晶化合物Ａと、カイラル剤とを含む第２組成物Ａを用いる方法が挙げられる。
第２液晶化合物Ａは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。
第２液晶化合物Ａとしては、重合性棒状液晶化合物または重合性円盤状液晶化合物が好ましく、積層体の厚み方向のレタデーションを低減する点で、重合性棒状液晶化合物がより好ましい。
なお、重合性棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載のものを好ましく用いることができる。
重合性円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載のものを好ましく用いることができる。
第２液晶化合物Ａは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
第２組成物Ａ中における第２液晶化合物Ａの含有量は特に制限されないが、第２組成物Ａ中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。
なお、固形分とは、溶媒を除去した第２コレステリック液晶層Ａを形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。
（第２界面活性剤Ａ２）
第２組成物Ａは、第２界面活性剤Ａ２を含んでいてもよい。第２界面活性剤Ａ２は、第２組成物Ａを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第２液晶化合物Ａの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第１実施態様において、第２界面活性剤Ａ２は特に制限されないが、後述する第２実施態様に用いられる第２界面活性剤Ｂ２を用いることが好ましい。
上記好ましい態様とすると、上述した暗線領域幅／暗線幅比を上述した範囲に調整しやすい。
第２組成物Ａは、第２界面活性剤Ａ２を含んでいてもよい。第２界面活性剤Ａ２は、第２組成物Ａを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第２液晶化合物Ａの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第１実施態様において、第２界面活性剤Ａ２は特に制限されないが、後述する第２実施態様に用いられる第２界面活性剤Ｂ２を用いることが好ましい。
上記好ましい態様とすると、上述した暗線領域幅／暗線幅比を上述した範囲に調整しやすい。
第２組成物Ａの全固形分に対する第２界面活性剤Ａ２の含有量は、０．０１～１質量％が好ましく、０．０５～０．５質量％がより好ましい。
（溶媒およびその他の成分）
第１実施態様に用いられる第２組成物Ａは、溶媒およびその他の成分を含んでいてもよい。
第１実施態様に用いられる第２組成物Ａが含んでていてもよい溶媒およびその他成分は、第１実施態様の第１組成物Ａと同様であるため、説明を省略する。
第１実施態様に用いられる第２組成物Ａは、溶媒およびその他の成分を含んでいてもよい。
第１実施態様に用いられる第２組成物Ａが含んでていてもよい溶媒およびその他成分は、第１実施態様の第１組成物Ａと同様であるため、説明を省略する。
＜基材＞
積層体の第１実施態様は、基材を含んでいてもよい。
基材としては、透明基材が好ましい。なお、透明基材とは、可視光領域の光線の透過率が６０％以上である基材を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基材を構成する材料としては、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、および、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、または、ポリメタクリレートが好ましい。また市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム株式会社製の「ＴＤ８０Ｕ」や「Ｚ－ＴＡＣ」等）を利用することもできる。
また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点、および、光学フィルムの光学検査を容易にする観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、Ｒｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。
積層体の第１実施態様は、基材を含んでいてもよい。
基材としては、透明基材が好ましい。なお、透明基材とは、可視光領域の光線の透過率が６０％以上である基材を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基材を構成する材料としては、例えば、セルロースアシレート、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、環状ポリオレフィン、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリスチレン、および、ポリエステル等のフィルムを用いることができる。なかでも、セルロースアシレートフィルム、環状ポリオレフィン、ポリアクリレート、または、ポリメタクリレートが好ましい。また市販品のセルロースアセテートフィルム（例えば、富士フイルム株式会社製の「ＴＤ８０Ｕ」や「Ｚ－ＴＡＣ」等）を利用することもできる。
また、支持体は、透過光の偏光度に与える悪影響を抑制する観点、および、光学フィルムの光学検査を容易にする観点から、位相差が小さいことが好ましい。具体的には、Ｒｅの大きさが１０ｎｍ以下であることが好ましく、Ｒｔｈの大きさの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましい。
基材には、種々の添加剤（例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、および、剥離剤など）が含まれていてもよい。
基材の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。
また、基材は複数枚の積層からなっていてもよい。
基材はその上に設けられる層との接着を改善するため、基材の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
また、基材は複数枚の積層からなっていてもよい。
基材はその上に設けられる層との接着を改善するため、基材の表面に表面処理（例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理）を実施してもよい。
本発明の積層体の第１実施態様は、上述したように第１コレステリック液晶層Ａおよび第２コレステリック液晶層Ａを含めばよく、他の構成を含んでいてもよい。
他の構成としては、上記第１コレステリック液晶層および第２コレステリック液晶層以外の他のコレステリック液晶層、粘着剤層、密着層、配向層、反射防止層、位相差層、および、光吸収異方性層等が挙げられる。
他の構成としては、上記第１コレステリック液晶層および第２コレステリック液晶層以外の他のコレステリック液晶層、粘着剤層、密着層、配向層、反射防止層、位相差層、および、光吸収異方性層等が挙げられる。
なお、本発明の積層体の第１実施態様は、積層体がコレステリック液晶層を３層以上有し、これらの層がいずれも、それぞれの層上に液晶化合物を含む組成物を用いて塗布処理により順次形成された層である態様であってもよい。具体的には、積層体がコレステリック液晶層Ｃ１、コレステリック液晶層Ｃ２、および、コレステリック液晶層Ｃ３をこの順に有する場合において、コレステリック液晶層Ｃ２が、コレステリック液晶層Ｃ１上に液晶化合物を含む組成物を用いて塗布処理により形成された層であって、コレステリック液晶層Ｃ３が、コレステリック液晶層Ｃ２上に液晶化合物を含む組成物を用いて塗布処理により形成された層である態様であってもよい。なお、上記態様の場合、コレステリック液晶層Ｃ１およびコレステリック液晶層Ｃ２の少なくとも一方に含まれる液晶化合物が、円盤状液晶化合物である。例えば、コレステリック液晶層Ｃ１に含まれる液晶化合物が棒状液晶化合物であって、コレステリック液晶層Ｃ２に含まれる液晶化合物が円盤状液晶化合物であって、コレステリック液晶層Ｃ３に含まれる液晶化合物が棒状液晶化合物であってもよい。また、コレステリック液晶層Ｃ１に含まれる液晶化合物が円盤状液晶化合物であって、コレステリック液晶層Ｃ２に含まれる液晶化合物が棒状液晶化合物であって、コレステリック液晶層Ｃ３に含まれる液晶化合物が円盤状液晶化合物であってもよい。
上記態様の場合、コレステリック液晶層Ｃ２は、コレステリック液晶層Ｃ１との関係で第２コレステリック液晶層に該当し得る。また、コレステリック液晶層Ｃ２は、コレステリック液晶層Ｃ３との関係で、第１コレステリック液晶層にも該当し得る。
上記態様の場合、コレステリック液晶層Ｃ２は、コレステリック液晶層Ｃ１との関係で第２コレステリック液晶層に該当し得る。また、コレステリック液晶層Ｃ２は、コレステリック液晶層Ｃ３との関係で、第１コレステリック液晶層にも該当し得る。
積層体がコレステリック液晶層を３層以上する場合、上記それぞれの層が反射する光の中心波長は、それぞれ同一でもよく、異なっていてもよい。上記それぞれの層が反射する光の中心波長が異なる層を積層することで、例えば可視光領域全域の光を反射することができる。
また、積層体を仮想現実表示装置に適用する場合、仮想現実表示装置から発せられる光の波長に合わせて、それぞれの層が反射する光の中心波長を調整することが好ましい。
積層体の反射率は、可視光領域全域にわたって４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
また、積層体を仮想現実表示装置に適用する場合、仮想現実表示装置から発せられる光の波長に合わせて、それぞれの層が反射する光の中心波長を調整することが好ましい。
積層体の反射率は、可視光領域全域にわたって４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
＜積層体の製造方法＞
積層体の第１実施態様は、例えば以下の方法で製造できる。
上記基材上に上記第１組成物Ａを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第１コレステリック液晶層Ａを形成し、第１コレステリック液晶層Ａ上に上記第２組成物Ａを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第２コレステリック液晶層Ａを形成する方法が挙げられる。
積層体の第１実施態様は、例えば以下の方法で製造できる。
上記基材上に上記第１組成物Ａを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第１コレステリック液晶層Ａを形成し、第１コレステリック液晶層Ａ上に上記第２組成物Ａを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第２コレステリック液晶層Ａを形成する方法が挙げられる。
配向処理は特に制限されないが、例えば、塗布膜に対して電場を印加する方法、および、塗布膜を加熱する方法が挙げられる。なお、塗布膜を形成する前に、予め配向膜を形成しておき、配向膜上に塗布膜を形成してもよい。
配向膜を形成する方法としては、公知の材料で形成される膜をラビングする方法が挙げられ、塗膜をラビングする方法が好ましい。ラビング処理の方向は特に制限されず、液晶化合物を配向させたい方向に応じて、適宜、最適な方向が選択される。また、塗布膜を形成する基板に対してラビング処理を行い、ラビング処理を行った基板上に塗布膜を形成してもよい。
ラビング処理は、ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）の配向膜の配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用できる。具体的には、配向膜または樹脂基材の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン繊維、または、ポリエステル繊維等を用いて一定方向に擦る方法が挙げられる。
配向膜を形成する方法としては、公知の材料で形成される膜をラビングする方法が挙げられ、塗膜をラビングする方法が好ましい。ラビング処理の方向は特に制限されず、液晶化合物を配向させたい方向に応じて、適宜、最適な方向が選択される。また、塗布膜を形成する基板に対してラビング処理を行い、ラビング処理を行った基板上に塗布膜を形成してもよい。
ラビング処理は、ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）の配向膜の配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用できる。具体的には、配向膜または樹脂基材の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン繊維、または、ポリエステル繊維等を用いて一定方向に擦る方法が挙げられる。
重合処理は特に制限されないが、紫外線を照射する方法が好ましい。紫外線の照射は、酸素濃度が低い環境で実施することも好ましい。なお、本明細書において、「紫外線」とは、波長２００～４００ｎｍの電磁波を主として含む電磁波をいい、波長３００～４００ｎｍの電磁波を主として含むことが好ましい。紫外線の光源は特に制限されず、公知の光源を用いることができ、フィルター等を用いて任意の波長域を含む紫外線を照射してもよい。紫外線の光源としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、および、発光ダイオード（ＬＥＤ）等が挙げられる。
照射エネルギーは、５ｍＪ／ｃｍ２～１００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、３０～６００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、１００～４００ｍＪ／ｃｍ２がさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
照射エネルギーは、５ｍＪ／ｃｍ２～１００Ｊ／ｃｍ２が好ましく、３０～６００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、１００～４００ｍＪ／ｃｍ２がさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
