WO2020241529A1 - カルバモイルオキシム化合物並びに該化合物を含有する重合開始剤及び重合性組成物 - Google Patents

カルバモイルオキシム化合物並びに該化合物を含有する重合開始剤及び重合性組成物 Download PDF

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和貴 友田
竜也 大槻
智幸 有吉
光裕 岡田
木村　正樹
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株式会社Adeka
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    • G03F7/004—Photosensitive materials

Definitions

  • the present invention relates to a carbamoyloxime compound.
  • a polymerizable composition such as a photosensitive resin composition is obtained by adding a photopolymerization initiator to a polymerizable compound such as a photosensitive resin, and can be polymerized and cured or developed by irradiation with energy rays (light). Therefore, it is used in photocurable inks, photosensitive printing plates, various photoresists, photocurable adhesives, and the like.
  • Photopolymerization initiators are divided into photoradical generators, photoacid generators, and photobase generators, depending on the active species generated by energy ray (light) irradiation.
  • the photoradical generator has advantages such as a high curing rate and no active species remaining after curing, but has a disadvantage that a layer or the like that blocks oxygen must be provided in the curing of the thin film because the curing is inhibited by oxygen.
  • the photoacid generator has an advantage that it is not inhibited by oxygen, but has a disadvantage that the residual active acid causes the metal substrate to be corroded and the cured resin to be modified.
  • Photobase generators are attracting attention because they are less likely to cause problems such as inhibition of curing by oxygen and corrosion by residual active species, but generally have a problem of low sensitivity (low curability) as compared with photoacid generators. Photobase generators are described, for example, in Patent Documents 1 and 2.
  • an object of the present invention is to provide a compound having high photobase generation efficiency.
  • the present inventor conducted diligent studies and found that a compound having a specific structure has a high photobase generation efficiency and is useful as a polymerization initiator. That is, the present invention is a carbamoyloxime compound represented by the following general formula (I).
  • A represents an aromatic ring-containing group having 6 to 20 carbon atoms.
  • R 1 represents an electron-attracting group.
  • X 1 represents -NR 2 R 3 , or a group represented by the following general formula (a) or the following general formula (b).
  • R 2 and R 3 each independently contain a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group.
  • a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a divalent group represented by the following ⁇ group A>, or a divalent group in which a methylene group in an aromatic hydrocarbon group is represented by the following ⁇ group A> Represents a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with R 2 and R 3 are connected to each other and have a ring consisting of hydrogen atom, nitrogen atom and carbon atom having 2 to 10 carbon atoms or a ring consisting of hydrogen atom, oxygen atom, nitrogen atom and carbon atom having 2 carbon atoms. It may form a ring of ⁇ 10.
  • the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are halogen atom, cyano group, nitro group, -OR 4 , -COOR 4 , -CO-R 4 , -SR 4 , and carbon atoms 1 to 1. It may be an aliphatic hydrocarbon group of 20, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms.
  • the hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon groups are halogen atoms, cyano groups, nitro groups, -OR 4 , -COOR 4 , -CO-R 4 , -SR 4 , and carbon atoms 1 to 1. It may be a group having 20 aliphatic hydrocarbon groups, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group containing 2 to 20 carbon atoms.
  • R 4 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms.
  • ⁇ Group A> is -O-, -COO-, -OCO-, -CO-, -CS-, -S-, -SO-, -SO 2- , -NR-, -NR-CO-,- A group having 1 to 20 carbon atoms substituted with CO-NR-, -NR-COO-, -OCO-NR- or -SiRR'-.
  • R and R' represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • n represents 0 or 1.
  • R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are independently fats having hydrogen atoms and 1 to 20 carbon atoms, respectively.
  • Group hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, methylene groups in aliphatic hydrocarbon groups are substituted with divalent groups represented by ⁇ Group B> below, and carbon atoms 1 to 1 to Represents a group having 1 to 20 carbon atoms in which the methylene group in the 20 group or the aromatic hydrocarbon group is replaced with the divalent group represented by the following ⁇ Group B>.
  • the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon groups are halogen atoms, cyano groups, and nitro groups.
  • -OR 102 , -COOR 102 , -CO-R 102 , -SR 102 aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, or 2 to 2 carbon atoms. It may be a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with 20 heterocyclic groups.
  • the hydrogen atom in the aromatic ring-containing group is a halogen atom, a cyano group, a nitro group, -OR 102 , -COOR 102 , -CO-R 102 , -SR 102 , aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, or 2 to 20 carbon atoms. It may be a group having 6 to 20 carbon atoms substituted with the heterocycle-containing group of.
  • R 102 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms.
  • ⁇ Group B> is, -O -, - COO -, - OCO -, - CO -, - CS -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 111 -, - NR 111 -CO- , -CO-NR 111 -, - NR 111 -COO -, - OCO-NR 111 - or -SiR 111 R 111 '- are radicals having 1 to 20 carbon atoms substituted with, R 111 and R 111'represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 11 and R 12 , R 13 and R 14 , R 15 and R 16 , R 17 and R 18 and R 19 and R 20 are connected to each other and have a carbon atom number consisting of a hydrogen atom, a nitrogen atom and a carbon atom.
  • a ring of 2 to 10 or a ring having 2 to 10 carbon atoms consisting of a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom and a carbon atom may be formed. * Represents a bond. )
  • the carbamoyloxime compound of the present invention is represented by the above general formula (I).
  • the carbamoyloxime compound represented by the general formula (I) has geometric isomers due to double bonds of oxime, but these are not distinguished. That is, in the present specification, the carbamoyloxime compound represented by the above general formula (I), and the compound which is a preferable form of the compound described later and the exemplified compound represent a mixture of isomers or one of them. It is not limited to the isomer of the structure shown.
  • the carbamoyloxime compound represented by the general formula (I) is also simply referred to as "a compound represented by the general formula (I)" or "a compound of the present invention".
  • a in the general formula (I) may be a group containing an aromatic ring and having 6 to 20 carbon atoms.
  • a in the general formula (I) may be a group containing an aromatic ring and having 6 to 20 carbon atoms.
  • the unsubstituted aromatic ring-containing group having 6 to 20 carbon atoms represented by A in the general formula (I) one hydrogen atom is removed from diphenyl sulfide, carbazole, fluorene, indol, coumarin and biphenyl.
  • a monovalent group or the like is mentioned, and a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from coumarin is particularly preferable because of its excellent sensitivity.
  • the substituents include a halogen atom, a cyano group, a nitro group, -OR 4 , -COOR 4 , -CO-R 4 , and-.
  • substituents include SR 4 , an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
  • R 4 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms.
  • one or two or more hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are a halogen atom, a cyano group, a nitro group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, or 2 carbon atoms. It may be a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group containing 10 to 10, and one or two or more hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group are a halogen atom, a cyano group, or a nitro. It may be a group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms.
  • the aromatic ring-containing group having 6 to 20 carbon atoms having a substituent is a carbon atom in which one or two or more hydrogen atoms of the unsubstituted aromatic ring-containing group are substituted with the substituent. It means the group of the number 6 to 20.
  • the substituent may be a group having 1 to 20 carbon atoms in which one or two or more hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are substituted with an atom or group selected from the following group I.
  • One or two or more hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group may be an atom or a group having 6 to 20 carbon atoms substituted with an atom or group selected from the following group I, and the heterocycle-containing group may contain the group.
  • One or two or more of the hydrogen atoms of the above may be a group substituted with an atom or group selected from the following group I.
  • Group I Halogen atom, nitro group, cyano group, hydroxyl group, amino group, carboxyl group, methacryloyl group, acryloyl group, epoxy group, vinyl group, vinyl ether group, mercapto group, isocyanate group, heterocycle with 2 to 20 carbon atoms Containing group
  • the methylene group in the aliphatic hydrocarbon group is -O-, -COO-, -OCO-, -CO-, -CS-, -S-, -SO-, -SO 2 -,-. It may be a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with NR-, -NR-CO-, -CO-NR-, -NR-COO-, -OCO-NR- or -SiRR'-.
  • R and R' represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Even when the substituent is a group containing R or R', the number of carbon atoms contained in the entire substituent is 1 to 20.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms examples include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, amyl group and isoamyl.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group and a biphenyl group, and the aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms is mentioned. Examples of these groups include those satisfying a predetermined number of carbon atoms.
  • heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms examples include a tetrahydrofuranyl group, a dioxolanyl group, a tetrahydropyranyl group, a morpholyl group, a furanyl group, a thiophenyl group, a methylthiophenyl group, a hexylthiophenyl group and a benzothiophenyl group.
  • Examples thereof include a pyrrolyl group, a pyrrolidinyl group, an imidazolyl group, an imidazolinyl group, an imidazolidinyl group, a pyrazolinyl group, a pyrazolydinyl group, a piperidinyl group and a piperazinyl group, and examples of the heterocyclic group containing 2 to 10 carbon atoms include these groups. Among them, those satisfying a predetermined number of carbon atoms can be mentioned.
  • a in the above general formula (I) is the diphenylsulfide structure described in the following general formula (A-1) and the following general formula (A-2).
  • R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 are independently bonded, hydrogen atom, halogen atom, cyano group.
  • R 21 and R 22 , R 22 and R 23 , R 23 and R 24 , R 24 and R 25 , R 26 and R 27 , R 27 and R 28 , R 28 and R 29 , R 29 and R 30 respectively.
  • R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 represents a bond.
  • R 31 an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the following ⁇ group C>.
  • R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 , R 30 and R 31 are one or more of the hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group.
  • halogen atom contains a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, a vinyl group, a vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a heterocycle having 2 to 20 carbon atoms. It may be a group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a group.
  • R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 one or more of the hydrogen atoms in the heterocyclic group are halogen atoms.
  • ⁇ Group C> is, -O -, - COO -, - OCO -, - CO -, - CS -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 112 -, - NR 112 -CO- , -CO-NR 112 -, - NR 112 -COO -, - OCO-NR 112 - or -SiR 112 R 112 '- a and, R 112 and R 112'represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • a in the general formula (I) is the above general formula (A-1)
  • the compound is cured with a low exposure amount because of its high base generation efficiency when used as a polymerization initiator, and the obtained cured product is cured. It is preferable because it is also excellent in transparency.
  • R 40 has a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group as follows. Represents a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a divalent group represented by group D>.
  • R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 and R 48 are independent of the bonder, hydrogen atom, halogen atom, cyano group, nitro group, -OR 49 , -COOR.
  • aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, heterocyclic groups containing 2 to 20 carbon atoms
  • the methylene group in the aliphatic hydrocarbon group represents a group having 1 to 20 carbon atoms in which the divalent group represented by the following ⁇ Group D> is substituted.
  • R 41 and R 42 , R 42 and R 43 , R 43 and R 44 , R 45 and R 46 , R 46 and R 47 , and R 47 and R 48 are independently linked to each other, and hydrogen atoms and carbon are connected to each other.
  • a ring composed of atoms having 3 to 10 carbon atoms may be formed.
  • R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 and R 48 represents a bond.
  • R 49 an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the following ⁇ group D>. Representing a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a divalent group, R 49 means that one or more of the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and the like.
  • It may be an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms or a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms, and hydrogen in the aromatic hydrocarbon group.
  • R 40 It may be a group of 6 to 20
  • R 41 , R 42 , R 43 , R 44 , R 45 , R 46 , R 47 , R 48 and R 49 one or more of the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are halogen.
  • one or more of the hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group are halogen. Substituted with an atom, nitro group, cyano group, hydroxyl group, amino group, carboxyl group, methacryloyl group, acryloyl group, epoxy group, vinyl group, vinyl ether group, mercapto group, isocyanate group or heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms. It may be a group having 6 to 20 carbon atoms.
  • one or more of the hydrogen atoms in the heterocyclic group are halogen atoms, nitro groups, cyano groups, A hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, a vinyl group, a vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms substituted with 2 to 20 carbon atoms.
  • ⁇ Group D> May be the basis of ⁇ Group D> is, -O -, - COO -, - OCO -, - CO -, - CS -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 113 -, - NR 113 -CO- , -CO-NR 113 -, - NR 113 -COO -, - OCO-NR 113 - or -SiR 113 R 113 '- a and, R 113 and R 113'represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • a in the general formula (I) is represented by the above general formula (A-2)
  • the compound is cured with a low exposure amount because of its high base generation efficiency, and is exposed to long wavelength light. Even if there is, it is preferable because the base generation efficiency is high.
  • R 43 or R 46 in the general formula (A-2) is a bond because the compound can be synthesized stably and with high purity.
  • R 40 in the general formula (A-2) is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 43 is bonded.
  • R 46 is -CO-R 31
  • R 31 is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms or a heterocyclic group containing 2 to 20 carbon atoms
  • R 41 , R 42. , R 44 , R 45 , R 47 and R 48 are preferably hydrogen atoms
  • R 40 is more preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and 1 to 8 carbon atoms. It is particularly preferably an aliphatic hydrocarbon group.
  • R 51 and R 52 are independently hydrogen atoms, aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, or aliphatic hydrocarbons.
  • the methylene group in the group represents a group having 1 to 20 carbon atoms in which the divalent group represented by ⁇ Group E> below is substituted.
  • R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 , R 58 , R 59 and R 60 are each independently bonded, hydrogen atom, halogen atom, cyano group, nitro group, -OR 61 , -COOR.
  • R 53 and R 54 , R 54 and R 55 , R 55 and R 56 , R 57 and R 58 , R 58 and R 59 , and R 59 and R 60 are independently linked to each other to form a hydrogen atom and carbon.
  • a ring consisting of atoms having 3 to 10 carbon atoms may be formed. Any one of R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 , R 58 , R 59 and R 60 represents a bond.
  • R 61 an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the following ⁇ group E>.
  • R 61 represents a divalent radical radicals having 1 to 20 carbon atoms substituted
  • R 61 is one of hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group or two or more, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, It may be an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms or a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms, and hydrogen in the aromatic hydrocarbon group.
  • R 51 , R 52 , R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 , R 58 , R 59 , R 60 and R 61 are one or more of the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group.
  • R 51 , R 52 , R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 , R 58 , R 59 , R 60 and R 61 are one or more of the hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group.
  • halogen atom contains a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, a vinyl group, a vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a heterocycle having 2 to 20 carbon atoms. It may be a group having 6 to 20 carbon atoms substituted with a group.
  • one or more of the hydrogen atoms in the heterocyclic group are halogen atoms, nitro groups, cyano groups, A hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, a vinyl group, a vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms substituted with 2 to 20 carbon atoms.
  • ⁇ Group E> May be the basis of ⁇ Group E> is, -O -, - COO -, - OCO -, - CO -, - CS -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 114 -, - NR 114 -CO- , -CO-NR 114 -, - NR 114 -COO -, - OCO-NR 114 - or -SiR 114 R 114 '- a and, R 114 and R 114'represent hydrogen atoms or aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms. )
  • the compound in which A in the general formula (I) is represented by the above general formula (A-3) is cured at a low exposure amount because of its high base generation efficiency, and is also excellent in transparency of the cured product. preferable.
  • R 54 or R 59 in the general formula (A-3) is a bond because the compound can be synthesized stably and with high purity.
  • R 51 and R 52 in the general formula (A-3) are aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, and R 54 is a bond, R 59 is -CO-R 31 , R 31 is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and R 53 , R 55 , R 56 , R 57 , R 58. And a compound in which R60 is a hydrogen atom is preferable.
  • R 71 has a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group as follows.
  • R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 and R 77 are each independently a bond, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, -OR 78 , -COOR 78 , -CO-R.
  • an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, a heterocyclic group containing 2 to 20 carbon atoms, or an aliphatic hydrocarbon group.
