JP7376600B2 - 光学フィルム - Google Patents

Description

本発明は、光学フィルムに関する。

屈折率異方性を持つ光学異方性層は、表示装置の反射防止膜、および、液晶表示装置の光学補償フィルムなどの種々の用途に適用されている。
特許文献１においては、光学異方性層を形成する方法として、樹脂基材にラビング処理を施して、その表面上に液晶化合物を含む組成物を塗布して、光学異方性層を形成する方法が開示されている。

特開２０１４－１８２２１７号公報

一方で、近年、樹脂基材と光学異方性層との間の密着性のより一層の向上が求められている。本発明者らの検討によれば、特許文献１に開示される態様においては、樹脂基材と光学異方性層との間の密着性が十分でなく、更なる改良が必要であることを知見した。
また、形成される光学異方性層においては、液晶化合物の配向不良に起因する光学的欠陥の発生が抑制されることも望まれている。

本発明は、上記実情に鑑みて、樹脂基材と光学異方性層との間の密着性に優れ、光学異方性層中において光学的欠陥の発生が抑制された光学フィルムを提供することを課題とする。

本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

（１） 配向規制力を有する樹脂基材と、樹脂基材上に配置された光学異方性層とを有する光学フィルムであって、
光学異方性層は、液晶化合物と、液晶化合物とは異なる、ヘテロ原子を有する化合物とを含み、
光学フィルムの光学異方性層側の表面を第１表面とし、光学フィルムの樹脂基材側の表面を第２表面とし、第１表面から第２表面側に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型２次イオン質量分析法で光学フィルムの深さ方向の成分を分析した際に、後述する要件１および要件２をいずれも満たす、光学フィルム。
（２） ヘテロ原子を有する化合物が、ウレタン基、エステル基、アミド基、および、ボロン酸基からなる群から選択される少なくとも１つを有する、（１）に記載の光学フィルム。
（３） 光学異方性層が、
重合性基を有する液晶化合物と、
重合性基を有する液晶化合物とは異なる、ヘテロ原子を有すると共に、重合性基を有する重合性化合物とを含む組成物を用いて形成された層である、（１）または（２）に記載の光学フィルム。
（４） ヘテロ原子を有すると共に、重合性基を有する重合性化合物が、重合性基を有する繰り返し単位を含み、ヘテロ原子を有する高分子である、（３）に記載の光学フィルム。
（５） 第１表面からＡ位置までにおける、ヘテロ原子を有する化合物由来の２次イオン強度の平均強度を平均値Ｉａｖｅとした際、最大値Ｉｍａｘと平均値Ｉａｖｅとが式（Ａ）の関係を満たす、（１）～（４）のいずれかに記載に光学フィルム。
式（Ａ） １．３≦Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅ
（６） Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅが、５０以上である、（５）に記載の光学フィルム。
（７） Ｃ位置とＤ位置との間の距離が５０ｎｍ以下である、（１）～（６）のいずれかに記載の光学フィルム。
（８） 樹脂基材が、セルロースアシレートを含む、（１）～（７）のいずれかに記載の光学フィルム。

本発明によれば、樹脂基材と光学異方性層との間の密着性に優れ、光学異方性層中において光学的欠陥の発生が抑制された光学フィルムを提供できる。

光学フィルムの一例を示す概略図である。 飛行時間型２次イオン質量分析法（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）で光学フィルムの深さ方向の成分を分析して検出された各成分由来の２次イオン強度の深さ方向のプロファイルを説明するための概略図である。 工程Ａを説明するための組成物層の断面図である。 工程Ｂを説明するための組成物層の断面図である。 キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂの各々について、螺旋誘起力（ＨＴＰ：Helical Twisting Power）（μｍ^-1）×濃度（質量％）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ²）との関係をプロットしたグラフの模式図である。 キラル剤Ａおよびキラル剤Ｂを併用した系において、加重平均螺旋誘起力（μｍ^-1）と光照射量（ｍＪ／ｃｍ²）との関係をプロットしたグラフの模式図である。 工程Ｅを実施した場合を説明するための組成物層の断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。

本明細書中における「光」とは、活性光線または放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光：Extreme Ultraviolet）、Ｘ線、紫外線、および、電子線（ＥＢ：Electron Beam）などを意味する。なかでも、紫外線が好ましい。

本明細書では、「可視光」とは、３８０～７８０ｎｍの光のことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
本明細書において、光学異方性層中において液晶化合物が捩れ配向している場合、その捩れ角は０°超３６０°未満であることが好ましい。
本明細書では、「（メタ）アクリル」とはアクリルおよびメタクリルの総称であり、「（メタ）アクリレート」とはアクリレートおよびメタクリレートの総称である。

本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎで算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。

本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙ、および、ｎｚは、アッベ屈折計（ＮＡＲ－４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ－Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルターとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、および、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、および、ポリスチレン（１．５９）。

本発明の光学フィルムの特徴点としては、光学フィルムの深さ方向において後述するヘテロ原子を有する化合物（以下、単に「特定化合物」ともいう。）が所定の深さ位置に分布していることが挙げられる。
後述する要件１は、特定化合物が光学異方性層中において樹脂基材側に偏在することを意味し、要件１を満たすことにより、樹脂基材と光学異方性層との間の密着性が向上する。
後述する要件２は、特定化合物の偏在量を表し、要件２を満たすことにより液晶化合物の配向性が担保され、光学的欠陥の発生が抑制される。

以下、図面を用いて光学フィルムの一実施形態を説明する。
図１は、光学フィルムの一例を示す概略図である。光学フィルム１０は、樹脂基材１２と、光学異方性層１４とをこの順で有する。図１に示すように、樹脂基材１２と光学異方性層１４とは直接接している。
以下、光学フィルムを構成する各部材について詳述する。

＜樹脂基材＞
光学フィルムは、樹脂基材を有する。
樹脂基材は、配向規制力を有する。樹脂基材が配向規制力を有するとは、樹脂基材の表面上に液晶化合物が配置された際に、液晶化合物を配向させる力を有することを意味する。つまり、樹脂基材は、液晶化合物に対する配向規制力を有する。

上記配向規制力を有する樹脂基材としては、例えば、ラビング処理が施された樹脂基材、および、延伸処理が施された樹脂基材が挙げられ、ラビング処理が施された樹脂基材が好ましい。
ラビング処理の方向は特に制限されず、液晶化合物を配向させたい方向に応じて、適宜、最適な方向が選択される。
ラビング処理は、ＬＣＤ（liquid crystal display）の液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用できる。即ち、樹脂基材の表面を、紙、ガーゼ、フェルト、ゴム、ナイロン繊維、または、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。

樹脂基材としては、透明基材が好ましい。なお、透明基材とは、可視光の透過率が６０％以上である基材を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。

樹脂基材を構成する樹脂としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、および、等方性などに優れるポリマーが好ましい。
樹脂基材としては、例えば、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリオレフィンフィルム（例えば、ポリエチレンフィルムおよびポリプロピレンフィルム）、ポリエステルフィルム（例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムおよびポリエチレンナフタレートフィルム）、ポリアクリルフィルム（例えば、ポリメチルメタクリレート）、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリウレタンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、および、脂環式構造を有するポリマーのフィルム（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）））が挙げられる。
なかでも、樹脂基材を構成する樹脂としては、樹脂基材と光学異方性層との密着性がより優れる点、および、光学異方性層の光学的欠陥の発生がより抑制される点の少なくとも一方の効果が得られる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、セルロースアシレート、ポリ（メタ）アクリレート、脂環式構造を有するポリマー、ポリスチレン、または、ポリカーボネートが好ましく、セルロースアシレートがより好ましい。

樹脂基材には、種々の添加剤（例えば、光学的異方性調整剤、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、および、剥離剤など）が含まれていてもよい。

樹脂基材の波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは特に制限されないが、光学異方性層の光学特性をより発揮しやすい点で、１０ｎｍ以下が好ましい。下限は特に制限されないが、０が挙げられる。

樹脂基材のＳＰ（Solubility Parameter）値は特に制限されないが、１９．０～２５．０ＭＰａ^１／２が好ましく、２０．０～２３．０ＭＰａ^１／２がより好ましい。
なお、樹脂基材のＳＰ値とは、樹脂基材を構成する樹脂のＳＰ値に該当する。

