WO2021106683A1 - 感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法 - Google Patents

感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法 Download PDF

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WO2021106683A1
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博樹 千坂
航 鈴木
浩一 三隅
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東京応化工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive ink composition, a cured product of the photosensitive ink composition, a display panel including a film composed of the cured product, and a method for producing a cured product using the above-mentioned photosensitive ink composition. ..
  • a high refractive index material has been used for forming an optical member.
  • the high refraction material for example, a composition in which metal oxide particles such as titanium oxide and zirconium oxide are dispersed in an organic component is used.
  • a highly refracting material a composition containing metal oxide particles, a fluorene compound having a specific structure having a hydrolyzable silyl group, and an organic solvent is disclosed (see Patent Document 1). Since the composition described in Patent Document 1 contains the fluorene compound having the above-mentioned specific structure, it is excellent in dispersibility of the metal oxide particles and gives a cured product having a high refractive index. Further, the composition described in Patent Document 1 can be applied to various printing methods by containing an organic solvent.
  • the composition as described in Patent Document 1 is used for forming a high refractive index film in a display panel in a display application such as an OLED display element.
  • a high refractive index film is formed using the composition described in Patent Document 1
  • the organic solvent volatilizes in the process of producing the high refractive index film, or the formed high refractive index film is derived from the organic solvent. There is a problem that outgas is generated.
  • the problems of volatilization of the organic solvent and outgas can be solved by reducing the content of the organic solvent in the composition used for forming the high refractive index film.
  • the content of the organic solvent in the composition described in Patent Document 1 is reduced, the coatability of the composition is significantly impaired, and it is particularly difficult to apply the inkjet method.
  • the present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to form a cured product having a high refractive index, and the inkjet method can be applied even though it contains no organic solvent or only a small amount.
  • a display panel including a liquid photosensitive ink composition, a cured product of the photosensitive ink composition, and a film composed of the cured product, and a method for producing a cured product using the above-mentioned photosensitive ink composition. The purpose is.
  • the present inventors have specified the photopolymerizable compound (A) as the photopolymerizable compound (A) in the photosensitive ink composition containing the photopolymerizable compound (A), the metal compound particles (B), and the photopolymerization initiator (C). Titanium oxide particles, barium titanate particles, cerium oxide particles, and zinc sulfide are used as the metal compound particles (B) by using the sulfide compound (A1) having the above structure and the (meth) acrylate compound (A2) having a specific structure.
  • the present invention provides the following.
  • a first aspect of the present invention is a photosensitive ink composition containing a photopolymerizable compound (A), metal compound particles (B), and a photopolymerization initiator (C).
  • the photosensitive ink composition may or may not contain the solvent (S).
  • the photopolymerizable compound (A) contains a sulfide compound (A1) represented by the following formula (a-1) and a (meth) acrylate compound (A2) represented by the following formula (a-2).
  • the metal compound particles (B) are at least one selected from the group consisting of titanium oxide particles, barium titanate particles, cerium oxide particles, and zinc sulfide particles.
  • the ratio of the mass of the solvent (S) to the mass of the photosensitive ink composition is 5% by mass or less.
  • R 1 and R 2 are independently hydrogen atoms or methyl groups
  • R 3 and R 4 are independently alkyl groups having 1 or more and 5 or less carbon atoms.
  • p and q are independently 0 or 1 respectively.
  • R 10 is a hydrogen atom or a methyl group
  • R 11 is an alkylene group having 1 or more carbon atoms and 3 or less carbon atoms
  • R 12 is a single bond, an oxygen atom or sulfur.
  • R 13 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenoxy group, or a phenyl group, and s is an integer of 0 to 5 and t. Is 0, 1 or 2)
  • the second aspect of the present invention is a cured product of the photosensitive ink composition according to the first aspect.
  • a third aspect of the present invention is a display panel including a film made of a cured product according to the second aspect.
  • a fourth aspect of the present invention is to mold the photosensitive ink composition according to the first aspect according to the shape of the cured product to be formed. Exposure to the molded photosensitive ink composition and It is a method for producing a cured product containing.
  • a liquid photosensitive ink composition capable of forming a cured product having a high refractive index and to which an inkjet method can be applied even though it contains no organic solvent or only a small amount thereof, and the above-mentioned It is possible to provide a cured product of a photosensitive ink composition, a display panel including a film made of the cured product, and a method for producing a cured product using the above-mentioned photosensitive ink composition.
  • the photosensitive ink composition contains a photopolymerizable compound (A), metal compound particles (B), and a photopolymerization initiator (C).
  • the photosensitive ink composition contains or does not contain the solvent (S).
  • the photopolymerizable compound (A) is a sulfide compound (A1) represented by the formula (a-1) described later and a (meth) acrylate compound (A2) represented by the formula (a-2) described later.
  • the metal compound particle (B) is at least one selected from the group consisting of titanium oxide particles, barium titanate particles, cerium oxide particles, and zinc sulfide particles.
  • (meth) acrylate means both acrylate and methacrylate.
  • (meth) acrylic means both acrylic and methacrylic.
  • (meth) acryloyl means both acryloyl and methacryloyl.
  • the photosensitive ink composition contains a sulfide compound (A1) represented by the formula (a-1) in combination and a (meth) acrylate compound (A2) represented by the formula (a-2) described later.
  • A1 represented by the formula (a-1) in combination
  • A2 a (meth) acrylate compound represented by the formula (a-2) described later.
  • a cured product having a high refractive index can be formed by using the photosensitive ink composition, and the photosensitive ink composition is a small amount of solvent of 5% by mass or less.
  • the viscosity of the photosensitive ink composition is low enough to be applicable to the inkjet method.
  • the content of the solvent (S) in the photosensitive ink composition is preferably 3% by mass or less, more preferably 2% by mass or less, further preferably 1% by mass or less, still more preferably 0.5% by mass or less, and 0. .3% by mass or less is particularly preferable.
  • the photosensitive ink composition is substantially free of the solvent (S).
  • the fact that the photosensitive ink composition does not substantially contain the solvent (S) means that a very small amount of the solvent (S) is inevitably brought into the photosensitive ink composition along with the raw materials and the like, and the photosensitive ink composition It means that the solvent (S) is not intentionally added to the product.
  • the content of the solvent (S) in the photosensitive ink composition is, for example, 0.2% by mass or less, and 0.15% by mass or less. Is preferable, 0.1% by mass or less is more preferable, and 0.05% by mass or less is further preferable.
  • the viscosity of the photosensitive ink composition is preferably 30 cP or less, more preferably 28 cP or less, still more preferably 25 cP or less, as the viscosity measured with an E-type viscometer at 25 ° C.
  • the viscosity of the photosensitive ink composition can be adjusted, for example, by adjusting the content of the photopolymerizable compound (A) or the metal compound particles (B), or by adding a small amount of solvent (S) to the photosensitive ink composition. Can be adjusted.
  • the photosensitive ink composition contains the photopolymerizable compound (A).
  • the photopolymerizable compound (A) is a sulfide compound (A1) represented by the formula (a-1) described later and a (meth) acrylate compound (A2) represented by the formula (a-2) described later. Including.
  • the sulfide compound (A1) is a compound represented by the following formula (a-1).
  • R 1 and R 2 are independently hydrogen atoms or methyl groups, respectively.
  • R 3 and R 4 are each independently an alkyl group having 1 or more carbon atoms and 5 or less carbon atoms.
  • p and q are independently 0 or 1, respectively.
  • R 1 and R 2 are independently hydrogen atoms or methyl groups, respectively. R 1 and R 2 may be different from each other or may be the same. It is preferable that R 1 and R 2 are the same because the sulfide compound (A1) can be easily synthesized and obtained.
  • R 3 and R 4 are each independently an alkyl group having 1 or more carbon atoms and 5 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be different from each other or may be the same. Since the sulfide compound (A1) can be easily synthesized and obtained, it is preferable that R 3 and R 4 are the same.
  • alkyl groups having 1 or more and 5 or less carbon atoms as R 3 and R 4 may be linear or branched.
  • alkyl groups having 1 or more and 5 or less carbon atoms as R 3 and R 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and the like. Examples thereof include a tert-butyl group, an n-pentyl group, an isopentyl group and a tert-pentyl group.
  • sulfide compound (A1) include the following compounds.
  • the (meth) acrylate compound (A2) is a compound represented by the following formula (a-2).
  • R 10 is a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 11 is an alkylene group having 1 or more carbon atoms and 3 or less carbon atoms.
  • R 12 is a single bond, an oxygen atom, or a sulfur atom.
  • R 13 is an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, an alkoxy group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, a phenoxy group, or a phenyl group.
  • s is an integer of 0 or more and 5 or less.
  • t is 0, 1 or 2.
  • the plurality of R 11s may be the same or different, and are preferably the same.
  • the plurality of R 12s may be the same or different, and are preferably the same.
  • R 11 is an alkylene group having 1 or more carbon atoms and 3 or less carbon atoms.
  • the alkylene group include a methylene group, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), an ethane-1,1-diyl group, a propane-1,3-diyl group, and a propane-1,2-diyl group.
  • propane-2,2-diyl groups Among these, a methylene group, an ethane-1,2-diyl group (ethylene group), a propane-1,3-diyl group, and a propane-1,2-diyl group are preferable, and an ethane-1,2-diyl group is preferable. (Ethylene group) is more preferable.
  • R 12 is a single bond, an oxygen atom, or a sulfur atom, and a single bond is preferable.
  • t is preferably 1.
  • R 13 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a phenoxy group, or a phenyl group, and is preferably an alkyl group or 1 carbon atom in terms of low viscosity. It is an alkoxy group of 4 or more.
  • Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group. Among these, a methyl group and an ethyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.
  • alkoxy group examples include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, and a tert-butyloxy group.
  • a methoxy group and an ethoxy group are preferable, and a methoxy group is more preferable.
  • s is an integer of 0 or more and 5 or less, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • (meth) acrylate compound (A2) include the following compounds.
  • the photopolymerizable compound (A) may contain a sulfide compound (A1) and other photopolymerizable compounds (A3) other than the (meth) acrylate compound (A2) as long as the object of the present invention is not impaired. Good.
  • the other photopolymerizable compound (A3) is not particularly limited, and conventionally known monofunctional photopolymerizable compounds and polyfunctional photopolymerizable compounds can be used.
  • Examples of the monofunctional photopolymerizable compound include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, and butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide.
  • polyfunctional photopolymerizable compound examples include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, and butylene.
  • the total ratio of the mass of the sulfide compound (A1) to the mass of the (meth) acrylate compound (A2) with respect to the mass of the photopolymerizable compound (A) is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more. It is preferable, 95% by mass or more is more preferable, and 100% by mass is most preferable.
  • the ratio of the mass of the sulfide compound (A1) to the mass of the photosensitive ink composition excluding the mass of the solvent (S) is preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 7% by mass or more and 25% by mass or less. It is preferable, and more preferably 9% by mass or more and 20% by mass or less.
  • the ratio of the mass of the (meth) acrylate compound (A2) to the mass of the photosensitive ink composition excluding the mass of the solvent (S) is preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less, and 20% by mass or more and 45% by mass. The following is more preferable, and 30% by mass or more and 40% by mass or less is further preferable.
  • the photopolymerizable compound (A) contains the sulfide compound (A1) and the (meth) acrylate compound (A2) in an amount within the above range, the photosensitive ink composition has excellent photocurability and low viscosity. Therefore, a cured product having a high refractive index can be formed by using the photosensitive ink composition.
  • the ratio (MA1: MA2) of the mass MA1 of the sulfide compound (A1) to the mass MA2 of the (meth) acrylate compound (A2) is the balance between photocurability, viscosity, and refractive index of the cured product. It is preferably 1:99 to 59:41, more preferably 5:95 to 55:45, even more preferably 10:90 to 53:47, and particularly preferably 15:85 to 50:50.
  • the mass of the (meth) acrylate compound (A2) is larger than the mass of the sulfide compound (A1) from the viewpoint that a cured product having a high refractive index can be easily formed by using the photosensitive ink composition.
  • the photosensitive ink composition contains the metal compound particles (B).
  • the metal compound particle (B) is at least one selected from the group consisting of titanium oxide particles, barium titanate particles, cerium oxide particles, and zinc sulfide particles.
  • the photosensitive ink composition may contain one of these metal compound particles (B) alone, or may contain two or more in combination. When the photosensitive ink composition contains the above-mentioned metal compound particles (B), a cured product exhibiting a high refractive index can be formed.
  • the average particle size of the metal compound particles (B) is preferably 500 nm or less, preferably 2 nm or more and 100 nm or less, from the viewpoint of transparency of the cured product.
  • the content of the metal compound particles (B) in the photosensitive ink composition is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.
  • the content of the metal compound particles (B) in the photosensitive ink composition is preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, preferably 35% by mass or more, based on the mass excluding the mass of the solvent (S) of the photosensitive ink composition. It is more preferably mass% or more and 70 mass% or less, and further preferably 45 mass% or more and 60 mass% or less.
  • the photopolymerization initiator (C) is not particularly limited, and conventionally known photopolymerization initiators can be used.
