WO2021235430A1 - 透明導電性フィルム - Google Patents

透明導電性フィルム Download PDF

Info

Publication number
WO2021235430A1
WO2021235430A1 PCT/JP2021/018774 JP2021018774W WO2021235430A1 WO 2021235430 A1 WO2021235430 A1 WO 2021235430A1 JP 2021018774 W JP2021018774 W JP 2021018774W WO 2021235430 A1 WO2021235430 A1 WO 2021235430A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
transparent conductive
conductive layer
conductive film
metal
base material
Prior art date
Application number
PCT/JP2021/018774
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
文彦 河野
豪彦 安藤
雄二 済木
Original Assignee
日東電工株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日東電工株式会社 filed Critical 日東電工株式会社
Priority to KR1020227038670A priority Critical patent/KR20230014685A/ko
Priority to CN202180037138.7A priority patent/CN115668408A/zh
Publication of WO2021235430A1 publication Critical patent/WO2021235430A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports

Definitions

  • the present invention relates to a transparent conductive film.
  • a transparent conductive film used for an electrode of a touch sensor or the like a transparent conductive film in which a metal oxide layer such as an indium tin oxide composite oxide layer (ITO layer) is formed on a resin film is often used. ..
  • the transparent conductive film on which the metal oxide layer is formed has a problem that the flexibility is insufficient and cracks are likely to occur due to physical stress such as bending.
  • a transparent conductive film As a transparent conductive film, a transparent conductive film containing metal nanowires using silver, copper, etc. has been proposed. Such a transparent conductive film has an advantage of being excellent in flexibility. However, the transparent conductive film containing metal nanowires has a problem that it is difficult to obtain sufficient transparency.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a transparent conductive film having excellent flexibility and transparency.
  • the transparent conductive film of the present invention includes a first transparent conductive layer, a base material, and a second transparent conductive layer in this order, and the first transparent conductive layer contains a metal nanowire, and the second transparent conductive layer is included.
  • the transparent conductive layer of is composed of a metal oxide.
  • the metal oxide constituting the second transparent conductive layer is an indium-tin composite oxide.
  • the tensile breaking strength of the base material is 100 MPa or more.
  • the substrate is composed of a cycloolefin resin.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film according to one embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the transparent conductive film according to one embodiment of the present invention.
  • the transparent conductive film 100 includes a first transparent conductive layer 10, a base material 20, and a second transparent conductive layer 30 in this order.
  • the first transparent conductive layer 10 contains metal nanowires (not shown).
  • the second transparent conductive layer 30 is made of a metal oxide.
  • the transparent conductive film may further comprise any other suitable layer.
  • a transparent conductive film having excellent flexibility is formed by laminating a first transparent conductive layer containing metal nanowires and a second transparent conductive layer composed of a metal oxide via a base material.
  • a transparent conductive film of the present invention one of the transparent conductive layers is used as a transparent conductive layer containing metal nanowires (first transparent conductive layer), that is, a transparent conductive layer that is not easily damaged by bending.
  • first transparent conductive layer a transparent conductive layer containing metal nanowires
  • the first transparent conductive layer is not easily damaged (for example, cracks are unlikely to occur) when bent with the first transparent conductive layer on the outside, and has excellent flexibility.
  • the other transparent conductive layer is composed of a metal oxide, and with such a configuration, a plurality of transparent conductive layers are provided.
  • a feature of excellent transparency for example, a small haze value.
  • the transparent conductive film of the present invention if the transparent conductive film is bent with the first transparent conductive layer on the outside, the second transparent conductive layer is not stressed in the tensile direction. Therefore, Even a second transparent conductive layer made of a metal oxide can be prevented from being damaged.
  • the surface resistance value of the transparent conductive film of the present invention on the first transparent conductive layer side is preferably 0.01 ⁇ / ⁇ to 1000 ⁇ / ⁇ , more preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 500 ⁇ / ⁇ . It is particularly preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 300 ⁇ / ⁇ , and most preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 100 ⁇ / ⁇ .
  • the surface resistance value of the transparent conductive film of the present invention on the second transparent conductive layer side is preferably 0.01 ⁇ / ⁇ to 1000 ⁇ / ⁇ , more preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 500 ⁇ / ⁇ . It is particularly preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 300 ⁇ / ⁇ , and most preferably 0.1 ⁇ / ⁇ to 100 ⁇ / ⁇ .
  • the transparent conductive film of the present invention has excellent flexibility, and an increase in resistance value (that is, a decrease in conductivity) when bent is prevented.
  • the haze value of the transparent conductive film of the present invention is preferably 1% or less, more preferably 0.7% or less, and further preferably 0.5% or less.
  • the total light transmittance of the transparent conductive film of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the thickness of the transparent conductive film of the present invention is preferably 10 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 15 ⁇ m to 300 ⁇ m, and further preferably 20 ⁇ m to 200 ⁇ m.
  • the first transparent conductive layer contains metal nanowires.
  • the first transparent conductive layer further comprises a polymer matrix.
  • metal nanowires are present in the polymer matrix.
  • the polymer matrix protects the metal nanowires. As a result, corrosion of the metal nanowires is prevented, and a transparent conductive film having better durability can be obtained.
  • the thickness of the first transparent conductive layer is preferably 10 nm to 1000 nm, more preferably 20 nm to 500 nm.
  • the thickness of the first transparent conductive layer corresponds to the thickness of the polymer matrix.
  • the first transparent conductive layer is patterned.
  • any suitable method can be adopted depending on the morphology of the first transparent conductive layer.
  • the shape of the pattern of the first transparent conductive layer can be any suitable shape depending on the application. For example, the patterns described in JP-A-2011-51357, JP-A-2010-164938, JP-A-2008-310550, JP-A-2003-511799, and JP-A-2010-541109 can be mentioned.
  • the first transparent conductive layer After the first transparent conductive layer is formed on the substrate, it can be patterned by any suitable method depending on the form of the first transparent conductive layer.
  • the total light transmittance of the first transparent conductive layer is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 95% or more.
  • the metal nanowire is a conductive substance whose material is metal, whose shape is needle-shaped or thread-shaped, and whose diameter is nanometer-sized.
  • the metal nanowires may be linear or curved. If the first transparent conductive layer made of metal nanowires is used, the metal nanowires have a mesh shape, so that a good electric conduction path can be formed even with a small amount of metal nanowires, and electric resistance can be obtained. A transparent conductive film with a small size can be obtained.
  • the ratio (aspect ratio: L / d) of the thickness d to the length L of the metal nanowire is preferably 10 to 100,000, more preferably 50 to 100,000, and particularly preferably 100 to 100. It is 10,000.
