WO2020195510A1 - 微粒子測定システムの洗浄方法及び超純水製造システム - Google Patents

微粒子測定システムの洗浄方法及び超純水製造システム Download PDF

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WO2020195510A1
WO2020195510A1 PCT/JP2020/007991 JP2020007991W WO2020195510A1 WO 2020195510 A1 WO2020195510 A1 WO 2020195510A1 JP 2020007991 W JP2020007991 W JP 2020007991W WO 2020195510 A1 WO2020195510 A1 WO 2020195510A1
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WO
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flow rate
water
fine particle
cleaning
pipe
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/007991
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English (en)
French (fr)
Inventor
しおり 永田
輝 丹治
野口 幸男
Original Assignee
野村マイクロ・サイエンス株式会社
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/06Investigating concentration of particle suspensions

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for cleaning a fine particle measurement system for manufacturing equipment such as ultrapure water, water for pharmaceuticals, and water for injection (WFI: water for injection), and an ultrapure water production system for producing ultrapure water.
  • manufacturing equipment such as ultrapure water, water for pharmaceuticals, and water for injection (WFI: water for injection)
  • WFI water for injection
  • ultrapure water is circulated through two or more fine particle measuring means to measure the number of fine particles per unit time or unit volume, and the lowest value of each measured value is ultrapure water.
  • the technique to be adopted as the number of fine particles in the inside is described. With such technology, the number of fine particles in ultrapure water is strictly controlled so as not to exceed a set threshold value.
  • the number of fine particles in the water to be treated is strictly controlled.
  • a structure may be adopted in which the ultrapure water is taken out from the ultrapure water production equipment by a measuring pipe and sent to the fine particle measurement equipment. is there.
  • the lowest value measured by two or more fine particle measuring means is adopted as the number of fine particles in ultrapure water, but two or more fine particle measuring means.
  • the difference in the measured values due to the above is regarded as noise, and the cause is not clear. In addition, it does not suppress the influence of fine particles adhering to the inside of the measuring pipe or the fine particle measuring device.
  • the measured value may fluctuate to a higher value than the actual value for a while after the measurement is started. is there. This is because the fine particle measuring device is not in a steady state, and waiting is performed until the measured value becomes stable and shows a correct value. However, even if the actual measurement is waited until the measured value becomes stable in this way, the influence of the fine particles adhering to the inside of the measuring pipe or the fine particle measuring device cannot be suppressed in the measurement.
  • the above is the same when measuring fine particles in the water to be treated in the production of water to be treated such as water for pharmaceuticals and water for injection (WFI).
  • the purpose of this disclosure is to improve the accuracy in measuring the number of fine particles in the water to be treated.
  • the fine particle measuring device is provided for a fine particle measuring system having a measuring pipe through which water to be treated flows and a fine particle measuring device provided in the measuring pipe to measure the number of fine particles in the water to be treated.
  • the fine particle measurement system is washed with the flow rate of the water to be treated as a first cleaning flow rate larger than the flow rate for measuring the number of fine particles on the downstream side in the flow direction of the water to be treated.
  • the flow rate of the water to be treated is set as the flow rate for the first cleaning on the downstream side in the flow direction of the water to be treated from the fine particle measurement device. Therefore, the water to be treated at the flow rate for the first cleaning flows through the internal piping of the fine particle measuring device and the measuring piping on the upstream side thereof.
  • the first cleaning flow rate is larger than the flow rate for measuring the number of fine particles in the fine particle measuring device.
  • the number of fine particles in the water to be treated can be measured by flowing the water to be treated at the measurement flow rate from the upstream side to the fine particle measuring device. At this time, the portion where the water to be treated flows at the first cleaning flow rate. Since the inside of the pipe is in a clean state, it is possible to improve the accuracy in measuring the number of fine particles in the water to be treated.
  • the measurement flow rate and the first cleaning flow rate are switched by using the downstream branch pipe branching from the measurement pipe on the downstream side.
  • the branch pipe on the downstream side By flowing the water to be treated through the branch pipe on the downstream side, it is possible to easily switch the flow rate of the water to be treated to either the first cleaning flow rate or the measurement flow rate in the measurement pipe on the downstream side of the fine particle measuring device. .. Since the fine particle measuring device is located on the upstream side of the downstream branch pipe, it is possible to surely flow the water to be treated to the internal piping of the fine particle measuring device and the measuring pipe on the upstream side at the first cleaning flow rate. it can. When the flow rate of the water to be treated is used as the flow rate for measurement, the water to be treated may not flow to the downstream branch pipe.
  • the piping through which the water to be treated flows at the first cleaning flow rate, especially the inside of the fine particle measuring device. It is possible to generate turbulent flow of water to be treated or flow in the boundary region between turbulent flow and laminar flow in the pipe, and effectively remove fine particles with water to be treated.
  • the time for flowing the water to be treated at the first cleaning flow rate is 5 minutes / time or more and 120 minutes / time or less.
  • the time for flowing the water to be treated at the first cleaning flow rate is 5 minutes / time or more, fine particles can be reliably removed in the internal piping of the fine particle measuring device and the measuring piping on the upstream side thereof. Further, if this time is 120 minutes / time or less, it is possible to prevent the time for flowing the water to be treated to flow excessively at the flow rate for the first cleaning, and to measure the number of fine particles in the water to be treated with the fine particle measuring device. Can be sufficiently secured.
  • the water to be treated is allowed to flow through the measurement pipe on the upstream side of the fine particle measuring apparatus at a second cleaning flow rate higher than the measurement flow rate.
  • the water to be treated is discharged from the measuring pipe before flowing into the fine particle measuring device.
  • the flow rate of the water to be treated is defined as the flow rate for the second cleaning on the upstream side in the flow direction of the water to be treated from the fine particle measuring device.
  • the second cleaning flow rate is a flow rate larger than the flow rate for measuring the number of fine particles in the fine particle measuring device.
  • the fine particles adhering to the inside can be washed away by the water to be treated, and the inside of the measuring pipe in this portion can be cleaned.
  • the number of fine particles in the water to be treated can be measured by flowing the water to be treated at the measurement flow rate from the upstream side to the fine particle measuring device. At this time, the water to be treated at the second cleaning flow rate in the measurement pipe.
  • the inside of the portion where the water has flowed is in a clean state, it is possible to improve the accuracy in measuring the number of fine particles in the water to be treated. Moreover, since the water to be treated, which is the second cleaning flow rate, is discharged from the measuring pipe before flowing into the fine particle measuring device, it does not affect the measurement of the number of fine particles by the fine particle measuring device.
  • the number of fine particles can be measured by supplying only a part of the water to be treated at the second cleaning flow rate to the fine particle measuring device, and the rest may be discharged from the measuring pipe. Since the flow rate for the second cleaning can be set regardless of the flow rate of the water to be treated flowing through the fine particle measuring device, for example, if the flow rate for the second cleaning is larger than the flow rate for the first cleaning, the flow rate for the second cleaning is increased in the measuring pipe. It is highly effective to wash the part where the water to be treated flows at the flow rate with the water to be treated.
  • the measurement flow rate and the second cleaning flow rate are switched by using the upstream branch pipe branching from the measurement pipe on the upstream side.
  • the second cleaning flow rate is a flow rate at which the Reynolds number (Re) in the measurement pipe on the upstream side is 20000 ⁇ Re ⁇ 1700.
  • the portion of the measurement pipe where the water to be treated flows at the second cleaning flow rate is covered. It is possible to generate turbulent flow of treated water or flow in the boundary region between turbulent flow and laminar flow, and effectively remove fine particles with water to be treated.
  • the operation of flowing the water to be treated at the second cleaning flow rate is performed during the measurement of the number of fine particles by the fine particle measuring device.
  • the number of fine particles can be measured with a fine particle measuring device while flowing the water to be treated through the measuring pipe at the second cleaning flow rate. That is, it is possible to wash the portion of the measuring pipe where the water to be treated flows at the second cleaning flow rate without interrupting the measurement of the number of fine particles.
  • the number of fine particles is increased with respect to a fine particle measuring system having a measuring pipe through which water to be treated flows and a fine particle measuring device provided in the measuring pipe to measure the number of fine particles in the water to be treated.
  • the water to be treated is flowed through the measurement pipe on the upstream side in the flow direction of the water to be treated with a flow rate for second cleaning that is larger than the flow rate for measurement, and before flowing into the fine particle measuring device.
  • the water to be treated is discharged from the measurement pipe.
  • the flow rate of the water to be treated is set as the second cleaning flow rate on the upstream side in the flow direction of the water to be treated from the fine particle measurement device.
  • the second cleaning flow rate is a flow rate larger than the flow rate for measuring the number of fine particles in the fine particle measuring device.
  • the fine particles adhering to the inside can be washed away by the water to be treated, and the inside of the measurement pipe in this portion can be cleaned. Then, the number of fine particles in the water to be treated can be measured by flowing the water to be treated at the measurement flow rate from the upstream side to the fine particle measuring device.
  • the water to be treated at the second cleaning flow rate in the measurement pipe Since the inside of the portion where the water has flowed is in a clean state, it is possible to improve the accuracy in measuring the number of fine particles in the water to be treated. Moreover, since the water to be treated, which is the second cleaning flow rate, is discharged from the measuring pipe before flowing into the fine particle measuring device, it does not affect the measurement of the number of fine particles by the fine particle measuring device.
  • the raw water is installed on the downstream side of the primary pure water tank for storing the primary pure water obtained by treating the raw water by the pretreatment system and the primary pure water system, and the treatment with the primary pure water is performed to ultrapure water.
  • An ultrapure water production device equipped with a secondary pure water system for obtaining water, a measuring pipe through which the ultrapure water taken out from the downstream side of the primary pure water tank flows, and the ultrapure water provided in the measuring pipe.
  • the flow rate of the ultrapure water is larger than the flow rate for measuring the number of fine particles on the fine particle measuring device for measuring the number of fine particles in pure water and on the downstream side in the flow direction of the ultrapure water from the fine particle measuring device. It has a first flow rate switching member for switching to a first cleaning flow rate.
  • ultrapure water taken out from the downstream side of the primary pure water tank flows through the measurement pipe.
  • the number of fine particles in ultrapure water can be measured by a fine particle measuring device provided in the measuring pipe.
  • the flow rate of the ultrapure water can be switched to the flow rate for the first cleaning by the first flow rate switching member.
  • the flow rate of the ultrapure water is set to the flow rate for the first cleaning
  • the ultrapure water of the flow rate for the first cleaning flows at least through the internal piping of the fine particle measuring device and the measurement piping on the upstream side thereof.
