WO2021193626A1 - 波長選択吸収フィルタ、偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a wavelength selective absorption filter, a polarizing plate, an organic electroluminescence display device, and a liquid crystal display device.
- An image display device such as a liquid crystal display device or an organic electroluminescence (OLED) display device is expanding its use as a space-saving image display device with low power consumption.
- OLED organic electroluminescence
- the liquid crystal display device is arranged on the back surface of the liquid crystal panel and includes a backlight unit that supplies light to the liquid crystal panel.
- a white light emitting diode LED
- white light is obtained by mixing blue light emitted from a blue LED and light emitted from a yellow phosphor, or light emitted from a green phosphor and a red phosphor. The method of producing is known.
- Patent Document 1 At least one coating layer or adhesive layer of a backlight unit and a liquid crystal panel constituting a liquid crystal display device has an absorption dye having a main absorption wavelength band other than RGB and an absorption dye other than RGB.
- RGB wavelengths (R is red, G is green, B is) emitted from a white LED by containing a fluorescent dye having a main absorption wavelength band and a main emission wavelength band corresponding to RGB in the same layer or in layers different from each other.
- a technique has been proposed in which light of unnecessary wavelengths other than (shown in blue) is blocked, the color purity is improved, and the decrease in brightness is suppressed.
- Patent Documents 2 to 4 describe a color adjustment filter using a squarylium dye having a specific substituent as a color adjustment filter that corrects the color balance of the three colors without adversely affecting the emission of the three colors of RGB. Has been proposed.
- a method for forming a color image of an organic EL display device a three-color painting method of R (red) G (green) B (blue), a color conversion method, and a color filter method are known, but they are used for TV applications.
- the method using the color filter method is widely used.
- a white light emitting layer is used, and white light from the light emitting layer is passed through a color filter to obtain the three primary colors of RGB.
- a layer doped with a plurality of types of fluorescent materials emits white light. It can be used as a layer.
- Such a white light emitting layer is called a white organic EL light source.
- the white light from the white organic EL light source includes light having a wavelength unnecessary for forming a color image (for example, light showing an orange color near 590 nm), which causes a decrease in color reproducibility of the organic EL display device.
- a wavelength unnecessary for forming a color image for example, light showing an orange color near 590 nm
- the absorbance of the optical film at wavelengths of 420 nm and 450 nm has a specific relationship.
- the invention of a color correction filter containing at least one compound having a dimethine skeleton having a specific structure satisfying the formula has been described.
- NTSC standards and DCI-P3 are examples of color gamut standards that are emphasized in display device applications.
- the NTSC (National Television System Committee) standard was created by the National Television Standards Commission of the United States and has been used since the era of analog television, CRT (Cathode Ray Tube), and monitors.
- DCI-P3 is a color gamut standard (color space) for digital cinema advocated by Digital Cinema Initiatives, an industry group of American movie production companies.
- the DCI-P3 standard has a wider red color gamut than the NTSC standard, while the NTSC standard has a wider green color gamut than the DCI-P3 standard.
- the range covered by both is different for the blue color gamut, and both are used properly depending on the application such as an image or a display image.
- a wavelength selective absorption filter capable of achieving excellent color reproducibility the development of a wavelength selective absorption filter capable of achieving high coverage in both the NTSC standard and the DCI-P3 standard is various with one wavelength selective absorption filter. It is required because it can be applied to various display device applications.
- the present inventors have adjusted the chromaticity of blue light by blocking light having a wavelength of 560 to 600 nm and further blocking light having a wavelength of 400 to 450 nm. It has also been found that the color range coverage of the DCI-P3 standard can be efficiently improved, and that both suppression of decrease in brightness due to blocking light and excellent color reproducibility can be achieved at the same time.
- the present invention has been further studied based on these findings and has been completed.
- the above dye A and dye C do not have fluorescence.
- R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group or an aryl group
- R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
- R 5 and R 6 are bonded to each other. May form a 6-membered ring.
- a polarizing plate including the wavelength selective absorption filter according to ⁇ 1> or ⁇ 2>.
- An organic electroluminescence display device or a liquid crystal display device including the wavelength selective absorption filter according to ⁇ 1> or ⁇ 2>.
- substituents there is no particular notice when there are a plurality of substituents or linking groups (hereinafter referred to as substituents, etc.) represented by a specific code or formula, or when a plurality of substituents, etc. are specified at the same time. As long as each substituent or the like may be the same or different from each other. This also applies to the regulation of the number of substituents and the like. Further, when a plurality of substituents and the like are close to each other (particularly when they are close to each other), they may be connected to each other to form a ring unless otherwise specified.
- the ring for example, an alicyclic ring, an aromatic ring, or a heterocycle may be further condensed to form a fused ring.
- this carbon number means the carbon number of the entire group unless otherwise specified in the present invention or the present specification. That is, when this group is in the form of further having a substituent, it means the total number of carbon atoms including this substituent.
- each component (dye, resin, and other components that may be appropriately contained) constituting the wavelength selective absorption filter is contained in the wavelength selective absorption filter. It may be contained, or two or more kinds may be contained.
- the double bond may be any of E-type and Z-type in the molecule, or a mixture thereof.
- the indication of a compound (including a complex) is used to mean that the compound itself, a salt thereof, and an ion thereof are included.
- a compound for which substitution or non-substitution is not specified may have an arbitrary substituent as long as the effect of the present invention is not impaired. This also applies to substituents and linking groups.
- the numerical range represented by using "-" in the present invention means a range including the numerical values before and after "-" as the lower limit value and the upper limit value.
- the composition includes, in addition to a mixture having a constant component concentration (each component is uniformly dispersed), a mixture in which the component concentration varies within a range that does not impair the desired function. do.
- having a main absorption wavelength band in the wavelengths XX to YY nm means that a wavelength exhibiting maximum absorption (that is, a maximum absorption wavelength) exists in the wavelength region XX to YY nm. Therefore, if the maximum absorption wavelength is within the wavelength region, the entire absorption band including this wavelength may be within the wavelength region or may extend beyond the wavelength region.
- the maximum absorption wavelength exhibiting the maximum absorbance may be present in the above wavelength region as long as the effect of the present invention is exhibited. That is, the maximum absorption wavelength other than the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance may exist in any of the above wavelength regions XX to YY nm within the range in which the effect of the present invention is exhibited.
- the wavelength selective absorption filter and the polarizing plate of the present invention When used on the front surface of an image display device, they can exhibit excellent color reproducibility while suppressing a decrease in relative brightness. Further, the organic electroluminescence display device and the liquid crystal display device of the present invention provided with the wavelength selective absorption filter of the present invention can exhibit excellent color reproducibility while suppressing a decrease in relative brightness.
- FIG. 1 is a schematic diagram showing an outline of an embodiment of a liquid crystal display device provided with a wavelength selective absorption filter of the present invention.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention contains a resin and the following dyes A and C having a main absorption wavelength band in different wavelength regions. However, these dyes A and C do not have fluorescence.
- Dye A Dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 450 nm in a wavelength selective absorption filter
- Dye C A dye having a main absorption wavelength band at a wavelength of 560 to 600 nm in a wavelength selective absorption filter
- the main absorption wavelength band of the dye is the main absorption wavelength band of the dye measured in the state of the wavelength selective absorption filter. Specifically, in the examples described later, the measurement and calculation are performed in the state of the wavelength selective absorption filter with a base material under the conditions described in the section of the absorption maximum value of the wavelength selective absorption filter.
- the form of the wavelength selective absorption filter of the present invention is such that the dye in the wavelength selective absorption filter shows an absorption spectrum and the effect of the present invention can be exhibited.
- the "dye" is dispersed (preferably dissolved) in the resin to make the wavelength selective absorption filter a filter showing a specific absorption spectrum derived from the dye. To do. This variance may be random, regular, or the like.
- the fact that a dye does not have fluorescence means that it does not exhibit fluorescence.
- the dye A and the dye C that can be contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention may be independently one kind or two or more kinds respectively.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention may also contain a dye other than the above dye A and dye C within the range in which the effect of the present invention is exhibited.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention can exhibit excellent color reproducibility while suppressing a decrease in relative brightness when used on the front surface of an image display device. can.
- the reason for this is presumed, but it is thought to be as follows.
- a wavelength selective absorption filter containing a dye C having a main absorption wavelength band at a wavelength of 560 to 600 nm can expand the color reproduction range as compared with the case where the dye is not contained, but the display light close to blue is out of the NTSC standard. It is still insufficient to reproduce a practically important color gamut by containing only the dye C and adjusting the content thereof because it extends to the region of.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention contains the dye C and the dye A having a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 450 nm in combination, so that the CIE (International Commission on Illumination) 1931
- the chromaticity of the blue display light can be adjusted to the long wavelength side without significantly changing the area of the triangles formed on the xy chromaticity diagram in the xyY color system, and as a result, the dye is contained. It is considered that the color reproducibility in a practically important region can be improved while suppressing the decrease in brightness due to this.
- the dye A is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 400 to 450 nm in the wavelength selective absorption filter and does not have fluorescence, and various dyes can be used.
- the dye A a dye represented by the following general formula (A1) is preferable because the absorption waveform in the main absorption wavelength band is sharp.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention exhibits excellent light resistance in addition to suppressing a decrease in relative brightness and improving color reproducibility. Can be done.
- R 1 and R 2 each independently represent an alkyl group or an aryl group
- R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
- R 5 and R 6 May be combined with each other to form a 6-membered ring.
- the alkyl group that can be taken as R 1 and R 2 may be any of an unsubstituted alkyl group and a substituted alkyl group having a substituent, either linear or branched, and may have a cyclic structure. good.
- Examples of the above-mentioned unsubstituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group, an isopropyl group and a cyclohexyl group.
- the unsubstituted alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms.
- substituent group A Halogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aralkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxyl group (may be in the form of salt), alkoxy group, aryloxy Group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, sulfonyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group (in addition to -NH 2 , substitution represented by -NR a 2) .
- R a containing amino groups are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
- R a an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
- Acylamino group aminocarbonylamino group, alkylcarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, sulfonamide group, mercapto group, alkylthio group , Arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group (may be in the form of salt), alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, Carbamoyl group, imide group,
- substituent group A preferable examples of the substituent that the substituted alkyl group can have include a halogen atom, an aryl group, an alkoxy group, an acyl group and a hydroxy group.
- the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group is preferably 1 to 12.
- a benzyl group, a hydroxybenzyl group, a methoxyethyl group and the like can be mentioned.
- the total carbon number of the substituted alkyl group means the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group including the substituent that the substituted alkyl group may have.
- the same meaning will be used in other groups.
- R 1 and R 2 represent an alkyl group
- the alkyl groups may be the same or different.
- the aryl group that can be taken as R 1 and R 2 may be either an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group having a substituent.
- the unsubstituted aryl group is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group.
- Examples of the substituent that the substituted aryl group can take include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
- substituent group A preferable examples of the substituent that the substituted aryl group can have are a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom and iodine atom), a hydroxy group, a carboxy group, a sulfonamide group and an amino group.
- a substituted amino group .R a represented by -NR a 2 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. However, at least one of R a, is.
- an alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; for example, methyl, ethyl, normal propyl and isopropyl
- an alkoxy group preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; for example.
- alkoxycarbonyl groups preferably alkoxycarbonyl groups with 2-5 carbon atoms; eg, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normal propoxycarbonyl and isopropoxycarbonyl
- sulfonyloxy groups a monovalent group in which at least two of these are linked can be mentioned.
- an aryl group having a total carbon number of 6 to 18 is preferable.
- Phenyl group 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl group, N, N-dimethylaminophenyl group, 4- (N-carboxymethyl-N-ethylamino) phenyl group, 4-ethoxycarbonylphenyl group and 4-methanesulfonyl Oxyphenyl group is mentioned.
- R 1 and R 2 represent an aryl group
- the aryl groups may be the same or different.
- R 3 , R 4 , R 5 and R 6 examples include the substituents included in the above-mentioned Substituent Group A.
- R 3 , R 5 and R 6 are preferably an alkyl group or an aryl group. That is, it is preferable that R 3 , R 5 and R 6 are independently hydrogen atoms, alkyl groups or aryl groups, respectively.
- R 4 is an alkyl group or an aryl group. That is, R 4 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
- the alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 may be any of an unsubstituted alkyl group and a substituted alkyl group having a substituent, and may be either linear or branched and has a cyclic structure. May be.
- Examples of the unsubstituted alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 include a methyl group, an ethyl group, a normal propyl group and an isopropyl group.
- the number of carbon atoms of the unsubstituted alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 is preferably 1 to 8, and more preferably 1 to 4.
- Examples of the substituent that the substituted alkyl group in R 3 , R 5 and R 6 can have include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
- Preferred examples of the substituent that the substituted alkyl group in R 3 , R 5 and R 6 can have are an aryl group (preferably a phenyl group), a halogen atom, an acyl group, an amino group, an alkoxycarbonyl group, a carboxy group and Hydroxyl groups can be mentioned.
- the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 is preferably 1 to 8.
- a benzyl group, a carboxymethyl group and a hydroxymethyl group can be mentioned.
- R 3 , R 5 and R 6 all represent an alkyl group
- the alkyl groups may be the same or different.
- the aryl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 may be either an unsubstituted aryl group or a substituted substituted aryl group.
- an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable, and examples thereof include a phenyl group.
- Examples of the substituent that the substituted aryl group in R 3 , R 5 and R 6 can have include the substituent contained in the above-mentioned Substituent Group A.
- Preferred examples of the substituent that the substituted aryl group in R 3 , R 5 and R 6 can have are a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom), a hydroxy group, a carboxy group, and a , Alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms; for example, methyl, ethyl, normal propyl and isopropyl).
- an aryl group having a total carbon number of 6 to 10 is preferable.
- 2-fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 2,5-dichlorophenyl group, hydroxyphenyl group, carboxyphenyl group, 3,5-dicarboxyphenyl group and 4-methylphenyl group can be mentioned.
- R 3 is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of light resistance and heat resistance.
- R 3 , R 5 and R 6 are all aryl groups, the aryl groups may be the same or different.
- the alkyl group that can be taken as R 4 may be either an unsubstituted alkyl or a substituted alkyl group having a substituent, may be linear or branched, and may have a cyclic structure.
- the number of carbon atoms of the unsubstituted alkyl group that can be taken as R 4 is preferably 1 to 8, and more preferably 1 to 4.
- Examples of the substituent which the substituted alkyl group represented by R 4 may have, for example, a substituent contained in the above substituent group A.
- Preferred examples of the substituent substituted alkyl groups represented by R 4 may have an aryl group (preferably phenyl group), a heterocyclic group, a carboxy group, a hydroxy group, an alkyl group (preferably, having 1 to 4 carbon atoms Alkyl group; eg, methyl, ethyl, normal propyl and isopropyl), alkoxy group (preferably 1 to 4 carbon number alkoxy group; eg, methoxy, ethoxy, normal propoxy and isopropoxy), aryloxy group, alkoxycarbonyl group (Preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms; for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normal propoxycarbonyl and isopropoxycarbonyl), an alkylamino group (preferably an alkylamino
- the total number of carbon atoms of the substituted alkyl group that can be taken as R 4 is preferably 1 to 18.
- benzyl group, carboxybenzyl group, hydroxybenzyl group, methoxycarbonylethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-propioquilaminoethyl group, dimethylaminomethyl group, methylcarbonylaminopropyl group, di ( Methoxycarbonylmethyl) Aminopropyl group and phenacyl group can be mentioned.
- the aryl group that can be taken as R 4 may be either an unsubstituted aryl group or a substituted aryl group having a substituent.
- the unsubstituted aryl group which can take as the R 4, preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, e.g., phenyl group.
- Examples of the substituent which the substituted aryl group represented by R 4 may have, for example, a substituent contained in the above substituent group A.
- Preferred examples of the substituents a substituted aryl group in the above R 4 may have include a halogen atom (e.g., chlorine atom, bromine atom, iodine atom), a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonamide group, an amino group, an alkyl group ( Preferably, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; for example, methyl, ethyl, normal propyl, isopropyl), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms; for example, methoxy, ethoxy, normal propoxy, isopropoxy).
- a halogen atom e.g., chlorine atom, bromine atom, iodine atom
- a hydroxyl group e.g.,
- An alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 5 carbon atoms; for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, normalpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl) and a sulfonyloxy group, and one in which at least two of these are linked.
- the basis of the value can be mentioned.
- the amino group-substituted aryl group can have at R 4 can be any of the substituted amino group having an unsubstituted amino group (-NH 2) and substituents (-NR a 2 in the substituent group A).
- substituents -NR a 2 in the substituent group A.
- the substituted amino group an alkylamino group in which one or two hydrogen atoms of the amino group are substituted with an alkyl group is preferable.
- alkylamino group examples include a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group and a pyrrolidino group.
- the alkylamino group preferably has 1 to 8 carbon atoms, and more preferably 1 to 4 carbon atoms.
- the alkyl group in the alkylamino group may be further substituted, and for example, a di (alkoxycarbonylalkyl) amino group is preferably mentioned.
- the di (alkoxycarbonylalkyl) amino group preferably has 6 to 10 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms.
- Examples of the substituted aryl group can take as R 4, aryl group having a total carbon number of 6 to 22 is preferable.
- R 4 aryl group having a total carbon number of 6 to 22 is preferable.
- R 5 and R 6 may be combined with each other to form a 6-membered ring. Hydrogen atoms may be desorbed during the formation of the ring to form an aromatic ring or an aliphatic ring having an unsaturated bond.
- the 6-membered ring formed by bonding R 5 and R 6 to each other is preferably a benzene ring.
- R 1 is preferably an alkyl group
- R 1 is an alkyl group
- R 2 is an alkyl group or aryl. More preferably it is a group.
- both R 1 and R 2 are independently alkyl groups, and particularly preferably alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms.
- both R 1 and R 2 in the general formula (A1) are aryl groups.
- R 1 and R 2 each independently represent an aryl group
- R 3 , R 5 and R 6 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group and at least R 3 and R 6.
- One is preferably a hydrogen atom.
- R 3 represents a hydrogen atom, more preferably the case where R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group or an aryl group, R 3 represents a hydrogen atom, R 5 It is more preferable that and R 6 each independently represent an alkyl group, R 3 represents a hydrogen atom, R 5 and R 6 each independently represent an alkyl group, and R 5 and R 6 are bonded to each other. It is particularly preferable that a ring is formed and condensed with a pyrrole ring to form an indole ring together with the pyrrole ring. That is, the dye represented by the general formula (A1) is particularly preferably a dye represented by the following general formula (A2).
- R 1 ⁇ R 4 of the general formula (A1) and R 1 ⁇ R 4 in have the same meanings, preferable embodiments thereof are also the same.
- R 15 represents a substituent.
- substituents contained in the above-mentioned Substituent Group A include the substituents contained in the above-mentioned Substituent Group A.
- R 15 is an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, an acyl group, an amino group or an alkoxycarbonyl group.
- the alkyl group and aryl group that can be taken as R 15 the description of the alkyl group and aryl group that can be taken as R 3 , R 5 and R 6 can be applied, respectively.
- the halogen atom that can be taken as R 15 include a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
- the acyl group can take as R 15, for example, acetyl group, propionyl group and butyroyl group.
- R 15 the description of the amino group that the substituted aryl group in R 4 can have can be applied.
- a nitrogen-containing heterocyclic group having a 5- to 7-membered ring in which an alkyl group on the nitrogen atom of the amino group is bonded to form a ring is also preferable.
- N is an integer from 0 to 4.
- n is not particularly limited, but is preferably 0 or 1, for example.
- the dye A in addition to the dye represented by the general formula (A1), the compounds described in paragraphs 0012 to 0067 of JP-A-5-53241 and paragraphs 0011 to 0076 of Japanese Patent No. 2707371. Compounds can also be preferably used.
- the main absorption wavelength band of the dye A in the wavelength selective absorption filter is preferably 400 to 430 nm.
- the dye C is not particularly limited as long as it has a main absorption wavelength band at a wavelength of 560 to 600 nm in the wavelength selective absorption filter and does not have fluorescence, and various dyes can be used. Specific examples of the dye C include tetraaza porphyrin (TAP) -based, squaric-based and cyanine (CY) -based dyes (dye).
- TAP tetraaza porphyrin
- CY cyanine
- a squaric dye is preferable because the absorption waveform in the main absorption wavelength band is sharp, and a squaric dye represented by the following general formula (1) is more preferable.
- the cations are delocalized and exist, and a plurality of tautomer structures are present. Therefore, in the present invention, when at least one tautomeric structure of a certain dye applies to each general formula, a certain dye is a dye represented by each general formula.
- the dye represented by a specific general formula can also be said to be a dye whose at least one tautomer structure can be represented by a specific general formula.
- the dye represented by the general formula may have any tautomeric structure as long as at least one of the tautomer structures applies to this general formula.
- G represents a heterocyclic group which may have a substituent.
- the aryl group that can be taken as A or B is not particularly limited, and may be a group composed of a monocyclic ring or a group composed of a condensed ring.
- the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
- Examples of the aryl group include groups composed of a benzene ring or a naphthalene ring, and more preferably a group composed of a benzene ring.
- the heterocyclic group that can be taken as A or B is not particularly limited, and includes a group composed of an aliphatic heterocycle or an aromatic heterocycle, and a group composed of an aromatic heterocycle is preferable.
- Examples of the heteroaryl group which is an aromatic heterocyclic group include a heteroaryl group which can be taken as the substituent X described later.
- the aromatic heterocyclic group that can be taken as A or B is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring group, and more preferably a nitrogen-containing 5-membered ring group.
- a group consisting of any of a ring, a benzoxazole ring and a pyrazolotriazole ring is preferably mentioned.
- a group consisting of any of a pyrrole ring, a pyrazole ring, a thiazole ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, and a pyrazorotyazole ring is preferable.
- the pyrazolotriazole ring is composed of a fused ring of a pyrazole ring and a triazole ring, and may be a condensed ring formed by condensing at least one of these rings.
- the general formulas (4) and (5) described later may be used.
- the condensed ring in) can be mentioned.
- a and B may be bonded to the squaric acid moiety (the 4-membered ring represented by the general formula (1)) at any moiety (ring-constituting atom) without particular limitation, but carbon. It is preferable to bond with an atom.
- G represents a heterocyclic group which may have a substituent, for example, the example shown in the above-mentioned heterocyclic group which can be taken as A or B. Preferred. Of these, a group consisting of any of a benzoxazole ring, a benzothiazole ring, and an indoline ring is preferable.
- At least one of A and B may have a hydrogen-bonding group that forms an intramolecular hydrogen bond.
- Each of A, B, and G may have a substituent X, and when it has a substituent X, adjacent substituents may be bonded to each other to further form a ring structure. Further, a plurality of substituents X may be present. Examples of the substituent X include a substituent that can be taken as R 1 of the general formula (2) described later, and specifically, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and an alkyl group (including a cycloalkyl group).
- R 10 to R 27 each independently represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group.
- the aliphatic group and aromatic group which can be taken as R 10 to R 27 are not particularly limited, and the alkyl group and cyclo which are classified as an aliphatic group in the substituent which can be taken as R 1 of the general formula (2) described later. It can be appropriately selected from an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, and an aryl group classified as an aromatic group.
- the heterocyclic group that can be taken as R 10 to R 27 may be an aliphatic group or an aromatic group, and can be appropriately selected from, for example, a heteroaryl group or a heterocyclic group that can be taken as R 1 of the general formula (2) described later.
- R 12 of -COOR 12 is a hydrogen atom (that is, a carboxy group)
- the hydrogen atom may be dissociated (that is, a carbonate group) or may be in a salt state.
- R 24 in -SO 3 R 24 is a hydrogen atom (i.e., a sulfo group) may be dissociated hydrogen atoms (i.e., sulfonate group), may be in the form of a salt.
- Examples of the halogen atom that can be taken as the substituent X include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
- the number of carbon atoms of the alkyl group that can be taken as the substituent X is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
- the alkenyl group preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and even more preferably 2 to 8 carbon atoms.
- the alkynyl group preferably has 2 to 40 carbon atoms, more preferably 2 to 30 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 25 carbon atoms.
- the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group may be linear, branched or cyclic, respectively, and are preferably linear or branched.
- the aryl group that can be taken as the substituent X includes a monocyclic or condensed ring group.
- the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
- the alkyl moiety of the aralkyl group that can be taken as the substituent X is the same as that of the above alkyl group.
- the aryl moiety of the aralkyl group is the same as that of the above aryl group.
- the carbon number of the aralkyl group is preferably 7 to 40, more preferably 7 to 30, and even more preferably 7 to 25.
- the heteroaryl group that can be taken as the substituent X includes a group consisting of a monocyclic ring or a condensed ring, preferably a monocyclic group or a group consisting of a fused ring having 2 to 8 rings, and has a monocyclic ring or a fused ring number of 2 to 8. A group consisting of four fused rings is more preferred.
- the number of heteroatoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
- hetero atom constituting the ring of the heteroaryl group examples include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom and the like.
- the heteroaryl group is preferably a group consisting of a 5-membered ring or a 6-membered ring.
- the number of carbon atoms constituting the ring of the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
- heteroaryl group examples include a pyridine ring, a piperidine ring, a furan ring, a fulfuran ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, a quinoline ring, a morpholine ring, an indole ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a carbazole ring, a phenothiazine ring, and a phenothiazine ring.
- Indole ring, thiazole ring, pyrazine ring, thiadiazine ring benzoquinoline ring and thiazizol ring.
- the ferrosenyl group that can be taken as X is preferably represented by the general formula (2M).
- L represents a single bond or a divalent linking group that is not conjugate with A, B or G in the general formula (1).
- R 1m to R 9m represent hydrogen atoms or substituents, respectively.
- M is an atom that can constitute a metallocene compound, and represents Fe, Co, Ni, Ti, Cu, Zn, Zr, Cr, Mo, Os, Mn, Ru, Sn, Pd, Rh, V or Pt. * Indicates a joint with A, B or G.
- L in the general formula (2M) is a single bond, a cyclopentadienyl ring directly bonded to A, B or G (a ring having R 1 m in the general formula (2M)). Is not included in the conjugated structure conjugated to A, B or G.
- the divalent linking group that can be taken as L is not particularly limited as long as it is a linking group that does not conjugate with A, B or G, and is described above at the inside thereof or at the cyclopentadiene ring side end portion in the general formula (2M). May include a conjugate structure of.
- -CO-, -CS-, -NR- R indicates a hydrogen atom or a monovalent substituent
- R indicates a hydrogen atom or a monovalent substituent
- -O-, -S-, -SO 2- or -N CH-, or these.
- Examples thereof include a divalent linking group formed by combining a plurality (preferably 2 to 6).
- the divalent linking group of a combination is not particularly limited, -CO -, - NH -, - O-or -SO 2 - groups containing preferably, -CO -, - NH -, - O-or - Examples thereof include a linking group consisting of a combination of two or more SO 2- types, or a linking group consisting of a combination of at least one of -CO-, -NH-, -O- and -SO 2- types and an alkylene group or an arylene group. Be done.
- linking group consisting of two or more combinations of -CO-, -NH-, -O- or -SO 2- , -COO-, -OCO-, -CONH-, -NHCOO-, -NHCONH-, -SO 2 NH- is mentioned.
- the linking group formed by combining at least one of -CO-, -NH-, -O- and -SO 2- with an alkylene group or an arylene group includes -CO-, -COO- or -CONH- and alkylene. Examples thereof include a group in combination with a group or an arylene group.
- the substituent that can be taken as R is not particularly limited, and is synonymous with the substituent X that A in the general formula (2) may have.
- L may have one or more substituents.
- the substituent that L may have is not particularly limited, and is synonymous with, for example, the above-mentioned substituent X.
- the substituents bonded to adjacent atoms may be bonded to each other to further form a ring structure.
- the alkylene group that can be taken as L may be linear, branched or cyclic as long as it is a group having 1 to 20 carbon atoms, and for example, methylene, ethylene, propylene, methylethylene, methylmethylene, etc.
- the group such as -CO- may be incorporated at any position in the alkylene group, and the number of the groups incorporated is not particularly limited.
- the arylene group that can be taken as L is not particularly limited as long as it is a group having a carbon number in the range of 6 to 20, and for example, an aryl group having a carbon number of 6 to 20 that can be taken as A in the general formula (1). Examples thereof include groups in which one hydrogen atom is further removed from each group exemplified as.
- the heterocyclic group that can be taken as L is not particularly limited, and examples thereof include a group obtained by further removing one hydrogen atom from each group exemplified as the heterocyclic group that can be taken as A.
- the remaining partial structure excluding the linking group L corresponds to a structure (metallocene structure portion) in which one hydrogen atom is removed from the metallocene compound.
- the metallocene compound serving as the metallocene structure is a known metallocene compound as long as it is a compound conforming to the partial structure defined by the above general formula (2M) (a compound in which a hydrogen atom is bonded instead of L). It can be used without particular limitation.
- the metallocene structure defined by the general formula (2M) will be specifically described.
- R 1m to R 9m represent hydrogen atoms or substituents, respectively.
- the substituent that can be taken as R 1 m to R 9 m is not particularly limited, but can be selected from, for example, the substituent that can be taken as R 1 of the general formula (3).
- R 1m to R 9m are preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an acyl group, an alkoxy group, an amino group or an amide group, respectively, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an acyl group or an alkoxy group.
- a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an acyl group is more preferable, a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group is particularly preferable, and a hydrogen atom is the most preferable.
- an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, etc. Examples thereof include tert-butyl, isobutyl, pentyl, tert-pentyl, hexyl, octyl and 2-ethylhexyl.
- This alkyl group may have a halogen atom as a substituent.
- Alkyl groups substituted with halogen atoms include, for example, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, dibromomethyl, tribromomethyl, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, 2,2,2-trifluoroethyl. , Perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluorobutyl and the like. Further, in the alkyl group that can be taken as R 1 m or the like, at least one methylene group forming a carbon chain may be substituted with -O- or -CO-.
- Alkyl groups in which the methylene group is substituted with —O— include, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, 2-methoxyethoxy, chloromethyloxy, dichloromethyloxy, trichloromethyl.
- Oxy bromomethyloxy, dibromomethyloxy, tribromomethyloxy, fluoromethyloxy, difluoromethyloxy, trifluoromethyloxy, 2,2,2-trifluoroethyloxy, perfluoroethyloxy, perfluoropropyloxy, per Examples thereof include an alkyl group in which the end methylene group of fluorobutyloxy is substituted, an alkyl group in which the internal methylene group of the carbon chain such as 2-methoxyethyl is substituted, and the like.
- Alkyl groups in which the methylene group is substituted with -CO- include, for example, acetyl, propionyl, monochloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl, trifluoroacetyl, propane-2-one-1-yl, butane-2-one-. 1-Il and the like can be mentioned.
- M is an atom that can constitute a metallocene compound, and Fe, Co, Ni, Ti, Cu, Zn, Zr, Cr, Mo, Os, Mn, Ru, Sn, Pd, Rh. , V or Pt.
- M is preferably Fe, Ti, Co, Ni, Zr, Ru or Os, more preferably Fe, Ti, Ni, Ru or Os, further preferably Fe or Ti, and most preferably Fe.
- a group formed by combining preferable groups of L, R 1m to R 9m and M is preferable.
- L a single bond or a group having 2 to 8 carbon atoms is preferable.
- a group formed by combining with Fe can be mentioned.
- the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group, aryl group and heteroaryl group which can be taken as the substituent X, and the aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group which can be taken as R 10 to R 27 are each. Further, it may have a substituent or may be unsubstituted. Further, the substituent which may be possessed is not particularly limited, but is limited to an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aromatic heterocyclic oxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxy group.
- a preferred embodiment of the dye represented by the general formula (1) is a dye represented by the following general formula (2).
- a 1 is the same as A in the general formula (1).
- a heterocyclic group having a nitrogen-containing 5-membered ring is preferable.
- R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
- R 1 and R 2 may be the same or different, or may be combined with each other to form a ring.
- the substituents that can be taken as R 1 and R 2 are not particularly limited, but for example, an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, t-butyl group, isobutyl group, pentyl group, etc.
- an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heteroaryl group is preferable, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group is more preferable, and an alkyl group is further preferable.
- Substituents that can be taken as R 1 and R 2 may further have substituents.
- Examples of the substituent which may be further have include the substituents which can take as R 1 and R 2.
- R 1 and R 2 may be bonded to each other or to the substituents of B 2 or B 3 to form a ring.
- the ring formed at this time is preferably a heterocycle or a heteroaryl ring, and the size of the ring to be formed is not particularly limited, but a 5-membered ring or a 6-membered ring is preferable.
- B 1 , B 2 , B 3 and B 4 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.
- the ring containing B 1 , B 2 , B 3 and B 4 is an aromatic ring.
- B 1 to B 4 at least two or more are preferably carbon atoms, and it is more preferable that all of B 1 to B 4 are carbon atoms.
- the carbon atoms that can be taken as B 1 to B 4 have a hydrogen atom or a substituent.
- the number of carbon atoms having a substituent is not particularly limited, but is preferably 0, 1 or 2, and more preferably 1.
- B 1 and B 4 are carbon atoms and at least one of them has a substituent.
- the substituents contained in the carbon atoms that can be taken as B 1 to B 4 are not particularly limited, and examples thereof include the above-mentioned substituents that can be taken as R 1 and R 2.
- it is a hydroxy group, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, an acyl group, an amide group, a sulfonylamide group, a carbamoyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom or a hydroxy group.
- an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, an amide group, a sulfonylamide group or a carbamoyl group is more preferable, and an alkyl group, an alkoxy group and a hydroxy group are particularly preferable.
- Examples thereof include a group, an amide group or a sulfonylamide group, most preferably a hydroxy group, an amide group or a sulfonylamide group.
- an alkyl group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an amino group, a cyano group, a nitro group or a halogen atom is more preferable, and one of the substituents is substituted. It is particularly preferred that the group is an electron-withdrawing group (eg, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a cyano group, a nitro group or a halogen atom).
- the dye represented by the above general formula (2) is preferably a dye represented by any of the following general formulas (3), general formula (4) and general formula (5).
- R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or a substituent , which are synonymous with R 1 and R 2 in the above general formula (2), and have the same preferable range.
- B 1 to B 4 independently represent carbon atoms or nitrogen atoms, and are synonymous with B 1 to B 4 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
- R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
- the substituents that can be taken as R 3 and R 4 are not particularly limited, and the same substituents that can be taken as R 1 and R 2 can be mentioned.
- the substituents that can be taken as R 3 are an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, an amide group, a sulfonylamide group, a cyano group, a nitro group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an alkoxycarbonyl group and a carbamoyl group.
- a halogen atom is preferable, an alkyl group, an aryl group or an amino group is more preferable, and an alkyl group is further preferable.
- an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group, a carbamoyl group, an amino group or a cyano group is preferable.
- Alkyl group, alkoxycarbonyl group, acyl group, carbamoyl group or aryl group is more preferable, and alkyl group is further preferable.
- the alkyl group that can be taken as R 3 and R 4 may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable.
- the alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, and more preferably 1 to 8 carbon atoms.
- Examples of the alkyl group are preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, a t-butyl group, a 2-ethylhexyl group and a cyclohexyl group, and more preferably a methyl group and a t-butyl group.
- R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or a substituent , which are synonymous with R 1 and R 2 in the above general formula (2), and have the same preferable range.
- B 1 to B 4 independently represent carbon atoms or nitrogen atoms, and are synonymous with B 1 to B 4 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
- R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
- the substituents that can be taken as R 5 and R 6 are not particularly limited, and the same substituents that can be taken as R 1 and R 2 can be mentioned.
- the substituents that can be taken as R 5 are an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, a cyano group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an acyl group, an acyloxy group, an amide group and a sulfonylamide group.
- alkyl group Ureid group or carbamoyl group is preferable, alkyl group, alkoxy group, acyl group, amide group or amino group is more preferable, and alkyl group is further preferable.
- the alkyl group that can be taken as R 5 has the same meaning as the alkyl group that can be taken as R 3 in the general formula (3), and the preferable range is also the same.
- the substituents that can be taken as R 6 are an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an alkoxycarbonyl group and an acyl group.
- Acyloxy group, amide group, sulfonylamide group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group, carbamoyl group, amino group, cyano group, nitro group or halogen atom is preferable, and alkyl group, aryl group, heteroaryl group or heterocyclic group is preferable.
- an alkyl group or an aryl group is further preferable.
- the alkyl group that can be taken as R 6 has the same meaning as the alkyl group that can be taken as R 4 in the general formula (3), and the preferable range is also the same.
- the aryl group that can be taken as R 6 is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and more preferably a phenyl group.
- This aryl group may have a substituent, and examples of such a substituent include groups included in the following substituent group A, in particular, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a sulfonyl group, and an amino group. Groups, acylamino groups, sulfonylamino groups and the like are preferred. These substituents may further have a substituent. Specifically, the substituent is preferably an alkylsulfonylamino group.