  • the metal nanowires having such a large aspect ratio the metal nanowires can cross well and a small amount of metal nanowires can exhibit high conductivity. As a result, a transparent conductive film having high light transmittance can be obtained.
  • the "thickness of the metal nanowire” means the diameter of the metal nanowire when the cross section is circular, and the minor diameter when the cross section of the metal nanowire is elliptical, and is polygonal. In some cases it means the longest diagonal.
  • the thickness and length of the metal nanowires can be confirmed by a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.
  • the thickness of the metal nanowires is preferably less than 500 nm, more preferably less than 200 nm, particularly preferably 10 nm to 100 nm, and most preferably 10 nm to 60 nm. Within such a range, the first transparent conductive layer having high light transmittance can be formed.
  • the length of the metal nanowires is preferably 1 ⁇ m to 1000 ⁇ m, more preferably 1 ⁇ m to 500 ⁇ m, and particularly preferably 1 ⁇ m to 100 ⁇ m. Within such a range, a transparent conductive film having high conductivity can be obtained.
  • any suitable metal can be used as long as it is a highly conductive metal.
  • the metal constituting the metal nanowire include silver, gold, copper, nickel and the like. Further, a material obtained by plating these metals (for example, gold plating) may be used.
  • the metal nanowires are preferably composed of one or more metals selected from the group consisting of gold, platinum, silver and copper.
  • any appropriate method can be adopted as the method for manufacturing the metal nanowires.
  • a method of reducing silver nitrate in a solution a method of applying an applied voltage or a current to the surface of the precursor from the tip of the probe, pulling out a metal nanowire at the tip of the probe, and a method of continuously forming the metal nanowire can be mentioned. ..
  • silver nanowires can be synthesized by liquid-phase reduction of a silver salt such as silver nitrate in the presence of a polyol such as ethylene glycol and polyvinylpyrrolidone. Uniformly sized silver nanowires are available, for example, from Xia, Y. et al.
  • the content ratio of the metal nanowires in the first transparent conductive layer is preferably 30% by weight to 100% by weight, more preferably 30% by weight to 90% by weight, based on the total weight of the first transparent conductive layer. It is more preferably 45% by weight to 80% by weight. Within such a range, a transparent conductive film having excellent conductivity and light transmittance can be obtained.
  • any suitable polymer can be used as the polymer constituting the polymer matrix.
  • the polymer include acrylic polymers; polyester polymers such as polyethylene terephthalate; aromatic polymers such as polystyrene, polyvinyltoluene, polyvinyl xylene, polyimide, polyamide and polyamideimide; polyurethane polymers; epoxy polymers; polyolefin polymers.
  • PETA pentaerythritol triacrylate
  • NPGDA neopentylglycol diacrylate
  • DPHA dipentaerythritol hexaacrylate
  • DPPA dipentaerythritol pentaacrylate
  • TMPTA trimethylolpropane triacrylate
  • a curable resin composed of acrylate preferably an ultraviolet curable resin
  • the density of the first transparent conductive layer is preferably 1.3 g / cm 3 to 10.5 g / cm 3. It is more preferably 1.5 g / cm 3 to 3.0 g / cm 3 . Within such a range, a transparent conductive film having excellent conductivity and light transmittance can be obtained.
  • a composition for forming a first conductive layer containing metal nanowires is applied to a base material (or a laminate of the base material and another layer), and then the coated layer is dried. Can be formed.
  • the first conductive layer forming composition may contain any suitable solvent in addition to the metal nanowires.
  • the composition for forming the first conductive layer can be prepared as a dispersion liquid of metal nanowires.
  • the solvent include water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an ether solvent, a hydrocarbon solvent, an aromatic solvent and the like. From the viewpoint of reducing the environmental load, it is preferable to use water.
  • the first conductive layer forming composition may further contain any suitable additive depending on the purpose. Examples of the additive include a corrosion inhibitor for preventing corrosion of metal nanowires, a surfactant for preventing aggregation of metal nanowires, and the like. The type, number and amount of additives used can be appropriately set according to the purpose.
  • the polymer matrix is applied onto a layer composed of metal nanowires after the composition for forming the first conductive layer is applied and dried as described above. It can be formed by applying a polymer solution (polymer composition, monomer composition) and then drying or curing the coating layer of the polymer solution. Further, the first transparent conductive layer may be formed by using the composition for forming the first conductive layer containing the polymer constituting the polymer matrix.
  • the dispersion concentration of the metal nanowires in the first conductive layer forming composition is preferably 0.1% by weight to 1% by weight. Within such a range, a first transparent conductive layer having excellent conductivity and light transmission can be formed.
  • any suitable method can be adopted as the method for applying the first conductive layer forming composition.
  • the coating method include spray coating, bar coating, roll coating, die coating, inkjet coating, screen coating, dip coating, letterpress printing method, intaglio printing method, gravure printing method and the like.
  • any suitable drying method for example, natural drying, blast drying, heat drying
  • the drying temperature is typically 50 ° C. to 200 ° C., preferably 80 ° C. to 150 ° C.
  • the drying time is typically 1 to 10 minutes.
  • the polymer solution contains a polymer constituting the polymer matrix or a precursor of the polymer (monomer constituting the polymer).
  • the polymer solution may contain a solvent.
  • the solvent contained in the polymer solution include alcohol-based solvents, ketone-based solvents, tetrahydrofuran, hydrocarbon-based solvents, aromatic solvents and the like.
  • the solvent is volatile.
  • the boiling point of the solvent is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, still more preferably 100 ° C. or lower.
  • the substrate is typically composed of any suitable resin.
  • the resin constituting the base material include cycloolefin resin, polyimide resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl chloride resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin and the like.
  • a cycloolefin resin is used. If a base material made of a cycloolefin resin is used, a transparent conductive film having excellent flexibility can be obtained.
  • polynorbornene As the cycloolefin resin, for example, polynorbornene can be preferably used.
  • Polynorbornene refers to a (co) polymer obtained by using a norbornene-based monomer having a norbornene ring in a part or all of a starting material (monomer).
  • various products are commercially available. Specific examples include Zeon Corporation's product names "Zeonex” and "Zeonoa”, JSR's product name "Arton”, TICONA's product name "Topus”, and Mitsui Chemicals' product name. "APEL" can be mentioned.
  • the glass transition temperature of the resin constituting the base material is preferably 50 ° C. to 200 ° C., more preferably 60 ° C. to 180 ° C., and further preferably 70 ° C. to 160 ° C.
  • a substrate having a glass transition temperature in such a range can prevent deterioration when forming the first transparent conductive layer.
  • the thickness of the base material is preferably 8 ⁇ m to 500 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 250 ⁇ m, further preferably 10 ⁇ m to 150 ⁇ m, and particularly preferably 15 ⁇ m to 100 ⁇ m.