  • photopolymerization initiator (C) 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-Hydroxy-2-methyl-1-propane-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2- Hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) Phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butane-1-one, O-acetyl-1- [6- (2- (2- (2-) Methylbenz
  • photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.
  • an oxime ester compound as the photopolymerization initiator (C) in terms of sensitivity.
  • preferable compounds as the oxime ester compound include O-acetyl-1- [6- (2-methylbenzoyl) -9-ethyl-9H-carbazole-3-yl] etanone oxime and O-acetyl-1-.
  • [6- (Pyrol-2-ylcarbonyl) -9-ethyl-9H carbazole-3-yl] etanone oxime and 2- (benzoyloxyimine) -1- [4- (phenylthio) phenyl] -1- Octanon can be mentioned.
  • R c1 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group, and a cyano group.
  • n1 is an integer of 0 or more and 4 or less, n2 is 0 or 1, R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent.
  • R c3 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms.
  • R c1 is not particularly limited as long as it does not interfere with the object of the present invention, and is appropriately selected from various organic groups.
  • R c1 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group and a substituent.
  • n1 is an integer of 2 or more and 4 or less
  • R c1 may be the same or different. Further, the number of carbon atoms of the substituent does not include the number of carbon atoms of the substituent further possessed by the substituent.
  • R c1 is an alkyl group
  • the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • R c1 is an alkyl group, it may be a straight chain or a branched chain.
  • Specific examples of the case where R c1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group.
  • R c1 is an alkyl group
  • the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain.
  • alkyl group having an ether bond in the carbon chain examples include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.
  • R c1 is an alkoxy group
  • the number of carbon atoms is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • R c1 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain.
  • Specific examples of the case where R c1 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group, and n.
  • -Pentyloxy group isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like.
  • R c1 is an alkoxy group
  • the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain.
  • alkoxy group having an ether bond in the carbon chain examples include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group, methoxypropyloxy group and the like.
  • R c1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group
  • the number of carbon atoms is preferably 3 or more and 10 or less, and more preferably 3 or more and 6 or less.
  • Specific examples of the case where R c1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like.
  • R c1 is a cycloalkoxy group
  • R c1 is a cycloalkoxy group
  • R c1 is a cycloalkoxy group
  • R c1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group
  • the number of carbon atoms is preferably 2 or more and 20 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less.
  • Specific examples of the case where R c1 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanoyl group, an n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group and n.
  • n-Hexanoyl group n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadeca
  • Examples thereof include a noyl group and an n-hexadecanoyl group.
  • R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c1 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c1 is an alkoxycarbonyl group
  • the number of carbon atoms is preferably 2 or more and 20 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less.
  • Specific examples of the case where R c1 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, an n-butyloxycarbonyl group, an isobutyloxycarbonyl group, and sec-butyl.
  • R c1 is a phenylalkyl group
  • the number of carbon atoms is preferably 7 or more and 20 or less, and more preferably 7 or more and 10 or less.
  • R c1 is a naphthylalkyl group
  • the number of carbon atoms is preferably 11 or more and 20 or less, and more preferably 11 or more and 14 or less.
  • Specific examples of the case where R c1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group.
  • R c1 is a naphthylalkyl group
  • Rc1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group
  • Rc1 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.
  • R c1 is a heterocyclyl group
  • the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or the monocycles are fused together, or the monocycle and the benzene ring are condensed.
  • Heterocyclyl group When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings of the monocycle constituting the condensed ring is 3 or less.
  • heterocycle constituting such a heterocyclyl group examples include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isooxazole, thiazole, thiadiazol, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indol, Examples thereof include isoindole, indridin, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxalin.
  • R c1 is a heterocyclyl group
  • the heterocyclyl group may further have a substituent.
  • R c1 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups
  • suitable examples of the organic group are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms.
  • a phenylalkyl group of 20 or less, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent and has 11 or more and 20 or less carbon atoms, and Heterocyclyl groups and the like can be mentioned.
  • these suitable organic groups are the same as for R c1 .
  • Specific examples of the amino group substituted with the organic group 1 or 2 include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-.
  • the substituents include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Examples thereof include a monoalkylamino group having, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group and the like.
  • the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but is preferably 1 or more and 4 or less.
  • the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R c1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
  • alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms and 1 carbon atom number have 1 or less carbon atoms because they are chemically stable, have few steric obstacles, and facilitate the synthesis of oxime ester compounds.
  • a group selected from the group consisting of an alkoxy group having 6 or more carbon atoms and a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms is preferable, an alkyl having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and a methyl group is particularly preferable. ..
  • Position R c1 is bonded to the phenyl group, the phenyl group R c1 are attached the position of the bond to the main chain of the phenyl group and the oxime ester compound as a 1-position, if the 2-position of the position of the methyl group
  • the 4th or 5th position is preferable, and the 5th position is more preferable.
  • n1 is preferably an integer of 0 or more and 3 or less, more preferably an integer of 0 or more and 2 or less, and particularly preferably 0 or 1.
  • R c2 is a phenyl group which may have a substituent or a carbazolyl group which may have a substituent.
  • R c2 is a carbazolyl group which may have a substituent
  • the nitrogen atom on the carbazolyl group may be substituted with an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms.
  • the substituent contained in the phenyl group or the carbazolyl group is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention.
  • suitable substituents that the phenyl group or carbazolyl group may have on the carbon atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon atom.
  • It may have a naphthoyloxy group, a naphthylalkyl group having 11 or more and 20 or less carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl which may have a substituent.
  • Examples thereof include an amino group substituted with a group, an amino group, 1 or 2 organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group and the like.
  • R c2 is a carbazolyl group
  • suitable substituents that the carbazolyl group may have on the nitrogen atom include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a cyclo having 3 to 10 carbon atoms.
  • Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.
  • an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.
  • substituents which the phenyl group or the carbazolyl group may have are an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent.
  • substituents which may have groups, naphthylalkyl groups which may have substituents, heterocyclyl groups which may have substituents, and amino groups substituted with one or two organic groups. , R c1 .
  • R c2 as an example of a substituent when the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group further have a substituent, an alkyl having 1 to 6 carbon atoms is used.
  • alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms saturated aliphatic acyl group with 2 to 7 carbon atoms
  • alkoxycarbonyl group with 2 to 7 carbon atoms saturated aliphatic acyl group with 2 to 7 carbon atoms It is selected from the group consisting of an acyloxy group; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, and a phenyl group.
  • a benzoyl group substituted with a group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a morpholin-1-yl group; piperazin- 1-Il group; halogen; nitro group; cyano group can be mentioned.
  • the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in the substituent of the phenyl group or the carbazolyl group further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. It is preferably 1 or more and 4 or less.
  • the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
  • R c2 the group represented by the following formula (c2) or (c3) is preferable, and the group represented by the following formula (c2) is more preferable, from the viewpoint that a photopolymerization initiator having excellent sensitivity can be easily obtained.
  • a group represented by the following formula (c2) in which A is S is particularly preferable.
  • R c4 is a group selected from the group consisting of a monovalent organic group, an amino group, a halogen, a nitro group, and a cyano group, A is S or O, and n3 is an integer of 0 or more and 4 or less. Is.
  • R c5 and R c6 are monovalent organic groups, respectively.
  • R c4 in the formula (c2) is an organic group
  • it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired.
  • a preferred example of the case where R c4 is an organic group in the formula (c2) is an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms; an alkoxy group having 1 or more and 6 or less carbon atoms; and 2 or more and 7 or less carbon atoms.
  • Saturated aliphatic acyl group alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms; saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms; phenyl group; naphthyl group; benzoyl group; naphthoyl group; 1 to 6 carbon atoms
  • R c4 it is substituted with a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, and a phenyl group.
  • Benzoyl groups; nitro groups are preferred, and benzoyl groups; naphthoyl groups; 2-methylphenylcarbonyl groups; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl groups; 4- (phenyl) phenylcarbonyl groups are more preferred.
  • n3 is preferably an integer of 0 or more and 3 or less, more preferably an integer of 0 or more and 2 or less, and particularly preferably 0 or 1. If n3 is 1, binding position of R c4, to the bond to the phenyl group R c4 is bonded is bonded to an oxygen atom or a sulfur atom, it is preferably in the para position.
  • R c5 in the formula (c3) can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired.
  • R c5 are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, and 2 carbon atoms. It may have an alkoxycarbonyl group of 20 or more, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent.
  • a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent.
  • Examples thereof include a naphthylalkyl group having 11 or more and 20 or less carbon atoms, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent.
  • an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an ethyl group is particularly preferable.
  • R c6 in the formula (c3) is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention, and can be selected from various organic groups.
  • a group suitable as R c6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent.
  • Examples include heterocyclyl groups which may be used. Among these groups, a phenyl group which may have a substituent is more preferable as R c6, and a 2-methylphenyl group is particularly preferable.
  • the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and 1 carbon atom.
  • the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R c4 , R c5 , or R c6 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired. It is preferably 1 or more and 4 or less.
  • the plurality of substituents may be the same or different.
  • R c3 in the formula (c1) is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms.
  • R c3 a methyl group or an ethyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • PI-1 to PI-42 are particularly suitable compounds.
  • oxime ester compound represented by the following formula (c4) is also preferable as the photopolymerization initiator (C).
  • R c7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group
  • R c8 and R c9 are a chain alkyl group which may have a substituent and a cyclic organic group which may have a substituent, respectively. It is a group or a hydrogen atom, and R c8 and R c9 may be bonded to each other to form a ring
  • R c10 is a monovalent organic group
  • R c11 has a hydrogen atom and a substituent. It is an alkyl group having 1 or more and 11 or less carbon atoms, or an aryl group which may have a substituent, n4 is an integer of 0 or more and 4 or less, and n5 is 0 or 1.
  • R c7 is a hydrogen atom, a nitro group or a monovalent organic group.
  • R c7 is attached to a 6-membered aromatic ring on the fluorene ring in the formula (c4), which is different from the 6-membered aromatic ring attached to the group represented by ⁇ (CO) n5-.
  • the binding position of R c7 with respect to the fluorene ring is not particularly limited.
  • the compound represented by the formula (c4) has 1 or more R c7 , one of the 1 or more R c7 is a fluorene ring because the compound represented by the formula (c4) can be easily synthesized. It is preferable to bind to the 2-position of the inside. If R c7 is more, a plurality of R c7 is independently in may be the same or different.
  • R c7 is not particularly limited as long as it does not interfere with the object of the present invention, and is appropriately selected from various organic groups.
  • R c7 is an organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, an alkoxycarbonyl group and a substituent.
  • It has a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, a heterocyclyl group which may have a substituent, and a substituent.
  • a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent
  • a naphthyloxy group which may have a substituent
  • a naphthylalkyl group which may have a substituent
  • a heterocyclyl group which may have a substituent
  • a substituent include a heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group and the like.
  • R c7 is an alkyl group
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • R c7 is an alkyl group, it may be a straight chain or a branched chain.
  • Specific examples of the case where R c7 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and an n-pentyl group.
  • R c7 is an alkyl group
  • the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain.
  • alkyl group having an ether bond in the carbon chain examples include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.
  • R c7 is an alkoxy group
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 or more and 20 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • R c7 is an alkoxy group, it may be a straight chain or a branched chain.
  • Specific examples of the case where R c7 is an alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propyloxy group, an isopropyloxy group, an n-butyloxy group, an isobutyloxy group, a sec-butyloxy group, a tert-butyloxy group, and n.
  • -Pentyloxy group isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group , Tert-octyloxy group, n-nonyloxy group, isononyloxy group, n-decyloxy group, isodecyloxy group and the like.
  • R c7 is an alkoxy group
  • the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain.
  • alkoxy group having an ether bond in the carbon chain examples include methoxyethoxy group, ethoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, propyloxyethoxyethoxy group, methoxypropyloxy group and the like.
  • R c7 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group
  • the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or cycloalkoxy group is preferably 3 or more and 10 or less, and more preferably 3 or more and 6 or less.
  • Specific examples of the case where R c7 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group and the like.
  • R c7 is a cycloalkoxy group
  • R c7 is a cycloalkoxy group
  • R c7 is a cycloalkoxy group
  • R c7 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group
  • the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 or more and 21 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less.
  • Specific examples of the case where R c7 is a saturated aliphatic acyl group include an acetyl group, a propanoyl group, an n-butanoyl group, a 2-methylpropanoyl group, an n-pentanoyl group, a 2,2-dimethylpropanoyl group and n.
  • n-Hexanoyl group n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadeca
  • Examples thereof include a noyl group and an n-hexadecanoyl group.
  • R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c7 is a saturated aliphatic acyloxy group
  • R c7 is an alkoxycarbonyl group
  • the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2 or more and 20 or less, and more preferably 2 or more and 7 or less.
  • Specific examples of the case where R c7 is an alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, an n-butyloxycarbonyl group, an isobutyloxycarbonyl group, and sec-butyl.
  • R c7 is a phenylalkyl group
  • the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 or more and 20 or less, and more preferably 7 or more and 10 or less.
  • R c7 is a naphthylalkyl group
  • the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11 or more and 20 or less, and more preferably 11 or more and 14 or less.
  • Specific examples of the case where R c7 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group.