本明細書において、ＳＰ値は、Ｈｏｙらの方法により算出されるＳＰ値（ＶＡＮ ＫＲＥＶＥＬＥＮ，Ｄ．Ｗ．著、「ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳ ＯＦ ＰＯＬＹＭＥＲＳ（ＥＤ．３）」ＥＬＳＥＶＩＥＲ出版（１９９０）参照）の非分散力成分δａを意図する。
つまり、δａ値は、Ｈｏｙらの方法により算出される３次元ＳＰ値（δｄ、δｐ、δｈ）を用いて、下記式（Ｘ）により算出することができる。
δａ＝（δｐ^２＋δｈ^２）^０．５ 式（Ｘ）
Ｈｏｙらの方法に従うと、求めたい化合物の化学構造式よりδｄ、δｐ、および、δｈの各々の値が算出できる。
なお、複数の繰り返し単位からなるコポリマーの場合、各繰り返し単位の３次元ＳＰ値の２乗値（δｄ^２、δｐ^２、δｈ^２）に、各繰り返し単位の体積分率を乗じて和を求めることでコポリマーの３次元ＳＰ値の２乗値（δｄ^２、δｐ^２、δｈ^２）を算出し、これを上記式（Ｘ）に代入することでコポリマーのδａ値を求めることができる。

樹脂基材の厚みは特に制限されないが、１０～２００μｍが好ましく、１０～１００μｍがより好ましく、２０～９０μｍがさらに好ましい。

＜光学異方性層＞
（液晶化合物）
光学異方性層は、液晶化合物を含む。
液晶化合物の種類は特に制限されず、公知の液晶化合物が挙げられる。
液晶化合物としては、低分子化合物であっても、高分子化合物であってもよい。低分子化合物とは分子量が１０００以下の化合物を意味し、高分子化合物は分子量が１０００超の化合物を意味する。
光学異方性層に含まれる液晶化合物は、高分子化合物であることが好ましい。

光学異方性層中における液晶化合物の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光学異方性層全質量に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。

本発明の効果がより優れる点で、光学異方性層は、重合性基を有する液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物」ともいう。）を含む組成物を用いて形成されることが好ましい。言い換えると、光学異方性層に含まれる液晶化合物は、重合性液晶化合物を重合させて得られる高分子であることが好ましい。
重合性液晶化合物の種類は、特に制限されない。一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらに、液晶化合物は、低分子タイプと高分子タイプとの分類できる。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、重合性棒状液晶化合物または重合性円盤状液晶化合物を用いるのが好ましく、重合性棒状液晶化合物を用いるのがより好ましい。２種以上の重合性棒状液晶化合物、２種以上の重合性円盤状液晶化合物、または、重合性棒状液晶化合物と重合性円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。
なお、重合性棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１または特開２００５－２８９９８０号公報の段落００２６～００９８に記載のものを好ましく用いることができる。
重合性円盤状液晶化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落００２０～００６７または特開２０１０－２４４０３８号公報の段落００１３～０１０８に記載のものを好ましく用いることができる。

重合性液晶化合物が有する重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、または、スチリル基がさらに好ましい。

（ヘテロ原子を有する化合物）
光学異方性層は、上述した液晶化合物とは異なる、ヘテロ原子を有する化合物（特定化合物）を含む。後述するように、特定化合物は光学フィルム中において所定の位置に分布している。

特定化合物は、ヘテロ原子を有する。特定化合物がヘテロ原子を有することにより、基材と光学異方性層の密着性が向上する。ヘテロ原子としては、本発明の効果がより優れる点で、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、または、ホウ素原子が好ましい。
特定化合物は、本発明の効果がより優れる点で、ウレタン基、エステル基、アミド基、および、ボロン酸基からなる群から選択される少なくとも１つを有することが好ましい。

特定化合物としては、低分子化合物であっても、高分子化合物であってもよい。低分子化合物とは分子量が１０００以下の化合物を意味し、高分子化合物は分子量が１０００超の化合物を意味する。
光学異方性層に含まれる特定化合物は、高分子化合物であることが好ましい。

光学異方性層中における特定化合物の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、光学異方性層全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、２質量％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量％以上が好ましく、０．３質量％以上がより好ましい。

本発明の効果がより優れる点で、光学異方性層は、ヘテロ原子を有すると共に、重合性基を有する重合性化合物を含む組成物を用いて形成されることが好ましい。言い換えると、光学異方性層に含まれる特定化合物は、ヘテロ原子を有すると共に、重合性基を有する重合性化合物（以下、「特定重合性化合物」ともいう。）を重合させて得られる高分子であることが好ましい。

特定重合性化合物は、ヘテロ原子を有する。
ヘテロ原子としては、本発明の効果がより優れる点で、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、または、ホウ素原子が好ましい。
特定重合性化合物は、本発明の効果がより優れる点で、ウレタン基、エステル基、アミド基、および、ボロン酸基（－Ｂ（ＯＨ）_２）からなる群から選択される少なくとも１つを有することが好ましい。

特定重合性化合物は、樹脂基材と光学異方性層との密着性がより優れる点で、重合性基を有する繰り返し単位（以下、「単位１」ともいう。）を含み、ヘテロ原子を有する高分子（以下、単に「特定重合性高分子」ともいう。）であることが好ましい。
特定重合性高分子が有するヘテロ原子の種類は、上述した通りである。
特定重合性高分子は、本発明の効果がより優れる点で、ウレタン基、エステル基、アミド基、および、ボロン酸基からなる群から選択される少なくとも１つを有することが好ましい。
後述するように、特定重合性高分子は、単位１中にヘテロ原子を有していてもよい。

単位１が有する重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、または、スチリル基がさらに好ましい。

単位１の主鎖の構造は特に限定されず、公知の構造が挙げられ、例えば、（メタ）アクリル系骨格、スチレン系骨格、シロキサン系骨格、シクロオレフィン系骨格、メチルペンテン系骨格、アミド系骨格、および、芳香族エステル系骨格からなる群から選択される骨格が好ましい。
これらのうち、（メタ）アクリル系骨格、シロキサン系骨格、および、シクロオレフィン系骨格からなる群から選択される骨格がより好ましく、（メタ）アクリル系骨格がさらに好ましい。

単位１としては、本発明の効果がより優れる点で、式（１）で表される繰り返し単位が好ましい。

Ｒ^１は、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｌ^１は、単結合またはｎ＋１価の連結基を表す。例えば、ｎが１の場合、Ｌ^１は２価の連結基を表し、ｎが２の場合、Ｌ^１は３価の連結基を表す。なお、Ｌ^１が単結合の場合、ｎは１を表す。
２価の連結基としては、２価の連結基としては、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基（例えば、アルキレン基）、置換基を有していてもよいアリーレン基、置換基を有していてもよいヘテロアリーレン、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＮＨ－、または、これらを２つ以上組み合わせた基が挙げられる。上記のこれらを２つ以上組み合わせた基としては、－ＣＯ－Ｏ－、－ＣＯ－ＮＨ－、－Ｏ－ＣＯ－ＮＨ－、－ＣＯ－Ｏ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－、－ＣＯ－ＮＨ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－、－ＮＨ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－、－ＣＯ－Ｏ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－置換基を有していてもよいアリーレン基－、－ＣＯ－Ｏ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－ＮＨ－、－ＣＯ－Ｏ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－Ｏ－ＣＯ－ＮＨ－、および、－ＣＯ－Ｏ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－Ｏ－ＣＯ－ＮＨ－置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基－Ｏ－が挙げられる。
３価の連結基としては、置換基を有していてもよい３価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい３価の芳香族基、窒素原子（＞Ｎ－）、および、これらの基と上記２価の連結基とを組み合わせた基が挙げられる。
なかでも、Ｌ^１としては、ヘテロ原子を含むｎ＋１価の連結基が好ましく、ヘテロ原子を含む２価の連結基またはヘテロ原子を含む３価の連結基がより好ましく、ウレタン基、エステル基、および、アミド基からなる群から選択される少なくとも１つを含む２価の連結基がさらに好ましい。
ウレタン基、エステル基、および、アミド基からなる群から選択される少なくとも１つを含む２価の連結基としては、ウレタン基、エステル基、および、アミド基からなる群から選択される少なくとも１つと、脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基が好ましく、例えば、上記２価の連結基で説明した「これらを２つ以上組み合わせた基」で例示した基が挙げられる。