  • the methylene group in the group represents a group having 1 to 20 carbon atoms in which the divalent group represented by ⁇ Group F> below is substituted. Even if R 74 and R 75 , R 75 and R 76 , and R 76 and R 77 are independently connected to each other to form a ring consisting of hydrogen atoms and carbon atoms having 3 to 10 carbon atoms.
  • R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 and R 77 represents a bond.
  • R 78 an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the following ⁇ group F>.
  • one or more hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are halogen atoms, cyano groups, nitro groups, It may be an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms or a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms, and hydrogen in the aromatic hydrocarbon group.
  • R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 and R 78 one or more of the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are halogen atoms, nitro groups and cyano groups.
  • ⁇ Group F> is, -O -, - COO -, - OCO -, - CO -, - CS -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 115 -, - NR 115 -CO- , -CO-NR 115 -, - NR 115 -COO -, - OCO-NR 115 - or -SiR 115 R 115 '- a and, R 115 and R 115'represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • a in the general formula (I) is represented by the above general formula (A-4), the compound is cured with a low exposure amount because of its high base generation efficiency, and the obtained curing is obtained. It is preferable because it has excellent transparency.
  • R 73 in the general formula (A-4) is a bond because the compound can be synthesized stably and with high purity.
  • R 71 in the general formula (A-4) is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and R 72 and R Compounds in which 74 , R 75 , R 76 and R 77 are hydrogen atoms are preferred.
  • R 71 is a 4-benzoylphenyl group is preferable.
  • R 81 , R 82 , R 83 , R 84 , R 85 and R 86 are independently bonded, hydrogen atom, halogen atom, cyano group, nitro group, -OR 87 , -COOR 87 , respectively.
  • -CO-R 87 , -SR 87 aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, heterocyclic groups containing 2 to 20 carbon atoms, or fats.
  • the methylene group in the group hydrocarbon group represents a group having 1 to 20 carbon atoms in which the divalent group represented by the following ⁇ group G> is substituted.
  • R 83 and R 84 , R 84 and R 85 , and R 85 and R 86 are independently connected to each other to form a ring consisting of hydrogen atoms and carbon atoms having 3 to 10 carbon atoms.
  • Any one of R 81 , R 82 , R 83 , R 84 , R 85 and R 86 represents a bond.
  • R 87 an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the following ⁇ group G>.
  • one or more hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are halogen atoms, cyano groups, nitro groups, It may be an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms or a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms, and hydrogen in the aromatic hydrocarbon group.
  • R 81 , R 82 , R 83 , R 84 , R 85 , R 86 and R 87 one or more of the hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are halogen atoms, nitro groups, cyano groups and hydroxyl groups. , Amino group, carboxyl group, methacryloyl group, acryloyl group, epoxy group, vinyl group, vinyl ether group, mercapto group, isocyanate group or heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms substituted with 1 to 20 carbon atoms.
  • R 81 , R 82 , R 83 , R 84 , R 85 , R 86 and R 87 one or more of the hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group are halogen atoms, nitro groups, cyano groups and hydroxyl groups.
  • one or more of the hydrogen atoms in the heterocycle-containing group are halogen atoms, nitro groups, cyano groups, hydroxyl groups, amino groups and carboxyl groups. Even a group having 2 to 20 carbon atoms substituted with a group, a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, a vinyl group, a vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a heterocycle-containing group having 2 to 20 carbon atoms.
  • ⁇ Group G> is, -O -, - COO -, - OCO -, - CO -, - CS -, - S -, - SO -, - SO 2 -, - NR 116 -, - NR 116 -CO- , -CO-NR 116 -, - NR 116 -COO -, - OCO-NR 116 - or -SiR 116 R 116 '- a and, R 116 and R 116'represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the compound is cured with a low exposure amount because of its high base generation efficiency, and is exposed to long wavelength light. Even if there is, it is preferable because the base generation efficiency is high.
  • R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 , R 97 , R 98 , R 99 and R 100 are each independently a bond, a hydrogen atom, a halogen atom and a cyano group.
  • Nitro group, -OR 101 , -COOR 101 , -CO-R 101 , -SR 101 aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, carbon atom.
  • R 91 and R 92 , R 92 and R 93 , R 93 and R 94 , R 94 and R 95 , R 96 and R 97 , R 97 and R 98 , R 98 and R 99 , R 99 and R 100 may be connected to each other to form a ring consisting of a hydrogen atom and a carbon atom having 3 to 10 carbon atoms.
  • R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 , R 97 , R 98 , R 99 and R 100 represents a bond.
  • an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a methylene group in the aliphatic hydrocarbon group is represented by the following ⁇ group H>. Representing a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a divalent group, in R 101 , one or more hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group are a halogen atom, a cyano group, a nitro group, and the like.
  • It may be an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms or a group having 1 to 20 carbon atoms substituted with a heterocyclic group having 2 to 10 carbon atoms, and hydrogen in the aromatic hydrocarbon group.
  • R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 , R 97 , R 98 , R 99 , R 100 and R 101 are one or more hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group. However, it contains a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, a vinyl group, a vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a heterocycle having 2 to 20 carbon atoms.
  • R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 , R 97 , R 98 , R 99 , R 100 and R 101 are one or more hydrogen atoms in an aromatic hydrocarbon group. However, it contains a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a methacryloyl group, an acryloyl group, an epoxy group, a vinyl group, a vinyl ether group, a mercapto group, an isocyanate group or a heterocycle having 2 to 20 carbon atoms.
  • R 91 , R 92 , R 93 , R 94 , R 95 , R 96 , R 97 , R 98 , R 99 and R 100 one or more of the hydrogen atoms in the heterocyclic group are halogen atoms.
  • ⁇ Group H> is -O-, -COO-, -OCO-, -CO-, -CS-, -S-, -SO-, -SO 2- , -NR 117- , -NR 117- CO- , -CO-NR 117 -, - NR 117 -COO -, - OCO-NR 117 - or -SiR 117 R 117 '- a and, R 117 and R 117'represent a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.
  • the compound in which A in the general formula (I) is represented by the above general formula (A-6) is preferable because it cures at a low exposure amount because it has high base generation efficiency when used as a polymerization initiator.
  • heterocyclic ring-containing group of the above include the groups exemplified in the description of the substituent which may be contained in the aromatic ring-containing group having 6 to 20 carbon atoms represented by A in the general formula (I). Be done.
  • halogen atom in the general formulas (A-1) to (A-6) has an aromatic ring-containing group having 6 to 20 carbon atoms represented by A in the general formula (I). It is similar to the halogen atom exemplified as a substituent.
  • the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in the general formulas (A-1) to (A-6) the aliphatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms represented by A in the general formula (I) is used. This is the same as the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which is exemplified as a substituent that the aromatic ring-containing group may have.
  • the aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms in the general formulas (A-1) to (A-6) has a carbon atom number of 6 to 20 represented by A in the general formula (I). This is the same as the aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, which is exemplified as the substituent which the aromatic ring-containing group may have.
  • heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms in the general formulas (A-1) to (A-6) an aromatic having 6 to 20 carbon atoms represented by A in the general formula (I) is used. This is the same as the heterocyclic ring-containing group having 2 to 20 carbon atoms, which is exemplified as a substituent that the ring-containing group may have.
  • Rings having 3 to 10 carbon atoms consisting of hydrogen atoms and carbon atoms formed by connecting R 99 , R 99 and R 100 with each other include a benzene ring, a cyclohexene ring, a cyclohexane ring, a cyclopentadiene ring, and a cyclo. Pentan ring and the like can be mentioned.
  • R 1 in the general formula (I) represents an electron-attracting group.
  • the electron-attracting group refers to a group having a Hammet's substituent constant ⁇ p of 0 or more, for example, a halogen atom, an alkyl halide group, a nitro group, a cyano group, a sulfonyl group, an ester group, a carbonyl group, or an imine. Examples thereof include a group, an oxime group, a sulfoxide group and a formyl group.
  • R 1 is preferably an alkyl halide group, a cyano group or a nitro group, and more preferably an alkyl halide group or a cyano group because it cures at a low exposure amount and has high solubility in a solvent. , Trifluoromethyl group or cyano group is particularly preferable.
  • X 1 in the general formula (I) is -NR 2 R 3 , or a group represented by the general formula (a) or the general formula (b).
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 2 and R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and an s-butyl group.
  • t-butyl group amyl group, isoamyl group, t-amyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, isooctyl group, 2-ethylhexyl group, t-octyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, isodecyl group, Alkyl groups such as undecyl group, dodecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, icosyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and cyclohexylmethyl group, and carbon-carbon single bond of these alkyl groups is carbon-carbon double bond.
  • an unsaturated aliphatic hydrocarbon group having a structure substituted with a carbon-carbon triple bond and the like can be mentioned.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 2 and R 3 include a phenyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group and a biphenyl group.
  • the substituent is Examples of the substituents that the aromatic ring-containing group represented by A in the general formula (I) may have include the groups exemplified.
  • An aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms having a substituent is one or more hydrogen atoms in the aliphatic hydrocarbon group substituted with a substituent and having 1 to 20 carbon atoms. It means 20 groups.
  • the aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms means a group having 6 to 20 carbon atoms in which one or more hydrogen atoms in the aromatic hydrocarbon group are substituted with a substituent. To do.
  • R 2 and R 3 Examples of the group represented by the above R 2 and R 3 as an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms can be mentioned.
  • R 2 and R 3 , R 11 and R 12 , R 13 and R 14 , R 15 and R 16 , R 17 and R 18 and R 19 and R 20 are connected to each other to form hydrogen atoms, nitrogen atoms and Rings consisting of carbon atoms having 2 to 10 carbon atoms include pyrol rings, pyrrolidine rings, imidazole rings, imidazolidine rings, imidazoline rings, pyrazole rings, and pyrazolidine rings. Examples thereof include a piperidine ring and a piperazine ring. These rings may have a substituent, and examples of the substituent in that case include the groups exemplified in the description of A in the above general formula (I).
  • the ring composed of a nitrogen atom and a carbon atom having 2 to 10 carbon atoms include a morpholin ring, an oxazol ring, an oxazoline ring, an oxadiazole ring and the like as a ring including a bonded nitrogen atom.
  • These rings may have a substituent, and examples of the substituent in this case include the groups exemplified in the description of A in the above general formula (I).
  • X 1 in the general formula (I) is ⁇ NR 2 R 3 , R 2 and R 3 are connected to each other, and the number of carbon atoms consisting of hydrogen atom, nitrogen atom and carbon atom is 2. It is preferable to form a ring having a number of carbon atoms of 2 to 10 or a ring composed of a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom and a carbon atom. It is also preferable that X 1 in the general formula (I) is ⁇ NR 2 R 3 , R 2 is a hydrogen atom, and R 3 is an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms.
  • the compound in which X 1 in the general formula (I) has such a structure is preferable because it cures at a low exposure amount because it has high base generation efficiency when used as a polymerization initiator.
  • X 1 in the general formula (I) is ⁇ NR 2 R 3 , R 2 and R 3 are connected to each other, and the number of carbon atoms consisting of hydrogen atom, nitrogen atom and carbon atom is 2 to 10. It is preferable that a ring is formed because the reactivity of the generated base is high.
  • N in the above general formula (I) represents 0 or 1.
  • a compound in which n is 0 is preferable because it has high stability to heat.
  • a compound having n of 1 is preferable because it is a compound having high curing sensitivity.
  • Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include compounds represented by the following chemical formulas (1) to (300). However, the present invention is not limited by the following compounds.
  • the method for producing the carbamoyloxime compound of the present invention represented by the general formula (I) is not particularly limited.
  • a in the general formula (I) is represented by the general formula (A-3) and n.
  • When 0, it can be produced by the following method according to the following reaction formula 1. That is, a ketone compound A is obtained by reacting a known and commercially available fluorene compound with an acid chloride in the presence of a Lewis acid such as aluminum chloride, and the ketone compound A and hydroxylamine hydrochloride are combined with a base such as pyridine. Oxime compound A is obtained by reacting in the presence of. Subsequently, the oxime compound A is reacted with 4-nitrophenyl chloroformate, and then, if necessary, an amine is reacted to obtain the carbamoyl oxime compound A of the present invention.
  • R 51 to R 60 and R 1 to R 3 are the same as the above general formula (A-3).
  • Ketone compound B is obtained by reacting in the presence of Lewis acid such as aluminum, and isobutyl nitrite is reacted with ketone body B under acidic conditions to obtain oxime compound B. Subsequently, the oxime compound B is reacted with 4-nitrophenyl chloroformate, and then, if necessary, an amine is reacted to obtain the carbamoyl oxime compound B of the present invention.
  • R 51 to R 60 and R 1 to R 3 are the same as the above general formula (A-3).
  • Both the above reaction formula 1 and the above reaction formula 2 show the case where X 1 is -NR 2 R 3 , but by changing the amine used, X 1 becomes the above formula (a) or the above formula (b).
  • the compound which is the group represented by is also produced.
  • both Reaction Scheme 1 and Reaction Scheme 2 show a case where R 54 is a bond, but by introducing a ketone group at a desired position of R 53 to R 60 at the time of forming a fluorene ring, a ketone group can be introduced.
  • a compound in which any of R 53 to R 60 is a binding agent can be obtained.
  • Oxime compound A can also be produced by the method described in Japanese Patent No. 4223071.
  • the carbamoyloxime compound of the present invention is useful as a latent base generator and a polymerization initiator because it efficiently generates bases and radicals by irradiation with light such as ultraviolet rays or heating, and is particularly useful as a latent base generator. Is.
  • the latent base generator of the present invention means a compound having a function of efficiently generating a base by irradiating with light such as ultraviolet rays, and its use is a PH adjuster or a catalyst using a base. And so on.
  • the carbamoyloxime compound of the present invention is useful as a photobase generator and a photoradical polymerization initiator because it has a high base and radical generation efficiency among the above-mentioned polymerization initiators, and the base generation efficiency is very high. Therefore, it is particularly useful as a photobase generator.
  • the polymerization initiator of the present invention contains at least one carbamoyloxime compound represented by the above general formula (I).
  • the polymerization initiator that can be used in combination with the carbamoyloxime compound represented by the general formula (I) is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known photobase generators and photoradical polymerization initiators. ..
  • the content of the compound represented by the general formula (I) in the polymerization initiator is preferably 1 to 100% by mass, more preferably 50 to 100% by mass.
  • the polymerizable composition of the present invention contains a polymerization initiator (A) containing at least one carbamoyloxime compound represented by the above general formula (I), and a polymerizable compound (B).
  • the content of the polymerization initiator (A) is preferably 1 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound (B).
  • the content of the polymerization initiator (A) is 1 part by mass or more, it is easy to prevent curing failure due to insufficient curing sensitivity. Therefore, when it is 20 parts by mass or less, it volatilizes during light irradiation or heating. It is preferable because it can suppress objects.
  • Examples of the polymerizable compound (B) used in the present invention include a compound having an anionic polymerizable functional group, a compound that is cured by a reaction in which a base acts as a catalyst or a reaction in which a base is added, and a radically polymerizable compound.
  • a photosensitive resin that polymerizes and cures by irradiating with energy rays such as ultraviolet rays or a cured resin that lowers the curing temperature is preferable.
  • the anionic polymerizable functional group means a functional group that can be polymerized by a base generated from a photobase generator by an active energy ray such as ultraviolet rays, and for example, an epoxy group, an episulfide group, or a cyclic monomer ( ⁇ -valerolactone, ⁇ -Caprolactam), malonic acid ester and the like.
  • Reactions in which a base acts as a catalyst or a base is added include a urethane bond formation reaction between isocyanate and alcohol, an addition reaction between an epoxy resin and a compound containing a hydroxyl group, and an addition reaction between an epoxy resin and a compound containing a carboxylic acid group.