- R 1 and R 2 independently represent a hydrogen atom or a substituent , which are synonymous with R 1 and R 2 in the above general formula (2), and have the same preferable range.
- B 1 to B 4 independently represent carbon atoms or nitrogen atoms, and are synonymous with B 1 to B 4 in the above general formula (2), and the preferable range is also the same.
- R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
- the substituents that can be taken as R 7 and R 8 are not particularly limited, and the same substituents that can be taken as R 1 and R 2 can be mentioned.
- the preferable range, the more preferable range, and the more preferable group of the substituent which can be adopted as R 7 are the same as the substituent which can be adopted as R 5 in the general formula (4).
- the alkyl group that can be taken as R 5 has the same meaning as the alkyl group that can be taken as R 3, and the preferable range is also the same.
- the preferable range, the more preferable range, and the more preferable range of the substituent which can be adopted as R 8 are the same as the substituent which can be adopted as R 6 in the general formula (4).
- the preferable range of the alkyl group and the aryl group that can be taken as R 8 is synonymous with the alkyl group and the aryl group that can be taken as R 6 in the above general formula (4), and the preferable range is also the same.
- the squaric dye when used as the dye A, the squaric dye may be used without particular limitation as long as it is a squaric dye represented by any of the general formulas (1) to (5). can. Examples thereof include JP-A-2006-160618, International Publication No. 2004/005981, International Publication No. 2004/007447, Dyes and Pigment, 2001, 49, p. Examples thereof include the compounds described in 161-179, WO 2008/090757, WO 2005/121098, and JP-A-2008-275726.
- the squaric dye represented by the general formula (1) may be a quencher-embedded dye in which the quencher portion is linked to the dye by a covalent bond via a linking group.
- the quencher-embedded dye can also be preferably used as at least one of the dyes C. That is, the quencher-embedded dye is counted as dye C according to the wavelength having the main absorption wavelength band.
- Examples of the quencher section include the ferrosenyl group in the above-mentioned substituent X.
- the quenching agent portion in the quenching agent compound described in paragraphs [0199] to [0212] and paragraphs [0234] to [0310] of International Publication No. 2019/066043 can be mentioned.
- the absorption waveform in the main absorption wavelength band is sharp from the viewpoint of brightness.
- the main absorption wavelength band of the dye C in the wavelength selective absorption filter is preferably 580 to 600 nm.
- the content of the dye A in the wavelength selective absorption filter of the present invention is not particularly limited as long as the wavelength selective absorption filter of the present invention exhibits a desired chromaticity adjusting function, and the absorption waveform of the dye A in the blue light wavelength region or It can be appropriately adjusted according to the molar absorption coefficient.
- the lower limit is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more.
- the upper limit is not particularly limited as long as the wavelength selective absorption filter of the present invention exhibits desired relative brightness and correlated color temperature, but is preferably 45% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, for example.
- the content of the dye C in the wavelength selective absorption filter of the present invention is adjusted so that the wavelength selective absorption filter of the present invention exhibits a desired correlated color temperature according to the content of the dye A in the wavelength selective absorption filter of the present invention.
- the lower limit value is preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.2% by mass or more
- the upper limit value is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less.
- the content of the dye with a built-in quenching agent is 0.1% by mass or more in the wavelength selective absorption filter of the present invention from the viewpoint of the antireflection effect. Is preferable.
- the upper limit is preferably 45% by mass or less.
- the resin contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention can disperse (preferably dissolve) the dye, and has desired light transmittance (visible at a wavelength of 400 to 800 nm).
- the region is not particularly limited as long as it has a light transmittance of 80% or more).
- the matrix resin may be a low-polarity matrix resin capable of exhibiting more sharp absorption of the squaric dye. preferable. Since the squaric dye exhibits sharper absorption, the wavelength selective absorption filter of the present invention can further suppress the decrease in relative brightness.
- low polarity means that the fd value defined by the following relational expression I is preferably 0.50 or more.
- Relational expression I: fd ⁇ d / ( ⁇ d + ⁇ p + ⁇ h)
- ⁇ d, ⁇ p, and ⁇ h correspond to the London dispersion force, the dipole interpole force, and the hydrogen bond force with respect to the solubility parameter ⁇ t calculated by the Hoy method, respectively.
- w i is the mass fraction of the i-th matrix resin
- fd i denotes the fd value of i-th matrix resin.
- the matrix resin is a resin exhibiting a certain hydrophobicity
- the water content of the wavelength selective absorption filter of the present invention can be set to a low water content such as 0.5% or less, and the wavelength selection of the present invention can be achieved. It is preferable from the viewpoint of improving the light resistance of the absorption filter.
- the resin may contain any conventional component in addition to the polymer.
- the fd of the matrix resin is a calculated value for the polymer constituting the matrix resin.
- the matrix resin include polystyrene resin and cyclic polyolefin resin, and polystyrene resin is more preferable.
- the fd value of the polystyrene resin is 0.45 to 0.60
- the fd value of the cyclic polyolefin resin is 0.45 to 0.70.
- a resin component that imparts functionality to the wavelength selective absorption filter such as an extensible resin component and a peelability control resin component, which will be described later.
- the matrix resin is used in the sense that it contains an extensible resin component and a peelability control resin component in addition to the above-mentioned resin. It is preferable that the matrix resin contains a polystyrene resin from the viewpoint of sharpening the absorption waveform of the dye.
- the polystyrene contained in the polystyrene resin means a polymer containing a styrene component. Polystyrene preferably contains 50% by mass or more of the styrene component.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention may contain one type of polystyrene or two or more types of polystyrene.
- the styrene component is a structural unit derived from a monomer having a styrene skeleton in its structure.
- Polystyrene preferably contains 70% by mass or more of a styrene component, and more preferably 85% by mass or more, from the viewpoint of controlling the photoelastic coefficient and hygroscopicity to values in a preferable range as a wavelength selective absorption filter. It is also preferable that polystyrene is composed of only a styrene component.
- polystyrenes composed of only styrene components include homopolymers of styrene compounds and copolymers of two or more types of styrene compounds.
- the styrene compound is a compound having a styrene skeleton in its structure, and in addition to styrene, a compound in which a substituent is introduced within a range in which an ethylenically unsaturated bond of styrene can act as a reactive (polymerizable) group. It means to include.
- styrene compounds include, for example, styrene; ⁇ -methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, 3,5-dimethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, o-ethylstyrene, Alkylstyrenes such as p-ethylstyrene and tert-butylstyrene; hydroxyl groups, alkoxy groups, carboxy groups and benzene nuclei of styrenes such as hydroxystyrene, tert-butoxystyrene, vinyl benzoic acid, o-chlorostyrene and p-chlorostyrene.
- polystyrene examples thereof include substituted styrene in which a halogen atom or the like is introduced.
- the polystyrene is preferably a homopolymer of styrene (that is, polystyrene).
- polystyrene may be a styrene-diene copolymer, a styrene-polymerizable unsaturated carboxylic acid ester copolymer, or the like.
- a mixture of polystyrene and synthetic rubber for example, polybutadiene and polyisoprene
- HIPS impact-resistant polystyrene in which styrene is graft-polymerized on synthetic rubber is also preferable.
- a rubber-like elastic body is dispersed in a continuous phase of a polymer containing a styrene component (for example, a copolymer of a styrene component and a (meth) acrylic acid ester component), and the above-mentioned copolymer is dispersed in the above-mentioned rubber-like elastic body.
- a styrene component for example, a copolymer of a styrene component and a (meth) acrylic acid ester component
- graft HIPS graft type impact resistant polystyrene
- so-called styrene-based elastomers can also be preferably used.
- the polystyrene may be hydrogenated (hydrogenated polystyrene may be used).
- the hydrogenated polystyrene is not particularly limited, but is a hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer (SEBS) obtained by hydrogenating a styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), and styrene-isoprene-styrene.
- SEBS hydrogenated styrene-butadiene-styrene block copolymer
- SEPS hydrogenated styrene-isoprene-styrene block copolymer
- SIS block copolymer
- As the hydrogenated polystyrene only one kind may be used, or two or more kinds may be used.
- polystyrene may be modified polystyrene.
- the modified polystyrene is not particularly limited, and examples thereof include polystyrene having a reactive group such as a polar group introduced therein. Specific examples thereof include acid-modified polystyrene such as maleic acid-modified and epoxy-modified polystyrene.
- polystyrene a plurality of types having different compositions, molecular weights, etc. can be used in combination.
- the polystyrene resin can be obtained by a conventional method such as an anion, lump, suspension, emulsification or solution polymerization method.
- at least a part of the unsaturated double bond of the benzene ring of the conjugated diene and the styrene monomer may be hydrogenated.
- the hydrogenation rate can be measured by a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).
- polystyrene resin Commercially available products may be used as the polystyrene resin.
- “Clearlen 530L” and “Clearlen 730L” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. "Toughpren 126S” and "Asaprene T411” manufactured by Asahi Kasei Corporation, Clayton Polymer Japan “Clayton D1102A”, “Clayton D1116A” manufactured by Stylolution Co., Ltd., “Styrolux S”, “Styrolux T” manufactured by Stylolution Co., Ltd., "Asaflex 840", “Asaflex 860” manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention preferably contains a polyphenylene ether resin in addition to the polystyrene resin.
- a polyphenylene ether resin in addition to the polystyrene resin.
- polystyrene resin Zylon S201A, 202A, S203A and the like manufactured by Asahi Kasei Corporation can be preferably used. Further, a resin in which a polystyrene resin and a polyphenylene ether resin are mixed in advance may be used. As the mixed resin of the polystyrene resin and the polyphenylene ether resin, for example, Zylon 1002H, 1000H, 600H, 500H, 400H, 300H, 200H and the like manufactured by Asahi Kasei Corporation can be preferably used.
- the mass ratio of the two is preferably 99/1 to 50/50, preferably 98/2 to 60, for the polystyrene resin / polyphenylene ether resin. / 40 is more preferable, and 95/5 to 70/30 is even more preferable.
- the cyclic olefin compound that forms the cyclic polyolefin contained in the cyclic polyolefin resin is not particularly limited as long as it is a compound having a ring structure containing a carbon-carbon double bond. Cyclic olefin compounds, cyclic conjugated diene compounds, vinyl alicyclic hydrocarbon compounds and the like can be mentioned. Examples of the cyclic polyolefin include (1) a polymer containing a structural unit derived from a norbornene compound, (2) a polymer containing a structural unit derived from a monocyclic cyclic olefin compound other than the norbornene compound, and (3) cyclic.
- Examples thereof include hydrides of polymers containing the above.
- the polymer containing a structural unit derived from a norbornene compound and the polymer containing a structural unit derived from a monocyclic cyclic olefin compound include a ring-opening polymer of each compound.
- the cyclic polyolefin is not particularly limited, but a polymer having a structural unit derived from a norbornene compound represented by the following general formula (A-II) or (A-III) is preferable.
- the polymer having a structural unit represented by the following general formula (A-II) is an addition polymer of a norbornene compound
- the polymer having a structural unit represented by the following general formula (A-III) is a norbornene compound. It is a ring-opening polymer.
- m is an integer of 0 to 4, preferably 0 or 1.
- R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
- the hydrocarbon group in the general formulas (AI) to (A-III) is not particularly limited as long as it is a group consisting of a carbon atom and a hydrogen atom, and is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group and an aryl group (aromatic hydrocarbon). Hydrogen group) and the like. Of these, an alkyl group or an aryl group is preferable.
- X 2 and X 3, Y 2 and Y 3 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, a halogen atom Hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms substituted with,-(CH 2 ) nCOOR 11 ,-(CH 2 ) nOCOR 12 ,-(CH 2 ) nNCO,-(CH 2 ) nNO 2 ,-(CH 2 ) nCN, - (CH 2) nCONR 13 R 14, - is (CH 2) nW, or, X 2 and Y 2 or X 3 and Y 3 - (CH 2) nNR 13 R 14, - (CH 2) nOZ or bonded to form together - shows the (CO) 2 O or (-CO) 2 NR 15.
- R 11 to R 15 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
- Z represents a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with a halogen
- W represents Si ( R 16 ) p D (3-p)
- R 16 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
- D is a halogen atom
- -OCOR 17 or -OR 17 R 17 is a hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms.
- P is an integer of 0 to 3
- n is an integer of 0 to 10, preferably 0 to 8, and more preferably 0 to 6.
- R 3 to R 6 are preferably hydrogen atoms or -CH 3 , respectively, and more preferably hydrogen atoms in terms of moisture permeability.
- X 2 and X 3 a hydrogen atom, -CH 3 or -C 2 H 5, is preferable, respectively, and a hydrogen atom is more preferable in terms of moisture permeability.
- Y 2 and Y 3 hydrogen atom, halogen atom (particularly chlorine atom) or- (CH 2 ) nCOOR 11 (particularly -COOCH 3 ) are preferable, respectively, and hydrogen atom is more preferable in terms of moisture permeability.
- Other groups are appropriately selected.
- the polymer having a structural unit represented by the general formula (A-II) or (A-III) may further contain at least one structural unit represented by the following general formula (AI).
- R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
- X 1 and Y 1 independently represent a hydrogen atom and carbon, respectively.
- R 11 to R 15 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms
- Z represents a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with a halogen
- W represents Si ( R 16 ) p D (3-p)
- R 16 represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms
- D is a halogen atom
- -OCOR 17 or -OR 17 R 17 is a hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms.
- P is an integer of 0 to 3
- n is an integer from 0 to 10.
- the cyclic polyolefin having the structural unit represented by the general formula (A-II) or (A-III) has a structural unit derived from the above-mentioned norbornene compound with respect to the total mass of the cyclic polyolefin. It is preferably contained in an amount of 90% by mass or less, more preferably 30 to 85% by mass, further preferably 50 to 79% by mass, and most preferably 60 to 75% by mass.
- the proportion of the structural unit derived from the norbornene compound represents the average value in the cyclic polyolefin.
- the addition (co) polymer of the norbornene compound is described in JP-A No. 10-7732, JP-A-2002-504184, US Publication No. 2004/229157A1, International Publication No. 2004/070463, and the like. There is.
- the polymer of the norbornene compound is obtained by addition polymerization of the norbornene compounds (for example, a polycyclic unsaturated compound of norbornene).
- the norbornene compound if necessary, the norbornene compound, olefins such as ethylene, propylene and butene, conjugated diene such as butadiene and isoprene, unconjugated diene such as ethylidene norbornene, and acrylonitrile, acrylic acid, meta Examples thereof include copolymers obtained by addition-copolymerization with ethylenically unsaturated compounds such as acrylic acid, maleic anhydride, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, maleimide, vinyl acetate and vinyl chloride. Of these, a copolymer of a norbornene compound and ethylene is preferable.
- Such an addition (co) polymer of a norbornene compound is sold by Mitsui Chemicals, Inc. under the trade name of Apel, and has different glass transition temperatures (Tg), APL8008T (Tg70 ° C) and APL6011T (Tg105 ° C). , APL6013T (Tg125 ° C.), APL6015T (Tg145 ° C.) and the like. Further, pellets of TOPAS8007, 6013, 6015 and the like are commercially available from Polyplastics. Further, Appear 3000 is commercially available from Ferrania.
- polymer of the norbornene compound a commercially available product can be used.
- it is marketed by JSR under the trade name of Arton G or Arton F, and by Zeon Corporation under the trade names of Zeonor ZF14, ZF16, Zeonex 250 or Zeonex 280. There is.
- the hydride of the polymer of the norbornene compound can be synthesized by adding hydrogen after addition polymerization or metathesis ring-opening polymerization of the norbornene compound or the like.
- Examples of the synthesis method include Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-240517, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-196736, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-26024, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-19801, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-159767, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-309979. It is described in each publication of.
- the molecular weight of the cyclic polyolefin is appropriately selected according to the intended use, but is equivalent to polyisoprene or polystyrene measured by a gel permeation chromatograph method of a cyclohexane solution (toluene solution if the polymer polymer is not dissolved). Mass average molecular weight. Generally, it is preferably in the range of 5,000 to 500,000, preferably 8,000 to 200,000, and more preferably 10,000 to 100,000. A polymer having a molecular weight in the above range can balance the mechanical strength of the molded product and the moldability at a high level in a well-balanced manner.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention preferably contains the matrix resin in an amount of 5% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, further preferably 50% by mass or more, and particularly preferably 70% by mass or more. preferable.
- the content of the matrix resin in the wavelength selective absorption filter of the present invention is usually 99.90% by mass or less, preferably 99.85% by mass or less.
- the cyclic polyolefin contained in the wavelength selective absorption filter of the present invention may be two or more kinds, and polymers having different composition ratios and molecular weights at least one of them may be used in combination. In this case, the total content of each polymer is within the above range.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention can appropriately select and contain a component exhibiting extensibility (also referred to as an extensibility resin component) as a resin component.
- a component exhibiting extensibility also referred to as an extensibility resin component
- specific examples thereof include acrylonitrile-butadiene-styrene resin (ABS resin), styrene-butadiene resin (SB resin), isoprene resin, butadiene resin, polyether-urethane resin, and silicone resin. Further, these resins may be further hydrogenated as appropriate.
- ABS resin or SB resin As the extensible resin component, it is preferable to use ABS resin or SB resin, and it is more preferable to use SB resin.
- SB resin for example, a commercially available one can be used.
- commercial products TR2000, TR2003, TR2250 (above, trade name, manufactured by JSR Corporation), Clearen 210M, 220M, 730V (above, trade name, manufactured by Denka Corporation), Asaflex 800S, 805, 810, 825, 830, 840 (above, trade name, manufactured by Asahi Kasei Corporation), Eporex SB2400, SB2610, SB2710 (above, trade name, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention preferably contains an extensible resin component in the matrix resin in an amount of 15 to 95% by mass, more preferably 20 to 50% by mass, and even more preferably 25 to 45% by mass. ..
- a sample having a thickness of 30 ⁇ m and a width of 10 mm was prepared by using the extensible resin component alone, and when the elongation at break at 25 ° C. was measured based on JIS 7127, the sample was broken. Those having an elongation of 10% or more are preferable, and those having an elongation of 20% or more are more preferable.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention is produced by a method including a step of peeling the wavelength selective absorption filter of the present invention from a release film among the methods for producing the wavelength selective absorption filter of the present invention described later, a resin is used.
- a component a component that controls the peelability (peeling property control resin component) can be contained, which is preferable.
- peelability of the wavelength selective absorption filter of the present invention from the release film, it is possible to prevent the wavelength selective absorption filter of the present invention from being peeled off after peeling, and various kinds in the peeling step. It becomes possible to correspond to the processing speed of. As a result, favorable effects can be obtained for improving the quality and productivity of the wavelength selective absorption filter of the present invention.
- the peelability control resin component is not particularly limited and can be appropriately selected according to the type of the release film.
- a polyester-based polymer film is used as the release film as described later, for example, a polyester resin (also referred to as a polyester-based additive) is suitable as the release control resin component.
- the polyester-based additive can be obtained by a conventional method such as a dehydration condensation reaction of a polyhydric acid and a polyhydric alcohol, and a dehydration condensation reaction of addition of anhydrous dibasic acid to the polyhydric alcohol, and is preferable.
- a polycondensation ester formed from a dibasic acid and a diol is preferable.
- the mass average molecular weight (Mw) of the polyester-based additive is preferably 500 to 50,000, more preferably 750 to 40,000, and even more preferably 2,000 to 30,000.
- the mass average molecular weight of the polyester-based additive is at least the above-mentioned preferable lower limit value, it is preferable from the viewpoint of brittleness and moist heat durability, and when it is at least the above-mentioned preferable upper limit value, it is preferable from the viewpoint of compatibility with the resin.
- the mass average molecular weight of the polyester-based additive is a value of the mass average molecular weight (Mw) in terms of standard polystyrene measured under the following conditions.
- Mn is a standard polystyrene-equivalent number average molecular weight.
- GPC Gel permeation chromatograph device (HLC-8220GPC manufactured by Tosoh Corporation, Column: Tosoh Co., Ltd. guard column HXL-H, TSK gel G7000HXL, TSK gel GMHXL 2 pieces, TSK gel G2000HXL are connected in sequence.
- dicarboxylic acid can be preferably mentioned.
- this dicarboxylic acid include an aliphatic dicarboxylic acid and an aromatic dicarboxylic acid, and an aromatic dicarboxylic acid or a mixture of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic dicarboxylic acid can be preferably used.
- aromatic dicarboxylic acids aromatic dicarboxylic acids having 8 to 20 carbon atoms are preferable, and aromatic dicarboxylic acids having 8 to 14 carbon atoms are more preferable.
- aromatic dicarboxylic acids having 8 to 14 carbon atoms are more preferable.
- at least one of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid is preferably mentioned.
- an aliphatic dicarboxylic acid having 3 to 8 carbon atoms is preferable, and an aliphatic dicarboxylic acid having 4 to 6 carbon atoms is more preferable.
- at least one of succinic acid, maleic acid, adipic acid and glutaric acid is preferably mentioned, and at least one of succinic acid and adipic acid is more preferable.
- diol component constituting the polyester-based additive examples include aliphatic diols and aromatic diols, and aliphatic diols are preferable.
- aliphatic diols examples include an aliphatic diol having 2 to 4 carbon atoms, and an aliphatic diol having 2 to 3 carbon atoms is more preferable.
- the aliphatic diol examples include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,3-butylene glycol and 1,4-butylene glycol, which are used alone. Alternatively, two or more types can be used in combination.
- the polyester-based additive is particularly preferably a compound obtained by condensing at least one of phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid with an aliphatic diol.
- the end of the polyester-based additive may be sealed by reacting with a monocarboxylic acid.
- the monocarboxylic acid used for encapsulation is preferably an aliphatic monocarboxylic acid, preferably acetic acid, propionic acid, butanoic acid, benzoic acid and derivatives thereof, more preferably acetic acid or propionic acid, and even more preferably acetic acid.
- polyester-based additives examples include ester-based resin polyesters manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (for example, LP050, TP290, LP035, LP033, TP217, TP220) and ester-based resin Byron manufactured by Toyobo Co., Ltd. (for example, Byron 245). , Byron GK890, Byron 103, Byron 200, Byron 550, Byron GK880) and the like.
- the content of the peelability control resin component in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.05% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more in the matrix resin.
- the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and further preferably 15% by mass or less. From the viewpoint of obtaining appropriate adhesion, the above-mentioned preferable range is preferable.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention preferably contains a dye fading inhibitor (simply also referred to as an antifading agent).
- a dye fading inhibitor include the antioxidants described in paragraphs [0143] to [0165] of International Publication No. 2015/005398, the radical scavengers described in the same [0166] to [0199], and the same [0205].
- a commonly used anti-fading agent such as the deterioration-preventing agent described in [0206] can be used without particular limitation.
- a compound represented by the following general formula (IV) can be preferably used.
- R 10 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group or a group represented by R 18 CO-, R 19 SO 2- or R 20 NHCO-.
- R 18 , R 19 and R 20 each independently represent an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
- R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group or an alkenyloxy group, and R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are independent hydrogen atoms, respectively.
- the alkyl groups in R 10 to R 20 include an aralkyl group.
- the heterocyclic group For example, tetrahydropyranyl, pyrimidyl and the like can be mentioned.
- R 18 , R 19 and R 20 are each independently an alkyl group (for example, methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, benzyl, etc.), an alkenyl group (for example, allyl, etc.), and an aryl group (for example, allyl group). Phenyl, methoxyphenyl, etc.) or heterocyclic groups (eg, pyridyl, pyrimidyl, etc.) are indicated.
- the halogen atom represented by R 11 or R 12 in the general formula (IV) includes, for example, chlorine, bromine and the like;
- the alkyl group includes, for example, methyl, ethyl, n-butyl, benzyl and the like;
- the alkoxy group includes, for example, allyl and the like. Examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, benzyloxy and the like; examples of the alkenyloxy group include 2-propeniroxy and the like.
- the alkyl group represented by R 13 , R 14 , R 15 , R 16 or R 17 in the general formula (IV) is, for example, methyl, ethyl, n-butyl, benzyl, etc.; the alkenyl group is, for example, 2-propenyl. Etc .; Examples of the aryl group include phenyl, methoxyphenyl, chlorophenyl and the like.
- R 10 to R 20 may further have a substituent, and examples of the substituent include each group represented by R 10 to R 20. Specific examples of the compound represented by the general formula (IV) are shown below. However, the present invention is not limited thereto.
- a compound represented by the following general formula [III] can also be preferably used.
- R 31 represents an aliphatic group or an aromatic group
- Y represents a group of non-metal atoms required to form a 5- to 7-membered ring with a nitrogen atom.
- R 31 represents an aliphatic group or an aromatic group, preferably an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group (preferably an aliphatic heterocyclic group), and more preferably an aryl group. ..
- the heterocycle formed by Y together with the nitrogen atom include a piperidine ring, a piperazine ring, a morpholine ring, a thiomorpholine ring, a thiomorpholine-1,1-dione ring, a pyrrolidine ring, and an imidazolidine ring.
- the heterocycle may further have a substituent, and examples of the substituent include an alkyl group and an alkoxy group.
- specific examples of the compound represented by the above general formula [III] include the exemplary compound B-1 described on pages 8 to 11 of JP-A-2-167543. -B-65 and exemplary compounds (1) to (120) described on pages 4 to 7 of JP-A-63-95439 can be mentioned.
- the content of the anti-fading agent in the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 5 to 15% by mass, still more preferably 5 to 12.5% by mass, and particularly. It is preferably 10 to 12.5% by mass.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention can improve the light resistance of the dye (dye) without causing side effects such as discoloration.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention may contain a matting agent, a leveling agent (surfactant) and the like in addition to the above-mentioned dye, matrix resin and dye fading inhibitor.
- Fine particles may be added to the surface of the wavelength selective absorption filter of the present invention in order to impart slipperiness and prevent blocking as long as the effects of the present invention are not impaired.
- the fine particles silica (silicon dioxide, SiO 2 ) whose surface is coated with a hydrophobic group and which takes the form of secondary particles is preferably used.
- the fine particles include titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and phosphoric acid together with silica or instead of silica.
- Fine particles such as calcium may be used. Examples of commercially available fine particles include R972 and NX90S (both manufactured by Nippon Aerodil Co., Ltd., trade names).
- the fine particles function as a so-called matting agent, and the addition of the fine particles forms minute irregularities on the surface of the wavelength selective absorption filter of the present invention. Even if other films or the like overlap, they do not stick to each other and slipperiness is ensured. If the wavelength selective absorption filter of the present invention contains a matting agent as fine particles, fine unevenness by projections particles protruding from the filter surface, the height 30nm or more projections are present 10 4 / mm 2 or more, slip particular Great effect of improving sex and blocking property.
- the matting agent fine particles it is particularly preferable to apply the matting agent fine particles to the surface layer from the viewpoint of improving blocking property and slipperiness.
- Examples of the method of applying fine particles to the surface layer include means such as multi-layer casting and coating.
- the content of the matting agent in the wavelength selective absorption filter of the present invention is appropriately adjusted according to the intended purpose.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention is provided with the gas barrier layer described later, the above-mentioned matting agent fine particles are applied to the surface of the wavelength selective absorption filter in contact with the gas barrier layer as long as the gas barrier property is not impaired. Is preferable.
- a leveling agent can be appropriately mixed with the wavelength selective absorption filter of the present invention.
- the leveling agent a commonly used compound can be used, and a fluorine-containing surfactant is particularly preferable. Specifically, for example, the compounds described in paragraph numbers [0028] to [0056] in JP-A-2001-330725 are mentioned.
- the content of the leveling agent in the wavelength selective absorption filter of the present invention is appropriately adjusted according to the purpose.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention includes low molecular weight plasticizers, oligomeric plasticizers, retardation modifiers, ultraviolet absorbers, deterioration inhibitors, peeling accelerators, infrared absorbers, antioxidants, and fillers. And a compatibilizer and the like may be contained.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention is produced by a solution film forming method, a melt extrusion method, or a method of forming a coating layer on a base film (release film) by an arbitrary method (coating method) by a conventional method. It can be combined with stretching as appropriate.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably produced by a coating method.
- solution film forming method a solution in which the material constituting the wavelength selective absorption filter of the present invention is dissolved in an organic solvent or water is prepared, and after appropriately performing a concentration step and a filtration step, the solution is uniformly cast on the support. do. Next, the dry film is peeled off from the support, and both ends of the web are appropriately grasped with clips or the like to dry the solvent in the drying zone. Further, the stretching can be carried out separately during the drying of the film and after the drying is completed.
- melt extrusion method In the melt extrusion method, the material constituting the wavelength selective absorption filter of the present invention (hereinafter, also simply referred to as “material of the wavelength selective absorption filter”) is melted by heat, and after appropriately performing a filtration step or the like, the material is placed on the support. Spread evenly. Next, the film solidified by cooling or the like can be peeled off and appropriately stretched.
- the main material of the wavelength selective absorption filter of the present invention is a thermoplastic polymer resin
- a thermoplastic polymer resin is also selected as the main material of the release film, and the molten polymer resin is formed by a known coextrusion method. Can be done.
- the type of polymer of the wavelength selective absorption filter and the release film of the present invention and the additives to be mixed in each layer and adjusting the stretching temperature, stretching speed, stretching ratio, etc. of the co-extruded film.
- the adhesive force between the wavelength selective absorption filter of the present invention and the release film can be controlled.
- the coextrusion method examples include a coextrusion T-die method, a coextrusion inflation method, and a coextrusion lamination method.
- the coextrusion T-die method is preferable.
- the coextrusion T-die method includes a feed block method and a multi-manifold method.
- the multi-manifold method is particularly preferable in that the variation in thickness can be reduced.
- the melting temperature of the resin in the extruder having the T-die is preferably 80 ° C. or higher than the glass transition temperature (Tg) of each resin, and is 100 ° C. higher.
- Tg glass transition temperature
- the above is more preferable, the temperature is preferably 180 ° C. higher or lower, and the temperature is more preferably 150 ° C. higher or lower.
- the fluidity of the resin can be sufficiently increased by setting the melting temperature of the resin in the extruder to be equal to or higher than the lower limit of the above preferable range, and to prevent deterioration of the resin by setting it to be equal to or lower than the upper limit of the above preferable range. Can be done.
- the sheet-shaped molten resin extruded from the opening of the die is brought into close contact with the cooling drum.
- the method of bringing the molten resin into close contact with the cooling drum is not particularly limited, and examples thereof include an air knife method, a vacuum box method, and an electrostatic close contact method.
- the number of cooling drums is not particularly limited, but is usually two or more.
- a method of arranging the cooling drum for example, a linear type, a Z type, an L type and the like can be mentioned, but the method is not particularly limited.
- the method of passing the molten resin extruded from the opening of the die through the cooling drum is not particularly limited.
- the degree of adhesion of the extruded sheet-shaped resin to the cooling drum changes depending on the temperature of the cooling drum. If the temperature of the cooling drum is raised, the adhesion will be improved, but if the temperature is raised too high, the sheet-like resin may not peel off from the cooling drum and may wind around the drum. Therefore, the cooling drum temperature is preferably (Tg + 30) ° C. or lower, more preferably (Tg-5) ° C. to (Tg-), where Tg is the glass transition temperature of the resin in the layer in contact with the drum among the resins extruded from the die. 45) Set the temperature in the range of ° C. By setting the cooling drum temperature within the above preferable range, problems such as slippage and scratches can be prevented.
- the means for this include (1) reducing the residual solvent of the resin as a raw material; and (2) pre-drying the resin before forming the pre-stretching film.
- Pre-drying is performed by, for example, forming a resin into pellets or the like and using a hot air dryer or the like.
- the drying temperature is preferably 100 ° C. or higher, and the drying time is preferably 2 hours or longer.
- a solution of the material of the wavelength selective absorption filter is applied to the release film to form a coating layer.
- a mold release agent or the like may be appropriately applied to the surface of the release film in advance in order to control the adhesiveness with the coating layer.
- the coating layer can be used by laminating it with another member via an adhesive layer in a later step and then peeling off the release film. Any adhesive can be appropriately used as the adhesive constituting the adhesive layer.
- the release film can be appropriately stretched together with the release film coated with the solution of the material of the wavelength selective absorption filter or with the coating layer laminated.
- the solvent used in the solution of the wavelength selective absorption filter material is suitable because it can dissolve or disperse the wavelength selective absorption filter material, it tends to have a uniform surface shape in the coating process and the drying process, and the liquid storage stability can be ensured. It can be appropriately selected from the viewpoint of having a saturated vapor pressure and the like.
- the timing of adding the dye to the wavelength selective absorption filter material is not particularly limited as long as it is added at the time of film formation. For example, it may be added at the time of synthesizing the matrix resin, or may be mixed with the wavelength selective absorption filter material at the time of preparing the coating liquid of the wavelength selective absorption filter material. The same applies to other components that may be contained in the wavelength selective absorption filter such as the anti-fading agent.
- the release film used for forming the wavelength selective absorption filter of the present invention by a coating method or the like preferably has a film thickness of 5 to 100 ⁇ m, more preferably 10 to 75 ⁇ m, and even more preferably 15 to 55 ⁇ m.
- the film thickness is at least the above-mentioned preferable lower limit value, it is easy to secure sufficient mechanical strength, and failures such as curl, wrinkles, and buckling are unlikely to occur.
- the film thickness is not more than the above preferable upper limit value, the surface pressure applied to the multilayer film when the multilayer film of the wavelength selective absorption filter and the release film of the present invention is stored in a long roll form, for example. Is easy to adjust to an appropriate range, and adhesion failure is unlikely to occur.
- the surface energy of the release film is not particularly limited, but includes the surface energy of the material and coating solution of the wavelength selective absorption filter and the surface energy of the surface of the release film on the side where the wavelength selective absorption filter of the present invention is formed.
- the adhesive force between the wavelength selective absorption filter of the present invention and the release film can be adjusted. If the surface energy difference is small, the adhesive force tends to increase, and if the surface energy difference is large, the adhesive force tends to decrease, which can be appropriately set.
- the surface energy of the release film can be calculated from the contact angle values of water and methylene iodide using the Owens method.
- DM901 Kelowa Interface Science Co., Ltd., contact angle meter
- the surface energy of the release film on the side where the wavelength selective absorption filter of the present invention is formed is preferably 41.0 to 48.0 mN / m, and more preferably 42.0 to 48.0 mN / m.
- the uniformity of the thickness of the wavelength selective absorption filter of the present invention can be enhanced, and when it is at least the above preferable upper limit value, the wavelength selective absorption filter of the present invention is peeled off from the release film. It is easy to control the force within an appropriate range.
- the surface unevenness of the release film is not particularly limited, but the surface energy, hardness, and surface unevenness of the surface of the wavelength selective absorption filter of the present invention and the side of the release film on which the wavelength selective absorption filter of the present invention is formed are formed.
- adhesion failure when the multi-layer film of the wavelength selective absorption filter of the present invention and the release film is stored in a long roll form. It can be adjusted for the purpose of prevention. Increasing the surface unevenness tends to suppress adhesion failure, and decreasing the surface unevenness tends to reduce the surface unevenness of the wavelength selective absorption filter of the present invention and reduce the haze of the wavelength selective absorption filter of the present invention. It can be set as appropriate.
- any material and film can be appropriately used as such a release film.
- the material include polyester polymers (including polyethylene terephthalate films), olefin polymers, cycloolefin polymers, (meth) acrylic polymers, cellulosic polymers, and polyamide polymers.
- surface treatment can be appropriately performed. For example, corona treatment, room temperature plasma treatment, saponification treatment and the like can be performed to reduce the surface energy, and silicone treatment, fluorine treatment, olefin treatment and the like can be performed to increase the surface energy.
- the peeling force between the wavelength selective absorption filter of the present invention and the release film is the material of the wavelength selective absorption filter of the present invention, the material of the release film, the present invention.
- the internal distortion of the wavelength selective absorption filter of the present invention can be adjusted and controlled.
- This peeling force can be measured, for example, in a test of peeling the peeling film in the 90 ° direction, and the peeling force when measured at a speed of 300 mm / min is preferably 0.001 to 5N / 25 mm, preferably 0.01.
- ⁇ 3N / 25mm is more preferable, and 0.05 to 1N / 25mm is even more preferable. If it is at least the above preferable lower limit value, peeling of the release film other than the peeling step can be prevented, and if it is at least the above preferable upper limit value, peeling failure in the peeling step (for example, zipping and the wavelength selective absorption filter of the present invention). Crack) can be prevented.
- the film thickness of the wavelength selective absorption filter of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 18 ⁇ m, more preferably 1 to 12 ⁇ m, still more preferably 2 to 8 ⁇ m. If it is not more than the above preferable upper limit value, the effect of the anti-fading agent can be easily exhibited by adding the dye to the thin film at a high concentration. On the other hand, when it is at least the above-mentioned preferable lower limit value, it becomes easy to maintain the uniformity of the absorbance in the plane.