  • the tensile breaking strength of the base material is preferably 50 MPa or more, more preferably 70 MPa or more, and further preferably 100 MPa or more. Within such a range, a transparent conductive film having particularly excellent flexibility can be obtained.
  • the tensile breaking strength can be measured at room temperature according to JIS K 7161.
  • the total light transmittance of the base material is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. Within such a range, a transparent conductive film suitable as a transparent conductive film provided for a touch panel or the like can be obtained.
  • the substrate may further contain any suitable additive, if desired.
  • additives include plasticizers, heat stabilizers, light stabilizers, lubricants, antioxidants, UV absorbers, flame retardants, colorants, antistatic agents, compatibilizers, cross-linking agents, and thickeners. And so on.
  • the type and amount of the additive used can be appropriately set according to the purpose.
  • various surface treatments may be applied to the above base material. Any appropriate method is adopted for the surface treatment depending on the purpose. For example, low pressure plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be mentioned.
  • the transparent substrate is surface-treated to make the surface of the transparent substrate hydrophilic. If the base material is made hydrophilic, the processability when applying the composition for forming a transparent conductive layer prepared by an aqueous solvent is excellent. Further, it is possible to obtain a transparent conductive film having excellent adhesion between the base material and the transparent conductive layer.
  • the second transparent conductive layer is composed of a metal oxide.
  • the metal oxide include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimon composite oxide, zinc-aluminum composite oxide, indium-zinc composite oxide and the like. Of these, indium-tin composite oxide (ITO) is preferable.
  • the metal oxide may be a crystallized metal oxide. As will be described later, the crystallized metal oxide means a metal oxide obtained by forming a metal oxide film and then heating (for example, heating at 120 ° C. to 200 ° C.).
  • the total light transmittance of the second transparent conductive layer is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more.
  • a metal oxide layer is formed by any appropriate film forming method (for example, vacuum vapor deposition method, sputtering method, CVD method, ion plating method, spray method, etc.).
  • a method of forming a second transparent conductive layer can be mentioned.
  • the metal oxide layer may be used as it is as a second transparent conductive layer, or may be further heated to crystallize the metal oxide.
  • the heating temperature is, for example, 120 ° C to 200 ° C.
  • the thickness of the second transparent conductive layer is preferably 50 nm or less, more preferably 40 nm or less. Within such a range, a transparent conductive film having excellent light transmission can be obtained.
  • the lower limit of the thickness of the conductive layer is preferably 1 nm, more preferably 5 nm.
  • the second transparent conductive layer may be patterned.
  • the patterning method any suitable method can be adopted depending on the morphology of the conductive layer. For example, it can be patterned by an etching method, a laser method, or the like.
  • the shape of the pattern of the second transparent conductive layer can be any suitable shape depending on the application. For example, the patterns described in JP-A-2011-51357, JP-A-2010-164938, JP-A-2008-310550, JP-A-2003-511799, and JP-A-2010-541109 can be mentioned.
  • Haze value The haze value of the transparent conductive film was measured using a haze meter (manufactured by Murakami Color Science Laboratory Co., Ltd., trade name "HN-150") by the method specified by JIS 7136.
  • the flexibility of the transparent conductive film was evaluated based on the conductivity after bending the transparent conductive film.
  • the specific evaluation method is as follows. A test piece was obtained by applying Ag paste to both ends of the transparent conductive film (length 100 mm ⁇ width 20 mm) in the longitudinal direction on the first conductive layer side. This test piece was hung on a stainless steel round bar (diameter: 2 mm) with the first conductive layer on the outside, and bent 180 ° along the round bar so as to bend in the longitudinal direction. Next, weights (500 g each) were lowered to both ends in the longitudinal direction via clips and held in that state for 10 seconds. After the above operation, the weight and clip were removed, and the continuity between the Ag paste parts was confirmed with a tester. If continuity was possible, it was OK, and if continuity was not possible, it was NG.
  • the mixture was heated to 160 ° C. for 1 hour or more and reacted until AgNO 3 was completely reduced to produce silver nanowires. Then, acetone was added to the reaction mixture containing the silver nanowires obtained as described above until the volume of the reaction mixture was increased by 5 times, and then the reaction mixture was centrifuged (2000 rpm, 20 minutes). Obtained silver nanowires.
  • the silver nanowire (concentration: 0.2% by weight) and pentaethylene glycol dodecyl ether (concentration: 0.1% by weight) were dispersed in pure water to prepare a silver nanowire dispersion liquid.
  • composition (PN) for forming a transparent conductive layer A composition (PN) for forming a transparent conductive layer having a solid content concentration of 0.05% by weight was prepared by diluting with 25 parts by weight of the silver nanowire dispersion liquid and 75 parts by weight of pure water.
  • the composition for forming the transparent conductive layer as the first composition for forming the transparent conductive layer on one side of the base material (polycycloolefin film (trade name "ZEONOR (registered trademark)” manufactured by Nippon Zeon Corporation, thickness 25 ⁇ m)).
  • the product (PN) was applied and dried. Further, the above-mentioned monomer composition was applied onto the first transparent conductive layer forming composition (PN) coating layer, dried at 90 ° C. for 1 minute, and then dried.
  • a first transparent conductive layer was formed by irradiating with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2.
  • a second transparent conductive layer made of an indium tin oxide layer having a thickness of 30 nm was sputtered on the other side of the base material.
  • the conductive film thus obtained was wound around a plastic winding core to prepare a conductive film roll.
  • a transparent conductive film was obtained as described above.
  • the obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluations (1) and (2). The results are shown in Table 1.
  • composition for forming the transparent conductive layer as the first composition for forming the transparent conductive layer on one side of the base material (polycycloolefin film (trade name "ZEONOR (registered trademark)” manufactured by Nippon Zeon Corporation, thickness 25 ⁇ m)).
  • the product (PN) was applied and dried. Further, the above-mentioned monomer composition was applied onto the first transparent conductive layer forming composition (PN) coating layer, dried at 90 ° C. for 1 minute, and then dried.
  • the first transparent conductive layer was formed by irradiating with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2.
  • the transparent conductive layer forming composition (PN) was also applied to the other side of the base material as the second transparent conductive layer forming composition and dried. Further, the above-mentioned monomer composition is applied onto the second transparent conductive layer forming composition (PN) coating layer, dried at 90 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 to obtain the first. A transparent conductive layer was formed. A transparent conductive film was obtained as described above. The obtained transparent conductive film was subjected to the above evaluations (1) and (2). The results are shown in Table 1.
  • First transparent conductive layer 20
  • Base material 30
  • Second transparent conductive layer 100