  • R c7 is a naphthylalkyl group
  • Rc7 is a naphthylalkyl group
  • Rc7 may further have a substituent on the phenyl group or the naphthyl group.
  • R c7 is a heterocyclyl group
  • the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, or the monocycles are fused together, or the monocycle and the benzene ring are condensed.
  • Heterocyclyl group When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings of the monocycle constituting the condensed ring is 3 or less.
  • the heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group.
  • heterocycle constituting the heterocyclyl group examples include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiadiazol, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, and indol.
  • R c7 is a heterocyclyl group
  • the heterocyclyl group may further have a substituent.
  • R c7 is a heterocyclyl carbonyl group
  • the heterocyclyl group contained in the heterocyclyl carbonyl group is the same as when R c7 is a heterocyclyl group.
  • R c7 is an amino group substituted with 1 or 2 organic groups
  • suitable examples of the organic group are an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and the like.
  • phenylalkyl groups which may have substituents
  • naphthoyl groups which may have substituents
  • naphthylalkyl groups which may have substituents and have 11 to 20 carbon atoms, and heterocyclyl.
  • the group etc. can be mentioned.
  • Specific examples of these suitable organic groups are the same as for R c7 .
  • Specific examples of the amino group substituted with the organic group 1 or 2 include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n-.
  • the substituents include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Examples thereof include a monoalkylamino group having, a dialkylamino group having an alkyl group having 1 or more and 6 or less carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group, a halogen, a nitro group, a cyano group and the like.
  • the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but is preferably 1 or more and 4 or less.
  • the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group contained in R c7 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
  • R c7 a nitro group or a group represented by R c12- CO- tends to improve the sensitivity and is preferable.
  • R c12 is not particularly limited as long as it does not interfere with the object of the present invention, and can be selected from various organic groups. Examples of a suitable group as R c12 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Heterocyclyl groups may be mentioned.
  • R c12 2-methylphenyl group, thiophen-2-yl group, and ⁇ -naphthyl group are particularly preferable as R c12.
  • R c7 is a hydrogen atom
  • the transparency tends to be good, which is preferable.
  • R c7 is a hydrogen atom
  • R c10 is a group represented by the formula (c4a) or (c4b) described later, the transparency tends to be better.
  • R c8 and R c9 are a chain alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, or a hydrogen atom, respectively.
  • R c8 and R c9 may be coupled to each other to form a ring.
  • a chain alkyl group which may have a substituent is preferable.
  • the chain alkyl group may be a linear alkyl group or a branched chain alkyl group.
  • R c8 and R c9 are chain alkyl groups having no substituent
  • the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less.
  • Specific examples of cases where R c8 and R c9 are chain alkyl groups include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • N-pentyl group isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Examples thereof include a group, an isononyl group, an n-decyl group, and an isodecyl group.
  • R c8 and R c9 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain.
  • alkyl group having an ether bond in the carbon chain examples include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, a methoxypropyl group and the like.
  • R c8 and R c9 are chain alkyl groups having substituents
  • the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1 or more and 20 or less, more preferably 1 or more and 10 or less, and particularly preferably 1 or more and 6 or less. ..
  • the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group.
  • the chain alkyl group having a substituent is preferably linear.
  • the substituent which the alkyl group may have is not particularly limited as long as it does not impair the object of the present invention.
  • the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Among these, a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are preferable.
  • the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as in the preferred example when R c7 is a cycloalkyl group.
  • the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and the like.
  • Specific examples of the heterocyclyl group are the same as in the preferred example when R c7 is a heterocyclyl group.
  • R c7 is an alkoxycarbonyl group
  • the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, preferably linear.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • the number of the substituents is not particularly limited.
  • the number of preferred substituents depends on the number of carbon atoms in the chain alkyl group.
  • the number of substituents is typically 1 or more and 20 or less, preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group.
  • the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group.
  • R c8 and R c9 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic group may have are the same as when R c8 and R c9 are chain alkyl groups.
  • R c8 and R c9 are aromatic hydrocarbon groups, whether the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond. , It is preferable that the group is formed by condensing a plurality of benzene rings.
  • the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensing a plurality of benzene rings
  • the number of rings of the benzene ring contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited. 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable.
  • Preferred specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, a phenanthryl group and the like.
  • R c8 and R c9 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups
  • the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, but is preferably 3 or more and 20 or less, and more preferably 3 or more and 10 or less.
  • Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, norbornyl group, isobornyl group, tricyclononyl group, tricyclodecyl group, Examples thereof include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.
  • the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocyclic rings, or such monocyclic and benzene rings. Is a heterocyclyl group condensed with.
  • the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of rings of the monocycle constituting the condensed ring is 3 or less.
  • the heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group.
  • heterocycle constituting the heterocyclyl group examples include furan, thiophene, pyrrol, oxazole, isooxazole, thiazole, thiadiazol, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, and indol.
  • R c8 and R c9 may be coupled to each other to form a ring.
  • the group consisting of the ring formed by R c8 and R c9 is preferably a cycloalkylidene group.
  • the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.
  • the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings.
  • rings that may be fused with a cycloalkylene group include a benzene ring, a naphthalene ring, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, a cyclooctane ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyrrole ring, and a pyridine. Rings, pyrazine rings, pyrimidine rings and the like can be mentioned.
  • R c8 and R c9 examples include groups represented by the formula -A 1 -A 2.
  • a 1 is a linear alkylene group
  • a 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, an alkyl halide group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.
  • the number of carbon atoms of the linear alkylene group of A 1 is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • a 2 is an alkoxy group
  • the alkoxy group may be linear or branched, preferably linear.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 or more and 10 or less, and more preferably 1 or more and 6 or less.
  • a 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable.
  • the halogen atom contained in the alkyl halide group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom.
  • the alkyl halide group may be linear or branched, preferably linear.
  • a 2 is a cyclic organic group
  • examples of the cyclic organic group are the same as those of the cyclic organic group that R c8 and R c9 have as substituents.
  • a 2 is an alkoxycarbonyl group
  • examples of alkoxycarbonyl groups are similar to the alkoxycarbonyl groups that R c8 and R c9 have as substituents.
  • R c8 and R c9 are alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl.
  • Alkyl group 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n -Heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclopentyl-n-butyl group, 5-cyclopentyl-n-pentyl group, 6-cyclopentyl- Cycloalkylalkyl groups such as n-hexyl group, 7-cyclopentyl-n-heptyl group, and 8-cyclopentyl-n-octyl group; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl
  • the preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-Cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,5,5,5-hepta It is a fluoro-n-pentyl group.
  • R c10 examples include alkyl groups, alkoxy groups, cycloalkyl groups, cycloalkoxy groups, saturated aliphatic acyl groups, alkoxycarbonyl groups, saturated aliphatic acyloxy groups and substituents , as in R c7.
  • Examples thereof include a heterocyclylcarbonyl group which may have a group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, a piperazine-1-yl group and the like. Specific examples of these groups are similar to those of these groups described for R c7. Further, as R c10 , a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, and a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring are also preferable. The substituents that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have are the same as the substituents that the phenyl group contained in R c7 may have.
  • R c10 includes an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, or a cycloalkylalkyl group, and a phenylthio which may have a substituent on the aromatic ring.
  • Alkyl groups are preferred.
  • the alkyl group an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is the most preferable. preferable.
  • a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable.
  • the number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 or more and 10 or less, more preferably 5 or more and 8 or less, and particularly preferably 5 or 6.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and particularly preferably 2.
  • a cyclopentylethyl group is preferable.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring is preferably 1 or more and 8 or less, more preferably 1 or more and 4 or less, and particularly preferably 2.
  • a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.
  • a 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and preferably an alkylene group.
  • a 4 is a monovalent organic group, preferably a monovalent hydrocarbon group.
  • the alkylene group may be linear or branched, preferably linear.
  • the number of carbon atoms of the alkylene group is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 6 or less, and particularly preferably 1 or more and 4 or less.
  • a 4 the number 1 to 10 alkyl group carbon atoms, having 7 or more carbon atoms and 20 or less aralkyl group, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms.
  • Specific preferable examples of A 4 is methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl group, n- butyl group, isobutyl group, sec- butyl group, tert- butyl group, n- pentyl group, n- hexyl Examples thereof include a group, a phenyl group, a naphthyl group, a benzyl group, a phenethyl group, an ⁇ -naphthylmethyl group, a ⁇ -naphthylmethyl group and the like.
  • Preferable specific examples of the group represented by -A 3- CO-O-A 4 are 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n. -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group , 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl-n-propyl group,
  • R c10 preferably a group represented by the following formula (C4a) or (C4b).
  • R c13 and R c14 are organic groups, respectively, n6 is an integer of 0 or more and 4 or less, and R c13 and R 8 are present at adjacent positions on the benzene ring.
  • R c13 and R c14 may be combined with each other to form a ring, n7 is an integer of 1 or more and 8 or less, n8 is an integer of 1 or more and 5 or less, and n9 is 0 or more (n8 + 3). It is the following integer, and R c15 is an organic group.
  • Examples of organic groups for R c13 and R c14 in formula (c4a) are similar to R c7.
  • R c13 an alkyl group or a phenyl group is preferable.
  • R c13 is an alkyl group, the number of carbon atoms thereof is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, particularly preferably 1 or more and 3 or less, and most preferably 1. That is, R c13 is most preferably a methyl group.
  • the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring.
  • n6 is an integer of 0 or more and 4 or less, preferably 0 or 1, and more preferably 0.
  • R c15 is an organic group.
  • the organic group include groups similar to the organic group described for R c7.
  • an alkyl group is preferable.
  • the alkyl group may be linear or branched.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 or more and 10 or less, more preferably 1 or more and 5 or less, and particularly preferably 1 or more and 3 or less.
  • R c15 a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group and the like are preferably exemplified, and among these, a methyl group is more preferable.
  • n8 is an integer of 1 or more and 5 or less, preferably an integer of 1 or more and 3 or less, and more preferably 1 or 2.
  • n9 is 0 or more (n8 + 3) or less, an integer of 0 or more and 3 or less is preferable, an integer of 0 or more and 2 or less is more preferable, and 0 is particularly preferable.
  • n7 is an integer of 1 or more and 8 or less, an integer of 1 or more and 5 or less is preferable, an integer of 1 or more and 3 or less is more preferable, and 1 or 2 is particularly preferable.
  • R c11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent.
  • R c11 is an alkyl group
  • a phenyl group, a naphthyl group and the like are preferably exemplified.
  • R c7 is an aryl group
  • an alkyl group having 1 or more and 5 or less carbon atoms an alkoxy group, a halogen atom and the like are preferably exemplified.
  • a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, a naphthyl group and the like are preferably exemplified. Of these, a methyl group or a phenyl group is more preferable.
  • Preferable specific examples of the compound represented by the formula (c4) include the following PI-43 to PI-83.
  • the photopolymerization initiator (C) preferably contains two or more kinds of photopolymerization initiators in combination. In this case, it is easy to effectively use light rays having a wide range of wavelengths included in the exposure light, and it is easy to adjust the sensitivity of the photosensitive ink composition to an appropriate range.
  • an oxime ester compound is preferable from the viewpoint of sensitivity and the like.
  • any conventionally known photopolymerization initiator can be used.
  • Preferable examples of any photopolymerization initiator other than the oxime ester compound include phosphine oxide compounds.
  • a phosphine oxide compound containing a partial structure represented by the following formula (c5) is preferable.
  • R c21 and R c22 are independently an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aliphatic acyl group having 2 or more and 20 or less carbon atoms, or an aromatic having 7 or more and 20 or less carbon atoms. It is a group acyl group.
  • R c21 nor R c22 is an aliphatic acyl group or an aromatic acyl group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group as R c21 and R c22 is preferably 1 or more and 12 or less, more preferably 1 or more and 8 or less, and further preferably 1 or more and 4 or less.
  • the alkyl groups as R c21 and R c22 may be linear or branched. Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group and tert-.
  • Pentyl group n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, And n-dodecyl group.
  • the number of carbon atoms of the cycloalkyl group as R c21 and R c22 is preferably 5 or more and 12 or less.
  • Specific examples of the cycloalkyl group include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclononyl group, a cyclodecyl group, a cycloundecyl group, and a cyclododecyl group.
  • the number of carbon atoms of the aryl group as R c21 and R c22 is preferably 6 or more and 12 or less.
  • the aryl group may have a substituent.
  • the substituent include a halogen atom, an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, an alkoxy group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, and the like.
  • Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic acyl group as R c21 and R c22 is 2 or more and 20 or less, preferably 2 or more and 12 or less, more preferably 2 or more and 8 or less, and further preferably 2 or more and 6 or less.
  • the aliphatic acyl group may be linear or branched.
  • aliphatic acyl group examples include an acetyl group, a propionyl group, a butanoyl group, a pentanoyl group, a hexanoyl group, a heptanoil group, an octanoyl group, a nonanoyl group, a decanoyle group, an undecanoyl group, a dodecanoyl group, a tridecanoyl group and a tetradecanoyl group.
  • Pentadecanoyl group Pentadecanoyl group, hexadecanoyl group, heptadecanoyl group, octadecanoyl group, nonadecanoyyl group, and icosanoyl group.