- the film thickness of 1 to 18 ⁇ m means that the thickness of the wavelength selective absorption filter of the present invention is within the range of 1 to 18 ⁇ m regardless of the portion. This also applies to film thicknesses of 1 to 12 ⁇ m and 2 to 8 ⁇ m.
- the film thickness can be measured with an electronic micrometer manufactured by Anritsu Co., Ltd.
- the relative brightness is preferably 82.0% or more, more preferably 82.4% or more.
- the upper limit is not particularly limited, but 95% or less is practical.
- the relative brightness is a value calculated by the method described in Examples described later, and is a relative brightness based on the brightness of a display device provided with a control filter that does not contain dye A and dye C.
- the color reproduction range preferably has a coverage ratio of 80.0% or more with respect to the color gamut defined by DCI-P3, and is 83. It is more preferably 0.0% or more, and further preferably 85.0% or more.
- the upper limit is not particularly limited, but 99% or less is practical.
- the color reproduction range preferably has a coverage ratio of 77.0% or more with respect to the color gamut defined by NTSC. The upper limit is not particularly limited, but 99% or less is practical.
- the above color gamut is a value calculated for each display device provided with the wavelength selective absorption filter of the present invention by the method described in Examples described later.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention preferably has light resistance from the viewpoint of preventing deterioration of display performance due to external light. Specifically, the light resistance is evaluated as follows.
- a super xenon weather meter SX75 (trade name, light source: 7.5 kW water-cooled xenon lamp, irradiance: 150 W / m 2 (ultraviolet rays 300 to 400 nm)) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. is used. Then, the light is irradiated for 200 hours in an environment of 60 ° C. and a relative humidity of 50%.
- the maximum absorption value before and after this light irradiation is measured, and the light resistance is calculated by the following formula.
- [Light resistance (%)] ([Maximum absorption value after 200-hour light irradiation] / [Maximum absorption value before light irradiation]) ⁇ 100 Since the above light resistance test corresponds to an accelerated test, there is no problem as long as the light resistance is 10% or more as a practical level.
- the light resistance is preferably 50% or more, more preferably 70% or more. There is no particular limitation on the upper limit, but 98% or less is practical.
- the absorbance at the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance at a wavelength of 400 to 450 nm is preferably 0.05 or more, and 0. 10 or more is more preferable, and 0.20 or more is further preferable.
- the absorbance at the maximum absorption wavelength showing the maximum absorbance at a wavelength of 560 to 600 nm is preferably 0.10 or more, and 0. 20 or more is more preferable, and 0.30 or more is further preferable.
- the absorbance of the wavelength selective absorption filter of the present invention can be adjusted by the type, addition amount or film thickness of the dye. The absorbance can be measured and calculated by the method described in Examples.
- the water content of the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably 0.5% by mass or less under the conditions of 25 ° C. and 80% relative humidity, regardless of the film thickness, and is preferably 0.3. It is more preferably mass% or less.
- the water content of the wavelength selective absorption filter of the present invention can be measured by using a sample having a thicker film thickness, if necessary. After adjusting the humidity of the sample for 24 hours or more, the moisture content (g) was measured by the curl fisher method with a moisture measuring device, sample drying device "CA-03" and "VA-05” (both manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). ) Is divided by the sample mass (including g and water content) to calculate.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably hydrophilized by an arbitrary glow discharge treatment, corona discharge treatment, alkali saponification treatment, or the like, and the corona discharge treatment is most preferably used. It is also preferable to apply the method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-94915, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-118232, and the like.
- the obtained membrane can be subjected to a heat treatment step, a superheated steam contact step, an organic solvent contact step, or the like, if necessary. Moreover, you may carry out surface treatment as appropriate.
- a pressure-sensitive adhesive composition in which a (meth) acrylic resin, a styrene-based resin, a silicone-based resin, or the like is used as a base polymer, and a cross-linking agent such as an isocyanate compound, an epoxy compound, or an aziridine compound is added thereto. It is also possible to apply a layer consisting of. Preferably, the description of the pressure-sensitive adhesive layer in the OLED display device described later can be applied.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention can be suitably applied to an image display device such as a television, a notebook type or desktop type personal computer, a smartphone, or a tablet.
- an image display device such as a television, a notebook type or desktop type personal computer, a smartphone, or a tablet.
- the liquid crystal display device and the OLED display device will be described in detail below.
- the liquid crystal display device of the present invention includes the wavelength selective absorption filter of the present invention.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention may be used as at least one of the polarizing plate protective film and the pressure-sensitive adhesive layer as described later, and is included in the backlight unit used in the liquid crystal display device. You may be.
- the liquid crystal display device preferably includes a wavelength selective absorption filter, a polarizing plate including a polarizing element and a polarizing plate protective film, an adhesive layer, and a liquid crystal cell, and the polarizing plate is formed into the liquid crystal cell via the adhesive layer. It is preferable that they are laminated.
- the wavelength selective absorption filter may also serve as a polarizing plate protective film or an adhesive layer. That is, the liquid crystal display device includes a polarizing plate including a polarizing element and a wavelength selective absorption filter (polarizing plate protective film), an adhesive layer, and a liquid crystal cell, and a polarizing plate including a polarizing element and a polarizing plate protective film. , And a case including a wavelength selective absorption filter (adhesive layer) and a liquid crystal cell.
- FIG. 1 is a schematic view showing an example of the liquid crystal display device of the present invention.
- the liquid crystal display device 10 is arranged on both sides of a liquid crystal cell having a liquid crystal layer 5, an upper electrode substrate 3 of the liquid crystal cells arranged above and below the liquid crystal layer 5, and a lower electrode substrate 6 of the liquid crystal cell. It is composed of an upper polarizing plate 1 and a lower polarizing plate 8.
- a color filter layer may be laminated on the upper electrode substrate 3 or the lower electrode substrate 6.
- a backlight is arranged on the back surface of the liquid crystal display device 10. As the light source of the backlight, the one described in the above-mentioned backlight unit can be used.
- the upper polarizing plate 1 and the lower polarizing plate 8 each have a structure in which two polarizing plate protective films are laminated so as to sandwich a polarizing element, and in the liquid crystal display device 10, at least one polarizing plate is the present invention. It is preferable that the polarizing plate includes the wavelength selective absorption filter of. Further, in the liquid crystal display device 10, the liquid crystal cell and the polarizing plate (upper polarizing plate 1 and / or lower polarizing plate 8) may be bonded to each other via an adhesive layer (not shown). In this case, the wavelength selective absorption filter of the present invention may also serve as the above-mentioned pressure-sensitive adhesive layer.
- the liquid crystal display device 10 includes an image direct viewing type, an image projection type, and an optical modulation type.
- the present invention is effective for an active matrix liquid crystal display device using a 3-terminal or 2-terminal semiconductor element such as a TFT or MIM (Metal-Insulator-Metal). Of course, it is also effective in a passive matrix liquid crystal display device represented by an STN (Super Twisted Nematic) mode called time division drive.
- the polarizing plate of the liquid crystal display device may be a normal polarizing plate (a polarizing plate not including the wavelength selective absorption filter of the present invention). A polarizing plate including the wavelength selective absorption filter of the present invention may be used.
- the pressure-sensitive adhesive layer may be a normal pressure-sensitive adhesive layer (not the wavelength-selective absorption filter of the present invention) or a pressure-sensitive adhesive layer using the wavelength-selective absorption filter of the present invention.
- the IPS (In Plane Switching) mode liquid crystal display device described in paragraphs 0128 to 0136 of JP-A-2010-102296 is preferable as the liquid crystal display device of the present invention except that the wavelength selective absorption filter of the present invention is used. That is, as the liquid crystal display device of the present invention, the description of the IPS mode liquid crystal display device described in JP-A-2010-102296 is preferably applied except that the wavelength selective absorption filter of the present invention is included as described above. can do.
- the polarizing plate used in the present invention includes a polarizing element and at least one polarizing plate protective film.
- the polarizing plate used in the present invention preferably has a polarizing plate and a polarizing plate protective film on both sides of the polarizing element, and includes the wavelength selective absorption filter of the present invention as the polarizing plate protective film on at least one surface. Is more preferable.
- a normal polarizing plate protective film may be provided on the surface of the polarizer opposite to the surface having the wavelength selective absorption filter of the present invention (polarizing plate protective film of the present invention).
- the film thickness of the polarizing plate protective film is usually preferably 5 ⁇ m or more and 120 ⁇ m or less, and more preferably 10 ⁇ m or more and 100 ⁇ m or less.
- a thin film is preferable because it is less likely to cause display unevenness after aging at high temperature and high humidity when it is incorporated into a liquid crystal display device. On the other hand, if it is too thin, it becomes difficult to stably convey the film during film production and polarizing plate production.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention also serves as a polarizing plate protective film, it is preferable that the thickness of the wavelength selective absorption filter satisfies the above range.
- the polarizing plate used in the present invention preferably has a degree of polarization of 99.950% or more, more preferably 99.970%, and most preferably 99.990% or more.
- the degree of polarization of the polarizing plate is as follows from the orthogonal transmittance and the parallel transmittance measured at a wavelength of 380 to 700 nm using an automatic polarizing film measuring device: VAP-7070 (trade name, manufactured by Nippon Spectroscopy Co., Ltd.). Calculated by the formula.
- Polarization degree (%) [(Parallel transmittance-Orthogonal transmittance) / (Orthogonal transmittance + Parallel transmittance)] 1/2 x 100
- the degree of polarization can be measured as follows. Two samples (5 cm x 5 cm) in which a polarizing plate is attached on glass via an adhesive are prepared.
- Orthogonal transmittance and parallel transmittance are measured by setting the glass side of this sample toward the light source. Two samples are measured, and the average value is taken as the orthogonal transmittance and the parallel transmittance, respectively.
- the polarizing plate protective film to be evaluated is arranged and attached on the glass side.
- the shape of the polarizing plate used in the present invention is not only a polarizing plate in the form of a film piece cut into a size that can be incorporated into a liquid crystal display as it is, but also a long shape produced by continuous production and a roll shape. Also included is a polarizing plate of a mode wound up in (for example, a mode having a roll length of 2500 m or more or 3900 m or more). The width of the polarizing plate is preferably 1470 mm or more for use in a large-screen liquid crystal display device.
- the polarizing plate used in the present invention is composed of a polarizing element and at least one polarizing plate protective film, but it is also preferable that the polarizing plate is further formed by laminating a separate film on the surface of one surface of the polarizing plate.
- the separate film is used for the purpose of protecting the polarizing plate at the time of shipping the polarizing plate, at the time of product inspection, and the like.
- the separate film is used for the purpose of covering the adhesive layer to be bonded to the liquid crystal plate, and is used on the surface side where the polarizing plate is bonded to the liquid crystal plate.
- the polarizer used in the polarizing plate used in the present invention will be described.
- the polarizer that can be used in the polarizing plate used in the present invention is preferably composed of polyvinyl alcohol (PVA) and a dichroic molecule, but as described in JP-A-11-248937, PVA,
- a polyvinylene-based polarizer in which a polyene structure is formed by dehydrating and dechlorinating polyvinyl chloride and orienting the polyene structure can also be used.
- the film thickness of the polarizer before stretching is not particularly limited, but from the viewpoint of film retention stability and stretching homogeneity, 1 ⁇ m to 1 mm is preferable, and 5 to 200 ⁇ m is particularly preferable. Further, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-236212, a thin PVA film such that the stress generated when stretching 4 to 6 times in water is 10 N or less may be used.
- the method for producing the polarizer is not particularly limited, but for example, it is preferable to form the PVA into a film and then introduce a dichroic molecule to form the polarizer.
- the PVA film is produced by the method described in JP-A-2007-86748 [0213] to [0237], Japanese Patent No. 3342516, JP-A-09-328593, JP-A-2001-302817, and Japanese Patent Application Laid-Open No. This can be done with reference to Kai 2002-144401.
- the polarizing plate used in the present invention is produced by adhering (laminating) at least one polarizing plate protective film (preferably, the wavelength selective absorption filter of the present invention) to at least one surface of the polarizer. It is preferable to prepare the polarizing plate protective film by an alkali treatment, and the polyvinyl alcohol film is immersed and stretched in an iodine solution and bonded to both sides of a polarizer using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution.
- Examples of the adhesive used for adhering the treated surface of the polarizing plate protective film to the polarizer include polyvinyl alcohol-based adhesives such as polyvinyl alcohol and polyvinyl butyral, and vinyl-based latexs such as butyl acrylate. ..
- the polarizing plate protective film is attached to the polarizing element so that the transmission axis of the polarizer and the slow axis of the polarizing plate protective film are substantially parallel, orthogonal or 45 °. It is preferable to bond them together.
- the slow-phase axis can be measured by various known methods, for example, using a birefringence meter (KOBRADH, manufactured by Oji Measuring Instruments Co., Ltd.).
- substantially parallel means that the direction of the main refractive index nx of the polarizing plate protective film and the direction of the transmission axis of the polarizing plate intersect at an angle within ⁇ 5 °.
- the angle of intersection is within 1 °, and more preferably they intersect at an angle within ⁇ 0.5 °.
- the angle of intersection is within 1 °, the degree of polarization performance under the polarizing plate cross Nicol is less likely to deteriorate, and light leakage is less likely to occur, which is preferable.
- the angle is substantially orthogonal or 45 °, and that the direction of the main refractive index nx and the direction of the transmission axis are orthogonal or 45 ° are the directions of the main refractive index nx and the direction of the transmission axis. It means that the angle of intersection is within ⁇ 5 ° from the exact angle with respect to orthogonal and 45 °, and the error from the exact angle is preferably within ⁇ 1 °, preferably within ⁇ 0.5 °. Is more preferable.
- the polarizing plate used in the present invention is a functional layer such as an antireflection film, a brightness improving film, a hard coat layer, a forward scattering layer, an antiglare (antiglare) layer, an antifouling layer, and an antistatic layer for improving the visibility of a display. It is also preferably used as a functionalized polarizing plate combined with an optical film having.
- the antireflection film for functionalization, the brightness improving film, other functional optical films, the hard coat layer, the forward scattering layer, and the anti-glare layer are described in [0257] to [0276] of JP-A-2007-86748. Then, a functionalized polarizing plate can be produced based on these descriptions.
- the polarizing plate of the present invention may include the wavelength selective absorption filter of the present invention, and it is preferable that the wavelength selective absorption filter of the present invention is contained as a polarizing plate protective film on at least one surface of the polarizer.
- the polarizing plate of the present invention the above-mentioned description relating to the polarizing plate used in the present invention can be applied except that the polarizing plate of the present invention includes the wavelength selective absorption filter of the present invention.
- the polarizing plate is bonded to the liquid crystal cell via an adhesive layer.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention may also serve as the pressure-sensitive adhesive layer.
- a normal pressure-sensitive adhesive layer can be used as the pressure-sensitive adhesive layer.
- the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as the polarizing plate and the liquid crystal cell can be bonded to each other, but for example, acrylic type, urethane type, polyisobutylene and the like are preferable.
- the pressure-sensitive adhesive layer contains the above dye and the above binder resin, and further contains a cross-linking agent, a coupling agent, and the like to impart adhesiveness.
- the pressure-sensitive adhesive layer preferably contains 90 to 99.94% by mass, and preferably 95 to 99.7% by mass of the binder resin.
- the content of the dye is as described above.
- the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 ⁇ m, more preferably 3 to 30 ⁇ m, for example.
- the liquid crystal cell is not particularly limited, and a normal one can be used.
- the organic electroluminescence display device of the present invention (referred to as an organic EL (electroluminescence) display device or an OLED (Organic Light Emitting Diode) display device, and also abbreviated as an OLED display device in the present invention) is the wavelength selective absorption of the present invention. Includes filters.
- the OLED display device provided with the wavelength selective absorption filter of the present invention can realize high color reproducibility while suppressing a decrease in relative brightness.
- the configuration of a commonly used OLED display device can be used without particular limitation as other configurations.
- the configuration example of the OLED display device of the present invention is not particularly limited, but for example, glass, a layer containing a TFT (thin film transistor), an OLED display element, a barrier film, a color filter, and glass in order from the opposite side to external light.
- a display device including a pressure-sensitive adhesive layer, a wavelength selective absorption filter of the present invention, and a surface film.
- the gas barrier layer is provided, it is provided so as to be located at least on the outside light side of the wavelength selective absorption filter of the present invention.
- the OLED display element has a configuration in which an anode electrode, a light emitting layer, and a cathode electrode are laminated in this order.
- a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like are included between the anode electrode and the cathode electrode.
- the description of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-132522 can also be referred to.
- the color filter in addition to a normal color filter, a color filter in which quantum dots are laminated can also be used.
- a resin film can be used instead of the above glass.
- the method for forming an OLED color image applicable to the OLED display device of the present invention is not particularly limited, and is of the three-color painting method of R (red) G (green) B (blue), the color conversion method, and the color filter method. Any method can be used, and the three-color painting method can be preferably used. Therefore, as the light source of the OLED display device of the present invention, each light emitting layer corresponding to the above image forming method can be applied. For example, B (Blue, 460 nm), G (Green, 520 nm) and R (Red, 620 nm) are used as the light emitting source of the OLED display device.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably bonded to glass (base material) via an adhesive layer on a surface located on the side opposite to external light.
- the adhesive those described in the section of the liquid crystal display device can be used.
- the wavelength selective absorption filter of the present invention is preferably bonded to glass (base material) via an adhesive layer on a surface located on the side opposite to external light.
- the method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and for example, a method of applying the pressure-sensitive adhesive composition to the wavelength selective absorption filter of the present invention by a usual means such as a bar coater, drying and curing the pressure-sensitive adhesive composition; Is first applied to the surface of a peelable base material, dried, and then the pressure-sensitive adhesive layer is transferred to the wavelength selective absorption filter of the present invention using the peelable base material, and aged and cured.
- the peelable base material is not particularly limited, and any peelable base material can be used, and examples thereof include the release film in the method for producing the wavelength selective absorption filter of the present invention described above.
- the conditions of application, drying, aging and curing can be appropriately adjusted based on a conventional method.
- Example [1. Fabrication of wavelength selective absorption filter] The materials used to fabricate the wavelength selective absorption filter are shown below.
- ⁇ Matrix resin> (Resin 1) Polystyrene resin (PSJ-polystyrene GPPS SGP-10 (trade name), Tg 100 ° C, fd 0.56) manufactured by PS Japan Corporation was heated at 110 ° C and allowed to cool to room temperature (23 ° C). , Used as resin 1.
- Resin 2 Polyphenylene ether resin (manufactured by Asahi Kasei Corporation, Zylon S201A (trade name), poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide), Tg 210 ° C.) (Extensible resin component 1) Asaflex 810 (trade name, manufactured by Asahi Kasei Corporation, styrene-butadiene resin) (Removability control resin component 1) Byron 550 (trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd., polyester-based additive)
- Anti-fading agent 1 Exemplified compound IV-8 in the above anti-fading agent
- Leveling agent 1 A polymer surfactant composed of the following constituents was used as the leveling agent 1.
- the ratio of each component is a molar ratio
- t-Bu means a tert-butyl group.
- Base material 1 Polyethylene terephthalate film Lumirror XD-510P (trade name, film thickness 50 ⁇ m, manufactured by Toray Industries, Inc.) was used as the base material 1.
- Wavelength Selective Absorption Filter Forming Solution Each component is mixed with the composition shown below, and the wavelength selective absorption filter forming solution (composition) No. 101 was prepared.
- ⁇ Wavelength selective absorption filter forming liquid No. Composition of 101 Resin 1 44.9 parts by mass Resin 2 17.5 parts by mass Toluene solution of extensible resin component 1 667.7 parts by mass (The amount of extensible resin component 1 is 20.0 parts by mass)
- Removability control resin component 1 0.2 parts by mass Leveling agent 1 0.1 parts by mass Dye A: Exemplified compound E-24 3.9 parts by mass Dye C: Exemplified compound C-73 0.6 parts by mass Anti-fading agent 1 12 .4 parts by mass toluene (solvent) 1063.3 parts by mass cyclohexanone (solvent) 190.0 parts by mass ⁇ ⁇
- the obtained wavelength selective absorption filter forming liquid No. 101 is filtered using a filter paper with an absolute filtration accuracy of 10 ⁇ m (# 63, manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd.), and a metal sintered filter with an absolute filtration accuracy of 2.5 ⁇ m (trade name: pole filter PMF, media code: FH025, It was filtered using (manufactured by Paul).
- the wavelength selective absorption filter No. 102-104 and 201-204 were made.
- No. 101 to 104 are the wavelength selective absorption filters of the present invention
- No. 202 to 204 are wavelength selective absorption filters for comparison.
- No. Reference numeral 201 denotes a dye-free control filter.
- the blending amount of the dye C was adjusted so that the relative brightness described later was 82.0 to 83.0%. Further, for those containing dye A, the blending amount of dye A was adjusted so that the NTSC coverage rate described later was 77.0% or more. This made it possible to discuss the difference in color gamut coverage. As will be described later, No. In the wavelength selective absorption filter of 204, the color gamut coverage could not be adjusted to a desired level by adjusting the blending amount of the dye A.
- ⁇ Maximum absorption value of wavelength selective absorption filter> Using a UV3150 spectrophotometer (trade name) manufactured by Shimadzu Corporation, the absorbance of the wavelength selective absorption filter with a base material in the wavelength range of 380 nm to 800 nm was measured every 1 nm. Using the absorbance Ab x ( ⁇ ) at each wavelength ⁇ nm of the wavelength selective absorption filter with a substrate and the absorbance Ab 0 ( ⁇ ) of the control filter containing no dye (that is, the wavelength selective absorption filter of No. 201). Then, the absorbance Ab ( ⁇ ) of the wavelength selective absorption filter was calculated from the following formula.
- Ab ( ⁇ ) Ab x ( ⁇ ) -Ab 0 ( ⁇ )
- the maximum absorption wavelength hereinafter, simply “ ⁇ max”.
- the absorbance at ⁇ max was defined as the maximum absorption value (hereinafter, also simply referred to as“ Ab ( ⁇ max ) ”).
- ⁇ 2> Preparation of Polarizer (Polarizing Layer) According to Example 1 of JP-A-2001-141926, a peripheral speed difference is given between the two pairs of nip rolls, the resin is stretched in the longitudinal direction, and a polyvinyl alcohol resin having a thickness of 12 ⁇ m is contained. A polarizing layer was prepared. Specifically, a long polyvinyl alcohol film having a thickness of 75 ⁇ m (manufactured by Kuraray Co., Ltd., trade name: 9X75RS) is continuously conveyed by a guide roll and immersed in a water bath at 30 ° C. to swell 1.5 times.
- the film is immersed in a dyeing bath (30 ° C.) containing iodine and potassium iodide for dyeing treatment, and then stretched to obtain a stretching ratio of 3 times.
- a polarizing layer was prepared by cross-linking treatment in an acidic bath (60 ° C.) to which acid and potassium iodide were added and stretching treatment to obtain a stretching ratio of 6.5 times, and drying at 50 ° C. for 5 minutes.
- the obtained polymerization solution in which the cyclization condensation reaction was allowed to proceed was subjected to venting at a barrel temperature of 260 ° C., a rotation speed of 100 rpm, a reduced pressure of 13 to 400 hPa (10 to 300 mmHg), one rear vent and four fore vents.
- the (meth) acrylic resin A has a lactone ring structure.
- the mass average molecular weight of this resin was 110,000, and the glass transition temperature was 125 ° C.
- the front-side polarizing plate protective film means a protective film of a polarizing plate located on the viewer side when incorporated into a liquid crystal display device among the polarizing plates provided on both sides of the liquid crystal panel, and is outerly polarized.
- the plate protective film means a polarizing plate protective film located on the side far from the liquid crystal panel when incorporated into a liquid crystal display device among the polarizing plate protective films provided on both sides of the polarizer.
- the polarizing plate in which the surface-treated wavelength selective absorption filter with a substrate, the polarizing layer, and the outer polarizing plate protective film are bonded in this order is prepared as follows. bottom.
- the wavelength selective absorption filter functions as an inner polarizing plate protective film in the polarizing plate.
- the polarizing layer and the wavelength selective absorption filter with a surface-treated substrate are subjected to polyvinyl alcohol (Kurare Co., Ltd.) so that the corona-treated surface of the wavelength selective absorption filter (inner polarizing plate protective film) is on the polarizing layer side.
- Laminated body A was obtained.
- the longitudinal direction of the surface-treated wavelength selective absorption filter with a base material means the long direction of the base material 1.
- the outer polarizing plate protective film was coated with an adhesive M having the following composition using a microgravia coater so as to have a thickness of 5 ⁇ m to prepare a front side polarizing plate protective film with an adhesive.
- the adhesive-attached front-side polarizing plate protective film and the laminate A are attached to the surface of the adhesive-attached front-side polarizing plate protective film on the side with the adhesive and the surface of the polarizing layer of the laminate A.
- the line speed was 20 m / min, and the integrated light intensity of ultraviolet rays was 300 mJ / cm 2 .
- the transmission axis of the polarizer (polarizing layer) and the transport direction of the outer polarizing plate protective film are arranged so as to be orthogonal to each other.
- Adhesive M- 2-Hydroxyethyl acrylate 100 parts by mass Tolylene diisocyanate 10 parts by mass Photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 907, manufactured by BASF) 3 parts by mass
- the substrate 1 polyethylene terephthalate film
- the substrate 1 which is the substrate film of the wavelength selective absorption filter with a substrate
- a commercially available acrylate-based pressure-sensitive adhesive was applied onto the exposed wavelength-selective absorption filter to prepare a polarizing plate.
- This polarizing plate has a structure in which an acrylate-based pressure-sensitive adhesive layer / wavelength selective absorption filter / polyvinyl alcohol layer / polarizing layer / adhesive M / outer polarizing plate protective film are laminated in this order.
- the manufactured liquid crystal display device displays full screen for each of white, red, green, and blue, and the brightness of the white display and the chromaticity of each of red, green, and blue are measured with a spectroradiometer (Topcon Techno House Co., Ltd.). Manufactured by, trade name: SR-UL2) was used for measurement.
- the triangle formed by connecting the measured red, green, and blue chromaticity points on the xy chromaticity diagram in the xyY color system of CIE (International Commission on Illumination) 1931 is the three primary colors of NTSC standard or DCI-P3 standard.
- the coverage rate for the NTSC standard (hereinafter, abbreviated as "NTSC coverage rate") is 77.0% or more, which is a passing level, and the coverage rate for the DCI-P3 standard (hereinafter, "DCI-P3 coverage rate"). 80.0% or more is the pass level.
- NTSC coverage rate the coverage rate for the NTSC standard
- DCI-P3 coverage rate the coverage rate for the DCI-P3 standard
- the brightness of the white display measured when the wavelength selective absorption filter is used is measured when a dye-free control filter (that is, the wavelength selective absorption filter of No. 201) is used.
- the relative brightness with respect to the brightness of the white display was calculated.
- the relative brightness of 82.0% or more is a passing level, and 82.4% or more is more preferable.
- a wavelength selective absorption filter with a base material is used with a super xenon weather meter SX75 (trade name, light source: 7.5 kW water-cooled xenon lamp, irradiance: 150 W / m 2 (ultraviolet rays 300 to 400 nm)) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. Then, the light was irradiated for 200 hours in an environment of 60 ° C. and a relative humidity of 50%. The maximum absorption value before and after this light irradiation was measured, and the light resistance was calculated by the following formula.
- [Light resistance (%)] ([Maximum absorption value after 200-hour light irradiation] / [Maximum absorption value before light irradiation]) ⁇ 100 Since the above light resistance test corresponds to an accelerated test, there is no problem as long as the light resistance is 10% or more as a practical level. In the present invention, it is preferable to satisfy 70% or more.
- the content of the dye means the content ratio of the dye in the wavelength selective absorption filter based on the mass.
- the "-" notation in the dye column indicates that it does not contain a dye.
- the ⁇ max in the dye A and the dye C is the wavelength derived from the dye A or the dye C among the maximum absorption wavelengths that the wavelength selective absorption filter has in the wavelength region of 380 to 800 nm, and has the highest absorbance Ab ( ⁇ ). Each means a wavelength indicating, and the unit is nm.
- Ab ( ⁇ max ) means the value of absorbance at the maximum absorption wavelength ⁇ max.
- the notation of "-" in the light resistance evaluation column indicates that the corresponding dye is not contained.
- “NTSC” means NTSC coverage and "DCI-P3" means DCI-P3 coverage.
- Wavelength selective absorption filter No. of Comparative Example. 202 and 203 do not contain the dye A specified in the present invention. Wavelength selective absorption filter No. of these comparative examples.
- the NTSC coverage rate was as low as less than 77.0%, and the color reproducibility was insufficient.
- the color reproducibility can be improved with respect to the wavelength selective absorption filter containing no dye of 201, when the dye A specified in the present invention is not contained, excellent color reproduction can be achieved even if the content of the dye C is adjusted. It was not possible to achieve both sex and high brightness.
- the wavelength selective absorption filter No. of the comparative example. 204 does not contain the dye C specified in the present invention.
- the wavelength selective absorption filter No. of this comparative example. 204 has an NTSC coverage of 72.4% and cannot be adjusted to be 77.0% or more, and has a DCI-P3 coverage of 77.0%, which is less than 80.0%, and is a color.
- the reproduction range was narrow. This is because the blue absorption derived from the dye A exists on the long wavelength side with respect to the blue chromaticity points of NTSC and DCI-P3. Therefore, when the dye C specified in the present invention is not contained, the content of the dye A is contained.
- the wavelength selective absorption filter No. 1 of the present invention In 101 to 104, the NTSC coverage rate is 77.0% or more, the DCI-P3 coverage rate is 85.0%, the color reproduction range is widened, and the relative brightness is as high as 82.0% or more. It was found that both excellent color reproducibility and high brightness can be achieved. In addition, No. 1 containing a dye represented by the general formula (A1) as the dye A. It was found that 101 to 103 are also excellent in light resistance.