Ｐ^１は、重合性基を表す。重合性基の定義は、上述した通りである。

ｎは、１以上の整数を表す。なかでも、本発明の効果がより優れる点から、ｎとしては１または２が好ましく、１がより好ましい。

特定重合性高分子中の単位１の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定重合性高分子の全繰り返し単位に対して、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、７０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％が挙げられ、９５質量％以下の場合が多い。

単位１としては、例えば、以下表１に示す繰り返し単位が挙げられる。

特定重合性高分子は、単位１以外の他の繰り返し単位（以下、「単位２」ともいう。）を含んでいてもよい。
単位２は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、式（２）で表される繰り返し単位が挙げられる。

Ｒ^２は、水素原子または炭素数１～４のアルキル基を表す。
Ｌ^２は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、上述したＬ^１で表される２価の連結基として例示した基が挙げられる。
Ｒ^３は、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、置換基を有していてもよい、脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基（好ましくは、ベンゼン環）が好ましい。
上記脂肪族炭化水素基に含まれる炭素数は特に制限されないが、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
脂肪族炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、環状構造を有していてもよい。
置換基は特に制限されないが、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキル置換アルコキシ基、環状アルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、および、ナフチル基）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アルキルカルボニル基、スルホ基、および、水酸基が挙げられる。

特定重合性高分子が他の繰り返し単位を含む場合、単位２（例えば、上記式（２）で表される繰り返し単位）の含有量は特に制限されないが、特定重合性高分子の全繰り返し単位に対して、８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、１０質量％以上が挙げられる。

特定重合性高分子の重量平均分子量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、５０００以上が好ましい。上限は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点から、５００００以下が好ましい。
本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、以下に示す条件でゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈ（４．６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：４０℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン Ｍｗ＝２８０００００～１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３～１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用

特定重合性化合物としては、上述した重合性化合物以外に、式（３）で表される化合物も好ましい。
式（３） Ｒ^４－Ｌ^３－Ｒ^５
Ｒ^４は、重合性基を表す。重合性基の定義は、上述した通りである。
Ｌ^３は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、上述したＬ^１で表される２価の連結基として例示した基が挙げられる。
Ｒ^５は、ボロン酸基またはヒドロキシ基を表す。

特定重合性化合物のＳＰ値と上述した樹脂基材のＳＰ値との差の絶対値は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、２．７ＭＰａ^１／２以下が好ましく、２．０ＭＰａ^１／２以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０が挙げられる。

（他の成分）
光学異方性層には、上述した液晶化合物および特定化合物以外の他の成分が含まれていてもよい。
他の成分としては、後述する光学異方性層を形成するために用いられる組成物に含まれ得る他の成分（例えば、キラル剤）が挙げられる。
また、後述するように、光学異方性層には、樹脂基材を構成する樹脂が含まれていてもよい。特に、光学異方性層の樹脂基材側の表面付近に、樹脂基材を構成する樹脂が含まれていてもよい。

（要件１および要件２）
光学フィルムの光学異方性層側の表面を第１表面とし、光学フィルムの樹脂基材側の表面を第２表面とし、第１表面から第２表面側に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型２次イオン質量分析法で光学フィルムの深さ方向の成分を分析した際に、本発明の光学フィルムは、下記要件１および要件２をいずれも満たす。
要件１：液晶化合物由来の２次イオン強度の最大強度の８０％となる２次イオン強度を示す最も第２表面側に位置する深さ位置をＡ位置とし、樹脂基材を構成する樹脂由来の２次イオン強度の最大強度の８０％となる２次イオン強度を示す最も第１表面側に位置する深さ位置をＢ位置とした際に、Ａ位置とＢ位置との間のいずれかの深さ位置において、ヘテロ原子を有する化合物由来の２次イオン強度の最大値Ｉｍａｘを示す。
要件２：ヘテロ原子を有する化合物由来の２次イオン強度の最大値Ｉｍａｘを示す深さ位置をピーク位置とし、最大値Ｉｍａｘの２次イオン強度を示す、ピーク位置よりも第１表面側にあり、最もピーク位置に近い深さ位置をＣ位置とし、最大値Ｉｍａｘの半分の２次イオン強度を示す、ピーク位置よりも第２表面側にあり、最もピーク位置に近い深さ位置をＤ位置とした際に、Ｃ位置とＤ位置との間の距離が１００ｎｍ以下である。
以下、上記要件について、図面を用いて詳述する。なお、以下に示す図においては、発明の内容が理解しやすいように実際のデータとは縮尺などが異なる形で記載してある。

図１の光学異方性層の第１表面１０Ａから第２表面１０Ｂに向かって、イオンスパッタリングしながらＴＯＦ－ＳＩＭＳで各層中の深さ方向の成分を分析して得られるプロファイルの一例を図２示す。
なお、本明細書では、深さ方向とは、光学異方性層の第１表面を基準にして、第２表面に向かう方向を意図する。
図１に示すように、光学フィルム１０の光学異方性層１４側の表面を第１表面１０Ａとし、光学フィルム１０の樹脂基材１２側の表面を第２表面１０Ｂとする。

図２中に記載される深さ方向のプロファイルにおいては、横軸（図２中、紙面の左右方向の延びる軸）は、第１表面を基準とした深さを表し、縦軸（図２中、紙面の上下方向の延びる軸）は各成分の２次イオン強度を表す。
なお、ＴＯＦ－ＳＩＭＳ法については、具体的には日本表面科学会編「表面分析技術選書 ２次イオン質量分析法」丸善株式会社（１９９９年発行）に記載されている。

なお、イオンビームを照射しながらＴＯＦ－ＳＩＭＳで光学フィルムの深さ方向の成分を分析する際において、表面深さ領域１～２ｎｍの成分分析を行った後、さらに深さ方向に１ｎｍから数百ｎｍ掘り進んで、次の表面深さ領域１～２ｎｍの成分分析を行う一連の操作を繰り返す。

図２に示す深さ方向のプロファイルにおいては、液晶化合物由来の２次イオン強度の結果（図中のＣ１）、樹脂基材を構成する樹脂由来の２次イオン強度の結果（図中のＣ２）、および、特定化合物由来の２次イオン強度の結果（図中のＣ３）を示す。
なお、本明細書中、ＴＯＦ－ＳＩＭＳで光学フィルムの深さ方向の成分を分析して検出された深さ方向のプロファイルにより求められる「液晶化合物由来の２次イオン強度」とは、液晶化合物に由来するフラグメントイオンの強度を意図し、「樹脂由来の２次イオン強度」とは、樹脂基材を構成する樹脂に由来するフラグメントイオンの強度を意図し、「特定化合物由来の２次イオン強度」とは、特定化合物に由来するフラグメントイオンの強度を意図する。

図２に示すように、光学フィルム１０の第１表面１０Ａ側から第２表面１０Ｂ側に向かって（図１中の白矢印の方向に向かって）、イオンビームを照射しながらＴＯＦ－ＳＩＭＳ法で光学フィルム１０の深さ方向の成分を分析すると、まず、光学異方性層１４中の液晶化合物由来の２次イオン強度が高く観測され、さらに深さ方向に向かってイオンビームを照射すると、液晶化合物由来の２次イオン強度が徐々に低くなる。これは光学異方性層１４から樹脂基材１２に近づいていることを意味する。さらに深さ方向に向かってイオンビームを照射しながら深さ方向の成分の分析を行うと、樹脂基材１２へと到達し、液晶化合物由来の２次イオン強度は観察されなくなる。
また、図２に示すように、第１表面１０Ａ側から第２表面１０Ｂ側に向かって成分の分析を行うと、樹脂基材１２を構成する樹脂由来の２次イオン強度が第２表面１０Ｂ側に向かっていくにつれて増加していく。さらに、深さ方向に向かって成分の分析を行うと、樹脂基材１２に到達して、樹脂基材１２を構成する樹脂由来の２次イオン強度が最も高くなる。