第２コレステリック液晶層Ａの形成後、その上に形成される他の層への界面活性剤の影響を低減させるため、第２コレステリック液晶層Ａの表面に表面処理（例えば、コロナ放電処理）を行ってもよい。例えば、第２コレステリック液晶層Ａの表面にコロナ放電処理を行うと、第２コレステリック液晶層Ａの表面付近に存在し得る第２界面活性剤Ａ２の影響を低減することができる。第２コレステリック液晶層Ａの表面にコロナ放電処理を行う場合、第２コレステリック液晶層Ａの形成に用いられる第２組成物Ａは、第２液晶組成物Ａとして棒状液晶化合物を含むことが好ましい。
なお、第１コレステリック液晶層Ａの形成後は、第１コレステリック液晶層Ａの表面に表面処理（例えば、コロナ放電処理）を行わないことが好ましい。すなわち、第１コレステリック液晶層Ａを形成したあと、表面処理を行わずに第２組成物Ａを塗布することが好ましい。これは、一般的に、上記のような処理を行うと、第２コレステリック液晶層Ａの配向性が低下する場合があるためである。より具体的には、一般的に、円盤状液晶化合物を含む液晶層上に、棒状液晶化合物を含む液晶層を形成する場合、円盤状液晶化合物を含む液晶層の表面に対してコロナ処理と行うと、その表面が親水化する。円盤状液晶化合物を含む液晶層の表面が親水化した状態で、棒状液晶化合物を含む層を形成しようとすると、棒状液晶化合物は疎水性である場合が多いため、棒状液晶化合物の配向性が低下する場合がある。
［積層体の第２実施態様］
本発明の積層体の第２実施態様は、第１液晶化合物Ｂを含む第１組成物Ｂを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ｂと、上記第１コレステリック液晶層Ｂ上に、第２液晶化合物Ｂを含む第２組成物Ｂを用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層Ｂとを含む積層体である。ここで、上記第１組成物Ｂに含まれる第１液晶化合物Ｂが、円盤状液晶化合物であって、上記第１液晶化合物Ｂと、上記第２液晶化合物Ｂとが異なる化合物である。また、上記第２コレステリック液晶層Ｂが界面活性剤を含み、上記第２コレステリック液晶層Ｂの上記第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である上記界面活性剤の凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない。
なお、コレステリック液晶層とは、コレステリック配向した液晶化合物を固定化してなる層を指す。
本発明の積層体の第２実施態様は、第１液晶化合物Ｂを含む第１組成物Ｂを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ｂと、上記第１コレステリック液晶層Ｂ上に、第２液晶化合物Ｂを含む第２組成物Ｂを用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層Ｂとを含む積層体である。ここで、上記第１組成物Ｂに含まれる第１液晶化合物Ｂが、円盤状液晶化合物であって、上記第１液晶化合物Ｂと、上記第２液晶化合物Ｂとが異なる化合物である。また、上記第２コレステリック液晶層Ｂが界面活性剤を含み、上記第２コレステリック液晶層Ｂの上記第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である上記界面活性剤の凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない。
なお、コレステリック液晶層とは、コレステリック配向した液晶化合物を固定化してなる層を指す。
積層体の第２実施態様の界面活性剤の凝集物について、以下に説明する。
積層体の第２コレステリック液晶層Ｂの第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面（以下、単に「第２コレステリック液晶層Ｂの表面」ともいう。）における長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数は、以下のようにして求める。
まず、積層体の第２コレステリック液晶層Ｂの表面を、飛行時間型２次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ：Ｔｉｍｅ－ｏｆ－Ｆｌｉｇｈｔ Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）で分析して、分析領域におけるマススペクトルのマッピングデータを取得する。なお、ＴＯＦ－ＳＩＭＳについては、具体的には日本表面科学会編「表面分析技術選書 ２次イオン質量分析法」丸善株式会社（１９９９年発行）に記載されている。
上記ＴＯＦ－ＳＩＭＳによる分析の詳細な条件は、例えば後述する実施例に記載の条件で測定できる。
積層体の第２コレステリック液晶層Ｂの第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面（以下、単に「第２コレステリック液晶層Ｂの表面」ともいう。）における長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数は、以下のようにして求める。
まず、積層体の第２コレステリック液晶層Ｂの表面を、飛行時間型２次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ：Ｔｉｍｅ－ｏｆ－Ｆｌｉｇｈｔ Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）で分析して、分析領域におけるマススペクトルのマッピングデータを取得する。なお、ＴＯＦ－ＳＩＭＳについては、具体的には日本表面科学会編「表面分析技術選書 ２次イオン質量分析法」丸善株式会社（１９９９年発行）に記載されている。
上記ＴＯＦ－ＳＩＭＳによる分析の詳細な条件は、例えば後述する実施例に記載の条件で測定できる。
上記分析においては、分析領域（例えば４０μｍ四方）を例えば縦横２５６分割した区画とし、分析領域の区画毎にイオンビームを照射して、第２コレステリック液晶層Ｂの表面に由来する２次イオンのマススペクトルを得る。この際、第２コレステリック液晶層Ｂに含まれる界面活性剤に由来する２次イオンに対応する２次イオンの検出強度をマッピングすると、界面活性剤の凝集物の有無を確認できる。なお、界面活性剤に由来する２次イオンとは、界面活性剤に由来するフラグメントイオンを意図する。
マッピングする２次イオンは、界面活性剤に由来する２次イオンを、界面活性剤の種類および第２コレステリック液晶層Ｂに含まれる成分によって適宜選択すればよく、後述するイオン種に限定されない。
界面活性剤に由来する２次イオンとしては、界面活性剤に含まれる基に由来する２次イオン（フラグメントイオン）が挙げられ、界面活性剤に含まれる基としては、例えば、フッ化アルキル基、フッ化アルキルオキシ基、フッ化ポリエーテル基、および、シロキサン結合を有する有機基（例えば、アルキル基を有するポリシロキサン鎖を有する基、フッ化アルキル基を有するポリシロキサン鎖を有する基、アクリル基を有するポリシロキサン鎖を有する基等）等が挙げられる。上記で列挙した基に含まれるフッ化アルキル基は、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子に置換されているパーフルオロアルキル基であってもよく、アルキル基の水素原子が一部置換されている部分フッ化アルキル基であってもよい。
界面活性剤に由来する２次イオンとしては、界面活性剤に含まれる基に由来する２次イオン（フラグメントイオン）が挙げられ、界面活性剤に含まれる基としては、例えば、フッ化アルキル基、フッ化アルキルオキシ基、フッ化ポリエーテル基、および、シロキサン結合を有する有機基（例えば、アルキル基を有するポリシロキサン鎖を有する基、フッ化アルキル基を有するポリシロキサン鎖を有する基、アクリル基を有するポリシロキサン鎖を有する基等）等が挙げられる。上記で列挙した基に含まれるフッ化アルキル基は、アルキル基の水素原子が全てフッ素原子に置換されているパーフルオロアルキル基であってもよく、アルキル基の水素原子が一部置換されている部分フッ化アルキル基であってもよい。
次に、界面活性剤に由来する２次イオンに対応する２次イオンの検出強度をマッピングした像において、検出強度が大きい部分が偏在していて界面活性剤の凝集物と認められる領域の有無を確認する。界面活性剤の凝集物と認められるそれぞれの領域について、領域に接する２本の平行線の距離が最も長くなるようにした際の平行線間の距離を、界面活性剤の凝集物の長径とする。上記手順により、分析領域における長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数をカウントする。
分析領域における長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数のカウントを、第２コレステリック液晶層Ｂの別の領域についても行い、１０箇所について凝集物の数のカウントを行う。上記１０回の凝集物の数のカウントで得られた凝集物の個数の算術平均を、分析領域の面積で除し、単位面積あたりの凝集物の数（単位：個／ｍｍ２）を算出する。
本発明の積層体の第２実施態様は、このようにして得られた単位面積あたりの凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない。単位面積あたりの凝集物の数は、１０００個／ｍｍ２以下が好ましく、１００個／ｍｍ２以下がより好ましい。単位面積あたりの凝集物の数の下限としては、０個／ｍｍ２以上が挙げられる。
分析領域における長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数のカウントを、第２コレステリック液晶層Ｂの別の領域についても行い、１０箇所について凝集物の数のカウントを行う。上記１０回の凝集物の数のカウントで得られた凝集物の個数の算術平均を、分析領域の面積で除し、単位面積あたりの凝集物の数（単位：個／ｍｍ２）を算出する。
本発明の積層体の第２実施態様は、このようにして得られた単位面積あたりの凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない。単位面積あたりの凝集物の数は、１０００個／ｍｍ２以下が好ましく、１００個／ｍｍ２以下がより好ましい。単位面積あたりの凝集物の数の下限としては、０個／ｍｍ２以上が挙げられる。
なお、第２コレステリック液晶層Ｂの第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面が露出していない場合、イオンビームを照射して積層体の最表面を切削しながらＴＯＦ－ＳＩＭＳによる分析を行うと、第２コレステリック液晶層Ｂの第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面における凝集物の数が得られる。
なお、第２コレステリック液晶層Ｂの第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない場合、コレステリック液晶層の反射率が高くなる機序は必ずしも定かではないが、以下のように推測される。すなわち、界面活性剤の凝集物の数が上記範囲であると、界面活性剤が有効に作用しやすく、第２コレステリック液晶層Ｂにおける第２液晶化合物Ｂの配向が乱れにくいと考えられる。そうすると、第２液晶化合物Ｂの配向が乱れることによる意図しない方向への反射が抑制され、コレステリック液晶層の反射率が高くなると考えられる。
以下、積層体の第２実施態様の各構成、および、各構成に用いられる材料について説明する。
＜第１コレステリック液晶層Ｂ＞
本発明の積層体の第２実施態様は、第１液晶化合物Ｂを含む第１組成物Ｂを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ｂを含む。すなわち、第１コレステリック液晶層Ｂは、コレステリック配向した第１液晶化合物Ｂを固定化してなる層である。したがって、第１コレステリック液晶層Ｂは、後述する第１組成物Ｂに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第１液晶化合物Ｂを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第１コレステリック液晶層Ｂにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第１コレステリック液晶層Ｂ中の第１液晶化合物Ｂは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第１液晶化合物Ｂは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
本発明の積層体の第２実施態様は、第１液晶化合物Ｂを含む第１組成物Ｂを用いて形成された第１コレステリック液晶層Ｂを含む。すなわち、第１コレステリック液晶層Ｂは、コレステリック配向した第１液晶化合物Ｂを固定化してなる層である。したがって、第１コレステリック液晶層Ｂは、後述する第１組成物Ｂに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第１液晶化合物Ｂを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第１コレステリック液晶層Ｂにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第１コレステリック液晶層Ｂ中の第１液晶化合物Ｂは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第１液晶化合物Ｂは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
第１コレステリック液晶層Ｂは、コレステリック配向した第１液晶化合物Ｂにより、特定の波長領域の電磁波（光）を反射できる。第１コレステリック液晶層Ｂが反射する光の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、第１コレステリック液晶層Ｂの平均屈折率ｎを用いて、λ＝ｎ×Ｐの関係で表される。なお、第１コレステリック液晶層Ｂが反射する光の中心波長は、第１実施態様の第１コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長と同様にして求めることができる。
第１コレステリック液晶層Ｂが反射する光の中心波長λは、可視光領域にあることが好ましい。
第１コレステリック液晶層Ｂの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
第１コレステリック液晶層Ｂの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
第１コレステリック液晶層Ｂの厚みは、０．１～１０μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。