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Abstract
樹脂と、異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記の染料Aおよび染料Cとを含有する波長選択吸収フィルタ、これを含む偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置又は液晶表示装置。ただし、上記の染料Aおよび染料Cは蛍光性を有しない。 染料A:波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料 染料C:波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料
Description
本発明は、波長選択吸収フィルタ、偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置に関する。
液晶表示装置、又は、有機エレクトロルミネッセンス(OLED)表示装置等の画像表示装置は、省スペースで消費電力の小さな画像表示装置としてその用途が広がっている。なかでも、テレビ等の高品位の画像が要求される用途では、高解像度に加え、高い色再現性、優れたコントラスト等を実現することが求められる。
液晶表示装置は、画像を表示する液晶パネル自体は発光をしない非発光型素子であるため、液晶パネルの背面に配置され、液晶パネルに光を供給するバックライトユニットを備えている。
近年、バックライトユニット用の光源として白色発光ダイオード(LED)が用いられるようになってきた。白色LEDを用いた発光装置としては、青色LEDから放射される青色光と、黄色蛍光体から放射される光、又は、緑色蛍光体及び赤色蛍光体から放射される光とを混色させて白色光を作り出す方式が知られている。しかし、上記方式は次世代ディスプレイとして脚光を浴びている有機発光ダイオード(OLED)等と比較して色再現域が狭く、色再現性が低いという問題があり、これを克服するための新しい技術が求められている。
これに対して、特許文献1には、液晶表示装置を構成するバックライトユニット及び液晶パネルの少なくとも一方のコーティング層又は粘着層に、RGB以外の主吸収波長帯域を有する吸収染料と、RGB以外の主吸収波長帯域及びRGBに該当する主発光波長帯域を有する蛍光染料とを同一層内又は互いに異なる層内に含むことにより、白色LEDから発せられるRGB波長(Rは赤、Gは緑、Bは青を示す。)以外の不要な波長の光を遮断し、色純度を向上させ、輝度の低下を抑制する技術が提案されている。
また、特許文献2~4には、RGBの三色の発光に悪影響を及ぼさずに三色の色バランスを補正する色調整フィルターとして、特定の置換基を有するスクアリリウム系色素を用いた色調整フィルターが提案されている。
近年、バックライトユニット用の光源として白色発光ダイオード(LED)が用いられるようになってきた。白色LEDを用いた発光装置としては、青色LEDから放射される青色光と、黄色蛍光体から放射される光、又は、緑色蛍光体及び赤色蛍光体から放射される光とを混色させて白色光を作り出す方式が知られている。しかし、上記方式は次世代ディスプレイとして脚光を浴びている有機発光ダイオード(OLED)等と比較して色再現域が狭く、色再現性が低いという問題があり、これを克服するための新しい技術が求められている。
これに対して、特許文献1には、液晶表示装置を構成するバックライトユニット及び液晶パネルの少なくとも一方のコーティング層又は粘着層に、RGB以外の主吸収波長帯域を有する吸収染料と、RGB以外の主吸収波長帯域及びRGBに該当する主発光波長帯域を有する蛍光染料とを同一層内又は互いに異なる層内に含むことにより、白色LEDから発せられるRGB波長(Rは赤、Gは緑、Bは青を示す。)以外の不要な波長の光を遮断し、色純度を向上させ、輝度の低下を抑制する技術が提案されている。
また、特許文献2~4には、RGBの三色の発光に悪影響を及ぼさずに三色の色バランスを補正する色調整フィルターとして、特定の置換基を有するスクアリリウム系色素を用いた色調整フィルターが提案されている。
一方、有機EL表示装置のカラー画像の形成方法として、R(赤)G(緑)B(青)の三色塗り分け方式、色変換方式、及びカラーフィルター方式が知られているが、TV用途ではカラーフィルター方式を用いた方式が汎用されている。カラーフィルター方式は、白色発光層を用いて、この発光層からの白色光をカラーフィルターに通すことにより、RGBの三原色を得るものであり、例えば、複数種類の蛍光材料をドープした層を白色発光層として用いることができる。このような白色発光層は、白色有機EL光源と呼ばれる。
白色有機EL光源からの白色光には、カラー画像形成に不要な波長の光(例えば590nm付近のオレンジ色を示す光)が含まれており、有機EL表示装置の色再現性を低下させる原因となる。
例えば、特許文献5には、高いブルーライトカット機能を有しながら、表示装置に用いた場合に良好な表示特性を付与し得る光学フィルムとして、波長420nm及び450nmにおける光学フィルムの吸光度が特定の関係式を満たす、特定構造のジメチン骨格を有する化合物の少なくとも1種を含む色補正フィルタの発明が記載されている。
白色有機EL光源からの白色光には、カラー画像形成に不要な波長の光(例えば590nm付近のオレンジ色を示す光)が含まれており、有機EL表示装置の色再現性を低下させる原因となる。
例えば、特許文献5には、高いブルーライトカット機能を有しながら、表示装置に用いた場合に良好な表示特性を付与し得る光学フィルムとして、波長420nm及び450nmにおける光学フィルムの吸光度が特定の関係式を満たす、特定構造のジメチン骨格を有する化合物の少なくとも1種を含む色補正フィルタの発明が記載されている。
表示装置用途で重視される色域規格としてNTSC規格及びDCI-P3が挙げられる。NTSC(National Television System Committee)規格はアメリカの国家テレビ標準化委員会が作成し、アナログテレビ、CRT(Cathode Ray Tube)、モニターの時代から使用されてきた規格である。一方、DCI-P3は米国の映画製作会社の業界団体Digital Cinema Initiativesで提唱したデジタルシネマのための色域規格(色空間)である。
DCI-P3規格はNTSC規格に対して赤の色域が広いのに対し、NTSC規格はDCI-P3規格に対しては緑の色域が広いといった特長がある。また、青の色域についても両者がカバーする範囲は異なっており、映像又は表示画像等の用途によって両者が使い分けられている。優れた色再現性を実現することができる波長選択吸収フィルタとして、これらNTSC規格およびDCI-P3規格の双方において高いカバー率を実現できる波長選択吸収フィルタの開発が、1つの波長選択吸収フィルタにより様々な表示装置用途への適用が可能となるため、求められている。
DCI-P3規格はNTSC規格に対して赤の色域が広いのに対し、NTSC規格はDCI-P3規格に対しては緑の色域が広いといった特長がある。また、青の色域についても両者がカバーする範囲は異なっており、映像又は表示画像等の用途によって両者が使い分けられている。優れた色再現性を実現することができる波長選択吸収フィルタとして、これらNTSC規格およびDCI-P3規格の双方において高いカバー率を実現できる波長選択吸収フィルタの開発が、1つの波長選択吸収フィルタにより様々な表示装置用途への適用が可能となるため、求められている。
しかし、本発明者らが検討したところ、上記特許文献1~5に記載の手法では、表示装置用途で重視される、NTSC規格及びDCI-P3規格の両規格の色域における色再現性と輝度低下の抑制との両立が十分とは言えないことがわかってきた。
上記特許文献1に記載の技術では、染料が発する蛍光の指向性がバックライトユニットから発せられる表示光の指向性と異なるため、視認する方向によって色味が変化し、優れた色再現性を実現することが困難であること、および、染料を含む層が液晶表示装置中の2枚の偏光板に挟まれる位置に配置された場合コントラストの低下を引きおこす問題のあることが分かってきた。また、上記特許文献2~4に記載の色素は不要な波長域だけでなく、必要な波長域の光も比較的多く吸収してしまうため、この色素を含む層により不要な波長の光を遮断しようとした場合、輝度の低下幅が大きくなってしまい、相対輝度の低下を抑制しつつ十分な色再現性を実現するには至っていない。また、特許文献5に記載の色素を用いた場合には、輝度の低下をある程度防ぐことができるものの、十分な色再現性を実現するには至っていない。
上記特許文献1に記載の技術では、染料が発する蛍光の指向性がバックライトユニットから発せられる表示光の指向性と異なるため、視認する方向によって色味が変化し、優れた色再現性を実現することが困難であること、および、染料を含む層が液晶表示装置中の2枚の偏光板に挟まれる位置に配置された場合コントラストの低下を引きおこす問題のあることが分かってきた。また、上記特許文献2~4に記載の色素は不要な波長域だけでなく、必要な波長域の光も比較的多く吸収してしまうため、この色素を含む層により不要な波長の光を遮断しようとした場合、輝度の低下幅が大きくなってしまい、相対輝度の低下を抑制しつつ十分な色再現性を実現するには至っていない。また、特許文献5に記載の色素を用いた場合には、輝度の低下をある程度防ぐことができるものの、十分な色再現性を実現するには至っていない。
本発明は、画像表示装置の前面に用いた場合に、相対輝度の低下を抑制しつつ、優れた色再現性を実現することができる波長選択吸収フィルタを提供することを課題とする。
また本発明は、この波長選択吸収フィルタを含む偏光板、液晶表示装置又は有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。
また本発明は、この波長選択吸収フィルタを含む偏光板、液晶表示装置又は有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。
本発明者らは上記課題に鑑み鋭意検討した結果、波長560~600nmの光を遮断しつつ、さらに波長400~450nmの光を遮断することによって青色光の色度を調節することにより、NTSC規格及びDCI-P3規格の色域カバー率を効率よく向上させることができ、光を遮断することによる輝度低下の抑制と優れた色再現性とを両立できることを見出した。本発明はこれらの知見に基づきさらに検討を重ね、完成されるに至ったものである。
すなわち、上記の課題は以下の手段により解決された。
<1>
樹脂と、異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記の染料Aおよび染料Cとを含有する波長選択吸収フィルタ。ただし、上記の染料Aおよび染料Cは蛍光性を有しない。
染料A:波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料
染料C:波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料
<2>
上記染料Aが下記一般式(A1)で表される色素である、<1>に記載の波長選択吸収フィルタ。
上記式中、R1及びR2は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を示し、R3~R6は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、R5とR6は互いに結合して6員環を形成していてもよい。
<3>
<1>又は<2>に記載の波長選択吸収フィルタを含む偏光板。
<4>
<1>又は<2>に記載の波長選択吸収フィルタを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置又は液晶表示装置。
<1>
樹脂と、異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記の染料Aおよび染料Cとを含有する波長選択吸収フィルタ。ただし、上記の染料Aおよび染料Cは蛍光性を有しない。
染料A:波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料
染料C:波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料
<2>
上記染料Aが下記一般式(A1)で表される色素である、<1>に記載の波長選択吸収フィルタ。
<3>
<1>又は<2>に記載の波長選択吸収フィルタを含む偏光板。
<4>
<1>又は<2>に記載の波長選択吸収フィルタを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置又は液晶表示装置。
本発明において、特定の符号又は式で表示された置換基若しくは連結基等(以下、置換基等という)が複数あるとき、又は、複数の置換基等を同時に規定するときには、特段の断りがない限り、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。このことは、置換基等の数の規定についても同様である。また、複数の置換基等が近接するとき(特に、隣接するとき)には、特段の断りがない限り、それらが互いに連結して環を形成していてもよい。また、特段の断りがない限り、環、例えば脂環、芳香族環、ヘテロ環は、更に縮環して縮合環を形成していてもよい。
本発明において、ある基の炭素数を規定する場合、この炭素数は、本発明ないし本明細書において特段の断りのない限りは、基全体の炭素数を意味する。つまり、この基がさらに置換基を有する形態である場合、この置換基を含めた全体の炭素数を意味する。
本発明において、特段の断りがない限り、波長選択吸収フィルタを構成する成分(染料、樹脂、及びその他の適宜含有していてもよい成分等)は、それぞれ、波長選択吸収フィルタ中に1種含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。
本発明において、特段の断りがない限り、二重結合については、分子内にE型及びZ型が存在する場合、そのいずれであっても、またこれらの混合物であってもよい。
本発明において、化合物(錯体を含む。)の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。更に、置換又は無置換を明記していない化合物については、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の置換基を有していてもよい意味である。このことは、置換基及び連結基についても同様である。
また、本発明において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本発明において、組成物とは、成分濃度が一定である(各成分が均一に分散している)混合物に加えて、目的とする機能を損なわない範囲で成分濃度が変動している混合物を包含する。
本発明において、波長XX~YYnmに主吸収波長帯域を有するとは、極大吸収を示す波長(すなわち、極大吸収波長)が波長領域XX~YYnmに存在することを意味する。したがって、この極大吸収波長が上記波長領域内にあれば、この波長を含む吸収帯域全体が上記波長領域内にあってもよく、上記波長領域外まで広がっていてもよい。また、極大吸収波長が複数存在する場合、本発明の効果を奏する限り、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長が上記波長領域に存在していればよい。すなわち、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長以外の極大吸収波長は、本発明の効果を奏する範囲内で、上記波長領域XX~YYnmの内外のいずれに存在していてもよい。
本発明において、ある基の炭素数を規定する場合、この炭素数は、本発明ないし本明細書において特段の断りのない限りは、基全体の炭素数を意味する。つまり、この基がさらに置換基を有する形態である場合、この置換基を含めた全体の炭素数を意味する。
本発明において、特段の断りがない限り、波長選択吸収フィルタを構成する成分(染料、樹脂、及びその他の適宜含有していてもよい成分等)は、それぞれ、波長選択吸収フィルタ中に1種含有されていてもよく、2種以上含有されていてもよい。
本発明において、特段の断りがない限り、二重結合については、分子内にE型及びZ型が存在する場合、そのいずれであっても、またこれらの混合物であってもよい。
本発明において、化合物(錯体を含む。)の表示については、化合物そのもののほか、その塩、そのイオンを含む意味に用いる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、構造の一部を変化させたものを含む意味である。更に、置換又は無置換を明記していない化合物については、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の置換基を有していてもよい意味である。このことは、置換基及び連結基についても同様である。
また、本発明において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本発明において、組成物とは、成分濃度が一定である(各成分が均一に分散している)混合物に加えて、目的とする機能を損なわない範囲で成分濃度が変動している混合物を包含する。
本発明において、波長XX~YYnmに主吸収波長帯域を有するとは、極大吸収を示す波長(すなわち、極大吸収波長)が波長領域XX~YYnmに存在することを意味する。したがって、この極大吸収波長が上記波長領域内にあれば、この波長を含む吸収帯域全体が上記波長領域内にあってもよく、上記波長領域外まで広がっていてもよい。また、極大吸収波長が複数存在する場合、本発明の効果を奏する限り、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長が上記波長領域に存在していればよい。すなわち、最も大きい吸光度を示す極大吸収波長以外の極大吸収波長は、本発明の効果を奏する範囲内で、上記波長領域XX~YYnmの内外のいずれに存在していてもよい。
本発明の波長選択吸収フィルタ及び偏光板は、画像表示装置の前面に用いた場合に、相対輝度の低下を抑制しつつ、優れた色再現性を示すことができる。
また、本発明の波長選択吸収フィルタを備えた本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置は、相対輝度の低下は抑制されつつ、優れた色再現性を示すことができる。
また、本発明の波長選択吸収フィルタを備えた本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置は、相対輝度の低下は抑制されつつ、優れた色再現性を示すことができる。
[波長選択吸収フィルタ]
本発明の波長選択吸収フィルタは、樹脂と、異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記の染料Aおよび染料Cとを含有する。ただし、これらの染料Aおよび染料Cは蛍光性を有しない。
染料A:波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料
染料C:波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料
本発明の波長選択吸収フィルタは、樹脂と、異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記の染料Aおよび染料Cとを含有する。ただし、これらの染料Aおよび染料Cは蛍光性を有しない。
染料A:波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料
染料C:波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料
本発明において、染料が有する主吸収波長帯域とは、波長選択吸収フィルタの状態で測定される染料の主吸収波長帯域である。具体的には、後述する実施例において、波長選択吸収フィルタの吸収極大値の項に記載の条件により、基材つき波長選択吸収フィルタの状態で測定、算出される。
本発明の波長選択吸収フィルタの形態は、波長選択吸収フィルタ中の染料が吸収スペクトルを示し、本発明の効果を奏することができればよい。本発明の波長選択吸収フィルタの一形態としては、上記「染料」は、上記樹脂中に分散(好ましくは溶解)することにより、波長選択吸収フィルタを染料に由来する特定の吸収スペクトルを示すフィルタとするものである。この分散は、ランダム、規則的等いずれであってもよい。
本発明において、染料が蛍光性を有しないとは、蛍光を示さないことを意味する。
本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有され得る上記の染料A及び染料Cは、各々独立に、1種でもよく、2種以上であってもよい。
本発明の波長選択吸収フィルタは、本発明の効果を奏する範囲内で、上記の染料A及び染料C以外の染料を含有することもできる。
本発明の波長選択吸収フィルタ中に含有され得る上記の染料A及び染料Cは、各々独立に、1種でもよく、2種以上であってもよい。
本発明の波長選択吸収フィルタは、本発明の効果を奏する範囲内で、上記の染料A及び染料C以外の染料を含有することもできる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記染料A及び染料Cを含有することにより、画像表示装置の前面に用いた場合に、相対輝度の低下を抑制しつつ、優れた色再現性を示すことができる。この理由は推定ではあるが、以下のように考えられる。
波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料Cを含有する波長選択吸収フィルタでは、染料を含有しない場合に対して色再現域を拡大できるものの、青色に近い表示光については、NTSC規格の外の領域に広がっているため、染料Cのみを含有させ、その含有量を調整することによって実用上重要な色域を再現することは依然不十分であった。これに対して、本発明の波長選択吸収フィルタは、上記染料Cと、波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料Aとを併せて含有することによって、CIE(国際照明委員会)1931のxyY表色系におけるxy色度図上で結んで作られる三角形の面積をあまり変化させることなく、青色の表示光の色度を長波長側に調節することができ、その結果、染料を含有することによる輝度の低下を抑制しつつ、実用上重要な領域における色再現性を向上させることができると考えられる。
波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料Cを含有する波長選択吸収フィルタでは、染料を含有しない場合に対して色再現域を拡大できるものの、青色に近い表示光については、NTSC規格の外の領域に広がっているため、染料Cのみを含有させ、その含有量を調整することによって実用上重要な色域を再現することは依然不十分であった。これに対して、本発明の波長選択吸収フィルタは、上記染料Cと、波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料Aとを併せて含有することによって、CIE(国際照明委員会)1931のxyY表色系におけるxy色度図上で結んで作られる三角形の面積をあまり変化させることなく、青色の表示光の色度を長波長側に調節することができ、その結果、染料を含有することによる輝度の低下を抑制しつつ、実用上重要な領域における色再現性を向上させることができると考えられる。
<染料>
(染料A)
染料Aは、波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有し、蛍光性を有しない染料である限り、特に制限されず、各種染料を用いることができる。
(染料A)
染料Aは、波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有し、蛍光性を有しない染料である限り、特に制限されず、各種染料を用いることができる。
上記染料Aとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点から、下記一般式(A1)で表される色素が好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタは、染料Aとして一般式(A1)で表される色素を使用することにより、相対輝度の低下抑制と色再現性向上の両立に加え、優れた耐光性を示すことができる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、染料Aとして一般式(A1)で表される色素を使用することにより、相対輝度の低下抑制と色再現性向上の両立に加え、優れた耐光性を示すことができる。
一般式(A1)中、R1及びR2は、各々独立に、アルキル基又はアリール基を示し、R3~R6は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、R5とR6は互いに結合して6員環を形成していてもよい。
R1及びR2として採りうるアルキル基としては、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。
上記無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記無置換のアルキル基の炭素数は、1~12が好ましく、1~6がより好ましい。
上記置換アルキル基が採りうる置換基としては、例えば、下記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。
(置換基群A)
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基(塩の形でもよい)、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(-NH2の他、-NRa 2で表される置換アミノ基を含む。Raは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。ただし、少なくとも1つのRaは、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基である。)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基(塩の形でもよい)、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基及びシリル基、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基
(置換基群A)
ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基(塩の形でもよい)、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(-NH2の他、-NRa 2で表される置換アミノ基を含む。Raは、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を示す。ただし、少なくとも1つのRaは、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基である。)、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルキルカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、スルホンアミド基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基(塩の形でもよい)、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基及びシリル基、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基
上記置換基群Aの中でも、置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基、アシル基及びヒドロキシ基が挙げられる。
上記置換アルキル基の総炭素数は、1~12が好ましい。例えば、ベンジル基、ヒドロキシベンジル基及びメトキシエチル基等が挙げられる。
置換アルキル基の総炭素数とは、置換アルキル基が有し得る置換基を含めた、置換アルキル基全体の炭素数を意味する。以下、その他の基においても同様の意味で使用する。
置換アルキル基の総炭素数とは、置換アルキル基が有し得る置換基を含めた、置換アルキル基全体の炭素数を意味する。以下、その他の基においても同様の意味で使用する。
なお、R1及びR2がいずれもアルキル基を表す場合、アルキル基は同一でも異なっていてもよい。
R1及びR2として採りうるアリール基は、無置換のアリール基及び置換基を有する置換アリール基のいずれでもよい。
上記無置換のアリール基としては、炭素数6~12のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。
上記置換アリール基が採りうる置換基としては、例えば、上記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。
上記置換基群Aの中でも、置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基(好ましくは、-NRa 2で表される置換アミノ基。Raは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を示す。ただし、少なくとも1つのRaは、アルキル基である。炭素数は1~4が好ましい。)、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル)、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1~4のアルコキシ基;例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル)及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基が挙げられる。
上記置換基群Aの中でも、置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基(好ましくは、-NRa 2で表される置換アミノ基。Raは、各々独立に、水素原子又はアルキル基を示す。ただし、少なくとも1つのRaは、アルキル基である。炭素数は1~4が好ましい。)、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル)、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1~4のアルコキシ基;例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル)及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基が挙げられる。
上記置換アリール基としては、総炭素数6~18のアリール基が好ましい。
例えば、4-クロロフェニル基、2,5-ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、4-カルボキシフェニル基、3,5-ジカルボキシフェニル基、4-メタンスルホンアミドフェニル基、4-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル基、N,N-ジメチルアミノフェニル基、4-(N-カルボキシメチル-N-エチルアミノ)フェニル基、4-エトキシカルボニルフェニル基及び4-メタンスルホニルオキシフェニル基が挙げられる。
例えば、4-クロロフェニル基、2,5-ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、4-カルボキシフェニル基、3,5-ジカルボキシフェニル基、4-メタンスルホンアミドフェニル基、4-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル基、N,N-ジメチルアミノフェニル基、4-(N-カルボキシメチル-N-エチルアミノ)フェニル基、4-エトキシカルボニルフェニル基及び4-メタンスルホニルオキシフェニル基が挙げられる。
なお、R1及びR2がいずれもアリール基を表す場合、アリール基は同一でも異なっていてもよい。
R3、R4、R5及びR6として採りうる置換基としては、例えば、上記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。
上記置換基群Aの中でも、R3、R5及びR6は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、R3、R5及びR6としては、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。
また、上記置換基群Aの中では、R4は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、R4としては、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。
上記置換基群Aの中でも、R3、R5及びR6は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、R3、R5及びR6としては、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。
また、上記置換基群Aの中では、R4は、アルキル基又はアリール基が好ましい。すなわち、R4としては、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましい。
R3、R5及びR6として採りうるアルキル基としては、無置換のアルキル基及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。
上記R3、R5及びR6として採りうる無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基及びイソプロピル基等が挙げられる。上記R3、R5及びR6として採りうる無置換のアルキル基の炭素数は、1~8が好ましく、1~4がより好ましい。
上記R3、R5及びR6における置換アルキル基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。
上記R3、R5及びR6における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基(好ましくはフェニル基)、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシ基及びヒドロキシ基が挙げられる。
上記R3、R5及びR6として採りうる置換アルキル基の総炭素数は1~8が好ましい。例えば、ベンジル基、カルボキシメチル基及びヒドロキシメチル基が挙げられる。
上記R3、R5及びR6における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基(好ましくはフェニル基)、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシ基及びヒドロキシ基が挙げられる。
上記R3、R5及びR6として採りうる置換アルキル基の総炭素数は1~8が好ましい。例えば、ベンジル基、カルボキシメチル基及びヒドロキシメチル基が挙げられる。
なお、R3、R5及びR6がいずれもアルキル基を表す場合、アルキル基は同一でも異なっていてもよい。
上記R3、R5及びR6として採りうるアリール基としては、無置換のアリール基及び置換された置換アリール基のいずれでもよい。
上記R3、R5及びR6として採りうる無置換のアリール基としては、炭素数6~10のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。
上記R3、R5及びR6における置換アリール基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。
上記R3、R5及びR6における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、並びに、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル)が挙げられる。
上記R3、R5及びR6における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、並びに、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル)が挙げられる。
上記R3、R5及びR6として採りうる置換アリール基としては、総炭素数6~10のアリール基が好ましい。例えば、2-フルオロフェニル基、4-クロロフェニル基、2,5-ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、カルボキシフェニル基、3,5-ジカルボキシフェニル基及び4-メチルフェニル基が挙げられる。
R5及びR6がいずれも置換基である場合、耐光性及び耐熱性の観点から、R3は、水素原子であることが好ましい。
なお、R3、R5及びR6がいずれもアリール基である場合、アリール基は同一でも異なっていてもよい。
なお、R3、R5及びR6がいずれもアリール基である場合、アリール基は同一でも異なっていてもよい。
R4として採りうるアルキル基は、無置換のアルキル及び置換基を有する置換アルキル基のいずれでもよく、直鎖状及び分岐状のいずれでもよく、環状構造を有していてもよい。
上記R4として採りうる無置換のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。上記R4として採りうる無置換のアルキル基の炭素数は、1~8が好ましく、1~4がより好ましい。
上記R4における置換アルキル基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。
上記R4における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基(好ましくはフェニル基)、ヘテロ環基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル)、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1~4のアルコキシ基;例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ)、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル)、アルキルアミノ基(好ましくは炭素数1~4のアルキルアミノ基;例えば、ジメチルアミノ基)、アルキルカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数1~4のアルキルカルボニルアミノ基;例えば、メチルカルボニルアミノ基)、シアノ基及びアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、メシル基)、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基が挙げられる。
上記R4における置換アルキル基が有し得る置換基の好ましい例としては、アリール基(好ましくはフェニル基)、ヘテロ環基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル及びイソプロピル)、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1~4のアルコキシ基;例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ及びイソプロポキシ)、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニル)、アルキルアミノ基(好ましくは炭素数1~4のアルキルアミノ基;例えば、ジメチルアミノ基)、アルキルカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数1~4のアルキルカルボニルアミノ基;例えば、メチルカルボニルアミノ基)、シアノ基及びアシル基(例えばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、メシル基)、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基が挙げられる。
上記R4として採りうる置換アルキル基の総炭素数は1~18が好ましい。
例えば、ベンジル基、カルボキシベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、2-シアノエチル基、2-プロピオキルアミノエチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノプロピル基、ジ(メトキシカルボニルメチル)アミノプロピル基及びフェナシル基が挙げられる。
例えば、ベンジル基、カルボキシベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メトキシカルボニルエチル基、エトキシカルボニルメチル基、2-シアノエチル基、2-プロピオキルアミノエチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルカルボニルアミノプロピル基、ジ(メトキシカルボニルメチル)アミノプロピル基及びフェナシル基が挙げられる。
上記R4として採りうるアリール基は、無置換のアリール基及び置換基を有する置換アリール基のいずれでもよい。
上記R4として採りうる無置換のアリール基としては、炭素数6~12のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基が挙げられる。
上記R4における置換アリール基が有し得る置換基としては、例えば、上記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。
上記R4における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル)、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1~4のアルコキシ基;例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ、イソプロポキシ)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル)及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基等が挙げられる。
上記R4における置換アリール基が有し得る置換基の好ましい例としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキル基(好ましくは、炭素数1~4のアルキル基;例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル)、アルコキシ基(好ましくは、炭素数1~4のアルコキシ基;例えば、メトキシ、エトキシ、ノルマルプロポキシ、イソプロポキシ)、アルコキシカルボニル基(好ましくは、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基;例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル)及びスルホニルオキシ基、並びに、これらの少なくとも2つが連結した一価の基等が挙げられる。
上記R4における置換アリール基が有し得るアミノ基は、無置換のアミノ基(-NH2)及び置換基を有する置換アミノ基(上記置換基群Aにおける-NRa
2)のいずれでもよい。
上記R4における置換アリール基が有し得るアミノ基(-NRa 2)は、Raとして、上記R4における置換アルキル基と同様の基を挙げることができる。
上記置換アミノ基としては、アミノ基の水素原子の1つ又は2つがアルキル基で置換されたアルキルアミノ基が好ましい。
アルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基が挙げられる。アルキルアミノ基の炭素数は1~8が好ましく、1~4がより好ましい。
また、アルキルアミノ基におけるアルキル基が更に置換されていてもよく、例えば、ジ(アルコキシカルボニルアルキル)アミノ基が好ましく挙げられる。ジ(アルコキシカルボニルアルキル)アミノ基の炭素数は6~10が好ましく、6~8がより好ましい。
上記R4における置換アリール基が有し得るアミノ基(-NRa 2)は、Raとして、上記R4における置換アルキル基と同様の基を挙げることができる。
上記置換アミノ基としては、アミノ基の水素原子の1つ又は2つがアルキル基で置換されたアルキルアミノ基が好ましい。
アルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基が挙げられる。アルキルアミノ基の炭素数は1~8が好ましく、1~4がより好ましい。
また、アルキルアミノ基におけるアルキル基が更に置換されていてもよく、例えば、ジ(アルコキシカルボニルアルキル)アミノ基が好ましく挙げられる。ジ(アルコキシカルボニルアルキル)アミノ基の炭素数は6~10が好ましく、6~8がより好ましい。
上記R4として採りうる置換アリール基としては、総炭素数6~22のアリール基が好ましい。例えば、4-クロロフェニル基、2,5-ジクロロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、2,5-メトキシフェニル基、2-メトキシ-5-エトキシカルボニルフェニル基、4-エチルオキシカルボニルフェニル基、4-エキシカルボニルフェニル基、4-ブトキシカルボニルフェニル基、4-オクチルオキシカルボニルフェニル基、4-カルボキシフェニル基、3,5-ジカルボキシフェニル基、4-メタンスルホンアミドフェニル基、4-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、4-エトキシフェニル基、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル基、N,N-ジメチルアミノフェニル基、N,N-ジエチルアミノフェニル基、4-(N-カルボキシメチル-N-エチルアミノ)フェニル基、4-{N,N-ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノ}フェニル基、4-{ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノ}カルボニルフェニル、4-エトキシカルボニルフェニル基、4-メタンスルホニルオキシフェニル基、4-アセチルスルファモイルフェニル、4-プロピオニルスルファモイルフェニル及び4-メタンスルホンアミドフェニルが挙げられる。
R5とR6は、互いに結合して6員環を形成していてもよい。環を形成する際に水素原子が脱離して、芳香環又は不飽和結合を有する脂肪族環を形成してもよい。
R5とR6が互いに結合して形成される6員環は、ベンゼン環が好ましい。
R5とR6が互いに結合して形成される6員環は、ベンゼン環が好ましい。
特に耐光性の観点から、一般式(A1)中のR1及びR2のうち、R1がアルキル基であることが好ましく、R1がアルキル基であり、かつ、R2がアルキル基又はアリール基であることがより好ましい。また同様の観点から、R1及びR2がいずれも、各々独立にアルキル基であることが更に好ましく、炭素数1~8のアルキル基であることが特に好ましい。
また、耐熱性及び耐光性の点からは、一般式(A1)中のR1及びR2がいずれもアリール基であることも好ましい。
R1及びR2が各々独立にアリール基を表す場合、R3、R5及びR6は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であって、かつ、R3及びR6の少なくとも一方は水素原子であることが好ましい。中でも、耐熱性及び耐光性の観点から、R3が水素原子を表し、R5及びR6が各々独立にアルキル基又はアリール基を表す場合がより好ましく、R3が水素原子を表し、R5及びR6が各々独立にアルキル基を表す場合が更に好ましく、R3が水素原子を表し、R5及びR6が各々独立にアルキル基を表し、かつ、R5及びR6が互いに結合して環を形成してピロール環に縮合し、ピロール環と共にインドール環を形成している場合が特に好ましい。即ち、上記一般式(A1)で表される色素は、下記一般式(A2)で表される色素であることが特に好ましい。
R1及びR2が各々独立にアリール基を表す場合、R3、R5及びR6は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基であって、かつ、R3及びR6の少なくとも一方は水素原子であることが好ましい。中でも、耐熱性及び耐光性の観点から、R3が水素原子を表し、R5及びR6が各々独立にアルキル基又はアリール基を表す場合がより好ましく、R3が水素原子を表し、R5及びR6が各々独立にアルキル基を表す場合が更に好ましく、R3が水素原子を表し、R5及びR6が各々独立にアルキル基を表し、かつ、R5及びR6が互いに結合して環を形成してピロール環に縮合し、ピロール環と共にインドール環を形成している場合が特に好ましい。即ち、上記一般式(A1)で表される色素は、下記一般式(A2)で表される色素であることが特に好ましい。
一般式(A2)中、R1~R4は、一般式(A1)中のR1~R4とそれぞれ同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式(A2)において、R15は、置換基を示す。R15として採り得る置換基としては、上記の置換基群Aに含まれる置換基を挙げることができる。R15としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。
R15として採り得るアルキル基及びアリール基は、R3、R5及びR6として採り得るアルキル基及びアリール基の記載をそれぞれ適用することができる。
R15として採り得るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
R15として採り得るアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチロイル基が挙げられる。
R15として採り得るアミノ基としては、R4における置換アリール基が有し得るアミノ基の記載を適用することができる。また、アミノ基の窒素原子上のアルキル基が結合して環を形成した、5~7員環の含窒素複素環基も好ましい。