図２中においては、特定化合物由来の２次イオン強度の結果（図中のＣ３）が示されている。図２に示すように、主に、液晶化合物由来の２次イオンおよび樹脂由来の２次イオンの両方が観測される領域に、特定化合物由来の２次イオンが強く観測される。
より具体的には、まず、図２に示す深さ方向のプロファイルにおいて、液晶化合物由来の２次イオン強度の最大強度の８０％となる２次イオン強度を示す最も第２表面側に位置する深さ位置をＡ位置とし、樹脂基材を構成する樹脂由来の２次イオン強度の最大強度の８０％となる２次イオン強度を示す最も第１表面側に位置する深さ位置をＢ位置とする。
図２においては、液晶化合物由来の２次イオン強度の最大強度はＭ１に該当することから、Ｍ１の８０％の２次イオン強度を示す最も第２表面側に位置する深さ位置（最も第２表面に近い位置）をＡ位置とする。よって、例えば、Ｍ１の８０％の２次イオン強度を示す深さ位置が複数存在する場合、最も第２表面側に位置する深さ位置をＡ位置とする。
また、図２においては、樹脂由来の２次イオン強度の最大強度はＭ２に該当することから、Ｍ２の８０％の強度を示す最も第１表面側に位置する深さ位置（最も第１表面に近い位置）をＢ位置とする。よって、例えば、Ｍ２の８０％の２次イオン強度を示す深さ位置が複数存在する場合、最も第１表面側に位置する深さ位置をＢ位置とする。
なお、上記第１表面近傍および上記第２表面近傍においては異物によるノイズが発生する場合があるため、第１表面から第２表面側に向かって５０ｎｍの間の領域（以下、第１表面領域ともいう。）、および、第２表面から第１表面側に向かって５０ｎｍの間の領域（以下、第２表面領域ともいう。）における、各成分の２次イオン強度は、上述した最大強度の算出の際には考慮に入れない。より具体的には、上記液晶化合物由来の２次イオン強度の最大強度は、得られた液晶化合物由来の２次イオン強度のプロファイルにおいて上記第１表面領域および第２表面領域を除いた領域における、液晶化合物由来の２次イオン強度のうちの最大となる強度を最大強度として算出する。また、上記樹脂由来の２次イオン強度の最大強度は、得られた樹脂由来の２次イオン強度のプロファイルにおいて上記第１表面領域および第２表面領域を除いた領域における、樹脂由来の２次イオン強度のうちの最大となる強度を最大強度として算出する。

要件１においては、上記で特定されたＡ位置とＢ位置との間のいずれかの深さ位置において、特定化合物由来の２次イオン強度の最大値Ｉｍａｘを示す。図２においては、ピーク位置ＰＰにおいて最大値Ｉｍａｘを示す。つまり、Ａ位置とＢ位置との間において、特定化合物由来の２次イオン強度の最大値Ｉｍａｘが観測される。
要件１を満たす光学フィルムにおいては、特定化合物が樹光学異方性層中において樹脂基材側に偏在している。このような要件１を満たすことにより、樹脂基材と光学異方性層との間の密着性が良好となる。
なお、図２に示すように、光学フィルムにおいては、Ａ位置とＢ位置との間に位置するピーク位置ＰＰに最大値Ｉｍａｘを示すピークが観測されることが好ましい。

また、図２に示すように、最大値Ｉｍａｘの半分の２次イオン強度（Ｉｍａｘ／２）を示す、ピーク位置よりも第１表面側にあり、最もピーク位置に近い深さ位置をＣ位置とし、最大値Ｉｍａｘの半分の２次イオン強度（Ｉｍａｘ／２）を示す、ピーク位置よりも第２表面側にあり、最もピーク位置に近い深さ位置をＤ位置とした際に、白矢印で示すＣ位置とＤ位置との間の距離（以下、Ｉｗｉｄともいう。）は、１００ｎｍ以下である。
要件２を満たす光学フィルムにおいては、偏在している特定化合物の量が所定量以下である。つまり、偏在している特定化合物の量が多すぎる場合、上記Ｉｗｉｄが１００ｎｍ超となる。このような要件２を満たすことにより、光学異方性層中の液晶化合物の配向性が良好となり、光学異方性層中における光学的欠陥の発生が抑制される。要件２を満たさない場合、特定化合物の量が多すぎるため、樹脂基材の配向規制力が弱まり、液晶化合物の配向性の劣化をもたらす。
なかでも、光学異方性層中における光学的欠陥の発生がより抑制される点で、上記Ｉｗｉｄは５０ｎｍ以下が好ましい。下限は特に制限されないが、１ｎｍ以上の場合が多く、５ｎｍ以上の場合がより多い。

なかでも、本発明の効果がより優れる点で、第１表面からＡ位置までにおける、特定化合物由来の２次イオン強度の平均強度を平均値Ｉａｖｅとした際、最大値Ｉｍａｘと平均値Ｉａｖｅとが式（Ａ）の関係を満たすことが好ましい。
式（Ａ） １．３≦Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅ
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅは５０以上が好ましく、１００以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅは１０００以下の場合が多く、５００以下の場合がより多い。
ただし、上記第１表面近傍においては異物によるノイズが発生する場合があるため、第１表面から第２表面側に向かって５０ｎｍの間の領域（第１表面領域）における、特定化合物由来の２次イオン強度は、上述したＩａｖｅの算出の際には考慮に入れない。より具体的には、Ｉａｖｅは、得られた特定化合物由来の２次イオン強度のプロファイルにおいて、第１表面からＡ位置までの領域から上記第１表面領域を除いた領域における、特定化合物由来の２次イオン強度の平均強度とする。

＜製造方法＞
本発明の光学フィルムの製造方法は特に制限されないが、生産性良く光学フィルムを製造できる点で、重合性液晶化合物、および、特定重合性化合物を含む組成物（以下、単に「特定組成物」ともいう。）を用いる方法が好ましい。より具体的には、配向規制力を有する樹脂基材上に特定組成物を塗布して組成物層を形成し、組成物層中の重合性液晶化合物を配向させて、その後、重合性液晶化合物の配向状態を固定化して、樹脂基材と樹脂基材上に形成された光学異方性層とを有する光学フィルムを製造する方法が好ましい。
以下、上記方法の手順について詳述する。

上記製造方法にて使用される配向規制力を有する樹脂基材は、上述した通りである。
特定組成物に含まれる、重合性液晶化合物、および、特定重合性化合物（好ましくは、特定重合性高分子）は、上述した通りである。

特定組成物中における重合性液晶化合物の含有量は特に制限されないが、特定組成物中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９０質量％以下の場合が多い。
特定組成物中における特定重合性化合物の含有量は、重合性液晶化合物の全質量に対して、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、２質量％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量％以上が好ましく、０．３質量％以上がより好ましい。
なお、固形分とは、特定組成物中の溶媒を除去した光学異方性層を形成し得る成分を意味し、その性状が液体状であっても固形分とする。

特定組成物は、上述した重合性液晶化合物および特定重合性化合物以外の他の成分を含んでいてもよい。
例えば、特定組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、例えば、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、カーボネート系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、脂環式炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭素系溶媒、水、および、アルコール系溶媒が挙げられる。なかでも、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アミド系溶媒、カーボネート系溶媒、または、ケトン系溶媒が好ましい。
また、溶媒は１種のみを使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。

特定組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。特定組成物が重合開始剤を含む場合、より効率的に重合性液晶化合物の重合が進行する。
重合開始剤としては公知の重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられ、光重合開始剤が好ましい。
特定組成物中における重合開始剤の含有量は特に制限されないが、特定組成物中の全固形分に対して、０．０１～２０質量％が好ましく、０．５～１０質量％がより好ましい。

特定組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば、特開２００１－３３０７２５号公報中の段落００２８～００５６に記載の化合物、および、特開２００５－０６２６７３号公報中の段落００６９～０１２６に記載の化合物が挙げられる。

特定組成物は、ポリマーを含んでいてもよい。ポリマーとしては、セルロースエステルが挙げられる。セルロースエステルとしては、特開２０００－１５５２１６号公報中の段落０１７８に記載のものが挙げられる。
特定組成物中のポリマーの含有量は特に制限されないが、重合性液晶化合物全質量に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．１～８質量％がより好ましい。