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

屈曲性および透明性の両方に優れる透明導電性フィルムを提供する。　本発明の透明導電性フィルムは、第１の透明導電層と、基材と、第２の透明導電層とをこの順に備え、該第１の透明導電層が、金属ナノワイヤを含み、該第２の透明導電層が、金属酸化物から構成されている。１つの実施形態においては、上記第２の透明導電層を構成する金属酸化物が、インジウム－スズ複合酸化物である。

Description

透明導電性フィルム
　本発明は、透明導電性フィルムに関する。
　従来、タッチセンサーの電極等に用いられる透明導電性フィルムとして、樹脂フィルム上にインジウム・スズ複合酸化物層（ＩＴＯ層）等の金属酸化物層が形成された透明導電性フィルムが多用されている。しかし、金属酸化物層が形成された透明導電性フィルムには、屈曲性が不十分であり、曲げ等の物理的な応力によってクラックが発生しやすいという問題がある。
　また、透明導電性フィルムとして、銀や銅などを用いた金属ナノワイヤを含む透明導電性フィルムが提案されている。このような透明導電性フィルムは屈曲性に優れるという利点がある。しかし、金属ナノワイヤを含む透明導電性フィルムには、十分な透明性が得られ難いという問題がある。
特表２００９－５０５３５８号公報
　本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、屈曲性および透明性の両方に優れる透明導電性フィルムを提供することにある。
　本発明の透明導電性フィルムは、第１の透明導電層と、基材と、第２の透明導電層とをこの順に備え、該第１の透明導電層が、金属ナノワイヤを含み、該第２の透明導電層が、金属酸化物から構成されている。
　１つの実施形態においては、上記第２の透明導電層を構成する金属酸化物が、インジウム－スズ複合酸化物である。
　１つの実施形態においては、上記基材の引っ張り破断強度が、１００ＭＰａ以上である。
　１つの実施形態においては、上記基材が、シクロオレフィン系樹脂から構成されている。
　本発明によれば、屈曲性および透明性の両方に優れる透明導電性フィルムを提供することができる。
本発明の１つの実施形態による透明導電性フィルムの概略断面図である。
Ａ．透明導電性フィルムの全体構成
　図１は、本発明の１つの実施形態による透明導電性フィルムの概略断面図である。透明導電性フィルム１００は、第１の透明導電層１０と、基材２０と、第２の透明導電層３０とをこの順に備える。第１の透明導電層１０は、金属ナノワイヤを含む（図示せず）。第２の透明導電層３０は、金属酸化物から構成される。図示していないが、透明導電性フィルムは、任意の適切なその他の層をさらに含んでいてもよい。
　本発明においては、金属ナノワイヤを含む第１の透明導電層と、金属酸化物から構成される第２透明導電層とを、基材を介して積層することにより、屈曲性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。より詳細には、本発明の透明導電性フィルムは、一方の透明導電層を、金属ナノワイヤを含む透明導電層（第１の透明導電層）、すなわち、屈曲によるダメージを受けがたい透明導電層としており、このような構成であることにより、第１の透明導電層を外側にして屈曲させた際に破損し難く（例えば、クラックが生じ難く）、屈曲性に優れるという特徴を有する。
　さらに、本発明の透明導電性フィルムは、他方の透明導電層（第２の透明導電層）が金属酸化物から構成されており、このような構成であることにより、透明導電層を複数層備えながらも透明性に優れる（例えば、ヘイズ値が小さい）という特徴を有する。本発明の透明導電性フィルムにおいては、当該透明導電性フィルムを第１の透明導電層を外側にして屈曲させれば、第２の透明導電層には引張方向の応力がかからず、そのため、金属酸化物から構成される第２の透明導電層であってもその破損が防止される。
　本発明の透明導電性フィルムの第１の透明導電層側の表面抵抗値は、好ましくは０．０１Ω／□～１０００Ω／□であり、より好ましくは０．１Ω／□～５００Ω／□であり、特に好ましくは０．１Ω／□～３００Ω／□であり、最も好ましくは０．１Ω／□～１００Ω／□である。
　本発明の透明導電性フィルムの第２の透明導電層側の表面抵抗値は、好ましくは０．０１Ω／□～１０００Ω／□であり、より好ましくは０．１Ω／□～５００Ω／□であり、特に好ましくは０．１Ω／□～３００Ω／□であり、最も好ましくは０．１Ω／□～１００Ω／□である。
　上記第１の透明導電層を外側にして、本発明の透明導電性フィルムを直径２ｍｍの丸棒に掛け渡して屈曲させた際の第１の透明導電層側の表面抵抗値の上昇率［＝（（屈曲後の表面抵抗値／屈曲前の表面抵抗値）－１）×１００］は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１５％以下であり、さらに好ましくは１０％以下である。本発明の透明導電性フィルムは、上記のとおり屈曲性に優れ、屈曲させた際の抵抗値の上昇（すなわち、導電性低下）が防止される。
　本発明の透明導電性フィルムのヘイズ値は、好ましくは１％以下であり、より好ましくは０．７％以下であり、さらに好ましくは０．５％以下である。当該ヘイズ値は、小さいほど好ましいが、その下限値は例えば、０．０５％である。
　本発明の透明導電性フィルムの全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。
　本発明の透明導電性フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ～５００μｍであり、より好ましくは１５μｍ～３００μｍであり、さらに好ましくは２０μｍ～２００μｍである。
Ｂ．第１の透明導電層
　上記のとおり、第１の透明導電層は、金属ナノワイヤを含む。
　１つの実施形態においては、第１の透明導電層は、ポリマーマトリックスをさらに含む。この実施形態においては、ポリマーマトリックス中に、金属ナノワイヤが存在する。ポリマーマトリックスから構成される第１の透明導電層においては、ポリマーマトリックスにより金属ナノワイヤが保護される。その結果、金属ナノワイヤの腐食が防止され、耐久性により優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記第１の透明導電層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ～１０００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ～５００ｎｍである。なお、第１の透明導電層がポリマーマトリックスを含む場合は、該第１の透明導電層の厚みはポリマーマトリックスの厚みに相当する。