  • the first cleaning flow rate is larger than the flow rate for measuring the number of fine particles in the fine particle measuring device.
  • the fine particles adhering to the inside of the pipe can be washed away with the ultrapure water to clean the inside of these pipes.
  • the number of fine particles in the ultrapure water can be measured by flowing ultrapure water at a measurement flow rate from the upstream side to the fine particle measuring device. At this time, the ultrapure water flows at the first cleaning flow rate. Since the inside of the pipe is in a clean state, the accuracy in measuring the number of fine particles in ultrapure water can be improved.
  • raw water is treated by a pretreatment system and a primary pure water system to obtain primary pure water, and this primary pure water is stored in a primary pure water tank.
  • the primary pure water is treated by the secondary pure water system to obtain ultrapure water.
  • ultrapure water taken out from the downstream side of the primary pure water tank flows through the measurement pipe.
  • the number of fine particles in ultrapure water can be measured by a fine particle measuring device provided in the measuring pipe.
  • the flow rate of the ultrapure water can be switched to the second cleaning flow rate by the second flow rate switching member.
  • the second cleaning flow rate is a flow rate larger than the flow rate for measuring the number of fine particles in the fine particle measuring device.
  • the fine particles adhering to the inside can be washed away with the ultrapure water to clean the inside of the measurement pipe in this portion. Then, the number of fine particles in the ultrapure water can be measured by flowing ultrapure water of the measurement flow rate from the upstream side to the fine particle measuring device.
  • the ultrapure water of the second cleaning flow rate is applied to the measuring pipe. Since the inside of the portion where water has flowed is in a clean state, it is possible to improve the accuracy in measuring the number of fine particles in ultrapure water. Moreover, since the ultrapure water, which is the second cleaning flow rate, is discharged from the measuring pipe before flowing into the fine particle measuring device, it does not affect the measurement of the number of fine particles by the fine particle measuring device.
  • FIG. 2 is a configuration diagram showing a fine particle measurement system of the first embodiment.
  • FIG. 3 is a graph showing the particle concentration in the range of 0.05 to 0.07 ⁇ m in particle diameter measured by the fine particle measurement system.
  • FIG. 4 is a graph showing the particle concentration in the range of 0.02 to 0.05 ⁇ m in the particle size measured by the fine particle measurement system.
  • the ultrapure water production system 1 is an ultrapure water production apparatus 2 for producing ultrapure water, and a fine particle measurement for measuring the number of fine particles in the ultrapure water produced by the ultrapure water production apparatus 2. Including system 3.
  • the ultrapure water production device 2 has a pretreatment device 4, a primary pure water device 5, a pure water tank 6, a secondary pure water device 7, and a use point 8. Further, the secondary pure water device 7 includes a heat exchanger 9, an ultraviolet irradiation device 10, a membrane degassing device 11, a non-regenerative ion exchange resin (polisher) 12, and an ultrafiltration membrane (UF: Ultrafiltration Membrane) 13. are doing.
  • Raw water is supplied to the pretreatment device 4.
  • the pretreatment device 4 turbates the supplied raw water using a coagulation sedimentation device, a sand filtration device, a membrane filtration device, or the like, and removes some of the suspended substances and organic substances from the pretreated water. obtain.
  • Examples of raw water include industrial water, tap water, groundwater, river water and the like.
  • the pretreated water obtained by treating with the pretreatment device 4 is further subjected to a cleaning treatment to remove impurities from the pretreated water to obtain primary pure water.
  • a desalting device that removes impurity ions
  • a reverse osmosis membrane device that removes inorganic ions, organic substances, fine particles, etc.
  • a vacuum degassing device or a membrane degassing device that removes dissolved gas such as dissolved oxygen. It has various devices such as a regenerative mixed bed desalination device that removes residual ions and the like.
  • the primary pure water obtained by the primary pure water device 5 is sent to the pure water tank 6.
  • the pure water tank 6 is a container for temporarily storing the primary pure water obtained by the primary pure water device 5.
  • the material and shape of the pure water tank 6 are not particularly limited as long as it does not elute components from the container or generate rust and can stably store the primary pure water.
  • materials such as fiber reinforced plastics (FRP: Fiber Reinforced Plastics), polyethylene, SUS304, and Teflon (registered trademark) linings thereof are preferably used.
  • the upper part of the pure water tank 6 is preferably purged with pure nitrogen in order to prevent absorption of impurity gases such as carbon dioxide gas and dissolved oxygen.
  • the pure water tank 6 can be mixed with the above-mentioned primary pure water and stored when unused ultrapure water is circulated among the produced ultrapure water.
  • the temperature is adjusted by heat exchange of the primary pure water by heat exchange (heating or cooling) with the primary pure water.
  • heat exchanger 9 include a plate-type heat exchanger, but the specific structure is not particularly limited.
  • the temperature-controlled primary pure water in the heat exchanger 9 is sent to the ultraviolet irradiation device 10.
  • the ultraviolet irradiation device 10 irradiates the primary pure water with ultraviolet rays to decompose organic substances in the primary pure water, kill viable bacteria (sterilize), and the like.
  • the ultraviolet irradiation device 10 is provided with an ultraviolet lamp capable of irradiating a wavelength of about 185 nm or a wavelength of about 254 nm, for example, it is possible to reliably decompose and sterilize organic substances in the primary pure water. is there.
  • the ultraviolet lamp to be used is not particularly limited, but a low-pressure mercury lamp is preferable in terms of ease of handling.
  • examples of the ultraviolet irradiation device include a distribution type and an immersion type, and the distribution type is preferable from the viewpoint of processing efficiency.
  • the membrane degassing device 11 is a device that removes gas, particularly dissolved oxygen, in primary pure water by using a gas separation membrane that does not allow water to permeate but allows gas to permeate.
  • the primary pure water treated by the membrane degassing device 11 is in a state where the concentration of dissolved oxygen is low.
  • the primary pure water whose dissolved oxygen concentration has been reduced by the membrane degassing device 11 is sent to the non-regenerative ion exchange resin 12.
  • the non-regenerative ion exchange resin 12 is a device for removing impurity ions such as organic acids generated in the ultraviolet irradiation device 10.
  • it has a structure in which a cylindrical closed container is filled with a non-regenerative ion exchange resin.
  • the primary pure water from which impurity ions have been removed by the non-regenerative ion exchange resin 12 is sent to the ultrafiltration membrane (UF) 13.
  • UF ultrafiltration membrane
  • the ultrafiltration membrane (UF) 13 is an apparatus for producing ultrapure water by removing fine particles, and is arranged at the end of the secondary pure water apparatus 7.
  • the secondary pure water device 7 for example, other treatment devices are provided as necessary, such as taking measures against contamination of microorganisms by sterilizing means or the like, so that ultrapure water having a desired purity can be obtained. You can also do it.
  • the ultrapure water obtained by the secondary pure water device 7 is sent to the place of use (use point) 8 by the delivery pipe 14.
  • the unused ultrapure water is circulated as it is to the pure water tank 6 and stored in the pure water tank 6 together with the primary pure water.
  • the fine particle measuring system 3 includes a measuring pipe 15, a sampling valve 16, a fine particle measuring device 17, an upstream branch pipe 20, an upstream opening / closing valve 21, a downstream branch pipe 24, and a downstream opening / closing valve 25. have.
  • the measurement pipe 15 is branched from the delivery pipe 14 of the ultrapure water production apparatus 2 at the measurement branch portion 19. A part of the ultrapure water flowing through the delivery pipe 14 flows through the measurement pipe 15 in the direction of arrow F1.
  • the measurement pipe 15 is provided with a sampling valve 16, a fine particle measuring device 17, and a flow meter 18 in this order from the upstream side in the flow direction of ultrapure water (direction of arrow F1). By opening the sampling valve 16, ultrapure water can flow through the measuring pipe 15 and sent to the fine particle measuring device 17.
  • the fine particle measuring device 17 is a device that measures the number of fine particles per unit volume in ultrapure water flowing through an internal pipe.
  • a fine particle measuring device 17 for example, an online particle monitor Ultra DI20 (hereinafter referred to as “UDI20”) manufactured by Particle Measuring Systems Co., Ltd. can be mentioned.
  • the UDI 20 can detect fine particles having a particle diameter of 20 nm.
  • the measurement result of UDI20 is output as the number of fine particles per unit volume of ultrapure water.
  • the flow meter 18 is a member that measures the flow rate of ultrapure water flowing through the measuring pipe 15 on the downstream side of the fine particle measuring device 17.
  • the opening degree of the sampling valve 16 is manually adjusted based on the value of this flow meter, and the flow rate of ultrapure water flowing through the measuring pipe 15 is a value suitable for measuring fine particles in the fine particle measuring device 17 (for measurement). Used to make the flow rate). Further, by controlling the sampling valve 16 based on the measurement data of the flow meter 18, the flow rate of ultrapure water flowing through the measurement pipe 15 can be maintained at a constant value.
  • the measurement flow rate is set to 75 mL / min, which is a flow rate suitable for measuring fine particles.
  • the upstream branch pipe 20 is branched at the upstream branch 23.
  • the upstream branch pipe 20 is provided with an upstream opening / closing valve 21 and a flow meter 22 in order from the branch portion.
  • the portion of the measuring pipe 15 from the measuring branch 19 to the upstream branch 23 (hereinafter referred to as the second portion 28) and the upstream branch 20 are ultrapure. Water can flow.
  • the flow meter 22 is a member that measures the flow rate of ultrapure water flowing through the upstream branch pipe 20.
  • the flow rate of ultrapure water flowing from the second portion 28 to the upstream branch pipe 20 can be maintained at a constant value. ..
  • This flow rate is set to a second cleaning flow rate, which is a flow rate higher than the flow rate suitable for measuring fine particles in the fine particle measuring device 17.
  • the second cleaning flow rate is a flow rate at which the Reynolds number (Re) in the measuring pipe 15 is 20000 ⁇ Re ⁇ 1700, and is, for example, 1 L / min.
  • the upstream branch portion 23 is the position of the downstream end of the second portion 28 in the measurement pipe 15, and the upstream side from this position is due to the ultrapure water flowing in the measurement pipe 15 at the second cleaning flow rate. It is the range to be washed. Therefore, it is preferable that the upstream branch portion 23 is located closer to the fine particle measuring device 17, particularly the closest position, on the upstream side of the fine particle measuring device 17. In this way, since the upstream branch portion 23 is set at a position close to the fine particle measuring device 17, the upstream portion of the measuring pipe 15, that is, the portion of the measuring pipe 15 on the upstream side of the fine particle measuring device 17 is , It is almost the same part as the second part 28.