＜第１組成物Ｂ＞
第１コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第１組成物Ｂは、第１液晶化合物Ｂを含む。第１組成物Ｂは、第１界面活性剤Ｂ１を含むことが好ましい。
以下、第１組成物Ｂに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
第１コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第１組成物Ｂは、第１液晶化合物Ｂを含む。第１組成物Ｂは、第１界面活性剤Ｂ１を含むことが好ましい。
以下、第１組成物Ｂに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
（第１液晶化合物Ｂ）
第１液晶化合物Ｂは、円盤状液晶化合物であれば特に制限されず、公知の円盤状液晶化合物を用いることができる。ただし、第１液晶化合物Ｂは、後述する第２液晶化合物Ｂとは異なる化合物を選択する。第１液晶化合物Ｂをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第１液晶化合物Ｂと、カイラル剤とを含む第１組成物Ｂを用いる方法が挙げられる。
第１液晶化合物Ｂは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。第１液晶化合物Ｂとしては、重合性円盤状液晶化合物がより好ましい。
第１液晶化合物Ｂとして用いられる化合物の例示は、第１実施態様の第１液晶化合物Ａの例示と同様であるため、記載を省略する。
第１液晶化合物Ｂは、円盤状液晶化合物であれば特に制限されず、公知の円盤状液晶化合物を用いることができる。ただし、第１液晶化合物Ｂは、後述する第２液晶化合物Ｂとは異なる化合物を選択する。第１液晶化合物Ｂをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第１液晶化合物Ｂと、カイラル剤とを含む第１組成物Ｂを用いる方法が挙げられる。
第１液晶化合物Ｂは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。第１液晶化合物Ｂとしては、重合性円盤状液晶化合物がより好ましい。
第１液晶化合物Ｂとして用いられる化合物の例示は、第１実施態様の第１液晶化合物Ａの例示と同様であるため、記載を省略する。
（第１界面活性剤Ｂ１）
第１組成物Ｂは、第１界面活性剤Ｂ１を含んでいてもよい。第１界面活性剤Ｂ１は、第１組成物Ｂを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第１液晶化合物Ｂの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第１組成物Ｂは、第１界面活性剤Ｂ１を含んでいてもよい。第１界面活性剤Ｂ１は、第１組成物Ｂを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第１液晶化合物Ｂの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第１界面活性剤Ｂ１は、液晶性を示し、液晶相から等方性液相への相転移温度が１００℃以上であるか、第１界面活性剤Ｂ１が非液晶性であって、融点が９０℃以上であることも好ましい。上記特性を満たす場合、例えばロールトゥロール方式で基材上に第１コレステリック液晶層Ｂを形成した際、基材の第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面に第１界面活性剤Ｂ１が転写しにくいと考えられる。第１界面活性剤Ｂ１が基材に転写しにくいと、第２コレステリック液晶層Ｂを形成する際に塗布膜が均一になりやすく、得られる積層体を仮想現実表示装置に用いた場合、画像が鮮明に視認できる。
第１界面活性剤Ｂ１は、基材に転写しにくいことが好ましい。上記基材への転写量については、以下に記載する方法で転写量を見積もることができる。なお、以下、第１界面活性剤Ｂ１が、フルオロアルキル基を有する場合の方法について説明する。
まず、基材上に第１コレステリック液晶層を形成する。次に、形成した第１コレステリック液晶層の基材とは反対側の表面と、基材の第１コレステリック液晶層とは反対側の表面とが対向するように第１コレステリック液晶層付き基材を重ね合わる。重ね合わせた状態で、４５℃の環境において、基材側に重りを載せて０．０１ＭＰａの圧力を３日間加える。その後、第１コレステリック液晶層の基材とは反対側の表面と接していた面の基材表面を、Ｘ線電子分光法よりフッ素量を分析する。
Ｘ線光電子分光によって分析されるフッ素原子の含有量は、全原子に対して、１０原子％以下が好ましく、５原子％以下がより好ましく、２原子％以下が更に好ましい。フッ素原子の含有量の下限としては、０原子％以上が挙げられる。
まず、基材上に第１コレステリック液晶層を形成する。次に、形成した第１コレステリック液晶層の基材とは反対側の表面と、基材の第１コレステリック液晶層とは反対側の表面とが対向するように第１コレステリック液晶層付き基材を重ね合わる。重ね合わせた状態で、４５℃の環境において、基材側に重りを載せて０．０１ＭＰａの圧力を３日間加える。その後、第１コレステリック液晶層の基材とは反対側の表面と接していた面の基材表面を、Ｘ線電子分光法よりフッ素量を分析する。
Ｘ線光電子分光によって分析されるフッ素原子の含有量は、全原子に対して、１０原子％以下が好ましく、５原子％以下がより好ましく、２原子％以下が更に好ましい。フッ素原子の含有量の下限としては、０原子％以上が挙げられる。
第１界面活性剤Ｂ１は、後述する第２組成物Ｂおよび形成される塗布膜に対する溶解性が高い点で、繰り返し単位を有さない低分子化合物であることが好ましく、低分子化合物である第１界面活性剤Ｂ１の分子量は、５０００以下が好ましい。低分子化合物である第１界面活性剤Ｂ１の分子量は、１０００～５０００がより好ましく、２０００～４０００がさらに好ましい。
また、第１界面活性剤Ｂ１は、第１液晶化合物Ｂの配向制御能の点で、芳香環構造を３つ以上有することも好ましく、芳香環構造を４つ以上有することがより好ましい。芳香環構造が縮環構造（例えば、ナフタレン環）の場合であっても、その芳香環構造の数は１つとする。ただし、上記芳香環構造が縮環構造であって、縮環構造がフェナントレン環、フルオレン環、アントラセン環である場合は、その縮環構造に含まれる芳香環構造の数は２とする。
また、第１界面活性剤Ｂ１は、第１液晶化合物Ｂの配向制御能の点で、芳香環構造を３つ以上有することも好ましく、芳香環構造を４つ以上有することがより好ましい。芳香環構造が縮環構造（例えば、ナフタレン環）の場合であっても、その芳香環構造の数は１つとする。ただし、上記芳香環構造が縮環構造であって、縮環構造がフェナントレン環、フルオレン環、アントラセン環である場合は、その縮環構造に含まれる芳香環構造の数は２とする。
第１界面活性剤Ｂ１は、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、後述する第２組成物Ｂおよび形成される塗布膜に対する溶解性が高い点で、フルオロアルキル基を有することが好ましく、直鎖状のパーフルオロアルキル基を有することが好ましい。
第１界面活性剤Ｂ１としては、より具体的には、下記式（１１）で表される化合物が好ましい。
Ｒｆが式（１１）中において２個以上含まれる場合、それぞれのＲｆは同一の基を表してもよく、異なる基を表してもよいが、同一の基を表すことが好ましい。
直鎖状のパーフルオロアルキル基の炭素数は、２～８が好ましく、３～６がより好ましく、４がさらに好ましい。
式（１１）中において、含まれるＲｆの数は、２～９が好ましく、３～６がより好ましく、３または４がさらに好ましい。
式（１１）中、ｐ１は、１～３の整数を表す。なかでも、ｐ１は１～２が好ましい。
式（１１）中、Ａ１１は、それぞれ独立に、ｐ１＋１価の炭化水素基を表す。ｐ１＋１の炭化水素基は、酸素原子および窒素原子からなる群から選択される１種以上の原子を含んでいてもよい。
Ａ１１表されるｐ１＋１価の炭化水素基の炭素数は、２～４０が好ましく、３～３０がより好ましい。
Ａ１１表されるｐ１＋１価の炭化水素基は、脂肪族炭化水素構造、芳香族炭化水素構造、および、これらの構造を組み合わせてなる構造を含むことが好ましい。
上記脂肪族炭化水素構造は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、環状構造を含んでいてもよい。脂肪族炭化水素構造の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
上記芳香族炭化水素構造としては、例えば、ベンゼン構造、および、ナフタレン構造が挙げられる。なかでも、ベンゼン構造が好ましい。
Ａ１１で表されるｐ１＋１価の炭化水素基には、酸素原子および窒素原子からなる群から選択される１種以上の原子が２つ以上含まれていてもよい。
Ａ１１表されるｐ１＋１価の炭化水素基の炭素数は、２～４０が好ましく、３～３０がより好ましい。
Ａ１１表されるｐ１＋１価の炭化水素基は、脂肪族炭化水素構造、芳香族炭化水素構造、および、これらの構造を組み合わせてなる構造を含むことが好ましい。
上記脂肪族炭化水素構造は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、環状構造を含んでいてもよい。脂肪族炭化水素構造の炭素数は、２～１０が好ましく、２～６がより好ましい。
上記芳香族炭化水素構造としては、例えば、ベンゼン構造、および、ナフタレン構造が挙げられる。なかでも、ベンゼン構造が好ましい。
Ａ１１で表されるｐ１＋１価の炭化水素基には、酸素原子および窒素原子からなる群から選択される１種以上の原子が２つ以上含まれていてもよい。
式（１１）中、ｑ１は、２～４の整数を表す。
複数のｐ１およびＡ１１はそれぞれ異なっていてもよく、同一であってもよいが、同一であることが好ましい。
ｑ１およびｐ１は、Ｒｆの数が上述した好ましい範囲となるように設定されることも好ましい。例えば、ｐ１が１の場合、ｑ１は３が好ましく、ｐ１が２の場合、ｑ１は２または３が好ましく、ｐ１が３の場合、ｑ１は２が好ましい。
複数のｐ１およびＡ１１はそれぞれ異なっていてもよく、同一であってもよいが、同一であることが好ましい。
ｑ１およびｐ１は、Ｒｆの数が上述した好ましい範囲となるように設定されることも好ましい。例えば、ｐ１が１の場合、ｑ１は３が好ましく、ｐ１が２の場合、ｑ１は２または３が好ましく、ｐ１が３の場合、ｑ１は２が好ましい。
式（１１）中、Ｘ１２は、ｑ１＋１価の芳香環基を表す。
Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。
Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基としては、例えば、ベンゼン、および、ナフタレンからなる群から選択される化合物から、ｑ１＋１個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。
Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。
Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基としては、例えば、ベンゼン、および、ナフタレンからなる群から選択される化合物から、ｑ１＋１個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。
式（１１）中、Ｘ１３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香環基を表す。
Ｘ１３が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ１３が表す芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。
Ｘ１３が表す芳香環基としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、および、１，２，４－オキサジアゾールからなる群から選択される化合物から、２個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。なお、水素原子を取り除く位置は特に制限されず、例えば、Ｘ１３が表す芳香環基が、ベンゼンから２個の水素原子を取り除いてなる基である場合、一方の水素原子に対する他方の水素原子の位置はいずれであってもよく、パラ位が好ましい。
また、Ｘ１３が表す芳香環基が、ナフタレンから２個の水素原子を取り除いてなる基である場合、一方の水素原子に対する他方の水素原子の位置は、オルト位（１，２位）、メタ位（１，３位）、パラ位（１，４位）、アナ位（１，５位）、エピ位（１，６位）、カタ位（１，７位）、ペリ位（１，８位）、プロス位（２，３位）、および、アンフィ位（２，６位）のいずれであってもよく、パラ位、アナ位、または、アンフィ位が好ましい。
Ｘ１３が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ１３が表す芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。
Ｘ１３が表す芳香環基としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、および、１，２，４－オキサジアゾールからなる群から選択される化合物から、２個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。なお、水素原子を取り除く位置は特に制限されず、例えば、Ｘ１３が表す芳香環基が、ベンゼンから２個の水素原子を取り除いてなる基である場合、一方の水素原子に対する他方の水素原子の位置はいずれであってもよく、パラ位が好ましい。
また、Ｘ１３が表す芳香環基が、ナフタレンから２個の水素原子を取り除いてなる基である場合、一方の水素原子に対する他方の水素原子の位置は、オルト位（１，２位）、メタ位（１，３位）、パラ位（１，４位）、アナ位（１，５位）、エピ位（１，６位）、カタ位（１，７位）、ペリ位（１，８位）、プロス位（２，３位）、および、アンフィ位（２，６位）のいずれであってもよく、パラ位、アナ位、または、アンフィ位が好ましい。
Ｘ１３で表される芳香環基が有していてもよい置換基としては、－ＣＮ、－Ｒ３、－ＯＲ３、－ＯＨ、－（ＣＨ２）ｍ－ＯＨ、－Ｆ、－ＣＯＯＲ３、および、－ＣＯＲ３からなる群から選択される１種以上の置換基が挙げられる。Ｒ３は、炭素数１～２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を表す。ｍは、１～３の整数を表す。Ｒ３で表されるアルキル基の炭素数は、１～６が好ましく、１～４がより好ましい。Ｒ３で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、１－プロピル基、２－プロピル基、１－ブチル基、および、ｔ－ブチル基が挙げられる。