  • the number of carbon atoms of the aromatic acyl group as R c21 and R c22 is 7 or more and 20 or less.
  • the aromatic acyl group may have a substituent.
  • the substituent include a halogen atom, an alkyl group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, an alkoxy group having 1 or more and 4 or less carbon atoms, and the like.
  • Specific examples of the aromatic acyl group include a benzoyl group, an o-tolyl group, an m-tolyl group, a p-tolyl group, a 2,6-dimethylbenzoyl group, a 2,6-dimethoxybenzoyl group, and 2,4,6-. Examples include a trimethylbenzoyl group, an ⁇ -naphthoyl group, and a ⁇ -naphthoyl group.
  • Preferred specific examples of the phosphine oxide compound containing the structural portion represented by the formula (c5) include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphos. Examples thereof include fin oxide and bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphosphine oxide.
  • the content of the photopolymerization initiator (C) is 0.5% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the mass (total solid content) of the photosensitive ink composition excluding the mass of the organic solvent (S) described later. Preferably, it is 1% by mass or more and 20% by mass or less.
  • the photosensitive ink composition contains the oxime ester compound and the phosphine oxide compound in combination as the photopolymerization initiator (C), the oxime with respect to the total mass W1 of the phosphine oxide compound and the mass W2 of the oxime ester compound.
  • the mass ratio of the mass W2 of the ester compound is preferably 30% by mass or more, more preferably 35% by mass or more and 95% by mass or less, and further preferably 40% by mass or more and 90% by mass or less.
  • the photopolymerization initiator (C) may be combined with a photoinitiator aid.
  • Photoinitiator aids include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminobenzoate 2-.
  • Examples thereof include thiol compounds such as acid, methyl 3-mercaptopropionate, pentaeristol tetramercaptoacetate and 3-mercaptopropionate.
  • the photosensitive ink composition may contain 5% by mass or less of the solvent (S) with respect to the mass of the photosensitive ink composition.
  • the type of the solvent (S) is not particularly limited, but is typically an organic solvent.
  • Examples of the organic solvent that can be blended in the photosensitive ink composition include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, and diethylene glycol monoethyl.
  • Ether diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, Dipropylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol mono (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethyl ether; ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl
  • the photosensitive ink composition may contain various additives conventionally blended in the photosensitive composition and the ink composition in addition to the components described above, as long as the object of the present invention is not impaired. ..
  • Preferred additives to be blended in the photosensitive ink sol composition include adhesion promoters such as dispersants and silane coupling agents, antioxidants, anti-aggregation agents, defoaming agents, surfactants and the like.
  • the surfactant is not particularly limited, and known components such as a fluorine-based surfactant and a silicon-based surfactant can be used.
  • a photosensitive ink composition is obtained by mixing a predetermined amount of each of the components described above and then uniformly stirring the mixture.
  • the photosensitive ink compositions described above typically have Molding the photosensitive ink composition according to the shape of the cured product to be formed, Exposure to the molded photosensitive ink composition and It is made into a cured product by a method including.
  • the cured product produced by the above method exhibits a high refractive index of 1.67 or more, preferably 1.70 or more, as a refractive index at a wavelength of 550 nm, for example. Therefore, the cured product produced by the above method is suitably used in optical applications requiring a high refractive index.
  • the film made of a cured product of the above-mentioned photosensitive ink composition is suitably used as a high refractive index film constituting an antireflection film or the like in various display panels such as an organic EL display panel and a liquid crystal display panel. ..
  • the film thickness of the high-refractive index film made of the cured product of the above-mentioned photosensitive ink composition is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the application.
  • the film thickness of the high refractive index film is typically 1 nm or more and 20 ⁇ m or less, and more preferably 50 nm or more and 10 ⁇ m or less.
  • the method for molding the photosensitive ink composition is not particularly limited, and is appropriately selected depending on the shape of the cured product.
  • the shape of the cured product is not limited to these, and examples thereof include a film shape, a lens shape, a line shape, and a prism shape. Among these shapes, the film shape is preferable.
  • the method for molding the photosensitive ink composition is not particularly limited. When the shape of the cured product is a lens shape, a prism shape, or the like, the photosensitive ink composition may be filled in a mold according to the shape of the cured product using a squeegee or the like.
  • the photosensitive ink composition may be applied onto the substrate according to the shape of the cured product.
  • the coating method include a printing method such as an inkjet method.
  • a method of applying the cured product to the film shape a method using a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater, or a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater is used.
  • a contact transfer type coating device such as a roll coater, a reverse coater, or a bar coater
  • a non-contact type coating device such as a spinner (rotary coating device) or a curtain flow coater is used.
  • the photosensitive ink composition can be applied to the film shape by a printing method such as an inkjet method.
  • the photosensitive ink composition contains a solvent (S)
  • the photosensitive ink composition is formed into a desired shape, and then the solvent (S) is removed from the photosensitive ink composition formed by a method such as heating. May be good.
  • the photosensitive ink composition formed into a desired shape such as a film shape is exposed to such an extent that the photosensitive ink composition is not completely cured, and then half by a method such as an imprint method. It may be shaped with respect to the cured photosensitive ink composition. In this case, the shaped semi-cured photosensitive ink composition is further exposed to sufficiently cure the photosensitive ink composition to a desired degree. Further, by applying the above-mentioned photosensitive ink composition to a 3D printing method and laminating a thin-film cured product by repeating inkjet printing and curing by exposure, a cured product having a desired shape is formed. You may.
  • the photosensitive ink composition formed by the above method various methods known as curing methods for the photosensitive composition can be appropriately applied.
  • the exposure to the molded photosensitive ink composition is performed by irradiating, for example, active energy rays such as ultraviolet rays and excimer laser light.
  • the exposure to the molded photosensitive ink composition may be regioselective by a method such as exposure through a mask.
  • the exposed photosensitive ink composition is developed with an organic solvent to remove the unexposed portion, whereby a patterned cured product can be formed.
  • the developing process it is preferable to sufficiently remove the developing solution by a method such as drying by heating after the development.
  • a cured product having a desired shape and a high refractive index is formed by using the above-mentioned photosensitive ink composition containing no solvent (S) or only a small amount.
  • the cured product obtained by using the above-mentioned curable ink composition has excellent bending resistance and is not easily cracked even when bent, and is therefore preferably used in a flexible device. For example, when a film having a thickness of 10 ⁇ m made of the above-mentioned cured product is wound around a cylindrical stainless steel rod having a radius of 6 mm, preferably a radius of 2 mm, cracks do not occur.
  • Example 1 Example 2, Comparative Example 1, and Comparative Example 2
  • a compound having the following structure was used as the sulfide compound (A1).
  • Titanium oxide particles (average particle size 100 nm) were used as the metal compound particles (B) in Examples and Comparative Examples.
  • Table 1 shows the viscosities of the obtained photosensitive ink composition measured with an E-type viscometer at 25 ° C.
  • the refractive index of the cured film formed by using the obtained photosensitive ink composition was measured according to the following formulation. The measurement results of the refractive index are shown in Table 1.
  • ⁇ Refractive index measurement method> The photosensitive ink compositions of the Examples and Comparative Examples were applied onto a glass substrate using an inkjet device. Then, the coating film was exposed and cured at an exposure amount of 2 J / cm 2 using a 395 nm UV-LED exposure machine to obtain a cured film having a thickness of 3 ⁇ m.
  • the refractive index of the film at a light wavelength of 550 nm was determined using a prism coupler manufactured by Metrocon, and the film was evaluated according to the following criteria with the refractive index of Example 1 as a reference.
  • B Equivalent to Example 1 (change is within ⁇ 0.01)
  • C The refractive index is 0.03 or more lower than that of Comparative Example 1.
  • a photosensitive ink composition containing a combination of the compound (A1) and the (meth) acrylate compound (A2) has a low viscosity to which the inkjet method can be applied even though the solvent (S) is not contained. It can be seen that a cured product having a high refractive index can be formed.
  • Comparative Example 1 even in a photosensitive ink composition containing a photopolymerizable compound (A), a predetermined type of metal compound particles (B), and a photopolymerization initiator (C), the photosensitive ink composition is said to be photosensitive. It can be seen that when the sex ink composition does not contain the sulfide compound (A1) as the photopolymerizable compound (A), it is difficult to form a cured product having a high refractive index.

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Abstract