　１つの実施形態においては、上記第１の透明導電層はパターン化されている。パターン化の方法としては、第１の透明導電層の形態に応じて、任意の適切な方法が採用され得る。第１の透明導電層のパターンの形状は、用途に応じて任意の適切な形状であり得る。例えば、特表２０１１－５１１３５７号公報、特開２０１０－１６４９３８号公報、特開２００８－３１０５５０号公報、特表２００３－５１１７９９号公報、特表２０１０－５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。第１の透明導電層は基材上に形成された後、第１の透明導電層の形態に応じて、任意の適切な方法を用いてパターン化することができる。
　上記第１の透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。
　上記金属ナノワイヤとは、材質が金属であり、形状が針状または糸状であり、径がナノメートルサイズの導電性物質をいう。金属ナノワイヤは直線状であってもよく、曲線状であってもよい。金属ナノワイヤで構成された第１の透明導電層を用いれば、金属ナノワイヤが網の目状となることにより、少量の金属ナノワイヤであっても良好な電気伝導経路を形成することができ、電気抵抗の小さい透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記金属ナノワイヤの太さｄと長さＬとの比（アスペクト比：Ｌ／ｄ）は、好ましくは１０～１００，０００であり、より好ましくは５０～１００，０００であり、特に好ましくは１００～１０，０００である。このようにアスペクト比の大きい金属ナノワイヤを用いれば、金属ナノワイヤが良好に交差して、少量の金属ナノワイヤにより高い導電性を発現させることができる。その結果、光透過率の高い透明導電性フィルムを得ることができる。なお、本明細書において、「金属ナノワイヤの太さ」とは、金属ナノワイヤの断面が円状である場合はその直径を意味し、楕円状である場合はその短径を意味し、多角形である場合は最も長い対角線を意味する。金属ナノワイヤの太さおよび長さは、走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡によって確認することができる。
　上記金属ナノワイヤの太さは、好ましくは５００ｎｍ未満であり、より好ましくは２００ｎｍ未満であり、特に好ましくは１０ｎｍ～１００ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍ～６０ｎｍである。このような範囲であれば、光透過率の高い第１の透明導電層を形成することができる。
　上記金属ナノワイヤの長さは、好ましくは１μｍ～１０００μｍであり、より好ましくは１μｍ～５００μｍであり、特に好ましくは１μｍ～１００μｍである。このような範囲であれば、導電性の高い透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、導電性の高い金属である限り、任意の適切な金属が用いられ得る。上記金属ナノワイヤを構成する金属としては、例えば、銀、金、銅、ニッケル等が挙げられる。また、これらの金属にメッキ処理（例えば、金メッキ処理）を行った材料を用いてもよい。金属ナノワイヤは、金、白金、銀および銅からなる群より選ばれた１種以上の金属により構成されることが好ましい。
　上記金属ナノワイヤの製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば溶液中で硝酸銀を還元する方法、前駆体表面にプローブの先端部から印可電圧又は電流を作用させ、プローブ先端部で金属ナノワイヤを引き出し、該金属ナノワイヤを連続的に形成する方法等が挙げられる。溶液中で硝酸銀を還元する方法においては、エチレングリコール等のポリオール、およびポリビニルピロリドンの存在下で、硝酸銀等の銀塩の液相還元をすることにより、銀ナノワイヤが合成され得る。均一サイズの銀ナノワイヤは、例えば、Ｘｉａ，Ｙ．ｅｔａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．（２００２）、１４、４７３６－４７４５　、Ｘｉａ，　Ｙ．ｅｔａｌ．，　Ｎａｎｏ　ｌｅｔｔｅｒｓ（２００３）３（７）、９５５－９６０に記載される方法に準じて、大量生産が可能である。
　上記第１の透明導電層における金属ナノワイヤの含有割合は、第１の透明導電層の全重量に対して、好ましくは３０重量％～１００重量％であり、より好ましくは３０重量％～９０重量％であり、さらに好ましくは４５重量％～８０重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記ポリマーマトリックスを構成するポリマーとしては、任意の適切なポリマーが用いられ得る。該ポリマーとしては、例えば、アクリル系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリビニルキシレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の芳香族系ポリマー；ポリウレタン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；ポリオレフィン系ポリマー；アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体（ＡＢＳ）；セルロース；シリコン系ポリマー；ポリ塩化ビニル；ポリアセテート；ポリノルボルネン；合成ゴム；フッ素系ポリマー等が挙げられる。好ましくは、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＮＰＧＤＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）等の多官能アクリレートから構成される硬化型樹脂（好ましくは紫外線硬化型樹脂）が用いられる。
　第１の透明導電層がポリマーマトリックスから構成され、かつ、上記金属ナノワイヤが銀ナノワイヤである場合、第１の透明導電層の密度は、好ましくは１．３ｇ／ｃｍ３～１０．５ｇ／ｃｍ３であり、より好ましくは１．５ｇ／ｃｍ３～３．０ｇ／ｃｍ３である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
　第１の透明導電層は、基材（または、基材とその他の層との積層体）に、金属ナノワイヤを含む第１の導電層形成用組成物を塗布し、その後、塗布層を乾燥させて、形成することができる。
　上記第１の導電層形成用組成物は、金属ナノワイヤの他、任意の適切な溶媒を含み得る。第１の導電層形成用組成物は、金属ナノワイヤの分散液として準備され得る。上記溶媒としては、水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒等が挙げられる。環境負荷低減の観点から、水を用いることが好ましい。上記第１の導電層形成用組成物は、目的に応じて任意の適切な添加剤をさらに含有し得る。上記添加剤としては、例えば、金属ナノワイヤの腐食を防止する腐食防止材、金属ナノワイヤの凝集を防止する界面活性剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類、数および量は、目的に応じて適切に設定され得る。