Ｘ１３で表される芳香環基が有していてもよい置換基は、－Ｒ３、－ＯＲ３、－ＣＯＯＲ３、および、－ＣＯＲ３からなる群から選択される１種以上の置換基が好ましい。
Ｘ１３で表される芳香環基が有していてもよい置換基は、－Ｒ３、－ＯＲ３、－ＣＯＯＲ３、および、－ＣＯＲ３からなる群から選択される１種以上の置換基が好ましい。
式（１１）中、Ｌ１３およびＬ１４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｎ－、－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－、または、－Ｃ≡Ｃ－を表す。Ｒ１は、水素原子または炭素数１～３のアルキル基を表す。ｎは、１～３の整数を表す。
Ｌ１３は、単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
Ｌ１４は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、または、－Ｃ≡Ｃ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
Ｌ１３は、単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
Ｌ１４は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、または、－Ｃ≡Ｃ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
式（１１）中、ｒ１は、０～４の整数を表す。ただし、Ｌ１４が－ＣＯＯ－ＣＨ２－である場合、ｒ１は０を表す。
ｒ１が２以上の場合、Ｌ１３およびＸ１３が表す基は、それぞれ異なっていてもよく、同一であってもよい。
ｒ１は、１～３が好ましく、１または２がより好ましい。
ｒ１が２以上の場合、Ｌ１３およびＸ１３が表す基は、それぞれ異なっていてもよく、同一であってもよい。
ｒ１は、１～３が好ましく、１または２がより好ましい。
また、式（１１）において、ｒ１が２以上であるか、ｒ１が１であり、かつ、Ｘ１３が複数の環構造を有する２価の芳香環基であることも好ましい。
式（１１）中、Ｘ１４は、－ＣＮ、－Ｒ２、－ＯＲ２、－ＯＨ、－（ＣＨ２）ｍ－ＯＨ、－Ｆ、もしくは、－ＣＯＯＲ２が置換していてもよい１価の芳香環基を表すか、または、下記構造の基を表す。
上記構造中、＊は、Ｌ１４との結合位置を表す。
Ｒ２は、炭素数１～２０の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基を表す。ｍは、１～３の整数を表す。
Ｒ２で表されるアルキル基の炭素数は、１～１２が好ましく、１～８がより好ましい。Ｒ２で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、プロピル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基が挙げられる。Ｒ２は、直鎖状のアルキル基が好ましい。
上記芳香環基に置換していてもよい置換基は、後述する液晶組成物に用いられる液晶化合物に応じて選択されることも好ましい。
Ｘ１４が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ１４が表す芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。
単環構造としては、フェニル基、および、ピリジル基等が挙げられる。多環構造としては、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、フルオレニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾイミダゾリル基、および、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
Ｘ１４が表す芳香環基は、上記置換基を有さないことも好ましい。
Ｒ２で表されるアルキル基の炭素数は、１～１２が好ましく、１～８がより好ましい。Ｒ２で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、プロピル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基が挙げられる。Ｒ２は、直鎖状のアルキル基が好ましい。
上記芳香環基に置換していてもよい置換基は、後述する液晶組成物に用いられる液晶化合物に応じて選択されることも好ましい。
Ｘ１４が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ１４が表す芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。
単環構造としては、フェニル基、および、ピリジル基等が挙げられる。多環構造としては、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、フルオレニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾイミダゾリル基、および、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
Ｘ１４が表す芳香環基は、上記置換基を有さないことも好ましい。
上述した式（１１）で表される第１界面活性剤Ｂ１は下記式（１２）で表される化合物であることも好ましい。
式（１２）中、Ｒｆは、直鎖状のパーフルオロアルキル基を表す。
Ｒｆが式（１２）中において２個以上含まれる場合、それぞれのＲｆは同一の基を表してもよく、異なる基を表してもよいが、同一の基を表すことが好ましい。
直鎖状のパーフルオロアルキル基の炭素数は、２～８が好ましく、３～６がより好ましく、４がさらに好ましい。
式（１２）中において、Ｒｆの数は、２～９が好ましく、３～６がより好ましく、３または４がさらに好ましい。
Ｒｆが式（１２）中において２個以上含まれる場合、それぞれのＲｆは同一の基を表してもよく、異なる基を表してもよいが、同一の基を表すことが好ましい。
直鎖状のパーフルオロアルキル基の炭素数は、２～８が好ましく、３～６がより好ましく、４がさらに好ましい。
式（１２）中において、Ｒｆの数は、２～９が好ましく、３～６がより好ましく、３または４がさらに好ましい。
式（１２）中、ｐ２は、１～３の整数を表す。
式（１２）中、Ｘ２１は、単結合、ｐ２＋１価の芳香環基、または、ｐ２＋１価の炭素数３～１０の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の芳香環基としては、ベンゼン、および、ナフタレンからなる群から選択される化合物から、ｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。なかでも、ベンゼンからｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が好ましい。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の炭素数３～１０の脂肪族炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、環状構造を含んでいてもよい。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の炭素数３～１０の脂肪族炭化水素基としては、例えば、ｎ－プロパン、ｎ－ブタン、ｎ－ペンタン、ｎ－ヘキサン、イソブタン、３－エチルペンタン、ネオペンタン、ネオヘキサン、シクロブタン、および、シクロヘキサンからなる群から選択される化合物から、ｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。なかでも、ｎ－プロパンからｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が好ましい。
なお、Ｘ２１が単結合を表す場合、ｐ２は１である。
式（１２）中、Ｘ２１は、単結合、ｐ２＋１価の芳香環基、または、ｐ２＋１価の炭素数３～１０の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の芳香環基としては、ベンゼン、および、ナフタレンからなる群から選択される化合物から、ｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。なかでも、ベンゼンからｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が好ましい。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の炭素数３～１０の脂肪族炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、環状構造を含んでいてもよい。
Ｘ２１が表すｐ２＋１価の炭素数３～１０の脂肪族炭化水素基としては、例えば、ｎ－プロパン、ｎ－ブタン、ｎ－ペンタン、ｎ－ヘキサン、イソブタン、３－エチルペンタン、ネオペンタン、ネオヘキサン、シクロブタン、および、シクロヘキサンからなる群から選択される化合物から、ｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が挙げられる。なかでも、ｎ－プロパンからｐ２＋１個の水素原子を取り除いてなる基が好ましい。
なお、Ｘ２１が単結合を表す場合、ｐ２は１である。
式（１２）中、Ｌ２１は、下記式（２－１）～（２－４）で表される２価の連結基を表す。
式（２－１）～（２－４）中、ｐは、１～３の整数を表す。
式（２－１）～（２－４）中、＊＊は、Ｘ２１との結合位置を表し、＊は、Ｒｆとの結合位置を表す。
式（２－１）～（２－４）中、＊＊は、Ｘ２１との結合位置を表し、＊は、Ｒｆとの結合位置を表す。
式（１２）中、ｑ２は、２～４の整数を表す。
複数のｐ２、Ｌ２１、Ｘ２１、および、Ｌ２２はそれぞれ異なっていてもよく、同一であってもよいが、同一であることが好ましい。
ｑ２およびｐ２は、Ｒｆの数が上述した好ましい範囲となるように設定されることも好ましい。例えば、ｐ２が１の場合、ｑ２は３が好ましく、ｐ２が２の場合、ｑ２は２または３が好ましく、ｐ２が３の場合、ｑ２は１または２が好ましい。
複数のｐ２、Ｌ２１、Ｘ２１、および、Ｌ２２はそれぞれ異なっていてもよく、同一であってもよいが、同一であることが好ましい。
ｑ２およびｐ２は、Ｒｆの数が上述した好ましい範囲となるように設定されることも好ましい。例えば、ｐ２が１の場合、ｑ２は３が好ましく、ｐ２が２の場合、ｑ２は２または３が好ましく、ｐ２が３の場合、ｑ２は１または２が好ましい。
式（１２）中、Ｘ２２は、ｑ２＋１価の芳香環基を表す。
Ｘ２２が表すｑ２＋１価の芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２２が表すｑ２＋１価の芳香環基としては、Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
Ｘ２２が表すｑ２＋１価の芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２２が表すｑ２＋１価の芳香環基としては、Ｘ１２が表すｑ１＋１価の芳香環基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
式（１２）中、Ｘ２３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香環基を表す。
Ｘ２３が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２３が表す芳香環基としては、Ｘ１３が表す芳香環基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
また、Ｘ２３が有していてもよい置換基は、Ｘ１３が有していてもよい置換基と同様であり、好ましい態様も同様である。
Ｘ２３が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２３が表す芳香環基としては、Ｘ１３が表す芳香環基が挙げられ、好ましい態様も同様である。
また、Ｘ２３が有していてもよい置換基は、Ｘ１３が有していてもよい置換基と同様であり、好ましい態様も同様である。
式（１２）中、Ｌ２２、Ｌ２３およびＬ２４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｎ－、－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－、または、－Ｃ≡Ｃ－を表す。Ｒ１は、水素原子または炭素数１～３のアルキル基を表す。ｎは、１～３の整数を表す。
Ｌ２２は、単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－が好ましく、単結合、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－がより好ましい。
Ｌ２３は、単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
Ｌ２４は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、または、－Ｃ≡Ｃ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
Ｌ２２は、単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－が好ましく、単結合、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－がより好ましい。
Ｌ２３は、単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、または、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
Ｌ２４は、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｎ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、または、－Ｃ≡Ｃ－が好ましく、単結合、－ＣＯＯ－、または、－ＣＯＮＲ１－がより好ましく、単結合、または、－ＣＯＯ－がさらに好ましく、－ＣＯＯ－が特に好ましい。
式（１２）中、ｒ２は、０～４の整数を表す。ただし、Ｌ２４が－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ２－である場合、ｒ２は０を表す。
