WO2022059278A1 - 回転式カソードユニット用の駆動ブロック - Google Patents

回転式カソードユニット用の駆動ブロック Download PDF

Info

Publication number
WO2022059278A1
WO2022059278A1 PCT/JP2021/022338 JP2021022338W WO2022059278A1 WO 2022059278 A1 WO2022059278 A1 WO 2022059278A1 JP 2021022338 W JP2021022338 W JP 2021022338W WO 2022059278 A1 WO2022059278 A1 WO 2022059278A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
target
inner cylinder
drive block
tube
rotary cathode
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/022338
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
雄一 織井
大介 吉田
晋輔 立川
Original Assignee
株式会社アルバック
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社アルバック filed Critical 株式会社アルバック
Priority to CN202180058390.6A priority Critical patent/CN116057200B/zh
Priority to KR1020227031413A priority patent/KR20220139382A/ko
Priority to JP2022550352A priority patent/JP7303393B2/ja
Publication of WO2022059278A1 publication Critical patent/WO2022059278A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3414Targets
    • H01J37/3423Shape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3488Constructional details of particle beam apparatus not otherwise provided for, e.g. arrangement, mounting, housing, environment; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
    • H01J37/3497Temperature of target

Definitions

  • the present invention has a tubular target arranged in a vacuum atmosphere and an inner tube inserted into the target to form a space isolated from the vacuum atmosphere, and between and inside the target and the inner tube.
  • the present invention relates to a drive block for a rotary cathode unit, which is connected to one end in the axial direction of a target of a rotary cathode unit provided with a refrigerant circulation path in a pipe and drives the target to rotate around the axis.
  • a rotary cathode unit used in a sputtering apparatus is known, for example, in Patent Document 1.
  • This comprises a drive block having a drive means for rotationally driving the target about an axis.
  • the drive block is provided with an inner cylinder that is fixedly arranged and an outer cylinder that is arranged around the inner cylinder, and a brush that conducts these is provided between the inner cylinder and the outer cylinder. It is provided.
  • the outer cylinder connected to the target is rotationally driven by a gear or a belt from a motor as a driving means wound around the outer cylinder.
  • the internal space of the inner cylinder communicates with the first passage of the refrigerant circulation path in the inner pipe, and the space between the inner cylinder and the outer cylinder is the second of the refrigerant circulation passage between the target and the inner pipe. It communicates with the passage.
  • a predetermined electric power is applied to the target through a brush to sputter the target, cooling water as a refrigerant is circulated in the refrigerant circulation path so that the target is not heated beyond the predetermined temperature.
  • a magnet unit that generates a leakage magnetic field on the outer surface of the target and an electric moving means such as a motor that moves the magnet unit in the proximity and separation direction with respect to the outer surface of the target are provided. ing.
  • the present invention can supply electric power to the electric parts provided in the inner pipe without impairing the function of cooling the target during sputtering, for example, without applying special waterproofing. It is an object of the present invention to provide a drive block for a rotary cathode unit.
  • the present invention has a tubular target arranged in a vacuum atmosphere and an inner tube inserted in the target to form a space isolated from the vacuum atmosphere.
  • a drive block for a rotary cathode unit that is connected to one end of the target in the axial direction of a rotary cathode unit provided with a refrigerant circulation path between the inner pipe and the inner pipe and drives the target to rotate around the axis.
  • a hollow pipe having a first driving means for applying a rotational force to the target and having a straight portion extending in the axial direction from the inner pipe, and a refrigerant externally attached to the straight portion of the hollow pipe and inside the inner pipe.
  • a first inner cylinder defining a first passage communicating with the circulation path and a second passage externally attached to the first inner cylinder and communicating with the refrigerant circulation path between the target and the inner pipe are defined.
  • the inner tube is provided with a second inner tube and an outer tube that is externally fitted to the second inner tube via a bearing and is connected to one end in the axial direction of the target to transmit power from the drive means. It is characterized by further providing an isolation means for isolating the internal space between the inner tube and the hollow tube that communicate with each other with the hollow tube connected to one end from the vacuum atmosphere.
  • a passage for supplying and discharging cooling water (refrigerant) to the drive block to the refrigerant circulation path in the target necessary for cooling the target during sputtering of the target. Since a structure is adopted in which a hollow tube airtightly connected to one end of the inner tube of the rotary cathode unit is present inside the passage), it is not necessary to pass cooling water through the hollow tube. Therefore, for example, it is possible to create an atmospheric atmosphere in which the internal spaces of the inner pipe and the hollow pipe communicate with each other, and the function of cooling the target during sputtering is not impaired.
  • the inner tube includes a magnet unit that generates a leakage magnetic field on the outer surface of the target, and an electric moving means that moves the magnet unit in a direction of proximity and separation with respect to the outer surface of the target.
  • a magnet unit that generates a leakage magnetic field on the outer surface of the target
  • an electric moving means that moves the magnet unit in a direction of proximity and separation with respect to the outer surface of the target.
  • a gas introduction pipe for introducing gas toward the inner pipe is provided in the hollow pipe.
  • gas compressed air, etc.
  • a hollow pipe in this case, a gas supply passage and a discharge passage may be provided in the hollow pipe.
  • the target is sputtered by the rotary cathode unit in a state where a leakage magnetic field is applied, for example, when a racetrack-shaped plasma is generated in the space between the target and the substrate to be processed, this plasma shape is formed.
  • the outer surface of the target is sputtered as if it were transferred.
  • sputtered particles scattered from the outer surface of the target according to a predetermined cosine rule adhere to the substrate to be processed, which is arranged to face the target in a vacuum atmosphere.