　上記第１の透明導電層がポリマーマトリックスを含む場合、ポリマーマトリックスは、上記のようにして、第１の導電層形成用組成物を塗布し乾燥させた後、金属ナノワイヤから構成される層上にポリマー溶液（ポリマー組成物、モノマー組成物）を塗布し、その後、ポリマー溶液の塗布層を乾燥または硬化させて、形成され得る。また、ポリマーマトリックスを構成するポリマーを含有する第１の導電層形成用組成物を用いて、第１の透明導電層を形成してもよい。
　上記第１の導電層形成用組成物中の金属ナノワイヤの分散濃度は、好ましくは０．１重量％～１重量％である。このような範囲であれば、導電性および光透過性に優れる第１の透明導電層を形成することができる。
　上記第１の導電層形成用組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スプレーコート、バーコート、ロールコート、ダイコート、インクジェットコート、スクリーンコート、ディップコート、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法等が挙げられる。塗布層の乾燥方法としては、任意の適切な乾燥方法（例えば、自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥）が採用され得る。例えば、加熱乾燥の場合には、乾燥温度は代表的には５０℃～２００℃であり、好ましくは８０℃～１５０℃である。乾燥時間は代表的には１～１０分である。
　上記ポリマー溶液は、上記ポリマーマトリックスを構成するポリマー、または該ポリマーの前駆体（該ポリマーを構成するモノマー）を含む。
　上記ポリマー溶液は溶剤を含み得る。上記ポリマー溶液に含まれる溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、炭化水素系溶剤、または芳香族系溶剤等が挙げられる。好ましくは、該溶剤は、揮発性である。該溶剤の沸点は、好ましくは２００℃以下であり、より好ましくは１５０℃以下であり、さらに好ましくは１００℃以下である。
Ｃ．基材
　上記基材は、代表的には、任意の適切な樹脂から構成される。上記基材を構成する樹脂としては、例えば、シクロオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂等が挙げられる。好ましくは、シクロオレフィン系樹脂が用いられる。シクロオレフィン系樹脂から構成される基材を用いれば、屈曲性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記シクロオレフィン系樹脂として、例えば、ポリノルボルネンが好ましく用いられ得る。ポリノルボルネンとは、出発原料（モノマー）の一部または全部に、ノルボルネン環を有するノルボルネン系モノマーを用いて得られる（共）重合体をいう。上記ポリノルボルネンとしては、種々の製品が市販されている。具体例としては、日本ゼオン社製の商品名「ゼオネックス」、「ゼオノア」、ＪＳＲ社製の商品名「アートン（Ａｒｔｏｎ）」、ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名「トーパス」、三井化学社製の商品名「ＡＰＥＬ」が挙げられる。
　上記基材を構成する樹脂のガラス転移温度は、好ましくは５０℃～２００℃であり、より好ましくは６０℃～１８０℃であり、さらに好ましくは７０℃～１６０℃である。このような範囲のガラス転移温度を有する基材であれば、第１の透明導電層を形成する際の劣化が防止され得る。
　上記基材の厚みは、好ましくは８μｍ～５００μｍであり、より好ましくは１０μｍ～２５０μｍであり、さらに好ましくは１０μｍ～１５０μｍであり、特に好ましくは１５μｍ～１００μｍである。
　上記基材の引っ張り破断強度は、好ましくは５０ＭＰａ以上であり、より好ましくは７０ＭＰａ以上であり、さらに好ましくは１００ＭＰa以上である。このような範囲であれば、屈曲性に特に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。なお、引っ張り破断強度は、常温下、ＪＩＳ　Ｋ　７１６１に準じて測定され得る。
　上記基材の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは８５％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。このような範囲であれば、タッチパネル等に備えられる透明導電性フィルムとして好適な透明導電性フィルムを得ることができる。
　上記基材は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤の具体例としては、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、紫外線吸収剤、難燃剤、着色剤、帯電防止剤、相溶化剤、架橋剤、および増粘剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。
　必要に応じて、上記基材に対して各種表面処理を行ってもよい。表面処理は目的に応じて任意の適切な方法が採用される。例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。１つの実施形態においては、透明基材を表面処理して、透明基材表面を親水化させる。基材を親水化させれば、水系溶媒により調製された透明導電層形成用組成物を塗工する際の加工性が優れる。また、基材と透明導電層との密着性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。
Ｄ．第２の透明導電層
　上記のとおり、第２の透明導電層は、金属酸化物から構成される。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジウム－スズ複合酸化物、スズ－アンチモン複合酸化物、亜鉛－アルミニウム複合酸化物、インジウム－亜鉛複合酸化物等が挙げられる。なかでも好ましくは、インジウム－スズ複合酸化物（ＩＴＯ）である。金属酸化物は結晶化金属酸化物であってもよい。結晶化金属酸化物とは、後述のように、金属酸化物膜を成膜した後に、加熱（例えば、１２０℃～２００℃の加熱）して、得られる金属酸化物を意味する。
　上記第２の透明導電層の全光線透過率は、好ましくは８０％以上であり、さらに好ましくは８５％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。
　上記第２の透明導電層の形成方法としては、例えば、任意の適切な成膜方法（例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法等）により、金属酸化物層を形成して、第２の透明導電層を得る方法が挙げられる。該金属酸化物層は、そのまま第２の透明導電層としてもよく、さらに加熱し金属酸化物を結晶化させてもよい。該加熱時の温度は、例えば、１２０℃～２００℃である。