ｒ２は、１～３が好ましい。
ｒ２は、１～３が好ましい。
式（１２）中、Ｘ２４は、－ＣＮ、－Ｒ２、－ＯＲ２、－ＯＨ、－（ＣＨ２）ｍ－ＯＨ、－Ｆ、または、－ＯＣＯＯＲ２が置換していてもよい１価の芳香環基を表す。Ｒ２は、炭素数１～２０の直鎖または分岐鎖状のアルキル基を表す。ｍは、１～３の整数を表す。Ｒ２の具体例および好ましい態様は、式（１１）で説明したＲ２のものと同様である。
Ｘ２４が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２４が表す芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。Ｘ２４が表す芳香環基の具体例および好ましい態様は、式（１１）のＸ１４のものと同様である。
Ｘ２４が表す芳香環基は、単環構造であってもよく、多環構造であってもよい。
Ｘ２４が表す芳香環基には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、窒素原子、酸素原子、および、硫黄原子からなる群から選択される１種以上の原子）が含まれていてもよい。Ｘ２４が表す芳香環基の具体例および好ましい態様は、式（１１）のＸ１４のものと同様である。
上述した式（１１）で表される第１界面活性剤Ｂ１は、繰り返し単位を有さない低分子化合物であるため、後述する第２組成物Ｂおよび形成される塗布膜に対する溶解性が高いと考えられる。さらに、液晶の構造に含まれる剛直なユニット（例えばメソゲン基と呼ばれる芳香環基を含む基）に類似する基を分子中に含むため、第１液晶化合物Ｂに対する配向制御能が高いと考えられる。
上述した式で表される第１界面活性剤Ｂ１を用いると、形成した第１コレステリック液晶層Ｂ上に第２コレステリック液晶層Ｂを塗布処理によって形成する際、第２組成物Ｂに対する第１界面活性剤Ｂ１の溶解性が高いことで、第２組成物Ｂをムラなく塗布でき、第２コレステリック液晶層Ｂをムラなく形成しやすい。また、第２組成物Ｂに溶解した第１界面活性剤Ｂ１は、第２組成物Ｂの塗布膜の空気界面側に濃縮すると考えられるが、第２組成物Ｂによって形成される塗布膜に対する溶解性が高いため、第１界面活性剤Ｂ１に由来する凝集物を形成しにくい。結果として、第１コレステリック液晶層Ｂの形成に第１界面活性剤Ｂ１を用いると、第２コレステリック液晶層Ｂの上述した界面活性剤の凝集物の数を上記範囲に調整しやすい。
上述した式で表される第１界面活性剤Ｂ１を用いると、形成した第１コレステリック液晶層Ｂ上に第２コレステリック液晶層Ｂを塗布処理によって形成する際、第２組成物Ｂに対する第１界面活性剤Ｂ１の溶解性が高いことで、第２組成物Ｂをムラなく塗布でき、第２コレステリック液晶層Ｂをムラなく形成しやすい。また、第２組成物Ｂに溶解した第１界面活性剤Ｂ１は、第２組成物Ｂの塗布膜の空気界面側に濃縮すると考えられるが、第２組成物Ｂによって形成される塗布膜に対する溶解性が高いため、第１界面活性剤Ｂ１に由来する凝集物を形成しにくい。結果として、第１コレステリック液晶層Ｂの形成に第１界面活性剤Ｂ１を用いると、第２コレステリック液晶層Ｂの上述した界面活性剤の凝集物の数を上記範囲に調整しやすい。
（溶媒およびその他の成分）
第２実施態様に用いられる第１組成物Ｂは、溶媒およびその他の成分を含んでいてもよい。
第２実施態様に用いられる第１組成物Ｂが含んでていてもよい溶媒およびその他成分は、第１実施態様の第１組成物Ａと同様であるため、説明を省略する。
第２実施態様に用いられる第１組成物Ｂは、溶媒およびその他の成分を含んでいてもよい。
第２実施態様に用いられる第１組成物Ｂが含んでていてもよい溶媒およびその他成分は、第１実施態様の第１組成物Ａと同様であるため、説明を省略する。
＜第２コレステリック液晶層Ｂ＞
本発明の積層体の第２実施態様は、第１コレステリック液晶層Ｂ上に、第２液晶化合物Ｂを含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される第２コレステリック液晶層Ｂを含む。すなわち、第２コレステリック液晶層Ｂは、コレステリック配向した第２液晶化合物Ｂを固定化してなる層である。したがって、第２コレステリック液晶層Ｂは、後述する第２組成物Ｂに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第２液晶化合物Ｂを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第２コレステリック液晶層Ｂにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第２コレステリック液晶層Ｂ中の第２液晶化合物Ｂは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第２液晶化合物Ｂは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
本発明の積層体の第２実施態様は、第１コレステリック液晶層Ｂ上に、第２液晶化合物Ｂを含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される第２コレステリック液晶層Ｂを含む。すなわち、第２コレステリック液晶層Ｂは、コレステリック配向した第２液晶化合物Ｂを固定化してなる層である。したがって、第２コレステリック液晶層Ｂは、後述する第２組成物Ｂに含まれる成分に由来する成分を含んでいてもよい。
上記コレステリック配向した第２液晶化合物Ｂを固定化してなる層とは、外場および外力等によって配向形態に変化を生じさせることがない状態に変化した層であればよい。なお、第２コレステリック液晶層Ｂにおいては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、第２コレステリック液晶層Ｂ中の第２液晶化合物Ｂは、もはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、第２液晶化合物Ｂは、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
第２コレステリック液晶層Ｂは、コレステリック配向した第２液晶化合物Ｂにより、特定の波長領域の電磁波（光）を反射できる。第２コレステリック液晶層Ｂが反射する光の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、第２コレステリック液晶層Ｂの平均屈折率ｎを用いて、λ＝ｎ×Ｐの関係で表される。なお、第２コレステリック液晶層Ｂが反射する光の中心波長は、第１コレステリック液晶層Ａが反射する光の中心波長と同様にして求めることができる。
第２コレステリック液晶層Ｂが反射する光の中心波長λは、可視光領域にあることが好ましい。
第２コレステリック液晶層Ｂの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
第２コレステリック液晶層Ｂの中心波長λにおける反射率は、４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
また、第２コレステリック液晶層Ｂは、界面活性剤を含む。
なお、上述したように、第２実施態様の積層体において、第２コレステリック液晶層Ｂの上記第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数が、２５個／ｍｍ２よりも少なく、１０個／ｍｍ２以下が好ましい。長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数の下限としては、０個／ｍｍ２が挙げられる。
なお、上述したように、第２実施態様の積層体において、第２コレステリック液晶層Ｂの上記第１コレステリック液晶層Ｂ側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数が、２５個／ｍｍ２よりも少なく、１０個／ｍｍ２以下が好ましい。長径が０．５μｍ以上である界面活性剤の凝集物の数の下限としては、０個／ｍｍ２が挙げられる。
第２コレステリック液晶層Ｂに含まれる界面活性剤は、互いに種類の異なる第１界面活性剤および第２界面活性剤を含むことが好ましい。
上記第１界面活性剤は、第１コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第１組成物Ｂに含まれる第１界面活性剤Ｂ１であることが好ましい。また、上記第２界面活性剤は、後述する第２コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第２組成物Ｂに含まれる第２界面活性剤Ｂ２であることが好ましい。
上記第１界面活性剤は、第１コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第１組成物Ｂに含まれる第１界面活性剤Ｂ１であることが好ましい。また、上記第２界面活性剤は、後述する第２コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第２組成物Ｂに含まれる第２界面活性剤Ｂ２であることが好ましい。
第２コレステリック液晶層Ｂの厚みは、０．１～１０μｍが好ましく、０．３～５μｍがより好ましい。
＜第２組成物Ｂ＞
第２コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第２組成物Ｂは、第２液晶化合物Ｂを含む。
以下、第２組成物Ｂに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
第２コレステリック液晶層Ｂの形成に用いる第２組成物Ｂは、第２液晶化合物Ｂを含む。
以下、第２組成物Ｂに含まれる成分、および、含まれていてもよい成分について説明する。
（第２液晶化合物Ｂ）
第２液晶化合物Ｂは、特に制限されず、公知の液晶化合物を用いることができる。ただし、第２液晶化合物Ｂは、上記第１液晶化合物Ｂとは異なる化合物を選択する。液晶化合物としては、例えば、棒状液晶化合物、および、円盤状液晶化合物が挙げられる。第２液晶化合物Ｂをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第２液晶化合物Ｂと、カイラル剤とを含む第１組成物Ｂを用いる方法が挙げられる。
第２液晶化合物Ｂは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。
第２液晶化合物Ｂとしては、円盤状液晶化合物が好ましく、重合性円盤状液晶化合物がより好ましい。
第２液晶化合物Ｂとして用いられる化合物の例示は、第１実施態様の第２液晶化合物Ａの例示と同様であるため、記載を省略する。
第２液晶化合物Ｂは、特に制限されず、公知の液晶化合物を用いることができる。ただし、第２液晶化合物Ｂは、上記第１液晶化合物Ｂとは異なる化合物を選択する。液晶化合物としては、例えば、棒状液晶化合物、および、円盤状液晶化合物が挙げられる。第２液晶化合物Ｂをコレステリック配向させる方法としては、例えば、第２液晶化合物Ｂと、カイラル剤とを含む第１組成物Ｂを用いる方法が挙げられる。
第２液晶化合物Ｂは、重合性基を有する重合性液晶化合物であってもよい。
第２液晶化合物Ｂとしては、円盤状液晶化合物が好ましく、重合性円盤状液晶化合物がより好ましい。
第２液晶化合物Ｂとして用いられる化合物の例示は、第１実施態様の第２液晶化合物Ａの例示と同様であるため、記載を省略する。
（第２界面活性剤Ｂ２）
第２組成物Ｂは、第２界面活性剤Ｂ２を含んでいてもよい。第２界面活性剤Ｂ２は、第２組成物Ｂを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第２液晶化合物Ｂの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第２界面活性剤Ｂ２としては、従来公知の界面活性剤が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。
フッ素系化合物としては、含フッ素基を有する繰り返し単位を含む高分子フッ素系化合物が好ましい。上記含フッ素基を有する繰り返し単位の含フッ素基としては、含フッ素アルキル基が好ましい。含フッ素アルキル基は、パーフルオロアルキル基であってもよく、部分フッ化アルキル基であってもよい。高分子フッ素系化合物は、含フッ素基を有する繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよい。他の繰り返し単位としては、環構造を含む基を有する繰り返し単位が挙げられる。環構造を含む基としては、芳香環構造を含む基、および、脂環構造を含む基が挙げられる。上記環構造には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子）が含まれていてもよい。
フッ素系化合物としては、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落００２８～００５６に記載の化合物、および、特開２００５－０６２６７３号公報中の段落００６９～０１２６に記載の化合物も挙げられる。
第２組成物Ｂは、第２界面活性剤Ｂ２を含んでいてもよい。第２界面活性剤Ｂ２は、第２組成物Ｂを塗布した際に、塗布膜の空気界面側に濃縮しやすく、かつ、第２液晶化合物Ｂの配向を制御できる成分であることが好ましい。
第２界面活性剤Ｂ２としては、従来公知の界面活性剤が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。
フッ素系化合物としては、含フッ素基を有する繰り返し単位を含む高分子フッ素系化合物が好ましい。上記含フッ素基を有する繰り返し単位の含フッ素基としては、含フッ素アルキル基が好ましい。含フッ素アルキル基は、パーフルオロアルキル基であってもよく、部分フッ化アルキル基であってもよい。高分子フッ素系化合物は、含フッ素基を有する繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよい。他の繰り返し単位としては、環構造を含む基を有する繰り返し単位が挙げられる。環構造を含む基としては、芳香環構造を含む基、および、脂環構造を含む基が挙げられる。上記環構造には、炭素原子以外のヘテロ原子（例えば、酸素原子、窒素原子）が含まれていてもよい。
フッ素系化合物としては、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落００２８～００５６に記載の化合物、および、特開２００５－０６２６７３号公報中の段落００６９～０１２６に記載の化合物も挙げられる。
なお、第２界面活性剤Ｂ２は、第１界面活性剤Ｂ１で記載した化合物であってもよい。
（溶媒およびその他の成分）
第２実施態様に用いられる第２組成物Ｂは、溶媒およびその他の成分を含んでいてもよい。
第２実施態様に用いられる第２組成物Ｂが含んでいてもよい溶媒およびその他成分は、第１実施態様の第１組成物Ａと同様であるため、説明を省略する。