特定組成物は、重合性液晶化合物を水平配向状態または垂直配向状態とするために、水平配向または垂直配向を促進する添加剤（配向制御剤）を含んでいてもよい。

特定組成物は、キラル剤をさらに含んでいてもよい。特定組成物がキラル剤を含むことにより、重合性液晶化合物を螺旋軸に沿って捩れ配向させることができる。
キラル剤の種類は、特に制限されない。公知のキラル剤（例えば、日本学術振興会第１４２委員会編「液晶デバイスハンドブック」，第３章４－３項，ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤，１９９頁，１９８９年に記載）のいずれも用いることができる。
なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（Ｘ）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式（Ｘ） ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×液晶化合物に対するキラル剤の濃度（質量％））［μｍ^-1］
螺旋ピッチの長さとは、コレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧（丸善株式会社出版）の１９６ページに記載の方法で測定できる。

キラル剤としては、光照射により螺旋誘起力が変化する感光性キラル剤（以下、単に「キラル剤Ａ」ともいう。）であってもよい。キラル剤Ａは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ａは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、キラル剤Ａは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
キラル剤Ａは、重合性基を有していてもよい。

キラル剤Ａは、光照射によって螺旋誘起力が増加するキラル剤であってもよいし、減少するキラル剤であってもよい。なかでも、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤であることが好ましい。
なお、本明細書において「螺旋誘起力の増加および減少」とは、キラル剤Ａの初期（光照射前）の螺旋方向を「正」としたときの増減を表す。従って、光照射により螺旋誘起力が減少し続け、０を超えて螺旋方向が「負」となった場合（つまり、初期（光照射前）の螺旋方向とは逆の螺旋方向の螺旋を誘起する場合）にも、「螺旋誘起力が減少するキラル剤」に該当する。

キラル剤Ａとしては、いわゆる光反応型キラル剤が挙げられる。光反応型キラル剤とは、キラル部位と光照射によって構造変化する光反応部位を有し、例えば、照射量に応じて液晶化合物の捩れ力を大きく変化させる化合物である。
キラル剤Ａとしては、なかでも、光異性化部位を少なくとも有する化合物が好ましく、光異性化部位は光異性化可能な二重結合を有することがより好ましい。上記光異性化可能な二重結合を有する光異性化部位としては、光異性化が起こりやすく、かつ、光照射前後の螺旋誘起力差が大きいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位、アゾベンゼン部位またはスチルベン部位が好ましく、さらに可視光の吸収が小さいという点で、シンナモイル部位、カルコン部位またはスチルベン部位がより好ましい。なお、光異性化部位は、上述した光照射によって構造変化する光反応部位に該当する。
また、キラル剤Ａは、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造（イソソルビドに由来する部分構造）、および、イソマンニド部分構造（イソマンニドに由来する部分構造）から選ばれるいずれかの部分構造を有していることが好ましい。なお、ビナフチル部分構造、イソソルビド部分構造、および、イソマンニド部分構造とは、各々以下の構造を意図する。
ビナフチル部分構造中の実線と破線が平行している部分は、一重結合または二重結合を表す。なお、以下に示す構造において、＊は、結合位置を表す。

特定組成物は、キラル剤Ａを２種以上含んでいてもよいし、少なくとも１種のキラル剤Ａと少なくとも１種の光照射により螺旋誘起力が変化しないキラル剤（以下、単に「キラル剤Ｂ」ともいう。）とを含んでいてもよい。
キラル剤Ｂは、液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤Ｂは、一般に不斉炭素原子を含む場合が多い。なお、キラル剤Ｂは、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物であってもよい。
キラル剤Ｂは重合性基を有していてもよい。
キラル剤Ｂとしては、公知のキラル剤を使用できる。
キラル剤Ｂは、上述したキラル剤Ａと逆向きの螺旋を誘起するキラル剤であることが好ましい。つまり、例えば、キラル剤Ａにより誘起する螺旋が右方向の場合には、キラル剤Ｂにより誘起する螺旋は左方向となる。

キラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は、０．０～１．９μｍ^-1であることが好ましく、０．０～１．５μｍ^-1であることがより好ましく、０．０～１．０μｍ^-1であることがさらに好ましく、０．０～０．５μｍ^-1であることが特に好ましく、ゼロが最も好ましい。
キラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値が上記範囲である場合、後述するように、光学異方性層の製造条件によっては、厚み方向に沿って光学的な特性の異なる２つ以上の層を有する光学異方性層を形成しやすい。

なお、キラル剤の加重平均螺旋誘起力とは、特定組成物中に２種以上のキラル剤が含まれる場合に、各キラル剤の螺旋誘起力と各キラル剤の重合性液晶化合物に対する濃度（質量％）との積をキラル剤の重合性液晶化合物に対する合計濃度（質量％）で除した値の合計値を表す。例えば、２種類のキラル剤（キラル剤Ｘおよびキラル剤Ｙ）を併用した場合、下記式（Ｙ）により表される。
式（Ｙ） 加重平均螺旋誘起力（μｍ^-1）＝（キラル剤Ｘの螺旋誘起力（μｍ^-1）×重合性液晶化合物に対するキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋キラル剤Ｙの螺旋誘起力（μｍ^-1）×重合性液晶化合物に対するキラル剤Ｙの濃度（質量％））／（重合性液晶化合物に対するキラル剤Ｘの濃度（質量％）＋重合性液晶化合物に対するキラル剤Ｙの濃度（質量％））
ただし、上記式（Ｙ）において、キラル剤の螺旋方向が右巻きの場合、その螺旋誘起力は正の値とする。また、キラル剤の螺旋方向が左巻きの場合、その螺旋誘起力は負の値とする。つまり、例えば、螺旋誘起力が１０μｍ^-1のキラル剤の場合、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が右巻きであるときは、螺旋誘起力を１０μｍ^-1として表す。一方、上記キラル剤により誘起される螺旋の螺旋方向が左巻きであるときは、螺旋誘起力を－１０μｍ^-1として表す。

特定組成物中における上記キラル剤Ａの含有量は特に制限されないが、重合性液晶化合物が均一に配向しやすい点で、重合性液晶化合物の全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、３．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましい。
なお、上記キラル剤Ａは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の上記キラル剤Ａを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

特定組成物中における上記キラル剤Ｂの含有量は特に制限されないが、重合性液晶化合物が均一に配向しやすい点で、重合性液晶化合物の全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、３．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましい。
なお、上記キラル剤Ｂは１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の上記キラル剤Ｂを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。

特定組成物中におけるキラル剤の合計含有量（全てのキラル剤の総含有量）は、重合性液晶化合物の全質量に対して、５．０質量％以下が好ましく、４．０質量％以下がより好ましく、２．０質量％以下がさらに好まししい。下限は特に制限されないが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０２質量％以上がより好ましい。

（手順）
光学フィルムを製造する際には、樹脂基材上に特定組成物を塗布して、組成物層を形成する。特定組成物は、樹脂基材上に直接塗布する。言い換えれば、樹脂基材表面と特定組成物とが接するように、特定組成物を塗布する。
塗布方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法が挙げられる。
なお、必要に応じて、特定組成物の塗布後に、樹脂基材上に塗布された組成物層を乾燥する処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、組成物層から溶媒を除去できる。

組成物層の膜厚は特に制限されないが、０．１～２０μｍが好ましく、０．２～１５μｍがより好ましく、０．５～１０μｍがさらに好ましい。

次に、組成物層中の重合性液晶化合物を配向させる。
重合性液晶化合物を配向させる処理は特に制限されないが、加熱処理が好ましい。
加熱処理の条件としては、使用される重合性液晶化合物に応じて最適な条件が選択される。
なかでも、加熱温度としては、１０～２５０℃の場合が多く、４０～１５０℃の場合がより多く、５０～１３０℃の場合がさらに多い。
加熱時間としては、０．１～６０分間の場合が多く、０．２～５分間の場合がより多い。
重合性液晶化合物の配向状態は、組成物層中の材料によって異なる。配向状態としては、例えば、ホモジニアス配向が挙げられる。また、組成物層にキラル剤が含まれる場合は、組成物層の厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って重合性液晶化合物は捩れ配向する。

次に、重合性液晶化合物の配向状態を固定化して、光学異方性層を形成する。
配向状態を固定化するする方法は特に制限されず、組成物層に対して硬化処理を施して、重合性液晶化合物中の重合性基を反応させ、光学異方性層（硬化層）を形成する方法が挙げられる。

硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプなどの光源が利用される。
光（例えば、紫外線）の照射量は特に制限されないが、一般的には、１００～８００ｍＪ／ｃｍ^２程度が好ましい。