  • a configuration in which the magnet unit can be tilted in the circumferential direction of the target to change the posture is preferable.
  • FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing a state in which a rotary cathode unit having a drive block of the present invention is attached to a sputtering apparatus.
  • FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of the rotary cathode unit of FIG. 1.
  • the substrate to be processed is a rectangular glass substrate (hereinafter referred to as “substrate S”), and a rotary type for a magnetron sputtering apparatus for forming a predetermined thin film on one surface of the substrate S.
  • substrate S rectangular glass substrate
  • the rotary cathode unit Rc comprises a cylindrical target Tg that is disposed facing the substrate S in a vacuum atmosphere Vp.
  • the bus direction of the target Tg is the X-axis direction
  • the direction in which the drive block DB is provided is the front in the X-axis direction (right in FIG. 1)
  • the opposite direction is the rear in the X-axis direction (left in FIG. 1).
  • the target Tg has a cylindrical backing tube 11 and a cylindrical target material 12 bonded to the outer cylinder surface of the backing tube 11 via a bonding material (not shown) such as indium or tin.
  • the target material 12 a material appropriately selected from metals and metal compounds is used according to the composition of the film to be formed on the substrate S.
  • the target Tg one formed by directly cutting the base metal can be used, and in this case, the backing tube 11 is omitted.
  • a magnet case 3 as an inner tube that defines a space isolated from the inside of the vacuum atmosphere Vp is inserted over substantially the entire length of the target Tg.
  • a refrigerant passage 31 extending over substantially the entire length is formed.
  • the refrigerant passage 31 communicates with the gap 32 between the outer peripheral surface of the magnet case 3 and the inner peripheral surface of the backing tube 11 at the rear end of the magnet case 3 in the X-axis direction.
  • the refrigerant circulation path Fp is formed between the refrigerant passage 31 and the gap 32.
  • the gap 32 constitutes the outward path Fp1 of the refrigerant circulation path Fp
  • the refrigerant passage 31 constitutes the return path Fp2 of the refrigerant circulation path Fp.
  • the magnet unit 33 that causes a leakage magnetic field to act on the outer surface of the target material 12, and an electric moving means 34 that moves the magnet unit 33 in a direction of proximity and separation with respect to the outer surface of the target material 12. Is fixedly arranged.
  • the magnet unit 33 includes a yoke 33a having a length equivalent to the length in the X-axis direction of the target Tg.
  • the yoke 33a is composed of a plate-shaped member made of a magnetic material in which a top surface parallel to the substrate S and a pair of inclined surfaces inclined downward from the top surface are formed.
  • a rod-shaped central magnet 33b is arranged on the top surface, and a rod-shaped peripheral magnet 33c is arranged on both inclined surfaces, and a line passing through a position where the vertical component of the leakage magnetic field becomes zero extends along the X-axis direction and races. A leakage magnetic field is applied so as to close like a track. Since a known magnet unit 33 can be used, further description thereof will be omitted.
  • the moving means 34 includes a linear motion motor 34a arranged in the magnet case 3, and the drive shaft 34b of the linear motion motor 34a is a surface on which the central magnet 33b and the peripheral magnet 33c are arranged via the support frame 34c. It is connected to the surface of the yoke 33a facing back.
  • the linear motion motor 34a is provided with a detection means 34d such as a sensor or an encoder that detects the position of the magnet unit 33 with respect to the surface of the target material 12.
  • a single linear motor 34a for integrally moving the magnet unit 33 is described as an example, but the present invention is not limited to this, and for example, the magnet unit 33 is moved in the X-axis direction.
  • a plurality of linear motion motors 34a are provided corresponding to each portion.
  • the drive block DB of the present embodiment is provided in order to rotatably support the rotary cathode unit Rc in the vacuum chamber.
  • a support block that rotatably supports the rear end side of the target Tg in the X-axis direction is arranged in the vacuum atmosphere Vp, but a known one can be used. Therefore, detailed description is omitted here.
  • the drive block DB provided at the front end in the X-axis direction of the target Tg has a hollow tube 4 arranged concentrically with each other and a first inner cylinder 5 externally attached to the hollow tube 4.
  • a second inner cylinder 6 to be externally inserted into the first inner cylinder 5, and an outer cylinder 7 are provided.
  • the hollow tube 4 is formed so as to extend straight from the front end in the X-axis direction of the magnet case 3 toward the front in the X-axis direction.
  • the hollow tube 4 and the magnet case 3 can be integrally formed, but the hollow tube 4 is connected to the magnet case 3 via, for example, a connecting member Lm arranged at a predetermined interval in the X-axis direction.
  • the hollow tube 4 and the magnet case 3 are integrally rotated. Since a known method can be used as the connecting member Lm, further description thereof will be omitted.
  • the internal space in the magnet case 3 in which the magnet unit 33 and the moving means 34 are arranged and the internal space in the hollow tube 4 are always in an atmospheric atmosphere.
  • the power cable K1 for supplying electric power to the linear motor 34a and the communication cable K2 for communicating with the detection means 34d are wired from the outside of the drive block DB through the hollow tube 4. ..
  • the first inner cylinder 5 has a wall thickness portion 51 on the front end side in the X-axis direction, and a bearing Br1 is provided between the wall thickness portion 51 and the hollow pipe 4.
  • a servomotor 42 as a second driving means is provided at the front end of the hollow tube 4 via a gear mechanism 41, and the hollow tube 4 and the magnet unit 33 in the magnet case 3 are X-axised. It is designed so that it can be rotated around within a predetermined rotation angle range (for example, a range of ⁇ several tens of degrees or less).
  • a belt mechanism can be used instead of the gear mechanism 41.
  • the rear end of the first inner cylinder 5 in the X-axis direction is externally fitted to the front end of the magnet case 3 in the X-axis direction via a resin ring Sw3.
  • the resin ring Sw3 has a function of bearing and a function of sealing cooling water.