高屈折率の硬化物を形成可能であって、有機溶媒を含まないか少量しか含まないにもかかわらずインクジェット法を適用可能である液状の感光性インク組成物と、当該感光性インク組成物の硬化物と、当該硬化物からなる膜を備えるディスプレイパネルと、前述の感光性インク組成物を用いる硬化物の製造方法とを提供すること。 光重合性化合物(A)と、金属化合物粒子(B)と、光重合開始剤(C)とを含む感光性インク組成物において、光重合性化合物(A)として、特定の構造のスルフィド化合物(A1)と、特定の構造の(メタ)アクリレート化合物(A2)とを用い、金属化合物粒子(B)として、酸化チタン粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化セリウム粒子、及び硫化亜鉛粒子からなる群より選択される少なくとも1種を用いる。

Description

感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法
 本発明は、感光性インク組成物と、当該感光性インク組成物の硬化物と、当該硬化物からなる膜を備えるディスプレイパネルと、前述の感光性インク組成物を用いる硬化物の製造方法とに関する。
 従来より、光学部材の形成に、高屈折率材料が用いられている。高屈折材料として、例えば、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子を有機成分中に分散させた組成物が用いられている。
 このような高屈折材料として、金属酸化物粒子と、加水分解性シリル基を有する特定の構造のフルオレン化合物と、有機溶媒とを含む組成物が、開示されている(特許文献1参照)。特許文献1に記載の組成物は、上記の特定の構造のフルオレン化合物を含むため、金属酸化物粒子の分散性に優れ、高屈折率の硬化物を与える。また、特許文献1に記載の組成物は、有機溶媒を含むことによって、種々の印刷法に適用され得る。
特開2012-233142号公報
 特許文献1に記載されるような組成物は、例えば、OLED表示素子等のディスプレイ用途におけるディスプレイパネルにおける高屈折率膜の形成に用いられる。しかしながら、特許文献1に記載の組成物を用いて高屈折率膜を形成する場合、高屈折率膜の製造過程において有機溶媒が揮発したり、形成された高屈折率膜から有機溶媒に由来するアウトガスが発生したりする問題がある。
 かかる有機溶媒の揮発やアウトガスの問題は、高屈折率膜の形成に用いられる組成物における有機溶媒の含有量を低減することにより解消され得る。しかしながら、特許文献1に記載の組成物等において有機溶媒の含有量を低減する場合、組成物の塗布性が著しく損なわれ、特にインクジェット法の適用が困難である。
 上記の事情から、高屈折率の硬化物を形成可能であって、有機溶媒を含まないか少量しか含まないにもかかわらずインクジェット法を適用可能である液状の感光性インク組成物が求められている。
 本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、高屈折率の硬化物を形成可能であって、有機溶媒を含まないか少量しか含まないにもかかわらずインクジェット法を適用可能である液状の感光性インク組成物と、当該感光性インク組成物の硬化物と、当該硬化物からなる膜を備えるディスプレイパネルと、前述の感光性インク組成物を用いる硬化物の製造方法とを提供することを目的とする。
 本発明者らは、光重合性化合物(A)と、金属化合物粒子(B)と、光重合開始剤(C)とを含む感光性インク組成物において、光重合性化合物(A)として、特定の構造のスルフィド化合物(A1)と、特定の構造の(メタ)アクリレート化合物(A2)とを用い、金属化合物粒子(B)として、酸化チタン粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化セリウム粒子、及び硫化亜鉛粒子からなる群より選択される少なくとも1種を用いることにより上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。より具体的には、本発明は以下のものを提供する。
 本発明の第1の態様は、光重合性化合物(A)と、金属化合物粒子(B)と、光重合開始剤(C)とを含む、感光性インク組成物であって、
 感光性インク組成物は、溶媒(S)を含むか、又は含まず、
 光重合性化合物(A)が、下記式(a-1)で表されるスルフィド化合物(A1)と、下記式(a-2)で表される(メタ)アクリレート化合物(A2)とを含み、
 金属化合物粒子(B)が、酸化チタン粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化セリウム粒子、及び硫化亜鉛粒子からなる群より選択される少なくとも1種であり、
 感光性インク組成物の質量に対する溶媒(S)の質量の比率が5質量%以下であり、
 25℃にて、E型粘度計を用いて測定される粘度が30cP以下である、感光性インク組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
(式(a-1)中、R、及びRは、それぞれ独立に水素原子、又はメチル基であり、R、及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1以上5以下のアルキル基であり、p、及びqはそれぞれ独立に0又は1である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
(式(a-2)中、R10は、水素原子又はメチル基であり、R11は、炭素原子数1以上3以下のアルキレン基であり、R12は、単結合、酸素原子、又は硫黄原子であり、R13は炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、フェノキシ基、又はフェニル基であり、sは0以上5以下の整数であり、tは、0、1又は2である。)
 本発明の第2の態様は、第1の態様にかかる感光性インク組成物の硬化物である。
 本発明の第3の態様は、第2の態様にかかる硬化物からなる膜を備える、ディスプレイパネルである。
 本発明の第4の態様は、第1の態様にかかる感光性インク組成物を、形成される硬化物の形状に応じて成形することと、
 成形された感光性インク組成物に対して露光することと、
を含む硬化物の製造方法である。
 本発明によれば、高屈折率の硬化物を形成可能であって、有機溶媒を含まないか少量しか含まないにもかかわらずインクジェット法を適用可能である液状の感光性インク組成物と、当該感光性インク組成物の硬化物と、当該硬化物からなる膜を備えるディスプレイパネルと、前述の感光性インク組成物を用いる硬化物の製造方法とを提供することができる。
≪感光性インク組成物≫
 感光性インク組成物は、光重合性化合物(A)と、金属化合物粒子(B)と、光重合開始剤(C)とを含む。感光性インク組成物は、溶媒(S)を含むか、又は含まない。
 光重合性化合物(A)は、後述する式(a-1)で表されるスルフィド化合物(A1)と、後述する式(a-2)で表される(メタ)アクリレート化合物(A2)とを含む。
 金属化合物粒子(B)は、酸化チタン粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化セリウム粒子、及び硫化亜鉛粒子からなる群より選択される少なくとも1種である。
 なお、本出願の明細書及び特許請求の範囲において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの双方を意味する。本出願の明細書及び特許請求の範囲において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの双方を意味する。本出願の明細書及び特許請求の範囲において、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの双方を意味する。
 感光性インク組成物が、式(a-1)で表されるスルフィド化合物(A1)と、後述する式(a-2)で表される(メタ)アクリレート化合物(A2)とを組み合わせて含むとともに、上記の所定の種類の金属化合物粒子(B)を含むために、感光性インク組成物を用いて高屈折率の硬化物を形成でき、感光性インク組成物が5質量%以下の少量の溶媒(S)しか含んでいないにも関わらず、インクジェット法に適用可能な程度に感光性インク組成物の粘度が低い。
 感光性インク組成物の溶媒(S)の含有量は、3質量%以下が好ましく、2質量%以下がより好ましく、1質量%以下がさらに好ましく、0.5質量%以下がさらにより好ましく、0.3質量%以下が特に好ましい。
 感光性インク組成物は、溶媒(S)を実質的に含まないのが最も好ましい。感光性インク組成物が溶媒(S)を実質的に含まないとは、原料等に付随してごく少量の溶媒(S)が不可避的に感光性インク組成物に持ち込まれる他、感光性インク組成物に意図的に溶媒(S)が加えられていないことを言う。
 感光性インク組成物が溶媒(S)を実質的に含まない場合の、感光性インク組成物の溶媒(S)の含有量は、例えば0.2質量%以下であり、0.15質量%以下が好ましく、0.1質量%以下がより好ましく、0.05質量%以下がさらに好ましい。
 感光性インク組成物の粘度は、25℃にて、E型粘度計を用いて測定される粘度としてい30cP以下が好ましく、28cP以下がより好ましく、25cP以下がさらに好ましい。
 感光性インク組成物の粘度は、例えば、光重合性化合物(A)や金属化合物粒子(B)の含有量を調整したり、感光性インク組成物に少量の溶媒(S)を加えること等によって調整することができる。
 以下、感光性インク組成物が含む、必須、又は任意の成分について説明する。
<光重合性化合物>
 感光性インク組成物は、光重合性化合物(A)を含む。光重合性化合物(A)は、後述する式(a-1)で表されるスルフィド化合物(A1)と、後述する式(a-2)で表される(メタ)アクリレート化合物(A2)とを含む。
〔スルフィド化合物(A1)〕
 スルフィド化合物(A1)は、下記式(a-1)で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 式(a-1)中、R、及びRは、それぞれ独立に水素原子、又はメチル基である。R、及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1以上5以下のアルキル基である。p、及びqはそれぞれ独立に0又は1である。
 R、及びRは、それぞれ独立に水素原子、又はメチル基である。R、及びRは、互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。スルフィド化合物(A1)の、合成や入手が容易であることから、R、及びRが同一であるのが好ましい。
 R、及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1以上5以下のアルキル基である。R、及びRは、互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。スルフィド化合物(A1)の、合成や入手が容易であることから、R、及びRが同一であるのが好ましい。
 R、及びRとしての炭素原子数1以上5以下のアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。R、及びRとしての炭素原子数1以上5以下のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、tert-ペンチル基が挙げられる。
 スルフィド化合物(A1)の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
〔(メタ)アクリレート化合物(A2)〕
 (メタ)アクリレート化合物(A2)は、下記式(a-2)で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 式(a-2)中、R10は、水素原子又はメチル基である。R11は、炭素原子数1以上3以下のアルキレン基である。R12は、単結合、酸素原子、又は硫黄原子である。R13は炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、フェノキシ基、又はフェニル基である。sは0以上5以下の整数である。tは、0、1又は2である。
 式(a-2)において、tが2である場合、複数のR11は、同一であっても異なっていてもよく、同一であるのが好ましい。tが2である場合、複数のR12は、同一であっても異なっていてもよく、同一であるのが好ましい。
 R11は炭素原子数1以上3以下のアルキレン基である。アルキレン基の具体例としては、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、エタン-1,1-ジイル基、プロパン-1,3-ジイル基、プロパン-1,2-ジイル基、及びプロパン-2,2-ジイル基が挙げられる。これらの中では、メチレン基、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)、プロパン-1,3-ジイル基、及びプロパン-1,2-ジイル基が好ましく、エタン-1,2-ジイル基(エチレン基)がより好ましい。
 R12は、単結合、酸素原子、又は硫黄原子であり、単結合が好ましい。R12が単結合である場合、tは1が好ましい。
 R13は、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、フェノキシ基、又はフェニル基であり、低粘度化の点で好ましくはアルキル基又は炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基である。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及びtert-ブチル基が挙げられる。これらの中では、メチル基、及びエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
 アルコキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、及びtert-ブチルオキシ基が挙げられる。これらの中では、メトキシ基、及びエトキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
 sは、0以上5以下の整数であり、0又は1が好ましく、0がより好ましい。
 (メタ)アクリレート化合物(A2)の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
<その他の光重合性化合物(A3)>
 光重合性化合物(A)は、本発明の目的を阻害しない範囲で、スルフィド化合物(A1)、及び(メタ)アクリレート化合物(A2)以外のその他の光重合性化合物(A3)を含んでいてもよい。
 その他の光重合性化合物(A3)としては、特に限定されず、従来公知の単官能光重合性化合物、及び多官能光重合性化合物を用いることができる。
 単官能光重合性化合物としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸、tert-ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-フェノキシ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能光重合性化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
 多官能光重合性化合物としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2-ヒドロキシ-3-(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN-メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能光重合性化合物は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
 光重合性化合物(A)の質量に対する、スルフィド化合物(A1)の質量と、(メタ)アクリレート化合物(A2)の質量との合計の比率は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましく、100質量%が最も好ましい。
 感光性インク組成物の溶媒(S)の質量を除いた質量に対する、スルフィド化合物(A1)の質量の比率は、5質量%以上30質量%以下が好ましく、7質量%以上25質量%以下がより好ましく、9質量%以上20質量%以下がさらに好ましい。
 感光性インク組成物の溶媒(S)の質量を除いた質量に対する、(メタ)アクリレート化合物(A2)の質量の比率は、10質量%以上50質量%以下が好ましく、20質量%以上45質量%以下がより好ましく、30質量%以上40質量%以下がさらに好ましい。
 光重合性化合物(A)が、上記の範囲内の量のスルフィド化合物(A1)及び(メタ)アクリレート化合物(A2)を含むことにより、感光性インク組成物が光硬化性に優れ、且つ低粘度であり、感光性インク組成物を用いて高い屈折率の硬化物を形成できる。
 また、スルフィド化合物(A1)の質量MA1と(メタ)アクリレート化合物(A2)の質量MA2との比(MA1:MA2)は、光硬化性、粘度、及び硬化物の屈折率のバランスの点で、1:99~59:41が好ましく、5:95~55:45がより好ましく、10:90~53:47がさらに好ましく、15:85~50:50が特に好ましい。
 なお、感光性インク組成物を用いて高屈折率の硬化物を形成しやすい点から、スルフィド化合物(A1)の質量よりも、(メタ)アクリレート化合物(A2)の質量が多いのが好ましい。
〔金属化合物粒子(B)〕
 感光性インク組成物は、金属化合物粒子(B)を含む。金属化合物粒子(B)は、酸化チタン粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化セリウム粒子、及び硫化亜鉛粒子からなる群より選択される少なくとも1種である。感光性インク組成物は、これらの金属化合物粒子(B)のうちの1種を単独で含んでもよく、2種以上を組み合わせて含んでいてもよい。
 感光性インク組成物が、上記の金属化合物粒子(B)を含むことにより高屈折率を示す硬化物を形成できる。
 金属化合物粒子(B)の平均粒子径は、硬化物の透明性の点から、500nm以下が好ましく、2nm以上100nm以下が好ましい。
 感光性インク組成物中の金属化合物粒子(B)の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。感光性インク組成物中の金属化合物粒子(B)の含有量は、感光性インク組成物の溶媒(S)の質量を除いた質量に対して、5質量%以上70質量%以下が好ましく、35質量%以上70質量%以下がより好ましく、45質量%以上60質量%以下がさらに好ましい。
 感光性インク組成物中の金属化合物粒子(B)の含有量が上記の範囲内であることにより、感光性インク組成物の粘度を所望する範囲内としつつ、高屈折率の硬化物を形成しやすい。
<光重合開始剤(C)>
 光重合開始剤(C)としては、特に限定されず、従来公知の光重合開始剤を用いることができる。
 光重合開始剤(C)として具体的には、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-〔4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル〕-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、1-(4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ-2-メチルプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、ビス(4-ジメチルアミノフェニル)ケトン、2-メチル-1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルフォリノフェニル)-ブタン-1-オン、O-アセチル-1-[6-(2-メチルベンゾイル)-9-エチル-9H-カルバゾール-3-イル]エタノンオキシム、O-アセチル-1-[6-(ピロール-2-イルカルボニル)-9-エチル-9Hカルバゾール-3-イル]エタノンオキシム、(9-エチル-6-ニトロ-9H-カルバゾール-3-イル)[4-(2-メトキシ-1-メチルエトキシ)-2-メチルフェニル]メタノンO-アセチルオキシム、2-(ベンゾイルオキシイミノ)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1-オクタノン、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、4-ベンゾイル-4’-メチルジメチルスルフィド、4-ジメチルアミノ安息香酸、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4-ジメチルアミノ-2-エチルヘキシル安息香酸、4-ジメチルアミノ-2-イソアミル安息香酸、ベンジル-β-メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(O-エトキシカルボニル)オキシム、o-ベンゾイル安息香酸メチル、2,4-ジエチルチオキサントン、2-クロロチオキサントン、2,4-ジメチルチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2-クロロチオキサンテン、2,4-ジエチルチオキサンテン、2-メチルチオキサンテン、2-イソプロピルチオキサンテン、2-エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2-ベンズアントラキノン、2,3-ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンヒドロペルオキシド、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-(o-クロロフェニル)-4,5-ジ(m-メトキシフェニル)-イミダゾリル二量体、ベンゾフェノン、2-クロロベンゾフェノン、p,p’-ビスジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ビスジエチルアミノベンゾフェノン、4,4’-ジクロロベンゾフェノン、3,3-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン-n-ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、p-ジメチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルアセトフェノン、p-ジメチルアミノアセトフェノン、p-tert-ブチルトリクロロアセトフェノン、p-tert-ブチルジクロロアセトフェノン、α,α-ジクロロ-4-フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2-メチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル-4-ジメチルアミノベンゾエート、9-フェニルアクリジン、1,7-ビス-(9-アクリジニル)ヘプタン、1,5-ビス-(9-アクリジニル)ペンタン、1,3-ビス-(9-アクリジニル)プロパン、p-メトキシトリアジン、2,4,6-トリス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-メチル-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(5-メチルフラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(フラン-2-イル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-[2-(3,4-ジメトキシフェニル)エテニル]-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-エトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4-n-ブトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)フェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(3-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン、2,4-ビス-トリクロロメチル-6-(2-ブロモ-4-メトキシ)スチリルフェニル-s-トリアジン等が挙げられる。