第２実施態様に用いられる第２組成物Ｂは、溶媒およびその他の成分を含んでいてもよい。
第２実施態様に用いられる第２組成物Ｂが含んでいてもよい溶媒およびその他成分は、第１実施態様の第１組成物Ａと同様であるため、説明を省略する。
＜基材＞
積層体の第２実施態様は、基材を含んでいてもよい。
積層体の第２実施態様が含んでていてもよい基材の好ましい態様は、第１実施態様が含んでいてもよい基材の好ましい態様と同様であるため、説明を省略する。
積層体の第２実施態様は、基材を含んでいてもよい。
積層体の第２実施態様が含んでていてもよい基材の好ましい態様は、第１実施態様が含んでいてもよい基材の好ましい態様と同様であるため、説明を省略する。
本発明の積層体の第２実施態様は、上述したように第１コレステリック液晶層Ｂおよび第２コレステリック液晶層Ｂを含めばよく、他の構成を含んでいてもよい。
他の構成としては、第１コレステリック液晶層Ｂおよび第２コレステリック液晶層Ｂ以外の他のコレステリック液晶層、粘着剤層、密着層、配向層、反射防止層、位相差層、および、光吸収異方性層等が挙げられる。
また、積層体を仮想現実表示装置に適用する場合、仮想現実表示装置から発せられる光の波長に合わせて、それぞれの層が反射する光の中心波長を調整することが好ましい。
積層体の反射率は、可視光領域全域にわたって４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
他の構成としては、第１コレステリック液晶層Ｂおよび第２コレステリック液晶層Ｂ以外の他のコレステリック液晶層、粘着剤層、密着層、配向層、反射防止層、位相差層、および、光吸収異方性層等が挙げられる。
また、積層体を仮想現実表示装置に適用する場合、仮想現実表示装置から発せられる光の波長に合わせて、それぞれの層が反射する光の中心波長を調整することが好ましい。
積層体の反射率は、可視光領域全域にわたって４０％以上であることが好ましく、４５％以上であることがより好ましく、４７％以上であることがさらに好ましく、４９％以上であることが特に好ましい。反射率の上限は、５０％以下が挙げられる。
＜積層体の製造方法＞
積層体の第２実施態様は、例えば以下の方法で製造できる。
上記基材上に上記第１組成物Ｂを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第１コレステリック液晶層Ｂを形成し、第１コレステリック液晶層Ｂ上に上記第２組成物Ｂを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第２コレステリック液晶層Ｂを形成する方法が挙げられる。
上記配向処理としては、例えば、加熱処理が挙げられる。また、重合処理としては、例えば、活性光線の照射処理が挙げられる。また、第１組成物Ｂまたは第２組成物Ｂに溶媒が含まれる場合、塗布膜に含まれる溶媒を除去する処理を行ってもよい。
なお、第２コレステリック液晶層Ｂに界面活性剤が含まれるようにするためには、界面活性剤を含む第２組成物Ｂを用いるか、第２組成物Ｂに対する溶解性が高い界面活性剤を含む、第１組成物Ｂを用いて第１コレステリック液晶層Ｂを形成すればよい。
積層体の第２実施態様は、例えば以下の方法で製造できる。
上記基材上に上記第１組成物Ｂを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第１コレステリック液晶層Ｂを形成し、第１コレステリック液晶層Ｂ上に上記第２組成物Ｂを塗布し、塗布膜に対して配向処理および重合処理を行って第２コレステリック液晶層Ｂを形成する方法が挙げられる。
上記配向処理としては、例えば、加熱処理が挙げられる。また、重合処理としては、例えば、活性光線の照射処理が挙げられる。また、第１組成物Ｂまたは第２組成物Ｂに溶媒が含まれる場合、塗布膜に含まれる溶媒を除去する処理を行ってもよい。
なお、第２コレステリック液晶層Ｂに界面活性剤が含まれるようにするためには、界面活性剤を含む第２組成物Ｂを用いるか、第２組成物Ｂに対する溶解性が高い界面活性剤を含む、第１組成物Ｂを用いて第１コレステリック液晶層Ｂを形成すればよい。
また、表面処理、配向処理および重合処理については、第１実施態様に記載の積層体の製造方法と同様である。
なお、第１コレステリック液晶層Ｂの形成後は、第１コレステリック液晶層Ｂの表面に表面処理（例えば、コロナ放電処理）を行わないことが好ましい。すなわち、第１コレステリック液晶層Ｂを形成したあと、表面処理を行わずに第２組成物Ｂを塗布することが好ましい。これは、一般的に、上記のような処理を行うと、第２コレステリック液晶層Ｂの配向性が低下する場合があるためである。より具体的には、一般的に、円盤状液晶化合物を含む液晶層上に、棒状液晶化合物を含む液晶層を形成する場合、円盤状液晶化合物を含む液晶層の表面に対してコロナ処理と行うと、その表面が親水化する。円盤状液晶化合物を含む液晶層の表面が親水化した状態で、棒状液晶化合物を含む層を形成しようとすると、棒状液晶化合物は疎水性である場合が多いため、棒状液晶化合物の配向性が低下する場合がある。
なお、第１コレステリック液晶層Ｂの形成後は、第１コレステリック液晶層Ｂの表面に表面処理（例えば、コロナ放電処理）を行わないことが好ましい。すなわち、第１コレステリック液晶層Ｂを形成したあと、表面処理を行わずに第２組成物Ｂを塗布することが好ましい。これは、一般的に、上記のような処理を行うと、第２コレステリック液晶層Ｂの配向性が低下する場合があるためである。より具体的には、一般的に、円盤状液晶化合物を含む液晶層上に、棒状液晶化合物を含む液晶層を形成する場合、円盤状液晶化合物を含む液晶層の表面に対してコロナ処理と行うと、その表面が親水化する。円盤状液晶化合物を含む液晶層の表面が親水化した状態で、棒状液晶化合物を含む層を形成しようとすると、棒状液晶化合物は疎水性である場合が多いため、棒状液晶化合物の配向性が低下する場合がある。
［仮想現実表示装置］
本発明の仮想現実表示装置は、本発明の積層体を含む。
本発明の仮想現実表示装置において、本発明の積層体は、反射偏光子として用いられることが好ましい。特に、本発明の積層体は、反射偏光子とハーフミラーとの間で光を反射させて往復させる往復光学系を有する仮想現実表示装置における反射偏光子として用いられることが好ましい。
反射光学系の構成、および、仮想現実表示装置の構成は、特開平７－１２０６７９号公報、および、特開２０１７－２２７７２０号公報等を参考にできる。
本発明の仮想現実表示装置は、本発明の積層体を含む。
本発明の仮想現実表示装置において、本発明の積層体は、反射偏光子として用いられることが好ましい。特に、本発明の積層体は、反射偏光子とハーフミラーとの間で光を反射させて往復させる往復光学系を有する仮想現実表示装置における反射偏光子として用いられることが好ましい。
反射光学系の構成、および、仮想現実表示装置の構成は、特開平７－１２０６７９号公報、および、特開２０１７－２２７７２０号公報等を参考にできる。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。
以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきではない。
以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきではない。
［積層体の製造］
実施例および比較例に用いた積層体は、以下の手順で製造した。具体的には、まず、基材上に、液晶化合物を含む組成物を塗布し、所定の処理を行ってコレステリック液晶層を形成した。形成したコレステリック液晶層上に、液晶化合物を含む組成物を塗布し、所定の処理を行ってコレステリック液晶層とし、積層体を得た。
以下、各組成物およびコレステリック液晶層の形成方法について説明する。
実施例および比較例に用いた積層体は、以下の手順で製造した。具体的には、まず、基材上に、液晶化合物を含む組成物を塗布し、所定の処理を行ってコレステリック液晶層を形成した。形成したコレステリック液晶層上に、液晶化合物を含む組成物を塗布し、所定の処理を行ってコレステリック液晶層とし、積層体を得た。
以下、各組成物およびコレステリック液晶層の形成方法について説明する。
＜組成物＞
以下に示す組成物は、いずれもコレステリック液晶層を形成するための組成物である。なお、「Ｒ」を含む記号を付した組成物は、棒状液晶化合物を含む組成物を指し、「Ｄ」を含む記号を付した組成物は、円盤状液晶化合物を含む組成物を指す。
以下に示す組成物は、いずれもコレステリック液晶層を形成するための組成物である。なお、「Ｒ」を含む記号を付した組成物は、棒状液晶化合物を含む組成物を指し、「Ｄ」を含む記号を付した組成物は、円盤状液晶化合物を含む組成物を指す。
（組成物Ｒ－１）
７０℃に保温された容器中にて、以下に示す成分を撹拌して溶解させ、組成物Ｒ－１を調製した。
７０℃に保温された容器中にて、以下に示す成分を撹拌して溶解させ、組成物Ｒ－１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ｒ－１
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・メチルエチルケトン １７６．９質量部
・シクロヘキサノン ４４．２質量部
・棒状液晶化合物Ａ１（混合物） ５０．０質量部
・下記棒状液晶化合物Ａ２ ５０．０質量部
・光重合開始剤Ｂ １．００質量部
・カイラル剤Ａ１ ３．００質量部
・界面活性剤 Ｆ１ ０．０６質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ｒ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・メチルエチルケトン １７６．９質量部
・シクロヘキサノン ４４．２質量部
・棒状液晶化合物Ａ１（混合物） ５０．０質量部
・下記棒状液晶化合物Ａ２ ５０．０質量部
・光重合開始剤Ｂ １．００質量部
・カイラル剤Ａ１ ３．００質量部
・界面活性剤 Ｆ１ ０．０６質量部
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棒状液晶化合物Ａ１（混合比は質量比）
棒状液晶化合物Ａ２
光重合開始剤Ｂ
カイラル剤Ａ１
なお、カイラル剤Ａ１は、光によって螺旋誘起力（ＨＴＰ：Ｈｅｌｉｃａｌ Ｔｗｉｓｔｉｎｇ Ｐｏｗｅｒ）が減少するカイラル剤（カイラル剤Ａ）である。
界面活性剤Ｆ１（繰り返し単位の比率は質量比）
（組成物Ｒ－２）
カイラル剤Ａ１の添加量を３．６３質量部、界面活性剤Ｆ１の添加量を０．１５質量部に変更した以外は、組成物Ｒ－１と同様に組成物Ｒ－２を調製した。
カイラル剤Ａ１の添加量を３．６３質量部、界面活性剤Ｆ１の添加量を０．１５質量部に変更した以外は、組成物Ｒ－１と同様に組成物Ｒ－２を調製した。
（組成物Ｄ－１）
５０℃に保温された容器中にて、以下に示す成分を撹拌して溶解させ、組成物Ｄ－１を調製した。
５０℃に保温された容器中にて、以下に示す成分を撹拌して溶解させ、組成物Ｄ－１を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ｄ－１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・円盤状液晶化合物（Ａ） ８０質量部
・円盤状液晶化合物（Ｂ） ２０質量部
・重合性モノマーＥ１ ４質量部
・界面活性剤Ｆ２ ０．０６質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７） ３質量部
・ピリジニウム塩Ａ ０．１質量部
・ボロン酸モノマーＡ ３質量部
・上記カイラル剤Ａ１ ４．００質量部
・メチルエチルケトン １５１質量部
・シクロヘキサノン ３７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
組成物Ｄ－１
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・円盤状液晶化合物（Ａ） ８０質量部
・円盤状液晶化合物（Ｂ） ２０質量部
・重合性モノマーＥ１ ４質量部
・界面活性剤Ｆ２ ０．０６質量部
・光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、イルガキュアー９０７） ３質量部
・ピリジニウム塩Ａ ０．１質量部
・ボロン酸モノマーＡ ３質量部
・上記カイラル剤Ａ１ ４．００質量部
・メチルエチルケトン １５１質量部
・シクロヘキサノン ３７質量部
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円盤状液晶化合物（Ａ）
円盤状液晶化合物（Ｂ）
重合性モノマーＥ１
界面活性剤Ｆ２
なお、界面活性剤Ｆ２は非液晶性であって、融点は９４℃であった。また、界面活性剤Ｆ２に含まれる芳香環構造の数は、４である。
ピリジニウム塩Ａ
ボロン酸モノマーＡ
（組成物Ｄ－２）
カイラル剤Ａ１の添加量を５．２８質量部に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に組成物Ｄ－２を調製した。
カイラル剤Ａ１の添加量を５．２８質量部に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に組成物Ｄ－２を調製した。
（組成物Ｄ－３）
界面活性剤Ｆ２を下記界面活性剤Ｆ３に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に組成物Ｄ－３を調製した。
界面活性剤Ｆ２を下記界面活性剤Ｆ３に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に組成物Ｄ－３を調製した。
界面活性剤Ｆ３
なお、界面活性剤Ｆ３は非液晶性であって、融点は５０℃であった。また、界面活性剤Ｆ３に含まれる芳香環構造の数は、３である。
（組成物Ｄ－４）
界面活性剤Ｆ２を上記界面活性剤Ｆ３に変更した以外は、組成物Ｄ－２と同様に組成物Ｄ－３を調製した。
界面活性剤Ｆ２を上記界面活性剤Ｆ３に変更した以外は、組成物Ｄ－２と同様に組成物Ｄ－３を調製した。
（組成物Ｄ－５）
界面活性剤Ｆ２を下記界面活性剤Ｆ４に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に組成物Ｄ－５を調製した。
界面活性剤Ｆ２を下記界面活性剤Ｆ４に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に組成物Ｄ－５を調製した。
界面活性剤Ｆ４
なお、界面活性剤Ｆ４は非液晶性であって、融点は１０８℃であった。
（組成物Ｄ－６）
界面活性剤Ｆ２を上記界面活性剤Ｆ４に変更した以外は、組成物Ｄ－２と同様に組成物Ｄ－６を調製した。
界面活性剤Ｆ２を上記界面活性剤Ｆ４に変更した以外は、組成物Ｄ－２と同様に組成物Ｄ－６を調製した。
（組成物Ｄ－７）