  • a seal Sw1 for cooling water is provided between the thick portion 51 and the hollow pipe 4 so as to be located on the rear side in the X-axis direction from the bearing Br1. Then, the gap between the hollow pipe 4 located on the rear side of the cooling water seal Sw1 in the X-axis direction and the first inner cylinder 5 defines the first passage Fp3 communicating with the return path Fp2 of the refrigerant circulation path Fp. It has become like.
  • the second inner cylinder 6 has a flange wall portion 61 extending in a direction orthogonal to the X-axis direction on the front end side in the X-axis direction, and the first inner cylinder 5 and the second inner cylinder 6
  • the gap defines a second passage Fp4 that communicates with the outward path Fp1 of the refrigerant circulation path Fp. Then, it is attached to the attachment hole Ih formed in the partition wall Ip (for example, the wall surface of the vacuum chamber) that defines the vacuum atmosphere Vp via the attachment component Ap.
  • the mounting component Ap is composed of a tubular member having a flange portion Ap1 at one end, and a vacuum seal Sv1 such as an O-ring is mounted on each of the front and rear surfaces of the flange portion Ap1 in the X-axis direction. Both seals Sv1 are in close contact with the outer surface of the partition wall Ip and the end surface of the second inner cylinder 6 in the X-axis direction to maintain airtightness.
  • each joint portion 8a, A water intake pipe and a drain pipe (not shown) are connected to 8b from a chiller unit (not shown), respectively.
  • the target material 12 can be cooled during the sputtering of the target Tg by circulating the cooling water having a predetermined temperature in the refrigerant circulation path Fp by the chiller unit.
  • the outer cylinder 7 is provided via a bearing Br2 that is externally fitted to the straight portion 62 extending in the X-axis direction of the second inner cylinder 6.
  • a mounting step portion 11a having a small diameter is provided at one end of the backing tube 11 in the X-axis direction, and the rear end of the outer cylinder 7 in the X-axis direction of the mounting step portion 11a is via a vacuum seal Sv2 such as an O-ring.
  • the outer cylinder 7 and the backing tube 11 are connected by the clamp Cp. Since known clamps Cp can be used for the above connection, further description thereof will be omitted.
  • the target Tg When the target Tg is replaced due to erosion of the target material 12 due to sputtering, the target Tg is detached from the support block on the rear side in the X-axis direction, the clamp Cp is removed, and then the target Tg is directed to the rear in the X-axis direction. By pulling out the target Tg, the target Tg can be removed.
  • an oil seal, a double lip seal or an oil seal, a double lip seal or an oil seal, a double lip seal or an oil seal, a double lip seal or A vacuum seal Sv3 composed of a magnetic fluid seal is provided.
  • the seals Sv1 to Sv3 for each vacuum constitute an isolation means for isolating the internal space between the magnet case 3 as the inner tube and the hollow tube 4 from the vacuum atmosphere Vp.
  • the outer cylinder 7 covers the straight portion 62 and the portion of the first inner cylinder 5 that protrudes from the straight portion 62 toward the rear end side in the X-axis direction, and makes the outward path Fp1 and the second passage Fp4 liquid-tight. It is designed to communicate completely with.
  • a seal Sw2 for cooling water is also provided between the straight portion 62 located on the magnet case 3 side of the bearing Br2 and the outer cylinder portion 7.
  • teeth 71 are provided so as to be located on the atmosphere side of the partition wall Ip, and gears 91 that mesh with the teeth 71 are arranged.
  • the drive shaft 92a of the motor 92 is connected to the gear 91, and the gear 91 is rotated from the motor 92 at a predetermined rotation speed to drive the outer cylinder 7 to rotate, so that the target Tg is connected to the gear 91 during sputtering.
  • the target Tg can be rotated at a predetermined rotation speed.
  • these constitute a first driving means that applies a rotational force to the target Tg.
  • an output cable (not shown) from a sputter power source (not shown) is connected to the outer cylinder 7, so that a predetermined power having a negative potential can be applied to the target material 12, for example.
  • the internal space of the magnet case 3 and the hollow tube 4 has an atmospheric atmosphere that communicates with each other and an electric wiring is adopted through the hollow tube 4, the cables K1 and K2 wired in the hollow tube 4 and the like It is not necessary to apply waterproofing to the connector or the like, and the function of cooling the target Tg during sputtering is not impaired.
  • the hollow tube 4 is provided with a servomotor 42 that rotates the hollow tube 4 around its axis within a predetermined rotation angle range
  • the magnet unit 33 fixedly arranged inside the hollow tube 4 is placed in the circumferential direction of the target Tg with a simple configuration. The posture can be changed by tilting to, and the film thickness distribution and the film quality distribution of the thin film formed on the surface of the substrate S can be adjusted.
  • a hollow tube 4 having a straight shape over its entire length has been described as an example, but if at least the part from the magnet case 3 to the place where the first inner cylinder 5 is externally inserted is straight. It is not limited to this.
  • the heat accompanying the operation of the linear motion motor 34a may be trapped in the magnet case 3 and may induce a malfunction of the linear motion motor 34a.
  • a flexible tubular gas introduction tube 10 is arranged in the hollow tube 4 of the atmospheric atmosphere so that a gas such as compressed air or nitrogen gas can be introduced into the magnet case 3. good.
  • compressed air or the like is supplied into the magnet case 3 through the gas introduction pipe 10 provided in the hollow tube 4, and discharged through the discharge passage 10a, whereby the heat trapped in the magnet case 3 is discharged to the magnet case. It is possible to discharge from No. 3 and suppress malfunction of the linear motion motor 34a due to heat.
  • DB ... drive block, Br2 ... bearing, Fp ... refrigerant circulation path, Fp3 ... first passage, Fp4 ... second passage, K1 ... power cable (electrical wiring), K2 ... communication cable (electrical wiring), Rc ... rotary cathode Unit, Tg ... Target, Vp ... Vacuum atmosphere, 3 ... Magnet case (inner pipe), 33 ... Magnet unit, 31 ... Refrigerator passage (refrigerator circulation path in inner pipe), 32 ... Gap (between target and inner pipe) (Fluid circulation path), 34 ... Transportation means (electric transportation means), 4 ... Hollow pipe, 42 ... Servo motor (second drive means), 5 ... First inner cylinder, 6 ... Second inner cylinder, 7 ... Outer cylinder, 92 ... Motor (first driving means), Sv1 to Sv3 ... Vacuum seal (isolating means), 10 ... Gas introduction pipe.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