  • downstream branch pipe 24 is branched at the downstream branch 27.
  • the downstream branch pipe 24 is provided with a downstream on-off valve 25 and a flow meter 26 in this order from the downstream branch portion 27.
  • the downstream opening / closing valve 25 By opening the downstream opening / closing valve 25, the portion from the measuring branch 19 in the measuring pipe 15 to the downstream branch 27 via the internal piping of the fine particle measuring device 17 (hereinafter referred to as the first portion 29) and the downstream Ultrapure water can flow through the side branch pipe 24.
  • the flow meter 26 is a member that measures the flow rate of ultrapure water flowing through the downstream branch pipe 24.
  • This flow rate is set to the first cleaning flow rate, which is a flow rate larger than the flow rate suitable for measuring fine particles (measurement flow rate) in the fine particle measuring device 17.
  • the flow rate for the first cleaning is a flow rate at which the Reynolds number (Re) in the internal piping of the fine particle measuring device 17 is 10000 ⁇ Re ⁇ 1700, for example, 500 mL / min.
  • the sampling valve 16 When measuring fine particles in ultrapure water with the fine particle measuring device 17, the sampling valve 16 is opened and the upstream opening / closing valve 21 and the downstream opening / closing valve 25 are closed. Ultrapure water is passed through the fine particle measuring device 17 at a predetermined predetermined flow rate (measurement flow rate), and the fine particle measuring device 17 can appropriately measure the number of fine particles.
  • the number of fine particles (or the concentration of fine particles) contained in the ultrapure water produced by the ultrapure water production apparatus 2 is reduced to such an extent that there is no problem in use at the place of use (use point) 8.
  • the adhered fine particles are separated from these pipes and mixed with ultrapure water. It may affect the measurement of the number of fine particles.
  • the viable bacteria increased by the propagation affect the measurement of the number of fine particles. That is, the measurement accuracy of the fine particle measuring device 17 may be lowered.
  • the upstream portion of the measuring pipe 15 and the inside of the internal pipe of the fine particle measuring device 17 are cleaned, and the measurement by the fine particle measuring device 17 caused by the adhered fine particles is performed.
  • the accuracy of the accuracy can be improved.
  • the upstream opening / closing valve 21 is closed with the sampling valve 16 opened, and the downstream opening / closing valve 25 is opened at a predetermined cleaning interval and time (referred to as the first cleaning state). ).
  • the first cleaning state a predetermined cleaning interval and time
  • ultrapure water flows from the first portion 29 of the measuring pipe 15 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) to the downstream branch pipe 24 at the first cleaning flow rate.
  • the flow rate for the first cleaning is a flow rate higher than the flow rate for measurement. Therefore, the portion from the first portion 29 of the measurement pipe 15 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) to the downstream branch pipe 24 can be cleaned by the flow of ultrapure water.
  • the first cleaning flow rate is a flow rate at which the Reynolds number (Re) in the internal piping of the fine particle measuring device 17 is 10000 ⁇ Re ⁇ 1700.
  • turbulent flow or flow in the boundary region between turbulent flow and laminar flow, hereinafter referred to as "boundary flow" is generated in the internal piping of the fine particle measuring device 17.
  • the flow rate for the first cleaning is larger than the flow rate for measurement, which is the flow rate when the number of fine particles is measured by the fine particle measuring device 17.
  • the number of fine particles measured with the ultrapure water flowing through the fine particle measuring device 17 at the first cleaning flow rate may not be adopted as the actual number of fine particles in the ultrapure water.
  • the ultrapure water of the first cleaning flow rate flows through the fine particle measuring device 17, the number of fine particles may not be measured.
  • the downstream opening / closing valve 25 is opened. Close the valve. As a result, the ultrapure water is passed through the fine particle measuring device 17 at the measurement flow rate, so that the fine particles in the ultrapure water can be appropriately measured.
  • the time for flowing ultrapure water through the internal piping of the fine particle measuring device 17 at the flow rate for the first cleaning is not particularly limited, but can be set to, for example, 5 minutes / time or more and 120 minutes / time or less. If this time is 5 minutes / time or more, fine particles can be reliably removed in the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15. If this time is 15 minutes / time or more, it is more preferable that the fine particles can be more reliably removed in the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15.
  • this time is 120 minutes / time or less, the time for flowing the ultrapure water at the first cleaning flow rate does not become excessively long, so that the time for measuring the number of fine particles in the ultrapure water with the fine particle measuring device 17 is set. It can be secured sufficiently. If this time is 30 minutes / time or less, it is more preferable that the time for measuring the number of fine particles in ultrapure water with the fine particle measuring device 17 can be further sufficiently secured.
  • the interval of cleaning in which ultrapure water is flowed through the internal piping of the fine particle measuring device 17 at the flow rate for the first cleaning is not particularly limited, but can be set to, for example, half a day or more and 30 days or less.
  • the cleaning interval is 30 days or less, the fine particles can be removed before the amount of fine particles adhering to the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 becomes large.
  • the cleaning interval is 3 days or less, the fine particles can be removed at a stage where the amount of fine particles adhered to the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 is even smaller. More preferred.
  • the cleaning interval is half a day or more, the frequency of flowing ultrapure water at the first cleaning flow rate does not become excessively high, so that the fine particle measuring device 17 has a sufficient opportunity to measure the number of fine particles in the ultrapure water. Can be secured. If the cleaning interval is one day or more, the opportunity to measure the number of fine particles in ultrapure water with the fine particle measuring device 17 can be further sufficiently secured, which is more preferable.
  • the flow rate for measurement and the flow rate for first cleaning are switched by using the downstream branch pipe 24 provided on the downstream side of the fine particle measuring device 17. Substantially, the flow rate for measurement and the flow rate for first cleaning can be switched by a simple operation by opening and closing the downstream opening / closing valve 25.
  • the configuration for switching between the measurement flow rate and the first cleaning flow rate on the downstream side of the fine particle measuring device 17 is not limited to this.
  • a valve capable of switching between the measurement flow rate and the first cleaning flow rate may be used instead of the flow meter 18.
  • the first cleaning method When the first cleaning method is performed, it is possible to shift from the state where the fine particle measuring device 17 is measuring the fine particles in the ultrapure water to the execution of the first cleaning method. In this case, the first cleaning method is performed while the fine particle measurement system 3 is operating stably. On the other hand, at the start-up of the fine particle measurement system 3, the first cleaning method is executed prior to turning on the power of the fine particle measuring device 17, and then the power of the fine particle measuring device 17 is turned on to turn on the fine particles in the ultrapure water. May be measured.
  • ⁇ Second cleaning method> the sampling valve 16 is opened, the upstream opening / closing valve 21 is maintained in the opened state, and the downstream opening / closing valve 25 is opened at a predetermined cleaning interval and time (second). It is called a cleaning state).
  • a cleaning state In the state where the upstream opening / closing valve 21 is opened, ultrapure water flows through the second portion 28 of the measuring pipe 15 and the upstream branch pipe 20 at the second cleaning flow rate.
  • the second cleaning flow rate is higher than the measurement flow rate. Therefore, the portion from the second portion 28 of the measurement pipe 15 to the upstream branch pipe 20 can be cleaned by the flow of ultrapure water.
  • the second cleaning flow rate is a flow rate at which the Reynolds number (Re) in the measuring pipe 15 is 20000 ⁇ Re ⁇ 1700. As a result, turbulence (or boundary current) is generated in the measurement pipe 15. It is possible to effectively remove the fine particles adhering to the second portion 28 of the measuring pipe 15 by the turbulent flow or the boundary flow of the ultrapure water.
  • the downstream opening / closing valve 25 is maintained in a state of being opened at a predetermined cleaning interval and time.
  • the first portion 29 of the measuring pipe 15 including the internal pipe of the fine particle measuring device 17
  • the downstream branch pipe 24 can be cleaned by the flow of ultrapure water.
  • the upstream opening / closing valve 21 may be always open, but may be temporarily closed under a predetermined condition or at a predetermined timing.
  • the portion from the upstream branch 23 to the downstream branch 27 in the measurement pipe 15 A predetermined amount of ultrapure water can be reliably flowed through (including the internal piping of the fine particle measuring device 17), which is preferable.
  • the ultrapure water is substantially passed through the internal piping of the fine particle measuring device 17 at the first cleaning flow rate.
  • This time in the second washing method is also not particularly limited, and can be set to, for example, 5 minutes / time or more and 120 minutes / time or less. If this time is 5 minutes / time or more, fine particles can be reliably removed in the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15. If this time is 15 minutes / time or more, it is more preferable that the fine particles can be more reliably removed in the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15.
  • this time is 120 minutes / time or less, the time for flowing the ultrapure water at the first cleaning flow rate does not become excessively long, so that the time for measuring the number of fine particles in the ultrapure water with the fine particle measuring device 17 is set. It can be secured sufficiently. If this time is 30 minutes / time or less, it is more preferable that the time for measuring the number of fine particles in ultrapure water with the fine particle measuring device 17 can be further sufficiently secured.
  • the cleaning interval is not particularly limited, and if it is, for example, 30 days or less, the stage before the amount of fine particles adhered to the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 becomes large. Therefore, fine particles can be removed. If the cleaning interval is 3 days or less, the fine particles can be removed at a stage where the amount of fine particles adhered to the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 is even smaller. More preferred. Further, if the cleaning interval is half a day or more, the frequency of flowing ultrapure water at the first cleaning flow rate does not become excessively high, so that the fine particle measuring device 17 has a sufficient opportunity to measure the number of fine particles in the ultrapure water. Can be secured. If the cleaning interval is one day or more, the opportunity to measure the number of fine particles in ultrapure water with the fine particle measuring device 17 can be further sufficiently secured, which is more preferable.
  • ultrapure water is measured at the flow rate for the first cleaning from the first portion 29 (including the internal piping of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 to the downstream branch pipe 24. After cleaning the internal piping of the fine particle measuring device 17, the downstream opening / closing valve 25 is closed. As a result, the ultrapure water is passed through the fine particle measuring device 17 at the measurement flow rate, so that the fine particles in the ultrapure water can be appropriately measured.
  • the flow rate for measurement and the flow rate for second cleaning are switched by using the upstream branch pipe 20 provided on the upstream side of the fine particle measuring device 17. Substantially, the flow rate for measurement and the flow rate for second cleaning can be switched by a simple operation by opening and closing the upstream opening / closing valve 21.