R15として採り得るアルコキシカルボニル基としては、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニルが挙げられる。
R15として採り得るアルキル基及びアリール基は、R3、R5及びR6として採り得るアルキル基及びアリール基の記載をそれぞれ適用することができる。
R15として採り得るハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
R15として採り得るアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチロイル基が挙げられる。
R15として採り得るアミノ基としては、R4における置換アリール基が有し得るアミノ基の記載を適用することができる。また、アミノ基の窒素原子上のアルキル基が結合して環を形成した、5~7員環の含窒素複素環基も好ましい。
R15として採り得るアルコキシカルボニル基としては、炭素数2~5のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ノルマルプロポキシカルボニル及びイソプロポキシカルボニルが挙げられる。
nは、0~4の整数である。nは特に制限されないが、例えば、0又は1が好ましい。
以下に、一般式(A1)で表される色素の具体例を示す。但し、本発明は、これらに限定されるものではない。
下記具体例において、Meはメチル基を示す。
下記具体例において、Meはメチル基を示す。
染料Aとしては、一般式(A1)で表される色素の他に、特開平5-53241号公報の段落0012~0067に記載の化合物、及び、特許2707371号公報の段落0011~0076に記載の化合物も、好ましく使用することができる。
染料Aが波長選択吸収フィルタ中で有する主吸収波長帯域は、400~430nmであることが好ましい。
(染料C)
染料Cは、波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有し、蛍光性を有しない染料である限り、特に制限されず、各種染料を用いることができる。
染料Cの具体例としては、例えば、テトラアザポルフィリン(tetraaza porphyrin、TAP)系、スクアリン系及びシアニン(cyanine、CY)系の各色素(染料)が挙げられる。
染料Cは、波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有し、蛍光性を有しない染料である限り、特に制限されず、各種染料を用いることができる。
染料Cの具体例としては、例えば、テトラアザポルフィリン(tetraaza porphyrin、TAP)系、スクアリン系及びシアニン(cyanine、CY)系の各色素(染料)が挙げられる。
これらの中でも、上記の染料Cとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭である点から、スクアリン系色素が好ましく、下記一般式(1)で表されるスクアリン系色素がより好ましい。染料Cとして上記の通り吸収波形が先鋭な色素を使用することにより、輝度低下を抑制しつつ色再現域を広げることができる。
本発明において、下記各一般式で表される色素において、カチオンは非局在化して存在しており、複数の互変異性体構造が存在する。そのため、本発明において、ある色素の少なくとも1つの互変異性体構造が各一般式に当てはまる場合、ある色素は各一般式で表される色素とする。したがって、特定の一般式で表される色素とは、その少なくとも1つの互変異性体構造を特定の一般式で表すことができる色素ということもできる。本発明において、一般式で表される色素は、その互変異性体構造の少なくとも1つがこの一般式に当てはまる限り、どのような互変異性体構造をとるものでもよい。
本発明において、下記各一般式で表される色素において、カチオンは非局在化して存在しており、複数の互変異性体構造が存在する。そのため、本発明において、ある色素の少なくとも1つの互変異性体構造が各一般式に当てはまる場合、ある色素は各一般式で表される色素とする。したがって、特定の一般式で表される色素とは、その少なくとも1つの互変異性体構造を特定の一般式で表すことができる色素ということもできる。本発明において、一般式で表される色素は、その互変異性体構造の少なくとも1つがこの一般式に当てはまる限り、どのような互変異性体構造をとるものでもよい。
一般式(1)中、A及びBは、各々独立して、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は-CH=Gを示す。Gは置換基を有していてもよい複素環基を示す。
A又はBとして採りうるアリール基としては、特に制限されず、単環からなる基でも縮合環からなる基でもよい。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12がさらに好ましい。アリール基としては、例えば、ベンゼン環又はナフタレン環からなる各基が挙げられ、より好ましくはベンゼン環からなる基である。
A又はBとして採りうる複素環基としては、特に制限はなく、脂肪族複素環若しくは芳香族複素環からなる基を含み、芳香族複素環からなる基が好ましい。芳香族複素環基であるヘテロアリール基としては、例えば、後述する置換基Xとして採りうるヘテロアリール基が挙げられる。A又はBとして採りうる芳香族複素環基は、5員環又は6員環の基が好ましく、含窒素5員環の基がより好ましい。具体的には、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、インドール環、インドレニン環、インドリン環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好適に挙げられる。中でも、ピロール環、ピラゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラゾロトリアゾール環のいずれかからなる基が好ましい。ピラゾロトリアゾール環とは、ピラゾール環とトリアゾール環との縮合環からなり、これらの環が少なくとも1つずつ縮合してなる縮合環であればよく、例えば、後述する一般式(4)及び(5)中の縮合環が挙げられる。
A及びBは、スクアリン酸部位(一般式(1)に示された4員環)に対して、特に制限されることなく、いずれの部位(環構成原子)で結合してもよいが、炭素原子で結合することが好ましい。
A又はBとして採りうる-CH=G中のGは、置換基を有していてもよい複素環基を示し、例えば、上記のA又はBとして採りうる複素環基に示されている例が好適に挙げられる。中でも、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環及びインドリン環のいずれかからなる基等が好ましい。
A及びBの少なくとも一方は、分子内水素結合を形成する水素結合性基を有していてもよい。
A、B及びGは、それぞれ、置換基Xを有していてもよく、置換基Xを有する場合には、隣接する置換基が互いに結合してさらに環構造を形成してもよい。また、置換基Xは複数個存在してもよい。
置換基Xとしては、例えば、後述する一般式(2)のR1として採りうる置換基が挙げられ、具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、フェロセニル基、-OR10、-C(=O)R11、-C(=O)OR12、-OC(=O)R13、-NR14R15、-NHCOR16、-CONR17R18、-NHCONR19R20、-NHCOOR21、-SR22、-SO2R23、-SO3R24、-NHSO2R25及び-SO2NR26R27が挙げられる。また、置換基Xは、上記フェロセニル基の他に、後述の消光剤部を有することも好ましい。
A、B及びGは、それぞれ、置換基Xを有していてもよく、置換基Xを有する場合には、隣接する置換基が互いに結合してさらに環構造を形成してもよい。また、置換基Xは複数個存在してもよい。
置換基Xとしては、例えば、後述する一般式(2)のR1として採りうる置換基が挙げられ、具体的には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基(シクロアルキル基を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、フェロセニル基、-OR10、-C(=O)R11、-C(=O)OR12、-OC(=O)R13、-NR14R15、-NHCOR16、-CONR17R18、-NHCONR19R20、-NHCOOR21、-SR22、-SO2R23、-SO3R24、-NHSO2R25及び-SO2NR26R27が挙げられる。また、置換基Xは、上記フェロセニル基の他に、後述の消光剤部を有することも好ましい。
一般式(1)において、R10~R27は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基又はヘテロ環基を示す。R10~R27として採りうる脂肪族基及び芳香族基は、特に制限されず、後述する一般式(2)のR1として採りうる置換基における、脂肪族基に分類されるアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基、並びに、芳香族基に分類されるアリール基から適宜に選択できる。R10~R27として採りうるヘテロ環基は、脂肪族でも芳香族でもよく、例えば、後述する一般式(2)のR1として採りうるヘテロアリール基又はヘテロ環基から適宜に選択できる。
なお、-COOR12のR12が水素原子である場合(すなわち、カルボキシ基)は、水素原子が解離してもよく(すなわち、カルボネート基)、塩の状態であってもよい。また、-SO3R24のR24が水素原子である場合(すなわち、スルホ基)は、水素原子が解離してもよく(すなわち、スルホネート基)、塩の状態であってもよい。
なお、-COOR12のR12が水素原子である場合(すなわち、カルボキシ基)は、水素原子が解離してもよく(すなわち、カルボネート基)、塩の状態であってもよい。また、-SO3R24のR24が水素原子である場合(すなわち、スルホ基)は、水素原子が解離してもよく(すなわち、スルホネート基)、塩の状態であってもよい。
置換基Xとして採りうるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
置換基Xとして採りうるアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8がさらに好ましい。アルケニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~12がより好ましく、2~8がさらに好ましい。アルキニル基の炭素数は、2~40が好ましく、2~30がより好ましく、2~25が特に好ましい。アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基は、それぞれ、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましい。
置換基Xとして採りうるアリール基は、単環又は縮合環の基を含む。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12がさらに好ましい。
置換基Xとして採りうるアラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、7~40が好ましく、7~30がより好ましく、7~25がさらに好ましい。
置換基Xとして採りうるヘテロアリール基は、単環又は縮合環からなる基を含み、単環、又は環数が2~8個の縮合環からなる基が好ましく、単環又は環数が2~4個の縮合環からなる基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等が挙げられる。ヘテロアリール基は、5員環又は6員環からなる基が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。ヘテロアリール基としては、例えば、ピリジン環、ピペリジン環、フラン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロール環、キノリン環、モルホリン環、インドール環、イミダゾール環、ピラゾール環、カルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジン環、ベンゾキノリン環及びチアジアゾール環のいずれかからなる各基が挙げられる。
置換基Xとして採りうるアルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~15がより好ましく、1~8がさらに好ましい。アルケニル基の炭素数は、2~20が好ましく、2~12がより好ましく、2~8がさらに好ましい。アルキニル基の炭素数は、2~40が好ましく、2~30がより好ましく、2~25が特に好ましい。アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基は、それぞれ、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖又は分岐が好ましい。
置換基Xとして採りうるアリール基は、単環又は縮合環の基を含む。アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12がさらに好ましい。
置換基Xとして採りうるアラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、7~40が好ましく、7~30がより好ましく、7~25がさらに好ましい。
置換基Xとして採りうるヘテロアリール基は、単環又は縮合環からなる基を含み、単環、又は環数が2~8個の縮合環からなる基が好ましく、単環又は環数が2~4個の縮合環からなる基がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子等が挙げられる。ヘテロアリール基は、5員環又は6員環からなる基が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。ヘテロアリール基としては、例えば、ピリジン環、ピペリジン環、フラン環、フルフラン環、チオフェン環、ピロール環、キノリン環、モルホリン環、インドール環、イミダゾール環、ピラゾール環、カルバゾール環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、インドリン環、チアゾール環、ピラジン環、チアジアジン環、ベンゾキノリン環及びチアジアゾール環のいずれかからなる各基が挙げられる。
Xとして採りうるフェロセニル基は、一般式(2M)で表されることが好ましい。
一般式(2M)中、Lは、単結合、又は一般式(1)中のA、B又はGと共役しない2価の連結基を示す。R1m~R9mは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。Mは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Fe、Co、Ni、Ti、Cu、Zn、Zr、Cr、Mo、Os、Mn、Ru、Sn、Pd、Rh、V又はPtを示す。*はA、B又はGとの結合部を示す。
なお、本発明においては、一般式(2M)中のLが単結合である場合、A、B又はGに直接結合するシクロペンタジエニル環(一般式(2M)中のR1mを有する環)は、A、B又はGと共役する共役構造に含めない。
なお、本発明においては、一般式(2M)中のLが単結合である場合、A、B又はGに直接結合するシクロペンタジエニル環(一般式(2M)中のR1mを有する環)は、A、B又はGと共役する共役構造に含めない。
Lとして採りうる2価の連結基としては、A、B又はGと共役しない連結基であれば特に制限されず、その内部、又は一般式(2M)中のシクロペンタジエン環側端部に、上述の共役構造を含んでいてもよい。2価の連結基としては、例えば、炭素数1~20のアルキレン基、炭素数6~20のアリーレン基、複素環から2個水素を除いた2価の複素環基、-CH=CH-、-CO-、-CS-、-NR-(Rは水素原子又は1価の置換基を示す。)、-O-、-S-、-SO2-若しくは-N=CH-、又は、これらを複数(好ましくは2~6個)組合せてなる2価の連結基が挙げられる。好ましくは、炭素数1~8のアルキレン基、炭素数6~12のアリーレン基、-CH=CH-、-CO-、-NR-(Rは上記の通り。)、-O-、-S-、-SO2-及び-N=CH-からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる2種以上(好ましくは2~6個)の基を組合せた2価の連結基であり、特に好ましくは、炭素数1~4のアルキレン基、フェニレン基、-CO-、-NH-、-O-及び-SO2-からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる2種以上(好ましくは2~6個)の基を組合せた連結基である。組合せた2価の連結基としては、特に制限されないが、-CO-、-NH-、-O-又は-SO2-を含む基が好ましく、-CO-、-NH-、-O-又は-SO2-を2種以上組合せてなる連結基、又は、-CO-、-NH-、-O-及び-SO2-の少なくとも1種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基が挙げられる。-CO-、-NH-、-O-又は-SO2-を2種以上組合せてなる連結基としては、-COO-、-OCO-、-CONH-、-NHCOO-、-NHCONH-、-SO2NH-が挙げられる。-CO-、-NH-、-O-及び-SO2-の少なくとも1種とアルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せてなる連結基としては、-CO-、-COO-若しくは-CONH-と、アルキレン基若しくはアリーレン基とを組合せた基が挙げられる。
Rとして採りうる置換基は、特に制限されず、一般式(2)中のAが有していてもよい置換基Xと同義である。
Rとして採りうる置換基は、特に制限されず、一般式(2)中のAが有していてもよい置換基Xと同義である。
Lは、単結合であるか、又は、炭素数1~8のアルキレン基、炭素数6~12のアリーレン基、-CH=CH-、-CO-、-NR-(Rは上記の通り。)、-O-、-S-、-SO2-及び-N=CH-からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる2種以上の基を組合せた基が好ましい。
Lは、置換基を1又は複数有していてもよい。Lが有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば上記置換基Xと同義である。Lが置換基を複数有する場合、隣接する原子に結合する置換基が互いに結合して更に環構造を形成してもよい。
Lとして採りうるアルキレン基としては、炭素数が1~20の範囲にある基であれば、直鎖、分岐鎖又は環状のいずれでもよく、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、1,1-ジメチルエチレン、ブチレン、1-メチルプロピレン、2-メチルプロピレン、1,2-ジメチルプロピレン、1,3-ジメチルプロピレン、1-メチルブチレン、2-メチルブチレン、3-メチルブチレン、4-メチルブチレン、2,4-ジメチルブチレン、1,3-ジメチルブチレン、ペンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、エタン-1,1-ジイル、プロパン-2,2-ジイル、シクロプロパン-1,1-ジイル、シクロプロパン-1,2-ジイル、シクロブタン-1,1-ジイル、シクロブタン-1,2-ジイル、シクロペンタン-1,1-ジイル、シクロペンタン-1,2-ジイル、シクロペンタン-1,3-ジイル、シクロヘキサン-1,1-ジイル、シクロヘキサン-1,2-ジイル、シクロヘキサン-1,3-ジイル、シクロヘキサン-1,4-ジイル、メチルシクロヘキサン-1,4-ジイル等が挙げられる。
Lとして、アルキレン基中に、-CO-、-CS-、-NR-(Rは上述の通り。)、-O-、-S-、-SO2-及び-N=CH-の少なくとも1つを含む連結基を採る場合、-CO-等の基は、アルキレン基中のいずれの位置に組み込まれてもよく、また組み込まれる数も特に制限されない。
Lとして、アルキレン基中に、-CO-、-CS-、-NR-(Rは上述の通り。)、-O-、-S-、-SO2-及び-N=CH-の少なくとも1つを含む連結基を採る場合、-CO-等の基は、アルキレン基中のいずれの位置に組み込まれてもよく、また組み込まれる数も特に制限されない。
Lとして採りうるアリーレン基としては、炭素数が6~20の範囲にある基であれば特に制限されず、例えば、一般式(1)中のAとして採りうる炭素数が6~20のアリール基として例示した各基から更に水素原子を1つ除去した基が挙げられる。
Lとして採りうる複素環基としては、特に制限されず、例えば、上記Aとして採りうる複素環基として例示した各基から更に水素原子を1つ除去した基が挙げられる。
Lとして採りうる複素環基としては、特に制限されず、例えば、上記Aとして採りうる複素環基として例示した各基から更に水素原子を1つ除去した基が挙げられる。
一般式(2M)において、上記連結基Lを除外した残りの部分構造は、メタロセン化合物から水素原子を1つ除去した構造(メタロセン構造部)に相当する。本発明において、メタロセン構造部となるメタロセン化合物は、上記一般式(2M)で規定される部分構造に適合する化合物(Lに代えて水素原子が結合した化合物)であれば、公知のメタロセン化合物を特に制限されることなく用いることができる。以下、一般式(2M)で規定されるメタロセン構造部について具体的に説明する。
一般式(2M)中、R1m~R9mは、それぞれ、水素原子又は置換基を示す。R1m~R9mとして採りうる置換基としては、特に制限されないが、例えば、一般式(3)のR1として採りうる置換基の中から選ぶことができる。R1m~R9mは、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基、アルコキシ基、アミノ基又はアミド基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基がより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はアシル基が更に好ましく、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基が特に好ましく、水素原子が最も好ましい。
R1m~R9mとして採りうるアルキル基としては、R1として採りうるアルキル基の中でも、炭素数1~8のアルキル基が好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、イソブチル、ペンチル、tert-ペンチル、ヘキシル、オクチル、2-エチルヘキシルが挙げられる。
このアルキル基は、置換基としてハロゲン原子を有していてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、2,2,2-トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられる。
また、R1m等として採りうるアルキル基は、炭素鎖を形成する少なくとも1つのメチレン基が-O-又は-CO-で置換されていてもよい。メチレン基が-O-で置換されたアルキル基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、isoブトキシ、tert-ブトキシ、2-メトキシエトキシ、クロロメチルオキシ、ジクロロメチルオキシ、トリクロロメチルオキシ、ブロモメチルオキシ、ジブロモメチルオキシ、トリブロモメチルオキシ、フルオロメチルオキシ、ジフルオロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、2,2,2-トリフルオロエチルオキシ、パーフルオロエチルオキシ、パーフルオロプロピルオキシ、パーフルオロブチルオキシの端部メチレン基が置換されたアルキル基、更には、2-メトキシエチル等の炭素鎖の内部メチレン基が置換されたアルキル基等が挙げられる。メチレン基が-CO-で置換されたアルキル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、プロパン-2-オン-1-イル、ブタン-2-オン-1-イル等が挙げられる。
このアルキル基は、置換基としてハロゲン原子を有していてもよい。ハロゲン原子で置換されたアルキル基としては、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、2,2,2-トリフルオロエチル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチル等が挙げられる。
また、R1m等として採りうるアルキル基は、炭素鎖を形成する少なくとも1つのメチレン基が-O-又は-CO-で置換されていてもよい。メチレン基が-O-で置換されたアルキル基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、isoブトキシ、tert-ブトキシ、2-メトキシエトキシ、クロロメチルオキシ、ジクロロメチルオキシ、トリクロロメチルオキシ、ブロモメチルオキシ、ジブロモメチルオキシ、トリブロモメチルオキシ、フルオロメチルオキシ、ジフルオロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、2,2,2-トリフルオロエチルオキシ、パーフルオロエチルオキシ、パーフルオロプロピルオキシ、パーフルオロブチルオキシの端部メチレン基が置換されたアルキル基、更には、2-メトキシエチル等の炭素鎖の内部メチレン基が置換されたアルキル基等が挙げられる。メチレン基が-CO-で置換されたアルキル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、プロパン-2-オン-1-イル、ブタン-2-オン-1-イル等が挙げられる。
一般式(2M)中、Mは、メタロセン化合物を構成しうる原子であって、Fe、Co、Ni、Ti、Cu、Zn、Zr、Cr、Mo、Os、Mn、Ru、Sn、Pd、Rh、V又はPtを示す。中でも、Mは、Fe、Ti、Co、Ni、Zr、Ru又はOsが好ましく、Fe、Ti、Ni、Ru又はOsがより好ましく、Fe又はTiが更に好ましく、Feが最も好ましい。
一般式(2M)で表される基としては、L、R1m~R9m及びMの好ましいもの同士を組合せてなる基が好ましく、例えば、Lとして、単結合、又は、炭素数2~8のアルキレン基、炭素数6~12のアリーレン基、-CH=CH-、-CO-、-NR-(Rは上述の通り。)、-O-、-S-、-SO2-及び-N=CH-からなる群から選ばれる基若しくはこの群から選ばれる2種以上の基を組合せた基と、R1m~R9mとして、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アシル基又はアルコキシ基と、MとしてFeとを組合せてなる基が挙げられる。
置換基Xとして採りうるアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロアリール基、並びに、R10~R27として採りうる脂肪族基、芳香族基及びヘテロ環基は、それぞれ、さらに置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。さらに有していてもよい置換基としては、特に制限はないが、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、フェロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、芳香族ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、芳香族ヘテロ環チオ基、スルホニル基、フェロセニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、及びカルボキシ基から選ばれる置換基がより好ましい。これらの基は、後述する一般式(2)のR1として採りうる置換基から適宜に選択することができる。
上記一般式(1)で表される色素の好ましい1実施形態として、下記一般式(2)で表される色素が挙げられる。
一般式(2)中、A1は、一般式(1)中のAと同様である。中でも、含窒素5員環である複素環基が好ましい。
一般式(2)において、R1及びR2は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。R1とR2はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、また互いに結合して環を形成してもよい。
R1及びR2として採りうる置換基としては、特に制限はないが、例えば、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル基等)、ヘテロアリール基(フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、ヘテロ環基(複素環基とも呼び、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、ヘテロアリールオキシ基(芳香族ヘテロ環オキシ基)、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、ヘテロアリールチオ基(芳香族ヘテロ環チオ基)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、ホスホリル基(ジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2-ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2-エチルヘキシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2-エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、スルホニルアミド基(メチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、2-エチルヘキシルスルホニルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2-エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2-ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2-ピリジルアミノウレイド基等)、アルキルスルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2-エチルヘキシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2-ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2-エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2-ピリジルアミノ基等)、アルキルスルホニルオキシ基(メタンスルホニルオキシ)、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、ヒドロキシ基等が挙げられる。
中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
R1及びR2として採りうる置換基としては、特に制限はないが、例えば、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t-ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル基等)、ヘテロアリール基(フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、ヘテロ環基(複素環基とも呼び、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、ヘテロアリールオキシ基(芳香族ヘテロ環オキシ基)、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、ヘテロアリールチオ基(芳香族ヘテロ環チオ基)、アルコキシカルボニル基(メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、ホスホリル基(ジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル)、スルファモイル基(アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、2-ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2-エチルヘキシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2-エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、スルホニルアミド基(メチルスルホニルアミノ基、オクチルスルホニルアミノ基、2-エチルヘキシルスルホニルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルアミノ基等)、カルバモイル基(アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2-エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2-ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2-ピリジルアミノウレイド基等)、アルキルスルホニル基(メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2-エチルヘキシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2-ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2-エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2-ピリジルアミノ基等)、アルキルスルホニルオキシ基(メタンスルホニルオキシ)、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、ヒドロキシ基等が挙げられる。
中でも、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロアリール基が好ましく、アルキル基、アリール基又はヘテロアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
R1及びR2として採りうる置換基はさらに置換基を有していてもよい。さらに有していてもよい置換基としては、R1及びR2として採りうる上記置換基が挙げられる。また、R1とR2とは、互いに、又は、B2又はB3が有する置換基と、結合して環を形成してもよい。このとき形成される環としてはヘテロ環又はヘテロアリール環が好ましく、形成される環の大きさは特に制限されないが、5員環又は6員環であることが好ましい。
一般式(2)において、B1、B2、B3及びB4は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示す。B1、B2、B3及びB4を含む環は芳香環である。B1~B4のうち、少なくとも2つ以上は炭素原子であることが好ましく、B1~B4の全てが炭素原子であることがより好ましい。
B1~B4として採りうる炭素原子は、水素原子又は置換基を有する。B1~B4として採りうる炭素原子のうち、置換基を有する炭素原子の数は、特に制限されないが、0、1又は2であることが好ましく、1であることがより好ましい。特に、B1及びB4が炭素原子であって、少なくとも一方が置換基を有することが好ましい。
B1~B4として採りうる炭素原子が有する置換基としては、特に制限されず、R1及びR2として採りうる上記置換基が挙げられる。中でも、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基であり、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。
B1~B4として採りうる炭素原子は、水素原子又は置換基を有する。B1~B4として採りうる炭素原子のうち、置換基を有する炭素原子の数は、特に制限されないが、0、1又は2であることが好ましく、1であることがより好ましい。特に、B1及びB4が炭素原子であって、少なくとも一方が置換基を有することが好ましい。
B1~B4として採りうる炭素原子が有する置換基としては、特に制限されず、R1及びR2として採りうる上記置換基が挙げられる。中でも、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基であり、より好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アシル基、アミド基、スルホニルアミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。
B1及びB4として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基、スルホニルアミド基又はカルバモイル基がさらに好ましく、特に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基が挙げられ、最も好ましくは、ヒドロキシ基、アミド基又はスルホニルアミド基である。
B2及びB3として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子がさらに好ましく、いずれか一方の置換基が電子吸引性基(例えば、アルコキシカルボニル基、アシル基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子)であることが特に好ましい。
B2及びB3として採りうる炭素原子が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子がさらに好ましく、いずれか一方の置換基が電子吸引性基(例えば、アルコキシカルボニル基、アシル基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子)であることが特に好ましい。
上記一般式(2)で表される色素は、下記一般式(3)、一般式(4)及び一般式(5)のいずれかで表される色素であることが好ましい。
一般式(3)において、R1及びR2は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式(2)におけるR1及びR2と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(3)において、B1~B4は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式(2)におけるB1~B4と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(3)において、B1~B4は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式(2)におけるB1~B4と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(3)において、R3及びR4は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。R3及びR4として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記R1及びR2として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
ただし、R3として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アミド基、スルホニルアミド基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリール基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
R4として採りうる置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基又はシアノ基が好ましく、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基又はアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
ただし、R3として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アミド基、スルホニルアミド基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリール基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
R4として採りうる置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基又はシアノ基が好ましく、アルキル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基又はアリール基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
R3及びR4として採りうるアルキル基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよいが、直鎖状又は分岐状が好ましい。アルキル基の炭素数は、1~12が好ましく、1~8がより好ましい。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、t-ブチル基、2-エチルヘキシル基、シクロヘキシル基が好ましく、メチル基、t-ブチル基がより好ましい。
一般式(4)において、R1及びR2は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式(2)におけるR1及びR2と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(4)において、B1~B4は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式(2)におけるB1~B4と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(4)において、B1~B4は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式(2)におけるB1~B4と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(4)において、R5及びR6は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。R5及びR6として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記R1及びR2として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
ただし、R5として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、ウレイド基又はカルバモイル基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アミド基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
R5として採りうるアルキル基は、一般式(3)におけるR3として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ただし、R5として採りうる置換基は、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、ウレイド基又はカルバモイル基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アミド基又はアミノ基がより好ましく、アルキル基がさらに好ましい。
R5として採りうるアルキル基は、一般式(3)におけるR3として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(4)において、R6として採りうる置換基は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、スルホニルアミド基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基又はヘテロ環基がより好ましく、アルキル基又はアリール基がさらに好ましい。
R6として採りうるアルキル基は、一般式(3)におけるR4として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
R6として採りうるアリール基は、炭素数6~12のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。このアリール基は置換基を有していてもよく、このような置換としては、以下の置換基群Aに含まれる基が挙げられ、特に、炭素数1~10のアルキル基、スルホニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基等が好ましい。これらの置換基は、さらに置換基を有していてもよい。具体的に、置換基はアルキルスルホニルアミノ基が好ましい。
R6として採りうるアルキル基は、一般式(3)におけるR4として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
R6として採りうるアリール基は、炭素数6~12のアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。このアリール基は置換基を有していてもよく、このような置換としては、以下の置換基群Aに含まれる基が挙げられ、特に、炭素数1~10のアルキル基、スルホニル基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基等が好ましい。これらの置換基は、さらに置換基を有していてもよい。具体的に、置換基はアルキルスルホニルアミノ基が好ましい。
- 置換基群A -
ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アミノオキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、スルホニルアミノ基(アルキル若しくはアリールスルホニルアミノ基を含む)、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル若しくはアリールスルフィニル基、スルホニル基(アルキル若しくはアリールスルホニル基を含む)、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等。
ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アミノオキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、スルホニルアミノ基(アルキル若しくはアリールスルホニルアミノ基を含む)、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル若しくはアリールスルフィニル基、スルホニル基(アルキル若しくはアリールスルホニル基を含む)、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又はヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等。
一般式(5)において、R1及びR2は、各々独立に、水素原子又は置換基を示し、上記一般式(2)におけるR1及びR2と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(5)において、B1~B4は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式(2)におけるB1~B4と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(5)において、B1~B4は、各々独立に、炭素原子又は窒素原子を示し、上記一般式(2)におけるB1~B4と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(5)において、R7及びR8は、各々独立に、水素原子又は置換基を示す。R7及びR8として採りうる置換基としては、特に制限されず、上記R1及びR2として採りうる置換基と同じものを挙げることができる。
ただし、R7として採りうる置換基の、好ましい範囲、より好ましい範囲及びさらに好ましい基は、一般式(4)におけるR5として採りうる置換基と同じである。R5として採りうるアルキル基は、上記R3として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
ただし、R7として採りうる置換基の、好ましい範囲、より好ましい範囲及びさらに好ましい基は、一般式(4)におけるR5として採りうる置換基と同じである。R5として採りうるアルキル基は、上記R3として採りうるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
一般式(5)において、R8として採りうる置換基の、好ましい範囲、より好ましい範囲及びさらに好ましい範囲は、一般式(4)におけるR6として採りうる置換基と同じである。R8として採りうるアルキル基及びアリール基の好ましい範囲は、上記一般式(4)におけるR6として採りうるアルキル基及びアリール基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
本発明においては、染料Aとしてスクアリン系色素を用いる場合、スクアリン系色素としては、一般式(1)~(5)のいずれかで表されるスクアリン色素であれば、特に制限なく使用することができる。その例として、例えば、特開2006-160618号公報、国際公開第2004/005981号、国際公開第2004/007447号、Dyes and Pigment,2001,49,p.161-179、国際公開第2008/090757号、国際公開第2005/121098号、特開2008-275726号公報に記載の化合物を挙げられる。