硬化処理を実施して得られる光学異方性層では、重合性液晶化合物の配向状態が固定されている。
例えば、光学異方性層としては、ホモジニアス配向した重合性液晶化合物を固定してなる層が挙げられる。また、光学異方性層としては、厚み方向を螺旋軸とする捩れ配向した重合性液晶化合物を固定してなる層も挙げられる。

なお、「固定した」状態は、液晶化合物の配向が保持された状態を意味する。それだけには制限されず、具体的には、通常０～５０℃、より過酷な条件下では－３０～７０℃の温度範囲において、層に流動性が無く、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定された配向形態を安定に保ち続けることができる状態であることが好ましい。
なお、光学異方性層においては、最終的に層中の組成物がもはや液晶性を示す必要はない。

光学異方性層は、単層構造であっても、複層構造であってもよい。複層構造とは、光学特性が異なる層を２つ以上積層した構造を意味する。
例えば、特定組成物がキラル剤Ａを含む場合、以下の工程Ａ～工程Ｅを実施することにより、塗布工程１回で光学特性が異なる２つの層を有する光学異方性層を製造することができる。
工程Ａ：キラル剤Ａを含む特定組成物を樹脂基材上に塗布して、組成物層を形成する工程
工程Ｂ：組成物層に加熱処理を施して、組成物層中の重合性液晶化合物を配向させる工程
工程Ｃ：工程Ｂの後、酸素濃度１体積％以上の条件下にて、組成物層に対して光照射を行う工程
工程Ｄ：工程Ｃの後、組成物層に加熱処理を施す工程
工程Ｅ：工程Ｄの後、組成物層に対して硬化処理を施して、重合性液晶化合物の配向状態を固定し、光学異方性層を形成する工程
以下、上記各工程の手順について詳述する。

（工程Ａ）
工程Ａの手順としては、特定組成物を塗布する上述した手順が挙げられる。
なお、工程Ａで使用される特定組成物には、上述した重合性液晶化合物および特定重合性化合物以外に、キラル剤Ａが含まれる。後述するように、特定組成物はキラル剤Ｂを含んでいてもよい。

（工程Ｂ）
工程Ｂの手順は特に制限されないが、上述した重合性液晶化合物を配向させる方法が挙げられる。

（工程Ｃ）
工程Ｃに関して、以下図面を用いて説明する。
以下の説明では、特定組成物にキラル剤Ａおよびキラル剤Ｂの２種のキラル剤が含まれ、工程Ａにより形成される組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値が０である場合について代表的に説明する。
図３に示すように、工程Ｂによって、樹脂基材１２上に、重合性液晶化合物ＬＣがホモジニアス配向した組成物層１６が形成される。なお、図３は、樹脂基材１２と組成物層１６との断面の概略図である。なお、図３に示す組成物層１６にはキラル剤Ａとキラル剤Ｂとが同濃度で存在しており、キラル剤Ａにより誘起される螺旋方向が左巻きであり、キラル剤Ｂにより誘起される螺旋方向が右巻きであるとする。また、キラル剤Ａの螺旋誘起力の絶対値と、キラル剤Ｂの螺旋誘起力の絶対値は同じとする。
図４に示すように、上述した工程Ｃでは酸素濃度１体積％以上の条件下にて、樹脂基材１２の組成物層１６側とは反対側の方向（図４中の白矢印の方向）から光照射を行う。なお、図４では光照射は樹脂基材１２側から実施されているが、組成物層１６側から実施されてもよい。
その際、組成物層１６の樹脂基材１２側の下側領域１６Ａと、樹脂基材１２側とは反対側の上側領域１６Ｂとを比較すると、上側領域１６Ｂの表面のほうが空気側にあるため、上側領域１６Ｂ中の酸素濃度が高く、下側領域１６Ａ中の酸素濃度は低い。そのため、組成物層１６に対して光照射がなされると、下側領域１６Ａにおいては重合性液晶化合物の重合が進行しやすく、重合性液晶化合物の配向状態が固定される。なお、下側領域１６Ａにおいてもキラル剤Ａが存在しており、キラル剤Ａも感光し、螺旋誘起力が変化する。しかしながら、下側領域１６Ａでは重合性液晶化合物の配向状態が固定されているため、後述する、光照射された組成物層に対して加熱処理を施す工程Ｄを実施しても、液晶化合物の配向状態の変化は生じない。
また、上側領域１６Ｂにおいては酸素濃度が高いため、光照射がなされても、重合性液晶化合物の重合が酸素により阻害され、重合が進行しにくい。そして、上側領域１６Ｂにおいてもキラル剤Ａが存在しているため、キラル剤Ａが感光し、螺旋誘起力が変化する。そのため、後述する工程Ｄ（加熱処理）を実施すると、変化した螺旋誘起力に沿って重合性液晶化合物の配向状態が変化する。

つまり、工程Ｃを実施することにより、組成物層の樹脂基材側の領域（下側領域）においては重合性液晶化合物の配向状態の固定化が進行しやすい。また、組成物層の樹脂基材側と反対側の領域（上側領域）においては、重合性液晶化合物の配向状態の固形化は進行しづらく、感光したキラル剤Ａに応じて螺旋誘起力が変化した状態となる。

工程Ｃは、酸素濃度１体積％以上の条件下にて実施される。なかでも、光学異方性層中において重合性液晶化合物の配向状態が異なる層が形成しやすい点で、酸素濃度は２体積％以上が好ましく、５体積％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、１００体積％が挙げられる。

工程Ｃにおける光照射の照射強度は特に制限されず、キラル剤Ａの螺旋誘起力に基づいて適宜決定できる。工程Ｃにおける光照射の照射量は特に制限されないが、所定の光学異方性層が形成されやすい点で、３００ｍＪ／ｃｍ^２以下が好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ^２以下がより好ましい。下限としては、所定の光学異方性層が形成されやすい点で、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上が好ましく、３０ｍＪ／ｃｍ^２以上がより好ましい。
なお、工程Ｃでの光照射は、１５～７０℃（好ましくは、１５～５０℃）にて実施されることが好ましい。

光照射に使用される光は、キラル剤Ａが感光する光であればよい。つまり、光照射に使用される光は、キラル剤Ａの螺旋誘起力を変化させる活性光線または放射線であれば特に制限されず、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線、Ｘ線、紫外線、および、電子線が挙げられる。なかでも、紫外線が好ましい。

（工程Ｄ）
工程Ｄは、工程Ｃの後、組成物層に加熱処理を施す工程である。本工程を実施することにより、光照射が施された組成物層中のキラル剤Ａの螺旋誘起力が変化した領域において、液晶化合物の配向状態が変化する。
以下では、図面を用いて本工程の機構を説明する。