  • the second cleaning flow rate is larger than the measurement flow rate, which is the flow rate when the number of fine particles is measured by the fine particle measuring device 17.
  • the measurement flow rate which is the flow rate when the number of fine particles is measured by the fine particle measuring device 17.
  • most of the ultrapure water that has flowed through the second portion 28 of the measuring pipe 15 at the second cleaning flow rate is divided into the upstream branch pipe 20 and flows, so that the fine particle measuring device 17 has an ultrapure water at the measuring flow rate. Pure water is passed through. It does not affect the measurement of the number of fine particles in the fine particle measuring device 17. Then, it is possible to measure the number of fine particles in the ultrapure water by the fine particle measuring device 17 while flowing the ultrapure water through the second portion 28 of the measuring pipe 15 at the second cleaning flow rate.
  • ultrapure water is flowed through the second part 28 of the measuring pipe 15 at the second cleaning flow rate, and the second part of the measuring pipe 15 is flown. Part 28 can be washed.
  • ⁇ Third cleaning method> the sampling valve 16 is opened, the upstream opening / closing valve 21 is always opened, and the downstream opening / closing valve 25 is closed (referred to as the third cleaning state).
  • the sampling valve 16 is opened, the upstream opening / closing valve 21 is always opened, and the downstream opening / closing valve 25 is closed (referred to as the third cleaning state).
  • the flow rate for the second cleaning is larger than the flow rate for measurement. Therefore, the portion from the second portion 28 of the measurement pipe 15 to the upstream branch pipe 20 can be cleaned by the flow of ultrapure water. Since the flow rate of the first cleaning flow rate is such that the Reynolds number (Re) in the measurement pipe 15 is 20000 ⁇ Re ⁇ 1700, a turbulent flow (or boundary flow) is generated in the measurement pipe 15 to cause the measurement pipe It is possible to effectively remove the fine particles adhering to 15.
  • an upstream branch pipe 20 is provided on the upstream side of the fine particle measuring device 17, and the flow rate for measurement is used by using the upstream branch pipe 20. And the flow rate for the second cleaning are switched. Substantially, the flow rate for measurement and the flow rate for second cleaning can be switched by a simple operation by opening and closing the upstream opening / closing valve 21.
  • the upstream opening / closing valve 21 is basically maintained in the closed state with the sampling valve 16 opened, but the upstream opening / closing valve is provided at a predetermined or occasional cleaning interval and time. 21 is opened. In the open state of the upstream opening / closing valve 21, the second portion 28 of the measuring pipe 15 to the upstream branch pipe 20 can be cleaned with ultrapure water flowing at the second cleaning flow rate.
  • the downstream opening / closing valve 25 can be opened at a predetermined cleaning interval and time.
  • the first portion 29 (including the internal piping of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 to the downstream branch pipe 24 can be cleaned with ultrapure water.
  • the timing of opening the upstream on-off valve 21 may be the same as the timing of opening the downstream on-off valve 25. That is, the upstream opening / closing valve 21 and the downstream opening / closing valve 25 simultaneously open and close the valve. Further, at the timing of opening the downstream opening / closing valve 25, the upstream opening / closing valve 21 is closed so that a predetermined amount is applied to the portion of the measuring pipe 15 from the upstream branch 23 to the downstream branch 27. The ultrapure water may be allowed to flow reliably. Further, the timing of opening the upstream opening / closing valve 21 and the timing of opening the downstream opening / closing valve 25 may partially overlap in time series. For example, the upstream on-off valve 21 may be opened ⁇ the downstream on-off valve 25 may be opened ⁇ the upstream on-off valve 21 may be closed ⁇ the downstream on-off valve 25 may be closed.
  • the second portion 28 of the measuring pipe 15 can be cleaned, and when the downstream opening / closing valve 25 is opened, the first portion 29 of the measuring pipe 15 (fine particle measuring device 17) can be cleaned. (Including internal piping) can be cleaned. As a result, when the number of fine particles in ultrapure water is measured by the fine particle measuring device 17, the accuracy of the measurement can be improved.
  • the first portion 29 of the measuring pipe 15 (internal piping of the fine particle measuring device 17).
  • the fine particles adhering to (including) have a large effect on the measurement accuracy.
  • the accuracy of measurement by the fine particle measuring device 17 can be improved by performing the above-mentioned cleaning method.
  • FIGS. 3 and 4 show the relationship between the measurement timing of the fine particle measuring device 17 and the measured particle concentration (pcs./L) when the above-mentioned second cleaning method is performed.
  • the measurement timing is the time when the number of fine particles is measured by passing water through the fine particle measuring device 17 with reference to the start of measurement, and the horizontal axis indicates the water passing time from the start of measurement. Actually, the measurement was performed 20 times a day at a fixed timing (cycle).
  • FIG. 3 shows the measurement results for fine particles having a particle size of 0.05 to 0.07 ⁇ m.
  • FIG. 4 shows the measurement results for fine particles having a particle size of 0.02 to 0.05 ⁇ m.
  • ⁇ t1 The rise time when the upstream opening / closing valve 21 is opened and the downstream opening / closing valve 25 is closed. Since the cleaning is in progress, the measurement result cannot be used as the number of fine particles in ultrapure water.
  • ⁇ t2 Time for measuring the number of fine particles in a state where only the second portion 28 of the measuring pipe 15 is clean.
  • ⁇ t3 Time when the upstream on-off valve 21 was closed and the downstream on-off valve 25 was opened. Since the cleaning is in progress, the measurement result cannot be used as the number of fine particles in ultrapure water.
  • ⁇ t4 Time for measuring the number of fine particles in a state where the downstream open / close valve 25 is closed and the first portion 29 (including the internal pipe of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 is clean.
  • the average value (average particle concentration) of the number of fine particles at time ⁇ t2 and ⁇ t4 is shown by a alternate long and short dash line. Specific values are 417 pcs. At time ⁇ t2. 240 pcs at / L, time ⁇ t4. / L.
  • the measured particle concentration is high in ⁇ t2, while the measured particle concentration is low in ⁇ t4.
  • the first portion 29 (including the internal piping of the fine particle measuring device 17) of the measuring pipe 15 is cleaned, the influence of the fine particles adhering to the inside of these pipes is reduced. Because it is. That is, it can be seen that the accuracy of measuring the number of fine particles in ultrapure water by the fine particle measuring device 17 is improved by performing the cleaning method of the present invention.
  • the particle concentration at ⁇ t2 is higher than the particle concentration at ⁇ t4, but even if it is ⁇ t2, in ⁇ t1 before that, the second portion 28 of the measuring pipe 15 is It has been washed. Therefore, the influence of the fine particles adhering to the second portion 28 of the measurement pipe 15 before cleaning is smaller than that in the case where the measurement pipe 15 is not cleaned at all.
  • the measurement pipe 15 is branched from the delivery pipe 14 and the fine particle measurement system 3 is arranged, but the position of the fine particle measurement system 3 is not limited to this, and for example, it is pure from use point 8.
  • the measurement pipe 15 is branched from the pipe for returning ultrapure water to the water tank 6 and the pipe between various members in the secondary pure water device 7 (for example, the pipe between the heat exchanger 9 and the ultraviolet irradiation device 10).
  • the fine particle measurement system 3 may be provided.
  • the target including the fine particle measurement system 3 is not limited to the ultrapure water production system 1.
  • the measurement target in the fine particle measurement system 3 is not limited to ultrapure water, and various types of water to be treated such as pharmaceutical water and water for injection (WFI) are measurement targets for the number of fine particles in the fine particle measurement system 3.