以下に、一般式(1)~一般式(5)のいずれかで表される色素の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記具体例において、Meはメチル、Etはエチル、Buはブチル、Phはフェニルをそれぞれ示す。
下記具体例において、Meはメチル、Etはエチル、Buはブチル、Phはフェニルをそれぞれ示す。
上記具体例の他に、一般式(3)~(5)のいずれかで表される色素の具体例を以下に挙げる。下記表中の置換基Bは下記構造を示す。下記構造及び下記表において、Meはメチル、Etはエチル、i-Prはi-プロピル、Buはn-ブチル、t-Buはt-ブチル、Phはフェニルをそれぞれ示す。下記構造において*は各一般式中の炭素四員環との結合部を示す。
(消光剤内蔵型色素)
上記一般式(1)で表されるスクアリン系色素は、連結基を介して、共有結合により消光剤部が色素に連結されてなる、消光剤内蔵型色素であってもよい。上記消光剤内蔵型色素も、染料Cの少なくとも一方の色素として好ましく用いることができる。すなわち、上記消光剤内蔵型色素は、主吸収波長帯域を有する波長に応じて、染料Cとして計上する。
上記消光剤部としては、例えば、上述の置換基Xにおけるフェロセニル基が挙げられる。また、国際公開第2019/066043号の段落[0199]~[0212]および段落[0234]~[0310]に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができる。
上記一般式(1)で表されるスクアリン系色素は、連結基を介して、共有結合により消光剤部が色素に連結されてなる、消光剤内蔵型色素であってもよい。上記消光剤内蔵型色素も、染料Cの少なくとも一方の色素として好ましく用いることができる。すなわち、上記消光剤内蔵型色素は、主吸収波長帯域を有する波長に応じて、染料Cとして計上する。
上記消光剤部としては、例えば、上述の置換基Xにおけるフェロセニル基が挙げられる。また、国際公開第2019/066043号の段落[0199]~[0212]および段落[0234]~[0310]に記載の消光剤化合物における消光剤部を挙げることができる。
以下に、一般式(1)で表されるスクアリン系色素のうち、消光剤内蔵型色素に該当する色素の具体例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
下記具体例において、Meはメチル、Etはエチル、Buはブチルをそれぞれ示す。
下記具体例において、Meはメチル、Etはエチル、Buはブチルをそれぞれ示す。
染料Cとしては、主吸収波長帯域における吸収波形が先鋭であることが、輝度の観点から好ましい。
染料Cが波長選択吸収フィルタ中で有する主吸収波長帯域は、580~600nmであることが好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Aの含有量は、本発明の波長選択吸収フィルタが所望の色度調節機能を示す限り特に制限されず、染料Aが有する青色光波長域における吸収波形又はモル吸光係数に応じて適宜調整することができる。例えば、下限値は、0.01質量%以上が好ましく、0.1質量%以上がより好ましい。上限値は、本発明の波長選択吸収フィルタが所望の相対輝度及び相関色温度を示す限り特に制限されないが、例えば、45質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Cの含有量は、本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Aの含有量に合わせて、本発明の波長選択吸収フィルタが所望の相関色温度を示すように適宜調整することができる。例えば、下限値は、0.05質量%以上が好ましく、0.2質量%以上がより好ましく、上限値は、50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料A及び染料Cの含有割合は、各染料の種類に応じて適宜調整されるが、例えば、質量比で、染料C:染料A=1:0.1~10が好ましく、1:0.2~8がより好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Cの含有量は、本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料Aの含有量に合わせて、本発明の波長選択吸収フィルタが所望の相関色温度を示すように適宜調整することができる。例えば、下限値は、0.05質量%以上が好ましく、0.2質量%以上がより好ましく、上限値は、50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタ中における染料A及び染料Cの含有割合は、各染料の種類に応じて適宜調整されるが、例えば、質量比で、染料C:染料A=1:0.1~10が好ましく、1:0.2~8がより好ましい。
なお、染料Cが上記消光剤内蔵型色素である場合、上記消光剤内蔵型色素の含有量は、反射防止効果の点から、本発明の波長選択吸収フィルタ中に0.1質量%以上含有されることが好ましい。上限値は、45質量%以下であることが好ましい。
<樹脂>
本発明の波長選択吸収フィルタに含まれる樹脂(以下、「マトリックス樹脂」とも称す。)は、上記染料を分散(好ましくは溶解)することができ、所望の光透過性(波長400~800nmの可視領域において、光透過率が80%以上であることが好ましい。)を有する限り、特に限定されるものではない。
染料Cが一般式(1)で表されるスクアリン系色素である場合には、上記マトリックス樹脂は、このスクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことが可能な、低極性マトリックス樹脂であることが好ましい。上記スクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことにより、本発明の波長選択吸収フィルタは、相対輝度の低下をより抑制することができる。ここで、低極性とは、下記関係式Iで定義されるfd値が0.50以上であることが好ましい。
関係式I:fd=δd/(δd+δp+δh)
関係式Iにおいて、δd、δp及びδhは、それぞれ、Hoy法により算出される溶解度パラメータδtに対する、London分散力に対応する項、双極子間力に対応する項、及び、水素結合力に対応する項を示す。具体的な算出方法については、後述の通りである。すなわち、fdはδdとδpとδhの和に対するδdの比率を示す。
fd値を0.50以上とすることにより、より先鋭な吸収波形が得られやすくなる。
また、本発明の波長選択吸収フィルタがマトリックス樹脂を2種以上含む場合、fd値は、下記のようにして算出する。
fd=Σ(wi・fdi)
ここで、wiはi番目のマトリックス樹脂の質量分率、fdiはi番目のマトリックス樹脂のfd値を示す。
本発明の波長選択吸収フィルタに含まれる樹脂(以下、「マトリックス樹脂」とも称す。)は、上記染料を分散(好ましくは溶解)することができ、所望の光透過性(波長400~800nmの可視領域において、光透過率が80%以上であることが好ましい。)を有する限り、特に限定されるものではない。
染料Cが一般式(1)で表されるスクアリン系色素である場合には、上記マトリックス樹脂は、このスクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことが可能な、低極性マトリックス樹脂であることが好ましい。上記スクアリン系色素がより先鋭な吸収を示すことにより、本発明の波長選択吸収フィルタは、相対輝度の低下をより抑制することができる。ここで、低極性とは、下記関係式Iで定義されるfd値が0.50以上であることが好ましい。
関係式I:fd=δd/(δd+δp+δh)
関係式Iにおいて、δd、δp及びδhは、それぞれ、Hoy法により算出される溶解度パラメータδtに対する、London分散力に対応する項、双極子間力に対応する項、及び、水素結合力に対応する項を示す。具体的な算出方法については、後述の通りである。すなわち、fdはδdとδpとδhの和に対するδdの比率を示す。
fd値を0.50以上とすることにより、より先鋭な吸収波形が得られやすくなる。
また、本発明の波長選択吸収フィルタがマトリックス樹脂を2種以上含む場合、fd値は、下記のようにして算出する。
fd=Σ(wi・fdi)
ここで、wiはi番目のマトリックス樹脂の質量分率、fdiはi番目のマトリックス樹脂のfd値を示す。
- London分散力に対応する項δd -
London分散力に対応する項δdは、文献“Properties of Polymers 3rd,ELSEVIER,(1990)”の214~220頁の「2)Method of Hoy (1985,1989)」欄に記載のAmorphous Polymersについて求められるδdをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
London分散力に対応する項δdは、文献“Properties of Polymers 3rd,ELSEVIER,(1990)”の214~220頁の「2)Method of Hoy (1985,1989)」欄に記載のAmorphous Polymersについて求められるδdをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
- 双極子間力に対応する項δp -
双極子間力に対応する項δpは、文献“Properties of Polymers 3rd,ELSEVIER,(1990)”の214~220頁の「2)Method of Hoy(1985,1989)」欄に記載のAmorphous Polymersについて求められるδpをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
双極子間力に対応する項δpは、文献“Properties of Polymers 3rd,ELSEVIER,(1990)”の214~220頁の「2)Method of Hoy(1985,1989)」欄に記載のAmorphous Polymersについて求められるδpをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
- 水素結合力に対応する項δh -
水素結合力に対応する項δhは、文献“Properties of Polymers 3rd,ELSEVIER,(1990)”の214~220頁の「2)Method of Hoy(1985,1989)」欄に記載のAmorphous Polymersについて求められるδhをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
水素結合力に対応する項δhは、文献“Properties of Polymers 3rd,ELSEVIER,(1990)”の214~220頁の「2)Method of Hoy(1985,1989)」欄に記載のAmorphous Polymersについて求められるδhをいうものとし、上記文献の上記の欄の記載に従って算出される。
また、上記マトリックス樹脂が一定の疎水性を示す樹脂であると、本発明の波長選択吸収フィルタの含水率を、例えば0.5%以下といった低含水率にすることができ、本発明の波長選択吸収フィルタの耐光性を向上させる点から好ましい。
なお、樹脂とは、ポリマーに加えて任意の慣用成分を含んでいてもよい。ただし、上記マトリックス樹脂のfdは、マトリックス樹脂を構成するポリマーについての算出値である。
なお、樹脂とは、ポリマーに加えて任意の慣用成分を含んでいてもよい。ただし、上記マトリックス樹脂のfdは、マトリックス樹脂を構成するポリマーについての算出値である。
上記マトリックス樹脂の好ましい例としては、例えば、ポリスチレン樹脂及び環状ポリオレフィン樹脂が挙げられ、ポリスチレン樹脂がより好ましい。通常、ポリスチレン樹脂の上記fd値は0.45~0.60であり、環状ポリオレフィン樹脂の上記fd値は0.45~0.70である。上述のようにfd値は0.50以上のものを用いることが好ましい。
また、例えば、これらの好ましい樹脂に加えて、後述する伸張性樹脂成分及び剥離性制御樹脂成分等の波長選択吸収フィルタに機能性を付与する樹脂成分を用いることも好ましい。すなわち、本発明においてマトリックス樹脂とは、上述の樹脂の他に、伸張性樹脂成分及び剥離性制御樹脂成分を含む意味で使用する。
上記マトリックス樹脂が、ポリスチレン樹脂を含むことが、色素の吸収波形の先鋭化の点から好ましい。
また、例えば、これらの好ましい樹脂に加えて、後述する伸張性樹脂成分及び剥離性制御樹脂成分等の波長選択吸収フィルタに機能性を付与する樹脂成分を用いることも好ましい。すなわち、本発明においてマトリックス樹脂とは、上述の樹脂の他に、伸張性樹脂成分及び剥離性制御樹脂成分を含む意味で使用する。
上記マトリックス樹脂が、ポリスチレン樹脂を含むことが、色素の吸収波形の先鋭化の点から好ましい。
(ポリスチレン樹脂)
上記ポリスチレン樹脂に含まれるポリスチレンとしては、スチレン成分を含むポリマーを意味する。ポリスチレンはスチレン成分を50質量%以上含むことが好ましい。本発明の波長選択吸収フィルタは、ポリスチレンを、1種含有してもよいし、2種以上を含有してもよい。ここで、スチレン成分とは、その構造中にスチレン骨格を有する単量体由来の構造単位である。
ポリスチレンは、光弾性係数及び吸湿性を波長選択吸収フィルタとして好ましい範囲の値へ制御する点から、スチレン成分を70質量%以上含むことがより好ましく、85質量%以上含むことがさらに好ましい。また、ポリスチレンはスチレン成分のみから構成されていることも好ましい。
上記ポリスチレン樹脂に含まれるポリスチレンとしては、スチレン成分を含むポリマーを意味する。ポリスチレンはスチレン成分を50質量%以上含むことが好ましい。本発明の波長選択吸収フィルタは、ポリスチレンを、1種含有してもよいし、2種以上を含有してもよい。ここで、スチレン成分とは、その構造中にスチレン骨格を有する単量体由来の構造単位である。
ポリスチレンは、光弾性係数及び吸湿性を波長選択吸収フィルタとして好ましい範囲の値へ制御する点から、スチレン成分を70質量%以上含むことがより好ましく、85質量%以上含むことがさらに好ましい。また、ポリスチレンはスチレン成分のみから構成されていることも好ましい。
ポリスチレンのうち、スチレン成分のみから構成されるポリスチレンとしては、スチレン化合物の単独重合体及び2種以上のスチレン化合物の共重合体が挙げられる。ここで、スチレン化合物とは、その構造中にスチレン骨格を有する化合物であり、スチレンの他、スチレンのエチレン性不飽和結合が反応(重合)性基として作用し得る範囲で置換基を導入した化合物を含む意味である。
具体的なスチレン化合物として、例えば、スチレン;α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、3,5-ジメチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、o-エチルスチレン、p-エチルスチレン及びtert-ブチルスチレン等のアルキルスチレン;ヒドロキシスチレン、tert-ブトキシスチレン、ビニル安息香酸、o-クロロスチレン及びp-クロロスチレン等のスチレンのベンゼン核に水酸基、アルコキシ基、カルボキシ基及びハロゲン原子などが導入された置換スチレンなどが挙げられる。中でも、入手しやすさ、材料価格などの観点から、上記ポリスチレンは、スチレンの単独重合体(すなわちポリスチレン)が好ましい。
具体的なスチレン化合物として、例えば、スチレン;α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、3,5-ジメチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、o-エチルスチレン、p-エチルスチレン及びtert-ブチルスチレン等のアルキルスチレン;ヒドロキシスチレン、tert-ブトキシスチレン、ビニル安息香酸、o-クロロスチレン及びp-クロロスチレン等のスチレンのベンゼン核に水酸基、アルコキシ基、カルボキシ基及びハロゲン原子などが導入された置換スチレンなどが挙げられる。中でも、入手しやすさ、材料価格などの観点から、上記ポリスチレンは、スチレンの単独重合体(すなわちポリスチレン)が好ましい。
また、上記ポリスチレンに含まれ得るスチレン成分以外の構成成分としては、特に限定されない。すなわち、ポリスチレンは、スチレン-ジエン共重合体、又はスチレン-重合性不飽和カルボン酸エステル共重合体等であってもよい。また、ポリスチレンと合成ゴム(例えば、ポリブタジエン及びポリイソプレン)の混合物を用いることもできる。また、合成ゴムにスチレンをグラフト重合させた耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)も好ましい。また、スチレン成分を含む重合体(例えば、スチレン成分と(メタ)アクリル酸エステル成分との共重合体)の連続相中にゴム状弾性体を分散させ、上記ゴム状弾性体に上記共重合体をグラフト重合させたポリスチレン(グラフトタイプ耐衝撃性ポリスチレン「グラフトHIPS」という)も好ましい。さらに、いわゆるスチレン系エラストマーも好適に用いることができる。
また、上記ポリスチレンは、水素添加されていてもよい(水添ポリスチレンであってもよい)。上記水添ポリスチレンとしては、特に限定されないが、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体(SBS)に水素添加した水添スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体(SEBS)、及び、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体(SIS)に水素を添加した水添スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体(SEPS)等の、水素添加されたスチレン-ジエン系共重合体が好ましい。上記水添ポリスチレンは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。
また、上記ポリスチレンは、変性ポリスチレンであってもよい。上記変性ポリスチレンとしては、特に限定されないが、極性基等の反応性基が導入されたポリスチレンが挙げられ、具体的には、マレイン酸変性等の酸変性ポリスチレン及びエポキシ変性ポリスチレンが好ましく挙げられる。
また、上記ポリスチレンは、水素添加されていてもよい(水添ポリスチレンであってもよい)。上記水添ポリスチレンとしては、特に限定されないが、スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体(SBS)に水素添加した水添スチレン-ブタジエン-スチレンブロック共重合体(SEBS)、及び、スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体(SIS)に水素を添加した水添スチレン-イソプレン-スチレンブロック共重合体(SEPS)等の、水素添加されたスチレン-ジエン系共重合体が好ましい。上記水添ポリスチレンは、1種のみを使用してもよいし、2種以上を使用してもよい。
また、上記ポリスチレンは、変性ポリスチレンであってもよい。上記変性ポリスチレンとしては、特に限定されないが、極性基等の反応性基が導入されたポリスチレンが挙げられ、具体的には、マレイン酸変性等の酸変性ポリスチレン及びエポキシ変性ポリスチレンが好ましく挙げられる。
ポリスチレンとして、組成、分子量等が異なる複数種類のものを併用することができる。
ポリスチレン系樹脂は、アニオン、塊状、懸濁、乳化又は溶液重合方法等の常法により得ることができる。また、ポリスチレンにおいては、共役ジエン及びスチレン単量体のベンゼン環の不飽和二重結合の少なくとも一部が水素添加されていてもよい。水素添加率は核磁気共鳴装置(NMR)によって測定できる。
ポリスチレン系樹脂は、アニオン、塊状、懸濁、乳化又は溶液重合方法等の常法により得ることができる。また、ポリスチレンにおいては、共役ジエン及びスチレン単量体のベンゼン環の不飽和二重結合の少なくとも一部が水素添加されていてもよい。水素添加率は核磁気共鳴装置(NMR)によって測定できる。
ポリスチレン樹脂としては、市販品を用いてもよく、例えば、電気化学工業(株)製「クリアレン 530L」、「クリアレン 730L」、旭化成(株)製「タフプレン 126S」、「アサプレン T411」、クレイトンポリマージャパン(株)製「クレイトン D1102A」、「クレイトン D1116A」、スタイロルーション社製「スタイロルクス S」、「スタイロルクス T」、旭化成ケミカルズ(株)製、「アサフレックス 840」、「アサフレックス 860」(以上、SBS)、PSジャパン(株)製「679」、「HF77」、「SGP-10」、DIC(株)製「ディックスチレン XC-515」、「ディックスチレン XC-535」(以上、GPPS)、PSジャパン(株)製「475D」、「H0103」、「HT478」、DIC(株)製「ディックスチレン GH-8300-5」(以上、HIPS)などが挙げられる。水添ポリスチレン系樹脂としては、例えば、旭化成ケミカルズ(株)製「タフテックHシリーズ」、シェルジャパン(株)製「クレイトンGシリーズ」(以上、SEBS)、JSR(株)製「ダイナロン」(水添スチレン-ブタジエンランダム共重合体)、(株)クラレ製「セプトン」(SEPS)などが挙げられる。また、変性ポリスチレン系樹脂としては、例えば、旭化成ケミカルズ(株)製「タフテックMシリーズ」、(株)ダイセル製「エポフレンド」、JSR(株)製「極性基変性ダイナロン」、東亞合成(株)製「レゼダ」などが挙げられる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記ポリスチレン樹脂に加えてポリフェニレンエーテル樹脂を含有することも好ましい。ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを併せて含有することにより波長選択吸収フィルタの靭性を向上させ、高温高湿等の過酷な環境下においてもクラック等の欠陥の発生を抑制することができる。
ただし、本発明の波長選択吸収フィルタが上記ポリスチレン樹脂に加えてポリフェニレンエーテル樹脂を含有する場合、上記fd値の計算において、ポリフェニレンエーテル樹脂のfd値は考慮しない。
ただし、本発明の波長選択吸収フィルタが上記ポリスチレン樹脂に加えてポリフェニレンエーテル樹脂を含有する場合、上記fd値の計算において、ポリフェニレンエーテル樹脂のfd値は考慮しない。
上記ポリフェニレンエーテル樹脂としては、旭化成(株)製ザイロンS201A、同202A、同S203A等を好ましく用いることができる。また、あらかじめポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂を混合した樹脂を用いてもよい。ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂との混合樹脂としては、例えば、旭化成(株)製ザイロン1002H、同1000H、同600H、同500H、同400H、同300H、同200H等を好ましく用いることができる。
本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを含有する場合、両者の質量比は、ポリスチレン樹脂/ポリフェニレンエーテル樹脂で、99/1~50/50が好ましく、98/2~60/40がよりに好ましく、95/5~70/30がさらに好ましい。ポリフェニレンエーテル樹脂の配合比率を上記好ましい範囲とすることにより、波長選択吸収フィルタは十分な靱性を有し、また溶液成膜をした場合には溶剤を適度に揮散させることができる。
本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、ポリスチレン樹脂とポリフェニレンエーテル樹脂とを含有する場合、両者の質量比は、ポリスチレン樹脂/ポリフェニレンエーテル樹脂で、99/1~50/50が好ましく、98/2~60/40がよりに好ましく、95/5~70/30がさらに好ましい。ポリフェニレンエーテル樹脂の配合比率を上記好ましい範囲とすることにより、波長選択吸収フィルタは十分な靱性を有し、また溶液成膜をした場合には溶剤を適度に揮散させることができる。
(環状ポリオレフィン樹脂)
環状ポリオレフィン樹脂に含まれる環状ポリオレフィンを形成する環状オレフィン化合物としては、炭素-炭素二重結合を含む環構造を持つ化合物であれば特に制限されず、例えば、ノルボルネン化合物、ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物、環状共役ジエン化合物及びビニル脂環式炭化水素化合物等が挙げられる。
環状ポリオレフィンとしては、例えば、(1)ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、(2)ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体、(3)環状共役ジエン化合物に由来する構造単位を含む重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、(1)~(4)の各化合物に由来する構造単位を含む重合体の水素化物等が挙げられる。
本発明において、ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体には、各化合物の開環重合体を含む。
環状ポリオレフィン樹脂に含まれる環状ポリオレフィンを形成する環状オレフィン化合物としては、炭素-炭素二重結合を含む環構造を持つ化合物であれば特に制限されず、例えば、ノルボルネン化合物、ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物、環状共役ジエン化合物及びビニル脂環式炭化水素化合物等が挙げられる。
環状ポリオレフィンとしては、例えば、(1)ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、(2)ノルボルネン化合物以外の、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体、(3)環状共役ジエン化合物に由来する構造単位を含む重合体、(4)ビニル脂環式炭化水素化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、(1)~(4)の各化合物に由来する構造単位を含む重合体の水素化物等が挙げられる。
本発明において、ノルボルネン化合物に由来する構造単位を含む重合体、及び、単環の環状オレフィン化合物に由来する構造単位を含む重合体には、各化合物の開環重合体を含む。
環状ポリオレフィンとしては、特に制限されないが、下記一般式(A-II)又は(A-III)で表される、ノルボルネン化合物に由来する構造単位を有する重合体が好ましい。下記一般式(A-II)で表される構造単位を有する重合体はノルボルネン化合物の付加重合体であり、下記一般式(A-III)で表される構造単位を有する重合体はノルボルネン化合物の開環重合体である。
一般式(A-II)及び(A-III)中、mは0~4の整数であり、0又は1が好ましい。
一般式(A-II)及び(A-III)中、R3~R6は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を示す。
一般式(A-I)~(A-III)における炭化水素基は、炭素原子と水素原子からなる基であれば特に制限されず、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアリール基(芳香族炭化水素基)等が挙げられる。中でも、アルキル基又はアリール基が好ましい。
一般式(A-II)及び(A-III)中、X2及びX3、Y2及びY3は、各々独立に、水素原子、炭素数1~10の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数1~10の炭化水素基、-(CH2)nCOOR11、-(CH2)nOCOR12、-(CH2)nNCO、-(CH2)nNO2、-(CH2)nCN、-(CH2)nCONR13R14、-(CH2)nNR13R14、-(CH2)nOZ若しくは-(CH2)nW、又は、X2とY2若しくはX3とY3が互いに結合して形成する、(-CO)2O若しくは(-CO)2NR15を示す。
ここで、R11~R15は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Zは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、WはSi(R16)pD(3-p)(R16は炭素数1~10の炭化水素基を示し、Dはハロゲン原子、-OCOR17又は-OR17(R17は炭素数1~10の炭化水素基)を示す。pは0~3の整数である)を示す。nは、0~10の整数であり、0~8が好ましく、0~6がより好ましい。
一般式(A-II)及び(A-III)中、R3~R6は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を示す。
一般式(A-I)~(A-III)における炭化水素基は、炭素原子と水素原子からなる基であれば特に制限されず、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びアリール基(芳香族炭化水素基)等が挙げられる。中でも、アルキル基又はアリール基が好ましい。
一般式(A-II)及び(A-III)中、X2及びX3、Y2及びY3は、各々独立に、水素原子、炭素数1~10の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数1~10の炭化水素基、-(CH2)nCOOR11、-(CH2)nOCOR12、-(CH2)nNCO、-(CH2)nNO2、-(CH2)nCN、-(CH2)nCONR13R14、-(CH2)nNR13R14、-(CH2)nOZ若しくは-(CH2)nW、又は、X2とY2若しくはX3とY3が互いに結合して形成する、(-CO)2O若しくは(-CO)2NR15を示す。
ここで、R11~R15は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Zは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、WはSi(R16)pD(3-p)(R16は炭素数1~10の炭化水素基を示し、Dはハロゲン原子、-OCOR17又は-OR17(R17は炭素数1~10の炭化水素基)を示す。pは0~3の整数である)を示す。nは、0~10の整数であり、0~8が好ましく、0~6がより好ましい。
一般式(A-II)及び(A-III)において、R3~R6は、それぞれ、水素原子又は-CH3が好ましく、透湿度の点で、水素原子であることがより好ましい。
X2及びX3は、それぞれ、水素原子、-CH3又は-C2H5が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
Y2及びY3は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子(特に塩素原子)又は-(CH2)nCOOR11(特に-COOCH3)が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
その他の基は、適宜に選択される。
X2及びX3は、それぞれ、水素原子、-CH3又は-C2H5が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
Y2及びY3は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子(特に塩素原子)又は-(CH2)nCOOR11(特に-COOCH3)が好ましく、透湿度の点で、水素原子がより好ましい。
その他の基は、適宜に選択される。
一般式(A-II)又は(A-III)で表される構造単位を有する重合体は、さらに下記一般式(A-I)で表される構造単位を少なくとも1種以上含んでもよい。
一般式(A-I)中、R1及びR2は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~10の炭化水素基を示し、X1及びY1は、各々独立に、水素原子、炭素数1~10の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数1~10の炭化水素基、-(CH2)nCOOR11、-(CH2)nOCOR12、-(CH2)nNCO、-(CH2)nNO2、-(CH2)nCN、-(CH2)nCONR13R14、-(CH2)nNR13R14、-(CH2)nOZ、-(CH2)nW、又は、X1とY1が互いに結合して形成する、(-CO)2O若しくは(-CO)2NR15を示す。
ここで、R11~R15は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Zは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、WはSi(R16)pD(3-p)(R16は炭素数1~10の炭化水素基を示し、Dはハロゲン原子、-OCOR17又は-OR17(R17は炭素数1~10の炭化水素基)を示す。pは0~3の整数である)を示す。nは0~10の整数である。
ここで、R11~R15は、各々独立に、水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基を示し、Zは炭化水素基又はハロゲンで置換された炭化水素基を示し、WはSi(R16)pD(3-p)(R16は炭素数1~10の炭化水素基を示し、Dはハロゲン原子、-OCOR17又は-OR17(R17は炭素数1~10の炭化水素基)を示す。pは0~3の整数である)を示す。nは0~10の整数である。
密着性の観点から、一般式(A-II)又は(A-III)で表される構造単位を有する環状ポリオレフィンは、上述のノルボルネン化合物に由来する構造単位を、環状ポリオレフィンの全質量に対して90質量%以下含有することが好ましく、30~85質量%含有することがより好ましく、50~79質量%含有することがさらに好ましく、60~75質量%含有することが最も好ましい。ここで、ノルボルネン化合物に由来する構造単位の割合は環状ポリオレフィン中の平均値を表す。
ノルボルネン化合物の付加(共)重合体は、特開平10-7732号公報、特表2002-504184号公報、米国公開特許公開第2004/229157A1、及び、国際公開第2004/070463号等に記載されている。
ノルボルネン化合物の重合体としては、ノルボルネン化合物(例えば、ノルボルネンの多環状不飽和化合物)同士を付加重合することによって得られる。
ノルボルネン化合物の重合体としては、ノルボルネン化合物(例えば、ノルボルネンの多環状不飽和化合物)同士を付加重合することによって得られる。
また、ノルボルネン化合物の重合体として、必要に応じ、ノルボルネン化合物と、エチレン、プロピレン及びブテン等のオレフィン、ブタジエン及びイソプレン等の共役ジエン、エチリデンノルボルネン等の非共役ジエン、並びに、アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル及び塩化ビニル等のエチレン性不飽和化合物とを付加共重合して得られる共重合体が挙げられる。中でも、ノルボルネン化合物とエチレンとの共重合体が好ましい。
このようなノルボルネン化合物の付加(共)重合体としては、三井化学社よりアペルの商品名で販売されており、ガラス転移温度(Tg)が互いに異なる、APL8008T(Tg70℃)、APL6011T(Tg105℃)、APL6013T(Tg125℃)、及び、APL6015T(Tg145℃)等が挙げられる。また、ポリプラスチック社より、TOPAS8007、同6013、同6015等のペレットが市販されている。さらに、Ferrania社よりAppear3000が市販されている。
このようなノルボルネン化合物の付加(共)重合体としては、三井化学社よりアペルの商品名で販売されており、ガラス転移温度(Tg)が互いに異なる、APL8008T(Tg70℃)、APL6011T(Tg105℃)、APL6013T(Tg125℃)、及び、APL6015T(Tg145℃)等が挙げられる。また、ポリプラスチック社より、TOPAS8007、同6013、同6015等のペレットが市販されている。さらに、Ferrania社よりAppear3000が市販されている。
上述の、ノルボルネン化合物の重合体は、市販品を使用することができる。例えば、JSR社からアートン(Arton)G又はアートンFという商品名で市販されており、また日本ゼオン社からゼオノア(Zeonor)ZF14、ZF16、ゼオネックス(Zeonex)250又はゼオネックス280という商品名で市販されている。
ノルボルネン化合物の重合体の水素化物は、ノルボルネン化合物等を付加重合又はメタセシス開環重合した後、水素添加することにより、合成できる。合成方法は、例えば、特開平1-240517号、特開平7-196736号、特開昭60-26024号、特開昭62-19801号、特開2003-159767号及び特開2004-309979号等の各公報に記載されている。
上記環状ポリオレフィンの分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液(重合体ポリマーが溶解しない場合はトルエン溶液)のゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の質量平均分子量である。通常、5000~500000、好ましくは8000~200000、より好ましくは10000~100000の範囲であることが好ましい。上記範囲の分子量を有するポリマーは、成形体の機械的強度、及び成形加工性を高い水準でバランスよく両立できる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記マトリックス樹脂を5質量%以上含むことが好ましく、20質量%以上含むことがより好ましく、50質量%以上含むことがさらに好ましく、70質量%以上含むことが特に好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタ中の上記マトリックス樹脂の含有量は、通常は99.90質量%以下であり、99.85質量%以下が好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタが含有する環状ポリオレフィンは2種以上であってもよく、組成比及び分子量の少なくとも一方が異なるポリマー同士を併用してもよい。この場合、各ポリマーの合計含有量が上記範囲内となる。
本発明の波長選択吸収フィルタ中の上記マトリックス樹脂の含有量は、通常は99.90質量%以下であり、99.85質量%以下が好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタが含有する環状ポリオレフィンは2種以上であってもよく、組成比及び分子量の少なくとも一方が異なるポリマー同士を併用してもよい。この場合、各ポリマーの合計含有量が上記範囲内となる。
(伸長性樹脂成分)
本発明の波長選択吸収フィルタは、樹脂成分として伸長性を示す成分(伸長性樹脂成分とも称す。)を適宜選んで含むことができる。具体的には、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS樹脂)、スチレン-ブタジエン樹脂(SB樹脂)、イソプレン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリエーテル-ウレタン樹脂及びシリコーン樹脂等を挙げることができる。また、これらの樹脂をさらに、適宜水素添加してもよい。
上記伸長性樹脂成分としては、ABS樹脂又はSB樹脂を用いることが好ましく、SB樹脂を用いることがより好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタは、樹脂成分として伸長性を示す成分(伸長性樹脂成分とも称す。)を適宜選んで含むことができる。具体的には、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン樹脂(ABS樹脂)、スチレン-ブタジエン樹脂(SB樹脂)、イソプレン樹脂、ブタジエン樹脂、ポリエーテル-ウレタン樹脂及びシリコーン樹脂等を挙げることができる。また、これらの樹脂をさらに、適宜水素添加してもよい。
上記伸長性樹脂成分としては、ABS樹脂又はSB樹脂を用いることが好ましく、SB樹脂を用いることがより好ましい。
上記SB樹脂は、例えば、市販されているものを使用できる。このような市販品として、TR2000、TR2003、TR2250(以上、商品名、JSR(株)製)、クリアレン210M、220M、730V(以上、商品名、デンカ(株)製)、アサフレックス800S、805、810、825、830、840(以上、商品名、旭化成(株)製)、エポレックスSB2400、SB2610、SB2710(以上、商品名、住友化学(株))等を挙げることができる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、伸長性樹脂成分を、マトリックス樹脂中、15~95質量%含むことが好ましく、20~50質量%含むことがより好ましく、25~45質量%含むことがさらに好ましい。
上記伸長性樹脂成分としては、伸長性樹脂成分を単独で用いて、厚さ30μm、幅10mmの形態の試料を作製し、25℃での破断伸度をJIS 7127に基づき計測した際に、破断伸度が10%以上を示すものが好ましく、20%以上を示すものがより好ましい。
(剥離性制御樹脂成分)
本発明の波長選択吸収フィルタは、後述する本発明の波長選択吸収フィルタの製造方法のうち、剥離フィルムから本発明の波長選択吸収フィルタの剥離を行う工程を含む方法により作製する場合には、樹脂成分として剥離性を制御する成分(剥離性制御樹脂成分)を含むことができ、好ましい。剥離フィルムからの本発明の波長選択吸収フィルタの剥離性を制御することで、剥離後の本発明の波長選択吸収フィルタに剥ぎとった跡が付くことを防ぐことができ、また、剥離工程における種々の加工速度への対応が可能となる。これらの結果、本発明の波長選択吸収フィルタの品質及び生産性向上に好ましい効果を得ることができる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、後述する本発明の波長選択吸収フィルタの製造方法のうち、剥離フィルムから本発明の波長選択吸収フィルタの剥離を行う工程を含む方法により作製する場合には、樹脂成分として剥離性を制御する成分(剥離性制御樹脂成分)を含むことができ、好ましい。剥離フィルムからの本発明の波長選択吸収フィルタの剥離性を制御することで、剥離後の本発明の波長選択吸収フィルタに剥ぎとった跡が付くことを防ぐことができ、また、剥離工程における種々の加工速度への対応が可能となる。これらの結果、本発明の波長選択吸収フィルタの品質及び生産性向上に好ましい効果を得ることができる。
上記剥離性制御樹脂成分に特に制限はなく、剥離フィルムの種類に応じて適宜に選ぶことができる。後述するように剥離フィルムとしてポリエステル系ポリマーフィルムを用いる場合、剥離性制御樹脂成分として、例えばポリエステル樹脂(ポリエステル系添加剤とも称す。)が好適である。
上記ポリエステル系添加剤は、多価塩基酸と多価アルコールとの脱水縮合反応、及び、多価アルコールへの無水二塩基酸の付加及び脱水縮合反応などの常法で得ることができ、好ましくは二塩基酸とジオールとから形成される重縮合エステルが好ましい。
上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量(Mw)は500~50,000であることが好ましく、750~40,000であることがより好ましく、2,000~30,000であることがさらに好ましい。
上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量が上記好ましい下限値以上であると、脆性、湿熱耐久性の観点で好ましく、上記好ましい上限値以下であると、樹脂との相溶性の観点で好ましい。
上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量は、以下の条件で測定した標準ポリスチレン換算の質量平均分子量(Mw)の値である。分子量分布(Mw/Mn)についても、同じ条件により測定することができる。なお、Mnは標準ポリスチレン換算の数平均分子量である。
GPC:ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー(株)製HLC-8220GPC、
カラム;東ソー(株)製ガードカラムHXL-H、TSK gel G7000HXL、TSK gel GMHXL2本、TSK gel G2000HXLを順次連結、
溶離液;テトラヒドロフラン、
流速;1mL/min、
サンプル濃度;0.7~0.8質量%、
サンプル注入量;70μL、
測定温度;40℃、
検出器;示差屈折(RI)計(40℃)、
標準物質;東ソー(株)製TSKスタンダードポリスチレン)
上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量が上記好ましい下限値以上であると、脆性、湿熱耐久性の観点で好ましく、上記好ましい上限値以下であると、樹脂との相溶性の観点で好ましい。
上記ポリエステル系添加剤の質量平均分子量は、以下の条件で測定した標準ポリスチレン換算の質量平均分子量(Mw)の値である。分子量分布(Mw/Mn)についても、同じ条件により測定することができる。なお、Mnは標準ポリスチレン換算の数平均分子量である。
GPC:ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー(株)製HLC-8220GPC、
カラム;東ソー(株)製ガードカラムHXL-H、TSK gel G7000HXL、TSK gel GMHXL2本、TSK gel G2000HXLを順次連結、
溶離液;テトラヒドロフラン、
流速;1mL/min、
サンプル濃度;0.7~0.8質量%、
サンプル注入量;70μL、
測定温度;40℃、
検出器;示差屈折(RI)計(40℃)、
標準物質;東ソー(株)製TSKスタンダードポリスチレン)
ポリエステル系添加剤を構成する二塩基酸成分としては、ジカルボン酸を好ましく挙げることができる。
このジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸等が挙げられ、芳香族ジカルボン酸、又は、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸の混合物を好ましく用いることができる。
このジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸等が挙げられ、芳香族ジカルボン酸、又は、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸の混合物を好ましく用いることができる。
芳香族ジカルボン酸の中でも、炭素数8~20の芳香族ジカルボン酸が好ましく、炭素数8~14の芳香族ジカルボン酸がより好ましい。具体的には、フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸の少なくとも1種が好ましく挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸の中でも、炭素数3~8の脂肪族ジカルボン酸が好ましく、炭素数4~6の脂肪族ジカルボン酸がより好ましい。具体的には、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸及びグルタル酸の少なくとも1種が好ましく挙げられ、コハク酸及びアジピン酸の少なくとも1種がより好ましい。
また、ポリエステル系添加剤を構成するジオール成分としては、脂肪族ジオール及び芳香族ジオール等が挙げられ、脂肪族ジオールが好ましい。
脂肪族ジオールの中でも、炭素数2~4の脂肪族ジオールが好ましく、炭素数2~3の脂肪族ジオールがより好ましい。
脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール及び1,4-ブチレングリコールなどが挙げることができ、これらを単独又は二種類以上を併用して用いることができる。
脂肪族ジオールの中でも、炭素数2~4の脂肪族ジオールが好ましく、炭素数2~3の脂肪族ジオールがより好ましい。
脂肪族ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,3-ブチレングリコール及び1,4-ブチレングリコールなどが挙げることができ、これらを単独又は二種類以上を併用して用いることができる。
ポリエステル系添加剤は、特に、フタル酸、イソフタル酸及びテレフタル酸の少なくとも1種と脂肪族ジオールとを縮合して得られる化合物であることが好ましい。
ポリエステル系添加剤の末端はモノカルボン酸と反応させて封止してもよい。封止に用いるモノカルボン酸としては脂肪族モノカルボン酸が好ましく、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、安息香酸及びその誘導体が好ましく挙げられ、酢酸又はプロピオン酸がより好ましく、酢酸がさらに好ましい。
市販のポリエステル系添加剤としては、日本合成化学工業株式会社製エステル系樹脂ポリエスター(例えば、LP050、TP290、LP035、LP033、TP217、TP220)、東洋紡株式会社製エステル系樹脂バイロン(例えば、バイロン245、バイロンGK890、バイロン103、バイロン200、バイロン550、バイロンGK880)等が挙げられる。
本発明の波長選択吸収フィルタ中の剥離性制御樹脂成分の含有量は、マトリックス樹脂中、0.05質量%以上であることが好ましく、0.1質量%以上であることがより好ましい。また、上限値は、25質量%以下であることが好ましく、20質量%以下であることがより好ましく、15質量%以下であることがさらに好ましい。適度な密着性を得る観点から上記好ましい範囲であることが好ましい。
<褪色防止剤>
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記の染料A及び染料Cを含む染料の褪色を防止するため、染料の褪色防止剤(単に、褪色防止剤とも称す。)を含有することが好ましい。
上記褪色防止剤としては、国際公開第2015/005398号の段落[0143]~[0165]に記載の酸化防止剤、同[0166]~[0199]に記載のラジカル捕捉剤、及び同[0205]~[0206]に記載の劣化防止剤等、通常用いられる褪色防止剤を特に限定することなく用いることができる。