カイラル剤Ａ１の添加量を３．１質量部に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に調製した。
カイラル剤Ａ１の添加量を３．１質量部に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に調製した。
（組成物Ｄ－８）
円盤状液晶化合物（Ａ）および（Ｂ）の代わりに円盤状液晶化合物（Ｃ）を用いた以外は、Ｄ－１と同様に調製した。
円盤状液晶化合物（Ａ）および（Ｂ）の代わりに円盤状液晶化合物（Ｃ）を用いた以外は、Ｄ－１と同様に調製した。
円盤状液晶化合物（Ｃ）
（組成物Ｄ－９）
カイラル剤Ａ１の添加量を４．１質量部に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に調製した。
カイラル剤Ａ１の添加量を４．１質量部に変更した以外は、組成物Ｄ－１と同様に調製した。
（組成物Ｄ－１０）
カイラル剤Ａ１の添加量を４．６質量部に変更した以外は組成物Ｄ－８と同様に調製した。
カイラル剤Ａ１の添加量を４．６質量部に変更した以外は組成物Ｄ－８と同様に調製した。
＜積層体の製造手順＞
以下の手順で実施例および比較例に用いた積層体を得た。
以下の手順で実施例および比較例に用いた積層体を得た。
（積層体１）
仮支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東洋紡株式会社製、Ａ４１００）を準備した。このＰＥＴフィルムは、一方の面に易接着層を有する。
上記ＰＥＴフィルムの易接着層が無い面に対してラビング処理を行い、上記組成物Ｒ－１をワイヤーバーコーターで塗布して塗布膜を形成した後、塗布膜を１１０℃で１２０秒間乾燥した。その後、塗布膜を８０℃に保持し、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）でメタルハライドランプの紫外光（照度１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２）を照射して液晶化合物の配向方向を固定化し、ＰＥＴフィルム上にコレステリック液晶層１を形成した。紫外光の照射は、塗布膜側から行った。また、組成物Ｒ－１の塗布量は、形成されるコレステリック液晶層１の膜厚が４．５μｍとなるように調整した。
コレステリック液晶層１は、赤色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：６５０ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層１は、本発明の第１コレステリック液晶層および第２コレステリック液晶層のいずれにも該当しない。
仮支持体として、厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム（東洋紡株式会社製、Ａ４１００）を準備した。このＰＥＴフィルムは、一方の面に易接着層を有する。
上記ＰＥＴフィルムの易接着層が無い面に対してラビング処理を行い、上記組成物Ｒ－１をワイヤーバーコーターで塗布して塗布膜を形成した後、塗布膜を１１０℃で１２０秒間乾燥した。その後、塗布膜を８０℃に保持し、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）でメタルハライドランプの紫外光（照度１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２）を照射して液晶化合物の配向方向を固定化し、ＰＥＴフィルム上にコレステリック液晶層１を形成した。紫外光の照射は、塗布膜側から行った。また、組成物Ｒ－１の塗布量は、形成されるコレステリック液晶層１の膜厚が４．５μｍとなるように調整した。
コレステリック液晶層１は、赤色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：６５０ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層１は、本発明の第１コレステリック液晶層および第２コレステリック液晶層のいずれにも該当しない。
次に、コレステリック液晶層１のＰＥＴフィルム側とは反対側の表面に対し、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に組成物Ｄ－１をワイヤーバーコーターで塗布して塗布膜を形成した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥した後、１０３℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、塗布膜を４５℃に保持し、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）でメタルハライドランプの紫外光（照度１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２）を照射して液晶化合物の配向方向を固定化し、コレステリック液晶層１上にコレステリック液晶層２を形成した。紫外光の照射は、塗布膜側から行った。また、組成物Ｄ－１の塗布量は、形成されるコレステリック液晶層２の膜厚が３．３μｍとなるように調整した。
コレステリック液晶層２は、黄色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：６００ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層２は、本発明の第１コレステリック液晶層に該当する。
コレステリック液晶層２は、黄色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：６００ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層２は、本発明の第１コレステリック液晶層に該当する。
次に、コレステリック液晶層２のＰＥＴフィルム側とは反対側の表面に対し、組成物Ｒ－２をワイヤーバーコーターで塗布して塗布膜を形成した後、塗布膜を１１０℃で１２０秒間乾燥した。その後、塗布膜を８０℃に保持し、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）でメタルハライドランプの紫外光（照度１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２）を照射して液晶化合物の配向方向を固定化し、コレステリック液晶層２上にコレステリック液晶層３を形成した。紫外光の照射は、塗布膜側から行った。また、組成物Ｒ－２の塗布量は、形成されるコレステリック液晶層３の膜厚が２．７μｍとなるように調整した。
コレステリック液晶層３は、緑色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：５５０ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層３は、本発明の第２コレステリック液晶層に該当する。
コレステリック液晶層３は、緑色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：５５０ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層３は、本発明の第２コレステリック液晶層に該当する。
次に、コレステリック液晶層３のＰＥＴフィルム側とは反対側の表面に対し、放電量１５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２でコロナ処理を行った後、コロナ処理を行った面上に組成物Ｄ－２をワイヤーバーコーターで塗布して塗布膜を形成した。続いて、塗布膜を７０℃、２分間乾燥した後、１００℃で３分間加熱熟成を行って、均一な配向状態を得た。その後、塗布膜を４５℃に保持し、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ以下）でメタルハライドランプの紫外光（照度１００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ２）を照射して液晶化合物の配向方向を固定化し、コレステリック液晶層３上にコレステリック液晶層４を形成した。紫外光の照射は、塗布膜側から行った。また、組成物Ｄ－２の塗布量は、形成されるコレステリック液晶層４の膜厚が２．５μｍとなるように調整した。
コレステリック液晶層４は、青色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：４６０ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層４は、本発明の第１コレステリック液晶層および第２コレステリック液晶層のいずれにも該当しない。
上記手順で積層体１を得た。
コレステリック液晶層４は、青色光を反射するコレステリック液晶層であった（反射光の中心波長：４６０ｎｍ）。なお、コレステリック液晶層４は、本発明の第１コレステリック液晶層および第２コレステリック液晶層のいずれにも該当しない。
上記手順で積層体１を得た。
（積層体２）
組成物Ｄ－１の代わりに組成物Ｄ－３を用い、組成物Ｄ－２の代わりに組成物Ｄ－４を用いた以外は、積層体１と同様の手順で積層体２を得た。
組成物Ｄ－１の代わりに組成物Ｄ－３を用い、組成物Ｄ－２の代わりに組成物Ｄ－４を用いた以外は、積層体１と同様の手順で積層体２を得た。
（積層体３）
組成物Ｒ－１の代わりに組成物Ｄ－７を用い、組成物Ｄ－１の代わりに組成物Ｄ－８を組成物Ｒ－２の代わりに組成物Ｄ－９を用い、組成物Ｄ－２の代わりに組成物Ｄ－１０を用いた以外は、積層体１と同様の手順で積層体３を得た。
なお、各層の積層時には、上記組成物Ｄ－１を塗布してコレステリック液晶層２を形成する際の条件を適用した。すなわち、各組成物を塗布する前にコロナ処理を実施した。
組成物Ｒ－１の代わりに組成物Ｄ－７を用い、組成物Ｄ－１の代わりに組成物Ｄ－８を組成物Ｒ－２の代わりに組成物Ｄ－９を用い、組成物Ｄ－２の代わりに組成物Ｄ－１０を用いた以外は、積層体１と同様の手順で積層体３を得た。
なお、各層の積層時には、上記組成物Ｄ－１を塗布してコレステリック液晶層２を形成する際の条件を適用した。すなわち、各組成物を塗布する前にコロナ処理を実施した。
（積層体４）
組成物Ｄ－１の代わりに組成物Ｄ－５を用い、組成物Ｄ－２の代わりに組成物Ｄ－６を用いた以外は、積層体１と同様の手順で積層体４を得た。
組成物Ｄ－１の代わりに組成物Ｄ－５を用い、組成物Ｄ－２の代わりに組成物Ｄ－６を用いた以外は、積層体１と同様の手順で積層体４を得た。
［測定］
＜凝集物の測定＞
上述した手順で、積層体１～３においてコレステリック液晶層３まで作製した状態のサンプルに対し、コレステリック液晶層３のコレステリック液晶層２側とは反対側の表面を、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで分析し、界面活性剤に由来する２次イオンについてマッピングを行い、界面活性剤に由来する凝集物の数をカウントした。
＜凝集物の測定＞
上述した手順で、積層体１～３においてコレステリック液晶層３まで作製した状態のサンプルに対し、コレステリック液晶層３のコレステリック液晶層２側とは反対側の表面を、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで分析し、界面活性剤に由来する２次イオンについてマッピングを行い、界面活性剤に由来する凝集物の数をカウントした。
＜暗線領域幅／暗線幅比の測定＞
上述した手順で、積層体１～４の暗線領域幅／暗線幅比を得た。
観察には、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の「Ｓ－４８００」を使用した。ＳＥＭによる観察は、加速電圧を２ｋＶに設定し、倍率２００００倍で二次電子像を取得した。
なお、上述した幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比（領域幅Ｗｒｂ／幅Ｗｂ）の値は、いずれの積層体においても１．０であった。
上述した手順で、積層体１～４の暗線領域幅／暗線幅比を得た。
観察には、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の「Ｓ－４８００」を使用した。ＳＥＭによる観察は、加速電圧を２ｋＶに設定し、倍率２００００倍で二次電子像を取得した。
なお、上述した幅Ｗｂに対する領域幅Ｗｒｂの比（領域幅Ｗｒｂ／幅Ｗｂ）の値は、いずれの積層体においても１．０であった。
＜界面活性剤の転写＞
上述した方法でＸ線光電子分光法によってコレステリック液晶層２から基材に対する界面活性剤の転写の程度を評価した。
後段の表では、以下の基準で記載する。
Ａ：全原子に対して、フッ素原子の含有量が２原子％未満
Ｂ：全原子に対して、フッ素原子の含有量が２原子％以上５原子％未満
Ｃ：全原子に対して、フッ素原子の含有量が５原子％以上
上述した方法でＸ線光電子分光法によってコレステリック液晶層２から基材に対する界面活性剤の転写の程度を評価した。
後段の表では、以下の基準で記載する。
Ａ：全原子に対して、フッ素原子の含有量が２原子％未満
Ｂ：全原子に対して、フッ素原子の含有量が２原子％以上５原子％未満
Ｃ：全原子に対して、フッ素原子の含有量が５原子％以上
［評価］
＜反射率＞
分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）を用いて積層体１～４の反射率測定を行った。なお、反射率は、コレステリック液晶層１～４のそれぞれの反射光の中心波長における反射率を測定した。
＜反射率＞
分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５５０）を用いて積層体１～４の反射率測定を行った。なお、反射率は、コレステリック液晶層１～４のそれぞれの反射光の中心波長における反射率を測定した。
＜画像鮮鋭性の評価＞
実施例１では、往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ ＶＲ Ｇｌａｓｓ」のレンズを分解し、もっとも視認側のレンズを取り出した。このレンズは、視認側が凸面の平凸レンズであり、平面の側に反射円偏光子が貼合されていた。このレンズから反射円偏光子を剥離し、平面の側に、後段に作製方法を示す光学積層シート１を、吸収型偏光子の側が視認側となるように貼合した。光学積層シート１を貼合したレンズを再度本体に組み込み、仮想現実表示装置を作製した。
同様にして、実施例２および３、比較例１に用いた仮想現実表示装置を作製した。