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Abstract

超純水(被処理水の一例)が流れる測定用配管15に微粒子測定装置17が設けられた微粒子測定システム3に対し、微粒子測定装置17よりも超純水の流れ方向の下流側で、超純水の流量を、微粒子数の測定用流量よりも多い第一洗浄用流量として微粒子測定システム3を洗浄する。

Description

微粒子測定システムの洗浄方法及び超純水製造システム
 本開示は、超純水・製薬用水・注射用水(WFI:water for injection)などの製造装置用の微粒子測定システムの洗浄方法及び、超純水を製造する超純水製造システムに関する。
 超純水製造システムにおいて製造された超純水中の微粒子数を測定する測定方法及び装置がある。たとえば国際公開2015/064628号公報には、2以上の微粒子測定手段に超純水を流通させて単位時間又は単位体積当りの微粒子数を測定し、それぞれの測定値の最も低い値を超純水中の微粒子数として採用する技術が記載されている。こうした技術により、超純水中の微粒子数は、定められたしきい値を超えないよう厳しく管理されている。
 同様に、製薬用水・注射用水(WFI)等の被処理水においても、製品である被処理水中の微粒子数は厳しく管理されている。
 超純水製造装置で製造された超純水中の微粒子を測定するために、超純水製造装置から超純水を測定用の配管にて取り出し、微粒子測定装置に送る構造が採られることがある。
 超純水中の微粒子を測定する場合、測定用配管や微粒子測定装置の内部壁面に付着している微粒子が、測定値に影響を与えるという新たな課題が見出された。特に、この影響は、粒子径が50nm以下の微粒子を測定する微粒子測定装置において大きいことが判明した。
 たとえば、上記国際公開2015/064628号公報に記載の技術では、2以上の微粒子測定手段による測定値の最も低い値を超純水中の微粒子数として採用しているが、2以上の微粒子測定手段による測定値の違いをノイズとしており、その原因は明確ではない。また、測定用配管や微粒子測定装置の内部に付着している微粒子の影響を抑制するものではない。
 なお、一般的に超純水を、測定用配管を経て取出し、微粒子測定装置で微粒子数を測定する場合、測定を開始して暫くの間、測定値が実際より高い値に振れてしまうことがある。これは、微粒子測定装置が定常状態になっていないためであり、測定値が安定して正しい値を示すようになるまで待つことが行われている。しかし、このように測定値が安定するまで、実際の測定を待つことを行っても、測定にあたって、測定用配管や微粒子測定装置の内部に付着している微粒子の影響を抑制することはできない。
 以上のことは、製薬用水・注射用水(WFI)などの被処理水の製造において、被処理水中の微粒子を測定する場合についても同様である。
 本開示では、被処理水中の微粒子数の測定における正確性を高めることが目的である。
 第一態様では、被処理水が流れる測定用配管と、前記測定用配管に設けられて前記被処理水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、を有する微粒子測定システムに対し、前記微粒子測定装置よりも前記被処理水の流れ方向の下流側で、前記被処理水の流量を、前記微粒子数の測定用流量よりも多い第一洗浄用流量として前記微粒子測定システムを洗浄する。
 この微粒子測定システムの洗浄方法では、微粒子測定装置よりも被処理水の流れ方向の下流側で、被処理水の流量を第一洗浄用流量とする。このため、第一洗浄用流量の被処理水が、微粒子測定装置の内部配管及びその上流側の測定用配管を流れることになる。第一洗浄用流量は、微粒子測定装置における微粒子数の測定用流量よりも多い流量である。第一洗浄用流量の被処理水が流れた部分の配管では、配管の内部に付着していた微粒子を被処理水で押し流し、これらの配管の内部を洗浄できる。そして、上流側から微粒子測定装置に測定用流量の被処理水を流せば、被処理水中の微粒子数を測定できるわけであるが、このとき、第一洗浄用流量で被処理水が流れた部分の配管の内部が清浄な状態になっているので、被処理水中の微粒子数の測定における正確性を高めることができる。
 第二態様では、第一態様において、前記下流側で、前記測定用配管から分岐する下流側分岐管を用いて、前記測定用流量と前記第一洗浄用流量との切り替えを行う。
 下流側分岐管に被処理水を流すことで、微粒子測定装置の下流側の測定用配管において、被処理水の流量を第一洗浄用流量と測定用流量のいずれかに切り替える操作を簡易に行える。微粒子測定装置は下流側分岐管よりも上流側に位置しているので、微粒子測定装置の内部配管及びその上流側の測定用配管に、確実に第一洗浄用流量で被処理水を流すことができる。被処理水の流量を測定用流量とする場合は、下流側分岐管に被処理水が流れないようにすればよい。
 第三態様では、第一又は第二態様において、前記第一洗浄用流量は、前記微粒子測定装置の内部配管でのレイノルズ数(Re)が10000≧Re≧1700となる流量である。
 微粒子測定装置の内部配管においてレイノルズ数(Re)をこのような範囲となるよう下流側で被処理水を流せば、第一洗浄用流量で被処理水が流れた配管、特に微粒子測定装置の内部配管に被処理水の乱流、あるいは乱流と層流の境界領域の流れを生じさせ、微粒子を被処理水で効果的に除去することが可能である。
 第四態様では、第一~第三のいずれか1つの態様において、前記第一洗浄用流量で前記被処理水を流す時間が、5分/回以上で120分/回以下である。
 第一洗浄用流量で被処理水を流す時間が、5分/回以上であれば、微粒子測定装置の内部配管及びその上流側の測定用配管において、微粒子を確実に除去できる。また、この時間が120分/回以下であれば、第一洗浄用流量で被処理水を流す時間が過度に長くなることを抑制し、微粒子測定装置で被処理水中の微粒子数を測定する時間を十分に確保できる。
 第五態様では、第一~第四のいずれか1つの態様において、前記第一洗浄用流量で前記被処理水を流す洗浄の間隔が、半日以上で30日以下である。
 第一洗浄用流量で被処理水を流す洗浄の間隔が30日以下であれば、微粒子測定装置の内部配管及びその上流側の測定用配管への微粒子の付着量が多くなる前段階で、微粒子を除去できる。また、この洗浄の間隔が半日以上であれば、第一洗浄用流量で被処理水を流す頻度が過度に高くなることを抑制し、微粒子測定装置で被処理水中の微粒子数を測定する機会を十分に確保できる。
 なお、ここでいう「洗浄の間隔」とは、洗浄を開始した時点から次の洗浄を開始する時点までの時間の間隔のことをいう。
 第六態様では、第一~第五のいずれか1つの態様において、前記測定用流量より多い第二洗浄用流量で前記被処理水を前記微粒子測定装置よりも上流側の前記測定用配管に流し、前記微粒子測定装置への流入前に前記測定用配管から前記被処理水を排出する。
 微粒子測定装置よりも被処理水の流れ方向の上流側で、被処理水の流量を第二洗浄用流量とする。第二洗浄用流量は、微粒子測定装置における微粒子数の測定用流量よりも多い流量である。測定用配管において第二洗浄用流量の被処理水が流れた部分では、内部に付着していた微粒子を被処理水で押し流し、この部分の測定用配管の内部を洗浄できる。そして、上流側から微粒子測定装置に測定用流量の被処理水を流せば、被処理水中の微粒子数を測定できるわけであるが、このとき、測定用配管において第二洗浄用流量の被処理水が流れた部分の内部が清浄な状態になっているので、被処理水中の微粒子数の測定における正確性を高めることができる。しかも、第二洗浄用流量である被処理水は、微粒子測定装置への流入前に測定用配管から排出されるので、微粒子測定装置での微粒子数の測定に影響しない。
 なお、第二洗浄用流量の被処理水は、その一部のみを微粒子測定装置に供給すれば微粒子数の測定を行うことができ、残りは測定用配管から排出すればよい。微粒子測定装置に流す被処理水の流量に関係なく第二洗浄用流量を設定できるので、たとえば、第二洗浄用流量を第一洗浄用流量よりも多くすれば、測定用配管において第二洗浄用流量で被処理水が流れた部分を被処理水で洗浄する効果が高い。
 第七態様では、第六態様において、前記上流側で、前記測定用配管から分岐する上流側分岐管を用いて、前記測定用流量と前記第二洗浄用流量との切り替えを行う。
 上流側分岐管に被処理水を流すことで、微粒子測定装置の上流側の測定用配管において、被処理水の流量を第二洗浄用流量と測定用流量のいずれかに切り替える操作を簡易に行える。
 第八態様では、第六又は第七態様において、前記第二洗浄用流量は、前記上流側における前記測定用配管でのレイノルズ数(Re)が、20000≧Re≧1700となる流量である。
 微粒子測定装置の上流側の測定用配管においてレイノルズ数(Re)をこのような範囲となるよう被処理水を流せば、測定用配管において第二洗浄用流量で被処理水が流れた部分に被処理水の乱流、あるいは乱流と層流の境界領域の流れを生じさせ、微粒子を被処理水で効果的に除去することが可能である。
 第九態様では、第六~第八のいずれか1つの態様において、前記第二洗浄用流量で前記被処理水を流す動作を前記微粒子測定装置による前記微粒子数の測定中に行う。
 第二洗浄用流量で被処理水を測定用配管に流しつつ、微粒子測定装置において微粒子数の測定ができる。すなわち、微粒子数の測定を中断することなく、測定用配管において、第二洗浄用流量で被処理水が流れた部分の洗浄が可能である。
 第十態様では、被処理水が流れる測定用配管と、前記測定用配管に設けられて前記被処理水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、を有する微粒子測定システムに対し、前記微粒子数の測定のための流量より多い第二洗浄用流量で前記被処理水を前記微粒子測定装置よりも前記被処理水の流れ方向の上流側の前記測定用配管に流し、前記微粒子測定装置への流入前に前記測定用配管から前記被処理水を排出する。
 この微粒子測定システムの洗浄方法では、微粒子測定装置よりも被処理水の流れ方向の上流側で、被処理水の流量を第二洗浄用流量とする。第二洗浄用流量は、微粒子測定装置における微粒子数の測定用流量よりも多い流量である。測定用配管において第二洗浄用流量で被処理水が流れた部分では、内部に付着していた微粒子を被処理水で押し流し、この部分の測定用配管の内部を洗浄できる。そして、上流側から微粒子測定装置に測定用流量の被処理水を流すことで被処理水中の微粒子数を測定できるわけであるが、このとき、測定用配管において第二洗浄用流量で被処理水が流れた部分の内部が清浄な状態になっているので、被処理水中の微粒子数の測定における正確性を高めることができる。しかも、第二洗浄用流量である被処理水は、微粒子測定装置への流入前に測定用配管から排出されるので、微粒子測定装置での微粒子数の測定に影響しない。
 第十一態様では、原水を前処理システム及び一次純水システムによって処理して得られる一次純水を貯留する一次純水タンクの下流側に設置されて、前記一次純水に対する処理により超純水を得る二次純水システムを備える超純水製造装置と、前記一次純水タンクよりも下流側から取り出された前記超純水が流れる測定用配管と、前記測定用配管に設けられて前記超純水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、前記微粒子測定装置よりも前記超純水の流れ方向の下流側で、前記超純水の流量を、前記微粒子数の測定用流量よりも多い第一洗浄用流量に切り替える第一流量切替部材と、を有する。
 この超純水製造システムでは、原水を前処理システム及び一次純水システムによって処理して一次純水が得られ、この一次純水が一次純水タンクに貯留される。一次純水タンクの下流側では、二次純水システムにより、一次純水が処理され、超純水が得られる。
 また、この超純水製造システムでは、一次純水タンクよりも下流側から取り出された超純水が測定用配管を流れる。測定用配管に設けられた微粒子測定装置により、超純水中の微粒子数を測定できる。