  • Addition reaction of epoxy resin and thiol compound Michael addition reaction of (meth) acrylic group, dehydration condensation reaction of polyamic acid, hydrolysis / polycondensation reaction of alkoxysilane and the like.
  • Examples of the compound having an anionic polymerizable functional group include epoxy resin, oxetane resin, episulfide resin, cyclic amide (lactam compound), cyclic ester (lactone compound), cyclic carbonate compound, malonic acid ester and the like.
  • Examples of compounds that are cured by a reaction in which a base acts as a catalyst or a reaction in which a base is added include a polyamide resin (polynitation reaction by dehydration cyclization), an epoxy / hydroxyl group (ring-opening addition reaction), and an epoxy / carboxylic acid system.
  • Examples of the compound polymerized by radicals include ethylenically unsaturated compounds. Since it has high reactivity, it is preferable to use a compound that undergoes radical polymerization. These resins may be used alone or in combination of two or more. As a preferable combination, a combination of an epoxy resin and a phenol resin is excellent in that the reaction proceeds quickly and the adhesiveness is good, and a combination of an epoxy resin and a thiol compound and a high reactivity because of excellent low-temperature curability. Therefore, a combination of an ethylenically unsaturated compound and a thiol compound can be mentioned.
  • the epoxy resin may have an epoxy group, but the carbamoyloxime compound of the present invention is excluded.
  • the epoxy resin include polyglycidyl ether compounds of mononuclear polyvalent phenol compounds such as hydroquinone, resorcin, pyrocatechol, and fluoroglucosinol; dihydroxynaphthalene, biphenol, methylenebisphenol (bisphenol F), and methylenebis (orthocresol).
  • Echilidene bisphenol isopropyridene bisphenol (bisphenol A), 4,4'-dihydroxybenzophenone, isopropyridenebis (orthocresol), tetrabromobisphenol A, 1,3-bis (4-hydroxycumylbenzene), 1,4 -Bis (4-hydroxycumylbenzene), 1,1,3-tris (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1,2,2-tetra (4-hydroxyphenyl) ethane, thiobisphenol, sulfobisphenol, oxy Polyglycidyl ether compounds of polynuclear polyvalent phenolic compounds such as bisphenol, phenol novolac, orthocresol novolac, ethylphenol novolac, butylphenol novolac, octylphenol novolac, resorcin novolac, terpenphenol; ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, hexanediol, poly
  • 3,4-Epoxy-6-methylcyclo Epoxy compounds of cyclic olefin compounds such as hexylmethyl-6-methylcyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate; epoxidized polybutadiene, epoxidized acrylonitrile-butadiene copolymer, epoxidized styrene Examples thereof include epoxidized conjugated diene polymers such as butadiene copolymers and heterocyclic compounds such as triglycidyl isocyanurate.
  • these epoxy resins may be internally crosslinked with a prepolymer of a terminal isocyanate or have a high molecular weight with a polyvalent active hydrogen compound (polyhydric phenol, polyamine, carbonyl group-containing compound, polyphosphate ester, etc.). ..
  • a polyvalent active hydrogen compound polyhydric phenol, polyamine, carbonyl group-containing compound, polyphosphate ester, etc.
  • those having a glycidyl group are preferable, and those having a bifunctional or higher functional glycidyl group are more preferable, because the obtained polymerizable composition is excellent in curability.
  • the phenol resin may have a phenolic hydroxyl group, but the carbamoyl oxime compound and the epoxy resin are excluded.
  • a phenol resin having two or more hydroxy groups in one molecule is preferable because the obtained polymerizable composition is excellent in curability, and generally known ones can be used.
  • the phenol resin include bisphenol A type phenol resin, bisphenol E type phenol resin, bisphenol F type phenol resin, bisphenol S type phenol resin, phenol novolac resin, bisphenol A novolak type phenol resin, glycidyl ester type phenol resin, and aralkyl novolac.
  • the thiol compound may have a thiol group, but the carbamoyloxime compound, epoxy resin and phenol resin are excluded.
  • the thiol compounds those having two or more thiol groups in one molecule are preferable because the obtained polymerizable composition has excellent curability.
  • Preferred specific examples of the thiol compound are bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 2,5-dimercaptomethyl-1,4-dithian, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, and 1,4-bis (mercapto).
  • Methyl) benzene 4-mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane, 4,8-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 4,7-di Mercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trichiaundecan, 5,7-dimercaptomethyl-1,11-dimercapto-3,6,9-trithiaundecane, 1,2,6,7 -Tetramercapto-4-thiaheptan, pentaerythrithiol, 1,1,3,3-tetrakis (mercaptomethylthio) propane, pentaerythritol tetrakis mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trimethylolpropane tristhioglycolate , And trimethylolpropanthris mercap
  • Particularly preferred compounds are 1,2,6,7-tetramercapto-4-thiaheptan, pentaerythrithiol, bis (2-mercaptoethyl) sulfide, 2,5-dimercaptomethyl-1,4-dithiane, and 4 -Mercaptomethyl-1,8-dimercapto-3,6-dithiaoctane.
  • the thiol compound may be used alone or in combination of two or more.
  • the polyamide resin includes ethylenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-benzenetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride as acid dianhydride. , 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2,3,3-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride Etc.
  • diamines as diamines, (o-, m- or p-) phenylenediamine, (3,3'-or 4,4'-) diaminodiphenyl ether, diaminobenzophenonone, (3,3'-or 4,4' -)
  • diamines (o-, m- or p-) phenylenediamine, (3,3'-or 4,4'-) diaminodiphenyl ether, diaminobenzophenonone, (3,3'-or 4,4' -)
  • diamines o-, m- or p-
  • diaminodiphenyl ether diaminobenzophenonone
  • diaminobenzophenonone 3,3'-or 4,4' -
  • resins made from diaminodiphenylmethane or the like examples thereof include resins made from diaminodiphenylmethane or the like.
  • polyurethane resin examples include resins made from polyfunctional isocyanates such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and isophorone diisocyanate, and polyols (polyfunctional alcohols) such as polyether polyols, polyester polyols and polycarbonate polyols.
  • polyfunctional isocyanates such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate and isophorone diisocyanate
  • polyols polyfunctional alcohols
  • nylon resin examples include resins made from cyclic monomers such as ⁇ -caprolactam and lauryl lactam.
  • polyester resin examples include resins made from cyclic monomers such as ⁇ -valerolactone and ⁇ -propiolactone.
  • the ethylenically unsaturated compound may have an ethylenically unsaturated bond, but the above carbomoyl oxime compound, epoxy resin, phenol resin and thiol compound are excluded.
  • the ethylenically unsaturated compound include unsaturated aliphatic hydrocarbons such as ethylene, propylene, butylene, isobutylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinylidene fluoride, and tetrafluoroethylene; (meth) acrylic acid and ⁇ -chloroacrylic acid.
  • Acids itaconic acid, maleic acid, citraconic acid, fumaric acid, hymic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, vinyl acetic acid, allylacetic acid, cinnamon acid, sorbic acid, mesaconic acid, mono-succinic acid [2- (meth) acrylic acid Ethyl], mono (2- (meth) acrylicyloxyethyl] phthalate, ⁇ -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, and other mono (meth) acrylates of polymers having carboxy groups and hydroxyl groups at both ends; hydroxyethyl Unsaturation of (meth) acrylate malate, hydroxypropyl (meth) acrylate malate, dicyclopentadiene malate or polyfunctional (meth) acrylate having one carboxyl group and two or more (meth) acryloyl groups.
  • Polybasic acid -2-hydroxyethyl (meth) acrylate, -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) Isobutyl acrylate, -t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate , (Meta) lauryl acrylate, (meth) methoxyethyl acrylate, (meth) dimethylaminomethyl acrylate, (meth) dimethylaminoethyl acrylate, (meth) aminopropyl acrylate, (meth) dimethylaminopropyl acryl
  • vinyl urethane compounds as compounds, vinyl monomer containing hydroxyl groups, and vinyl epoxy compounds as polyepoxy compounds.
  • the ethylenically unsaturated compound can be used alone or in combination of two or more.
  • Kayarad DPHA, DPEA-12, PEG400DA, THE-330, RP-1040, NPGDA, PET30, R-684 all manufactured by Nippon Kayaku.
  • Aronix M-215, M-350 above, manufactured by Toagosei
  • NK ester A-DPH, A-TMPT, A-DCP, A-HD-N, TMPT, DCP, NPG and HD-N aboveve, Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • SPC-1000, SPC-3000 all manufactured by Showa Denko); etc.
  • additives such as an inorganic compound, a coloring material, a latent epoxy curing agent, a chain transfer agent, a sensitizer, and a solvent can be used as optional components.
  • the inorganic compound examples include metal oxides such as nickel oxide, iron oxide, iridium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, calcium oxide, potassium oxide, silica and alumina; layered clay minerals, miloli blue and calcium carbonate.
  • metal oxides such as nickel oxide, iron oxide, iridium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, calcium oxide, potassium oxide, silica and alumina; layered clay minerals, miloli blue and calcium carbonate.
  • These inorganic compounds are used as, for example, fillers, antireflection agents, conductive materials, stabilizers, flame retardants, mechanical strength improvers, special wavelength absorbers, ink generators and the like.
  • coloring material examples include pigments, dyes, and natural pigments. These coloring materials can be used alone or in combination of two or more.
  • Examples of the pigment include nitroso compounds; nitro compounds; azo compounds; diazo compounds; xanthene compounds; quinoline compounds; anthraquinone compounds; coumarin compounds; phthalocyanine compounds; isoindolinone compounds; isoindolin compounds; quinacridone compounds; antanthurone compounds; perinone.
  • pigment a commercially available pigment can also be used.
  • Examples of the above dyes include azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, triarylmethane dyes, xanthene dyes, alizarin dyes, acrydin dyes, stillben dyes, thiazole dyes, naphthol dyes, quinoline dyes, nitro dyes, indamine dyes, oxazine dyes, and phthalocyanine dyes.
  • Dyes such as cyanine dyes, and the like, and a plurality of these may be mixed and used.
  • latent epoxy curing agent examples include dicyandiamide, modified polyamines, hydrazides, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, boron trifluoride amine complex salts, imidazoles, guanamines, imidazoles, ureas and melamines. Can be mentioned.
  • a sulfur atom-containing compound is generally used as the chain transfer agent or sensitizer.
  • Alkyliodated compounds such as, trimethylolpropanetris (3-mercaptoisobutyrate), butanediolbis (3-mercaptoisobutyrate), hexanedithiol, decandithiol, 1,4-dimethylmercaptobenzene, butanediolbisthio.
  • Propionate Butanediol Bisthioglycolate, Ethethylene Glycol Bisthioglycolate, Trimethylol Propanetristhioglycolate, Butanediol Bisthiopropionate, Trimethylol Propanetristhiopropionate, Trimethylol Propanetristhioglycolate , Pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydroxyethyl tristhiopropionate, diethylthioxanthone, diisopropylthioxanthone, the following compound No. Examples thereof include aliphatic polyfunctional thiol compounds such as C1, tris (2-hydroxyethyl) trimercaptopropionate, isocyanurate, and Karenz MT BD1, PE1, NR1 manufactured by Showa Denko.
  • the solvent is usually a solvent capable of dissolving or dispersing each of the above components (polymerization initiator (A), polymerizable compound (B), etc.), for example, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, diethyl ketone, acetone, methyl isopropyl.
  • Ketones such as ketone, methylisobutylketone, cyclohexanone, 2-heptanone; ether solvents such as ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, dipropylene glycol dimethyl ether; methyl acetate , Ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, cyclohexyl acetate, ethyl lactate, dimethyl succinate, texanol and other ester solvents; lactones such as ⁇ -caprolactone, ⁇ -caprolactone and ⁇ -butyrolactone.
  • ether solvents such as ethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, diprop
  • Solvents Cellosolve solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; alcohol solvents such as methanol, ethanol, iso- or n-propanol, iso- or n-butanol, and amyl alcohol; ethylene glycol monomethyl acetate, Ether ester solvents such as ethylene glycol monoethyl acetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethoxyethyl propionate; benzene, toluene, xylene, etc.
  • Cellosolve solvents such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether
  • alcohol solvents such as methanol, ethanol, iso- or n-propanol, iso- or n-butanol, and amyl alcohol
  • BTX-based solvent aliphatic hydrocarbon-based solvent such as hexane, heptane, octane, cyclohexane; terpene-based hydrocarbon oil such as terepine oil, D-lymonen, pinen; mineral spirit, swazole # 310 (Cosmo Matsuyama Oil Co., Ltd.) , Solvento # 100 (Exxon Chemical Co., Ltd.) and other paraffinic solvents; halogenated aliphatic hydrocarbon solvents such as carbon tetrachloride, chloroform, trichloroethylene, methylene chloride, 1,2-dichloroethane; halogenated fragrances such as chlorobenzene Group hydrocarbon solvent; carbitol solvent; aniline; triethylamine; pyridine; acetic acid; acetonitrile; carbon disulfide; N, N-dimethylformamide; N, N-dimethylacetamide; N-methylpyr
  • ketones or ether ester-based solvents particularly propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate (hereinafter, also referred to as "PGMEA") from the viewpoint of alkali developability, patterning property, film forming property, and solubility.
  • PPGMEA propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate
  • cyclohexanone is preferably used.
  • the content of the solvent is not particularly limited, each component is uniformly dispersed or dissolved, and the polymerizable composition of the present invention exhibits a liquid or paste suitable for each application. Although it may be an amount, it is usually preferable to contain the solvent in a range in which the amount of the solid content (all components other than the solvent) in the polymerizable composition of the present invention is 10 to 90% by mass.
  • the polymerizable composition of the present invention can also improve the characteristics of the cured product by using an organic polymer.
  • organic polymer include polystyrene, polymethylmethacrylate, methylmethacrylate-ethylacrylate copolymer, poly (meth) acrylic acid, styrene- (meth) acrylic acid copolymer, and (meth) acrylic acid-methylmethacrylate.
  • Copolymer ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl copolymer, polyvinyl chloride resin, ABS resin, nylon 6, nylon 66, nylon 12, urethane resin, polycarbonate polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, saturated Examples thereof include polyester, phenol resin, and phenoxy resin.
  • the amount used is preferably 10 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound (B).
  • a surfactant a silane coupling agent, a melamine compound and the like can be used in combination with the polymerizable composition of the present invention.
  • the surfactant examples include fluorine-based surfactants such as perfluoroalkyl phosphate and perfluoroalkyl carboxylate; anionic surfactants such as higher fatty acid alkali salts, alkyl sulfonates and alkyl sulfates; higher grades. Cationic surfactants such as amine halides and quaternary ammonium salts; nonionic surfactants such as polyethylene glycol alkyl ethers, polyethylene glycol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, fatty acid monoglycerides; amphoteric surfactants; silicone-based surfactants Surfactants such as activators can be used, and these may be used in combination.
  • fluorine-based surfactants such as perfluoroalkyl phosphate and perfluoroalkyl carboxylate
  • anionic surfactants such as higher fatty acid alkali salts, alkyl sulfonates and alkyl sulfates; higher
  • silane coupling agent for example, a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be used, among which it has an isocyanate group, a methacryloyl group or an epoxy group such as KBE-9007, KBM-502 and KBE-403.
  • a silane coupling agent is preferably used.
  • Examples of the melamine compound include all or a part of active methylol groups (CH 2 OH groups) in nitrogen compounds such as (poly) methylol melamine, (poly) methylol glycol uryl, (poly) methylolbenzoguanamine, and (poly) methylol urea.
  • nitrogen compounds such as (poly) methylol melamine, (poly) methylol glycol uryl, (poly) methylolbenzoguanamine, and (poly) methylol urea.