 これらの光重合開始剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
 これらの中でも、光重合開始剤(C)としてオキシムエステル化合物を用いることが、感度の面で特に好ましい。オキシムエステル化合物として、好ましい化合物の例としては、O-アセチル-1-[6-(2-メチルベンゾイル)-9-エチル-9H-カルバゾール-3-イル]エタノンオキシム、O-アセチル-1-[6-(ピロール-2-イルカルボニル)-9-エチル-9Hカルバゾール-3-イル]エタノンオキシム、及び、2-(ベンゾイルオキシイミノ)-1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1-オクタノンが挙げられる。
 オキシムエステル化合物として、下記式(c1)で表されるオキシムエステル化合物を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
(Rc1は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、
n1は0以上4以下の整数であり、
n2は0、又は1であり、
c2は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基であり、
c3は、水素原子、又は炭素原子数1以上6以下のアルキル基である。)
 式(c1)中、Rc1は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Rc1が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン-1-イル基、及びピペラジン-1-イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。n1が2以上4以下の整数である場合、Rc1は同一であっても異なっていてもよい。また、置換基の炭素原子数には、置換基がさらに有する置換基の炭素原子数を含まない。
 Rc1がアルキル基である場合、炭素原子数1以上20以下が好ましく、炭素原子数1以上6以下がより好ましい。また、Rc1がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc1がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、n-デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc1がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。
 Rc1がアルコキシ基である場合、炭素原子数1以上20以下が好ましく、炭素原子数1以上6以下がより好ましい。また、Rc1がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc1がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、n-ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec-ペンチルオキシ基、tert-ペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ヘプチルオキシ基、n-オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec-オクチルオキシ基、tert-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc1がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。
 Rc1がシクロアルキル基、又はシクロアルコキシ基である場合、炭素原子数3以上10以下が好ましく、炭素原子数3以上6以下がより好ましい。Rc1がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc1がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。
 Rc1が飽和脂肪族アシル基、又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、炭素原子数2以上20以下が好ましく、炭素原子数2以上7以下がより好ましい。Rc1が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n-ブタノイル基、2-メチルプロパノイル基、n-ペンタノイル基、2,2-ジメチルプロパノイル基、n-ヘキサノイル基、n-ヘプタノイル基、n-オクタノイル基、n-ノナノイル基、n-デカノイル基、n-ウンデカノイル基、n-ドデカノイル基、n-トリデカノイル基、n-テトラデカノイル基、n-ペンタデカノイル基、及びn-ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc1が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、2-メチルプロパノイルオキシ基、n-ペンタノイルオキシ基、2,2-ジメチルプロパノイルオキシ基、n-ヘキサノイルオキシ基、n-ヘプタノイルオキシ基、n-オクタノイルオキシ基、n-ノナノイルオキシ基、n-デカノイルオキシ基、n-ウンデカノイルオキシ基、n-ドデカノイルオキシ基、n-トリデカノイルオキシ基、n-テトラデカノイルオキシ基、n-ペンタデカノイルオキシ基、及びn-ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。
 Rc1がアルコキシカルボニル基である場合、炭素原子数2以上20以下が好ましく、炭素原子数2以上7以下がより好ましい。Rc1がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n-ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec-ブチルオキシカルボニル基、tert-ブチルオキシカルボニル基、n-ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec-ペンチルオキシカルボニル基、tert-ペンチルオキシカルボニル基、n-ヘキシルオキシカルボニル基、n-ヘプチルオキシカルボニル基、n-オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec-オクチルオキシルカルボニル基、tert-オクチルオキシカルボニル基、n-ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n-デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
 Rc1がフェニルアルキル基である場合、炭素原子数7以上20以下が好ましく、炭素原子数7以上10以下がより好ましい。またRc1がナフチルアルキル基である場合、炭素原子数11以上20以下が好ましく、炭素原子数11以上14以下がより好ましい。Rc1がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、及び4-フェニルブチル基が挙げられる。Rc1がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α-ナフチルメチル基、β-ナフチルメチル基、2-(α-ナフチル)エチル基、及び2-(β-ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc1が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc1は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。
 Rc1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合環を構成する単環の環数は3以下とする。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。Rc1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。
 Rc1が1、又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、炭素原子数3以上10以下のシクロアルキル基、炭素原子数2以上20以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7以上20以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11以上20以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc1と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、ジ-n-ブチルアミノ基、n-ペンチルアミノ基、n-ヘキシルアミノ基、n-ヘプチルアミノ基、n-オクチルアミノ基、n-ノニルアミノ基、n-デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n-ブタノイルアミノ基、n-ペンタノイルアミノ基、n-ヘキサノイルアミノ基、n-ヘプタノイルアミノ基、n-オクタノイルアミノ基、n-デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α-ナフトイルアミノ基、及びβ-ナフトイルアミノ基等が挙げられる。
 Rc1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上7以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1以上4以下が好ましい。Rc1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
 Rc1の中では、化学的に安定であることや、立体的な障害が少なく、オキシムエステル化合物の合成が容易であること等から、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、及び炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基からなる群より選択される基が好ましく、炭素原子数1以上6以下のアルキルがより好ましく、メチル基が特に好ましい。
 Rc1がフェニル基に結合する位置は、Rc1が結合するフェニル基について、フェニル基とオキシムエステル化合物の主骨格との結合手の位置を1位とし、メチル基の位置を2位とする場合に、4位、又は5位が好ましく、5位がよりに好ましい。また、n1は、0以上3以下の整数が好ましく、0以上2以下の整数がより好ましく、0、又は1が特に好ましい。
 Rc2は、置換基を有してもよいフェニル基、又は置換基を有してもよいカルバゾリル基である。また、Rc2が置換基を有してもよいカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基上の窒素原子は、炭素原子数1以上6以下のアルキル基で置換されていてもよい。
 Rc2において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。フェニル基、又はカルバゾリル基が、炭素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、炭素原子数1以上20以下のアルコキシ基、炭素原子数3以上10以下のシクロアルキル基、炭素原子数3以上10以下のシクロアルコキシ基、炭素原子数2以上20以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上20以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2以上20以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいフェニルチオ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数7以上20以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよい炭素原子数11以上20以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、アミノ基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン-1-イル基、及びピペラジン-1-イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。
 Rc2がカルバゾリル基である場合、カルバゾリル基が窒素原子上に有してもよい好適な置換基の例としては、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、炭素原子数3以上10以下のシクロアルキル基、炭素原子数2以上20以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上20以下のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7以上20以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11以上20以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。これらの置換基の中では、炭素原子数1以上20以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数1以上6以下のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。
 フェニル基、又はカルバゾリル基が有してもよい置換基の具体例について、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び1、又は2の有機基で置換されたアミノ基に関しては、Rc1と同様である。
 Rc2において、フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基の例としては、炭素原子数1以上6以下のアルキル基;炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基;炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2以上7以下のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン-1-イル基;ピペラジン-1-イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。フェニル基、又はカルバゾリル基が有する置換基に含まれるフェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1以上4以下が好ましい。フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
 Rc2の中では、感度に優れる光重合開始剤を得やすい点から、下記式(c2)、又は(c3)で表される基が好ましく、下記式(c2)で表される基がより好ましく、下記式(c2)で表される基であって、AがSである基が特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
(Rc4は、1価の有機基、アミノ基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基からなる群より選択される基であり、AはS又はOであり、n3は、0以上4以下の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
(Rc5及びRc6は、それぞれ、1価の有機基である。)
 式(c2)におけるRc4が有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。式(c2)においてRc4が有機基である場合の好適な例としては、炭素原子数1以上6以下のアルキル基;炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基;炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基;炭素原子数2以上7以下のアルコキシカルボニル基;炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン-1-イル基;ピペラジン-1-イル基;ハロゲン;ニトロ基;シアノ基が挙げられる。
 Rc4の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素原子数1以上6以下のアルキル基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2-メチルフェニルカルボニル基;4-(ピペラジン-1-イル)フェニルカルボニル基;4-(フェニル)フェニルカルボニル基がより好ましい。
 また、式(c2)において、n3は、0以上3以下の整数が好ましく、0以上2以下の整数がより好ましく、0、又は1であるのが特に好ましい。n3が1である場合、Rc4の結合する位置は、Rc4が結合するフェニル基が酸素原子又は硫黄原子と結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。
 式(c3)におけるRc5は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。Rc5の好適な例としては、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、炭素原子数3以上10以下のシクロアルキル基、炭素原子数2以上20以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上20以下のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数7以上20以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素原子数11以上20以下のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。
 Rc5の中では、炭素原子数1以上20以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数1以上6以下のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。
 式(c3)におけるRc6は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rc6として好適な基の具体例としては、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rc6として、これらの基の中では置換基を有してもよいフェニル基がより好ましく、2-メチルフェニル基が特に好ましい。
 Rc4、Rc5、又はRc6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上7以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc4、Rc5、又はRc6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1以上4以下が好ましい。Rc4、Rc5、又はRc6に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
 式(c1)におけるRc3は、水素原子、又は炭素原子数1以上6以下のアルキル基である。Rc3としては、メチル基、又はエチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
 式(c1)で表されるオキシムエステル化合物の中でも特に好適な化合物としては、下記のPI-1~PI-42が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 また、下記式(c4)で表されるオキシムエステル化合物も、光重合開始剤(C)として好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
(Rc7は水素原子、ニトロ基又は1価の有機基であり、Rc8及びRc9は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、Rc8とRc9とは相互に結合して環を形成してもよく、Rc10は1価の有機基であり、Rc11は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1以上11以下のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、n4は0以上4以下の整数であり、n5は0又は1である。)
 式(c4)中、Rc7は、水素原子、ニトロ基又は1価の有機基である。Rc7は、式(c4)中のフルオレン環上で、-(CO)n5-で表される基に結合する6員芳香環とは、異なる6員芳香環に結合する。式(c4)中、Rc7のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。式(c4)で表される化合物が1以上のRc7を有する場合、式(c4)で表される化合物の合成が容易であること等から、1以上のRc7のうちの1つがフルオレン環中の2位に結合するのが好ましい。Rc7が複数である場合、複数のRc7は同一であっても異なっていてもよい。
 Rc7が有機基である場合、Rc7は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。Rc7が有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン-1-イル基、及びピペラジン-1-イル基等が挙げられる。
 Rc7がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。また、Rc7がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc7がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、n-デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc7がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。
 Rc7がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。また、Rc7がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。Rc7がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n-ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、n-ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec-ペンチルオキシ基、tert-ペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ヘプチルオキシ基、n-オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec-オクチルオキシ基、tert-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、Rc7がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。