 微粒子測定装置よりも超純水の流れ方向の下流側では、第一流量切替部材により、超純水の流量を第一洗浄用流量に切り替えることができる。超純水の流量を第一洗浄用流量とした状態では、第一洗浄用流量の超純水が、少なくとも、微粒子測定装置の内部配管及びその上流側の測定用配管を流れることになる。第一洗浄用流量は、微粒子測定装置における微粒子数の測定用流量よりも多い流量である。第一洗浄用流量の超純水が流れた部分の配管では、配管の内部に付着していた微粒子を超純水で押し流し、これらの配管の内部を洗浄できる。そして、上流側から微粒子測定装置に測定用流量の超純水を流せば、超純水中の微粒子数を測定できるわけであるが、このとき、第一洗浄用流量で超純水が流れた部分の配管の内部が清浄な状態になっているので、超純水中の微粒子数の測定における正確性を高めることができる。
 第十二態様では、原水を前処理システム及び一次純水システムによって処理して得られる一次純水を貯留する一次純水タンクの下流側に設置されて、前記一次純水に対する処理により超純水を得る二次純水システムを備える超純水製造装置と、前記一次純水タンクよりも下流側から取り出された前記超純水が流れる測定用配管と、前記測定用配管に設けられて前記超純水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、前記微粒子測定装置よりも前記超純水の流れ方向の上流側で、前記超純水の流量を、前記微粒子数の測定のための流量より多い第二洗浄用流量に切り替えると共に、前記微粒子測定装置への流入前に前記測定用配管から前記超純水を排出する第二流量切替部材と、を有する。
 この超純水製造システムでは、原水を前処理システム及び一次純水システムによって処理して一次純水が得られ、この一次純水が一次純水タンクに貯留される。一次純水タンクの下流側では、二次純水システムにより、一次純水が処理され、超純水が得られる。
 また、この超純水製造システムでは、一次純水タンクよりも下流側から取り出された超純水が測定用配管を流れる。測定用配管に設けられた微粒子測定装置により、超純水中の微粒子数を測定できる。
 微粒子測定装置よりも超純水の流れ方向の上流側では、第二流量切替部材により、超純水の流量を第二洗浄用流量に切り替えることができる。第二洗浄用流量は、微粒子測定装置における微粒子数の測定用流量よりも多い流量である。測定用配管において第二洗浄用流量の超純水が流れた部分では、内部に付着していた微粒子を超純水で押し流し、この部分の測定用配管の内部を洗浄できる。そして、上流側から微粒子測定装置に測定用流量の超純水を流せば、超純水中の微粒子数を測定できるわけであるが、このとき、測定用配管において第二洗浄用流量の超純水が流れた部分の内部が清浄な状態になっているので、超純水中の微粒子数の測定における正確性を高めることができる。しかも、第二洗浄用流量である超純水は、微粒子測定装置への流入前に測定用配管から排出されるので、微粒子測定装置での微粒子数の測定に影響しない。
 本開示では、被処理水中の微粒子数の測定における正確性を高めることができる。
図1は第一実施形態の微粒子測定システムを備えた超純水製造システムを示す構成図である。
図2は第一実施形態の微粒子測定システムを示す構成図である。
図3は、微粒子測定システムにおいて測定した粒子径が0.05~0.07μmの範囲の粒子濃度を示すグラフである。
図4は、微粒子測定システムにおいて測定した粒子径が0.02~0.05μmの範囲の粒子濃度を示すグラフである。
 以下、図面を参照して第一実施形態の微粒子測定システム3と、この微粒子測定システム3を備えた超純水製造システム1について説明する。
 この超純水製造システム1は、超純水を製造するための超純水製造装置2と、この超純水製造装置2で製造された超純水中の微粒子数を測定するための微粒子測定システム3とを含む。
 超純水製造装置2は、前処理装置4、一次純水装置5、純水タンク6、二次純水装置7、ユースポイント8を有している。さらに、二次純水装置7は、熱交換器9、紫外線照射装置10、膜脱気装置11、非再生型イオン交換樹脂(ポリッシャー)12、限外濾過膜(UF:Ultrafiltration Membrane)13を有している。
 前処理装置4には、原水が供給される。前処理装置4は、供給された原水に対し、凝集沈澱装置や、砂濾過装置、膜濾過装置などを用いて原水を除濁し、懸濁物質及び有機物の一部が除去された前処理水を得る。原水としては、工業用水、水道水、地下水、河川水等を挙げることができる。
 一次純水装置5では、前処理装置4で処理して得られた前処理水に対し、さらに清浄化処理を行って、前処理水から不純物を除去し、一次純水を得る。具体的には、不純物イオンの除去を行う脱塩装置、無機イオン、有機物、微粒子等の除去を行う逆浸透膜装置、溶存酸素等の溶存ガスの除去を行う真空脱気装置又は膜脱気装置、残存するイオン等を除去する再生型混床式脱塩装置、等の各種装置を有する。
 一次純水装置5で得られた一次純水は、純水タンク6へ送水される。純水タンク6は、一次純水装置5で得られた一次純水を一時的に貯留する容器である。純水タンク6としては、容器からの成分溶出や錆の発生等がなく、一次純水を安定して貯留できるものであれば、その材質や形状等は特に限定されない。例えば、繊維強化プラスチック(FRP:Fiber Reinforced Plastics)、ポリエチレン、SUS304、及びそれらをテフロン(登録商標)ライニングしたもの等の材質が好ましく使われる。また、純水タンク6の上部は、炭酸ガス、溶存酸素等の不純物ガスの吸収を防ぐため、純窒素でパージされていることが好ましい。純水タンク6は、後述するように、製造された超純水のうち未使用の超純水を循環する際、上記の一次純水と混合して貯留することもできる。
 二次純水装置7の熱交換器9では、一次純水に対する熱交換(加熱又は冷却)により、一次純水の熱交換による温度調整を行う。熱交換器9としては、例えば、プレート型の熱交換器を挙げることができるが、具体的構造は特に限定されない。
 熱交換器9で温度調整された一次純水は、紫外線照射装置10へ送水される。紫外線照射装置10では、一次純水に対して紫外線を照射することにより、一次純水中の有機物の分解や生菌の死滅処理(殺菌)等を行う。紫外線照射装置10としては、例えば、185nm付近の波長や254nm付近の波長を照射可能な紫外線ランプを備えたものであれば、一次純水中の有機物の分解や殺菌を確実に行うことが可能である。用いる紫外線ランプとしては特に限定されないが、低圧水銀ランプが、取り扱いの容易さの点で好ましい。また、紫外線照射装置としては流通型または浸漬型が挙げられるが、流通型が処理効率の点から好ましい。
 膜脱気装置11は、水分を透過させず気体は透過させる気体分離膜を用いて、一次純水中の気体、特に溶存酸素を除去する装置である。膜脱気装置11で処理された一次純水は、溶存酸素の濃度が低い状態となる。
 膜脱気装置11によって溶存酸素濃度を低下された一次純水は、非再生型イオン交換樹脂12へ送水される。
 非再生型イオン交換樹脂12は、紫外線照射装置10で生じた有機酸などの不純物イオンを除去する装置である。たとえば、円筒形の密閉容器に、非再生型イオン交換樹脂が充填された構造である。
 非再生型イオン交換樹脂12によって不純物イオンを除去された一次純水は、限外濾過膜(UF)13へ送水される。
 限外濾過膜(UF)13は、微粒子を除去して超純水を製造する装置であり、二次純水装置7の末端に配置されている。
 なお、上記二次純水装置7においては、例えば、殺菌手段等により微生物の混入対策を行う等、必要に応じて他の処理装置を設けて、所望の純度を有する超純水を得るようにすることもできる。
 二次純水装置7によって得られた超純水は、送出配管14によって、使用場所(ユースポイント)8へ送出される。送出された超純水のうち、使用されなかった超純水はそのまま純水タンク6へ循環され、一次純水と一緒に純水タンク6内に貯留される。
 微粒子測定システム3は、図2に示すように、測定用配管15、サンプリングバルブ16、微粒子測定装置17、上流側分岐管20、上流側開閉バルブ21、下流側分岐管24、下流側開閉バルブ25を有している。
 測定用配管15は、測定用分岐部19において、超純水製造装置2の送出配管14から分岐している。測定用配管15には、送出配管14を流れる超純水の一部が、矢印F1方向に流れる。
 測定用配管15には、超純水の流れ方向(矢印F1方向)の上流側から順に、サンプリングバルブ16、微粒子測定装置17、流量計18が設けられている。サンプリングバルブ16を開弁することで、測定用配管15に超純水を流して微粒子測定装置17に送ることができる。
 微粒子測定装置17は、内部配管を流れる超純水中の単位体積当りの微粒子の数を測定する装置である。このような微粒子測定装置17として、例えば、Particle Measuring Systems社製のオンラインパーティクルモニターUltra DI20(以下、「UDI20」と記す)を挙げることができる。UDI20は、粒子径20nmの微粒子を検出可能である。UDI20の測定結果は、超純水の単位体積あたりの微粒子数として出力される。
 流量計18は、微粒子測定装置17よりも下流側において、測定用配管15を流れる超純水の流量を計測する部材である。例えば、この流量計の値に基づいてサンプリングバルブ16の開度を手動で調整し、測定用配管15を流れる超純水の流量を、微粒子測定装置17における微粒子の測定に適した値(測定用流量)にするために使用する。また、流量計18の計測データに基づいてサンプリングバルブ16を制御することで、測定用配管15を流れる超純水の流量を一定値に維持することもできる。この測定用流量は、微粒子測定装置17として例えばUDI20を用いた場合、微粒子の測定に適した流量である75mL/分に設定される。
 サンプリングバルブ16と微粒子測定装置17の間の測定用配管15からは、上流側分岐部23において、上流側分岐管20が分岐している。上流側分岐管20には、分岐部分から順に、上流側開閉バルブ21及び流量計22が設けられている。
 上流側開閉バルブ21を開弁することで、測定用配管15における測定用分岐部19から上流側分岐部23までの部分(以下、第二部分28という)と上流側分岐管20とに超純水を流すことができる。
 流量計22は、上流側分岐管20を流れる超純水の流量を計測する部材である。流量計22の計測データに基づいてサンプリングバルブ16及び上流側開閉バルブ21を制御することで、第二部分28から上流側分岐管20を流れる超純水の流量を一定値に維持することができる。この流量は、微粒子測定装置17において微粒子の測定に適した流量よりも多い流量である第二洗浄用流量に設定される。本実施形態では、第二洗浄用流量は、測定用配管15におけるレイノルズ数(Re)が20000≧Re≧1700となる流量であり、たとえば1L/分である。
 なお、上流側分岐部23は、測定用配管15において、第二部分28の下流端の位置であり、この位置よりも上流側が、測定用配管15において第二洗浄用流量で流れる超純水によって洗浄される範囲である。したがって、上流側分岐部23は、微粒子測定装置17よりも上流側において微粒子測定装置17に近い位置、特に直近の位置とすることが好ましい。このように、上流側分岐部23は微粒子測定装置17に近い位置に設定されるので、測定用配管15の上流側部分、すなわち、測定用配管15において微粒子測定装置17よりも上流側の部分は、第二部分28と略同じ部分である。
 微粒子測定装置17と流量計18の間の測定用配管15からは、下流側分岐部27において、下流側分岐管24が分岐している。下流側分岐管24には、下流側分岐部27から順に、下流側開閉バルブ25及び流量計26が設けられている。
 下流側開閉バルブ25を開弁することで、測定用配管15における測定用分岐部19から微粒子測定装置17の内部配管を経て下流側分岐部27までの部分(以下、第一部分29という)と下流側分岐管24とに超純水を流すことができる。
 流量計26は、下流側分岐管24を流れる超純水の流量を計測する部材である。流量計26の計測データに基づいてサンプリングバルブ16及び下流側開閉バルブ25を制御することで、第一部分29から下流側分岐管24を流れる超純水の流量を一定値に維持することができる。この流量は、微粒子測定装置17において微粒子の測定に適した流量(測定用流量)よりも多い流量である第一洗浄用流量に設定される。ただし、この場合には、超純水は、微粒子測定装置17の内部配管にも流れるため、第二洗浄用流量よりも少ない流量である第一洗浄用流量に設定される。本実施形態では、第一洗浄用流量は、微粒子測定装置17の内部配管におけるレイノルズ数(Re)が10000≧Re≧1700となる流量であり、たとえば500mL/分である。
 次に、本実施形態の微粒子測定システム3の洗浄方法を説明する。