  • examples thereof include compounds in which (at least two) are alkyl etherified.
  • examples of the alkyl group constituting the alkyl ether include a methyl group, an ethyl group and a butyl group, which may be the same as each other or different from each other.
  • the methylol group which has not been alkyl etherized may be self-condensed within one molecule, or may be condensed between two molecules to form an oligomer component as a result.
  • hexamethoxymethylmelamine, hexabutoxymethylmelamine, tetramethoxymethylglycol uryl, tetrabutoxymethyl glycol uryl and the like can be used.
  • alkyl etherified melamines such as hexamethoxymethylmelamine and hexabutoxymethylmelamine are preferable from the viewpoint of solubility in a solvent and difficulty in crystal precipitation from the polymerizable composition.
  • the amount of optional components (excluding inorganic compounds, coloring materials, and solvents) other than the polymerization initiator (A) and the polymerizable compound (B) depends on the purpose of use. It is appropriately selected and is not particularly limited, but is preferably 50 parts by mass or less in total with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound (B).
  • the polymerizable composition of the present invention can be made into a cured product by irradiating it with energy rays.
  • the cured product is formed into an appropriate shape according to the application.
  • the polymerizable composition of the present invention is a soda by a known means such as a spin coater, a roll coater, a bar coater, a die coater, a curtain coater, various types of printing, and immersion. It can be applied to supporting substrates such as glass, quartz glass, semiconductor substrates, metals, paper, and plastics. Further, once applied on a support substrate such as a film, it can be transferred onto another support substrate, and there is no limitation on the application method.
  • High energy rays such as electromagnetic energy, electron beam, X-ray, radiation, etc. having a wavelength of 2000 angstrom to 7000 angstrom obtained from lamps, metal halide lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, excimer lamps, sterilization lamps, light emitting diodes, CRT light sources, etc.
  • an ultra-high pressure mercury lamp, a mercury vapor arc lamp, a carbon arc lamp, a xenon arc lamp, or the like that emits light having a wavelength of 300 to 450 nm is used.
  • the laser direct drawing method which forms an image directly from digital information of a computer or the like without using a mask, improves not only productivity but also resolution and position accuracy.
  • the laser light light having a wavelength of 340 to 430 nm is preferably used, but an excimer laser, a nitrogen laser, an argon ion laser, a helium cadmium laser, a helium neon laser, and a krypton ion laser are useful.
  • Various semiconductor lasers, YAG lasers and the like that emit light in the visible to infrared region can also be used. When these laser beams are used, a sensitizing dye that absorbs the visible to infrared region is preferably added.
  • the polymerizable composition of the present invention it is usually necessary to heat after irradiation with the above energy rays, and heating at about 40 to 150 ° C. is preferable in terms of the curing rate.
  • the polymerizable composition of the present invention is a photocurable paint or varnish; a photocurable adhesive; a coating agent for metals; a printed circuit board; a color display liquid crystal display element for a color television, a PC monitor, a mobile information terminal, a digital camera, or the like.
  • the polymerizable composition of the present invention can also be used for the purpose of forming a spacer for a liquid crystal display panel and for forming a protrusion for a vertically oriented liquid crystal display element.
  • it is useful as a photosensitive resin composition for simultaneously forming protrusions and spacers for a vertically oriented liquid crystal display element.
  • the above spacers for liquid crystal display panels include (1) a step of forming a coating film of the polymerizable composition of the present invention on a substrate, and (2) energy rays (2) through a mask having a predetermined pattern shape on the coating film. It is preferably formed by a step of irradiating (light), (3) a baking step after exposure, (4) a step of developing a film after exposure, and (5) a step of heating the film after development.
  • the polymerizable composition of the present invention to which a coloring material is added is suitably used as a resist that constitutes each pixel such as RGB in a color filter and a resist for a black matrix that forms a partition wall of each pixel. Further, in the case of a black matrix resist to which an ink repellent is added, it is preferably used for a partition wall for an inkjet color filter having a profile angle of 50 ° or more.
  • a composition containing a fluorine-based surfactant and a fluorine-based surfactant is preferably used.
  • the partition wall formed from the polymerizable composition of the present invention partitions on the transferred body, and droplets are applied to the recesses on the partitioned partition by the inkjet method.
  • the optical element is manufactured by the method of forming an image region. At this time, it is preferable that the droplets contain a colorant and the image region is colored. In that case, the optical element manufactured by the above manufacturing method is formed from a plurality of colored regions on the substrate. It has at least a partition wall that separates the pixel group and each colored region of the pixel group.
  • the polymerizable composition of the present invention can also be used as a protective film or insulating film composition.
  • an ultraviolet absorber an alkylation-modified melamine and / or an acrylic-modified melamine, a mono- or bifunctional (meth) acrylate monomer and / or a silica sol containing an alcoholic hydroxyl group in the molecule can be contained.
  • the insulating film is used for the insulating resin layer in a laminated body in which an insulating resin layer is provided on a peelable supporting base material, and the laminated body can be developed with an alkaline aqueous solution and is an insulating resin layer.
  • the thickness of the film is preferably 10 to 100 ⁇ m.
  • the polymerizable composition of the present invention can be used as a photosensitive paste composition by containing an inorganic compound.
  • the photosensitive paste composition can be used to form a fired product pattern such as a partition wall pattern, a dielectric pattern, an electrode pattern and a black matrix pattern of a plasma display panel.
  • A-1 Compound 1 A-2: Compound 2 A-3: Compound 3 A'-4: Comparative Compound 1 B-1: EPPN-201 (phenol novolac type epoxy resin, epoxy equivalent 193 g / eq., Made by Nippon Kayaku Co., Ltd.) B-2: H-3M (phenolic resin, hydroxyl group equivalent 105-109 g / eq., Manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) C-1: FZ-2122 (polyether-modified polysiloxane, manufactured by Toray Dow Corning, 1 wt% PGMEA solution) D-1: Cyclopentanone (solvent)
  • Each film was masked with a step tablet (33-stage type, OD value 0 to 3) having a gradation in which the transmittance changes continuously, and was irradiated with ultraviolet light using a UV-LED (365 nm) (illuminance). 50 mW / cm 2 , exposure time 60 seconds, integrated exposure 3000 mJ / cm 2 ). After the exposure, it was post-baked (100 ° C. ⁇ 20 minutes) in an oven, developed (PGMEA, 30 seconds) and rinsed (isopropyl alcohol, 10 seconds). The number of remaining stages of the obtained cured film sample was visually confirmed. The number of remaining stages means the maximum number of stages in which the cured film remains.
  • the transmittance was determined from the number of remaining stages according to Table 4, and the conversion sensitivity was calculated by using the following formula.
  • Conversion sensitivity (mJ / cm 2 ) Integrated exposure (3000 mJ / cm 2 ) x Transmittance (%)
  • Table 5 shows the number of remaining stages and the conversion sensitivity.
  • the photosensitive composition of the present invention has a large number of remaining stages (high curability) as compared with the comparative photosensitive composition, and therefore is highly sensitive to the UV-LED light source. No, it is clear that the compounds of the present invention are excellent as polymerization initiators.
  • the carbamoyloxime compound of the present invention has a high photobase generation efficiency, and when used as a polymerization initiator, it can generate a base more efficiently than a conventional photobase generator, so that the exposure amount is low. Also, the polymerizable compound can be cured. In particular, when used in a curable resin composition containing an epoxy resin or a phenol resin, it exhibits high curability.

Abstract

本発明の課題は、高い光塩基発生効率を有する化合物を提供することにある。　本発明は、一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物である。（式中、Ａは、炭素原子数６～２０の芳香環含有基を表し、Ｒ１は、電子求引性基を表し、Ｘ１は、－ＮＲ２Ｒ３等を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ２とＲ３は、互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環又は水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成していてもよく、ｎは、０又は１を表す。）

Description

カルバモイルオキシム化合物並びに該化合物を含有する重合開始剤及び重合性組成物
　本発明は、カルバモイルオキシム化合物に関する。
　一般に、感光性樹脂組成物等の重合性組成物は、感光性樹脂等の重合性化合物に光重合開始剤を加えたものであり、エネルギー線（光）照射により重合硬化、又は現像させることができるため、光硬化性インキ、感光性印刷版、各種フォトレジスト、光硬化性接着剤等に用いられている。
　光重合開始剤は、エネルギー線（光）照射により発生する活性種の違いで、光ラジカル発生剤、光酸発生剤、光塩基発生剤に分けられる。光ラジカル発生剤は、硬化速度が速く、硬化後に活性種が残存しない等の長所がある一方、酸素による硬化阻害が起こるため薄膜の硬化においては酸素を遮断する層等を設けなければならないという短所がある。光酸発生剤は、酸素による阻害を受けないという長所がある一方、活性種の酸が残存することで金属基板を腐食させたり、硬化後の樹脂を変性させたりする等の短所がある。光塩基発生剤は、前記の酸素による硬化阻害及び残存活性種による腐食といった問題を生じにくいため注目されているが、概して光酸発生剤と比較すると低感度（低硬化性）という問題がある。光塩基発生剤は、例えば特許文献１及び２に記載されている。
ＵＳ９５９４３０２ 特開２０１３－１６３６７０号公報
　しかし、従来の光塩基発生剤は、塩基発生効率が低く、感度が十分なものではなかった。
　従って、本発明の課題は、高い光塩基発生効率を有する化合物を提供することにある。
　本発明者は、鋭意検討を行い、特定構造の化合物が高い光塩基発生効率を有しており、重合開始剤として有用であることを見出した。
　すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式中、Ａは、炭素原子数６～２０の芳香環含有基を表し、
　Ｒ１は、電子求引性基を表し、
　Ｘ１は、－ＮＲ２Ｒ３、又は下記一般式（ａ）若しくは下記一般式（ｂ）で表される基を表し、
　Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ａ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基、又は芳香族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ａ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ２とＲ３は、互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環又は水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成していてもよく、
　Ｒ２及びＲ３は、脂肪族炭化水素基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４、－ＣＯＯＲ４、－ＣＯ－Ｒ４、－ＳＲ４、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基によって置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ２及びＲ３は、芳香族炭化水素基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４、－ＣＯＯＲ４、－ＣＯ－Ｒ４、－ＳＲ４、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基によって置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ４は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表し、
　＜群Ａ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ－又は－ＳｉＲＲ’－で置換された炭素原子数１～２０の基であり、
　Ｒ及びＲ’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表し、
　ｎは、０又は１を表す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｂ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基、又は芳香族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｂ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、脂肪族炭化水素基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ１０２、－ＣＯＯＲ１０２、－ＣＯ－Ｒ１０２、－ＳＲ１０２、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、芳香環含有基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ１０２、－ＣＯＯＲ１０２、－ＣＯ－Ｒ１０２、－ＳＲ１０２、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ１０２は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表し、
　＜群Ｂ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１１－、－ＮＲ１１１－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１１－、－ＮＲ１１１－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１１－又は－ＳｉＲ１１１Ｒ１１１’－で置換された炭素原子数１～２０の基であり、
　Ｒ１１１及びＲ１１１’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表し、
