JPH04264748A - ウエハ移送ロボット  - Google Patents

ウエハ移送ロボット 

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JPH04264748A
JPH04264748A JP2499591A JP2499591A JPH04264748A JP H04264748 A JPH04264748 A JP H04264748A JP 2499591 A JP2499591 A JP 2499591A JP 2499591 A JP2499591 A JP 2499591A JP H04264748 A JPH04264748 A JP H04264748A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arm
rotating body
wafer transfer
wafer
generated
Prior art date
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Pending
Application number
JP2499591A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumio Kondo
文雄 近藤
Yoichi Kanemitsu
金光 陽一
Masao Matsumura
正夫 松村
Yukio Ikeda
幸雄 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
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Pending legal-status Critical Current

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  • Manipulator (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、減圧された室内(真空
室)或いはクリーンルーム内で作動するロボットに関し
、さらに詳しくは、半導体集積回路製造設備において真
空室内でウエハを所望の位置へ移動することのできるマ
ニプレータ或いはウエハ移送ロボットに関する。
【0002】
【従来の技術】例えば半導体チップ或いはウエハは、製
造段階でゴミ、オイルミスト等が付着すると所謂粒子汚
染により歩留まりが悪化し、生産性が悪くなるので、ク
リーンルームで処理されている。また、製造プロセスは
真空中で行われることが多いため、製造装置内のウエハ
の移送はロボットにより真空中で行われる。ここで、ウ
エハ移送用のロボットの従来例が図4に示されている。
【0003】図4において、ウエハ移送用ロボットは、
大気中Aに設けられている駆動部50と、真空室V中に
設けられているハンドリング部60とから概略構成され
ている。駆動部50には、第1モータM1 と第2モー
タM2 とが設けられ、第1モータM1 の出力軸51
は垂直状の中空駆動軸62に接続されている。一方、第
2モータM2 の出力軸52は、中空駆動軸62内に設
けられている小駆動軸63に接続されている。従って、
これらのモータM1 、M2 が回転すると、駆動軸6
2、63は所定方向に所定量だけ回転駆動されることに
なる。
【0004】中空駆動軸62の上方端部には第1の水平
アーム64が固定され、その先端部には第2の水平アー
ム65が回動自在に設けられている。一方、小駆動軸6
3の上方端部にはプリー66が固定され、該プリー66
と、第2のアーム65の枢着部分に設けられているプリ
ー(図示せず)との間には、ベルト67が掛けまわされ
ている。したがって、ベルト67が駆動されると、第2
のアーム65が第1のアーム64に対して回動駆動され
る。
【0005】モータM1 を所定方向に所定量回転させ
ると中空駆動軸62が回転し、これに一体的に固定され
ている第1のアーム64も矢印aで示されているように
水平面内で回動する。したがって、第2のアーム65も
一体的回動し、その先端に取付けられているハンド68
上のウエハ(図4では図示せず)は、水平面内の所定角
度位置へ移送される。一方、モータM2 を駆動すると
小駆動軸63が駆動され、第2のアーム65はプリー6
6、ベルト67により矢印bで示すように第1のアーム
64に対して水平面内で所定角度範囲に駆動される。そ
の結果、ハンド68上の図示しないウエハを、半径内方
或いは外方へ所定量だけ移送することができる。
【0006】ここで、相対的に回転する部材を機械的に
支承した場合には、その部分から微粒子が発生し、ウエ
ハを汚染してしまう。そのため従来のロボットでは、発
塵を防ぐために軸受にも磁性流体シールを設けている。 また、モータと真空室はOリングによりシールされ、大
気側と真空側を貫通する駆動軸62と63は磁性流体シ
ールによりシールされる。
【0007】
【考案が解決しようとする課題】しかし、上記従来のロ
ボットにおいて採用されている磁性流体シールでは、例
えば10−6Torr程度の真空になるとガス発生が生
じ、発生したガスによりウエハが汚染されてしまい、歩
留まりが悪化するという問題がある。
【0008】また磁性流体シールは、その使用温度が0
〜80℃程度と比較的狭いという問題もある。
【0009】本発明は上記した従来技術の問題点に鑑み
て提案されたもので、クリーンルーム内或いは真空室内
でウエハを移送することが出来て、しかもウエハに有害
なゴミ、オイルミスト等が生じるようなことがなく、ま
た使用温度や使用場所の真空度にも影響を受けないウエ
ハ移送ロボットを提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明のウエハ移送ロボ
ットは、回転体と、該回転体上で少なくとも2個の磁気
軸受により非接触状態で支承されるようになっているウ
エハ搬送用アームと、前記回転体及びウエハ搬送用アー
ムを収容する真空室と、前記回転体を非接触状態にて支
承する磁気軸受と、前記ウエハ搬送用アームを水平方向
に且つ直線的に移動するためのリニアモータとを含んで
いる。