防水加工を施すことなく、内管内の部品に電力を供給できる回転式カソードユニットの駆動ブロックを提供する。 ターゲットTgを軸線回りに回転駆動する第1駆動手段92を備える回転式カソードユニットRc用の駆動ブロックDBは、内管3から軸線方向に延長してのびるストレート部を持つ中空管4と、中空管のストレート部に外挿されて内管内の冷媒循環路Fp2に連通する第1通路Fp3を画成する第1内筒体5と、第1内筒体に外挿されてターゲットと内管との間の冷媒循環路Fp1に連通する第2通路Fp4を画成する第2内筒体5と、第2内筒体に軸受Br2を介して外嵌され、ターゲットの軸線方向一端に連結されて駆動手段からの動力が伝達される外筒体7とを備え、内管の一端に中空管を連結した状態で互いに連通する内管と中空管との内部空間を真空雰囲気から隔絶する隔絶手段Sv1~Sv3を更に備える。

Description

回転式カソードユニット用の駆動ブロック

 本発明は、真空雰囲気中に配置される筒状のターゲットと、このターゲットに内挿されて真空雰囲気と隔絶された空間を形成する内管とを有し、ターゲットと内管との間及び内管内に冷媒循環路が設けられる回転式カソードユニットのターゲットの軸線方向一端に連結されて、ターゲットを軸線回りに回転駆動する回転式カソードユニット用の駆動ブロックに関する。

 従来、スパッタリング装置に用いられる回転式カソードユニットは例えば特許文献1で知られている。このものは、ターゲットを軸線回りに回転駆動する駆動手段を有する駆動ブロックを備える。駆動ブロックには、固定配置される内筒体と、この内筒体の周囲に配置される外筒体とが設けられ、内筒体と外筒体との間にはこれらを導通するブラシが設けられている。そして、ターゲットに連結される外筒体が、これに巻き掛けられた駆動手段としてのモータからの歯車またはベルトにより回転駆動されるようにしている。

 内筒体の内部空間は内管内の冷媒循環路の第1通路に連通し、また、内筒体と外筒体との間の空間がターゲットと内管との間の冷媒循環路の第2通路に連通している。そして、ブラシを介してターゲットに所定電力を投入してターゲットをスパッタリングする場合には、冷媒循環路に冷媒としての冷却水を循環させてターゲットが所定温度を超えて加熱されないようにしている。また、内管内には、ターゲットの外表面に漏洩磁場を発生させる磁石ユニットと、この磁石ユニットをターゲットの外表面に対して近接離間方向に移動させるモータなどの電動式の移動手段とが設けられている。

 ここで、上記従来例のものでは、駆動ブロックの内筒体の内部空間が、内管内の第1通路に連通しているので、内管内に位置するモータに電力供給しようとすると、駆動ブロックの内筒体を通して電気配線することになる。このような場合、内筒体の内部空間には冷却水が通水されるため、電気配線やコネクタ等に防水加工を施す必要があり、これでは、配線工程が複雑になるばかりか、部品点数が増加してコストアップを招来するといった問題がある。

国際公開第2016/185714号

 本発明は、以上の点に鑑み、スパッタリング時にターゲットを冷却するという機能を損なうことなく、内管内に設けられる電動式の部品に、例えば特段の防水加工を施すことなく電力供給することができるようにした回転式カソードユニットの駆動ブロックを提供することをその課題とする。

 上記課題を解決するために、本発明は、真空雰囲気中に配置される筒状のターゲットと、このターゲットに内挿されて真空雰囲気と隔絶された空間を形成する内管とを有し、ターゲットと内管との間及び内管内に冷媒循環路が設けられる回転式カソードユニットのターゲットの軸線方向一端に連結されて、ターゲットを軸線回りに回転駆動する回転式カソードユニット用の駆動ブロックであって、ターゲットに回転力を付与する第1駆動手段を更に備え、内管から軸線方向に延長してのびるストレート部を持つ中空管と、中空管のストレート部に外挿されて内管内の冷媒循環路に連通する第1通路を画成する第1内筒体と、第1内筒体に外挿されてターゲットと内管との間の冷媒循環路に連通する第2通路を画成する第2内筒体と、第2内筒体に軸受を介して外嵌され、ターゲットの軸線方向一端に連結されて駆動手段からの動力が伝達される外筒体と、を備え、内管の一端に中空管を連結した状態で互いに連通する内管と中空管との内部空間を真空雰囲気から隔絶する隔絶手段を更に備えることを特徴とする。