　Ｒ１１とＲ１２、Ｒ１３とＲ１４、Ｒ１５とＲ１６、Ｒ１７とＲ１８及びＲ１９とＲ２０は、互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環又は水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成していてもよく、
　＊は結合手を表す。）
　以下、本発明について詳細に説明する。
　本発明のカルバモイルオキシム化合物は、上記一般式（Ｉ）で表されるものである。上記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物には、オキシムの二重結合による幾何異性体が存在するが、これらを区別するものではない。
　すなわち、本明細書において、上記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物、並びに後述する該化合物の好ましい形態である化合物及び例示化合物は、異性体の混合物又はどちらか一方を表しており、示した構造の異性体に限定するものではない。
　以下、上記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物を単に、「一般式（Ｉ）で表される化合物」又は「本発明の化合物」ともいう。
　上記一般式（Ｉ）中のＡは、芳香環を含有する炭素原子数６～２０の基であればよい。
　上記一般式（Ｉ）中のＡで表される、無置換の炭素原子数６～２０の芳香環含有基としては、ジフェニルスルフィド、カルバゾール、フルオレン、インドール、クマリン及びビフェニルから水素原子を１つ除いた１価の基等が挙げられ、感度に優れることからクマリンから水素原子を１つ除いた１価の基が特に好ましい。
　炭素原子数６～２０の芳香環含有基が置換基を有している場合の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４、－ＣＯＯＲ４、－ＣＯ－Ｒ４、－ＳＲ４、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基が挙げられる。
　ここで、Ｒ４は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表す。また、Ｒ４は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよい。
　置換基を有している炭素原子数６～２０の芳香環含有基とは、上記無置換の芳香環含有基の水素原子の１つ又は２つ以上が、上記置換基に置換された炭素原子数６～２０の基を意味する。
　上記置換基は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、下記群Ｉから選ばれる原子又は基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、下記群Ｉから選ばれる原子又は基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、下記群Ｉから選ばれる原子又は基で置換された基であってもよい。
群Ｉ：ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基、炭素原子数２～２０の複素環含有基
　上記置換基は、脂肪族炭化水素基中のメチレン基が、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ－又は－ＳｉＲＲ’－で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよい。
　ここで、Ｒ及びＲ’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。　上記置換基がＲ又はＲ’を含む基である場合も、置換基全体に含まれる炭素原子数は１～２０である。
　上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　上記炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ－アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ｔ－オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロヘキシルメチル基等のアルキル基、並びにこれらのアルキル基の炭素－炭素一重結合を炭素－炭素二重結合又は炭素－炭素三重結合に置換した構造である不飽和脂肪族炭化水素基等が挙げられ、上記炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基としては、これらの基のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられる。
　上記炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピレニル基及びビフェニル基等が挙げられ、上記炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基としては、これらの基のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられる。
　上記炭素原子数２～２０の複素環含有基としては、テトラヒドロフラニル基、ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基、モルホリル基、フラニル基、チオフェニル基、メチルチオフェニル基、ヘキシルチオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、ピロリル基、ピロリジニル基、イミダゾリル基、イミダゾリニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジニル基及びピペラジニル基などが挙げられ、上記炭素原子数２～１０の複素環含有基としては、これらの基のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられる。
　本発明においては、塩基発生効率が高いことから、上記一般式（Ｉ）中のＡが、下記一般式（Ａ－１）に記載のジフェニルスルフィド構造、下記一般式（Ａ－２）に記載のカルバゾール構造、下記一般式（Ａ－３）に記載のフルオレン構造、下記一般式（Ａ－４）に記載のインドール構造、下記一般式（Ａ－５）に記載のクマリン構造又は下記一般式（Ａ－６）に記載のビフェニル構造を有する基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ３１、－ＣＯＯＲ３１、－ＣＯ－Ｒ３１、－ＳＲ３１、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｃ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ２１とＲ２２、Ｒ２２とＲ２３、Ｒ２３とＲ２４、Ｒ２４とＲ２５、Ｒ２６とＲ２７、Ｒ２７とＲ２８、Ｒ２８とＲ２９、Ｒ２９とＲ３０は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０の何れか一つは結合手を表し、
　Ｒ３１は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｃ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ３１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０及びＲ３１は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
　＜群Ｃ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１２－、－ＮＲ１１２－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１２－、－ＮＲ１１２－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１２－又は－ＳｉＲ１１２Ｒ１１２’－であり、
　Ｒ１１２及びＲ１１２’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
　一般式（Ｉ）中のＡが上記一般式（Ａ－１）である化合物は、重合開始剤として用いた場合、塩基発生効率が高いため低露光量で硬化し、また、得られる硬化物の透明性にも優れることから好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式中、Ｒ４０は、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｄ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４９、－ＣＯＯＲ４９、－ＣＯ－Ｒ４９、－ＳＲ４９、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｄ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ４１とＲ４２、Ｒ４２とＲ４３、Ｒ４３とＲ４４、Ｒ４５とＲ４６、Ｒ４６とＲ４７、Ｒ４７とＲ４８は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
　Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８の何れか一つは結合手を表し、
　Ｒ４９は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｄ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ４９は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ４０、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７、Ｒ４８及びＲ４９は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ４０、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７、Ｒ４８及びＲ４９は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
　＜群Ｄ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１３－、－ＮＲ１１３－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１３－、－ＮＲ１１３－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１３－又は－ＳｉＲ１１３Ｒ１１３’－であり、
　Ｒ１１３及びＲ１１３’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
　一般式（Ｉ）中のＡが上記一般式（Ａ－２）で表される化合物は、重合開始剤として用いた場合、塩基発生効率が高いため低露光量で硬化し、長波長の光であっても塩基発生効率が高いことから好ましい。
　一般式（Ａ－２）中のＲ４３又はＲ４６が結合手であることが、化合物が安定で純度よく合成できることから好ましい。
　特に、低露光量で硬化し、化合物が安定で純度よく合成できることから、一般式（Ａ－２）中のＲ４０が炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ４３が結合手であり、Ｒ４６が－ＣＯ－Ｒ３１であり、Ｒ３１が炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基であり、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４７及びＲ４８が水素原子である化合物が好ましく、Ｒ４０は炭素原子数１～１５の脂肪族炭化水素基であることがより好ましく、炭素原子数１～８の脂肪族炭化水素基であることが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｅ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ６１、－ＣＯＯＲ６１、－ＣＯ－Ｒ６１、－ＳＲ６１、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｅ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ５３とＲ５４、Ｒ５４とＲ５５、Ｒ５５とＲ５６、Ｒ５７とＲ５８、Ｒ５８とＲ５９、Ｒ５９とＲ６０は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
　Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０の何れか一つは結合手を表し、
　Ｒ６１は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｅ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ６１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９、Ｒ６０及びＲ６１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９、Ｒ６０及びＲ６１は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０では、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
　＜群Ｅ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１４－、－ＮＲ１１４－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１４－、－ＮＲ１１４－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１４－又は－ＳｉＲ１１４Ｒ１１４’－であり、
　Ｒ１１４及びＲ１１４’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
　一般式（Ｉ）中のＡが、上記一般式（Ａ－３）で表される化合物は、塩基発生効率が高いため低露光量で硬化し、また、硬化物の透明性にも優れることから好ましい。
　一般式（Ａ－３）中のＲ５４又はＲ５９が結合手であることが、化合物が安定で純度よく合成できることから好ましい。
　特に、低露光量で硬化し、化合物が安定で純度よく合成できることから、一般式（Ａ－３）中のＲ５１及びＲ５２が炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ５４が結合手であり、Ｒ５９が－ＣＯ－Ｒ３１であり、Ｒ３１が炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ５３、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８及びＲ６０が水素原子である化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、Ｒ７１は、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｆ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６及びＲ７７は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ７８、－ＣＯＯＲ７８、－ＣＯ－Ｒ７８、－ＳＲ７８、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｆ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ７４とＲ７５、Ｒ７５とＲ７６、Ｒ７６とＲ７７は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
　Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６及びＲ７７の何れか一つは結合手を表し、
　Ｒ７８は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｆ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ７８は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、Ｒ７７及びＲ７８は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、Ｒ７７及びＲ７８は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６及びＲ７７は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
　＜群Ｆ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１５－、－ＮＲ１１５－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１５－、－ＮＲ１１５－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１５－又は－ＳｉＲ１１５Ｒ１１５’－であり、
　Ｒ１１５及びＲ１１５’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
　一般式（Ｉ）中のＡが上記一般式（Ａ－４）で表される化合物は、重合開始剤として用いた場合、塩基発生効率が高いため低露光量で硬化し、また、得られる硬化物の透明性にも優れることから好ましい。
　一般式（Ａ－４）中のＲ７３が結合手であることが、化合物が安定で純度よく合成できることから好ましい。
　特に、低露光量で硬化し、化合物が安定で純度よく合成できることから、一般式（Ａ－４）中のＲ７１が炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であり、Ｒ７２、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６及びＲ７７が水素原子である化合物が好ましい。特に、Ｒ７１が４－ベンゾイルフェニル基である化合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ８７、－ＣＯＯＲ８７、－ＣＯ－Ｒ８７、－ＳＲ８７、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｇ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ８３とＲ８４、Ｒ８４とＲ８５、Ｒ８５とＲ８６は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６の何れか一つは結合手を表し、
　Ｒ８７は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｇ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ８７は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、Ｒ８６及びＲ８７は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、Ｒ８６及びＲ８７は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
　＜群Ｇ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１６－、－ＮＲ１１６－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１６－、－ＮＲ１１６－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１６－又は－ＳｉＲ１１６Ｒ１１６’－であり、
　Ｒ１１６及びＲ１１６’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
　一般式（Ｉ）中のＡが上記一般式（Ａ－５）で表される化合物は、重合開始剤として用いた場合、塩基発生効率が高いため低露光量で硬化し、長波長の光であっても塩基発生効率が高いことから好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
（式中、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ１０１、－ＣＯＯＲ１０１、－ＣＯ－Ｒ１０１、－ＳＲ１０１、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｈ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
　Ｒ９１とＲ９２、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４、Ｒ９４とＲ９５、Ｒ９６とＲ９７、Ｒ９７とＲ９８、Ｒ９８とＲ９９、Ｒ９９とＲ１００は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００の何れか一つは結合手を表し、
　Ｒ１０１は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｈ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ１０１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９、Ｒ１００及びＲ１０１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９、Ｒ１００及びＲ１０１は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
　＜群Ｈ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１７－、－ＮＲ１１７－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１７－、－ＮＲ１１７－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１７－又は－ＳｉＲ１１７Ｒ１１７’－であり、
　Ｒ１１７及びＲ１１７’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
　一般式（Ｉ）中のＡが上記一般式（Ａ－６）で表される化合物は、重合開始剤として用いた場合、塩基発生効率が高いため低露光量で硬化することから好ましい。
　一般式（Ａ－１）～（Ａ－６）中のハロゲン原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基としては、上記一般式（Ｉ）中のＡで表される炭素原子数６～２０の芳香環含有基が有している場合がある置換基の説明で例示した基が挙げられる。
　一般式（Ａ－１）～（Ａ－６）中のハロゲン原子としては、上記一般式（Ｉ）中のＡで表される炭素原子数６～２０の芳香環含有基が有している場合がある置換基として例示したハロゲン原子と同様である。
　一般式（Ａ－１）～（Ａ－６）中の炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ）中のＡで表される炭素原子数６～２０の芳香環含有基が有している場合がある置換基として例示した、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基と同様である。
　一般式（Ａ－１）～（Ａ－６）中の炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ）中のＡで表される炭素原子数６～２０の芳香環含有基が有している場合がある置換基として例示した、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基と同様である。
　一般式（Ａ－１）～（Ａ－６）中の炭素原子数２～２０の複素環含有基としては、上記一般式（Ｉ）中のＡで表される炭素原子数６～２０の芳香環含有基が有している場合がある置換基として例示した、炭素原子数２～２０の複素環含有基と同様である。
　一般式（Ａ－１）中のＲ２１とＲ２２、Ｒ２２とＲ２３、Ｒ２３とＲ２４、Ｒ２４とＲ２５、Ｒ２６とＲ２７、Ｒ２７とＲ２８、Ｒ２８とＲ２９、Ｒ２９とＲ３０、一般式（Ａ－２）中のＲ４１とＲ４２、Ｒ４２とＲ４３、Ｒ４３とＲ４４、Ｒ４５とＲ４６、Ｒ４６とＲ４７、Ｒ４７とＲ４８、一般式（Ａ－３）中のＲ５３とＲ５４、Ｒ５４とＲ５５、Ｒ５５とＲ５６、Ｒ５７とＲ５８、Ｒ５８とＲ５９、Ｒ５９とＲ６０、一般式（Ａ－４）中のＲ７４とＲ７５、Ｒ７５とＲ７６、Ｒ７６とＲ７７、一般式（Ａ－５）中のＲ８３とＲ８４、Ｒ８４とＲ８５、Ｒ８５とＲ８６、及び一般式（Ａ－６）中のＲ９１とＲ９２、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４、Ｒ９４とＲ９５、Ｒ９６とＲ９７、Ｒ９７とＲ９８、Ｒ９８とＲ９９、Ｒ９９とＲ１００が、互いに連結して形成する、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環としては、ベンゼン環、シクロヘキセン環、シクロヘキサン環、シクロペンタジエン環、シクロペンタン環等が挙げられる。
　上記一般式（Ｉ）中のＲ１は、電子求引性基を表す。電子求引性基とは、ハメットの置換基定数σｐが０以上となる基を指し、例えば、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、ニトロ基、シアノ基、スルホニル基、エステル基、カルボニル基、イミン基、オキシム基、スルホキシド基及びホルミル基等が挙げられる。
　低露光量で硬化し、溶剤への溶解性が高いことから、Ｒ１は、ハロゲン化アルキル基、シアノ基又はニトロ基であることが好ましく、ハロゲン化アルキル基又はシアノ基であることがより好ましく、トリフルオロメチル基又はシアノ基であることが特に好ましい。
　上記一般式（Ｉ）中のＸ１は、－ＮＲ２Ｒ３、又は上記一般式（ａ）若しくは上記一般式（ｂ）で表される基である。
　Ｒ２及びＲ３で表される、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ－アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルヘキシル基、ｔ－オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、イコシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及びシクロヘキシルメチル基等のアルキル基、並びにこれらのアルキル基の炭素－炭素一重結合を炭素－炭素二重結合又は炭素－炭素三重結合に置換した構造である不飽和脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