上述したように、図３に示した組成物層１６に対して工程Ｃを実施すると、図４に示すように下側領域１６Ａにおいては重合性液晶化合物の配向状態が固定されるのに対して、上側領域１６Ｂでは重合性液晶化合物の重合は進行しづらく、重合性液晶化合物の配向状態が固定されていない。また、上側領域１６Ｂにおいてはキラル剤Ａの螺旋誘起力が変化している。このようなキラル剤Ａの螺旋誘起力の変化が生じると、光照射前の状態と比較すると、上側領域１６Ｂにおいて重合性液晶化合物を捩じる力が変化している。この点をより詳細に説明する。
上述したように、図３に示す組成物層１６にはキラル剤Ａとキラル剤Ｂとが同濃度で存在しており、キラル剤Ａにより誘起される螺旋方向が左巻きであり、キラル剤Ｂにより誘起される螺旋方向が右巻きである。また、キラル剤Ａの螺旋誘起力の絶対値と、キラル剤Ｂの螺旋誘起力の絶対値は同じである。よって、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力は０である。
上記の態様を図５に示す。図５においては、縦軸が「キラル剤の螺旋誘起力（μｍ^-１）×キラル剤の濃度（質量％）」を表し、その値がゼロから離れるほど、螺旋誘起力が大きくなる。横軸は「光照射量（ｍＪ／ｃｍ^２）」を表す。
まず、光照射を行う前の組成物層中のキラル剤Ａとキラル剤Ｂとの関係は、光照射量が０の時点に該当し、「キラル剤Ａの螺旋誘起力（μｍ^-１）×キラル剤Ａの濃度（質量％）」の絶対値と、「キラル剤Ｂの螺旋誘起力（μｍ^-１）×キラル剤Ｂの濃度（質量％）」の絶対値とが等しい状態に該当する。つまり、左巻きを誘起するキラル剤Ａと右巻きを誘起するキラル剤Ｂとの両者の螺旋誘起力は相殺されている。
このような状態の上側領域１６Ｂにおいて光照射が行われ、図５に示すように、光照射量によってキラル剤Ａの螺旋誘起力が減少する場合、図６に示すように、上側領域１６Ｂにおけるキラル剤の加重平均螺旋誘起力は大きくなり、右巻きの螺旋誘起力が強くなる。つまり、重合性液晶化合物の螺旋を誘起する螺旋誘起力は、照射量が大きいほど、キラル剤Ｂが誘起する螺旋の方向（＋）に螺旋誘起力が大きくなる。
そのため、このような加重平均螺旋誘起力の変化が生じている工程Ｃ後の組成物層１６に対して、加熱処理を施して液晶化合物の再配向を促すと、図４に示すように、上側領域１６Ｂにおいては、組成物層１６の厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って重合性液晶化合物ＬＣが捩れ配向する。
一方で、上述したように、組成物層１６の下側領域１６Ａにおいては工程Ｃの際に重合性液晶化合物の重合が進行して重合性液晶化合物の配向状態が固定されているため、重合性液晶化合物の再配向は進行しない。
上記のように、工程Ｄを実施することにより、組成物層の厚み方向に沿って、重合性液晶化合物の配向状態が異なる領域が複数形成される。
上記重合性液晶化合物ＬＣの捩れの程度は、使用されるキラル剤Ａの種類、および、工程Ｃの露光量などによって適宜調整できる。

なお、上記図３および４においては、キラル剤Ａとして光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤を用いた態様について説明したが、この態様には限定されない。例えば、キラル剤Ａとして光照射により螺旋誘起力が増加するキラル剤を用いてもよい。その場合、光照射によりキラル剤Ａの誘起する螺旋誘起力が大きくなり、キラル剤Ａの誘起する旋回方向に液晶化合物が捩れ配向することになる。
また、上記図３および４においては、キラル剤Ａとキラル剤Ｂとを併用する態様について説明したが、この態様には限定されない。例えば、２種のキラル剤Ａを用いる態様であってもよい。具体的には、左巻きを誘起するキラル剤Ａ１と、右巻きを誘起するキラル剤Ａ２とを併用する態様であってもよい。キラル剤Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立に、螺旋誘起力が増加するキラル剤であってもよいし、螺旋誘起力が減少するキラル剤であってもよい。例えば、左巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が増加するキラル剤と、右巻きを誘起するキラル剤であって、光照射により螺旋誘起力が減少するキラル剤とを併用してもよい。

加熱処理の条件としては、使用される液晶化合物に応じて最適な条件が選択される。
なかでも、加熱温度としては、工程Ｃの状態から加熱する温度であることが好ましく、３５～２５０℃の場合が多く、５０～１５０℃の場合がより多く、５０℃超１５０℃以下の場合がさらに多く、６０～１３０℃の場合が特に多い。
加熱時間としては、０．０１～６０分間の場合が多く、０．０３～５分間の場合がより多い。

また、光照射後の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力の絶対値は特に制限されないが、光照射後の組成物層中のキラル剤の加重平均螺旋誘起力と光照射前の加重平均螺旋誘起力との差の絶対値が、０．０５μｍ^-１以上が好ましく、０．０５～１０．０μｍ^-１がより好ましく、０．１～１０．０μｍ^-１がさらに好ましい。

（工程Ｅ）
工程Ｅの手順は特に制限されないが、上述した硬化処理が挙げられる。
図７に示す組成物層に対して硬化処理が施される場合、形成される光学異方性層は、樹脂基材側から、ホモジニアス配向した重合性液晶化合物の配向状態を固定してなる層と、厚み方向に沿って延びる螺旋軸に沿って捩れ配向した重合性液晶化合物の配向状態を固定してなる層との２層を含む。つまり、形成される光学異方性層は、複層構造を有する。

＜光学フィルム＞
得られた光学フィルムは、種々の用途の適用でき、例えば、液晶セルを光学補償するための光学補償フィルム、および、有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置に用いられる反射防止膜が挙げられる。

＜円偏光板＞
上述した光学フィルムは、偏光子と組み合わせて、円偏光板として使用してもよい。
偏光子は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、例えば、吸収型偏光子が挙げられる。
偏光子の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光子を利用でき、例えば、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、および、ポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光子の片面または両面には、保護膜が配置されていてもよい。

円偏光板の製造方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。
例えば、密着層を介して、光学フィルムおよび偏光子を貼り合わせる方法が挙げられる。

上記円偏光板は、有機ＥＬ表示装置の反射防止フィルムとして好適に適用できる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により制限的に解釈されるべきものではない。

＜実施例１＞
（セルロースアシレートフィルム（基板）の作製）
下記成分をミキシングタンクに投入し、攪拌して、９０℃で１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過して、セルロースアシレートドープ（以下、単に「ドープ」ともいう。）を製造した。得られたドープの固形分濃度は２３．５質量％であり、溶剤の質量割合は塩化メチレン／メタノール／ブタノール＝８１／１８／１であった。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレートドープ
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート（アセチル置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）
１００質量部
糖エステル化合物１（化学式（Ｓ４）に示す） ６．０質量部
糖エステル化合物２（化学式（Ｓ５）に示す） ２．０質量部
シリカ粒子分散液（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０．１質量部
溶剤（塩化メチレン／メタノール／ブタノール） 所定量
――――――――――――――――――――――――――――――――――

上述のドープを、ドラム製膜機を用いて流延した。０℃に冷却された金属基板上に接するようにコア層を形成するための上記ドープと、コア層上に表層を形成するための上記ドープとをダイから共流延し、その後、得られたフィルムを剥ぎ取った。なお、ドラムはＳＵＳ（Steel Use Stainless）製であった。

クリップでフィルムの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いて、ドラムから剥ぎ取られたフィルムを搬送時に３０～４０℃で２０分間乾燥した。次に、得られたフィルムをロール搬送しながら、ゾーン加熱により後乾燥した。その後、得られたフィルムにナーリングを施した後、巻き取った。
得られた長尺状のセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであり、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は１ｎｍであり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）は２６ｎｍ、ＳＰ値は２２ＭＰａ^１／２であった。

（光学異方性層の形成）
上記で作製したセルロースアシレートフィルムに、連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向（搬送方向）とラビングローラーの回転軸とのなす角度は７２°であった。なお、フィルム長手方向（搬送方向）を９０°とし、セルロースアシレートフィルム側から観察してセルロースアシレートフィルムの幅方向を基準（０°）に反時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は１８°であった。言い換えれば、ラビングローラーの回転軸の位置は、セルロースアシレートフィルムの長手方向を基準に、時計回りに７２°回転させた位置であった。

下記の棒状液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物（Ａ）を上記ラビング処理したフィルム上にギーサー塗布機を用いて塗布し、組成物層が形成されたフィルムを１００℃で８０秒間加熱した。その後、空気（酸素濃度：約２０体積％）下にて、４０℃で、３６５ｎｍＬＥＤランプ（アクロエッジ（株）製）の光を組成物層に照射量１３ｍＪ／ｃｍ²にて照射した。
さらに、得られた組成物層を９０℃で１０秒間加熱した。
その後、窒素雰囲気下、５５℃にて、メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）の光を組成物層に照射（照射量：５００ｍＪ／ｃｍ²）することで、液晶化合物の配向を固定した光学異方性層１を形成し、光学フィルム１を作製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層形成用組成物（Ａ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記の棒状液晶化合物（Ａ） ８０質量部
・下記の棒状液晶化合物（Ｂ） １０質量部
・下記の棒状液晶化合物（Ｃ） １０質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ４質量部
・光重合開始剤（イルガキュアー８１９、チバ・ジャパン社製）３質量部
・下記のキラル剤（Ａ） ０．４２質量部
・下記のキラル剤（Ｂ） ０．３８質量部
・下記の重合性ポリマー（ｂ－１） ０．５質量部
・下記のポリマー（Ａ） ０．０８質量部
・メチルイソブチルケトン １１７質量部
・プロピオン酸エチル ３９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