 本発明によれば、駆動ブロックに、ターゲットのスパッタリング時、このターゲットの冷却に必要なターゲット内の冷媒循環路に対して冷却水(冷媒)を供給し及び排出する通路(第1通路及び第2通路)の内側に更に、回転式カソードユニットの内管の一端に気密に接続される中空管が存在する構成を採用したため、殊更、中空管に冷却水を通水する必要はない。このため、例えば、内管と中空管との内部空間を互いに連通する大気雰囲気とすることが可能になり、しかも、スパッタリング時にターゲットを冷却するという機能も損なわれない。

 本発明においては、前記内管内に、前記ターゲットの外表面に漏洩磁場を発生させる磁石ユニットと、この磁石ユニットをターゲットの外表面に対して近接離間方向に移動させる電動式の移動手段とを備える場合には、前記内管と前記中空管との内部空間を互いに連通する大気雰囲気とし、この中空管を通して、磁石ユニットの移動とその位置検知に必要な部品に対する電気配線することが好ましい。これによれば、大気雰囲気の中空管を通して電気配線することができるため、中空管内に配線されるケーブルやコネクタ等に防水加工を施すことを不要にでき、有利である。

 ここで、内管内に、モータなどの電動式の移動手段を設けた場合、その作動に伴う熱が内管内にこもり、移動手段の動作不良を誘発したりする虞がある。本発明においては、前記中空管内に、前記内管に向けて気体を導入する気体導入管が設けられることが好ましい。これによれば、内管内に気体(圧縮空気等)を供給し、例えば中空管を通して排出することで(この場合、中空管内に気体の供給通路と排出通路とを設ければよい)、内管にこもる熱を内管から排出でき、熱による移動手段の動作不良を抑制することが可能になる。

 ところで、上記回転式カソードユニットにより、漏洩磁場を作用させた状態でターゲットをスパッタリングする場合に、例えば、ターゲットと被処理基板との間の空間にレーストラック状のプラズマを発生させると、このプラズマ形状が転写されるかの如く、ターゲットの外表面がスパッタリングされていく。そして、真空雰囲気中でターゲットに対向配置される被処理基板には、スパッタリングによりターゲットの外表面から所定の余弦則に従い飛散したスパッタ粒子が付着する。このとき、被処理基板表面に成膜される薄膜の膜厚分布や膜質分布を調整しようとすると、ターゲットの周方向に磁石ユニットを傾けて姿勢変更できる構成が好ましい。本発明では、前記中空管をその軸線周りに所定の回転角の範囲で回転させる第2駆動手段を備える構成を採用することができる。これによれば、中空管を所定の回転角の範囲で回転させれば、これに伴って内管も回転されるため、簡単な構成でその内部に固定配置される磁石ユニットの姿勢を変更することができ、有利である。

本発明の駆動ブロックを持つ回転式カソードユニットをスパッタリング装置に取り付けた状態で示す部分断面図。 図1の回転式カソードユニットの要部を拡大して示す断面図。 回転式カソードユニットの変形例を説明する部分断面図。

 以下、図面を参照して、被処理基板を矩形のガラス基板(以下、「基板S」という)とし、基板Sの一方の面に所定の薄膜を成膜するためのマグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニットRcに本発明の駆動ブロックDBを適用した場合を例にその実施形態を説明する。

 図1を参照して、回転式カソードユニットRcは、真空雰囲気Vp中で基板Sに対向配置される円筒状のターゲットTgを備える。以下において、ターゲットTgの母線方向をX軸方向、駆動ブロックDBが設けられる方向をX軸方向前(図1中、右)、その逆方向をX軸方向後(図1中、左)とする。ターゲットTgは、円筒状のバッキングチューブ11と、バッキングチューブ11の外筒面にインジウムやスズなどのボンディング材(図示せず)を介して接合される円筒状のターゲット材12とを有する。ターゲット材12としては、基板Sに成膜しようとする膜の組成に応じて金属や金属化合物の中から適宜選択されたものが用いられる。なお、ターゲットTgとしては、母材金属を直接切削加工して形成したものを用いることができ、この場合にはバッキングチューブ11が省略されることになる。

 バッキングチューブ11には、真空雰囲気Vp内と隔絶された空間を画成する内管としての磁石ケース3がターゲットTgの略全長に亘って内挿されている。磁石ケース3内には、その略全長に亘ってのびる冷媒通路31が形成されている。そして、特に図示して説明しないが、磁石ケース3のX軸方向後端にて冷媒通路31が、磁石ケース3の外周面とバッキングチューブ11の内周面との間の隙間32に連通して冷媒通路31と隙間32とで冷媒循環路Fpが形成されるようにしている。本実施形態では、隙間32が冷媒循環路Fpの往路Fp1を、冷媒通路31が冷媒循環路Fpの復路Fp2を構成する。

 磁石ケース3内には、ターゲット材12の外表面に漏洩磁場を作用させる磁石ユニット33と、磁石ユニット33をターゲット材12の外表面に対して近接離間方向に移動させる電動式の移動手段34とが固定配置されている。磁石ユニット33は、ターゲットTgのX軸方向長さと同等の長さを持つヨーク33aを備える。ヨーク33aは、特に図示して説明しないが、基板Sに平行な頂面と、頂面から夫々下方に向けて傾斜する一対の傾斜面とを形成した磁性材料製の板状部材で構成され、その頂面には棒状の中央磁石33bが、両傾斜面には棒状の周辺磁石33cが夫々配置され、漏洩磁場の垂直成分がゼロとなる位置を通る線がX軸方向に沿ってのびてレーストラック状に閉じるように漏洩磁場を作用させるようになっている。磁石ユニット33としては、公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。