　上記第２の透明導電層の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは４０ｎｍ以下である。このような範囲であれば、光透過性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。上記導電層の厚みの下限は、好ましくは１ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍである。
　上記第２の透明導電層はパターン化されていてもよい。パターン化の方法としては、導電層の形態に応じて、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、エッチング法、レーザー法等によりパターン化され得る。第２の透明導電層のパターンの形状は、用途に応じて任意の適切な形状であり得る。例えば、特表２０１１－５１１３５７号公報、特開２０１０－１６４９３８号公報、特開２００８－３１０５５０号公報、特表２００３－５１１７９９号公報、特表２０１０－５４１１０９号公報に記載のパターンが挙げられる。
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。実施例および比較例における評価方法は以下のとおりである。
（１）ヘイズ値
　透明導電性フィルムのヘイズ値を、ＪＩＳ　７１３６で定める方法により、ヘイズメーター（村上色彩科学研究所社製、商品名「ＨＮ－１５０」）を用いて測定した。
（２）屈曲性
　透明導電性フィルムを屈曲させた後の導電性により、当該透明導電性フィルムの屈曲性を評価した。具体的な評価方法は、下記のとおりである。
　透明導電性フィルム（長さ１００ｍｍ×幅２０ｍｍ）の第１の導電層側長手方向両端にＡｇペーストを塗布して試験片を得た。この試験片を、第１の導電層を外側にしてステンレスの丸棒（直径：２ｍｍ）に掛け、当該丸棒に沿って長手方向が曲がるように１８０°屈曲させた。次いで、長手方向の両端部にクリップを介して分銅（各５００ｇ）を下げ、その状態で１０秒間保持した。
　上記操作の後、分銅・クリップを取り外し、Ａｇペースト部間の導通をテスターにて確認した。導通可能であればＯＫ、導通不可の場合はＮＧとした。
［製造例１］
（金属ナノワイヤの製造）
攪拌装置を備えた反応容器中、１６０℃下で、無水エチレングリコール５ｍｌ、ＰｔＣｌ２の無水エチレングリコール溶液（濃度：１．５×１０－４ｍｏｌ／Ｌ）０．５ｍｌを加えた。４分経過後、得られた溶液に、ＡｇＮＯ３の無水エチレングリコール溶液（濃度：０．１２ｍｏｌ／ｌ）２．５ｍｌと、ポリビニルピロリドン（ＭＷ：５５０００）の無水エチレングリコール溶液（濃度：０．３６ｍｏｌ／ｌ）５ｍｌとを同時に、６分かけて滴下した。この滴下後、１６０℃に加熱して１時間以上かけて、ＡｇＮＯ３が完全に還元されるまで反応を行い、銀ナノワイヤを生成した。次いで、上記のようにして得られた銀ナノワイヤを含む反応混合物に、該反応混合物の体積が５倍になるまでアセトンを加えた後、該反応混合物を遠心分離して（２０００ｒｐｍ、２０分）、銀ナノワイヤを得た。純水中に、該銀ナノワイヤ（濃度：０．２重量％）、およびペンタエチレングリコールドデシルエーテル（濃度：０．１重量％）を分散させ、銀ナノワイヤ分散液を調製した。
［実施例１］
（透明導電層形成用組成物（ＰＮ）の調製）
　上記銀ナノワイヤ分散液２５重量部、純水７５重量部で希釈して固形分濃度０．０５重量％の透明導電層形成用組成物（ＰＮ）を調製した。
（モノマー組成物の調製）
　ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業社製、商品名「ビスコート＃３００」）１重量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア９０７」）０．２重量部をイソプロピルアルコール８０重量部、ジアセトンアルコール１９重量部で希釈して、固形分濃度１重量％のモノマー組成物を得た。
（透明導電性フィルムの作製）
　基材（ポリシクロオレフィンフィルム（日本ゼオン社製　商品名「ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）」、厚み２５μｍ）の一方の側に、第１の透明導電層形成用組成物として、上記透明導電層形成用組成物（ＰＮ）を塗布し、乾燥させた。さらに、第１の透明導電層形成用組成物（ＰＮ）塗布層上に、上記モノマー組成物を塗布し、９０℃で１分間乾燥し、その後、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射し、第１の透明導電層を形成した。次に、上記基材の他方の側に、厚み３０ｎｍのインジウムスズ酸化物層からなる第２の透明導電層を、スパッタ法により形成した。このように得られた導電性フィルムを、プラスチック製の巻芯に巻き取って、導電性フィルムロールを作製した。
　上記のようにして透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムを上記評価（１）および（２）に供した。結果を表１に示す。
［比較例１］
　基材（ポリシクロオレフィンフィルム（日本ゼオン社製　商品名「ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）」、厚み２５μｍ）の両側に、スパッタ法により、インジウムスズ酸化物層からなる透明導電層（各層の厚み：３０ｎｍ）を形成して、透明導電性フィルムを得た。
　上記のようにして透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムを上記評価（１）および（２）に供した。結果を表１に示す。
［比較例２］
　基材（ポリシクロオレフィンフィルム（日本ゼオン社製　商品名「ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）」、厚み２５μｍ）の一方の側に、第１の透明導電層形成用組成物として、上記透明導電層形成用組成物（ＰＮ）を塗布し、乾燥させた。さらに、第１の透明導電層形成用組成物（ＰＮ）塗布層上に、上記モノマー組成物を塗布し、９０℃で１分間乾燥し、その後、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射し、第１の透明導電層を形成した。
　上記基材の他方の側にも、第２の透明導電層形成用組成物として、上記透明導電層形成用組成物（ＰＮ）を塗布し、乾燥させた。さらに、第２の透明導電層形成用組成物（ＰＮ）塗布層上に、上記モノマー組成物を塗布し、９０℃で１分間乾燥し、その後、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射し、第１の透明導電層を形成した。
　上記のようにして透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムを上記評価（１）および（２）に供した。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　１０　　　　　　第１の透明導電層
　２０　　　　　　基材
　３０　　　　　　第２の透明導電層
　１００　　　　　透明導電性フィルム
　
　