 Rc7がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3以上10以下が好ましく、3以上6以下がより好ましい。Rc7がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。Rc7がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。
 Rc7が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2以上21以下が好ましく、2以上7以下がより好ましい。Rc7が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n-ブタノイル基、2-メチルプロパノイル基、n-ペンタノイル基、2,2-ジメチルプロパノイル基、n-ヘキサノイル基、n-ヘプタノイル基、n-オクタノイル基、n-ノナノイル基、n-デカノイル基、n-ウンデカノイル基、n-ドデカノイル基、n-トリデカノイル基、n-テトラデカノイル基、n-ペンタデカノイル基、及びn-ヘキサデカノイル基等が挙げられる。Rc7が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n-ブタノイルオキシ基、2-メチルプロパノイルオキシ基、n-ペンタノイルオキシ基、2,2-ジメチルプロパノイルオキシ基、n-ヘキサノイルオキシ基、n-ヘプタノイルオキシ基、n-オクタノイルオキシ基、n-ノナノイルオキシ基、n-デカノイルオキシ基、n-ウンデカノイルオキシ基、n-ドデカノイルオキシ基、n-トリデカノイルオキシ基、n-テトラデカノイルオキシ基、n-ペンタデカノイルオキシ基、及びn-ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。
 Rc7がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2以上20以下が好ましく、2以上7以下がより好ましい。Rc7がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n-ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec-ブチルオキシカルボニル基、tert-ブチルオキシカルボニル基、n-ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec-ペンチルオキシカルボニル基、tert-ペンチルオキシカルボニル基、n-ヘキシルオキシカルボニル基、n-ヘプチルオキシカルボニル基、n-オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec-オクチルオキシカルボニル基、tert-オクチルオキシカルボニル基、n-ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n-デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
 Rc7がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7以上20以下が好ましく、7以上10以下がより好ましい。また、Rc7がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11以上20以下が好ましく、11以上14以下がより好ましい。Rc7がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、及び4-フェニルブチル基が挙げられる。Rc7がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α-ナフチルメチル基、β-ナフチルメチル基、2-(α-ナフチル)エチル基、及び2-(β-ナフチル)エチル基が挙げられる。Rc7が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、Rc7は、フェニル基、又はナフチル基上にさらに置換基を有していてもよい。
 Rc7がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合環を構成する単環の環数は3以下とする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。Rc7がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基はさらに置換基を有していてもよい。
 Rc7がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、Rc7がヘテロシクリル基である場合と同様である。
 Rc7が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、炭素原子数3以上10以下のシクロアルキル基、炭素原子数2以上21以下の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7以上20以下のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11以上20以下のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、Rc7と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、ジ-n-プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、ジ-n-ブチルアミノ基、n-ペンチルアミノ基、n-ヘキシルアミノ基、n-ヘプチルアミノ基、n-オクチルアミノ基、n-ノニルアミノ基、n-デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n-ブタノイルアミノ基、n-ペンタノイルアミノ基、n-ヘキサノイルアミノ基、n-ヘプタノイルアミノ基、n-オクタノイルアミノ基、n-デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α-ナフトイルアミノ基、及びβ-ナフトイルアミノ基等が挙げられる。
 Rc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2以上7以下のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2以上7以下の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン-1-イル基、ピペラジン-1-イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。Rc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基がさらに置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1以上4以下が好ましい。Rc7に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。
 以上説明した基の中でも、Rc7としては、ニトロ基、又はRc12-CO-で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。Rc12は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。Rc12として好適な基の例としては、炭素原子数1以上20以下のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。Rc12として、これらの基の中では、2-メチルフェニル基、チオフェン-2-イル基、及びα-ナフチル基が特に好ましい。
 また、Rc7が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、Rc7が水素原子であり且つRc10が後述の式(c4a)又は(c4b)で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。
 式(c4)中、Rc8及びRc9は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。Rc8とRc9とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、Rc8及びRc9として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。Rc8及びRc9が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。
 Rc8及びRc9が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上10以下がより好ましく、1以上6以下が特に好ましい。Rc8及びRc9が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、sec-ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、イソオクチル基、sec-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、イソノニル基、n-デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、Rc8及びRc9がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(-O-)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。
 Rc8及びRc9が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1以上20以下が好ましく、1以上10以下がより好ましく、1以上6以下が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
 アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、Rc7がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、Rc7がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。Rc7がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。
 鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、1以上20以下であり、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。
 Rc8及びRc9が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。Rc8及びRc9が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、Rc8及びRc9が鎖状アルキル基である場合と同様である。
 Rc8及びRc9が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素-炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、3以下が好ましく、2以下がより好ましく、1が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。
 Rc8及びRc9が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されないが、3以上20以下が好ましく、3以上10以下がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。
 Rc8及びRc9がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合環を構成する単環の環数は3以下とする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。
 Rc8とRc9とは相互に結合して環を形成してもよい。Rc8とRc9とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。Rc8とRc9とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、5員環又は6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。
 Rc8とRc9とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。
 以上説明したRc8及びRc9の中でも好適な基の例としては、式-A-Aで表される基が挙げられる。式中、Aは直鎖アルキレン基であり、Aは、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である挙げられる。
 Aの直鎖アルキレン基の炭素原子数は、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。Aがアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましい。Aがハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。Aがハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Aが環状有機基である場合、環状有機基の例は、Rc8及びRc9が置換基として有する環状有機基と同様である。Aがアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、Rc8及びRc9が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。
 Rc8及びRc9の好適な具体例としては、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、及びn-オクチル基等のアルキル基;2-メトキシエチル基、3-メトキシ-n-プロピル基、4-メトキシ-n-ブチル基、5-メトキシ-n-ペンチル基、6-メトキシ-n-ヘキシル基、7-メトキシ-n-ヘプチル基、8-メトキシ-n-オクチル基、2-エトキシエチル基、3-エトキシ-n-プロピル基、4-エトキシ-n-ブチル基、5-エトキシ-n-ペンチル基、6-エトキシ-n-ヘキシル基、7-エトキシ-n-ヘプチル基、及び8-エトキシ-n-オクチル基等のアルコキシアルキル基;2-シアノエチル基、3-シアノ-n-プロピル基、4-シアノ-n-ブチル基、5-シアノ-n-ペンチル基、6-シアノ-n-ヘキシル基、7-シアノ-n-ヘプチル基、及び8-シアノ-n-オクチル基等のシアノアルキル基;2-フェニルエチル基、3-フェニル-n-プロピル基、4-フェニル-n-ブチル基、5-フェニル-n-ペンチル基、6-フェニル-n-ヘキシル基、7-フェニル-n-ヘプチル基、及び8-フェニル-n-オクチル基等のフェニルアルキル基;2-シクロヘキシルエチル基、3-シクロヘキシル-n-プロピル基、4-シクロヘキシル-n-ブチル基、5-シクロヘキシル-n-ペンチル基、6-シクロヘキシル-n-ヘキシル基、7-シクロヘキシル-n-ヘプチル基、8-シクロヘキシル-n-オクチル基、2-シクロペンチルエチル基、3-シクロペンチル-n-プロピル基、4-シクロペンチル-n-ブチル基、5-シクロペンチル-n-ペンチル基、6-シクロペンチル-n-ヘキシル基、7-シクロペンチル-n-ヘプチル基、及び8-シクロペンチル-n-オクチル基等のシクロアルキルアルキル基;2-メトキシカルボニルエチル基、3-メトキシカルボニル-n-プロピル基、4-メトキシカルボニル-n-ブチル基、5-メトキシカルボニル-n-ペンチル基、6-メトキシカルボニル-n-ヘキシル基、7-メトキシカルボニル-n-ヘプチル基、8-メトキシカルボニル-n-オクチル基、2-エトキシカルボニルエチル基、3-エトキシカルボニル-n-プロピル基、4-エトキシカルボニル-n-ブチル基、5-エトキシカルボニル-n-ペンチル基、6-エトキシカルボニル-n-ヘキシル基、7-エトキシカルボニル-n-ヘプチル基、及び8-エトキシカルボニル-n-オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基;2-クロロエチル基、3-クロロ-n-プロピル基、4-クロロ-n-ブチル基、5-クロロ-n-ペンチル基、6-クロロ-n-ヘキシル基、7-クロロ-n-ヘプチル基、8-クロロ-n-オクチル基、2-ブロモエチル基、3-ブロモ-n-プロピル基、4-ブロモ-n-ブチル基、5-ブロモ-n-ペンチル基、6-ブロモ-n-ヘキシル基、7-ブロモ-n-ヘプチル基、8-ブロモ-n-オクチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロ-n-ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。
 Rc8及びRc9として、上記の中でも好適な基は、エチル基、n-プロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、2-メトキシエチル基、2-シアノエチル基、2-フェニルエチル基、2-シクロヘキシルエチル基、2-メトキシカルボニルエチル基、2-クロロエチル基、2-ブロモエチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロ-n-ペンチル基である。
 Rc10の好適な有機基の例としては、Rc7と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン-1-イル基、及びピペラジン-1-イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、Rc7について説明したこれらの基の具体例と同様である。また、Rc10としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、Rc7に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。
 有機基の中でも、Rc10としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1以上20以下のアルキル基が好ましく、炭素原子数1以上8以下のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1以上4以下のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2-メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5以上10以下が好ましく、5以上8以下がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1以上8以下が好ましく、1以上4以下がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1以上8以下が好ましく、1以上4以下がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2-(4-クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。
 また、Rc10としては、-A-CO-O-Aで表される基も好ましい。Aは、2価の有機基であり、2価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのが好ましい。Aは、1価の有機基であり、1価の炭化水素基であるのが好ましい。
 Aがアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。Aがアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は1以上10以下が好ましく、1以上6以下がより好ましく、1以上4以下が特に好ましい。
 Aの好適な例としては、炭素原子数1以上10以下のアルキル基、炭素原子数7以上20以下のアラルキル基、及び炭素原子数6以上20以下の芳香族炭化水素基が挙げられる。Aの好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-ナフチルメチル基、及びβ-ナフチルメチル基等が挙げられる。
 -A-CO-O-Aで表される基の好適な具体例としては、2-メトキシカルボニルエチル基、2-エトキシカルボニルエチル基、2-n-プロピルオキシカルボニルエチル基、2-n-ブチルオキシカルボニルエチル基、2-n-ペンチルオキシカルボニルエチル基、2-n-ヘキシルオキシカルボニルエチル基、2-ベンジルオキシカルボニルエチル基、2-フェノキシカルボニルエチル基、3-メトキシカルボニル-n-プロピル基、3-エトキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-プロピルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-ブチルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-ペンチルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-n-ヘキシルオキシカルボニル-n-プロピル基、3-ベンジルオキシカルボニル-n-プロピル基、及び3-フェノキシカルボニル-n-プロピル基等が挙げられる。
 以上、Rc10について説明したが、Rc10としては、下記式(c4a)又は(c4b)で表される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
(式(c4a)及び(c4b)中、Rc13及びRc14はそれぞれ有機基であり、n6は0以上4以下の整数であり、Rc13及びRがベンゼン環上の隣接する位置に存在する場合、Rc13とRc14とが互いに結合して環を形成してもよく、n7は1以上8以下の整数であり、n8は1以上5以下の整数であり、n9は0以上(n8+3)以下の整数であり、Rc15は有機基である。)
 式(c4a)中のRc13及びRc14についての有機基の例は、Rc7と同様である。Rc13としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。Rc13がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1以上10以下が好ましく、1以上5以下がより好ましく、1以上3以下が特に好ましく、1が最も好ましい。つまり、Rc13はメチル基であるのが最も好ましい。Rc13とRc14とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(c4a)で表される基であって、Rc13とRc14とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン-1-イル基や、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-5-イル基等が挙げられる。上記式(c4a)中、n6は0以上4以下の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。
 上記式(c4b)中、Rc15は有機基である。有機基としては、Rc7について説明した有機基と同様の基が挙げられる。有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は1以上10以下が好ましく、1以上5以下がより好ましく、1以上3以下が特に好ましい。Rc15としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。
 上記式(c4b)中、n8は1以上5以下の整数であり、1以上3以下の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(c4b)中、n9は0以上(n8+3)以下であり、0以上3以下の整数が好ましく、0以上2以下の整数がより好ましく、0が特に好ましい。上記式(c4b)中、n7は1以上8以下の整数であり、1以上5以下の整数が好ましく、1以上3以下の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。