 微粒子測定装置17で超純水中の微粒子を測定する場合には、サンプリングバルブ16を開弁すると共に、上流側開閉バルブ21及び下流側開閉バルブ25を閉弁する。微粒子測定装置17に、あらかじめ設定された所定流量(測定用流量)で超純水が通水され、微粒子測定装置17において微粒子数の測定を適切に行うことが可能である。
 本実施形態において、超純水製造装置2で製造された超純水に含まれる微粒子数(あるいは微粒子の濃度)は、使用場所(ユースポイント)8における使用には問題がない程度に低減されている。しかし、極めて僅かな数の微粒子が測定用配管15の上流側部分や、微粒子測定装置17の内部配管に付着していると、この付着微粒子がこれら配管から分離して超純水に混入し、微粒子数の測定に影響を与えることがある。特に、例えばこれらの配管内に微量な生菌が繁殖すると、繁殖により増加した生菌は、微粒子数の測定に影響を与える。すなわち、微粒子測定装置17における測定精度の低下を招くことがある。
 本実施形態では、以下に示す洗浄方法を行うことで、測定用配管15の上流側部分や、微粒子測定装置17の内部配管の内部を洗浄し、付着微粒子に起因する微粒子測定装置17での測定精度の正確性を高めることができる。
<第一洗浄方法>
 第一洗浄方法では、サンプリングバルブ16を開弁した状態で、上流側開閉バルブ21は閉弁し、所定の洗浄の間隔及び時間で下流側開閉バルブ25を開弁した状態(第一洗浄状態という)とする。これにより、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)から下流側分岐管24までを、第一洗浄用流量で超純水が流れる。第一洗浄用流量は、測定用流量よりも多い流量である。このため、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)から下流側分岐管24までの部分を、超純水の流れによって洗浄できる。特に、第一洗浄用流量は、微粒子測定装置17の内部配管におけるレイノルズ数(Re)が10000≧Re≧1700となる流量である。これにより、微粒子測定装置17の内部配管に乱流(あるいは乱流と層流の境界領域の流れ、以下「境界流」という)が生じる。このような超純水の乱流あるいは境界流により、微粒子測定装置17の内部配管に付着した微粒子を効果的に除去することが可能である。
 なお、第一洗浄用流量は、微粒子測定装置17において微粒子数を測定する場合の流量である測定用流量よりも多い流量である。この場合、第一洗浄用流量で超純水が微粒子測定装置17を流れた状態で測定された微粒子数は、超純水中の実際の微粒子数としては採用しないようにすればよい。あるいは、第一洗浄用流量の超純水が微粒子測定装置17を流れる場合は、微粒子数を測定しないようにしてもよい。
 そして、第一洗浄用流量で超純水を測定用配管15の第一部分29から下流側分岐管24まで所定時間流して微粒子測定装置17の内部配管を洗浄した後は、下流側開閉バルブ25を閉弁する。これにより、微粒子測定装置17に測定用流量で超純水が通水されるので、超純水中の微粒子を適切に測定することが可能である。
 第一洗浄方法において、第一洗浄用流量で超純水を微粒子測定装置17の内部配管に流す時間は特に限定されないが、たとえば、5分/回以上で120分/回以下に設定できる。この時間が、5分/回以上であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)において、微粒子を確実に除去できる。この時間は、15分/回以上であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)において、微粒子をさらに確実に除去できるという点で、より好ましい。また、この時間が120分/回以下であれば、第一洗浄用流量で超純水を流す時間が過度に長くならないので、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する時間を十分に確保できる。この時間は、30分/回以下であれば、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する時間をさらに十分に確保できるという点で、より好ましい。
 第一洗浄方法において、第一洗浄用流量で超純水を微粒子測定装置17の内部配管に流す洗浄の間隔も特に限定されないが、たとえば、半日以上で30日以下に設定できる。この洗浄の間隔が30日以下であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)に微粒子の付着量が多くなる前の段階で、微粒子を除去できる。この洗浄の間隔は、3日以下であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)の微粒子の付着量がさらに少ない段階で微粒子を除去できるという点で、より好ましい。また、この洗浄の間隔が半日以上であれば、第一洗浄用流量で超純水を流す頻度が過度に高くならないので、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する機会を十分に確保できる。この洗浄の間隔は、1日以上であれば、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する機会をさらに十分に確保できるという点で、より好ましい。
 第一洗浄方法では、測定用配管15において、微粒子測定装置17の下流側に設けた下流側分岐管24を用いて、測定用流量と第一洗浄用流量との切替を行っている。実質的に、下流側開閉バルブ25の開閉による簡易な操作で、測定用流量と第一洗浄用流量との切替を行える。
 但し、微粒子測定装置17の下流側で、測定用流量と第一洗浄用流量との切り替えを行う構成は、これに限定されない。たとえば、流量計18に代えて、測定用流量と第一洗浄用流量との切り替えを行うことが可能な弁を用いてもよい。この構造では、下流側分岐管24を設ける必要がなく、下流側開閉バルブ25や流量計26も設けないので、構造を簡素化できる。
 第一洗浄方法を行う場合、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子を測定している状態から第一洗浄方法の実行に移行することが可能である。この場合は、微粒子測定システム3が安定的に動作している状態で、第一洗浄方法を行うことになる。これに対し、微粒子測定システム3の立ち上げにおいて、微粒子測定装置17の電源投入に先立って第一洗浄方法を実行し、その後に、微粒子測定装置17の電源を投入して超純水中の微粒子を測定するようにしてもよい。
<第二洗浄方法>
 第二洗浄方法では、サンプリングバルブ16を開弁し、上流側開閉バルブ21を開弁した状態を維持しつつ、所定の洗浄の間隔及び時間で下流側開閉バルブ25を開弁した状態(第二洗浄状態という)とする。上流側開閉バルブ21を開弁した状態では、測定用配管15の第二部分28と上流側分岐管20とを、第二洗浄用流量で超純水が流れる。
 第二洗浄用流量は、測定用流量よりも多い流量である。このため、測定用配管15の第二部分28から上流側分岐管20までの部分を、超純水の流れによって洗浄できる。特に、第二洗浄用流量は、測定用配管15におけるレイノルズ数(Re)が20000≧Re≧1700となる流量である。これにより、測定用配管15に乱流(あるいは境界流)が生じる。超純水の乱流あるいは境界流により、測定用配管15の第二部分28に付着した微粒子を効果的に除去することが可能である。
 第二洗浄方法においても、第一洗浄方法と同様に、所定の洗浄の間隔及び時間で下流側開閉バルブ25を開弁した状態を維持する。これにより、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)と下流側分岐管24とを、超純水の流れによって洗浄することが可能である。なお、第二洗浄方法において、上流側開閉バルブ21は常時開弁していてもよいが、所定の条件下あるいはタイミングで一時的に閉弁してもよい。たとえば、下流側開閉バルブ25を開弁するタイミングでは、上流側開閉バルブ21は一時的に閉弁するようにすれば、測定用配管15における上流側分岐部23から下流側分岐部27までの部分(微粒子測定装置17の内部配管を含む)に所定量の超純水を確実に流すことができ、好ましい。
 この場合、実質的に、第一洗浄用流量で超純水が微粒子測定装置17の内部配管に通水される。第二洗浄方法におけるこの時間も特に限定されず、たとえば、5分/回以上で120分/回以下に設定できる。この時間が、5分/回以上であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)において、微粒子を確実に除去できる。この時間は、15分/回以上であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)において、微粒子をさらに確実に除去できるという点で、より好ましい。また、この時間が120分/回以下であれば、第一洗浄用流量で超純水を流す時間が過度に長くならないので、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する時間を十分に確保できる。この時間は、30分/回以下であれば、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する時間をさらに十分に確保できるという点で、より好ましい。
 また、この洗浄の間隔も特に限定されず、たとえば30日以下であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)において微粒子の付着量が多くなる前の段階で、微粒子を除去できる。この洗浄の間隔は、3日以下であれば、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)の微粒子の付着量がさらに少ない段階で微粒子を除去できるという点で、より好ましい。また、この洗浄の間隔が半日以上であれば、第一洗浄用流量で超純水を流す頻度が過度に高くならないので、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する機会を十分に確保できる。この洗浄の間隔は、1日以上であれば、微粒子測定装置17で超純水中の微粒子数を測定する機会をさらに十分に確保できるという点で、より好ましい。
 第二洗浄方法においても、第一洗浄方法と同様に、第一洗浄用流量で超純水を測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)から下流側分岐管24まで所定時間流し、微粒子測定装置17の内部配管を洗浄した後は、下流側開閉バルブ25を閉弁する。これにより、微粒子測定装置17に測定用流量で超純水が通水されるので、超純水中の微粒子を適切に測定することが可能である。
 第二洗浄方法では、測定用配管15において、微粒子測定装置17の上流側に設けた上流側分岐管20を用いて、測定用流量と第二洗浄用流量との切替を行っている。実質的に、上流側開閉バルブ21の開閉による簡易な操作で、測定用流量と第二洗浄用流量との切替を行える。
 なお、第二洗浄用流量は、微粒子測定装置17において微粒子数を測定する場合の流量である測定用流量よりも多い流量である。しかし、第二洗浄用流量で測定用配管15の第二部分28を流れた超純水の多くは、上流側分岐管20に分かれて流れるので、微粒子測定装置17には、測定用流量で超純水が通水される。微粒子測定装置17における微粒子数の測定には影響しない。そして、第二洗浄用流量で測定用配管15の第二部分28に超純水を流しつつ、微粒子測定装置17により超純水中の微粒子数を測定することが可能である。換言すれば、微粒子測定装置17により超純水中の微粒子数を測定中に、第二洗浄用流量で測定用配管15の第二部分28に超純水を流し、測定用配管15の第二部分28を洗浄できる。
<第三洗浄方法>
 第三洗浄方法では、サンプリングバルブ16を開弁し、上流側開閉バルブ21を常時開弁した状態を維持し、下流側開閉バルブ25を閉弁した状態(第三洗浄状態という)とする。これにより、測定用配管15の第二部分28から上流側分岐管20までを、第二洗浄用流量で超純水が常時流れる。