Claims (4)

  1. 　第１の透明導電層と、基材と、第２の透明導電層とをこの順に備え、
    　該第１の透明導電層が、金属ナノワイヤを含み、
    　該第２の透明導電層が、金属酸化物から構成されている、
    　透明導電性フィルム。
  2. 　前記第２の透明導電層を構成する金属酸化物が、インジウム－スズ複合酸化物である、請求項１に記載の透明導電性フィルム。
  3. 　前記基材の引っ張り破断強度が、１００ＭＰａ以上である、請求項１または２に記載の透明導電性フィルム。
  4. 　前記基材が、シクロオレフィン系樹脂から構成されている、請求項１から３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
     
PCT/JP2021/018774 2020-05-22 2021-05-18 透明導電性フィルム WO2021235430A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020227038670A KR20230014685A (ko) 2020-05-22 2021-05-18 투명 도전성 필름
CN202180037138.7A CN115668408A (zh) 2020-05-22 2021-05-18 透明导电性膜

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020089379A JP2021184344A (ja) 2020-05-22 2020-05-22 透明導電性フィルム
JP2020-089379 2020-05-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2021235430A1 true WO2021235430A1 (ja) 2021-11-25

Family

ID=78708486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2021/018774 WO2021235430A1 (ja) 2020-05-22 2021-05-18 透明導電性フィルム

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP2021184344A (ja)
KR (1) KR20230014685A (ja)
CN (1) CN115668408A (ja)
TW (1) TW202209354A (ja)
WO (1) WO2021235430A1 (ja)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004345278A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Sony Corp 透明導電性基材、抵抗膜方式タッチパネルおよび表示素子
JP2008226641A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Kochi Univ Of Technology 透明導電膜積層体
JP2013246734A (ja) * 2012-05-28 2013-12-09 Nissha Printing Co Ltd 視認性と耐久性に優れた静電容量透明タッチシート

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2618794A1 (en) 2005-08-12 2007-02-22 Cambrios Technologies Corporation Nanowires-based transparent conductors

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004345278A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Sony Corp 透明導電性基材、抵抗膜方式タッチパネルおよび表示素子
JP2008226641A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Kochi Univ Of Technology 透明導電膜積層体
JP2013246734A (ja) * 2012-05-28 2013-12-09 Nissha Printing Co Ltd 視認性と耐久性に優れた静電容量透明タッチシート

Also Published As

Publication number Publication date
TW202209354A (zh) 2022-03-01
KR20230014685A (ko) 2023-01-30
JP2021184344A (ja) 2021-12-02
CN115668408A (zh) 2023-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020142525A (ja) 粘着剤層付き透明導電性フィルム
JP2012151095A (ja) 透明導電性フィルム、静電容量式タッチパネルの透明電極及びタッチパネル
WO2021235430A1 (ja) 透明導電性フィルム
JP6712910B2 (ja) 透明導電性フィルム
WO2022050243A1 (ja) 透明導電性フィルムの製造方法
WO2021235431A1 (ja) 導電性フィルム
JP5430792B1 (ja) 転写フィルムおよび透明導電積層体の製造方法
WO2022172870A1 (ja) 透明導電性フィルム
WO2022024909A1 (ja) 透明導電性フィルム
JP6792973B2 (ja) 導電性フィルムおよび導電性フィルムの製造方法
WO2022196348A1 (ja) 透明導電性フィルム
JP7485629B2 (ja) 透明導電性フィルム
KR20230129923A (ko) 투명 도전성 필름의 제조 방법
WO2022092254A1 (ja) 導電性光学積層体
KR20230172407A (ko) 투명 도전성 필름
JP2013089334A (ja) 透明導電体、及び透明導電体の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 21809767

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 21809767

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1