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記の染料A及び染料Cを含む染料の褪色を防止するため、染料の褪色防止剤(単に、褪色防止剤とも称す。)を含有することが好ましい。
上記褪色防止剤としては、国際公開第2015/005398号の段落[0143]~[0165]に記載の酸化防止剤、同[0166]~[0199]に記載のラジカル捕捉剤、及び同[0205]~[0206]に記載の劣化防止剤等、通常用いられる褪色防止剤を特に限定することなく用いることができる。
上記褪色防止剤としては、下記一般式(IV)で表される化合物を好ましく用いることができる。
一般式(IV)中、R10はアルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基又はR18CO-、R19SO2-若しくはR20NHCO-で表される基を示す。ここでR18、R19及びR20は各々独立にアルキル基、アルケニル基、アリール基又はヘテロ環基を示す。R11及びR12は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基又はアルケニルオキシ基を示し、R13、R14、R15、R16及びR17は各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基又はアリール基を示す。
ただし、R10~R20におけるアルキル基は、アラルキル基を含む。
ただし、R10~R20におけるアルキル基は、アラルキル基を含む。
一般式(IV)におけるR10で示されるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ベンジル等;アルケニル基としては、例えばアリル等;アリール基としては、例えばフェニル等;ヘテロ環基としては、例えばテトラヒドロピラニル、ピリミジル等が挙げられる。また、R18、R19及びR20は、各々独立にアルキル基(例えば、メチル、エチル、n-プロピル、n-ブチル、ベンジル等)、アルケニル基(例えば、アリル等)、アリール基(例えば、フェニル、メトキシフェニル等)又はヘテロ環基(例えば、ピリジル、ピリミジル等)を示す。
一般式(IV)におけるR11又はR12で示されるハロゲン原子としては、例えば塩素、臭素等;アルキル基としては、例えばメチル、エチル、n-ブチル、ベンジル等;アルケニル基としては、例えばアリル等;アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ、ベンジルオキシ等;アルケニルオキシ基としては、例えば2-プロペニロキシ等が挙げられる。
一般式(IV)におけるR13、R14、R15、R16又はR17で表されるアルキル基としては、例えばメチル、エチル、n-ブチル、ベンジル等;アルケニル基としては、例えば2-プロペニル等;アリール基としては、例えばフェニル、メトキシフェニル、クロルフェニル等が挙げられる。
R10~R20はさらに置換基を有していてもよく、置換基としてはR10~R20で示される各基が挙げられる。
一般式(IV)で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は、これらに限定されるものではない。
R10~R20はさらに置換基を有していてもよく、置換基としてはR10~R20で示される各基が挙げられる。
一般式(IV)で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は、これらに限定されるものではない。
上記褪色防止剤としては、下記一般式[III]で表される化合物も好ましく用いることができる。
一般式[III]中、R31は脂肪族基又は芳香族基を示し、Yは窒素原子と共に5~7員環を形成するのに必要な非金属原子群を示す。
一般式[III]において、R31は脂肪族基又は芳香族基を示し、好ましくはアルキル基、アリール基又は複素環基(好ましくは脂肪族複素環基)であり、より好ましくはアリール基である。
Yが窒素原子と共に形成する複素環としては、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、チオモルホリン-1,1-ジオン環、ピロリジン環及びイミダゾリジン環等が挙げられる。
また、上記複素環はさらに置換基を有してもよく、置換基としてはアルキル基及びアルコキシ基等が挙げられる。
Yが窒素原子と共に形成する複素環としては、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、チオモルホリン-1,1-ジオン環、ピロリジン環及びイミダゾリジン環等が挙げられる。
また、上記複素環はさらに置換基を有してもよく、置換基としてはアルキル基及びアルコキシ基等が挙げられる。
以下に一般式[III]で表される化合物の具体例を示す。ただし、本発明は、これらに限定されるものではない。
以上の具体例の他に、上記一般式[III]で表される化合物の具体例としては、特開平2-167543号公報明細書の第8頁~11頁に記載された例示化合物B-1~B-65、及び、特開昭63-95439号公報明細書の第4~7頁に記載された例示化合物(1)~(120)等を挙げることができる。
本発明の波長選択吸収フィルタ中における褪色防止剤の含有量は、好ましくは1~15質量%であり、より好ましくは5~15質量%であり、さらに好ましくは5~12.5質量%、特に好ましくは10~12.5質量%である。
褪色防止剤を上記好ましい範囲内で含有することにより、本発明の波長選択吸収フィルタは、変色等の副作用を起こすことなく、染料(色素)の耐光性を向上させることができる。
褪色防止剤を上記好ましい範囲内で含有することにより、本発明の波長選択吸収フィルタは、変色等の副作用を起こすことなく、染料(色素)の耐光性を向上させることができる。
<その他の成分>
本発明の波長選択吸収フィルタは、前述の染料とマトリックス樹脂と染料の褪色防止剤に加え、マット剤及びレベリング剤(界面活性剤)等を含んでもよい。
本発明の波長選択吸収フィルタは、前述の染料とマトリックス樹脂と染料の褪色防止剤に加え、マット剤及びレベリング剤(界面活性剤)等を含んでもよい。
(マット剤)
本発明の波長選択吸収フィルタの表面には、本発明の効果を損なわない範囲で、滑り性付与及びブロッキング防止のために微粒子を添加してもよい。この微粒子としては、疎水基で表面が被覆され、二次粒子の態様をとっているシリカ(二酸化ケイ素,SiO2)が好ましく用いられる。なお、微粒子には、シリカとともに、あるいはシリカに代えて、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及び燐酸カルシウムなどの微粒子を用いてもよい。市販の微粒子としては、R972及びNX90S(いずれも日本アエロジル株式会社製、商品名)などが挙げられる。
本発明の波長選択吸収フィルタの表面には、本発明の効果を損なわない範囲で、滑り性付与及びブロッキング防止のために微粒子を添加してもよい。この微粒子としては、疎水基で表面が被覆され、二次粒子の態様をとっているシリカ(二酸化ケイ素,SiO2)が好ましく用いられる。なお、微粒子には、シリカとともに、あるいはシリカに代えて、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和珪酸カルシウム、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム及び燐酸カルシウムなどの微粒子を用いてもよい。市販の微粒子としては、R972及びNX90S(いずれも日本アエロジル株式会社製、商品名)などが挙げられる。
この微粒子はいわゆるマット剤として機能し、微粒子添加により本発明の波長選択吸収フィルタ表面に微小な凹凸が形成され、この凹凸により、本発明の波長選択吸収フィルタ同士又は本発明の波長選択吸収フィルタとその他のフィルム等が重なっても互いに貼り付かず、滑り性が確保される。
本発明の波長選択吸収フィルタが微粒子としてのマット剤を含有する場合、フィルタ表面から微粒子が突出した突起による微小凹凸は、高さ30nm以上の突起が104個/mm2以上存在すると、特に滑り性、ブロッキング性の改善効果が大きい。
本発明の波長選択吸収フィルタが微粒子としてのマット剤を含有する場合、フィルタ表面から微粒子が突出した突起による微小凹凸は、高さ30nm以上の突起が104個/mm2以上存在すると、特に滑り性、ブロッキング性の改善効果が大きい。
マット剤微粒子は特に表層に付与することが、ブロッキング性及び滑り性改善の点から好ましい。表層に微粒子を付与する方法としては、重層流延及び塗布などによる手段があげられる。
本発明の波長選択吸収フィルタ中のマット剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
ただし、本発明の波長選択吸収フィルタに後述のガスバリア層を設ける場合には、波長選択吸収フィルタの表面のうちガスバリア層と接する面には、ガスバリア性を損なわない範囲で上記マット剤微粒子を付与することが好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタ中のマット剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
ただし、本発明の波長選択吸収フィルタに後述のガスバリア層を設ける場合には、波長選択吸収フィルタの表面のうちガスバリア層と接する面には、ガスバリア性を損なわない範囲で上記マット剤微粒子を付与することが好ましい。
(レベリング剤)
本発明の波長選択吸収フィルタには、レベリング剤(界面活性剤)を適宜混合することができる。レベリング剤としては、常用の化合物を使用することができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。具体的には、例えば、特開2001-330725号公報明細書中の段落番号[0028]~[0056]記載の化合物が挙げられる。
本発明の波長選択吸収フィルタ中のレベリング剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
本発明の波長選択吸収フィルタには、レベリング剤(界面活性剤)を適宜混合することができる。レベリング剤としては、常用の化合物を使用することができ、特に含フッ素界面活性剤が好ましい。具体的には、例えば、特開2001-330725号公報明細書中の段落番号[0028]~[0056]記載の化合物が挙げられる。
本発明の波長選択吸収フィルタ中のレベリング剤の含有量は目的に応じて適宜に調整される。
本発明の波長選択吸収フィルタは、上記各成分に加え、低分子可塑剤、オリゴマー系可塑剤、レタデーション調整剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離促進剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、フィラー及び相溶化剤等を含有してもよい。
<波長選択吸収フィルタの製造方法>
本発明の波長選択吸収フィルタは、常法により、溶液製膜法、溶融押出し法、又は、基材フィルム(剥離フィルム)上に任意の方法でコーティング層を形成する方法(コーティング法)で作製することができ、適宜延伸を組み合わせることもできる。本発明の波長選択吸収フィルタは、好ましくはコーティング法により作製される。
本発明の波長選択吸収フィルタは、常法により、溶液製膜法、溶融押出し法、又は、基材フィルム(剥離フィルム)上に任意の方法でコーティング層を形成する方法(コーティング法)で作製することができ、適宜延伸を組み合わせることもできる。本発明の波長選択吸収フィルタは、好ましくはコーティング法により作製される。
(溶液製膜法)
溶液製膜法は、本発明の波長選択吸収フィルタを構成する材料を有機溶媒又は水に溶解した溶液を調製し、濃縮工程及びろ過工程などを適宜実施した後に、支持体上に均一に流延する。次に、生乾きの膜を支持体から剥離し、適宜ウェブの両端をクリップなどで把持して乾燥ゾーンで溶媒を乾燥させる。また、延伸は、フィルムの乾燥中及び乾燥が終了した後に別途実施することもできる。
溶液製膜法は、本発明の波長選択吸収フィルタを構成する材料を有機溶媒又は水に溶解した溶液を調製し、濃縮工程及びろ過工程などを適宜実施した後に、支持体上に均一に流延する。次に、生乾きの膜を支持体から剥離し、適宜ウェブの両端をクリップなどで把持して乾燥ゾーンで溶媒を乾燥させる。また、延伸は、フィルムの乾燥中及び乾燥が終了した後に別途実施することもできる。
(溶融押出し法)
溶融押出し法は、本発明の波長選択吸収フィルタを構成する材料(以下、単に「波長選択吸収フィルタの材料」とも称す。)を熱で溶融し、ろ過工程などを適宜実施した後に、支持体上に均一流延する。次に、冷却等により固まったフィルムを剥離し、適宜延伸することができる。本発明の波長選択吸収フィルタの主材料が熱可塑性ポリマー樹脂である場合、剥離フィルムの主材料も熱可塑性ポリマー樹脂を選定し、溶融状態にしたポリマー樹脂を公知の共押出し法で製膜することができる。この際、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムのポリマーの種類及び各層に混合する添加剤を調整したり、共押出ししたフィルムの延伸温度、延伸速度、延伸倍率等を調整したりすることによって、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの接着力を制御することができる。
溶融押出し法は、本発明の波長選択吸収フィルタを構成する材料(以下、単に「波長選択吸収フィルタの材料」とも称す。)を熱で溶融し、ろ過工程などを適宜実施した後に、支持体上に均一流延する。次に、冷却等により固まったフィルムを剥離し、適宜延伸することができる。本発明の波長選択吸収フィルタの主材料が熱可塑性ポリマー樹脂である場合、剥離フィルムの主材料も熱可塑性ポリマー樹脂を選定し、溶融状態にしたポリマー樹脂を公知の共押出し法で製膜することができる。この際、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムのポリマーの種類及び各層に混合する添加剤を調整したり、共押出ししたフィルムの延伸温度、延伸速度、延伸倍率等を調整したりすることによって、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの接着力を制御することができる。
共押出し方法としては、例えば、共押出Tダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等が挙げられる。これらの中でも、共押出Tダイ法が好ましい。共押出Tダイ法にはフィードブロック方式及びマルチマニホールド方式がある。その中でも、厚みのばらつきを少なくできる点で、マルチマニホールド方式が特に好ましい。
共押出Tダイ法を採用する場合、Tダイを有する押出機における樹脂の溶融温度は、各樹脂のガラス転移温度(Tg)よりも、80℃高い温度以上にすることが好ましく、100℃高い温度以上にすることがより好ましく、また、180℃高い温度以下にすることが好ましく、150℃高い温度以下にすることがより好ましい。押出機での樹脂の溶融温度を上記好ましい範囲の下限値以上とすることにより樹脂の流動性を十分に高めることができ、上記好ましい範囲の上限値以下とすることにより樹脂の劣化を防止することができる。
通常、ダイスの開口部から押出されたシート状の溶融樹脂は、冷却ドラムに密着させるようにする。溶融樹脂を冷却ドラムに密着させる方法は、特に制限されず、例えば、エアナイフ方式、バキュームボックス方式、静電密着方式などが挙げられる。
冷却ドラムの数は特に制限されないが、通常は2本以上である。また、冷却ドラムの配置方法としては、例えば、直線型、Z型、L型などが挙げられるが特に制限されない。またダイスの開口部から押出された溶融樹脂の冷却ドラムへの通し方も特に制限されない。
冷却ドラムの数は特に制限されないが、通常は2本以上である。また、冷却ドラムの配置方法としては、例えば、直線型、Z型、L型などが挙げられるが特に制限されない。またダイスの開口部から押出された溶融樹脂の冷却ドラムへの通し方も特に制限されない。
冷却ドラムの温度により、押出されたシート状の樹脂の冷却ドラムへの密着具合が変化する。冷却ドラムの温度を上げると密着はよくなるが、温度を上げすぎるとシート状の樹脂が冷却ドラムから剥がれずに、ドラムに巻きつく可能性がある。そのため、冷却ドラム温度は、ダイスから押し出す樹脂のうちドラムに接触する層の樹脂のガラス転移温度をTgとすると、好ましくは(Tg+30)℃以下、さらに好ましくは(Tg-5)℃~(Tg-45)℃の範囲にする。冷却ドラム温度を上記好ましい範囲とすることにより滑り及びキズなどの不具合を防止することができる。
ここで、延伸前フィルム中の残留溶剤の含有量は少なくすることが好ましい。そのための手段としては、例えば、(1)原料となる樹脂の残留溶剤を少なくする;(2)延伸前フィルムを成形する前に樹脂を予備乾燥する;などの手段が挙げられる。予備乾燥は、例えば樹脂をペレットなどの形態にして、熱風乾燥機などで行われる。乾燥温度は100℃以上が好ましく、乾燥時間は2時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、延伸前フィルム中の残留溶剤を低減させる事ができ、さらに押し出されたシート状の樹脂の発泡を防ぐことができる。
(コーティング法)
コーティング法では、剥離フィルムに波長選択吸収フィルタの材料の溶液を塗布し、コーティング層を形成する。剥離フィルム表面には、コーティング層との接着性を制御するため、適宜、離型剤等を予め塗布しておいてもよい。コーティング層は、後工程で接着層を介して他の部材と積層させた後、剥離フィルムを剥離して用いることができる。接着層を構成する接着剤については、任意の接着剤を適宜使用することができる。なお、剥離フィルム上に、波長選択吸収フィルタの材料の溶液を塗布した状態又はコーティング層が積層された状態で、適宜剥離フィルムごと延伸することができる。
コーティング法では、剥離フィルムに波長選択吸収フィルタの材料の溶液を塗布し、コーティング層を形成する。剥離フィルム表面には、コーティング層との接着性を制御するため、適宜、離型剤等を予め塗布しておいてもよい。コーティング層は、後工程で接着層を介して他の部材と積層させた後、剥離フィルムを剥離して用いることができる。接着層を構成する接着剤については、任意の接着剤を適宜使用することができる。なお、剥離フィルム上に、波長選択吸収フィルタの材料の溶液を塗布した状態又はコーティング層が積層された状態で、適宜剥離フィルムごと延伸することができる。
波長選択吸収フィルタ材料の溶液に用いられる溶媒は、波長選択吸収フィルタ材料を溶解又は分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で適宜選択することができる。
-染料(色素)及び褪色防止剤等の添加-
波長選択吸収フィルタ材料に上記染料を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、上記マトリックス樹脂の合成時点で添加してもよいし、波長選択吸収フィルタ材料のコーティング液調製時に波長選択吸収フィルタ材料と混合してもよい。その他、褪色防止剤等の波長選択吸収フィルタ中に含有していてもよいその他の成分についても同様である。
波長選択吸収フィルタ材料に上記染料を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、上記マトリックス樹脂の合成時点で添加してもよいし、波長選択吸収フィルタ材料のコーティング液調製時に波長選択吸収フィルタ材料と混合してもよい。その他、褪色防止剤等の波長選択吸収フィルタ中に含有していてもよいその他の成分についても同様である。
-剥離フィルム-
本発明の波長選択吸収フィルタを、コーティング法等で形成させるために用いられる剥離フィルムは、膜厚が5~100μmであることが好ましく、10~75μmがより好ましく、15~55μmがさらに好ましい。膜厚が上記好ましい下限値以上であると、十分な機械強度を確保しやすく、カール、シワ、座屈等の故障が生じにくい。また、膜厚が上記好ましい上限値以下であると、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの複層フィルムを、例えば長尺のロール形態で保管する場合に、複層フィルムにかかる面圧を適正な範囲に調整しやすく、接着の故障が生じにくい。
本発明の波長選択吸収フィルタを、コーティング法等で形成させるために用いられる剥離フィルムは、膜厚が5~100μmであることが好ましく、10~75μmがより好ましく、15~55μmがさらに好ましい。膜厚が上記好ましい下限値以上であると、十分な機械強度を確保しやすく、カール、シワ、座屈等の故障が生じにくい。また、膜厚が上記好ましい上限値以下であると、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの複層フィルムを、例えば長尺のロール形態で保管する場合に、複層フィルムにかかる面圧を適正な範囲に調整しやすく、接着の故障が生じにくい。
剥離フィルムの表面エネルギーは、特に限定されることはないが、波長選択吸収フィルタの材料及びコーティング溶液の表面エネルギーと、剥離フィルムの本発明の波長選択吸収フィルタを形成させる側の表面の表面エネルギーとの関係性を調整することによって、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの間の接着力を調整することができる。表面エネルギー差を小さくすれば、接着力が上昇する傾向があり、表面エネルギー差を大きくすれば、接着力が低下する傾向があり、適宜設定することができる。
水及びヨウ化メチレンの接触角値からOwensの方法を用いて、剥離フィルムの表面エネルギーを計算することが出来る。接触角の測定には、例えば、DM901(協和界面科学(株)製、接触角計)を用いることができる。
剥離フィルムの本発明の波長選択吸収フィルタを形成する側の表面エネルギーは、41.0~48.0mN/mであることが好ましく、42.0~48.0mN/mであることがより好ましい。表面エネルギーが上記好ましい下限値以上であると、本発明の波長選択吸収フィルタの厚みの均一性を高められ、上記好ましい上限値以下であると、本発明の波長選択吸収フィルタを剥離フィルムとの剥離力を適切な範囲に制御しやすい。
剥離フィルムの本発明の波長選択吸収フィルタを形成する側の表面エネルギーは、41.0~48.0mN/mであることが好ましく、42.0~48.0mN/mであることがより好ましい。表面エネルギーが上記好ましい下限値以上であると、本発明の波長選択吸収フィルタの厚みの均一性を高められ、上記好ましい上限値以下であると、本発明の波長選択吸収フィルタを剥離フィルムとの剥離力を適切な範囲に制御しやすい。
また、剥離フィルムの表面凹凸は、特に限定されることはないが、本発明の波長選択吸収フィルタ表面の表面エネルギー、硬度、表面凹凸と、剥離フィルムの本発明の波長選択吸収フィルタを形成させる側とは反対側の表面の表面エネルギー、硬度との関係性に応じて、例えば、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの複層フィルムを長尺のロール形態で保管する場合の接着故障を防ぐ目的で調整することができる。表面凹凸を大きくすれば、接着故障を抑制する傾向にあり、表面凹凸を小さくすれば、本発明の波長選択吸収フィルタの表面凹凸が減少し、本発明の波長選択吸収フィルタのヘイズが小さくなる傾向にあり、適宜設定することができる。
このような剥離フィルムとしては、任意の素材及びフィルムを適宜使用することができる。具体的な材料として、ポリエステル系ポリマー(ポリエチレンテレフタレート系フィルムを含む)、オレフィン系ポリマー、シクロオレフィン系ポリマー、(メタ)アクリル系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリアミド系ポリマー等を挙げることができる。また、剥離フィルムの表面性を調整する目的で、適宜表面処理を行うことが出来る。表面エネルギーを低下させるには、例えば、コロナ処理、常温プラズマ処理、鹸化処理等を行うことができ、表面エネルギーを上昇させるには、シリコーン処理、フッ素処理、オレフィン処理等を行うことができる。
-波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの剥離力-
本発明の波長選択吸収フィルタを、コーティング法で形成させる場合、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの間の剥離力は、本発明の波長選択吸収フィルタの材料、剥離フィルムの材料、本発明の波長選択吸収フィルタの内部歪み等を調整して制御することができる。この剥離力は、例えば、剥離フィルムを90°方向に剥がす試験で測定することができ、300mm/分の速度で測定したときの剥離力が、0.001~5N/25mmが好ましく、0.01~3N/25mmがより好ましく、0.05~1N/25mmがさらに好ましい。上記好ましい下限値以上であれば、剥離フィルムの剥離工程以外での剥離を防ぐことができ、上記好ましい上限値以下であれば、剥離工程における剥離不良(例えば、ジッピング及び本発明の波長選択吸収フィルタの割れ)を防ぐことができる。
本発明の波長選択吸収フィルタを、コーティング法で形成させる場合、本発明の波長選択吸収フィルタと剥離フィルムとの間の剥離力は、本発明の波長選択吸収フィルタの材料、剥離フィルムの材料、本発明の波長選択吸収フィルタの内部歪み等を調整して制御することができる。この剥離力は、例えば、剥離フィルムを90°方向に剥がす試験で測定することができ、300mm/分の速度で測定したときの剥離力が、0.001~5N/25mmが好ましく、0.01~3N/25mmがより好ましく、0.05~1N/25mmがさらに好ましい。上記好ましい下限値以上であれば、剥離フィルムの剥離工程以外での剥離を防ぐことができ、上記好ましい上限値以下であれば、剥離工程における剥離不良(例えば、ジッピング及び本発明の波長選択吸収フィルタの割れ)を防ぐことができる。
<本発明の波長選択吸収フィルタの膜厚>
本発明の波長選択吸収フィルタの膜厚は、特に制限されないが、1~18μmが好ましく、1~12μmがより好ましく、2~8μmがさらに好ましい。上記好ましい上限値以下であれば、薄いフィルムに高濃度で染料を添加することにより、褪色防止剤の効果も発現しやすくすることができる。一方、上記好ましい下限値以上であると、面内の吸光度の均一度を維持しやすくなる。
本発明において膜厚が1~18μmであるとは、本発明の波長選択吸収フィルタの厚さを、どの部位で図っても1~18μmの範囲内にあることを意味する。このことは、膜厚1~12μm、2~8μmについても同様である。膜厚は、アンリツ(株)社製電子マイクロメーターにより測定することができる。
本発明の波長選択吸収フィルタの膜厚は、特に制限されないが、1~18μmが好ましく、1~12μmがより好ましく、2~8μmがさらに好ましい。上記好ましい上限値以下であれば、薄いフィルムに高濃度で染料を添加することにより、褪色防止剤の効果も発現しやすくすることができる。一方、上記好ましい下限値以上であると、面内の吸光度の均一度を維持しやすくなる。
本発明において膜厚が1~18μmであるとは、本発明の波長選択吸収フィルタの厚さを、どの部位で図っても1~18μmの範囲内にあることを意味する。このことは、膜厚1~12μm、2~8μmについても同様である。膜厚は、アンリツ(株)社製電子マイクロメーターにより測定することができる。
<相対輝度>
本発明の波長選択吸収フィルタを画像表示装置の前面に用いた場合における相対輝度は、82.0%以上が好ましく、82.4%以上がより好ましい。上限値に特に制限はないが、95%以下が実際的である。
上記相対輝度は、後述の実施例に記載の方法により算出される値であり、染料A及び染料Cを含有しない対照用のフィルタを備えた表示装置の輝度を基準値とする相対輝度である。
本発明の波長選択吸収フィルタを画像表示装置の前面に用いた場合における相対輝度は、82.0%以上が好ましく、82.4%以上がより好ましい。上限値に特に制限はないが、95%以下が実際的である。
上記相対輝度は、後述の実施例に記載の方法により算出される値であり、染料A及び染料Cを含有しない対照用のフィルタを備えた表示装置の輝度を基準値とする相対輝度である。
<本発明の波長選択吸収フィルタの色域>
また、本発明の波長選択吸収フィルタを画像表示装置の前面に用いた場合における色再現域は、DCI-P3で規定される色域に対するカバー率が80.0%以上であることが好ましく、83.0%以上であることがより好ましく、85.0%以上であることがさらに好ましい。上限値に特に制限はないが、99%以下が実際的である。
また、本発明の波長選択吸収フィルタを画像表示装置の前面に用いた場合における色再現域は、NTSCで規定される色域に対するカバー率が77.0%以上であることが好ましい。上限値に特に制限はないが、99%以下が実際的である。
上記の色域は、後述の実施例に記載の方法により、本発明の波長選択吸収フィルタを備えた表示装置について、それぞれ算出される値である。
また、本発明の波長選択吸収フィルタを画像表示装置の前面に用いた場合における色再現域は、DCI-P3で規定される色域に対するカバー率が80.0%以上であることが好ましく、83.0%以上であることがより好ましく、85.0%以上であることがさらに好ましい。上限値に特に制限はないが、99%以下が実際的である。
また、本発明の波長選択吸収フィルタを画像表示装置の前面に用いた場合における色再現域は、NTSCで規定される色域に対するカバー率が77.0%以上であることが好ましい。上限値に特に制限はないが、99%以下が実際的である。
上記の色域は、後述の実施例に記載の方法により、本発明の波長選択吸収フィルタを備えた表示装置について、それぞれ算出される値である。
<本発明の波長選択吸収フィルタの耐光性>
本発明の波長選択吸収フィルタは、外光による表示性能の劣化の防止の観点から、耐光性を備えることが好ましい。上記耐光性は、具体的には、以下のようにして評価する。
本発明の波長選択吸収フィルタについて、スガ試験機社製のスーパーキセノンウェザーメーターSX75(商品名、光源:7.5kW 水冷式キセノンランプ、照射照度:150W/m2(紫外線300~400nm))を用いて、60℃、相対湿度50%の環境下において200時間光を照射する。この光照射前後における吸収極大値をそれぞれ測定し、以下の式により耐光性を算出する。
[耐光性(%)]=([200時間光照射後の吸収極大値]/[光照射前の吸収極大値])×100
上記耐光性試験は加速試験に該当するため、実用上のレベルとしては、10%以上の耐光性を示していれば問題はない。本発明の波長選択吸収フィルタとしては、上記耐光性は、50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。上限値に特に制限はないが、98%以下が実際的である。
本発明の波長選択吸収フィルタは、外光による表示性能の劣化の防止の観点から、耐光性を備えることが好ましい。上記耐光性は、具体的には、以下のようにして評価する。
本発明の波長選択吸収フィルタについて、スガ試験機社製のスーパーキセノンウェザーメーターSX75(商品名、光源:7.5kW 水冷式キセノンランプ、照射照度:150W/m2(紫外線300~400nm))を用いて、60℃、相対湿度50%の環境下において200時間光を照射する。この光照射前後における吸収極大値をそれぞれ測定し、以下の式により耐光性を算出する。
[耐光性(%)]=([200時間光照射後の吸収極大値]/[光照射前の吸収極大値])×100
上記耐光性試験は加速試験に該当するため、実用上のレベルとしては、10%以上の耐光性を示していれば問題はない。本発明の波長選択吸収フィルタとしては、上記耐光性は、50%以上であることが好ましく、70%以上であることがより好ましい。上限値に特に制限はないが、98%以下が実際的である。
<本発明の波長選択吸収フィルタの吸光度>
本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、波長400~450nmにおいて最も大きい吸光度を示す極大吸収波長における吸光度(以下、単に「Ab(λmax)」とも称す。)は、0.05以上が好ましく、0.10以上がより好ましく、0.20以上がさらに好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、波長560~600nmにおいて最も大きい吸光度を示す極大吸収波長における吸光度(以下、単に「Ab(λmax)」とも称す。)は、0.10以上が好ましく、0.20以上がより好ましく、0.30以上がさらに好ましい。
ただし、本発明の波長選択吸収フィルタの吸光度は、染料の種類、添加量又は膜厚により調整することができる。
上記吸光度は、実施例に記載の方法により測定、算出することができる。
本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、波長400~450nmにおいて最も大きい吸光度を示す極大吸収波長における吸光度(以下、単に「Ab(λmax)」とも称す。)は、0.05以上が好ましく、0.10以上がより好ましく、0.20以上がさらに好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタにおいて、波長560~600nmにおいて最も大きい吸光度を示す極大吸収波長における吸光度(以下、単に「Ab(λmax)」とも称す。)は、0.10以上が好ましく、0.20以上がより好ましく、0.30以上がさらに好ましい。
ただし、本発明の波長選択吸収フィルタの吸光度は、染料の種類、添加量又は膜厚により調整することができる。
上記吸光度は、実施例に記載の方法により測定、算出することができる。
<本発明の波長選択吸収フィルタの含水率>
本発明の波長選択吸収フィルタの含水率は、耐久性の観点から、膜厚に関わらず、25℃、相対湿度80%の条件において、0.5質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以下であることがより好ましい。
本明細書において、本発明の波長選択吸収フィルタの含水率は、必要に応じて膜厚を厚くした試料を用いて測定することができる。試料を24時間以上調湿した後に、水分測定器、試料乾燥装置“CA-03”及び“VA-05”(共に三菱化学(株)製)にてカールフィッシャー法で測定し、水分量(g)を試料質量(g、水分量を含む)で除して算出できる。
本発明の波長選択吸収フィルタの含水率は、耐久性の観点から、膜厚に関わらず、25℃、相対湿度80%の条件において、0.5質量%以下であることが好ましく、0.3質量%以下であることがより好ましい。
本明細書において、本発明の波長選択吸収フィルタの含水率は、必要に応じて膜厚を厚くした試料を用いて測定することができる。試料を24時間以上調湿した後に、水分測定器、試料乾燥装置“CA-03”及び“VA-05”(共に三菱化学(株)製)にてカールフィッシャー法で測定し、水分量(g)を試料質量(g、水分量を含む)で除して算出できる。
<本発明の波長選択吸収フィルタの処理>
本発明の波長選択吸収フィルタには任意のグロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などにより親水化処理を施すことが好ましく、コロナ放電処理が最も好ましく用いられる。特開平6-94915号公報、又は同6-118232号公報などに開示されている方法などを適用することも好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタには任意のグロー放電処理、コロナ放電処理、又は、アルカリ鹸化処理などにより親水化処理を施すことが好ましく、コロナ放電処理が最も好ましく用いられる。特開平6-94915号公報、又は同6-118232号公報などに開示されている方法などを適用することも好ましい。
なお、得られた膜には、必要に応じて、熱処理工程、過熱水蒸気接触工程、有機溶媒接触工程などを実施することができる。また、適宜に表面処理を実施してもよい。
また、粘着剤層として、(メタ)アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、シリコーン系樹脂等をベースポリマーとし、そこに、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物のような架橋剤を加えた粘着剤組成物からなる層を適用することもできる。
好ましくは、後述のOLED表示装置における粘着剤層の記載を適用することができる。
好ましくは、後述のOLED表示装置における粘着剤層の記載を適用することができる。
<本発明の波長選択吸収フィルタの用途>
本発明の波長選択吸収フィルタは、テレビ、ノートブック型もしくはデスクトップ型パソコン、スマートフォン、又は、タブレット等の画像表示装置に好適に適用することができる。
以下、画像表示装置のうち、液晶表示装置およびOLED表示装置について、詳述する。
本発明の波長選択吸収フィルタは、テレビ、ノートブック型もしくはデスクトップ型パソコン、スマートフォン、又は、タブレット等の画像表示装置に好適に適用することができる。
以下、画像表示装置のうち、液晶表示装置およびOLED表示装置について、詳述する。
[液晶表示装置]
本発明の液晶表示装置は、本発明の波長選択吸収フィルタを含む。
本発明の液晶表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、後述のとおり偏光板保護フィルム及び粘着剤層の少なくともいずれかとして使用されてもよく、液晶表示装置に用いるバックライトユニットに含まれていてもよい。
本発明の液晶表示装置は、本発明の波長選択吸収フィルタを含む。
本発明の液晶表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、後述のとおり偏光板保護フィルム及び粘着剤層の少なくともいずれかとして使用されてもよく、液晶表示装置に用いるバックライトユニットに含まれていてもよい。
液晶表示装置は、波長選択吸収フィルタと、偏光子及び偏光板保護フィルムを含む偏光板と、粘着剤層と、液晶セルとを含むことが好ましく、偏光板は粘着剤層を介して液晶セルに張り合わされていることが好ましい。この液晶表示装置において、波長選択吸収フィルタは、偏光板保護フィルム又は粘着剤層を兼ねていてもよい。すなわち、液晶表示装置は、偏光子及び波長選択吸収フィルタ(偏光板保護フィルム)を含む偏光板と、粘着剤層と、液晶セルとを含む場合と、偏光子及び偏光板保護フィルムを含む偏光板と、波長選択吸収フィルタ(粘着剤層)と、液晶セルとを含む場合とに分けられる。
図1は、本発明の液晶表示装置の例を示す概略図である。図1において、液晶表示装置10は、液晶層5とこの上下に配置された液晶セルの上側電極基板3及び液晶セルの下側電極基板6とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板1及び下側偏光板8からなる。上側電極基板3又は下側電極基板6にカラーフィルター層が積層されていてもよい。上記液晶表示装置10の背面にはバックライトを配置する。バックライトの光源としては、前述のバックライトユニットにおいて説明したものを使用することができる。
上側偏光板1及び下側偏光板8は、それぞれ2枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有しており、液晶表示装置10は、少なくとも一方の偏光板が本発明の波長選択吸収フィルタを含む偏光板であることが好ましい。
また、液晶表示装置10において、上記液晶セルと偏光板(上側偏光板1及び/又は下側偏光板8)とが粘着剤層(図示せず)を介して張り合わされていてもよい。この場合、本発明の波長選択吸収フィルタは、前述の粘着剤層を兼ねていてもよい。
液晶表示装置10には、画像直視型、画像投影型又は光変調型が含まれる。TFT又はMIM(Metal-Insulator-Metal)のような3端子又は2端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるSTN(Super Twisted Nematic)モードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。
本発明の波長選択吸収フィルタがバックライトユニットに含まれている場合には、液晶表示装置の偏光板は、通常の偏光板(本発明の波長選択吸収フィルタを含まない偏光板)でもよく、本発明の波長選択吸収フィルタを含む偏光板でもよい。また、粘着剤層は、通常の粘着剤層(本発明の波長選択吸収フィルタでないもの)でもよく、本発明の波長選択吸収フィルタによる粘着剤層でもよい。
また、液晶表示装置10において、上記液晶セルと偏光板(上側偏光板1及び/又は下側偏光板8)とが粘着剤層(図示せず)を介して張り合わされていてもよい。この場合、本発明の波長選択吸収フィルタは、前述の粘着剤層を兼ねていてもよい。
液晶表示装置10には、画像直視型、画像投影型又は光変調型が含まれる。TFT又はMIM(Metal-Insulator-Metal)のような3端子又は2端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置が本発明は有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるSTN(Super Twisted Nematic)モードに代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置でも有効である。
本発明の波長選択吸収フィルタがバックライトユニットに含まれている場合には、液晶表示装置の偏光板は、通常の偏光板(本発明の波長選択吸収フィルタを含まない偏光板)でもよく、本発明の波長選択吸収フィルタを含む偏光板でもよい。また、粘着剤層は、通常の粘着剤層(本発明の波長選択吸収フィルタでないもの)でもよく、本発明の波長選択吸収フィルタによる粘着剤層でもよい。
特開2010-102296号公報の段落0128~0136に記載のIPS(In Plane Switching)モードの液晶表示装置は、本発明の波長選択吸収フィルタを用いる以外は、本発明の液晶表示装置として好ましい。すなわち、本発明の液晶表示装置としては、上述のようにして本発明の波長選択吸収フィルタを含む点以外は、特開2010-102296号公報に記載のIPSモードの液晶表示装置の記載を好ましく適用することができる。
<偏光板>
本発明に用いる偏光板は、偏光子、及び少なくとも1枚の偏光板保護フィルムを含む。
本発明に用いる偏光板は、偏光子と、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを有するものであることが好ましく、少なくとも一方の面に、本発明の波長選択吸収フィルタを偏光板保護フィルムとして含むことがより好ましい。偏光子の、本発明の波長選択吸収フィルタ(本発明の偏光板保護フィルム)を有する面とは反対の面には、通常の偏光板保護フィルムを有してもよい。
偏光板保護フィルムの膜厚は、通常、5μm以上120μm以下が好ましく、10μm以上100μm以下がより好ましい。薄いフィルムの方が液晶表示装置に組み込んだ際に高温高湿経時後の表示ムラが発生しにくく好ましい。一方、薄すぎるとフィルム製造及び偏光板作製時に安定に搬送させることが難しくなる。本発明の波長選択吸収フィルタが偏光板保護フィルムを兼ねる場合には、波長選択吸収フィルタの厚さが上記範囲を満たすことが好ましい。
本発明に用いる偏光板は、偏光子、及び少なくとも1枚の偏光板保護フィルムを含む。
本発明に用いる偏光板は、偏光子と、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを有するものであることが好ましく、少なくとも一方の面に、本発明の波長選択吸収フィルタを偏光板保護フィルムとして含むことがより好ましい。偏光子の、本発明の波長選択吸収フィルタ(本発明の偏光板保護フィルム)を有する面とは反対の面には、通常の偏光板保護フィルムを有してもよい。
偏光板保護フィルムの膜厚は、通常、5μm以上120μm以下が好ましく、10μm以上100μm以下がより好ましい。薄いフィルムの方が液晶表示装置に組み込んだ際に高温高湿経時後の表示ムラが発生しにくく好ましい。一方、薄すぎるとフィルム製造及び偏光板作製時に安定に搬送させることが難しくなる。本発明の波長選択吸収フィルタが偏光板保護フィルムを兼ねる場合には、波長選択吸収フィルタの厚さが上記範囲を満たすことが好ましい。
-偏光板の性能-
本発明に用いる偏光板は、偏光度99.950%以上であることが好ましく、より好ましい範囲としては99.970%であり、最も好ましくは99.990%以上である。
本発明に用いる偏光板は、偏光度99.950%以上であることが好ましく、より好ましい範囲としては99.970%であり、最も好ましくは99.990%以上である。
本発明において、偏光板の偏光度は、自動偏光フィルム測定装置:VAP-7070(商品名、日本分光社製)を用いて、波長380~700nmで測定した直交透過率及び平行透過率から以下の式により算出する。
偏光度(%)=[(平行透過率-直交透過率)/(直交透過率+平行透過率)]1/2×100
偏光度は、次のようにして測定できる。粘着剤を介してガラスの上に偏光板を貼り付けたサンプル(5cm×5cm)を2つ作製する。直交透過率及び平行透過率は、このサンプルのガラスの側を光源に向けてセットして、測定する。2つのサンプルについて測定し、その平均値を、それぞれ、直交透過率及び平行透過率とする。偏光板保護フィルムの偏光度に与える影響を調べる場合には、通常、評価対象とする偏光板保護フィルムをガラス側に配置して貼り付ける。
偏光度(%)=[(平行透過率-直交透過率)/(直交透過率+平行透過率)]1/2×100
偏光度は、次のようにして測定できる。粘着剤を介してガラスの上に偏光板を貼り付けたサンプル(5cm×5cm)を2つ作製する。直交透過率及び平行透過率は、このサンプルのガラスの側を光源に向けてセットして、測定する。2つのサンプルについて測定し、その平均値を、それぞれ、直交透過率及び平行透過率とする。偏光板保護フィルムの偏光度に与える影響を調べる場合には、通常、評価対象とする偏光板保護フィルムをガラス側に配置して貼り付ける。
本発明に用いる偏光板のその他の好ましい光学特性等については特開2007-086748号公報の[0238]~[0255]に記載されており、これらの特性を満たすことが好ましい。
-形状、構成-
本発明に用いる偏光板の形状は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様(例えば、ロール長2500m以上又は3900m以上の態様)の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は1470mm以上とすることが好ましい。
本発明に用いる偏光板の形状は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様(例えば、ロール長2500m以上又は3900m以上の態様)の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は1470mm以上とすることが好ましい。
本発明に用いる偏光板は、偏光子及び少なくとも1枚の偏光板保護フィルムで構成されているが、更に偏光板の一方の面の表面にセパレートフィルムを貼合して構成されることも好ましい。
セパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
セパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
(偏光子)
本発明に用いる偏光板に用いられる偏光子について説明する。
本発明に用いる偏光板に用いることができる偏光子としては、ポリビニルアルコール(PVA)と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平11-248937号公報に記載されているようにPVA、ポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。
本発明に用いる偏光板に用いられる偏光子について説明する。
本発明に用いる偏光板に用いることができる偏光子としては、ポリビニルアルコール(PVA)と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平11-248937号公報に記載されているようにPVA、ポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。
-偏光子の膜厚-
偏光子の延伸前のフィルム膜厚は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、1μm~1mmが好ましく、5~200μmが特に好ましい。また、特開2002-236212号に記載されているように、水中において4~6倍の延伸を行った時に発生する応力が10N以下となるような薄いPVAフィルムを使用してもよい。
偏光子の延伸前のフィルム膜厚は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、1μm~1mmが好ましく、5~200μmが特に好ましい。また、特開2002-236212号に記載されているように、水中において4~6倍の延伸を行った時に発生する応力が10N以下となるような薄いPVAフィルムを使用してもよい。
-偏光子の製造方法-
偏光子の製造方法としては、特に制限はないが、例えば、上記PVAをフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。PVAフィルムの製造は、特開2007-86748号公報の[0213]~[0237]に記載の方法、特許第3342516号明細書、特開平09-328593号公報、特開2001-302817号公報、特開2002-144401号公報等を参考にして行うことができる。
偏光子の製造方法としては、特に制限はないが、例えば、上記PVAをフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。PVAフィルムの製造は、特開2007-86748号公報の[0213]~[0237]に記載の方法、特許第3342516号明細書、特開平09-328593号公報、特開2001-302817号公報、特開2002-144401号公報等を参考にして行うことができる。
(偏光子と偏光板保護フィルムの積層方法)
本発明に用いる偏光板は、上記偏光子の少なくとも一方の面に、少なくとも1枚の偏光板保護フィルム(好ましくは、本発明の波長選択吸収フィルタ)を接着(積層)して製造される。
偏光板保護フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法により作製することが好ましい。
上記偏光板保護フィルムの処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