 第二洗浄方法と同様に、第二洗浄用流量は、測定用流量よりも多い流量である。このため、測定用配管15の第二部分28から上流側分岐管20までの部分を、超純水の流れによって洗浄できる。第一洗浄用流量の流量は、測定用配管15においてレイノルズ数(Re)が20000≧Re≧1700となる流量なので、測定用配管15に乱流(あるいは境界流)を生じさせて、測定用配管15に付着した微粒子を効果的に除去することが可能である。
 第三洗浄方法においても、第二洗浄方法と同様に、測定用配管15において、微粒子測定装置17の上流側に上流側分岐管20を設け、この上流側分岐管20を用いて、測定用流量と第二洗浄用流量との切替を行っている。実質的に、上流側開閉バルブ21の開閉による簡易な操作で、測定用流量と第二洗浄用流量との切替を行える。
<第四洗浄方法>
 第四洗浄方法では、サンプリングバルブ16を開弁した状態で、上流側開閉バルブ21を基本的には閉弁状態に維持するが、所定のあるいは随時の洗浄の間隔及び時間で、上流側開閉バルブ21を開弁する。上流側開閉バルブ21の開弁状態では、測定用配管15の第二部分28から上流側分岐管20までを、第二洗浄用流量で流れる超純水によって洗浄できる。
 第四洗浄方法では、下流側開閉バルブ25の開閉について特に制限はない。たとえば、第一洗浄方法と同様に、所定の洗浄の間隔及び時間で下流側開閉バルブ25を開弁することが可能である。下流側開閉バルブ25の開弁状態では、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)から下流側分岐管24までを超純水によって洗浄できる。
 下流側開閉バルブ25を開弁する場合、上流側開閉バルブ21を開弁するタイミングを、下流側開閉バルブ25を開弁するタイミングと合わせてもよい。すなわち、上流側開閉バルブ21と下流側開閉バルブ25とで、開弁、閉弁を同時に行う。また、下流側開閉バルブ25を開弁するタイミングでは、上流側開閉バルブ21は閉弁するようにして、測定用配管15における上流側分岐部23から下流側分岐部27までの部分に所定量の超純水を確実に流すことができるようにしてもよい。さらには、上流側開閉バルブ21を開弁するタイミングと、下流側開閉バルブ25を開弁するタイミングとが、時系列で部分的に重なるようにしてもよい。たとえば、上流側開閉バルブ21を開弁→下流側開閉バルブ25を開弁→上流側開閉バルブ21を閉弁→下流側開閉バルブ25を閉弁、としてもよい。
 以上説明したいずれの洗浄方法においても、測定用配管15の第二部分28を洗浄でき、さらに、下流側開閉バルブ25を開弁した状態では、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)を洗浄できる。これにより、微粒子測定装置17によって超純水中の微粒子数の測定を行うにあたり、測定の正確性を高めることができる。
 特に、0.05μm以下の粒子径の微粒子を測定可能な微粒子測定装置17(UDI20はその一例である)を用いた場合には、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)に付着している微粒子による測定精度への影響が大きい。しかし、この場合であっても、上記した洗浄方法を行うことで、微粒子測定装置17による測定の正確性を高めることができる。
 図3及び図4には、上記の第二洗浄方法を行った場合の、微粒子測定装置17の測定タイミングと、測定された粒子濃度(pcs./L)との関係が示されている。測定タイミングは、測定開始時を基準として、微粒子測定装置17への通水により微粒子数を測定した時点であり、横軸は測定開始時からの通水時間を示している。実際には1日につき20回の測定を一定のタイミング(周期)で行った。
 超純水の使用対象の一例である半導体装置の製造プロセスでは、例えば、超純水1mL当りに、粒子径0.05μm以上の微粒子が0.1~1個以下という高いレベルの純度が要求されることが多い。これを考慮し、図3では、0.05~0.07μmの粒子径の微粒子を対象とした測定結果としている。
 また、本開示の微粒子測定方法では、粒子径が小さい(例えば0.02μm程度の)微粒子について、超純水中の微粒子数をより正確に測定できるようにすることが望まれる。そこで、図4では、0.02~0.05μmの粒子径の微粒子を対象とした測定結果としている。
 図3及び図4において、各時間では、以下の状態を示している。
・Δt1:上流側開閉バルブ21を開弁し、下流側開閉バルブ25を閉弁した立ち上がり時間。洗浄途中のため、測定結果は、超純水中の微粒子数としては採用できない。
・Δt2:測定用配管15の第二部分28のみが清浄な状態で、微粒子数を測定する時間。
・Δt3:上流側開閉バルブ21を閉弁し、下流側開閉バルブ25を開弁した時間。洗浄途中のため、測定結果は、超純水中の微粒子数としては採用できない。
・Δt4:下流側開閉バルブ25を閉弁し、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)が清浄な状態で、微粒子数を測定する時間。
 なお、図4においては、時間Δt2及びΔt4における微粒子数の平均値(平均粒子濃度)を一点鎖線で示している。具体的な値は、時間Δt2において417pcs./L、時間Δt4において240pcs./Lである。
 図3及び図4のいずれにおいても、Δt2では測定される粒子濃度が高くなっているのに対し、Δt4では、測定される粒子濃度が低くなっている。これは、Δt2では、測定用配管15の第二部分28のみが洗浄された後の状態であるので、これ以外の配管の内部に付着している微粒子が超純水中に流れ出た影響があるのに対し、Δt4では、測定用配管15の第一部分29(微粒子測定装置17の内部配管を含む)が洗浄されているので、これらの配管の内部に付着している微粒子の影響が小さくなっているためである。すなわち、本発明の洗浄方法を行うことで、微粒子測定装置17による超純水中の微粒子数測定の正確性が高くなっていることが分かる。
 なお、図3及び図4に示した例では、Δt2における粒子濃度は、Δt4における粒子濃度よりは高いが、Δt2であっても、その前のΔt1において、測定用配管15の第二部分28は洗浄されている。したがって、測定用配管15を全く洗浄しない場合と比較すると、洗浄前に測定用配管15の第二部分28に付着していた微粒子の影響は小さくなっている。
 なお、上記では、送出配管14から測定用配管15を分岐させて微粒子測定システム3を配置した例を挙げたが、微粒子測定システム3の位置はこれに限定されず、たとえば、ユースポイント8から純水タンク6へ超純水を戻す配管や、二次純水装置7内の各種部材の間の配管(たとえば熱交換器9と紫外線照射装置10の間の配管)から測定用配管15を分岐させて微粒子測定システム3を設けてもよい。
 上記では、微粒子測定システム3が超純水製造システム1の一部として含まれている構成を例示したが、微粒子測定システム3が含まれる対象は、超純水製造システム1に限定されない。たとえば、製薬用水製造システム、注射用水製造システム等、各種の被処理水製造システムにおいて、その一部に微粒子測定システム3を組み込むことが可能である。換言すれば、微粒子測定システム3における測定対象は超純水に限定されず、製薬用水・注射用水(WFI)などの各種の被処理水が、微粒子測定システム3における微粒子数の測定対象である。
 2019年3月22日に出願された日本国特許出願2019-055507号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
 本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。

Claims (12)

  1.  被処理水が流れる測定用配管と、前記測定用配管に設けられて前記被処理水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、を有する微粒子測定システムに対し、
     前記微粒子測定装置よりも前記被処理水の流れ方向の下流側で、前記被処理水の流量を、前記微粒子数の測定用流量よりも多い第一洗浄用流量として前記微粒子測定システムを洗浄する、微粒子測定システムの洗浄方法。
  2.  前記下流側で、前記測定用配管から分岐する下流側分岐管を用いて、前記測定用流量と前記第一洗浄用流量との切り替えを行う請求項1に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  3.  前記第一洗浄用流量は、前記微粒子測定装置の内部配管でのレイノルズ数(Re)が10000≧Re≧1700となる流量である請求項1又は請求項2に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  4.  前記第一洗浄用流量で前記被処理水を流す時間が、5分/回以上で120分/回以下である請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  5.  前記第一洗浄用流量で前記被処理水を流す洗浄の間隔が、半日以上で30日以下である請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  6.  前記測定用流量より多い第二洗浄用流量で前記被処理水を前記微粒子測定装置よりも上流側の前記測定用配管に流し、前記微粒子測定装置への流入前に前記測定用配管から前記被処理水を排出する請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  7.  前記上流側で、前記測定用配管から分岐する上流側分岐管を用いて、前記測定用流量と前記第二洗浄用流量との切り替えを行う請求項6に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  8.  前記第二洗浄用流量は、前記上流側における前記測定用配管でのレイノルズ数(Re)が、20000≧Re≧1700となる流量である請求項6又は請求項7に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  9.  前記第二洗浄用流量で前記被処理水を流す動作を前記微粒子測定装置による前記微粒子数の測定中に行う請求項6~請求項8のいずれか1項に記載の微粒子測定システムの洗浄方法。
  10.  被処理水が流れる測定用配管と、前記測定用配管に設けられて前記被処理水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、を有する微粒子測定システムに対し、
     前記微粒子数の測定のための流量より多い第二洗浄用流量で前記被処理水を前記微粒子測定装置よりも前記被処理水の流れ方向の上流側の前記測定用配管に流し、前記微粒子測定装置への流入前に前記測定用配管から前記被処理水を排出する微粒子測定システムの洗浄方法。
  11.  原水を前処理システム及び一次純水システムによって処理して得られる一次純水を貯留する一次純水タンクの下流側に設置されて、前記一次純水に対する処理により超純水を得る二次純水システムを備える超純水製造装置と、
     前記一次純水タンクよりも下流側から取り出された前記超純水が流れる測定用配管と、
     前記測定用配管に設けられて前記超純水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、
     前記微粒子測定装置よりも前記超純水の流れ方向の下流側で、前記超純水の流量を、前記微粒子数の測定用流量よりも多い第一洗浄用流量に切り替える第一流量切替部材と、
     を有する超純水製造システム。
  12.  原水を前処理システム及び一次純水システムによって処理して得られる一次純水を貯留する一次純水タンクの下流側に設置されて、前記一次純水に対する処理により超純水を得る二次純水システムを備える超純水製造装置と、
     前記一次純水タンクよりも下流側から取り出された前記超純水が流れる測定用配管と、
     前記測定用配管に設けられて前記超純水中の微粒子数を測定する微粒子測定装置と、
     前記微粒子測定装置よりも前記超純水の流れ方向の上流側で、前記超純水の流量を、前記微粒子数の測定のための流量より多い第二洗浄用流量に切り替えると共に、前記微粒子測定装置への流入前に前記測定用配管から前記超純水を排出する第二流量切替部材と、
     を有する超純水製造システム。
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