 移動手段34は、磁石ケース3内に配置される直動モータ34aを備え、直動モータ34aの駆動軸34bが、支持枠34cを介して、中央磁石33bと周辺磁石33cとが配置された面と背向するヨーク33aの面に連結されている。これにより、直動モータ34aを作動させることで、X軸方向に対して直交する方向(図1中、上下方向)で磁石ユニット33がターゲット材12の外表面に対して近接離間方向に移動自在となる。この場合、直動モータ34aには、ターゲット材12の表面に対する磁石ユニット33の位置を検出するセンサまたはエンコーダ等の検出手段34dが付設されている。本実施形態では、単一の直動モータ34aで磁石ユニット33を一体に移動させるものを例に説明しているが、これに限定されるものではなく、例えば、磁石ユニット33がX軸方向で複数個の部分に分割されているような場合には、各部分に対応させて複数個の直動モータ34aが設けられる。そして、真空チャンバ内で回転式カソードユニットRcを回転自在に支持するために、本実施形態の駆動ブロックDBが備えられている。この場合、特に図示して説明しないが、真空雰囲気Vp中には、ターゲットTgのX軸方向後端側を回転自在に支持する支持ブロックが配置されるが、これ自体は公知のものが利用できるため、ここでは詳細な説明は省略する。

 図2も参照して、ターゲットTgのX軸方向前端に設けられる駆動ブロックDBは、互いに同心状に配置される、中空管4と、中空管4に外挿される第1内筒体5と、第1内筒体5に外挿される第2内筒体6と、外筒体7とを備える。中空管4は、磁石ケース3のX軸方向前端からX軸方向前方に向けてストレート状にのびるように形成されたものである。中空管4と磁石ケース3とは一体に形成することができるが、中空管4は、例えば、X軸方向に所定の間隔で配置される連結部材Lmを介して磁石ケース3と連結して構成してもよく、中空菅4と磁石ケース3とが一体に回転されるようにしている。なお、連結部材Lmとしては、公知の方法が利用できるため、これ以上の説明は省略する。本実施形態では、磁石ユニット33と移動手段34とが配置される磁石ケース3内の内部空間と中空管4内の内部空間とは、常時、大気雰囲気となっている。そして、直動モータ34aに対して電力供給するための電源ケーブルK1や検出手段34dと通信するための通信ケーブルK2は、駆動ブロックDBの外側から中空管4を通して配線されるようになっている。

 第1内筒体5は、そのX軸方向前端側に肉厚部51を有し、肉厚部51と中空管4との間には軸受Br1が設けられている。この場合、中空管4の前端部には、歯車機構41を介して第2駆動手段としてのサーボモータ42が設けられ、中空管4、ひいては、磁石ケース3内の磁石ユニット33をX軸線周りに所定の回転角の範囲(例えば、±数十度以下の範囲)で回転させることができるようにしている。なお、歯車機構41に代えてベルト機構を利用することもできる。また、第1内筒体5のX軸方向後端は、磁石ケース3のX軸方前端に樹脂製のリングSw3を介して外嵌されている。この樹脂製のリングSw3は、軸受の機能を有すると共に、冷却水をシールする機能を有する。また、肉厚部51と中空管4との間には、軸受Br1よりX軸方向後側に位置させて冷却水用のシールSw1が設けられている。そして、冷却水用のシールSw1のX軸方向後側に位置する中空管4と第1内筒体5との隙間が冷媒循環路Fpの復路Fp2に連通する第1通路Fp3を画成するようになっている。

 第2内筒体6は、そのX軸方向前端側に、X軸方向に対して直交する方向にのびるフランジ壁部61を有し、第1内筒体5と第2内筒体6との隙間が、冷媒循環路Fpの往路Fp1に連通する第2通路Fp4を画成するようになっている。そして、真空雰囲気Vpを画成する隔壁Ip(例えば、真空チャンバの壁面)に形成した取付孔Ihに、取付部品Apを介して取り付けられる。この場合、取付部品Apは、一端にフランジ部Ap1を設けた筒状部材で構成され、フランジ部Ap1のX軸方向前後の面には、Oリングなどの真空用のシールSv1が夫々取り付けられ、両シールSv1が隔壁Ipの外面と第2内筒体6のX軸方向の端面とに圧接して気密保持するようになっている。また、大気雰囲気に位置するフランジ壁部61と肉厚部51との間の空間には、X軸方向にのびる軸部を持つ2個の継手部8a,8bが設けられ、各継手部8a,8bには、図外のチラーユニットから図外の吸水管と排水管とが夫々接続されている。これにより、チラーユニットにより冷媒循環路Fpに所定温度の冷却水を循環させることで、ターゲットTgのスパッタリング時、ターゲット材12を冷却することができる。

 外筒体7は、第2内筒体6のX軸方向にのびるストレート部62に外嵌される軸受Br2を介して設けられている。この場合、バッキングチューブ11のX軸方向一端には小径の取付段差部11aが設けられ、取付段差部11aに外筒体7のX軸方向後端がOリングなどの真空用のシールSv2を介して外嵌され、この状態でクランプCpにより外筒体7とバッキングチューブ11とが連結されている。なお、上記連結に利用されるクランプCpとしては公知のものが利用できるため、これ以上の説明は省略する。また、スパッタリングに伴うターゲット材12の侵食によりターゲットTgを交換するような場合には、X軸方向後側の支持ブロックからターゲットTgを脱離し、クランプCpを取り外した後に、X軸方向後方に向けてターゲットTgを引き抜けば、ターゲットTgを取り外すことができる。

 外筒体7の外周面と取付部品Apの内周面との間には、外筒体7の回転を許容しながら外筒体7の内側空間を気密保持する、オイルシール、ダブルリップシールまたは磁性流体シールで構成される真空用のシールSv3が設けられている。本実施形態では、上記各真空用のシールSv1~Sv3が、内管としての磁石ケース3と中空管4との内部空間を真空雰囲気Vpから隔絶する隔絶手段を構成する。そして、外筒体7により、ストレート部62と、ストレート部62からX軸方向後端側に突出してのびる第1内筒体5の部分とを覆って往路Fp1と第2通路Fp4とを液密に完全に連通させるようになっている。この場合、軸受Br2より磁石ケース3側に位置するストレート部62と外筒部7との間にも冷却水用のシールSw2が設けられている。

