JP4847136B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Description
12 真空チャンバ
13 基板支持台(基板支持手段)
14 回転軸
15 磁性流体シール(シール手段)
16 軸受
17 集電装置
18 処理室
20 ホットプレート(基板支持手段)
21 隔壁
22 軸部材
26 駆動モータ
28 ベルト
31 コネクタユニット
34 リフターピン
35 ピン支持部材
40 リフターピン駆動機構
42 防着板
W 基板
Claims (8)
- 真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部に配置された基板支持手段と、
前記基板支持手段を回転させる回転軸と、
前記基板支持手段に対して所要電力を供給するための集電装置とを備え、
前記集電装置は、前記回転軸の内部に配置されていることを特徴とする真空処理装置。 - 前記回転軸は、中空軸であることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記回転軸の軸心部には、前記回転軸とともに回転し、前記基板支持手段に対して電力を供給する電気配線と冷却媒体を循環供給するための給排管を収容した軸部材が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記基板支持手段と前記集電装置との間には、前記基板支持手段側の電気配線部と前記集電装置側の電気配線部とを着脱自在に接続するコネクタユニットが設置されていることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記基板支持手段は、基板加熱機構であることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記基板支持手段は、静電チャック機構であることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記基板支持手段は、前記回転軸の上端に設置された基板加熱機構及び静電チャック機構を含む基板支持台と、前記基板支持台に支持された基板を上下方向にリフトさせるリフターピンと、前記リフターピンを支持し端部が前記基板支持台の外方に突出するピン支持部材とを備えているとともに、前記基板支持台の周縁外方には、前記ピン支持部材を前記基板支持台に対して上下方向に相対移動させるリフターピン駆動機構が設置されていることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記基板支持台の周縁部には防着板が配置されており、前記防着板は前記リフターピン駆動機構によって前記リフターピンと共に前記基板支持台に対して上下方向に相対移動されることを特徴とする請求項7に記載の真空処理装置。
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