本発明に用いる偏光板は、上記偏光子の少なくとも一方の面に、少なくとも1枚の偏光板保護フィルム(好ましくは、本発明の波長選択吸収フィルタ)を接着(積層)して製造される。
偏光板保護フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法により作製することが好ましい。
上記偏光板保護フィルムの処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
本発明に用いる偏光板において、偏光板保護フィルムの上記偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と上記偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に平行、直交又は45°となるように貼り合せることが好ましい。
遅相軸の測定は、公知の種々の方法で測定することができ、例えば、複屈折計(KOBRADH、王子計測機器社製)を用いて行うことができる。
ここで、実質的に平行であるとは、偏光板保護フィルムの主屈折率nxの方向と偏光板の透過軸の方向とが、そのずれが±5°以内の角度で交わっていることをいい、±1°以内の角度で交わっていることが好ましく、±0.5°以内の角度で交わっていることがより好ましい。交わる角度が1°以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下しにくく、光抜けが生じにくく好ましい。
実質的に直行又は45°であることについても同様であり、主屈折率nxの方向と透過軸の方向とが直交又は45°となるとは、主屈折率nxの方向と透過軸の方向との交わる角度が、直交及び45°に関する厳密な角度から±5°の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、±1°の範囲内が好ましく、±0.5°の範囲内がより好ましい。
遅相軸の測定は、公知の種々の方法で測定することができ、例えば、複屈折計(KOBRADH、王子計測機器社製)を用いて行うことができる。
ここで、実質的に平行であるとは、偏光板保護フィルムの主屈折率nxの方向と偏光板の透過軸の方向とが、そのずれが±5°以内の角度で交わっていることをいい、±1°以内の角度で交わっていることが好ましく、±0.5°以内の角度で交わっていることがより好ましい。交わる角度が1°以内であれば、偏光板クロスニコル下での偏光度性能が低下しにくく、光抜けが生じにくく好ましい。
実質的に直行又は45°であることについても同様であり、主屈折率nxの方向と透過軸の方向とが直交又は45°となるとは、主屈折率nxの方向と透過軸の方向との交わる角度が、直交及び45°に関する厳密な角度から±5°の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、±1°の範囲内が好ましく、±0.5°の範囲内がより好ましい。
(偏光板の機能化)
本発明に用いる偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア(防眩)層、防汚層、帯電防止層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア層については、特開2007-86748号公報の[0257]~[0276]に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作製することができる。
本発明に用いる偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア(防眩)層、防汚層、帯電防止層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア層については、特開2007-86748号公報の[0257]~[0276]に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作製することができる。
本発明の偏光板は、本発明の波長選択吸収フィルタを含んでいればよく、偏光子の少なくとも一方の面に、本発明の波長選択吸収フィルタを偏光板保護フィルムとして含むことが好ましい。
本発明の偏光板としては、本発明の波長選択吸収フィルタを含む点以外については、上述の本発明に用いる偏光板に係る記載を適用することができる。
本発明の偏光板としては、本発明の波長選択吸収フィルタを含む点以外については、上述の本発明に用いる偏光板に係る記載を適用することができる。
<粘着剤層>
本発明の液晶表示装置において、偏光板は粘着剤層を介して液晶セルと貼り合わされていることが好ましい。本発明の波長選択吸収フィルタは上記粘着剤層を兼ねていてもよい。本発明の波長選択吸収フィルタが粘着剤層を兼ねていない場合には、粘着剤層は通常の粘着剤層を用いることができる。
粘着剤層としては、偏光板と液晶セルとを貼り合せることができる限り特に限定されないが、例えば、アクリル系、ウレタン系、ポリイソブチレン等が好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、この粘着剤層は、上記色素と上記バインダー樹脂とを含み、さらに架橋剤、カップリグ剤等を含有して粘着性を付与されている。
波長選択吸収フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、粘着剤層は上記バインダー樹脂を90~99.94質量%含むことが好ましく、95~99.7質量%含むことが好ましい。色素の含有量は、上述したとおりである。
粘着剤層の厚さは、特に限定されないが、例えば、1~50μmが好ましく、3~30μmがより好ましい。
本発明の液晶表示装置において、偏光板は粘着剤層を介して液晶セルと貼り合わされていることが好ましい。本発明の波長選択吸収フィルタは上記粘着剤層を兼ねていてもよい。本発明の波長選択吸収フィルタが粘着剤層を兼ねていない場合には、粘着剤層は通常の粘着剤層を用いることができる。
粘着剤層としては、偏光板と液晶セルとを貼り合せることができる限り特に限定されないが、例えば、アクリル系、ウレタン系、ポリイソブチレン等が好ましい。
本発明の波長選択吸収フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、この粘着剤層は、上記色素と上記バインダー樹脂とを含み、さらに架橋剤、カップリグ剤等を含有して粘着性を付与されている。
波長選択吸収フィルタが粘着剤層を兼ねる場合、粘着剤層は上記バインダー樹脂を90~99.94質量%含むことが好ましく、95~99.7質量%含むことが好ましい。色素の含有量は、上述したとおりである。
粘着剤層の厚さは、特に限定されないが、例えば、1~50μmが好ましく、3~30μmがより好ましい。
<液晶セル>
液晶セルは、特に限定されず、通常のものを使用することができる。
液晶セルは、特に限定されず、通常のものを使用することができる。
[OLED表示装置]
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置(有機EL(electroluminescence)表示装置またはOLED(Organic Light Emitting Diode)表示装置と称され、本発明においては、OLED表示装置とも略す。)は、本発明の波長選択吸収フィルタを含む。
本発明の波長選択吸収フィルタを備えたOLED表示装置は、相対輝度の低下を抑制しつつ、高い色再現性を実現することができる。
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置(有機EL(electroluminescence)表示装置またはOLED(Organic Light Emitting Diode)表示装置と称され、本発明においては、OLED表示装置とも略す。)は、本発明の波長選択吸収フィルタを含む。
本発明の波長選択吸収フィルタを備えたOLED表示装置は、相対輝度の低下を抑制しつつ、高い色再現性を実現することができる。
本発明のOLED表示装置としては、本発明の波長選択吸収フィルタを含む限り、その他の構成としては、通常用いられているOLED表示装置の構成を特に制限なく用いることができる。本発明のOLED表示装置の構成例としては、特に制限されないが、例えば、外光に対して反対側から順に、ガラス、TFT(薄膜トランジスタ)を含む層、OLED表示素子、バリアフィルム、カラーフィルター、ガラス、粘着剤層、本発明の波長選択吸収フィルタ及び表面フィルムを含む表示装置が挙げられる。なお、上記ガスバリア層を設ける場合には、少なくとも本発明の波長選択吸収フィルタよりも外光側に位置するような構成で設ける。
上記OLED表示素子は、アノード電極、発光層及びカソード電極の順に積層した構成を有する。アノード電極及びカソード電極の間には、発光層の他に、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層及び電子注入層等を含んでいる。この他、例えば、特開2014-132522号公報の記載も参照することができる。
また、上記カラーフィルターとしては、通常のカラーフィルターに加え、量子ドットを積層したカラーフィルターを使用することもできる。
上記ガラスに代えて、樹脂フィルムを採用することもできる。
上記OLED表示素子は、アノード電極、発光層及びカソード電極の順に積層した構成を有する。アノード電極及びカソード電極の間には、発光層の他に、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層及び電子注入層等を含んでいる。この他、例えば、特開2014-132522号公報の記載も参照することができる。
また、上記カラーフィルターとしては、通常のカラーフィルターに加え、量子ドットを積層したカラーフィルターを使用することもできる。
上記ガラスに代えて、樹脂フィルムを採用することもできる。
本発明のOLED表示装置に適用できるOLEDのカラー画像の形成方法は、特に制限されず、R(赤)G(緑)B(青)の三色塗り分け方式、色変換方式及びカラーフィルター方式のいずれの方式も使用することができ、三色塗り分け方式を好適に使用することができる。そのため、本発明のOLED表示装置の光源としても、上記画像形成方式に対応する各発光層を適用することができる。例えば、OLED表示装置の発光源としては、B(Blue、460nm)、G(Green、520nm)及びR(Red、620nm)が使用される。
<粘着剤層>
本発明のOLED表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス(基材)と貼り合わされていることが好ましい。粘着剤としては、液晶表示装置の項に記載のものを用いることができる。
本発明のOLED表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス(基材)と貼り合わされていることが好ましい。粘着剤としては、液晶表示装置の項に記載のものを用いることができる。
<基材>
本発明のOLED表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス(基材)と貼り合わされていることが好ましい。
本発明のOLED表示装置において、本発明の波長選択吸収フィルタは、外光とは反対側に位置する面において、粘着剤層を介してガラス(基材)と貼り合わされていることが好ましい。
上記粘着剤層を形成する方法は特に限定されず、例えば、本発明の波長選択吸収フィルタにバーコーターなどの通常の手段で粘着剤組成物を塗布し、乾燥及び硬化させる方法;粘着剤組成物をまず、剥離性基材の表面に塗布、乾燥した後、剥離性基材を用いて粘着剤層を本発明の波長選択吸収フィルタに転写し、熟成、硬化させる方法などが用いられる。
剥離性基材としては、特に制限されず、任意の剥離性基材を使用することができ、例えば上述の本発明の波長選択吸収フィルタの製造方法における剥離フィルムが挙げられる。
その他、塗布、乾燥、熟成及び硬化の条件についても、常法に基づき、適宜調整することができる。
剥離性基材としては、特に制限されず、任意の剥離性基材を使用することができ、例えば上述の本発明の波長選択吸収フィルタの製造方法における剥離フィルムが挙げられる。
その他、塗布、乾燥、熟成及び硬化の条件についても、常法に基づき、適宜調整することができる。
以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例において組成を表す「部」及び「%」は、特に断らない限り質量基準である。
また、波長選択吸収フィルタ形成液の調製工程から、波長選択吸収フィルタ形成液を用いた基材つき波長選択吸収フィルタの作製工程及び耐光性試験に用いるまでの工程は、いずれも、紫外線が照射されないよう、黄色灯下で行った。
なお、以下の実施例において組成を表す「部」及び「%」は、特に断らない限り質量基準である。
また、波長選択吸収フィルタ形成液の調製工程から、波長選択吸収フィルタ形成液を用いた基材つき波長選択吸収フィルタの作製工程及び耐光性試験に用いるまでの工程は、いずれも、紫外線が照射されないよう、黄色灯下で行った。
実施例
[1.波長選択吸収フィルタの作製]
波長選択吸収フィルタの作製に用いた材料を次に示す。
<マトリックス樹脂>
(樹脂1)
ポリスチレン樹脂(PSジャパン(株)製、PSJ-ポリスチレン GPPSのSGP-10(商品名)、Tg 100℃、fd 0.56)を110℃で加熱し、常温(23℃)まで放冷したものを、樹脂1として用いた。
(樹脂2)
ポリフェニレンエーテル樹脂(旭化成(株)製、ザイロンS201A(商品名)、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキサイド)、Tg 210℃)
(伸長性樹脂成分1)
アサフレックス810(商品名、旭化成(株)製、スチレン-ブタジエン樹脂)
(剥離性制御樹脂成分1)
バイロン550(商品名、東洋紡(株)製、ポリエステル系添加剤)
[1.波長選択吸収フィルタの作製]
波長選択吸収フィルタの作製に用いた材料を次に示す。
<マトリックス樹脂>
(樹脂1)
ポリスチレン樹脂(PSジャパン(株)製、PSJ-ポリスチレン GPPSのSGP-10(商品名)、Tg 100℃、fd 0.56)を110℃で加熱し、常温(23℃)まで放冷したものを、樹脂1として用いた。
(樹脂2)
ポリフェニレンエーテル樹脂(旭化成(株)製、ザイロンS201A(商品名)、ポリ(2,6-ジメチル-1,4-フェニレンオキサイド)、Tg 210℃)
(伸長性樹脂成分1)
アサフレックス810(商品名、旭化成(株)製、スチレン-ブタジエン樹脂)
(剥離性制御樹脂成分1)
バイロン550(商品名、東洋紡(株)製、ポリエステル系添加剤)
<染料A>
(レベリング剤1)
下記構成成分で構成されるポリマー界面活性剤をレベリング剤1として用いた。下記構造式中、各構成成分の割合はモル比であり、t-Buはtert-ブチル基を意味する。
下記構成成分で構成されるポリマー界面活性剤をレベリング剤1として用いた。下記構造式中、各構成成分の割合はモル比であり、t-Buはtert-ブチル基を意味する。
(基材1)
ポリエチレンテレフタレートフィルム ルミラーXD-510P(商品名、膜厚50μm、東レ(株)製)を基材1として用いた。
ポリエチレンテレフタレートフィルム ルミラーXD-510P(商品名、膜厚50μm、東レ(株)製)を基材1として用いた。
<1>基材つき波長選択吸収フィルタNo.101の作製
(伸長性樹脂成分1のトルエン溶液の調製)
3.0質量部の伸長性樹脂成分1をトルエン97.0質量部に溶解した。次に、キョーワード700SEN-S(商品名、協和化学工業(株)製)を5質量部添加し、室温で1時間撹拌したのち、絶対濾過精度2.5μmの金属焼結フィルター(FH025(商品名)、ポール社製)にて濾過してキョーワード700SEN-Sを除去し、塩基成分を除去した、濃度3質量%の伸長性樹脂成分1のトルエン溶液を調製した。
3.0質量部の伸長性樹脂成分1をトルエン97.0質量部に溶解した。次に、キョーワード700SEN-S(商品名、協和化学工業(株)製)を5質量部添加し、室温で1時間撹拌したのち、絶対濾過精度2.5μmの金属焼結フィルター(FH025(商品名)、ポール社製)にて濾過してキョーワード700SEN-Sを除去し、塩基成分を除去した、濃度3質量%の伸長性樹脂成分1のトルエン溶液を調製した。
(1)波長選択吸収フィルタ形成液の調製
各成分を下記に示す組成で混合し、波長選択吸収フィルタ形成液(組成物)No.101を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
波長選択吸収フィルタ形成液No.101の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂1 44.9 質量部
樹脂2 17.5 質量部
伸長性樹脂成分1のトルエン溶液 667.7 質量部
(伸長性樹脂成分1の配合量は20.0質量部)
剥離性制御樹脂成分1 0.2 質量部
レベリング剤1 0.1 質量部
染料A:例示化合物E-24 3.9 質量部
染料C:例示化合物C-73 0.6 質量部
褪色防止剤1 12.4 質量部
トルエン(溶媒) 1063.3 質量部
シクロヘキサノン(溶媒) 190.0 質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
各成分を下記に示す組成で混合し、波長選択吸収フィルタ形成液(組成物)No.101を調製した。
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波長選択吸収フィルタ形成液No.101の組成
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樹脂1 44.9 質量部
樹脂2 17.5 質量部
伸長性樹脂成分1のトルエン溶液 667.7 質量部
(伸長性樹脂成分1の配合量は20.0質量部)
剥離性制御樹脂成分1 0.2 質量部
レベリング剤1 0.1 質量部
染料A:例示化合物E-24 3.9 質量部
染料C:例示化合物C-73 0.6 質量部
褪色防止剤1 12.4 質量部
トルエン(溶媒) 1063.3 質量部
シクロヘキサノン(溶媒) 190.0 質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
続いて、得られた波長選択吸収フィルタ形成液No.101を絶対濾過精度10μmの濾紙(#63、東洋濾紙(株)製)を用いて濾過し、さらに絶対濾過精度2.5μmの金属焼結フィルター(商品名:ポールフィルター PMF、メディアコード:FH025、ポール社製)を用いて濾過した。
(2)基材つき波長選択吸収フィルタの作製
上記濾過処理後の波長選択吸収フィルタ形成液No.101を、基材1上に、乾燥後の膜厚が2.5μmとなるようにバーコーターを用いて塗布し、130℃で乾燥し、基材つき波長選択吸収フィルタNo.101を作製した。
上記濾過処理後の波長選択吸収フィルタ形成液No.101を、基材1上に、乾燥後の膜厚が2.5μmとなるようにバーコーターを用いて塗布し、130℃で乾燥し、基材つき波長選択吸収フィルタNo.101を作製した。
<2>基材つき波長選択吸収フィルタNo.102~104、201~204の作製
染料の種類及び配合量を表1に記載の内容に変更した以外は基材つき波長選択吸収フィルタNo.101の作製と同様にして、波長選択吸収フィルタNo.102~104、および201~204を作製した。
ここで、No.101~104が本発明の波長選択吸収フィルタであり、No.202~204が比較のための波長選択吸収フィルタである。なお、No.201は、染料を含有しない、対照用のフィルタである。
これらのNo.101~104、202及び203の波長選択吸収フィルタは、後述の相対輝度が82.0~83.0%となるように染料Cの配合量を調節した。また、染料Aを含有するものに関しては、後述のNTSCカバー率が77.0%以上となるように染料Aの配合量を調節した。これにより、色域のカバー率の差を議論できるようにした。なお、後述するように、No.204の波長選択吸収フィルタでは、染料Aの配合量の調節によっては色域のカバー率を所望のレベルへと調節することができなかった。
染料の種類及び配合量を表1に記載の内容に変更した以外は基材つき波長選択吸収フィルタNo.101の作製と同様にして、波長選択吸収フィルタNo.102~104、および201~204を作製した。
ここで、No.101~104が本発明の波長選択吸収フィルタであり、No.202~204が比較のための波長選択吸収フィルタである。なお、No.201は、染料を含有しない、対照用のフィルタである。
これらのNo.101~104、202及び203の波長選択吸収フィルタは、後述の相対輝度が82.0~83.0%となるように染料Cの配合量を調節した。また、染料Aを含有するものに関しては、後述のNTSCカバー率が77.0%以上となるように染料Aの配合量を調節した。これにより、色域のカバー率の差を議論できるようにした。なお、後述するように、No.204の波長選択吸収フィルタでは、染料Aの配合量の調節によっては色域のカバー率を所望のレベルへと調節することができなかった。
[評価]
上記で作製した基材つき波長選択吸収フィルタについて、以下の評価を行った。結果をまとめて表1に示す。
上記で作製した基材つき波長選択吸収フィルタについて、以下の評価を行った。結果をまとめて表1に示す。
<波長選択吸収フィルタの吸収極大値>
島津製作所(株)製のUV3150分光光度計(商品名)を用いて、基材つき波長選択吸収フィルタについて、380nm~800nmの波長範囲における吸光度を、1nmごとに測定した。基材つき波長選択吸収フィルタの各波長λnmにおける吸光度Abx(λ)と、染料を含有しない対照用のフィルタ(すなわち、No.201の波長選択吸収フィルタ)の吸光度Ab0(λ)とを用いて、下記式より、波長選択吸収フィルタの吸光度Ab(λ)を算出した。
Ab(λ)=Abx(λ)-Ab0(λ)
以降、波長380~800nmの領域における波長選択吸収フィルタの吸光度Ab(λ)のうち、極大吸収を示す波長のうち最も大きい吸光度Ab(λ)を示す波長を極大吸収波長(以下、単に「λmax」とも称す。)とし、このλmaxにおける吸光度を吸収極大値(以下、単に「Ab(λmax)」とも称す。)とした。
島津製作所(株)製のUV3150分光光度計(商品名)を用いて、基材つき波長選択吸収フィルタについて、380nm~800nmの波長範囲における吸光度を、1nmごとに測定した。基材つき波長選択吸収フィルタの各波長λnmにおける吸光度Abx(λ)と、染料を含有しない対照用のフィルタ(すなわち、No.201の波長選択吸収フィルタ)の吸光度Ab0(λ)とを用いて、下記式より、波長選択吸収フィルタの吸光度Ab(λ)を算出した。
Ab(λ)=Abx(λ)-Ab0(λ)
以降、波長380~800nmの領域における波長選択吸収フィルタの吸光度Ab(λ)のうち、極大吸収を示す波長のうち最も大きい吸光度Ab(λ)を示す波長を極大吸収波長(以下、単に「λmax」とも称す。)とし、このλmaxにおける吸光度を吸収極大値(以下、単に「Ab(λmax)」とも称す。)とした。
[2.偏光板の作製]
<1>波長選択吸収フィルタの表面処理
No.101~104、201~204の基材つき波長選択吸収フィルタについて、基材フィルムとは反対側の面にコロナ処理を行い、表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタNo.101~104、201~204を作製した。
<1>波長選択吸収フィルタの表面処理
No.101~104、201~204の基材つき波長選択吸収フィルタについて、基材フィルムとは反対側の面にコロナ処理を行い、表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタNo.101~104、201~204を作製した。
<2>偏光子(偏光層)の作製
特開2001-141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み12μmのポリビニルアルコール樹脂を含む偏光層を作製した。
具体的には、厚さ75μmの長尺ポリビニルアルコールフィルム(クラレ社製、商品名:9X75RS)をガイドロールにて連続搬送し、30℃の水浴中に浸漬させて1.5倍に膨潤させ、かつ延伸処理して2倍の延伸倍率とした後、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の染色浴(30℃)に浸漬して染色処理すると共に延伸処理して3倍の延伸倍率とし、ついでそれをホウ酸とヨウ化カリウムを添加した酸性浴(60℃)中で架橋処理すると共に延伸処理して6.5倍の延伸倍率とし、50℃で5分間乾燥させて、偏光層を作製した。
特開2001-141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み12μmのポリビニルアルコール樹脂を含む偏光層を作製した。
具体的には、厚さ75μmの長尺ポリビニルアルコールフィルム(クラレ社製、商品名:9X75RS)をガイドロールにて連続搬送し、30℃の水浴中に浸漬させて1.5倍に膨潤させ、かつ延伸処理して2倍の延伸倍率とした後、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の染色浴(30℃)に浸漬して染色処理すると共に延伸処理して3倍の延伸倍率とし、ついでそれをホウ酸とヨウ化カリウムを添加した酸性浴(60℃)中で架橋処理すると共に延伸処理して6.5倍の延伸倍率とし、50℃で5分間乾燥させて、偏光層を作製した。
<3>フロント側偏光板保護膜(アウター偏光板保護膜)の作製
(1)(メタ)アクリル樹脂Aの調製
攪拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入管を備えた内容積30Lの反応釜に、メタクリル酸メチル(MMA)8000g、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)2000g及び重合溶媒としてトルエン10000gを仕込み、これに窒素を通じつつ、107℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてt-アミルパーオキシイソノナノエート10gを添加するとともに、t-アミルパーオキシイソノナノエート20gとトルエン100gとからなる溶液を2時間かけて滴下しながら、約105~110℃の環流下で溶液重合を進行させ、さらに4時間の熟成を行った。重合反応率は95%、得られた重合体におけるMHMAの含有率(質量比)は20%であった。
(1)(メタ)アクリル樹脂Aの調製
攪拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入管を備えた内容積30Lの反応釜に、メタクリル酸メチル(MMA)8000g、2-(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル(MHMA)2000g及び重合溶媒としてトルエン10000gを仕込み、これに窒素を通じつつ、107℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてt-アミルパーオキシイソノナノエート10gを添加するとともに、t-アミルパーオキシイソノナノエート20gとトルエン100gとからなる溶液を2時間かけて滴下しながら、約105~110℃の環流下で溶液重合を進行させ、さらに4時間の熟成を行った。重合反応率は95%、得られた重合体におけるMHMAの含有率(質量比)は20%であった。
次に、得られた重合溶液に、環化触媒として10gのリン酸ステアリルとリン酸ジステアリルの混合物(堺化学工業製、商品名:Phoslex A-18)を加え、約80~100℃の環流下において5.5時間、環化縮合反応を進行させた。
次に、得られた環化縮合反応を進行させた重合溶液を、バレル温度260℃、回転速度100rpm、減圧度13~400hPa(10~300mmHg)、リアベント数1個及びフォアベント数4個のベントタイプスクリュー二軸押出機(φ=29.75mm、L/D=30、Lはスクリューの外径を示し、Dはスクリューの長さを示す。)に、樹脂量換算で2.0kg/時の処理速度で導入し、押出機内で環化縮合反応及び脱揮を行った。次に、脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端から排出し、ペレタイザーによりペレット化して、(メタ)アクリル樹脂Aを得た。(メタ)アクリル樹脂Aはラクトン環構造を有する。この樹脂の質量平均分子量は110000、ガラス転移温度は125℃であった。
(2)アウター偏光板保護膜の作製
上記(メタ)アクリル樹脂Aを100質量部とゴム質弾性体C-1を10質量部とを二軸押し出し機に供給し、約280℃でシート状に溶融押し出しして、厚さ40μmの長尺状のアウター偏光板保護膜を作製した。なお、ゴム質弾性体C-1としては、カネエースM-210(商品名、カネカ社製)を用いた。
本発明において、フロント側偏光板保護膜とは、液晶パネルの両面に設けられる偏光板のうち、液晶表示装置に組み込んだ際に視認者側に位置する偏光板の保護膜を意味し、アウター偏光板保護膜とは、偏光子の両側に設けられる偏光板保護膜のうち、液晶表示装置に組み込んだ際に液晶パネルから遠い側に位置する偏光板保護膜を意味する。
上記(メタ)アクリル樹脂Aを100質量部とゴム質弾性体C-1を10質量部とを二軸押し出し機に供給し、約280℃でシート状に溶融押し出しして、厚さ40μmの長尺状のアウター偏光板保護膜を作製した。なお、ゴム質弾性体C-1としては、カネエースM-210(商品名、カネカ社製)を用いた。
本発明において、フロント側偏光板保護膜とは、液晶パネルの両面に設けられる偏光板のうち、液晶表示装置に組み込んだ際に視認者側に位置する偏光板の保護膜を意味し、アウター偏光板保護膜とは、偏光子の両側に設けられる偏光板保護膜のうち、液晶表示装置に組み込んだ際に液晶パネルから遠い側に位置する偏光板保護膜を意味する。
<4>偏光板の作製
上記で作製した、表面処理した基材付き波長選択吸収フィルタと、偏光層と、アウター偏光板保護膜とがこの順に貼り合わされた偏光板を、以下のようにして作製した。波長選択吸収フィルタは、偏光板においてインナー偏光板保護膜として機能する。
まず、上記偏光層と、上記表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタを、この波長選択吸収フィルタ(インナー偏光板保護膜)のコロナ処理面が偏光層側になるように、ポリビニルアルコール(クラレ社製、商品名:PVA-117H)の3質量%水溶液を用いて、偏光層の吸収軸と表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタの長手方向とが平行になるようにロールツーロールで積層し、積層体Aを得た。なお、表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタの長手方向とは、基材1の長尺方向を意味する。
つぎに、アウター偏光板保護膜に下記組成の接着剤Mを、マイクログラビアコーターを用いて、厚さ5μmになるように塗工し、接着剤付きフロント側偏光板保護膜を調製した。次いで、この接着剤付きフロント側偏光板保護膜と上記積層体Aを、接着剤付きフロント側偏光板保護膜の接着剤が付いている側の面と、上記積層体Aの偏光層の面とを貼り合わせ、積層体Aの側から紫外線を照射して、偏光板を作製した。なお、ライン速度は20m/min、紫外線の積算光量300mJ/cm2とした。ここで、偏光子(偏光層)の透過軸とアウター偏光板保護膜の搬送方向とが直交するように配置した。
-接着剤Mの組成-
2-ヒドロキシエチルアクリレート 100質量部
トリレンジイソシアネート 10質量部
光重合開始剤(商品名:イルガキュア907、BASF社製) 3質量部
上記で作製した、表面処理した基材付き波長選択吸収フィルタと、偏光層と、アウター偏光板保護膜とがこの順に貼り合わされた偏光板を、以下のようにして作製した。波長選択吸収フィルタは、偏光板においてインナー偏光板保護膜として機能する。
まず、上記偏光層と、上記表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタを、この波長選択吸収フィルタ(インナー偏光板保護膜)のコロナ処理面が偏光層側になるように、ポリビニルアルコール(クラレ社製、商品名:PVA-117H)の3質量%水溶液を用いて、偏光層の吸収軸と表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタの長手方向とが平行になるようにロールツーロールで積層し、積層体Aを得た。なお、表面処理した基材つき波長選択吸収フィルタの長手方向とは、基材1の長尺方向を意味する。
つぎに、アウター偏光板保護膜に下記組成の接着剤Mを、マイクログラビアコーターを用いて、厚さ5μmになるように塗工し、接着剤付きフロント側偏光板保護膜を調製した。次いで、この接着剤付きフロント側偏光板保護膜と上記積層体Aを、接着剤付きフロント側偏光板保護膜の接着剤が付いている側の面と、上記積層体Aの偏光層の面とを貼り合わせ、積層体Aの側から紫外線を照射して、偏光板を作製した。なお、ライン速度は20m/min、紫外線の積算光量300mJ/cm2とした。ここで、偏光子(偏光層)の透過軸とアウター偏光板保護膜の搬送方向とが直交するように配置した。
-接着剤Mの組成-
2-ヒドロキシエチルアクリレート 100質量部
トリレンジイソシアネート 10質量部
光重合開始剤(商品名:イルガキュア907、BASF社製) 3質量部
続けて、70℃で乾燥した後、基材つき波長選択吸収フィルタの基材フィルムである基材1(ポリエチレンテレフタレートフィルム)を、剥離ローラーを有するセパレータの剥離装置と同様の装置を用いて連続剥離し、さらに、剥き出しにした波長選択吸収フィルタ上に市販のアクリレート系粘着剤を塗工して偏光板を作製した。
この偏光板は、アクリレート系粘着剤層/波長選択吸収フィルタ/ポリビニルアルコール層/偏光層/接着剤M/アウター偏光板保護膜がこの順に積層されてなる構造を有する。
この偏光板は、アクリレート系粘着剤層/波長選択吸収フィルタ/ポリビニルアルコール層/偏光層/接着剤M/アウター偏光板保護膜がこの順に積層されてなる構造を有する。
[液晶表示装置の作製]
市販の液晶表示装置(Xiami社製、商品名:L43M5-4X)の液晶パネルを取り出してフロント側(視認者側)の偏光板を剥がし、代わりに上記で調製した偏光板を、アクリレート系粘着剤層側で貼り付けた。こうして液晶表示装置を作製した。
市販の液晶表示装置(Xiami社製、商品名:L43M5-4X)の液晶パネルを取り出してフロント側(視認者側)の偏光板を剥がし、代わりに上記で調製した偏光板を、アクリレート系粘着剤層側で貼り付けた。こうして液晶表示装置を作製した。
[色再現域の評価]
作製した液晶表示装置で白、赤、緑及び青のそれぞれについての全画面表示を行い、白表示の輝度、並びに、赤、緑及び青のそれぞれの色度を、分光放射計(トプコンテクノハウス社製、商品名:SR-UL2)を用いて測定した。
測定された赤、緑及び青の色度点をCIE(国際照明委員会)1931のxyY表色系におけるxy色度図上で結んで作られる三角形が、NTSC規格あるいはDCI-P3規格の3原色点を結んで作られる三角形と重なる部分の面積を求め、この重なる部分の面積をNTSC規格あるいはDCI-P3規格の3原色点を結んで作られる三角形の面積で除して、NTSC規格に対するカバー率及びDCI-P3規格に対するカバー率をそれぞれ算出した。これらのカバー率を表1では色域のカラムに示した。
本発明において、NTSC規格に対するカバー率(以下、「NTSCカバー率」と略す。)は77.0%以上が合格レベルであり、DCI-P3規格に対するカバー率(以下、「DCI-P3カバー率」と略す。)は80.0%以上が合格レベルである。
なお、NTSC規格の3原色点はそれぞれ以下のとおりである。
赤:x=0.670、y=0.330、
緑:x=0.210、y=0.710、
青:x=0.140、y=0.080、
また、DCI-P3規格の3原色点はそれぞれ以下のとおりである。
赤:x=0.680、y=0.320
緑:x=0.265、y=0.690
青:x=0.150、y=0.060
作製した液晶表示装置で白、赤、緑及び青のそれぞれについての全画面表示を行い、白表示の輝度、並びに、赤、緑及び青のそれぞれの色度を、分光放射計(トプコンテクノハウス社製、商品名:SR-UL2)を用いて測定した。
測定された赤、緑及び青の色度点をCIE(国際照明委員会)1931のxyY表色系におけるxy色度図上で結んで作られる三角形が、NTSC規格あるいはDCI-P3規格の3原色点を結んで作られる三角形と重なる部分の面積を求め、この重なる部分の面積をNTSC規格あるいはDCI-P3規格の3原色点を結んで作られる三角形の面積で除して、NTSC規格に対するカバー率及びDCI-P3規格に対するカバー率をそれぞれ算出した。これらのカバー率を表1では色域のカラムに示した。
本発明において、NTSC規格に対するカバー率(以下、「NTSCカバー率」と略す。)は77.0%以上が合格レベルであり、DCI-P3規格に対するカバー率(以下、「DCI-P3カバー率」と略す。)は80.0%以上が合格レベルである。
なお、NTSC規格の3原色点はそれぞれ以下のとおりである。
赤:x=0.670、y=0.330、
緑:x=0.210、y=0.710、
青:x=0.140、y=0.080、
また、DCI-P3規格の3原色点はそれぞれ以下のとおりである。
赤:x=0.680、y=0.320
緑:x=0.265、y=0.690
青:x=0.150、y=0.060
(2)相対輝度
波長選択吸収フィルタを用いた場合に測定された白表示の輝度について、染料を含有しない対照用のフィルタ(すなわち、No.201の波長選択吸収フィルタ)を用いた場合に測定された白表示の輝度に対する相対輝度を算出した。
本発明において、相対輝度は82.0%以上が合格レベルであり、82.4%以上がより好ましい。
波長選択吸収フィルタを用いた場合に測定された白表示の輝度について、染料を含有しない対照用のフィルタ(すなわち、No.201の波長選択吸収フィルタ)を用いた場合に測定された白表示の輝度に対する相対輝度を算出した。
本発明において、相対輝度は82.0%以上が合格レベルであり、82.4%以上がより好ましい。
<耐光性の評価>
基材つき波長選択吸収フィルタを、スガ試験機社製のスーパーキセノンウェザーメーターSX75(商品名、光源:7.5kW 水冷式キセノンランプ、照射照度:150W/m2(紫外線300~400nm))を用いて、60℃、相対湿度50%の環境下において200時間光を照射した。この光照射前後における吸収極大値をそれぞれ測定し、以下の式により耐光性を算出した。
[耐光性(%)]=([200時間光照射後の吸収極大値]/[光照射前の吸収極大値])×100
上記耐光性試験は加速試験に該当するため、実用上のレベルとしては、10%以上の耐光性を示していれば問題はない。本発明においては、70%以上を満たすことが好ましい。
基材つき波長選択吸収フィルタを、スガ試験機社製のスーパーキセノンウェザーメーターSX75(商品名、光源:7.5kW 水冷式キセノンランプ、照射照度:150W/m2(紫外線300~400nm))を用いて、60℃、相対湿度50%の環境下において200時間光を照射した。この光照射前後における吸収極大値をそれぞれ測定し、以下の式により耐光性を算出した。
[耐光性(%)]=([200時間光照射後の吸収極大値]/[光照射前の吸収極大値])×100
上記耐光性試験は加速試験に該当するため、実用上のレベルとしては、10%以上の耐光性を示していれば問題はない。本発明においては、70%以上を満たすことが好ましい。
(表の注)
染料の含有量は、波長選択吸収フィルタ中における染料の質量基準での含有割合を意味する。
染料の列における「-」の表記は、染料を含有していないことを示す。
染料A及び染料Cにおけるλmaxは、波長選択吸収フィルタが、波長380~800nmの領域に有する極大吸収波長のうち、染料A又は染料Cに由来する波長であって、最も高い吸光度Ab(λ)を示す波長をそれぞれ意味し、単位はnmである。
Ab(λmax)は、極大吸収波長λmaxにおける吸光度の値を意味する。
耐光性評価の欄における「-」の表記は、該当する染料を含有していないことを示す。
「NTSC」はNTSCカバー率を意味し、「DCI-P3」はDCI-P3カバー率を意味する。
染料の含有量は、波長選択吸収フィルタ中における染料の質量基準での含有割合を意味する。
染料の列における「-」の表記は、染料を含有していないことを示す。
染料A及び染料Cにおけるλmaxは、波長選択吸収フィルタが、波長380~800nmの領域に有する極大吸収波長のうち、染料A又は染料Cに由来する波長であって、最も高い吸光度Ab(λ)を示す波長をそれぞれ意味し、単位はnmである。
Ab(λmax)は、極大吸収波長λmaxにおける吸光度の値を意味する。
耐光性評価の欄における「-」の表記は、該当する染料を含有していないことを示す。
「NTSC」はNTSCカバー率を意味し、「DCI-P3」はDCI-P3カバー率を意味する。
表1から、以下のことがわかる。
比較例の波長選択吸収フィルタNo.202及び203は本発明で規定する染料Aを含有しない。これらの比較例の波長選択吸収フィルタNo.202及び203は、相対輝度を所望のレベル(82.0%以上)となるように調整した場合、NTSCカバー率が77.0%未満と低く、色再現性が不十分であった。このように、染料Cを含有することにより、No.201の染料を含有しない波長選択吸収フィルタに対して色再現性を向上することができるものの、本発明で規定する染料Aを含有しない場合、染料Cの含有量を調整しても優れた色再現性と高輝度を両立することができなかった。
また、比較例の波長選択吸収フィルタNo.204は、本発明で規定する染料Cを含有しない。この比較例の波長選択吸収フィルタNo.204は、NTSCカバー率が72.4%であり77.0%以上となるように調節することができず、かつDCI-P3カバー率も77.0%と80.0%未満であり、色再現域が狭かった。これは、染料Aに由来する青色吸収がNTSC及びDCI-P3の青色の色度点に比べて長波長側に存在するため、本発明で規定する染料Cを含有しない場合、染料Aの含有量を調整しても、NTSCカバー率及びDCI-P3カバー率を向上させることは困難であり、優れた色再現性を示すことができないことが原因である。
これに対して、本発明の波長選択吸収フィルタNo.101~104は、NTSCカバー率が77.0%以上であって、DCI-P3カバー率は85.0%であり、色再現域が広がり、しかも、相対輝度は82.0%以上と高く、優れた色再現性と高輝度とを両立できることがわかった。また、染料Aとして一般式(A1)で表される色素を含有するNo.101~103は、耐光性にも優れることがわかった。
比較例の波長選択吸収フィルタNo.202及び203は本発明で規定する染料Aを含有しない。これらの比較例の波長選択吸収フィルタNo.202及び203は、相対輝度を所望のレベル(82.0%以上)となるように調整した場合、NTSCカバー率が77.0%未満と低く、色再現性が不十分であった。このように、染料Cを含有することにより、No.201の染料を含有しない波長選択吸収フィルタに対して色再現性を向上することができるものの、本発明で規定する染料Aを含有しない場合、染料Cの含有量を調整しても優れた色再現性と高輝度を両立することができなかった。
また、比較例の波長選択吸収フィルタNo.204は、本発明で規定する染料Cを含有しない。この比較例の波長選択吸収フィルタNo.204は、NTSCカバー率が72.4%であり77.0%以上となるように調節することができず、かつDCI-P3カバー率も77.0%と80.0%未満であり、色再現域が狭かった。これは、染料Aに由来する青色吸収がNTSC及びDCI-P3の青色の色度点に比べて長波長側に存在するため、本発明で規定する染料Cを含有しない場合、染料Aの含有量を調整しても、NTSCカバー率及びDCI-P3カバー率を向上させることは困難であり、優れた色再現性を示すことができないことが原因である。
これに対して、本発明の波長選択吸収フィルタNo.101~104は、NTSCカバー率が77.0%以上であって、DCI-P3カバー率は85.0%であり、色再現域が広がり、しかも、相対輝度は82.0%以上と高く、優れた色再現性と高輝度とを両立できることがわかった。また、染料Aとして一般式(A1)で表される色素を含有するNo.101~103は、耐光性にも優れることがわかった。
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。
本願は、2020年3月23日に日本国で特許出願された特願2020-051873に基づく優先権を主張するものであり、これはここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
1 上側偏光板
2 上側偏光板吸収軸の方向
3 液晶セルの上側電極基板
4 上基板の配向制御方向
5 液晶層
6 液晶セルの下側電極基板
7 下基板の配向制御方向
8 下側偏光板
9 下側偏光板吸収軸の方向
B バックライトユニット
10 液晶表示装置
2 上側偏光板吸収軸の方向
3 液晶セルの上側電極基板
4 上基板の配向制御方向
5 液晶層
6 液晶セルの下側電極基板
7 下基板の配向制御方向
8 下側偏光板
9 下側偏光板吸収軸の方向
B バックライトユニット
10 液晶表示装置
Claims (4)
- 樹脂と、異なる波長域に主吸収波長帯域を有する下記の染料Aおよび染料Cとを含有する波長選択吸収フィルタ。ただし、前記の染料Aおよび染料Cは蛍光性を有しない。
染料A:波長選択吸収フィルタ中で波長400~450nmに主吸収波長帯域を有する染料
染料C:波長選択吸収フィルタ中で波長560~600nmに主吸収波長帯域を有する染料
- 請求項1又は2に記載の波長選択吸収フィルタを含む偏光板。
- 請求項1又は2に記載の波長選択吸収フィルタを含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置又は液晶表示装置。
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---|---|---|---|
CN202180022742.2A CN115315641A (zh) | 2020-03-23 | 2021-03-23 | 波长选择吸收滤波器、偏振片、有机电致发光显示装置及液晶显示装置 |
JP2022510542A JP7246567B2 (ja) | 2020-03-23 | 2021-03-23 | 波長選択吸収フィルタ、偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及び液晶表示装置 |
US17/886,051 US20230026009A1 (en) | 2020-03-23 | 2022-08-11 | Wavelength selective absorption filter, polarizing plate, organic electroluminescent display device, and liquid crystal display device |
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---|---|---|---|
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US17/886,051 Continuation US20230026009A1 (en) | 2020-03-23 | 2022-08-11 | Wavelength selective absorption filter, polarizing plate, organic electroluminescent display device, and liquid crystal display device |
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JPH11193352A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-07-21 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料、その処理方法および写真感光材料に有用な化合物及びその固体微粒子分散物 |
WO2019066043A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 偏光板保護膜、偏光板、及び液晶表示装置 |
WO2019189463A1 (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 白色有機エレクトロルミネッセンス光源用色補正フィルタ、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
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-
2022
- 2022-08-11 US US17/886,051 patent/US20230026009A1/en active Pending
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JPH11193352A (ja) * | 1997-10-15 | 1999-07-21 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料、その処理方法および写真感光材料に有用な化合物及びその固体微粒子分散物 |
WO2019066043A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 富士フイルム株式会社 | 偏光板保護膜、偏光板、及び液晶表示装置 |
WO2019189463A1 (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 白色有機エレクトロルミネッセンス光源用色補正フィルタ、及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
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Title |
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VELEZHEVA, V. S. ET AL., KHIMIYA GETEROTSIKLICHESKIKH SOEDINENII, vol. 10, 1978, pages 1343 - 1348 * |
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JP7246567B2 (ja) | 2023-03-27 |
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