【0011】本発明の実施に際しては、前記回転体を回
転駆動するためのモータが設けられる。
【0012】またリニアモータやアーム支持用の磁気軸
受に電力を供給する手段が設けられる。ここで、該電力
を供給する手段としては、普通、静止体からの給電ケー
ブルによるが、又は、回転体に内蔵したバッテリと、ト
ランスの様に非接触にて電力を供給する手段とを併用す
るのが好ましい。但、いずれか一方のみを用いることも
可能である。
【0013】さらに、回転体を支承する磁気軸受は、回
転体の回転軸方向を支持するものと半径方向を支持する
ものとを設けるのが好ましい。そして、軸方向支持用及
び半径方向支持用の双方を電磁石で構成しても良く、い
ずれか一方を永久磁石で構成しても良い。
【0014】
【作用】本発明は上記したように構成されているので、
回転体を回転駆動することにより、所定方向に所定量だ
け回転する。これにより、ウエハ搬送用アームの移送方
向が決定される。また、リニアモータを駆動することに
より、ウエハ搬送用アームの移送距離が決まる。従って
、ウエハ搬送用アームの移送方向及び移送距離を適宜設
定することにより、アームの例えば先端に取付けられて
いるハンド上のウエハを所望の位置へ移送することがで
きる。
【0015】ここで、本発明においては磁気軸受により
非接触に支持をしているため、回転体の回転駆動やリニ
アモータによるアームの直線移動に際して、微粒子(粉
塵)が発生することがない。また、磁性流体シールも用
いていないので、使用温度範囲も広くなり、又、極高真
空となってもガスの発生はない。
【0016】この結果、ウエハの汚染が防止され、半導
体集積回路の製造の際の歩留まりが向上するのである。
【0017】
【実施例】以下、図1〜3を参照して、本発明の実施例
を説明する。
【0018】図1、図3において、本発明のロボットは
回転体1と該回転体上に設けられているウエハ搬送用の
アーム10とから構成され、これらは隔壁Wで仕切られ
た真空室R内に非接触的に配置されている。
【0019】回転体1は、軸Cを中心として回転できる
ように、磁気軸受2、3により隔壁Wに対して非接触的
に支持されている。すなわち、半径方向の磁気軸受2は
、隔壁Wの外部の大気圧室A側と回転体1側とを半径方
向に非接触で支持するために設けられている。一方、磁
気軸受3はスラスト方向(回転軸方向)の軸受で、軸受
2と同様に、大気圧室A側と回転体1側とを回転軸方向
に非接触で支持するために設けられている。
【0020】回転体1を軸Cのまわりに駆動するために
、隔壁Wの外部にはモータの固定子4が、そして回転体
にはモータの回転子5が設けられている。また回転体1
には必要な動力を得るためにバッテリ7が搭載され、非
接触的に電力を供給できる手段として例えばトランス6
が設けられている。
【0021】回転体1の上面8は、図示されているよう
に、一部半径外方へ突出した延長部9を有する。そして
磁気軸受用の支柱20、20´は、この延長部9に設け
られ、3本が直線状に、回転体1の上面8に立設されて
いる。
【0022】支柱20の上方端部には磁気軸受21が構
成されている。磁気軸受21は正確には図示されていな
いが、図2に示されているようにウエハ搬送用のアーム
10を直線状に非接触的に案内する様な構成を具備して
いる。なお、支柱20´は必須のものではないので、図
中では鎖線で示されている。
【0023】ウエハ搬送用アーム10は、直線状をなし
、その側部にはリニアモータを構成する走行子11が取
付けられ、これに対応して真空室Rの支柱20に固定子
12が設けられている。またアーム10の先端には図3
に示されているように、ハンド13が取付けられ、この
ハンドにウエハ14が正確に位置決めされて載置される
ようになっている。
【0024】次に、上記実施例の作用について説明する
。モータの固定子4に通電する。ここで該モータはステ
ップモータ等で構成され、或いは制御装置により所定方
向に所定量駆動される。これにより回転体1が回転し、
ウエハ搬送用アーム10も回転し、アームの方向が定ま
る。
【0025】次にリニアモータの固定子12に通電し、
アーム10を直線移動せしめる。このようにしてウエハ
14を所望の位置へ移送するのである。プロセス室等他
のチャンバへウエハを移す時は、ゲートバルブ15を隔
壁に設けておき、このバルブを開閉して、図3に示され
ているようにウエハ搬送アーム10を隔壁Wの外部へ出
す。
【0026】なお、リニアモータを先に駆動して、次に
回転体を駆動しても、或いは、これらを同時に駆動して
も、同様に作用することは明らかである。
【0027】図示の実施例では説明されていないが、本
判明の実施に際しては、ウエハ搬送用アームの磁気軸受
の数、アームのバランスを考慮したカウンタウエイト、
その他について種々の変形が可能であるが、これらにつ
いては図面には示されていない。換言すると、図示の実
施例はあくまでも例示であり、本発明の技術的内容がこ
れに限定されるものではない。
【0028】
【発明の効果】以上のように本発明によると、垂直軸の
回りに回転駆動される回転体も、この回転体上で水平方
向に直線的に駆動されるようになっているウエハ搬送用
アームも、真空室に配置され、そして回転体は磁気軸受
により非接触的に外部より支持され駆動され、アームは
リニアモータにより非接触的に駆動される。すなわち、
回転体もウエハ搬送用アームも非接触的に駆動される。 その結果、機械的接触によるゴミ、チリ等の発生が防止
される。
【0029】また、従来のように磁性流体シールを必要
としないので、高温環境下でも使用でき、高真空環境下
においてもガスの発生やそれに伴うウエハの汚染が防止
されるのである。
【0030】これにより、半導体製造設備における歩留
りの向上に寄与するのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例を示す側面図。
【図2】図1に示す実施例の平面図。
【図3】図1に示す実施例の作動状態を示す側面図。
【図4】従来例を示す斜視図。
【符号の説明】
1・・・回転体 2、3、21・・・磁気軸受 4、5・・・モータ 10・・・ウエハ搬送アーム 11、12・・・リニアモータ C・・・回転軸 A・・・大気室 R・・・真空室 W・・・隔壁