 外筒体7の外筒面には、隔壁Ipの大気側に位置させて歯71が設けられ、これに噛み合う歯車91が配置されている。歯車91には、モータ92の駆動軸92aが連結され、モータ92より歯車91を所定回転数で回転させて外筒体7を回転駆動することで、ターゲットTgのスパッタリング時、これに連結されたターゲットTgを所定の回転数で回転できるようになっている。本実施形態では、これらがターゲットTgに回転力を付与する第1駆動手段を構成する。また、外筒体7には、図外のスパッタ電源からの出力ケーブル(図示省略)が接続され、ターゲット材12に、例えば負の電位を持った所定電力を投入できるようになっている。

 以上の実施形態によれば、駆動ブロックDBに、スパッタリング時のターゲットTgの冷却に必要なターゲットTg内の冷媒循環路Fp2,Fp1に対して冷却水(冷媒)を供給し及び排出する通路(第1通路Fp3及び第2通路Fp4)の内側に更に、中空管4が存在する構成を採用したため、殊更、中空管4に冷却水を通水する必要はない。そして、磁石ケース3と中空管4との内部空間を互いに連通する大気雰囲気とし、この中空管4を通して電気配線する構成を採用したため、中空管4内に配線されるケーブルK1,K2やコネクタ等に防水加工を施すことを不要にでき、しかも、スパッタリング時にターゲットTgを冷却するという機能も損なわれない。また、中空管4をその軸線周りに所定の回転角の範囲で回転させるサーボモータ42を備える構成を採用したため、簡単な構成でその内部に固定配置される磁石ユニット33をターゲットTgの周方向に傾けてその姿勢を変更し、基板S表面に成膜される薄膜の膜厚分布や膜質分布を調整することができる。

 以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない限り、種々の変形が可能である。上記実施形態では、中空管4がその全長に亘ってストレート状のものを例に説明したが、磁石ケース3から少なくとも第1内筒体5が外挿される箇所までがストレート状であれば、これに限定されるものではない。

 ところで、磁石ケース3内に、直動モータ34aを設けた場合、その作動に伴う熱が磁石ケース3内にこもり、直動モータ34aの動作不良を誘発したりする虞がある。図3に示すように、大気雰囲気の中空管4に可撓性を持つチューブ状の気体導入管10を配置し、磁石ケース3内に圧縮空気や窒素ガスといった気体を導入できるようにしてもよい。これによれば、磁石ケース3内に中空管4内に設けた気体導入管10を介して圧縮空気等を供給し、排出通路10aを通して排出することで、磁石ケース3にこもる熱を磁石ケース3から排出でき、熱による直動モータ34aの動作不良を抑制することが可能になる。

 DB…駆動ブロック、Br2…軸受、Fp…冷媒循環路、Fp3…第1通路、Fp4…第2通路、K1…電源ケーブル(電気配線)、K2…通信ケーブル(電気配線)、Rc…回転式カソードユニット、Tg…ターゲット、Vp…真空雰囲気、3…磁石ケース(内管)、33…磁石ユニット、31…冷媒通路(内管内の冷媒循環路)、32…隙間(ターゲットと内管との間の冷媒循環路)、34…移動手段(電動式の移動手段)、4…中空管、42…サーボモータ(第2駆動手段)、5…第1内筒体、6…第2内筒体、7…外筒体、92…モータ(第1駆動手段)、Sv1~Sv3…真空用のシール(隔絶手段)、10…気体導入管。

Claims (4)


  1.  真空雰囲気中に配置される筒状のターゲットと、このターゲットに内挿されて真空雰囲気と隔絶された空間を形成する内管とを有し、ターゲットと内管との間及び内管内に冷媒循環路が設けられる回転式カソードユニットのターゲットの軸線方向一端に連結されて、ターゲットを軸線回りに回転駆動する回転式カソードユニット用の駆動ブロックであって、ターゲットに回転力を付与する第1駆動手段を更に備えるものにおいて、

     内管から軸線方向に延長してのびるストレート部を持つ中空管と、中空管のストレート部に外挿されて内管内の冷媒循環路に連通する第1通路を画成する第1内筒体と、

     第1内筒体に外挿されてターゲットと内管との間の冷媒循環路に連通する第2通路を画成する第2内筒体と、

     第2内筒体に軸受を介して外嵌され、ターゲットの軸線方向一端に連結されて駆動手段からの動力が伝達される外筒体と、を備え、

     内管の一端に中空管を連結した状態で互いに連通する内管と中空管との内部空間を真空雰囲気から隔絶する隔絶手段を更に備えることを特徴とする回転式カソードユニット用の駆動ブロック。

  2.  請求項1記載の回転式カソードユニット用の駆動ブロックであって、

     前記内管内に、前記ターゲットの外表面に漏洩磁場を発生させる磁石ユニットと、この磁石ユニットをターゲットの外表面に対して近接離間方向に移動させる電動式の移動手段とを備えるものにおいて、

     前記内管と前記中空管との内部空間を互いに連通する大気雰囲気とし、この中空管を通して、磁石ユニットの移動とその位置検知に必要な部品に対する電気配線することを特徴とする回転式カソードユニット用の駆動ブロック。