実施例１では、往復光学系を採用した仮想現実表示装置である、Ｈｕａｗｅｉ社製の仮想現実表示装置「Ｈｕａｗｅｉ ＶＲ Ｇｌａｓｓ」のレンズを分解し、もっとも視認側のレンズを取り出した。このレンズは、視認側が凸面の平凸レンズであり、平面の側に反射円偏光子が貼合されていた。このレンズから反射円偏光子を剥離し、平面の側に、後段に作製方法を示す光学積層シート１を、吸収型偏光子の側が視認側となるように貼合した。光学積層シート１を貼合したレンズを再度本体に組み込み、仮想現実表示装置を作製した。
同様にして、実施例２および３、比較例１に用いた仮想現実表示装置を作製した。
作製した実施例１～３、および、比較例１の仮想現実表示装置において、画像表示装置に白黒のチェッカーパターンを表示させ、目視にて、画像鮮鋭性の程度を下記基準で評価した。なお、画像鮮鋭性が悪いと、チェッカーパターンの一部または全部が歪んで見える。
Ａ：チェッカーパターンの歪みがほとんど認識されない。
Ｂ：チェッカーパターンの歪みが僅かに認識されるが気にならない。
Ｃ：チェッカーパターンの歪みがはっきりと認識される。
Ａ：チェッカーパターンの歪みがほとんど認識されない。
Ｂ：チェッカーパターンの歪みが僅かに認識されるが気にならない。
Ｃ：チェッカーパターンの歪みがはっきりと認識される。
（光学積層シートの作製）
上記積層体１～４を用いて光学積層シート１～４を作製した。
代表的に積層体１を用いた光学積層シート１の作製手順を示す。積層体２～４を用いた光学積層シート２～４も下記手順と同様の手順で作製した。なお、光学積層シート１～３は、実施例１～３にそれぞれ用い、光学積層シート４は比較例１に用いた。
上記積層体１～４を用いて光学積層シート１～４を作製した。
代表的に積層体１を用いた光学積層シート１の作製手順を示す。積層体２～４を用いた光学積層シート２～４も下記手順と同様の手順で作製した。なお、光学積層シート１～３は、実施例１～３にそれぞれ用い、光学積層シート４は比較例１に用いた。
まず、デクセリアルズ株式会社製の反射防止フィルム「ＡＲ２００－Ｔ０８１０－ＪＤ」に、東亞合成株式会社製の紫外線硬化型接着剤「アロニックス ＵＶＸ－６２８２」を塗布した。次に、積層体１のコレステリック液晶層４と塗布した接着剤層とが対向するように積層体１と反射防止フィルムとを貼り合わせ、貼り合わせた状態で、紫外線を照射（３００ｍＪ／ｃｍ２）して接着剤を硬化させた。接着剤を硬化した後、積層体１のＰＥＴフィルムを剥離して除去し、積層シートを得た。積層シートは、反射防止フィルム、接着剤層、コレステリック液晶層４、コレステリック液晶層３、コレステリック液晶層２、および、コレステリック液晶層１をこの順に有していた。
なお、硬化後の接着剤層の厚みは、３５μｍであった。また、硬化後の接着剤層の屈折率は、１．４８であった。
なお、硬化後の接着剤層の厚みは、３５μｍであった。また、硬化後の接着剤層の屈折率は、１．４８であった。
上記積層シートのコレステリック液晶層１側の表面に対し、λ／４位相差板を上記接着剤で貼合して接着し、さらに、λ／４位相差板のコレステリック液晶層１側とは反対側の表面に、吸収型偏光子を上記接着剤で貼合して接着した。吸収型偏光子の貼合の際には、λ／４位相差板の遅相軸と、吸収型偏光子の吸収軸とのなす角が４５°となるように向きを調整した。
なお、硬化後の接着剤層の厚みは、３５μｍであった。
次に、吸収型偏光子上に、リンテック株式会社製粘着剤シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（１５）」を貼合し、光学積層シート１を得た。光学積層シート１は、反射防止フィルム、接着剤層、コレステリック液晶層４、コレステリック液晶層３、コレステリック液晶層２、コレステリック液晶層１、接着剤層、λ／４位相差板、接着剤層、吸収型偏光子、および、粘着剤シートをこの順に有していた。なお、得られた光学積層シート１は、一辺の長さが３０ｕｍ以上である異物の数が、１ｍ２当たり９０個であった。
なお、硬化後の接着剤層の厚みは、３５μｍであった。
次に、吸収型偏光子上に、リンテック株式会社製粘着剤シート「ＮＣＦ－Ｄ６９２（１５）」を貼合し、光学積層シート１を得た。光学積層シート１は、反射防止フィルム、接着剤層、コレステリック液晶層４、コレステリック液晶層３、コレステリック液晶層２、コレステリック液晶層１、接着剤層、λ／４位相差板、接着剤層、吸収型偏光子、および、粘着剤シートをこの順に有していた。なお、得られた光学積層シート１は、一辺の長さが３０ｕｍ以上である異物の数が、１ｍ２当たり９０個であった。
得られた光学積層シート１は、ピコ秒レーザー加工機を用いて、直径３５ｍｍの円形に裁断した。さらに、吸収型偏光子の吸収軸の方位を表すように、端部の一部を切り落とし、切り欠きを作製した。なお、加工の際には、裁断端面の角度が光学積層シート１の鉛直方向に対して５°以下になるように、加工条件を調整した。
＜ゴーストの評価＞
画像鮮鋭性の評価で作製した実施例１～３、および、比較例１の仮想現実表示装置において、画像表示装置に白黒のチェッカーパターンを表示させ、目視にて、ゴーストの程度を下記基準で評価した。なお、ゴーストが発生すると、二重像が視認され、二重像が視認される部分のコントラストが低下する。
Ａ：二重像がほとんど見えない
Ｂ：二重像が僅かに見えるが気にならない
Ｃ：二重像がはっきり見える
画像鮮鋭性の評価で作製した実施例１～３、および、比較例１の仮想現実表示装置において、画像表示装置に白黒のチェッカーパターンを表示させ、目視にて、ゴーストの程度を下記基準で評価した。なお、ゴーストが発生すると、二重像が視認され、二重像が視認される部分のコントラストが低下する。
Ａ：二重像がほとんど見えない
Ｂ：二重像が僅かに見えるが気にならない
Ｃ：二重像がはっきり見える
［結果］
積層体の構成、ならびに、積層体の測定結果および評価結果を表１に示す。
積層体の構成、ならびに、積層体の測定結果および評価結果を表１に示す。
表１の結果から、実施例の積層体は、コレステリック液晶層の反射率が高いことが確認された。一方、暗線領域幅／暗線幅比が所定範囲でないか、凝集物の数が一定値以上である比較例の積層体は、第２コレステリック液晶層の反射率が低かった。
実施例１と実施例２との比較から、コレステリック液晶層２に用いられる界面活性剤（第１界面活性剤）が非液晶性であって、融点が９０℃以上である場合、コレステリック液晶層の反射率により優れ、画像鮮鋭性が優れることが確認された。また、界面活性剤（第１界面活性剤）の転写も少ないことが確認された。
実施例１と実施例２との比較から、コレステリック液晶層２に用いられる界面活性剤（第１界面活性剤）が芳香環構造を４環以上有する場合、コレステリック液晶層の反射率により優れ、画像鮮鋭性が優れることが確認された。
実施例１と実施例２との比較から、コレステリック液晶層２に用いられる界面活性剤（第１界面活性剤）が上記式（１１）で表される界面活性剤である場合、コレステリック液晶層の反射率により優れ、画像鮮鋭性が優れることが確認された。
実施例１および２と実施例３との比較から、コレステリック液晶層１および３に棒状液晶化合物が含まれ、コレステリック液晶層２および４に円盤状液晶化合物が含まれる（第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が棒状液晶化合物である）場合、ゴーストが発生しにくいことが確認された。
実施例１と実施例２との比較から、コレステリック液晶層２に用いられる界面活性剤（第１界面活性剤）が非液晶性であって、融点が９０℃以上である場合、コレステリック液晶層の反射率により優れ、画像鮮鋭性が優れることが確認された。また、界面活性剤（第１界面活性剤）の転写も少ないことが確認された。
実施例１と実施例２との比較から、コレステリック液晶層２に用いられる界面活性剤（第１界面活性剤）が芳香環構造を４環以上有する場合、コレステリック液晶層の反射率により優れ、画像鮮鋭性が優れることが確認された。
実施例１と実施例２との比較から、コレステリック液晶層２に用いられる界面活性剤（第１界面活性剤）が上記式（１１）で表される界面活性剤である場合、コレステリック液晶層の反射率により優れ、画像鮮鋭性が優れることが確認された。
実施例１および２と実施例３との比較から、コレステリック液晶層１および３に棒状液晶化合物が含まれ、コレステリック液晶層２および４に円盤状液晶化合物が含まれる（第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、第２液晶化合物が棒状液晶化合物である）場合、ゴーストが発生しにくいことが確認された。
１００ 積層体
１０ 第１コレステリック液晶層
１２ 第２コレステリック液晶層
２６ 第２液晶層明線
２８ 第２液晶層暗線
２８ａ 表層暗線
２８ｂ 中間暗線
Ｍ 中間位置
１０ 第１コレステリック液晶層
１２ 第２コレステリック液晶層
２６ 第２液晶層明線
２８ 第２液晶層暗線
２８ａ 表層暗線
２８ｂ 中間暗線
Ｍ 中間位置
Claims (10)
- 第１液晶化合物を含む第１組成物を用いて形成された第１コレステリック液晶層と、
前記第１コレステリック液晶層上に、第２液晶化合物を含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層とを含む積層体であって、
前記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
前記第１液晶化合物と、前記第２液晶化合物とが異なる化合物であって、
走査型電子顕微鏡で前記第２コレステリック液晶層の断面観察を行って観察される、前記第２コレステリック液晶層のコレステリック液晶相に由来する明線および暗線のうち、前記第１コレステリック液晶層側とは最も離れた位置の暗線を表層暗線とし、前記第２コレステリック液晶層の厚み方向の中間位置に最も近接する位置の暗線を中間暗線とした際に、
前記第２コレステリック液晶層の厚み方向における前記中間暗線の幅に対する、前記第２コレステリック液晶層の厚み方向において前記表層暗線が存在する領域幅の比が、１．２以下である、積層体。 - 前記第２コレステリック液晶層の厚み方向における前記中間暗線の幅に対する、前記第２コレステリック液晶層の厚み方向において前記中間暗線が存在する領域幅の比が、３．０以下である、請求項１に記載の積層体。
- 第１液晶化合物を含む第１組成物を用いて形成された第１コレステリック液晶層と、
前記第１コレステリック液晶層上に、第２液晶化合物を含む第２組成物を用いて塗布処理により形成される、第２コレステリック液晶層とを含む積層体であって、
前記第１液晶化合物が円盤状液晶化合物であり、
前記第１液晶化合物と、前記第２液晶化合物とが異なり、
前記第２コレステリック液晶層が界面活性剤を含み、
前記第２コレステリック液晶層の前記第１コレステリック液晶層側とは反対側の表面において、長径が０．５μｍ以上である前記界面活性剤の凝集物の数が、１００００個／ｍｍ２よりも少ない、積層体。 - 前記界面活性剤が、第１界面活性剤および第２界面活性剤を含む、請求項３に記載の積層体。
- 前記第１界面活性剤が、前記第１組成物に含まれる界面活性剤であって、
前記第１界面活性剤が液晶性であって、液晶相から等方性液相への相転移温度が１００℃以上であるか、
前記第１界面活性剤が非液晶性であって、融点が９０℃以上である、請求項４に記載の積層体。 - 前記第１界面活性剤が芳香環構造を４環以上有する、請求項５に記載の積層体。
- 前記第１界面活性剤の分子量が５０００以下である、請求項５に記載の積層体。
- 前記第１界面活性剤が、下記式（１１）で表される、請求項５に記載の積層体。
式（１１）中、ｐ１は、１～３の整数を表す。
式（１１）中、Ａ１１は、それぞれ独立に、ｐ１＋１価の炭化水素基を表す。前記炭化水素基は、酸素原子および窒素原子からなる群から選択される１種以上の原子を含んでいてもよい。
式（１１）中、ｑ１は、２～４の整数を表す。
式（１１）中、Ｘ１２は、ｑ１＋１価の芳香環基を表す。
式（１１）中、Ｘ１３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい２価の芳香環基を表す。
式（１１）中、Ｌ１３およびＬ１４は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＲ１－、－Ｏ－、－（ＣＨ２）ｎ－、－（ＣＨ２）ｎ－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ２）ｎ－、－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－（ＣＨ２）ｎ－、または、－Ｃ≡Ｃ－を表す。Ｒ１は、水素原子または炭素数１～３のアルキル基を表す。ｎは、１～３の整数を表す。
式（１１）中、ｒ１は、０～４の整数を表す。ただし、Ｌ１４が－ＣＯＯ－ＣＨ２－である場合、ｒ１は０を表す。
式（１１）中、Ｘ１４は、－ＣＮ、－Ｒ２、－ＯＲ２、－ＯＨ、－（ＣＨ２）ｍ－ＯＨ、－Ｆ、もしくは、－ＣＯＯＲ２が置換していてもよい１価の芳香環基を表すか、または、下記構造の基を表す。下記構造中、＊は、Ｌ１４との結合位置を表す。
- 前記第２液晶化合物が棒状液晶化合物である、請求項３に記載の積層体。
- 請求項１～９のいずれか１項に記載の積層体を含む、仮想現実表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022-156797 | 2022-09-29 | ||
| JP2022156797 | 2022-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2024070771A1 true WO2024070771A1 (ja) | 2024-04-04 |
Family
ID=90477397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2023/033728 WO2024070771A1 (ja) | 2022-09-29 | 2023-09-15 | 積層体、仮想現実表示装置 |
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Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JP2015194675A (ja) * | 2013-08-26 | 2015-11-05 | 富士フイルム株式会社 | 輝度向上フィルム、光学シート部材および液晶表示装置 |
| JP2016071078A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 投映像表示用部材および投映像表示システム |
| WO2022075475A1 (ja) * | 2020-10-09 | 2022-04-14 | 富士フイルム株式会社 | 積層光学フィルムおよび画像表示装置 |
-
2023
- 2023-09-15 WO PCT/JP2023/033728 patent/WO2024070771A1/ja unknown
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