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  回転体と、該回転体上で少なくとも2
    個の磁気軸受により非接触状態で支承されるようになっ
    ているウエハ搬送用アームと、前記回転体及びウエハ搬
    送用アームを収容する真空室と、前記回転体を非接触状
    態にて支承する磁気軸受と、前記ウエハ搬送用アームを
    水平方向に且つ直線的に移動するためのリニアモータと
    を含むことを特徴とするウエハ移送ロボット。
JP2499591A 1991-02-20 1991-02-20 ウエハ移送ロボット  Pending JPH04264748A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2499591A JPH04264748A (ja) 1991-02-20 1991-02-20 ウエハ移送ロボット 

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2499591A JPH04264748A (ja) 1991-02-20 1991-02-20 ウエハ移送ロボット 

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04264748A true JPH04264748A (ja) 1992-09-21

Family

ID=12153562

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2499591A Pending JPH04264748A (ja) 1991-02-20 1991-02-20 ウエハ移送ロボット 

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04264748A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999034437A1 (fr) * 1997-12-24 1999-07-08 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki Robot de transfert de plaquettes
US6102164A (en) * 1996-02-28 2000-08-15 Applied Materials, Inc. Multiple independent robot assembly and apparatus for processing and transferring semiconductor wafers
WO2002036849A1 (de) * 2000-10-31 2002-05-10 Asys Automatic Systems Gmbh & Co. Kg Arbeitstisch mit einer tischplatte
CN110936359A (zh) * 2020-01-02 2020-03-31 郝彦龙 用于工业生产的数控自动化机器人

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US6533530B1 (en) 1997-12-24 2003-03-18 Kabushiki Kaisha Yasakawa Denki Wafer transferring robot
WO2002036849A1 (de) * 2000-10-31 2002-05-10 Asys Automatic Systems Gmbh & Co. Kg Arbeitstisch mit einer tischplatte
CN110936359A (zh) * 2020-01-02 2020-03-31 郝彦龙 用于工业生产的数控自动化机器人

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