　Ｒ２及びＲ３で表される、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ピレニル基及びビフェニル基等が挙げられる。
　Ｒ２及びＲ３で表される、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基が置換基を有している場合の置換基としては、上記一般式（Ｉ）中のＡで表される芳香環含有基が有する場合のある置換基として例示した基が挙げられる。
　置換基を有している炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基とは、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が置換基に置換された炭素原子数１～２０の基を意味する。また、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基とは、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が置換基に置換された炭素原子数６～２０の基を意味する。
　上記一般式（ａ）及び上記一般式（ｂ）中のＲ１１～Ｒ２０で表される、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基及び炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基としては、上記Ｒ２及びＲ３で表される、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基として例示した基が挙げられる。
　Ｒ２とＲ３、Ｒ１１とＲ１２、Ｒ１３とＲ１４、Ｒ１５とＲ１６、Ｒ１７とＲ１８及びＲ１９とＲ２０が、互いに連結して形成する、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環としては、結合している窒素原子を含めた環として、ピロール環、ピロリジン環、イミダゾール環、イミダゾリジン環、イミダゾリン環、ピラゾール環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環等が挙げられる。これらの環は置換基を有していてもよく、その場合の置換基としては、上記一般式（Ｉ）中のＡの説明で例示した基が挙げられる。
　Ｒ２とＲ３、Ｒ１１とＲ１２、Ｒ１３とＲ１４、Ｒ１５とＲ１６、Ｒ１７とＲ１８及びＲ１９とＲ２０が、互いに連結して形成する、水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環としては、結合している窒素原子を含めた環として、モルホリン環、オキサゾール環、オキサゾリン環、オキサジアゾール環等が挙げられる。これらの環は置換基を有していてもよく、その場合の置換基としては、上記一般式（Ｉ）中のＡの説明で例示した基が挙げられる。
　本発明においては、上記一般式（Ｉ）中のＸ１が－ＮＲ２Ｒ３であり、Ｒ２とＲ３が互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環又は水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成していることが好ましい。また、上記一般式（Ｉ）中のＸ１が－ＮＲ２Ｒ３であり、Ｒ２が水素原子であり、Ｒ３が炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基であることも好ましい。
　上記一般式（Ｉ）中のＸ１がこのような構造である化合物は、重合開始剤として用いた場合、塩基発生効率が高いため低露光量で硬化することから好ましい。
　特に、上記一般式（Ｉ）中のＸ１が－ＮＲ２Ｒ３であり、Ｒ２とＲ３が互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成していることが、発生する塩基の反応性が高いことから好ましい。
　上記一般式（Ｉ）中のｎは、０又は１を表す。
　ｎが０である化合物は、熱に対して安定性が高いことから好ましい。
　ｎが１である化合物は、硬化感度が高い化合物となることから好ましい。
　上記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、以下の化学式（１）～（３００）で表される化合物が挙げられる。但し、本発明は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
　上記一般式（Ｉ）で表される本発明のカルバモイルオキシム化合物の製造方法は、特に限定されないが、例えば、一般式（Ｉ）中のＡが、一般式（Ａ－３）で表され、ｎ＝０の場合、下記反応式１に従って、以下の方法により製造することができる。
　即ち、公知であり、市販されているフルオレン化合物と酸クロリドとを塩化アルミニウム等のルイス酸の存在下で反応させることによりケトン化合物Ａを得、ケトン化合物Ａと塩酸ヒドロキシルアミンとをピリジン等の塩基の存在下に反応させることにより、オキシム化合物Ａを得る。続いて、オキシム化合物Ａに、クロロギ酸４－ニトロフェニルを反応させ、次いで必要に応じ、アミンを反応させることにより、本発明のカルバモイルオキシム化合物Ａが得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 （式中、Ｒ５１～Ｒ６０、Ｒ１～Ｒ３は、上記一般式（Ａ－３）と同じである。）
　一般式（Ｉ）中のＡが、一般式（Ａ－３）で表され、ｎ＝１の場合は、下記反応式２に従い、公知であり、市販されているフルオレン化合物と酸クロリドとを塩化アルミニウム等のルイス酸の存在下で反応させることによりケトン化合物Ｂを得、酸性条件下でケトン体Ｂに亜硝酸イソブチルを反応させてオキシム化合物Ｂを得る。続いて、オキシム化合物Ｂに、クロロギ酸４－ニトロフェニルを反応させ、次いで必要に応じ、アミンを反応させることにより、本発明のカルバモイルオキシム化合物Ｂを得る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 （式中、Ｒ５１～Ｒ６０、Ｒ１～Ｒ３は、上記一般式（Ａ－３）と同じである。）
　上記反応式１及び反応式２は何れもＸ１が－ＮＲ２Ｒ３の場合を示しているが、使用するアミンを変更することで、Ｘ１が上記式（ａ）又は上記式（ｂ）で表される基である化合物も製造できる。
　また、上記反応式１及び反応式２は、何れもＲ５４が結合手である場合を示しているが、フルオレン環形成時にＲ５３～Ｒ６０の所望の位置にケトン基を導入することで、Ｒ５３～Ｒ６０の何れかが結合手である化合物を得ることができる。
　オキシム化合物Ａは、特許第４２２３０７１号公報に記載の方法でも製造できる。
　本発明のカルバモイルオキシム化合物は、紫外線等の光照射又は加熱によって効率的に塩基及びラジカルを発生することから、潜在性塩基発生剤及び重合開始剤として有用であり、特に潜在性塩基発生剤として有用である。
　本発明の潜在性塩基発生剤とは、紫外線などの光を照射することにより、効率よく塩基を発生する機能を有した化合物を意味し、その用途としては、ＰＨ調整剤、塩基を利用した触媒等が挙げられる。
　また、本発明のカルバモイルオキシム化合物は、上記重合開始剤の中でも、塩基及びラジカルの発生効率が高いことから、光塩基発生剤及び光ラジカル重合開始剤として有用であり、塩基発生効率が非常に高いことから、特に光塩基発生剤として有用である。
　本発明の重合開始剤は、上記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物を少なくとも１種含有する。上記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物と併用することができる重合開始剤としては、特に制限されるものではないが、従来既知の光塩基発生剤及び光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
　上記重合開始剤中における上記一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、好ましくは１～１００質量％、より好ましくは５０～１００質量％である。
　本発明の重合性組成物は、上記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物を少なくとも１種含有する重合開始剤（Ａ）、及び重合性化合物（Ｂ）を含有するものである。
　重合開始剤（Ａ）の含有量は、重合性化合物（Ｂ）１００質量部に対して、好ましくは１～２０質量部、より好ましくは１～１０質量部である。重合開始剤（Ａ）の含有量が、１質量部以上であることで、硬化感度不足による硬化不良を防止しやすいため好ましく、２０質量部以下とすることで、光照射時又は加熱時の揮発物を抑制できるため好ましい。
　本発明で用いられる重合性化合物（Ｂ）としては、アニオン重合性官能基を有する化合物、塩基が触媒として作用する反応又は塩基が付加する反応により硬化する化合物、及びラジカル重合性化合物が挙げられ、紫外線等のエネルギー線を照射することにより重合して硬化する感光性樹脂又は硬化温度が低温化する硬化樹脂であることが好ましい。上記アニオン重合性官能基とは、紫外線等の活性エネルギー線によって光塩基発生剤から発生する塩基により重合しうる官能基を意味し、例えば、エポキシ基、エピスルフィド基、環状モノマー（σ－バレロラクトン、ε－カプロラクタム）、マロン酸エステル等が挙げられる。塩基が触媒として作用する反応又は塩基が付加する反応としては、イソシアネートとアルコールによるウレタン結合形成反応、エポキシ樹脂と水酸基を含有する化合物の付加反応、エポキシ樹脂とカルボン酸基を含有する化合物の付加反応、エポキシ樹脂とチオール化合物の付加反応、（メタ）アクリル基のマイケル付加反応、ポリアミック酸の脱水縮合反応、アルコキシシランの加水分解・重縮合反応等が挙げられる。
　アニオン重合性官能基を有する化合物としては例えば、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、エピスルフィド樹脂、環状アミド（ラクタム系化合物）、環状エステル（ラクトン系化合物）、環状カーボネート系化合物、マロン酸エステル等が挙げられる。塩基が触媒として作用する反応又は塩基が付加する反応により硬化する化合物としては、例えば、ポリアミド樹脂（脱水環化によるポリイミド化反応）、エポキシ・水酸基系（開環付加反応）、エポキシ・カルボン酸系（開環付加反応）、エポキシ・チオール系（開環付加反応）、エポキシ・酸無水物系（開環付加反応）、シアネートエステル・エポキシ系（環化反応）、シアネートエステル（トリアジン環化反応）、シアネートエステル・マレイミド系（架橋共重合）、アクリル・チオール系（マイケル付加反応）、メタクリル・チオール系（マイケル付加反応）、アクリル・アミン系（マイケル付加反応）、メタクリル・アミン系（マイケル付加反応）、カルボン酸・水酸基系（ポリエステル化反応）、カルボン酸・アミン系（ポリアミド化反応）、イソシアネート・水酸基系（ポリウレタン化反応）、イソシアネート・チオール系（ポリチオウレタン化反応）、アルコキシシラン系（加水分解・重縮合）等が挙げられる。ラジカルにより重合する化合物としては、エチレン性不飽和化合物が挙げられる。反応性が高いことからラジカル重合する化合物を使用することが好ましい。これらの樹脂は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。好ましい組合せとして、速やかに反応が進行することや接着性が良好であるという点から、エポキシ樹脂とフェノール樹脂の組合せ、低温硬化性に優れることから、エポキシ樹脂とチオール化合物の組合せ、反応性が高いことからエチレン性不飽和化合物とチオール化合物の組合せが挙げられる。
　上記エポキシ樹脂は、エポキシ基を有していればよいが、本発明のカルバモイルオキシム化合物を除く。上記エポキシ樹脂としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ピロカテコール、フロログルクシノール等の単核多価フェノール化合物のポリグリシジルエーテル化合物；ジヒドロキシナフタレン、ビフェノール、メチレンビスフェノール（ビスフェノールＦ）、メチレンビス（オルトクレゾール）、エチリデンビスフェノール、イソプロピリデンビスフェノール（ビスフェノールＡ）、４，４’－ジヒドロキシベンゾフェノン、イソプロピリデンビス（オルトクレゾール）、テトラブロモビスフェノールＡ、１，３－ビス（４－ヒドロキシクミルベンゼン）、１，４－ビス（４－ヒドロキシクミルベンゼン）、１，１，３－トリス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１，２，２－テトラ（４－ヒドロキシフェニル）エタン、チオビスフェノール、スルホビスフェノール、オキシビスフェノール、フェノールノボラック、オルソクレゾールノボラック、エチルフェノールノボラック、ブチルフェノールノボラック、オクチルフェノールノボラック、レゾルシンノボラック、テルペンフェノール等の多核多価フェノール化合物のポリグリシジルエーテル化合物；エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリグリコール、チオジグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ビスフェノールＡ－エチレンオキシド付加物等の多価アルコール類のポリグリシジルエーテル；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、コハク酸、グルタル酸、スベリン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ダイマー酸、トリマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸等の脂肪族、芳香族又は脂環族多塩基酸のグリシジルエステル類、及びグリシジルメタクリレートの単独重合体又は共重合体；Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン、ビス（４－（Ｎ－メチル－Ｎ－グリシジルアミノ）フェニル）メタン、ジグリシジルオルトトルイジン等のグリシジルアミノ基を有するエポキシ化合物；ビニルシクロヘキセンジエポキシド、ジシクロペンタンジエンジエポキサイド、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル－６－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス（３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル）アジペート等の環状オレフィン化合物のエポキシ化物；エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化アクリロニトリル－ブタジエン共重合物、エポキシ化スチレン－ブタジエン共重合物等のエポキシ化共役ジエン重合体、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環化合物が挙げられる。また、これらのエポキシ樹脂は末端イソシアネートのプレポリマーによって内部架橋されたもの或いは多価の活性水素化合物（多価フェノール、ポリアミン、カルボニル基含有化合物、ポリリン酸エステル等）で高分子量化したものでもよい。
　上記エポキシ樹脂の中では、得られる重合性組成物が硬化性に優れる点から、グリシジル基を有するものが好ましく、２官能以上のグリシジル基を有するものがより好ましい。
　上記フェノール樹脂は、フェノール性水酸基を有していればよいが、上記カルバモイルオキシム化合物及びエポキシ樹脂を除く。フェノール樹脂としてとしては、１分子中に２個以上のヒドロキシ基を有するフェノール樹脂が、得られる重合性組成物が硬化性に優れる点から好ましく、一般に公知のものを用いることができる。フェノール樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型フェノール樹脂、ビスフェノールＥ型フェノール樹脂、ビスフェノールＦ型フェノール樹脂、ビスフェノールＳ型フェノール樹脂、フェノールノボラック樹脂、ビスフェノールＡノボラック型フェノール樹脂、グリシジルエステル型フェノール樹脂、アラルキルノボラック型フェノール樹脂、ビフェニルアラルキル型フェノール樹脂、クレゾールノボラック型フェノール樹脂、多官能フェノール樹脂、ナフトール樹脂、ナフトールノボラック樹脂、多官能ナフトール樹脂、アントラセン型フェノール樹脂、ナフタレン骨格変性ノボラック型フェノール樹脂、フェノールアラルキル型フェノール樹脂、ナフトールアラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、ビフェニル型フェノール樹脂、脂環式フェノール樹脂、ポリオール型フェノール樹脂、リン含有フェノール樹脂、重合性不飽和炭化水素基含有フェノール樹脂及び、水酸基含有シリコーン樹脂類が挙げられるが、特に制限されるものではない。これらのフェノール樹脂は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　上記チオール化合物は、チオール基を有していればよいが、上記カルバモイルオキシム化合物、エポキシ樹脂及びフェノール樹脂を除く。チオール化合物のなかでも、得られる重合性組成物が硬化性に優れることから、１分子中に２個以上のチオール基を有するものが好ましい。
　チオール化合物の好ましい具体例としては、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ジメルカプトメチル－１，４－ジチアン、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン、４，８－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、４，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、５，７－ジメルカプトメチル－１，１１－ジメルカプト－３，６，９－トリチアウンデカン、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン、ペンタエリスリチオール、１，１，３，３－テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、及びトリメチロールプロパントリスメルカプトプロピオネートであり、より好ましくは、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン、ペンタエリスリチオール、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ビス（２－メルカプトメチル）－１，４－ジチアン、４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタン、１，３－ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトプロピオネート、及びペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレートが挙げられる。
　特に好ましい化合物は、１，２，６，７－テトラメルカプト－４－チアヘプタン、ペンタエリスリチオール、ビス（２－メルカプトエチル）スルフィド、２，５－ジメルカプトメチル－１，４－ジチアン、及び４－メルカプトメチル－１，８－ジメルカプト－３，６－ジチアオクタンである。
　チオール化合物は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
　上記ポリアミド樹脂としては、酸二無水物として、エチレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２，３，３－ビフェニルテトラカルボン酸無水物、１，４，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物等を、ジアミンとして、（ｏ－，ｍ－若しくはｐ－）フェニレンジアミン、（３，３’－若しくは４，４’－）ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノベンゾフェノンノン、（３，３’－若しくは４，４’－）ジアミノジフェニルメタン等を原料とする樹脂が挙げられる。
　上記ポリウレタン樹脂としては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の多官能イソシアネートと、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール等のポリオール（多官能アルコール）とを原料とする樹脂等が挙げられる。
　また、上記ナイロン樹脂としては、ε－カプロラクタム、ラウリルラクタム等の環状モノマーを原料とした樹脂等が挙げられる。
　また、上記ポリエステル樹脂としては、δ－バレロラクトン、β―プロピオラクトン等の環状モノマーを原料とした樹脂等が挙げられる。
　上記エチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和結合を有していればよいが、上記カルバモイルオキシム化合物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂及びチオール化合物を除く。エチレン性不飽和化合物としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン等の不飽和脂肪族炭化水素；（メタ）アクリル酸、α―クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ［２－（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノ［２－（メタ）アクリロイロキシエチル］、ω－カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは１個のカルボキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート等の不飽和多塩基酸；（メタ）アクリル酸－２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸－２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸－ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ－オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノメチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸ポリ（エトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフリル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリ［（メタ）アクリロイルエチル］イソシアヌレート、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル；（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩；マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフリル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸－無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物；（メタ）アクリルアミド、メチレンビス－（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、α－クロロアクリルアミド、Ｎ－２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和一塩基酸及び多価アミンのアミド；アクロレイン等の不飽和アルデヒド；（メタ）アクリロニトリル、α－クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン、シアン化アリル等の不飽和ニトリル；スチレン、４－メチルスチレン、４－エチルスチレン、４－メトキシスチレン、４－ヒドロキシスチレン、４－クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニル安息香酸、ビニルスルホン酸、４－ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル等の不飽和芳香族化合物；メチルビニルケトン等の不飽和ケトン；ビニルアミン、アリルアミン、Ｎ－ビニルピロリドン、ビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物；アリルアルコール、クロチルアルコール等のビニルアルコール；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のビニルエーテル；マレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類；インデン、１－メチルインデン等のインデン類；１，３－ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類；ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート、ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、水酸基含有ビニルモノマー及びポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、水酸基含有ビニルモノマー及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物が挙げられる。
　エチレン性不飽和化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
　上記エチレン性不飽和化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば、カヤラッドＤＰＨＡ、ＤＰＥＡ－１２、ＰＥＧ４００ＤＡ、ＴＨＥ－３３０、ＲＰ－１０４０、ＮＰＧＤＡ、ＰＥＴ３０、Ｒ－６８４（以上、日本化薬製）；アロニックスＭ－２１５、Ｍ－３５０（以上、東亞合成製）；ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ、Ａ－ＴＭＰＴ、Ａ－ＤＣＰ、Ａ－ＨＤ－Ｎ、ＴＭＰＴ、ＤＣＰ、ＮＰＧ及びＨＤ－Ｎ（以上、新中村化学工業製）；ＳＰＣ－１０００、ＳＰＣ－３０００（以上、昭和電工製）；等が挙げられる。