棒状液晶化合物（Ａ）（以下、液晶化合物の混合物に該当）

棒状液晶化合物（Ｂ）

棒状液晶化合物（Ｃ）

キラル剤（Ａ）

キラル剤（Ｂ）

重合性ポリマー（ｂ－１）(ＳＰ値：２３．２ＭＰａ^１／２)（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

ポリマー（Ａ）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

＜実施例２＞
ポリマー（ｂ－１）を重合性ポリマー（ｂ－２）に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルム２を作製した。

重合性ポリマー（ｂ－２）（ＳＰ値：２３．７ＭＰａ^１／２）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

＜実施例３＞
ポリマー（ｂ－１）を重合性ポリマー（ｂ－３）に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルム３を作製した。

重合性ポリマー（ｂ－３）（ＳＰ値：２１．２ＭＰａ^１／２）（式中、各繰り返し単位に記載の数値は、全繰り返し単位に対する各繰り返しの含有量（質量％）を表す。）

＜実施例４＞
セルロースアシレートフィルムを変性メチルメタクリレート系樹脂フィルム（東洋鋼板製 商品名「ファインキャストフィルム ＲＺ－３０ＮＡ－Ｓ」）（ＳＰ値：２０．５ＭＰａ^１／２）に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルム４を作製した。

＜実施例５＞
セルロースアシレートフィルムを熱可塑性ノルボルネン系樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ゼオノア」）（ＳＰ値：２１ＭＰａ^１／２）に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルム５を作製した。

＜実施例６＞
ポリマー（ｂ－１）をボロン酸モノマー（ｂ－４）に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルム６を作製した。

ボロン酸モノマー（ｂ－４）（ＳＰ値：２４．１ＭＰａ^１／２）

＜比較例１＞
光学異方性層形成用組成物（Ａ）の組成におけるポリマー（ｂ－１）を除いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルムＣ１を作製した。

＜比較例２＞
ポリマー（ｂ－１）のかわりにアクリルアミドモノマー（ｂ－５）を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルムＣ２を作製した。

アクリルアミドモノマー（ｂ－５）（ＳＰ値：２４．８ＭＰａ^１／２）

＜比較例３＞
光学異方性層形成用組成物（Ａ）の組成におけるポリマー（Ｘ１）の添加量を１１質量部に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルムＣ３を作製した。

＜評価＞
（配向性）
偏光顕微鏡においてクロスニコル状態で得られた光学フィルム中の光学異方性層を観察し、以下の基準に従って評価した。
「Ａ」：光学的欠陥が観察されない。
「Ｂ」：光学的欠点がわずかに観察されるが、実用上問題がないレベルである。
「Ｃ」：光学的欠陥が多く観察され、実用上問題があるレベルである。

（ＴＯＦ－ＳＩＭＳの測定方法）
装置および条件
・装置：ＴＯＦ－ＳＩＭＳＶ（ＩＯＮ－ＴＯＦ社製）
・深さ方向分析：Ａｒイオンスパッタ併用
・測定範囲：一の方向およびその直交方向に各々１２８点ずつラスタースキャン
・極性：ｐｏｓｉ、ｎｅｇａ
Ｉｍａｘ、ＩａｖｅおよびＩｗｉｄは、上述した方法に従って、算出した。また、上述した手順に従って、要件１および要件２を満たすか否かを確認した。

（クロスカット試験）
得られた光学フィルムの光学異方性層に対して、ＪＩＳ Ｄ０２０２－１９８８に準拠するクロスカット試験（碁盤目テープ剥離試験）を実施した。光学異方性層に格子状のカットで形成された１００マスのうち、セロハンテープ（「ＣＴ２４」，ニチバン（株）製）の貼り付けおよび剥ぎ取りにより、剥離したマス目の個数を数え、以下の基準に従って評価した。
「Ｓ」：剥がれるマス目の個数が０個
「Ａ」：剥がれるマス目の個数が１～３０個
「Ｂ」：剥がれるマス目の個数が３１～５０個
「Ｃ」：剥がれるマス目の個数が５１個以上

表２中、「要件１」欄は、要件１を満たす場合を「Ａ」、要件１を満たさない場合を「Ｂ」とする。

上記表に示すように、本発明の光学フィルムは所望の効果を示すことが確認された。
実施例１、４および５の比較より、樹脂基材としてセルロースアシレートフィルムを用いた場合、より効果が優れることが確認された。
実施例１～３および６の比較より、特定化合物として特定重合性高分子を用いた場合、より効果が優れることが確認された。
実施例１～３の比較より、Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅが５０以上の場合、より効果が優れることが確認された。

１０ 光学フィルム
１２ 樹脂基材
１４ 光学異方性層
１６ 組成物層

Claims (8)

1. 配向規制力を有する樹脂基材と、前記樹脂基材上に配置された光学異方性層とを有する光学フィルムであって、
   前記光学異方性層は、液晶化合物に由来する化合物と、前記液晶化合物とは異なる、ヘテロ原子を有する化合物とを含み、
   前記ヘテロ原子を有する化合物の含有量が、前記光学異方性層全質量に対して、１０質量％以下であり、
   前記ヘテロ原子を有する化合物が、ヘテロ原子を有すると共に、重合性基を有する重合性化合物を重合させて得られる高分子であり、
   前記重合性化合物のＳＰ値と前記樹脂基材のＳＰ値との差の絶対値が２．７ＭＰａ^１／２以下であり、
   前記光学フィルムの前記光学異方性層側の表面を第１表面とし、前記光学フィルムの前記樹脂基材側の表面を第２表面とし、前記第１表面から前記第２表面側に向かって、イオンビームを照射しながら飛行時間型２次イオン質量分析法で前記光学フィルムの深さ方向の成分を分析した際に、下記要件１および要件２をいずれも満たす、光学フィルム。
   要件１：前記液晶化合物に由来する化合物由来の２次イオン強度の最大強度の８０％となる２次イオン強度を示す最も前記第２表面側に位置する深さ位置をＡ位置とし、前記樹脂基材を構成する樹脂由来の２次イオン強度の最大強度の８０％となる２次イオン強度を示す最も前記第１表面側に位置する深さ位置をＢ位置とした際に、前記Ａ位置と前記Ｂ位置との間のいずれかの深さ位置において、前記ヘテロ原子を有する化合物由来の２次イオン強度の最大値Ｉｍａｘを示す。
   要件２：前記ヘテロ原子を有する化合物由来の２次イオン強度の最大値Ｉｍａｘを示す深さ位置をピーク位置とし、前記最大値Ｉｍａｘの半分の２次イオン強度を示す、前記ピーク位置よりも前記第１表面側にあり、最も前記ピーク位置に近い深さ位置をＣ位置とし、前記最大値Ｉｍａｘの半分の２次イオン強度を示す、前記ピーク位置よりも前記第２表面側にあり、最も前記ピーク位置に近い深さ位置をＤ位置とした際に、前記Ｃ位置と前記Ｄ位置との間の距離が１００ｎｍ以下である。
2. 前記ヘテロ原子を有する化合物が、ウレタン基、エステル基、アミド基、および、ボロン酸基からなる群から選択される少なくとも１つを有する、請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記光学異方性層が、
   重合性基を有する液晶化合物と、
   前記重合性基を有する液晶化合物とは異なる、ヘテロ原子を有すると共に、重合性基を有する重合性化合物とを含む組成物を用いて形成された層である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記ヘテロ原子を有すると共に、重合性基を有する重合性化合物が、重合性基を有する繰り返し単位を含み、ヘテロ原子を有する高分子である、請求項３に記載の光学フィルム。
5. 前記第１表面から前記Ａ位置までにおける、前記ヘテロ原子を有する化合物由来の２次イオン強度の平均強度を平均値Ｉａｖｅとした際、前記最大値Ｉｍａｘと前記平均値Ｉａｖｅとが式（Ａ）の関係を満たす、請求項１～４のいずれか１項に記載に光学フィルム。
   式（Ａ） １．３≦Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅ
6. 前記Ｉｍａｘ／Ｉａｖｅが、５０以上である、請求項５に記載の光学フィルム。
7. 前記Ｃ位置と前記Ｄ位置との間の距離が５０ｎｍ以下である、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
8. 前記樹脂基材が、セルロースアシレートを含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の光学フィルム。