  3.  前記中空管内に、前記内管に向けて気体を導入する気体導入管が設けられることを特徴とする請求項2記載の回転式カソードユニット用の駆動ブロック。

  4.  前記中空管をその軸線周りに所定の回転角の範囲で回転させる第2駆動手段を備えることを特徴とする請求項1~3のいずれか1つに記載の回転式カソードユニット用の駆動ブロック。
PCT/JP2021/022338 2020-09-16 2021-06-11 回転式カソードユニット用の駆動ブロック WO2022059278A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202180058390.6A CN116057200B (zh) 2020-09-16 2021-06-11 旋转式阴极单元用驱动块
KR1020227031413A KR20220139382A (ko) 2020-09-16 2021-06-11 회전식 캐소드 유닛용 구동 블록
JP2022550352A JP7303393B2 (ja) 2020-09-16 2021-06-11 回転式カソードユニット用の駆動ブロック

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020155847 2020-09-16
JP2020-155847 2020-09-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2022059278A1 true WO2022059278A1 (ja) 2022-03-24

Family

ID=80775757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/022338 WO2022059278A1 (ja) 2020-09-16 2021-06-11 回転式カソードユニット用の駆動ブロック

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7303393B2 (ja)
KR (1) KR20220139382A (ja)
CN (1) CN116057200B (ja)
TW (1) TWI831022B (ja)
WO (1) WO2022059278A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57123975A (en) * 1972-05-18 1982-08-02 Teritsuku Corp Generation of glow discharge
JP2003268538A (ja) * 2002-03-14 2003-09-25 Sputtering Components Inc 高出力イオンスパッタリングマグネトロン
JP2007119824A (ja) * 2005-10-26 2007-05-17 Kohatsu Kogaku:Kk 回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体、それを用いたスパッタリングカソード組立体及びスパッタリング装置並びに薄膜作成方法
JP2007191756A (ja) * 2006-01-19 2007-08-02 Raiku:Kk 成膜装置及び成膜方法
JP2014194086A (ja) * 2004-10-18 2014-10-09 Soleras Advanced Coatings Bvba 回転可能なスパッタリングターゲットを支持する平面エンドブロック
JP2019108602A (ja) * 2017-12-20 2019-07-04 キヤノントッキ株式会社 スパッタ装置及びその使用方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3884793A (en) * 1971-09-07 1975-05-20 Telic Corp Electrode type glow discharge apparatus
KR101329764B1 (ko) * 2011-12-30 2013-11-15 주식회사 에스에프에이 스퍼터 장치
EP2626887A1 (en) * 2012-02-13 2013-08-14 Soleras Advanced Coatings bvba Online adjustable magnet bar
KR102364799B1 (ko) 2015-02-24 2022-02-18 가부시키가이샤 알박 마그네트론 스퍼터링 장치용 회전식 캐소드 유닛
JP2016185714A (ja) 2015-03-27 2016-10-27 矢崎総業株式会社 ハーネス配索構造
WO2016185714A1 (ja) 2015-05-19 2016-11-24 株式会社アルバック マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット
JP2017002348A (ja) * 2015-06-08 2017-01-05 株式会社アルバック スパッタリング装置用の回転式カソードユニット
BE1023876B1 (nl) * 2016-07-13 2017-08-31 Soleras Advanced Coatings Bvba Elektrische overdracht in een eindblok

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57123975A (en) * 1972-05-18 1982-08-02 Teritsuku Corp Generation of glow discharge
JP2003268538A (ja) * 2002-03-14 2003-09-25 Sputtering Components Inc 高出力イオンスパッタリングマグネトロン
JP2014194086A (ja) * 2004-10-18 2014-10-09 Soleras Advanced Coatings Bvba 回転可能なスパッタリングターゲットを支持する平面エンドブロック
JP2007119824A (ja) * 2005-10-26 2007-05-17 Kohatsu Kogaku:Kk 回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体、それを用いたスパッタリングカソード組立体及びスパッタリング装置並びに薄膜作成方法
JP2007191756A (ja) * 2006-01-19 2007-08-02 Raiku:Kk 成膜装置及び成膜方法
JP2019108602A (ja) * 2017-12-20 2019-07-04 キヤノントッキ株式会社 スパッタ装置及びその使用方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP7303393B2 (ja) 2023-07-04
TWI831022B (zh) 2024-02-01
JPWO2022059278A1 (ja) 2022-03-24
KR20220139382A (ko) 2022-10-14
CN116057200B (zh) 2024-09-10
CN116057200A (zh) 2023-05-02
TW202214888A (zh) 2022-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3324654B2 (ja) 回転円筒状マグネトロンのためのカンチレバー装着部
CN109314078B (zh) 保持装置
EP0500774B1 (en) Rotating cylindrical magnetron structure for large area coating
US9721769B2 (en) In-vacuum rotational device
CN109844168B (zh) 溅射装置用阴极单元
JP6205520B2 (ja) マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット
US3756939A (en) Target mounting device for sequential sputtering
JP4847136B2 (ja) 真空処理装置
WO2013088603A1 (ja) 電力導入装置及び電力導入装置を用いた真空処理装置
WO2022059278A1 (ja) 回転式カソードユニット用の駆動ブロック
WO2011116564A1 (zh) 挡板冷却装置
JP4600025B2 (ja) コーティング装置
JP7179000B2 (ja) ユニバーサルマウント式端部ブロック
WO2022074893A1 (ja) 回転式カソードユニット用の駆動ブロック
TWI853183B (zh) 旋轉式陰極單元用之驅動區塊
JPH0565634A (ja) スパツタ装置
JP2004047685A (ja) 真空処理装置及び基板保持装置
JP3564038B2 (ja) 軸封装置
GB2281448A (en) Electric motor assembly in a sealed vessel

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21868965

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2022550352

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20227031413

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21868965

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1