＜添加剤＞
　本発明の重合性組成物には、任意成分として、無機化合物、色材、潜在性エポキシ硬化剤、連鎖移動剤、増感剤、溶剤等の添加剤を用いることができる。
　上記無機化合物としては、例えば、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、シリカ、アルミナ等の金属酸化物；層状粘土鉱物、ミロリブルー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、コバルト系、マンガン系、ガラス粉末（特にガラスフリット）、マイカ、タルク、カオリン、フェロシアン化物、各種金属硫酸塩、硫化物、セレン化物、アルミニウムシリケート、カルシウムシリケート、水酸化アルミニウム、白金、金、銀、銅等が挙げられる。これらの無機化合物は、例えば、充填剤、反射防止剤、導電材、安定剤、難燃剤、機械的強度向上剤、特殊波長吸収剤、発インク剤等として用いられる。
　上記色材としては、顔料、染料、天然色素等が挙げられる。これらの色材は、単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
　上記顔料としては、例えば、ニトロソ化合物；ニトロ化合物；アゾ化合物；ジアゾ化合物；キサンテン化合物；キノリン化合物；アントラキノン化合物；クマリン化合物；フタロシアニン化合物；イソインドリノン化合物；イソインドリン化合物；キナクリドン化合物；アンタンスロン化合物；ペリノン化合物；ペリレン化合物；ジケトピロロピロール化合物；チオインジゴ化合物；ジオキサジン化合物；トリフェニルメタン化合物；キノフタロン化合物；ナフタレンテトラカルボン酸；アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物；レーキ顔料；ファーネス法、チャンネル法又はサーマル法によって得られるカーボンブラック、或いはアセチレンブラック、ケッチェンブラック又はランプブラック等のカーボンブラック；上記カーボンブラックをエポキシ樹脂で調整又は被覆したもの、上記カーボンブラックを予め溶媒中に樹脂で分散処理し、２０～２００ｍｇ／ｇの樹脂を吸着させたもの、上記カーボンブラックを酸性又はアルカリ性表面処理したもの、平均粒径が８ｎｍ以上でＤＢＰ吸油量が９０ｍｌ／１００ｇ以下のカーボンブラック、９５０℃における揮発分中のＣＯ及びＣＯ２から算出した全酸素量が、表面積１００ｍ２当たり９ｍｇ以上であるカーボンブラック；黒鉛、黒鉛化カーボンブラック、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン；アニリンブラック、ピグメントブラック７、チタンブラック；酸化クロム緑、ミロリブルー、コバルト緑、コバルト青、マンガン系、フェロシアン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III)）、カドミウム赤、合成鉄黒、アンバー等の有機又は無機顔料を用いることができる。これらの顔料は単独で、或いは複数を混合して用いることができる。
　上記顔料としては、市販の顔料を用いることもでき、例えば、ピグメントレッド１、２、３、９、１０、１４、１７、２２、２３、３１、３８、４１、４８、４９、８８、９０、９７、１１２、１１９、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１６９、１７０、１７１、１７７、１７９、１８０、１８４、１８５、１９２、２００、２０２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２５４；ピグメントオレンジ１３、３１、３４、３６、３８、４３、４６、４８、４９、５１、５２、５５、５９、６０、６１、６２、６４、６５、７１；ピグメントイエロー１、３、１２、１３、１４、１６、１７、２０、２４、５５、６０、７３、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、１００、１０９、１１０、１１３、１１４、１１７、１２０、１２５、１２６、１２７、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１６６、１６８、１７５、１８０、１８５；ピグメントグリ－ン７、１０、３６；ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：５、１５：６、２２、２４、５６、６０、６１、６２、６４；ピグメントバイオレット１、１９、２３、２７、２９、３０、３２、３７、４０、５０等が挙げられる。
　上記染料としては、アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、トリアリールメタン染料、キサンテン染料、アリザリン染料、アクリジン染料スチルベン染料、チアゾール染料、ナフトール染料、キノリン染料、ニトロ染料、インダミン染料、オキサジン染料、フタロシアニン染料、シアニン染料等の染料等が挙げられ、これらは複数を混合して用いてもよい。
　上記潜在性エポキシ硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド、変性ポリアミン、ヒドラジド類、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、三フッ化ホウ素アミン錯塩、イミダゾール類、グアナミン類、イミダゾール類、ウレア類及びメラミン等が挙げられる。
　上記連鎖移動剤又は増感剤としては、一般的に硫黄原子含有化合物が用いられる。例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプト酪酸、Ｎ－（２－メルカプトプロピオニル）グリシン、２－メルカプトニコチン酸、３－［Ｎ－（２－メルカプトエチル）カルバモイル］プロピオン酸、３－［Ｎ－（２－メルカプトエチル）アミノ］プロピオン酸、Ｎ－（３－メルカプトプロピオニル）アラニン、２－メルカプトエタンスルホン酸、３－メルカプトプロパンスルホン酸、４－メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル（４－メチルチオ）フェニルエーテル、２－メルカプトエタノール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール、１－メルカプト－２－プロパノール、３－メルカプト－２－ブタノール、メルカプトフェノール、２－メルカプトエチルアミン、２－メルカプトイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－３－ピリジノール、２－メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２－ヨードエタノール、２－ヨードエタンスルホン酸、３－ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトイソブチレート）、ブタンジオールビス（３－メルカプトイソブチレート）、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ジエチルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン、下記化合物Ｎｏ．Ｃ１、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の脂肪族多官能チオール化合物、昭和電工社製カレンズＭＴ　ＢＤ１、ＰＥ１、ＮＲ１等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　上記溶剤としては、通常、前記の各成分（重合開始剤（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）等）を溶解又は分散しえる溶剤、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸－ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶剤；γ－カプロラクトン、δ－カプロラクトン、γ―ブチロラクトン等のラクトン類系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；メタノール、エタノール、イソ－又はｎ－プロパノール、イソ－又はｎ－ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶剤；エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート等のエーテルエステル系溶剤；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶剤；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤；テレピン油、Ｄ－リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油（株））、ソルベッソ＃１００（エクソン化学（株））等のパラフィン系溶剤；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２－ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶剤；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶剤；カルビトール系溶剤；アニリン；トリエチルアミン；ピリジン；酢酸；アセトニトリル；二硫化炭素；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド；Ｎ－メチルピロリドン；ジメチルスルホキシド；水等を用いることができ、これらの溶剤は１種で又は２種以上の混合溶剤として使用することができる。
　これらの中でも、アルカリ現像性、パターニング性、製膜性、溶解性の点から、ケトン類又はエーテルエステル系溶剤、特に、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」ともいう。）又はシクロヘキサノンが好ましく用いられる。
　本発明の重合性組成物において、溶剤の含有量は、特に制限されず、各成分が均一に分散又は溶解され、また本発明の重合性組成物が各用途に適した液状ないしペースト状を呈する量であればよいが、通常、本発明の重合性組成物中の固形分（溶剤以外の全成分）の量が１０～９０質量％となる範囲で溶剤を含有させることが好ましい。
　また、本発明の重合性組成物は、有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。該有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート－エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸、スチレン－（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸－メチルメタクリレート共重合体、エチレン－塩化ビニル共重合体、エチレン－ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ウレタン樹脂、ポリカーボネートポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。
　上記有機重合体を使用する場合、その使用量は、重合性化合物（Ｂ）１００質量部に対して、好ましくは１０～５００質量部である。
　本発明の重合性組成物には、更に、界面活性剤、シランカップリング剤、メラミン化合物等を併用することができる。
　上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素系界面活性剤；高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤；高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤；ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤；両性界面活性剤；シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。
　上記シランカップリング剤としては、例えば信越化学社製シランカップリング剤を用いることができ、その中でも、ＫＢＥ－９００７、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＥ－４０３等の、イソシアネート基、メタクリロイル基又はエポキシ基を有するシランカップリング剤が好適に用いられる。
　上記メラミン化合物としては、（ポリ）メチロールメラミン、（ポリ）メチロールグリコールウリル、（ポリ）メチロールベンゾグアナミン、（ポリ）メチロールウレア等の窒素化合物中の活性メチロール基（ＣＨ２ＯＨ基）の全部又は一部（少なくとも２つ）がアルキルエーテル化された化合物等を挙げることができる。
　ここで、アルキルエーテルを構成するアルキル基としては、メチル基、エチル基又はブチル基が挙げられ、互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。また、アルキルエーテル化されていないメチロール基は、一分子内で自己縮合していてもよく、二分子間で縮合して、その結果オリゴマー成分が形成されていてもよい。
　具体的には、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラブトキシメチルグリコールウリル等を用いることができる。
　これらの中でも、溶剤への溶解性、重合性組成物から結晶析出しにくいという点から、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン等のアルキルエーテル化されたメラミンが好ましい。
　本発明の重合性組成物において、重合開始剤（Ａ）及び重合性化合物（Ｂ）以外の任意成分（但し、無機化合物、色材、及び溶剤は除く）の使用量は、その使用目的に応じて適宜選択され特に制限されないが、好ましくは、重合性化合物（Ｂ）１００質量部に対して合計で５０質量部以下とする。
　本発明の重合性組成物は、エネルギー線を照射して硬化物とすることができる。該硬化物は、用途に応じた適宜な形状として形成される。例えば膜状の硬化物を形成する場合には、本発明の重合性組成物は、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用することができる。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。
　本発明の重合性組成物を硬化させる際に用いられるエネルギー線の光源としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、キセノンアーク灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、発光ダイオード、ＣＲＴ光源等から得られる２０００オングストローム～７０００オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、Ｘ線、放射線等の高エネルギー線を利用することができるが、好ましくは、波長３００～４５０ｎｍの光を発光する超高圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯等が用いられる。
　更に、露光光源にレーザー光を用いることにより、マスクを用いずに、コンピューター等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから有用であり、そのレーザー光としては、３４０～４３０ｎｍの波長の光が好適に使用されるが、エキシマーレーザー、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー及びＹＡＧレーザー等の可視から赤外領域の光を発するものも用いることができる。これらのレーザー光を使用する場合には、好ましくは、可視から赤外の当該領域を吸収する増感色素が加えられる。
　また、本発明の重合性組成物の硬化には、上記エネルギー線の照射後、加熱することが通常必要であり、４０～１５０℃程度の加熱が硬化率の点で好ましい。
　本発明の重合性組成物は、光硬化性塗料又はワニス；光硬化性接着剤；金属用コーティング剤；プリント基板；カラーテレビ、ＰＣモニタ、携帯情報端末、デジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示素子におけるカラーフィルタ；ＣＣＤイメージセンサのカラーフィルタ；プラズマ表示パネル用の電極材料；粉末コーティング；印刷インク；印刷版；接着剤；歯科用組成物；ゲルコート；電子工学用のフォトレジスト；電気メッキレジスト；エッチングレジスト；ドライフィルム；はんだレジスト；種々の表示用途用のカラーフィルタを製造するための或いはプラズマ表示パネル、電気発光表示装置、及びＬＣＤの製造工程においてそれらの構造を形成するためのレジスト；電気及び電子部品を封入するための組成物；ソルダーレジスト；磁気記録材料；微小機械部品；導波路；光スイッチ；めっき用マスク；エッチングマスク；カラー試験系；ガラス繊維ケーブルコーティング；スクリーン印刷用ステンシル；ステレオリトグラフィによって三次元物体を製造するための材料；ホログラフィ記録用材料；画像記録材料；微細電子回路；脱色材料；画像記録材料のための脱色材料；マイクロカプセルを使用する画像記録材料用の脱色材料；印刷配線板用フォトレジスト材料；ＵＶ及び可視レーザー直接画像系用のフォトレジスト材料；プリント回路基板の逐次積層における誘電体層形成に使用するフォトレジスト材料又は保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。
　本発明の重合性組成物は、液晶表示パネル用スペーサーを形成する目的及び垂直配向型液晶表示素子用突起を形成する目的で使用することもできる。特に垂直配向型液晶表示素子用の突起とスペーサーを同時に形成するための感光性樹脂組成物として有用である。
　上記の液晶表示パネル用スペーサーは、（１）本発明の重合性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、（２）該塗膜に所定のパターン形状を有するマスクを介してエネルギー線（光）を照射する工程、（３）露光後のベーク工程、（４）露光後の被膜を現像する工程、（５）現像後の該被膜を加熱する工程により好ましく形成される。
　色材を添加した本発明の重合性組成物は、カラーフィルタにおけるＲＧＢ等の各画素を構成するレジストや、各画素の隔壁を形成するブラックマトリクス用レジストとして好適に用いられる。更に、撥インク剤を添加するブラックマトリクス用レジストの場合、プロファイル角が５０°以上であるインクジェット方式カラーフィルタ用隔壁に好ましく用いられる。該撥インク剤としては、フッ素系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤を含有する組成物が好適に用いられる。
　上記インクジェット方式カラーフィルタ用隔壁に用いた場合、本発明の重合性組成物から形成された隔壁が被転写体上を区画し、区画された被転写体上の凹部にインクジェット法により液滴を付与して画像領域を形成する方法により光学素子が製造される。この際、上記液滴が着色剤を含有し、上記画像領域が着色されていることが好ましく、その場合には、上記の製造方法により作製された光学素子は、基板上に複数の着色領域からなる画素群と該画素群の各着色領域を離隔する隔壁を少なくとも有するものとなる。
　本発明の重合性組成物は、保護膜又は絶縁膜用組成物としても用いることができる。この場合、紫外線吸収剤、アルキル化変性メラミン及び／又はアクリル変性メラミン、分子中にアルコール性水酸基を含有する１又は２官能の（メタ）アクリレートモノマー及び／又はシリカゾルを含有することができる。
　上記絶縁膜は、剥離可能な支持基材上に絶縁樹脂層が設けられた積層体における該絶縁樹脂層に用いられ、該積層体は、アルカリ水溶液による現像が可能なものであり、絶縁樹脂層の膜厚が１０～１００μｍであることが好ましい。
　本発明の重合性組成物は、無機化合物を含有させることで、感光性ペースト組成物として用いることができる。該感光性ペースト組成物は、プラズマディスプレイパネルの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターン及びブラックマトリックスパターン等の焼成物パターンを形成するために用いることができる。
　以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。
〔実施例１〕化合物１の合成
　以下に示したスキームに従って化合物１を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
（オキシム体１の合成）
　１００ｍｌ四つ口フラスコに、２－（４－（（４－（２－メチルベンゾイル）フェニル）チオール）フェニル）アセトニトリル１．０ｅｑ．、水酸化ナトリウム１．０ｅｑ．を加えてエタノール（理論収量の１００重量％）に溶解し、氷浴上５℃で攪拌を行った。そこに亜硝酸イソブチル１．０ｅｑ．をエタノールに溶解した溶液を滴下して加えた。反応液を室温に戻し、２時間攪拌した後、濾過をして濾液を濃縮した。そこへ酢酸エチルを加え、イオン交換水で３回洗浄した後、硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル及びヘキサン＝１：５）により精製し、オキシム体１を褐色粘稠液状化合物として収率６０％で得た。
（化合物１の合成）
　１００ｍｌ四つ口フラスコに、オキシム体１を１．０ｅｑ．、ジクロロメタン（理論収量の５００重量％）、トリエチルアミン２．０ｅｑ．を加え、氷浴上５℃で攪拌を行った。そこにクロロギ酸４－ニトロフェニル１．１ｅｑ．をジクロロメタンに溶解した溶液を滴下して加えた。滴下終了後、室温で３０分間攪拌した。再び氷浴上５℃まで冷却後、ピペリジン１．１ｅｑ．を滴下して加えた。室温で３時間攪拌し、減圧溶媒留去した。そこに酢酸エチルと５質量％ＮａＯＨ水溶液を加え、油水分離を行った。さらに有機層をイオン交換水で３回洗浄した後、濃縮を行った。残渣にエタノールを加え晶析を行い、化合物１を淡黄色粉状化合物として収率７９％で得た。得られた化合物のＴＧ－ＤＴＡ（融点）、１Ｈ－ＮＭＲを分析した。結果を表１及び表２に示す。
〔実施例２〕化合物２の合成
　以下に示したスキームに従って化合物２を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
（オキシム体２の合成）
　１００ｍｌ四つ口フラスコに、２，２，２－トリフルオロ－１－（４－（（４－（２－メチルベンゾイル）フェニル）チオ）フェニル）エタン－１－オン１．０ｅｑ．を加え、エタノール（理論収量の６００重量％）に溶解した。溶液に塩酸ヒドロキシルアミン１．２ｅｑ．及びピリジン３．０ｅｑ．を加えた。反応混合物を３時間還流し、減圧溶媒留去した。そこにイオン交換水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５質量％塩酸、イオン交換水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル及びヘキサン＝１：５）により精製し、オキシム体２を褐色粘稠液状化合物として収率７６％で得た。
（化合物２の合成）
　実施例１に記載のオキシム体１をオキシム体２に変更した以外は、実施例１と同様の操作で水洗工程まで行った。濃縮後の残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル及びヘキサン＝１：５）により精製し、化合物２を黄色粘稠液状化合物として収率７６％で得た。得られた化合物の１Ｈ－ＮＭＲを分析した。結果を表１及び表２に示す。
〔実施例３〕化合物３の合成
　以下に示したスキームに従って化合物３を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
（オキシム体３の合成）
　１００ｍｌ四つ口フラスコに、７－メトキシ－３－（２，２，２－トリフルオロアセチル）－２Ｈ－クロメン－２－オン１．０ｅｑ．を加え、エタノール（理論収量の６００重量％）に溶解した。溶液に塩酸ヒドロキシルアミン１．３ｅｑ．を加えた。反応混合物を４時間加熱還流し、室温まで冷却した後、イオン交換水を添加した。沈殿物を濾過により回収し、真空下で乾燥した。ジクロロメタン（理論収量の６００重量％）中で攪拌し、沈殿物を再度濾過により回収し、真空下で乾燥させることで、オキシム体３を白色固体化合物として収率５３％で得た。
（化合物３の合成）
　実施例１に記載のオキシム体１をオキシム体３に変更した以外は、実施例１と同様の操作で水洗工程まで処理した。濃縮後の残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤：酢酸エチル及びヘキサン＝５：８）により精製した。さらに、酢酸エチル及びヘキサンの混合溶液（１：１）を用いて、再結晶を行うことで化合物３を白色粉状化合物として収率３８％で得た。得られた化合物のＴＧ－ＤＴＡ（融点）、１Ｈ－ＮＭＲを分析した。結果を表１及び表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
〔実施例４～６並びに比較例１〕感光性組成物の調整
　表３に記載の配合を行い、感光性組成物１、２及び３並びに比較感光性組成物１を得た。なお、表中の配合数値は質量部を示す。
また、表中の各成分の符号は、下記の成分を表す。
Ａ－１：化合物１
Ａ－２：化合物２
Ａ－３：化合物３
Ａ’－４：比較化合物１
Ｂ－１：ＥＰＰＮ－２０１（フェノールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ等量１９３ｇ／ｅｑ．、日本化薬社製）
Ｂ－２：Ｈ－３Ｍ（フェノール樹脂、水酸基等量１０５～１０９ｇ／ｅｑ．、明和化成社製）
Ｃ－１：ＦＺ－２１２２（ポリエーテル変性ポリシロキサン、東レダウコーニング社製、１重量％ＰＧＭＥＡ溶液）
Ｄ－１：シクロペンタノン（溶剤）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
〔評価例１～３並びに比較評価例１〕
　感光性組成物１～３及び比較感光性組成物１の硬化物について、残膜の有無を下記手順で確認した。結果を表４に示す。
　感光性組成物１～３及び比較感光性組成物１をそれぞれガラス基材（１０ｃｍ×１０ｃｍ）にスピンコーター（５００ｒｐｍ×２秒→１０００ｒｐｍ×１０秒→スロープ×０．５秒）を用いて塗膜し（塗布量約２ｍＬ）、オーブン中でプリベイク（９０℃×９０秒）を行い、製膜した。
　各膜に対して、連続的に透過率が変化するグラデーションをもつステップタブレット（３３段型、ＯＤ値０～３）をマスクし、ＵＶ－ＬＥＤ（３６５ｎｍ）を用いて紫外光を照射した（照度５０ｍＷ／ｃｍ２、露光時間６０秒、積算露光量３０００ｍＪ／ｃｍ２）。
　露光後、オーブン中でポストベイク（１００℃×２０分）し、現像（ＰＧＭＥＡ、３０秒）とリンス（イソプロピルアルコール、１０秒）を行った。