 式(c4)中、Rc11は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1以上11以下のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。Rc11がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Rc7がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数1以上5以下のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。
 式(c4)中、Rc11としては、水素原子、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。
 式(c4)で表される化合物の好適な具体例としては、以下のPI-43~PI-83が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 光重合開始剤(C)は、2種以上の光重合開始剤を組合わせて含むのが好ましい。この場合、露光光に含まれる幅広い範囲の波長の光線を有効に利用しやすく、また、感光性インク組成物の感度を適切な範囲に調整しやすい。
 前述の通り、光重合開始剤(C)としては、感度の点等からオキシムエステル化合物が好ましい。オキシムエステル化合物と組み合わせて使用される光重合開始剤としては、従来公知の任意の光重合開始剤を用いることができる。オキシムエステル化合物以外の任意の光重合開始剤の好適な例としては、フォスフィンオキサイド化合物が挙げられる。フォスフィンオキサイド化合物としては、下記式(c5)で表される部分構造を含むフォスフィンオキサイド化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 式(c5)中、Rc21及びRc22は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、炭素原子数2以上20以下の脂肪族アシル基、又は炭素原子数7以上20以下の芳香族アシル基である。ただし、Rc21及びRc22の双方が脂肪族アシル基又は芳香族アシル基ではない。
 Rc21及びRc22としてのアルキル基の炭素原子数は、1以上12以下が好ましく、1以上8以下がより好ましく、1以上4以下がさらに好ましい。Rc21及びRc22としてのアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
 アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-へプチル基、n-オクチル基、2,4,4,-トリメチルペンチル基、2-エチルヘキシル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ウンデシル基、及びn-ドデシル基が挙げられる。
 Rc21及びRc22としてのシクロアルキル基の炭素原子数は、5以上12以下が好ましい。シクロアルキル基の具体例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、及びシクロドデシル基が挙げられる。
 Rc21及びRc22としてのアリール基の炭素原子数は、6以上12以下が好ましい。アリール基は置換基を有してもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基等が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、及びナフチル基が挙げられる。
 Rc21及びRc22としての脂肪族アシル基の炭素原子数は、2以上20以下であり、2以上12以下が好ましく、2以上8以下がより好ましく、2以上6以下がさらに好ましい。脂肪族アシル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。
 脂肪族アシル基の具体例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、ノナデカノイル基、及びイコサノイル基が挙げられる。
 Rc21及びRc22としての芳香族アシル基の炭素原子数は、7以上20以下である。芳香族アシル基は置換基を有してもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基等が挙げられる。芳香族アシル基の具体例としては、ベンゾイル基、o-トリル基、m-トリル基、p-トリル基、2,6-ジメチルベンゾイル基、2,6-ジメトキシベンゾイル基、2,4,6-トリメチルベンゾイル基、α-ナフトイル基、及びβ-ナフトイル基が挙げられる。
 式(c5)で表される構造部分を含むフォスフィンオキサイド化合物の好ましい具体例としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)-フェニルフォスフィンオキサイド、及びビス(2,6-ジメトキシベンゾイル)-2,4,4-トリメチル-ペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
 光重合開始剤(C)の含有量は、後述する有機溶剤(S)の質量を除いた感光性インク組成物の質量(固形分全体)に対して0.5質量%以上30質量%以下が好ましく、1質量%以上20質量%以下がより好ましい。光重合開始剤(C)の含有量を上記の範囲とすることにより、硬化性が良好である感光性インク組成物を得ることができる。
 感光性インク組成物が光重合開始剤(C)としてオキシムエステル化合物と、フォスフィンオキサイド化合物とを組み合わせて含む場合、フォスフィンオキサイド化合物の質量W1とオキシムエステル化合物の質量W2との合計に対する、オキシムエステル化合物の質量W2の質量の比率は、30質量%以上が好ましく、35質量%以上95質量%以下がより好ましく、40質量%以上90質量%以下がさらに好ましい。
 光重合開始剤(C)に、光開始助剤を組み合わせてもよい。光開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4-ジメチルアミノ安息香酸メチル、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、安息香酸2-ジメチルアミノエチル、N,N-ジメチルパラトルイジン、4,4’-ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、9,10-ジメトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジメトキシアントラセン、9,10-ジエトキシアントラセン、2-エチル-9,10-ジエトキシアントラセン、2-メルカプトベンゾチアゾール、2-メルカプトベンゾオキサゾール、2-メルカプトベンゾイミダゾール、2-メルカプト-5-メトキシベンゾチアゾール、3-メルカプトプロピオン酸、3-メルカプトプロピオン酸メチル、ペンタエリストールテトラメルカプトアセテート、3-メルカプトプロピオネート等のチオール化合物等が挙げられる。これらの光開始助剤は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
〔溶媒(S)〕
 感光性インク組成物は、感光性インク組成物の質量に対して5質量%以下の溶媒(S)を含んでいてもよい。溶媒(S)の種類は特に限定されないが、典型的には有機溶媒である。
 感光性インク組成物に配合され得る有機溶媒としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール-n-プロピルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、3-ヘプタノン等のケトン類;2-ヒドロキシプロピオン酸メチル、2-ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2-ヒドロキシ-2-メチルプロピオン酸エチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、3-メトキシプロピオン酸エチル、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2-ヒドロキシ-3-メチルブタン酸メチル、3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルアセテート、3-メチル-3-メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n-プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n-ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸n-ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸n-ブチル、酪酸エチル、酪酸n-プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n-ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n-プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2-オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。
〔その他の成分〕
 感光性インク組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、以上説明した成分の他に、従来から感光性組成物やインク組成物に配合されている種々の添加剤を含んでいてもよい。感光性インク祖組成物に配合される好ましい添加剤としては、分散剤、シランカップリング剤等の密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤、消泡剤、界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤としては、特に限定されず、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤等の公知の成分を用いることができる。
〔感光性インク組成物の製造方法〕
 以上説明した成分を、それぞれ所定量混合したのち、混合物を均一に撹拌することにより感光性インク組成物が得られる。
≪硬化物の製造方法≫
 以上説明した感光性インク組成物は、典型的には、
 感光性インク組成物を、形成される硬化物の形状に応じて成形することと、
 成形された感光性インク組成物に対して露光することと、
を含む方法によって、硬化物とされる。
 上記の方法により製造される硬化物は、例えば、波長550nmにおける屈折率として、1.67以上、好ましくは1.70以上の高屈折率を示す。このため、上記の方法により製造される硬化物は、高屈折率が要求される光学用途において好適に使用される。
 例えば、前述の感光性インク組成物の硬化物からなる膜は、有機ELディスプレイパネルや、液晶ディスプレイパネル等の種々のディスプレイパネルにおいて反射防止膜等を構成する高屈折率膜として好適に使用される。
 前述の感光性インク組成物の硬化物からなる高屈折率膜の膜厚は、特に限定されず、用途に応じて適宜選択される。高屈折率膜の膜厚は、典型的には、1nm以上20μm以下が好ましく50nm以上10μm以下がより好ましい。
 感光性インク組成物を成形する方法は特に限定されず、硬化物の形状に応じて適宜選択される。硬化物の形状としては、これらに限定されないが、膜形状、レンズ形状、ライン形状、プリズム形状等が挙げられる。これらの形状の中では、膜形状が好ましい。
 感光性インク組成物を成形する方法としては、特に限定されない。硬化物の形状がレンズ形状やプリズム形状等である場合には、硬化物の形状に応じた鋳型中に感光性インク組成物をスキージ等を用いて充填してもよい。
 硬化物の形状がライン形状等である場合、硬化物の形状に応じて、基材上に感光性インク組成物を塗布すればよい。塗布方法としては、例えば、インクジェット法等の印刷法が挙げられる。
 硬化物を膜形状に塗布する方法としては、ロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置や、スピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いる方法が挙げられる。また、インクジェット法等の印刷法によって感光性インク組成物を膜形状に塗布することもできる。
 感光性インク組成物が溶媒(S)を含む場合、感光性インク組成物を所望する形状に成形した後、加熱等の方法によって成形された感光性インク組成物から溶媒(S)を除去してもよい。
 なお、例えば、膜形状等の所望する形状に成形された感光性インク組成物に対して、感光性インク組成物が完全に硬化しない程度の露光を行った後に、インプリント法等の方法によって半硬化状態の感光性インク組成物に対して賦形してもよい。この場合、賦形された半硬化状態の感光性インク組成物に対して、さらに露光が行われ、感光性インク組成物を所望する程度まで十分に硬化させる。
 また、前述の感光性インク組成物を、3Dプリンティング法に適用して、インクジェット印刷と、露光による硬化とを繰り返して薄膜状の硬化物を積層することにより、所望する形状の硬化物を形成してもよい。
 上記の方法により成形された感光性インク組成物を硬化されるための露光方法としては、感光性組成物の硬化方法として知られている種々の方法を適宜適用できる。
 成形された感光性インク組成物に対する露光は、例えば、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射して行われる。
 成形された感光性インク組成物に対する露光は、例えば、マスクを介する露光のような方法により、位置選択的に行われてもよい。露光を位置選択的に行う場合、露光された感光性インク組成物を、有機溶媒を用いて現像して未露光部を除去することで、パターン化された硬化物を形成することができる。
 現像処理を行う場合、現像後に加熱による乾燥等の方法により、現像液を十分に除去するのが好ましい。
 以上説明した方法により、溶媒(S)を含まないか少量しか含まない前述の感光性インク組成物を用いて、所望する形状の高屈折率を示す硬化物が形成される。
 また、前述の硬化性インク組成物を用いて得られる硬化物は、耐屈曲性に優れ、折り曲げても割れにくいため、フレキシブルデバイスにおいて好適に用いられる。例えば、上記の硬化物からなる厚さ10μmのフィルムを、半径6mm、好ましくは半径2mmの円柱状のステンレス棒に巻き付けた場合に、割れが生じない。
 以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されない。
〔実施例1、実施例2、比較例1、及び比較例2〕
 実施例において、スルフィド化合物(A1)として、下記構造の化合物を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 実施例及び比較例において、(メタ)アクリレート化合物(A2)として、下記構造の化合物A2-1と、化合物A2-2とを用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 比較例において、その他の光重合性化合物(A3)として、下記構造の化合物を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 実施例、及び比較例において、金属化合物粒子(B)として、酸化チタン粒子(平均粒径100nm)を用いた。
 実施例、及び比較例において、光重合開始剤(C)として、下記構造の化合物を用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 以上説明した各成分を、表1に記載される比率で均一に混合して、実施例1、実施例2、比較例1、及び比較例2の感光性インク組成物を得た。
 得られた感光性インク組成物の、25℃にて、E型粘度計を用いて測定した粘度を表1に記す。また、得られた感光性インク組成物を用いて形成された硬化膜の屈折率を下記処方に従って測定した。屈折率の測定結果を表1に記す。
<屈折率測定方法>
 ガラス基板上にインクジェット装置を用いて、各実施例、比較例の感光性インク組成物を塗布した。その後、395nmのUV-LED露光機を用いて、露光量2J/cmで塗布膜を露光して硬化させ、厚さ3μmの硬化膜を得た。その膜についてMetricon社製プリズムカプラを用いて光線波長550nmでの屈折率を求め、実施例1の屈折率を基準として以下の基準で評価した。
    A:実施例1よりも屈折率が0.05以上高い
    B:実施例1と同等(変化が±0.01以内)
    C:比較例1よりも屈折率が0.03以上低い
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
 実施例1、及び実施例2によれば、光重合性化合物(A)と、所定の種類の金属化合物粒子(B)と、光重合開始剤(C)とを含み、それぞれ所定の構造のスルフィド化合物(A1)と、(メタ)アクリレート化合物(A2)とを組み合わせて含む感光性インク組成物であれば、溶媒(S)を含まないにもかかわらず、インクジェット法を適用可能な低粘度であり、高屈折率の硬化物を形成できることが分かる。
 比較例1によれば、光重合性化合物(A)と、所定の種類の金属化合物粒子(B)と、光重合開始剤(C)とを含む感光性インク組成物であっても、当該感光性インク組成物が光重合性化合物(A)としてスルフィド化合物(A1)を含まない場合、高屈折率の硬化物を形成しにくいことが分かる。
 比較例2によれば、金属化合物粒子(B)に変えて、その他の光重合性化合物(A3)を用いることによって、硬化物の高屈折率化を図っても、十分に屈折率の高い硬化物の形成は困難であり、また、得られる感光性インク組成物の粘度も高いことが分かる。

Claims (11)

  1.  光重合性化合物(A)と、金属化合物粒子(B)と、光重合開始剤(C)とを含む、感光性インク組成物であって、
     前記感光性インク組成物は、溶媒(S)を含むか、又は含まず、
     前記光重合性化合物が、下記式(a-1)で表されるスルフィド化合物(A1)と、下記式(a-2)で表される(メタ)アクリレート化合物(A2)とを含み、
     前記金属化合物粒子(B)が、酸化チタン粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化セリウム粒子、及び硫化亜鉛粒子からなる群より選択される少なくとも1種であり、
     前記感光性インク組成物の質量に対する前記溶媒(S)の質量の比率が5質量%以下であり、
     25℃にて、E型粘度計を用いて測定される粘度が30cP以下である、感光性インク組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    (式(a-1)中、R、及びRは、それぞれ独立に水素原子、又はメチル基であり、R、及びRは、それぞれ独立に炭素原子数1以上5以下のアルキル基であり、p、及びqはそれぞれ独立に0又は1である。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    (式(a-2)中、R10は、水素原子又はメチル基であり、R11は、炭素原子数1以上3以下のアルキレン基であり、R12は、単結合、酸素原子、又は硫黄原子であり、R13は炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルコキシ基、フェノキシ基、又はフェニル基であり、sは0以上5以下の整数であり、tは、0、1又は2である。)
  2.  前記感光性インク組成物の前記溶媒(S)の質量を除いた質量に対する、前記金属酸化物粒子の質量の比率が、5質量%以上70質量%以下である、請求項1に記載の感光性インク組成物。
  3.  前記光重合性化合物(A)の質量に対する、前記スルフィド化合物(A1)の質量と、前記(メタ)アクリレート化合物(A2)の質量との合計の比率が80質量%以上である、請求項1又は2に記載の感光性インク組成物。
  4.  前記感光性インク組成物の前記溶媒(S)の質量を除いた質量に対する、前記スルフィド化合物(A1)の質量の比率が、5質量%以上30質量%以下である、請求項1~3のいずれか1項に記載の感光性インク組成物。
  5.  前記感光性インク組成物の前記溶媒(S)の質量を除いた質量に対する、前記(メタ)アクリレート化合物(A2)の質量の比率が、10質量%以上50質量%以下である、請求項1~4のいずれか1項に記載の感光性インク組成物。
  6.  請求項1~5のいずれか1項に記載の感光性インク組成物の硬化物。
  7.  波長550nmにおける屈折率が1.67以上である、請求項6に記載の硬化物。
  8.  請求項6又は7に記載の硬化物からなる膜を備える、ディスプレイパネル。
  9.  請求項1~5のいずれか1項に記載の感光性インク組成物を、形成される硬化物の形状に応じて成形することと、
     成形された前記感光性インク組成物に対して露光することと、
    を含む硬化物の製造方法。
  10.  前記感光性インク組成物が、塗布により膜状に成形される、請求項9に記載の硬化物の製造方法。
  11.  前記塗布がインクジェット印刷法により行われる、請求項9又は10に記載の硬化物の製造方法。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016074873A (ja) * 2014-06-10 2016-05-12 株式会社リコー インク、インクカートリッジ、インクジェット記録装置、印刷物、光重合性化合物、光硬化性組成物、立体造形用材料、立体造形物
US20170200919A1 (en) * 2014-09-08 2017-07-13 Nanograde Ag Solution-processable hri optical films comprising titanate nanoparticles

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003185820A (ja) * 2001-12-21 2003-07-03 Jsr Corp 感放射線性屈折率変化性組成物および屈折率変化法
JP2009120832A (ja) * 2007-10-24 2009-06-04 Mitsubishi Chemicals Corp 重合性組成物、硬化物、および光学部材
JP5922341B2 (ja) 2011-05-09 2016-05-24 大阪ガスケミカル株式会社 フルオレン化合物および金属酸化物を含む組成物
JP2017021346A (ja) * 2015-07-10 2017-01-26 Jsr株式会社 硬化性組成物、硬化膜、ベゼル及び表示装置
EP3562895B1 (en) * 2016-12-29 2021-08-18 3M Innovative Properties Company Curable high refractive index ink compositions and articles prepared from the ink compositions
KR102681068B1 (ko) * 2017-07-26 2024-07-02 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 경화성 고굴절률 잉크 조성물 및 잉크 조성물로부터 제조된 물품

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016074873A (ja) * 2014-06-10 2016-05-12 株式会社リコー インク、インクカートリッジ、インクジェット記録装置、印刷物、光重合性化合物、光硬化性組成物、立体造形用材料、立体造形物
US20170200919A1 (en) * 2014-09-08 2017-07-13 Nanograde Ag Solution-processable hri optical films comprising titanate nanoparticles

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