　得られた硬化膜サンプルについて、残段数を目視により確認した。残段数とは、硬化膜が残存する最大の段数を意味する。残段数から表４により透過率を決定し、下記式を用いることで換算感度を算出した。
　換算感度（ｍＪ／ｃｍ２）＝積算露光量（３０００ｍＪ／ｃｍ２）×透過率（％）
　残段数と換算感度を表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
　上記表５の結果より、本願発明の感光性組成物は、比較感光性組成物と比較して残段数が多い（硬化性が高い）ことから、ＵＶ－ＬＥＤ光源に対して高感度であるといえ、本発明の化合物が重合開始剤として優れていることは明白である。
〔実施例７〕化合物４の合成
　以下に示したスキームに従って化合物４を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
（オキシム体４の合成）
　フラスコに、３－（１－（４－ベンゾイルフェニル）－１Ｈ－インドール－３－イル）－３－オキソプロパンニトリル１．０ｅｑ．を加え、ジメチルホルムアミド（理論収量の３００重量％）に溶解した。そこに４Ｍ・ＨＣｌ－酢酸エチル１．１ｅｑ．と亜硝酸イソブチル１．１ｅｑ．を加え、４５℃で２時間攪拌した。反応液へクロロホルムを加え、イオン交換水で２回洗浄した後、有機層を濾過することで、オキシム体４を黄色粉状化合物として収率９１％で得た。
（化合物４の合成）
　フラスコに、オキシム体４を１．０ｅｑ．、ジクロロエタン（理論収量の５００重量％）、トリエチルアミン２．０ｅｑ．を加え、氷浴上５℃で攪拌を行った。そこにクロロギ酸４－ニトロフェニル１．１ｅｑ．をジクロロエタン（理論収量の３００重量％）に溶解したものを滴下して加えた。滴下終了後、室温で１時間攪拌した。再び氷浴上５℃まで冷却後、ピペリジン１．１ｅｑ．を滴下して加えた。室温で５時間攪拌し、減圧溶媒留去した。そこに酢酸エチルとイオン交換水を加え、油水分離を行った。さらに有機層を１質量％水酸化ナトリウム水溶液で３回、イオン交換水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤＝ヘキサン：酢酸エチル＝６１：３９）により精製し、化合物４を黄色粉状化合物として収率３３％で得た。得られた化合物のＴＧ－ＤＴＡ（融点）、１Ｈ－ＮＭＲを分析した。結果を表６及び表７に示す。
〔実施例８〕化合物５の合成
以下に示したスキームに従って化合物５を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
（オキシム体５の合成）
　フラスコに、１－（９－エチル－６－（チオフェン－２－カルボニル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル）－２，２，２－トリフルオロエタン－１－オン１．０ｅｑ．を加え、ジメチルホルムアミド（理論収量の５００重量％）に溶解した。溶液に塩酸ヒドロキシルアミン３．３ｅｑ．及びピリジン３．３ｅｑ．を加えた。反応混合物を８０℃で１０時間加熱攪拌した後、イオン交換水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層をイオン交換水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤＝ヘキサン：酢酸エチル＝７０：３０）により精製し、オキシム体５を黄色固状化合物として収率６０％で得た。
（化合物５の合成）
　フラスコに、オキシム体１を１．０ｅｑ．、ジクロロエタン（理論収量の６００重量％）、トリエチルアミン２．０ｅｑ．を加え、氷浴上５℃で攪拌を行った。そこにクロロギ酸４－ニトロフェニル１．１ｅｑ．を滴下して加えた。滴下終了後、室温で１時間攪拌した。再び氷浴上５℃まで冷却後、アニリン１．１ｅｑ．を滴下して加えた。５０℃で４時間攪拌し、減圧溶媒留去した。そこに酢酸エチルとイオン交換水を加え、油水分離を行った。さらに有機層を１質量％水酸化ナトリウム水溶液で３回、イオン交換水で２回洗浄し、硫酸マグネシウムにより乾燥させ、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤＝ヘキサン：酢酸エチル＝５０：５０）により精製し、化合物５を黄色液状化合物として収率２０％で得た。得られた化合物の１Ｈ－ＮＭＲを分析した。結果を表７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000062
　本発明のカルバモイルオキシム化合物は、高い光塩基発生効率を有しており、重合開始剤として用いた場合、従来の光塩基発生剤よりも効率的に塩基を発生させることができるため、低露光量においても重合性化合物を硬化させることができる。特に、エポキシ樹脂又はフェノール樹脂を含有する硬化性樹脂組成物に使用した場合、高い硬化性を示す。
 
 

Claims (12)

  1. 　下記一般式（Ｉ）で表されるカルバモイルオキシム化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ａは、炭素原子数６～２０の芳香環含有基を表し、
    　Ｒ１は、電子求引性基を表し、
    　Ｘ１は、－ＮＲ２Ｒ３、又は下記一般式（ａ）若しくは下記一般式（ｂ）で表される基を表し、
    　Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ａ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基、又は芳香族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ａ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ２とＲ３は、互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環又は水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成していてもよく、
    　Ｒ２及びＲ３は、脂肪族炭化水素基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４、－ＣＯＯＲ４、－ＣＯ－Ｒ４、－ＳＲ４、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基によって置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ２及びＲ３は、芳香族炭化水素基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４、－ＣＯＯＲ４、－ＣＯ－Ｒ４、－ＳＲ４、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基によって置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ４は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表し、
    　＜群Ａ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ－、－ＮＲ－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ－又は－ＳｉＲＲ’－であり、
    　Ｒ及びＲ’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表し、
    　ｎは、０又は１を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｂ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基、又は芳香族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｂ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、脂肪族炭化水素基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ１０２、－ＣＯＯＲ１０２、－ＣＯ－Ｒ１０２、－ＳＲ１０２、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、芳香環含有基中の水素原子が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ１０２、－ＣＯＯＲ１０２、－ＣＯ－Ｒ１０２、－ＳＲ１０２、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ１０２は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表し、
    　＜群Ｂ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１１－、－ＮＲ１１１－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１１－、－ＮＲ１１１－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１１－又は－ＳｉＲ１１１Ｒ１１１’－であり、
    　Ｒ１１１及びＲ１１１’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表し、
    　Ｒ１１とＲ１２、Ｒ１３とＲ１４、Ｒ１５とＲ１６、Ｒ１７とＲ１８及びＲ１９とＲ２０は、互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環又は水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成していてもよく、
    ＊は結合手を表す。）
  2. 　一般式（Ｉ）中のＡが、下記一般式（Ａ－１）、（Ａ－２）、（Ａ－３）、（Ａ－４）、（Ａ－５）又は（Ａ－６）で表される基である請求項１に記載のカルバモイルオキシム化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ３１、－ＣＯＯＲ３１、－ＣＯ－Ｒ３１、－ＳＲ３１、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｃ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ２１とＲ２２、Ｒ２２とＲ２３、Ｒ２３とＲ２４、Ｒ２４とＲ２５、Ｒ２６とＲ２７、Ｒ２７とＲ２８、Ｒ２８とＲ２９、Ｒ２９とＲ３０は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
    　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０の何れか一つは結合手を表し、
    　Ｒ３１は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｃ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ３１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９及びＲ３０は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
    　＜群Ｃ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１２－、－ＮＲ１１２－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１２－、－ＮＲ１１２－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１２－又は－ＳｉＲ１１２Ｒ１１２’－であり、
    　Ｒ１１２及びＲ１１２’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ４０は、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｄ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ４９、－ＣＯＯＲ４９、－ＣＯ－Ｒ４９、－ＳＲ４９、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｄ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ４１とＲ４２、Ｒ４２とＲ４３、Ｒ４３とＲ４４、Ｒ４５とＲ４６、Ｒ４６とＲ４７、Ｒ４７とＲ４８は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
    　Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８の何れか一つは結合手を表し、
    　Ｒ４９は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｄ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ４９は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ４０、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ４０、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、Ｒ４６、Ｒ４７及びＲ４８は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
    　＜群Ｄ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１３－、－ＮＲ１１３－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１３－、－ＮＲ１１３－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１３－又は－ＳｉＲ１１３Ｒ１１３’－であり、
    　Ｒ１１３及びＲ１１３’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ｒ５１及びＲ５２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表し、
    　Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ６１、－ＣＯＯＲ６１、－ＣＯ－Ｒ６１、－ＳＲ６１、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｅ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ５３とＲ５４、Ｒ５４とＲ５５、Ｒ５５とＲ５６、Ｒ５７とＲ５８、Ｒ５８とＲ５９、Ｒ５９とＲ６０は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
    　Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０の何れか一つは結合手を表し、
    　Ｒ６１は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｅ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ６１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ５１、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ５９及びＲ６０では、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
    　＜群Ｅ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１４－、－ＮＲ１１４－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１４－、－ＮＲ１１４－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１４－又は－ＳｉＲ１１４Ｒ１１４’－であり、
    　Ｒ１１４及びＲ１１４’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｒ７１は、水素原子、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｆ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６及びＲ７７は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ７８、－ＣＯＯＲ７８、－ＣＯ－Ｒ７８、－ＳＲ７８、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｆ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ７４とＲ７５、Ｒ７５とＲ７６、Ｒ７６とＲ７７は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
    　Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６及びＲ７７の何れか一つは結合手を表し、
    　Ｒ７８は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｆ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ７８は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、Ｒ７７及びＲ７８は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、Ｒ７７及びＲ７８は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６及びＲ７７は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
    　＜群Ｆ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１５－、－ＮＲ１１５－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１５－、－ＮＲ１１５－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１５－又は－ＳｉＲ１１５Ｒ１１５’－であり、
    　Ｒ１１５及びＲ１１５’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式中、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ８７、－ＣＯＯＲ８７、－ＣＯ－Ｒ８７、－ＳＲ８７、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｇ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ８３とＲ８４、Ｒ８４とＲ８５、Ｒ８５とＲ８６は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
    　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６の何れか一つは結合手を表し、
    　Ｒ８７は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｇ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ８７は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５及びＲ８６は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
    　＜群Ｇ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１６－、－ＮＲ１１６－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１６－、－ＮＲ１１６－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１６－又は－ＳｉＲ１１６Ｒ１１６’－であり、
    　Ｒ１１６及びＲ１１６’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００は、それぞれ独立に、結合手、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、－ＯＲ１０１、－ＣＯＯＲ１０１、－ＣＯ－Ｒ１０１、－ＳＲ１０１、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、炭素原子数２～２０の複素環含有基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｈ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、
    　Ｒ９１とＲ９２、Ｒ９２とＲ９３、Ｒ９３とＲ９４、Ｒ９４とＲ９５、Ｒ９６とＲ９７、Ｒ９７とＲ９８、Ｒ９８とＲ９９、Ｒ９９とＲ１００は、それぞれ独立に、互いに連結して、水素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が３～１０の環を形成していてもよく、
    　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００の何れか一つは結合手を表し、
    　Ｒ１０１は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基、又は脂肪族炭化水素基中のメチレン基が下記＜群Ｈ＞で表される２価の基に置換された炭素原子数１～２０の基を表し、Ｒ１０１は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよく、
    　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよく、
    　Ｒ９１、Ｒ９２、Ｒ９３、Ｒ９４、Ｒ９５、Ｒ９６、Ｒ９７、Ｒ９８、Ｒ９９及びＲ１００は、複素環含有基中の水素原子の１つ又は２つ以上がハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、メタクリロイル基、アクリロイル基、エポキシ基、ビニル基、ビニルエーテル基、メルカプト基、イソシアネート基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基で置換された炭素原子数２～２０の基であってもよく、
    　＜群Ｈ＞は、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯ－、－ＣＳ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲ１１７－、－ＮＲ１１７－ＣＯ－、－ＣＯ－ＮＲ１１７－、－ＮＲ１１７－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－ＮＲ１１７－又は－ＳｉＲ１１７Ｒ１１７’－であり、
    　Ｒ１１７及びＲ１１７’は、水素原子又は炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表す。）
  3. 　一般式（Ｉ）中のＲ１が、ハロゲン化アルキル基又はシアノ基である請求項１又は２に記載のカルバモイルオキシム化合物。
  4. 　上記一般式（Ｉ）中のＸ１が、－ＮＲ２Ｒ３であり、Ｒ２及びＲ３が、互いに連結して、水素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環又は水素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素原子からなる炭素原子数が２～１０の環を形成している請求項１～３の何れか一項に記載のカルバモイルオキシム化合物。
  5. 　一般式（Ｉ）中のＡが、下記一般式（Ａ－１）で表される基である請求項２～４の何れか一項に記載のカルバモイルオキシム化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式中、Ｒ２８は結合手を表し、
    　Ｒ２３は－ＣＯ－Ｒ３１を表し、
    　Ｒ３１は、炭素原子数６～２０の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ３１は、芳香族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１～１０の脂肪族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数６～２０の基であってもよい。）
  6. 　一般式（Ｉ）中のＡが、下記一般式（Ａ－５）で表される基である請求項２～４の何れか一項に記載のカルバモイルオキシム化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、Ｒ８１は結合手を表し、
    　Ｒ８５は、－ＯＲ８７を表し、
    　Ｒ８７は、炭素原子数１～２０の脂肪族炭化水素基を表し、Ｒ８７は、脂肪族炭化水素基中の水素原子の１つ又は２つ以上が、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数６～１０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２～１０の複素環含有基で置換された炭素原子数１～２０の基であってもよい。）
  7. 　請求項１～６の何れか一項に記載のカルバモイルオキシム化合物を含有する潜在性塩基発生剤。
  8. 　請求項１～６の何れか一項に記載のカルバモイルオキシム化合物を含有する重合開始剤。
  9. 　請求項１～６の何れか一項に記載のカルバモイルオキシム化合物及び重合性化合物を含有する重合性組成物。
  10. 　上記重合性化合物が、エポキシ樹脂若しくはエチレン性不飽和化合物、又はエポキシ樹脂とフェノール樹脂とを含む混合物、エポキシ樹脂とチオール化合物とを含む混合物、若しくはエチレン性不飽和化合物とチオール化合物とを含む混合物である請求項９に記載の重合性組成物。
  11. 　請求項９又は１０に記載の重合性組成物の硬化物。
  12. 　請求項９又は１０に記載の重合性組成物にエネルギー線を照射する工程を有する硬化物の製造方法。
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